JP2008065140A - Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same - Google Patents

Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2008065140A
JP2008065140A JP2006244185A JP2006244185A JP2008065140A JP 2008065140 A JP2008065140 A JP 2008065140A JP 2006244185 A JP2006244185 A JP 2006244185A JP 2006244185 A JP2006244185 A JP 2006244185A JP 2008065140 A JP2008065140 A JP 2008065140A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
mol
sln
optical
lithium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006244185A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shunji Takegawa
俊二 竹川
Kumaragurubaran Somu
クマラグルバラン ソム
Tomofumi Ryu
友文 劉
Masaru Nakamura
優 中村
Kenji Kitamura
健二 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute for Materials Science
Original Assignee
National Institute for Materials Science
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute for Materials Science filed Critical National Institute for Materials Science
Priority to JP2006244185A priority Critical patent/JP2008065140A/en
Publication of JP2008065140A publication Critical patent/JP2008065140A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithium niobate single crystal and a lithium tantalite single crystal, having high OPTICAL DAMAGE resistance, and to provide an optical element using the single crystal. <P>SOLUTION: A lithium niobate single crystal or a lithium tantalite single crystal having a substantially stoichiometric composition contains at least one element selected from a group consisting of Er, Tm, Yb and Lu by 0.3-3.0 mol%. Otherwise, the single crystal may contain the above element by 0.4-1.0 mol%. An optical element is manufactured by using the above single crystal. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ニオブ酸リチウム単結晶およびタンタル酸リチウム単結晶、ならびに、それを用いた光学素子に関する。より詳細には、高耐光損傷性を有するニオブ酸リチウム単結晶およびタンタル酸リチウム単結晶、ならびに、それを用いた光学素子に関する。   The present invention relates to a lithium niobate single crystal and a lithium tantalate single crystal, and an optical element using the same. More specifically, the present invention relates to a lithium niobate single crystal and a lithium tantalate single crystal having high light damage resistance, and an optical element using the same.

近年、非線形光学効果を有する光学単結晶を利用した波長変換素子が注目されている。このような光学単結晶のなかでも、コングルエント組成のニオブ酸リチウム単結晶(以降では単にCLNと呼ぶ)およびコングルエント組成のタンタル酸リチウム単結晶(以降では単にCLTと呼ぶ)、ならびに、実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶(以降では単にSLNと呼ぶ)および実質的に定比組成のタンタル酸リチウム単結晶(以降では単にSLTと呼ぶ)は、非線形光学定数が大きいこと、工業的に高品質で大口径な単結晶の製造方法が確立していることなどから、有用とされている。   In recent years, a wavelength conversion element using an optical single crystal having a nonlinear optical effect has attracted attention. Among such optical single crystals, a lithium niobate single crystal having a congruent composition (hereinafter simply referred to as “CLN”), a lithium tantalate single crystal having a congruent composition (hereinafter simply referred to as “CLT”), and a substantially constant crystal. A lithium niobate single crystal having a specific composition (hereinafter simply referred to as “SLN”) and a lithium tantalate single crystal having a substantially stoichiometric composition (hereinafter simply referred to as “SLT”) have a large nonlinear optical constant and are industrially high. It is useful because of the establishment of a method for producing single crystals with high quality and large diameter.

特に、SLNおよびSLTは、CLNおよびCLTに比べて抗電界がきわめて小さいため、高アスペクト比の周期分極反転構造を有する光学素子の製造が可能になったことにより、注目されている。   In particular, SLN and SLT are attracting attention because they have an extremely small coercive electric field compared to CLN and CLT, and thus it is possible to manufacture an optical element having a high aspect ratio periodically poled structure.

しかしながら、これらSLNおよびSLTにレーザ光を照射すると、SLNおよびSLT内で光損傷(または光誘起屈折率変化)が生じ、波長変換効率の低下、光の透過率の低下、ビームファニングの発生等の光学特性が低下することが知られている。   However, when these SLNs and SLTs are irradiated with laser light, optical damage (or light-induced refractive index change) occurs in the SLNs and SLTs, resulting in a decrease in wavelength conversion efficiency, a decrease in light transmittance, generation of beam fanning, etc. It is known that the optical characteristics deteriorate.

このような光損傷の発生を低減するために、各種のドーパントを用いる方法がある。例えば、Mg、Zn、InまたはScをSLNまたはSLTにドープすることによって耐光損傷性の改善を図る技術がある(例えば、特許文献1を参照。)。ScをCLNまたはCLTにドープすることによって耐光損傷性を改善する技術がある(例えば、特許文献2を参照。)。   In order to reduce the occurrence of such optical damage, there are methods using various dopants. For example, there is a technique for improving light damage resistance by doping Mg, Zn, In, or Sc into SLN or SLT (see, for example, Patent Document 1). There is a technique for improving light damage resistance by doping Sc with CLN or CLT (see, for example, Patent Document 2).

上記特許文献1および特許文献2に示されるドーパントを用いた場合、キュリー温度が上昇する場合がある。その場合には、キュリー温度と分解開始温度(1215℃)とが近いため、ポーリング処理が困難になり得る。ノンドープのSLNのキュリー温度は1202℃〜1203℃であることが知られている。このノンドープSLNに、Mg、ZnまたはScの耐光損傷性を向上させる添加剤を加えるとキュリー温度が上昇し、分解開始温度に非常に近いかそれを超えることになり、ポーリングが殆ど不可能になる。また、種々のアプリケーションに応じて、適切なドーパントを適用できることが望ましい。   When the dopants shown in Patent Document 1 and Patent Document 2 are used, the Curie temperature may increase. In that case, since the Curie temperature and the decomposition start temperature (1215 ° C.) are close, the polling process may be difficult. It is known that the Curie temperature of non-doped SLN is 1202 ° C to 1203 ° C. When an additive that improves the light damage resistance of Mg, Zn, or Sc is added to this non-doped SLN, the Curie temperature rises and becomes very close to or exceeds the decomposition start temperature, making poling almost impossible. . Moreover, it is desirable that an appropriate dopant can be applied according to various applications.

