JP2008009195A - Liquid crystal display element and projection type liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display element and projection type liquid crystal display device Download PDF

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Akiko Toriyama
亜希子 鳥山
Hisashi Kadota
久志 門田
Makoto Hashimoto
誠 橋本
Hideaki Ishii
秀哲 石井
Kazuhiro Mitsuyoshi
一洋 光吉
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display element capable of reducing an interaction between a reverse tilt domain generated in a pixel and a reverse tilt formed in a pixel corresponding to an adjacent pixel electrode, improving an image quality defect due to a lateral electric field and obtaining a higher image quality and to provide a projection type liquid crystal display device. <P>SOLUTION: In the liquid crystal display element having two substrates opposed to each other, a liquid crystal layer disposed between the two substrates, a plurality of pixel electrodes A1, A2, A3 and A4 disposed on facing surfaces of the respective substrates so as to form matrix-shaped pixels, alignment layers formed on the two substrates for aligning a liquid crystal in the liquid crystal layer in a prescribed direction and a spacer SP formed between pixel electrodes which are adjacently disposed between the two substrates, at least one of the plurality of pixel electrodes A1, A2, A3 and A4 has a chamfered shape so that an end part facing the spacer SP forms one side of a polygon. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示素子およびこの液晶表示素子を用いた投射型液晶表示装置に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display element and a projection type liquid crystal display device using the liquid crystal display element.

液晶プロジェクタ等の投射型表示装置では、光源から出射される光を赤、緑、青に分離し、各色光を液晶表示素子(以下、LCDという)により構成される3つのライトバルブにより変調し、変調された後の色光束を再び合成して、投射面に拡大投射している。   In a projection display device such as a liquid crystal projector, light emitted from a light source is separated into red, green, and blue, and each color light is modulated by three light valves composed of liquid crystal display elements (hereinafter referred to as LCD). The modulated color light fluxes are synthesized again and enlarged and projected onto the projection surface.

液晶プロジェクタ等に搭載されるライトバルブとしては、一般に薄膜トランジスタ(以下TFTという)駆動によるアクティブマトリクス駆動方式のLCDが用いられる。
アクティブマトリクス駆動方式のLCDのほとんどには、ネマティック液晶が用いられており、主な表示方式としては、旋光モードのLCDがある。
旋光モードのLCDで用いられるネマティック液晶は、90度捩れた分子配列を持つツイステッドネマティック(TN型)液晶であり、原理的に白黒表示で、高いコントラスト比と良好な階調表示性を示す。
As a light valve mounted on a liquid crystal projector or the like, an active matrix driving type LCD driven by a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) is generally used.
Most active matrix LCDs use nematic liquid crystals, and the main display system is an optical rotation mode LCD.
The nematic liquid crystal used in the optical rotation mode LCD is a twisted nematic (TN type) liquid crystal having a molecular arrangement twisted by 90 degrees, and in principle displays black and white, and exhibits a high contrast ratio and good gradation display.

アクティブマトリクス駆動方式のLCDの表示を均一に行うためには、基板表面全面に液晶分分子を均一に配向させることと、基板間隙の制御が重要である。
配向膜が形成され2枚の電極が形成された基板は、各基板の配向膜が対向して配置されており、実際に画像が表示される画素表示領域の周囲に位置するシール領域において、シール材により貼り合わされる。
基板間隙を制御するためのスペーサとしては、近年プラスチックビーズの代わりに基板上に直接パターニングにより形成される柱状スペーサが用いられる。
これらの工程を経ることで、空セルが製造される。その後、この空セル内に液晶が封入されて、液晶セルが製造される。
なお、前述した液晶は、数種類の単体液晶材料からなり、液晶組成物ともよばれる。製造された液晶セルに偏光板が取り付けられて液晶表示素子が製造される。
In order to perform display on an active matrix LCD uniformly, it is important to uniformly align liquid crystal molecules on the entire surface of the substrate and to control the gap between the substrates.
In the substrate on which the alignment film is formed and the two electrodes are formed, the alignment films of each substrate are arranged so as to face each other, and in the seal region located around the pixel display region where an image is actually displayed, Bonded with the material.
As a spacer for controlling the substrate gap, a columnar spacer formed by direct patterning on a substrate is used instead of plastic beads in recent years.
An empty cell is manufactured through these steps. Thereafter, liquid crystal is sealed in the empty cell to manufacture a liquid crystal cell.
Note that the above-described liquid crystal is composed of several types of single liquid crystal materials and is also called a liquid crystal composition. A polarizing plate is attached to the manufactured liquid crystal cell to manufacture a liquid crystal display element.

ところで、マトリクス状に配置された画素電極に電圧を印加する場合、表示品質の向上のために、図1に示すようなライン駆動方式またはフィールド反転駆動方式を用いる。   Incidentally, when a voltage is applied to the pixel electrodes arranged in a matrix, a line driving method or a field inversion driving method as shown in FIG. 1 is used to improve display quality.

一般的に、各ラインごとに印加電圧を反転するライン反転駆動がよく使われていた。ライン反転駆動では、フリッカが視認されにくい、カップリング起因の縦クロストークが出ないなどメリットも多い一方で、隣接する画素間で印加電圧を反転させるため、図2に示すように、いわゆるリバースチルトドメインの発生が各画素に発生するといった問題があった。
リバースチルトドメインとは、もともと規定されたプレチルトの方向が逆になってしまう現象である(たとえば、特許文献1参照)。リバースチルトドメインは、正常領域との境界にディスクリネーションラインが発生すため、光りぬけとなり、コントラストを大きく低下させてしまう。
これらの問題を解決するために、発生位置に遮光部を設けて隠すといった対策が施されてきたが、開口率が低下してしまう。また、液晶設計においては、プレチルトを高くすることが一般的に有効であるとされているが、生産バラツキが大きくなるため歩留まりが低下するという問題が発生してしまう。
In general, line inversion driving that inverts an applied voltage for each line is often used. The line inversion drive has many advantages such as flicker is hardly visible and vertical crosstalk due to coupling does not occur. On the other hand, since the applied voltage is inverted between adjacent pixels, as shown in FIG. There has been a problem that a domain occurs in each pixel.
The reverse tilt domain is a phenomenon in which the pretilt direction defined originally is reversed (see, for example, Patent Document 1). In the reverse tilt domain, a disclination line is generated at the boundary with the normal region, so that light is lost and the contrast is greatly reduced.
In order to solve these problems, measures have been taken such as providing a light-shielding portion at the occurrence position to hide it, but the aperture ratio is reduced. Further, in the liquid crystal design, it is generally considered effective to increase the pretilt. However, since the production variation increases, there arises a problem that the yield decreases.

そこで、隣接する画素において、極性反転の無い駆動が有効であるとされ、近年、1フィールドごとに印加電圧を反転するフィールド反転駆動が提案されている。
本駆動法は、原理上、横電界が発生しないため、解決策のひとつになると考えられてきた。
特許第2934875号公報 特開2003−337553号公報 特開平4−361232号公報 特開2004−177848号公報
Therefore, it is considered that driving without polarity inversion is effective in adjacent pixels, and in recent years, field inversion driving in which an applied voltage is inverted every field has been proposed.
This driving method has been considered to be one of the solutions because a horizontal electric field is not generated in principle.
Japanese Patent No. 2934875 JP 2003-337553 A JP-A-4-361232 JP 2004-177848 A

フィールド反転駆動においては、全画面同一電圧であるラスタ画面においては、横電界は発生しないため、リバースチルトドメインなどの配向乱れは全く発生しない。
しかしながら、隣り合う画素が白と黒といった輝度差の大きい表示を行った場合には、これら隣り合う画素の画素電極において、横電界による配向乱れの影響を避けることは非常に困難であった。たとえば、図3に示すように、電界差のある画素間では、リバースチルトドメインが存在することが計算結果からわかっている。
In the field inversion driving, the horizontal electric field is not generated on the raster screen having the same voltage on the entire screen, so that the alignment disorder such as the reverse tilt domain does not occur at all.
However, when a display with a large luminance difference such as white and black is performed on adjacent pixels, it is very difficult to avoid the influence of the alignment disturbance due to the horizontal electric field in the pixel electrodes of these adjacent pixels. For example, as shown in FIG. 3, it is known from the calculation results that a reverse tilt domain exists between pixels having an electric field difference.

図4に示すように1ラインごとに白黒表示をさせるラインパターンの場合ではその影響を大きく受ける。ノーマリーホワイトモードにおいて、白ラインに電界を印加させていくと、局所的に配向が不均一な箇所が発生する。本現象は、画素電極間にスペーサがあるときは更に顕著に観察される。   As shown in FIG. 4, in the case of a line pattern in which monochrome display is performed for each line, it is greatly affected. In the normally white mode, when an electric field is applied to the white line, a locally non-uniform portion is generated. This phenomenon is more noticeable when there is a spacer between the pixel electrodes.

本課題の発生現象をシミュレーションにおいて考察する。図5は、フィード反転駆動におけるTNモード(Twisted Nematic)液晶パネルを想定したシミュレーション結果である。
シミュレーションは、シンテック株式会社製、LCD MASTER 中の2D BENCHを用いて、画素を並列して配置し、液晶物性値(ne、no、弾性定数K11,K22,K33、回転粘性係数、誘電率)、プレチルト角、ツイスト角、アンカリングおよび偏光子角度、検光子角度を設定し、交流駆動させている。計算では、液晶分子配向シミュレーションおよびギブス(Gibbs)のエネルギー測定を行っている。なお、Gibbsのエネルギーは以下の式で表される。
We consider the phenomenon of this problem in simulation. FIG. 5 shows a simulation result assuming a TN mode (Twisted Nematic) liquid crystal panel in feed inversion driving.
The simulation uses 2D BENCH in LCD MASTER, manufactured by Shintech Co., Ltd., and the pixels are arranged in parallel, and the physical properties of liquid crystals (ne, no, elastic constants K11, K22, K33, rotational viscosity coefficient, dielectric constant), The pretilt angle, twist angle, anchoring, polarizer angle, and analyzer angle are set and AC driving is performed. In the calculation, liquid crystal molecular alignment simulation and Gibbs energy measurement are performed. Gibbs energy is expressed by the following equation.

[数1]
F_Total = F_ele + F_ela
F_ele = -1/2・ε0・εa・(E・n)2
F_ela = 1/2 K11(▽・n)2 + 1/2 K22{n・(▽×n)+q0}2 + 1/2 K33{n×(▽×n)2
[Equation 1]
F_Total = F_ele + F_ela
F_ele = -1/2 ・ ε0 ・ εa ・ (E ・ n) 2
F_ela = 1/2 K11 (▽ · n) 2 + 1/2 K22 {n · (▽ × n) + q0} 2 + 1/2 K33 {n × (▽ × n) 2 }

ここで、F_eleは電気エネルギーを、F_elaは弾性エネルギーをそれぞれ示している。   Here, F_ele represents electrical energy, and F_ela represents elastic energy.

図5の(1)は、白黒ラインでの液晶パネル条件を想定している。ここで、黒電圧は12.5V、白電圧は7.5V、対向側は7.5Vとしている。この場合、液晶分子配向においては、一部リバースチルトが発生している領域が見られる。
図5の(2)は、白ラインに電圧を印加していき、白電圧が10Vとしたときの結果を示している。この場合、液晶分子配向においては、リバースチルトは発生しているものの、大きな変化は見られない。しかし、Gibbsのエネルギー分布において局所的にエネルギーが非常に高い部分が見受けられた。
図5の(3)は、全て黒となった状態黒電圧が12.5Vとしたきの結果を示している。この場合、液晶分子配列及びGibbsのエネルギーも一様であった。
(1) in FIG. 5 assumes a liquid crystal panel condition in a monochrome line. Here, the black voltage is 12.5V, the white voltage is 7.5V, and the opposite side is 7.5V. In this case, in the liquid crystal molecule alignment, a region where a partial reverse tilt occurs is observed.
(2) in FIG. 5 shows the result when a voltage is applied to the white line and the white voltage is 10V. In this case, in the liquid crystal molecular alignment, although a reverse tilt has occurred, no significant change is observed. However, the energy distribution of Gibbs was found to be very high locally.
(3) in FIG. 5 shows the result when the black voltage is set to 12.5 V in a state in which it is all black. In this case, the liquid crystal molecular alignment and Gibbs energy were also uniform.

