JP2008004185A - Semiconductor memory testing apparatus - Google Patents

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治彦 藤井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To accelerate a test concerning a memory to be tested by shortening time for testing concerning each bit included in the memory cells of the memory to be tested. <P>SOLUTION: This apparatus is provided with an extraction memory 5 where the addresses of failed cells are stored in each failure relieving unit area SG1 to SG4 based on the testing result of the memory 9 to be tested, a failure extraction means 7 which stores the addresses of the failed cells in the extraction memory 5 in each failure relieving unit area based on the testing result in a testing result storing memory 11; and a failure relieving calculation means 3 which performs failure relieving calculation by the addresses of the failed cells stored in the extraction memory 5. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、被試験メモリについて試験を実行する半導体メモリ試験装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory test apparatus for executing a test on a memory under test.

一般的に半導体メモリ試験装置は、いわゆるDRAM(Dynamic Random Access Memory)、フラッシュメモリなどの被試験メモリ(以下「DUT」とも呼称する)に対してライトアクセス及びリードアクセスを行い、被試験メモリに書き込まれた内容が読み出せるか否かを試験することで、合否判定を行っている。   In general, a semiconductor memory test apparatus performs write access and read access to a memory under test (hereinafter also referred to as “DUT”) such as a so-called DRAM (Dynamic Random Access Memory), a flash memory, etc., and writes it to the memory under test. Pass / fail judgment is performed by testing whether or not the read contents can be read.

従来の半導体メモリ試験装置は、テスタユニット、フェイルメモリ(「不良メモリ」に相当)及びバッファメモリを有する(特許文献1参照)。テスタユニットは、被試験メモリに対する試験を実行する装置である。フェイルメモリは、このテスタユニットによる被試験メモリの試験結果を記憶する記憶装置である。バッファメモリは、いわゆるリダンダンシ処理などの実行に先立って、そのフェイルメモリに記憶された試験結果を移しておくための補助記憶装置である。なお、ここでいうリダンダンシ処理とは、試験の結果、フェイルとなった被試験メモリに関して不良解析を実施して、不具合が生じているメモリセルを救済する処理である。以下、具体的に説明する。   A conventional semiconductor memory test apparatus includes a tester unit, a fail memory (corresponding to “defective memory”), and a buffer memory (see Patent Document 1). The tester unit is a device that executes a test on a memory under test. The fail memory is a storage device that stores the test result of the memory under test by the tester unit. The buffer memory is an auxiliary storage device for transferring the test result stored in the fail memory prior to execution of so-called redundancy processing. Note that the redundancy processing here is processing for performing a failure analysis on a memory under test that has failed as a result of a test and relieving a memory cell in which a failure has occurred. This will be specifically described below.

図7は、従来の半導体メモリ試験装置101の電気的な構成例を示すブロック図である。
従来の半導体メモリ試験装置101は、被試験メモリ109のメモリセルに対して試験を実行し、不良セルが存在している場合にはその不良救済単位領域の所定単位で不良を救済する試験装置である。この半導体メモリ試験装置101は、CPU(Central Processing Unit)103、不良メモリ(フェイルメモリ)111、バッファメモリ113、不良抽出回路107、抽出メモリ105及び試験実施部108を有している。
FIG. 7 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of a conventional semiconductor memory test apparatus 101.
The conventional semiconductor memory test apparatus 101 is a test apparatus that performs a test on a memory cell of the memory under test 109 and, when a defective cell exists, repairs a defect by a predetermined unit in the defect repair unit area. is there. The semiconductor memory test apparatus 101 includes a CPU (Central Processing Unit) 103, a defective memory (fail memory) 111, a buffer memory 113, a defect extraction circuit 107, an extraction memory 105, and a test execution unit 108.

まず、被試験メモリ109のメモリセルを示すアドレスは、被試験メモリ109の不良救済構造に応じて複数の不良救済単位領域に分かれている。この被試験メモリ109の各メモリセルは、これらいずれかの不良救済単位領域内に属している。CPU103は、被試験メモリ109の各メモリセルに関する不良解析について、この不良救済単位領域ごとに実施している。   First, the address indicating the memory cell of the memory under test 109 is divided into a plurality of defect relief unit areas according to the defect relief structure of the memory under test 109. Each memory cell of the memory under test 109 belongs to one of these defect repair unit areas. The CPU 103 performs failure analysis on each memory cell of the memory under test 109 for each failure remedy unit region.

試験実施部108は、被試験メモリ109の各メモリセルに対して、試験パターンをライトアクセスした後にリードアクセスをすることで、被試験メモリ109に書き込まれた内容が正常に読み出せるか否かを試験し、その試験結果(「良否結果データ」と呼称する)を不良メモリ111に格納する(以下「試験処理」と呼称する)。   The test execution unit 108 determines whether or not the contents written in the memory under test 109 can be normally read out by performing read access to each memory cell of the memory under test 109 after performing write access to the test pattern. The test result (referred to as “good / bad result data”) is stored in the defective memory 111 (hereinafter referred to as “test processing”).

不良メモリ111は、被試験メモリ109と同一のメモリマップを有する。この不良メモリ111には、試験中、被試験メモリ109の各メモリセルに関して不良が生じているか否かが蓄積される。バッファメモリ113も、この不良メモリ111と同一のメモリマップを有している。ある1つの被試験メモリ109の試験が終了すると、不良メモリ111に蓄積された良否結果データは、バッファメモリ113に複写される。この複写によりその後は、後述するこの良否結果に対する不良抽出回路による抽出処理や、CPUによる不良解析処理の実施と並列して、試験実施部は、次の被試験メモリの試験を実施し、その試験結果を不良メモリに格納することができる。   The defective memory 111 has the same memory map as the memory under test 109. The defective memory 111 stores whether or not a defect has occurred in each memory cell of the memory under test 109 during the test. The buffer memory 113 also has the same memory map as the defective memory 111. When the test of one memory under test 109 is completed, the pass / fail result data stored in the defective memory 111 is copied to the buffer memory 113. After this copying, in parallel with the extraction processing by the defect extraction circuit and the failure analysis processing by the CPU for the pass / fail result described later, the test execution unit performs the next test of the memory under test, and the test The result can be stored in a defective memory.

