JP2008084937A - Socket with heat radiating function - Google Patents

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信 吉田
Nobuyuki Okuda
伸幸 奥田
Kaoru Soeda
薫 添田
Tetsuji Ogino
哲治 荻野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a socket with heating radiating function assuring excellent heat radiating efficiency. <P>SOLUTION: A second elastic contact group 54A provided to a heat radiating contact member 50 is placed in contact with an electrode group 2A for grounding of a semiconductor element 1. Heat generated by the semiconductor element 1 is transferred to a heat sink 60 through the electrode group 2A for the grounding, the second elastic contact group 54A and moreover a contact member 55 and a heat transfer member 51 constituting a heat radiating contact member 50. Heat can be released from the lower surface side of the semiconductor element 1 hat has been not used as a route for releasing heat in the related art. Accordingly, heat radiating efficiency of a socket 10 can be improved. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体素子の放熱効率を高める放熱機能付きソケットに関する。   The present invention relates to a socket with a heat dissipation function that increases the heat dissipation efficiency of a semiconductor element.

最近の半導体電気・電子部品は多機能、高性能化とともに、高集積化、小型、薄型化の傾向にある。それに伴い、CPU(Central Processing Unit)、MPU(MicroProcessing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)などの半導体素子内で発生した熱が、それらの内部に蓄積されて高温レベルになるため、寿命が短くなり、また誤作動を生じるなど信頼性が低下する。   Recent semiconductor electrical / electronic components tend to be more integrated, smaller, and thinner with multifunction and higher performance. Along with this, the heat generated in semiconductor elements such as CPU (Central Processing Unit), MPU (Micro Processing Unit), GPU (Graphics Processing Unit), etc. is accumulated inside them and becomes a high temperature level. In addition, the reliability decreases due to malfunction.

そこで、従来は半導体素子そのものに、あるいは半導体素子を保持するソケットにヒートシンクを取り付けることにより、前記半導体素子が発生した熱を大気中に逃がすことにより冷却している。   Therefore, conventionally, a heat sink is attached to the semiconductor element itself or to a socket for holding the semiconductor element, thereby cooling the semiconductor element by releasing the heat generated by the semiconductor element into the atmosphere.

前記半導体素子をソケットに装着した状態で放熱を行うものとしては、以下に示すような特許文献が存在している。
特開2004−14873号公報
Patent Documents listed below exist for performing heat dissipation with the semiconductor element mounted in a socket.
JP 2004-14873 A

特許文献1に記載のものは、ヒートシンクを用いて半導体素子の内部で発生した熱を前記半導体素子の表面や側面から逃がす構成である。   The thing of patent document 1 is the structure which escapes the heat | fever which generate | occur | produced inside the semiconductor element using the heat sink from the surface and side surface of the said semiconductor element.

しかし、熱を半導体素子の表面および側面から逃がすだけの構成では、冷却能力(放熱効率)を高めるのに限界があり、さらなる冷却能力の向上が望まれている。すなわち、ハンダボールなどが設けられる半導体素子の下面(接続面)についも、熱を逃がすルートとして有効に利用することが好ましい。   However, in the configuration in which heat is simply released from the surface and side surfaces of the semiconductor element, there is a limit to increasing the cooling capacity (heat radiation efficiency), and further improvement of the cooling capacity is desired. That is, it is preferable to effectively use the lower surface (connection surface) of the semiconductor element provided with solder balls or the like as a route for releasing heat.

一方、半導体素子を冷却する手段としては、例えばファンからの送風を半導体素子やヒートシンクに当てて強制的に冷却する方式が一般的である。   On the other hand, as a means for cooling the semiconductor element, for example, a method of forcibly cooling by blowing air from a fan to a semiconductor element or a heat sink is common.

また半導体素子はバーンイン装置を用いて熱サイクル試験が行われる。このようなバーンイン装置では、一度に複数の半導体素子を試験する必要があるため、前記装置内には複数のバーンイン用のソケットが配置される。前記熱サイクル試験(バーンイン試験)では、前記装置内の温度を正確に管理する必要がある。このため、一つ一つの半導体素子の温度を正確に管理するためには、全てのバーンインソケットにファンを取り付けるが好ましい。   The semiconductor element is subjected to a thermal cycle test using a burn-in apparatus. In such a burn-in apparatus, since it is necessary to test a plurality of semiconductor elements at a time, a plurality of burn-in sockets are arranged in the apparatus. In the thermal cycle test (burn-in test), it is necessary to accurately control the temperature in the apparatus. For this reason, in order to accurately control the temperature of each semiconductor element, it is preferable to attach a fan to every burn-in socket.

しかし、全てのバーンインソケットにファンを取り付けると、前記バーンイン装置が機構的に大型・複雑化するとともに製造コストや消費電力の増大を招き現実的ではない。しかも前記バーンイン装置は、高温時には150℃程度の加熱炉状態となるため、このような装置内にファンを設けることは故障の原因になりやすいという問題もある。   However, if a fan is attached to every burn-in socket, the burn-in device becomes mechanically large and complicated, and increases manufacturing costs and power consumption, which is not realistic. Moreover, since the burn-in apparatus is in a heating furnace state of about 150 ° C. at a high temperature, there is a problem that providing a fan in such an apparatus tends to cause a failure.

本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、半導体素子の放熱効率を高める放熱機能付きソケットを提供すること目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a socket with a heat dissipation function that increases the heat dissipation efficiency of a semiconductor element.

本発明は、貫通孔が形成されたマザー基板の一方の面上に前記貫通孔を取り囲むように固定された枠体と、前記マザー基板の他方の面に設けられるヒートシンクと、を有する放熱機能付きソケットであって、
前記ヒートシンクには前記貫通孔に対応する位置に放熱部材が設けられており、前記ヒートシンクを前記マザー基板の他方の面に固定した状態では前記放熱部材が前記貫通孔を介して前記枠体に囲まれた装填領域内に設置されるものであり、
半導体素子を前記装填領域に装填したときに、前記半導体素子の接続面に設けられた外部接触子が前記放熱部材に接触可能であることを特徴とするものである。
The present invention has a heat dissipation function having a frame body fixed so as to surround the through hole on one surface of the mother substrate in which the through hole is formed, and a heat sink provided on the other surface of the mother substrate. A socket,
The heat sink is provided with a heat radiating member at a position corresponding to the through hole. When the heat sink is fixed to the other surface of the mother board, the heat radiating member is surrounded by the frame body through the through hole. Installed in the loading area,
When the semiconductor element is loaded in the loading area, an external contact provided on the connection surface of the semiconductor element can contact the heat radiating member.

本発明では、半導体素子をソケット内の装填領域に装填されると、半導体素子の接続面に設けられた所定の外部接触子(ハンダボールなど)を放熱部材に接触させることができる。このため、半導体素子の内部で発生した熱を前記半導体素子の下面(接続面)側から逃がすことができる。   In the present invention, when the semiconductor element is loaded in the loading area in the socket, a predetermined external contact (such as a solder ball) provided on the connection surface of the semiconductor element can be brought into contact with the heat radiating member. For this reason, the heat generated inside the semiconductor element can be released from the lower surface (connection surface) side of the semiconductor element.

