JP2007313381A - Concentrator - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a concentrator to prevent the deposit in a treated liquid from occurring in a vapor barrel part. <P>SOLUTION: This concentrator is provided with: a roughly cylindrical drum 5 disposed with an axis L1 directed to be horizontal and having a heating means 37 on the outer periphery thereof; a supply port opened on a body barrel part 15 forming one side of the drum 5 in the axis L1 direction and supplying the treated liquid into the body barrel part 15; a discharge port 21 opened at a lower part of the vapor barrel part 17 forming the other side of the drum 5 and discharging the concentrated treated liquid concentrated by the heating means 37 from the vapor barrel part 17; a rotary shaft 11 rotatably pivoted penetrating through the drum 5 in the direction of the axis L1; and agitation blades 13 fixed to the rotary shaft 11 keeping a space between an inner peripheral wall face 5a of the body barrel part 15 and themselves. A roughly plate-like impingement plate 45 demarcating the inner space in the axis L1 direction is disposed in the vapor barrel part 17, and the surface 45a of the impingement plate 45 facing the body barrel part 15 is tilted downward toward the discharge port 21. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、各種処理液の濃縮処理に用いる濃縮装置に関する。   The present invention relates to a concentration apparatus used for concentration treatment of various processing solutions.

従来、脂肪酸等の油脂類、スープ・ジュース等の各種飲料食品、各種ビタミン・抗生物質等の医薬品、ポリプロピレン等の各種合成樹脂、各種合成ゴム・ワックス・洗剤等の石油化学製品、等の各種処理液の加熱蒸発による濃縮処理を行う際には、処理液を流入する略円筒状のドラムの外周に処理液を加熱する加熱手段を設けた濃縮装置(ロートサーム)を使用する(例えば、特許文献1参照。)。   Conventionally, various treatments such as fats and oils such as fatty acids, various beverage foods such as soups and juices, pharmaceuticals such as various vitamins and antibiotics, various synthetic resins such as polypropylene, petrochemical products such as various synthetic rubbers, waxes and detergents, etc. When performing the concentration process by heating and evaporating the liquid, a concentrator (rothotherm) provided with a heating means for heating the process liquid on the outer periphery of a substantially cylindrical drum into which the process liquid flows is used (for example, Patent Document 1). reference.).

この種の濃縮装置において、上記ドラムは、その軸線方向が略水平となるように配置されており、前記軸線方向の一方側(ドラムの本体胴部)に処理液の供給口が設けられると共に他方側(ドラムのベーパー胴部)に濃縮された処理液の排出口及び蒸気の排気口が設けられている。ここで、供給口はドラムの鉛直方向の上方に取り付けられており、排出口はドラムの鉛直方向の下方に取り付けられている。
すなわち、処理液は供給口からドラム内に流入するようになっており、濃縮された処理液はその自重により排出口からドラムの外側に流出するようになっている。
In this type of concentrating device, the drum is arranged so that its axial direction is substantially horizontal, and a treatment liquid supply port is provided on one side (the drum body) of the axial direction and the other. A concentrated treatment liquid discharge port and a vapor discharge port are provided on the side (the drum body of the drum). Here, the supply port is attached above the drum in the vertical direction, and the discharge port is attached below the drum in the vertical direction.
That is, the processing liquid flows into the drum from the supply port, and the concentrated processing liquid flows out of the drum from the discharge port by its own weight.

また、ドラム内には、その軸線方向に貫通して回転自在に軸支された回転軸と、この回転軸からドラムの内周壁面に向けて突出する攪拌羽根とが設けられており、攪拌羽根の先端と内周壁面との間には微小な間隙が形成されている。したがって、攪拌羽根を回転させた際には、処理液が攪拌羽根の回転によってドラムの内周壁面に押し付けられることになる。この攪拌羽根は供給口を設けたドラムの本体胴部にのみ配置されており、排出口及び排気口を配置したドラムのベーパー胴部には配置されていない。
なお、この種の濃縮装置においては、ドラム内を真空状態にして処理液の熱処理を行う場合もあるため、ドラムに対する回転軸の軸支部分にメカニカルシール等のシール材やパッキンを設けてドラム内を密封している。
特開2004−197989号公報
The drum is provided with a rotating shaft that is rotatably supported by penetrating in the axial direction thereof, and a stirring blade that protrudes from the rotating shaft toward the inner peripheral wall surface of the drum. A minute gap is formed between the tip of the inner wall and the inner peripheral wall surface. Therefore, when the stirring blade is rotated, the processing liquid is pressed against the inner peripheral wall surface of the drum by the rotation of the stirring blade. The stirring blades are disposed only in the drum main body of the drum provided with the supply port, and are not disposed in the vapor drum of the drum provided with the discharge port and the exhaust port.
In this type of concentrator, since the processing liquid may be heat-treated in a vacuum state in the drum, a sealing material such as a mechanical seal or packing is provided on the shaft support portion of the rotating shaft with respect to the drum. Is sealed.
JP 2004-197989 A

