JP2008096874A - Liquid crystal device and method for manufacturing the same, and electronic apparatus - Google Patents

Liquid crystal device and method for manufacturing the same, and electronic apparatus Download PDF

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裕之 細萱
Takeshi Hagiwara
武 萩原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a liquid crystal device whose structure to seal a liquid crystal therein has excellent reliability with a favorable yield. <P>SOLUTION: The manufacturing method has: a step to form a conductive sealing part 52a equipped with main portions 152A extending along edges of an element substrate 10 (the first substrate), and connecting portions 152a corresponding to corners of the element substrate 10 or a counter substrate 20 (the second substrate) and having a narrower width than the width of the main potions 152A, on the first principal surface side of the element substrate 10; a step to form a conductive sealing part 52b equipped with main portions 152B extending along edges of the counter substrate 20, and connecting portions 152b corresponding to corners of the element substrate 10 or the counter substrate 20 and having a narrower width than the width of the main potions 152B, on the first principal surface side of the counter substrate 20; and a step to place the element substrate 10 and the counter substrate 20 opposite to each other and stick them to each other, in the state in which the connecting portions 152a of the conductive sealing part 52a and the connecting portions 152b of the conductive sealing part 52b are superposed on each other. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置とその製造方法、及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus.

一般に、液晶装置の製造過程においては、シール材を介して2枚の基板を貼り合わせ、シール材の内側に液晶材料を封入したパネル構造を構成する。また、シール材に導電性のスペーサ粒子を混入させた導電性シール材を用いて、基板間の導通をとる構成も知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1記載の液晶装置では、枠状のシール材の内周側に絶縁性シール材を枠状に形成し、この絶縁性シール材を取り囲むようにして導電性シール材を配設している。   In general, in the manufacturing process of a liquid crystal device, a panel structure in which two substrates are bonded together via a sealing material and a liquid crystal material is sealed inside the sealing material is configured. In addition, a configuration is also known in which a conductive sealing material in which conductive spacer particles are mixed into a sealing material is used to establish conduction between substrates (see, for example, Patent Document 1). In the liquid crystal device described in Patent Document 1, an insulating sealing material is formed in a frame shape on the inner peripheral side of a frame-shaped sealing material, and a conductive sealing material is disposed so as to surround the insulating sealing material. .

特開2004−212446号公報JP 2004-212446 A

特許文献1記載の液晶装置では液晶を取り囲むように導電性シール材を配置している。しかし、画素形成領域からシール材の外側に配線を引き出す部分に導電性シール材が設けられていると、配線間隔が狭い場合には、導電性シール材に含まれる導電性のスペーサ粒子が、隣接する配線間を短絡させてしまうことがある。このような配線間の短絡を防止するには、配線と交差する領域のシール材を絶縁性のもので構成すればよいが、2種類のシール材を基板上に配置しなければならない。特に、導電性シール材と絶縁性シール材との接続部分では、シール材の幅が不均一になったり、切れる等の不具合が発生しやすく、液晶装置の信頼性や製造歩留まりに大きく影響する。   In the liquid crystal device described in Patent Document 1, a conductive sealing material is disposed so as to surround the liquid crystal. However, if a conductive sealing material is provided in a portion where the wiring is drawn out from the pixel formation region to the outside of the sealing material, the conductive spacer particles included in the conductive sealing material are adjacent to each other when the wiring interval is narrow. May be short-circuited between wirings. In order to prevent such a short circuit between the wirings, the sealing material in the region intersecting with the wiring may be made of an insulating material, but two kinds of sealing materials must be arranged on the substrate. In particular, in the connection portion between the conductive sealing material and the insulating sealing material, problems such as non-uniform width of the sealing material or breakage are likely to occur, which greatly affects the reliability and manufacturing yield of the liquid crystal device.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、液晶の封止構造における信頼性に優れた液晶装置を歩留まりよく製造する方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal device excellent in reliability in a liquid crystal sealing structure with a high yield.

本発明の液晶装置の製造方法は、上記課題を解決するために、導電性シール部が形成された第1基板の第1主面と、絶縁性シール部が形成された第2基板の第1主面とを対向させて、前記導電性シール部と前記絶縁性シール部とを部分的に重ね合わせた状態で前記第1基板と第2基板とを貼り合わせる液晶装置の製造方法であって、前記第1基板の前記第1主面側に、前記第1基板の端部に沿って延在する本体部と、前記第1基板又は前記第2基板の角部に対応して前記本体部より狭い幅を有した接続部とを備えた前記導電性シール部を形成する工程と、前記第2基板の前記第1主面側に、前記第2基板の端部に沿って延在する本体部と、前記第1基板又は前記第2基板の角部に対応して前記本体部より狭い幅を有した接続部とを備えた前記絶縁性シール部を形成する工程と、前記第1基板の前記第1主面と前記第2基板の前記第1主面とを対向させて、前記導電性シール部の前記接続部と前記絶縁性シール部の前記接続部とが重ね合わされた状態で前記第1基板と第2基板とを貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする。
この製造方法によれば、基板角部において導電性シール部と絶縁性シール部とを重ね合わせる接続部の幅を、本体部よりも狭くしているので、重ね合わされる部位でシール材料が過多になってシール材の幅が広くなりすぎる(太り)のを防止できる。また、シール材の太りを防止できることから前記接続部どうしを確実に重ね合わせることができるので、シール部の位置ずれに起因するシール材の切れや細り等の形状不良も発生しにくくなる。したがって、接続部位における信頼性に優れたシール材を形成でき、封止構造における信頼性に優れた液晶装置を製造できる。
In order to solve the above-described problem, the liquid crystal device manufacturing method of the present invention includes a first main surface of the first substrate on which the conductive seal portion is formed and a first substrate on the second substrate on which the insulating seal portion is formed. A manufacturing method of a liquid crystal device in which the first substrate and the second substrate are bonded together in a state where the main surface is opposed and the conductive seal portion and the insulating seal portion are partially overlapped, A main body portion extending along an end of the first substrate on the first main surface side of the first substrate, and a main body portion corresponding to a corner portion of the first substrate or the second substrate. A step of forming the conductive seal portion having a connection portion having a narrow width; and a main body portion extending along an end portion of the second substrate on the first main surface side of the second substrate. And a connection portion having a width narrower than the main body portion corresponding to a corner portion of the first substrate or the second substrate. The step of forming an edge seal portion, the first main surface of the first substrate and the first main surface of the second substrate are opposed to each other, and the connection portion of the conductive seal portion and the insulating property And a step of bonding the first substrate and the second substrate in a state where the connection portion of the seal portion is overlapped.
According to this manufacturing method, since the width of the connecting portion that overlaps the conductive seal portion and the insulating seal portion at the corner portion of the substrate is narrower than that of the main body portion, the seal material is excessive at the overlapped portion. Thus, it is possible to prevent the width of the sealing material from becoming too wide (overweight). In addition, since the seal material can be prevented from being thickened, the connecting portions can be surely overlapped with each other, so that it is difficult to cause shape defects such as cutting or thinning of the seal material due to the displacement of the seal portion. Therefore, it is possible to form a sealing material with excellent reliability at the connection site, and to manufacture a liquid crystal device with excellent reliability in the sealing structure.

本発明では、前記本体部を幅方向両側から狭くした形状であり、狭くした一定の幅で所定の長さの前記接続部を形成することが好ましい。基板の貼り合わせによりシール部を押しつぶすと、接続部は幅方向に広がるので、接続部の幅方向両側にスペースを設けておくことで、滑らかに一定の幅で接続された形状のシール材を得ることができる。   In the present invention, it is preferable that the main body portion has a shape narrowed from both sides in the width direction, and the connection portion having a predetermined length with a narrowed constant width is formed. When the sealing part is crushed by bonding the substrates, the connecting part spreads in the width direction. By providing a space on both sides of the connecting part in the width direction, a sealing material smoothly connected with a constant width is obtained. be able to.

本発明では、前記接続部の幅を、前記本体部の幅に対して10%以上30%以下狭い幅に形成することが好ましい。このような範囲とすることで、導電性シール部の接続部と絶縁性シール部の接続部とを接続したときに、接続部位の近傍においてセルギャップの不均一が生じるのを防止することができるとともに、接続部位においてシール材の細りや切れが生じるのを防止することができる。   In the present invention, it is preferable that the width of the connecting portion is narrower by 10% or more and 30% or less than the width of the main body portion. By setting it as such a range, when the connection part of an electroconductive seal part and the connection part of an insulating seal part are connected, it can prevent that the nonuniformity of a cell gap arises in the vicinity of a connection part. At the same time, it is possible to prevent the sealing material from being thinned or cut at the connection site.