例えば、前記放熱部材は、熱伝達部材と、前記熱伝達部材の一方の面に設けられた複数の弾性接点と、を有し、前記熱伝達部材の他方の面が前記ヒートシンクの接合面に接合されているものとして構成される。   For example, the heat dissipating member includes a heat transfer member and a plurality of elastic contacts provided on one surface of the heat transfer member, and the other surface of the heat transfer member is bonded to the bonding surface of the heat sink. Configured as being.

上記手段では、半導体素子の内部で発生した熱を、半導体素子の外部接触子に接触している個々の弾性接点を介して熱伝達部材に導くことができる。   In the above means, the heat generated inside the semiconductor element can be guided to the heat transfer member via the individual elastic contacts that are in contact with the external contacts of the semiconductor element.

また前記枠体内の前記貫通孔を除く部分にはマザー基板に接続される弾性接点を備えた中継部材が設けられており、前記中継部材に設けられた弾性接点と前記放熱部材に設けられた前記弾性接点が前記装填領域内に一緒に配置されているものが好ましい。   In addition, a relay member provided with an elastic contact connected to the mother board is provided in a portion excluding the through hole in the frame body, and the elastic contact provided in the relay member and the heat dissipating member are provided in the heat dissipation member. It is preferred that the elastic contacts are arranged together in the loading area.

上記手段では、信号用の電極群を前記中継部材に設けられた弾性接点が受け持ち、接地用の電極群を前記放熱部材に設けられた前記弾性接点が担当することにより、前記接地用の電極群から熱を逃がすことが可能となる。   In the above means, the electrode group for signal is handled by the elastic contact provided on the relay member, and the elastic contact provided on the heat dissipating member is in charge of the electrode group for grounding, whereby the electrode group for grounding is provided. It is possible to release heat from.

あるいは、前記放熱部材は、表面に複数の弾性接点を有するシートと、前記接続シートの裏面の一領域に対し一方の面が固定された熱伝達部材とを有し、前記熱伝達部材の他方の面が前記ヒートシンクの接合面に接合されているものとして構成される。   Alternatively, the heat dissipating member includes a sheet having a plurality of elastic contacts on the front surface, and a heat transfer member having one surface fixed to one region of the back surface of the connection sheet, and the other heat transfer member. The surface is configured to be bonded to the bonding surface of the heat sink.

上記手段では、信号用の電極群と接地用の電極群を分けることなく、一枚のシートに形成することができるため、構成を容易化することができるとともに、製造コストの低減が可能となる。しかも、個々の弾性接点がバラバラになることを防止することができ、弾性接点の取扱い及び管理を容易とすることができる。   In the above means, the signal electrode group and the ground electrode group can be formed on one sheet without separating them, so that the configuration can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. . In addition, the individual elastic contacts can be prevented from falling apart, and the handling and management of the elastic contacts can be facilitated.

上記においては、前記熱伝達部材と前記複数の弾性接点との間が、異方性の導電性接着剤で固定されているものが好ましい。   In the above, it is preferable that the heat transfer member and the plurality of elastic contacts are fixed with an anisotropic conductive adhesive.

上記手段では、前記熱伝達部材と前記複数の弾性接点との間の熱伝導度を高めることができる。また前記熱伝達部材を前記弾性接点と同じ接地電位に設定することができる。   In the above means, the thermal conductivity between the heat transfer member and the plurality of elastic contacts can be increased. The heat transfer member can be set to the same ground potential as the elastic contact.

また上記においては、前記熱伝達部材が、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金のいずれかで形成されていることが好ましい。   Moreover, in the above, it is preferable that the said heat transfer member is formed with either copper, a copper alloy, aluminum, or an aluminum alloy.

上記手段では、熱伝達部材の導電率および熱伝導度が大きいため、半導体素子が発生した熱をヒートシンクに効率良く伝達することができる。   In the above means, the heat transfer member has a high electrical conductivity and thermal conductivity, so that the heat generated by the semiconductor element can be efficiently transferred to the heat sink.

また前記枠体には、前記装填領域内に装填された半導体素子を保持する保持部材が設けられているものが好ましい。
上記手段では、半導体素子をソケット内に容易に保持することができる。
Further, it is preferable that the frame body is provided with a holding member for holding the semiconductor element loaded in the loading region.
With the above means, the semiconductor element can be easily held in the socket.

本発明では、従来熱を逃がすためのルートとしては使用されていなかった半導体素子の下面(接続面)側から熱を逃がすことができるようになり、放熱効率の高いソケットを提供できる。   In the present invention, heat can be released from the lower surface (connection surface) side of the semiconductor element that has not been used as a route for releasing heat conventionally, and a socket with high heat dissipation efficiency can be provided.

図1は本発明の第1の実施の形態として半導体素子をソケットに装填する前の状態を示す断面図、図2は本発明の実施の形態として半導体素子をソケットに装填した後の状態を示す図1同様の断面図、図3は放熱コンタクト部材(放熱部材)を示す斜視図、図4は弾性接点の一例を示す断面図である。   FIG. 1 is a sectional view showing a state before a semiconductor element is loaded in a socket as a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a state after the semiconductor element is loaded in a socket as an embodiment of the present invention. 1 is a perspective view showing a heat dissipation contact member (heat dissipation member), and FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of an elastic contact.

図1,図2に示されるソケット10は、例えば製造後の半導体素子について熱サイクル試験する際に使用されるものである。ただし,CPU(Central Processing Unit)、MPU(Micro Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)などのように、常温時における動作温度が高温となりやすい半導体素子をコンピュータなどのマザーボードに固定するためのソケット10として使用するものであってもよい。   The socket 10 shown in FIGS. 1 and 2 is used, for example, when a semiconductor device after manufacture is subjected to a thermal cycle test. However, a socket 10 for fixing a semiconductor element, such as a CPU (Central Processing Unit), an MPU (Micro Processing Unit), or a GPU (Graphics Processing Unit), which tends to have a high operating temperature at room temperature to a motherboard such as a computer. It may be used as

以下の説明において示す半導体素子1は、底面(接続面)1Bに複数の外部接触子2を有するものである。前記外部接触子2としては、球状接触子に含まれるハンダボールが代表的であるが、平面状接触子、凸状接触子、あるいはピン状接触子などその他の接触子も含まれる。前記外部接触子2は、前記半導体素子1の底面(接続面)1Bにマトリックス状に配置されている。なお、前記マトリックスの縦横方向のピッチ寸法は一定であり、以下においては前記一定のピッチ寸法を共通ピッチと称する。   A semiconductor element 1 shown in the following description has a plurality of external contacts 2 on a bottom surface (connection surface) 1B. The external contact 2 is typically a solder ball contained in a spherical contact, but may include other contacts such as a planar contact, a convex contact, or a pin contact. The external contacts 2 are arranged in a matrix on the bottom surface (connection surface) 1B of the semiconductor element 1. The pitch dimension in the vertical and horizontal directions of the matrix is constant, and the constant pitch dimension is hereinafter referred to as a common pitch.

