JP2007309882A - Wavelength sweeping light source, and optical tomographic imaging device - Google Patents

Wavelength sweeping light source, and optical tomographic imaging device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wavelength sweeping light source capable of sweeping a wavelength with a high repetition cycle. <P>SOLUTION: Light emitted from a semiconductor laser medium 211 is converted into a parallel beam by a collimator lens 212, is reflected by a polygon mirror 213, and gets incident into a wavelength selecting means 214. Return light of light dispersed to an incident direction out of the light dispersed by the wavelength selecting means 214 is reflected by the polygon mirror 213 to be fed back to the semiconductor laser medium 211. A laser beam La is emitted from an emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211. A wavelength of the return light is varied when the polygon mirror 213 is rotated. The wavelength selecting means 214 is constituted of compact diffraction gratings 261a, 261b of same shape. The diffraction gratings 261a, 261b are arranged with different angles with respect to a reflecting face of the polygon mirror 213 to change the wavelength in the same wavelength band. Twice wavelength sweepings are thereby attained in the one reflecting face of the polygon mirror 213. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、発振波長が変化する波長掃引光源および該波長掃引光源を用いて測定対象の光断層画像を取得する光断層画像化装置に関する。   The present invention relates to a wavelength swept light source in which an oscillation wavelength changes and an optical tomographic imaging apparatus that acquires an optical tomographic image of a measurement target using the wavelength swept light source.

従来、波長掃引型光源としてはリトロー型と呼ばれる外部共振器型の波長掃引型のレーザ装置が知られている。このリトロー型のレーザ装置は、基本的に示す構造を有している。   Conventionally, as a wavelength sweep type light source, an external resonator type wavelength sweep type laser device called a Littrow type is known. This Littrow type laser apparatus has a structure basically shown.

図1に示したレーザ装置は、半導体レーザ媒質101の低反射面からの出射光をコリメートレンズ102によって平行光に変換して、光を回折する回折格子103の回折面へ入射し、回折格子104により回折された回折光を半導体レーザ媒質101に戻すことにより、発振波長を選択している。   The laser apparatus shown in FIG. 1 converts the light emitted from the low reflection surface of the semiconductor laser medium 101 into parallel light by the collimator lens 102 and enters the diffraction surface of the diffraction grating 103 that diffracts the light. The oscillation wavelength is selected by returning the diffracted light diffracted by the above to the semiconductor laser medium 101.

この構造のレーザ装置では、半導体レーザ媒質101から出射され回折格子103で回折された光の波長成分のうち、特定の波長成分のみが半導体レーザ媒質101に戻る。半導体レーザ媒質101は、その戻ってきた特定波長の光に誘導されて定在波をつくり、その特定波長(以下発振波長と記載)の光を出射する。   In the laser device having this structure, only a specific wavelength component of the wavelength components of the light emitted from the semiconductor laser medium 101 and diffracted by the diffraction grating 103 returns to the semiconductor laser medium 101. The semiconductor laser medium 101 generates a standing wave by being guided by the returned light having a specific wavelength, and emits light having the specific wavelength (hereinafter referred to as an oscillation wavelength).

この発振波長は、半導体レーザ媒質101から射出された光の光軸と回折格子103とのなす角度および回折格子103の格子周期の両者で規定されるため、光の光軸に対して、回折格子103を回転させることで発振波長を連続的に変化すること、すなわち発振波長を掃引することができる。   This oscillation wavelength is defined by both the angle between the optical axis of the light emitted from the semiconductor laser medium 101 and the diffraction grating 103 and the grating period of the diffraction grating 103. By rotating 103, the oscillation wavelength can be continuously changed, that is, the oscillation wavelength can be swept.

一方、生体組織等の測定対象の断層画像を取得する方法の一つとして、光源から射出されたコヒーレンス光を測定光と参照光とに分割した後、測定光が測定対象に照射されたときの反射光と参照光とを合波し、反射光と参照光との干渉光の強度に基づいて光断層画像を取得する方法が知られている。この方法の一つとして光源から射出される光の周波数を時間的に変化させながら干渉光の検出を行うOCT装置が提案されている(たとえば特許文献1参照)。このOCT装置においては、マイケルソン型干渉計を用いて、光源から射出されるレーザ光の周波数を時間的に変化させながら反射光と参照光との干渉が行われるようになっている。そして、光周波数領域のインターフェログラムから所定の測定対象の深さ位置における反射強度を検出し、これを用いて断層画像を生成するようになっている。このようなOCT装置により光断層画像を取得するためには、光源における波長掃引を高速で繰り返し行う必要がある。   On the other hand, as one method for acquiring a tomographic image of a measurement target such as a biological tissue, the measurement light is irradiated when the measurement light is irradiated after the coherence light emitted from the light source is divided into the measurement light and the reference light. A method is known in which reflected light and reference light are combined and an optical tomographic image is acquired based on the intensity of interference light between the reflected light and the reference light. As one of the methods, there has been proposed an OCT apparatus that detects interference light while temporally changing the frequency of light emitted from a light source (see, for example, Patent Document 1). In this OCT apparatus, a Michelson interferometer is used to cause interference between reflected light and reference light while temporally changing the frequency of laser light emitted from a light source. Then, the reflection intensity at the depth position of the predetermined measurement target is detected from the interferogram in the optical frequency domain, and a tomographic image is generated using this. In order to acquire an optical tomographic image with such an OCT apparatus, it is necessary to repeat wavelength sweeping at a light source at high speed.

また、特許文献2にも、波長掃引を高速で繰り返し行うことのできるレーザ装置が記載されている。この波長掃引レーザ装置110は、図2に示すように、レーザ媒質111 と、コリメートレンズ112 と、ポリゴンミラー113 と、回折格子114を備えている。レーザ媒質111から射出した光は、コリメートレンズ112により平行光に変換され、ポリゴンミラー113において反射され、回折格子114に入射する。回折格子114により分散された光のうち、入射方向へ分散された光(以下戻り光と記載)は、ポリゴンミラー113において反射され、レーザ媒質111 へ帰還する。レーザ媒質111の射出端面111aおよび回折格子114により、共振器が構成され、レーザ媒質111の射出端面111aから、レーザ光Lが射出される。なお、この際、レーザ光Lの波長は、戻り光の波長である。   Patent Document 2 also describes a laser device that can repeatedly perform wavelength sweeping at high speed. As shown in FIG. 2, the wavelength sweep laser apparatus 110 includes a laser medium 111, a collimator lens 112, a polygon mirror 113, and a diffraction grating 114. Light emitted from the laser medium 111 is converted into parallel light by the collimator lens 112, reflected by the polygon mirror 113, and incident on the diffraction grating 114. Of the light dispersed by the diffraction grating 114, the light dispersed in the incident direction (hereinafter referred to as return light) is reflected by the polygon mirror 113 and returns to the laser medium 111. A resonator is constituted by the emission end face 111a of the laser medium 111 and the diffraction grating 114, and the laser light L is emitted from the emission end face 111a of the laser medium 111. At this time, the wavelength of the laser light L is the wavelength of the return light.

ここで、ポリゴンミラー113は矢印R1方向に回転するものであって、各反射面において、反射角度が連続的に変化するようになっている。これにより、回折格子114に入射する光の角度が連続的に変化し、発振波長も連続的に変化することとなる。   Here, the polygon mirror 113 is rotated in the direction of the arrow R1, and the reflection angle continuously changes on each reflection surface. As a result, the angle of light incident on the diffraction grating 114 changes continuously, and the oscillation wavelength also changes continuously.

また、ポリゴンミラー113が矢印R1方向に等速で回転したとき、戻り光の波長は、時間の経過に伴って一定の周期で変化することになる。このため、レーザ装置110からは、一定の周期で波長掃引されたレーザ光が射出される。
US2005/0035295 A1 US4601036号公報
Further, when the polygon mirror 113 rotates at a constant speed in the direction of the arrow R1, the wavelength of the return light changes with a constant period as time passes. For this reason, laser light that has been wavelength-swept at a constant cycle is emitted from the laser device 110.
US2005 / 0035295 A1 US4601036

しかしながら、図2に示す波長掃引光源においては、波長の掃引周期はポリゴンミラーの面数および回転数により決定され、装置を大型化することなく、繰り返し周波数を大きくしようとすると、ポリゴンミラーの面数を増大させる、あるいは回転数を増加する必要がある。しかしながら、ポリゴンミラーには、実際に波長掃引に使用できる有効回転角の前後に、掃引には使用出来ない無効回転角が存在し、ミラーの面数を増大すると、この有効回転角に対する無効回転角の比率が増大し、良好な波長掃引が成立しなくなるという問題がある。また回転数を増大することは、モータ等の構造から容易ではないという問題もある。   However, in the wavelength swept light source shown in FIG. 2, the wavelength sweep period is determined by the number of polygon mirrors and the number of rotations, and if the repetition frequency is increased without increasing the size of the apparatus, the number of polygon mirrors is increased. It is necessary to increase the rotation speed or the rotation speed. However, the polygon mirror has an invalid rotation angle that cannot be used for sweeping before and after the effective rotation angle that can actually be used for wavelength sweeping. If the number of mirror surfaces is increased, the invalid rotation angle for this effective rotation angle is increased. There is a problem in that a good wavelength sweep cannot be established. There is also a problem that increasing the number of rotations is not easy due to the structure of a motor or the like.

本発明はこれらの問題を鑑みなされたもので、従来の回転型の偏向手段を使用して、高い繰り返し周期で波長を掃引することができる波長掃引光源および該波長掃引光源を用いた光断層画像化装置を実現することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of these problems. A wavelength swept light source capable of sweeping a wavelength at a high repetition period by using a conventional rotary deflection means, and an optical tomographic image using the wavelength swept light source The purpose of this is to realize a conversion apparatus.