一方、Nd、Eu、Yb、Ce、TbをSLNまたはSLTにドープして大口径の多結晶を製造する技術がある(例えば、特許文献3を参照。)。
上記特許文献3は、具体的なドーパントの効果を開示していないが、これらののドーパントは、主に、発光を目的とするドーパントとして知られている。これらドーパントの効果および適切なドーピング量を明確にすることが望まれる。
On the other hand, there is a technique for manufacturing a large-diameter polycrystal by doping Nd, Eu, Yb, Ce, and Tb into SLN or SLT (see, for example, Patent Document 3).
Although the said patent document 3 is not disclosing the effect of a specific dopant, these dopants are mainly known as a dopant aiming at light emission. It is desirable to clarify the effects of these dopants and the appropriate doping amount.

特開2003−267798号公報JP 2003-267798 A 登録1956727号Registration No. 1956727 特開2003−171199号公報JP 2003-171199 A

したがって、本発明の目的は、高耐光損傷性を有するニオブ酸リチウム単結晶およびタンタル酸リチウム単結晶を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a lithium niobate single crystal and a lithium tantalate single crystal having high light damage resistance.

本発明による実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶またはタンタル酸リチウム単結晶は、Er、Tm、YbおよびLuからなる群から少なくとも1つ選択される元素を0.3mol%〜3.0mol%含み、これにより上記目的を達成する。   The substantially stoichiometric lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal according to the present invention contains at least one element selected from the group consisting of Er, Tm, Yb and Lu in an amount of 0.3 mol% to 3.0 mol. %, Thereby achieving the above objective.

前記単結晶は、前記元素を0.4mol%〜1.0mol%含んでもよい。   The single crystal may contain 0.4 to 1.0 mol% of the element.

前記単結晶は、光学素子用であり得る。   The single crystal may be for an optical element.

本発明による光学素子は、上記単結晶を用いており、これにより上記目的を達成する。   The optical element according to the present invention uses the above single crystal, thereby achieving the above object.

本発明による実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶およびタンタル酸リチウム単結晶は、Er、Tm、YbおよびLuからなる群から少なくとも1つ選択される元素を0.3mol%〜3mol%含む。これら特定された元素をドーピングすることにより、耐光損傷性を向上させることができる。耐光損傷性を向上させるためのドーパント種が増えるため、種々の用途に合わせた幅広い材料設計が可能になる。また、従来よりも少ないドーピング量でも耐光損傷性を向上できるので、単結晶育成時におけるドーパントに基づくクラック、インクルージョン等が発生しにくくなり得る。その結果、単結晶製造の歩留まりを向上し得る。   The substantially constant ratio lithium niobate single crystal and lithium tantalate single crystal according to the present invention contain 0.3 mol% to 3 mol% of an element selected from the group consisting of Er, Tm, Yb and Lu. . The light damage resistance can be improved by doping these specified elements. Since the number of dopant species for improving the light damage resistance is increased, a wide range of material designs for various applications is possible. In addition, since the light damage resistance can be improved even with a smaller doping amount than in the past, cracks, inclusions and the like based on the dopant during single crystal growth can be less likely to occur. As a result, the yield of single crystal production can be improved.

(本発明の概要)
発明者らは、実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶(SLN)、および、実質的に定比組成のタンタル酸リチウム単結晶(SLT)に、Er、Tm、YbおよびLuからなる群から少なくとも1つ選択される元素を0.3mol%〜3mol%ドーピングすることによって、耐光損傷性が向上することを見出した。
なお、本明細書において、実質的に「定比組成である」とは、LiO/(Nb+LiO)、または、LiO/(Ta+LiO)のモル分率が完全に0.50ではないものの、化学量論比に近い組成(LiO/(Nb+LiO)、または、LiO/(Ta+LiO)のモル分率=0.495〜0.5)を有していることを言う。
(Outline of the present invention)
The inventors of the present invention include a group consisting of Er, Tm, Yb, and Lu in a substantially stoichiometric lithium niobate single crystal (SLN) and a substantially stoichiometric lithium tantalate single crystal (SLT). It has been found that the light damage resistance is improved by doping at least one element selected from the group consisting of 0.3 mol% to 3 mol%.
In the present specification, the phrase “having a stoichiometric composition” substantially means Li 2 O / (Nb 2 O 5 + Li 2 O) or Li 2 O / (Ta 2 O 5 + Li 2 O). Although the molar fraction is not completely 0.50, the composition is close to the stoichiometric ratio (Li 2 O / (Nb 2 O 5 + Li 2 O) or Li 2 O / (Ta 2 O 5 + Li 2 O). Having a molar fraction of 0.495 to 0.5).

発明者らは、耐光損傷性の向上に寄与するドーパントの要件として(A)希土類元素、(B)特定のイオン半径、および、(C)ドーピング量を見出した。各要件について説明する。   The inventors have found (A) rare earth elements, (B) specific ionic radii, and (C) doping amounts as requirements for dopants that contribute to the improvement of light damage resistance. Each requirement will be described.

(A)希土類元素について
発明者らは、希土類元素が、耐光損傷性の向上に有効であることを見出した。希土類元素は、SLNおよびSLT中の1価のイオンLiと、3価のイオンとして置換される。この際、SLNおよびSLTの1分子当たり2個の過剰なチャージが発生する。この過剰なチャージが、光伝導度σの増加に寄与する。光伝導度σが増加すると、光誘起屈折率効果の立ち上がり時間τは低下する。このことは、光誘起屈折率効果の立ち上がり時間が小さくなることにより、常光と異常光との屈折率差は小さくなり、結果、耐光損傷性の向上につながる。
(A) About rare earth elements The inventors have found that rare earth elements are effective in improving the light damage resistance. The rare earth elements are substituted as monovalent ions Li and trivalent ions in SLN and SLT. At this time, two excessive charges are generated per molecule of SLN and SLT. This excessive charge contributes to an increase in photoconductivity σ. As the photoconductivity σ increases, the rise time τ of the photoinduced refractive index effect decreases. This means that the rise time of the light-induced refractive index effect is reduced, so that the difference in refractive index between ordinary light and extraordinary light is reduced. As a result, the light damage resistance is improved.