この半導体素子1では、前記マトリックス状に配置された多数の外部接触子2のうち、これよりも少ない一領域に設けられた複数の電極が接地用の電極群2Aがとして使用される。例えば、前記底面(接続面)1Bの中央部に位置する5×5からなる一領域内に設けられた25ヶの外部接触子2が、接地用の電極群2Aとして使用され、それ以外の複数の電極は一部の電極を除いて信号用の電極群2Bとして使用される。なお、前記一部の電極は例えば電源用の±端子電極として、あるいは前記一領域内に配置された電極同様に接地用の電極として使用される。   In this semiconductor element 1, a plurality of electrodes provided in one region smaller than the number of external contacts 2 arranged in a matrix form are used as the electrode group 2 </ b> A for grounding. For example, 25 external contacts 2 provided in a 5 × 5 region located at the center of the bottom surface (connection surface) 1B are used as the grounding electrode group 2A, and a plurality of others These electrodes are used as a signal electrode group 2B except for some electrodes. The part of the electrodes is used as, for example, a ± terminal electrode for power supply, or as an electrode for grounding similarly to the electrode arranged in the one region.

図1,2に示すように、ソケット10は、厚み(Z1−Z2)方向を除く前後左右を取り囲む4つの側壁からなる枠体11を有している。なお、このソケット10は、図示Z1側およびZ2側に、それぞれ天面および底面を有しない構成である。   As shown in FIGS. 1 and 2, the socket 10 has a frame body 11 composed of four side walls surrounding the front, rear, left and right except for the thickness (Z1-Z2) direction. In addition, this socket 10 is a structure which does not have a top | upper surface and a bottom face in the illustration Z1 side and Z2 side, respectively.

前記ソケット10の下方(Z2側)にはマザー基板20が設けられており、前記ソケット10を構成する前記枠体11の底部が、前記マザー基板20上の所定の位置に固定されている。前記枠体11の内面と前記マザー基板20とで囲まれる領域が、半導体素子1が装填される装填領域10Aである。半導体素子1を前記装填領域10Aに装着すると、前記半導体素子1の側面が前記枠体11の内面によって位置決めされるようになっている。   A mother board 20 is provided below the socket 10 (Z2 side), and the bottom of the frame 11 constituting the socket 10 is fixed at a predetermined position on the mother board 20. A region surrounded by the inner surface of the frame 11 and the mother substrate 20 is a loading region 10A in which the semiconductor element 1 is loaded. When the semiconductor element 1 is mounted in the loading area 10 </ b> A, the side surface of the semiconductor element 1 is positioned by the inner surface of the frame body 11.

前記枠体11には、回動支持部12b,12bを中心に回転する一対の保持部材12,12が設けられている。前記保持部材12,12の一端には、半導体素子1の表面を押圧する前記押圧部12a,12aが設けられている。なお、前記一対の保持部材12,12は図示しない付勢部材により、図示α1方向およびα2方向にそれぞれ付勢されている。   The frame body 11 is provided with a pair of holding members 12 and 12 that rotate about rotation support portions 12b and 12b. At one end of the holding members 12, 12, the pressing portions 12a, 12a for pressing the surface of the semiconductor element 1 are provided. The pair of holding members 12 and 12 are urged in the α1 and α2 directions by an urging member (not shown).

図1に示すように、前記保持部材12,12がそれぞれα1,α2方向に回動させられ、前記押圧部12a,12aが前記装填領域10Aから抜け出ている場合が開放状態である。この開放状態では前記半導体素子1を前記装填領域10Aに装填すること可能である。また図2に示すように、前記保持部材12,12がそれぞれα1’,α2’方向に回動させられ、前記押圧部12a,12aが前記装填領域10A内に位置する場合が閉鎖状態である。前記開放状態中に、前記半導体素子1が前記装填領域10A内に装着され、前記一対の保持部材12,12が前記α1方向およびα2方向に回動して前記閉鎖状態に至り、半導体素子1の上面1Aが前記押圧部12a,12aによって押圧され、半導体素子1が前記装填領域10Aに保持される。なお、通常はソケット10内に保持された前記半導体素子1の上面1Aにヒートシンクなどの放熱部材が装着される。   As shown in FIG. 1, the holding members 12 and 12 are rotated in the α1 and α2 directions, respectively, and the pressing portions 12a and 12a are released from the loading region 10A. In this open state, the semiconductor element 1 can be loaded into the loading area 10A. As shown in FIG. 2, when the holding members 12 and 12 are rotated in the directions α1 'and α2', respectively, and the pressing portions 12a and 12a are located in the loading area 10A, the closed state is established. During the open state, the semiconductor element 1 is mounted in the loading region 10A, and the pair of holding members 12 and 12 rotate in the α1 direction and the α2 direction to reach the closed state. The upper surface 1A is pressed by the pressing portions 12a and 12a, and the semiconductor element 1 is held in the loading region 10A. Normally, a heat radiating member such as a heat sink is attached to the upper surface 1A of the semiconductor element 1 held in the socket 10.

前記マザー基板20には、複数の接続電極21,21,・・・が配置されている。そして、前記マザー基板20には図示しない外部回路から延びる複数の信号ラインがパターン形成されており、前記接続電極21に個別に接続されている。   A plurality of connection electrodes 21, 21,... Are arranged on the mother substrate 20. A plurality of signal lines extending from an external circuit (not shown) are formed on the mother substrate 20 and are individually connected to the connection electrodes 21.

前記マザー基板20の中央の、前記接地用の電極群2Aに対向する位置には、板厚方向(Z方向)に貫通する貫通孔20Bが形成されている。そして、前記複数の接続電極21のほとんどは信号用であり、前記貫通孔20Bを除いた部分に前記共通ピッチでマトリックス状態に配置されている。   A through hole 20B penetrating in the plate thickness direction (Z direction) is formed at a position facing the grounding electrode group 2A in the center of the mother substrate 20. Most of the plurality of connection electrodes 21 are for signals, and are arranged in a matrix state at the common pitch in a portion excluding the through holes 20B.

前記マザー基板20の上には、板状またはシート状に形成された中継部材30が設けられている。前記中継部材30の、前記接地用の電極群2Aに対向する位置にも、板厚方向(Z方向)に貫通する貫通孔30Aが形成されており、その周囲には前記共通ピッチでマトリックス状態に配置された複数の中継電極31が設けられている。前記中継電極31は前記半導体素子1の底面(接続面)1Bに設けられた複数の外部接触子2のうち、中央に設けられた接地用の電極群2Aを除く信号用の電極群2Bに対応している。   A relay member 30 formed in a plate shape or a sheet shape is provided on the mother substrate 20. A through hole 30A penetrating in the plate thickness direction (Z direction) is also formed at a position of the relay member 30 facing the grounding electrode group 2A, and the periphery thereof is arranged in a matrix state at the common pitch. A plurality of relay electrodes 31 arranged are provided. The relay electrode 31 corresponds to the signal electrode group 2B excluding the ground electrode group 2A provided in the center among the plurality of external contacts 2 provided on the bottom surface (connection surface) 1B of the semiconductor element 1. is doing.

