JP2008158515A - Method for producing optical film - Google Patents

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JP2008158515A JP2007323086A JP2007323086A JP2008158515A JP 2008158515 A JP2008158515 A JP 2008158515A JP 2007323086 A JP2007323086 A JP 2007323086A JP 2007323086 A JP2007323086 A JP 2007323086A JP 2008158515 A JP2008158515 A JP 2008158515A
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隆 村上
Toru Kobayashi
徹 小林
Mitsuyo Hasegawa
光世 長谷川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an optical film having improved adhesion properties when two or more transparent resin layers are formed on one surface of a transparent resin film. <P>SOLUTION: In the method for producing the optical film by forming at least two transparent resin layers on a transparent resin film, the lower layer having a binder consisting mainly of a thermoplastic resin having a weight average molecular weight of 20,000-400,000 is applied and dried, the upper layer consisting mainly of an active ray-curing or thermosetting resin is applied thereon, and when the upper layer is dried, it is dried at a temperature higher than the glass transition point of the binder of the lower layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学用途に利用される光学フィルム及びその製造方法に関するものであり、特に液晶表示装置あるいは有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ等の表示装置に用いられる偏光板用の保護フィルム及びその製造に有用な光学フィルムの製造方法に関するものである。特に平滑性に優れたクリアハードコート光学フィルムの製造方法を提供する。   The present invention relates to an optical film used for optical applications and a method for manufacturing the same, and particularly useful for manufacturing a protective film for a polarizing plate used for a display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display, a plasma display, and the like. The present invention relates to a method for manufacturing an optical film. In particular, a method for producing a clear hard coat optical film excellent in smoothness is provided.

液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ELディスプレイ等に用いられる円偏光板の保護フィルム、楕円偏光板などの光学用途に使用される透明樹脂フィルムでは、様々な機能を持たせるために透明樹脂層が塗設されている。   In transparent resin films used for optical applications such as polarizing plate protective films for liquid crystal displays, circular polarizing plates used for organic EL displays, and elliptical polarizing plates, a transparent resin layer is used to provide various functions. It is painted.

例えば、帯電防止機能を持たせるための帯電防止層や、表面硬度を向上させるためのハードコート層、膜付き性を向上させるための下引き層、カールを防止するためのアンチカール層などである。   For example, an antistatic layer for providing an antistatic function, a hard coat layer for improving surface hardness, an undercoat layer for improving film adhesion, an anti-curl layer for preventing curling, etc. .

上記透明樹脂フィルムにこのような透明樹脂層を2層以上塗設した場合、各層の密着性が問題となることがあった。特に、紫外線照射などによる耐光性試験で問題となることがあり、その改善が求められていた。更に、様々な機能を持たせるため、下層に微粒子を添加することがある。   When two or more such transparent resin layers are coated on the transparent resin film, the adhesion of each layer sometimes becomes a problem. In particular, there is a problem in a light resistance test by ultraviolet irradiation or the like, and the improvement has been demanded. Furthermore, in order to have various functions, fine particles may be added to the lower layer.

例えば下層を帯電防止層とした場合、導電性微粒子を添加することになるが、その場合、各層の密着性及び、添加した微粒子と下層バインダーとの密着性が問題となることがあった。
特開平2−274736号公報
For example, when the lower layer is an antistatic layer, conductive fine particles are added. In that case, the adhesion between each layer and the adhesion between the added fine particles and the lower layer binder may be problematic.
Japanese Patent Laid-Open No. 2-27436

従って本発明の目的は、透明樹脂フィルム上に片側に2層以上の透明樹脂層を形成する際に、各層の密着性を改善した光学フィルム特に表示装置に用いられる偏光板の保護フィルムとして有用な光学フィルム及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is useful as an optical film with improved adhesion of each layer, particularly as a protective film for a polarizing plate used in a display device, when two or more transparent resin layers are formed on one side on a transparent resin film. It is providing the optical film and its manufacturing method.

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
(1)透明樹脂フィルム上に少なくとも2層以上の透明樹脂層を設けた光学フィルムの製造方法において、重量平均分子量が2万〜40万である熱可塑性樹脂を主な成分とするバインダーを有する下層を塗布乾燥した後、その上に活性線硬化樹脂もしくは熱硬化性樹脂を主な成分とする上層を塗布した後、上層を乾燥させる際に、下層のバインダーのガラス転移点以上の温度で上層を乾燥させることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(2)前記透明樹脂フィルムがセルロースエステルフィルムであることを特徴とする前記(1)記載の光学フィルムの製造方法。
(3)前記上層が、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂を含有することを特徴とする(2)記載の光学フィルムの製造方法。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(1) In a method for producing an optical film in which at least two or more transparent resin layers are provided on a transparent resin film, a lower layer having a binder whose main component is a thermoplastic resin having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 After coating and drying, after coating the upper layer mainly composed of actinic ray curable resin or thermosetting resin thereon, when drying the upper layer, the upper layer is heated at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the lower layer binder. A method for producing an optical film, comprising drying.
(2) The method for producing an optical film as described in (1) above, wherein the transparent resin film is a cellulose ester film.
(3) The method for producing an optical film as described in (2), wherein the upper layer contains an ultraviolet curable polyol acrylate resin.

本発明により、透明樹脂フィルム上に片側に2層以上の透明樹脂層を形成する際に、密着性が改善された光学フィルムの製造方法を提供することができた。   According to the present invention, when two or more transparent resin layers are formed on one side on a transparent resin film, a method for producing an optical film with improved adhesion can be provided.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

透明樹脂フィルムの片側に2層以上の透明樹脂層を設ける場合、塗布層の密着性が悪化するという問題があった。密着性を悪化させる部分として、下層と上層間の密着性、下層と支持体である透明樹脂フィルムとの密着性、更に下層に微粒子を添加した場合は下層バインダーと微粒子との密着性が問題となることがあきらかとなった。   When two or more transparent resin layers are provided on one side of the transparent resin film, there is a problem that the adhesion of the coating layer is deteriorated. As a part that deteriorates the adhesion, the adhesion between the lower layer and the upper layer, the adhesion between the lower layer and the transparent resin film as the support, and the adhesion between the lower layer binder and the particles when adding fine particles to the lower layer It became clear.

そこで、この問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、下層に使用するバインダーに重量平均分子量が2万〜40万である樹脂を用いることによって密着性が改善されることが判明した。   Therefore, as a result of intensive studies to solve this problem, it has been found that the adhesion is improved by using a resin having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 for the binder used in the lower layer.

特にここで使用する樹脂は熱可塑性樹脂であることが好ましく、適当な溶剤に溶解した状態で塗設される。   In particular, the resin used here is preferably a thermoplastic resin, and is coated in a state dissolved in a suitable solvent.

ここで使用される樹脂は、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、又はセルロースナイトレート等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、又はコポリブチレン−テレ/イソフタレート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、又はポリビニルベンザール等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン化合物を含有するノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタアクリレート等、(メタ)アクリル酸メチルを含む共重合体等のアクリル樹脂を用いることが出来るが特にこれらに限定されるものではない。   Examples of the resin used here include cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, cellulose acetate propionate, and cellulose nitrate, polyvinyl acetate, polystyrene, polycarbonate, and polybutylene. Polyesters such as terephthalate, or copolybutylene-tere / isophthalate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol derivatives such as polyvinyl benzal, norbornene-based polymers containing norbornene compounds, polymethyl methacrylate, etc. Acrylic resins such as copolymers containing methyl (meth) acrylate can be used. But it is not limited thereto.

この中でセルロース誘導体あるいはアクリル樹脂が好ましく、更にアクリル樹脂が最も好ましく用いられる。更にガラス転移点が110℃以下、更に好ましくは90℃以下の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。   Among these, a cellulose derivative or an acrylic resin is preferable, and an acrylic resin is most preferably used. Further, a thermoplastic resin having a glass transition point of 110 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower is preferably used.

ここで使用する樹脂は下層で使用しているバインダー全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂をブレンドすることもできる。   The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the whole binder used in the lower layer, and if necessary, actinic ray curable resin or thermosetting resin may be blended. it can.

又、本発明の別の態様では下層に微粒子を添加する場合に密着性を改善する方法も提供する。   Another embodiment of the present invention also provides a method for improving adhesion when fine particles are added to the lower layer.

すなわち、該微粒子とバインダーの比率が微粒子1質量部に対し、0.5〜4質量部である下層とすることによって、微粒子を添加しても密着性が低下しないことが明らかとなった。   That is, it became clear that the adhesion does not decrease even when fine particles are added by using a lower layer in which the ratio of the fine particles to the binder is 0.5 to 4 parts by mass with respect to 1 part by mass of the fine particles.

特にバインダーとして重量平均分子量2万〜40万、特に熱可塑性樹脂を使用することが好ましく、更に、ガラス転移点が90℃以下の樹脂が好ましく用いられる。   In particular, it is preferable to use a thermoplastic resin having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 as the binder, and a resin having a glass transition point of 90 ° C. or lower is preferably used.

本発明の別の態様では該光学フィルムを製造する際に、下層を塗設した後に、上層を塗布乾燥させる際に、下層のバインダーのガラス転移点以上の温度で上層を乾燥させることにより、更に密着性を向上させることができることを見いだした。   In another embodiment of the present invention, when the optical film is produced, after the lower layer is applied, when the upper layer is applied and dried, the upper layer is further dried at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the lower layer binder. It has been found that the adhesion can be improved.

本発明では、上層に用いられるバインダーは特に限定はされないが、特に活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が用いられる場合、該上層の樹脂を硬化させるときもしくは硬化させる前に、下層のバインダーのガラス転移点以上の温度にすることによって密着性が改善されたのである。   In the present invention, the binder used in the upper layer is not particularly limited, but particularly when an actinic radiation curable resin or thermosetting resin is used, the glass transition of the lower layer binder is cured when the upper layer resin is cured or before curing. Adhesion was improved by setting the temperature to a point or higher.

以下に本発明をより具体的に説明するが、特にこれに限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically below, but is not particularly limited thereto.

