JP2008080735A - Manufacturing method of thermal transfer printed matter, and thermal transfer sheet - Google Patents

Manufacturing method of thermal transfer printed matter, and thermal transfer sheet Download PDF

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聡 塩田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of thermal transfer printed matter which makes a hue durability excellent in the thermal transfer printed matter formed by transferring a chelatable sublimable dye to an accepting layer of a thermal transfer image accepting sheet, makes it possible to form a protective layer on the accepting layer with good adhesion and excels in productivity. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the thermal transfer printed matter has a thermal transfer process wherein a substrate and a dye layer of a thermal transfer sheet which is formed on the substrate and contains a binder resin and the chelatable sublimable dye, and a base and the accepting layer of the thermal transfer image accepting sheet which is formed on the base and contains a chelatable metal ion, are opposed to each other and heated and thereby the sublimable dye is transferred to the accepting layer, a protective layer forming process wherein the accepting layer having the sublimable dye transferred thereon and the substrate, and the protective layer of a protective layer thermal transfer sheet which is formed on the substrate and contains a thermal conversion substance, are opposed to each other and heated and thereby the protective layer is formed on the accepting layer, and an electromagnetic wave irradiation process wherein the protective layer formed on the accepting layer is irradiated with an electromagnetic wave. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、キレート可能な昇華性染料を用いた熱転写印画物の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a thermal transfer print using a sublimable dye that can be chelated.

従来、簡易的に高精細な画像を形成できる方法として熱転写方法が広く知られている。この熱転写方法としては種々の方法のものが公知であるが、そのなかでも昇華性染料を記録材とし、これを紙やプラスチックフィルム等の支持基板に担持させて染料熱転写シートとしたものを、サーマルヘッド等の加熱手段によって紙やプラスチックフィルム等の表面に染料受容層を設けた熱転写受像シートに上記昇華性染料を染着することにより各種のフルカラー画像を形成する昇華転写方法が、より高精細な画像を形成できる方法として知られている。この昇華転写方法は昇華性染料を色材としている為、濃度階調を自由に調節することができ、原稿のフルカラー画像が表現できるという利点を有している。また、染料により形成された画像は非常に鮮明で、かつ透明性に優れているため、中間色の再現性や階調再現性に優れ、銀塩写真に匹敵する高品質の画像を形成することが可能であるという利点を有している。このような利点から、昇華転写方法は、現在、写真プリンター等に広く用いられるに至っている。   Conventionally, a thermal transfer method is widely known as a method for easily forming a high-definition image. Various thermal transfer methods are known. Among them, a dye sublimation dye is used as a recording material, and this is supported on a support substrate such as paper or a plastic film to form a dye thermal transfer sheet. A sublimation transfer method for forming various full-color images by dyeing the sublimation dye onto a thermal transfer image-receiving sheet provided with a dye-receiving layer on the surface of paper, plastic film or the like by a heating means such as a head has a higher definition. It is known as a method capable of forming an image. Since this sublimation transfer method uses a sublimation dye as a color material, it has the advantage that the density gradation can be freely adjusted and a full color image of an original can be expressed. In addition, the image formed with the dye is very clear and excellent in transparency, so it is excellent in intermediate color reproducibility and gradation reproducibility, and can form high-quality images comparable to silver salt photographs. It has the advantage of being possible. Because of these advantages, the sublimation transfer method has now been widely used in photographic printers and the like.

このような昇華性を有する昇華性染料を用いた熱転写印画物は、画像の安定性、即ち耐光性や定着性がよくないという欠点があった。このような問題に対して、特許文献1は、上記昇華性染料として、キレート形成可能な昇華性染料を用い、かつ上記染料受容層が上記キレート形成可能な昇華性染料と反応してキレート化合物を形成し得る金属イオンを含むものとすることにより、転写された昇華性染料の上記染料受容層における定着性を向上させる方法が開示されている。   A thermal transfer print using such a sublimable dye having a sublimation property has a defect that image stability, that is, light resistance and fixing property are not good. For such a problem, Patent Document 1 uses a sublimable dye capable of chelating as the sublimable dye, and reacts the chelate compound with the sublimable dye capable of forming the chelate by the dye receiving layer. A method for improving the fixability of the transferred sublimation dye in the dye receiving layer by including a metal ion that can be formed is disclosed.

しかしながら上記キレート形成可能な昇華性染料を用いた熱転写印画物であっても、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性が不十分な場合があった。上記耐久性を改善する手段として、近年、画像が形成された受容層上に、保護層を設ける方法が提案されている。上記受容層上に保護層を設けると、上述のような、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性等の物理耐性を向上させることができる。
このような保護層としては、通常、印画物の鮮明さを損なうことのない透明樹脂からなるものが用いられるが、受容層との密着性が十分でない場合には、時間経過に伴い保護層が剥離し、耐久性が低下するといった問題があった。ここで、一般的な保護層形成方法としては、保護層を形成可能な保護層形成用層を受容層と対向し、接触させた後、加熱することにより保護層を転写・形成する方法が用いられる。そのため、密着性を向上させる方法としては、保護層を形成する際に、保護層としての透明性、耐久性といった特性に影響を与えない範囲で、加熱時間を長くし、受容層との界面部分を十分に可塑化させることが考えられる。しかしながら、通常、保護層の形成に用いられる加熱手段としては、染料の転写と同様にサーマルヘッド等が用いられ、加熱時間を長くしようとした場合には、ライン速度の低下が生じるといった問題があった。
However, even a thermal transfer print using the sublimable dye capable of forming a chelate sometimes has insufficient durability such as light resistance, weather resistance, and abrasion resistance. As means for improving the durability, a method of providing a protective layer on a receiving layer on which an image is formed has recently been proposed. When a protective layer is provided on the receiving layer, physical resistance such as durability such as light resistance, weather resistance, and abrasion resistance as described above can be improved.
As such a protective layer, one made of a transparent resin that does not impair the sharpness of the printed matter is usually used. However, when the adhesion with the receiving layer is not sufficient, the protective layer is formed with time. There existed a problem that it peeled and durability fell. Here, as a general method for forming a protective layer, a method for transferring and forming the protective layer by heating after the protective layer forming layer capable of forming the protective layer is opposed to and brought into contact with the receiving layer is used. It is done. Therefore, as a method for improving the adhesion, when forming the protective layer, the heating time is lengthened within the range that does not affect the properties such as transparency and durability as the protective layer, and the interface portion with the receiving layer. It is conceivable to sufficiently plasticize. However, as a heating means used for forming the protective layer, a thermal head or the like is usually used in the same manner as the dye transfer, and there is a problem that the line speed is lowered when the heating time is increased. It was.

また、上述した熱転写印画物の耐久性が不十分なものとなる原因のひとつに、受容層に転写された昇華性染料のキレート反応が不十分であることが知られている。そこで耐久性向上のために、昇華性染料の転写後の熱転写受像シートの加熱処理を行い、キレート反応を進行させる方法が提案されているが、受容層を効果的に加熱する方法がないため、生産性が低くなるといった問題があった。   Further, it is known that the chelation reaction of the sublimation dye transferred to the receiving layer is insufficient as one of the causes for the insufficient durability of the above-mentioned thermal transfer printed matter. Therefore, in order to improve durability, a method of performing a heat treatment of the thermal transfer image-receiving sheet after the transfer of the sublimable dye and advancing the chelate reaction has been proposed, but there is no method of effectively heating the receptor layer, There was a problem of low productivity.

特開昭59−78893公報JP 59-78893 特開平11−20329公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-20329

本発明は、キレート可能な昇華性染料が熱転写受像シートの受容層に転写されることで形成される熱転写印画物の色相変化等の耐久性を優れたものとし、熱転写受像シートの受容層上に密着性よく保護層を形成することができ、かつ生産性に優れた熱転写印画物の製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention is excellent in durability such as hue change of a thermal transfer printed matter formed by transferring a chelatable sublimation dye to a receiving layer of a thermal transfer image receiving sheet, and is provided on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet. The main object of the present invention is to provide a method for producing a thermal transfer printed matter that can form a protective layer with good adhesion and is excellent in productivity.

上記課題を解決するために、本発明は、支持基板、および上記支持基板上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する染料熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる熱転写工程と、上記熱転写工程により昇華性染料が転写された上記受容層、および支持基板と、上記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有する保護層熱転写シートの上記保護層形成用層を対向させて加熱することにより、上記受容層上に保護層を形成する保護層形成工程と、上記熱転写受像シートの上記受容層上に形成された上記保護層に電磁波の照射を行う電磁波照射工程と、を有することを特徴とする熱転写印画物の製造方法を提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a dye substrate and a base material of a dye thermal transfer sheet having a support substrate and a dye layer formed on the support substrate and containing a binder resin and a chelatable sublimation dye. And the above-mentioned receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet having a receiving layer containing a chelatable metal ion formed on the above-mentioned substrate, and heating the chelating sublimable dye to the above-mentioned receiving layer. A thermal transfer step for transferring to the layer, the receiving layer to which the sublimation dye has been transferred by the thermal transfer step, and a support substrate, and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance. A protective layer forming step of forming a protective layer on the receiving layer by heating the protective layer forming layer of the protective layer thermal transfer sheet facing each other, and an upper surface of the thermal transfer image receiving sheet To provide a method of manufacturing a thermal transfer printed matter characterized in that it comprises an electromagnetic wave radiation step of performing irradiation of electromagnetic waves to the protective layer formed on the receiving layer.

本発明によれば、上記保護層形成工程によって上記熱転写受像シートの受容層上に形成された熱変換物質を有する保護層に上記熱変換物資が吸収可能な電磁波の照射を行うことで、上記保護層を選択的に加熱し、上記保護層と熱転写受像シートが有する上記受容層との密着性を効率的に向上させることができる。   According to the present invention, the protection layer is formed by irradiating the protection layer having the heat conversion substance formed on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet with the electromagnetic wave capable of absorbing the heat conversion material. The layer can be selectively heated to effectively improve the adhesion between the protective layer and the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet.

また、従来の熱転写印画物の製造方法において、上記保護層の密着性を向上させるタイミングとしては、保護層形成時のサーマルヘッド等の加熱手段による加熱時を挙げることができるが、このような加熱手段は、移動する上記熱転写受像シートに対して、上記熱転写受像シートの進行方向と垂直方向に並んだ線状、または点状に配置されているため、上記加熱手段によって長時間加熱を行う場合には上記熱転写受像シートの移動速度を低下させる必要があるといった問題があった。一方、本発明によれば上記保護層形成後の電磁波照射工程により上記保護層を効率よく加熱し密着性を上げることができるため、上記保護層形成時において、密着性を上げるための加熱時間を短縮することができる。したがって上記熱転写受像シートの移動速度を上げることが可能となり、熱転写印画物の生産性を優れたものとすることができる。   In addition, in the conventional method for producing a thermal transfer print, the timing for improving the adhesion of the protective layer can be exemplified by heating by a heating means such as a thermal head during the formation of the protective layer. The means is arranged in a line or a point aligned with the moving direction of the thermal transfer image receiving sheet with respect to the moving thermal transfer image receiving sheet. However, there is a problem that it is necessary to reduce the moving speed of the thermal transfer image receiving sheet. On the other hand, according to the present invention, the protective layer can be efficiently heated by the electromagnetic wave irradiation step after forming the protective layer to increase the adhesion, so that the heating time for increasing the adhesiveness is increased during the formation of the protective layer. It can be shortened. Therefore, the moving speed of the thermal transfer image receiving sheet can be increased, and the productivity of the thermal transfer printed matter can be improved.

さらに、上記電磁波照射工程において上記保護層を加熱することにより、上記保護層が形成された上記受容層に効率的に熱を伝えることを可能とする。そのため、上記受容層に転写された昇華性染料のキレート反応を効率よく進行させ、熱転写印画物の色相変化等を少ないものとすることができる。   Furthermore, by heating the protective layer in the electromagnetic wave irradiation step, it is possible to efficiently transfer heat to the receiving layer on which the protective layer is formed. Therefore, the chelate reaction of the sublimable dye transferred to the receiving layer can be efficiently advanced, and the hue change of the thermal transfer printed matter can be reduced.

本発明においては、上記保護層形成用層が、剥離層と、熱可塑性樹脂からなる接着層とを、上記支持基板上にこの順で積層してなるものであり、かつ上記接着層にのみ上記熱変換物質が含まれるものであることが好ましい。上記接着層のみが熱変換物質を含むことで、上記受容層との密着性に最も寄与する上記接着層のみを選択的に加熱することができる。したがって上記受容層と、上記保護層との密着性をより効率的に高めることができるからである。
また、上記接着層を選択的に加熱することが可能となることにより、上記接着層と接する上記受容層に含まれる昇華性染料のキレート反応をより効率的に促進することができるからである。
In the present invention, the protective layer forming layer is formed by laminating a release layer and an adhesive layer made of a thermoplastic resin in this order on the support substrate, and only the adhesive layer is the above It is preferable that a heat conversion substance is contained. Since only the adhesive layer contains a heat conversion substance, only the adhesive layer that contributes most to the adhesion with the receiving layer can be selectively heated. Therefore, the adhesion between the receiving layer and the protective layer can be more efficiently increased.
Moreover, it is because the chelating reaction of the sublimable dye contained in the receiving layer in contact with the adhesive layer can be more efficiently promoted by selectively heating the adhesive layer.

また、本発明においては、上記電磁波が、マイクロ波、または赤外線であることが好ましい。上記電磁波がマイクロ波、または赤外線であることにより、保護層を効率的に加熱し密着性、生産性に優れたものにできるからである。
さらに、本発明においては、上記電磁波がマイクロ波である場合においては、上記熱変換物質がポリビニルブチラール樹脂であることが好ましく、上記電磁波が赤外線である場合には、上記熱変換物質がジイモニウム類またはシアニン系化合物であることが好ましい。上記熱変換物質を、上記各電磁波を選択的に吸収し熱に変換するものとすることにより、熱転写印画物の生産性をより優れたものにできるからである。
In the present invention, the electromagnetic waves are preferably microwaves or infrared rays. This is because when the electromagnetic waves are microwaves or infrared rays, the protective layer can be efficiently heated to have excellent adhesion and productivity.
Furthermore, in the present invention, when the electromagnetic wave is a microwave, the heat conversion substance is preferably a polyvinyl butyral resin. When the electromagnetic wave is an infrared ray, the heat conversion substance is a diimonium compound or A cyanine compound is preferred. This is because by making the heat conversion substance to selectively absorb each electromagnetic wave and convert it to heat, the productivity of the thermal transfer printed matter can be further improved.

本発明は、支持基板と、上記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有することを特徴とする熱転写シートを提供する。   The present invention provides a thermal transfer sheet comprising a support substrate and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance.

本発明によれば、上記保護層形成用層が熱変換物質を含むことにより、加熱・転写により保護層を形成した後に、上記熱変換物質が選択的に吸収できる電磁波を照射することで、保護層を選択的に加熱することができる。したがって、上記保護層を昇華性染料が転写された熱転写受像シートの受容層上に形成した場合には、電磁波を照射することで上記保護層の密着性の向上、転写された昇華性染料のキレート反応の進行による熱転写印画物の色相変化等の耐久性の向上、および生産性の向上を図ることができる。   According to the present invention, the protective layer-forming layer contains a heat conversion substance, and after the protective layer is formed by heating / transfer, the protective layer is irradiated with an electromagnetic wave that can be selectively absorbed by the heat conversion substance. The layer can be selectively heated. Therefore, when the protective layer is formed on the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet to which the sublimation dye is transferred, the adhesion of the protective layer is improved by irradiation with electromagnetic waves, and the transferred sublimation dye chelate It is possible to improve the durability such as the hue change of the thermal transfer printed matter due to the progress of the reaction and improve the productivity.

本発明においては、上記支持基板上に形成され、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有することが好ましい。上記染料層および保護層形成用層を同一支持基板上に有することにより、上記染料層が有する昇華性染料の転写と、保護層の形成を容易なものとすることができるからである。   In the present invention, it is preferable to have a dye layer formed on the support substrate and containing a chelatable sublimable dye. This is because by having the dye layer and the protective layer forming layer on the same support substrate, transfer of the sublimable dye that the dye layer has and formation of the protective layer can be facilitated.

また、本発明においては、上記保護層形成用層が、剥離層と、熱可塑性樹脂からなる接着層とを上記支持基板上にこの順で積層してなるものであり、かつ上記接着層にのみ上記熱変換物質が含まれるものであることが好ましい。上記接着層のみが熱変換物質を含むことで、上記受容層と、上記保護層との密着性をより効率的に高めることができ、さらに上記接着層と接する上記受容層に含まれる昇華性染料のキレート反応をより効率的に促進することができるからである。   In the present invention, the protective layer-forming layer is formed by laminating a release layer and an adhesive layer made of a thermoplastic resin in this order on the support substrate, and only on the adhesive layer. It is preferable that the heat conversion substance is included. Since only the adhesive layer contains a heat conversion substance, the adhesion between the receptor layer and the protective layer can be increased more efficiently, and the sublimation dye contained in the receptor layer in contact with the adhesive layer. This is because the chelation reaction can be more efficiently promoted.

本発明は、基材、および上記基材上に形成され、金属イオンと昇華性染料とが結合してなるキレート型発色体を含む受容層、を有する熱転写受像シートと、上記受容層上に形成され、熱変換物質を含む保護層と、を有することを特徴とする熱転写印画物を提供する。   The present invention provides a thermal transfer image-receiving sheet having a base material and a receiving layer formed on the base material and containing a chelate-type color former formed by binding metal ions and a sublimation dye, and formed on the receiving layer. And a protective layer containing a heat conversion substance.

本発明によれば、上記保護層が熱変換物質を有することにより、例えば、上記熱変換物質が吸収可能な電磁波を照射することにより、上記受容層と上記保護層との密着性を向上させることができる。また上記密着性の向上と共に、上記昇華性染料のキレート反応を促進することができるため、色相変化等が少ないものとすることができる。   According to the present invention, when the protective layer has a heat conversion substance, for example, by irradiating an electromagnetic wave that can be absorbed by the heat conversion substance, the adhesion between the receiving layer and the protective layer is improved. Can do. Moreover, since the chelate reaction of the sublimable dye can be promoted together with the improvement of the adhesion, the hue change and the like can be reduced.

本発明においては、上記保護層が、熱可塑性樹脂からなる接着層と、剥離層とを上記受容層上にこの順で積層してなるものであり、かつ上記接着層にのみ上記熱変換物質が含まれるものであることが好ましい。上記受容層と接する上記接触層のみが熱変換物質を有することにより、上記受容層と上記保護層との密着性の向上および上記昇華性染料のキレート反応促進が容易に図れるため、色相変化等の耐久性に優れたものとすることができるからである。   In the present invention, the protective layer is formed by laminating an adhesive layer made of a thermoplastic resin and a release layer in this order on the receptor layer, and the heat conversion substance is only on the adhesive layer. It is preferably included. Since only the contact layer in contact with the receiving layer has a heat conversion substance, the adhesion between the receiving layer and the protective layer can be easily improved and the chelation reaction of the sublimation dye can be easily promoted. It is because it can be made excellent in durability.

本発明は、キレート可能な昇華性染料が熱転写受像シートの受容層に転写されることで形成される熱転写印画物の色相変化等の耐久性を優れたものとし、熱転写受像シートの受容層上に密着性よく保護層を形成することができ、かつ生産性に優れた熱転写印画物の製造方法を提供するといった効果を奏する。   The present invention is excellent in durability such as hue change of a thermal transfer printed matter formed by transferring a chelatable sublimation dye to a receiving layer of a thermal transfer image receiving sheet, and is provided on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet. There is an effect that a protective layer can be formed with good adhesion and a method for producing a thermal transfer printed matter with excellent productivity is provided.

本発明は、熱転写印画物の製造方法と、熱転写印画物の製造に用いられる熱転写シート、および熱転写印画物に関するものである。以下、本発明の熱転写印画物の製造方法、熱転写シート、および熱転写印画物について説明する。   The present invention relates to a method for producing a thermal transfer print, a thermal transfer sheet used for producing the thermal transfer print, and a thermal transfer print. Hereinafter, the method for producing a thermal transfer print, the thermal transfer sheet, and the thermal transfer print of the present invention will be described.

A.熱転写印画物の製造方法
まず、本発明の熱転写印画物の製造方法について説明する。本発明の熱転写印画物の製造方法は、支持基板、および上記支持基板上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する染料熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる熱転写工程と、上記熱転写工程により昇華性染料が転写された上記受容層、および支持基板と、上記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有する保護層熱転写シートの上記保護層形成用層を対向させて加熱することにより、上記受容層上に保護層を形成する保護層形成工程と、上記熱転写受像シートの上記受容層上に形成された上記保護層に電磁波の照射を行う電磁波照射工程と、を有することを特徴とするものである。
A. First, a method for producing a thermal transfer print according to the present invention will be described. The method for producing a thermal transfer printed matter of the present invention includes a support substrate, the dye layer of the dye thermal transfer sheet formed on the support substrate and having a dye layer containing a binder resin and a chelatable sublimation dye, a base material, And the receptive layer of the thermal transfer image-receiving sheet formed on the substrate and having a receptive layer containing a chelatable metal ion, and heating the chelating sublimable dye, the receptive layer A protective layer comprising: a thermal transfer step to be transferred to the substrate; the receiving layer to which the sublimable dye has been transferred by the thermal transfer step; and a support substrate; and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance. A protective layer forming step of forming a protective layer on the receiving layer by heating the protective layer forming layer of the layer thermal transfer sheet facing each other, and the thermal transfer image receiving sheet of the above An electromagnetic wave radiation step of performing irradiation of electromagnetic waves to the protective layer formed on the volume layer, is characterized in that it has a.

