JP2008084997A - Semiconductor device design support system - Google Patents

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JP2008084997A JP2006261624A JP2006261624A JP2008084997A JP 2008084997 A JP2008084997 A JP 2008084997A JP 2006261624 A JP2006261624 A JP 2006261624A JP 2006261624 A JP2006261624 A JP 2006261624A JP 2008084997 A JP2008084997 A JP 2008084997A
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Yoshiaki Watanabe
儀明 渡邊
Nobuyuki Yamazaki
信之 山崎
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Fujitsu Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the occurrence of iteration upon chip design and efficiently manufacture a semiconductor device with high yield. <P>SOLUTION: The predicted yields before and after the DFM measures are computed using the chip specification in the design start stage (steps S20-S22); the predicted manufacturing costs before and after the DFM measures are computed using them (step S23); the difference between the predicted manufacturing costs before and after the DFM measures is compared with the DFM measure cost required for the DFM measures, and the magnitude thereof is judged (step S24). As implementation judgement on the DFM measures can be carried out using the chip specification in the design start stage, the occurrence of the iteration of the design can be suppressed. Further, the predicted manufacturing cost after the DFM measures, and the relation between the predicted manufacturing cost and the DFM measure cost are made clear at the design start stage, so that implementation judgement on the DFM measures can suitably be carried out. Thereby, the semiconductor device can efficiently be manufactured with high yield. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は半導体装置設計支援システムに関し、特に歩留りを考慮した設計に用いる半導体装置設計支援システムに関する。   The present invention relates to a semiconductor device design support system, and more particularly to a semiconductor device design support system used for designing in consideration of yield.

通常、LSI(Large Scale Integration)等のチップ開発では、まず、そのチップサイズや必要な性能等を基に設計が行われ、その設計を基に製造が行われる。近年では、リソグラフィ技術等の製造技術の向上により、高性能チップが比較的高い歩留りで得られるようになっている。しかし、チップの微細化に伴い、製造技術の向上だけでは、一定値以上の歩留りでチップを得ることが難しくなってきている。そのため、製造段階だけでなく、設計段階においても、歩留り向上に貢献できるような設計対策を講じる必要性が高まってきている。   Usually, in the development of a chip such as an LSI (Large Scale Integration), a design is first performed based on the chip size, required performance, and the like, and the manufacture is performed based on the design. In recent years, high-performance chips can be obtained at a relatively high yield by improving manufacturing techniques such as lithography techniques. However, with the miniaturization of chips, it has become difficult to obtain chips with a yield exceeding a certain value only by improving manufacturing technology. Therefore, there is an increasing need to take design measures that can contribute to yield improvement not only in the manufacturing stage but also in the design stage.

図30は従来の設計対策の実施の流れを説明する図である。
一般に、チップ開発は、企画を基に設計を行い(ステップS100,S110)、その設計に基づいて製造を行い(ステップS120)、得られたチップの性能等の試験を行う(ステップS130)、という流れで実施される。その際、ステップS100,S110の企画および設計まで行った段階で、設計対策の要否を判定するため、歩留りの予測を行う。
FIG. 30 is a diagram for explaining the flow of implementation of a conventional design measure.
In general, chip development is designed based on a plan (steps S100 and S110), manufactured based on the design (step S120), and tested for the performance of the obtained chip (step S130). Implemented in a stream. At that time, at the stage where the planning and design of steps S100 and S110 are performed, the yield is predicted in order to determine whether or not a design measure is necessary.

そのため、まず、ステップS110の設計後には、設計されたチップのチップ情報(チップ面積、線幅、ビア数等のチップに関する情報をいう。)を取得しておく。また、以前のチップ開発で得られた歩留り実績を用いて分析・検証を行い(ステップS111)、予測歩留り算出式を作成しておく。この予測歩留り算出式と、ステップS110の設計後に得られたチップ情報とを用いて、予測歩留りを算出する(ステップS112)。さらに、その予測歩留りを用いて予測製造コストを算出する(ステップS113)。算出された予測製造コストを考慮しつつ、予測歩留りが一定値以上と予測される場合には(ステップS114)、そのままステップ120の製造に進む。一方、予測歩留りが一定値を下回ると予測される場合には(ステップS114)、配線配置やコンタクト構造を変更する等の設計対策を実施して再設計を行った後(ステップS115)、ステップ120の製造に進む。   Therefore, first, after the design of step S110, chip information of the designed chip (referred to as chip information such as chip area, line width, and number of vias) is acquired. Further, analysis / verification is performed using the yield record obtained in the previous chip development (step S111), and a predicted yield calculation formula is created. A predicted yield is calculated using this predicted yield calculation formula and the chip information obtained after the design in step S110 (step S112). Further, a predicted manufacturing cost is calculated using the predicted yield (step S113). If the predicted yield is predicted to be greater than or equal to a certain value while considering the calculated predicted manufacturing cost (step S114), the process proceeds to step 120 as it is. On the other hand, when the predicted yield is predicted to fall below a certain value (step S114), after implementing redesign by implementing design measures such as changing the wiring arrangement or contact structure (step S115), step 120 is performed. Proceed to manufacturing.

なお、従来、チップ設計段階において、あらかじめ用意された機能ブロックの複数の組み合わせごとに、採用する製造ラインについて既知の欠陥発生率を用いて歩留りを予測し、チップ1個当たりの製造コスト等を見積もり、それを基に最適な機能ブロックの組み合わせを選択する方法等が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2004−31891号公報
Conventionally, at the chip design stage, for each combination of a plurality of functional blocks prepared in advance, the yield is predicted using a known defect occurrence rate for the production line to be used, and the manufacturing cost per chip is estimated. A method of selecting an optimal combination of functional blocks based on the above has been proposed (for example, see Patent Document 1).
JP 2004-31891 A

しかし、上記図30に示したように、チップの設計がひと通り終了した後に得られるチップ情報を用いて歩留りを予測する方法では、それによって歩留りが低くなると予測されたときには、再設計を行わなければならなくなるため、イタレーションが発生して、チップ開発スピードが低下してしまうという問題点があった。   However, as shown in FIG. 30 above, in the method of predicting the yield using the chip information obtained after completing the design of the chip, if it is predicted that the yield will be lowered, the redesign must be performed. As a result, there is a problem that an iteration occurs and the chip development speed decreases.

さらに、実施する設計対策は、チップの種類によって異なってくるため、チップの種類によらず必ず行わなければならない設計対策(設計ルール)は最初の設計段階で考慮されるが、その後の再設計段階では、個々のチップについて、個々の設計対策の実施判断を行うことになる。しかしながら、個々のチップに対する個々の設計対策の効果は、再設計段階では容易に算出できず、明確にしにくいのが現状である。   Furthermore, since the design measures to be implemented vary depending on the type of chip, the design measures (design rules) that must be taken regardless of the type of chip are considered in the initial design stage, but the subsequent redesign stage. Then, the implementation decision of each design measure is performed for each chip. However, the effect of individual design measures for individual chips cannot be easily calculated at the redesign stage and is difficult to clarify.

近年のLSIチップ等は、その用途等に応じて設計・製造されることも多くなっており、以上のような問題がより生じやすくなってきている。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、歩留り向上に寄与する適切な設計対策を実施して半導体装置の開発を効率的に行うための半導体装置設計支援システムを提供することを目的とする。
In recent years, LSI chips and the like are often designed and manufactured in accordance with their uses and the above problems are more likely to occur.
The present invention has been made in view of these points, and provides a semiconductor device design support system for efficiently developing semiconductor devices by implementing appropriate design measures that contribute to yield improvement. Objective.

本発明では上記課題を解決するために、半導体装置の設計に用いる半導体装置設計支援システムにおいて、前記半導体装置の設計開始段階の仕様を格納する仕様格納手段と、前記半導体装置に実施可能な設計対策に要する設計対策コストを格納する設計対策コスト格納手段と、前記仕様格納手段に格納された前記仕様を用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出する予測歩留り演算手段と、前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストおよび前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出する予測製造コスト演算手段と、前記予測製造コスト演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コスト格納手段に格納された前記設計対策コストとを比較・判定する比較・判定手段と、を有することを特徴とする半導体装置設計支援システムが提供される。   In the present invention, in order to solve the above problems, in a semiconductor device design support system used for designing a semiconductor device, specification storage means for storing specifications at the design start stage of the semiconductor device, and design measures that can be implemented in the semiconductor device Design measure cost storage means for storing the design measure cost required for the process, and the predicted yield when the design measure is not implemented and the predicted yield when the design measure is implemented using the specifications stored in the specification store means A predictive yield calculating means for calculating the predictive yield, a predictive yield when the design measure calculated by the predictive yield calculating means is not implemented, and a predictive yield when the design measure is implemented, and not implementing the design measure Predicted manufacturing cost and a predicted manufacturing cost calculating means for calculating the predicted manufacturing cost when the design measures are implemented, The difference between the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure calculated by the predicted manufacturing cost calculating means and the predicted manufacturing cost when executing the design measure, and the design stored in the design measure cost storage means There is provided a semiconductor device design support system characterized by comprising comparison / determination means for comparing / determining countermeasure costs.

このような半導体装置設計支援システムによれば、仕様格納手段が、半導体装置の設計開始段階の仕様を格納し、予測歩留り演算手段が、格納されたその仕様を用いて、設計対策を実施しない場合と実施する場合の予測歩留りを算出し、予測製造コスト演算手段が、算出されたそれらの予測歩留りを用いて、設計対策を実施しない場合と実施する場合の予測製造コストを算出する。そして、比較・判定手段が、その設計対策を実施しない場合と実施する場合の予測製造コストとの差と、設計対策コスト格納手段に格納されたその設計対策に要する設計対策コストとを比較し、判定する。設計開始段階の仕様を用いて設計対策の実施判断を行うことが可能になるので、設計のイタレーションの発生が抑えられるようになる。また、設計開始段階において、設計対策を実施する場合の予測製造コスト、および予測製造コストとその設計対策に要する設計対策コストとの関係が明確化されるようになる。   According to such a semiconductor device design support system, the specification storage means stores the specifications at the design start stage of the semiconductor device, and the predicted yield calculation means does not implement a design measure using the stored specifications. The predicted yield in the case of carrying out the design is calculated, and the predicted manufacturing cost calculating means calculates the predicted manufacturing cost in the case where the design measure is not carried out and in the case where the design measure is carried out, using the calculated predicted yield. Then, the comparison / determination means compares the difference between the predicted manufacturing cost when the design countermeasure is not implemented and the case where it is implemented with the design countermeasure cost required for the design countermeasure stored in the design countermeasure cost storage means, judge. Since it is possible to make a design measure implementation decision using the specifications at the design start stage, the occurrence of design iteration can be suppressed. Further, at the design start stage, the predicted manufacturing cost when the design countermeasure is implemented and the relationship between the predicted manufacturing cost and the design countermeasure cost required for the design countermeasure are clarified.

本発明では、半導体装置の設計開始段階の仕様を用いて設計対策の実施判断が行えるようにした。これにより、半導体装置を設計する際のイタレーションの発生を抑えることができる。また、設計開始段階において、設計対策を実施する場合の予測製造コスト、および予測製造コストと設計対策コストとの関係が明確になるので、設計を適切に行うことができる。したがって、半導体装置を早期に高い歩留りで製造することが可能になる。   In the present invention, it is made possible to determine whether to implement a design measure using the specifications at the design start stage of the semiconductor device. Thereby, it is possible to suppress the occurrence of iteration when designing the semiconductor device. In addition, at the design start stage, the predicted manufacturing cost when implementing the design countermeasure and the relationship between the predicted manufacturing cost and the design countermeasure cost are clarified, so that the design can be performed appropriately. Therefore, it becomes possible to manufacture a semiconductor device at a high yield early.

以下、本発明の実施の形態を、LSIチップの開発に適用した場合を例に、図面を参照して詳細に説明する。
図1はLSIチップ開発における設計対策の実施の流れを説明する図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, taking as an example the case of application to the development of an LSI chip.
FIG. 1 is a diagram for explaining the flow of implementation of design measures in LSI chip development.

LSIチップの開発は、企画を基に設計を行い(ステップS10,S20)、その設計に基づいて製造を行い(ステップS30)、得られたチップの性能等の試験を行う(ステップS40)、という流れで実施される。その際、ステップS20の設計開始段階、例えば設計開始時点や設計開始直後に、チップの歩留り向上に貢献する設計対策(DFM(Design For Manufacturing)対策)の要否およびそれが必要な場合にはその種類を判定するため、歩留りおよび製造コストの予測を行う。   The LSI chip is developed based on a plan (steps S10 and S20), manufactured based on the design (step S30), and tested for the performance of the obtained chip (step S40). Implemented in a stream. At that time, the necessity of a design measure (DFM (Design For Manufacturing) measure) that contributes to improving the yield of the chip at the design start stage of step S20, for example, at the start of design or immediately after the start of design, and if necessary, In order to determine the type, the yield and manufacturing cost are predicted.

そのため、まず、ステップS10の企画後、あるいはステップS20の設計開始段階でチップ仕様を取得する。チップ仕様には、例えば、チップ名、ゲート数、チップ面積、メモリ部面積、配線層構造等、設計開始段階で得られる種々のチップ特性が含まれる。   Therefore, first, a chip specification is acquired after planning in step S10 or at the design start stage in step S20. The chip specification includes various chip characteristics obtained at the design start stage, such as a chip name, the number of gates, a chip area, a memory area, and a wiring layer structure.

そして、過去の開発実績の分析・検証から(ステップS21)、歩留りの予測に用いられる算出式(予測歩留り算出式)と、この予測歩留り算出式に用いられる係数であってDFM対策の種類ごとに設定される係数(対策係数)を導き出す。   Then, from analysis / verification of past development results (step S21), a calculation formula (predicted yield calculation formula) used for yield prediction and a coefficient used for this predicted yield calculation formula for each type of DFM measure The set coefficient (countermeasure coefficient) is derived.

予測歩留り算出式とその対策係数、および先に取得されたチップ仕様を用い、DFM対策ごとに、予測歩留りを算出する(ステップS22)。さらに、このステップS22においては、DFM対策を実施しない場合の予測歩留りも併せて算出する。   A predicted yield is calculated for each DFM measure by using the predicted yield calculation formula, its countermeasure coefficient, and the previously acquired chip specification (step S22). Furthermore, in this step S22, the predicted yield when the DFM countermeasure is not implemented is also calculated.

次いで、算出された予測歩留りを用い、DFM対策ごとに、各DFM対策を実施する場合の予測製造コストを算出する(ステップS23)。このDFM対策を実施する場合の予測製造コストの算出には、先に算出された予測歩留りのほか、固定費や変動費等の工場コストおよび設計・製造するチップの量産数も用いる。さらに、このステップS23においては、DFM対策を実施しない場合の予測製造コストも併せて算出する。このDFM対策を実施しない場合の予測製造コストの算出には、上記の工場コストおよび量産数を用いる。   Next, using the calculated predicted yield, for each DFM measure, a predicted manufacturing cost when each DFM measure is implemented is calculated (step S23). In calculating the predicted manufacturing cost when implementing this DFM countermeasure, in addition to the predicted yield previously calculated, the factory cost such as fixed cost and variable cost and the mass production number of chips to be designed / manufactured are also used. Furthermore, in this step S23, the estimated manufacturing cost when not implementing the DFM countermeasure is also calculated. The above-mentioned factory cost and the number of mass production are used for calculation of the predicted manufacturing cost when this DFM countermeasure is not implemented.

