JP2007530724A - Photocurable composition - Google Patents

Photocurable composition Download PDF

Info

Publication number
JP2007530724A
JP2007530724A JP2007504410A JP2007504410A JP2007530724A JP 2007530724 A JP2007530724 A JP 2007530724A JP 2007504410 A JP2007504410 A JP 2007504410A JP 2007504410 A JP2007504410 A JP 2007504410A JP 2007530724 A JP2007530724 A JP 2007530724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
composition
weight
epoxy
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007504410A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4776616B2 (en
Inventor
パテル,ランジャナ・シー
ローズ,マイケル
チャオ,ヨン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH
Original Assignee
Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH filed Critical Huntsman Advanced Materials Switzerland GmbH
Publication of JP2007530724A publication Critical patent/JP2007530724A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4776616B2 publication Critical patent/JP4776616B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C67/00Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y70/00Materials specially adapted for additive manufacturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037Production of three-dimensional images
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0827Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2033/00Use of polymers of unsaturated acids or derivatives thereof as moulding material

Abstract

An optical moulding process is disclosed comprising the sequential steps of: (a)(y) forming a layer of a photocurable composition; and (bXz) irradiating selected areas of the composition in the layer with radiation from a radiation source, thereby curing the composition in said selected areas and repeating the steps a) and b) on top of an earlier cured layer to form a three dimensional structure, wherein the radiation source used in step b) is a non-coherent source of radiation and wherein the photocurable composition comprises at least two curable components: (i) 45%-95% (and preferably at least 50%, more preferably at least 60%, e.g. at least 70%) by weight of the total curable components in the composition is a first component that is photocurable and that is such that, when cured in the presence of a photocuring initiator by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ/cm2, at least 90% of the component is cured within 50 milliseconds; and (ii) 5% to 55% (and preferably 10-40%, more preferably 15 to 30%, e.g. about 20%) by weight of the total curable components in the composition is a second component that results in the composition, on curing, shrinking, in a linear direction, by less than 3% and preferably that results in the composition having, after cure, a Tg of greater than 50° C., preferably at least 100° C. and more preferably at least 120° C.

Description

発明の分野
本発明は、光硬化性組成物、およびラピッドプロトタイピング(rapid prototyping)技術を用いる三次元物品の生産方法に関する。本発明の光硬化性組成物から生産される三次元物品は、全般的に高い性能特性を示す。
The present invention relates to photocurable compositions and methods for producing three-dimensional articles using rapid prototyping techniques. Three-dimensional articles produced from the photocurable composition of the present invention generally exhibit high performance characteristics.

発明の背景
CADを用いる、一層ごとのラピッドプロトタイピング技術(例えばステレオリソグラフィー(stereolithography))から生産される三次元物品は、長年にわたり市販されている。そのような物品の最終的な機械的および他の[例えば表面仕上げなど]性質は、用いられる材料およびCAD積層システム(CAD layering system)に由来する。
BACKGROUND OF THE INVENTION Three-dimensional articles produced from layer-by-layer rapid prototyping technology (eg, stereolithography) using CAD have been commercially available for many years. The final mechanical and other [eg surface finish etc.] properties of such articles are derived from the materials used and the CAD layering system.

例えば、ステレオリソグラフィーシステム、例えば米国特許第4575330号に記載されているものでは、UVレーザーにより対処された(addressed)複雑な感光性ポリマー混合物を用いて3D物品を生産している。そのような機械で用いられるポリマー混合物は、概念モデリング(concept modeling)に適した初期のアクリル系[例えば、米国特許第6043323号]からエポキシ−アクリル混成物[例えば、米国特許第5476748号、第6136497号、第6136497号、第6100007号、第6413496号、第6099787号、第6350403号、第5437964号、第5510226号、第5494618号、第5705116号]に進歩しており、後者は、より良好な性質[例えば、より少ない収縮、より高い曲げ弾性率、より良好な破断点伸び、より高い引張特性、およびより高い耐衝撃性]をもたらしているが、通常、性質の1種または他の性質において妥協を要する。それでもなお、エポキシ−アクリル混成物からの改善された性能は、特定の技術的性質のモデリングに有用である。   For example, stereolithography systems, such as those described in US Pat. No. 4,575,330, produce 3D articles using complex photosensitive polymer mixtures addressed by UV lasers. Polymer blends used in such machines range from early acrylics suitable for concept modeling [eg US Pat. No. 6,043,323] to epoxy-acrylic hybrids [eg US Pat. Nos. 5,476,748, 6,136,497]. No. 6,136,497, No. 6,100,0007, No. 6,413,496, No. 6,099,787, No. 6,350,403, No. 5,437,964, No. 5,510,226, No. 5,494,618, No. 5705116], the latter being better Resulting in properties [eg, less shrinkage, higher flexural modulus, better elongation at break, higher tensile properties, and higher impact resistance], but typically in one or other properties A compromise is required. Nevertheless, the improved performance from epoxy-acrylic hybrids is useful for modeling specific technical properties.

積層された三次元系をもたらす他のシステムがある:熱可塑性粉末を用いるレーザー焼結、押出可能なペーストを用いる押出システム、流体を用いる直接的または粉末上へのジェット印刷など。これらの材料−機械システムはすべて、一つの区域または他の区域において限界を有し、これにより、最終的に形成される三次元物品の直接的有用性が制限される。これらのシステムはすべて、特にレーザー走査暴露法(laser scanning exposure process)を用いるものから形成される三次元物品への到達速度に関して、限界も有する。   There are other systems that result in a layered three-dimensional system: laser sintering using thermoplastic powders, extrusion systems using extrudable pastes, jet printing directly or onto powders using fluids, etc. All of these material-mechanical systems have limitations in one area or the other, which limits the direct usefulness of the finally formed three-dimensional article. All of these systems also have limitations with respect to the speed to reach a three-dimensional article formed, especially from those using a laser scanning exposure process.

これまで可能であった速度より高速で、直接的に有用な技術的グレードの三次元物品を達成することが、引き続き必要とされている。   There is a continuing need to achieve directly useful technical grade three-dimensional articles that are faster than previously possible.

そのような物品の入手が可能になると、サービスビューロー(service bureau)型取引店から‘社内’工業設計部門へ、そしてラピッドプロトタイピングから少〜中程度の容量のラピッドマニュファクチャリング(short to medium volume rapid manufacturing)へと、市場を広げる展望が示される。   When such goods become available, from a service bureau-type retailer to the 'in-house' industrial design department, and from rapid prototyping to small to medium volume rapid manufacturing (short to medium volume). Rapid manufacturing) will show the prospect of expanding the market.

これらの特質に加え、従来生産されている物品[例えば、数例を挙げるとポリプロピレン、ABS、ポリカーボネート、PEEKなどを用いる射出成形によるもの]に用いられる熱可塑性ポリマーに匹敵するかそれより良好な硬化後の性質も、非常に望まれている。   In addition to these attributes, curing comparable to or better than the thermoplastic polymers used in previously produced articles [eg, by injection molding using polypropylene, ABS, polycarbonate, PEEK, etc. to name a few. Later properties are also highly desirable.

さらに、経時的に安定な三次元物品を生産するラピッドプロトタイピング用の材料および方法に対する必要性が高まっている。従来、ラピッドプロトタイピングにより生産される物品は最初に非常に脆いので、老化に付随して増大する脆性は注目されずに終わっていた。物品は短期間の用途にしか用いられないため、脆性の問題には直面しないことが多かった。   Furthermore, there is a growing need for rapid prototyping materials and methods that produce stable three-dimensional articles over time. Traditionally, articles produced by rapid prototyping were initially very brittle, and the brittleness that increased with aging ended without notice. Since articles are only used for short-term applications, they often do not face the problem of brittleness.

本発明は、これまで可能であったより短期間でより優れて安定な性質を有する三次元物品を生産するために用いることができる光硬化性組成物に関する。   The present invention relates to a photocurable composition that can be used to produce three-dimensional articles having better and more stable properties in a shorter period of time than has been possible so far.

現在、光硬化性組成物の連続的層の選択された区域を選択的に照射することによる三次元物品の生産では、良好な硬化速度を提供するためレーザーが放射線源として用いられている。非干渉性放射線をもたらす他の放射線源では、レーザー放射線と同様の硬化速度を達成することはできず、物品の構築中、および物品が構築される浴からこれを取り出した後の最終的UVフラッド硬化(UV flood cure)の前に、物品の自立を可能にするのに足る未処理強度を提供するためには、はるかに速く硬化する組成物の使用が必要とされる。しかしながら、硬化の速いポリマーは間もなく脆くなり、硬化中に実質的に収縮し、これによりモデルの精度は低下し、モデルの一部がカールする。   Currently, in the production of three-dimensional articles by selectively irradiating selected areas of a continuous layer of photocurable composition, lasers are used as radiation sources to provide good cure rates. Other radiation sources that provide incoherent radiation cannot achieve cure rates similar to laser radiation, and the final UV flood during construction of the article and after removal from the bath in which the article is constructed Prior to curing (UV flood cure), the use of a composition that cures much faster is required to provide enough green strength to allow the article to be self-supporting. However, fast-curing polymers will soon become brittle and shrink substantially during curing, thereby reducing the accuracy of the model and curling part of the model.

チオレン型組成物に関するいくつかの従来技術は以下のものである:
DE4440819A1の実施例1には、76.1gのノルボルネンアクリレートと19.9gのポリチオールを含有する組成物であって、He/Cdレーザーで硬化される組成物が記載されている。硬化された生成物は高い収縮レベルを有する:14.4%。重量基準でほぼ同等量のノルボルネンアクリレートとポリチオールを含有する組成物から得られる硬化された生成物は、より低い収縮を有する。
Some prior art regarding thiolene-type compositions is as follows:
Example 1 of DE 44 40 819 A1 describes a composition containing 76.1 g of norbornene acrylate and 19.9 g of polythiol, which is cured with a He / Cd laser. The cured product has a high shrinkage level: 14.4%. Cured products obtained from compositions containing approximately equal amounts of norbornene acrylate and polythiol on a weight basis have lower shrinkage.

米国特許第4230740号には、ポリエン成分とチオールを、典型的には反応性希釈剤および溶媒と一緒に含有する組成物について記載されており、該組成物を基材に施用し、架橋するまで放射線、例えばUV光に暴露して、基材上に無黄変コーティングを提供する。これは、光学成形法により3次元物品を構築することとはほど遠い。   U.S. Pat. No. 4,230,740 describes a composition containing a polyene component and a thiol, typically together with a reactive diluent and solvent, until the composition is applied to a substrate and crosslinked. Exposure to radiation, such as UV light, provides a non-yellowing coating on the substrate. This is far from constructing a three-dimensional article by optical molding.

EP0492953A1には、複数のノルボルネン基を有する化合物、複数のチオール基を含む化合物およびラジカル開始剤を含む硬化性樹脂配合物を用いて、三次元物品を構築するためのステレオリソグラフィー法について記載されている。典型的には、同様の比率[例えば0.7:1〜1.3:1]のノルボルニル化合物とチオール化合物を用いる。非レーザー技術により3D物品を生産することは示唆されていない。ノルボルネン化合物には悪臭があり、これを悪臭のあるチオールと組み合わせることは薦められない。さらに、ノルボルネン化合物は商業的に入手しにくい。   EP 0 492 953 A1 describes a stereolithographic method for building a three-dimensional article using a compound having a plurality of norbornene groups, a compound containing a plurality of thiol groups and a curable resin formulation containing a radical initiator. . Typically, a norbornyl compound and a thiol compound in a similar ratio [eg, 0.7: 1 to 1.3: 1] are used. There is no suggestion of producing 3D articles by non-laser technology. Norbornene compounds have a bad odor and it is not recommended to combine this with a odorous thiol. Furthermore, norbornene compounds are difficult to obtain commercially.

米国特許第4230740号には、アリルシアヌレートとチオール化合物を典型的には同様の重量比で含有するチオレン組成物について記載されている。通常、450°Fで15分間加熱すると硬化反応が完了すると記載されている。
非レーザーシステムのいくつかの従来技術は以下のものである:
WO00/21735には非レーザー法が記載されているが、そのような方法が樹脂からはるかに改善された機械的性質をもたらすであろうことは開示されていない。
U.S. Pat. No. 4,230,740 describes thiolene compositions containing allyl cyanurate and thiol compounds, typically in similar weight ratios. Normally, it is described that the curing reaction is completed when heated at 450 ° F. for 15 minutes.
Some prior art of non-laser systems are:
Although WO 00/21735 describes non-laser methods, it is not disclosed that such methods would result in much improved mechanical properties from the resin.

米国特許第6500375号には、樹脂に向けられる電磁的照射を調節する空間光変調器を包含する三次元成形法について記載されている。非レーザー暴露手段が改善された性質をもたらす可能性があるとは、言及されていない。   U.S. Pat. No. 6,500,355 describes a three-dimensional molding process that includes a spatial light modulator that regulates the electromagnetic radiation directed at the resin. There is no mention that non-laser exposure means may provide improved properties.

他の可能性は、EP1250997A1およびEP1253002A1に記載されているものである。   Other possibilities are those described in EP1250997A1 and EP1253002A1.

他の可能性は、米国特許第20040036200A1号、米国特許第20040207123A1号、WO03041875、WO03/099947A1およびその中の参考文献に記載されているとおりであり、UV硬化性流体を噴射した後、いくらかの非レーザー照射により硬化することを用いる。   Other possibilities are as described in US 20040036200A1, US 20040207123A1, WO0301875, WO03 / 099947A1 and references therein, after injecting some UV curable fluid. Curing by laser irradiation is used.

他の可能性は、ダイレクトプリント(direct printing)における使用、例えば米国特許第6259962号および関連特許である。この一連の技術は、一般に機械/機器の方法について開示しているが、そのような機械から到達することができる最終的性質に対するシステムの効果については言及していない。   Another possibility is the use in direct printing, for example US Pat. No. 6,259,962 and related patents. This series of techniques generally discloses machine / equipment methods, but does not mention the effect of the system on the final properties that can be reached from such machines.

ポリマーは、以下のように大きく分類することができる。   Polymers can be broadly classified as follows.

熱可塑性樹脂:加熱後に元の状態を再形成する。何度も繰り返すことができる。   Thermoplastic resin: Reforms the original state after heating. It can be repeated many times.

熱硬化性樹脂:加熱後に硬化する。1度しか硬化しない。再形成できない。
熱可塑性樹脂
結晶質:規則的な順序で配列しているポリマー
非晶質:コイルのように無秩序に配列しているポリマー
熱硬化性樹脂
ポリマーの網状構造のために低分子量モノマーが架橋し重合している
エラストマー
熱可塑性または熱硬化性のいずれかであることができる
熱硬化性エラストマー:天然および合成ゴム
熱可塑性エラストマー:ゴムによく似ているプラスチック(EPDM、TPO、TPE)
レーザー放射線を作り出すためには高価な設備が必要であり、光硬化性組成物を硬化するための他の方法を見いだすことが望ましい。非干渉性化学線照射を包含する方法には、新規な光硬化性組成物が必要である。
Thermosetting resin: cured after heating. It only cures once. It cannot be reformed.
Thermoplastic resin Crystalline: Polymer arranged in a regular order Amorphous: Polymer thermosetting resin arranged randomly like a coil Polymerization of low molecular weight monomers due to polymer network Elastomers that can be either thermoplastic or thermoset Thermoset elastomers: natural and synthetic rubbers Thermoplastic elastomers: plastics that are very similar to rubber (EPDM, TPO, TPE)
Expensive equipment is required to produce laser radiation, and it is desirable to find other methods for curing photocurable compositions. Methods involving non-interfering actinic radiation require new photocurable compositions.

発明の概要
本発明は、非レーザー照射を包含するCAD積層技術(CAD layer technique)を用いて形成される三次元物品において、総合して広範囲の性質をもたらす方法および光硬化性組成物を提供する。得られる性質は、従来の熱可塑性ポリマーから得られる性質に匹敵することが好ましい。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides methods and photocurable compositions that collectively provide a wide range of properties in three-dimensional articles formed using CAD layer techniques involving non-laser irradiation. . The properties obtained are preferably comparable to those obtained from conventional thermoplastic polymers.

本発明の第1の観点に従って、非干渉性放射線源である放射線源を含む光学成形法であって、光硬化性組成物が、少なくとも2種の硬化性成分:
i)組成物中の全硬化性成分の45重量%〜95重量%(そして、好ましくは少なくとも50重量%、より好ましくは少なくとも60重量%、例えば少なくとも70重量%)が第1成分であり、該第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cmのエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90%が50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
ii)組成物中の全硬化性成分の5重量%〜55重量%(そして、好ましくは10〜40重量%、より好ましくは15〜30重量%、例えば約20重量%)が第2成分であり、該第2成分は、硬化中に、直線方向で3%未満の組成物の収縮をもたらし、好ましくは、硬化後に、50℃より高温、好ましくは少なくとも100℃、より好ましくは少なくとも120℃のTを有する組成物をもたらす、
を含む、前記方法を提供する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an optical molding method comprising a radiation source that is an incoherent radiation source, wherein the photocurable composition comprises at least two curable components:
i) 45 wt% to 95 wt% (and preferably at least 50 wt%, more preferably at least 60 wt%, such as at least 70 wt%) of the total curable component in the composition is the first component, The first component is photocurable and upon curing by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ / cm 2 in the presence of a photocuring initiator, at least 90% of the component is cured within 50 milliseconds. And ii) 5% to 55% by weight of the total curable component in the composition (and preferably 10 to 40% by weight, more preferably 15 to 30% by weight, for example about 20% by weight). ) Is the second component, which results in shrinkage of the composition in the linear direction of less than 3% during curing, preferably higher than 50 ° C., preferably at least 100 ° C. after curing, More preferably results in a composition having a T g of at least 120 ° C.
The method is provided.

