JP2007505940A - New production method of biphenyl ether compounds - Google Patents

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Abstract

本発明は、選択的セロトニン再取込み阻害薬3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(L)又は(D)酒石酸塩(I)の改良された製造法及び該製造法における中間生成物に関する。

Figure 2007505940
The present invention is an improvement of the selective serotonin reuptake inhibitors 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzenesulfonamide (L) or (D) tartrate (I). And an intermediate product in the production method.
Figure 2007505940

Description

発明の詳細な説明Detailed Description of the Invention

本発明は、選択的セロトニン再取込み阻害薬3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(L)又は(D)酒石酸塩の改良された製造法及び該製造法における中間生成物に関する。   The present invention relates to an improved process for the preparation of selective serotonin reuptake inhibitors 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzenesulfonamide (L) or (D) tartrate. And an intermediate product in the production method.

WO01/72687に、3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(L)酒石酸塩(I)の製造が記載されている。それによれば、該化合物は、(i)4−(メチルメルカプト)フェノール(III)を2−フルオロベンズアルデヒド(II)と、炭酸カリウムの存在下、DMFのような適切な溶媒中で反応させ;(ii)2−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンズアルデヒド(IV)のトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムとジメチルアミン塩酸塩による還元的アミノ化を実施し、次いで場合によりその生成物のHCl塩を形成し;(iii)N,N−ジメチル−N−{2−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンジル}アミン(V)をジクロロメタン中でクロロスルホン酸と反応させ;そして(iv)3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンゼンスルホニルクロリド(VI)をアンモニア水又はエタノール中アンモニアで処理して(VII)を得ることによって製造される。ステップ(iii)と(iv)は一体化してもよい。対応する酒石酸塩は、(VII)を有機溶媒に溶解し、適当な酒石酸を加え、場合により該溶液を冷却し、得られる(I)の結晶を回収することによって得ることができる。   WO 01/72687 describes the preparation of 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzenesulfonamide (L) tartrate (I). According to it, the compound reacts (i) 4- (methylmercapto) phenol (III) with 2-fluorobenzaldehyde (II) in the presence of potassium carbonate in a suitable solvent such as DMF; ii) performing a reductive amination of 2- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzaldehyde (IV) with sodium triacetoxyborohydride and dimethylamine hydrochloride and then optionally forming the HCl salt of the product. (Iii) reacting N, N-dimethyl-N- {2- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzyl} amine (V) with chlorosulfonic acid in dichloromethane; and (iv) 3-[(dimethyl Amino) methyl] -4- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzenesulfonyl chloride (VI) in aqueous ammonia or ethanol It is produced by treating with ammonia in a solution to obtain (VII). Steps (iii) and (iv) may be integrated. The corresponding tartrate salt can be obtained by dissolving (VII) in an organic solvent, adding the appropriate tartaric acid, optionally cooling the solution and recovering the resulting crystals of (I).

全手順は以下のように表すことができる。   The whole procedure can be expressed as:

Figure 2007505940
Figure 2007505940

このルートにはいくつかの問題がある。
(a)プロセスステップ(i)は希薄な反応条件下で実施されるので、その結果として大量の廃溶媒を反応終了時に処分しなければならない。その上、反応を大規模に実施すると反応時間が遅くなる。さらに、反応生成物の化合物(IV)は単離が難しい。該化合物は融点が低い(37〜39℃)ので、真空オーブン中での乾燥に適さない。そのため、反応終了時に生成物から溶媒を除去するのが困難である。結晶化による単離もこの特性によって妨げられる。
There are several problems with this route.
(A) Process step (i) is carried out under dilute reaction conditions, so that a large amount of waste solvent must be disposed of at the end of the reaction. Moreover, the reaction time is slowed down when the reaction is carried out on a large scale. Further, the reaction product compound (IV) is difficult to isolate. Since the compound has a low melting point (37-39 ° C.), it is not suitable for drying in a vacuum oven. Therefore, it is difficult to remove the solvent from the product at the end of the reaction. Isolation by crystallization is also hindered by this property.

(b)化合物(IV)の還元的アミノ化、すなわちプロセスステップ(ii)は、特に大規模の場合ゆっくり進行し、反応の完了に最大1週間を要しかねない。これは経済的に著しく不利益である。さらに、その収率は低く、不純物が生成する。化合物(IV)の第一級アルコール誘導体のような副生成物の生成は収率をさらに低下させる。   (B) The reductive amination of compound (IV), ie process step (ii), proceeds slowly, especially on a large scale, and can take up to one week to complete the reaction. This is a significant economic disadvantage. Furthermore, the yield is low and impurities are produced. Formation of by-products such as primary alcohol derivatives of compound (IV) further reduces the yield.

(c)プロセスステップ(iii)で、化合物(V)のクロロスルホニル化は、大過剰の97%クロロスルホン酸(10モル当量)を用い、ジクロロメタン溶媒中で実施される。試薬と溶媒の有害な性質のため、特に大規模では安全な取扱いが難しい。さらに、過剰の試薬は反応終了時に中和しなければならないので大量の廃棄物が発生する。大量のジクロロメタンの処分も高価で環境に有害である。その上、数種類の不純物がこのプロセスステップの副生成物として生じる。これらの不純物は、化合物(VI)の高反応性と物理的形態(粘着性固体)のため手順の次のステップに持ち込まざるを得ず、効果的な単離と精製を困難にしている。   (C) In process step (iii), chlorosulfonylation of compound (V) is carried out in dichloromethane solvent using a large excess of 97% chlorosulfonic acid (10 molar equivalents). Due to the detrimental nature of reagents and solvents, safe handling is difficult, especially on a large scale. In addition, excess reagents must be neutralized at the end of the reaction, generating a large amount of waste. Disposal of large amounts of dichloromethane is also expensive and harmful to the environment. In addition, several types of impurities are produced as by-products of this process step. These impurities inevitably bring to the next step of the procedure due to the high reactivity and physical form (sticky solid) of compound (VI), making effective isolation and purification difficult.

(d)化合物(VI)の純度が中等度のため、プロセスステップ(iv)は低収率である。さらに、スルホン酸誘導体(IX)が副生成物として生成する。化合物(IX)は、プロセスステップ(iii)から持ち込まれた不純物なので、所望生成物の化合物(VII)から分離するのが難しい。   (D) Since the purity of compound (VI) is moderate, process step (iv) has a low yield. Furthermore, a sulfonic acid derivative (IX) is formed as a by-product. Compound (IX) is difficult to separate from the desired product Compound (VII) because it is an impurity introduced from process step (iii).