ところで、上記従来の濃縮装置においては、ドラム内において攪拌羽根が高速回転するために、処理液が本体胴部からオーバーランしてベーパー胴部まで飛散することがあり、この飛散した処理液はベーパー胴部の内周壁面に付着することになる。ここに付着した処理液は、加熱手段により直接加熱されてしまうため、ベーパー胴部において固着・固形化して堆積成長する。そして、この堆積物が過剰に成長すると排出口を閉塞したり、回転軸に接触して攪拌羽根の回転の妨げとなる不具合を生じる。また、回転軸の軸支部分に堆積物が侵入すると、ドラム内の真空度が低下するという問題も発生する。上述した問題は、スラリー状やスラッジ状の処理液を取り扱う際に特に顕著に発生する。   By the way, in the conventional concentrating device, since the stirring blades rotate at high speed in the drum, the processing liquid may overrun from the main body barrel and scatter to the vapor barrel. It will adhere to the inner peripheral wall surface of the trunk. The treatment liquid adhering thereto is directly heated by the heating means, so that the treatment liquid adheres and solidifies in the vapor barrel and grows. And when this deposit grows excessively, the discharge port will be blocked, or a trouble that prevents the stirring blade from rotating by contacting the rotating shaft will occur. Further, when deposits enter the shaft support portion of the rotating shaft, there is a problem that the degree of vacuum in the drum is lowered. The above-mentioned problem occurs particularly remarkably when handling a slurry-like or sludge-like treatment liquid.

本発明は、上記事情を鑑み、処理液がドラムのベーパー胴部まで飛散してもベーパー胴部内に処理液の堆積物が発生することを防止して、安全運転を可能とする濃縮装置を提供することを目的としている。   In view of the above circumstances, the present invention provides a concentrating device that prevents a deposit of the processing liquid from being generated in the vapor body even if the processing liquid scatters to the vapor body of the drum, and enables safe operation. The purpose is to do.

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に記載の発明は、軸線方向が横向きとなるように配置され、外周に加熱手段を設けた略円筒状のドラムと、該ドラムの軸線方向の一方側をなす本体胴部に開口して処理液を前記本体胴部内に供給する供給口と、前記ドラムの他方側をなすベーパー胴部の下部に開口して前記加熱手段により濃縮された前記処理液を前記ベーパー胴部から排出する排出口と、前記ドラムの軸線方向に貫通して回転自在に軸支された回転軸と、該回転軸に前記本体胴部の内周壁面との間に間隙を有して固定された攪拌羽根とを備える濃縮装置であって、前記ベーパー胴部に、前記ベーパー胴部の内部空間を前記軸線方向に区画する略板状の衝突板が配置され、前記本体胴部に対向する前記衝突板の表面が、前記排出口に向けて下方に傾斜していることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
According to the first aspect of the present invention, an opening is provided in a substantially cylindrical drum which is arranged so that the axial direction is laterally oriented, and provided with heating means on the outer periphery, and a main body body which forms one side of the drum in the axial direction. A supply port for supplying the processing liquid into the main body barrel, and a drain opening for discharging the processing liquid concentrated by the heating means from the vapor barrel, which is opened at a lower portion of the vapor barrel forming the other side of the drum. An outlet, a rotating shaft that is rotatably supported by penetrating in the axial direction of the drum, and a stirring blade fixed to the rotating shaft with a gap between the inner peripheral wall surface of the main body barrel, and A substantially plate-like collision plate that divides the internal space of the vapor barrel portion in the axial direction is disposed on the vapor barrel portion, and the surface of the collision plate facing the main body barrel portion Is inclined downward toward the discharge port. To.

この発明に係る濃縮装置において処理液を濃縮する際には、ドラムの内周壁面を加熱手段で加熱した状態で、供給口から処理液を供給すると共に回転軸と一体の攪拌羽根を回転させる。この際には、処理液が攪拌羽根によって本体胴部の内周壁面に押し付けられて薄膜状となるため、その水分を効率よく蒸発させて処理液の水分調整が行われる。また、この際には、処理液が徐々にベーパー胴部側に移動し、濃縮された処理液がベーパー胴部の排出口から排出されることになる。
そして、ベーパー胴部側に飛散した処理液は、衝突板の表面に衝突することになる。ここで、衝突板の表面は排出口に向けて下方に傾斜しているため、衝突板に付着した処理液をその自重で排出口に向けて流下させることができる。
In the concentration apparatus according to the present invention, when the treatment liquid is concentrated, the treatment liquid is supplied from the supply port and the stirring blade integral with the rotating shaft is rotated while the inner peripheral wall surface of the drum is heated by the heating means. At this time, since the processing liquid is pressed against the inner peripheral wall surface of the main body by the stirring blade to form a thin film, the water is efficiently evaporated to adjust the water content of the processing liquid. At this time, the processing liquid gradually moves to the vapor barrel side, and the concentrated processing liquid is discharged from the outlet of the vapor barrel.
Then, the processing liquid scattered on the vapor barrel side collides with the surface of the collision plate. Here, since the surface of the collision plate is inclined downward toward the discharge port, the treatment liquid adhering to the collision plate can flow down toward the discharge port by its own weight.