上記希土類元素において、このような効果を奏するのは、その電子配置に起因すると考えられる。上記希土類元素のうちランタノイドは、4f電子軌道の外側にある5s、5p、6d起動に先に電子が埋まり、その後、4f電子軌道に電子が入る(すなわち、内遷移元素である)。その結果、ランタノイドの3価イオンの電子配置は、それぞれ、5s5p(La)、4f5s5p(Ce)、4f5s5p(Pr)、4f5s5p(Nd)、4f5s5p(Pm)、4f5s5p(Sm)、4f5s5p(Eu)、4f5s5p(Gd)、4f5s5p(Tb)、4f5s5p(Dy)、4f105s5p(Ho)、4f115s5p(Er)、4f125s5p(Tm)、4f135s5p(Yb)および4f145s5p(Lu)と表される。このことから、ランタノイドは、互いに共通した特性を有している。 In the rare earth element, it is considered that such an effect is caused by the electron arrangement. Among the rare earth elements, lanthanoids are filled with electrons before starting 5s, 5p, and 6d outside the 4f electron orbit, and then enter the 4f electron orbit (that is, the inner transition element). As a result, the electronic configuration of the trivalent ions of the lanthanoid is 5s 2 5p 6 (La), 4f 1 5s 2 5p 6 (Ce), 4f 2 5s 2 5p 6 (Pr), 4f 3 5s 2 5p 6 ( Nd), 4f 4 5s 2 5p 6 (Pm), 4f 5 5s 2 5p 6 (Sm), 4f 6 5s 2 5p 6 (Eu), 4f 7 5s 2 5p 6 (Gd), 4f 8 5s 2 5p 6 ( Tb), 4f 9 5s 2 5p 6 (Dy), 4f 10 5s 2 5p 6 (Ho), 4f 11 5s 2 5p 6 (Er), 4f 12 5s 2 5p 6 (Tm), 4f 13 5s 2 5p 6 (Tm) Yb) and 4f 14 5s 2 5p 6 (Lu). For this reason, lanthanoids have characteristics common to each other.

(B)イオン半径について
上記希土類元素によって、耐光損傷性を向上させるには、下記(C)に述べる所定量をドープする必要がある。発明者らは、必要量ドープ可能な(6配位の)イオン半径が、0.86〜0.89Å(R. D. Shannon and C. T. Prewitt, Acta Cryst., B29(1996)925)の範囲であることを見出した。
(B) Ion radius In order to improve the light damage resistance by the rare earth element, it is necessary to dope a predetermined amount described in (C) below. The inventors have determined that the necessary amount of dopable (6-coordinated) ionic radius is 0.86-0.89 Å (RD Shannon and CT Prewitt, Acta Cryst., B29 (1996) 925). It was found to be in the range.

0.89Åより大きなイオン半径を有するドーパントの場合、例えば、希土類元素中のSm(イオン半径0.96Å)の場合、置換可能であるものの、十分な量のSmをLiと置換することができない。そのため、耐光損傷性の向上は見られない。また、0.86Åより小さなイオン半径を有するドーパントの場合、特に、Liのイオン半径(0.65Å)より小さなイオン半径を有するドーパントの場合には、格子間にドーパントが位置しやすくなり、耐光損傷性の向上が見られない場合がある。   In the case of a dopant having an ionic radius larger than 0.89Å, for example, in the case of Sm in rare earth elements (ionic radius of 0.96Å), a sufficient amount of Sm cannot be substituted with Li, although substitution is possible. Therefore, the improvement of light damage resistance is not seen. Further, in the case of a dopant having an ionic radius smaller than 0.86 Å, particularly in the case of a dopant having an ionic radius smaller than that of Li (0.65 Å), the dopant is likely to be located between lattices, and is resistant to light damage. There may be no improvement in sex.

(C)ドーピング量について
SLNおよびSLTについては、ドーピング量は、0.3〜3.0mol%の範囲であり、より好ましくは、0.4〜1.0mol%の範囲である。これは、ドーピング量が0.3mol%未満の場合には、耐光損傷性の向上が見られないためである。また、ドーピング量が3.0mol%を超える場合には、耐光損傷性の向上は飽和状態となり、ドーピング量が多すぎるために結晶の育成を困難にする場合がある。ドーピング量が、0.3〜3.0mol%、とりわけ、0.4〜1.0mol%の範囲であれば、確実に耐光損傷性を改善するとともに、結晶の育成に悪影響を及ぼすことはない。
(C) About doping amount About SLN and SLT, doping amount is the range of 0.3-3.0 mol%, More preferably, it is the range of 0.4-1.0 mol%. This is because when the doping amount is less than 0.3 mol%, no improvement in light damage resistance is observed. In addition, when the doping amount exceeds 3.0 mol%, the improvement in light damage resistance becomes saturated, and the doping amount is too large, which may make it difficult to grow crystals. When the doping amount is in the range of 0.3 to 3.0 mol%, particularly 0.4 to 1.0 mol%, the light damage resistance is surely improved and the crystal growth is not adversely affected.

したがって、発明者らは、上記(A)〜(C)の条件をいずれも満たすドーパントが、上記(A)に述べた希土類元素のうちEr、Tm、YbおよびLuであることを特定した。本発明のSLNおよびSLTは、これらEr、Tm、YbおよびLuからなる群から少なくとも1つ選択される元素を含む。これらの群からドーパントとして2以上の元素が選択された場合にも、上記(C)の条件を満たすようにドープされれば、耐光損傷性の向上は期待できることは言うまでもない。また、ドーパントとして、上述のEr、Tm、YbおよびLuからなる群から選択された元素と、従来技術のMg、Zn、InおよびScからなる群から選択された元素とを組み合わせて用いてもよい。   Therefore, the inventors have specified that the dopants that satisfy all the conditions (A) to (C) are Er, Tm, Yb, and Lu among the rare earth elements described in (A) above. The SLN and SLT of the present invention contain at least one element selected from the group consisting of Er, Tm, Yb and Lu. Needless to say, even when two or more elements are selected from these groups as dopants, the optical damage resistance can be improved if doping is performed so as to satisfy the condition (C). Further, as the dopant, an element selected from the group consisting of the above-mentioned Er, Tm, Yb and Lu may be used in combination with an element selected from the group consisting of Mg, Zn, In and Sc according to the prior art. .

