JP2007281025A - Laminated chip coil - Google Patents

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貢 川原井
Shinichi Sakamoto
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated chip coil capable of attaining both excellent DC superimposition characteristics and low resistance at a high inductance value. <P>SOLUTION: The laminated chip coil includes a first magnetic substance 3 made of a ferrite sintered body, inner conductors 5a-5d buried in the first magnetic substance 3 and having a predetermined pattern formed, and a terminal electrode connected with ends of the inner conductors 5a and 5d and provided on the first magnetic substance 3. A through-hole 4a passing through the first magnetic substance is formed on the first body 3 in such a range that the inner conductors 5a-5d are not exposed. A second magnetic substance 3 is placed in the through-hole 4a, and thus both the excellent DC superimposition characteristics and low resistance can be attained at a high inductance value. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば積層チップ部品に関するものであり、特に大電流を印加することができ、かつ、高いインダクタンスを維持することができる積層チップコイルに関する。   The present invention relates to a multilayer chip component, for example, and particularly relates to a multilayer chip coil that can apply a large current and maintain a high inductance.

従来、導体パターンと絶縁層とを交互に積層した積層チップコイルがあり、信号系回路に好適に用いられていた。近年、導体の微細パターンを形成する技術が進展したり、積層チップコイルに使用される材料特性が改質されたりしたことによって、積層チップコイルのダウンサイジング技術、大量生産へ対応する技術、品質を安定化させる技術等が躍進を遂げてきている。積層チップコイルは、内部導体を配置した複数の基板層を積み重ねた積層体と、磁性体部とを一体焼結して形成されるため、巻線型のコイル部品と比較して、機械強度に優れるという構造上の利点がある。このため、積層チップコイルは、大電流が印加される電源系回路に用いられるインダクタとしての需要も高まりつつある。   Conventionally, there is a laminated chip coil in which conductor patterns and insulating layers are alternately laminated, and it has been suitably used for signal system circuits. In recent years, the technology for forming fine patterns of conductors has progressed, and the characteristics of materials used for multilayer chip coils have been modified, leading to the downsizing technology of multilayer chip coils, the technology and quality for mass production. Stabilization technology has made great strides. A laminated chip coil is formed by integrally sintering a laminated body in which a plurality of substrate layers on which internal conductors are arranged and a magnetic body portion, and is superior in mechanical strength compared to a coiled coil component. There is a structural advantage. For this reason, the demand for multilayer chip coils as inductors used in power supply circuits to which a large current is applied is increasing.

積層チップコイルを電源系回路に用いる場合、大電流を積層チップコイルに印加した場合であっても必要なインダクタンス値を維持できるよう、直流重畳特性に優れることが要求される。さらに、積層チップコイルに電流を印加したことで発生する熱を抑えるために、コイル部品の抵抗値を低く抑えることも要求される。   When using a multilayer chip coil for a power supply system circuit, it is required to have excellent DC superposition characteristics so that a necessary inductance value can be maintained even when a large current is applied to the multilayer chip coil. Furthermore, in order to suppress the heat generated by applying a current to the multilayer chip coil, it is also required to keep the resistance value of the coil component low.

特許文献1には、コイルへ通電することで発生するコア磁性体の磁路を横切るように、非磁性体層が挿入された積層チップコイルについての記載がある。
特開2004−311944号公報
Patent Document 1 describes a laminated chip coil in which a nonmagnetic layer is inserted so as to cross a magnetic path of a core magnetic body generated by energizing the coil.
JP 2004-31944 A

ところで、特許文献1に記載された積層チップコイルは、通電によって励磁される磁路を横切るように非磁性体層が配置される。このため、非磁性体層の厚さが増すほど直流重畳特性は向上するが、インダクタンス値は低下してしまう。したがって、高いインダクタンス値と、優れた直流重畳特性とを両立させた積層チップコイルを形成することは極めて困難であった。   By the way, in the multilayer chip coil described in Patent Document 1, a nonmagnetic layer is disposed so as to cross a magnetic path excited by energization. For this reason, as the thickness of the nonmagnetic material layer increases, the direct current superimposition characteristic improves, but the inductance value decreases. Therefore, it has been extremely difficult to form a multilayer chip coil that has both a high inductance value and excellent direct current superposition characteristics.

そこで、積層チップコイルの非磁性体層を形成しつつ、インダクタンス値を向上させようとすると、内部導体で形成するコイルパターンの巻数を増加させなければならない。しかしながら、単にコイルパターンの巻数を増加させただけでは、抵抗値の増加が顕著となるため、このような積層チップコイルを低抵抗が要求される電源系のインダクタに用いることができない。また、特許文献1には、非磁性体層の材料に、Si(ガラス)系セラミックスを用いることが記載されているが、フェライト系材料とガラス系セラミックスとでは、焼結時の熱収縮曲線と線膨張係数等の物性が異なることが多い。このため、焼結後の積層体にデラミネーションが発生する恐れがある。また、磁性体層と非磁性体層との剥離強度が低下する恐れもある。結果として、積層チップコイルの品質が低下する可能性がある。   Therefore, in order to improve the inductance value while forming the nonmagnetic layer of the multilayer chip coil, the number of turns of the coil pattern formed by the internal conductor must be increased. However, simply increasing the number of turns of the coil pattern causes a remarkable increase in the resistance value. Therefore, such a multilayer chip coil cannot be used as a power source inductor that requires low resistance. Patent Document 1 describes the use of Si (glass) -based ceramics as the material for the non-magnetic layer. However, with ferrite-based materials and glass-based ceramics, the heat shrinkage curve during sintering and The physical properties such as linear expansion coefficient are often different. For this reason, there exists a possibility that delamination may generate | occur | produce in the laminated body after sintering. In addition, the peel strength between the magnetic layer and the nonmagnetic layer may be reduced. As a result, the quality of the multilayer chip coil may be degraded.

このような課題を、材料設計によって解決しようとすると、透磁率:μと、最大飽和磁束密度:Bmが高い焼結性磁性材料(Ni−ZnフェライトやMn−Znフェライト等)を、積層チップコイルの磁性体部に用いればよい。そして、できるだけ少ない巻数のコイルパターンで内部導体を構成すればよい。しかし、積層チップコイルは、内部導体にAg等の低抵抗で低融点の金属(Agの融点は、約960℃)が使用されている。このため、焼結温度が、1200℃〜1400℃に達するNi−ZnフェライトやMn−Znフェライト等を磁性体部に用いると、内部導体に用いた低融点の金属が多量である場合は溶け出してしまったり、逆に少量である場合は毛細管現象によって内部に溜まり込んでしまったりする等の不具合が発生する。つまり、焼結温度が高いフェライトを積層チップコイルに用いることができない。一方、Mn−Znフェライトは材料の比抵抗が低いため、内部導体が直接、磁性体に接触する構造である積層チップ部品に用いることができない。このため、Ni−Znフェライトの焼結温度より低温で焼結できるNi−Cu−Znフェライト(焼結温度は約850℃〜1000℃と適しているものの、上記のフェライト系磁性材料よりも材料物性や磁気特性の面で劣る)を用いなければならない。   In order to solve such problems by material design, a sinterable magnetic material (Ni-Zn ferrite, Mn-Zn ferrite, etc.) having a high magnetic permeability: μ and a maximum saturation magnetic flux density: Bm is used as a laminated chip coil. What is necessary is just to use for this magnetic body part. And what is necessary is just to comprise an internal conductor with the coil pattern of as few turns as possible. However, the multilayer chip coil uses a low-resistance, low-melting metal such as Ag (Ag melting point is about 960 ° C.) for the inner conductor. For this reason, when Ni-Zn ferrite, Mn-Zn ferrite, etc., whose sintering temperature reaches 1200 ° C to 1400 ° C, are used for the magnetic body portion, it melts out when the low melting point metal used for the internal conductor is large. If the amount is small, conversely, problems such as accumulation inside the capillaries occur. That is, ferrite having a high sintering temperature cannot be used for the multilayer chip coil. On the other hand, since the specific resistance of Mn—Zn ferrite is low, it cannot be used for a multilayer chip component having a structure in which an inner conductor directly contacts a magnetic body. Therefore, Ni—Cu—Zn ferrite that can be sintered at a temperature lower than the sintering temperature of Ni—Zn ferrite (although the sintering temperature is suitable at about 850 ° C. to 1000 ° C., the material physical properties are higher than the above ferrite magnetic materials) Or inferior in magnetic properties).

本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、従来からの積層チップコイル製造工程の簡略性と容易性とを維持しつつ、機械強度に優れ、高いインダクタンス値で、優れた直流重畳特性と低抵抗とを両立できる積層チップコイルを提供することである。   The present invention has been made in view of such a point, and the object of the present invention is excellent in mechanical strength and high while maintaining the simplicity and ease of the conventional multilayer chip coil manufacturing process. An object of the present invention is to provide a multilayer chip coil that can achieve both excellent DC superposition characteristics and low resistance with an inductance value.

本発明は、フェライト焼結体からなる第1の磁性体部と、第1の磁性体部に埋設される所定のパターンが形成された内部導体と、内部導体の端部に接続され、第1の磁性体部に設けられた端子電極部とを備え、第1の磁性体部に、内部導体が露出しない範囲で第1の磁性体部を貫通する貫通孔が形成され、貫通孔に第2の磁性体部が配置される積層チップコイルとしたものである。   The present invention is connected to a first magnetic body portion made of a ferrite sintered body, an internal conductor formed with a predetermined pattern embedded in the first magnetic body portion, and an end portion of the internal conductor, And a terminal electrode portion provided in the magnetic body portion, wherein the first magnetic body portion is formed with a through-hole penetrating the first magnetic body portion within a range in which the internal conductor is not exposed, and the second through hole is formed in the through-hole. This is a laminated chip coil in which the magnetic part is arranged.