不良抽出回路107は、CPU103によって指定された特定のアドレス範囲にわたりバッファメモリ113のメモリ空間を順次走査して読み出し、不良を検出するごとに、そのアクセスしたアドレスを不良セルのアドレスとし、抽出する。不良抽出回路107は、その抽出結果を抽出メモリ105に下位アドレス側から順に詰めて格納していく(「抽出処理」と呼称する)。具体的には、例えば次のようになっている。   The defect extraction circuit 107 sequentially scans and reads the memory space of the buffer memory 113 over a specific address range designated by the CPU 103, and each time a defect is detected, the accessed address is extracted as the address of the defective cell. The defect extraction circuit 107 stores the extraction results in the extraction memory 105 in order from the lower address side (referred to as “extraction processing”). Specifically, for example, it is as follows.

例えば、図8に示すような4つの不良救済単位領域SG1〜SG4によって構成される被試験メモリ109のメモリセルを考えると、上記不良抽出回路107は、不良救済単位領域SG1に対して抽出処理を行い、不良セル(不良)A及び不良セル(不良)Bを抽出し、それらのアドレスを抽出メモリ105に格納する。   For example, when considering a memory cell of the memory under test 109 configured by four defect relief unit areas SG1 to SG4 as shown in FIG. 8, the defect extraction circuit 107 performs an extraction process on the defect relief unit area SG1. Then, defective cells (defective) A and defective cells (defective) B are extracted, and their addresses are stored in the extraction memory 105.

ここでCPU103は、被試験メモリ109について、不良救済単位領域ごとの不良メモリセルの分布に基づいて不良解析を行うが、ワード数の大きな不良メモリ111の各アドレスを順次走査してリードするのは時間が掛かってしまう。そこでCPU103は、その代わりに抽出メモリ105の内容を読み出し、この抽出メモリ105に抽出されている不良メモリセルの分布に基づいて不良解析を実施する(不良解析処理)。   Here, the CPU 103 performs a failure analysis on the memory under test 109 based on the distribution of defective memory cells for each failure relief unit region. The addresses of the defective memory 111 having a large number of words are sequentially scanned and read. It takes time. Therefore, the CPU 103 instead reads the contents of the extraction memory 105 and performs a failure analysis based on the distribution of defective memory cells extracted in the extraction memory 105 (failure analysis processing).

このため、従来の半導体メモリ試験装置101では、上述した試験後に、CPU103が、その被試験メモリ109に関する不良救済単位領域毎に、上述した抽出処理及び不良解析処理という組み合わせの動作(以下「一連の動作」と呼称する)を繰り返し実行していることになる。   For this reason, in the conventional semiconductor memory test apparatus 101, after the above-described test, the CPU 103 performs a combination operation of the above-described extraction process and defect analysis process (hereinafter referred to as “a series of processes”) for each defect relief unit area related to the memory under test 109. (Referred to as “operation”).

特開2003−34495号公報JP 2003-34495 A

図10は、従来の半導体メモリ試験装置101が実行する一連の動作例を時間の経過に応じて図示した図である。なお、この一連の動作例では、実線及び波線で示した矢印の長さが動作時間の長さを示しているとともに、矢印の上部に示した文字が動作内容を表しているものとする。また、「抽出」や「解析」などの文字の次に付されている数字は、各不良救済単位領域を区別するための識別子である。図10においては、左から右に進むほど時間が進むようになっている。   FIG. 10 is a diagram illustrating a series of operation examples performed by the conventional semiconductor memory test apparatus 101 as time elapses. In this series of operation examples, it is assumed that the length of the arrow indicated by the solid line and the wavy line indicates the length of the operation time, and the characters indicated above the arrow indicate the operation content. Further, the numbers added after the characters such as “extract” and “analysis” are identifiers for distinguishing each defective repair unit area. In FIG. 10, the time advances from the left to the right.

図示した例の場合、一連の動作の実行間隔は、不良抽出回路107による不良抽出に掛かる不良抽出時間(図示した「抽出1」などに相当)及び、CPU103による不良解析に掛かる不良解析時間(図示した「解析1」などに相当)を加えて不良救済単位領域数分掛け合わせて得られた合計時間を含んでいるとともに、これとは別に、不良メモリ111からバッファメモリ113への複写に掛かる複写時間(図示した「複写」に相当)を、さらに含むこととなる。従来の半導体メモリ試験装置101は、このようなバッファメモリに関する複写時間を含むことから、被試験メモリ109に関する試験時間が長くなっていた。   In the case of the illustrated example, the execution interval of a series of operations is a defect extraction time (corresponding to “extraction 1” shown in the figure) taken by the defect extraction circuit 107 and a defect analysis time (shown by the CPU 103). In addition to this, the total time obtained by multiplying by the number of defective relief unit areas is added, and separately from this, copying for copying from the defective memory 111 to the buffer memory 113 is included. It further includes time (corresponding to “copy” shown). Since the conventional semiconductor memory test apparatus 101 includes such a copying time for the buffer memory, the testing time for the memory under test 109 is long.

そこで本発明は、被試験メモリに関する試験を高速化することができる半導体メモリ試験装置を提供する。   Accordingly, the present invention provides a semiconductor memory test apparatus capable of speeding up a test relating to a memory under test.

