JP2008094082A - Fine processing method and fine processing substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stabilize the quality of a substrate having a fine uneven pattern on its surface and further thin and miniaturize the substrate. <P>SOLUTION: A tabular article to be processed having a smooth resin surface provided on at least one side thereof is used. During a die operation process wherein a die for punching the article to be processed into a predetermined shape is moved from an initial position to be returned to the initial position through a punching position, at least one of a transfer member having an uneven pattern formed on its surface and the article to be processed is raised in temperature by heating and, in this state, the uneven pattern of the transfer member is pressed to the resin surface of the article to be processed to perform a transfer process for transferring the uneven pattern to a place positioned with respect to a predetermined punching shape. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板表面に高精度の鏡面や微細な凹凸のパターンを形成する微細加工方法、およびその微細加工方法によって製造された微細加工基板に関する。   The present invention relates to a microfabrication method for forming a highly accurate mirror surface or a fine uneven pattern on a substrate surface, and a microfabrication substrate manufactured by the micromachining method.

一般に、光学部品の代表的な成形法として、金型温度を成形用樹脂の軟化温度未満とした一定容積のキャビティ内に適量の溶融樹脂を射出充填し、保圧を制御しながら冷却した後、金型を開いて成形品を取り出す射出成形方法が知られている。   In general, as a typical molding method for optical components, an appropriate amount of molten resin is injected and filled into a cavity having a fixed volume with a mold temperature lower than the softening temperature of the molding resin, and after cooling while controlling the holding pressure, An injection molding method is known in which a mold is opened to take out a molded product.

このような射出成形方法の場合、射出成形品の体積の大、小により充填量を変える必要があるが、体積が所定範囲以下に小さくなった場合、射出成形機のシリンダー径も小さいものに変えないと成形条件のコントロール幅が狭くなってしまうという問題点がある。   In the case of such an injection molding method, it is necessary to change the filling amount depending on the volume of the injection molded product, but if the volume becomes smaller than the predetermined range, the cylinder diameter of the injection molding machine is also changed to a smaller one. Otherwise, there is a problem that the control range of the molding conditions becomes narrow.

また、射出成形品で、厚さが均一で微細なパターンがある製品としてディスク基板がよく知られている。ディスク基板は、外径120mm、内径15mm、厚さ1.2mmまたは0.6mmの2枚貼り合わせで構成される。転写部材であるスタンパーは、外径138mm、内径22mmまたは34mm、板厚約0.3mmのNi板で、金型の片面に内周部を金型部品のスタンパー押えにより機械的に保持している。   A disk substrate is well known as an injection molded product having a uniform thickness and a fine pattern. The disk substrate is formed by bonding two sheets having an outer diameter of 120 mm, an inner diameter of 15 mm, and a thickness of 1.2 mm or 0.6 mm. The stamper, which is a transfer member, is a Ni plate having an outer diameter of 138 mm, an inner diameter of 22 mm or 34 mm, and a plate thickness of about 0.3 mm, and the inner peripheral portion is mechanically held on one side of the mold by a stamper presser of a mold part. .

このようなディスク基板を成形する場合、溶融樹脂は、金型のスプルーブッシュからディスクゲートにより基板センターからキャビティー内に入って、充填が完了すると直ぐに内径部を金型のカットパンチにより打ち抜いている。打ち抜かれたランナーは、スプルーブッシュ内の冷却水路で冷され、コールドランナーとして取り出される。   When molding such a disk substrate, the molten resin enters the cavity from the substrate center by the disk gate from the sprue bush of the mold, and immediately after the filling is completed, the inner diameter portion is punched by the cut punch of the mold. . The punched runner is cooled in a cooling water channel in the sprue bush and taken out as a cold runner.

このため、内周の樹脂温度は高く、外周に行くに従い冷却が進み樹脂温度が低くなるため、半径方向に沿って樹脂の粘度差が生じ、内周部のパターン転写は良好であっても、外周部は転写不足になってしまうという問題点がある。   For this reason, the resin temperature on the inner circumference is high, the cooling proceeds and the resin temperature decreases as it goes to the outer circumference, resulting in a resin viscosity difference along the radial direction, and even if the pattern transfer on the inner circumference is good, There is a problem that the outer peripheral portion is insufficiently transferred.

また、射出成形の場合、上記のように、スタンパー、スタンパー押え、スプルーブッシュ等、部品点数が多くなるため、機械設計上、個々の部品の製作公差を考慮したクリアランス設計が必要となる。このため、成形後のディスク基板の内径部の微細パターンに対する偏心は避けられず、10〜15μm程度までは許容せざるをえない状況であった。   In the case of injection molding, as described above, the number of parts such as a stamper, a stamper presser, and a sprue bush increases. Therefore, in designing the machine, it is necessary to design a clearance in consideration of manufacturing tolerances of individual parts. For this reason, the eccentricity with respect to the fine pattern of the inner diameter portion of the disk substrate after molding is unavoidable, and it is inevitable to allow it up to about 10 to 15 μm.

さらに、ディスク基板の小径化を図る目的で、基板の板厚をさらに薄く(例えば0.4mm以下に)しようとすると、外周部の冷却がさらに加速され、樹脂は外周まで到達しないか、板厚が不均一で転写不足になるという問題が生じるため、ディスク基板の薄型化は困難であった。   Furthermore, if the thickness of the substrate is further reduced (for example, 0.4 mm or less) for the purpose of reducing the diameter of the disk substrate, the cooling of the outer peripheral portion is further accelerated and the resin does not reach the outer periphery. Therefore, it is difficult to reduce the thickness of the disk substrate.

また、基板の内径をさらに小さく(例えば5mm以下に)しようとすると、金型でスプルーブッシュやスタンパー押え、カットパンチを製作するのが困難になるという問題が生じるため、ディスク基板の小径化は困難であった。   Further, if the inner diameter of the substrate is further reduced (for example, 5 mm or less), it becomes difficult to manufacture a sprue bush, stamper presser, or cut punch with a mold, so it is difficult to reduce the diameter of the disk substrate. Met.

その他、近年では、基板成形工程と転写工程とを別工程で行う方法が提案されている。しかし、例えば、ディスクやロータリーエンコーダのように、基板と凹凸模様との相対的位置精度がナノメーターレベルで厳しく要求される場合、位置決めに時間がかかる。また、後工程での熱による変形や作業中のズレ等により、所望の精度を得ることは難しい。そのため、このような微細加工に、基板成形工程と転写工程とを別工程で行う方法が適用されたケースはない。
特開2002−046151号公報 特開2003−118025号公報
In addition, in recent years, a method has been proposed in which the substrate forming step and the transfer step are performed in separate steps. However, when the relative positional accuracy between the substrate and the concavo-convex pattern is strictly required at the nanometer level, such as a disk or a rotary encoder, positioning takes time. In addition, it is difficult to obtain desired accuracy due to deformation due to heat in the post-process or deviation during operation. Therefore, there is no case where a method of performing the substrate forming process and the transfer process in separate processes is applied to such fine processing.
JP 2002-0465151 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-118025

そこで、本発明者は、上記問題点に鑑み、鋭意検討した結果、表面に微細な凹凸パターンを有する基板の品質の安定化を図るだけでなく、更なる薄型化、小型化も可能とする新しい微細加工方法を見出した。すなわち、射出成形や押出成形等により得られる被加工物を、表面が滑らかで厚みが均一な平板形状のブランク基板とする。そして、このブランク基板(被加工物)を所定の形状に打ち抜く金型の型作動工程中に、プレス装置を用いた転写技術(インプリント)により、被加工物(ブランク基板)に微細な凹凸パターンを形成する(転写工程)。   In view of the above problems, the present inventor has intensively studied. As a result, the present inventor not only stabilizes the quality of a substrate having a fine uneven pattern on the surface, but also enables a further reduction in thickness and size. A fine processing method was found. In other words, a workpiece obtained by injection molding or extrusion molding is a flat blank substrate having a smooth surface and a uniform thickness. A fine uneven pattern is formed on the workpiece (blank substrate) by a transfer technique (imprint) using a press device during the mold operation process of the die for punching the blank substrate (workpiece) into a predetermined shape. Is formed (transfer process).

この方法による被加工物の成形においては、それぞれ得意とする成形機を使用すれば良く、プレス装置は、成形品の体積によって変更する必要は無い。また、被加工品の板厚の選択とヒーターで均一に加熱することにより、薄型基板や小径基板への微細転写も可能となった。   In forming a workpiece by this method, it is only necessary to use a molding machine that is good at each, and the press device does not need to be changed depending on the volume of the molded product. In addition, fine transfer to thin substrates and small-diameter substrates has become possible by selecting the thickness of the workpiece and heating it uniformly with a heater.

この発明の請求項1に係る微細加工方法は、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備えた平板状の被加工物を所定の形状に打ち抜く金型が初期位置から打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、表面に凹凸模様が形成された転写部材または前記被加工物の少なくとも一方が加熱により昇温した状態で、前記転写部材の凹凸模様を前記被加工物の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程を行うことを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a micromachining method according to claim 1, wherein a die for punching a flat workpiece having a smooth resin surface on at least one surface into a predetermined shape is returned from the initial position to the initial position through the punching position. During the mold operation step, in a state where at least one of the transfer member having a concavo-convex pattern formed on the surface or the workpiece is heated, the concavo-convex pattern of the transfer member is applied to the resin surface of the workpiece. It is characterized by performing a transfer step of applying pressure to transfer the uneven pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape.

この発明の請求項2に係る微細加工方法は、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備えた平板状の被加工物を打ち抜く金型が初期位置から打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、表面に凹凸模様が形成された転写部材または前記被加工物の少なくとも一方を加熱により昇温させる昇温工程、前記被加工物を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、前記転写部材の凹凸模様を前記被加工物の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および前記凹凸模様が前記位置決めされた所に転写された前記被加工物を冷却する冷却工程、を実行することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a micro-machining method in which a mold for punching a flat workpiece having a smooth resin surface on at least one side is moved from an initial position through a punching position to return to an initial position. A temperature raising step of heating at least one of the transfer member having a concavo-convex pattern formed thereon or the workpiece, a punching step of punching the workpiece into a predetermined shape, and a concavo-convex pattern of the transfer member Is applied to the resin surface of the workpiece to transfer the concavo-convex pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape, and the concavo-convex pattern is transferred to the position where the concavo-convex pattern is positioned. And a cooling step for cooling the workpiece.

この発明の請求項3に係る微細加工方法は、請求項2記載の微細加工方法において、前記型作動工程中に、前記昇温工程、前記打ち抜き工程、前記転写工程、および前記冷却工程を、この順に実行することを特徴とする。   The micromachining method according to claim 3 of the present invention is the micromachining method according to claim 2, wherein the temperature raising step, the punching step, the transfer step, and the cooling step are performed during the mold operation step. It is characterized by executing in order.

この発明の請求項4に係る微細加工方法は、請求項2記載の微細加工方法において、前記型作動工程中に、前記昇温工程、前記転写工程、前記打ち抜き工程、および前記冷却工程を、この順に実行することを特徴とする。   A micromachining method according to a fourth aspect of the present invention is the micromachining method according to the second aspect, wherein the temperature raising step, the transfer step, the punching step, and the cooling step are performed during the mold operation step. It is characterized by executing in order.

この発明の請求項5に係る微細加工方法は、請求項2〜4のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記打ち抜き工程において、前記所定の形状の外側にある前記被加工物の残余の部分を固定した状態で、前記被加工物を前記所定の形状に打ち抜くことを特徴とする。   A micromachining method according to a fifth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the second to fourth aspects, wherein in the punching step, a residual of the work piece outside the predetermined shape is obtained. The workpiece is punched into the predetermined shape with the portion fixed.