図5の(2)および図6のエネルギー測定結果について解説する。
Gibbsのエネルギーのうち、弾性エネルギーの項はその値が高いと不連続な配向状態を示し、電気エネルギーの項は、大きいと電界制御されていない状態といえる。
ゆえに、Gibbsのエネルギーはその値が高いほど、液晶分子の電界制御が弱くストレスのある配向状態といえる。
測定点Aは、液晶分子シミュレーションからもリバースチルトが発生している場所であり、一様な配向状態を示していない。ゆえに弾性エネルギーは高くなる。また、隣接画素の横電界の影響も受けているため、電気エネルギーも高くなる。ゆえに、Gibbsのエネルギーは高くなる。
測定点Bは、液晶配向状態は一様であり弾性エネルギーは低くなる。しかし、隣接画素の横電界の影響を受けるため、電気エネルギーは測定点Aと同様に高くなる。Gibbsのエネルギーは弾性エネルギーが低い分測定点Aよりは安定といえる。
また測定点Cは、画素中央、液晶層中央部分であり、液晶配向状態も電界も一様であり、弾性エネルギーも電気エネルギーも低く、エネルギー的に非常に安定な状態といえる。
The energy measurement results of (2) in FIG. 5 and FIG. 6 will be described.
Of the Gibbs energy, the elastic energy term indicates a discontinuous orientation state when the value is high, and the electric energy term indicates a state where the electric field is not controlled.
Therefore, it can be said that the higher the energy value of Gibbs, the weaker the electric field control of the liquid crystal molecules and the more stressed alignment state.
The measurement point A is a place where reverse tilt is generated from liquid crystal molecule simulation, and does not show a uniform alignment state. Therefore, the elastic energy is high. Further, since it is also affected by the horizontal electric field of the adjacent pixels, the electric energy is also increased. Therefore, Gibbs energy is high.
At the measurement point B, the liquid crystal alignment state is uniform and the elastic energy is low. However, since it is affected by the lateral electric field of the adjacent pixel, the electrical energy becomes high in the same way as the measurement point A. Gibbs energy is more stable than measurement point A due to its low elastic energy.
In addition, the measurement point C is the center of the pixel and the center of the liquid crystal layer, the liquid crystal alignment state and the electric field are uniform, the elastic energy and the electric energy are low, and it can be said that the energy is very stable.

これらの結果から、本課題は、電位の異なる隣接する画素電極間の横電界の影響により、液晶分子はリバースチルト状態で配列されることによるGibbsのエネルギーの不安定化によるものと推測される。
また、画素間に、スペーサが配置された場合は特に配向乱れが顕著である。スペーサ周辺部は配向制御が困難だからである。
From these results, it is inferred that this problem is due to destabilization of Gibbs energy due to the liquid crystal molecules being arranged in a reverse tilt state due to the influence of the transverse electric field between adjacent pixel electrodes having different potentials.
Further, when a spacer is arranged between the pixels, the alignment disorder is particularly remarkable. This is because it is difficult to control the orientation of the spacer periphery.

そこて、隣接する画素電極間の横電界の影響の課題を解決するため、画素電極の形状について、様々な提案がなされてきた(たとえば特許文献2,3,4)。   Therefore, various proposals have been made on the shape of the pixel electrode in order to solve the problem of the influence of the lateral electric field between adjacent pixel electrodes (for example, Patent Documents 2, 3, and 4).

しかしながら、たとえば、特許文献2や3においては、横電界による影響や高開口率効果をうたいながらも、セルギャップ制御については全く議論されていない。
すなわち、前述したように高開口化による横電界の防止には、狭ギャップ化が非常に効果的であり、その狭ギャップ化を実現するには、セルギャップ制御は必要であると考えられる、上記各特許部文献2,3においては全く議論されていない。
However, in Patent Documents 2 and 3, for example, the cell gap control is not discussed at all, despite the influence of the lateral electric field and the high aperture ratio effect.
That is, as described above, narrowing the gap is very effective in preventing the lateral electric field by increasing the aperture, and cell gap control is considered necessary to realize the narrowing of the gap. No discussion is made in Patent Documents 2 and 3 at all.

一方で、特許文献4においては、スペーサ周囲の配向制御性が悪いといった理由から、スペーサ周囲の電極を回避することにより、実質的な画素領域として形成しないような設計をとっている。スペーサ周囲の配向が乱れてしまうのはこれまで述べたとおりである。
しかしながら、高精細、狭ピッチデバイスにおいては、特に画素電極とスペーサの位置関係が非常に重要であり、単純にスペーサ周囲の電極を回避するだけでは(特に特許文献4の実施例に書かれているような単純な画素電極設計で)、高特性のデバイスを得ることは容易ではない。
On the other hand, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-260260, a design is made so as not to form a substantial pixel region by avoiding an electrode around the spacer because of poor alignment controllability around the spacer. As described above, the orientation around the spacer is disturbed.
However, in a high-definition, narrow-pitch device, the positional relationship between the pixel electrode and the spacer is particularly important. Simply avoiding the electrode around the spacer (described in the example of Patent Document 4 in particular) With such a simple pixel electrode design, it is not easy to obtain a device with high characteristics.

本発明は、画素内に発生するリバースチルトドメインと隣接する画素電極に対応する画素内に形成するリバースチルトとの相互作用を低減でき、横電界による画質不良を改善でき、より高品位な画質を得ることができる液晶表示素子および投射型液晶表示装置を提供することにある。   The present invention can reduce the interaction between the reverse tilt domain generated in the pixel and the reverse tilt formed in the pixel corresponding to the adjacent pixel electrode, can improve the image quality defect due to the transverse electric field, and achieve higher quality image quality. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display element and a projection type liquid crystal display device that can be obtained.

本発明の第1の観点の液晶表示素子は、互いに対向する二つの基板と、前記二つの基板間に配置された液晶層と、マトリクス状の画素を形成すべく各基板の対向する面に配置される複数の画素電極と、前記液晶層の液晶を所定方向に配向させるために前記二枚の基板上に形成された配向膜と、前記二つの基板間において、隣接して配置された前記画素電極間に形成されたスペーサと、を有し、前記複数の画素電極の少なくとも一つは、前記スペーサに面する端部が多角形の一辺をなすように切り欠いた形状を有する。   A liquid crystal display element according to a first aspect of the present invention is provided on two opposing surfaces of each substrate so as to form two substrates facing each other, a liquid crystal layer disposed between the two substrates, and a matrix pixel. A plurality of pixel electrodes, an alignment film formed on the two substrates for aligning liquid crystals in the liquid crystal layer in a predetermined direction, and the pixels disposed adjacent to each other between the two substrates. Spacers formed between the electrodes, and at least one of the plurality of pixel electrodes has a shape in which an end facing the spacer is cut out so as to form one side of a polygon.

好適には、前記液晶表示素子は、フレーム毎に各画素電極に印加する電圧を同一極性で反転させるフレーム反転駆動を行うアクティブマトリクス型液晶表示素子である。   Preferably, the liquid crystal display element is an active matrix liquid crystal display element that performs frame inversion driving in which a voltage applied to each pixel electrode is inverted with the same polarity for each frame.

好適には、前記画素電極は、局所的にリバースチルトドメインの発現が少なくなり、トータルとして画素電極間を広がり、Gibbsのエネルギーが低減できる範囲で切り欠かれている。   Preferably, the pixel electrode is notched within a range in which the reverse tilt domain locally decreases, spreads between the pixel electrodes as a whole, and Gibbs energy can be reduced.

好適には、前記画素電極間隔は、Gibbsのエネルギーの第1の領域をS1、Gibbsのエネルギーの第2の領域をS2とし、S1/S2を指標とした場合に、第1の領域S1の占める割合が小さく安定する指標値に基づいて選定されている。   Preferably, the pixel electrode interval occupies the first region S1 when the first region of Gibbs energy is S1, the second region of Gibbs energy is S2, and S1 / S2 is an index. The ratio is selected based on an index value that is small and stable.

好適には、前記スペーサは、2次元的に隣接する4つの画素電極の端部で囲まれた領域の所定の位置に配置されている。   Preferably, the spacer is disposed at a predetermined position in a region surrounded by the ends of four pixel electrodes that are two-dimensionally adjacent.

好適には、前記スペーサは、前記4つの画素電極の端部から等距離にある前記領域の中央部に配置されている。
好適には、前記スペーサは前記隣接する4つの画素電極A1,A2,A3,A4の間に配置され、前記4つの画素電極は、配向方向に対し前段側をA1、A2、自段側をA3、A4と定義した場合に、スペーサ端部から画素電極A1,A2,A3,A4までの最短距離a1,a2,a3,a4は、a1=a2=a3=a4の関係を満足する。
Preferably, the spacer is arranged at the center of the region that is equidistant from the ends of the four pixel electrodes.
Preferably, the spacer is arranged between the four adjacent pixel electrodes A1, A2, A3, and A4, and the four pixel electrodes are A1 and A2 on the front stage side and A3 on the own stage side with respect to the alignment direction. , A4, the shortest distances a1, a2, a3, a4 from the spacer ends to the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 satisfy the relationship a1 = a2 = a3 = a4.

好適には、前記隣接する4つの画素電極A1,A2,A3,A4は、配向方向に対し前段側をA1、A2、自段側をA3、A4と定義した場合に、前記スペーサは、前記前段側の画素電極よりに配置されている。
好適には、前記スペーサ端部から画素電極A1,A2,A3,A4までの最短距離a1,a2,a3,a4は、
a1≦a2<a3≦a4もしくは、a3≧a4>a1≧a2の関係を満足する。
Preferably, the four adjacent pixel electrodes A1, A2, A3, and A4 are defined such that the front side is defined as A1 and A2 and the self side is defined as A3 and A4 with respect to the alignment direction. It is arranged from the pixel electrode on the side.
Preferably, the shortest distances a1, a2, a3, a4 from the edge of the spacer to the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 are:
The relationship of a1 ≦ a2 <a3 ≦ a4 or a3 ≧ a4> a1 ≧ a2 is satisfied.

好適には、前記2次元的に隣接する4つの画素電極の少なくとも一つの画素電極の切り欠き辺部に、前記スペーサ側に延びるように制御片が形成されている。   Preferably, a control piece is formed so as to extend to the spacer side at a notch side portion of at least one pixel electrode of the four pixel electrodes adjacent in two dimensions.

好適には、前記前段側の2つの画素電極A1,A2の少なくとも一方の画素電極の切り欠き辺部に、前記スペーサの配置位置側に延びるように制御片が形成されている。   Preferably, a control piece is formed on a notched side portion of at least one of the two pixel electrodes A1 and A2 on the preceding stage side so as to extend to the arrangement position side of the spacer.

好適には、前記スペーサは、前記前段側の2つの画素電極A1,A2の少なくとも一方の画素電極の切り欠き辺部よりに配置され、斜め配向方向に直交する側の前記前段側の他方の画素電極と自段側の一方の画素電極の少なくとも一方の画素電極の切り欠き辺部に、前記スペーサ側に延びるように制御片が形成されている。   Preferably, the spacer is disposed from a notch side portion of at least one of the two pixel electrodes A1 and A2 on the preceding stage side, and the other pixel on the preceding stage side on the side orthogonal to the oblique alignment direction. A control piece is formed to extend to the spacer side at the notched side of at least one pixel electrode of the electrode and one pixel electrode on the self-stage side.

好適には、前記前段側の画素電極の切り欠き面積<前記自段側の画素電極の切り欠きの関係を満足する。   Preferably, the relationship of the notch area of the pixel electrode on the preceding stage <the notch of the pixel electrode on the own stage side is satisfied.