上記目的を達成するための第1発明は、被試験メモリの試験を実施する試験実施手段と、この試験実施手段の試験結果を格納する試験結果格納メモリと、前記被試験メモリの不良救済単位領域ごとに、不良セルのアドレスを格納する抽出メモリと、前記試験結果格納メモリの試験結果に基づいて、不良救済単位領域ごとに、前記不良セルのアドレスを前記抽出メモリに格納する不良抽出手段と、前記抽出メモリに格納した前記不良セルのアドレスにより、不良救済演算を行う不良救済演算手段とを備えることを特徴とする半導体メモリ試験装置である。なお、ここでいう「不良救済演算」とは、不良セルのアドレスに基づいて不良セルを解析し、この解析結果に応じて、この不良セルを不良救済単位領域(或いはその所定単位)ごとに救済するために必要な一連の演算を示している。   In order to achieve the above object, a first invention is a test execution means for performing a test of a memory under test, a test result storage memory for storing a test result of the test execution means, and a defective relief unit area of the memory under test. An extraction memory for storing the address of the defective cell for each, and a defect extraction means for storing the address of the defective cell in the extraction memory for each defect relief unit area based on the test result of the test result storage memory; A semiconductor memory test apparatus comprising: a defect remedy calculation means for performing a defect remedy calculation based on an address of the defective cell stored in the extraction memory. In this case, the “defective repair operation” means that a defective cell is analyzed based on the address of the defective cell, and the defective cell is repaired for each defective repair unit area (or its predetermined unit) according to the analysis result. It shows a series of operations necessary to do this.

第1の発明によれば、不良抽出手段が、試験結果格納メモリの試験結果に基づいて、被試験メモリの不良セルのアドレスを、その不良セルが属する不良救済単位領域ごとに抽出メモリに格納させている。   According to the first aspect of the invention, the defect extraction means stores the address of the defective cell in the memory under test in the extraction memory for each defective remedy unit area to which the defective cell belongs based on the test result of the test result storage memory. ing.

つまり不良抽出手段は、被試験メモリについて不良救済単位領域ごとに抽出した不良セルのアドレスを、抽出メモリに分けて格納させている。このため不良抽出手段が、全ての不良救済単位領域について、連続的に試験結果格納メモリから不良セルのアドレスを抽出メモリに抽出しているため、このような抽出処理後においては、不良救済演算手段が、抽出メモリに抽出済みの不良セルのアドレスに基づいて不良セルの解析を行うとともに不良救済演算を行うことができる。   That is, the defect extraction means stores the addresses of defective cells extracted for each defect relief unit area in the memory under test separately in the extraction memory. For this reason, since the defect extraction means continuously extracts the addresses of the defective cells from the test result storage memory to the extraction memory for all the defect relief unit areas, after such extraction processing, the defect relief calculation means However, it is possible to analyze a defective cell and perform a defective remedy operation based on the address of the defective cell already extracted in the extraction memory.

さらにこのような抽出処理後、不良救済演算手段が、抽出メモリに抽出された不良セルのアドレスに基づいて不良救済演算を行っている間にも、並列して、試験実施手段が、次の被試験メモリについて試験を実施することができるようになる。   Further, after such extraction processing, the test execution means performs the following operation in parallel while the defect relief calculation means performs the defect relief calculation based on the address of the defective cell extracted in the extraction memory. Tests can be performed on the test memory.

従って、本発明の半導体メモリ試験装置によれば、バッファメモリを搭載する必要性がなくなり、バッファメモリへの複写時間がなくなることから、被試験メモリに関する試験時間を短縮して、被試験メモリに関する試験を高速化することができる。併せて、本発明の半導体メモリ試験装置では、このようなバッファメモリを搭載する必要がないため、回路規模を小さくすることができる。   Therefore, according to the semiconductor memory test apparatus of the present invention, there is no need to mount a buffer memory, and there is no time for copying to the buffer memory, so the test time for the memory under test is shortened and the test for the memory under test is performed. Can be speeded up. In addition, the semiconductor memory test apparatus of the present invention does not need to be equipped with such a buffer memory, so that the circuit scale can be reduced.

第2の発明は、第1の発明の構成において、前記抽出メモリは、2以上の抽出単位メモリで構成されており、前記不良救済演算手段は、前記不良抽出手段が前記2以上の抽出単位メモリのうちいずれか1つの抽出単位メモリに前記不良セルのアドレスを格納している間に、前記2以上の抽出単位メモリのうち他の抽出単位メモリに格納済みの前記不良セルのアドレスを読み出すことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the configuration of the first aspect, the extraction memory is composed of two or more extraction unit memories, and the defect remedy calculating means is configured such that the defect extraction means includes the two or more extraction unit memories. While the address of the defective cell is stored in any one of the extraction unit memories, the address of the defective cell stored in the other extraction unit memory among the two or more extraction unit memories is read. Features.

第2の発明によれば、第1の発明の作用に加えて、2以上の抽出単位メモリで構成されている抽出メモリは、いわゆるインターリーブ動作をすることになり、不良救済演算手段が、一方の抽出メモリに抽出されたある被試験メモリの不良セルのアドレスに基づき不良セルの解析を行うのと並列して、不良抽出手段が、もう一方の抽出メモリに次の被試験メモリの不良セルのアドレスを格納することができる。このため半導体メモリ試験装置は、不良救済演算手段が不良セルについての不良救済演算を高速化することができ、試験を高速化することができる。   According to the second invention, in addition to the operation of the first invention, the extraction memory composed of two or more extraction unit memories performs a so-called interleave operation, so that the defect remedy operation means can In parallel with the analysis of the defective cell based on the address of the defective cell in the memory under test extracted in the extraction memory, the defect extraction means stores the address of the defective cell in the next memory under test in the other extracted memory. Can be stored. For this reason, in the semiconductor memory test apparatus, the defect remedy calculation means can speed up the defect remedy calculation for the defective cell, and the test can be speeded up.

