JP2007293975A - Optical disk substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disk having a low water absorption and small change of a tilt by environmental change. <P>SOLUTION: In the optical disk which has: a support substrate; a reflection layer formed on the support substrate; and a light transmissible cover layer formed on the reflection layer and comprising a curing resin, wherein a laser beam is made incident from the cover layer side to perform recording and reproduction, and the support substrate is formed by compounding 0.5 to 10 pts.wt. polycaprolactone to 100 pts.wt. polycarbonate resin having a specified recurring unit, and using a thermoplastic resin having ≤0.3% saturated water absorption measured by immersion in water at 23°C. When the optical disk is exposed to a hot and humid environment at 30°C and 95% humidity until a saturated water absorption is attained and then returned in a normal temperature and humidity state at 23°C and 50% humidity, the change of the warpage angle of the optical disk is within 0.9°. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光ディスク基板用成形材料及び該材料から成形された光ディスク基板、及びそれより形成された光ディスクに関する。更に、支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層からなり、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/又は再生を行う方式の光ディスクにおいて、該支持基板がポリカーボネート樹脂及びポリカプロラクトンからなる熱可塑性樹脂組成物よりなり、かつ該樹脂が低吸水率を示すことを特徴とし、該支持基板よりなる上記構成の光ディスクにおいて、環境変化による反り変化が少ないことを特徴とする支持基板用の光ディスク基板に関する。特に本発明は、記録容量の極めて大きな高密度光ディスクにおける支持基板用の光ディスク基板に関する。   The present invention relates to a molding material for an optical disc substrate, an optical disc substrate molded from the material, and an optical disc formed therefrom. Furthermore, it comprises a support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a light-transmitting cover layer made of a curable resin formed on the reflective layer. In the optical disk of the system for performing reproduction, the support substrate is made of a thermoplastic resin composition made of a polycarbonate resin and polycaprolactone, and the resin has a low water absorption, and the above structure made of the support substrate The present invention relates to an optical disk substrate for a support substrate, characterized in that there is little warpage change due to environmental changes. In particular, the present invention relates to an optical disk substrate for a support substrate in a high density optical disk having a very large recording capacity.

光ディスクの記録密度は、CDの0.6GBからDVDの4.7GB、そしてBD及びHD−DVDの15〜25GBと向上の一途を辿っている。例えば、再生専用のDVD−ROMをはじめ、記録再生可能なDVD−R、DVD−RW、DVD−RAMにおいても4.7GBの容量が実現されている。また、デジタルハイビジョン放送に対応した記録媒体であるBlu−ray Disc(以下BD)、HD−DVDにおいても15〜25GBを実現している。   The recording density of optical discs is continuously improving from 0.6 GB for CD to 4.7 GB for DVD and 15 to 25 GB for BD and HD-DVD. For example, the capacity of 4.7 GB is realized in DVD-R, DVD-RW, and DVD-RAM that can be recorded / reproduced as well as a read-only DVD-ROM. Also, Blu-ray Disc (hereinafter referred to as BD) and HD-DVD, which are recording media compatible with digital high-definition broadcasting, realize 15 to 25 GB.

従来、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下、ビスフェノールAという)にカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂(以下、PC−Aという)は透明性、耐熱性、機械的特性、寸法安定性が優れているが故にエンジニアリングプラスチックとして多くの分野に広く使用されてきた。さらに近年その透明性を生かして光ディスク、光ファイバー、レンズ等の分野への光学用材料としての利用が展開されており、特に光ディスクの分野で情報記録媒体用基板の素材として広く使用されている。   Conventionally, a polycarbonate resin (hereinafter referred to as PC-A) obtained by reacting a carbonate precursor with 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter referred to as bisphenol A) is transparent, heat resistant, mechanical It has been widely used in many fields as an engineering plastic because of its excellent characteristics and dimensional stability. Furthermore, in recent years, utilization of the transparency as an optical material in the fields of optical discs, optical fibers, lenses and the like has been developed, and in particular, in the field of optical discs, it is widely used as a material for information recording medium substrates.

しかしながら、光ディスク基板において、環境変化(例えば吸湿や脱湿過程)による変形が小さい事が重要な課題とされてきた。特に、BDにおいては、CDやDVDとほぼ同じ大きさの光ディスクで大容量を実現するために、光透過性のカバー層の厚さを0.1mm程度まで薄くし、NAを0.85程度、レーザ波長を400nm程度に設定している。光透過性のカバー層を薄くするのは、記録・再生側基板の厚みが薄い方が、ディスクの反り角(以下チルト)の許容値を大きくできるからであり、NAを0.85程度、レーザの波長を400nm程度とした場合、光透過性のカバー層を約0.1mmとすることで、チルトの許容値をDVDと同程度にできるとされている。しかしながら、DVDとの互換を維持するために光ディスクの厚みを1.2mmにすることで、0.1mmの光透過性のカバー層と1.1mmの支持基板に信号記録層が挟まれるという、非対称な光ディスク構成となる。ディスク構成が非対称であることから、環境変化、特に吸湿、脱湿過程における吸湿量の差及び脱湿速度差(もしくは材料が異なることによる吸水膨張率の差)が大きくなってしまい、大きなチルト変化が生じ、記録・再生の特性に大きな影響を与えてしまう。例えば、レーザーの短波長化及びピックアップレンズが高NA化される為、微小な基板の反りでもコマ収差が大きくなり、フォーカスエラーやトラッキングエラーを引き起こすからである。また、高NA化によってピックアップレンズと基板との距離が接近する為、レンズと基板の接触を回避する為にも、基板の反り及び環境変化による反り変化は小さい事が重要となる。特に、自動車運転中は室内温度が高く、湿度も低いため、急激な変化が起こりやすく、ディスク変形により信号が読み出せない等のフォーカスエラーが起こりやすい。   However, it has been an important issue that an optical disk substrate is small in deformation due to environmental changes (for example, moisture absorption and dehumidification processes). In particular, in the BD, in order to realize a large capacity with an optical disc of almost the same size as a CD or DVD, the thickness of the light-transmitting cover layer is reduced to about 0.1 mm, and the NA is about 0.85. The laser wavelength is set to about 400 nm. The reason why the light-transmitting cover layer is made thin is that the thinner the recording / reproducing side substrate, the larger the allowable value of the warp angle (hereinafter referred to as tilt) of the disc, and the NA is about 0.85. When the wavelength of the light is about 400 nm, it is said that the allowable value of tilt can be made the same as that of DVD by setting the light-transmitting cover layer to about 0.1 mm. However, by maintaining the thickness of the optical disk at 1.2 mm in order to maintain compatibility with the DVD, the signal recording layer is sandwiched between the 0.1 mm light-transmitting cover layer and the 1.1 mm support substrate. An optical disc configuration. Since the disk configuration is asymmetrical, environmental changes, especially moisture absorption, moisture absorption difference and dehumidification rate difference (or difference in water absorption expansion coefficient due to different materials) in the moisture absorption and dehumidification process become large, and a large tilt change Occurs, which greatly affects the recording / reproducing characteristics. For example, since the wavelength of the laser is shortened and the pickup lens has a high NA, coma aberration increases even if the substrate is warped, causing a focus error and a tracking error. In addition, since the distance between the pickup lens and the substrate approaches as the NA increases, it is important that the warpage change due to the substrate warpage and the environmental change is small in order to avoid contact between the lens and the substrate. In particular, when the vehicle is in operation, the room temperature is high and the humidity is low. Therefore, a rapid change is likely to occur, and a focus error such as a signal being unreadable due to disk deformation is likely to occur.