本発明によれば、第1の磁性体部に、内部導体が露出しない範囲で第1の磁性体部を貫通する貫通孔が形成され、貫通孔に第2の磁性体部が配置される積層チップコイルとしたため、容易に製造できるとともに優れた直流重畳特性と低抵抗とを両立できるという効果がある。   According to the present invention, the first magnetic body portion is formed with a through-hole penetrating the first magnetic body portion in a range where the internal conductor is not exposed, and the second magnetic body portion is disposed in the through-hole. Since the chip coil is used, it is easy to manufacture and has the effect of achieving both excellent DC superposition characteristics and low resistance.

以下、本発明の第1の実施の形態について、図1〜図8を参照して説明する。本実施の形態では、内部導体と磁性体部とを積層構造とし、大電流を印加できる積層チップコイルに適用した例として説明する。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, an explanation will be given as an example in which the inner conductor and the magnetic body portion have a laminated structure and are applied to a laminated chip coil to which a large current can be applied.

始めに、本例の積層チップコイルの構成例について、図1を参照して説明する。図1(a)は、本例の積層チップコイルの外観斜視図の例である。図1(b)は、本例の積層チップコイルの第1の磁性体部と第2の磁性体部とを横断するI1−I1線に沿う断面図の例である。   First, a configuration example of the multilayer chip coil of this example will be described with reference to FIG. Fig.1 (a) is an example of the external appearance perspective view of the multilayer chip coil of this example. FIG.1 (b) is an example of sectional drawing which follows the I1-I1 line which crosses the 1st magnetic body part and 2nd magnetic body part of the multilayer chip coil of this example.

図1(a)は、ほぼ直方体状に形成した積層チップコイル1を示す。フェライト焼結体で形成される第1の磁性体部3の中心付近には、ほぼ円筒形の貫通孔4aが空けられている。貫通孔4aに、金属系材料または金属合金系磁性材料を原料とした第2の磁性体部4が形成される。積層チップコイル1の長手方向の両端部には、導電性の端子電極部2a,2bが形成される。端子電極部2a,2bは、後述する内部導体の引出部に接続される。   FIG. 1A shows a laminated chip coil 1 formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. Near the center of the first magnetic body portion 3 formed of a ferrite sintered body, a substantially cylindrical through hole 4a is opened. A second magnetic body portion 4 made of a metal material or a metal alloy magnetic material is formed in the through hole 4a. Conductive terminal electrode portions 2a and 2b are formed at both ends of the multilayer chip coil 1 in the longitudinal direction. The terminal electrode portions 2a and 2b are connected to a lead portion of an internal conductor described later.

図1(b)は、図示しない複数の層毎に、導電性の内部導体5a〜5dを積層した第1の磁性体部3を示す。第1の磁性体部3の中心付近に空けられた貫通孔4aには、第2の磁性体部4が配置される。積層チップコイル1の端子電極部2a,2bに電流を印加することで磁束線6が、内部導体5a〜5dの周囲を概ね周回するように発生する。本例の積層チップコイル1では、発生した磁束線6が、第2の磁性体部4を通過する。   FIG. 1B shows a first magnetic body portion 3 in which conductive inner conductors 5a to 5d are laminated for each of a plurality of layers (not shown). The second magnetic body portion 4 is disposed in the through hole 4 a formed near the center of the first magnetic body portion 3. By applying a current to the terminal electrode portions 2a and 2b of the multilayer chip coil 1, the magnetic flux lines 6 are generated so as to circulate around the inner conductors 5a to 5d. In the multilayer chip coil 1 of this example, the generated magnetic flux lines 6 pass through the second magnetic body portion 4.

次に、本発明の第1の実施の形態における積層チップコイル1の製造工程の例について、図2〜図8を参照して説明する。   Next, an example of a manufacturing process of the multilayer chip coil 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図2は、焼結前段階であり、貫通孔4aを空ける前の、第1の磁性体部3に相当する積層体1′を説明するための分解斜視図である。積層体1′は、複数枚の基材に図示しないコイルパターンが形成されたコイル部12を挟み込むように、フェライトシートを積層したフェライトプレート11a,11bが重ねられる。コイル部12の製造工程については後述する。   FIG. 2 is an exploded perspective view for explaining the laminated body 1 ′ corresponding to the first magnetic body part 3 before the through hole 4 a is opened before the sintering. In the laminated body 1 ′, ferrite plates 11 a and 11 b on which ferrite sheets are laminated are stacked so as to sandwich a coil portion 12 in which a coil pattern (not shown) is formed on a plurality of base materials. The manufacturing process of the coil part 12 is mentioned later.

フェライトプレート11a,11bは、後述する製造工程によって得られるフェライトシートを、必要な枚数だけ積層して形成されるものである。また、コイル部12は、後述する(1)ビルドアップ工法か、(2)スルーホール工法のいずれかの工法によって、導体(Ag)ペーストが印刷されて、内部導体のコイルパターンが形成されるものである。ただし、最終的に、積層チップコイル1と同様の構造の積層チップコイルが形成されるのであれば、用いる製造工程、工法は特に限定されることはない。   The ferrite plates 11a and 11b are formed by laminating a required number of ferrite sheets obtained by a manufacturing process described later. In addition, the coil portion 12 is formed by a conductor (Ag) paste being printed by an after-mentioned (1) build-up method or (2) through-hole method to form a coil pattern of an internal conductor. It is. However, as long as a multilayer chip coil having the same structure as that of the multilayer chip coil 1 is finally formed, the manufacturing process and method used are not particularly limited.

(フェライトシートとフェライトプレートの製造工程)
ここで、フェライトシートとフェライトプレート11a,11bの製造工程の例について、図3のフローチャートを参照して説明する。
(Manufacturing process of ferrite sheet and ferrite plate)
Here, an example of a manufacturing process of the ferrite sheet and the ferrite plates 11a and 11b will be described with reference to a flowchart of FIG.

まず、必要な磁気特性を有するNi−Cu−Zn系フェライト粉末、結着剤の原料となる樹脂粉末、フェライトシートに可撓性を与える可塑剤、有機溶剤等をそれぞれ必要な量だけ秤量する(ステップS1)。そして、秤量した材料を図示しない混合容器に投入し、材料が十分に分散するまで混合し(ステップS2)、フェライトスラリーを生成する。その後、生成したフェライトスラリーを混合容器から回収し、ドクタブレード法等の工法によってフェライトスラリーを必要な厚みで塗工する(ステップS3)。さらに、適正温度条件の下で、塗工したフェライトスラリーを乾燥させる(ステップS4)。   First, Ni-Cu-Zn-based ferrite powder having necessary magnetic properties, resin powder as a raw material for a binder, plasticizer that gives flexibility to a ferrite sheet, an organic solvent, and the like are weighed in necessary amounts ( Step S1). Then, the weighed material is put into a mixing container (not shown) and mixed until the material is sufficiently dispersed (step S2) to generate a ferrite slurry. Thereafter, the generated ferrite slurry is recovered from the mixing container, and the ferrite slurry is applied with a necessary thickness by a method such as a doctor blade method (step S3). Further, the coated ferrite slurry is dried under an appropriate temperature condition (step S4).

次に、乾燥させたフェライトスラリーを特定の大きさに切り出し(ステップS5)、複数枚のフェライトシートを作成する。切り出したフェライトシートは、空気が残らないように積層する(ステップS6)。そして、フェライトシートを積層した上下の厚み方向からプレス機等を用いて仮圧着し、仮圧着フェライトシートを生成する(ステップS7)。さらに、得られた仮圧着フェライトシートを一体化するために、CIP(冷間等方圧加工法:Cooling Isostatic Pressing)処理を行う(ステップS8)。こうして、フェライトシートを一体化させたフェライトプレート11a,11bが得られる。   Next, the dried ferrite slurry is cut into a specific size (step S5), and a plurality of ferrite sheets are created. The cut ferrite sheets are laminated so that no air remains (step S6). Then, temporary pressing is performed from the upper and lower thickness directions where the ferrite sheets are laminated using a press or the like to generate a temporary pressing ferrite sheet (step S7). Further, CIP (Cooling Isostatic Pressing) processing is performed in order to integrate the obtained temporary pressure-bonded ferrite sheet (step S8). Thus, the ferrite plates 11a and 11b in which the ferrite sheets are integrated are obtained.

(コイル部の製造工程)
次に、コイル部12の製造工程について、図4〜図6を参照して説明する。一般的に、コイル部12を形成する積層チップ部品は、図4に示すとおり、一つの印刷ワーク13から複数個の積層体1′が得られるように形成される。このため、例えば、7.0mmL×3.5mmWのサイズであるグリーンチップコイル(焼結前工程のコイル)を製造する場合、印刷ワーク13のコイル印刷範囲が120mm×120mmであれば、約600個の積層体1′が得られる。
(Manufacturing process of coil part)
Next, the manufacturing process of the coil part 12 is demonstrated with reference to FIGS. In general, the laminated chip component forming the coil portion 12 is formed so that a plurality of laminated bodies 1 ′ can be obtained from one printed work 13 as shown in FIG. 4. For this reason, for example, when manufacturing a green chip coil (coil before sintering) having a size of 7.0 mmL × 3.5 mmW, if the coil printing range of the print work 13 is 120 mm × 120 mm, about 600 pieces The laminate 1 ′ is obtained.