次に、このような本発明の熱転写印画物の製造方法について、図を参照して説明する。図1は、本発明の熱転写印画物の製造方法の一例を示した工程図である。図1に例示するように、本発明の熱転写印画物の製造方法は、支持基板1、および上記支持基板1上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層2を有する染料熱転写シート3の上記染料層2と、基材4、および上記基材4上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層5を有する熱転写受像シート6の上記受容層5と、を対向・接触させた状態で加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層5に転写させる熱転写工程(図1(a))と、上記熱転写工程により昇華性染料が転写された上記受容層5、および支持基板1と、上記支持基板1上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層12と、を有する保護層熱転写シート10の上記保護層形成用層12を対向・接触させて加熱することにより、上記受容層5上に上記保護層形成用層12を転写する保護層形成工程(図1(b))と、上記熱転写受像シート6の上記受容層5上に保護層形成用層12が転写されたことにより形成された保護層20に電磁波の照射を行う電磁波照射工程(図1(c))と、を有するものである。   Next, a method for producing such a thermal transfer printed matter of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram showing an example of a method for producing a thermal transfer print according to the present invention. As illustrated in FIG. 1, the method for producing a thermal transfer print of the present invention includes a support substrate 1 and a dye having a dye layer 2 formed on the support substrate 1 and containing a binder resin and a chelating sublimable dye. The dye layer 2 of the thermal transfer sheet 3 is opposed to the substrate 4 and the receptor layer 5 of the thermal transfer image-receiving sheet 6 having a receptor layer 5 formed on the substrate 4 and containing metal ions that can be chelated. By heating in the contact state, the chelatable sublimable dye is transferred to the receptor layer 5 (FIG. 1 (a)), and the receptor to which the sublimable dye has been transferred by the thermal transfer process is transferred. The protective layer forming layer 12 of the protective layer thermal transfer sheet 10 having the layer 5, the supporting substrate 1, and the protective layer forming layer 12 formed on the supporting substrate 1 and containing a heat conversion substance is opposed to and contacted. Let me A protective layer forming step (FIG. 1B) for transferring the protective layer forming layer 12 onto the receiving layer 5 by heating, and a protective layer forming layer on the receiving layer 5 of the thermal transfer image receiving sheet 6. An electromagnetic wave irradiation step (FIG. 1C) for irradiating the protective layer 20 formed by transferring the layer 12 with an electromagnetic wave.

本発明によれば、上記保護層形成工程によって上記熱転写受像シート上に形成された熱変換物質を有する保護層に上記熱変換物資が吸収可能な電磁波の照射を行うことで、上記保護層を選択的に加熱し、上記保護層と熱転写受像シートが有する上記受容層との密着性を効率的に向上させることができる。
また、通常の熱転写印画物の製造方法において、上記保護層の密着性を向上させるタイミングとしては、保護層形成時のサーマルヘッド等の加熱手段による加熱時を挙げることができるが、このような加熱手段は、移動する上記熱転写受像シートに対して、上記熱転写受像シートの進行方向と垂直方向に並んだ線状、または点状に配置されているため、上記加熱手段によって長時間加熱を行う場合には上記熱転写受像シートの移動速度を低下させる必要がある。しかしながら上記保護層形成後の電磁波照射工程により上記保護層を効率よく加熱し密着性を上げることができるため、上記保護層形成時において、密着性を上げるための加熱時間を短縮することができる。したがって上記熱転写受像シートの移動速度を上げることが可能となり、熱転写印画物の生産性を優れたものとすることができる。
さらに、上記電磁波照射工程において上記保護層を加熱することにより、上記保護層が形成された上記受容層に効率的に熱を伝えることを可能とする。そのため、上記受容層に転写された昇華性染料のキレート反応を効率よく進行させ、熱転写印画物の色相変化等を少ないものとすることができる。
According to the present invention, the protective layer is selected by irradiating the protective layer having the thermal conversion material formed on the thermal transfer image-receiving sheet by the protective layer forming step with electromagnetic waves that can be absorbed by the thermal conversion material. Heat | fever, it can improve the adhesiveness of the said protective layer and the said receiving layer which a thermal transfer image receiving sheet has efficiently.
Further, in the normal method for producing a thermal transfer printed matter, the timing for improving the adhesion of the protective layer can be exemplified by heating by a heating means such as a thermal head during the formation of the protective layer. The means is arranged in a line or a point aligned with the moving direction of the thermal transfer image receiving sheet with respect to the moving thermal transfer image receiving sheet. Needs to reduce the moving speed of the thermal transfer image-receiving sheet. However, since the protective layer can be efficiently heated and the adhesion can be increased by the electromagnetic wave irradiation step after the formation of the protective layer, the heating time for increasing the adhesion can be shortened during the formation of the protective layer. Therefore, the moving speed of the thermal transfer image receiving sheet can be increased, and the productivity of the thermal transfer printed matter can be improved.
Furthermore, by heating the protective layer in the electromagnetic wave irradiation step, it is possible to efficiently transfer heat to the receiving layer on which the protective layer is formed. Therefore, the chelate reaction of the sublimable dye transferred to the receiving layer can be efficiently advanced, and the hue change of the thermal transfer printed matter can be reduced.

本発明の熱転写印画物の製造方法は、熱転写工程、保護層形成工程、電磁波照射工程を有するものである。以下、これらの各工程について詳細に説明する。   The method for producing a thermal transfer printed matter of the present invention includes a thermal transfer step, a protective layer forming step, and an electromagnetic wave irradiation step. Hereinafter, each of these steps will be described in detail.

1.熱転写工程
本発明に用いられる熱転写工程は、支持基板、および上記支持基板上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する染料熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる工程である。上記昇華性染料がキレート可能な昇華性染料であることにより、上記昇華性染料を上記熱転写受像シートの受容層に転写させてなる熱転写印画物の色相変化等の耐久性を高いものとすることができる。以下、このような熱転写工程について説明する。
1. Thermal transfer step The thermal transfer step used in the present invention comprises a support substrate and the dye layer of the dye thermal transfer sheet formed on the support substrate and having a dye layer containing a binder resin and a chelatable sublimation dye, a base material, And the receptive layer of the thermal transfer image-receiving sheet formed on the substrate and having a receptive layer containing a chelatable metal ion, and heating the chelating sublimable dye, the receptive layer It is the process of transferring to. When the sublimation dye is a sublimable dye that can be chelated, the durability of the thermal transfer printed matter obtained by transferring the sublimation dye to the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet is increased. it can. Hereinafter, such a thermal transfer process will be described.

(1)染料熱転写シート
本工程に用いられる染料熱転写シートは、支持基板と、上記支持基板上に形成された染料層とを有するものである。以下このような染料熱転写シートの各構成について説明する。
(1) Dye thermal transfer sheet The dye thermal transfer sheet used in this step has a support substrate and a dye layer formed on the support substrate. Hereinafter, each structure of such a dye thermal transfer sheet will be described.

(a)支持基板
本工程に用いられる支持基板の材料としては、熱転写印画物を形成する際の印画条件等に応じて所望の耐熱性を有するものであれば特に限定されるものではない。本工程に用いられる支持基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、1,4−ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルフィドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリサルホンフィルム、アラミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、セロハン、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィルム、アイオノマーフィルム等のプラスチックフィルムを挙げることができる。
(A) Support substrate The material of the support substrate used in this step is not particularly limited as long as it has desired heat resistance depending on the printing conditions and the like when forming the thermal transfer printed matter. As the support substrate used in this step, for example, polyethylene terephthalate film, 1,4-polycyclohexylenedimethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyphenylene sulfide film, polystyrene film, polypropylene film, polysulfone film, aramid film, Examples thereof include polycarbonate films, polyvinyl alcohol films, cellophane, cellulose derivatives such as cellulose acetate, plastic films such as polyethylene films, polyvinyl chloride films, nylon films, polyimide films, and ionomer films.

本工程に用いられる支持基板の厚みは、支持基板を構成する材料等に応じて所望の強度を備えることができる範囲内であれば特に限定されないが、通常、0.5μm〜50μmの範囲内が好ましく、特に1μm〜10μmの範囲内が好ましい。   The thickness of the support substrate used in this step is not particularly limited as long as it is within a range in which a desired strength can be provided according to the material constituting the support substrate, but is usually within a range of 0.5 μm to 50 μm. Particularly preferred is a range of 1 μm to 10 μm.

また、本工程に用いられる支持基板は、染料層を形成する面に接着処理が施されたものであっても良い。このような接着処理が施されることによって、例えば、上記支持基板としてプラスチックフィルムを用いる場合においても、染料層との密着性を向上することができる。   In addition, the support substrate used in this step may be a substrate on which a dye layer is formed by adhesion treatment. By performing such an adhesion treatment, for example, even when a plastic film is used as the support substrate, adhesion with the dye layer can be improved.

上記接着処理としては、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズマ処理、プライマー処理、グラフト化処理等公知の樹脂表面改質技術をそのまま適用することができる。また、それらの処理を二種以上併用することもできる。上記のプライマー処理は、例えばプラスチックフィルムの溶融押出しの成膜時に、未延伸フィルムにプライマー液を塗布し、その後に延伸処理して行なうことができる。   Examples of the adhesion treatment include known resins such as corona discharge treatment, flame treatment, ozone treatment, ultraviolet treatment, radiation treatment, surface roughening treatment, chemical treatment, plasma treatment, low temperature plasma treatment, primer treatment, and grafting treatment. The surface modification technique can be applied as it is. Two or more of these treatments can be used in combination. The primer treatment can be performed, for example, by applying a primer solution to an unstretched film at the time of film formation by melt extrusion of a plastic film and then stretching the film.

(b)染料層
本工程に用いられる染料層は、バインダー樹脂と、キレート可能な昇華性染料を有するものである。
(B) Dye layer The dye layer used in this step has a binder resin and a chelating sublimable dye.

(i)バインダー樹脂
本工程に用いられる染料層が有するバインダー樹脂としては、耐熱性が高く、しかも加熱されたときに昇華性染料の移行を妨げないものであれば、特に限定されるものではない。本工程においては、例えば、エチルセルロース、酢酪酸セルロース等のセルロース系樹脂、及びポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール等のビニル系樹脂、またはポリエステル、ポリアクリルアミドなどを挙げることができる。
(I) Binder resin The binder resin of the dye layer used in this step is not particularly limited as long as it has high heat resistance and does not hinder the migration of the sublimable dye when heated. . In this step, for example, cellulose resins such as ethyl cellulose and cellulose acetate butyrate, vinyl resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl acetal, or polyester and polyacrylamide can be used.

(ii)昇華性染料
本工程に用いられる昇華性染料は、後述する金属イオンとキレート反応するものである。上記昇華性染料は通常、染料熱転写シートの染料層の中に含まれ、上記染料層と上記受容層とを対向するように重ね合わせ、サーマルヘッド等で加熱することによって、上記熱転写受像シートの受容層に転写されるものである。
(ii) Sublimable dye The sublimable dye used in this step undergoes a chelate reaction with a metal ion described later. The sublimation dye is usually contained in a dye layer of a dye thermal transfer sheet. The dye layer and the receiving layer are superimposed so as to face each other, and heated by a thermal head or the like to receive the thermal transfer image receiving sheet. It is what is transferred to the layer.

本工程における上記昇華性染料としては、後述する金属イオンとキレート反応可能なものであれば、特に限定されるものではなく、一般的なイエロー染料、マゼンダ染料、シアン染料等を使用することができる。中でも下記一般式(1)〜(8)で表される昇華性染料であることが好ましい。   The sublimation dye in this step is not particularly limited as long as it can chelate with a metal ion described later, and general yellow dyes, magenta dyes, cyan dyes, and the like can be used. . Among these, sublimable dyes represented by the following general formulas (1) to (8) are preferable.

イエロー染料としては、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物を挙げることができる。   Examples of yellow dyes include compounds represented by the following general formulas (1) to (3).

a.一般式(1)で表される昇華性染料   a. Sublimable dye represented by general formula (1)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(式中、R11は置換基を表し、R12はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基を表し、R13及びR14は水素原子または置換基を表し、R15、R16、R17及びR18は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Z11は5又は6員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。) (Wherein R 11 represents a substituent, R 12 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or a cycloalkyl group, R 13 and R 14 represent a hydrogen atom or a substituent, and R 15 , R 16 , R 17 and R 18 represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Z 11 represents a nonmetallic atom group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring.

上記R11で表される置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルケニル基(例えば、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)、ホスホノ基、アシル基(アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基(例えばフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。 The substituent represented by R 11 is not particularly limited. For example, an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, Dodecyl group, trifluoromethyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), acylamino group (eg, acetylamino group, benzoylamino group, etc.) ), Alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkenyl group (for example, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl) Group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl group, Chlorohexenyl group, etc.), halogen atoms (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom etc.), alkynyl group (eg propargyl group etc.), heterocyclic group (eg pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group) Etc.), alkylsulfonyl groups (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl groups (eg, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, etc.), alkylsulfinyl groups (eg, methylsulfinyl group, etc.), arylsulfinyl groups (For example, phenylsulfinyl group), phosphono group, acyl group (acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, Cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylamino) Sulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), cyano Group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group, Roxy group, acyloxy group (eg, acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonic acid group, sulfonic acid salt, aminocarbonyloxy group, amino group (eg, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino) Group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group (for example, phenylamino group, chlorophenylamino group, toluidino group, anisidino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), imide group, Ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group), alkoxycarbonylamido Group (for example, methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl group, etc.), complex Examples thereof include a ring thio group, a thioureido group, a carboxyl group, a salt of a carboxylic acid, a hydroxyl group, a mercapto group, and a nitro group.

これらの置換基は、同様の置換基によって更に置換されていてもよい。   These substituents may be further substituted with the same substituent.

12が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基は、上記R11で表される置換基と同様の基によって置換されていてもよい。 The alkyl group, alkenyl group, alkynyl group or cycloalkyl group represented by R 12 may be substituted with the same group as the substituent represented by R 11 .

一般式(1)において、R13及びR14は水素原子または置換基を表す。R13及びR14が表す置換基としては、上記R11で表される置換基と同様の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに同様の置換基によって置換されていてもよい。 In the general formula (1), R 13 and R 14 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 13 and R 14 include the same groups as the substituent represented by R 11 , and these substituents may be further substituted with the same substituent.

一般式(1)において、R15、R16、R17及びR18は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。R15、R16、R17及びR18が表すアルキル基及びアリール基は、上記R11におけるアルキル基及びアリール基と同様の基を挙げることができる。 In the general formula (1), R 15 , R 16 , R 17 and R 18 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Examples of the alkyl group and aryl group represented by R 15 , R 16 , R 17 and R 18 include the same groups as the alkyl group and aryl group in R 11 .

15、R16、R17及びR18が表すアルキル基及びアリール基は、上記R11で表される置換基と同様の置換基によって置換されていてもよい。 The alkyl group and aryl group represented by R 15 , R 16 , R 17 and R 18 may be substituted with the same substituent as the substituent represented by R 11 .

一般式(1)において、Z11は5又は6員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。 In the general formula (1), Z 11 represents a nonmetallic atom group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring.

このような複素環の具体例として、ピリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、チアゾール環、オキサゾール環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等の各環を挙げることができる。これらの環は置換基を有していてもよく、置換基としては、上記R11で表される置換基と同様の基を挙げることができる。 Specific examples of such a heterocyclic ring include pyridine ring, pyrazole ring, imidazole ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, thiazole ring, oxazole ring, quinoline ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring and the like. be able to. These rings may have a substituent, and examples of the substituent include the same groups as the substituent represented by R 11 above.

b.一般式(2)で表される昇華性染料   b. Sublimable dye represented by general formula (2)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(式中、R21は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表し、R22は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表し、R23は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、R21とR22の炭素数の総和は3以上である。X21は、−CR2425−、−S−、−O−、−NR26−を表し、R24、R25は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、R26は、水素原子、置換基を表す。Y21は、5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す。) (Wherein R 21 represents a trifluoromethyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group, a carbamoyl group, an amino group, a cyano group, and R 22 represents represents an alkyl group, an acyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, R 23 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group. However, the total number of carbon atoms contained in R 21 and R 22 is 3 or more .X 21 Represents —CR 24 R 25 —, —S—, —O—, —NR 26 —, R 24 and R 25 represent a hydrogen atom, a halogen atom and a substituent, and R 26 represents a hydrogen atom, a substituent Y 21 represents a group of atoms necessary to form a 5- or 6-membered ring.

一般式(2)中、R21は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表す。
上記R21として、好ましくは、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアルキル基である。
In the general formula (2), R 21 represents a trifluoromethyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group, a carbamoyl group, an amino group, or a cyano group.
R 21 is preferably an alkyl group, a trifluoromethyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a carbamoyl group, or a cyano group, and more preferably an alkyl group.

22は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表す。 R 22 represents an alkyl group, an acyl group, a carbamoyl group, or an alkoxycarbonyl group.

23は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。 R 23 represents an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group.

上記X21は、−CR2425−、−S−、−O−、−NR26−を表し、好ましくは、−CR2425−、−S−、−O−である。 X 21 represents —CR 24 R 25 —, —S—, —O—, —NR 26 —, and preferably —CR 24 R 25 —, —S—, —O—.

24、R25は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。
置換基としては、上述した一般式(1)における置換基と同様であるので、ここでの説明は省略する。
R 24 and R 25 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent.
Since the substituent is the same as the substituent in the general formula (1) described above, description thereof is omitted here.

上記置換基として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。   As the substituent, a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group are preferable.

26は、水素原子、置換基を表す。
置換基としては上記R24、R25の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
R 26 represents a hydrogen atom or a substituent.
Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as R 24 and R 25 .

21は、5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す。好ましくは、6員環を形成するのに必要な原子群である。例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリジン環、ナフタレン環などが挙げられる。 Y 21 represents an atomic group necessary for forming a 5- to 6-membered ring. Preferably, it is an atomic group necessary for forming a 6-membered ring. For example, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a benzene ring, a pyridine ring, a naphthalene ring, etc. are mentioned.

c.一般式(3)で表される昇華性染料   c. Sublimable dye represented by general formula (3)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

上記一般式(3)において、R31及びR32で表される各々の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基(炭素数1〜12のアルキル基で、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはカルボニル基で連結する置換基が置換するか、またはアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基もしくはハロゲン原子等他の置換基で置換していてもよい。例えば、メチル、イソプロピル、t−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシメチル、2−メタンスルホニルエチル、2−メタンスルホンアミドエチル、シクロヘキシル等の各基)、アリール基(例えば、フェニル、4−t−ブチルフェニル、3−ニトロフェニル、3−アシルアミノフェニル、2−メトキシフェニル等の各基)、シアノ基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アニリノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、複素環チオ基、ホスホニル基、アシル基等が挙げられる。 In the general formula (3), examples of the substituents represented by R 31 and R 32 include a halogen atom, an alkyl group (an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom). Alternatively, a substituent linked by a carbonyl group is substituted, or substituted with another substituent such as an aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxyl group, amino group, nitro group, carboxyl group, cyano group or halogen atom. For example, methyl, isopropyl, t-butyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, 2-methanesulfonylethyl, 2-methanesulfonamidoethyl, cyclohexyl, etc.), aryl groups (for example, phenyl, 4-t -Butylphenyl, 3-nitrophenyl, 3-acylaminophenyl, 2-methoxyphenyl, etc. Group), cyano group, alkoxyl group, aryloxy group, acylamino group, anilino group, ureido group, sulfamoylamino group, alkylthio group, arylthio group, alkoxycarbonylamino group, sulfonamide group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfonyl group Group, alkoxycarbonyl group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, silyloxy group, aryloxycarbonylamino group, imide group, heterocyclic thio group, phosphonyl group, acyl group and the like.

33で表されるアルキル基及びアリール基としては、R31及びR32で表されるアルキル基、アリール基と同じものを挙げることができる。 Examples of the alkyl group and aryl group represented by R 33 include the same alkyl groups and aryl groups represented by R 31 and R 32 .

31で表される2個の炭素原子と共に構成される5〜6員の芳香族環としては、具体的には、ベンゼン、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピラジン、ピリダジン、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、チアゾールなどの環を挙げることができ、これらの環は更に他の芳香族環と縮合環を形成してもよい。これらの環上には置換基を有していてもよく、該置換基としてはR31及びR32で表される置換基と同じものを挙げることができる。 Specific examples of the 5- to 6-membered aromatic ring constituted with two carbon atoms represented by Z 31 include benzene, pyridine, pyrimidine, triazine, pyrazine, pyridazine, pyrrole, furan, thiophene, and pyrazole. , Imidazole, triazole, oxazole, thiazole and the like, and these rings may further form a condensed ring with other aromatic rings. These rings may have a substituent, and examples of the substituent include the same substituents represented by R 31 and R 32 .

