JP2007302617A - Heterocyclic derivative and method for using the derivative as insecticide - Google Patents

Heterocyclic derivative and method for using the derivative as insecticide Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound represented by the general formula (1) and exhibiting a high insecticidal effect, and to provide an insecticide containing the compound as an active ingredient. <P>SOLUTION: The compound represented by the general formula (1) [Het is a five-membered aromatized heterocyclic group; Z is -C(=G<SB>1</SB>)Q<SB>1</SB>, -C(=G<SB>1</SB>)G<SB>2</SB>R<SB>3</SB>(G<SB>1</SB>, G<SB>2</SB>are each O or the like; Q<SB>1</SB>, R<SB>3</SB>are each a substituted phenyl, a substituted heterocyclic group, a 1 to 6C alkyl, a 1 to 6C haloalkyl, or the like), or the like; X is H, a 1 to 3C alkyl or the like; (n) is an integer to 0 to 3; G<SB>3</SB>is O or the like; Q<SB>2</SB>is a substituted phenyl; a substituted pyridyl or the like; R<SB>1</SB>, R<SB>2</SB>are each H, a 1 to 4C alkyl, or the like], and the insecticide containing the compound as an active ingredient. The compound of the present invention exhibits high insecticidal activities and excellent control effects against various insect pests. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な複素環誘導体および該化合物を有効成分として含有する殺虫剤としての使用方法に関するものである。   The present invention relates to a novel heterocyclic derivative and a method of using it as an insecticide containing the compound as an active ingredient.

国際公開第2005/21488号パンフレットには、殺虫剤として本発明化合物と類似した化合物の記載が認められるが、本発明における特許請求の範囲外の化合物であることが明らかである。   In WO 2005/21488, a compound similar to the compound of the present invention is recognized as an insecticide, but it is clear that the compound is outside the scope of the claims of the present invention.

国際公開第2005/73165号パンフレットには、殺虫剤として本発明化合物と類似した化合物の記載が認められるが、本発明における特許請求の範囲外の化合物であることが明らかである。
国際公開第2005/21488号パンフレット 国際公開第2005/73165号パンフレット
In WO 2005/73165 pamphlet, description of a compound similar to the compound of the present invention as an insecticide is recognized, but it is clear that the compound is outside the scope of the claims of the present invention.
International Publication No. 2005/21488 Pamphlet International Publication No. 2005/73165 Pamphlet

本発明の目的は、高い殺虫効果を有する殺虫剤を提供することにある。また、本発明の他の目的は、一般式(1)で表される化合物を有効成分として含有する殺虫剤を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an insecticide having a high insecticidal effect. Another object of the present invention is to provide an insecticide containing the compound represented by the general formula (1) as an active ingredient.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明の化合物は文献未記載の新規な化合物であり顕著に優れた殺虫効果を有することを見出し、本発明を完成するに至ったものである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the compound of the present invention is a novel compound not described in the literature and has a remarkably excellent insecticidal effect, and has completed the present invention. It has come to be.

すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]一般式(1)(化1)
That is, the present invention is as follows.
[1] General formula (1)

Figure 2007302617
Figure 2007302617

{式中、Hetは5員環の芳香化された複素環基(ここでいう芳香化された5員環の複素環基とは、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、フリル基、チエニル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基を示す。)、
Zは−C(=G)Q、−C(=G)G、−SOまたは−Q(式中、G、Gは酸素原子または硫黄原子を示し、
、R
C1−C6アルキル基、
C1−C6ハロアルキル基、
C2−C6アルケニル基、
C2−C6ハロアルケニル基、
C2−C6アルキニル基、
C2−C6ハロアルキニル基、
C3−C8シクロアルキル基、
C3−C8ハロシクロアルキル基、
フェニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
{In the formula, Het is a 5-membered aromatic heterocyclic group (herein, the aromatic 5-membered heterocyclic group is pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, A thiazolyl group, an isothiazolyl group, a thiadiazolyl group, a furyl group, a thienyl group, an oxadiazolyl group and a triazolyl group).
Z is -C (= G 1) Q 1 , -C (= G 1) G 2 R 3, -SO 2 Q 1 or -Q 1 (wherein, G 1, G 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom ,
Q 1 and R 3 are C1-C6 alkyl groups,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C2-C6 alkenyl group,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group,
A C3-C8 halocycloalkyl group,
A phenyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement Fe Group,
A naphthyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement naphth Group,
Heterocyclic group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, An oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, a thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group, or a tetrazolyl group. C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 halo An alkylthio group, 1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, A substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group (wherein the heterocyclic group is a pyridyl group, pyridine- N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl Group, thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group.),

−E−Z−R
(式中、
はC1−C4アルキレン基、C2−C4アルケニレン基、C2−C4アルキニレン基、C1−C4ハロアルキレン基、C2−C4ハロアルケニレン基、またはC3−C4ハロアルキニレン基を示し、
は水素原子、C1−C6アルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6ハロアルキニル基、
C3−C8シクロアルキル基、
C3−C8ハロシクロアルキル基、
フェニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基を示し(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
-E 1 -Z 1 -R 4
(Where
E 1 represents a C1-C4 alkylene group, a C2-C4 alkenylene group, a C2-C4 alkynylene group, a C1-C4 haloalkylene group, a C2-C4 haloalkenylene group, or a C3-C4 haloalkynylene group,
R 4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 haloalkynyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group,
A C3-C8 halocycloalkyl group,
A phenyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement Fe Group,
A naphthyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement naphth Group,
Heterocyclic group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, An oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, a thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group), or the same or different, a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 halo An alkylthio group, 1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, A substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group is shown (the heterocyclic group here is a pyridyl group, Pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiyl Zoriru group, thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group.),

は−O−、−S−、−SO−、−SO−、−C(=O)−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−N(R)−、−C(=O)N(R)−、または−N(R)C(=O)−(Rは水素原子、C1−C4アルキル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、またはC1−C4アルコキシカルボニル基を示す。)を示す。)、
または−E−R
(式中、
はC1−C4アルキレン基、C2−C4アルケニレン基、C2−C4アルキニレン基、C1−C4ハロアルキレン基、C2−C4ハロアルケニレン基、またはC3−C4ハロアルキニレン基を示し、

C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、
シアノ基、
ニトロ基、
ヒドロキシ基、
フェニル基、
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、あるいは
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
あるいは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)を示す。)であり、
は酸素原子または硫黄原子を示し、
Xは同一または異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基、またはトリフルオロメチル基を示し、
nは0から3の整数を示し、
はフェニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、フェニル基、同一または異なっていても良くハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基で置換されていても良いフェニル基、チエニル基、同一または異なっていても良くハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基で置換されていても良いチエニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
テトラヒドロナフタレン基、
あるいは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基から選択される1以上の置換基を有するテトラヒドロナフタレン基であり、
、Rはそれぞれ、水素原子、酸素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、
C1−C4アルキル基、
C1−C4アルキルカルボニル基、
C1−C4ハロアルキルカルボニル基、
C2−C4アルケニル基、
C2−C4ハロアルケニル基、
C2−C4アルキニル基、
C2−C4ハロアルキニル基、
C1−C4アルコキシカルボニル基、
C1−C4ハロアルコキシカルボニル基、
C2−C4アルケニルオキシカルボニル基、
C2−C4アルキニルオキシカルボニル基、
フェノキシカルボニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基、
C1−C4アルキルアミノカルボニル基、
C1−C4ハロアルキルアミノカルボニル基、
C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、
C1−C4ハロアルキルカルボニルオキシ基、
ベンゾイル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンゾイル基、
C1−C4アルコキシ基、
C1−C4ハロアルコキシ基、
ベンジルオキシカルボニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンジルオキシカルボニル基、
C1−C4アルキルチオ基、
C1−C4ハロアルキルチオ基、
C1−C4アルキルスルフィニル基、
C1−C4ハロアルキルスルフィニル基、
C1−C4アルキルスルホニル基、
C1−C4ハロアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンゼンスルホニル基、
ベンジルスルホニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンジルスルホニル基、
C1−C4アルコキシC1−C4アルキル基、
C1−C4ハロアルコキシC1−C4アルキル基、
またはC(=O)C(=O)R(式中R
C1−C6アルキル基、
C1−C6ハロアルキル基、
C3−C8シクロアルキル基、
C3−C8ハロシクロアルキル基、
C1−C6アルコキシ基、
またはC1−C6ハロアルコキシ基を示す)を示す。}
で表される化合物。
Z 1 represents —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —C (═O) —, —C (═O) O—, —OC (═O) —, —N (R 5 ) -, - C (= O ) N (R 5) -, or -N (R 5) C (= O) - (R 5 is a hydrogen atom, C1-C4 alkyl groups, C1-C4 alkylcarbonyl groups, C1 -Represents a C4 haloalkylcarbonyl group or a C1-C4 alkoxycarbonyl group. ),
Or -E 2 -R 6
(Where
E 2 represents a C1-C4 alkylene group, a C2-C4 alkenylene group, a C2-C4 alkynylene group, a C1-C4 haloalkylene group, a C2-C4 haloalkenylene group, or a C3-C4 haloalkynylene group,
R 6 is a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group,
A cyano group,
Nitro group,
A hydroxy group,
Phenyl group,
May be the same or different, and may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group A substituted phenyl group having one or more substituents selected from a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group,
A naphthyl group,
May be the same or different, and may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group A substituted naphthyl group having one or more substituents selected from a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, Or complex Group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, oxazolyl group) , Isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, pyrrole group, imidazolyl group, triazolyl group, pyrazolyl group or tetrazolyl group).
Alternatively, they may be the same or different and may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group. Group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy Substituted heterocyclic ring having one or more substituents selected from a group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group Group (where Heterocyclic groups are pyridyl, pyridine-N-oxide, pyrimidinyl, pyrazinyl, pyridazyl, furyl, tetrahydrofuryl, thienyl, tetrahydrothienyl, tetrahydropyranyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl Group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, pyrrole group, imidazolyl group, triazolyl group, pyrazolyl group, or tetrazolyl group). ) And
G 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom,
X may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, or a trifluoromethyl group,
n represents an integer of 0 to 3,
Q 2 may be a phenyl group, or may be the same or different, and may be a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group. C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, C1 -C6 haloalkylsulfonyloxy group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, phenyl group, the same or different, halogen atom, C1 -C6 Alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyloxy group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group A phenyl group, a thienyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, C1- A substituted phenyl group having one or more substituents selected from a thienyl group optionally substituted with a C6 haloalkylsulfonyloxy group, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, and a pentafluorosulfanyl group,
A naphthyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group A substituted naphthyl group having one or more substituents selected from a group, a hydroxy group, and a pentafluorosulfanyl group,
Heterocyclic group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group) Group, a thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group, or a tetrazolyl group), or the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, C1 -C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkyl Sul A substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from a nyl group, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, and a pentafluorosulfanyl group (wherein the heterocyclic group is a pyridyl group, a pyridine-N-oxide group) , Pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, imidazolyl group, triazolyl group, pyrazolyl group, or tetrazolyl group. ,
Tetrahydronaphthalene group,
Alternatively, they may be the same or different, and may be a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 alkylthio group, a C1-C6 haloalkylthio group, One or more substitutions selected from C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group A tetrahydronaphthalene group having a group,
R 1 and R 2 are each a hydrogen atom, oxygen atom, halogen atom, hydroxy group, cyano group, nitro group, nitroso group, trimethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group,
A C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 alkylcarbonyl group,
A C1-C4 haloalkylcarbonyl group,
A C2-C4 alkenyl group,
A C2-C4 haloalkenyl group,
A C2-C4 alkynyl group,
A C2-C4 haloalkynyl group,
A C1-C4 alkoxycarbonyl group,
A C1-C4 haloalkoxycarbonyl group,
A C2-C4 alkenyloxycarbonyl group,
A C2-C4 alkynyloxycarbonyl group,
Phenoxycarbonyl group, which may be the same or different, may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1 -C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, One or more substituents selected from a nitro group, a hydroxy group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group Yes Substituted phenoxycarbonyl group that,
A C1-C4 alkylaminocarbonyl group,
A C1-C4 haloalkylaminocarbonyl group,
A C1-C4 alkylcarbonyloxy group,
A C1-C4 haloalkylcarbonyloxy group,
Benzoyl group, which may be the same or different, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement Benzoyl group,
A C1-C4 alkoxy group,
A C1-C4 haloalkoxy group,
A benzyloxycarbonyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group One or more substituents selected from nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Substituted benzyloxycarbonyl group having,
A C1-C4 alkylthio group,
A C1-C4 haloalkylthio group,
A C1-C4 alkylsulfinyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl group,
Benzenesulfonyl group, which may be the same or different, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1 -C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, One or more substituents selected from a nitro group, a hydroxy group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group Have Substituted benzenesulfonyl group,
Benzylsulfonyl group, which may be the same or different, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1 -C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, One or more substituents selected from a nitro group, a hydroxy group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group Have Substituted benzylsulfonyl group,
A C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C1-C4 alkyl group,
Or C (= O) C (= O) R 7 (wherein R 7 is a C1-C6 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group,
A C3-C8 halocycloalkyl group,
A C1-C6 alkoxy group,
Or a C1-C6 haloalkoxy group). }
A compound represented by

[2]一般式(1)で表される化合物が下記の一般式(2)(化2) [2] The compound represented by the general formula (1) is represented by the following general formula (2)

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、A、E、Dは互いに独立して炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を示し、X、n、R、R、G、Z、Qは上記と同じ意味を示す。)で表される請求項1記載の化合物。 (In the formula, A, E, and D independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and X, n, R 1 , R 2 , G 3 , Z, and Q 2 have the same meaning as described above. The compound of Claim 1 represented by this.

[3]一般式(2)において、Zが−C(=G)Q、−C(=G)Gであり、Qが一般式(3)(化3) [3] In the general formula (2), Z is —C (= G 1 ) Q 1 , —C (= G 1 ) G 2 R 3 , and Q 2 is the general formula (3) (Chemical Formula 3)

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Y、Yは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、シアノ基を示し、YはC1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6ハロアルキルチオ基C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基を示し、Y、Yは水素原子、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基を示す。)で表されるか、もしくは、一般式(4)(化4) (Wherein Y 1 and Y 5 may be the same or different and are each a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C1-C3 alkoxy group, a C1-C3 haloalkoxy group, a C1-C3 alkylthio group). Group, C1-C3 haloalkylthio group, C1-C3 alkylsulfinyl group, C1-C3 haloalkylsulfinyl group, C1-C3 alkylsulfonyl group, C1-C3 haloalkylsulfonyl group, cyano group, Y 3 is a C1-C6 haloalkyl group , A C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 haloalkylthio group, a C1-C6 haloalkylsulfinyl group, and a C1-C6 haloalkylsulfonyl group, Y 2 and Y 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, and a C1-C4 alkyl group. ) Or the general formula (4)

Figure 2007302617
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(式中、Y、Yは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、シアノ基を示し、YはC1−C6ハロアルキル基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基を示し、Yは水素原子、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基を示す。)で表される
[2]に記載の化合物。
(Wherein Y 6 and Y 9 may be the same or different and are each a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C1-C3 alkoxy group, a C1-C3 haloalkoxy group, a C1-C3 alkylthio group). Group, C1-C3 haloalkylthio group, C1-C3 alkylsulfinyl group, C1-C3 haloalkylsulfinyl group, C1-C3 alkylsulfonyl group, C1-C3 haloalkylsulfonyl group, cyano group, Y 8 is a C1-C6 haloalkyl group , C1-C4 haloalkoxy group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, a C1-C6 haloalkylsulfonyl group, Y 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, in.) showing the C1-C4 alkyl group The compound of [2] represented.

[4]一般式(2)において、Aが硫黄原子、Eが窒素原子、Dが炭素原子であるか、もしくはAとEが炭素原子、Dが窒素原子である[3]に記載の化合物 [4] The compound according to [3], wherein in general formula (2), A is a sulfur atom, E is a nitrogen atom, D is a carbon atom, or A and E are carbon atoms, and D is a nitrogen atom.

[5][1]から[4]の何れか一項に記載の化合物を有効成分として含有することを特徴とする殺虫剤。 [5] An insecticide comprising the compound according to any one of [1] to [4] as an active ingredient.

本発明の化合物は種々の害虫に対して防除効果を示し、有用作物を保護する効果と共に、低薬量化により環境への負荷低減に大きく貢献する効果がある。   The compound of the present invention exhibits a control effect against various pests, and has the effect of greatly contributing to the reduction of environmental burden by reducing the amount of drug, as well as the effect of protecting useful crops.

本発明の一般式(1)などの一般式において使用される文言はその定義においてそれぞれ以下に説明されるような意味を有する。   Terms used in general formulas such as the general formula (1) of the present invention have the meanings described below in their definitions.

「5員環の芳香化された複素環」とは、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、フリル基、チエニル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基等の5員環の複素環基を意味する。   “5-membered aromatized heterocycle” means pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl, furyl, thienyl, oxadiazolyl, triazolyl A 5-membered heterocyclic group such as

「ハロゲン原子」とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。
「Ca−Cb(a、bは1以上の整数を表す)」との表記は、例えば、「C1−C3」とは炭素原子数が1〜3個であることを意味し、「C2−C6」とは炭素原子数が2〜6個であることを意味し、「C1−C4」とは炭素原子数が1〜4個であることを意味する。
「n−」とはノルマルを意味し、「i−」はイソを意味し、「s−」はセカンダリーを意味し、「t−」はターシャリーを意味する。
“Halogen atom” refers to a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
The notation "Ca-Cb (a, b represents an integer of 1 or more)" means, for example, that "C1-C3" has 1 to 3 carbon atoms, and "C2-C6 "Means 2 to 6 carbon atoms, and" C1-C4 "means 1 to 4 carbon atoms.
“N-” means normal, “i-” means iso, “s-” means secondary, and “t-” means tertiary.

「C1−C4アルキル基」とは例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、シクロプロピル、n−ブチル、s−ブチル、i−ブチル、t−ブチルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキル基を示す。   “C1-C4 alkyl group” means, for example, linear or branched chain such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, cyclopropyl, n-butyl, s-butyl, i-butyl, t-butyl, etc. An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

「C1−C6アルキル基」とは例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、2−ペンチル、ネオペンチル、4−メチル−2−ペンチル、n−ヘキシル、3−メチル−n−ペンチルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキル基を示す。   “C1-C6 alkyl group” means, for example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, 2-pentyl, neopentyl, 4-methyl-2 -A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as -pentyl, n-hexyl, 3-methyl-n-pentyl and the like.

「C1-C4ハロアルキル基」とは例えば、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、モノクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、モノブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、1−クロロエチル、2−クロロエチル、2,2−ジクロロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、1−ブロモエチル、2−ブロモエチル、2,2−ジブロモエチル、2,2,2−トリブロモエチル、2−ヨードエチル、ペンタフルオロエチル、3−フルオロ−n−プロピル、3−クロロ−n−プロピル、3−ブロモ−n−プロピル、1,3−ジフルオロ−2−プロピル、1,3−ジクロロ−2−プロピル、1,1,1−トリフルオロ−2−プロピル、1−クロロ−3−フルオロ−2−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロー2−プロピル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−n−プロピル、ヘプタフルオロ−i−プロピル、ヘプタフルオロ−n−プロピル、4−フルオロ−n−ブチル、ノナフルオロ−n−ブチル、ノナフルオロ−2−ブチルなどの同一または異なっていても良い1以上のハロゲン原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキル基を示す。   The “C1-C4 haloalkyl group” means, for example, monofluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, monochloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, monobromomethyl, dibromomethyl, tribromomethyl, 1-fluoroethyl, 2-fluoro Ethyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 1-chloroethyl, 2-chloroethyl, 2,2-dichloroethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 1-bromoethyl, 2-bromoethyl 2,2-dibromoethyl, 2,2,2-tribromoethyl, 2-iodoethyl, pentafluoroethyl, 3-fluoro-n-propyl, 3-chloro-n-propyl, 3-bromo-n-propyl, 1,3-difluoro-2-propyl, 1,3-dichloro-2-propyl, 1 , 1,1-trifluoro-2-propyl, 1-chloro-3-fluoro-2-propyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl, 1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2-chloro-2-propyl, 2,2,3,3,3-pentafluoro-n-propyl, heptafluoro-i-propyl, heptafluoro-n-propyl, 4-fluoro- linear or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different, such as n-butyl, nonafluoro-n-butyl, nonafluoro-2-butyl, etc. Indicates a group.

「C1−C6ハロアルキル基」とは例えば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロ−n−プロピル、ヘプタフルオロ−i−プロピル、2,2−ジフルオロエチル、2,2−ジクロロエチル、1,3−ジフルオロ−2−プロピル、1,3−ジクロロ−2−プロピル、1−クロロ−3−フルオロ−2−プロピル、1,1,1−トリフルオロ−2−プロピル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、2,2,2−トリブロモエチル、3,3,3−トリフルオロ−n−プロピル、4,4,4−トリフルオロ−n−ブチル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−2−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−2−プロピル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−n−プロピル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−n−プロピル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ブロモ−2−プロピル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−n−プロピル、3,3,4,4,4−ペンタフルオロ−2−ブチル、ノナフルオロ−n−ブチル、ノナフルオロ−2−ブチル、2−フルオロエチル、2−クロロエチル、2−ブロモエチル、2−ヨードエチル、3−フルオロ−n−プロピル、3−クロロ−n−プロピル、3−ブロモ−n−プロピルなどの同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキル基を示す。   Examples of the “C1-C6 haloalkyl group” include trifluoromethyl, pentafluoroethyl, heptafluoro-n-propyl, heptafluoro-i-propyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2-dichloroethyl, 1,3 -Difluoro-2-propyl, 1,3-dichloro-2-propyl, 1-chloro-3-fluoro-2-propyl, 1,1,1-trifluoro-2-propyl, 2,2,2-trifluoro Ethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 2,2,2-tribromoethyl, 3,3,3-trifluoro-n-propyl, 4,4,4-trifluoro-n-butyl, 1,1 , 1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-chloro-2-propyl, 1,1,1,3,3,3 -Hexafluoro 2-bromo-2-propyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-chloro-n-propyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-bromo- n-propyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-bromo-2-propyl, 2,2,3,3,3-pentafluoro-n-propyl, 3,3,4, 4,4-pentafluoro-2-butyl, nonafluoro-n-butyl, nonafluoro-2-butyl, 2-fluoroethyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-iodoethyl, 3-fluoro-n-propyl, 3- A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms, which may be the same or different, such as chloro-n-propyl and 3-bromo-n-propyl; Show.

「C2−C4アルケニル基」とは例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどの炭素鎖の中に二重結合を有する炭素原子数2〜4個のアルケニル基を示す。   The “C2-C4 alkenyl group” refers to an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms having a double bond in a carbon chain such as vinyl, allyl, 2-butenyl, and 3-butenyl.

「C2−C6アルケニル基」とは例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどの炭素鎖の中に二重結合を有する炭素原子数2〜6個のアルケニル基を示す。   The “C2-C6 alkenyl group” refers to an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms having a double bond in a carbon chain such as vinyl, allyl, 2-butenyl, and 3-butenyl.

「C2−C4ハロアルケニル基」とは例えば、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル、3,3−ジクロロ−2−プロペニル、3,3−ジブロモ−2−プロペニル、2,3−ジブロモ−2−プロペニル、4,4−ジフルオロ−3−ブテニル、3,4,4−トリブロモ−3−ブテニルなどの同一または異なっていても良い1以上のハロゲン原子によって置換された炭素鎖の中に二重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルケニル基を示す。   Examples of the “C2-C4 haloalkenyl group” include 3,3-difluoro-2-propenyl, 3,3-dichloro-2-propenyl, 3,3-dibromo-2-propenyl, 2,3-dibromo-2- A double bond in the carbon chain substituted by one or more halogen atoms, which may be the same or different, such as propenyl, 4,4-difluoro-3-butenyl, 3,4,4-tribromo-3-butenyl, etc. And a linear or branched alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms.