この発明の請求項6に係る微細加工方法は、請求項2〜5のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記冷却工程において、前記転写部材及び前記被加工物を冷却用気体により強制的に冷却することを特徴とする。   A micromachining method according to a sixth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the second to fifth aspects, wherein, in the cooling step, the transfer member and the workpiece are forced by a cooling gas. It is characterized by cooling.

この発明の請求項7に係る微細加工方法は、請求項2〜6のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き部分が、前記被加工物の打ち抜き孔の部分に自動的に挿入されて、両者が実質的に一体となって取り出せることを特徴とする。   A micromachining method according to a seventh aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the second to sixth aspects, wherein the punched portion punched into the predetermined shape is a punching hole of the workpiece. It is automatically inserted into the portion and can be taken out substantially integrally.

この発明の請求項8に係る微細加工方法は、請求項2〜7のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記被加工物の平滑な前記樹脂面の表面粗さRaは、0.5μm以下であることを特徴とする。   The micromachining method according to claim 8 of the present invention is the micromachining method according to any one of claims 2 to 7, wherein the smooth surface roughness Ra of the workpiece is 0.5 μm. It is characterized by the following.

この発明の請求項9に係る微細加工方法は、請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記打ち抜き工程で前記被加工物を打ち抜く前記所定の形状は、円盤状であることを特徴とする。   The micromachining method according to claim 9 of the present invention is the micromachining method according to any one of claims 2 to 8, wherein the predetermined shape for punching the workpiece in the punching step is a disc shape. It is characterized by that.

この発明の請求項10に係る微細加工方法は、請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記打ち抜き工程で前記被加工物を打ち抜く前記所定の形状は、中心部に円形孔を有する円盤状であることを特徴とする。   A micromachining method according to a tenth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the second to eighth aspects, wherein the predetermined shape for punching the workpiece in the punching step is circular at a center portion. It is characterized by a disk shape having holes.

この発明の請求項11に係る微細加工基板は、請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法によって作製されたことを特徴とする。   A microfabricated substrate according to an eleventh aspect of the present invention is manufactured by the microfabrication method according to any one of the second to eighth aspects.

この発明の請求項12に係るディスク用基板は、請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法によって作製されたことを特徴とする。   According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a disk substrate produced by the microfabrication method according to any one of the second to eighth aspects.

この発明の請求項13に係るロータリーエンコーダ用基板は、請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法によって作製されたことを特徴とする。   According to a thirteenth aspect of the present invention, a rotary encoder substrate is produced by the microfabrication method according to any one of the second to eighth aspects.

この発明の請求項14に係る微細加工方法は、少なくとも一方が加熱可能な上型または下型のいずれか一方が、パンチ側ホルダーに固定されたパンチと、前記パンチを通す孔を有し、かつ、前記パンチの先端面より突出した位置を基準として、これより押し込まれたとき復帰するように付勢されたストリッパーとを備え、他方が、ダイ側ホルダーに固定されたダイであって、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備え、かつ、両型間に置かれる被加工基板を、プレス装置のラムが型閉方向に駆動することにより、前記ストリッパーとの間に挟持し、さらに前記パンチと協働して前記被加工基板を打ち抜くダイと、前記ダイの内側空間に配置され、表面に凹凸模様が形成された転写部材を先端に備え、前記凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧可能な加圧部材とを備えた金型を用いて、微細加工を行う方法であって、前記パンチとダイが初期位置から前記挟持する挟持位置さらに前記打ち抜く打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、前記上型または下型の少なくとも一方を加熱することで前記転写部材または前記被加工基板の少なくとも一方を昇温させる昇温工程、前記被加工基板を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、前記転写部材の凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および前記凹凸模様が前記位置決めされた所に転写された前記被加工基板を冷却する冷却工程、を実行することを特徴とする。   According to a fourteenth aspect of the present invention, at least one of the upper die and the lower die that can be heated has a punch fixed to the punch side holder, a hole through which the punch passes, and A stripper biased so as to return when it is pushed in on the basis of a position protruding from the front end surface of the punch, and the other is a die fixed to the die side holder, at least one side The substrate to be processed, which is provided with a smooth resin surface, is sandwiched between the stripper by driving the ram of the press device in the mold closing direction and further cooperates with the punch. A die for punching out the substrate to be processed, and a transfer member disposed in the inner space of the die and having a concavo-convex pattern formed on the surface thereof, and the concavo-convex pattern on the resin surface of the substrate to be processed A method of performing microfabrication using a mold having a pressurizing member capable of pressurization, wherein the punch and die are sandwiched from the initial position to the initial position through the punching position. A temperature raising step of heating at least one of the transfer member or the substrate to be processed by heating at least one of the upper die or the lower die during the mold operation step until returning, and the substrate to be processed has a predetermined shape A punching process for punching the sheet, a transfer process for pressing the uneven pattern of the transfer member against the resin surface of the substrate to be processed, and transferring the uneven pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape; and A cooling step is performed for cooling the substrate to be processed, which has been transferred to the position where the uneven pattern is positioned.

この発明の請求項15に係る微細加工方法は、請求項14記載の微細加工方法において、加熱される前記上型または下型の前記プレス装置と接する部材を断熱材で構成し、前記上型または下型から前記プレス装置への熱伝導を防止することを特徴とする。   A micromachining method according to a fifteenth aspect of the present invention is the micromachining method according to the fourteenth aspect, wherein a member in contact with the pressing device of the upper die or the lower die to be heated is formed of a heat insulating material, and the upper die or It is characterized in that heat conduction from the lower mold to the pressing device is prevented.

この発明の請求項16に係る微細加工方法は、請求項14または請求項15記載の微細加工方法において、前記昇温工程は、前記加圧部材に備えたヒーターにより前記転写部材を昇温させ、また、前記被加工基板が前記ストリッパーと前記ダイとの間に挟持されたとき、前記パンチに備えたヒーターにより、前記パンチと前記転写部材とに挟持される部分の前記被加工基板を昇温させることを特徴とする。   The micromachining method according to a sixteenth aspect of the present invention is the micromachining method according to the fourteenth or fifteenth aspect, wherein the temperature raising step raises the temperature of the transfer member by a heater provided in the pressure member, Further, when the substrate to be processed is sandwiched between the stripper and the die, the substrate to be processed in a portion sandwiched between the punch and the transfer member is heated by a heater provided in the punch. It is characterized by that.

この発明の請求項17に係る微細加工方法は、請求項14〜16のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記打ち抜き工程は、前記被加工基板が前記ストリッパーと前記ダイとの間に挟持された状態で、前記パンチと前記転写部材とに挟持されている部分の前記被加工基板を前記所定の形状として打ち抜くことを特徴とする。   The microfabrication method according to a seventeenth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the fourteenth to sixteenth aspects, wherein the workpiece is sandwiched between the stripper and the die. In this state, the portion of the substrate to be processed sandwiched between the punch and the transfer member is punched out as the predetermined shape.

この発明の請求項18に係る微細加工方法は、請求項14〜17のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記転写工程は、前記昇温工程の後、前記パンチと前記転写部材とに挟持されている部分の前記被加工基板の前記樹脂面に対し、前記加圧部材が前記転写部材の凹凸模様を加圧することで転写させることを特徴とする。   The microfabrication method according to an eighteenth aspect of the present invention is the microfabrication method according to any one of the fourteenth to seventeenth aspects, wherein the transfer step is performed after the temperature raising step, after the temperature raising step, between the punch and the transfer member. The pressurizing member causes the concavo-convex pattern of the transfer member to be transferred to the resin surface of the substrate to be processed in the sandwiched portion, thereby transferring the surface.

この発明の請求項19に係る微細加工方法は、請求項14〜18のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記冷却工程は、冷却用気体により前記パンチの外周を冷却し、また、冷却用気体により前記加圧部材の外周を冷却することで、前記パンチと前記転写部材とに挟持されている部分の前記被加工基板を冷却することを特徴とする。   The micromachining method according to a nineteenth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the fourteenth to eighteenth aspects, wherein the cooling step cools an outer periphery of the punch with a cooling gas. The outer periphery of the pressurizing member is cooled with a working gas to cool the portion of the substrate to be processed that is sandwiched between the punch and the transfer member.

この発明の請求項20に係る微細加工方法は、請求項14〜19のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板が、前記被加工基板の打ち抜き孔の部分に自動的に挿入されて、両者が実質的に一体となって取り出せることを特徴とする。   A microfabrication method according to a twentieth aspect of the present invention is the microfabrication method according to any one of the fourteenth to nineteenth aspects, wherein the punched substrate punched into the predetermined shape is a punch hole of the substrate to be processed. It is automatically inserted into the portion and can be taken out substantially integrally.

この発明の請求項21に係る微細加工方法は、少なくとも一方が加熱可能な上型または下型のいずれか一方が、パンチ側ホルダーに固定された外形抜きパンチと、前記外形抜きパンチを通す孔を有し、かつ、前記外形抜きパンチの先端面より突出した位置を基準として、これより押し込まれたとき復帰するように付勢されたストリッパーとを備え、他方が、ダイ側ホルダーに固定されたダイであって、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備え、かつ、両型間に置かれる被加工基板を、プレス装置のラムが型閉方向に駆動することにより、前記ストリッパーとの間に挟持し、さらに前記外形抜きパンチと協働して前記被加工基板を打ち抜く外形抜きダイと、前記ダイ側ホルダーに前記外形抜きダイと同心に固定され、前記外形抜きパンチの中心位置に形成されている内形抜き用ダイ孔と協働して前記被加工基板を打ち抜く内形抜きパンチと、前記外形抜きダイの内側空間に前記内形抜きパンチを避けて配置され、表面に凹凸模様が形成された転写部材を先端に備え、前記凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧可能な加圧部材とを備えた金型を用いて、微細加工を行う方法であって、前記外形抜きパンチと前記外形抜きダイおよび内形抜きパンチとが初期位置から前記挟持する挟持位置さらに前記打ち抜く打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、前記上型または下型の少なくとも一方を加熱することで前記転写部材または前記被加工基板の少なくとも一方を昇温させる昇温工程、前記被加工基板を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、前記転写部材の凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および前記凹凸模様が前記位置決めされた所に転写された前記被加工基板を冷却する冷却工程、を実行することを特徴とする。   According to a twenty-first aspect of the present invention, at least one of an upper die and a lower die that can be heated has an outer punch that is fixed to a punch-side holder, and a hole through which the outer punch is passed. And a stripper that is biased so as to return when it is pushed in on the basis of the position protruding from the tip surface of the outer punch, and the other is a die fixed to the die side holder The substrate to be processed, which has a smooth resin surface on at least one side, and is placed between both molds, is sandwiched between the stripper by driving the ram of the press device in the mold closing direction, Further, an outer shape die that punches the workpiece substrate in cooperation with the outer shape punch, and is fixed to the die side holder concentrically with the outer shape die, and the center position of the outer shape punch The inner die punch for punching the substrate to be processed in cooperation with the inner die punching hole formed in the inner die punching hole is disposed in the inner space of the outer die so as to avoid the inner die punch, and the surface is uneven. This is a method of performing microfabrication using a mold provided with a transfer member having a pattern formed at the tip and a pressing member capable of pressing the uneven pattern against the resin surface of the substrate to be processed. During the mold operation process until the outer punch, the outer die and the inner punch are returned from the initial position to the initial position through the punching position and the punching position, A temperature raising step for heating at least one of the transfer member or the substrate to be processed by heating at least one of the molds, a punching step for punching the substrate to be processed into a predetermined shape, and irregularities on the transfer member A transfer step of applying pressure to the resin surface of the substrate to be processed and transferring the uneven pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape; and transferring the uneven pattern to the position where the uneven pattern is positioned. And a cooling step for cooling the processed substrate.