上述のドーパントを含むSLNおよびSLTは、光学素子に好適である。詳細には、本発明のSLNおよびSLTは、光損傷に敏感な波長変換素子、光変調器、光スイッチ等の光学素子に好適である。具体的な光学素子への適用は、当業者であれば、容易に類推する。また、従来の耐光損傷性を向上させるドーパントに加えて、さらなるドーパントの選択肢があることは、素子設計に応じて適宜ドーパントを選択できるので、製造上有利であり得る。   SLN and SLT containing the above-mentioned dopants are suitable for optical elements. Specifically, the SLN and SLT of the present invention are suitable for optical elements such as wavelength conversion elements, optical modulators, and optical switches that are sensitive to optical damage. Those skilled in the art can easily analogize application to a specific optical element. Further, in addition to the conventional dopant for improving the light damage resistance, the fact that there are further dopant options can be advantageous in manufacturing since the dopant can be appropriately selected according to the device design.

また、上述のドーパントはいずれも3価であるため、上述の2価のドーパントであるMgおよびZnに比べて、少ないドーピング量で耐光損傷性の向上が期待できる。また、少ないドーピング量で耐光損傷性を向上できるので、単結晶育成時におけるドーパントに基づくクラック、インクルージョン等が発生しにくくなる。その結果、単結晶製造の歩留まりを向上する。   In addition, since all of the above-described dopants are trivalent, it is possible to expect an improvement in light damage resistance with a small doping amount as compared with the above-described divalent dopants Mg and Zn. Further, since the light damage resistance can be improved with a small doping amount, cracks, inclusions and the like based on the dopant during single crystal growth are less likely to occur. As a result, the yield of single crystal production is improved.

次に具体的な実施例を用いて本発明を詳述するが、本発明がこれら実施例に限定されないことに留意されたい。   The present invention will now be described in detail using specific examples, but it should be noted that the present invention is not limited to these examples.

本実施例では、原料連続供給システムを備えた二重るつぼ法を用いて、ドーパントとしてErを選択し、種々のドーパント濃度のSLN単結晶を製造した。   In this example, using a double crucible method equipped with a raw material continuous supply system, Er was selected as a dopant, and SLN single crystals with various dopant concentrations were produced.

市販の高純度LiO、Nbの原料粉末を用い、LiO:Nb=0.58:0.42のLi成分過剰原料と、LiO:Nb=0.50:0.50の定比組成原料とを調製した。次に、Li成分過剰原料を1ton/cmの静水圧でラバープレス成形し、約1050℃、大気中で焼結させた。定比組成原料を約1150℃、大気中で焼結させ、粒径50μm〜500μmとなるように粉砕した。 Using commercially available raw material powders of high purity Li 2 O, Nb 2 O 5 , Li component excess raw material of Li 2 O: Nb 2 O 5 = 0.58: 0.42, and Li 2 O: Nb 2 O 5 = A raw material with a constant ratio composition of 0.50: 0.50 was prepared. Next, the Li component excess raw material was subjected to rubber press molding at a hydrostatic pressure of 1 ton / cm 2 and sintered at about 1050 ° C. in the atmosphere. The stoichiometric composition raw material was sintered in the atmosphere at about 1150 ° C. and pulverized to a particle size of 50 μm to 500 μm.

次に、二重るつぼの外側るつぼおよび内側るつぼに、焼結したLi成分過剰原料と、市販の高純度Er粉末とを充填させた。なお、Er粉末は、二重るつぼ内の融液中のNbに対するEr濃度が、それぞれ、0、0.2、0.5、1.0および2.0mol%となるように充填された。なお、実施例で用いた高純度とは、99.999%以上である。 Next, the outer crucible and inner crucible of the double crucible were filled with the sintered Li component excess raw material and commercially available high purity Er 2 O 3 powder. The Er 2 O 3 powder is filled so that the Er concentration with respect to Nb in the melt in the double crucible is 0, 0.2, 0.5, 1.0 and 2.0 mol%, respectively. It was. The high purity used in the examples is 99.999% or more.

各Er濃度のSLN単結晶を以下の手順で製造した。   SLN single crystals of each Er concentration were produced by the following procedure.

二重るつぼ内のLi成分過剰原料の融液に種結晶をつけ、引き上げ速度0.5mm/h、結晶回転数20rpmで単結晶を引き上げた。この際、結晶化したSLN単結晶に見合った量の定比組成原料を外側るつぼに自動的に供給した。これにより、種々の濃度のErがドープされた実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶(SLN)が得られた。   A seed crystal was attached to the Li component excess raw material melt in the double crucible, and the single crystal was pulled at a pulling speed of 0.5 mm / h and a crystal rotation speed of 20 rpm. At this time, an amount of the stoichiometric composition raw material corresponding to the crystallized SLN single crystal was automatically supplied to the outer crucible. As a result, lithium niobate single crystals (SLN) having substantially stoichiometric compositions doped with various concentrations of Er were obtained.

得られた種々の濃度のErがドープされたSLNについて、誘導結合高周波プラズマ発光分析(ICP発光分析)(Iris advantage、日本ジャーレル・アッシュ株式会社、日本)を用いて、組成等を測定した。また、示差熱分析法(Thermo Plus DSC8270、株式会社リガク、日本)を用いて、キュリー温度を測定した。結果を表1に示し、後述する。   About the obtained SLN doped with various concentrations of Er, the composition and the like were measured using inductively coupled high-frequency plasma emission analysis (ICP emission analysis) (Iris advantage, Japan Jarrell Ash, Japan). Moreover, Curie temperature was measured using the differential thermal analysis method (Thermo Plus DSC8270, Rigaku Corporation, Japan). The results are shown in Table 1 and will be described later.