本発明の波長掃引光源は、光増幅手段と、
該光増幅手段から射出された光を偏向する回転型の光偏向手段と、
該光偏向手段により偏向された光の入射角度または入射位置が変わることにより入射方向に戻る光の波長が変化する波長選択手段とを有する波長掃引光源において、
前記波長選択手段が、複数の、前記入射方向へ戻る光の波長が略同一波長帯域において変化する波長選択部を有していることを特徴とするものである。
The wavelength swept light source of the present invention comprises an optical amplification means,
A rotating light deflecting means for deflecting the light emitted from the light amplifying means;
In a wavelength swept light source having wavelength selection means for changing the wavelength of light returning to the incident direction by changing the incident angle or the incident position of the light deflected by the light deflecting means,
The wavelength selection unit includes a plurality of wavelength selection units in which wavelengths of light returning to the incident direction change in substantially the same wavelength band.

前記回転型の光偏向手段は、ポリゴンミラー(回転多面鏡)であってもよい。あるいは、回転ミラー、ガルバノまたはリゾナントスキャナー等であってもよい。   The rotating light deflecting means may be a polygon mirror (rotating polygon mirror). Alternatively, a rotating mirror, a galvano, a resonant scanner, or the like may be used.

前記波長選択部は、前記光を波長分散する光分散部を有するものであってもよい。なお、ここで「光分散部」とは、例えば回折格子、プリズムまたはグリズム等である。     The wavelength selection unit may include a light dispersion unit that wavelength-disperses the light. Here, the “light dispersion portion” is, for example, a diffraction grating, a prism, or a grism.

前記光分散部が、前記光の入射角度に応じて、前記光の入射方向へ戻る戻り光の波長が異なるものであり、前記光偏向手段により偏向された光を前記光分散部へ入射させる光学手段を備えていれば、
前記光偏向手段および前記光学手段は、前記光分散手段へ入射する光の入射角度を変更するものであってもよい。
An optical system in which the light dispersion unit has a wavelength of return light that returns to the light incident direction in accordance with an incident angle of the light, and the light deflected by the light deflecting unit is incident on the light dispersion unit. If you have the means,
The light deflection unit and the optical unit may change an incident angle of light incident on the light dispersion unit.

前記光分散部が、前記光の入射位置に応じて、前記光の入射方向へ戻る戻り光の波長が異なるものであり、前記光偏向手段により偏向された光を前記光分散部へ入射させる光学手段を備えていれば、
前記光偏向手段および前記光学手段が、前記光分散手段へ入射する光の入射位置を変更するものであってもよい。
An optical system in which the light dispersion portion has a wavelength of return light that returns to the light incidence direction according to the light incident position, and the light deflected by the light deflection means is incident on the light dispersion portion. If you have the means,
The light deflecting unit and the optical unit may change an incident position of light incident on the light dispersing unit.

本発明の光断層画像化装置は、波長を一定の周期で掃引させながらレーザ光を射出する光源と、
該光源から射出された前記レーザ光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、
前記測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、
該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光の周波数および強度に基づいて、前記測定対象の各深さ位置における前記反射光の強度を検出する干渉光検出手段と、
該干渉光検出手段により検出された前記各深さ位置における前記干渉光の強度を用いて前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段とを有する光断層画像化装置において、
前記光源が、光増幅手段と、
該光増幅手段から射出された光を偏向する回転型の光偏向手段と、
該光偏向手段により偏向された光の入射角度または入射位置が変わることにより入射方向に戻る光の波長が変化する波長選択手段とを有する波長掃引光源であって、
前記波長選択手段が、複数の、前記入射方向へ戻る光の波長が略同一波長帯域において変化する波長選択部を有していることを特徴とするものである。
An optical tomographic imaging apparatus of the present invention includes a light source that emits laser light while sweeping a wavelength at a constant period;
A light splitting means for splitting the laser light emitted from the light source into measurement light and reference light;
A multiplexing means for multiplexing the reflected light from the measurement object and the reference light when the measurement light is irradiated to the measurement object;
Interference light detection means for detecting the intensity of the reflected light at each depth position of the measurement object based on the frequency and intensity of the interference light between the reflected light and the reference light combined by the multiplexing means; ,
In an optical tomographic imaging apparatus comprising: an image acquisition unit configured to acquire a tomographic image of the measurement target using the intensity of the interference light at each depth position detected by the interference light detection unit;
The light source comprises light amplifying means;
A rotating light deflecting means for deflecting the light emitted from the light amplifying means;
A wavelength swept light source having wavelength selection means for changing the wavelength of light returning to the incident direction by changing the incident angle or the incident position of the light deflected by the light deflecting means,
The wavelength selection unit includes a plurality of wavelength selection units in which wavelengths of light returning to the incident direction change in substantially the same wavelength band.

本発明の波長掃引光源は、光増幅手段から射出され、光偏向手段により偏向された光の入射角度または入射位置が変わることにより入射方向に戻る光の波長が変化する波長選択手段を有し、この波長選択手段が、複数の、前記入射方向へ戻る光の波長が略同一波長帯域において変化する波長選択部を有しているため、光偏向手段による一回に走査により複数回の波長掃引が可能であり、光偏向手段を変更することなく、高い繰り返し周期で波長を掃引することができる。   The wavelength swept light source of the present invention has wavelength selection means for changing the wavelength of light that is emitted from the light amplification means and returned to the incident direction by changing the incident angle or the incident position of the light deflected by the light deflection means, Since this wavelength selection unit has a plurality of wavelength selection units in which the wavelengths of light returning to the incident direction change in substantially the same wavelength band, a plurality of wavelength sweeps are performed by scanning at once by the light deflection unit. The wavelength can be swept with a high repetition period without changing the light deflecting means.

また本発明の光断層画像化装置は、高い繰り返し周期で波長を掃引することができる波長掃引光源を備えているため、1枚の光断層画像を取得するために必要な時間を短縮することができる。   In addition, the optical tomographic imaging apparatus of the present invention includes a wavelength swept light source that can sweep the wavelength at a high repetition period, so that it is possible to shorten the time required to acquire one optical tomographic image. it can.

以下、本発明の具体的な第1の実施形態である光断層画像化装置について図3を参照して説明する。図3は本発明の第1の実施の形態である光断層画像化装置の概略構成図である。図3に示す光断層画像化装置200は、例えば体腔内の生体組織や細胞等の測定対象の断層画像を前述のSS−OCT計測により取得するものであって、発振波長を一定の周期で掃引させながらレーザ光Laを射出する波長掃引レーザ装置として機能する光源ユニット210と、光源ユニット210から射出されたレーザ光Laを測定光L1と参照光L2とに分割する光分割手段3と、光分割手段3により分割された参照光L2の光路長を調整する光路長調整手段220と、光分割手段3により分割された測定光L1を測定対象Sbに照射する光プローブ230と、こうして測定対象Sbに測定光L1が照射されたとき該測定対象Sbで反射した反射光L3と参照光L2とを合波する合波手段4と、合波された反射光L3と参照光L2との間の干渉光L4を検出する干渉光検出手段240と、該干渉光検出手段240の検出結果に基づいて、測定対象の光断層画像を生成する画像取得部241と、この光断層画像を表示する表示装置242とを有している。   The optical tomographic imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the optical tomographic imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention. An optical tomographic imaging apparatus 200 shown in FIG. 3 acquires a tomographic image of a measurement target such as a living tissue or a cell in a body cavity by the above-described SS-OCT measurement, and sweeps an oscillation wavelength at a constant cycle. A light source unit 210 that functions as a wavelength swept laser device that emits the laser light La, a light splitting means 3 that splits the laser light La emitted from the light source unit 210 into measurement light L1 and reference light L2, and light splitting The optical path length adjusting means 220 for adjusting the optical path length of the reference light L2 divided by the means 3, the optical probe 230 for irradiating the measuring object Sb with the measuring light L1 divided by the light dividing means 3, and thus the measuring object Sb. Multiplexing means 4 for multiplexing the reflected light L3 reflected by the measurement object Sb and the reference light L2 when irradiated with the measuring light L1, and interference light between the combined reflected light L3 and the reference light L2 Detect L4 The interference light detection means 240, an image acquisition unit 241 that generates an optical tomographic image to be measured based on the detection result of the interference light detection means 240, and a display device 242 that displays the optical tomography image Yes.

光源ユニット210は、発振波長λcが950nm〜1150nmの範囲になるように、発振波長を一定の周期で掃引させながらレーザ光Laを射出する波長掃引レーザ装置であり、光増幅手段としては、半導体レーザに使用される半導体レーザ媒質が使用されている。なお光源ユニット210についての詳細は後述する。   The light source unit 210 is a wavelength sweep laser device that emits laser light La while sweeping the oscillation wavelength at a constant period so that the oscillation wavelength λc is in the range of 950 nm to 1150 nm. The semiconductor laser medium used in the above is used. Details of the light source unit 210 will be described later.

光分割手段3は、例えば2×2の光ファイバカプラから構成されており、光源ユニット210から光ファイバFB1を介して導波した光Laを測定光L1と参照光L2とに分割する。この光分割手段3は、2本の光ファイバFB2、FB3にそれぞれ光学的に接続されており、測定光L1は光ファイバFB2を導波し、参照光L2は光ファイバFB3を導波する。なお、本例におけるこの光分割手段3は、合波手段4としても機能するものである。   The light splitting means 3 is composed of, for example, a 2 × 2 optical fiber coupler, and splits the light La guided from the light source unit 210 through the optical fiber FB1 into the measurement light L1 and the reference light L2. The light splitting means 3 is optically connected to the two optical fibers FB2 and FB3, respectively. The measurement light L1 is guided through the optical fiber FB2, and the reference light L2 is guided through the optical fiber FB3. The light splitting means 3 in this example also functions as the multiplexing means 4.