コイル部の製造工程では、内部導体となる導電ペーストを基材に印刷し、内部導体にコイルパターンを形成するための絶縁層を形成する。絶縁層は、既に説明したフェライトシートの原料となる磁性粉末と同じ材料に、有機溶剤や可塑剤等を混合させることによって形成される。内部導体を印刷したり、絶縁層を形成したりする工法には、大別して、ビルドアップ工法と、スルーホール工法の2種類の製造工法がある。以下、それぞれの製造工法について説明する。   In the manufacturing process of the coil portion, a conductive paste serving as an internal conductor is printed on a base material, and an insulating layer for forming a coil pattern is formed on the internal conductor. The insulating layer is formed by mixing an organic solvent, a plasticizer, or the like with the same material as the magnetic powder that is the raw material of the ferrite sheet already described. The methods of printing the internal conductor and forming the insulating layer are roughly classified into two types of manufacturing methods, a build-up method and a through-hole method. Hereinafter, each manufacturing method will be described.

(1)ビルドアップ工法
まず、ビルドアップ工法について、図5を参照して説明する。ビルドアップ工法とは、内部導体と絶縁層を形成するために、一貫してスクリーン印刷を行う工法である。ビルドアップ工法の利点は、印刷条件(印刷回数や、用いるペーストの粘度等の条件)を変えることによって内部導体や絶縁層の厚みを制御できることにある。このため、積層チップコイル毎に要求される構造条件(例えば、内部導体や絶縁層の厚み寸法等)に細かく対応できる。
(1) Build-up Method First, the build-up method will be described with reference to FIG. The build-up method is a method of consistently performing screen printing in order to form an internal conductor and an insulating layer. The advantage of the build-up method is that the thickness of the internal conductor and the insulating layer can be controlled by changing the printing conditions (conditions such as the number of times of printing and the viscosity of the paste used). For this reason, it can respond finely to the structural conditions required for each multilayer chip coil (for example, the thickness dimension of the internal conductor and the insulating layer).

図5(a)は、内部導体や絶縁層を印刷するための基材21の例である。基材21は、離形材が塗布されたPET(Polyethylene Terephthalate)フィルム,フェライトシート,フェライトプレート等が材質・原料として好適に用いられる。本例においては、図3の製造工程で生成したフェライトプレートを基材21に用いて、以降の印刷工程を行う。   Fig.5 (a) is an example of the base material 21 for printing an internal conductor and an insulating layer. As the base material 21, a PET (Polyethylene Terephthalate) film, a ferrite sheet, a ferrite plate, etc., to which a release material is applied, are preferably used as a material and a raw material. In this example, the ferrite plate produced | generated at the manufacturing process of FIG.

図5(b)は、基材21に内部導体が印刷された状態の例である。導電性材料が用いられる内部導体5aは、基材21に導体パターンとして形成される。内部導体5aは、電流を積層チップコイル1の内部に入力するための、または電流を積層チップコイル1の外部に出力するための引出部25aを備える。引出部25aは、端子電極部2aに接続される端部である。また、図5(d)で説明する内部導体5bと、窓部を介して接続される接続部26aとを備える。内部導体5aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5B is an example of a state in which the internal conductor is printed on the base material 21. The internal conductor 5a in which a conductive material is used is formed on the base material 21 as a conductor pattern. The internal conductor 5 a includes a lead portion 25 a for inputting a current into the multilayer chip coil 1 or outputting a current to the outside of the multilayer chip coil 1. The lead portion 25a is an end portion connected to the terminal electrode portion 2a. Moreover, it has the internal conductor 5b demonstrated in FIG.5 (d), and the connection part 26a connected via a window part. When the printing process of the inner conductor 5a is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図5(c)は、内部導体5aと内部導体5bとの間に介在する絶縁層23aが印刷された状態の例である。絶縁層23aの一部には、図5(d)で説明する内部導体5bに内部導体5aが接続されるための窓部24aが空けられる。窓部24aからは、内部導体5aの接続部26aが露出した状態となる。絶縁層23aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5C shows an example in which an insulating layer 23a is printed between the inner conductor 5a and the inner conductor 5b. A part of the insulating layer 23a is provided with a window 24a for connecting the internal conductor 5a to the internal conductor 5b described with reference to FIG. From the window part 24a, the connection part 26a of the internal conductor 5a is exposed. When the printing process of the insulating layer 23a is completed, a drying process is performed under specific conditions.

図5(d)は、内部導体5bが印刷された状態の例である。内部導体5bは、次の内部導体5cと接続するための接続部26bを有する。図5(d)の工程で、形成されたコイルパターンは1ターンの巻数となる。内部導体5bの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5D shows an example in which the internal conductor 5b is printed. The internal conductor 5b has a connection portion 26b for connecting to the next internal conductor 5c. In the step of FIG. 5D, the formed coil pattern has one turn. When the printing process of the inner conductor 5b is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図5(e)は、絶縁層23bが印刷された状態の例である。絶縁層23bの一部には、図5(f)で説明する内部導体5cに内部導体5bが接続されるための窓部24bが空けられる。窓部24bからは、内部導体5bの接続部26bが露出した状態となる。絶縁層23bの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5E shows an example in which the insulating layer 23b is printed. A part of the insulating layer 23b is provided with a window 24b for connecting the internal conductor 5b to the internal conductor 5c described with reference to FIG. From the window part 24b, the connection part 26b of the internal conductor 5b is exposed. When the printing process of the insulating layer 23b is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図5(f)は、内部導体5cが印刷された状態の例である。内部導体5cは、次の内部導体5dと接続するための接続部26cを有する。内部導体5cの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5F is an example of a state in which the internal conductor 5c is printed. The internal conductor 5c has a connection portion 26c for connecting to the next internal conductor 5d. When the printing process of the inner conductor 5c is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図5(g)は、絶縁層23cが印刷された状態の例である。絶縁層23cの一部には、図5(h)で説明する内部導体5dに内部導体5cが接続されるための窓部24cが空けられる。窓部24cからは、内部導体5cの接続部26cが露出した状態となる。絶縁層23cの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5G shows an example in which the insulating layer 23c is printed. A part of the insulating layer 23c is provided with a window portion 24c for connecting the internal conductor 5c to the internal conductor 5d described with reference to FIG. From the window part 24c, the connection part 26c of the internal conductor 5c is exposed. When the printing process of the insulating layer 23c is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図5(h)は、内部導体5dが印刷された状態の例である。内部導体5dは電流を積層チップコイル1の外部に出力するための、または電流を積層チップコイル1の内部に入力するための引出部25bを有する。引出部25bは、端子電極部2bに接続される端部である。図5(a)〜図5(h)の工程で形成されたコイルパターンは、2ターンの巻数となる。内部導体5dの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 5H shows an example in which the internal conductor 5d is printed. The internal conductor 5 d has a lead portion 25 b for outputting a current to the outside of the multilayer chip coil 1 or for inputting a current to the inside of the multilayer chip coil 1. The lead portion 25b is an end portion connected to the terminal electrode portion 2b. The coil pattern formed in the steps of FIGS. 5A to 5H has two turns. When the printing process of the inner conductor 5d is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図5を参照して説明したビルドアップ工法の例では、コイルパターンの巻数を2ターンとした場合について説明したが、巻数を3ターン以上とするためには、図5(a)〜図5(g)の印刷工程を経た後、図5(d)〜図5(g)の印刷工程を繰り返し、必要な巻数となった時点で、図5(h)の印刷工程を行えばよい。   In the example of the build-up method described with reference to FIG. 5, the case where the number of turns of the coil pattern is 2 turns has been described, but in order to set the number of turns to 3 turns or more, FIGS. After the printing process of g), the printing process of FIGS. 5D to 5G is repeated, and when the necessary number of turns is reached, the printing process of FIG. 5H may be performed.

(2)スルーホール工法
次に、スルーホール工法について、図6を参照して説明する。スルーホール工法では、フェライトシート上に形成した導電性の内部導体の一部に、スルーホールを形成する。このスルーホールに導体ペーストを充填することで、層間の内部導体を接続する。さらにコイルパターンを印刷したフェライトシートを複数枚積層して、コイル部を形成する。スルーホール工法の利点は、印刷工程の短縮による印刷ワークのクラック等の不具合発生を抑制できることや、印刷ズレなどを小さく抑えられることが挙げられる。
(2) Through-Hole Method Next, the through-hole method will be described with reference to FIG. In the through hole construction method, a through hole is formed in a part of a conductive inner conductor formed on a ferrite sheet. By filling the through holes with a conductive paste, the internal conductors between the layers are connected. Further, a plurality of ferrite sheets on which a coil pattern is printed are stacked to form a coil portion. Advantages of the through-hole method include that it is possible to suppress the occurrence of defects such as cracks in the print work due to the shortening of the printing process, and to suppress printing misalignment and the like.

図6(a)は、基材となるフェライトシート31aに形成した、内部導体5aの構成例である。フェライトシート31aに形成された内部導体5aは、電流を積層チップコイル1に入力または出力するための引出部34aを有する。   FIG. 6A is a configuration example of the internal conductor 5a formed on the ferrite sheet 31a serving as a base material. The internal conductor 5 a formed on the ferrite sheet 31 a has a lead-out portion 34 a for inputting or outputting current to the multilayer chip coil 1.

図6(b)は、フェライトシート31bに形成した内部導体5bの構成例である。フェライトシート31bには、内部導体5aと内部導体5bを接続するためのスルーホール33aが形成される。形成したスルーホール33aには、導体ペーストが充填されて、内部導体5aと内部導体5bとが接続される。   FIG. 6B is a configuration example of the internal conductor 5b formed on the ferrite sheet 31b. The ferrite sheet 31b is formed with a through hole 33a for connecting the internal conductor 5a and the internal conductor 5b. The formed through hole 33a is filled with a conductive paste to connect the internal conductor 5a and the internal conductor 5b.