この発明の請求項22に係る微細加工方法は、請求項21記載の微細加工方法において、前記所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板が、その外側にある前記被加工基板の残余の部分の打ち抜き孔に自動的に挿入されて、両者が実質的に一体となって取り出せることを特徴とする。   A microfabrication method according to a twenty-second aspect of the present invention is the micromachining method according to the twenty-first aspect, wherein the punched substrate punched into the predetermined shape is a punched hole in the remaining portion of the substrate to be processed outside the punched substrate. The two are automatically inserted and can be taken out substantially integrally.

この発明の請求項23に係る微細加工方法は、請求項21または請求項22記載の微細加工方法において、型開き時に、前記内形抜きパンチと前記加圧部材との分割面から圧縮気体を噴出させることにより、前記打ち抜き工程で前記被加工基板から所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板を、前記転写部材の凹凸模様から離型させることを特徴とする。   A micromachining method according to a twenty-third aspect of the present invention is the micromachining method according to the twenty-first or twenty-second aspect, wherein a compressed gas is ejected from a split surface between the inner punch and the pressure member when the mold is opened. Thus, the punched substrate punched into a predetermined shape from the substrate to be processed in the punching step is released from the uneven pattern of the transfer member.

この発明の請求項24に係る微細加工方法は、請求項21〜23のいずれか1項記載の微細加工方法において、型開き時に、前記ストリッパーの前記被加工基板との接触面から圧縮気体を噴出させることにより、前記打ち抜き工程で所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板の外側にある前記被加工基板の残余の部分を離型させることを特徴とする。   A micromachining method according to a twenty-fourth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the twenty-first to twenty-third aspects, wherein compressed gas is ejected from the contact surface of the stripper with the substrate to be processed when the mold is opened. Thus, the remaining portion of the substrate to be processed outside the punched substrate punched into a predetermined shape in the punching step is released.

この発明の請求項25に係る微細加工方法は、請求項21〜24のいずれか1項記載の微細加工方法において、前記外形抜きダイにおいて、前記外形抜きパンチと協働して前記被加工基板を打ち抜く打ち抜き部と、前記ストリッパーとの間に前記被加工基板を挟持する挟持部とを兼ねたダイ主要部を、それ以外の部分とは別部品として構成し、前記外形抜きダイの前記それ以外の部分に対して前記ダイ主要部を交換することを特徴とする。   A microfabrication method according to a twenty-fifth aspect of the present invention is the micromachining method according to any one of the twenty-first to twenty-fourth aspects, wherein in the outer shape die, the substrate to be processed is cooperated with the outer shape punch. A die main part that also serves as a punching part for punching and a sandwiching part for sandwiching the substrate to be processed between the stripper is configured as a separate part from the other parts, The die main part is exchanged with respect to the part.

この発明は以上のように、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備えた平板状の被加工物を所定の形状に打ち抜く金型が初期位置から打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、表面に凹凸模様が形成された転写部材または前記被加工物の少なくとも一方が加熱により昇温した状態で、前記転写部材の凹凸模様を前記被加工物の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程を行うので、表面に微細な凹凸パターンを有する高品質の基板を安定的に作製・生産することができることに加えて、さらなる薄型化、小型化を実現することが可能である。   As described above, the present invention is in the mold operation process until the mold for punching a flat workpiece having a smooth resin surface on at least one side into a predetermined shape returns from the initial position to the initial position through the punching position. In addition, in a state where at least one of the transfer member having a concavo-convex pattern formed on the surface or the workpiece is heated, the concavo-convex pattern of the transfer member is pressed against the resin surface of the workpiece, In addition to being able to stably produce and produce a high-quality substrate having a fine concavo-convex pattern on the surface because a transfer process is performed to transfer the concavo-convex pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape. Thus, further reduction in thickness and size can be realized.

この発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1、図2は、この発明による微細加工方法に用いる金型(インプリント金型)の一実施形態を示す要部を断面にした概略図である。この金型(インプリント金型)10は、図示しないプレス装置の下ラムに固定される下型と、プレス装置の上ラムに固定される上型とで構成される。   FIG. 1 and FIG. 2 are schematic views in cross section of a main part showing an embodiment of a mold (imprint mold) used in the microfabrication method according to the present invention. The mold (imprint mold) 10 includes a lower mold fixed to a lower ram of a press device (not shown) and an upper mold fixed to an upper ram of the press device.

下型は、外形(外径)抜きパンチ20およびストリッパー25を備え、また、下ホルダー30および下バックプレート35を備えている。   The lower die includes an outer shape (outer diameter) punch 20 and a stripper 25, and further includes a lower holder 30 and a lower back plate 35.

外形(外径)抜きパンチ20は、下ホルダー30の中心位置に形成した嵌合孔に下から嵌合される。下バックプレート35が下ホルダー30にボルトで固定されることで、外形(外径)抜きパンチ20は、下ホルダー30の中心位置に位置決め固定される。   The outer shape (outer diameter) punch 20 is fitted from below into a fitting hole formed at the center position of the lower holder 30. The lower back plate 35 is fixed to the lower holder 30 with bolts, whereby the outer shape (outer diameter) punch 20 is positioned and fixed at the center position of the lower holder 30.

そして、外形(外径)抜きパンチ20は、図示してないが、円周方向に均等に配置されるヒーターと温度センサーを設置できる構造となっている。   The outer shape (outer diameter) punch 20 has a structure in which heaters and temperature sensors that are equally arranged in the circumferential direction can be installed, although not shown.

ストリッパー25は、その中央部に、外形(外径)抜きパンチ20との間に所要の隙間を有する基板用外形孔が形成されている。その隙間は、外形(外径)抜きパンチ20に対して、ストリッパー25が上下に摺動可能程度の極微小な隙間に設定される。   The stripper 25 has a substrate outer hole having a required gap between the stripper 25 and the outer shape (outer diameter) punch 20. The gap is set to a very small gap that allows the stripper 25 to slide up and down with respect to the outer shape (outer diameter) punch 20.

また、ストリッパー25は、下ホルダー30および下バックプレート35の中心を基準として円周方向に互いに90°の間隔で形成された4つの貫通孔に下から貫通されたストリッパーカラー26の上端部に固定される。   Further, the stripper 25 is fixed to the upper end portion of the stripper collar 26 that is penetrated from below through four through holes formed at intervals of 90 ° in the circumferential direction with respect to the centers of the lower holder 30 and the lower back plate 35. Is done.

ストリッパーカラー26の下端部には4本のストリッパー用バネ27が装着され、ストリッパー用バネ27の下端を押えるバネ押えプレート28が下バックプレート35にボルトで固定される。バネ押えプレート28は、プレス装置の下ラムに固定できるようになっている。なお、バネ押えプレート28は、外形(外径)抜きパンチ20に設置されたヒーターの熱をプレス装置に伝えないよう断熱材にすることが望ましい。   Four stripper springs 27 are attached to the lower end portion of the stripper collar 26, and a spring pressing plate 28 that presses the lower end of the stripper spring 27 is fixed to the lower back plate 35 with bolts. The spring retainer plate 28 can be fixed to the lower ram of the press device. The spring retainer plate 28 is preferably made of a heat insulating material so that the heat of the heater installed in the outer shape (outer diameter) punch 20 is not transmitted to the press device.

これにより、ストリッパー25は、プレス前の無負荷時には、4本のストリッパーカラー26と4本のストリッパー用バネ27により、外形(外径)抜きパンチ20の上端面よりわずかに高い位置すなわち、2mm以下、望ましくは0.3〜0.5mm程度上方へ隆起した高さに、位置決めされている(図1参照)。   Thus, the stripper 25 is positioned slightly higher than the upper end surface of the outer shape (outer diameter) punch 20 by the four stripper collars 26 and the four stripper springs 27 at the time of no load before pressing, that is, 2 mm or less. It is preferably positioned at a height raised upward by about 0.3 to 0.5 mm (see FIG. 1).

このようなストリッパー25は、外形(外径)抜きパンチ20より大きい図示しないブランク基板がストリッパー25上に載置され、プレス装置の上ラムが下降するとき、つぎのような働きをする。すなわち、上ラムが下降するのにともなって、後述する外形(外径)抜きダイ50の下端面がストリッパー25の上端面との間にブランク基板を挟み込んだ瞬間から、ストリッパー用バネ27のバネ力でブランク基板を押え込む。   Such a stripper 25 functions as follows when a blank substrate (not shown) larger than the outer shape (outer diameter) punch 20 is placed on the stripper 25 and the upper ram of the press device is lowered. That is, as the upper ram descends, the spring force of the stripper spring 27 starts from the moment when the blank substrate is sandwiched between the lower end surface of the outer (outer diameter) die 50 described later and the upper end surface of the stripper 25. Press down the blank board.

また、ストリッパー25は、インプリント後の成形基板が外形(外径)抜きパンチ20の上端面に付着することを防止するため、上ラムが上昇するとき、成形基板を外形(外径)抜きパンチ20の上端面から2mm以下、望ましくは0.3〜0.5mm程度上方へ引き離す働きをする。   Further, the stripper 25 prevents the molded substrate after the imprinting from adhering to the upper end surface of the outer shape (outer diameter) punch 20 when the upper ram is raised. It works to be pulled away from the upper end surface of 20 by 2 mm or less, preferably about 0.3 to 0.5 mm upward.

さらに、下ホルダー30には、その中心を基準として円周方向に互いに90°の間隔で形成された4つの圧入穴が形成され、この圧入穴に4本のガイドブッシュ40が圧入嵌合され、軸線を垂直にして設置されている。   Furthermore, the lower holder 30 is formed with four press-fitting holes formed at intervals of 90 ° in the circumferential direction with respect to the center thereof, and four guide bushes 40 are press-fitted into the press-fitting holes, It is installed with the axis vertical.

上型は、外形(外径)抜きダイ50、スタンパー55およびピストン56を備え、また、上ホルダー60および上バックプレート65を備えている。   The upper die includes an outer shape (outer diameter) punching die 50, a stamper 55, and a piston 56, and further includes an upper holder 60 and an upper back plate 65.

外形(外径)抜きダイ50は、その中央部に、スタンパー55およびスタンパー55を取り付けるピストン56の小径部との間に所要の隙間を有する基板用外形孔が形成されている。その隙間は、スタンパー55およびピストン56の小径部に対して、外形(外径)抜きダイ50が相対的に上下摺動可能程度の極微小な隙間に設定される。   The outer shape (outer diameter) punching die 50 is formed with a board outer hole having a required gap between the stamper 55 and the small diameter portion of the piston 56 to which the stamper 55 is attached at the center thereof. The clearance is set to a very small clearance that allows the outer (outer diameter) punching die 50 to slide up and down relatively with respect to the small diameter portions of the stamper 55 and the piston 56.

外形(外径)抜きダイ50は、上ホルダー60の中心位置に図示しないダウエルピンで精密に位置決めされボルトで固定されている。また、外形(外径)抜きダイ50は、エアシリンダー部51を備えている。   The outer shape (outer diameter) punching die 50 is precisely positioned by a dowel pin (not shown) at the center position of the upper holder 60 and fixed by a bolt. The outer shape (outer diameter) punching die 50 includes an air cylinder portion 51.