光ファイバFB2には、光プローブ230が光学的に接続されており、測定光L1は光ファイバFB2から光プローブ230へ導波する。光プローブ230は、例えば鉗子口から鉗子チャンネルを介して体腔内に挿入されるものであって、光学コネクタ31により光ファイバFB2に対して着脱可能に取り付けられている。   An optical probe 230 is optically connected to the optical fiber FB2, and the measurement light L1 is guided from the optical fiber FB2 to the optical probe 230. The optical probe 230 is inserted into a body cavity from a forceps opening through a forceps channel, for example, and is detachably attached to the optical fiber FB2 by an optical connector 31.

光プローブ230は、先端が閉じられた円筒状のプローブ外筒15と、このプローブ外筒15の内部空間に、該外筒15の軸方向に延びる状態に配設された1本の光ファイバ13と、光ファイバ13の先端から出射した光Lをプローブ外筒15の周方向に偏向させるプリズムミラー17と、光ファイバ13の先端から出射した光L1を、プローブ外筒15の周外方に配された被走査体としての測定対象Sbにおいて収束するように集光するロッドレンズ18と、光ファイバ13を該光ファイバ13の光軸を回転軸として回転させるモータ14とを備えている。なお、ロッドレンズ18およびプリズムミラー17は、光ファイバ13とともに回転するように配設されている。   The optical probe 230 includes a cylindrical probe outer cylinder 15 having a closed tip, and one optical fiber 13 disposed in an inner space of the probe outer cylinder 15 so as to extend in the axial direction of the outer cylinder 15. And a prism mirror 17 that deflects the light L emitted from the tip of the optical fiber 13 in the circumferential direction of the probe outer cylinder 15 and the light L1 emitted from the tip of the optical fiber 13 are arranged on the outer circumference of the probe outer cylinder 15. A rod lens 18 that condenses light to converge on the measurement target Sb as a scanned body, and a motor 14 that rotates the optical fiber 13 about the optical axis of the optical fiber 13 as a rotation axis. The rod lens 18 and the prism mirror 17 are disposed so as to rotate together with the optical fiber 13.

一方、光ファイバFB3の参照光L2の射出側には光路長調整手段220が配置されている。光路長調整手段220は、断層画像の取得を開始する位置を調整するために、参照光L2の光路長を変更するものであって、光ファイバFB3から射出された参照光L2を反射させる反射ミラー22と、反射ミラー22と光ファイバFB3との間に配置された第1光学レンズ21aと、第1光学レンズ21aと反射ミラー22との間に配置された第2光学レンズ21bとを有している。   On the other hand, optical path length adjusting means 220 is arranged on the side of the optical fiber FB3 from which the reference light L2 is emitted. The optical path length adjusting unit 220 changes the optical path length of the reference light L2 in order to adjust the position where the tomographic image acquisition is started, and reflects the reference light L2 emitted from the optical fiber FB3. 22, a first optical lens 21 a disposed between the reflection mirror 22 and the optical fiber FB 3, and a second optical lens 21 b disposed between the first optical lens 21 a and the reflection mirror 22. Yes.

第1光学レンズ21aは、光ファイバFB3のコアから射出された参照光L2を平行光にするとともに、反射ミラー22により反射された参照光L2を光ファイバFB3のコアに集光する機能を有している。また、第2光学レンズ21bは、第1光学レンズ21aにより平行光にされた参照光L2を反射ミラー22上に集光するとともに、反射ミラー22により反射された参照光L2を平行光にする機能を有している。つまり、第1光学レンズ21aと第2光学レンズ21bとにより共焦点光学系が形成されている。   The first optical lens 21a has a function of converting the reference light L2 emitted from the core of the optical fiber FB3 into parallel light and condensing the reference light L2 reflected by the reflection mirror 22 onto the core of the optical fiber FB3. ing. The second optical lens 21b condenses the reference light L2 converted into parallel light by the first optical lens 21a on the reflection mirror 22, and also converts the reference light L2 reflected by the reflection mirror 22 into parallel light. have. That is, the first optical lens 21a and the second optical lens 21b form a confocal optical system.

したがって、光ファイバFB3から射出した参照光L2は、第1光学レンズ21aにより平行光になり、第2光学レンズ21bにより反射ミラー22上に集光される。その後、反射ミラー22により反射された参照光L2は、第2光学レンズ21bにより平行光になり、第1光学レンズ21aにより光ファイバFB3のコアに集光される。   Accordingly, the reference light L2 emitted from the optical fiber FB3 is converted into parallel light by the first optical lens 21a and is condensed on the reflection mirror 22 by the second optical lens 21b. Thereafter, the reference light L2 reflected by the reflecting mirror 22 becomes parallel light by the second optical lens 21b, and is condensed on the core of the optical fiber FB3 by the first optical lens 21a.

さらに光路長調整手段220は、第2光学レンズ21bと反射ミラー22とを固定した基台23と、該基台23を第1光学レンズ21aの光軸方向に移動させるミラー移動手段24とを有している。そして基台23が矢印A方向に移動することにより、参照光L2の光路長が変えられるようになっている。   Further, the optical path length adjusting means 220 has a base 23 on which the second optical lens 21b and the reflecting mirror 22 are fixed, and a mirror moving means 24 for moving the base 23 in the optical axis direction of the first optical lens 21a. is doing. When the base 23 moves in the direction of arrow A, the optical path length of the reference light L2 can be changed.

また合波手段4は、前述の通り2×2の光ファイバカプラからなり、光路長調整手段220により光路長が変更された参照光L2と、測定対象Sbからの反射光L3とを合波し、光ファイバFB4を介して干渉光検出手段240側に射出するように構成されている。   The multiplexing means 4 is composed of a 2 × 2 optical fiber coupler as described above, and combines the reference light L2 whose optical path length has been changed by the optical path length adjusting means 220 and the reflected light L3 from the measuring object Sb. The light is emitted to the interference light detection means 240 side through the optical fiber FB4.

干渉光検出手段240は、合波手段4により合波された反射光L3と参照光L2との干渉光L4を検出する。なお本例の装置においては、干渉光L4を光ファイバカプラ3で二分した光を光検出器40aと40bに導き、演算手段41においてバランス検波を行う機構を有している。   The interference light detection unit 240 detects the interference light L4 between the reflected light L3 combined by the combining unit 4 and the reference light L2. Note that the apparatus of this example has a mechanism in which light obtained by dividing the interference light L4 into two by the optical fiber coupler 3 is guided to the photodetectors 40a and 40b, and the calculation means 41 performs balance detection.

画像取得手段241は、干渉光検出手段240により検出された干渉光L4をフーリエ変換することにより、測定対象Sbの各深さ位置における反射光L3の強度を検出し、測定対象Sbの断層画像を取得する。   The image acquisition unit 241 detects the intensity of the reflected light L3 at each depth position of the measurement target Sb by performing Fourier transform on the interference light L4 detected by the interference light detection unit 240, and obtains a tomographic image of the measurement target Sb. get.

以下、上記構成を有する光断層画像化装置200の作用について説明する。断層画像を取得する際には、まず基台23を矢印A方向に移動させることにより、測定可能領域内に測定対象Sbが位置するように光路長の調整が行われる。その後、光源ユニット210から光Laが射出され、この光Laは光分割手段3により測定光L1と参照光L2とに分割される。測定光L1は光プローブ230から体腔内に向けて射出され、測定対象Sbに照射される。このとき、前述したように作動する該光プローブ230により、そこから出射した測定光L1が測定対象Sbを1次元に走査する。そして、測定対象Sbからの反射光L3が反射ミラー22において反射した参照光L2と合波され、反射光L3と参照光L2との干渉光L4が干渉光検出手段240によって検出される。   The operation of the optical tomographic imaging apparatus 200 having the above configuration will be described below. When acquiring a tomographic image, the optical path length is adjusted so that the measurement target Sb is positioned within the measurable region by first moving the base 23 in the direction of arrow A. Thereafter, light La is emitted from the light source unit 210, and this light La is split by the light splitting means 3 into the measurement light L1 and the reference light L2. The measurement light L1 is emitted from the optical probe 230 toward the body cavity and irradiated on the measurement target Sb. At this time, the measurement light L1 emitted from the optical probe 230 operating as described above scans the measurement target Sb in one dimension. Then, the reflected light L3 from the measuring object Sb is combined with the reference light L2 reflected by the reflecting mirror 22, and the interference light L4 between the reflected light L3 and the reference light L2 is detected by the interference light detection means 240.

ここで、干渉光検出手段240および画像取得手段241における干渉光L4の検出および画像の生成について簡単に説明する。なお、この点の詳細については「武田 光夫、「光周波数走査スペクトル干渉顕微鏡」、光技術コンタクト、2003、Vol.41、No.7、p426−p432」に詳しい記載がなされている。   Here, the detection of the interference light L4 and the generation of the image in the interference light detection means 240 and the image acquisition means 241 will be briefly described. Details of this point are described in “Mitsuo Takeda,“ Optical Frequency Scanning Spectrum Interference Microscope ”, Optical Technology Contact, 2003, Vol. 41, No. 7, p426-p432”.

測定光L1が測定対象Sbに照射されたとき、測定対象Sbの各深さからの反射光L3と参照光L2とがいろいろな光路長差をもって干渉しあう際の各光路長差lに対する干渉縞の光強度をS(l)とすると、干渉光検出手段240において検出される光強度I(k)は、
I(k)=∫ S(l)[1+cos(kl)]dl
で表される。ここで、kは波数、lは光路長差である。上式は波数k=ω/cを変数とする光周波数領域のインターフェログラムとして与えられていると考えることができる。このため、画像取得手段241において、干渉光検出手段240が検出したスペクトル干渉縞をフーリエ変換を行い、干渉光L4の光強度S(l)を決定することにより、測定対象Sbの測定開始位置からの距離情報と反射強度情報とを取得し、断層画像を生成することができる。この断層画像は表示装置242に表示される。
Interference fringes with respect to each optical path length difference l when the reflected light L3 and the reference light L2 from each depth of the measurement object Sb interfere with each other with various optical path length differences when the measurement object Lb is irradiated with the measurement light S1. S (l) is the light intensity I (k) detected by the interference light detection means 240,
I (k) = ∫ 0 S (l) [1 + cos (kl)] dl
It is represented by Here, k is the wave number, and l is the optical path length difference. It can be considered that the above equation is given as an interferogram in the optical frequency domain with the wave number k = ω / c as a variable. For this reason, the image acquisition unit 241 performs Fourier transform on the spectral interference fringes detected by the interference light detection unit 240 to determine the light intensity S (l) of the interference light L4, thereby determining the measurement start position of the measurement target Sb. Distance information and reflection intensity information can be acquired, and a tomographic image can be generated. This tomographic image is displayed on the display device 242.