請求項2に記載の発明は、軸線方向が横向きとなるように配置され、外周に加熱手段を設けた略円筒状のドラムと、該ドラムの軸線方向の一方側をなす本体胴部に開口して処理液を前記本体胴部内に供給する供給口と、前記ドラムの他方側をなすベーパー胴部の下部に開口して前記加熱手段により濃縮された前記処理液を前記ベーパー胴部から排出する排出口と、前記ドラムの軸線方向に貫通して回転自在に軸支された回転軸と、該回転軸に前記本体胴部の内周壁面との間に間隙を有して固定された攪拌羽根とを備える濃縮装置であって、前記ベーパー胴部の下部に位置する前記ベーパー胴部の内周壁面に、前記排出口に向けて下方に傾斜する傾斜流下部が設けられていることを特徴とする。   According to the second aspect of the present invention, an opening is provided in a substantially cylindrical drum which is arranged so that the axial direction is laterally provided and provided with heating means on the outer periphery, and a main body barrel portion which forms one side of the drum in the axial direction. A supply port for supplying the processing liquid into the main body barrel, and a drain opening for discharging the processing liquid concentrated by the heating means from the vapor barrel, which is opened at a lower portion of the vapor barrel forming the other side of the drum. An outlet, a rotating shaft that is rotatably supported by penetrating in the axial direction of the drum, and a stirring blade fixed to the rotating shaft with a gap between the inner peripheral wall surface of the main body barrel, and And an inclined flow lower portion inclined downward toward the discharge port is provided on an inner peripheral wall surface of the vapor barrel portion located at a lower portion of the vapor barrel portion. .

この発明に係る濃縮装置によれば、ベーパー胴部の内周壁面に飛散した処理液は、その自重によってベーパー胴部の下部に位置する内周壁面に流れ落ちるが、ここには傾斜流下部が設けられているため、ここに流れ落ちた処理液を排出口に向けて流下させることができる。   According to the concentrating device according to the present invention, the treatment liquid splashed on the inner peripheral wall surface of the vapor barrel part flows down to the inner peripheral wall surface located at the lower part of the vapor barrel part due to its own weight, and an inclined flow lower part is provided here. Therefore, the treatment liquid that has flowed down here can flow down toward the discharge port.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の濃縮装置において、前記ベーパー胴部内に洗浄液を噴射して前記ベーパー胴部内に滞留した前記処理液を洗浄する洗浄手段が設けられていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the concentrating device according to the first or second aspect, there is provided a cleaning means for cleaning the treatment liquid staying in the vapor barrel by spraying a cleaning liquid into the vapor barrel. It is characterized by being.

この発明に係る濃縮装置によれば、洗浄手段によりベーパー胴部内に洗浄液を噴射することで、ベーパー胴部の内周壁面や衝突板の表面、傾斜流下部に滞留した処理液を洗い流すことができる。   According to the concentrating device of the present invention, the cleaning liquid is sprayed into the vapor body by the cleaning means, so that the processing liquid staying on the inner peripheral wall surface of the vapor body, the surface of the collision plate, and the inclined flow lower portion can be washed away. .

請求項1及び請求項2に係る発明によれば、ベーパー胴部側に飛散した処理液を排出口まで流下させることができるため、ベーパー胴部内に処理液の堆積物が発生することを防止でき、濃縮装置の安全運転が可能となる。   According to the first and second aspects of the present invention, since the processing liquid scattered on the vapor barrel side can flow down to the discharge port, it is possible to prevent the deposition of the processing liquid in the vapor trunk portion. This enables safe operation of the concentrator.

請求項3に係る発明によれば、洗浄液によりベーパー胴部の内周壁面や衝突板の表面、傾斜流下部に滞留した処理液を洗い流すことができるため、ベーパー胴部内に処理液の堆積物が発生することを確実に防止できる。   According to the third aspect of the present invention, since the processing liquid staying on the inner peripheral wall surface of the vapor barrel portion, the surface of the collision plate, or the inclined flow lower portion can be washed away by the cleaning liquid, deposits of the processing liquid are deposited in the vapor barrel portion. It can be surely prevented from occurring.

以下、図1から図4を参照し、本発明の第1実施形態に係る濃縮装置について説明する。図1に示すように、本実施形態の濃縮装置1は、外周に加熱手段を設けた略円筒状のドラム5と、ドラム5の軸線L1方向に貫通してドラム5の両端に設けられた軸受部7,9で回転自在に軸支された回転軸11と、ドラム5の内周壁面5aとの間に微小な間隙を有して回転軸11に固定された複数の攪拌羽根13とを備えている。
ドラム5は、その軸線L1方向が略水平となるように横向きに配置されており、該軸線L1方向の一方側(図1において左側)が本体胴部15をなしており、他方側(図1において右側)がベーパー胴部17をなしている。本体胴部15には、その内部に開口して処理液を本体胴部15内に供給する供給口19が形成されている。
Hereinafter, the concentration apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. As shown in FIG. 1, the concentrating device 1 of the present embodiment includes a substantially cylindrical drum 5 provided with heating means on the outer periphery, and bearings that are provided at both ends of the drum 5 through the drum 5 in the axis L1 direction. A rotating shaft 11 rotatably supported by the portions 7 and 9, and a plurality of stirring blades 13 fixed to the rotating shaft 11 with a minute gap between the inner peripheral wall surface 5 a of the drum 5. ing.
The drum 5 is disposed sideways so that the direction of the axis L1 is substantially horizontal, and one side (left side in FIG. 1) of the axis L1 direction forms the main body body 15, and the other side (FIG. 1). The right side of FIG. The main body barrel 15 is formed with a supply port 19 that opens into the main body barrel 15 and supplies the processing liquid into the main body barrel 15.