そして、まず、DFM対策ごとに、DFM対策を実施する場合と実施しない場合の予測製造コストを比較し、各DFM対策を実施したときの製造コストの改善効果(製造コストのダウン効果)を見積もる。続いて、それを各DFM対策の実施に要する人件費やインフラ費等のコスト(DFM対策コスト)と比較し、複数種のDFM対策のうち、いずれのDFM対策を実施した場合に製造コスト改善効果がそのDFM対策コストを上回るかの判定を行う(ステップS24)。なお、このステップS24の比較・判定の詳細については後述する。   First, for each DFM countermeasure, the estimated manufacturing costs when the DFM countermeasure is implemented and when the DFM countermeasure is not implemented are compared, and the improvement effect of the manufacturing cost (the reduction effect of the manufacturing cost) when each DFM countermeasure is implemented is estimated. Subsequently, it is compared with labor costs, infrastructure costs, etc. (DFM countermeasure costs) required to implement each DFM countermeasure, and any of the DFM countermeasures among the various types of DFM countermeasures can improve the manufacturing cost. Is determined to exceed the DFM countermeasure cost (step S24). Details of the comparison / determination in step S24 will be described later.

ステップS24の比較・判定の後、製造コスト改善効果がDFM対策コストを上回るDFM対策を選定し、そのDFM対策を実施してステップS20の設計を進める。このとき、このチップの設計に用いたDFM対策の実績、例えば、そのチップ設計終了段階におけるチップ仕様、そのチップにそのDFM対策を実施したときの予測歩留りの向上率、そのDFM対策に要したコスト等の情報を取得し、過去の設計対策実績として記憶しておく。   After the comparison / determination in step S24, a DFM countermeasure whose manufacturing cost improvement effect exceeds the DFM countermeasure cost is selected, the DFM countermeasure is implemented, and the design in step S20 is advanced. At this time, the record of DFM countermeasures used in the design of the chip, for example, the chip specifications at the end of the chip design, the improvement rate of the predicted yield when the DFM countermeasure is implemented on the chip, and the cost required for the DFM countermeasure Are acquired and stored as past design measure results.

ステップS20の設計終了後は、上記のように、ステップS30,S40の製造・試験を行う。試験後は、このチップについて実際に得られた歩留りを取得し、過去の歩留り実績として記憶しておく。   After completion of the design in step S20, the manufacturing and testing of steps S30 and S40 are performed as described above. After the test, the actual yield obtained for this chip is acquired and stored as a past yield record.

このチップの設計段階で取得された過去の設計対策実績、およびこのチップの製造段階で取得された過去の歩留り実績、すなわち過去の開発実績を利用して、上記ステップS21の分析・検証を行い、予測歩留り算出式および対策係数を求めることができる。ここで求められた予測歩留り算出式および対策係数は、別のチップ開発の際、必要に応じて利用することができる。また、過去の設計対策実績として記憶された情報は、上記ステップS24の比較・判定の際に用いるDFM対策コストの内容に反映させ、別のチップ開発の際、必要に応じて利用することができる。   Using the past design measure results obtained in the chip design stage and the past yield results obtained in the chip manufacturing stage, that is, the past development results, the analysis / verification of step S21 is performed, The predicted yield calculation formula and the countermeasure coefficient can be obtained. The predicted yield calculation formula and the countermeasure coefficient obtained here can be used as needed when developing another chip. The information stored as past design countermeasure results can be reflected in the contents of the DFM countermeasure cost used in the comparison / determination in step S24, and can be used as necessary when developing another chip. .

ここで、上記ステップS24の比較・判定について、より詳細に説明する。
図2はDFM対策を実施する場合と実施しない場合の量産数とコストの関係を示す図である。
Here, the comparison / determination in step S24 will be described in more detail.
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the number of mass production and the cost when the DFM countermeasure is implemented and not implemented.

チップ開発に要するトータルコストは、概ね、設計に要するコスト(設計コスト)と、製造に要するコスト(製造コスト)の和になるものとする。トータルコストは、DFM対策を実施するか否かに関わらず、量産数の増加に伴って増加する。   The total cost required for chip development is approximately the sum of the cost required for design (design cost) and the cost required for manufacturing (manufacturing cost). The total cost increases as the number of mass production increases, regardless of whether or not DFM countermeasures are implemented.

DFM対策を実施する場合は、DFM対策を実施しない場合に比べ、チップの量産数によらず、設計コストが増加する。また、DFM対策を実施する場合には、DFM対策を実施しない場合に比べ、歩留りを向上させることができるため、チップの量産数の増加に伴う製造コストの増加率が小さくなる。   When the DFM countermeasure is implemented, the design cost increases regardless of the number of chips produced as compared with the case where the DFM countermeasure is not implemented. In addition, when the DFM countermeasure is implemented, the yield can be improved as compared with the case where the DFM countermeasure is not implemented, and thus the increase rate of the manufacturing cost associated with the increase in the number of chips produced is reduced.

したがって、図2に示すように、チップの量産数が少ない場合には、DFM対策の実施に伴う設計コストの増加のために、DFM対策を実施する場合(DFM対策あり)のトータルコストが、DFM対策を実施しない場合(DFM対策なし)のトータルコストを上回る。しかし、チップの量産数がある一定値cを超えると、図2に示したように、DFM対策の種類によっては、歩留り向上による製造コストの改善により、DFM対策を実施する場合(DFM対策あり)のトータルコストが、DFM対策を実施しない場合(DFM対策なし)のトータルコストを下回るようになる場合がある。   Therefore, as shown in FIG. 2, when the number of chips produced is small, the total cost when implementing DFM countermeasures (with DFM countermeasures) is increased due to the increase in design cost associated with the implementation of DFM countermeasures. It exceeds the total cost when no countermeasures are taken (without DFM countermeasures). However, when the mass production number of chips exceeds a certain value c, as shown in FIG. 2, depending on the type of DFM countermeasures, when the DFM countermeasures are implemented by improving the manufacturing cost by improving the yield (with DFM countermeasures) The total cost may be lower than the total cost when the DFM countermeasure is not implemented (without the DFM countermeasure).

図3は異なるDFM対策を実施する場合の量産数とコストの関係を示す図である。
図3に示すように、異なるDFM対策a,bのうち、DFM対策aを選択した場合には、上記図2で述べたのと同様に、量産数がある一定値dを超えたところから、DFM対策aを実施する場合のトータルコストが、DFM対策aを実施しない場合のトータルコストを下回るようになる。これに対し、DFM対策bを選択した場合には、量産数が増加しても、DFM対策bを実施する場合のトータルコストが、DFM対策bを実施しない場合のトータルコストを下回ることがない。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the number of mass production and the cost when different DFM measures are implemented.
As shown in FIG. 3, when the DFM countermeasure a is selected from the different DFM countermeasures a and b, as described with reference to FIG. 2, the mass production number exceeds a certain value d. The total cost when the DFM countermeasure a is implemented becomes lower than the total cost when the DFM countermeasure a is not implemented. On the other hand, when DFM countermeasure b is selected, even if the number of mass production increases, the total cost when implementing DFM countermeasure b does not fall below the total cost when not implementing DFM countermeasure b.

このように、DFM対策の種類が異なれば、トータルコストに与える影響も異なってくる。
したがって、上記図1のステップS24に示した比較・判定の際には、ある予測歩留りを示すDFM対策を所定の量産数に対して実施したときの製造コスト改善効果を、そのDFM対策を実施することによる設計コストの増加分すなわちDFM対策コストと比較し、製造コスト改善効果がDFM対策コストを上回るか否かの判定を行う。
Thus, different types of DFM countermeasures have different effects on the total cost.
Therefore, at the time of the comparison / determination shown in step S24 of FIG. 1, the DFM countermeasure is implemented as an effect of improving the manufacturing cost when the DFM countermeasure indicating a certain predicted yield is performed for a predetermined mass production. It is determined whether or not the manufacturing cost improvement effect exceeds the DFM countermeasure cost as compared with the increase in design cost due to this, that is, the DFM countermeasure cost.

これにより、あるDFM対策を所定の量産数で実施する場合に、製造コスト改善効果>DFM対策コスト、の関係が得られれば、そのDFM対策は、歩留り向上とトータルコスト低減に有効であると言える。逆に、製造コスト改善効果>DFM対策コスト、の関係が得られなければ、そのDFM対策は、歩留り向上とトータルコスト低減に有効でないと言える。   As a result, when a certain DFM measure is implemented at a predetermined mass production, if a relationship of manufacturing cost improvement effect> DFM measure cost is obtained, it can be said that the DFM measure is effective for yield improvement and total cost reduction. . Conversely, if the relationship of manufacturing cost improvement effect> DFM countermeasure cost cannot be obtained, it can be said that the DFM countermeasure is not effective for yield improvement and total cost reduction.

このような比較・判定を行うことにより、製造コスト改善効果>DFM対策コスト、の関係を満たすDFM対策を選定し、そのDFM対策を実施する設計を行う。
次に、上記のようなLSIチップの設計に用いるLSIチップ設計支援システムについて説明する。
By performing such comparison / determination, a DFM countermeasure that satisfies the relationship of manufacturing cost improvement effect> DFM countermeasure cost is selected, and a design for implementing the DFM countermeasure is performed.
Next, an LSI chip design support system used for designing LSI chips as described above will be described.

図4はLSIチップ設計支援システムの原理構成を示す図である。
図4に示すLSIチップ設計支援システム1は、予測歩留り演算部2、予測製造コスト演算部3、比較・判定部4および表示部5を備えている。
FIG. 4 is a diagram showing a principle configuration of the LSI chip design support system.
The LSI chip design support system 1 shown in FIG. 4 includes a predicted yield calculation unit 2, a predicted manufacturing cost calculation unit 3, a comparison / determination unit 4, and a display unit 5.

LSIチップ設計支援システム1が備える予測歩留り演算部2は、同じくLSIチップ設計支援システム1が備える算出式テーブル6、対策係数テーブル7およびチップ仕様テーブル8に格納されているデータを用い、設計するチップの予測歩留りを算出する。   The predicted yield calculation unit 2 included in the LSI chip design support system 1 uses the data stored in the calculation formula table 6, the countermeasure coefficient table 7 and the chip specification table 8 that are also included in the LSI chip design support system 1 to design chips. Calculate the predicted yield of.

ここで、図5は算出式テーブルの内容説明図、図6は対策係数テーブルの内容説明図、図7はチップ仕様テーブルの内容説明図である。
算出式テーブル6には、図5に示すように、DFM対策を実施する場合と実施しない場合の算出式の適用条件、DFM対策を実施する場合と実施しない場合の予測歩留りや予測製造コストの算出式であって後述の係数名やチップ特性名のほか工場コストや量産数をパラメータとして含む算出式、および算出式から計算される対象に付与される識別名である算出結果名が格納される。
Here, FIG. 5 is a content explanatory diagram of the calculation formula table, FIG. 6 is a content explanatory diagram of the countermeasure coefficient table, and FIG. 7 is a content explanatory diagram of the chip specification table.
In the calculation formula table 6, as shown in FIG. 5, the calculation formula application conditions when the DFM countermeasure is implemented and when the DFM countermeasure is implemented, the predicted yield and the predicted manufacturing cost when the DFM countermeasure is implemented and not implemented are calculated. In addition to coefficient names and chip characteristic names described later, a calculation formula that includes factory cost and mass production as parameters, and a calculation result name that is an identification name given to an object calculated from the calculation formula are stored.

このような算出式テーブル6の内容は、上記図1(ステップS21)に示したように、DFM対策を実施した設計で得られる過去の設計対策実績や、試験後に得られる過去の歩留り実績を分析・検証することによって作成(または追加もしくは更新)される。   As shown in FIG. 1 (step S21), the contents of the calculation formula table 6 analyze the past design measure results obtained by the design that implements the DFM measure and the past yield results obtained after the test. • Created (or added or updated) by verification.

対策係数テーブル7には、図6に示すように、種類の異なるDFM対策にそれぞれ付与される識別名であるDFM対策名、算出式に用いられる係数名、および係数名に対応する係数値が格納される。なお、係数名および係数値は、DFM対策ごとに複数存在している。   As shown in FIG. 6, the countermeasure coefficient table 7 stores DFM countermeasure names that are identification names assigned to different types of DFM countermeasures, coefficient names used in calculation formulas, and coefficient values corresponding to the coefficient names. Is done. There are a plurality of coefficient names and coefficient values for each DFM measure.

このような対策係数テーブル7の内容は、上記図1(ステップS21)に示したように、過去の設計対策実績や過去の歩留り実績を分析・検証して、算出式テーブル6の内容と共に作成(または追加もしくは更新)される。   The contents of the countermeasure coefficient table 7 are created together with the contents of the calculation formula table 6 by analyzing and verifying the past design countermeasure results and the past yield results as shown in FIG. 1 (step S21) ( Or added or updated).

チップ仕様テーブル8には、図7に示すように、種類の異なるLSIチップにそれぞれ付与される識別名であるチップ名、算出式に用いられるチップ特性名、およびチップ特性名に対応するチップ特性値が格納される。なお、チップ特性名およびチップ特性値は、チップごとに複数存在している。   As shown in FIG. 7, the chip specification table 8 includes a chip name, which is an identification name assigned to different types of LSI chips, a chip characteristic name used in a calculation formula, and a chip characteristic value corresponding to the chip characteristic name. Is stored. A plurality of chip characteristic names and chip characteristic values exist for each chip.

このようなチップ仕様テーブル8の内容は、上記図1(ステップS20)に示したように、設計開始時点や設計開始直後といった設計の早い段階で取得される。
予測歩留り演算部2は、算出式テーブル6からDFM対策を実施しない場合の予測歩留りの算出式を抽出し、チップ仕様テーブル8から設計するチップのチップ特性値を抽出して、DFM対策を実施しない場合の予測歩留りを算出する。このとき、チップ特性値は、抽出された算出式に含まれるチップ特性名をキーにして、チップ仕様テーブル8から抽出される。
As shown in FIG. 1 (step S20), the contents of the chip specification table 8 are acquired at an early stage of design such as the design start time or immediately after the design start.
The predicted yield calculation unit 2 extracts the calculation formula for the predicted yield when the DFM countermeasure is not implemented from the calculation formula table 6, extracts the chip characteristic value of the chip to be designed from the chip specification table 8, and does not implement the DFM countermeasure. Calculate the predicted yield for the case. At this time, the chip characteristic value is extracted from the chip specification table 8 using the chip characteristic name included in the extracted calculation formula as a key.

さらに、予測歩留り演算部2は、設計するチップに適用し得るDFM対策ごとに、算出式テーブル6からDFM対策を実施する場合の予測歩留りの算出式を抽出し、対策係数テーブル7からその算出式に用いる対策係数の係数値を抽出し、チップ仕様テーブル8から設計するチップのチップ特性値を抽出して、各DFM対策を実施する場合の予測歩留りを算出する。このとき、係数値は、抽出された算出式に含まれる係数名をキーにして、対策係数テーブル7から抽出される。また、チップ特性値は、抽出された算出式に含まれるチップ特性名をキーにして、チップ仕様テーブル8から抽出される。   Further, the predicted yield calculation unit 2 extracts, for each DFM measure that can be applied to the chip to be designed, a predicted yield calculation formula when implementing the DFM measure from the calculation formula table 6, and calculates the calculated formula from the measure coefficient table 7. The coefficient value of the countermeasure coefficient used in the above is extracted, the chip characteristic value of the chip to be designed is extracted from the chip specification table 8, and the predicted yield when each DFM countermeasure is implemented is calculated. At this time, the coefficient value is extracted from the countermeasure coefficient table 7 using the coefficient name included in the extracted calculation formula as a key. The chip characteristic value is extracted from the chip specification table 8 using the chip characteristic name included in the extracted calculation formula as a key.

