JP2008157814A - Substrate for analysis, and analyzer - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a substrate for analysis that enables measurements reduced in background light and is capable of measuring with high sensitivity, only for the emission from a sample which is held by a sample-holding part. <P>SOLUTION: The analyzing substrate 1 enabling the optical analysis of a sample has a cavity provided to a substrate 2, and the flow channel-shaped cell 5 formed by a cover layer 3 formed so as to cover the cavity. Furthermore, the analyzing substrate 1 has an antireflection layer 4 provided on the surface on the detection side of emission produced, when the sample held to the flow channel-shaped cell 5 is irradiated with a light. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は試料の光学分析を行うための分析用基板および分析装置に関する。   The present invention relates to an analysis substrate and an analysis apparatus for performing optical analysis of a sample.

近年、DNA、RNAおよびタンパク質などの生体試料の分析技術が著しく発展している。これら生体試料の検出法としては、例えば、蛍光法、吸収法、化学発光法およびラジオアイソトープ法などが挙げられる。これらの中で、多くの研究者に使用されているのは主に蛍光法である。これは、蛍光法が検出感度の高い、取り扱い易い方法であることによる。   In recent years, techniques for analyzing biological samples such as DNA, RNA, and proteins have been remarkably developed. Examples of methods for detecting these biological samples include a fluorescence method, an absorption method, a chemiluminescence method, and a radioisotope method. Of these, the fluorescence method is mainly used by many researchers. This is because the fluorescence method has a high detection sensitivity and is easy to handle.

蛍光法において、より検出感度の高い測定を行うためには、試料が発する蛍光シグナルに混入する恐れのある、種々の原因によって発生するバックグラウンド光の量を減らすことが重要である。   In the fluorescence method, in order to perform measurement with higher detection sensitivity, it is important to reduce the amount of background light generated due to various causes that may be mixed in the fluorescence signal emitted from the sample.

例えば、非特許文献1には、チップ表面にピンホールとマイクロレンズとを設け、これらが励起光のうちの透過光と試料からの蛍光との光路を空間的に分離することで、励起光によるバックグラウンド光の蛍光シグナルへの混入を減らす方法が開示されている。   For example, in Non-Patent Document 1, a pinhole and a microlens are provided on the surface of the chip, and these spatially separate the optical path between the transmitted light of the excitation light and the fluorescence from the sample. A method for reducing the contamination of background light into a fluorescent signal is disclosed.

図8に、非特許文献1に記載されているチップ200を用いた蛍光検出の様子を示す。チップ200は、内部に試料の通るマイクロチャネル201を備え、さらにチップ200の表面にはクロム層202a・bを備えている。励起光入射側のクロム層202aの開口部であるピンホールには、励起光をチップ200内に透過させるためのマイクロレンズ203aが備えられており、蛍光検出側のクロム層202bの開口部であるピンホールには、試料から発生した蛍光を透過させるためのマイクロレンズ203bが備えられている。励起光204は、チップ200の表面に対して45度の角度から平行光として入射される。励起光204のうち励起光入射側のレンズ203aを透過した光成分は、マイクロチャネル201上の一点に集光される。これによりマイクロチャネル201を流れる試料は蛍光206を発する。このうち、蛍光検出側のマイクロレンズ203bを透過するものだけが発光検出器により検出される。一方、マイクロチャネル201を透過した透過光207はチップの蛍光検出側のクロム層202bを透過しない。よって試料の蛍光206と透過光207は空間的に分離される。その結果、励起光のうちの透過光によって生じるバックグラウンド光が、試料の発する蛍光シグナルへ混入するのを減らすことができる。
「Performance of an Integrated Microoptical System for Fluorescence Detection in Microfluidic Systems」, Jean-Christophe Roulet et al, Anal. Chem. 2002, 74,3400-3407 特開平11−30703号公報(1999年2月2日公開) 特開2003−66003号公報(平成15年3月5日公開)
FIG. 8 shows a state of fluorescence detection using the chip 200 described in Non-Patent Document 1. The chip 200 includes a microchannel 201 through which a sample passes, and further includes a chromium layer 202a / b on the surface of the chip 200. The pinhole that is the opening of the chromium layer 202a on the excitation light incident side is provided with a microlens 203a for transmitting the excitation light into the chip 200, and is the opening of the chromium layer 202b on the fluorescence detection side. The pinhole is provided with a microlens 203b for transmitting fluorescence generated from the sample. The excitation light 204 is incident on the surface of the chip 200 as parallel light from an angle of 45 degrees. Of the excitation light 204, the light component that has passed through the excitation light incident side lens 203 a is condensed at one point on the microchannel 201. As a result, the sample flowing through the microchannel 201 emits fluorescence 206. Of these, only the light passing through the microlens 203b on the fluorescence detection side is detected by the light emission detector. On the other hand, the transmitted light 207 transmitted through the microchannel 201 does not pass through the chromium layer 202b on the fluorescence detection side of the chip. Therefore, the fluorescence 206 and the transmitted light 207 of the sample are spatially separated. As a result, it is possible to reduce the background light generated by the transmitted light of the excitation light from being mixed into the fluorescent signal emitted by the sample.
"Performance of an Integrated Microoptical System for Fluorescence Detection in Microfluidic Systems", Jean-Christophe Roulet et al, Anal. Chem. 2002, 74, 3400-3407 JP 11-30703 A (published February 2, 1999) JP 2003-66003 A (published on March 5, 2003)

しかしながら、非特許文献1に記載の方法では、励起光204の光束は、励起光入射側のクロム層202aにおいてマイクロレンズ203aが占める範囲よりも広い範囲に照射されている。このことにより、励起光204の一部は、マイクロレンズ203aの占める範囲外に照射されているので、以下の問題が生じる。   However, in the method described in Non-Patent Document 1, the light beam of the excitation light 204 is irradiated in a wider range than the range occupied by the microlens 203a in the chromium layer 202a on the excitation light incident side. As a result, a part of the excitation light 204 is irradiated outside the range occupied by the microlens 203a, causing the following problems.

具体的に説明すると、マイクロレンズ203aの占める範囲外に照射された励起光204の一部は、励起光入射側のクロム層202aで反射され、その後測定装置内を幾重にも反射する。前記反射光はその後測定装置内において迷光となり、バックグラウンド光の原因となる可能性が高い。バックグラウンド光の原因には、前記反射光以外にも、チップ200内を乱反射し、蛍光検出側のクロム層202a・bの開口部であるピンホールを透過してチップ外に飛び出し、再び反射を繰り返す反射光も含まれる。上述した反射によって発生したバックグラウンド光は発光検出器に入射し、検出感度を低下させる恐れがある。   More specifically, a part of the excitation light 204 irradiated outside the range occupied by the microlens 203a is reflected by the chromium layer 202a on the excitation light incident side, and then is reflected several times inside the measurement apparatus. The reflected light then becomes stray light in the measuring apparatus and is likely to cause background light. In addition to the reflected light, the background light is diffusely reflected inside the chip 200, passes through the pinholes that are openings of the chromium layers 202a and b on the fluorescence detection side, jumps out of the chip, and is reflected again. Repeated reflected light is also included. The background light generated by the reflection described above is incident on the light emission detector and may reduce the detection sensitivity.

本発明は上記問題を解決するためになされたものであって、発光検出器に到達するバックグラウンド光の量を低減させ、より検出感度の良い発光検出を可能とする分析用基板と分析装置の提供を目的としている。   The present invention has been made to solve the above problem, and it is possible to reduce the amount of background light reaching the light emission detector and to provide an analysis substrate and an analysis apparatus that enable light emission detection with higher detection sensitivity. The purpose is to provide.

本発明の分析用基板は、上記課題を解決するために、基礎基板表面に設けられたくぼみと、当該くぼみを覆うように形成されたカバー層とにより形成される試料保持部を有し、当該試料保持部に保持される試料の光学分析が可能な分析用基板において、前記分析用基板表面に反射防止手段を備えたことを特徴としている。   In order to solve the above problems, the analysis substrate of the present invention has a sample holding portion formed by a depression provided on the surface of the base substrate and a cover layer formed so as to cover the depression. An analysis substrate capable of optical analysis of a sample held in a sample holding portion is characterized in that an antireflection means is provided on the surface of the analysis substrate.

上記の構成によれば、分析用基板の表面には、反射防止手段が備えられている。よって、分析用基板表面で光の反射を抑えることができ、試料を光学分析する際には、分析用基板の表面にて反射され、発光を検出する機器へ入射するバックグラウンド光量を少なくすることができる。   According to said structure, the reflection preventing means is provided in the surface of the board | substrate for analysis. Therefore, reflection of light can be suppressed on the surface of the analysis substrate, and when the sample is optically analyzed, the amount of background light reflected on the surface of the analysis substrate and incident on the device that detects luminescence is reduced. Can do.

よって、上記構成によると、バックグラウンド光の少ない測定が可能となり、分析用基板中の試料保持部に保持された試料からの発光のみを感度よく測定することが可能な分析用基板を実現することができる。   Therefore, according to the above configuration, it is possible to perform measurement with less background light, and to realize an analytical substrate capable of measuring only light emitted from the sample held in the sample holding portion in the analytical substrate with high sensitivity. Can do.

また、本発明の分析用基板では、前記基礎基板と前記反射防止手段との間に反射層を備える構成としてもよい。   In the analysis substrate of the present invention, a reflection layer may be provided between the base substrate and the antireflection means.

上記の構成によれば、反射層を備えているので、例えば、入射光を集光するためのレンズの端で生じる散乱光などの一部が分析用基板内を透過しても、それを反射させて、発光を検出する側に透過するのを低減させることができる。よって、反射防止手段に加えて反射層を設けることにより、バックグラウンド光の量を低減させ、発光のみを感度よく測定することを、より確実に可能なものとすることができる。   According to the above configuration, since the reflective layer is provided, for example, even if a part of scattered light generated at the end of the lens for collecting incident light passes through the analysis substrate, it is reflected. Thus, it is possible to reduce the transmission to the light emission detection side. Therefore, by providing a reflection layer in addition to the antireflection means, it is possible to reduce the amount of background light and more reliably measure only light emission.