第3の発明は、第1の発明又は第2の発明の構成において、前記不良抽出手段は、前記試験結果格納メモリから、前記不良救済単位領域ごとに前記不良セルのアドレスを抽出し、前記抽出メモリの下位側アドレス側から詰めて順に格納し、前記不良救済演算手段は、前記抽出メモリの下位アドレス側から、前記不良救済単位領域ごとに前記不良セルのアドレスを読み出すことを特徴とする。   According to a third invention, in the configuration of the first invention or the second invention, the defect extraction means extracts the address of the defective cell for each of the defect remedy unit areas from the test result storage memory, and the extraction The defective remedy calculating means reads the addresses of the defective cells for each of the defective remedy unit areas from the lower address side of the extraction memory.

本発明の半導体メモリ試験装置によれば、被試験メモリに関する試験を高速化することができる。   According to the semiconductor memory test apparatus of the present invention, it is possible to speed up the test relating to the memory under test.

<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態としての半導体メモリ試験装置1の電気的な構成例を示すブロック図である。
半導体メモリ試験装置1は、被試験メモリ9のメモリセルに関して試験を実行し、不良が生じている場合、その不良救済単位領域の所定単位で不良箇所(不良セル)を救済する試験装置である。この半導体メモリ試験装置1は、CPU(Central Processing Unit)3、不良メモリ(フェイルメモリ)11、不良抽出回路7、抽出メモリ5及び試験実施部8を有している。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of a semiconductor memory test apparatus 1 as a first embodiment of the present invention.
The semiconductor memory test apparatus 1 is a test apparatus that performs a test on a memory cell of the memory under test 9 and relieves a defective portion (defective cell) by a predetermined unit in the defect relieving unit area when a defect occurs. The semiconductor memory test apparatus 1 includes a CPU (Central Processing Unit) 3, a defective memory (fail memory) 11, a defect extraction circuit 7, an extraction memory 5, and a test execution unit 8.

試験実施部8は、被試験メモリ9の各メモリセルに対して、試験パターンに基づいてライトアクセスした後にリードアクセスをすることで、被試験メモリ9に書き込まれた内容が正常に読み出せるか否かに関して試験し、その試験結果(「良否結果データ」と呼称する)を不良メモリ11に格納する(以下「試験処理」と呼称する)。   Whether or not the contents written in the memory under test 9 can be normally read out by performing the read access after performing the write access to each memory cell of the memory under test 9 based on the test pattern. The test result (referred to as “good / bad result data”) is stored in the defective memory 11 (hereinafter referred to as “test processing”).

不良メモリ11は、被試験メモリ9と同一のメモリマップを有し、試験中、被試験メモリ9の各メモリセルごとに不良が生じているか否かが蓄積される。被試験メモリ9の試験が終了すると、不良メモリ11に蓄積された良否結果データは、後述するように抽出されて抽出メモリ5に格納される。   The defective memory 11 has the same memory map as the memory under test 9 and stores whether or not a defect occurs for each memory cell of the memory under test 9 during the test. When the test of the memory under test 9 is completed, the pass / fail result data accumulated in the defective memory 11 is extracted and stored in the extraction memory 5 as described later.

不良抽出回路7は、CPU3により、被試験メモリ9の不良救済構造に応じて指定される不良救済単位領域の分割情報に応じて、不良メモリ11のメモリ空間を順次リードして、不良を検出するごとに、その不良メモリ11のアドレスを不良セルのアドレスとする。さらに不良抽出回路7は、その抽出結果である不良セルのアドレスを、そのセルが属する不良救済単位領域に対応する抽出メモリ5の抽出対象単位領域内に、下位アドレス側から順に詰めて格納する機能を有する。   The defect extraction circuit 7 detects the defect by sequentially reading the memory space of the defect memory 11 according to the division information of the defect repair unit area designated by the CPU 3 according to the defect repair structure of the memory under test 9. Each time, the address of the defective memory 11 is set as the address of the defective cell. Further, the defect extraction circuit 7 stores the addresses of defective cells, which are the extraction results, packed in order from the lower address side in the extraction target unit area of the extraction memory 5 corresponding to the defect relief unit area to which the cell belongs. Have

さらにCPU3は、被試験メモリ9について、不良救済単位領域ごとに不良メモリセルの分布に基づいて不良解析を行うべく、抽出メモリ5の内容(不良メモリセルの分布)を抽出対象単位領域ごとに読み出す。CPU3は、この抽出メモリ5に抽出されている不良セルの分布に基づいて不良解析を実施する(不良救済演算処理)。   Further, the CPU 3 reads the contents of the extraction memory 5 (distribution of defective memory cells) for each extraction target unit area in order to perform a failure analysis on the memory under test 9 based on the distribution of defective memory cells for each defective relief unit area. . The CPU 3 performs defect analysis based on the distribution of defective cells extracted in the extraction memory 5 (defective relief calculation processing).

半導体メモリ試験装置1は以上のような構成であり、次に半導体メモリ試験装置1の動作例について説明する。
半導体メモリ試験装置1は、被試験メモリ9のメモリセルについてライトアクセスを実行するとともにリードアクセスを実行することで、被試験メモリ9のメモリセルに書き込まれた内容が正常に読み出せるか否かを試験する。この半導体メモリ試験装置1は、被試験メモリ9のメモリセルに関する試験処理、抽出処理、解析処理及び救済処理を実行する装置である。
The semiconductor memory test apparatus 1 is configured as described above. Next, an operation example of the semiconductor memory test apparatus 1 will be described.
The semiconductor memory test apparatus 1 determines whether or not the contents written in the memory cell of the memory under test 9 can be normally read out by executing write access and read access for the memory cell of the memory under test 9. test. The semiconductor memory test apparatus 1 is an apparatus that executes test processing, extraction processing, analysis processing, and relief processing related to memory cells of the memory under test 9.