「C2−C6ハロアルケニル基」とは例えば、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル、3,3−ジクロロ−2−プロペニル、3,3−ジブロモ−2−プロペニル、2,3−ジブロモ−2−プロペニル、4,4−ジフルオロ−3−ブテニル、3,4,4−トリブロモ−3−ブテニルなどの同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された炭素鎖の中に二重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜6個のアルケニル基を示す。   Examples of the “C2-C6 haloalkenyl group” include 3,3-difluoro-2-propenyl, 3,3-dichloro-2-propenyl, 3,3-dibromo-2-propenyl, 2,3-dibromo-2- Double bonds in carbon chains substituted by one or more halogen atoms, which may be the same or different, such as propenyl, 4,4-difluoro-3-butenyl, 3,4,4-tribromo-3-butenyl, etc. And a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms.

「C2−C4アルキニル基」とは例えば、プロパルギル、1−ブチン−3−イルなどの炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルキニル基を示す。
「C2−C6アルキニル基」とは例えば、プロパルギル、1−ブチン−3−イル、1−ブチン−3−メチル−3−イルなどの炭素鎖の中に三重結合を有する炭素原子数2〜6個のアルキニル基を示す。
The “C2-C4 alkynyl group” is, for example, a linear or branched alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms having a triple bond in a carbon chain such as propargyl or 1-butyn-3-yl. Show.
The “C2-C6 alkynyl group” means, for example, 2 to 6 carbon atoms having a triple bond in a carbon chain such as propargyl, 1-butyn-3-yl, 1-butyn-3-methyl-3-yl, etc. Represents an alkynyl group.

「C2−C4ハロアルキニル基」とは例えば、同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルキニル基を示す。   The “C2-C4 haloalkynyl group” means, for example, a linear or branched carbon atom having a triple bond in a carbon chain substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different. Four alkynyl groups are shown.

「C2−C6ハロアルキニル基」とは例えば、同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜6個のアルケニル基を示す。   The “C2-C6 haloalkynyl group” means, for example, a linear or branched carbon atom having a triple bond in a carbon chain substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different. 6 alkenyl groups are shown.

「C3−C8シクロアルキル基」とは例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、2−メチルシクロペンチル、3−メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、2−メチルシクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシルなどの環状構造を有する炭素原子数3〜8個のシクロアルキル基を示す。   “C3-C8 cycloalkyl group” means, for example, a cyclic structure such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 2-methylcyclopentyl, 3-methylcyclopentyl, cyclohexyl, 2-methylcyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl and the like. And a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms.

「C3−C8ハロシクロアルキル基」とは例えば、2,2,3,3−テトラフルオロシクロブチル、2−クロロシクロヘキシル、4−クロロシクロヘキシルなどの同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された環状構造を有する炭素原子数3〜8個のシクロアルキル基を示す。   “C3-C8 halocycloalkyl group” means, for example, one or more halogen atoms which may be the same or different, such as 2,2,3,3-tetrafluorocyclobutyl, 2-chlorocyclohexyl, 4-chlorocyclohexyl and the like. A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms having a substituted cyclic structure is shown.

「C1-C3アルコキシ基」とは例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルコキシ基を示す。   The “C1-C3 alkoxy group” refers to a linear or branched alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy and the like.

「C1−C4アルコキシ基」とは例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、i−ブチルオキシ、s−ブチルオキシ、t−ブチルオキシなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルコキシ基を示す。   The “C1-C4 alkoxy group” is, for example, a linear or branched carbon atom such as methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, i-butyloxy, s-butyloxy, t-butyloxy, etc. A several 1-4 alkoxy group is shown.

「C1−C6アルコキシ基」とは例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、n−ブトキシ、s−ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルコキシ基を示す。   “C1-C6 alkoxy group” means, for example, a linear or branched carbon atom such as methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, t-butoxy and the like A 1-6 alkoxy group is shown.

「C1-C3ハロアルコキシ基」とは例えば、トリフルオロメトキシ、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、2−クロロエトキシ,3−フルオロ−n−プロピルオキシなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルコキシ基を示す。   Examples of the “C1-C3 haloalkoxy group” include trifluoromethoxy, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyloxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 2-chloroethoxy. , 3-fluoro-n-propyloxy or the like, a linear or branched alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different.

「C1−C4ハロアルコキシ基」とは例えば、トリフルオロメトキシ、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、2−クロロエトキシ,3−フルオロ−n−プロピルオキシ、1,1,1,3,3,4,4,4−オクタフルオロ−2−ブチルオキシなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルコキシ基を示す。   Examples of the “C1-C4 haloalkoxy group” include trifluoromethoxy, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyloxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 2-chloroethoxy. , 3-fluoro-n-propyloxy, 1,1,1,3,3,4,4,4-octafluoro-2-butyloxy and the like, which may be substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.

「C1−C6ハロアルコキシ基」とは例えば、トリフルオロメトキシ、ペンタフルオロエトキシ、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ、ヘプタフルオロ−n−プロピルオキシ、ヘプタフルオロ−i−プロピルオキシ、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシ、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、2−クロロエトキシ,3−フルオロ−n−プロピルオキシなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のハロアルコキシ基を示す。   Examples of the “C1-C6 haloalkoxy group” include trifluoromethoxy, pentafluoroethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, heptafluoro-n-propyloxy, heptafluoro-i-propyloxy, 1, 1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propyloxy, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyloxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 2- A linear or branched haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different, such as chloroethoxy and 3-fluoro-n-propyloxy Show.

「C1−C3アルキルチオ基」とは例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、i−プロピルチオ、シクロプロピルチオなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルキルチオ基を示す。   The “C1-C3 alkylthio group” refers to a linear or branched alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms such as methylthio, ethylthio, n-propylthio, i-propylthio, cyclopropylthio and the like.

「C1−C4アルキルチオ基」とは例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、i−プロピルチオ、シクロプロピルチオ、n−ブチルチオ、i−ブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、シクロプロピルメチルチオなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルチオ基を示す。   Examples of the “C1-C4 alkylthio group” include linear chains such as methylthio, ethylthio, n-propylthio, i-propylthio, cyclopropylthio, n-butylthio, i-butylthio, s-butylthio, t-butylthio, cyclopropylmethylthio and the like. Or a branched alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms.

「C1−C6アルキルチオ基」とは例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、i−プロピルチオ、n−ブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキルチオ基を示す。   The “C1-C6 alkylthio group” is, for example, a linear or branched carbon atom number of 1 to 6 such as methylthio, ethylthio, n-propylthio, i-propylthio, n-butylthio, s-butylthio, t-butylthio and the like. Represents an alkylthio group.

「C1−C3ハロアルキルチオ基」とは例えば、トリフルオロメチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、2,2,2−トリフルオロエチルチオ、ヘプタフルオロ−n−プロピルチオ、ヘプタフルオロ−i−プロピルチオなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルキルチオ基を示す。   The “C1-C3 haloalkylthio group” is the same or different, for example, trifluoromethylthio, pentafluoroethylthio, 2,2,2-trifluoroethylthio, heptafluoro-n-propylthio, heptafluoro-i-propylthio, etc. A linear or branched alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be present.

「C1−C4ハロアルキルチオ基」とは例えば、トリフルオロメチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、2,2,2−トリフルオロエチルチオ、ヘプタフルオロ−n−プロピルチオ、ヘプタフルオロ−i−プロピルチオ、ノナフルオロ−n−ブチルチオ、ノナフルオロ−s−ブチルチオ、4,4,4−トリフルオロ−n−ブチルチオなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルチオ基を示す。   Examples of the “C1-C4 haloalkylthio group” include trifluoromethylthio, pentafluoroethylthio, 2,2,2-trifluoroethylthio, heptafluoro-n-propylthio, heptafluoro-i-propylthio, nonafluoro-n- Linear or branched carbon atoms substituted by one or more halogen atoms, which may be the same or different, such as butylthio, nonafluoro-s-butylthio, 4,4,4-trifluoro-n-butylthio, etc. 1-4 alkylthio groups are shown.

「C1−C6ハロアルキルチオ基」とは例えば、トリフルオロメチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、1,1,2,2−テトラフルオロエチルチオ、2,2,2−トリフルオロエチルチオ、ヘプタフルオロ−n−プロピルチオ、ヘプタフルオロ−i−プロピルチオ、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルチオ、ノナフルオロ−n−ブチルチオ、ノナフルオロ−2−ブチルチオなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキルチオ基を示す。   Examples of the “C1-C6 haloalkylthio group” include trifluoromethylthio, pentafluoroethylthio, 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio, 2,2,2-trifluoroethylthio, heptafluoro-n—. 1 which may be the same or different, such as propylthio, heptafluoro-i-propylthio, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylthio, nonafluoro-n-butylthio, nonafluoro-2-butylthio A linear or branched alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms substituted with the above halogen atom is shown.

「C1−C3アルキルスルフィニル基」とは例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル、i−プロピルスルフィニル、シクロプロピルスルフィニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルキルスルフィニル基を示す。   The “C1-C3 alkylsulfinyl group” is, for example, a linear or branched alkyl having 1 to 3 carbon atoms such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, n-propylsulfinyl, i-propylsulfinyl, cyclopropylsulfinyl and the like. A sulfinyl group;

「C1−C4アルキルスルフィニル基」とは例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル、i−プロピルスルフィニル、シクロプロピルスルフィニル、n−ブチルスルフィニル、i−ブチルスルフィニル、s-ブチルスルフィニル、t-ブチルスルフィニル、シクロブチルスルフィニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルスルフィニル基を示す。   “C1-C4 alkylsulfinyl group” means, for example, methylsulfinyl, ethylsulfinyl, n-propylsulfinyl, i-propylsulfinyl, cyclopropylsulfinyl, n-butylsulfinyl, i-butylsulfinyl, s-butylsulfinyl, t-butyl A linear or branched alkylsulfinyl group having 1 to 4 carbon atoms such as sulfinyl and cyclobutylsulfinyl is shown.

「C1−C6アルキルスルフィニル基」とは例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル、i−プロピルスルフィニル、n−ブチルスルフィニル、s−ブチルスルフィニル、t−ブチルスルフィニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキルスルフィニル基を示す。   “C1-C6 alkylsulfinyl group” means, for example, linear or branched chain such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, n-propylsulfinyl, i-propylsulfinyl, n-butylsulfinyl, s-butylsulfinyl, t-butylsulfinyl, etc. An alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms.

「C1−C3ハロアルキルスルフィニル基」とは例えば、トリフルオロメチルスルフィニル、ペンタフルオロエチルスルフィニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルフィニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルフィニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルキルスルフィニル基を示す。   Examples of the “C1-C3 haloalkylsulfinyl group” include trifluoromethylsulfinyl, pentafluoroethylsulfinyl, 2,2,2-trifluoroethylsulfinyl, heptafluoro-n-propylsulfinyl, heptafluoro-i-propylsulfinyl and the like. A linear or branched alkylsulfinyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different.

「C1−C4ハロアルキルスルフィニル基」とは例えば、トリフルオロメチルスルフィニル、ペンタフルオロエチルスルフィニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルフィニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルフィニル、ノナフルオロ−n−ブチルスルフィニル、ノナフルオロ−s−ブチルスルフィニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルスルフィニル基を示す。   Examples of the “C1-C4 haloalkylsulfinyl group” include trifluoromethylsulfinyl, pentafluoroethylsulfinyl, 2,2,2-trifluoroethylsulfinyl, heptafluoro-n-propylsulfinyl, heptafluoro-i-propylsulfinyl, nonafluoro A linear or branched alkylsulfinyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different, such as n-butylsulfinyl and nonafluoro-s-butylsulfinyl Indicates.

「C1−C6ハロアルキルスルフィニル基」とは例えば、トリフルオロメチルスルフィニル、ペンタフルオロエチルスルフィニル、1,1,2,2−テトラフルオロエチルスルフィニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルフィニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルフィニル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルフィニル、ノナフルオロ−n−ブチルスルフィニル、ノナフルオロ−2−ブチルスルフィニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキルスルフィニル基を示す。   Examples of the “C1-C6 haloalkylsulfinyl group” include trifluoromethylsulfinyl, pentafluoroethylsulfinyl, 1,1,2,2-tetrafluoroethylsulfinyl, 2,2,2-trifluoroethylsulfinyl, heptafluoro-n. Identical or different such as -propylsulfinyl, heptafluoro-i-propylsulfinyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylsulfinyl, nonafluoro-n-butylsulfinyl, nonafluoro-2-butylsulfinyl Or a linear or branched alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms, which may be substituted with one or more halogen atoms.

「C1−C3アルキルスルホニル基」とは例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、i−プロピルスルホニル、シクロプロピルスルホニル、シクロプロピルスルホニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルキルスルホニル基を示す。   The “C1-C3 alkylsulfonyl group” means, for example, a linear or branched carbon atom number 1 to 1 such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, i-propylsulfonyl, cyclopropylsulfonyl, cyclopropylsulfonyl and the like. 3 alkylsulfonyl groups are shown.

「C1−C4アルキルスルホニル基」とは例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、i−プロピルスルホニル、シクロプロピルスルホニル、n−ブチルスルホニル、i−ブチルスルホニル、s−ブチルスルホニル、t−ブチルスルホニル、シクロプロピルスルホニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルスルホニル基を示す。   “C1-C4 alkylsulfonyl group” means, for example, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, i-propylsulfonyl, cyclopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, i-butylsulfonyl, s-butylsulfonyl, t-butyl A linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms such as sulfonyl and cyclopropylsulfonyl is shown.

「C1−C6アルキルスルホニル基」とは例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、i−プロピルスルホニル、n−ブチルスルホニル、s−ブチルスルホニル、t−ブチルスルホニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキルスルホニル基を示す。   The “C1-C6 alkylsulfonyl group” is, for example, a linear or branched chain such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, i-propylsulfonyl, n-butylsulfonyl, s-butylsulfonyl, t-butylsulfonyl, etc. An alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms.

「C1−C3ハロアルキルスルホニル基」とは例えば、トリフルオロメチルスルホニル、ペンタフルオロエチルスルホニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルホニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルホニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜3個のアルキルスルホニル基を示す。   Examples of the “C1-C3 haloalkylsulfonyl group” include trifluoromethylsulfonyl, pentafluoroethylsulfonyl, 2,2,2-trifluoroethylsulfonyl, heptafluoro-n-propylsulfonyl, heptafluoro-i-propylsulfonyl and the like. A linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different.

「C1−C4ハロアルキルスルホニル基」とは例えば、トリフルオロメチルスルホニル、ペンタフルオロエチルスルホニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルホニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルホニル、ノナフルオロ−n−ブチルスルホニル、ノナフルオロ−s−ブチルスルホニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルスルホニル基を示す。   “C1-C4 haloalkylsulfonyl group” means, for example, trifluoromethylsulfonyl, pentafluoroethylsulfonyl, 2,2,2-trifluoroethylsulfonyl, heptafluoro-n-propylsulfonyl, heptafluoro-i-propylsulfonyl, nonafluoro A linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different, such as n-butylsulfonyl and nonafluoro-s-butylsulfonyl Indicates.

「C1−C6ハロアルキルスルホニル基」とは例えば、トリフルオロメチルスルホニル、ペンタフルオロエチルスルホニル、1,1,2,2−テトラフルオロエチルスルホニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルホニル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルフィニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルホニル、ノナフルオロ−n−ブチルスルホニル、ノナフルオロ−2−ブチルスルホニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜6個のアルキルスルホニル基を示す。   Examples of the “C1-C6 haloalkylsulfonyl group” include trifluoromethylsulfonyl, pentafluoroethylsulfonyl, 1,1,2,2-tetrafluoroethylsulfonyl, 2,2,2-trifluoroethylsulfonyl, heptafluoro-n. -Propylsulfonyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylsulfinyl, heptafluoro-i-propylsulfonyl, nonafluoro-n-butylsulfonyl, nonafluoro-2-butylsulfonyl and the like or different And a linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms.

「C1−C4アルキルカルボニル基」とは例えば、アセチル、プロピオニル、イソプロピルカルボニル、シクロプロピルカルボニルなどの直鎖状または分岐鎖状または環状の炭素原子数1〜4個のアルキルカルボニル基を示す。   The “C1-C4 alkylcarbonyl group” refers to a linear, branched or cyclic alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms such as acetyl, propionyl, isopropylcarbonyl, cyclopropylcarbonyl and the like.

「C1−C4ハロアルキルカルボニル基」とは例えば、トリフルオロアセチル、ペンタフルオロプロピオニル、トリクロロアセチル、クロロアセチル、ブロモアセチル、3−クロロプロピオニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルカルボニル基を示す。   The “C1-C4 haloalkylcarbonyl group” is substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different, such as trifluoroacetyl, pentafluoropropionyl, trichloroacetyl, chloroacetyl, bromoacetyl, 3-chloropropionyl, etc. Represents a linear or branched alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms.

「C1−C4アルキルカルボニルオキシ基」とは例えば、アセトキシ、プロピオニルオキシなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルカルボニルオキシ基を示す。   The “C1-C4 alkylcarbonyloxy group” refers to a linear or branched alkylcarbonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms such as acetoxy and propionyloxy.

「C1−C4アルコキシカルボニル基」とは例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルコキシカルボニル基を示す。   The “C1-C4 alkoxycarbonyl group” is, for example, a linear or branched alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropyloxycarbonyl or the like.

「C1−C4アルキレン基」とは例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ジメチルメチレン、イソブチレンなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキレン基を示す。   The “C1-C4 alkylene group” refers to a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms such as methylene, ethylene, propylene, dimethylmethylene, isobutylene and the like.

「C2−C4アルケニレン基」とは例えば、炭素鎖の中に二重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルケニレン基を示す。   The “C2-C4 alkenylene group” refers to, for example, a linear or branched alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms having a double bond in the carbon chain.

「C2−C4アルキニレン基」とは例えば、炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルキニレン基を示す。   The “C2-C4 alkynylene group” refers to, for example, a linear or branched alkynylene group having 2 to 4 carbon atoms having a triple bond in the carbon chain.

「C1−C4ハロアルキレン基」とは例えば、クロロメチレン、クロロエチレン、ジクロロメチレン、ジフルオロメチレンなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキレン基を示す。   The “C1-C4 haloalkylene group” is, for example, a linear or branched chain substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different, such as chloromethylene, chloroethylene, dichloromethylene, difluoromethylene and the like. An alkylene group having 1 to 4 carbon atoms is shown.

「C2−C4ハロアルケニレン基」とは例えば、同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された炭素鎖の中に二重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルキニレン基を示す。   “C2-C4 haloalkenylene group” means, for example, the number of linear or branched carbon atoms having a double bond in a carbon chain substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different. 2 to 4 alkynylene groups are shown.

「C2−C4ハロアルキニレン基」とは例えば、同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルキニレン基を示す。   The “C2-C4 haloalkynylene group” is, for example, a linear or branched carbon atom having 2 to 3 carbon atoms having a triple bond in a carbon chain substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different. Four alkynylene groups are shown.

「C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基」とは例えば、トリフルオロメチルスルホニルオキシ、ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニルオキシ、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルホニルオキシ、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルホニルオキシ、ノナフルオロ−n−ブチルスルホニルオキシ、ノナフルオロ−s−ブチルスルホニルオキシなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルスルホニルオキシ基を示す。   Examples of the “C1-C6 haloalkylsulfonyloxy group” include trifluoromethylsulfonyloxy, pentafluoroethylsulfonyloxy, 2,2,2-trifluoroethylsulfonyloxy, heptafluoro-n-propylsulfonyloxy, heptafluoro-i. Linear or branched carbon atoms substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different, such as -propylsulfonyloxy, nonafluoro-n-butylsulfonyloxy, nonafluoro-s-butylsulfonyloxy 1-4 alkylsulfonyloxy groups are shown.

「C1−C4ハロアルコキシカルボニル基」とは例えば、クロロメトキシカルボニル、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル、3,3,3−トリクロロ−n−プロピルオキシカルボニルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のハロアルコキシカルボニル基を示す。   The “C1-C4 haloalkoxycarbonyl group” may be the same or different, for example, chloromethoxycarbonyl, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl, 3,3,3-trichloro-n-propyloxycarbonyl, etc. A linear or branched haloalkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with one or more halogen atoms is shown.

「C2−C4アルケニルオキシカルボニル基」とは例えば、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、2−ブテニルオキシカルボニル、3−ブテニルオキシカルボニルなどの炭素鎖の中に二重結合を有する炭素原子数2〜4個のアルケニルオキシカルボニル基を示す。   The “C2-C4 alkenyloxycarbonyl group” means, for example, a carbon atom having a double bond in a carbon chain such as vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, 2-butenyloxycarbonyl, 3-butenyloxycarbonyl, etc. -4 alkenyloxycarbonyl groups are shown.

「C2−C4アルキニルオキシカルボニル基」とは例えば、プロパルギルオキシカルボニル、1−ブチン−3−イル-オキシカルボニルなどの炭素鎖の中に三重結合を有する直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2〜4個のアルキニルオキシカルボニル基を示す。   The “C2-C4 alkynyloxycarbonyl group” means, for example, a linear or branched carbon atom number 2 having a triple bond in a carbon chain such as propargyloxycarbonyl, 1-butyn-3-yl-oxycarbonyl, etc. -4 alkynyloxycarbonyl groups are shown.

「C1−C4アルキルアミノカルボニル基」とは例えば、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、n−プロピルアミノカルボニル、i−プロピルアミノカルボニル、シクロプロピルアミノカルボニル、n−ブチルアミノカルボニル、s−ブチルアミノカルボニル、i−ブチルアミノカルボニル、t−ブチルアミノカルボニルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルアミノカルボニル基を示す。   “C1-C4 alkylaminocarbonyl group” means, for example, methylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, n-propylaminocarbonyl, i-propylaminocarbonyl, cyclopropylaminocarbonyl, n-butylaminocarbonyl, s-butylaminocarbonyl, A linear or branched alkylaminocarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms such as i-butylaminocarbonyl and t-butylaminocarbonyl is shown.

「C1−C4ハロアルキルアミノカルボニル基」とは例えば、トリフルオロメチルアミノカルボニル、ペンタフルオロエチルアミノカルボニル、ヘプタフルオロ−n−プロピルアミノカルボニル、ヘプタフルオロ−i−プロピルアミノカルボニル、2,2−ジフルオロエチルアミノカルボニル、2,2−ジクロロエチルアミノカルボニル、1,3−ジフルオロ−2−プロピルアミノカルボニル、1,3−ジクロロ−2−プロピルアミノカルボニル、1−クロロ−3−フルオロ−2−プロピルアミノカルボニル、1,1,1−トリフルオロ−2−プロピル、2,2,2−トリフルオロエチルアミノカルボニル、2,2,2−トリクロロエチルアミノカルボニル、2,2,2−トリブロモエチルアミノカルボニル、3,3,3−トリフルオロ−n−プロピルアミノカルボニル、4,4,4−トリフルオロ−n−ブチルアミノカルボニル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−2−プロピルアミノカルボニル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−2−プロピルアミノカルボニル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−n−プロピルアミノカルボニル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−n−プロピルアミノカルボニル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ブロモ−2−プロピルアミノカルボニル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−n−プロピルアミノカルボニル、3,3,4,4,4−ペンタフルオロ−2−ブチルアミノカルボニル、ノナフルオロ−n−ブチルアミノカルボニル、ノナフルオロ−2−ブチルアミノカルボニル、2−フルオロエチルアミノカルボニル、2−クロロエチルアミノカルボニル、2−ブロモエチルアミノカルボニル、2−ヨードエチルアミノカルボニル、3−フルオロ−n−プロピルアミノカルボニル、3−クロロ−n−プロピルアミノカルボニル、3−ブロモ−n−プロピルアミノカルボニルなどの同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4のアルキルアミノカルボニル基を示す。   Examples of the “C1-C4 haloalkylaminocarbonyl group” include trifluoromethylaminocarbonyl, pentafluoroethylaminocarbonyl, heptafluoro-n-propylaminocarbonyl, heptafluoro-i-propylaminocarbonyl, 2,2-difluoroethylamino. Carbonyl, 2,2-dichloroethylaminocarbonyl, 1,3-difluoro-2-propylaminocarbonyl, 1,3-dichloro-2-propylaminocarbonyl, 1-chloro-3-fluoro-2-propylaminocarbonyl, 1 , 1,1-trifluoro-2-propyl, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl, 2,2,2-trichloroethylaminocarbonyl, 2,2,2-tribromoethylaminocarbonyl, 3,3 , 3-Trifluoro-n Propylaminocarbonyl, 4,4,4-trifluoro-n-butylaminocarbonyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl, 1,1,1,3,3,3- Hexafluoro-2-chloro-2-propylaminocarbonyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-bromo-2-propylaminocarbonyl, 1,1,2,3,3,3- Hexafluoro-2-chloro-n-propylaminocarbonyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-bromo-n-propylaminocarbonyl, 1,1,2,3,3,3- Hexafluoro-1-bromo-2-propylaminocarbonyl, 2,2,3,3,3-pentafluoro-n-propylaminocarbonyl, 3,3,4,4,4-pentafluoro-2-butylaminocarbonyl Bonyl, nonafluoro-n-butylaminocarbonyl, nonafluoro-2-butylaminocarbonyl, 2-fluoroethylaminocarbonyl, 2-chloroethylaminocarbonyl, 2-bromoethylaminocarbonyl, 2-iodoethylaminocarbonyl, 3-fluoro- linear or branched chain substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different, such as n-propylaminocarbonyl, 3-chloro-n-propylaminocarbonyl, 3-bromo-n-propylaminocarbonyl, etc. An alkylaminocarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms.