マゼンタ染料としては、下記一般式(4)〜(6)で表される化合物を挙げることができる。   Examples of the magenta dye include compounds represented by the following general formulas (4) to (6).

d.一般式(4)で表される昇華性染料   d. Sublimable dye represented by general formula (4)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

一般式(4)において、Y41はアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、パーフルオロアルキル基を表す。Z41、Z42は−CR42=または−N=を表し、L41は下記一般式(4−a)で表される基を表し、X41は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、R41は置換または無置換のアルキル基を表し、nは0以上の整数を表す。R42は水素原子または置換基を表す。 In the general formula (4), Y 41 represents an alkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a cyano group, or a perfluoroalkyl group. Z 41 and Z 42 represent —CR 42 ═ or —N═, L 41 represents a group represented by the following general formula (4-a), and X 41 represents an unsubstituted or substituted alkylamino group. R 41 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and n represents an integer of 0 or more. R42 represents a hydrogen atom or a substituent.

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(式中、B41は複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。) (In the formula, B 41 represents a nonmetallic atom group necessary for forming a heterocyclic ring.)

41は一般式(4−a)で表される基を表し、複素環を形成するのに必要な非金属原子群B41を含む。一般式(4−a)で表される基としては、2−ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、3−ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、2−ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、3H−インドドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等を表す。これら複素環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、2−メトキシエチル、トリフルオロメチル、2−エチルヘキシル等)、アリール基(例えば、フェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、複素環基(例えば、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等)が挙げられる。 L 41 represents a group represented by the general formula (4-a) and includes a nonmetallic atom group B 41 necessary for forming a heterocyclic ring. Examples of the group represented by the general formula (4-a) include 2-pyrrolyl group, imidazolyl group, isothiazolyl group, isoxazolyl group, 3-pyrazolyl group, pyrazinyl group, triazolyl group, 2-pyridyl group, pyridazinyl group, and pyrimidinyl group. It represents a 3H-indolyl group, a 1H-indazolyl group, a prynyl group, an isoquinolyl group, a quinolyl group, a phthalazinyl group, a naphthyridinyl group, a quinosalinyl group, a quinazolinyl group, or the like. These heterocycles may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom), an alkyl group (for example, methyl, ethyl, butyl, pentyl, 2- Methoxyethyl, trifluoromethyl, 2-ethylhexyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl, p-tolyl, naphthyl, etc.), acyl groups (eg, acetyl, propionyl, benzoyl, etc.), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, Butoxy etc.), alkoxycarbonyl groups (eg methoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl etc.), acyloxy groups (eg acetyloxy, ethylcarbonyloxy etc.), alkylthio groups (eg methylthio, ethylthio, octylthio etc.), arylthio groups ( For example, phenylthio, p-tolyl O, etc.), an amino group (e.g., methylamino, diethylamino, methoxy ethylamino etc.), a cyano group, a nitro group, a Hajime Tamaki (e.g., pyridyl, pyrazolyl, imidazolyl, furyl, thienyl and the like).

41は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基(例えば、フェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、カルバモイル基(メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)が挙げられる。 X 41 represents an unsubstituted or substituted alkylamino group, and examples of the substituent include an aryl group (eg, phenyl, p-tolyl, naphthyl, etc.), an acyl group (eg, acetyl, propionyl, benzoyl, etc.), an alkoxy group (Eg, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl, etc.), acyloxy groups (eg, acetyloxy, ethylcarbonyloxy, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio, ethylthio, Octylthio, etc.), arylthio groups (eg, phenylthio, p-tolylthio, etc.), amino groups (eg, methylamino, diethylamino, etc.), cyano groups, nitro groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, sulfonic acid groups, sulfonamido groups (eg, , Methanes Sulphonamide, ethanesulfonamide, etc.), acylamino groups (eg, acetylamino, benzoylamino, etc.), carbamoyl groups (methylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), sulfamoyl groups (eg, methylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.) It is done.

41は置換または無置換のアルキル基を表す。R42は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、2−メトキシエチル、トリフルオロメチル、2−エチルヘキシル等)、アリール基(例えば、フェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。 R 41 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. R 42 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, butyl, pentyl, 2-methoxyethyl, trifluoromethyl, 2-ethylhexyl, etc.), an aryl group (eg, phenyl, p-tolyl, naphthyl etc.), acyl group (eg acetyl, propionyl, benzoyl etc.), alkoxy group (eg methoxy, ethoxy, butoxy etc.), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl etc.), Acyloxy groups (eg, acetyloxy, ethylcarbonyloxy, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio, ethylthio, octylthio, etc.), arylthio groups (eg, phenylthio, p-tolylthio, etc.), amino groups (eg, methylamino, diethylamino, etc.) ) An ano group, a nitro group, etc. are mentioned.

e.一般式(5)で表される昇華性染料   e. Sublimable dye represented by general formula (5)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(式中、Y51は上述したY41と同様の置換基を表し、Z51、Z52は−CR53=または−N=を表し、L51は一般式(5−a)、(5−b)で表される基を表し、X51は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、R51は置換または無置換のアルキル基を表し、R53は水素原子または置換基を表し、nは0以上の整数を表す。) (In the formula, Y 51 represents the same substituent as Y 41 described above, Z 51 and Z 52 represent —CR 53 ═ or —N═, and L 51 represents general formula (5-a), (5- b) represents a group represented by X), X 51 represents an unsubstituted or substituted alkylamino group, R 51 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 53 represents a hydrogen atom or a substituent, n represents an integer of 0 or more.)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(式中、R52は水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、Rは置換基を表し、pは0〜4の整数を表し、B51は−CR52=と共に複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。) (Wherein R 52 represents a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a mercapto group, an alkylthio group or an arylthio group, R b represents a substituent, p represents an integer of 0 to 4, and B 51 Represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a heterocyclic ring together with —CR 52 ═.

51は一般式(5−a)、(5−b)で表される基を表し、一般式(5−a)で表される−CR52=およびB51と共に複素環を形成した基としては、ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、3H−インドドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等が挙げられる。R52は水酸基、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基、アミノ基(例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等)、メルカプト基、アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、p−トリルチオ等)を表す。これら複素環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、2−メトキシエチル、トリフルオロメチル、2−エチルヘキシル等)、アリール基(例えばフェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、ナフトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、複素環基(例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等)が挙げられる。 L 51 represents a group represented by general formula (5-a) or (5-b), and represents a group that forms a heterocyclic ring with —CR 52 ═ and B 51 represented by general formula (5-a). Is a pyrrolyl group, imidazolyl group, isothiazolyl group, isoxazolyl group, pyrazolyl group, pyrazinyl group, triazolyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, 3H-inddolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group Group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinosalinyl group, quinazolinyl group and the like. R 52 represents a hydroxyl group, an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group, an amino group (eg, methylamino, diethylamino, methoxyethylamino, etc.), a mercapto group, an alkylthio group (eg, methylthio, ethylthio, octylthio, etc.) Represents an arylthio group (for example, phenylthio, p-tolylthio and the like). These heterocyclic rings may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom and a chlorine atom), an alkyl group (for example, methyl, ethyl, butyl, pentyl, 2-methoxyethyl, Trifluoromethyl, 2-ethylhexyl, etc.), aryl groups (eg phenyl, p-tolyl, naphthyl etc.), acyl groups (eg acetyl, propionyl, benzoyl etc.), alkoxy groups (eg methoxy, ethoxy, butoxy etc.), aryloxy Groups (for example, phenoxy, naphthoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (for example, methoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl, etc.), acyloxy groups (for example, acetyloxy, ethylcarbonyloxy, etc.), alkylthio groups (for example, methylthio, ethylthio, octylthio, etc.), arylthio Base For example phenylthio, p- tolylthio, etc.), an amino group (e.g. methylamino, diethylamino, methoxy ethylamino etc.), a cyano group, a nitro group, a Hajime Tamaki (e.g. pyridyl, pyrazolyl, imidazolyl, furyl, thienyl and the like).

51は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基(例えば、フェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、カルバモイル基(メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)が挙げられる。 X 51 represents an unsubstituted or substituted alkylamino group, and examples of the substituent include an aryl group (eg, phenyl, p-tolyl, naphthyl, etc.), an acyl group (eg, acetyl, propionyl, benzoyl, etc.), an alkoxy group (Eg, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl, etc.), acyloxy groups (eg, acetyloxy, ethylcarbonyloxy, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio, ethylthio, Octylthio, etc.), arylthio groups (eg, phenylthio, p-tolylthio, etc.), amino groups (eg, methylamino, diethylamino, etc.), cyano groups, nitro groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, sulfonic acid groups, sulfonamido groups (eg, , Methanes Sulphonamide, ethanesulfonamide, etc.), acylamino groups (eg, acetylamino, benzoylamino, etc.), carbamoyl groups (methylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), sulfamoyl groups (eg, methylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.) It is done.

51は置換または無置換のアルキル基を表す。R52は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基(例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、2−メトキシエチル、トリフルオロメチル、2−エチルヘキシル等)、アリール基(例えばフェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、ナフトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。 R 51 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. R 52 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (for example, methyl, ethyl, butyl, pentyl, 2-methoxyethyl, trifluoromethyl, 2-ethylhexyl, etc.), an aryl group (for example, phenyl, p- Tolyl, naphthyl, etc.), acyl groups (eg acetyl, propionyl, benzoyl etc.), alkoxy groups (eg methoxy, ethoxy, butoxy etc.), aryloxy groups (eg phenoxy, naphthoxy etc.), alkoxycarbonyl groups (eg methoxycarbonyl, i -Propoxycarbonyl etc.), acyloxy groups (eg acetyloxy, ethylcarbonyloxy etc.), alkylthio groups (eg methylthio, ethylthio, octylthio etc.), arylthio groups (eg phenylthio, p-tolylthio etc.), amino groups (eg Tilamino, diethylamino and the like), cyano group, nitro group and the like.

で表される置換基としては、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、2−メトキシエチル、トリフルオロメチル、2−エチルヘキシル等)、アリール基(例えばフェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、ナフトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、p−トリルチオ等)、アミノ基(例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、複素環基(例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等)等が挙げられる。 Examples of the substituent represented by R b include a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom), an alkyl group (eg, methyl, ethyl, butyl, pentyl, 2-methoxyethyl, trifluoromethyl, 2-ethylhexyl, etc.), Aryl groups (eg, phenyl, p-tolyl, naphthyl, etc.), acyl groups (eg, acetyl, propionyl, benzoyl, etc.), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), aryloxy groups (eg, phenoxy, naphthoxy, etc.), alkoxy A carbonyl group (eg methoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl etc.), an acyloxy group (eg acetyloxy, ethylcarbonyloxy etc.), an alkylthio group (eg methylthio, ethylthio, octylthio etc.), an arylthio group (eg phenylthio, p-tolylchi) ), Amino groups (eg, methylamino, diethylamino, methoxyethylamino, etc.), cyano groups, nitro groups, heterocyclic groups (eg, pyridyl, pyrazolyl, imidazolyl, furyl, thienyl, etc.) and the like.

f.一般式(6)で表される昇華性染料   f. Sublimable dye represented by general formula (6)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

上記一般式(6)において、X61は少なくとも2座のキレート形成可能な基または原子の集まりを表し、Y61は5員もしくは6員の芳香族炭化水素環または複素環を形成する原子の集まりを表し、R61、R62は各々水素原子、ハロゲン原子または1価の置換基を表す。nは0、1、2を表す。 In the general formula (6), X 61 represents at least a bidentate group capable of forming a chelate or a group of atoms, and Y 61 represents a group of atoms forming a 5-membered or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or heterocyclic ring. R 61 and R 62 each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent substituent. n represents 0, 1, 2;

61は少なくとも2座のキレート形成可能な基または原子の集まりを表し、一般式(6)として色素を形成できるものなら何でもよく、例えば、5−ピラゾロン、イミダゾール、ピラゾロピロール、ピラゾロピラゾール、ピラゾロイミダゾール、ピラゾロトリアゾール、ピラゾロテトラゾール、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ローダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロン、イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジンジオン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、またはピラゾロピリドンが好ましい。 X 61 represents at least a bidentate chelate-forming group or a group of atoms, and may be anything that can form a dye as the general formula (6), such as 5-pyrazolone, imidazole, pyrazolopyrrole, pyrazolopyrazole, Pyrazoloimidazole, pyrazolotriazole, pyrazolotetrazole, barbituric acid, thiobarbituric acid, rhodanine, hydantoin, thiohydantoin, oxazolone, isoxazolone, indandione, pyrazolidinedione, oxazolidinedione, hydroxypyridone, or pyrazolopyridone preferable.

61として特に好ましくは、下記一般式(6−a)で表される基である。 X 61 is particularly preferably a group represented by the following general formula (6-a).

Figure 2008080735
Figure 2008080735

上記一般式(6−a)において、Z61は少なくとも一つのキレート化可能な窒素原子を含む基で置換された芳香族性含窒素複素環を形成するに必要な原子群を表す。該環の具体例としてはピリジン、ピリミジン、チアゾール、イミダゾール等の各環が挙げられる。これらの環は、更に他の炭素環(ベンゼン環等) や複素環(ピリジン環等)と縮合環を形成しても良い。 In the above general formula (6-a), Z 61 represents an atomic group necessary for forming an aromatic nitrogen-containing heterocyclic ring substituted with a group containing at least one chelatable nitrogen atom. Specific examples of the ring include pyridine, pyrimidine, thiazole, imidazole and the like. These rings may further form a condensed ring with another carbocycle (such as a benzene ring) or a heterocycle (such as a pyridine ring).

上記一般式(6)において、Y61は5員もしくは6員の芳香族炭化水素環または複素環を形成する原子の集まりを表し、該環上には更に置換基を有していても良く、縮合環を有していても良い。該環の具体例としては、3H−ピロール環、オキサゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、3H−ピロリジン環、オキサゾリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、3H−インドール環、ベンズオキサゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、キノリン環、ピリジン環等が挙げられる。これらの環は更に他の炭素環(例えば、ベンゼン環)や複素環(例えば、ピリジン環)と縮合環を形成してもよい。環上の置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子等であり、それらの基は更に置換されていても良い。 In the general formula (6), Y 61 represents a group of atoms forming a 5-membered or 6-membered aromatic hydrocarbon ring or heterocycle, and the ring may further have a substituent, You may have a condensed ring. Specific examples of the ring include 3H-pyrrole ring, oxazole ring, imidazole ring, thiazole ring, 3H-pyrrolidine ring, oxazolidine ring, imidazolidine ring, thiazolidine ring, 3H-indole ring, benzoxazole ring, benzimidazole ring, A benzothiazole ring, a quinoline ring, a pyridine ring, etc. are mentioned. These rings may form a condensed ring with another carbocyclic ring (for example, benzene ring) or a heterocyclic ring (for example, pyridine ring). Examples of substituents on the ring include alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, acyl groups, amino groups, nitro groups, cyano groups, acylamino groups, alkoxy groups, hydroxy groups, alkoxycarbonyl groups, halogen atoms, etc. The group may be further substituted.

61、R62は各々水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子) または1価の置換基を表すが、1価の置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、ヘテロ環基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アシル基、アシルアミノ基等が挙げられる。 R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom) or a monovalent substituent, and examples of the monovalent substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, Examples thereof include an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a carbamoyl group, a hydroxy group, an acyl group, and an acylamino group.

シアン色素としては、下記一般式(7)〜(8)で表される化合物を挙げることができる。   Examples of the cyan dye include compounds represented by the following general formulas (7) to (8).

g.一般式(7)で表される昇華性染料 g. Sublimable dyes represented by general formula (7)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(式中、R71及びR72はそれぞれ、置換又は無置換の脂肪族基を表し、R73は置換基を表す。nは0〜4の整数を表し、nが2以上の時、複数のR73は同じでも異なってもよい。R74、R75はアルキル基を表す。但し、R74、R75の少なくとも1つは2級アルキル基を表す。) (In the formula, each of R 71 and R 72 represents a substituted or unsubstituted aliphatic group, R 73 represents a substituent, n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, R 73 may be the same or different, and R 74 and R 75 each represents an alkyl group, provided that at least one of R 74 and R 75 represents a secondary alkyl group.

一般式(7)において、R71およびR72は置換または無置換の脂肪族基を表し、R71およびR72は同じでも異なっていてもよい。脂肪族基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。アルキル基の例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基などを挙げることができ、これらのアルキル基を置換しうる基としては、直鎖あるいは分岐のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、i−プロピル基、t−ブチル基、n−ドデシル基、および1−ヘキシルノニル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、およびアダマンチル基等)、およびアルケニル基(例えば2−プロピレン基、オレイル基等)、アリール基(例えばフェニル基、オルト−トリル基、オルト−アニシル基、1−ナフチル基、9−アントラニル基等)、複素環基(例えば2−テトラヒドロフリル基、2−チオフェニル基、4−イミダゾリル基、および2−ピリジル基等)、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基(例えばアセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基等のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル基、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイル基等のアリールカルボニル基等)、オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ドデシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、2,4−ジ−t−アミルフェノキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基、および2−ピリジルオキシカルボニル基、1−フェニルピラゾリル−5−オキシカルボニル基などの複素環オキシカルボニル基等)、カルバモイル基(例えばジメチルカルバモイル基、4−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチルアミノカルボニル基等のアルキルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、1−ナフチルカルバモイル基等のアリールカルバモイル基)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、2−エトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、2,4−ジ−t−アミルフェノキシ基、4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ基等)、複素環オキシ基(例えば4−ピリジルオキシ基、2−ヘキサヒドロピラニルオキシ基等)、カルボニルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基等のアリールオキシ基等)、ウレタン基(例えばN,N−ジメチルウレタン基等のアルキルウレタン基、N−フェニルウレタン基、N−(p−シアノフェニル)ウレタン基等のアリールウレタン基)、スルホニルオキシ基(例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、n−ドデカンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基)、アミノ基(例えばジメチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、n−ドデシルアミノ基等のアルキルアミノ基、アニリノ基、p−t−オクチルアニリノ基等のアリールアミノ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ヘプタフルオロプロパンスルホニルアミノ基、n−ヘキサデシルスルホニルアミノ基等のアルキルスルホニルアミノ基、p−トルエンスルホニルアミノ基、ペンタフルオロベンゼンスルホニルアミノ等のアリールスルホニルアミノ基)、スルファモイルアミノ基(例えばN,N−ジメチルスルファモイルアミノ基等のアルキルスルファモイルアミノ基、N−フェニルスルファモイルアミノ基等のアリールスルファモイルアミノ基)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ミリストイルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等アリールカルボニルアミノ基)、ウレイド基(例えばN,N−ジメチルアミノウレイド基等のアルキルウレイド基、N−フェニルウレイド基、N−(p−シアノフェニル)ウレイド基等のアリールウレイド基)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基、およびp−トルエンスルホニル基等のアリールスルホニル基)、スルファモイル基(例えばジメチルスルファモイル基、4−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチルアミノスルホニル基等のアルキルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等のアリールスルファモイル基)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、t−オクチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、および複素環チオ基(例えば1−フェニルテトラゾール−5−チオ基、5−メチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−チオ基等)等が挙げられる。 In the general formula (7), R 71 and R 72 represent a substituted or unsubstituted aliphatic group, and R 71 and R 72 may be the same or different. Examples of the aliphatic group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, and the like. Examples of the group that can replace these alkyl groups include a linear or branched alkyl group (for example, a methyl group, Ethyl group, i-propyl group, t-butyl group, n-dodecyl group, 1-hexylnonyl group and the like), cycloalkyl group (for example, cyclopropyl group, cyclohexyl group, bicyclo [2.2.1] heptyl group, And adamantyl group, etc.), and alkenyl groups (eg 2-propylene group, oleyl group etc.), aryl groups (eg phenyl group, ortho-tolyl group, ortho-anisyl group, 1-naphthyl group, 9-anthranyl group etc.), Heterocyclic groups (for example, 2-tetrahydrofuryl group, 2-thiophenyl group, 4-imidazolyl group, 2-pyridyl group, etc.), Gen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), cyano group, nitro group, hydroxy group, carbonyl group (for example, alkylcarbonyl group such as acetyl group, trifluoroacetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, pentafluorobenzoyl) Group, arylcarbonyl group such as 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoyl group), oxycarbonyl group (for example, alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, n-dodecyloxycarbonyl group) Aryloxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl group, 2,4-di-t-amylphenoxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-pyridyloxycarbonyl group, 1-phenylpyrazolyl-5-oxycarbonyl group, etc. of Oxycyclic carbonyl group), carbamoyl group (for example, dimethylcarbamoyl group, alkylcarbamoyl group such as 4- (2,4-di-t-amylphenoxy) butylaminocarbonyl group, phenylcarbamoyl group, 1-naphthylcarbamoyl group, etc. Arylcarbamoyl group), alkoxy group (for example, methoxy group, 2-ethoxyethoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, 2,4-di-t-amylphenoxy group, 4- (4-hydroxyphenylsulfonyl)) Phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group (eg 4-pyridyloxy group, 2-hexahydropyranyloxy group etc.), carbonyloxy group (eg acetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, pivaloyloxy group etc.) Group, benzoyloxy group, Aryl urethane groups such as n-fluorobenzoyloxy group), urethane groups (eg, alkyl urethane groups such as N, N-dimethylurethane group, aryl urethanes such as N-phenylurethane group, N- (p-cyanophenyl) urethane group) Group), a sulfonyloxy group (for example, an alkylsulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy group, trifluoromethanesulfonyloxy group, n-dodecanesulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group) Amino groups (for example, alkylamino groups such as dimethylamino group, cyclohexylamino group, n-dodecylamino group, arylamino groups such as anilino group, pt-octylanilino group, etc.), sulfonylamino groups (for example, methanesulfonyl) amino , Alkylsulfonylamino groups such as heptafluoropropanesulfonylamino group and n-hexadecylsulfonylamino group, arylsulfonylamino groups such as p-toluenesulfonylamino group and pentafluorobenzenesulfonylamino), sulfamoylamino groups (for example, N , Alkylsulfamoylamino groups such as N-dimethylsulfamoylamino group, arylsulfamoylamino groups such as N-phenylsulfamoylamino group), acylamino groups (eg alkyl such as acetylamino group and myristoylamino group) Arylcarbonylamino group such as carbonylamino group, benzoylamino group), ureido group (for example, alkylureido group such as N, N-dimethylaminoureido group, N-phenylureido group, N- (p-cyanophenyl) ureido Arylsulfide groups such as methanesulfonyl group, alkylsulfonyl groups such as trifluoromethanesulfonyl group, and arylsulfonyl groups such as p-toluenesulfonyl group), sulfamoyl groups (such as dimethylsulfamoyl group, 4- (2,4-di-t-amylphenoxy) alkylsulfamoyl groups such as butylaminosulfonyl group, arylsulfamoyl groups such as phenylsulfamoyl group), alkylthio groups (for example, methylthio group, t-octylthio group, etc.) ), An arylthio group (for example, phenylthio group), and a heterocyclic thio group (for example, 1-phenyltetrazol-5-thio group, 5-methyl-1,3,4-oxadiazole-2-thio group). Can be mentioned.

