JP2008013605A - Inkjet recording ink composition, method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate - Google Patents

Inkjet recording ink composition, method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate Download PDF

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JP2008013605A JP2006183642A JP2006183642A JP2008013605A JP 2008013605 A JP2008013605 A JP 2008013605A JP 2006183642 A JP2006183642 A JP 2006183642A JP 2006183642 A JP2006183642 A JP 2006183642A JP 2008013605 A JP2008013605 A JP 2008013605A
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Masako Imai
真佐子 今井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an ink composition for inkjet recording excellent in fixability to ink receptors and redispersibility of the ink composition (colored organic fine particles) to a dispersion medium and provide a method for preparing a lithographic printing plate using the ink composition for inkjet recording and the lithographic printing plate prepared by the method. <P>SOLUTION: The ink composition for inkjet recording comprises (A) colored organic fine particles having ≥0.8 μm volume average particle size, (B) colored organic fine particles having ≤0.7 μm and (C) the dispersion medium. The method for preparing the lithographic printing plate using the ink composition for inkjet recording and the lithographic printing plate are provided. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、インクジェット記録用インク組成物、及び該インク組成物を用いた平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版に関する。   The present invention relates to an ink composition for inkjet recording, a method for preparing a lithographic printing plate using the ink composition, and a lithographic printing plate.

従来の平版印刷版は下記のようにして得られる。
親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部の画像記録層を残存させ、非画像部の画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解して除去することで親水性支持体表面を露出させる方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
しかし、従来の平版印刷版原版の製版工程では、露光後、非画像部を現像液等によって溶解除去する工程が必要となるが、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな課題となっており、上記課題の解決の要請が強くなってきている。
A conventional lithographic printing plate is obtained as follows.
A lithographic printing plate precursor having an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) provided on a hydrophilic support is exposed through an original image such as a lith film, and the image recording layer in the image area remains. Then, the image recording layer in the non-image part is dissolved and removed with an alkaline developer or an organic solvent to remove the surface of the hydrophilic support, whereby a lithographic printing plate is obtained.
However, in the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing the non-image area with a developer or the like is necessary after exposure. Disposal of waste liquids has become a major issue for the entire industry, and there is an increasing demand for solutions to the above issues.

近年、コンピューター等で作成された画像データ信号に基づき、紙などの被記録媒体に画像を形成する画像記録方法としては、これまでに電子写真方式、昇華型及び溶融型熱転写方式、インクジェット方式などが知られている。これらのうち電子写真方式は、感光体ドラム上に帯電及び露光により静電潜像を形成するプロセスを必要とするため、システムが複雑であり、装置も高価である。熱転写方式は、電子写真方式に比べて装置自体は安価であるが、インクリボンを用いるため、ランニングコストが高く、且つ廃材が生じるなど問題がある。一方、インクジェット方式は、安価な装置で、且つ必要とされる画像部のみにインクを吐出し被記録媒体上に直接画像形成を行うため、インクを効率よく使用でき、ランニングコストが安い。更に、騒音が少なく、画像記録方式として優れている。よって、最近急速に普及している記録方法である。
このようなインクジェット記録方法としては、静電誘引力を利用してインクを吐出させる、いわゆる静電方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用してインクを吐出させる、いわゆるドロップ・オン・デマンド方式(ピエゾ方式)、更には高熱によって気泡を形成し、成長させることによって生じる圧力を利用してインクを吐出させる、いわゆるバブル(サーマル)ジェット方式等の各種が提案されており、これらの方式によりきわめて高精細な画像を得ることができる。
上記のインクジェット記録方式を用いてアルミ板、プラスチックフィルム等の支持体に画像を直接形成して、インクジェット記録型CTPを作製し、湿式処理を行わずに印刷機のシリンダーに取り付けて印刷を行うことが可能であるという技術が知られている(例えば、特許文献1〜6参照。)。CTPとはデジタル化された印刷情報を直接印刷物として出力することをいう。
このようなインクジェット記録型CTP用インクの中では、油性インクが一般に用いられている(特許文献4〜6)。
特開2002−86667号公報 特開2001−88269号公報 特開2001−150652号公報 特開平10−298473号公報 特開平10−259336号公報 特開平10−273614号公報
In recent years, as an image recording method for forming an image on a recording medium such as paper based on an image data signal created by a computer or the like, an electrophotographic method, a sublimation type and a melt type thermal transfer method, an ink jet method, etc. have been used so far. Are known. Among these, the electrophotographic system requires a process of forming an electrostatic latent image on a photosensitive drum by charging and exposure, so that the system is complicated and the apparatus is expensive. The thermal transfer method is less expensive than the electrophotographic method, but has problems such as high running costs and waste materials due to the use of an ink ribbon. On the other hand, the ink jet method is an inexpensive apparatus and ejects ink only to a required image portion to form an image directly on a recording medium. Therefore, the ink can be used efficiently and the running cost is low. Furthermore, there is little noise and it is excellent as an image recording method. Therefore, it is a recording method that is rapidly spreading recently.
As such an ink jet recording method, a so-called electrostatic method in which ink is ejected using electrostatic attraction, or a so-called drop-on-demand method (piezoelectric) in which ink is ejected using the vibration pressure of a piezo element. Various methods such as a so-called bubble (thermal) jet method that ejects ink using pressure generated by forming and growing bubbles by high heat have been proposed. Can be obtained.
An ink jet recording type CTP is produced by directly forming an image on a support such as an aluminum plate or a plastic film by using the above ink jet recording method, and printing is performed by attaching it to a cylinder of a printing press without performing wet processing. Is known (see, for example, Patent Documents 1 to 6). CTP means that digitized print information is directly output as a printed matter.
Among such inks for ink jet recording type CTP, oil-based inks are generally used (Patent Documents 4 to 6).
JP 2002-86667 A JP 2001-88269 A JP 2001-150652 A Japanese Patent Laid-Open No. 10-298473 JP-A-10-259336 Japanese Patent Laid-Open No. 10-273614

本発明の目的は、インク受容体に対する定着性、インク組成物(着色有機微粒子)の分散媒に対する再分散性に優れ、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法、及びこれにより得られた平版印刷版を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for preparing a lithographic printing plate excellent in fixability to an ink receptor, redispersibility in a dispersion medium of an ink composition (colored organic fine particles), and excellent in printing durability, and obtained thereby. To provide a lithographic printing plate.

本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子を併用することで、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of extensive research, the inventor uses (A) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.8 μm or more and (B) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.7 μm or less in combination. Thus, the present inventors have found that the above problems can be solved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明のインクジェット記録用インク組成物は、(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子、(C)分散媒を含有することを特徴とする。
また、(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子、の質量比が、(A):(B)=1:9〜9:1であることが好ましい。
更に、(A)体積平均粒径が0.8m以上である着色有機微粒子と、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子のうち少なくとも一種が、可視領域に吸収を有することが好ましい。
本発明のインクジェット記録用インク組成物は、静電方式のインクジェット記録方式に用いられることが好ましい。
That is, the ink composition for inkjet recording of the present invention comprises (A) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 μm or more, (B) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less, ( C) A dispersion medium is contained.
The mass ratio of (A) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.8 μm or more and (B) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.7 μm or less is (A) :( B) = 1: 9 to 9: 1 is preferable.
Furthermore, at least one of (A) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 m or more and (B) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less has absorption in the visible region. It is preferable.
The ink composition for ink jet recording of the present invention is preferably used for an electrostatic ink jet recording system.

また、本発明の平版印刷版の作製方法は、(a)本発明のインクジェット記録用インク組成物を、インク受容体上に吐出する工程と、(b)吐出されたインク組成物を定着させる工程と、を含むことを特徴とする。
更に、本発明の平版印刷版は、本発明の平版印刷版の作製方法によって製造されたものである。
The lithographic printing plate production method of the present invention includes (a) a step of ejecting the ink composition for inkjet recording of the present invention onto an ink receptor, and (b) a step of fixing the ejected ink composition. It is characterized by including these.
Furthermore, the lithographic printing plate of the present invention is produced by the method for producing a lithographic printing plate of the present invention.

本発明によれば、インク受容体に対する定着性、インク組成物(着色有機微粒子)の分散媒に対する再分散性に優れ、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法、及びこれにより得られた平版印刷版を提供することができる。   According to the present invention, a method for preparing a lithographic printing plate excellent in fixability to an ink receptor, redispersibility in a dispersion medium of an ink composition (colored organic fine particles), and excellent in printing durability, and obtained thereby. A lithographic printing plate can be provided.

以下、本発明について説明する。
<インクジェット記録用インク組成物>
まず、本発明のインクジェット記録用インク組成物(以下、単に「インク組成物」と称する場合がある。)に関して説明する。
本発明のインク組成物は、(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子、(C)分散媒を含有することを特徴とする。
本発明では着色した有機微粒子を用いていることで、分散安定性に優れ、画像形成性が良好となる。また、体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子は、体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子間に密に充填されるため、基板界面で溶融した際に0.8μm以上の粒子間に結着することにより、被記録媒体に対する定着性を向上させることができる。一方、体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子は、定着時に、体積平均粒径が0.7μm以下の着色有機微粒子を被覆するような状態で被記録媒体に定着するため、全体として膜の均一性を付与することができ、平版印刷版の画像の強度を向上させ耐刷性を向上させることが可能となると考えられる。
以下、本発明のインク組成物を構成する成分について、詳細に説明する。
The present invention will be described below.
<Ink composition for inkjet recording>
First, the ink composition for ink jet recording of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “ink composition”) will be described.
The ink composition of the present invention comprises (A) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 μm or more, (B) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less, and (C) a dispersion medium. It is characterized by containing.
In the present invention, by using colored organic fine particles, the dispersion stability is excellent and the image forming property is good. Further, the colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.7 μm or less are closely packed between the colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.8 μm or more. By binding between particles of 8 μm or more, fixability to a recording medium can be improved. On the other hand, the colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 μm or more are fixed on the recording medium in such a manner that the colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less are coated during fixing. It is considered that the uniformity of the film can be imparted and the strength of the image of the lithographic printing plate can be improved and the printing durability can be improved.
Hereinafter, components constituting the ink composition of the present invention will be described in detail.

本発明における最も重要な構成部分である、着色有機微粒子について、説明する。
〔(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子〕
本発明において用いられる着色有機微粒子は、画像形成性と再分散性等の点から、体積平均粒径が0.8〜2.8μmの範囲であることが好ましく、0.83〜2.5μmの範囲であることがより好ましい。
〔(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子〕
本発明において用いられる着色有機微粒子は、画像形成性と再分散性等の点から、体積
平均粒径が0.32〜0.70μmの範囲であることが好ましく、0.35〜0.68μmの範囲であることがより好ましい。
なお本発明において、体積平均粒径は、粒子体積で重み付けした平均粒径であり、粒子
の集合において、個々の粒子の直径にその粒子の体積を乗じたものの総和を粒子の総体積
で割ったものである。体積平均粒径はCAPA−500(堀場製作所(株)製商品名)に
より求めることができる。
(A)と(B)の質量比は、(A):(B)=1:9〜9:1 、より好ましくは2:8〜8:2である。 このように互いに体積平均粒径が異なる場合、(A)と(B)とが混在することで、前記着色有機微粒子が被記録媒体に対して密に接触することができ、定着性が向上する。また、大きな粒子が小さな粒子を被覆するような状態で被記録媒体に定着するため、膜の均一性を付与することができることで、平版印刷版の画像部強度が向上し、高い耐刷性を得ることができる。
The colored organic fine particles, which are the most important components in the present invention, will be described.
[(A) Colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 μm or more]
The colored organic fine particles used in the present invention preferably have a volume average particle size in the range of 0.8 to 2.8 μm, from 0.83 to 2.5 μm, from the viewpoint of image formability and redispersibility. A range is more preferable.
[(B) Colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less]
The colored organic fine particles used in the present invention preferably have a volume average particle size in the range of 0.32 to 0.70 μm, from 0.35 to 0.68 μm, from the viewpoint of image formability and redispersibility A range is more preferable.
In the present invention, the volume average particle diameter is an average particle diameter weighted by the particle volume, and in a set of particles, the sum of the diameter of each particle multiplied by the volume of the particle is divided by the total volume of the particle. Is. The volume average particle diameter can be determined by CAPA-500 (trade name, manufactured by Horiba, Ltd.).
The mass ratio of (A) to (B) is (A) :( B) = 1: 9 to 9: 1, more preferably 2: 8 to 8: 2. When the volume average particle diameters are different from each other in this way, (A) and (B) are mixed, whereby the colored organic fine particles can be brought into close contact with the recording medium, and the fixability is improved. . In addition, since the large particles are fixed to the recording medium in such a state that the small particles cover the small particles, the uniformity of the film can be imparted, thereby improving the image area strength of the lithographic printing plate and increasing the printing durability. Obtainable.

[着色有機微粒子]
本発明における着色有機微粒子としては、下記のように、重合造粒法又は湿式分散法で作製された有機微粒子を着色したものが好ましく用いられる。
なお、本発明において着色とは、可視光線に吸収を有するものの他、紫外線、赤外線の領域による吸収を有するものも包含するものとする。また、着色されない有機微粒子の粒径を制御することで、光の反射により目視で白く見えるものも、本発明の着色有機微粒子に包含されるものとする。
この重合造粒法や湿式分散法を用いて着色有機微粒子を作製する際には、使用するモノマーの選択や、重合条件等を調整することで、ガラス転移温度(Tg)を制御することが可能である。
重合造粒法では有機微粒子の重合過程で粒径を制御することが可能であり、湿式分散法では、粒子を形成するポリマーを機械的に分散させる際に、粒径の制御が可能である。
重合造粒法と湿式分散法を比較すると、重合造粒法は粒子の粒径の小さい領域を制御しやすく、湿式分散法は粒径の大きい領域を制御しやすい。
これらの方法で得られた着色有機微粒子を、適宜、所望の割合で混合し、分散媒中に分散することで、本発明のインク組成物を得ることができる。
なお、この重合造粒法及び湿式分散法では、非水溶媒中に有機微粒子が分散した状態で得られる。そのため、有機微粒子が分散した分散液を、適宜、所望の割合で混合することで、本発明のインク組成物を得ることもできる。
[Colored organic fine particles]
As the colored organic fine particles in the present invention, those obtained by coloring organic fine particles produced by a polymerization granulation method or a wet dispersion method are preferably used as described below.
In addition, in this invention, coloring shall include what has absorption by the area | region of an ultraviolet-ray and infrared rays besides what has absorption in visible light. In addition, by controlling the particle size of the organic fine particles that are not colored, the organic fine particles that appear white by reflection of light are also included in the colored organic fine particles of the present invention.
When producing colored organic fine particles using this polymerization granulation method or wet dispersion method, the glass transition temperature (Tg) can be controlled by selecting the monomer to be used and adjusting the polymerization conditions. It is.
In the polymerization granulation method, the particle size can be controlled in the polymerization process of the organic fine particles. In the wet dispersion method, the particle size can be controlled when the polymer forming the particles is mechanically dispersed.
Comparing the polymerization granulation method and the wet dispersion method, the polymerization granulation method can easily control the region where the particle size of the particle is small, and the wet dispersion method can easily control the region where the particle size is large.
The colored organic fine particles obtained by these methods are appropriately mixed at a desired ratio and dispersed in a dispersion medium, whereby the ink composition of the present invention can be obtained.
In this polymerization granulation method and wet dispersion method, the organic fine particles are obtained in a dispersed state in a non-aqueous solvent. Therefore, the ink composition of the present invention can also be obtained by appropriately mixing the dispersion liquid in which the organic fine particles are dispersed at a desired ratio.

−重合造粒法による着色有機微粒子の作製−
まず、本発明における重合造粒法による有機微粒子の作製方法について説明する。
重合造粒法は、非水溶媒中、少なくとも1種の一官能性単量体を、分散安定用樹脂(以下、分散剤と称する場合がある。)の存在下において重合することによって、有機微粒子を製造する方法である。この方法により製造された有機微粒子を着色することで、本発明における着色有機微粒子を得ることができる。本発明における着色には、有機微粒子を
着色する場合や有機微粒子を製造する際に予め樹脂材料とともに着色剤を配合する場合のほか、有機微粒子を製造する際に有機微粒子の粒径を制御することで、光の反射により目視で白く見えるようにする場合も含まれる。
以下、重合造粒法において用いられる成分について説明する。
-Preparation of colored organic fine particles by polymerization granulation method-
First, a method for producing organic fine particles by the polymerization granulation method in the present invention will be described.
In the polymerization granulation method, at least one monofunctional monomer is polymerized in a non-aqueous solvent in the presence of a dispersion stabilizing resin (hereinafter sometimes referred to as a dispersant), thereby forming organic fine particles. It is a method of manufacturing. By coloring the organic fine particles produced by this method, the colored organic fine particles in the present invention can be obtained. The coloring in the present invention includes controlling the particle size of the organic fine particles when producing the organic fine particles, in addition to the case where the organic fine particles are colored, or when the organic fine particles are mixed with the colorant in advance. In this case, it is also possible to make it look white by reflection of light.
Hereinafter, components used in the polymerization granulation method will be described.

(非水溶媒)
ここで、非水溶媒とは、直鎖状若しくは分岐状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、又は芳香族炭化水素、及びこれらの炭化水素のハロゲン置換体(ハロゲン化炭化水素類)が挙げられる。具体的には、オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパーE、アイソパーG、アイソパーH、アイソパーL(アイソパー;エクソン社の商品名)、シェルゾール70、シェルゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商品名)、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムスコ;スピリッツ社の商品名)、メチレンジクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メチルクロロホルム等を、単独或いは混合して用いることができる。
(Non-aqueous solvent)
Here, the non-aqueous solvent is a linear or branched aliphatic hydrocarbon, alicyclic hydrocarbon, or aromatic hydrocarbon, and halogen-substituted products (halogenated hydrocarbons) of these hydrocarbons. Can be mentioned. Specifically, octane, isooctane, decane, isodecane, decalin, nonane, dodecane, isododecane, cyclohexane, cyclooctane, cyclodecane, benzene, toluene, xylene, mesitylene, Isopar E, Isopar G, Isopar H, Isopar L (Isopar; Exxon product name), Shellsol 70, Shellzol 71 (Shellsol; Shell Oil product name), Amsco OMS, Amsco 460 solvent (Amsco; Spirits product name), methylene dichloride, chloroform, carbon tetrachloride , Dichloroethane, methyl chloroform and the like can be used alone or in combination.

また、上記の炭化水素系化合物及びそれらのハロゲン置換体以外に以下に記載の非炭化水素系化合物も混合して用いることができる。混合できる化合物としては、アルコール類(例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、フッ化アルコール等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、メチレンジクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メチルクロロホルム等)等が挙げられる。   In addition to the above hydrocarbon compounds and their halogen-substituted products, the following non-hydrocarbon compounds can also be mixed and used. Examples of compounds that can be mixed include alcohols (for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, and fluorinated alcohol), ketones (for example, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and the like), and carboxylic acid esters (for example, acetic acid). Methyl, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, etc.), ethers (eg, diethyl ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), halogenated hydrocarbons (eg, methylene dichloride, Chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, methyl chloroform and the like).

本発明においては、インク組成物を構成する好ましい成分である、後述する分散媒への置換等の工程を省略するために、通常、有機微粒子の造粒段階で、分散媒と同じ非水溶媒を用いることが好ましい。   In the present invention, in order to omit steps such as substitution with a dispersion medium, which will be described later, which is a preferred component constituting the ink composition, the same non-aqueous solvent as the dispersion medium is usually used in the granulation stage of the organic fine particles. It is preferable to use it.

これらの非水溶媒の使用量は、合成の際に用いられる混合液の全質量に対して、80〜0.01質量%の範囲であることが好ましく、つまり、混合液中の固形分は20〜99.99%の範囲であることが好ましい。また、70〜0.1質量%の範囲であることがより好ましく、60〜1質量%の範囲であることが更に好ましい。   The amount of these nonaqueous solvents used is preferably in the range of 80 to 0.01% by mass with respect to the total mass of the mixed solution used in the synthesis, that is, the solid content in the mixed solution is 20%. It is preferable to be in the range of ˜99.99%. Moreover, it is more preferable that it is the range of 70-0.1 mass%, and it is still more preferable that it is the range of 60-1 mass%.

(一官能性単量体)
本発明における一官能性単量体(以下、単に「単量体」と称する場合がある。)は、非水溶媒には可溶であるが、重合することによって不溶化する一官能性単量体であれば特に限定されない。具体的には、例えば、下記一般式(I)で表される単量体が挙げられる。
(Monofunctional monomer)
The monofunctional monomer in the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “monomer”) is soluble in a non-aqueous solvent, but is insolubilized by polymerization. If it is, it will not specifically limit. Specific examples include monomers represented by the following general formula (I).

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(I)中、Tは、−COO−、−OCO−、−CHOCO−、−CHCOO−、−O−、−CONHCOO−、−CONHOCO−、−SO−、−CON(W)−、−SON(W)−、又はフェニレン基(以下、フェニレン基を「−Ph−」と記載する。なお、フェニレン基は、1,2−、1,3−及び1,4−フェニレン基を包含する。)を表す。ここでWは、水素原子又は炭素数1〜20の置換されていてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ジメチルベンジル基、フロロベンジル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基等)等を表す。 In the general formula (I), T 1 is, -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CONHCOO -, - CONHOCO -, - SO 2 -, - CON (W 1 ) —, —SO 2 N (W 1 ) —, or a phenylene group (hereinafter, the phenylene group is referred to as “—Ph—”. The phenylene group includes 1,2-, 1,3- And 1,4-phenylene group). Here, W 1 represents a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2 -Cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, dimethylbenzyl group, fluorobenzyl group, 2-methoxyethyl group, 3- Methoxypropyl group and the like).

は、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数1〜20の置換されていてもよい脂肪族基を表す。この脂肪族基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリフロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−グリシジルエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−ニトロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−エトキシエチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、N,N−ジエチルアミノエチル基、トリメトキシシリルプロピル基、3−ブロモプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−フルフリルエチル基、2−チエニルエチル基、2−ピリジルエチル基、2−モルホリノエチル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、2−ホスホエチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホブチル基、2−カルボキシアミドエチル基、3−スルホアミドプロピル基、2−N−メチルカルボキシアミドエチル基、シクロペンチル基、クロロシクロヘキシル基、ジクロロヘキシル基等が挙げられる。 D 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the aliphatic group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2-chloroethyl group, a 2,2-dichloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 2-bromoethyl group, 2-glycidylethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2,3-dihydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2-nitroethyl Group, 2-methoxyethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 2-ethoxyethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, N, N-diethylaminoethyl group, trimethoxysilylpropyl group, 3-bromopropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-furfurylethyl group, 2-thienylethyl group, 2-pyridylethyl group, 2-mol Linoethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, 2-phosphoethyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 2-carboxyamidoethyl group, 3-sulfoamidopropyl group 2-N-methylcarboxamidoethyl group, cyclopentyl group, chlorocyclohexyl group, dichlorohexyl group and the like.

及びdは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜20の炭化水素基、−COO−Z、又は炭素数1〜20の炭化水素基を介した−COO−Z〔ここで、Zは炭素数1〜22の炭化水素基を表す〕を表す。 d 1 and d 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, —COO—Z 1 , or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. -COO-Z 1 through the formula [wherein Z 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms].

具体的な一官能性単量体としては、例えば、炭素数1〜20の脂肪族カルボン酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、モノクロロ酢酸、トリフロロプロピオン酸等)のビニルエステル類或いはアリルエステル類;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸の炭素数1〜10の置換されていてもよいアルキルエステル類又はアミド類(アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−フロロエチル基、トリフロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−ニトロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−ベンゼンスルホニルエチル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−カルボキシエチル基、2−ホスホエチル基、4−カルボキシブチル基、3−スロホプロピル基、4−スルホブチル基、3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−フルフリルエチル基、2−ピリジニルエチル基、2−チエニルエチル基、トリメトキシシリルプロピル基、2−カルボキシアミドエチル基等);スチレン誘導体(例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、メトキシメチルスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレン、ビニルベンゼンカルボキシアミド、ビニルベンゼンスルホアミド等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;マレイン酸、イタコン酸の環状酸無水物;アクリロニトリル;メタクリロニトリル;重合性二重結合基含有のヘテロ環化合物(具体的には、例えば高分子学会編「高分子データハンドブック−基礎編−」、p175〜184、培風舘(1986年刊)に記載の化合物、例えば、N−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルオキサゾリン、ビニルチアゾール、N−ビニルモルホリン等)等が挙げられる。
これらの一官能性単量体は単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Specific monofunctional monomers include, for example, vinyl esters or allyl esters of aliphatic carboxylic acids having 1 to 20 carbon atoms (acetic acid, propionic acid, butyric acid, monochloroacetic acid, trifluoropropionic acid, etc.); C1-C10 optionally substituted alkyl esters or amides of unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid (alkyl groups include, for example, methyl group, ethyl Group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group, trifluoroethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-nitroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 2-benzenesulfonylethyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl 2- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-phosphoethyl group, 4-carboxybutyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 3-chloropropyl group, 2-hydroxy- 3-chloropropyl group, 2-furfurylethyl group, 2-pyridinylethyl group, 2-thienylethyl group, trimethoxysilylpropyl group, 2-carboxyamidoethyl group, etc.); styrene derivatives (for example, styrene, vinyltoluene, α -Methylstyrene, vinylnaphthalene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, chloromethylstyrene, hydroxymethylstyrene, methoxymethylstyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, vinylbenzenecarbo Xylamide, vinylbenzenesulfoamide, etc.); unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid; cyclic anhydrides of maleic acid and itaconic acid; acrylonitrile; methacrylonitrile; Heterocyclic compounds containing a heavy bond group (specifically, compounds described in, for example, “Polymer Data Handbook -Basic Edition” edited by Polymer Society of Japan, p 175-184, Kaoru Baifu (1986)), for example, N- Vinyl pyridine, N-vinyl imidazole, N-vinyl pyrrolidone, vinyl thiophene, vinyl tetrahydrofuran, vinyl oxazoline, vinyl thiazole, N-vinyl morpholine, etc.).
These monofunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

これらの一官能性単量体の使用量は、合成の際に用いられる混合液中の全固形分に対して、10質量%以上であることが好ましく、15質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることが更に好ましい。また、(b)一官能性単量体の使用量の上限値は、得られる有機微粒子の単分散性、分散安定性の観点から99質量%以下であることが好ましく、95質量%以下であることがより好ましい。
一官能性単量体の含有量が10質量%より少ないと、非水溶媒から有機微粒子が析出しにくいため、合成が難しくなる。また、単分散性も低下する。
The amount of these monofunctional monomers used is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, based on the total solid content in the mixed solution used in the synthesis. More preferably, it is 20% by mass or more. In addition, the upper limit of the amount of the (b) monofunctional monomer used is preferably 99% by mass or less and 95% by mass or less from the viewpoint of monodispersity and dispersion stability of the organic fine particles obtained. It is more preferable.
When the content of the monofunctional monomer is less than 10% by mass, the organic fine particles are hardly precipitated from the non-aqueous solvent, so that the synthesis becomes difficult. Moreover, monodispersity also falls.

(分散安定用樹脂(分散剤))
本発明における有機微粒子を造粒する際に用いられる分散安定用樹脂(分散剤)について説明する。
この分散剤は、非水溶媒中で、一官能性単量体を重合してなり、且つ、非水溶媒に不溶な重合体を、安定な樹脂分散物とするために用いられる。
本発明において、分散安定用樹脂(分散剤)は、有機微粒子の合成に用いられる一官能性単量体に対して、1〜50質量%で使用することが好ましく、更に好ましくは、5〜40質量%である。
(Dispersion stabilizing resin (dispersant))
The dispersion stabilizing resin (dispersant) used when granulating the organic fine particles in the present invention will be described.
This dispersant is used for polymerizing a monofunctional monomer in a non-aqueous solvent and making a polymer insoluble in the non-aqueous solvent into a stable resin dispersion.
In the present invention, the dispersion stabilizing resin (dispersant) is preferably used in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40%, based on the monofunctional monomer used for the synthesis of organic fine particles. % By mass.

本発明における分散剤としては、前述の分散媒に可溶な、ランダム共重合体、クシ型共重合体、スター型共重合体、部分架橋型共重合体、架橋性基含有共重合体等の従来既知の分散安定剤を用いることができる。
以下、本発明に好適な分散剤について説明する。
Examples of the dispersant in the present invention include a random copolymer, comb-type copolymer, star-type copolymer, partially cross-linked copolymer, and cross-linkable group-containing copolymer that are soluble in the above-described dispersion medium. Conventionally known dispersion stabilizers can be used.
Hereinafter, the dispersant suitable for the present invention will be described.

(ランダム共重合体)
本発明におけるランダム共重合体の具体例としては、炭素数6〜32のアルキル鎖、アルケニル鎖(これらの脂肪族基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、アルコキシ基等の置換基を含有していてもよく、或いは、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のへテロ原子で主鎖の炭素−炭素結合が介されていてもよい。)を有する、アクリル酸、メタクリル酸、又はクロトン酸のエステル類;高級脂肪酸ビニル類;アルキルビニルエーテル類;ブタジエン、イソプレン、ジイソプレン等のオレフィン類;等の単量体を重合してなる重合体、又はこれらの単量体の2種以上を組み合わせ共重合してなる共重合体が挙げられる。
更に、上記のような非水溶媒に可溶な重合体を形成する単量体と、得られる共重合体が非水溶媒に可溶な範囲の割合で、下記のような各種の単量体の1種以上と、を共重合して得られる共重合体も用いることができる。
(Random copolymer)
Specific examples of the random copolymer in the present invention include alkyl chains and alkenyl chains having 6 to 32 carbon atoms (these aliphatic groups contain a substituent such as a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, and an alkoxy group). Or a heterocarbon atom such as an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and a carbon-carbon bond in the main chain may be interposed therebetween)) of acrylic acid, methacrylic acid, or crotonic acid Esters; higher fatty acid vinyls; alkyl vinyl ethers; olefins such as butadiene, isoprene and diisoprene; polymers obtained by polymerizing monomers, or a combination of two or more of these monomers The copolymer which consists of is mentioned.
Furthermore, the following monomers can be used at a ratio of a monomer that forms a polymer that is soluble in a non-aqueous solvent as described above and a copolymer that can be obtained in a non-aqueous solvent. A copolymer obtained by copolymerizing at least one of the above can also be used.

上記の単量体と共重合しうる単量体として、例えば、酢酸ビニル、酢酸アリル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸の、メチル、エチル、或いはプロピルエステル類;スチレン誘導体(例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸のような不飽和カルボン酸又はその酸無水物;ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、N−ビニルピロリドン、アクリルアミド、アクリロニトリル、2−クロロエチルメタクリレート、2,2,2−トリフロロエチルメタクリレート等の、ヒドロキシ基、アミノ基、アミド基、シアノ基、スルホン酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ヘテロ環等の各種極性基を含有する単量体;等を挙げることができる。   Monomers that can be copolymerized with the above monomers include, for example, vinyl acetate, allyl acetate, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, methyl, ethyl, or propyl esters; styrene derivatives (For example, styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc.); unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid or anhydrides thereof; hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, Hydroxy group, amino group, amide group, cyano group, sulfonic acid group, carboxyl group, such as diethylaminoethyl methacrylate, N-vinylpyrrolidone, acrylamide, acrylonitrile, 2-chloroethyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate ,Halo Monomers containing emissions atoms, various polar groups of the heterocycle and the like; and the like.

更に、本発明におけるランダム共重合体として、アルキッド樹脂、各種の脂肪酸で変性したアルキッド樹脂、アマニ油、変性ポリウレタン樹脂等の天然樹脂を用いることもできる。   Furthermore, natural resins such as alkyd resins, alkyd resins modified with various fatty acids, linseed oil, and modified polyurethane resins can be used as the random copolymer in the present invention.

本発明におけるランダム共重合体の重量平均分子量は、3,000〜20万の範囲であることが好ましく、5,000〜15万の範囲であることがより好ましい。
分子量が3,000より小さいと、分散能が低下するため、再分散性、保存安定性が低下する場合がある。また、分子量が20万より大きいと、(a)非水溶媒への溶解性が低下し、この場合にも、分散能が低下し、再分散性、保存安定性の低下を引き起こす場合がある。
The weight average molecular weight of the random copolymer in the present invention is preferably in the range of 3,000 to 200,000, and more preferably in the range of 5,000 to 150,000.
When the molecular weight is less than 3,000, the dispersibility is lowered, and thus redispersibility and storage stability may be lowered. On the other hand, if the molecular weight is larger than 200,000, (a) the solubility in a non-aqueous solvent is lowered, and in this case also, the dispersibility is lowered, and redispersibility and storage stability may be lowered.

(クシ型共重合体)
本発明におけるクシ型共重合体とは、下記に示す構造を有し、且つ、重量平均分子量1×10〜5×10のマクロモノマー(MM)を、少なくとも1種、共重合成分として有する共重合体である。
まず、このマクロモノマーについて詳細に説明する。クシ型共重合体を得るために用いられるマクロモノマーは、下記一般式(II)で示される繰り返し単位を有する重合体主鎖の一方の末端にのみに、下記一般式(III)で示される重合性二重結合基を結合してなる構造を有する。
(Comb-type copolymer)
The comb-type copolymer in the present invention has the following structure, and has at least one macromonomer (MM) having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 5 × 10 4 as a copolymerization component. It is a copolymer.
First, this macromonomer will be described in detail. The macromonomer used to obtain the comb-type copolymer is a polymer represented by the following general formula (III) only at one terminal of the polymer main chain having a repeating unit represented by the following general formula (II). Has a structure formed by bonding a double bond group.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(II)において、a及びaは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、−COO−Z、又は炭化水素基を介した−COO−Zを表す。ここで、炭化水素基を介した−COO−Z基における炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。また、Zは、好ましくは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基若しくはアリール基である。
これらの基は、可能であれば更に置換基を有していてもよい。
In the general formula (II), a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), a cyano group, or a carbon number of 1 to 4. -COO-Z 1 through a hydrocarbon group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -COO-Z 1 or a hydrocarbon group. Here, examples of the hydrocarbon group in the —COO—Z 1 group via a hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, and a propylene group. Z 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, or an aryl group.
These groups may further have a substituent if possible.

また、一般式(II)において、Xは、−COO−、−OCO−、−CHOCO−、−CHCOC−、−O−、−SO−、−CO−、−CONR11−、−SONR11−、又は−Ph(フェニレン基)−を表わす。ここで、R11としては、水素原子、炭素数1〜22の置換されていてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されていてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。 In the general formula (II), X 0 represents —COO—, —OCO—, —CH 2 OCO—, —CH 2 COC—, —O—, —SO 2 —, —CO—, —CONR 11 —. , —SO 2 NR 11 —, or —Ph (phenylene group) —. Here, as R 11 , a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group) Group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group Etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1- A pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 2-hexenyl group, a 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), which may be substituted with 7 to 12 carbon atoms. Aralkyl groups (for example, benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, naphthylmethyl, 2-naphthylethyl, chlorobenzyl, bromobenzyl, methylbenzyl, ethylbenzyl, methoxybenzyl, dimethylbenzyl) Group, dimethoxybenzyl group, etc.), C5-C8 optionally substituted alicyclic group (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), C6-C12 Aromatic groups which may be substituted (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl Group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dic A rophenyl group, a bromophenyl group, a cyanophenyl group, an acetylphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, an ethoxycarbonylphenyl group, a butoxycarbonylphenyl group, an acetamidophenyl group, a propioamidophenyl group, a dodecylylamidophenyl group). It is done.

なお、Xが、−Ph−(フェニレン基)である場合、その環上には、更に置換基を有してもよい。導入可能な置換基としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。 Incidentally, X 0 is the case of -Ph- (phenylene group), on the ring may have a substituent. Examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (For example, a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, a butoxy group, etc.) etc. are mentioned.

一般式(II)において、Qは、炭素数10〜22のアルキル基、又は炭素数10〜22のアルケニル基を表わす。 In the general formula (II), Q 1 represents an alkyl group having 10 to 22 carbon atoms or an alkenyl group having 10 to 22 carbon atoms.

次に、下記一般式(III)で示される重合性二重結合基について説明する。   Next, the polymerizable double bond group represented by the following general formula (III) will be described.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(III)において、b及びbは、互いに同じでも異なってもよく、前記一般式(II)中のa、aと同一の内容を表す。
また、Xは、一般式(II)中のXと同一の内容を表わし、好ましくは、−COO−、−OCO−、−O−、−CHOCO−、又は−CHCOO−である。
In the general formula (III), b 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and represent the same contents as a 1 and a 2 in the general formula (II).
Moreover, X 1 is represents the same content as X 0 in formula (II), preferably, -COO -, - OCO -, - O -, - CH 2 OCO-, or -CH 2 COO- in is there.