本発明はまた、非干渉性放射線源を用いる、一層ごとの光学成形法(layerwise optical moulding process)であって、光硬化性組成物が、少なくとも2種の硬化性成分:
iii)組成物中の全硬化性成分の少なくとも70重量%、好ましくは少なくとも80重量%、より好ましくは少なくとも85重量%が第1成分であり、該第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cmのエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90重量%が50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
iv)組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%、好ましくは最大30重量%、好ましくは最大20重量%、好ましくは最大15重量%が第2成分であり、該第2成分は、硬化中に、直線方向で長さにおいて3%未満の組成物の収縮をもたらし、好ましくは、硬化後に、50℃より高温、好ましくは少なくとも100℃、より好ましくは少なくとも120℃のTを有する組成物をもたらす、
を含む、前記方法を提供する。
The present invention is also a layerwise optical molding process using an incoherent radiation source, wherein the photocurable composition comprises at least two curable components:
iii) At least 70%, preferably at least 80%, more preferably at least 85% by weight of the total curable component in the composition is the first component, the first component being photocurable, light Such that upon curing by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ / cm 2 in the presence of a curing initiator, at least 90% by weight of the component is cured within 50 milliseconds; and
iv) At least 5% by weight of the total curable component in the composition, preferably at most 30% by weight, preferably at most 20% by weight, preferably at most 15% by weight is the second component, the second component being cured A composition having a T g of less than 3% in length in the linear direction, preferably having a T g of higher than 50 ° C., preferably at least 100 ° C., more preferably at least 120 ° C. after curing. Bring the
The method is provided.

該組成物は速い硬化速度を有するので、非干渉性放射線源と一緒に用いることができ、またその際に良好な物理的性質を備える物品を提供する。   Because the composition has a fast cure rate, it can be used with an incoherent radiation source and in doing so provides an article with good physical properties.

好ましくは、第1成分の少なくとも90%は、第1成分を光硬化開始剤の存在下で20mJ/cm(より好ましくは10mJ/cm)のエネルギーを有するUV放射線に暴露することにより硬化すると、50ミリ秒以内に硬化する。 Preferably, at least 90% of the first component is cured by exposing the first component to UV radiation having an energy of 20 mJ / cm 2 (more preferably 10 mJ / cm 2 ) in the presence of a photocuring initiator. , Cure within 50 milliseconds.

好ましくは、全硬化性成分の少なくとも70、71、72、73、74、75、76、77、78、79、80、81、82、83、84、85、86、87、88または89重量%が第1成分で形成されている。好ましくは、全硬化性成分の少なくとも90重量%が第1成分で形成されている。より好ましくは、全硬化性成分の少なくとも91、92、93、94または95重量%が第1成分で形成されている。   Preferably, at least 70, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, 87, 88 or 89% by weight of the total curable component Is formed of the first component. Preferably, at least 90% by weight of the total curable component is formed of the first component. More preferably, at least 91, 92, 93, 94 or 95% by weight of the total curable component is formed of the first component.

好ましくは、組成物中の全硬化性成分の少なくとも5、6、7、8、9または10重量%が、第2成分で形成されている。好ましくは、第2成分は、全硬化性成分の最大15重量%の量、好ましくは5〜15重量%で構成される量で存在する。   Preferably, at least 5, 6, 7, 8, 9 or 10% by weight of the total curable component in the composition is formed with the second component. Preferably, the second component is present in an amount comprised up to 15% by weight of the total curable component, preferably 5-15% by weight.

第1成分は、
(a)アクリレート、例えば、モノ、ビスおよびより高い程度の官能価のアクリレート、またはそれらの混合物、ここにおいて、該アクリレートは、2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含むことが好ましい、
(b)アミン光開始剤、塩基増幅物(base amplifier)、およびアニオン的に硬化しうる材料、例えば、グリシジルエポキシまたはアクリレートまたは少なくとも2の官能価を有する無水物を含む、アミン塩基増殖系(amine base proliferation system)、あるいは
(c)少なくとも1種のカチオン的に光硬化しうる材料、例えばエポキシ(例えば脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ)、カチオン光硬化開始剤、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF塩、および酸増幅物(acid amplifier)、例えばトシル化化合物を含む、酸増幅系(acid amplified system)、ならびに
(d)2個以上の官能性光開始基(functional photoinitation group)を有するポリマー鎖、例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリブタジエン、ポリウレタン、ポリアルカン、またはポリシロキサン、ここにおいて、該光開始基は、放射線への暴露中に、組成物中の硬化性成分と反応して前記ポリマー鎖を硬化された組成物に組み込む反応性基を形成することができ、該ポリマー鎖は、柔軟性および/または強化性鎖であることが好ましい、
からなる群より選択される1種以上の材料を含んでいてもよい。
The first component is
(A) acrylates, such as mono, bis and higher degree functional acrylates, or mixtures thereof, wherein the acrylates preferably comprise at least one acrylate having a functionality of 2 or more,
(B) an amine base initiator, a base amplifier, and an anionically curable material, such as glycidyl epoxy or acrylate or an anhydride having a functionality of at least 2; base proliferation system), or (c) at least one cationically photocurable material, such as an epoxy (eg, cycloaliphatic epoxy or glycidyl epoxy), a cationic photocuring initiator, eg, tri-arylsulfonium SbF 6 salt, And an acid amplifier, eg an acid amplified system comprising a tosylated compound, and (d) a polymer chain having two or more functional photoinitation groups, eg Polyester, polyether, polycarbonate, polybutadiene, polyurethane, polyalkane, or Resiloxanes, wherein the photoinitiating groups can react with curable components in the composition during exposure to radiation to form reactive groups that incorporate the polymer chains into the cured composition. The polymer chain is preferably a flexible and / or reinforcing chain,
One or more materials selected from the group consisting of:

塩基性種の光化学的遊離に依存する感光性ポリマー系は、感光性が低いことが多い。塩基増殖系により、感光性、したがって塩基が触媒する反応を用いる感光性ポリマーの硬化速度を、改善することが可能になる。   Photosensitive polymer systems that rely on photochemical release of basic species often have low photosensitivity. The base propagation system makes it possible to improve the photosensitivity and thus the cure rate of the photopolymer using a base catalyzed reaction.

塩基増幅物は、塩基触媒作用により容易に分解されてしばしばアミンである塩基を遊離する分子であり、該塩基は自触媒的分解を引き起こす。この過程を塩基増殖とよぶ。酸増殖系も、酸が触媒する反応に関して存在する。  A base amplification product is a molecule that is easily degraded by base catalysis to liberate a base that is often an amine, which causes autocatalytic degradation. This process is called base multiplication. Acid propagation systems also exist for acid catalyzed reactions.

第2成分は、
(a)メタクリレート、例えば、モノ、ビスもしくはより高い程度の官能価のメタクリレート、またはそれらの混合物、好ましくは、少なくとも2の官能価を伴う少なくとも1種のメタクリレートを含む、
(b)少なくとも1個の末端−SH、−NHまたは−OH基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、または少なくとも1個のアミン、ヒドロキシもしくはチオ末端基を持つ反応性アルカン、および
(c)潜伏性ポリオール、例えば、エポキシから誘導されるもの、もしくはポリアミン、例えば、カルバメートから誘導される脂肪族アミンなどのブロックトアミンから誘導されるものと、ブレンドされていてもよいイソシアネート、またはイソシアネート基とウレタン基を持つ混成物、あるいは
(d)酸増幅物を伴っていてもよいエポキシ、例えば、脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ、ならびに
(e)オキセタンまたはフラン、
からなる群より選択される1種以上の材料を含んでいてもよい。
The second component is
(A) methacrylates, for example mono, bis or higher degree of functionality methacrylates, or mixtures thereof, preferably containing at least one methacrylate with at least 2 functionality,
(B) a compound having at least one terminal —SH, —NH or —OH group, such as an oligomeric liquid polysulfide, a mercaptan monomer, or a reactive alkane having at least one amine, hydroxy or thio end group, and (C) latent polyols, such as those derived from epoxies, or polyamines, such as those derived from blocked amines such as aliphatic amines derived from carbamates, or isocyanates that may be blended, or Hybrids with isocyanate groups and urethane groups, or (d) epoxies that may be accompanied by acid amplifiers, such as alicyclic epoxies or glycidyl epoxies, and (e) oxetanes or furans,
One or more materials selected from the group consisting of:

好ましくは、第1成分(硬化の速い成分)は、
(i)アクリレート、例えば、モノ、ビスおよびより高い程度の官能価のアクリレート、またはそれらの混合物、ここにおいて、該アクリレートは、2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含むことが好ましい、あるいは、
(ii)光−アミン開始剤(photo-amine initiator)と、アニオン的に光硬化しうる材料、例えば、少なくとも2の官能価を有する無水物を伴う光−多塩基増幅物(photo-polybase amplifier)とを含む、アミン塩基増殖系、あるいは
(iii)少なくとも1種のカチオン的に光硬化しうる材料、例えばエポキシ(例えば脂環式エポキシ)、カチオン光硬化開始剤、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF塩、および酸増幅物、例えばトシル化化合物を含む、酸増幅系、ならびに
(iv)2個以上の官能性光開始基を有するポリマー鎖、例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリブタジエン、ポリウレタン、ポリアルカン、またはポリシロキサン、ここにおいて、該光開始基は、放射線への暴露中に、組成物中の硬化性成分と反応して前記ポリマー鎖を硬化された組成物に組み込む反応性基を形成することができ、該ポリマー鎖は、柔軟性および/または強化性鎖であることが好ましい、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む。
Preferably, the first component (fast-curing component) is
(I) acrylates, such as mono, bis and higher degree functional acrylates, or mixtures thereof, wherein the acrylate preferably comprises at least one acrylate having a functionality of 2 or more, Or
(Ii) a photo-polybase amplifier with a photo-amine initiator and an anionically photocurable material, for example an anhydride having a functionality of at least 2; An amine base growth system, or
(Iii) at least one cationically photocurable material, such as an epoxy (eg, cycloaliphatic epoxy), a cationic photocuring initiator, such as a tri-arylsulfonium SbF 6 salt, and an acid amplifying material, such as a tosylated compound An acid amplification system comprising:
(Iv) polymer chains having two or more functional photoinitiators, such as polyesters, polyethers, polycarbonates, polybutadienes, polyurethanes, polyalkanes or polysiloxanes, wherein the photoinitiators are exposed to radiation In which a reactive group can be formed that reacts with the curable component in the composition to incorporate the polymer chain into the cured composition, the polymer chain being a flexible and / or reinforcing chain. Preferably,
One or more materials selected from the group consisting of:

好ましくは、第2成分(反応の遅い成分)は、
(v)メタクリレート、例えば、モノ、ビスもしくはより高い程度の官能価のメタクリレート、またはそれらの混合物、好ましくは、少なくとも2の官能価を伴う少なくとも1種のメタクリレートを含む、
(vi)少なくとも1個の末端−SH、−NHまたは−OH基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、または少なくとも1個のアミン、ヒドロキシもしくはチオ末端基を持つ反応性アルカン、および
(vii) i)潜伏性ポリオール、例えば、エポキシから誘導されるもの、またはポリアミン、例えば、カルバメートから誘導される脂肪族アミンなどのブロックトアミンから誘導されるものと、ブレンドされていてもよいイソシアネート、あるいは
(ii)イソシアネート基とウレタン基を持つ混成物、
(iii)酸増幅物を伴っていてもよいエポキシ、例えば、脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ、ならびに
(iv)オキセタン、フラン、またはオルト−スピロ化合物、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む。
Preferably, the second component (slow reaction component) is
(V) methacrylates, such as mono, bis or higher degree of functionality methacrylates, or mixtures thereof, preferably at least one methacrylate with at least 2 functionality,
(Vi) a compound having at least one terminal —SH, —NH or —OH group, such as an oligomeric liquid polysulfide, a mercaptan monomer, or a reactive alkane having at least one amine, hydroxy or thio end group, and
(Vii) i) Isocyanates that may be blended with latent polyols such as those derived from epoxies or from blocked amines such as polyamines such as aliphatic amines derived from carbamates Or
(Ii) a hybrid having an isocyanate group and a urethane group;
(Iii) epoxies that may be accompanied by acid amplifiers, such as alicyclic epoxies or glycidyl epoxies, and
(Iv) oxetane, furan, or ortho-spiro compound,
One or more materials selected from the group consisting of:

第2成分は、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール、例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸(チオグリコール酸またはβ−メルカプトプロピオン酸など)でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP)を含むことができる。   The second component is a polythiol having two or more thiol groups per molecule, for example, a polythiol obtained by esterification of a polyol with α or β-mercaptocarboxylic acid (such as thioglycolic acid or β-mercaptopropionic acid), Alternatively, pentaerythritol tetramercaptoacetate or pentaerythritol tetrakis-β-mercaptopropionate (PETMP) can be included.

好ましくは、本発明に従った方法において、光硬化性成分は、1種以上の柔軟剤または強化材(例えば、(i)ヒドロキシル含有化合物(例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネートもしくはポリウレタン)または(ii)ヒドロキシルバージョン(hydroxyl version)のチオールもしくはアミノ相当物)、あるいは反応性ゴム/エラストマー化合物(例えば、エポキシ、アクリリル、アミノ、ヒドロキシ、チオールもしくはアミノ官能基を有するポリブタジエン、またはエポキシ、アクリリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン)も含有する。   Preferably, in the method according to the invention, the photocurable component comprises one or more softeners or reinforcements (eg (i) hydroxyl-containing compounds (eg polyesters, polyethers, polycarbonates or polyurethanes) or (ii) ) Hydroxyl version of thiol or amino equivalent) or reactive rubber / elastomer compounds (eg, polybutadiene with epoxy, acrylyl, amino, hydroxy, thiol or amino functional groups, or epoxy, acrylyl, hydroxyl, thiol) Or linear or cyclic polysiloxanes having amino functional groups).

さまざまな層で硬化を開始するために非干渉性放射線源を用いることは、レーザーで起こるように層の表面を走査するというよりむしろ樹脂の層の全体を同時に硬化することができるという点において、干渉性放射線を生じるレーザーの使用に対し利点を有する。非干渉性放射線源を用いて三次元物品を作成するために用いることができる機器の例は、WO00/21735に記載されている。これに加えて、レーザーは組成物の局部加熱を引き起こし、このことは、光開始剤の不均一反応をもたらすほか、樹脂表面を融蝕する傾向がある。非干渉性暴露はそのような問題を引き起こさない。   Using an incoherent radiation source to initiate curing in the various layers allows the entire layer of resin to be cured simultaneously rather than scanning the surface of the layer as occurs with a laser. There are advantages to the use of lasers that produce coherent radiation. An example of an instrument that can be used to create a three-dimensional article using an incoherent radiation source is described in WO 00/21735. In addition, the laser causes local heating of the composition, which leads to a heterogeneous reaction of the photoinitiator and tends to ablate the resin surface. Non-interfering exposure does not cause such problems.

本発明の第2の観点に従って、重量パーセント基準で、
1.少なくとも2種の硬化性成分:
(i)組成物中の硬化性成分の全重量に基づき60重量%〜90重量%(そして好ましくは70〜85重量%)の量の第1成分、ここにおいて、第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cmのエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90%が100ミリ秒以内、好ましくは50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
(ii)組成物中の全硬化性成分の5重量%〜30重量%(そして、好ましくは10〜25重量%、より好ましくは10〜20重量%)の量の硬化性第2成分、ここにおいて、第2成分は、少なくとも1個の末端チオール(−SH)基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール(例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸もしくはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP))である、
2.0〜10%、好ましくは1〜10%のカチオン光開始剤、
3.0〜10%、好ましくは0.01〜10、または好ましくは1〜10%のラジカル光開始剤、
4.該工程で使用する前の早期硬化に対する安定剤0〜5%、好ましくは0.001〜5%、および
5.0〜20%の補助的材料、例えば、充填剤、詳細にはサブミクロン粒子、‘ナノサイズ’充填剤、例えば、シロキサン粒子、シリカ粒子、ナノ粘土、ナノ金属、ナノチューブ、
を含む、光学成形組成物を提供する。
According to a second aspect of the invention, on a weight percent basis,
1. At least two curable components:
(I) the first component in an amount of 60% to 90% by weight (and preferably 70 to 85% by weight) based on the total weight of the curable component in the composition, wherein the first component is photocurable. And when cured by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ / cm 2 in the presence of a photocuring initiator, at least 90% of the component is cured within 100 milliseconds, preferably within 50 milliseconds. And (ii) curable in an amount of 5-30% by weight (and preferably 10-25% by weight, more preferably 10-20% by weight) of the total curable components in the composition. The second component, wherein the second component is a compound having at least one terminal thiol (-SH) group, such as an oligomeric liquid polysulfide, a mercaptan monomer, two or more thiols per molecule. A polythiol having an all group (for example, a polythiol obtained by esterification of a polyol with α or β-mercaptocarboxylic acid, such as thioglycolic acid or β-mercaptopropionic acid, or pentaerythritol tetramercaptoacetate, or pentaerythritol tetrakis-β -Mercaptopropionate (PETMP)),
2.0-10%, preferably 1-10% cationic photoinitiator,
3.0-10%, preferably 0.01-10, or preferably 1-10% radical photoinitiator,
4). 0 to 5%, preferably 0.001 to 5%, and 5.0 to 20% of auxiliary materials for pre-curing prior to use in the process, such as fillers, in particular submicron particles, 'Nano-sized' fillers such as siloxane particles, silica particles, nanoclays, nanometals, nanotubes,
An optical molding composition is provided.

本発明に従った光学成形組成物は、重量パーセント基準で、
(a)少なくとも2種の硬化性成分:
(i)組成物中の硬化性成分の全重量に基づき少なくとも80重量%、好ましくは−少なくとも85重量%の量の第1成分、ここにおいて、第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cmのエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90重量%が100ミリ秒以内、好ましくは50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
(ii)組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%の量の硬化性第2成分、ここにおいて、第2成分は、少なくとも1個の末端チオール(−SH)基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール(例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸もしくはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP))である、
(b)0〜10%、好ましくは1〜10%のカチオン光開始剤、
(c)0.01〜10%のラジカル光開始剤、
を含むことが好ましい。
The optical molding composition according to the invention is based on weight percent,
(A) At least two curable components:
(I) a first component in an amount of at least 80 wt%, preferably-at least 85 wt%, based on the total weight of the curable component in the composition, wherein the first component is photocurable and photocured Such that upon curing by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ / cm 2 in the presence of an initiator, at least 90% by weight of the component is cured within 100 milliseconds, preferably within 50 milliseconds. ;and
(Ii) a curable second component in an amount of at least 5% by weight of the total curable component in the composition, wherein the second component is a compound having at least one terminal thiol (-SH) group, such as Oligomeric liquid polysulfides, mercaptan monomers, polythiols having two or more thiol groups per molecule (eg, obtained by esterification of polyols with α or β-mercaptocarboxylic acids such as thioglycolic acid or β-mercaptopropionic acid) Polythiol, or pentaerythritol tetramercaptoacetate, or pentaerythritol tetrakis-β-mercaptopropionate (PETMP)),
(B) 0-10%, preferably 1-10% cationic photoinitiator,
(C) 0.01-10% radical photoinitiator,
It is preferable to contain.