本発明で用いられる透明樹脂フィルムは特に限定はされないが、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム(CAPフィルム)、セルロースアセテートブチレートフィルム(CABフィルム)、セルローストリアセテートあるいはセルロース誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート系フィルム等を挙げることができるが、本発明には、セルローストリアセテートフィルム(以下TACフィルムと略すことがある)、セルロースアセテートプロピオネートフィルム(CAPフィルム)、ポリカーボネート(以下PCと略すことがある)フィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム及びポリスルホン系フィルムが透明性、機械的性質、光学的異方性がない点など好ましく、特にTACフィルム及びPCフィルムが、それらの中でも、製膜性が容易で加工性に優れているため好ましく用いられ、特にTACフィルムを使用する場合、著しい効果が認められた。   The transparent resin film used in the present invention is not particularly limited. For example, polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose acetate propionate film (CAP film), cellulose acetate butyrate film ( CAB film), film made of cellulose triacetate or cellulose derivative, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film, polymethylpentene film, polyether ketone Film, polyethersulfone film, polysulfone film, An ether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, a polymethyl methacrylate film, an acrylic film, a polyarylate film, and the like can be mentioned. In the present invention, a cellulose triacetate film (hereinafter abbreviated as a TAC film). Cellulose acetate propionate film (CAP film), polycarbonate (hereinafter abbreviated as PC) film, syndiotactic polystyrene film, polyarylate film, norbornene resin film and polysulfone film are transparent. It is preferable because it has no mechanical properties and optical anisotropy. Especially, TAC film and PC film are easy to form and have excellent processability. Used preferred, especially when using the TAC film, a significant effect was observed.

セルロースエステルフィルムを用いる場合、本発明の各塗布層塗設前にセルロースエステルフィルムがアルカリ鹸化処理されていても、塗布後にアルカリ鹸化処理してもよい。   When the cellulose ester film is used, the cellulose ester film may be subjected to alkali saponification treatment before coating each coating layer of the present invention or may be subjected to alkali saponification treatment after coating.

例えば、製膜後アルカリ鹸化処理した後、帯電防止層及び/又は紫外線硬化樹脂層あるいは更に反射防止層を塗設することもできるし、バックコート層、帯電防止層、紫外線硬化樹脂層を塗設した後、アルカリ鹸化処理し、さらに反射防止層(低屈折率層など)を塗設することもできる。   For example, after forming a film, it is possible to apply an antistatic layer and / or an ultraviolet curable resin layer or further an antireflection layer after an alkali saponification treatment, or to apply a backcoat layer, an antistatic layer, or an ultraviolet curable resin layer. After that, an alkali saponification treatment can be performed, and an antireflection layer (such as a low refractive index layer) can be further applied.

次に、TACを例としてセルロースエステルフィルムの製膜法について述べる。TACに替えて、CAPあるいはCABを用いても同様に製造することができる。   Next, a method for forming a cellulose ester film will be described using TAC as an example. It can be similarly manufactured by using CAP or CAB instead of TAC.

TACフィルムは一般的に、TACフレーク原料及び可塑剤をメチレンクロライドに溶解して粘稠液とし、これに可塑剤を溶解してドープとなし、エックストルーダーダイスから、エンドレスに回転するステンレス等の金属ベルト(バンドともいう)上に流延して、乾燥させ、生乾きの状態でベルトから剥離し、ロール等の搬送装置により、両面から乾燥させて巻き取り、作られる。PCフィルムについてもTACフィルムと同様に製膜することが出来る。   In general, a TAC film is obtained by dissolving a TAC flake raw material and a plasticizer in methylene chloride to form a viscous liquid, and dissolving the plasticizer into a dope. From an extruder screw, endless rotating stainless steel, etc. It is cast on a metal belt (also referred to as a band), dried, peeled off from the belt in a dry state, and dried from both sides by a roll or other conveying device and wound up. The PC film can be formed in the same manner as the TAC film.

なお、巻き取られたTAC又はPCフィルムは次ぎの塗布工程で帯電防止塗布液組成物等が塗布されるが、一般的には一つの塗布が終わる毎に巻き取り、また次ぎの塗布を行うというように断続的に塗布を行っている。   The wound TAC or PC film is coated with an antistatic coating solution composition or the like in the next coating step, but generally, it is wound up and coated again after each coating. Thus, the coating is performed intermittently.

この方法であると、収率が落ちたり、輸送コストがかかったり、フィルムを痛めやすいという欠点があった。本発明者らは一つの工程内で連続して色々な塗布液組成物を次々と塗布を行うことにより、収率が上がり、コストが安くなり、フィルムの損傷もなく、フィルムとの接着性あるいは塗布層間の接着性がより優れていることを発見し、連続塗布方式の方が好ましいことを見いだした。   This method has the disadvantages that the yield is reduced, the transportation cost is high, and the film is easily damaged. The present inventors continuously apply various coating liquid compositions in one step, thereby increasing the yield, reducing the cost, and damaging the film. It was discovered that the adhesion between the coating layers was better and the continuous coating method was found to be preferable.

更に、TAC又はPCフィルムの製膜のラインと塗布ラインとを結合させるいわゆるインライン塗布(製膜と塗布が同一ライン内にある)は収率、コスト、接着性などが、より優れていることを見いだした。   In addition, so-called in-line coating (film formation and coating are in the same line) that connects the TAC or PC film deposition line and the coating line is better in terms of yield, cost, adhesion, etc. I found it.

したがって、本発明のように、多種類の塗布を行うには、断続的な塗布よりも連続塗布方式が好ましく、特に連続方式よりもインライン方式の方が好ましい。   Therefore, as in the present invention, in order to perform various types of coating, the continuous coating method is preferable to the intermittent coating, and the in-line method is particularly preferable to the continuous method.

上記可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが好ましく用いられる。リン酸エステルとしては、トリフェニルフォスフェート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TCP)、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチルホスフェートが含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的なものである。   As the plasticizer, phosphoric acid esters or carboxylic acid esters are preferably used. Phosphoric esters include triphenyl phosphate (TPP) and tricresyl phosphate (TCP), biphenyl-diphenyl phosphate, dimethyl ethyl phosphate. Representative carboxylic acid esters include phthalic acid esters and citric acid esters.

フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)およびジエチルヘキシルフタレート(DEHP)、エチルフタリルエチルグリコレート等が用いられる。クエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル(OACTE)およびクエン酸アセチルトリブチル(OACTB)が用いられる。   Examples of phthalic acid esters include dimethyl phthalate (DMP), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DBP), dioctyl phthalate (DOP), diethyl hexyl phthalate (DEHP), ethyl phthalyl ethyl glycolate and the like. As the citrate ester, acetyl triethyl citrate (OACTE) and acetyl tributyl citrate (OACTB) are used.

その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。   Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters.

リン酸エステル系可塑剤(TPP、TCP、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチルホスフェート)、フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DEP、DBP、DOP、DEHP)が好ましく用いられる。   Phosphate ester plasticizers (TPP, TCP, biphenyl-diphenyl phosphate, dimethylethyl phosphate) and phthalate ester plasticizers (DMP, DEP, DBP, DOP, DEHP) are preferably used.

このほか、ポリ酢酸ビニル共重合体、脂肪族直鎖状ポリエステル、メチルメタクリレート系共重合物などの重合平均分子量1000〜100000の高分子化合物を高分子可塑剤として添加することができる。   In addition, a polymer compound having a polymerization average molecular weight of 1,000 to 100,000, such as a polyvinyl acetate copolymer, an aliphatic linear polyester, and a methyl methacrylate copolymer, can be added as a polymer plasticizer.

可塑剤はTACフィルムの耐水性を付与するのに、重要な素材であるが、偏光板用保護フィルムには出来るだけ少量の添加が好ましい。可塑剤の添加量は通常2〜10質量%で添加され、好ましくは4〜8質量%で添加することが望ましい。PCフィルムには上記可塑剤は一般的に不要であるが、添加してもかまわない。   The plasticizer is an important material for imparting water resistance to the TAC film, but it is preferable to add as little as possible to the protective film for polarizing plate. The addition amount of the plasticizer is usually 2 to 10% by mass, preferably 4 to 8% by mass. The above plasticizer is generally unnecessary for the PC film, but it may be added.

また、本発明に有用なTACフィルム又はPCフィルム中に、紫外線吸収剤を含有させることによって、耐光性に優れた偏光板用保護フィルムを得ることが出来る。   Moreover, the protective film for polarizing plates excellent in light resistance can be obtained by containing a ultraviolet absorber in the TAC film or PC film useful for this invention.

本発明に有用な紫外線吸収剤としては、サリチル酸誘導体(UV−1)、ベンゾフェノン誘導体(UV−2)、ベンゾトリアゾール誘導体(UV−3)、アクリロニトリル誘導体(UV−4)、安息香酸誘導体(UV−5)又は有機金属錯塩(UV−6)等があり、それぞれ(UV−1)としては、サリチル酸フェニル、4−t−ブチルフェニルサリチル酸等を、(UV−2)としては、2−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等を、(UV−3)としては、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−5′−ジ−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等を、(UV−4)としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−(p−メトキシフェニル)アクリレート等を、(UV−5)としては、レゾルシノール−モノベンゾエート、2′,4′−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等を、(UV−6)としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができる。   Examples of ultraviolet absorbers useful in the present invention include salicylic acid derivatives (UV-1), benzophenone derivatives (UV-2), benzotriazole derivatives (UV-3), acrylonitrile derivatives (UV-4), benzoic acid derivatives (UV- 5) or an organic metal complex salt (UV-6), and (UV-1) is phenyl salicylate, 4-t-butylphenylsalicylic acid, etc., and (UV-2) is 2-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and the like (UV-3) include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) -benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-5 ' -Di-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole and the like (UV-4) is 2-ethylhexyl-2-cyano-3 3'-diphenyl acrylate, methyl-α-cyano-β- (p-methoxyphenyl) acrylate and the like (UV-5) include resorcinol-monobenzoate, 2 ', 4'-di-t-butylphenyl- 3,5-t-butyl-4-hydroxybenzoate and the like (UV-6) include nickel bis-octylphenylsulfamide, ethyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl phosphate A nickel salt etc. can be mentioned.