一般式(III)で表わされる重合性二重結合基として、具体的には、CH=CH−COO−、CH=C(CH)−COO−、CH−CH=CH−COO−、CH=C(CHCOOCH)−COO−、CH=C(CHCOOH)−COO−、CH=CH−CONH−、CH=C(CH)−CONH−、CH−CH=CH−CONH−、CH=CH−OCO−、CH=CH−CH−OCO−、CH=CH−O−、CH=C(COOH)−CH−COO−、CH=C(COOCH)−CH−COO−、CH=CH−Ph−等が挙げられる。 Specific examples of the polymerizable double bond group represented by the general formula (III) include CH 2 ═CH—COO—, CH 2 ═C (CH 3 ) —COO—, and CH 3 —CH═CH—COO—. , CH 2 = C (CH 2 COOCH 3) -COO-, CH 2 = C (CH 2 COOH) -COO-, CH 2 = CH-CONH-, CH 2 = C (CH 3) -CONH-, CH 3 -CH = CH-CONH-, CH 2 = CH-OCO-, CH 2 = CH-CH 2 -OCO-, CH 2 = CH-O-, CH 2 = C (COOH) -CH 2 -COO-, CH 2 = C (COOCH 3) -CH 2 -COO-, CH 2 = CH-Ph- , and the like.

このような重合性二重結合基は、一般式(II)で示される重合体主鎖の片末端に、直接結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。ここで用いられる連結基としては、炭素−炭素結合(一重結合或いは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組合せで構成されるものである。
具体的な連結基としては、−CR−〔ここで、RとRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す。〕、−(CH=CH)−、−C10−(すなわち、シクロヘキシレン基)、−Ph(フェニレン基)−、−O−、−S−、−CO−、−NR−、−COO−、−SO−、−CONR−、−SONR−、−NHCOO−、−NHCONH−、−SiR10−〔ここで、RとR10は、各々独立に、水素原子、前記一般式(I)のDで表される脂肪族基等の炭化水素基を示す。〕等の連結基、又は、これらの連結基を2以上組合せて構成された連結基が挙げられる。
Such a polymerizable double bond group may be directly bonded to one end of the polymer main chain represented by the general formula (II) or may be bonded via a linking group. Examples of the linking group used herein include carbon-carbon bonds (single bonds or double bonds), carbon-heteroatom bonds (hetero atoms include oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, etc.), hetero It is composed of any combination of atom-heteroatom bond atomic groups.
Specific examples of the linking group include —CR 7 R 8 — [wherein R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group. , A hydroxyl group, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.) and the like. ], - (CH = CH) - , - C 5 H 10 - ( i.e., cyclohexylene group), - Ph (phenylene) -, - O -, - S -, - CO -, - NR 5 -, - COO—, —SO 2 —, —CONR 9 —, —SO 2 NR 9 —, —NHCOO—, —NHCONH—, —SiR 9 R 10 — [wherein R 9 and R 10 are each independently hydrogen An atom and a hydrocarbon group such as an aliphatic group represented by D 1 in the general formula (I) are shown. ] Or a linking group formed by combining two or more of these linking groups.

上記のようなマクロモノマーは、従来公知の合成方法によって製造することができる。例えば、1)アニオン重合或いはカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基を導入する、イオン重合法による方法、2)分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基等の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬を反応させて重合性二重結合基を導入する、ラジカル重合法による方法、3)重付加或いは重縮合反応により得られたオリゴマーに、上記ラジカル重合方法と同様にして重合性二重結合基を導入する、重付加縮合法による方法等が挙げられる。   The macromonomer as described above can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, 1) a method of introducing a polymerizable double bond group by reacting various reagents at the end of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization, and 2) a carboxyl group, hydroxy group in the molecule A polymerization initiator containing a reactive group such as an amino group or an amino group and / or a chain transfer agent, and reacting an oligomer of a terminal reactive group bond obtained by radical polymerization with various reagents to form a polymerizable duplex. Incorporating a linking group by a radical polymerization method, 3) By introducing a polymerizable double bond group into an oligomer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the radical polymerization method, by a polyaddition condensation method Methods and the like.

より具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sci.Eng.,7,551(1987)、P,F.Rempp & E.Franta,Adv.Polym.Sci.,58,1(1984)、V.Percec,Appl.Polym.Sci.,285,95(1984)、R.Asami,M.TakaRi,Makvamol.Chem.Suppl.,12,163(1985)、P.Rempp et al,Makvamol.Chem.Suppl.,8,3(1984)、川上雄資「化学工業」38,56(1987)、山下雄也「高分子」31,988(1982)、小林四郎「高分子」30,625(1981)、東村敏延「日本接着協会誌」18,536(1982)、伊藤浩一「高分子加工」35,262(1986)、東貴四郎,津田隆「機能材料」1987,No.10,5等の総説及びそれに引用の文献・特許等に記載の方法に従って合成することができる。   More specifically, P.I. Dryfuss & R.D. P. Quirk, Encycl. Polym. Sci. Eng. 7,551 (1987), P.F. Rempp & E.M. Franta, Adv. Polym. Sci. 58, 1 (1984), V.S. Percec, Appl. Polym. Sci. , 285, 95 (1984), R.A. Asami, M .; TakaRi, Makvamol. Chem. Suppl. , 12, 163 (1985), p. Rempp et al, Makvamol. Chem. Suppl. 8, 3 (1984), Yusuke Kawakami “Chemical Industry” 38, 56 (1987), Yuya Yamashita “Polymer” 31, 988 (1982), Shiro Kobayashi “Polymer” 30, 625 (1981), Satoshi Higashimura Nobu "Japan Adhesion Association Journal" 18,536 (1982), Ito Koichi "Polymer Processing" 35,262 (1986), Toki Shiro, Tsuda Takashi "Functional Materials" 1987, No. It can be synthesized according to the methods described in the reviews such as 10, 5 and the literatures and patents cited therein.

前記2)の方法において用いられる、分子中に反応性基を含有した重合開始剤としては、例えば、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸クロライド)、2,2’−アゾビス(2−シアノプロパノール)、2,2’−アゾビス(2−シアノペンタノール)、2,2’−アゾビス〔2−(5−ヒドロキシ−3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオアミド)、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル〕プロピオアミド}、2,2’−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオアミド〕、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)、2,2’−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオアミド〕、2,2’−アゾビス〔2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス〔2−(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス〔2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパン}、2,2’−アゾビス〔N−(2−ヒドロキシエチル)−2−メチル−プロピオンアミジン〕、2,2’−アゾビス〔N−(4−アミノフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン〕等のアゾビス系化合物が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator containing a reactive group in the molecule used in the method 2) include 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 4,4′-azobis (4-cyano). Valeric acid chloride), 2,2′-azobis (2-cyanopropanol), 2,2′-azobis (2-cyanopentanol), 2,2′-azobis [2- (5-hydroxy-3,4, 5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane], 2,2′-azobis (2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propioamide), 2,2 ′ -Azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) ethyl] propioamide}, 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propioamide], 2,2 -Azobis (2-amidinopropane), 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propioamide], 2,2'-azobis [2- (5-methyl-2-imidazoline- 2-yl) propane], 2,2′-azobis [2- (4,5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-diazepin-2-yl) propane], 2,2′-azobis [2 -(3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane], 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl] propane}, 2,2′-azobis [N- (2-hydroxyethyl) -2-methyl-propionamidine], 2,2′-azobis [N- (4-aminophenyl) -2-methylpropionamidine] and the like Compound And the like.

また、分子中に反応性基を含有した連鎖移動剤としては、例えば、該反応性基或いは該反応性基に誘導しうる置換基含有のメルカプト化合物(例えば、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノール等)、又は該反応性基或いは該反応性基に誘導しうる置換基含有のヨード化アルキル化合物(例えば、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等)等が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物が挙げられる。   Examples of the chain transfer agent containing a reactive group in the molecule include, for example, the reactive group or a mercapto compound containing a substituent that can be derived from the reactive group (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid). 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercapto Ethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mer Pt-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, etc.), or the reactive group or the reactive group Examples thereof include iodinated alkyl compounds containing substituents (for example, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, and the like). Preferably, a mercapto compound is used.

これらの重合開始剤或いは連鎖移動剤の使用量は、各々、ラジカル重合の際に用いられる全単量体100質量%に対して、0.1〜10質量%であり、好ましくは0.5〜5質量%である。   The amount of these polymerization initiators or chain transfer agents used is 0.1 to 10% by mass, preferably 0.5 to 100% by mass with respect to 100% by mass of the total monomers used in radical polymerization. 5% by mass.

このようにして得られたマクロモノマー(MM)の重量平均分子量は、クシ型共重合体の分子量を後述の範囲に制御するために、1×10〜5×10の範囲であることを要し、3×10〜3×10であることが好ましい。 The weight average molecular weight of the macromonomer (MM) thus obtained is in the range of 1 × 10 3 to 5 × 10 4 in order to control the molecular weight of the comb-type copolymer to the range described later. In short, it is preferably 3 × 10 3 to 3 × 10 4 .

本発明におけるクシ型共重合体は、上述のような構造のマクロモノマーを10〜90質量%の範囲で含んでいるものが好ましく、20〜80質量%の範囲で含んでいるものがより好ましい。
この範囲内においてマクロモノマーを含むことで、重合造粒で得られる有機微粒子の平均粒子径が均一に揃い、且つ、得られた有機微粒子の再分散性が著しく向上する。
The comb-type copolymer in the present invention preferably contains 10 to 90% by mass of the macromonomer having the structure as described above, and more preferably contains 20 to 80% by mass.
By including the macromonomer within this range, the average particle diameter of the organic fine particles obtained by polymerization granulation is evenly arranged, and the redispersibility of the obtained organic fine particles is remarkably improved.

本発明におけるクシ型共重合体の重量平均分子量は、保存安定性、再分散性、分散安定性の観点から、5×10〜5×10の範囲であることが好ましく、1×10〜2×10の範囲であることがより好ましい。 The weight average molecular weight of the comb-type copolymer in the present invention is preferably in the range of 5 × 10 3 to 5 × 10 5 from the viewpoint of storage stability, redispersibility, and dispersion stability, and 1 × 10 4. More preferably, it is in the range of ˜2 × 10 5 .

(スター型共重合体)
本発明におけるスター型共重合体とは、中心となる有機分子に対し、A−B型のブロック共重合体の高分子鎖が少なくとも3個結合してなる、重量平均分子量1×10〜1×10の共重合体である。
(Star copolymer)
The star-type copolymer in the present invention is a weight average molecular weight of 1 × 10 4 to 1 formed by binding at least three polymer chains of an AB type block copolymer to a central organic molecule. × 10 6 copolymer.

ここで、ブロックAとブロックBの高分子鎖中における配列の順序は、ブロックAの重合体主鎖のブロックBと結合する末端とは反対側の片末端で、有機分子に結合してなるものであり、その構造を模式的に示すと下記の式(IV)のようになる。   Here, the order of arrangement of the block A and the block B in the polymer chain is formed by bonding to an organic molecule at one end opposite to the end bonded to the block B of the polymer main chain of the block A. The structure is schematically shown as the following formula (IV).

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記式(IV)において、Xは有機分子を表し、〔A〕はブロックAを、〔B〕はブロックBを表し、〔A〕−〔B〕は高分子鎖を表す。   In the above formula (IV), X represents an organic molecule, [A] represents block A, [B] represents block B, and [A]-[B] represents a polymer chain.

本発明におけるスター型共重合体におけるブロックAとブロックBの各共重合成の重量組成比は、1〜50/99〜50であり、好ましくは5〜40/95〜60である。   The weight composition ratio of each copolymerization of the block A and the block B in the star copolymer in the present invention is 1 to 50/99 to 50, preferably 5 to 40/95 to 60.

以下、まず、有機分子に結合するA−B型のブロック共重合体の高分子鎖を構成するブロックAについて説明する。
ブロックAは、ホスホノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、アミノ基、−P(=O)(OH)R基、−CONR基、−SONR、並びに環状酸無水物含有基からなる群より選択される少なくとも1種の極性基を含有する重合成分、及び/又は、前述の(b)一官能性単量体に相当する重合成分を少なくとも1種含有することで構成される。
Hereinafter, first, the block A constituting the polymer chain of the AB type block copolymer bonded to the organic molecule will be described.
The block A includes a phosphono group, a carboxyl group, a sulfo group, a hydroxyl group, a formyl group, an amino group, —P (═O) (OH) R 1 group, —CONR 3 R 4 group, —SO 2 NR 3 R 4 , And a polymerization component containing at least one polar group selected from the group consisting of cyclic acid anhydride-containing groups, and / or at least one polymerization component corresponding to the aforementioned (b) monofunctional monomer. Consists of containing.

つまり、ブロックAは、一官能性単量体(b)に相当する重合成分、及び/又は、前記した特定の極性基含有の重合成分で構成される。
特定の極性基中、−P(=O)(OH)R基において、Rは、−R基又は−OR基を表し、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を表す。Rの炭化水素基として好ましくは、炭素数1〜8の置換されていてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、及び置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基等)が挙げられる。
That is, the block A is composed of a polymerization component corresponding to the monofunctional monomer (b) and / or a polymerization component containing the specific polar group described above.
Among the specific polar groups, in the -P (= O) (OH) R 1 group, R 1 represents a -R 2 group or a -OR 2 group, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. . The hydrocarbon group for R 2 is preferably an aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, butenyl group, pentenyl group). Group, hexenyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group), and optionally substituted aromatic group (for example, Phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, etc.).

また、特定の極性基中、−CONR基及び−SONR基において、R及びRは、各々独立に、水素原子又は炭化水素基(炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜8の置換されていてもよい炭化水素基)を表す。R、Rで表される炭化水素基として具体的には、前記Rで表される炭化水素基と同様のものが挙げられる。 Further, in the specific polar group, in the —CONR 3 R 4 group and —SO 2 NR 3 R 4 group, R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group (having 1 to 10 carbon atoms, preferably Represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbon group represented by R 3 and R 4 include the same hydrocarbon groups as those represented by R 2 .

特定の極性基における環状無水物含有基とは、少なくとも1つの環状酸無水化物を含有する基であり、含有される環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、グルタコン酸無水物、マレイン酸無水物、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタンジカルボン酸無水物等が挙げられ、これらの脂肪族ジカルボン酸無水物は、例えば、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基等で置換されていてもよい。
また、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸無水物、ナフタレン−ジカルボン酸無水物、ピリジン−ジカルボン酸無水物、チオフェンージカルボン酸無水物等が挙げられ、これらの芳香族ジカルボン酸無水物は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等)等で置換されていてもよい。
The cyclic anhydride-containing group in the specific polar group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained include aliphatic dicarboxylic acid anhydrides and aromatic dicarboxylic acid anhydrides. Is mentioned.
Examples of aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include succinic acid anhydride, glutaconic acid anhydride, maleic acid anhydride, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 2 , 3-bicyclo [2,2,2] octane dicarboxylic acid anhydride, etc., and these aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, methyl group, ethyl group, butyl Group and an alkyl group such as a hexyl group.
Examples of the aromatic dicarboxylic acid anhydride include phthalic acid anhydride, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride, pyridine-dicarboxylic acid anhydride, thiophene-dicarboxylic acid anhydride, etc., and these aromatic dicarboxylic acid anhydrides. The product is, for example, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group ( A methoxy group, an ethoxy group, and the like).

更に、特定の極性基中、アミノ基は、−NH、−NHR、又は−NRを表す。R、Rは、各々独立に、炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜8の炭化水素基を表す。更に好ましくは炭素数1〜7の炭化水素基を表し、具体的には、前記Rで表される炭化水素基と同様のものが挙げられる。 Further, in the specific polar group, the amino group represents —NH 2 , —NHR 5 , or —NR 5 R 6 . R 5 and R 6 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms. More preferably, it represents a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, and specifically, the same hydrocarbon groups as those represented by R 2 can be mentioned.

前記R、R、R、R及びRで表される炭化水素基として、更により好ましくは、炭素数1〜4の置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいベンジル基、又は置換されていてもよいフェニル基等が挙げられる。 As the hydrocarbon group represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 , still more preferably, an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, which may be substituted. Examples thereof include a benzyl group or an optionally substituted phenyl group.

以上の特定の極性基を含有する重合成分に相当する単量体としては、特定の極性基を少なくとも1種含有した一官能性単量体であればいずれでもよい。例えば、高分子学会編「高分子データハンドブック、基礎編」培風館(1986年刊)等に記載されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えば、α−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば、2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体やアミド誘導体の置換基中に、前記極性基を含有する化合物等が挙げられる。   The monomer corresponding to the polymerization component containing the specific polar group described above may be any monofunctional monomer containing at least one specific polar group. For example, it is described in “Polymer Data Handbook, Fundamentals” edited by the Society of Polymer Science, Japan, published in 1986. Specifically, acrylic acid, α and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy, α-acetoxymethyl, α- (2-amino) methyl, α-chloro, α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-chloro-β-methoxy, α, β-dichloro, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, Itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenyl carboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid) 4-ethyl-2-octenoic acid), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinyl benzene carboxylic acid, vinyl benzene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, vinyl phosphonic acid, Vinyl or carboxylic acids half esters derivatives of allyl group and in the substituent of the ester derivatives or amide derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, compounds, and the like containing the polar group.

このような化合物の具体例として以下のものが挙げられる。ただし、以下の各例〔(P−1)〜(P−20)〕において、「e」は、−H、−CH、−Cl、−Br、−CN、又は−CHCOOCHを表し、「f」は、−H、又は−CHを表し、「n」は、2〜10の整数を表し、「m」は1〜10の整数を表し、「p」は1〜4の整数を表す。また、Xは、−COOH、−O−P(=O)(OH)、−SOH、−OH、−NR、−CHO、又は−O−P(=O)(OH)Rを表す。ここで、R、Rは、各々独立に、炭素数1〜4のアルキル基を表す。更に、Xは、−COOH、又は−OHを表す。 Specific examples of such compounds include the following. However, in the following examples [(P-1) to (P-20)], “e” represents —H, —CH 3 , —Cl, —Br, —CN, or —CH 2 COOCH 3 . , “F” represents —H or —CH 3 , “n” represents an integer of 2 to 10, “m” represents an integer of 1 to 10, and “p” represents an integer of 1 to 4. Represents. X 3 represents —COOH, —O—P (═O) (OH) 2 , —SO 3 H, —OH, —NR a R b , —CHO, or —O—P (═O) (OH ) Represents Ra . Here, R <a> , R <b > represents a C1-C4 alkyl group each independently. Furthermore, X 4 represents -COOH, or -OH.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

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Figure 2008013605

ブロックAにおいて含有される、特定の極性基含有の重合成分は、好ましくはスター型共重合体100質量%中、1〜30質量%で、より好ましくは1〜15質量%である。
また、ブロックAにおいて特定の極性基含有の重合成分が存在しない場合、前記官能性単量体(A)に相当する重合体成分は、好ましくは分散剤100質量%中5〜50質量%であり、より好ましくは10〜40質量%である。
The specific polar group-containing polymerization component contained in the block A is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 1 to 15% by mass in 100% by mass of the star copolymer.
Further, when there is no specific polar group-containing polymerization component in the block A, the polymer component corresponding to the functional monomer (A) is preferably 5 to 50% by mass in 100% by mass of the dispersant. More preferably, it is 10-40 mass%.

次に、有機分子に結合するA−B型のブロック共重合体の高分子鎖を構成するブロックBについて説明する。
ブロックBは、下記一般式(V)で示される繰り返し単位から成る重合体成分を少なくとも1種含有することで構成される。
Next, the block B constituting the polymer chain of the AB type block copolymer bonded to the organic molecule will be described.
The block B is constituted by containing at least one polymer component composed of a repeating unit represented by the following general formula (V).

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(V)において、Xは、好ましくは−COO−、−OCO−、又は−O−を表す。
は、好ましくは炭素数10以上のアルキル基又はアルケニル基を表し、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。具体的には、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレル基等が挙げられる。
及びaは、互いに同じでも異なっていてもよく、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)、−COO−Z、又は−CHCOO−Z〔Zは、水素原子、又は置換されていてもよい炭素数22以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基、アリール基等)を表す。
In the general formula (V), X 1 preferably represents —COO—, —OCO—, or —O—.
Y 1 preferably represents an alkyl group or an alkenyl group having 10 or more carbon atoms, and these may be linear or branched. Specific examples include decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosanyl, docosanyl, decenyl, dodecenyl, tridecenyl, hexadecenyl, octadecenyl, linolel, and the like. .
a 1 and a 2 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (eg, a methyl group). , Ethyl group, propyl group, etc.), -COO-Z 1 , or -CH 2 COO-Z 1 [Z 1 is a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 22 or less carbon atoms (eg, alkyl Group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, aryl group and the like.

前記Zは、具体的には、水素原子の他、好ましい炭化水素原子としては、炭素数1〜22の置換されていてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へプチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基、ドコサニル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されていてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレル基等)、炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)、及び炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。 Specifically, the Z 1 is preferably a hydrogen atom, or a preferred hydrocarbon atom having an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group). , Heptyl, hexyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosanyl, docosanyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2- A cyanoethyl group, a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, a 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl Group, 4-methyl-2-hexenyl group, decenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group, linolel group, etc.), C 7-12 optionally substituted aralkyl group (for example, benzyl) Group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.) , An optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), and optionally substituted 6 to 12 carbon atoms. Aromatic groups (eg, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl) , Butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonyl Phenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodeciloylamidophenyl group, etc.).

また、ブロックBにおいて、一般式(V)で示される繰り返し単位は二種以上を併用してもよい。
更に、ブロックBにおいて、一般式(V)で示される繰り返し単位と共に、他の繰り返し単位を共重合成分として含有してもよい。他の共重合成分としては、一般式(V)の繰り返し単位に相当する単量体と共重合可能な単量体よりなるものであればいずれの化合物であってもよい。他の共重合成分としては、多くてもブロックB100質量%に対して、20質量%を超えない範囲で用いられる。20質量%を超えると、本発明における有機微粒子の分散性が劣化してしまう。
In the block B, two or more repeating units represented by the general formula (V) may be used in combination.
Furthermore, in the block B, you may contain another repeating unit as a copolymerization component with the repeating unit shown by general formula (V). The other copolymer component may be any compound as long as it is composed of a monomer copolymerizable with a monomer corresponding to the repeating unit of the general formula (V). The other copolymerization component is used in a range not exceeding 20% by mass with respect to 100% by mass of block B at most. When it exceeds 20 mass%, the dispersibility of the organic fine particles in the present invention is deteriorated.

ブロックBにおいて含有される、一般式(V)で示される重合成分は、好ましくはスター型共重合体100質量%中50〜99質量%であり、より好ましくは60〜95質量%である。   The polymerization component represented by the general formula (V) contained in the block B is preferably 50 to 99% by mass, more preferably 60 to 95% by mass in 100% by mass of the star copolymer.

本発明にスター型共重合体は、前記した所定の存在割合(すなわち、ブロックAとブロックBの存在割合や、ブロックBに含まれる一般式(V)で示される重合成分の存在割合)より少ない場合、有機微粒子の再分散安定性を低下させてしまう場合がある。他方、所定の存在割合より多くなると、有機微粒子の粒子分布の単分散性低下を生じてしまう。   In the present invention, the star copolymer is less than the above-described predetermined abundance ratio (that is, the abundance ratio of the block A and the block B and the abundance ratio of the polymerization component represented by the general formula (V) contained in the block B). In some cases, the redispersion stability of the organic fine particles may be lowered. On the other hand, when it exceeds a predetermined abundance ratio, the monodispersity of the particle distribution of the organic fine particles is lowered.

前述のようなA−B型のブロック共重合体の高分子鎖を、少なくとも3個以上結合する有機分子としては、重量平均分子量が1,000以下のものであれば特に限定されるものではない。例を挙げれば、下記に記載の3価以上の炭化水素残基が挙げられる。しかしながら、本発明に従う有機分子の具体例としては、これらに限定されるものではない。   The organic molecules that bind at least three polymer chains of the AB type block copolymer as described above are not particularly limited as long as the weight average molecular weight is 1,000 or less. . For example, the following trivalent or higher valent hydrocarbon residues may be mentioned. However, specific examples of the organic molecule according to the present invention are not limited thereto.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

ここで、上記の例において、r〜rは各々水素原子又は炭化水素基を表す。ただし、rとrの少なくとも1つ、また、rとrのうちの少なくとも1つは、それぞれ、A−B型のブロック共重合体の高分子鎖に連結する。 Here, in the above example, r 3 ~r 6 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group. However, at least one of r 3 and r 4 and at least one of r 5 and r 6 are each linked to a polymer chain of an AB type block copolymer.

有機分子は、上記の炭化水素残基を単独又はこれらの任意の組み合わせの構成からなる。組み合わせの場合は、−O−、−S−、−N(r)−、−COO−、−CON(r)−、−SO−、又は−SON(r)−(ここで、rは、水素原子又は炭化水素基を表す)、−NHCOO−、−NHCONH−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子のへテロ原子含有の複素環(例えばチオフェン環、ピリジン環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピペラジン環等)等の結合単位を含んでいてもよい。なお、これらの結合単位は、単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。 The organic molecule is composed of the above hydrocarbon residues alone or in any combination thereof. For combinations, -O -, - S -, - N (r 9) -, - COO -, - CON (r 9) -, - SO 2 -, or -SO 2 N (r 9) - ( wherein And r 9 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), —NHCOO—, —NHCONH—, an oxygen atom, a sulfur atom, a heteroatom-containing heterocycle containing a nitrogen atom (eg, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyran ring) , An imidazole ring, a benzimidazole ring, a furan ring, a piperidine ring, a pyrazine ring, a pyrrole ring, a piperazine ring, and the like). In addition, these bond units may be used alone or in combination.

上記以外の有機分子の例としては、下記の連結基と上記結合単位との組み合わせから構成されるものが挙げられる。しかしながら、本発明に従う有機分子の具体例としては、これらに限定されるものではない。   Examples of organic molecules other than those mentioned above include those composed of combinations of the following linking groups and the above binding units. However, specific examples of the organic molecule according to the present invention are not limited thereto.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

本発明におけるスター型分散剤は、従来公知の極性基を含有し、且つ、重合性二重結合基を有する単量体のスター型ポリマーの合成法を利用して合成することができる。例えばその一つとして、カルバニオンを開始剤とする重合反応が挙げられる。具体的には、M.Morton,T.E.Helminiak et al”J.Polym.Sci.”57,471(1962),B.Gordon III,M,Blumenthal,J.E.Loftus et al”Polym.Bull.”11,349(1984),R.B.Bates,W.A.Beavers et al”J.Org.Chem.”44,3800(1979)に記載の方法に従って合成できる。   The star-type dispersant in the present invention can be synthesized by utilizing a conventionally known method for synthesizing a star-type polymer containing a polar group and having a polymerizable double bond group. For example, one of them is a polymerization reaction using carbanion as an initiator. Specifically, M.M. Morton, T.M. E. Helminiak et al "J. Polym. Sci." 57, 471 (1962), B.R. Gordon III, M, Blumenthal, J.M. E. Loftus et al “Polym. Bull.” 11, 349 (1984), R.A. B. Bates, W. A. It can be synthesized according to the method described in Beavers et al "J. Org. Chem." 44, 3800 (1979).

ただし、上記の反応を用いる際には、前述の「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重合させた後、保護基の離脱を行う。これらの、特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の離脱(脱保護反応)については、従来公知の知見を利用して容易に行うことができる。例えば、合成方法が記載されている上記の各引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分子」(株)講談社刊(1977年)、T.W.Green”Protective Groups in Organic Synthesis”(JohnWiley & Sons,1981年)、J.F.W.McOmic”Protective Groups in Organic Chemistry”(Plenum Press,1973年)等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行うことができる。   However, when the above reaction is used, the above-mentioned “specific polar group” is polymerized by using it as a protected functional group, and then the protecting group is removed. Such protection of a specific polar group with a protecting group and removal of the protecting group (deprotection reaction) can be easily performed using conventionally known knowledge. For example, various references are described in the above cited references describing synthesis methods, and further, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita “Reactive Polymers” (Kodansha) (1977), T.A. W. Green "Protective Groups in Organic Synthesis" (JohnWiley & Sons, 1981), J. MoI. F. W. A method described in detail in a review such as “McOmic” Protective Groups in Organic Chemistry ”(Plenum Press, 1973) can be selected as appropriate.

また、他の合成方法としては、前述の「特定の官能基」を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行って合成することもできる。例えば、大津隆行「高分子」37,248(1988)、桧森俊一,大津隆一”polym.Rep.Jap.”37,3508(1988)、特開昭64−11号公報、特開昭64−26619号公報、東信行等”Polymer Preprints,Japan”36(6),1511(1987)、M.Niwa,N.Higashi et al”J.Macromol.Sci.Cem.”A24(5),567(1987)等に記載の合成方法に従って合成することができる。   In addition, as another synthesis method, a monomer that does not protect the above-mentioned “specific functional group” is used, and a compound containing a dithiocarbamate group and / or a compound containing a xanthate group is used as an initiator. It can also be synthesized by carrying out a polymerization reaction under light irradiation. For example, Takayuki Otsu “Polymer” 37, 248 (1988), Shunichi Sasamori, Ryuichi Otsu “polym. Rep. Jap.” 37, 3508 (1988), JP-A 64-11, JP-A 64-26619 No., Toshinyuki et al. “Polymer Preprints, Japan” 36 (6), 1511 (1987), M. et al. Niwa, N .; It can be synthesized according to the synthesis method described in Higashi et al "J. Macromol. Sci. Chem." A24 (5), 567 (1987) and the like.

本発明におけるスター型分散剤の重量平均分子量(Mw)は、保存安定性、再分散性、分散安定性の観点から、1×10〜1×10であり、好ましくは2×10〜5×10である。 The weight average molecular weight (Mw) of the star-type dispersant in the present invention is 1 × 10 4 to 1 × 10 6 , preferably 2 × 10 4 to 6 from the viewpoints of storage stability, redispersibility, and dispersion stability. 5 × 10 5 .

(部分架橋型共重合体)
本発明における部分架橋型共重合体とは、下記一般式(VI)で示される繰り返し単位を少なくとも1種含有する共重合体であって、その重合体主鎖の一部分が架橋された、前記(a)非水溶媒に可溶な樹脂である。
(Partially crosslinked copolymer)
The partially crosslinked copolymer in the present invention is a copolymer containing at least one repeating unit represented by the following general formula (VI), wherein a part of the polymer main chain is crosslinked, a) A resin that is soluble in a non-aqueous solvent.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(VI)において、Xは、好ましくは、−COO−、−OCO−、−CHOCO−、−CHCOO−又は−O−を表し、より好ましくは、−COO−、−CHCOO−又は−O−を表す。
は、好ましくは10〜22の置換されていてもよい、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表す。これらに導入可能な置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、−O−Z、−COO−Z、又は−OCO−Z(ここで、Zは炭素数6〜22のアルキル基を表し、例えば、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等である)等が挙げられる。また、より好ましくは、Yは、炭素数10〜22のアルキル基又はアルケニル基を表す。具体的には、例えば、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドコサニル基、エイコサニル基、デセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基等が挙げられる。
In the general formula (VI), X 1 is preferably, -COO -, - OCO -, - CH 2 OCO -, - CH 2 COO- or an -O-, more preferably, -COO -, - CH 2 COO— or —O— is represented.
Y 1 preferably represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group, which may be substituted with 10 to 22. The substituent that may be introduced to, for example, a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), - O-Z 2, -COO-Z 2, or --OCO-Z 2 (wherein, Z 2 represents an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms, and examples thereof include a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group, and an octadecyl group. More preferably, Y 1 represents an alkyl or alkenyl group having 10 to 22 carbon atoms. Specific examples include a decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, docosanyl group, eicosanyl group, decenyl group, dodecenyl group, tetradecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group and the like.

及びbは、互いに同じであっても異なっていてもよく、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭化水素基、−COO−Z、又は炭素数1〜8の炭化水素基を介した−COO−Z〔ここでZは炭素数1〜22の炭化水素基を表す〕を表す。
具体的には、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、−COO−Z、又は−CHCOO−Z(ここで、Zは炭素数1〜22の脂肪族基を表し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドコサニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基等が挙げられ、これらアルキル基、アルケニル基は前記Yで表したものと同様の置換基を有していてもよい)等を表す。
b 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, —COO—Z 1 , or a carbon number. -COO-Z 1 [Z 1 here represents a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms] via a hydrocarbon group of 1 to 8 representing the.
Specifically, a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, —COO—Z 3 , or —CH 2 COO—Z 3 (Here, Z 3 represents an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group) Hexadecyl group, octadecyl group, docosanyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, tetradecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group, etc. 1 may have the same substituent as that represented by 1 ).

本発明の部分架橋型共重合体は、上記一般式(VI)で示される繰り返し単位に相当する単量体を少なくとも1種含有し、且つ、その重合体主鎖の一部分が架橋された重合体である。
このように重合体主鎖中に架橋構造を導入する方法としては、通常知られている方法を利用することができる。すなわち、1)単量体の重合反応において、多官能性単量体を共存させて重合する方法、又は、2)重合体中に架橋反応を進行する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である。
The partially crosslinked copolymer of the present invention contains at least one monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (VI), and a polymer in which a part of the polymer main chain is crosslinked. It is.
Thus, as a method for introducing a crosslinked structure into the polymer main chain, a conventionally known method can be used. That is, 1) a polymerization method in which a polyfunctional monomer is allowed to coexist in a monomer polymerization reaction, or 2) a polymer containing a functional group that undergoes a crosslinking reaction is crosslinked by a polymer reaction. Is the method.

本発明における部分架橋共重合体は、製造方法が簡便なこと(例えば、長時間の反応を要する、反応が定量的でない、反応促進剤を用いる等で不純物が混入する等、の問題点が少ない)等から、上記1)の方法が有効である。
上記1)の方法とは、好ましくは、重合性官能基を2個以上有する単量体を、上記一般式(VI)で示される繰り返し単位に相当する単量体と共に重合することで、ポリマー鎖間を架橋する方法である。
The partially crosslinked copolymer of the present invention has a simple production method (for example, it requires a long reaction, the reaction is not quantitative, and impurities are mixed in by using a reaction accelerator, etc.). From the above, the method 1) is effective.
In the method 1), preferably, a monomer having two or more polymerizable functional groups is polymerized together with a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (VI) to form a polymer chain. This is a method of cross-linking.

重合性官能基として具体的には、CH=CH−、CH=CH−CH−、CH=CH−CO−O−、CH=C(CH)−CO−O−、CH−CH=CH−CO−O−、CH=CH−CONH−、CH=C(CH)−CONH−、CH=C(CH)−CONHCOO−、CH=C(CH)−CONHCONH−、CH−CH=CH−CONH−、CH=CH−O−CO−、CH=C(CH)−O−CO−、CH=CH−CH−O−CO−、CH=CH−NHCO−、CH=CH−CH−NHCO−、CH=CH−SO−、CH=CH−CO−、CH=CH−O−、CH=CH−S−等を挙げることができるが、上記の重合性官能基を2個以上有する単量体は、これらの重合性官能基を同一のもの或いは異なったものを2個以上有した単量体であればよい。 Specific examples of polymerizable functional groups include CH 2 ═CH—, CH 2 ═CH—CH 2 —, CH 2 ═CH—CO—O—, CH 2 ═C (CH 3 ) —CO—O—, CH. 3 -CH = CH-CO-O- , CH 2 = CH-CONH-, CH 2 = C (CH 3) -CONH-, CH 2 = C (CH 3) -CONHCOO-, CH 2 = C (CH 3 ) -CONHCONH-, CH 3 -CH = CH -CONH-, CH 2 = CH-O-CO-, CH 2 = C (CH 3) -O-CO-, CH 2 = CH-CH 2 -O-CO -, CH 2 = CH-NHCO- , CH 2 = CH-CH 2 -NHCO-, CH 2 = CH-SO 2 -, CH 2 = CH-CO-, CH 2 = CH-O-, CH 2 = CH -S- and the like, but two or more of the above polymerizable functional groups To the monomer may be any of these polymerizable functional groups those same or different monomer having two or more things.