上記構成において、導電性シール部における接続部と本体部との幅の比率を、絶縁性シール部における接続部と本体部との幅の比率と異ならせてもよい。このようにして接続部を重ね合わせた部分のシール材料の量を調整することで、セルギャップをより均一なものとすることができる。したがって、前記導電性シール部の接続部の幅と前記絶縁性シール部の接続部の幅とが略同一である一方、前記導電性シール部の本体部の幅と前記絶縁性シール部の本体部の幅とが異なっている構成で前記導電性シール部及び絶縁性シール部を形成してもよい。   In the above configuration, the width ratio between the connection portion and the main body portion in the conductive seal portion may be different from the width ratio between the connection portion and the main body portion in the insulating seal portion. Thus, the cell gap can be made more uniform by adjusting the amount of the sealing material in the portion where the connecting portions are overlapped. Therefore, the width of the connecting portion of the conductive seal portion and the width of the connecting portion of the insulating seal portion are substantially the same, while the width of the main body portion of the conductive seal portion and the main body portion of the insulating seal portion are The conductive seal portion and the insulating seal portion may be formed in a configuration having a different width.

本発明では、前記第1基板及び第2基板の対向する角部において、前記導電性シール部の前記接続部と前記絶縁性シール部の前記接続部とを平面視で交差させて重ね合わせることが好ましい。これによりシール部どうしの確実な接続構造が得られ、封止構造の信頼性に優れた液晶装置を容易に得られる。   In the present invention, the connecting portion of the conductive seal portion and the connecting portion of the insulating seal portion may be overlapped with each other in a plan view at corners of the first substrate and the second substrate facing each other. preferable. As a result, a reliable connection structure between the seal portions can be obtained, and a liquid crystal device excellent in the reliability of the sealing structure can be easily obtained.

本発明では、前記接続部どうしを重ね合わせるに際して、前記各接続部の先端を、前記接続部どうしの交差部から先端側へ突出させることが好ましい。このような交差形態とすることで、シール部に多少の位置ずれが生じたとしても、シール部どうしを確実に接続しやすくなり、シール材の形状不良が発生しにくくなる。   In the present invention, when the connection portions are overlapped with each other, it is preferable that the front ends of the connection portions protrude from the intersecting portions of the connection portions toward the front end side. By adopting such an intersecting configuration, even if a slight positional shift occurs in the seal portion, it becomes easy to reliably connect the seal portions, and it is difficult to cause a defective shape of the seal material.

本発明の液晶装置は、液晶層とを挟持して対向配置された第1基板と第2基板と、前記両基板の周縁部に形成された導電性シール部と絶縁性シール部とを互いに接続してなるシール材とを備えた液晶装置であって、前記第1基板及び第2基板の対向する角部に、前記導電性シール部と前記絶縁性シール部とを接続してなるシール接続部が形成されており、前記シール接続部では、前記導電性シール部の先端部にて他の部位よりも狭い幅に形成された接続部と、前記絶縁性シール部の先端部にて他の部位よりも狭い幅に形成された接続部とが、互いに交差して重ね合わされていることを特徴とする。
このような構成によれば、シール接続部においてシール材の厚さに不均一が生じにくいものとなり、表示品質に優れた液晶装置となる。また封止構造の信頼性に優れた液晶装置となる。
In the liquid crystal device of the present invention, the first substrate and the second substrate which are disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, and the conductive seal portion and the insulating seal portion formed on the peripheral portion of the both substrates are connected to each other. And a sealing connection portion formed by connecting the conductive sealing portion and the insulating sealing portion to opposite corner portions of the first substrate and the second substrate. In the seal connection part, the connection part formed at a width narrower than the other part at the tip part of the conductive seal part and the other part at the tip part of the insulating seal part The connecting portions formed to have a narrower width are overlapped with each other.
According to such a configuration, non-uniformity in the thickness of the sealing material is less likely to occur at the seal connecting portion, and a liquid crystal device having excellent display quality is obtained. In addition, the liquid crystal device is excellent in the reliability of the sealing structure.

本発明の電子機器は、上記液晶装置を備えたことを特徴とする。かかる電子機器は、信頼性及び表示品質に優れた表示部を備えたものとなる。   An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device. Such an electronic device is provided with a display unit having excellent reliability and display quality.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。なお、以下の説明に用いた各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each drawing used in the following description, the scale is different for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.

(液晶装置)
まず、本発明の液晶装置の実施形態について説明する。
以下に示す本実施形態の液晶装置は、スイッチング素子として薄膜ダイオード(Thin Film Diode、以下、TFDと略記する)を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置の例であり、透過表示を可能にした透過型の液晶装置である。
図1(a)は本実施形態に係る液晶装置の各構成要素を対向基板側から見た平面図であり、図1(b)は図1(a)のH−H'線に沿う断面図である。図2は図1の領域Cを拡大して示す平面図である。図3は液晶装置の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図であり、図4は各種素子の電極平面構造(画素構造)を示す平面図である。
(Liquid crystal device)
First, an embodiment of the liquid crystal device of the present invention will be described.
The liquid crystal device of the present embodiment shown below is an example of an active matrix liquid crystal device using a thin film diode (hereinafter abbreviated as TFD) as a switching element, and is a transmissive type that enables transmissive display. This is a liquid crystal device.
FIG. 1A is a plan view of each component of the liquid crystal device according to the present embodiment as viewed from the counter substrate side, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG. It is. FIG. 2 is an enlarged plan view showing a region C of FIG. FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of various elements and wirings in a plurality of pixels formed in a matrix in the image display region of the liquid crystal device, and FIG. 4 is a plan view showing an electrode planar structure (pixel structure) of the various elements. is there.

本実施形態の液晶装置100は、図1に示すように、素子基板(第1基板)10、対向基板(第2基板)20、シール材52、及び液晶層50を主な構成要素として備えている。シール材52は、素子基板10及び対向基板20の周縁部に沿って形成され、当該両基板によって挟持されている。さらに、素子基板10及び対向基板20の間、かつ、シール材52の内側に液晶層50が封入、保持されている。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal device 100 of the present embodiment includes an element substrate (first substrate) 10, a counter substrate (second substrate) 20, a sealing material 52, and a liquid crystal layer 50 as main components. Yes. The sealing material 52 is formed along the periphery of the element substrate 10 and the counter substrate 20 and is sandwiched between the substrates. Further, the liquid crystal layer 50 is sealed and held between the element substrate 10 and the counter substrate 20 and inside the sealing material 52.

素子基板10は、ガラス基板等の透明基板を基体としてなり、その液晶層50側の面の画像表示領域4に対応する平面領域に、平面視略矩形状の画素電極31が配列形成されている(図4参照)。画素電極31上には図示略の配向膜が形成されている。シール材52の外側の素子基板10上には走査信号駆動回路110、及びデータ信号駆動回路120が実装されている。図示は簡略化しているが、走査信号駆動回路110から画像表示領域4に向かって複数の信号配線56が延びており、データ信号駆動回路120から画像表示領域4とシール材52との間の領域に向かって複数の信号配線55が延びている。信号配線55は、図2に示すように、シール材52をまたいでシール材52の内側の領域に延び、シール材52と平面視で重なる位置に形成された導通パッド57と各々接続されている。
なお、図2における信号配線55,56、導通パッド54,57については、各々の一部分のみを示している。実際には、信号配線55,56は、それぞれデータ信号駆動回路120、走査信号駆動回路110の端子数と同数の本数が形成されており、導通パッド54,57は、信号配線55の本数に対応する個数が配列されている。
The element substrate 10 has a transparent substrate such as a glass substrate as a base, and pixel electrodes 31 having a substantially rectangular shape in plan view are arranged in a plane region corresponding to the image display region 4 on the surface on the liquid crystal layer 50 side. (See FIG. 4). An alignment film (not shown) is formed on the pixel electrode 31. A scanning signal drive circuit 110 and a data signal drive circuit 120 are mounted on the element substrate 10 outside the sealing material 52. Although the illustration is simplified, a plurality of signal wirings 56 extend from the scanning signal driving circuit 110 toward the image display area 4, and an area between the image display area 4 and the sealing material 52 from the data signal driving circuit 120. A plurality of signal wirings 55 extend toward. As shown in FIG. 2, the signal wiring 55 extends across the sealing material 52 to a region inside the sealing material 52 and is connected to a conductive pad 57 formed at a position overlapping the sealing material 52 in plan view. .
Note that only a part of each of the signal wirings 55 and 56 and the conductive pads 54 and 57 in FIG. 2 is shown. Actually, the signal wirings 55 and 56 are formed in the same number as the terminals of the data signal driving circuit 120 and the scanning signal driving circuit 110, respectively, and the conduction pads 54 and 57 correspond to the number of the signal wirings 55. The number to be arranged is arranged.