本発明の第2の観点の投射型液晶表示装置は、光源と、少なくとも一つの液晶表示素子と、上記光源から出射された光を上記液晶表示素子に導く集光光学系と、上記液晶表示素子で光変調した光を拡大して投射する投射光学系と、を有し、上記液晶表示素子は、互いに対向する二つの基板と、前記二つの基板間に配置された液晶層と、マトリクス状の画素を形成すべく各基板の対向する面に配置される複数の画素電極と、前記液晶層の液晶を所定方向に配向させるために前記二枚の基板上に形成された配向膜と、前記二つの基板間において、隣接して配置された前記画素電極間に形成されたスペーサと、を有し、前記複数の画素電極の少なくとも一つは、前記スペーサに面する端部が多角形の一辺をなすように切り欠いた形状を有し、前記液晶表示素子は、フレーム毎に各画素電極に印加する電圧を同一極性で反転させるフレーム反転駆動を行うアクティブマトリクス型液晶表示素子である。   A projection-type liquid crystal display device according to a second aspect of the present invention includes a light source, at least one liquid crystal display element, a condensing optical system for guiding light emitted from the light source to the liquid crystal display element, and the liquid crystal display element. And a projection optical system for enlarging and projecting the light modulated by the liquid crystal display element, the liquid crystal display element, two substrates facing each other, a liquid crystal layer disposed between the two substrates, and a matrix-like A plurality of pixel electrodes disposed on opposite surfaces of each substrate to form pixels; an alignment film formed on the two substrates for aligning liquid crystals in the liquid crystal layer in a predetermined direction; A spacer formed between adjacent pixel electrodes between two substrates, and at least one of the plurality of pixel electrodes has an end facing the spacer having one side of a polygon. The liquid has a shape cut out as if Display device is an active matrix type liquid crystal display device which performs frame inversion driving of inverting the voltage applied to each pixel electrode in each frame in the same polarity.

本発明によれば、画素電極の形状を工夫することにより、画素内に発生するリバースチルトドメインと隣接する画素電極に対応する画素内に形成するリバースチルトドメインとの相互作用を低減できる。その結果フィールド反転駆動にて発生する横電界起因の画質不良を改善することができる。またスペーサ周辺部の配向乱れを制御することでより高品位な画質を得ることができる。
本発明を適用することにより、高画質の液晶表示素子を実現することが可能となる。
また、プロジェクタ等の投射型LCDにおいてはパネル小型化もしくは有効画素領域拡大による高開口率化も可能となり、セルギャップ制御による高生産性、高歩留まり化も実現できる。無機材料などの材料も画質を劣化させることなく適用できるので長寿命化も可能となる。
According to the present invention, by devising the shape of the pixel electrode, the interaction between the reverse tilt domain generated in the pixel and the reverse tilt domain formed in the pixel corresponding to the adjacent pixel electrode can be reduced. As a result, it is possible to improve the image quality defect caused by the horizontal electric field generated by the field inversion driving. In addition, higher quality image quality can be obtained by controlling the alignment disturbance in the periphery of the spacer.
By applying the present invention, a high-quality liquid crystal display element can be realized.
In addition, in a projection type LCD such as a projector, it is possible to increase the aperture ratio by reducing the panel size or expanding the effective pixel area, and it is possible to realize high productivity and high yield by cell gap control. Since materials such as inorganic materials can be applied without degrading the image quality, the life can be extended.

以下、本発明の実施の形態を図面に関連付けて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施形態においては、アクティブマトリクス型液晶表示素子の特徴的な構成および機能を説明した後、この液晶表示素子が適用される好適な電子機器である投射型液晶表示装置に概略構成および機能について説明する。   In this embodiment, after explaining the characteristic configuration and function of the active matrix liquid crystal display element, the schematic configuration and function of the projection type liquid crystal display device, which is a suitable electronic apparatus to which the liquid crystal display element is applied, will be described. To do.

図7は、本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子の概略構成を示す断面図である。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the active matrix liquid crystal display element according to the present embodiment.

本実施形態に係る液晶表示素子10は、図7に示すように、TFTアレイ基板11と、TFTアレイ基板11に対向配置される透明な対向基板12とを備えている。
TFTアレイ基板11は、たとえば透過型の場合、石英基板、反射型の場合、たとえばシリコン材料に基板により形成される。対向基板12は、たとえばガラス基板や石英基板により形成される。TFTアレイ基板11には、透過型の場合、画素電極13が設けられている。
画素電極13は、たとえばITO膜(インジウム・ティン・オキサイド膜)などの透明導電性薄膜により形成される。反射型の場合、画素電極13としては、たとえば金属材料からなる反射電極を用いる。金属材料としては、可視域で高い反射率を有するアルミニウムを用いるのが一般的である。より詳しくは、銅やシリコンを数wt%添加したアルミニウム金属膜が一般に使用される。その他に、たとえば、白金、銀、金、タングステン、チタンなどを用いることも可能である。対向基板12には、前述した全面ITO膜14が前面に設けられている。
TFTアレイ基板11と対向基板12とには、液晶を所定方向に配向させるための図示しない配向膜が形成されており、配向膜が所定間隙で対向するようにシール材15で貼り合わせた一対の基板間に垂直配向液晶層16が挟持されている(封入されている)。
As shown in FIG. 7, the liquid crystal display element 10 according to the present embodiment includes a TFT array substrate 11 and a transparent counter substrate 12 disposed to face the TFT array substrate 11.
For example, the TFT array substrate 11 is formed of a quartz substrate in the case of a transmission type, and a substrate of silicon material in the case of a reflection type. The counter substrate 12 is formed of, for example, a glass substrate or a quartz substrate. In the case of a transmission type, the TFT array substrate 11 is provided with a pixel electrode 13.
The pixel electrode 13 is formed of a transparent conductive thin film such as an ITO film (indium tin oxide film). In the case of the reflection type, for example, a reflection electrode made of a metal material is used as the pixel electrode 13. As the metal material, aluminum having a high reflectance in the visible range is generally used. More specifically, an aluminum metal film added with several wt% of copper or silicon is generally used. In addition, for example, platinum, silver, gold, tungsten, titanium, or the like can be used. The counter substrate 12 is provided with the above-described entire ITO film 14 on the front surface.
An alignment film (not shown) for aligning liquid crystals in a predetermined direction is formed on the TFT array substrate 11 and the counter substrate 12, and a pair of layers bonded together with a sealing material 15 so that the alignment films face each other with a predetermined gap. A vertically aligned liquid crystal layer 16 is sandwiched (encapsulated) between the substrates.

図8は、本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子のアレイ基板(液晶パネル部)における配置例を示す図である。   FIG. 8 is a diagram illustrating an arrangement example of the active matrix type liquid crystal display element according to the present embodiment on the array substrate (liquid crystal panel unit).

図8に示すように、液晶表示素子10Aは、画素がアレイ状に配列された画素表示領域21、水平転送回路22、垂直転送回路23−1,23−2、プリチャージ回路24、およびレベル変換回路25を含んで形成されている。
画素表示領域21には複数のデータ線26と複数の走査線(ゲート配線)27が格子状に配線され、各データ線26の一端側は水平転送回路22に接続され、他端側はプリチャージ回路24に接続され、各走査線27の端部が垂直転送回路23−1,23−2に接続されている。
As shown in FIG. 8, the liquid crystal display element 10A includes a pixel display area 21 in which pixels are arranged in an array, a horizontal transfer circuit 22, vertical transfer circuits 23-1 and 23-2, a precharge circuit 24, and a level converter. The circuit 25 is formed.
In the pixel display area 21, a plurality of data lines 26 and a plurality of scanning lines (gate wirings) 27 are wired in a grid pattern. One end of each data line 26 is connected to the horizontal transfer circuit 22, and the other end is precharged. Connected to the circuit 24, the end of each scanning line 27 is connected to the vertical transfer circuits 23-1, 23-2.

液晶表示素子10Aの画素表示領域21を構成するマトリクス状に複数形成された画素PXには、スイッチング制御する画素スイッチング用トランジスタ28、液晶29、および補助容量(蓄積容量)30が設けられている。
画素信号が供給されるデータ線26がトランジスタ28のソースに電気的に接続されており、書き込む画素信号を供給している。また、トランジスタ28のゲートに走査線27が電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線27にパルス的に走査信号を印加するように構成されている。
画素電極13は、トランジスタ28のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるトランジスタ28を一定期間だけそのスイッチをオンさせることにより、データ線26から供給される画素信号を所定のタイミングで画素信号を書き込む。
A plurality of pixels PX that are formed in a matrix that forms the pixel display region 21 of the liquid crystal display element 10A are provided with a pixel switching transistor 28 that controls switching, a liquid crystal 29, and an auxiliary capacitor (storage capacitor) 30.
A data line 26 to which a pixel signal is supplied is electrically connected to the source of the transistor 28 and supplies a pixel signal to be written. In addition, the scanning line 27 is electrically connected to the gate of the transistor 28, and the scanning signal is applied to the scanning line 27 in a pulse manner at a predetermined timing.
The pixel electrode 13 is electrically connected to the drain of the transistor 28. By turning on the transistor 28, which is a switching element, for a certain period, the pixel signal supplied from the data line 26 is transmitted at a predetermined timing. Write pixel signal.

画素電極13を介して液晶29に書き込まれた所定レベルの画素信号は、対向基板12に形成された対向電極との間で一定期間保持される。液晶29は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。
ノーマリホワイト表示であれば、印加された電圧に応じて入射光がこの液晶部分を通過可能とされ、全体として液晶表示素子から画素信号に応じたコントラストを持つ光が出射する。
ここで、保持された画素信号がリークされるのを防ぐために、画素電極と対向電極との間に形成される液晶容量と並列に補助容量(蓄積容量)30を付加してある。これにより、保持特性はさらに改善され、コントラスト比の高い液晶表示素子が実現できる。
また、このような保持容量(蓄積容量)30を形成するために、抵抗化されたコモン配線31が設けられている。
A pixel signal of a predetermined level written to the liquid crystal 29 via the pixel electrode 13 is held for a certain period with the counter electrode formed on the counter substrate 12. The liquid crystal 29 modulates light and enables gradation display by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level.
In the case of normally white display, incident light can pass through the liquid crystal portion according to the applied voltage, and light having a contrast corresponding to the pixel signal is emitted from the liquid crystal display element as a whole.
Here, in order to prevent the held pixel signal from leaking, an auxiliary capacitor (storage capacitor) 30 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode and the counter electrode. Thereby, the retention characteristics are further improved, and a liquid crystal display element with a high contrast ratio can be realized.
In addition, in order to form such a storage capacitor (storage capacitor) 30, a resistance common wiring 31 is provided.