重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例としては、例えば、同一の重合性官能基を有する単量体として、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体;多価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール#200,#400,#600、1,3−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリストール等)、又はポリヒドロキシフェノール(例えば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール及びそれらの誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類;二塩基酸(例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルアミド類又はアリルアミド類;ポリアミン(例えば、エチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブチレンジアミン等)とビニル基を有するカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、アリル酸等)との縮合体;等が挙げられる。   Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, for example, styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene; polyhydric alcohols (for example, monomers having the same polymerizable functional group) , Ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 200, # 400, # 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol ), Or methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers of polyhydroxyphenols (eg hydroquinone, resorcin, catechol and derivatives thereof); dibasic acids ( For example, vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides of malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc .; polyamines (for example, ethylenediamine, 1, 3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine, etc.) and a carboxylic acid having a vinyl group (for example, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acid, etc.);

また、異なる重合性官能基を有する単量体として、例えば、ビニル基を有するカルボン酸〔例えば、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピオン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水化物とアルコール又はアミンの反応体(例えば、アリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸等)等〕のビニル基を含有したエステル誘導体又はアミド誘導体、具体的には、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−アクリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等;
アミノアルコール類(例えば、アミノエタノール、1−アミノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノヘキサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を含有したカルボン酸との縮合体;等が挙げられる。
Further, as monomers having different polymerizable functional groups, for example, carboxylic acids having a vinyl group [for example, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, acryloyl propionic acid, itaconyl yl acetic acid, itaconi Roylpropionic acid, a reactant of a carboxylic anhydride and an alcohol or amine (eg, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropionic acid, etc.) The ester derivative or amide derivative contained, specifically, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, methacryloyl vinyl acetate, methacrylate Vinyl ilpropionate, vinyl methacryloyl propionate, allyl methacryloyl propionate, vinyloxycarbonylmethyl ester methacrylate, vinyloxycarbonylmethyloxycarbonyl ethylene ester, N-allylacrylamide, N-acrylmethacrylamide, N-allylitaconic acid Amide, methacryloylpropionic acid allylamide, etc .;
Condensates of amino alcohols (for example, aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a carboxylic acid containing a vinyl group;

前記した2個以上の重合性官能基を有する単量体は、全単量体の10質量%以下、好ましくは8質量%以下を用いて重合し、(a)非水溶媒に可溶性の部分架橋型共重合体を形成する。   The monomer having two or more polymerizable functional groups described above is polymerized using 10% by mass or less, preferably 8% by mass or less of the total monomer, and (a) a partial crosslinkable soluble in a non-aqueous solvent. A mold copolymer is formed.

本発明に用いられる部分架橋型分散剤は、具体的には、公知の方法である前記一般式(VI)で示される繰り返し単位に相当する単量体、及び上記した多官能性単量体を少なくとも共存させて、重合開始剤(例えば、アゾビス系化合物、過酸化物等)により重合する方法が簡便であり、好ましい。ここで用いられる重合開始剤は、各々全単量体100質量%に対して、0.1〜15質量%であり、好ましくは0.5〜10質量%である。   Specifically, the partially crosslinked dispersant used in the present invention includes a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (VI), which is a known method, and the polyfunctional monomer described above. A method of polymerizing with a polymerization initiator (for example, azobis compound, peroxide, etc.) in the presence of at least coexist is simple and preferable. The polymerization initiator used here is 0.1 to 15% by mass, preferably 0.5 to 10% by mass, based on 100% by mass of the total monomers.

本発明の部分架橋型分散剤の重量平均分子量は、重合造粒で得られる有機微粒子の粒径分布の調整の点、及び、(a)非水溶媒体中での溶解性の点から、5×10〜1×10の範囲が好ましく、より好ましくは1×10〜2×10の範囲である。 The weight average molecular weight of the partially crosslinked dispersant of the present invention is 5 × from the viewpoint of adjusting the particle size distribution of organic fine particles obtained by polymerization granulation and (a) solubility in a non-aqueous medium. The range of 10 3 to 1 × 10 6 is preferable, and the range of 1 × 10 4 to 2 × 10 5 is more preferable.

(架橋性基含有共重合体)
本発明における架橋性基含有共重合体とは、下記一般式(VII)で示されるように、少なくとも非水溶媒に可溶性となる共重合成分(X成分)と、側鎖の末端に、重合造粒で得られる有機微粒子と共重合可能な重合性二重結合基を有する共重合成分(Y成分)と、を含むランダム共重合体である。このため、この架橋性基含有共重合体は、非水溶媒に可溶性な樹脂である。
ここで、一般式(VII)中の、X成分は、単独の共重合成分から構成されていてもよいし、2種以上の共重合成分から構成されていてもよい。また、Y成分も同様である。
(Crosslinkable group-containing copolymer)
The crosslinkable group-containing copolymer in the present invention is, as shown by the following general formula (VII), a copolymer component (X component) that is soluble in at least a non-aqueous solvent, and a polymer structure at the end of the side chain. It is a random copolymer containing the organic fine particle obtained by a particle | grain and the copolymerization component (Y component) which has a polymerizable double bond group copolymerizable. For this reason, this crosslinkable group-containing copolymer is a resin that is soluble in a non-aqueous solvent.
Here, X component in general formula (VII) may be comprised from the single copolymerization component, and may be comprised from 2 or more types of copolymerization components. The same applies to the Y component.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(VII)中、Rは炭素数10〜32のアルキル基又はアルケニル基を表し、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。具体的には、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、リノレイル基等が挙げられる。
は、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基)を表し、好ましくは、水素原子、又はメチル基を表す。
及びXは、各々独立に、単結合、−COO−、−CONH−、−CON(E)−〔但し、Eは好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(脂肪族基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基等を示す。)を示す。〕、−OCO−、−CHOCO−、又は−O−を表す。より好ましくは−COO−、−CONH−又は−CON(E)−を表す。
In the general formula (VII), R 1 represents an alkyl group or alkenyl group having 10 to 32 carbon atoms, and these may be linear or branched. Specifically, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, docosanyl group, decenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group, eicosenyl group, A dococenyl group, a linoleyl group, etc. are mentioned.
b 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group), preferably a hydrogen atom or a methyl group.
X 1 and X 2 are each independently a single bond, —COO—, —CONH—, —CON (E 2 ) — [wherein E 2 is preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (aliphatic group). Represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, or the like. ], -OCO -, - CH 2 OCO- , or an -O-. More preferably -COO -, - CONH- or -CON (E 2) - represents a.

上記一般式(VII)におけるd、d、e、及びeは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基を表す。このアルキル基の具体例としては、前記一般式(I)のDで表される、炭素数1〜20の置換されていてもよい脂肪族基の具体例が挙げられる。 In the general formula (VII), d 1 , d 2 , e 1 , and e 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group. Specific examples of the alkyl group include specific examples of the aliphatic group which may be substituted having 1 to 20 carbon atoms and represented by D 1 in the general formula (I).

Wは、炭素原子及び/又はヘテロ原子を含んで構成される連結基を表す。ここで、ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等が挙げられる。
連結基としては、炭素−炭素結合(一重結合或いは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団、ヘテロ環基等の任意の組み合わせで構成されるものを含む。具体的には、例えば、下記に挙げられる2価の基が挙げられる。
W represents a linking group containing a carbon atom and / or a hetero atom. Here, examples of the hetero atom include an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a silicon atom.
Examples of the linking group include those composed of any combination of carbon-carbon bond (single bond or double bond), carbon-heteroatom bond, heteroatom-heteroatom bond atomic group, heterocyclic group and the like. Specific examples include the divalent groups listed below.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記の2価の基の例において、r〜rは、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、又はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す。
〜rは、各々独立に、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)等を示す。
〜rは、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、トリル基等)、又は−Or10(r10は、rにおける炭化水素基と同一の内容を示す)を表す。
In the above divalent group examples, r 1 to r 4 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydroxyl group, or an alkyl group (for example, Methyl group, ethyl group, propyl group, etc.).
r 5 to r 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or the like).
r 8 to r 9 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, benzyl group, phenethyl group, Phenyl group, tolyl group, etc.), or -Or 10 (r 10 represents the same content as the hydrocarbon group in r 8 ).

Wを構成しうるヘテロ環基としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘテロ原子含有の複素環(例えば、チオフェン環、ピリジン環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピペラジン環等)等が挙げられる。   Heterocyclic groups that can form W include heterocycles containing heteroatoms such as oxygen, sulfur, and nitrogen (eg, thiophene ring, pyridine ring, pyran ring, imidazole ring, benzimidazole ring, furan ring, piperidine Ring, pyrazine ring, pyrrole ring, piperazine ring, etc.).

また、一般式(VII)のY成分における〔−X−W−X−〕で構成される連結鎖は、原子数の総和が8以上から構成されるものが好ましい。この連結鎖における連結主鎖の原子数としては、例えば、Xが、−COO−や−CONH−を表す場合、オキソ基(=O基)や水素原子はその原子数として含まれず、連結主鎖を構成する炭素原子、エーテル型酸素原子、窒素原子はその原子数として含まれる。従って、−COO−や−CONH−は原子数2として数えられる。 Further, the connecting chain composed of [—X 1 —W—X 2 —] in the Y component of the general formula (VII) is preferably composed of 8 or more atoms in total. As the number of atoms of the connecting main chain in this connecting chain, for example, when X 1 represents —COO— or —CONH—, an oxo group (═O group) or a hydrogen atom is not included as the number of atoms. Carbon atoms, ether type oxygen atoms, and nitrogen atoms constituting the chain are included as the number of atoms. Therefore, -COO- and -CONH- are counted as 2 atoms.

以下に、重合性二重結合基を有する共重合成分(Y成分)についての具体例〔(Y−1)〜(Y−12)〕を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記式中、各記号は以下の内容を表す。
Although the specific example [(Y-1)-(Y-12)] about the copolymerization component (Y component) which has a polymerizable double bond group is shown below, this invention is not limited to these. .
In the following formula, each symbol represents the following contents.

Figure 2008013605
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Figure 2008013605
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Figure 2008013605
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本発明における架橋性基含有共重合体は、従来公知の合成方法によって容易に合成することができる。すなわち、樹脂中に、重合性二重結合基を有した共重合成分(Y成分)を導入する方法としては、予め、”特定の反応性基”(例えば、−OH、−COOH、−SOH、−NH、−SH、−PO、−NCO、−NCS、−COCl、−SOCl、エポキシ基等)を含有した単量体を、一般式(VII)におけるX成分に相当する単量体と共に重合反応させた後に、重合性二重結合基を含有する反応性試薬を反応させた後、高分子反応により重合性反応性基を導入する方法が挙げられる。
具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sci,Eng.,7.551(1987)、中條善樹、山下雄也「染料と薬品」、30.232(1985)、上田明、永井進「化学と工業」、60.57(1986)、P.F.Rempp & E.Franta,Advances in Polymer Science,58.1(1984)、伊藤浩一「高分子加工」、35.262(1986)、V.Percec,Applied Polymer Scence,285.97(1984)等の総説及びそれに引用の文献等に記載の方法に従って重合性二重結合基を導入することができる。
The crosslinkable group-containing copolymer in the present invention can be easily synthesized by a conventionally known synthesis method. That is, as a method for introducing a copolymer component (Y component) having a polymerizable double bond group into a resin, a “specific reactive group” (for example, —OH, —COOH, —SO 3 ) is used in advance. H, —NH 2 , —SH, —PO 3 H 2 , —NCO, —NCS, —COCl, —SO 2 Cl, an epoxy group, and the like) are used as the X component in the general formula (VII). A method of introducing a polymerizable reactive group by a polymer reaction after reacting a reactive reagent containing a polymerizable double bond group after the polymerization reaction with the corresponding monomer is mentioned.
Specifically, P.I. Dryfuss & R.D. P. Quirk, Encycl. Polym. Sci, Eng. 7.551 (1987), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita “Dyes and Drugs”, 30.232 (1985), Akira Ueda, Susumu Nagai, “Chemical and Industrial”, 60.57 (1986), P.A. F. Rempp & E.M. Franta, Advances in Polymer Science, 58.1 (1984), Koichi Ito “Polymer Processing”, 35.262 (1986), V. A polymerizable double bond group can be introduced according to a method described in a review article such as Percec, Applied Polymer Science, 285.97 (1984) and literatures cited therein.

また、他の方法としては、ラジカル重合反応における共重合反応性が異なる二官能性単量体を用いて、X成分に相当する単量体と共に重合反応させて、ゲル化反応を生じることなく一般式(VII)で示される共重合体を合成する特開昭60−185962号記載の方法等が挙げられる。   In addition, as another method, a bifunctional monomer having different copolymerization reactivity in a radical polymerization reaction is used, and a polymerization reaction is performed together with a monomer corresponding to the X component. Examples thereof include a method described in JP-A No. 60-185962 for synthesizing a copolymer represented by the formula (VII).

一般式(VII)で示される樹脂において、X成分とY成分の存在割合は、重合造粒反応時における反応混合物のゲル化、或いは生成する有機微粒子の粗大粒径化を抑制し、且つ、有機微粒子の分散安定性・再分散性の点から、60/40〜99/1重合比であり、好ましくは85/15〜98/2重量比である。   In the resin represented by the general formula (VII), the ratio of the X component and the Y component suppresses gelation of the reaction mixture during the polymerization granulation reaction or the coarsening of the organic fine particles to be generated, and From the viewpoint of dispersion stability and redispersibility of the fine particles, the polymerization ratio is 60/40 to 99/1, and preferably 85/15 to 98/2 by weight.

また、本発明に供される架橋性基含有共重合体において、一般式(VII)で示される各繰り返し単位と共に、他の繰り返し単位を共重合成分として含有してもよい。他の共重合成分としては、一般式(VII)の各々の繰り返し単位に相当する単量体と共重合可能な単量体よりなるものであればいずれの化合物でもよい。
他の共重合成分としては、多くても全重合成分100質量%に対して、20質量%を超えない範囲で用いられる。20質量%を超えると、本発明における有機微粒子の分散性が劣化してしまう。
In the crosslinkable group-containing copolymer used in the present invention, other repeating units may be contained as a copolymerization component together with each repeating unit represented by the general formula (VII). The other copolymer component may be any compound as long as it is composed of a monomer copolymerizable with a monomer corresponding to each repeating unit of the general formula (VII).
The other copolymerization component is used in a range not exceeding 20% by mass with respect to 100% by mass of all the polymerization components. When it exceeds 20 mass%, the dispersibility of the organic fine particles in the present invention is deteriorated.

本発明の架橋性基含有共重合体の重量平均分子量(Mw)は、保存安定性、再分散性、分散安定性の観点から、5×10〜10×10であり、好ましくは1×10〜2×10である。 The weight average molecular weight (Mw) of the crosslinkable group-containing copolymer of the present invention is 5 × 10 3 to 10 × 10 6 from the viewpoint of storage stability, redispersibility, and dispersion stability, and preferably 1 ×. 10 4 to 2 × 10 5 .

(連鎖移動剤)
重合造粒法において有機微粒子を造粒する際には、分子量の制御や特定の機能を付与するために、連鎖移動剤を用いることが好ましい。
ここで用いられる連鎖移動剤としては、重合反応において連鎖移動反応により、反応の活性点を移動させる物質であれば特に制限なく使用することができる。
また、連鎖移動剤を用いて特定粒子を合成することで、粒子を形成するポリマー鎖の末端に、機能性基を導入することができる。例えば、メルカプトプロピオン酸を用いることで、粒子を形成するポリマー鎖の末端にCOOH基を導入することができる。このような基を導入することで、特定粒子と被記録媒体との密着性が向上する。また、例えば、n−ドデシルメルカプタンを用いることで、粒子を形成するポリマー鎖の末端に長鎖アルキル基が導入されると、再分散性が向上する。
(Chain transfer agent)
When granulating organic fine particles in the polymerization granulation method, it is preferable to use a chain transfer agent in order to control the molecular weight and to give a specific function.
The chain transfer agent used here can be used without particular limitation as long as it is a substance that moves the active site of the reaction by a chain transfer reaction in the polymerization reaction.
Moreover, a functional group can be introduce | transduced into the terminal of the polymer chain which forms particle | grains by synthesize | combining specific particles using a chain transfer agent. For example, by using mercaptopropionic acid, a COOH group can be introduced at the end of the polymer chain forming the particle. By introducing such a group, the adhesion between the specific particles and the recording medium is improved. Further, for example, by using n-dodecyl mercaptan, when a long-chain alkyl group is introduced at the end of the polymer chain forming the particle, the redispersibility is improved.

本発明に用いうる連鎖移動剤の具体例としては、例えば、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化合物、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、2−メチル−1−ブテン、2、4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン等のオレフィン類、エタンチオール、ブタンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、ステアリルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、ノニルメルカプタン、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、エチルジスルフィド、sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジスルフィド、チオサリチル酸、チオフェノール、チオクレゾール、ベンジルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、o−トルエンチオール、m−トルエンチオール、p−トルエンチオール、フェネチルメルカプタン等の含イオウ化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the chain transfer agent that can be used in the present invention include halogen compounds such as carbon tetrachloride and carbon tetrabromide, alcohols such as isopropyl alcohol and isobutyl alcohol, 2-methyl-1-butene, 2, 4 and the like. -Olefins such as diphenyl-4-methyl-1-pentene, ethanethiol, butanethiol, octanethiol, dodecanethiol, stearyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, nonyl mercaptan, mercaptoethanol, mercaptopropanol, methyl mercaptopropionate, mercapto Ethyl propionate, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, ethyl disulfide, sec-butyl disulfide, 2-hydroxyethyl disulfide, thiosalicylic acid, thiophenol, thiocresol, benzylme Captan, cyclopentyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, o- toluene thiol, m- toluene thiol, p- toluene thiol, but sulfur-containing compounds such as phenethyl mercaptan and the like, but is not limited thereto.

より好ましくは、エタンチオール、ブタンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、ステアリルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、ノニルメルカプタン、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、エチルジスルフィド、sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジスルフィド、チオサリチル酸、チオフェノール、チオクレゾール、ベンジルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、o−トルエンチオール、m−トルエンチオール、p−トルエンチオールであり、特に好ましい連鎖移動剤として、エタンチオール、ブタンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、ステアリルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、ノニルメルカプタン、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、エチルジスルフィド、sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジスルフィドなどが挙げられる。   More preferably, ethanethiol, butanethiol, octanethiol, dodecanethiol, stearyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, nonyl mercaptan, mercaptoethanol, mercaptopropanol, methyl mercaptopropionate, ethyl mercaptopropionate, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, Ethyl disulfide, sec-butyl disulfide, 2-hydroxyethyl disulfide, thiosalicylic acid, thiophenol, thiocresol, benzyl mercaptan, cyclopentyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, o-toluenethiol, m-toluenethiol, p-toluenethiol, especially Preferred chain transfer agents include ethanethiol, butanethiol, octanethiol, dodeca Thiol, stearyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, nonyl mercaptan, mercaptoethanol, mercaptopropanol, methyl mercaptopropionate, ethyl mercaptopropionate, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, ethyl disulfide, sec-butyl disulfide, 2-hydroxyethyl disulfide, etc. Is mentioned.

このような連鎖移動剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
合成時の添加量としては、単量体に対して、10−3〜30質量%の範囲であることが好ましく、10−2〜15質量%の範囲であることがより好ましく、5×10−2〜12質量%の範囲であることが更に好ましい。
Such a chain transfer agent may use only 1 type and may use 2 or more types together.
The addition amount at the time of synthesis is preferably in the range of 10 −3 to 30% by mass, more preferably in the range of 10 −2 to 15% by mass with respect to the monomer, and 5 × 10 −5. More preferably, it is in the range of 2 to 12% by mass.

(重合造粒方法)
重合造粒法で有機微粒子を製造するには、一般に、前述のような分散剤と、一官能性単量体と、を非水溶媒中で、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下で加熱重合させればよい。
具体的には、(i)分散剤、単量体の混合溶液中に重合開始剤を添加する方法、(ii)分散剤を溶解した溶液中に単量体を重合開始剤と共に滴下してゆく方法、或いは、(iii)分散剤の全量と単量体の一部を含む混合溶液中に、重合開始剤と共に残りの単量体を添加する方法、更には、(iv)非水溶媒中に、分散剤、単量体の混合溶液を、重合開始剤と共に添加する方法等があり、いずれの方法を用いても製造することができる。
また、連鎖移動剤を用いて特定粒子を製造する場合には、例えば、分散剤、単量体、及び連鎖移動剤の混合溶液中に、重合開始剤を添加する方法を用いることができる。
(Polymerization granulation method)
In order to produce organic fine particles by the polymerization granulation method, generally, a dispersant as described above and a monofunctional monomer are mixed with benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, butyl in a non-aqueous solvent. Heat polymerization may be performed in the presence of a polymerization initiator such as lithium.
Specifically, (i) a method in which a polymerization initiator is added to a mixed solution of a dispersant and a monomer, and (ii) a monomer is dropped together with the polymerization initiator into a solution in which the dispersant is dissolved. Or (iii) a method of adding the remaining monomer together with the polymerization initiator into a mixed solution containing the whole amount of the dispersing agent and a part of the monomer, and (iv) in a non-aqueous solvent. There is a method of adding a mixed solution of a dispersant and a monomer together with a polymerization initiator, and any method can be used for production.
Moreover, when manufacturing specific particle | grains using a chain transfer agent, the method of adding a polymerization initiator in the mixed solution of a dispersing agent, a monomer, and a chain transfer agent can be used, for example.

重合開始剤の量は、単量体の総量の0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは、0.5〜10質量%である。
また、重合温度は、40〜180℃程度であり、好ましくは50〜120℃である。反応時間は3〜15時間が好ましい。
The amount of the polymerization initiator is preferably from 0.1 to 20% by mass, more preferably from 0.5 to 10% by mass, based on the total amount of monomers.
Moreover, superposition | polymerization temperature is about 40-180 degreeC, Preferably it is 50-120 degreeC. The reaction time is preferably 3 to 15 hours.

反応に用いた非水溶媒中に、前記したアルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類等の極性溶媒を併用した場合、或いは、重合造粒化される単量体の未反応物が残存する場合、該溶媒或いは単量体の沸点以上に加温して留去するか或いは、減圧留去することによって除くことが好ましい。   When a polar solvent such as the alcohols, ketones, ethers, esters described above is used in combination with the non-aqueous solvent used for the reaction, or unreacted monomers remaining to be polymerized and granulated remain. In this case, it is preferable to remove the solvent or monomer by heating to a boiling point or higher or removing it by distillation under reduced pressure.

なお、このよう重合造粒法において、有機微粒子の粒径やTg、分子量の制御する因子としては、使用する一官能性単量体の種類及びその濃度、分散剤の種類及びその濃度、非水溶媒の種類及びその濃度、重合開始剤等の重合反応に関与する化合物の添加とその添加量の調整、更には、反応温度等が挙げられ、これらを適宜調整することで、所望の粒径やTg、分子量を満たす有機微粒子を得ることができる。中でも、分子量の調整が容易であることや、得られた有機微粒子に更なる機能を追加するために、連鎖移動剤を用いることが好ましい態様である。   In such a polymerization granulation method, the particle size, Tg, and molecular weight of the organic fine particles are controlled by factors such as the type and concentration of the monofunctional monomer used, the type and concentration of the dispersant, non-water Addition of compounds involved in the polymerization reaction such as the type and concentration of the solvent, the polymerization initiator and the like, and adjustment of the addition amount, and further the reaction temperature, etc. Organic fine particles satisfying Tg and molecular weight can be obtained. Among these, a chain transfer agent is preferably used in order to easily adjust the molecular weight and to add a further function to the obtained organic fine particles.

−湿式分散法による着色有機微粒子の作製−
本発明における湿式分散法は、非水溶媒中で、分散剤を用いて、有機微粒子を構成するポリマーを微粒子化(分散)する方法である。この微粒子化(分散)の際に、着色剤を併用することで、本発明における着色有機微粒子を得ることができる。
以下、湿式分散法において用いられる成分について説明する。
-Preparation of colored organic fine particles by wet dispersion method-
The wet dispersion method in the present invention is a method in which a polymer constituting organic fine particles is finely divided (dispersed) using a dispersant in a non-aqueous solvent. The colored organic fine particles in the present invention can be obtained by using a colorant in combination with the fine particles (dispersing).
Hereinafter, components used in the wet dispersion method will be described.

(有機微粒子を構成するポリマー)
有機微粒子を構成するポリマーとして、具体的には、例えば、ロジン類、ロジン変性フェノール樹脂、アルキッド樹脂、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリエチレン、ポリブタジエン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールのアセタール変性物、ポリカーボネート等を挙げられる。
これらの内、粒子形成の容易さの観点から、重量平均分子量が2,000〜1000,000の範囲内であり、且つ、多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が、1.0〜5.0の範囲内であるポリマーが好ましい。更に、定着の容易さの観点から、軟化点又はガラス転移点が25℃〜150℃の範囲内にあるポリマーが好ましい。
(Polymer constituting organic fine particles)
Specific examples of polymers constituting the organic fine particles include rosins, rosin-modified phenolic resins, alkyd resins, (meth) acrylic polymers, polyurethanes, polyesters, polyamides, polyethylenes, polybutadienes, polystyrenes, polyvinyl acetates, polyvinyls. Examples include acetal-modified products of alcohol and polycarbonate.
Of these, from the viewpoint of ease of particle formation, the weight average molecular weight is in the range of 2,000 to 1,000,000, and the polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to Polymers that are within the range of 5.0 are preferred. Furthermore, from the viewpoint of ease of fixing, a polymer having a softening point or glass transition point in the range of 25 ° C. to 150 ° C. is preferable.

本発明において、好適に使用されるポリマーは、下記一般式(1)〜(4)で示される構成単位のいずれか1つを少なくとも含有するポリマーである。   In the present invention, the polymer suitably used is a polymer containing at least one of the structural units represented by the following general formulas (1) to (4).

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(1)中、X11は、酸素原子又は−N(R13)−を示す。R11は、水素原子又はメチル基を示し、R12は、炭素数1から30個の炭化水素基を示し、R13は、水素原子又は炭素数1から30の炭化水素基を示す。
上記一般式(2)中、R21は、水素原子又は炭素数1から20の炭化水素基を示す。
上記一般式(3)及び(4)中、R31、R32及びR41は、それぞれ、炭素数1から20個の2価の炭化水素基を示す。
なお、R12、R21、R31、R32、R41の炭化水素基中にエーテル結合、アミノ基、ヒドロキシ基、又は、ハロゲン置換基を含んでいてもよい。
In the general formula (1), X 11 represents an oxygen atom or —N (R 13 ) —. R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 12 represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 13 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.
In the general formula (2), R 21 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
In the general formulas (3) and (4), R 31 , R 32 and R 41 each represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
The hydrocarbon group of R 12 , R 21 , R 31 , R 32 , and R 41 may contain an ether bond, an amino group, a hydroxy group, or a halogen substituent.

一般式(1)で示される構成単位を含有するポリマーは、対応するラジカル重合性モノマーを公知の方法によりラジカル重合することにより得られる。
用いられるラジカル重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル類、及び、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類が挙げられる。
The polymer containing the structural unit represented by the general formula (1) can be obtained by radical polymerization of a corresponding radical polymerizable monomer by a known method.
Examples of the radical polymerizable monomer used include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. Octyl acid, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, (meth) (Meth) acrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl acrylate, N-methyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) Examples include (meth) acrylamides such as acrylamide.

一般式(2)で示される構成単位を含有するポリマーは、対応するラジカル重合性モノマーを公知の方法によりラジカル重合することにより得られる。
用いられるラジカル重合性モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、スチレン、4−メチルスチレン等が挙げられる。
The polymer containing the structural unit represented by the general formula (2) can be obtained by radical polymerization of a corresponding radical polymerizable monomer by a known method.
Examples of the radical polymerizable monomer used include ethylene, propylene, butadiene, styrene, and 4-methylstyrene.

一般式(3)で示される構成単位を含有するポリマーは、対応するジカルボン酸又は酸無水物とジオールとを公知の方法で脱水縮合することにより得られる。
用いられるジカルボン酸としては、コハク酸無水物、アジピン酸、セバシン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−フェニレンジ酢酸、ジグリコール酸等が挙げられる。
また、用いられるジオールとしては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,10−デカンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ベンゼンジメタノール、ジエチレングリコール等が挙げられる。
The polymer containing the structural unit represented by the general formula (3) can be obtained by dehydrating condensation of a corresponding dicarboxylic acid or acid anhydride and a diol by a known method.
Examples of the dicarboxylic acid used include succinic anhydride, adipic acid, sebacic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-phenylenediacetic acid, diglycolic acid and the like.
Examples of the diol used include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,10-decanediol, and 2-butene- Examples include 1,4-diol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-benzenedimethanol, and diethylene glycol.

一般式(4)で示される構成単位を含有するポリマーは、対応するヒドロキシ基を有するカルボン酸を又は公知の方法で脱水縮合するか、又は、対応するヒドロキシ基を有するカルボン酸の環状エステルを公知の方法で開環重合することにより得られる。
用いられるヒドロキシ基を有するカルボン酸又はその環状エステルとしては、6−ヒドロキシヘキサン酸、11−ヒドロキシウンデカン酸、ヒドロシキ安息香酸、ε−カプロラクトン等が挙げられる。
The polymer containing the structural unit represented by the general formula (4) is known to dehydrate and condense a carboxylic acid having a corresponding hydroxy group, or a cyclic ester of a carboxylic acid having a corresponding hydroxy group. It can be obtained by ring-opening polymerization according to the method.
Examples of the carboxylic acid having a hydroxy group or a cyclic ester thereof include 6-hydroxyhexanoic acid, 11-hydroxyundecanoic acid, hydroxybenzoic acid, and ε-caprolactone.

一般式(1)〜(4)で示される構成単位のいずれか1つを少なくとも含有するポリマーは、一般式(1)〜(4)で示される構成単位のホモポリマーであってもよく、他の構成成分との共重合体(コポリマー)であってもよい。
また、これらのポリマーは、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The polymer containing at least one of the structural units represented by the general formulas (1) to (4) may be a homopolymer of the structural units represented by the general formulas (1) to (4). It may be a copolymer (copolymer) with these constituent components.
Moreover, these polymers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

特に好ましいポリマーは、ポリエステル、アクリル、スチレン−アクリル、ポリエチレン、ポリウレタン等が挙げられ、最適には、ポリエステル、アクリル、スチレン−アクリル、ポリエチレン等が挙げられる。   Particularly preferred polymers include polyester, acrylic, styrene-acrylic, polyethylene, polyurethane and the like, and optimally include polyester, acrylic, styrene-acrylic, polyethylene and the like.

なお、これらの有機微粒子を構成するポリマーは、後述する色材を併用する際にその色材を被覆する機能を有する。このように、色材をポリマーで被覆することで、着色剤の有する荷電を遮断し、得られる有機微粒子に所望の荷電特性を付与することができる。また、検版性も付与することができる。   In addition, the polymer which comprises these organic fine particles has a function which coat | covers the coloring material, when using the coloring material mentioned later together. Thus, by covering the colorant with the polymer, the charge of the colorant can be blocked and desired charge characteristics can be imparted to the resulting organic fine particles. In addition, plate inspection can be imparted.

(分散剤)
本発明における湿式分散法では、有機微粒子の直径を制御し、且つ、粒子の沈降を抑制するために分散剤を使用することが好ましい。
好適な分散剤としては、ソルビタンモノオレエート等のソルビタン脂肪酸エステルや、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリエチレングリコール脂肪酸エステルに代表される界面活性剤が挙げられる。また、例えば、スチレンとマレイン酸のコポリマー、及びそのアミン変性物、スチレンと(メタ)アクリル化合物のコポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリエチレンと(メタ)アクリル化合物のコポリマー、ロジン、BYK−160、162、164、182(ビックケミー社製のポリウレタン系ポリマー)、EFKA−401、402(EFKA社製のアクリル系ポリマー)、ソルスパース17000,24000(ゼネカ社製のポリエステル系ポリマー)等が挙げられる。
(Dispersant)
In the wet dispersion method in the present invention, it is preferable to use a dispersant in order to control the diameter of the organic fine particles and suppress the sedimentation of the particles.
Suitable dispersants include surfactants represented by sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monooleate and polyethylene glycol fatty acid esters such as polyoxyethylene distearate. Further, for example, a copolymer of styrene and maleic acid, and an amine-modified product thereof, a copolymer of styrene and a (meth) acrylic compound, a (meth) acrylic polymer, a copolymer of polyethylene and a (meth) acrylic compound, rosin, BYK-160, 162, 164, 182 (polyurethane polymer manufactured by Big Chemie), EFKA-401, 402 (acrylic polymer manufactured by EFKA), Solsperse 17000, 24000 (polyester polymer manufactured by Geneca), and the like.

本発明における分散剤としては、インク組成物の長期間保存安定性の観点から、重量平均分子量が1,000〜1,000,000の範囲内であり、且つ、多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が、1.0〜7.0の範囲内であるポリマーが好ましい。
更に、グラフトポリマー又はブロックポリマーを用いることが最も好ましい。
The dispersant in the present invention has a weight average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000 and a polydispersity (weight average molecular weight / weight) from the viewpoint of long-term storage stability of the ink composition. A polymer having a number average molecular weight) in the range of 1.0 to 7.0 is preferred.
Furthermore, it is most preferable to use a graft polymer or a block polymer.

本発明において分散剤として特に好適に用いられるポリマーは、下記一般式(5)及び(6)で示される構成単位の少なくともいずれか一方からなる重合体成分と、下記一般式(7)で示される構成単位を少なくともグラフト鎖として含有する重合体成分と、を含有するグラフトポリマーである。   The polymer that is particularly preferably used as a dispersant in the present invention is represented by a polymer component composed of at least one of the structural units represented by the following general formulas (5) and (6), and the following general formula (7). And a polymer component containing at least a structural unit as a graft chain.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(5)中、X51は、酸素原子又は−N(R53)−を示す。R51は、水素原子又はメチル基を示し、R52は、炭素数1から10個の炭化水素基を示し、R53は、水素原子又は炭素数1から10の炭化水素基を示す。
上記一般式(6)中、R61は、水素原子、炭素数1から20の炭化水素基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又は、炭素数1から20個のアルコキシ基を示す。
上記一般式(7)中、X71は、酸素原子又は−N(R73)−を示す。R71は、水素原子又はメチル基を示し、R72は、炭素数4から30個の炭化水素基を示し、R73は、水素原子又は炭素数1から30の炭化水素基を示す。
なお、R52、R72の炭化水素基中にエーテル結合、アミノ基、ヒドロキシ基、又は、ハロゲン置換基を含んでいてもよい。
In the general formula (5), X 51 represents an oxygen atom or —N (R 53 ) —. R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 52 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 53 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
In the general formula (6), R 61 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms.
In the general formula (7), X 71 represents an oxygen atom or —N (R 73 ) —. R 71 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 72 represents a hydrocarbon group having 4 to 30 carbon atoms, and R 73 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.
The hydrocarbon group of R 52 and R 72 may contain an ether bond, an amino group, a hydroxy group, or a halogen substituent.

上記グラフトポリマーは、一般式(7)に対応するラジカル重合性モノマーを、好ましくは、連鎖移動剤の存在下で重合し、得られたポリマーの末端に重合性官能基を導入し、更に、一般式(5)及び/又は一般式(6)に対応するラジカル重合性モノマーと共重合することにより得ることができる。   The graft polymer is obtained by polymerizing a radical polymerizable monomer corresponding to the general formula (7), preferably in the presence of a chain transfer agent, introducing a polymerizable functional group into the terminal of the obtained polymer, It can be obtained by copolymerizing with a radically polymerizable monomer corresponding to formula (5) and / or general formula (6).

一般式(5)に対応するラジカル重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル等、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチルの(メタ)アクリル酸エステル類、及び、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類が挙げられる。   Examples of the radical polymerizable monomer corresponding to the general formula (5) include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. Hexyl (meth) acrylate cyclohexyl, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid esters of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and N-methyl (meth) acrylamide And (meth) acrylamides such as N-propyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, and N, N-dimethyl (meth) acrylamide.

一般式(6)に対応するラジカル重合性モノマーとしては、例えば、スチレン、4−メチルスチレン、クロロスチレン、メトキシスチレン等が上げられる。   Examples of the radical polymerizable monomer corresponding to the general formula (6) include styrene, 4-methylstyrene, chlorostyrene, methoxystyrene, and the like.

また、一般式(7)に対応するラジカル重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が挙げられる。   Examples of the radical polymerizable monomer corresponding to the general formula (7) include hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, ( Examples thereof include stearyl methacrylate.

これらのグラフトポリマーの具体例としては、下記の構造式で示されるポリマーが挙げられる。   Specific examples of these graft polymers include polymers represented by the following structural formulas.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

Figure 2008013605
Figure 2008013605

一般式(5)及び(6)で示される構成単位のいずれか1つを少なくとも含有する重合体成分と、一般式(7)で示される構成単位を少なくともグラフト鎖として含有する重合体成分と、を含有するグラフトポリマーは、一般式(5)及び/又は一般式(6)、並びに一般式(7)で示される構成単位のみを有していてもよいし、他の構成成分を含有していてもよい。
また、グラフト鎖を含有する重合体成分と、それ以外の重合体成分との好ましい組成比は、10:90〜90:10である。この範囲において、良好な粒子形成性が得られ、所望の粒子直径を得やすく、好ましい。これらのポリマーは、分散剤として単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
A polymer component containing at least one of the structural units represented by the general formulas (5) and (6), a polymer component containing at least the structural unit represented by the general formula (7) as a graft chain, and The graft polymer containing may contain only the structural unit represented by general formula (5) and / or general formula (6) and general formula (7), or may contain other constituent components. May be.
Moreover, the preferable composition ratio of the polymer component containing a graft chain and the other polymer components is 10:90 to 90:10. Within this range, good particle formability is obtained, and a desired particle diameter is easily obtained, which is preferable. These polymers may be used alone as a dispersant, or may be used in combination of two or more.