また、例えば反射手段が膜状のものであり、その厚さの薄い場合であっても、反射層を併用することにより、バックグラウンド光の量を低減させ、感度のよい測定を行うことのできる分析用基板の実現をすることができる。   In addition, for example, even when the reflecting means is a film and the thickness thereof is thin, by using the reflecting layer in combination, the amount of background light can be reduced and sensitive measurement can be performed. An analysis substrate can be realized.

また、本発明の分析用基板では、前記反射防止手段は、黒色炭素化合物層、無発光性顔料含有層のいずれかである構成としてもよい。   In the analysis substrate of the present invention, the antireflection means may be a black carbon compound layer or a non-light emitting pigment-containing layer.

上記の構成によれば、高い光吸収機能を持つ優れた反射防止機能を有する反射防止手段を得ることができる。   According to said structure, the reflection preventing means which has the outstanding reflection preventing function with a high light absorption function can be obtained.

また、本発明の分析用基板では、前記反射防止手段は、自身の表面に形成された、微細な凹凸構造、または微細な多孔質構造であってもよい。   In the analysis substrate of the present invention, the antireflection means may be a fine concavo-convex structure or a fine porous structure formed on its surface.

上記構造によると、分析用基板の厚みを大きくすることなく反射防止手段を形成することができる。   According to the above structure, the antireflection means can be formed without increasing the thickness of the analysis substrate.

また、本発明の分析用基板において、前記試料保持部上に位置する反射防止手段に開口部が設けられている構成としてもよい。   Further, the analysis substrate of the present invention may be configured such that an opening is provided in the antireflection means located on the sample holder.

上記の構成によれば、前記試料保持部上に位置する反射防止手段に設けられた開口部により、試料保持部に保持された試料からの発光を、反射防止手段によって減光されることなく分析用基板外に取り出すことが可能となる。これにより、より検出感度の優れた発光検出を実現することができる。   According to said structure, the light emission from the sample hold | maintained at the sample holding part is analyzed by the opening provided in the antireflection means located on the said sample holding part, without being attenuated by the antireflection means. It can be taken out of the substrate. Thereby, it is possible to realize light emission detection with better detection sensitivity.

また、本発明の分析用基板では、前記反射防止手段は、無機酸化物の多層膜からなる反射防止膜であってもよい。   In the analysis substrate of the present invention, the antireflection means may be an antireflection film composed of a multilayer film of inorganic oxide.

上記の構成によれば、上記のような開口部を反射防止手段に設けることなく、分析用基板外に試料からの発光を取り出すことができるとともに、分析用基板表面での光の反射を抑えることが可能となる。   According to the above configuration, the light emission from the sample can be taken out of the analysis substrate without providing the opening as described above in the antireflection means, and the reflection of light on the analysis substrate surface can be suppressed. Is possible.

また、本発明の分析用基板では、前記反射層に、光学分析用の入射光をガイドするための案内手段を備えている構成としてもよい。   In the analysis substrate of the present invention, the reflection layer may be provided with a guide means for guiding incident light for optical analysis.

上記の構成によれば、例えば光ピックアップを用いて前記分析用基板上の案内手段に入射光を案内する場合、上記試料保持部の位置に正確に入射光を導くことができる。   According to the above configuration, when the incident light is guided to the guide means on the analysis substrate using, for example, an optical pickup, the incident light can be accurately guided to the position of the sample holder.

これにより、前記試料保持部の位置以外に光が入射された場合でも、試料保持部の位置に正確に入射光を導き、試料からの発光検出することが可能となる。   As a result, even when light is incident on a position other than the position of the sample holder, it is possible to accurately guide the incident light to the position of the sample holder and detect light emission from the sample.

また本発明の分析装置は、上記課題を解決するために、上記のいずれかの分析用基板を分析用基板に対して、入射光を入射させる光照射手段と、前記分析用基板をはさんで前記光照射手段とは反対側に位置し、かつ前記入射光の光路外に配置された光検出手段とを備えていることを特徴としている。   Moreover, in order to solve the above-mentioned problems, the analyzer of the present invention sandwiches any one of the above-described analysis substrates between the analysis substrate and the light irradiation means for making incident light incident on the analysis substrate. It is characterized by comprising photodetection means located on the opposite side of the light irradiation means and disposed outside the optical path of the incident light.

上記の構成によれば、分析装置に備えられる光検出手段は入射光の光路外に配置されているため、分析用基板を透過した透過光が光検出手段に入射されるのを防ぐことができる。したがって、分析用基板を透過した透過光によるバックグラウンドノイズを低く抑えることができ、試料からの発光を高感度に測定することができる。   According to the above configuration, since the light detection means provided in the analyzer is arranged outside the optical path of the incident light, transmitted light that has passed through the analysis substrate can be prevented from entering the light detection means. . Therefore, the background noise due to the transmitted light that has passed through the analysis substrate can be kept low, and the light emission from the sample can be measured with high sensitivity.

また、本発明分析装置は、上記案内手段を有する分析用基板に対して入射光を入射させるとともに、当該分析用基板からの反射光を検出する光ピックアップと、前記光ピックアップを前記案内手段に沿った方向に移動させる駆動手段と、前記光ピックアップにより出力される検出信号に基づき、前記入射光を前記案内手段に追従して入射するように前記光ピックアップを制御する制御手段と、を備えていることを特徴としている。   Further, the analyzer according to the present invention causes the incident light to enter the analysis substrate having the guide means, and detects the reflected light from the analysis substrate and the optical pickup along the guide means. Driving means for moving the optical pickup in a specific direction, and control means for controlling the optical pickup so that the incident light follows the guide means and enters based on a detection signal output from the optical pickup. It is characterized by that.

上記の構成によれば、前記分析用基板上の案内手段を前記光ピックアップが読み取ることで、分析用基板上の正確な位置に入射光の焦点を合わせることができる。また、入射する際に生じる前記反射層での反射光を、さらに前記案内手段に追従させることができる。   According to said structure, the said optical pick-up reads the guide means on the said board | substrate for an analysis, and can focus an incident light on the exact position on the board | substrate for an analysis. Moreover, the reflected light from the reflective layer that is generated when the light is incident can further follow the guide means.

これにより、試料保持部中の試料に的確に励起光を照射することができ、試料からの光学的な変化を検出感度良く、さらには自動的かつ正確に検出することができる。   As a result, the sample in the sample holder can be accurately irradiated with excitation light, and an optical change from the sample can be detected with good detection sensitivity and further automatically and accurately.

以上のように、本発明に係る分析用基板は、上記試料保持部に保持される試料に光を照射した際に生じる発光を検出する側の、自身の表面に反射防止手段を備えている。   As described above, the analysis substrate according to the present invention includes antireflection means on its surface on the side that detects light emission that occurs when the sample held by the sample holder is irradiated with light.

上記の構成によれば、分析用基板の表面には、反射防止手段が備えられている。よって、分析用基板表面で光の反射を抑えることができ、試料を光学分析する際には、分析用基板の表面にて反射され、発光を検出する機器へ入射するバックグラウンド光量を少なくすることができる。   According to said structure, the reflection preventing means is provided in the surface of the board | substrate for analysis. Therefore, reflection of light can be suppressed on the surface of the analysis substrate, and when the sample is optically analyzed, the amount of background light reflected on the surface of the analysis substrate and incident on the device that detects luminescence is reduced. Can do.

よって、上記構成によると、バックグラウンド光の少ない測定が可能となり、分析用基板中の試料保持部に保持された試料からの発光のみを感度よく測定することが可能な分析用基板を実現することができる。   Therefore, according to the above configuration, it is possible to perform measurement with less background light, and to realize an analytical substrate capable of measuring only light emitted from the sample held in the sample holding portion in the analytical substrate with high sensitivity. Can do.

〔実施の形態1〕
本発明の実施の一形態について、図1と図2とに基づいて、以下に説明する。本実施の形態においては、分析用基板に設けられた試料を保持する試料保持部の例として、流路状セルを用いることとする。なお、試料を保持する試料保持部には、例えば、電気泳動やクロマトグラフィーに用いられる流路状セルや、DNAハイブリダイゼーションに使用されるマイクロセル等が挙げられる、特に限定はされない。
[Embodiment 1]
An embodiment of the present invention will be described below based on FIG. 1 and FIG. In the present embodiment, a flow path cell is used as an example of a sample holder that holds a sample provided on an analysis substrate. The sample holder for holding the sample is not particularly limited, and examples thereof include a channel cell used for electrophoresis and chromatography, a microcell used for DNA hybridization, and the like.

図1は、本実施の形態における分析用基板1の斜視図である。図1に示すように、分析用基板1は、垂直断面形状が矩形である溝状のくぼみを有する基板2(基礎基板)と、基板2の表面を覆うカバー層3と、カバー層3上に形成された反射防止層4とを備えている。また、分析用基板1は、基板2とカバー層3との間の前記くぼみにより形成される試料溶液(試料)の保持が可能な流路状セル5と、さらに、流路状セル5上の反射防止層4の一部に設けられた開口部6とを備えている。   FIG. 1 is a perspective view of an analysis substrate 1 in the present embodiment. As shown in FIG. 1, the analysis substrate 1 includes a substrate 2 (basic substrate) having a groove-like depression having a rectangular vertical cross-sectional shape, a cover layer 3 that covers the surface of the substrate 2, and a cover layer 3. And an antireflection layer 4 formed. Further, the analysis substrate 1 includes a channel cell 5 capable of holding a sample solution (sample) formed by the recess between the substrate 2 and the cover layer 3, and further on the channel cell 5. And an opening 6 provided in a part of the antireflection layer 4.