図9は、本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子の具体的な構成例を示す断面図である。
この図9に関連付けて本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子の製造方法を説明する。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a specific configuration example of the active matrix liquid crystal display element according to the present embodiment.
A manufacturing method of the active matrix type liquid crystal display element according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

まず、石英からなるTFTアレイ基板11上に、第一の遮光膜32として、高融点の金属(本実施例ではWSi)を形成する。
その後、第一層間膜33としてSiO2を積層し、CVD法を用いて、多結晶Si膜(p-Si)34を形成し、エッチングによりパターン形成をする。
その後、ゲート絶縁膜35を形成し、ゲート電極36として、多結晶Si膜(p-Si)を形成し、エッチングによりパターン形成を行う。
その後、第二層間膜37として、SiO2を積層し、ソース、ドレイン電極として第一のコンタクト38を形成する。
第一の配線膜39として金属材料(本実施例ではAl)をスパッタなどの成膜により形成し、エッチングによりパターニングを行う。
その後、第三の層間膜40として、SiO2を積層し、第二のコンタクト41を形成した後に、第2の遮光膜42として、金属膜(本実施例ではTi)を形成する。
第四の層間膜43としてSiO2を積層し、第三のコンタクト44を形成し、透明電極45としてITOを形成する。
次いで、柱状スペーサ46となる透明レジスト層を形成する。
基板上にフォトレジストを所定厚さに塗布した後、フォトマスクを用いて紫外線照射による露光処理を行い、その後、現像し、焼成を行って、柱状スペーサ46を形成する。柱状スペーサ46は、隣接する画素電極の間の所望の位置に配置される。
次いで、作製したTFTアレイ基板11および対向基板12を洗浄する。
次いで、各基板に配向膜を形成する。
次いで、所定の配向になるようにラビングを行い、注入口を除いて形成されるシールパターンを形成し、液晶組成物を注入する。
First, a high melting point metal (WSi in this embodiment) is formed as the first light shielding film 32 on the TFT array substrate 11 made of quartz.
Thereafter, SiO 2 is laminated as the first interlayer film 33, a polycrystalline Si film (p-Si) 34 is formed by CVD, and a pattern is formed by etching.
Thereafter, a gate insulating film 35 is formed, a polycrystalline Si film (p-Si) is formed as the gate electrode 36, and a pattern is formed by etching.
Thereafter, SiO 2 is laminated as the second interlayer film 37, and the first contact 38 is formed as the source and drain electrodes.
A metal material (Al in the present embodiment) is formed as the first wiring film 39 by film formation such as sputtering, and patterning is performed by etching.
Thereafter, SiO 2 is laminated as the third interlayer film 40 and the second contact 41 is formed, and then a metal film (Ti in this embodiment) is formed as the second light shielding film 42.
SiO 2 is laminated as the fourth interlayer film 43, the third contact 44 is formed, and ITO is formed as the transparent electrode 45.
Next, a transparent resist layer to be the columnar spacer 46 is formed.
After a photoresist is applied to a predetermined thickness on the substrate, an exposure process by ultraviolet irradiation is performed using a photomask, followed by development and baking to form columnar spacers 46. The columnar spacer 46 is disposed at a desired position between adjacent pixel electrodes.
Next, the fabricated TFT array substrate 11 and counter substrate 12 are washed.
Next, an alignment film is formed on each substrate.
Next, rubbing is performed so as to obtain a predetermined orientation, a seal pattern is formed except for the injection port, and a liquid crystal composition is injected.

このようにして形成される本実施形態に係る液晶表示素子10,10Aは、以下に示すように、画素電極の形状を工夫することにより、画素内に発生するリバースチルトドメインと隣接する画素電極に対応する画素内に形成されるリバースチルトドメインとの相互作用を低減している。これにより、液晶表示素子10,10Aは、フィールド反転駆動にて発生する横電界起因の画質不良を改善している。また、液晶表示素子10,10Aは、スペーサ周辺部の配向乱れを制御することにより高品位な画質を実現している。
以下に、本実施形態の液晶表示素子10,10Aの画素電極形状およびスペーサの配置位置について説明する。
As described below, the liquid crystal display elements 10 and 10A according to the present embodiment formed in this way can be applied to the pixel electrode adjacent to the reverse tilt domain generated in the pixel by devising the shape of the pixel electrode. The interaction with the reverse tilt domain formed in the corresponding pixel is reduced. Thereby, the liquid crystal display elements 10 and 10A improve the image quality defect caused by the horizontal electric field generated by the field inversion driving. Further, the liquid crystal display elements 10 and 10A realize high-quality image quality by controlling the alignment disorder around the spacer.
Below, the pixel electrode shape of the liquid crystal display elements 10 and 10A of this embodiment and the arrangement position of the spacer will be described.

設計パラメータとしては、横電界制御が重要であり、画素電極であるITO間隔の縮小やITO形状の最適化、スペーサ周辺部分の配向制御が非常に重要となる。
ゆえに、本実施形態の液晶表示素子10,10Aは、以下に示すような構成を採用している。
As a design parameter, lateral electric field control is important, and it is very important to reduce the interval between ITO electrodes as pixel electrodes, optimize the ITO shape, and control the orientation of the peripheral portion of the spacer.
Therefore, the liquid crystal display elements 10 and 10A of the present embodiment employ the following configuration.

基本的には、隣接して配置された画素電極間に形成したスペーサ46を有する液晶表示素子において、画素電極の端部形状は、四角形より多角形の一辺をとなるように切り欠いた形状である。   Basically, in a liquid crystal display element having a spacer 46 formed between adjacent pixel electrodes, the end shape of the pixel electrode is a shape that is cut out so that one side of the polygon is formed from a quadrangle. is there.

画素内に発生するリバースチルトドメインと隣接する画素電極に対応する画素内に形成するリバースチルトドメインとの相互作用を低減することが有効である。
具体的には、互いに隣接するリバースチルトドメインの間隔を最短電極間隔よりも広げることにより隣接するリバースチルトドメイン同士を物理的に引き離せばよい。しかしながら、小型化、高精細、高輝度、高開口デバイスを実現させるには、画素電極間は狭くせざるを得ない。
画素電極の端部形状を切り欠くことにより、局所的にリバースチルトドメインの発現が少なくなり、トータルとして画素電極間を広げていることと同等の効果が望める。特に、Gibbsのエネルギーでいえば、その値を小さくしていくように設計すればよい。なお、画素電極間とGibbsのエネルギーの関係については、画素電極間が広くなるほど、Gibbsのエネルギーは低減できる。
It is effective to reduce the interaction between the reverse tilt domain generated in the pixel and the reverse tilt domain formed in the pixel corresponding to the adjacent pixel electrode.
Specifically, the adjacent reverse tilt domains may be physically separated by widening the interval between the adjacent reverse tilt domains beyond the shortest electrode interval. However, in order to realize miniaturization, high definition, high brightness, and a high aperture device, the space between the pixel electrodes must be narrowed.
By cutting out the end shape of the pixel electrode, the reverse tilt domain is locally reduced, and the same effect as widening the space between the pixel electrodes can be expected. In particular, in terms of Gibbs energy, the value may be designed to decrease. As for the relationship between the pixel electrodes and the Gibbs energy, the wider the gap between the pixel electrodes, the more the Gibbs energy can be reduced.

ここで、画素電極間とGibbsのエネルギーの関係について説明する。
図10に示すように、GibbsのエネルギーGが0より大きい領域を第1の領域S1(G>0)、GibbsのエネルギーGが0より小さい領域を第2の領域S2(G<0)のエネルギーを次式による指標(Y)とする。
Here, the relationship between the pixel electrodes and the Gibbs energy will be described.
As shown in FIG. 10, the region where the Gibbs energy G is larger than 0 is the first region S1 (G> 0), and the region where the Gibbs energy G is smaller than 0 is the energy of the second region S2 (G <0). Is an index (Y) according to the following equation.

Figure 2008009195
Figure 2008009195

図11(A),(B)は、Gibbsのエネルギーの画素電極(ITO)間隔依存性を示す図である。
図11(A)において、横軸が座標を示し、縦軸がGibbsのエネルギーを示している。図11(B)において、横軸がITO間隔を示し、縦軸が指標(Y)を示している。
図11(A)中に、Xで示す曲線がITO間隔が1.0μmの場合の特性を、Yで示す曲線がITO間隔が1.5μmの場合の特性を、Zで示す曲線がITO間隔が2.0μmの場合の特性を示している。
図11(A)の特性を指標に変換すると図11(B)のような結果が得られる。
この指標(Y)からわかるように、ITO間隔が小さくなると指標が大きくなる。換言すると、第1の領域S1が占める割合が大きくなる。
図11(B)からITO間隔が2.0μmより大きい場合に、第1の領域S1の占める割合が小さく、しかもGibbsのエネルギーを低減できる。
FIGS. 11A and 11B are diagrams showing the dependence of Gibbs energy on the pixel electrode (ITO) interval.
In FIG. 11A, the horizontal axis indicates coordinates, and the vertical axis indicates Gibbs energy. In FIG. 11B, the horizontal axis indicates the ITO interval, and the vertical axis indicates the index (Y).
In FIG. 11 (A), the curve indicated by X is the characteristic when the ITO interval is 1.0 μm, the curve indicated by Y is the characteristic when the ITO interval is 1.5 μm, and the curve indicated by Z is the ITO interval. The characteristic in the case of 2.0 μm is shown.
When the characteristics shown in FIG. 11A are converted into indices, the result shown in FIG. 11B is obtained.
As can be seen from this index (Y), the index increases as the ITO interval decreases. In other words, the ratio occupied by the first region S1 increases.
From FIG. 11B, when the ITO interval is larger than 2.0 μm, the proportion of the first region S1 is small, and the energy of Gibbs can be reduced.

本実施形態においては、第1の領域S1の占める割合が小さく、しかもGibbsのエネルギーを低減できるように、たとえば図12に示すように、2次元状において所定間隔をおき互いに隣接する4つの画素電極A1,A2,A3,A4の対向する端部を切り欠き、スペーサSP(図9のスペーサ46)が4つの画素電極A1,A2,A3,A4の間に位置するように配置されている。   In the present embodiment, for example, as shown in FIG. 12, four pixel electrodes that are adjacent to each other at a predetermined interval in a two-dimensional manner so that the proportion of the first region S1 is small and the energy of Gibbs can be reduced. The opposed end portions of A1, A2, A3, and A4 are cut out, and the spacer SP (the spacer 46 in FIG. 9) is disposed between the four pixel electrodes A1, A2, A3, and A4.

画素電極A1,A2,A3,A4の端部とは、たとえば図13に示すように、2次元的に配置された形状が四角形をなす各画素電極の4隅部分の全部または一部を指し、この4隅部分が約90度をなす頂点部分を三角形あるいはそれ以上の多角形の頂点となり、切り欠き部分がその三角形の底辺部の全部あるいは一部となるように切り欠かれている。
画素電極A1は、4隅C11,C12,C13,C14の各頂点部分が三角形の頂点となり、切り欠き部分がその三角形の底辺部となるように切り欠かれている。
画素電極A2は、4隅C21,C22,C23,C24の各頂点部分が三角形の頂点となり、切り欠き部分がその三角形の底辺部となるように切り欠かれている。
画素電極A3は、4隅C31,C32,C33,C34の各頂点部分が三角形の頂点となり、切り欠き部分がその三角形の底辺部となるように切り欠かれている。
画素電極A4は、4隅C41,C42,C43,C44の各頂点部分が三角形の頂点となり、切り欠き部分がその三角形の底辺部となるように切り欠かれている。
このように4隅が切り欠かれた画素電極A1,A2,A3,A4は八角形に形成され、その切り欠き辺部は、八角形(多角形)の一辺をなすように切り欠いた形状を有する。
The ends of the pixel electrodes A1, A2, A3, and A4 indicate, for example, as shown in FIG. 13, all or part of the four corners of each pixel electrode in which the two-dimensionally arranged shape forms a quadrangle, These four corners are cut out so that the apex part forming about 90 degrees is the apex of a triangle or more polygons, and the notch part is all or part of the base of the triangle.
The pixel electrode A1 is cut out so that the vertexes of the four corners C11, C12, C13, and C14 are the vertices of the triangle, and the cutout portion is the base of the triangle.
The pixel electrode A2 is cut out so that the apexes of the four corners C21, C22, C23, and C24 are the apexes of the triangle, and the notch is the base of the triangle.
The pixel electrode A3 is cut out so that the apexes of the four corners C31, C32, C33, and C34 are the apexes of the triangle, and the notch is the base of the triangle.
The pixel electrode A4 is cut out so that the apexes of the four corners C41, C42, C43, and C44 are apexes of the triangle, and the notch is the base of the triangle.
Thus, the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 with the four corners cut out are formed in an octagon, and the cut out side portion has a shape cut out to form one side of the octagon (polygon). Have.