本実施の形態では、前記中継電極31が、図示Z1側の一端に略Y字状に分岐形成された弾性接点(第1の弾性接点)32を有するものとして形成されている。前記中継電極31の図示Z2側の他端は、前記マザー基板20上のいずれかの前記接続電極21に対し個別に導通接続されている。   In the present embodiment, the relay electrode 31 is formed to have an elastic contact (first elastic contact) 32 that is branched in a substantially Y shape at one end on the Z1 side in the drawing. The other end on the Z2 side of the relay electrode 31 is individually conductively connected to any one of the connection electrodes 21 on the mother board 20.

なお、前記中継電極31は、その他例えば外周部に設けられた巻き端部から中心方向の巻き始端部に向かって螺旋形状に形成されるとともに、螺旋の先端部である前記巻き終端部が前記巻き始端部に対し立体的に突出成形された凸状(山型状)のスパイラル接触子、ドーム状の金属膜の裏面にゴムやエラストマーなどからなる弾性膜を張り付けたメンブレン型コンタクト、接点となる先端部が略U字形状に湾曲形成されるとともに全体が弾性的に変形することが可能なスプリングピン(コンタクトピン)、ストレスドメタル、コンタクトプローブ(特開2002−357622参照)、あるいは竹の子バネなどの弾性接点で形成されるものであってもよい。   The relay electrode 31 is formed in a spiral shape from the winding end provided on the outer peripheral portion toward the winding start end in the center direction, and the winding termination portion which is a spiral tip is the winding. Convex (mountain shape) spiral contact that is three-dimensionally projecting from the start end, a membrane contact with an elastic film made of rubber or elastomer attached to the back of the dome-shaped metal film, and the tip of the contact Such as a spring pin (contact pin), a stressed metal, a contact probe (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-357622), or a bamboo shoot spring that can be elastically deformed as a whole while being bent into a substantially U shape. It may be formed of an elastic contact.

図2に示すように、前記略Y字状に分岐形成された複数の第1の弾性接点32には、前記ハンダボールからなる外部接触子2がそれぞれ接触することにより、前記外部接触子2と前記中継電極31とが個別に導通接続される。   As shown in FIG. 2, the plurality of first elastic contacts 32 branched in a substantially Y shape come into contact with the external contacts 2 made of the solder balls, respectively. The relay electrode 31 is individually conductively connected.

前記信号用の電極群2Bに対応して設けられた前記複数の中継電極31は、平面的に見ると略「口」形状であり、これらにより信号用の第1の弾性接点群32Aが形成されている。   The plurality of relay electrodes 31 provided corresponding to the signal electrode group 2B have a substantially “mouth” shape when seen in a plan view, thereby forming a first elastic contact group 32A for signals. ing.

図1および図2に示すように、前記貫通孔20B内で前記半導体素子1の前記接地用の電極群2Aの下部位置には、放熱コンタクト部材(放熱部材)50が設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, a heat radiation contact member (heat radiation member) 50 is provided in a lower position of the grounding electrode group 2A of the semiconductor element 1 in the through hole 20B.

図3に示すように、前記放熱コンタクト部材50は、金属板からなる熱伝達部材51と前記熱伝達部材51の表面側に設けられた接続シート52とを有している。前記熱伝達部材51は導電率および熱伝導度の大きい材料、例えば銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金のいずれかで形成されている。前記熱伝達部材51の四隅には、ねじ止め用の孔が設けられている(図示せず)。   As shown in FIG. 3, the heat dissipation contact member 50 includes a heat transfer member 51 made of a metal plate and a connection sheet 52 provided on the surface side of the heat transfer member 51. The heat transfer member 51 is made of a material having high electrical conductivity and thermal conductivity, for example, copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy. Screw holes are provided at the four corners of the heat transfer member 51 (not shown).

図3に示すように、前記接続シート52は例えばポリイミドなどからなる絶縁性のシートで形成されており、前記接続シート52には複数の穴(スルーホール)53がマトリックス状に前記共通ピッチで穿設されている。そして、各穴53には第2の弾性接点54がそれぞれ設けられている。なお、前記複数の第2の弾性接点54により、接地用の第2の弾性接点群54Aが形成されており、これらは前記接地用の電極群2Aと対向する一領域内に設けられる。   As shown in FIG. 3, the connection sheet 52 is formed of an insulating sheet made of polyimide or the like, and a plurality of holes (through holes) 53 are formed in the connection sheet 52 in a matrix at the common pitch. It is installed. Each hole 53 is provided with a second elastic contact 54. The plurality of second elastic contacts 54 form a second elastic contact group 54A for grounding, and these are provided in a region facing the electrode group 2A for grounding.

図4に示すように、本実施の形態では、前記第2の弾性接点54が基端部54bから先端部54cにかけて螺旋状に延びる弾性部54dを有する凸型のスパイラル接触子54aで形成されている。前記スパイラル接触子54aは、前記基端部54bの上面(Z1側の面)が前記接続シート52の下面側で且つ前記穴53の縁部に固着されている。また前記スパイラル接触子54aの基端部54bの下面(Z2側の面)は,所定の接着部材55を介して前記熱伝達部材51の表面に接合されている。前記接着部材55としては、一定の方向(この場合には厚み(Z)方向)にのみ電気を通す異方性の導電性ペースト(ACP)または異方性の導電性フィルム(ACF)などからなる接着剤である。これにより、前記第2の弾性接点群54Aを形成する前記第2の弾性接点54(スパイラル接触子54a)のすべてが同じ接地電位に設定される。   As shown in FIG. 4, in the present embodiment, the second elastic contact 54 is formed of a convex spiral contact 54a having an elastic portion 54d extending in a spiral shape from the base end portion 54b to the tip end portion 54c. Yes. In the spiral contactor 54a, the upper surface (the surface on the Z1 side) of the base end portion 54b is fixed to the lower surface side of the connection sheet 52 and to the edge of the hole 53. The lower surface (Z2 side surface) of the base end portion 54b of the spiral contact 54a is joined to the surface of the heat transfer member 51 through a predetermined adhesive member 55. The adhesive member 55 is made of an anisotropic conductive paste (ACP) or an anisotropic conductive film (ACF) that conducts electricity only in a certain direction (in this case, the thickness (Z) direction). It is an adhesive. As a result, all of the second elastic contacts 54 (spiral contacts 54a) forming the second elastic contact group 54A are set to the same ground potential.