<試験処理>
試験実施部8は、被試験メモリ9の各メモリセルに対して、ライトアクセスした後にリードアクセスをすることで、被試験メモリ9に書き込まれた内容が正常に読み出せるか否かに関して試験し、その試験結果(良否結果データ)を不良メモリ11に格納する。
<Test processing>
The test execution unit 8 tests whether or not the contents written in the memory under test 9 can be normally read out by performing read access to each memory cell of the memory under test 9 after performing write access. The test result (good / bad result data) is stored in the defective memory 11.

不良メモリ11は、被試験メモリ9と同一のメモリマップを有し、試験中、被試験メモリ9のメモリセルに関して不良が生じているか否かが蓄積される。被試験メモリ9の試験が終了すると、不良メモリ11に蓄積された良否結果データは、次のように不良(フェイル)が抽出されて抽出メモリ5に格納される。   The defective memory 11 has the same memory map as that of the memory under test 9 and accumulates whether or not a defect occurs in the memory cell of the memory under test 9 during the test. When the test of the memory under test 9 is completed, the defect result data accumulated in the defect memory 11 is extracted as a defect (failure) and stored in the extraction memory 5 as follows.

<抽出処理>
不良抽出回路7は、不良メモリ11のメモリ空間を順次走査して、不良を検出するごとに、その不良セルのアドレスを、CPU3によって指定された不良救済単位領域SG1などの分割情報により、このセルが属する不良救済単位領域に対応する抽出メモリ5の抽出対象単位領域内に下位アドレス側から順に詰めて格納していく。このようにすると、不良抽出回路7は、被試験メモリ9について不良救済単位領域ごとに分けて、不良セルのアドレスを、各不良セルが属する不良救済単位領域に対応する抽出メモリ5の抽出対象単位領域に格納することとなる。
<Extraction process>
The defect extraction circuit 7 sequentially scans the memory space of the defect memory 11, and each time a defect is detected, the address of the defect cell is determined based on the division information such as the defect repair unit area SG1 designated by the CPU 3 and the cell. Are sequentially packed and stored in the extraction target unit area of the extraction memory 5 corresponding to the defect relief unit area to which the data belongs. In this way, the defect extraction circuit 7 divides the memory under test 9 into each defect relief unit area and assigns the address of the defective cell to the extraction target unit of the extraction memory 5 corresponding to the defect relief unit area to which each defective cell belongs. It will be stored in the area.

本実施形態では、例えば、図2に示すような4つの不良救済単位領域SG1〜SG4で分けられる被試験メモリ9のメモリセルを考える。また本実施形態では、被試験メモリ9の各メモリセルを試験した結果、例えば不良セルA〜不良セルDが存在しているものとする。これら不良セルA〜不良セルDのうち不良セルA,Bは、各々不良救済単位領域SG1に属しており、不良セルC,Dは、各々不良救済単位領域SG4に属している。なお、不良救済単位領域SG2,SG3には不良セルが存在していない。不良抽出回路7は、不良救済単位領域SG1内で不良セルA及び不良セルBを抽出するとともに、不良救済単位領域SG2及び不良救済単位領域SG3内で不良を抽出せず、不良救済単位領域SG4内で不良セルC及び不良セルDを抽出する。   In the present embodiment, for example, consider a memory cell of the memory under test 9 divided into four defect relief unit regions SG1 to SG4 as shown in FIG. Further, in the present embodiment, as a result of testing each memory cell of the memory under test 9, for example, it is assumed that defective cells A to D exist. Of these defective cells A to D, the defective cells A and B each belong to the defective relief unit region SG1, and the defective cells C and D each belong to the defective relief unit region SG4. Note that no defective cells exist in the defective relief unit regions SG2 and SG3. The defect extraction circuit 7 extracts the defective cell A and the defective cell B in the defect repair unit area SG1, and does not extract a defect in the defect repair unit area SG2 and the defect repair unit area SG3. The defective cell C and the defective cell D are extracted.

さらに不良抽出回路7は、不良救済単位領域SG1〜SG4毎に、例えば図3に示すように不良救済単位領域SG1に対応する抽出対象単位領域5aに、不良セルA及び不良セルBのアドレスを下位アドレス側から詰めて順に格納するとともに、不良救済単位領域SG4に対応する抽出対象単位領域5dに、不良セルC及び不良セルDのアドレスを、例えば下位アドレス側から詰めて順に格納する。本実施形態では、このように抽出メモリ5に抽出された内容を「不良メモリセルの分布」と呼称している。   Further, the defect extraction circuit 7 lowers the addresses of the defective cells A and B in the extraction target unit region 5a corresponding to the defect repair unit region SG1, for example, as shown in FIG. 3 for each of the defect repair unit regions SG1 to SG4. The addresses of the defective cells C and D are stored in order from the lower address side, for example, in the extraction target unit area 5d corresponding to the defective relief unit area SG4. In the present embodiment, the content extracted into the extraction memory 5 in this way is referred to as “defective memory cell distribution”.

<不良解析処理>
ここでCPU3は、被試験メモリ9について、不良救済単位領域ごとの不良メモリセルの分布に基づいて不良解析を行うべく、抽出メモリ5の内容(不良メモリセルの分布)を読み出し、この抽出メモリ5に抽出されている不良メモリセルの分布に基づいて不良解析を実施する。
<Defect analysis processing>
Here, the CPU 3 reads out the contents of the extraction memory 5 (distribution of defective memory cells) in order to perform a failure analysis on the memory under test 9 based on the distribution of defective memory cells for each defective relief unit area. The failure analysis is performed based on the distribution of the defective memory cells extracted.