図12の例においては、この切り欠きする形状は、たとえば二等辺三角形となるように対称的に切り欠かれている。
したがって、図12の例では、画素電極A1の切り欠き辺部A11と画素電極A4の切り欠き辺部A41は略平行となるように形成されていることになる。同様に、画素電極A2の切り欠き辺部A21と画素電極A3の切り欠き辺部A31は略平行となるように形成されていることになる。
スペーサSPは、たとえば円柱状に形成され隣接する4つの画素電極A1,A2,A3,A4の間の所定の位置に配置されている。
図12の例においては、4つの画素電極A1,A2,A3,A4は、矢印ARWで示す配向方向に対し前段側の画素電極A1、A2、自段側の画素電極A3、A4と定義し、スペーサSP端部(側面部)から画素電極A1,A2,A3,A4の各切り欠き辺部A11,A21,A31,A41までの最短距離aはa1=a2=a3=a4であることを特徴としている。
換言すれば、図12の例においては、スペーサSPは、画素電極A1,A2,A3,A4の各切り欠き辺部A11,A21,A31,A41から略等間隔となると、4つの画素電極A1,A2,A3,A4の間のほぼ中央部に配置されている。
図12においては、スペーサSPは、前段側画素電極A1,A2と自段側画素電極A3,A4の配置間隔Dの中央(センター)部CTR上において、画素電極A1,A2,A3,A4の各切り欠き辺部A11,A21,A31,A41から略等間隔となる位置(中央部)に配置されている。
In the example of FIG. 12, this notched shape is notched symmetrically so as to be an isosceles triangle, for example.
Accordingly, in the example of FIG. 12, the cutout side portion A11 of the pixel electrode A1 and the cutout side portion A41 of the pixel electrode A4 are formed to be substantially parallel. Similarly, the cutout side portion A21 of the pixel electrode A2 and the cutout side portion A31 of the pixel electrode A3 are formed to be substantially parallel.
The spacer SP is formed in a columnar shape, for example, and is arranged at a predetermined position between four adjacent pixel electrodes A1, A2, A3, A4.
In the example of FIG. 12, four pixel electrodes A1, A2, A3, and A4 are defined as pixel electrodes A1 and A2 on the front stage side and pixel electrodes A3 and A4 on the own stage side with respect to the alignment direction indicated by the arrow ARW, The shortest distance a from the end (side surface) of the spacer SP to the cutout sides A11, A21, A31, A41 of the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 is a1 = a2 = a3 = a4. Yes.
In other words, in the example of FIG. 12, when the spacer SP is substantially equidistant from the notch sides A11, A21, A31, A41 of the pixel electrodes A1, A2, A3, A4, It is arrange | positioned in the approximate center part between A2, A3, and A4.
In FIG. 12, the spacer SP is formed on each of the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 on the center (center) portion CTR of the arrangement interval D between the previous stage side pixel electrodes A1, A2 and the own stage side pixel electrodes A3, A4. It arrange | positions in the position (center part) which becomes a substantially equal space | interval from notch edge part A11, A21, A31, A41.

図12の例のように、画素電極A1,A2,A3,A4の端部形状を切り欠くことにより、局所的にリバースチルトドメインの発現が少なくなり、トータルとして画素電極間を広げていることと同等の効果が望める。したがって、Gibbsのエネルギーを低減できる。   As in the example of FIG. 12, by notching the end shapes of the pixel electrodes A1, A2, A3, and A4, the expression of the reverse tilt domain is locally reduced and the space between the pixel electrodes is expanded as a whole. The same effect can be expected. Therefore, the energy of Gibbs can be reduced.

狭ピッチ高精細デバイスの場合、上述したように横電界によるリバースチルトドメインによる配向乱れには非常に厳しい方向にある。対策としては、セルギャップを薄くして、縦電界を強めることが効果的であるが、狭ギャップ化は、制御が困難であるため、スペーSPを配置することが非常に有効である。   In the case of a narrow-pitch high-definition device, as described above, the alignment disturbance due to the reverse tilt domain due to the transverse electric field is in a very severe direction. As a countermeasure, it is effective to reduce the cell gap and increase the vertical electric field. However, since it is difficult to control the narrowing of the gap, it is very effective to arrange a space SP.

また、好適な実施形態として、図14に示すように、スペーサSPを、センター部CTRより前段側に配置する。
この場合、スペーサSPの端部から画素電極A1,A2,A3,A4の各切り欠き辺部A11,A21,A31,A41までの最短距離aはa1≦a2<a3≦a4もしくは、a3≧a4>a1≧a2であることを特徴とている。
Further, as a preferred embodiment, as shown in FIG. 14, the spacer SP is disposed on the front side of the center portion CTR.
In this case, the shortest distance a from the end of the spacer SP to the cutout sides A11, A21, A31, A41 of the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 is a1 ≦ a2 <a3 ≦ a4 or a3 ≧ a4>. It is characterized by a1 ≧ a2.

配向制御する場合、スペーサSPは大きな段差であり、その配向方向の下流部分は影になってしまい、配向制御がまったくされない領域が発生する。たとえば、配向制御をラビング等で実施する場合のスペーサの配置位置は、ラビングの下流(影)となってしまう部分が画素部にかからないように配置したほうが高品位の表示が実現できる。特に画素電極A3,A4側はラビングの下流部分となってしまうため、図14に示すように、前段側画素電極A1,A2寄りにスペーサSPを配置する。   When the orientation control is performed, the spacer SP has a large step, and the downstream portion in the orientation direction becomes a shadow, and a region where the orientation control is not performed is generated. For example, when the alignment control is performed by rubbing or the like, a high-quality display can be realized by arranging the spacers so that a portion that is downstream (shadow) of rubbing does not cover the pixel portion. In particular, since the pixel electrodes A3 and A4 side become the downstream portion of the rubbing, as shown in FIG. 14, the spacer SP is disposed near the front stage side pixel electrodes A1 and A2.

さらに、好適な実施形態として、図15に示すように、4隅の切りかかれた画素電極において少なくとも2隅が、前段側の画素電極A1,A2の切り欠き面積<自段側の画素電極A3,A4の切り欠きの関係であるように形成されている。
すなさち、前段側の画素電極A1,A2の4隅部分が約90度をなす頂点部分を三角形以上の多角形の頂点となり、切り欠き部分がその三角形の底辺部の一部となるように切り欠かれている。
換言すれば、前段側の画素電極A1,A2の切り欠き辺部A11,A21にスペーサSPの側面側に延びるように、電界による配向制御部としての鍔部(制御片)A12、A22が形成されている。なお、電界による配向制御部としての鍔部(制御片)A12、A22はいずれか一方のみを設ける構成にしても配向制御の機能は得られる。
Further, as a preferred embodiment, as shown in FIG. 15, at least two corners of the pixel electrode cut out at the four corners are notched areas of the pixel electrodes A1 and A2 on the front stage <the pixel electrodes A3 on the own stage side. It is formed so as to have a notch relationship of A4.
In other words, the apex portion where the four corners of the pixel electrodes A1 and A2 on the front stage side are about 90 degrees becomes a vertex of a polygon that is a triangle or more, and the notch becomes a part of the base of the triangle. It is cut out.
In other words, flanges (control pieces) A12 and A22 as alignment control units by an electric field are formed on the cutout side portions A11 and A21 of the pixel electrodes A1 and A2 on the front stage side so as to extend to the side surface side of the spacer SP. ing. Note that the alignment control function can be obtained even when only one of the collars (control pieces) A12 and A22 is provided as an alignment control unit using an electric field.

スペーサSPの周辺部はラビング等の配向手法による液晶分子の制御が困難である。特に前述した配向方向の下流部分(影)は、はるかに顕著な乱れであるが、スペーサSPの周辺部はどの場所においても配向乱れは発生する。
特に、画素電極A1,A2寄りに形成したスペーサSPは、少しの配向乱れでも表示に現れてしまうシビアな場所に配置される、スペーサ領域周辺部を可能な限り電界で制御してやる。その結果、画素電極A1,A2近傍のスペーサ周辺部では、電界による配向制御が可能となる。
It is difficult to control the liquid crystal molecules at the periphery of the spacer SP by an alignment method such as rubbing. In particular, the downstream portion (shadow) in the alignment direction described above is much more disturbing, but the alignment perturbation occurs anywhere in the periphery of the spacer SP.
In particular, the spacer SP formed near the pixel electrodes A1 and A2 controls the periphery of the spacer region as much as possible with an electric field, which is arranged in a severe place where even a slight alignment disturbance appears in the display. As a result, alignment control by an electric field is possible in the spacer peripheral portion in the vicinity of the pixel electrodes A1 and A2.

さらに、別の実施形態として、図16に示すように、配向方向が画素電極A2側から自段側画素電極A3に向かって斜めに行われる場合(たとえば斜め45配向の場合)には、スペーサSPが前段側画素電極A2よりに配置され、前段側画素電極A1および自段側画素電極A4の切り欠き辺部A11,A14に鍔部(制御片)A12,A42が形成され、あるいは切り欠かずに頂点部を残すような構成が採用される。
この場合、画素電極A2よりに形成したスペーサSPは、少しの配向乱れでも表示に現れてしまうシビアな場所に配置される、スペーサ領域周辺部を可能な限り電界で制御してやる。その結果、画素電極A1,A4近傍のスペーサ周辺部では、電界による配向制御が可能となる。
Furthermore, as another embodiment, as shown in FIG. 16, when the alignment direction is performed obliquely from the pixel electrode A2 side toward the self-stage side pixel electrode A3 (for example, in the case of an oblique 45 alignment), the spacer SP Are arranged in front of the front stage side pixel electrode A2, and the collar parts (control pieces) A12, A42 are formed on the cutout side parts A11, A14 of the front stage side pixel electrode A1 and the self stage side pixel electrode A4 or without being cut out. A configuration that leaves a vertex is employed.
In this case, the spacer SP formed from the pixel electrode A2 controls the periphery of the spacer region as much as possible with an electric field, which is arranged in a severe place where even a slight alignment disturbance appears in the display. As a result, alignment control by an electric field is possible in the spacer peripheral portion in the vicinity of the pixel electrodes A1 and A4.

以上説明したような特徴的な切り欠き形状を持つ複数の画素電極とそれらの間に配置されたスペーサ有する本実施形態に係る液晶表示素子10,10Aは、たとえば透過型の液晶パネルに公的である。
また、特に配向制御にラビングを用いる場合は、スペーサ周辺の配向制御は段差の存在から、非常に困難である。本発明はラビングを用いた配向制御法に非常に効果が大きい。
また、液晶層に用いる液晶材料は室温での屈折率異方性が0.10以上であり、セルギャップが4μm以下であることを特徴としている。
また、液晶表示素子の画素ピッチは20μm以下であり、また、配向膜に無機配向膜を用いることも可能である。
The liquid crystal display elements 10 and 10A according to the present embodiment having a plurality of pixel electrodes having a characteristic cutout shape as described above and spacers arranged between them are publicly used in, for example, a transmissive liquid crystal panel. is there.
In particular, when rubbing is used for alignment control, alignment control around the spacer is very difficult due to the presence of steps. The present invention is very effective for the alignment control method using rubbing.
In addition, the liquid crystal material used for the liquid crystal layer is characterized in that the refractive index anisotropy at room temperature is 0.10 or more and the cell gap is 4 μm or less.
The pixel pitch of the liquid crystal display element is 20 μm or less, and an inorganic alignment film can be used as the alignment film.

特に、液晶プロジェクタは、狭ピッチ高精細デバイスであり、更に拡大投影するため画質異常が目立ちやすい。上述した横電界によるリバースチルトドメインによる配向乱れには非常に厳しい方向にある。対策としては、狭ギャップ化、すなわちセルギャップを薄くして、TFTアレイ基板と対向基板の上下方向の電界を強め、横方向の電界の影響を防止することも効果的である。狭ギャップ化については、特に遮光部などに選択式のスペーサを作成することがギャップ制御に非常に有効である。なお、最大透過率特性を得るには、前述したセルギャップを薄くするといった対策を施した場合、液晶の屈折率異方性Δnを高くする必要がある。
たとえば、クロスニコル下にTN配向セルを置いた場合(TN配向で電圧OFF時の透過率)は、次のようになる。
In particular, the liquid crystal projector is a narrow-pitch, high-definition device, and further enlarges and projects, so image quality abnormality is easily noticeable. The orientation disturbance due to the reverse tilt domain due to the lateral electric field is in a very severe direction. As a countermeasure, it is also effective to narrow the gap, that is, to thin the cell gap, to strengthen the vertical electric field between the TFT array substrate and the counter substrate, and to prevent the influence of the horizontal electric field. For narrowing the gap, it is very effective for gap control to create a selective spacer especially in the light shielding portion. In order to obtain the maximum transmittance characteristic, it is necessary to increase the refractive index anisotropy Δn of the liquid crystal when the above-described measures are taken to reduce the cell gap.
For example, when a TN alignment cell is placed under crossed Nicols (transmittance when the voltage is OFF in TN alignment), it is as follows.