シクロアルキル基、アルケニル基の例としては、上記置換基と同様である。また、アルキニル基の例としては、1−プロピン、2−ブチン、1−ヘキシン等が挙げられる。   Examples of the cycloalkyl group and the alkenyl group are the same as the above substituents. Examples of the alkynyl group include 1-propyne, 2-butyne, 1-hexyne and the like.

71、R72で非芳香族性の環状構造(例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等)を形成するのも好ましい。 It is also preferred that R 71 and R 72 form a non-aromatic cyclic structure (eg, pyrrolidine ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.).

73は置換基を表し、置換基の例としては、上記R71、R72の置換基の例が挙げられる。上記置換基の中でもアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。nは0〜4の整数を表し、nが2以上の場合、複数のR73は同じでも異なっていてもよい。 R 73 represents a substituent, and examples of the substituent include the examples of the substituent of R 71 and R 72 described above. Among the above substituents, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, and an acylamino group are preferable. n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, the plurality of R 73 may be the same or different.

74およびR75はアルキル基を表し、その例としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、3−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。R74、R75の少なくとも1つは2級アルキル基を表し、2級のアルキル基の例としてはイソプロピル基、sec−ブチル基、3−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、などが挙げられる。R74、R75の2級アルキル基として最も好ましい置換基はイソプロピル基である。R75の2級アルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。R74とR75は同じでも良いし、異なっていても良い。 R 74 and R 75 represent an alkyl group, and examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, isopropyl group, Examples thereof include a sec-butyl group, a tert-butyl group, a 3-heptyl group, and a 2-ethylhexyl group. At least one of R 74 and R 75 represents a secondary alkyl group, and examples of the secondary alkyl group include an isopropyl group, a sec-butyl group, a 3-heptyl group, and a 2-ethylhexyl group. The most preferred substituent as the secondary alkyl group for R 74 and R 75 is an isopropyl group. The secondary alkyl group of R 75 may be substituted, but is all substituted with a substituent consisting of a carbon atom and a hydrogen atom, and is not substituted with a substituent containing other atoms. R 74 and R 75 may be the same or different.

h.一般式(8)で表される昇華性染料   h. Sublimable dyes represented by general formula (8)

Figure 2008080735
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上記一般式(8)において、R81及びR82は各々置換または無置換の脂肪族基を表し、R81及びR82は同じでも異なっていてもよい。脂肪族基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。これらのアルキル基を置換しうる基としては、直鎖あるいは分岐のアルキル基、シクロアルキル基、及びアルケニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、カルボニルオキシ基、ウレタン基、スルホニルオキシ基、アミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルホニル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基等が挙げられる。 In the general formula (8), R 81 and R 82 each represent a substituted or unsubstituted aliphatic group, and R 81 and R 82 may be the same or different. Examples of the aliphatic group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Examples of the group capable of substituting these alkyl groups include linear or branched alkyl groups, cycloalkyl groups, and alkenyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, hydroxy groups, carbonyl groups, Oxycarbonyl group, carbamoyl group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, carbonyloxy group, urethane group, sulfonyloxy group, amino group, sulfonylamino group, sulfamoylamino group, acylamino group, ureido group, sulfonyl Group, sulfamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group and the like.

シクロアルキル基、アルケニル基の例としては、上記置換基と同様である。   Examples of the cycloalkyl group and the alkenyl group are the same as the above substituents.

81、R82として、非芳香族性の環状構造(例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等)を形成する基も好ましい。 As R 81 and R 82 , a group that forms a non-aromatic cyclic structure (eg, pyrrolidine ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.) is also preferable.

83は上記置換基の中でもアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。nは0〜4の整数を表し、nが2以上の場合、複数のR83は同じでも異なっていてもよい。 R 83 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group or an acylamino group among the above substituents. n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, the plurality of R 83 may be the same or different.

84はアルキル基であり、好ましくは2級または3級アルキル基である。R84のアルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており。その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。 R84 is an alkyl group, preferably a secondary or tertiary alkyl group. Alkyl group R 84 is optionally substituted, all of which are substituted with a substituent consisting of carbon and hydrogen atoms. They are not substituted with substituents containing other atoms.

85はアルキル基であり、好ましくは2級または3級アルキル基である。 R85のアルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており。その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。 R 85 is an alkyl group, preferably a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group of R 85 may be substituted, but is all substituted with a substituent consisting of a carbon atom and a hydrogen atom. They are not substituted with substituents containing other atoms.

86はアルキル基を表し、特に好ましい置換基は、炭素数3以上の直鎖のアルキル基である。なお、R86のアルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。 R 86 represents an alkyl group, and a particularly preferred substituent is a linear alkyl group having 3 or more carbon atoms. The alkyl group represented by R 86 may be substituted, but is all substituted with a substituent consisting of a carbon atom and a hydrogen atom, and is not substituted with a substituent containing other atoms.

(iii)その他化合物
本工程に用いられる染料層には必要に応じて、上記バインダー樹脂および上記昇華性染料以外の他の化合物が含まれていても良い。本工程に用いられる他の化合物としては、離型剤を挙げることができる。本工程においては染料熱転写シートの染料層に離型剤が含まれることにより、上記染料層と、後述する熱転写受像シートの受容層とが融着すること防止できるため、上記他の化合物として離型剤を用いることが好ましい。
(Iii) Other compounds The dye layer used in this step may contain other compounds than the binder resin and the sublimable dye, if necessary. Examples of other compounds used in this step include a release agent. In this step, by including a release agent in the dye layer of the dye thermal transfer sheet, it is possible to prevent the dye layer and the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet described later from being fused, so that the mold release is performed as the other compound. It is preferable to use an agent.

上記離型剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などが挙げられる。上記シリコーン系界面活性剤とは、疎水性部分がシリコーン樹脂からなり、これの末端及び/又は側鎖に親水性基が導入された化合物である。シリコーン樹脂には、その代表としてポリ(ジメチル)シロキサンが挙げられ、メチルフェニルジメチルポリシロキサン、テトラメチルテトラフェニルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン・ポリメチルフェニルシロキサンコポリマー、ポリメチルシロキサン、テトラメチルポリメチルシロキサン、ポリメチルシロキサン・ポリジメチルシロキサンコポリマーなど、側鎖のメチル基の一部或いは、全てがフェニル基や水素原子等に置換されたものなどが挙げられる。また、このシリコーン樹脂に導入される親水性基としてはポリエーテル基、ポリグリセリン基、ピロリドン基、ベタイン基、硫酸塩基、水酸基、カルボキシル基、リン酸塩基、4級アンモニウム塩基等を挙げることができる。   Examples of the release agent include silicone surfactants and fluorine surfactants. The silicone surfactant is a compound in which a hydrophobic part is made of a silicone resin and a hydrophilic group is introduced into the terminal and / or side chain thereof. Typical examples of the silicone resin include poly (dimethyl) siloxane, methylphenyldimethylpolysiloxane, tetramethyltetraphenylpolysiloxane, dimethylpolysiloxane / polymethylphenylsiloxane copolymer, polymethylsiloxane, tetramethylpolymethylsiloxane, Examples thereof include polymethylsiloxane / polydimethylsiloxane copolymer in which a part or all of the side chain methyl groups are substituted with phenyl groups or hydrogen atoms. Examples of the hydrophilic group introduced into the silicone resin include a polyether group, a polyglycerin group, a pyrrolidone group, a betaine group, a sulfate group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate group, and a quaternary ammonium base. .

これらのシリコーン樹脂に導入される親水性基は、適宜組合せて使用することができる。また、界面活性剤の構造に関しても、上記のシリコーン樹脂の末端及び/又は側鎖に親水性基を単に導入するだけでなく、親水性基を導入したポリマーと導入しないポリマーをランダム共重合、ブロック共重合するなどしてコポリマー化する等してもよい。これらの中でも、シリコーン樹脂としてポリジメチルシロキサンを、親水性基として、ポリエーテル基、ポリグリセリン基、又はピロリドン基を導入したシリコーン系界面活性剤が好ましく用いられる。   The hydrophilic groups introduced into these silicone resins can be used in appropriate combination. In addition, regarding the structure of the surfactant, not only a hydrophilic group is simply introduced into the terminal and / or side chain of the above-mentioned silicone resin, but also a polymer having a hydrophilic group introduced therein and a polymer having no hydrophilic group introduced therein are randomly copolymerized and blocked. It may be copolymerized by copolymerization. Among these, a silicone surfactant into which polydimethylsiloxane is introduced as a silicone resin and a polyether group, polyglycerin group, or pyrrolidone group is introduced as a hydrophilic group is preferably used.

上記離型剤以外に、本工程における染料層に含むことができる他の化合物としては、例えば、後述する熱転写受像シートとの離型性やインキの塗工適性を向上させるために、ポリエチレンワックス等の有機微粒子や無機微粒子等を挙げることができる。   Other compounds that can be included in the dye layer in this step in addition to the above releasing agent include, for example, polyethylene wax, etc., in order to improve releasability with a thermal transfer image-receiving sheet described later and ink coating suitability. Organic fine particles and inorganic fine particles.

(c)染料熱転写シート
本工程に用いられる染料熱転写シートは、上記染料層および支持基板以外に必要に応じて他の構成を有していても良い。このような他の構成としては、例えば、上記染料層と上記支持基板との間に形成され、染料層と支持基板とを接着する機能を有する易接着層、および、支持基板の上記染料層が形成された面とは反対の面に、サーマルヘッドの熱によるステッキングや印字しわ等の悪影響を防止する機能を有する背面層(耐熱滑性層と称する場合もある)を挙げることができる。
(C) Dye thermal transfer sheet The dye thermal transfer sheet used in this step may have other configurations as necessary in addition to the dye layer and the support substrate. As such other configurations, for example, an easy-adhesion layer that is formed between the dye layer and the support substrate and has a function of bonding the dye layer and the support substrate, and the dye layer of the support substrate includes A back layer (sometimes referred to as a heat-resistant slipping layer) having a function of preventing adverse effects such as sticking or printing wrinkles due to heat of the thermal head can be given on the surface opposite to the formed surface.

上記易接着層を構成する材料としては、上記染料層と上記支持基板とを所望の強度で接着できるものであれば特に限定されない。このような材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂やポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリビニルアセトアセタールやポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂等を挙げることができる。   The material constituting the easy-adhesion layer is not particularly limited as long as the dye layer and the support substrate can be bonded with desired strength. Examples of such materials include polyester resins, polyacrylate resins, polyvinyl acetate resins, polyurethane resins, styrene acrylate resins, polyacrylamide resins, polyamide resins, polyether resins, polystyrene. Resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl resin such as polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl acetal resin such as polyvinyl acetoacetal and polyvinyl butyral, and the like.

上記背面層としては、通常、樹脂材料に滑り性付与剤が添加された材料から構成されるものが用いられる。上記樹脂材料としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリブタジエン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルポリオール、ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン又はエポキシのプレポリマー、ニトロセルロース樹脂、セルロースナイトレート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、セルロースアセテートヒドロジエンフタレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂等を挙げることができる。   As the back layer, a layer made of a material obtained by adding a slipperiness imparting agent to a resin material is usually used. Examples of the resin material include polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetoacetal resin, polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyether resin, polybutadiene resin, styrene-butadiene copolymer, acrylic polyol, polyurethane acrylate, and polyester. Acrylate, polyether acrylate, epoxy acrylate, urethane or epoxy prepolymer, nitrocellulose resin, cellulose nitrate resin, cellulose acetate propionate resin, cellulose acetate butyrate resin, cellulose acetate hydrodiene phthalate resin, cellulose acetate resin, aroma Group polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polycarbonate resin, chlorinated polyolefin resin, etc. It can gel.

また、上記滑り性付与剤としては、リン酸エステル、シリコーンオイル、グラファイトパウダー、シリコーン系グラフトポリマー、フッ素系グラフトポリマー、アクリルシリコーングラフトポリマー、アクリルシロキサン、アリールシロキサン等のシリコーン重合体を挙げることができる。   Examples of the slipperiness-imparting agent include phosphoric acid esters, silicone oil, graphite powder, silicone-based graft polymers, fluorine-based graft polymers, acrylic silicone graft polymers, acrylic polymers, and silicone polymers such as arylsiloxanes. .

また、本工程においては、上記背面層として、ポリアルコール高分子化合物とポリイソシアネート化合物及びリン酸エステル系化合物からなる層であり、さらに充填剤を添加したものを用いても良い。   Moreover, in this process, it is a layer which consists of a polyalcohol polymer compound, a polyisocyanate compound, and a phosphate ester type compound as the above-mentioned back layer, and what added the filler further may be used.

本工程に用いられる染料熱転写シートは、上記支持基板上に、上記染料層が形成されたものであるが、上記染料層の態様としては、上記支持基板上に1色の単一層で構成されても良く、あるいは、色相の異なる染料を含む複数の染料層を同一支持基板の同一面に面順次に繰り返し形成されていても良い。   The dye thermal transfer sheet used in this step is one in which the dye layer is formed on the support substrate. As an aspect of the dye layer, a single color single layer is formed on the support substrate. Alternatively, a plurality of dye layers containing dyes having different hues may be repeatedly formed in the surface order on the same surface of the same support substrate.

また、本工程に用いられる染料熱転写シートは、上記支持基板上に上記染料層以外の他の層を有する熱転写シートとしてもよい。上記熱転写シートとしては、例えば、上記支持基板上に、上記染料層および後述する保護層形成用層が形成されたものを挙げることができる。このような熱転写シートとしては、図2(a)に例示するように、上記熱転写シート40が、上記染料層2と上記保護層形成用層12が同一支持基板1の同一面に面順次に繰り返し配置されたものを挙げることができる。ここで、上記染料層が、複数の染料層を有する場合においては、例えば、複数の染料層として、Y染料層、M染料層、C染料層、である場合には、図2(b)に例示するように、上記熱転写シート40は、Y染料層31、M染料層32、C染料層33からなる染料層30と、上記保護層形成用層12とが、交互に配置されたものを挙げることができる。
この場合、本工程と、後述する保護層形成工程は、同一の加熱手段を用いて実施することが容易になり、熱転写印画物の製造装置を簡略化することができる。
Moreover, the dye thermal transfer sheet used in this step may be a thermal transfer sheet having a layer other than the dye layer on the support substrate. Examples of the thermal transfer sheet include those in which the dye layer and a protective layer forming layer described later are formed on the support substrate. As such a thermal transfer sheet, as illustrated in FIG. 2A, the thermal transfer sheet 40 is formed by repeating the dye layer 2 and the protective layer forming layer 12 on the same surface of the same support substrate 1 in a surface sequential manner. The one arranged can be mentioned. Here, when the dye layer has a plurality of dye layers, for example, when a plurality of dye layers are a Y dye layer, an M dye layer, and a C dye layer, FIG. As illustrated, the thermal transfer sheet 40 includes a dye layer 30 composed of a Y dye layer 31, an M dye layer 32, and a C dye layer 33, and the protective layer forming layer 12 arranged alternately. be able to.
In this case, this step and a protective layer forming step described later can be easily performed using the same heating means, and the apparatus for producing a thermal transfer printed product can be simplified.

(d)染料熱転写シートの製造方法
次に、本工程に用いられる染料熱転写シートの製造方法について説明する。本工程に用いられる染料熱転写シートは、例えば、適当な溶剤中に上記バインダー樹脂、昇華性染料、および、必要に応じて他の化合物を溶解または分散させて染料層形成用塗工液を調製し、その後、この染料層形成用塗工液を支持基板上に塗布、乾燥させて、支持基板上に染料層を形成することにより製造することができる。上記染料層形成用塗工液を支持基板上に塗布する塗布方法としては、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法等の公知の手段を用いることができる。このようにして形成された染料層は、乾燥時の塗工量が0.2g/m〜6.0g/mの範囲内が好ましく、特に0.3g/m〜2.0g/mの範囲内が好ましい。
(D) Method for Producing Dye Thermal Transfer Sheet Next, a method for producing the dye thermal transfer sheet used in this step will be described. The dye thermal transfer sheet used in this step is, for example, a dye layer forming coating solution prepared by dissolving or dispersing the binder resin, sublimation dye, and other compounds as necessary in an appropriate solvent. Thereafter, the dye layer-forming coating solution can be applied to a support substrate and dried to form a dye layer on the support substrate. As an application method for applying the dye layer forming coating solution onto the support substrate, known means such as a gravure printing method, a screen printing method, a reverse roll coating method using a gravure plate, and the like can be used. Thus the dye layer thus formed is coated amount after drying of preferably in the range of 0.2g / m 2 ~6.0g / m 2 , especially 0.3g / m 2 ~2.0g / m A range of 2 is preferable.

本工程に用いられる染料熱転写シートとして上記背面層を有する染料熱転写シートを用いる場合、上記背面層の形成方法としては、上記支持基板上に、上記樹脂材料、滑り性付与剤、さらに充填剤を、適当な溶剤により溶解又は分散させて、背面層形成用塗工液を調整し、これを、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法等の形成手段により塗工し、乾燥して形成することができる。背面層の塗工量は、固形分で、0.1g/m〜3.0g/mが好ましい。 When using the dye thermal transfer sheet having the back layer as the dye thermal transfer sheet used in this step, as the method for forming the back layer, on the support substrate, the resin material, the slipperiness imparting agent, and the filler, Dissolve or disperse with an appropriate solvent to prepare a coating solution for forming the back layer, and apply this by forming means such as a gravure printing method, a screen printing method, a reverse roll coating method using a gravure plate, etc. And dried to form. The coating amount of the back layer is a solid, 0.1g / m 2 ~3.0g / m 2 is preferred.

(2)熱転写受像シート
本工程に用いられる熱転写受像シートは、基材と、上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有するものである。以下、このような熱転写受像シートの各構成について説明する。
(2) Thermal transfer image receiving sheet The thermal transfer image receiving sheet used in this step has a base material and a receiving layer formed on the base material and containing a metal ion that can be chelated. Hereinafter, each configuration of the thermal transfer image receiving sheet will be described.

(a)受容層
本工程に用いられる受容層を構成する樹脂としては、キレート可能な金属イオンを含み、かつ色素が染着しやすいものであれば特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。具体的には、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのハロゲン化樹脂;塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂などのハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合体;ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂;ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ樹脂、エチレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニル系モノマーとの共重合体;ポリウレタン;ポリカーボネート;アクリル樹脂;アイオノマー;セルロース誘導体等を用いることができ、これらの中でもハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合樹脂、ポリエステル系樹脂およびビニル系樹脂が好ましい。なお、上記樹脂は、単体で用いても良く、混合物で用いても良い。
(A) Receiving layer The resin constituting the receiving layer used in this step is not particularly limited as long as it contains a chelatable metal ion and the dye is easily dyed, and a known one is used. Can be used. Specifically, polyolefin resins such as polypropylene; halogenated resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; copolymers of halogenated resins such as vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins and other vinyl monomers; polyacetic acid Vinyl resins such as vinyl, polyacrylic acid ester, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; polystyrene resins, polyamide resins, phenoxy resins, olefins such as ethylene and propylene, and other vinyls Polyurethanes; Polycarbonates; Acrylic resins; Ionomers; Cellulose derivatives, etc. Among these, copolymer resins of halogenated resins and other vinyl monomers, poly Ester-based resins and vinyl resins are preferred. In addition, the said resin may be used individually and may be used with a mixture.

本工程に用いられる受容層に含まれる金属イオンは、上述した昇華性染料とキレート可能な金属イオンである。上記金属イオンは、金属イオン含有化合物として供給されるのが一般的である。このような金属イオン含有化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属イオンの無機または有機の塩、および金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の塩および錯体が好ましく、下記一般式(I)で表される金属含有化合物を特に好ましく用いることができる。   The metal ion contained in the receiving layer used in this step is a metal ion that can be chelated with the sublimable dye described above. The metal ions are generally supplied as a metal ion-containing compound. Such a metal ion-containing compound is not particularly limited, and examples thereof include inorganic or organic salts of metal ions and metal complexes. Among them, salts and complexes of organic acids are preferable, and the following general formula The metal-containing compound represented by (I) can be particularly preferably used.