これらの分散剤の含有量は、ポリマーの微粒子化の際に用いられる分散液の全質量に対して、0.01〜30質量%の範囲内であることが好ましい。この範囲内において、良好な粒子形成性が得られ、所望の粒子直径を得ることができる。   The content of these dispersants is preferably in the range of 0.01 to 30% by mass with respect to the total mass of the dispersion used when the polymer is atomized. Within this range, good particle formability can be obtained, and a desired particle diameter can be obtained.

(非水溶媒)
本発明における湿式分散法に用いられる非水溶媒は、前述の重合造粒法で用いた非水溶媒と同様のものを用いることができる。
なお、湿式分散法に用いられる非水溶媒は、インク組成物を構成する分散媒への置換等の工程を省略するために、通常、有機微粒子の分散段階で、インク組成物を構成する分散媒と同じ非水溶媒を用いることが好ましい。
(Non-aqueous solvent)
As the non-aqueous solvent used in the wet dispersion method in the present invention, the same non-aqueous solvent as used in the above-described polymerization granulation method can be used.
The non-aqueous solvent used in the wet dispersion method is usually a dispersion medium that constitutes the ink composition in the dispersion stage of the organic fine particles in order to omit steps such as substitution with the dispersion medium that constitutes the ink composition. It is preferable to use the same non-aqueous solvent.

この分散媒の使用量は、ポリマーの微粒子化の際に用いられる分散液の全質量に対して、0.01〜30質量%の範囲であることが好ましく、0.05〜27質量%の範囲であることがより好ましく、0.1〜25質量%の範囲であることが更に好ましい。   The amount of the dispersion medium used is preferably in the range of 0.01 to 30% by mass, and in the range of 0.05 to 27% by mass, with respect to the total mass of the dispersion used in the micronization of the polymer. It is more preferable that it is in the range of 0.1 to 25% by mass.

(湿式分散方法)
以上の成分を用い、有機微粒子を構成するポリマーを分散(微粒子化)することにより、本発明における有機微粒子を作製することができる。
以下、湿式分散法を用いた有機微粒子の作製方法について、具体的に説明する。なお、ここで作製する有機微粒子は、着色剤を含有する荷電粒子である。
1)着色剤、有機微粒子を構成するポリマーを予め混合した後、分散剤と非水溶媒を用いて分散(微粒子化)し、荷電調整剤を加える。
2)着色剤、有機微粒子を構成するポリマー、分散剤、及び非水溶媒を同時に用いて分散(微粒子化)し、荷電調整剤を加える。
3)着色剤、有機微粒子を構成するポリマー、分散剤、荷電調整剤、及び非水溶媒を同時に用いて分散(微粒子化)する。
なお、1)の方法において、着色剤と有機微粒子を構成するポリマーとを混合する際には、50〜150℃の温度で加熱しつつ、混練することが好ましい。
(Wet dispersion method)
The organic fine particles in the present invention can be produced by dispersing (making fine particles) the polymer constituting the organic fine particles using the above components.
Hereinafter, a method for producing organic fine particles using a wet dispersion method will be specifically described. Note that the organic fine particles produced here are charged particles containing a colorant.
1) A colorant and a polymer constituting organic fine particles are mixed in advance, and then dispersed (finely divided) using a dispersant and a nonaqueous solvent, and a charge adjusting agent is added.
2) A colorant, a polymer constituting organic fine particles, a dispersing agent, and a non-aqueous solvent are simultaneously dispersed (micronized), and a charge adjusting agent is added.
3) A colorant, a polymer constituting the organic fine particles, a dispersing agent, a charge adjusting agent, and a non-aqueous solvent are simultaneously used (dispersed).
In the method 1), when the colorant and the polymer constituting the organic fine particles are mixed, it is preferable to knead while heating at a temperature of 50 to 150 ° C.

ここで、混合や分散する際に用いられる装置としては、例えば、ニーダー、ディゾルバー、ミキサー、高速ディスパーザー、サンドミル、ロールミル、ボールミル、アトライター、ビーズミル等が挙げられる。   Here, examples of the apparatus used for mixing and dispersing include a kneader, a dissolver, a mixer, a high-speed disperser, a sand mill, a roll mill, a ball mill, an attritor, and a bead mill.

(オニウム塩化合物)
湿式分散法により得られる有機微粒子には、荷電発生効率及び経時での荷電安定性の向上の点から、オニウム塩化合物を含有することができる。
このようなオニウム塩化合物は、例えば、アンモニウム類、オキソニウム類、スルホニウム類、セレニウム類、ホスホニウム類等であり、好ましくはアンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類等である。
より具体的には、アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類としては、下記一般式(I)で表される化合物が挙げられる。
(Onium salt compound)
The organic fine particles obtained by the wet dispersion method can contain an onium salt compound from the viewpoint of improvement in charge generation efficiency and charge stability over time.
Such onium salt compounds are, for example, ammoniums, oxoniums, sulfoniums, seleniums, phosphoniums, and the like, preferably ammoniums, sulfoniums, phosphoniums, and the like.
More specifically, examples of ammoniums, sulfoniums, and phosphoniums include compounds represented by the following general formula (I).

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(I)中、Yは、N、S又はP原子を表す。R〜Rは、各々同じでも異なってもよく、水素原子又は炭化水素基を表わす。R〜Rの炭化水素基としては、炭素数1〜22のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基、アリール基若しくは架橋環式炭化水素基を表わし、これらは置換されていてもよい。 In the general formula (I), Y represents an N, S or P atom. R 1 to R 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. The hydrocarbon group for R 1 to R 4 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, an aryl group, or a bridged cyclic hydrocarbon group, and these are substituted. Also good.

〜Rの好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換されていてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されていてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−セキセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレニル基等)、炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナブチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオンアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)等が挙げられる。 As preferred hydrocarbon groups for R 1 to R 4, an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group) , Nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, docosyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group Group, decenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group, linolenyl group, etc.), C 7-12 optionally substituted aralkyl group (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group) , Nabutylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), substituted with 5 to 8 carbon atoms Or an alicyclic group (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, phenyl group, naphthyl group) , Tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octyl Phenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl Group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propionamidophenyl group, dodeciloylamidophenyl group, etc.).

また、RとR及びRとRはそれぞれ結合して窒素原子と共に環を形成する有機残基を表してもよい。この有機残基は、更に、ヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等)を含有してもよい。形成される環状アンモニウム基としては、例えば、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、キノリル基、オキサゾリン基等を4級化して得られるものが挙げられる。
環状スルホニウム基としては、チオフェン基、テトラヒドロチオフェン基、ベンゾチオフェン基、チアゾール基等を4級化して得られるものが挙げられる。
R 1 and R 2 and R 3 and R 4 may be bonded to each other to represent an organic residue that forms a ring with a nitrogen atom. This organic residue may further contain a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, etc.). Examples of the cyclic ammonium group to be formed include those obtained by quaternizing a morpholino group, piperidino group, pyridyl group, imidazolyl group, quinolyl group, oxazoline group and the like.
Examples of the cyclic sulfonium group include those obtained by quaternizing a thiophene group, a tetrahydrothiophene group, a benzothiophene group, a thiazole group, or the like.

は、陰イオンを表す。陰イオン成分としては、ハロゲン、モノメチル硫酸、p−トルエンスルホン酸、フェニルスルホン酸などのアルキル及びアリールベンゼンスルホン酸イオンなどが挙げられる。その他、特開昭59−137960号公報に記載の各種の陰イオンも挙げることができる。 X represents an anion. Examples of the anion component include alkyl such as halogen, monomethyl sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, and phenylsulfonic acid, and arylbenzenesulfonic acid ions. In addition, various anions described in JP-A-59-137960 can also be mentioned.

なお、本発明におけるオニウム塩化合物は、前記の低分子化合物以外に、オニウム塩基を含むポリマー(以下、オニウム塩基含有ポリマーと称する場合がある。)であってもよい。ポリマーの主鎖を構成する成分としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーが挙げられる。
アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又はi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
The onium salt compound in the present invention may be a polymer containing an onium base (hereinafter sometimes referred to as an onium base-containing polymer) in addition to the low molecular weight compound. Examples of components constituting the polymer main chain include acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic acid Well-known monomers, such as an imide, are mentioned.
Specific examples of acrylic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chloro Benzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl Acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphene Chill methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl methacrylate.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide , N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N , N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
その他、市販されているオニウム塩基含有ポリマーや、市販されているポリマーをオニウム塩化したものも、特に制限なく使用することができる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.
In addition, a commercially available onium base-containing polymer and a commercially available polymer obtained by onium chloride can be used without particular limitation.

オニウム塩基含有ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、例えば、3,000〜2000,00の範囲であり、好ましくは4,000〜150,000、更に好ましくは5,000〜120,000の範囲である。   The weight average molecular weight (Mw) of the onium base-containing polymer is, for example, in the range of 3,000 to 2,000,00, preferably 4,000 to 150,000, more preferably 5,000 to 120,000. is there.

このようなオニウム塩化合物の含有量は、例えば、オニウム塩化合物を構成する官能基又はモノマー単位として、有機微粒子全体量の40〜1質量%、好ましくは35〜2質量%、更に好ましくは30〜3質量%である。
なお、上述のオニウム塩基含有ポリマーは、前述の有機微粒子を構成するポリマーの一部又は全部を構成していてもよい。そのため、オニウム塩基含有ポリマーを、有機微粒子を構成するポリマーとして用いる場合には、上記の含有量の範囲に関わらず用いることができる。
The content of such an onium salt compound is, for example, 40 to 1% by mass, preferably 35 to 2% by mass, and more preferably 30 to 30% by mass of the total amount of organic fine particles as a functional group or monomer unit constituting the onium salt compound. 3% by mass.
In addition, the above-mentioned onium base-containing polymer may constitute part or all of the polymer constituting the above-described organic fine particles. Therefore, when an onium base-containing polymer is used as a polymer constituting organic fine particles, it can be used regardless of the content range.

(水中でのpKbが16以下のプロトン受容性の中性官能基を有する化合物)
湿式分散法により得られる有機微粒子には、荷電発生効率及び経時での荷電安定性の向上の点から、水中でのpKbが16以下のプロトン受容性の中性官能基を有する化合物を含有することができる。なお、このpKbは、好ましくは、16〜−5、より好ましくは、12〜−2である。
水中(以下、水中とは温度25℃の水中を意味する)でのpKbが16以下のプロトン受容性の中性官能基を有する化合物(以下、プロトン受容性基含有化合物と称する場合がある。)としては、例えば、中性官能基が、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及び燐原子の少なくとも1つの原子を含有する官能基である化合物が挙げられ、具体的には、1,2又は3級脂肪族アミン類(メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、2−エチルヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジn−ブチルアミン、ジn−ヘキシルアミン、メチルエチルアミン、エチルn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリn−ブチルアミン、トリn−ヘキシルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルn−ブチルアミン等)、1,2又は3級芳香族アミン類(フェニルアミン、ナフチルアミン、p−ブロモフェニルアミン、p−メトキシフェニルアミン、m−ブロモフェニルアミン、メチルフェニルアミン、エチルフェニルアミン、メチルナフチルアミン、n−ブチルフェニルアミン、2−エチルヘキシルフェニルアミン、ジフェニルアミン、ジメチルフェニルアミン、ジエチルフェニルアミン、トリフェニルアミン、メチルジフェニルアミン、n−ブチルジフェニルアミン等)、ヒドラジン類(ヒドラジン、ジメチルヒドラジン、ジエチルヒドラジン等)、N原子含有ヘテロ環類(ピリジン、イミダゾール、オキサゾリン、トリアゾール等)、スルフィド類(ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジn−ブチルスルフィド、ジn−ヘキシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、メチルフェニルスルフィド等)等が挙げられる。
中でも、好ましくは、1,2又は3級脂肪族アミン類、1,2又は3級芳香族アミン類、N原子含有ヘテロ環類であり、更に好ましくは、1,2又は3級脂肪族アミン類、N原子含有ヘテロ環類である。
(Compound having a proton-accepting neutral functional group having a pKb of 16 or less in water)
The organic fine particles obtained by the wet dispersion method contain a compound having a proton-accepting neutral functional group having a pKb of 16 or less in water from the viewpoint of improvement in charge generation efficiency and charge stability with time. Can do. The pKb is preferably 16 to -5, more preferably 12 to -2.
A compound having a proton-accepting neutral functional group having a pKb of 16 or less in water (hereinafter, water means water having a temperature of 25 ° C.) (hereinafter sometimes referred to as a proton-accepting group-containing compound). Examples thereof include compounds in which the neutral functional group is a functional group containing at least one atom of a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Secondary aliphatic amines (methylamine, ethylamine, propylamine, n-butylamine, n-hexylamine, 2-ethylhexylamine, dimethylamine, diethylamine, di-n-butylamine, di-n-hexylamine, methylethylamine, ethyl n- Butylamine, triethylamine, tri-n-butylamine, tri-n-hexylamine, dimethylethylamine, diethyl n- Tilamine, etc.), 1, 2 or tertiary aromatic amines (phenylamine, naphthylamine, p-bromophenylamine, p-methoxyphenylamine, m-bromophenylamine, methylphenylamine, ethylphenylamine, methylnaphthylamine, n -Butylphenylamine, 2-ethylhexylphenylamine, diphenylamine, dimethylphenylamine, diethylphenylamine, triphenylamine, methyldiphenylamine, n-butyldiphenylamine, etc.), hydrazines (hydrazine, dimethylhydrazine, diethylhydrazine, etc.), N atom Containing heterocycles (pyridine, imidazole, oxazoline, triazole, etc.), sulfides (dimethyl sulfide, diethyl sulfide, di-n-butyl sulfide, di-n-hexyl) Sulfide, diphenyl sulfide, methyl phenyl sulfide, etc.) and the like.
Among them, preferred are 1, 2 or tertiary aliphatic amines, 1, 2 or tertiary aromatic amines, and N atom-containing heterocycles, and more preferred are 1, 2 or tertiary aliphatic amines. , N atom-containing heterocycles.

本発明におけるプロトン受容性基含有化合物は、前記の低分子化合物以外に、プロトン受容性基含有化合物に対応する構成成分を含むポリマー(以下、プロトン受容性基含有ポリマーと称する場合がある。)であってもよい。ポリマーの主鎖を構成する成分としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマー、アルキレン、フェニレン鎖等が挙げられる。   The proton-accepting group-containing compound in the present invention is a polymer containing a component corresponding to the proton-accepting group-containing compound in addition to the low molecular weight compound (hereinafter sometimes referred to as a proton-accepting group-containing polymer). There may be. Examples of components constituting the polymer main chain include acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic acid. Known monomers such as imide, alkylene, phenylene chain and the like can be mentioned.

アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又はi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of acrylic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chloro Benzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl Acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphene Chill methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl methacrylate.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide , N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N , N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。   Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。   Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

その他、市販されているプロトン受容性基含有ポリマーや、市販されているポリマーに水中でのpKbが16以下のプロトン受容性の中性官能基を導入したものも特に制限なく使用することができる。   In addition, a commercially available proton-accepting group-containing polymer or a polymer obtained by introducing a proton-accepting neutral functional group having a pKb of 16 or less in water into a commercially available polymer can be used without particular limitation.

プロトン受容性基含有ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、例えば3,000〜200,000の範囲であり、好ましくは4,000〜150,000、更に好ましくは5,000〜120,000の範囲である。   The weight average molecular weight (Mw) of the proton-accepting group-containing polymer is, for example, in the range of 3,000 to 200,000, preferably 4,000 to 150,000, more preferably 5,000 to 120,000. It is.

プロトン受容性基含有化合物の含有量は、例えば、プロトン受容性基含有化合物を構成する官能基又はモノマー単位として、好ましくは有機微粒子全体量の40〜0.01質量%、より好ましくは35〜0.02質量%、更に好ましくは30〜0.03質量%である。
また、水中でのpKbが16以下のプロトン受容性の中性官能基の含有量は、プロトン受容性基含有化合物として、好ましくは有機微粒子全体量の50〜0.1質量%、より好ましくは40〜0.5質量%、更に好ましくは30〜1質量%である。
The content of the proton-accepting group-containing compound is, for example, preferably 40 to 0.01% by mass of the total amount of organic fine particles, more preferably 35 to 0 as the functional group or monomer unit constituting the proton-accepting group-containing compound. 0.02% by mass, more preferably 30-0.03% by mass.
The content of the proton-accepting neutral functional group having a pKb of 16 or less in water is preferably 50 to 0.1% by mass, more preferably 40% of the total amount of organic fine particles as the proton-accepting group-containing compound. -0.5 mass%, More preferably, it is 30-1 mass%.

なお、上述のプロトン受容性基含有ポリマーは、前述の有機微粒子を構成するポリマーの一部又は全部を構成していてもよい。そのため、プロトン受容性基含有ポリマーを、有機微粒子を構成するポリマーとして用いる場合には、上記の含有量の範囲に関わらず用いることができる。   The proton-accepting group-containing polymer described above may constitute part or all of the polymer constituting the organic fine particles. Therefore, when the proton-accepting group-containing polymer is used as a polymer constituting the organic fine particles, it can be used regardless of the content range.

(水酸基及びエステル基以外の水素結合性基を有するポリエステル)
湿式分散法により得られる有機微粒子は、高速且つ低温での定着を達成する点から、有機微粒子を構成するポリマーとして、水酸基及びエステル基以外の水素結合性基を有し、且つ、下記a)からc)の物性値条件を満たすポリエステル(以下、特定ポリエステルと称する場合がある。)を用いることが好ましい。
a)50℃での動的弾性率G’:10Pa以上、好ましくは、1×10Pa以上、より好ましくは、5×10Pa以上、更に好ましくは5×10Pa〜1×10Pa。
100℃での動的弾性率G’:10Pa以上、好ましくは、5×10Pa以上、より好ましくは、1×10Pa以上、更に好ましくは1×10Pa〜1×10Pa。
b)分子量(GPC質量平均):50,000以下、好ましくは40,000以下、より好ましくは35,000以下、更に好ましくは5,000〜35,000。なお、本発明でいうGPC質量平均とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定された重量平均分子量を意味する。
c)ガラス転移点(Tg):30〜100℃、好ましくは35〜80℃、より好ましくは、35〜70℃。
(Polyester having hydrogen bonding group other than hydroxyl group and ester group)
The organic fine particles obtained by the wet dispersion method have a hydrogen bonding group other than a hydroxyl group and an ester group as a polymer constituting the organic fine particles from the viewpoint of achieving high-speed and low-temperature fixing, and from the following a) It is preferable to use a polyester that satisfies the physical property value of c) (hereinafter sometimes referred to as a specific polyester).
a) the dynamic modulus at 50 ℃ G ': 10 4 Pa or more, preferably, 1 × 10 5 Pa or more, more preferably, 5 × 10 5 Pa or more, more preferably 5 × 10 5 Pa~1 × 10 8 Pa.
Dynamic modulus at 100 ℃ G ': 10 3 Pa or more, preferably, 5 × 10 3 Pa or more, more preferably, 1 × 10 4 Pa or more, more preferably 1 × 10 4 Pa~1 × 10 5 Pa.
b) Molecular weight (GPC mass average): 50,000 or less, preferably 40,000 or less, more preferably 35,000 or less, still more preferably 5,000 to 35,000. In addition, GPC mass average as used in the field of this invention means the weight average molecular weight measured by the gel permeation chromatography.
c) Glass transition point (Tg): 30 to 100 ° C, preferably 35 to 80 ° C, more preferably 35 to 70 ° C.

特定ポリエステルの50℃での動的弾性率G’が10Pa未満になると、ポリエステルの流動が起こり、画像上に紙のような被記録媒体を重ねた場合、紙に接着する、ブロッキング現象が発生する。また、100℃での動的弾性率G’が10Pa未満になると、ポリエステルのゴム弾性が無くなり、画像層内で凝集破壊を生じ、ヒートローラへのオフセットが発生する。
また、特定ポリエステルの分子量が50,000を超えると、ポリエステルの凝集力が高くなり、通常の粉砕・分散方法では、十分な微細化が困難となる。
更に、特定ポリエステルのガラス転移温度(Tg)が30℃未満になると、50℃でのポリエステルのポリマー鎖の運動が活発になり、ポリエステルの流動が起こり、画像上に紙のような被記録媒体を重ねた場合、紙に接着する、ブロッキング現象が発生する。一方、ガラス転移温度(Tg)が100℃を超えると、低温定着性が低下してしまう。
When the dynamic elastic modulus G ′ at 50 ° C. of the specific polyester is less than 10 4 Pa, the polyester flows, and when a recording medium such as paper is superimposed on the image, the blocking phenomenon that adheres to the paper occurs. appear. On the other hand, when the dynamic elastic modulus G ′ at 100 ° C. is less than 10 3 Pa, the rubber elasticity of the polyester is lost, causing cohesive failure in the image layer and causing an offset to the heat roller.
Further, when the molecular weight of the specific polyester exceeds 50,000, the cohesive strength of the polyester becomes high, and it becomes difficult to sufficiently reduce the size by a normal pulverization / dispersion method.
Furthermore, when the glass transition temperature (Tg) of the specific polyester is less than 30 ° C., the movement of the polymer chain of the polyester at 50 ° C. becomes active, the polyester flows, and a recording medium such as paper is formed on the image. When stacked, a blocking phenomenon occurs that adheres to paper. On the other hand, when the glass transition temperature (Tg) exceeds 100 ° C., the low-temperature fixability deteriorates.

本発明において、特定ポリエステルは、水酸基及びエステル基以外の水素結合性基を有し、上記特定の物性値条件を満足するものであれば特に限定されないが、好ましくは、水酸基及びエステル基以外の水素結合性基が、アミド基、ウレタン基、ウレア基、アミノ基、チオール基、チオウレタン基、及びチオウレア基から選択された1種以上であることが好ましい。
これらの水素結合性基は、置換基を有していてもよい。また、導入しうる置換基としては、各々同じでも異なってもよく炭化水素基を表す。炭化水素基としては、炭素数1〜22の、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基、アリール基、若しくは架橋環式炭化水素基を表わし、これらは更に置換されていてもよい。
In the present invention, the specific polyester is not particularly limited as long as it has a hydrogen-bonding group other than a hydroxyl group and an ester group and satisfies the above specific property value conditions, but preferably a hydrogen other than a hydroxyl group and an ester group. The binding group is preferably at least one selected from an amide group, a urethane group, a urea group, an amino group, a thiol group, a thiourethane group, and a thiourea group.
These hydrogen bonding groups may have a substituent. Further, the substituents that can be introduced may be the same or different and each represents a hydrocarbon group. The hydrocarbon group represents an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, aryl group or bridged cyclic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, which may be further substituted.

好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオンアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)、架橋環式炭化水素基(例えば、ノルボルニル基、アダマンチル基等)等が挙げられる。   Preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 22 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, Dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, docosyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl, 2-methoxycarbonylethyl, 2-methoxyethyl, 3 -Bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group) 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, decenyl group, dode Nyl group, tridecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group, linolenyl group, etc.), an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2 A naphthylethyl group, a chlorobenzyl group, a bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms. (For example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl) Group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, Xiphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamide Phenyl group, propionamidophenyl group, dodecylylamidophenyl group, etc.), bridged cyclic hydrocarbon group (for example, norbornyl group, adamantyl group, etc.) and the like.

また、これらの置換基は、それぞれ結合して、上に列記した窒素原子を含有する水素結合性基と共に環を形成するための有機残基を表してもよい。この有機残基は、更に、ヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等)を含有してもよい。形成される環状アンモニウム基としては、例えば、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、キノリル基、オキサゾリン基等を4級化して得られるのもが挙げられる。また、環状スルホニウム基としては、チオフェン基、テトラヒドロチオフェン基、ベンゾチオフェン基、チアゾール基等を4級化して得られるものが挙げられる。   In addition, these substituents may be bonded to each other to represent an organic residue for forming a ring together with the hydrogen bonding groups containing nitrogen atoms listed above. This organic residue may further contain a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, etc.). Examples of the cyclic ammonium group to be formed include those obtained by quaternizing a morpholino group, piperidino group, pyridyl group, imidazolyl group, quinolyl group, oxazoline group and the like. In addition, examples of the cyclic sulfonium group include those obtained by quaternizing a thiophene group, a tetrahydrothiophene group, a benzothiophene group, a thiazole group, or the like.

また、特定ポリエステルは、下記一般式(a)及び一般式(b)で表される構造単位を有するポリエステルであるのが更に好ましい。
−[CO−X−COO−Y−O]− 一般式(a)
−[CONH−Z−NHCOO−W−O]− 一般式(b)
The specific polyester is more preferably a polyester having structural units represented by the following general formula (a) and general formula (b).
-[CO-X-COO-YO]-General formula (a)
-[CONH-Z-NHCOO-W-O]-General formula (b)

(一般式(a)及び一般式(b)中、X、Y、Z、及びWは、それぞれ独立して、置換されてもよい、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アラルキレン基又は架橋環式炭化水素基を表す。) (In general formula (a) and general formula (b), X, Y, Z, and W are each independently an alkylene group, a cycloalkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, which may be substituted. Represents an aralkylene group or a bridged cyclic hydrocarbon group.)

連結基X、Y、Z、Wは、好ましくは、炭素数1〜22の、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基、若しくは架橋環式炭化水素基の連結基を表わし、これらは置換されていてもよい。
X、Y、Z、Wの具体的な様態としては、炭素数1〜22の置換されてもよいアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレン、エイコシレン、ドコシレン、2−クロロエチレン、2−ブロモエチレン、2−シアノエチレン、2−メトキシカルボニルエチレン、2−メトキシエチレン、3−ブロモプロピレン等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニレン基(例えば、2−メチル−1−プロペニレン、2−ブテニレン、2−ペンテニレン、3−メチル−2−ペンテニレン、1−ペンテニレン、1−ヘキセニレン、2−ヘキセニレン、4−メチル−2−ヘキセニレン、デセニレン、ドデセニレン、トリデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセニレン、リノレニレン等)、アルキニレン基(例えば、アセチレン、メチルアセチレン、フェニルアセチレン等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキレン基(例えば、ベンジレン、フェネチレン、3−フェニルプロピレン、ナフチルメチレン、2−ナフチルエチレン、クロロベンジレン、ブロモベンジレン、メチルベンジレン、エチルベンジレン、メトキシベンジレン、ジメチルベンジレン基、ジメトキシベンジレン等)、炭素数5〜8の置換されてもよいシクロアルキレン基(例えば、シクロヘキシレン、2−シクロヘキシルエチレン、2−シクロペンチルエチレン等)、炭素数6〜12の置換されてもよいアリーレン基(例えば、フェニレン、ナフチレン、トリレン、キシリレン、プロピルフェニレン、ブチルフェニレン、オクチルフェニレン、ドデシルフェニレン、メトキシフェニレン、エトキシフェニレン、ブトキシフェニレン、デシルオキシフェニレン、クロロフェニレン、ジクロロフェニレン、ブロモフェニレン、シアノフェニレン、アセチルフェニレン、メトキシカルボニルフェニレン、エトキシカルボニルフェニレン、ブトキシカルボニルフェニレン、アセトアミドフェニレン、プロピオンアミドフェニレン、ドデシロイルアミドフェニレン等)、又は架橋環式炭化水素基(例えば、ノルボルニル、アダマンチル等)などが挙げられる。
The linking groups X, Y, Z, and W are preferably a linking group of an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, cycloalkylene group, arylene group, aralkylene group, or bridged cyclic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. Which may be substituted.
Specific embodiments of X, Y, Z, and W include alkylene groups having 1 to 22 carbon atoms (for example, methylene, ethylene, propylene, butylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, and dodecylene). , Tridecylene, tetradecylene, hexadecylene, octadecylene, eicosylene, docosylene, 2-chloroethylene, 2-bromoethylene, 2-cyanoethylene, 2-methoxycarbonylethylene, 2-methoxyethylene, 3-bromopropylene, etc.), 4 to 4 carbon atoms 18 optionally substituted alkenylene groups (for example, 2-methyl-1-propenylene, 2-butenylene, 2-pentenylene, 3-methyl-2-pentenylene, 1-pentenylene, 1-hexenylene, 2-hexenylene, 4- Methyl-2-hexenylene, de Nylene, dodecenylene, tridecenylene, hexadecenylene, octadecenylene, linolenylene, etc.), alkynylene groups (eg, acetylene, methylacetylene, phenylacetylene, etc.), C 7-12 optionally substituted aralkylene groups (eg, benzylene, phenylene, 3 -Phenylpropylene, naphthylmethylene, 2-naphthylethylene, chlorobenzylene, bromobenzylene, methylbenzylene, ethylbenzylene, methoxybenzylene, dimethylbenzylene group, dimethoxybenzylene, etc.), C5-C8 substitution A cycloalkylene group (for example, cyclohexylene, 2-cyclohexylethylene, 2-cyclopentylethylene, etc.) which may be substituted, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, phenylene, naphthyl) , Tolylene, xylylene, propylphenylene, butylphenylene, octylphenylene, dodecylphenylene, methoxyphenylene, ethoxyphenylene, butoxyphenylene, decyloxyphenylene, chlorophenylene, dichlorophenylene, bromophenylene, cyanophenylene, acetylphenylene, methoxycarbonylphenylene, Ethoxycarbonylphenylene, butoxycarbonylphenylene, acetamidophenylene, propionamidophenylene, dodeciloylamidophenylene, etc.) or a bridged cyclic hydrocarbon group (for example, norbornyl, adamantyl, etc.).

また、X、Y、Z,Wは、それぞれ結合して窒素原子と共に環を形成するための有機残基を表してもよい。この有機残基は、更に、ヘテロ原子(例えば酸素原子、窒素原子、イオウ原子等)を含有してもよい。形成される環状アンモニウム基としては、例えば、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、キノリル基、オキサゾリン基等を4級化して得られるのもが挙げられる。また、環状スルホニウム基としては、チオフェン基、テトラヒドロチオフェン基、ベンゾチオフェン基、チアゾール基等を4級化して得られるのもが挙げられる。   X, Y, Z, and W may each represent an organic residue that is bonded to form a ring with a nitrogen atom. This organic residue may further contain a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, etc.). Examples of the cyclic ammonium group to be formed include those obtained by quaternizing a morpholino group, piperidino group, pyridyl group, imidazolyl group, quinolyl group, oxazoline group and the like. In addition, examples of the cyclic sulfonium group include those obtained by quaternizing a thiophene group, a tetrahydrothiophene group, a benzothiophene group, a thiazole group, or the like.

なお、上述の特定ポリエステルは、前述の有機微粒子を構成するポリマーの一部又は全部を構成していてもよい。
また、特定ポリエステルと前述の有機微粒子を構成するポリマーとを併用する場合、その有機微粒子を構成するポリマーの配合比率は、ポリマー全量に対して40質量%を超えないこととする。好ましくは30質量%以下である。
ここで、特定ポリエステル樹脂は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The specific polyester described above may constitute part or all of the polymer constituting the organic fine particles.
Moreover, when using together specific polymer and the polymer which comprises the above-mentioned organic fine particle, the compounding ratio of the polymer which comprises the organic fine particle shall not exceed 40 mass% with respect to the polymer whole quantity. Preferably it is 30 mass% or less.
Here, specific polyester resin may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

〔着色剤〕
本発明では、着色有機微粒子を得るために着色剤が用いられる。
本発明における(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子、及び、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子のうち少なくとも1種が、可視領域に吸収を有することが好ましい点から、本発明において用いられる着色剤は、可視領域に吸収を有するものであることが好ましい。本発明のインク組成物を、平版印刷版の画像描画に用いる場合などは特に着色画像を形成する必要はないが、形成された画像部の視認性を向上するため、或いは、インク組成物を用いて着色画像を形成しようとするときは、着色剤を含有することができる。
[Colorant]
In the present invention, a colorant is used to obtain colored organic fine particles.
In the present invention, at least one of (A) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.8 μm or more and (B) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.7 μm or less is in the visible region. From the viewpoint of having absorption, the colorant used in the present invention preferably has absorption in the visible region. When the ink composition of the present invention is used for drawing an image on a lithographic printing plate, it is not necessary to form a colored image. However, in order to improve the visibility of the formed image portion, or the ink composition is used. When a colored image is to be formed, a colorant can be contained.

本発明のインク組成物に用いる着色剤としては、公知の染料及び顔料を使用することができ、用途や目的に応じて選択することができる。例えば、記録された画像記録物(印刷物)の色調の観点からは、顔料を用いることが好ましい(例えば、技術情報協会発行「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」2001年12月25日第1刷参照。以下「文献1」と称する場合がある。)。   As the colorant used in the ink composition of the present invention, known dyes and pigments can be used, and can be selected according to applications and purposes. For example, it is preferable to use a pigment from the viewpoint of the color tone of the recorded image recorded matter (printed matter) (for example, “Distribution Stabilization and Surface Treatment Technology / Evaluation” published on December 25, 2001, published by the Technical Information Association). (Refer to the 1st print, which may be referred to as “Reference 1” hereinafter.)

また、着色剤を変更することにより、イエロー、マゼンタ、シアン、墨(ブラック)の4色のインク組成物を作成することができる。特に、オフセット印刷用インクやプルーフに用いられる顔料を使用するとオフセット印刷物と同様な色調が得られるので好ましい。
一方、平版印刷版用インク組成物として用いる場合には、版を検版可能であれば特に着色剤に制限はなく、これまで平版印刷版でよく使用されてきた染料などを色材として用いることができる。
In addition, by changing the colorant, it is possible to create an ink composition of four colors of yellow, magenta, cyan, and black. In particular, the use of offset printing inks or pigments used for proofing is preferable because the same color tone as that of offset printed matter can be obtained.
On the other hand, when used as an ink composition for a lithographic printing plate, the colorant is not particularly limited as long as the plate can be inspected, and a dye or the like often used in a lithographic printing plate so far is used as a coloring material. Can do.

イエローインク用の顔料としては、例えば、C.I.ピグメントイエロー1、C.I.ピグメントイエロー74等のモノアゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー17等のジスアゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー180等の非ベンジジン系のアゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー100等のアゾレーキ顔料、C.I.ピグメントイエロー95等の縮合アゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー115等の酸性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントイエロー18等の塩基性染料レーキ顔料、フラバントロンイエロー等のアントラキノン系顔料、イソインドリノンイエロー3RLT等のイソインドリノン顔料、キノフタロンイエロー等のキノフタロン顔料、イソインドリンイエロー等のイソインドリン顔料、C.I.ピグメントイエロー153等のニトロソ顔料、C.I.ピグメントイエロー117等の金属錯塩アゾメチン顔料、C.I.ピグメントイエロー139等のイソインドリノン顔料などが挙げられる。   Examples of pigments for yellow ink include C.I. I. Pigment yellow 1, C.I. I. Monoazo pigments such as CI Pigment Yellow 74; I. Pigment yellow 12, C.I. I. Disazo pigments such as C.I. Pigment Yellow 17; I. Non-benzidine azo pigments such as CI Pigment Yellow 180; I. Azo lake pigments such as C.I. Pigment Yellow 100; I. Condensed azo pigments such as CI Pigment Yellow 95; I. Pigment Yellow 115 and other acid dye lake pigments, C.I. I. Pigment Yellow 18 and other basic dye lake pigments, Flavantron Yellow and other anthraquinone pigments, Isoindolinone Yellow 3RLT and other isoindolinone pigments, Quinophthalone Yellow and other quinophthalone pigments, Isoindoline Yellow and other isoindoline pigments, C.I. I. Nitroso pigments such as C.I. Pigment Yellow 153, C.I. I. Metal complex azomethine pigments such as CI Pigment Yellow 117; I. And isoindolinone pigments such as CI Pigment Yellow 139.

マゼンタインク用の顔料としては、例えば、C.I.ピグメントレッド3等のモノアゾ系顔料、C.I.ピグメントレッド38等のジスアゾ顔料、C.I.ピグメントレッド53:1等やC.I.ピグメントレッド57:1等のアゾレーキ顔料、C.I.ピグメントレッド144等の縮合アゾ顔料、C.I.ピグメントレッド174等の酸性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントレッド81等の塩基性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントレッド177等のアントラキノン系顔料、C.I.ピグメントレッド88等のチオインジゴ顔料、C.I.ピグメントレッド194等のペリノン顔料、C.I.ピグメントレッド149等のペリレン顔料、C.I.ピグメントレッド122等のキナクリドン顔料、C.I.ピグメントレッド180等のイソインドリノン顔料、C.I.ピグメントレッド83等のアリザリンレーキ顔料等が挙げられる。   Examples of pigments for magenta ink include C.I. I. Monoazo pigments such as CI Pigment Red 3; I. Disazo pigments such as CI Pigment Red 38; I. Pigment red 53: 1 etc. and C.I. I. Azo lake pigments such as CI Pigment Red 57: 1; I. Condensed azo pigments such as CI Pigment Red 144; I. Pigment Red 174, acidic dye lake pigments, C.I. I. Basic dye lake pigments such as CI Pigment Red 81; I. Anthraquinone pigments such as CI Pigment Red 177; I. Thioindigo pigments such as CI Pigment Red 88; I. Perinone pigments such as CI Pigment Red 194; I. Perylene pigments such as CI Pigment Red 149; I. Quinacridone pigments such as C.I. Pigment Red 122; I. Pigment Red 180 and other isoindolinone pigments, C.I. I. And alizarin lake pigments such as CI Pigment Red 83.

