JP2008102245A - Method of manufacturing anisotropic absorbing film - Google Patents

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由木 松並
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an anisotropic absorbing film for efficiently manufacturing the anisotropy absorption film superior in light resistance by orienting the anisotropy absorption material without lowering density in the same plane. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the anisotropic absorbing film includes: an application layer forming process for forming an application layer by applying and drying anisotropy absorption film application liquid containing at least an ultraviolet curing liquid crystal compound, a photoinitiator, and the anisotropy absorption material of 1.5 or more of an average value of an aspect ratio on a base material having an orientation layer on a surface; and a curing process for orienting an inclined angle to a base material face of a long axis of the anisotropy absorption material 0 degrees or more and 70 degrees or less by curing with irradiation with an ultraviolet ray in a state where the application layer is heated up to a temperature in which a liquid crystal phase expresses. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、同一平面内で密度を下げることなく異方性吸収材料を一定の角度に傾斜させることができ、耐光性に優れ、吸収型偏光子として好適な異方性吸収膜を効率良く製造できる異方性吸収膜の製造方法に関する。   The present invention makes it possible to incline an anisotropic absorption material at a certain angle without reducing the density in the same plane, and efficiently manufacture an anisotropic absorption film that is excellent in light resistance and suitable as an absorption polarizer. The present invention relates to a method for producing an anisotropic absorption film.

ナノサイズの異方性吸収材料は、その光学特性や、磁性及び導電性の異方性を有する点で注目を集めている。このような異方性吸収材料としては、例えば表面プラズモン共鳴を示す金、銀等の異方性金属ナノ粒子、カーボンナノチューブなどが挙げられ、これらを配向させた吸収型偏光子として用いられている。   Nano-size anisotropic absorbing materials are attracting attention because of their optical properties and magnetic and conductive anisotropy. Examples of such anisotropic absorption materials include gold and silver anisotropic metal nanoparticles exhibiting surface plasmon resonance, carbon nanotubes, and the like, and they are used as absorption polarizers in which these are oriented. .

前記吸収型偏光子は、異方性吸収材料を含む塗布液を基体上に塗布し、配向させて、紫外線(UV)照射により固定させるので、高価な成膜機が必要なく、大面積化が容易である。また、蒸着のように基体が高温に曝されることがないので、ガラス等の無機材料や耐熱性の高いポリイミドだけでなく、安価で透明性の高いポリマーフィルムを使用することもできる。   The absorption type polarizer applies a coating solution containing an anisotropic absorbing material on a substrate, aligns it, and fixes it by ultraviolet (UV) irradiation, so that an expensive film forming machine is not required and the area can be increased. Easy. Further, since the substrate is not exposed to a high temperature unlike vapor deposition, not only an inorganic material such as glass or a polyimide having high heat resistance, but also a low-cost and highly transparent polymer film can be used.

また、異方性吸収材料の一軸配向法としては、該異方性吸収材料をポリマー中に混練した材料を延伸することにより配向させる方法が開示されている(非特許文献1及び2参照)。しかし、これらの文献に記載の方法では、延伸することにより異方性吸収材料の同一平面内での密度が下がってしまうことや配向度が上がらないことが問題である。また、ラングミュア・ブロジェット(LB)法による成膜方法についても報告されている(非特許文献3参照)。しかし、前記LB法による成膜は時間がかかり、大面積化が困難であるという欠点がある。   Moreover, as a uniaxial orientation method of anisotropic absorbent material, a method of orientation by stretching a material obtained by kneading the anisotropic absorbent material in a polymer is disclosed (see Non-Patent Documents 1 and 2). However, in the methods described in these documents, there is a problem that, by stretching, the density in the same plane of the anisotropic absorbent material is lowered and the degree of orientation is not increased. In addition, a film forming method using the Langmuir-Blodget (LB) method has also been reported (see Non-Patent Document 3). However, the film formation by the LB method takes time and has a drawback that it is difficult to increase the area.

また、液晶を用いたカーボンナノチューブの配向方法が提案されている(非特許文献4参照)。しかし、この方法では、使用する液晶分子は、UV硬化性ではなく、カーボンナノチューブの配向を固定することができないという問題がある。
また、特許文献1には、リオトロピック液晶中にアスペクト比が2以上の形状を有する光学異方性材料を含み、リオトロピック液晶及び光学異方性材料を配向させた光学異方性膜が提案されているが、更なる、光学異方性材料を良好に配列させる技術の開発が望まれているのが現状である。
In addition, a carbon nanotube alignment method using liquid crystal has been proposed (see Non-Patent Document 4). However, this method has a problem that the liquid crystal molecules used are not UV curable and the orientation of the carbon nanotubes cannot be fixed.
Patent Document 1 proposes an optically anisotropic film that includes an optically anisotropic material having an aspect ratio of 2 or more in a lyotropic liquid crystal and in which the lyotropic liquid crystal and the optically anisotropic material are aligned. However, the present situation is that further development of a technique for satisfactorily arranging optically anisotropic materials is desired.

特開2002−294239号公報JP 2002-294239 A S.Matsudaら、Jpn.J.Appl.Phy.,2005,44,p187S. Matsuda et al., Jpn. J. et al. Appl. Phy. 2005, 44, p187 Y.Koikeら、Macromolecules,2004,37(22),p8342−8348Y. Koike et al., Macromolecules, 2004, 37 (22), p8342-8348. F.Kimら、J.Am.Chem.Soc.,2001,123,p4360−4361F. Kim et al. Am. Chem. Soc. 2001, 123, p4360-4361. I.Dierkingら、Adv.Mater.,2004,16(11),p865−869I. Dierking et al., Adv. Mater. , 2004, 16 (11), p865-869

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、同一平面内で密度を下げることなく異方性吸収材料を一定の角度に傾斜させることができ、耐光性に優れ、吸収型偏光子として好適な異方性吸収膜を効率良く製造できる異方性吸収膜の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, according to the present invention, the anisotropic absorbing material can be inclined at a certain angle without reducing the density in the same plane, and the anisotropic absorbing film excellent in light resistance and suitable as an absorbing polarizer can be efficiently used. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an anisotropic absorption film that can be manufactured well.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 表面に配向膜を有する基材上に、少なくとも紫外線硬化性液晶化合物、光重合開始剤、及びアスペクト比の平均値が1.5以上の異方性吸収材料を含有する異方性吸収膜塗布液を塗布し、乾燥させて塗布層を形成する塗布層形成工程と、
該塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線を照射し硬化させて、前記異方性吸収材料の長軸の前記基材面に対する傾斜角を0度以上70度以下に配向させる硬化工程とを含むことを特徴とする異方性吸収膜の製造方法である。
<2> 紫外線硬化性液晶化合物が、サーモトロピック液晶化合物である前記<1>に記載の異方性吸収膜の製造方法である。
<3> 異方性吸収膜塗布液が、高分子界面活性剤を含有する前記<1>から<2>のいずれかに記載の異方性吸収膜の製造方法である。
<4> 異方性吸収材料が、異方性金属ナノ粒子及びカーボンナノチューブのいずれかを含有する前記<1>から<3>のいずれかに記載の異方性吸収膜の製造方法である。
<5> 異方性金属ナノ粒子が、金、銀、銅、及びアルミニウムから選択される少なくとも1種を含む前記<4>に記載の異方性吸収膜の製造方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> An anisotropic absorption containing at least an ultraviolet curable liquid crystal compound, a photopolymerization initiator, and an anisotropic absorbing material having an average aspect ratio of 1.5 or more on a substrate having an alignment film on the surface. A coating layer forming step of applying a film coating solution and drying to form a coating layer;
The coating layer is heated to a temperature at which a liquid crystal phase is expressed and cured by irradiating with ultraviolet rays, so that the inclination angle of the long axis of the anisotropic absorbent material with respect to the substrate surface is aligned between 0 degree and 70 degrees. A method for producing an anisotropic absorption film comprising a curing step.
<2> The method for producing an anisotropic absorption film according to <1>, wherein the ultraviolet curable liquid crystal compound is a thermotropic liquid crystal compound.
<3> The method for producing an anisotropic absorbent film according to any one of <1> to <2>, wherein the anisotropic absorbent film coating solution contains a polymer surfactant.
<4> The method for producing an anisotropic absorption film according to any one of <1> to <3>, wherein the anisotropic absorption material contains any one of anisotropic metal nanoparticles and carbon nanotubes.
<5> The method for producing an anisotropic absorption film according to <4>, wherein the anisotropic metal nanoparticles include at least one selected from gold, silver, copper, and aluminum.