図6(c)は、フェライトシート31cに形成した内部導体5cの構成例である。フェライトシート31cには、内部導体5bと内部導体5cを接続するためのスルーホール33bが形成される。形成したスルーホール33bには、導体ペーストが充填されて、内部導体5bと内部導体5cとが接続される。   FIG. 6C is a configuration example of the internal conductor 5c formed on the ferrite sheet 31c. The ferrite sheet 31c is formed with a through hole 33b for connecting the inner conductor 5b and the inner conductor 5c. The formed through hole 33b is filled with a conductive paste to connect the internal conductor 5b and the internal conductor 5c.

図6(d)は、フェライトシート31dに形成した内部導体5dの構成例である。フェライトシート31dには、内部導体5cと内部導体5dを接続するためのスルーホール33cが形成される。形成したスルーホール33cには、導体ペーストが充填されて、内部導体5cと内部導体5dとが接続される。フェライトシート31dに形成された内部導体5dは、電流を積層チップコイル1に入力または出力するための引出部34bを有する。   FIG. 6D is a configuration example of the internal conductor 5d formed on the ferrite sheet 31d. A through hole 33c for connecting the internal conductor 5c and the internal conductor 5d is formed in the ferrite sheet 31d. The formed through hole 33c is filled with a conductive paste to connect the internal conductor 5c and the internal conductor 5d. The internal conductor 5d formed on the ferrite sheet 31d has a lead-out portion 34b for inputting or outputting current to the multilayer chip coil 1.

図6(e)は、図6(a)〜図6(d)で示したフェライトシート31a〜31dを積層した例である。各フェライトシートに形成された内部導体5a〜5dは、スルーホール33a〜33cに充填した図示しない導体ペーストを介して接続され、コイルパターンは、2ターンの巻数となる。   FIG. 6E shows an example in which the ferrite sheets 31a to 31d shown in FIGS. 6A to 6D are stacked. The internal conductors 5a to 5d formed on each ferrite sheet are connected via a conductor paste (not shown) filled in the through holes 33a to 33c, and the coil pattern has two turns.

次に、フェライトシート,フェライトプレート及びコイル部を重ねて積層体1′を形成した後、積層チップコイルが完成するまでの工程について、図7を参照して説明する。   Next, a process until the laminated chip coil is completed after the ferrite sheet, the ferrite plate, and the coil portion are overlapped to form the laminated body 1 'will be described with reference to FIG.

(積層工程〜第2の磁性体部の形成)
既に説明したビルドアップ工法とスルーホール工法のうち、いずれかの工法によってコイルパターンの形成が完了したコイル部12と、図3の製造工程で作成したフェライトプレート11a,11bとを用いて、積層体1′の積層工程を開始する。
(Lamination process to formation of second magnetic part)
Of the build-up method and the through-hole method already described, a laminated body using the coil part 12 in which the formation of the coil pattern has been completed by one of the methods and the ferrite plates 11a and 11b created in the manufacturing process of FIG. 1 'stacking process is started.

まず、積層工程を開始するために、図2で説明した積層体1′の構成に基づいて、フェライトプレート11a,11bとコイル部12とが積層される。そして、積層されたフェライトプレート11a,11bとコイル部12との厚みの上下方向よりプレス機等を用いて仮圧着を行う。さらに、CIP処理を行って、フェライトプレート11a,11bとコイル部12とを一体化して積層体1′を形成する(ステップS10)。次に、積層体1′に対して穴あけ加工を行い、貫通孔4aを空ける(ステップS11)。   First, in order to start the lamination process, the ferrite plates 11a and 11b and the coil portion 12 are laminated based on the configuration of the laminated body 1 ′ described in FIG. Then, temporary press-bonding is performed using a press or the like from the vertical direction of the thickness of the laminated ferrite plates 11a and 11b and the coil portion 12. Further, the CIP process is performed to integrate the ferrite plates 11a and 11b and the coil portion 12 to form the laminated body 1 '(step S10). Next, a drilling process is performed on the stacked body 1 'to open the through hole 4a (step S11).

ここで、穴あけ加工の条件について、図8を参照して説明する。図8は、積層体1′を厚みの上方向から見た例である。直接見ることができない内部導体5は、コイルパターン5eとして点線で表す。積層体1′に、貫通孔4aを空けるためには、貫通孔4aからコイルパターン5eが露出しない貫通孔形成範囲4bの内側で、貫通孔4aの径と位置とを定めなければならない。この理由としては、貫通孔4aからコイルパターン5eが露出すると、後のメッキ処理によって、露出したコイルパターン5eにメッキが施されてしまうためである。この結果、内部導体同士が短絡する等の不具合が生じてしまう。このため、貫通孔4aは、貫通孔形成範囲4bの内側に形成されなければならない。   Here, the conditions for drilling will be described with reference to FIG. FIG. 8 is an example of the laminated body 1 ′ as viewed from above the thickness. The inner conductor 5 that cannot be seen directly is represented by a dotted line as a coil pattern 5e. In order to open the through hole 4a in the laminate 1 ′, the diameter and position of the through hole 4a must be determined inside the through hole formation range 4b where the coil pattern 5e is not exposed from the through hole 4a. This is because when the coil pattern 5e is exposed from the through hole 4a, the exposed coil pattern 5e is plated by the subsequent plating process. As a result, problems such as short-circuiting between internal conductors occur. For this reason, the through-hole 4a must be formed inside the through-hole formation range 4b.

図7の説明に戻ると、積層チップコイル1として必要な寸法となるように、印刷ワークを切削ブレードによって複数個に切断し(ステップS12)、積層体1′を得る。そして、積層体1′を所定の温度で焼結し(ステップS13)、面取りを行うためにバレル研磨を行う(ステップS14)。そして、導体(Ag)ペーストを積層体1′の長手方向の両端部に塗布して、端子電極部2a,2bを形成する(ステップS15)。形成した端子電極部2a,2bを焼成した後(ステップS16)、再度バレル研磨を行う(ステップS17)。なお、ステップS17で行うバレル研磨は、メッキ処理時にメッキの付着強度を高めるために行われる処理である。   Returning to the description of FIG. 7, the printed workpiece is cut into a plurality of pieces with a cutting blade so as to have a necessary size as the laminated chip coil 1 (step S <b> 12) to obtain a laminated body 1 ′. Then, the laminate 1 ′ is sintered at a predetermined temperature (step S13), and barrel polishing is performed to chamfer (step S14). Then, a conductor (Ag) paste is applied to both ends in the longitudinal direction of the multilayer body 1 ′ to form terminal electrode portions 2a and 2b (step S15). After the formed terminal electrode portions 2a and 2b are fired (step S16), barrel polishing is performed again (step S17). The barrel polishing performed in step S17 is a process performed to increase the adhesion strength of plating during the plating process.

次に、形成した端子電極部2a,2bにNi,Sn等のメッキ処理を行う(ステップS18)。ここで、貫通孔4aに形成される第2の磁性体部4は、第1の磁性体部3と比較して抵抗が低い材料を用いている。このため、メッキ層が第2の磁性体部4で生成される恐れがあり、メッキ処理は第2の磁性体部4を形成する前に行うことが望ましい。以上説明した、図7のステップS10〜ステップS18の工程のうち、ステップS11で行った貫通孔4aの形成工程以外は、一般的な積層チップ部品の製造工程と同様の工程である。   Next, the formed terminal electrode portions 2a and 2b are plated with Ni, Sn or the like (step S18). Here, the second magnetic body portion 4 formed in the through hole 4 a uses a material having a lower resistance than that of the first magnetic body portion 3. For this reason, there is a possibility that a plating layer is generated in the second magnetic body portion 4, and it is desirable to perform the plating process before forming the second magnetic body portion 4. Of the processes in steps S10 to S18 in FIG. 7 described above, the processes other than the process for forming the through hole 4a performed in step S11 are the same as the processes for manufacturing a general multilayer chip component.

次に、第1の磁性体部3に形成した貫通孔4aに、第2の磁性体部4を形成する(ステップS19)。第2の磁性体部4は、以下の(イ)と(ロ)の工法のうち、いずれかの工法を用いて容易に製造できる。なお、金属合金系磁性体粉末は、例えば、Fe−Si系材料を用いる。
(イ)金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との流動性混合ペーストを貫通孔4aに充填し、硬化させる。
(ロ)金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との混合粉末を加圧形成した圧粉磁芯を貫通孔4aに挿通する。
以上の工程を経て、積層チップコイル1を形成することができる。
Next, the 2nd magnetic body part 4 is formed in the through-hole 4a formed in the 1st magnetic body part 3 (step S19). The second magnetic body portion 4 can be easily manufactured using any one of the following methods (A) and (B). For example, an Fe—Si-based material is used as the metal alloy-based magnetic powder.
(A) A fluid mixed paste of metal-based or metal alloy-based magnetic powder and resin-based binder is filled in the through-holes 4a and cured.
(B) A dust core in which a mixed powder of a metal-based or metal alloy-based magnetic powder and a resin-based binder is formed under pressure is inserted into the through hole 4a.
Through the above steps, the multilayer chip coil 1 can be formed.