ここで、DFM対策を実施する前のチップ特性値をNi(i=1,・・・,n)、DFM対策を実施した後のチップ特性値をNi’(i’=1,・・・,n)、対策係数の係数値をXk(k=1,・・・,n)とすると、次式(1)に示すように、DFM対策後のチップ特性値Ni’は、DFM対策前のチップ特性値Niと係数値Xkの関数gで表すことができる。   Here, Ni (i = 1,..., N) is the chip characteristic value before the DFM countermeasure is implemented, and Ni ′ (i ′ = 1,..., N) is the chip characteristic value after the DFM countermeasure is implemented. n) When the coefficient value of the countermeasure coefficient is Xk (k = 1,..., n), as shown in the following equation (1), the chip characteristic value Ni ′ after the DFM countermeasure is the chip before the DFM countermeasure. It can be expressed by a function g of the characteristic value Ni and the coefficient value Xk.

Ni’=g(Xk,Ni)・・・(1)
上記図1のステップS21に示した分析・検証の際には、過去の開発実績から、このような関数gや、関数gを用いて係数値Xkが求められ、それらのデータが算出式テーブル6や対策係数テーブル7に格納される。
Ni ′ = g (Xk, Ni) (1)
In the analysis / verification shown in step S21 of FIG. 1, the function g and the coefficient value Xk are obtained from the past development results using the function g, and these data are stored in the calculation formula table 6 And stored in the countermeasure coefficient table 7.

また、あるチップの、DFM対策を実施しない場合の予測歩留りをY、DFM対策を実施する場合の予測歩留りをY’とすると、各予測歩留りY,Y’は、それぞれ次式(2),(3a)に示すように、DFM対策前後のチップ特性値Ni,Ni’の関数fで表すことができる。   Further, assuming that the predicted yield of a certain chip when the DFM countermeasure is not implemented is Y, and the predicted yield when the DFM countermeasure is implemented is Y ′, each predicted yield Y and Y ′ is expressed by the following equations (2) and (2), respectively. As shown in 3a), it can be expressed by the function f of the chip characteristic values Ni and Ni ′ before and after the DFM countermeasure.

Y=f(Ni)・・・(2)
Y’=f(Ni’)・・・(3a)
さらに、式(3a)は、式(1)を用いて次式(3b)のように書き換えられる。
Y = f (Ni) (2)
Y ′ = f (Ni ′) (3a)
Further, the expression (3a) can be rewritten as the following expression (3b) using the expression (1).

Y’=f(Ni’)=f(g(Xk,Ni))・・・(3b)
したがって、DFM対策を実施する場合の予測歩留りY’を、DFM対策前のチップ特性値Niと係数値Xkを用いて求めることができる。
Y ′ = f (Ni ′) = f (g (Xk, Ni)) (3b)
Therefore, the predicted yield Y ′ when the DFM countermeasure is implemented can be obtained using the chip characteristic value Ni and the coefficient value Xk before the DFM countermeasure.

上記図1のステップS21に示した分析・検証の際には、過去の開発実績から、このような関数fが求められる。また、算出式テーブル6には、式(2),(3b)が格納され、予測歩留り演算部2は、式(2)を用いて、DFM対策を実施しない場合の予測歩留りYを算出し、式(3b)を用いて、DFM対策を実施する場合の予測歩留りY’を算出する。   In the analysis / verification shown in step S21 in FIG. 1, such a function f is obtained from past development results. The calculation formula table 6 stores formulas (2) and (3b), and the predicted yield calculation unit 2 calculates a predicted yield Y when the DFM countermeasure is not implemented using the formula (2). Using formula (3b), the predicted yield Y ′ when the DFM countermeasure is implemented is calculated.

図4に戻り、予測歩留り演算部2で算出された、DFM対策を実施する場合および実施しない場合の予測歩留りは、DFM対策ごと、LSIチップ設計支援システム1が備える予測歩留りテーブル9に格納されるようになっている。   Returning to FIG. 4, the predicted yield calculated by the predicted yield calculation unit 2 when the DFM countermeasure is implemented and when it is not implemented is stored in the predicted yield table 9 provided in the LSI chip design support system 1 for each DFM countermeasure. It is like that.

図8は予測歩留りテーブルの内容説明図である。
予測歩留りテーブル9には、図8に示すように、種類の異なるDFM対策にそれぞれ付与される識別名であるDFM対策名(DFM対策を実施しない場合を含む。)、および予測歩留り演算部2で算出されたDFM対策を実施する場合および実施しない場合の予測歩留りが格納される。
FIG. 8 is a diagram for explaining the contents of the predicted yield table.
In the predicted yield table 9, as shown in FIG. 8, the DFM countermeasure name (including the case where no DFM countermeasure is implemented), which is an identification name assigned to each type of DFM countermeasure, and the predicted yield calculation unit 2. The predicted yield when the calculated DFM countermeasure is implemented and when it is not implemented is stored.

また、図4に示したLSIチップ設計支援システム1が備える予測製造コスト演算部3は、同じくLSIチップ設計支援システム1が備える工場コストテーブル10、量産数テーブル11およびDFM対策コストテーブル12に格納されているデータ、さらに、予測歩留りテーブル9に格納されているデータを用いて、設計するチップの予測製造コストを算出する。   4 is stored in a factory cost table 10, a mass production number table 11, and a DFM countermeasure cost table 12 that are also provided in the LSI chip design support system 1. The predicted manufacturing cost of the chip to be designed is calculated using the stored data and the data stored in the predicted yield table 9.

ここで、図9は工場コストテーブルの内容説明図、図10は量産数テーブルの内容説明図、図11はDFM対策コストテーブルの内容説明図である。
工場コストテーブル10には、図9に示すように、種類の異なるLSIチップにそれぞれ付与される識別名であるチップ名、および各LSIチップの製造にそれぞれ必要になると予測される固定費や変動費等を含む工場コストが格納される。
Here, FIG. 9 is a content explanatory diagram of the factory cost table, FIG. 10 is a content explanatory diagram of the mass production number table, and FIG. 11 is a content explanatory diagram of the DFM countermeasure cost table.
As shown in FIG. 9, the factory cost table 10 includes a chip name, which is an identification name assigned to each of different types of LSI chips, and a fixed cost and a variable cost that are predicted to be necessary for manufacturing each LSI chip. The factory cost including etc. is stored.

量産数テーブル11には、図10に示すように、種類の異なるLSIチップにそれぞれ付与される識別名であるチップ名、および各LSIチップについてそれぞれ予定される量産数が格納される。   As shown in FIG. 10, the mass production number table 11 stores a chip name, which is an identification name assigned to each of different types of LSI chips, and a planned mass production number for each LSI chip.

なお、工場コストテーブル10の内容と量産数テーブル11の内容をひとつのテーブルで構成することも可能である(例えば、後述の実施例参照。)。
DFM対策コストテーブル12には、図11に示すように、種類の異なるDFM対策にそれぞれ付与される識別名であるDFM対策名、および各DFM対策の実施にそれぞれ必要になると予測される人件費やインフラ費等を含むDFM対策コストが格納される。
The contents of the factory cost table 10 and the mass production number table 11 can be configured as a single table (for example, refer to an example described later).
As shown in FIG. 11, the DFM countermeasure cost table 12 includes a DFM countermeasure name, which is an identification name assigned to different types of DFM countermeasures, and a labor cost expected to be required for each DFM countermeasure. Stores DFM countermeasure costs including infrastructure costs.

このようなDFM対策コストテーブル12のデータは、DFM対策を実施した設計で得られる過去の設計対策実績を用いて作成(または追加若しくは更新)される。
予測製造コスト演算部3は、算出式テーブル6からDFM対策を実施しない場合の予測製造コストの算出式を抽出し、工場コストテーブル10からは設計するチップの工場コストを、また、量産数テーブル11からは設計するチップの量産数を、それぞれ抽出して、DFM対策を実施しない場合の予測製造コストを算出する。
The data of the DFM countermeasure cost table 12 is created (or added or updated) using the past design countermeasure results obtained by the design that implements the DFM countermeasure.
The predicted manufacturing cost calculation unit 3 extracts a formula for calculating the predicted manufacturing cost when the DFM countermeasure is not implemented from the calculation formula table 6, and calculates the factory cost of the chip to be designed from the factory cost table 10 and the mass production number table 11. Then, the mass production numbers of the chips to be designed are respectively extracted, and the predicted manufacturing cost when the DFM countermeasure is not implemented is calculated.

さらに、予測製造コスト演算部3は、設計するチップに適用し得るDFM対策ごとに、算出式テーブル6からDFM対策を実施する場合の予測製造コストの算出式を抽出し、工場コストテーブル10および量産数テーブル11から設計するチップの工場コストおよび量産数をそれぞれ抽出し、さらに予測歩留りテーブル9からDFM対策を実施する場合と実施しない場合の予測歩留りを抽出して、各DFM対策を実施する場合の予測製造コストを算出する。   Further, the predicted manufacturing cost calculation unit 3 extracts, for each DFM countermeasure that can be applied to the chip to be designed, a calculation formula for the predicted manufacturing cost when the DFM countermeasure is implemented from the calculation formula table 6, and the factory cost table 10 and the mass production When the factory cost and the mass production number of the chip to be designed are extracted from the number table 11, respectively, and the predicted yield when the DFM countermeasure is implemented and not implemented are extracted from the predicted yield table 9, and each DFM countermeasure is implemented. Calculate the estimated manufacturing cost.

ここで、あるチップの、DFM対策を実施しない場合および実施する場合の各予測歩留りをY,Y’、量産数をR、工場コストをCとする。DFM対策を実施しない場合の予測製造コストをCMとすると、予測製造コストCMは、次式(4)に示すように、予測歩留りY、量産数R、工場コストCの関数hで表すことができる。また、DFM対策を実施する場合の予測製造コストをCM’とすると、予測製造コストCM’は、次式(5)に示すように、予測歩留りY,Y’、量産数R、工場コストCの関数hで表すことができる。   Here, Y, Y ′ are the predicted yields of a certain chip when the DFM countermeasure is not implemented and when it is implemented, the mass production number is R, and the factory cost is C. Assuming that the estimated manufacturing cost when the DFM countermeasure is not implemented is CM, the predicted manufacturing cost CM can be expressed by a function h of the predicted yield Y, the mass production number R, and the factory cost C as shown in the following equation (4). . Further, assuming that the predicted manufacturing cost when implementing DFM countermeasures is CM ′, the predicted manufacturing cost CM ′ is calculated from the predicted yield Y, Y ′, the number of mass production R, and the factory cost C as shown in the following equation (5). It can be represented by function h.

CM=h(R,Y,C)・・・(4)
CM’=h(R,Y,Y’,C)・・・(5)
DFM対策を実施することによる製造コスト改善効果をZとすると、製造コスト改善効果Zは、式(4),(5)を用い、次式(6)で求めることができる。
CM = h (R, Y, C) (4)
CM ′ = h (R, Y, Y ′, C) (5)
If the manufacturing cost improvement effect by implementing the DFM countermeasure is Z, the manufacturing cost improvement effect Z can be obtained by the following equation (6) using equations (4) and (5).

Z=CM−CM’・・・(6)
算出式テーブル6には、式(4),(5),(6)が格納され、予測歩留り演算部2は、式(4)を用いて、DFM対策を実施しない場合の予測製造コストCMを算出し、式(5)を用いて、DFM対策を実施する場合の予測製造コストCM’を算出し、式(6)を用いて、製造コスト改善効果Zを算出する。
Z = CM−CM ′ (6)
The calculation formula table 6 stores formulas (4), (5), and (6), and the predicted yield calculation unit 2 uses formula (4) to calculate the predicted manufacturing cost CM when the DFM countermeasure is not implemented. The predicted manufacturing cost CM ′ for implementing the DFM countermeasure is calculated using the equation (5), and the manufacturing cost improvement effect Z is calculated using the equation (6).

上記図4に戻り、予測製造コスト演算部3で算出された、DFM対策を実施する場合および実施しない場合の予測製造コスト、並びに製造コスト改善効果は、DFM対策ごと、LSIチップ設計支援システム1が備えるコスト比較テーブル13に格納されるようになっている。   Returning to FIG. 4, the predicted manufacturing cost calculated when the predicted manufacturing cost calculation unit 3 implements the DFM countermeasure and the predicted manufacturing cost when the countermeasure is not implemented, and the manufacturing cost improvement effect are as follows. It is stored in the cost comparison table 13 provided.

図12はコスト比較テーブルの内容説明図である。
コスト比較テーブル13には、図12に示すように、種類の異なるDFM対策にそれぞれ付与される識別名であるDFM対策名、各DFM対策の実施にそれぞれ必要になると予測される人件費やインフラ費等を含むDFM対策コスト(DFM対策コストテーブル12の格納データと同一。)、および製造コスト改善効果(=(DFM対策を実施しない場合の予測製造コスト)−(DFM対策を実施する場合の予測製造コスト))が格納される。なお、このコスト比較テーブル13には、製造コスト改善効果に関連付けて、設計するLSIチップのチップ名、およびその製造コスト改善効果を求める過程で用いた予測歩留り、量産数等のデータが格納されていてもよい。
FIG. 12 is an explanatory diagram of the contents of the cost comparison table.
As shown in FIG. 12, the cost comparison table 13 includes a DFM countermeasure name, which is an identification name assigned to different types of DFM countermeasures, and labor costs and infrastructure expenses that are predicted to be necessary for implementing each DFM countermeasure. And the like (same data stored in the DFM countermeasure cost table 12) and manufacturing cost improvement effect (= (predicted manufacturing cost when the DFM countermeasure is not implemented) − (predicted manufacturing when the DFM countermeasure is implemented) Cost)) is stored. The cost comparison table 13 stores data such as the chip name of the LSI chip to be designed, the predicted yield used in the process of obtaining the manufacturing cost improvement effect, and the number of mass production in association with the manufacturing cost improvement effect. May be.

また、図4に示したLSIチップ設計支援システム1が備える比較・判定部4は、コスト比較テーブル13に格納されたデータを比較・判定し、また、表示部5は、その結果をディスプレイ等の表示装置に表示する。表示するデータには、例えば、チップ名、量産数、DFM対策名、そのDFM対策を実施する場合の予測歩留り、製造コスト改善効果、DFM対策コスト、正味のコスト効果(=(製造コスト改善効果)−(DFM対策コスト))等のデータが含まれる。表示部5は、このようなデータを表示し、また、複数種のDFM対策についてのデータを表示する場合には、それらを一覧表示する。   Further, the comparison / determination unit 4 included in the LSI chip design support system 1 shown in FIG. 4 compares and determines the data stored in the cost comparison table 13, and the display unit 5 displays the result on a display or the like. Display on the display device. The displayed data includes, for example, chip name, mass production number, DFM countermeasure name, predicted yield when implementing the DFM countermeasure, manufacturing cost improvement effect, DFM countermeasure cost, net cost effect (= (manufacturing cost improvement effect)) -(DFM countermeasure cost)). The display unit 5 displays such data, and when displaying data on a plurality of types of DFM countermeasures, displays them as a list.