本発明の異方性吸収膜の製造方法は、塗布層形成工程と、硬化工程とを含む。前記塗布層形成工程は、表面に配向膜を有する基材上に、少なくとも紫外線硬化性液晶化合物、光重合開始剤、及びアスペクト比の平均値が1.5以上の異方性吸収材料を含有する異方性吸収膜塗布液を塗布し、乾燥させて塗布層を形成する工程である。前記硬化工程は、該塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線を照射し硬化させて、前記異方性吸収材料の長軸の前記基材面に対する傾斜角を0度以上70度以下に配向させる工程である。その結果、本発明の異方性吸収膜の製造方法においては、同一平面内で密度を下げることなく異方性吸収材料を一定の角度に傾斜させることができ、耐光性に優れ、吸収型偏光子として好適な異方性吸収膜を効率よく製造することができる。   The manufacturing method of the anisotropic absorption film of the present invention includes a coating layer forming step and a curing step. The coating layer forming step includes at least an ultraviolet curable liquid crystal compound, a photopolymerization initiator, and an anisotropic absorbing material having an average aspect ratio of 1.5 or more on a substrate having an alignment film on the surface. In this step, an anisotropic absorption film coating solution is applied and dried to form a coating layer. In the curing step, the coating layer is cured by irradiating with ultraviolet rays in a state where the coating layer is heated to a temperature at which a liquid crystal phase develops, and the inclination angle of the long axis of the anisotropic absorbent material with respect to the substrate surface is 0 degree or more. This is a step of aligning to 70 degrees or less. As a result, in the method for producing an anisotropic absorption film of the present invention, the anisotropic absorption material can be inclined at a certain angle without lowering the density in the same plane, has excellent light resistance, and absorbs polarized light. An anisotropic absorption film suitable as a child can be efficiently produced.

本発明によると、従来における問題を解決することができ、同一平面内で密度を下げることなく異方性吸収材料を一定の角度に傾斜させることができ、耐光性に優れ、吸収型偏光子として好適な異方性吸収膜を効率良く製造できる異方性吸収膜の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, the conventional problems can be solved, the anisotropic absorbing material can be inclined at a certain angle without lowering the density in the same plane, excellent in light resistance, and as an absorbing polarizer. The manufacturing method of the anisotropic absorption film which can manufacture a suitable anisotropic absorption film efficiently can be provided.

本発明の異方性吸収膜の製造方法は、少なくとも塗布層形成工程と、硬化工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。   The method for producing an anisotropic absorption film of the present invention includes at least a coating layer forming step and a curing step, and further includes other steps as necessary.

<塗布層形成工程>
前記塗布層形成工程は、表面に配向膜を有する基材上に、少なくとも紫外線硬化性液晶化合物、光重合開始剤、及びアスペクト比が平均値で1.5以上の異方性吸収材料を含有する異方性吸収膜塗布液を塗布し、乾燥させて塗布層を形成する工程である。
<Coating layer formation process>
The coating layer forming step includes at least an ultraviolet curable liquid crystal compound, a photopolymerization initiator, and an anisotropic absorbing material having an average aspect ratio of 1.5 or more on a substrate having an alignment film on the surface. In this step, an anisotropic absorption film coating solution is applied and dried to form a coating layer.

−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、例えば単層構造であってもいし、積層構造であってもよく適宜選択することができる。
-Base material-
The shape, structure, size and the like of the substrate are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape include a plate shape and a sheet shape. The structure may be, for example, a single layer structure or a laminated structure, and can be appropriately selected.

前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれであっても好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)等のアセテート系樹脂;ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said base material, Any of an inorganic material and an organic material can be used conveniently.
Examples of the inorganic material include glass, quartz, and silicon.
Examples of the organic material include acetate resins such as triacetyl cellulose (TAC); polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, Examples thereof include acrylic resins, polynorbornene resins, cellulose resins, polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, and polyacryl resins. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10〜2,000μmが好ましく、50〜500μmがより好ましい。
The base material may be appropriately synthesized or a commercially available product may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said base material, According to the objective, it can select suitably, 10-2,000 micrometers is preferable and 50-500 micrometers is more preferable.

−配向膜−
前記配向膜としては、ラビング処理による配向膜が好適である。該ラビング処理は、基材の表面に、例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリビニルアルコール等からなる膜を積層し、ラビングによって配向処理したものである。前記ラビング配向処理は、レーヨン、綿等からなる毛足の短いベルベット状の布を巻付けたドラムを回転させながら配向膜の表面に接触させる方法であり、ラビング処理された配向膜は、その表面に微細な溝が一方向に形成され、該微細な溝に接触する液晶分子を一方向に配向させることができる。
前記配向膜としては、上記ラビング処理による方法以外にも、光配向処理したものであってもよい。該光配向処理は、基材の表面に、アゾベンゼン系ポリマー、ポリビニルシンナメート等の光活性分子を含む光配向膜を形成し、該光活性分子が光化学反応を起こす波長の直線偏光や斜め非偏光を照射して光配向膜の表面に異方性を生成させるものである。光配向処理された光配向膜は、入射光によって膜の最表面の分子長軸の配向が生成され、該最表面の分子に接触する液晶分子を配向させることができる。
前記光配向膜の材料としては、上記アゾベンゼン系ポリマーやポリビニルシンナメート等の他に、光活性分子が光化学反応を起こす波長の直線偏光又は斜め非偏光照射による光異性化、光二量化、光環化、光架橋、光分解、及び光分解−結合から選択されるいずれかの反応により膜表面に異方性を生成することができるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、「長谷川雅樹、日本液晶学会誌、Vol.3 No.1,p3(1999)」、「竹内安正、日本液晶学会誌、Vol.3 No.4,p262(1999)」などに記載されている光配向膜材料を使用することができる。
前記配向膜に液晶を塗布すると、該配向膜表面の微細な溝及び最表面の分子の配向の少なくともいずれかを駆動力として液晶分子が配向される。
-Alignment film-
As the alignment film, an alignment film by rubbing treatment is suitable. In the rubbing treatment, a film made of, for example, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyvinyl alcohol or the like is laminated on the surface of the substrate, and the orientation treatment is performed by rubbing. The rubbing alignment treatment is a method of contacting the surface of the alignment film while rotating a drum wound with a short velvet-like cloth made of rayon, cotton, etc. The rubbing alignment film has its surface Fine grooves are formed in one direction, and liquid crystal molecules in contact with the fine grooves can be aligned in one direction.
The alignment film may be subjected to a photo-alignment treatment other than the method by the rubbing treatment. The photo-alignment treatment forms a photo-alignment film containing photoactive molecules such as azobenzene-based polymer and polyvinyl cinnamate on the surface of the base material, and linearly polarized light or oblique non-polarized light having a wavelength causing the photochemical reaction of the photoactive molecules. To generate anisotropy on the surface of the photo-alignment film. In the photo-alignment film subjected to the photo-alignment treatment, the alignment of the molecular long axis on the outermost surface of the film is generated by incident light, and the liquid crystal molecules contacting the outermost surface molecule can be aligned.
As the material for the photo-alignment film, in addition to the above azobenzene polymer, polyvinyl cinnamate, etc., photoisomerization, photodimerization, photocyclization by linearly polarized light or oblique non-polarized light having a wavelength causing photochemical reaction of the photoactive molecule, There is no particular limitation as long as it can generate anisotropy on the film surface by any reaction selected from photocrosslinking, photolysis, and photolysis-bonding, and it can be appropriately selected according to the purpose. For example, "Masaki Hasegawa, Journal of the Japanese Liquid Crystal Society, Vol. 3 No. 1, p3 (1999)", "Yasumasa Takeuchi, Journal of the Japanese Liquid Crystal Society, Vol. 3 No. 4, p 262 (1999)", etc. The photo-alignment film material currently used can be used.
When liquid crystal is applied to the alignment film, the liquid crystal molecules are aligned by using at least one of fine grooves on the alignment film surface and alignment of molecules on the outermost surface as a driving force.