以上説明した、本実施の形態によれば、図1(b)に示すとおり、内部導体5に流れる電流によって励磁される磁束の大部分(磁束線6)が、最大飽和磁束密度:Bmに優れる金属系または金属合金系磁性体材料からなる第2の磁性体部4を通過する。このため、直流重畳特性が向上するという効果がある。   According to the present embodiment described above, as shown in FIG. 1B, most of the magnetic flux excited by the current flowing through the inner conductor 5 (magnetic flux line 6) is excellent in the maximum saturation magnetic flux density: Bm. It passes through the second magnetic body part 4 made of a metal-based or metal alloy-based magnetic material. For this reason, there is an effect that the DC superimposition characteristic is improved.

また、積層チップコイル1に形成された第2の磁性体部4は、透磁率:μの特性を有する。このため、透磁率:μを有さない非磁性材料で形成された磁気ギャップ層を挟み込んだ積層チップコイルと、本実施の形態における積層チップコイル1とを比較した場合、積層チップコイル1の方のインダクタンス値を向上できるという効果がある。   Further, the second magnetic body portion 4 formed in the multilayer chip coil 1 has a characteristic of magnetic permeability: μ. For this reason, when the laminated chip coil sandwiching the magnetic gap layer formed of a nonmagnetic material having no magnetic permeability: μ is compared with the laminated chip coil 1 in the present embodiment, the laminated chip coil 1 is more The inductance value can be improved.

また、積層チップコイル1は、コイル部12を形成する場合、(1)ビルドアップ工法(図5参照)、または、(2)スルーホール工法(図6参照)を用いる。このため、容易にコイル部12を製造できるという効果がある。   Further, when the coil portion 12 is formed, the multilayer chip coil 1 uses (1) a build-up method (see FIG. 5) or (2) a through-hole method (see FIG. 6). For this reason, there exists an effect that the coil part 12 can be manufactured easily.

次に、本発明の第2の実施の形態について、図9〜図14を参照して説明する。本実施の形態では、内部導体を非磁性セラミックスで取り囲むように形成された積層チップコイルに適用した例としてある。   Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, the present invention is applied to a laminated chip coil formed so that the inner conductor is surrounded by nonmagnetic ceramics.

ここで、第2の実施の形態について説明する前に、既に説明した第1の実施の形態における積層チップコイル1の特性について、図9を参照して説明する。内部導体5a〜5dに流れる電流によって励磁される磁束の大部分(磁束線6)は、最大飽和磁束密度:Bmに優れる第2の磁性体部4を通過する。しかしながら、一部の磁束は、内部導体5a〜5d毎に励磁されるマイナーループ7として発生してしまう。マイナーループ7を、内部導体5a〜5d毎に点線で表す。   Here, before describing the second embodiment, the characteristics of the multilayer chip coil 1 in the first embodiment already described will be described with reference to FIG. Most of the magnetic flux (flux lines 6) excited by the current flowing through the inner conductors 5a to 5d passes through the second magnetic body portion 4 that is excellent in the maximum saturation magnetic flux density: Bm. However, a part of the magnetic flux is generated as a minor loop 7 that is excited for each of the inner conductors 5a to 5d. The minor loop 7 is represented by a dotted line for each of the inner conductors 5a to 5d.

マイナーループ7は、内部導体5a〜5dの近傍や周辺の磁性体に対して、局部的な磁気飽和を発生させてしまう。ここで、図10を参照して、局部的な磁気飽和の発生について説明する。図10は、横軸に積層チップコイル1に印加する電流の印加電流値をとり、縦軸に積層チップコイル1のインダクタンス値をとったグラフである。図10に示すように、積層チップコイル1に電流を印加した直後は、インダクタンス値の低下が大きくなる。このため、実用上、マイナーループはなくした方が望ましい。   The minor loop 7 causes local magnetic saturation in the vicinity of and around the inner conductors 5a to 5d. Here, the occurrence of local magnetic saturation will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a graph in which the horizontal axis represents the applied current value of the current applied to the multilayer chip coil 1 and the vertical axis represents the inductance value of the multilayer chip coil 1. As shown in FIG. 10, immediately after the current is applied to the multilayer chip coil 1, the inductance value decreases greatly. For this reason, it is desirable to eliminate the minor loop in practice.

図9と図10で説明したマイナーループの発生を抑制するために構成する、本発明の第2の実施の形態について、図11を参照して説明する。   A second embodiment of the present invention configured to suppress the occurrence of the minor loop described in FIGS. 9 and 10 will be described with reference to FIG.

始めに、本例の積層チップコイルの構成例について、図11を参照して説明する。図11(a)は、本例の積層チップコイルの外観斜視図の例である。図11(b)は、本例の積層チップコイルの第1の磁性体部と第2の磁性体部とを横断するI2−I2線に沿う断面図の例である。   First, a configuration example of the multilayer chip coil of this example will be described with reference to FIG. Fig.11 (a) is an example of the external appearance perspective view of the multilayer chip coil of this example. FIG. 11B is an example of a cross-sectional view taken along line I2-I2 crossing the first magnetic body portion and the second magnetic body portion of the multilayer chip coil of this example.

図11(a)は、ほぼ直方体状に形成した積層チップコイル51を示す。フェライト焼結体で形成される第1の磁性体部53の中心付近には、ほぼ円筒形の貫通孔54aが空けられている。貫通孔54aに、金属系材料または金属合金系磁性材料を原料とした第2の磁性体部54が形成される。積層チップコイル1の長手方向の両端部には、導電性の端子電極部52a,52bが形成される。端子電極部52a,52bは、後述する内部導体の引出部に接続される。   FIG. 11A shows a laminated chip coil 51 formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. Near the center of the first magnetic body portion 53 formed of the ferrite sintered body, a substantially cylindrical through hole 54a is opened. A second magnetic body portion 54 made of a metal material or a metal alloy magnetic material is formed in the through hole 54a. Conductive terminal electrode portions 52a and 52b are formed at both ends of the multilayer chip coil 1 in the longitudinal direction. The terminal electrode portions 52a and 52b are connected to a lead portion of an internal conductor described later.

図11(b)は、図示しない複数の層毎に、導電性の内部導体55a〜55dを積層した第1の磁性体部53を示す。第1の磁性体部53の中心付近に空けられた貫通孔4aに、第2の磁性体部54が配置される。積層チップコイル51の端子電極部52a,52bに電流を印加することで磁束線56は、内部導体55a〜55dの周囲を概ね周回するように発生する。本例の積層チップコイル51では、発生した磁束線56が、第2の磁性体部54を通過する。   FIG. 11B shows a first magnetic body portion 53 in which conductive inner conductors 55a to 55d are stacked for each of a plurality of layers (not shown). The second magnetic body portion 54 is disposed in the through hole 4 a that is opened near the center of the first magnetic body portion 53. By applying a current to the terminal electrode portions 52a and 52b of the multilayer chip coil 51, the magnetic flux lines 56 are generated so as to circulate generally around the inner conductors 55a to 55d. In the multilayer chip coil 51 of this example, the generated magnetic flux lines 56 pass through the second magnetic body portion 54.

本発明の第2の実施の形態に係る積層チップコイル51は、内部導体55が磁性を有さない非磁性セラミックス部57で取り囲まれるように形成される。非磁性セラミックス部57は、例えば亜鉛系フェライト材料で形成される。亜鉛系フェライトペーストは、組成的に磁性を有さない材料である。また、非磁性セラミックス部57はフェライト材料で形成されるため、同じくフェライト材料で形成される磁性体部との親和性が高い。このため、焼結した積層体にデラミネーションが発生したり、磁性体層と非磁性セラミックス部との剥離強度が低下したりする可能性が低くなる。   The multilayer chip coil 51 according to the second embodiment of the present invention is formed so that the inner conductor 55 is surrounded by a nonmagnetic ceramic part 57 having no magnetism. The nonmagnetic ceramic portion 57 is made of, for example, a zinc-based ferrite material. Zinc-based ferrite paste is a material that is not magnetic in composition. Further, since the nonmagnetic ceramic portion 57 is formed of a ferrite material, the affinity with a magnetic body portion that is also formed of a ferrite material is high. For this reason, possibility that delamination will generate | occur | produce in the sintered laminated body or the peeling strength of a magnetic body layer and a nonmagnetic ceramic part will fall becomes low.

ここで、積層チップコイル51を形成する工法について、図12と図13を参照して説明する。本実施の第2の形態で用いるフェライトシートとフェライトプレートは、既に説明した第1の実施の形態におけるものと同様の工程で形成し、構成されるため、詳細な説明は省略する。また、コイル部は、後述する(1′)ビルドアップ工法か、(2′)スルーホール工法のいずれかの工法によって、導体(Ag)ペーストが印刷されて内部導体のコイルパターンが形成される。ただし、最終的に、積層チップコイル51と同様の構造の積層チップコイルが形成されるのであれば、用いる製造工程、工法は特に限定されない。   Here, a method of forming the laminated chip coil 51 will be described with reference to FIGS. Since the ferrite sheet and ferrite plate used in the second embodiment are formed and configured in the same steps as those in the first embodiment already described, detailed description thereof is omitted. The coil portion is printed with a conductor (Ag) paste by either the (1 ′) build-up method or the (2 ′) through-hole method described later to form a coil pattern of the internal conductor. However, as long as a multilayer chip coil having the same structure as that of the multilayer chip coil 51 is finally formed, the manufacturing process and method used are not particularly limited.

(1′)ビルドアップ工法
まず、コイル部を製造するためのビルドアップ工法について、図12を参照して説明する。
(1 ′) Build-up Method First, a build-up method for manufacturing a coil portion will be described with reference to FIG.