シアンインク用の顔料としては、例えば、C.Iピグメントブルー25等のジスアゾ系顔料、C.I.ピグメントブルー15等のフタロシアニン顔料、C.I.ピグメントブルー24等の酸性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントブルー1等の塩基性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントブルー60等のアントラキノン系顔料、C.I.ピグメントブルー18等のアルカリブルー顔料等が挙げられる。   Examples of the pigment for cyan ink include C.I. Disazo pigments such as CI Pigment Blue 25, C.I. I. Phthalocyanine pigments such as CI Pigment Blue 15; I. Pigment Blue 24 and other acidic dye lake pigments, C.I. I. Basic dye lake pigments such as CI Pigment Blue 1; I. Anthraquinone pigments such as CI Pigment Blue 60; I. And alkaline blue pigments such as CI Pigment Blue 18.

墨インク用の顔料としては、例えば、アニリンブラック系顔料等の有機顔料や酸化鉄顔料、及びファーネスブラック、ランプブラック、アセチレンブラック、チャンネルブラック等のカーボンブラック顔料類等が挙げられる。   Examples of the pigment for black ink include organic pigments such as aniline black pigments and iron oxide pigments, and carbon black pigments such as furnace black, lamp black, acetylene black, and channel black.

更に、マイクロリス−A,−K,−Tなどのマイクロリス顔料に代表される加工顔料も好適に使用できる。その具体例としてはマイクロリスイエロー4G−A,マイクロリスレッドBP−K,マイクロリスブルー4G−T,マイクロリスブラックC−Tなどが挙げられる。   Furthermore, processed pigments typified by microlith pigments such as Microlith-A, -K, and -T can also be suitably used. Specific examples thereof include Microlith Yellow 4G-A, Micro Resled BP-K, Microlith Blue 4G-T, and Microlith Black CT.

また、白インク用の顔料として炭酸カルシウムや酸化チタン顔料を、銀インク用としてアルミニウム粉を、金インク用として銅合金を用いる等、必要に応じて各種の顔料を使用することができる。   Various pigments can be used as necessary, such as calcium carbonate and titanium oxide pigments for white ink, aluminum powder for silver ink, and copper alloy for gold ink.

顔料は、基本的には一色につき一種類の顔料を使うことが、インク製造の簡便性の点で好ましいが、色相調整として、例えば、墨インク用に、カーボンブラックにフタロシアニンを混合するなど、場合によっては2種以上併用することも好ましい。また、ロジン処理等、公知の方法により顔料を表面処理した後使用してもよい(前記文献1参照)。   Basically, it is preferable to use one type of pigment for each color from the viewpoint of ease of ink production. However, as a hue adjustment, for example, for black ink, phthalocyanine is mixed with carbon black. Depending on the case, two or more types may be used in combination. Further, the pigment may be used after being surface-treated by a known method such as rosin treatment (see Document 1).

染料としては、アゾ染料、金属錯塩染料、ナフトール染料、アントラキノン染料、インジゴ染料、カーボニウム染料、キノンイミン染料、キサンテン染料、シアニン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、フタロシアニン染料、金属フタロシアニン染料、等の油溶性染料が好ましい。   As dyes, azo dyes, metal complex dyes, naphthol dyes, anthraquinone dyes, indigo dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, nitroso dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, phthalocyanine dyes, Oil-soluble dyes such as metal phthalocyanine dyes are preferred.

これらの顔料及び染料は、単独で用いてもよいし、適宜組み合わせて使用することも可能である。
また、顔料及び染料の含有量は、色材(顔料や染料)の種類及び用途によって適宜決められる。
例えば、直接印刷物として画像描画する場合には、顔料及び染料の含有量は、インク組成物中の有機微粒子の質量に対して、0.1〜100質量%の範囲内であることが好ましく、1〜50質量%の範囲内であることがより好ましい。0.1質量%以上において、着色量が充足し、印刷物において充分良好な発色が得られ、また、100質量%以下において、有機微粒子の保存安定性、分散性、再分散性等を良好に保つことができる。
These pigments and dyes may be used alone or in appropriate combination.
In addition, the content of the pigment and the dye is appropriately determined depending on the type and use of the color material (pigment or dye).
For example, when an image is drawn directly as a printed matter, the content of the pigment and the dye is preferably in the range of 0.1 to 100% by mass with respect to the mass of the organic fine particles in the ink composition. More preferably, it is in the range of ˜50 mass%. When the amount is 0.1% by mass or more, the coloring amount is sufficient, and a sufficiently good color is obtained in the printed matter. When the amount is 100% by mass or less, the storage stability, dispersibility, redispersibility, etc. of the organic fine particles are kept good. be able to.

一方、平版印刷版の検版などのように視認性を得ることが目的であれば、顔料及び染料の含有量は、インク組成物中の有機微粒子の質量に対して、0.1〜50質量%の範囲内であることが好ましく、1〜30質量%の範囲内であることがより好ましい。0.1質量%以上において、着色量が充足し、充分良好な視認性が得られ、また、30質量%以下において、有機微粒子の保存安定性、分散性、再分散性等を良好に保つことができる。更に好ましくは、1〜20質量%である。   On the other hand, if the purpose is to obtain visibility such as plate inspection of a lithographic printing plate, the content of the pigment and the dye is 0.1 to 50 mass relative to the mass of the organic fine particles in the ink composition. % Is preferably within the range of 1% to 30% by mass. When the amount is 0.1% by mass or more, the coloring amount is sufficient and sufficiently good visibility is obtained, and when the amount is 30% by mass or less, the storage stability, dispersibility, redispersibility, etc. of the organic fine particles are kept good. Can do. More preferably, it is 1-20 mass%.

これらの着色剤は、有機微粒子とは別に着色剤自身を分散粒子として、分散媒中に分散させてもよいし、有機微粒子中に含有させてもよい。含有させる場合の方法の1つとしては、特開昭57−48738号などに記載されている如く、有機微粒子を、好ましい染料で染色する方法がある。或いは、他の方法として、特開昭53−54029号などに開示されている如く、有機微粒子と染料を化学的に結合させる方法があり、或いは、また、特公昭44−22955号等に記載されている如く、重合造粒法で製造する際に、予め色素を含有した単量体を用い、色素含有の共重合体とする方法がある。   These colorants may be dispersed in the dispersion medium as the dispersed particles in addition to the organic fine particles, or may be contained in the organic fine particles. As one of the methods of inclusion, there is a method of dyeing organic fine particles with a preferable dye as described in JP-A-57-48738. As another method, there is a method of chemically bonding organic fine particles and a dye as disclosed in JP-A-53-54029 or the like, or described in JP-B-44-22955 or the like. As described above, there is a method of preparing a dye-containing copolymer by using a monomer containing a dye in advance in the production by the polymerization granulation method.

本発明における有機微粒子は、その熱物性として、室温(本発明においては、10〜30℃)での弾性率が1.0×10以上であり、定着温度(本発明においては、80〜150℃)での弾性率が5.0×10以下の範囲であることが好ましく、特に、室温での弾性率が1.0×10以上であり、定着温度での1.0×10以下の範囲であることが更に好ましい。
また、本発明における有機微粒子のTgは25〜150の範囲であることが好ましく、30〜130の範囲であることがより好ましく、35〜100の範囲であることが更に好ましい。
The organic fine particles in the present invention have an elastic modulus of 1.0 × 10 7 or more at room temperature (10 to 30 ° C. in the present invention) as their thermal properties, and a fixing temperature (80 to 150 in the present invention). C.) is preferably in the range of 5.0 × 10 6 or less, in particular, the elastic modulus at room temperature is 1.0 × 10 8 or more, and 1.0 × 10 6 at the fixing temperature. The following range is more preferable.
The Tg of the organic fine particles in the present invention is preferably in the range of 25 to 150, more preferably in the range of 30 to 130, and still more preferably in the range of 35 to 100.

本発明のインク組成物において、有機微粒子(総量)の含有量は、インク組成物の全質量に対して、90〜1質量%の範囲であることにより、良好な画像部が形成され、有機微粒子の保存安定性や分散性が高まる。また、80〜20質量%の範囲であることがより好ましく、70〜3質量%の範囲であることが更に好ましい。   In the ink composition of the present invention, the content of the organic fine particles (total amount) is in the range of 90 to 1% by mass with respect to the total mass of the ink composition, whereby a good image portion is formed, and the organic fine particles are formed. The storage stability and dispersibility of are increased. Moreover, it is more preferable that it is the range of 80-20 mass%, and it is still more preferable that it is the range of 70-3 mass%.

〔分散媒〕
本発明のインク組成物は、上述の有機微粒子以外に、分散媒を含有する。
この分散媒としては、直鎖状若しくは分岐状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、又は芳香族炭化水素、及びこれらの炭化水素のハロゲン置換体(ハロゲン化炭化水素類)が挙げられる。具体的には、オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパーE、アイソパーG、アイソパーH、アイソパーL(アイソパー;エクソン社の商品名)、シェルゾール70、シェルゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商品名)、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムスコ;スピリッツ社の商品名)、メチレンジクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、メチルクロロホルム等を、単独或いは混合して用いることができる。
[Dispersion medium]
The ink composition of the present invention contains a dispersion medium in addition to the organic fine particles described above.
Examples of the dispersion medium include linear or branched aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and halogen-substituted products (halogenated hydrocarbons) of these hydrocarbons. Specifically, octane, isooctane, decane, isodecane, decalin, nonane, dodecane, isododecane, cyclohexane, cyclooctane, cyclodecane, benzene, toluene, xylene, mesitylene, Isopar E, Isopar G, Isopar H, Isopar L (Isopar; Exxon product name), Shellsol 70, Shellzol 71 (Shellsol; Shell Oil product name), Amsco OMS, Amsco 460 solvent (Amsco; Spirits product name), methylene dichloride, chloroform, carbon tetrachloride , Dichloroethane, methyl chloroform and the like can be used alone or in combination.

また、上記の炭化水素系化合物及びそれらのハロゲン置換体以外に以下に記載の非炭化水素系化合物も混合して用いることができる。混合できる化合物としては、アルコール類(例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、フッ化アルコール等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)等が挙げられる。   In addition to the above hydrocarbon compounds and their halogen-substituted products, the following non-hydrocarbon compounds can also be mixed and used. Examples of compounds that can be mixed include alcohols (for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, and fluorinated alcohol), ketones (for example, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and the like), and carboxylic acid esters (for example, acetic acid). Methyl, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, etc.), ethers (eg, diethyl ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.) and the like.

なお、上記の炭化水素系化合物及びそれらのハロゲン置換体と混合して使用する非炭化水素系化合物の比率は、ピエゾ方式等のインクジェット記録方法を用いて画像描画する場合には、粘度、分散媒沸点、再分散性等を考慮して決められる。
一方、静電方式のインクジェット記録方法を用いて画像描画する場合には、分散媒の誘電率を下げるという観点から、上記の炭化水素系化合物及びそれらのハロゲン置換体と混合して使用する非炭化水素系化合物の比率は低い方が好ましい。そのため、インク組成物の誘電率が5.0以上となった場合には、5.0以下となるように非炭化水素系化合物を加熱或いは減圧下で除去する方法、若しくは、遠心分離装置を用いて、上澄み液を置換する方法を用いて、炭化水素系化合物の比率を高め、誘電率を低下させることが好ましい。
The ratio of the above-mentioned hydrocarbon compounds and non-hydrocarbon compounds used in combination with their halogen substitution products is the viscosity, dispersion medium, etc. when drawing an image using an inkjet recording method such as a piezo method. Determined in consideration of boiling point, redispersibility, etc.
On the other hand, in the case of drawing an image using an electrostatic ink jet recording method, from the viewpoint of lowering the dielectric constant of the dispersion medium, non-carbonization used by mixing with the above hydrocarbon compounds and their halogen substitution products. A lower ratio of the hydrogen-based compound is preferable. Therefore, when the dielectric constant of the ink composition becomes 5.0 or more, a method of removing the non-hydrocarbon compound under heating or reduced pressure so as to be 5.0 or less, or a centrifugal separator is used. Thus, it is preferable to increase the ratio of the hydrocarbon compound and decrease the dielectric constant by using a method of replacing the supernatant.

本発明のインク組成物において、分散媒の含有量は、インク組成物の全質量に対して、90〜10質量%の範囲であることにより、良好な画像部が形成され、有機微粒子の保存安定性や分散性が高まる。また、98〜20質量%の範囲であることがより好ましく、97〜30質量%の範囲であることが更に好ましい。   In the ink composition of the present invention, when the content of the dispersion medium is in the range of 90 to 10% by mass with respect to the total mass of the ink composition, a good image area is formed, and the storage stability of organic fine particles And dispersibility increase. Moreover, it is more preferable that it is the range of 98-20 mass%, and it is still more preferable that it is the range of 97-30 mass%.

〔荷電調整剤〕
本発明のインク組成物を、静電型インクジェット記録方式で画像描画する場合には、有機微粒子のパルス電圧に対する応答性(検電性)を高めるために、荷電調整剤を併用することが好ましい。
有機微粒子に検電性を付与するには、湿式静電写真用現像剤の技術を適宜利用することで達成可能である。具体的には、「最近の電子写真現像システムとトナー材料の開発・実用化」139〜148頁、電子写真学会編「電子写真技術の基礎と応用」497〜505頁(コロナ社・1988年刊)、原崎勇次「電子写真」16(No.2)、44頁(1977年)等に記載の検電材料、例えば、荷電調節剤及び他の添加剤を用いることで行なわれる。
[Charge control agent]
When the ink composition of the present invention is used to draw an image by the electrostatic ink jet recording method, it is preferable to use a charge adjusting agent in combination in order to enhance the response (electricity detection) of the organic fine particles to the pulse voltage.
To impart electroanalytical properties to the organic fine particles can be achieved by appropriately using the technique of a developer for wet electrophotography. Specifically, “Recent development and practical use of electrophotographic development systems and toner materials”, pages 139-148, Electrophotographic Society, “Basics and Applications of Electrophotographic Technology”, pages 497-505 (Corona, 1988) Yuji Harasaki, “Electrophotography” 16 (No. 2), page 44 (1977), etc., for example, using a charge control material, for example, a charge control agent and other additives.

また、例えば、英国特許第893,429号、同第934,038号、米国特許第1,122,397号、同第3,900,412号、同第4,606,989号、特公平6−19596号、特公平6−19595号、特公平6−23865号、特公平4−51023号、特開平2−13965号、特開昭60−185963号等に記載されている化合物や、ナフテン酸ジルコニウム塩、オクテン酸ジルコニウム塩等の有機カルボン酸の金属塩、ステアリン酸テトラメチルアンモニム塩等の有機カルボン酸のアンモニム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、ジオクチルスルホコハク酸マグネシウム塩等の有機スルホン酸の金属塩、トルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等の有機スルホン酸のアンモニウム塩、スチレンと無水マレイン酸のコポリマーをアミンで変性したカルボン酸基を含有するポリマー等の側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、メタクリル酸ステアリルとメタクリル酸のテトラメチルアンモニウム塩の共重合体等の側鎖にカルボン酸アニオン基を有するポリマー、スチレンとビニルピリジンの共重合体等の側鎖に窒素原子を有するポリマー、メタクリル酸ブチルとN−(2−メタクリロイルオキシエチル)−N,N,N−トリメチルアンモニウムトシラート塩との共重合体等の側鎖にアンモニウム基を有するポリマー等が挙げられる。
有機微粒子に付与される荷電は、正荷電であっても負荷電であってもよい。
Also, for example, British Patent Nos. 893,429, 934,038, U.S. Pat. Nos. 1,122,397, 3,900,412, 4,606,989, and Japanese Patent Publication No. 6 -19596, JP-B-6-19595, JP-B-6-23865, JP-B-4-51023, JP-A-2-13965, JP-A-60-185963, and the like, naphthenic acid Zirconium salts, metal salts of organic carboxylic acids such as zirconium octenoate, ammonium salts of organic carboxylic acids such as tetramethylammonium stearate, sodium dodecylbenzenesulfonate, magnesium dioctylsulfosuccinate, etc. Metal salt, ammonium salt of organic sulfonic acid such as toluenesulfonic acid tetrabutylammonium salt, styrene and A copolymer of carboxylic acid groups in a side chain such as a polymer containing a carboxylic acid group obtained by modifying a copolymer of hydromaleic acid with an amine, and a side chain such as a copolymer of stearyl methacrylate and a tetramethylammonium methacrylate salt. Polymer having acid anion group, polymer having nitrogen atom in side chain such as copolymer of styrene and vinylpyridine, butyl methacrylate and N- (2-methacryloyloxyethyl) -N, N, N-trimethylammonium tosylate Examples thereof include a polymer having an ammonium group in the side chain such as a copolymer with a salt.
The charge applied to the organic fine particles may be positively charged or negatively charged.

インク組成物全体に対する検電材料の含有量は、0.0001〜20質量%の範囲内であることが好ましい。この範囲内において、インク組成物の電気伝導度を、10nS/m〜1500nS/mの範囲内に容易に調整できる。更に、荷電粒子(有機微粒子)の電気伝導度を、インク組成物の電気伝導度の50%以上に容易に調整できる。   It is preferable that the content of the current detection material with respect to the entire ink composition is in the range of 0.0001 to 20% by mass. Within this range, the electrical conductivity of the ink composition can be easily adjusted within the range of 10 nS / m to 1500 nS / m. Furthermore, the electric conductivity of charged particles (organic fine particles) can be easily adjusted to 50% or more of the electric conductivity of the ink composition.

〔水中でのpKaが16以下のプロトン供与性基を有する荷電調整剤〕
湿式分散法により得られる有機微粒子が前述のプロトン受容性基含有化合物を含有する場合、荷電調整剤としては、水中でのpKaが16以下のプロトン供与性基を有する荷電調整剤(以下、プロトン供与性基含有荷電調整剤と称する場合がある。)を用いることが好ましい。なお、このpKaは、好ましくは、16〜−5であり、より好ましくは、pKaが12〜−2である。
プロトン供与性基含有荷電調整剤としては、カルボキシル基、水酸基、ホスホノ基、スルホ基、チオール基、イミド基、スルホンアミド基等のプロトン供与性基を有し、溶媒に可溶な化合物が挙げられる。具体的には、上記のアクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーからなるポリマーに、カルボキシル基、水酸基、ホスホノ基、スルホ基、チオール基、イミド基、スルホンアミド基等のプロトン供与性基を導入してなる、溶媒に可溶なポリマーが好ましい。
なお、更に好ましいプロトン供与性基は、カルボキシル基、水酸基、ホスホノ基、スルホ基、チオール基、イミド基及びスルホンアミド基であり、中でも、カルボキシル基、ホスホノ基、スルホ基、及びスルホンアミド基が特に好ましい。
また、プロトン供与性基含有荷電調整剤は、上記のようなプロトン供与性基を有し、水中でのpKaが16以下のモノマーを構成成分として含むポリマーであってもよい。
[Charge control agent having a proton donating group having a pKa of 16 or less in water]
When the organic fine particles obtained by the wet dispersion method contain the aforementioned proton-accepting group-containing compound, as the charge adjusting agent, a charge adjusting agent having a proton donating group having a pKa in water of 16 or less (hereinafter referred to as proton donating) It may be referred to as a functional group-containing charge control agent). In addition, this pKa is preferably 16 to -5, and more preferably pKa is 12 to -2.
Examples of the proton-donating group-containing charge control agent include compounds having a proton-donating group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, a phosphono group, a sulfo group, a thiol group, an imide group, and a sulfonamide group and soluble in a solvent. . Specifically, known monomers such as the above acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide, etc. A polymer that is soluble in a solvent, in which a proton-donating group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, a phosphono group, a sulfo group, a thiol group, an imide group, or a sulfonamide group is introduced into the polymer is preferable.
More preferable proton donating groups are a carboxyl group, a hydroxyl group, a phosphono group, a sulfo group, a thiol group, an imide group, and a sulfonamide group, and among them, a carboxyl group, a phosphono group, a sulfo group, and a sulfonamide group are particularly preferable. preferable.
The proton-donating group-containing charge control agent may be a polymer having a proton-donating group as described above and a monomer having a pKa in water of 16 or less as a constituent component.

このようなプロトン供与性基含有荷電調整剤以外にも、前述したような公知の荷電調整剤を適宜併用することもできるが、この場合、該公知の荷電調整剤の使用量は、荷電調整剤の全体量に対し、5〜50質量%が好ましい。
なお、上記のように、プロトン供与性基含有荷電調整剤は、「溶媒に可溶な」という性質を有するが、ここでの溶媒は、インク組成物を構成する分散媒を示す。
In addition to such a proton-donating group-containing charge control agent, a known charge control agent as described above can be used in combination, but in this case, the amount of the known charge control agent used is the charge control agent. 5-50 mass% is preferable with respect to the whole quantity.
As described above, the proton-donating group-containing charge control agent has the property of being “soluble in a solvent”, and the solvent here indicates a dispersion medium constituting the ink composition.

〔その他の成分〕
本発明においては、更に、腐敗防止のために防腐剤や、表面張力を制御するための界面活性剤等を目的に応じて含有することができる。
[Other ingredients]
In the present invention, a preservative for preventing corruption, a surfactant for controlling surface tension, and the like can be further contained depending on the purpose.

本発明のインク組成物は、前述のように、分散媒と熱に対する溶融性が異なる2種以上の有機微粒子とを必須成分として含有する油性インクである。
そのため、本発明のインク組成物は、上述のように、被記録媒体に対する定着性の向上、及び平版印刷版を作製した際の耐刷性の向上の効果に加えて、分散安定性、再分散性、保存安定性(経時安定性)に優れ、また、インクジェット記録方法に適用して、高精細な画像を再現性良く形成することが可能であるという、油性インクに由来する効果も得られる。
また、本発明のインク組成物は、被記録媒体へインクジェット記録した後、ヒートローラ、オーブン等の加熱手段により定着するが、この際、有機微粒子が熱により溶融し、効率よく定着することができる。
As described above, the ink composition of the present invention is an oil-based ink containing, as essential components, a dispersion medium and two or more kinds of organic fine particles having different meltability with respect to heat.
Therefore, the ink composition of the present invention, as described above, has improved dispersion stability and redispersion in addition to the effect of improving the fixability to the recording medium and improving the printing durability when producing a lithographic printing plate. In addition, the effect derived from the oil-based ink is excellent in that it is excellent in stability and storage stability (aging stability) and can be applied to an ink jet recording method to form a high-definition image with good reproducibility.
In addition, the ink composition of the present invention is inkjet-recorded on a recording medium and then fixed by a heating means such as a heat roller or an oven. At this time, the organic fine particles are melted by heat and can be fixed efficiently. .

〔インクジェット記録装置〕
本発明のインク組成物は、ピエゾ素子の振動圧力を利用してインクを吐出させる、いわゆるドロップ・オン・デマンド方式(ピエゾ方式)、更には、高熱によって気泡を形成し、成長させることによって生じる圧力を利用してインクを吐出させる、いわゆるバブル(サーマル)ジェット方式等の各種インクジェット記録方式のいずれも制限なく使用でき、市販のインクジェット記録装置を利用できる。
また、本発明のインク組成物は、静電界を利用したインクジェット記録装置にも好適に用いられる。静電界を利用するインクジェット記録方式は、制御電極と被記録媒体背面の背面電極間に電圧を印加することにより、インク組成物の荷電粒子を静電力によって吐出位置に濃縮し、吐出位置から被記録媒体へ飛翔させる方式である。制御電極と背面電極間に印加する電圧は、例えば、荷電粒子が正の場合、制御電極が正極であり背面電極が負極となる。背面電極へ電圧を印加する代わりに被記録媒体に帯電を行っても同様の効果が得られる。
[Inkjet recording device]
The ink composition of the present invention is a so-called drop-on-demand method (piezo method) in which ink is ejected using the vibration pressure of a piezo element, and pressure generated by forming and growing bubbles by high heat. Any of various ink jet recording methods such as a so-called bubble (thermal) jet method in which ink is ejected using the above can be used without limitation, and a commercially available ink jet recording apparatus can be used.
The ink composition of the present invention is also suitably used for an ink jet recording apparatus using an electrostatic field. Ink jet recording methods that use an electrostatic field concentrate the charged particles of the ink composition at the discharge position by electrostatic force by applying a voltage between the control electrode and the back electrode on the back of the recording medium, and record from the discharge position. This is a method of flying to a medium. For example, when the charged particles are positive, the voltage applied between the control electrode and the back electrode is such that the control electrode is a positive electrode and the back electrode is a negative electrode. The same effect can be obtained by charging the recording medium instead of applying a voltage to the back electrode.

また、インク組成物を飛翔させる方式として、例えば、注射針のようなニードル状の先端からインクを飛翔させる方式があり、この方式に、本発明のインク組成物を適用することができる。ただし、荷電粒子を濃縮・吐出した後の荷電粒子の補給が難しく安定に長期間の記録を行うことが難しい。荷電粒子を強制的に供給するため、インクを循環させる場合には、注射針先端からインクを溢れさせる方法になるため、吐出位置である注射針先端のメニスカス形状が安定せず、安定な記録を行うことが困難であり、短期間の記録に適している。   In addition, as a method of flying the ink composition, for example, there is a method of flying ink from a needle-like tip such as an injection needle, and the ink composition of the present invention can be applied to this method. However, it is difficult to replenish charged particles after the charged particles are concentrated and discharged, and it is difficult to perform stable long-term recording. When the ink is circulated in order to forcibly supply charged particles, the ink overflows from the tip of the injection needle, so the meniscus shape at the tip of the injection needle, which is the discharge position, is not stable, and stable recording is performed. It is difficult to do and is suitable for short-term recording.

一方、吐出開口部からインク組成物を溢れさせることなく、インク組成物を循環させる方法が好ましく用いられる。例えば、吐出開口を有するインク室内にインクが循環されており、吐出開口周縁に形成された制御電極に電圧を印加することによって、吐出開口中に存在しており先端が被記録媒体側に向いたインクガイドの先端から、濃縮されたインク滴が飛翔する方法では、インクの循環による荷電粒子の補給と、吐出位置のメニスカス安定性を両立することができるため、長期間安定に記録を行うことができる。更に、本方式ではインク組成物が外気と接する部分が吐出開口部だけと非常に少ないため、溶媒の蒸発を抑え、インク物性が安定化するため、本発明において好適に使用することができる。   On the other hand, a method of circulating the ink composition without overflowing the ink composition from the ejection opening is preferably used. For example, ink is circulated in an ink chamber having an ejection opening, and a voltage is applied to a control electrode formed at the periphery of the ejection opening, so that it exists in the ejection opening and the leading end faces the recording medium side. In the method in which the concentrated ink droplets fly from the tip of the ink guide, the replenishment of charged particles by the circulation of the ink and the meniscus stability at the ejection position can be compatible, so that stable recording can be performed for a long time. it can. Furthermore, in this method, since the ink composition has very few portions in contact with the outside air, only the discharge opening, evaporation of the solvent is suppressed and the ink physical properties are stabilized, so that the ink composition can be suitably used in the present invention.

本発明のインク組成物を適用するに適したインクジェット記録装置の構成例を以下に示す。
まずは、図1に示す被記録媒体に片面4色印刷を行う装置の概要について説明する。
図1に示されるインクジェット記録装置1は、フルカラー画像形成を行うための4色分の吐出ヘッド2C、2M、2Y及び2Kから構成される吐出ヘッド2にインクを供給し、更に吐出ヘッド2からインクを回収するインク循環系3、図示されないコンピューター、RIP等の外部機器からの出力により吐出ヘッド2を駆動させるヘッドドライバ4、位置制御手段5を備える。またインクジェット記録装置1は、3つのローラ6A、6B、6Cに張架された搬送ベルト7、搬送ベルト7の幅方向の位置を検知可能な光学センサなどで構成された搬送ベルト位置検知手段8、被記録媒体Pを搬送ベルト上に保持するための静電吸着手段9、画像形成終了後に被記録媒体Pを搬送ベルト7から剥離するための除電手段10及び力学的手段11を備える。搬送ベルト7の上流、下流には、被記録媒体Pを図示されないストッカーから搬送ベルト7に供給するフィードローラ12及びガイド13、剥離後の被記録媒体Pへインクを定着させると共に図示されない排紙ストッカーに搬送する定着手段14及びガイド15が配置されている。またインクジェット印刷装置1の内部には、搬送ベルト7を挟んで吐出ヘッド2に対向する位置には、被記録媒体位置検出手段16を有し、更にインク組成物から発生する溶媒蒸気を回収するための排出ファン17及び溶媒蒸気吸着材18からなる溶媒回収部が配置され、装置内部の蒸気は該回収部を通って装置外部に排出される。
A configuration example of an ink jet recording apparatus suitable for applying the ink composition of the present invention is shown below.
First, an outline of an apparatus that performs single-sided four-color printing on a recording medium shown in FIG. 1 will be described.
An ink jet recording apparatus 1 shown in FIG. 1 supplies ink to an ejection head 2 composed of ejection heads 2C, 2M, 2Y and 2K for four colors for forming a full-color image. A head driver 4 for driving the ejection head 2 by an output from an external device such as a computer, RIP (not shown), and a position control means 5. Further, the ink jet recording apparatus 1 includes a transport belt 7 stretched around three rollers 6A, 6B, and 6C, a transport belt position detection unit 8 including an optical sensor that can detect the position of the transport belt 7 in the width direction, An electrostatic attraction unit 9 for holding the recording medium P on the conveyance belt, a static elimination unit 10 and a mechanical unit 11 for peeling the recording medium P from the conveyance belt 7 after completion of image formation are provided. Upstream and downstream of the conveying belt 7, the feed roller 12 and the guide 13 that supply the recording medium P from the stocker (not shown) to the conveying belt 7, the ink is fixed to the recording medium P after peeling, and the discharge stocker (not shown). A fixing unit 14 and a guide 15 for conveying the toner are disposed. In addition, the inkjet printing apparatus 1 has a recording medium position detecting means 16 at a position facing the ejection head 2 with the conveyance belt 7 interposed therebetween, and further collects the solvent vapor generated from the ink composition. A solvent recovery unit comprising the exhaust fan 17 and the solvent vapor adsorbent 18 is disposed, and the vapor inside the apparatus is discharged outside the apparatus through the recovery unit.

フィードローラ12は公知のローラが使用でき、被記録媒体に対するフィード能力が高まるように配置される。また被記録媒体P上には垢・紙粉等が付着していることがあるため、それらの除去を行うことが望ましい。フィードローラによって供給された被記録媒体Pは、ガイド13を経て、搬送ベルト7に搬送される。搬送ベルト7の裏面(好ましくは金属裏面)はローラ6Aを介して設置されている。搬送された被記録媒体は、静電吸着手段9により搬送ベルト上に静電吸着される。図1では、負の高圧電源に接続されたスコロトロン帯電器により静電吸着がなされる。静電吸着手段9により、被記録媒体9が搬送ベルト7上に浮き無く静電吸着されると共に、被記録媒体表面を均一帯電する。ここでは静電吸着手段を被記録媒体の帯電手段としても利用しているが、別途設けてもよい。帯電された被記録媒体Pは、搬送ベルト7によって吐出ヘッド部まで搬送され、帯電電位をバイアスとして記録信号電圧を重畳することにより静電インクジェット画像形成がなされる。画像形成された被記録媒体Pは、除電手段10により除電され、力学的手段11により搬送ベルト7により剥離されて定着部へ搬送される。剥離された被記録媒体Pは、画像定着手段14に送られ、定着がなされる。定着された被記録媒体Pは、ガイド15を通って図示されない排紙ストッカーに排紙される。また、該装置は、インク組成物から発生する溶媒蒸気の回収手段を有する。回収手段は溶媒蒸気吸収材18からなり、排気ファン17により機内の溶媒蒸気を含む気体が吸着材に導入され、蒸気が吸着回収された後、機外に排気される。該装置は、上記例に限定されず、ローラ、帯電器等の構成デバイスの数、形状、相対配置、帯電極性等は任意に選べる。また上記システムでは4色描画について記述しているが、淡色インクや特色インクと組み合わせて、より多色のシステムとしてもよい。   A known roller can be used as the feed roller 12, and the feed roller 12 is arranged so as to increase the feeding ability to the recording medium. Further, since dirt, paper powder, or the like may adhere on the recording medium P, it is desirable to remove them. The recording medium P supplied by the feed roller is transported to the transport belt 7 through the guide 13. The back surface (preferably metal back surface) of the conveyor belt 7 is installed via a roller 6A. The recording medium transported is electrostatically attracted onto the transport belt by the electrostatic attracting means 9. In FIG. 1, electrostatic adsorption is performed by a scorotron charger connected to a negative high voltage power source. The recording medium 9 is electrostatically adsorbed without floating on the conveying belt 7 by the electrostatic adsorption means 9 and the surface of the recording medium is uniformly charged. Here, the electrostatic attraction means is also used as a charging means for the recording medium, but may be provided separately. The charged recording medium P is transported to the ejection head portion by the transport belt 7, and electrostatic ink jet image formation is performed by superimposing the recording signal voltage with the charging potential as a bias. The recording medium P on which the image is formed is neutralized by the neutralizing unit 10, peeled off by the conveying unit 7 by the mechanical unit 11, and conveyed to the fixing unit. The peeled recording medium P is sent to the image fixing means 14 and fixed. The fixed recording medium P is discharged through a guide 15 to a discharge stocker (not shown). The apparatus also has a means for recovering the solvent vapor generated from the ink composition. The recovery means is composed of the solvent vapor absorbing material 18, and a gas containing solvent vapor in the apparatus is introduced into the adsorbent by the exhaust fan 17, and after the vapor is adsorbed and recovered, it is exhausted outside the apparatus. The apparatus is not limited to the above example, and the number, shape, relative arrangement, charging polarity, and the like of constituent devices such as rollers and chargers can be arbitrarily selected. In the above system, four-color drawing is described. However, a multicolor system may be combined with light color ink or special color ink.

上記インクジェット印刷方法に使用されるインクジェット記録装置は、吐出ヘッド2、インク循環系3からなり、インク循環系3は、更にインクタンク、インク循環装置、インク濃度制御装置、インク温度管理装置等を有し、インクタンク内には撹拌装置を含んでいてもよい。   The ink jet recording apparatus used in the above ink jet printing method includes an ejection head 2 and an ink circulation system 3. The ink circulation system 3 further includes an ink tank, an ink circulation device, an ink concentration control device, an ink temperature management device, and the like. In addition, the ink tank may include a stirring device.

吐出ヘッド2としては、シングルチャンネルヘッド、マルチチャンネルヘッド、又はフルラインヘッドを使うことができ、搬送ベルト7の回転により主走査を行う。
本発明で好適に使用されるインクジェットヘッドは、インク流路内での荷電粒子を電気泳動させて開口付近のインク濃度を増加させ、吐出を行うインクジェット方法であり、主に被記録媒体又は被記録媒体背面に配置された対向電極に起因する静電吸引力によりインク滴の吐出を行うものである。従って、被記録媒体又は対向電極がヘッドに対向していない場合や、ヘッドと対向する位置にあっても被記録媒体又は対向電極に電圧が印加されていない場合には、誤って吐出電極に電圧が印加された場合や振動が与えられた場合でもインク滴の吐出は起こらず、装置内を汚すことはない。
As the ejection head 2, a single channel head, a multi-channel head, or a full line head can be used, and main scanning is performed by the rotation of the transport belt 7.
An ink jet head suitably used in the present invention is an ink jet method in which charged particles in an ink flow path are electrophoresed to increase the ink density near the opening and discharge, and is mainly a recording medium or a recording target. Ink droplets are ejected by electrostatic attraction caused by the counter electrode disposed on the back surface of the medium. Therefore, if the recording medium or the counter electrode does not face the head, or if no voltage is applied to the recording medium or the counter electrode even at the position facing the head, the voltage is accidentally applied to the ejection electrode. Ink droplets are not ejected even when a pressure is applied or vibration is applied, and the inside of the apparatus is not soiled.