一般式(I) M2+(X) General formula (I) M 2+ (X) m Y - n

上記式において、M2+は2価の金属イオンを表す。Xは、金属イオンM2+に配位結合して錯体を形成することが出来る配位化合物を表し、mは2または4を表す。複数の配位化合物Xは互いに同じであっても異なっていてもよい。Yは金属イオンM2+の対イオンを表し、nは0、1、または2の整数の表す。また、上記式で表される化合物は中心金属に応じて中性の配位子を有してもよく、代表的な配位子としてはHO、NH、ピリジン、N−メチルイミダゾール等が挙げられる。 In the above formula, M 2+ represents a divalent metal ion. X represents a coordination compound capable of forming a complex by coordination bonding to the metal ion M 2+ , and m represents 2 or 4. The plurality of coordination compounds X may be the same as or different from each other. Y represents a counter ion of the metal ion M 2+ , and n represents an integer of 0, 1, or 2. Further, the compound represented by the above formula may have a neutral ligand depending on the central metal, and typical ligands include H 2 O, NH 3 , pyridine, N-methylimidazole, and the like. Is mentioned.

上記式で表される化合物において、M2+は二価の金属イオンを表すが、この金属イオンとしては例えばMg2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+、Fe2+等を挙げることができる。これらの中でも、特にCo2+、Ni2+が好ましい。上記式で表される化合物において、Yは金属イオンM2+の対アニオンを表すが、この対アニオンは有機、又は無機のアニオンであり特に、金属イオンM2+と配位化合物(X)mにより形成される錯体を、例えばメチルエチルケトン、テトラヒドロフラン(THF)等の有機溶媒に溶解可能にする化合物が好ましい。この対アニオンの具体例としては、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、アルキルリン酸、アリールリン酸、アリールホウ酸等の有機塩を挙げることができる。 In the compound represented by the above formula, M 2+ represents a divalent metal ion. Examples of the metal ion include Mg 2+ , Co 2+ , Ni 2+ , Cu 2+ , Zn 2+ , and Fe 2+. . Among these, Co 2+ and Ni 2+ are particularly preferable. In the compound represented by the above formula, Y represents a counter anion of the metal ion M 2+ , and this counter anion is an organic or inorganic anion, and in particular, depending on the metal ion M 2+ and the coordination compound (X) m. Preference is given to compounds which make the complexes formed soluble in organic solvents such as, for example, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran (THF). Specific examples of the counter anion include organic salts such as alkyl carboxylic acid, aryl carboxylic acid, alkyl sulfonic acid, aryl sulfonic acid, alkyl phosphoric acid, aryl phosphoric acid and aryl boric acid.

上記金属イオン含有化合物の受容層における含有量としては、染料熱転写シートから転写されてくる昇華性染料の量によって増減するため、限定されるものではないが、受容層を構成する全固形分に対して50質量%以下が好ましく、特に40質量%以下がより好ましい。金属イオン含有化合物を50質量%以上導入すると、受容層と基材との密着性が低下し、また熱転写受像シートを巻いた場合に、熱転写受像シートの裏面と受容層がブロッキングを起こす可能性があるからである。   The content of the metal ion-containing compound in the receiving layer is not limited because it varies depending on the amount of sublimable dye transferred from the dye thermal transfer sheet, but is not limited to the total solid content constituting the receiving layer. Is preferably 50% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less. When the metal ion-containing compound is introduced in an amount of 50% by mass or more, the adhesion between the receiving layer and the substrate is lowered, and when the thermal transfer image receiving sheet is wound, the back surface of the thermal transfer image receiving sheet and the receiving layer may be blocked. Because there is.

(b)基材
本工程に用いられる基材を構成する材料としては、画像形成時に加えられる熱に耐え、取り扱い上支障のない機械的特性を有するものであれば特に限定されない。このような材料としては、例えば、ポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等の樹脂材料からなるプラスチックフィルムまたはシートを用いることができる。
(B) Substrate The material constituting the substrate used in this step is not particularly limited as long as it has mechanical characteristics that can withstand heat applied during image formation and has no trouble in handling. Examples of such materials include polyester, polyarylate, polycarbonate, polyurethane, polyimide, polyetherimide, cellulose derivative, polyethylene, ethylene / vinyl acetate copolymer, polypropylene, polystyrene, acrylic, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride. , Polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, nylon, polyether ether ketone, polysulfone, polyether sulfone, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether, polyvinyl fluoride, tetrafluoroethylene / ethylene, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene, polychloro A plastic film or sheet made of a resin material such as trifluoroethylene or polyvinylidene fluoride It is possible to have.

また、本工程に用いられる基材としては、上記のプラスチックフィルムまたはシート、および上記樹脂材料に白色顔料や充填剤を加えて成膜した白色フィルム、あるいは基材内部にミクロボイドを有するシート、他にコンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、合成紙(ポリオレフィン系、ポリスチレン系)、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、セルロース繊維紙等を用いることができる。   In addition, as the base material used in this step, the above plastic film or sheet, the white film formed by adding a white pigment or a filler to the resin material, the sheet having a micro void inside the base material, or the like Condenser paper, glassine paper, sulfuric acid paper, synthetic paper (polyolefin, polystyrene), fine paper, art paper, coated paper, cast coated paper, synthetic resin or emulsion impregnated paper, synthetic rubber latex impregnated paper, synthetic resin internal paper Cellulose fiber paper or the like can be used.

本工程に用いられる基材の構成としては、単一の層からなる構成であってもよく、または、複数の層が積層された構成を有していても良い。複数の層が積層された構成としては、例えば、セルロース繊維紙と合成紙とが積層された構成や、セルロース繊維紙とプラスチックフィルムとが積層された構成を例示することができる。   As a structure of the base material used for this process, the structure which consists of a single layer may be sufficient, or it may have the structure by which the several layer was laminated | stacked. Examples of the configuration in which a plurality of layers are stacked include a configuration in which cellulose fiber paper and synthetic paper are stacked, and a configuration in which cellulose fiber paper and a plastic film are stacked.

本工程に用いられる基材は、少なくとも片方の表面に接着処理が施されたものであっても良い。このような接着処理としては、上記「1.染料熱転写シート」の項に記載したものと同様であるためここでの説明は省略する。   The base material used in this step may have at least one surface subjected to an adhesion treatment. Such an adhesive treatment is the same as that described in the above section “1. Dye thermal transfer sheet”, and thus the description thereof is omitted here.

本工程に用いられる基材の厚みは、基材を構成する材料に応じて、所望の自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されないが、通常、3μm〜300μmの範囲内が好ましく、特に100μm〜250μmの範囲内が好ましい。   The thickness of the base material used in this step is not particularly limited as long as the desired self-supporting property is obtained, depending on the material constituting the base material, but usually within the range of 3 μm to 300 μm, In particular, the range of 100 μm to 250 μm is preferable.

(c)熱転写受像シート
本工程に用いられる熱転写受像シートは、上記受容層および上記基材以外に他の構成を有していても良い。このような他の構成としては、例えば、基材の受容層を設けた面と反対の面に、熱転写受像シートの搬送性の向上やカール防止などを目的として形成される裏面層や、上記受容層と上記基材との間に所定の機能を付与すること目的として形成される中間層を例示することができる。
(C) Thermal transfer image-receiving sheet The thermal transfer image-receiving sheet used in this step may have another configuration in addition to the receiving layer and the substrate. Such other configurations include, for example, a back layer formed on the surface of the substrate opposite to the surface on which the receiving layer is provided for the purpose of improving the transportability of the thermal transfer image-receiving sheet and preventing curling, and the above-described receiving layer. An intermediate layer formed for the purpose of imparting a predetermined function between the layer and the substrate can be exemplified.

上記裏面層を構成する材料としては、裏面層に所望の機能を付与できる材料であれば特に限定されるものではないが、通常、樹脂材料にフィラーが添加された材料が用いられる。   The material constituting the back layer is not particularly limited as long as it is a material that can impart a desired function to the back layer, but a material obtained by adding a filler to a resin material is usually used.

裏面層を構成する上記樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ハロゲン化ポリマー等を挙げることができる。また、このような樹脂材料をイソシアネート化合物等の硬化剤により硬化したものも使用することができる。   Examples of the resin material constituting the back layer include acrylic resins, cellulose resins, polycarbonate resins, polyvinyl acetal resins, polyvinyl alcohol resins, polyamide resins, polystyrene resins, polyester resins, halogenated polymers, and the like. Can do. Moreover, what hardened | cured such a resin material with hardening | curing agents, such as an isocyanate compound, can also be used.

また、裏面層に含まれる上記フィラーとしては、例えば、アクリル系フィラー、ポリアミド系フィラー、フッ素系フィラー、ポリエチレンワックス等の有機系フィラー、アミノ酸系粉体や、二酸化珪素や金属酸化物などの無機フィラーを挙げることができる。   Examples of the filler contained in the back layer include, for example, acrylic fillers, polyamide fillers, fluorine fillers, organic fillers such as polyethylene wax, amino acid powders, and inorganic fillers such as silicon dioxide and metal oxides. Can be mentioned.

上記中間層としては、例えば、帯電防止層、クッション層、白色顔料および蛍光増白剤を添加した中間層や易接着層等を挙げることができる。   Examples of the intermediate layer include an antistatic layer, a cushion layer, an intermediate layer to which a white pigment and a fluorescent whitening agent are added, an easily adhesive layer, and the like.

また、本工程においては上記裏面層に替えて、帯電防止層、筆記層等を形成してもよい。   In this step, an antistatic layer, a writing layer or the like may be formed instead of the back layer.

(d)熱転写受像シートの製造方法
本工程に用いられる熱転写受像シートの製造方法について説明する。本工程に用いられる熱転写受像シートを製造する方法としては、上述した構成を有する熱転写受像シートを製造できる方法であれば特に限定されないが、通常、上記受容層を構成する樹脂、上記金属イオン、および必要に応じて添加剤等を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で、十分に混練して受容層形成用塗工液を調整した後、これを、上記基材の上に、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法等の形成手段により、塗布・乾燥して受容層を形成することにより製造する方法が用いられる。受容層形成用塗工液の塗工量は、乾燥時で0.5g/m〜4.0g/mであることが好ましい。塗工量が上記範囲よりも少ないと、染料の定着においてムラが生じ、染料受容性が低下する場合があるからである。また、塗工量が上記範囲よりも多いと、生産性等が低下する可能性があるからである。
(D) Manufacturing Method of Thermal Transfer Image Receiving Sheet A manufacturing method of the thermal transfer image receiving sheet used in this step will be described. The method for producing the thermal transfer image-receiving sheet used in this step is not particularly limited as long as it is a method capable of producing the thermal transfer image-receiving sheet having the above-described configuration. Usually, the resin constituting the receptor layer, the metal ions, and If necessary, additives and the like are optionally added, and after sufficiently kneading with a solvent, a diluent, etc. to prepare a coating solution for forming a receiving layer, this is applied on the substrate, for example, a gravure A production method is used in which a receiving layer is formed by applying and drying by a forming means such as a printing method, a screen printing method, or a reverse roll coating method using a gravure plate. The coating amount of the receptor layer forming coating solution is preferably 0.5g / m 2 ~4.0g / m 2 in dry. This is because if the coating amount is less than the above range, unevenness occurs in fixing the dye and the dye acceptability may be lowered. Moreover, it is because productivity etc. may fall when there are more coating amounts than the said range.

(3)熱転写工程
本工程は、上記染料熱転写シートの上記染料層と、上記熱転写受像シートの上記受容層とを対向させて加熱することにより、上記染料層に含まれるキレート可能な昇華性染料を上記受容層に転写することができるものであれば特に限定されるものではない。
本工程においては、加熱手段としては特に限定されるものではないが、一般的な熱転写プリンターに用いられるサーマルヘッド等を用いることができる。
(3) Thermal transfer step In this step, the chelate sublimable dye contained in the dye layer is heated by facing the dye layer of the dye thermal transfer sheet and the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet. There is no particular limitation as long as it can be transferred to the receiving layer.
In this step, the heating means is not particularly limited, but a thermal head used in a general thermal transfer printer can be used.

上記染料層および上記受容層は、加熱・転写時において、接触していてもよく、接触していなくても良いが、本工程においては、接触していることが好ましい。所望の箇所に所望量の昇華性染料を転写させることが容易となるからである。
また上記染料層および上記受容層が、加熱・転写時において、接触している場合は、上記染料熱転写シートおよび上記熱転写受像シートを、加圧してもよい。加圧することで、上記染料層および上記受容層が十分に密着することができ、昇華性染料の転写が容易になり、また転写位置のずれを防止することができるからである。
The dye layer and the receiving layer may or may not be in contact at the time of heating / transfer, but are preferably in contact in this step. This is because it becomes easy to transfer a desired amount of sublimable dye to a desired location.
When the dye layer and the receiving layer are in contact with each other during heating / transfer, the dye thermal transfer sheet and the thermal transfer image receiving sheet may be pressurized. This is because, by applying pressure, the dye layer and the receiving layer can sufficiently adhere to each other, the transfer of the sublimable dye can be facilitated, and the transfer position can be prevented from shifting.

2.保護層形成工程
次に、本工程に用いられる保護層形成工程について説明する。本工程は、上述した熱転写工程により昇華性染料が転写された上記熱転写受像シートの上記受容層、および支持基板と、上記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有する保護層熱転写シートの上記保護層形成用層を対向させて加熱することにより、上記受容層上に保護層を形成する工程である。本工程においては、上記保護層形成用層が熱変換物質を含むことにより、後述する電磁波照射工程で上記受容層と上記保護層との密着性を上げることができる。以下、このような保護層形成工程について説明する。
2. Next, the protective layer forming step used in this step will be described. In this step, the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet to which the sublimable dye has been transferred by the thermal transfer step described above, and a support substrate, and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance, This is a step of forming a protective layer on the receiving layer by heating the protective layer-forming layer of the protective layer thermal transfer sheet having a facing surface. In this step, when the protective layer-forming layer contains a heat conversion substance, the adhesion between the receptor layer and the protective layer can be increased in the electromagnetic wave irradiation step described later. Hereinafter, such a protective layer forming step will be described.

(1)保護層熱転写シート
本工程に用いられる保護層熱転写シートは、支持基板と、上記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有するものである。以下、このような保護層熱転写シートの各構成について詳細に説明する。
(1) Protective layer thermal transfer sheet The protective layer thermal transfer sheet used in this step has a support substrate and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance. Hereinafter, each configuration of such a protective layer thermal transfer sheet will be described in detail.

(a)保護層形成用層
本工程に用いられる保護層形成用層は、後述する支持基板上に形成され、熱変換物質を含み、かつ受容層上に転写されることで、熱変換物質を含む保護層を形成するものであれば特に限定されるものではなく、単層であっても良く、複数層であってもよい。以下、上記保護層形成用層について単層の場合と、複数層の場合について、分けて説明する。
(A) Protective layer forming layer The protective layer forming layer used in this step is formed on a support substrate, which will be described later, contains a heat conversion substance, and is transferred onto the receiving layer to thereby convert the heat conversion substance. The protective layer is not particularly limited as long as the protective layer is included, and may be a single layer or a plurality of layers. Hereinafter, the protective layer forming layer will be described separately in the case of a single layer and the case of a plurality of layers.

(i)単層の場合
本工程に用いられる保護層形成用層が単層の場合においては、上記保護層形成用層が、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性を有し、さらに透明性が良く熱転写印画物の画像の鮮明さを損なわない透明樹脂からなり、かつ熱変換物質を含むものを挙げることができる。
(I) In the case of a single layer When the protective layer forming layer used in this step is a single layer, the protective layer forming layer has durability such as light resistance, weather resistance, abrasion resistance, Furthermore, the thing which consists of transparent resin which is transparent and does not impair the clarity of the image of a thermal transfer printed matter, and contains a heat conversion substance can be mentioned.

本工程において、上記保護層形成用層に用いられる透明樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリウレタン、アクリルウレタン樹脂、および、これらの樹脂のシリコーン変性樹脂、そして、これらの透明樹脂の混合物等を挙げることができる。   In this step, as the transparent resin used for the protective layer forming layer, for example, polyester, polystyrene, acrylic resin, polyurethane, acrylic urethane resin, silicone modified resin of these resins, and these transparent resins A mixture etc. can be mentioned.

本工程において、上記保護層形成用層に含まれる熱変換物質としては、後述する電磁波を吸収し、熱に変換することができるものであれば特に限定されるものではない。このような熱変換物質としては、照射する電磁波によって異なるが、例えば、上記電磁波がマイクロ波である場合には、材料中に水酸基を有している樹脂がマイクロ波の特性から好ましい。樹脂としては、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、アクリル、アクリルーポリエステル共重合物、アルキド、シリコンポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシのエポキシ基をアルカノールアミンで開環してOH基などにしたものがあるが、各波長の電磁波を選択的に吸収し熱へと効率的に変換できる事及び受像層への密着性の観点からポリビニルブチラール、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリルが望ましく、特にポリビニルブチラールが好ましい。
また、上記電磁波が赤外線である場合には、具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化鉛、酸化ビスマス等の無機赤外線吸収剤、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノンン系化合物、アントラキノン系化合物、アルミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、ジイモニウム類、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類等の有機赤外線吸収剤を1種類、または2種類以上混合して用いることができる。通常、対イオン構造の赤外線吸収剤を用いた場合には、その赤外線吸収剤が含有される透明樹脂が水酸基やカルボキシル基、重合開始剤等を有する場合には、その水酸基やカルボキシル基、重合開始剤等により対イオンの均衡状態が崩れ、赤外線吸収の機能を果たすことが困難となる場合がある。
本発明においては、上述した透明樹脂を用いることから、対イオン構造の赤外線吸収剤であっても、反応等することがなく、本発明の効果をより発揮することができるという面から、上記の中でも対イオン構造を有するジイモニウム類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類、アルミニウム化合物、シアニン系化合物、ピリリウム系化合物であることが好ましく、特にジイモニウム類またはシアニン系化合物が好ましい。
In this step, the heat conversion substance contained in the protective layer forming layer is not particularly limited as long as it can absorb an electromagnetic wave to be described later and convert it into heat. As such a heat conversion substance, although it changes with electromagnetic waves to irradiate, for example, when the said electromagnetic waves are a microwave, resin which has a hydroxyl group in material is preferable from the characteristic of a microwave. As resins, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyurethane polyol, polyether polyol, acrylic, acrylic polyester copolymer, alkyd, silicon polyester, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, epoxy epoxy ring opening with alkanolamine However, from the viewpoint of selective absorption of electromagnetic waves of each wavelength and efficient conversion to heat and adhesion to the image receiving layer, both polyvinyl butyral and vinyl chloride-vinyl acetate are available. Polymers and acrylics are desirable, and polyvinyl butyral is particularly preferred.
Further, when the electromagnetic wave is infrared, specifically, tin oxide, indium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, nickel oxide, aluminum oxide, zinc oxide, iron oxide, antimony oxide, Inorganic infrared absorbers such as lead oxide and bismuth oxide, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, aluminum compounds, pyrylium compounds, cerium compounds, squarylium compounds, One or more organic infrared absorbers such as diimoniums, copper complexes, nickel complexes, and dithiol complexes can be used. Usually, when an infrared absorber having a counter ion structure is used, if the transparent resin containing the infrared absorber has a hydroxyl group, a carboxyl group, a polymerization initiator, etc., the hydroxyl group, carboxyl group, polymerization start In some cases, the counter ion balance may be lost due to the agent or the like, making it difficult to perform the function of absorbing infrared rays.
In the present invention, since the above-described transparent resin is used, even if it is an infrared absorber having a counter ion structure, the above-mentioned effects can be exhibited without causing a reaction or the like. Among these, diimoniums having a counter ion structure, nickel complexes, dithiol complexes, aluminum compounds, cyanine compounds, and pyrylium compounds are preferable, and diimonium compounds or cyanine compounds are particularly preferable.

また、上記熱変換物質の保護層形成用層における含有量としては、所望の熱量に変換することができ、かつ上記保護層形成用層が転写されて保護層が形成された際に、熱転写印画物の鮮明さ、耐久性等の保護層としての機能を妨げるものでなければ特に限定されるものではないが、例えば、ジイモニウム類のように透明性に影響を与えるものを用いる場合には、上記保護層形成用層の全固形分に対して、0.1質量%〜10質量%の範囲内、中でも1質量%〜6質量%の範囲内であることが好ましい。   In addition, the content of the heat conversion substance in the protective layer forming layer can be converted into a desired amount of heat, and when the protective layer forming layer is transferred to form a protective layer, thermal transfer printing is performed. It is not particularly limited as long as it does not interfere with the function as a protective layer such as the sharpness and durability of the object.For example, when using a material that affects transparency, such as diimoniums, The total solid content of the protective layer forming layer is preferably in the range of 0.1% by mass to 10% by mass, and more preferably in the range of 1% by mass to 6% by mass.

単層の場合の保護層形成用層の厚みは、所望の耐久性等を得ることができれば特に限定されるものではないが、具体的には0.3μm〜5μmの範囲内、中でも0.5μm〜1.5μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the protective layer-forming layer in the case of a single layer is not particularly limited as long as desired durability and the like can be obtained, but specifically, within the range of 0.3 μm to 5 μm, particularly 0.5 μm. It is preferable to be within a range of ˜1.5 μm.