また、上記のように、このLSIチップ設計支援システム1においては、算出式テーブル6および対策係数テーブル7の内容が、過去の設計対策実績や過去の歩留り実績の分析・検証を基に、追加または更新される。LSIチップ設計支援システム1は、そのような追加または更新の際に、追加または更新しようとする算出式(予測歩留り算出式)や対策係数のデータが、過去の設計対策実績や過去の歩留り実績から見て、妥当なものであるか否かをチェックするための機構(追加/更新データチェック機構)をさらに有している。   Further, as described above, in the LSI chip design support system 1, the contents of the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7 are added based on the analysis / verification of the past design countermeasure results and the past yield results. Updated. In the LSI chip design support system 1, when such addition or update is performed, the calculation formula (predicted yield calculation formula) or countermeasure coefficient data to be added or updated is obtained from the past design measure results or the past yield results. It also has a mechanism (addition / update data check mechanism) for checking whether or not it is appropriate.

図13は追加/更新データチェック機構の構成を示す図である。
図13に示すように、LSIチップ設計支援システム1が備える追加/更新データチェック機構20は、追加または更新しようとする予測歩留り算出式や対策係数のデータが入力される入力部21、および追加または更新しようとする予測歩留り算出式や対策係数のデータの良否を評価する評価部22を有している。
FIG. 13 is a diagram showing the configuration of the addition / update data check mechanism.
As shown in FIG. 13, the add / update data check mechanism 20 included in the LSI chip design support system 1 includes an input unit 21 to which a predicted yield calculation formula or countermeasure coefficient data to be added or updated is input, and an addition or update An evaluation unit 22 that evaluates the quality of predicted yield calculation formulas and countermeasure coefficient data to be updated is provided.

入力部21は、追加または更新しようとする予測歩留り算出式および対策係数のデータを、上記の算出式テーブル6および対策係数テーブル7にそれぞれ一時的に格納する。
そして、予測歩留り演算部2は、上記のように、そのようなデータが格納された算出式テーブル6および対策係数テーブル7、並びにチップ仕様テーブル8を用い、過去に開発したチップ(過去開発チップ)のうち、追加または更新の対象と同種のDFM対策を実施したものについて、改めてその予測歩留りを算出し、それをデータチェック用予測歩留りテーブル23に格納する。
The input unit 21 temporarily stores the predicted yield calculation formula and countermeasure coefficient data to be added or updated in the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7, respectively.
Then, as described above, the predicted yield calculation unit 2 uses the calculation formula table 6, the countermeasure coefficient table 7 and the chip specification table 8 in which such data is stored, and a chip developed in the past (past development chip). Of these, the predicted yield of the DFM countermeasure of the same type as that to be added or updated is calculated again and stored in the predicted yield table 23 for data check.

図14はデータチェック用予測歩留りテーブルの内容説明図である。
データチェック用予測歩留りテーブル23には、図14に示すように、種類の異なるLSIチップにそれぞれ付与される識別名であるチップ名、種類の異なるDFM対策にそれぞれ付与される識別名であるDFM対策名(DFM対策を実施しない場合を含む。)、および予測歩留り演算部2で算出された過去開発チップの予測歩留りが格納される。
FIG. 14 is an explanatory diagram of the contents of the predicted yield table for data check.
As shown in FIG. 14, the data check prediction yield table 23 includes a chip name that is an identification name assigned to each type of LSI chip, and a DFM countermeasure that is an identification name assigned to each type of DFM countermeasure. The name (including the case where DFM countermeasures are not implemented) and the predicted yield of the past development chip calculated by the predicted yield calculation unit 2 are stored.

また、評価部22は、このようなデータチェック用予測歩留りテーブル23と、図15に示すような過去開発チップの歩留り実績が格納された過去開発チップ歩留り実績テーブル24を用い、過去開発チップについて改めて算出した予測歩留りと過去の歩留り実績とを比較し、さらにそれを図16に示すような規定値テーブル25に格納されている規定値と比較することによって、入力されたデータの良否を評価する。   Further, the evaluation unit 22 uses the data check prediction yield table 23 and the past development chip yield record table 24 storing the past development chip yield record as shown in FIG. The calculated predicted yield and the past yield performance are compared, and further compared with a specified value stored in a specified value table 25 as shown in FIG. 16, thereby evaluating the quality of the input data.

図15は過去開発チップ歩留り実績テーブルの内容説明図である。
過去開発チップ歩留り実績テーブル24には、図15に示すように、種類の異なるLSIチップにそれぞれ付与される識別名であるチップ名、種類の異なるDFM対策にそれぞれ付与される識別名であるDFM対策名(DFM対策を実施しない場合を含む。)、および過去開発チップの歩留り実績が格納される。
FIG. 15 is an explanatory diagram of the contents of the past development chip yield record table.
As shown in FIG. 15, the past development chip yield record table 24 includes a chip name that is an identification name assigned to different types of LSI chips and a DFM measure that is an identification name assigned to different types of DFM measures. A name (including a case where DFM countermeasures are not implemented) and a past development chip yield record are stored.

図16は規定値テーブルの内容説明図である。
規定値テーブル25には、図16に示すように過去開発チップの予測歩留りと歩留り実績の標準偏差や差の平均値等の、良否評価の基準になる規定値(範囲)が、あらかじめ設定され、格納される。
FIG. 16 is an explanatory diagram of the contents of the specified value table.
In the specified value table 25, as shown in FIG. 16, specified values (ranges) used as criteria for pass / fail evaluation, such as the standard deviation of the predicted yield and the actual yield of past developed chips and the average value of the differences, are set in advance. Stored.

評価部22における良否評価処理は、例えば、次のようにして行われる。すなわち、評価部22は、まず、追加または更新しようとする予測歩留り算出式および対策係数の入力データを用いて算出された過去開発チップの予測歩留りY”と、過去開発チップの歩留り実績Y*との差Y*−Y”を求める。これは追加または更新の対象と同種のDFM対策を実施した過去開発チップについて行い、その後、例えば、その標準偏差を求め、それを規定値と比較し、さらに、それらをディスプレイ等に表示する。また、求めた標準偏差が規定値内の場合には、その入力データで算出式テーブル6および対策係数テーブル7を追加または更新し、規定値外の場合には、その入力データを算出式テーブル6および対策係数テーブル7から削除するようにしてもよい。 The quality evaluation process in the evaluation unit 22 is performed as follows, for example. That is, the evaluation unit 22 firstly calculates the predicted yield Y ”of the past development chip calculated using the predicted yield calculation formula to be added or updated and the input data of the countermeasure coefficient, and the yield actual Y * of the past development chip. Difference Y * −Y ″. This is performed for a past development chip in which the DFM countermeasure of the same type as that to be added or updated is performed, and thereafter, for example, the standard deviation is obtained, compared with a specified value, and further displayed on a display or the like. When the calculated standard deviation is within the specified value, the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7 are added or updated with the input data. When the calculated standard deviation is outside the specified value, the input data is input to the calculation formula table 6. Alternatively, the countermeasure coefficient table 7 may be deleted.

次に、上記LSIチップ設計支援システム1での処理の流れについて説明する。
まず、DFM対策の実施判断を支援する処理の全体的な流れについて、次の図17と上記の図4〜図12を参照して、説明する。
Next, the flow of processing in the LSI chip design support system 1 will be described.
First, an overall flow of processing for supporting the determination of implementation of DFM countermeasures will be described with reference to FIG. 17 and FIGS. 4 to 12 described above.

図17はDFM対策の実施判断支援処理のフローチャートである。
LSIチップ設計支援システム1は、設計するLSIチップのチップ名が入力されると(ステップS50)、まず、予測歩留り演算部2により、算出式テーブル6からDFM対策を実施しない場合の予測歩留り算出式を抽出し、さらに、入力されたチップ名および抽出した予測歩留り算出式に含まれているチップ特性名をキーに、チップ仕様テーブル8から該当するチップ特性値を抽出する(ステップS51)。
FIG. 17 is a flowchart of DFM countermeasure implementation decision support processing.
When the chip name of the LSI chip to be designed is input (step S50), the LSI chip design support system 1 first calculates the predicted yield calculation formula when the DFM countermeasure is not implemented from the calculation formula table 6 by the predicted yield calculation unit 2. Further, the corresponding chip characteristic value is extracted from the chip specification table 8 using the input chip name and the chip characteristic name included in the extracted predicted yield calculation formula as a key (step S51).

そして、予測歩留り演算部2は、抽出された予測歩留り算出式およびチップ特性値を用いて、DFM対策を実施しない場合の予測歩留りを算出し(ステップS52)、算出された予測歩留りを、DFM対策名(この場合はDFM対策なしとする。)と関連付けて予測歩留りテーブル9に格納する(ステップS53)。   Then, the predicted yield calculation unit 2 calculates the predicted yield when the DFM countermeasure is not implemented using the extracted predicted yield calculation formula and the chip characteristic value (step S52), and uses the calculated predicted yield as the DFM countermeasure. The name is stored in the predicted yield table 9 in association with the name (in this case, there is no DFM countermeasure) (step S53).

続くステップS54〜S61までの処理は、実施し得るすべてのDFM対策について、DFM対策ごとに行われる。
すなわち、予測歩留り演算部2は、算出式テーブル6からDFM対策を実施する場合の予測歩留り算出式を抽出し、ステップS50で入力されたチップ名および抽出した予測歩留り算出式に含まれているチップ特性名をキーに、チップ仕様テーブル8から該当するチップ特性値を抽出し、さらに、対象のDFM対策のDFM対策名および予測歩留り算出式に含まれている係数名をキーに、対策係数テーブル7から該当する係数値を抽出する(ステップS54)。
The subsequent steps S54 to S61 are performed for each DFM measure for all possible DFM measures.
That is, the predicted yield calculation unit 2 extracts a predicted yield calculation formula when implementing DFM countermeasures from the calculation formula table 6, and includes the chip name input in step S50 and the chip included in the extracted predicted yield calculation formula. The corresponding chip characteristic value is extracted from the chip specification table 8 using the characteristic name as a key, and further, the countermeasure coefficient table 7 using the DFM countermeasure name of the target DFM countermeasure and the coefficient name included in the predicted yield calculation formula as a key. The corresponding coefficient value is extracted from (Step S54).

そして、予測歩留り演算部2は、抽出された予測歩留り算出式、チップ特性値および係数値を用いて、対象のDFM対策を実施する場合の予測歩留りを算出し(ステップS55)、算出された予測歩留りを、対象のDFM対策のDFM対策名と関連付けて予測歩留りテーブル9に格納する(ステップS56)。   Then, the predicted yield calculation unit 2 uses the extracted predicted yield calculation formula, chip characteristic value, and coefficient value to calculate the predicted yield when the target DFM countermeasure is implemented (step S55), and the calculated prediction The yield is stored in the predicted yield table 9 in association with the DFM measure name of the target DFM measure (step S56).

次いで、LSIチップ設計支援システム1は、予測製造コスト演算部3により、算出式テーブル6から予測製造コスト算出式を抽出する(ステップS57)。続いて、ステップS50で入力されたチップ名をキーに、工場コストテーブル10および量産数テーブル11からそれぞれ、該当する工場コストおよび量産数を抽出し、DFM対策コストテーブル12から対象のDFM対策のDFM対策コストを抽出し、さらに、予測歩留りテーブル9から対象のDFM対策を実施する場合および実施しない場合の各予測歩留りを抽出する(ステップS58)。   Next, the LSI chip design support system 1 extracts a predicted manufacturing cost calculation formula from the calculation formula table 6 by the predicted manufacturing cost calculation unit 3 (step S57). Subsequently, using the chip name input in step S50 as a key, the corresponding factory cost and mass production number are extracted from the factory cost table 10 and mass production number table 11, respectively, and the DFM countermeasure DFM of the target DFM countermeasure is extracted from the DFM countermeasure cost table 12. The countermeasure cost is extracted, and further, each predicted yield when the target DFM countermeasure is implemented and when not implemented is extracted from the predicted yield table 9 (step S58).

そして、予測製造コスト演算部3は、抽出された予測製造コスト算出式、工場コスト、量産数および各予測歩留りを用いて、対象のDFM対策を実施する場合および実施しない場合の各予測製造コストを算出する(ステップS59)。さらに、予測製造コスト演算部3は、算出された各予測製造コストの差から製造コスト改善効果を算出し(ステップS60)、各予測製造コストおよび製造コスト改善効果を、DFM対策名および抽出したDFM対策コストと関連付けてコスト比較テーブル13に格納する(ステップS61)。   Then, the predicted manufacturing cost calculation unit 3 uses the extracted predicted manufacturing cost calculation formula, factory cost, mass production number, and each predicted yield to calculate each predicted manufacturing cost when the target DFM countermeasure is implemented and when not implemented. Calculate (step S59). Further, the predicted manufacturing cost calculation unit 3 calculates a manufacturing cost improvement effect from the difference between the calculated predicted manufacturing costs (step S60), and the predicted manufacturing cost and the manufacturing cost improvement effect are extracted from the DFM countermeasure name and the extracted DFM. The cost is stored in the cost comparison table 13 in association with the countermeasure cost (step S61).

なお、上記ステップS58においてはDFM対策コストテーブル12からのDFM対策コストの抽出は行わず、このステップS61の段階でDFM対策コストの抽出を行い、DFM対策名および製造コスト改善効果と共に、コスト比較テーブル13に格納するようにしてもよい。   In step S58, the DFM countermeasure cost is not extracted from the DFM countermeasure cost table 12. Instead, the DFM countermeasure cost is extracted in the step S61, and the cost comparison table together with the DFM countermeasure name and the manufacturing cost improvement effect is extracted. 13 may be stored.

上記のステップS54からこのステップS61までの処理が、DFM対策ごとに行われる。
次いで、LSIチップ設計支援システム1は、まず、比較・判定部4により、コスト比較テーブル13から製造コスト改善効果およびDFM対策コストを抽出する(ステップS62)。続いて、比較・判定部4は、製造コスト改善効果を算出したすべてのDFM対策を対象に、抽出した製造コスト改善効果と対応するDFM対策コストとの間に、製造コスト改善効果>DFM対策コスト、の関係があるか否かを判定する(ステップS63)。
The processing from step S54 to step S61 is performed for each DFM countermeasure.
Next, the LSI chip design support system 1 first extracts the manufacturing cost improvement effect and the DFM countermeasure cost from the cost comparison table 13 by the comparison / determination unit 4 (step S62). Subsequently, the comparison / determination unit 4 targets all the DFM measures for which the manufacturing cost improvement effect has been calculated, between the extracted manufacturing cost improvement effect and the corresponding DFM countermeasure cost, and the manufacturing cost improvement effect> the DFM countermeasure cost. Are determined (step S63).

そして、表示部5は、比較・判定部4で、製造コスト改善効果>DFM対策コスト、の関係を満たすと判定されたDFM対策を、必要に応じて、該当するLSIチップのチップ名や量産数、予測歩留り等と共に、ディスプレイ等に表示する(ステップS64)。   Then, the display unit 5 displays the DFM countermeasures determined by the comparison / determination unit 4 as satisfying the relationship of manufacturing cost improvement effect> DFM countermeasure costs, if necessary, the chip name and mass production number of the corresponding LSI chip. Then, it is displayed on the display together with the predicted yield (step S64).

LSIチップ設計支援システム1は、実際に行った設計対策とそのコストとを過去の設計対策実績として、例えばチップ仕様テーブル8に設計開始段階で取得されるチップ仕様と識別可能な形態で、記憶する(ステップS65)。   The LSI chip design support system 1 stores the actual design measures taken and their costs as past design measure results, for example, in a form that can be distinguished from the chip specifications acquired at the design start stage in the chip specification table 8. (Step S65).