このような環境変化に対する反りについては、吸水変形を抑える為に、“基板と、この基板に配置されて情報信号を記録する為の記録層とその記録層に積層される透明保護層を有し、透明保護層側から光を入射する事で情報信号の記録/再生を行うディスク状の情報記録媒体であり、この基板は、樹脂製のコア層と、コア層に一体となっており、一方の面に記録層側の情報信号の凹凸が存在し、コア層に比べて流動性を有する樹脂製の表層とから構成されている事を特徴とする情報記録媒体”であって基板表層の吸水率を0.3%以下の樹脂を用いる基板が提案されており、ニ色成形、サンドイッチ成形による複雑な基板構成で問題を解決する方向が示されている。(例えば特許文献1参照)また、支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された光透過性のカバー層からなり、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/又は再生を行う方式の光ディスクにおいて、支持基板の主面に吸湿防止膜を形成することで吸湿量を抑える方法が提案されている。(例えば特許文献2参照)その際に、吸湿防止膜を島状に形成する、もしくは、ドーナツ状に形成し、その内径の大きさを最適化することにより、記録・再生側基板と基材の吸湿による膨張をバランスさせられる。これにより、吸湿によるチルト変化を抑制することができることが言われているが、吸湿防止膜の製膜の為に製造工程を増やすことになる。また、支持基板に用いられる熱可塑性樹脂に飽和吸水率の低い材料を用いることで環境変化による反り変化を抑えることが提案されている。特に、ポリカーボネート樹脂とポリカプロラクトンとのアロイを光ディスクの基板材料に用いることが提案されている。(例えば特許文献3,4,5,6,7)特許文献3においては、ポリカーボネート樹脂100重量部に対して1)ビフェニル・ターフェニル化合物を0.1〜40重量部、2)数平均分子量2,000〜100,000のポリカプロラクトンを0〜20重量部添加することにより基板材料の剛性を向上させ且つ飽和吸水率を低下させることにより基板の成形時の反りを抑制する手法が提案されている。該材料においては低分子化号物を添加することにより耐熱性が大きく低下することで環境変化、特に自動車室内のような高温状態において反り変化が大きくなる。また、特許文献4においては、ポリカーボネート樹脂80〜98重量部及びポリカプロラクトン20〜2重量部からなる熱可塑性樹脂に対してスチレン系重合物50〜5重量部を混合してなる光ディスク基板用樹脂が提案されている。但し、本提案はスチレン系重合物を添加することにより光ディスクの複屈折低減することが目的である。更に、スチレン系樹脂を添加することにより耐熱性が低下することで環境変化、特に自動車室内のような高温状態において反り変化が大きくなる。また、特許文献5においては、ポリカーボネート樹脂100重量部に対して数平均分子量10,000〜50,000のポリカプロラクトンを200〜10,000ppm配合されている光ディスク基板用樹脂を2枚貼り合せることが提案されている。ディスク構成が対称であることから、環境変化、特に吸湿、脱湿過程における吸湿量の差及び脱湿速度差(もしくは材料が異なることによる吸水膨張率の差)が等価となりチルト変化が抑えられるが、非対称構成の光ディスクについては言及されていない。更に、実施例で用いられている配合量では吸水率の低下が起きないことから、非対称構成の光ディスクにおいて環境変化による反り変化の改善は期待できない。また、特許文献6においては、ポリカーボネート樹脂100重量部に対して数平均分子量5,000〜10,000のポリカプロラクトンを0.1〜50重量部配合してなる樹脂組成物が提案されている。該材料においては金属との密着性を改善することにより離型性の改善を目的として検討されており、環境変化の反り変化については検討されていない。更に、特許文献7においては、ポリカーボネート樹脂100重量部に対してA)スルホン酸ホスホニウム塩0.1〜20重量部、B)亜燐酸エステル0.1〜1重量部、硫黄含有エステル0.01〜3重量部、C)カプロラクトン系重合体0.1〜10重量部からなる樹脂組成物が提案されている。該材料においては熱安定剤を添加することで滞留安定性の改善及びポリカプロラクトン添加による着色防止を目的に検討されているが、光ディスクに適応した場合、成形時に帯電防止剤であるスルホン酸ホスホニウム塩が金型に付着し、成形品に外観不良をもたらし収率が低下する。   In order to suppress such deformation due to environmental changes, in order to suppress water absorption deformation, it has “a substrate, a recording layer arranged on this substrate for recording information signals, and a transparent protective layer laminated on the recording layer. , A disc-shaped information recording medium for recording / reproducing information signals by making light incident from the transparent protective layer side. This substrate is integrated with a resin core layer and a core layer, Is an information recording medium characterized in that the recording layer side has irregularities in the information signal on the surface of the recording layer, and is composed of a resin surface layer that is more fluid than the core layer. A substrate using a resin with a rate of 0.3% or less has been proposed, and a direction to solve the problem by a complicated substrate configuration by two-color molding or sandwich molding is shown. (For example, refer to Patent Document 1) Further, it includes a support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a light-transmitting cover layer formed on the reflective layer, and laser light is incident from the cover layer side. In an optical disc of a recording and / or reproducing type, a method of suppressing the moisture absorption amount by forming a moisture absorption preventing film on the main surface of a support substrate has been proposed. (For example, refer to Patent Document 2) At that time, the moisture absorption preventing film is formed in an island shape or a donut shape, and the size of the inner diameter is optimized, whereby the recording / reproducing side substrate and the base material are formed. Balances expansion due to moisture absorption. Thus, it is said that tilt change due to moisture absorption can be suppressed, but the number of manufacturing steps is increased for forming a moisture absorption preventing film. Further, it has been proposed to suppress a change in warp due to an environmental change by using a material having a low saturated water absorption rate for the thermoplastic resin used for the support substrate. In particular, it has been proposed to use an alloy of polycarbonate resin and polycaprolactone as a substrate material for optical disks. (For example, Patent Documents 3, 4, 5, 6, and 7) In Patent Document 3, 1) 0.1 to 40 parts by weight of a biphenyl terphenyl compound with respect to 100 parts by weight of a polycarbonate resin, and 2) a number average molecular weight of 2 A method has been proposed in which 0 to 20 parts by weight of polycaprolactone of 1,000,000 to 100,000 is added to improve the rigidity of the substrate material and to reduce the saturated water absorption rate, thereby suppressing warpage during the molding of the substrate. . In the material, the heat resistance is greatly reduced by adding a low molecular weight compound, and thus the change in warp becomes large in an environmental change, particularly in a high temperature state such as in an automobile interior. Moreover, in patent document 4, resin for optical disk substrates formed by mixing 50 to 5 parts by weight of a styrene polymer with a thermoplastic resin comprising 80 to 98 parts by weight of a polycarbonate resin and 20 to 2 parts by weight of polycaprolactone. Proposed. However, the purpose of this proposal is to reduce the birefringence of the optical disk by adding a styrene polymer. Furthermore, the heat resistance is reduced by adding the styrene resin, and thus the warpage change is increased in an environmental change, particularly in a high temperature state such as an automobile room. In Patent Document 5, two optical disk substrate resins containing 200 to 10,000 ppm of polycaprolactone having a number average molecular weight of 10,000 to 50,000 per 100 parts by weight of polycarbonate resin may be bonded. Proposed. Since the disk configuration is symmetric, the change in environment, especially the difference in moisture absorption and dehumidification rate in moisture absorption and dehumidification processes (or the difference in water absorption expansion due to different materials) becomes equivalent, and the tilt change can be suppressed. No mention is made of an asymmetrical optical disc. Furthermore, since the water absorption rate does not decrease with the blending amounts used in the examples, it is not expected to improve the warp change due to environmental changes in an asymmetric optical disk. Patent Document 6 proposes a resin composition obtained by blending 0.1 to 50 parts by weight of polycaprolactone having a number average molecular weight of 5,000 to 10,000 with respect to 100 parts by weight of a polycarbonate resin. The material has been studied for the purpose of improving the releasability by improving the adhesion to metal, and the warpage change of the environmental change has not been studied. Further, in Patent Document 7, A) 0.1 to 20 parts by weight of a sulfonic acid phosphonium salt, B) 0.1 to 1 part by weight of a phosphite, and 0.01 to 0.01% of a sulfur-containing ester with respect to 100 parts by weight of a polycarbonate resin. A resin composition comprising 3 parts by weight, C) 0.1 to 10 parts by weight of a caprolactone polymer has been proposed. The material has been studied for the purpose of improving the retention stability by adding a heat stabilizer and preventing coloration by adding polycaprolactone, but when applied to an optical disk, it is a phosphonium sulfonate salt that is an antistatic agent during molding. Adheres to the mold and causes poor appearance of the molded product, resulting in a decrease in yield.

以上のように、いずれも具体的に示されている手法は、環境による反り変化が小さい光ディスクとして良好な特性を示すが、必ずしも十分とはいえない。また、ポリカーボネート樹脂とポリカプロラクトンとのアロイ材料を光ディスク基板材料に用いることにより種々の検討は行われているが、環境変化による反り変化を抑制する検討は行われておらず、新しい概念であるといえる。   As described above, any of the methods specifically shown shows good characteristics as an optical disk with a small warp change due to the environment, but it is not always sufficient. In addition, various studies have been made by using an alloy material of polycarbonate resin and polycaprolactone for the optical disk substrate material, but no study has been conducted to suppress the warpage change due to environmental changes, and this is a new concept. I can say that.

特開2000−11449号公報JP 2000-11449 A 特開2003−173571号公報JP 2003-173571 A 特開2000−195099号公報JP 2000-195099 A 特開昭63−90555号公報JP-A 63-90555 特開平9−332781号公報JP-A-9-332781 特開平7−102166号公報JP-A-7-102166 特開平9−194711号公報JP-A-9-194711

本発明は上記課題を解決し、低吸水性を有する熱可塑性樹脂からなる光ディスク成形用材料及び該材料より形成された環境変化による変形の少ない光ディスクを提供することにある。
本発明者は、上記目的を達成せんとして、光ディスク基板材料について鋭意研究を重ねた結果、特定のポリカーボネート樹脂とポリカプロラクトンからなり、かつ飽和吸水率が0.3%以下の光ディスク基板用成形材料用いて形成された光ディスク基板及び光ディスクは吸湿及び脱湿過程による反り変化が小さいことを見出し、本発明に到達した。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide an optical disk molding material made of a thermoplastic resin having low water absorption and an optical disk formed from the material and less deformed due to environmental changes.
As a result of intensive research on optical disk substrate materials in order to achieve the above object, the present inventor used a molding material for optical disk substrates consisting of a specific polycarbonate resin and polycaprolactone and having a saturated water absorption of 0.3% or less. The optical disk substrate and the optical disk formed in this manner have been found to have little warpage change due to moisture absorption and dehumidification processes, and the present invention has been achieved.

以下、本発明を詳細に説明する。
支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層からなり、、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/または再生を行う方式の光ディスクにおける支持基板であって、該支持基板が、繰り返し単位として下記式[1]で表される繰り返し単位を少なくとも1種類有するポリカーボネート樹脂100重量部に対してポリカプロラクトンを0.5〜10重量部配合してなり、かつ23℃、水中浸漬によって測定された飽和吸水率が0.3%以下の熱可塑性樹脂を用いて形成された支持基板であり、かつ該光ディスクを温度30℃、湿度95%の湿熱環境で飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度23℃、湿度50%の常湿状態に戻した場合の光ディスクの反り角変化が0.9度以内であることを特徴とする支持基板用の光ディスク基板である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
A support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a light-transmitting cover layer made of a curable resin formed on the reflective layer, and recording and / or recording with laser light incident from the cover layer side Alternatively, it is a supporting substrate in an optical disc of a reproduction type, and the supporting substrate contains 0 polycaprolactone with respect to 100 parts by weight of a polycarbonate resin having at least one repeating unit represented by the following formula [1] as a repeating unit. 0.5 to 10 parts by weight and a support substrate formed using a thermoplastic resin having a saturated water absorption measured by immersion in water at 23 ° C. of 0.3% or less, and the temperature of the optical disk The change in the warp angle of the optical disk when the saturated water absorption is reached in a humid heat environment of 30 ° C. and a humidity of 95% is returned to normal humidity at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50%. It is an optical disk substrate for supporting the substrate, characterized in that is within degrees.

Figure 2007293975
[式中、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のシクロアルコキシ基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、および炭素数7〜20のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、m及びnは夫々1〜4の整数であり、Wは下記式[2]で表される構造単位である。
Figure 2007293975
(R、Rはそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を表し、R及びRはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一もしくは異なっていてもよく、pは4〜12の整数、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)]
Figure 2007293975
[Wherein, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon number. From the group consisting of a 6-20 cycloalkoxy group, an aryl group having 6-10 carbon atoms, an aralkyl group having 7-20 carbon atoms, an aryloxy group having 6-10 carbon atoms, and an aralkyloxy group having 7-20 carbon atoms. In the case where a plurality of R 1 and R 2 are present, they may be the same or different, m and n are each an integer of 1 to 4, and W is a structure represented by the following formula [2] Unit.
Figure 2007293975
(R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. , R 5 and R 6 may be the same or different from each other, p is an integer of 4 to 12, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon number of 1 to 3 Represents an alkyl group.)]

本発明によれば、ポリカプロラクトンの含有量は、前記ポリカーボネート樹脂100重量部に対して、0.5〜10重量部であり、1〜9重量部がより好ましく、2〜8重量部がさらに好ましく、3〜7重量部が最も好ましい。その場合、飽和吸水率及び溶融流動性が良好な熱可塑性樹脂及びそれより形成される光ディスク基板及び光ディスクが提供される。ポリカプロラクトンの割合が0.5重量部より小さい場合、飽和吸水率の低下がほとんど起こらず、10重量部より大きい場合はガラス転移温度が低下し、耐熱性が低下しする。   According to the present invention, the content of polycaprolactone is 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polycarbonate resin, more preferably 1 to 9 parts by weight, and even more preferably 2 to 8 parts by weight. 3 to 7 parts by weight is most preferable. In that case, a thermoplastic resin having a satisfactory saturated water absorption rate and good melt fluidity, and an optical disk substrate and an optical disk formed therefrom are provided. When the proportion of polycaprolactone is less than 0.5 parts by weight, the saturated water absorption is hardly lowered, and when it is more than 10 parts by weight, the glass transition temperature is lowered and the heat resistance is lowered.

本発明の熱可塑性樹脂組成物に含まれるポリカーボネート樹脂は、下記式[3]

Figure 2007293975
[式中、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、および炭素数1〜5のアルキル基からなる群より選ばれる基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、m及びnは夫々1〜2の整数であり、Wは下記式[4]で表される構造単位である。
Figure 2007293975
(R、Rはそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜5の炭化水素基を表し、R及びRはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一もしくは異なっていてもよく、pは4〜8の整数、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜3のアルキル基を表す。)]
で表される繰り返し単位を少なくとも1種類有するポリカーボネート樹脂からなることが好ましく、前記一般式[1]が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール及び9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンから選ばれる少なくとも一種から誘導された繰り返し単位であるポリカーボネート樹脂であることがさらにより好ましい。特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンより誘導される繰り返し単位であるポリカーボネート樹脂、若しくは4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール及び9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンより誘導される繰り返し単位であり、その構成比が10:90〜90:10の範囲(モル比)であるポリカーボネート樹脂であることが好ましい。更にその構成比が30:70〜70:30の範囲(モル比)であるポリカーボネート樹脂であることがより好ましい。 The polycarbonate resin contained in the thermoplastic resin composition of the present invention is represented by the following formula [3].
Figure 2007293975
[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom and a group selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, and when there are a plurality of R 1 and R 2 , they are the same or different, respectively. M and n are each an integer of 1 to 2, and W is a structural unit represented by the following formula [4].
Figure 2007293975
(R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. , R 5 and R 6 may be the same or different, p is an integer of 4 to 8, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. To express.)]
Preferably, the general formula [1] is 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl). Cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol and 9,9-bis (4-hydroxy-3) Even more preferred is a polycarbonate resin which is a repeating unit derived from at least one selected from -methylphenyl) fluorene. In particular, polycarbonate resins which are repeating units derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, or 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol and 9,9-bis (4-hydroxy) It is preferably a polycarbonate resin which is a repeating unit derived from -3-methylphenyl) fluorene and whose constitution ratio is in the range (molar ratio) of 10:90 to 90:10. Further, the polycarbonate resin is more preferably in the range of 30:70 to 70:30 (molar ratio).