基板2は、プラスチックやガラスなどの光透過性をもつ材料によって形成される。これら以外の材料でできていてもかまわない。基板2は、流路状セル5の伸張方向に対しての垂直断面形状が矩形である溝状のくぼみを表面に有しており、溝状のくぼみは、基板の厚みにもよるが、深さ数μm〜数百μm、幅数十μm〜数mmの範囲内の大きさで形成される。   The substrate 2 is formed of a light transmissive material such as plastic or glass. It may be made of other materials. The substrate 2 has a groove-like depression whose surface has a rectangular vertical cross-section with respect to the extending direction of the channel-like cell 5, and the groove-like depression has a depth depending on the thickness of the substrate. It is formed in a size within a range of several μm to several hundred μm and a width of several tens μm to several mm.

カバー層3は、上記溝状のくぼみを有する基板2の表面を覆う層である。カバー層3は、基板2と同様にプラスチックやガラスなどの光透過性をもつ材料によって形成されるが、例えば、厚さが200μm以下のフィルム状プラスチックを用いてもよい。また、カバー層3と基板2とを接着する方法には、UV硬貨樹脂等の接着剤を用いる方法、熱圧着による接着法等があるが、少なくとも流路状セル5中を流れる試料溶液が流路外に漏れ出さない接着方法であれば、いずれの方法を用いてもよい。   The cover layer 3 is a layer that covers the surface of the substrate 2 having the groove-like depression. The cover layer 3 is formed of a light-transmitting material such as plastic or glass, as with the substrate 2. For example, a film-like plastic having a thickness of 200 μm or less may be used. The cover layer 3 and the substrate 2 can be bonded to each other by a method using an adhesive such as a UV coin resin, a bonding method using thermocompression bonding, or the like. Any method may be used as long as it is an adhesion method that does not leak out of the road.

反射防止層4は、カバー層3の上、すなわち分析用基板1の表面を覆うように形成される。ここにおいて、反射防止層4は、分析装置内で発生する迷光などに伴うバックグラウンド光を吸収するために形成される。反射防止層4の材料は、無発光性で吸光度の高い物質であればよいが、特に黒色炭素化合物や、無発光性顔料が、耐久性がよいことから好ましい。また、反射防止層4の作成方法としては、これらの反射防止剤と、該反射防止剤を分散又は溶解させることのできる溶剤と、この溶剤に溶解させることが可能な高分子とを混ぜ合わせた溶液を、上記カバー層3上に塗布して、乾燥させる方法を用いればよい。反射防止剤の塗布方法は前記方法以外の方法を用いてもよい。   The antireflection layer 4 is formed on the cover layer 3, that is, so as to cover the surface of the analysis substrate 1. Here, the antireflection layer 4 is formed to absorb background light accompanying stray light generated in the analyzer. The material of the antireflection layer 4 may be any material that does not emit light and has a high absorbance. In particular, a black carbon compound or a non-emitting pigment is preferable because of its high durability. In addition, as a method for producing the antireflection layer 4, these antireflection agents, a solvent capable of dispersing or dissolving the antireflection agent, and a polymer capable of being dissolved in the solvent were mixed. A method of applying the solution on the cover layer 3 and drying it may be used. As a coating method of the antireflection agent, a method other than the above method may be used.

流路状セル5は、基板2の表面に備えられた溝状のくぼみがカバー層3で覆われることにより形成される。それにより、流路状セル5は、溝状のくぼみと同じ、すなわち深さ数μm〜数百μm、幅数十μm〜数mmの範囲で規定される大きさとなる。   The channel-like cell 5 is formed by covering a groove-like depression provided on the surface of the substrate 2 with the cover layer 3. Thereby, the channel-like cell 5 has the same size as the groove-like depression, that is, the size defined in the range of several μm to several hundred μm in depth and several tens of μm to several mm in width.

また、流路状セル5上に位置する反射防止層4の一部には、開口部6が形成されており、反射防止層が形成されていない状態となっている。後に詳細に説明するが、この開口部6を形成することにより、入射光により励起された流路状セル5中の試料からの発光を、分析用基板1の反射防止層4が形成されている面側に配置された発光検出器方向へ透過させることができる。   In addition, an opening 6 is formed in a part of the antireflection layer 4 located on the channel cell 5, and the antireflection layer is not formed. As will be described in detail later, the antireflection layer 4 of the analysis substrate 1 is formed by forming the opening 6 to emit light from the sample in the channel cell 5 excited by incident light. It can permeate | transmit toward the light emission detector arrange | positioned at the surface side.

本実施の形態における分析用基板1の特徴は反射防止層4にあり、この効果について図2を用いて説明する。   The analysis substrate 1 according to the present embodiment is characterized by the antireflection layer 4, and this effect will be described with reference to FIG.

図2は、分析用基板1を用いる本実施の形態における分析装置の概略図であり、同図に示される分析用基板1は、流路状セル5の伸張方向に沿って切断した、図1に示される点線で囲まれた部分の断面図である。図2には、入射光11と、これを分析用基板1の流路状セル5に集光させるレンズ12と、集光された入射光11によって流路状セル5中の試料から発せられる発光13と、分析用基板1を透過した透過光14の光路外に設置された光学フィルター15と、光学フィルター15の背面側に配置された発光検出器16が図示されている。本実施の形態における分析装置は、少なくとも、図示しない入射光学系の装置(光照射手段)、発光検出系の各装置である発光検出器(光検出手段)16を備えており、分析用基板1に光を照射し、流路状セル5に保持された試料からの発光を分析するものである。   FIG. 2 is a schematic diagram of the analyzer according to the present embodiment using the analysis substrate 1, and the analysis substrate 1 shown in FIG. 1 is cut along the extension direction of the flow channel cell 5. It is sectional drawing of the part enclosed with the dotted line shown by. In FIG. 2, incident light 11, a lens 12 for condensing the incident light 11 on the flow path cell 5 of the analysis substrate 1, and light emission emitted from the sample in the flow path cell 5 by the collected incident light 11. 13, an optical filter 15 installed outside the optical path of the transmitted light 14 transmitted through the analysis substrate 1, and a light emission detector 16 arranged on the back side of the optical filter 15 are illustrated. The analysis apparatus according to the present embodiment includes at least an incident optical system device (light irradiation means) (not shown) and a light emission detector (light detection means) 16 that is each device of a light emission detection system. Is irradiated with light, and the light emission from the sample held in the flow path cell 5 is analyzed.

なお、図2の最外枠の点線は、分析用基板1の試料を分析する本実施の形態の分析装置を構成する入射光学系、発光検出系の各装置又は各装置の構成部品を包含する容器18を示している。なお、入射光学系の装置は、従来公知のものを使用でき、説明および図示は省略する。   The dotted line in the outermost frame in FIG. 2 includes the incident optical system, each device of the light emission detection system, or the component of each device that constitutes the analyzer of the present embodiment for analyzing the sample of the analysis substrate 1. A container 18 is shown. In addition, a conventionally well-known apparatus can be used for the incident optical system, and description and illustration are omitted.

光学フィルター15は、入射光11に含まれる波長の光の透過率が低く、試料からの発光13に含まれる波長の光の透過率が高い性質を持つ光学部品である。発光検出器16は、従来公知のものを使用することができる。   The optical filter 15 is an optical component having a property that the transmittance of the light of the wavelength included in the incident light 11 is low and the transmittance of the light of the wavelength included in the light emission 13 from the sample is high. A conventionally known light emission detector 16 can be used.

上記の構造によれば、発光検出器16は透過光14の光路外に配置されているので、透過光14によるバックグラウンド光を低減することができ、試料の発光13を感度よく、検出することができる。   According to the above structure, since the light emission detector 16 is disposed outside the optical path of the transmitted light 14, the background light due to the transmitted light 14 can be reduced, and the light emission 13 of the sample can be detected with high sensitivity. Can do.

一方で、発光検出器16には、試料から発せられる発光13以外にもさまざまな迷光がバックグラウンド光として混入するため、発光検出感度の低下を招くおそれがある。例えば、透過光14は、光路外に設置されている発光検出器に直接入射することは無いものの、分析装置全体を包含する容器18の中で幾重にも反射することにより、その一部が迷光17aとなって発光検出器16に入射する可能性はある。この発光検出器16に入射する迷光17aは、図示したように最終的には分析用基板1の表面で反射し、発光検出器16に入射する。しかしながら、本実施の形態における分析用基板1の発光検出器16側の表面には反射防止層4が形成されているため、迷光17aは分析用基板1の表面で反射されず、発光検出器16には到達しない(図中では×で示される)。   On the other hand, since various stray lights other than the light emission 13 emitted from the sample are mixed in the light emission detector 16 as background light, the light emission detection sensitivity may be lowered. For example, although the transmitted light 14 does not directly enter the light emission detector installed outside the optical path, a part of the transmitted light 14 is reflected by the inside of the container 18 including the entire analysis device, so that part of the transmitted light 14 is stray light. There is a possibility that the light enters the light emission detector 16 as 17a. The stray light 17 a incident on the light emission detector 16 is finally reflected on the surface of the analysis substrate 1 and incident on the light emission detector 16 as shown in the figure. However, since the antireflection layer 4 is formed on the surface of the analysis substrate 1 in the present embodiment on the side of the light emission detector 16, the stray light 17a is not reflected on the surface of the analysis substrate 1, and the light emission detector 16 is used. Is not reached (indicated by x in the figure).

このように発光検出器16は、試料から発せられる発光13を捕らえるために分析用基板面に向かうようにして配置されているが、基板表面の反射防止層4によって迷光の反射を防ぐことにより、迷光を発光検出器16に到達させないようにすることができる。その結果、発光検出器16に混入する迷光の量を低減させることが可能となる。   In this way, the luminescence detector 16 is arranged so as to face the analysis substrate surface in order to capture the luminescence 13 emitted from the sample, but by preventing reflection of stray light by the antireflection layer 4 on the substrate surface, It is possible to prevent stray light from reaching the light emission detector 16. As a result, it is possible to reduce the amount of stray light mixed in the light emission detector 16.