要約すると、この反応手順は式(I)の化合物を実験室規模で製造するための妥当なルートを提供しているものの、これらの化合物を工業規模で製造するのにより適用可能な堅牢なプロセスが明らかに求められている。   In summary, while this reaction procedure provides a reasonable route for the production of compounds of formula (I) on a laboratory scale, there is a robust process that is more applicable to the production of these compounds on an industrial scale. Clearly sought after.

その結果、上記問題を克服する、改良された3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルスルファニル)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(L)又は(D)酒石酸塩(I)の合成方法が開発された。   As a result, an improved synthesis of 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylsulfanyl) phenoxy] benzenesulfonamide (L) or (D) tartrate (I) that overcomes the above problems A method was developed.

全手順は以下のように表すことができる。   The whole procedure can be expressed as:

Figure 2007505940
Figure 2007505940

本発明の一態様において、式(IV)の化合物は、式(II)と(III)の化合物を、プロセスステップ(i)、すなわち求核芳香族置換の条件下で、塩基の存在下、適切な溶媒中で反応させることによって製造できる。   In one embodiment of the invention, the compound of formula (IV) is a compound of formula (II) and (III), which is suitable in the presence of a base, under the conditions of process step (i), ie nucleophilic aromatic substitution. It can manufacture by making it react in an appropriate solvent.

適切な塩基は、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウムのような炭酸塩塩基;カリウムt−ブトキシド、リチウムt−ブトキシド、ナトリウムt−ブトキシドのようなブトキシド塩基;水酸化ナトリウムのような水酸化物塩基;並びにピリジン及びモルホリンのような有機塩基などである。   Suitable bases are carbonate bases such as potassium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate; butoxide bases such as potassium t-butoxide, lithium t-butoxide, sodium t-butoxide; hydroxide bases such as sodium hydroxide And organic bases such as pyridine and morpholine.

適切な溶媒は、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトニトリル及びエーテル類のような極性非プロトン性溶媒などである。   Suitable solvents include polar aprotic solvents such as N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, dioxane, acetonitrile and ethers.

反応の好適な塩基は炭酸カリウムであり、好適な溶媒はN,N−ジメチルホルムアミドである。
最も好ましくは、炭酸カリウムは小粒径(D90<1000μm)のものである。
The preferred base for the reaction is potassium carbonate and the preferred solvent is N, N-dimethylformamide.
Most preferably, the potassium carbonate has a small particle size (D 90 <1000 μm).

得られる式(VIII)の化合物は、式(IV)の化合物をジメチルアミン源及び適切な還元剤と反応させることによるプロセスステップ(vi)、すなわち還元的アミノ化反応により製造できる。式中、Mは、塩化物イオン、臭化物イオン、トルエンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、硫酸水素イオン、酢酸イオン又はトリフルオロ酢酸イオンのような適切な対イオンである。   The resulting compound of formula (VIII) can be prepared by process step (vi) by reacting a compound of formula (IV) with a dimethylamine source and a suitable reducing agent, ie a reductive amination reaction. Where M is a suitable counter ion such as chloride ion, bromide ion, toluene sulfonate ion, benzene sulfonate ion, methane sulfonate ion, hydrogen sulfate ion, acetate ion or trifluoroacetate ion.

適切なジメチルアミン源は、ジメチルアミン、塩基の存在下におけるジメチルアミン塩(適切な塩は塩酸塩などであり、適切な塩基はトリエチルアミンなどである);及び酸又は塩基の存在下におけるN,N−ジメチルホルムアミド(適切な酸はギ酸などであり;適切な塩基はトリエチルアミンなどである)などである。   Suitable sources of dimethylamine are dimethylamine, dimethylamine salts in the presence of bases (suitable salts are hydrochlorides and the like, suitable bases are triethylamine and the like); and N, N in the presence of acids or bases -Dimethylformamide (a suitable acid is formic acid and the like; a suitable base is triethylamine and the like).

適切な還元剤は、水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、触媒の存在下における水素ガス、ギ酸及びギ酸塩、例えばギ酸カリウムやギ酸ナトリウムなどである。   Suitable reducing agents are sodium borohydride, sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, hydrogen gas in the presence of a catalyst, formic acid and formate, such as potassium formate and sodium formate.

場合によって、チタンテトライソプロポキシドのようなルイス酸の添加が有益なこともある。
反応の適切な溶媒は、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル、エタノール、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミドなどである。
In some cases, the addition of a Lewis acid such as titanium tetraisopropoxide may be beneficial.
Suitable solvents for the reaction are dichloromethane, tetrahydrofuran, tert-butyl methyl ether, ethanol, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide and the like.

好適な還元剤源はギ酸である。ギ酸の場合、必要なジメチルアミンがN,N−ジメチルホルムアミドの酸媒介性分解によって生成する。
N,N−ジメチルホルムアミドは、反応の好適な溶媒である。
A preferred source of reducing agent is formic acid. In the case of formic acid, the required dimethylamine is produced by acid-mediated degradation of N, N-dimethylformamide.
N, N-dimethylformamide is a suitable solvent for the reaction.

反応は好ましくは高温で実施される。
次に、中間体の第三級アミン生成物は、アミンを適切な溶媒の存在下で適切な酸と反応させることにより、結晶塩として単離できる。
The reaction is preferably carried out at an elevated temperature.
The intermediate tertiary amine product can then be isolated as a crystalline salt by reacting the amine with a suitable acid in the presence of a suitable solvent.

適切な酸は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸及びトリフルオロ酢酸などである。
好適な酸は、塩酸、硫酸及びメタンスルホン酸である。
Suitable acids include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, acetic acid and trifluoroacetic acid.
Suitable acids are hydrochloric acid, sulfuric acid and methanesulfonic acid.

適切な溶媒は、tert−ブチルメチルエーテル及びメチルエチルケトンなどであり、これらを単独で、組み合わせて、又はいくらかの水の存在下のいずれかで使用する。
硫酸が特に好適である。好適な製造条件は、メチルエチルケトン及び硫酸による処理である。
Suitable solvents are tert-butyl methyl ether and methyl ethyl ketone, which are used either alone, in combination or in the presence of some water.
Sulfuric acid is particularly preferred. The preferred production conditions are treatment with methyl ethyl ketone and sulfuric acid.

プロセスステップ1及び2は一体化してもよい。すなわち、式(IV)の化合物を単離及び精製しない。これは、化合物(IV)の融点が低いために単離を特に困難にしているので特に好都合である。   Process steps 1 and 2 may be integrated. That is, the compound of formula (IV) is not isolated and purified. This is particularly advantageous because it makes isolation particularly difficult due to the low melting point of compound (IV).