[数3]
T=1-[sin2 ((1+u2)1/2 ×π/2)]/ (1+u2)
u=2Δnd/λ
[Equation 3]
T = 1- [sin2 ((1 + u2) 1/2 x π / 2)] / (1 + u2)
u = 2Δnd / λ

・(1+u2 )1/2 =2nとなれば最大(Max)となる。
・Δnd=(4n2 -1 )1/2 × (λ/2)のとき最大(Max)となる。
したがって、次の関係を得る
・ If (1 + u2) 1/2 = 2n, the maximum value is reached.
・ Maximum when Δnd = (4n2 −1) 1/2 × (λ / 2).
So you get the following relationship

[数4]
1stΔnd=√3×(λ/2)
[Equation 4]
1stΔnd = √3 × (λ / 2)

上記式から、緑色光(550nm)における最大透過率設計は、Δnd=0.48μmとなり、たとえば、セルギャップ4μm以下のときは、Δn=0.12以上が必要となる。
また近年では、プロジェクタに有利な光に強く高寿命化を狙える無機系の配向膜も検討されている。無機系の配向膜材料は、通常のポリイミド等の有機材料に比べ、配向規制力が小さいものが多く、電界の力をより受けやすい。ゆえに、本発明の有効性が発揮できる。
From the above formula, the maximum transmittance design for green light (550 nm) is Δnd = 0.48 μm. For example, when the cell gap is 4 μm or less, Δn = 0.12 or more is required.
In recent years, inorganic alignment films that are resistant to light, which are advantageous for projectors, and have a long life expectancy have been studied. Inorganic alignment film materials often have a smaller alignment regulating force than ordinary organic materials such as polyimide, and are more susceptible to electric field forces. Therefore, the effectiveness of the present invention can be exhibited.

以下に、本発明の実施例を示す。   Examples of the present invention are shown below.

<実施例1>画素電極形状変更およびスペーサの形成
通常のITOパターンを、図17〜図21に示すように、ITO形状をエッチングによりパターニングした。
次いで、柱状スペーサSP(46)となる透明レジスト層を形成した。
基板上にフォトレジストとして、PMER(東京応化工業株式会社製)をスピンコート法により3μmの厚さに塗布した後、フォトマスクを用いて紫外線照射による露光処理を行い、その後、現像し、焼成を行って、直径約1.5μmの柱状スペーサSPを形成した。スペーサSPの配置位置およびITO形状については、図17に示すとおりである。
次いで、作製したTFTアレイ基板11および対向基板12を洗浄する。
次いで、TFTアレイ基板11および対向基板12を洗浄する。
次いで各基板11,12に配向膜を形成した。配向膜はポリイミドからなる有機材料を用いた。膜厚が50nmの厚さになるように、スピンコートにて塗布した。
ホットプレートでプレベークを行い、その後ポストベークを行った。次いで、ラビングを行い、注入口を除いて形成されるシールパターンを形成し、液晶組成物を注入した。液晶組成物は、ギャップ3μmにおいて、緑色光の透過率が理論上最大となるように、室温での屈折率異方性Δnが0.16のものを用いた。
<Example 1> Change in pixel electrode shape and formation of spacers As shown in FIGS. 17 to 21, a normal ITO pattern was patterned by etching.
Next, a transparent resist layer to be the columnar spacer SP (46) was formed.
After applying PMER (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) to a thickness of 3 μm as a photoresist on the substrate by a spin coating method, it is exposed to ultraviolet rays using a photomask, then developed and baked. As a result, columnar spacers SP having a diameter of about 1.5 μm were formed. The arrangement positions of the spacers SP and the ITO shape are as shown in FIG.
Next, the fabricated TFT array substrate 11 and counter substrate 12 are washed.
Next, the TFT array substrate 11 and the counter substrate 12 are cleaned.
Next, an alignment film was formed on each of the substrates 11 and 12. An organic material made of polyimide was used for the alignment film. The film was applied by spin coating so that the film thickness was 50 nm.
Pre-baking was performed on a hot plate, and then post-baking was performed. Next, rubbing was performed to form a seal pattern except for the injection port, and a liquid crystal composition was injected. The liquid crystal composition used had a refractive index anisotropy Δn at room temperature of 0.16 so that the transmittance of green light was theoretically maximized at a gap of 3 μm.

図17は画素電極を四角形のままとして比較例とした。図18は構成例1であり図12の構成に対応している。図19は構成例2であり図14の構成に対応している。図20は構成例3であり図15の構成に対応している。図21は構成例4であり図16の構成に対応している。
各例において、画素間隔Dは最小約1.5μmとした。また、図18〜図21における対向する画素電極A1とA4、A2とA3の切り欠き辺部間の間隔は約3.0μmとし、比較例では約2.0μmとした。
作製した液晶表示素子に対して、画質評価を行った。評価は、フィールド反転駆動において、白黒ラインパターンを出し、白領域に電圧を印加していくことによる画質の変化を見た。
またシミュレータで図5の(2)のAの箇所に対し、Gibbsのエネルギーについても測定した。
その測定結果を表1に示す。
FIG. 17 shows a comparative example in which the pixel electrode remains a square. FIG. 18 is a configuration example 1 and corresponds to the configuration of FIG. FIG. 19 is a configuration example 2 and corresponds to the configuration of FIG. FIG. 20 is a configuration example 3 and corresponds to the configuration of FIG. FIG. 21 shows a configuration example 4 corresponding to the configuration of FIG.
In each example, the pixel interval D is a minimum of about 1.5 μm. Further, the interval between the notched side portions of the opposing pixel electrodes A1 and A4 and A2 and A3 in FIGS. 18 to 21 is about 3.0 μm, and in the comparative example, it is about 2.0 μm.
Image quality evaluation was performed with respect to the produced liquid crystal display element. In the evaluation, in field inversion driving, a change in image quality was observed by producing a black and white line pattern and applying a voltage to the white area.
Further, the energy of Gibbs was also measured with respect to the portion A in FIG.
The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2008009195
Figure 2008009195

本実施例を適用することで、比較例に比べ、高品質、高画質の液晶パネルを得ることができた。
また、Gibbsのエネルギーも比較例では約10J/m3であったが、本実施例に係る構成1〜4においては約3〜5J/m3と1/3〜1/2以下に激減しており、液晶分子配向上も非常に安定であることがわかった。
特に、構成例3および構成例4はスペーサ由来の輝点が残ることがなく、高品位な画質を得ることができることがわかった。
By applying this example, it was possible to obtain a liquid crystal panel with higher quality and higher image quality than the comparative example.
In addition, the energy of Gibbs was about 10 J / m 3 in the comparative example, but in the configurations 1 to 4 according to this example, the energy was drastically reduced to about 3 to 5 J / m 3 and 1/3 to 1/2 or less. It was found that the liquid crystal molecular alignment is very stable.
In particular, it has been found that the configuration example 3 and the configuration example 4 do not leave a bright spot derived from the spacer, and can obtain a high-quality image.

<実施例2>画素電極形状変更および無機材料
前述した配向膜形成を有機材料の代わりに無機配向膜を用いた。
代表的に蒸着で形成されるシリコン等があげられるが、ゲルマニウムなどのIV属元素の単体または混合物または化合物、蒸着によって成膜が可能なほとんどすべての物質が使用可能であると考えられる。
その他に、印刷やスピンコート、インクジェット法で形成されるシロキ酸骨格を有する材料などもあげられる。
各基板の配向膜形成を行った。それぞれの基板を蒸着装置に導入し、それぞれに配向膜として、SiO2を斜め蒸着して形成した。膜厚は、約50nmの厚さに塗布した。
次いで、注入口を除いて形成されるシールパターンを形成した。液晶層に用いる液晶材料は、Δεが負の垂直型液晶材料で室温での屈折率異方性Δnが0.07以上に設定され、液晶層の厚みであるセルギャップdが4μm以下に設定される。
作製した液晶表示素子に対して、画質評価を行った。評価は、フィールド反転駆動において、白黒ラインパターンを出し、白領域に電圧を印加していくことによる画質の変化を見た。
特にスペーサ周辺部の配向乱れは酷かったが、本発明の実施例である画素電極を採用することにより、高品質、高画質の液晶パネルを得ることができた。
<Example 2> Change in shape of pixel electrode and inorganic material In the alignment film formation described above, an inorganic alignment film was used instead of an organic material.
Typically, silicon or the like formed by vapor deposition can be mentioned, but it is considered that almost all substances that can be formed by vapor deposition can be used as a simple substance or a mixture or compound of group IV elements such as germanium.
In addition, a material having a siloxy acid skeleton formed by printing, spin coating, or an ink jet method may be used.
An alignment film was formed on each substrate. Each substrate was introduced into a vapor deposition apparatus, and each was formed by obliquely vapor-depositing SiO 2 as an alignment film. The film thickness was applied to a thickness of about 50 nm.
Next, a seal pattern formed except for the injection port was formed. The liquid crystal material used for the liquid crystal layer is a vertical liquid crystal material having a negative Δε, the refractive index anisotropy Δn at room temperature is set to 0.07 or more, and the cell gap d, which is the thickness of the liquid crystal layer, is set to 4 μm or less. The
Image quality evaluation was performed with respect to the produced liquid crystal display element. In the evaluation, in field inversion driving, a change in image quality was observed by producing a black and white line pattern and applying a voltage to the white area.
In particular, the alignment disorder in the peripheral part of the spacer was severe, but by adopting the pixel electrode which is an embodiment of the present invention, a high-quality and high-quality liquid crystal panel could be obtained.

次に、上記の液晶表示素子を用いた電子機器の一例として、投射型表示装置の構成について、図22の概略構成図に関連付けて説明する。   Next, as an example of an electronic apparatus using the above liquid crystal display element, a configuration of a projection display device will be described with reference to the schematic configuration diagram of FIG.

図22に示すように、投射型液晶表示装置(液晶プロジェクタ)300は、光軸Cにそって光源301と透過型の液晶表示素子302と投影光学系303とが順に配設されて構成されている。
光源301を構成するランプ304から射出された光はリフレクタ305によって後方に放射される成分が前方に集光され、コンデンサレンズ306に入射される。コンデンサレンズ306は、光をさらに集中して、入射側偏光板307を介し液晶表示素子302へ導く。
導かれた光は、シャッタもしくはライトバルブの機能を有する液晶表示素子302および射出がエア偏光板308により画像に変換される。表示された画像は、投影光学系303を介してスクリーン310上に拡大投影される。
なお、光源301とコンデンサレンズ306との間にはフィルタ314が挿入されており、光源に含まれる不用な波長の光、たとえば赤外光および紫外光を除去する。
As shown in FIG. 22, the projection type liquid crystal display device (liquid crystal projector) 300 is configured by sequentially arranging a light source 301, a transmission type liquid crystal display element 302, and a projection optical system 303 along the optical axis C. Yes.
The light emitted from the lamp 304 constituting the light source 301 is collected by the reflector 305 so that the component radiated rearward is incident on the condenser lens 306. The condenser lens 306 further concentrates the light and guides it to the liquid crystal display element 302 via the incident-side polarizing plate 307.
The guided light is converted into an image by the liquid crystal display element 302 having the function of a shutter or a light valve and the emission by the air polarizing plate 308. The displayed image is enlarged and projected on the screen 310 via the projection optical system 303.
A filter 314 is inserted between the light source 301 and the condenser lens 306, and removes light having an unnecessary wavelength, such as infrared light and ultraviolet light, contained in the light source.