次に、得られた種々の濃度のErがドープされたSLNについて、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)(Bio−Rad Win−IR、Varian, Inc.、米国)を用いて、吸収スペクトルを測定し、OH伸縮振動のバンド端(3450cm−1〜3550cm−1)のピークシフトを調べた。測定結果を図1および図2に示し、後述する。 Next, the absorption spectrum of the obtained SLN doped with various concentrations of Er was measured using Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) (Bio-Rad Win-IR, Varian, Inc., USA). Then, the peak shift of the band edge (3450 cm −1 to 3550 cm −1 ) of the OH stretching vibration was examined. The measurement results are shown in FIGS. 1 and 2 and will be described later.

得られた種々の濃度のErがドープされたSLNについて、He−Neレーザとグリーンレーザ(532nm)とを同軸入射し、複屈折変化を測定する装置を用いて、屈折率分散(常光と異常光との屈折率の差)の時間依存性を測定した。測定結果を図3に示し、後述する。次いで、屈折率分散から得られた光誘起屈折率効果の立ち上がり時間と光伝導度との関係を求めた。関係を図4に示し、後述する。   With respect to the obtained SLN doped with various concentrations of Er, a He-Ne laser and a green laser (532 nm) are incident on the same axis, and a refractive index dispersion (ordinary and extraordinary light) is measured using a device that measures birefringence change. The time dependence of the difference in refractive index between the two was measured. The measurement results are shown in FIG. 3 and will be described later. Next, the relationship between the rise time of the photoinduced refractive index effect obtained from refractive index dispersion and the photoconductivity was determined. The relationship is shown in FIG. 4 and will be described later.

Erの仕込み濃度0.2および1.0mol%のSLNについて、光損傷を測定するシステム500(後述する)を用いて、光損傷を測定した。結果を図6に示し、後述する。   Photodamage was measured for SLN having an Er charge concentration of 0.2 and 1.0 mol% using a system 500 (to be described later) for measuring photodamage. The results are shown in FIG. 6 and will be described later.

Luを0.5mol%ドープしたSLN単結晶を製造した。具体的には、Er粉末の代わりに、Lu粉末を用い、二重るつぼ内の融液中のNbに対するLu濃度が、1.0mol%となるように充填され以外は、実施例1と同様の手順であった。 A SLN single crystal doped with 0.5 mol% of Lu was produced. Specifically, Lu 2 O 3 powder is used instead of Er 2 O 3 powder, and the Lu concentration with respect to Nb in the melt in the double crucible is filled so as to be 1.0 mol%. The procedure was the same as in Example 1.

得られたLuをドープしたSLN単結晶について、実施例1と同様に、光損傷を測定した。結果を図6に示し、後述する。   For the obtained SLN single crystal doped with Lu, optical damage was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in FIG. 6 and will be described later.

比較例1Comparative Example 1

Mgを1.0mol%および2.75mol%ドープしたSLN単結晶を製造した。具体的には、Er粉末の代わりに、MgO粉末を用い、二重るつぼ内の融液中のNbに対するMg濃度が、それぞれ、1.0mol%および2.75mol%となるように充填され以外は、実施例1と同様の手順であった。 SLN single crystals doped with 1.0 mol% and 2.75 mol% of Mg were manufactured. Specifically, MgO powder is used instead of Er 2 O 3 powder, and the Mg concentration with respect to Nb in the melt in the double crucible is 1.0 mol% and 2.75 mol%, respectively. Otherwise, the procedure was the same as in Example 1.

得られたMgをドープしたSLN単結晶について、実施例1と同様に、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)を用いて、吸収スペクトルを測定し、OH伸縮振動のバンド端(3450cm−1〜3550cm−1)のピークシフトを調べた。測定結果を図2に示し、後述する。また得られたMgをドープしたSLN単結晶のキュリー温度を測定した。結果を後述する。 About the obtained Mg-doped SLN single crystal, the absorption spectrum was measured using Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) in the same manner as in Example 1, and the band edge (3450 cm −1 to 3550 cm) of OH stretching vibration was measured. The peak shift of -1 ) was examined. The measurement results are shown in FIG. 2 and will be described later. Moreover, the Curie temperature of the obtained SLN single crystal doped with Mg was measured. The results will be described later.

比較例2Comparative Example 2

Ndを0.2mol%ドープしたSLN単結晶を製造した。具体的には、Er粉末の代わりに、Nd粉末を用い、二重るつぼ内の融液中のNbに対するNd濃度が、2.0mol%となるように充填され以外は、実施例1と同様の手順であった。得られた単結晶は、3個の平面により構成され側面を有しており、その内部には多くのインクルージョンが観察された。このことは、さらに高濃度でNdをドープすることにより結晶の育成を困難にするととも、得られる結晶の品質を低下させることを示唆している。 A SLN single crystal doped with 0.2 mol% of Nd was manufactured. Specifically, Nd 2 O 3 powder was used instead of Er 2 O 3 powder, and the Nd concentration with respect to Nb in the melt in the double crucible was filled so as to be 2.0 mol%. The procedure was the same as in Example 1. The obtained single crystal was composed of three planes and had side surfaces, and many inclusions were observed inside. This suggests that doping of Nd at a higher concentration makes it difficult to grow crystals and lowers the quality of the crystals obtained.

得られたNdをドープしたSLN単結晶について、実施例1と同様に、光損傷を測定した。結果を図6に示し、後述する。   For the obtained Nd-doped SLN single crystal, optical damage was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in FIG. 6 and will be described later.

表1は、実施例1で製造された種々の濃度のErがドープされたSLN単結晶の組成、偏析係数およびキュリー温度を示す。いずれの単結晶も、Li/Nbが0.96〜1.0の範囲にあり、実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶であることが分かった。融液中のEr濃度(すなわち、Erの仕込み濃度)が、0.2mol%、0.5mol%、1.0mol%および2.0mol%である場合、単結晶中に実際にドーピングされたEr濃度は、それぞれ、0.08mol%、0.26mol%、0.46mol%および0.83mol%であることが分かった。以降では、実際にドーピングされた濃度を用いて、説明する。例えば、Erが0.26mol%ドープされたSLNの場合、簡単のため、Er0.26mol%SLNと表記する。   Table 1 shows the composition, segregation coefficient, and Curie temperature of SLN single crystals doped with various concentrations of Er prepared in Example 1. All of the single crystals were found to be lithium niobate single crystals having Li / Nb in the range of 0.96 to 1.0 and having a substantially stoichiometric composition. When the Er concentration in the melt (that is, the charged concentration of Er) is 0.2 mol%, 0.5 mol%, 1.0 mol% and 2.0 mol%, the Er concentration actually doped in the single crystal Were found to be 0.08 mol%, 0.26 mol%, 0.46 mol% and 0.83 mol%, respectively. Hereinafter, description will be made using the actually doped concentration. For example, in the case of SLN doped with 0.26 mol% of Er, for simplicity, it is represented as Er 0.26 mol% SLN.