以下、光源ユニット210についての詳細な説明を記載する。光源ユニット210の上面図を図4(A)に、側面図を 図4(B)に示す。この光源ユニット210は半導体レーザ媒質211 と、コリメートレンズ212 と、ポリゴンミラー213 と、波長選択手段214と、偏光ビームスプリッタ215と、1/4波長板216とを備えている。なお、1/4波長板216の代わりに、1/4波長だけ偏光が変化するファラデーローテータを用いることもできる。   Hereinafter, a detailed description of the light source unit 210 will be described. A top view of the light source unit 210 is shown in FIG. 4 (A), and a side view thereof is shown in FIG. 4 (B). The light source unit 210 includes a semiconductor laser medium 211, a collimator lens 212, a polygon mirror 213, a wavelength selection unit 214, a polarization beam splitter 215, and a quarter wavelength plate 216. Instead of the quarter wavelength plate 216, a Faraday rotator whose polarization changes by a quarter wavelength can be used.

なお、半導体レーザ媒質211は、直線偏光されたレーザ光を射出するものであり、半導体レーザ媒質211から射出された光が、偏光ビームスプリッタ215へs偏光として入射するように配置されている。   The semiconductor laser medium 211 emits linearly polarized laser light, and is arranged so that the light emitted from the semiconductor laser medium 211 enters the polarization beam splitter 215 as s-polarized light.

偏光ビームスプリッタ215および1/4波長板216は、ポリゴンミラー213と回折格子214との間に配置されている。また、偏光ビームスプリッタ215は、p偏光は透過し、s偏光は直角に反射するものである。また、半導体レーザ媒質211から射出され、コリメートレンズ212により平行光に変換された光はポリゴンミラー213の回転軸と平行な角度で偏光ビームスプリッタ215へ入射し、該偏光ビームスプリッタ215で直角に反射されたs偏光はポリゴンミラー213に対し、回転中心方向へ入射するように、半導体レーザ媒質211、コリメートレンズ212、偏光ビームスプリッタ215およびポリゴンミラー213は配置されている。   The polarization beam splitter 215 and the quarter wavelength plate 216 are disposed between the polygon mirror 213 and the diffraction grating 214. The polarization beam splitter 215 transmits p-polarized light and reflects s-polarized light at a right angle. The light emitted from the semiconductor laser medium 211 and converted into parallel light by the collimator lens 212 is incident on the polarization beam splitter 215 at an angle parallel to the rotation axis of the polygon mirror 213 and is reflected by the polarization beam splitter 215 at a right angle. The semiconductor laser medium 211, the collimating lens 212, the polarization beam splitter 215, and the polygon mirror 213 are arranged so that the s-polarized light is incident on the polygon mirror 213 in the direction of the rotation center.

波長選択手段214は、小型で同形状の回折格子261aおよび261bから構成されている。なお、回折格子261aおよび回折格子261bは、同じ波長帯域で波長が変化するように、ポリゴンミラー213の反射面に対して異なる角度で配置されている。このように複数枚の回折格子を組み合わせて用いることにより、ポリゴンミラー213の反射面1枚に対して、複数回の波長掃引が可能となる。   The wavelength selection means 214 is composed of small and identical diffraction gratings 261a and 261b. The diffraction grating 261a and the diffraction grating 261b are arranged at different angles with respect to the reflection surface of the polygon mirror 213 so that the wavelength changes in the same wavelength band. In this way, by using a plurality of diffraction gratings in combination, a plurality of wavelength sweeps can be performed on one reflecting surface of the polygon mirror 213.

まず、半導体レーザ媒質211から射出した光は、コリメートレンズ212により平行光に変換され、偏光ビームスプリッタ215の面215aへ入射する。偏光ビームスプリッタ215では、入射した光の内、p偏光は透過され、s偏光は直角に反射されて、面215bから射出される。このs偏光は、1/4波長板216を透過して円偏光となる。この円偏光は、ポリゴンミラー213へ対して、回転中心方向へ入射する。ポリゴンミラー213において反射された光は、再度1/4波長板216を透過してp偏光となる。このp偏光は偏光ビームスプリッタ215を透過して、回折格子214に入射する。回折格子214により分散されたp偏光のうち、入射方向へ分散された光(以下戻り光と記載)は、偏光ビームスプリッタ215を透過して、さらに1/4波長板216を透過して円偏光となる。この円偏光は、ポリゴンミラー213において反射され、再度1/4波長板216を透過してs偏光となる。このs偏光は、偏光ビームスプリッタ215の面215bへ入射し、直角に反射されて、面215aから射出され、半導体レーザ媒質211 へ帰還する。半導体レーザ媒質211の射出端面211aおよび回折格子214により、共振器が構成され、半導体レーザ媒質211の射出端面211aから、レーザ光Laが射出される。なお、この際、レーザ光Laの波長は、戻り光の波長である。   First, light emitted from the semiconductor laser medium 211 is converted into parallel light by the collimator lens 212 and is incident on the surface 215 a of the polarization beam splitter 215. In the polarization beam splitter 215, p-polarized light is transmitted among the incident light, and s-polarized light is reflected at a right angle and is emitted from the surface 215b. This s-polarized light passes through the quarter-wave plate 216 and becomes circularly polarized light. This circularly polarized light is incident on the polygon mirror 213 toward the center of rotation. The light reflected by the polygon mirror 213 passes through the quarter wavelength plate 216 again and becomes p-polarized light. This p-polarized light passes through the polarization beam splitter 215 and enters the diffraction grating 214. Of the p-polarized light dispersed by the diffraction grating 214, the light dispersed in the incident direction (hereinafter referred to as return light) is transmitted through the polarization beam splitter 215 and further transmitted through the quarter-wave plate 216 to be circularly polarized. It becomes. This circularly polarized light is reflected by the polygon mirror 213, passes through the quarter wavelength plate 216 again, and becomes s-polarized light. The s-polarized light enters the surface 215b of the polarization beam splitter 215, is reflected at a right angle, is emitted from the surface 215a, and returns to the semiconductor laser medium 211. The emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211 and the diffraction grating 214 constitute a resonator, and the laser light La is emitted from the emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211. At this time, the wavelength of the laser beam La is the wavelength of the return light.

ここで、ポリゴンミラー213は矢印R1方向に回転するものであって、各反射面において、反射角度が連続的に変化するようになっている。これにより、回折格子214に入射する光の角度も、連続的に変化する。分散された光のうち入射方向へ戻る戻り光の波長をλ、回折格子の溝周期をG、回折格子214 への入射光の入射角度をθとすると、戻り光が1次回折光である場合には、これらの関係は次式で表すことができる。   Here, the polygon mirror 213 rotates in the direction of the arrow R1, and the reflection angle continuously changes on each reflection surface. As a result, the angle of light incident on the diffraction grating 214 also changes continuously. When the wavelength of the return light returning to the incident direction of the dispersed light is λ, the groove period of the diffraction grating is G, and the incident angle of the incident light to the diffraction grating 214 is θ, the return light is the first-order diffracted light. These relationships can be expressed by the following equation.

2Sinθ=λ/G (1)
したがって、回折格子214 への入射光の入射角度θが連続的に変化した場合には、発振波長も連続的に変化することとなる。
2Sinθ = λ / G (1)
Therefore, when the incident angle θ of the incident light on the diffraction grating 214 changes continuously, the oscillation wavelength also changes continuously.

また、ポリゴンミラー213が矢印R1方向に等速で回転したとき、戻り光の波長は、時間の経過に伴って一定の周期で変化することになる。このため、光源ユニット210からは、波長掃引されたレーザ光Laが、一定の周期で、光ファイバFB1側に射出される。   Further, when the polygon mirror 213 rotates at a constant speed in the direction of the arrow R1, the wavelength of the return light changes at a constant period with the passage of time. Therefore, the wavelength-swept laser light La is emitted from the light source unit 210 to the optical fiber FB1 side at a constant period.

なお、光源210においては、半導体レーザ媒質211から射出された光は、偏光ビームスプリッタ215により偏向され、ポリゴンミラー213の回転中心に向かって入射する。このためポリゴンミラー213の反射面に入射する光の入射面積は光の断面積と略等しくなり、最小面積となる。即ち、常に光がポリゴンミラーに斜めに入射するように構成されている従来の光源に比べ、ポリゴンミラー213の反射面における光の回転方向における入射幅が小さくなり、その結果ポリゴンミラー213の回転角度を有効に使用することができ、広い波長帯域で波長を掃引することができる。   In the light source 210, the light emitted from the semiconductor laser medium 211 is deflected by the polarization beam splitter 215 and is incident toward the rotation center of the polygon mirror 213. For this reason, the incident area of the light incident on the reflecting surface of the polygon mirror 213 is substantially equal to the cross-sectional area of the light and becomes the minimum area. That is, the incident width in the light rotation direction on the reflecting surface of the polygon mirror 213 is smaller than the conventional light source configured so that light is always incident obliquely on the polygon mirror. As a result, the rotation angle of the polygon mirror 213 is reduced. Can be used effectively, and the wavelength can be swept in a wide wavelength band.

また、以上の説明で明らかなように、本光断層画像化装置200においては、光源ユニット210において、従来使用されているポリゴンミラー213を使用して、高い繰り返し周期で波長を掃引することができる。   Further, as apparent from the above description, in the present optical tomographic imaging apparatus 200, the light source unit 210 can sweep the wavelength with a high repetition period by using the polygon mirror 213 conventionally used. .