一方、対向基板20は、ガラス基板等の透明基板を基体としてなり、その液晶層50側には、画素電極31の境界領域と対向する領域に延在する遮光膜(ブラックマトリクス)23と、画像表示領域4を縁取る枠状の周辺見切り53が形成されている。遮光膜23上には、カラーフィルタ22と、ITO等より少なくともなる対向電極(データ線)9とが形成されている。対向電極(データ線)9上には図示略の配向膜が形成されている。対向電極(データ線)9は平面視ストライプ状を成して配列された短冊状(帯状)の電極であり(図4参照)、対向基板20の端縁部に延びた端部が導通パッド54を形成している。図2に示すように、導通パッド54は素子基板10側の導通パッド57と平面視で重なる位置に形成されている。   On the other hand, the counter substrate 20 has a transparent substrate such as a glass substrate as a base, and on the liquid crystal layer 50 side, a light shielding film (black matrix) 23 extending in a region facing the boundary region of the pixel electrode 31 and an image. A frame-shaped peripheral parting line 53 that borders the display area 4 is formed. On the light shielding film 23, a color filter 22 and at least a counter electrode (data line) 9 made of ITO or the like are formed. An alignment film (not shown) is formed on the counter electrode (data line) 9. The counter electrode (data line) 9 is a strip (band) electrode arranged in a stripe shape in plan view (see FIG. 4), and the end extending to the edge of the counter substrate 20 is a conductive pad 54. Is forming. As shown in FIG. 2, the conductive pad 54 is formed at a position overlapping the conductive pad 57 on the element substrate 10 side in plan view.

液晶層50は、シール材52に設けられた注入口58aをからシール材52の内側に注入され、封止材58によって封止されている。液晶層50は、液晶装置100の動作モードによって、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、STN(Super Twisted Nematic)モード、IPS(In-Plane Switching)、FFS(Fringe Field Switching)モード、OCB(Optically Compensated Bend)モードの動作モードや、ノーマリホワイトモード/ノーマリブラックモードの別に応じて適宜材料が選択される。
なお、液晶装置100では、使用する液晶層50の種類や、ノーマリホワイトモード/ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板、偏光板等が配設されるが、ここでは図示を省略する。
The liquid crystal layer 50 is injected into the inside of the sealing material 52 through the injection port 58 a provided in the sealing material 52, and is sealed by the sealing material 58. Depending on the operation mode of the liquid crystal device 100, the liquid crystal layer 50 may be, for example, a TN (Twisted Nematic) mode, an STN (Super Twisted Nematic) mode, an IPS (In-Plane Switching) mode, an FFS (Fringe Field Switching) mode, or an OCB (Optically Compensated) mode. The material is appropriately selected according to the operation mode of the Bend mode and the normally white mode / normally black mode.
In the liquid crystal device 100, a retardation plate, a polarizing plate, and the like are provided depending on the type of the liquid crystal layer 50 to be used and the normally white mode / normally black mode, but the illustration is omitted here. .

シール材52は、図1(a)に示すように、基板端部に沿って延びる導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとを互いに接続した構造である。画像表示領域4を取り囲む四辺のうち、走査信号駆動回路110、データ信号駆動回路120が配設された辺とこれに対向する辺のシール材が、絶縁性シール部52bにより形成されており、他の二辺のシール材は導電性シール部52aにより形成されている。そして、隣接する導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとは、対向基板20の各角部において各々の端部を重ね合わされてシール接続部52cを形成しており、かかる接続構造により略枠状のシール材52が構成されている。   As shown in FIG. 1A, the sealing material 52 has a structure in which a conductive sealing portion 52a and an insulating sealing portion 52b extending along the substrate end are connected to each other. Of the four sides surrounding the image display region 4, the sealing material of the side where the scanning signal driving circuit 110 and the data signal driving circuit 120 are disposed and the side opposite thereto is formed by the insulating seal portion 52b. These two sealing materials are formed by the conductive seal portion 52a. The adjacent conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b are overlapped with each other at each corner portion of the counter substrate 20 to form a seal connection portion 52c. A seal material 52 is formed.

導電性シール部52aは、図1(a)及び図2に示すように、導通パッド54が配列された領域に対応して設けられている。すなわち、基板間の導通領域に形成されており、対向基板20側の導通パッド54と、これに対向して配置される導通パッド57を導通状態にするものである。導電性シール部52aには、導電性スペーサ粒子52fが含有されており、このような導電性スペーサ粒子52fとしては、金属粒子等の導電性材料を有する粒子や、樹脂表面にメッキ処理が施された粒子等が採用できる。導電性スペーサ粒子52fは、弾性を有していることから、素子基板10及び対向基板20が貼り合わされることによって、導通パッド54及び導通パッド57が導電性スペーサ粒子52fを押圧し、これにより導通パッド54と導通パッド57とが導通状態に保持されている。   As shown in FIGS. 1A and 2, the conductive seal portion 52 a is provided corresponding to a region where the conductive pads 54 are arranged. That is, the conductive pad 54 formed on the conductive region between the substrates, and the conductive pad 57 disposed opposite to the conductive pad 54 on the counter substrate 20 side, are brought into a conductive state. The conductive seal portion 52a contains conductive spacer particles 52f. As the conductive spacer particles 52f, particles having a conductive material such as metal particles or a resin surface is plated. Particles can be used. Since the conductive spacer particles 52f have elasticity, when the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together, the conductive pads 54 and the conductive pads 57 press the conductive spacer particles 52f, thereby conducting. The pad 54 and the conductive pad 57 are held in a conductive state.

一方、絶縁性シール部52bは電気絶縁性を有するシール部材であり、図2では省略しているが、絶縁性スペーサ粒子を含有している。絶縁性シール部52bは、導電性シール部52a以外の領域(基板間を導通しない領域)に形成されている。具体的には、図1(a)及び図2に示すように、信号配線55,56とシール材52とが交差する領域、及び注入口58aが形成された基板辺端の領域に形成されている。信号配線55,56とシール材52とが交差する領域に絶縁性シール部52bが形成されていることで、信号配線55,56の各々における複数の配線間で短絡が生じるのを防止できるようになっている。
なお、導電性シール部52a及び絶縁性シール部52bのいずれにおいても、主体となるシール材料については、熱硬化性や紫外線硬化性の樹脂材料や、硬化工程に応じて熱硬化と紫外線硬化の両者の特性を有する樹脂材料が採用される。
On the other hand, the insulating seal portion 52b is a sealing member having electrical insulation, and although omitted in FIG. 2, it contains insulating spacer particles. The insulating seal portion 52b is formed in a region other than the conductive seal portion 52a (region that does not conduct between the substrates). Specifically, as shown in FIGS. 1A and 2, the signal wirings 55 and 56 and the sealing material 52 intersect with each other, and the substrate side edge region where the injection port 58 a is formed. Yes. Since the insulating seal portion 52b is formed in a region where the signal wirings 55 and 56 and the sealing material 52 intersect, it is possible to prevent a short circuit from occurring between a plurality of wirings in each of the signal wirings 55 and 56. It has become.
In both the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b, the main sealing material is a thermosetting or ultraviolet curable resin material, or both thermosetting and ultraviolet curing depending on the curing process. A resin material having the following characteristics is employed.

画像表示領域4においては、図3に示すように、互いに交差して延びる複数の走査線13と、複数のデータ線(対向電極)9とが形成されている。そして、走査線13と対向電極(データ線)9とに囲まれる矩形状の領域がサブ画素150を形成しており、複数のサブ画素150が平面視マトリクス状に配列されている。各サブ画素150領域において、走査線13と対向電極(データ線)9との間にTFD素子40と液晶表示要素160(液晶層50)とが直列に接続されている。走査線13は走査信号駆動回路110と電気的に接続されており、対向電極(データ線)9はデータ信号駆動回路120と電気的に接続されている。
なお、図3では、TFD素子40が走査線13側に接続され、液晶表示要素160が対向電極(データ線)9側に接続されているが、これとは逆にTFD素子40を対向電極(データ線)9側に、液晶表示要素160を走査線13側に接続する構成としてもよい。
In the image display area 4, as shown in FIG. 3, a plurality of scanning lines 13 and a plurality of data lines (counter electrodes) 9 extending so as to cross each other are formed. A rectangular region surrounded by the scanning line 13 and the counter electrode (data line) 9 forms a sub-pixel 150, and the plurality of sub-pixels 150 are arranged in a matrix in plan view. In each subpixel 150 region, the TFD element 40 and the liquid crystal display element 160 (liquid crystal layer 50) are connected in series between the scanning line 13 and the counter electrode (data line) 9. The scanning line 13 is electrically connected to the scanning signal driving circuit 110, and the counter electrode (data line) 9 is electrically connected to the data signal driving circuit 120.
In FIG. 3, the TFD element 40 is connected to the scanning line 13 side and the liquid crystal display element 160 is connected to the counter electrode (data line) 9 side, but conversely, the TFD element 40 is connected to the counter electrode ( The liquid crystal display element 160 may be connected to the scanning line 13 side on the data line 9 side.