また前記接着部材55を異方性の導電性ペースト(ACP)または異方性の導電性フィルム(ACF)で形成すると、電気を通す厚み方向に熱を導きやすくすることができる。すなわち、半導体素子1の内部で発生した熱を、前記第2の弾性接点群54Aおよび前記接着部材55を介して前記熱伝達部材51に効率良く伝えることができる。   If the adhesive member 55 is formed of an anisotropic conductive paste (ACP) or an anisotropic conductive film (ACF), heat can be easily guided in the thickness direction through which electricity is passed. That is, the heat generated inside the semiconductor element 1 can be efficiently transferred to the heat transfer member 51 via the second elastic contact group 54A and the adhesive member 55.

なお、隣り合うスパイラル接触子54aの前記基端部間が、接続シート52に形成された導電層、あるいは導電パターンなどにより互いに導通接続される構成である場合には、前記接着部材55は非導電性ペースト(NCP)または非導電性フィルム(NCF)であってもよいが、この場合には熱伝導度の高い前記接着部材55が好ましい。   If the base end portions of adjacent spiral contacts 54a are connected to each other by a conductive layer or a conductive pattern formed on the connection sheet 52, the adhesive member 55 is non-conductive. An adhesive paste (NCP) or a non-conductive film (NCF) may be used, but in this case, the adhesive member 55 having a high thermal conductivity is preferable.

図1および図2に示すように、上記放熱コンタクト部材50には複数の放熱フィンが設けられたヒートシンク60が固定される。前記ヒートシンク60は、熱伝導度の大きい例えば銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金などからなる金属で形成されている。前記ヒートシンク60の図示Z1側の接合面61上で、且つ前記接地用の電極群2Aに対向する位置には,図示Z1方向に突出する凸状接合部62が形成されている。前記熱伝達部材51の下面51Bに、前記凸状接合部62が密着して接合されることにより、前記ヒートシンク60が前記放熱コンタクト部材50に固定されている。なお、上記放熱コンタクト部材50と前記ヒートシンク60との固定は、例えば放熱コンタクト部材50に形成されたねじ止め用の4つの孔50a(図3参照)と、前記凸状接合部62上の対応する位置に形成された図示しない4つのねじ穴との間に、それぞれ所定のねじを螺着することで可能である(図2参照)。   As shown in FIGS. 1 and 2, a heat sink 60 provided with a plurality of heat radiating fins is fixed to the heat radiating contact member 50. The heat sink 60 is formed of a metal having a high thermal conductivity, such as copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy. On the joint surface 61 on the Z1 side of the heat sink 60 and at a position facing the ground electrode group 2A, a convex joint portion 62 protruding in the Z1 direction is formed. The heat sink 60 is fixed to the heat-dissipating contact member 50 by the convex joint 62 being closely bonded to the lower surface 51B of the heat transfer member 51. The heat radiation contact member 50 and the heat sink 60 are fixed to, for example, four screw holes 50 a (see FIG. 3) formed in the heat radiation contact member 50 and corresponding to the convex joint 62. It is possible by screwing predetermined screws between four screw holes (not shown) formed at positions (see FIG. 2).

前記ヒートシンク60を備えた放熱コンタクト部材50は、前記マザー基板20の裏面側に固定される。固定の際には、前記放熱コンタクト部材50および凸状接合部62が前記マザー基板20の貫通孔20Bに挿入される。このとき、前記放熱コンタクト部材50が前記貫通孔20Bを介して前記マザー基板20の表面側に露出される。これにより、ソケット10では、前記装填領域10Aの中央部に前記放熱コンタクト部材50に形成された第2の弾性接点群54Aが設けられ、その周囲に前記第1の弾性接点群32Aが設けられる。   The heat dissipation contact member 50 including the heat sink 60 is fixed to the back side of the mother substrate 20. At the time of fixing, the heat dissipation contact member 50 and the convex joint portion 62 are inserted into the through hole 20B of the mother substrate 20. At this time, the heat dissipation contact member 50 is exposed to the surface side of the mother substrate 20 through the through hole 20B. Thereby, in the socket 10, the second elastic contact group 54A formed on the heat dissipation contact member 50 is provided at the center of the loading area 10A, and the first elastic contact group 32A is provided around the second elastic contact group.

図2に示すように、前記半導体素子1を装填領域10Aに装填すると、外周側に設けられた複数の信号用の電極群2Bを形成する個々の外部接触子2が、前記第1の弾性接点群32Aを形成する中継電極31の第1の弾性接点32に個々に接触する。同時に、中央に設けられた複数の接地用の電極群2Aを形成する個々の外部接触子2が、前記第2の弾性接点群54Aを形成する第2の弾性接点(スパイラル接触子54a)54に個別に接触する。そして、半導体素子1に設けられた信号用の電極群2Bとソケット10の外部に設けられた図示しない外部回路とを、前記第1の弾性接点群32Aおよびマザー基板20上に形成されている配線パターンを介して接続することができる。   As shown in FIG. 2, when the semiconductor element 1 is loaded in the loading region 10A, the individual external contacts 2 forming the plurality of signal electrode groups 2B provided on the outer peripheral side become the first elastic contacts. The first elastic contacts 32 of the relay electrodes 31 forming the group 32A are individually contacted. At the same time, the individual external contacts 2 that form a plurality of grounding electrode groups 2A provided in the center become second elastic contacts (spiral contacts 54a) 54 that form the second elastic contact groups 54A. Contact individually. Then, the signal electrode group 2B provided on the semiconductor element 1 and an external circuit (not shown) provided outside the socket 10 are connected to the first elastic contact group 32A and the mother substrate 20 by wiring. It can be connected through a pattern.

また前記半導体素子1に設けられた接地用の電極群2Aを形成する外部接触子2どうしを、前記放熱コンタクト部材50の第2の弾性接点群54Aと熱伝達部材51を介して導通接続することができる。   Further, the external contacts 2 forming the grounding electrode group 2A provided in the semiconductor element 1 are electrically connected to each other through the second elastic contact group 54A of the heat dissipation contact member 50 and the heat transfer member 51. Can do.

同時に、前記半導体素子1に設けられた個々の接地用の電極群2Aとヒートシンク60との間に、前記放熱コンタクト部材50を用いた熱伝導経路を形成することができる。よって、半導体素子1の内部で発生した熱を前記放熱コンタクト部材50およびヒートシンク60を用いて外部に逃がすことが可能となる。特に、接地用の電極群2Aは外部電源に接続され、発熱源となりやすいところであるため、半導体素子1において発生した熱を効率良く逃がすことができる。   At the same time, a heat conduction path using the heat dissipation contact member 50 can be formed between each grounding electrode group 2 </ b> A provided in the semiconductor element 1 and the heat sink 60. Therefore, the heat generated inside the semiconductor element 1 can be released to the outside using the heat dissipation contact member 50 and the heat sink 60. In particular, since the ground electrode group 2A is connected to an external power source and is likely to become a heat source, the heat generated in the semiconductor element 1 can be efficiently released.