従って本発明の一態様において、式(VIII)の化合物は、式(II)と(III)の化合物をプロセスステップ(i)の条件下で反応させてから、その粗反応混合物をプロセスステップ(vi)の条件下で処理することによって製造できる。   Thus, in one embodiment of the invention, the compound of formula (VIII) is obtained by reacting the compounds of formula (II) and (III) under the conditions of process step (i) and then reacting the crude reaction mixture with process step (vi ).

この態様において、プロセスステップ(i)の好適な条件は、溶媒としてN,N−ジメチルホルムアミド及び塩基として炭酸カリウムである。
最も好ましくは、炭酸カリウムは小粒径(D90<1000μm)のものである。
In this embodiment, suitable conditions for process step (i) are N, N-dimethylformamide as solvent and potassium carbonate as base.
Most preferably, the potassium carbonate has a small particle size (D 90 <1000 μm).

この態様において、プロセスステップ(vi)の好適な条件は、高温で、溶媒としてN,N−ジメチルホルムアミド及び還元剤としてギ酸である。
本発明の別の態様に従って、式(IX)の化合物は、式(VIII)の化合物をスルホニル化試薬の存在下、適切な溶媒の存在下で反応させることによるプロセスステップ(vii)、すなわちスルホニル化反応によって製造できる。
In this embodiment, suitable conditions for process step (vi) are N, N-dimethylformamide as solvent and formic acid as reducing agent at elevated temperature.
According to another aspect of the present invention, the compound of formula (IX) is obtained by reacting a compound of formula (VIII) in the presence of a sulfonylating reagent in the presence of a suitable solvent, ie, sulfonylation. It can be produced by reaction.

適切なスルホニル化試薬は、クロロスルホン酸、硫酸及び発煙硫酸などである。
好適なスルホニル化剤はクロロスルホン酸(99%)である。
適切な溶媒は、ジクロロメタン、クロロスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸及び硫酸などである。
Suitable sulfonylating reagents include chlorosulfonic acid, sulfuric acid and fuming sulfuric acid.
A preferred sulfonylating agent is chlorosulfonic acid (99%).
Suitable solvents include dichloromethane, chlorosulfonic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid and sulfuric acid.

好適な溶媒は、トリフルオロ酢酸及びメタンスルホン酸である。
最も好適な条件は、クロロスルホン酸(99%)及びメタンスルホン酸又はクロロスルホン酸(99%)及びトリフルオロ酢酸である。
Suitable solvents are trifluoroacetic acid and methanesulfonic acid.
The most preferred conditions are chlorosulfonic acid (99%) and methanesulfonic acid or chlorosulfonic acid (99%) and trifluoroacetic acid.

好適な反応温度は、トリフルオロ酢酸が溶媒の場合、0〜5℃である。好適な反応温度は、メタンスルホン酸が溶媒の場合、0℃〜室温である。
本発明の更に別の態様に従って、式(VII)の化合物は、式(IX)の化合物を適切な溶媒中で塩素化剤と反応させてから塩化スルホニル中間体をアンモニアでクエンチングすることによるプロセスステップ(viii)、すなわちスルホンアミドの形成によって製造できる。
The preferred reaction temperature is 0-5 ° C. when trifluoroacetic acid is the solvent. A suitable reaction temperature is 0 ° C. to room temperature when methanesulfonic acid is the solvent.
In accordance with yet another aspect of the present invention, the compound of formula (VII) is obtained by reacting the compound of formula (IX) with a chlorinating agent in a suitable solvent and then quenching the sulfonyl chloride intermediate with ammonia. It can be prepared by step (viii), ie the formation of a sulfonamide.

適切な塩素化剤は、PCl、POCl、SOCl及び(COCl)などである。
適切な溶媒は、アセトニトリル、プロピオニトリル、トルエン及び酢酸エチルなどである。
Suitable chlorinating agents include PCl 5 , POCl 3 , SOCl 2 and (COCl) 2 .
Suitable solvents include acetonitrile, propionitrile, toluene and ethyl acetate.

適切なアンモニア源は、アンモニアガス及び有機溶媒又は水のいずれか中のアンモニアガスの溶液などである。
好適な条件には、アセトニトリル中オキシ塩化リン、次いでアンモニア水による処理が含まれる。
Suitable sources of ammonia include ammonia gas and a solution of ammonia gas in either an organic solvent or water.
Suitable conditions include treatment with phosphorus oxychloride in acetonitrile followed by aqueous ammonia.

最も好適な条件には、中間体の塩化スルホニル(VI)溶液へのアンモニア水の添加、次いで水による処理が包含される。
本発明の更なる態様において、得られた式(VII)の化合物は、その純度を高めるために吸収剤で処理してもよい。適切な吸収剤は、活性炭、樹脂及びフラー土などである。
The most preferred conditions include the addition of aqueous ammonia to a solution of the intermediate sulfonyl (VI) chloride followed by treatment with water.
In a further embodiment of the invention the resulting compound of formula (VII) may be treated with an absorbent to increase its purity. Suitable absorbents include activated carbon, resin and fuller's earth.

本発明の更に別の態様に従って、式(I)の化合物は、式(VII)の化合物をD又はL酒石酸と溶媒系中で反応させることによるプロセスステップ(ix)によって製造できる。
適切な溶媒系は、イソプロピルアルコール、イソプロピルアルコール/水、エタノール、エタノール/水、メチルエチルケトン、メチルエチルケトン/水、メチルイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン/水、アセトン、アセトン/水などである。
According to yet another aspect of the present invention, the compound of formula (I) can be prepared by process step (ix) by reacting the compound of formula (VII) with D or L tartaric acid in a solvent system.
Suitable solvent systems are isopropyl alcohol, isopropyl alcohol / water, ethanol, ethanol / water, methyl ethyl ketone, methyl ethyl ketone / water, methyl isobutyl ketone, methyl isobutyl ketone / water, acetone, acetone / water, and the like.

最も好適な条件は、(L)−酒石酸水と溶媒としてのメチルエチルケトンである。
上記溶媒系を用いる酒石酸塩の形成は、工業規模に適切な方法において改良された収率で改良された純度の塩をもたらす。
The most preferred conditions are (L) -tartaric acid water and methyl ethyl ketone as the solvent.
The formation of tartrate using the above solvent system results in an improved purity salt in an improved yield in a manner appropriate to the industrial scale.