好ましくは、第1成分は、第1成分を光硬化開始剤の存在下で20mJ/cm(より好ましくは10mJ/cm)のエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、第1成分の少なくとも90重量%が100ミリ秒以内(好ましくは50ミリ秒以内)に硬化するような、速い硬化速度を有する。 Preferably, the first component is cured by exposure to UV radiation having an energy of 20 mJ / cm 2 (more preferably 10 mJ / cm 2 ) in the presence of a photocuring initiator. It has a fast cure rate such that at least 90% by weight cures within 100 milliseconds (preferably within 50 milliseconds).

好ましくは、光硬化性組成物は、
1〜10重量%の1種以上の柔軟剤または強化材、例えば、(例えば、(a)(d)ヒドロキシル含有化合物(例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネートもしくはポリウレタン)または(b)(e)ヒドロキシルバージョンのチオールもしくはアミノ相当物)、あるいは反応性ゴム/エラストマー化合物(例えば、エポキシ、アクリリル、アミノ、ヒドロキシ、チオールもしくはアミノ官能基を有するポリブタジエン、またはエポキシ、アクリリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン)
も含有する。
Preferably, the photocurable composition is
1 to 10% by weight of one or more softeners or reinforcements, such as (eg (a) (d) hydroxyl-containing compounds (eg polyester, polyether, polycarbonate or polyurethane) or (b) (e) hydroxyl Versions of thiol or amino equivalents) or reactive rubber / elastomer compounds (eg, polybutadiene with epoxy, acrylyl, amino, hydroxy, thiol or amino functional groups, or epoxy, acrylyl, hydroxyl, thiol or amino functional groups) Linear or cyclic polysiloxane)
Also contains.

好ましくは、光硬化性組成物は、1種以上の柔軟剤または強化材、(例えば、(f)ヒドロキシル含有化合物(例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネートもしくはポリウレタン)または(g)ヒドロキシルバージョンのチオールもしくはアミノ相当物)、あるいは反応性ゴム/エラストマー化合物(例えば、エポキシ、アクリリル、アミノ、ヒドロキシ、チオールもしくはアミノ官能基を有するポリブタジエン、または反応性もしくは相溶性表面を伴うコアシェル(core shell)強化材、またはエポキシ、アクリリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン)も含有する。 Preferably, the photocurable composition comprises one or more softeners or reinforcements (eg, (f) a hydroxyl-containing compound (eg, polyester, polyether, polycarbonate or polyurethane) or (g) a hydroxyl version of a thiol or Amino equivalents), or reactive rubber / elastomer compounds (eg, epoxy, acrylyl, amino, hydroxy, thiol or polybutadiene with amino functional groups, or core shell reinforcements with reactive or compatible surfaces, or Also included are linear or cyclic polysiloxanes having epoxy, acrylyl, hydroxyl, thiol or amino functions.

好ましくは、第1成分はアクリレートであり、第2成分はチオール含有化合物である。第1成分が炭素−炭素二重結合、例えばアクリレートを包含する場合、それは好ましく、組成物中の二重結合とチオ基の比率は、10:1〜2:1、例えば9:1〜4:1、例えば8:1〜5:1の範囲にある。   Preferably, the first component is an acrylate and the second component is a thiol-containing compound. When the first component includes a carbon-carbon double bond, such as an acrylate, it is preferred, and the ratio of double bond to thio group in the composition is 10: 1 to 2: 1, such as 9: 1 to 4: 1, for example in the range of 8: 1 to 5: 1.

一観点において、好ましい硬化性組成物は、特に非干渉性照射を用いると高感度で硬化または重合し、非レーザーCADシステムでの硬化後に好ましくは5%未満、より好ましくは3%未満、もっとも好ましくは約0%の低い収縮性を有するものである。これらの好ましい低い収縮特性とともに、非レーザーCADシステムで硬化後の組成物はさらに、以下の多様な性質を有する:   In one aspect, preferred curable compositions cure or polymerize with high sensitivity, particularly with incoherent irradiation, preferably less than 5%, more preferably less than 3%, most preferably after curing with a non-laser CAD system. Has a low shrinkage of about 0%. Along with these favorable low shrinkage properties, the composition after curing with a non-laser CAD system further has a variety of properties:

Figure 2007530724
Figure 2007530724

該組成物は、単一のモノマーか、オリゴマーか、反応性ポリマーか、または適切な反応性成分の混合物であって、硬化中に非レーザーCADシステムにより望ましい性質を生じるものを含むことができる。   The composition can include a single monomer, oligomer, reactive polymer, or mixture of suitable reactive components that produce the desired properties with a non-laser CAD system during curing.

他の観点において、本発明は、光硬化性組成物であって、(a)重合中に粘度における迅速な増大を引き起こす第1感光性ポリマー混合物と、(b)(a)より反応が遅く、硬化後に第1混合物と比較して低い収縮性および高いTg特性をもたらす第2感光性ポリマー混合物を含む、前記組成物を提供する。   In another aspect, the present invention provides a photocurable composition comprising: (a) a first photosensitive polymer mixture that causes a rapid increase in viscosity during polymerization; and (b) a slower reaction than (a), Provided is a composition as described above comprising a second photosensitive polymer mixture that provides low shrinkage and high Tg properties after curing compared to the first mixture.

他の観点において、本発明は、光硬化性組成物であって、(a)重合中に粘度における迅速な増大を引き起こす第1感光性ポリマー混合物と、(b)反応がより遅く、硬化後に第1混合物と比較して低い収縮性および高いTg特性をもたらし、その結果、この混合物からとりわけ積層技術により形成される最終的複合物品が熱可塑性を有するような第2感光性ポリマー混合物を含む、前記組成物を提供する。   In another aspect, the present invention provides a photocurable composition comprising: (a) a first photosensitive polymer mixture that causes a rapid increase in viscosity during polymerization; and (b) a slower reaction and a second after curing. Comprising a second photosensitive polymer mixture that results in low shrinkage and high Tg properties compared to one mixture, so that the final composite article formed from this mixture, inter alia by lamination techniques, is thermoplastic. A composition is provided.

さらに他の観点において、本発明は、光硬化性組成物であって、(a)重合中に粘度における迅速な増大を引き起こす第1感光性ポリマー混合物と、(b)反応がより遅く、硬化後に第1混合物と比較して低い収縮性および高いTg特性をもたらし、その結果、この混合物からとりわけ積層技術により形成される最終的複合物品が、経時的に安定な熱可塑性を有する[好ましくは使用条件において、例えば120℃未満の温度で、機械的特性における変化がない]ような第2感光性ポリマー混合物を含む、前記組成物を提供する。   In yet another aspect, the present invention provides a photocurable composition comprising: (a) a first photosensitive polymer mixture that causes a rapid increase in viscosity during polymerization; and (b) a slower reaction after curing. Resulting in low shrinkage and high Tg properties compared to the first mixture, so that the final composite article formed from this mixture, inter alia by laminating techniques, has a thermoplastic which is stable over time [preferably under conditions of use In a composition comprising a second photosensitive polymer mixture, such as at a temperature below 120 ° C., no change in mechanical properties.

連続した複数の横断面層の状態の三次元物品を該物品のモデルに従って生産するための方法であって、光硬化性組成物の第1層を形成し;該第1層を、モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画された区域(imaged area)において第1層を硬化させるのに足る化学線に暴露し;硬化された第1層の上方に光硬化性組成物の第2層を形成し;該第2層を、モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画された区域において第2層を硬化させるのに足る化学線に暴露し;そして、上記2段階を繰り返して、三次元物品を形成するのに求められるとおりの連続的層を形成することによる方法も提供し、ここにおいて、モデルは、対応する他の最新の機械、例えば、ステレオリソグラフィー、レーザー焼結、押出システムより、50%少ない時間で生産される。モデルは、安定で、先に記載した熱可塑性樹脂のような性質を有することが好ましい。
発明の詳細な説明
“三次元物品”は、少なくとも2層の硬化された樹脂組成物から作成される物品をさす。したがって、該物品の生産は、2種の構成要素:
A:描画システムまたは方法
B:Aと併せて用いられる材料[1種以上]
を包含する。
A method for producing a three-dimensional article in a continuous plurality of cross-sectional layers according to a model of the article, forming a first layer of a photocurable composition; Exposure to actinic radiation sufficient to cure the first layer in the imaged area in a pattern corresponding to the cross-sectional layer; a second of the photocurable composition above the cured first layer Exposing the second layer to actinic radiation sufficient to cure the second layer in the drawn area in a pattern corresponding to each cross-sectional layer of the model; and repeating the above two steps Also provides a method by forming a continuous layer as required to form a three-dimensional article, where the model is a corresponding other state-of-the-art machine such as stereolithography, laser sintering, 50% less time than extrusion system Produced. The model is preferably stable and has properties similar to the thermoplastics described above.
Detailed Description of the Invention "Three-dimensional article" refers to an article made from a cured resin composition of at least two layers. Thus, the production of the article has two components:
A: Drawing system or method B: Materials used in conjunction with A [one or more]
Is included.

物品の最終的性質および生産速度は、完全にAとBの相互作用の結果である。   The final properties and production rate of the article are entirely the result of A and B interactions.

本発明は、物品、さらに、より高速で生産される物品における、より高度な望ましい性質への最適経路を開示するものである。
A:描画システムまたは方法
この方法は、いくつかの情報手段[CADに基づく]を包含し、一層ごとに材料を対処して最後に最終的‘三次元物品’を形成する機械システムに提供される。
The present invention discloses an optimal route to more desirable properties in articles, as well as articles produced at higher speeds.
A: Drawing system or method This method includes several information means [based on CAD] and is provided to a mechanical system that deals with materials layer by layer and finally forms the final 'three-dimensional article' .

2つの層は、提供されるCAD情報に従って同一または異なっていることができる。   The two layers can be the same or different according to the CAD information provided.

CAD情報は、数例を挙げると、グラフィック・デザイン・パッケージ(graphics design package)もしくはエンジニアリング・デザイン・パッケージ(engineering design package)からのもの、またはコンピューター・トモグラフィー像スライス(computer tomography image slice)もしくは超音波深度スライス(ultrasound depth slice)からのもの、または走査型電子顕微鏡法に用いられるウルトラトーンド(ultra-toned)マイクロスライスからのものであることができる。   The CAD information may be from a graphics design package or engineering design package, computer tomography image slice or ultrasound, to name a few. It can be from an ultrasound depth slice or from an ultra-toned microslice used in scanning electron microscopy.

CAD情報を用いて‘暴露’システムを活性化して、材料の層を対処する。現状の商業的システムにおいて、暴露システムでは、例えばステレオリソグラフィー[米国特許第4575330号]でのような高出力UVレーザー、または例えばレーザー焼結での高出力赤外線レーザーが用いられている。他の提案には、マスクを介するUV暴露が包含される[Alan J Herbert, Solid Object Generation, Journal of Applied Photographic Engineering 8(4)、1982年8月、185〜188頁、1982年5月18日]。最近になって、WO00/21735に、従来のUV源からの照射のデジタル制御されたUV暴露を用いる新規概念が報告されている。とりわけ後者は、これまで可能であった速度の10倍の速度でモデルを生産することが期待でき、より大きなモデルの生産に特に有用であると記載されている。   CAD information is used to activate the 'exposure' system to deal with layers of material. In current commercial systems, exposure systems use high power UV lasers such as in stereolithography [US Pat. No. 4,575,330] or high power infrared lasers such as in laser sintering. Other proposals include UV exposure through masks [Alan J Herbert, Solid Object Generation, Journal of Applied Photographic Engineering 8 (4), August 1982, pages 185-188, May 18, 1982. ]. More recently, a new concept using digitally controlled UV exposure of irradiation from conventional UV sources has been reported in WO 00/21735. In particular, the latter is described as being particularly useful for the production of larger models, which can be expected to produce models at a rate 10 times faster than previously possible.

他の可能性は、EP1250997A1およびEP1253002A1に記載されているものである。   Other possibilities are those described in EP1250997A1 and EP1253002A1.

他の可能性は、米国特許第20040036200A1号、米国特許第20040207123A1号、WO03041875、WO03/099947A1およびその中の参考文献に記載されているとおりであり、UV硬化性流体を噴射した後、いくらかの非レーザー照射により硬化することを用いる。   Other possibilities are as described in US 20040036200A1, US 20040207123A1, WO0301875, WO03 / 099947A1 and references therein, after injecting some UV curable fluid. Curing by laser irradiation is used.

他の可能性は、ダイレクトプリントにおける使用、例えば米国特許第6259962号および関連特許である。この一連の技術は、一般に機械/機器の方法について開示しているが、そのような機械から到達することができる最終的性質に対するシステムの効果については言及していない。   Another possibility is the use in direct printing, for example US Pat. No. 6,259,962 and related patents. This series of techniques generally discloses machine / equipment methods, but does not mention the effect of the system on the final properties that can be reached from such machines.

われわれは、レーザービーム照射[例えば、UVレーザー源、すなわち355nmでダイオードで励起し周波数を3倍にしたYAGからのもの]よりむしろ従来の照射の使用が、硬化後および形成後の物品により高い性能をもたらすことを見いだした。   We use conventional radiation rather than laser beam irradiation [eg, from a UV laser source, ie YAG pumped with a diode at 355 nm and tripled frequency], which gives higher performance to articles after curing and forming Found to bring.

意外にも、特定の材料タイプを選択すると、WO00/21735に記載されているような従来の照射源を用いるシステムで請求されている高速対処能力(addressability)を十分に利用し、さらに産業界が求めるより高い性質を達成することも可能になる。
B:材料
材料は、暴露システムと互いに影響し合い、何らかの方法で、元の形から、元の状態と区別され、プログラム化された情報に従って対象物を層状に堆積させるときに、一層ごとに層のステッチ溶接(stitching)が起こることを可能にし、さらに材料の初期状態から容易に分離される形に、転化する組成物である。
Surprisingly, selecting a particular material type takes full advantage of the fast addressability claimed in systems using conventional irradiation sources, such as those described in WO 00/21735, further helping the industry It is also possible to achieve higher properties than desired.
B: Material The material interacts with the exposure system and, in some way, distinguishes it from its original form and, in some way, deposits objects layer by layer according to programmed information. It is a composition that allows stitch stitching to occur and that converts to a form that is easily separated from the initial state of the material.

ステレオリソグラフィーでは、UVに敏感な感光性ポリマーを用いる[先に論じたように]。   Stereolithography uses a photosensitive polymer that is sensitive to UV [as discussed above].

理論に結びつけるものではなく、または決して制限するものではないが、レーザーに基づくシステムは、重合を促進する開始種の過剰生産を引き起こし、その結果短い重合の網状構造(polymerization network )をもたらし、最終的にレーザーシステムにより到達可能な性質を制限すると考えられる。明らかに、より高いレーザー出力を用いることにより、より速い暴露速度に達する[したがって、形成された三次元物品へのより速い到達を達成する]ためのあらゆる試みは、望ましいより速い重合開始のための種をさらにより多くもたらすだけでなく、レーザーに誘発される加熱/融蝕作用が生じる傾向をより大きくする:予想した性能からの非一次的輪郭描写(non-linear delineation)は、システムおよび材料の性能に妥協をもたらす。   Without being bound by theory or in any way limiting, laser-based systems cause overproduction of starting species that promote polymerization, resulting in a short polymerization network and ultimately It is thought to limit the properties that can be reached by a laser system. Obviously, any attempt to reach a faster exposure rate [and thus achieve a faster reach to the formed three-dimensional article] by using a higher laser power is desirable for faster initiation of polymerization. Not only does it bring more seeds, it also increases the tendency for laser-induced heating / ablative effects to occur: non-linear delineation from expected performance Compromise in performance.

従来の照射システムは、はるかに良好な重合速度論および熱力学を提供することができる:しかしながら、利用可能な開始エネルギーを用いるための材料の速度および効率は限定的になる。これは、三次元物品を生産するための、一層ごとの技術において特にそのようになる。   Conventional irradiation systems can provide much better polymerization kinetics and thermodynamics; however, the speed and efficiency of the material to use the available onset energy is limited. This is especially true in layer-by-layer techniques for producing three-dimensional articles.

ラジカル硬化された系は、例えば、カチオン[エポキシ]系と比較してのアクリル樹脂のように、明らかに最も速い重合系であり、WO00/21735に記載されているような暴露システムで用いるのに適していると考えられる。しかしながら、これらの材料は、大きく収縮する傾向がある[最大8%]。そのような収縮は、部分的変形、内部応力、そしてその結果として生じる望ましい性質の損失を引き起こす可能性がある。   Radical cured systems are clearly the fastest polymerization systems, such as acrylic resins compared to cationic [epoxy] systems, for use in exposure systems as described in WO 00/21735. It is considered suitable. However, these materials tend to shrink significantly [up to 8%]. Such shrinkage can cause partial deformation, internal stress, and the resulting loss of desirable properties.

われわれは、描画工程に高速で適合し、さらになお低い収縮、より高い性能の硬化された物品をもたらす、ある種の組成物タイプを開示する。   We disclose certain composition types that adapt quickly to the drawing process and still result in lower shrinkage, higher performance cured articles.

一般的な組成物タイプは、互いに相溶する少なくとも2種の重合系を含む:
(a)最大80mJcm−2での照射エネルギーへの暴露中に出発時の粘度の少なくとも10倍の粘度変化を経る任意の感光性材料を含む、第1光硬化性成分、および
(b)第1混合物より反応が遅く、(a)からのものと相溶し統合される低い収縮の硬化された網状構造をもたらす、第2硬化性成分。
Common composition types include at least two polymerization systems that are compatible with each other:
(A) a first photocurable component comprising any photosensitive material that undergoes a viscosity change of at least 10 times the starting viscosity during exposure to irradiation energy at a maximum of 80 mJcm −2 , and (b) a first A second curable component that reacts slower than the mixture and results in a low shrinkage cured network that is compatible and integrated with that from (a).