−紫外線硬化性液晶化合物−
前記紫外線硬化性液晶化合物としては、重合性基を有し、紫外線の照射によって硬化するものであれば特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、サーモトロピック液晶化合物、リオトロピック液晶化合物などが挙げられる。これらの中でも、配向性の高さの点からサーモトロピック液晶化合物が特に好ましい。
-UV curable liquid crystal compounds-
The ultraviolet curable liquid crystal compound is not particularly limited as long as it has a polymerizable group and is cured by irradiation with ultraviolet rays, and can be appropriately selected according to the purpose. Thermotropic liquid crystal compound, lyotropic liquid crystal compound, etc. Is mentioned. Among these, a thermotropic liquid crystal compound is particularly preferable from the viewpoint of high orientation.

前記紫外線硬化性液晶化合物としては、例えば下記構造式で表される化合物などが挙げられる。ただし、これらに制限されるものではない。   Examples of the ultraviolet curable liquid crystal compound include compounds represented by the following structural formulas. However, it is not limited to these.

前記紫外線硬化性液晶化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC242;Merck社製の商品名E7;Wacker−Chem社製の商品名LC−Sllicon−CC3767;高砂香料株式会社製の商品名L35、L42、L55、L59、L63、L79、L83などが挙げられる。   As the ultraviolet curable liquid crystal compound, a commercially available product can be used. Examples of the commercially available product include a product name PALIOCOLOR LC242 manufactured by BASF; a product name E7 manufactured by Merck; and a product name manufactured by Wacker-Chem. LC-Slicon-CC3767; trade names L35, L42, L55, L59, L63, L79, and L83 manufactured by Takasago Inc.

前記紫外線硬化性液晶化合物の含有量は、前記異方性吸収膜塗布液の全固形分質量に対し10〜99質量%が好ましく、20〜95質量%がより好ましい。   10-99 mass% is preferable with respect to the total solid mass of the said anisotropic absorption film coating liquid, and, as for content of the said ultraviolet curable liquid crystal compound, 20-95 mass% is more preferable.

−光重合開始剤−
前記異方性吸収膜塗布液は、光重合開始剤を含有する。前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、p−メトキシフェニル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル1,3,4−オキサジアゾール、9−フェニルアクリジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノンとミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾールとメルカプトベンズイミダゾール、チオキサントンとアミン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア784、イルガキュア814;BASF社製の商品名ルシリンTPO、などが挙げられる。
前記光重合開始剤の添加量は、前記異方性吸収膜塗布液の全固形分質量に対し0.1〜20質量%が好ましく、0.2〜5質量%がより好ましい。
-Photopolymerization initiator-
The anisotropic absorption film coating solution contains a photopolymerization initiator. There is no restriction | limiting in particular as said photoinitiator, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl 1,3,4-oxadiazole, 9-phenylacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzyldimethyl ketal, benzophenone and Michler's ketone, hexaarylbiimidazole and mercapto Examples include benzimidazole, thioxanthone and amine. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
As the photopolymerization initiator, commercially available products can be used. Examples of the commercially available products include trade names of Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 784, and Irgacure 814 manufactured by Ciba Specialty Chemicals; And Lucylin TPO.
0.1-20 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of the said anisotropic absorption film coating liquid, and, as for the addition amount of the said photoinitiator, 0.2-5 mass% is more preferable.

−異方性吸収材料−
前記異方性吸収材料は、アスペクト比(長軸長さ/短軸長さ)の平均値が1.5以上であり、異方性吸収を示す材料であり、異方性金属ナノ粒子及びカーボンナノチューブのいずれかであることが好ましい。
-Anisotropic absorbing material-
The anisotropic absorbing material is a material having an average aspect ratio (major axis length / minor axis length) of 1.5 or more and exhibiting anisotropic absorption, and anisotropic metal nanoparticles and carbon. It is preferably any one of nanotubes.

−−異方性金属ナノ粒子−−
前記異方性金属ナノ粒子は、数nm〜100nmのナノサイズの棒状金属微粒子である。該棒状金属微粒子とは、アスペクト比(長軸長さ/短軸長さ)の平均値が1.5以上である粒子を意味する。
前記異方性金属ナノ粒子のアスペクト比の平均値が1.5以上であり、1.6以上が好ましく、2.0以上がより好ましい。前記アスペクト比の平均値が1.5未満であると、十分な異方性吸収特性が出ないことがある。
ここで、前記異方性金属ナノ粒子のアスペクト比は、異方性金属ナノ粒子の長軸長さ及び短軸長さを測定し、次式、(異方性金属ナノ粒子の長軸長さ)/(異方性金属ナノ粒子の短軸長さ)から求めることができる。
前記異方性金属ナノ粒子の短軸長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、1〜50nmが好ましく、5〜30nmがより好ましい。前記異方性金属ナノ粒子の長軸長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、10〜1,000nmが好ましく、10〜200nmがより好ましい。
-Anisotropic metal nanoparticles-
The anisotropic metal nanoparticles are rod-shaped metal fine particles having a nano size of several nm to 100 nm. The rod-shaped metal fine particles mean particles having an average aspect ratio (major axis length / minor axis length) of 1.5 or more.
The average aspect ratio of the anisotropic metal nanoparticles is 1.5 or more, preferably 1.6 or more, and more preferably 2.0 or more. If the average aspect ratio is less than 1.5, sufficient anisotropic absorption characteristics may not be obtained.
Here, the aspect ratio of the anisotropic metal nanoparticles is measured by measuring the major axis length and minor axis length of the anisotropic metal nanoparticles, and expressed by the following formula: (major axis length of anisotropic metal nanoparticles) ) / (Short axis length of anisotropic metal nanoparticles).
The short axis length of the anisotropic metal nanoparticles is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 1 to 50 nm, and more preferably 5 to 30 nm. The major axis length of the anisotropic metal nanoparticles is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 10 to 1,000 nm, and more preferably 10 to 200 nm.

このような異方性金属ナノ粒子は、表面プラズモン共鳴を示し、紫外〜赤外領域に吸収を示す。例えば短軸長さが1〜50nm、長軸長さが10〜1000nm、アスペクト比が1.5以上の異方性金属ナノ粒子は、短軸方向と、長軸方向とで吸収位置を変えることができるので、このような異方性金属ナノ粒子を基材ガラス面(水平面)に対し略水平に配向させた異方性吸収膜は、異方性吸収層となる。
ここで、図1では、短軸長さ12.4nm、長軸長さ45.5nmの異方性金属ナノ粒子の吸収スペクトルを示す。このような異方性金属ナノ粒子の短軸の吸収は530nm付近であり、赤色を示し、異方性金属ナノ粒子の長軸の吸収は780nm付近であり、濃青色を示す。
Such anisotropic metal nanoparticles exhibit surface plasmon resonance and absorb in the ultraviolet to infrared region. For example, anisotropic metal nanoparticles having a minor axis length of 1 to 50 nm, a major axis length of 10 to 1000 nm, and an aspect ratio of 1.5 or more change the absorption position between the minor axis direction and the major axis direction. Therefore, an anisotropic absorption film in which such anisotropic metal nanoparticles are oriented substantially horizontally with respect to the base glass surface (horizontal plane) becomes an anisotropic absorption layer.
Here, FIG. 1 shows an absorption spectrum of anisotropic metal nanoparticles having a minor axis length of 12.4 nm and a major axis length of 45.5 nm. The absorption of the short axis of such anisotropic metal nanoparticles is around 530 nm and shows red, and the absorption of the long axis of anisotropic metal nanoparticles is around 780 nm and shows dark blue.

前記異方性金属ナノ粒子の金属種としては、例えば金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、イリジウム、鉄、錫、亜鉛、コバルト、ニッケル、クロム、チタン、タンタル、タングステン、インジウム、アルミニウム、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、金、銀、銅、アルミニウムが好ましく、銀、金が特に好ましい。
次に、異方性金属ナノ粒子の好適な一例としての金ナノロッドについて説明する。
Examples of the metal species of the anisotropic metal nanoparticles include gold, silver, copper, platinum, palladium, rhodium, osmium, ruthenium, iridium, iron, tin, zinc, cobalt, nickel, chromium, titanium, tantalum, tungsten, Examples thereof include indium, aluminum, and alloys thereof. Among these, gold, silver, copper, and aluminum are preferable, and silver and gold are particularly preferable.
Next, gold nanorods as a suitable example of anisotropic metal nanoparticles will be described.

前記金ナノロッドの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、(1)電解法、(2)化学還元法、(3)光還元法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said gold nanorod, Although it can select suitably according to the objective, For example, (1) Electrolytic method, (2) Chemical reduction method, (3) Photoreduction method etc. are mentioned. It is done.

