JP2008105429A - Manufacturing method of printing plate and removal method of razor engraving tails - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はレーザー彫刻によるフレキソ印刷版用レリーフ画像作成、エンボス加工等の表面加工用パターンの形成、タイル等の印刷用レリーフ画像形成に適したレーザー彫刻印刷原版にレーザーを照射し画像パターンを形成することによる印刷版の製造方法、およびその工程で発生し、印刷版表面に残存する粉末状および粘稠性液状彫刻カスの除去方法に関するものである。 The present invention forms an image pattern by irradiating a laser engraving printing original plate suitable for forming a relief image for a flexographic printing plate by laser engraving, forming a pattern for surface processing such as embossing, and forming a relief image for printing such as a tile. The present invention relates to a method for producing a printing plate, and a method for removing powdery and viscous liquid engraving residue generated in the process and remaining on the surface of the printing plate.
段ボール、紙器、紙袋、軟包装用フィルムなどの包装材、壁紙、化粧板などの建装材、ラベル印刷などに用いられるフレキソ印刷は各種の印刷方式の中でその比重を高めている。これに用いる印刷版の製作には、通常、感光性樹脂が用いられることが多く、液状の樹脂、又はシート状に成形された固体樹脂板を用い、フォトマスクを感光性樹脂上に置き、マスクを通して光を照射し架橋反応を起こさせた後、非架橋部分を現像液で洗い落とすという方法が用いられてきた。近年、感光性樹脂表面にブラックレーヤーという薄い光吸収層を設け、これにレーザー光を照射し感光性樹脂板上に直接マスク画像を形成後、そのマスクを通して光を照射し架橋反応を起こさせた後、光の非照射部分の非架橋部分を現像液で洗い落とす、いわゆるフレキソCTPという技術が開発され、印刷版製作の効率改善効果から、採用が進みつつある。しかしながら、この技術も現像工程が残るなど、効率改善効果も限られたものであり、レーザーを使って直接印刷原版上にレリーフ画像を形成し、しかも現像不要である技術の開発が求められている。 Flexographic printing used for packaging materials such as cardboard, paper containers, paper bags, flexible packaging films, wallpaper materials, decorative materials such as decorative boards, and label printing has increased its specific gravity among various printing methods. For the production of the printing plate used for this, a photosensitive resin is usually used, and a liquid resin or a solid resin plate formed into a sheet shape is used, a photomask is placed on the photosensitive resin, and the mask is used. A method of irradiating light through the substrate to cause a crosslinking reaction and then washing off the non-crosslinked portion with a developer has been used. In recent years, a thin light-absorbing layer called a black layer has been provided on the surface of a photosensitive resin, and this is irradiated with laser light to form a mask image directly on the photosensitive resin plate. Later, a technique called so-called flexo CTP was developed in which the non-crosslinked portion of the light non-irradiated portion was washed away with a developing solution, and its adoption has been progressing from the effect of improving the printing plate production efficiency. However, this technique also has a limited efficiency improvement effect, such as the development process remaining, and development of a technique that directly forms a relief image on a printing original plate using a laser and does not require development is required. .
その方法として直接レーザーで印刷原版を彫刻する方法が挙げられる。この方法で凸版印刷版やスタンプを作成することは既に行なわれており、それに用いられる材料も知られている。 As the method, a method of engraving a printing original plate directly with a laser can be mentioned. Producing letterpress printing plates and stamps by this method has already been performed, and materials used therefor are also known.
非感光性樹脂を用いた印刷原版の場合、レーザー光線が照射された部分が除去されるが、樹脂の焼きつき等が発生し、表面に付着した彫刻カスが除去できない現象が発生する。画像パターンが微細になるほど、この傾向は強まる。例えば、微細網点パターンでは彫刻カスが除去されず、パターンが埋まった状態となる。 In the case of a printing original plate using a non-photosensitive resin, a portion irradiated with a laser beam is removed. However, a seizure of the resin occurs, and a phenomenon in which engraving residue adhering to the surface cannot be removed occurs. This tendency becomes stronger as the image pattern becomes finer. For example, in the fine dot pattern, the engraving residue is not removed and the pattern is buried.