スタンパー55は、片面(図1では下面)に、スタンパーの形状に対して希望する所定寸法の配置で微細な凹凸加工模様が施されている。また、他の片面(図1では上面)は、ピストン56に密着するように接着または着脱可能にボルトで固定されている。   The stamper 55 is provided with a fine concavo-convex pattern on one side (the lower surface in FIG. 1) in an arrangement with a desired dimension with respect to the shape of the stamper. Further, the other one surface (the upper surface in FIG. 1) is fixed with a bolt so as to be adhered or detachable so as to be in close contact with the piston 56.

ピストン56は、外周部にOリング57が設置されている。そして、上ホルダー60のエア供給口61から外形(外径)抜きダイ50内のエアシリンダー部51にエアーを供給することで、ピストン56は、インプリント時の加圧を行うことができる。   The piston 56 is provided with an O-ring 57 on the outer periphery. The piston 56 can be pressurized during imprinting by supplying air from the air supply port 61 of the upper holder 60 to the air cylinder portion 51 in the outer (outer diameter) punching die 50.

また、ピストン56内には、図示してないが、円周方向に均等に配置されるヒーターと温度センサーを設置できる構造となっている。これにより、ピストン56は、インプリント時の加熱も行うことができる。   Although not shown, the piston 56 has a structure in which heaters and temperature sensors arranged evenly in the circumferential direction can be installed. Thereby, the piston 56 can also perform heating at the time of imprinting.

また、上バックプレート65は、上ホルダー60にボルトで固定されて、プレス装置の上ラムに固定できるようになっている。なお、上バックプレート65は、ピストン56に設置されたヒーターの熱をプレス装置に伝えないよう断熱材にすることが望ましい。   Further, the upper back plate 65 is fixed to the upper holder 60 with bolts so that it can be fixed to the upper ram of the press device. The upper back plate 65 is preferably a heat insulating material so that the heat of the heater installed on the piston 56 is not transmitted to the press device.

さらに、上ホルダー60には、その中心を基準として円周方向に互いに90°の間隔で形成された4つの圧入穴が形成され、この圧入穴に4本のガイドポスト70が圧入嵌合されて、垂直に設置されている。ガイトポスト70とガイドブッシュ40は、図示しないボールベアリングにより精密に嵌合して上型と下型を精密に位置決めできるように構成してある。   Further, the upper holder 60 is formed with four press-fitting holes formed at intervals of 90 ° in the circumferential direction with reference to the center thereof, and four guide posts 70 are press-fitted into the press-fitting holes. Are installed vertically. The guide post 70 and the guide bush 40 are configured to be precisely fitted by a ball bearing (not shown) so that the upper mold and the lower mold can be positioned accurately.

そして、プレス装置の上ラムが下降すると、外形(外径)抜きパンチ20は、図2に示すように、外形(外径)抜きダイ50のダイ孔に対して均一な抜きクリアランスを保ちながら進入していく構造となっている。   When the upper ram of the press device is lowered, the outer shape (outer diameter) punch 20 enters the outer shape (outer diameter) punching die 50 while maintaining a uniform punching clearance with respect to the die hole of the outer shape (outer diameter) punching die 50 as shown in FIG. It has a structure to do.

なお、この実施形態では、スタンパー55とピストン56を2つの別々の部品としたが、これに限定せず、スタンパー55とピストン56が一体となった1つの部品としてもよい。   In this embodiment, the stamper 55 and the piston 56 are two separate parts. However, the present invention is not limited to this, and the stamper 55 and the piston 56 may be integrated into one part.

上記のように構成された金型(インプリント金型)10を用いたこの発明による微細加工方法は、表面に微細な凹凸模様を有する転写部材(スタンパー55)を用いて、この凹凸模様が表面に形成された所定形状の微細加工基板を作製する方法である。   The micromachining method according to the present invention using the mold (imprint mold) 10 configured as described above uses a transfer member (stamper 55) having a fine concavo-convex pattern on the surface, and the concavo-convex pattern is the surface. This is a method for producing a microfabricated substrate of a predetermined shape formed in the above.

すなわち、この微細加工方法は、金型10が初期位置から打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備えた平板状の被加工物(ブランク基板)またはスタンパー55の少なくとも一方が加熱により昇温した状態で、スタンパー55の凹凸模様をブランク基板の樹脂面に対し加圧して、凹凸模様をブランク基板の所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写するものである。   That is, in this micromachining method, a plate-shaped workpiece (blank substrate) having a smooth resin surface on at least one surface during a mold operation process from the initial position through the punching position to return to the initial position. ) Or in a state where at least one of the stampers 55 is heated by heating, the uneven pattern of the stamper 55 is pressed against the resin surface of the blank substrate, and the uneven pattern is positioned with respect to the predetermined punched shape of the blank substrate. Is to be transferred to.

具体的には、この微細加工方法は、金型10の型作動工程中に、スタンパー55またはブランク基板の少なくとも一方を加熱により昇温させる昇温工程、ブランク基板を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、スタンパー55の凹凸模様をブランク基板の樹脂面に対し加圧して、凹凸模様をブランク基板の所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および凹凸模様が前記位置決めされた所に転写されたブランク基板を冷却する冷却工程、を実行する。   Specifically, this microfabrication method includes a temperature raising step for heating at least one of the stamper 55 or the blank substrate during the mold operation step of the mold 10, a punching step for punching the blank substrate into a predetermined shape, A transfer process of pressing the concave / convex pattern of the stamper 55 against the resin surface of the blank substrate and transferring the concave / convex pattern to a position where the concave / convex pattern is positioned with respect to a predetermined punching shape of the blank substrate; A cooling step for cooling the transferred blank substrate is performed.

この微細加工方法は、金型10の型作動工程中に、昇温工程、打ち抜き工程、転写工程、および冷却工程を、この順に実行することができる。   In the microfabrication method, during the mold operating process of the mold 10, the temperature raising process, the punching process, the transfer process, and the cooling process can be executed in this order.

また、この微細加工方法は、金型10の型作動工程中に、昇温工程、転写工程、打ち抜き工程、および冷却工程を、この順に実行することができる。   Moreover, this microfabrication method can perform a heating process, a transfer process, a punching process, and a cooling process in this order during the mold operating process of the mold 10.

打ち抜き工程において、ブランク基板(被加工物)を、打ち抜くべき所定形状の外側で固定した状態で、打ち抜くことが好ましい。   In the punching step, it is preferable that the blank substrate (workpiece) is punched in a state of being fixed outside the predetermined shape to be punched.

被加工物(ブランク基板)の表面の表面粗さRaは、0.5μm以下である。表面粗さRaは、JIS_B_0601−1994で定義されるものとする。これは、被加工物(ブランク基板)の表面の表面粗さRaが0.5μm以上であると、転写される凹凸模様との視認性が悪くなるためである。なお、表面粗さRaは、JIS_B_0601−1994に準じて、原子力顕微鏡(AFM)、触針式表面粗さ計、光干渉式表面粗さ計等により測定可能である。   The surface roughness Ra of the surface of the workpiece (blank substrate) is 0.5 μm or less. The surface roughness Ra is defined by JIS_B_0601-1994. This is because, when the surface roughness Ra of the surface of the workpiece (blank substrate) is 0.5 μm or more, the visibility with the concavo-convex pattern to be transferred is deteriorated. The surface roughness Ra can be measured by an atomic force microscope (AFM), a stylus type surface roughness meter, an optical interference type surface roughness meter, or the like according to JIS_B — 0601-1994.

被加工物(ブランク基板)は、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂又は紫外線硬化型の樹脂から成る平板であっても良いし、基板表面に、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂又は紫外線硬化型樹脂が塗布された複合タイプの平板であっても良い。   The workpiece (blank substrate) may be a flat plate made of a thermoplastic resin, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin, or a thermoplastic resin, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin on the substrate surface. It may be a composite type flat plate to which is applied.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリアミド樹脂等が、好適に使用可能である。   Examples of the thermoplastic resin include polycarbonate resin, polyarylate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, polyester resin, polymethyl methacrylate resin, polyetherimide resin, cycloolefin polymer resin, polyethylene terephthalate resin, polyamide resin, and the like. It can be suitably used.

熱硬化性樹脂としては、色相の点からエポキシ系樹脂が特に好ましく用いられる。エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型やそれらの水素添加の如きビスフェノール型、また、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、また、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒンダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型、脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型、グリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプ、ジシクロ型、エステル型、エーテルエステル型やそれらの変性型などが挙げられる。   As the thermosetting resin, an epoxy resin is particularly preferably used from the viewpoint of hue. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type and bisphenol types such as hydrogenation thereof, novolak types such as phenol novolak type and cresol novolak type, and triglycidyl isocyanurate type. Nitrogen-containing ring type, such as hindantoin type, alicyclic type, aliphatic type, aromatic type such as naphthalene type, low water absorption type such as glycidyl ether type, biphenyl type, dicyclo type, ester type, ether ester type, etc. These modified types are exemplified.

これらは単独で使用してもあるいは併用してもよい。上記各種エポキシ系樹脂の中でも、変色防止性などの点から、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂を用いることが好ましい。   These may be used alone or in combination. Among the various epoxy resins, it is preferable to use a bisphenol A type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or a triglycidyl isocyanurate type epoxy resin from the viewpoint of preventing discoloration.

紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、反応希釈剤、光重合開始剤、光増感剤の成分を含む組成物が挙げられる。しかし、特に限定されるものではない。   As an ultraviolet curable resin, the composition containing the component of a urethane (meth) acrylate or an epoxy (meth) acrylate oligomer, a reaction diluent, a photoinitiator, and a photosensitizer is mentioned, for example. However, it is not particularly limited.

また、基板としては、例えば、アクリル樹脂、MS樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、または上記樹脂のブレンドからなるシート又はフィルムなどが好適に使用できる。成形型からの離型性の点から、可撓性のあるアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、MS樹脂などが光透過性や柔軟性の点から好ましい。   As the substrate, for example, an acrylic resin, MS resin, polycarbonate resin, polyester resin, polystyrene resin, polyolefin resin, vinyl chloride resin, polyimide resin, or a sheet or film made of a blend of the above resins can be suitably used. From the viewpoint of releasability from the mold, flexible acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, MS resin and the like are preferable from the viewpoint of light transmittance and flexibility.

そして、この発明の微細加工方法により得られる微細加工基板としては、ロータリーエンコーダ用基板、ディスク用基板、ハードディスク用基板、導光板、タッチパネル用基板、燃料電池用セパレータ、反射板、バイオチップ、レンズ等、各種の基板を意味する。   The microfabricated substrate obtained by the microfabrication method of the present invention includes a rotary encoder substrate, a disk substrate, a hard disk substrate, a light guide plate, a touch panel substrate, a fuel cell separator, a reflector, a biochip, a lens, etc. Means various substrates.

次に、上記のように構成された金型(インプリント金型)10を用いてこの発明による微細加工方法を行う場合の、基板へのインプリントの実施形態について説明する。   Next, an embodiment of imprinting on a substrate when the fine processing method according to the present invention is performed using the mold (imprint mold) 10 configured as described above will be described.

まず、外形(外径)抜きパンチ20およびピストン56に備えるヒーターに通電して、外形(外径)抜きパンチ20、ピストン56およびスタンパー55を、合成樹脂のガラス転移温度−10〜+40℃付近に設定する。   First, the heater provided in the outer shape (outer diameter) punch 20 and the piston 56 is energized, and the outer shape (outer diameter) punch 20, the piston 56 and the stamper 55 are brought to the glass transition temperature of synthetic resin around −10 to + 40 ° C. Set.