前記(1)電解法〔Y.−Y.Yu,S.−S.Chang,C.−L.Lee,C.R.C.Wang,J.Phys.Chem.B,101,6661(1997)〕は、カチオン性界面活性剤を含む水溶液を定電流電解し、陽極の金板から金クラスターを溶脱させて金ナノロッドを生成する。界面活性剤としては窒素原子に4つの疎水的な置換基が結合した構造を有する4級アンモニウム塩が用いられ、更に自律的な分子集合体を形成しない化合物、例えば、テトラドデシルアンモニウムブロミド(TDAB)などが添加されている。金ナノロッドを製造する場合には、金の供給源は陽極の金板から溶脱する金クラスターであり、塩化金酸等の金塩は用いられていない。電解中は超音波を照射し、溶液中に銀板を浸漬して金ナノロッドの成長を促す。
この電解法では、電極とは別に浸漬する銀板の面積を変えることによって生成する金ナノロッドの長さを制御できる。金ナノロッドの長さを調整することによって近赤外光域の吸収バンドの位置を700nm付近から1200nm付近の間に設定することが可能となる。反応条件を一定に保てばある程度一定形状の金ナノロッドを製造することができる。しかし、電解に用いる界面活性剤溶液は過剰の4級アンモニウム塩とシクロヘキサンとアセトンを含む複雑な系であり、超音波照射など不確定な要素を有するため、生成する金ナノロッドの形状と各種調製条件との因果関係を理論的に解析し、金ナノロッド調製条件の最適化を行うことは困難である。また、電解という性質上、本質的にスケールアップが容易ではなく、大量の金ナノロッドの調製には適さない。
(1) Electrolytic method [Y. -Y. Yu, S .; -S. Chang, C.I. -L. Lee, C.I. R. C. Wang, J .; Phys. Chem. B, 101, 6661 (1997)] conducts constant current electrolysis of an aqueous solution containing a cationic surfactant, and leaches gold clusters from the metal plate of the anode to produce gold nanorods. As the surfactant, a quaternary ammonium salt having a structure in which four hydrophobic substituents are bonded to a nitrogen atom is used, and a compound that does not form an autonomous molecular assembly, for example, tetradodecyl ammonium bromide (TDAB) Etc. are added. When producing gold nanorods, the gold supply source is a gold cluster leached from the anode gold plate, and no gold salt such as chloroauric acid is used. During electrolysis, an ultrasonic wave is irradiated, and a silver plate is immersed in the solution to promote the growth of gold nanorods.
In this electrolytic method, the length of the gold nanorods generated can be controlled by changing the area of the silver plate immersed separately from the electrodes. By adjusting the length of the gold nanorod, the position of the absorption band in the near infrared light region can be set between about 700 nm and about 1200 nm. If the reaction conditions are kept constant, gold nanorods having a certain shape can be produced to some extent. However, the surfactant solution used for electrolysis is a complex system containing excess quaternary ammonium salt, cyclohexane and acetone, and has uncertain elements such as ultrasonic irradiation, so the shape of the gold nanorods to be produced and various preparation conditions It is difficult to optimize the gold nanorod preparation conditions by theoretically analyzing the causal relationship. In addition, due to the nature of electrolysis, it is essentially not easy to scale up and is not suitable for preparing a large amount of gold nanorods.

前記(2)化学還元法〔N.R.Jana,L.Gearheart,C.J.Murphy,J.Phys.Chem.B,105,4065(2001)〕は、NaBH4によって塩化金酸を還元して金ナノ粒子を生成させる。この金ナノ粒子を「種粒子」とし、溶液中で成長させることによって金ナノロッドを得る。この「種粒子」と成長溶液に添加する塩化金酸の量比により生成する金ナノロッドの長さが決定される。この化学還元法では前記(1)の電解法よりも長い金ナノロッドを作製することが可能であり、長さ1,200nmを超える近赤外光域に吸収ピークをもつ金ナノロッドが報告されている。
しかし、この化学還元法は「種粒子」の調製と、成長反応との2つの反応槽が必要である。また「種粒子」の生成は数分間で終了するが、生成する金ナノロッドの濃度を上げることが困難であり、金ナノロッドの生成濃度は、前記(1)の電解法の10分の1以下である。
(2) Chemical reduction method [N. R. Jana, L .; Gearheart, C.I. J. et al. Murphy, J. et al. Phys. Chem. B, 105, 4065 (2001)] reduces chloroauric acid with NaBH4 to produce gold nanoparticles. These gold nanoparticles are used as “seed particles” and grown in solution to obtain gold nanorods. The length of the gold nanorods generated is determined by the ratio of the amount of the “seed particles” to the chloroauric acid added to the growth solution. In this chemical reduction method, gold nanorods longer than the electrolytic method (1) can be prepared, and gold nanorods having an absorption peak in the near-infrared light region exceeding 1,200 nm in length have been reported. .
However, this chemical reduction method requires two reaction vessels: preparation of “seed particles” and growth reaction. In addition, the generation of “seed particles” is completed in a few minutes, but it is difficult to increase the concentration of the gold nanorods to be generated, and the generation concentration of the gold nanorods is 1/10 or less of the electrolytic method of (1). is there.

前記(3)光還元法〔F.kim,J.H.Song,P.Yang,J.Am.Chem.Soc.,124,14316(2002)〕は、前記(1)の電解法とほぼ同じ溶液に塩化金酸を添加し、紫外線照射により塩化金酸を還元する。紫外線照射には低圧水銀ランプを用いている。この光還元法では、種粒子を生成させずに金ナノロッドを生成することができる。金ナノロッドの長さの制御は照射時間によって可能である。生成する金ナノロッドの形状が均一に揃っていることが特徴的である。また、前記(1)の電解法では反応後に大量の球形粒子が共存するので遠心分離による分画が必要であるが、この光還元法では球状粒子の割合が少ないので分画処理が不要である。また、再現性が良好であり、一定操作でほぼ確実に同サイズの金ナノロッドを得ることができる。   (3) Photoreduction method [F. Kim, J .; H. Song, P.M. Yang, J. et al. Am. Chem. Soc. , 124, 14316 (2002)] adds chloroauric acid to the same solution as the electrolytic method of (1), and reduces chloroauric acid by ultraviolet irradiation. A low-pressure mercury lamp is used for ultraviolet irradiation. In this photoreduction method, gold nanorods can be generated without generating seed particles. The length of the gold nanorod can be controlled by the irradiation time. It is characteristic that the shape of the generated gold nanorods is uniform. In the electrolysis method (1), since a large amount of spherical particles coexist after the reaction, fractionation by centrifugation is necessary, but in this photoreduction method, fractionation processing is unnecessary because the proportion of spherical particles is small. . In addition, reproducibility is good, and gold nanorods of the same size can be obtained almost certainly by a constant operation.

−−カーボンナノチューブ−−
前記カーボンナノチューブは、繊維径が1〜1,000nm、長さが0.1〜1,000μm、アスペクト比が100〜10,000の細長い炭素からなるチューブ状の炭素である。
前記カーボンナノチューブの作製方法としては、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱CVD法、プラズマCVD法などが知られている。前記アーク放電法及びレーザー蒸発法により得られるカーボンナノチューブには、グラフェンシートが一層のみの単層カーボンナノチューブ(SWNT:Single Wall Nanotube)と、複数のグラフェンシートからなる多層カーボンナノチューブ(MWNT:Maluti Wall Nanotube)とが存在する。
また、熱CVD法及びプラズマCVD法では、主としてMWNTが作製できる。前記SWNTは、炭素原子同士がSP2結合と呼ばれる最も強い結合により6角形状につながったグラファイトシート一枚が筒状に巻かれた構造を有する。
--Carbon nanotube--
The carbon nanotube is tubular carbon made of elongated carbon having a fiber diameter of 1 to 1,000 nm, a length of 0.1 to 1,000 μm, and an aspect ratio of 100 to 10,000.
Known methods for producing the carbon nanotube include an arc discharge method, a laser evaporation method, a thermal CVD method, a plasma CVD method, and the like. The carbon nanotubes obtained by the arc discharge method and the laser evaporation method include single-walled carbon nanotubes (SWNT: Single Wall Nanotube) having only one graphene sheet and multi-walled carbon nanotubes (MWNT: Multi Wall Nanotube) comprising a plurality of graphene sheets. ) And exist.
In addition, MWNTs can be mainly produced by the thermal CVD method and the plasma CVD method. The SWNT has a structure in which one graphite sheet in which carbon atoms are connected in a hexagonal shape by the strongest bond called SP2 bond is wound in a cylindrical shape.