また、熱可塑性エラストマーを用いる場合、赤外線領域の発振波長を有するレーザーを用いて彫刻を実施すると、熱によりレーザービーム径の寸法を大きく逸脱した部分の樹脂までが溶融するため、高解像度の彫刻パターンを形成することができない。そのため、熱可塑性エラストマー層に充填剤を添加することにより機械的に強化を図ることが必須とされている。熱可塑性エラストマー層の機械的強化とレーザー光の吸収性向上を目的として、特に機械的強化効果の極めて高いカーボンブラックが多量に混合されている。しかしながら、カーボンブラックが多量に混合されているために、光を用いて光化学的強化を試みる場合、どうしても光線透過性を犠牲にすることになる。したがって、これらの材料をレーザー彫刻すると除去が難しいカス(液状の粘稠物を含む)が大量に発生し、その処理に多大な時間を要するばかりでなく、レリーフに融解によるエッジ(樹脂の縁)を生じたり、網点の形状が崩れるなどの難点を生じる。また、レーザー彫刻法において、これらの彫刻カスの除去は極めて重要な工程である。折角形成した画像パターンでも、彫刻カスが残存していれば印刷時に不良となり、また粘稠性液状カスが残存し表面タックが大きければ、印刷時、紙紛が印刷版に付着し印刷上のトラブルの要因となる。 Also, when using thermoplastic elastomers, engraving with a laser having an oscillation wavelength in the infrared region melts even the resin that greatly deviates from the laser beam diameter due to heat, so a high-resolution engraving pattern Can not form. Therefore, it is essential to reinforce mechanically by adding a filler to the thermoplastic elastomer layer. For the purpose of mechanical reinforcement of the thermoplastic elastomer layer and improvement of laser light absorption, carbon black having a particularly high mechanical reinforcement effect is mixed in a large amount. However, since a large amount of carbon black is mixed, light transmittance is always sacrificed when photochemical reinforcement is attempted using light. Therefore, when these materials are laser-engraved, a large amount of debris (including liquid viscous material) that is difficult to remove is generated, and not only does it take a long time to process, but also the relief edge (resin edge) And the problem that the shape of the halftone dot is broken. Further, in the laser engraving method, removal of these engraving residue is an extremely important process. Even if an image pattern formed at the corner is left with engraving residue, it becomes defective during printing, and when viscous liquid residue remains and the surface tack is large, paper dust adheres to the printing plate during printing, and printing problems occur. It becomes a factor of.
そこで、直接レーザー彫刻してレリーフ画像を制作する際に発生し、版表面に残存する粉末状および粘稠性液状彫刻カスを容易に除去でき、印刷面のタックが小さい印刷版を製作する方法およびレーザー彫刻カスの除去方法として、樹脂の溶融あるいは分解により多量に発生する粘稠性の液状カスを無機多孔質体で吸収除させ、高圧温水あるいは高圧スチームで版表面に存在する粉末状あるいは粘稠性液状カスを浮き上がらせ除去させる方法が提案されている (特許文献1参照)。
しかしながら、無機多孔質体を含有させることにより、画像再現性が悪くなったり、また高温高圧水やスチームを用いることによって作業環境が悪くなる等の問題点が生じた。 However, the inclusion of the inorganic porous material has caused problems such as poor image reproducibility and poor working environment by using high-temperature and high-pressure water or steam.
本発明は、感光性樹脂組成物に無機多孔質体を含有させることなく、安全に彫刻カスを除くことができる方法を提供することを課題とするものである。 An object of the present invention is to provide a method capable of safely removing engraving residue without containing an inorganic porous material in a photosensitive resin composition.
上記課題を解決するため、本発明者らは鋭意、研究、検討した結果、遂に本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は下記の通りである。
(1)レーザー彫刻工程で発生する彫刻カスを除去せしめた印刷版であって、2ポイントの凸部および凹文字、30μm幅の細線、100μmの直径の独立点ならびに156lpi、1%網点が形成されてなるレーザー彫刻印刷版である。
In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied and studied, and as a result, have finally completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
(1) A printing plate from which the engraving residue generated in the laser engraving process has been removed, with the formation of 2 points of convex and concave characters, 30 μm wide thin line, 100 μm diameter independent point and 156 lpi, 1% halftone dot This is a laser engraving printing plate.
本発明を採用することにより、画像再現性良く、安全に彫刻カスを取り除くことができるので、産業界に寄与すること大である。 By adopting the present invention, the engraving residue can be removed safely with good image reproducibility, which greatly contributes to the industry.
以下、さらに詳細に本発明の好ましい実施態様を説明する。本発明では、感光性樹脂組成物を光架橋させて形成した印刷原版と水系現像液ブラッシング洗浄法との組み合わせが、彫刻カスの除去に極めて有効である。また、本発明で使用する印刷原版は、レーザー光照射により溶融あるいは分解しやすいことが好ましく、また溶融あるいは分解し生成した粘稠性液状カスを除去し易い工夫が施されていることが好ましい。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail. In the present invention, a combination of a printing original plate formed by photocrosslinking a photosensitive resin composition and an aqueous developer brushing cleaning method is extremely effective for removing engraving residue. In addition, the printing original plate used in the present invention is preferably easily melted or decomposed by irradiation with laser light, and is preferably provided with a device for easily removing viscous liquid residue generated by melting or decomposition.