また、本実施の形態における光断層画像化装置は、繰り返し周期の高い光源ユニット210を使用しているため、1枚の光断層画像を取得するために必要な時間を短縮することができる。   In addition, since the optical tomographic imaging apparatus according to the present embodiment uses the light source unit 210 having a high repetition cycle, the time required to acquire one optical tomographic image can be shortened.

なお、光源ユニット210においては、半導体レーザ媒質211から射出され、コリメートレンズ212により平行光に変換された光はポリゴンミラー213の回転軸と平行な角度で偏光ビームスプリッタ215へ入射し、該偏光ビームスプリッタ215で直角に反射されたs偏光はポリゴンミラー213に対し、回転中心方向へ入射するように、半導体レーザ媒質211、コリメートレンズ212、偏光ビームスプリッタ215およびポリゴンミラー213は配置されているが、偏光ビームスプリッタ215、半導体レーザ媒質211およびコリメートレンズ212の配置は、図4における紙面と垂直な平面内において、偏光ビームスプリッタ215を中心として、任意の角度で回転可能である。このため、例えば図5に示すような、ポリゴンミラー213の回転軸に対して垂直な平面内に偏光ビームスプリッタ215、半導体レーザ媒質211およびコリメートレンズ212が配置されている光源ユニット250を用いることもできる。   In the light source unit 210, light emitted from the semiconductor laser medium 211 and converted into parallel light by the collimator lens 212 enters the polarization beam splitter 215 at an angle parallel to the rotation axis of the polygon mirror 213, and the polarization beam The semiconductor laser medium 211, the collimator lens 212, the polarization beam splitter 215, and the polygon mirror 213 are arranged so that the s-polarized light reflected by the splitter 215 at a right angle enters the polygon mirror 213 in the direction of the rotation center. The arrangement of the polarizing beam splitter 215, the semiconductor laser medium 211, and the collimating lens 212 can be rotated at an arbitrary angle around the polarizing beam splitter 215 in a plane perpendicular to the paper surface in FIG. Therefore, for example, a light source unit 250 in which the polarization beam splitter 215, the semiconductor laser medium 211, and the collimator lens 212 are arranged in a plane perpendicular to the rotation axis of the polygon mirror 213 as shown in FIG. it can.

また、図6に示すように、半導体レーザ媒質211から射出され、ポリゴンミラー213へ入射する光の光路を、ポリゴンミラー213の回転方向へ追従するようにシフトするプリズム202を備えた光源ユニット260を用いることもできる。図7に示すように、このプリズム202のA点へ所定の角度でレーザ光Laが入射した場合、波長が短ければ、例えば図7のB点から射出され、またレーザ光Laの波長が長くなるに従って、順次B点から図7におけるC点、D点と右側へ移動した部位から射出される。すなわち、プリズム202は、このプリズム202へ入射するレーザ光Laの波長により、レーザ光Laの光路がシフトされるように形成され、また配置されている。なお、光路のシフト量は、プリズム202の屈折率、形状および配置角度、また入射する光の波長および入射角度により異なるため、所望の波長帯域において、所望の光路シフト量が得られるように、予め適切な形状および屈折率を有するプリズムを形成し、適切な位置および角度で配置しておく必要がある。   In addition, as shown in FIG. 6, a light source unit 260 including a prism 202 that shifts the optical path of light emitted from the semiconductor laser medium 211 and incident on the polygon mirror 213 so as to follow the rotation direction of the polygon mirror 213 is provided. It can also be used. As shown in FIG. 7, when the laser beam La is incident on the point A of the prism 202 at a predetermined angle, if the wavelength is short, it is emitted from the point B in FIG. 7, for example, and the wavelength of the laser beam La becomes long. Are sequentially ejected from the point B to the point C and D in FIG. That is, the prism 202 is formed and arranged so that the optical path of the laser beam La is shifted by the wavelength of the laser beam La incident on the prism 202. The optical path shift amount differs depending on the refractive index, shape and arrangement angle of the prism 202, and the wavelength and incident angle of the incident light, so that a desired optical path shift amount is obtained in a desired wavelength band in advance. It is necessary to form a prism having an appropriate shape and refractive index and arrange it at an appropriate position and angle.

このようなプリズム202を配置することにより、例えば、レーザ光Laが、0.95μm〜1.15μmの波長帯域で掃引される場合であれば、まず図8に示すように、波長0.95μmのレーザ光Laは、プリズム202のB点から射出され、ポリゴンミラー213で反射され、さらに回折格子214で分散され、戻り光(波長0.95μm)が再度ポリゴンミラー213で反射され、プリズム202のB点に入射して、半導体レーザ媒質211に帰還する。   By arranging such a prism 202, for example, when the laser beam La is swept in a wavelength band of 0.95 μm to 1.15 μm, first, as shown in FIG. 8, the laser beam La of wavelength 0.95 μm is used. Is emitted from the point B of the prism 202, reflected by the polygon mirror 213, further dispersed by the diffraction grating 214, and the return light (wavelength 0.95 μm) is reflected again by the polygon mirror 213 and enters the point B of the prism 202. And return to the semiconductor laser medium 211.

ポリゴンミラー213がR1方向に回転し、波長が長くなり、例えば1.05μmになると、図9に示すように、波長1.15μmのレーザ光Laは、プリズム202のC点から射出され、ポリゴンミラー213で反射され、さらに回折格子214で分散され、戻り光(波長1.05μm)が再度ポリゴンミラー213で反射され、プリズム202のC点に入射して、半導体レーザ媒質211に帰還する。   When the polygon mirror 213 rotates in the R1 direction and the wavelength becomes longer, for example, 1.05 μm, the laser light La having a wavelength of 1.15 μm is emitted from the point C of the prism 202 as shown in FIG. The reflected light is further dispersed by the diffraction grating 214, the return light (wavelength 1.05 μm) is reflected again by the polygon mirror 213, enters the point C of the prism 202, and returns to the semiconductor laser medium 211.

さらに、ポリゴンミラー213がR1方向に回転し、波長がより長くなり、例えば1.15μmになると、図10に示すように、波長1.15μmのレーザ光Laは、プリズム202のD点から射出され、ポリゴンミラー213で反射され、さらに回折格子214で分散され、戻り光(波長1.05μm)が再度ポリゴンミラー213で反射され、プリズム202のD点に入射して、半導体レーザ媒質211に帰還する。   Further, when the polygon mirror 213 rotates in the R1 direction and the wavelength becomes longer, for example, 1.15 μm, as shown in FIG. 10, the laser light La having a wavelength of 1.15 μm is emitted from the point D of the prism 202, and the polygon Reflected by the mirror 213, further dispersed by the diffraction grating 214, the return light (wavelength 1.05 μm) is reflected again by the polygon mirror 213, enters the D point of the prism 202, and returns to the semiconductor laser medium 211.

図8〜図10から明らかなように、プリズム202を配置すると、プリズム202が配置されていない従来の場合に比べ、ポリゴンミラー213の回転角度を有効に使用することができ、広い波長帯域で波長を掃引することができる。   8 to 10, when the prism 202 is arranged, the rotation angle of the polygon mirror 213 can be used more effectively than in the conventional case where the prism 202 is not arranged. Can be swept.

次に、本発明の具体的な第2の実施形態である光断層画像化装置について図11を参照して説明する。なお、第2の実施形態である光断層画像化装置は、光源ユニット310が図3に示す光断層画像化装置に用いられている光源ユニット210と異なっているが、他の構成は同様であるため、光源ユニット310のみを図示し、他の構成の説明は省略する。図11(A)に、光源ユニット310の上面図を、図11(B)に側面図を示す。   Next, an optical tomographic imaging apparatus that is a specific second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the optical tomographic imaging apparatus according to the second embodiment, the light source unit 310 is different from the light source unit 210 used in the optical tomographic imaging apparatus shown in FIG. 3, but the other configurations are the same. Therefore, only the light source unit 310 is illustrated, and the description of other configurations is omitted. FIG. 11A shows a top view of the light source unit 310, and FIG. 11B shows a side view.

光源ユニット310は、発振波長λcが950nm〜1150nmの範囲になるように、発振波長を一定の周期で掃引させながらレーザ光Laを射出する波長掃引レーザ装置であり、レーザ媒質としては、半導体レーザ媒質211が使用されている。   The light source unit 310 is a wavelength sweep laser device that emits laser light La while sweeping the oscillation wavelength at a constant period so that the oscillation wavelength λc is in the range of 950 nm to 1150 nm. The laser medium is a semiconductor laser medium. 211 is used.

また、光偏向手段であるポリゴンミラー213および光学系であるテレセントリックレンズ314により、波長選択手段315へ入射する光の入射位置が変更される。なお、波長選択手段315は、列説された同じ形状の放射型回折格子316a、316bおよび316cから構成されている。各放射型回折格子は、溝が放射状に形成されている回折格子であり、この放射型回折格子321の中心に配置された溝の延びる方向と直交する方向において、溝間隔が等間隔となるように、作成されている。   Further, the incident position of the light incident on the wavelength selection means 315 is changed by the polygon mirror 213 as the light deflection means and the telecentric lens 314 as the optical system. Note that the wavelength selection means 315 is composed of the same-shaped radiation type diffraction gratings 316a, 316b and 316c. Each of the radial diffraction gratings is a diffraction grating in which grooves are formed in a radial pattern, and the groove intervals are equal in the direction orthogonal to the extending direction of the grooves arranged at the center of the radial diffraction grating 321. Has been created.