「C1−C4ハロアルキルカルボニルオキシ基」とは例えば、トリフルオロメチルカルボニルオキシ、ペンタフルオロエチルカルボニルオキシ、ヘプタフルオロ−n−プロピルカルボニルオキシ、ヘプタフルオロ−i−プロピルカルボニルオキシ、2,2−ジフルオロエチルカルボニルオキシ、2,2−ジクロロエチルカルボニルオキシ、1,3−ジフルオロ−2−プロピルカルボニルオキシ、1,3−ジクロロ−2−プロピルカルボニルオキシ、1−クロロ−3−フルオロ−2−プロピルカルボニルオキシ、1,1,1−トリフルオロ−2−プロピルカルボニルオキシ、2,2,2−トリフルオロエチルカルボニルオキシ、2,2,2−トリクロロエチルカルボニルオキシ、2,2,2−トリブロモエチルカルボニルオキシ、3,3,3−トリフルオロ−n−プロピルカルボニルオキシ、4,4,4−トリフルオロ−n−ブチルカルボニルオキシ、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルカルボニルオキシ、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−2−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−2−プロピルカルボニルオキシ、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−n−プロピルカルボニルオキシ、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−n−プロピルカルボニルオキシ、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ブロモ−2−プロピルカルボニルオキシ、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−n−プロピルカルボニルオキシ、3,3,4,4,4−ペンタフルオロ−2−ブチルカルボニルオキシ、ノナフルオロ−n−ブチルカルボニルオキシ、ノナフルオロ−2−ブチルカルボニルオキシ、2−フルオロエチル、2−クロロエチルカルボニルオキシ、2−ブロモエチルカルボニルオキシ、2−ヨードエチルカルボニルオキシ、3−フルオロ−n−プロピルカルボニルオキシ、3−クロロ−n−プロピルカルボニルオキシ、3−ブロモ−n−プロピルカルボニルオキシなどの同一または異なっていてもよい1以上のハロゲン原子によって置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のアルキルカルボニルオキシ基を示す。   Examples of the “C1-C4 haloalkylcarbonyloxy group” include trifluoromethylcarbonyloxy, pentafluoroethylcarbonyloxy, heptafluoro-n-propylcarbonyloxy, heptafluoro-i-propylcarbonyloxy, 2,2-difluoroethylcarbonyl Oxy, 2,2-dichloroethylcarbonyloxy, 1,3-difluoro-2-propylcarbonyloxy, 1,3-dichloro-2-propylcarbonyloxy, 1-chloro-3-fluoro-2-propylcarbonyloxy, 1 , 1,1-trifluoro-2-propylcarbonyloxy, 2,2,2-trifluoroethylcarbonyloxy, 2,2,2-trichloroethylcarbonyloxy, 2,2,2-tribromoethylcarbonyloxy, 3, , 3,3- Lifluoro-n-propylcarbonyloxy, 4,4,4-trifluoro-n-butylcarbonyloxy, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propylcarbonyloxy, 1,1,1, 3,3,3-hexafluoro-2-chloro-2-propyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-bromo-2-propylcarbonyloxy, 1,1,2,3 3,3-hexafluoro-2-chloro-n-propylcarbonyloxy, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-bromo-n-propylcarbonyloxy, 1,1,2,3 3,3-hexafluoro-1-bromo-2-propylcarbonyloxy, 2,2,3,3,3-pentafluoro-n-propylcarbonyloxy, 3,3,4,4,4-pentafluoro-2 Butylcarbonyloxy, nonafluoro-n-butylcarbonyloxy, nonafluoro-2-butylcarbonyloxy, 2-fluoroethyl, 2-chloroethylcarbonyloxy, 2-bromoethylcarbonyloxy, 2-iodoethylcarbonyloxy, 3-fluoro- Linear or branched chain substituted by one or more halogen atoms which may be the same or different, such as n-propylcarbonyloxy, 3-chloro-n-propylcarbonyloxy, 3-bromo-n-propylcarbonyloxy An alkylcarbonyloxy group having 1 to 4 carbon atoms.

「C1-C4アルコキシC1−C4アルキル基」とは例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、n−プロピルオキシメチル、イソプロピルオキシメチル、n−ブチルオキシメチル、i−ブチルオキシメチル、s−ブチルオキシメチル、t−ブチルオキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、n−プロピルオキシエチル、イソプロピルオキシエチル、n−ブチルオキシエチル、i−ブチルオキシエチル、s−ブチルオキシエチル、t−ブチルオキシエチル、メトキシn−プロピル、エトキシn−プロピル、n−プロピルオキシn-プロピル、イソプロピルオキシn−プロピル、n−ブチルオキシn-プロピル、i−ブチルオキシn−プロピル、s−ブチルオキシn-プロピル、t−ブチルオキシn-プロピルなどの直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のC1−C4アルコキシC1−C4アルキル基を示す。   Examples of the “C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group” include methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propyloxymethyl, isopropyloxymethyl, n-butyloxymethyl, i-butyloxymethyl, s-butyloxymethyl, t -Butyloxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, n-propyloxyethyl, isopropyloxyethyl, n-butyloxyethyl, i-butyloxyethyl, s-butyloxyethyl, t-butyloxyethyl, methoxy n-propyl, Linear chain such as ethoxy n-propyl, n-propyloxy n-propyl, isopropyloxy n-propyl, n-butyloxy n-propyl, i-butyloxy n-propyl, s-butyloxy n-propyl, t-butyloxy n-propyl Or branched carbon source The number indicates the 1-4 C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group.

「C1−C4ハロアルコキシC1−C4アルキル基」とは例えば、トリフルオロメトキシメチル、ペンタフルオロエトキシメチル、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシメチル、ヘプタフルオロ−n−プロピルオキシメチル、ヘプタフルオロ−i−プロピルオキシメチル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシメチル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシメチル、2,2,2−トリフルオロエトキシメチル、2−クロロエトキシメチル,3−フルオロ−n−プロピルオキシメチル、トリフルオロメトキシエチル、ペンタフルオロエトキシエチル、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシエチル、ヘプタフルオロ−n−プロピルオキシエチル、ヘプタフルオロ−i−プロピルオキシエチル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシエチル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシエチル、2,2,2−トリフルオロエトキシエチル、2−クロロエトキシエチル,3−フルオロ−n−プロピルオキシエチル、トリフルオロメトキシn−プロピル、ペンタフルオロエトキシn−プロピル、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシn−プロピル、ヘプタフルオロ−n−プロピルオキシn−プロピル、ヘプタフルオロ−i−プロピルオキシn−プロピル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシn−プロピル、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシn−プロピル、2,2,2−トリフルオロエトキシn−プロピル、2−クロロエトキシn−プロピル,3−フルオロ−n−プロピルオキシn−プロピルなどの同一または異なっていても良い1個以上のハロゲン原子により置換された直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1〜4個のハロアルコキシC1−C4アルキル基を示す。   Examples of the “C1-C4 haloalkoxy C1-C4 alkyl group” include trifluoromethoxymethyl, pentafluoroethoxymethyl, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxymethyl, heptafluoro-n-propyloxymethyl, heptafluoro -I-propyloxymethyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propyloxymethyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyloxymethyl, 2 2,2-trifluoroethoxymethyl, 2-chloroethoxymethyl, 3-fluoro-n-propyloxymethyl, trifluoromethoxyethyl, pentafluoroethoxyethyl, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxyethyl, hepta Fluoro-n-propyloxyethyl, heptafluoro-i-propyloxy Chill, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propyloxyethyl, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyloxyethyl, 2,2,2- Trifluoroethoxyethyl, 2-chloroethoxyethyl, 3-fluoro-n-propyloxyethyl, trifluoromethoxy n-propyl, pentafluoroethoxy n-propyl, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy n-propyl, Heptafluoro-n-propyloxy n-propyl, heptafluoro-i-propyloxy n-propyl, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propyloxy n-propyl, 1,1,1 , 3,3,3-hexafluoro-2-propyloxy n-propyl, 2,2,2-trifluoroethoxy n-propyl, 2-chloroe 1 to 4 linear or branched carbon atoms substituted with one or more halogen atoms which may be the same or different, such as xyl-n-propyl, 3-fluoro-n-propyloxy n-propyl The haloalkoxy C1-C4 alkyl group of is shown.

本発明の一般式(1)で表される化合物は、その構造式中に、1個または複数個の不斉炭素原子または不斉中心を含む場合があり、2種以上の光学異性体が存在する場合もあるが、本発明は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。また、本発明の一般式(1)で表される化合物は、その構造式中に、炭素−炭素二重結合に由来する2種以上の幾何異性体が存在する場合もあるが、本発明は各々の幾何異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。   The compound represented by the general formula (1) of the present invention may contain one or more asymmetric carbon atoms or asymmetric centers in the structural formula, and two or more optical isomers exist. In some cases, the present invention includes all of the optical isomers and mixtures containing them in an arbitrary ratio. In addition, the compound represented by the general formula (1) of the present invention may have two or more geometric isomers derived from a carbon-carbon double bond in the structural formula thereof. All geometric isomers and mixtures containing them in an arbitrary ratio are also included.

本発明の一般式(1)などで表される一般式で表される化合物中の置換基などで好ましい置換基または原子は以下のとおりである。   Preferred substituents or atoms among the substituents in the compound represented by the general formula represented by the general formula (1) of the present invention are as follows.

、G、Gとして好ましくは、共に酸素原子である。
Hetとして好ましくは、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、ピロリル基である。
G 1 , G 2 and G 3 are preferably oxygen atoms.
Het is preferably a furyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, or a pyrrolyl group.

A、E、Dの好ましい組み合わせとしては、A、E、Dのいずれか一つが窒素原子、酸素原子、硫黄原子の時、その他二つが炭素原子であり、A、E、Dのいずれか二つがそれぞれ窒素原子、酸素原子の時、残りの一つが炭素原子であり、特に好ましい組み合わせとしては、E、Dが炭素原子でAが硫黄原子、A、Dが炭素原子でEが酸素原子、E、Aが炭素原子でDが窒素原子、Eが窒素原子、Aが硫黄原子でDが炭素原子である。
Xとして好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原子、メチル基である。
nとして好ましくは、0、1、2であり、さらに好ましくは、0もしくは1である。
As a preferred combination of A, E, and D, when any one of A, E, and D is a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, the other two are carbon atoms, and any two of A, E, and D are When each of them is a nitrogen atom and an oxygen atom, the remaining one is a carbon atom, and particularly preferred combinations are E and D are carbon atoms, A is a sulfur atom, A and D are carbon atoms, E is an oxygen atom, E, A is a carbon atom, D is a nitrogen atom, E is a nitrogen atom, A is a sulfur atom, and D is a carbon atom.
X is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C3 alkyl group, and more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a methyl group.
n is preferably 0, 1, or 2, and more preferably 0 or 1.

として好ましくは、フェニル基、あるいは、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C2−C4アルケニル基、C2−C4ハロアルケニル基、C2−C4アルキニル基、C2−C4ハロアルキニル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、C1−C4アルキルアミノ基、ジC1−C4アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基、アセチルアミノ基から選択される1以上の同一または異なっていても良い置換基を有する置換フェニル基、
ピリジル基、あるいは、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C2−C4アルケニル基、C2−C4ハロアルケニル基、C2−C4アルキニル基、C2−C4ハロアルキニル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、C1−C4アルキルアミノ基、ジC1−C4アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基、アセチルアミノ基から選択される1以上の同一または異なっていても良い置換基を有するピリジル基であり、
さらに好ましくは、
フェニル基、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基から選択される1から3個の同一または異なっていても良い置換基を有する置換フェニル基、
ピリジル基、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基から選択される1から2個の同一または異なっていても良い置換基を有するピリジル基である。
Q 1 is preferably a phenyl group, or a halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 haloalkyl group, C2-C4 alkenyl group, C2-C4 haloalkenyl group, C2-C4 alkynyl group, C2-C4 haloalkynyl. Group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C3 alkoxy group, C1-C3 haloalkoxy group, C1-C3 alkylthio group, C1-C3 haloalkylthio group, C1-C3 alkylsulfinyl group, C1-C3 haloalkylsulfinyl group, C1-C3 alkylsulfonyl group, C1-C3 haloalkylsulfonyl group, C1-C4 alkylamino group, di-C1-C4 alkylamino group, cyano group, nitro group, hydroxy group, C1-C4 alkylcarbonyl Group, C1-C4 alkylcarbo A substituted phenyl group having one or more substituents which may be the same or different, selected from a nyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, and an acetylamino group;
Pyridyl group or halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 haloalkyl group, C2-C4 alkenyl group, C2-C4 haloalkenyl group, C2-C4 alkynyl group, C2-C4 haloalkynyl group, C3-C8 cyclo Alkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C3 alkoxy group, C1-C3 haloalkoxy group, C1-C3 alkylthio group, C1-C3 haloalkylthio group, C1-C3 alkylsulfinyl group, C1-C3 haloalkylsulfinyl group C1-C3 alkylsulfonyl group, C1-C3 haloalkylsulfonyl group, C1-C4 alkylamino group, di-C1-C4 alkylamino group, cyano group, nitro group, hydroxy group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 alkyl Carbonyloxy group, C1-C Alkoxycarbonyl group, a pyridyl group having one or more same or different and have good substituents selected from acetylamino group,
More preferably,
Phenyl group,
Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, trifluoromethoxy group, methylthio group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, trifluoromethylthio group, trifluoromethylsulfinyl group, A substituted phenyl group having 1 to 3 identical or different substituents selected from a trifluoromethylsulfonyl group, a methylamino group, a dimethylamino group, a cyano group, and a nitro group;
Pyridyl group,
Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, trifluoromethoxy group, methylthio group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, trifluoromethylthio group, trifluoromethylsulfinyl group, It is a pyridyl group having 1 to 2 substituents which may be the same or different and selected from a trifluoromethylsulfonyl group, a methylamino group, a dimethylamino group, a cyano group and a nitro group.

として好ましくは、置換されていても良いフェニル基または置換されていても良い複素環基であり、さらに好ましくは、一般式(3)もしくは一般式(4)で表される置換フェニル基もしくは置換ピリジル基であり、
その中で、
、Yとして好ましくは、それぞれ、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、シアノ基であり、
、Yとして、それぞれ、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、シアノ基であり、
、Y、Yとして好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基であり、さらに好ましくは、水素原子であり、
3, として好ましくは、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−n−プロピル基、ヘプタフルオロ−i−プロピル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−2−プロピル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−2−プロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−n−プロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−n−プロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ブロモ−2−プロピル基、ノナフルオロ−n−ブチル基、ノナフルオロ−2−ブチル基、ノナフルオロ−i−ブチル基、
トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−i−プロピルオキシ基、ヘプタフルオロ−n−プロピルオキシ基、ヘプタフルオロ−i−プロピルオキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシ基、ノナフルオロ−2−ブチルオキシ基、トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロ−n−プロピルチオ基、ヘプタフルオロ−i−プロピルチオ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルチオ基、ノナフルオロ−n−ブチルチオ基、ノナフルオロ−2−ブチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、ペンタフルオロエチルスルフィニル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルスルフィニル基、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルフィニル基、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルフィニル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルフィニル基、ノナフルオロ−n−ブチルスルフィニル基、ノナフルオロ−2−ブチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ペンタフルオロエチルスルホニル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルスルホニル基、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルホニル基、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルホニル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルホニル基、ノナフルオロ−n−ブチルスルホニル基、ノナフルオロ−2−ブチルスルホニル基であり、さらに好ましくは、ヘプタフルオロ−i−プロピル基、ノナフルオロ−2−ブチル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルチオ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルフィニル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルホニル基である。
Q 2 is preferably a phenyl group which may be substituted or a heterocyclic group which may be substituted, and more preferably a substituted phenyl group represented by the general formula (3) or the general formula (4) or A substituted pyridyl group,
inside that,
Y 1 and Y 5 are preferably a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a 2-butyl group, a methoxy group, and a tri group, respectively. A fluoromethoxy group, a trifluoromethyl group, a methylthio group, a methylsulfinyl group, a methylsulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethylsulfinyl group, a trifluoromethylsulfonyl group, a cyano group,
Y 6 and Y 9 are chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, 2-butyl group, methoxy group, trifluoromethoxy, respectively. Group, trifluoromethyl group, methylthio group, methylsulfinyl group, methylsulfonyl group, trifluoromethylthio group, trifluoromethylsulfinyl group, trifluoromethylsulfonyl group, cyano group,
Y 2 , Y 4 and Y 7 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom and a methyl group, more preferably a hydrogen atom,
Y 3 and Y 8 are preferably trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoro-n-propyl group, heptafluoro-i-propyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- 2-chloro-2-propyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-bromo-2-propyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2- Chloro-n-propyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-bromo-n-propyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-1-bromo- 2-propyl group, nonafluoro-n-butyl group, nonafluoro-2-butyl group, nonafluoro-i-butyl group,
Trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-i-propyloxy group, heptafluoro-n-propyl Oxy group, heptafluoro-i-propyloxy group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propyloxy group, nonafluoro-2-butyloxy group, trifluoromethylthio group, pentafluoroethylthio group 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio group, heptafluoro-n-propylthio group, heptafluoro-i-propylthio group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylthio group , Nonafluoro-n-butylthio group, nonafluoro-2-butylthio group, trifluoromethylsulfinyl group, pentafluoro Ethylsulfinyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethylsulfinyl group, heptafluoro-n-propylsulfinyl group, heptafluoro-i-propylsulfinyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro -N-propylsulfinyl group, nonafluoro-n-butylsulfinyl group, nonafluoro-2-butylsulfinyl group, trifluoromethylsulfonyl group, pentafluoroethylsulfonyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethylsulfonyl group, hepta Fluoro-n-propylsulfonyl group, heptafluoro-i-propylsulfonyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylsulfonyl group, nonafluoro-n-butylsulfonyl group, nonafluoro-2- A butylsulfonyl group, and Preferably, heptafluoro-i-propyl group, nonafluoro-2-butyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propyloxy group, 1,1,2,3,3, 3-hexafluoro-n-propylthio group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylsulfinyl group, 1,1,2,3,3,3-hexafluoro-n-propylsulfonyl group It is a group.

、Rとして好ましくは、水素原子、C1−C4アルキル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、置換されていても良いC2−C4不飽和アルキル基、置換されていても良いC1−C4アルコキシカルボニル基、置換されたC1−C4アルキル基またはC(=O)C(=O)R(式中Rは置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いC1−C4アルコキシ基を示す)であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基である。 R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, an optionally substituted C2-C4 unsaturated alkyl group, or a substituted one. C1-C4 alkoxycarbonyl group, substituted C1-C4 alkyl group or C (═O) C (═O) R 4 (wherein R 4 may be an optionally substituted alkyl group or may be substituted) A good C1-C4 alkoxy group), and more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or an acetyl group.

として好ましくは、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、−E−Z−R(式中、EはC1−C4アルキレン基、C2−C4アルケニレン基、C2−C4アルキニレン基、C1−C4ハロアルキレン基、C2−C4ハロアルケニレン基、C3−C4ハロアルキニレン基を示し、Rは水素原子、C1−C6アルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6ハロアルキニル基を示し、Zは−O−、−S−、−SO−、−SO−を示す。)、−E−R(式中、EはC1−C4アルキル基、C2−C4アルケニル基、C3−C4アルキニル基、C1−C4ハロアルキル基、C2−C4ハロアルケニル基、C2−C4ハロアルキニル基を示し、RはC3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェニル基、あるいは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、ピリジル基、あるいはハロゲン原子、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基から選択される1以上の置換基を有する置換ピリジル基であることを示す。)であり、よりR3として好ましくは、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、−E−Z−R(式中、EはC1−C4アルキレン基、C1−C4ハロアルキレン基を示し、RはC1−C6アルキル基を示し、Zは−O−、−S−、−SO−、−SO−を示す。)、−E−R(式中、
はC1−C4アルキル基を示し、RはC3−C8シクロアルキル基、シアノ基、同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、ピリジル基、ハロゲン原子、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基から選択される1以上の置換基を有する置換ピリジル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基であることを示す。)である。
一般式(1)で表される化合物は以下に記載する製造方法1〜10の方法で製造することができる。以下に本発明の化合物の代表的な製造方法を示し、それに従うことにより本発明の化合物の製造が可能であるが、製造方法経路は以下に示す製造方法に限定されるものではない。
製造方法1
R 3 is preferably a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, a C3-C8 cycloalkyl group. , C3-C8 halocycloalkyl group, -E 1 -Z 1 -R 4 (wherein, E 1 is C1-C4 alkylene group, C2-C4 alkenylene group, C2-C4 alkynylene group, C1-C4 haloalkylene group, A C2-C4 haloalkenylene group and a C3-C4 haloalkynylene group, wherein R 4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 haloalkenyl group. group, a C2-C6 haloalkynyl group, Z 1 is -O -, - S -, - SO -, - shows a - SO 2 ), - E 2 -R 6 (wherein, E 2 is C1-C4 alkyl group, C2-C4 alkenyl group, C3-C4 alkynyl group, C1-C4 haloalkyl group, C2-C4 haloalkenyl group, C2-C4 halo An alkynyl group, wherein R 6 is a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, a phenyl group, or the same or different, a halogen atom, C1-C6 Alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1 -C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, A substituted phenyl group having one or more substituents selected from a R group, a hydroxy group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group, pyridyl group or a halogen atom,, C1-C6 haloalkyl group, a.) indicating a substituent pyridyl group having one or more substituents selected from C1-C6 haloalkoxy group, preferably a more R 3, C1 -C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl, C3-C8 halocycloalkyl group, -E 1 -Z 1 -R 4 (wherein, E 1 is C1-C4 alkylene group, C1- shows the C4 haloalkylene group, R 4 represents a C1-C6 alkyl group, Z 1 is -O -, - S -, - SO , -SO 2 - shows the. ), - E 2 -R 6 (wherein,
E 2 represents a C1-C4 alkyl group, R 6 may be a C3-C8 cycloalkyl group, a cyano group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C1- C6 haloalkylthio group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, substituted phenyl group having one or more substituents selected from cyano group, nitro group, pyridyl group, halogen atom, C1-C6 haloalkyl group , A substituted pyridyl group having one or more substituents selected from a C1-C6 haloalkoxy group, a thienyl group, and a tetrahydrofuryl group. ).
The compound represented by the general formula (1) can be produced by the production methods 1 to 10 described below. Although the typical manufacturing method of the compound of this invention is shown below and the manufacturing of the compound of this invention is possible by following it, a manufacturing method path | route is not limited to the manufacturing method shown below.
Manufacturing method 1

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Het、G、R、R、X、n、Q、Zは[1]と同じものを示し、Lはハロゲン原子、ヒドロキシ基などの脱離能を有する官能基を表す。) (In the formula, Het, G 3 , R 1 , R 2 , X, n, Q 2 and Z are the same as those in [1], and L represents a functional group having a leaving ability such as a halogen atom or a hydroxy group. To express.)