本発明では、印刷原版にレーザー光線を照射し目的のパターンを形成するレーザー彫刻の工程を経た後、彫刻版の表面の水系現像液中でのブラッシングすることが好ましい。ブラッシングを行うことで、レーザー彫刻工程で発生する粉末状カスおよび液状カスを除去することができる。特に粘稠性液状カスはブラッシングにより版表面から除去させらせることができるので、粘稠性液状カスの除去に効果的である。本発明における水系現像液としては、水単独で使用することもできるが、水と界面活性剤を混合した溶液、無機塩類を溶解させた水溶液、アルカリイオン水等を洗浄液として使用しても構わない。また、該水系現像液の温度は通常の感光性樹脂原版を現像するときの温度を採用することができ、一般的には20〜45℃、好ましくは25〜43℃である。なお、該水系現像液は、メッシュフィルター、オイル吸着マットフィルター、不織布フィルター、紙フィルターにより彫刻カス除去処理後、再利用することも可能である。 In the present invention, it is preferable to brush the surface of the engraving plate in an aqueous developer after a laser engraving step of irradiating the printing original plate with a laser beam to form a target pattern. By performing the brushing, powdered debris and liquid debris generated in the laser engraving process can be removed. In particular, the viscous liquid residue can be removed from the plate surface by brushing, which is effective in removing the viscous liquid residue. As the aqueous developer in the present invention, water can be used alone, but a solution in which water and a surfactant are mixed, an aqueous solution in which inorganic salts are dissolved, alkaline ionized water, or the like may be used as a cleaning solution. . Further, the temperature of the aqueous developer may be a temperature at which a normal photosensitive resin original plate is developed, and is generally 20 to 45 ° C, preferably 25 to 43 ° C. The aqueous developer may be reused after removing engraving residue with a mesh filter, an oil adsorption mat filter, a nonwoven fabric filter, or a paper filter.
本発明において、印刷原版を構成する樹脂として液状化し易い樹脂や分解し易い樹脂が好ましい。特に数平均分子量の比較的小さな樹脂を用いて光架橋反応により網目構造を形成させる感光性樹脂組成物を使用することが好ましい。 In the present invention, the resin constituting the printing original plate is preferably a resin that is easily liquefied or easily decomposed. In particular, it is preferable to use a photosensitive resin composition in which a network structure is formed by a photocrosslinking reaction using a resin having a relatively small number average molecular weight.
以下に本発明で用いられる感光性樹脂組成物について詳細に説明する。
本発明において、感光性樹脂層を構成する(A)少なくとも2種類以上の水分散ラテックスより得られる疎水性重合体とは、この水分散ラテックスから水を取り除いて得られる疎水性重合体そのものであり、本発明においては2種類以上用いられることが必要である。
Below, the photosensitive resin composition used by this invention is demonstrated in detail.
In the present invention, (A) the hydrophobic polymer obtained from at least two types of water-dispersed latex constituting the photosensitive resin layer is the hydrophobic polymer itself obtained by removing water from the water-dispersed latex. In the present invention, it is necessary to use two or more types.
具体的には、以下の少なくとも2種類以上から選ばれるラテックスである。ポリブタジエンラテックス、天然ゴムラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックス、ポリクロロプレンラテックス、ポリイソプレンラテックス、ポリウレタンラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックス、ビニルピリジン重合体ラテックス、ブチル重合体ラテックス、チオコール重合体ラテックス、アクリレート重合体ラテックスなどの水分散ラテックス重合体やこれら重合体にアクリル酸やメタクリル酸などの他の成分を共重合して得られる重合体が挙げられる。この中でも分子鎖中にブタジエン骨格またはイソプレン骨格を含有する水分散ラテックス重合体が、硬度やゴム弾性の点から好ましく用いられる。具体的には、ポリブタジエンラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックス、ポリイソプレンラテックスが好ましい。 Specifically, it is a latex selected from at least two of the following. Polybutadiene latex, natural rubber latex, styrene-butadiene copolymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer latex, polychloroprene latex, polyisoprene latex, polyurethane latex, methyl methacrylate-butadiene copolymer latex, vinylpyridine polymer latex, butyl Examples thereof include water-dispersed latex polymers such as polymer latex, thiocol polymer latex and acrylate polymer latex, and polymers obtained by copolymerizing these polymers with other components such as acrylic acid and methacrylic acid. Among these, an aqueous dispersion latex polymer containing a butadiene skeleton or an isoprene skeleton in the molecular chain is preferably used from the viewpoint of hardness and rubber elasticity. Specifically, polybutadiene latex, styrene-butadiene copolymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer latex, methyl methacrylate-butadiene copolymer latex, and polyisoprene latex are preferable.
(B)成分の親水性重合体は、−COOH、−COOM(Mは1価、2価、或いは3価の金属イオンまたは置換または無置換のアンモニウムイオン)、−OH、−NH2、−S
O3H、リン酸エステル基などの親水基を有するものが好ましく、具体的には、(メタ)
アクリル酸またはその塩類の重合体、(メタ)アクリル酸またはその塩類とアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体、(メタ)アクリル酸またはその塩類とスチレンとの共重合体、(メタ)アクリル酸またはその塩類と酢酸ビニルとの共重合体、(メタ)アクリル酸またはその塩類とアクリロニトリルとの共重合体、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミド、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、−COOM基を有するポリウレタン、−COOM基を有するポリウレアウレタン、−COOM基を有するポリアミド酸およびこれらの塩類または誘導体が挙げられる。これらはそれぞれを単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
なお、本発明においては、(B)成分の親水性重合体と(A)成分のうち少なくとも一種の疎水性重合体とがそれぞれ共通の骨格構造を有していることが好ましい。
Component (B) of the hydrophilic polymer, -COOH, -COOM (M is monovalent, divalent, or trivalent metal ion or substituted or unsubstituted ammonium ion), - OH, -NH 2, -S
Those having hydrophilic groups such as O 3 H and phosphate ester groups are preferred. Specifically, (meth)
Polymer of acrylic acid or its salt, copolymer of (meth) acrylic acid or its salt and alkyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid or its salt and styrene, (meth) acrylic acid Or a copolymer of its salt and vinyl acetate, a copolymer of (meth) acrylic acid or its salt and acrylonitrile, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, polyacrylamide, hydroxyethyl cellulose, polyethylene oxide, polyethyleneimine, -COOM group And polyurethanes having -COOM groups, polyamic acids having -COOM groups, and salts or derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more.