(ii)複数層の場合
本工程に用いられる保護層形成用層が複数層である場合の層構成としては、2層以上であれば特に限定されるものではない。本工程においては、上記保護層形成用層が剥離層と接着層と、を上記支持基板上にこの順で積層したものを好ましく用いることができる。
上記保護層形成用層が上記剥離層と接着層を有することにより、受容層上に転写され保護層を形成した際に、上記保護層は、上記受容層上に形成された接着層と、上記接着層上に形成された剥離層とを有することになる。そのため、上記接着層が保護層と受容層との密着性を高める機能を発揮し、上記剥離層が、上記受容層に転写された印画物の耐久性等を向上させる機能を発揮することになる。そのため、時間経過に伴う剥離の可能性の少ない保護層を形成することが可能となるからである。
(Ii) In the case of a plurality of layers The layer structure when the protective layer forming layer used in this step is a plurality of layers is not particularly limited as long as it is two or more layers. In this step, it is possible to preferably use the protective layer forming layer obtained by laminating the release layer and the adhesive layer in this order on the support substrate.
When the protective layer forming layer has the release layer and the adhesive layer, when the protective layer is transferred onto the receptor layer to form the protective layer, the protective layer includes the adhesive layer formed on the receptor layer, and And a release layer formed on the adhesive layer. Therefore, the adhesive layer exhibits the function of improving the adhesion between the protective layer and the receiving layer, and the release layer exhibits the function of improving the durability and the like of the printed material transferred to the receiving layer. . For this reason, it is possible to form a protective layer with little possibility of peeling with time.

上記剥離層の材料としては、上記「(i)単層の場合」の項に記載した透明樹脂と同様のものを用いることができるため、ここでの記載は省略する。
上記剥離層の厚みとしては、所望の耐久性等を得ることができれば特に限定されるものではなく、上記保護層形成用層を構成する他の層に応じて設定することができる。
As the material of the release layer, the same material as the transparent resin described in the section “(i) In the case of a single layer” can be used, and the description here is omitted.
The thickness of the release layer is not particularly limited as long as desired durability or the like can be obtained, and can be set according to other layers constituting the protective layer forming layer.

上記接着層の材料としては、所望の強度で接着できる熱可塑性樹脂であれば特に限定されない。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、スチレン−アクリル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂等を挙げることができる。
上記接着層の厚みとしては、0.1μm〜3μmの範囲が好ましい。上記範囲より薄いと上記受容層に形成された保護層が剥離する可能性があるためであり、上記範囲より厚いと上記接着層に用いられる熱可塑性樹脂を加熱により溶融させるのに要する時間が長いものとなり、熱転写印画物の生産性が低下するためである。
The material of the adhesive layer is not particularly limited as long as it is a thermoplastic resin that can be bonded with a desired strength. Examples of such thermoplastic resins include acrylic resins, vinyl chloride resins, vinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, styrene-acryl copolymer resins, polyester resins, polyamide resins, and the like. Can be mentioned.
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.1 μm to 3 μm. This is because if the thickness is smaller than the above range, the protective layer formed on the receiving layer may be peeled off. If the thickness is larger than the above range, it takes a long time to melt the thermoplastic resin used for the adhesive layer by heating. This is because the productivity of the thermal transfer print is reduced.

複数層の場合の保護層形成用層の厚みは、所望の耐久性等を得ることができれば特に限定されるものではないが、具体的には0.3μm〜5μmの範囲内、中でも0.5μm〜1.5μmの範囲内であることが好ましい。なお上記厚みは、上記保護層形成用層を構成する全ての層を合計した厚みである。   The thickness of the protective layer-forming layer in the case of a plurality of layers is not particularly limited as long as desired durability and the like can be obtained. Specifically, the thickness is in the range of 0.3 μm to 5 μm, particularly 0.5 μm. It is preferable to be within a range of ˜1.5 μm. In addition, the said thickness is the thickness which totaled all the layers which comprise the said layer for protective layer formation.

上記熱変換物質の種類、およびその含有量については、上記「(i)単層の場合」の項に記載したものと同様のものを用いることができるため、ここでの記載は省略する。
なお熱変換物質の含有量とは、上記保護層形成用層を構成する全ての層の全固形分に対する含有量のことである。
About the kind of said heat conversion substance, and its content, since the thing similar to what was described in the above-mentioned "(i) In the case of a single layer" can be used, description here is abbreviate | omitted.
In addition, content of a heat conversion substance is content with respect to the total solid of all the layers which comprise the said layer for protective layer formation.

上記熱変換物質は、上記保護層形成用層が複数層である場合においては、少なくともいずれかの層に含まれていれば特に限定されるものではない。本工程においては、上記保護層形成用層が熱転写受像シートの受容層上に転写され、保護層を形成した際に上記受容層と接する層に含まれるものとすることが好ましく、なかでも上記受容層と接する層にのみ含まれるものとすることが好ましい。
ここで、上記保護層形成用層が、本工程において好適に用いられる層構成である剥離層と、接着層とを上記支持基板上にこの順で積層したものである場合においては、上記熱手変換物質が、上記剥離層または上記接着層のいずれか一方の層に含まれていれば良く、少なくとも接着層に含まれているものとすることが好ましく、なかでも上記接着層にのみ含まれるものとすることが好ましい。
上記剥離層と上記接着層とを有する保護層形成用層を熱転写受像シートの受容層上に転写し保護層を形成した際には、図3に例示するように、上記熱転写受像シート6の受容層5上に、接着層14と、上記接着層14上に形成された剥離層13とからなる保護層20が形成されることになる。
上記保護層を形成する接着層のみが熱変換物質を含むことで、後述する電磁波照射工程において、上記保護層のうち上記受容層と接する接着層のみを選択的に加熱することができる。したがって上記受容層と、上記保護層との密着性をより効率的に高めることができるからである。また、上記受容層と接する接着層のみを選択的に加熱することが可能となることにより、上記接着層と接する上記受容層に含まれる昇華性染料のキレート反応をより効率的に促進することができるからである。
In the case where the protective layer forming layer has a plurality of layers, the heat conversion substance is not particularly limited as long as it is contained in at least one of the layers. In this step, the protective layer-forming layer is preferably transferred to the receptor layer of the thermal transfer image-receiving sheet and included in the layer in contact with the receptor layer when the protective layer is formed. It is preferable to be included only in the layer in contact with the layer.
Here, in the case where the protective layer forming layer is formed by laminating a release layer, which is a layer structure suitably used in this step, and an adhesive layer in this order on the support substrate, The conversion substance only needs to be contained in either one of the release layer or the adhesive layer, and is preferably contained in at least the adhesive layer, and only included in the adhesive layer. It is preferable that
When the protective layer-forming layer having the release layer and the adhesive layer is transferred onto the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet to form a protective layer, as shown in FIG. 3, the thermal transfer image receiving sheet 6 is received. On the layer 5, a protective layer 20 composed of the adhesive layer 14 and the release layer 13 formed on the adhesive layer 14 is formed.
Since only the adhesive layer forming the protective layer contains the heat conversion substance, only the adhesive layer in contact with the receiving layer in the protective layer can be selectively heated in the electromagnetic wave irradiation step described later. Therefore, the adhesion between the receiving layer and the protective layer can be more efficiently increased. Further, by selectively heating only the adhesive layer in contact with the receptor layer, it is possible to more efficiently promote the chelation reaction of the sublimable dye contained in the receptor layer in contact with the adhesive layer. Because it can.

(iii)その他成分
本工程に用いられる保護層形成用層は、上記熱変換物質のほかに、光安定化剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、充填材等を含有していても良い。
上記紫外線吸収剤としては、黄色味を帯びない保護層を得ることができる限り特に限定されるものではないが、具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系等の紫外線吸収剤を挙げることができるが、中でも、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。上記紫外線吸収剤の使用量は、黄色味を帯びない保護層を得ることができれば特に限定されるものではなく、任意に選択することができる。
(Iii) Other components The protective layer forming layer used in this step may contain a light stabilizer, an antioxidant, a fluorescent brightening agent, a filler and the like in addition to the heat conversion substance.
The ultraviolet absorber is not particularly limited as long as a protective layer not yellowish can be obtained, and specifically, salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, triazine-based, substituted acrylonitrile-based , Nickel chelate-based, hindered amine-based ultraviolet absorbers, etc., among which benzotriazole-based ultraviolet absorbers are preferred. The usage-amount of the said ultraviolet absorber will not be specifically limited if the protective layer which does not get yellowish can be obtained, It can select arbitrarily.

また、本工程に用いられる光安定化剤は、光の照射等によって生成するラジカルを捕捉し、保護層の耐光性をより向上させるために用いられるものである。このような光安定化剤としては、具体的には、ヒンダードアミン系、フェノール系、ホスファイト系等の光安定化剤を挙げることができ、中でも、ヒンダードアミン系光安定化剤が好ましい。上記光安定化剤の使用量は、透明性、耐久性を阻害しない阻害しない限り特に限定されるものではなく、任意に選択することができる。   The light stabilizer used in this step is used for capturing radicals generated by light irradiation or the like and further improving the light resistance of the protective layer. Specific examples of such light stabilizers include hindered amine-based, phenol-based, and phosphite-based light stabilizers. Among them, hindered amine-based light stabilizers are preferable. The amount of the light stabilizer used is not particularly limited as long as it does not inhibit transparency and durability, and can be arbitrarily selected.

(b)支持基板
上記支持基板としては、上記保護層形成用層を形成することができ、かつ加熱により上記保護層形成用層を上記熱転写受像シートの上記受容層に転写することで保護層を形成できるものであれば特に限定されるものでない。このような支持基板としては、上記「1.熱転写工程」の、「(1)染料熱転写シート」の、「(a)支持基板」と同様のものを用いることができるので、ここでの記載は省略する。
(B) Support substrate As the support substrate, the protective layer forming layer can be formed, and the protective layer forming layer is transferred to the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet by heating to form the protective layer. There is no particular limitation as long as it can be formed. As such a support substrate, the same as “(a) Support substrate” of “(1) Dye thermal transfer sheet” in “1. Thermal transfer step” can be used. Omitted.

(c)保護層熱転写シート
本工程に用いられる保護層熱転写シートは、必要に応じて、上記保護層形成用層以外の層構成を有するものであってもよい。例えば、上記保護層熱転写シートが背面層および離型層を有するものを挙げることができる。
上記背面層としては、上記「(1)染料熱転写シート」の「(c)染料熱転写シート」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。
上記離型層としては、上記保護層形成用層と支持基板との間に形成され、上記保護層形成用層を上記熱転写受像シートの上記受容層上に熱転写する際の、上記保護層形成用層と支持基板との離型性を向上させる目的で設けられるものである。このような離型層としては、例えば、特開2001−347759号公報に記載されたものを挙げることができる。
(C) Protective layer thermal transfer sheet The protective layer thermal transfer sheet used in this step may have a layer configuration other than the protective layer forming layer, if necessary. For example, the protective layer thermal transfer sheet may have a back layer and a release layer.
As the back layer, the same layer as described in the section “(c) Dye thermal transfer sheet” of “(1) Dye thermal transfer sheet” can be used.
The release layer is formed between the protective layer forming layer and the support substrate, and is used for forming the protective layer when the protective layer forming layer is thermally transferred onto the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet. It is provided for the purpose of improving the releasability between the layer and the support substrate. Examples of such a release layer include those described in JP-A-2001-347759.

本工程に用いられる保護層熱転写シートの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、保護層形成用層を構成する上記熱変換物質、透明樹脂、およびその他添加剤等を含有する塗工液を作製し、基材上に塗布する方法が挙げられる。この際の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、ロールコート法等を挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the protective layer thermal transfer sheet used for this process, For example, the said heat conversion substance which comprises the layer for protective layer formation, transparent resin, and other additives etc. are contained. A method of preparing a coating solution and applying it on a substrate is mentioned. Examples of the coating method at this time include a gravure coating method, a gravure reverse coating method, and a roll coating method.

(2)保護層形成工程
本工程は、上記保護層熱転写シートの上記保護層形成用層と、上記熱転写受像シートの上記受容層とを対向させて加熱し、上記保護層形成用層を転写することにより、上記受容層上に保護層を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。
本工程において、加熱手段としては特に限定されるものではないが、一般的な熱転写プリンターに用いられるサーマルヘッド等を用いることができる。
(2) Protective layer forming step In this step, the protective layer forming layer of the protective layer thermal transfer sheet and the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet are heated facing each other to transfer the protective layer forming layer. Thus, there is no particular limitation as long as a protective layer can be formed on the receiving layer.
In this step, the heating means is not particularly limited, but a thermal head or the like used in a general thermal transfer printer can be used.

上記保護層形成用層および上記受容層は、加熱により、上記受容層上に保護層が形成されるものであれば接触していてもよく、接触していなくても良いが、本工程においては、接触していることが好ましい。保護層の形成を確実なものとするためである。また上記保護層形成用層および上記受容層が、加熱・転写時において、接触している場合は、上記保護層熱転写シートおよび上記熱転写受像シートを、加圧してもよい。加圧することで、上記保護層形成用層の上記受容層上への転写が容易になったり、エアー噛みを防止することができるからである。   The protective layer-forming layer and the receiving layer may be in contact with each other as long as the protective layer is formed on the receiving layer by heating. It is preferable that they are in contact with each other. This is to ensure the formation of the protective layer. In addition, when the protective layer forming layer and the receiving layer are in contact with each other during heating / transfer, the protective layer thermal transfer sheet and the thermal transfer image receiving sheet may be pressurized. This is because, by applying pressure, the transfer of the protective layer forming layer onto the receiving layer can be facilitated, and air biting can be prevented.

3.電磁波照射工程
次に、本工程に用いられる電磁波照射工程について説明する。本工程は、上記保護層形成工程によって、熱転写受像シートの受容層上に形成された上記熱変換物質を含む保護層に電磁波を照射することにより、上記保護層を加熱する工程である。上記保護層を加熱することにより、上記保護層と上記受容層との密着性を高めることができ、さらに上記保護層が形成された受容層へも熱を効率的に伝えることにより、転写された昇華性染料のキレート反応を進行させ、熱転写印画物の色相変化等を少ないものとすることができる。以下、このような電磁波照射工程について説明する。
3. Electromagnetic wave irradiation process Next, the electromagnetic wave irradiation process used for this process is demonstrated. This step is a step of heating the protective layer by irradiating the protective layer containing the heat conversion substance formed on the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet with an electromagnetic wave in the protective layer forming step. By heating the protective layer, the adhesion between the protective layer and the receiving layer can be increased, and further, the heat is efficiently transferred to the receiving layer on which the protective layer is formed. The chelation reaction of the sublimable dye can be advanced to reduce the hue change of the thermal transfer printed matter. Hereinafter, such an electromagnetic wave irradiation process will be described.

(1)電磁波
本工程に用いられる電磁波としては、電波(波長1m以上)、マイクロ波(波長1mm〜1m程度)、赤外線(波長1μm〜1mm程度)、可視光線(波長400nm〜1mm程度)、紫外線(波長10nm〜400nm程度)、X線(波長1pm〜10nm程度)、ガンマ線(波長10pm以下)等を挙げることができる。本工程においては、上記電磁波のなかでも、マイクロ波、赤外線を用いることが好ましい。上述した保護層を効率的に加熱することができるためである。
(1) Electromagnetic waves As electromagnetic waves used in this step, radio waves (wavelengths of 1 m or more), microwaves (wavelengths of about 1 mm to 1 m), infrared rays (wavelengths of about 1 μm to 1 mm), visible rays (wavelengths of about 400 nm to 1 mm), ultraviolet rays (Wavelength of about 10 nm to about 400 nm), X-ray (wavelength of about 1 pm to about 10 nm), gamma ray (wavelength of about 10 pm or less), and the like. In this step, among the above electromagnetic waves, it is preferable to use microwaves and infrared rays. This is because the protective layer described above can be efficiently heated.

本工程においては、上記電磁波の出力は、上記保護層を構成する材料、熱変換物質等に応じて適宜設定することができる。   In this step, the output of the electromagnetic wave can be appropriately set according to the material constituting the protective layer, the heat conversion substance, and the like.

本工程のおいては、上記電磁波の1種類のみを用いても良く、また、2種類以上を同時に照射しても良い。   In this step, only one type of the electromagnetic wave may be used, or two or more types may be irradiated simultaneously.

(2)電磁波照射工程
本工程は、熱転写受像シートの受容層上に形成された上記熱変換物質を含む保護層に電磁波を照射することにより、上記保護層を加熱する工程であり、熱転写受像シート上に形成された保護層の表面に、均一な照射量で照射できる方法であれば特に限定されない。このような電磁波の照射方法としては、例えば、熱転写受像シートの保護層が形成されている全面に同時に照射する方法、および、電磁波の照射源または熱転写受像シートの少なくとも一方を移動させながら、順次に照射する方法を挙げることができる。
本工程においてはこれらの態様のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも後者の方法を用いることが好ましい。上記後者の方法によれば熱転写印画物のサイズ、製造速度が変化したとしても、保護層が形成された熱転写受像シートの全面に対して均一に照射することが容易になるからである。
(2) Electromagnetic wave irradiation step This step is a step of heating the protective layer by irradiating the protective layer containing the heat conversion substance formed on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet with an electromagnetic wave, and the thermal transfer image receiving sheet. There is no particular limitation as long as it is a method capable of irradiating the surface of the protective layer formed thereon with a uniform dose. Examples of such electromagnetic wave irradiation methods include, for example, a method of simultaneously irradiating the entire surface of the thermal transfer image receiving sheet on which the protective layer is formed, and sequentially moving while moving at least one of the electromagnetic wave irradiation source or the thermal transfer image receiving sheet. The irradiation method can be mentioned.
In this step, any of these embodiments can be suitably used, but it is particularly preferable to use the latter method. This is because the latter method makes it easy to uniformly irradiate the entire surface of the thermal transfer image-receiving sheet on which the protective layer is formed even if the size and the production rate of the thermal transfer printed matter are changed.

また、本工程に用いられる電磁波の照射源の数は、1つであってもよく、または、複数個を用いても良い。   Further, the number of electromagnetic wave irradiation sources used in this step may be one, or a plurality may be used.

4.熱転写印画物の製造方法
本工程の熱転写印画物の製造方法は、上述した熱転写工程、保護層形成工程、電磁波照射工程を有するものであれば、特に限定されるものではなく、その他の工程を含むものであっても良い。本発明においては、その他の工程として上記熱転写工程の前に、上記染料熱転写シートおよび熱転写受像シートを予め加熱する予備加熱工程を有するものであってもよい。上記予備加熱工程を有することで、上記熱転写工程での加熱時間の短縮や、上記熱転写受像シートの受容層に転写された昇華性染料のキレート化の促進を図れるからである。
4). Manufacturing method of thermal transfer printed matter The manufacturing method of the thermal transfer printed matter in this step is not particularly limited as long as it has the above-described thermal transfer step, protective layer forming step, and electromagnetic wave irradiation step, and includes other steps. It may be a thing. In this invention, you may have the pre-heating process which heats the said dye thermal transfer sheet and a thermal transfer image receiving sheet previously as said other process before the said thermal transfer process. This is because by having the preliminary heating step, it is possible to shorten the heating time in the thermal transfer step and promote chelation of the sublimable dye transferred to the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet.

B.熱転写シート
次に、本発明の熱転写シートについて説明する。本発明の熱転写シートは、支持基板と、上記支持基板上に形成され、少なくとも熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有するものである。
B. Next, the thermal transfer sheet of the present invention will be described. The thermal transfer sheet of the present invention has a support substrate and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing at least a heat conversion substance.

次に、本発明の熱転写シートを図を参照しながら説明する。図4は本発明の熱転写シートの一例を示す概略断面図である。図4に例示するように、本発明の熱転写シート50は、支持基板51と、上記支持基板51上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層52と、を有するものである。   Next, the thermal transfer sheet of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of the thermal transfer sheet of the present invention. As illustrated in FIG. 4, the thermal transfer sheet 50 of the present invention includes a support substrate 51 and a protective layer forming layer 52 formed on the support substrate 51 and containing a heat conversion substance.

本発明によれば、上記保護層形成用層が熱変換物質を含むことにより、加熱・転写により保護層を形成した後に、上記熱変換物質が選択的に吸収できる電磁波を照射することで、保護層を選択的に加熱することができる。したがって、上記保護層を昇華性染料が転写された熱転写受像シートの受容層上に形成した場合には、電磁波を照射することで上記保護層の密着性の向上、転写された昇華性染料のキレート反応の進行による熱転写印画物の色相変化の等耐久性の向上、および生産性の向上を図ることができる。   According to the present invention, the protective layer-forming layer contains a heat conversion substance, and after the protective layer is formed by heating / transfer, the protective layer is irradiated with an electromagnetic wave that can be selectively absorbed by the heat conversion substance. The layer can be selectively heated. Therefore, when the protective layer is formed on the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet to which the sublimation dye is transferred, the adhesion of the protective layer is improved by irradiation with electromagnetic waves, and the transferred sublimation dye chelate It is possible to improve the durability such as the hue change of the thermal transfer printed matter due to the progress of the reaction and the productivity.

本発明の熱転写シートは、支持基板、および保護層形成用層を有するものである。以下このような熱転写シートの各構成について説明する。   The thermal transfer sheet of the present invention has a support substrate and a protective layer forming layer. Hereinafter, each configuration of the thermal transfer sheet will be described.