半導体レーザ媒質211から射出した光は、集光レンズ312aおよびシリンドリカルレンズ312bにより集光される。なお、集光レンズ312aおよびシリンドリカルレンズ312bは、ポリゴンミラー213の反射面において、光が図11(B)の紙面に対して垂直な方向のライン状に集光するように構成されている。また、各放射型回折格子は、該放射型回折格子の中心に配置された溝の延びる方向が、光がライン状に延びる方向と直交するように配設されている。   The light emitted from the semiconductor laser medium 211 is condensed by the condenser lens 312a and the cylindrical lens 312b. Note that the condensing lens 312a and the cylindrical lens 312b are configured such that light is collected in a line shape in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 11B on the reflecting surface of the polygon mirror 213. Each radial diffraction grating is arranged so that the extending direction of the groove disposed at the center of the radial diffraction grating is orthogonal to the direction in which the light extends in a line.

半導体レーザ媒質211から射出され、偏光ビームスプリッタ215へ入射した光の内、p偏光は透過され、s偏光はポリゴンミラー213の方向へ直角に反射されて、面215bから射出される。このs偏光は、1/4波長板216を透過して円偏光となる。この円偏光は、ポリゴンミラー213へ対して、回転中心方向へ入射する。ポリゴンミラー213において反射された光は、再度1/4波長板216を透過してp偏光となる。このp偏光は偏光ビームスプリッタ215を透過して、波長選択手段315に入射する。波長選択手段315により分散されたp偏光のうち、入射方向へ分散された光(以下戻り光と記載)は、偏光ビームスプリッタ215を透過して、さらに1/4波長板216を透過して円偏光となる。この円偏光は、ポリゴンミラー213において反射され、再度1/4波長板216を透過してs偏光となる。このs偏光は、偏光ビームスプリッタ215で直角に反射されて、半導体レーザ媒質211 へ帰還する。半導体レーザ媒質211の射出端面211aおよび回折格子315により、共振器が構成され、半導体レーザ媒質211の射出端面211aから、レーザ光Laが射出される。なお、この際、レーザ光Laの波長は、戻り光の波長である。   Of the light emitted from the semiconductor laser medium 211 and incident on the polarization beam splitter 215, p-polarized light is transmitted, and s-polarized light is reflected at right angles to the direction of the polygon mirror 213 and emitted from the surface 215b. This s-polarized light passes through the quarter-wave plate 216 and becomes circularly polarized light. This circularly polarized light is incident on the polygon mirror 213 toward the center of rotation. The light reflected by the polygon mirror 213 passes through the quarter wavelength plate 216 again and becomes p-polarized light. This p-polarized light passes through the polarization beam splitter 215 and enters the wavelength selection means 315. Of the p-polarized light dispersed by the wavelength selection means 315, the light dispersed in the incident direction (hereinafter referred to as return light) is transmitted through the polarization beam splitter 215 and further transmitted through the quarter-wave plate 216 to obtain a circle. It becomes polarized light. This circularly polarized light is reflected by the polygon mirror 213, passes through the quarter wavelength plate 216 again, and becomes s-polarized light. The s-polarized light is reflected at a right angle by the polarization beam splitter 215 and returned to the semiconductor laser medium 211. The emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211 and the diffraction grating 315 constitute a resonator, and the laser light La is emitted from the emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211. At this time, the wavelength of the laser beam La is the wavelength of the return light.

なお、ポリゴンミラー213において反射された光は、テレセントリックレンズ314により、該テレセントリックレンズ314へ入射した光の角度に応じて、各放射型回折格子316a、316bおよび316cの所定の位置へ入射する。なお、前述のように各放射型回折格子は、該放射型回折格子の中心に配置された溝の延びる方向が、光がライン状に延びる方向と直交するように配設されている。   The light reflected by the polygon mirror 213 is incident on the telecentric lens 314 at predetermined positions of the radiation diffraction gratings 316a, 316b, and 316c according to the angle of the light incident on the telecentric lens 314. As described above, each radiation type diffraction grating is arranged such that the extending direction of the groove disposed at the center of the radiation type diffraction grating is orthogonal to the direction in which the light extends in a line shape.

図12(A)、(B)および(C)は、各放射型回折格子316a、316bおよび316cにおけるA点、B点およびC点での光の入射状態を説明する図であり、図11(A)の紙面に対する垂直な断面における概略図である。このように放射型回折格子への光の入射位置が異なると、回折格子の溝周期が異なる。上述した式(1)に示すように、分散された光のうち入射方向へ戻る戻り光の波長λは、溝周期および入射角度により決められる。このため、光の入射位置に応じて、溝周期が異なれば、戻り光の波長も異なる。このため、放射型回折格子321に入射する光の入射位置に応じて、光の入射方向へ戻る戻り光の波長も異なるので、各放射型回折格子316a、316bおよび316c入射する光の入射位置が連続的に変化した場合には、発振波長も連続的に変化することとなる。   FIGS. 12A, 12B, and 12C are diagrams for explaining the incident states of light at points A, B, and C in each of the radiation type diffraction gratings 316a, 316b, and 316c. It is the schematic in the cross section perpendicular | vertical with respect to the paper surface of A). Thus, when the incident position of light on the radiation type diffraction grating is different, the groove period of the diffraction grating is different. As shown in Equation (1), the wavelength λ of the return light returning to the incident direction among the dispersed light is determined by the groove period and the incident angle. For this reason, if the groove period is different according to the incident position of light, the wavelength of the return light is also different. For this reason, the wavelength of the return light returning in the light incident direction varies depending on the incident position of the light incident on the radiation type diffraction grating 321, so the incident position of the light incident on each of the radiation type diffraction gratings 316a, 316b and 316c is When it changes continuously, the oscillation wavelength also changes continuously.

波長選択手段315により分散された光のうち、入射方向へ分散された光は、テレセントリックレンズ314を通り、ポリゴンミラー213において反射され、半導体レーザ媒質211 へ帰還する。   Of the light dispersed by the wavelength selection means 315, the light dispersed in the incident direction passes through the telecentric lens 314, is reflected by the polygon mirror 213, and returns to the semiconductor laser medium 211.

ここで、ポリゴンミラー213は矢印R1方向に回転するものであって、各反射面において、反射角度がテレセントリックレンズ314の光軸に対して連続的に変化するようになっている。これにより、波長選択手段315に入射する光の位置も、連続的に変化する。上述したように、波長選択手段315に入射する光の入射位置に応じて、光の入射方向へ戻る戻り光の波長も異なる。すなわち、ポリゴンミラー213が矢印R1方向に等速で回転したとき、戻り光の波長は、時間の経過に伴って一定の周期で変化することになる。このため、光源ユニット310からは、波長掃引されたレーザ光Laが、一定の周期で、光ファイバFB1側に射出される。また同じ形状の放射型回折格子316a〜316cが列設された、波長選択手段315が使用されているため、ポリゴンミラー213の反射面1枚に対して、複数回の波長掃引が可能となる。   Here, the polygon mirror 213 rotates in the direction of the arrow R1, and the reflection angle continuously changes with respect to the optical axis of the telecentric lens 314 on each reflection surface. Thereby, the position of the light incident on the wavelength selecting means 315 also changes continuously. As described above, the wavelength of the return light returning in the light incident direction varies depending on the incident position of the light incident on the wavelength selecting unit 315. That is, when the polygon mirror 213 rotates at a constant speed in the direction of the arrow R1, the wavelength of the return light changes with a constant period as time passes. Therefore, the wavelength-swept laser light La is emitted from the light source unit 310 to the optical fiber FB1 side at a constant period. In addition, since the wavelength selection means 315 in which the radiation diffraction gratings 316a to 316c having the same shape are arranged is used, a plurality of wavelength sweeps can be performed on one reflection surface of the polygon mirror 213.

さらに、図13に示すような、放射型回折格子316a〜316cの代わりに、光の入射位置が異なると透過波長が異なる多層膜光フィルタ322a〜322cと、各多層膜光フィルタ322a〜322cを透過した光を垂直に反射する反射ミラー323とからなる波長選択手段321を用いた光源ユニット320を使用することもできる。各多層膜光フィルタ322a〜322cは、入射位置が一定方向へ変化すると、透過波長が増加または減少するように作成され、透過波長の増減方向が、光の走査方向と一致するように配設されている。したがって、光の入射位置に応じて、各多層膜光フィルタ322a〜322cを透過して、反射ミラー323で反射され、再度各多層膜光フィルタ322a〜322cを透過する戻り光の波長も異なる。このため、光ユニット310と同様に、各多層膜光フィルタ322a〜322cに入射する光の入射位置に応じて、光の入射方向へ戻る戻り光の波長も異なるので、各多層膜光フィルタ322a〜322cへの光の入射位置が連続的に変化した場合には、発振波長も連続的に変化することとなる。   Further, instead of the radiation type diffraction gratings 316a to 316c as shown in FIG. 13, the light passes through the multilayer optical filters 322a to 322c having different transmission wavelengths when the light incident positions are different, and the multilayer optical filters 322a to 322c. It is also possible to use a light source unit 320 using wavelength selection means 321 comprising a reflection mirror 323 that reflects the reflected light vertically. Each multilayer optical filter 322a to 322c is created so that the transmission wavelength increases or decreases when the incident position changes in a certain direction, and is arranged so that the increase / decrease direction of the transmission wavelength coincides with the light scanning direction. ing. Accordingly, the wavelength of the return light that is transmitted through each of the multilayer optical filters 322a to 322c, reflected by the reflection mirror 323, and transmitted through each of the multilayer optical filters 322a to 322c again differs depending on the light incident position. Therefore, similarly to the optical unit 310, the wavelength of the return light returning in the light incident direction varies depending on the incident position of the light incident on the multilayer optical filters 322a to 322c. When the incident position of light on 322c changes continuously, the oscillation wavelength also changes continuously.

なお各多層膜光フィルタ322a〜322cは、同一の光透過特性(光の入射位置が異なると透過波長が異なる)を有するものである。光源ユニット320においても、ポリゴンミラー213の反射面1枚に対して、複数回の波長掃引が可能となる。   Each of the multilayer optical filters 322a to 322c has the same light transmission characteristics (the transmission wavelength is different when the light incident position is different). Also in the light source unit 320, a plurality of wavelength sweeps can be performed on one reflecting surface of the polygon mirror 213.