又、すべり性を改善するために、これら基材透明フィルムを製造する際のドープ中に、シリカ等の微粒子(平均粒径0.005〜0.2μm)を0.01〜0.5質量%添加することもできる。   In addition, in order to improve the slipperiness, fine particles such as silica (average particle size of 0.005 to 0.2 μm) are added in an amount of 0.01 to 0.5% by mass in the dope when these base transparent films are produced. It can also be added.

例えば日本アエロジル製アエロジル200V、アエロジルR972Vなどを添加することができる。すべり性は鋼球での測定で、動摩擦係数0.4以下好ましくは0.2以下であることが望まれる。すべり性の付与は後述のブロッキング防止層によっても行うことができる。   For example, Nippon Aerosil's Aerosil 200V, Aerosil R972V, etc. can be added. The sliding property is measured with a steel ball, and it is desired that the coefficient of dynamic friction is 0.4 or less, preferably 0.2 or less. The application of slipperiness can also be performed by an anti-blocking layer described later.

本発明の透明樹脂層形成用組成物は、光学フィルムに表面加工するための透明樹脂層を塗設するために使用される。この表面加工としては例えばブロッキング防止加工、防眩加工、反射防止加工、クリアハード加工、帯電防止加工、カール防止加工、易接着加工等が挙げられる。   The composition for forming a transparent resin layer of the present invention is used for coating a transparent resin layer for surface processing on an optical film. Examples of the surface processing include anti-blocking processing, anti-glare processing, anti-reflection processing, clear hard processing, anti-static processing, anti-curling processing, and easy adhesion processing.

ここでクリアハード加工とは透明樹脂フィルムの表面に耐摩擦性、耐薬品性等の耐久性を付与するものであり、具体的には後述する活性線硬化樹脂層を設けることによる方法が好ましいものとして挙げられる。   Here, the clear hard processing is to impart durability such as friction resistance and chemical resistance to the surface of the transparent resin film, and specifically, a method by providing an actinic radiation curable resin layer described later is preferable. As mentioned.

本発明の光学フィルム上の透明樹脂層とは、熱可塑性樹脂、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他の樹脂を主たる成分とする層である。   The transparent resin layer on the optical film of the present invention is a layer mainly composed of a thermoplastic resin, a radiation curable resin, a thermosetting resin, and other resins.

本発明の片側に2層以上の透明樹脂層を形成する光学フィルムとしては、下記の例があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。   Examples of the optical film for forming two or more transparent resin layers on one side of the present invention include the following examples, but are not particularly limited thereto.

クリアハード層(上層)/帯電防止層(下層)/透明樹脂フィルム/ブロッキング防止層
クリアハード層(上層)/下引き層(下層)/透明樹脂フィルム/ブロッキング防止層
クリアハード層/透明樹脂フィルム/帯電防止層(下層)/易接着層(上層)
本発明についてさらに透明樹脂フィルム上に帯電防止層とその上にクリアハードコート層を設ける場合で説明する。
Clear hard layer (upper layer) / Antistatic layer (lower layer) / Transparent resin film / Anti-blocking layer Clear hard layer (upper layer) / Undercoat layer (lower layer) / Transparent resin film / Anti-blocking layer Clear hard layer / Transparent resin film / Antistatic layer (lower layer) / Easily adhesive layer (upper layer)
The present invention will be further described in the case where an antistatic layer is provided on a transparent resin film and a clear hard coat layer is provided thereon.

帯電防止加工とは、透明樹脂フィルムの取扱の際に、この樹脂フィルムが帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電性微粒子を含有する層を設けることによって行う。   Antistatic processing is to impart a function to prevent the resin film from being charged when handling a transparent resin film. Specifically, a layer containing an ion conductive substance or conductive fine particles is added. It is done by providing.

ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のことであるが、例としてはイオン性高分子化合物を挙げることができる。   Here, the ion conductive substance is a substance that shows electric conductivity and contains ions that are carriers for carrying electricity, and examples include ionic polymer compounds.

イオン性高分子化合物としては、特公昭49−23828号、同49−23827号、同47−28937号にみられるようなアニオン性高分子化合物、特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、同57−18175号、同57−18176号、同57−56059号などにみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー、特公昭53−13223号、同57−15376号、特公昭53−45231号、同55−145783号、同55−65950号、同55−67746号、同57−11342号、同57−19735号、特公昭58−56858号、特開昭61−27853号、同62−9346号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー等を挙げることができる。   Examples of the ionic polymer compound include anionic polymer compounds such as those described in JP-B-49-23828, JP-A-49-23827, and JP-A-47-28937, JP-B-55-734, and JP-A-50-54672. Ionene type polymer having a dissociating group in the main chain, as shown in JP-B-59-14735, JP-B-57-18175, JP-B-57-18176, and 57-56059, etc. No. 57-15376, No. 53-45231, No. 55-145783, No. 55-65950, No. 55-67746, No. 57-11342, No. 57-19735, No. 58-56858. No., JP-A 61-27853, 62-9346, and a cationic pendant type having a cationic dissociation group in the side chain And the like can be given Rimmer.

また、導電性微粒子の例としては導電性を有する金属酸化物が挙げられる。金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V25等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。 Examples of conductive fine particles include conductive metal oxides. As an example of the metal oxide, ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , or a composite oxide thereof is preferable. In particular, ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred.

異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、又SnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01mol%〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1mol%〜15mol%の範囲が特に好ましい。 Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al, In, etc. to ZnO, addition of Nb, Ta, etc. to TiO 2 , and addition of Sb, Nb, halogen elements, etc. to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 mol% to 25 mol%, but is particularly preferably in the range of 0.1 mol% to 15 mol%.

また、これらの導電性を有する金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ωcm以下特に105Ωcm以下であって、1次粒子径が100Å以上0.2μm以下で、高次構造の長径が300Å以上6μm以下である特定の構造を有する粉体を導電層に体積分率で0.01%以上20%以下含んでいることが好ましい。 The volume resistivity of these conductive metal oxide powders is 10 7 Ωcm or less, particularly 10 5 Ωcm or less, the primary particle diameter is 100 μm or more and 0.2 μm or less, and the major structure has a long diameter. It is preferable that the conductive layer contains a powder having a specific structure of 300 to 6 μm in a volume fraction of 0.01% to 20%.

特に好ましくは、特開平9−203810号に記載されているアイオネン導電性ポリマーあるいは分子間架橋を有する第4級アンモニウムカチオン導電性ポリマーなどを含有することが望ましい。   It is particularly preferable to contain an ionene conductive polymer described in JP-A-9-203810 or a quaternary ammonium cation conductive polymer having intermolecular crosslinking.

架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度に持たせることができるため、優れた導電性を有しているばかりでなく、低相対湿度下においても導電性の劣化は見られず、粒子同志も分散状態ではよく分散されているにもかかわらず、塗布後造膜過程において粒子同志の接着性もよいため膜強度も強く、また他の物質例えば支持体にも優れた接着性を有し、耐薬品性に優れている。   The characteristic of the cross-linked cationic conductive polymer is the dispersible granular polymer obtained, and since it can have a high concentration and high density of the cationic component in the particles, it only has excellent conductivity. No deterioration of conductivity was observed even under low relative humidity, and although the particles were well dispersed in the dispersed state, the adhesion of the particles was good in the film-forming process after coating, so the film strength was also low. It is strong and has excellent adhesion to other substances such as supports, and has excellent chemical resistance.

帯電防止層に用いられる架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約0.01μm〜0.5μmの粒子サイズ範囲にあり、好ましくは0.05μm〜0.08μmの範囲の粒子サイズが用いられる。   The dispersible granular polymer, which is a crosslinked cationic conductive polymer used in the antistatic layer, is generally in the particle size range of about 0.01 μm to 0.5 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 0.08 μm. Size is used.

ここで用いている分散性粒状性ポリマーの語は、視覚的観察によって透明またはわずかに濁った溶液に見えるが、電子顕微鏡の下では粒状分散物として見えるポリマーである。下層塗布組成物に上層の膜厚に相当する粒子径よりも大きなゴミ(異物)が実質的に含まれない塗布組成物を用いることによって、上層の異物故障を防止することができる。   As used herein, the term dispersible particulate polymer is a polymer that appears as a clear or slightly turbid solution by visual observation but appears as a granular dispersion under an electron microscope. By using a coating composition that does not substantially contain dust (foreign matter) larger than the particle diameter corresponding to the film thickness of the upper layer in the lower layer coating composition, failure of foreign matter in the upper layer can be prevented.

該微粒子とバインダーの比率は微粒子1質量部に対して、バインダーが0.5〜4質量部が密着性の点で好ましく、特に紫外線照射後の密着性では微粒子1質量部に対して、バインダーが1〜2質量部であることが好ましい。   The ratio of the fine particles to the binder is preferably 0.5 to 4 parts by mass of the binder with respect to 1 part by mass of the fine particles, and particularly the adhesiveness after UV irradiation is such that the binder is contained with respect to 1 part by mass of the fine particles. It is preferable that it is 1-2 mass parts.

帯電防止層に用いられる透明樹脂バインダーとしては、重量平均分子量が2万〜40万である樹脂が好ましく用いることができる。   As the transparent resin binder used for the antistatic layer, a resin having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 can be preferably used.

特にここで使用する樹脂は熱可塑性樹脂であることが好ましく、ガラス転移点が110℃以下、更に好ましくは90℃以下の樹脂が用いられる。   In particular, the resin used here is preferably a thermoplastic resin, and a resin having a glass transition point of 110 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower is used.