(a)に関する出発時の粘度は、25℃において好ましくは約1000cps、より好ましくは500cps、もっとも好ましくは200cps未満である。   The starting viscosity for (a) is preferably about 1000 cps, more preferably 500 cps, most preferably less than 200 cps at 25 ° C.

好ましくは、反応がより遅い第2感光性ポリマーは、(a)からのものより低い収縮[好ましくは3%未満、より好ましくは0%、理想的にはわずかに膨張しさえする]および高いTgをもたらす。破断衝撃の安定化(fracture impact stabilization)を達成するために、一部の統合相を分離することが非常に望ましい。   Preferably, the slower photosensitive second photosensitive polymer has a lower shrinkage than that from (a) [preferably less than 3%, more preferably 0%, ideally even slightly swell] and a high Tg. Bring. In order to achieve fracture impact stabilization, it is highly desirable to separate some integrated phases.

好ましくは、組成物中の全硬化性成分を、第1成分と第2成分のみから形成する、すなわち、他の硬化性成分は存在しないかごく少量で存在する。組成物は溶媒を含有しないことが好ましい。   Preferably, the total curable component in the composition is formed from only the first component and the second component, i.e. no other curable component is present or present in very small amounts. It is preferable that the composition does not contain a solvent.

これらの材料を、以下の非包括的タイプにより例示する:
1)モノ、ビスおよびより高い程度の官能価を含み、ウレタン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリ芳香族、ペルヒドロ芳香族(perhydro-aromatic)などの相互連結(inter-links)を含む、アクリル−メタクリルブレンド。
These materials are illustrated by the following non-inclusive types:
1) Acrylic-methacrylic blends containing mono, bis and higher degrees of functionality, including inter-links such as urethanes, polyethers, polyesters, polyaromatics, perhydro-aromatics, etc. .

アクリル部分は成分(a)に相当し、メタクリルは(b)タイプに相当する。   The acrylic portion corresponds to component (a), and methacryl corresponds to type (b).

いくつかの適切なタイプは、CIBA、SartomerおよびRahnから入手可能である。
2)1)のように追加的にメタクリル系誘導体を含有するアクリル−チオブレンド。例えば:アクリレートおよび/またはアルケンを伴うオリゴマー性液状ポリスルフィドおよび/またはメルカプタンモノマー、例えば、
http://torayfinechemicals.com/english/pori.htmlおよび
http://www.thioplasts.com/
で入手できるもの。
3)潜伏性ポリオール[例えば、エポキシからのもの]またはポリアミン[例えば、カルバメートからの脂肪族アミンのようなブロックトアミンからのもの、J Mater. Chem, 2004, 14 (3), 336- 343]を含有する、アクリル−イソシアネートブレンド。
混成イソシアネート官能基化(ウレタン)アクリレートまたは別個の成分としてのイソシアネート、例えば、
http://www.bayer-ls.com/ls/lswebcms.nsf/id/001002 CHE
に記載されているようなBayer Roskydals。
水分との反応または
http://www.cibasc.com/view.asp?id=6822
に記載されているような光潜在性(Photolatent)塩基−Cibaの使用
4)酸増幅物を伴う脂環式エポキシおよびグリシジルエポキシ、ならびにオキセタン/フラン
5)混成アクリレート/エポキシ
異なる別個の材料としてであるか、可能な場合、同一分子内の二重の官能性のいずれか一方。
Some suitable types are available from CIBA, Sartomer and Rahn.
2) An acrylic-thio blend that additionally contains a methacrylic derivative as in 1). For example: oligomeric liquid polysulfide and / or mercaptan monomers with acrylates and / or alkenes, such as
http://torayfinechemicals.com/english/pori.html and
http://www.thioplasts.com/
What you can get at
3) Latency polyols [eg from epoxy] or polyamines [eg from blocked amines such as aliphatic amines from carbamates, J Mater. Chem, 2004, 14 (3), 336-343] An acrylic-isocyanate blend containing
Hybrid isocyanate functionalized (urethane) acrylate or isocyanate as a separate component, for example
http://www.bayer-ls.com/ls/lswebcms.nsf/id/001002 CHE
Bayer Roskydals as described in.
Reaction with moisture or
http://www.cibasc.com/view.asp?id=6822
Photolatent bases as described in 4-Use of Ciba 4) Cycloaliphatic and glycidyl epoxies with acid amplification and oxetane / furan 5) Hybrid acrylates / epoxys as different separate materials Or, if possible, one of the double functionalities within the same molecule.

以下の節に、第1および第2成分に属する有用な成分の一般的説明を提供する。
アクリレート含有化合物
“(メタ)アクリレート”はアクリレート、メタクリレート、またはそれらの混合物をさす。アクリレートは第1成分の全体または一部として用いることができるのに対し、メタクリレートは、より遅い硬化速度を有するため、第2成分として用いることができる。
The following section provides a general description of useful components belonging to the first and second components.
Acrylate-containing compound “(Meth) acrylate” refers to acrylate, methacrylate, or mixtures thereof. Acrylates can be used as all or part of the first component, whereas methacrylates can be used as the second component because they have a slower cure rate.

アクリレート含有化合物は、光硬化性組成物が該組成物100グラムあたり0.10当量未満のアクリレート基を有するという条件で、少なくとも1種のポリ(メタ)アクリレート、例えば、二、三、四または五官能性でモノマー性もしくはオリゴマー性の脂肪族、脂環式、または芳香族(メタ)アクリレートを包含することができる。二官能性の(メタ)アクリレートが好ましく、脂肪族または芳香族二官能性(メタ)アクリレートがとりわけ好ましい。   The acrylate-containing compound is at least one poly (meth) acrylate, such as two, three, four or five, provided that the photocurable composition has less than 0.10 equivalents of acrylate groups per 100 grams of the composition. Functional, monomeric or oligomeric aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (meth) acrylates can be included. Bifunctional (meth) acrylates are preferred, and aliphatic or aromatic bifunctional (meth) acrylates are particularly preferred.

ジ(メタ)アクリレートの例としては、脂環式または芳香族ジオール、例えば、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−シクロヘキシル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、エトキシル化またはプロポキシル化ビスフェノールA、エトキシル化またはプロポキシル化ビスフェノールF、およびエトキシル化またはプロポキシル化ビスフェノールSのジ(メタ)アクリレートが挙げられる。この種のジ(メタ)アクリレートは公知であり、いくつかが市販されており、例えば、Ebecryl 3700(ビスフェノール−Aエポキシジアクリレート)(UCB Surface Specialtiesにより供給されている)である。とりわけ好ましいジ(メタ)アクリレートはビスフェノールAに基づくエポキシジアクリレートである。   Examples of di (meth) acrylates include alicyclic or aromatic diols such as 1,4-dihydroxymethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-cyclohexyl) propane, bis (4-hydroxycyclohexyl) methane , Hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, ethoxylated or propoxylated bisphenol A, ethoxylated or propoxylated bisphenol F, and ethoxylated or propoxylated bisphenol S di ( And (meth) acrylate. This type of di (meth) acrylate is known and some are commercially available, for example Ebecryl 3700 (bisphenol-A epoxy diacrylate) (supplied by UCB Surface Specialties). Particularly preferred di (meth) acrylates are epoxy diacrylates based on bisphenol A.

あるいは、ジ(メタ)アクリレートは、脂環式または芳香族よりむしろ非環式脂肪族アクリルであることができる。この種のジ(メタ)アクリレートは公知である。例としては、本明細書中で参考として援用する米国特許第6413697号の化学式(F−I)〜(F−IV)の化合物が挙げられる。考えうるジ(メタ)アクリレートの他の例は、米国特許第6413697号の化学式(F−V)〜(F−VIII)の化合物である。それらの調製法は、本明細書中で参考として援用するEP−A−0646580にも記載されている。化学式(F−I)〜(F−VIII)のいくつかの化合物は市販されている。   Alternatively, the di (meth) acrylate can be an acyclic aliphatic acrylic rather than alicyclic or aromatic. This type of di (meth) acrylate is known. Examples include compounds of formulas (FI) to (F-IV) of US Pat. No. 6,436,697, incorporated herein by reference. Other examples of possible di (meth) acrylates are compounds of formulas (FV) to (F-VIII) of US Pat. No. 6413697. Their preparation methods are also described in EP-A-0664680, which is incorporated herein by reference. Some compounds of formulas (FI) to (F-VIII) are commercially available.

本発明に適したポリ(メタ)アクリレートとしては、光硬化性組成物が該組成物100グラムあたり0.10当量未満のアクリレート基を有するという条件で、トリ(メタ)アクリレートまたはより高官能価のものを挙げることができる。例は、ヘキサン−2,4,6−トリオール、グリセロール、1,1,1−トリメチロールプロパン、エトキシル化またはプロポキシル化グリセロール、およびエトキシル化またはプロポキシル化1,1,1−トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレートである。他の例は、トリエポキシド化合物(例えば、上記トリオールのトリグリシジルエーテル)を(メタ)アクリル酸と反応させることにより得られるヒドロキシル含有トリ(メタ)アクリレートである。他の例は、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ビストリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリ(メタ)アクリレート、またはジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレートである。   Poly (meth) acrylates suitable for the present invention include tri (meth) acrylate or higher functionality, provided that the photocurable composition has less than 0.10 equivalents of acrylate groups per 100 grams of the composition. Things can be mentioned. Examples are hexane-2,4,6-triol, glycerol, 1,1,1-trimethylolpropane, ethoxylated or propoxylated glycerol, and ethoxylated or propoxylated 1,1,1-trimethylolpropane. Tri (meth) acrylate. Another example is a hydroxyl-containing tri (meth) acrylate obtained by reacting a triepoxide compound (eg, triglycidyl ether of the above triol) with (meth) acrylic acid. Other examples are pentaerythritol tetraacrylate, bistrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol monohydroxytri (meth) acrylate, or dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate.

ポリ(メタ)アクリレートは多官能性ウレタン(メタ)アクリレートを包含することができる。ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ヒドロキシル末端ポリウレタンをアクリル酸またはメタクリル酸と反応させることによるか、イソシアネート末端プレポリマーをヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと反応させて、ウレタン(メタ)アクリレートを与えることにより、調製することができる。   Poly (meth) acrylates can include multifunctional urethane (meth) acrylates. Urethane (meth) acrylates can be obtained, for example, by reacting a hydroxyl-terminated polyurethane with acrylic acid or methacrylic acid or by reacting an isocyanate-terminated prepolymer with a hydroxyalkyl (meth) acrylate to give a urethane (meth) acrylate. Can be prepared.

適切な芳香族トリ(メタ)アクリレートの例は、三価フェノール類および3個のヒドロキシル基を含有するフェノールまたはクレゾールノボラックのトリグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応生成物である。   Examples of suitable aromatic tri (meth) acrylates are the reaction products of trihydric phenols and triglycidyl ethers of phenols or cresol novolaks containing three hydroxyl groups with (meth) acrylic acid.

第1成分での使用に関し、アクリレート含有化合物は、少なくとも1個の末端および/もしくは少なくとも1個のペンダント(すなわち内部)不飽和基ならびに少なくとも1個の末端および/もしくは少なくとも1個のペンダントヒドロキシル基を有する化合物を包含する。ヒドロキシ基の存在は、高い粘度変化を達成する助けとなる。本発明の光硬化性組成物は、そのような化合物を1種より多く含有することができる。そのような化合物の例としては、ヒドロキシモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシポリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシモノビニルエーテル、およびヒドロキシポリビニルエーテルが挙げられる。市販されているものの例としては、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート(SR(登録商標)399;SARTOMER Companyにより供給されている)、ペンタエリトリトールトリアクリレート(SR(登録商標)444;SARTOMER Companyにより供給されている)、およびビスフェノールAジグリシジルエーテルジアクリレート(Ebecryl 3700;UCB Surface Specialtiesにより供給されている)が挙げられる。   For use in the first component, the acrylate-containing compound has at least one terminal and / or at least one pendant (ie, internal) unsaturated group and at least one terminal and / or at least one pendant hydroxyl group. The compound having The presence of hydroxy groups helps to achieve high viscosity changes. The photocurable composition of the present invention can contain more than one such compound. Examples of such compounds include hydroxy mono (meth) acrylate, hydroxy poly (meth) acrylate, hydroxy monovinyl ether, and hydroxy polyvinyl ether. Examples of those that are commercially available are dipentaerythritol pentaacrylate (SR® 399; supplied by SARTOMER Company), pentaerythritol triacrylate (SR® 444; supplied by SARTOMER Company) ), And bisphenol A diglycidyl ether diacrylate (Ebecryl 3700; supplied by UCB Surface Specialties).

以下は、商業的ポリ(メタ)アクリレートの例である:SR(登録商標)295(ペンタエリトリトールテトラアクリレート)、SR(登録商標)350(トリメチロールプロパントリメタクリレート)、SR(登録商標)351(トリメチロールプロパントリアクリレート)、SR(登録商標)367(テトラメチロールメタンテトラメタクリレート)、SR(登録商標)368(トリス(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート)、SR(登録商標)399(ジペンタエリトリトールペンタアクリレート)、SR(登録商標)444(ペンタエリトリトールトリアクリレート)、SR(登録商標)454(エトキシル化(3)トリメチロールプロパントリアクリレート)、SR(登録商標)9041(ジペンタエリトリトールペンタアクリレートエステル)、およびCN(登録商標)120(ビスフェノールA−エピクロロヒドリンジアクリレート)(上記のものはすべてSARTOMER Companyにより供給されている)。   The following are examples of commercial poly (meth) acrylates: SR®295 (pentaerythritol tetraacrylate), SR®350 (trimethylolpropane trimethacrylate), SR®351 (tri) Methylolpropane triacrylate), SR (registered trademark) 367 (tetramethylolmethane tetramethacrylate), SR (registered trademark) 368 (tris (2-acryloxyethyl) isocyanurate triacrylate), SR (registered trademark) 399 (dipenta) Erythritol pentaacrylate), SR (registered trademark) 444 (pentaerythritol triacrylate), SR (registered trademark) 454 (ethoxylated (3) trimethylolpropane triacrylate), SR (registered trademark) 9041 (dipentaerythritol pentaacrylate ester) ), And CN® 120 (bisphenol A-Epic Rohi Dorin diacrylate) (supplied by all those mentioned above SARTOMER Company).

市販用アクリレートの追加的例としては、KAYARAD R-526(ヘキサン二酸、ビス[2,2−ジメチル−3−[(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ]プロピル]エステル]);Sartomer 238(ヘキサメチレンジオールジアクリレート)、SR(登録商標)247(ネオペンチルグリコールジアクリレート)、SR(登録商標)306(トリプロピレングリコールジアクリレート)、Kayarad R-551(ビスフェノールAポリエチレングリコールジエーテルジアクリレート)、Kayarad R-712(2,2’−メチレンビス[p−フェニレンポリ(オキシエチレン)オキシ]ジエチルジアクリレート)、Kayarad R-604(2−プロペン酸、[2−[1,1−ジメチル−2−[(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ]エチル]−5−エチル−1,3−ジオキサン−5−イル]メチルエステル)、Kayarad R-684(ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート)、Kayarad PET-30(ペンタエリトリトールトリアクリレート)、GPO-303(ポリエチレングリコールジメタクリレート)、Kayarad THE-330(エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート)、DPHA-2H、DPHA-2CおよびDPHA-21(ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート)、Kayarad D-310(DPHA)、Kayarad D-330(DPHA)、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120、DN-0075、DN-2475、Kayarad T-1420(ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)、Kayarad T-2020(ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)、T-2040、TPA-320、TPA-330、Kayarad RP-1040(ペンタエリトリトールエトキシレートテトラアクリレート)、R-011、R-300、R-205(メタクリル酸、亜鉛塩、SR(登録商標)634と同じ)(Nippon Kayaku Co., Ltd.)、Aronix M-210、M-220、M-233、M-240、M-215、M-305、M-309、M-310、M-315、M-325、M-400、M-6200、M-6400(Toagosei Chemical Industry Co, Ltd.)、light acrylate BP-4EA、BP-4PA、BP-2EA、BP-2PA、DCP-A(Kyoeisha Chemical Industry Co.,Ltd.)、New Frontier BPE-4、TEICA、BR-42M、GX-8345(Daichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)、ASF-400(Nippon Steel Chemical Co.)、Ripoxy SP-1506、SP-1507、SP-1509、VR-77、SP-4010、SP-4060(Showa Highpolymer Co., Ltd.)、NK Ester A-BPE-4(Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)、SA-1002(Mitsubishi Chemical Co., Ltd.)、Viscoat-195、Viscoat-230、Viscoat-260、Viscoat-310、Viscoat-214HP、Viscoat-295、Viscoat-300、Viscoat-360、Viscoat-GPT、Viscoat-400、Viscoat-700、Viscoat-540、Viscoat-3000、Viscoat-3700(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)が挙げられる。   Additional examples of commercially available acrylates include KAYARAD R-526 (hexanedioic acid, bis [2,2-dimethyl-3-[(1-oxo-2-propenyl) oxy] propyl] ester]); Sartomer 238 ( Hexamethylenediol diacrylate), SR (registered trademark) 247 (neopentyl glycol diacrylate), SR (registered trademark) 306 (tripropylene glycol diacrylate), Kayarad R-551 (bisphenol A polyethylene glycol diether diacrylate), Kayarad R-712 (2,2′-methylenebis [p-phenylenepoly (oxyethylene) oxy] diethyl diacrylate), Kayarad R-604 (2-propenoic acid, [2- [1,1-dimethyl-2- [ (1-oxo-2-propenyl) oxy] ethyl] -5-ethyl-1,3-dioxane-5-yl] methyl ester), Kaya rad R-684 (dimethylol tricyclodecane diacrylate), Kayarad PET-30 (pentaerythritol triacrylate), GPO-303 (polyethylene glycol dimethacrylate), Kayarad THE-330 (ethoxylated trimethylolpropane triacrylate), DPHA -2H, DPHA-2C and DPHA-21 (dipentaerythritol hexaacrylate), Kayarad D-310 (DPHA), Kayarad D-330 (DPHA), DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, Kayarad T-1420 (ditrimethylolpropane tetraacrylate), Kayarad T-2020 (ditrimethylolpropane tetraacrylate), T-2040, TPA-320, TPA-330, Kayarad RP-1040 (penta Erythritol ethoxylate tetraacrylate), R-011, R-300, R-205 (methacrylic acid, zinc salt, same as SR (registered trademark) 634) (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-210, M -220, M-233, M-240, M-215, M-305, M-309, M-310, M-315, M-325, M-400, M-6200, M-6400 (Toagosei Chemical Industry Co, Ltd.), light acrylate BP-4EA, BP-4PA, BP-2EA, BP-2PA, DCP-A (Kyoeisha Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier BPE-4, TEICA, BR-42M, GX-8345 (Daichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), ASF-400 (Nippon Steel Chemical Co.), Ripoxy SP-1506, SP-1507, SP-1509, VR-77, SP-4010, SP-4060 ( Showa Highpolymer Co., Ltd.), NK Ester A-BPE-4 (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), SA-1002 (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), Viscoat-195, Viscoat-230, Viscoat-260, Viscoat-310, Viscoat-214HP, Viscoat-295, Viscoat-300, Viscoat-360, Viscoat-GPT, Viscoat-400, Viscoat-700, Viscoat-540, Viscoat-3000, Viscoat-3700 (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.).