この状態で、合成樹脂から成る厚さ約0.5mmで、表面粗さRaが0.005μmの平板状のブランク基板を、ストリッパー25の上に載せる。そして、プレス装置の上ラム位置を初期値から所定量下降させて、ブランク基板をストリッパー25と外形(外径)抜きダイ50とで挟み込み、さらにストリッパー25の上面が外形(外径)抜きパンチ20の上面に一致するまで押し込む。このときのプレス装置の上ラムの位置を保持値とする(図9参照)。   In this state, a flat blank substrate made of a synthetic resin and having a thickness of about 0.5 mm and a surface roughness Ra of 0.005 μm is placed on the stripper 25. Then, the upper ram position of the press device is lowered by a predetermined amount from the initial value, the blank substrate is sandwiched between the stripper 25 and the outer shape (outer diameter) punching die 50, and the upper surface of the stripper 25 is the outer shape (outer diameter) punching punch 20. Push until it matches the top surface. The position of the upper ram of the press device at this time is set as a holding value (see FIG. 9).

この位置において、エアシリンダー部51内に適当な低圧のエアーを入れておくことで、ブランク基板は、外形(外径)抜きパンチ20とスタンパー55とで挟み込まれる。この状態で、ブランク基板が打ち抜き工程に適切な温度に昇温するまで、所定時間保持する(昇温工程)。   At this position, the blank substrate is sandwiched between the outer shape (outer diameter) punching punch 20 and the stamper 55 by putting an appropriate low-pressure air into the air cylinder portion 51. In this state, the blank substrate is held for a predetermined time until the temperature is raised to a temperature suitable for the punching process (temperature raising process).

ブランク基板が昇温するのに必要な所定時間保持した(昇温工程)後、上ラムをさらに下降させて、図2に示すように下死点まで下げる。これにより、ブランク基板は、外形(外径)抜きパンチ20と外形(外径)抜きダイ50とで所定の外形(外径)形状に打ち抜かれる(打ち抜き工程)。このとき、外形(外径)抜きパンチ20の上面にあって打ち抜かれる基板(打ち抜き基板)に対し、ストリッパー25と外形(外径)抜きダイ50との間にある周囲の基板(外側基板)が下降していく。   After the blank substrate is held for a predetermined time required to raise the temperature (temperature raising step), the upper ram is further lowered to lower the bottom dead center as shown in FIG. Accordingly, the blank substrate is punched into a predetermined outer shape (outer diameter) shape by the outer shape (outer diameter) punch 20 and the outer shape (outer diameter) punching die 50 (punching step). At this time, the peripheral substrate (outer substrate) between the stripper 25 and the outer shape (outer diameter) punching die 50 is opposed to the substrate to be punched out on the upper surface of the outer shape (outer diameter) punch 20 (punched substrate). Going down.

上ラムによるプレス位置をこの下死点位置に保持する(図9参照)。この位置で、エアシリンダー部51の内圧を適当に上げ、スタンパー55の面積に対し2〜3MPaの加圧力になるように調節する。これにより、スタンパー55に施した微細な凹凸模様が打ち抜き基板へインプリントされる工程(転写工程)に入る。インプリント(転写工程)には、使用する樹脂や微細な凹凸模様により5秒から240秒程の時間を要する。   The press position by the upper ram is held at this bottom dead center position (see FIG. 9). At this position, the internal pressure of the air cylinder portion 51 is appropriately increased and adjusted so that the applied pressure is 2 to 3 MPa with respect to the area of the stamper 55. Thus, a process (transfer process) in which a fine uneven pattern applied to the stamper 55 is imprinted on the punched substrate is entered. The imprint (transfer process) takes about 5 to 240 seconds depending on the resin used and the fine uneven pattern.

なお、エアシリンダー部51内のエアー圧力は、上記のように、昇温工程および打ち抜き工程における低圧から、転写工程における高圧に切り換える方法に限定されない。すなわち、所定の高圧でも打ち抜きに支障がなければ、打ち抜き工程から、スタンパー55の面積に対し2〜3MPaの加圧力のまま一定にしておいてもよい。   Note that the air pressure in the air cylinder 51 is not limited to the method of switching from the low pressure in the temperature raising process and the punching process to the high pressure in the transfer process as described above. That is, as long as there is no problem in punching even at a predetermined high pressure, the pressing force of 2 to 3 MPa may be kept constant with respect to the area of the stamper 55 from the punching process.

この場合、昇温工程では、低圧にしておくこともできるし、圧力を加えずに、ピストン56の自重により、スタンパー55と外形(外径)抜きパンチ20とでブランク基板を挟み込み状態にすることもできる。   In this case, in the temperature raising step, the pressure can be kept low, or the blank substrate is sandwiched between the stamper 55 and the outer shape (outer diameter) punch 20 by the weight of the piston 56 without applying pressure. You can also.

インプリント(転写工程)完了後、外形(外径)抜きパンチ20およびピストン56に備えるヒーターの通電を切り、外形(外径)抜きパンチ20とピストン56の温度をガラス転移温度−5〜−40℃付近に下げる冷却工程に入る。このとき、エアシリンダー部51内のエアー圧力は、適宜、低圧に切り換えても良い。   After the imprint (transfer process) is completed, the heaters provided in the outer shape (outer diameter) punch 20 and the piston 56 are turned off, and the temperature of the outer shape (outer diameter) punch 20 and the piston 56 is changed to the glass transition temperature -5 to -40. Enter the cooling process to lower to around ℃. At this time, the air pressure in the air cylinder portion 51 may be switched to a low pressure as appropriate.

また、冷却工程では、スタンパー55及びピストン56など、スタンパー55周辺の金型部品と成形基板(打ち抜き・転写基板)は、加工時間短縮のために、N2等の冷却用気体を用いて、強制的に冷却することが望ましい。   In the cooling process, the mold parts and the molded substrate (punching / transfer substrate) around the stamper 55, such as the stamper 55 and the piston 56, are forced to use a cooling gas such as N2 in order to shorten the processing time. It is desirable to cool down.

外形(外径)抜きパンチ20およびピストン56の温度が設定温度まで下がったら、上ラムを上昇させて初期値まで戻す。これにより型開きが行われる(図9参照)。このとき、例えば、ピストン56およびスタンパー55と外形(外径)抜きダイ50との分割面から離型エアーを噴くことで、成形基板およびその周囲の外側基板と上型との離型を促すことが好ましい。同様に、例えば、外形(外径)抜きパンチ20とストリッパー25との分割面から離型エアーを噴くことで、成形基板およびその周囲の外側基板と下型との離型を促すことが好ましい。   When the temperature of the outer shape (outer diameter) punch 20 and the piston 56 falls to the set temperature, the upper ram is raised and returned to the initial value. Thereby, mold opening is performed (refer FIG. 9). At this time, for example, by releasing release air from the divided surfaces of the piston 56 and the stamper 55 and the outer shape (outer diameter) punching die 50, the release of the molded substrate and the surrounding outer substrate and the upper die is promoted. Is preferred. Similarly, for example, it is preferable to urge release of the molded substrate and the surrounding outer substrate and the lower die by blowing release air from the dividing surface of the outer shape (outer diameter) punch 20 and the stripper 25.

また、外形(外径)抜きパンチ20の外径と外形(外径)抜きダイ50の内径とのクリアランスが微小であるため、型開時にストリッパー25が付勢により復帰するのにともない、所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板(成形基板)が、ブランク基板の残余の部分(外側基板)の打ち抜き孔に自動的に挿入される。これにより、成形基板と外側基板とが、実質的に一体となって取り出される(基板離型工程)。図9に、上述した、金型の型作動工程に基づく各工程のタイミングチャートの一例を示す。   In addition, since the clearance between the outer diameter of the outer shape (outer diameter) punch 20 and the inner diameter of the outer shape (outer diameter) punching die 50 is very small, the stripper 25 is restored by urging at the time of mold opening, so that a predetermined amount is obtained. The punched substrate (molded substrate) punched into the shape is automatically inserted into the punched hole in the remaining portion (outer substrate) of the blank substrate. Thereby, the molded substrate and the outer substrate are taken out substantially integrally (substrate release step). FIG. 9 shows an example of a timing chart of each process based on the mold operating process of the mold described above.

以上のように、ブランク基板を押え込みながら型作動工程中にインプリント工程に入ることで、微細な凹凸模様を、所定の打ち抜き形状に対し位置決めされた箇所に転写したインプリント成形基板を作成することができる。   As described above, an imprint molding substrate in which a fine uneven pattern is transferred to a position positioned with respect to a predetermined punching shape by entering an imprint process during a mold operation process while pressing a blank substrate is created. Can do.

なお、スタンパー55の下面に微細凹凸加工を施しているが、例えば、外形(外径)抜きパンチ20の上端面にも同様の微細凹凸加工を施しておくことができる。このようにすれば、表裏両面に微細凹凸のインプリントが形成された成形基板を製作することも可能である。   In addition, although the fine unevenness | corrugation processing is given to the lower surface of the stamper 55, the same fine unevenness | corrugation processing can be given also to the upper end surface of the external shape (outer diameter) punching punch 20, for example. In this way, it is also possible to produce a molded substrate in which imprints with fine irregularities are formed on both the front and back surfaces.

また、エアシリンダー部51にエアーを供給することでインプリント時の加圧ができるように構成したが、例えば、プレス装置の上ラム側から連結ピン等でピストン位置を制御する構造にして、これによりインプリント時の加圧を実現するようにしてもよい。   In addition, the air cylinder 51 is configured to be pressurized during imprinting by supplying air. For example, the piston position is controlled by a connecting pin or the like from the upper ram side of the press device. Thus, pressurization during imprinting may be realized.

また、この実施形態では、上ラム位置が下死点に到達したとき、つまり打ち抜き工程後に、インプリント工程(転写工程)に入る手順をとったが、これに限定されない。ブランク基板の材質に応じて、例えば、上ラムの位置が保持値にあって昇温工程後にインプリント工程(転写工程)に入り、その後上ラムを下死点に下げ、ブランク基板を所定の外形(外径)形状に打ち抜き(打ち抜き工程)、最後に冷却工程に入る手順をとってもよい。   In this embodiment, the procedure for entering the imprint process (transfer process) is taken when the upper ram position reaches the bottom dead center, that is, after the punching process. However, the present invention is not limited to this. Depending on the material of the blank substrate, for example, the upper ram position is at the hold value and the imprint process (transfer process) starts after the temperature raising process, and then the upper ram is lowered to the bottom dead center, It is also possible to take a procedure of punching into an (outer diameter) shape (punching process) and finally entering a cooling process.

図3〜図7は、この発明による微細加工方法に用いる金型(インプリント金型)の他の実施形態を示す要部を断面にした概略図である。この金型(インプリント金型)110は、全体としては図1、図2に示す金型(インプリント金型)10とほぼ同様のものであるので、同様の部分には図1、図2で用いた符号に100を加えた符号を付けて示し、重複する説明は省略する。   3-7 is the schematic which made the principal part the cross section which shows other embodiment of the metal mold | die (imprint metal mold | die) used for the microfabrication method by this invention in cross section. The mold (imprint mold) 110 is generally the same as the mold (imprint mold) 10 shown in FIGS. 1 and 2 as a whole. A reference numeral added with 100 is added to the reference numeral used in FIG.