ここで使用される樹脂は、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレート、又はセルロースナイトレート等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、又はコポリブチレン−テレ/イソフタレート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、又はポリビニルベンザール等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン化合物を含有するノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルの共重合体等のポリ(メタ)アクリル酸エステル等のアクリル樹脂もしくはアクリル樹脂とその他樹脂との共重合体を用いることが出来るが特にこれらに限定されるものではない。   Examples of the resin used herein include cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate, polyvinyl acetate, polystyrene, polycarbonate, and polybutylene. Polyesters such as terephthalate or copolybutylene-tere / isophthalate, polyvinyl alcohols such as polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, or polyvinyl benzal, norbornene polymers containing norbornene compounds, polymethyl methacrylate, polyethyl Methacrylate, polypropyltyl methacrylate, polybutyl methacrylate Acrylic resin such as poly (meth) acrylate such as polymethyl acrylate, methyl methacrylate and methyl acrylate copolymer, or a copolymer of acrylic resin and other resin can be used, but is not limited to these. It is not something.

この中でセルロース誘導体あるいはアクリル樹脂が好ましく、更にアクリル樹脂が最も好ましく用いられる。   Among these, a cellulose derivative or an acrylic resin is preferable, and an acrylic resin is most preferably used.

更にガラス転移点が110℃以下、更に好ましくは30〜90℃の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。   Further, a thermoplastic resin having a glass transition point of 110 ° C. or less, more preferably 30 to 90 ° C. is preferably used.

ポリメチルメタクリレートの場合、例えば、分子量数万以下〜数十万以上、ガラス転移点20〜105℃の各種のタイプが市販されており、好ましいものを選択することができる。   In the case of polymethyl methacrylate, for example, various types having a molecular weight of tens of thousands or less to several hundreds of thousands or more and a glass transition point of 20 to 105 ° C. are commercially available, and preferable ones can be selected.

例えば、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましい樹脂を適宜選択することもできる。   For example, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (Negami) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR-80, BR- 82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105, BR-106, The acrylic and methacrylic monomers of BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Various homopolymers and copolymers prepared are commercially available as charges can be suitably selected preferred resins from this.

ガラス転移点はJIS−K7121に記載の方法にて求めることができる。   The glass transition point can be determined by the method described in JIS-K7121.

ここで使用する樹脂は下層で使用しているバインダー全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂を添加することもできる。これらの樹脂はバインダーとして適当な溶剤に溶解した状態で塗設される。   The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the whole binder used in the lower layer, and an active ray curable resin or a thermosetting resin may be added as necessary. it can. These resins are coated in a state dissolved in a suitable solvent as a binder.

帯電防止層の塗布組成物として使用できる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル(具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等)、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート))、その他の溶媒などがあげられる。   Organic solvents that can be used as the coating composition for the antistatic layer include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, and tert-butanol, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and acetone, and acetic acid. Esters such as ethyl, methyl acetate, ethyl lactate, isopropyl acetate, amyl acetate, ethyl butyrate, glycol ethers (propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ethers (specifically, propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol) Monoethyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, etc.), propylene glycol mono (C1 -C4) alkyl ester (propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate)), and other solvents.

特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒が好ましく用いられる。   Although not particularly limited to these, a solvent in which these are appropriately mixed is preferably used.

本発明の塗布組成物を塗布する方法は、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤバーコート、リバースコート、カーテンコート、押し出しコートあるいは米国特許2,681,294号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等により通常0.1〜1μmの乾燥膜厚となるように塗布することが出来る。   The method of applying the coating composition of the present invention includes a doctor coat, an extrusion coat, a slide coat, a roll coat, a gravure coat, a wire bar coat, a reverse coat, a curtain coat, an extrusion coat, or US Pat. No. 2,681,294. It can apply | coat so that it may become a dry film thickness of 0.1-1 micrometer normally by the extrusion coating method etc. which use the hopper described in a book.

更に好ましくは0.1〜0.5μmの乾燥膜厚であり、特に好ましくは0.1〜0.3の乾燥膜厚である。   More preferably, it is a dry film thickness of 0.1-0.5 micrometer, Most preferably, it is a dry film thickness of 0.1-0.3.

更に、帯電防止層である下層の上にクリアハードコート層である上層を設ける場合で説明する。   Furthermore, the case where the upper layer which is a clear hard-coat layer is provided on the lower layer which is an antistatic layer is demonstrated.

本発明では、上層に用いられるバインダーは特に限定はされないが、特に活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が用いることが好ましい。   In the present invention, the binder used for the upper layer is not particularly limited, but it is particularly preferable to use an actinic radiation curable resin or a thermosetting resin.

特にクリアハードコート加工のための活性線硬化性樹脂層の例について説明する。活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。   In particular, an example of an actinic radiation curable resin layer for clear hard coat processing will be described. The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams.

活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。   Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin that is cured by irradiation with an actinic ray other than ultraviolet rays and electron beams may be used.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。   Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. I can do it.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば特開昭59−151110号)。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) to products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate (for example, JP-A-59-151110).

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151112号)。   The UV curable polyester acrylate resin can generally be easily obtained by reacting a polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer (for example, JP-A-59-151112).

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることが出来る(例えば、特開平1−105738号)。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、1種もしくは2種以上を選択して使用することが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include those obtained by reacting epoxy acrylate with an oligomer, a reactive diluent and a photoinitiator added thereto (for example, JP-A-1- No. 105738). As the photoreaction initiator, one or more kinds selected from benzoin derivatives, oxime ketone derivatives, benzophenone derivatives, thioxanthone derivatives and the like can be selected and used.

また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。   Specific examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate. Etc. can be mentioned. These resins are usually used together with known photosensitizers. Moreover, the said photoinitiator can also be used as a photosensitizer. Specific examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, tetramethyluram monosulfide, thioxanthone, and derivatives thereof. Further, when using an epoxy acrylate photoreactant, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used.

紫外線硬化性樹脂組成物に用いられる光反応開始剤又光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by mass, preferably 1 to 10 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。本発明の塗布組成物は固形分濃度は10〜95質量%であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, vinyl acetate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester. The coating composition of the present invention preferably has a solid content concentration of 10 to 95% by mass, and an appropriate concentration is selected depending on the coating method.

紫外線硬化樹脂としては、例えば、アデカオプトマーKR・BYシリーズKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B、(以上 旭電化工業株式会社製)あるいはコーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上広栄化学工業株式会社製)、あるいはセイカビームPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上大日精化工業株式会社製)、あるいはKRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上ダイセル・ユーシービー株式会社)、あるいはRC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上大日本インキ化学工業株式会社製)、あるいはオーレックスNo.340クリヤ(中国塗料株式会社製)、あるいはサンラッドH−601(三洋化成工業株式会社製)、あるいはSP−1509、SP−1507(昭和高分子株式会社製)、あるいはRCC−15C(グレース・ャパン株式会社製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成株式会社製)あるいはこの他の市販のものから適宜選択して利用することもできる。   Examples of the ultraviolet curable resin include Adekaoptomer KR / BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) or Koei. Hard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101, FT-102Q8 MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), or Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP- 20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (above Dainichi Seika Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), or KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above Daicel UC Corporation), or RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC -5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) or Aulex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sunrad H-601 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), SP-1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), or RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.) (Manufactured by company), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) or other commercially available products can be used as appropriate.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用出来る。   As the light source for forming the cured film layer by photocuring reaction of the ultraviolet curable resin, any light source that generates ultraviolet rays can be used.

例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm2程度あればよく、好ましくは、50〜2000mJ/cm2である。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用出来る。 For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated may be any degree 20~10000mJ / cm 2, preferably from 50~2000mJ / cm 2. From the near ultraviolet region to the visible light region, it can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in that region.

この硬化皮膜層に、液晶表示装置パネルの表面に防眩性を与えるために、また他の物質との対密着性を防ぐ性質を与えるために、対擦り傷性等のために無機あるいは有機のマット剤を加えることもできる。   In order to give the cured film layer an antiglare property on the surface of the liquid crystal display panel and to prevent the adhesion to other substances, an inorganic or organic mat is used for scratch resistance. Agents can also be added.

例えば、無機粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができ、また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。   For example, examples of the inorganic particles include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, calcium sulfate, and the like, and examples of the organic particles include polymethacrylic acid. Methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder Further, it can be added to an ultraviolet curable resin composition such as polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder.

これらの粒子粉末の平均粒径としては、0.01μm〜10μmであり、紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜20質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these particle powders is 0.01 μm to 10 μm, and the ratio of the ultraviolet curable resin composition to the fine particle powder is 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition. It is desirable to blend so that.

防眩効果を付与するには、平均粒径0.1〜1μm、樹脂組成物100質量部に対して1〜15質量部が好適である。   In order to impart an antiglare effect, the average particle size is preferably 0.1 to 1 μm, and 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

このような微粒子を紫外線硬化樹脂に添加することによって、中心線表面粗さRaが0.1〜0.5μmの好ましい凹凸を有する防眩層を形成することができる。   By adding such fine particles to the ultraviolet curable resin, it is possible to form an antiglare layer having preferable irregularities having a center line surface roughness Ra of 0.1 to 0.5 μm.

又、このよう微粒子を紫外線硬化性樹脂組成物に添加しない場合、中心線表面粗さRa0.05μm未満、より好ましくは0.04μm未満更に好ましくは0.00〜0.03μmの良好な平滑面を有するクリアハードコート層を形成することができる。   Further, when such fine particles are not added to the ultraviolet curable resin composition, a good smooth surface having a center line surface roughness Ra of less than 0.05 μm, more preferably less than 0.04 μm, and even more preferably 0.00 to 0.03 μm. A clear hard coat layer can be formed.

このときヘイズ0.5%未満特に0.1%未満の好ましいクリアハードコートフィルムを得ることができる。   At this time, a preferable clear hard coat film having a haze of less than 0.5%, particularly less than 0.1% can be obtained.

中心線表面粗さRaは光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製RST/PLUSを用いて測定することができる。   The centerline surface roughness Ra is preferably measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, RST / PLUS manufactured by WYKO.