1−(i): 一般式(5)+ 一般式(6) → 一般式(7)
一般式(5)で表されるニトロ基、脱離基を有する5員環の複素環誘導体と一般式(6)で表される芳香族アミン誘導体を溶媒中もしくは無溶媒で反応させることにより、一般式(7)で表されるニトロ基を有する5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体を製造することができる。本工程では塩基を用いることもできる。
1- (i): General formula (5) + General formula (6) → General formula (7)
By reacting the nitro group represented by the general formula (5) and the 5-membered heterocyclic derivative having a leaving group with the aromatic amine derivative represented by the general formula (6) in a solvent or without solvent, A 5-membered heterocyclic carboxylic acid amide derivative having a nitro group represented by the general formula (7) can be produced. In this step, a base can also be used.

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、水、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどの鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリルなどのニトリル類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどの不活性溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。   The solvent is not particularly limited as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction. For example, aromatic hydrocarbons such as water, benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, Linear or cyclic ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone , Dimethylformamide, amides such as dimethylacetamide, nitriles such as acetonitrile, and inert solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Can be used Kill.

また、塩基としては、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属類、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸塩類、リン酸一水素二カリウム、リン酸三ナトリウムなどのリン酸塩類、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属アルコラート類などを示すことができる。これらの塩基は、一般式(5)で表される化合物に対して0.01〜5倍モル当量の範囲で適宜選択して使用すれば良い。   Examples of the base include organic bases such as triethylamine, tri-n-butylamine, pyridine, and 4-dimethylaminopyridine, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, and potassium carbonate. Examples thereof include carbonates, phosphates such as dipotassium monohydrogen phosphate and trisodium phosphate, alkali metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal alcoholates such as sodium methoxide and sodium ethoxide, and the like. . These bases may be appropriately selected and used within a range of 0.01 to 5 molar equivalents relative to the compound represented by the general formula (5).

反応温度は、−20℃〜使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すれば良い。   The reaction temperature may be appropriately selected from −20 ° C. to the reflux temperature of the solvent used, and the reaction time may be in the range of several minutes to 96 hours.

一般式(5)で表される化合物の中で、5員環の複素環カルボン酸ハライド誘導体は5員環の複素環カルボン酸から、ハロゲン化剤を使用する常法により、容易に製造することができる。ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、オキザリルクロリド、三塩化リンなどのハロゲン化剤を示すことができる。   Among the compounds represented by the general formula (5), a 5-membered heterocyclic carboxylic acid halide derivative can be easily produced from a 5-membered heterocyclic carboxylic acid by a conventional method using a halogenating agent. Can do. Examples of the halogenating agent include halogenating agents such as thionyl chloride, thionyl bromide, phosphorus oxychloride, oxalyl chloride, and phosphorus trichloride.

一方、ハロゲン化剤を使用せずに5員環の複素環カルボン酸と一般式(6)で表される化合物から一般式(7)で表される化合物を製造することが可能であり、その方法としては、例えば、Chem.Ber.p.788(1970)に記載の方法に従うことにより、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールなどの添加剤を適宜使用し、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドを使用する縮合剤を用いる方法を示すことができる。この場合に使用される他の縮合剤としては、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾールなどを示すことができる。   On the other hand, it is possible to produce the compound represented by the general formula (7) from the 5-membered heterocyclic carboxylic acid and the compound represented by the general formula (6) without using a halogenating agent. As a method, for example, Chem. Ber. p. By following the method described in 788 (1970), a method using an additive such as 1-hydroxybenzotriazole and using a condensing agent using N, N'-dicyclohexylcarbodiimide can be shown. Examples of other condensing agents used in this case include 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide, 1,1'-carbonylbis-1H-imidazole, and the like.

また、一般式(7)で表される化合物を製造する他の方法としては、クロロギ酸エステル類を用いた混合酸無水物法を示すこともでき、J.Am.Chem.Soc.p.5012(1967)に記載の方法に従うことにより、一般式(7)で表される化合物を製造することが可能である。この場合使用されるクロロギ酸エステル類としてはクロロギ酸イソブチル、クロロギ酸イソプロピルなどを示すことができ、クロロギ酸エステル類の他には、塩化ジエチルアセチル、塩化トリメチルアセチルなどを示すことができる。   In addition, as another method for producing the compound represented by the general formula (7), a mixed acid anhydride method using chloroformates can be shown. Am. Chem. Soc. p. By following the method described in 5012 (1967), the compound represented by the general formula (7) can be produced. Examples of the chloroformate used in this case include isobutyl chloroformate and isopropyl chloroformate. In addition to the chloroformates, diethylacetyl chloride, trimethylacetyl chloride and the like can be used.

縮合剤を用いる方法、混合酸無水物法共に、前記文献記載の溶媒、反応温度、反応時間に限定されることは無く、適宜反応の進行を著しく阻害しない不活性溶媒を使用すればよく、反応温度、反応時間についても、反応の進行に応じて、適宜選択すれば良い。   Both the method using a condensing agent and the mixed acid anhydride method are not limited to the solvent, reaction temperature, and reaction time described in the above literature, and an inert solvent that does not significantly inhibit the progress of the reaction may be used as appropriate. What is necessary is just to select suitably temperature and reaction time according to progress of reaction.

1−(ii): 一般式(7) → 一般式(8)
一般式(7)で表されるニトロ基を有する5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体は、還元反応により、一般式(8)で表されるアミノ基を有する5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体に導くことができる。還元反応としては水素添加反応を用いる方法と金属化合物(例えば、塩化第一スズ(無水物)、鉄粉、亜鉛粉など)を用いる方法を例示することできる。
1- (ii): General formula (7) → General formula (8)
A 5-membered heterocyclic carboxylic acid amide derivative having a nitro group represented by the general formula (7) is converted into a 5-membered heterocyclic carboxylic acid having an amino group represented by the general formula (8) by a reduction reaction. Can lead to amide derivatives. Examples of the reduction reaction include a method using a hydrogenation reaction and a method using a metal compound (for example, stannous chloride (anhydride), iron powder, zinc powder, etc.).

前者の方法は適当な溶媒中、触媒存在下、常圧下もしくは加圧下にて、水素雰囲気下で反応を行うことができる。触媒としては、パラジウム−カーボンなどのパラジウム触媒、ラネーニッケルなどのニッケル触媒、コバルト触媒、ルテニウム触媒、ロジウム触媒、白金触媒などが例示でき、溶媒としては、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの鎖状または環状エーテル類、酢酸エチルなどのエステル類を示すことができる。圧力は、0.1〜10MPa、反応温度は、−20℃〜使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すれば良く、一般式(8)の化合物を効率よく製造することができる。   In the former method, the reaction can be carried out in a suitable solvent, in the presence of a catalyst, under normal pressure or under pressure, and in a hydrogen atmosphere. Examples of the catalyst include a palladium catalyst such as palladium-carbon, a nickel catalyst such as Raney nickel, a cobalt catalyst, a ruthenium catalyst, a rhodium catalyst, a platinum catalyst, and the like. Examples of the solvent include water, alcohols such as methanol and ethanol, benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene, chain or cyclic ethers such as ether, dioxane and tetrahydrofuran, and esters such as ethyl acetate can be used. The pressure is 0.1 to 10 MPa, the reaction temperature is −20 ° C. to the reflux temperature of the solvent to be used, and the reaction time is appropriately selected within the range of several minutes to 96 hours, and the compound of the general formula (8) is selected. It can be manufactured efficiently.

後者の方法としては、“Organic Syntheses”Coll.Vol.III P.453に記載の条件により、金属化合物として塩化第一スズ(無水物)を使用する方法を例示することができる。   As the latter method, “Organic Synthesis” Coll. Vol. III P.I. According to the conditions described in 453, a method of using stannous chloride (anhydride) as a metal compound can be exemplified.

1−(iii): 一般式(8)+ 一般式(9) → 一般式(10)
一般式(8)で表される5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体と一般式(9)で表される化合物を溶媒中で反応させることにより、一般式(10)で表される本発明化合物を製造することができる。本工程では塩基を用いることもできる。
1- (iii): General formula (8) + General formula (9) → General formula (10)
By reacting the 5-membered heterocyclic carboxylic acid amide derivative represented by the general formula (8) with the compound represented by the general formula (9) in a solvent, the present invention represented by the general formula (10) Compounds can be produced. In this step, a base can also be used.

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、水、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどの鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリルなどのニトリル類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどの不活性溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。   The solvent is not particularly limited as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction. For example, aromatic hydrocarbons such as water, benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, Linear or cyclic ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone , Dimethylformamide, amides such as dimethylacetamide, nitriles such as acetonitrile, and inert solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Can be used Kill.

また、塩基としては、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属類、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸塩類、リン酸一水素二カリウム、リン酸三ナトリウムなどのリン酸塩類、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属アルコラート類などを示すことができる。これらの塩基は、一般式(8)で表される化合物に対して0.01〜5倍モル当量の範囲で適宜選択して使用すれば良い。反応温度は、−20℃〜使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すれば良い。また、1−(i)に記載した縮合剤を用いる方法、混合酸無水物法を用いても製造することが可能である。   Examples of the base include organic bases such as triethylamine, tri-n-butylamine, pyridine, and 4-dimethylaminopyridine, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, and potassium carbonate. Examples thereof include carbonates, phosphates such as dipotassium monohydrogen phosphate and trisodium phosphate, alkali metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal alcoholates such as sodium methoxide and sodium ethoxide, and the like. . These bases may be appropriately selected and used within a range of 0.01 to 5 molar equivalents relative to the compound represented by the general formula (8). The reaction temperature may be appropriately selected from −20 ° C. to the reflux temperature of the solvent used, and the reaction time may be in the range of several minutes to 96 hours. It can also be produced by the method using the condensing agent described in 1- (i) or the mixed acid anhydride method.

1−(iv): 一般式(10)+ 一般式(11) → 一般式(1)
一般式(10)で表される化合物と、一般式(11)で表される脱離基を有する化合物を溶媒中もしくは無溶媒で反応させることにより、一般式(1)で表される本発明化合物を製造することができる。一般式(11)で表される化合物としては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化n−プロピル、クロロメチル メチルエーテルなどの置換アルキルハライド類、塩化アセチル、塩化クロロアセチル、塩化ベンゾイルなどのカルボン酸ハライド類、プロパルギルブロミドなどの不飽和アルキルハライド類、クロロギ酸メチル、クロロギ酸2−クロロエチル、クロロギ酸フェニル、クロロギ酸ベンジルなどのクロロギ酸エステル類、塩化N,N−ジメチルカルバモイルなどのカルバミン酸ハライド類、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トシル酸クロリドなどのスルホン酸ハライド類、クロログリオキシル酸メチル、クロログリオキシル酸エチルなどのクロログリオキシル酸エステル類、クロロトリメチルシランまたはtert−ブチルクロロジメチルシランなどを例示することができる。また、本工程では適当な塩基もしくは溶媒を用いることが可能であり、その塩基もしくは溶媒としては、1−(i)に例示したものを用いることができる。反応温度、反応時間などについても、1−(i)の例示に従うことができる。
1- (iv): General formula (10) + General formula (11) → General formula (1)
By reacting the compound represented by the general formula (10) and the compound having a leaving group represented by the general formula (11) in a solvent or without a solvent, the present invention represented by the general formula (1) Compounds can be produced. Examples of the compound represented by the general formula (11) include substituted alkyl halides such as methyl iodide, ethyl iodide, n-propyl bromide, and chloromethyl methyl ether, and carboxylic acids such as acetyl chloride, chloroacetyl chloride, and benzoyl chloride. Unsaturated alkyl halides such as acid halides, propargyl bromide, chloroformates such as methyl chloroformate, 2-chloroethyl chloroformate, phenyl chloroformate and benzyl chloroformate, and carbamate halides such as N, N-dimethylcarbamoyl chloride Sulfonic acid halides such as methanesulfonyl chloride, trifluoromethanesulfonyl chloride, tosylic acid chloride, chloroglyoxylic acid esters such as methyl chloroglyoxylate and ethyl chloroglyoxylate, chlorotrimethylsilane Alternatively, tert-butylchlorodimethylsilane and the like can be exemplified. In this step, an appropriate base or solvent can be used. As the base or solvent, those exemplified in 1- (i) can be used. The reaction temperature, reaction time, etc. can also follow the example of 1- (i).

また、別法として一般式(11)で表される化合物の代わりに、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸などのアルキル化剤を一般式(10)で表される化合物に反応させることによっても、一般式(1)で表される化合物を製造することが可能である。
製造方法2
Alternatively, instead of the compound represented by the general formula (11), an alkylating agent such as dimethyl sulfate or diethyl sulfate can be reacted with the compound represented by the general formula (10). It is possible to produce the compound represented by 1).
Manufacturing method 2

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Het、G、R、R、X、n、Q、Zは[1]と同じものを示し、Lはハロゲン原子、ヒドロキシ基などの脱離能を有する官能基を示し、Halはハロゲン原子を示す。) (In the formula, Het, G 3 , R 1 , R 2 , X, n, Q 2 and Z are the same as those in [1], and L represents a functional group having a leaving ability such as a halogen atom or a hydroxy group. And Hal represents a halogen atom.)

2−(i): 一般式(12)+ 一般式(9) → 一般式(13)
一般式(12)で表されるアミノ基を有するカルボン酸類を出発原料として、1−(iii)に記載の条件に従い、一般式(9)で表される化合物と反応させることにより、一般式(14)で表されるカルボン酸類を製造することができる。
2- (i): General formula (12) + General formula (9) → General formula (13)
By using a carboxylic acid having an amino group represented by the general formula (12) as a starting material and reacting with a compound represented by the general formula (9) according to the conditions described in 1- (iii), the general formula (9) 14) can be produced.

2−(ii): 一般式(13) → 一般式(14)
一般式(13)で表される化合物を塩化チオニル、オキザリルクロリド、ホスゲン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、臭化チオニル、三臭化リン、ジエチルアミノ硫黄トリフルオリドなどと反応させるという公知の常法により、一般式(14)で表される化合物を製造することができる。
2- (ii): General formula (13) → General formula (14)
The compound represented by the general formula (13) is reacted with thionyl chloride, oxalyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, thionyl bromide, phosphorus tribromide, diethylaminosulfur trifluoride and the like. The compound represented by the general formula (14) can be produced by a known ordinary method.

2−(iii): 一般式(14)+ 一般式(6) → 一般式(1)
一般式(15)で表される化合物と一般式(6)で表される化合物とを、1−(i)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(16)で表される化合物を製造することができる。
2- (iii): General formula (14) + General formula (6) → General formula (1)
By reacting the compound represented by the general formula (15) and the compound represented by the general formula (6) according to the conditions described in 1- (i), the compound represented by the general formula (16) is obtained. Can be manufactured.

2−(iv): 一般式(14)+ 一般式(6) → 一般式(16)
一般式(14)で表される化合物を、1−(i)に記載の縮合剤を用いる条件、もしくは混合酸無水物法を用いる条件に従い、一般式(6)で表される化合物と反応させることにより、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
製造方法3
2- (iv): General formula (14) + General formula (6) → General formula (16)
The compound represented by the general formula (14) is reacted with the compound represented by the general formula (6) according to the conditions using the condensing agent described in 1- (i) or the conditions using the mixed acid anhydride method. Thus, the compound represented by the general formula (1) can be produced.
Manufacturing method 3

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Het、R、R、X、n、Q、Zは[1]と同じものを示し、Lはハロゲン原子、ヒドロキシ基などの脱離能を有する官能基を表す。) (In the formula, Het, R 1 , R 2 , X, n, Q 2 and Z are the same as those in [1], and L represents a functional group having a leaving ability such as a halogen atom or a hydroxy group.)

3−(i): 一般式(15) → 一般式(16)
Synthesis p.463(1993)やSynthesis p.829(1984)などに記載の公知の条件に従い、一般式(15)で表される化合物とローソン試薬とを反応させることにより、一般式(16)で表される化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。
3- (i): General formula (15) → General formula (16)
Synthesis p. 463 (1993) and Synthesis p. The compound represented by the general formula (16) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (15) with a Lawson reagent according to known conditions described in 829 (1984) and the like. Conditions such as solvent and reaction temperature are not limited to those described in the literature.

3−(ii): 一般式(16)+ 一般式(9) → 一般式(17)
一般式(16)で表される化合物と一般式(9)で表される化合物とを、1−(iii)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(17)で表される化合物を製造することができる。
製造方法4
3- (ii): General formula (16) + General formula (9) → General formula (17)
By reacting the compound represented by the general formula (16) with the compound represented by the general formula (9) according to the conditions described in 1- (iii), the compound represented by the general formula (17) Can be manufactured.
Manufacturing method 4

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Eは−QまたはGを示し、Het、R、R、R、X、n、Q、Qは[1]と同じものを示す。)
一般式(18)で表される化合物から、3−(i)に記載の条件に従って、一般式(19)及び一般式(20)で表される化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。これら2つの化合物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの公知の分離精製技術により、分離精製することが可能である。
製造方法5
(In the formula, E represents -Q 1 or G 2 R 3 , and Het, R 1 , R 2 , R 3 , X, n, Q 1 , and Q 2 represent the same as [1].)
From the compound represented by the general formula (18), the compound represented by the general formula (19) and the general formula (20) can be produced according to the conditions described in 3- (i). Conditions such as solvent and reaction temperature are not limited to those described in the literature. These two compounds can be separated and purified by a known separation and purification technique such as silica gel column chromatography.
Manufacturing method 5

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Het、G、R、R、X、n、Q、Zは[1]と同じものを示し、Lはハロゲン原子、ヒドロキシ基などの脱離能を有する官能基を表す。) (In the formula, Het, G 3 , R 1 , R 2 , X, n, Q 2 and Z are the same as those in [1], and L represents a functional group having a leaving ability such as a halogen atom or a hydroxy group. To express.)

5−(i):一般式(21) →一般式(22)
一般式(22)で表される化合物は、一般式(21)で表される化合物をジアゾ化し、ジアゾニウム塩と金属塩を反応させることで合成することができる。
5- (i): General formula (21) → General formula (22)
The compound represented by the general formula (22) can be synthesized by diazotizing the compound represented by the general formula (21) and reacting a diazonium salt with a metal salt.

ジアゾ化と、ジアゾニウム塩と金属塩を反応させる両反応で使用する溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば塩酸水、臭化水素酸水、ヨウ化水素酸水、硫酸水、トリフルオロ酢酸等の酸性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどの鎖状または環状エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリルなどのニトリル類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどの不活性溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。ジアゾ化剤としては、例えば亜硝酸ナトリウム、硫酸水素ニトロシル、亜硝酸アルキル等のジアゾ化剤を例示することができ、これらの使用量は一般式(23c)で表される化合物に対して、0.5〜50当量から適宜選択して行えば良い。ジアゾ化の反応温度は−50℃〜反応溶媒の還流温度下で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すればよい。   The solvent used in both the reaction of diazotization and the reaction of a diazonium salt and a metal salt may be any solvent that does not significantly inhibit the progress of this reaction. For example, hydrochloric acid water, hydrobromic acid water, hydroiodic acid water , Acidic solvents such as sulfuric acid and trifluoroacetic acid, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1, 2 -Linear or cyclic ethers such as dimethoxyethane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide Nitriles such as acetonitrile , 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone can show inert solvent such non These solvents may be used alone or as a mixture of two or more. Examples of the diazotizing agent include diazotizing agents such as sodium nitrite, nitrosyl hydrogen sulfate, and alkyl nitrite. The amount of these used is 0 with respect to the compound represented by the general formula (23c). .5 to 50 equivalents may be selected as appropriate. The reaction temperature of diazotization can be carried out from −50 ° C. to the reflux temperature of the reaction solvent, and the reaction time is not constant depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., but may be appropriately selected within the range of several minutes to 48 hours.

ジアゾニウム塩が生成した後に加える金属塩としては、塩化第一銅、塩化第二銅、臭化第一銅、臭化第二銅、ヨウ化カリウム等の金属塩を使用することができ、その使用量は一般式(21)で表される化合物に対して、0.5〜50当量から適宜選択して行えば良い。反応温度は−50℃〜反応溶媒の還流温度下で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すればよい。
また、ジアゾ化剤と金属塩と溶媒を同時に入れて反応させることも可能である。
As the metal salt to be added after the diazonium salt is formed, a metal salt such as cuprous chloride, cupric chloride, cuprous bromide, cupric bromide, potassium iodide can be used, and its use The amount may be appropriately selected from 0.5 to 50 equivalents relative to the compound represented by the general formula (21). The reaction temperature can be carried out from −50 ° C. to the reflux temperature of the reaction solvent, and the reaction time is not constant depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., but may be appropriately selected within the range of several minutes to 48 hours.
It is also possible to react by simultaneously adding a diazotizing agent, a metal salt and a solvent.

5−(ii):一般式(22) →一般式(23)
一般式(22)で表される化合物を塩化チオニル、オキザリルクロリド、ホスゲン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、臭化チオニル、三臭化リン、ジエチルアミノ硫黄トリフルオリドなどと反応させるという公知の常法により、一般式(23)で表される化合物を製造することができる。
5- (ii): General formula (22) → General formula (23)
The compound represented by the general formula (22) is reacted with thionyl chloride, oxalyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, thionyl bromide, phosphorus tribromide, diethylaminosulfur trifluoride and the like. The compound represented by the general formula (23) can be produced by a known ordinary method.

5−(iii):一般式(23) →一般式(24)
一般式(23)で表される化合物と一般式(6)で表される化合物とを、1−(i)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(24)で表される化合物を製造することができる。
5- (iii): General formula (23) → General formula (24)
By reacting the compound represented by the general formula (23) and the compound represented by the general formula (6) according to the conditions described in 1- (i), the compound represented by the general formula (24) is obtained. Can be manufactured.

5−(IV): 一般式(24) → 一般式(25)
例えば、J.Org.Chem.p.280(1958)に記載の条件に従うことにより、アンモニアを使用してアミノ化反応を行い、一般式(25)で表される化合物を製造することが可能であるが、反応溶媒などの条件は文献記載のものに限定されることは無く、適宜反応の進行を著しく阻害しない不活性溶媒を使用すればよく、反応温度、反応時間についても、反応の進行に応じて、適宜選択すれば良い。また、アミノ化剤としては、アンモニアのほかに、メチルアミン、エチルアミン、ヒドロキシルアミン、O−メチルヒドロキシルアミンなどを示すこともできる。
5- (IV): General formula (24) → General formula (25)
For example, J. et al. Org. Chem. p. 280 (1958), it is possible to produce a compound represented by the general formula (25) by carrying out an amination reaction using ammonia. It is not limited to those described, and an inert solvent that does not significantly inhibit the progress of the reaction may be used as appropriate, and the reaction temperature and the reaction time may be appropriately selected according to the progress of the reaction. Moreover, as an aminating agent, methylamine, ethylamine, hydroxylamine, O-methylhydroxylamine, etc. can be shown besides ammonia.

5−(V): 一般式(25)+ 一般式(9) → 一般式(1)
一般式(25)で表される化合物と一般式(9)で表される化合物とを、1−(iii)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
製造方法6
5- (V): General formula (25) + General formula (9) → General formula (1)
By reacting the compound represented by the general formula (25) and the compound represented by the general formula (9) according to the conditions described in 1- (iii), the compound represented by the general formula (1) Can be manufactured.
Manufacturing method 6

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Het、X、n、G、R、Qは[1]と同じものを示し、Mはニトロ基またはハロゲン原子を示す。)
一般式(26)で表される化合物を溶媒中、塩基を用いて、反応剤と反応させて、一般式(27)で表される化合物を製造することができる。
(In the formula, Het, X, n, G 3 , R 2 and Q 2 are the same as those in [1], and M represents a nitro group or a halogen atom.)
The compound represented by the general formula (26) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (26) with a reactant in a solvent using a base.

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ジメチルホルミアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、水などの溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。   Any solvent may be used as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and methylcyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, xylene, and toluene, dichloromethane, chloroform, and the like. Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, acetonitrile, Nitriles such as propionitrile, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohols such as methanol and ethanol, 1,3-dimethyl 2-imidazolidinone, sulfolane, dimethyl sulfoxide, can indicate a solvent such as water, these solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属類、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸塩類、リン酸一水素カリウム、リン酸三ナトリウムなどのリン酸塩類、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、n−ブチルリチウムなどの有機リチウム類、エチルマグネシウムブロミドなどのグリニャール試薬類などを示すことができる。   Examples of the base include organic bases such as triethylamine, tributylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium carbonate, Phosphate salts such as potassium monohydrogen phosphate and trisodium phosphate, alkali metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide, and organic lithiums such as n-butyllithium And Grignard reagents such as ethylmagnesium bromide.