迷光の原因は入射光11の透過光14だけではない。例えば入射光11を収束させるレンズ12に光が照射されると、一部の光はレンズの端の部分で散乱される。この散乱光は流路状セル5中に保持された試料の励起には使用されず、その一部は分析装置全体を包含する容器18の中で幾重にも反射し、迷光17bとして発光検出器16に向かう可能性がある。   The cause of stray light is not only the transmitted light 14 of the incident light 11. For example, when the lens 12 that converges the incident light 11 is irradiated with light, part of the light is scattered at the end of the lens. This scattered light is not used for excitation of the sample held in the flow channel cell 5, and a part of it is reflected several times in the container 18 including the whole analyzer, and the emission detector as stray light 17b. There is a possibility of heading to 16.

しかしながら、上述のように本実施の形態に係る分析用基板1の表面には反射防止層4が形成されているため、迷光17bは発光検出器16に混入することなく(図2の中では×で示される)、検出感度のよい発光測定が可能である。   However, since the antireflection layer 4 is formed on the surface of the analysis substrate 1 according to the present embodiment as described above, the stray light 17b does not enter the light emission detector 16 (in FIG. 2, × Luminescence measurement with good detection sensitivity is possible.

さらに、迷光の発生源としては、上記発生源以外にも入射光の入射に係る光学部品など様々な部品が発生源となる可能性がある。上記のように発光検出器16が分析用基板1の基板表面側に向かうようにして配置される場合には、この基板表面で反射した迷光が発光検出器16に入る可能性が高いため、本実施の形態のように分析用基板1の表面に反射防止層4を形成することが有効である。反射防止層4によって、迷光を発光検出器16に進行させないようにすることが可能となる。   Furthermore, as a generation source of stray light, various components such as an optical component related to incidence of incident light may be the generation source in addition to the generation source. When the light emission detector 16 is arranged so as to face the substrate surface side of the analysis substrate 1 as described above, the stray light reflected by the substrate surface is highly likely to enter the light emission detector 16. It is effective to form the antireflection layer 4 on the surface of the analysis substrate 1 as in the embodiment. The antireflection layer 4 can prevent stray light from traveling to the light emission detector 16.

以上のように、本実施の形態での分析用基板1では分析装置内で発生する迷光を低減させ、感度のよい発光検出が可能である。   As described above, the analysis substrate 1 in the present embodiment can reduce stray light generated in the analysis apparatus and detect light emission with high sensitivity.

なお、図2を用いた説明では、入射光11はレンズ12により集光され流路状セル5に入射されるものとして説明したが、入射光11の入射方法はこれに限ったものではない。例えば平行光が流路状セル5に入射される場合でも本願は有効である。   In the description using FIG. 2, the incident light 11 is described as being collected by the lens 12 and incident on the channel cell 5, but the incident method of the incident light 11 is not limited to this. For example, the present application is effective even when parallel light is incident on the channel cell 5.

なお、上記では、本発明に係る反射防止手段の一例として、反射防止層4を分析用基板1上に形成することによって検出感度を向上させる例を示した。しかし、これに限らず一般に良く知られている反射防止構造(例えば微細な凹凸構造や、微細な多孔質構造など)を分析用基板表面に形成することによりバックグラウンド光を低減するようにしても構わない。ここで、微細構造の凹凸の大きさは100〜300nm、ピッチは100〜1000nmが好ましいが、これらの数値に限定はされない。   In the above description, as an example of the antireflection means according to the present invention, the example in which the detection sensitivity is improved by forming the antireflection layer 4 on the analysis substrate 1 has been described. However, the present invention is not limited to this, and a well-known antireflection structure (for example, a fine concavo-convex structure or a fine porous structure) is formed on the surface of the analysis substrate to reduce background light. I do not care. Here, the size of the irregularities of the fine structure is preferably 100 to 300 nm and the pitch is preferably 100 to 1000 nm, but these values are not limited.

また上記の例では、反射防止層4はカバー層3のほぼ全面を覆う構成となっているが、必ずしも全面を覆う必要はなく、図2における開口部6よりも発光検出器16に近接した基板表面300のみを覆う構造としてもよい。この場合基板全面を覆う場合に比べて反射防止機能はやや低下するものの、発光検出器16に近く、反射光が最も発光検出器16に入りやすい基板上の部分を覆うため、被覆面積に対する反射防止機能は非常に大きい。   In the above example, the antireflection layer 4 is configured to cover almost the entire surface of the cover layer 3, but it is not always necessary to cover the entire surface, and the substrate closer to the light emission detector 16 than the opening 6 in FIG. It is good also as a structure which covers only the surface 300. FIG. In this case, although the antireflection function is slightly lower than the case where the entire surface of the substrate is covered, since the portion on the substrate where the reflected light is most likely to enter the light emission detector 16 is covered near the light emission detector 16, the reflection prevention for the covered area The function is very large.

また本実施の形態での分析用基板1上には、流路状セル5に保持された試料からの発光13を発光検出器16方向へ取り出すための開口部6が形成されているが、これは必ずしも形成される必要はない。例えば、よく知られているレンズの反射防止膜を上記反射防止層4の代わりに使用すると、開口部6は不要となる。なぜなら、この反射防止膜は一般に無機酸化物の多層膜からなる構造を備えており、光を透過するが反射は抑制されるという性質を有するからである。このような反射防止膜における構造は、例えば特許文献1に開示されている。特許文献1によると、反射防止膜は、高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多層に積層することによって成膜される。例として、前記高屈折率膜を形成するZrO(高屈折物質)と上記低屈折率膜を形成するSiO(低屈折物質)からなる多層膜構造を有する反射防止膜が開示されている。この反射防止膜を使うと、流路状セル5内の試料からの発光13は、反射防止膜を透過して発光検出器16側に透過し発光検出器16に到達する。一方、迷光17は、分析用基板の表面では反射されないため、発光検出器16には到達しない。よって、このように反射防止膜を基板表面に備えた場合には、開口部6は不要となる。 Further, on the analysis substrate 1 in the present embodiment, an opening 6 for taking out the light emission 13 from the sample held in the flow channel cell 5 in the direction of the light emission detector 16 is formed. Need not be formed. For example, when a well-known antireflection film of a lens is used instead of the antireflection layer 4, the opening 6 is not necessary. This is because the antireflection film generally has a structure composed of a multilayer film of inorganic oxide, and has a property of transmitting light but suppressing reflection. Such a structure of the antireflection film is disclosed in Patent Document 1, for example. According to Patent Document 1, the antireflection film is formed by alternately laminating a high refractive index film and a low refractive index film in multiple layers. As an example, an antireflection film having a multilayer structure composed of ZrO 2 (high refractive material) forming the high refractive index film and SiO 2 (low refractive material) forming the low refractive index film is disclosed. When this antireflection film is used, the light emission 13 from the sample in the flow path cell 5 passes through the antireflection film, passes through the light emission detector 16, and reaches the light emission detector 16. On the other hand, since the stray light 17 is not reflected on the surface of the analysis substrate, it does not reach the light emission detector 16. Therefore, when the antireflection film is provided on the substrate surface in this way, the opening 6 is not necessary.

また、本実施の形態では、流路状セルの垂直断面形状を矩形としたが、それに限らず、他の形状であってもよい。
〔実施の形態2〕
本発明の実施のその他の形態について図3と図4とに基づいて、以下に説明する。以下の実施の形態においても上記実施の形態1と同様に、分析用基板に設けられた試料を保持するセルの例として流路状セルを用いて説明する。
Moreover, in this Embodiment, although the vertical cross-sectional shape of the channel-shaped cell was made into the rectangle, not only that but another shape may be sufficient.
[Embodiment 2]
Other embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 3 and 4. Also in the following embodiments, as in the first embodiment, a description will be given using a flow channel cell as an example of a cell holding a sample provided on an analysis substrate.

図3(a)は、本実施の形態における分析用基板21の斜視図であり、図3(b)は、分析用基板21が保持する流路状セル25の伸張方向に沿った断面図(図3(a)では点線で表した部分)である。   3A is a perspective view of the analysis substrate 21 in the present embodiment, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the flow path cell 25 held by the analysis substrate 21 along the extension direction ( FIG. 3A shows a portion indicated by a dotted line.

図3(a)に示すように、分析用基板21は、垂直断面形状が矩形である溝状のくぼみを有する基板(基礎基板)22と、基板22の前記溝状のくぼみを有する表面を覆うカバー層23と、カバー層23上に形成された反射層28とさらにその上に形成された反射防止層24とを備えている。また分析用基板21は、基板22とカバー層23との間の溝状のくぼみにより形成される試料の保持が可能な流路状セル25と、さらに流路状セル25上の反射防止層24の一部に設けられた開口部26とを備えている。   As shown in FIG. 3A, the analysis substrate 21 covers a substrate (basic substrate) 22 having a groove-like depression whose vertical cross-sectional shape is rectangular, and a surface of the substrate 22 having the groove-like depression. The cover layer 23 includes a reflection layer 28 formed on the cover layer 23 and an antireflection layer 24 formed thereon. In addition, the analysis substrate 21 includes a flow channel cell 25 capable of holding a sample formed by a groove-shaped recess between the substrate 22 and the cover layer 23, and an antireflection layer 24 on the flow channel cell 25. The opening part 26 provided in a part of is provided.

本実施の形態における分析用基板21と、実施の形態1に示した分析用基板1との違いは、分析用基板21にはカバー層23と反射防止層24の間に反射層28が形成されている点である。分析用基板21のカバー層23上に形成される反射層28は、例えばアルミニウムや銀をはじめとする金属薄膜から成り、厚さは数〜数百nmでよい。またこれらの金属からなる反射層の代わりに、誘電体多層膜からなる反射層を使用してもよい。なお、反射層28以外の構成は、図1に示した実施の形態1の構成と同様であり、基板22は基板2、カバー層23はカバー層3、反射防止層24は反射防止層4、流路状セル25は流路状セル25、開口部26は開口部6、にそれぞれ対応するため、これらの説明は省略する。   The difference between the analysis substrate 21 in the present embodiment and the analysis substrate 1 shown in the first embodiment is that a reflection layer 28 is formed between the cover layer 23 and the antireflection layer 24 on the analysis substrate 21. It is a point. The reflective layer 28 formed on the cover layer 23 of the analysis substrate 21 is made of a metal thin film such as aluminum or silver, and may have a thickness of several to several hundred nm. Further, instead of the reflective layer made of these metals, a reflective layer made of a dielectric multilayer film may be used. The configuration other than the reflective layer 28 is the same as the configuration of the first embodiment shown in FIG. 1. The substrate 22 is the substrate 2, the cover layer 23 is the cover layer 3, the antireflection layer 24 is the antireflection layer 4, Since the flow cell 25 corresponds to the flow cell 25 and the opening 26 corresponds to the opening 6, the description thereof is omitted.