また、ベーパー胴部17には、その内部に開口して濃縮された処理液をベーパー胴部17内から排出する排出口21、及び、処理液の蒸気を排気する排気口23が形成されている。なお、排出口21はベーパー胴部17の下部に開口しており、排気口23はベーパー胴部17の上部に開口している。また、排出口21は、本体胴部15の端部に隣接する位置に形成されており、排気口23は、排出口21よりも本体胴部15から軸線L1方向に離れた位置に形成されている。   Further, the vapor cylinder portion 17 is formed with a discharge port 21 through which the concentrated processing liquid opened and discharged from the vapor cylinder portion 17 and an exhaust port 23 through which the vapor of the processing liquid is discharged. . The discharge port 21 is opened at the lower portion of the vapor barrel portion 17, and the exhaust port 23 is opened at the upper portion of the vapor barrel portion 17. Further, the discharge port 21 is formed at a position adjacent to the end of the main body barrel 15, and the exhaust port 23 is formed at a position farther from the main body barrel 15 in the axis L <b> 1 direction than the discharge port 21. Yes.

回転軸11は、伝達機構25を介してモータ27に連結されており、モータ27の駆動力に基づいて回転するようになっている。伝達機構25としては、従来公知のものでよく、例えば図示のように、回転軸11に取り付けたプーリ29とモータ27の駆動軸に取り付けたプーリ31との間にベルト33を巻回したものから構成されるとしてもよい。
この回転軸11を軸支する軸受部7,9は、例えばメカニカルシールによってドラム5の内部空間を外方に対して封止可能とされている。すなわち、この濃縮装置1においては、ドラム5内を真空状態にすることもできるようになっている。
The rotating shaft 11 is connected to the motor 27 via the transmission mechanism 25 and is rotated based on the driving force of the motor 27. The transmission mechanism 25 may be a conventionally known one. For example, as shown in the figure, a belt 33 is wound between a pulley 29 attached to the rotary shaft 11 and a pulley 31 attached to the drive shaft of the motor 27. It may be configured.
The bearing portions 7 and 9 that support the rotating shaft 11 can seal the inner space of the drum 5 from the outside by, for example, a mechanical seal. That is, in the concentrating device 1, the inside of the drum 5 can be evacuated.

複数の攪拌羽根13は、それぞれ長尺な板状に形成されており、回転軸11の外周面から径方向外方に突出するアーム35を介して回転軸11に固定されている。各攪拌羽根13は、その長手方向が軸線L1方向に沿って配されており、本体胴部15の軸線L1方向の寸法と略等しくなっている、すなわち、ベーパー胴部17には配置されていない。
なお、攪拌羽根13と本体胴部15の内周壁面5aとの隙間は2mm程度となっており、回転軸11を回転させた際には、攪拌羽根13が内周壁面5aとの間で上記隙間を保持しながら内周壁面5a上をその周方向に移動するようになっている。また、これら複数の攪拌羽根13は、回転軸11の周方向に等間隔で配置されている(図3参照)。
The plurality of stirring blades 13 are each formed in a long plate shape, and are fixed to the rotating shaft 11 via an arm 35 protruding radially outward from the outer peripheral surface of the rotating shaft 11. Each stirring blade 13 has its longitudinal direction arranged along the direction of the axis L1 and is substantially equal to the dimension of the main body trunk 15 in the direction of the axis L1, that is, it is not arranged in the vapor trunk 17. .
In addition, the clearance gap between the stirring blade 13 and the inner peripheral wall surface 5a of the main body trunk | drum 15 is about 2 mm, and when rotating the rotating shaft 11, the stirring blade 13 is the above-mentioned between the inner peripheral wall surface 5a. The inner circumferential wall surface 5a is moved in the circumferential direction while maintaining the gap. The plurality of stirring blades 13 are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the rotating shaft 11 (see FIG. 3).

加熱手段は、本体胴部15からベーパー胴部17にわたってドラム5の外周全体に設けられたジャケット37により構成されており、ジャケット37には、その内部に高温水蒸気等の熱媒を供給する熱媒入口39、及び熱媒を排出する熱媒出口41が形成されている。すなわち、この濃縮装置1においては、熱媒入口39から供給された熱媒によってドラム5の内周壁面5aが加熱され、ドラム5に熱を奪われた熱媒が熱媒出口41から排出される。   The heating means is constituted by a jacket 37 provided on the entire outer periphery of the drum 5 from the main body barrel 15 to the vapor barrel 17, and the jacket 37 is supplied with a heat medium such as high-temperature steam. An inlet 39 and a heat medium outlet 41 for discharging the heat medium are formed. That is, in the concentrator 1, the inner peripheral wall surface 5 a of the drum 5 is heated by the heat medium supplied from the heat medium inlet 39, and the heat medium deprived of heat by the drum 5 is discharged from the heat medium outlet 41. .