ErをドープしたSLNのキュリー温度は、いずれも、MgをドープしたSLNのキュリー温度(Mg1.0mol%SLN:1212℃、Mg2.0mol%SLN:1216℃)に比べて低く、SLNの分解開始温度(1215℃)より約20℃以上低いことが分かった。このことは、Erのドーピングによってニオブ酸リチウム単結晶のキュリー温度が低下するため、ポーリングが容易になり、その結果、加工時の歩留まりを向上させることができることを示唆する。   The Curie temperature of SLN doped with Er is lower than the Curie temperature of SLN doped with Mg (Mg 1.0 mol% SLN: 1212 ° C., Mg 2.0 mol% SLN: 1216 ° C.). It was found to be about 20 ° C. lower than (1215 ° C.). This suggests that the Curie temperature of the lithium niobate single crystal is lowered by Er doping, so that poling becomes easy, and as a result, the yield during processing can be improved.

図1は、実施例1によるFTIRの結果を示す図である。   FIG. 1 is a diagram showing the results of FTIR according to Example 1.

SLN単結晶中に含まれる−OH基の吸収位置(すなわちOH伸縮振動)によって、そのSLN単結晶の光損傷に対する耐性の程度が分かることが知られている。具体的には、OH伸縮振動のバンド端が高エネルギー側に現れるほど、耐光損傷性が高いことが知られている。そこで、実施例1で得られたEr0mol%〜0.83mol%SLNについてOH伸縮振動のバンド端を調べた。その結果、Er0mol%〜0.26mol%SLNのスペクトルにおけるOH伸縮振動のバンド端は、約3465cm−1に現れ、Er0.46mol〜0.84mol%SLNのスペクトルにおけるOH伸縮振動のバンド端は、約3520cm−1に現れることが分かった。このことから、ドーピング量の増加により、OH伸縮振動のバンド端が高エネルギー側(図1中の矢印で示す方向)にシフトし、耐光損傷性が向上し得ることが示唆される。次に、より詳細にOH伸縮振動のバンド端のシフト量について調べた。 It is known that the degree of resistance of the SLN single crystal to optical damage can be determined by the absorption position of the —OH group contained in the SLN single crystal (that is, OH stretching vibration). Specifically, it is known that the light damage resistance is higher as the band end of the OH stretching vibration appears on the higher energy side. Therefore, the band edge of OH stretching vibration was examined for Er0 mol% to 0.83 mol% SLN obtained in Example 1. As a result, the band edge of the OH stretching vibration in the spectrum of Er0 mol% to 0.26 mol% SLN appears at about 3465 cm −1, and the band edge of the OH stretching vibration in the spectrum of Er 0.46 mol to 0.84 mol% SLN is about It was found to appear at 3520 cm −1 . From this, it is suggested that the band end of the OH stretching vibration is shifted to the high energy side (the direction indicated by the arrow in FIG. 1) and the light damage resistance can be improved by increasing the doping amount. Next, the band end shift amount of OH stretching vibration was examined in more detail.

図2は、実施例1および比較例1によるOH伸縮振動のバンド端のシフト量とドーパント濃度との関係を示す図である。   FIG. 2 is a graph showing the relationship between the band edge shift amount of OH stretching vibration and the dopant concentration according to Example 1 and Comparative Example 1. FIG.

実施例1によれば、ドーピング量が0.26mol%〜0.46mol%の間において、OH伸縮振動のバンド端の顕著なシフトが見られた。一方、比較例1によれば、ドーピング量が0mol%〜1.0mol%の間において、OH伸縮振動のバンド端の顕著なシフトが見られた。このことから、Mgに比べてErの方が、少ないドーピング量でより早くOH伸縮振動のバンド端がシフトすることが分かった。図1および図2より、Erは、Mgに比べて、少ないドーピング量で光損傷性を改善できることが示された。   According to Example 1, when the doping amount was between 0.26 mol% and 0.46 mol%, a remarkable shift of the band edge of the OH stretching vibration was observed. On the other hand, according to Comparative Example 1, a remarkable shift of the band edge of the OH stretching vibration was observed when the doping amount was between 0 mol% and 1.0 mol%. From this, it was found that the band edge of the OH stretching vibration shifts faster with Er with a smaller doping amount than with Mg. FIG. 1 and FIG. 2 show that Er can improve the photodamage with a smaller doping amount than Mg.

図3は、実施例1による屈折率差の時間依存性を示す図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating the time dependence of the refractive index difference according to the first embodiment.

各プロットから、常光および異常光の屈折率差は、Er0.46mol%SLNでもっとも小さく、Er0〜0.08mol%SLNでもっとも大きいことが分かる。屈折率差が小さいことは、光損傷によるビームファニングが発生しにくいことを示唆する。   From each plot, it can be seen that the refractive index difference between ordinary light and extraordinary light is the smallest at Er 0.46 mol% SLN and the largest at Er 0 to 0.08 mol% SLN. A small difference in refractive index suggests that beam fanning due to optical damage is unlikely to occur.