本発明の光硬化性組成物は、上記アクリレート含有化合物をメタクリル系誘導体と組み合わせた混合物を包含することができ、後者は反応がより遅い第2成分である。
第2成分の全体または一部を形成することができるポリチオール含有化合物
本発明の組成物のポリチオール成分は、1分子あたり2個以上のチオール基を有するあらゆる化合物であることができる。適切なポリチオールは、米国特許第3661744号の第8段76行〜第9段46行;米国特許第4119617号の第7段40〜57行;米国特許第3445419号および第4289867号に記載されている。特に好ましいものは、αまたはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸またはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオールである。とりわけ好ましいポリチオールは、ペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテートおよびペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP)である。
The photocurable composition of the present invention can include a mixture in which the acrylate-containing compound is combined with a methacrylic derivative, the latter being a second component that reacts slower.
Polythiol-containing compound capable of forming all or part of the second component The polythiol component of the composition of the present invention can be any compound having two or more thiol groups per molecule. Suitable polythiols are described in U.S. Pat. No. 8 stage 76 row to the ninth stage 46, line of No. 3,661,744; described in U.S. Patent No. 3,445,419 and No. 4,289,867; seventh stage 40-57 rows of U.S. Patent No. 4,119,617 Yes. Particularly preferred are polythiols obtained by esterification of polyols with α or β-mercaptocarboxylic acids such as thioglycolic acid or β-mercaptopropionic acid. Particularly preferred polythiols are pentaerythritol tetramercaptoacetate and pentaerythritol tetrakis-β-mercaptopropionate (PETMP).

ポリエンとポリチオール成分との比率は大きく変動させることができる。一般に、エン基とチオール基の比率は、10:1〜2:1、例えば、9:1〜4:1、例えば8:1〜5:1であることが好ましいが、場合によってはこの範囲外の比率を本発明から逸脱することなく有効に採用することができる。   The ratio of polyene and polythiol component can vary greatly. In general, the ratio of ene groups to thiol groups is preferably 10: 1 to 2: 1, for example 9: 1 to 4: 1, for example 8: 1 to 5: 1, but in some cases outside this range Can be effectively employed without departing from the present invention.

本発明の化合物を用いる硬化性組成物は二官能性エン化合物および二官能性チオール化合物の両方を包含することができるが、これらの成分の少なくとも一方の少なくとも一部は、硬化すると架橋した生成物を生じるように、1分子あたり2個を超える官能基を含有すべきであることは、理解されるであろう。すなわち、ポリエンの1分子あたりのエン基の平均数とポリチオールの1分子あたりの共反応性(coreactive)チオール基の平均数の合計は、架橋し硬化した生成物を所望する場合4を超えるべきである。この合計を、組成物の“全体的反応性官能価”とよぶ。
エポキシ含有化合物
あらゆるエポキシ含有化合物が本発明に適している:本発明での使用に適したエポキシ含有化合物のいくつかの例は、米国特許第5476748号、米国特許公開(Patent Publication)第2001/0046642A1号、および米国特許公開第2002/0160309号に開示されており、これらのすべてを本明細書中で参考として援用する。詳細には、成分(a)としての使用の場合、酸に不安定な増幅物[J Mat Chem, 2001, 11, 295-301に例示されているようなもの]によりさらに触媒/増幅されることができる工程において、光酸発生物(photo generated acid)、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF塩からのものにより開環するように促進することができる、エポキシ化合物。
Curable compositions using the compounds of the present invention can include both bifunctional ene compounds and bifunctional thiol compounds, but at least some of these components are cross-linked products upon curing. It will be understood that more than two functional groups should be contained per molecule to yield That is, the sum of the average number of ene groups per molecule of polyene and the average number of coreactive thiol groups per molecule of polythiol should exceed 4 when a crosslinked and cured product is desired. is there. This sum is referred to as the “overall reactive functionality” of the composition.
Epoxy-containing compounds Any epoxy-containing compound is suitable for the present invention: Some examples of epoxy-containing compounds suitable for use in the present invention are described in US Pat. No. 5,476,748, Patent Publication 2001/0046642 A1. And U.S. Patent Publication No. 2002/0160309, all of which are incorporated herein by reference. Specifically, for use as component (a), it is further catalyzed / amplified by an acid labile amplifying material [as exemplified in J Mat Chem, 2001, 11, 295-301]. An epoxy compound that can be promoted to ring-open by a photogenerated acid, such as that from a tri-arylsulfonium SbF 6 salt, in a process that can be prepared.

成分(a)として本発明に適した好ましいエポキシ含有化合物は、非グリシジルエポキシである。そのようなエポキシとしては、エポキシド基が脂環式または複素環式環系の一部を形成している、1種以上のエポキシド化合物が挙げられる。他のものとしては、少なくとも1個のケイ素原子を含有する基に直接的または間接的に結合している少なくとも1個のエポキシシクロヘキシル基を伴うエポキシ含有化合物が挙げられる。これらのエポキシは、構造において線状、分枝状、または環状であることができる。例は、米国特許第5639413号に開示されており、これを本明細書中で参考として援用する。さらに他のものとしては、1個以上のシクロヘキセンオキシド基を含有するエポキシドおよび1個以上のシクロペンテンオキシド基を含有するエポキシドが挙げられる。例は、米国特許第3117099号に開示されており、これを本明細書中で参考として援用する。   Preferred epoxy-containing compounds suitable for the present invention as component (a) are non-glycidyl epoxies. Such epoxies include one or more epoxide compounds in which the epoxide group forms part of an alicyclic or heterocyclic ring system. Others include epoxy-containing compounds with at least one epoxycyclohexyl group bonded directly or indirectly to a group containing at least one silicon atom. These epoxies can be linear, branched, or cyclic in structure. An example is disclosed in US Pat. No. 5,639,413, which is incorporated herein by reference. Still other include epoxides containing one or more cyclohexene oxide groups and epoxides containing one or more cyclopentene oxide groups. An example is disclosed in US Pat. No. 3,117,099, which is incorporated herein by reference.

とりわけ適した非グリシジルエポキシとしては、エポキシド基が脂環式または複素環式環系の一部を形成している以下の二官能性非グリシジルエポキシド化合物が挙げられる:ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、1,2−ビス(2,3−エポキシシクロペンチルオキシ)エタン、3,4−エポキシシクロヘキシル−メチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)ヘキサンジオエート、ジ(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)ヘキサンジオエート、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エタンジオールジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジエンジエポキシドまたは2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−1,3−ジオキサン、および2,2’−ビス−(3,4−エポキシ−シクロヘキシル)−プロパン。   Particularly suitable non-glycidyl epoxies include the following bifunctional non-glycidyl epoxide compounds in which the epoxide group forms part of an alicyclic or heterocyclic ring system: bis (2,3-epoxycyclopentyl) ) Ether, 1,2-bis (2,3-epoxycyclopentyloxy) ethane, 3,4-epoxycyclohexyl-methyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl 3, 4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) hexanedioate, di (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) hexanedioate, ethylenebis (3,4 Epoxycyclohexanecarboxylate, ethane All di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, vinylcyclohexene dioxide, dicyclopentadiene diepoxide or 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-1,3 -Dioxane, and 2,2'-bis- (3,4-epoxy-cyclohexyl) -propane.

非常に好ましい二官能性非グリシジルエポキシとしては、脂環式二官能性非グリシジルエポキシが挙げられる。本発明に適したそのようなエポキシとしては、3,4−エポキシシクロヘキシル−メチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートおよび2,2’−ビス−(3,4−エポキシ−シクロヘキシル)−プロパンが挙げられる。   Highly preferred bifunctional non-glycidyl epoxies include alicyclic bifunctional non-glycidyl epoxies. Such epoxies suitable for the present invention include 3,4-epoxycyclohexyl-methyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and 2,2'-bis- (3,4-epoxy-cyclohexyl) -propane. .

本発明に適したもっとも好ましい二官能性非グリシジルエポキシは、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートである。   The most preferred difunctional non-glycidyl epoxy suitable for the present invention is 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate.

光硬化性組成物は、好ましくは成分(b)として、ポリグリシジルエーテル、ポリ(β−メチルグリシジル)エーテル、ポリグリシジルエステル、ポリ(β−メチルグリシジル)エステル、ポリ(N−グリシジル)化合物、およびポリ(S−グリシジル)化合物である1種以上のエポキシ含有化合物を包含することができる。   The photocurable composition preferably comprises, as component (b), polyglycidyl ether, poly (β-methylglycidyl) ether, polyglycidyl ester, poly (β-methylglycidyl) ester, poly (N-glycidyl) compound, and One or more epoxy-containing compounds that are poly (S-glycidyl) compounds can be included.

ポリグリシジルエーテル、ポリ(β−メチルグリシジル)エーテル、ポリグリシジルエステルおよびポリ(β−メチルグリシジル)エステルの合成法および実施例は、米国特許第5972563号に開示されており、これを本明細書中で参考として援用する。   Synthetic methods and examples of polyglycidyl ether, poly (β-methyl glycidyl) ether, polyglycidyl ester and poly (β-methyl glycidyl) ester are disclosed in US Pat. No. 5,972,563, which is incorporated herein by reference. Incorporated for reference.

ポリグリシジルエーテルまたはポリ(β−メチルグリシジル)エーテルのとりわけ重要な代表例は、フェノール類に基づくものである:単環式フェノール類、例えば、レゾルシノールまたはヒドロキノンに基づくもの、あるいは多環式フェノール類、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン(ビスフェノールF)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)、またはフェノール類もしくはクレゾール類とホルムアルデヒドとの酸性条件下で得られる縮合物、例えばフェノールノボラックおよびクレゾールノボラックに基づくものである。好ましいポリグリシジルエーテルの例としては、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリプロポキシル化グリセロールのトリグリシジルエーテル、および1,4−シクロヘキサンジメタノールのジグリシジルエーテルが挙げられる。とりわけ好ましいポリグリシジルエーテルの例としては、ビスフェノールAおよびビスフェノールFに基づくジグリシジルエーテルならびにそれらの混合物が挙げられる。   Particularly important representatives of polyglycidyl ethers or poly (β-methylglycidyl) ethers are those based on phenols: monocyclic phenols, such as those based on resorcinol or hydroquinone, or polycyclic phenols, For example, bis (4-hydroxyphenyl) methane (bisphenol F), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), or a condensate obtained under acidic conditions of phenols or cresols and formaldehyde Based on, for example, phenol novolac and cresol novolac. Examples of preferred polyglycidyl ethers include trimethylolpropane triglycidyl ether, polypropoxylated glycerol triglycidyl ether, and 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether. Examples of particularly preferred polyglycidyl ethers include diglycidyl ethers based on bisphenol A and bisphenol F and mixtures thereof.

ポリ(N−グリシジル)化合物は、例えば、エピクロロヒドリンと少なくとも2個のアミン水素原子を含有するアミンとの反応生成物の脱塩酸により得ることができる。これらのアミンは、例えば、n−ブチルアミン、アニリン、トルイジン、m−キシリレンジアミン、ビス(4−アミノフェニル)メタンまたはビス(4−メチルアミノフェニル)メタンであることができる。しかしながら、ポリ(N−グリシジル)化合物の他の例としては、シクロアルキレン尿素、例えばエチレン尿素または1,3−プロピレン尿素のN,N’−ジグリシジル誘導体、およびヒダントイン、例えば5,5−ジメチルヒダントインのN,N’−ジグリシジル誘導体が挙げられる。   The poly (N-glycidyl) compound can be obtained, for example, by dehydrochlorination of the reaction product of epichlorohydrin and an amine containing at least two amine hydrogen atoms. These amines can be, for example, n-butylamine, aniline, toluidine, m-xylylenediamine, bis (4-aminophenyl) methane or bis (4-methylaminophenyl) methane. However, other examples of poly (N-glycidyl) compounds include cycloalkylene ureas such as N, N′-diglycidyl derivatives of ethylene urea or 1,3-propylene urea, and hydantoins such as 5,5-dimethylhydantoin. N, N′-diglycidyl derivatives may be mentioned.

ポリ(S−グリシジル)化合物の例は、ジチオール、例えばエタン−1,2−ジチオールまたはビス(4−メルカプトメチルフェニル)エーテルから誘導されるジ−S−グリシジル誘導体である。   Examples of poly (S-glycidyl) compounds are di-S-glycidyl derivatives derived from dithiols such as ethane-1,2-dithiol or bis (4-mercaptomethylphenyl) ether.

1,2−エポキシド基が異なるヘテロ原子または官能基に付着しているエポキシ含有化合物を採用することも可能である。これらの化合物の例としては、4−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体、サリチル酸のグリシジルエーテル/グリシジルエステル、N−グリシジル−N’−(2−グリシジルオキシプロピル)−5,5−ジメチルヒダントインまたは2−グリシジルオキシ−1,3−ビス(5,5−ジメチル−1−グリシジルヒダントイン−3−イル)プロパンが挙げられる。   It is also possible to employ epoxy-containing compounds in which the 1,2-epoxide groups are attached to different heteroatoms or functional groups. Examples of these compounds include N, N, O-triglycidyl derivatives of 4-aminophenol, glycidyl ether / glycidyl ester of salicylic acid, N-glycidyl-N ′-(2-glycidyloxypropyl) -5,5- Examples include dimethylhydantoin or 2-glycidyloxy-1,3-bis (5,5-dimethyl-1-glycidylhydantoin-3-yl) propane.

他のエポキシド誘導体、例えば、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−9,10−エポキシステアレート、1,2−ビス(2,3−エポキシ−2−メチルプロポキシ)エタンなどを、採用してもよい。   Other epoxide derivatives such as vinylcyclohexene dioxide, vinylcyclohexene monooxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-9,10-epoxystearate, 1,2- Bis (2,3-epoxy-2-methylpropoxy) ethane or the like may be employed.

上記のようなエポキシ含有化合物をエポキシ樹脂用硬化剤と予め反応させた液状付加物の使用も考えられる。液状または固体状エポキシ樹脂の液状混合物を新規化合物に用いることも、当然ながら可能である。   The use of a liquid adduct obtained by previously reacting the epoxy-containing compound as described above with a curing agent for epoxy resin is also conceivable. It is of course possible to use a liquid mixture of liquid or solid epoxy resins for the new compound.

以下は、本発明での使用に適した商業的エポキシ製品の例である:UVA 1500(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート;UCB Chemicals Corp.により供給されている)、Heloxy 48(トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル;Resolution Performance Products LLCにより供給されている)、Heloxy 107(シクロヘキサンジメタノールのジグリシジルエーテル;Resolution Performance Products LLCにより供給されている)、Uvacure 1501および1502は、ジョージア州スマーナのUCB Surface Specialtiesにより供給されている独占的脂環式エポキシドである);Uvacure 1531、Uvacure 1532、Uvacure 1533、Uvacure 1534およびUvacure 1561およびUvacure 1562も必要である;コネティカット州DanburyのUnion Carbide Corp.により供給されているUVR-6105(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、UVR-6100(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、UVR-6110(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、UVR-6128(ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート)、UVR-6200、UVR-6216(1,2−エポキシヘキサデカン)、脂環式エポキシドとしては、Araldite CY179(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)およびPY284ならびにCeloxide 2021(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート)、Celoxide 2021 P(3’−4’−エポキシシクロヘキサン)メチル3’−4’−エポキシシクロヘキシル−カルボキシレート)、Celoxide 2081(3’−4’−エポキシシクロヘキサン)メチル3’−4’−エポキシシクロヘキシル−カルボキシレートで改質したカプロラクトン)、Celoxide 2083、Celoxide 2085、Celoxide 2000、Celoxide 3000、Cyclomer A200(3,4−エポキシ−シクロヘキシルメチル−アクリレート)、Cyclomer M-100(3,4−エポキシ−シクロヘキシルメチル−メタクリレート)、Epolead GT-300、Epolead GT-302、Epolead GT-400、Epolead 401、およびEpolead 403(すべてDaicel Chemical Industries Co.,Ltd.により市販されている)。   The following is an example of a commercial epoxy product suitable for use in the present invention: UVA 1500 (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate; supplied by UCB Chemicals Corp.) Heloxy 48 (trimethylolpropane triglycidyl ether; supplied by Resolution Performance Products LLC), Heloxy 107 (diglycidyl ether of cyclohexanedimethanol; supplied by Resolution Performance Products LLC), Uvacure 1501 and 1502, Uvacure 1531, Uvacure 1532, Uvacure 1533, Uvacure 1534, and Uvacure 1561 and Uvacure 1562 are also required; Union Carbide, Danbury, Connecticut; the alicyclic epoxide supplied by UCB Surface Specialties, Smyrna, Georgia) UVR-6105 (3,4-epoxy supplied by Corp. Cyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), UVR-6100 (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), UVR-6110 (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3, 4-epoxycyclohexanecarboxylate), UVR-6128 (bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate), UVR-6200, UVR-6216 (1,2-epoxyhexadecane), and alicyclic epoxides include Araldite CY179 ( 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate) and PY284 and Celoxide 2021 (3,4-epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate), Celoxide 2021 P (3'-4 '-Epoxycyclohexane) methyl 3 -4′-epoxycyclohexyl-carboxylate), Celoxide 2081 (3′-4′-epoxycyclohexane) methyl 3′-4′-epoxycyclohexyl-carboxylate modified caprolactone), Celoxide 2083, Celoxide 2085, Celoxide 2000 , Celoxide 3000, Cyclomer A200 (3,4-epoxy-cyclohexylmethyl-acrylate), Cyclomer M-100 (3,4-epoxy-cyclohexylmethyl-methacrylate), Epolead GT-300, Epolead GT-302, Epolead GT-400 , Epolead 401, and Epolead 403 (all marketed by Daicel Chemical Industries Co., Ltd.).