図2に示すように、ベーパー胴部17内には、その内部空間を軸線L1方向に区画する略板状の衝突板45が配されている。この衝突板45は、軸線L1に対して斜めに配置されるように、外形が略楕円形状に形成されている。また、衝突板45には回転軸11を挿通させる略楕円形状の貫通孔(不図示)が形成されており、衝突板45が回転軸11に触れないようにベーパー胴部17に固定されている。
本体胴部15側に対向する衝突板45の表面45aは、その上端部が排気口23に対向するようになっていて、排出口21に向けて下方に向かうに従い、軸線L1方向に沿って本体胴部15側に近づくように傾斜している。すなわち、排出口21及び排気口23は、衝突板45によって区画されて本体胴部15に対向するベーパー胴部17の一方の空間に開口しており、ベーパー胴部17の端部に配された回転軸11の軸受部7は他方の空間に隣接して配置されている。
As shown in FIG. 2, a substantially plate-like collision plate 45 that divides the internal space in the direction of the axis L <b> 1 is disposed in the vapor body portion 17. The outer shape of the collision plate 45 is substantially elliptical so as to be disposed obliquely with respect to the axis L1. Further, the collision plate 45 is formed with a substantially elliptical through hole (not shown) through which the rotary shaft 11 is inserted, and is fixed to the vapor body 17 so that the collision plate 45 does not touch the rotary shaft 11. .
The front surface 45a of the collision plate 45 facing the main body body 15 side has an upper end facing the exhaust port 23, and the main body along the axis L1 direction as it goes downward toward the discharge port 21. It inclines so that it may approach the trunk | drum 15 side. In other words, the discharge port 21 and the exhaust port 23 are defined by the collision plate 45 and open to one space of the vapor body 17 facing the main body body 15, and are arranged at the end of the vapor body 17. The bearing portion 7 of the rotating shaft 11 is disposed adjacent to the other space.

また、図2,3に示すように、ベーパー胴部17内には、洗浄液を噴射してベーパー胴部17内に滞留した処理液を洗浄する洗浄手段47が設けられており、この洗浄手段47は、ベーパー胴部17の一方の空間に配置された第1の洗浄ノズル49と、ベーパー胴部17の他方の空間に配置された第2の洗浄ノズル51とから構成されている。
第1の洗浄ノズル49は、排気口23からベーパー胴部17の内部に向けて下方に吊り下げられており、回転軸11を挟み込むように一対形成されている。各第1の洗浄ノズル49には、複数の噴射口が形成されており、ベーパー胴部17の内周壁面5a及び衝突板45の表面45aに向けて洗浄液を噴射できるようになっている。第2の洗浄ノズル51は、ベーパー胴部17の端部に設けられており、ベーパー胴部17の内周壁面5a及び衝突板45の裏面45bに向けて洗浄液を噴射するように構成されている。
なお、上述した洗浄液は、例えば水、油、アルコール、あるいは各種溶剤からなり、処理液の種類に応じて処理液を容易に洗い流せるものであればよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, cleaning means 47 for cleaning the processing liquid staying in the vapor cylinder portion 17 by spraying the cleaning liquid is provided in the vapor cylinder portion 17. Is composed of a first cleaning nozzle 49 disposed in one space of the vapor barrel portion 17 and a second cleaning nozzle 51 disposed in the other space of the vapor barrel portion 17.
The first cleaning nozzles 49 are suspended downward from the exhaust port 23 toward the inside of the vapor trunk portion 17, and are formed as a pair so as to sandwich the rotating shaft 11. Each first cleaning nozzle 49 is formed with a plurality of injection ports so that the cleaning liquid can be injected toward the inner peripheral wall surface 5 a of the vapor barrel portion 17 and the surface 45 a of the collision plate 45. The second cleaning nozzle 51 is provided at an end portion of the vapor barrel portion 17 and is configured to inject a cleaning liquid toward the inner peripheral wall surface 5 a of the vapor barrel portion 17 and the back surface 45 b of the collision plate 45. .
Note that the above-described cleaning liquid is made of, for example, water, oil, alcohol, or various solvents, and may be any cleaning liquid that can be easily washed out according to the type of the processing liquid.

以上のように構成された濃縮装置1の動作について以下に説明する。
この濃縮装置1において処理液を濃縮する際には、ドラム5の内周壁面5aを加熱手段で加熱した状態で、処理液を供給口19から本体胴部15内に供給すると共に、モータ27により回転軸11と一体の攪拌羽根13を回転させる。この際には、処理液が攪拌羽根13によって本体胴部15の内周壁面5aに押し付けられて薄膜状となるため、その水分を効率よく蒸発させて処理液の水分調整が行われる。
また、この際には、処理液が徐々にベーパー胴部17側に移動し、濃縮された処理液がベーパー胴部17の排出口21から排出されることになる。さらに、この際には、処理液から蒸発した蒸気がベーパー胴部17の排気口23からドラム5の外方に排出されることになる。
The operation of the concentrating device 1 configured as described above will be described below.
When concentrating the processing liquid in the concentrating device 1, the processing liquid is supplied from the supply port 19 into the main body barrel 15 while the inner peripheral wall surface 5 a of the drum 5 is heated by the heating means, and the motor 27 is used. The stirring blade 13 integrated with the rotating shaft 11 is rotated. At this time, the processing liquid is pressed against the inner peripheral wall surface 5a of the main body barrel portion 15 by the stirring blade 13 to form a thin film, so that the water is efficiently evaporated to adjust the water content of the processing liquid.
At this time, the processing liquid gradually moves toward the vapor barrel portion 17, and the concentrated processing liquid is discharged from the discharge port 21 of the vapor barrel portion 17. Further, at this time, the vapor evaporated from the processing liquid is discharged to the outside of the drum 5 from the exhaust port 23 of the vapor barrel portion 17.