得られた各プロットを関係式δΔn=δΔn[1−e(t/τ)]でフィッティングし、光誘起屈折率効果の立ち上がり時間τを求めた。ここで、Δnは、常光および異常光の屈折率差であり、Δnは、t時間後の飽和屈折率差である。次に、求めた立ち上がり時間τを用いて、関係式σ=εετから光伝導度σを算出した。ここで、εは自由空間の誘電率(=8.85×e−12F/m)であり、εはニオブ酸リチウム単結晶の誘電率(=28)である。 The obtained plots were fitted with the relational expression δΔn = δΔn s [1-e (t / τ)] to determine the rise time τ of the photo-induced refractive index effect. Here, [Delta] n is the refractive index difference between the ordinary light and extraordinary light, [Delta] n s is the saturated refractive index difference after t time. Next, the photoconductivity σ was calculated from the relational expression σ = ε 0 ε r τ using the determined rise time τ. Here, ε 0 is the permittivity of free space (= 8.85 × e −12 F / m), and ε r is the permittivity of lithium niobate single crystal (= 28).

図4は、実施例1による立ち上がり時間τと、光伝導度σと、Erのドーピング量との関係を示す図である。   FIG. 4 is a graph showing the relationship between the rise time τ, the photoconductivity σ, and the Er doping amount according to the first embodiment.

光伝導度が大きいほど、光損傷が小さいことが知られている。図4から、光伝導度は、ドーパント量の増加にしたがって、増加することが分かった。特にドーピング量0.4mol%近傍で最大となることが分かった。このことは、ドーピング量0.4mol%以上で、特に耐光損傷性が向上することを示唆する。   It is known that the greater the photoconductivity, the less photodamage. FIG. 4 shows that the photoconductivity increases as the amount of dopant increases. In particular, it was found that the maximum was obtained in the vicinity of the doping amount of 0.4 mol%. This suggests that the light damage resistance is particularly improved when the doping amount is 0.4 mol% or more.

図5は、光損傷を測定するシステム500を示す図である。   FIG. 5 is a diagram illustrating a system 500 for measuring optical damage.

システム500は、光源510と、集光レンズ520と、スクリーン530とを含む。ここでは、光源510として、Nd:YAG SHGレーザ(波長532nm)を用いた。測定は、光源510から発生されたレーザ光を、集光レンズ520を介して試料540にて集光させ、試料540を透過したレーザ光の形状550がスクリーン530に映し出される。映し出された形状550を、ビームプロファイラ(図示せず)を用いて、撮影し、光損傷を観察した。レーザ光は、SLNのY軸方向に照射された。   System 500 includes a light source 510, a condenser lens 520, and a screen 530. Here, an Nd: YAG SHG laser (wavelength 532 nm) was used as the light source 510. In the measurement, the laser light generated from the light source 510 is condensed on the sample 540 via the condenser lens 520, and the shape 550 of the laser light transmitted through the sample 540 is displayed on the screen 530. The projected shape 550 was photographed using a beam profiler (not shown), and optical damage was observed. The laser beam was irradiated in the Y-axis direction of SLN.

図6は、システム500によって撮影されたビーム形状を示す図である。   FIG. 6 is a diagram showing a beam shape photographed by the system 500.

図6(A)は、Er0.26mol%SLNのビーム形状であり、図6(B)は、Er0.45mol%SLNのビーム形状であり、図6(C)は、Lu0.5mol%SLNのビーム形状であり、図6(D)は、Nd0.24mol%SLNのビーム形状である。   6A shows the beam shape of Er0.26 mol% SLN, FIG. 6B shows the beam shape of Er 0.45 mol% SLN, and FIG. 6C shows the beam of Lu 0.5 mol% SLN. FIG. 6D shows a beam shape of Nd 0.24 mol% SLN.

図6(A)のビーム形状は、Z軸方向に伸びた楕円形を示し、ビームファニングが生じていることを示す。このことより、ドーパントとしてErを選択した場合であっても、0.3mol%以上ドーピングされないと耐光損傷性が向上しないことが分かった。図6(D)のビーム形状もまた、Z軸方向に伸びた楕円刑を示し、ビームファニングが生じている。このことは、ドーパントしてNdを選択した場合、所定量のドーピングが達成できないため、耐光損傷の向上には不向きであることを示唆している。   The beam shape in FIG. 6A shows an ellipse extending in the Z-axis direction, indicating that beam fanning has occurred. From this, it was found that even when Er is selected as the dopant, the optical damage resistance is not improved unless 0.3 mol% or more is doped. The beam shape in FIG. 6D also shows an elliptical shape extending in the Z-axis direction, and beam fanning occurs. This suggests that when Nd is selected as the dopant, a predetermined amount of doping cannot be achieved, and thus it is not suitable for improving light damage resistance.

一方、図6(B)および図6(C)のビーム形状は、円形を維持しており、ビームファニング、すなわち光損傷が発生していないことを示している。これより所定量のEr、Luをドープしたニオブ酸リチウム単結晶(SLN)は、耐光損傷性を有することが確認された。   On the other hand, the beam shapes in FIGS. 6B and 6C remain circular, indicating that beam fanning, that is, no optical damage has occurred. From this, it was confirmed that the lithium niobate single crystal (SLN) doped with predetermined amounts of Er and Lu has light damage resistance.

実施例では、SLNについてのみ示したが、SLTについても同様の結果が得られることは当業者であれば容易に理解し得る。   In the examples, only SLN is shown, but it can be easily understood by those skilled in the art that similar results can be obtained for SLT.

以上説明してきたように、本発明による実質的に定比組成のニオブ酸リチウムまたはタンタル酸リチウム単結晶は耐光損傷性を有する。このような単結晶は、波長変換素子、光変調器、光スイッチ等の光学素子に適用され得る。   As described above, the substantially constant ratio lithium niobate or lithium tantalate single crystal according to the present invention has light damage resistance. Such a single crystal can be applied to optical elements such as a wavelength conversion element, an optical modulator, and an optical switch.