この新規方法の利点は以下のように要約できる。
i)粒径D90<1000μmの炭酸カリウムの使用により、大規模で実施した場合にプロセスステップ(i)が完了に達するのに要する反応時間が削減される。この試薬を使用すると、容易に数キロの反応を24時間未満で完了させることができる。これは著しい経済的利益を有する。
The advantages of this new method can be summarized as follows.
i) The use of potassium carbonate with a particle size D 90 <1000 μm reduces the reaction time required for process step (i) to reach completion when carried out on a large scale. Using this reagent, several kilos of reactions can be easily completed in less than 24 hours. This has significant economic benefits.

ii)プロセスステップ(vi)でN,N−ジメチルホルムアミドを溶媒及びジメチルアミン源の両方として使用することにより、プロセスステップ(i)と(vi)の一体化が可能になる。プロセスステップ(i)と(vi)の一体化は、低融点の中間体化合物(IV)の単離を回避し、これら二つのトランスフォーメーションに要する溶媒の容積も著しく削減する。従って、より多くの生成物が少ない反応容積から生成するので反応効率が増大する。   ii) The use of N, N-dimethylformamide as both solvent and dimethylamine source in process step (vi) allows integration of process steps (i) and (vi). The integration of process steps (i) and (vi) avoids isolation of the low melting intermediate compound (IV) and also significantly reduces the volume of solvent required for these two transformations. Therefore, the reaction efficiency is increased because more product is produced from a smaller reaction volume.

iii)プロセスステップ(vi)でギ酸を還元剤として使用することは二つの理由から特に好都合である。第一に、それは液体なので、プロセスステップ(i)の最後に反応混合物に制御された様式で添加できる。従って、プロセスステップ(i)と(iv)の間でのpH変化に伴うガスの発生を安全に管理できる。第二に、ギ酸の酸化は何の化学廃棄物も出さない。COが唯一の副生成物である。 iii) The use of formic acid as a reducing agent in process step (vi) is particularly advantageous for two reasons. First, since it is a liquid, it can be added to the reaction mixture in a controlled manner at the end of process step (i). Therefore, it is possible to safely manage the gas generation accompanying the pH change between the process steps (i) and (iv). Secondly, formic acid oxidation does not produce any chemical waste. CO 2 is the only byproduct.

iv)化合物(VIII)の純度は、プロセスステップ(vi)中にその好適な硫酸塩を形成することによって増大する。この塩形体は反応終了時に反応混合物から容易に単離される。
v)プロセスステップ(vii)で99%のクロロスルホン酸を使用することは(プロセスステップ(iii)で使用される97%のクロロスルホン酸の代わりに)、生成する副生成物の量を50%以上削減する。さらに、プロセスステップ(iii)と比べてずっと少ないスルホニル化試薬しか必要としないので、反応終了時に処分する化学廃棄物も少なくなる。さらに、溶媒のジクロロメタンをより環境に優しいメタンスルホン酸又はトリフルオロ酢酸に換えることができる。
iv) The purity of compound (VIII) is increased by forming its suitable sulfate during process step (vi). This salt form is easily isolated from the reaction mixture at the end of the reaction.
v) Using 99% chlorosulfonic acid in process step (vii) (instead of 97% chlorosulfonic acid used in process step (iii)) reduces the amount of by-product produced by 50% Reduce more. Furthermore, since much less sulfonylating reagent is required compared to process step (iii), less chemical waste is disposed of at the end of the reaction. Furthermore, the solvent dichloromethane can be replaced with more environmentally friendly methanesulfonic acid or trifluoroacetic acid.

vi)化合物(IX)はプロセスステップ(vii)から沈殿物として形成される。この生成物を単離可能なことは、反応手順の中間点で必要に応じてこの中間体を精製する貴重な機会を提供する。これにより、製造プロセス中に純度に関してより大きな制御が行使できる。   vi) Compound (IX) is formed as a precipitate from process step (vii). The ability to isolate the product provides a valuable opportunity to purify the intermediate as needed at the midpoint of the reaction procedure. This allows greater control over purity during the manufacturing process.

vii)反応性中間体化合物(VI)の単離は、それをその場で生成するプロセスステップ(viii)によって回避される。このステップで使用される反応条件は反応ステップ(iii)のそれと比べて穏やかなので、不純物の生成が少なく、この中間体の純度が向上される。   vii) Isolation of the reactive intermediate compound (VI) is avoided by process step (viii) which produces it in situ. The reaction conditions used in this step are mild compared to those in reaction step (iii), so that less impurities are produced and the purity of this intermediate is improved.

viii)この中間体のその後のクエンチングは、アンモニア水を反応混合物に加え、次いで水を加え、そしてその場で還流を実施することによる新しい様式で行われる。当業界で認められている工業規模での慣行は、反応混合物を過剰のアンモニア水に加えることである。この新規な、逆モードの添加法には以下の利点がある。   viii) Subsequent quenching of this intermediate takes place in a new manner by adding aqueous ammonia to the reaction mixture, then water, and performing reflux in situ. A recognized industrial scale practice in the art is to add the reaction mixture to excess aqueous ammonia. This novel reverse mode addition method has the following advantages.

(a)副生成物のスルホン酸誘導体(IX)は反応混合物中に可溶なので、生成物からのその除去が容易となる。
(b)中間体化合物(VI)のスラリーを別の反応容器に移す必要がないので、その物理的形態に関連する取扱いの問題が回避される。
(A) Since the by-product sulfonic acid derivative (IX) is soluble in the reaction mixture, its removal from the product is facilitated.
(B) Since it is not necessary to transfer the slurry of intermediate compound (VI) to another reaction vessel, handling problems associated with its physical form are avoided.

(c)還流によって無機不純物の反応混合物中における溶解性が増大するので、それらを生成物から分離するのに役立つ。さらに有機不純物はパージされる。
上記利点の結果、化合物(VII)の収率が高くなる。
(C) The reflux increases the solubility of the inorganic impurities in the reaction mixture and helps to separate them from the product. In addition, organic impurities are purged.
As a result of the above advantages, the yield of compound (VII) is increased.

ix)この新規な方法は、工業規模での多量の化合物(I)の製造に適している。
本発明の更なる態様において、式(VIII)及び(IX)の化合物(式中、Mは前述のような適切な対イオン)が提供される。
ix) This new process is suitable for the production of large quantities of compound (I) on an industrial scale.
In a further aspect of the invention, there is provided compounds of formula (VIII) and (IX), wherein M is a suitable counter ion as described above.

Figure 2007505940
Figure 2007505940

これらの化合物は、本発明の方法によって式(I)の化合物を合成するのに特に有用である。   These compounds are particularly useful for synthesizing compounds of formula (I) by the method of the present invention.