図4に示す画像表示領域4の平面構成図を見ると、走査線13にTFD素子40を介して接続された平面視矩形状の画素電極31がマトリクス状に配列されており、複数の画素電極31にわたって延在する短冊状の対向電極(データ線)9が形成されている。画素電極31及び対向電極(データ線)9は、ITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電材料より少なくともなる透明電極である。
なお、各サブ画素150に対応して赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルタ(着色層)が設けられている。
本実施形態において、各画素電極31が形成された個々の領域が1つのサブ画素150に対応し、マトリクス状に配置された各サブ画素150毎にTFD素子40を備えている。各サブ画素150は、TFD素子40を介して駆動され、カラーフィルタを介したカラー表示を行うようになっている。
As shown in the plan view of the image display area 4 shown in FIG. 4, pixel electrodes 31 having a rectangular shape in plan view connected to the scanning lines 13 via the TFD elements 40 are arranged in a matrix, and a plurality of pixel electrodes are arranged. A strip-shaped counter electrode (data line) 9 extending over 31 is formed. The pixel electrode 31 and the counter electrode (data line) 9 are at least transparent electrodes made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide).
A red (R), green (G), and blue (B) color filter (colored layer) is provided corresponding to each sub-pixel 150.
In the present embodiment, each region in which each pixel electrode 31 is formed corresponds to one subpixel 150, and the TFD element 40 is provided for each subpixel 150 arranged in a matrix. Each sub-pixel 150 is driven via the TFD element 40 and performs color display via a color filter.

TFD素子40は、走査線13と画素電極31とを接続するスイッチング素子であって、Taを主成分とする第1導電膜41と、第1導電膜の表面に形成され、タンタル酸化物(TaOx)を主成分とする絶縁膜と、絶縁膜の表面に形成され、Crを主成分とする第2導電膜42a,42bとを含むMIM構造を具備して構成されている。TFD素子40は、一方の第2導電膜42aを介して走査線13と接続され、他方の第2導電膜42bを介して画素電極31と接続されている。   The TFD element 40 is a switching element that connects the scanning line 13 and the pixel electrode 31. The TFD element 40 is formed on the surface of the first conductive film 41 containing Ta as a main component and the first conductive film. ), And an MIM structure including second conductive films 42a and 42b mainly formed of Cr and formed on the surface of the insulating film. The TFD element 40 is connected to the scanning line 13 through one second conductive film 42a, and is connected to the pixel electrode 31 through the other second conductive film 42b.

図2に示したように、画像表示領域4から外側に延出された対向電極(データ線)9の端部である導通パッド54と、導電性シール部52aを介して導通パッド54と対向する導通パッド57とは、導電性シール部52aに含まれる導電性スペーサ粒子52fによって電気的に接続されている。したがって、データ信号駆動回路120から供給される駆動信号は、信号配線55、導通パッド57、導電性スペーサ粒子52f、導通パッド54を介して、対向電極(データ線)9に電位として付与されるようになっている。
一方、図1(a)及び図2に示したように、走査信号駆動回路110から供給される駆動信号は、信号配線56を介して画像表示領域4内の走査線13に電位として付与されるようになっている。
As shown in FIG. 2, the conductive pad 54, which is the end of the counter electrode (data line) 9 extending outward from the image display region 4, and the conductive pad 54 are opposed to each other through the conductive seal portion 52a. The conductive pad 57 is electrically connected by conductive spacer particles 52f included in the conductive seal portion 52a. Therefore, the drive signal supplied from the data signal drive circuit 120 is applied as a potential to the counter electrode (data line) 9 through the signal wiring 55, the conductive pad 57, the conductive spacer particles 52f, and the conductive pad 54. It has become.
On the other hand, as shown in FIGS. 1A and 2, the drive signal supplied from the scan signal drive circuit 110 is applied as a potential to the scan line 13 in the image display region 4 via the signal wiring 56. It is like that.

なお、本実施形態では液晶装置100としてTFDアクティブマトリクス型の液晶装置を例示して説明したが、導電性シール部と絶縁性シール部とを接続してなる構造のシール材を具備した液晶装置であれば、本発明は問題なく適用することができ、その他の構成について一切の限定はない。
例えば、液晶装置100としてパッシブマトリクス型の液晶装置を構成してもよいのは勿論である。さらに、走査信号駆動回路110及びデータ信号駆動回路120が素子基板10上に実装された構成に代えて、これらの駆動回路を内蔵した駆動用LSIが実装されたフレキシブル基板を素子基板10と電気的に接続するようにしてもよい。
In the present embodiment, a TFD active matrix type liquid crystal device has been described as an example of the liquid crystal device 100. However, the liquid crystal device includes a sealing material having a structure in which a conductive seal portion and an insulating seal portion are connected. If there is, the present invention can be applied without any problem, and there is no limitation on other configurations.
For example, it is needless to say that a passive matrix liquid crystal device may be configured as the liquid crystal device 100. Further, instead of the configuration in which the scanning signal driving circuit 110 and the data signal driving circuit 120 are mounted on the element substrate 10, a flexible substrate on which a driving LSI incorporating these driving circuits is mounted is electrically connected to the element substrate 10. You may make it connect to.

(液晶装置の製造方法)
次に、図5及び図6を参照して本発明に係る液晶装置の製造方法について説明する。
図5は、液晶装置の製造工程の概略を示す斜視図である。図6(a)は、図5(a)に示す工程に対応する平面図、図6(b)は、図5(a)及び図6(a)に領域Dで示す部分を拡大して示す図である。
(Manufacturing method of liquid crystal device)
Next, a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 5 is a perspective view showing an outline of the manufacturing process of the liquid crystal device. FIG. 6A is a plan view corresponding to the process shown in FIG. 5A, and FIG. 6B is an enlarged view showing a portion indicated by a region D in FIGS. 5A and 6A. FIG.

まず、図5(a)に示すように、所定の構成部材が形成された素子基板10と対向基板20とを用意する。
このとき、素子基板10の対向基板20と対向する面には、図1から図4に示したように、TFD素子40、走査線13、画素電極31、信号配線55,56、導通パッド57、配向膜等が形成されている。これらの構成部材に関しては、公知の方法を適用して製造することができる。そして、素子基板10表面の対向基板20と貼り合わされる領域には、当該領域の二辺端に沿って延びる2本の導電性シール部52aが、スクリーン印刷を用いて形成されている。
一方、対向基板20の素子基板10と対向する面には、図1に示したように、遮光膜23、周辺見切り53、カラーフィルタ22、対向電極(データ線)9、配向膜等が形成されている。これらの構成部材についても公知の製造方法が適用できる。そして、対向基板20の最表面には、素子基板10上に形成された導電性シール部52aと交差する方向に延びる絶縁性シール部52bが、対向基板20の二辺端に沿う位置に、スクリーン印刷により形成されている。
First, as shown in FIG. 5A, an element substrate 10 and a counter substrate 20 on which predetermined constituent members are formed are prepared.
At this time, on the surface of the element substrate 10 facing the counter substrate 20, as shown in FIGS. 1 to 4, the TFD element 40, the scanning line 13, the pixel electrode 31, the signal wirings 55 and 56, the conduction pad 57, An alignment film or the like is formed. These constituent members can be manufactured by applying a known method. Then, in the region to be bonded to the counter substrate 20 on the surface of the element substrate 10, two conductive seal portions 52a extending along the two sides of the region are formed by screen printing.
On the other hand, as shown in FIG. 1, a light shielding film 23, a peripheral parting 53, a color filter 22, a counter electrode (data line) 9, an alignment film, and the like are formed on the surface of the counter substrate 20 facing the element substrate 10. ing. A known manufacturing method can be applied to these components. An insulating seal portion 52b extending in a direction intersecting with the conductive seal portion 52a formed on the element substrate 10 is provided on the outermost surface of the counter substrate 20 at a position along two edges of the counter substrate 20. It is formed by printing.

次に、図5(b)に示すように、素子基板10と対向基板20とを、導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとが形成された面を対向させて貼り合わせる。この工程により、各々の基板に形成されている導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとが部分的に重ね合わされて接続され、対向基板20の周縁部に沿った略枠状のシール材52が形成される。
その後、導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとを、紫外線照射処理や加熱処理によって硬化させる。次いで、基板の側端部に開口している注入口58aからシール材52の内側に液晶を注入し、注入口58aを封止材58で閉塞する。そして、素子基板10上に用意されている回路実装領域110a,120aにそれぞれ走査信号駆動回路110とデータ信号駆動回路120とを実装すれば、上記実施形態の液晶装置100が得られる。
Next, as shown in FIG. 5B, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together with the surfaces on which the conductive seal portions 52a and the insulating seal portions 52b are formed facing each other. Through this step, the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b formed on each substrate are partially overlapped and connected, and the substantially frame-shaped seal material 52 along the peripheral edge portion of the counter substrate 20 is connected. Is formed.
Thereafter, the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b are cured by ultraviolet irradiation treatment or heat treatment. Next, liquid crystal is injected into the sealing material 52 from the injection port 58 a opened at the side end of the substrate, and the injection port 58 a is closed with the sealing material 58. If the scanning signal driving circuit 110 and the data signal driving circuit 120 are mounted on the circuit mounting regions 110a and 120a prepared on the element substrate 10, respectively, the liquid crystal device 100 of the above embodiment can be obtained.