上記インクジェット装置に好適に使用される吐出ヘッドを図2及び図3に示す。図2及び図3に示すように、インクジェットヘッド70は、一方向のインク流Qが形成されるインク流路72の上壁を構成する電気絶縁性の基板74と、インクを被記録媒体Pへ向けて吐出する複数の吐出部76とを有する。吐出部76には、いずれもインク流路72から飛翔するインク滴Gを被記録媒体Pへ向けて案内するインクガイド部78が設けられ、基板74には、インクガイド部78がそれぞれ挿通する開口75が形成されており、インクガイド部78と開口75の内壁面との間にはインクメニスカス42が形成されている。インクガイド部78と被記録媒体Pとのギャップdは200μm〜1000μm程度であることが好ましい。また、インクガイド部78は、下端側で支持棒部40に固定されている。   An ejection head suitably used for the ink jet apparatus is shown in FIGS. As shown in FIGS. 2 and 3, the inkjet head 70 includes an electrically insulating substrate 74 that forms the upper wall of the ink flow path 72 where the ink flow Q in one direction is formed, and the ink to the recording medium P. And a plurality of discharge portions 76 that discharge toward the surface. Each of the ejection portions 76 is provided with an ink guide portion 78 that guides the ink droplet G flying from the ink flow path 72 toward the recording medium P, and the substrate 74 has an opening through which the ink guide portion 78 is inserted. 75 is formed, and the ink meniscus 42 is formed between the ink guide portion 78 and the inner wall surface of the opening 75. The gap d between the ink guide portion 78 and the recording medium P is preferably about 200 μm to 1000 μm. Further, the ink guide part 78 is fixed to the support bar part 40 on the lower end side.

基板74は、2つの吐出電極を所定間隔で離して電気的に絶縁している絶縁層44と、絶縁層44の上側に形成された第1吐出電極46と、第1吐出電極46を覆う絶縁層48と、絶縁層48の上側に形成されたガード電極50と、ガード電極50を覆う絶縁層52とを有する。また、基板74は、絶縁層44の下側に形成された第2吐出電極56と、第2吐出電極56を覆う絶縁層58とを有する。ガード電極50は、第1吐出電極46や第2吐出電極56に印加された電圧によって隣接する吐出部に電界上の影響が生じることを防止するために設けられる。   The substrate 74 includes an insulating layer 44 that electrically isolates two discharge electrodes at a predetermined interval, a first discharge electrode 46 formed above the insulating layer 44, and an insulation that covers the first discharge electrode 46. It has a layer 48, a guard electrode 50 formed on the insulating layer 48, and an insulating layer 52 that covers the guard electrode 50. The substrate 74 includes a second ejection electrode 56 formed below the insulating layer 44 and an insulating layer 58 that covers the second ejection electrode 56. The guard electrode 50 is provided in order to prevent an electric field from being affected by the voltage applied to the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode 56 in the adjacent ejection section.

更に、インクジェットヘッド70には、インク流路72の底面を構成すると共に、第1吐出電極46及び第2吐出電極56に印加されたパルス状の吐出電圧によって定常的に生じる誘導電圧により、インク流路72内の正に帯電したインク粒子(荷電粒子)Rを上方へ向けて(すなわち被記録媒体側に向けて)泳動させる浮遊導電板62が電気的浮遊状態で設けられている。また、浮遊導電板62の表面には、電気絶縁性である被覆膜64が形成されており、インクへの電荷注入等によりインクの物性や成分が不安定化することを防止する。絶縁性被覆膜の電気抵抗は、1012Ω・cm以上が好ましく、より望ましくは1013Ω・cm以上である。また、絶縁性被覆膜はインクに対して耐腐食性であることが望ましく、これにより、浮遊導電板62がインクに腐食されることが防止される。また、浮遊導電板62は下方から絶縁部材66で覆われており、このような構成により、浮遊導電板62は完全に電気的絶縁状態にされている。 Further, the ink jet head 70 constitutes the bottom surface of the ink flow path 72, and the ink flow is generated by the induced voltage that is constantly generated by the pulsed discharge voltage applied to the first discharge electrode 46 and the second discharge electrode 56. A floating conductive plate 62 that moves positively charged ink particles (charged particles) R in the path 72 upward (that is, toward the recording medium side) is provided in an electrically floating state. In addition, a coating film 64 that is electrically insulating is formed on the surface of the floating conductive plate 62 to prevent the physical properties and components of the ink from becoming unstable due to charge injection into the ink. The electrical resistance of the insulating coating film is preferably 10 12 Ω · cm or more, and more preferably 10 13 Ω · cm or more. In addition, the insulating coating film is desirably resistant to corrosion with respect to ink, and this prevents the floating conductive plate 62 from being corroded by ink. Further, the floating conductive plate 62 is covered with the insulating member 66 from below, and the floating conductive plate 62 is completely electrically insulated by such a configuration.

浮遊導電板62は、ヘッド1ユニットにつき1個以上である(例えば、C、M、Y、Kの4つのヘッドがあった場合、浮遊導電板数は最低各1個ずつ有し、CとMのヘッドユニット間で共通の浮遊導電板とすることはない)。   There are one or more floating conductive plates 62 per head unit (for example, when there are four heads C, M, Y, and K, the number of floating conductive plates is at least one each, and C and M The floating conductive plate is not shared between the head units.

図3に示すように、インクジェットヘッド70からインクを飛翔させて被記録媒体Pに記録するには、インク流路72内のインクを循環させることによりインク流Qを発生させた状態にし、ガード電極50に所定の電圧(例えば+100V)を印加する。更に、インクガイド部78に案内されて開口75から飛翔したインク滴G中の正の荷電粒子Rが被記録媒体Pにまで引きつけられるような飛翔電界が、第1吐出電極46及び第2吐出電極56と、被記録媒体Pとの間に形成されるように、第1吐出電極46、第2吐出電極56及び被記録媒体Pに正電圧を印加する(ギャップdが500μmである場合に、1kV〜3.0kV程度の電位差を形成することを目安とする)。   As shown in FIG. 3, in order to cause ink to fly from the inkjet head 70 and record on the recording medium P, the ink in the ink flow path 72 is circulated to generate an ink flow Q, and the guard electrode A predetermined voltage (for example, +100 V) is applied to 50. Further, a flying electric field that attracts the positive charged particles R in the ink droplet G that has been guided by the ink guide portion 78 and flew from the opening 75 to the recording medium P is generated by the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode. A positive voltage is applied to the first ejection electrode 46, the second ejection electrode 56, and the recording medium P so as to be formed between the recording medium P and the recording medium P (1 kV when the gap d is 500 μm). A potential difference of about ~ 3.0 kV is taken as a guide).

この状態で、画像信号に応じて第1吐出電極46及び第2吐出電極56にパルス電圧を印加すると、荷電粒子濃度が高められたインク滴Gが開口75から吐出する(例えば、初期の荷電粒子濃度が3〜15%である場合、インク滴Gの荷電粒子濃度が30%以上になる)。
その際、第1吐出電極46と第2吐出電極56の両者にパルス電圧が印加された場合にのみインク滴Gが吐出するように、第1吐出電極46と第2吐出電極56とに印加する電圧値を調整しておく。
In this state, when a pulse voltage is applied to the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode 56 in accordance with the image signal, the ink droplet G having an increased charged particle concentration is ejected from the opening 75 (for example, initial charged particles). When the concentration is 3 to 15%, the charged particle concentration of the ink droplet G is 30% or more).
At that time, the ink droplet G is applied to the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode 56 so that the ink droplet G is ejected only when the pulse voltage is applied to both the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode 56. Adjust the voltage value.

このように、パルス状の正電圧を印加すると、開口75からインク滴Gがインクガイド部78に案内されて飛翔し、被記録媒体Pに付着すると共に、浮遊導電板62には、第1吐出電極46及び第2吐出電極56に印加された正電圧により正の誘導電圧が発生する。第1吐出電極46及び第2吐出電極56に印加される電圧がパルス状であっても、この誘導電圧はほぼ定常的な電圧である。従って、浮遊導電板62及びガード電極50と、被記録媒体Pとの間に形成される電界によって、インク流路72内で正に帯電している荷電粒子Rは上方へ移動する力を受け、基板74の近傍で荷電粒子Rの濃度が高くなる。図3に示すように、使用する吐出部(すなわちインク滴を吐出させるチャンネル)の個数が多い場合、吐出に必要な荷電粒子数が多くなるが、使用する第1吐出電極46及び第2吐出電極56の枚数が多くなるため、浮遊導電板62に誘起される誘導電圧は高くなり、被記録媒体側へ移動する荷電粒子Rの個数も増大する。   In this way, when a pulsed positive voltage is applied, the ink droplet G is guided by the ink guide portion 78 from the opening 75 and flies to adhere to the recording medium P, and the first ejection is applied to the floating conductive plate 62. A positive induced voltage is generated by the positive voltage applied to the electrode 46 and the second ejection electrode 56. Even if the voltage applied to the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode 56 is pulsed, the induced voltage is a substantially steady voltage. Therefore, the charged particles R that are positively charged in the ink flow path 72 are subjected to the upward movement force by the electric field formed between the floating conductive plate 62 and the guard electrode 50 and the recording medium P, and The concentration of charged particles R increases near the substrate 74. As shown in FIG. 3, when the number of ejection units (that is, channels for ejecting ink droplets) to be used is large, the number of charged particles necessary for ejection increases, but the first ejection electrode 46 and the second ejection electrode to be used are used. Since the number of 56 increases, the induced voltage induced in the floating conductive plate 62 increases, and the number of charged particles R moving to the recording medium side also increases.

上記では、着色粒子が正荷電に帯電している例について説明したが、着色粒子は負荷電に帯電されていてもよい。その場合には、上記の帯電極性は、すべて逆極性となる。   In the above, an example in which the colored particles are positively charged has been described. However, the colored particles may be negatively charged. In that case, all the above-mentioned charging polarities are reversed.

なお、本発明においては、被記録媒体へのインク吐出後、適切な加熱手段によりインクを定着することが好ましい。用いられる加熱手段としては、ヒートローラ、ヒートブロック、ベルト加熱等の接触式加熱装置、及びドライヤー、赤外線ランプ、可視光線ランプ、紫外線ランプ、温風式オーブン等の非接触式加熱装置を用いることができる。これらの加熱装置は、インクジェット記録装置と連続し、一体となっていることが好ましい。定着時の被記録媒体の温度は、定着の容易さから、40℃〜200℃の範囲内であることが好ましい。また、定着の時間は、1マイクロ秒〜20秒の範囲内であることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to fix the ink by an appropriate heating means after discharging the ink onto the recording medium. As the heating means used, a contact-type heating device such as a heat roller, a heat block, or a belt heating, and a non-contact type heating device such as a dryer, an infrared lamp, a visible light lamp, an ultraviolet lamp, or a hot air oven may be used. it can. These heating devices are preferably continuous with and integrated with the ink jet recording apparatus. The temperature of the recording medium at the time of fixing is preferably in the range of 40 ° C. to 200 ° C. for ease of fixing. The fixing time is preferably in the range of 1 microsecond to 20 seconds.

[静電界を利用したインクジェット記録方式を用いる際のインク組成物の補充]
静電界を利用したインクジェット記録方式では、インク組成物中の荷電粒子が濃縮されて吐出する。従って、長時間インク組成物の吐出を行うと、インク組成物中の荷電粒子が減量し、インク組成物の電気伝導度が低下する。また、荷電粒子の電気伝導度とインク組成物の電気伝導度との割合が変化する。更に、吐出の際、粒径の小さな荷電粒子よりも大きな荷電粒子が優先して吐出する傾向にあるため、荷電粒子の平均直径が小さくなる。また、インク組成物中の固形物の含有量が変化するため、粘度も変化する。
[Replenishment of ink composition when using an inkjet recording system utilizing an electrostatic field]
In the ink jet recording method using an electrostatic field, charged particles in the ink composition are concentrated and discharged. Accordingly, when the ink composition is discharged for a long time, the charged particles in the ink composition are reduced, and the electrical conductivity of the ink composition is lowered. Further, the ratio between the electric conductivity of the charged particles and the electric conductivity of the ink composition changes. Furthermore, since charged particles having a larger particle diameter tend to be discharged preferentially than charged particles having a smaller particle size, the average diameter of the charged particles is reduced. Further, since the solid content in the ink composition changes, the viscosity also changes.

これらの物性値の変化により、結果として、吐出不良を起こしたり、記録された画像の光学濃度の低下やインクのにじみが発生する。このため、当初インクタンクへ仕込んだインク組成物よりも、高濃度(固形分濃度の高い)のインク組成物を補充することにより、荷電粒子の減量を防止し、インク組成物の電気伝導度や、荷電粒子の電気伝導度とインク組成物の電気伝導度の割合を一定の範囲に留めることができる。また、粒径や粘度を維持することができる。更に、インク組成物の物性値を一定の範囲内に保つことにより、インク吐出が長時間安定して均一に行われる。この際の補充は、例えば、使用しているインク液の電気伝導度や光学濃度等の物性値を検出し、不足量を算出して、機械的又は人力で成されることが好ましい。また、画像データを基に使用するインク組成物の量を算出し、機械的又は人力で成されてもよい。   Due to these changes in physical property values, as a result, ejection failure occurs, the optical density of recorded images decreases, and ink bleeding occurs. For this reason, by reducing the amount of charged particles by replenishing the ink composition having a higher concentration (higher solid content concentration) than the ink composition initially charged in the ink tank, the electrical conductivity of the ink composition The ratio between the electric conductivity of the charged particles and the electric conductivity of the ink composition can be kept within a certain range. Moreover, a particle size and a viscosity can be maintained. Further, by maintaining the physical property value of the ink composition within a certain range, the ink discharge is stably and uniformly performed for a long time. The replenishment at this time is preferably performed mechanically or manually, for example, by detecting a physical property value such as the electrical conductivity or optical density of the ink liquid being used and calculating the deficiency. Further, the amount of the ink composition to be used may be calculated based on the image data, and may be made mechanically or manually.

〔被記録媒体〕
本発明においては、用途に応じて様々な被記録媒体を用いることができる。例えば、紙、プラスチックフィルム、金属、及び、プラスチック又は金属がラミネート又は蒸着された紙、金属がラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルム等を用いれば、インクジェット記録することにより、直接印刷物を得ることができる。また、アルミニウムなどの金属を粗面化した支持体等を用いれば、平版印刷版やオフセット印刷版を得ることができる。更に、プラスチック支持体等を用いれば、フレキソ印刷版や液晶画面用のカラーフィルターを得ることができる。被記録媒体の形状は、シート状のように平面的であっても、円筒形状のように立体的であってもよい。また、シリコンウエハーや配線基板を被記録媒体として用いれば、半導体やプリント配線基板の製造に適用できる。
[Recording medium]
In the present invention, various recording media can be used depending on the application. For example, if paper, plastic film, metal, and paper on which plastic or metal is laminated or vapor-deposited, plastic film on which metal is laminated or vapor-deposited, etc., printed matter can be obtained directly by ink jet recording. Further, if a support having a roughened metal such as aluminum is used, a lithographic printing plate or an offset printing plate can be obtained. Furthermore, if a plastic support is used, a flexographic printing plate or a color filter for a liquid crystal screen can be obtained. The shape of the recording medium may be planar such as a sheet shape or three-dimensional such as a cylindrical shape. Further, if a silicon wafer or a wiring board is used as a recording medium, it can be applied to manufacture of a semiconductor or a printed wiring board.

<平版印刷版の作製方法>
本発明の平版印刷版の作製方法は、インク受容体上に、インクジェット記録方法により、本発明のインクジェット記録用インク組成物を用いて画像描画することを特徴とする。
つまり、本発明の平版印刷版の作製方法は、本発明のインクジェット記録用インク組成物を、インク受容体上に、前述のようなインクジェット記録装置を用いて吐出させて、画像部を形成するものである。
本発明の平版印刷版原版の作製方法において、高解像度且つ高インク着弾位置精度が得られるという観点から、静電方式のインクジェット記録方法を用いることが好ましい。インク受容体は、支持体、シリケート処理、ゾルゲル構造を有する親水性層等から成る下記の工程で作製されるものとする。
<Preparation method of lithographic printing plate>
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention is characterized in that an image is drawn on an ink receptor by the ink jet recording method using the ink composition for ink jet recording of the present invention.
That is, the lithographic printing plate production method of the present invention forms an image portion by ejecting the ink composition for ink jet recording of the present invention onto an ink receptor using the ink jet recording apparatus as described above. It is.
In the method for preparing a lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to use an electrostatic ink jet recording method from the viewpoint of obtaining high resolution and high ink landing position accuracy. The ink receiver is prepared by the following steps including a support, a silicate treatment, a hydrophilic layer having a sol-gel structure, and the like.

〔支持体〕
本発明のインク受容体の作製方法には、支持体を用いる。本発明における支持体としては、支持体の溶剤吸収性が低く、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
[Support]
A support is used in the method for producing the ink receiver of the present invention. The support in the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material having a low solvent absorbability of the support and having the required strength and durability. For example, paper, plastic (for example, , Polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., laminated paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate) Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with metal, or vapor-deposited paper, or plastic film.

中でも、本発明においては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明においては表面処理されたアルミニウム板及びポリエステルフィルム上にゾルゲル親水性層が設けられた支持体が好ましい。
以下、これらについて記載する。
Among them, in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. In the present invention, a support in which a sol-gel hydrophilic layer is provided on a surface-treated aluminum plate and polyester film is preferable.
These are described below.

[アルミニウム支持体]
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3mmである。
[Aluminum support]
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.15 mm to 0.3 mm.

このようなアルミニウム板には、必要に応じて、粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行なってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
Such an aluminum plate may be subjected to a surface treatment such as a roughening treatment or an anodizing treatment, if necessary. Hereinafter, such a surface treatment will be briefly described.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

[表面処理]
本発明における支持体は、前述のアルミニウム板に表面処理を施されてなることが好ましい。例えば、この表面処理により、2種以上の異なる周期の凹凸を重畳した構造が支持体表面に形成されることが好ましい。
このような表面形状を有する支持体を得るために、具体的には、アルミニウム板に粗面化処理及び陽極酸化処理を施して得られることが好ましい。
このような支持体の製造工程は、特に限定されず、粗面化処理及び陽極酸化処理以外の各種の工程を含んでいてもよい。例えば、アルミニウム板に、機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理及び電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板に、機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理及び異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法、アルミニウム板に、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理及び電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板に、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理及び異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。これらの方法において、電気化学的粗面化処理の後、更に、アルカリエッチング処理及び酸によるデスマット処理を施してもよい。
これらの方法により得られた支持体は、2種以上の異なる周期の凹凸を重畳した構造が表面に形成されており、平版印刷版としたときの耐汚れ性及び耐刷性のいずれにも優れるといった利点を有する。
以下、本発明において適用可能な表面処理の各工程について、詳細に説明する。
[surface treatment]
The support in the present invention is preferably formed by subjecting the aforementioned aluminum plate to a surface treatment. For example, it is preferable that a structure in which two or more kinds of irregularities with different periods are superimposed is formed on the support surface by this surface treatment.
In order to obtain a support having such a surface shape, specifically, it is preferably obtained by subjecting an aluminum plate to a roughening treatment and an anodizing treatment.
The manufacturing process of such a support is not particularly limited, and may include various processes other than the roughening process and the anodizing process. For example, a mechanical surface roughening treatment, an aluminum plate, a mechanical surface roughening treatment, an alkali etching treatment, a desmutting treatment with an acid, and an electrochemical surface roughening treatment using an electrolytic solution in sequence. Alkali etching treatment, acid desmutting treatment and electrochemical surface roughening treatment using different electrolyte solutions multiple times, aluminum plate alkali etching treatment, acid desmutting treatment and electrochemical roughening using electrolyte solution Examples include a method of sequentially performing surface treatment, a method of performing alkaline etching treatment, desmutting treatment with acid, and electrochemical surface roughening treatment using a different electrolyte solution a plurality of times on an aluminum plate. It is not limited. In these methods, after the electrochemical surface roughening treatment, an alkali etching treatment and an acid desmutting treatment may be further performed.
The support obtained by these methods has a structure in which two or more kinds of irregularities with different periods are superimposed on the surface, and is excellent in both stain resistance and printing durability when used as a lithographic printing plate. It has the following advantages.
Hereafter, each process of the surface treatment applicable in this invention is demonstrated in detail.

(機械的粗面化処理)
機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理と比較してより安価に、平均波長5〜100μmの凹凸のある表面を形成することができるため、粗面化処理の手段として有効である。機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平6−135175号公報及び特公昭50−40047号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。また、凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法を用いることもできる。即ち、特開昭55−74898号、特開昭60−36195号、特開昭60−203496号の各公報に記載されている方法のほか、転写を数回行うことを特徴とする特開平6−55871号公報、表面が弾性であることを特徴とした特願平4−204235号明細書(特開平6−024168号公報)に記載されている方法も適用可能である。
(Mechanical roughening treatment)
The mechanical roughening treatment is effective as a roughening treatment means because it can form an uneven surface with an average wavelength of 5 to 100 μm at a lower cost than the electrochemical roughening treatment. is there. Examples of the mechanical surface roughening treatment include, for example, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is grained with a polishing ball and an abrasive, JP-A-6-135175, and Japanese Patent Publication A brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive described in Japanese Patent No. 50-40047 can be used. A transfer method in which the uneven surface is pressed against the aluminum plate can also be used. That is, in addition to the methods described in JP-A-55-74898, JP-A-60-36195, and JP-A-60-20396, transfer is performed several times. The method described in Japanese Patent Application No. -55871 and Japanese Patent Application No. 4-204235 (Japanese Patent Laid-Open No. 6-024168) characterized in that the surface is elastic is also applicable.

また、放電加工、ショットブラスト、レーザー、プラズマエッチング等を用いて、微細な凹凸を食刻した転写ロールを用いて繰り返し転写を行う方法や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、その上より複数回繰り返し圧力を加え、アルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り返し転写させる方法を用いることもできる。転写ロールへ微細な凹凸を付与する方法としては、特開平3−8635号、特開平3−66404号、特開昭63−65017号の各公報等に記載されている公知の方法を用いることができる。また、ロール表面にダイス、バイト、レーザー等を使って2方向から微細な溝を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面には、公知のエッチング処理等を行って、形成させた角形の凹凸が丸みを帯びるような処理を行ってもよい。また、表面の硬度を上げるために、焼き入れ、ハードクロムメッキ等を行ってもよい。そのほかにも、機械的粗面化処理としては、特開昭61−162351号公報、特開昭63−104889号公報等に記載されている方法を用いることもできる。本発明においては、生産性等を考慮して上述したそれぞれの方法を併用することもできる。これらの機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理の前に行うのが好ましい。   In addition, by using electric discharge machining, shot blasting, laser, plasma etching, etc., a method of repeatedly transferring using a transfer roll etched with fine irregularities, and an uneven surface coated with fine particles on an aluminum plate It is also possible to use a method in which an uneven pattern corresponding to the average diameter of the fine particles is repeatedly transferred to the aluminum plate a plurality of times by contacting the surface and applying a pressure a plurality of times from above. As a method for imparting fine irregularities to the transfer roll, known methods described in JP-A-3-8635, JP-A-3-66404, JP-A-63-65017, etc. may be used. it can. Further, a fine groove may be cut in two directions using a die, a cutting tool, a laser, or the like on the roll surface, and a square unevenness may be formed on the surface. The roll surface may be subjected to a known etching process or the like so that the formed square irregularities are rounded. Further, in order to increase the surface hardness, quenching, hard chrome plating, or the like may be performed. In addition, as the mechanical surface roughening treatment, methods described in JP-A Nos. 61-162351 and 63-104889 can be used. In the present invention, the above-described methods can be used in combination in consideration of productivity and the like. These mechanical surface roughening treatments are preferably performed before the electrochemical surface roughening treatment.

以下、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について説明する。ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン(商標名)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム板の表面の一方又は両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシ及びスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは10,000〜40,000kg/cm、より好ましくは15,000〜35,000kg/cmであり、且つ、毛腰の強さが好ましくは500g以下、より好ましくは400g以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、0.2〜0.9mmである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径及び胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、10〜100mmである。 Hereinafter, the brush grain method used suitably as a mechanical roughening process is demonstrated. The brush grain method generally uses a roller-shaped brush in which a large number of brush hairs such as synthetic resin hair made of synthetic resin such as nylon (trade name), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. This is performed by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum plate while spraying a slurry liquid containing an abrasive on a rotating roller brush. Instead of the roller brush and the slurry liquid, a polishing roller which is a roller having a polishing layer on the surface can be used. When a roller brush is used, the flexural modulus is preferably 10,000 to 40,000 kg / cm 2 , more preferably 15,000 to 35,000 kg / cm 2 , and the bristle strength is preferably Brush hair that is 500 g or less, more preferably 400 g or less is used. The diameter of the brush bristles is generally 0.2 to 0.9 mm. The length of the bristle can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller brush and the diameter of the trunk, but is generally 10 to 100 mm.

研磨剤は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤;これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。
特に、ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる点で好ましい。研磨剤の平均粒径は、粗面化効率に優れ、且つ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、3〜50μmであるのが好ましく、6〜45μmであるのがより好ましい。研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は0.5〜2であるのが好ましい。
A well-known thing can be used for an abrasive | polishing agent. For example, abrasives such as pumicestone, silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, silicon carbide, silicon nitride, volcanic ash, carborundum, and gold sand; a mixture thereof can be used. Of these, pumiston and silica sand are preferable.
In particular, silica sand is preferable in terms of excellent surface roughening efficiency because it is harder and less likely to break than Pamiston. The average particle diameter of the abrasive is preferably 3 to 50 μm, and more preferably 6 to 45 μm from the viewpoints of excellent surface roughening efficiency and narrowing the graining pitch. For example, the abrasive is suspended in water and used as a slurry. In addition to the abrasive, the slurry liquid may contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), a preservative, and the like. The specific gravity of the slurry liquid is preferably 0.5-2.

上記のような機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭50−40047号公報に記載された装置を挙げることができる。   As an apparatus suitable for the mechanical surface roughening treatment as described above, for example, an apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047 can be given.

(電気化学的粗面化処理)
電気化学的粗面化処理には、通常の交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。中でも、塩酸又は硝酸を主体とする電解液を用いることで特徴的な凹凸構造を表面に形成させることができる。本発明における電解粗面化処理としては、陰極電解処理の前後に酸性溶液中での交番波形電流による第1及び第2の電解処理を行うことが好ましい。陰極電解処理により、アルミニウム板の表面で水素ガスが発生してスマットが生成することにより表面状態が均一化され、その後の交番波形電流による電解処理の際に均一な電解粗面化が可能となる。この電解粗面化処理は、例えば、特公昭48−28123号公報及び英国特許第896,563号明細書に記載されている電気化学的グレイン法(電解グレイン法)に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平3−79799号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭55−158298号、特開昭56−28898号、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭54−85802号、特開昭60−190392号、特開昭58−120531号、特開昭63−176187号、特開平1−5889号、特開平1−280590号、特開平1−118489号、特開平1−148592号、特開平1−178496号、特開平1−188315号、特開平1−154797号、特開平2−235794号、特開平3−260100号、特開平3−253600号、特開平4−72079号、特開平4−72098号、特開平3−267400号、特開平1−141094の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第4,276,129号明細書及び同第4,676,879号明細書に記載されている。
(Electrochemical roughening treatment)
In the electrochemical surface roughening treatment, an electrolytic solution used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal alternating current can be used. Among these, a characteristic uneven structure can be formed on the surface by using an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid or nitric acid. As the electrolytic surface roughening treatment in the present invention, it is preferable to perform the first and second electrolytic treatments with an alternating waveform current in an acidic solution before and after the cathodic electrolytic treatment. By cathodic electrolysis, hydrogen gas is generated on the surface of the aluminum plate and smut is generated, so that the surface state is made uniform, and uniform electrolytic surface roughening is possible during subsequent electrolysis with alternating waveform current. . This electrolytic surface roughening treatment can be performed, for example, according to the electrochemical grain method (electrolytic grain method) described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and British Patent No. 896,563. This electrolytic grain method uses a sinusoidal alternating current, but it may be performed using a special waveform as described in JP-A-52-58602. Further, the waveform described in JP-A-3-79799 can also be used. JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, and JP-A-1-17896. JP-A-1-188315, JP-A-1-1549797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, The methods described in JP-A-3-267400 and JP-A-1-141094 can also be applied. In addition to the above, it is also possible to perform electrolysis using an alternating current having a special frequency that has been proposed as a method of manufacturing an electrolytic capacitor. For example, it is described in US Pat. Nos. 4,276,129 and 4,676,879.

電解槽及び電源については、種々提案されているが、米国特許第4203637号明細書、特開昭56−123400号、特開昭57−59770号、特開昭53−12738号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32823号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特開昭62−127500号、特開平1−52100号、特開平1−52098号、特開昭60−67700号、特開平1−230800号、特開平3−257199号の各公報等に記載されているものを用いることができる。また、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭53−12738号、特開昭53−12739号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32833号、特開昭53−32824号、特開昭53−32825号、特開昭54−85802号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特公昭48−28123号、特公昭51−7081号、特開昭52−133838号、特開昭52−133840号号、特開昭52−133844号、特開昭52−133845号、特開昭53−149135号、特開昭54−146234号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。   Various electrolyzers and power sources have been proposed. U.S. Pat. No. 4,203,637, JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, JP-A-53-12738, JP-A-53. -32821, JP-A 53-32822, JP-A 53-32823, JP-A 55-122896, JP-A 55-13284, JP-A 62-127500, JP-A-1-52100 JP-A-1-52098, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199 and the like can be used. Also, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP 53-32833, JP 53-32824, JP 53-32825, JP 54-85802, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-13338, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53- Nos. 149135 and 54-146234 can be used.

電解液である酸性溶液としては、硝酸、塩酸のほかに、米国特許第4,671,859号、同第4,661,219号、同第4,618,405号、同第4,600,482号、同第4,566,960号、同第4,566,958号、同第4,566,959号、同第4,416,972号、同第4,374,710号、同第4,336,113号、同第4,184,932号の各明細書等に記載されている電解液を用いることもできる。   As an acidic solution which is an electrolytic solution, in addition to nitric acid and hydrochloric acid, U.S. Pat. Nos. 4,671,859, 4,661,219, 4,618,405, 4,600, 482, 4,566,960, 4,566,958, 4,566,959, 4,416,972, 4,374,710, The electrolyte solution described in each specification of 4,336,113 and 4,184,932 can also be used.

酸性溶液の濃度は0.5〜2.5質量%であるのが好ましいが、上記のスマット除去処理での使用を考慮すると、0.7〜2.0質量%であるのが特に好ましい。また、液温は20〜80℃であるのが好ましく、30〜60℃であるのがより好ましい。   The concentration of the acidic solution is preferably 0.5 to 2.5% by mass, but it is particularly preferably 0.7 to 2.0% by mass in consideration of use in the smut removal treatment. Moreover, it is preferable that liquid temperature is 20-80 degreeC, and it is more preferable that it is 30-60 degreeC.

塩酸又は硝酸を主体とする水溶液は、濃度1〜100g/Lの塩酸又は硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物又は塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸化合物の少なくとも一つを1g/Lから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、塩酸又は硝酸を主体とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸又は硝酸の濃度0.5〜2質量%の水溶液にアルミニウムイオンが3〜50g/Lとなるように、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好ましい。   An aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid or nitric acid is an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid having a concentration of 1 to 100 g / L, nitric acid compounds having nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, and ammonium nitrate, or aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride, etc. At least one of the hydrochloric acid compounds having hydrochloric acid ions can be used by adding in a range from 1 g / L to saturation. Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution which has hydrochloric acid or nitric acid as a main component. Preferably, a solution obtained by adding aluminum chloride, aluminum nitrate or the like to an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid having a concentration of 0.5 to 2% by mass so that aluminum ions are 3 to 50 g / L is preferably used.

更に、Cuと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりCuを多く含有するアルミニウム板に対しても均一な砂目立てが可能になる。Cuと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア;メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)等のアンモニアの水素原子を炭化水素基(脂肪族、芳香族等)等で置換して得られるアミン類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃がより好ましい。   Further, by adding and using a compound capable of forming a complex with Cu, uniform graining is possible even for an aluminum plate containing a large amount of Cu. Examples of the compound capable of forming a complex with Cu include ammonia; hydrogen atom of ammonia such as methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, cyclohexylamine, triethanolamine, triisopropanolamine, EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid). And amines obtained by substituting with a hydrocarbon group (aliphatic, aromatic, etc.); metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like. In addition, ammonium salts such as ammonium nitrate, ammonium chloride, ammonium sulfate, ammonium phosphate, and ammonium carbonate are also included. The temperature is preferably 10-60 ° C, more preferably 20-50 ° C.

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、矩形波又は台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波とは、図5に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間(TP)は1〜3msecであるのが好ましい。1msec未満であると、アルミニウム板の進行方向と垂直に発生するチャタマークという処理ムラが発生しやすい。TPが3msecを超えると、特に硝酸電解液を用いる場合、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。その結果、平版印刷版としたときの耐汚れ性が低下する傾向にある。   The AC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited, and a sine wave, a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave or the like is used, but a rectangular wave or a trapezoidal wave is preferable, and a trapezoidal wave is particularly preferable. A trapezoidal wave means what was shown in FIG. In this trapezoidal wave, the time (TP) until the current reaches a peak from zero is preferably 1 to 3 msec. If it is less than 1 msec, processing irregularities such as chatter marks that occur perpendicular to the traveling direction of the aluminum plate are likely to occur. When TP exceeds 3 msec, especially when a nitric acid electrolyte is used, it is easily affected by trace components in the electrolyte typified by ammonium ions and the like that spontaneously increase by electrolytic treatment, and uniform graining is performed. It becomes hard to be broken. As a result, the stain resistance tends to decrease when a lithographic printing plate is obtained.

台形波交流のduty比は1:2〜2:1のものが使用可能であるが、特開平5−195300公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはduty比が1:1のものが好ましい。台形波交流の周波数は0.1〜120Hzのものを用いることが可能であるが、50〜70Hzが設備上好ましい。50Hzよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、70Hzよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。   A duty ratio of trapezoidal wave alternating current of 1: 2 to 2: 1 can be used. However, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-195300, in an indirect power feeding method in which no conductor roll is used for aluminum, a duty is used. A ratio of 1: 1 is preferred. A trapezoidal AC frequency of 0.1 to 120 Hz can be used, but 50 to 70 Hz is preferable in terms of equipment. When the frequency is lower than 50 Hz, the carbon electrode of the main electrode is easily dissolved, and when the frequency is higher than 70 Hz, it is easily affected by an inductance component on the power supply circuit, and the power supply cost is increased.

電解槽には1個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図6に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図6において、111はアルミニウム板であり、112はラジアルドラムローラであり、113a及び113bは主極であり、114は電解処理液であり、115は電解液供給口であり、116はスリットであり、117は電解液通路であり、118は補助陽極であり、119a及び119bはサイリスタであり、120は交流電源であり、121は主電解槽であり、122は補助陽極槽である。整流素子又はスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム板上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム板上で、陽極反応と陰極反応とにあずかる電気量の比(陰極時電気量/陽極時電気量)は、0.3〜0.95であるのが好ましい。   One or more AC power supplies can be connected to the electrolytic cell. As shown in FIG. 6, the current ratio between the AC anode and cathode applied to the aluminum plate facing the main electrode is controlled to achieve uniform graining and to dissolve the carbon of the main electrode. In addition, it is preferable to install an auxiliary anode and divert part of the alternating current. In FIG. 6, 111 is an aluminum plate, 112 is a radial drum roller, 113a and 113b are main poles, 114 is an electrolytic treatment solution, 115 is an electrolyte supply port, and 116 is a slit. 117 is an electrolyte passage, 118 is an auxiliary anode, 119a and 119b are thyristors, 120 is an AC power source, 121 is a main electrolytic cell, and 122 is an auxiliary anode cell. An anodic reaction that acts on the aluminum plate facing the main electrode by diverting a part of the current value as a direct current to an auxiliary anode provided in a separate tank from the two main electrodes via a rectifier or switching element It is possible to control the ratio between the current value for the current and the current value for the cathode reaction. On the aluminum plate facing the main electrode, the ratio of the amount of electricity involved in the anodic reaction and the cathodic reaction (the amount of electricity at the time of cathode / the amount of electricity at the time of anode) is preferably 0.3 to 0.95.

電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。   As the electrolytic cell, electrolytic cells used for known surface treatments such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used, but a radial type electrolytic cell as described in JP-A-5-195300 is particularly preferable. . The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel to the traveling direction of the aluminum web or may be a counter.

−硝酸電解−
硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理により、平均開口径0.5〜5μmのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、5μmを超えるハニカムピットも生成する。このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、1〜1000C/dmであるのが好ましく、50〜300C/dmであるのがより好ましい。この際の電流密度は20〜100A/dmであるのが好ましい。また、高濃度又は高温の硝酸電解液を用いると、平均開口径0.2μm以下の小波構造を形成させることもできる。
-Nitric acid electrolysis-
Pits having an average opening diameter of 0.5 to 5 μm can be formed by electrochemical surface roughening using an electrolytic solution mainly composed of nitric acid. However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction is concentrated, and honeycomb pits exceeding 5 μm are also generated. To obtain such a grain, the total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed is preferably from 1~1000C / dm 2, 50~300C / dm 2 It is more preferable that The current density at this time is preferably 20 to 100 A / dm 2 . Further, when a high concentration or high temperature nitric acid electrolytic solution is used, a small wave structure having an average opening diameter of 0.2 μm or less can be formed.