これらの塩基は、一般式(26)で表される化合物に対して0.01から5倍モル当量の範囲で適宜選択、または溶媒として使用すればよい。   These bases may be appropriately selected or used as a solvent in the range of 0.01 to 5 molar equivalents relative to the compound represented by the general formula (26).

反応剤としては、例えば、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化n−プロピル、クロロメチル メチルエーテルなどの置換アルキルハライド類、塩化アセチル、塩化クロロアセチル、塩化ベンゾイルなどのカルボン酸ハライド類、プロパルギルブロミドなどの不飽和アルキルハライド類、クロロギ酸メチル、クロロギ酸2−クロロエチル、クロロギ酸フェニル、クロロギ酸ベンジルなどのクロロギ酸エステル類、塩化N,N−ジメチルカルバモイルなどのカルバミン酸ハライド類、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トシル酸クロリドなどのスルホン酸ハライド類、クロログリオキシル酸メチル、クロログリオキシル酸エチルなどのクロログリオキシル酸エステル類、クロロトリメチルシランまたはtert−ブチルクロロジメチルシランなどを例示することができる。   Examples of the reactive agent include substituted alkyl halides such as methyl iodide, ethyl iodide, n-propyl bromide, chloromethyl methyl ether, carboxylic acid halides such as acetyl chloride, chloroacetyl chloride, and benzoyl chloride, propargyl bromide Unsaturated alkyl halides such as methyl chloroformate, 2-chloroethyl chloroformate, phenyl chloroformate, chloroformates such as benzyl chloroformate, carbamic acid halides such as N, N-dimethylcarbamoyl chloride, methanesulfonyl chloride, Sulfonic acid halides such as trifluoromethanesulfonyl chloride and tosylic acid chloride, chloroglyoxylic acid esters such as methyl chloroglyoxylate and ethyl chloroglyoxylate, chlorotrimethylsilane or tert And the like can be exemplified butylchlorodimethylsilane.

これらの反応剤は、一般式(26)で表される化合物に対して1から5倍モル当量の範囲で適宜選択、または溶媒として使用すればよい。   These reactants may be appropriately selected or used as a solvent in the range of 1 to 5 molar equivalents relative to the compound represented by the general formula (26).

反応温度は−80℃から使用する溶媒の還流温度、反応時間は数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。
製造方法7
The reaction temperature may be appropriately selected from −80 ° C. to the reflux temperature of the solvent used, and the reaction time may be selected from a range of several minutes to 96 hours.
Manufacturing method 7

Figure 2007302617
Figure 2007302617

(式中、Het、X、n、G、R、R、Qは[1]と同じものを示す。) (In the formula, Het, X, n, G 3 , R 1 , R 2 and Q 2 are the same as those in [1].)

7−(i): 一般式(8) → 一般式(28)
一般式(8)で表される化合物を溶媒中、アルデヒド類またはケトン類と反応させ、触媒を添加し、水素雰囲気下で反応させることにより、一般式(28)で表される化合物を製造することができる。
7- (i): General formula (8) → General formula (28)
The compound represented by the general formula (8) is reacted with an aldehyde or a ketone in a solvent, a catalyst is added, and the reaction is performed in a hydrogen atmosphere to produce the compound represented by the general formula (28). be able to.

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ジメチルホルミアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノールなどのアルコール類、水などの溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。   Any solvent may be used as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and methylcyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, xylene, and toluene, dichloromethane, chloroform, and the like. Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, acetonitrile, Nitriles such as propionitrile, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane and dimethyl ether Rusuruhokishido, alcohols such as methanol, ethanol, can indicate a solvent such as water, these solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

触媒としてはパラジウム−カーボン、水酸化パラジウム−カーボンなどのパラジウム触媒類、ラネーニッケルなどのニッケル触媒類、コバルト触媒類、プラチナ触媒類、ルテニウム触媒類、ロジウム触媒類などを示すことができる。   Examples of the catalyst include palladium catalysts such as palladium-carbon and palladium hydroxide-carbon, nickel catalysts such as Raney nickel, cobalt catalysts, platinum catalysts, ruthenium catalysts, rhodium catalysts, and the like.

アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、トリフルオロアセトアルデヒド、ジフルオロアセトアルデヒド、フルオロアセトアルデヒド、クロロアセトアルデヒド、ジクロロアセトアルデヒド、トリクロロアセトアルデヒド、ブロモアセトアルデヒドなどのアルデヒド類を示すことができる。   Examples of aldehydes include aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, trifluoroacetaldehyde, difluoroacetaldehyde, fluoroacetaldehyde, chloroacetaldehyde, dichloroacetaldehyde, trichloroacetaldehyde, and bromoacetaldehyde.

ケトン類としては、例えば、アセトン、パーフルオロアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を示すことができる。
反応圧力は1気圧から100気圧の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。
Examples of ketones include ketones such as acetone, perfluoroacetone, and methyl ethyl ketone.
The reaction pressure may be appropriately selected within the range of 1 to 100 atm.

反応温度は−20℃から使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。   The reaction temperature may be appropriately selected from −20 ° C. to the reflux temperature of the solvent used, and the reaction time may be selected from a range of several minutes to 96 hours.

7−(ii): 一般式(8) → 一般式(28)(別法1)
一般式(22)で表される化合物を溶媒中で、アルデヒド類またはケトン類と反応させて、還元剤を処理することにより、一般式(50)で表される化合物を製造することができる。
7- (ii): General formula (8) → General formula (28) (Alternative method 1)
The compound represented by general formula (50) can be produced by reacting the compound represented by general formula (22) with an aldehyde or ketone in a solvent and treating the reducing agent.

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ジメチルホルミアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノールなどのアルコール類、水などの溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。   Any solvent may be used as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and methylcyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, xylene, and toluene, dichloromethane, chloroform, and the like. Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, acetonitrile, Nitriles such as propionitrile, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane and dimethyl ether Rusuruhokishido, alcohols such as methanol, ethanol, can indicate a solvent such as water, these solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

還元剤としては、例えば、ソディウムボロハイドライド、ソディウムシアノボロハイドライド、ソディウムトリアセテートボロハイドライドなどのボロハイドライド類などを示すことができる。   Examples of the reducing agent include borohydrides such as sodium borohydride, sodium cyanoborohydride, and sodium triacetate borohydride.

アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、トリフルオロアセトアルデヒド、ジフルオロアセトアルデヒド、フルオロアセトアルデヒド、クロロアセトアルデヒド、ジクロロアセトアルデヒド、トリクロロアセトアルデヒド、ブロモアセトアルデヒドなどのアルデヒド類を示すことができる。   Examples of aldehydes include aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, trifluoroacetaldehyde, difluoroacetaldehyde, fluoroacetaldehyde, chloroacetaldehyde, dichloroacetaldehyde, trichloroacetaldehyde, and bromoacetaldehyde.

ケトン類としては、例えば、アセトン、パーフルオロアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を示すことができる。   Examples of ketones include ketones such as acetone, perfluoroacetone, and methyl ethyl ketone.

反応温度は−20℃から使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。   The reaction temperature may be appropriately selected from −20 ° C. to the reflux temperature of the solvent used, and the reaction time may be selected from a range of several minutes to 96 hours.

7−(iii): 一般式(8) → 一般式(28)(別法2)
一般式(22)で表される化合物を溶媒中、または無溶媒でホルミル化剤と反応させ、添加剤を処理することにより、一般式(28)において、Rがメチル基である化合物を製造することができる。
7- (iii): General formula (8)-> General formula (28) (alternative method 2)
By reacting the compound represented by the general formula (22) with a formylating agent in a solvent or without a solvent and treating the additive, a compound in which R 1 is a methyl group in the general formula (28) is produced. can do.

溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ジメチルホルミアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノールなどのアルコール類、水などの溶媒を示すことができ、これらの溶媒は単独もしくは2種以上混合して使用することができる。   Any solvent may be used as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and methylcyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, xylene, and toluene, dichloromethane, chloroform, and the like. Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, acetonitrile, Nitriles such as propionitrile, ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane and dimethyl ether Rusuruhokishido, alcohols such as methanol, ethanol, can indicate a solvent such as water, these solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

ホルミル化剤としては、例えば、ホルムアルデヒド、ギ酸、フルオロギ酸、ホルミル(2,2−ジメチルプロピオン酸)などのギ酸無水物類、ギ酸フェニルなどのギ酸エステル類、ペンタフルオロベンズアルデヒド、オキサゾールなどを示すことができる。   Examples of the formylating agent include formic acid anhydrides such as formaldehyde, formic acid, fluoroformic acid, formyl (2,2-dimethylpropionic acid), formic acid esters such as phenyl formate, pentafluorobenzaldehyde, oxazole and the like. it can.

添加剤としては、例えば、硫酸などの無機酸、ギ酸などの有機酸、ソジウムボロハイドライド、ソジウムシアノボロハイドライドなどのボロハイドライド類、ボロン酸、水素化リチウムアルミニウムなどを示すことができる。   Examples of the additive include inorganic acids such as sulfuric acid, organic acids such as formic acid, borohydrides such as sodium borohydride and sodium cyanoborohydride, boronic acid, lithium aluminum hydride, and the like.

反応温度は−20℃から使用する溶媒の還流温度、反応時間は、数分から96時間の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。
製造方法8
The reaction temperature may be appropriately selected from −20 ° C. to the reflux temperature of the solvent to be used, and the reaction time may be appropriately selected within the range of several minutes to 96 hours.
Manufacturing method 8

Figure 2007302617
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(式中、Het、G、R、R、X、n、Q、Qは[1]と同じものを示し、Halはハロゲン原子を示す。) (In the formula, Het, G 3 , R 1 , R 2 , X, n, Q 1 , Q 2 are the same as [1], and Hal is a halogen atom.)

8−(i): 一般式(8)+ 一般式(29) → 一般式(30)
Tetrahedron Lett. p.3789(1999)などに記載の公知の条件に従い、一般式(8)で表される化合物と一般式(29)で表される化合物とを反応させることにより、一般式(30)で表される化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。
8- (i): General formula (8) + General formula (29) → General formula (30)
Tetrahedron Lett. p. In accordance with known conditions described in 3789 (1999), the compound represented by the general formula (8) is reacted with the compound represented by the general formula (29). Compounds can be produced. Conditions such as solvent and reaction temperature are not limited to those described in the literature.

8−(ii): 一般式(30)+ 一般式(11) → 一般式(31)
一般式(30)で表される化合物と一般式(11)で表される化合物とを、1−(iv)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(31)で表される化合物を製造することができる。
製造方法9
8- (ii): General formula (30) + General formula (11) → General formula (31)
By reacting the compound represented by the general formula (30) and the compound represented by the general formula (11) according to the conditions described in 1- (iv), the compound represented by the general formula (31) is obtained. Can be manufactured.
Manufacturing method 9

Figure 2007302617
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(式中、Het、G、R、R、X、n、Q、Qは[1]と同じものを示し、Halはハロゲン原子を示す。)
9−(i): 一般式(32) → 一般式(33)
一般式(33)で表される化合物を、2−(ii)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(33)で表される化合物を製造することができる。
(In the formula, Het, G 3 , R 1 , R 2 , X, n, Q 1 , Q 2 are the same as [1], and Hal is a halogen atom.)
9- (i): General formula (32) → General formula (33)
By reacting the compound represented by the general formula (33) according to the conditions described in 2- (ii), the compound represented by the general formula (33) can be produced.

9−(ii): 一般式(33)+ 一般式(6) → 一般式(34)
一般式(33)で表される化合物と一般式(6)で表される化合物とを、1−(i)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(34)で表される化合物を製造することができる。
9- (ii): General formula (33) + General formula (6) → General formula (34)
By reacting the compound represented by the general formula (33) and the compound represented by the general formula (6) according to the conditions described in 1- (i), the compound represented by the general formula (34) is obtained. Can be manufactured.

9−(iii): 一般式(32)+ 一般式(6) → 一般式(34)
一般式(34)で表される化合物を、1−(i)に記載の縮合剤を用いる条件、もしくは混合酸無水物法を用いる条件に従い、一般式(6)で表される化合物と反応させることにより、一般式(34)で表される化合物を製造することができる。
製造方法10
9- (iii): General formula (32) + General formula (6)-> General formula (34)
The compound represented by the general formula (34) is reacted with the compound represented by the general formula (6) according to the conditions using the condensing agent described in 1- (i) or the conditions using the mixed acid anhydride method. Thus, the compound represented by the general formula (34) can be produced.
Manufacturing method 10

Figure 2007302617
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(式中、Het、G、R、R、X、n、Q、Zは[1]と同じものを示す。)
一般式(35)で表される化合物を、1−(iv)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
(In the formula, Het, G 3 , R 1 , R 2 , X, n, Q 2 and Z are the same as those in [1].)
By reacting the compound represented by the general formula (35) according to the conditions described in 1- (iv), the compound represented by the general formula (1) can be produced.

また、Journal of Chemical Society Chemical Communications p.270(1988)などに記載の公知の条件に従い、一般式(35)で表される化合物とニトロニウムテトラフルオロボラートを反応させることにより、一般式(1)中RあるいはRがニトロソ基である化合物を、Synthesis−Stuttgart p.745(1988)などに記載の公知の条件に従い、一般式(35)で表される化合物と硝酸アンモニウムを反応させることにより、一般式(1)中RあるいはRがニトロ基である化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。
また、Heterocycles p.159(1988)などに記載の公知の条件に従い、一般式(35)で表される化合物とN−クロロこはく酸イミドあるいはN−ブロモこはく酸イミドを反応させることにより、一般式(1)中RあるいはRが塩素原子あるいは臭素原子である化合物を製造することができる。
Also, Journal of Chemical Society Chemical Communications p. 270 (1988) and the like, by reacting the compound represented by the general formula (35) with nitronium tetrafluoroborate, R 1 or R 2 in the general formula (1) is a nitroso group. The compound which is: Synthesis-Stuttgart p. The compound represented by general formula (35) is reacted with ammonium nitrate according to known conditions described in 745 (1988) and the like to produce a compound in which R 1 or R 2 in general formula (1) is a nitro group can do. Conditions such as solvent and reaction temperature are not limited to those described in the literature.
Heterocycles p. 159 (1988) and the like, by reacting the compound represented by the general formula (35) with N-chlorosuccinimide or N-bromosuccinimide, R in the general formula (1) A compound in which 1 or R 2 is a chlorine atom or a bromine atom can be produced.

前記に示した全ての製造方法において、目的物は、反応終了後、反応系から常法に従って単離すれば良いが、必要に応じて、再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留などの操作を行い精製することができる。また、反応系から目的物を単離せずに次の反応工程に供することも可能である。   In all the production methods shown above, the target product may be isolated from the reaction system according to a conventional method after completion of the reaction. If necessary, it can be purified by recrystallization, column chromatography, distillation or the like. can do. Moreover, it is also possible to use for the next reaction process, without isolating a target object from a reaction system.

以下、第1表から第30表に本発明の殺虫剤の有効成分である一般式(1)で表される化合物の代表的な化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, Tables 1 to 30 show typical compounds represented by the general formula (1) which are active ingredients of the insecticide of the present invention, but the present invention is not limited thereto. .

なお、表中、「n−」はノルマルを、「Me」はメチル基を、「Et」はエチル基を、「n−Pr」はノルマルプロピル基を、「i−Pr」はイソプロピル基を、「n−Bu」はノルマルブチル基を、「i−Bu」はイソブチル基を、「s−Bu」はセカンダリーブチル基を、「t−Bu」はターシャリーブチル基を、「H」は水素原子を、「O」は酸素原子を、「S」は硫黄原子を、「C」は炭素原子を、「N」は窒素原子を、「F」はフッ素原子を、「Cl」は塩素原子を、「Br」は臭素原子を、「I」はヨウ素原子を、「CF」はトリフルオロメチル基を、「MeS」はメチルチオ基を、「MeSO」はメチルスルフィニル基を、「MeSO」はメチルスルホニル基を、「MeO」はメトキシ基を、「NH」はアミノ基を、「MeNH」はメチルアミノ基を、「MeN」はジメチルアミノ基を、「OH」はヒドロキシ基を、それぞれ表すものである。 In the table, “n-” represents normal, “Me” represents a methyl group, “Et” represents an ethyl group, “n-Pr” represents a normal propyl group, “i-Pr” represents an isopropyl group, “N-Bu” represents a normal butyl group, “i-Bu” represents an isobutyl group, “s-Bu” represents a secondary butyl group, “t-Bu” represents a tertiary butyl group, and “H” represents a hydrogen atom. , “O” represents an oxygen atom, “S” represents a sulfur atom, “C” represents a carbon atom, “N” represents a nitrogen atom, “F” represents a fluorine atom, “Cl” represents a chlorine atom, “Br” is a bromine atom, “I” is an iodine atom, “CF 3 ” is a trifluoromethyl group, “MeS” is a methylthio group, “MeSO” is a methylsulfinyl group, and “MeSO 2 ” is methyl. sulfonyl group, "MeO" a methoxy group, an "NH 2" is an amino group The "MeNH" represents a methyl group, "Me 2 N" is a dimethylamino group, "OH" is a hydroxy group, and represents respectively.

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第31表に本発明の化合物の物性値を示す。ここに示したH−NMRのシフト値は、特に記載がない場合、テトラメチルシランを内部基準物質として使用し、「J」は結合定数を示している。 Table 31 shows the physical property values of the compounds of the present invention. Unless otherwise indicated, the shift value of 1 H-NMR shown here uses tetramethylsilane as an internal reference substance, and “J” indicates a binding constant.

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本発明の一般式(1)で表される化合物を有効成分として含有する殺虫剤は、水稲、果樹、野菜、その他作物及び花卉などを加害する各種農林、園芸、貯穀害虫や衛生害虫あるいは線虫などの害虫防除に適しており、それらの害虫に対して殺虫効果を有している。そのような害虫としては例えば以下のようなものが例示される。ウリノメイガ(Diaphania indica)、チャハマキ(Homona magnanima)、ハイマダラノメイガ(Hellulla undalis)、リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata)、チャノコカクモンハマキ(Adoxophyes sp.)、ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus)、モモシンクイガ(Carposina niponensis)、リンゴコシンクイ(Grapholita inopinata)、ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、クワヒメハマキ(Olethreutes mori)、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis citrella)、カキノヘタムシガ(Stathmopoda masinissa)、チャノホソガ(Caloptilia theivora)、リンゴハマキホソガ(Caloptilia zachrysa)、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoniella)、ナシホソガ(Spulerrina astaurota)、アゲハチョウ(Papilio xuthus)、モンシロチョウ(Pieris rapae crucivora)、オオタバコガ(Heliothis armigera)、コドリンガ(Cydia pomonella)、コナガ(Plutella xylostella)、リンゴヒメシンクイ(Argyresthia conjugella)、モモシンクイガ(Carposina niponensis)、ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、チャマダラメイガ(Ephestia elutella)、クワノメイガ(Glyphodes pyloalis)、イッテンオオメイガ(Scirpophaga incertulas)、イチモンジセセリ(Parnara guttata)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)、イネヨトウ(Sesamia inferens)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、シロイチモンジヨトウ(Spodoptera exigua)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、カブラヤガ(Agrotis segetum)、タマナギンウワバ(Autographa nigrisigna)、イラクサギンウワバ(Trichoplusia ni)などの鱗翅目害虫、フタテンヨコバイ(Macrosteles fascifrons)、ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)、ミカンキジラミ(Diaphorina citri)、ブドウコナジラミ(Aleurolobus taonabae)、シルバーリーフコナジラミ(Bermisia argentifolii)、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、ニセダイコンアブラムシ(Lipaphis erysimi)、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、ユキヤナギアブラムシ(Aphis Citricola)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、ツノロウムシ(Ceroplastes ceriferus)、クワコナカイガラムシ(Pseudococcus Comstocki)、フジコナカイガラムシ(Planococcus kraunhiae)、ミカンワタカイガラムシ(Pulvinaria aurantii)、ミカンマルカイガラムシ(Pseudaonidia duplex)、ナシマルカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、ヤノネカイガラムシ(Unaspis yanonensis)、チャバネアオカメムシ(Plautia Stali)、クサギカメムシ(Halyomorpha mista)、などの半翅目害虫、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)、マメコガネ(Popillia japonica)、タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)、ヒラタキクイムシ(Lyctusbrunneus)、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)、アズキゾウムシ(Callosobruchus chinensis)、ヤサイゾウムシ(Listroderes costirostris)、コクゾウムシ(Sitophilus zeamais)、ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis grandis)、イネミズソウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、ウリハムシ(Aulacophora femoralis)、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)、マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)、コロラドポテトビートル(Leptinotarsa decemlineata)、メキシカンビートビートル(Epilachna varivestis)、コーンルートワーム類(Diabrotica sp.)、キボシカミキリ(Psacothea hilaris)、ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)などの甲虫目害虫、ウリミバエ(Dacus(Bactrocera) dorsalis)、イネハモグリバエ(Agromyza oryzae)、タマネギバエ(Delia antiqua)、タネバエ(Delia platura)、ダイズサヤタマバエ(Asphondylia sp.)、イエバエ(Musca domestica)、ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)、ナスハモグリバエ(Liriomyza bryoniae)、アカイエカ(Culex pipiens)などの双翅目害虫、ミナミネグサレセンチュウ(Pratylenchus coffeae)、ネグサレセンチュウ(Pratylenchus sp.)、ジャガイモシストセンチュウ(Globodera rostochiensis)、ネコブセンチュウ(Meloidogyne sp.)、ミカンネセンチュウ(Tylemchulus semipenetrans)、ニセネグサレセンチュウ(Aphelenchus avenae)、ハガレセンチュウ(Aphelenchoides ritzemabosi)などのハリセンチュウ目害虫、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、キイロハナアザミウマ(Thrips flavus)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci)などのアザミウマ目害虫、チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)、コバネイナゴ(Oxya yezoensis)などの直翅目害虫。   The insecticide containing the compound represented by the general formula (1) of the present invention as an active ingredient is a variety of agricultural, forestry, horticultural, stored grain pests, sanitary pests or nematodes that harms paddy rice, fruit trees, vegetables, other crops, flowers, etc. It is suitable for pest control such as, and has an insecticidal effect against these pests. Examples of such pests include the following. Urophore (Diaphania indica), Chamonaki (Homona magnanima), Hyellulla undalis, Adoxophyes orana fasciata, Adoxophyes sp., Adoxophyes sp. (Carposina niponensis), Apple cinchoi (Grapholita inopinata), Pepper moth (Op) , Appleoptia zachrysa, Phyllonorycter ringoniella, Spulerrina astaurota, Swallowtail butterfly (Papilio xuthus), Pieris rapae crucivora, Heliothis armigmon a xylostella, Argyresthia conjugella, Carposina niponensis, Chilo suppressalis, Cnaphalocrocis medinalis, Ephestia elutella, Glyphodes aga (Glyphodes aga) incertulas, Parnara guttata, Pseudaletia separata, Sesamia inferens, Mamestra brassicae, Spodoptera litura, Sguaoptagro segetum, Autographa nigrisigna, Trichoplusia ni, Lepidoptera, Macrosteles fascifrons, Nephotettix cincticeps, Nilaparvata Soga tella furcifera), citrus lice (Diaphorina citri), Aleurolobus taonabae, silver leaf white lice (Bermisia argentifolii), tobacco whitefly (Bemisia tabaci), on-site whitefly (Trialeurodes vaporarios), erysamphidia phi gossypii), snowy aphid (Aphis Citricola), peach aphid (Myzus persicae), horned beetle (Ceroplastes ceriferus), stag beetle (Pseudococcus Comstocki), stag beetle (Planococcus kraunhiae moth) Pseudaonidia duplex, Pterudaonidia duplex (Comstockaspis perniciosa), Paramecium beetle (Unaspis yanonensis), Chabaenokamushi (Plautia Stali), Hemiyomorpha mista (Haliyomorpha mista), rea Poppy japonica, Lasioderma serricorne, Lyctusbrunneus, Epilachna vigintioctopunctata, Callosobruchus chinensis, Listriseres (Anthonomus grandis grandis), rice weevil (Lissorhoptrus oryzophilus), cucumber beetle (Aulacophora femoralis), rice beetle (Oulema oryzae), horned beetle (Phyllotreta striolata), pine beetle (Tomicus piniperem) varivestis, corn root worms (Diabrotica sp.), Psacothea hilaris, Coleoptera pests such as Anoplophora malasiaca; Onion fly (Delia antiqua), fly fly (Delia platura), soybean sand fly (Asphondylia sp.), House fly (Musca domestica), winged fly (Chromatomyia horticola), bean wing fly (Liriomyza trifolii), leaf moth (Liriomyza trifolii) Diptera pests such as pipiens, Pratylenchus coffeae, Nepalese nematode (Pratylenchus sp.), potato cyst nematode (Globodera rostochiensis), root-knot nematode (Meloidogyne sp.), citrus seminymouse (pytrans) Nestled pests such as Aphelenchus avenae and Aphelenchoides ritzemabosi, Thrips palmi, Thrips palmi Thrips flavus), Negia Miuma (Thrips tabaci) Thysanoptera, such as the German cockroach (Blattella germanica), American cockroach (Periplaneta americana), Kobaneinago (Oxya yezoensis) Orthoptera pests such as.