以上に概略を説明した製造工程のうち、図5(a)に示した工程において、貼り合わせに供されるために対向配置された素子基板10と対向基板20とを、対向基板20側から見ると、図6(a)に示すように導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとが配置された状態となっている。
そして、本実施形態の製造方法では、素子基板10の辺端に沿って延びる本体部152Aと、本体部152Aの両端からそれぞれ延出された接続部152aとより少なくともなる導電性シール部52aを形成する。また、絶縁性シール部52bについても、対向基板20の辺端に沿って延びる本体部152Bと、本体部152Bの導電性シール部52aと接続される側の端部から延出された接続部152bとより少なくともなるものを形成する。対向基板20の各角部において互いに重なり合うように、導電性シール部52aの接続部152aと、絶縁性シール部52bの接続部152bとが配置されるようになっている。
Among the manufacturing steps outlined above, in the step shown in FIG. 5A, the element substrate 10 and the counter substrate 20 that are arranged to face each other for bonding are viewed from the counter substrate 20 side. As shown in FIG. 6A, the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b are arranged.
In the manufacturing method according to the present embodiment, the conductive seal portion 52a including at least the main body portion 152A extending along the side edge of the element substrate 10 and the connection portions 152a extending from both ends of the main body portion 152A is formed. To do. As for the insulating seal portion 52b, the main body portion 152B extending along the side edge of the counter substrate 20 and the connection portion 152b extending from the end portion of the main body portion 152B on the side connected to the conductive seal portion 52a. And forming at least more. The connection portion 152a of the conductive seal portion 52a and the connection portion 152b of the insulating seal portion 52b are arranged so as to overlap each other at each corner portion of the counter substrate 20.

図6(b)の拡大図に示すように、導電性シール部52aの接続部152aは、本体部152Aよりも狭い幅に形成されている。接続部152aの幅Waは、本体部152Aの幅WAに対して70%〜90%の幅(10%〜30%減じた幅)である。接続部152aの長さLaは、絶縁性シール部52bの接続部152bと重ね合わせられる長さであればよいが、本実施形態の場合には、長さLaを絶縁性シール部52bの本体部152Bの幅WBの2倍の長さとしている。
一方、絶縁性シール部52bの接続部152bについても、本体部152Bよりも狭い幅に形成されている。接続部152bの幅Wbも、本体部152Bの幅WBに対して70%〜90%の幅である。また、接続部152bの長さLbは、導電性シール部52aの幅WAの2倍の長さである。
As shown in the enlarged view of FIG. 6B, the connection portion 152a of the conductive seal portion 52a is formed to have a narrower width than the main body portion 152A. The width Wa of the connection portion 152a is 70% to 90% (width reduced by 10% to 30%) with respect to the width WA of the main body portion 152A. The length La of the connecting portion 152a may be a length that overlaps with the connecting portion 152b of the insulating seal portion 52b, but in the present embodiment, the length La is the main body portion of the insulating seal portion 52b. The length is twice the width WB of 152B.
On the other hand, the connecting portion 152b of the insulating seal portion 52b is also formed with a narrower width than the main body portion 152B. The width Wb of the connection portion 152b is also 70% to 90% of the width WB of the main body portion 152B. The length Lb of the connecting portion 152b is twice as long as the width WA of the conductive seal portion 52a.

本実施形態では、相対的に狭い幅に形成された接続部152aを備えた導電性シール部52aと、相対的に狭い幅に形成された接続部152bを備えた絶縁性シール部52bとを、互いの接続部152aと接続部152bとを重ねるようにして接続するようになっている。接続部152aと接続部152bとが互いに交差して配置された状態では、図6(b)に示すように、接続部152aの先端と接続部152bの先端とが、交差部152cよりもそれぞれの先端側に突出するように配置されていることが好ましい。このような態様で接続部152a,152bを配置することで、交差部152cにおいて導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとを確実に接続することができ、封止性能に優れたシール材52を得られる。   In the present embodiment, the conductive seal portion 52a including the connection portion 152a formed with a relatively narrow width, and the insulating seal portion 52b including the connection portion 152b formed with a relatively narrow width, The connection portions 152a and 152b are connected to each other so as to overlap each other. In a state where the connection portion 152a and the connection portion 152b are arranged so as to intersect with each other, as shown in FIG. 6B, the tip of the connection portion 152a and the tip of the connection portion 152b are more than the intersection portion 152c. It is preferable that they are arranged so as to protrude to the tip side. By disposing the connection portions 152a and 152b in such a manner, the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b can be reliably connected at the intersecting portion 152c, and the sealing material 52 having excellent sealing performance. Can be obtained.

ここで、図7は、シール接続部52cの形状について説明するために、複数の形状例を図6(b)に倣って示した図である。本実施形態によれば、相対的に狭い幅に形成した接続部152aと接続部152bとを重ね合わせていることで、図7(a)に示すように、導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとが滑らかに一定の幅で接続された形状のシール材52を得ることができる。
これは、導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとが重なり合う部分のシール材料の量を少なくしていることで、重ねた部分のシール材料が本来形成すべき領域の外側に広がるのを抑制でき、シール材52の太り(図7(b))が発生してセルギャップに不均一が生じるのを防止できることによる。
Here, FIG. 7 is a diagram illustrating a plurality of shape examples following FIG. 6B in order to describe the shape of the seal connecting portion 52c. According to the present embodiment, by overlapping the connection portion 152a and the connection portion 152b formed to have a relatively narrow width, as shown in FIG. 7A, the conductive seal portion 52a and the insulating seal are provided. A sealing material 52 having a shape in which the portion 52b is smoothly connected with a constant width can be obtained.
This is because the amount of the sealing material at the portion where the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b overlap is reduced, so that the overlapped portion of the seal material is prevented from spreading outside the region that should be originally formed. This is because it is possible to prevent the cell gap from becoming non-uniform due to the thickening of the sealing material 52 (FIG. 7B).

ところで、このようなシール材の太りに関しては、導電性シール部52aの先端と、絶縁性シール部52bの先端との重なり幅を調整することで緩和することが可能である。しかしながら、先端の位置合わせによってシール接続部の形状を制御しようとすると、各シール部の位置ずれに対するマージンがほとんど無くなってしまう。その結果、図7(c)に示すシール材の切れが発生して液晶層50に気泡が混入したり、図7(d)に示す細りが発生して水分を透過しやすくなり、シール材の信頼性が低下するといった問題を生じる。これに対して本実施形態では、接続部152a,152bを狭幅に形成してシール材の太りに関する課題を解決しているので、図6に示すように、接続部152aと接続部152bとを交差させて重ね合わせることができる。そのため、導電性シール部52a及び絶縁性シール部52bの位置ずれに対するマージンが大きく、細りや切れの問題も解消できるものとなっている。さらに、接続部152aや接続部152bの先端においてシール材料の増減が生じたとしても、接続部152a,152bの先端を交差部152cから外側に突出させるように配置しているので、シール接続部52cの形状に大きく影響することはない。   By the way, such thickening of the sealing material can be alleviated by adjusting the overlap width between the tip of the conductive seal portion 52a and the tip of the insulating seal portion 52b. However, if it is attempted to control the shape of the seal connecting portion by aligning the tip, there is almost no margin for the positional deviation of each seal portion. As a result, the sealing material shown in FIG. 7C is cut and air bubbles are mixed into the liquid crystal layer 50, or the thinning shown in FIG. There arises a problem that reliability is lowered. On the other hand, in this embodiment, since the connection parts 152a and 152b are formed with a narrow width to solve the problem related to the thickening of the sealing material, the connection parts 152a and 152b are connected as shown in FIG. You can overlap and overlap. For this reason, a margin for displacement of the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b is large, and the problem of thinning or cutting can be solved. Furthermore, even if the seal material increases or decreases at the tips of the connecting portion 152a and the connecting portion 152b, the tips of the connecting portions 152a and 152b are arranged so as to protrude outward from the intersecting portion 152c. It does not significantly affect the shape of

接続部152a及び接続部152bを本体部152A,152Bに対して狭める程度は、上記したように本体部152A,152Bの幅の10%〜30%の範囲である。このような範囲とすることで、接続部152a,152bを接続したときに、シール接続部52cの近傍においてセルギャップの不均一が生じるのを防止することができるとともに、シール接続部52cにおいてシール材の細りや切れが生じるのを防止することができる。
また本実施形態では、導電性シール部52aの幅WAと絶縁性シール部52bの幅WBとはほぼ同一であるが、導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとは異なる幅であってもよい。このように幅が異なっている場合には、幅Waと幅WAの比率と、幅Wbと幅WBとの比率は、必ずしも一致させる必要はなく、シール接続部52cにおける形状を最適化できるように各々の比率を設定するとよい。
As described above, the degree of narrowing the connecting portion 152a and the connecting portion 152b with respect to the main body portions 152A and 152B is in the range of 10% to 30% of the width of the main body portions 152A and 152B. By setting it as such a range, when connecting part 152a, 152b is connected, it can prevent that the cell gap nonuniformity arises in the vicinity of the seal | sticker connection part 52c, and a sealing material in the seal | sticker connection part 52c. It is possible to prevent the thinning or cutting of the film.
In this embodiment, the width WA of the conductive seal portion 52a and the width WB of the insulating seal portion 52b are substantially the same, but the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b may have different widths. Good. When the widths are different as described above, the ratio of the width Wa to the width WA and the ratio of the width Wb to the width WB do not necessarily coincide with each other so that the shape of the seal connecting portion 52c can be optimized. Each ratio may be set.