次に、本発明の具体的な第3の実施形態である光断層画像化装置について図14および図15を参照して説明する。なお、第3の実施形態である光断層画像化装置は、光源ユニット410が図3に示す光断層画像化装置に用いられている光源ユニット210と異なっているが、他の構成は同様であるため、光源ユニット410のみを図示し、他の構成の説明は省略する。   Next, an optical tomographic imaging apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the optical tomographic imaging apparatus according to the third embodiment, the light source unit 410 is different from the light source unit 210 used in the optical tomographic imaging apparatus shown in FIG. 3, but the other configurations are the same. Therefore, only the light source unit 410 is illustrated, and the description of other configurations is omitted.

図14および図15に示すように、光源ユニット410は、リレーレンズ411aおよび411bと、該リレーレンズ411aおよび411bの間に異なる角度で配置されたミラー414aおよび414bからなるミラーセット415と、異なる角度で配置された2枚の同形状の回折格子413aおよび413bからなる波長選択手段412とを備えている。図14に示すように、ミラー414aおよびリレーレンズ411bは、ポリゴンミラー213の回転に伴って、リレーレンズ411aの図14(A)における上半分を通る光が、回折格子413aへ入射するように、光の光路を変更するものである。また図15に示すようにミラー414bおよびリレーレンズ411bは、リレーレンズ411の図15(A)における下半分を通る光が、回折格子413bへ入射するように、光の光路を変更するものである。なお、リレーレンズ411aおよび411bと、ミラー414aおよび414bと、回折格子413aおよび413bとは、リレーレンズ411aの上半分を通る光が回折格子413aへ入射する入射角度の範囲と、リレーレンズ411aの下半分を通る光が回折格子413bへ入射する入射角度の範囲とが等しくなるように、配置されている。   As shown in FIG. 14 and FIG. 15, the light source unit 410 has a different angle from a mirror set 415 consisting of relay lenses 411a and 411b and mirrors 414a and 414b arranged at different angles between the relay lenses 411a and 411b. Wavelength selection means 412 comprising two diffraction gratings 413a and 413b having the same shape and arranged in the above. As shown in FIG. 14, the mirror 414a and the relay lens 411b are configured so that the light passing through the upper half in FIG. 14A of the relay lens 411a enters the diffraction grating 413a as the polygon mirror 213 rotates. It changes the optical path of light. As shown in FIG. 15, the mirror 414b and the relay lens 411b change the optical path of light so that light passing through the lower half of the relay lens 411 in FIG. 15A enters the diffraction grating 413b. . The relay lenses 411a and 411b, the mirrors 414a and 414b, and the diffraction gratings 413a and 413b are a range of incident angles at which light passing through the upper half of the relay lens 411a is incident on the diffraction grating 413a and below the relay lens 411a. It arrange | positions so that the range of the incident angle which the light which passes half may enter into the diffraction grating 413b may become equal.

光源ユニット410では、まず、図14に示すように、半導体レーザ媒質211から射出した光は、コリメートレンズ212により平行光に変換され、偏光ビームスプリッタ215によりs偏光とp偏光へ分岐され、s偏光はポリゴンミラー213において反射され、リレーレンズ411aおよび411bによりリレーされ、かつミラー414aにより光路を変更されて、回折格子413aに入射する。回折格子413aにより分散された光のうち、入射方向へ分散された光である戻り光は、入射の場合と逆の光路を通り、半導体レーザ媒質211 へ帰還する。光源ユニット210と同様に、半導体レーザ媒質211の射出端面211aおよび回折格子413aにより、共振器が構成され、半導体レーザ媒質211の射出端面211aから、レーザ光Laが射出される。ポリゴンミラー213が実線で示す状態から点線で示す状態まで回転する間、回折格子413aへ入射する光の入射角は連続的に変化し、戻り光の波長も連続的に変化する。   In the light source unit 410, first, as shown in FIG. 14, the light emitted from the semiconductor laser medium 211 is converted into parallel light by the collimator lens 212, branched into s-polarized light and p-polarized light by the polarization beam splitter 215, and s-polarized light. Is reflected by the polygon mirror 213, relayed by the relay lenses 411a and 411b, the optical path is changed by the mirror 414a, and enters the diffraction grating 413a. Of the light dispersed by the diffraction grating 413a, the return light, which is the light dispersed in the incident direction, returns to the semiconductor laser medium 211 through an optical path opposite to that of the incident light. Similar to the light source unit 210, the emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211 and the diffraction grating 413a constitute a resonator, and the laser light La is emitted from the emission end face 211a of the semiconductor laser medium 211. While the polygon mirror 213 rotates from the state indicated by the solid line to the state indicated by the dotted line, the incident angle of the light incident on the diffraction grating 413a continuously changes, and the wavelength of the return light also changes continuously.

なお、ポリゴンミラー213が、さらに回転すると、図14に点線で示す状態から、図15に点線で示す状態へ変化する。ポリゴンミラー213が点線で示す状態から実線で示す状態まで回転する間、回折格子413bへ入射する光の入射角が連続的に変化し、戻り光の波長も連続的に変化する。   When the polygon mirror 213 further rotates, the state changes from the state indicated by the dotted line in FIG. 14 to the state indicated by the dotted line in FIG. While the polygon mirror 213 rotates from the state indicated by the dotted line to the state indicated by the solid line, the incident angle of the light incident on the diffraction grating 413b changes continuously, and the wavelength of the return light also changes continuously.

このため、ポリゴンミラー213の反射面1枚に対して、2回の波長掃引が可能となり、従来使用されているポリゴンミラー213を使用して、高い繰り返し周期で波長を掃引することができる。   For this reason, the wavelength can be swept twice with respect to one reflecting surface of the polygon mirror 213, and the wavelength can be swept with a high repetition period by using the polygon mirror 213 conventionally used.

なお、波長選択手段412の代わりに、図16に示すような、ポリゴンミラー213に面倒れが生じていない場合に各回折格子において光が波長分散される平面に対して角度を有する光であっても、共役的に反射する共役反射光学系423aおよび423bと、リットマン配置の回折格子422aおよび422bとからなる波長選択手段421を用いることもできる。   It should be noted that instead of the wavelength selection means 412, the light having an angle with respect to the plane in which the light is wavelength-dispersed in each diffraction grating when the polygon mirror 213 is not tilted as shown in FIG. Alternatively, wavelength selection means 421 including conjugate reflection optical systems 423a and 423b that reflect conjugately and diffraction gratings 422a and 422b arranged in a Littman arrangement can be used.

共役反射光学系423aは、集光レンズ424aと該集光レンズ424aの焦点位置に配置され、ポリゴンミラー213に面倒れが生じていない場合に各回折格子において光が波長分散される平面に対して垂直な方向へ延びた線状ミラー425aとを備えている。   The conjugate reflection optical system 423a is disposed at the focal position of the condenser lens 424a and the condenser lens 424a, and with respect to a plane on which light is wavelength-dispersed in each diffraction grating when the polygon mirror 213 is not tilted. And a linear mirror 425a extending in the vertical direction.

以下、共役反射光学系423aについて説明する。共役反射光学系423aの上面図を図117(A)に、側面図を図17(B)に示す。回折格子422aにより分散された光は、集光レンズ424aにより集光されるが、線状ミラー425aにおいて反射された分散光のみが、回折格子422aに戻る。すなわち、図17(A)に示すように、回折格子422aにおける波長の分散方向においては、線状ミラー425aに集光する方向である424aの光軸方向と平行な方向、すなわち図17(A)におけるX方向へ分散した光のみが、回折格子422aへ戻る。これは、共役反射光学系423aの代わりに通常のミラーが配置されている場合と同様であり、波長選択機能が働く。   Hereinafter, the conjugate reflection optical system 423a will be described. A top view of the conjugate reflective optical system 423a is shown in FIG. 117 (A), and a side view thereof is shown in FIG. 17 (B). The light dispersed by the diffraction grating 422a is collected by the condenser lens 424a, but only the dispersed light reflected by the linear mirror 425a returns to the diffraction grating 422a. That is, as shown in FIG. 17A, in the wavelength dispersion direction in the diffraction grating 422a, the direction parallel to the optical axis direction of 424a, which is the direction of focusing on the linear mirror 425a, that is, FIG. Only the light dispersed in the X direction at is returned to the diffraction grating 422a. This is the same as the case where a normal mirror is arranged instead of the conjugate reflection optical system 423a, and the wavelength selection function works.

一方、ポリゴンミラー213に面倒れが生じた場合、回折格子422aにより分散される光の方向が例えば図17(B)におけるY方向へずれてしまうことがある。このように分散方向がずれた場合であっても、図17(B)に示すように、共役反射光学系423aに入射した光は、入射方向と並行かつ逆方向へ反射される。このため、この光は、入射した光路とほぼ同じ光路を逆にたどって、半導体レーザ媒質211へ帰還する。このため、ポリゴンミラー213の面倒れの影響を受けにくくなる。   On the other hand, when the surface of the polygon mirror 213 is tilted, the direction of the light dispersed by the diffraction grating 422a may be shifted in the Y direction in FIG. 17B, for example. Even when the dispersion direction is deviated in this way, as shown in FIG. 17B, the light incident on the conjugate reflective optical system 423a is reflected in the direction opposite to and parallel to the incident direction. For this reason, this light returns to the semiconductor laser medium 211 by following the almost same optical path as the incident optical path. For this reason, it becomes difficult to be affected by the surface tilt of the polygon mirror 213.

なお、共役反射光学系423bは、共役反射光学系423aと同様であるため、説明は省略する。   Note that the conjugate reflection optical system 423b is the same as the conjugate reflection optical system 423a, and a description thereof will be omitted.