実験
以下の略語及び定義が使用される。
MEK メチルエチルケトン
DMF N,N−ジメチルホルムアミド
TBME ターシャリーブチルメチルエーテル
DMSO ジメチルスルホキシド
POCl オキシ塩化リン
DCM ジクロロメタン
DMSO ジメチルスルホキシド
m/z 質量スペクトルピーク
HPLC 高速液体クロマトグラフィー
MS 質量スペクトル
NMR 核磁気共鳴
q 四重線
s 一重線
t 三重線
br ブロード
TFA トリフルオロ酢酸
MSA メタンスルホン酸
Kg キログラム
L リットル
mL ミリリットル
g グラム
CDCl ジュウテリウム化クロロホルム
粉末X線回折(PXRD)パターンは、シータ−シータゴニオメータ、自動ビーム発散スリット、二次的モノクロメータ及びシンチレーションカウンタを備えたSiemens D5000粉末X線回折計を用いて測定した。標本を回転させながら、40kV/40mAで運転されたX線管を用いるグラファイトモノクロメータ(λ=0.15405nm)でフィルタをかけた銅K−アルファ1 X線(波長=1.5046オングストローム)で照射した。様々な固体形態のPXRDパターンの主ピーク(2θの角度で)を示す。
Experimental The following abbreviations and definitions are used.
MEK Methyl ethyl ketone DMF N, N-dimethylformamide TBME Tertiary butyl methyl ether DMSO Dimethyl sulfoxide POCl 3 Phosphorus oxychloride DCM Dichloromethane DMSO Dimethyl sulfoxide m / z Mass spectrum peak HPLC High performance liquid chromatography MS Mass spectrum NMR Nuclear magnetic resonance q Quadruple s singlet t triplet br broad TFA trifluoroacetic acid MSA methanesulfonic acid Kg kilogram L liter mL milliliter g gram CDCl 3 deuterated chloroform powder X-ray diffraction (PXRD) pattern is theta-theta counter, automatic beam divergence slit, two Measured using a Siemens D5000 powder X-ray diffractometer equipped with a secondary monochromator and scintillation counter. It was. Irradiation with copper K-alpha 1 X-rays (wavelength = 1.05046 angstroms) filtered with a graphite monochromator (λ = 0.15405 nm) using an X-ray tube operated at 40 kV / 40 mA while rotating the specimen did. The main peaks (at an angle of 2θ) of the PXRD patterns of various solid forms are shown.

融点は、Perkin Elmer DSC7を加熱速度20℃/分で用いて、又はBuchi融点B−545を用いて測定した。
NMRスペクトルは、サンプルを適当な溶媒に溶解することにより、Varian Inova 300MHzスペクトロメータを用いて得た。
Melting points were measured using a Perkin Elmer DSC7 at a heating rate of 20 ° C./min or using a Buchi melting point B-545.
NMR spectra were obtained using a Varian Inova 300 MHz spectrometer by dissolving the sample in a suitable solvent.

質量スペクトルは、1100シリーズのHewlett Packard LCとMicromass ZMD 質量分析計とを組み合わせて成るLC/MSシステムを用いて得た。   Mass spectra were obtained using an LC / MS system consisting of a 1100 series Hewlett Packard LC combined with a Micromass ZMD mass spectrometer.

N,N−ジメチル−2−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンジルアミン硫酸水素塩N, N-dimethyl-2- [4- (methylthio) phenoxy] benzylamine hydrogensulfate

Figure 2007505940
Figure 2007505940

2−フルオロベンズアルデヒド(38.0Kg)、4−(メチルメルカプト)フェノール(43.8Kg)、炭酸カリウム(46.6Kg、粒径D90<1000μm)及びDMF(171L)を適切な反応容器に入れ、110℃に24時間加熱した。全ての2−フルオロベンズアルデヒドが消費されたら(<3%、HPLCで証明)、反応混合物を室温に冷却し、30分間かけてギ酸(169.1Kg)で処理した。該混合物をさらに24時間130℃に加熱し、次いで室温に冷却した。水(9.5L)を加え、次いで濃アンモニア水(152L)を加えてpHを8.5より大に調整した。該混合物をTBME(114L)で抽出して相分離させ、次に下部の水性相を廃棄した。硫酸塩を製造するためにTBME抽出物をMEK(114L)で希釈した。該溶液を15℃に冷却し、濃硫酸(30.6Kg)を温度を25℃未満に維持しながら加えた。次に、該混合物を20℃に冷却して一晩撹拌し、最後に0〜5℃に1時間冷却して生成物を減圧ろ過により回収した。ろ過ケーキをMEK(76L)で洗浄した。次に、生成物を真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=81%、 2-Fluorobenzaldehyde (38.0 Kg), 4- (methyl mercapto) phenol (43.8 Kg), potassium carbonate (46.6 Kg, particle size D 90 <1000 μm) and DMF (171 L) are placed in a suitable reaction vessel, Heated to 110 ° C. for 24 hours. Once all 2-fluorobenzaldehyde was consumed (<3%, verified by HPLC), the reaction mixture was cooled to room temperature and treated with formic acid (169.1 Kg) over 30 minutes. The mixture was heated to 130 ° C. for a further 24 hours and then cooled to room temperature. Water (9.5 L) was added, followed by concentrated aqueous ammonia (152 L) to adjust the pH above 8.5. The mixture was extracted with TBME (114 L) and allowed to phase separate, then the lower aqueous phase was discarded. The TBME extract was diluted with MEK (114 L) to produce sulfate. The solution was cooled to 15 ° C. and concentrated sulfuric acid (30.6 Kg) was added while maintaining the temperature below 25 ° C. The mixture was then cooled to 20 ° C. and stirred overnight, finally cooled to 0-5 ° C. for 1 hour and the product collected by vacuum filtration. The filter cake was washed with MEK (76 L). The product was then dried overnight at 50 ° C. under vacuum. Yield = 81%

Figure 2007505940
Figure 2007505940

融点=139〜141℃。
3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホン酸
Melting point = 139-141 ° C.
3-[(Dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonic acid