図12(a)は、内部導体や非磁性セラミックスを印刷するための基材61の例である。基材61は、離形材が塗布されたPETフィルム,フェライトシート,フェライトプレート等が材質・原料として好適に用いられる。本例においては、フェライトプレートを基材61に用いて、以降の印刷工程を行う。   FIG. 12A is an example of a base material 61 for printing an internal conductor or nonmagnetic ceramic. As the base material 61, a PET film, a ferrite sheet, a ferrite plate or the like coated with a release material is suitably used as a material / raw material. In this example, the ferrite plate is used as the base material 61 and the subsequent printing process is performed.

図12(b)は、基材61に非磁性セラミックス部57aが印刷された状態の例である。非磁性セラミックス部57aは、基材61の周縁部を除く箇所に印刷される。非磁性セラミックス部57aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12B is an example of a state in which the nonmagnetic ceramic portion 57 a is printed on the base material 61. The nonmagnetic ceramic portion 57 a is printed at a location excluding the peripheral portion of the substrate 61. When the printing process of the nonmagnetic ceramic portion 57a is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(c)は、フェライト63aが印刷された状態の例である。フェライト63aは、基材61の周縁部に印刷される。フェライト63aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12C shows an example in which the ferrite 63a is printed. The ferrite 63a is printed on the peripheral edge of the substrate 61. When the printing process of the ferrite 63a is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(d)は、内部導体55aが印刷された状態の例である。導電性材料が用いられる内部導体55aは、非磁性セラミックス部57aとフェライト63aが印刷された基材61に導体パターンとして形成される。内部導体55aは、電流を積層チップコイル51に入力または出力するための引出部65aを備える。引出部65aは、端子電極部52aに接続される端部である。また、図12(g)で説明する内部導体55bと、窓部を介して接続される接続部66aを備える。内部導体55aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12D shows an example in which the internal conductor 55a is printed. The internal conductor 55a in which a conductive material is used is formed as a conductor pattern on the substrate 61 on which the nonmagnetic ceramic portion 57a and the ferrite 63a are printed. The internal conductor 55a includes a lead-out portion 65a for inputting or outputting a current to the multilayer chip coil 51. The lead portion 65a is an end portion connected to the terminal electrode portion 52a. Moreover, the connection part 66a connected via the window part and the internal conductor 55b demonstrated in FIG.12 (g) is provided. When the printing process of the inner conductor 55a is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(e)は、内部導体55aに非磁性セラミックス部57bが印刷された状態の例である。非磁性セラミックス部57bには、内部導体55aを、図12(g)で説明する内部導体55bに接続するための窓部67aが空けられる。窓部67aからは接続部66aが露出した状態となる。非磁性セラミックス部57aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12E shows an example in which a nonmagnetic ceramic portion 57b is printed on the internal conductor 55a. In the nonmagnetic ceramic portion 57b, a window portion 67a for connecting the inner conductor 55a to the inner conductor 55b described with reference to FIG. The connecting portion 66a is exposed from the window portion 67a. When the printing process of the nonmagnetic ceramic portion 57a is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(f)は、フェライト63bが印刷された状態の例である。フェライト63bは、周縁部に印刷される。窓部67aは、そのまま残る。フェライト63aの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12F shows an example in which the ferrite 63b is printed. The ferrite 63b is printed on the peripheral edge. The window part 67a remains as it is. When the printing process of the ferrite 63a is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(g)は、内部導体55bが印刷された状態の例である。内部導体55bが、導体パターンとして形成される。内部導体55bは、図12(j)で説明する内部導体55cと、窓部を介して接続される接続部66bを備える。図12(g)の工程で、形成されたコイルパターンは1ターンの巻数となる。内部導体55bの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12G shows an example in which the internal conductor 55b is printed. The inner conductor 55b is formed as a conductor pattern. The internal conductor 55b includes an internal conductor 55c described in FIG. 12 (j) and a connection portion 66b connected via a window portion. In the process shown in FIG. 12G, the formed coil pattern has one turn. When the printing process of the inner conductor 55b is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(h)は、内部導体55bに非磁性セラミックス部57cが印刷された状態の例である。非磁性セラミックス部57cには、内部導体55bを、図12(j)で説明する内部導体55cに接続するための窓部67bが空けられる。窓部67bからは接続部66bが露出した状態となる。非磁性セラミックス部57cの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12H shows an example of a state in which the nonmagnetic ceramic portion 57c is printed on the internal conductor 55b. In the nonmagnetic ceramic portion 57c, a window portion 67b for connecting the inner conductor 55b to the inner conductor 55c described in FIG. The connecting portion 66b is exposed from the window portion 67b. When the printing process of the nonmagnetic ceramic part 57c is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(i)は、フェライト63cが印刷された状態の例である。フェライト63cは、周縁部に印刷される。窓部67bは、そのまま残る。フェライト63cの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12 (i) shows an example in which the ferrite 63c is printed. The ferrite 63c is printed on the peripheral edge. The window part 67b remains as it is. When the printing process of the ferrite 63c is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(j)は、内部導体55cが印刷された状態の例である。内部導体55cが、導体パターンとして形成される。内部導体55cは、図12(m)で説明する内部導体55dと、窓部を介して接続される接続部66cを備える。内部導体55cの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12J shows an example in which the internal conductor 55c is printed. The inner conductor 55c is formed as a conductor pattern. The internal conductor 55c includes a connection portion 66c connected to the internal conductor 55d described with reference to FIG. When the printing process of the inner conductor 55c is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(k)は、内部導体55cに非磁性セラミックス部57dが印刷された状態の例である。非磁性セラミックス部57dには、内部導体55cを、図12(m)で説明する内部導体55dに接続するための窓部67cが空けられる。窓部67cからは接続部66cが露出した状態となる。非磁性セラミックス部57dの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12 (k) shows an example in which the nonmagnetic ceramic portion 57d is printed on the internal conductor 55c. In the nonmagnetic ceramic portion 57d, a window portion 67c for connecting the inner conductor 55c to the inner conductor 55d described in FIG. The connecting portion 66c is exposed from the window portion 67c. When the printing process of the nonmagnetic ceramic portion 57d is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(l)は、フェライト63dが印刷された状態の例である。フェライト63dは、周縁部に印刷される。窓部67cは、そのまま残る。フェライト63dの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12 (l) shows an example of a state where the ferrite 63d is printed. The ferrite 63d is printed on the peripheral edge. The window part 67c remains as it is. When the printing process of the ferrite 63d is completed, a drying process is performed under specific conditions.

図12(m)は、内部導体55dが印刷された状態の例である。内部導体55dが、導体パターンとして形成される。内部導体55dは、電流を積層チップコイル51に入力または出力するための引出部65bを備える。引出部65bは、端子電極部52bに接続される端部である。図12(m)までの工程で、形成されたコイルパターンは2ターンの巻数となる。内部導体55dの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12 (m) is an example of a state where the internal conductor 55d is printed. The inner conductor 55d is formed as a conductor pattern. The inner conductor 55d includes a lead portion 65b for inputting or outputting a current to the multilayer chip coil 51. The lead portion 65b is an end portion connected to the terminal electrode portion 52b. In the process up to FIG. 12 (m), the formed coil pattern has two turns. When the printing process of the inner conductor 55d is finished, a drying process is performed under specific conditions.

図12(n)は、内部導体55dに非磁性セラミックス部57eが印刷された状態の例である。ただし、引出部65bが露出している。非磁性セラミックス部57eの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12 (n) shows an example in which the nonmagnetic ceramic portion 57e is printed on the internal conductor 55d. However, the lead-out portion 65b is exposed. When the printing process of the nonmagnetic ceramic part 57e is completed, a drying process is performed under specific conditions.

図12(o)は、フェライト63eが印刷された状態の例である。フェライト63eは、基材61の周縁部に印刷される。フェライト63eの印刷工程が終わると、特定条件の下で乾燥処理を行う。   FIG. 12 (o) shows an example of a state in which the ferrite 63e is printed. The ferrite 63e is printed on the peripheral edge of the substrate 61. When the printing process of the ferrite 63e is completed, a drying process is performed under specific conditions.

図12を参照して説明したビルドアップ工法の例では、コイルパターンの巻数が2ターンの場合について説明したが、巻数を3ターン以上とするためには、図12(a)〜図12(f)の印刷工程を経た後、図12(g)〜図12(l)の印刷工程を繰り返し、必要な巻数となった時点で、図12(m)〜図12(o)の印刷工程を行えばよい。   In the example of the buildup method described with reference to FIG. 12, the case where the number of turns of the coil pattern is 2 turns has been described. However, in order to make the number of turns 3 turns or more, FIGS. ) After the printing process of FIG. 12 (g) to FIG. 12 (l) is repeated, the printing process of FIG. 12 (m) to FIG. 12 (o) is performed when the necessary number of turns is reached. Just do it.

(2′)スルーホール工法
次に、スルーホール工法について、図13を参照して説明する。
(2 ′) Through-Hole Method Next, the through-hole method will be described with reference to FIG.

図13(a)は、基材となるシート71aの周縁部にフェライト75aを印刷し、フェライト75aの内部に非磁性セラミックス部57aを印刷した例である。スルーホール工法では、このようなフェライトと非磁性セラミックスを印刷したシートを複数枚用意し(本例では、シート71a〜71fを用意する。)、シート毎に内部導体をパターン印刷する。そして、内部導体のパターンが印刷されたシートを積層し、焼結してコイル部を形成する。   FIG. 13A shows an example in which a ferrite 75a is printed on the peripheral edge of a sheet 71a serving as a base material, and a nonmagnetic ceramic portion 57a is printed inside the ferrite 75a. In the through-hole method, a plurality of sheets printed with such ferrite and nonmagnetic ceramics are prepared (in this example, sheets 71a to 71f are prepared), and the internal conductor is pattern-printed for each sheet. And the sheet | seat in which the pattern of the internal conductor was printed is laminated | stacked, and it sinters and forms a coil part.