In the present invention, it is preferred that the hydrophilic polymer of component (B) and at least one hydrophobic polymer of component (A) each have a common skeleton structure.
(C)成分の光重合性化合物は、連続層として存在するものである。本発明においては、光重合性化合物としては光重合性オリゴマーが好ましく、光重合性オリゴマーとは、共役ジエン系重合体の末端および/または側鎖にエチレン性不飽和基が結合した重合体であって、数平均分子量が1000以上、10000以下のものである。具体的には、分子構造中に次のような構造を有する化合物をいう。 The photopolymerizable compound of component (C) exists as a continuous layer. In the present invention, the photopolymerizable compound is preferably a photopolymerizable oligomer, and the photopolymerizable oligomer is a polymer in which an ethylenically unsaturated group is bonded to the terminal and / or side chain of a conjugated diene polymer. The number average molecular weight is 1000 or more and 10,000 or less. Specifically, it refers to a compound having the following structure in the molecular structure.
共役ジエン系エチレン性重合体を構成する共役ジエン系重合体は、共役ジエン不飽和化合物の単独重合体または共役ジエン不飽和化合物とモノエチレン性不飽和化合物との共重合体によって構成される。かかる共役ジエン不飽和化合物の単独重合体または共役ジエン不飽和化合物とモノエチレン性不飽和化合物との共重合体としては、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、クロロプレン重合体、スチレン−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メチル−イソプレン共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メチル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリル酸メチル−ブタジエン共重合体、アクリル酸メチル−イソプレン共重合体、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−クロロプレン−スチレン共重合体等が挙げられる。これらのうちゴム弾性と光硬化性の点で、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体が好ましく、特に好ましくはブタジエン重合体、イソプレン重合体である。 The conjugated diene polymer constituting the conjugated diene ethylenic polymer is composed of a homopolymer of a conjugated diene unsaturated compound or a copolymer of a conjugated diene unsaturated compound and a monoethylenically unsaturated compound. As a homopolymer of such a conjugated diene unsaturated compound or a copolymer of a conjugated diene unsaturated compound and a monoethylenically unsaturated compound, a butadiene polymer, an isoprene polymer, a chloroprene polymer, a styrene-chloroprene copolymer, Acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, methyl methacrylate-isoprene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, methyl methacrylate-isoprene copolymer, methyl methacrylate-chloroprene copolymer, acrylic acid Methyl-butadiene copolymer, methyl acrylate-isoprene copolymer, methyl acrylate-chloroprene copolymer, methyl acrylate-chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylonitrile copolymer Ropuren - styrene copolymer, and the like. Of these, a butadiene polymer, an isoprene polymer, and an acrylonitrile-butadiene copolymer are preferable from the viewpoint of rubber elasticity and photocurability, and a butadiene polymer and an isoprene polymer are particularly preferable.
共役ジエン系重合体の末端および/または側鎖エチレン性不飽和基を導入する方法は特に限定されないが、例えば、(1)過酸化水素を重合開始剤として得られた水酸基末端共役ジエン系重合体の末端の水酸基に(メタ)アクリル酸等のモノエチレン性不飽和カルボン酸を脱水反応によりエステル結合させる、若しくは、(メタ)アクリル酸メチルや(メタ)アクリル酸エチル等のモノエチレン性不飽和カルボン酸アルキルエステルをエステル交換反応によりエステル結合させる方法、(2)共役ジエン化合物と少なくとも一部に不飽和カルボン酸(エステル)を含むエチレン性不飽和化合物を共重合して得られた共役ジエン系重合体にアリルアルコール、ビニルアルコール等のエチレン性不飽和アルコールを反応させる方法、等が挙げられる。 The method for introducing the terminal and / or side chain ethylenically unsaturated group of the conjugated diene polymer is not particularly limited. For example, (1) a hydroxyl group-terminated conjugated diene polymer obtained using hydrogen peroxide as a polymerization initiator. Monoethylenically unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid or the like is ester-bonded to the terminal hydroxyl group by dehydration reaction, or monoethylenically unsaturated carboxylic acid such as methyl (meth) acrylate or ethyl (meth) acrylate (2) Conjugated diene heavy compounds obtained by copolymerizing an ethylenically unsaturated compound containing an unsaturated carboxylic acid (ester) at least partly with a conjugated diene compound. Examples include a method of reacting ethylenically unsaturated alcohol such as allyl alcohol and vinyl alcohol with the coalescence. .