図4を用いて、本実施の形態で新たに加わった反射層28の効果について、以下に説明する。   The effect of the reflective layer 28 newly added in the present embodiment will be described below with reference to FIG.

図4は、分析用基板21を用いた分析装置の概略図であり、上記実施の形態1にて示した分析装置と同様に、入射光31と、これを分析用基板21の流路状セル25に集光させるレンズ32と、集光された入射光11によって流路状セル25中の試料から発せられる発光33と、分析用基板21を透過した透過光34の光路外に設置された光学フィルター35と、光学フィルター35の背面側に配置された発光検出器36が図示されている。なお、図中の最外枠の点線は、分析装置を構成する入射光学系、発光検出系の各装置の構成部品を包含する容器38を示している。また、同図で示した分析用基板21は、図3(b)と同じように、分析用基板21中の流路状セル25の伸張方向に沿って切断した、図3(a)に示される点線部で囲まれた部分の断面図である。本実施の形態における分析装置は、少なくとも、図示しない入射光学系の装置(光照射手段)、発光検出系の各装置である発光検出器(光検出手段)36を備えており、分析用基板21に光を照射し、流路状セル25に保持された試料からの発光を分析するものである。   FIG. 4 is a schematic diagram of an analysis apparatus using the analysis substrate 21. Similar to the analysis apparatus shown in the first embodiment, the incident light 31 and the flow path cell of the analysis substrate 21 are shown. A lens 32 that condenses light 25, light emission 33 emitted from the sample in the channel cell 25 by the collected incident light 11, and optics installed outside the optical path of the transmitted light 34 that has passed through the analysis substrate 21. A filter 35 and a light emission detector 36 disposed on the back side of the optical filter 35 are shown. In addition, the dotted line of the outermost frame in the drawing indicates the container 38 that includes the components of each device of the incident optical system and the light emission detection system that constitute the analyzer. Further, the analysis substrate 21 shown in FIG. 3 is cut along the extension direction of the flow path cell 25 in the analysis substrate 21 as shown in FIG. It is sectional drawing of the part enclosed by the dotted line part. The analysis apparatus according to the present embodiment includes at least an incident optical system device (light irradiation means) (not shown) and a light emission detector (light detection means) 36 which are each device of a light emission detection system. Is irradiated with light, and the light emission from the sample held in the channel cell 25 is analyzed.

実施の形態1と同様に、光学フィルター35は、入射光31に含まれる波長の光の透過率が低く、試料から発せられる発光33に含まれる波長の光の透過率が高い性質を持つ光学部品である。   As in the first embodiment, the optical filter 35 has an optical component having a property of low transmittance of light having a wavelength included in the incident light 31 and high transmittance of light having a wavelength included in the light emission 33 emitted from the sample. It is.

本実施の形態の分析装置では、上記の構造によれば、実施の形態1で説明したように、発光検出器36は透過光34の光路外に配置されているので、透過光34によるバックグラウンド光を低減することができ、試料から発せられる発光33を感度よく検出することができる。また、基板表面の反射防止層24が基板表面上での迷光の反射を抑えることにより、迷光が発光検出器36に向かって進行するのを防ぐことができる。その結果、発光検出器36に混入する迷光の量を低減させることが可能となる。   In the analysis apparatus according to the present embodiment, according to the above structure, as described in the first embodiment, since the emission detector 36 is disposed outside the optical path of the transmitted light 34, the background due to the transmitted light 34 is reduced. Light can be reduced, and light emission 33 emitted from the sample can be detected with high sensitivity. Further, the antireflection layer 24 on the substrate surface suppresses reflection of stray light on the substrate surface, so that stray light can be prevented from traveling toward the light emission detector 36. As a result, the amount of stray light mixed in the light emission detector 36 can be reduced.

分析用基板21に備えられた反射層28は以下に説明するような役割を果たす。実施の形態1にて図2を用いて説明したとおり、入射光31を集光するレンズ32の端では入射光31は散乱される。この一部は、発光検出器36の設置された方向に直接向かう散乱光37となる。発光検出の測定を高感度に行うためには、散乱光37を発光検出器36に向かって透過させないようにしなければならない。ここで金属薄膜などからなる反射層28を上記カバー層23上に形成させることにより、前記反射層28がたとえ薄い膜厚(数〜数百nm)であっても、効率よく散乱光37を反射させることができる。よって反射防止層24が非常に薄く、散乱光37を発光検出器36の方向に透過させてしまうような場合には、反射層28を併用することにより、この散乱光37の透過を低減することができる。   The reflective layer 28 provided on the analysis substrate 21 plays a role as described below. As described with reference to FIG. 2 in the first embodiment, the incident light 31 is scattered at the end of the lens 32 that collects the incident light 31. A part of this becomes scattered light 37 that goes directly in the direction in which the light emission detector 36 is installed. In order to measure the emission detection with high sensitivity, it is necessary to prevent the scattered light 37 from being transmitted toward the emission detector 36. Here, by forming the reflective layer 28 made of a metal thin film or the like on the cover layer 23, even if the reflective layer 28 is thin (several to several hundred nm), the scattered light 37 is efficiently reflected. Can be made. Therefore, when the antireflection layer 24 is very thin and the scattered light 37 is transmitted in the direction of the light emission detector 36, the transmission of the scattered light 37 can be reduced by using the reflective layer 28 together. Can do.

以上のように、本実施の形態での分析用基板21では、分析装置内で発生する迷光や発光検出器36の方向に透過する光を低減させ、感度のよい発光検出が可能である。   As described above, the analysis substrate 21 in the present embodiment can reduce the stray light generated in the analysis apparatus and the light transmitted in the direction of the light emission detector 36, and can detect light emission with high sensitivity.

〔実施の形態3〕
本発明の実施のさらにその他の形態を図5から図7に基づいて、以下に説明する。以下の実施の形態では、分析用基板として円形の分析用ディスク41を使用し、電気泳動を用いて試料の分析を行う場合について説明する。また、本実施の形態では、電気泳動を行う試料からの蛍光を検出する場合について説明を行う。
[Embodiment 3]
Still another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. In the following embodiments, a case where a circular analysis disk 41 is used as an analysis substrate and a sample is analyzed using electrophoresis will be described. In this embodiment, a case where fluorescence from a sample to be electrophoresed is detected will be described.

図5(a)は、電気泳動による測定が可能な分析用ディスク41を示す正面図であり、また円形の分析用ディスクの概要図でもある。図5(a)に示すように、分析用ディスク41は、分析装置のターンテーブルの中心に分析用ディスク41を固定するための中心穴42と、電気泳動による試料の分析を行う分析用チップ43と、案内溝44と、番地情報記録部45とを備えている。本実施の形態では、分析用ディスク41は、分析チップ43を4つ備えているものとして説明するが、この数に限定はされない。なお、分析ディスク41の断面の構造(層構造)については後述する。   FIG. 5A is a front view showing an analysis disk 41 that can be measured by electrophoresis, and is also a schematic diagram of a circular analysis disk. As shown in FIG. 5A, the analysis disk 41 includes a center hole 42 for fixing the analysis disk 41 to the center of the turntable of the analyzer, and an analysis chip 43 for analyzing the sample by electrophoresis. And a guide groove 44 and an address information recording unit 45. In this embodiment, the analysis disk 41 is described as including four analysis chips 43, but the number is not limited. The cross-sectional structure (layer structure) of the analysis disk 41 will be described later.

各分析用チップ43は、液溜・注入口46a〜46dおよび泳動路(流路状セル)47を有する。また、図5(a)において灰色に塗りつぶされている部分は反射防止層48が形成されている部位である。泳動路47上の反射防止層48の一部には開口部49が形成されている。この反射防止層48は、実施の形態1の反射防止層4と同様のものであるため、また、開口部49は、実施の形態1の開口部6と同様のものであるため、説明を省略する。   Each analysis chip 43 has liquid reservoirs / injection ports 46 a to 46 d and an electrophoresis path (flow channel cell) 47. In FIG. 5A, the grayed out part is a part where the antireflection layer 48 is formed. An opening 49 is formed in a part of the antireflection layer 48 on the migration path 47. Since the antireflection layer 48 is the same as the antireflection layer 4 of the first embodiment, and the opening 49 is the same as the opening 6 of the first embodiment, description thereof is omitted. To do.

分析用チップ43の泳動路47は、長さの長い第1泳動路47aと短い第2泳動路47bとが十文字型に形成されている。この分析用チップ43の構造は、電気泳動による分析において一般に用いられている構造であり、例えば特許文献2に分析例と共に開示されている。   In the migration path 47 of the analysis chip 43, a first migration path 47a having a long length and a second migration path 47b having a short length are formed in a cross shape. The structure of the analysis chip 43 is a structure that is generally used in analysis by electrophoresis. For example, Patent Document 2 discloses an analysis example together with an analysis example.