また、本発明の熱可塑性樹脂組成物に含まれるポリカプロラクトンは、数平均分子量が5,000〜100,000であることが好ましく、7,000〜50,000であることが更に好ましく、9,000〜30,000であることが最も好ましい。   The polycaprolactone contained in the thermoplastic resin composition of the present invention preferably has a number average molecular weight of 5,000 to 100,000, more preferably 7,000 to 50,000, Most preferably, it is 000-30,000.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、そのガラス転移温度が好ましくは110℃〜180℃、より好ましくは120℃〜170℃、更に好ましくは130℃〜160℃である。ガラス転移温度が110℃よりも低くなると、自動車内環境において耐熱性が不足し、熱変形が生じるため好ましくない。また、ガラス転移温度が180℃より高くなると、溶融流動性が悪く成形不良を生じ、金型に対する精密転写性が劣るようになるので好ましくない。   The glass transition temperature of the thermoplastic resin composition of the present invention is preferably 110 ° C to 180 ° C, more preferably 120 ° C to 170 ° C, and further preferably 130 ° C to 160 ° C. When the glass transition temperature is lower than 110 ° C., the heat resistance is insufficient in the environment inside the automobile and thermal deformation occurs, which is not preferable. On the other hand, if the glass transition temperature is higher than 180 ° C., the melt fluidity is poor and a molding defect is caused, and the precision transferability to the mold becomes inferior.

ガラス転移温度の測定は、JIS K7121に規定されている示差走査熱量測定(DSC)に従い、DSC−2910(TAインストルメント製、商品名:DSC2910)を用いて実施した。測定条件は、加熱速度 20℃/min、窒素流量 40ml/min、測定温度 20℃〜250℃である。   The glass transition temperature was measured using DSC-2910 (trade name: DSC2910, manufactured by TA Instruments) in accordance with differential scanning calorimetry (DSC) defined in JIS K7121. The measurement conditions are a heating rate of 20 ° C./min, a nitrogen flow rate of 40 ml / min, and a measurement temperature of 20 ° C. to 250 ° C.

また、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、MVRの値が5cm/10分以上が好ましく、20cm/10分以上がより好ましく、30cm/10分以上がさらに好ましい。そして、70cm/10分以上が最も好ましい。かかるMVRの値の上限は、好ましくは100cm/10分、より好ましくは90cm/10分である。 The thermoplastic resin composition of the present invention is preferably at least 5 cm 3/10 min is the value of MVR, more preferably 20 cm 3/10 minutes or more, still more preferably at least 30 cm 3/10 min. And 70 cm < 3 > / 10 minutes or more is the most preferable. The upper limit of the value of such MVR is preferably 100 cm 3/10 min, more preferably 90cm 3/10 minutes.

尚、この範囲を超えると、光ディスク基板の成形においての転写率に影響が生じる。すなわち、転写率が低下し、光ディスク基板の成形性を損ねることになる。そして、フォーカスエラーやトラッキングエラーなどを起こし易くなるので好ましくない。   If this range is exceeded, the transfer rate in forming the optical disk substrate will be affected. That is, the transfer rate is lowered and the moldability of the optical disk substrate is impaired. Further, it is not preferable because a focus error and a tracking error are likely to occur.

このメルトボリュームレート(MVR)は、ISO1133に規定された長さと直径のオリフィス(ダイ)を有するセミオートメルトインデクサー(東洋精機製、商品名:L251)を用いて測定した。測定条件は、試験温度300℃、試験荷重11.77N(1.2kgf)で、一定の区間を通過するサンプルの時間を測定し、単位時間当たりの流れ量(容量)を算出し、単位はcm/10分で示した。 The melt volume rate (MVR) was measured using a semi-auto melt indexer (trade name: L251, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) having an orifice (die) having a length and a diameter defined in ISO1133. The measurement conditions are a test temperature of 300 ° C., a test load of 11.77 N (1.2 kgf), the time of a sample passing through a certain section is measured, and the flow rate (capacity) per unit time is calculated, and the unit is cm It is shown in 3/10 minutes.

本発明で提供される熱可塑性樹脂は、23℃、水中浸漬して測定された飽和吸水率が0.3%以下であり、0.25%以下であることがより好ましい。飽和吸水率が0.3%を超えると、吸湿および脱湿過程において光ディスクの反り変化が生じやすくなり、フォーカスエラーやトラッキングエラーなどを起こし易くなるので好ましくない。   The thermoplastic resin provided in the present invention has a saturated water absorption measured by immersion in water at 23 ° C. of 0.3% or less, and more preferably 0.25% or less. If the saturated water absorption exceeds 0.3%, it is not preferable because warpage of the optical disk is likely to change during the moisture absorption and dehumidification process, and a focus error and a tracking error are likely to occur.

この飽和吸水率は、吸水率をASTM D570に規定された23℃、水中浸漬による重量変化率にて測定した。すなわち、この測定試料は、直径45mm、厚み30mmの円形金型で成形(真空プレス成形機(神藤金属工業所製、製品名:SFV−10)、金型温度300℃、一次圧力0.5MPa、保持時間1.5分で溶融後、二次圧力1.5MPa、保持時間5分で圧縮)した。これを120℃、4時間以上乾燥させて重量を秤量し初期重量(W)とした。そして23℃、水中浸漬し、24時間毎に水中から取り出し、水分を除去後に重量を秤量し、次式で吸水率を算出した。吸水率={(24時間毎の測定重量)−W}/W×100 (%) This saturated water absorption was measured by the rate of change in weight due to immersion in water at 23 ° C. as defined in ASTM D570. That is, this measurement sample was molded with a circular mold having a diameter of 45 mm and a thickness of 30 mm (vacuum press molding machine (manufactured by Shin-Fuji Metal Industry Co., Ltd., product name: SFV-10), mold temperature 300 ° C., primary pressure 0.5 MPa, After melting at a holding time of 1.5 minutes, compression was performed at a secondary pressure of 1.5 MPa and a holding time of 5 minutes). This was dried at 120 ° C. for 4 hours or more and weighed to obtain an initial weight (W 0 ). Then, it was immersed in water at 23 ° C., taken out from the water every 24 hours, weighed after removing water, and the water absorption was calculated by the following formula. Water absorption rate = {(measured weight every 24 hours) −W 0 } / W 0 × 100 (%)

光ディスクの吸湿及び脱湿過程における反り変化は、ディスクを温度30℃、湿度90%RHの環境下で飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度23℃、湿度50%RHの環境下に移した時に生じる中心から58mm部のチルト変化の最大値と定常に達したときの値の差(△チルト)を比較したものである。このときの△チルトは0.9度以内、好ましくは0.75度以内、更に好ましくは0.5度以下である。   The change in warpage in the process of moisture absorption and dehumidification of the optical disk was transferred to the environment of 23 ° C. and humidity 50% RH after the disk was exposed to reach the saturated water absorption rate in the environment of temperature 30 ° C. and humidity 90% RH. This is a comparison of the difference (Δtilt) between the maximum value of the tilt change at 58 mm from the center and the value when the steady state is reached. At this time, the Δtilt is within 0.9 degrees, preferably within 0.75 degrees, and more preferably 0.5 degrees or less.

この測定法は次の通りである。直径120mm、厚さ1.1mmの光ディスク基板の信号面側に反射膜をスパッタ蒸着させ、その上にスピンコーターにより塗膜の厚み100μmの紫外線硬化型樹脂を調整後、紫外線照射して形成した保護膜を有する光ディスクを互いに接触しないようスペーサーを挟み、温度23℃、湿度50%RH環境に2日間以上放置後、12hr置きに定時的に測定し、ラジアルチルトの前後の変化率が5%以下となる時点でジャパン・イー・エム(株)製3次元形状測定器DLD−3000Uによりラジアルチルトの評価を行い、初期ラジアルチルトとした(光ディスク基板の中心から58mm部を測定)。次に、この初期ラジアルチルトを評価した光ディスクを30℃、湿度90%RHの恒温恒湿機に72hr放置した。その後、光ディスクを23℃、湿度50%RHの環境下に移し、経時的(30分毎)に光ディスクのラジアルチルトを前記装置により測定した。得られた測定値の最大値を示した値をラジアルチルトの最大値とした。測定したラジアルチルトの最大値と初期ラジアルチルトとの差を△ラジアルチルトとした。   This measuring method is as follows. A protection film formed by sputtering a reflective film on the signal surface side of an optical disk substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm, and then adjusting the ultraviolet curable resin with a coating thickness of 100 μm by a spin coater and then irradiating with ultraviolet rays. The optical disk with the film is sandwiched between the spacers and left in a temperature 23 ° C, humidity 50% RH environment for 2 days or more, then measured periodically every 12 hours. The rate of change before and after radial tilt is 5% or less. At that time, the radial tilt was evaluated with a three-dimensional shape measuring instrument DLD-3000U manufactured by Japan EM Co., Ltd. to obtain an initial radial tilt (measured 58 mm from the center of the optical disk substrate). Next, the optical disk for which the initial radial tilt was evaluated was left for 72 hours in a constant temperature and humidity chamber at 30 ° C. and a humidity of 90% RH. Thereafter, the optical disk was moved to an environment of 23 ° C. and humidity 50% RH, and the radial tilt of the optical disk was measured with the above apparatus over time (every 30 minutes). The value indicating the maximum value of the measured values obtained was taken as the maximum value of radial tilt. The difference between the measured maximum value of the radial tilt and the initial radial tilt was taken as Δradial tilt.

本発明の熱可塑性樹脂を調製する時には、任意の方法が採用される。例えばポリカーボネート樹脂とポリカプロラクトンとを混合溶液とした後、溶媒を留去する方法、溶媒留去に次いでベント式押出機等で溶融ペレット化する方法、または、ポリカーボネート樹脂とポリカプロラクトンをスーパーミキサー、タンブラー、ナウターミキサー等で混合し、二軸ルーダー等でペレット化する方法等が用いられる。また、必要に応じて安定剤、酸化防止剤、光安定剤、着色材、滑り材、離型剤等の添加剤を加える事もできる。さらに射出成形、圧縮成形、射出圧縮成形に供するためのペレット状ポリカーボネート樹脂を得る押出工程(ペレット化工程)では溶融状態の時に濾過精度10μmの焼結金属フィルターを通すなどして異物を除去することが好ましい。いずれにしても射出成形前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低くしておくことが必要である。   When preparing the thermoplastic resin of this invention, arbitrary methods are employ | adopted. For example, after mixing polycarbonate resin and polycaprolactone into a mixed solution, the solvent is distilled off, the solvent is distilled off and then melted into pellets using a vent-type extruder, or the polycarbonate resin and polycaprolactone are mixed into a super mixer or tumbler. A method of mixing with a Nauta mixer or the like and pelletizing with a twin screw ruder or the like is used. Moreover, additives, such as a stabilizer, antioxidant, a light stabilizer, a coloring material, a sliding material, a mold release agent, can also be added as needed. Furthermore, in the extrusion process (pelletizing process) for obtaining a pellet-like polycarbonate resin for use in injection molding, compression molding, and injection compression molding, foreign matters are removed by passing through a sintered metal filter having a filtration accuracy of 10 μm in the molten state. Is preferred. In any case, it is necessary for the raw material resin before injection molding to keep the content of foreign matters, impurities, solvents, etc. as low as possible.