共役ジエン系エチレン性重合体におけるエチレン性不飽和基の量は、重合体中に0.005〜2.0m当量/gが好ましく、特に好ましくは0.01〜2.0m当量である。2.0m当量/gより多いと硬度が高くなりすぎて充分な弾性が得難くなり、印刷時でのベタ部のインキ乗り性が低下する。0.005m当量/gより少ないと、硬度が低くなり過ぎて充分な硬度が得難くなり、印刷でのドットゲインが大きくなり印刷精度が低下する。 The amount of the ethylenically unsaturated group in the conjugated diene-based ethylenic polymer is preferably 0.005 to 2.0 meq / g, particularly preferably 0.01 to 2.0 meq in the polymer. If it exceeds 2.0 meq / g, the hardness will be too high and sufficient elasticity will be difficult to obtain, and the ink transportability of the solid part during printing will be reduced. If it is less than 0.005 meq / g, the hardness becomes too low and it becomes difficult to obtain a sufficient hardness, the dot gain in printing increases, and the printing accuracy decreases.
本発明においては、本発明の効果を阻害しない範囲において、必要に応じて、一般的に用いられるアクリレートやメタクリレートなどの光重合性化合物を加えることができる。 In the present invention, photopolymerizable compounds such as acrylates and methacrylates that are generally used can be added as necessary within a range that does not impair the effects of the present invention.
また本発明において、感光性樹脂組成物は(D)成分として光重合開始剤を加えるものである。光重合開始剤としては、光によって重合性の炭素−炭素不飽和基を重合させることができるものであれば全て使用できる。なかでも、光吸収によって、自己分解や水素引き抜きによってラジカルを生成する機能を有するものが好ましく用いられる。例えば、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、ベンジル類、アセトフェノン類、ジアセチル類などである。光重合開始剤の配合量としては、(A)成分100重量部に対して0.1〜50重量部の範囲が好ましい。 In the present invention, the photosensitive resin composition is one in which a photopolymerization initiator is added as the component (D). Any photopolymerization initiator can be used as long as it can polymerize a polymerizable carbon-carbon unsaturated group by light. Especially, what has the function to produce | generate a radical by self-decomposition or hydrogen abstraction by light absorption is used preferably. For example, benzoin alkyl ethers, benzophenones, anthraquinones, benzyls, acetophenones, diacetyls and the like. As a compounding quantity of a photoinitiator, the range of 0.1-50 weight part is preferable with respect to 100 weight part of (A) component.
本発明における感光性樹脂組成物には、さらに可塑剤を加えることもできる。この可塑剤としては、一般的に版材を柔軟化する性質を有するものであれば特に限定されるものではないが、(A)成分や(B)成分と相溶性が良好なものが好ましい。より好ましくは、室温で液状のポリエン化合物やエステル結合を有する化合物である。室温で液状のポリエン化合物としては、液状のポリブタジエン、ポリイソプレン、されにそれらの末端基あるいは側鎖を変性したマレイン化物、エポキシ化物などがある。エステル結合を有する化合物としては、フタル酸エステル、リン酸エステル、セバシン酸エステル、アジピン酸エステル、分子量1000〜3000のポリエステルが挙げられる。 A plasticizer can be further added to the photosensitive resin composition in the present invention. The plasticizer is not particularly limited as long as it generally has a property of softening the plate material, but those having good compatibility with the component (A) and the component (B) are preferable. More preferred are polyene compounds which are liquid at room temperature and compounds having an ester bond. Examples of the polyene compound which is liquid at room temperature include liquid polybutadiene, polyisoprene, and maleated products and epoxidized products having their end groups or side chains modified. Examples of the compound having an ester bond include phthalic acid ester, phosphoric acid ester, sebacic acid ester, adipic acid ester, and polyester having a molecular weight of 1000 to 3000.
これら可塑剤成分を加える場合には、光架橋前の固形版としての強度を充分ななものとする観点から、(A)成分100重量部に対して0〜100重量部が好ましい。 When these plasticizer components are added, 0 to 100 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight of component (A) from the viewpoint of obtaining sufficient strength as a solid plate before photocrosslinking.
前記感光性樹脂組成物の熱安定性を上げる為に、従来公知の重合禁止剤を添加することもできる。好ましい重合禁止剤としては、フェノール類、ハイドロキノン類、カテコール類などが挙げられる。これらの配合量は、全感光性樹脂組成物に対して、0.001〜5重量%の範囲で使用することが一般的である。 In order to increase the thermal stability of the photosensitive resin composition, a conventionally known polymerization inhibitor may be added. Preferable polymerization inhibitors include phenols, hydroquinones, catechols and the like. These compounding amounts are generally used in the range of 0.001 to 5% by weight with respect to the total photosensitive resin composition.
また、他の成分として、染料、顔料、界面活性剤、消泡剤、紫外線吸収剤、香料、増粘剤などを添加することができる。 Moreover, dye, a pigment, surfactant, an antifoamer, a ultraviolet absorber, a fragrance | flavor, a thickener etc. can be added as another component.
