JP2007280588A - Recordable two-layer configuration optical recording medium - Google Patents

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Toshishige Fujii
俊茂 藤井
Noboru Sasa
登 笹
Yoshitaka Hayashi
嘉隆 林
Masayuki Fujiwara
将行 藤原
Yuji Miura
裕司 三浦
Michiaki Shinozuka
道明 篠塚
Masaru Magai
勝 真貝
Hiroyoshi Sekiguchi
洋義 関口
Hiroyuki Iwasa
博之 岩佐
Katsuyuki Yamada
勝幸 山田
Masanori Kato
将紀 加藤
Shinya Narumi
慎也 鳴海
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recordable two-layer configuration optical recording medium of high reflectivity and high sensitivity, having an easy and simplified layer configuration, capable of realizing high refractive index and a small absorption coefficient to recording-reproducing wavelength in high density recording. <P>SOLUTION: The medium has, from a laser beam incidence side, at least a first information layer, an intermediate layer and a second information layer in this sequence. In the first information layer, sequentially from a laser beam irradiation side, a thin film (an Re layer) containing Bi as main component, a dielectrics layer, a reflective layer and a thermal diffusion layer are formed by lamination. In the second information layer, sequentially from the laser beam irradiation side, a thin film (an Re layer) containing Bi as main component, a dielectrics layer, and a reflective layer are formed by lamination. The thermal diffusion layer contains an oxide having electrical conductivity of specific resistance of 1×10<SP>-1</SP>Ωcm or lower. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、青色レーザ光波長領域でも高密度の記録が可能な追記型(WORM:Write Once Read Many)光記録媒体に係り、特に、少なくとも第一情報層、中間層及び第二情報層を有する追記型2層構成光記録媒体に関するものである。   The present invention relates to a write once read many (WORM) optical recording medium capable of high-density recording even in a blue laser light wavelength region, and particularly includes at least a first information layer, an intermediate layer, and a second information layer. The present invention relates to a write-once two-layer optical recording medium.

レーザ光ビームの照射により記録可能な光記録媒体としてCD−R、DVD−R等の追記型光記録媒体がある。これらの光記録媒体はCD−ROM又はDVD−ROMと再生互換性があり、小規模の配布媒体や保存用の媒体として使用されている。しかし、CD−RやDVD−Rは現在有機色素を用いた媒体が主流であり、低コストで大量生産が行われている。追記型光記録媒体を無機記録層で実現する場合、層数が多くなるとコストが上昇し商品としてのメリットが無くなるため、できるだけ層数の少ない追記型光記録媒体が提案されてきた。追記型光記録媒体には穴あけタイプ、相変化タイプ、合金化タイプなどがあり、コストの面からは穴あけ記録方式が有望であるが、穴あけ記録ではC/Nが低くなってしまうという問題があった。これは穴を開けたピット部分において溶融した膜がピット内に水玉のようになって残ったり、周辺部に盛り上がったりすることが原因であった。また、穴あけ記録方式では層構成は1層となるため、通常使用されてきた記録膜ではROMの高い反射率に対応できず規格外製品となってしまっていた。
穴あけ記録材料としてTeとAu又はAgの化合物があるが(特許文献1〜2など)、これらの材料の沸点は1000℃以上であり、非常に感度が低い光記録媒体であった。
融点まで温度を上昇させればよい相変化タイプに比べ、穴あけ記録方式では記録のために沸点以上まで温度を上げる大きな熱量を必要としている。そのため、相変化タイプに比べて大きなレーザパワーを必要とし、高線速記録となると半導体レーザのパワーが足りなくなる。従って、より高感度な記録膜が要求されている。
As an optical recording medium that can be recorded by irradiation with a laser beam, there are write-once type optical recording media such as CD-R and DVD-R. These optical recording media are reproduction compatible with CD-ROMs or DVD-ROMs, and are used as small-scale distribution media and storage media. However, CD-R and DVD-R are currently mainly used media using organic dyes, and mass production is performed at low cost. When the write-once type optical recording medium is realized with an inorganic recording layer, as the number of layers increases, the cost increases and there is no merit as a product. Therefore, write-once type optical recording media with as few layers as possible have been proposed. The write-once type optical recording media include a punching type, a phase change type, and an alloying type. From the viewpoint of cost, a punching recording method is promising, but there is a problem that C / N becomes low in punching recording. It was. This was due to the molten film remaining in the pits as polka dots in the pits where the holes were drilled or swelled in the periphery. Further, since the hole recording method has a single layer structure, the recording film that has been used normally cannot cope with the high reflectivity of the ROM and has become a non-standard product.
There are compounds of Te and Au or Ag as punching recording materials (Patent Documents 1 and 2, etc.), but the boiling point of these materials is 1000 ° C. or higher, and the optical recording medium has very low sensitivity.
Compared to the phase change type in which the temperature only needs to be raised to the melting point, the punching recording method requires a large amount of heat to raise the temperature to the boiling point or higher for recording. Therefore, a large laser power is required as compared with the phase change type, and the power of the semiconductor laser becomes insufficient for high linear velocity recording. Therefore, a recording film with higher sensitivity is required.