支持基板を形成する熱可塑性樹脂組成物には必要に応じて、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択された少なくとも1種のリン化合物を配合することができる。かかるリン化合物の配合量は、前記熱可塑性樹脂組成物中0.0001〜0.05重量%が好ましく、0.0005〜0.02重量%がより好ましく、0.001〜0.01重量%が特に好ましい。このリン化合物を配合することにより、かかる前記熱可塑性樹脂組成物の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下や色相の悪化が防止される。   If necessary, the thermoplastic resin composition forming the support substrate is blended with at least one phosphorus compound selected from the group consisting of phosphoric acid, phosphorous acid, phosphonic acid, phosphonous acid, and esters thereof. be able to. The amount of the phosphorus compound is preferably 0.0001 to 0.05% by weight, more preferably 0.0005 to 0.02% by weight, and 0.001 to 0.01% by weight in the thermoplastic resin composition. Particularly preferred. By blending this phosphorus compound, the thermal stability of the thermoplastic resin composition is improved, and a decrease in molecular weight and a deterioration in hue during molding are prevented.

かかるリン化合物としては、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択される少なくとも1種のリン化合物であり、好ましくは下記一般式

Figure 2007293975
Figure 2007293975
Figure 2007293975
Figure 2007293975
Figure 2007293975
[式中、R〜R22は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素原子数1〜20のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチルなどの炭素原子数6〜15のアリール基またはベンジル、フェネチルなどの炭素原子数7〜18のアラルキル基を表し、また1つの化合物中に2つのアルキル基が存在する場合は、その2つのアルキル基は互いに結合して環を形成していてもよい。]
よりなる群から選択された少なくとも1種のリン化合物である。 The phosphorus compound is at least one phosphorus compound selected from the group consisting of phosphoric acid, phosphorous acid, phosphonic acid, phosphonous acid, and esters thereof, preferably the following general formula
Figure 2007293975
Figure 2007293975
Figure 2007293975
Figure 2007293975
Figure 2007293975
[Wherein, R 9 to R 22 are each independently a hydrogen atom, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, hexadecyl. Represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as octadecyl, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms such as phenyl, tolyl and naphthyl, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms such as benzyl and phenethyl; When two alkyl groups are present in one compound, the two alkyl groups may be bonded to each other to form a ring. ]
At least one phosphorus compound selected from the group consisting of:

上記式[5]で示されるリン化合物としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、などが挙げられる。   Examples of the phosphorus compound represented by the above formula [5] include triphenyl phosphite, trisnonylphenyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tridecyl phosphite, and trioctyl phosphite. , Trioctadecyl phosphite, didecyl monophenyl phosphite, dioctyl monophenyl phosphite, diisopropyl monophenyl phosphite, monobutyl diphenyl phosphite, monodecyl diphenyl phosphite, monooctyl diphenyl phosphite, and the like.

上記式[6]で示されるリン化合物としては、例えばトリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられる。上記式[7]で示されるリン化合物としては、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4−ジフェニレンホスホナイトなどが挙げられる。また上記式[8]で示される化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピルなどが挙げられる。上記式[9]で示される化合物としては、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。   Examples of the phosphorus compound represented by the above formula [6] include tributyl phosphate, trimethyl phosphate, triphenyl phosphate, triethyl phosphate, diphenyl monoorthoxenyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate and the like. Examples of the phosphorus compound represented by the above formula [7] include tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4-diphenylenephosphonite. Examples of the compound represented by the formula [8] include dimethyl benzenephosphonate, diethyl benzenephosphonate, dipropyl benzenephosphonate and the like. Examples of the compound represented by the formula [9] include bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-tert-butyl). Phenyl) octyl phosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, and the like.

これらのリン化合物のなかで、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4−ジフェニレンホスホナイトが好ましく使用される。   Among these phosphorus compounds, trisnonylphenyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4-diphenylene Phosphonite is preferably used.

さらに本発明の熱可塑性樹脂組成物には、必要に応じてナトリウム金属1ppm以下の一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えることもできる。
かかるナトリウム金属1ppm以下の高級脂肪酸エステルとしては、炭素原子数1〜20の一価または多価アルコールと炭素原子数10〜30の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルであるのが好ましい。また、かかる一価または多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、プロピレングリコールモノステアレート、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート、2−エチルヘキシルステアレートなどが挙げられる。なかでもステアリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレートが好ましく用いられる。かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの配合量は、熱可塑性樹脂組成物中0.01〜2重量%が好ましく、0.015〜0.5重量%がより好ましく、0.02〜0.2重量%がさらに好ましい。配合量がこの範囲内であれば離型性に優れ、また離型剤がマイグレートし金属表面に付着することもなく好ましい。また、ナトリウム金属含有量が1ppmを超えると製造されたディスク基板は色相が悪化し、またPCの加水分解による白色欠点が増加することにより品質が低下する。
Furthermore, higher fatty acid esters of mono- or polyhydric alcohols of 1 ppm or less of sodium metal can be added to the thermoplastic resin composition of the present invention as necessary.
The higher fatty acid ester having 1 ppm or less of sodium metal is preferably a partial ester or total ester of a monovalent or polyhydric alcohol having 1 to 20 carbon atoms and a saturated fatty acid having 10 to 30 carbon atoms. Further, partial esters or total esters of such monohydric or polyhydric alcohols and saturated fatty acids include stearic acid monoglyceride, stearic acid monosorbate, behenic acid monoglyceride, pentaerythritol monostearate, pentaerythritol tetrastearate, propylene glycol. Examples thereof include monostearate, stearyl stearate, palmityl palmitate, butyl stearate, methyl laurate, isopropyl palmitate, 2-ethylhexyl stearate and the like. Of these, stearic acid monoglyceride and pentaerythritol tetrastearate are preferably used. The compounding amount of the ester of the alcohol and higher fatty acid is preferably 0.01 to 2% by weight, more preferably 0.015 to 0.5% by weight, and 0.02 to 0.2% by weight in the thermoplastic resin composition. % Is more preferable. If the blending amount is within this range, it is preferable that the release property is excellent and the release agent does not migrate and adhere to the metal surface. On the other hand, when the sodium metal content exceeds 1 ppm, the manufactured disk substrate deteriorates in hue, and the quality deteriorates due to an increase in white defects due to hydrolysis of PC.

本発明の熱可塑性樹脂組成物には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を添加することができる。その例としてはフェノール系酸化防止剤を示すことができ、具体的には例えばトリエチレングリコール−ビス(3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、1,6−ヘキサンジオール−ビス(3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド)、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、3,9−ビス{1,1−ジメチル−2−[β−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]エチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン等が挙げられる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲は熱可塑性樹脂組成物中、0.0001〜0.05重量%である。   To the thermoplastic resin composition of the present invention, an antioxidant generally known for the purpose of preventing oxidation can be added. Examples thereof include phenolic antioxidants, specifically, for example, triethylene glycol-bis (3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate), 1,6 -Hexanediol-bis (3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate), pentaerythritol-tetrakis (3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionate), octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxybenzyl) benzene, N, N-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydride) Cinnamide), 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester, tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 3,9-bis {1 , 1-dimethyl-2- [β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane, etc. Is mentioned. The range of the preferable addition amount of these antioxidants is 0.0001 to 0.05 weight% in a thermoplastic resin composition.

上記熱可塑性樹脂組成物より光ディスク基板を製造する場合には射出成形機(射出圧縮成形機を含む)を用いる。この射出成形機としては一般的に使用されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しディスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリューとして樹脂との付着性が低く、かつ耐蝕性、耐摩耗性を示す材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。   When manufacturing an optical disk substrate from the thermoplastic resin composition, an injection molding machine (including an injection compression molding machine) is used. Although generally used as this injection molding machine, from the viewpoint of suppressing the generation of carbides and improving the reliability of the disk substrate, the adhesion to the resin as a cylinder or screw is low, and the corrosion resistance and resistance It is preferable to use a material made of a material that exhibits wear.

射出成形の条件としてはシリンダー温度が好ましくは260〜450℃、より好ましくは280〜380℃、並びに金型温度が好ましくは50〜180℃、より好ましくは70〜135℃であり、これらにより光学的に優れた光ディスク基板を得ることができる。   As conditions for injection molding, the cylinder temperature is preferably 260 to 450 ° C, more preferably 280 to 380 ° C, and the mold temperature is preferably 50 to 180 ° C, more preferably 70 to 135 ° C. Can be obtained.

成形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。   The environment in the molding process is preferably as clean as possible in view of the object of the present invention. It is also important to take into consideration that the material used for molding is sufficiently dried to remove moisture, and that no retention that causes decomposition of the molten resin occurs.

本発明の光ディスク基板は、片面に反射層及び/または記録層を形成する必要がある。上記の記録層、反射層の無機薄膜の製造法としては、公知の真空蒸着法、スパッタリング法等のPVD法、あるいはCVD法等、種々の薄膜形成法が適用できる。しかし、光ディスク媒体としては、高温高湿の耐環境試験で生じる剥離を生じさせないために、特に高分子基板との密着性が大きい条件で作製することが好ましい。このためにはスパッタリング法が好ましい。   In the optical disk substrate of the present invention, it is necessary to form a reflective layer and / or a recording layer on one side. As a method for producing the inorganic thin films of the recording layer and the reflective layer, various thin film forming methods such as a known vacuum deposition method, PVD method such as sputtering method, or CVD method can be applied. However, it is preferable that the optical disk medium is manufactured under conditions where adhesion to the polymer substrate is particularly high in order not to cause peeling that occurs in a high temperature and high humidity environmental resistance test. For this purpose, sputtering is preferred.

また、上記反射層及び/または記録層上に光透過性のカバー層を形成する。光透過性のカバー層を形成する方法として紫外線硬化樹脂を基板上に滴下し、スピンコート法によって基板を所定の回転数で回転させながら紫外線硬化樹脂を基板全体に塗布し、その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる方法を用いる。その際に、スピンコート法では内周から外周までの厚みを均一に作製することが困難であり、内周部が薄くなり、外周部が極端に厚くなるといった傾向がある。それを防ぐ為に、紫外線硬化樹脂塗布後に、塗布回転数よりも高速回転をさせながら紫外線を照射し硬化させることで均一な光透過層を作製する方法等が挙げられる。さらにこの光透過性のカバー層はコマ収差をかなり小さく抑えるために、3〜200μmの厚さに制限される。用いられる紫外線硬化樹脂としては、ラジカル重合反応により硬化される(メタ)アクリレート系材料を使用した紫外線硬化型樹脂やエポキシやビニルエーテル、オキセタン等の材料を使用したカチオン硬化系材料等が用いられる。   Further, a light transmissive cover layer is formed on the reflective layer and / or the recording layer. As a method of forming a light-transmitting cover layer, an ultraviolet curable resin is dropped on the substrate, and the ultraviolet curable resin is applied to the entire substrate while rotating the substrate at a predetermined rotational speed by spin coating, and then irradiated with ultraviolet rays. Then, a method of curing the ultraviolet curable resin is used. At that time, it is difficult to produce a uniform thickness from the inner periphery to the outer periphery by the spin coating method, and the inner periphery tends to be thin and the outer periphery tends to be extremely thick. In order to prevent this, a method of producing a uniform light-transmitting layer by irradiating and curing ultraviolet rays while rotating at a higher speed than the coating rotation number after applying the ultraviolet curable resin can be mentioned. Furthermore, this light-transmitting cover layer is limited to a thickness of 3 to 200 μm in order to keep coma aberration considerably small. As the ultraviolet curable resin to be used, an ultraviolet curable resin using a (meth) acrylate-based material cured by a radical polymerization reaction, a cationic curable material using a material such as epoxy, vinyl ether, oxetane, or the like is used.