また、本体胴部15からオーバーランしてベーパー胴部17側に飛散する処理液は、衝突板45の表面45aに衝突する。ここで、衝突板45の表面45aは排出口21に向けて下方に傾斜しているため、衝突板45に付着した処理液はその自重により衝突板45の表面45a上を流下して排出口21に到達することになる。なお、上述のように、飛散した処理液は衝突板45に衝突するため、ベーパー胴部17の端部に配された回転軸11の軸受部9に到達することがない。
また、この濃縮装置1においては、第1の洗浄ノズルや第2の洗浄ノズルからベーパー胴部17の内周壁面5aや衝突板45の表面45aや裏面45bに向けて噴射して、ベーパー胴部17の内周壁面5aや衝突板45の表面45aや裏面45bに滞留した処理液を洗い流すことができる。
Further, the processing liquid that overruns from the main body body 15 and scatters toward the vapor body 17 side collides with the surface 45 a of the collision plate 45. Here, since the surface 45 a of the collision plate 45 is inclined downward toward the discharge port 21, the treatment liquid adhering to the collision plate 45 flows down on the surface 45 a of the collision plate 45 by its own weight, and the discharge port 21. Will be reached. As described above, since the scattered processing liquid collides with the collision plate 45, it does not reach the bearing portion 9 of the rotating shaft 11 disposed at the end of the vapor barrel portion 17.
Further, in this concentrating device 1, the vapor barrel portion is sprayed from the first washing nozzle or the second washing nozzle toward the inner peripheral wall surface 5 a of the vapor barrel portion 17 and the front surface 45 a and the back surface 45 b of the collision plate 45. The treatment liquid staying on the inner peripheral wall surface 5a of 17 and the front surface 45a and the back surface 45b of the collision plate 45 can be washed away.

上述したように、この実施形態に係る濃縮装置1によれば、衝突板45を設けることで、ベーパー胴部17側に飛散した処理液を排出口21まで流下させることができるため、ベーパー胴部17内に処理液の堆積物が発生することを防止できる。
さらに、この衝突板45は、本体胴部15と軸受部9との間に配置されているため、飛散した処理液が軸受部9に到達することを確実に防止できる。したがって、ドラム5内を真空状態としてもその真空度が低下することを防止できる。
また、洗浄液によりベーパー胴部17の内周壁面5aや衝突板45の表面45a及び裏面45bに滞留した処理液を洗い流すことができるため、ベーパー胴部17内に処理液の堆積物が発生することを確実に防止できる。したがって、濃縮装置1の安全運転が可能となる。
As described above, according to the concentrating device 1 according to this embodiment, by providing the collision plate 45, the treatment liquid scattered on the vapor barrel portion 17 side can flow down to the discharge port 21. It is possible to prevent the deposits of the processing liquid from being generated in 17.
Further, since the collision plate 45 is disposed between the main body body portion 15 and the bearing portion 9, it is possible to reliably prevent the scattered processing liquid from reaching the bearing portion 9. Therefore, even if the inside of the drum 5 is in a vacuum state, the degree of vacuum can be prevented from decreasing.
Further, since the processing liquid staying on the inner peripheral wall surface 5a of the vapor barrel portion 17 and the front surface 45a and the back surface 45b of the collision plate 45 can be washed away by the cleaning liquid, deposits of the processing liquid are generated in the vapor barrel portion 17. Can be reliably prevented. Therefore, the safe operation of the concentrating device 1 becomes possible.

次に、本発明による第2実施形態について図4を参照して説明する。なお、この第2の実施形態に係る濃縮装置は、第1の実施形態の濃縮装置1とベーパー胴部17の構成について異なっている。ここでは、ベーパー胴部の構造のみについて説明し、第1実施形態の濃縮装置1の構成要素と同一の部分については同一符号を付し、その説明を省略する。   Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. The concentrating device according to the second embodiment is different from the concentrating device 1 according to the first embodiment in terms of the configuration of the vapor barrel portion 17. Here, only the structure of the vapor barrel portion will be described, and the same components as those of the concentrating device 1 of the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