この金型(インプリント金型)110は、外形(外径)のみならず内形(内径)も同心で打ち抜く点が、図1、図2に示す金型(インプリント金型)10と大きく異なる。そのため、上型は、内形(内径)抜きパンチ175を備え、また、下型は、内形(内径)抜き用ダイ孔145を備えている。   This mold (imprint mold) 110 is greatly different from the mold (imprint mold) 10 shown in FIGS. 1 and 2 in that not only the outer shape (outer diameter) but also the inner shape (inner diameter) is punched concentrically. Different. Therefore, the upper mold is provided with an inner shape (inner diameter) punch 175, and the lower mold is provided with an inner shape (inner diameter) punching die hole 145.

すなわち、内形(内径)抜きパンチ175は、上ホルダー160の中心位置にあけた穴に嵌合し、外形(外径)抜きダイ150と同心に位置決めされている。また、内形(内径)抜きパンチ175は、上バックプレート165で抜き荷重を受けられるようになっている。また、内形(内径)抜きパンチ175には、エアシリンダー部151のエアーが抜けないようにOリング176が設置される。   That is, the inner shape (inner diameter) punch 175 is fitted into a hole formed at the center position of the upper holder 160 and is positioned concentrically with the outer shape (outer diameter) punch 150. Further, the inner shape (inner diameter) punch 175 can receive a punching load by the upper back plate 165. Further, an O-ring 176 is installed in the inner shape (inner diameter) punch 175 so that air from the air cylinder portion 151 does not escape.

スタンパー155の中心には、内形(内径)孔が、内形(内径)抜きパンチ175に対し摺動可能な程度の極微小なクリアランス(片側3μm以下)で形成されている。スタンパー155の片側の表面(図3では下面)には、この内形(内径)孔に対して同心に微細な凹凸模様が円周上に加工されている。ピストン156の中央部にも、内形(内径)抜きパンチ175の逃げ孔が形成されている。   In the center of the stamper 155, an inner shape (inner diameter) hole is formed with a very small clearance (one side of 3 μm or less) that can slide with respect to the inner shape (inner diameter) punch 175. On the surface of one side of the stamper 155 (the lower surface in FIG. 3), a fine concavo-convex pattern is processed on the circumference concentrically with the inner shape (inner diameter) hole. An escape hole for the inner shape (inner diameter) punch 175 is also formed in the center of the piston 156.

内形(内径)抜き用ダイ孔145は、外形(外径)抜きパンチ120の中心位置に形成されている。そして、図5に示すように、内形(内径)抜きパンチ175のパンチ径に対して均一な抜きクリアランスを保ちながら進入していく構造となっている。   The inner shape (inner diameter) punching die hole 145 is formed at the center position of the outer shape (outer diameter) punching punch 120. Then, as shown in FIG. 5, the inner shape (inner diameter) punch 175 enters the punch diameter while maintaining a uniform punch clearance.

次に、上記のように構成された金型(インプリント金型)110を用いてこの発明による微細加工方法を行う場合の、小径のディスク用基板やロータリーエンコーダ用基板へのインプリントの実施形態について説明する。   Next, an embodiment of imprinting onto a small-diameter disk substrate or rotary encoder substrate when the fine processing method according to the present invention is performed using the mold (imprint mold) 110 configured as described above. Will be described.

まず、外形(外径)抜きパンチ120およびピストン156に備えるヒーターに通電して、外形(外径)抜きパンチ120、ピストン156およびスタンパー155を、160℃付近に設定する。   First, the heaters provided in the outer shape (outer diameter) punch 120 and the piston 156 are energized, and the outer shape (outer diameter) punch 120, the piston 156 and the stamper 155 are set around 160 ° C.

この状態で、ポリカーボネート樹脂から成る所定の厚さで表面粗さが0.002μmの平板状のブランク基板を、ストリッパー125の上に載せる(図3参照)。そして、プレス装置の上ラムを所定量下降させて、ブランク基板をストリッパー125と外形(外径)抜きダイ150とで挟み込み、さらにストリッパー125の上面が外形(外径)抜きパンチ120の上面に一致するまで押し込む(図4参照)。このときのプレス装置の上ラムの位置を保持値とする(図9参照)。   In this state, a flat blank substrate made of polycarbonate resin and having a surface roughness of 0.002 μm is placed on the stripper 125 (see FIG. 3). Then, the upper ram of the press device is lowered by a predetermined amount, the blank substrate is sandwiched between the stripper 125 and the outer shape (outer diameter) punching die 150, and the upper surface of the stripper 125 matches the upper surface of the outer shape (outer diameter) punching punch 120. Push in until you see (see Fig. 4). The position of the upper ram of the press device at this time is set as a holding value (see FIG. 9).

この位置で、ブランク基板が打ち抜き工程に適切な温度(150℃付近)に昇温するまで、所定時間保持した後、上ラムをさらに下降させて、図5に示すように下死点まで下げる。これにより、ブランク基板は、外形(外径)抜きパンチ120と外形(外径)抜きダイ150とで所定の外形(外径)形状に打ち抜かれるとともに、内形(内径)抜きパンチ175と内形(内径)抜き用ダイ孔145とで所定の内形(内径)形状に打ち抜かれる。このとき、ブランク基板の内形(内径)を打ち抜いたカスは、内形(内径)抜き用ダイ孔145から下に落ちていく。   At this position, the blank substrate is held for a predetermined time until the temperature rises to a temperature suitable for the punching process (around 150 ° C.), and then the upper ram is further lowered to lower the bottom dead center as shown in FIG. As a result, the blank substrate is punched into a predetermined outer shape (outer diameter) by the outer shape (outer diameter) punch 120 and the outer shape (outer diameter) punching die 150, and the inner shape (inner diameter) punch 175 and the inner shape are punched out. A (inner diameter) punching die hole 145 is punched into a predetermined inner shape (inner diameter) shape. At this time, the residue punched out from the inner shape (inner diameter) of the blank substrate falls down from the inner shape (inner diameter) punching die hole 145.

上ラムによるプレス位置をこの下死点位置に保持する(図5参照)。この位置で、エアシリンダー部151の内圧を適当に上げ、スタンパー155の面積に対し2.5MPaの加圧力がかかるように調節する。これにより、スタンパー155に施した微細な凹凸模様が成形基板へインプリントされる工程(転写工程)に入る。インプリント(転写工程)には、50秒程の時間を要する。   The press position by the upper ram is held at this bottom dead center position (see FIG. 5). At this position, the internal pressure of the air cylinder portion 151 is appropriately increased and adjusted so that a pressing force of 2.5 MPa is applied to the area of the stamper 155. Thereby, the process (transfer process) in which the fine uneven | corrugated pattern given to the stamper 155 is imprinted on a shaping | molding board | substrate is entered. The imprint (transfer process) takes about 50 seconds.

インプリント(転写工程)完了後、外形(外径)抜きパンチ120およびピストン156に備えるヒーターの通電を切り、外形(外径)抜きパンチ120およびピストン156の温度を140℃付近に下げる冷却工程に入る。外形(外径)抜きパンチ120およびピストン156の温度が設定温度まで下がったら、上ラムを上昇させて初期値まで戻す。   After the imprint (transfer process) is completed, the heater provided to the outer shape (outer diameter) punch 120 and the piston 156 is turned off, and the cooling process to lower the temperature of the outer shape (outer diameter) punch 120 and the piston 156 to around 140 ° C. enter. When the temperature of the outer shape (outer diameter) punch 120 and the piston 156 falls to the set temperature, the upper ram is raised and returned to the initial value.

この型開き時に、打ち抜かれた成形基板は、ピストン156の圧力によりスタンパー155を介して外形(外径)抜きパンチ120の上面に押し付けられる。同時に、成形基板の外周に位置する外側基板は、ストリッパー125のバネ力により押し上げられる。外形(外径)抜きパンチ120の外径と外形(外径)抜きダイ150の内径とのクリアランスが微小であるため、成形基板は、外側基板の打ち抜き孔内に再び挿入される(図6参照)。   At the time of opening the mold, the punched molded substrate is pressed against the upper surface of the outer shape (outer diameter) punch 120 via the stamper 155 by the pressure of the piston 156. At the same time, the outer substrate located on the outer periphery of the molded substrate is pushed up by the spring force of the stripper 125. Since the clearance between the outer diameter of the outer shape (outer diameter) punch 120 and the inner diameter of the outer shape (outer diameter) punching die 150 is very small, the molded substrate is reinserted into the punched hole of the outer substrate (see FIG. 6). ).

この状態の基板は外周側から先に冷却が進むため、成形基板の外周は、外側基板の打ち抜き孔に締め付けられるように保持され一体の状態になる。この基板(成形基板および外側基板)は機械的に離型することができる(基板離型工程)。そのため、成形基板も外側基板と一体にスタンパー155から機械的に剥がされることになり(図7参照)、スタンパー155に離型剤等の処理を施す必要がなくなる大きな利点がある。   Since the substrate in this state is cooled first from the outer peripheral side, the outer periphery of the molded substrate is held so as to be fastened to the punched hole of the outer substrate, and becomes an integrated state. This substrate (molded substrate and outer substrate) can be mechanically released (substrate release step). Therefore, the molded substrate is also mechanically peeled off from the stamper 155 integrally with the outer substrate (see FIG. 7), and there is a great advantage that the stamper 155 need not be treated with a release agent or the like.

外側基板と一体の状態で取り出された成形基板は、一度打ち抜かれているので、その後機械的に外側基板から押し出すことが可能である。   Since the molded substrate taken out integrally with the outer substrate is once punched, it can be mechanically pushed out from the outer substrate.

なお、冷却工程では、加工時間短縮のために、適宜の冷却用気体を用いて強制的に冷却することが望ましい。図8にその一例を示す。すなわち、上型の冷却用気体導入孔152から冷却用気体を導入して、ピストン156の外周を冷却する。同様に、下型の冷却用気体導入孔136から冷却用気体を導入して、外形(外径)抜きパンチ120を冷却する。   In the cooling step, it is desirable to forcibly cool using an appropriate cooling gas in order to shorten the processing time. An example is shown in FIG. That is, the cooling gas is introduced from the upper cooling gas introduction hole 152 to cool the outer periphery of the piston 156. Similarly, the cooling gas is introduced from the cooling gas introduction hole 136 of the lower mold, and the outer shape (outer diameter) punch 120 is cooled.

また、基板離型工程では、適宜の圧縮気体を用いて強制的に離型させることが望ましい。図8にその一例を示す。すなわち、打ち抜き基板(成形基板)が、型開き時にスタンパー155の凹凸模様から容易に離型するように、上型の圧縮気体導入孔153から圧縮気体(離型気体)を導入して、内形(内径)抜きパンチ175とピストン156およびスタンパー155との分割面から圧縮気体を噴出させる。   In the substrate release step, it is desirable to forcibly release using an appropriate compressed gas. An example is shown in FIG. That is, a compressed gas (release gas) is introduced from the upper mold compressed gas introduction hole 153 so that the punched substrate (molded substrate) is easily released from the uneven pattern of the stamper 155 when the die is opened. (Inner diameter) Compressed gas is ejected from the dividing surface of the punch 175, the piston 156 and the stamper 155.

同様に、成形基板の外周に位置する外側基板が、型開き時に容易に離型するように、下型の圧縮気体導入孔129から圧縮気体(離型気体)を導入して、ストリッパー125の基板との接触面から圧縮気体を噴出させる。   Similarly, the substrate of the stripper 125 is introduced by introducing a compressed gas (release gas) from the lower mold compressed gas introduction hole 129 so that the outer substrate positioned on the outer periphery of the molded substrate is easily released when the mold is opened. Compressed gas is ejected from the contact surface.