図4は、半導体メモリ試験装置1が実行する一連の動作例を時間の経過に応じて図示した図である。なお、これら一連の動作例では、実線及び波線で示した矢印の長さが動作時間の長さを示しているとともに、矢印の上部に示した文字が動作内容を表しているものとする。また、「抽出」や「解析」などの文字の次に付されている数字は、各不良救済単位領域を区別するための識別子である。図4においては、左から右に進むほど時間が進むように図示している。   FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a series of operations performed by the semiconductor memory test apparatus 1 over time. In these series of operation examples, it is assumed that the length of the arrow indicated by the solid line and the wavy line indicates the length of the operation time, and the characters indicated above the arrow indicate the operation content. Further, the numbers added after the characters such as “extract” and “analysis” are identifiers for distinguishing each defective repair unit area. In FIG. 4, the time advances from the left to the right.

図示した例の場合、上記試験処理後における、抽出処理及び解析処理を含む一連の動作(以下、単に「一連の動作」と呼称する)の実行間隔は、従来のようなバッファメモリへの複写に掛かる複写時間を含まず、不良抽出回路7による不良抽出に掛かる不良抽出時間(図示の「抽出1」〜「抽出4」に相当)及び、CPU3による不良解析に掛かる不良解析時間(図示の「解析1」〜「解析4」に相当)の合計時間となっている。つまり半導体メモリ試験装置1においては、一連の動作の実行間隔が、不良抽出回路7による不良抽出に掛かる不良抽出時間及び、CPU3による不良解析に掛かる不良解析時間の合計時間となっている。   In the case of the illustrated example, the execution interval of a series of operations including the extraction process and the analysis process (hereinafter simply referred to as “a series of operations”) after the above-described test process is set to be copied to a buffer memory as in the past. It does not include the copying time, and the defect extraction time (corresponding to “extraction 1” to “extraction 4” in the figure) required for the defect extraction by the defect extraction circuit 7 and the defect analysis time (corresponding to the “analysis” in FIG. 1 ”to“ Analysis 4 ”). That is, in the semiconductor memory test apparatus 1, the execution interval of a series of operations is the total time of the defect extraction time required for defect extraction by the defect extraction circuit 7 and the failure analysis time required for the failure analysis by the CPU 3.

第1実施形態によれば、不良抽出回路7が、不良メモリ11の試験結果に基づいて、被試験メモリ9の不良セルAのアドレスなどを、抽出メモリ5に不良救済単位領域SG1などごとに下位アドレス側から詰めて順に格納させている。   According to the first embodiment, the defect extraction circuit 7 assigns the address of the defective cell A of the memory under test 9 to the extraction memory 5 on the basis of the test result of the defect memory 11 for each defect relief unit region SG1 and the like. They are stored in order from the address side.

さらに不良抽出回路7は、同一の被試験メモリ9の不良セルCなどのアドレスを、その不良セルCなどが属する不良救済単位領域SG4に各々対応する抽出メモリ5の抽出対象単位領域5d内に、下位アドレスから詰めて格納させている。   Further, the defect extraction circuit 7 assigns addresses such as the defective cell C of the same memory under test 9 in the extraction target unit area 5d of the extraction memory 5 corresponding to the defect relief unit area SG4 to which the defective cell C belongs. Stored from the lower address.

つまり不良抽出回路7は、被試験メモリ9について不良救済単位領域SG1などごとに抽出した不良セルAなどのアドレスを、抽出メモリ5に分けて格納させている。このため不良抽出回路7が、被試験メモリ9に関して全ての不良救済単位領域SG1などについて、連続的に不良メモリ11から不良セルのアドレスを抽出メモリ5に抽出しているため、このような抽出処理後においては、CPU3(不良救済演算手段)が、抽出メモリ5に抽出済みの不良セルのアドレスに基づいて不良セルの解析(不良救済演算)を行うことができる。   That is, the defect extraction circuit 7 stores the addresses of the defective cells A and the like extracted for each defect relief unit region SG1 in the memory under test 9 separately in the extraction memory 5. For this reason, since the defect extraction circuit 7 continuously extracts the addresses of defective cells from the defect memory 11 to the extraction memory 5 for all defect relief unit regions SG1 and the like with respect to the memory under test 9, such extraction processing is performed. Later, the CPU 3 (defective remedy calculation means) can perform analysis of defective cells (defective remedy calculation) based on the addresses of defective cells already extracted in the extraction memory 5.

さらにこのような抽出処理後、CPU3(不良救済演算手段)が、抽出メモリ5に抽出された不良セルのアドレスに基づいて不良救済演算を行っている間にも、並列して、試験実施部8が、次の被試験メモリ9について試験を実施することができるようになる。   Further, after such extraction processing, the CPU 3 (defective remedy calculation means) performs the defective remedy calculation based on the address of the defective cell extracted in the extraction memory 5, and in parallel, the test execution unit 8 However, a test can be performed on the next memory under test 9.

従って本実施形態によれば、バッファメモリを搭載する必要性がなくなり、このようなバッファメモリへの複写時間がなくなることから、被試験メモリ9に関する試験時間を短縮して、被試験メモリ9に関する試験を高速化することができる。しかも本実施形態によれば、このように半導体メモリ試験装置1に、不良メモリ11に蓄積された良否結果データを抽出メモリ5に複写する際に、一時的に良否結果データを格納しておくためのバッファメモリを備えている必要がないため、回路規模を小さくすることができる。   Therefore, according to this embodiment, there is no need to mount a buffer memory, and there is no time for copying to such a buffer memory. Therefore, the test time for the memory under test 9 is shortened, and the test for the memory under test 9 is performed. Can be speeded up. In addition, according to the present embodiment, the pass / fail result data is temporarily stored in the semiconductor memory test apparatus 1 when the pass / fail result data accumulated in the defective memory 11 is copied to the extraction memory 5. Therefore, the circuit scale can be reduced.