本発明の光硬化性組成物は、上記エポキシ含有化合物の混合物を包含していてもよい。
ヒドロキシル含有化合物
本発明の光硬化性組成物は、柔軟剤または強化材として用いられる1種以上のヒドロキシル含有化合物を含有していてもよい;相当するチオールおよびアミノ対応物を用いることもできる。好ましくは、ヒドロキシル含有化合物は二官能性である。より好ましくは、二官能性ヒドロキシル含有化合物はポリエーテルポリオールである。もっとも好ましくは、ポリエーテルポリオールはポリテトラメチレンエーテルグリコール(“ポリTHF”)である。ポリTHFは、約250〜約2500の分子量を有することが好ましい。ポリTHFは、ヒドロキシ、エポキシ、またはエチレン的不飽和基(1以上)を末端基とすることができる。ポリテトラメチレンエーテルグリコールは、Polymeg(登録商標)タイプ(Penn Specialty Chemicals)で市販されている。好ましくは、本発明の光硬化性組成物はPolymeg(登録商標) 1000を包含し、これは、1000gの公称分子量を伴う線状ジオールである。
ラジカル光開始剤
ラジカル光開始剤は、ラジカル光重合を開始させるために一般に用いられているものから選ぶことができる。ラジカル光開始剤の例としては、ベンゾイン類、例えば、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインフェニルエーテル、ならびにベンゾインアセテート;アセトフェノン類、例えば、アセトフェノン、2,2−ジメトキシアセトフェノン、および1,1−ジクロロアセトフェノン;ベンジルケタール、例えば、ベンジルジメチルケタールおよびベンジルジエチルケタール;アントラキノン類、例えば、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tertブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノンおよび2−アミルアントラキノン;トリフェニルホスフィン;ベンゾイルホスフィンオキシド、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド(Luzirin((登録商標)TPO);ビスアシルホスフィンオキシド;ベンゾフェノン類、例えば、ベンゾフェノンおよび4,4’−ビス(N,N’−ジメチルアミノ)ベンゾフェノン;チオキサントン類およびキサントン類;アクリジン誘導体;フェナジン誘導体;キノキサリン誘導体;1−フェニル−1,2−プロパンジオン2−O−ベンゾイルオキシム;4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−プロピル)ケトン(Irgacure 2959;Ciba Specialty Chemicals);1−アミノフェニルケトンまたは1−ヒドロキシフェニルケトン、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシイソプロピルフェニルケトン、フェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトン、および4−イソプロピルフェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトンが挙げられる。
The photocurable composition of the present invention may include a mixture of the above epoxy-containing compounds.
Hydroxyl-containing compounds The photocurable compositions of the present invention may contain one or more hydroxyl-containing compounds used as softeners or reinforcements; the corresponding thiol and amino counterparts can also be used. Preferably, the hydroxyl-containing compound is difunctional. More preferably, the bifunctional hydroxyl-containing compound is a polyether polyol. Most preferably, the polyether polyol is polytetramethylene ether glycol (“polyTHF”). The polyTHF preferably has a molecular weight of about 250 to about 2500. The polyTHF can be terminated with hydroxy, epoxy, or ethylenically unsaturated groups (one or more). Polytetramethylene ether glycol is commercially available in the Polymeg® type (Penn Specialty Chemicals). Preferably, the photocurable composition of the present invention comprises Polymeg® 1000, which is a linear diol with a nominal molecular weight of 1000 g.
Radical photoinitiator The radical photoinitiator can be selected from those commonly used to initiate radical photopolymerization. Examples of radical photoinitiators include benzoins such as benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin phenyl ether, and benzoin acetate; acetophenones such as acetophenone, 2,2 -Dimethoxyacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; benzyl ketals such as benzyl dimethyl ketal and benzyl diethyl ketal; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertbutylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone And 2-amylanthraquinone; triphenylphosphine; benzoylphosphine oxide, such as 2, , 6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide (Luzirin® TPO); bisacylphosphine oxide; benzophenones such as benzophenone and 4,4′-bis (N, N′-dimethylamino) benzophenone; thioxanthones And xanthones; acridine derivatives; phenazine derivatives; quinoxaline derivatives; 1-phenyl-1,2-propanedione 2-O-benzoyloxime; 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-propyl) ketone (Irgacure 2959; Ciba Specialty Chemicals); 1-aminophenyl ketone or 1-hydroxyphenyl ketone, such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxyisopropyl phenyl ketone, phenyl 1-hydroxyisopropyl ketone, and 4 Isopropyl phenyl 1-hydroxy-isopropyl ketone.

好ましくは、ラジカル光開始剤はシクロヘキシルフェニルケトンである。より好ましくは、シクロヘキシルフェニルケトンは1−ヒドロキシフェニルケトンである。もっとも好ましくは、1−ヒドロキシフェニルケトンは1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、例えば、Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals)である。   Preferably, the radical photoinitiator is cyclohexyl phenyl ketone. More preferably, the cyclohexyl phenyl ketone is 1-hydroxyphenyl ketone. Most preferably, the 1-hydroxyphenyl ketone is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, such as Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals).

レーザーを用いるステレオリソグラフィーの場合、カチオン光開始剤およびラジカル光開始剤を選択することが好ましく、それらの濃度を、標準レーザー速度での硬化深度が約0.1〜約2.5mmであるような吸収力を達成するように調整することが好ましい。“ステレオリソグラフィー”は、コンピューターに補助された設計(“CAD”)データから固体物体を生産する方法である。物体のCADデータを最初に作成し、続いて薄い横断面にスライスする。液状プラスチックの中を通って横断面のパターンをトレースするレーザービームをコンピューターで制御し、該横断面に対応するプラスチックの薄層を凝固させる。凝固した層を液状プラスチックで再びコーティングし、レーザービームで他の横断面をトレースして、他のプラスチック層を前回の層の上面で硬化する。この工程を1層ずつ続けて、成形品を完成させる。所望の成形品を数時間で構築することができる。この方法は、米国特許第5476748号、米国特許公開第2001/0046642号、およびPaul F. Jacobs, Rapid Prototyping & Manufacturing 69-110 (1992)に記載されており、これら文書の内容全体を本明細書中で参考として援用する。
カチオン光開始剤
カチオン光開始剤は、カチオン光重合を開始するために一般に用いられているものから選ぶことができる。例としては、求核性の弱いアニオンを伴うオニウム塩、例えば、ハロニウム塩、ヨードシル塩、スルホニウム塩、スルホキソニウム塩またはジアゾニウム塩が挙げられる。メタロセン塩も光開始剤として適している。オニウム塩およびメタロセン塩光開始剤は、米国特許第3708296号;“UV-Curing, Science and Technology” (S. P. Pappas編集、Technology Marketing Corp.)およびK. K. Dietliker, Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints,Vol. 3 (P. K. Oldring 1991)に記載されており、これらそれぞれを本明細書中で参考として援用する。
For stereolithography using a laser, it is preferred to select a cationic photoinitiator and a radical photoinitiator, such that their concentrations are such that the cure depth at standard laser speed is from about 0.1 to about 2.5 mm. It is preferable to adjust so as to achieve the absorption capacity. “Stereolithography” is a method of producing solid objects from computer-aided design (“CAD”) data. The CAD data of the object is first created and then sliced into thin cross sections. A laser beam that traces the pattern of the cross section through the liquid plastic is controlled by a computer to solidify a thin layer of plastic corresponding to the cross section. The solidified layer is again coated with liquid plastic, the other cross section is traced with a laser beam, and the other plastic layer is cured on top of the previous layer. This process is continued layer by layer to complete the molded product. A desired molded article can be constructed in a few hours. This method is described in US Pat. No. 5,476,748, US Publication No. 2001/0046642, and Paul F. Jacobs, Rapid Prototyping & Manufacturing 69-110 (1992), the entire contents of which are described herein. Incorporated as a reference in.
Cationic Photoinitiator The cationic photoinitiator can be selected from those commonly used to initiate cationic photopolymerization. Examples include onium salts with weakly nucleophilic anions, such as halonium salts, iodosyl salts, sulfonium salts, sulfoxonium salts or diazonium salts. Metallocene salts are also suitable as photoinitiators. Onium salt and metallocene salt photoinitiators are described in US Pat. No. 3,708,296; “UV-Curing, Science and Technology” (edited by SP Pappas, Technology Marketing Corp.) and KK Dietliker, Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints, Vol. 3 (PK Oldring 1991), each of which is incorporated herein by reference.

商業的カチオン光開始剤の例としては、UVI-6974、UVI-6976、UVI-6970、UVI-6960、UVI-6990 (Dow Corp.)、CD 1010、CD-1011、CD-1012 (Sartomer Corp.)、Adekaoptomer SP150、SP-151、SP-170、SP-171 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)、Irgacure 261 (Ciba Specialty Chemicals Corp.)、CI-2481、CI-2624、CI-2639、CI2064 (Nippon Soda Co, Ltd.)、およびDTS-102、DTS-103、NAT-103、NDS-103、TPS-103、MDS-103、MPI-103、BBI-103 (Midori Chemical Co, Ltd.)が挙げられる。UVI-6974、CD-1010、UVI-6976、Adekaoptomer SP-170、SP-171、CD-1012およびMPI-103がもっとも好ましい。特に好ましいものは、S,S,S,S’−テトラフェニルチオビス(4,1−フェニレン)ジスルホニウムジヘキサフルオロアンチモネートとジフェニル(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネートの混合物である。カチオン光開始剤は、単独または2種以上の組合わせのいずれかで用いることができる。   Examples of commercial cationic photoinitiators include UVI-6974, UVI-6976, UVI-6970, UVI-6960, UVI-6990 (Dow Corp.), CD 1010, CD-1011, CD-1012 (Sartomer Corp. ), Adekaoptomer SP150, SP-151, SP-170, SP-171 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (Ciba Specialty Chemicals Corp.), CI-2481, CI-2624, CI-2639, CI2064 (Nippon Soda Co, Ltd.) and DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103, MDS-103, MPI-103, BBI-103 (Midori Chemical Co, Ltd.) Can be mentioned. Most preferred are UVI-6974, CD-1010, UVI-6976, Adekaoptomer SP-170, SP-171, CD-1012 and MPI-103. Particularly preferred is a mixture of S, S, S, S′-tetraphenylthiobis (4,1-phenylene) disulfonium dihexafluoroantimonate and diphenyl (4-phenylthiophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate. . The cationic photoinitiator can be used either alone or in combination of two or more.

他の化合物
本発明の光硬化性組成物は、さまざまな他の成分を含有していてもよい。そのような成分の例としては、例えば、改質剤、強化剤、安定剤、消泡剤、均展剤、増粘剤、難燃剤、酸化防止剤、顔料、染料、充填剤およびそれらの組合わせが挙げられる。
Other compounds The photocurable composition of the present invention may contain various other components. Examples of such components include, for example, modifiers, reinforcing agents, stabilizers, antifoaming agents, leveling agents, thickeners, flame retardants, antioxidants, pigments, dyes, fillers and combinations thereof. A combination is mentioned.

該組成物は、3D物品の正確な構築に不利であり得る溶媒を、実質的に含まないことが好ましい。   Preferably, the composition is substantially free of solvents that can be detrimental to the correct construction of 3D articles.

光硬化性組成物は、WO03/089991に記載されているような反応性充填剤を含有していてもよい。   The photocurable composition may contain a reactive filler as described in WO03 / 089991.

本発明の光硬化性組成物は、1種以上の安定剤を含有することもできる。好ましい安定剤は、ブチル化ヒドロキシトルエン(“BHT”)、2,6−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエン、およびヒンダードアミン、例えば、ベンジルジメチルアミン(“BDMA”)、N,N−ジメチルベンジルアミンである。   The photocurable composition of the present invention can also contain one or more stabilizers. Preferred stabilizers are butylated hydroxytoluene (“BHT”), 2,6-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene, and hindered amines such as benzyldimethylamine (“BDMA”), N, N-dimethylbenzyl. It is an amine.

本発明の一態様において、光硬化性組成物は、第1成分(a)としてのアクリル含有化合物、第2成分(b)としてのチオ含有化合物、およびラジカル光開始剤を含む。   In one embodiment of the present invention, the photocurable composition includes an acrylic-containing compound as the first component (a), a thio-containing compound as the second component (b), and a radical photoinitiator.

本発明の光硬化性組成物は、レーザーUVよりむしろ従来の(非干渉性)UVを照射したときに、より良好な性能を有する三次元物品の生産が可能になるように配合する。本発明の光硬化性組成物は、レーザーUVよりUV非干渉性照射に適している。
暴露システム:
本発明の他の観点は、連続的な複数の横断面層の状態にある三次元物品を、該物品のモデルに従って生産するための方法であって、光硬化性組成物の第1層を形成し;該第1層を、モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画された区域において第1層を硬化させるのに足る化学線に暴露し;硬化された第1層の上方に光硬化性組成物の第2層を形成し;該第2層を、モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画された区域において第2層を硬化させるのに足る化学線に暴露し;そして、上記2段階を繰り返して、三次元物品を形成するのに求められるとおりの連続的層を形成することによる方法を包含し、ここにおいて、該暴露システムでは、非干渉性光源、例えば、キセノン溶融ランプ(xenon fusion lamp)または発光ダイオードバーからの照射を用いることが好ましい。
The photocurable composition of the present invention is formulated to allow the production of three-dimensional articles with better performance when irradiated with conventional (incoherent) UV rather than laser UV. The photocurable composition of the present invention is more suitable for UV incoherent irradiation than laser UV.
Exposure system:
Another aspect of the present invention is a method for producing a three-dimensional article in a continuous plurality of cross-sectional layers according to a model of the article, forming a first layer of a photocurable composition. Exposing the first layer to actinic radiation sufficient to cure the first layer in the drawn area in a pattern corresponding to each cross-sectional layer of the model; light above the cured first layer; Forming a second layer of curable composition; exposing the second layer to actinic radiation sufficient to cure the second layer in the drawn area in a pattern corresponding to each cross-sectional layer of the model; And including a method by repeating the above two steps to form a continuous layer as required to form a three-dimensional article, wherein the exposure system includes a non-coherent light source, such as xenon. Xenon fusion lamp or light-emitting diode bar It is preferable to use such irradiation.

他の方法は、硬化性流体を基材上に直接または粉体上に噴射し、その結果、噴射された材料が電磁照射により硬化するような方法を包含する。反応の速い反応性材料と収縮を妨げる反応性材料とを併せ持つ本明細書で請求する組成物は、そのような方法にも有用である。   Other methods include methods in which the curable fluid is sprayed directly onto the substrate or onto the powder so that the sprayed material is cured by electromagnetic radiation. The compositions claimed herein that combine a reactive material that reacts quickly and a reactive material that prevents shrinkage are also useful in such methods.

当業者なら、以上および以下の実験節に記載するさまざまな態様は代表例を意図したものであり、本発明は、本明細書中に具体的に記載したものとは異なるように実施することができ、それでもなお請求項およびその等価物の範囲内にあることを、理解するであろう。   Those skilled in the art will appreciate that the various aspects described above and in the experimental section below are intended to be representative and that the invention may be practiced differently than what is specifically described herein. It will be understood that it is still within the scope of the claims and their equivalents.

レーザー暴露法を用いた比較実施例
ステレオリソグラフィー装置、例えばSLA 7000で三次元物品を作成するために用いられる一般的手順は、WO03/089991に記載されているとおりである。実施例2の場合、SLA暴露条件は、
Dp=5.5;Ec=3.5
であった。
Comparative Example Using Laser Exposure Method The general procedure used to make a three-dimensional article with a stereolithography apparatus, such as SLA 7000, is as described in WO 03/089991. In the case of Example 2, the SLA exposure conditions are
Dp = 5.5; Ec = 3.5
Met.

比較実施例は、金型に入れた樹脂試料でのフラッド暴露(flood exposure)法を用いても行った。   The comparative example was also performed using the flood exposure method with a resin sample placed in a mold.

本発明の実施例は、デンマークLystrupのDICON A/Sの好意によりWO00/21735の方法を用いて行った。
実施例:
1)アクリル組成物
Huntsman Advanced Materialsからのアクリル配合物であるステレオリソグラフィー用樹脂SL5131を、SL 7000機器で、WO00/21735の方法にも従って、描画した。結果を以下に示す。明らかに、引張応力の値において改善を示している。
The examples of the present invention were carried out using the method of WO 00/21735, courtesy of DICON A / S, Lystrup, Denmark.
Example:
1) Acrylic composition
Resin for stereolithography SL5131, an acrylic formulation from Huntsman Advanced Materials, was drawn on SL 7000 equipment according to the method of WO 00/21735. The results are shown below. Clearly, there is an improvement in the value of tensile stress.

Figure 2007530724
Figure 2007530724

2)アクリル−ポリチオール組成物1
以下の化合物を、黄色灯下、褐色ボトルの中で、室温において2時間混合した。
2) Acrylic-polythiol composition 1
The following compounds were mixed for 2 hours at room temperature in a brown bottle under a yellow light.

Figure 2007530724
Figure 2007530724

Ebecryl 8402は、米国特許第20040181007号によると1000のMwを有するウレタンジアクリレート成分である。   Ebecryl 8402 is a urethane diacrylate component having a Mw of 1000 according to US20040181007.

該組成物を、SL 7000機器で、WO00/21735の方法にも従って、描画した。全体的に、レーザーに基づくステレオリソグラフィーシステムと比較して、一層ごとのCADシステムを介した従来のUV硬化暴露により、性能は著しく改善した。   The composition was drawn on a SL 7000 instrument according to the method of WO 00/21735. Overall, performance was significantly improved by conventional UV cure exposure via a layer-by-layer CAD system compared to a laser-based stereolithography system.