Figure 2007505940
Figure 2007505940

標記化合物は、溶媒としてメタンスルホン酸(方法A)又はトリフルオロ酢酸(方法B)のいずれかを用いて製造できる。
方法A
適切な容器にメタンスルホン酸(17.66L)を入れ、次いでN,N−ジメチル−2−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンジルアミン硫酸水素塩(7.85Kg)を入れて該混合物を溶解するまで室温で撹拌した。該反応混合物を0℃に冷却し、温度を5℃未満に維持しながらクロロスルホン酸(11.36Kg)で1時間かけて処理した。反応はHPLCでモニタし、出発材料の検出が<2%となって反応は5時間後に完了した。別の容器中で水(70.65Kg)を5℃に冷却した。次に冷却された反応混合物を冷却水に入れてクエンチングし、この間温度は35℃未満に維持した。クエンチング中、濃厚な白色沈殿物が形成された。最後に、残りの反応混合物をクエンチ水にメタンスルホン酸(2.91Kg)、次いで水(7.85Kg)で洗い入れた。得られたスラリーを室温で一晩撹拌した後、0℃に1時間冷却した。生成物を減圧ろ過し、ケーキを水(15.7L)で洗浄した。次に、固体生成物を水(78.5L)と共に室温で1時間撹拌した。生成物を減圧ろ過し、ケーキを水(15.7L)で洗浄した。次に、該物質を真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=62%。
The title compound can be prepared using either methanesulfonic acid (Method A) or trifluoroacetic acid (Method B) as a solvent.
Method A
Put methanesulfonic acid (17.66 L) in a suitable container, then add N, N-dimethyl-2- [4- (methylthio) phenoxy] benzylamine hydrogensulfate (7.85 Kg) to dissolve the mixture. Stir until room temperature. The reaction mixture was cooled to 0 ° C. and treated with chlorosulfonic acid (11.36 Kg) for 1 hour while maintaining the temperature below 5 ° C. The reaction was monitored by HPLC and the reaction was complete after 5 hours with <2% detection of starting material. In a separate container, water (70.65 Kg) was cooled to 5 ° C. The cooled reaction mixture was then quenched into chilled water while maintaining the temperature below 35 ° C. During quenching, a thick white precipitate was formed. Finally, the remaining reaction mixture was washed into quench water with methanesulfonic acid (2.91 Kg) and then water (7.85 Kg). The resulting slurry was stirred at room temperature overnight and then cooled to 0 ° C. for 1 hour. The product was filtered under reduced pressure and the cake was washed with water (15.7 L). The solid product was then stirred with water (78.5 L) at room temperature for 1 hour. The product was filtered under reduced pressure and the cake was washed with water (15.7 L). The material was then dried overnight at 50 ° C. under vacuum. Yield = 62%.

方法B
適切な容器にトリフルオロ酢酸(138mL)を入れ、次いでN,N−ジメチル−2−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンジルアミン硫酸水素塩(50g)を入れて該混合物を溶解するまで−3℃で撹拌した。該反応混合物を−3℃に維持し、温度を6℃未満に維持しながらクロロスルホン酸(36mL)で0.25時間かけて処理した。99%級のクロロスルホン酸を用いて反応時の不純物の生成を(低級試薬と比べて)最小限にするので、得られる固体は高い純度で単離される。反応はHPLCでモニタし、出発材料の検出が<2%となって反応は24時間後に完了した。別の容器中で水(500mL)を2℃に冷却した。次に反応混合物を(2.5分間かけて)冷却水に入れてクエンチングし、この間温度は27℃未満に維持した。添加終了時まで生成物を溶液状態に維持するために迅速な添加が必要である。添加終了時点で生成物はゆっくり析出し始め、最大サイズの結晶が観察される。反応混合物をクエンチングされた混合物にトリフルオロ酢酸(12mL)で洗い入れ、スラリーを20℃で2.5時間、次いで0℃で一晩撹拌した。生成物を減圧ろ過した。
Method B
Place trifluoroacetic acid (138 mL) in a suitable container, then add N, N-dimethyl-2- [4- (methylthio) phenoxy] benzylamine hydrogensulfate (50 g) at −3 ° C. until the mixture dissolves. Stir with. The reaction mixture was maintained at −3 ° C. and treated with chlorosulfonic acid (36 mL) over 0.25 hours while maintaining the temperature below 6 ° C. Since 99% grade chlorosulfonic acid is used to minimize the formation of impurities during the reaction (compared to lower reagents), the resulting solid is isolated with high purity. The reaction was monitored by HPLC and the reaction was complete after 24 hours with <2% detection of starting material. Water (500 mL) was cooled to 2 ° C. in a separate container. The reaction mixture was then quenched into cooling water (over 2.5 minutes) while maintaining the temperature below 27 ° C. Rapid addition is necessary to keep the product in solution until the end of the addition. At the end of the addition, the product begins to precipitate slowly and maximum size crystals are observed. The reaction mixture was washed into the quenched mixture with trifluoroacetic acid (12 mL) and the slurry was stirred at 20 ° C. for 2.5 hours and then at 0 ° C. overnight. The product was filtered under reduced pressure.

物質の品質向上のために乾燥前にいくつかのオプションが利用できる。
オプション1 固体生成物を水(250mL)中、室温で0.5時間撹拌し、次いで減圧ろ過した。固体を1:1のアセトニトリル/水混合物(250mL)中、40℃で2時間撹拌した。スラリーを室温に冷却し、1時間後、減圧ろ過した。40℃で1:1のアセトニトリル/水(250mL)による再スラリー化を湿生成物に対してもう一度繰り返し、次いで真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=54%。
Several options are available before drying to improve the quality of the material.
Option 1 solid product was stirred in water (250 mL) at room temperature for 0.5 h and then vacuum filtered. The solid was stirred in a 1: 1 acetonitrile / water mixture (250 mL) at 40 ° C. for 2 hours. The slurry was cooled to room temperature and filtered under reduced pressure after 1 hour. Reslurry with 1: 1 acetonitrile / water (250 mL) at 40 ° C. was repeated once more on the wet product and then dried overnight at 50 ° C. under vacuum. Yield = 54%.

オプション2 固体生成物を水(2×50mL)で洗浄した。次に該固体を1:1のアセトニトリル/水混合物(250mL)中、60℃で1時間撹拌した。スラリーを室温に冷却し、この温度で4時間撹拌した。生成物を減圧ろ過し、次いで真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=55%。 Option 2 solid product was washed with water (2 × 50 mL). The solid was then stirred in a 1: 1 acetonitrile / water mixture (250 mL) at 60 ° C. for 1 hour. The slurry was cooled to room temperature and stirred at this temperature for 4 hours. The product was filtered under reduced pressure and then dried overnight at 50 ° C. under vacuum. Yield = 55%.

オプション3 次に固体を1:1のアセトニトリル/水混合物(250mL)中、60℃で1時間撹拌した。スラリーを室温に冷却し、この温度で4時間撹拌した。生成物を減圧ろ過し、次いで真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=58%。 Option 3 The solid was then stirred in a 1: 1 acetonitrile / water mixture (250 mL) at 60 ° C. for 1 hour. The slurry was cooled to room temperature and stirred at this temperature for 4 hours. The product was filtered under reduced pressure and then dried overnight at 50 ° C. under vacuum. Yield = 58%.

この主要中間体の純度をさらに上げるために、必要に応じて追加の再スラリー化又は再結晶化を実施してもよい。再結晶化は再スラリー化より純度を大きく向上させる。そのプロセスを以下に概説する。   Additional reslurry or recrystallization may be performed as needed to further increase the purity of this major intermediate. Recrystallization significantly improves purity over reslurry. The process is outlined below.