<第2実施形態>
図5は、本発明の第2実施形態としての半導体メモリ試験装置1aの電気的な構成例を示すブロック図である。
この半導体メモリ試験装置1aは、第1実施形態としての半導体メモリ試験装置1とほぼ同様の構成であるとともにほぼ同様の動作を行うことから、同様の構成および動作についてはその説明を省略し、以下異なる点を中心として説明する。なお、第2実施形態において第1実施形態と同様の構成および動作について説明が及ぶ場合は、第1実施形態における符号と同一の符号を用いる。
<Second Embodiment>
FIG. 5 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of the semiconductor memory test apparatus 1a as the second embodiment of the present invention.
The semiconductor memory test apparatus 1a has substantially the same configuration as the semiconductor memory test apparatus 1 as the first embodiment and performs almost the same operation. Therefore, the description of the same configuration and operation is omitted, and The description will focus on the differences. Note that, in the second embodiment, when the same configuration and operation as in the first embodiment are described, the same reference numerals as those in the first embodiment are used.

第1実施形態では、半導体メモリ試験装置1が1つの抽出メモリ5を備えているのに対して、第2実施形態では、その代わりに、半導体メモリ試験装置1aが複数(第2実施形態では2つを例示している)の抽出メモリ5e,5f(2以上の抽出単位メモリ)を備えている。つまり第2実施形態では、これら抽出メモリ5e,5fによっていわゆるインターリーブ動作を実現している。   In the first embodiment, the semiconductor memory test apparatus 1 includes one extraction memory 5, whereas in the second embodiment, a plurality of semiconductor memory test apparatuses 1a (in the second embodiment, 2) are used instead. Extraction memories 5e and 5f (two or more extraction unit memories). That is, in the second embodiment, a so-called interleave operation is realized by these extraction memories 5e and 5f.

このような構成の半導体メモリ試験装置1aにおいては、CPU3及び不良抽出回路7がこれら抽出メモリ5e,5fを用いて次のように動作する。
すなわち、不良抽出回路7が2つの抽出メモリ5e,5fのうちいずれか一方(例えば抽出メモリ5e)に不良セルのアドレスなどを格納している間に、CPU3は、並列させて、2つの抽出メモリ5e,5fのうちいずれか他方(例えば抽出メモリ5f)に格納済みの不良セルのアドレスなどを読み出している。
In the semiconductor memory test apparatus 1a having such a configuration, the CPU 3 and the defect extraction circuit 7 operate as follows using these extraction memories 5e and 5f.
That is, while the defect extraction circuit 7 stores the address of the defective cell or the like in one of the two extraction memories 5e and 5f (for example, the extraction memory 5e), the CPU 3 makes two extraction memories in parallel. The address of the defective cell already stored in either the other of 5e and 5f (for example, the extraction memory 5f) is read.

図6は、半導体メモリ試験装置1aが実行する動作を簡素化して表した図である。なお、図6に示した各用語は、図4に示した各用語と同一であるので、説明を省略する。
この半導体メモリ試験装置1aは、2つの抽出メモリ5e,5fを搭載することにより、CPU3と不良抽出回路7とが、これら抽出メモリ5e,5fを用いて並列的に処理を進めることができる。
FIG. 6 is a diagram showing the operations performed by the semiconductor memory test apparatus 1a in a simplified manner. The terms shown in FIG. 6 are the same as the terms shown in FIG.
The semiconductor memory test apparatus 1a is equipped with two extraction memories 5e and 5f, so that the CPU 3 and the defect extraction circuit 7 can proceed in parallel using the extraction memories 5e and 5f.

具体的には、CPU3は、抽出メモリ5eの抽出結果により解析処理(図示の「解析1」〜「解析4」に相当)を行っている間に、並列して、不良抽出回路7が、次の試験に関する抽出処理(図示の「抽出1」〜「抽出4」に相当)を実行し、その抽出結果を抽出メモリ5fに格納することができる。   Specifically, the CPU 3 performs the analysis process (corresponding to “Analysis 1” to “Analysis 4” in the figure) based on the extraction result of the extraction memory 5e in parallel, The extraction process (corresponding to “extraction 1” to “extraction 4” shown in the figure) is executed, and the extraction result can be stored in the extraction memory 5f.

第2実施形態によれば、第1実施形態とほぼ同様の有用性を発揮することができるとともに、これに加えてさらに、2以上の抽出メモリ5e,5fは、いわゆるインターリーブ動作をすることになり、複数の被試験メモリ9についての不良セルのアドレスが次々と書き込まれるとともに同時並行して次々と読み出し可能となる。このためCPU3(不良救済演算手段)は、不良抽出回路7による抽出メモリ5e,5fへの書き込み状況に関係なく、複数の被試験メモリ9について次々と連続して不良セルに関して不良解析を行って不良救済演算を行うことができる。このため半導体メモリ試験装置1aは、不良セルについての不良救済演算を高速化することができ、試験を高速化することができる。   According to the second embodiment, the same usefulness as that of the first embodiment can be exhibited, and in addition, the two or more extraction memories 5e and 5f perform a so-called interleave operation. The addresses of defective cells for the plurality of memories under test 9 are written one after the other and can be read one after another simultaneously. For this reason, the CPU 3 (defective remedy calculation means) performs a failure analysis on the defective cells in succession for the plurality of memories 9 to be tested regardless of the state of writing to the extraction memories 5e and 5f by the defect extraction circuit 7. A relief operation can be performed. For this reason, the semiconductor memory test apparatus 1a can speed up the defect remedy operation for the defective cell, and can speed up the test.