Figure 2007530724
Figure 2007530724

非レーザー照射を用いるCADシステムは、最良の性質の組合わせをもたらす。積層も、樹脂を単に金型硬化(mould curing)するより良好な結果を生じている。
3)組成物1とStereocol 9300の比較
Stereocol 9300は、アクリル系誘導体とウレタンアクリレートを含む完全なアクリル組成物である。
CAD systems using non-laser irradiation provide the best combination of properties. Lamination also yields better results than simply mould curing the resin.
3) Comparison between Composition 1 and Stereocol 9300
Stereocol 9300 is a complete acrylic composition containing an acrylic derivative and urethane acrylate.

したがって、このタイプの樹脂は、アクリル系誘導体での収縮の問題を軽減する第2成分を有さない比較樹脂に相当する。   Therefore, this type of resin corresponds to a comparative resin that does not have a second component that reduces the problem of shrinkage with acrylic derivatives.

Stereocol 9300およびアクリル−チオレン組成物1のための試験バーを、デンマークLystrupのDiconの好意によりWO00/21735に記載されているシステムで、以下の設計に従って作成した。
引張試験用バー
Test bars for Stereocol 9300 and acrylic-thiolene composition 1 were made according to the following design, with the system described in WO 00/21735, courtesy of Dicon, Lystrup, Denmark.
Bar for tensile test

Figure 2007530724
Figure 2007530724

シャルピー試験用バー Charpy test bar

Figure 2007530724
Figure 2007530724

これらの試験バーの結果を以下に示す:   The results of these test bars are shown below:

Figure 2007530724
Figure 2007530724

実施例4〜8:
以下の配合物を、しっかりした密封キャップを有する褐色ジャー中で成分[重量%]を室温で6時間にわたり混転することにより作成した。
Examples 4-8:
The following formulation was made by tumbling the ingredients [wt%] for 6 hours at room temperature in a brown jar with a tight sealing cap.

流体の粘度は、Brookfield HBTD Viscometer(0.8°コーンスピンドル)を用いてともに25℃で測定した。   The viscosity of the fluid was measured at 25 ° C. using a Brookfield HBTD Viscometer (0.8 ° cone spindle).

金型硬化試料:配合物をシリコーン型に注ぎ入れ、UVで硬化した(Fusion Systems F450ランプ、120W/cm、7.5秒)。成形品を型から取りだし、ひっくり返し、UVで再び硬化した(Fusion Systems F450ランプ、120W/cm、7.5秒)。引張特性を、Stable Micro Systems TA-HDi Texture Analyserを用いて、試験速度0.08mm/s、グリップ距離55mmで測定した。 Mold cure sample: The formulation was poured into a silicone mold and cured with UV (Fusion Systems F450 lamp, 120 W / cm 2 , 7.5 seconds). The molded article was removed from the mold, turned over, and cured again with UV (Fusion Systems F450 lamp, 120 W / cm 2 , 7.5 seconds). Tensile properties were measured using a Stable Micro Systems TA-HDi Texture Analyzer at a test speed of 0.08 mm / s and a grip distance of 55 mm.

Figure 2007530724
Figure 2007530724

実施例4は、アクリル成分[実施例5]とカチオン成分[実施例6]を組み合わせることにより、性質が相乗的に改善することを示している。実施例4は、WO00/21735の方法を用いて暴露される基準に達していない(on borderline)。しかしながら、これらの配合物は、硬化性流体を選択的に噴射した後、例えばUV照射により硬化するシステムにおいて、より良好な有用性を有することができる。   Example 4 shows that the properties are synergistically improved by combining the acrylic component [Example 5] and the cationic component [Example 6]. Example 4 does not meet the criteria exposed using the method of WO 00/21735 (on borderline). However, these formulations can have better utility in systems that cure after selective jetting of the curable fluid, for example by UV irradiation.

Claims (12)

非干渉性放射線源を用いる、一層ごとの光学成形法であって、光硬化性組成物が、少なくとも2種の硬化性成分:
(i)組成物中の全硬化性成分の少なくとも70重量%、好ましくは少なくとも80重量%、より好ましくは少なくとも85重量%が第1成分であり、該第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cmのエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90重量%が50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
(ii)組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%、好ましくは最大30重量%、好ましくは最大20重量%、好ましくは最大15重量%が第2成分であり、該第2成分は、硬化中に、直線方向で長さにおいて3%未満の組成物の収縮をもたらし、好ましくは、硬化後に、50℃より高温、好ましくは少なくとも100℃、より好ましくは少なくとも120℃のTを有する組成物をもたらす、
を含む、前記方法。
A layer-by-layer optical molding process using an incoherent radiation source, wherein the photocurable composition comprises at least two curable components:
(I) at least 70%, preferably at least 80%, more preferably at least 85% by weight of the total curable component in the composition is the first component, the first component being photocurable; Such that upon curing by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ / cm 2 in the presence of a photocuring initiator, at least 90% by weight of the component cures within 50 milliseconds; and (ii) At least 5% by weight of the total curable component in the composition, preferably at most 30% by weight, preferably at most 20% by weight, preferably at most 15% by weight, is the second component, which is Resulting in a shrinkage of the composition of less than 3% in length in the linear direction, preferably higher than 50 ° C. after curing, preferably at least 100 ° C., more preferably at least 120 ° C. Resulting in a composition having T g .
Said method.
第1成分の少なくとも90重量%が、第1成分を光硬化開始剤の存在下で20mJ/cm(より好ましくは10mJ/cm)のエネルギーを有するUV放射に暴露することにより硬化すると、50ミリ秒以内に硬化する、請求項1に記載の方法。 When at least 90% by weight of the first component is cured by exposing the first component to UV radiation having an energy of 20 mJ / cm 2 (more preferably 10 mJ / cm 2 ) in the presence of a photocuring initiator, 50 The method of claim 1, wherein the method cures in milliseconds. 第1成分が、
(a)(h)アクリレート、例えば、モノ、ビスおよびより高い程度の官能価のアクリレート、またはそれらの混合物、ここにおいて、該アクリレートは、2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含むことが好ましい、あるいは、
(i)アミン光開始剤、塩基増幅物、およびアニオン的に硬化しうる材料、例えば、グリシジルエポキシまたはアクリレートまたは少なくとも2の官能価を有する無水物を含む、アミン塩基増殖系、あるいは
(c)(j)少なくとも1種のカチオン的に光硬化しうる材料、例えばエポキシ(例えば脂環式エポキシ)、カチオン光硬化開始剤、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF塩、および酸増幅物、例えばトシル化化合物を含む、酸増幅系、ならびに
(d)(k)2個以上の官能性光開始基を有するポリマー鎖、例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリブタジエン、ポリウレタン、ポリアルカン、またはポリシロキサン、ここにおいて、該光開始基は、放射線への暴露中に、組成物中の硬化性成分と反応して前記ポリマー鎖を硬化された組成物に組み込む反応性基を形成することができ、該ポリマー鎖は、柔軟性および/または強化性鎖であることが好ましい、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む、請求項1に記載の方法。
The first component is
(A) (h) acrylates, for example mono, bis and higher functional acrylates, or mixtures thereof, wherein the acrylate comprises at least one acrylate having a functionality of 2 or more Is preferred, or
(I) an amine photoinitiator, a base amplifier, and an anionically curable material such as an glycidyl epoxy or acrylate or an anhydride having a functionality of at least 2; j) at least one cationically photocurable material such as an epoxy (eg alicyclic epoxy), a cationic photocuring initiator such as a tri-arylsulfonium SbF 6 salt, and an acid amplifying material such as a tosylated compound. An acid amplification system, and (d) (k) a polymer chain having two or more functional photoinitiating groups, such as polyester, polyether, polycarbonate, polybutadiene, polyurethane, polyalkane, or polysiloxane, wherein The photoinitiating group reacts with the curable component in the composition during exposure to radiation. It is possible to form reactive groups that incorporate the polymer chains into the cured composition, and the polymer chains are preferably flexible and / or reinforcing chains.
The method of claim 1, comprising one or more materials selected from the group consisting of:
第2成分が、
(a)(l)メタクリレート、例えば、モノ、ビスもしくはより高い程度の官能価のメタクリレート、またはそれらの混合物、好ましくは、少なくとも2の官能価を伴う少なくとも1種のメタクリレートを含む、
(b)(m)少なくとも1個の末端−SH、−NHまたは−OH基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、または少なくとも1個のアミン、ヒドロキシもしくはチオ末端基を持つ反応性アルカン、および
(c)(n)(i)潜伏性ポリオール、例えば、エポキシから誘導されるもの、またはポリアミン、例えば、カルバメートから誘導される脂肪族アミンなどのブロックトアミンから誘導されるものと、ブレンドされていてもよいイソシアネート、あるいは
(ii)イソシアネート基とウレタン基を持つ混成物、
(iii)酸増幅物を伴っていてもよいエポキシ、例えば、脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ、ならびに
(iv)オキセタン、フラン、またはオルト−スピロ化合物、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
The second component is
(A) (l) methacrylates, for example mono-, bis- or higher-functional methacrylates, or mixtures thereof, preferably containing at least one methacrylate with a functionality of at least 2;
(B) (m) a compound having at least one terminal —SH, —NH or —OH group, such as an oligomeric liquid polysulfide, a mercaptan monomer, or a reactivity having at least one amine, hydroxy or thio end group An alkane, and (c) (n) (i) a latent polyol, such as one derived from an epoxy, or one derived from a blocked amine such as an aliphatic amine derived from a polyamine, such as a carbamate, An optionally blended isocyanate, or
(Ii) a hybrid having an isocyanate group and a urethane group;
(Iii) epoxies that may be accompanied by acid amplifiers, such as alicyclic epoxies or glycidyl epoxies, and (iv) oxetane, furan, or ortho-spiro compounds,
The method according to any one of claims 1 to 3, comprising one or more materials selected from the group consisting of:
第2成分が、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール、例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸(チオグリコール酸またはβ−メルカプトプロピオン酸など)でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP)を含む、請求項4に記載の方法。   A polythiol obtained by esterification of a polyol with a second component, a polythiol having two or more thiol groups per molecule, for example, α or β-mercaptocarboxylic acid (such as thioglycolic acid or β-mercaptopropionic acid), 5. The method of claim 4, comprising pentaerythritol tetramercaptoacetate or pentaerythritol tetrakis-β-mercaptopropionate (PETMP). 光硬化性成分が、1種以上の柔軟剤または強化材(例えば、(a)(v)ヒドロキシル含有化合物(例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネートもしくはポリウレタン)または(b)(vi)ヒドロキシルバージョンのチオールもしくはアミノ相当物)、あるいは反応性ゴム/エラストマー化合物(例えば、エポキシ、アクリリル、アミノ、ヒドロキシ、チオールもしくはアミノ官能基を有するポリブタジエン、または反応性もしくは相溶性表面を伴うコアシェル強化材、またはエポキシ、アクリリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン)も含有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。   The photocurable component is one or more softeners or reinforcements (eg (a) (v) hydroxyl-containing compounds (eg polyester, polyether, polycarbonate or polyurethane) or (b) (vi) hydroxyl versions of thiols Or amino equivalents), or reactive rubber / elastomer compounds (eg, epoxy, acrylyl, amino, hydroxy, thiol, or polybutadiene with amino functional groups, or core-shell reinforcement with reactive or compatible surfaces, or epoxy, acrylyl) , A linear or cyclic polysiloxane having a hydroxyl, thiol or amino function). 重量パーセント基準で、
(a)(o)少なくとも2種の硬化性成分:
(i)組成物中の硬化性成分の全重量に基づき少なくとも80重量%、好ましくは−少なくとも85重量%の量の第1成分、ここにおいて、第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cmのエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90重量%が100ミリ秒以内、好ましくは50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
(ii)組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%の量の硬化性第2成分、ここにおいて、第2成分は、少なくとも1個の末端チオール(−SH)基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール(例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸もしくはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP))である、
(b)(p)0〜10%、好ましくは1〜10%のカチオン光開始剤、
(c)(q)0〜10%、好ましくは0.01〜10%のラジカル光開始剤、
(d)(r)該工程で使用する前の早期硬化に対する安定剤0〜5%、好ましくは0.001〜5%、および
(e)(s)0〜20%の補助的材料、例えば、充填剤、詳細にはサブミクロン粒子、‘ナノサイズ’充填剤、例えば、シロキサン粒子、シリカ粒子、ナノ粘土、ナノ金属、
を含む、光学成形組成物。
On a weight percent basis,
(A) (o) at least two curable components:
(I) a first component in an amount of at least 80 wt%, preferably-at least 85 wt%, based on the total weight of the curable component in the composition, wherein the first component is photocurable and photocured Such that upon curing by exposure to UV radiation having an energy of 30 mJ / cm 2 in the presence of an initiator, at least 90% by weight of the component is cured within 100 milliseconds, preferably within 50 milliseconds. And (ii) a curable second component in an amount of at least 5% by weight of the total curable component in the composition, wherein the second component is a compound having at least one terminal thiol (-SH) group; For example, oligomeric liquid polysulfide, mercaptan monomer, polythiol having two or more thiol groups per molecule (for example, α or β-mercaptocarboxylic acid) Such as thioglycolic acid or β- mercapto polythiol obtained by esterification of polyols with acid or pentaerythritol tetra-mercapto acetate, or pentaerythritol tetrakis -β- mercaptopropionate, (PETMP)),
(B) (p) 0-10%, preferably 1-10% cationic photoinitiator,
(C) (q) 0-10%, preferably 0.01-10% radical photoinitiator,
(D) (r) 0 to 5%, preferably 0.001 to 5%, and (e) (s) 0 to 20% of auxiliary materials for pre-curing prior to use in the process, for example, Fillers, in particular sub-micron particles, 'nano-sized' fillers such as siloxane particles, silica particles, nano clays, nano metals,
An optical molding composition comprising:
第1成分の少なくとも90重量%が、第1成分を光硬化開始剤の存在下で20mJ/cm(より好ましくは10mJ/cm)のエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると50ミリ秒以内に硬化する、請求項7に記載の組成物。 50 milliseconds when at least 90% by weight of the first component is cured by exposure to UV radiation having an energy of 20 mJ / cm 2 (more preferably 10 mJ / cm 2 ) in the presence of a photocuring initiator. 8. The composition of claim 7, which cures within. 第1成分が、
(a)(t)アクリレート、例えば、モノ、ビスおよびより高い程度の官能価のアクリレート、またはそれらの混合物、ここにおいて、アクリレートは、2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含むことが好ましい、
(b)(u)アミン光開始剤と、光−多塩基増幅物と、アニオン的に光硬化しうる材料、例えば、少なくとも2の官能価を有するアクリレートとを含む、アミン塩基増殖系、または
(c)(v)少なくとも1種のカチオン的に光硬化しうる材料、例えばエポキシ(例えば脂環式エポキシ)、カチオン光硬化開始剤、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF塩、および酸増幅物、例えばトシル化化合物を含む、酸増幅系、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む、請求項7または請求項8に記載の組成物。
The first component is
(A) (t) acrylates, such as mono, bis and higher degree functional acrylates, or mixtures thereof, wherein the acrylate comprises at least one acrylate having a functionality of 2 or more preferable,
(B) an amine base propagation system comprising (u) an amine photoinitiator, a photo-polybasic amplifying material, and an anionically photocurable material, such as an acrylate having a functionality of at least 2, or ( c) (v) at least one cationically photocurable material such as an epoxy (eg cycloaliphatic epoxy), a cationic photocuring initiator such as a tri-arylsulfonium SbF 6 salt, and an acid amplifying material such as tosyl An acid amplification system comprising a compound,
The composition according to claim 7 or 8, comprising one or more materials selected from the group consisting of:
光硬化性組成物が、
1〜10重量%の1種以上の柔軟剤または強化材、例えば、(例えば、(a)(w)ヒドロキシル含有化合物(例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネートもしくはポリウレタン)または(b)(x)ヒドロキシルバージョンのチオールもしくはアミノ相当物)、あるいは反応性ゴム/エラストマー化合物(例えば、エポキシ、アクリリル、アミノ、ヒドロキシ、チオールもしくはアミノ官能基を有するポリブタジエン、またはエポキシ、アクリリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン)も含有する、請求項7〜9のいずれか一項に記載の組成物。
The photocurable composition is
1-10% by weight of one or more softeners or reinforcements, for example (eg (a) (w) hydroxyl-containing compounds (eg polyester, polyether, polycarbonate or polyurethane) or (b) (x) hydroxyl Versions of thiol or amino equivalents) or reactive rubber / elastomer compounds (eg, polybutadiene with epoxy, acrylyl, amino, hydroxy, thiol or amino functionality, or epoxy, acrylyl, hydroxyl, thiol or amino functionality) The composition according to any one of claims 7 to 9, which also contains a linear or cyclic polysiloxane.
第1成分がアクリレートである、請求項7〜10のいずれか一項に記載の組成物。   The composition according to any one of claims 7 to 10, wherein the first component is an acrylate. 第1成分が炭素−炭素二重結合、例えばアクリレートを包含し、組成物中の二重結合とチオ基の比率が10:1〜2:1、例えば9:1〜4:1、例えば8:1〜5:1である、請求項7〜11のいずれか一項に記載の組成物。   The first component includes a carbon-carbon double bond, such as an acrylate, and the ratio of double bond to thio group in the composition is 10: 1 to 2: 1, such as 9: 1 to 4: 1, such as 8: The composition according to any one of claims 7 to 11, which is 1 to 5: 1.
JP2007504410A 2004-03-22 2005-03-21 Photocurable composition Active JP4776616B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP04251653 2004-03-22
EP04251653.4 2004-03-22
PCT/EP2005/051287 WO2005092598A1 (en) 2004-03-22 2005-03-21 Photocurable compositions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007530724A true JP2007530724A (en) 2007-11-01
JP4776616B2 JP4776616B2 (en) 2011-09-21

Family

ID=34930235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007504410A Active JP4776616B2 (en) 2004-03-22 2005-03-21 Photocurable composition

Country Status (11)

Country Link
US (1) US8097399B2 (en)
EP (1) EP1727663B1 (en)
JP (1) JP4776616B2 (en)
KR (2) KR101474174B1 (en)
CN (1) CN100581792C (en)
AT (1) ATE527099T1 (en)
CA (1) CA2557226A1 (en)
ES (1) ES2374823T3 (en)
PL (1) PL1727663T3 (en)
TW (1) TWI406086B (en)
WO (1) WO2005092598A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013514213A (en) * 2009-12-17 2013-04-25 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. Additive manufacturing using base materials