図5は本発明の第2の実施の形態として半導体素子をソケットに装填する前の状態を示す断面図、図6は本発明の実施の形態として半導体素子をソケットに装填した後の状態を示す図5同様の断面図である。図7は接続シートの概略を示す斜視図である。なお、上記第1の実施の形態と同じ部材については、同一の符号を付して説明する。   FIG. 5 is a sectional view showing a state before a semiconductor element is loaded in a socket as a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 shows a state after the semiconductor element is loaded in a socket as an embodiment of the present invention. It is sectional drawing similar to FIG. FIG. 7 is a perspective view schematically showing the connection sheet. The same members as those in the first embodiment are described with the same reference numerals.

図5および図6に示す半導体素子1の構成およびソケット10の構成は上記第1の実施の形態に示したものと同様である。ただし、装填領域10Aの内部に配置されるものが、第1の実施の形態では放熱コンタクト部材50であるのに対し、第2の実施の形態では図7に示す接続シート(中継部材)70である点で大きく異なる。   The configuration of the semiconductor element 1 and the configuration of the socket 10 shown in FIGS. 5 and 6 are the same as those shown in the first embodiment. However, what is disposed inside the loading region 10A is the heat dissipation contact member 50 in the first embodiment, whereas in the second embodiment, the connection sheet (relay member) 70 shown in FIG. There are some major differences.

図7に示すように接続シート70は、ポリイミドなどからなる1枚のシート71と、前記シート71の下面側に部分的に固定される熱伝導部材51とを有している。   As shown in FIG. 7, the connection sheet 70 includes one sheet 71 made of polyimide or the like, and a heat conducting member 51 that is partially fixed to the lower surface side of the sheet 71.

前記シート71には、上記同様の共通ピッチでマトリックス状に形成された複数の穴(スルーホール)73が穿設されている。そして、一つ一つの穴73には弾性接点72が設けられている。   The sheet 71 has a plurality of holes (through holes) 73 formed in a matrix at the same common pitch as described above. Each hole 73 is provided with an elastic contact 72.

前記弾性接点72は、例えば前記第2の弾性接点54と同じ前記スパイラル接触子で形成することができるが、これに限定されるものではない。前記弾性接点72がスパイラル接触子74aで形成されるものである場合には、図3に示すように、前記スパイラル接触子74aは、前記基端部74bの上面(Z1側の面)が前記接続シート71の穴73の縁部下面側に固着される。   For example, the elastic contact 72 may be formed of the same spiral contact as the second elastic contact 54, but is not limited thereto. When the elastic contact 72 is formed by a spiral contact 74a, as shown in FIG. 3, the spiral contact 74a has an upper surface (a surface on the Z1 side) of the base end portion 74b. The sheet 71 is fixed to the lower surface side of the edge portion of the hole 73.

図7に示すように、第2の実施の形態に示す接続シート70は、複数のスパイラル接触子74aを有するが、このうちシート71の中央に点線で示す一領域80が接地用の電極群2Aに対応する接地用の弾性接点群82を構成しており、前記一領域80を除くその他の部分が主として信号用の電極群2Bに対応する信号用の弾性接点群81である。なお、前記一領域80の四隅にはねじ穴71aが形成されている。   As shown in FIG. 7, the connection sheet 70 shown in the second embodiment has a plurality of spiral contacts 74a. Among these, one region 80 indicated by a dotted line in the center of the sheet 71 is an electrode group 2A for grounding. The other portion excluding the one region 80 is a signal elastic contact group 81 mainly corresponding to the signal electrode group 2B. Note that screw holes 71 a are formed at the four corners of the one region 80.

熱伝達部材51は、前記シート71の下面(Z2)側に、前記一領域80に対応して設けられる。前記熱伝達部材51は、上記同様導電率および熱伝導度の大きい銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金のいずれかの材料で形成された金属板である。   The heat transfer member 51 is provided on the lower surface (Z2) side of the sheet 71 in correspondence with the one region 80. The heat transfer member 51 is a metal plate formed of any material of copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy having high conductivity and thermal conductivity as described above.

前記シート71と前記熱伝達部材51とは、これらの間に設けられる接着部材75を介して接着固定されることにより、接続シート(中継部材)70が一体に形成されている。前記接着部材75は、板厚方向に方向性を有する異方性の導電性ペースト(ACP)または異方性の導電性フィルム(ACF)が好ましい。このように、前記接着部材75を異方性の導電性接着剤を用いて接着した場合には、接点用の電極群2Aと熱伝達部材51とが同じ接地電位に設定される。同時に、半導体素子1が発生した熱を、接点用の電極群2Aを形成する各弾性接点72および前記接着部材75を介して前記熱伝導部材51に効率良く導くことができる。すなわち、前記接続シート(中継部材)70は、半導体素子1が発生した熱をを前記ソケット10の外部に逃がす放熱部材を構成している。   The sheet 71 and the heat transfer member 51 are bonded and fixed via an adhesive member 75 provided therebetween, so that a connection sheet (relay member) 70 is integrally formed. The adhesive member 75 is preferably an anisotropic conductive paste (ACP) or an anisotropic conductive film (ACF) having directionality in the plate thickness direction. In this way, when the adhesive member 75 is bonded using an anisotropic conductive adhesive, the contact electrode group 2A and the heat transfer member 51 are set to the same ground potential. At the same time, the heat generated by the semiconductor element 1 can be efficiently guided to the heat conducting member 51 through the elastic contacts 72 and the adhesive member 75 forming the contact electrode group 2A. That is, the connection sheet (relay member) 70 constitutes a heat radiating member that releases the heat generated by the semiconductor element 1 to the outside of the socket 10.

なお、前記一領域80内に限り、隣り合うスパイラル接触子74aの前記基端部74b間が、接続シート71の表面又は裏面に形成された導電層、あるいは導電パターンなどにより互いに導通接続される構成である場合には、前記接着部材75は非導電性ペースト(NCP)または非導電性フィルム(NCF)であってもよいが、この場合には熱伝導度の高い前記接着部材75が好ましい。   In addition, only within the one region 80, the base end portions 74b of the adjacent spiral contacts 74a are electrically connected to each other by a conductive layer or a conductive pattern formed on the front surface or the back surface of the connection sheet 71. In this case, the adhesive member 75 may be a non-conductive paste (NCP) or a non-conductive film (NCF). In this case, the adhesive member 75 having a high thermal conductivity is preferable.