特許文献3には、400℃以下の温度で揮発性成分を遊離する第一の層の上に耐腐食性金属層を形成し、記録感度を高める試みをした発明が開示されているが、反射率を高めることは目的とされておらず、ROM互換とはなり得ない。また、耐腐食性金属をAu、Agなどとしているが、これらは熱伝導率が極めて高く、加熱したエネルギーが拡散により逃げるため、結果的に効果は低く、高線速記録には不適当であった。
また、合金化方式としては、特許文献4に、Ge,Si,Snの何れかの元素からなる層と、Au、Ag、Al、Cuの何れかの元素からなる層にレーザ光を照射し、この二層を合金化させて記録する方法が提案されているが、low to high記録となり、ROM互換とはなり得なかった。
また、InとTeの合金で相変化タイプの記録層を成膜する発明として特許文献5があり、In:Te=2:1〜1:1又は2:3〜2:5とすることにより、相変化タイプの光記録媒体を提供することを目的としているが、この発明では成膜時の状態が非晶質であり反射率が低いため初期化処理が必要である。そのため工程が増えコストの増大を招いていた。
Patent Document 3 discloses an invention in which a corrosion-resistant metal layer is formed on a first layer that liberates volatile components at a temperature of 400 ° C. or lower and attempts to increase recording sensitivity. Increasing the rate is not aimed at and cannot be ROM compatible. Corrosion-resistant metals are Au, Ag, etc., but these have extremely high thermal conductivity, and the heated energy escapes by diffusion, resulting in low effectiveness and inappropriate for high linear velocity recording. It was.
Further, as an alloying method, in Patent Document 4, a layer made of any element of Ge, Si, Sn and a layer made of any element of Au, Ag, Al, Cu are irradiated with laser light, Although a method of recording by alloying these two layers has been proposed, it becomes low to high recording and cannot be ROM compatible.
Further, as an invention for forming a phase change type recording layer with an alloy of In and Te, there is Patent Document 5, and by setting In: Te = 2: 1 to 1: 1 or 2: 3 to 2: 5, An object of the present invention is to provide a phase change type optical recording medium. However, the present invention requires an initialization process because the state during film formation is amorphous and the reflectance is low. Therefore, the process increased and the cost was increased.

また、特許文献6には、Ag−Znからなる第一の層(相変化合金薄膜)と、Te、Se、Sから選ばれる一種類を主成分とする第二の層(低融点薄膜)を設け、二つの層の拡散により記録を行なう発明が開示されているが、反射率を高めるために第一の層を300〜700Å、第二の層を500〜1500Åと厚くしており、生産時のタクト及びコストに不利となっていた。また、膜厚を厚くすることにより反射率を大きく上げているが、本発明者らの調査では、反射率が高く吸収率が小さすぎるため熱吸収が記録膜上で殆ど起こらず、感度が非常に悪いということが分かった。このためDVDなどの速い線速を求められる媒体には使用できない。また、AgとTe、Seなどは非常に反応性が高く、読み取りレーザ光を照射するだけで、又は媒体を放置するだけで、二つの層の反応が起こり反射率が低下した。
また、特許文献7には、第1層が主にInからなる薄膜、第2層が周期表の5B、6B族元素を含む薄膜からなり、2層間の反応又は合金化による反射率変化を伴う媒体が開示されているが、この媒体も特許文献6の発明と同様に、InとTeなどの反応性が高いため非常に不安定であった。
上記した諸々の問題が、層数の少ない無機材料からなる記録層を有する追記型光記録媒体の普及に大きな障害となっていた。
Patent Document 6 discloses a first layer (phase change alloy thin film) made of Ag—Zn and a second layer (low melting point thin film) mainly composed of one kind selected from Te, Se, and S. An invention is disclosed in which recording is performed by diffusing two layers, but the first layer is made 300 to 700 mm thick and the second layer is made 500 to 1500 mm thick in order to increase reflectivity. It was disadvantageous to tact and cost. In addition, although the reflectance is greatly increased by increasing the film thickness, in our investigation, since the reflectance is too high and the absorptance is too small, heat absorption hardly occurs on the recording film, and the sensitivity is very high. It turned out to be bad. For this reason, it cannot be used for a medium such as a DVD that requires a high linear velocity. Moreover, Ag, Te, Se, etc. are very reactive, and the reaction of the two layers occurred and the reflectance was lowered only by irradiating the reading laser beam or simply leaving the medium.
Further, in Patent Document 7, the first layer is a thin film mainly composed of In, and the second layer is a thin film containing 5B and 6B group elements of the periodic table, accompanied by a change in reflectance due to reaction or alloying between the two layers. Although a medium is disclosed, this medium was also very unstable because of the high reactivity of In and Te as in the invention of Patent Document 6.
The various problems described above have been a major obstacle to the spread of write-once optical recording media having a recording layer made of an inorganic material with a small number of layers.