さらに、外形(外径)抜きダイ150は一体のものでなくてもよい。例えば、外形(外径)抜きパンチ120と協働してブランク基板を打ち抜く打ち抜き部と、ストリッパー125との間にブランク基板を挟持する挟持部とを兼ねたダイ主要部150aを、それ以外の部分150bとは別部品として構成する。このような分割ダイは、例えば、打ち抜き部分の磨耗が激しい場合に、それ以外の部分150bに対してダイ主要部150aを交換することができる。   Furthermore, the outer shape (outer diameter) punching die 150 may not be integral. For example, the die main portion 150a that also serves as a punching portion for punching a blank substrate in cooperation with the outer shape (outer diameter) punching punch 120 and a sandwiching portion for sandwiching the blank substrate between the stripper 125, and other portions It is configured as a separate part from 150b. In such a divided die, for example, when the wear of the punched portion is severe, the die main portion 150a can be replaced with the other portion 150b.

上記の方法によれば、内形(内径)抜きパンチ175に対して、スタンパー155の内形(内径)のクリアランス分の最大で片側3μmしか微細凹凸模様は偏心しないことになり、内形(内径)加工の位置合せなどの必要は無い。しかも、内形(内径)抜きパンチ175は、外形(外径)抜きダイ150と上ホルダー160により同心に位置決めされているため、スタンパー(転写部材)155の外形(外径)、内形(内径)とほぼ同じ形状の成形基板が得られ、基板内形(内径)に対して基板外形(外径)も偏心のない成形基板を得ることができる。   According to the above method, the fine uneven pattern is eccentric only by 3 μm on one side at the maximum with respect to the clearance of the inner shape (inner diameter) of the stamper 155 with respect to the inner shape (inner diameter) punch 175. ) There is no need to align the processing. Moreover, since the inner shape (inner diameter) punch 175 is positioned concentrically by the outer shape (outer diameter) punching die 150 and the upper holder 160, the outer shape (outer diameter) and inner shape (inner diameter) of the stamper (transfer member) 155. ) And a molded substrate having a substrate outer shape (outer diameter) with no eccentricity relative to the inner shape (inner diameter) of the substrate.

このような偏心のない成形基板は、例えば、ロータリーエンコーダのように、内径を基準に高速で回転させるような製品の場合に、回転時のブレが発生しないため特に有効である。   Such a molded substrate having no eccentricity is particularly effective in the case of a product that rotates at high speed with reference to the inner diameter, such as a rotary encoder, because no blurring occurs during rotation.

図10は、このようにして得られた小径のディスク用基板1の斜視図である。また、図11は、同様にして得られたロータリーエンコーダ用基板2の斜視図である。いずれも、内径部の微細な凹凸模様に対する偏心は3μm以下であった。   FIG. 10 is a perspective view of the small-diameter disk substrate 1 obtained as described above. FIG. 11 is a perspective view of the rotary encoder substrate 2 obtained in the same manner. In all cases, the eccentricity with respect to the fine uneven pattern in the inner diameter portion was 3 μm or less.

この発明による微細加工方法に用いる金型(インプリント金型)の一実施形態の要部を断面にして示す概略図である。It is the schematic which shows the principal part of one Embodiment of the metal mold | die (imprint metal mold | die) used for the microfabrication method by this invention in cross section. 図1の金型(インプリント金型)を下死点まで下げた状態の概略図である。It is the schematic of the state which lowered | hung the metal mold | die (imprint metal mold | die) of FIG. 1 to the bottom dead center. この発明による微細加工方法に用いる金型(インプリント金型)の他の実施形態の要部を断面にして示す初期状態の概略図である。It is the schematic of the initial state which shows the principal part of other embodiment of the metal mold | die (imprint metal mold | die) used for the microfabrication method by this invention in cross section. 図3の金型(インプリント金型)を保持位置まで下げた状態の概略図である。It is the schematic of the state which lowered | hung the metal mold | die (imprint metal mold | die) of FIG. 3 to the holding position. 図3の金型(インプリント金型)を下死点まで下げた状態の概略図である。It is the schematic of the state which lowered | hung the metal mold | die (imprint metal mold | die) of FIG. 3 to the bottom dead center. 図3の金型(インプリント金型)を保持位置まで戻した状態の概略図である。It is the schematic of the state which returned the metal mold | die (imprint metal mold | die) of FIG. 3 to the holding position. 図3の金型(インプリント金型)を初期位置まで戻した状態の概略図である。It is the schematic of the state which returned the metal mold | die (imprint metal mold | die) of FIG. 3 to the initial position. 図3の金型(インプリント金型)における各部の詳細を示す概略図である。It is the schematic which shows the detail of each part in the metal mold | die (imprint metal mold | die) of FIG. 金型(インプリント金型)の型作動工程に基づく各工程の一例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows an example of each process based on a mold operation process of a metallic mold (imprint metallic mold). この発明の微細加工方法により得られたディスク用基板の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the board | substrate for disks obtained by the microfabrication method of this invention. この発明の微細加工方法により得られたロータリーエンコーダ用基板の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the board | substrate for rotary encoders obtained by the microfabrication method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ディスク用基板
2 ロータリーエンコーダ用基板
10,110 金型(インプリント金型)
20,120 外形(外径)抜きパンチ
25,125 ストリッパー
26,126 ストリッパーカラー
27,127 ストリッパー用バネ
28,128 バネ押えプレート
129 下型の圧縮気体(離型気体)導入孔
30,130 下ホルダー
35,135 下バックプレート
136 下型の冷却用気体導入孔
40,140 ガイドブッシュ
145 内形(内径)抜き用ダイ孔
50,150 外形(外径)抜きダイ
51,151 エアシリンダー部
152 上型の冷却用気体導入孔
153 上型の圧縮気体(離型気体)導入孔
55,155 スタンパー
56,156 ピストン(加圧部材)
57,157 Oリング
60,160 上ホルダー
61,161 エア供給口
65,165 上バックプレート
70,170 ガイドポスト
175 内形(内径)抜きパンチ
176 Oリング
1 Disc substrate 2 Rotary encoder substrate 10, 110 Mold (imprint mold)
20, 120 Outer (outer diameter) punch 25, 125 Stripper 26, 126 Stripper collar 27, 127 Stripper spring 28, 128 Spring retainer plate 129 Lower mold compressed gas (release gas) introduction hole 30, 130 Lower holder 35 , 135 Lower back plate 136 Lower die cooling gas introduction hole 40, 140 Guide bush 145 Inner shape (inner diameter) die hole 50, 150 Outer die (outer diameter) die 51, 151 Air cylinder portion 152 Upper die cooling Gas inlet hole 153 Upper mold compressed gas (release gas) inlet hole 55, 155 Stamper 56, 156 Piston (pressurizing member)
57,157 O-ring 60,160 Upper holder 61,161 Air supply port 65,165 Upper back plate 70,170 Guide post 175 Inner shape (inner diameter) punch 176 O-ring

Claims (25)