前記熱伝達部材51を備えた接続シート70は、前記ソケット10の装填領域10A内の、前記マザー基板20上に固定される。このとき、外周側に設けられた信号用の電極群2Bと前記マザー基板20に形成されている接続電極21との間が接着部材76によって接合される。この場合の接着部材76も、上記同様に異方性の導電性ペースト(ACP)または異方性の導電性フィルム(ACF)が好ましい。このように、前記接着部材75を異方性の導電性接着剤を用いて接着すると、外周側に設けられた信号用の電極群2Bを構成する個々の外部接触子2と前記マザー基板20に形成されている個々の接続電極21との間を、前記信号用の弾性接点群81および前記接着部材76を介して個別に導通接続することができる。   The connection sheet 70 including the heat transfer member 51 is fixed on the mother board 20 in the loading area 10 </ b> A of the socket 10. At this time, the signal electrode group 2 </ b> B provided on the outer peripheral side and the connection electrode 21 formed on the mother substrate 20 are joined by the adhesive member 76. The adhesive member 76 in this case is also preferably an anisotropic conductive paste (ACP) or an anisotropic conductive film (ACF) as described above. As described above, when the adhesive member 75 is bonded using an anisotropic conductive adhesive, the individual external contacts 2 constituting the signal electrode group 2B provided on the outer peripheral side and the mother substrate 20 are connected. The individual connection electrodes 21 formed can be individually conductively connected via the elastic contact group 81 for signals and the adhesive member 76.

また図5に示すように、このときには前記熱伝達部材51が前記マザー基板20に形成された貫通孔20Bに挿入され、前記熱伝達部材51の下面51Bが前記マザー基板20の下面よりも図示下方の位置に露出される。   As shown in FIG. 5, at this time, the heat transfer member 51 is inserted into a through hole 20 </ b> B formed in the mother substrate 20, and the lower surface 51 </ b> B of the heat transfer member 51 is lower than the lower surface of the mother substrate 20 in the drawing. It is exposed at the position.

前記マザー基板20の下方にはヒートシンク60が設けられており、前記熱伝達部材51の下面51Bとヒートシンク60の接合面61とが接合される。すなわち、接続シート71の前記点線で囲まれた前記一領域80内に形成された4つのねじ穴7、前記熱伝達部材51に形成された4つのねじ穴、さらにはこれらのねじ穴に対応するヒートシンク60の接合面61に形成された4つのねじ穴がそれぞれ厚み方向に重ねられ、各ねじ穴に共通のネジが螺着されることにより、前記下面51Bと前記接合面61とが密着し合う状態で強固に固定される。   A heat sink 60 is provided below the mother substrate 20, and the lower surface 51 </ b> B of the heat transfer member 51 and the bonding surface 61 of the heat sink 60 are bonded to each other. That is, it corresponds to the four screw holes 7 formed in the one region 80 surrounded by the dotted line of the connection sheet 71, the four screw holes formed in the heat transfer member 51, and these screw holes. The four screw holes formed in the joining surface 61 of the heat sink 60 are overlapped in the thickness direction, and a common screw is screwed into each screw hole, so that the lower surface 51B and the joining surface 61 are in close contact with each other. It is firmly fixed in the state.

このため、前記半導体素子1で発生した熱は、前記接地用の電極群2A、接続シート70に設けられた前記接地用の弾性接点群82および前記接着部材75、さらには前記熱伝導部材51を介してヒートシンク60に伝達され、このヒートシンク60を介して外部に放熱することができる。   For this reason, the heat generated in the semiconductor element 1 is applied to the grounding electrode group 2A, the grounding elastic contact group 82 and the adhesive member 75 provided on the connection sheet 70, and further to the heat conducting member 51. The heat is transmitted to the heat sink 60 through the heat sink 60 and can be radiated to the outside through the heat sink 60.

このように、本願発明によれば、従来熱を逃がすためのルートとしては使用されていなかった半導体素子1の下面側から前記熱を逃がすことが可能となる。このため、半導体素子1の上面や側面に別途設けたヒートシンクとともに使用することにより、半導体素子1の内部で発生した熱をより効果的に逃がすことでき、適切な温度管理を行うことが可能となる。   As described above, according to the present invention, the heat can be released from the lower surface side of the semiconductor element 1 that has not been used as a route for releasing heat conventionally. For this reason, by using with the heat sink separately provided in the upper surface and side surface of the semiconductor element 1, the heat | fever generate | occur | produced inside the semiconductor element 1 can be released more effectively, and it becomes possible to perform appropriate temperature management. .

特に、上記構成からなるソケットを、熱サイクル試験を行うバーンイン装置用として用いた場合には、半導体素子1の温度を適切に制御するこが可能となる。このため、半導体素子1が過酷な温度環境下に晒されるおそれを未然に防止することができ、熱サイクル試験を適切な温度管理の下で行うことが可能となる。   In particular, when the socket having the above configuration is used for a burn-in apparatus that performs a thermal cycle test, the temperature of the semiconductor element 1 can be appropriately controlled. For this reason, it is possible to prevent the semiconductor element 1 from being exposed to a severe temperature environment, and it is possible to perform a thermal cycle test under appropriate temperature management.

上記第1および第2の実施の形態では、接地用の電極群2Aが中央に配置される仕様からなる半導体素子1の場合について説明したが、前記接地用の電極群2Aは半導体素子1の中央以外に位置に設けられる構成の場合もある。この場合には、第1の実施の形態にあっては前記放熱コンタクト部材50の形状、マザー基板20側の第1の弾性接点群32Aの配列をそれに合わせて適宜変更すればよい。同様に、第2の実施の形態にあっては接続シート70の下面に設けられる熱伝達部材51の形状、さらにはマザー基板20側の信号用の弾性接点群82の配置をそれに合わせて適宜変更すればよい。   In the first and second embodiments, the case of the semiconductor element 1 having a specification in which the ground electrode group 2A is arranged in the center has been described. However, the ground electrode group 2A is the center of the semiconductor element 1. There may be a configuration provided at other positions. In this case, in the first embodiment, the shape of the heat dissipation contact member 50 and the arrangement of the first elastic contact group 32A on the mother substrate 20 side may be changed as appropriate. Similarly, in the second embodiment, the shape of the heat transfer member 51 provided on the lower surface of the connection sheet 70 and the arrangement of the elastic contact groups 82 for signals on the mother board 20 side are appropriately changed accordingly. do it.

また上記第2の実施の形態では、接続シート70が、一方の上側にのみスパイラル接触子74aを有し、下面側には前記スパイラル接触子74aの基端部54bが設けられる構成を用いて説明したが、本発明はこれに限られるものではない。例えば、前記接続シート70の前記穴73の両側にそれぞれスパイラル接触子74a,74aが一対設けられ、一方のスパイラル接触子74aが前記半導体素子1の外部接触子2に接触し、他方のスパイラル接触子74aがマザー基板20上の信号用の接続接点21に接触する構成であってもよい。この場合、外部接触子2と信号用の接続接点21との間は、前記一対のスパイラル接触子74a,74aにより導通接続される。   In the second embodiment described above, the connection sheet 70 has a spiral contact 74a only on one upper side and a configuration in which the base end portion 54b of the spiral contact 74a is provided on the lower side. However, the present invention is not limited to this. For example, a pair of spiral contacts 74a and 74a are provided on both sides of the hole 73 of the connection sheet 70, one spiral contact 74a contacts the external contact 2 of the semiconductor element 1, and the other spiral contact. The configuration may be such that 74 a contacts the signal connection contact 21 on the mother board 20. In this case, the external contact 2 and the signal connection contact 21 are electrically connected by the pair of spiral contacts 74a and 74a.