本発明の一般式(1)で表される化合物を有効成分とする殺虫剤は、水田作物、畑作物、果樹、野菜、その他の作物及び花卉などに被害を与える前記害虫に対して顕著な防除効果を有するものであるので、害虫の発生が予測される時期に合わせて、害虫の発生前または発生が確認された時点で、水田、畑、果樹、野菜、その他の作物、花卉などの水田水、茎葉または土壌に処理することにより本発明の殺虫剤としての効果が得られるものである。   The insecticide containing the compound represented by the general formula (1) of the present invention as an active ingredient is a remarkable control against the pests that damage paddy field crops, field crops, fruit trees, vegetables, other crops, and flowers. Paddy fields such as paddy fields, fields, fruit trees, vegetables, other crops, flower buds, etc., at the time when the occurrence of pests is confirmed or when the occurrence is confirmed, in accordance with the time when the occurrence of pests is expected. The effect as an insecticide of the present invention can be obtained by treating the leaves and soil.

本発明の殺虫剤は、農園芸薬剤における製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に製剤して使用するのが一般的である。すなわち、一般式(1)で表される化合物はこれらを適当な不活性担体に、または必要に応じて補助剤と一緒に適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着もしくは付着させ、適宜の剤形、例えば、懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、粒剤、粉剤、錠剤などに製剤して使用すればよい。   In general, the insecticide of the present invention is formulated and used in a form convenient for use in accordance with a conventional formulation method for agricultural and horticultural drugs. That is, the compound represented by the general formula (1) is dissolved, separated, suspended, mixed, impregnated by mixing these in an appropriate inert carrier or in an appropriate ratio together with auxiliary agents as necessary. What is necessary is just to adsorb | suck or adhere and to formulate and use for an appropriate dosage form, for example, a suspension agent, an emulsion, a liquid agent, a wettable powder, a granule, a powder agent, a tablet.

本発明で使用できる不活性担体としては固体または液体のいずれであっても良く、固体の不活性担体になりうる材料としては、例えば、ダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂などの合成重合体、粘土類(例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土など)、タルク類(例えばタルク、ピロフィライドなど)、シリカ類(例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもある。〕)、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、リン酸カルシウムなどの無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安などの化学肥料、堆肥などを挙げることができ、これらは単独でもしくは二種以上の混合物の形で使用される。   The inert carrier that can be used in the present invention may be either solid or liquid. Examples of materials that can be used as a solid inert carrier include soybean flour, cereal flour, wood flour, bark flour, saw flour, Tobacco stem powder, walnut shell powder, bran, fiber powder, residues after extraction of plant extracts, synthetic polymers such as ground synthetic resin, clays (eg kaolin, bentonite, acid clay), talc (eg talc, pyrophyllide) Etc.), silicas (for example, diatomaceous earth, silica sand, mica, white carbon (a synthetic high-dispersion silicic acid called hydrous finely divided silicon or hydrous silicic acid, and some products contain calcium silicate as a main component)), activated carbon, sulfur powder , Pumice, calcined diatomaceous earth, brick ground, fly ash, sand, calcium carbonate, calcium phosphate and other inorganic mineral powders, ammonium sulfate, phosphorous, ammonium nitrate Urea, chemical fertilizers such as salts depreciation, etc. can be mentioned compost, which are used alone or in the form of a mixture of two or more.

液体の不活性担体になりうる材料としては、それ自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとなるものから選択され、例えば代表例として次に上げる担体を例示できるが、これらは単独でもしくは2種以上の混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコールなど)、ケトン類(例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、エーテル類(例えばジエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど)、脂肪族炭化水素類(例えばケロシン、鉱油など)、芳香族炭化水素類(例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレンなど)、ハロゲン化炭化水素類(例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなど)、エステル類(例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチルなど)、アミド類(例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど)、ニトリル類(例えばアセトニトリルなど)を挙げることができる。   The material that can be a liquid inert carrier is selected from those having solvent ability itself, and those that can disperse an active ingredient compound with the aid of an auxiliary agent without having solvent ability. As examples, the following carriers can be exemplified, but these are used alone or in the form of a mixture of two or more, such as water, alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, etc.), ketones (Eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, cellosolve, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, kerosene, mineral oil, etc.), aromatic Hydrocarbons ( For example, benzene, toluene, xylene, solvent naphtha, alkylnaphthalene, etc.), halogenated hydrocarbons (eg, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, etc.), esters (eg, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, phthalic acid) Diisobutyl, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, etc.), amides (eg, dimethylformamide, diethylformamide, dimethylacetamide, etc.) and nitriles (eg, acetonitrile, etc.).

補助剤としては、次に例示する代表的な補助剤を挙げることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用され、単独で、ある場合は2種以上の補助剤を併用し、またある場合には全く補助剤を使用しないことも可能である。   As the auxiliary agent, typical auxiliary agents exemplified below can be exemplified, and these auxiliary agents are used depending on the purpose, and are used alone or in some cases, in combination with two or more auxiliary agents. In some cases, it is possible to use no adjuvant.

有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び/または湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステルなどの界面活性剤を示すことができる。   Surfactants are used for the purpose of emulsifying, dispersing, solubilizing and / or wetting the active ingredient compound, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene higher fatty acid ester, polyoxyethylene Can show surfactants such as ethylene resin acid ester, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, alkylaryl sulfonate, naphthalene sulfonate, lignin sulfonate, higher alcohol sulfate it can.

また、有効成分化合物の分散安定化、粘着及び/または結合の目的のために、次に例示する補助剤を使用することができ、例えば、カゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、キサンタンガム、リグニンスルホン酸塩などの補助剤を使用することができる。   Further, for the purpose of stabilizing the dispersion of the active ingredient compound, sticking and / or binding, the following exemplified adjuvants can be used, such as casein, gelatin, starch, methylcellulose, carboxymethylcellulose, gum arabic, Adjuvants such as polyvinyl alcohol, pine oil, coconut oil, bentonite, xanthan gum and lignin sulfonate can be used.

固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩、燐酸アルキルエステルなどの補助剤を使用することができる。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンスルホン酸縮合物、縮合燐酸塩などの補助剤を使用することもできる。消泡剤としては、例えばシリコーン油などの補助剤を使用することもできる。   In order to improve the fluidity of solid products, the following adjuvants may be used, and for example, adjuvants such as waxes, stearates and alkyl phosphates may be used. As a peptizer for the suspension product, for example, auxiliary agents such as naphthalenesulfonic acid condensate and condensed phosphate can be used. As the antifoaming agent, for example, an auxiliary agent such as silicone oil can be used.

なお、本発明の一般式(1)で表される化合物は光、熱、酸化などに安定であるが、必要に応じ酸化防止剤あるいは紫外線吸収剤、例えばBHT(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(ブチルヒドロキシアニソール)のようなフェノール誘導体、ビスフェノール誘導体、またフェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミン、フェネチジンとアセトンの縮合物などのアリールアミン類あるいはベンゾフェノン系化合物類を安定剤として適量加えることによって、より効果の安定した組成物を得ることができる。   The compound represented by the general formula (1) of the present invention is stable to light, heat, oxidation, etc., but if necessary, an antioxidant or an ultraviolet absorber such as BHT (2,6-di-t- Butyl-4-methylphenol), phenol derivatives such as BHA (butylhydroxyanisole), bisphenol derivatives, arylamines such as phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine, phenetidine and acetone condensates, or benzophenone series By adding an appropriate amount of the compounds as a stabilizer, a more stable composition can be obtained.

本発明の一般式(1)で表される化合物の有効成分量は、通常粉剤では0.5〜20重量%、乳剤では5〜50重量%、水和剤では10〜90重量%、粒剤では0.1〜20重量%およびフロアブル製剤では10〜90重量%である。一方それぞれの剤型における担体の量は、通常粉剤では60〜99重量%、乳剤では40〜95重量%、水和剤では10〜90重量%、粒剤では80〜99重量%、およびフロアブル製剤では10〜90重量%である。また、補助剤の量は、通常粉剤では0.1〜20重量%、乳剤では1〜20重量%、水和剤では0.1〜20重量%、粒剤では0.1〜20重量%およびフロアブル製剤では0.1〜20重量%である。   The amount of the active ingredient of the compound represented by the general formula (1) of the present invention is usually 0.5 to 20% by weight for powders, 5 to 50% by weight for emulsions, 10 to 90% by weight for wettable powders, and granules. 0.1 to 20% by weight and 10 to 90% by weight for flowable preparations. On the other hand, the amount of carrier in each dosage form is usually 60 to 99% by weight for powders, 40 to 95% by weight for emulsions, 10 to 90% by weight for wettable powders, 80 to 99% by weight for granules, and flowable preparations Is 10 to 90% by weight. The amount of the auxiliary agent is usually 0.1 to 20% by weight for powders, 1 to 20% by weight for emulsions, 0.1 to 20% by weight for wettable powders, 0.1 to 20% by weight for granules, and In the flowable preparation, it is 0.1 to 20% by weight.

各種害虫を防除するためにそのまま、または水などで適宜希釈し、もしくは懸濁させた形で病害防除に有効な量を当該害虫の発生が予測される作物もしくは発生が好ましくない場所に適用して使用すればよい。その使用量は種々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の生育状況、害虫の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期などにより変動するが、一般に有効成分0.0001〜5000ppm、好ましくは0.01〜1000ppmの濃度で使用するのが好ましい。また、10aあたりの施用量は、一般に有効成分で1〜300gである。   Applying an effective amount for disease control in the form of a pest control or a place where the occurrence of the pest is unfavorable, as it is or to be appropriately diluted or suspended in water to control various pests Use it. The amount used varies depending on various factors such as purpose, target pests, crop growth status, pest occurrence tendency, weather, environmental conditions, dosage form, application method, application location, application time, etc. It is preferable to use at a concentration of 0.0001 to 5000 ppm, preferably 0.01 to 1000 ppm. Moreover, the application amount per 10a is generally 1 to 300 g as an active ingredient.

本発明の一般式(1)で表される化合物を有効成分として含有する殺虫剤は単独で水稲、果樹、野菜、その他作物及び花卉などを加害する各種農林、園芸、貯穀害虫や衛生害虫あるいは線虫などの害虫防除に使用してもよいが、更に、同時に発生する多種多様な病害虫の防除に対して、さらに優れた防除効果を得るために、他の殺虫剤及び/または殺菌剤の1種以上を組み合わせて使用してもよい。   The insecticide containing the compound represented by the general formula (1) of the present invention as an active ingredient is various agricultural and forestry, horticulture, stored grain pests, sanitary pests or lines that individually harm paddy rice, fruit trees, vegetables, other crops and flowers. It may be used for pest control such as insects, but in addition, in order to obtain a more excellent control effect against the control of a wide variety of pests that occur at the same time, one of other insecticides and / or fungicides A combination of the above may also be used.

本発明の一般式(1)で表される化合物と他の殺虫剤及び/または殺菌剤の1種以上とを組み合わせて使用する場合、一般式(1)で表される化合物と他の殺虫剤及び/または殺菌剤の混合組成物として使用してもよく、または、一般式(1)で表される化合物と他の殺虫剤及び/または殺菌剤を農薬処理時に混合して使用してもよい。   When the compound represented by the general formula (1) of the present invention is used in combination with one or more other insecticides and / or fungicides, the compound represented by the general formula (1) and other insecticides are used. And / or may be used as a mixed composition of fungicides, or may be used by mixing the compound represented by the general formula (1) with other insecticides and / or fungicides during agrochemical treatment. .

他に、一般式(1)で表される化合物は除草剤、肥料、土壌改良材、植物成長調整剤などの植物保護剤や資材などと混合して、更に効力の優れた多目的組成物を作ることもでき、また相加効果または相乗効果も期待できる組成物とすることもできる。   In addition, the compound represented by the general formula (1) is mixed with plant protection agents and materials such as herbicides, fertilizers, soil conditioners, plant growth regulators, etc. to make a multipurpose composition with further excellent efficacy. The composition can also be expected to have an additive effect or a synergistic effect.

次の実施例により本発明の代表的な実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The following examples explain typical examples of the present invention, but the present invention is not limited thereto.

[実施例1]
5−ベンズアミド−N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}フラン−2−カルボン酸アミド(化合物番号4−1)の製造
[Example 1]
Preparation of 5-benzamide-N-{(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl} furan-2-carboxylic acid amide (Compound No. 4-1)

[実施例1−1]
N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}−2−ニトロフラン−5−カルボン酸アミドの製造
5−ニトロフラン−2−カルボン酸2.5g、DMF0.1gをトルエン15mlに装入し、塩化チオニル2.32gを添加し、80℃で1時間加熱した後、還流下2時間反応した。減圧下溶媒を留去し、粗酸クロリドを得た。
[Example 1-1]
Production of N-{(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl} -2-nitrofuran-5-carboxylic acid amide 2.5 g of 5-nitrofuran-2-carboxylic acid and 0.1 g of DMF in 15 ml of toluene The mixture was charged with 2.32 g of thionyl chloride, heated at 80 ° C. for 1 hour, and then reacted under reflux for 2 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude acid chloride.

2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン4.18g、ピリジン1.48gをTHF25mlに装入し、先に得た粗酸クロリド体をTHF5mlに溶解させて添加した。室温で2時間攪拌後、酢酸エチルをを装入し、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→8:2)にて精製し、目的物5.2gを固体として得た(収率85%、対アニリン)。
1H NMR(CDCl3) δ2.36 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.41 (1H, d, J =3.7Hz), 7.45 (1H, d, J =3.7Hz), 7.87 (1H, brs).
2.18 g of 2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropylaniline and 1.48 g of pyridine were charged in 25 ml of THF, and the crude acid chloride obtained above was dissolved in 5 ml of THF and added. After stirring at room temperature for 2 hours, ethyl acetate was charged, washed successively with 5% aqueous hydrochloric acid and saturated aqueous sodium bicarbonate, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 8: 2) to obtain 5.2 g of the desired product as a solid (yield). Rate 85% vs. aniline).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 2.36 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.41 (1H, d, J = 3.7Hz), 7.45 (1H, d, J = 3.7Hz), 7.87 (1H , brs).

[実施例1−2]
2−アミノ−N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}フラン−5−カルボン酸アミドの製造
N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}−2−ニトロフラン−5−カルボン酸アミド1.11g、10%パラジウムカーボン0.1gをジオキサン20mlに装入し、室温、常圧で水素添加反応を3時間行った。窒素置換した後、パラジウムカーボンを濾過した。これ以上の精製をせず、濾液を次の反応に用いた。
[Example 1-2]
Preparation of 2-amino-N-{(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl} furan-5-carboxylic acid amide N-{(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl}- 2-Nitrofuran-5-carboxylic acid amide (1.11 g) and 10% palladium carbon (0.1 g) were charged into dioxane (20 ml), and a hydrogenation reaction was performed at room temperature and normal pressure for 3 hours. After purging with nitrogen, palladium carbon was filtered. The filtrate was used in the next reaction without further purification.

[実施例1−3]
5−ベンズアミド−N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}フラン−2−カルボン酸アミド(化合物番号4−1)の製造
実施例1−2で得られたジオキサン溶液の半量に、THF5mlとピリジン90mgを加えた。次いで、THF1mlに混合した塩化ベンゾイル0.15gを滴下装入し、室温で5時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル20mlを加え、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2)で精製することにより、目的物0.15g(収率17%、対ニトロ体)を褐色固体として得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 2.29(6H, s), 6.63(1H, d, J = 3.4Hz), 7.44(2H, s), 7.48-7.56(3H, m), 7.60-7.64(1H, m), 8.02-8.05(2H, m), 9.75(1H, s), 11.78(1H, s).
[Example 1-3]
5-Benzamide-N-{(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl} furan-2-carboxylic acid amide (Compound No. 4-1) Preparation of the dioxane solution obtained in Example 1-2 To half the amount, 5 ml of THF and 90 mg of pyridine were added. Next, 0.15 g of benzoyl chloride mixed with 1 ml of THF was added dropwise and stirred at room temperature for 5 hours. To the reaction solution was added 20 ml of ethyl acetate, and the mixture was washed successively with 5% aqueous hydrochloric acid solution and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 2) to obtain 0.15 g (yield 17%, vs. nitro form) of the desired product as a brown solid.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 2.29 (6H, s), 6.63 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.44 (2H, s), 7.48-7.56 (3H, m), 7.60-7.64 ( 1H, m), 8.02-8.05 (2H, m), 9.75 (1H, s), 11.78 (1H, s).

[実施例2]
5−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]フラン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号4−66)の製造
実施例1−2で得られたジオキサン溶液の半量に、ピリジン0.21g、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 0.22gを加え、1時間攪拌した。酢酸エチル20mlを装入後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→6:4)にて精製し、目的物0.11gをアモルファスとして得た(収率18%、対ニトロ体)。
1H NMR(CDCl3) δ2.26 (6H, s), 4.98 (2H, s), 6.29 (1H, d, J =3.6Hz), 7.35-7.43 (3H, m), 9.70 (1H, s), 11.4 (1H, brs).
[Example 2]
Preparation of 5- [N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] carbamoyl] furan-2-yl-carbamic acid 2,2,2-trichloroethyl ester (Compound No. 4-66) To half of the dioxane solution obtained in Example 1-2, 0.21 g of pyridine and 0.22 g of 2,2,2-trichloroethyl chloroformate were added and stirred for 1 hour. After charging 20 ml of ethyl acetate, it was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 6: 4) to obtain 0.11 g of the desired product as an amorphous product (yield). Rate 18% vs. nitro).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ2.26 (6H, s), 4.98 (2H, s), 6.29 (1H, d, J = 3.6Hz), 7.35-7.43 (3H, m), 9.70 (1H, s) , 11.4 (1H, brs).

[実施例3]
5−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号1−66)の製造
[Example 3]
Preparation of 5- [N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] carbamoyl] thiophen-2-yl-carbamic acid 2,2,2-trichloroethyl ester (Compound No. 1-66)

[実施例3−1]
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルからなる混合物の製造
濃硝酸12mlを5℃に冷却し、濃硫酸12mlを滴下した。内温を10℃以下に保ちながら、チオフェン−2−カルボン酸エチル5.07gを30分かけて滴下した後、室温で2時間攪拌した。氷水に排出した後、析出した固体を濾過した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた固体をヘキサンで洗浄することで、目的物である5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルからなる混合物4.03gを得た。5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルの混合比は1:1であった。
[Example 3-1]
Preparation of a mixture consisting of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester and 4-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester 12 ml of concentrated nitric acid was cooled to 5 ° C., and 12 ml of concentrated sulfuric acid was added dropwise. While maintaining the internal temperature at 10 ° C. or lower, 5.07 g of ethyl thiophene-2-carboxylate was added dropwise over 30 minutes, followed by stirring at room temperature for 2 hours. After discharging into ice water, the precipitated solid was filtered. The obtained solid was dissolved in ethyl acetate and washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting solid was washed with hexane to give 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester and 4-nitrothiophene-2- 4.03 g of a mixture consisting of carboxylic acid ethyl ester was obtained. The mixing ratio of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester and 4-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester was 1: 1.

[実施例3−2]
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸からなる混合物の製造
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルの比が1:1からなる混合物4.03g、水酸化ナトリウム1.6gを水15ml、メタノール15mlの混合液に加え、室温で2時間攪拌した。水排出後、濃塩酸でpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製することで、5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸からなる混合物 0.26gを得た。5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸の混合比は1:3であった。
[Example 3-2]
Preparation of a mixture consisting of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid and 4-nitrothiophene-2-carboxylic acid The ratio of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester to 4-nitrothiophene-2-carboxylic acid ethyl ester is A mixture of 1: 1 (4.03 g) and sodium hydroxide (1.6 g) were added to a mixture of water (15 ml) and methanol (15 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After draining water, the pH was adjusted to 1 with concentrated hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 1: 1) to give 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid and 4-nitrothiophene. 0.26 g of a mixture consisting of 2-carboxylic acid was obtained. The mixing ratio of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid and 4-nitrothiophene-2-carboxylic acid was 1: 3.

[実施例3−3]
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドとN−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸からなる混合物(混合比1:3) 0.25gをトルエン5mlに装入し、DMF 1滴、塩化チオニル0.5mlを加え、還流下、1時間攪拌した。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し粗酸クロリド体を得た。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン0.41g、ピリジン0.23gをTHF 5mlに装入し、先に得られた酸クロを加え、1時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→6:4)にて精製し、N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドを90mg、N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドを0.19g、それぞれ固体として得た。
・N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド:1H NMR(CDCl3) δ2.35 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.42 (1H, brs), 7.57 (1H, d, J =4.4Hz), 7.93 (1H, d, J =4.4Hz).
・N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド:1H NMR(CDCl3) δ2.34 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.52 (1H, brs), 8.15 (1H, d, J =1.2Hz), 8.51 (1H, d, J =1.2Hz).
[Example 3-3]
N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -4-nitrothiophene-2-carboxylic acid amide and N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -5 -Production of nitrothiophene-2-carboxylic acid amide A mixture of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid and 4-nitrothiophene-2-carboxylic acid (mixing ratio 1: 3) 0.25 g was charged in 5 ml of toluene. , 1 drop of DMF and 0.5 ml of thionyl chloride were added, and the mixture was stirred for 1 hour under reflux. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude acid chloride. 2,6-Dimethyl-4-heptafluoroisopropylaniline (0.41 g) and pyridine (0.23 g) were charged in 5 ml of THF, and the acid chloride obtained above was added thereto, followed by stirring for 1 hour. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with water, 5% aqueous hydrochloric acid and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 6: 4), and N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -5. 90 mg of nitrothiophene-2-carboxylic acid amide and 0.19 g of N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -4-nitrothiophene-2-carboxylic acid amide were obtained as solids, respectively. It was.
N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -5-nitrothiophene-2-carboxylic acid amide: 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 2.35 (6H, s), 7.37 (2H , s), 7.42 (1H, brs), 7.57 (1H, d, J = 4.4Hz), 7.93 (1H, d, J = 4.4Hz).
N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -4-nitrothiophene-2-carboxylic acid amide: 1 H NMR (CDCl 3 ) δ2.34 (6H, s), 7.37 (2H , s), 7.52 (1H, brs), 8.15 (1H, d, J = 1.2Hz), 8.51 (1H, d, J = 1.2Hz).

[実施例3−4]
5−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド0.09g、塩化スズ(II)0.19gをメタノール3mlに装入し、濃塩酸3mlを加え60℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、炭酸カリウム水溶液で中和し、析出した固形物を濾過した。酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し得られた残渣をそのまま次の反応に用いた。
[Example 3-4]
Preparation of 5-amino-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiophene-2-carboxylic acid amide N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl]- 0.09 g of 5-nitrothiophene-2-carboxylic acid amide and 0.19 g of tin (II) chloride were charged into 3 ml of methanol, 3 ml of concentrated hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, the mixture was neutralized with an aqueous potassium carbonate solution, and the precipitated solid was filtered. After extraction with ethyl acetate, it was dried over anhydrous sodium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was directly used in the next reaction.