図13(b)は、シート71bに形成した内部導体55aの構成例である。シート71bの周縁部には、フェライト75bが印刷され、フェライト75bの内部に非磁性セラミックス部57bが印刷される。シート71bに形成された内部導体55aは、電流を積層チップコイル51に入力または出力するための引出部74aを有する。引出部74aは、端子電極部52aに接続される端部である。   FIG. 13B is a configuration example of the internal conductor 55a formed on the sheet 71b. A ferrite 75b is printed on the peripheral edge of the sheet 71b, and a nonmagnetic ceramic part 57b is printed inside the ferrite 75b. The internal conductor 55 a formed on the sheet 71 b has a lead-out portion 74 a for inputting or outputting current to the multilayer chip coil 51. The lead portion 74a is an end portion connected to the terminal electrode portion 52a.

図13(c)は、シート71cに形成した内部導体55bの構成例である。シート71bの周縁部には、フェライト75bが印刷され、フェライト75bの内部に非磁性セラミックス部57bが印刷される。シート71cには、内部導体55aと内部導体55bを接続するためのスルーホール73aが形成される。スルーホール73aに導体ペーストが充填されて、内部導体55aと内部導体55bとが接続される。   FIG. 13C is a configuration example of the internal conductor 55b formed on the sheet 71c. A ferrite 75b is printed on the peripheral edge of the sheet 71b, and a nonmagnetic ceramic part 57b is printed inside the ferrite 75b. A through hole 73a for connecting the internal conductor 55a and the internal conductor 55b is formed in the sheet 71c. The through-hole 73a is filled with a conductor paste, and the internal conductor 55a and the internal conductor 55b are connected.

図13(d)は、シート71dに形成した内部導体55cの構成例である。シート71dの周縁部には、フェライト75dが印刷され、フェライト75dの内部に非磁性セラミックス部57dが印刷される。シート71dには、内部導体55bと内部導体55cを接続するためのスルーホール73bが形成される。スルーホール73bに導体ペーストが充填されて、内部導体55bと内部導体55cとが接続される。   FIG. 13D is a configuration example of the internal conductor 55c formed on the sheet 71d. A ferrite 75d is printed on the peripheral edge of the sheet 71d, and a nonmagnetic ceramic part 57d is printed inside the ferrite 75d. A through hole 73b for connecting the internal conductor 55b and the internal conductor 55c is formed in the sheet 71d. The through hole 73b is filled with a conductive paste, and the internal conductor 55b and the internal conductor 55c are connected.

図13(e)は、シート71eに形成した内部導体55dの構成例である。シート71eには、内部導体55cと内部導体55dを接続するためのスルーホール73cが形成される。スルーホール73cに導体ペーストが充填されて、内部導体55cと内部導体55dとが接続される。シート71eに形成された内部導体55dは、電流を積層チップコイル51に入力または出力するための引出部74bを有する。引出部74bは、端子電極部52bに接続される端部である。   FIG. 13E is a configuration example of the internal conductor 55d formed on the sheet 71e. A through hole 73c for connecting the internal conductor 55c and the internal conductor 55d is formed in the sheet 71e. The through hole 73c is filled with a conductive paste, and the internal conductor 55c and the internal conductor 55d are connected. The internal conductor 55d formed on the sheet 71e has a lead-out portion 74b for inputting or outputting a current to the multilayer chip coil 51. The lead portion 74b is an end portion connected to the terminal electrode portion 52b.

図13(f)は、シート71fの周縁部にフェライト75fを印刷し、フェライト75fの内部に非磁性セラミックス部57fを印刷した例である。   FIG. 13F shows an example in which the ferrite 75f is printed on the peripheral edge of the sheet 71f, and the nonmagnetic ceramic portion 57f is printed inside the ferrite 75f.

図13(g)は、図13(a)〜図13(f)で示したシート71a〜71fを積層した例である。各シートに形成された内部導体55a〜55dは、スルーホール73a〜73cに充填した図示しない導体ペーストを介して接続され、巻数が2ターンのコイル部が形成されることが分かる。また、第2の実施の形態で用いたスルーホール工法の基本的な工程は、第1の実施の形態で説明したスルーホール工法(図6参照)とほぼ同様であるが、内部導体の印刷に使用するシートが、フェライトと非磁性セラミックス部との2種類のペーストを印刷したものである点が異なる。   FIG. 13G shows an example in which the sheets 71a to 71f shown in FIGS. 13A to 13F are stacked. It can be seen that the internal conductors 55a to 55d formed on each sheet are connected via a conductor paste (not shown) filled in the through holes 73a to 73c, and a coil portion having two turns is formed. The basic process of the through-hole method used in the second embodiment is almost the same as the through-hole method (see FIG. 6) described in the first embodiment. The difference is that the sheet to be used is obtained by printing two types of pastes of ferrite and a nonmagnetic ceramic part.

本実施の第2の形態における積層チップコイル51は、コイル部を形成する場合、(1′)ビルドアップ工法(図12参照)、または、(2′)スルーホール工法(図13参照)を用いて、容易にコイル部を製造できる。貫通孔を形成したり、第2の磁性体部を貫通孔に充填したりする、他の製造工程については、第1の実施の形態と同様の工程を経るため、詳細な説明を省略する。   In the case of forming the coil portion, the laminated chip coil 51 according to the second embodiment uses (1 ′) the build-up method (see FIG. 12) or (2 ′) the through-hole method (see FIG. 13). Thus, the coil portion can be easily manufactured. Other manufacturing processes for forming the through-hole and filling the through-hole with the second magnetic body portion are the same as those in the first embodiment, and thus detailed description thereof is omitted.

また、電流を印加することで励磁された磁束は高い状態で結合した状態となるため、巻数が同じで非磁性セラミックス部を有さない積層チップコイルと比較して、インダクタンス値が高くなるという効果がある。ここで、図14を参照して、積層チップコイルに印加した電流に対するインダクタンス値について説明する。図14は、横軸に積層チップコイルに印加する電流の印加電流値をとり、縦軸に積層チップコイルのインダクタンス値をとったグラフである。図14に示すように、非磁性セラミックス部を有さない積層チップコイルに電流を印加した直後は、マイナーループが発生することによってインダクタンス値の低下が大きくなる。一方、非磁性セラミックス部を有する積層チップコイル51に電流を印加した直後は、インダクタンス値が低下しない。また、積層チップコイル51に印加する電流が、ある程度大きくなっても、インダクタンス値の低下がわずかであることが分かる。   In addition, since the magnetic flux excited by applying an electric current is coupled in a high state, the inductance value is higher than that of a multilayer chip coil having the same number of turns and no nonmagnetic ceramic part. There is. Here, the inductance value with respect to the current applied to the multilayer chip coil will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a graph in which the horizontal axis represents the applied current value of the current applied to the multilayer chip coil, and the vertical axis represents the inductance value of the multilayer chip coil. As shown in FIG. 14, immediately after the current is applied to the multilayer chip coil that does not have the non-magnetic ceramic portion, a minor loop is generated and the inductance value is greatly reduced. On the other hand, the inductance value does not decrease immediately after the current is applied to the multilayer chip coil 51 having the nonmagnetic ceramic portion. Further, it can be seen that even when the current applied to the multilayer chip coil 51 is increased to some extent, the decrease in the inductance value is slight.

また、積層チップコイル51は、内部導体55a〜55dが非磁性セラミックス部57によって包まれる構造としてある。このため、図11に示すとおり、内部導体に電流が流れることによって励磁されるほぼ全ての磁束が、第2の磁性体部を通過する。また、磁束のマイナーループの発生を抑えることができるため、積層チップコイル51に電流を印加した直後の、インダクタンス値の落ち込みを防ぐことができるという効果がある。さらに優れたインダクタンス値と直流重畳特性とを得られるという効果がある。   The multilayer chip coil 51 has a structure in which the inner conductors 55a to 55d are enclosed by the nonmagnetic ceramic portion 57. For this reason, as shown in FIG. 11, almost all the magnetic flux excited by the current flowing through the inner conductor passes through the second magnetic body portion. In addition, since the occurrence of a minor loop of magnetic flux can be suppressed, there is an effect that a drop in inductance value can be prevented immediately after a current is applied to the multilayer chip coil 51. Furthermore, there is an effect that an excellent inductance value and DC superimposition characteristics can be obtained.

以上説明した、第1と第2の実施の形態における積層チップコイルでは、第1の磁性体部に貫通孔が空けられる。そして、形成した貫通孔に、金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との流動性混合ペーストを充填し、硬化させて第2の磁性体部を形成する。または、形成した貫通孔に、金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との混合粉末を加圧形成したものを挿通して第2の磁性体部を形成する。このような簡素な工程を経るため、従来用いられてきた工法と比較し、第2の磁性体部を容易に形成できるという効果がある。また、内部導体によって励磁された磁束の結合度が高まることによって、インダクタンス値を一層向上できるという効果がある。   In the multilayer chip coil according to the first and second embodiments described above, a through hole is formed in the first magnetic body portion. The formed through hole is filled with a fluid mixed paste of metal-based or metal alloy-based magnetic powder and resin-based binder, and cured to form a second magnetic body portion. Alternatively, the second magnetic body part is formed by inserting a formed powder through which a mixed powder of a metal-based or metal alloy-based magnetic powder and a resin-based binder is pressed. Since such a simple process is performed, there is an effect that the second magnetic body portion can be easily formed as compared with a conventionally used method. Moreover, there is an effect that the inductance value can be further improved by increasing the degree of coupling of the magnetic flux excited by the inner conductor.