また、共役反射光学系としては、図18(A)に上面図を、図18(B)に側面図を示すように配置されたシリンドリカルレンズ431および該シリンドリカルレンズ431の焦点位置に配置されたミラー432からなる共役反射光学系433を用いることもできる。この場合にも図18(A)に示すように、回折格子422aの波長分散方向においてはミラー432のみが配置されている場合と同様に波長選択機能が働く。また図18(B)に示すように、回折格子422aにより分散される光の方向が図18(B)におけるY方向へずれた場合であっても、共役反射光学系433に入射した光は、入射方向と並行かつ逆方向へ反射される。   As the conjugate reflection optical system, a cylindrical lens 431 arranged as shown in a top view in FIG. 18A and a side view in FIG. 18B, and a mirror arranged at the focal position of the cylindrical lens 431 are shown. A conjugate reflective optical system 433 made of 432 can also be used. Also in this case, as shown in FIG. 18A, the wavelength selection function works in the same way as when only the mirror 432 is arranged in the wavelength dispersion direction of the diffraction grating 422a. Further, as shown in FIG. 18B, even when the direction of the light dispersed by the diffraction grating 422a is shifted in the Y direction in FIG. 18B, the light incident on the conjugate reflective optical system 433 is Reflected in the direction opposite to the incident direction.

さらに、共役反射光学系としては、図19(A)に上面図を図19(B)に側面図を示すように配置されたレトロリフレクタ441を用いることもできる。この場合にも図19(A)に示すように、回折格子422aの波長分散方向においてはミラーが配置されている場合と同様に波長選択機能が働く。また図19(B)に示すように、回折格子422aにより分散される光の方向が図19(B)におけるY方向へずれた場合であっても、レトロリフレクタ441に入射した光は、入射方向と並行かつ逆方向へ反射される。   Further, as the conjugate reflection optical system, a retroreflector 441 arranged as shown in a top view in FIG. 19A and a side view in FIG. 19B can be used. Also in this case, as shown in FIG. 19A, the wavelength selection function works in the wavelength dispersion direction of the diffraction grating 422a as in the case where the mirror is arranged. Further, as shown in FIG. 19B, even if the direction of the light dispersed by the diffraction grating 422a is shifted in the Y direction in FIG. And reflected in the opposite direction.

なお、各実施の形態において、光増幅手段として半導体レーザ媒質211を用いたが、光増幅手段は光増幅機能を有するものであれば如何なるものであってもよく、例えば色素レーザを構成する色素や、ファイバレーザを構成するファイバなどであってもよい。   In each embodiment, the semiconductor laser medium 211 is used as the optical amplifying unit. However, the optical amplifying unit may be any unit as long as it has an optical amplifying function. Or a fiber constituting a fiber laser.

従来の波長掃引光源の該略図Schematic diagram of a conventional wavelength swept light source 従来の波長掃引光源の該略図Schematic diagram of a conventional wavelength swept light source 本発明の第1の実施形態である光断層画像化装置の概略構成図1 is a schematic configuration diagram of an optical tomographic imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention. 光源ユニットの概略構成図Schematic configuration diagram of the light source unit 他の光源ユニットの概略構成図Schematic configuration diagram of another light source unit 他の光源ユニットの概略構成図Schematic configuration diagram of another light source unit プリズムの説明図Illustration of prism 光源ユニットにおける光路の説明図Illustration of the optical path in the light source unit 光源ユニットにおける光路の説明図Illustration of the optical path in the light source unit 光源ユニットにおける光路の説明図Illustration of the optical path in the light source unit 本発明の第2の実施形態である光断層画像化装置に用いられている光源ユニットの概略構成図The schematic block diagram of the light source unit used for the optical tomographic imaging apparatus which is the 2nd Embodiment of this invention. 入射光の入射位置と放射型回折格子の格子面との関係の説明図Explanatory diagram of the relationship between the incident position of incident light and the grating plane of the radial diffraction grating 他の光源ユニットの概略構成図Schematic configuration diagram of another light source unit 本発明の第3の実施形態である光断層画像化装置に用いられている光源ユニットの概略構成図The schematic block diagram of the light source unit used for the optical tomographic imaging apparatus which is the 3rd Embodiment of this invention. 光源ユニットの概略構成図Schematic configuration diagram of the light source unit 他の光源ユニットの概略構成図Schematic configuration diagram of another light source unit 共役反射光学系の概略構成図Schematic configuration diagram of conjugate reflective optical system 共役反射光学系の概略構成図Schematic configuration diagram of conjugate reflective optical system 共役反射光学系の概略構成図Schematic configuration diagram of conjugate reflective optical system

符号の説明Explanation of symbols

3 光分割手段
4 合波手段
210,310,410 光源ユニット
211 半導体レーザ媒質
212 コリメートレンズ
213 ポリゴンミラー
214a,214b リレーレンズ
214 回折格子
220 光路長調整手段
230 光プローブ
240 干渉光検出手段
241 画像取得手段
242 表示装置
415 放射型回折格子
416 放射型回折格子セット
3 Light splitting means
4 multiplexing means
210,310,410 Light source unit
211 Semiconductor laser medium
212 Collimating lens
213 polygon mirror
214a, 214b Relay lens
214 diffraction grating
220 Optical path length adjustment means
230 Optical probe
240 Interference light detection means
241 Image acquisition means
242 display device
415 Radiation diffraction grating
416 Radiation diffraction grating set

Claims (6)

光増幅手段と、
該光増幅手段から射出された光を偏向する回転型の光偏向手段と、
該光偏向手段により偏向された光の入射角度または入射位置が変わることにより入射方向に戻る光の波長が変化する波長選択手段とを有する波長掃引光源において、
前記波長選択手段が、複数の、前記入射方向へ戻る光の波長が略同一波長帯域において変化する波長選択部を有していることを特徴とする波長掃引光源。
Optical amplification means;
A rotating light deflecting means for deflecting the light emitted from the light amplifying means;
In a wavelength swept light source having wavelength selection means for changing the wavelength of light returning to the incident direction by changing the incident angle or the incident position of the light deflected by the light deflecting means,
The wavelength sweeping light source, wherein the wavelength selection unit includes a plurality of wavelength selection units in which wavelengths of light returning to the incident direction change in substantially the same wavelength band.
前記回転型の光偏向手段が、ポリゴンミラーであることを特徴とする請求項1記載の波長掃引光源。   2. A wavelength-swept light source according to claim 1, wherein the rotary light deflecting means is a polygon mirror. 前記波長選択部が、前記光を波長分散する光分散部を有するものであることを特徴とする請求項1または2記載の波長掃引光源   The wavelength sweeping light source according to claim 1, wherein the wavelength selection unit has a light dispersion unit that wavelength-disperses the light. 前記光分散部が、前記光の入射角度に応じて、前記光の入射方向へ戻る戻り光の波長が異なるものであり、
前記光偏向手段により偏向された光を前記光分散部へ入射させる光学手段を備え、
前記光偏向手段および前記光学手段が、前記光分散手段へ入射する光の入射角度を変更するものであることを特徴とする請求項3記載の波長掃引光源。
The wavelength of the return light that returns to the incident direction of the light is different according to the incident angle of the light, the light dispersion unit,
Comprising optical means for causing the light deflected by the light deflecting means to enter the light dispersing section;
4. The wavelength swept light source according to claim 3, wherein the light deflecting unit and the optical unit change an incident angle of light incident on the light dispersing unit.
前記光分散部が、前記光の入射位置に応じて、前記光の入射方向へ戻る戻り光の波長が異なるものであり、
前記光偏向手段により偏向された光を前記光分散部へ入射させる光学手段を備え、
前記光偏向手段および前記光学手段が、前記光分散手段へ入射する光の入射位置を変更するものであることを特徴とする請求項3記載の波長掃引光源。
The light dispersive part has a different wavelength of return light returning to the light incident direction according to the light incident position,
Comprising optical means for causing the light deflected by the light deflecting means to enter the light dispersing section;
4. The wavelength swept light source according to claim 3, wherein the light deflecting means and the optical means change an incident position of light incident on the light dispersing means.
波長を一定の周期で掃引させながらレーザ光を射出する光源と、
該光源から射出された前記レーザ光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、
前記測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、
該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光の周波数および強度に基づいて、前記測定対象の各深さ位置における前記反射光の強度を検出する干渉光検出手段と、
該干渉光検出手段により検出された前記各深さ位置における前記干渉光の強度を用いて前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段とを有する光断層画像化装置において、
前記光源が、光増幅手段と、
該光増幅手段から射出された光を偏向する回転型の光偏向手段と、
該光偏向手段により偏向された光の入射角度または入射位置が変わることにより入射方向に戻る光の波長が変化する波長選択手段とを有する波長掃引光源であって、
前記波長選択手段が、複数の、前記入射方向へ戻る光の波長が略同一波長帯域において変化する波長選択部を有していることを特徴とする光断層画像化装置。
A light source that emits laser light while sweeping the wavelength at a constant period;
A light splitting means for splitting the laser light emitted from the light source into measurement light and reference light;
A multiplexing means for multiplexing the reflected light from the measurement object and the reference light when the measurement light is irradiated to the measurement object;
Interference light detection means for detecting the intensity of the reflected light at each depth position of the measurement object based on the frequency and intensity of the interference light between the reflected light and the reference light combined by the multiplexing means; ,
In an optical tomographic imaging apparatus comprising: an image acquisition unit configured to acquire a tomographic image of the measurement target using the intensity of the interference light at each depth position detected by the interference light detection unit;
The light source comprises light amplifying means;
A rotating light deflecting means for deflecting the light emitted from the light amplifying means;
A wavelength swept light source having wavelength selection means for changing the wavelength of light returning to the incident direction by changing the incident angle or the incident position of the light deflected by the light deflecting means,
The optical tomography apparatus according to claim 1, wherein the wavelength selection unit includes a plurality of wavelength selection units in which wavelengths of light returning to the incident direction change in substantially the same wavelength band.
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