また接続部152aの長さLaを絶縁性シール部の本体部152Bの幅WBの2倍にしておくことで、絶縁性シール部52bに多少の位置ずれが生じたとしても、絶縁性シール部52bの接続部152bを接続部152a上に配置できるので、位置ずれに起因するシール接続部52cの形成不良を防止することができる。したがって、絶縁性シール部52bの形成精度に対するマージンが大きくなり、歩留まりの低下が生じにくくなる。接続部152bの長さLbを本体部152Aの幅WAの2倍としているのも同様の理由である。   Further, by setting the length La of the connecting portion 152a to twice the width WB of the main body portion 152B of the insulating seal portion, the insulating seal portion 52b can be obtained even if a slight displacement occurs in the insulating seal portion 52b. Since the connecting portion 152b can be disposed on the connecting portion 152a, it is possible to prevent the formation failure of the seal connecting portion 52c due to the displacement. Therefore, the margin for the formation accuracy of the insulating seal portion 52b is increased, and the yield is hardly reduced. The reason why the length Lb of the connecting portion 152b is twice the width WA of the main body portion 152A is the same reason.

また接続部152aは、本体部152Aを幅方向の両側から狭くした形状であり、接続部152aを含む導電性シール部52aの先端部は「凸」形の形状である。また絶縁性シール部52bの接続部152bについても同様の形状となっている。素子基板10と対向基板20とを貼り合わせて導電性シール部52a及び絶縁性シール部52bとを押しつぶしたときに、シール材はその延在方向よりもむしろ幅方向に広がるため、接続部152a及び接続部152bを幅方向両側から狭めた形状としておくことで、素子基板10、対向基板20により押しつぶされたときの面方向の広がりが均一になり、シール接続部52cにおいて形状不良を生じにくくなる。   The connecting portion 152a has a shape in which the main body portion 152A is narrowed from both sides in the width direction, and the distal end portion of the conductive seal portion 52a including the connecting portion 152a has a “convex” shape. The connecting portion 152b of the insulating seal portion 52b has a similar shape. When the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other and the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b are crushed, the sealing material spreads in the width direction rather than the extending direction, so that the connection portion 152a and By forming the connecting portion 152b to be narrowed from both sides in the width direction, the spread in the surface direction when being crushed by the element substrate 10 and the counter substrate 20 becomes uniform, and it becomes difficult to cause a shape defect in the seal connecting portion 52c.

このように本実施形態の製造方法によれば、導電性シール部52aと絶縁性シール部52bとを、両者を接続する部位に設けた接続部152a,152bを介して接続するようにしたことで、シール接続部52cにおける形状不良の発生を防止することができ、信頼性に優れたシール材52を形成できる。また形状不良に起因するセルギャップの不均一が無くなるので、本発明によれば、信頼性と表示品質とに優れた液晶装置を製造することができる。   As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b are connected via the connection portions 152a and 152b provided at the portions where they are connected. Further, it is possible to prevent the occurrence of a shape defect in the seal connecting portion 52c, and it is possible to form the sealing material 52 having excellent reliability. In addition, since the cell gap non-uniformity due to the shape defect is eliminated, a liquid crystal device excellent in reliability and display quality can be manufactured according to the present invention.

なお、本実施形態では、1個の液晶装置100を製造する場合について説明したが、複数の素子基板10を作製できる素子基板用母材と、複数の対向基板20を作製できる対向基板用母材とを用いて、上記製造工程を実施してもよいのは勿論である。この場合には、素子基板用母材と対向基板用母材とを貼り合わせた後、前記両母材を切断して1個又は複数個のパネルに分割し、その後液晶注入工程を実施する。そして、液晶注入後に、必要に応じてパネル毎の切断を行い、駆動回路を実装することで、複数個の液晶装置100を製造することができる。   In the present embodiment, the case where one liquid crystal device 100 is manufactured has been described. However, an element substrate base material capable of manufacturing a plurality of element substrates 10 and a counter substrate base material capable of manufacturing a plurality of counter substrates 20 are described. Of course, the manufacturing process may be carried out using In this case, after the element substrate base material and the counter substrate base material are bonded together, both the base materials are cut and divided into one or a plurality of panels, and then a liquid crystal injection step is performed. A plurality of liquid crystal devices 100 can be manufactured by cutting each panel as necessary after liquid crystal injection and mounting a drive circuit.

(接続部の変形例)
上記実施形態では、接続部152a,152bの形状として、本体部152A,152Bを幅方向両側から狭めた形状とした場合について説明したが、接続部152a,152bの形態は先の実施形態に限られるものではない。
図8は、接続部の変形例を、図6(b)に対応させて示した図である。図8(a)に示す例では、図6(b)と比較して、接続部152a及び接続部152bを、画像表示領域4と反対側(シール材の外側)に位置している。すなわち、導電性シール部52aの先端部の内側(画像表示領域4側)が部分的に除去されるようにして接続部152aが狭められた形状である。また接続部152bについても同様である。
図8(b)に示す例では、図8(a)とは逆に、接続部152a,152bが、図6(b)と比較して画像表示領域4側(シール材の内側)に位置しており、導電性シール部52a及び絶縁性シール部52bの各先端部の外側(画像表示領域4と反対側)が部分的に除去されるようにして接続部152a,152bが狭められた形状である。
(Modification of connection part)
In the above-described embodiment, the case where the main body portions 152A and 152B are narrowed from both sides in the width direction has been described as the shape of the connection portions 152a and 152b. However, the shape of the connection portions 152a and 152b is limited to the previous embodiment. It is not a thing.
FIG. 8 is a view showing a modified example of the connecting portion corresponding to FIG. In the example shown in FIG. 8A, the connection portion 152a and the connection portion 152b are located on the opposite side (outside of the seal material) from the image display region 4 as compared with FIG. 6B. That is, the connection portion 152a is narrowed so that the inner side (image display region 4 side) of the front end portion of the conductive seal portion 52a is partially removed. The same applies to the connecting portion 152b.
In the example shown in FIG. 8B, conversely to FIG. 8A, the connecting portions 152a and 152b are located on the image display region 4 side (inside the seal material) compared to FIG. 6B. The connection portions 152a and 152b are narrowed so that the outer sides (opposite to the image display region 4) of the respective end portions of the conductive seal portion 52a and the insulating seal portion 52b are partially removed. is there.

図8に示したいずれの変形例であっても、接続部152a,152bを重ね合わせて形成されるシール接続部52cについて良好な形状を得ることができ、信頼性に優れた液晶装置を製造できる。
なお、基板を貼り合わせたときに、接続部152a、接続部152bはそれぞれ幅方向に広がるようにして押しつぶされるので、図8(a)の例ではシール接続部52cが、図6(b)の場合に対してやや外側にずれた位置に形成される。また、図8(b)に示す例では、逆に、シール接続部52cが内側にずれた位置に形成される。したがって、接続部152a,152bの形成位置の調整によってシール接続部52cの形状調整が可能である。
In any of the modifications shown in FIG. 8, a good shape can be obtained for the seal connecting portion 52c formed by overlapping the connecting portions 152a and 152b, and a highly reliable liquid crystal device can be manufactured. .
Note that when the substrates are bonded together, the connecting portion 152a and the connecting portion 152b are crushed so as to spread in the width direction, and therefore the seal connecting portion 52c in FIG. It is formed at a position slightly shifted to the outside with respect to the case. In the example shown in FIG. 8B, conversely, the seal connecting portion 52c is formed at a position displaced inward. Therefore, the shape of the seal connecting portion 52c can be adjusted by adjusting the formation positions of the connecting portions 152a and 152b.

(シール材の変形例)
上記実施形態では、対向基板20の対向する二辺に導電性シール部52aが形成され、他の対向する二辺に絶縁性シール部52bが形成された構成のシール材52を備えた液晶装置について説明したがこれに限られるものではない。
本発明を適用できる液晶装置としては、図9及び図10に示す構成であってもよい。図9(a)は、シール材52の第1変形例を示す液晶装置の平面図であり、図9(b)は、同、第2変形例を示す液晶装置の平面図である。図10は、同、第3変形例を示す液晶装置の平面図である。
なお、本例においてシール材52の構成以外は図1から図6に示した液晶装置100と共通であるから、図9及び図10では、共通の構成要素に図1から図6と同一の符号を付している。
(Modification of seal material)
In the above embodiment, the liquid crystal device includes the sealing material 52 having the configuration in which the conductive seal portions 52a are formed on the two opposite sides of the counter substrate 20 and the insulating seal portions 52b are formed on the other two opposite sides. Although explained, it is not limited to this.
The liquid crystal device to which the present invention can be applied may have the structure shown in FIGS. FIG. 9A is a plan view of a liquid crystal device showing a first modification of the sealing material 52, and FIG. 9B is a plan view of the liquid crystal device showing a second modification. FIG. 10 is a plan view of a liquid crystal device showing a third modification.
In this example, since the configuration of the sealing material 52 is the same as that of the liquid crystal device 100 shown in FIGS. 1 to 6, common constituent elements in FIGS. 9 and 10 are the same as those in FIGS. 1 to 6. Is attached.