また、比較・判定部4で、製造コスト改善効果>DFM対策コスト、の関係を満たすDFM対策がないと判定された場合には(ステップS63)、必要に応じてその旨をディスプレイ等に表示した上で、このDFM対策の実施判断支援処理を終了する。   If the comparison / determination unit 4 determines that there is no DFM countermeasure satisfying the relationship of manufacturing cost improvement effect> DFM countermeasure cost (step S63), the fact is displayed on a display or the like as necessary. Then, the DFM countermeasure implementation decision support process is terminated.

なお、LSIチップ設計支援システム1におけるステップS50〜S65の処理の管理は、主にチップ設計者が担当する。チップ設計者は、ステップS64の表示を基に、いずれのDFM対策を実施するかの判断を行うことができる。   It should be noted that the chip designer is mainly responsible for managing the processing of steps S50 to S65 in the LSI chip design support system 1. The chip designer can determine which DFM countermeasure to implement based on the display in step S64.

続いて、算出式テーブル6および対策係数テーブル7に対するデータ追加/更新処理の流れについて、次の図18と上記の図5〜図7,図13〜図16を参照して、説明する。なお、ここでは、算出式テーブル6に格納される予測歩留り算出式と、対策係数テーブル7に格納される対策係数の係数値の、双方を追加または変更する場合を例にして説明する。   Next, the flow of data addition / update processing for the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7 will be described with reference to FIG. 18 and FIGS. 5 to 7 and FIGS. Here, the case where both the predicted yield calculation formula stored in the calculation formula table 6 and the coefficient value of the countermeasure coefficient stored in the countermeasure coefficient table 7 are added or changed will be described as an example.

図18はデータ追加/更新処理のフローチャートである。
算出式テーブル6および対策係数テーブル7に対する算出式および対策係数の追加または更新の際、LSIチップ設計支援システム1は、入力部21によって、追加または更新しようとする新たな予測歩留り算出式および対策係数のデータが入力されると(ステップS70)、その入力されたデータを、算出式テーブル6および対策係数テーブル7にそれぞれ一時的に格納する(ステップS71)。
FIG. 18 is a flowchart of the data addition / update process.
When adding or updating calculation formulas and countermeasure coefficients to the calculation formula table 6 and countermeasure coefficient table 7, the LSI chip design support system 1 uses the input unit 21 to add a new predicted yield calculation formula and countermeasure coefficients to be added or updated. Is input (step S70), the input data is temporarily stored in the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7 respectively (step S71).

続くステップS72〜S74までの処理は、追加または更新の対象と同種のDFM対策を実施した過去開発チップの数だけ行われる。
すなわち、LSIチップ設計支援システム1は、予測歩留り演算部2により、算出式テーブル6からステップS70で入力された予測歩留り算出式を抽出し、対策係数テーブル7からステップS70で入力された対策係数の係数値を抽出し、チップ仕様テーブル8から対象の過去開発チップのチップ特性値を抽出する(ステップS72)。
The subsequent steps S72 to S74 are performed by the number of past development chips that have implemented the same type of DFM countermeasures as the target of addition or update.
That is, the LSI chip design support system 1 extracts the predicted yield calculation formula input in step S70 from the calculation formula table 6 by the predicted yield calculation unit 2, and the countermeasure coefficient input in step S70 from the countermeasure coefficient table 7. The coefficient value is extracted, and the chip characteristic value of the target past developed chip is extracted from the chip specification table 8 (step S72).

そして、予測歩留り演算部2は、抽出された予測歩留り算出式、係数値およびチップ特性値を用いて、これらを対象の過去開発チップに適用した場合の予測歩留りを算出し(ステップS73)、算出された予測歩留りを、その過去開発チップのチップ名およびその過去開発チップに実施したDFM対策のDFM対策名と関連付けてデータチェック用予測歩留りテーブル23に格納する(ステップS74)。   Then, the predicted yield calculation unit 2 uses the extracted predicted yield calculation formula, coefficient value, and chip characteristic value to calculate a predicted yield when these are applied to the target past development chip (step S73). The predicted yield thus obtained is stored in the data check predicted yield table 23 in association with the chip name of the past development chip and the DFM countermeasure name of the DFM countermeasure implemented on the past development chip (step S74).

上記のステップS72からこのステップS74までの処理が、追加または更新の対象と同種のDFM対策を実施した過去開発チップの数だけ行われる。
次いで、LSIチップ設計支援システム1は、まず、評価部22により、データチェック用予測歩留りテーブル23および過去開発チップ歩留り実績テーブル24からそれぞれ、過去開発チップについて算出された予測歩留りおよび過去開発チップの歩留り実績を、それらと関連付けて格納されているチップ名およびDFM対策名と共に抽出する(ステップS75)。さらに、評価部22は、規定値テーブル25から所定の規定値を抽出する(ステップS76)。
The processes from step S72 to step S74 are performed by the number of past development chips that have implemented the same type of DFM countermeasures as the addition or update target.
Next, in the LSI chip design support system 1, first, the evaluation unit 22 calculates the predicted yield and the yield of the past development chip calculated for the past development chip from the data check prediction yield table 23 and the past development chip yield result table 24, respectively. The results are extracted together with the chip name and DFM countermeasure name stored in association with them (step S75). Further, the evaluation unit 22 extracts a predetermined specified value from the specified value table 25 (step S76).

そして、評価部22は、過去開発チップのチップ名およびDFM対策名を考慮して、その予測歩留りと歩留り実績との差(例えば標準偏差)と、抽出された規定値との比較を行い(ステップS77)、さらに、それらをディスプレイ等に表示する(ステップS78)。   Then, the evaluation unit 22 compares the difference between the predicted yield and the actual yield (for example, standard deviation) and the extracted specified value in consideration of the chip name of the past developed chip and the DFM countermeasure name (step Further, they are displayed on a display or the like (step S78).

その後、LSIチップ設計支援システム1は、例えば、過去開発チップの予測歩留りと歩留り実績との差が規定値内の場合には(ステップS79)、算出式テーブル6および対策係数テーブル7を、ステップS70で入力されたデータによって追加または更新し(ステップS80)、処理を終了する。また、過去開発チップの予測歩留りと歩留り実績との差が規定値外の場合には(ステップS79)、算出式テーブル6および対策係数テーブル7からステップS70で入力されたデータを削除し(ステップS81)、処理を終了する。   After that, for example, when the difference between the predicted yield of the past developed chip and the actual yield is within a specified value (step S79), the LSI chip design support system 1 sets the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7 to step S70. The data is added or updated according to the data input in (Step S80), and the process is terminated. If the difference between the predicted yield and the actual yield of the past developed chip is outside the specified value (step S79), the data input in step S70 is deleted from the calculation formula table 6 and the countermeasure coefficient table 7 (step S81). ), The process is terminated.

なお、LSIチップ設計支援システム1におけるステップS70〜S81の処理の管理は、主にチップ設計技術者が担当する。また、ステップS79〜S81の処理は、ステップS78の表示を基に、そのようなチップ設計技術者が手動で行うようにしてもよい。   The management of the processing of steps S70 to S81 in the LSI chip design support system 1 is mainly handled by a chip design engineer. Further, the processing in steps S79 to S81 may be manually performed by such a chip design engineer based on the display in step S78.

また、図18には、予測歩留り算出式と対策係数の双方を追加または変更する場合の処理を例示したが、予測歩留り算出式と対策係数のいずれかのみの追加または変更についても同様の処理で行うことができる。   In addition, FIG. 18 illustrates a process in the case where both the predicted yield calculation formula and the countermeasure coefficient are added or changed. However, the same process is applied to the addition or change of only the predicted yield calculation formula and the countermeasure coefficient. It can be carried out.

すなわち、予測歩留り算出式のみの追加または変更を行う場合には、ステップS73までの処理において、新たな予測歩留り算出式と、それまで使用していた対策係数をそのまま用いて、過去開発チップの予測歩留りを算出すればよい。また、対策係数のみの追加または変更を行う場合には、ステップS73までの処理において、新たな対策係数と、それまで使用していた予測歩留り算出式をそのまま用いて、過去開発チップの予測歩留りを算出すればよい。   That is, when only the predicted yield calculation formula is added or changed, in the process up to step S73, the new predicted yield calculation formula and the countermeasure coefficient used so far are used as they are to predict the previously developed chip. What is necessary is just to calculate a yield. When only the countermeasure coefficient is added or changed, in the processing up to step S73, the predicted yield of the past development chip is calculated by using the new countermeasure coefficient and the predicted yield calculation formula used so far. What is necessary is just to calculate.

次に、上記LSIチップ設計支援システム1を用いたLSIチップ開発の実施例について説明する。
図19は算出式テーブルの一例を示す図、図20は対策係数テーブルの一例を示す図、図21はチップ仕様テーブルの一例を示す図、図22は予測歩留りテーブルの一例を示す図、図23は工場コスト・量産数テーブルの一例を示す図、図24はDFM対策コストテーブルの一例を示す図、図25はコスト比較テーブルの一例を示す図である。
Next, an embodiment of LSI chip development using the LSI chip design support system 1 will be described.
19 is a diagram illustrating an example of a calculation formula table, FIG. 20 is a diagram illustrating an example of a countermeasure coefficient table, FIG. 21 is a diagram illustrating an example of a chip specification table, FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a predicted yield table, and FIG. FIG. 24 is a diagram illustrating an example of a factory cost / mass production number table, FIG. 24 is a diagram illustrating an example of a DFM countermeasure cost table, and FIG. 25 is a diagram illustrating an example of a cost comparison table.

なお、図22の予測歩留りテーブル9aおよび図25のコスト比較テーブル13aを除く各テーブルのデータは、ここでは既に取得されているものとする。
また、ここではDFM対策として、リラックス配線と2重VIA化という2種類のものを例示する。なお、リラックス配線とは、配線を小領域に集中しないように配置する対策であって、主に配線欠陥の発生を抑えることを目的として実施される。また、2重VIA化とは、一対の上下層配線を接続するためのVIAを2つ形成する対策であって、主にいずれかのVIAに形成不良が発生した場合にも他方のVIAによって導通を確保することを目的として実施される。これらの配線欠陥やVIA形成不良は、チップの微細化に伴いより発生しやすくなる。
Here, it is assumed that the data of each table excluding the predicted yield table 9a in FIG. 22 and the cost comparison table 13a in FIG. 25 has already been acquired.
In addition, here, as DFM countermeasures, two types of relaxation wiring and double VIA are illustrated. The relaxed wiring is a measure for arranging the wiring so as not to concentrate on a small area, and is implemented mainly for the purpose of suppressing the occurrence of wiring defects. The double VIA is a measure for forming two VIAs for connecting a pair of upper and lower layer wirings. When a formation defect occurs mainly in one of the VIAs, the other VIA is used for conduction. It is implemented for the purpose of ensuring. These wiring defects and VIA formation defects are more likely to occur with the miniaturization of chips.

企画後、設計開始段階でチップ仕様が取得され、LSIチップ設計支援システム1に、チップ名として、例えば「MB123」が入力されると、まず、予測歩留り演算部2により、図19に示す算出式テーブル6aから、算出結果名「対策なし予測歩留り」を求めるための算出式「(1+(チップ面積+感知面積×2)×5×10-4-3」が抽出される。さらに、予測歩留り演算部2により、入力されたチップ名「MB123」および抽出した算出式に含まれるチップ特性名「チップ面積」,「感知面積」をキーに、図21に示すチップ仕様テーブル8aから、該当するチップ特性値「60.8」,「50.2」が抽出される。そして、この算出式とチップ特性値を用いて、「対策なし予測歩留り」が算出される。すなわち、
「対策なし予測歩留り」=(1+(チップ面積+感知面積×2)×5×10-4-3=(1+(60.8+50.2×2)×5×10-4-3=0.79
となる。
After planning, a chip specification is acquired at the design start stage, and when, for example, “MB123” is input as a chip name to the LSI chip design support system 1, first, the calculation formula shown in FIG. A calculation formula “(1+ (chip area + sensing area × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 ” for obtaining a calculation result name “predicted yield without countermeasure” is extracted from the table 6a. Further, from the chip specification table 8a shown in FIG. 21, the predicted yield calculator 2 uses the input chip name “MB123” and the chip characteristic names “chip area” and “sensed area” included in the extracted calculation formula as keys. Corresponding chip characteristic values “60.8” and “50.2” are extracted. Then, using this calculation formula and the chip characteristic value, the “predicted yield without countermeasure” is calculated. That is,
“Predicted yield without countermeasures” = (1+ (chip area + sensing area × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 = (1+ (60.8 + 50.2 × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 = 0 .79
It becomes.

算出された「対策なし予測歩留り」の算出結果は、図22に示す予測歩留りテーブル9aに格納される。
続いて、予測歩留り演算部2により、図19に示す算出式テーブル6aから、算出結果名「対策あり予測歩留り」を求めるための算出式「(1+(X1×チップ面積+X2×感知面積×2)×5×10-4-3」が抽出される。さらに、予測歩留り演算部2により、入力されたチップ名「MB123」および抽出した算出式に含まれるチップ特性名「チップ面積」,「感知面積」をキーに、図21に示すチップ仕様テーブル8aから、該当するチップ特性値「60.8」,「50.2」が抽出される。さらに、予測歩留り演算部2により、図20に示す対策係数テーブル7aから、まずDFM対策名「リラックス配線」の係数名「X1」,「X2」に該当する係数値「1.1」,「0.5」が抽出される。そして、この算出式、チップ特性値および係数値を用いて、「対策あり予測歩留り」(リラックス配線)が算出される。すなわち、
「対策あり予測歩留り」(リラックス配線)=(1+(X1×チップ面積+X2×感知面積×2)×5×10-4-3=(1+(1.1×60.8+0.5×50.2×2)×5×10-4-3=0.84
となる。「対策あり予測歩留り」(リラックス配線)の算出結果は、図22に示す予測歩留りテーブル9aにDFM対策名に関連付けて格納される。
The calculation result of the calculated “predicted yield without countermeasure” is stored in the predicted yield table 9a shown in FIG.
Subsequently, a calculation formula “(1+ (X1 × chip area + X2 × sensing area × 2)” for calculating the calculation result name “predicted yield with countermeasure” from the calculation formula table 6a shown in FIG. × 5 × 10 −4 ) −3 ”is extracted. Further, from the chip specification table 8a shown in FIG. 21, the predicted yield calculator 2 uses the input chip name “MB123” and the chip characteristic names “chip area” and “sensed area” included in the extracted calculation formula as keys. Corresponding chip characteristic values “60.8” and “50.2” are extracted. Further, the predicted yield calculation unit 2 first calculates coefficient values “1.1” and “0” corresponding to the coefficient names “X1” and “X2” of the DFM countermeasure name “relaxed wiring” from the countermeasure coefficient table 7a shown in FIG. .5 "is extracted. Then, the “predicted yield with countermeasure” (relaxed wiring) is calculated using the calculation formula, the chip characteristic value, and the coefficient value. That is,
“Predicted yield with countermeasures” (relaxed wiring) = (1+ (X1 × chip area + X2 × sensing area × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 = (1+ (1.1 × 60.8 + 0.5 × 50. 2 × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 = 0.84
It becomes. The calculation result of “predicted yield with countermeasure” (relax wiring) is stored in the predicted yield table 9a shown in FIG. 22 in association with the DFM countermeasure name.