本発明において、樹脂組成物をシート状、もしくは円筒状に成形する方法は、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等が例示できる。その際、樹脂の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行なうことも可能である。 In the present invention, an existing resin molding method can be used as a method of molding the resin composition into a sheet or cylinder. For example, a casting method, a method of extruding a resin from a nozzle or a die with a machine such as a pump or an extruder, adjusting the thickness with a blade, and adjusting the thickness by calendering with a roll can be exemplified. In that case, it is also possible to perform the molding while heating within a range that does not deteriorate the performance of the resin.
本発明においてカバーフィルムの使用も出来る。カバーフィルムは原版の貯蔵および取り扱いの間の感光性樹脂組成物の保護のために設けられるものであり、彫刻前に除去(剥離)される。本発明の原版においては、カバーフィルムの除去、すなわち、剥離作業時に、感光性樹脂組成物のキズが防止される。 In the present invention, a cover film can also be used. The cover film is provided to protect the photosensitive resin composition during storage and handling of the original plate, and is removed (peeled) before engraving. In the original plate of the present invention, scratches of the photosensitive resin composition are prevented during the removal of the cover film, that is, during the peeling operation.
カバーフィルムを彫刻前に除去する場合、そのようなカバーフィルムの構成材料としては、ポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリアルキレン;ポリアセタール;ポリイミド;ポリカーボネート;ポリフェニレンエーテル;ポリエチレンオキサイド;ポリラクトン;ポリアミド;ポリビニルアルコール;エチレンとビニルアセテートとのコポリマー;両性インターポリマー;ヒドロキシアルキルセルローズ、セルローズアセテートのようなセルローズ系ポリマー;ポリブチラール;環状ゴム等が好適である。ここで、両性インターポリマーは米国特許第4,293,635号に記載されているものである。当該材料はいずれか1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。また、ニトロセルローズとニトログリセリンのような自己酸化性化合物;アルキルセルローズ(例、エチルセルローズ)、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩のような非自己酸化性ポリマーおよびこれらの組合せ等も使用できる。 When the cover film is removed before engraving, the constituent materials of such a cover film include: polyester; polyalkylene such as polyethylene and polypropylene; polyacetal; polyimide; polycarbonate; polyphenylene ether; polyethylene oxide; A copolymer of ethylene and vinyl acetate; an amphoteric interpolymer; a cellulose-based polymer such as hydroxyalkyl cellulose and cellulose acetate; a polybutyral; and a cyclic rubber. Here, the amphoteric interpolymers are those described in US Pat. No. 4,293,635. The material may be used alone or in combination of two or more. In addition, self-oxidizing compounds such as nitrocellulose and nitroglycerin; non-self-oxidizing polymers such as alkyl cellulose (eg, ethyl cellulose), polyacrylic acid and alkali metal salts thereof, and combinations thereof can also be used.
カバーフィルムの厚みは10〜300μmが好ましく、特に好ましくは10〜200μmである。 The thickness of the cover film is preferably 10 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm.
本発明において支持体も使用できる。支持体は可撓性を有し、かつ、寸法安定性に優れた材料が好ましく用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、或いはポリカーボネートを挙げることができる。支持体1の厚みは50〜250μm、好ましくは100〜200μmが原版の機械的特性、形状安定性等から好ましい。また、必要により、支持体と感光性樹脂層との接着を向上させるために、この種の目的で従来から使用されている公知の接着剤を表面に設けてもよい。 In the present invention, a support can also be used. A material having flexibility and excellent dimensional stability is preferably used as the support, and examples thereof include polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polybutylene terephthalate film, and polycarbonate. The thickness of the support 1 is preferably 50 to 250 μm, preferably 100 to 200 μm from the viewpoint of mechanical properties and shape stability of the original plate. Further, if necessary, a known adhesive conventionally used for this kind of purpose may be provided on the surface in order to improve the adhesion between the support and the photosensitive resin layer.
本発明の感光性樹脂積層体を作製する方法は特に限定されないが、一般的には、支持体上に塗布、スプレーコーティング等で感光性樹脂層を形成するか、若しくは、市販の感光性フレキソ印刷版から保護フィルムを剥がすことで一方の積層体を作成する。このようにして得られた積層体をヒートプレス機等を用いてラミネートすることにより作製する。ラミネート条件は、温度を室温〜150℃、好ましくは50〜120℃とし、圧力を20〜200kg重/cm2、好ましくは50〜150kg重/cm2とするのがよい。 The method for producing the photosensitive resin laminate of the present invention is not particularly limited, but generally, a photosensitive resin layer is formed on a support by coating, spray coating or the like, or a commercially available photosensitive flexographic printing. One laminate is created by peeling off the protective film from the plate. The laminated body thus obtained is produced by laminating using a heat press machine or the like. The lamination conditions are such that the temperature is room temperature to 150 ° C., preferably 50 to 120 ° C., and the pressure is 20 to 200 kgf / cm 2 , preferably 50 to 150 kgf / cm 2 .