これらクリアハードコート層等の上には、さらに高屈折率層(好ましくは屈折率1.65〜1.75)及び低屈折率層(好ましくは屈折率1.35〜1.45)等から構成される反射防止層を形成することもできる。これらの反射防止層は445〜655nmの平均反射率で0.7%以下、この波長範囲内の最低反射率が0.2%以下の優れた反射防止層を形成することが出来る。   On these clear hard coat layers, a high refractive index layer (preferably with a refractive index of 1.65 to 1.75) and a low refractive index layer (preferably with a refractive index of 1.35 to 1.45) are formed. It is also possible to form an antireflection layer. These antireflection layers can form an excellent antireflection layer having an average reflectance of 445 to 655 nm of 0.7% or less and a minimum reflectance within this wavelength range of 0.2% or less.

この他、ブロッキング防止機能を果たすものとして、上述したのと同じ成分で、体積平均粒径0.005〜0.1μmの極微粒子を樹脂組成物100質量部に対して0.1〜5質量部を用いることもできる。   In addition, as an element that performs the blocking prevention function, 0.1 to 5 parts by mass of ultrafine particles having a volume average particle size of 0.005 to 0.1 μm with the same components as described above with respect to 100 parts by mass of the resin composition Can also be used.

本発明の活性線硬化樹脂を有するクリアハード層等の上には更に下記の反射防止加工を施した構成の、一例を示すと、
低屈折率層(屈折率)/高屈折率層(屈折率)/クリアハード層/樹脂フィルム/帯電防止層
低屈折率層(屈折率)/高屈折率層(屈折率)/クリアハード層/樹脂フィルム/帯電防止層/アンチカール層兼ブロッキング防止層である。
On the clear hard layer etc. having the actinic radiation curable resin of the present invention, an example of the configuration further subjected to the following antireflection treatment,
Low refractive index layer (refractive index) / High refractive index layer (refractive index) / Clear hard layer / Resin film / Antistatic layer Low refractive index layer (refractive index) / High refractive index layer (refractive index) / Clear hard layer / Resin film / antistatic layer / anti-curl layer / anti-blocking layer.

また更に、ブロッキング防止機能を果たすものとして、上述したのと同じ成分で、体積平均粒径0.005〜0.1μmの粒子を紫外線硬化樹脂組成物100質量部に対して0.1〜5質量部、併せて用いることもできる。   Still further, as a component that serves as an anti-blocking function, 0.1 to 5 mass of particles having a volume average particle size of 0.005 to 0.1 μm with the same components as described above with respect to 100 mass parts of the ultraviolet curable resin composition. Can also be used together.

帯電防止層の上に、該紫外線硬化性樹脂組成物を塗設することで、透明樹脂フィルムに帯電防止加工とクリアハード加工することができる。   By coating the ultraviolet curable resin composition on the antistatic layer, the transparent resin film can be subjected to antistatic processing and clear hard processing.

本発明の上層用の塗布組成物としては、溶媒としてメタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、グリコールエーテル類、その他の溶媒が単独であるいは適宜混合されて用いられる。   As the coating composition for the upper layer of the present invention, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, tert-butanol and cyclohexanol as solvents, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and acetone In addition, esters such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl lactate, isopropyl acetate, amyl acetate, and ethyl butyrate, hydrocarbons such as toluene and xylene, glycol ethers, and other solvents may be used alone or in an appropriate mixture.

混合される溶媒としては、特にこれらに限定されるものではない。より好ましくは、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/又はプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルを5質量%以上、さらに好ましくは5〜80質量%以上含有する溶媒が用いられる。   The solvent to be mixed is not particularly limited to these. More preferably, a solvent containing 5% by mass or more, more preferably 5-80% by mass or more of propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester is used.

プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルとしては具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどがあげられる。又、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートがあげられ、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどがあげられる。   Specific examples of the propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether include propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, and the like. Can be given. Examples of the propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether ester include propylene glycol monoalkyl ether acetate, and specific examples include propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate.

プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/又はプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルと混合されて使用される溶媒としては前述の溶媒があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。   Examples of the solvent used by mixing with propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether ester include the above-mentioned solvents, but are not particularly limited thereto. Absent.

上記有機溶媒は紫外線照射前に蒸発させるため、乾燥工程を必要とする。   Since the organic solvent evaporates before ultraviolet irradiation, a drying step is required.

本発明の別の態様では、該上層の樹脂を硬化させるときもしくは硬化させる前に、下層のバインダーのガラス転移点以上の温度にすることによって密着性が改善されることを見いだした。   In another embodiment of the present invention, it has been found that adhesion is improved by setting the temperature of the upper layer resin to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the lower layer binder before or after curing.

例えば下層に使用している樹脂のガラス転移点が85℃であれば上層の乾燥温度を85℃以上とすることによって、更に密着性が改善されたのである。   For example, if the glass transition point of the resin used for the lower layer is 85 ° C., the adhesiveness is further improved by setting the drying temperature of the upper layer to 85 ° C. or higher.

紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーターとう公知の方法を用いることが出来る。塗布量はウエット膜厚で0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。塗布速度は好ましくは10〜40m/minで行われる。   As a method for applying the ultraviolet curable resin composition coating solution, known methods such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater, and an air doctor coater can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm in terms of wet film thickness. The coating speed is preferably 10 to 40 m / min.

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は0.5秒〜5分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率とから3秒〜2分がより好ましい。   The UV curable resin composition is applied and dried, and then irradiated with UV light from a light source. The irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes, and 3 seconds to 2 from the curing efficiency and work efficiency of the UV curable resin. Minutes are more preferred.

本発明に係る偏光板保護フィルム及び偏光板を装着した液晶パネルはパソコンやワープロのように室内で使用されるものばかりではなく、カーナビゲーションのように真夏の車内に放置される場合もあり、偏光板保護フィルムに耐光性や耐熱性が要求されることがある。   The liquid crystal panel equipped with the polarizing plate protective film and the polarizing plate according to the present invention is not only used indoors like a personal computer or a word processor, but may be left in a midsummer car like a car navigation system. The plate protective film may be required to have light resistance and heat resistance.

そこで、紫外線硬化性樹脂組成物を含有する層に紫外線を照射し硬化させた硬化皮膜層の耐光性を高めるために、紫外線硬化性樹脂組成物の光硬化を妨げない程度に紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。   Therefore, in order to increase the light resistance of the cured film layer that is cured by irradiating the layer containing the ultraviolet curable resin composition with ultraviolet rays, the ultraviolet absorber is added to the ultraviolet ray to such an extent that the photocuring of the ultraviolet curable resin composition is not hindered. It may be included in the curable resin composition.

紫外線吸収剤としては、前記透明なプラスチックフィルムに含有させてもよい紫外線吸収剤と同様なものを用いることが出来る。   As an ultraviolet absorber, the same thing as the ultraviolet absorber which may be contained in the said transparent plastic film can be used.

また硬化された層の耐熱性を高めるために、酸化防止剤を光硬化反応を抑制しないようなものを選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体、等を挙げることが出来る。   In order to increase the heat resistance of the cured layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples thereof include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like.

具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−t−3−メチルフェノール)、4,4′−ビチリデンビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ハイドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロオキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることが出来る。   Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-t-3-methylphenol), 4,4′-bitylidenebis (6-t-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4 -Hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl phosphate.

ところで、フィルムの片面だけに表面加工を施した場合や、両面に異なる種類あるいは異なる程度の付加価値を付与するために表面加工を施した場合などには、フィルムが丸まってしまうというカール現象が起こり易い。   By the way, when surface processing is applied only to one side of the film, or when surface processing is applied to add different types or different levels of added value on both sides, a curling phenomenon occurs in which the film is rounded. easy.

カールしてしまうとこれを用いて偏光板を作製する際に取扱いにくく不都合である。本発明の透明樹脂は下層に重量平均分子量2万〜40万の熱可塑性樹脂を用いることで比較的カールが起こりにくい点で優れている。   If it curls, it is difficult to handle and inconvenient when producing a polarizing plate using this. The transparent resin of the present invention is excellent in that curling is relatively difficult to occur by using a thermoplastic resin having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 in the lower layer.

更にカールを防止することにより、カールによる不都合を解消し、かつ偏光板用保護フィルムとしての機能を損なわないようにするため、帯電防止層及び/又はハードコート層を塗設した反対側にアンチカール層を設けることが出来る。   Furthermore, in order to eliminate the curling problem and prevent the function as a protective film for polarizing plate from being impaired by preventing curling, anti-curling is applied to the opposite side on which the antistatic layer and / or hard coat layer is coated. A layer can be provided.

すなわち、アンチカール層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせるものである。   In other words, the degree of curling is balanced by imparting the property of curling with the surface provided with the anti-curl layer inside.

なお、アンチカール層は好ましくはブロッキング層を兼ねて塗設され、その場合、塗布組成物にはブロッキング防止機能を持たせるための前述の無機微粒子及び有機微粒子を含有させることができる。   The anti-curl layer is preferably applied also as a blocking layer, and in this case, the coating composition can contain the above-mentioned inorganic fine particles and organic fine particles for providing an anti-blocking function.

アンチカール機能の付与は、具体的には偏光板用保護フィルムとして用いる透明樹脂フィルムを溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。   The imparting of the anti-curl function is specifically performed by applying a composition containing a solvent for dissolving or swelling a transparent resin film used as a protective film for a polarizing plate.

用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び/又は膨潤させる溶媒の混合物の他さらに溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。   The solvent to be used may include a solvent to be dissolved and / or a solvent to be swollen in addition to a solvent to be swelled, a composition in which these are mixed at an appropriate ratio depending on the degree of curl of the transparent resin film and the type of resin, and This is done using the coating amount.

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び/又は膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。   In order to enhance the curl prevention function, it is effective to increase the mixing ratio of the solvent for dissolving the solvent composition to be used and / or the solvent for swelling, and to decrease the ratio of the solvent not to be dissolved.

この混合比率は好ましくは(溶解させる溶媒及び/又は膨潤させる溶媒):(溶解させない溶媒)=10:0〜1:9で用いられる。   This mixing ratio is preferably (solvent to be dissolved and / or solvent to be swollen) :( solvent to be dissolved) = 10: 0 to 1: 9.

このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解又は膨潤させる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。   Examples of the solvent for dissolving or swelling the transparent resin film contained in such a mixed composition include benzene, toluene, xylene, dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, and trichloroethylene. , Methylene chloride, ethylene chloride, tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform and the like.

溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノールなどがある。   Examples of the solvent that does not dissolve include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, and n-butanol.

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、押し出しコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μm塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであると良い。   These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film using a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, an extrusion coater, or the like, but a wet film thickness of 1 to 100 μm is preferable, and 5 to 30 μm is particularly preferable.

ここで用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体あるいは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸および/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the resin used here include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, copolymer of vinyl acetate and vinyl alcohol, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and chloride. Vinyl-based vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Polymers or copolymers, cellulose derivatives such as nitrocellulose, cellulose acetate propionate, diacetyl cellulose, cellulose acetate butyrate resin, copolymers of maleic acid and / or acrylic acid, acrylic acid ester copolymers, acrylonitrile-styrene Copolymer, chlorinated poly Tylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, Examples thereof include, but are not limited to, polyether resins, polyamide resins, amino resins, rubber resins such as styrene-butadiene resins, butadiene-acrylonitrile resins, silicone resins, and fluorine resins.

例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。   For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers such as various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials are commercially available and can also be selected preferred mono from this appropriate.

特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。   Particularly preferred are cellulose resin layers such as diacetylcellulose and cellulose acetate propionate.

アンチカール層を塗設する順番は透明樹脂フィルムの反対側の層(例えば帯電防止層あるいはクリアハードコート層等)を塗設する前でも後でも構わないが、アンチカール層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。   The anti-curl layer may be applied before or after the opposite layer of the transparent resin film (for example, an antistatic layer or a clear hard coat layer) is applied, but the anti-curl layer also serves as an anti-blocking layer. In this case, it is desirable to apply it first.

以下、本発明を実施例にて具体的に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。まず、実施例で用いる各組成物等を説明する。
実施例1
〈透明樹脂フィルム1の作製〉
(ドープ組成物(イ))
セルローストリアセテート(酸化度61.0%) 100質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 4質量部
2−〔5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4−メチル−6−(t−ブチル)フェノール 1質量部
2−〔(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェノール 1質量部
メチレンクロライド 430質量部
メタノール 90質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹伴しながら完全に溶解した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to this Example. First, each composition used in the examples will be described.
Example 1
<Preparation of transparent resin film 1>
(Dope composition (I))
Cellulose triacetate (oxidation degree 61.0%) 100 parts by mass ethylphthalylethyl glycolate 4 parts by mass 2- [5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl] -4-methyl-6- (t-butyl) ) Phenol 1 part by mass 2-[(2H) -benzotriazol-2-yl] -4,6-di-t-pentylphenol 1 part by weight methylene chloride 430 parts by weight methanol 90 parts by weight The above composition is put into a sealed container. The solution was kept at 80 ° C. under pressure and dissolved completely with stirring.

次にこのドープを濾過し、冷却して33℃に保ちステンレスバンド上に均一に流延し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚80μmのフィルムを得た。   Next, the dope is filtered, cooled and kept at 33 ° C., uniformly cast on the stainless steel band, and the solvent is evaporated until it can be peeled off. After peeling from the stainless steel band, it is transported by many rolls. Then, drying was finished to obtain a film having a thickness of 80 μm.

ステンレスバンドに接している面をb面とし、もう一方の面をa面とする。
〈透明樹脂フィルム2の作製〉
(ドープ組成物(ロ))
ポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量4万、ビスフェノールA型) 100質量部
2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
1.0質量部
メチレンクロライド 430質量部
メタノール 90質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹拌しながら完全に溶解して、ドープ組成物(ロ)を得た。
The surface in contact with the stainless steel band is defined as b-plane and the other surface is defined as a-plane.
<Preparation of transparent resin film 2>
(Dope composition (b))
Polycarbonate resin (viscosity average molecular weight 40,000, bisphenol A type) 100 parts by mass 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole
1.0 part by mass methylene chloride 430 parts by mass methanol 90 parts by mass The above composition was put into a sealed container, kept at 80 ° C. under pressure and completely dissolved with stirring to obtain a dope composition (b). .

次にこのドープ組成物(ロ)を濾過し、冷却して33℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延し、33℃で5分間乾燥した。次に65℃でレタデーション5nmになるように乾燥時間を調整し、ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚80μmのポリカーボネートフィルムを得た。このとき、ステンレスバンドに接していた側をb面とし、その反対面をa面とする。   Next, this dope composition (b) was filtered, cooled, kept at 33 ° C., uniformly cast on a stainless steel band, and dried at 33 ° C. for 5 minutes. Next, the drying time was adjusted so that the retardation was 5 nm at 65 ° C., and after peeling from the stainless steel band, drying was terminated while being conveyed by a large number of rolls to obtain a polycarbonate film having a thickness of 80 μm. At this time, the side in contact with the stainless steel band is defined as b-plane, and the opposite surface is defined as a-plane.

記の組成物を調製した。
塗布組成物(1)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量3万) 0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 70質量部
メチルエチルケトン 30質量部
また、この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(1)とした。
塗布組成物(2)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量8.5万) 0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 70質量部
メチルエチルケトン 30質量部
また、この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(2)とした。
塗布組成物(3)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量28万) 0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 70質量部
メチルエチルケトン 30質量部
また、この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(3)とした。
塗布組成物(4)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量32万) 0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 70質量部
メチルエチルケトン 30質量部
また、この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(4)とした。
塗布組成物(5)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量55万) 0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 70質量部
メチルエチルケトン 30質量部
また、この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(5)とした。
塗布組成物(6)
ポリビニルアルコール
(重量平均分子量1万) 0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 70質量部
メチルエチルケトン 30質量部
また、この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(6)とした。
塗布組成物(7)
ポリメチルメタクリレート 0.2質量部
(重量平均分子量6万、ガラス転移点60℃)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(平均粒径0.1μm粒子) 0.5質量部
The following composition was prepared.
Coating composition (1)
Polymethylmethacrylate (weight average molecular weight 30,000) 0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 70 parts by mass Methyl ethyl ketone 30 parts by mass Further, a coating composition obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter was used as a coating composition (1). .
Coating composition (2)
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 85,000) 0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 70 parts by mass Methyl ethyl ketone 30 parts by mass Further, a coating composition obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter (2) It was.
Coating composition (3)
Polymethylmethacrylate (weight average molecular weight 280,000) 0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 70 parts by mass Methyl ethyl ketone 30 parts by mass Further, a coating composition (3) obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter .
Coating composition (4)
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 320,000) 0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 70 parts by mass Methyl ethyl ketone 30 parts by mass Further, a coating composition (4) obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter. .
Coating composition (5)
Polymethylmethacrylate (weight average molecular weight 550,000) 0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 70 parts by mass Methyl ethyl ketone 30 parts by mass Further, a coating composition obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter was used as a coating composition (5). .
Coating composition (6)
Polyvinyl alcohol (weight average molecular weight 10,000) 0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 70 parts by mass Methyl ethyl ketone 30 parts by mass Further, a coating composition (6) was obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter.
Coating composition (7)
0.2 parts by mass of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 60,000, glass transition point 60 ° C.)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by weight Methyl ethyl ketone 20 parts by weight Ethyl lactate 5 parts by weight Methanol 10 parts by weight Conductive polymer resin (1) (average particle size 0.1 μm particles) 0.5 parts by weight