本発明の第1の実施の形態として半導体素子をソケットに装填する前の状態を示す断面図、Sectional drawing which shows the state before loading a semiconductor element in a socket as 1st Embodiment of this invention, 本発明の実施の形態として半導体素子をソケットに装填した後の状態を示す図1同様の断面図、Sectional drawing similar to FIG. 1 which shows the state after loading a semiconductor element in a socket as embodiment of this invention, 放熱コンタクト部材(放熱部材)を示す斜視図、A perspective view showing a heat dissipation contact member (heat dissipation member), 弾性接点の一例を示す断面図、Sectional drawing which shows an example of an elastic contact, 本発明の第2の実施の形態として半導体素子をソケットに装填する前の状態を示す断面図、Sectional drawing which shows the state before loading a semiconductor element in a socket as 2nd Embodiment of this invention, 本発明の実施の形態として半導体素子をソケットに装填した後の状態を示す図5同様の断面図、Sectional drawing similar to FIG. 5 which shows the state after loading a semiconductor element in a socket as embodiment of this invention, 接続シートの概略を示す斜視図、The perspective view which shows the outline of a connection sheet | seat,

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体素子
2 外部接触子
2A 接地用の電極群
2B 信号用の電極群
10 ソケット
11 枠体
12 保持部材
20 マザー基板
21 接続電極
22 信号用の弾性接点
30 中継部材
31 中継電極
32 弾性接点(第1の弾性接点)
50 放熱コンタクト部材(放熱部材)
51 熱伝達部材
52 接続シート
53 穴
54 第2の弾性接点
54A 第2の弾性接点群
54a スパイラル接触子
55 接着部材
60 ヒートシンク
61 接合面
62 凸状接合部
70 接続シート(中継部材)
71 シート
72 弾性接点
73 穴(スルーホール)
74a スパイラル接触子
75,76 接着部材
80 接地用の電極に対応する一領域
81 信号用の弾性接点群
82 接地用の弾性接点群
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 External contactor 2A Grounding electrode group 2B Signaling electrode group 10 Socket 11 Frame body 12 Holding member 20 Mother board 21 Connection electrode 22 Elastic contact point for signal 30 Relay member 31 Relay electrode 32 Elastic contact point (first contact) 1 elastic contact)
50 Heat dissipation contact member (heat dissipation member)
51 Heat Transfer Member 52 Connection Sheet 53 Hole 54 Second Elastic Contact 54A Second Elastic Contact Group 54a Spiral Contact 55 Adhesive Member 60 Heat Sink 61 Joint Surface 62 Convex Joint 70 Connection Sheet (Relay Member)
71 Sheet 72 Elastic contact 73 Hole (through hole)
74a Spiral contacts 75, 76 Adhesive member 80 One region 81 corresponding to ground electrode 81 Elastic contact group for signal 82 Elastic contact group for ground

Claims (7)

貫通孔が形成されたマザー基板の一方の面上に前記貫通孔を取り囲むように固定された枠体と、前記マザー基板の他方の面に設けられるヒートシンクと、を有する放熱機能付きソケットであって、
前記ヒートシンクには前記貫通孔に対応する位置に放熱部材が設けられており、前記ヒートシンクを前記マザー基板の他方の面に固定した状態では前記放熱部材が前記貫通孔を介して前記枠体に囲まれた装填領域内に設置されるものであり、
半導体素子を前記装填領域に装填したときに、前記半導体素子の接続面に設けられた外部接触子が前記放熱部材に接触可能であることを特徴とする放熱機能付きソケット。
A socket with a heat dissipation function, comprising: a frame body fixed on one surface of a mother board in which a through hole is formed so as to surround the through hole; and a heat sink provided on the other surface of the mother board. ,
The heat sink is provided with a heat radiating member at a position corresponding to the through hole. When the heat sink is fixed to the other surface of the mother board, the heat radiating member is surrounded by the frame body through the through hole. Installed in the loading area,
A socket with a heat radiation function, wherein an external contact provided on a connection surface of the semiconductor element can contact the heat radiation member when the semiconductor element is loaded in the loading area.
前記放熱部材は、熱伝達部材と、前記熱伝達部材の一方の面に設けられた複数の弾性接点と、を有し、前記熱伝達部材の他方の面が前記ヒートシンクの接合面に接合されている請求項1記載の放熱機能付きソケット。   The heat dissipation member includes a heat transfer member and a plurality of elastic contacts provided on one surface of the heat transfer member, and the other surface of the heat transfer member is bonded to a bonding surface of the heat sink. The socket with a heat radiation function according to claim 1. 前記枠体内の前記貫通孔を除く部分にはマザー基板に接続される弾性接点を備えた中継部材が設けられており、前記中継部材に設けられた弾性接点と前記放熱部材に設けられた前記弾性接点が前記装填領域内に一緒に配置されている請求項1または2に記載の放熱機能付きソケット。   A relay member provided with an elastic contact connected to a mother board is provided in a portion excluding the through hole in the frame body, and the elastic contact provided on the relay member and the elastic provided on the heat dissipation member. The socket with a heat radiation function according to claim 1, wherein the contacts are arranged together in the loading region. 前記放熱部材は、表面に複数の弾性接点を有するシートと、前記接続シートの裏面の一領域に対し一方の面が固定された熱伝達部材とを有し、前記熱伝達部材の他方の面が前記ヒートシンクの接合面に接合されている請求項1記載の放熱機能付きソケット。   The heat dissipating member has a sheet having a plurality of elastic contacts on the surface, and a heat transfer member having one surface fixed to a region of the back surface of the connection sheet, and the other surface of the heat transfer member is The socket with a heat radiation function according to claim 1, wherein the socket is bonded to a bonding surface of the heat sink. 前記熱伝達部材と前記複数の弾性接点との間が、異方性の導電性接着剤で固定されている請求項2ないし4のいずれかに記載の放熱機能付きソケット。   The socket with a heat radiation function according to any one of claims 2 to 4, wherein the heat transfer member and the plurality of elastic contacts are fixed with an anisotropic conductive adhesive. 前記熱伝達部材が、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金のいずれかで形成されている請求項2ないし5のいずれかに記載の放熱機能付きソケット。   The socket with a heat radiation function according to any one of claims 2 to 5, wherein the heat transfer member is formed of any one of copper, a copper alloy, aluminum, or an aluminum alloy. 前記枠体には、前記装填領域内に装填された半導体素子を保持する保持部材が設けられている請求項1ないし6のいずれかに記載の放熱機能付きソケット。   The socket with a heat radiation function according to any one of claims 1 to 6, wherein the frame body is provided with a holding member for holding a semiconductor element loaded in the loading region.
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