次に、上記の液晶表示素子を用いた電子機器の一例として、投射型表示装置の構成について、図23に関連付けて説明する。
図23に示す投射型表示装置500は、上述した液晶表示素子を3個用意し、各々RGB用の液晶表示素子562R、562Gおよび562Bとして用いた投射型液晶装置の光学系の概略構成図を示す。
Next, as an example of an electronic apparatus using the liquid crystal display element, a configuration of a projection display device will be described with reference to FIG.
A projection type display device 500 shown in FIG. 23 is a schematic configuration diagram of an optical system of a projection type liquid crystal device in which three liquid crystal display elements described above are prepared and used as RGB liquid crystal display elements 562R, 562G, and 562B, respectively. .

投射型表示装置500は、光学系として、光源装置520と、均一照明光学系523が用いられている。
この均一照明光学系523から出射される光束Wを赤(R)、緑(G)、青(B)に分離する色分離手段である色分離光学系524と、各色光束R、G、Bを変調する変調手段である3つのライトバルブ525R、525G、525Bと、変調された後の色光束を再合成する色合成手段である色合成プリズム510と、合成された光束を投射面600の表面に拡大投射する投射手段である投射レンズユニット506とを備えている。さらに、青色光束Bを対応するライトバルブ525Bに導く導光系527を備えている。
The projection display device 500 uses a light source device 520 and a uniform illumination optical system 523 as an optical system.
A color separation optical system 524 as color separation means for separating the light beam W emitted from the uniform illumination optical system 523 into red (R), green (G), and blue (B), and each color light beam R, G, B. Three light valves 525R, 525G, and 525B that are modulation means for modulating, a color composition prism 510 that is a color composition means for recombining the modulated color light flux, and the synthesized light flux on the surface of the projection surface 600 And a projection lens unit 506 which is a projection means for enlarging and projecting. Further, a light guide system 527 for guiding the blue light beam B to the corresponding light valve 525B is provided.

均一照明光学系523は、2つのレンズ板521、522と反射ミラー531を備えており、反射ミラー531を挟んで2つのレンズ板521、522が直交する状態に配置されている。均一照明光学系523の2つのレンズ板521、522は、それぞれマトリクス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。   The uniform illumination optical system 523 includes two lens plates 521 and 522 and a reflection mirror 531, and the two lens plates 521 and 522 are arranged so as to be orthogonal to each other with the reflection mirror 531 interposed therebetween. The two lens plates 521 and 522 of the uniform illumination optical system 523 are each provided with a plurality of rectangular lenses arranged in a matrix.

光源装置520から出射された光束は、第1のレンズ板521の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。そして、これらの部分光束は、第2のレンズ板522の矩形レンズによって3つのライトバルブ525R、525G、525B付近で重なる。
したがって、均一照明光学系523を用いることにより、光源装置520が出射光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合でも、3つのライトバルブ525R、525G、525Bを均一な照明光で照明することが可能となる。
各色分離光学系524は、青緑反射ダイクロイックミラー541と、緑反射ダイクロイックミラー542と、反射ミラー543から構成される。
まず、青緑反射ダイクロイックミラー541では、光束Wに含まれている青色光束Bおよび緑色光束Gが直角に反射され、緑反射ダイクロイックミラー542の側に向かう。赤色光束Rは、この青緑反射ダイクロイックミラー541を通過して、後方の反射ミラー543で直角に反射されて、赤色光束Rの射出部544からプリズムユニット510の側に射出される。
The light beam emitted from the light source device 520 is divided into a plurality of partial light beams by the rectangular lens of the first lens plate 521. These partial light beams are overlapped in the vicinity of the three light valves 525R, 525G, and 525B by the rectangular lens of the second lens plate 522.
Therefore, by using the uniform illumination optical system 523, even when the light source device 520 has a non-uniform illuminance distribution within the cross section of the emitted light beam, the three light valves 525R, 525G, and 525B can be uniformly illuminated. It can be illuminated.
Each color separation optical system 524 includes a blue-green reflecting dichroic mirror 541, a green reflecting dichroic mirror 542, and a reflecting mirror 543.
First, in the blue-green reflecting dichroic mirror 541, the blue light beam B and the green light beam G included in the light beam W are reflected at right angles and travel toward the green reflecting dichroic mirror 542. The red light beam R passes through the blue-green reflecting dichroic mirror 541, is reflected at a right angle by the rear reflecting mirror 543, and is emitted from the emission unit 544 of the red light beam R to the prism unit 510 side.

次に、緑反射ダイクロイックミラー542では、青緑反射ダイクロイックミラー541で反射された青色光束Bおよび緑色光束Gのうち、緑色光束Gのみが直角に反射されて、緑色光束Gの射出部545から色合成光学系の側に射出される。緑反射ダイクロイックミラー542を通過した青色光束Bは、青色光束Bの射出部546から導光系527の側に射出される。
ここでは、均一照明光学系523の光束Wの射出部から、色分離光学系524における各色光束の射出部544、545、546までの距離がほぼ等しくなるように設定されている。色分離光学系524の赤色光束Rの出射部544および緑色光束Gの出射部545の各射出側には、それぞれ集光レンズ551および集光レンズ552が配置されている。したがって、各射出部から射出した赤色光束R、緑色光束Gは、これらの集光レンズ551、集光レンズ552に入射して平行化される。
Next, in the green reflection dichroic mirror 542, only the green light beam G out of the blue light beam B and the green light beam G reflected by the blue-green reflection dichroic mirror 541 is reflected at right angles, and the green light beam G is emitted from the emitting portion 545. Injected to the side of the synthesis optical system. The blue light beam B that has passed through the green reflecting dichroic mirror 542 is emitted from the emitting portion 546 of the blue light beam B to the light guide system 527 side.
Here, the distances from the emission part of the light beam W of the uniform illumination optical system 523 to the emission parts 544, 545, and 546 of each color light beam in the color separation optical system 524 are set to be substantially equal. A condensing lens 551 and a condensing lens 552 are arranged on the exit side of the emission part 544 for the red light beam R and the emission part 545 for the green light beam G of the color separation optical system 524, respectively. Therefore, the red light beam R and the green light beam G emitted from each emitting unit are incident on the condensing lens 551 and the condensing lens 552 and are collimated.

このように平行化された赤色光束Rおよび緑色光束Gは、それぞれライトバルブ525Rおよびライトバルブ525Gに入射して変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。
すなわち、これらの液晶表示素子は、図示していない駆動手段によって画像情報に応じてスイッチング制御されて、これにより、ここを通過する各色光の変調が行われる。一方、青色光束Bは、導光系527を介して対応するライトバルブ525Bに導かれ、ここにおいて、同様に画像情報に応じて変調が施される。
The collimated red light beam R and green light beam G enter the light valve 525R and the light valve 525G, respectively, and are modulated, and image information corresponding to each color light is added.
That is, these liquid crystal display elements are subjected to switching control in accordance with image information by a driving unit (not shown), thereby modulating each color light passing therethrough. On the other hand, the blue light beam B is guided to the corresponding light valve 525B via the light guide system 527, where it is similarly modulated according to the image information.

なお、本例のライトバルブ525R、525G、525Bは、それぞれさらに入射側偏光板561R、561G、561Bと、これらの間に配置された液晶表示素子562R、562G、562Bとからなる液晶ライトバルブである。   The light valves 525R, 525G, and 525B in this example are liquid crystal light valves that further include incident-side polarizing plates 561R, 561G, and 561B and liquid crystal display elements 562R, 562G, and 562B disposed therebetween. .

導光系527は、青色光束Bと射出部546の射出側に配置した集光レンズ554と、入射側反射ミラー571と、射出側反射ミラー572と、これらの反射ミラーの間に配置した中間レンズ573と、ライトバルブ525Bの手前側に配置した集光レンズ553とから構成されている。
集光レンズ546から射出された青色光束は、導光系527を介して液晶表示素子562Bに導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、光束Wの射出部から各液晶表示素子562R、562G、562Bまでの距離は青色光束Bが最も長くなり、したがって、青色光束の光量損失が最も多くなる。
The light guide system 527 includes a condensing lens 554 disposed on the emission side of the blue light beam B and the emission unit 546, an incident-side reflection mirror 571, an emission-side reflection mirror 572, and an intermediate lens disposed between these reflection mirrors. 573 and a condensing lens 553 arranged on the front side of the light valve 525B.
The blue light beam emitted from the condenser lens 546 is guided to the liquid crystal display element 562B through the light guide system 527 and modulated. The optical path length of each color light beam, that is, the distance from the emitting portion of the light beam W to each of the liquid crystal display elements 562R, 562G, 562B, the blue light beam B is the longest, and therefore the light amount loss of the blue light beam is the largest.

しかし、導光系527を介在させることにより、光量損失を抑制することができる。各ライトバルブ525R、525G、525Bを通って変調された各色光束R、G、Bは、色合成プリズム510に入射され、ここで合成される。そして色合成プリズム510によって合成された光が投射レンズユニット506を介して所定の位置にある投射面600の表面に拡大投射されるようになっている。   However, the light loss can be suppressed by interposing the light guide system 527. The color light beams R, G, and B modulated through the light valves 525R, 525G, and 525B are incident on the color combining prism 510 and combined there. The light combined by the color combining prism 510 is enlarged and projected onto the surface of the projection surface 600 at a predetermined position via the projection lens unit 506.

なお、本発明は、単純マトリクス方式、TFTアクティブマトリクス方式、TFDアクティブマトリクス方式など、旋光モード、複屈折モード、いずれの方式の液晶表示素子に適用しても、上述した効果が期待できる。   Note that the above-described effects can be expected even when the present invention is applied to any of the optical rotation mode, birefringence mode, and other liquid crystal display elements such as a simple matrix method, a TFT active matrix method, and a TFD active matrix method.

以上説明したように、本実施形態によれば、画素電極の形状を工夫することにより、画素内に発生するリバースチルトドメインと隣接する画素電極に対応する画素内に形成するリバースチルトドメインとの相互作用を低減できる。その結果フィールド反転駆動にて発生する横電界起因の画質不良を改善することができる。またスペーサ周辺部の配向乱れを制御することでより高品位な画質を得ることができる。   As described above, according to this embodiment, by devising the shape of the pixel electrode, the reverse tilt domain generated in the pixel and the reverse tilt domain formed in the pixel corresponding to the adjacent pixel electrode can be compared with each other. The effect can be reduced. As a result, it is possible to improve the image quality defect caused by the horizontal electric field generated by the field inversion driving. In addition, it is possible to obtain higher quality image quality by controlling the alignment disturbance in the peripheral portion of the spacer.

本発明を適用することにより、高画質の液晶表示素子を実現することが可能となる。また、プロジェクタ等の投射型LCDにおいてはパネル小型化もしくは有効画素領域拡大による高開口率化も可能となり、セルギャップ制御による高生産性、高歩留まり化も実現できる。無機材料などの材料も画質を劣化させることなく適用できるので長寿命化も可能となる。   By applying the present invention, a high-quality liquid crystal display element can be realized. In addition, in a projection type LCD such as a projector, it is possible to increase the aperture ratio by reducing the panel size or expanding the effective pixel area, and it is possible to realize high productivity and high yield by cell gap control. Since materials such as inorganic materials can be applied without degrading the image quality, the life can be extended.