−塩酸電解−
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が0.01〜0.2μmであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、1〜100C/dmであるのが好ましく、20〜70C/dmであるのがより好ましい。この際の電流密度は20〜50A/dmであるのが好ましい。
-Hydrochloric acid electrolysis-
Since hydrochloric acid itself has a strong ability to dissolve aluminum, it is possible to form fine irregularities on the surface with only slight electrolysis. These fine irregularities have an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm and are uniformly generated on the entire surface of the aluminum plate. Such grained total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed in order to obtain the, is preferably from 1~100C / dm 2, in 20~70C / dm 2 More preferably. The current density at this time is preferably 20 to 50 A / dm 2 .

このような塩酸を主体とする電解液での電気化学的粗面化処理では、アノード反応にあずかる電気量の総和を400〜1000C/dmと大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能であるが、この場合は平均開口径10〜30μmのクレーター状のうねりに重畳して平均開口径0.01〜0.4μmの微細な凹凸が全面に生成する。 In such an electrochemical surface roughening treatment with an electrolyte mainly composed of hydrochloric acid, a large crater-like swell is simultaneously formed by increasing the total amount of electricity involved in the anode reaction to 400 to 1000 C / dm 2. In this case, fine irregularities having an average opening diameter of 0.01 to 0.4 μm are formed on the entire surface by being superimposed on a crater-like wave having an average opening diameter of 10 to 30 μm.

上記の硝酸、塩酸等の電解液中で行われる第1及び第2の電解粗面化処理の間に、アルミニウム板は陰極電解処理を行うことが好ましい。この陰極電解処理により、アルミニウム板表面にスマットが生成するとともに、水素ガスが発生してより均一な電解粗面化処理が可能となる。この陰極電解処理は、酸性溶液中で陰極電気量が好ましくは3〜80C/dm、より好ましくは5〜30C/dmで行われる。陰極電気量が3C/dm未満であると、スマット付着量が不足する場合があり、また、80C/dmを超えると、スマット付着量が過剰となる場合があり、いずれも好ましくない。また、電解液は上記第1及び第2の電解粗面化処理で使用する溶液と同一であっても異なっていてもよい。 The aluminum plate is preferably subjected to cathodic electrolysis treatment during the first and second electrolytic surface-roughening treatments performed in the electrolytic solution such as nitric acid and hydrochloric acid. By this cathodic electrolysis treatment, smut is generated on the surface of the aluminum plate, and hydrogen gas is generated to enable more uniform electrolytic surface roughening treatment. This cathodic electrolysis treatment is carried out in an acidic solution at a cathode electric quantity of preferably 3 to 80 C / dm 2 , more preferably 5 to 30 C / dm 2 . If the amount of cathodic electricity is less than 3 C / dm 2 , the amount of smut adhesion may be insufficient, and if it exceeds 80 C / dm 2 , the amount of smut adhesion may be excessive. Further, the electrolytic solution may be the same as or different from the solution used in the first and second electrolytic surface roughening treatments.

(アルカリエッチング処理)
アルカリエッチング処理は、前記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
電解粗面化処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、アルミニウム板(圧延アルミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として、また、既に機械的粗面化処理を行っている場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、急峻な凹凸を滑らかなうねりを持つ表面に変えることを目的として行われる。
(Alkaline etching treatment)
The alkali etching treatment is a treatment for dissolving the surface layer by bringing the aluminum plate into contact with an alkaline solution.
The alkali etching treatment performed before the electrolytic surface roughening treatment removes rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. on the surface of the aluminum plate (rolled aluminum) when the mechanical surface roughening treatment is not performed. For this purpose, and when the mechanical surface roughening treatment has already been performed, the edge portion of the unevenness generated by the mechanical surface roughening treatment is dissolved, and the steep unevenness is converted into a surface having smooth undulations. It is done for the purpose of changing.

アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行わない場合、エッチング量は、0.1〜10g/mであるのが好ましく、1〜5g/mであるのがより好ましい。エッチング量が0.1g/m未満であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等が残存する場合があるため、後段の電解粗面化処理において均一なピット生成ができずムラが発生してしまう場合がある。一方、エッチング量が1〜10g/mであると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。上記範囲を超えるエッチング量とするのは、経済的に不利となる。 If you do not mechanical surface-roughening treatment before the alkali etching treatment, the etching amount is preferably from 0.1 to 10 g / m 2, and more preferably 1 to 5 g / m 2. If the etching amount is less than 0.1 g / m 2 , rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. may remain on the surface, so that uniform pits cannot be generated in the subsequent electrolytic surface roughening treatment, resulting in unevenness. May occur. On the other hand, when the etching amount is 1 to 10 g / m 2 , the surface rolling oil, dirt, natural oxide film, and the like are sufficiently removed. An etching amount exceeding the above range is economically disadvantageous.

アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行う場合、エッチング量は、3〜20g/mであるのが好ましく、5〜15g/mであるのがより好ましい。エッチング量が3g/m未満であると、機械的粗面化処理等によって形成された凹凸を平滑化できない場合があり、後段の電解処理において均一なピット形成ができない場合がある。また、印刷時に汚れが劣化する場合がある。一方、エッチング量が20g/mを超えると、凹凸構造が消滅してしまう場合がある。 When performing mechanical surface-roughening treatment before the alkali etching treatment, the etching amount is preferably from 3 to 20 g / m 2, and more preferably 5 to 15 g / m 2. If the etching amount is less than 3 g / m 2 , unevenness formed by mechanical surface roughening may not be smoothed, and uniform pit formation may not be possible in subsequent electrolytic treatment. In addition, the stain may deteriorate during printing. On the other hand, when the etching amount exceeds 20 g / m 2 , the concavo-convex structure may disappear.

電解粗面化処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。電解粗面化処理で形成されるピットは電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、電解粗面化処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、0.1〜5g/mであるのが好ましい。硝酸電解液を用いた場合、塩酸電解液を用いた場合よりもエッチング量は多めに設定する必要がある。電解粗面化処理が複数回行われる場合には、それぞれの処理後に、必要に応じてアルカリエッチング処理を行うことができる。 The alkali etching treatment performed immediately after the electrolytic surface roughening treatment is performed for the purpose of dissolving the smut generated in the acidic electrolytic solution and dissolving the edge portion of the pit formed by the electrolytic surface roughening treatment. . Since the pits formed by the electrolytic surface roughening treatment are different depending on the type of the electrolytic solution, the optimum etching amount is also different, but the etching amount of the alkali etching treatment performed after the electrolytic surface roughening treatment is 0.1 to 5 g / m. 2 is preferred. When a nitric acid electrolyte is used, the etching amount needs to be set larger than when a hydrochloric acid electrolyte is used. When the electrolytic surface roughening treatment is performed a plurality of times, an alkali etching treatment can be performed as necessary after each treatment.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点及び安価である点から、カセイアルカリの溶液、及び、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, examples of caustic alkali include caustic soda and caustic potash. Examples of alkali metal salts include alkali metal silicates such as sodium silicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate and alumina. Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldones such as sodium gluconate and potassium gluconate; dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic sodium phosphate, tertiary potassium phosphate, etc. An alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among these, a caustic alkali solution and a solution containing both a caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular, an aqueous solution of caustic soda is preferable.

アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、1〜50質量%であるのが好ましく、10〜35質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、0.01〜10質量%であるのが好ましく、3〜8質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。処理時間は1〜120秒であるのが好ましい。   Although the density | concentration of an alkaline solution can be determined according to the etching amount, it is preferable that it is 1-50 mass%, and it is more preferable that it is 10-35 mass%. When aluminum ions are dissolved in the alkaline solution, the concentration of aluminum ions is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. The temperature of the alkaline solution is preferably 20 to 90 ° C. The treatment time is preferably 1 to 120 seconds.

アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。   Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the alkaline solution include, for example, a method in which the aluminum plate is passed through a tank containing the alkaline solution, a method in which the aluminum plate is immersed in a tank containing the alkaline solution, The method of spraying on the surface of a board is mentioned.

(デスマット処理)
電解粗面化処理又はアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(デスマット処理)が行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム板を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液(アルミニウムイオン0.01〜5質量%を含有する。)に接触させることにより行う。アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液若しくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、又は、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いることができる。デスマット処理の液温は、25〜90℃であるのが好ましい。また、処理時間は、1〜180秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウム及びアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
(Desmut treatment)
After the electrolytic surface roughening treatment or alkali etching treatment, pickling (desmut treatment) is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid. The desmutting treatment is performed, for example, by bringing the aluminum plate into contact with an acidic solution having a concentration of 0.5 to 30% by mass (containing 0.01 to 5% by mass of aluminum ions) such as hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid. . Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the acidic solution include, for example, a method of passing the aluminum plate through a bath containing the acidic solution, a method of immersing the aluminum plate in a bath containing the acidic solution, and an acidic solution containing aluminum. The method of spraying on the surface of a board is mentioned. In the desmutting treatment, the acid solution is mainly composed of an aqueous solution mainly composed of nitric acid or an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid discharged in the above-described electrolytic surface-roughening treatment, or sulfuric acid discharged in an anodic oxidation process described later. It is possible to use a waste solution of an aqueous solution. It is preferable that the liquid temperature of a desmut process is 25-90 degreeC. Moreover, it is preferable that processing time is 1-180 second. Aluminum and aluminum alloy components may be dissolved in the acidic solution used for the desmut treatment.

以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じて、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   The aluminum plate roughened as described above is subjected to an anodizing treatment as necessary in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface as desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は2.0g/mより少ないと平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は、更に、シリケートによる親水化処理が施されることが好ましい。
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodic oxide film is less than 2.0 g / m 2 , the non-image portion of the planographic printing plate is likely to be scratched, and so-called “scratch stain” in which ink adheres to the scratch portion during printing tends to occur.
After the anodizing treatment, the aluminum surface is preferably further subjected to a hydrophilic treatment with silicate.

(シリケート処理)
シリケート処理は、すなわち、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書及び米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法及び手順に従って行うことができる。アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩又は4族(第IVA族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩が挙げられる。4族(第IVA族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩及び4族(第IVA族)金属塩は、単独で又は2種以上組み合わせて用いられる。
(Silicate processing)
Silicate treatment, that is, hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate is disclosed in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. Can be carried out according to the methods and procedures described in the document. Examples of the alkali metal silicate include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide or the like. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVA) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Examples of Group 4 (Group IVA) metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride. And zirconium tetrachloride. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVA) metal salts are used alone or in combination of two or more.

シリケート付着量としては、インク滲み、汚れ性、耐刷性の点から、1.0〜30.0mg/mであり、より好ましくは、2.0〜20.0である。 The amount of silicate adhering is 1.0 to 30.0 mg / m 2 , more preferably 2.0 to 20.0, from the viewpoint of ink bleeding, stain resistance, and printing durability.

[ポリエステルフィルム支持体]
本発明において、平版印刷版用支持体として好適なポリエステルフィルムは、その表面に、下記のようなゾルゲル構造を含有する親水性層を有することが好ましい態様である。
なお、このゾルゲル構造を含有する親水性層は、ポリエステルフィルム以外の材質の支持体にも適用可能である。
[Polyester film support]
In the present invention, a polyester film suitable as a lithographic printing plate support preferably has a hydrophilic layer containing the following sol-gel structure on its surface.
In addition, the hydrophilic layer containing this sol-gel structure is applicable also to the support body of materials other than a polyester film.

(ゾルゲル構造を含有する親水性層)
本発明におけるゾルゲル構造を含有する親水性層(以下、単に親水性層と称する場合がある。)は、親水性バインダーを含む。この親水性バインダーは、金属水酸化物と金属酸化物との系からなるゾルゲル変換性材料であることが好ましく、その中でもポリシロキサンのゲル組織を形成する性質を有するゾルゲル変換系が最も好ましい。
また、この親水性バインダーは親水性層の構成成分の分散媒として作用し、層の物理的強度の向上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向上、製版作業性の便宜上など、種々の目的に適う構成となっている。
親水性バインダーは、親水性層の全固形分に対して、30質量%以上であることが好ましく、更には35質量%以上であることが好ましい。30質量%以下では親水性層が十分な耐水性及び耐磨耗性を得ることができない。
(Hydrophilic layer containing sol-gel structure)
The hydrophilic layer containing a sol-gel structure in the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a hydrophilic layer) contains a hydrophilic binder. The hydrophilic binder is preferably a sol-gel converting material composed of a metal hydroxide and metal oxide system, and among them, a sol-gel converting system having a property of forming a polysiloxane gel structure is most preferable.
In addition, this hydrophilic binder acts as a dispersion medium for the components of the hydrophilic layer, improving the physical strength of the layer, improving the dispersibility of the components constituting the layer, improving the coating properties, and improving the printability. The structure is suitable for various purposes such as the convenience of plate making workability.
The hydrophilic binder is preferably 30% by mass or more, and more preferably 35% by mass or more, based on the total solid content of the hydrophilic layer. If it is 30% by mass or less, the hydrophilic layer cannot obtain sufficient water resistance and abrasion resistance.

本発明における親水性層に好適に使用される親水性バインダーとしては、親水性層としての適度な強度と表面の親水性を付与する目的の、有機高分子化合物を用いることができる。具体的には、ポリビニルアルコール(PVA),カルボキシ変性PVA等の変性PVA,澱粉及びその誘導体、カルボキシメチルセルローズ、ヒドロキシエチルセルローズのようなセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸及びその塩、ポリアクリアミド、及びアクリル酸、アクリアミドなど水溶性のアクリル系モノマーを主な構成成分として含む水溶性アクリル系共重合体等の水溶性樹脂が挙げられる。   As the hydrophilic binder suitably used for the hydrophilic layer in the present invention, an organic polymer compound for the purpose of imparting appropriate strength and hydrophilicity of the surface as the hydrophilic layer can be used. Specifically, polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid Polymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acid and salts thereof, polyacrylamides, and water-soluble acrylic copolymers containing water-soluble acrylic monomers such as acrylic acid and acrylic amide as main components Water-soluble resin is mentioned.

また、上記有機高分子化合物を架橋し、硬化させる耐水化剤としては、グリオキザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロール化ポリアミド樹脂、ポリアミド・ポリアミン・エピクロルヒドリン付加物、ポリアミドエピクロルヒドリン樹脂、変性ポリアミドポリイミド樹脂等が挙げられる。その他、更には、塩化アンモニウム、シランカップリング剤の架橋触媒等が併用できる。   In addition, as a water-resistant agent for crosslinking and curing the organic polymer compound, initial condensates of aminoplasts such as glyoxal, melamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, methylolated polyamide resin, polyamide / polyamine / epichlorohydrin adduct, Examples thereof include polyamide epichlorohydrin resin and modified polyamide polyimide resin. In addition, ammonium chloride, a crosslinking catalyst for a silane coupling agent, and the like can be used in combination.

本発明に特に好ましく適用できるゾルゲル変換が可能な系は、作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作製技術」総合技術センター(刊)(1992年)等の成書等に詳細に記述されている。
すなわち、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコキシ基も有していてこれらが混在した樹脂状構造となっている高分子体であって、塗布前のアルコキシ基や水酸基が多い段階ではゾル状態であり、塗布後、エステル結合化が進行するのに伴って網目状の樹脂状構造が強固となり、ゲル状態になる。また、樹脂組織の親水性度が変化する性質に加えて、水酸基の一部が固体微粒子に結合することによって固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持っている。ゾルゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明に用いることができるが、以下はもっとも好ましく用いることのできるシロキサン結合によるゾルゲル変換系について説明する。アルミニウム、チタン及びジルコニウムを用いるゾルゲル変換は、下記の説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができる。
The systems capable of sol-gel conversion that can be particularly preferably applied to the present invention are Sakuo Sakuo “Science of Sol-Gel Method”, Agne Jofusha (published) (1988), Satoshi Hirashima “Latest Sol-Gel Method” Is described in detail in books such as “Functional Thin Film Fabrication Technology” by the General Technology Center (published) (1992).
That is, the bonding group coming out of the polyvalent element forms a network structure through oxygen atoms, and at the same time, the polyvalent metal also has an unbonded hydroxyl group or an alkoxy group, resulting in a resinous structure in which these are mixed. The polymer is in a sol state at the stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups before coating, and after coating, as the ester bond proceeds, the network-like resinous structure becomes stronger and gel state. become. Further, in addition to the property of changing the hydrophilicity of the resin structure, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by bonding a part of the hydroxyl groups to the solid fine particles to change the hydrophilicity. The polyvalent binding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that performs sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, and the like. Any of these can be used in the present invention, but the following can be most preferably used. A sol-gel conversion system using a siloxane bond will be described. Sol-gel conversion using aluminum, titanium, and zirconium can be performed by replacing silicon described below with each element.

ゾルゲル変換によって形成される親水性マトリックスは、好ましくはシロキサン結合及びシラノール基を有する樹脂であり、本発明における親水性層は、少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗布後の経時の間に、シラノール基の加水分解縮合が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進行することにより形成される。ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式(A)で、また少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物は、下記一般式(B)で示される。また、親水性層に含まれる親水性から疎水性に変化する物質系は、必ずしも一般式(B)のシラン化合物単独である必要はなく、一般には、シラン化合物が部分加水重合したオリゴマーからなっていてもよく、或いは、シラン化合物とそのオリゴマーの混合組成であってもよい。   The hydrophilic matrix formed by sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and the hydrophilic layer in the present invention is a sol system containing a silane compound having at least one silanol group. The coating solution is formed by the progress of hydrolysis and condensation of silanol groups to form a siloxane skeleton structure and progress of gelation over time after coating. A siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (A), and a silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (B). Moreover, the substance system contained in the hydrophilic layer that changes from hydrophilicity to hydrophobicity does not necessarily need to be the silane compound of the general formula (B) alone, and generally consists of an oligomer in which the silane compound is partially hydrolyzed. Alternatively, it may be a mixed composition of a silane compound and its oligomer.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(A)のシロキサン系樹脂は、下記一般式(B)で示されるシラン化合物の少なくとも1種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成され、一般式(A)中のR01〜R03の少なくとも一つは水酸基を表し、他は下記一般式(B)中の記号のR及びYから選ばれる有機残基を表わす。 The siloxane-based resin of the general formula (A) is formed by sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by the following general formula (B), and R 01 in the general formula (A). At least one to R 03 represents a hydroxyl group and the other represents an organic residue selected from R 0 and Y 1 symbols in the following general formula (B).

一般式(B) (RSi(Y4−n Formula (B) (R 0 ) n Si (Y 1 ) 4-n

上記一般式(B)中、Rは、水酸基、炭化水素基又はヘテロ環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン原子、−OR11、−OCOR12、又は−N(R13)(R14)を表す(R11、R12は、各々炭化水素基を表し、R13、R14は同じでも異なってもよく、水素原子又は炭化水素基を表す)。nは、0、1、2又は3を表わす。 In the general formula (B), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group, or a heterocyclic group. Y 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —OR 11 , —OCOR 12 , or —N (R 13 ) (R 14 ) (R 11 , R 12 each represents a hydrocarbon group, and R 13 , R 14 May be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). n represents 0, 1, 2 or 3.

一般式(B)中のRの炭化水素基又はヘテロ環基としては、炭素数1〜12の置換されていてもよい直鎖状若しくは分岐状のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等;これらの基に置換される基としては、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR基(Rは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノエチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、2−ブロモエチル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示す)、−OCOR基(Rは、前記Rと同一の内容を表わす)、−COOR基、−COR基、−N(R)(R)(Rは、水素原子又は前記Rと同一の内容を表わし、各々同じでも異なってもよい)、−NHCONHR基、−NHCOOR基、−Si(R基、−CONHR基、−NHCOR基、等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基中に複数置換されていてもよい)、炭素数2〜12の置換されていてもよい直鎖状又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これらの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられる)、炭素数7〜14の置換されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基等;これらの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されていてもよい)、炭素数5〜10の置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されていてもよい)、炭素数6〜12の置換されていてもよいアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又、複数置換されていてもよい)、又は、窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有する縮環してもよいヘテロ環基(例えば該ヘテロ環としては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒドロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基としては、前記アルキル基中の置換基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されていてもよい)を表わす。 As the hydrocarbon group or heterocyclic group of R 0 in the general formula (B), a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc .; as a group substituted by these groups, a halogen atom (chlorine atom, fluorine atom, bromine atom) ), Hydroxy group, thiol group, carboxy group, sulfo group, cyano group, epoxy group, —OR 1 group (R 1 is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, Decyl group, propenyl group, butenyl group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethylamino group Indicating group, bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-carboxypropyl group, a benzyl group, etc.), - OCOR 2 group (R 2, said R 1 represents the same content as 1 ), -COOR 2 group, -COR 2 group, -N (R 3 ) (R 3 ) (R 3 represents the same content as a hydrogen atom or R 1 , May be different), -NHCONHR 2 group, -NHCOOR 2 group, -Si (R 2 ) 3 group, -CONHR 3 group, -NHCOR 2 group, etc. These substituents may be included in the alkyl group. Optionally substituted), an optionally substituted linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms (for example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group) Examples of the group substituted with these groups such as a nyl group, a decenyl group, and a dodecenyl group include those having the same content as the group substituted with the alkyl group), and are substituted with 7 to 14 carbon atoms. Aralkyl groups (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.); Those having the same contents may be mentioned, and a plurality of them may be substituted), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, Examples of the group substituted by these groups such as 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group, and the like include those having the same contents as the substituents of the alkyl group. A plurality of substituted groups), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a phenyl group or a naphthyl group, and the substituent is the same as the group substituted by the alkyl group) Or a heterocyclic group which may be condensed (for example, the above-mentioned group may be substituted), or containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Heterocycles include pyran ring, furan ring, thiophene ring, morpholine ring, pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine ring, piperidine ring, pyrrolidone ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, tetrahydrofuran ring, etc. , May contain a substituent. Examples of the substituent include those having the same content as the substituent in the alkyl group, and a plurality of substituents may be substituted.

一般式(B)中のYの−OR11基、−OCOR12基、又はN(R13)(R14)基としては、例えば、以下の基を表す。
上記−OR11基において、R11は炭素数1〜10の置換されていてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブトキシ基、ヘプチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル基、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メトキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオキサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシクロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベンジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
As the —OR 11 group, —OCOR 12 group, or N (R 13 ) (R 14 ) group of Y 1 in the general formula (B), for example, the following groups are represented.
In the -OR 11 group, R 11 is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butoxy group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group). Group, nonyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group, heptenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (methoxyethyloxo) ) Ethyl group, 2- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chloro Cyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, dimethoxybe Jill group, a methylbenzyl group, bromobenzyl group, and the like).

前記−OCOR12基において、R12は、R11と同一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。
より好ましくは、R11とR12の炭素数の総和が16個以内である。
In the -OCOR 12 group, R 12 is an aliphatic group having the same content as R 11 or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (the aromatic group is an aryl group in the R). And the same as those exemplified in the above.
More preferably, the total number of carbon atoms of R 11 and R 12 is 16 or less.

また、前記−N(R13)(R14)基において、R13、R14は、互いに同じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数1〜10の置換されていてもよい脂肪族基(例えば、前記の−OR11基のR11と同様の内容のものが挙げられる)を表わす。 In the —N (R 13 ) (R 14 ) group, R 13 and R 14 may be the same or different from each other, and each may be a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. Represents a group (for example, those having the same contents as R 11 of the —OR 11 group described above).

一般式(B)で示されるシラン化合物の具体例としては、以下のものが挙げられる。
すなわち、テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン、n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−へキシルトリメトキシシラン、n−へキシルトリエトキシシラン、n−へキシルトリイソプロポキシシラン、n−へキシルトリt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン、n−オクタデシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリt−ブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
Specific examples of the silane compound represented by the general formula (B) include the following.
That is, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxy Silane, methyltri-t-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltrit-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromo Silane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltrit-butoxysilane, -Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichloro Silane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-decyltrit-butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromo Silane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyl Limethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane , Diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, Isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrime Toxisilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltri Isopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane,

γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。 γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyl Diethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltrit-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyl Diethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltrit-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldi Toxisilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane, β- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and the like.

本発明に係る親水性層の形成に用いる一般式(B)で示されるシラン化合物と共に、Ti、Zn、Sn、Zr、Al等のゾルゲル変換の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用することができる。用いられる金属化合物として、例えば、Ti(OR(Rは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、TiCl、Zn(OR、Zn(CHCOCHCOCH、Sn(OR、Sn(CHCOCHCOCH、Sn(OCOR、SnCl、Zr(OR、Zr(CHCOCHCOCH、Al(OR等が挙げられる。 A metal compound capable of forming a film by bonding to a resin during sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc. together with the silane compound represented by the general formula (B) used for forming the hydrophilic layer according to the present invention Can be used in combination. Examples of the metal compound to be used include Ti (OR 2 ) 4 (R 2 is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.), TiCl 4 , Zn (OR 2 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 , Sn (OR 2 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Sn (OCOR 2 ) 4 , SnCl 4 , Zr (OR 2 ) 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 al (OR 2) 3 and the like.

また、このゲル構造のマトリックスの中には、膜強度、柔軟性などの物理的性能向上や、塗布性の向上、親水性の調節などの目的で、ポリマー主鎖末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマーや、架橋剤を加えることが可能である。   In addition, this gel structure matrix has a silane coupling group at the end of the polymer main chain for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, improving coating properties, and adjusting hydrophilicity. It is possible to add a hydrophilic polymer or a crosslinking agent.

ポリマー主鎖末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマーとしては、下記一般式(C)で表されるポリマーが挙げられる。   Examples of the hydrophilic polymer having a silane coupling group at the end of the polymer main chain include a polymer represented by the following general formula (C).

Figure 2008013605
Figure 2008013605

上記一般式(C)において、R、R、R、及びRは、それぞれ、水素原子、又は炭素数8以下の炭化水素基を表し、mは0、1、又は2を表し、nは1〜8の整数を表し、pは30〜300の整数を表す。Yは、−NHCOCH、−CONH、−CON(CH、−COCH、−OCH、−OH、−COM、又はCONHC(CHSOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びオニウムからなる群から選択されるいずれかを表す。 In the general formula (C), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms, m represents 0, 1, or 2, n represents an integer of 1 to 8, and p represents an integer of 30 to 300. Y represents —NHCOCH 3 , —CONH 2 , —CON (CH 3 ) 2 , —COCH 3 , —OCH 3 , —OH, —CO 2 M, or CONHC (CH 3 ) 2 SO 3 M; It represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal and onium.

一般式(C)におけるLは、単結合又は有機連結基を表わすが、ここで有機連結基とは、非金属原子からなる多価の連結基を示し、具体的には1〜60個の炭素原子、0〜10個の窒素原子、0〜50個の酸素原子、1〜100個の水素原子,0〜20個の硫黄原子から成り立つ基である。より具体的な連結基としては下記の構造単位又はこれらが組み合わされて構成された基を挙げることができる。   L in the general formula (C) represents a single bond or an organic linking group. Here, the organic linking group represents a polyvalent linking group composed of a nonmetallic atom, specifically 1 to 60 carbon atoms. It is a group consisting of atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. More specific examples of the linking group include the following structural units or groups formed by combining these structural units.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

一般式(C)で表されるシランカップリング基を有する親水性ポリマーの具体例としては、以下のポリマーを挙げることができる。なお、下記具体例において、pは100〜250の間のいずれを採ることもできる。   Specific examples of the hydrophilic polymer having a silane coupling group represented by the general formula (C) include the following polymers. In the specific examples below, p can be any value between 100 and 250.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

本発明に係る上記親水性ポリマーは、下記一般式(C−1)で表されるラジカル重合可能なモノマーと、下記一般式(C−2)で表されるラジカル重合において連鎖移動能を有するシランカップリング剤と、を用いてラジカル重合させることによって合成することができる。一般式(C−2)で表される化合物がシランカップリング剤であり、連鎖移動能を有するため、ラジカル重合においてポリマー主鎖末端にシランカップリング基が導入されたポリマーを合成することができる。
なお、下記一般式(C−1)及び一般式(C−2)中の、R、R、R、R、m、n、L、及びYは、前記式(C)中のR、R、R、R、m、n、L、及びYと同義である。
The hydrophilic polymer according to the present invention includes a monomer capable of radical polymerization represented by the following general formula (C-1) and a silane having chain transfer ability in radical polymerization represented by the following general formula (C-2). And can be synthesized by radical polymerization using a coupling agent. Since the compound represented by the general formula (C-2) is a silane coupling agent and has a chain transfer ability, it is possible to synthesize a polymer in which a silane coupling group is introduced at the end of the polymer main chain in radical polymerization. .
In the following general formula (C-1) and general formula (C-2), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , m, n, L, and Y are the same as those in the formula (C). Synonymous with R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , m, n, L, and Y.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

本発明における親水性層の膜厚は、0.1〜10g/mであることが好ましく、0.5〜5g/mであることがより好ましい。 Thickness of the hydrophilic layer in the invention is preferably from 0.1 to 10 g / m 2, and more preferably 0.5 to 5 g / m 2.

以上のような親水性層は、ポリエステルフィルム上に直接設けられてもよいが、ポリエステルフィルムと親水性層との間に、密着性を向上させるために、ポリアクリルアミド等を含む中間層(密着層)を設けてもよい。   The hydrophilic layer as described above may be provided directly on the polyester film, but in order to improve the adhesion between the polyester film and the hydrophilic layer, an intermediate layer (adhesion layer) containing polyacrylamide or the like is used. ) May be provided.

上記のような方法で、本発明のインク組成物による画像部が形成され、平版印刷版が得られる。
得られた平版印刷版には、定着性に優れ、また、機械的強度が高い画像部が形成されていることから、印刷物を多数枚印刷することが可能となる。
By the method as described above, an image portion is formed by the ink composition of the present invention, and a lithographic printing plate is obtained.
Since the obtained lithographic printing plate has an image portion having excellent fixability and high mechanical strength, a large number of printed matter can be printed.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

<湿式分散法において用いられる分散剤[BZ−2]の合成>
下記構造の分散剤[BZ−2]は、メタクリル酸ステアリルを、2−メルカプトエタノール存在下ラジカル重合させ、更に、メタクリル酸無水物と反応させることにより末端にメタクリロイル基を有するメタクリル酸ステアリルのポリマー(重量平均分子量は7,600であった)を得た後、これをスチレンとラジカル重合させることにより得られた。
得られた分散剤[BZ−2]の重量平均分子量は、110,000であった。
<Synthesis of dispersant [BZ-2] used in wet dispersion method>
The dispersant [BZ-2] having the following structure is a polymer of stearyl methacrylate having a methacryloyl group at the terminal by radical polymerization of stearyl methacrylate in the presence of 2-mercaptoethanol and further reacting with methacrylic anhydride. The weight average molecular weight was 7,600), and was obtained by radical polymerization with styrene.
The weight average molecular weight of the obtained dispersant [BZ-2] was 110,000.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<湿式分散法において用いられる荷電調整剤[CT−1]の合成>
下記構造の荷電調整剤[CT−1]は、1−オクタデセンと無水マレイン酸のコポリマーに、1−ヘキサデシルアミンを反応させることにより得られた。
得られた荷電調整剤[CT−1]の重量平均分子量は、17,000であった。
<Synthesis of Charge Control Agent [CT-1] Used in Wet Dispersion Method>
The charge control agent [CT-1] having the following structure was obtained by reacting 1-octadecene and maleic anhydride copolymer with 1-hexadecylamine.
The weight average molecular weight of the obtained charge control agent [CT-1] was 17,000.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<湿式分散法において用いられる有機微粒子を構成するポリマー[AP−1]の合成>
下記構造のポリマー[AP−1]は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ステアリル、及びメタクリル酸2−(N,N−ジエチルアミノ)エチルを、重合開始剤(V−601:ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート))を用いてラジカル重合することにより得られた。
得られたポリマー[AP−1]の重量平均分子量は、25,000であり、多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、2.8であった。ガラス転移点(ミッドポイント)は43℃であった。
<Synthesis of polymer [AP-1] constituting organic fine particles used in wet dispersion method>
A polymer [AP-1] having the following structure is obtained by polymerizing methyl methacrylate, butyl methacrylate, stearyl methacrylate, and 2- (N, N-diethylamino) ethyl methacrylate as a polymerization initiator (V-601: dimethyl 2,2). It was obtained by radical polymerization using '-azobis (2-methylpropionate)).
The obtained polymer [AP-1] had a weight average molecular weight of 25,000 and a polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 2.8. The glass transition point (midpoint) was 43 ° C.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<湿式分散法において用いられる有機微粒子を構成するポリマー[AP−2]の合成>
下記構造のポリマー[AP−2]は、スチレン、4−メチルスチレン、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ラウリル、及びN,N,N−トリメチルアンモニウムエチルメタクリレートp−トルエンスルホン酸塩を、重合開始剤(V−601)を用いてラジカル重合することにより得られた。
得られたポリマー[AP−2]の重量平均分子量は、32,000であり、多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、2.5であった。ガラス転移点(ミッドポイント)は47℃であった。
<Synthesis of polymer [AP-2] constituting organic fine particles used in wet dispersion method>
A polymer [AP-2] having the following structure comprises styrene, 4-methylstyrene, butyl acrylate, lauryl methacrylate, and N, N, N-trimethylammonium ethyl methacrylate p-toluenesulfonate, as a polymerization initiator (V -601) was used for radical polymerization.
The obtained polymer [AP-2] had a weight average molecular weight of 32,000 and a polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 2.5. The glass transition point (mid point) was 47 ° C.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<湿式分散法において用いられる有機微粒子を構成するポリマー[AP−3]の合成>
下記構造のポリマー[AP−3]は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ステアリル、及びN,N,N−トリメチルアンモニウムエチルメタクリレートp−トルエンスルホン酸塩を、重合開始剤(V−601)を用いてラジカル重合することにより得られた。
得られたポリマー[AP−3]の重量平均分子量は、50,000であり、多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、3.5であった。ガラス転移点(ミッドポイント)は50℃であった。
<Synthesis of polymer [AP-3] constituting organic fine particles used in wet dispersion method>
Polymer [AP-3] having the following structure comprises methyl methacrylate, butyl methacrylate, stearyl methacrylate, and N, N, N-trimethylammonium ethyl methacrylate p-toluenesulfonate, as a polymerization initiator (V-601). It was obtained by radical polymerization using
The obtained polymer [AP-3] had a weight average molecular weight of 50,000 and a polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 3.5. The glass transition point (mid point) was 50 ° C.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<湿式分散法において用いられる有機微粒子を構成するポリマー[AP−4]の合成>
下記構造のポリマー[AP−4]は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ブチル、及びメタクリル酸2−(N,N−ジメチルアミノ)エチルを、重合開始剤(V−601)を用いてラジカル重合することにより得た。
得られたポリマー[AP−4]の重量平均分子量は、45,000であり、多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、3.4であった。ガラス転移点(ミッドポイント)は38℃であった。
<Synthesis of polymer [AP-4] constituting organic fine particles used in wet dispersion method>
Polymer [AP-4] having the following structure is formed by using methyl initiator, benzyl methacrylate, butyl methacrylate, and 2- (N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate with a polymerization initiator (V-601). Obtained by radical polymerization.
The obtained polymer [AP-4] had a weight average molecular weight of 45,000 and a polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 3.4. The glass transition point (midpoint) was 38 ° C.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<分散液[EC−1]の作製>
シアン顔料1g、ポリマー[AP−1]20gを、入江商会(株)製卓上型ニーダーPBV−0.1に入れ、ヒーター温度を100℃に設定し2時間溶融混練した。得られた混合物21gをトリオサイエンス(株)製トリオブレンダーにて粗粉砕し、更に協立理工(株)製SK−M10型サンプルミルにて微粉砕した。得られた微粉砕物21gを、分散剤[BZ−2]7.3g、アイソパーG75g、及び直径約3.0mmのガラスビーズと共に、東洋精機製作所(株)製ペイントシェーカーにて予備分散した。ガラスビーズを除去した後、直径約0.6mmのジルコニアセラミックビーズと共に、シンマルエンタープライゼズ(株)製TypeKDLダイノミルにて、内温を25℃に保ちながら5時間、引き続き45℃で5時間、2,000rpmの回転数で分散(微粒子化)した。
得られた分散液からジルコニアセラミックビーズを除去し、アイソパーG316gと荷電調整剤[CT−1]0.6gを加え、体積平均粒径1.02μmの有機微粒子(ポリマー[AP−1])を含有する分散液[EC−1]を得た。
<Preparation of dispersion [EC-1]>
1 g of cyan pigment and 20 g of polymer [AP-1] were placed in a desktop kneader PBV-0.1 manufactured by Irie Shokai Co., Ltd., and the heater temperature was set to 100 ° C. and melt kneaded for 2 hours. 21 g of the obtained mixture was coarsely pulverized with a trioblender manufactured by Trio Science Co., Ltd., and further finely pulverized with a SK-M10 type sample mill manufactured by Kyoritsu Riko Co., Ltd. 21 g of the finely pulverized product thus obtained was predispersed in a paint shaker manufactured by Toyo Seiki Seisakusho together with 7.3 g of the dispersant [BZ-2], Isopar G75 g, and glass beads having a diameter of about 3.0 mm. After removing the glass beads, together with the zirconia ceramic beads having a diameter of about 0.6 mm, the type KDL dynomill manufactured by Shinmaru Enterprises Co., Ltd. was used for 5 hours while maintaining the internal temperature at 25 ° C., followed by 45 ° C. for 5 hours. Dispersion (micronization) was performed at a rotational speed of 000 rpm.
Zirconia ceramic beads are removed from the obtained dispersion, and ISOPAR G316g and a charge control agent [CT-1] 0.6 g are added to contain organic fine particles (polymer [AP-1]) having a volume average particle diameter of 1.02 μm. A dispersion [EC-1] was obtained.