[実施例3−5]
5−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号1−66)の製造
実施例3−4で得られた残渣に、ピリジン47mg、THF3mlを装入した後、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 46mgを加え、1時間室温で攪拌した。水に排出した後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=8:2→6:4)にて精製し、目的物40mg を固体として得た(収率34%、対ニトロ体).
1H NMR(CDCl3) δ2.34 (6H, s), 4.86 (2H, s), 6.69 (1H, brs), 7.12 (1H, brs), 7.34 (2H, s), 7.52 (1H, brs), 7.78 (1H, brs).
[Example 3-5]
Preparation of 5- [N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] carbamoyl] thiophen-2-yl-carbamic acid 2,2,2-trichloroethyl ester (Compound No. 1-66) After adding 47 mg of pyridine and 3 ml of THF to the residue obtained in Example 3-4, 46 mg of 2,2,2-trichloroethyl chloroformate was added and stirred at room temperature for 1 hour. After discharging into water, the mixture was extracted with ethyl acetate and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 8: 2 → 6: 4) to obtain 40 mg of the desired product as a solid (yield 34). % Vs. nitro).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ2.34 (6H, s), 4.86 (2H, s), 6.69 (1H, brs), 7.12 (1H, brs), 7.34 (2H, s), 7.52 (1H, brs) , 7.78 (1H, brs).

[実施例4]
2−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−3−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号3−66)の製造
[Example 4]
Preparation of 2- [N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] carbamoyl] thiophen-3-yl-carbamic acid 2,2,2-trichloroethyl ester (Compound No. 3-66)

[実施例4−1]4−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
実施例3−3で合成したN−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド0.19g、塩化スズ(II)0.33gをエタノール4mlに装入し、濃塩酸4mlを加え60℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、炭酸カリウム水溶液で中和し、析出した固形物を濾過した。酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3→3:7)にて精製し、目的物0.14gを固体として得た(収率80%)。
[Example 4-1] Preparation of 4-amino-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiophene-2-carboxylic acid amide N-[( 2,9-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -4-nitrothiophene-2-carboxylic acid amide (0.19 g) and tin (II) chloride (0.33 g) were charged in ethanol (4 ml), and concentrated hydrochloric acid (4 ml) was added. The mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, the mixture was neutralized with an aqueous potassium carbonate solution, and the precipitated solid was filtered. After extraction with ethyl acetate, it was dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 7: 3 → 3: 7) to obtain 0.14 g of the desired product as a solid (yield 80%).

[実施例4−2]
2−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−4−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号3−66)の製造
4−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミド0.14g、ピリジン54mgをTHF3mlに装入し、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 80mgを加え、1時間室温で攪拌した。水に排出した後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=8:2→7:3)にて精製し、目的物 0.1g をアモルファスとして得た(収率50%).
1H NMR(CDCl3) δ2.35 (6H, s), 4.85 (2H, s), 7.22 (1H, brs), 7.28 (1H, brs), 7.35 (2H, s), 7.41 (1H, s), 7.46 (1H, s).
[Example 4-2]
Preparation of 2- [N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] carbamoyl] thiophen-4-yl-carbamic acid 2,2,2-trichloroethyl ester (Compound No. 3-66) 4 -Amino-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiophene-2-carboxylic acid amide 0.14 g and pyridine 54 mg were charged in 3 ml of THF, and 2,2,2-trichlorochloroformate was charged. 80 mg of ethyl was added and stirred at room temperature for 1 hour. After discharging into water, the mixture was extracted with ethyl acetate and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 8: 2 → 7: 3) to obtain 0.1 g of the desired product as an amorphous product (yield). Rate 50%).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 2.35 (6H, s), 4.85 (2H, s), 7.22 (1H, brs), 7.28 (1H, brs), 7.35 (2H, s), 7.41 (1H, s) , 7.46 (1H, s).

[実施例5]
2−ベンズアミド−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−4−カルボン酸アミド(化合物番号2−1)の製造
[Example 5]
Preparation of 2-benzamide-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiophene-4-carboxylic acid amide (Compound No. 2-1)

[実施例5−1]
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−ニトロチオフェン−4−カルボン酸アミドの製造
2−ニトロチオフェン−4−カルボン酸 1.0gをトルエン10mlに装入し、DMF 0.1g、塩化チオニル0.89gを加え、還流下、1時間攪拌した。室温まで冷却後、減圧下、溶媒と余分な塩化チオニルを減圧下留去し粗酸クロリドを得た。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン1.48g、ピリジン0.62gをTHF10mlに装入し、先に得られた酸クロを添加し、1時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物1.7gを白色固体として得た(収率73%、対アニリン)。
[Example 5-1]
Preparation of N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -2-nitrothiophene-4-carboxylic acid amide 1.0 g of 2-nitrothiophene-4-carboxylic acid was charged into 10 ml of toluene. , 0.1 g of DMF and 0.89 g of thionyl chloride were added, and the mixture was stirred for 1 hour under reflux. After cooling to room temperature, the solvent and excess thionyl chloride were distilled off under reduced pressure to obtain crude acid chloride. 1,48 g of 2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropylaniline and 0.62 g of pyridine were charged in 10 ml of THF, the previously obtained acid chromatography was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with water, 5% aqueous hydrochloric acid and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 7: 3) to obtain 1.7 g of the desired product as a white solid (73% yield, aniline). .

[実施例5−2]
2−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−ニトロチオフェン−4−カルボン酸アミド0.54g、塩化スズ(II)0.94gをメタノール6mlに装入し、濃塩酸6mlを添加し、60℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、水を加え炭酸カリウムで反応液を中和した。酢酸エチルを装入後、セライト濾過し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムを濾過し、濾液をそのまま次の反応に用いた。
[Example 5-2]
Preparation of 2-amino-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiophene-2-carboxylic acid amide N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl]- 0.54 g of 2-nitrothiophene-4-carboxylic acid amide and 0.94 g of tin (II) chloride were charged into 6 ml of methanol, 6 ml of concentrated hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, water was added and the reaction solution was neutralized with potassium carbonate. After charging ethyl acetate, the mixture was filtered through Celite, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Anhydrous sodium sulfate was filtered, and the filtrate was used for the next reaction as it was.

[実施例5−3]
2−ベンズアミド−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−4−カルボン酸アミド(化合物番号2−1)の製造
実施例5―2で得られた溶液の半量に、ピリジン0.10g、ベンゾイルクロリド 87mgを加え、1時間攪拌した。酢酸エチルを装入後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物0.11gをアモルファスとして得た(収率35%、対ニトロ体)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 2.36(6H, s), 7.33(2H, s), 7.45-7.60(3H, m), 7.75(1H, s), 7.79(1H, d, J = 1.5Hz), 8.05(2H, d, J = 7.3Hz), 9.52(1H, s), 11.5(1H, broad-s).
[Example 5-3]
Preparation of 2-benzamide-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiophene-4-carboxylic acid amide (Compound No. 2-1) Half of the solution obtained in Example 5-2 To the mixture, 0.10 g of pyridine and 87 mg of benzoyl chloride were added and stirred for 1 hour. After charging ethyl acetate, it was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 7: 3) to obtain 0.11 g of the desired product as an amorphous product (yield). Rate 35% vs. nitro).
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 2.36 (6H, s), 7.33 (2H, s), 7.45-7.60 (3H, m), 7.75 (1H, s), 7.79 (1H, d, J = 1.5 Hz), 8.05 (2H, d, J = 7.3Hz), 9.52 (1H, s), 11.5 (1H, broad-s).

[実施例6]
4−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号2−66)の製造
実施例5―2で得られた溶液の半量に、ピリジン0.10g、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 0.13gを加え、1時間攪拌した。酢酸エチルを装入後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物0.12gをアモルファスとして得た(収率33%、対ニトロ体)。
1H NMR(CDCl3) δ2.37 (6H, s), 4.87 (2H, s), 7.11 (1H, brs), 7.17 (1H, brs), 7.35 (2H, s), 7.49 (1H, brs), 7.56 (1H, brs).
[Example 6]
Preparation of 4- [N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] carbamoyl] thiophen-2-yl-carbamic acid 2,2,2-trichloroethyl ester (Compound No. 2-66) To half the amount of the solution obtained in Example 5-2, 0.10 g of pyridine and 0.13 g of 2,2,2-trichloroethyl chloroformate were added and stirred for 1 hour. After charging ethyl acetate, it was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 7: 3) to obtain 0.12 g of the desired product as an amorphous product (yield). Rate 33% vs. nitro).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ2.37 (6H, s), 4.87 (2H, s), 7.11 (1H, brs), 7.17 (1H, brs), 7.35 (2H, s), 7.49 (1H, brs) , 7.56 (1H, brs).

[実施例7]
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−5−カルボン酸アミド(化合物番号10−13)の製造
[Example 7]
Preparation of N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -2- (N-methylbenzamido) thiazole-5-carboxylic acid amide (Compound No. 10-13)

[実施例7−1]
2−アミノチアゾール−5−カルボン酸の製造
2−アミノチアゾール−5−カルボン酸エチルエステル5.0g(29.1mmol)を水40mlに懸濁させ、NaOH 2.32gを装入し、室温で3時間攪拌した。50℃で2時間加熱した後、室温まで冷却し、濃塩酸を加え、pHを約1に調整した。析出した固体を濾取することで目的物3.76gを固体として得た(収率:90%)。
[Example 7-1]
Preparation of 2-aminothiazole-5-carboxylic acid 5.0 g (29.1 mmol) of 2-aminothiazole-5-carboxylic acid ethyl ester is suspended in 40 ml of water, charged with 2.32 g of NaOH, Stir for hours. After heating at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to room temperature and concentrated hydrochloric acid was added to adjust the pH to about 1. The precipitated solid was collected by filtration to obtain 3.76 g of the desired product as a solid (yield: 90%).

[実施例7−2]
2−クロロチアゾール−5−カルボン酸の製造
2−アミノチアゾール−5−カルボン酸3.5g、塩化銅(II)4.90gをアセトニトリル50mlに装入し、亜硝酸イソアミル3.70gを添加した後、70℃で2時間攪拌した。室温まで冷却した後、固体分を濾過し、濾液を減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチルに溶解させ、5%塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングすることで目的物 3.3gを固体として得た(収率:83%)。
[Example 7-2]
Preparation of 2-chlorothiazole-5-carboxylic acid After charging 3.5 ml of 2-aminothiazole-5-carboxylic acid and 4.90 g of copper (II) chloride into 50 ml of acetonitrile, and adding 3.70 g of isoamyl nitrite , And stirred at 70 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, the solid content was filtered, and the solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in ethyl acetate and washed successively with 5% aqueous hydrochloric acid and saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was sludged with hexane to obtain 3.3 g of the desired product as a solid (yield: 83%).

[実施例7−3]
2−クロロ−N−[2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル]フェニル] チアゾール−5−カルボン酸アミドの製造
2−クロロチアゾール−5−カルボン酸 1.0g、DMF 1滴をトルエン10mlに装入し、塩化チオニル 0.87gを添加した後、還流下2時間攪拌した。この時、除々に溶解したが、固形物が残存していた。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をTHF5mlに懸濁させA液とした。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン1.5g、ピリジン0.45gを溶解させたTHF8mlにA液を添加し、室温で2時間攪拌した。水に排出後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(N−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物1.3gを固体として得た(収率:49%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.31(6H, s), 7.35(2H, s), 8.08(1H, s).
[Example 7-3]
2-Chloro-N- [2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl] phenyl] Preparation of thiazole-5-carboxylic acid amide 1.0 g of 2-chlorothiazole-5-carboxylic acid, 1 drop of DMF in 10 ml of toluene After charging, 0.87 g of thionyl chloride was added, and the mixture was stirred for 2 hours under reflux. Although it melt | dissolved gradually at this time, the solid substance remained. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was suspended in 5 ml of THF to obtain Liquid A. Liquid A was added to 8 ml of THF in which 1.5 g of 2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropylaniline and 0.45 g of pyridine were dissolved, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After discharging into water, the mixture was extracted with ethyl acetate and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (N-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 7: 3) to obtain 1.3 g of the desired product as a solid (yield). Rate: 49%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.31 (6H, s), 7.35 (2H, s), 8.08 (1H, s).

[実施例7−4]
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−5−カルボン酸アミドの製造
2−クロロ−N−[2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル]フェニル] チアゾール−5−カルボン酸アミド1.0gをアセトニトリル 10mlに装入し、40%メチルアミンメタノール溶液1.0g(13.1mmol)を添加し、60℃で3時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3→1:1)にて精製し、目的物0.63gを固体として得た(収率63%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.32(6H, s), 3.01(3H, s), 5.94(1H, broad-s), 7.00(1H, broad-s), 7.33(2H, s), 7.72(1H, broad-s).
[Example 7-4]
Preparation of 2-methylamino-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiazole-5-carboxylic acid amide 2-Chloro-N- [2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl ] Phenyl] Thiazole-5-carboxylic acid amide (1.0 g) was charged into acetonitrile (10 ml), 40% methylamine methanol solution (1.0 g, 13.1 mmol) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 7: 3 → 1: 1) to obtain 0.63 g of the desired product as a solid (yield). 63%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.32 (6H, s), 3.01 (3H, s), 5.94 (1H, broad-s), 7.00 (1H, broad-s), 7.33 (2H, s), 7.72 ( 1H, broad-s).

[実施例7−5]
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−5−カルボン酸アミド(化合物番号10−13)の製造
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−5−カルボン酸アミド0.20g、ピリジン73mgをTHF 3mlに装入し、ベンゾイルクロリド 72mgを添加し、室温で30分攪拌した。50℃で2時間攪拌した後、ベンゾイルクロリド0.15gを追加し、50℃で4時間攪拌した。室温まで冷却後、酢酸エチルを添加し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→1:1)にて精製することで、目的物 0.23gを固体として得た(収率:92%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.35(6H, s), 3.72(3H, s), 7.20(1H, broad-s), 7.35(2H, s), 7.50-7.58(5H, m), 8.21(1H, broad-s).
[Example 7-5]
Preparation of N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -2- (N-methylbenzamido) thiazole-5-carboxylic acid amide (Compound No. 10-13) 2-Methylamino-N- [(2,6-Dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiazole-5-carboxylic acid amide (0.20 g) and pyridine (73 mg) were charged in THF (3 ml), benzoyl chloride (72 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. . After stirring at 50 ° C. for 2 hours, 0.15 g of benzoyl chloride was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, ethyl acetate was added and washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 1 → 1: 1) to obtain 0.23 g of the desired product as a solid (yield: 92%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.35 (6H, s), 3.72 (3H, s), 7.20 (1H, broad-s), 7.35 (2H, s), 7.50-7.58 (5H, m), 8.21 ( 1H, broad-s).

[実施例8]
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−4−カルボン酸アミド(化合物番号11−13)の製造
[Example 8]
Preparation of N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -2- (N-methylbenzamido) thiazole-4-carboxylic acid amide (Compound No. 11-13)

[実施例8−1]
2−アミノチアゾール−4−カルボン酸の製造
2−アミノ−チアゾール−4−カルボン酸エチルエステル 5.0gを水50mlに装入し、水酸化ナトリウム2.32gを添加した後、室温で3時間攪拌した。濃塩酸でpH1に調整した後、析出した結晶を濾過し、減圧下乾燥することで目的物4.28gを固体として得た(収率100%)。
[Example 8-1]
Preparation of 2-aminothiazole-4-carboxylic acid 5.0 g of 2-amino-thiazole-4-carboxylic acid ethyl ester was charged in 50 ml of water, and 2.32 g of sodium hydroxide was added, followed by stirring at room temperature for 3 hours. did. After adjusting to pH 1 with concentrated hydrochloric acid, the precipitated crystals were filtered and dried under reduced pressure to obtain 4.28 g of the desired product as a solid (yield 100%).

[実施例8−2]
2−クロロチアゾール−4−カルボン酸の製造
2−アミノチアゾール−4−カルボン酸3.78gを濃塩酸70mlとジオキサン40mlの混合溶液に懸濁し、0℃まで冷却した。亜硝酸ナトリウム 2.72gを水10mlに溶解させ、内温を5℃以下に保ちながら滴下した。0〜5℃で1時間攪拌した後、塩化銅(I) 3.86gを分割装入し、室温で8時間攪拌後、室温で3日間放置した。水を装入した後、酢酸エチルで3回抽出した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングすることで目的物 1.20gを固体として得た(収率:28%)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 8.44(1H, s), 13.3(1H, broad-s).
[Example 8-2]
Production of 2-chlorothiazole-4-carboxylic acid 3.78 g of 2-aminothiazole-4-carboxylic acid was suspended in a mixed solution of 70 ml of concentrated hydrochloric acid and 40 ml of dioxane, and cooled to 0 ° C. Sodium nitrite (2.72 g) was dissolved in 10 ml of water and added dropwise while maintaining the internal temperature at 5 ° C. or lower. After stirring at 0 to 5 ° C. for 1 hour, 3.86 g of copper (I) chloride was charged in portions, stirred at room temperature for 8 hours, and allowed to stand at room temperature for 3 days. After charging water, the mixture was extracted 3 times with ethyl acetate, washed with saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was sludged with hexane to obtain 1.20 g of the desired product as a solid (yield: 28%).
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 8.44 (1H, s), 13.3 (1H, broad-s).

[実施例8−3]
2−クロロ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル] チアゾール−4−カルボン酸アミドの製造
2−クロロチアゾール−4−カルボン酸1.10gをトルエン10mlに装入し、DMF 1滴、塩化チオニル1.20gを添加した後、80℃で1時間、100℃で1時間攪拌した。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングし、酸クロ体1.10gを白色固体として得た。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン0.60g、ピリジン0.25gを溶解させたTHF5mlに、先に合成した酸クロ体0.42gを添加し、室温下、1時間攪拌した。酢酸エチルを装入後、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングすることで、目的物0.61gを固体として得た(収率:68%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.35(6H, s), 7.35(2H, s), 8.14(1H, s), 8.53(1H, broad-s).
[Example 8-3]
2-Chloro-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] Preparation of thiazole-4-carboxylic acid amide 1.10 g of 2-chlorothiazole-4-carboxylic acid was charged into 10 ml of toluene. After adding 1 drop of DMF and 1.20 g of thionyl chloride, the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour and at 100 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was sludged with hexane to obtain 1.10 g of an acid chloride as a white solid. To 5 ml of THF in which 0.60 g of 2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropylaniline and 0.25 g of pyridine were dissolved, 0.42 g of the previously synthesized acid chloride was added and stirred at room temperature for 1 hour. After charging ethyl acetate, the mixture was washed with 5% aqueous hydrochloric acid solution, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was sludged with hexane to obtain 0.61 g of the desired product as a solid (yield: 68%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.35 (6H, s), 7.35 (2H, s), 8.14 (1H, s), 8.53 (1H, broad-s).

[実施例8−3]
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−4−カルボン酸アミドの製造
2−クロロ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル] チアゾール−4−カルボン酸アミド 0.90gに40%メチルアミンメタノール溶液5mlを装入し、室温で3日間放置した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(N−ヘキサン:酢酸エチル=8:2→1:1)にて精製することで、目的物0.62gを固体として得た(収率:69%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.35(6H, s), 4.12(3H,d,J=5.3)、5.11(1H,d,J=5.3)、7.33(2H,s)、7.45(1H,s)、8.61(1H, broad-s).
[Example 8-3]
Preparation of 2-methylamino-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiazole-4-carboxylic acid amide 2-chloro-N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoro Isopropyl) phenyl] thiazole-4-carboxylic acid amide 0.90 g was charged with 5 ml of 40% methylamine methanol solution and left at room temperature for 3 days. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (N-hexane: ethyl acetate = 8: 2 → 1: 1) to obtain 0.62 g of the desired product as a solid. (Yield: 69%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.35 (6H, s), 4.12 (3H, d, J = 5.3), 5.11 (1H, d, J = 5.3), 7.33 (2H, s), 7.45 (1H, s ), 8.61 (1H, broad-s).

[実施例8−4]
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−4−カルボン酸アミド(化合物番号11−13)の製造
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−4−カルボン酸アミド0.28g、ピリジン0.10gをTHF 5mlに装入し、ベンゾイルクロリド 0.098gを装入し、室温で30分攪拌後、50℃で2時間攪拌した。ベンゾイルクロリド0.20gを追加し、50℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、酢酸エチルを添加した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(N−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→3:1)にて精製することで、目的物0.23gを固体として得た(収率:66%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.38(6H, s), 3.72(3H, s), 7.36(2H, s), 7.50-7.61(5H, m), 8.00(1H, s), 8.69(1H, broad-s).
[Example 8-4]
Preparation of N-[(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] -2- (N-methylbenzamido) thiazole-4-carboxylic acid amide (Compound No. 11-13) 2-Methylamino-N- [(2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl] thiazole-4-carboxylic acid amide 0.28 g, pyridine 0.10 g was charged in THF 5 ml, benzoyl chloride 0.098 g was charged at room temperature. For 30 minutes and then at 50 ° C. for 2 hours. 0.20 g of benzoyl chloride was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, ethyl acetate was added, followed by washing with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (N-hexane: ethyl acetate = 10: 1 → 3: 1) to obtain 0.23 g of the desired product as a solid (yield: 66%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.38 (6H, s), 3.72 (3H, s), 7.36 (2H, s), 7.50-7.61 (5H, m), 8.00 (1H, s), 8.69 (1H, broad-s).

[実施例9]
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−4−ベンズアミド−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド(化合物番号9−1)の製造
[Example 9]
Production of N- (2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl-4-benzamido-1-methyl-1H-pyrrole-2-carboxylic acid amide (Compound No. 9-1)

[実施例9−1]
1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸エチルの製造
DMF10mlに60%水素化ナトリウム0.78gを加えた溶液に、DMF10mlに溶解した4−ニトロピロール−2−カルボン酸エチル3.0gを滴下装入した。室温で1時間撹拌した後、DMF5mlに溶解したヨウ化メチル2.77gを滴下装入した。さらに室温で3時間撹拌した後、反応溶液に酢酸エチルを装入し、次いで水を装入した。有機相を分取し、水で1回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→2:1)で精製することにより、目的物2.50g(収率77%)を白色固体として得た。
1H-NMR(CDCl3) δ 1.37(3H, t, J = 7.3Hz), 3.99(3H, s), 4.32(2H, q, J = 7.3Hz), 7.42(1H, d, J = 2.0Hz), 7.59(1H, d, J = 2.0Hz).
[Example 9-1]
Preparation of ethyl 1-methyl-4-nitro-1H-pyrrole-2-carboxylate 3 ethyl 4-nitropyrrole-2-carboxylate dissolved in 10 ml of DMF in a solution of 0.78 g of 60% sodium hydride in 10 ml of DMF 0.0 g was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, 2.77 g of methyl iodide dissolved in 5 ml of DMF was added dropwise. After further stirring for 3 hours at room temperature, the reaction solution was charged with ethyl acetate and then with water. The organic phase was separated, washed once with water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 1 → 2: 1) to give 2.50 g of the desired product (yield 77%). ) Was obtained as a white solid.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 1.37 (3H, t, J = 7.3Hz), 3.99 (3H, s), 4.32 (2H, q, J = 7.3Hz), 7.42 (1H, d, J = 2.0Hz ), 7.59 (1H, d, J = 2.0Hz).

[実施例9−2]
1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸の製造
1−メチル−4−ニトロピロール−2−カルボン酸エチル2.50gをTHF10ml−水10mlの混合溶媒に加え、5℃で撹拌した。次いで、水酸化ナトリウム0.76g(18.9mmol)を装入し、室温に戻して6時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加えて、水相を分取後、2N塩酸でpH1にした。析出した固体を濾集し、減圧下50℃で乾燥することにより、目的物2.01gを白色固体として得た(収率94%)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 3.92(3H, s), 7.26(1H, d, J = 2.0Hz), 8.23(1H, d, J = 2.0Hz), 13.16(1H, broad).
[Example 9-2]
Production of 1-methyl-4-nitro-1H-pyrrole-2-carboxylic acid 2.50 g of ethyl 1-methyl-4-nitropyrrole-2-carboxylate was added to a mixed solvent of 10 ml of THF and 10 ml of water and stirred at 5 ° C. did. Next, 0.76 g (18.9 mmol) of sodium hydroxide was charged, and the mixture was returned to room temperature and stirred for 6 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, the aqueous phase was separated, and adjusted to pH 1 with 2N hydrochloric acid. The precipitated solid was collected by filtration and dried at 50 ° C. under reduced pressure to obtain 2.01 g of the desired product as a white solid (yield 94%).
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 3.92 (3H, s), 7.26 (1H, d, J = 2.0 Hz), 8.23 (1H, d, J = 2.0 Hz), 13.16 (1H, broad).