少なくとも片面に平滑な樹脂面を備えた平板状の被加工物を所定の形状に打ち抜く金型が初期位置から打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、
表面に凹凸模様が形成された転写部材または前記被加工物の少なくとも一方が加熱により昇温した状態で、前記転写部材の凹凸模様を前記被加工物の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程を行うことを特徴とする微細加工方法。
During the mold operation process until the mold for punching a flat plate-like workpiece having a smooth resin surface on at least one side returns to the initial position from the initial position through the punching position,
In a state where at least one of the transfer member having a concavo-convex pattern formed on the surface or the workpiece is heated by heating, the concavo-convex pattern of the transfer member is pressed against the resin surface of the workpiece, A fine processing method, comprising performing a transfer step of transferring a pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape.
少なくとも片面に平滑な樹脂面を備えた平板状の被加工物を打ち抜く金型が初期位置から打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、
表面に凹凸模様が形成された転写部材または前記被加工物の少なくとも一方を加熱により昇温させる昇温工程、
前記被加工物を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、
前記転写部材の凹凸模様を前記被加工物の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および
前記凹凸模様が前記位置決めされた所に転写された前記被加工物を冷却する冷却工程、
を実行することを特徴とする微細加工方法。
During the mold operation process until the mold for punching a flat plate-shaped workpiece having a smooth resin surface on at least one side returns to the initial position from the initial position through the punching position,
A temperature raising step of raising the temperature of at least one of the transfer member having the concavo-convex pattern formed thereon or the workpiece by heating,
Punching process for punching the workpiece into a predetermined shape,
A transfer step of pressing the concavo-convex pattern of the transfer member against the resin surface of the workpiece and transferring the concavo-convex pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape; and the concavo-convex pattern is the positioning A cooling step of cooling the workpiece transferred to the place
A fine processing method characterized in that
前記型作動工程中に、前記昇温工程、前記打ち抜き工程、前記転写工程、および前記冷却工程を、この順に実行することを特徴とする請求項2記載の微細加工方法。   The micromachining method according to claim 2, wherein the temperature raising step, the punching step, the transfer step, and the cooling step are executed in this order during the mold operation step. 前記型作動工程中に、前記昇温工程、前記転写工程、前記打ち抜き工程、および前記冷却工程を、この順に実行することを特徴とする請求項2記載の微細加工方法。   3. The micromachining method according to claim 2, wherein the temperature raising step, the transfer step, the punching step, and the cooling step are executed in this order during the mold operating step. 前記打ち抜き工程において、前記所定の形状の外側にある前記被加工物の残余の部分を固定した状態で、前記被加工物を前記所定の形状に打ち抜くことを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項記載の微細加工方法。   5. The punching process according to claim 2, wherein in the punching step, the workpiece is punched into the predetermined shape in a state where a remaining portion of the workpiece outside the predetermined shape is fixed. The fine processing method according to claim 1. 前記冷却工程において、前記転写部材及び前記被加工物を冷却用気体により強制的に冷却することを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項記載の微細加工方法。   6. The microfabrication method according to claim 2, wherein in the cooling step, the transfer member and the workpiece are forcibly cooled by a cooling gas. 前記所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き部分が、前記被加工物の打ち抜き孔の部分に自動的に挿入されて、両者が実質的に一体となって取り出せることを特徴とする請求項2〜6のいずれか1項記載の微細加工方法。   The punched portion punched into the predetermined shape is automatically inserted into a portion of the punched hole of the workpiece so that the two can be taken out substantially integrally. The microfabrication method according to any one of the above. 前記被加工物の平滑な前記樹脂面の表面粗さRaは、0.5μm以下であることを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項記載の微細加工方法。   The micromachining method according to any one of claims 2 to 7, wherein a surface roughness Ra of the smooth resin surface of the workpiece is 0.5 µm or less. 前記打ち抜き工程で前記被加工物を打ち抜く前記所定の形状は、円盤状であることを特徴とする請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法。   The micromachining method according to any one of claims 2 to 8, wherein the predetermined shape for punching the workpiece in the punching step is a disc shape. 前記打ち抜き工程で前記被加工物を打ち抜く前記所定の形状は、中心部に円形孔を有する円盤状であることを特徴とする請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法。   The micromachining method according to any one of claims 2 to 8, wherein the predetermined shape for punching the workpiece in the punching step is a disc shape having a circular hole in a central portion. 請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法によって作製されたことを特徴とする微細加工基板。   A microfabricated substrate produced by the microfabrication method according to claim 2. 請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法によって作製されたことを特徴とするディスク用基板。   A disk substrate produced by the microfabrication method according to claim 2. 請求項2〜8のいずれか1項記載の微細加工方法によって作製されたことを特徴とするロータリーエンコーダ用基板。   A substrate for a rotary encoder produced by the microfabrication method according to any one of claims 2 to 8. 少なくとも一方が加熱可能な上型または下型のいずれか一方が、
パンチ側ホルダーに固定されたパンチと、
前記パンチを通す孔を有し、かつ、前記パンチの先端面より突出した位置を基準として、これより押し込まれたとき復帰するように付勢されたストリッパーとを備え、
他方が、
ダイ側ホルダーに固定されたダイであって、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備え、かつ、両型間に置かれる被加工基板を、プレス装置のラムが型閉方向に駆動することにより、前記ストリッパーとの間に挟持し、さらに前記パンチと協働して前記被加工基板を打ち抜くダイと、
前記ダイの内側空間に配置され、表面に凹凸模様が形成された転写部材を先端に備え、前記凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧可能な加圧部材とを備えた金型を用いて、微細加工を行う方法であって、
前記パンチとダイが初期位置から前記挟持する挟持位置さらに前記打ち抜く打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、
前記上型または下型の少なくとも一方を加熱することで前記転写部材または前記被加工基板の少なくとも一方を昇温させる昇温工程、
前記被加工基板を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、
前記転写部材の凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および
前記凹凸模様が前記位置決めされた所に転写された前記被加工基板を冷却する冷却工程、
を実行することを特徴とする微細加工方法。
Either the upper mold or the lower mold, at least one of which can be heated,
A punch fixed to the punch side holder,
A stripper that has a hole through which the punch passes and is biased so as to return when pressed from a position protruding from the tip surface of the punch,
The other is
A die fixed to a die-side holder, provided with a smooth resin surface on at least one side, and a substrate to be processed placed between both dies, when the ram of the press device is driven in the mold closing direction, A die which is sandwiched between a stripper and punches the substrate to be processed in cooperation with the punch;
Gold provided with a transfer member disposed at the inner space of the die and having a concavo-convex pattern formed on the surface thereof, and a pressing member capable of pressing the concavo-convex pattern against the resin surface of the substrate to be processed A method for performing microfabrication using a mold,
During the mold operation process until the punch and die return from the initial position to the initial position through the clamping position and the punching position for punching,
A temperature raising step of raising the temperature of at least one of the transfer member or the substrate to be processed by heating at least one of the upper die or the lower die;
A punching process for punching the substrate to be processed into a predetermined shape;
A transfer step of pressing the concavo-convex pattern of the transfer member against the resin surface of the substrate to be processed, and transferring the concavo-convex pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape; and the concavo-convex pattern is the positioning A cooling step of cooling the substrate to be processed transferred to the place,
A fine processing method characterized in that
加熱される前記上型または下型の前記プレス装置と接する部材を断熱材で構成し、前記上型または下型から前記プレス装置への熱伝導を防止することを特徴とする請求項14記載の微細加工方法。   The member which contacts the said press apparatus of the said upper mold | type or the lower mold | type heated is comprised with a heat insulating material, The heat conduction from the said upper mold | type or a lower mold | type to the said press apparatus is prevented. Fine processing method. 前記昇温工程は、前記加圧部材に備えたヒーターにより前記転写部材を昇温させ、また、前記被加工基板が前記ストリッパーと前記ダイとの間に挟持されたとき、前記パンチに備えたヒーターにより、前記パンチと前記転写部材とに挟持される部分の前記被加工基板を昇温させることを特徴とする請求項14または請求項15記載の微細加工方法。   In the temperature raising step, the temperature of the transfer member is raised by a heater provided in the pressurizing member, and the heater provided in the punch when the substrate to be processed is sandwiched between the stripper and the die. 16. The microfabrication method according to claim 14, wherein the temperature of the substrate to be processed at a portion sandwiched between the punch and the transfer member is increased by the step. 前記打ち抜き工程は、前記被加工基板が前記ストリッパーと前記ダイとの間に挟持された状態で、前記パンチと前記転写部材とに挟持されている部分の前記被加工基板を前記所定の形状として打ち抜くことを特徴とする請求項14〜16のいずれか1項記載の微細加工方法。   In the punching step, the substrate to be processed is punched as the predetermined shape in a portion sandwiched between the punch and the transfer member in a state where the substrate to be processed is sandwiched between the stripper and the die. The microfabrication method according to any one of claims 14 to 16, characterized in that 前記転写工程は、前記昇温工程の後、前記パンチと前記転写部材とに挟持されている部分の前記被加工基板の前記樹脂面に対し、前記加圧部材が前記転写部材の凹凸模様を加圧することで転写させることを特徴とする請求項14〜17のいずれか1項記載の微細加工方法。   In the transfer step, after the temperature raising step, the pressure member adds a concavo-convex pattern of the transfer member to the resin surface of the substrate to be processed that is sandwiched between the punch and the transfer member. The fine processing method according to claim 14, wherein the transfer is performed by pressing. 前記冷却工程は、冷却用気体により前記パンチの外周を冷却し、また、冷却用気体により前記加圧部材の外周を冷却することで、前記パンチと前記転写部材とに挟持されている部分の前記被加工基板を冷却することを特徴とする請求項14〜18のいずれか1項記載の微細加工方法。   In the cooling step, the outer periphery of the punch is cooled by a cooling gas, and the outer periphery of the pressure member is cooled by a cooling gas, so that the portion of the portion sandwiched between the punch and the transfer member is cooled. The fine processing method according to claim 14, wherein the substrate to be processed is cooled. 前記所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板が、前記被加工基板の打ち抜き孔の部分に自動的に挿入されて、両者が実質的に一体となって取り出せることを特徴とする請求項14〜19のいずれか1項記載の微細加工方法。   20. The punched substrate punched into the predetermined shape is automatically inserted into a punched hole portion of the substrate to be processed, and the two can be taken out substantially integrally. The microfabrication method according to any one of the above. 少なくとも一方が加熱可能な上型または下型のいずれか一方が、
パンチ側ホルダーに固定された外形抜きパンチと、
前記外形抜きパンチを通す孔を有し、かつ、前記外形抜きパンチの先端面より突出した位置を基準として、これより押し込まれたとき復帰するように付勢されたストリッパーとを備え、
他方が、
ダイ側ホルダーに固定されたダイであって、少なくとも片面に平滑な樹脂面を備え、かつ、両型間に置かれる被加工基板を、プレス装置のラムが型閉方向に駆動することにより、前記ストリッパーとの間に挟持し、さらに前記外形抜きパンチと協働して前記被加工基板を打ち抜く外形抜きダイと、
前記ダイ側ホルダーに前記外形抜きダイと同心に固定され、前記外形抜きパンチの中心位置に形成されている内形抜き用ダイ孔と協働して前記被加工基板を打ち抜く内形抜きパンチと、
前記外形抜きダイの内側空間に前記内形抜きパンチを避けて配置され、表面に凹凸模様が形成された転写部材を先端に備え、前記凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧可能な加圧部材とを備えた金型を用いて、微細加工を行う方法であって、
前記外形抜きパンチと前記外形抜きダイおよび内形抜きパンチとが初期位置から前記挟持する挟持位置さらに前記打ち抜く打ち抜き位置を経て初期位置に戻るまでの型作動工程中に、
前記上型または下型の少なくとも一方を加熱することで前記転写部材または前記被加工基板の少なくとも一方を昇温させる昇温工程、
前記被加工基板を所定の形状に打ち抜く打ち抜き工程、
前記転写部材の凹凸模様を前記被加工基板の前記樹脂面に対し加圧して、前記凹凸模様を前記所定の打ち抜き形状に対して位置決めされた所に転写する転写工程、および
前記凹凸模様が前記位置決めされた所に転写された前記被加工基板を冷却する冷却工程、
を実行することを特徴とする微細加工方法。
Either the upper mold or the lower mold, at least one of which can be heated,
An outline punch fixed to the punch side holder,
A stripper that has a hole through which the outer punch is passed, and is biased so as to return when it is pushed in with respect to a position protruding from the tip surface of the outer punch,
The other is
A die fixed to a die-side holder, provided with a smooth resin surface on at least one side, and a substrate to be processed placed between both dies, when the ram of the press device is driven in the mold closing direction, An outer die that is sandwiched between a stripper and punches the workpiece substrate in cooperation with the outer punch;
An inner die punch that is fixed to the die side holder concentrically with the outer die, and punches the workpiece substrate in cooperation with an inner die punching hole formed at the center position of the outer punch,
A transfer member that is arranged in the inner space of the outer shape punch die so as to avoid the inner shape punch and is provided with a concavo-convex pattern on the surface thereof, and the concavo-convex pattern is pressed against the resin surface of the substrate to be processed A method of performing microfabrication using a mold provided with a possible pressure member,
During the mold operation process until the outer punch, the outer die and the inner punch are returned from the initial position to the initial position through the punching position and the punching position for punching,
A temperature raising step of raising the temperature of at least one of the transfer member or the substrate to be processed by heating at least one of the upper die or the lower die;
A punching process for punching the substrate to be processed into a predetermined shape;
A transfer step of pressing the concavo-convex pattern of the transfer member against the resin surface of the substrate to be processed, and transferring the concavo-convex pattern to a position positioned with respect to the predetermined punching shape; and the concavo-convex pattern is the positioning A cooling step of cooling the substrate to be processed transferred to the place,
A fine processing method characterized in that
前記所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板が、その外側にある前記被加工基板の残余の部分の打ち抜き孔に自動的に挿入されて、両者が実質的に一体となって取り出せることを特徴とする請求項21記載の微細加工方法。   The punched substrate punched into the predetermined shape is automatically inserted into a punched hole in the remaining portion of the substrate to be processed outside thereof, and both can be taken out substantially integrally. The fine processing method according to claim 21. 型開き時に、前記内形抜きパンチと前記加圧部材との分割面から圧縮気体を噴出させることにより、前記打ち抜き工程で前記被加工基板から所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板を、前記転写部材の凹凸模様から離型させることを特徴とする請求項21または請求項22記載の微細加工方法。   When the mold is opened, the transfer substrate is formed by punching a punched substrate that has been punched into a predetermined shape from the substrate to be processed in the punching step by ejecting compressed gas from the divided surface of the inner punch and the pressure member. 23. The microfabrication method according to claim 21, wherein the mold is released from the uneven pattern. 型開き時に、前記ストリッパーの前記被加工基板との接触面から圧縮気体を噴出させることにより、前記打ち抜き工程で所定の形状に打ち抜かれた打ち抜き基板の外側にある前記被加工基板の残余の部分を離型させることを特徴とする請求項21〜23のいずれか1項記載の微細加工方法。   When the mold is opened, the remaining portion of the substrate to be processed outside the punched substrate punched into a predetermined shape in the punching process is ejected from the contact surface of the stripper with the substrate to be processed. 24. The microfabrication method according to any one of claims 21 to 23, wherein the mold is released. 前記外形抜きダイにおいて、前記外形抜きパンチと協働して前記被加工基板を打ち抜く打ち抜き部と、前記ストリッパーとの間に前記被加工基板を挟持する挟持部とを兼ねたダイ主要部を、それ以外の部分とは別部品として構成し、前記外形抜きダイの前記それ以外の部分に対して前記ダイ主要部を交換することを特徴とする請求項21〜24のいずれか1項記載の微細加工方法。   In the outer shape punching die, a die main portion serving as a punching portion for punching the workpiece substrate in cooperation with the outer shape punching punch and a clamping portion for sandwiching the workpiece substrate between the stripper, 25. The microfabrication according to any one of claims 21 to 24, wherein the die main part is configured as a separate part from the other part, and the die main part is exchanged for the other part of the outer die. Method.
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