図9(a)に示す第1変形例では、回路実装領域110a,120aが設けられた側に位置する対向基板20の辺端に沿って、導電性シール部52aが形成されており、対向基板20の他の辺端に沿って平面視略L形の絶縁性シール部52b1,52b2が形成されている。そして、導電性シール部52aと絶縁性シール部52b1,52b2とは、それぞれ回路実装領域120a近傍の対向基板20の角部において接続されるようになっている。絶縁性シール部52b1,52b2は、回路実装領域110aと反対側の対向基板20の辺端において注入口58aを形成している。上記構成を備えた第1変形例の液晶装置では、回路実装領域110a,120aの近傍に配置された導電性シール部52aにより、素子基板10上の構成部材(信号配線等)と対向基板20上の構成部材(導通パッド等)とを導通させるようになっている。このように絶縁性シール部が直線状ではなく屈曲した形状であっても、本発明は問題なく適用できる。
なお、本例のように屈曲した形状の絶縁性シール部52b1,52b2においては、絶縁性シール部52b1,52b2の屈曲部位の内側に、図示のようなスリット52sを形成しておいてもよい。このようなスリット52sを設けておくことで、素子基板10と対向基板20とを貼り合わせたときに、前記屈曲部位において形状不良が発生するのを防止することができる。
In the first modification shown in FIG. 9A, the conductive seal portion 52a is formed along the side edge of the counter substrate 20 located on the side where the circuit mounting regions 110a and 120a are provided. Insulating seal portions 52b1 and 52b2 having a substantially L shape in a plan view are formed along the other side edges of 20. The conductive seal portion 52a and the insulating seal portions 52b1 and 52b2 are connected to each other at the corner portion of the counter substrate 20 in the vicinity of the circuit mounting region 120a. The insulating seal portions 52b1 and 52b2 form an injection port 58a at the side edge of the counter substrate 20 opposite to the circuit mounting region 110a. In the liquid crystal device of the first modified example having the above-described configuration, the constituent members (signal wiring and the like) on the element substrate 10 and the counter substrate 20 are formed by the conductive seal portion 52a disposed in the vicinity of the circuit mounting regions 110a and 120a. The component members (such as conductive pads) are electrically connected. As described above, the present invention can be applied without any problem even if the insulating seal portion has a bent shape instead of a linear shape.
In the insulating seal portions 52b1 and 52b2 having a bent shape as in this example, a slit 52s as illustrated may be formed inside the bent portions of the insulating seal portions 52b1 and 52b2. By providing such slits 52s, it is possible to prevent a defective shape from occurring at the bent portion when the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together.

図9(b)に示す第2変形例では、回路実装領域110a,120a側の対向基板20の辺端から図示左側に隣接する他の辺端にわたって延びる平面視L形の第1の絶縁性シール部52b1が形成されている。さらに、かかるL形の絶縁性シール部52b1の両端には、それぞれ第1の導電性シール部52a1及び第2の導電性シール部52a2が接続されるようになっている。図示右側の回路実装領域120a近傍の対向基板角部から図示右側の辺端に沿って延びる第1の導電性シール部52a1は、当該導電性シール部52a1が延在する辺端の中途で第2の絶縁性シール部52b2と接続されるようになっている。一方、第2の導電性シール部52a2は、前記L形の第1の絶縁性シール部52b1と対向基板20の図示左側の辺端の中途で接続されており、かかるシール接続部52dから対向基板20の他の角部へ延びている。さらに、当該角部において回路実装領域とは反対側に位置する辺端に沿って延びる第3の絶縁性シール部52b3と接続されるようになっている。そして、第2の絶縁性シール部52b2が形成された側の辺端において、第2の絶縁性シール部52b2と第3の絶縁性シール部52b3とが注入口58aを形成している。   In the second modification shown in FIG. 9B, a first insulating seal having an L shape in plan view extending from the side edge of the counter substrate 20 on the circuit mounting regions 110a and 120a side to the other side edge adjacent to the left side in the drawing. A portion 52b1 is formed. Furthermore, a first conductive seal portion 52a1 and a second conductive seal portion 52a2 are connected to both ends of the L-shaped insulating seal portion 52b1, respectively. The first conductive seal portion 52a1 extending from the counter substrate corner near the circuit mounting region 120a on the right side of the drawing along the side edge on the right side of the drawing has a second halfway along the side edge where the conductive seal portion 52a1 extends. The insulating seal portion 52b2 is connected. On the other hand, the second conductive seal portion 52a2 is connected to the L-shaped first insulating seal portion 52b1 in the middle of the left edge of the counter substrate 20 in the drawing, and the counter connection substrate 52d is connected to the counter substrate. 20 extends to the other corner. Further, the corner portion is connected to a third insulating seal portion 52b3 extending along the side edge located on the opposite side to the circuit mounting region. The second insulating seal portion 52b2 and the third insulating seal portion 52b3 form the injection port 58a at the side edge on the side where the second insulating seal portion 52b2 is formed.

第1の導電性シール部52a1と第2の導電性シール部52a2とは、これらが形成された辺端の延在方向に互いにずれて配置されている。これにより、回路実装領域110a,120a側に形成されている対向電極(データ線)9(図1参照)と、素子基板10上の導通パッドとの導通接続は第1の導電性シール部52a1を介してなされ、回路実装領域110a,120aから離れた側に形成されている対向電極(データ線)9と素子基板10上の導通パッドとの導通接続は第2の導電性シール部52a2を介してなされるようになっている。このような構成としていることで、表示領域の外側の引き回し配線領域を有効に利用できる構造となる。   The first conductive seal portion 52a1 and the second conductive seal portion 52a2 are arranged so as to be shifted from each other in the extending direction of the side edge where they are formed. As a result, the conductive connection between the counter electrode (data line) 9 (see FIG. 1) formed on the circuit mounting regions 110a and 120a side and the conductive pad on the element substrate 10 is connected to the first conductive seal portion 52a1. The conductive connection between the counter electrode (data line) 9 formed on the side away from the circuit mounting regions 110a and 120a and the conductive pad on the element substrate 10 is performed via the second conductive seal portion 52a2. It has been made. With such a configuration, the lead wiring area outside the display area can be effectively used.

また第2の変形例では、対向基板20の辺端の中途で導電性シール部と絶縁性シール部とが接続されてシール接続部52dを形成するようになっている。そして本例では、かかるシール接続部52dを構成する部位についても、本体部より狭幅に形成された接続部152aと接続部152bとを形成しており、シール接続部52dにおいて形状不良が発生するのを防止するようになっている。
なお、本例においても、第1の絶縁性シール部52b1及び第3の絶縁性シール部52b3の屈曲部について、スリット52sを形成してもよいのは勿論である。
In the second modification, the conductive seal portion and the insulating seal portion are connected in the middle of the side edge of the counter substrate 20 to form the seal connection portion 52d. And in this example, also about the site | part which comprises this seal | sticker connection part 52d, the connection part 152a and the connection part 152b which were formed more narrowly than the main-body part are formed, and a shape defect generate | occur | produces in the seal | sticker connection part 52d. It is designed to prevent this.
In this example as well, it is needless to say that the slits 52s may be formed in the bent portions of the first insulating seal portion 52b1 and the third insulating seal portion 52b3.