本発明の光ディスク基板は、支持基板、該基板上に形成された反射層、及びスピンコート法によって該反射層上に紫外線硬化性樹脂を塗布後、硬化させてなる光透過性のカバー層からなり、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/又は再生を行う方式の光ディスク、例えばBlu−ray Disc(BD)やホログラムディスクに代表される高密度光ディスク用基板としても好適に使用される。特に、Blu―ray Disc(記録型)の場合、1.1mm厚の基板上に光反射層、記録膜及び記録膜保護膜よりなる記録層、並びに光透過性のカバー層を形成する事により作成される。なお、これらの層は複数形成されてもよい。   The optical disk substrate of the present invention comprises a support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a light-transmitting cover layer formed by applying an ultraviolet curable resin on the reflective layer by spin coating and then curing the resin. Further, it is also suitably used as an optical disc of a type that performs recording and / or reproduction by entering laser light from the cover layer side, for example, a high-density optical disc substrate typified by a Blu-ray Disc (BD) or a hologram disc. In particular, in the case of Blu-ray Disc (recording type), it is created by forming a light reflecting layer, a recording layer consisting of a recording film and a recording film protective film, and a light transmissive cover layer on a 1.1 mm thick substrate. Is done. A plurality of these layers may be formed.

記録膜は追記型光ディスクの場合、基板上に、レーザー光の照射によって不可逆的な光学特性が変化したり凹凸形状が形成される記録膜であり、例えばレーザー光の照射による加熱で分解して、その光学定数が変化すると共に、体積変化によって基板の変形を生じさせるシアニン系、フタロシアニン系、アゾ系の有機色素等が用いられる。   In the case of a write-once optical disk, the recording film is a recording film on which a irreversible optical characteristic is changed or a concavo-convex shape is formed by irradiation with laser light. For example, the recording film is decomposed by heating by laser light irradiation, A cyanine-based, phthalocyanine-based, azo-based organic dye or the like that changes the optical constant and causes deformation of the substrate due to a volume change is used.

書き換え可能型光ディスクの場合、記録膜はレーザ光の照射によって生じた物質の非晶質状態と結晶状態の間の可逆的な相構造変化が起こる材料(相変化記録型)、もしくは膜面に垂直な方向に磁化容易方向を有し、任意の反転磁区を作ることにより情報の記録、再生、消去が可能な磁気光学効果を有する磁性薄膜(光磁気記録型)である。相変化記録型の記録膜としては、例えば、カルコゲナイド系材料であるGeSbTe系、InSbTe系、InSe系、InTe系、AsTeGe系、TeOx−GeSn系、TeSeSn系、FeTe系、SbSeBi系、BiSeGe系等が用いられているが、GeSbTe系よりなる膜は繰り返し記録・消去時における安定動作が良好で好ましい。光磁気記録型の記録膜としては、例えば、TbFe、TbFeCo、GdTbFe、NdDyFeCo、NdDyTbFeCo、NdFe、PrFe、CeFe等の希土類元素と遷移金属元素との非晶質合金薄膜、交換結合を利用したそれらの二層膜、Co/Pt、Co/Pd等の人工格子多層膜、CoPt系合金等を用いることができる。   In the case of a rewritable optical disc, the recording film is a material (phase change recording type) in which a reversible phase structure change between the amorphous state and the crystalline state of the substance caused by laser light irradiation, or perpendicular to the film surface This is a magnetic thin film (magneto-optical recording type) having a magneto-optic effect that has an easy magnetization direction in any direction and can record, reproduce, and erase information by creating an arbitrary inversion magnetic domain. Examples of the phase change recording film include GeSbTe, InSbTe, InSe, InTe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, FeTe, SbSeBi, and BiSeGe that are chalcogenide materials. Although it is used, a film made of GeSbTe is preferable because of its stable operation during repeated recording / erasing. Examples of magneto-optical recording films include amorphous alloy thin films of rare earth elements and transition metal elements such as TbFe, TbFeCo, GdTbFe, NdDyFeCo, NdDyTbFeCo, NdFe, PrFe, and CeFe, and those utilizing exchange coupling. A two-layer film, an artificial lattice multilayer film such as Co / Pt or Co / Pd, or a CoPt alloy can be used.

また記録膜を狭持する記録膜保護膜としては誘電体材料を用いることが好ましい。これにより、媒体としての結晶相と非晶質相の反射率差、および磁気光学効果を高めることができる。さらにこの場合には、誘電体材料は屈折率nが高い材料、すなわちn≧1.6である材料、さらに好ましくはn≧1.8である材料であることが好ましい。例えば、SiO系、SiON系、Ta、TiO、Al、Y、CeO、La、In、GeO、GeO、PbO、SnO、SnO、Bi、TeOWO、WO、Sc、ZrO等の酸化物、TaN、AlN、SiN系、AlSiN系等の窒化物、ZnS、Sb、CdS、In、Ga、GeS、SnS、PbS、Bi等の硫化物、またはこれらの混合材料やこれらの積層体などを保護膜として用いることが好ましい。 In addition, it is preferable to use a dielectric material as the recording film protective film for sandwiching the recording film. Thereby, the difference in reflectance between the crystalline phase and the amorphous phase as a medium, and the magneto-optical effect can be enhanced. In this case, the dielectric material is preferably a material having a high refractive index n, that is, a material satisfying n ≧ 1.6, more preferably a material satisfying n ≧ 1.8. Eg, SiO-based, SiON-based, Ta 2 O 3, TiO 2 , Al 2 O 3, Y 2 O 3, CeO, La 2 O 3, In 2 O 3, GeO, GeO 2, PbO, SnO, SnO 2, Bi 2 O 3 , TeO 2 WO 2 , WO 3 , Sc 2 O 3 , ZrO 2 and other oxides, nitrides such as TaN, AlN, SiN and AlSiN, ZnS, Sb 2 S 3 , CdS and In 2 It is preferable to use a sulfide such as S 3 , Ga 2 S 3 , GeS, SnS 2 , PbS, Bi 2 S 3 , a mixed material thereof, a laminate thereof, or the like as the protective film.

光反射層としては、評価に用いるドライブヘッドのレーザ光に対し、記録層よりも反射率の高い材料であることが特性向上のために好ましい。具体的には、使用レーザ光波長における光学定数である屈折率nと消衰係数kが、n≦3.5、かつk≧3.5であるような材料を選択することが好ましい。さらに好ましくはn≦2.5かつ4.5≦k≦8.5であり、この条件で作製した媒体では、再生信号特性のより一層の向上が実現できる。   The light reflecting layer is preferably a material having higher reflectivity than the recording layer with respect to the laser beam of the drive head used for evaluation. Specifically, it is preferable to select a material in which the refractive index n and the extinction coefficient k, which are optical constants at the used laser light wavelength, satisfy n ≦ 3.5 and k ≧ 3.5. More preferably, n ≦ 2.5 and 4.5 ≦ k ≦ 8.5. With a medium manufactured under these conditions, the reproduction signal characteristics can be further improved.

一方レーザ光による加熱で信号を記録する際、光反射層の熱伝導率が高すぎると、熱拡散が大きく、強いレーザパワーを必要とする。このため現在多用されているパワーが15mW以下の半導体レーザで信号の記録を可能とするためには、光反射層に用いる材料の熱伝導率は100[W/(m・K)]以下であることが好ましく、さらには80[W/(m・K)]以下であることがより好ましい。   On the other hand, when recording a signal by heating with laser light, if the thermal conductivity of the light reflecting layer is too high, thermal diffusion is large and strong laser power is required. For this reason, in order to enable signal recording with a semiconductor laser having a power of 15 mW or less that is widely used at present, the thermal conductivity of the material used for the light reflection layer is 100 [W / (m · K)] or less. It is more preferable that it is 80 [W / (m · K)] or less.

このような条件を満足する材料として、AlもしくはAgにAu、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Tc、Re、Ru、Os、Ir等の1種類以上の元素を添加した合金が挙げられる。なお、これら合金において添加元素の添加量が、0.5原子%より少ないと前述の熱伝導低下の効果は小さく、逆に20原子%より多いと前述の光反射率の低下が大きく再生信号特性の面で不利である。従って添加元素の含有量は0.5〜20原子%の範囲におさめることが好ましい。また、特に金属反射膜自身の耐久性を高めるという点で、上記特定元素群の中ではTi、Zr、Hf、Ta、Cr、Reが好ましい。これらの反射層の膜厚範囲は10〜500nmであるが、反射率の低下による再生信号特性の低下を抑え、かつレーザパワーが15mWで記録可能とするためには、好ましくは30〜200nm、特に好ましくは40〜100nmである。
なお、再生専用光ディスク媒体の場合は、上述した光反射層のみを基板上に形成する事になるが、材料としては同じものを使用することが出来る。
As a material satisfying such conditions, one or more elements such as Au, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Tc, Re, Ru, Os, Ir, etc. as Al or Ag An alloy to which is added. In these alloys, if the amount of the additive element is less than 0.5 atomic%, the effect of the above-described decrease in heat conduction is small. This is disadvantageous. Therefore, the content of the additive element is preferably within the range of 0.5 to 20 atomic%. In particular, Ti, Zr, Hf, Ta, Cr, and Re are preferable in the specific element group in terms of enhancing durability of the metal reflective film itself. The film thickness range of these reflective layers is 10 to 500 nm, but preferably 30 to 200 nm, particularly in order to suppress the deterioration of the reproduction signal characteristics due to the decrease in reflectance and to enable recording at a laser power of 15 mW. Preferably it is 40-100 nm.
In the case of a read-only optical disc medium, only the light reflecting layer described above is formed on the substrate, but the same materials can be used.

本発明の特定のポリカーボネート樹脂及びポリカプロラクトンからなる熱可塑性樹脂組成物は、低吸水性及び成形性に優れていることから、環境変化における反り変化が小さい光ディスク基板、殊に高密度光ディスク用の光ディスク基板として好適に用いられ、その奏する工業的効果は格別である。そして特に、この光ディスク基板を用いた光ディスクの環境変化後の信号特性(ジッタ値)の結果は大変良好であり、光ディスクとして有効であることが明らかである。   Since the thermoplastic resin composition comprising the specific polycarbonate resin and polycaprolactone of the present invention is excellent in low water absorption and moldability, the optical disk substrate, particularly an optical disk for a high-density optical disk, is small in warpage change due to environmental changes. It is suitably used as a substrate, and its industrial effect is exceptional. In particular, the result of signal characteristics (jitter value) after an environmental change of an optical disc using this optical disc substrate is very good, and it is clear that the optical disc is effective as an optical disc.

以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、何らこれに限定されるものではない。実施例及び比較例において「部」は重量部である。なお評価は下記の方法に従った。   Hereinafter, although an example is given and explained in detail, the present invention is not limited to this unless it exceeds the purpose. In the examples and comparative examples, “parts” is parts by weight. Evaluation was according to the following method.