Families Citing this family (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100340388C (en) * 2006-03-03 2007-10-03 南京师范大学 Printing shaping method for making three-dimensional object and support
US20080103226A1 (en) 2006-10-31 2008-05-01 Dsm Ip Assets B.V. Photo-curable resin composition
US8236476B2 (en) * 2008-01-08 2012-08-07 International Business Machines Corporation Multiple exposure photolithography methods and photoresist compositions
WO2010043274A1 (en) * 2008-10-17 2010-04-22 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Improvements for rapid prototyping apparatus
TW201031737A (en) * 2009-02-03 2010-09-01 Henkel Corp Encapsulant for inkjet print head
JP5774825B2 (en) * 2010-08-19 2015-09-09 ソニー株式会社 Three-dimensional modeling apparatus and manufacturing method of modeled object
EP2436510A1 (en) 2010-10-04 2012-04-04 3D Systems, Inc. System and resin for rapid prototyping
WO2013128452A1 (en) * 2012-03-01 2013-09-06 Stratasys Ltd. Cationic polymerizable compositions and methods of use thereof
US20160230014A1 (en) * 2013-09-13 2016-08-11 Basf Se Scratch-resistant radiation-cured coatings
US11299569B2 (en) * 2014-04-30 2022-04-12 Institute Of Chemistry, Chinese Academy Of Sciences Material for 3D printing, process for preparing the same and article thereof
JP6720092B2 (en) 2014-06-23 2020-07-08 カーボン,インコーポレイテッド Method for manufacturing polyurethane three-dimensional object from materials having various curing mechanisms
WO2016036976A1 (en) 2014-09-03 2016-03-10 University Of Washington Metathesis polymerization methods
US10683381B2 (en) 2014-12-23 2020-06-16 Bridgestone Americas Tire Operations, Llc Actinic radiation curable polymeric mixtures, cured polymeric mixtures and related processes
KR20170115070A (en) 2015-02-05 2017-10-16 카본, 인크. Method for producing laminate by non-continuous exposure
WO2016140886A1 (en) 2015-03-05 2016-09-09 Carbon3D, Inc. Fabrication of three dimensional objects with multiple operating modes
EP3344676B1 (en) 2015-09-04 2023-04-12 Carbon, Inc. Cyanate ester dual cure resins for additive manufacturing
US10975193B2 (en) 2015-09-09 2021-04-13 Carbon, Inc. Epoxy dual cure resins for additive manufacturing
US10647873B2 (en) 2015-10-30 2020-05-12 Carbon, Inc. Dual cure article of manufacture with portions of differing solubility
WO2017078193A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-11 (주) 개마텍 Radiation curable coating composition, and coating film
WO2017079502A1 (en) 2015-11-05 2017-05-11 Carbon, Inc. Silicone dual cure resins for additive manufacturing
EP3390006B1 (en) 2015-12-17 2021-01-27 Bridgestone Americas Tire Operations, LLC Additive manufacturing cartridges and processes for producing cured polymeric products by additive manufacturing
US10639844B2 (en) 2015-12-22 2020-05-05 Carbon, Inc. Fabrication of compound products from multiple intermediates by additive manufacturing with dual cure resins
WO2017112483A2 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Accelerants for additive manufacturing with dual cure resins
US10343331B2 (en) 2015-12-22 2019-07-09 Carbon, Inc. Wash liquids for use in additive manufacturing with dual cure resins
WO2017112571A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Dual cure additive manufacturing of rigid intermediates that generate semi-rigid, flexible, or elastic final products
US10350823B2 (en) 2015-12-22 2019-07-16 Carbon, Inc. Dual precursor resin systems for additive manufacturing with dual cure resins
WO2017112751A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Blocked silicone dual cure resins for additive manufacturing
US10501572B2 (en) 2015-12-22 2019-12-10 Carbon, Inc. Cyclic ester dual cure resins for additive manufacturing
US20170282450A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 Schmutz Ip, Llc Additive manufacturing of engineered polymer and polymer composites with precisely-controlled properties
AU2017264964B2 (en) * 2016-05-13 2021-11-25 MSI Coatings Inc. System and method for using a VOC free low radiant flux LED UV curable composition
KR101970724B1 (en) 2016-06-14 2019-04-22 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter using same
CN106084616B (en) * 2016-06-17 2019-03-22 湖南华曙高科技有限责任公司 A kind of photocurable resin material for 3D printing
US10500786B2 (en) 2016-06-22 2019-12-10 Carbon, Inc. Dual cure resins containing microwave absorbing materials and methods of using the same
CN107459871B (en) 2016-07-11 2018-05-25 珠海赛纳打印科技股份有限公司 3D inkjet printings photocuring transparent ink and preparation method thereof
WO2018081053A1 (en) 2016-10-27 2018-05-03 Bridgestone Americas Tire Operations, Llc Processes for producing cured polymeric products by additive manufacturing
CN106541129B (en) * 2016-11-08 2019-05-14 西安铂力特增材技术股份有限公司 A kind of preparation method of particles reiforced metal-base composition
US11135790B2 (en) * 2016-11-21 2021-10-05 Carbon, Inc. Method of making three-dimensional object by delivering reactive component for subsequent cure
WO2018119026A1 (en) 2016-12-23 2018-06-28 3M Innovative Properties Company Printable compositions including polymeric and polymerizable components, articles, and methods of making articles therefrom
US11945152B2 (en) * 2017-03-06 2024-04-02 Maxell, Ltd. Model material ink set, support material composition, ink set, three-dimensional shaped object, and method for manufacturing three-dimensional shaped object
US11535686B2 (en) 2017-03-09 2022-12-27 Carbon, Inc. Tough, high temperature polymers produced by stereolithography
ES2685280B2 (en) * 2017-03-31 2019-06-21 Centro Tecnologico De Nanomateriales Avanzados S L Radiation curable resin composition and procedure for obtaining it
US10316213B1 (en) 2017-05-01 2019-06-11 Formlabs, Inc. Dual-cure resins and related methods
JP7174721B2 (en) 2017-06-20 2022-11-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Radiation curable composition for additive manufacturing process
JP6894015B2 (en) 2017-06-21 2021-06-23 カーボン,インコーポレイテッド Laminated modeling method
US11338320B1 (en) * 2018-02-03 2022-05-24 MSI Coatings Inc. Composition for aerosol cans, method of making and using the same
US20210018835A1 (en) * 2018-03-28 2021-01-21 Board Of Regents, The University Of Texas System Thiol-acrylate polymers, methods of synthesis thereof and use in additive manufacturing technologies
US11504903B2 (en) 2018-08-28 2022-11-22 Carbon, Inc. 1K alcohol dual cure resins for additive manufacturing
CA3116709A1 (en) 2018-10-17 2020-04-23 Inkbit, LLC Thiol-ene printable resins for inkjet 3d printing
WO2020123479A1 (en) * 2018-12-10 2020-06-18 Inkbit, LLC Precision system for additive fabrication
CN109651543B (en) * 2018-12-21 2020-04-10 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Liquid crystal cell, method for producing same, and photopolymerizable composition
CN110128662B (en) * 2019-03-01 2021-09-21 湖北大学 Water-soluble thiol-terminated PEG (polyethylene glycol) functionalized POSS (polyhedral oligomeric silsesquioxane) crosslinking agent as well as preparation method and application thereof
WO2020197540A1 (en) * 2019-03-22 2020-10-01 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional printing with blocked polyisocyanates
WO2020191690A1 (en) * 2019-03-28 2020-10-01 Henkel Ag & Co. Kgaa Photo-curable compositions for additive manufacturing
US20220273409A1 (en) * 2019-09-12 2022-09-01 3M Innovative Properties Company Apparatus, System, Method of Post-Curing an Article, and Post-Cured Article
EP4041533A4 (en) * 2019-10-09 2024-01-03 Poly Med Inc Curable polymeric compositions
IT202000023443A1 (en) * 2020-10-05 2022-04-05 Prolab Mat S R L SEQUENTIAL COMPENETRATING OR SEMI-COMPENETRANT POLYMER NETWORK AND PROCESS TO OBTAIN IT
CN116218329B (en) * 2023-01-05 2023-11-10 东方电气集团东方电机有限公司 Environment-friendly photo-curing insulation repair material and preparation method thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03210364A (en) * 1990-01-12 1991-09-13 Asahi Denka Kogyo Kk Optical shaping resin composition
JPH07124962A (en) * 1993-11-04 1995-05-16 Mitsubishi Rayon Co Ltd Manufacture of plastic molded article
JPH10168106A (en) * 1996-12-10 1998-06-23 Jsr Corp Photo-setting resin composition
JPH11199647A (en) * 1998-01-13 1999-07-27 Teijin Seiki Co Ltd Resin composition for optical molding
JP2002080615A (en) * 2000-06-30 2002-03-19 Mitsubishi Chemicals Corp Plastic base plate undergoing little dimensional change

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1051391A (en) * 1959-12-24
US3445419A (en) * 1966-01-21 1969-05-20 Dow Corning Room temperature vulcanizable silicones
US3661744A (en) * 1966-07-26 1972-05-09 Grace W R & Co Photocurable liquid polyene-polythiol polymer compositions
US3708296A (en) * 1968-08-20 1973-01-02 American Can Co Photopolymerization of epoxy monomers
JPS5314800A (en) * 1976-07-28 1978-02-09 Showa Highpolymer Co Ltd Curable resin composition
US4248960A (en) * 1978-01-23 1981-02-03 W. R. Grace & Co. Radiation responsive relief imageable plastic laminate
GB2030584B (en) * 1978-10-03 1983-03-23 Lankro Chem Ltd Photopolymerisable solder resist compositions
US4289867A (en) * 1978-12-11 1981-09-15 Sws Silicones Corporation Organofunctional polysiloxane polymers and a method for preparing the same
US4230740A (en) * 1979-04-23 1980-10-28 W. R. Grace & Co. Heat stable, non-yellowing photopolymer compositions
US4284960A (en) * 1979-11-23 1981-08-18 Ampex Corporation Photo-feedback preamplifier circuit
US4969998A (en) * 1984-04-23 1990-11-13 W. L. Gore & Associates, Inc. Composite semipermeable membrane
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
CH678897A5 (en) * 1986-05-10 1991-11-15 Ciba Geigy Ag
JPS6368627A (en) * 1986-09-11 1988-03-28 Showa Highpolymer Co Ltd Photocurable resin composition
JPH02251533A (en) * 1989-03-24 1990-10-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd Resin composition for optical material
US5236967A (en) * 1990-01-12 1993-08-17 Asahi Denka Kogyo K.K. Optical molding resin composition comprising polythiol-polyene compounds
US5250391A (en) * 1990-05-10 1993-10-05 Hughes Aircraft Company Photopolymer composition and its use
US5167882A (en) * 1990-12-21 1992-12-01 Loctite Corporation Stereolithography method
JPH0511449A (en) * 1990-12-21 1993-01-22 Loctite Corp Solid lithographic method depositing three-dimensional article and curing composition
US5510226A (en) * 1991-05-01 1996-04-23 Alliedsignal Inc. Stereolithography using vinyl ether-epoxide polymers
DE4291255T1 (en) * 1991-05-01 1994-05-05 Allied Signal Inc Stereolithography using vinyl ether-epoxy polymers
TW311923B (en) * 1992-01-27 1997-08-01 Ciba Sc Holding Ag
TW269017B (en) * 1992-12-21 1996-01-21 Ciba Geigy Ag
EP0646580B1 (en) * 1993-09-16 2000-05-31 Ciba SC Holding AG Vinylether compounds with additional functional groups differing from vinylether and their use in the formulation of curable compositions
DE4440819A1 (en) * 1993-11-19 1995-05-24 Ciba Geigy Ag Photosensitive compsn. with low curl factor useful for stereo-lithography
US5494618A (en) * 1994-06-27 1996-02-27 Alliedsignal Inc. Increasing the useful range of cationic photoinitiators in stereolithography
US5705116A (en) * 1994-06-27 1998-01-06 Sitzmann; Eugene Valentine Increasing the useful range of cationic photoinitiators in stereolithography
US5639413A (en) * 1995-03-30 1997-06-17 Crivello; James Vincent Methods and compositions related to stereolithography
DE69629809T2 (en) * 1995-05-12 2004-07-15 Asahi Denka Kogyo K.K. STEREOLITHOGRAPHIC METHOD AND PLASTIC RESIN THEREFOR
US6413496B1 (en) * 1996-12-04 2002-07-02 Biogland Ireland (R&D) Limited Pharmaceutical compositions and devices for their administration
WO1999005572A2 (en) * 1997-07-21 1999-02-04 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Viscosity stabilization of radiation-curable compositions
US6136497A (en) * 1998-03-30 2000-10-24 Vantico, Inc. Liquid, radiation-curable composition, especially for producing flexible cured articles by stereolithography
US6100007A (en) * 1998-04-06 2000-08-08 Ciba Specialty Chemicals Corp. Liquid radiation-curable composition especially for producing cured articles by stereolithography having high heat deflection temperatures
US6267001B1 (en) * 1998-09-25 2001-07-31 E Ticket Enterprises, Llc Test plug
US7128866B1 (en) 1998-10-12 2006-10-31 Dicon A/S Rapid prototyping apparatus and method of rapid prototyping
US6259962B1 (en) * 1999-03-01 2001-07-10 Objet Geometries Ltd. Apparatus and method for three dimensional model printing
EP1169401B1 (en) 1999-03-16 2003-01-08 Akzo Nobel N.V. Radiation curable coating composition comprising a secondary curing agent
DE60029779T2 (en) * 1999-05-10 2007-08-02 3M Innovative Properties Co., St. Paul Compositions for the preparation of ene-thiol elastomers
JP2003522821A (en) * 2000-02-08 2003-07-29 バンティコ アクチエンゲゼルシャフト Liquid radiation-curable compositions especially for stereolithography
US6500375B1 (en) * 2000-03-06 2002-12-31 Lexmark International Inc. Fabrication of seamless tube
KR100795740B1 (en) * 2000-03-30 2008-01-17 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Photocurable composition, cured object, and process for producing the same
JP3536791B2 (en) * 2000-03-30 2004-06-14 三菱化学株式会社 Plastic laminate
GB0103752D0 (en) * 2001-02-15 2001-04-04 Vantico Ltd Three-Dimensional printing
GB0103754D0 (en) * 2001-02-15 2001-04-04 Vantico Ltd Three-dimensional structured printing
DE10114290B4 (en) * 2001-03-23 2004-08-12 Ivoclar Vivadent Ag Desktop process for manufacturing dental products using 3D plotting
US6939489B2 (en) * 2001-03-23 2005-09-06 Ivoclar Vivadent Ag Desktop process for producing dental products by means of 3-dimensional plotting
DE20106887U1 (en) * 2001-04-20 2001-09-06 Envision Technologies Gmbh Device for producing a three-dimensional object
DE10119817A1 (en) 2001-04-23 2002-10-24 Envision Technologies Gmbh Separation layer between a flat baseplate and layers of cured polymer formed during fabrication of three-dimensional objects comprises a low adhesion film or a gel
GB0127252D0 (en) * 2001-11-13 2002-01-02 Vantico Ag Production of composite articles composed of thin layers
JP4000885B2 (en) * 2002-04-01 2007-10-31 三菱化学株式会社 Polymerizable composition and cured body
US20030198824A1 (en) 2002-04-19 2003-10-23 Fong John W. Photocurable compositions containing reactive polysiloxane particles
GB0212062D0 (en) * 2002-05-24 2002-07-03 Vantico Ag Jetable compositions
US20040077745A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-22 Jigeng Xu Curable compositions and rapid prototyping process using the same
US7189781B2 (en) * 2003-03-13 2007-03-13 H.B. Fuller Licensing & Finance Inc. Moisture curable, radiation curable sealant composition
EP1477511A1 (en) * 2003-05-15 2004-11-17 DSM IP Assets B.V. Radiation curable thiol-ene composition
DE10344412A1 (en) * 2003-09-25 2005-05-19 Röhm GmbH & Co. KG Polymer networks

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03210364A (en) * 1990-01-12 1991-09-13 Asahi Denka Kogyo Kk Optical shaping resin composition
JPH07124962A (en) * 1993-11-04 1995-05-16 Mitsubishi Rayon Co Ltd Manufacture of plastic molded article
JPH10168106A (en) * 1996-12-10 1998-06-23 Jsr Corp Photo-setting resin composition
JPH11199647A (en) * 1998-01-13 1999-07-27 Teijin Seiki Co Ltd Resin composition for optical molding
JP2002080615A (en) * 2000-06-30 2002-03-19 Mitsubishi Chemicals Corp Plastic base plate undergoing little dimensional change

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013514213A (en) * 2009-12-17 2013-04-25 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. Additive manufacturing using base materials

Also Published As

Publication number Publication date
PL1727663T3 (en) 2012-04-30
ATE527099T1 (en) 2011-10-15
CN1933961A (en) 2007-03-21
KR20070005638A (en) 2007-01-10
KR20130026535A (en) 2013-03-13
WO2005092598A1 (en) 2005-10-06
CA2557226A1 (en) 2005-10-06
KR101474174B1 (en) 2014-12-17
US20070205528A1 (en) 2007-09-06
TW200609669A (en) 2006-03-16
CN100581792C (en) 2010-01-20
TWI406086B (en) 2013-08-21
EP1727663B1 (en) 2011-10-05
US8097399B2 (en) 2012-01-17
ES2374823T3 (en) 2012-02-22
EP1727663A1 (en) 2006-12-06
JP4776616B2 (en) 2011-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4776616B2 (en) Photocurable composition
JP4772681B2 (en) Photo-curable composition for obtaining articles having stable tensile properties
JP5306814B2 (en) Photo-curable composition for the production of ABS-like articles
JP5250776B2 (en) Photocurable resin composition not containing antimony and three-dimensional article
US8182882B2 (en) Method of making a 3-D object from photocurable compositions containing reactive polysiloxane particles
EP2215525B1 (en) Photocurable resin composition for producing three dimensional articles having high clarity
KR20100014901A (en) Photocurable compositions for preparing abs-like articles

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080225

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100602

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100823

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110601

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110628

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4776616

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250