また、インダクタンス値の増加と直流重畳特性を向上させることと、低抵抗値を維持させることとを両立した積層チップコイルが得られる。さらに、積層チップコイルの構造が極めて簡素であるため、積層チップコイルの製造が容易になるという効果がある。また、積層チップコイルは、高いインダクタンス値を維持しており、内部導体で形成するコイルパターンの巻数を増やさなくてもよい。その結果として、内部導体の長さを短くして、内部導体の抵抗を低く維持できるという効果がある。   In addition, a multilayer chip coil that achieves both an increase in inductance value and improvement in DC superposition characteristics and a low resistance value can be obtained. Furthermore, since the structure of the laminated chip coil is extremely simple, there is an effect that the production of the laminated chip coil becomes easy. Further, the multilayer chip coil maintains a high inductance value, and it is not necessary to increase the number of turns of the coil pattern formed by the internal conductor. As a result, there is an effect that the length of the inner conductor can be shortened and the resistance of the inner conductor can be kept low.

なお、上述した第1と第2の実施の形態で説明した積層チップコイルの貫通孔を形成するためには、例えばドリル刃を用いた切削工法や、レーザ照射による穴あけ加工工法等により形成されることが望ましい。また、貫通孔の形状は円形状である方が望ましい。このように貫通孔を形成する理由としては、第2の磁性体部を容易に形成するためである。しかし、貫通孔の形状が矩形状や、その他の形状であっても得られる効果は変わらない。   In addition, in order to form the through hole of the multilayer chip coil described in the first and second embodiments described above, it is formed by, for example, a cutting method using a drill blade or a drilling method using laser irradiation. It is desirable. The through hole is preferably circular. The reason for forming the through hole in this way is to easily form the second magnetic part. However, even if the shape of the through-hole is rectangular or other shapes, the obtained effect does not change.

また、貫通孔を形成するために、既に説明した貫通孔の形成工程(図7のステップS11参照)の他に、ビルドアップ工法、またはスルーホール工法における工程内で貫通孔を形成してもよい。この場合、予めフェライトプレートとフェライトシート、さらには印刷パターンに貫通孔を形成する。貫通孔を形成する位置の精度が高めることで、第1と第2の実施の形態で形成した貫通孔と同様の貫通孔を形成できる。   Moreover, in order to form a through-hole, in addition to the already-described through-hole forming step (see step S11 in FIG. 7), the through-hole may be formed within a build-up method or a step in the through-hole method. . In this case, a through-hole is previously formed in the ferrite plate and the ferrite sheet, and further in the printed pattern. By increasing the accuracy of the position where the through hole is formed, a through hole similar to the through hole formed in the first and second embodiments can be formed.

また、上述した第1と第2の実施の形態では、積層体に第2の磁性体部を形成するために、金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との混合粉末を加圧形成した圧粉磁芯を貫通孔に挿通するようにした。このような圧粉磁芯を貫通孔に挿通した場合、圧力を加えて圧粉磁芯の密度を高めて第2の磁性体部を形成することで、透磁率:μと、最大飽和磁束密度:Bmとを向上させることができる。このため、より一層インダクタンス値や直流重畳特性等における電気特性を向上できるという効果がある。   In the first and second embodiments described above, in order to form the second magnetic body portion in the laminate, a mixed powder of a metal-based or metal alloy-based magnetic powder and a resin-based binder is used. The dust core formed under pressure was inserted into the through hole. When such a dust core is inserted into the through-hole, pressure is applied to increase the density of the dust core to form the second magnetic body portion, so that the permeability: μ and the maximum saturation magnetic flux density : Bm can be improved. For this reason, there is an effect that it is possible to further improve the electrical characteristics such as the inductance value and the DC superimposition characteristics.

さらに、積層体の中に形成されるコイルパターンは、1つに限定されない。要求される電気的特性が本発明と同様のものであるならば、積層トランス部品や、積層コモンモードノイズフィルタ等、2つ以上のコイルパターンを形成した形態についても好適に用いることができる。   Furthermore, the coil pattern formed in the laminate is not limited to one. If the required electrical characteristics are the same as those of the present invention, it is possible to suitably use a form in which two or more coil patterns are formed, such as a laminated transformer component or a laminated common mode noise filter.

本発明の第1の実施の形態における積層チップコイルの例を示した構成図である。It is the block diagram which showed the example of the multilayer chip coil in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における積層体の例を示した分解斜視図である。It is the disassembled perspective view which showed the example of the laminated body in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態におけるフェライトシートとフェライトプレートの製造工程の例を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the example of the manufacturing process of the ferrite sheet and ferrite plate in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における印刷ワークの例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the print workpiece | work in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態におけるビルドアップ工法の例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the buildup construction method in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態におけるスルーホール工法の例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the through-hole construction method in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における積層チップコイルの製造工程の例を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the example of the manufacturing process of the multilayer chip coil in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における積層チップコイルの貫通孔の形成範囲の例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the formation range of the through-hole of the multilayer chip coil in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における内部導体の周りに発生したマイナーループの例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the minor loop generate | occur | produced around the inner conductor in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における印加電流値とインダクタンスの対応関係を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the corresponding relationship of the applied electric current value and inductance in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態における積層チップコイルの例を示した構成図である。It is the block diagram which showed the example of the multilayer chip coil in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態におけるビルドアップ工法の例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the buildup construction method in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態におけるスルーホール工法の例を示した分解斜視図である。It is the disassembled perspective view which showed the example of the through-hole construction method in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態における印加電流値とインダクタンスの対応関係を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the corresponding relationship of the applied current value and inductance in the 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…積層チップコイル、1′…積層体、2a,2b…端子電極部、3…第1の磁性体部、4…第2の磁性体部、4a…貫通孔、5a〜5d…内部導体、5e…コイルパターン、6…磁束線、7…マイナーループ、11a,11b…フェライトプレート、12…コイル部、13…印刷ワーク、21…基材、23a〜23c…絶縁層、24a〜24c…窓部、25a,25b…引出部、26a〜26c…接続部、31a〜31d…フェライトシート、33a〜33c…スルーホール、34a,34b…引出部、51…積層チップコイル、52a,52b…端子電極部、53…第1の磁性体部、54…第2の磁性体部、55a〜55d内部導体、56…磁束線、57,57a〜57f…非磁性セラミックス部、61…基材、63a〜63e…フェライト、65a,65b…引出部、67a〜67c…窓部、26a〜26c…接続部、71a〜71f…シート、73a〜73c…スルーホール、74a,74b…引出部、75a〜75f…フェライト   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer chip coil, 1 '... Laminated body, 2a, 2b ... Terminal electrode part, 3 ... 1st magnetic body part, 4 ... 2nd magnetic body part, 4a ... Through-hole, 5a-5d ... Internal conductor, 5e ... Coil pattern, 6 ... Magnetic flux line, 7 ... Minor loop, 11a, 11b ... Ferrite plate, 12 ... Coil part, 13 ... Print work, 21 ... Base material, 23a-23c ... Insulating layer, 24a-24c ... Window part , 25a, 25b ... leading part, 26a-26c ... connecting part, 31a-31d ... ferrite sheet, 33a-33c ... through hole, 34a, 34b ... leading part, 51 ... multilayer chip coil, 52a, 52b ... terminal electrode part, 53 ... first magnetic body part, 54 ... second magnetic body part, 55a to 55d inner conductor, 56 ... magnetic flux lines, 57, 57a to 57f ... nonmagnetic ceramic part, 61 ... base material, 63a to 63e ... blow Door, 65a, 65b ... lead-out portion, 67a~67c ... window, 26a~26c ... connecting portion, 71a~71f ... sheet, 73a~73c ... through-hole, 74a, 74b ... lead-out portion, 75a~75f ... ferrite

Claims (3)

フェライト焼結体からなる第1の磁性体部と、
前記第1の磁性体部に埋設される所定のパターンが形成された内部導体と、
前記内部導体の端部に接続され、前記第1の磁性体部に設けられた端子電極部とを備えた積層チップコイルにおいて、
前記第1の磁性体部に、前記内部導体が露出しない範囲で前記第1の磁性体部を貫通する貫通孔が形成され、前記貫通孔に第2の磁性体部が配置されることを特徴とする
積層チップコイル。
A first magnetic body portion comprising a ferrite sintered body;
An inner conductor formed with a predetermined pattern embedded in the first magnetic part;
In the laminated chip coil provided with a terminal electrode portion connected to an end portion of the inner conductor and provided in the first magnetic body portion,
A through hole is formed in the first magnetic body portion so as to penetrate the first magnetic body portion in a range where the inner conductor is not exposed, and the second magnetic body portion is disposed in the through hole. And laminated chip coil.
前記第2の磁性体部は、金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との流動性混合ペーストを前記貫通孔に充填し硬化させ形成されること、あるいは、金属系または金属合金系磁性体粉末と樹脂系結着剤との混合粉末を加圧形成した圧粉磁芯を前記貫通孔に挿通して形成されることを特徴とする
請求項1に記載の積層チップコイル。
The second magnetic body portion is formed by filling the through hole with a fluid mixed paste of a metal-based or metal alloy-based magnetic powder and a resin-based binder and curing, or a metal-based or metal-based 2. The multilayer chip coil according to claim 1, wherein a powder magnetic core formed by pressurizing a mixed powder of an alloy-based magnetic powder and a resin-based binder is inserted through the through hole.
前記内部導体は、非磁性セラミックスに包まれていることを特徴とする
請求項2に記載の積層チップコイル。
The multilayer chip coil according to claim 2, wherein the inner conductor is encased in a nonmagnetic ceramic.
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