次いで、予測製造コスト演算部3により、図19に示す算出式テーブル6aから、算出結果名「対策なし予測製造コスト」を求めるための算出式「固定費+(変動費×量産数)」が抽出される。さらに、予測製造コスト演算部3により、入力されたチップ名「MB123」および抽出した算出式に含まれる「固定費」,「変動費」,「量産数」をキーに、図23に示す工場コスト・量産数テーブル10aから、それぞれ該当する値「1000000」,「300」,「1000000」が抽出される。そして、この算出式、工場コストおよび量産数を用いて、「対策なし予測製造コスト」が算出される。すなわち、
「対策なし予測製造コスト」=固定費+(変動費×量産数)=1000000+(300×1000000)=301000000(円)
となる。
Next, the calculation formula “fixed cost + (variable cost × number of mass production)” for obtaining the calculation result name “predicted manufacturing cost without countermeasure” is extracted from the calculation formula table 6a shown in FIG. Is done. Further, the estimated manufacturing cost calculation unit 3 uses the input chip name “MB123” and the “fixed cost”, “variable cost”, and “mass production” included in the extracted calculation formula as keys, and the factory cost shown in FIG. The corresponding values “1000000”, “300”, and “1000000” are extracted from the mass production number table 10a. Then, the “predicted manufacturing cost without countermeasure” is calculated using the calculation formula, the factory cost, and the number of mass production. That is,
“Prevented manufacturing cost without countermeasures” = fixed cost + (variable cost × number of mass production) = 1000000 + (300 × 1000000) = 301 million (yen)
It becomes.

続いて、予測製造コスト演算部3により、図19に示す算出式テーブル6aから、算出結果名「対策あり予測製造コスト」を求めるための算出式「固定費+(変動費×量産数)×(対策なし予測歩留り/対策あり予測歩留り)」が抽出される。さらに、予測製造コスト演算部3により、チップ名「MB123」および算出式に含まれる「固定費」,「変動費」,「量産数」をキーに、図23に示す工場コスト・量産数テーブル10aから、それぞれ該当する値「1000000」,「300」,「1000000」が抽出される。さらに、予測製造コスト演算部3により、予測歩留りテーブル9aから、「対策なし予測歩留り」および「対策あり予測歩留り」(リラックス配線)が抽出される。そして、これらを用いて、「対策あり予測製造コスト」(リラックス配線)が算出される。すなわち、
「対策あり予測製造コスト」(リラックス配線)=固定費+(変動費×量産数)×(対策なし予測歩留り/対策あり予測歩留り)=1000000+(300×1000000)×(0.79/0.84)≒283000000(円)
となる。
Subsequently, the calculation formula “fixed cost + (variable cost × number of mass production) × () for calculating the calculation result name“ predicted manufacturing cost with countermeasures ”from the calculation formula table 6a shown in FIG. Predicted yield without countermeasure / predicted yield with countermeasure)) is extracted. Further, the estimated manufacturing cost calculation unit 3 uses the chip name “MB123” and “fixed cost”, “variable cost”, and “mass production number” included in the calculation formula as a key to the factory cost / mass production table 10a shown in FIG. Are extracted from the corresponding values “1000000”, “300”, and “1000000”, respectively. Further, the predicted manufacturing cost calculation unit 3 extracts “predicted yield without countermeasure” and “predicted yield with countermeasure” (relaxed wiring) from the predicted yield table 9a. Then, using these, a “predicted manufacturing cost with countermeasures” (relax wiring) is calculated. That is,
“Predicted manufacturing cost with measures” (relaxed wiring) = fixed cost + (variable costs × number of mass production) × (predicted yield without measures / predicted yield with measures) = 1000000 + (300 × 1000000) × (0.79 / 0.84) ) ≒ 283 million (yen)
It becomes.

さらに、予測製造コスト演算部3により、算出式テーブル6aから算出結果名「製造コスト改善効果」を算出するための算出式が抽出され、その値が算出される。すなわち、
「製造コスト改善効果」(リラックス配線)=「対策なし予測製造コスト」−「対策あり予測製造コスト」(リラックス配線)=301000000−283000000=18000000(円)
となる。
Further, the predicted manufacturing cost calculation unit 3 extracts a calculation formula for calculating the calculation result name “manufacturing cost improvement effect” from the calculation formula table 6a, and calculates its value. That is,
“Manufacturing cost improvement effect” (relaxed wiring) = “predicted manufacturing cost without countermeasures” − “predicted manufacturing cost with countermeasures” (relaxed wiring) = 301000000-283000000 = 18000000 (yen)
It becomes.

算出された「製造コスト改善効果」(リラックス配線)と、図24に示すDFM対策コストテーブル12aのDFM対策コスト(「人件費」,「インフラ費」その他の費目の合計値)は、図25に示すコスト比較テーブル13aにDFM対策名に関連付けて格納される。   The calculated “manufacturing cost improvement effect” (relaxation wiring) and the DFM countermeasure cost (the total value of “personnel cost”, “infrastructure cost” and other expenses) in the DFM countermeasure cost table 12a shown in FIG. 24 are shown in FIG. The cost comparison table 13a shown is stored in association with the DFM countermeasure name.

別のDFM対策の場合についても同様の処理が行われ、2重VIA化の場合には、
「対策あり予測歩留り」(2重VIA化)=(1+(X1×チップ面積+X2×感知面積×2)×5×10-4-3=(1+(1.1×60.8+0.7×50.2×2)×5×10-4-3=0.82
「対策あり予測製造コスト」(2重VIA化)=固定費+(変動費×量産数)×(対策なし予測歩留り/対策あり予測歩留り)=1000000+(300×1000000)×(0.79×0.82)≒290000000(円)
「製造コスト改善効果」(2重VIA化)=「対策なし予測製造コスト」−「対策あり予測製造コスト」(2重VIA化)=301000000−290000000=11000000(円)
となる。なお、「対策なし予測製造コスト」は、先のリラックス配線についての処理の際に算出したものを用いることができるが、この2重VIA化についての処理の際に改めて算出しても構わない。
The same processing is performed for another DFM countermeasure, and in the case of dual VIA,
“Predicted yield with countermeasures” (double VIA) = (1+ (X1 × chip area + X2 × sensing area × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 = (1+ (1.1 × 60.8 + 0.7 × 50.2 × 2) × 5 × 10 −4 ) −3 = 0.82
“Predicted manufacturing cost with countermeasures” (double VIA conversion) = fixed cost + (variable cost × number of mass production) × (predicted yield without countermeasure / predicted yield with countermeasure) = 1000000 + (300 × 1000000) × (0.79 × 0 .82) ≒ 290000000 (yen)
“Production cost improvement effect” (double VIA conversion) = “predicted manufacturing cost without countermeasure” − “predicted manufacturing cost with countermeasure” (double VIA conversion) = 301000000-290000000 = 11,000,000 (yen)
It becomes. The “predicted manufacturing cost without countermeasures” can be calculated at the time of the process for the previous relaxed wiring, but may be calculated again at the time of the process for the double VIA.

「対策あり予測歩留り」(2重VIA化)の算出結果は、図22に示す予測歩留りテーブル9aにDFM対策名に関連付けて格納される。また、「製造コスト改善効果」(2重VIA化)は、図24に示すDFM対策コストテーブル12aのDFM対策コストと共に、図25に示すコスト比較テーブル13aにDFM対策名に関連付けて格納される。   The calculation result of “predicted yield with countermeasure” (double VIA conversion) is stored in the predicted yield table 9a shown in FIG. 22 in association with the DFM countermeasure name. Further, the “manufacturing cost improvement effect” (double VIA conversion) is stored in association with the DFM countermeasure name in the cost comparison table 13a shown in FIG. 25 together with the DFM countermeasure cost of the DFM countermeasure cost table 12a shown in FIG.

続いて、比較・判定部4により、コスト比較テーブル13aから「製造コスト改善効果」および「DFM対策コスト」が抽出され、「製造コスト改善効果」>「DFM対策コスト」の関係を満たすか否かが比較・判定され、表示部5が、その関係を満たすDFM対策名をディスプレイに表示する。   Subsequently, the comparison / determination unit 4 extracts “manufacturing cost improvement effect” and “DFM countermeasure cost” from the cost comparison table 13a, and whether or not the relationship “manufacturing cost improvement effect”> “DFM countermeasure cost” is satisfied. Are compared and determined, and the display unit 5 displays the DFM countermeasure names satisfying the relationship on the display.

図26は結果の表示例である。
ディスプレイの表示画面30には、例えばこの図26に示すように、チップ名、DFM対策名、量産数、歩留り向上(度)、製造コスト改善効果、DFM対策コスト、および正味のコスト効果を表示することができる。
FIG. 26 is a display example of the result.
On the display screen 30 of the display, for example, as shown in FIG. 26, a chip name, a DFM countermeasure name, a mass production number, a yield improvement (degree), a manufacturing cost improvement effect, a DFM countermeasure cost, and a net cost effect are displayed. be able to.

なお、チップ名は、入力されたデータから取得される。DFM対策名、製造コスト改善効果およびDFM対策コストは、コスト比較テーブル13aから抽出することができる。量産数は、工場コスト・量産数テーブル10aから抽出することができる。歩留り向上は、予測歩留りテーブル9aから抽出することができる。正味のコスト効果は、製造コスト改善効果およびDFM対策コストを用いて求めることができる。また、表示画面30に表示するデータを、コスト比較テーブル13aに、そのDFM対策コストや製造コスト改善効果と関連付けて、あらかじめ表示前に格納しておくようにしてもよい。   Note that the chip name is acquired from the input data. The DFM countermeasure name, the manufacturing cost improvement effect, and the DFM countermeasure cost can be extracted from the cost comparison table 13a. The mass production number can be extracted from the factory cost / mass production number table 10a. Yield improvement can be extracted from the predicted yield table 9a. The net cost effect can be obtained using the manufacturing cost improvement effect and the DFM countermeasure cost. Further, the data to be displayed on the display screen 30 may be stored in the cost comparison table 13a in advance before being displayed in association with the DFM countermeasure cost and the manufacturing cost improvement effect.

以後は、このような表示を基に、適切なDFM対策、例えば歩留り向上およびコスト効果が大きいDFM対策を選択し、それを用いて設計を進め、その設計を基に製造を行い、試験を行うようにすればよい。   Thereafter, based on such indications, an appropriate DFM countermeasure, for example, a DFM countermeasure with high yield and cost effectiveness is selected, and the design is advanced using the DFM countermeasure, and the manufacturing is performed based on the design and the test is performed. What should I do?

また、算出式テーブル6aおよび対策係数テーブル7aの内容の追加や更新は、例えば、次のようにして実施される。
算出式テーブル6aおよび対策係数テーブル7aの内容を追加または更新する際には、まず、追加または更新しようとする予測歩留り算出式および対策係数のデータが入力される。例えば、ユーザがディスプレイ等に表示される画面を見ながらLSIチップ設計支援システム1に所定のデータを入力する。
Moreover, addition and update of the contents of the calculation formula table 6a and the countermeasure coefficient table 7a are performed as follows, for example.
When adding or updating the contents of the calculation formula table 6a and the countermeasure coefficient table 7a, first, the predicted yield calculation formula and countermeasure coefficient data to be added or updated are input. For example, the user inputs predetermined data to the LSI chip design support system 1 while watching the screen displayed on the display or the like.

図27は入力画面の表示例である。
入力画面40には、予測歩留りの算出式を入力する欄41のほか、DFM対策名を入力または選択する欄42、算出式に含まれる対策係数の係数名を入力する複数の欄43、係数値を入力する複数の欄44が設けられている。
FIG. 27 shows a display example of the input screen.
The input screen 40 includes a column 41 for inputting a calculation formula for a predicted yield, a column 42 for inputting or selecting a DFM countermeasure name, a plurality of columns 43 for inputting coefficient names of countermeasure coefficients included in the calculation formula, and coefficient values. A plurality of fields 44 are provided for inputting.

このような入力画面40に、図27に示したような内容が入力されると、LSIチップ設計支援システム1では、入力部21により、その入力データが、算出式テーブル6aおよび対策係数テーブル7aにそれぞれ一時的に格納される。   When the contents as shown in FIG. 27 are input to such an input screen 40, in the LSI chip design support system 1, the input unit 21 inputs the input data to the calculation formula table 6a and the countermeasure coefficient table 7a. Each is stored temporarily.

次いで、予測歩留り演算部2により、その算出式が算出式テーブル6aから抽出され、係数名をキーに、係数値が対策係数テーブル7aから抽出され、その算出式に含まれるチップ特性名と、入力または選択されたDFM対策名をキーに、チップ仕様テーブル8aから過去開発チップのチップ特性値が抽出される。そして、これらのデータを用いて、過去開発チップについての予測歩留りが算出され、算出結果がデータチェック用予測歩留りテーブル23aに格納される。   Next, the predicted yield calculation unit 2 extracts the calculation formula from the calculation formula table 6a, extracts the coefficient value from the countermeasure coefficient table 7a using the coefficient name as a key, and inputs the chip characteristic name included in the calculation formula and the input Alternatively, the chip characteristic value of the previously developed chip is extracted from the chip specification table 8a using the selected DFM countermeasure name as a key. Then, using these data, the predicted yield for the past development chip is calculated, and the calculation result is stored in the data check predicted yield table 23a.

図28はデータチェック用予測歩留りテーブルの一例を示す図である。また、図29は過去開発チップ歩留り実績テーブルの一例を示す図である。
図28に示すように、データチェック用予測歩留りテーブル23aには、過去開発チップについて改めて算出された「予測歩留り」が、過去開発チップのチップ名と、過去開発チップに実施した「DFM対策名」に関連付けて格納される。
FIG. 28 is a diagram showing an example of a data check prediction yield table. FIG. 29 is a diagram showing an example of a past development chip yield record table.
As shown in FIG. 28, in the predicted yield table for data check 23a, the “predicted yield” newly calculated for the past development chip indicates the chip name of the past development chip and the “DFM countermeasure name” implemented on the past development chip. Stored in association with.

同様に、過去開発チップの歩留り実績は、図29に示すように、過去開発チップ歩留り実績テーブル24aに、過去開発チップのチップ名と、過去開発チップに実施した「DFM対策名」に関連付けて格納される。   Similarly, as shown in FIG. 29, the past development chip yield record is stored in the past development chip yield record table 24a in association with the chip name of the past development chip and the “DFM countermeasure name” implemented for the past development chip. Is done.

このような過去開発チップについての「予測歩留り」の算出処理、およびその算出結果のデータチェック用予測歩留りテーブル23aへの格納処理が、追加または更新の対象と同種のDFM対策を実施した過去開発チップに対して行われる。なお、図28には、DFM対策であるリラックス配線と2重VIA化の双方について、「予測歩留り」の算出処理およびその算出結果の格納処理が行われた場合を示している。   The past development chip in which the “predicted yield” calculation processing for the past development chip and the storage processing of the calculation result in the data check prediction yield table 23a implement the same type of DFM countermeasures as the target of addition or update To be done. FIG. 28 shows a case where “predicted yield” calculation processing and calculation result storage processing are performed for both relaxation wiring and double VIA conversion, which are DFM countermeasures.