第1泳動路47aは分析用ディスク41の径方向に延び、第2泳動路47bは第1泳動路47aに直交して延びている。液溜・注入口46a〜46dは、泳動路47の4個の端部に連通するように各1個が配置されている。即ち、第2泳動路47bの一端部に液溜・注入口46a、他端部に液溜・注入口46cが配置され、第1泳動路47aの一端部に液溜・注入口46b、他端部に液溜・注入口46dが配置されている。   The first migration path 47a extends in the radial direction of the analysis disk 41, and the second migration path 47b extends perpendicular to the first migration path 47a. One liquid reservoir / injection port 46 a to 46 d is arranged so as to communicate with the four ends of the migration path 47. That is, a liquid reservoir / injection port 46a is disposed at one end of the second migration path 47b, and a liquid reservoir / injection port 46c is disposed at the other end, and the liquid reservoir / injection port 46b is disposed at one end of the first migration path 47a. A liquid reservoir / injection port 46d is arranged in the section.

図5(b)は、分析用ディスク41の図5(a)で示された点線部で切断した断面図、即ち開口部49の形成部位における、第1泳動路47aの伸張方向に垂直な面の断面図である。また、分析用ディスク41の層構造を示す図でもある。分析用ディスク41は、垂直断面形状が矩形である溝状のくぼみを有する基板(基礎基板)51と、基板51における前記くぼみ以外の部分に形成された反射層52と、反射層52を覆う絶縁性を有する保護層53とを有している。さらに、保護層53上に形成された案内溝44と、基板51の前記溝状のくぼみを有する表面を覆うカバー層54と、カバー層54上に形成された反射防止層48と、基板51とカバー層54との間の前記くぼみにより形成される試料の保持が可能な泳動路47とを有している。また図中の矢印は、本実施の形態における光源となるCDやDVD等に使用される光ピックアップ101(後に図7で図示)から分析用ディスク41内に入射した入射光102を示す。   FIG. 5B is a cross-sectional view of the analysis disk 41 taken along the dotted line shown in FIG. 5A, that is, a plane perpendicular to the extending direction of the first migration path 47a at the site where the opening 49 is formed. FIG. It is also a diagram showing the layer structure of the analysis disk 41. The analysis disk 41 includes a substrate (basic substrate) 51 having a groove-like depression whose vertical cross-sectional shape is rectangular, a reflection layer 52 formed on a portion of the substrate 51 other than the depression, and an insulation covering the reflection layer 52. And a protective layer 53 having properties. Further, the guide groove 44 formed on the protective layer 53, the cover layer 54 covering the surface of the substrate 51 having the groove-like depression, the antireflection layer 48 formed on the cover layer 54, the substrate 51, An electrophoresis path 47 capable of holding the sample formed by the depression between the cover layer 54 and the cover layer 54 is provided. An arrow in the figure indicates incident light 102 incident on the analysis disk 41 from an optical pickup 101 (illustrated later in FIG. 7) used for a CD, DVD or the like serving as a light source in the present embodiment.

上記構造の分析用ディスク41を用いて蛍光検出を行えば、ディスク表面が反射防止層48で覆われているため、実施の形態1や実施の形態2の分析用基板を用いた発光検出と同様に、分析装置内で発生する迷光を低減することができるため、感度のよい蛍光検出が可能である。   If fluorescence detection is performed using the analysis disk 41 having the above-described structure, the disk surface is covered with the antireflection layer 48. Therefore, the light emission detection using the analysis substrate of the first and second embodiments is the same. In addition, since stray light generated in the analyzer can be reduced, highly sensitive fluorescence detection is possible.

また上記反射層52に金属薄膜を用いて電気泳動測定を行う場合、絶縁性の保護層53なしでは金属薄膜が泳動路47に露出するため、電気泳動測定における偽電極ができる。そこで絶縁体の保護層53で覆うことにより、偽電極の発生を阻止できる。その理由は以下のとおりである。反射層52が導電性の物質であると、泳動路47に沿って導体が存在する。そこに電気泳動用の電圧を印加しても、この導体のため流路内には電場がかからなかったり、流路内に偽電極が形成される。つまり、良好な電気泳動が困難となる。   When performing electrophoretic measurement using a metal thin film for the reflective layer 52, the metal thin film is exposed to the electrophoretic path 47 without the insulating protective layer 53, so that a false electrode can be formed in electrophoretic measurement. Therefore, by covering with an insulating protective layer 53, generation of false electrodes can be prevented. The reason is as follows. When the reflective layer 52 is a conductive material, a conductor exists along the migration path 47. Even if a voltage for electrophoresis is applied thereto, an electric field is not applied in the flow path due to this conductor, or a false electrode is formed in the flow path. That is, good electrophoresis becomes difficult.

したがって、絶縁体(誘電体)からなる保護層53によって導電性の反射層52を覆うことにより、流路内の電場が均一となり電気泳動が可能となる。しかし、上述したとおり、金属薄膜を使用すると電気泳動用の電界がかかりにくいため、なるべく流路と金属薄膜との距離をとる必要がある。この距離は電界強度との兼ね合いで決まる。なお、反射層52として、金属膜に代えて誘電体多層膜を使用する場合は、反射層52と泳動路47間の距離をとる必要が無く、また保護層53を省略できる。   Therefore, by covering the conductive reflective layer 52 with the protective layer 53 made of an insulating material (dielectric material), the electric field in the flow path becomes uniform and electrophoresis becomes possible. However, as described above, when a metal thin film is used, it is difficult to apply an electric field for electrophoresis. Therefore, it is necessary to take a distance between the flow path and the metal thin film as much as possible. This distance is determined by the balance with the electric field strength. When a dielectric multilayer film is used as the reflective layer 52 instead of the metal film, it is not necessary to provide a distance between the reflective layer 52 and the migration path 47, and the protective layer 53 can be omitted.

以下では、分析用ディスク41を用いた電気泳動法の詳細について説明する。   Below, the detail of the electrophoresis method using the disc 41 for analysis is demonstrated.

上記の分析用ディスク41での分析プロセス(電気泳動プロセス)では、バッファであるゲル溶液を液溜・注入口46dから注入し、泳動路47aと47bに充填させる。次に46b、46cにもバッファであるゲル溶液を注入する。その後分析の試料であるサンプルを溶かしたサンプル溶液を液溜・注入口46aに注入する。   In the analysis process (electrophoresis process) in the analysis disk 41 described above, a gel solution as a buffer is injected from the liquid reservoir / injection port 46d and filled in the electrophoresis paths 47a and 47b. Next, a gel solution as a buffer is also injected into 46b and 46c. Thereafter, a sample solution in which a sample as an analysis sample is dissolved is injected into the liquid reservoir / injection port 46a.

サンプルには例えばDNA断片を使用する。このDNA断片は末端への蛍光色素導入、またはインターカレーター型蛍光色素との混合等の方法で蛍光標識する必要がある。例えば前述のバッファであるゲル溶液にインターカレーター型蛍光色素を添加することで、流路をDNAが通過する際に蛍光染色をする方法をとってもよい。   For example, a DNA fragment is used as the sample. This DNA fragment needs to be fluorescently labeled by a method such as introduction of a fluorescent dye at the end or mixing with an intercalator type fluorescent dye. For example, a method of fluorescent staining when DNA passes through the flow path by adding an intercalator type fluorescent dye to the gel solution that is the buffer described above may be used.

次に、分析装置の電源から供給される電極を各液溜・注入口46a〜46dに配置し、それら電極を次のように接続する。まず、液溜・注入口46cに配置した電極を+電圧電源(数十〜数百ボルト)に接続し、液溜・注入口46a、46b、46dに配置された電極をグランドに接続する。これにより、液溜・注入口46cに+電圧(数十〜数百ボルト)が印加され、液溜・注入口46aにゼロボルトが印加され、泳動路47に注入されたサンプル(DNA断片:マイナスに帯電)は第2泳動路47bの中を液溜・注入口46a(−電極)から液溜・注入口46c(+電極)に向かって泳動する。   Next, the electrodes supplied from the power supply of the analyzer are arranged in the liquid reservoir / injection ports 46a to 46d, and these electrodes are connected as follows. First, the electrode arranged at the liquid reservoir / injection port 46c is connected to a + voltage power source (several tens to several hundred volts), and the electrodes arranged at the liquid reservoir / injection ports 46a, 46b, 46d are connected to the ground. As a result, a positive voltage (several tens to several hundred volts) is applied to the liquid reservoir / injection port 46c, zero volt is applied to the liquid reservoir / injection port 46a, and the sample (DNA fragment: negatively) injected into the migration path 47. Charge) migrates in the second migration path 47b from the liquid reservoir / injection port 46a (-electrode) toward the liquid reservoir / injection port 46c (+ electrode).

次に、泳動させたサンプルが泳動路47における十文字の交点に到達した後、液溜・注入口46dに配置された電極を+電圧電源(数十ボルト〜数キロボルト)に接続する。一方、液溜・注入口46a、46cに配置された電極は液溜・注入口46dに配置された電極の電圧よりも低い電圧を出力する+電圧電源(数ボルト〜数キロボルト)に接続し、液溜・注入口46bに配置された電極をグランドに接続する。これらにより、液溜・注入口46dの電極に+電圧(数十ボルト〜数キロボルト)が印加され、液溜・注入口46bの電極にゼロボルトが印加され、泳動路47に注入されたサンプルは第1泳動路47aの中を十文字の交点から液溜・注入口46dに向かって泳動する。このときサンプル(DNA)の移動度は、充填されたゲルによる分子ふるい効果のために分子量により異なるので、各分子量断片のフラグメントに分けることができる。このようなマイクロキャピラリにおける電気泳動分析の原理は、上述の特許文献2に開示されているようによく知られているため、詳細な説明は省略する。   Next, after the migrated sample reaches the crossing point of the cross in the migration path 47, the electrode arranged at the liquid reservoir / injection port 46d is connected to a + voltage power source (several tens to several kilovolts). On the other hand, the electrodes disposed in the liquid reservoir / injection ports 46a and 46c are connected to a + voltage power source (several volts to several kilovolts) that outputs a voltage lower than the voltage of the electrode disposed in the liquid reservoir / injection port 46d. The electrode disposed in the liquid reservoir / injection port 46b is connected to the ground. As a result, a positive voltage (several tens to several kilovolts) is applied to the electrode of the liquid reservoir / injection port 46d, zero volt is applied to the electrode of the liquid reservoir / injection port 46b, and the sample injected into the migration path 47 is the first sample. In the one migration path 47a, the electrophoresis proceeds from the intersection of the ten letters toward the liquid reservoir / injection port 46d. At this time, the mobility of the sample (DNA) varies depending on the molecular weight due to the molecular sieving effect of the filled gel, and can be divided into fragments of each molecular weight fragment. Since the principle of electrophoretic analysis in such a microcapillary is well known as disclosed in the above-mentioned Patent Document 2, detailed description thereof is omitted.