[実施例9−3]
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸アミドの製造
1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロールカルボン酸1.0g、DMF0.1mlをトルエン10mlに加えた溶液に、塩化チオニル3.0gを装入し、90℃で1.5時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し得られた残渣をTHF5mlに溶解したものを、2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン1.70gとピリジン0.56gをTHF15mlに加えた溶液に滴下装入した。70℃で5時間撹拌した後、室温に戻してから酢酸エチルと1N塩酸を加えて有機相を分取した。飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製することにより、目的物1.76gを白色固体として得た(収率72%)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 2.28(6H, s), 3.93(3H, s), 7.43(2H, s), 7.67(1H, d, J = 2.0Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0Hz), 9.89(1H, s).
[Example 9-3]
Preparation of N- (2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl-1-methyl-4-nitro-1H-pyrrole-2-carboxylic acid amide 1-methyl-4-nitro-1H-pyrrolecarboxylic acid 1 0.0 g and 0.1 ml of DMF in 10 ml of toluene were charged with 3.0 g of thionyl chloride and stirred at 90 ° C. for 1.5 hours. The residue obtained by concentrating the reaction solution under reduced pressure was dissolved in 5 ml of THF, and dropped into a solution obtained by adding 1.70 g of 2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropylaniline and 0.56 g of pyridine to 15 ml of THF. did. After stirring at 70 ° C. for 5 hours, the temperature was returned to room temperature, and ethyl acetate and 1N hydrochloric acid were added to separate the organic phase. The extract was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 1.76 g of the desired product as a white solid (yield 72%).
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 2.28 (6H, s), 3.93 (3H, s), 7.43 (2H, s), 7.67 (1H, d, J = 2.0 Hz), 8.25 (1H, d, J = 2.0Hz), 9.89 (1H, s).

[実施例9−4]
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−4−アミノ−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミドの製造
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル 1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド1.60g(3.62mmol)、10%Pd−C 0.1gをメタノール20mlに加え、室温常圧下で水素添加反応を行った。触媒を濾去した後、溶媒を減圧下で留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:4)で精製することにより、目的物0.61gを褐色油状物として得た(収率41%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.32(6H, s), 2.98(2H, broad), 3.85(3H, s), 6.32(1H, s), 6.37(1H, d, J = 2.0Hz), 7.13(1H, s), 7.32(2H, s).
[Example 9-4]
Preparation of N- (2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl-4-amino-1-methyl-1H-pyrrole-2-carboxylic acid amide N- (2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl ) 1.60 g (3.62 mmol) of phenyl 1-methyl-4-nitro-1H-pyrrole-2-carboxylic acid amide 0.1 g of 10% Pd-C is added to 20 ml of methanol, and hydrogenation reaction is performed at room temperature and normal pressure. went. After removing the catalyst by filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 1: 4) to give 0.61 g of the desired product in brown. Obtained as an oil (41% yield).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.32 (6H, s), 2.98 (2H, broad), 3.85 (3H, s), 6.32 (1H, s), 6.37 (1H, d, J = 2.0Hz), 7.13 (1H, s), 7.32 (2H, s).

[実施例9−5]
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−4−ベンズアミド−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド(化合物番号9−1)の製造
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル 4−アミノ−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド0.20g、ピリジン0.05gをTHF5mlに加えた溶液に、塩化ベンゾイル68mgを加え、室温で2時間撹拌した。反応溶液に、酢酸エチルと1N塩酸を加えて有機相を分取した。飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2)で精製することにより、目的物0.13gを淡褐色アモルファスとして得た(収率52%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.33(6H, s), 3.94(3H, s), 6.92(1H, broad), 7.16(1H, s), 7.28(1H, d, J = 1.5Hz), 7.34(2H, s), 7.46-7.57(3H, m), 7.82-7.86(3H, m).
[Example 9-5]
Preparation of N- (2,6-dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl-4-benzamido-1-methyl-1H-pyrrole-2-carboxylic acid amide (Compound No. 9-1) N- (2,6- To a solution of 0.20 g of dimethyl-4-heptafluoroisopropyl) phenyl 4-amino-1-methyl-1H-pyrrole-2-carboxylic acid amide and 0.05 g of pyridine in 5 ml of THF, 68 mg of benzoyl chloride is added at room temperature. Stir for 2 hours. Ethyl acetate and 1N hydrochloric acid were added to the reaction solution to separate the organic phase. The extract was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 2) to obtain 0.13 g of the desired product as a light brown amorphous (yield 52%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 2.33 (6H, s), 3.94 (3H, s), 6.92 (1H, broad), 7.16 (1H, s), 7.28 (1H, d, J = 1.5Hz), 7.34 (2H, s), 7.46-7.57 (3H, m), 7.82-7.86 (3H, m).

次に、本発明の一般式(1)で表された化合物を有効成分として含有する製剤例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、製剤例中、部とあるのは重量部を示す。   Next, although the formulation example containing the compound represented by General formula (1) of this invention as an active ingredient is shown, this invention is not limited to these. In the preparation examples, “parts” means “parts by weight”.

[製剤例1]
一般式(1)で表される本発明化合物20部、ソルポール355S(東邦化学工業製、界面活性剤)10部、キシレン70部、以上を均一に攪拌混合して乳剤を得た。
[Formulation Example 1]
An emulsion was obtained by uniformly stirring and mixing 20 parts of the present compound represented by the general formula (1), 10 parts of Solpol 355S (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd., surfactant) and 70 parts of xylene.

[製剤例2]
一般式(1)で表される本発明化合物10部、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム2部、リグニンスルホン酸ナトリウム1部、ホワイトカーボン5部、珪藻土82部、以上を均一に攪拌混合して水和剤を得た。
[Formulation Example 2]
10 parts of the compound of the present invention represented by the general formula (1), 2 parts of sodium alkylnaphthalene sulfonate, 1 part of sodium lignin sulfonate, 5 parts of white carbon, 82 parts of diatomaceous earth are uniformly stirred and mixed to obtain a wettable powder. Got.

[製剤例3]
一般式(1)で表される本発明化合物0.3部、ホワイトカーボン0.3部を均一に混合し、クレー99.2部、ドリレスA(三共製)0.2部を加えて、均一に粉砕混合し、粉剤を得た。
[Formulation Example 3]
The compound of the present invention represented by the general formula (1) 0.3 part and white carbon 0.3 part are uniformly mixed, and 99.2 parts of clay and 0.2 part of Doreles A (Sankyo) are added to make uniform. To obtain a powder.

[製剤例4]
一般式(1)で表される本発明化合物2部、ホワイトカーボン2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、ベントナイト94部、以上を均一に粉砕混合後、水を加えて混練し、造粒乾燥して粒剤を得た。
[Formulation Example 4]
The compound of the present invention represented by the general formula (1), 2 parts of white carbon, 2 parts of white carbon, 2 parts of sodium lignin sulfonate, 94 parts of bentonite are uniformly ground and mixed, then added with water, kneaded, granulated and dried. To obtain granules.

[製剤例5]
一般式(1)で表される本発明化合物20部およびポリビニルアルコールの20%水溶液5部を十分攪拌混合した後、キサンタンガムの0.8%水溶液75部を加えて、再び攪拌混合してフロアブル剤を得た。
さらに、本発明の一般式(1)で表される化合物が優れた殺虫活性を有することを明確にするために、以下に試験例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[Formulation Example 5]
After thoroughly stirring and mixing 20 parts of the compound of the present invention represented by the general formula (1) and 5 parts of a 20% aqueous solution of polyvinyl alcohol, 75 parts of a 0.8% aqueous solution of xanthan gum is added and mixed again by stirring. Got.
Furthermore, in order to clarify that the compound represented by the general formula (1) of the present invention has excellent insecticidal activity, test examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[試験例1]
ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)に対する殺虫試験
試験化合物を所定濃度に希釈した薬液にキャベツ葉片を30秒間浸漬し風乾後、7cmのポリエチレンカップに入れハスモンヨトウ2齢幼虫を放虫した。25℃恒温室にて放置し、6日後に生死虫数を調査した。1区5匹2連制で行った。
その結果、1000ppmにおいて、化合物番号2−1、2−66、4−1、9−1、9−7、9−66、11−14、11−16、11−19、11−33、11−42、11−66が70%以上の死虫率を示した。
[Test Example 1]
Insecticidal test against Spodoptera litura Cabbage leaf pieces were immersed for 30 seconds in a chemical solution in which a test compound was diluted to a predetermined concentration and air-dried. The sample was left in a constant temperature room at 25 ° C., and the number of live and dead insects was examined after 6 days. It was done in two lanes in 1 ward and 5 animals.
As a result, at 1000 ppm, compound numbers 2-1, 2-66, 4-1, 9-1, 9-7, 9-66, 11-14, 11-16, 11-19, 11-33, 11- 42 and 11-66 showed a death rate of 70% or more.

[試験例2]
コナガ(Plutella xylostella)に対する殺虫試験
試験化合物を所定濃度に希釈した薬液にキャベツ葉片を30秒間浸漬し風乾後、7cmのポリエチレンカップに入れコナガ2齢幼虫を放虫した。25℃恒温室にて放置し、6日後に生死虫数を調査した。1区5匹2連制で行った。
その結果、1000ppmにおいて、2−1、2−66、4−1、9−1、9−7、9−66、11−14、11−16、11−19、11−33、11−42、11−66が70%以上の死虫率を示した。
[Test Example 2]
Insecticidal test against black moth (Plutella xylostella) Cabbage leaf pieces were immersed for 30 seconds in a chemical solution obtained by diluting a test compound to a predetermined concentration, air-dried, and placed in a 7 cm polyethylene cup to release second-instar larvae. The sample was left in a constant temperature room at 25 ° C., and the number of live and dead insects was examined after 6 days. It was done in two lanes in 1 ward and 5 animals.
As a result, at 1000 ppm, 2-1, 2-66, 4-1, 9-1, 9-7, 9-66, 11-14, 11-16, 11-19, 11-33, 11-42, 11-66 showed a death rate of 70% or more.

Claims (5)

一般式(1)(化1)
Figure 2007302617
{式中、Hetは5員環の芳香化された複素環基(ここでいう芳香化された5員環の複素環基とは、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、フリル基、チエニル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基を示す。)、
Zは−C(=G)Q、−C(=G)G、−SOまたは−Q(式中、G、Gは酸素原子または硫黄原子を示し、
、R
C1−C6アルキル基、
C1−C6ハロアルキル基、
C2−C6アルケニル基、
C2−C6ハロアルケニル基、
C2−C6アルキニル基、
C2−C6ハロアルキニル基、
C3−C8シクロアルキル基、
C3−C8ハロシクロアルキル基、
フェニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
−E−Z−R
(式中、
はC1−C4アルキレン基、C2−C4アルケニレン基、C2−C4アルキニレン基、C1−C4ハロアルキレン基、C2−C4ハロアルケニレン基、またはC3−C4ハロアルキニレン基を示し、
は水素原子、C1−C6アルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6ハロアルキニル基、
C3−C8シクロアルキル基、
C3−C8ハロシクロアルキル基、
フェニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基を示し(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
は−O−、−S−、−SO−、−SO−、−C(=O)−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−N(R)−、−C(=O)N(R)−、または−N(R)C(=O)−(Rは水素原子、C1−C4アルキル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、またはC1−C4アルコキシカルボニル基を示す。)を示す。)、
または−E−R
(式中、
はC1−C4アルキレン基、C2−C4アルケニレン基、C2−C4アルキニレン基、C1−C4ハロアルキレン基、C2−C4ハロアルケニレン基、またはC3−C4ハロアルキニレン基を示し、

C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、
シアノ基、
ニトロ基、
ヒドロキシ基、
フェニル基、
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、あるいは
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
あるいは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)を示す。)であり、
は酸素原子または硫黄原子を示し、
Xは同一または異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基、またはトリフルオロメチル基を示し、
nは0から3の整数を示し、
はフェニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、フェニル基、同一または異なっていても良くハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基で置換されていても良いフェニル基、チエニル基、同一または異なっていても良くハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基で置換されていても良いチエニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、
ナフチル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ナフチル基、
複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基から選択される1以上の置換基を有する置換複素環基(ここでの複素環基とはピリジル基、ピリジン−N−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、またはテトラゾリル基を示す。)、
テトラヒドロナフタレン基、
あるいは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基から選択される1以上の置換基を有するテトラヒドロナフタレン基であり、
、Rはそれぞれ、水素原子、酸素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、
C1−C4アルキル基、
C1−C4アルキルカルボニル基、
C1−C4ハロアルキルカルボニル基、
C2−C4アルケニル基、
C2−C4ハロアルケニル基、
C2−C4アルキニル基、
C2−C4ハロアルキニル基、
C1−C4アルコキシカルボニル基、
C1−C4ハロアルコキシカルボニル基、
C2−C4アルケニルオキシカルボニル基、
C2−C4アルキニルオキシカルボニル基、
フェノキシカルボニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基、
C1−C4アルキルアミノカルボニル基、
C1−C4ハロアルキルアミノカルボニル基、
C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、
C1−C4ハロアルキルカルボニルオキシ基、
ベンゾイル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンゾイル基、
C1−C4アルコキシ基、
C1−C4ハロアルコキシ基、
ベンジルオキシカルボニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンジルオキシカルボニル基、
C1−C4アルキルチオ基、
C1−C4ハロアルキルチオ基、
C1−C4アルキルスルフィニル基、
C1−C4ハロアルキルスルフィニル基、
C1−C4アルキルスルホニル基、
C1−C4ハロアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンゼンスルホニル基、
ベンジルスルホニル基、あるいは
同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ペンタフルオロサルファニル基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4ハロアルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基から選択される1以上の置換基を有する置換ベンジルスルホニル基、
C1−C4アルコキシC1−C4アルキル基、
C1−C4ハロアルコキシC1−C4アルキル基、
またはC(=O)C(=O)R(式中R
C1−C6アルキル基、
C1−C6ハロアルキル基、
C3−C8シクロアルキル基、
C3−C8ハロシクロアルキル基、
C1−C6アルコキシ基、
またはC1−C6ハロアルコキシ基を示す)を示す。}
で表される化合物。
General formula (1)
Figure 2007302617
{In the formula, Het is a 5-membered aromatic heterocyclic group (herein, the aromatic 5-membered heterocyclic group is pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, A thiazolyl group, an isothiazolyl group, a thiadiazolyl group, a furyl group, a thienyl group, an oxadiazolyl group and a triazolyl group).
Z is -C (= G 1) Q 1 , -C (= G 1) G 2 R 3, -SO 2 Q 1 or -Q 1 (wherein, G 1, G 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom ,
Q 1 and R 3 are C1-C6 alkyl groups,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C2-C6 alkenyl group,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group,
A C3-C8 halocycloalkyl group,
A phenyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement Fe Group,
A naphthyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement naphth Group,
Heterocyclic group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, An oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, a thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group), or the same or different, a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 halo An alkylthio group, 1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, A substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group (wherein the heterocyclic group is a pyridyl group, pyridine- N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl Group, thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group.),
-E 1 -Z 1 -R 4
(Where
E 1 represents a C1-C4 alkylene group, a C2-C4 alkenylene group, a C2-C4 alkynylene group, a C1-C4 haloalkylene group, a C2-C4 haloalkenylene group, or a C3-C4 haloalkynylene group,
R 4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 haloalkynyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group,
A C3-C8 halocycloalkyl group,
A phenyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement Fe Group,
A naphthyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement naphth Group,
Heterocyclic group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, An oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, a thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group), or the same or different, a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 halo An alkylthio group, 1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, A substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group is shown (the heterocyclic group here is a pyridyl group, Pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiyl Zoriru group, thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group or a tetrazolyl group.),
Z 1 represents —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —C (═O) —, —C (═O) O—, —OC (═O) —, —N (R 5 ) -, - C (= O ) N (R 5) -, or -N (R 5) C (= O) - (R 5 is a hydrogen atom, C1-C4 alkyl groups, C1-C4 alkylcarbonyl groups, C1 -Represents a C4 haloalkylcarbonyl group or a C1-C4 alkoxycarbonyl group. ),
Or -E 2 -R 6
(Where
E 2 represents a C1-C4 alkylene group, a C2-C4 alkenylene group, a C2-C4 alkynylene group, a C1-C4 haloalkylene group, a C2-C4 haloalkenylene group, or a C3-C4 haloalkynylene group,
R 6 is a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group,
A cyano group,
Nitro group,
A hydroxy group,
Phenyl group,
May be the same or different, and may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group A substituted phenyl group having one or more substituents selected from a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group,
A naphthyl group,
May be the same or different, and may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group A substituted naphthyl group having one or more substituents selected from a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, Or complex Group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, tetrahydrofuryl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, oxazolyl group) , Isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, pyrrole group, imidazolyl group, triazolyl group, pyrazolyl group or tetrazolyl group).
Alternatively, they may be the same or different and may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group. Group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy Substituted heterocyclic ring having one or more substituents selected from a group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group Group (where Heterocyclic groups are pyridyl, pyridine-N-oxide, pyrimidinyl, pyrazinyl, pyridazyl, furyl, tetrahydrofuryl, thienyl, tetrahydrothienyl, tetrahydropyranyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl Group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, pyrrole group, imidazolyl group, triazolyl group, pyrazolyl group, or tetrazolyl group). ) And
G 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom,
X may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, or a trifluoromethyl group,
n represents an integer of 0 to 3,
Q 2 may be a phenyl group, or may be the same or different, and may be a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group. C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, C1 -C6 haloalkylsulfonyloxy group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, phenyl group, the same or different, halogen atom, C1 -C6 Alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyloxy group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group A phenyl group, a thienyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, C1- A substituted phenyl group having one or more substituents selected from a thienyl group optionally substituted with a C6 haloalkylsulfonyloxy group, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, and a pentafluorosulfanyl group,
A naphthyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group A substituted naphthyl group having one or more substituents selected from a group, a hydroxy group, and a pentafluorosulfanyl group,
Heterocyclic group (the heterocyclic group here is pyridyl group, pyridine-N-oxide group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group) Group, a thiadiazolyl group, a pyrrole group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a pyrazolyl group, or a tetrazolyl group), or the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, C1 -C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkyl Sul A substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from a nyl group, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, and a pentafluorosulfanyl group (wherein the heterocyclic group is a pyridyl group, a pyridine-N-oxide group) , Pyrimidinyl group, pyrazinyl group, pyridazyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, imidazolyl group, triazolyl group, pyrazolyl group, or tetrazolyl group. ,
Tetrahydronaphthalene group,
Alternatively, they may be the same or different, and may be a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 alkylthio group, a C1-C6 haloalkylthio group, One or more substitutions selected from C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group A tetrahydronaphthalene group having a group,
R 1 and R 2 are each a hydrogen atom, oxygen atom, halogen atom, hydroxy group, cyano group, nitro group, nitroso group, trimethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group,
A C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 alkylcarbonyl group,
A C1-C4 haloalkylcarbonyl group,
A C2-C4 alkenyl group,
A C2-C4 haloalkenyl group,
A C2-C4 alkynyl group,
A C2-C4 haloalkynyl group,
A C1-C4 alkoxycarbonyl group,
A C1-C4 haloalkoxycarbonyl group,
A C2-C4 alkenyloxycarbonyl group,
A C2-C4 alkynyloxycarbonyl group,
Phenoxycarbonyl group, which may be the same or different, may be a halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1 -C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, One or more substituents selected from a nitro group, a hydroxy group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group Yes Substituted phenoxycarbonyl group that,
A C1-C4 alkylaminocarbonyl group,
A C1-C4 haloalkylaminocarbonyl group,
A C1-C4 alkylcarbonyloxy group,
A C1-C4 haloalkylcarbonyloxy group,
Benzoyl group, which may be the same or different, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1- C6-haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, nitro group 1 or more substituents selected from a group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Replacement Benzoyl group,
A C1-C4 alkoxy group,
A C1-C4 haloalkoxy group,
A benzyloxycarbonyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C3-C8 halocycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group One or more substituents selected from nitro group, hydroxy group, pentafluorosulfanyl group, C1-C4 alkylcarbonyl group, C1-C4 haloalkylcarbonyl group, C1-C4 alkylcarbonyloxy group, C1-C4 alkoxycarbonyl group Substituted benzyloxycarbonyl group having,
A C1-C4 alkylthio group,
A C1-C4 haloalkylthio group,
A C1-C4 alkylsulfinyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl group,
Benzenesulfonyl group, which may be the same or different, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1 -C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, One or more substituents selected from a nitro group, a hydroxy group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group Have Substituted benzenesulfonyl group,
Benzylsulfonyl group, which may be the same or different, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C3-C8 halocycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1 -C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkylthio group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 alkylsulfinyl group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 haloalkylsulfonyl group, cyano group, One or more substituents selected from a nitro group, a hydroxy group, a pentafluorosulfanyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a C1-C4 haloalkylcarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyloxy group, and a C1-C4 alkoxycarbonyl group Have Substituted benzylsulfonyl group,
A C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C1-C4 alkyl group,
Or C (= O) C (= O) R 7 (wherein R 7 is a C1-C6 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group,
A C3-C8 halocycloalkyl group,
A C1-C6 alkoxy group,
Or a C1-C6 haloalkoxy group). }
A compound represented by
一般式(1)で表される化合物が下記の一般式(2)(化2)
Figure 2007302617
(式中、A、E、Dは互いに独立して炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を示し、X、n、R、R、G、Z、Qは上記と同じ意味を示す。)で表される請求項1記載の化合物。
The compound represented by the general formula (1) is represented by the following general formula (2)
Figure 2007302617
(In the formula, A, E, and D independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and X, n, R 1 , R 2 , G 3 , Z, and Q 2 have the same meaning as described above. The compound of Claim 1 represented by this.
一般式(2)において、Zが−C(=G)Q、−C(=G)Gであり、Qが一般式(3)(化3)
Figure 2007302617
(式中、Y、Yは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、シアノ基を示し、YはC1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6ハロアルキルチオ基C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基を示し、Y、Yは水素原子、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基を示す。)で表されるか、もしくは、一般式(4)(化4)
Figure 2007302617
(式中、Y、Yは同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、シアノ基を示し、YはC1−C6ハロアルキル基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基を示し、Yは水素原子、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基を示す。)で表される請求項2に記載の化合物。
In the general formula (2), Z is —C (= G 1 ) Q 1 , —C (= G 1 ) G 2 R 3 , and Q 2 is the general formula (3) (Chemical Formula 3)
Figure 2007302617
(Wherein Y 1 and Y 5 may be the same or different and are each a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C1-C3 alkoxy group, a C1-C3 haloalkoxy group, a C1-C3 alkylthio group). Group, C1-C3 haloalkylthio group, C1-C3 alkylsulfinyl group, C1-C3 haloalkylsulfinyl group, C1-C3 alkylsulfonyl group, C1-C3 haloalkylsulfonyl group, cyano group, Y 3 is a C1-C6 haloalkyl group , A C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 haloalkylthio group, a C1-C6 haloalkylsulfinyl group, and a C1-C6 haloalkylsulfonyl group, Y 2 and Y 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, and a C1-C4 alkyl group. ) Or the general formula (4)
Figure 2007302617
(Wherein Y 6 and Y 9 may be the same or different and are each a halogen atom, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, a C1-C3 alkoxy group, a C1-C3 haloalkoxy group, a C1-C3 alkylthio group). Group, C1-C3 haloalkylthio group, C1-C3 alkylsulfinyl group, C1-C3 haloalkylsulfinyl group, C1-C3 alkylsulfonyl group, C1-C3 haloalkylsulfonyl group, cyano group, Y 8 is a C1-C6 haloalkyl group , C1-C4 haloalkoxy group, C1-C6 haloalkylthio group, C1-C6 haloalkylsulfinyl group, a C1-C6 haloalkylsulfonyl group, Y 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, in.) showing the C1-C4 alkyl group The compound of claim 2 represented.
一般式(2)において、Aが硫黄原子、Eが窒素原子、Dが炭素原子であるか、もしくはAとEが炭素原子、Dが窒素原子である請求項3記載の化合物。   The compound according to claim 3, wherein, in the general formula (2), A is a sulfur atom, E is a nitrogen atom, D is a carbon atom, or A and E are carbon atoms, and D is a nitrogen atom. 請求項1から請求項4の何れか一項に記載の化合物を有効成分として含有することを特徴とする殺虫剤。   An insecticide comprising the compound according to any one of claims 1 to 4 as an active ingredient.
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