1.支持基板
本発明に用いられる支持基板は、後述する保護層形成用層を形成することができ、加熱により上記保護層形成用層を転写することが可能であり、かつ安定的に支持することができるものであれば特に限定されるものではない。このような支持基板としては、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「1.熱転写工程」の、「(1)染料熱転写シート」の、「(a)支持基板」の項に記載したものと内容と同様のものを用いることができるため、ここでの記載は省略する。
1. Support Substrate The support substrate used in the present invention can form a protective layer forming layer to be described later, can transfer the protective layer forming layer by heating, and can stably support the layer. There is no particular limitation as long as it is possible. Such a support substrate is described in the section “(a) Support substrate” of “(1) Dye thermal transfer sheet” in “1. Thermal transfer step” of “A. Method for producing thermal transfer print”. Since the thing similar to what was done and the content can be used, description here is abbreviate | omitted.

2.保護層形成用層
本発明に用いられる保護層形成用層は上述した支持基板上に形成され、熱変換物質が含まれ、かつ受容層上に転写されることで、熱変換物質を含む保護層を形成するものであれば特に限定されるものではなく、単層であっても良く、複数層であっても良い。
2. Protective layer forming layer The protective layer forming layer used in the present invention is formed on the above-mentioned support substrate, contains a heat conversion substance, and is transferred onto the receiving layer, thereby containing the heat conversion substance. If it forms, it will not specifically limit, A single layer may be sufficient and multiple layers may be sufficient.

本発明においては、上記保護層形成用層が、剥離層と、熱可塑性樹脂からなる接着層とを上記支持基板上にこの順で積層した複数層からなるものであり、かつ上記接着層にのみ熱変換物質が含まれるものであることが好ましい。このような剥離層と接着層とを有する保護層形成用層を用いて、熱転写受像シートの受容層上に保護層を形成した場合には、図3に例示するように、上記熱転写受像シート6の受容層5上に、接着層14と、上記接着層14上に形成された剥離層13とからなる保護層20が形成されることになる。そのため上記接着層のみが熱変換物質を含むことで、上記受容層と、上記保護層との密着性をより効率的に高めることができ、さらに上記接着層と接する上記受容層に含まれる昇華性染料のキレート反応をより効率的に促進することができるからである。また、サーマルヘッド等によって受容層に転写の際に要する、受容層と保護層との密着性向上のための加熱時間の短縮が可能となることで、ライン速度の向上が図ることができる。   In the present invention, the protective layer-forming layer is composed of a plurality of layers obtained by laminating a release layer and an adhesive layer made of a thermoplastic resin in this order on the support substrate, and only the adhesive layer. It is preferable that a heat conversion substance is contained. When a protective layer is formed on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet using such a protective layer forming layer having a release layer and an adhesive layer, as shown in FIG. 3, the thermal transfer image receiving sheet 6 A protective layer 20 comprising an adhesive layer 14 and a release layer 13 formed on the adhesive layer 14 is formed on the receiving layer 5. Therefore, only the adhesive layer contains a heat conversion substance, whereby the adhesion between the receiving layer and the protective layer can be more efficiently increased, and further, the sublimation property contained in the receiving layer in contact with the adhesive layer. This is because the chelate reaction of the dye can be promoted more efficiently. In addition, it is possible to shorten the heating time for improving the adhesion between the receiving layer and the protective layer, which is required when transferring to the receiving layer with a thermal head or the like, so that the line speed can be improved.

このような保護層形成用層としては、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「2.保護層形成工程」の、「(1)保護層熱転写シート」の、「(a)保護層形成用層」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。   As such a protective layer forming layer, “(a) Protection” of “(1) Protective layer thermal transfer sheet” in “2. Protective layer forming step” of “A. Manufacturing method of thermal transfer printed matter” above. The same materials as those described in the section “Layer forming layer” can be used.

3.熱転写シート
本発明の熱転写シートは、支持基板と、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有するものであれば特に限定されるものではない。
本発明においては、上記支持基板上に、上記保護層形成用層以外の層を有してもよい。本発明の熱転写シートに用いることができる層としては、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有するものが挙げられる。このような染料層を有することにより昇華性染料の転写と、保護層の形成を容易なものとすることができる点において、染料層を有することが好ましい。
3. Thermal Transfer Sheet The thermal transfer sheet of the present invention is not particularly limited as long as it has a support substrate and a protective layer forming layer containing a heat conversion substance.
In this invention, you may have layers other than the said layer for protective layer formation on the said support substrate. Examples of the layer that can be used in the thermal transfer sheet of the present invention include a layer having a dye layer containing a sublimable dye that can be chelated. By having such a dye layer, it is preferable to have a dye layer in that the transfer of the sublimable dye and the formation of the protective layer can be facilitated.

上記染料層を上記支持基板上に有する態様としては、上記染料層に含まれる昇華性染料を転写し所望の画像を形成し、かつ上記保護層形成用層の転写することにより熱変換物質を含む保護層形成ができるものであれば特に限定されない。このような態様としては、上記支持基板上に1色の単一層で構成されても良く、あるいは、色相の異なる染料を含む複数の染料層を同一支持基板上の同一面に面順次に繰り返し形成されていても良い。上記支持基板上に1色の単一層で構成されている態様としては、例えば、既に説明した図2(a)に例示するように、支持基板1上に、染料層2と保護層形成用層12とを、交互に配置したものを挙げることができる。また同一支持基板上に複数の染料層を有する態様として、例えば染料層が、Y染料層、M染料層、C染料層、である場合においては、既に説明した図2(b)に例示するようにY染料層31、M染料層32、C染料層33からなる染料層30と保護層形成用層12とが、交互に配置されたものを挙げることができる。   As an aspect having the dye layer on the support substrate, a sublimation dye contained in the dye layer is transferred to form a desired image, and a heat conversion substance is contained by transferring the protective layer forming layer. There is no particular limitation as long as the protective layer can be formed. As such an embodiment, a single layer of one color may be formed on the support substrate, or a plurality of dye layers containing dyes having different hues are repeatedly formed on the same surface of the same support substrate in the surface order. May be. As an aspect configured by a single layer of one color on the support substrate, for example, as illustrated in FIG. 2A described above, the dye layer 2 and the protective layer forming layer are formed on the support substrate 1. 12 may be mentioned alternately. Further, as an embodiment having a plurality of dye layers on the same support substrate, for example, when the dye layer is a Y dye layer, an M dye layer, or a C dye layer, as illustrated in FIG. Further, there can be mentioned those in which the dye layer 30 composed of the Y dye layer 31, the M dye layer 32, and the C dye layer 33 and the protective layer forming layer 12 are alternately arranged.

本発明においては、上記染料層としては、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の「1.熱転写工程」の、「(1)染料熱転写シート」の、「(b)染料層」の項に記載したものと同様のものを用いることができるので、ここでの記載は省略する。   In the present invention, as the dye layer, the item “(b) Dye layer” in “(1) Dye thermal transfer sheet” in “1. Thermal transfer step” in “A. Method for producing thermal transfer printed matter” above. Since the thing similar to what was described in (1) can be used, description here is abbreviate | omitted.

また、本発明の熱転写シートは、上記以外の層を有するものであってもよい。このような層としては、背面層および離型層を挙げることができる。上記背面層および上記離型層については、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「2.保護層形成工程」の、「(1)保護層熱転写シート」の、「(c)保護層熱転写シート」の項に記載したものと同様であるため、ここでの記載は省略する。   Moreover, the thermal transfer sheet of the present invention may have a layer other than the above. Examples of such a layer include a back layer and a release layer. For the back layer and the release layer, “(c) Protection” of “(1) Protective layer thermal transfer sheet” in “2. Protective layer forming step” in “A. Method for producing thermal transfer print”. Since it is the same as that described in the section “Layer Thermal Transfer Sheet”, the description is omitted here.

本発明の熱転写シートの製造方法は、上記支持基板上に上記保護層形成用層が密着性良く積層されているものであれば特に限定されるものではない。このような保護層付染料熱転写シートの製造方法としては、例えば、保護層形成用層を構成する材料を含有する塗工液を作製し、基材上に塗布する方法が挙げられる。この際の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、ロールコート法等を挙げることができる。   The method for producing the thermal transfer sheet of the present invention is not particularly limited as long as the protective layer forming layer is laminated on the support substrate with good adhesion. Examples of a method for producing such a dye thermal transfer sheet with a protective layer include a method in which a coating liquid containing a material constituting the protective layer forming layer is prepared and applied onto a substrate. Examples of the coating method at this time include a gravure coating method, a gravure reverse coating method, and a roll coating method.

C.熱転写印画物
次に、本発明の熱転写印画物について説明する。本発明の熱転写印画物は、基材、および上記基材上に形成され、金属イオンと昇華性染料とが結合してなるキレート型発色体を含む受容層、を有する熱転写受像シートと、上記受容層上に形成され、熱変換物質を含む保護層と、を有することを特徴とするものである。
C. Next, the thermal transfer print of the present invention will be described. The thermal transfer printed matter of the present invention includes a thermal transfer image-receiving sheet having a substrate, and a receptor layer formed on the substrate and containing a chelate-type color former formed by binding metal ions and a sublimation dye, and the receptor A protective layer formed on the layer and containing a heat conversion substance.

次に、本発明の熱転写印画物について図を参照しながら説明する。図5は本発明の熱転写印画物の一例を示す概略断面図である。図5に示すように、本発明の熱転写印画物60は、基材61と、上記基材61上に形成され、金属イオンと昇華性染料とが結合してなるキレート型発色体を含む受容層62を有する熱転写受像シート63と、上記受容層62上に形成され、熱変換物質を含む保護層64と、を有するものである。   Next, the thermal transfer printed matter of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the thermal transfer print of the present invention. As shown in FIG. 5, the thermal transfer print 60 of the present invention includes a base 61 and a receiving layer that is formed on the base 61 and includes a chelate color former formed by binding a metal ion and a sublimation dye. A thermal transfer image receiving sheet 63 having 62 and a protective layer 64 formed on the receiving layer 62 and containing a heat conversion substance.

本発明によれば、上記保護層が熱変換物質を有することにより、例えば、上記熱変換物質が吸収可能な電磁波を照射することにより、上記受容層と上記保護層との密着性を向上させることができる。また上記密着性の向上と共に、上記昇華性染料のキレート反応を促進することができるため、色相変化等が少ないものとすることができる。   According to the present invention, when the protective layer has a heat conversion substance, for example, by irradiating an electromagnetic wave that can be absorbed by the heat conversion substance, the adhesion between the receiving layer and the protective layer is improved. Can do. Moreover, since the chelate reaction of the sublimable dye can be promoted together with the improvement of the adhesion, the hue change and the like can be reduced.

本発明の熱転写印画物は、熱転写受像シートと、保護層と、を有するものである。以下、このような熱転写印画物の各構成について詳細に説明する。   The thermal transfer printed matter of the present invention has a thermal transfer image receiving sheet and a protective layer. Hereafter, each structure of such a thermal transfer printed matter is demonstrated in detail.

1.熱転写受像シート
本発明に用いられる熱転写受像シートは、基材と、上記基材上に形成され、金属イオンと昇華性染料とが結合してなるキレート型発色体を含む受容層と、を有するものであれば特に限定されるものではない。
1. Thermal transfer image-receiving sheet The thermal transfer image-receiving sheet used in the present invention has a base material and a receiving layer formed on the base material and containing a chelate color former formed by binding a metal ion and a sublimation dye. If it is, it will not specifically limit.

(1)受容層
本発明に用いられる受容層は、後述するキレート型発色体を安定的に含むものであれば特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。
このような受容層を構成する樹脂としては、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「(2)熱転写受像シート」の「(a)受容層」の項に記載したものを用いることができる。
(1) Receiving layer The receiving layer used in the present invention is not particularly limited as long as it contains a chelate color former described later stably, and a known layer can be used.
As the resin constituting such a receiving layer, the resin described in “(a) Receiving layer” of “(2) Thermal transfer image-receiving sheet” of “A. Method for producing thermal transfer printed material” is used. Can do.

本発明に用いられるキレート型発色体は、昇華性染料と金属イオンとが結合してなり、昇華性染料の種類に応じて所望の発色性を有するものであれば特に限定されない。   The chelate color former used in the present invention is not particularly limited as long as it has a sublimable dye and a metal ion bonded to each other and has a desired color developability according to the type of the sublimable dye.

上記昇華性染料としては、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「1.熱転写工程」の「(1)染料熱転写シート」の「(b)染料層」の「(ii)昇華性染料」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。
また、上記金属イオン化合物としては、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「1.熱転写工程」の、「(2)熱転写受像シート」の、「(a)受容層」の項に記載したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
As the sublimation dye, “(ii) Sublimation property of“ (b) Dye layer ”of“ (1) Dye thermal transfer sheet ”of“ 1. Thermal transfer process ”of“ A. Method for producing thermal transfer printed matter ”above. The same dyes as described in the section “Dye” can be used.
In addition, as the metal ion compound, the item “(a) Receptive layer” in “(2) Thermal transfer image-receiving sheet” in “1. Thermal transfer step” in “A. Method for producing thermal transfer print” above. Since it is the same as what was described, description here is abbreviate | omitted.

(2)基材
本発明に用いられる基材は、上記「A.熱転写印画物の製造方法」の、「1.熱転写工程」の、「(2)熱転写受像シート」の、「(b)基材」の項に記載したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
(2) Substrate The base material used in the present invention is the “(b) base” of “(2) Thermal transfer image-receiving sheet” of “1. Thermal transfer step” of “A. Method for producing thermal transfer print”. Since it is the same as that described in the section of “Material”, the description here is omitted.

(3)熱転写受像シート
本発明に用いられる熱転写受像シートのその他の層構成および製造方法については、上記「B.熱転写シート」の、「1.熱転写工程」の、「(2)熱転写受像シート」の項に記載したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
(3) Thermal Transfer Image Receiving Sheet For other layer configurations and manufacturing methods of the thermal transfer image receiving sheet used in the present invention, “(2) Thermal transfer image receiving sheet” in “1. Thermal transfer step” of “B. Thermal transfer sheet” above. Since it is the same as that described in the section, the explanation here is omitted.

2.保護層
本発明に用いられる保護層は、熱変換物質を有し、かつ上記熱転写受像シートを保護し、色相変化、耐磨耗性といった耐久性に優れたものとするものであれば特に限定されるものではない。このような保護層としては、単層であっても良く、複数の層からなるものであってもよい。
2. Protective layer The protective layer used in the present invention is not particularly limited as long as it has a heat conversion substance, protects the thermal transfer image-receiving sheet, and has excellent durability such as hue change and abrasion resistance. It is not something. Such a protective layer may be a single layer or a plurality of layers.

本発明においては、上記保護層が、熱可塑性樹脂からなる接着層と、剥離層と、を上記受容層上にこの順で積層した複数層からなり、かつ上記接着層にのみ熱変換物質が含まれるものであることが好ましい。
上記保護層が、接着層と、剥離層と、を上記受容層上にこの順で積層したものである場合には、図3に例示するように、上記熱転写受像シート6の受容層5上に、接着層14と、上記接着層14上に形成された剥離層13とからなる保護層20が形成されることになる。そのため上記接着層のみが熱変換物質を含むことで、上記熱変換物質が選択的に吸収し、熱に変換することができる電磁波を照射した際に、上記受容層との密着性に最も寄与する上記接着層のみを選択的に加熱することができるからである。また、上記接着層を選択的に加熱することが可能となることにより、上記接着層と接する上記受容層に含まれる昇華性染料のキレート反応をより効率的に促進することができるからである。したがって、上記受容層と上記保護層との密着性を向上および上記昇華性染料のキレート反応促進が容易に図れるため、色相変化等の耐久性に優れたものとすることができるからである。
In the present invention, the protective layer is composed of a plurality of layers in which an adhesive layer made of a thermoplastic resin and a release layer are laminated in this order on the receiving layer, and only the adhesive layer contains a heat conversion substance. It is preferable that
When the protective layer is formed by laminating an adhesive layer and a release layer in this order on the receiving layer, as illustrated in FIG. 3, on the receiving layer 5 of the thermal transfer image receiving sheet 6. Then, a protective layer 20 composed of the adhesive layer 14 and the release layer 13 formed on the adhesive layer 14 is formed. Therefore, only the adhesive layer contains a heat conversion substance, and thus, when the electromagnetic wave that can be selectively absorbed and converted into heat by the heat conversion substance is irradiated, it contributes most to the adhesion with the receiving layer. This is because only the adhesive layer can be selectively heated. Moreover, it is because the chelating reaction of the sublimable dye contained in the receiving layer in contact with the adhesive layer can be more efficiently promoted by selectively heating the adhesive layer. Therefore, the adhesion between the receiving layer and the protective layer can be improved and the chelation reaction of the sublimable dye can be easily promoted, so that the durability such as hue change can be improved.

本発明に用いられる熱変換物質を含む保護層としては、上記「B.熱転写シート」の、「2.保護層形成用層」に記載の保護層形成用層と同様のものを用いることができるため、ここでの記載は省略する。   As the protective layer containing the heat conversion substance used in the present invention, the same protective layer forming layer as described in “2. Protective layer forming layer” of “B. Thermal transfer sheet” can be used. Therefore, the description here is omitted.

3.熱転写印画物
本発明の熱転写印画物は、基材と、上記基材上に形成され、金属イオンと昇華性染料とが結合してなるキレート型発色体を含む受容層を有する熱転写受像シートと、上記受容層上に形成され、熱変換物質を含む保護層と、を有するものであれば特に限定されるものではない。
このような熱転写印画物の製造方法としては、上記熱転写印画物の各構成が密着性よく積層されたものとすることができるものであれば、特に限定されるものではないが、上記「A.熱転写印画物の製造方法」に記載した方法を最も好ましく用いることができる。上記保護層が熱変換物質を有するものであるため、上記熱変換物質が吸収可能な電磁波を照射することで、上記受容層と上記保護層との密着性を向上させることができるからである。また上記密着性の向上と共に、上記昇華性染料のキレート反応を促進することができるため、色相変化等が少ないものとすることができるからである。
3. Thermal transfer printed matterThe thermal transfer printed matter of the present invention is a thermal transfer image-receiving sheet comprising a base material and a receiving layer formed on the base material and containing a chelate color former formed by binding metal ions and a sublimation dye, If it has a protective layer formed on the said receiving layer and containing a heat conversion substance, it will not specifically limit.
The method for producing such a thermal transfer printed matter is not particularly limited as long as each component of the thermal transfer printed matter can be laminated with good adhesion. The method described in “Method for producing thermal transfer print” is most preferably used. This is because, since the protective layer has a heat conversion substance, the adhesiveness between the receiving layer and the protective layer can be improved by irradiating electromagnetic waves that can be absorbed by the heat conversion substance. In addition, since the chelating reaction of the sublimable dye can be promoted together with the improvement of the adhesion, the hue change and the like can be reduced.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてさらに具体的に説明する。   Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.

[実施例1] [Example 1]

1.熱転写受像シートの作製
基材として、コート紙(王子製紙(株)製OKトップコート、127.9g/m)の表裏に厚さ50μmの白色PET(東レ(株)製ルミラーE63S)を、ウレタン系接着剤(三井武田ケミカル(株)製タケラックA−969V / タケネートA−5(質量比3/1))を乾燥後の塗布量が4g/mとなるように塗布し貼り合わせた。
1. Preparation of Thermal Transfer Image Receiving Sheet As a base material, white PET (Lumirror E63S manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 50 μm on the front and back sides of coated paper (Oji Paper Co., Ltd. OK Top Coat, 127.9 g / m 2 ), urethane A system adhesive (Takelac A-969V / Takenate A-5 (mass ratio 3/1) manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) was applied and pasted so that the coating amount after drying was 4 g / m 2 .

次いで、下記組成の受容層形成用塗工液を、該基材の一方の面に乾燥後の塗布量2.5g/mとなるようにミヤバーにて塗工し、130℃、2分乾燥することにより、熱転写受像シートを作製した。 Next, a receiving layer-forming coating solution having the following composition was applied to one surface of the substrate with a Miya bar so that the coating amount after drying was 2.5 g / m 2, and dried at 130 ° C. for 2 minutes. As a result, a thermal transfer image-receiving sheet was produced.

(受容層形成用塗工液の組成)
下記組成物をメチルエチルケトン/トルエン(質量比1/1)溶媒で、固形分濃度が10質量%となるように希釈し、調製した。
ポリビニルブチラール樹脂 50重量部
(商品名:BX−1、積水化学工業社製)
ポリビニルアセタール樹脂 19重量部
(商品面:BX−L、積水化学工業社製)
下記構造式の金属イオン化合物 30重量部
アクリル変性シリコーン 1重量部
(商品名:モディパーFS730、日本油脂社製)
(Composition of coating solution for forming receiving layer)
The following composition was prepared by diluting with a methyl ethyl ketone / toluene (mass ratio 1/1) solvent so that the solid content concentration was 10% by mass.
50 parts by weight of polyvinyl butyral resin (trade name: BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
19 parts by weight of polyvinyl acetal resin (Product surface: BX-L, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
Metal ion compound of the following structural formula 30 parts by weight Acrylic-modified silicone 1 part by weight (trade name: MODIPER FS730, manufactured by NOF Corporation)

Figure 2008080735
Figure 2008080735

2.熱転写シートの作製
支持基板として準備した、厚さ6μmのPETフィルム(商品名ルミラー 東レ製)を用い、この表面上に予め下記組成に調製した背面層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥塗布量が1.0g/mとなるように塗布し、背面層を形成した。
2. Preparation of Thermal Transfer Sheet Using a 6 μm thick PET film (trade name: Lumirror Toray) prepared as a support substrate, the back layer coating solution prepared in advance with the following composition was gravure coated on this surface to obtain a dry coating amount. It applied so that it might be set to 1.0 g / m < 2 >, and the back layer was formed.