分析用ディスク41は、上記分析用チップ43と、光ピックアップ101からの入射光102を案内するための案内溝44と、番地情報を記録した番地情報記録部45とを備えている。分析用ディスク41が回転すると、光ピックアップ101は、分析用ディスク41の番地情報に含まれる半径位置を読み出しながら、分析用ディスク41の所望の半径位置に入射光102をアクセスする。したがって、一つの分析用チップ43内の所望の位置、すなわち泳動路47上の開口部49にて試料からの蛍光を検出することができる。   The analysis disk 41 includes the analysis chip 43, a guide groove 44 for guiding the incident light 102 from the optical pickup 101, and an address information recording unit 45 in which address information is recorded. When the analysis disk 41 rotates, the optical pickup 101 accesses the incident light 102 to the desired radial position of the analysis disk 41 while reading the radial position included in the address information of the analysis disk 41. Therefore, fluorescence from the sample can be detected at a desired position in one analysis chip 43, that is, at the opening 49 on the migration path 47.

また、分析用チップ43は全部で4つ形成され、それぞれが90度の角度の間隔で配置されている。さらに、隣り合う分析用チップ43の間には、案内溝44と番地情報記録部45とが周方向に並んで形成されている。入射光は、番地情報記録部45の番地情報に含まれる分析用チップ43の番号を読み出しながら、周方向に並ぶ分析用チップ43にアクセスするため、4つの分析用チップ43のうち、所望の分析用チップにおいて試料の分析(蛍光検出)を行うことができる。このとき、入射光102が1つのトラック(案内溝44)を周方向に走査すると、案内溝44のトラッキング領域→番地情報記録部45→案内溝44のトラッキング領域→泳動路47の順にこれらを繰り返し走査することになる。   In addition, a total of four analysis chips 43 are formed, and each is arranged at an interval of 90 degrees. Furthermore, between the adjacent analysis chips 43, a guide groove 44 and an address information recording unit 45 are formed side by side in the circumferential direction. Since the incident light accesses the analysis chips 43 arranged in the circumferential direction while reading the number of the analysis chip 43 included in the address information of the address information recording unit 45, the desired analysis among the four analysis chips 43 is performed. Analysis of the sample (fluorescence detection) can be performed on the chip for use. At this time, when the incident light 102 scans one track (guide groove 44) in the circumferential direction, these are repeated in the order of tracking area of the guide groove 44 → address information recording unit 45 → tracking area of the guide groove 44 → migration path 47. Will be scanned.

図6は、分析用ディスク41を用いた入射光102のトラッキングにおいて、入射光102が開口部49を通り過ぎて、案内溝44のトラッキング領域に移った状態を示す分析用ディスク41の縦断面図である。   FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the analysis disk 41 showing a state in which the incident light 102 passes through the opening 49 and moves to the tracking region of the guide groove 44 in tracking of the incident light 102 using the analysis disk 41. is there.

同図に示すように、入射光102は図に示す光路を通って案内溝44に集光される。また、入射光102は反射層52によって反射され、反射光63となってレンズ71へ戻る。この過程において、入射光102は、案内溝44において回折し、反射光63には回折光の分布が反映されるので、光ピックアップ101を制御することによって入射光102を案内溝44に追従させることができる。したがって、案内溝44を泳動路47の所望の検出位置を横切るように(だだし、泳動路47自体には存在しないように)形成しておけば、入射光は案内溝44の延長上にある泳動路47の所望の位置を横切り、その位置で試料の蛍光を検出(分析)できる。また、上記のように、入射光102が泳動路47を通過する期間においてトラッキング制御は入射光102が泳動路47を通過する直前の状態に保持されているので、泳動路47自体に案内溝が存在しなくても、泳動路47の通過前の案内溝44aからその延長上にある案内溝44bへ連続して安定なトラッキングが行われる。なお、上述の例では、案内手段として案内溝44を例に挙げて説明したが、これに限らずたとえばウォブルピットを案内手段としてもかまわない。   As shown in the figure, the incident light 102 is condensed on the guide groove 44 through the optical path shown in the figure. Further, the incident light 102 is reflected by the reflective layer 52 and returns to the lens 71 as reflected light 63. In this process, the incident light 102 is diffracted in the guide groove 44 and the distribution of the diffracted light is reflected in the reflected light 63, so that the incident light 102 is caused to follow the guide groove 44 by controlling the optical pickup 101. Can do. Therefore, if the guide groove 44 is formed so as to cross the desired detection position of the migration path 47 (but not present in the migration path 47 itself), the incident light is on the extension of the guide groove 44. The fluorescence of the sample can be detected (analyzed) at a desired position of the migration path 47 across the desired position. Further, as described above, since the tracking control is maintained in a state immediately before the incident light 102 passes through the migration path 47 during the period in which the incident light 102 passes through the migration path 47, a guide groove is formed in the migration path 47 itself. Even if it does not exist, stable tracking is continuously performed from the guide groove 44a before passing through the migration path 47 to the guide groove 44b on the extension thereof. In the above example, the guide groove 44 has been described as an example of the guide means. However, the present invention is not limited to this, and for example, a wobble pit may be used as the guide means.

図7は、上記分析装置における入射光制御装置70および光ピックアップ(光照射手段)101の主要部の構成を示すブロック図である。光ピックアップ101は、レンズ71およびこのレンズ71を駆動するアクチュエータ101aを備えている。さらに、半導体レーザーやフォトディテクタ、ビームスプリッタなどの光学部品により構成される光学系101bを備えている。入射光制御装置70は、番地再生回路72、コントローラ73(制御手段)、およびサーボ回路74(制御手段)を備えている。   FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of the main parts of the incident light control device 70 and the optical pickup (light irradiation means) 101 in the analyzer. The optical pickup 101 includes a lens 71 and an actuator 101 a that drives the lens 71. Furthermore, an optical system 101b composed of optical components such as a semiconductor laser, a photodetector, and a beam splitter is provided. The incident light control device 70 includes an address reproduction circuit 72, a controller 73 (control means), and a servo circuit 74 (control means).

上記の制御装置70において、光ピックアップ101から出射された入射光102は、レンズ71によって集光され、分析用ディスク41へ入射される。この入射光102は、分析用ディスク41の案内溝44または番地情報記録部45に照射される。案内溝44または番地情報記録部45からの反射光は再び光ピックアップ101に戻り、光ピックアップ101はフォーカス誤差信号・トラック誤差信号75を出力する。   In the control device 70, the incident light 102 emitted from the optical pickup 101 is collected by the lens 71 and is incident on the analysis disk 41. The incident light 102 is applied to the guide groove 44 or the address information recording unit 45 of the analysis disk 41. The reflected light from the guide groove 44 or the address information recording unit 45 returns to the optical pickup 101 again, and the optical pickup 101 outputs a focus error signal / track error signal 75.

フォーカス誤差信号・トラック誤差信号75はサーボ回路74を介してアクチュエータ101aにフィードバックされる。これにより、サーボ回路74は、案内溝44または番地情報記録部に入射光が新たな入射光102として、案内されるようにアクチュエータ101aを制御する。また、光量検出信号76は番地再生回路72に入力され、番地再生回路72は光量検出信号76から番地情報77を検出し、この番地情報77をコントローラ73に送る。コントローラ73では、番地情報77を確認しながら制御信号78をサーボ回路74に出力し、入射光102を所望の案内溝44にアクセスさせる処理を行う。これにより、入射光102を分析用基板41の所望の位置に移動させ、泳動路47に的確に入射させることができる。   The focus error signal / track error signal 75 is fed back to the actuator 101 a via the servo circuit 74. Thereby, the servo circuit 74 controls the actuator 101a so that the incident light is guided as the new incident light 102 to the guide groove 44 or the address information recording unit. The light quantity detection signal 76 is input to the address reproduction circuit 72, and the address reproduction circuit 72 detects the address information 77 from the light quantity detection signal 76 and sends this address information 77 to the controller 73. The controller 73 outputs a control signal 78 to the servo circuit 74 while confirming the address information 77, and performs a process of allowing the incident light 102 to access the desired guide groove 44. Accordingly, the incident light 102 can be moved to a desired position on the analysis substrate 41 and can be accurately incident on the migration path 47.

なお、案内溝44の開口部49の位置では、直前の案内溝44でのトラッキング状態が保持される。このためには、開口部49を横切る時間がサーボの応答時間(サーボ帯域の逆数に比例)よりも十分に短ければよい。あるいは、開口部49を横断するときにサーボ動作を一時的に保持すればよい(ホールド動作)。これにより、入射光102が泳動路47を横断してもトラッキングが乱されること無く、試料に的確に入射光102を照射しすることができる。そして、その後前記入射光102は、再び案内溝44に到達してトラッキング動作に復帰することができる。   Note that the tracking state in the immediately preceding guide groove 44 is maintained at the position of the opening 49 of the guide groove 44. For this purpose, it is sufficient that the time crossing the opening 49 is sufficiently shorter than the response time of the servo (proportional to the reciprocal of the servo band). Alternatively, the servo operation may be temporarily held when crossing the opening 49 (hold operation). Accordingly, even when the incident light 102 crosses the migration path 47, tracking is not disturbed, and the sample can be irradiated with the incident light 102 accurately. Then, the incident light 102 can reach the guide groove 44 again and return to the tracking operation.