次いで、評価部22により、チップ名と「DFM対策名」をキーに、データチェック用予測歩留りテーブル23aおよび過去開発チップ歩留り実績テーブル24aからそれぞれ、過去開発チップについて算出された「予測歩留り」および過去開発チップの「歩留り実績」が抽出される。また、規格値テーブルからは所定の規定値が抽出される。   Next, the evaluation unit 22 uses the chip name and “DFM countermeasure name” as keys, and the “predicted yield” and the past calculated for the past developed chip from the predicted yield table for data check 23a and the past developed chip yield record table 24a, respectively. The “yield record” of the developed chip is extracted. In addition, a predetermined specified value is extracted from the standard value table.

そして、評価部22により、同種のDFM対策を実施した過去開発チップについて、その「予測歩留り」と「歩留り実績」の標準偏差が算出され、規定値と比較される。標準偏差σは、A=「歩留り実績」−「予測歩留り」、M=Σ|A|/個数、とすると、σ=Σ(A−M)2/(個数−1)、で求めることができる。規定値と求められた標準偏差σは、ディスプレイに表示される。 Then, the standard deviation of the “predicted yield” and the “yield record” is calculated by the evaluation unit 22 for the previously developed chip that has implemented the same type of DFM countermeasure, and is compared with the specified value. The standard deviation σ can be obtained by σ = Σ (A−M) 2 / (number−1) where A = “actual yield” − “predicted yield” and M = Σ | A | / number. . The specified value and the obtained standard deviation σ are displayed on the display.

また、過去開発チップの「予測歩留り」と「歩留り実績」の標準偏差σが規定値内の場合には、算出式テーブル6aおよび対策係数テーブル7aが、入力画面40に入力されたデータによって追加または更新される。また、過去開発チップの「予測歩留り」と「歩留り実績」の標準偏差σが規定値外の場合には、算出式テーブル6aおよび対策係数テーブル7aからその入力されたデータが削除される。   In addition, when the standard deviation σ of the “predicted yield” and “yield result” of the past development chip is within the specified value, the calculation formula table 6a and the countermeasure coefficient table 7a are added by the data input to the input screen 40 or Updated. Further, when the standard deviation σ of “predicted yield” and “yield result” of the past developed chip is outside the specified value, the input data is deleted from the calculation formula table 6a and the countermeasure coefficient table 7a.

なお、ここでは、追加または更新しようとする予測歩留り算出式および対策係数のデータを、ユーザが入力画面40を見ながら入力する場合について述べたが、それらのデータが過去の開発実績を基に自動生成可能である場合には、その自動生成されたデータを用いて、そのような入力ステップに続く処理が行われるようにしてもよい。   Here, the case where the user inputs the predicted yield calculation formula and countermeasure coefficient data to be added or updated while looking at the input screen 40 has been described. However, these data are automatically generated based on past development results. If it can be generated, the process following such an input step may be performed using the automatically generated data.

以上説明したように、上記LSIチップ設計支援システム1によれば、設計開始時点や設計開始直後といったチップ設計の早い段階で取得されるチップ仕様を用いて、DFM対策を実施した場合の歩留りおよびそのときの製造コストを予測することができるので、設計のイタレーションが発生せず、チップ開発スピードを向上させることが可能になる。   As described above, according to the LSI chip design support system 1, the yield when the DFM countermeasure is implemented using the chip specifications acquired at the early stage of the chip design such as the design start time or immediately after the design start, and the yield Since it is possible to predict the manufacturing cost, it is possible to improve chip development speed without design iteration.

また、チップ設計段階における歩留りおよび製造コストの予測を、そのチップに実施可能なDFM対策ごとに行うので、そのチップに適したDFM対策の実施判断が行えるようになる。さらに、それぞれのDFM対策の歩留り向上と製造コストへの寄与が明確化されるので、そのチップに適したDFM対策の実施判断が行えると共に、その知見を以後のチップ設計に利用し、チップを迅速に高歩留りで製造することが可能になる。   Further, since the yield and the manufacturing cost are predicted at the chip design stage for each DFM countermeasure that can be implemented on the chip, it is possible to determine whether to implement the DFM countermeasure suitable for the chip. In addition, since the yield improvement of each DFM measure and the contribution to the manufacturing cost are clarified, it is possible to judge the implementation of the DFM measure suitable for the chip, and the knowledge can be used for the subsequent chip design to quickly use the chip. It becomes possible to manufacture at a high yield.

さらにまた、このようなLSIチップ設計支援システム1を、チップの設計を担当するチップ設計者や、チップに設計に関わる技術開発を担当するチップ設計技術者等、チップ開発に携わる様々なユーザが共有して利用することにより、チップをより迅速に高歩留りで製造することが可能になる。   Furthermore, such LSI chip design support system 1 is shared by various users involved in chip development, such as chip designers in charge of chip design and chip design engineers in charge of technology development related to chip design. By using this, the chip can be manufactured more quickly and with a high yield.

なお、上記LSIチップ設計支援システム1が有する処理機能は、コンピュータを用いて実現することができる。
コンピュータは、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、HDD(Hard Disk Drive)のほか、グラフィック処理部、入力I/F(Interface)、通信I/F等によって構成され、これらはバスを介して接続される。CPUは、HDDに格納されているプログラムや、上記の各テーブル等に格納(記憶)されたデータを用いて処理を実行する。ROMは、CPUが実行する基本的なプログラムやデータを格納する。RAMは、CPUが実行途中のプログラムやデータを格納する。HDDには、CPUが実行するOS(Operation System)やアプリケーションプログラム、上記の各テーブル等のデータが格納(記憶)される。グラフィック処理部には、ディスプレイ等の表示装置が接続され、グラフィック処理部は、CPUからの描画命令に従ってその表示装置の画面上に画像を表示させる。入力I/Fには、マウスやキーボードが接続され、これらによってユーザが入力した情報を受信し、バスを介してCPUに送信する。通信I/Fは、各コンピュータ間のLAN接続のためのインタフェースである。
The processing functions of the LSI chip design support system 1 can be realized using a computer.
The computer includes a CPU (Central Processing Unit), ROM (Read Only Memory), RAM (Random Access Memory), HDD (Hard Disk Drive), graphic processing unit, input I / F (Interface), communication I / F, etc. These are connected via a bus. The CPU executes processing by using a program stored in the HDD and data stored (stored) in each of the above tables. The ROM stores basic programs and data executed by the CPU. The RAM stores programs and data being executed by the CPU. The HDD stores (stores) data such as an OS (Operation System) executed by the CPU, application programs, and the above tables. A display device such as a display is connected to the graphic processing unit, and the graphic processing unit displays an image on the screen of the display device in accordance with a drawing command from the CPU. A mouse and a keyboard are connected to the input I / F, and information input by the user is received by these and transmitted to the CPU via the bus. The communication I / F is an interface for LAN connection between computers.

このようなハードウェア構成を有するコンピュータによって、上記LSIチップ設計支援システム1が有する各処理機能を実現することができる。
また、上記LSIチップ設計支援システム1が有すべき機能の処理内容を記述したプログラム(LSIチップ設計支援プログラム)が提供される。そのプログラムをコンピュータで実行することにより、上記処理機能がコンピュータ上で実現される。
Each processing function of the LSI chip design support system 1 can be realized by a computer having such a hardware configuration.
In addition, a program (LSI chip design support program) describing the processing contents of the functions that the LSI chip design support system 1 should have is provided. By executing the program on a computer, the above processing functions are realized on the computer.

処理内容を記述したプログラムは、コンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録しておくことができる。コンピュータで読み取り可能な記録媒体としては、磁気記録装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリ等がある。磁気記録装置には、HDD、フレキシブルディスク(FD)、磁気テープ等がある。光ディスクには、DVD(Digital Versatile Disk)、DVD−RAM(Random Access Memory)、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、CD−R(Recordable)/RW(ReWritable)等がある。光磁気記録媒体には、MO(Magneto-Optical disk)等がある。   The program describing the processing contents can be recorded on a computer-readable recording medium. Examples of the computer-readable recording medium include a magnetic recording device, an optical disk, a magneto-optical recording medium, and a semiconductor memory. Magnetic recording devices include HDDs, flexible disks (FD), magnetic tapes, and the like. Examples of the optical disc include a DVD (Digital Versatile Disk), a DVD-RAM (Random Access Memory), a CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory), and a CD-R (Recordable) / RW (ReWritable). Magneto-optical recording media include MO (Magneto-Optical disk).

プログラムを流通させる場合には、例えば、そのプログラムが記録されたDVD、CD−ROM等の可搬型記録媒体が販売される。また、プログラムをサーバコンピュータの記憶装置に格納しておき、ネットワークを介して、サーバコンピュータから他のコンピュータにそのプログラムを転送することもできる。   When distributing the program, for example, a portable recording medium such as a DVD or a CD-ROM in which the program is recorded is sold. It is also possible to store the program in a storage device of a server computer and transfer the program from the server computer to another computer via a network.

プログラムを実行するコンピュータは、例えば、可搬型記録媒体に記録されたプログラムもしくはサーバコンピュータから転送されたプログラムを、自己の記憶装置に格納する。そして、コンピュータは、自己の記憶装置からプログラムを読み取り、プログラムに従った処理を実行する。なお、コンピュータは、可搬型記録媒体から直接プログラムを読み取り、そのプログラムに従った処理を実行することもできる。また、コンピュータは、サーバコンピュータからプログラムが転送されるごとに、逐次、受け取ったプログラムに従った処理を実行することもできる。   The computer that executes the program stores, for example, the program recorded on the portable recording medium or the program transferred from the server computer in its own storage device. Then, the computer reads the program from its own storage device and executes processing according to the program. The computer can also read the program directly from the portable recording medium and execute processing according to the program. Further, each time the program is transferred from the server computer, the computer can sequentially execute processing according to the received program.

なお、以上の説明では、LSIの開発を例にして述べたが、勿論、上記のような設計支援システムや、設計支援方法および設計支援プログラムは、そのような半導体集積回路(Integrated Circuit;IC)をはじめとする種々の半導体装置の開発に適用可能である。   In the above description, the development of LSI has been described as an example. Of course, the design support system, the design support method, and the design support program as described above may be such a semiconductor integrated circuit (IC). It is applicable to the development of various semiconductor devices including

以下に、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。
(付記1) 半導体装置の設計に用いる半導体装置設計支援システムにおいて、
前記半導体装置の設計開始段階の仕様を格納する仕様格納手段と、
前記半導体装置に実施可能な設計対策に要する設計対策コストを格納する設計対策コスト格納手段と、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様を用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出する予測歩留り演算手段と、
前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストおよび前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出する予測製造コスト演算手段と、
前記予測製造コスト演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コスト格納手段に格納された前記設計対策コストとを比較・判定する比較・判定手段と、
を有することを特徴とする半導体装置設計支援システム。
Hereinafter, various aspects of the present invention will be collectively described as supplementary notes.
(Supplementary Note 1) In a semiconductor device design support system used for designing a semiconductor device,
Specification storage means for storing specifications at the design start stage of the semiconductor device;
Design measure cost storage means for storing a design measure cost required for a design measure that can be implemented in the semiconductor device;
Using the specifications stored in the specification storage means, predicted yield calculation means for calculating a predicted yield when the design countermeasure is not implemented and a predicted yield when the design countermeasure is implemented;
Using the predicted yield when not implementing the design measure calculated by the predicted yield calculation means and the predicted yield when executing the design measure, the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure and the design measure A predicted manufacturing cost calculating means for calculating a predicted manufacturing cost in the case of carrying out;
The difference between the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure calculated by the predicted manufacturing cost calculating unit and the predicted manufacturing cost when executing the design measure, and the design stored in the design measure cost storing unit Comparison / determination means for comparing / determining countermeasure costs,
A semiconductor device design support system comprising:

(付記2) 前記設計対策コスト格納手段は、複数の前記設計対策にそれぞれ要する複数の前記設計対策コストを格納し、
前記予測歩留り演算手段は、前記設計対策ごとに、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出し、
前記予測製造コスト演算手段は、前記設計対策ごとに、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストおよび前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出し、
前記比較判定手段は、前記設計対策ごとに、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コスト格納手段に格納された対象の前記設計対策コストとを比較・判定する、
ことを特徴とする付記1記載の半導体装置設計支援システム。
(Supplementary Note 2) The design measure cost storage means stores a plurality of design measure costs required for a plurality of the design measures,
The predicted yield calculation means calculates, for each design measure, a predicted yield when the design measure is not implemented and a predicted yield when the design measure is implemented,
The predicted manufacturing cost calculation means calculates, for each design measure, a predicted manufacturing cost when the design measure is not implemented and a predicted manufacturing cost when the design measure is implemented,
The comparison determination unit stores, for each of the design measures, a difference between a predicted manufacturing cost when the design measure is not implemented and a predicted manufacturing cost when the design measure is implemented, and is stored in the design measure cost storage unit. Compare and judge the target design measures cost,
The semiconductor device design support system according to appendix 1, wherein

(付記3) 前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りの算出に用いる第1の算出式と、前記設計対策を実施する場合の予測歩留りの算出に用いる第2の算出式とを格納する算出式格納手段と、
前記第2の算出式に用いる係数を格納する係数格納手段と、
を有し、
前記予測歩留り演算手段は、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記第1の算出式とを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りを算出し、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記第2の算出式と、前記係数格納手段に格納された前記係数を用いて、前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出する、
ことを特徴とする付記1記載の半導体装置設計支援システム。
(Additional remark 3) The calculation formula which stores the 1st calculation formula used for calculation of the prediction yield when not implementing the said design measure, and the 2nd calculation formula used for calculation of the prediction yield when implementing the said design measure Storage means;
Coefficient storage means for storing coefficients used in the second calculation formula;
Have
The predicted yield calculation means includes:
Using the specification stored in the specification storage unit and the first calculation formula stored in the calculation formula storage unit, calculate a predicted yield when the design measure is not implemented,
When the design measure is implemented using the specifications stored in the specification storage unit, the second calculation formula stored in the calculation formula storage unit, and the coefficient stored in the coefficient storage unit Calculate the predicted yield of
The semiconductor device design support system according to appendix 1, wherein

(付記4) 前記算出式格納手段に新たな算出式が格納された場合に、格納された前記新たな算出式の妥当性を、過去に開発した半導体装置の仕様と、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを用いて評価する評価手段を有し、
前記予測歩留り演算手段は、前記過去に開発した半導体装置の仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記新たな算出式とを用いて、前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りを算出し、
前記評価手段は、算出された前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りと、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを比較して評価する、
ことを特徴とする付記3記載の半導体装置設計支援システム。
(Supplementary Note 4) When a new calculation formula is stored in the calculation formula storage means, the validity of the new calculation formula stored is the specifications of the semiconductor device developed in the past and the semiconductor developed in the past. It has an evaluation means for evaluating using the device yield record,
The predicted yield calculation means calculates the predicted yield of the semiconductor device developed in the past using the specifications of the semiconductor device developed in the past and the new calculation formula stored in the calculation formula storage means. ,
The evaluation means compares and evaluates the calculated yield of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past.
The semiconductor device design support system according to supplementary note 3, wherein

(付記5) 前記係数格納手段に新たな係数が格納された場合に、格納された前記新たな係数の妥当性を、過去に開発した半導体装置の仕様と、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを用いて評価する評価手段を有し、
前記予測歩留り演算手段は、前記過去に開発した半導体装置の仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記第2の算出式と、前記係数格納手段に格納された前記新たな係数とを用いて、前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りを算出し、
前記評価手段は、算出された前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りと、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを比較して評価する、
ことを特徴とする付記3記載の半導体装置設計支援システム。
(Supplementary Note 5) When a new coefficient is stored in the coefficient storage means, the validity of the new coefficient stored is determined based on the specifications of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past. Having an evaluation means to evaluate using actual results,
The predicted yield calculation means uses specifications of the semiconductor device developed in the past, the second calculation formula stored in the calculation formula storage means, and the new coefficient stored in the coefficient storage means. Calculating the predicted yield of the semiconductor device developed in the past,
The evaluation means compares and evaluates the calculated yield of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past.
The semiconductor device design support system according to supplementary note 3, wherein