ライン反転駆動方式とフィールド反転駆動方式を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a line inversion drive system and a field inversion drive system. リバースチルトドメインの発生メカニズムを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the generation | occurrence | production mechanism of a reverse tilt domain. 1フィールド反転駆動における白黒表示させたときの液晶分子配列を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the liquid crystal molecule arrangement | sequence when carrying out the black-and-white display in 1 field inversion drive. 配向乱れの発生状態を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the generation | occurrence | production state of orientation disorder. 液晶分子配向シミュレーションとGibbsのエネルギー分布を示す図である。It is a figure which shows the liquid crystal molecular orientation simulation, and the energy distribution of Gibbs. 図5におけるエネルギーの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the energy in FIG. 本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the active matrix type liquid crystal display element which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子のアレイ基板(液晶パネル部)における配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning in the array substrate (liquid crystal panel part) of the active matrix type liquid crystal display element which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子の具体的な構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the specific structural example of the active matrix type liquid crystal display element which concerns on this embodiment. 画素電極間とGibbsのエネルギーの関係から選択する画素電極間隔の指標例を示す図である。It is a figure which shows the parameter | index example of the pixel electrode space | interval selected from the relationship between the energy between pixel electrodes and Gibbs. Gibbsのエネルギーの画素電極(ITO)間隔依存性を示す図である。It is a figure which shows the pixel electrode (ITO) space | interval dependence of the energy of Gibbs. 画素電極の形状とスペーサの配置位置の第1の例を示す図である。It is a figure which shows the 1st example of the shape of a pixel electrode, and the arrangement position of a spacer. 画素電極の切り欠き形態例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the notch form example of a pixel electrode. 画素電極の形状とスペーサの配置位置の第2の例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd example of the shape of a pixel electrode, and the arrangement position of a spacer. 画素電極の形状とスペーサの配置位置の第3の例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd example of the shape of a pixel electrode, and the arrangement position of a spacer. 画素電極の形状とスペーサの配置位置の第4の例を示す図である。It is a figure which shows the 4th example of the shape of a pixel electrode, and the arrangement position of a spacer. 実施例1を説明するための図であって、比較例を示す図である。It is a figure for demonstrating Example 1, Comprising: It is a figure which shows a comparative example. 実施例1を説明するための図であって、第1の構成例を示す図である。It is a figure for demonstrating Example 1, Comprising: It is a figure which shows the 1st structural example. 実施例1を説明するための図であって、第2の構成例を示す図であるFIG. 5 is a diagram for explaining the first embodiment and is a diagram illustrating a second configuration example. 実施例1を説明するための図であって、第3の構成例を示す図であるFIG. 6 is a diagram for explaining the first embodiment and is a diagram illustrating a third configuration example. 実施例1を説明するための図であって、第4の構成例を示す図であるFIG. 6 is a diagram for explaining the first embodiment and is a diagram illustrating a fourth configuration example. 本実施形態に係る投射型液晶表示装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the projection type liquid crystal display device which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る3板式投射型液晶表示装置のより具体的な一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows a more specific example of the 3 plate type | mold projection-type liquid crystal display device which concerns on this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・液晶表示素子、11・・・TFTアレイ基板、12・・・対向基板、13・・・画素電極、14・・・対向電極、15・・・シール材、16・・・液晶層、46・・・スペーサ、100・・・液晶ライトバルブ、200・・・有効表示部、300,500・・・投射型液晶表示装置、301,520・・・光源、525R,525G,525B・・・ライトバルブ、303,506・・・投射光学系、A1〜A4・・・画素電極、A12〜A42・・・切り欠き辺部、SP・・・スペーサ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Liquid crystal display element, 11 ... TFT array substrate, 12 ... Counter substrate, 13 ... Pixel electrode, 14 ... Counter electrode, 15 ... Sealing material, 16 ... Liquid crystal layer , 46 ... Spacer, 100 ... Liquid crystal light valve, 200 ... Effective display section, 300, 500 ... Projection type liquid crystal display device, 301, 520 ... Light source, 525R, 525G, 525B ... Light valves, 303, 506... Projection optical system, A1 to A4... Pixel electrodes, A12 to A42.

Claims (19)

互いに対向する二つの基板と、
前記二つの基板間に配置された液晶層と、
マトリクス状の画素を形成すべく各基板の対向する面に配置される複数の画素電極と、
前記液晶層の液晶を所定方向に配向させるために前記二枚の基板上に形成された配向膜と、
前記二つの基板間において、隣接して配置された前記画素電極間に形成されたスペーサと、を有し、
前記複数の画素電極の少なくとも一つは、前記スペーサに面する端部が多角形の一辺をなすように切り欠いた形状を有する
液晶表示素子。
Two substrates facing each other;
A liquid crystal layer disposed between the two substrates;
A plurality of pixel electrodes disposed on opposing surfaces of each substrate to form matrix-like pixels;
An alignment film formed on the two substrates to align the liquid crystal in the liquid crystal layer in a predetermined direction;
A spacer formed between the pixel electrodes disposed adjacent to each other between the two substrates,
At least one of the plurality of pixel electrodes has a shape in which an end facing the spacer is notched so as to form one side of a polygon.
前記液晶表示素子は、フレーム毎に各画素電極に印加する電圧を同一極性で反転させるフレーム反転駆動を行うアクティブマトリクス型液晶表示素子である
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal display element is an active matrix liquid crystal display element that performs frame inversion driving in which a voltage applied to each pixel electrode is inverted with the same polarity for each frame.
前記画素電極は、局所的にリバースチルトドメインの発現が少なくなり、トータルとして画素電極間を広がり、Gibbsのエネルギーが低減できる範囲で切り欠かれている
請求項1記載の液晶表示素子。
2. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the pixel electrode is notched within a range in which the expression of a reverse tilt domain locally decreases, spreads between the pixel electrodes as a whole, and Gibbs energy can be reduced.
前記画素電極間隔は、Gibbsのエネルギーの第1の領域をS1、Gibbsのエネルギーの第2の領域をS2とし、S1/S2を指標とした場合に、第1の領域S1の占める割合が小さく安定する指標値に基づいて選定されている
請求項1記載の液晶表示素子。
The pixel electrode interval is small and stable when the first region of Gibbs energy is S1, the second region of Gibbs energy is S2, and S1 / S2 is an index. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal display element is selected based on an index value.
前記スペーサは、2次元的に隣接する4つの画素電極の端部で囲まれた領域の所定の位置に配置されている
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the spacer is disposed at a predetermined position in a region surrounded by ends of four pixel electrodes adjacent two-dimensionally.
前記スペーサは、前記4つの画素電極の端部から等距離にある前記領域の中央部に配置されている
請求項5記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 5, wherein the spacer is disposed at a central portion of the region that is equidistant from the end portions of the four pixel electrodes.
前記スペーサは前記隣接する4つの画素電極A1,A2,A3,A4の間に配置され、
前記4つの画素電極は、配向方向に対し前段側をA1、A2、自段側をA3、A4と定義した場合に、
スペーサ端部から画素電極A1,A2,A3,A4までの最短距離a1,a2,a3,a4は、
a1=a2=a3=a4の関係を満足する
請求項6記載の液晶表示素子。
The spacer is disposed between the four adjacent pixel electrodes A1, A2, A3, A4,
When the four pixel electrodes are defined as A1, A2 on the front stage side and A3, A4 on the self stage side with respect to the alignment direction,
The shortest distances a1, a2, a3, a4 from the edge of the spacer to the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 are:
The liquid crystal display element according to claim 6, wherein a relationship of a1 = a2 = a3 = a4 is satisfied.
前記隣接する4つの画素電極A1,A2,A3,A4は、配向方向に対し前段側をA1、A2、自段側をA3、A4と定義した場合に、
前記スペーサは、前記前段側の画素電極よりに配置されている
請求項5記載の液晶表示素子。
When the four adjacent pixel electrodes A1, A2, A3, A4 are defined as A1, A2 on the front stage side and A3, A4 on the own stage side with respect to the alignment direction,
The liquid crystal display element according to claim 5, wherein the spacer is disposed closer to the pixel electrode on the preceding stage side.
前記スペーサ端部から画素電極A1,A2,A3,A4までの最短距離a1,a2,a3,a4は、
a1≦a2<a3≦a4もしくは、a3≧a4>a1≧a2の関係を満足する
請求項8の液晶表示素子。
The shortest distances a1, a2, a3, a4 from the edge of the spacer to the pixel electrodes A1, A2, A3, A4 are:
The liquid crystal display element according to claim 8, wherein a1 ≦ a2 <a3 ≦ a4 or a3 ≧ a4> a1 ≧ a2 is satisfied.
前記2次元的に隣接する4つの画素電極の少なくとも一つの画素電極の切り欠き辺部に、前記スペーサ側に延びるように制御片が形成されている
請求項5記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 5, wherein a control piece is formed on a notched side portion of at least one pixel electrode of the four pixel electrodes adjacent in two dimensions so as to extend toward the spacer.
前記前段側の2つの画素電極A1,A2の少なくとも一方の画素電極の切り欠き辺部に、前記スペーサの配置位置側に延びるように制御片が形成されている
請求項8記載の液晶表示素子。
9. The liquid crystal display element according to claim 8, wherein a control piece is formed on a notched side portion of at least one of the two pixel electrodes A <b> 1 and A <b> 2 on the preceding stage side so as to extend to the arrangement position side of the spacer.
前記スペーサは、前記前段側の2つの画素電極A1,A2の少なくとも一方の画素電極の切り欠き辺部よりに配置され、
斜め配向方向に直交する側の前記前段側の他方の画素電極と自段側の一方の画素電極の少なくとも一方の画素電極の切り欠き辺部に、前記スペーサ側に延びるように制御片が形成されている
請求項8記載の液晶表示素子。
The spacer is disposed from a notch side portion of at least one of the two pixel electrodes A1 and A2 on the preceding stage side,
A control piece is formed so as to extend to the spacer side at the notched side portion of at least one pixel electrode of the other pixel electrode on the previous stage side on the side orthogonal to the oblique alignment direction and one pixel electrode on the own stage side. The liquid crystal display element according to claim 8.
前記前段側の画素電極の切り欠き面積<前記自段側の画素電極の切り欠きの関係を満足する
請求項8記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 8, wherein the notch area of the pixel electrode on the front stage side <the notch area of the pixel electrode on the self stage side is satisfied.
前記画素電極が設けられた液晶パネルは透過型の液晶パネルである
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal panel provided with the pixel electrode is a transmissive liquid crystal panel.
前記液晶表示素子の配向制御はラビングにより行われる
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the alignment control of the liquid crystal display element is performed by rubbing.
上記液晶層に用いる液晶材料は室温での屈折率異方性が0.10以上であり、セルギャップが4μm以下である
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal material used for the liquid crystal layer has a refractive index anisotropy at room temperature of 0.10 or more and a cell gap of 4 μm or less.
前記液晶表示素子の画素ピッチは20μm以下である
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein a pixel pitch of the liquid crystal display element is 20 μm or less.
前記配向膜に無機配向膜を用いる
請求項1記載の液晶表示素子。
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein an inorganic alignment film is used for the alignment film.
光源と、
少なくとも一つの液晶表示素子と、
上記光源から出射された光を上記液晶表示素子に導く集光光学系と、
上記液晶表示素子で光変調した光を拡大して投射する投射光学系と、を有し、
上記液晶表示素子は、
互いに対向する二つの基板と、
前記二つの基板間に配置された液晶層と、
マトリクス状の画素を形成すべく各基板の対向する面に配置される複数の画素電極と、
前記液晶層の液晶を所定方向に配向させるために前記二枚の基板上に形成された配向膜と、
前記二つの基板間において、隣接して配置された前記画素電極間に形成されたスペーサと、を有し、
前記複数の画素電極の少なくとも一つは、前記スペーサに面する端部が多角形の一辺をなすように切り欠いた形状を有し、
前記液晶表示素子は、フレーム毎に各画素電極に印加する電圧を同一極性で反転させるフレーム反転駆動を行うアクティブマトリクス型液晶表示素子である
投射型液晶表示装置。
A light source;
At least one liquid crystal display element;
A condensing optical system for guiding the light emitted from the light source to the liquid crystal display element;
A projection optical system for enlarging and projecting light modulated by the liquid crystal display element,
The liquid crystal display element is
Two substrates facing each other;
A liquid crystal layer disposed between the two substrates;
A plurality of pixel electrodes disposed on opposing surfaces of each substrate to form matrix-like pixels;
An alignment film formed on the two substrates to align the liquid crystal in the liquid crystal layer in a predetermined direction;
A spacer formed between the pixel electrodes disposed adjacent to each other between the two substrates,
At least one of the plurality of pixel electrodes has a shape notched so that an end facing the spacer forms one side of a polygon,
The liquid crystal display element is an active matrix liquid crystal display element that performs frame inversion driving for inverting the voltage applied to each pixel electrode with the same polarity for each frame.
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WO2021166711A1 (en) * 2020-02-20 2021-08-26 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 Projection display device

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