(背面層塗工液の組成)
ポリビニルブチラール樹脂) 13.6重量部
(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製
ポリイソシアネート硬化剤 0.6重量部
(商品名:タケネートD218、武田薬品工業(株)製)
リン酸エステル 0.8重量部
(商品名:プライサーフA208S、第一工業製薬(株)製)
トルエン 42.5重量部
メチルエチルケトン 42.5重量部
(Back layer coating composition)
(Polyvinyl butyral resin) 13.6 parts by weight (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
0.6 parts by weight of polyisocyanate curing agent (trade name: Takenate D218, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited)
Phosphoric acid ester 0.8 part by weight (trade name: Prisurf A208S, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Toluene 42.5 parts by weight Methyl ethyl ketone 42.5 parts by weight

次に、上記背面層が形成された表面とは逆の支持基板表面に、下記組成に調製した剥離層形成用層塗工液を、グラビアコーティングにより乾燥後膜厚が1.0μmとなるように塗布した。なお、上記保剥離層形成用層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度100℃のオーブン中に1分間静置し、支持基板上に剥離層を形成した。
次いで、上記剥離層上に、下記接着層形成用塗工液を塗工・乾燥させることで支持基板上に、剥離層、接着層がこの順で積層された保護層形成用層を形成した。
Next, on the support substrate surface opposite to the surface on which the back layer is formed, a release layer forming layer coating solution prepared to the following composition is dried by gravure coating so that the film thickness becomes 1.0 μm. Applied. In addition, when drying the layer for forming the protective release layer, it was dried with a dryer and further left in an oven at a temperature of 100 ° C. for 1 minute to form a release layer on the support substrate.
Next, a protective layer forming layer in which the release layer and the adhesive layer were laminated in this order was formed on the support substrate by applying and drying the following adhesive layer forming coating solution on the release layer.

(剥離層形成用層塗工液の組成)
アクリル樹脂(商品名:BR−83、三菱レイヨン(株)社製) 20重量部
トルエン 40重量部
メチルエチルケトン 40重量部
(Composition of the layer coating solution for forming the release layer)
Acrylic resin (trade name: BR-83, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 20 parts by weight Toluene 40 parts by weight Methyl ethyl ketone 40 parts by weight

(接着層形成用塗工液の組成)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂 19重量部
(商品名:#1000ALK、電気化学工業製)
ジイモニウム類(商品名:IR−2MF、昭和電工(株)社製) 1重量部
トルエン 40重量部
メチルエチルケトン 40重量部
(Composition of the coating solution for forming the adhesive layer)
19 parts by weight of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin (trade name: # 1000ALK, manufactured by Denki Kagaku Kogyo)
Diimoniums (trade name: IR-2MF, manufactured by Showa Denko KK) 1 part by weight Toluene 40 parts by weight Methyl ethyl ketone 40 parts by weight

次に、上記背面層が形成された表面とは逆の支持基板表面の保護層形成用層の未形成部分に、下記組成の染料層形成用塗工液を、グラビアコーティングにより、乾燥塗布量が0.5g/mになるように塗布、乾燥して染料層を形成し、イエロー、マゼンダ、シアンの各色の染料層を有する熱転写シートを作製した。 Next, on the unformed portion of the protective layer forming layer on the surface of the support substrate opposite to the surface on which the back layer is formed, a dye layer forming coating solution having the following composition is applied by gravure coating to a dry coating amount. The dye layer was formed by applying and drying to 0.5 g / m 2 to prepare a thermal transfer sheet having dye layers of yellow, magenta, and cyan.

(イエロー染料層形成用塗工液の組成)
昇華性染料(下記式化合物i) 1.4重量部
セルロースアセテートブチレート樹脂 1.0重量部
(CAB381−2 イーストマンケミカル社製 分子量38000)
メチルエチルケトン/トルエン(質量比1/1) 97.6重量部
(Composition of yellow dye layer forming coating solution)
Sublimation dye (compound i below) 1.4 parts by weight Cellulose acetate butyrate resin 1.0 part by weight (CAB381-2, molecular weight 38000, manufactured by Eastman Chemical Co.)
Methyl ethyl ketone / toluene (mass ratio 1/1) 97.6 parts by weight

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(マゼンダ染料層形成用塗工液の組成)
昇華性染料(下記式化合物ii) 0.8重量部
セルロースアセテートブチレート樹脂 1.0重量部
(CAB381−2 イーストマンケミカル社製 分子量38000)
メチルエチルケトン/トルエン(質量比1/1) 98.2重量部
(Composition of coating liquid for forming magenta dye layer)
Sublimation dye (following formula ii) 0.8 part by weight Cellulose acetate butyrate resin 1.0 part by weight (CAB381-2, molecular weight 38000, manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.)
Methyl ethyl ketone / toluene (mass ratio 1/1) 98.2 parts by weight

Figure 2008080735
Figure 2008080735

(シアン染料層形成用塗工液の組成)
昇華性染料(下記式化合物iii) 0.9重量部
セルロースアセテートブチレート樹脂 1.0重量部
(CAB381−2 イーストマンケミカル社製 分子量38000)
メチルエチルケトン/トルエン(質量比1/1) 98.1重量部
(Composition of cyan dye layer forming coating solution)
Sublimation dye (compound iii) 0.9 parts by weight Cellulose acetate butyrate resin 1.0 part by weight (CAB381-2, molecular weight 38000, manufactured by Eastman Chemical Co.)
Methyl ethyl ketone / toluene (mass ratio 1/1) 98.1 parts by weight

Figure 2008080735
Figure 2008080735

3.熱転写印画物の作製
(印画条件)
発熱体平均抵抗値;5285(Ω)
主走査方向印字密度;300dpi
副走査方向印字密度;300dpi
印加電圧;22(V)
1ライン周期;2(msec./line)
印字開始温度;27(℃)
印加パルス(階調制御方法);1ライン周期中に、1ライン周期を256に等分割したパルス長をもつ分割パルスの数を0から255個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、各分割パルスのDuty比を90%に固定し、ライン周期当たりのパルス数を0から255個を18ステップに分割した。これにより、18段階に異なるエネルギーを与えることができる。
イエロー、マゼンダ、シアンの各色の染料を、この順で、熱転写受像シートの受容層に転写してブラック画像を形成した。次いで、保護層形成用層を、印加電圧20V、パルス数255個で印画することにより保護層を形成した。
3. Production of thermal transfer prints (printing conditions)
Heating element average resistance value: 5285 (Ω)
Main scanning direction printing density; 300 dpi
Sub-scanning direction print density; 300 dpi
Applied voltage: 22 (V)
1 line cycle; 2 (msec./line)
Printing start temperature: 27 (° C)
Applied pulse (gradation control method): Using a multi-pulse test printer that can vary the number of divided pulses from 0 to 255 in one line period and having a pulse length obtained by equally dividing one line period into 256 The duty ratio of the divided pulses was fixed at 90%, and the number of pulses per line period was divided from 0 to 255 into 18 steps. Thereby, different energy can be given to 18 steps.
Yellow, magenta, and cyan dyes were transferred in this order to the receiving layer of the thermal transfer image-receiving sheet to form a black image. Next, the protective layer was formed by printing the protective layer forming layer with an applied voltage of 20 V and a pulse number of 255.

4.電磁波照射
上記保護層が形成された熱転写受像シートに対して、下記IRヒーターにより、電磁波として赤外線照射を行った。
(IRヒーター)
IRヒーター:出力2KW×2灯
照射距離:100mm
照射時間:10秒
4). Irradiation with electromagnetic waves The thermal transfer image-receiving sheet on which the protective layer was formed was irradiated with infrared rays as electromagnetic waves by the following IR heater.
(IR heater)
IR heater: Output 2KW x 2 lamps Irradiation distance: 100mm
Irradiation time: 10 seconds

[実施例2]
接着層形成用塗工液を下記の組成とした以外は実施例1と同様に、上記IRヒーターにより電磁波として赤外線照射を行った。
[Example 2]
In the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer-forming coating solution had the following composition, infrared irradiation was performed as electromagnetic waves by the IR heater.

(接着層形成用塗工液の組成)
ポリビニルブチラール 19重量部
(商品名:BL−10、積水化学工業(株)社製)
ジイモニウム類(商品名:IR−2MF、昭和電工(株)社製) 1重量部
トルエン 40重量部
メチルエチルケトン 40重量部
(Composition of the coating solution for forming the adhesive layer)
19 parts by weight of polyvinyl butyral (trade name: BL-10, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
Diimoniums (trade name: IR-2MF, manufactured by Showa Denko KK) 1 part by weight Toluene 40 parts by weight Methyl ethyl ketone 40 parts by weight

[実施例3]
接着層形成用塗工液を下記の組成とし、電磁波としてマイクロ波を照射した以外は実施例1と同様にして熱転写印画物を作製した。なお、マイクロ波の照射には下記に示す市販の電子レンジを用いマイクロ波の照射時間を60秒とした。
(電子レンジ)
シャープ株式会社製 RE−T21−W5P
[Example 3]
A thermal transfer print was prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer-forming coating solution had the following composition and was irradiated with microwaves as electromagnetic waves. In addition, the microwave irradiation time was set to 60 seconds for the microwave irradiation using the commercially available microwave oven shown below.
(microwave)
Sharp Corporation RE-T21-W5P

(接着層形成用塗工液の組成)
ポリビニルブチラール 20重量部
(商品名:BL−10、積水化学工業(株)社製)
トルエン 40重量部
メチルエチルケトン 40重量部
(Composition of the coating solution for forming the adhesive layer)
Polyvinyl butyral 20 parts by weight (trade name: BL-10, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
40 parts by weight of toluene 40 parts by weight of methyl ethyl ketone

[比較例1]
電磁波を照射しなかった以外は実施例1と同様にして熱転写印画物を作製した。
[Comparative Example 1]
A thermal transfer print was produced in the same manner as in Example 1 except that no electromagnetic wave was irradiated.

[評価]
上記実施例および比較例における熱転写印画物について(1)色濃度測定、(2)耐光性試験、(3)保護層密着性について評価をおこなった。
[Evaluation]
The thermal transfer prints in the above examples and comparative examples were evaluated for (1) color density measurement, (2) light resistance test, and (3) protective layer adhesion.

(1)色濃度測定
イエロー、マゼンダ、シアンを用いて黒(Bk)画像を形成した場合において、シアン染料のみ色濃度が低いことが知られている。そこで、シアン染料の色濃度を測定することで、キレート反応の進行状態の確認を実施した。測定には分光測定器(グレタグマクベス社製 spectrolino)を用いて、BkのODが1.5付近でのBk中のシアン濃度を測定した。なお、シアン濃度測定には、Ansi Status Aに基づき、D65光源にて濃度評価した。
(1) Color density measurement When a black (Bk) image is formed using yellow, magenta, and cyan, it is known that only the cyan dye has a low color density. Therefore, the progress of the chelate reaction was confirmed by measuring the color density of the cyan dye. A spectrophotometer (Spectrolino manufactured by Gretag Macbeth Co., Ltd.) was used for the measurement, and the cyan density in Bk was measured when the OD of Bk was around 1.5. For the cyan density measurement, density evaluation was performed with a D65 light source based on Ansi Status A.

(2)耐光性試験
耐光性評価の条件は以下の通りである。
・照射試験器:アトラス社製Ci35
・光源:キセノンランプ
・フィルター:内側=IRフィルタ
外側=ソーダライムガラス
・ブラックパネル温度:45(℃)
・照射強度:1.2(W/m)―420(nm)での測定値
・照射エネルギー:400(kJ/m)−420(nm)での積算値
(2) Light resistance test The conditions for light resistance evaluation are as follows.
・ Irradiation tester: Ci35 manufactured by Atlas
-Light source: Xenon lamp-Filter: Inside = IR filter
Outside = soda lime glass • Black panel temperature: 45 (° C)
Irradiation intensity: measured value at 1.2 (W / m 2 ) -420 (nm) Irradiation energy: integrated value at 400 (kJ / m 2 ) -420 (nm)

上記耐光性条件の照射前後の画像の色差を、分光測定器(グレタグマクベス社製 spectrolino)により測定した。測定に際しては照射前のBkのODが1.5付近で測定を行った。得られた結果を基に下記式により色差を算出し耐光性を評価した。
色差ΔE*ab=((Δa*)+(Δb*)1/2
CIE1976 La*b*表色系(JIS Z8729 (1980))参照
Δa*=a*(照射後)−a*(照射前)
Δb*=b*(照射後)−b*(照射前)
The color difference between the images before and after irradiation under the above light resistance conditions was measured with a spectrophotometer (Spectrolino manufactured by Gretag Macbeth Co.). In the measurement, the measurement was performed when the OD of Bk before irradiation was around 1.5. Based on the obtained results, the color difference was calculated by the following formula to evaluate the light resistance.
Color difference ΔE * ab = ((Δa *) 2 + (Δb *) 2 ) 1/2
See CIE1976 La * b * color system (JIS Z8729 (1980)) Δa * = a * (after irradiation) -a * (before irradiation)
Δb * = b * (after irradiation)-b * (before irradiation)

(3)保護層密着性
上記転写された保護層の密着性の評価として、セロハンテープ剥離試験を行った。セロハンテープ剥離試験の試験方法は、保護層上にセロハンテープ(住友スリーエム社製 Scotch メンディングテープ MP−12)を貼った後、セロハンテープを剥がす作業を実施例、比較例毎に10回行い、セロハンテープと共に保護層が剥離する回数を測定し、以下の基準にて評価を行なった。
○:保護層は剥離しなかった(保護層剥離回数0〜1回)。
△:保護層は時々剥離した(保護層剥離回数:2〜4回)。
×:保護層はほとんど剥離した(保護層剥離回数5回以上)。
(3) Adhesiveness of protective layer As an evaluation of the adhesiveness of the transferred protective layer, a cellophane tape peeling test was conducted. The test method of the cellophane tape peel test was performed 10 times for each of the working examples and comparative examples after the cellophane tape (Scotch Mending Tape MP-12, manufactured by Sumitomo 3M Co.) was applied on the protective layer, and then the cellophane tape was peeled off. The number of times the protective layer was peeled off with the cellophane tape was measured and evaluated according to the following criteria.
(Circle): The protective layer did not peel (the number of times of protective layer peeling 0-1 time).
(Triangle | delta): The protective layer peeled occasionally (protective layer peeling frequency: 2-4 times).
X: The protective layer was almost peeled off (the protective layer was peeled 5 times or more).

上記実施例および比較例における熱転写印画物の評価結果を表1に示す。   Table 1 shows the evaluation results of the thermal transfer prints in the above Examples and Comparative Examples.

Figure 2008080735
Figure 2008080735

熱転写印画物について、色濃度の測定を実施したところ、実施例においては、電磁波を照射することにより、Bk中のシアンの色濃度が増加し、キレート反応が進行していることが確認できた。また、耐光性試験を実施したところ、実施例においては、電磁波が未照射である比較例と比較して色差が低下しており、耐光性が改善されていることが確認できた。また、実施例で作製した熱転写印画物においては、保護層が上記熱転写受像シートの受容層上に密着性良く形成されていた。   When the color density of the thermal transfer print was measured, it was confirmed that in the examples, the cyan color density in Bk was increased by the irradiation of electromagnetic waves, and the chelate reaction was progressing. Moreover, when the light resistance test was implemented, in the Example, the color difference was falling compared with the comparative example which has not irradiated with electromagnetic waves, and it has confirmed that the light resistance was improved. In the thermal transfer printed matter produced in the examples, the protective layer was formed with good adhesion on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet.

本発明の熱転写印画物の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the thermal transfer printed matter of this invention. 本発明に用いられる熱転写シートの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the thermal transfer sheet used for this invention. 本発明に用いられる保護層が形成された熱転写受像シートの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the thermal transfer image receiving sheet in which the protective layer used for this invention was formed. 本発明の熱転写シートの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the thermal transfer sheet of this invention. 本発明の熱転写印画物の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the thermal transfer printed matter of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、51 … 支持基板
2、30 … 染料層
3 … 染料熱転写シート
4 … 基材
5 … 受容層
6 … 熱転写受像シート
10 … 保護層熱転写シート
12、52 … 保護層形成用層
13 … 剥離層
14 … 接着層
20 … 保護層
40、50 … 熱転写シート
60 … 熱転写印画物
61 … 基材
62 … 受容層
63 … 熱転写受像シート
64 … 保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 51 ... Support substrate 2, 30 ... Dye layer 3 ... Dye thermal transfer sheet 4 ... Base material 5 ... Receptive layer 6 ... Thermal transfer image receiving sheet 10 ... Protective layer thermal transfer sheet 12, 52 ... Protective layer forming layer 13 ... Release layer 14 ... Adhesive layer 20 ... Protective layer 40, 50 ... Thermal transfer sheet 60 ... Thermal transfer printed matter 61 ... Base material 62 ... Receptive layer 63 ... Thermal transfer image-receiving sheet 64 ... Protective layer

Claims (10)

支持基板、および前記支持基板上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する染料熱転写シートの前記染料層と、基材、および前記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの前記受容層と、を対向させて加熱することにより、前記キレート可能な昇華性染料を、前記受容層に転写させる熱転写工程と、
前記熱転写工程により前記昇華性染料が転写された前記受容層、および支持基板と、前記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有する保護層熱転写シートの前記保護層形成用層を対向させて加熱することにより、前記受容層上に前記熱変換物質を有する保護層を形成する保護層形成工程と、
前記熱転写受像シートの前記受容層上に形成された前記保護層に電磁波の照射を行う電磁波照射工程と、
を有することを特徴とする熱転写印画物の製造方法。
The dye layer of the dye thermal transfer sheet formed on the support substrate and the support substrate and having a dye layer containing a binder resin and a chelating sublimable dye, the substrate, and the chelate capable of being formed on the substrate A thermal transfer step in which the chelating sublimable dye is transferred to the receptor layer by heating the receptor layer of the thermal transfer image-receiving sheet having a receptor layer containing various metal ions to face the receptor layer;
The protective layer thermal transfer sheet having the receptor layer to which the sublimable dye has been transferred by the thermal transfer step, a support substrate, and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance. A protective layer forming step of forming a protective layer having the heat conversion material on the receiving layer by heating the layer forming layers facing each other;
An electromagnetic wave irradiation step of irradiating the protective layer formed on the receiving layer of the thermal transfer image receiving sheet with an electromagnetic wave;
A method for producing a thermal transfer print, comprising:
前記保護層形成用層が、剥離層と、熱可塑性樹脂からなる接着層とを、前記支持基板上にこの順で積層してなるものであり、かつ前記接着層にのみ前記熱変換物質が含まれることを特徴とする請求項1に記載の熱転写印画物の製造方法。   The protective layer forming layer is formed by laminating a release layer and an adhesive layer made of a thermoplastic resin in this order on the support substrate, and only the adhesive layer contains the heat conversion substance. The method for producing a thermal transfer printed matter according to claim 1. 前記電磁波がマイクロ波または赤外線であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱転写印画物の製造方法。   The method for producing a thermal transfer print according to claim 1 or 2, wherein the electromagnetic wave is microwave or infrared. 前記電磁波がマイクロ波であり、かつ前記熱変換物質がポリビニルブチラールであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱転写印画物の製造方法。   The method for producing a thermal transfer print according to claim 1 or 2, wherein the electromagnetic wave is a microwave, and the heat conversion substance is polyvinyl butyral. 前記電磁波が赤外線であり、かつ前記熱変換物質がジイモニウム類またはシアニン系化合物であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱転写印画物の製造方法。   The method for producing a thermal transfer print according to claim 1 or 2, wherein the electromagnetic wave is an infrared ray, and the heat conversion substance is a diimonium compound or a cyanine compound. 支持基板と、前記支持基板上に形成され、熱変換物質を含む保護層形成用層と、を有することを特徴とする熱転写シート。   A thermal transfer sheet comprising: a support substrate; and a protective layer forming layer formed on the support substrate and containing a heat conversion substance. 前記支持基板上に形成され、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有することを特徴とする請求項6に記載の熱転写シート。   The thermal transfer sheet according to claim 6, further comprising a dye layer formed on the support substrate and containing a chelatable sublimable dye. 前記保護層形成用層が、剥離層と、熱可塑性樹脂からなる接着層とを、前記支持基板上にこの順で積層してなるものであり、かつ前記接着層にのみ前記熱変換物質が含まれることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の熱転写シート。   The protective layer forming layer is formed by laminating a release layer and an adhesive layer made of a thermoplastic resin in this order on the support substrate, and only the adhesive layer contains the heat conversion substance. The thermal transfer sheet according to claim 6 or 7, wherein 基材、および前記基材上に形成され、金属イオンと昇華性染料とが結合してなるキレート型発色体を含む受容層、を有する熱転写受像シートと、前記受容層上に形成され、熱変換物質を含む保護層と、を有することを特徴とする熱転写印画物。   A thermal transfer image-receiving sheet comprising a base material, and a receiving layer formed on the base material and containing a chelate-type color former formed by binding metal ions and a sublimation dye; And a protective layer containing the substance. 前記保護層が、熱可塑性樹脂からなる接着層と、剥離層とを前記受容層上にこの順で積層してなるものであり、かつ前記接着層にのみ前記熱変換物質が含まれることを特徴とする請求項9に記載の熱転写印画物。   The protective layer is formed by laminating an adhesive layer made of a thermoplastic resin and a release layer in this order on the receptor layer, and the heat conversion substance is contained only in the adhesive layer. The thermal transfer printed matter according to claim 9.
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