成形された感光性樹脂組成物は光もしくは電子線の照射により架橋せしめ、印刷原版を形成する。また、成型しながら光もしくは電子線の照射により架橋させることもできる。その中でも光を使って架橋させる方法は、装置が簡便で厚み精度が高くできるなどの利点を有し好適である。硬化に用いられる光源としては高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ等が挙げられ、その他公知の方法で硬化を行うことができる。硬化に用いる光源は、1種類でも構わないが、波長の異なる2種類以上の光源を用いて硬化させることにより、樹脂の硬化性が向上することがあるので、2種類以上の光源を用いることも差し支えない。 The molded photosensitive resin composition is crosslinked by irradiation with light or electron beam to form a printing original plate. Moreover, it can also bridge | crosslink by irradiation of light or an electron beam, shape | molding. Among them, the method of crosslinking using light is preferable because it has advantages such as simple apparatus and high thickness accuracy. Examples of the light source used for curing include a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a carbon arc lamp, and a xenon lamp, and the curing can be performed by other known methods. The light source used for curing may be one type, but the curability of the resin may be improved by curing using two or more types of light sources having different wavelengths, so two or more types of light sources may be used. There is no problem.
レーザー彫刻に用いる原版の厚みは、その使用目的に応じて任意に設定して構わないが、印刷版として用いる場合には、一般的に0.1〜7mmが好ましい。場合によっては、組成の異なる材料を複数積層していても構わない。
レーザー彫刻においては、形成したい画像をデジタル型のデータとしてコンピューターを利用してレーザー装置を操作し、原版上にレリーフ画像を作成する。レーザー彫刻に用いるレーザーは、原版が吸収を有する波長を含むものであればどのようなものを用いてもよいが、彫刻を高速度で行なうためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザーやYAGレーザー、半導体レーザー等の赤外線あるいは赤外線放出固体レーザーが好ましいものの一つである。また、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第3あるいは第4高調波へ波長変換したYAGレーザー、銅蒸気レーザー等は、有機分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でも良い。一般には樹脂は炭酸ガスレーザーの10μm近傍に吸収を持つため、特にレーザー光の吸収を助けるような成分の添加は必須ではないが、YAGレーザーは1.06μm近傍の波長であり、この波長の吸収を有するものはあまり無い。その場合、これの吸収を助ける成分である、染料、顔料の添加が必要となる。このような染料の例としては、ポリ(置換)フタロシアニン化合物および金属含有フタロシアニン化合物、;シアニン化合物;スクアリリウム染料;カルコゲノピリロアリリデン染料;クロロニウム染料;金属チオレート染料;ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン染料;オキシインドリジン染料;ビス(アミノアリール)ポリメチン染料;メロシアニン染料;及びキノイド染料などが挙げられる。顔料の例としてはカーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロム、コバルトクロームアルミネート、酸化鉄等の暗色の無機顔料や鉄、アルミニウム、銅、亜鉛のような金属粉およびこれら金属にSi、Mg、P、Co、Ni、Y等をドープしたもの等が挙げられる。これら染料、顔料は単独で使用しても良いし、複数を組み合わせて使用しても良いし、複層構造にするなどのあらゆる形態で組み合わせても良い。
The thickness of the original plate used for laser engraving may be arbitrarily set according to the purpose of use, but when used as a printing plate, it is generally preferably 0.1 to 7 mm. In some cases, a plurality of materials having different compositions may be stacked.
In laser engraving, a relief image is created on an original by operating a laser device using a computer as an image to be formed as digital data. Any laser may be used for the laser engraving as long as the original plate includes a wavelength having absorption. However, in order to perform engraving at a high speed, a laser with a high output is desirable. Infrared or infrared emitting solid lasers such as YAG lasers and semiconductor lasers are preferred. In addition, an ultraviolet laser having an oscillation wavelength in the ultraviolet region, such as an excimer laser, a YAG laser wavelength-converted to the third or fourth harmonic, a copper vapor laser, and the like, can be ablated to cut bonds between organic molecules, Suitable for fine processing. The laser may be continuous irradiation or pulse irradiation. In general, resin has absorption in the vicinity of 10 μm of carbon dioxide laser, so it is not essential to add a component that assists in the absorption of laser light, but YAG laser has a wavelength in the vicinity of 1.06 μm. There is not much that has. In that case, it is necessary to add dyes and pigments, which are components that assist in the absorption of these. Examples of such dyes include poly (substituted) phthalocyanine compounds and metal-containing phthalocyanine compounds; cyanine compounds; squarylium dyes; chalcogenopyrylarylidene dyes; chloronium dyes; Indolizine dyes; bis (aminoaryl) polymethine dyes; merocyanine dyes; and quinoid dyes. Examples of pigments include dark inorganic pigments such as carbon black, graphite, copper chromite, chromium oxide, cobalt chrome aluminate, iron oxide, and metal powders such as iron, aluminum, copper, and zinc, and Si, Examples include those doped with Mg, P, Co, Ni, Y, and the like. These dyes and pigments may be used alone, in combination of a plurality, or in any form such as a multilayer structure.
次に、本発明を実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されることはない。 Next, the present invention will be specifically described using examples, but the present invention is not limited to these examples.