図4に示すように、この実施形態に係る濃縮装置61は、本体胴部15と共にドラム63を構成するベーパー胴部65の下部に位置する内周壁面63aに、排出口21に向けて下方に傾斜する傾斜流下部67が設けられている。より具体的には、この傾斜流下部67は、ベーパー胴部65の内周壁面63aから窪んだ断面半円状あるいはU字状の溝状に形成されると共に排出口21の側部に連通しており、排出口21に向けて下方に傾斜している。すなわち、傾斜流下部67の底面67aがベーパー胴部65の他方側の端部からこれよりも一方側に位置する排出口21に向けて下方に傾斜している。   As shown in FIG. 4, the concentrating device 61 according to this embodiment has an inner peripheral wall surface 63 a positioned at the lower part of the vapor barrel portion 65 that constitutes the drum 63 together with the main body barrel portion 15, and is directed downward toward the discharge port 21. An inclined lower flow portion 67 is provided. More specifically, the inclined flow lower portion 67 is formed in a semicircular or U-shaped groove shape recessed from the inner peripheral wall surface 63 a of the vapor barrel portion 65 and communicates with the side portion of the discharge port 21. And is inclined downward toward the discharge port 21. That is, the bottom surface 67a of the inclined flow lower portion 67 is inclined downward from the other end portion of the vapor barrel portion 65 toward the discharge port 21 located on the one side.

この濃縮装置61では、処理液の濃縮プロセスにおいてベーパー胴部65の内周壁面63aや端面63bに処理液が飛散した際には、ここに付着した処理液が内周壁面63aや端面63b上を流下して、ベーパー胴部65の下部に位置する内周壁面63aに流れ落ち、さらに、ベーパー胴部65の下部に設けられた傾斜流下部67に流れ落ちた処理液が流入する。そして、この傾斜流下部67は、その底面67aがベーパー胴部65の端部から排出口21に向けて下方に傾斜しているため、上記処理液はこの底面67a上を流下して排出口21に到達し、排出されることになる。   In the concentrating device 61, when the processing liquid scatters on the inner peripheral wall surface 63a or the end surface 63b of the vapor barrel 65 in the processing liquid concentration process, the processing liquid adhering to the inner peripheral wall surface 63a or the end surface 63b. The processing liquid flows down and flows down to the inner peripheral wall surface 63a located at the lower portion of the vapor barrel portion 65, and further flows into the inclined flow lower portion 67 provided at the lower portion of the vapor barrel portion 65. The inclined flow lower portion 67 has a bottom surface 67a inclined downward from the end of the vapor barrel portion 65 toward the discharge port 21, so that the processing liquid flows down on the bottom surface 67a and flows into the discharge port 21. Will be discharged.

この実施形態に係る濃縮装置61によれば、傾斜流下部67を設けることで、第1実施形態と同様に、ベーパー胴部65側に飛散した処理液を排出口21まで流下させることができるため、ベーパー胴部65内に処理液の堆積物が発生することを防止できる。
なお、上述した第2実施形態の濃縮装置61には、第1実施形態と同様の洗浄手段47を設けても構わない。この場合、洗浄手段47は、ベーパー胴部65の内周壁面63a及び端面63b、並びに、傾斜流下部67内に噴射するように配置されることが好ましい。これにより、ベーパー胴部65の内周壁面63a及び端面63b、並びに、傾斜流下部67内に滞留した処理液を洗い流すことができる。
また、傾斜流下部67を設けると共に、第1実施形態の衝突板45設けるようにしてもよい。
According to the concentrating device 61 according to this embodiment, since the inclined lower portion 67 is provided, the treatment liquid scattered on the vapor barrel portion 65 side can be caused to flow down to the discharge port 21 as in the first embodiment. Further, it is possible to prevent the deposits of the processing liquid from being generated in the vapor body 65.
In addition, you may provide the washing | cleaning means 47 similar to 1st Embodiment in the concentration apparatus 61 of 2nd Embodiment mentioned above. In this case, the cleaning means 47 is preferably arranged so as to be injected into the inner peripheral wall surface 63 a and the end surface 63 b of the vapor barrel portion 65 and the inclined flow lower portion 67. Thereby, the processing liquid staying in the inner peripheral wall surface 63 a and the end surface 63 b of the vapor barrel portion 65 and the inclined flow lower portion 67 can be washed away.
Moreover, you may make it provide the collision board 45 of 1st Embodiment while providing the inclined flow lower part 67. FIG.

なお、上述した全ての実施形態において、ドラム5はその軸線L1方向が略水平となるように配置されるとしたが、これに限ることはなく、少なくとも上記軸線L1方向が横向きとなるように配置されていればよい。すなわち、ドラム5はその軸線L1方向が傾斜するように斜めに配置されるとしても構わない。ただし、ドラム5の傾斜の度合は、衝突板45の表面45aや傾斜流下部67の底面67aが排出口21に向けて下方に傾斜できる程度とする必要がある。   In all the embodiments described above, the drum 5 is disposed so that the axis L1 direction thereof is substantially horizontal. However, the present invention is not limited thereto, and at least the axis L1 direction is disposed sideways. It only has to be done. That is, the drum 5 may be arranged obliquely so that the direction of the axis L1 is inclined. However, the degree of inclination of the drum 5 needs to be such that the surface 45 a of the collision plate 45 and the bottom surface 67 a of the inclined flow lower portion 67 can be inclined downward toward the discharge port 21.