前記カーボンナノチューブ(SWNT、MWNT)は、グラファイトシート1枚を筒状に丸めた構造を有する直径0.4nm〜10nm、長さ0.1μm〜数100μmのチューブ状物質である。グラファイトシートをどの方向に丸めるかによって、金属になったり半導体になったりするというユニークな性質を有する。このようなカーボンナノチューブは長さ方向に光吸収や発光が起こり易く、径方向は光吸収や発光が起こりにくいという性質を有し、異方性吸収材料として用いられる。   The carbon nanotubes (SWNT, MWNT) are tubular materials having a diameter of 0.4 nm to 10 nm and a length of 0.1 μm to several hundreds of μm, each having a structure in which one graphite sheet is rolled into a cylindrical shape. Depending on the direction in which the graphite sheet is rolled, it has a unique property of becoming a metal or a semiconductor. Such a carbon nanotube has a property that light absorption and light emission easily occur in the length direction and light absorption and light emission hardly occur in the radial direction, and is used as an anisotropic absorption material.

前記異方性吸収材料の含有量は、前記異方性吸収膜塗布液の全固形分質量に対し0.1〜50.0質量%が好ましく、1.0〜30.0質量%がより好ましい。前記含有量が0.1質量%未満であると、十分な偏光性が得られないことがあり、50質量%を超えると、製膜がうまく行えなかったり、異方性吸収膜の透過率が下がり過ぎることがある。   The content of the anisotropic absorbent material is preferably 0.1 to 50.0% by mass, more preferably 1.0 to 30.0% by mass with respect to the total solid mass of the anisotropic absorbent film coating solution. . When the content is less than 0.1% by mass, sufficient polarization may not be obtained. When the content exceeds 50% by mass, film formation cannot be performed well or the transmittance of the anisotropic absorption film is low. May fall too much.

−高分子界面活性剤−
前記異方性吸収膜塗布液は、高分子界面活性剤を含有することが好ましい。該高分子界面活性剤は、その添加量を調整することによって、前記異方性吸収材料の長軸の前記基材面に対する傾斜角度を0度以上70度以下に適宜調整することができる。
このように異方性吸収材料の長軸を基材面に対し0度以上70度以下に配向させるためには媒質である液晶層を0度以上70度以下に配向させなければならない。基材の片面の配向膜上に形成される液晶層は末端を疎水性に調整することにより、配向膜側から空気界面側に向かって立ち上がるいわゆる「スプレー配向」になることもあるが、そのままでは異方性吸収材料の空気界面での立ち上がりは不十分であり、異方性吸収材料を斜め配向させる力は弱い。そこで、使用する液晶層との相互作用が強い高分子界面活性剤を選定して液晶層に添加すると、配向熟成時に高分子界面活性剤が空気界面側に浮き上がり、隣接する液晶を強く垂直配向させる。その結果、液晶層全体の配向状態は、配向膜側が若干のプレチルト角を持った水平配向であり、厚み方向に空気界面側へ行くほど立ち上がって垂直配向になっていく、いわゆる「スプレー配向状態」(即ち、斜め配向)になる。
-Polymer surfactant-
The anisotropic absorption film coating liquid preferably contains a polymer surfactant. By adjusting the addition amount of the polymer surfactant, the inclination angle of the long axis of the anisotropic absorbent material with respect to the base material surface can be adjusted appropriately from 0 degree to 70 degrees.
As described above, in order to align the major axis of the anisotropic absorbing material at 0 ° to 70 ° with respect to the substrate surface, the liquid crystal layer as a medium must be aligned at 0 ° to 70 °. The liquid crystal layer formed on the alignment film on one side of the substrate may become so-called “spray alignment” that rises from the alignment film side toward the air interface side by adjusting the end to be hydrophobic, but as it is, The rise of the anisotropic absorbent material at the air interface is insufficient, and the force for orienting the anisotropic absorbent material is weak. Therefore, if a polymer surfactant that has a strong interaction with the liquid crystal layer to be used is selected and added to the liquid crystal layer, the polymer surfactant floats to the air interface side during alignment ripening, and the adjacent liquid crystal is strongly vertically aligned. . As a result, the alignment state of the entire liquid crystal layer is a horizontal alignment with a slight pretilt angle on the alignment film side, and rises toward the air interface side in the thickness direction and becomes a vertical alignment, so-called “spray alignment state” (That is, oblique orientation).

このような高分子界面活性剤としては、ノニオン系が好ましく、用いる液晶性化合物との相互作用が強いものを市販の高分子界面活性剤の中から選定することができ、例えば、大日本インキ化学工業株式会社製の商品名メガファックF780F、商品名B1176などが挙げられる。
前記高分子界面活性剤の含有量は、前記異方性吸収膜塗布液の全固形分質量に対し0〜15質量%が好ましく、0〜5質量%がより好ましい。
As such a polymeric surfactant, a nonionic type is preferable, and those having a strong interaction with the liquid crystal compound to be used can be selected from commercially available polymeric surfactants. Examples include trade name “MegaFuck F780F” and trade name “B1176” manufactured by Kogyo Corporation.
0-15 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of the said anisotropic absorption film coating liquid, and, as for content of the said polymeric surfactant, 0-5 mass% is more preferable.

前記異方性吸収膜塗布液は、例えば、紫外線硬化性液晶化合物、アスペクト比の平均値が1.5以上の異方性吸収材料、光重合開始剤、好ましくは高分子界面活性剤、必要に応じてその他の成分を溶媒に溶解乃至分散することによって調製できる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;フェノール、p−クロロフェノール、o−クロロフェノール、m−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾールなどのフェノール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;t−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒;二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The anisotropic absorption film coating liquid is, for example, an ultraviolet curable liquid crystal compound, an anisotropic absorption material having an average aspect ratio of 1.5 or more, a photopolymerization initiator, preferably a polymer surfactant, Accordingly, it can be prepared by dissolving or dispersing other components in a solvent.
The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, for example, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, methylene chloride, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, orthodichlorobenzene Halogenated hydrocarbons such as phenol; phenols such as phenol, p-chlorophenol, o-chlorophenol, m-cresol, o-cresol, p-cresol; benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, 1,2-dimethoxy Aromatic hydrocarbons such as benzene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; t-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol, 2-methyl-2,4-pentanediol Alcohol solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, etc .; Nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; Ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane; Carbon disulfide, ethyl cellosolve, butyl Examples include cell solves. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記異方性吸収膜塗布液を、表面に配向膜を有する基材上に塗布し、乾燥させて塗布層を形成する。
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
The said anisotropic absorption film coating liquid is apply | coated on the base material which has an oriented film on the surface, It is made to dry and a coating layer is formed.
Examples of the coating method include spin coating, casting, roll coating, flow coating, printing, dip coating, casting film formation, bar coating, and gravure printing.

<硬化工程>
前記硬化工程は、前記塗布層形成工程で得られた塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線照射し硬化させて、前記異方性吸収材料の長軸を前記基材面に対し0度以上70度以下の角度に傾斜させる工程である。
<Curing process>
In the curing step, the coating layer obtained in the coating layer forming step is cured by irradiating with ultraviolet rays in a state where the coating layer is heated to a temperature at which a liquid crystal phase is expressed, and the major axis of the anisotropic absorbing material is set to the base material surface. Is a step of inclining at an angle of 0 degrees or more and 70 degrees or less.

塗布層を形成した後、異方性吸収材料の配向状態を固定するため、塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線照射する。これにより、前記異方性吸収材料の長軸が前記基材面(水平面)に0度以上70度以下の角度に傾斜した異方性吸収膜を形成することができる。
前記加熱条件は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、50〜120℃が好ましい。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、160〜380nmが好ましく、250〜380nmがより好ましい。照射時間は、例えば、0.1〜600秒間が好ましく、0.3〜300秒間がより好ましい。
前記紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト)、高圧放電ランプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)及びショートアーク放電ランプ(超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ)などを挙げることができる。
After forming the coating layer, in order to fix the orientation state of the anisotropic absorption material, the coating layer is irradiated with ultraviolet rays while being heated to a temperature at which the liquid crystal phase is developed. Thereby, the anisotropic absorption film in which the major axis of the anisotropic absorption material is inclined at an angle of 0 degree or more and 70 degrees or less with respect to the base material surface (horizontal plane) can be formed.
The heating condition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 50 to 120 ° C.
There is no restriction | limiting in particular as conditions for the said ultraviolet irradiation, According to the objective, it can select suitably, For example, 160-380 nm is preferable and, as for irradiation ultraviolet rays, 250-380 nm is more preferable. For example, the irradiation time is preferably 0.1 to 600 seconds, and more preferably 0.3 to 300 seconds.
Examples of the ultraviolet light source include low-pressure mercury lamps (sterilization lamps, fluorescent chemical lamps, black lights), high-pressure discharge lamps (high-pressure mercury lamps, metal halide lamps), and short arc discharge lamps (ultra-high pressure mercury lamps, xenon lamps, mercury). Xenon lamp).