(感光性樹脂組成物の作製)
(A)成分であるブタジエンラテックス(Nipol LX111NF 不揮発分55% 日本ゼオン
(株)製)22重量部、アクリロニトリル−ブタジエンラテックス(Nipol SX1503 不揮発分43% 日本ゼオン(株)製)5重量部、(B)成分である親水性重合体(PFT-3
不揮発分25% 共栄社化学(株)製)5重量部、(C)成分であるオイゴブタジエンアクリレート(ABU−2S 共栄社化学(株)製)10重量部、(D)成分である光重合開始剤0.45重量部、架橋剤としてラウリルメタクリレート3重量部、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート0.9重量部、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル0.03重量部、その他の添加剤としてカルボン酸系共重合体0.04重量部をトルエン15重量部とともに容器中で混合してから、加圧ニーダーを用いて105℃で混練した。その後トルエンと水を減圧除去し、感光性樹脂組成物を得た。
(Preparation of photosensitive resin composition)
(A) component butadiene latex (Nipol LX111NF nonvolatile content 55% made by Nippon Zeon Co., Ltd.) 22 parts by weight, acrylonitrile-butadiene latex (Nipol SX1503 nonvolatile content 43% made by Nippon Zeon Co., Ltd.) 5 parts by weight, (B ) Component hydrophilic polymer (PFT-3
Non-volatile content 25% 5 parts by weight (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 10 parts by weight of (C) component Eugobutadiene acrylate (ABU-2S Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), photopolymerization initiator (D) 0.45 parts by weight, 3 parts by weight of lauryl methacrylate as a crosslinking agent, 0.9 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate, 0.03 parts by weight of hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor, and carboxylic acid-based co-polymers as other additives 0.04 part by weight of the polymer was mixed with 15 parts by weight of toluene in a container, and then kneaded at 105 ° C. using a pressure kneader. Thereafter, toluene and water were removed under reduced pressure to obtain a photosensitive resin composition.
(原版の作製)
上記感光性樹脂組成物をヒートプレス機を用いてラミネートし、レーザー彫刻機をもちいて、パターンの彫刻を行なったところ、印刷版表面には、粉末状および粘稠性液状彫刻カスが観察された。
その後、レーザー彫刻後、彫刻カスの除去には、A&V(株)製現像機(Stuck System)を用いて実施した。彫刻版の表面を温度が40℃の水系現像液中のブラッシングする方法により4分間円方向でのブラッシングを行い、レーザー彫刻工程で発生する印刷版表面に存在していた彫刻カスを除去することができた。また、網点部にも彫刻カスの残存は見られず、網点部のパターン形状も円錐状で良好であり、欠けなども見られなかった。
この時のブラシの仕様は下記の通りである。
毛質 : ナイロン(アズロン) 150μm
打クギ : SUS
植毛孔径 : φ25
植毛密度 : 120本/孔
植毛ピッチ: 6mm
台本 : メラミン樹脂合板
(Preparation of original plate)
When the photosensitive resin composition was laminated using a heat press machine and the pattern was engraved using a laser engraving machine, powdered and viscous liquid engraving residue was observed on the printing plate surface. .
Then, after laser engraving, the engraving residue was removed using a developing machine (Stuck System) manufactured by A & V Co., Ltd. The surface of the engraving plate may be brushed in a circular direction for 4 minutes by a method of brushing in an aqueous developer at a temperature of 40 ° C. to remove engraving residue existing on the surface of the printing plate generated in the laser engraving process. did it. In addition, engraving residue was not observed in the halftone dot portion, the pattern shape of the halftone dot portion was conical and good, and no chipping or the like was observed.
The specifications of the brush at this time are as follows.
Hair: Nylon (azuron) 150μm
Hitting Kugi: SUS
Flocking hole diameter: φ25
Flocking density: 120 / hole flocking pitch: 6mm
Script: Melamine resin plywood
後工程の実施
上記の印刷版を、洗浄後、60℃で10分間乾燥し、最後に表面粘着を除去するため殺菌灯を5分間照射した。
出来上がったフレキソ印刷版を10倍の拡大ルーペで検査した。2ポイントの凸部および凹文字、30μm幅の細線、100μmの直径の独立点および156lpi、1%網点全ての試験パターンが正確に形成されていた。
Implementation of Post-Processing The above printing plate was washed, dried at 60 ° C. for 10 minutes, and finally irradiated with a germicidal lamp for 5 minutes to remove surface adhesion.
The resulting flexographic printing plate was inspected with a 10x magnifier. The test patterns of 2 points convex and concave characters, 30 μm wide thin line, 100 μm diameter independent point and 156 lpi, 1% halftone dot were formed accurately.
以上、かかる構成よりなる 本発明の感光性樹脂組成物を光硬化させて形成した印刷原版を、レーザー彫刻した後、得られた印刷版の表面を水系現像液中でブラッシングすることにより、粉末状および多量に発生する粘稠性液状カスを容易に除去することができ、しかも印刷版表面のタックを小さくすることができるので、レーザー彫刻での印刷版の製造方法として利用可能である。 As described above, the printing original plate formed by photocuring the photosensitive resin composition of the present invention having such a configuration is subjected to laser engraving, and then the surface of the obtained printing plate is brushed in an aqueous developer to form a powder. In addition, since a large amount of viscous liquid residue generated can be easily removed and the tack of the printing plate surface can be reduced, it can be used as a method for producing a printing plate by laser engraving.
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