以上のように、本実施の形態においても、分析用ディスク41の表面が反射防止層48で覆われているため、実施の形態1や実施の形態2で解説したとおり、分析装置内で発生する迷光を低減することができ、感度のよい蛍光検出が可能である。   As described above, also in the present embodiment, since the surface of the analysis disk 41 is covered with the antireflection layer 48, as described in the first and second embodiments, it occurs in the analyzer. Stray light can be reduced, and sensitive fluorescence detection is possible.

また、分析用ディスク41を用いれば電気泳動を用いた試料の測定が可能である。   Further, if the analysis disk 41 is used, it is possible to measure a sample using electrophoresis.

さらに、本実施の形態における分析装置は、反射層52に形成された案内溝44を読み取る光ピックアップ101を備え、入射光102を案内溝44に追従させることができる。したがって、入射光102は案内溝44の延長上にある泳動路47を正確に照射することができる。これにより、分析装置では、試料からの光学的な変化を検出感度良く、さらに自動的かつ正確に検出することができる。   Furthermore, the analyzer in the present embodiment includes an optical pickup 101 that reads the guide groove 44 formed in the reflective layer 52, and can cause the incident light 102 to follow the guide groove 44. Therefore, the incident light 102 can accurately irradiate the migration path 47 on the extension of the guide groove 44. Thereby, the analyzer can detect an optical change from the sample with high detection sensitivity and further automatically and accurately.

上記の実施の形態においては、電気泳動における蛍光検出の場合について示したが、これに限らず、例えばクロマトグラフィーなどの蛍光検出にも応用可能である。また、分析用基板はディスク形状(分析用ディスク41)に限らず他の形状であってもよい。また、以上の説明では、試料からの蛍光検出の例を示したが、燐光など、外部光源により励起されて発光を放つ試料を検出するための装置にも適用可能である。   In the above-described embodiment, the case of fluorescence detection in electrophoresis has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to fluorescence detection such as chromatography. Further, the analysis substrate is not limited to the disk shape (analysis disk 41), but may be other shapes. In the above description, an example of fluorescence detection from a sample has been described. However, the present invention can also be applied to an apparatus for detecting a sample that emits light when excited by an external light source, such as phosphorescence.

上記実施の形態において、電気泳動を行うための電極の配線方法や、電源を供給する装置や、蛍光を検出する回路などの詳細は記載していないが、これらの方法や装置等は、従来公知のものを用いることができる。これらの方法や装置等は、例えば、特開2006−58250に記載されている方法や装置等と同様であるため、説明は省略する。   In the above embodiment, the details of the electrode wiring method for performing electrophoresis, the device for supplying power, the circuit for detecting fluorescence are not described, but these methods and devices are conventionally known. Can be used. These methods and apparatuses are the same as, for example, the methods and apparatuses described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-58250.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

本発明の分析用基板及び分析装置は、微量な試料を分析する分野に適用することができる。例えば、医療機器分野、測定装置分野等に利用可能である。   The analysis substrate and the analysis apparatus of the present invention can be applied to the field of analyzing a very small amount of sample. For example, it can be used in the medical device field, the measuring device field, and the like.

本発明の実施の形態1における分析用基板の斜視図である。It is a perspective view of the board | substrate for analysis in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における分析用基板を用いた分析装置の概略図である。It is the schematic of the analyzer which used the board | substrate for analysis in Embodiment 1 of this invention. (a)は本発明の実施の形態2における分析用基板の斜視図であり、(b)は同図(a)の分析用基板が保持する流路状セルの伸張方向に沿った断面図である。(A) is a perspective view of the analysis substrate in Embodiment 2 of the present invention, and (b) is a cross-sectional view along the extension direction of the flow path cell held by the analysis substrate of FIG. is there. 本発明の実施の形態2における分析用基板を用いた分析装置の概略図である。It is the schematic of the analyzer which used the board | substrate for analysis in Embodiment 2 of this invention. (a)は電気泳動による測定が可能な分析用ディスクを示す正面図であり、(b)は同図(a)の分析用ディスクの開口部の形成部位における、第1泳動路の伸張方向に垂直な面の断面図である。(A) is a front view showing an analysis disk that can be measured by electrophoresis, and (b) is in the extending direction of the first electrophoresis path at the site where the opening of the analysis disk of FIG. It is sectional drawing of a perpendicular | vertical surface. 図5に示した分析用ディスクを使用する分析装置において、入射光が流路を通り過ぎて案内溝のトラッキング領域に移った状態を分析用ディスクの縦断面を用いて示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state in which incident light passes through a flow path and moves to a tracking region of a guide groove using a longitudinal section of the analysis disk in the analysis apparatus using the analysis disk shown in FIG. 5. 本発明の実施の形態3における分析装置の入射光照射装置が備える入射光制御装置および光ピックアップの主要部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the principal part of the incident light control apparatus with which the incident light irradiation apparatus of the analyzer in Embodiment 3 of this invention is provided, and an optical pick-up. 従来の分析用チップの断面図である。It is sectional drawing of the conventional analysis chip | tip.

符号の説明Explanation of symbols

1、21 分析用基板
2、22、51 基板(基礎基板)
3、23、54 カバー層
4、24、48 反射防止層(反射防止手段)
5、25 流路状セル
6、26、49 開口部
11、31、102,207 入射光
12、32、71 レンズ
13、33 発光
14、34 透過光
15、35 光学フィルター
16、36 発光検出器
17a、17b 迷光
18、38 容器
28、52 反射層
37 散乱光
41 分析用ディスク(分析用基板)
42 中心穴
43 分析用チップ
44,44a,44b 案内溝
45 番地情報記録部
46a・b・c・d 液溜・注入口
47 泳動路
47a 第1泳動路
47b 第2泳動路
53 保護層
63 反射光
70 入射光制御装置
72 番地再生回路
73 コントローラ
74 サーボ回路
75 フォーカス誤差信号・トラック誤差信号
76 光量検出信号
77 番地情報
78 制御信号
101 光ピックアップ
101a アクチュエータ
101b 光学系
300 発光検出器16に近接した基板表面
1,21 Analysis substrate 2, 22, 51 Substrate (basic substrate)
3, 23, 54 Cover layers 4, 24, 48 Antireflection layer (antireflection means)
5, 25 Channel-like cells 6, 26, 49 Apertures 11, 31, 102, 207 Incident light 12, 32, 71 Lens 13, 33 Light emission 14, 34 Transmitted light 15, 35 Optical filter 16, 36 Light emission detector 17a 17b Stray light 18, 38 Container 28, 52 Reflective layer 37 Scattered light 41 Analysis disk (analysis substrate)
42 Center hole 43 Analysis chips 44, 44a, 44b Guide groove 45 Address information recording section 46a, b, c, d Reservoir / injection port 47 Electrophoresis path 47a First migration path 47b Second migration path 53 Protective layer 63 Reflected light 70 incident light control device 72 address reproduction circuit 73 controller 74 servo circuit 75 focus error signal / track error signal 76 light quantity detection signal 77 address information 78 control signal 101 optical pickup 101a actuator 101b optical system 300 substrate surface close to the light emission detector 16

Claims (9)

基礎基板表面に設けられたくぼみと、当該くぼみを覆うように形成されたカバー層とにより形成される試料保持部を有し、当該試料保持部に保持される試料の光学分析が可能な分析用基板において、
前記分析用基板表面に反射防止手段を備えたことを特徴とする分析用基板。
For analysis that has a sample holder formed by a depression provided on the surface of the base substrate and a cover layer formed so as to cover the depression, and enables optical analysis of the sample held in the sample holder In the substrate,
An analysis substrate comprising antireflection means on the analysis substrate surface.
前記基礎基板と前記反射防止手段との間に反射層を備えることを特徴とする請求項1に記載の分析用基板。   The analysis substrate according to claim 1, further comprising a reflective layer between the base substrate and the antireflection means. 前記反射防止手段は、黒色炭素化合物層、または無発光性顔料含有層のいずれかであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の分析用基板。   The analysis substrate according to claim 1, wherein the antireflection means is a black carbon compound layer or a non-light emitting pigment-containing layer. 前記反射防止手段は、自身の表面に形成された、微細な凹凸構造、または微細な多孔質構造であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の分析用基板。   The analysis substrate according to claim 1 or 2, wherein the antireflection means is a fine concavo-convex structure or a fine porous structure formed on its surface. 前記試料保持部上に位置する反射防止手段に開口部が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の分析用基板。   The analysis substrate according to claim 1, wherein an opening is provided in the antireflection means located on the sample holding unit. 前記反射防止手段は、無機酸化物の多層膜からなる反射防止膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の分析用基板。   The analysis substrate according to claim 1, wherein the antireflection means is an antireflection film made of a multilayer film of inorganic oxide. 前記反射層に、光学分析用の入射光をガイドするための案内手段を備えていることを特徴とする請求項2に記載の分析用基板。   The analysis substrate according to claim 2, wherein the reflection layer is provided with guide means for guiding incident light for optical analysis. 請求項1から請求項7の何れか1項に記載の分析用基板に対して、
入射光を入射させる光照射手段と、
前記分析用基板をはさんで前記光照射手段とは反対側に位置し、かつ、前記入射光の光路外に配置された光検出手段とを備えていることを特徴とする分析装置。
The analysis substrate according to any one of claims 1 to 7,
Light irradiation means for making incident light incident;
An analysis apparatus comprising: a light detection means disposed on the opposite side of the light irradiation means across the analysis substrate and disposed outside the optical path of the incident light.
請求項7に記載の分析用基板に対して入射光を入射させるとともに、当該分析用基板からの反射光を検出する光ピックアップと、
前記光ピックアップを前記案内手段に沿った方向に移動させる駆動手段と、
前記光ピックアップにより出力される検出信号に基づき、前記入射光を前記案内手段に追従して入射するように前記光ピックアップを制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする分析装置。
An optical pickup that makes incident light incident on the analysis substrate according to claim 7 and detects reflected light from the analysis substrate;
Drive means for moving the optical pickup in a direction along the guide means;
Control means for controlling the optical pickup so that the incident light follows the guiding means based on a detection signal output from the optical pickup, and
An analysis device comprising:
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