以上により得られる本発明の異方性吸収膜は、異方性吸収材料の長軸が基材面(水平面)に対し0度以上70度以下の角度に傾斜しており、優れた異方吸収性を有する。
また、異方性吸収材料の長軸が配向方向に対し0±15度以内の配向角度を有することが好ましい。
ここで、前記傾斜角度とは、図2に示すように、基板(水平面)1と異方性ナノ粒子の長軸とのなす角θを意味し、サンプルAでは傾斜角度θが0度(基板に対し平行)であり、サンプルBでは傾斜角度θが55度である。
前記配向角度とは、図3に示すように、液晶分子の配向方向に対するズレ角度φを意味し、サンプルAでは配向角度φが0±0度であり、サンプルBでは配向角度φが0±10度である。
The anisotropic absorption film of the present invention obtained as described above is excellent in anisotropic absorption because the major axis of the anisotropic absorption material is inclined at an angle of 0 ° to 70 ° with respect to the substrate surface (horizontal plane). Have sex.
The major axis of the anisotropic absorbing material preferably has an orientation angle within 0 ± 15 degrees with respect to the orientation direction.
Here, as shown in FIG. 2, the tilt angle means an angle θ formed by the substrate (horizontal plane) 1 and the long axis of the anisotropic nanoparticle. In sample A, the tilt angle θ is 0 degree (substrate In Sample B, the inclination angle θ is 55 degrees.
As shown in FIG. 3, the alignment angle means a deviation angle φ with respect to the alignment direction of the liquid crystal molecules. In sample A, the alignment angle φ is 0 ± 0 degrees, and in sample B, the alignment angle φ is 0 ± 10. Degree.

−異方性吸収膜及びその用途等−
図4は、本発明の異方性吸収膜の一例を示す概略断面図である。図4のaでは、異方性吸収子Pの長軸が基材面(水平面)Sに対し水平(0度)に配列している。図4のb、及び図4のcでは、異方性吸収子Pの長軸が基材面(水平面)Sに対し略水平(±10度)に配列している。
図5は、本発明の異方性吸収膜の一例を示す概略断面図である。図5のaでは、異方性吸収子Pの長軸が基材面(水平面)Sに対し斜め方向(約30度)に傾斜している。図5のbでは、異方性吸収子Pの長軸が基材面(水平面)Sに対し斜め方向(約45度)に傾斜している。図5のcでは、異方性吸収子Pの長軸が基材面(水平面)Sに対し斜め方向(約70度)に傾斜している。
-Anisotropic absorption film and its use-
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the anisotropic absorption film of the present invention. In FIG. 4 a, the long axis of the anisotropic absorber P is arranged horizontally (0 degree) with respect to the substrate surface (horizontal plane) S. In FIG. 4 b and FIG. 4 c, the long axis of the anisotropic absorber P is arranged substantially horizontally (± 10 degrees) with respect to the substrate surface (horizontal plane) S.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the anisotropic absorption film of the present invention. In FIG. 5 a, the major axis of the anisotropic absorber P is inclined with respect to the base material surface (horizontal plane) S in an oblique direction (about 30 degrees). In FIG. 5 b, the long axis of the anisotropic absorber P is inclined in an oblique direction (about 45 degrees) with respect to the substrate surface (horizontal plane) S. In FIG. 5 c, the long axis of the anisotropic absorber P is inclined with respect to the base material surface (horizontal plane) S in an oblique direction (about 70 degrees).

本発明の異方性吸収膜は、吸収特性に異方性がある異方性吸収材料を配向させることによって、吸収型偏光子を作製することが可能であり、このような吸収型偏光子は、反射による迷光がないため、光学デバイスの構造をシンプルにでき、例えばプロジェクター、液晶モニター、液晶テレビ等に応用できるが、更に、自動車、バス、トラック、電車、新幹線、飛行機、旅客機、船等の各種乗り物用ガラス;一般の戸建住宅、集合住宅、オフィスビス、店舗、公共施設、工場施設等の建物の開口部、間仕切り等の建材用ガラスなどの各種分野に幅広く用いることができる。   The anisotropic absorption film of the present invention can produce an absorption type polarizer by orienting an anisotropic absorption material having anisotropy in absorption characteristics. Because there is no stray light due to reflection, the structure of the optical device can be simplified. For example, it can be applied to projectors, liquid crystal monitors, liquid crystal televisions, etc. Glasses for various vehicles: Can be widely used in various fields such as general detached houses, apartment houses, office screws, stores, public facilities, building openings such as factory facilities, and glass for building materials such as partitions.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
<ゲスト−ホスト型液晶法による金ナノロッドが配向した異方性吸収膜の作製>
−配向膜の作製−
清浄な10cm角、厚み1.1mmの白板ガラスに、ポリビニルアルコール(PVA)配向膜溶液(メタノール溶液)を1,000rpm、30秒間でスピンコート塗布し、100℃で3分間乾燥させることにより、厚み1.0μmのPVA膜を作製した。このPVA膜表面をラビング装置(常陽工学株式会社製、回転数1,000rpm、押し込み量0.35mm)で2回ラビングすることにより、PVA配向膜を作製した。このPVA配向膜付きガラス板を30mm×28mm角に切断し、基体とした。
(Example 1)
<Preparation of anisotropic absorption film with gold nanorods aligned by guest-host type liquid crystal method>
-Production of alignment film-
Polyvinyl alcohol (PVA) alignment film solution (methanol solution) is spin-coated at 1,000 rpm for 30 seconds on a clean white glass plate with a 10 cm square and a thickness of 1.1 mm, and dried at 100 ° C. for 3 minutes. A 1.0 μm PVA membrane was prepared. This PVA film surface was rubbed twice with a rubbing apparatus (manufactured by Joyo Engineering Co., Ltd., rotation speed: 1,000 rpm, pushing amount: 0.35 mm) to produce a PVA alignment film. This glass plate with a PVA alignment film was cut into 30 mm × 28 mm squares to form a substrate.

−異方性吸収膜塗布液の調製−
光重合性基を有する液晶化合物(BASF社製、商品名:PALIOCOLOR LC242)3.04gをメチルエチルケトン(MEK)5.07gに溶解した液晶溶液に、開始剤溶液〔イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ社製)0.90g、及びカヤキュアDETX(日本化薬株式会社製)0.30gをメチルエチルケトン(MEK)8.80gに溶解した溶液〕1.11gを添加し、5分間攪拌することにより、完全に溶解させた。
次に、得られた溶液に5.0質量%の金ナノロッドのトルエン溶液(商品名:Au−4、三菱マテリアル株式会社製、長軸長さ45nm、短軸長さ13nm、平均アスペクト比3.4)2.5gを添加し、5分間攪拌することにより、異方性吸収膜塗布液を調製した。
-Preparation of coating solution for anisotropic absorption film-
A liquid crystal compound having a photopolymerizable group (BASF, trade name: PALIOCOLOR LC242) 3.04 g dissolved in methyl ethyl ketone (MEK) 5.07 g, an initiator solution [Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals) 0.90 g and Kayacure DETX (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.30 g dissolved in 8.80 g of methyl ethyl ketone (MEK)] 1.11 g was added, and the mixture was completely dissolved by stirring for 5 minutes. .
Next, a 5.0 mass% toluene solution of gold nanorods (trade name: Au-4, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, major axis length 45 nm, minor axis length 13 nm, average aspect ratio 3. 4) An anisotropic absorption film coating solution was prepared by adding 2.5 g and stirring for 5 minutes.