以上は、一実施形態についての説明であるが、本発明の実施の形態がこれに制約されることはない。上記実施形態の各構成は、上述のような形態のみならず、適宜組み合わせを変更することができる。   The above is the description of one embodiment, but the embodiment of the present invention is not limited to this. Each composition of the above-mentioned embodiment can change not only the above-mentioned form but a combination suitably.

本発明の第1実施形態としての半導体メモリ試験装置の電気的な構成例を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of a semiconductor memory test apparatus as a first embodiment of the present invention. 被試験メモリのメモリセルにおける不良の具体的な配置例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of arrangement | positioning of the defect in the memory cell of a memory under test. 抽出メモリに格納された良否結果データの一例を示すメモリマップである。It is a memory map which shows an example of the quality result data stored in the extraction memory. 半導体メモリ試験装置が実行する一連の動作例を時間の経過に応じて図示した図である。It is the figure which illustrated in a series of the example of a series of operation | movement which a semiconductor memory test device performs. 本発明の第2実施形態としての半導体メモリ試験装置の電気的な構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electrical structural example of the semiconductor memory test apparatus as 2nd Embodiment of this invention. 半導体メモリ試験装置が実行する一連の動作例を時間の経過に応じて図示した図である。It is the figure which illustrated in a series of the example of a series of operation | movement which a semiconductor memory test device performs. 従来の半導体メモリ試験装置の電気的な構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of an electrical structure of the conventional semiconductor memory test apparatus. 被試験メモリのメモリセルにおける不良の具体的な配置例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of arrangement | positioning of the defect in the memory cell of a memory under test. 抽出メモリに格納された良否結果データの一例を示すメモリマップである。It is a memory map which shows an example of the quality result data stored in the extraction memory. 従来の半導体メモリ試験装置が実行する一連の動作例を時間の経過に応じて図示した図であるIt is the figure which illustrated the series of operation examples which the conventional semiconductor memory test device performs according to progress of time.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体メモリ試験装置
1a 半導体メモリ試験装置
3 CPU(不良救済演算手段)
5 抽出メモリ
5a 抽出対象単位領域
5b 抽出対象単位領域
5c 抽出対象単位領域
5d 抽出対象単位領域
5e 抽出メモリ(抽出単位メモリ)
5f 抽出メモリ(抽出単位メモリ)
7 不良抽出回路(不良抽出手段)
8 試験実施部(試験実施手段)
9 被試験メモリ
11 不良メモリ(試験結果格納メモリ)
SG1 不良救済単位領域
SG2 不良救済単位領域
SG3 不良救済単位領域
SG4 不良救済単位領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor memory test device 1a Semiconductor memory test device 3 CPU (defective relief calculation means)
5 Extraction Memory 5a Extraction Target Unit Area 5b Extraction Target Unit Area 5c Extraction Target Unit Area 5d Extraction Target Unit Area 5e Extraction Memory (Extraction Unit Memory)
5f Extraction memory (extraction unit memory)
7 Defect extraction circuit (defect extraction means)
8 Test execution department (Test execution means)
9 Memory under test 11 Defect memory (Test result storage memory)
SG1 Defect Relief Unit Area SG2 Defect Relief Unit Area SG3 Defect Relief Unit Area SG4 Defect Relief Unit Area

Claims (3)

被試験メモリの試験を実施する試験実施手段と、
この試験実施手段の試験結果を格納する試験結果格納メモリと、
前記被試験メモリの不良救済単位領域ごとに、不良セルのアドレスを格納する抽出メモリと、
前記試験結果格納メモリの試験結果に基づいて、不良救済単位領域ごとに、前記不良セルのアドレスを前記抽出メモリに格納する不良抽出手段と、
前記抽出メモリに格納した前記不良セルのアドレスにより、不良救済演算を行う不良救済演算手段と
を備えることを特徴とする半導体メモリ試験装置。
A test execution means for performing a test of the memory under test;
A test result storage memory for storing a test result of the test execution means;
An extraction memory for storing an address of a defective cell for each defective relief unit area of the memory under test;
Based on the test result of the test result storage memory, defect extraction means for storing the address of the defective cell in the extraction memory for each defect relief unit area;
A semiconductor memory test apparatus comprising: a defect remedy calculation means for performing a defect remedy calculation based on an address of the defective cell stored in the extraction memory.
前記抽出メモリは、2以上の抽出単位メモリで構成されており、
前記不良救済演算手段は、前記不良抽出手段が前記2以上の抽出単位メモリのうちいずれか1つの抽出単位メモリに前記不良セルのアドレスを格納している間に、前記2以上の抽出単位メモリのうち他の抽出単位メモリに格納済みの前記不良セルのアドレスを読み出すことを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ試験装置。
The extraction memory is composed of two or more extraction unit memories,
The defect remedy calculating means stores the addresses of the two or more extraction unit memories while the defect extraction means stores the addresses of the defective cells in any one of the two or more extraction unit memories. 2. The semiconductor memory test apparatus according to claim 1, wherein an address of the defective cell stored in another extraction unit memory is read out.
前記不良抽出手段は、前記試験結果格納メモリから、前記不良救済単位領域ごとに前記不良セルのアドレスを抽出し、前記抽出メモリの下位側アドレス側から詰めて順に格納し、
前記不良救済演算手段は、前記抽出メモリの下位アドレス側から、前記不良救済単位領域ごとに前記不良セルのアドレスを読み出すことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体メモリ試験装置。
The defect extraction means extracts the address of the defective cell for each defect remedy unit region from the test result storage memory, stores it sequentially from the lower address side of the extraction memory,
3. The semiconductor memory test apparatus according to claim 1, wherein the defect remedy calculating unit reads an address of the defective cell for each defect remedy unit region from a lower address side of the extraction memory.
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