(1)ガラス転移温度
ガラス転移温度の測定は、JIS K7121に規定されている示差走査熱量測定(DSC)に従い、DSC−2910(TAインストルメント製、商品名:DSC2910)を用いて実施した。測定条件は、加熱速度 20℃/min、窒素流量 40ml/min、測定温度 20℃〜250℃である。また、測定サンプルは、測定試料を4〜8mg秤量し、アルミニウム製サンプルパンに入れ、サンプルカバーをし、プレスフォーミングツールで押さえ密封した。ガラス転移温度は得られたDSC曲線(縦軸:熱量(W/g)、横軸:温度(℃))から、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線とが交わる点の温度とした。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
(1) Glass transition temperature The glass transition temperature was measured using DSC-2910 (trade name: DSC2910, manufactured by TA Instruments) in accordance with differential scanning calorimetry (DSC) defined in JIS K7121. The measurement conditions are a heating rate of 20 ° C./min, a nitrogen flow rate of 40 ml / min, and a measurement temperature of 20 ° C. to 250 ° C. The measurement sample was weighed 4 to 8 mg, put in an aluminum sample pan, covered with a sample, and sealed with a press forming tool. The glass transition temperature is calculated from the obtained DSC curve (vertical axis: calorie (W / g), horizontal axis: temperature (° C)), a straight line equidistant from the extended straight line of each baseline in the vertical axis direction, and glass The temperature at the point where the curve of the step-like change part of the transition intersects was taken. The measured value was rounded off to the first decimal place.

(2)流動性(MVR)
メルトボリュームレート(MVR)を、ISO1133に規定された長さと直径のオリフィス(ダイ)を有するセミオートメルトインデクサー(東洋精機製、商品名:L251)を用いて実施した。測定条件は試験温度 300℃、試験荷重 11.77N(1.2kgf)である。測定サンプルはポリカーボネート樹脂を押出機にて溶融混練し、ペレット化した試料を用いた。上記装置にて、一定の区間を通過するサンプルの時間を測定し、単位時間当たりの流れ量(容量)を算出し、単位はcm/10分で示した。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
(2) Fluidity (MVR)
Melt volume rate (MVR) was carried out using a semi-auto melt indexer (trade name: L251, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) having an orifice (die) having a length and a diameter defined in ISO1133. The measurement conditions are a test temperature of 300 ° C. and a test load of 11.77 N (1.2 kgf). As a measurement sample, a polycarbonate resin was melt-kneaded with an extruder and pelletized. At the apparatus, to measure the time of the sample that passes through a constant interval, to calculate the amount of flow per unit time (capacity), the unit is shown in cm 3/10 min. The measured value was rounded off to the first decimal place.

(3)飽和吸水率
吸水率をASTM D570に規定された23℃、水中浸漬による重量変化率にて測定した。測定試料は、真空プレス成形機(神藤金属工業所製、製品名:SFV−10)を使用し、直径45mm、厚み30mmの円形金型に、ポリカーボネート樹脂を押出機にて溶融混練したペレット5〜7gを入れ、金型温度300℃、一次圧力0.5MPa、保持時間1.5分で溶融後、二次圧力1.5MPa、保持時間5分で圧縮し、室温まで冷却し金型より取り出した成形品を使用した。120℃、4時間以上乾燥させた成形品を秤量し、初期重量(W)とし、該成形品を23℃、水中浸漬し、24時間毎に成形品を水中から取り出し、圧空を使用して表面に付着した水分を除去した後に重量を秤量し、下式で吸水率を算出した。また、24時間毎に下式で算出された吸水率の経時変化が5%未満となった値を飽和吸水率とした。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
吸水率={(24時間毎の測定重量)−W}/W×100 (%)
(3) Saturated water absorption rate The water absorption rate was measured by the weight change rate by immersion in water at 23 ° C as defined in ASTM D570. As a measurement sample, a vacuum press molding machine (product name: SFV-10, manufactured by Shin-Fuji Metal Industry Co., Ltd.) was used, and pellets 5 to 5 in which a polycarbonate resin was melt-kneaded in an extruder with a diameter of 45 mm and a thickness of 30 mm 7 g was added, melted at a mold temperature of 300 ° C., a primary pressure of 0.5 MPa, and a holding time of 1.5 minutes, then compressed at a secondary pressure of 1.5 MPa and a holding time of 5 minutes, cooled to room temperature, and taken out from the mold. A molded product was used. The molded product dried at 120 ° C. for 4 hours or more is weighed to obtain an initial weight (W 0 ). The molded product is immersed in water at 23 ° C., and the molded product is taken out from the water every 24 hours. After removing water adhering to the surface, the weight was weighed, and the water absorption was calculated by the following formula. Moreover, the value at which the change with time of the water absorption calculated by the following formula every 24 hours was less than 5% was defined as the saturated water absorption. The measured value was rounded off to the first decimal place.
Water absorption rate = {(measured weight every 24 hours) −W 0 } / W 0 × 100 (%)

(4)初期ラジアルチルト
光ディスクが互いに接触しないようスペーサーを挟み、温度23℃、湿度50%RH環境に2日間以上放置後12hr毎に定時的に測定し、ラジアルチルトの前後の変化率が5%以下となる時点でジャパン・イー・エム(株)製3次元形状測定器DLD−3000Uによりラジアルチルトの評価を行い、初期ラジアルチルトとした。
(4) Initial radial tilt A spacer is put between the optical discs so that they do not come into contact with each other. After being left in an environment of 23 ° C. and humidity of 50% RH for 2 days or more, it is measured periodically every 12 hours. At the time of the following, radial tilt was evaluated by a three-dimensional shape measuring instrument DLD-3000U manufactured by Japan EM Co., Ltd., and an initial radial tilt was obtained.

(5)ラジアルチルト変化量の最大値(△ラジアルチルト)
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクを30℃、湿度90%RHの恒温恒湿機に72hr放置した。その後、光ディスクを23℃、湿度50%RHの環境下に移し、経時的(30分毎)に光ディスクのラジアルチルトをジャパン・イー・エム(株)製3次元形状測定器DLD−3000Uにより測定した。測定したラジアルチルトの最大値と初期ラジアルチルトとの差(△ラジアルチルト)を評価した。
(5) Maximum amount of radial tilt change (△ radial tilt)
The optical disk for which the initial radial tilt was evaluated was left for 72 hours in a constant temperature and humidity machine at 30 ° C. and a humidity of 90% RH. Thereafter, the optical disk was moved to an environment of 23 ° C. and humidity 50% RH, and the radial tilt of the optical disk was measured over time (every 30 minutes) with a 3D shape measuring instrument DLD-3000U manufactured by Japan EM Co., Ltd. . The difference (Δradial tilt) between the measured maximum value of radial tilt and the initial radial tilt was evaluated.

(6)初期信号特性(初期ジッタ)
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクをパルステック工業製ODU-1000にてジッタ測定を行った。測定したジッタ値が6.5%以下を○、6.5〜8.0%以下を△、8.0%を超えた値を示した場合を×とした。
(6) Initial signal characteristics (initial jitter)
Jitter measurement was performed on an optical disc evaluated for initial radial tilt using ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial. The case where the measured jitter value was 6.5% or less was indicated by ◯, the value by 6.5 to 8.0% or less was indicated by Δ, and the value exceeding 8.0% was indicated by ×.

(7)環境試験後の信号特性(環境変化後のジッタ)
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクを30℃、湿度90%RHの恒温恒湿機に72hr放置した。その後、光ディスクを23℃、湿度50%RHの環境下に移し、経時的(30分毎)に光ディスクのラジアルチルトをジャパン・イー・エム(株)製3次元形状測定器DLD−3000Uにより測定した。測定したラジアルチルトの最大値となったディスクを用いてパルステック工業製ODU−1000にてジッタ測定を行った。測定したジッタ値が6.5%以下を○、6.5〜8.0%以下を△、8.0%を超えた値を示した場合を×とした。
(7) Signal characteristics after environmental test (jitter after environmental change)
The optical disk for which the initial radial tilt was evaluated was left for 72 hours in a constant temperature and humidity machine at 30 ° C. and a humidity of 90% RH. Thereafter, the optical disk was moved to an environment of 23 ° C. and humidity 50% RH, and the radial tilt of the optical disk was measured over time (every 30 minutes) with a 3D shape measuring instrument DLD-3000U manufactured by Japan EM Co., Ltd. . Jitter measurement was performed with ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. using the disk having the maximum radial tilt value. The case where the measured jitter value was 6.5% or less was indicated by ◯, the value by 6.5 to 8.0% or less was indicated by Δ, and the value exceeding 8.0% was indicated by ×.

(8)転写性
基板にスタンパーから転写した溝の深さを、原子間力顕微鏡(セイコー電子工業製SPI3800N)を用いて、半径40mmの位置にて転写溝の深さを測定した。転写性は、次式で示される転写率を指標とし、転写率80%以上〜100%を○、50%以上80%未満を△、50%未満を×とした。
転写率(%)=100×ディスクの溝深さ/スタンパーの溝深さ
(8) Transferability The depth of the groove transferred from the stamper to the substrate was measured at a position with a radius of 40 mm using an atomic force microscope (SPI3800N manufactured by Seiko Denshi Kogyo). Transferability was determined by using a transfer rate represented by the following formula as an index, with transfer rates of 80% to 100% being ◯, 50% to less than 80% being Δ, and less than 50% being ×.
Transfer rate (%) = 100 × disc groove depth / stamper groove depth

[実施例1]
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンより得られたポリカーボネート樹脂(帝人化成製、パンライトAD−5503)10kgに、ポリカプロラクトン(ダイセル化学工業(株)製 ポリカプロラクトンH1P))を100g添加し、ドライブレンドして均一に混合した。続いてかかる組成物をベント式二軸押出機[神戸製鋼(株)製KTX−46]によりシリンダー温度260℃で脱気しながら溶融混錬を行い、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。
[Example 1]
100 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was added to 10 kg of polycarbonate resin (Teijin Chemicals, Panlite AD-5503) obtained from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane. And then dry blended and mixed uniformly. Subsequently, the composition was melt-kneaded while degassing at a cylinder temperature of 260 ° C. with a vented twin-screw extruder [KTX-46, manufactured by Kobe Steel Co., Ltd.] to obtain thermoplastic resin composition pellets. The pellet was measured for glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption.

次に、該ペレットを所定の乾燥温度(=ガラス転移温度−20℃)で5時間乾燥後、射出成形機[住友重機械工業(株)製SD−40E]にスタンパーを装着して、表1記載のシリンダ温度および金型温度で直径120mmφ、厚さ1.1mmの光ディスク基板を射出成形した。得られた光ディスク基板の信号面側に高周波マグネトロンスパッタ装置(アネルバ製ILC3102型)により、Ndを5.0原子%、Biを1.0原子%含んだAg合金スパッタリングターゲットを用いて放電電力500WでDCスパッタリングによって100nmの薄膜を堆積させた。(成膜条件は、基板温度:22℃,アルゴンガス圧:2mTorr ,成膜速度:5nm/sec,背圧:< 5×10-6Torrである。)そして、この反射膜上に、ビスフェノールA型エポキシアクリレート15部、ポリテトラメチレングリコール(分子量850)1モルとトリレンジイソシアネート2モルを反応後、ヒドロキシエチルアクリレート2モルを反応させて得たウレタンアクリレート 40部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート 19部、テトラヒドロフルフリルアクリレート 11部、2−エトキシエトキシエチルアクリレート 10部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 5部、IRGANOX 1520L(チバスペシャルティケミカルズ(株)社製、前記式(III)の化合物)0.2部、を配合し、60℃で1時間加熱混合して溶解することにより調製した淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を滴下した後、スピンコーターにより塗膜の厚さが100μmになるようにし、コールドミラー付きメタルハライドランプ120W/cmを用いて照射量500mJ/cm(アイグラフィックス社製光量計UVPF−36)の紫外線を照射し、光ディスクを作成した。該光ディスクの初期ラジアルチルトと△ラジアルチルト、初期ジッタと環境変化後のジッタを測定した。 Next, the pellets were dried at a predetermined drying temperature (= glass transition temperature−20 ° C.) for 5 hours, and then a stamper was attached to an injection molding machine [SD-40E manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.] An optical disk substrate having a diameter of 120 mmφ and a thickness of 1.1 mm was injection-molded at the described cylinder temperature and mold temperature. With a high frequency magnetron sputtering apparatus (ILC3102 type manufactured by Anelva) on the signal surface side of the obtained optical disk substrate, an Ag alloy sputtering target containing 5.0 atomic% Nd and 1.0 atomic% Bi was used with a discharge power of 500 W. A 100 nm thin film was deposited by DC sputtering. (Deposition conditions are substrate temperature: 22 ° C., argon gas pressure: 2 mTorr, film formation rate: 5 nm / sec, back pressure: <5 × 10 −6 Torr.) Type epoxy acrylate 15 parts, polytetramethylene glycol (molecular weight 850) 1 mole and tolylene diisocyanate 2 moles were reacted with urethane ethyl acrylate 40 parts, tricyclodecane dimethanol diacrylate 19 Parts, tetrahydrofurfuryl acrylate 11 parts, 2-ethoxyethoxyethyl acrylate 10 parts, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 5 parts, IRGANOX 1520L (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., compound of formula (III)) 0.2 Part, and mix by heating at 60 ° C for 1 hour After adding a light yellow transparent ultraviolet curable composition prepared by dissolving the solution, the thickness of the coating film is adjusted to 100 μm with a spin coater, and the irradiation amount is set using a metal halide lamp with a cold mirror 120 W / cm. An optical disk was produced by irradiating with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 (light meter UVPF-36 manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.). The initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, and jitter after environmental change of the optical disc were measured.