図10に示す第3変形例は、画像表示領域4が図示左右方向に長手である構成の液晶装置におけるシール材の構成である。かかる液晶装置では、平面視L形の第1の絶縁性シール部52b1及び第2の絶縁性シール部52b2が図示左右の辺端と図示上側の辺端に沿って延在しており、回路実装領域110a,120a側の対向基板20の辺端に沿って、第1の導電性シール部52a1及び第2の導電性シール部52a2と、第1の導電性シール部52a1及び第2の導電性シール部52a2との間に形成されて両者と接続される第3の絶縁性シール部52b3とが形成されている。第1の導電性シール部52a1は、対向基板20の角部において第1の絶縁性シール部52b1と接続される。第2の導電性シール部52a2は、対向基板20の角部において第2の絶縁性シール部52b2と接続される。第1の絶縁性シール部52b1及び第2の絶縁性シール部52b2は、図示上側の辺端において注入口58aを形成している。
かかる構成の液晶装置では、回路実装領域120aの近傍にのみ選択的に第1の導電性シール部52a1及び第2の導電性シール部52a2が形成されており、当該導電性シール部52a1,52a2によって対向基板20上の対向電極(データ線)9(又は対向電極(データ線)9から引き出された配線)と、回路実装領域120aから延びる信号配線とが導通接続されるようになっている。
なお、本例においても、第1の絶縁性シール部52b1及び第2の絶縁性シール部52b2の屈曲部について、スリット52sを形成してもよいのは勿論である。
The third modification shown in FIG. 10 is a configuration of the sealing material in the liquid crystal device having a configuration in which the image display region 4 is long in the horizontal direction in the drawing. In such a liquid crystal device, the first insulating seal portion 52b1 and the second insulating seal portion 52b2 having an L shape in plan view extend along the left and right side edges in the drawing and the upper edge in the drawing. Along the side edges of the counter substrate 20 on the regions 110a and 120a side, the first conductive seal portion 52a1 and the second conductive seal portion 52a2, and the first conductive seal portion 52a1 and the second conductive seal. A third insulating seal part 52b3 is formed between the part 52a2 and connected to the part 52a2. The first conductive seal portion 52a1 is connected to the first insulating seal portion 52b1 at the corner portion of the counter substrate 20. The second conductive seal portion 52a2 is connected to the second insulating seal portion 52b2 at the corner portion of the counter substrate 20. The first insulating seal portion 52b1 and the second insulating seal portion 52b2 form an injection port 58a at the side edge on the upper side in the drawing.
In the liquid crystal device having such a configuration, the first conductive seal portion 52a1 and the second conductive seal portion 52a2 are selectively formed only in the vicinity of the circuit mounting region 120a, and the conductive seal portions 52a1 and 52a2 form the conductive seal portions 52a1 and 52a2. The counter electrode (data line) 9 on the counter substrate 20 (or the wiring drawn from the counter electrode (data line) 9) and the signal wiring extending from the circuit mounting region 120a are conductively connected.
In this example as well, it is needless to say that the slits 52s may be formed in the bent portions of the first insulating seal portion 52b1 and the second insulating seal portion 52b2.

(電子機器)
図11は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。同図の携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。上記各実施形態の液晶装置は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、さらにはプロジェクタの光変調手段(ライトバルブ)として用いることもできる。いずれの電子機器においても、液晶の封止性や配線間の絶縁性等の信頼性に優れる液晶表示部を備えたものとなる。
(Electronics)
FIG. 11 is a perspective view showing an example of an electronic apparatus according to the invention. A cellular phone 1300 in the figure includes the liquid crystal device of the present invention as a small-sized display portion 1301, and includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, and a mouthpiece 1304. The liquid crystal device of each of the above embodiments is not limited to a mobile phone, but an electronic book, a personal computer, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator It can be suitably used as an image display means for a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, a device equipped with a touch panel, and the like, and can also be used as a light modulation means (light valve) of a projector. In any electronic apparatus, a liquid crystal display unit having excellent reliability such as sealing property of liquid crystal and insulation between wirings is provided.

実施形態に係る液晶装置を示す図。1 is a diagram showing a liquid crystal device according to an embodiment. 図1の領域Cを拡大して示す図。The figure which expands and shows the area | region C of FIG. 液晶装置の等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device. 液晶装置の画素構成図。2 is a pixel configuration diagram of a liquid crystal device. FIG. 実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための斜視図。The perspective view for demonstrating the manufacturing method of the liquid crystal device which concerns on embodiment. 実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するための平面図。FIG. 5 is a plan view for explaining the method for manufacturing the liquid crystal device according to the embodiment. シール接続部の形状を説明するための平面図。The top view for demonstrating the shape of a seal | sticker connection part. シール接続構造の他の構成例を示す図。The figure which shows the other structural example of a seal connection structure. シール材の他の構成例を示す図。The figure which shows the other structural example of a sealing material. シール材の他の構成例を示す図。The figure which shows the other structural example of a sealing material. 電子機器の一例を示す図。FIG. 14 illustrates an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

10…素子基板(第1基板)、20…対向基板(第2基板)、50…液晶層、52…シール材、52a…導電性シール部、52b…絶縁性シール部、52c,52d…シール接続部、52s…スリット、58…封止材、58a…注入口、100…液晶装置、152a…接続部、152b…接続部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Element board | substrate (1st board | substrate), 20 ... Opposite board | substrate (2nd board | substrate), 50 ... Liquid crystal layer, 52 ... Sealing material, 52a ... Conductive sealing part, 52b ... Insulating sealing part, 52c, 52d ... Seal connection Part, 52s ... slit, 58 ... sealing material, 58a ... injection port, 100 ... liquid crystal device, 152a ... connection part, 152b ... connection part.

Claims (7)

導電性シール部が形成された第1基板の第1主面と、絶縁性シール部が形成された第2基板の第1主面とを対向させて、前記導電性シール部と前記絶縁性シール部とを部分的に重ね合わせた状態で前記第1基板と第2基板とを貼り合わせる液晶装置の製造方法であって、
前記第1基板の前記第1主面側に、前記第1基板の端部に沿って延在する本体部と、前記第1基板又は前記第2基板の角部に対応して前記本体部より狭い幅を有した接続部とを備えた前記導電性シール部を形成する工程と、
前記第2基板の前記第1主面側に、前記第2基板の端部に沿って延在する本体部と、前記第1基板又は前記第2基板の角部に対応して前記本体部より狭い幅を有した接続部とを備えた前記絶縁性シール部を形成する工程と、
前記第1基板の前記第1主面と前記第2基板の前記第1主面とを対向させて、前記導電性シール部の前記接続部と前記絶縁性シール部の前記接続部とが重ね合わされた状態で前記第1基板と第2基板とを貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
The conductive seal portion and the insulating seal are formed so that the first main surface of the first substrate on which the conductive seal portion is formed and the first main surface of the second substrate on which the insulating seal portion is formed are opposed to each other. A method of manufacturing a liquid crystal device in which the first substrate and the second substrate are bonded to each other in a partially overlapping state,
A main body portion extending along an end of the first substrate on the first main surface side of the first substrate, and a main body portion corresponding to a corner portion of the first substrate or the second substrate. Forming the conductive seal portion with a connection portion having a narrow width;
From the main body portion corresponding to the first main surface side of the second substrate along the end portion of the second substrate and the corner portion of the first substrate or the second substrate. Forming the insulating seal portion including a connection portion having a narrow width;
The connection portion of the conductive seal portion and the connection portion of the insulating seal portion are overlapped with the first main surface of the first substrate facing the first main surface of the second substrate. Bonding the first substrate and the second substrate in a state where
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising:
前記本体部を幅方向両側から狭くした形状であり、狭くした一定の幅で所定の長さの前記接続部を形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。   2. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the main body portion has a shape narrowed from both sides in the width direction, and the connecting portion having a predetermined width and a predetermined narrow width is formed. 前記接続部の幅を、前記本体部の幅に対して10%以上30%以下狭い幅に形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置の製造方法。   3. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein a width of the connection portion is formed to be narrower by 10% or more and 30% or less than a width of the main body portion. 前記第1基板及び第2基板の対向する角部において、前記導電性シール部の前記接続部と前記絶縁性シール部の前記接続部とを平面視で交差させて重ね合わせることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。   The connection portion of the conductive seal portion and the connection portion of the insulating seal portion are overlapped and overlapped with each other in a plan view at corner portions of the first substrate and the second substrate facing each other. Item 4. The method for producing a liquid crystal device according to any one of Items 1 to 3. 前記接続部どうしを重ね合わせるに際して、前記各接続部の先端を、前記接続部どうしの交差部から先端側へ突出させることを特徴とする請求項4に記載の液晶装置の製造方法。   5. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 4, wherein when the connection portions are overlapped with each other, the front ends of the connection portions are protruded from the intersection portions of the connection portions toward the front end side. 液晶層とを挟持して対向配置された第1基板と第2基板と、前記両基板の周縁部に形成された導電性シール部と絶縁性シール部とを互いに接続してなるシール材とを備えた液晶装置であって、
前記第1基板及び第2基板の対向する角部に、前記導電性シール部と前記絶縁性シール部とを接続してなるシール接続部が形成されており、
前記シール接続部では、前記導電性シール部の先端部にて他の部位よりも狭い幅に形成された接続部と、前記絶縁性シール部の先端部にて他の部位よりも狭い幅に形成された接続部とが、互いに交差して重ね合わされていることを特徴とする液晶装置。
A first substrate and a second substrate disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a sealing material formed by connecting a conductive seal portion and an insulating seal portion formed on the peripheral edge of the two substrates to each other. A liquid crystal device comprising:
A seal connecting portion formed by connecting the conductive seal portion and the insulating seal portion is formed at opposite corner portions of the first substrate and the second substrate,
In the seal connection part, a connection part formed at a narrower width than the other part at the tip part of the conductive seal part and a narrower width than the other part at the tip part of the insulating seal part The liquid crystal device is characterized in that the connected portions intersect and overlap each other.
請求項6に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 6.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106773213A (en) * 2017-01-03 2017-05-31 京东方科技集团股份有限公司 A kind of display panel and preparation method thereof, display device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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