実施例1によるFTIRの結果を示す図The figure which shows the result of FTIR by Example 1 実施例1および比較例1によるOH伸縮振動のバンド端のシフト量とドーパント濃度との関係を示す図The figure which shows the relationship between the shift amount of the band edge of OH expansion-contraction vibration by Example 1 and Comparative Example 1, and dopant concentration. 実施例1による屈折率差の時間依存性を示す図The figure which shows the time dependence of the refractive index difference by Example 1. FIG. 実施例1による立ち上がり時間τと、求めた光伝導度σと、Erのドーピング量との関係を示す図The figure which shows the relationship between the rise time (tau) by Example 1, the calculated | required photoconductivity (sigma), and the doping amount of Er. 光損傷を測定するシステム500を示す図Diagram showing a system 500 for measuring optical damage システム500によって撮影されたビーム形状を示す図The figure which shows the beam shape image | photographed by the system 500

符号の説明Explanation of symbols

500 システム
510 光源
520 集光レンズ
530 スクリーン
540 試料
550 形状
500 System 510 Light source 520 Condensing lens 530 Screen 540 Sample 550 Shape

Claims (4)

実質的に定比組成のニオブ酸リチウム単結晶またはタンタル酸リチウム単結晶であって、
Er、Tm、YbおよびLuからなる群から少なくとも1つ選択される元素を0.3mol%〜3.0mol%含む、単結晶。
A lithium niobate single crystal or a lithium tantalate single crystal having a substantially stoichiometric composition,
A single crystal containing 0.3 mol% to 3.0 mol% of an element selected from at least one selected from the group consisting of Er, Tm, Yb and Lu.
前記元素を0.4mol%〜1.0mol%含む、請求項1に記載の単結晶。   The single crystal according to claim 1, comprising 0.4 mol% to 1.0 mol% of the element. 前記単結晶は、光学素子用である、請求項1に記載の単結晶。   The single crystal according to claim 1, wherein the single crystal is for an optical element. 請求項1〜3に記載の単結晶を用いた光学素子。   The optical element using the single crystal of Claims 1-3.
JP2006244185A 2006-09-08 2006-09-08 Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same Pending JP2008065140A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006244185A JP2008065140A (en) 2006-09-08 2006-09-08 Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006244185A JP2008065140A (en) 2006-09-08 2006-09-08 Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008065140A true JP2008065140A (en) 2008-03-21

Family

ID=39287900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006244185A Pending JP2008065140A (en) 2006-09-08 2006-09-08 Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008065140A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010145651A (en) * 2008-12-17 2010-07-01 Fuji Electric Holdings Co Ltd Method for forming polarization reversed region, method for manufacturing quasi phase matching element, quasi phase matching element, and manufacturing system
JP2010204505A (en) * 2009-03-05 2010-09-16 Ngk Insulators Ltd Wavelength conversion element and method of manufacturing the same
JP2010204593A (en) * 2009-03-06 2010-09-16 Ngk Insulators Ltd Harmonic wave generator

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010145651A (en) * 2008-12-17 2010-07-01 Fuji Electric Holdings Co Ltd Method for forming polarization reversed region, method for manufacturing quasi phase matching element, quasi phase matching element, and manufacturing system
JP2010204505A (en) * 2009-03-05 2010-09-16 Ngk Insulators Ltd Wavelength conversion element and method of manufacturing the same
US8294978B2 (en) 2009-03-05 2012-10-23 Ngk Insulators, Ltd. Wavelength conversion devices and a method of producing the same
JP2010204593A (en) * 2009-03-06 2010-09-16 Ngk Insulators Ltd Harmonic wave generator
US8184360B2 (en) 2009-03-06 2012-05-22 Ngk Insulators, Ltd. Wavelength converting devices

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5715271B2 (en) Single crystal, manufacturing method thereof, optical isolator, and optical processing device using the same
KR100945667B1 (en) Rare earth doped host materials
US8038904B2 (en) Method and structure for non-linear optics
Ye et al. Recent advances in crystal growth in China: Laser, nonlinear optical, and ferroelectric crystals
Bonner et al. The growth of K0. 6Li0. 4NbO3 crystals for electro-optic and non-linear applications
CN104403671B (en) Fluoride nanometer crystal for wideband optical amplification and preparation method and application of fluoride nanometer crystal
Ge et al. Growth, optical and electrical properties of pure and Mn-doped Na0. 5Bi0. 5TiO3 lead-free piezoelectric crystals
JP2008065140A (en) Lithium niobate single crystal or lithium tantalate single crystal with improved optical damage characteristic, and optical element using the same
Sellaiyan et al. Er 3+ induced point defects in ZnO and impact of Li+/Na+/K+ on the vacancy defects in ZnO: Er studied by positron annihilation spectroscopy
Meher et al. Effect of post-annealing on the band gap of sol–gel prepared nano-crystalline Mg x Zn 1− x O (0.0≤ x≤ 0.3) thin films
WO2020248987A1 (en) Photoelectric functional crystal m3re(po4)3, preparation method therefor, and application thereof
CN102618928A (en) High-efficiency mid-infrared laser crystal and preparation method thereof
WO2016168309A1 (en) Nonlinear optical material and methods of fabrication
CN1298896C (en) Er3+,Yb3+,Ce3+Co-doped CaF2Laser crystal and growing method thereof
CN101298695A (en) Growth method of calcium niobate monocrystal
JP2006335621A (en) Method for producing ferroelectric perovskite-type barium titanate single crystal
Trindade et al. Evidence of ytterbium doping in YbxZn1-xO nanoparticles synthesized by polymer precursor method
Liu et al. Effect of [Li]/[Nb] ratio on composition and defect structure of Zr: Yb: Tm: LiNbO3 crystals
Jaschin et al. Enhanced second harmonic generation and photoluminescence in Pr-doped LiNb0. 5Ta0. 5O3 nanocrystals embedded in a borate based glass
CN111101198A (en) Neodymium-doped zinc bismuth borate self-frequency-doubling crystal material, cut type, preparation method and application thereof
Cheng et al. Stable dielectric, elastic, and piezoelectric properties of Yb3+: CNGS crystals at high temperature
Kim et al. Tm-doped Langasite (La3Ga5SiO14) crystals grown by the Czochralski method for optical applications
Yang et al. Up-conversion luminescence and defect structures in Sc: Dy: LiNbO3 crystals affected by Sc3+ concentration
WO2003071313A1 (en) Optical element and material with reduced uv absorption and deterioration
CN116891343B (en) Niobium silicate microcrystalline glass for precipitating biphase nonlinear crystal, and preparation method and application thereof