更に、名機製作所製の射出成形機M35B−D−DM、深さ200nm、間隔0.5μm、幅0.2μmの溝が刻まれたスタンパーを用いて、直径120nm、厚さ1.2mmの光ディスク基板を成形した。なお、シリンダー温度は360℃一定として、金型温度を表1の通り各樹脂に設定した。該光ディスク基板の転写率を測定した。
測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
Further, an optical molding machine having a diameter of 120 nm and a thickness of 1.2 mm using an injection molding machine M35B-D-DM manufactured by Meiki Seisakusho, using a stamper with grooves 200 nm deep, 0.5 μm apart and 0.2 μm wide. A substrate was molded. The cylinder temperature was fixed at 360 ° C., and the mold temperature was set for each resin as shown in Table 1. The transfer rate of the optical disk substrate was measured.
Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[実施例2]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を500g添加した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Example 2]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that 500 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of polycarbonate resin (Panlite AD-5503), and the glass transition temperature of the pellet, MVR, The saturated water absorption was measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[実施例3]
温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水929.2部、48%水酸化ナトリウム水溶液61.3部を入れ、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン39部、4,4´−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール43.6部およびハイドロサルファイト0.17部を溶解した後、p−tert−ブチルフェノール1.51部と塩化メチレン637.9部を加えトリエチルアミン0.09部を添加した後攪拌下15〜25℃でホスゲン32.4部を40分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、48%水酸化ナトリウム水溶液15.6部を加え、28〜33℃で約1時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで塩化メチレンを蒸発して1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンと4,4´−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノールとの構成単位の比がモル比で50:50の無色のポリマーを得た。(収率97%)
[Example 3]
In a reactor equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 929.2 parts of ion-exchanged water and 61.3 parts of 48% aqueous sodium hydroxide solution were added, and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3, 3, 5 was added. -After dissolving 39 parts of trimethylcyclohexane, 43.6 parts of 4,4 '-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol and 0.17 part of hydrosulfite, 1.51 parts of p-tert-butylphenol and methylene chloride After adding 637.9 parts and 0.09 part of triethylamine, 32.4 parts of phosgene was blown in at a temperature of 15 to 25 ° C. with stirring for 40 minutes. After completion of the phosgene blowing, 15.6 parts of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the reaction was terminated by stirring at 28 to 33 ° C. for about 1 hour. After completion of the reaction, the product is diluted with methylene chloride, washed with water, acidified with hydrochloric acid and washed with water. When the conductivity of the aqueous phase is almost the same as that of ion-exchanged water, the methylene chloride is evaporated to give 1,1-bis A colorless polymer having a molar ratio of structural units of (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane and 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol of 50:50 is obtained. It was. (Yield 97%)

上記芳香族ポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を500g添加した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。   A thermoplastic resin composition pellet is obtained in the same manner as in Example 1 except that 500 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) is added to 10 kg of the aromatic polycarbonate copolymer, and the glass transition temperature, MVR, and saturation of the pellet are obtained. The water absorption was measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[実施例4]
温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水31,500部、48%水酸化ナトリウム水溶液1,730部を入れ、9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン2,040部、4,4´−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール2,802部およびハイドロサルファイト10部を溶解した後、p−tert−ブチルフェノール81部と塩化メチレン13,770部を加えトリエチルアミン4部を添加した後攪拌下15〜25℃でホスゲン1,670部を60分要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、48%水酸化ナトリウム水溶液270部を加え、28〜33℃で約1時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで塩化メチレンを蒸発して9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンと4,4´−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノールとの構成単位の比がモル比で50:50の無色のポリマーを得た。(収率96%)
[Example 4]
In a reactor equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, 31,500 parts of ion-exchanged water and 1,730 parts of a 48% sodium hydroxide aqueous solution were placed, and 9,9-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene 2 , 040 parts, 2,4 '-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol 2,802 parts, and hydrosulfite 10 parts, p-tert-butylphenol 81 parts and methylene chloride 13,770 parts were added. After adding 4 parts of triethylamine, 1,670 parts of phosgene was blown in for 60 minutes at 15 to 25 ° C. with stirring. After the completion of phosgene blowing, 270 parts of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the reaction was terminated by stirring at 28 to 33 ° C. for about 1 hour. After completion of the reaction, the product is diluted with methylene chloride, washed with water, acidified with hydrochloric acid and washed with water. When the conductivity of the aqueous phase is almost the same as that of ion-exchanged water, the methylene chloride is evaporated to 9,9-bis. A colorless polymer having a molar ratio of structural units of (3-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene and 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol of 50:50 was obtained. (Yield 96%)

上記芳香族ポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を500g添加した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。   A thermoplastic resin composition pellet is obtained in the same manner as in Example 1 except that 500 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) is added to 10 kg of the aromatic polycarbonate copolymer, and the glass transition temperature, MVR, and saturation of the pellet are obtained. The water absorption was measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例1]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)10kgに、ポリカプロラクトン樹(ポリカプロラクトンH1P)を1,500g添加した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 1]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1,500 g of polycaprolactone tree (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of polycarbonate resin (Panlite AD-5503). Temperature, MVR, and saturated water absorption were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例2]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を20g添加した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 2]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that 20 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of polycarbonate resin (Panlite AD-5503), and the glass transition temperature of the pellet, MVR, The saturated water absorption was measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例3]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)のみを使用した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 3]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that only the polycarbonate resin (Panlite AD-5503) was used, and the glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption rate of the pellet were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例4]
実施例3で重合したポリカーボネート共重合体のみを使用した以外は実施例3と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。
測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 4]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 3 except that only the polycarbonate copolymer polymerized in Example 3 was used, and the glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption rate of the pellet were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured.
Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例5]
実施例3で重合したポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を1,500g添加した以外は実施例3と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。
測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 5]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 3 except that 1,500 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of the polycarbonate copolymer polymerized in Example 3, and a glass transition of the pellet was obtained. Temperature, MVR, and saturated water absorption were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured.
Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例6]
実施例3で重合したポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を20g添加した以外は実施例3と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 6]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 3 except that 20 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of the polycarbonate copolymer polymerized in Example 3, and the glass transition temperature of the pellet was obtained. MVR and saturated water absorption were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例7]
実施例4で重合したポリカーボネート共重合体のみを使用した以外は実施例4と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。
測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 7]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 4 except that only the polycarbonate copolymer polymerized in Example 4 was used, and the glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption rate of the pellet were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured.
Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例8]
実施例4で重合したポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を1,500g添加した以外は使用した以外は実施例4と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 8]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 4 except that 1,500 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of the polycarbonate copolymer polymerized in Example 4. The glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption of the pellet were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例9]
実施例4で重合したポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を20g添加した以外は実施例4と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 9]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 4 except that 20 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was added to 10 kg of the polycarbonate copolymer polymerized in Example 4, and the glass transition temperature of the pellet was obtained. MVR and saturated water absorption were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例10]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)のみを使用した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、得られたディスクの支持基板表面上に吸湿防止膜としてZnS−SiO2(モル分率80:20)誘電体材料を利用し、記録・再生光の透過率減少が数%程度で抑えられるように、光透過層上への成膜を10nmとし、光情報記録媒体と略同心になるように直径60mmから119mmの領域までに成膜した。初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 10]
A thermoplastic resin composition pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that only the polycarbonate resin (Panlite AD-5503) was used, and the glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption rate of the pellet were measured. Furthermore, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and a ZnS—SiO 2 (molar fraction 80:20) dielectric material was used as a moisture absorption preventing film on the surface of the support substrate of the obtained disk. The film formation on the light transmission layer is set to 10 nm so that the decrease in the transmittance of recording / reproducing light can be suppressed to about several percent, and the film is formed from the diameter of 60 mm to 119 mm so as to be substantially concentric with the optical information recording medium. Filmed. Initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例11]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)10kgに対し、メタターフェニル(東京化成社製)100g、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)100gを使用した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 11]
A thermoplastic resin composition in the same manner as in Example 1 except that 100 g of metaterphenyl (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 100 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) were used for 10 kg of the polycarbonate resin (Panlite AD-5503). Pellets were obtained, and the glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption rate of the pellets were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例12]
ポリカーボネート樹脂(パンライトAD−5503)9kgに対し、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)1kgをドライブレンドして均一に混合した。続いてかかる組成物をベント式二軸押出機[神戸製鋼(株)製KTX−46]によりシリンダー温度220℃で脱気しながら溶融混錬を行い、ペレットを得た。該熱可塑性樹脂8kgを使用し、スチレン−アクリロニトリル共重合体ポリマー(ダイセル化学(株)製アクリロニトリル27重量%)2kgを再度ドライブレンドして使用した以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 12]
To 9 kg of the polycarbonate resin (Panlite AD-5503), 1 kg of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) was dry-blended and mixed uniformly. Subsequently, the composition was melt kneaded while degassing at a cylinder temperature of 220 ° C. using a vented twin-screw extruder [KTX-46 manufactured by Kobe Steel Co., Ltd.] to obtain pellets. The thermoplastic resin was used in the same manner as in Example 1 except that 8 kg of the thermoplastic resin was used and 2 kg of styrene-acrylonitrile copolymer polymer (27% by weight of acrylonitrile manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was dry-blended again. A composition pellet was obtained, and the glass transition temperature, MVR, and saturated water absorption rate of the pellet were measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