アセトニトリル(24.9L)、水(20.75L)及び3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホン酸(4.15Kg)を容器に入れ、1時間加熱還流した。次に得られた溶液を3時間かけて室温に冷却し、スラリーをその温度で一晩撹拌した。固体を減圧ろ過して回収し、ケーキを1:1のアセトニトリルと水の混合物(それぞれ4.15L)で洗浄した。次に該物質を真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=72%。   Acetonitrile (24.9 L), water (20.75 L) and 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonic acid (4.15 Kg) are placed in a container and heated for 1 hour. Refluxed. The resulting solution was then cooled to room temperature over 3 hours and the slurry was stirred at that temperature overnight. The solid was collected by vacuum filtration and the cake was washed with a 1: 1 mixture of acetonitrile and water (4.15 L each). The material was then dried overnight at 50 ° C. under vacuum. Yield = 72%.

Figure 2007505940
Figure 2007505940

3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド3-[(Dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonamide

Figure 2007505940
Figure 2007505940

アセトニトリル(60mL)を容器に入れ、3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホン酸(10.0g)を加え、次いでPOCl(2.9mL)を加えた。該反応混合物を2時間加熱還流した(約81℃)。反応はHPLCでモニタし、出発材料が<2%に減少したら完了したとみなした。次に該反応混合物を−10℃に冷却し、温度を20℃未満に維持しながら濃アンモニア水(60mL)で処理した。次に該反応混合物をさらに40℃の水(60mL)で処理した。ここで任意の1時間の加熱還流サイクルを用いてもよい。その後室温に冷却する。任意の加熱サイクルで、プロセス関連不純物のより高レベルのパージが可能になる。反応混合物を室温で一晩撹拌した。得られた固体を減圧ろ過し、ろ過ケーキを水(20mL)で洗浄した後、真空下50℃で一晩乾燥させた。収率=88%。 Acetonitrile (60 mL) is placed in a container, 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonic acid (10.0 g) is added, followed by POCl 3 (2.9 mL). It was. The reaction mixture was heated to reflux (about 81 ° C.) for 2 hours. The reaction was monitored by HPLC and considered complete when the starting material was reduced to <2%. The reaction mixture was then cooled to −10 ° C. and treated with concentrated aqueous ammonia (60 mL) while maintaining the temperature below 20 ° C. The reaction mixture was then further treated with 40 ° C. water (60 mL). Any one hour heated reflux cycle may be used here. Then cool to room temperature. Any heating cycle allows a higher level of purge of process related impurities. The reaction mixture was stirred at room temperature overnight. The obtained solid was filtered under reduced pressure, and the filter cake was washed with water (20 mL) and then dried at 50 ° C. under vacuum overnight. Yield = 88%.

Figure 2007505940
Figure 2007505940

3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(R,R)酒石酸塩3-[(Dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonamide (R, R) tartrate

Figure 2007505940
Figure 2007505940

3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(R,R)酒石酸塩の製造については、活性炭を遊離形態で使用するか固体に支持された形態で使用するかによって二つのオプションがある。   For the preparation of 3-[(dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonamide (R, R) tartrate, the activated carbon is used in free form or in a solid supported form. There are two options depending on what you use.

オプション1
3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(10g)を室温でMEK(80mL)と混合した。撹拌混合物を15分間加熱還流し(約80℃)、次いで室温に冷却した。該混合物を活性炭(20%w/w、Cuno‘Pfizer Type A’2g)で処理した。該懸濁液を室温で15分間撹拌し、次いでカーボンを更なる量のMEK(20mL)で洗いながらろ過した。このMEK溶液を、水(13mL)とMEK(13mL)に溶解した(L)−酒石酸(4.26g)の溶液で10分間かけて室温で処理し、得られたスラリーを室温で1時間撹拌した。次に、固体生成物を減圧ろ過して回収し、ろ過ケーキをMEK(20mL)で洗浄した。この塩を真空下50℃で乾燥させた。収率=82%。
Option 1
3-[(Dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonamide (10 g) was mixed with MEK (80 mL) at room temperature. The stirred mixture was heated to reflux (about 80 ° C.) for 15 minutes and then cooled to room temperature. The mixture was treated with activated carbon (20% w / w, Cuno'Pfizer Type A'2g). The suspension was stirred at room temperature for 15 minutes and then filtered while the carbon was washed with an additional amount of MEK (20 mL). This MEK solution was treated with a solution of (L) -tartaric acid (4.26 g) dissolved in water (13 mL) and MEK (13 mL) at room temperature for 10 minutes, and the resulting slurry was stirred at room temperature for 1 hour. . Next, the solid product was collected by filtration under reduced pressure, and the filter cake was washed with MEK (20 mL). The salt was dried at 50 ° C. under vacuum. Yield = 82%.

オプション2
3−[(ジメチルアミノ)メチル]−4−[4−(メチルチオ)フェノキシ]ベンゼンスルホンアミド(31.65Kg)を室温でMEK(253.2L)と混合した。撹拌混合物を1時間加熱還流し(約80℃)、次いで室温に冷却した。該混合物を減圧ろ過によって清澄化した。この溶液を固体支持活性炭カートリッジ(0.5g/cmカーボン表面積のCuno‘R50Sp Pfizer Type A’)に10〜12L/分で通した。MEK(95L)を用いてろ過ケーキ、次いで固体支持カーボンカートリッジを洗浄した。このMEK溶液を、水(41.0L)とMEK(41.1L)に溶解した(L)−酒石酸(13.5Kg)の溶液で20分間かけて室温で処理し、更なる量の水(16L)で洗い込み、得られたスラリーを室温で3時間撹拌した。次に、固体生成物を減圧ろ過して回収し、ろ過ケーキをMEK(63.3L)で洗浄した。次いでこの塩を真空下50℃で乾燥させた。収率=87%。
Option 2
3-[(Dimethylamino) methyl] -4- [4- (methylthio) phenoxy] benzenesulfonamide (31.65 Kg) was mixed with MEK (253.2 L) at room temperature. The stirred mixture was heated to reflux (about 80 ° C.) for 1 hour and then cooled to room temperature. The mixture was clarified by vacuum filtration. This solution was passed through a solid supported activated carbon cartridge (Cuno'R50Sp Pfizer Type A 'with 0.5 g / cm 2 carbon surface area) at 10-12 L / min. The filter cake and then the solid support carbon cartridge were washed with MEK (95 L). This MEK solution was treated with a solution of (L) -tartaric acid (13.5 Kg) dissolved in water (41.0 L) and MEK (41.1 L) at room temperature for 20 minutes, and an additional amount of water (16 L The resulting slurry was stirred at room temperature for 3 hours. Next, the solid product was collected by filtration under reduced pressure, and the filter cake was washed with MEK (63.3 L). The salt was then dried at 50 ° C. under vacuum. Yield = 87%.