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was explained in full detail with reference to drawings, the concrete structure is not restricted to this embodiment, The design change etc. of the range which does not deviate from the summary of this invention are included.

本発明の第1実施形態に係る濃縮装置の概略を示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the outline of the concentration apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1の濃縮装置において、ドラムのベーパー胴部を示す拡大側断面図である。FIG. 2 is an enlarged side cross-sectional view showing a vapor barrel part of a drum in the concentration apparatus of FIG. 1. 図2のA−A矢視断面図である。It is AA arrow sectional drawing of FIG. 本発明の第2実施形態に係る濃縮装置において、ドラムのベーパー胴部を示す拡大側断面図である。In the concentration apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention, it is an expanded sectional side view which shows the vapor trunk | drum part of a drum.

符号の説明Explanation of symbols

1,61 濃縮装置
5,63 ドラム
5a,63a 内周壁面
11 回転軸
13 攪拌羽根
15 本体胴部
17,65 ベーパー胴部
19 供給口
21 排出口
37 ジャケット(加熱手段)
45 衝突板
45a 表面
47 洗浄手段
67 傾斜流下部
L1 軸線

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,61 Concentrator 5,63 Drum 5a, 63a Inner peripheral wall surface 11 Rotating shaft 13 Stirrer blade 15 Main body trunk | drum 17, 65 Vapor trunk | drum 19 Supply port 21 Discharge port 37 Jacket (heating means)
45 Collision plate 45a Surface 47 Cleaning means 67 Inclined flow lower part L1 axis

Claims (3)

軸線方向が横向きとなるように配置され、外周に加熱手段を設けた略円筒状のドラムと、
該ドラムの軸線方向の一方側をなす本体胴部に開口して処理液を前記本体胴部内に供給する供給口と、
前記ドラムの他方側をなすベーパー胴部の下部に開口して前記加熱手段により濃縮された前記処理液を前記ベーパー胴部から排出する排出口と、
前記ドラムの軸線方向に貫通して回転自在に軸支された回転軸と、該回転軸に前記本体胴部の内周壁面との間に間隙を有して固定された攪拌羽根とを備える濃縮装置であって、
前記ベーパー胴部に、前記ベーパー胴部の内部空間を前記軸線方向に区画する略板状の衝突板が配置され、
前記本体胴部に対向する前記衝突板の表面が、前記排出口に向けて下方に傾斜していることを特徴とする濃縮装置。
A substantially cylindrical drum that is arranged so that the axial direction is lateral, and provided with heating means on the outer periphery;
A supply port that opens to a main body barrel that forms one side in the axial direction of the drum and supplies a processing liquid into the main body barrel;
A discharge port that opens to a lower portion of the vapor barrel portion that forms the other side of the drum and discharges the processing liquid concentrated by the heating means from the vapor barrel portion;
Concentration comprising: a rotating shaft that is rotatably supported by penetrating in the axial direction of the drum; and a stirring blade fixed to the rotating shaft with a gap between the inner peripheral wall surface of the main body barrel A device,
A substantially plate-shaped collision plate that divides the internal space of the vapor barrel portion in the axial direction is disposed on the vapor barrel portion,
The concentrating device, wherein a surface of the collision plate facing the main body body portion is inclined downward toward the discharge port.
軸線方向が横向きとなるように配置され、外周に加熱手段を設けた略円筒状のドラムと、
該ドラムの軸線方向の一方側をなす本体胴部に開口して処理液を前記本体胴部内に供給する供給口と、
前記ドラムの他方側をなすベーパー胴部の下部に開口して前記加熱手段により濃縮された前記処理液を前記ベーパー胴部から排出する排出口と、
前記ドラムの軸線方向に貫通して回転自在に軸支された回転軸と、該回転軸に前記本体胴部の内周壁面との間に間隙を有して固定された攪拌羽根とを備える濃縮装置であって、
前記ベーパー胴部の下部に位置する前記ベーパー胴部の内周壁面に、前記排出口に向けて下方に傾斜する傾斜流下部が設けられていることを特徴とする濃縮装置。
A substantially cylindrical drum that is arranged so that the axial direction is lateral, and provided with heating means on the outer periphery;
A supply port that opens to a main body barrel that forms one side in the axial direction of the drum and supplies a processing liquid into the main body barrel;
A discharge port that opens to a lower portion of the vapor barrel portion that forms the other side of the drum and discharges the processing liquid concentrated by the heating means from the vapor barrel portion;
Concentration comprising: a rotating shaft that is rotatably supported by penetrating in the axial direction of the drum; and a stirring blade fixed to the rotating shaft with a gap between the inner peripheral wall surface of the main body barrel A device,
A concentrating device, wherein an inclined flow lower portion inclined downward toward the discharge port is provided on an inner peripheral wall surface of the vapor barrel portion located at a lower portion of the vapor barrel portion.
前記ベーパー胴部内に洗浄液を噴射して前記ベーパー胴部内に滞留した前記処理液を洗浄する洗浄手段が設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の濃縮装置。

3. The concentration apparatus according to claim 1, further comprising a cleaning unit that sprays a cleaning liquid into the vapor body and cleans the treatment liquid staying in the vapor body.

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