[比較例13]
容器に入った1,4−シクロヘキサンジメタノール(以下、CHDMと称することがある)をすべて溶融槽に入れ、窒素雰囲気下、70℃で均一溶融した。この溶融したCHDMから計量器により72.0重量部計量し、攪拌装置、蒸留器及び減圧装置を備えた反応槽に仕込んだ。その後、ビスフェノールA(以下、BPAと称することがある)114重量部、ジフェニルカーボネートを220重量部及びテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを0.18重量部、水酸化ナトリウム8×10-4重量部を反応槽に仕込み、窒素置換した後、140℃で溶融した。30分攪拌後、内温を180℃に昇温しつつ徐々に減圧し13.3kPaで30分間反応させ、生成するフェノールを溜去した。次に同圧に維持しながら昇温し続け、190℃で30分間、200℃で40分間反応を行い留出PhOH量が124重量部(65%留出、理論量:191重量部)になったところで温度を更に昇温し、210℃で30分間、220℃で30分間、さらに240℃で30分間フェノールを溜去せしめ反応させた。その後、ゆっくりと減圧し240℃で133Pa以下とした。フル真空到達後4時間攪拌下で反応せしめた。失活剤として、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を8×10-4重量部添加後、240℃、13.3kPaで20分間攪拌した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながらペレタイザーでカットしてペレットとした。上記重合したポリカーボネート共重合体10kgに、ポリカプロラクトン(ポリカプロラクトンH1P)を500g添加した以外は実施例4と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、MVR、飽和吸水率を測定した。さらに、実施例1と同様の方法で光ディスクと基板を作成し、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト及び初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を測定した。測定したガラス転移温度、MVR、飽和吸水率、初期ラジアルチルト、△ラジアルチルト、初期ジッタ、環境試験後のジッタ、転写率を表1に記載した。
[Comparative Example 13]
All of 1,4-cyclohexanedimethanol (hereinafter sometimes referred to as CHDM) contained in the container was placed in a melting tank and uniformly melted at 70 ° C. in a nitrogen atmosphere. From this molten CHDM, 72.0 parts by weight was weighed with a meter, and charged into a reaction vessel equipped with a stirrer, a distiller and a decompressor. Thereafter, 114 parts by weight of bisphenol A (hereinafter sometimes referred to as BPA), 220 parts by weight of diphenyl carbonate, 0.18 parts by weight of tetramethylammonium hydroxide, and 8 × 10 −4 parts by weight of sodium hydroxide were added to the reaction vessel. The mixture was purged with nitrogen and purged with nitrogen, and then melted at 140 ° C. After stirring for 30 minutes, the pressure was gradually reduced while the internal temperature was raised to 180 ° C., and the mixture was reacted at 13.3 kPa for 30 minutes to distill off the produced phenol. Next, the temperature was continued while maintaining the same pressure, and the reaction was carried out at 190 ° C. for 30 minutes and at 200 ° C. for 40 minutes, and the amount of distilled PhOH was 124 parts by weight (65% distillation, theoretical amount: 191 parts by weight). The temperature was further raised, and the reaction was carried out by distilling off phenol at 210 ° C. for 30 minutes, 220 ° C. for 30 minutes, and further 240 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the pressure was slowly reduced to 133 Pa or less at 240 ° C. The reaction was carried out with stirring for 4 hours after full vacuum was reached. After adding 8 × 10 −4 parts by weight of tetrabutylphosphonium dodecylbenzenesulfonate as a deactivator, the mixture was stirred at 240 ° C. and 13.3 kPa for 20 minutes, and then discharged from the bottom of the reaction tank under nitrogen pressure. The pellet was cut with a pelletizer while cooling. A thermoplastic resin composition pellet is obtained in the same manner as in Example 4 except that 500 g of polycaprolactone (polycaprolactone H1P) is added to 10 kg of the polymerized polycarbonate copolymer, and the glass transition temperature, MVR, saturation of the pellet are obtained. The water absorption was measured. Further, an optical disk and a substrate were prepared in the same manner as in Example 1, and initial radial tilt, Δradial tilt and initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate were measured. Table 1 shows the measured glass transition temperature, MVR, saturated water absorption, initial radial tilt, Δradial tilt, initial jitter, jitter after environmental test, and transfer rate.

Figure 2007293975
Figure 2007293975

Claims (13)

支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層からなり、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/または再生を行う方式の光ディスクにおける支持基板であって、該支持基板が、繰り返し単位として下記式[1]で表される繰り返し単位を少なくとも1種類有するポリカーボネート樹脂100重量部に対してポリカプロラクトンを0.5〜10重量部配合してなり、かつ23℃、水中浸漬によって測定された飽和吸水率が0.3%以下の熱可塑性樹脂を用いて形成された支持基板であり、かつ該光ディスクを温度30℃、湿度95%の湿熱環境で飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度23℃、湿度50%の常湿状態に戻した場合の光ディスクの反り角変化が0.9度以内であることを特徴とする支持基板用の光ディスク基板。
Figure 2007293975
[式中、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜20のシクロアルコキシ基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、および炭素数7〜20のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、m及びnは夫々1〜4の整数であり、Wは下記式[2]で表される構造単位である。
Figure 2007293975
(R、Rはそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を表し、R及びRはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一もしくは異なっていてもよく、pは4〜12の整数、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)]
A support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a light-transmitting cover layer made of a curable resin formed on the reflective layer, and recording and / or recording with laser light incident from the cover layer side A support substrate in an optical disc of a reproduction type, wherein the support substrate has a polycaprolactone in an amount of 0. 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a polycarbonate resin having at least one repeating unit represented by the following formula [1] as a repeating unit. 5 to 10 parts by weight, and a support substrate formed using a thermoplastic resin having a saturated water absorption measured by immersion in water at 23 ° C. of 0.3% or less. The warp angle change of the optical disc is 0.9 after exposure to a saturated water absorption rate in a humid heat environment of 95 ° C. and humidity of 95% and then returning to a normal humidity state of 23 ° C. and 50% humidity. Optical disc substrate for supporting the substrate, characterized in that within it.
Figure 2007293975
[Wherein, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon number. From the group consisting of a 6-20 cycloalkoxy group, an aryl group having 6-10 carbon atoms, an aralkyl group having 7-20 carbon atoms, an aryloxy group having 6-10 carbon atoms, and an aralkyloxy group having 7-20 carbon atoms. In the case where a plurality of R 1 and R 2 are present, they may be the same or different, m and n are each an integer of 1 to 4, and W is a structure represented by the following formula [2] Unit.
Figure 2007293975
(R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. , R 5 and R 6 may be the same or different from each other, p is an integer of 4 to 12, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon number of 1 to 3 Represents an alkyl group.)]
該ポリカーボネート樹脂が繰り返し単位として下記式[3]で表される繰り返し単位を少なくとも1種類有するポリカーボネート樹脂である請求項1記載の光ディスク基板。
Figure 2007293975
[式中、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、および炭素数1〜5のアルキル基からなる群より選ばれる基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、m及びnは夫々1〜2の整数であり、Wは下記式[4]で表される構造単位である。
Figure 2007293975
(R、Rはそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜5の炭化水素基を表し、R及びRはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を表し、R及びRが複数ある場合はそれぞれ同一もしくは異なっていてもよく、pは4〜8の整数、R及びRはそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜3のアルキル基を表す。)]
The optical disk substrate according to claim 1, wherein the polycarbonate resin is a polycarbonate resin having at least one repeating unit represented by the following formula [3] as a repeating unit.
Figure 2007293975
[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom and a group selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, and when there are a plurality of R 1 and R 2 , they are the same or different, respectively. M and n are each an integer of 1 to 2, and W is a structural unit represented by the following formula [4].
Figure 2007293975
(R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. , R 5 and R 6 may be the same or different, p is an integer of 4 to 8, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. To express.)]
前記一般式[1]が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール及び9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンから選ばれる少なくとも一種から誘導された繰り返し単位である請求項1〜2のいずれかに記載の光ディスク基板。   The general formula [1] is 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5. A repeating unit derived from at least one selected from trimethylcyclohexane, 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol and 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene Item 3. The optical disk substrate according to any one of Items 1 and 2. 前記一般式[1]が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンから誘導された繰り返し単位である請求項1〜3のいずれかに記載の光ディスク基板。   The optical disk substrate according to claim 1, wherein the general formula [1] is a repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane. 前記一般式[1]が4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール及び/又は9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンから誘導された繰り返し単位である請求項1〜3のいずれかに記載の光ディスク基板。   The general formula [1] is a repeating unit derived from 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol and / or 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene. Item 4. The optical disk substrate according to any one of Items 1 to 3. 熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂100重量部に対して、ポリカプロラクトンを1〜9重量部配合してなる熱可塑性樹脂である請求項1〜5のいずれかに記載の光ディスク基板。   6. The optical disk substrate according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is a thermoplastic resin obtained by blending 1 to 9 parts by weight of polycaprolactone with respect to 100 parts by weight of the polycarbonate resin. 熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂100重量部に対して、ポリカプロラクトンを3〜7重量部配合してなる熱可塑性樹脂である請求項1〜5のいずれかに記載の光ディスク基板。   6. The optical disk substrate according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is a thermoplastic resin obtained by blending 3 to 7 parts by weight of polycaprolactone with respect to 100 parts by weight of the polycarbonate resin. 熱可塑性樹脂のガラス転移温度が110〜180℃である請求項1〜5のいずれかに記載の光ディスク基板。   The optical disk substrate according to claim 1, wherein the thermoplastic resin has a glass transition temperature of 110 to 180 ° C. 上記硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層は、スピンコート法によって該反射層上に紫外線硬化性樹脂を塗布後、硬化させてなるものである請求項1〜8のいずれかに記載の光ディスク基板。   9. The optical disk according to claim 1, wherein the light-transmitting cover layer made of the curable resin is formed by applying an ultraviolet curable resin on the reflective layer by a spin coating method and then curing the resin. substrate. 請求項1〜8のいずれかに記載の光ディスク基板を支持基板として有する、支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層からなり、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/または再生を行う方式の光ディスク。   A light-transmitting material comprising the optical disk substrate according to claim 1 as a support substrate, comprising a support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a curable resin formed on the reflective layer. An optical disc comprising a cover layer and recording and / or reproducing by entering laser light from the cover layer side. 上記硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層は、スピンコート法によって該反射層上に紫外線硬化性樹脂を塗布後、硬化させてなるものである請求項10の光ディスク。   The optical disk according to claim 10, wherein the light-transmitting cover layer made of the curable resin is formed by applying an ultraviolet curable resin on the reflective layer by a spin coating method and then curing it. 支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層からなり、カバー層側からレーザー光を入射して記録及び/または再生を行う方式の光ディスクにおける支持基板であって、該支持基板が繰り返し単位として2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール及び9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンから選ばれる少なくとも一種から誘導された繰り返し単位で表されるポリカーボネート樹脂100重量部に対して、ポリカプロラクトンを0.5〜10重量部配合してなり、かつ23℃、水中浸漬によって測定された飽和吸水率が0.3%以下の熱可塑性樹脂を用いて形成された支持基板であり、かつ該光ディスクを温度30℃、湿度95%の湿熱環境で飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度23℃、湿度50%の常湿状態に戻した場合の光ディスクの反り角変化が0.9度以内であることを特徴とする支持基板用の光ディスク基板用ポリカーボネート樹脂成形材料。   A support substrate, a reflective layer formed on the substrate, and a light-transmitting cover layer made of a curable resin formed on the reflective layer, and recording and / or recording with laser light incident from the cover layer side A support substrate in an optical disc of a reproduction type, wherein the support substrate has 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1- From bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) diphenol and 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene Polycaprolactone with respect to 100 parts by weight of polycarbonate resin represented by a repeating unit derived from at least one selected from 0.5 to 10 parts by weight, and a support substrate formed using a thermoplastic resin having a saturated water absorption measured by immersion in water at 23 ° C. of 0.3% or less, and the optical disc The warp angle change of the optical disk is within 0.9 degrees when it is exposed to a saturated water absorption rate in a humid heat environment with a temperature of 30 ° C. and humidity of 95% and then returned to a normal humidity state of 23 ° C. and humidity of 50%. A polycarbonate resin molding material for an optical disk substrate for a support substrate. 上記硬化性樹脂からなる光透過性のカバー層は、スピンコート法によって該反射層上に紫外線硬化性樹脂を塗布後、硬化させてなるものである請求項12の支持基板用の光ディスク基板用ポリカーボネート樹脂成形材料。   13. The polycarbonate for an optical disk substrate for a support substrate according to claim 12, wherein the light-transmitting cover layer made of the curable resin is formed by applying an ultraviolet curable resin on the reflective layer by spin coating and then curing the resin. Resin molding material.
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