<分散液[EC−2]の作製>
分散液[EC−1]の作製において、ポリマー[AP−1]をポリマー[AP−2]に変更し、また、分散剤[BZ−2]量を6.0gに変更した以外は、同様の方法で、体積平均粒径1.35μmの有機微粒子(ポリマー[AP−2])を含有する分散液[EC−2]を得た。
<Preparation of dispersion [EC-2]>
In the preparation of the dispersion [EC-1], the same applies except that the polymer [AP-1] is changed to the polymer [AP-2] and the amount of the dispersant [BZ-2] is changed to 6.0 g. By the method, a dispersion [EC-2] containing organic fine particles (polymer [AP-2]) having a volume average particle size of 1.35 μm was obtained.

<分散液[EC−3]の作製>
分散液[EC−1]の作製において、ポリマー[AP−1]をポリマー[AP−3]に変更し、分散剤[BZ−2]量を5.0gに、ヒーター温度を130℃に変更した以外は、同様の方法で、体積平均粒径1.48μmの有機微粒子(ポリマー[AP−3])を含有する分散液[EC−3]を得た。
<Preparation of dispersion [EC-3]>
In the preparation of the dispersion [EC-1], the polymer [AP-1] was changed to the polymer [AP-3], the amount of the dispersant [BZ-2] was changed to 5.0 g, and the heater temperature was changed to 130 ° C. Except for the above, a dispersion [EC-3] containing organic fine particles (polymer [AP-3]) having a volume average particle size of 1.48 μm was obtained in the same manner.

<分散液[EC−4]の作製>
分散液[EC−1]の作製において、ポリマー[AP−1]をポリマー[AP−4]に変更し、分散剤[BZ−2]量を8.0gに、ヒーター温度を90℃に変更した変更した以外は、同様の方法で、体積平均粒径0.9μmの有機微粒子(ポリマー[AP−4])を含有する分散液[EC−4]を得た。
<分散液[EC−5]の作製>
分散液[EC−4]の作製において、シアン顔料を加えなかった以外は、同様の方法で体積平均粒径1.13μmの有機粒子を得た。その後にシアン顔料1gを添加し、分散液[EC−5]を得た。
<Preparation of dispersion [EC-4]>
In the preparation of the dispersion [EC-1], the polymer [AP-1] was changed to the polymer [AP-4], the amount of the dispersant [BZ-2] was changed to 8.0 g, and the heater temperature was changed to 90 ° C. A dispersion [EC-4] containing organic fine particles (polymer [AP-4]) having a volume average particle size of 0.9 μm was obtained in the same manner except that the change was made.
<Preparation of dispersion [EC-5]>
Organic particles having a volume average particle diameter of 1.13 μm were obtained by the same method except that the cyan pigment was not added in the preparation of the dispersion [EC-4]. Thereafter, 1 g of a cyan pigment was added to obtain a dispersion [EC-5].

ここで、上記のようにして得られた分散液[EC−1]〜[EC−5]を構成する有機微粒子の物性について、下記表1に併記する。   Here, physical properties of the organic fine particles constituting the dispersions [EC-1] to [EC-5] obtained as described above are also shown in Table 1 below.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<重合造粒法において用いられる分散安定用樹脂(分散剤)[P−1]の合成>
オクタデシルメタクリレート96g、4−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシカルボニル)酪酸4g、及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下、温度75℃に加温した。重合開始剤として、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.)1.5g加え4時間反応し、続けてA.I.B.N.を0.8g加えて温度80℃に加温し、4時間反応した。
反応混合物を25℃に冷却した後、攪拌下に、アリルアルコール6gを加えて、続けてジシクロヘキシルカルボジイミド(略称D.C.C.)10g、4−(N,N−ジエチルアミノ)ピリジン0.1g及び塩化メチレン30gの混合溶液を1時間で滴下した。更にこのまま3時間反応し、反応を完結させた。次に、この反応混合物に80%ギ酸を10g加え1時間攪拌した後、不溶物を濾別し、濾液をメタノール2.5リットル中に再沈した。沈澱物を濾集後、再びトルエン200gに溶解し、不溶分を濾別した後、濾液をメタノール1リットル中に再沈した。沈澱物を濾集し、乾燥した。
得られた重合体:分散安定用樹脂[P−1](下記構造)の収量は70gで、Mwは5×10であった。
<Synthesis of dispersion stabilizing resin (dispersant) [P-1] used in polymerization granulation method>
A mixed solution of 96 g of octadecyl methacrylate, 4 g of 4- (2-methacryloyloxyethyloxycarbonyl) butyric acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. As a polymerization initiator, 1.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN) was added and reacted for 4 hours. I. B. N. Was added and heated to a temperature of 80 ° C. and reacted for 4 hours.
After cooling the reaction mixture to 25 ° C., 6 g of allyl alcohol was added with stirring, followed by 10 g of dicyclohexylcarbodiimide (abbreviated DCC), 0.1 g of 4- (N, N-diethylamino) pyridine and A mixed solution of 30 g of methylene chloride was added dropwise over 1 hour. The reaction was further continued for 3 hours to complete the reaction. Next, 10 g of 80% formic acid was added to the reaction mixture and the mixture was stirred for 1 hour. Insoluble matters were filtered off, and the filtrate was reprecipitated in 2.5 liters of methanol. After the precipitate was collected by filtration, it was dissolved again in 200 g of toluene, the insoluble matter was filtered off, and the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol. The precipitate was collected by filtration and dried.
The yield of the obtained polymer: dispersion stabilizing resin [P-1] (the following structure) was 70 g, and Mw was 5 × 10 4 .

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<重合造粒法による有機微粒子[D−1]の作製>
分散安定用樹脂[P−1]7.5g、メタクリル酸メチル24g、アクリル酸メチル24g、アクリル酸2g、及びアイソパーG106.3gの混合溶液を窒素下攪拌しながら温度70℃に加温した。これにV−65:0.75gを添加し、そのまま2時間反応した。更に、重合開始剤(V−65)0.5gを加え2時間反応した後、温度を85℃に上げ、30分時間撹拌した。冷却後、200メッシュのナイロン布を通して、白色分散物を含有する分散液を得た。
得られた白色分散物(有機微粒子[D−1])の体積平均粒径は0.73μm、ガラス転移点(Tg)47℃であった。
<Preparation of organic fine particles [D-1] by polymerization granulation method>
A mixed solution of 7.5 g of dispersion stabilizing resin [P-1], 24 g of methyl methacrylate, 24 g of methyl acrylate, 2 g of acrylic acid, and 106.3 g of Isopar G was heated to 70 ° C. while stirring under nitrogen. V-65: 0.75g was added to this, and it reacted as it was for 2 hours. Furthermore, 0.5 g of a polymerization initiator (V-65) was added and reacted for 2 hours, and then the temperature was raised to 85 ° C. and stirred for 30 minutes. After cooling, a dispersion containing a white dispersion was obtained through a 200-mesh nylon cloth.
The obtained white dispersion (organic fine particles [D-1]) had a volume average particle size of 0.73 μm and a glass transition point (Tg) of 47 ° C.

<重合造粒法による有機微粒子[D−2]の作製>
有機微粒子[D−1]の作製において、分散安定用樹脂[P−1]を5.0gに変更した以外は、同様の方法で、体積平均粒径1.10μm、ガラス転移点(Tg)45℃の有機微粒子[D−2]を得た。
<Preparation of organic fine particles [D-2] by polymerization granulation method>
In the production of the organic fine particles [D-1], a volume average particle size of 1.10 μm and a glass transition point (Tg) of 45 are obtained in the same manner except that the dispersion stabilizing resin [P-1] is changed to 5.0 g. Organic fine particles [D-2] at 0 ° C. were obtained.

<重合造粒法による有機微粒子[D−3]の作製>
分散安定用樹脂[P−1]10g、メタクリル酸メチル20g、アクリル酸メチル30g、及びアイソパーG200.0gの混合溶液を窒素下攪拌しながら温度70℃に加温した。これに重合開始剤(V−65)0.75gを添加し、そのまま2時間反応した。更に、V−65:0.5gを加え2時間反応した後、温度を85℃に上げ、30分時間撹拌した。冷却後、200メッシュのナイロン布を通して、白色分散物を含有する分散液を得た。
得られた白色分散物(有機微粒子[D−3])の体積平均粒径は0.56μm、ガラス転移点(Tg):40℃であった。
<Preparation of organic fine particles [D-3] by polymerization granulation method>
A mixed solution of 10 g of dispersion stabilizing resin [P-1], 20 g of methyl methacrylate, 30 g of methyl acrylate, and 200.0 g of Isopar G was heated to 70 ° C. while stirring under nitrogen. To this, 0.75 g of a polymerization initiator (V-65) was added and reacted for 2 hours. Further, V-65: 0.5 g was added and reacted for 2 hours, and then the temperature was raised to 85 ° C. and stirred for 30 minutes. After cooling, a dispersion containing a white dispersion was obtained through a 200-mesh nylon cloth.
The obtained white dispersion (organic fine particles [D-3]) had a volume average particle size of 0.56 μm and a glass transition point (Tg) of 40 ° C.

<重合造粒法による有機微粒子[D−4]の作製>
分散安定用樹脂[P−1]6.5g、メタクリル酸メチル18.2g、アクリル酸メチル27.2g、メタクリル酸2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル4.6g、及びアイソパーG200gの混合溶液を窒素下攪拌しながら温度70℃に加温した。これに重合開始剤(V−65)0.75gを添加し、そのまま2時間反応した。更に、V−65:0.5gを加え2時間反応した後、温度を85℃に上げ、30分時間撹拌した。冷却後、200メッシュのナイロン布を通して、白色分散物を含有する分散液を得た。
得られた白色分散物(有機微粒子[D−4])の体積平均粒径は0.58μm、ガラス転移点(Tg):48℃であった。
<Preparation of organic fine particles [D-4] by polymerization granulation method>
A mixed solution of 6.5 g of dispersion stabilizing resin [P-1], 18.2 g of methyl methacrylate, 27.2 g of methyl acrylate, 4.6 g of 2- (N, N-diethylamino) ethyl methacrylate, and 200 g of Isopar G The mixture was heated to 70 ° C. with stirring under nitrogen. To this, 0.75 g of a polymerization initiator (V-65) was added and reacted for 2 hours. Further, V-65: 0.5 g was added and reacted for 2 hours, and then the temperature was raised to 85 ° C. and stirred for 30 minutes. After cooling, a dispersion containing a white dispersion was obtained through a 200-mesh nylon cloth.
The obtained white dispersion (organic fine particles [D-4]) had a volume average particle size of 0.58 μm and a glass transition point (Tg) of 48 ° C.

<分散液[IK−1]の作製>
上記のようにして得られた有機微粒子(D−1)を含有する分散液を、アイソパーGを用いて、有機微粒子の固形分量が50gとなり、且つ、有機微粒子を20質量%含有する分散液となるように希釈し、そこに、ビクトリアピュアブルーを5g加えて、60℃で4時間反応させた。反応終了後、4μmのフィルター濾過を行い、荷電調整剤[CT−1]がインク固形分に対して0.1質量%になるように加え、分散液[IK−1]を得た。これは、青色着色インク組成物である。
<Preparation of Dispersion [IK-1]>
The dispersion containing the organic fine particles (D-1) obtained as described above is obtained by using Isopar G, the solid content of the organic fine particles is 50 g, and the dispersion contains 20% by mass of the organic fine particles. Then, 5 g of Victoria Pure Blue was added thereto and reacted at 60 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, filtration was performed with a filter of 4 μm, and the charge adjusting agent [CT-1] was added so as to be 0.1% by mass with respect to the ink solid content to obtain a dispersion [IK-1]. This is a blue colored ink composition.

<分散液[IK−2]、[IK−3]、[IK−4]の作製>
分散液[IK−1]の作製において、有機微粒子(D−1)を、有機微粒子(D−2)、(D−3)、又は(D−4)にそれぞれ代えた他は、同様の方法で、分散液[IK−2]、[IK−3]、[IK−4]を得た。
<分散液[IK−5]の作製>
分散液[IK−4]の作製において、ビクトリアピュアブルーを添加したのみで加熱を加えなかった他は、同様の方法で、分散液[IK−5]を得た。
ここで、上記のようにして得られた分散液[IK−1]〜[IK−5]を構成する有機微粒子の物性について、下記表2に併記する。
<Preparation of Dispersions [IK-2], [IK-3], [IK-4]>
The same method except that the organic fine particles (D-1) were replaced with the organic fine particles (D-2), (D-3), or (D-4) in the preparation of the dispersion [IK-1]. Dispersions [IK-2], [IK-3], and [IK-4] were obtained.
<Preparation of dispersion [IK-5]>
Dispersion [IK-5] was obtained in the same manner as in the preparation of dispersion [IK-4] except that Victoria Pure Blue was added and no heating was applied.
Here, the physical properties of the organic fine particles constituting the dispersions [IK-1] to [IK-5] obtained as described above are also shown in Table 2 below.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

〔実施例1〜10、比較例1〜4、参考例1〜2〕
上記のようにして得られた各分散液を、有機微粒子の質量比が下記表3及び下記表4に示される質量比になるように組み合わせて混合し、実施例1〜10、比較例1〜4、参考例1〜2のインク組成物を調製した。
調製されたインク組成物中、実施例1〜5のインク組成物、及び比較例1〜2、参考例1のインク組成物は、静電方式のインクジェット記録方法にて評価した。一方、実施例6〜10のインク組成物、及び比較例3〜4、参考例2のインク組成物は、ピエゾ方式のインクジェット記録方法により評価した。
[Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 4, Reference Examples 1 to 2]
The dispersions obtained as described above were mixed and mixed so that the mass ratio of the organic fine particles became the mass ratio shown in Table 3 and Table 4 below. 4. Ink compositions of Reference Examples 1 and 2 were prepared.
Among the prepared ink compositions, the ink compositions of Examples 1 to 5, and the ink compositions of Comparative Examples 1 and 2 and Reference Example 1 were evaluated by an electrostatic inkjet recording method. On the other hand, the ink compositions of Examples 6 to 10, and the ink compositions of Comparative Examples 3 to 4 and Reference Example 2 were evaluated by a piezo ink jet recording method.

Figure 2008013605
Figure 2008013605

Figure 2008013605
Figure 2008013605

<評価>
得られたインク組成物のインク受容体に対する定着性、インク組成物の再分散性、及び該インク組成物を用いて平版印刷版を作製した際の耐刷性について、下記のようにして評価した。
まず、この評価において用いた静電方式のインクジェット記録方法について説明する。
<Evaluation>
The fixability of the obtained ink composition to the ink receptor, the redispersibility of the ink composition, and the printing durability when a lithographic printing plate was produced using the ink composition were evaluated as follows. .
First, the electrostatic ink jet recording method used in this evaluation will be described.

〔静電方式のインクジェット記録方法〕
図1〜3に示すインクジェット記録装置に、得られたインク組成物をインクタンクに充填した。ここでは吐出ヘッドとして図2に示すタイプの150dpi(チャンネル密度50dpiの3列千鳥配置)、833チャンネルヘッドを使用し、また定着手段として1kWのヒータを内蔵したシリコンゴム性ヒートローラを使用した。インク温度管理手段として投げ込みヒータと攪拌羽をインクタンク内に設け、インク温度は30℃に設定し、攪拌羽を30rpmで回転しながらサーモスタットで温度コントロールした。ここで攪拌羽は沈澱・凝集防止用の攪拌手段としても使用した。またインク流路を一部透明とし、それを挟んでLED発光素子と光検知素子を配置し、その出力シグナルによりインクの希釈液(アイソパーG)或いは濃縮インク(上記インク組成物の固形分濃度を2倍に調整したもの)投入による濃度管理を行った。被記録媒体としてアルミニウム支持体を使用した。エアーポンプ吸引により被記録媒体表面の埃除去を行った後、吐出ヘッドを画像形成位置まで被記録媒体に近づけ、記録すべき画像データを画像データ演算制御部に伝送し、搬送ベルトの回転により被記録媒体を搬送させながら吐出ヘッドを逐次移動しながらインク組成物を吐出して2400dpiの描画解像力で画像を形成した。搬送ベルトとして、金属ベルトとポリイミドフィルムを張り合わせたものを使用し、このベルトの片端付近に搬送方向に沿ってライン状のマーカーを配置し、これを搬送ベルト位置検知手段で光学的に読みとり、位置制御手段を駆動して画像形成を行った。この際、光学的ギャップ検出装置による出力により吐出ヘッドと被記録媒体の距離は0.5mmに保った。また吐出の際には被記録媒体の表面電位を−1.5kVとしておき、吐出をおこなう際には+500Vのパルス電圧を印加し(パルス巾50μsec)、15kHzの駆動周波数で、下記に示すアルミニウム支持体に画像形成を行った。その後、125℃のオーブンで20秒間加熱し、画像を定着させた。
[Electrostatic ink jet recording method]
The ink composition obtained in the ink jet recording apparatus shown in FIGS. Here, a 150 dpi (three-row staggered arrangement with a channel density of 50 dpi) and 833 channel head of the type shown in FIG. 2 was used as the ejection head, and a silicon rubber heat roller incorporating a 1 kW heater was used as the fixing means. As the ink temperature control means, a throw-in heater and a stirring blade were provided in the ink tank, the ink temperature was set to 30 ° C., and the temperature was controlled with a thermostat while rotating the stirring blade at 30 rpm. Here, the stirring blade was also used as a stirring means for preventing precipitation and aggregation. In addition, the ink flow path is partially transparent, the LED light emitting element and the light detecting element are arranged between them, and the ink dilution liquid (Isopar G) or concentrated ink (the solid content concentration of the ink composition is determined by the output signal). The concentration was controlled by charging. An aluminum support was used as the recording medium. After removing dust on the surface of the recording medium by air pump suction, the ejection head is brought close to the recording medium to the image forming position, image data to be recorded is transmitted to the image data calculation control unit, and the recording belt is rotated by rotation of the conveying belt. The ink composition was discharged while sequentially moving the discharge head while transporting the recording medium, and an image was formed with a drawing resolution of 2400 dpi. As the conveyor belt, a metal belt and polyimide film bonded together are used, and a line-shaped marker is placed in the vicinity of one end of the belt along the conveyor direction, and this is optically read by the conveyor belt position detection means. An image was formed by driving the control means. At this time, the distance between the ejection head and the recording medium was kept at 0.5 mm by the output from the optical gap detector. Further, the surface potential of the recording medium is set to −1.5 kV at the time of ejection, and a pulse voltage of +500 V is applied (pulse width 50 μsec) at the time of ejection, and the following aluminum support is performed at a driving frequency of 15 kHz. The body was imaged. Thereafter, the image was fixed by heating in an oven at 125 ° C. for 20 seconds.

[ピエゾ方式のインクジェット記録方法]
上述のように、実施例6〜10のインク組成物、及び比較例3〜4、参考例2のインク組成物は、下記のようなピエゾ方式のインクジェット記録方法用いて、評価を行った。
即ち、インク組成物を、セイコーエプソン(株)製PX−G920にて、インク受容体上に、1.5plの液適量でインクジェット記録した。その後、125℃のオーブンで20秒間加熱し、画像を定着させた。
[Piezo inkjet recording method]
As described above, the ink compositions of Examples 6 to 10, and the ink compositions of Comparative Examples 3 to 4 and Reference Example 2 were evaluated using the following piezo ink jet recording method.
That is, the ink composition was ink-jet recorded with a suitable amount of 1.5 pl on the ink receiver using PX-G920 manufactured by Seiko Epson Corporation. Thereafter, the image was fixed by heating in an oven at 125 ° C. for 20 seconds.

[定着性の評価]
得られたインク組成物を用い、上記の静電方式のインクジェット記録方法、又はピエゾ方式のインクジェット記録方法で、下記に示すアルミニウム支持体、ゾルゲル親水性層を有するPET支持体上にそれぞれ画像を形成した。評価指標は、以下の通りである。結果を表3及び表4に示す。
A・・有機微粒子が溶解して、形状が変化している
B・・有機微粒子の一部が溶解して、形状の一部が変化している
C・・有機微粒子がほどんと溶解しておらず、形状も変化していない
[Evaluation of fixability]
Using the obtained ink composition, images are formed on the following aluminum support and PET support having a sol-gel hydrophilic layer by the electrostatic inkjet recording method or the piezo inkjet recording method. did. The evaluation index is as follows. The results are shown in Tables 3 and 4.
A ・ ・ The organic fine particles are dissolved and the shape is changed B ・ ・ Part of the organic fine particles are dissolved and part of the shape is changed C ・ ・ The organic fine particles are dissolved almost And the shape has not changed

[耐刷性の評価]
得られたインク組成物を用い、上記の静電方式のインクジェット記録方法、又はピエゾ方式のインクジェット記録方法で下記に示すアルミニウム支持体上に画像を形成し、その後、画像を定着させて、平版印刷版を得た。
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、湿し水に、エコリティ−2の3%水溶液(富士写真フィルム(株)製)を用い、また、大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。なお、評価結果は、比較例1を基準(100)とした耐刷指数で表した。この耐刷指数は数字が大きいほど高耐刷であり、好ましい。結果を表3及び表4に示す。
[再分散性の評価]
得られたインク組成物をガラス瓶に充填して2日間25℃で静置し、その後10分間、スターラーで攪拌した際の凝集粒子のあり・なしをSEMにて観察し、再分散性を評価した。凝集がないものを○とし、凝集があるものを×とした。結果を表2に示す。
[Evaluation of printing durability]
Using the obtained ink composition, an image is formed on the aluminum support shown below by the above-described electrostatic ink jet recording method or piezo ink jet recording method, and then the image is fixed and lithographic printing is performed. Got a version.
The obtained lithographic printing plate was used with Komori Corporation's Lithrone printing machine using a 3% aqueous solution of Ecology-2 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as fountain solution. Printing was performed using a DIC-GEOS (N) black ink manufactured, and the printing durability was evaluated based on the number of printed sheets when it was visually recognized that the density of the solid image started to decrease. The evaluation result was expressed as a printing durability index with Comparative Example 1 as a reference (100). The larger the printing durability index, the higher the printing durability. The results are shown in Tables 3 and 4.
[Evaluation of redispersibility]
The obtained ink composition was filled in a glass bottle and allowed to stand at 25 ° C. for 2 days. After that, the presence or absence of aggregated particles was observed with a stirrer for 10 minutes by SEM to evaluate redispersibility. . The case where there was no aggregation was marked with ◯, and the case where there was aggregation was marked with ×. The results are shown in Table 2.

<インク受容体の作製>
〔アルミニウム支持体〕
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.005質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
<Preparation of ink receptor>
[Aluminum support]
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.005 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: It contains 0.03% by mass, and the balance is prepared by using an aluminum alloy of Al and inevitable impurities. After the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Created. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, after performing heat processing using a continuous annealing machine at 500 degreeC, it finished by cold rolling to 0.24 mm in thickness, and obtained the aluminum plate of JIS1050 material. After making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below.

[表面処理]
表面処理は、以下の(a)〜(j)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
[surface treatment]
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (j) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)機械的粗面化処理
図4に示したような装置を使って、比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。図4において、101はアルミニウム板、102及び104はローラ状ブラシ、103は研磨スラリー液、105、106、107及び108は支持ローラである。研磨剤の平均粒径は40μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical roughening treatment Using an apparatus as shown in FIG. 4, a suspension of a polishing agent (pumice) having a specific gravity of 1.12 and water is supplied as a polishing slurry to the surface of the aluminum plate. However, a mechanical surface roughening treatment was performed with a rotating roller-like nylon brush. In FIG. 4, 101 is an aluminum plate, 102 and 104 are roller brushes, 103 is a polishing slurry, and 105, 106, 107 and 108 are support rollers. The average particle size of the abrasive was 40 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6% by mass, an aluminum ion concentration of 6.5% by mass and a temperature of 70 ° C. / M 2 was dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は図5に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図6に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dmであった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 5, the time TP until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used, with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was the one shown in FIG. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.25g/m溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkaline etching treatment An aluminum plate was subjected to etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and the aluminum plate was dissolved at 0.25 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硫酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment by spraying was performed with a 15% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は図5に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図6に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dm、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 5, the time TP until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used, with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was the one shown in FIG. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali etching treatment An aluminum plate was sprayed using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C., and the aluminum plate was dissolved at 0.10 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
図7に示す構造の陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行い、平版印刷版用支持体を得た。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度38℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/mであった。
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment was carried out using an anodizing apparatus having a structure shown in FIG. 7 to obtain a lithographic printing plate support. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 38 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

以上により得られた平版印刷版用支持体の中心線平均粗さは0.55μm、大波の平均波長は65μm、中波の平均開口径は1.4μm、小波の平均開口径は0.14μm、小波の平均開口径に対する深さの比が0.46であった。   The centerline average roughness of the lithographic printing plate support obtained as described above is 0.55 μm, the average wavelength of large waves is 65 μm, the average opening diameter of medium waves is 1.4 μm, the average opening diameter of small waves is 0.14 μm, The ratio of the depth to the average opening diameter of the small wave was 0.46.

〔PET支持体の作製〕
下記組成の塗布液を調製し、表面に易接着処理した188μmのポリエステルフィルム(東洋紡A4100)上に、1.0g/m厚の密着層を作製した。
[Preparation of PET support]
A coating solution having the following composition was prepared, and an adhesion layer having a thickness of 1.0 g / m 2 was prepared on a 188 μm polyester film (Toyobo A4100) subjected to easy adhesion treatment on the surface.

(密着層塗布液)
・ブチラール樹脂BM−S(積水化学(株)製) 59g
(10質量%MEK溶液)
・カーボンブラック分散物(固形分21%) 13.5g
・MEK(メチルエチルケトン) 62.7g
(Adhesion layer coating solution)
-Butyral resin BM-S (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 59g
(10 mass% MEK solution)
-Carbon black dispersion (solid content 21%) 13.5g
・ MEK (methyl ethyl ketone) 62.7g

上記のフィルム上に、下記組成の親水性層塗布液をバー塗布した後、80℃、10分でオーブン乾燥し、乾燥塗布量3.0g/mの親水性層を形成して、ゾルゲル親水性層を有するPET支持体を作製した。 A hydrophilic layer coating solution having the following composition is bar-coated on the above film, followed by oven drying at 80 ° C. for 10 minutes to form a hydrophilic layer having a dry coating amount of 3.0 g / m 2. A PET support having a conductive layer was prepared.

(親水性層塗布液)
・コロイダルシリカ分散物(20質量%水溶液) 100g
(スノーテックスC)
・下記ゾル・ゲル調製液 500g
・アニオン系界面活性剤の5質量%水溶液 30g
(日光ケミカルズ社製、ニッコールOTP−75)
・精製水 450g
(Hydrophilic layer coating solution)
・ Colloidal silica dispersion (20% by mass aqueous solution) 100 g
(Snowtex C)
・ 500g of the following sol / gel preparation
・ 30 g of 5% by weight aqueous solution of an anionic surfactant
(Nikko Chemicals, Nikkor OTP-75)
・ Purified water 450g

(ゾル・ゲル調製液)
エチルアルコール19.2g、アセチルアセトン0.86g、オルトチタン酸テトラエチル0.98g、精製水8.82g中に、テトラメトキシシラン(東京化成工業(株)製)1.04gと下記の末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマー0.34gを混合し、室温で2時間熟成して、調製した。
(Sol / gel preparation)
In 19.2 g of ethyl alcohol, 0.86 g of acetylacetone, 0.98 g of tetraethyl orthotitanate, and 8.82 g of purified water, 1.04 g of tetramethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and silane coupling at the following terminals It was prepared by mixing 0.34 g of a hydrophilic polymer having a group and aging for 2 hours at room temperature.

(末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマーの合成)
三ロフラスコにアクリルアミド25g、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン3.5g、ジメチルホルムアミド51.3gを入れて窒素気流下、65℃まで加熱し、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.25g添加し、反応を開始した。6時間攪拌した後、室温まで戻して酢酸エチル1.5L中に投入したところ固体が析出した。その後、濾過を行い、充分酢酸エチルで洗浄し、乾燥を行った(収量21g)。GPC(ポリスチレン標準)により、5,000の重量平均分子量(Mw)を有するポリマーであることを確認した。
(Synthesis of hydrophilic polymer having a silane coupling group at the end)
Add 3Og of acrylamide, 3.5g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 51.3g of dimethylformamide to a three-flask and heat to 65 ° C under a nitrogen stream. 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) 0.25 g was added to start the reaction. After stirring for 6 hours, the mixture was returned to room temperature and poured into 1.5 L of ethyl acetate, and a solid precipitated. Thereafter, filtration was performed, and the product was sufficiently washed with ethyl acetate and dried (yield 21 g). It was confirmed by GPC (polystyrene standard) that the polymer had a weight average molecular weight (Mw) of 5,000.

表3及び表4に明らかなように、実施例1〜10のインク組成物(本発明のインク組成物)は、インクジェット記録方式やインク受容体の種類に関わらず、インク受容体に対する定着性に優れることが分かる。
また、実施例1〜10のインク組成物(本発明のインク組成物)は、比較例のインク組成物と比べて、平版印刷版を作製した場合に、耐刷性・再分散性に優れることが分かる。
As is apparent from Tables 3 and 4, the ink compositions of Examples 1 to 10 (the ink composition of the present invention) have a fixing property to the ink receptor regardless of the ink jet recording method and the type of the ink receptor. It turns out that it is excellent.
Further, the ink compositions of Examples 1 to 10 (the ink composition of the present invention) are superior in printing durability and redispersibility when a lithographic printing plate is prepared as compared with the ink composition of Comparative Example. I understand.

本発明のインク組成物に好適なインクジェット印刷装置の一例を模式的に示す全体構成図である。1 is an overall configuration diagram schematically showing an example of an ink jet printing apparatus suitable for an ink composition of the present invention. 本発明におけるインクジェット記録装置のインクジェットヘッドの構成を示す斜視図である(判りやすくするために、各吐出部でのガード電極のエッジは描いていない)。It is a perspective view which shows the structure of the inkjet head of the inkjet recording device in this invention (In order to make it intelligible, the edge of the guard electrode in each discharge part is not drawn). 図2に示す、インクジェットヘッドの吐出部の使用数が多いときの荷電粒子の分布状態を示す側面断面図である(図2の矢視X−Xに相当)。FIG. 3 is a side sectional view showing a distribution state of charged particles when the number of ejection units of the inkjet head shown in FIG. 2 is large (corresponding to an arrow XX in FIG. 2). 本発明に係る平版印刷版用支持体の作製における機械粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush graining used for the mechanical roughening process in preparation of the support body for lithographic printing plates which concerns on this invention. 本発明に係る平版印刷版用支持体の作製における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in preparation of the support body for lithographic printing plates which concerns on this invention. 本発明に係る平版印刷版用支持体の作製における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process using alternating current in preparation of the support body for lithographic printing plates which concerns on this invention. 本発明に係る平版印刷版用支持体の作製における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is the schematic of the anodizing apparatus used for the anodizing process in preparation of the support body for lithographic printing plates which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

G 飛翔したインク滴
P 被記録媒体
Q インク流
R 荷電粒子
1 インクジェット記録装置
2、2Y、2M、2C、2K 吐出ヘッド
3 インク循環系
4 ヘッドドライバ
5 位置制御手段
6A、6B、6C 搬送ベルト張架ローラ
7 搬送ベルト
8 搬送ベルト位置検知手段
9 静電吸着手段
10 除電手段
11 力学的手段
12 フィードローラ
13 ガイド
14 画像定着手段
15 ガイド
16 記録媒体位置検知手段
17 排出ファン
18 溶媒蒸気吸着材
38 インクガイド
40 支持棒部
42 インクメニスカス
44 絶縁層
46 第1吐出電極
48 絶縁層
50 ガード電極
52 絶縁層
56 第2吐出電極
58 絶縁層
62 浮遊導電板
64 被覆膜
66 絶縁部材
70 インクジェットヘッド
72 インク流路
74 基板
75、75A、75B 開口
76、76A、76B 吐出部
78 吐出部
101 アルミニウム板
102、104 ローラ状ブラシ
103 研磨スラリー液
105、106、107、108 支持ローラ
111 アルミニウム板
112 ラジアルドラムローラ
113a、113b 主極
114 電解処理液
115 電解液供給口
116 スリット
117 電解液通路
118 補助陽極
119a、119b サイリスタ
120 交流電源
121 主電解槽
122 補助陽極槽
410 陽極酸化処理装置
412 給電槽
414 電解処理槽
416 アルミニウム板
418、426 電解液
420 給電電極
422、428 ローラ
424 ニップローラ
430 電解電極
432 槽壁
434 直流電源
G Injected ink droplet P Recording medium Q Ink flow R Charged particle 1 Inkjet recording device 2, 2Y, 2M, 2C, 2K ejection head 3 Ink circulation system 4 Head driver 5 Position control means 6A, 6B, 6C Conveying belt stretch Roller 7 Conveying belt 8 Conveying belt position detecting means 9 Electrostatic adsorption means 10 Static elimination means 11 Mechanical means 12 Feed roller 13 Guide 14 Image fixing means 15 Guide 16 Recording medium position detecting means 17 Discharge fan 18 Solvent vapor adsorbing material 38 Ink guide DESCRIPTION OF SYMBOLS 40 Support rod part 42 Ink meniscus 44 Insulating layer 46 1st discharge electrode 48 Insulating layer 50 Guard electrode 52 Insulating layer 56 2nd discharge electrode 58 Insulating layer 62 Floating conductive plate 64 Coating film 66 Insulating member 70 Inkjet head 72 Ink flow path 74 Substrate 75, 75A, 75B Open 76, 76A, 76B Discharge part 78 Discharge part 101 Aluminum plate 102, 104 Roller brush 103 Polishing slurry liquid 105, 106, 107, 108 Support roller 111 Aluminum plate 112 Radial drum roller 113a, 113b Main electrode 114 Electrolytic treatment liquid 115 Electrolysis Liquid supply port 116 Slit 117 Electrolyte passage 118 Auxiliary anode 119a, 119b Thyristor 120 AC power supply 121 Main electrolysis tank 122 Auxiliary anode tank 410 Anodizing apparatus 412 Power supply tank 414 Electrolysis process tank 416 Aluminum plate 418, 426 Electrolyte solution 420 Power supply electrode 422, 428 Roller 424 Nip roller 430 Electrolysis electrode 432 Tank wall 434 DC power supply

Claims (6)

(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子、(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子、及び、(C)分散媒を含有することを特徴とするインクジェット記録用インク組成物。   It contains (A) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 μm or more, (B) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less, and (C) a dispersion medium. An ink composition for inkjet recording. 前記(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子と、前記(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子との質量比が1:9〜9:1であることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録用インク組成物。   The mass ratio of (A) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.8 μm or more and (B) colored organic fine particles having a volume average particle size of 0.7 μm or less is 1: 9 to 9: 1. The ink composition for ink jet recording according to claim 1, wherein: 前記(A)体積平均粒径が0.8μm以上である着色有機微粒子と、前記(B)体積平均粒径が0.7μm以下である着色有機微粒子のうち少なくとも一種が、可視領域に吸収を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のインクジェット記録用インク組成物。   At least one of the (A) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.8 μm or more and the (B) colored organic fine particles having a volume average particle diameter of 0.7 μm or less has absorption in the visible region. The ink composition for ink jet recording according to claim 1 or 2, wherein the ink composition is used for ink jet recording. 静電方式のインクジェット記録方法に用いられることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のインクジェット記録用インク組成物。   The ink composition for ink jet recording according to any one of claims 1 to 3, wherein the ink composition is used for an electrostatic ink jet recording method. (a)請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のインクジェット記録用インク組成物をインク受容体上に、吐出する工程と
(b)吐出されたインク組成物を定着させる工程と、
を含むことを特徴とする平版印刷版の作製方法。
(A) a step of discharging the ink composition for ink jet recording according to any one of claims 1 to 4 onto an ink receptor; and (b) a step of fixing the discharged ink composition;
A method for producing a lithographic printing plate comprising:
請求項5に記載の平版印刷版の作製方法によって製造された平版印刷版。   A lithographic printing plate produced by the method for producing a lithographic printing plate according to claim 5.
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