−金ナノロッドの配向及び硬化−
得られた異方性吸収膜塗布液を、上記PVA配向膜上に、回転数500rpm、15秒間の条件でスピンコートし、塗布面の反対側の面が接触するようにホットプレートに載せ、90℃で1分間加熱した後、加熱した状態で紫外線(UV)照射(高圧水銀灯、1kW、330mJ/mm)することにより、金ナノロッドが配向した厚み2.5μmの異方性吸収膜を形成した。
-Orientation and curing of gold nanorods-
The obtained anisotropic absorption film coating solution was spin-coated on the PVA alignment film under the conditions of a rotation speed of 500 rpm for 15 seconds, and placed on a hot plate so that the surface opposite to the coating surface was in contact with After heating at ° C for 1 minute, irradiation with ultraviolet rays (UV) (high pressure mercury lamp, 1 kW, 330 mJ / mm 2 ) in the heated state formed an anisotropic absorption film having a thickness of 2.5 μm with gold nanorods oriented. .

<金ナノロッドの配向性>
得られた異方性吸収膜の切片を透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子株式会社製、JEM−2010)で観察したところ、500個の金ナノロッドの78個数%以上が配向方向に対し±10度以内に配向しており、また基体面(水平面)に対する傾斜角が0度〜5度に配列していた。
<Orientation of gold nanorods>
When the slice of the obtained anisotropic absorption film was observed with a transmission electron microscope (TEM) (manufactured by JEOL Ltd., JEM-2010), 78% by number or more of 500 gold nanorods were ± with respect to the orientation direction. It was oriented within 10 degrees, and the tilt angle with respect to the substrate surface (horizontal plane) was arranged at 0 to 5 degrees.

−光学特性評価−
得られた異方性吸収膜を有するガラス板について、以下のようにして諸特性を評価した。結果を表1に示す。
-Optical property evaluation-
About the glass plate which has the obtained anisotropic absorption film, various characteristics were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.

<偏光度>
紫外・可視分光光度計(日本分光株式会社製、V−560)を用いて、異方性吸収膜の偏光透過スペクトルを測定した。偏光度は、窓板として可視〜近赤外用偏光子を取り付けた状態で、窓板偏光子の吸収軸に対し、作製した異方性吸収膜の配向軸を平行、及び垂直にした状態で透過スペクトルを測定し、下記の偏光度算出式に基づいて算出した。また、異方性吸収膜の透過率を測定する際は、作製した異方性吸収膜の配向軸が水平面に対し、45°になるようにセットし、測定した。
<<偏光度算出式>>
P(%)=100*[(T||−T⊥)/(T||+T⊥)]1/2
<Degree of polarization>
Using an ultraviolet / visible spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, V-560), the polarization transmission spectrum of the anisotropic absorption film was measured. The degree of polarization is transmitted with a visible to near-infrared polarizer attached as a window plate, with the orientation axis of the produced anisotropic absorption film parallel and perpendicular to the absorption axis of the window plate polarizer. The spectrum was measured and calculated based on the following polarization degree calculation formula. Further, when measuring the transmittance of the anisotropic absorption film, it was set and measured so that the orientation axis of the produced anisotropic absorption film was 45 ° with respect to the horizontal plane.
<< polarization degree calculation formula >>
P (%) = 100 * [(T || -T⊥) / (T || + T⊥)] 1/2

<耐光性>
超高圧水銀灯を使用して、暴光試験を行い、1,000時間暴光後の上記偏光度及び透過率を測定し、初期との比較により、耐光性を評価した。
<Light resistance>
Using a super high pressure mercury lamp, a brilliant test was conducted, the polarization degree and transmittance after 1,000 hours of turbulence were measured, and light resistance was evaluated by comparison with the initial stage.

(実施例2)
実施例1において、異方性吸収膜塗布液中に高分子界面活性剤(B1176、大日本インキ化学工業株式会社製)0.1gを添加した以外は、実施例1と同様にして、金ナノロッドが配向した厚み2.5μmの異方性吸収膜を作製した。
(Example 2)
In Example 1, gold nanorods were prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.1 g of a polymer surfactant (B1176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was added to the anisotropic absorption film coating solution. An anisotropic absorption film having a thickness of 2.5 μm was prepared.

<金ナノロッドの配向性>
得られた異方性吸収膜の切片を透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子株式会社製、JEM−2010)で観察したところ、500個の金ナノロッドの75個数%以上が配向方向に対し±10度以内に配向しており、また基材ガラス面(水平面)に対する傾斜角は55±5度に配列していた。
<Orientation of gold nanorods>
When the slice of the obtained anisotropic absorption film was observed with a transmission electron microscope (TEM) (manufactured by JEOL Ltd., JEM-2010), 75% or more of 500 gold nanorods were ± The orientation was within 10 degrees, and the inclination angle with respect to the substrate glass surface (horizontal plane) was arranged at 55 ± 5 degrees.

得られた異方性吸収膜を有するガラス板の諸特性について、実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   Various characteristics of the obtained glass plate having the anisotropic absorption film were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
<ゲスト−ホスト型液晶法によるカーボンナノチューブが配向した異方性吸収膜の作製>
実施例1において、下記のカーボンナノチューブを含有する異方性吸収膜塗布液を用い、カーボンナノチューブの配向及び硬化を行った以外は、実施例1と同様にして、カーボンナノチューブが配向した異方性吸収膜を作製した。
−異方性吸収膜塗布液の調製−
光重合性基を有する液晶化合物(BASF社製、商品名:PALIOCOLOR LC242)3.04gをメチルエチルケトン(MEK)5.07gに溶解した液晶溶液に、開始剤溶液〔イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ社製)0.90g、及びカヤキュアDETX(日本化薬株式会社製)0.30gをメチルエチルケトン(MEK)8.80gに溶解した溶液〕1.11gを添加し、5分間攪拌することにより、完全に溶解させた。
次に、得られた溶液に、カーボンナノチューブ(Aldrich社製、長軸長さ300〜500nm、短軸長さ5〜10nm、平均アスペクト比30〜100)1.0gを添加し、30分間攪拌して、カーボンチューブを分散させることにより、異方性吸収膜塗布液を調製した。
(Example 3)
<Preparation of anisotropic absorption film with aligned carbon nanotubes by guest-host type liquid crystal method>
In Example 1, an anisotropic absorption film coating solution containing the following carbon nanotubes was used, and the carbon nanotubes were oriented in the same manner as in Example 1 except that the carbon nanotubes were oriented and cured. An absorption film was prepared.
-Preparation of coating solution for anisotropic absorption film-
A liquid crystal compound having a photopolymerizable group (BASF, trade name: PALIOCOLOR LC242) 3.04 g dissolved in methyl ethyl ketone (MEK) 5.07 g, an initiator solution [Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals) 0.90 g and Kayacure DETX (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.30 g dissolved in 8.80 g of methyl ethyl ketone (MEK)] 1.11 g was added, and the mixture was completely dissolved by stirring for 5 minutes. .
Next, 1.0 g of carbon nanotubes (manufactured by Aldrich, major axis length of 300 to 500 nm, minor axis length of 5 to 10 nm, average aspect ratio of 30 to 100) is added to the obtained solution and stirred for 30 minutes. Then, an anisotropic absorption film coating solution was prepared by dispersing the carbon tube.

−カーボンナノチューブの配向及び硬化−
得られた異方性吸収膜塗布液を、PVA配向膜上にバーコート塗布し、塗布面の反対面が接触するようにホットプレートに載せ、90℃で1分間加熱した後、加熱した状態で紫外線(UV)照射(高圧水銀灯、1kW、330mJ/mm)することにより、カーボンナノチューブが配向した厚み3.4μmの異方性吸収膜を作製した。
-Orientation and curing of carbon nanotubes-
The obtained anisotropic absorption film coating solution is bar coated on the PVA alignment film, placed on a hot plate so that the opposite surface of the coated surface is in contact, heated at 90 ° C. for 1 minute, and then heated. By irradiation with ultraviolet rays (UV) (high pressure mercury lamp, 1 kW, 330 mJ / mm 2 ), an anisotropic absorption film having a thickness of 3.4 μm with aligned carbon nanotubes was produced.

<カーボンナノチューブの配向性>
得られた異方性吸収膜の切片を透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子株式会社製、JEM−2010)で観察したところ、500個のカーボンナノチューブの75個数%以上が配向方向に対し±10度以内に配向しており、また基体面(水平面)に対する傾斜角は0度〜5度に配列していた。
<Orientation of carbon nanotubes>
When the slice of the obtained anisotropic absorption film was observed with a transmission electron microscope (TEM) (manufactured by JEOL Ltd., JEM-2010), 75% or more of 500 carbon nanotubes were ± It was oriented within 10 degrees, and the tilt angle with respect to the substrate surface (horizontal plane) was arranged at 0 to 5 degrees.