(付記6) 前記予測製造コスト演算手段は、
前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストを算出し、
前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出する、
ことを特徴とする付記1記載の半導体装置設計支援システム。
(Additional remark 6) The said estimated manufacturing cost calculating means is
Using the predicted yield when not implementing the design measure calculated by the predicted yield calculation means, calculating the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure,
Using the predicted yield when not implementing the design measure calculated by the predicted yield calculation means and the predicted yield when implementing the design measure, calculating the predicted manufacturing cost when implementing the design measure;
The semiconductor device design support system according to appendix 1, wherein

(付記7) 前記半導体装置の製造に要する工場コストを格納する工場コスト格納手段と、
前記半導体装置の量産数を格納する量産数格納手段と、
を有し、
前記予測製造コスト演算手段は、
前記工場コスト格納手段に格納された前記工場コストと、前記量産数格納手段に格納された前記量産数とを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストを算出し、
前記工場コスト格納手段に格納された前記工場コストと、前記量産数格納手段に格納された前記量産数と、前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りとを用いて、前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出する、
ことを特徴とする付記1記載の半導体装置設計支援システム。
(Appendix 7) Factory cost storage means for storing factory costs required for manufacturing the semiconductor device;
A mass production number storage means for storing the mass production number of the semiconductor device;
Have
The predicted manufacturing cost calculation means includes
Using the factory cost stored in the factory cost storage means and the mass production number stored in the mass production number storage means, calculate a predicted manufacturing cost when the design measure is not implemented,
The factory cost stored in the factory cost storage means, the mass production number stored in the mass production number storage means, the predicted yield and the design when the design measure calculated by the predicted yield calculation means is not implemented Using the predicted yield when implementing the measure, calculate the predicted manufacturing cost when implementing the design measure,
The semiconductor device design support system according to appendix 1, wherein

(付記8) 前記比較・判定手段は、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストに対する前記設計対策を実施する場合の予測製造コストの減少量と、前記設計対策コストとを比較し、前記減少量が前記設計対策コストを上回るか否かを判定することを特徴とする付記1記載の半導体装置設計支援システム。   (Supplementary Note 8) The comparison / determination unit compares the reduction amount of the predicted manufacturing cost when the design countermeasure is performed with respect to the predicted manufacturing cost when the design countermeasure is not performed and the design countermeasure cost, and reduces the decrease. The semiconductor device design support system according to appendix 1, wherein it is determined whether or not an amount exceeds the design countermeasure cost.

(付記9) 前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コストとの比較・判定結果を表示する表示手段を有することを特徴とする付記1記載の半導体装置設計支援システム。   (Additional remark 9) It has a display means which displays the difference of the estimated manufacturing cost when not implementing the said design countermeasure, and the estimated manufacturing cost when implementing the said design countermeasure, and the comparison and determination result with the said design countermeasure cost. The semiconductor device design support system according to supplementary note 1, characterized by:

(付記10) 半導体装置の設計に用いる半導体装置設計支援方法において、
仕様格納手段が、前記半導体装置の設計開始段階の仕様を格納し、
設計対策コスト格納手段が、前記半導体装置に実施可能な設計対策に要する設計対策コストを格納し、
予測歩留り演算手段が、前記仕様格納手段に格納された前記仕様を用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出し、
予測製造コスト演算手段が、前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストおよび前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出し、
比較・判定手段が、前記予測製造コスト演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コスト格納手段に格納された前記設計対策コストとを比較・判定する、
ことを特徴とする半導体装置設計支援方法。
(Supplementary Note 10) In a semiconductor device design support method used for designing a semiconductor device,
A specification storage means stores a specification at the design start stage of the semiconductor device,
The design measure cost storage means stores the design measure cost required for the design measure that can be implemented in the semiconductor device,
Predictive yield calculation means uses the specifications stored in the specification storage means to calculate a predicted yield when the design countermeasure is not implemented and a predicted yield when the design countermeasure is implemented,
Prediction when the predicted manufacturing cost calculation means does not implement the design measure using the predicted yield when the design measure calculated by the predicted yield calculation means is not executed and the predicted yield when the design measure is executed Calculate the manufacturing cost and the predicted manufacturing cost when implementing the design measures,
The difference between the predicted manufacturing cost when the comparison / determination means does not implement the design measure calculated by the predicted manufacturing cost calculation means and the predicted manufacturing cost when the design measure is executed, and the design measure cost storage means Compare and judge the design countermeasure cost stored in
A semiconductor device design support method.

(付記11) 半導体装置の設計に用いる半導体装置設計支援プログラムにおいて、
コンピュータを、
前記半導体装置の設計開始段階の仕様を格納する仕様格納手段、
前記半導体装置に実施可能な設計対策に要する設計対策コストを格納する設計対策コスト格納手段、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様を用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出する予測歩留り演算手段、
前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストおよび前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出する予測製造コスト演算手段、
前記予測製造コスト演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コスト格納手段に格納された前記設計対策コストとを比較・判定する比較・判定手段、
として機能させることを特徴とする半導体装置設計支援プログラム。
(Supplementary Note 11) In a semiconductor device design support program used for designing a semiconductor device,
Computer
Specification storage means for storing specifications at the design start stage of the semiconductor device,
Design measure cost storage means for storing a design measure cost required for a design measure that can be implemented in the semiconductor device;
Using the specifications stored in the specification storage means, predicted yield calculation means for calculating a predicted yield when the design countermeasure is not implemented and a predicted yield when the design countermeasure is implemented;
Using the predicted yield when not implementing the design measure calculated by the predicted yield calculation means and the predicted yield when executing the design measure, the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure and the design measure A predicted manufacturing cost calculating means for calculating a predicted manufacturing cost in the case of carrying out;
The difference between the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure calculated by the predicted manufacturing cost calculating unit and the predicted manufacturing cost when executing the design measure, and the design stored in the design measure cost storing unit Comparison / determination means for comparing / determining countermeasure costs,
A semiconductor device design support program characterized by functioning as

LSIチップ開発における設計対策の実施の流れを説明する図である。It is a figure explaining the flow of implementation of the design measure in LSI chip development. DFM対策を実施する場合と実施しない場合の量産数とコストの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the number of mass production and the cost when not implementing DFW countermeasures. 異なるDFM対策を実施する場合の量産数とコストの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the number of mass production and cost in the case of implementing different DFM countermeasures. LSIチップ設計支援システムの原理構成を示す図である。It is a figure which shows the principle structure of a LSI chip design support system. 算出式テーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a calculation formula table. 対策係数テーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a countermeasure coefficient table. チップ仕様テーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a chip specification table. 予測歩留りテーブルの内容説明図である。It is a content explanatory view of a prediction yield table. 工場コストテーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a factory cost table. 量産数テーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a mass production number table. DFM対策コストテーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a DFM countermeasure cost table. コスト比較テーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of a cost comparison table. 追加/更新データチェック機構の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an addition / update data check mechanism. データチェック用予測歩留りテーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of the prediction yield table for a data check. 過去開発チップ歩留り実績テーブルの内容説明図である。It is content explanatory drawing of the past development chip yield results table. 規定値テーブルの内容説明図である。It is a content explanatory view of a regulation value table. DFM対策の実施判断支援処理のフローチャートである。It is a flowchart of the implementation decision support process of a DFM countermeasure. データ追加/更新処理のフローチャートである。It is a flowchart of a data addition / update process. 算出式テーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a calculation formula table. 対策係数テーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a countermeasure coefficient table. チップ仕様テーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a chip specification table. 予測歩留りテーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a prediction yield table. 工場コスト・量産数テーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a factory cost and mass production number table. DFM対策コストテーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a DFM countermeasure cost table. コスト比較テーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a cost comparison table. 結果の表示例である。It is a display example of a result. 入力画面の表示例である。It is a display example of an input screen. データチェック用予測歩留りテーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the prediction yield table for data checks. 過去開発チップ歩留り実績テーブルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the past development chip yield results table. 従来の設計対策の実施の流れを説明する図である。It is a figure explaining the flow of implementation of the conventional design measure.

符号の説明Explanation of symbols

1 LSIチップ設計支援システム
2 予測歩留り演算部
3 予測製造コスト演算部
4 比較・判定部
5 表示部
6,6a 算出式テーブル
7,7a 対策係数テーブル
8,8a チップ仕様テーブル
9,9a 予測歩留りテーブル
10 工場コストテーブル
10a 工場コスト・量産数テーブル
11 量産数テーブル
12,12a DFM対策コストテーブル
13,13a コスト比較テーブル
20 追加/更新データチェック機構
21 入力部
22 評価部
23,23a データチェック用予測歩留りテーブル
24,24a 過去開発チップ歩留り実績テーブル
25 規定値テーブル
30 表示画面
40 入力画面
41,42,43,44 欄
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 LSI chip design support system 2 Predicted yield calculating part 3 Predicted production cost calculating part 4 Comparison / determination part 5 Display part 6, 6a Calculation formula table 7, 7a Countermeasure coefficient table 8, 8a Chip specification table 9, 9a Predictive yield table 10 Factory cost table 10a Factory cost / mass production number table 11 Mass production number table 12, 12a DFM countermeasure cost table 13, 13a Cost comparison table 20 Add / update data check mechanism 21 Input unit 22 Evaluation unit 23, 23a Predictive yield table for data check 24 24a Past development chip yield results table 25 Specified value table 30 Display screen 40 Input screen 41, 42, 43, 44

Claims (5)

半導体装置の設計に用いる半導体装置設計支援システムにおいて、
前記半導体装置の設計開始段階の仕様を格納する仕様格納手段と、
前記半導体装置に実施可能な設計対策に要する設計対策コストを格納する設計対策コスト格納手段と、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様を用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出する予測歩留り演算手段と、
前記予測歩留り演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りおよび前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストおよび前記設計対策を実施する場合の予測製造コストを算出する予測製造コスト演算手段と、
前記予測製造コスト演算手段で算出された前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストと前記設計対策を実施する場合の予測製造コストとの差と、前記設計対策コスト格納手段に格納された前記設計対策コストとを比較・判定する比較・判定手段と、
を有することを特徴とする半導体装置設計支援システム。
In a semiconductor device design support system used for designing a semiconductor device,
Specification storage means for storing specifications at the design start stage of the semiconductor device;
Design measure cost storage means for storing a design measure cost required for a design measure that can be implemented in the semiconductor device;
Using the specifications stored in the specification storage means, predicted yield calculation means for calculating a predicted yield when the design countermeasure is not implemented and a predicted yield when the design countermeasure is implemented;
Using the predicted yield when not implementing the design measure calculated by the predicted yield calculation means and the predicted yield when executing the design measure, the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure and the design measure A predicted manufacturing cost calculating means for calculating a predicted manufacturing cost in the case of carrying out;
The difference between the predicted manufacturing cost when not implementing the design measure calculated by the predicted manufacturing cost calculating unit and the predicted manufacturing cost when executing the design measure, and the design stored in the design measure cost storing unit Comparison / determination means for comparing / determining countermeasure costs,
A semiconductor device design support system comprising:
前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りの算出に用いる第1の算出式と、前記設計対策を実施する場合の予測歩留りの算出に用いる第2の算出式とを格納する算出式格納手段と、
前記第2の算出式に用いる係数を格納する係数格納手段と、
を有し、
前記予測歩留り演算手段は、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記第1の算出式とを用いて、前記設計対策を実施しない場合の予測歩留りを算出し、
前記仕様格納手段に格納された前記仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記第2の算出式と、前記係数格納手段に格納された前記係数を用いて、前記設計対策を実施する場合の予測歩留りを算出する、
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置設計支援システム。
A calculation formula storage means for storing a first calculation formula used for calculating a predicted yield when the design measure is not implemented and a second calculation formula used for calculating a predicted yield when the design measure is implemented;
Coefficient storage means for storing coefficients used in the second calculation formula;
Have
The predicted yield calculation means includes:
Using the specification stored in the specification storage unit and the first calculation formula stored in the calculation formula storage unit, calculate a predicted yield when the design measure is not implemented,
When the design measure is implemented using the specifications stored in the specification storage unit, the second calculation formula stored in the calculation formula storage unit, and the coefficient stored in the coefficient storage unit Calculate the predicted yield of
The semiconductor device design support system according to claim 1.
前記算出式格納手段に新たな算出式が格納された場合に、格納された前記新たな算出式の妥当性を、過去に開発した半導体装置の仕様と、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを用いて評価する評価手段を有し、
前記予測歩留り演算手段は、前記過去に開発した半導体装置の仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記新たな算出式とを用いて、前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りを算出し、
前記評価手段は、算出された前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りと、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを比較して評価する、
ことを特徴とする請求項2記載の半導体装置設計支援システム。
When a new calculation formula is stored in the calculation formula storage means, the validity of the stored new calculation formula is determined based on the specifications of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past. And an evaluation means for evaluating using
The predicted yield calculation means calculates the predicted yield of the semiconductor device developed in the past using the specifications of the semiconductor device developed in the past and the new calculation formula stored in the calculation formula storage means. ,
The evaluation means compares and evaluates the calculated yield of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past.
The semiconductor device design support system according to claim 2.
前記係数格納手段に新たな係数が格納された場合に、格納された前記新たな係数の妥当性を、過去に開発した半導体装置の仕様と、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを用いて評価する評価手段を有し、
前記予測歩留り演算手段は、前記過去に開発した半導体装置の仕様と、前記算出式格納手段に格納された前記第2の算出式と、前記係数格納手段に格納された前記新たな係数とを用いて、前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りを算出し、
前記評価手段は、算出された前記過去に開発した半導体装置の予測歩留りと、前記過去に開発した半導体装置の歩留り実績とを比較して評価する、
ことを特徴とする請求項2記載の半導体装置設計支援システム。
When a new coefficient is stored in the coefficient storage means, the validity of the stored new coefficient is determined using the specifications of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past. Evaluation means to evaluate
The predicted yield calculation means uses specifications of the semiconductor device developed in the past, the second calculation formula stored in the calculation formula storage means, and the new coefficient stored in the coefficient storage means. Calculating the predicted yield of the semiconductor device developed in the past,
The evaluation means compares and evaluates the calculated yield of the semiconductor device developed in the past and the yield of the semiconductor device developed in the past.
The semiconductor device design support system according to claim 2.
前記比較・判定手段は、前記設計対策を実施しない場合の予測製造コストに対する前記設計対策を実施する場合の予測製造コストの減少量と、前記設計対策コストとを比較し、前記減少量が前記設計対策コストを上回るか否かを判定することを特徴とする請求項1記載の半導体装置設計支援システム。   The comparison / determination unit compares a reduction amount of the predicted manufacturing cost when the design measure is implemented with respect to the predicted manufacturing cost when the design measure is not implemented, and the design measure cost, and the reduction amount is the design measure 2. The semiconductor device design support system according to claim 1, wherein it is determined whether or not the countermeasure cost is exceeded.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015201078A (en) * 2014-04-09 2015-11-12 株式会社日立製作所 Calculator, calculating method, and program

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