Figure 2008158515
Figure 2008158515

また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(7)とした。
塗布組成物(8)
ポリメチルメタクリレート 0.5質量部
(重量平均分子量6万、ガラス転移点60℃)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(8)とした。
塗布組成物(9)
ポリメチルメタクリレート 1.0質量部
(重量平均分子量6万、ガラス転移点60℃)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(9)とした。
塗布組成物(10)
ポリメチルメタクリレート 2.0質量部
(重量平均分子量6万、ガラス転移点60℃)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(10)とした。
塗布組成物(11)
ポリメチルメタクリレート 2.5質量部
(重量平均分子量6万、ガラス転移点60℃)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(11)とした。
塗布組成物(12)
ポリビニルアルコール 0.5質量部
(重量平均分子量10万)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子の粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(12)とした。
塗布組成物(13)
ポリビニルアルコール 0.5質量部
(重量平均分子量1万)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(13)とした。
塗布組成物(14)
ポリメチルメタクリレート 0.5質量部
(重量平均分子量70万)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 65質量部
メチルエチルケトン 20質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子)0.5質量部
また、この塗布組成物を3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物(14)とした。
塗布組成物(15)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 70質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 15質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 15質量部
ジエトキシベンゾフェノンUV開始剤 2質量部
ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン共重合物 1質量部
(BYK−306 ビックケミ−ジャパン株式会社)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部
メチルエチルケトン 75質量部
この塗布組成物を1μmのアブソリュートフィルターで濾過したものを塗布組成物(15)とした。
塗布組成物(16)
アセトン 72質量部
メタノール 18質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
ジアセチルセルロース 0.5質量部
2%アセトン分散超微粒子シリカAerosil200 0.1質量部
(日本アエロジェル(株)製)
この塗布組成物を3μmのフィルターで濾過したものを塗布組成物(16)とした。下記に従って、本発明の光学フィルム例−1〜4、8〜13と比較試料−5〜7、14〜15を作製した。
〈本発明の光学フィルム及び比較例の作製〉
透明樹脂フィルム1の作製の方法で作製したトリアセチルセルロースフィルムの片面(a面)に塗布組成物(5)をウェット膜厚13μmとなるように塗布し、80℃に設定された乾燥部で乾燥して透明樹脂層(ブロッキング層)を設けた。
A coating composition (7) was obtained by filtering the coating composition with a filter having a particle capture efficiency of 3 μm or more of 99% or more and a particle capture efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (8)
0.5 parts by mass of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 60,000, glass transition point 60 ° C.)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by mass Methyl ethyl ketone 20 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 10 parts by mass Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass Also, this coating composition is 3 μm. The coating composition (8) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (9)
1.0 part by weight of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 60,000, glass transition point 60 ° C.)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by mass Methyl ethyl ketone 20 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 10 parts by mass Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass Also, this coating composition is 3 μm. The coating composition (9) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (10)
2.0 parts by mass of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 60,000, glass transition point 60 ° C.)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by mass Methyl ethyl ketone 20 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 10 parts by mass Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass Also, this coating composition is 3 μm. The coating composition (10) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (11)
2.5 parts by mass of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 60,000, glass transition point 60 ° C.)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by mass Methyl ethyl ketone 20 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 10 parts by mass Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass Also, this coating composition is 3 μm. The coating composition (11) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (12)
0.5 parts by weight of polyvinyl alcohol (weight average molecular weight 100,000)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by mass Methyl ethyl ketone 20 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 10 parts by mass Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass Also, this coating composition is 3 μm. The coating composition (12) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (13)
0.5 parts by weight of polyvinyl alcohol (weight average molecular weight 10,000)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by mass Methyl ethyl ketone 20 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 10 parts by mass Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass Also, this coating composition is 3 μm. The coating composition (13) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (14)
0.5 parts by mass of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 700,000)
Propylene glycol monomethyl ether 65 parts by weight Methyl ethyl ketone 20 parts by weight Ethyl lactate 5 parts by weight Methanol 10 parts by weight Conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by weight In addition, this coating composition is 3 μm. The coating composition (14) was filtered through a filter having a particle trapping efficiency of 99% or more and a particle trapping efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less.
Coating composition (15)
Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 70 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 15 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer component 15 parts by mass Diethoxybenzophenone UV initiator 2 parts by mass Polyether-modified dimethylpoly Siloxane copolymer 1 part by mass (BYK-306 Big Chemi Japan Co., Ltd.)
Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by weight Methyl ethyl ketone 75 parts by weight A coating composition (15) was obtained by filtering this coating composition with a 1 μm absolute filter.
Coating composition (16)
Acetone 72 parts by mass Methanol 18 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass Diacetyl cellulose 0.5 parts by mass 2% acetone-dispersed ultrafine silica Aerosil 200 0.1 parts by mass (Nippon Aerogel Co., Ltd.)
A coating composition (16) was obtained by filtering this coating composition with a 3 μm filter. Optical film examples-1 to 4, 8 to 13 and comparative samples 5 to 7 and 14 to 15 of the present invention were prepared according to the following.
<Production of Optical Film of the Present Invention and Comparative Example>
The coating composition (5) is applied to one side (a side) of the triacetyl cellulose film produced by the method for producing the transparent resin film 1 so as to have a wet film thickness of 13 μm, and is dried in a drying unit set at 80 ° C. Then, a transparent resin layer (blocking layer) was provided.

さらに、片面(b面)に塗布組成物(1)〜(14)をそれぞれウェット膜厚13μm(乾燥膜厚約0.2μm)となるように塗布し、80℃に設定された乾燥部で乾燥して透明樹脂層(下引き層or帯電防止層)を設けた。   Further, the coating compositions (1) to (14) were applied to one surface (b surface) so as to have a wet film thickness of 13 μm (dry film thickness of about 0.2 μm), and dried in a drying section set at 80 ° C. Then, a transparent resin layer (undercoat layer or antistatic layer) was provided.

その上に塗布組成物(15)をウェット膜厚13μmとなるように塗布し、90℃に設定された乾燥部で乾燥し、紫外線を200mJ/cm2で照射して硬化させ、ドライ膜厚4μmの透明樹脂層(クリアハードコート層)を設けた。 A coating composition (15) is applied thereon so as to have a wet film thickness of 13 μm, dried in a drying section set at 90 ° C., cured by irradiation with ultraviolet rays at 200 mJ / cm 2 , and a dry film thickness of 4 μm. Transparent resin layer (clear hard coat layer) was provided.

このようにして、表1に示した本発明の光学フィルム例−1〜4,8〜13と比較例−5〜7、14〜15を作製した。   In this way, optical film examples-1 to 4, 8 to 13 and comparative examples 5 to 7 and 14 to 15 of the present invention shown in Table 1 were produced.

これらの試料について、紫外線照射70時間(アイスーパーUVテスト岩崎電気(株)製)後の密着性をJIS−K5400に従って試験した。又、本発明の例8〜13、比較例14〜15については23℃、55%RHにおける表面比抵抗を測定した。これらの結果を下表に示す。   About these samples, the adhesiveness after ultraviolet irradiation 70 hours (Isuper UV test Iwasaki Electric Co., Ltd. product) was tested according to JIS-K5400. For Examples 8 to 13 and Comparative Examples 14 to 15 of the present invention, the surface specific resistance at 23 ° C. and 55% RH was measured. These results are shown in the table below.

Figure 2008158515
Figure 2008158515

密着性
◎ 全く剥がれない
○ ごく一部剥がれる
△ 半分が剥がれる
× 完全に剥がれる
表面比抵抗
◎ 1010Ω/cm2以下
○ 1010〜1011Ω/cm2
× 1011Ω/cm2を超える
このように本発明の組成物を用いて作製した本発明の光学フィルム例−1〜4、8〜13は比較例−5〜7、14〜15に対して密着性に優れ、特に紫外線照射後の密着性に優れていることが確認された。
Adhesion ◎ Not peeled at all ○ Partially peeled △ Half peeled off × Completely peeled surface resistivity ◎ 10 10 Ω / cm 2 or less ○ 10 10 to 10 11 Ω / cm 2
X Exceeding 10 11 Ω / cm 2 Thus, the optical film examples-1 to 4, 8-13 of the present invention produced using the composition of the present invention are compared to Comparative Examples-5-7, 14-15. It was confirmed that the adhesiveness was excellent, and in particular, the adhesiveness after ultraviolet irradiation was excellent.

更に、下層に導電性微粒子を含む帯電防止層である場合、微粒子とバインダーの比率が微粒子1に対しバインダーが0.5〜4.0の範囲で、密着性と表面比抵抗が共に優れていることが確認できた。
実施例2
下記に従って、本発明の光学フィルム例−16〜19と比較の光学フィルム例−20〜21を作製した。
〈本発明の光学フィルム及び比較例の作製〉
透明樹脂フィルム2の作製の方法で作製したポリカーボネートフィルムの片面(b面)に塗布組成物1〜6をそれぞれウェット膜厚13μmとなるように塗布し、80℃に設定された乾燥部で乾燥して透明樹脂層(帯電防止層)を設けた。
Furthermore, in the case of an antistatic layer containing conductive fine particles in the lower layer, the ratio of the fine particles to the binder is in the range of 0.5 to 4.0 with respect to the fine particles 1, and both the adhesion and the surface specific resistance are excellent. I was able to confirm.
Example 2
According to the following, optical film examples -16 to 19 of the present invention and comparative optical film examples -20 to 21 were prepared.
<Production of Optical Film of the Present Invention and Comparative Example>
The coating compositions 1 to 6 are applied to one side (b side) of the polycarbonate film produced by the method for producing the transparent resin film 2 so as to have a wet film thickness of 13 μm, respectively, and dried in a drying section set at 80 ° C. A transparent resin layer (antistatic layer) was provided.

その上に塗布組成物(15)をウェット膜厚13μmとなるように塗布し、80℃に設定された乾燥部で乾燥し、紫外線を150mJ/cm2で照射し硬化させて、ドライ膜厚4μmの透明樹脂層(クリアハードコート層)を設けた。このようにして、表2に示した本発明の光学フィルム例−16〜19と比較例−20〜21を作製した。 A coating composition (15) is applied thereon so as to have a wet film thickness of 13 μm, dried in a drying section set at 80 ° C., and cured by irradiation with ultraviolet rays at 150 mJ / cm 2 , and a dry film thickness of 4 μm. Transparent resin layer (clear hard coat layer) was provided. In this way, optical film examples -16 to 19 and comparative examples -20 to 21 of the present invention shown in Table 2 were produced.

これらの試料について、紫外線照射80時間(アイスーパーUVテスト岩崎電気(株)製)後の密着性をJIS−K5400に従って試験した。更に、23℃、55%RHにおける表面比抵抗を測定した。その結果を表4に示す。   About these samples, the adhesiveness after ultraviolet irradiation 80 hours (Isuper UV test Iwasaki Electric Co., Ltd. product) was tested according to JIS-K5400. Furthermore, the surface specific resistance at 23 ° C. and 55% RH was measured. The results are shown in Table 4.