PXRDパターンの主ピーク(2θの角度で)は以下の通りである。   The main peaks (at an angle of 2θ) of the PXRD pattern are as follows.

Figure 2007505940
Figure 2007505940

Claims (14)

式(I):
Figure 2007505940
の化合物の製造法であって、式(VII):
Figure 2007505940
の化合物と酒石酸とを適切な溶媒中で反応させることを含む製造法。
Formula (I):
Figure 2007505940
A compound of formula (VII):
Figure 2007505940
A process comprising reacting a compound of the above with tartaric acid in a suitable solvent.
溶媒がメチルエチルケトンであり、(L)形の酒石酸が使用される、請求項1に記載の製造法。   The process according to claim 1, wherein the solvent is methyl ethyl ketone and (L) form of tartaric acid is used. 式(IX):
Figure 2007505940
の化合物と適切な塩素化剤とを適切な溶媒中で反応させてその場で塩化スルホニルを生成させ;次に、適切なアンモニア源を反応混合物に添加してこの塩化スルホニルをクエンチングすることによる式(VII)の化合物の製造をさらに含む、請求項1に記載の製造法。
Formula (IX):
Figure 2007505940
By reacting a compound of the formula with a suitable chlorinating agent in a suitable solvent to produce the sulfonyl chloride in situ; and then quenching the sulfonyl chloride by adding a suitable ammonia source to the reaction mixture. The process according to claim 1, further comprising the preparation of a compound of formula (VII).
式(VIII):
Figure 2007505940
(式中、Mは適切な対イオン)の化合物と適切なスルホニル化剤とを適切な溶媒中で反応させることによる式(IX)の化合物の製造をさらに含む、請求項3に記載の製造法。
Formula (VIII):
Figure 2007505940
The process according to claim 3, further comprising the preparation of a compound of formula (IX) by reacting a compound of (wherein M is a suitable counterion) and a suitable sulfonylating agent in a suitable solvent. .
溶媒がメタンスルホン酸又はトリフルオロ酢酸であり、Mが塩化物イオン、硫酸水素イオン、又はメタンスルホン酸イオンである、請求項4に記載の製造法。   The production method according to claim 4, wherein the solvent is methanesulfonic acid or trifluoroacetic acid, and M is a chloride ion, a hydrogen sulfate ion, or a methanesulfonic acid ion. 式(IV):
Figure 2007505940
の化合物と適切なジメチルアミン源とを、適切な還元剤の存在下、適切な溶媒中で反応させ、次いで得られたアミンを適切な酸で処理することによる式(VIII)の化合物の製造をさらに含む、請求項4に記載の製造法。
Formula (IV):
Figure 2007505940
The preparation of a compound of formula (VIII) by reacting a compound of formula (II) with a suitable source of dimethylamine in a suitable solvent in the presence of a suitable reducing agent and then treating the resulting amine with a suitable acid. The manufacturing method according to claim 4, further comprising:
還元剤がギ酸であり、溶媒がN,N−ジメチルホルムアミドである、請求項6に記載の製造法。   The production method according to claim 6, wherein the reducing agent is formic acid and the solvent is N, N-dimethylformamide. 式(II):
Figure 2007505940
の化合物と式(III):
Figure 2007505940
の化合物とを、適切な塩基の存在下、適切な溶媒中で反応させることによる式(IV)の化合物の製造をさらに含む、請求項6に記載の製造法。
Formula (II):
Figure 2007505940
And a compound of formula (III):
Figure 2007505940
The process according to claim 6, further comprising the preparation of a compound of formula (IV) by reacting a compound of formula (IV) in a suitable solvent in the presence of a suitable base.
(i)化合物(II)と(III)の反応を、塩基の存在下、N,N−ジメチルホルムアミド中で実施し;
(ii)化合物(IV)を含有する得られた粗反応混合物をギ酸で処理し、次いで高温で反応させ;
(iii)得られたアミン生成物の塩を、適切な酸を用いる処理によって形成する、
請求項8に記載の式(VIII)の化合物の製造法。
(I) the reaction of compounds (II) and (III) is carried out in N, N-dimethylformamide in the presence of a base;
(Ii) treating the resulting crude reaction mixture containing compound (IV) with formic acid and then reacting at elevated temperature;
(Iii) forming a salt of the resulting amine product by treatment with a suitable acid;
A process for producing a compound of formula (VIII) according to claim 8.
式(VII):
Figure 2007505940
の化合物の製造法であって、式(IX):
Figure 2007505940
の化合物と適切な塩素化剤とを適切な溶媒中で反応させてその場で塩化スルホニルを生成させ;次に、適切なアンモニア源を反応混合物に添加してこの塩化スルホニルをクエンチングすることを含む製造法。
Formula (VII):
Figure 2007505940
A compound of formula (IX):
Figure 2007505940
Reaction of the compound with a suitable chlorinating agent in a suitable solvent to produce a sulfonyl chloride in situ; and then quenching the sulfonyl chloride by adding a suitable source of ammonia to the reaction mixture. Manufacturing method including.
式(IX):
Figure 2007505940
の化合物の製造法であって、式(VIII):
Figure 2007505940
(式中、Mは塩化物イオン、硫酸水素イオン、又はメタンスルホン酸イオン)の化合物と適切なスルホニル化剤とを、溶媒としてのメタンスルホン酸又はトリフルオロ酢酸中で反応させることを含む製造法。
Formula (IX):
Figure 2007505940
A compound of formula (VIII):
Figure 2007505940
A process comprising reacting a compound of (wherein M is a chloride ion, hydrogen sulfate ion, or methanesulfonate ion) and a suitable sulfonylating agent in methanesulfonic acid or trifluoroacetic acid as a solvent. .
式(VIII):
Figure 2007505940
(式中、Mは適切な対イオン)の化合物の製造法であって、式(IV):
Figure 2007505940
の化合物と適切なジメチルアミン源とを、適切な還元剤の存在下、適切な溶媒中で反応させ、次いで得られたアミンを適切な酸で処理することを含む製造法。
Formula (VIII):
Figure 2007505940
(Wherein M is a suitable counter ion), wherein the formula (IV):
Figure 2007505940
And a suitable source of dimethylamine in the presence of a suitable reducing agent in a suitable solvent and then treating the resulting amine with a suitable acid.
式(IX):
Figure 2007505940
の化合物。
Formula (IX):
Figure 2007505940
Compound.
式(VIII):
Figure 2007505940
(式中、Mは硫酸水素イオン又はメタンスルホン酸イオン)の化合物。
Formula (VIII):
Figure 2007505940
(Wherein, M is a hydrogen sulfate ion or a methanesulfonate ion).
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