次に、得られた異方性吸収膜を有するガラス板の諸特性について、実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   Next, various properties of the obtained glass plate having the anisotropic absorption film were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

(実施例4)
実施例3において、異方性吸収膜塗布液中に高分子界面活性剤(B1176、大日本インキ化学工業株式会社製)0.1gを添加した以外は、実施例3と同様にして、カーボンナノチューブが配向した厚み3.4μmの異方性吸収膜を作製した。
Example 4
In Example 3, carbon nanotubes were prepared in the same manner as in Example 3 except that 0.1 g of a polymer surfactant (B1176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was added to the anisotropic absorbent film coating solution. An anisotropic absorption film having a thickness of 3.4 .mu.m was prepared.

<カーボンナノチューブの配向性>
得られた異方性吸収膜の切片を透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子株式会社製、JEM−2010)で観察したところ、500個のカーボンナノチューブの73個数%以上が配向方向に対し±10度以内に配向しており、また基材ガラス面(水平面)に対する傾斜角が55±5度に配列していた。
<Orientation of carbon nanotubes>
When the slice of the obtained anisotropic absorption film was observed with a transmission electron microscope (TEM) (manufactured by JEOL Ltd., JEM-2010), 73% by number or more of 500 carbon nanotubes were ± The orientation was within 10 degrees, and the inclination angle with respect to the substrate glass surface (horizontal plane) was arranged at 55 ± 5 degrees.

得られた異方性吸収膜を有するガラス板の諸特性について、実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   Various characteristics of the obtained glass plate having the anisotropic absorption film were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

(実施例5)
実施例1において、異方性吸収膜塗布液を以下のように変えた以外は、実施例1と同様にして、実施例5の異方性吸収膜を作製した。
−異方性吸収膜塗布液の調製−
下記構造式で表されるリオトロピック液晶化合物(LLC−1)4.0gを純水6.0gに溶解した液晶溶液に、1.0質量%の金ナノロッドの水溶液(長軸長さ45.5nm、短軸長さ12.5nm、平均アスペクト比3.5)0.1gを添加し、更に光重合開始剤(イルガキュア907、チバスペシャルティケミカルズ社製)を2.0質量%添加し、5分間攪拌することにより、異方性吸収膜塗布液を調製した。
<金ナノロッドの配向性>
得られた異方性吸収膜の切片を透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子株式会社製、JEM−2010)で観察したところ、500個の金ナノロッドの70個数%以上が配向方向に対し±10度以内に配向しており、また基体面(水平面)に対する傾斜角が0度〜5度に配列していた。
(Example 5)
In Example 1, the anisotropic absorption film of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the anisotropic absorption film coating solution was changed as follows.
-Preparation of coating solution for anisotropic absorption film-
In a liquid crystal solution obtained by dissolving 4.0 g of a lyotropic liquid crystal compound (LLC-1) represented by the following structural formula in 6.0 g of pure water, an aqueous solution of 1.0% by mass of gold nanorods (major axis length 45.5 nm, 0.1 g of minor axis length 12.5 nm, average aspect ratio 3.5) is added, and further 2.0% by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is added and stirred for 5 minutes. Thus, an anisotropic absorption film coating solution was prepared.
<Orientation of gold nanorods>
When the slice of the obtained anisotropic absorption film was observed with a transmission electron microscope (TEM) (manufactured by JEOL Ltd., JEM-2010), 70% by number or more of 500 gold nanorods were ± with respect to the orientation direction. It was oriented within 10 degrees, and the tilt angle with respect to the substrate surface (horizontal plane) was arranged at 0 to 5 degrees.

次に、得られた異方性吸収膜を有するガラス板の諸特性について、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。   Next, various characteristics of the obtained glass plate having the anisotropic absorption film were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1において、金ナノロッドが配向した異方性吸収膜を設けない以外は、実施例1と同様にして、比較例1の膜を作製した。
得られた比較例1の膜を有するガラス板の諸特性について、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1 except that an anisotropic absorption film in which gold nanorods were oriented was not provided.
Various characteristics of the obtained glass plate having the film of Comparative Example 1 were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

表1中では、いずれもλ=800nmでの測定値を示した。実施例2及び4については、光源に対してサンプルを55°傾けた状態で測定を行った。また、実施例1、3、5及び比較例1については、光源に対してサンプルを垂直にセットした状態で測定を行った。 In Table 1, all measured values at λ = 800 nm are shown. For Examples 2 and 4, the measurement was performed in a state where the sample was tilted by 55 ° with respect to the light source. Moreover, about Example 1, 3, 5 and the comparative example 1, it measured in the state which set the sample perpendicular | vertical with respect to the light source.

本発明の異方性吸収膜の製造方法により製造された異方性吸収膜は、同一平面内での密度を下げることなく異方性吸収材料を一定の角度に配向させることができ、耐光性に優れているので、例えばプロジェクター、液晶モニター、液晶テレビ等に応用できる。   The anisotropic absorption film manufactured by the method for manufacturing an anisotropic absorption film of the present invention can orient the anisotropic absorption material at a certain angle without lowering the density in the same plane, and is light resistant. For example, it can be applied to projectors, liquid crystal monitors, liquid crystal televisions, and the like.

図1は、金ナノロッドの吸収スペクトルを示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an absorption spectrum of a gold nanorod. 図2は、異方性ナノ粒子の傾斜角度の定義を説明するための概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining the definition of the tilt angle of anisotropic nanoparticles. 図3は、異方性ナノ粒子の配向角度の定義を説明するための概略図である。FIG. 3 is a schematic view for explaining the definition of the orientation angle of anisotropic nanoparticles. 図4は、本発明の異方性吸収膜の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of the anisotropic absorption film of the present invention. 図5は、本発明の異方性吸収膜の他の一例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing another example of the anisotropic absorption film of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基材
2 異方性吸収膜
P 異方性吸収材料
S 水平面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Anisotropic absorption film P Anisotropic absorption material S Horizontal surface

Claims (5)

表面に配向膜を有する基材上に、少なくとも紫外線硬化性液晶化合物、光重合開始剤、及びアスペクト比の平均値が1.5以上の異方性吸収材料を含有する異方性吸収膜塗布液を塗布し、乾燥させて塗布層を形成する塗布層形成工程と、
該塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線を照射し硬化させて、前記異方性吸収材料の長軸の前記基材面に対する傾斜角を0度以上70度以下に配向させる硬化工程とを含むことを特徴とする異方性吸収膜の製造方法。
An anisotropic absorption film coating solution containing at least an ultraviolet curable liquid crystal compound, a photopolymerization initiator, and an anisotropic absorption material having an average aspect ratio of 1.5 or more on a substrate having an alignment film on the surface Coating layer forming step of coating and drying to form a coating layer;
The coating layer is heated to a temperature at which a liquid crystal phase is expressed and cured by irradiating with ultraviolet rays, so that the inclination angle of the long axis of the anisotropic absorbent material with respect to the substrate surface is aligned between 0 degree and 70 degrees. A method for producing an anisotropic absorption film, comprising: a curing step.
紫外線硬化性液晶化合物が、サーモトロピック液晶化合物である請求項1に記載の異方性吸収膜の製造方法。   The method for producing an anisotropic absorption film according to claim 1, wherein the ultraviolet curable liquid crystal compound is a thermotropic liquid crystal compound. 異方性吸収膜塗布液が、高分子界面活性剤を含有する請求項1から2のいずれかに記載の異方性吸収膜の製造方法。   The method for producing an anisotropic absorbing film according to claim 1, wherein the anisotropic absorbing film coating solution contains a polymer surfactant. 異方性吸収材料が、異方性金属ナノ粒子及びカーボンナノチューブのいずれかを含有する請求項1から3のいずれかに記載の異方性吸収膜の製造方法。   The method for producing an anisotropic absorption film according to any one of claims 1 to 3, wherein the anisotropic absorption material contains any one of anisotropic metal nanoparticles and carbon nanotubes. 異方性金属ナノ粒子が、金、銀、銅、及びアルミニウムから選択される少なくとも1種を含む請求項4に記載の異方性吸収膜の製造方法。
The manufacturing method of the anisotropic absorption film of Claim 4 in which an anisotropic metal nanoparticle contains at least 1 sort (s) selected from gold | metal | money, silver, copper, and aluminum.
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