Figure 2008158515
Figure 2008158515

密着性
◎ 全く剥がれない
○ ごく一部剥がれる
△ 半分が剥がれる
× 完全に剥がれる
このように本発明の光学フィルムでは比較例に対して密着性が改善されていることが確認された。
実施例3
下層として帯電防止層を塗設するための下記組成の塗布組成物を用意した。
塗布組成物(17)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量6.5万、ガラス転移点80℃) 1.0質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60質量部
メチルエチルケトン 25質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
塗布組成物(18)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量32万、ガラス転移点80℃) 1.0質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60質量部
メチルエチルケトン 25質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
塗布組成物(19)
ポリメチルメタクリレート
(重量平均分子量8万、ガラス転移点90℃) 1.0質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60質量部
メチルエチルケトン 25質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
これらの塗布組成物はそれぞれ、3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物とした。
塗布組成物(20)
ダイヤナールBR−75(三菱レーヨン(株)製) 0.6質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60質量部
メチルエチルケトン 25質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 10質量部
導電性ポリマー樹脂(1)(平均粒径0.15μm粒子) 0.5質量部
これらの塗布組成物はそれぞれ、3μm粒子捕捉効率が99%以上で、0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過したものを塗布組成物とした。
Adhesiveness ◎ Not peeled at all ○ Partially peeled off △ Half peeled off × Completely peeled As described above, it was confirmed that the optical film of the present invention had improved adhesiveness compared to the comparative example.
Example 3
The coating composition of the following composition for coating an antistatic layer as a lower layer was prepared.
Coating composition (17)
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 650,000, glass transition point 80 ° C.) 1.0 part by mass propylene glycol monomethyl ether 60 parts by mass methyl ethyl ketone 25 parts by mass ethyl lactate 5 parts by mass methanol 10 parts by mass conductive polymer resin (1) (0.1-0.3 μm particles) 0.5 parts by mass of coating composition (18)
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 320,000, glass transition point 80 ° C.) 1.0 part by mass propylene glycol monomethyl ether 60 parts by mass methyl ethyl ketone 25 parts by mass ethyl lactate 5 parts by mass methanol 10 parts by mass conductive polymer resin (1) (0 0.5-part by weight coating composition (19)
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 80,000, glass transition point 90 ° C.) 1.0 part by mass propylene glycol monomethyl ether 60 parts by mass methyl ethyl ketone 25 parts by mass ethyl lactate 5 parts by mass methanol 10 parts by mass conductive polymer resin (1) (0 0.5-part by mass These coating compositions were each filtered through a filter having a particle capture efficiency of 3 μm particles of 99% or more and a particle capture efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less. A coating composition was obtained.
Coating composition (20)
Dianal BR-75 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 0.6 parts by mass propylene glycol monomethyl ether 60 parts by mass methyl ethyl ketone 25 parts by mass ethyl lactate 5 parts by mass methanol 10 parts by mass conductive polymer resin (1) (average particle size 0) .15 μm particles) 0.5 parts by mass Each of these coating compositions was filtered with a filter having a particle capture efficiency of 3 μm particles of 99% or more and a particle capture efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less. did.

実施例1で作成したトリアセチルセルロースフィルムの片面(a面)に塗布組成物(5)をウェット膜厚13μmとなるように塗布し、80℃に設定された乾燥部で乾燥して透明樹脂層(ブロッキング層)を設けた。   A coating composition (5) was applied to one side (a-side) of the triacetylcellulose film prepared in Example 1 so as to have a wet film thickness of 13 μm, and dried in a drying section set at 80 ° C. to obtain a transparent resin layer (Blocking layer) was provided.

さらに、片面(b面)に塗布組成物(17)〜(20)をそれぞれウェット膜厚13μm(乾燥膜厚約0.2μm)となるように塗布し、80℃に設定された乾燥部で乾燥して透明樹脂層(帯電防止層)を設けた。   Further, the coating compositions (17) to (20) were applied to one surface (b surface) so as to have a wet film thickness of 13 μm (dry film thickness of about 0.2 μm) and dried in a drying section set at 80 ° C. Thus, a transparent resin layer (antistatic layer) was provided.

その上に塗布組成物(15)をウェット膜厚13μmとなるように塗布し、90℃に設定された乾燥部で乾燥した後、紫外線を200mJ/cm2で照射して硬化させ、ドライ膜厚4μmの透明樹脂層(クリアハードコート層)を設けた。このようにして、表3に示した本発明の光学フィルム例−22〜24、28を作成した。 A coating composition (15) is applied thereon so as to have a wet film thickness of 13 μm, dried in a drying section set at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays at 200 mJ / cm 2. A 4 μm transparent resin layer (clear hard coat layer) was provided. Thus, the optical film examples 22-22, and 28 of this invention shown in Table 3 were created.

塗布組成物(15)をウェット膜厚13μmとなるように塗布し、70℃に設定された乾燥部で乾燥した以外は同様の方法で作成した光学フィルム例25〜27、29を作成した。   Optical film examples 25 to 27 and 29 were prepared by the same method except that the coating composition (15) was applied to a wet film thickness of 13 μm and dried in a drying section set at 70 ° C.

これらの試料について、紫外線照射90時間(アイスーパーUVテスト 岩崎電気(株)製)後の密着性をJIS−K5400に従って試験した。   About these samples, the adhesiveness after ultraviolet irradiation 90 hours (Isuper UV test Iwasaki Electric Co., Ltd. product) was tested according to JIS-K5400.

その結果、下層に用いられているバインダーのガラス転移点よりも高い温度で上層を乾燥させた試料22〜24、28はガラス転移点よりも低い温度で乾燥させた試料25〜17、29よりもさらに密着性に優れることが確認された。   As a result, samples 22 to 24 and 28 in which the upper layer was dried at a temperature higher than the glass transition point of the binder used in the lower layer were compared to samples 25 to 17 and 29 in which the upper layer was dried at a temperature lower than the glass transition point. Furthermore, it was confirmed that the adhesiveness is excellent.

Figure 2008158515
Figure 2008158515

密着性
◎ 全く剥がれない
○ ごく一部剥がれる
△ 半分が剥がれる
× 完全に剥がれる
〈偏光板の作成〉
本発明の例23の透明樹脂フイルムを偏光板用保護フィルムとして下記の方法に従って偏光板を作製した。厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素1部、ヨウ化カリウム2部、ホウ酸4部を含む水溶液に浸漬し50℃で4倍に延伸し偏光膜を得た。
Adhesiveness ◎ Not peeled off ○ Partially peeled △ Half peeled × Completely peeled <Creation of polarizing plate>
A polarizing plate was produced according to the following method using the transparent resin film of Example 23 of the present invention as a protective film for a polarizing plate. A 120 μm thick polyvinyl alcohol film was immersed in an aqueous solution containing 1 part of iodine, 2 parts of potassium iodide, and 4 parts of boric acid, and stretched 4 times at 50 ° C. to obtain a polarizing film.

下記1.〜5.の工程で、偏光膜と偏光板用保護フィルムとをはり合わせて偏光板を作製した。
〈偏光板の作製方法〉
1.長手方向30cm、巾手方向18cmに切り取った保護フィルム試料2枚を2mol/lの水酸化ナトリウム溶液に60℃で2分間浸漬し、さらに水洗、乾燥させた
2.保護フィルム試料と同サイズの上記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒間浸漬する
3.上記2.の偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、上記1.の保護フィルム試料のb面上にのせて、さらに上記1.と同一の試料フィルムのb面と接着剤とが接する様に積層し配置する
4.ハンドローラで上記3.で積層された偏光膜と保護フィルムとの積層物の端部から過剰の接着剤及び気泡を取り除きはり合わせる。ハンドローラの圧力は約20〜30N/cm2、ローラスピードは約2m/minとした
5.80℃の乾燥器中に4.で得た試料を2分間放置した。
1. ~ 5. In this step, a polarizing plate was prepared by laminating the polarizing film and the polarizing plate protective film.
<Production method of polarizing plate>
1. 1. Two protective film samples cut in a longitudinal direction of 30 cm and a lateral direction of 18 cm were immersed in a 2 mol / l sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 2 minutes, further washed with water and dried. 2. The polarizing film having the same size as the protective film sample is immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds. 2. Gently remove excess adhesive adhering to the polarizing film of 1. The protective film sample is placed on the b-side, and the above 1. 3. Laminate and arrange so that the b surface of the same sample film and the adhesive are in contact with each other. 3. Use the hand roller to Excess adhesive and bubbles are removed from the end of the laminate of the polarizing film and the protective film laminated in step 1 and bonded together. The pressure of the hand roller is about 20-30 N / cm 2 and the roller speed is about 2 m / min. The sample obtained in 1 was left for 2 minutes.

このようにして作製した偏光板は、耐候性に優れ長期間の使用にも耐えられるものであった。   The polarizing plate thus produced was excellent in weather resistance and could withstand long-term use.

Claims (3)

透明樹脂フィルム上に少なくとも2層以上の透明樹脂層を設けた光学フィルムの製造方法において、重量平均分子量が2万〜40万である熱可塑性樹脂を主な成分とするバインダーを有する下層を塗布乾燥した後、その上に活性線硬化樹脂もしくは熱硬化性樹脂を主な成分とする上層を塗布した後、上層を乾燥させる際に、下層のバインダーのガラス転移点以上の温度で上層を乾燥させることを特徴とする光学フィルムの製造方法。   In an optical film manufacturing method in which at least two or more transparent resin layers are provided on a transparent resin film, a lower layer having a binder mainly composed of a thermoplastic resin having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 is applied and dried. Then, after applying the upper layer mainly composed of actinic ray curable resin or thermosetting resin on it, when drying the upper layer, the upper layer is dried at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the lower layer binder. A method for producing an optical film. 前記透明樹脂フィルムがセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項1記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the transparent resin film is a cellulose ester film. 前記上層が、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂を含有することを特徴とする請求項2記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 2, wherein the upper layer contains an ultraviolet curable polyol acrylate resin.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010165659A (en) * 2008-06-25 2010-07-29 Fujifilm Corp Conductive film-forming photosensitive material and conductive material
WO2013080639A1 (en) * 2011-11-29 2013-06-06 コニカミノルタ株式会社 Polarizing-plate protective film, polarizing plate using same, and method for producing polarizing plate
JP2017097346A (en) * 2016-11-14 2017-06-01 大日本印刷株式会社 Method for producing optical film, optical film, optical functional member provided with the same, and image display device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62273233A (en) * 1986-05-20 1987-11-27 Dainippon Toryo Co Ltd Production of coated film
JP2000026817A (en) * 1998-07-14 2000-01-25 Teijin Ltd Surface-protective film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62273233A (en) * 1986-05-20 1987-11-27 Dainippon Toryo Co Ltd Production of coated film
JP2000026817A (en) * 1998-07-14 2000-01-25 Teijin Ltd Surface-protective film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010165659A (en) * 2008-06-25 2010-07-29 Fujifilm Corp Conductive film-forming photosensitive material and conductive material
KR101486595B1 (en) 2008-06-25 2015-01-26 후지필름 가부시키가이샤 Conductive-film-forming photosensitive material and conductive material
WO2013080639A1 (en) * 2011-11-29 2013-06-06 コニカミノルタ株式会社 Polarizing-plate protective film, polarizing plate using same, and method for producing polarizing plate
JP2017097346A (en) * 2016-11-14 2017-06-01 大日本印刷株式会社 Method for producing optical film, optical film, optical functional member provided with the same, and image display device

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