また、以前に本発明者らは青色領域のレーザ光による追記型光記録媒体に関する先願として特願2004−363010を出願した。その内容について簡潔に述べると以下のようになる。
即ち、先願の追記型光記録媒体では、従来、光吸収機能による熱発生層であり且つ分解・変質に起因した屈折率(複素屈折率の実部)変化による記録層として機能していた有機材料薄膜の代りに、無機層である主に酸化ビスマスからなる記録層(Re層)を設けた点に特徴がある。先願において、その媒体層構成が重要であることが記載されており、それを最適化することにより大きな有用性を見出した。本発明者らは主に酸化ビスマスからなる記録層を青色レーザ対応の追記型光記録媒体に適用し、非常に優れた記録再生特性が得られることを確認している。
In addition, the inventors previously filed Japanese Patent Application No. 2004-363010 as a prior application relating to a write-once type optical recording medium using a laser beam in a blue region. The contents are briefly described as follows.
That is, in the write-once type optical recording medium of the prior application, an organic layer that has conventionally functioned as a heat generation layer by a light absorption function and a recording layer by a change in refractive index (real part of the complex refractive index) due to decomposition and alteration. It is characterized in that a recording layer (Re layer) mainly made of bismuth oxide, which is an inorganic layer, is provided instead of the material thin film. In the prior application, it was described that the medium layer configuration was important, and great utility was found by optimizing it. The inventors of the present invention applied a recording layer mainly made of bismuth oxide to a write-once optical recording medium compatible with a blue laser, and confirmed that excellent recording / reproducing characteristics can be obtained.

最近では、書き換え可能な追記型光記録媒体の記録容量を増大する観点から、片面2層構成の提案がなされている(例えば、特許文献8〜9、非特許文献1等参照)。
本発明者らが開発を行っているRe層を有する追記型光記録媒体はBiの結晶化を主体とした記録原理を有するが、高感度で反射率が適切な媒体を得るためには、その媒体設計が非常に重要となる。
しかしながら、前記先願のRe層のBiは結晶化速度が速いため、マークを横方向に広げないためにも速やかに隣接する反射層などに熱を逃がしてやる必要がある。即ち、急冷構造を取ることが必要な材料であり、記録層片面2層型のような反射層の薄い構造では、微小なマーク形成が困難になるという問題がある。
Recently, from the viewpoint of increasing the recording capacity of a rewritable write-once optical recording medium, a single-sided two-layer configuration has been proposed (see, for example, Patent Documents 8 to 9 and Non-Patent Document 1).
The write-once optical recording medium having a Re layer developed by the present inventors has a recording principle mainly composed of Bi crystallization. In order to obtain a medium with high sensitivity and appropriate reflectance, Media design is very important.
However, since Bi in the Re layer of the prior application has a high crystallization speed, it is necessary to quickly release heat to the adjacent reflective layer or the like in order not to spread the mark in the lateral direction. That is, it is a material that needs to have a rapid cooling structure, and there is a problem that it is difficult to form a minute mark in a thin structure of a reflective layer such as a recording layer single-sided two-layer type.

比較的熱伝導率が高く光吸収率の小さい窒化物又は炭化物などを用いて、反射層が担っていた熱拡散機能を補助する層(熱拡散層)を反射層の上に更に設けて急冷構造に近づけるやり方が、単層相変化型情報記録媒体(特許文献10)、及び2層相変化型情報記録媒体(特許文献11)などで提案されている。この方法は第一情報層を構成する反射層を薄くした場合に発生する前述のような欠点を解消するのに有効な方法であると考えられる。
しかしながら、これら窒化物又は炭化物などの材料は、応力が大きいために形成された熱拡散層にクラックを生じやすく、その結果、熱拡散層を設けた光ディスクについて、充分なオーバーライト特性が得られないという問題がある。また、炭化物材料は、とりわけ短波長側での吸収が大きく、青紫色レーザを用いるBlu−ray Diskシステムのような次世代のシステムでは、第一情報層の光透過率を大きくすることが出来ないと言う問題が生じる。
Using a nitride or carbide that has a relatively high thermal conductivity and a low light absorption rate, a layer (thermal diffusion layer) that assists the thermal diffusion function that the reflective layer was responsible for is provided on the reflective layer to provide a rapid cooling structure. A method of approaching the above is proposed for a single-layer phase change information recording medium (Patent Document 10), a two-layer phase change information recording medium (Patent Document 11), and the like. This method is considered to be an effective method for solving the above-mentioned drawbacks that occur when the reflective layer constituting the first information layer is thinned.
However, these materials such as nitrides and carbides tend to cause cracks in the formed thermal diffusion layer due to large stress, and as a result, sufficient overwrite characteristics cannot be obtained for an optical disc provided with the thermal diffusion layer. There is a problem. In addition, the carbide material has particularly large absorption on the short wavelength side, and in the next generation system such as the Blu-ray Disk system using a blue-violet laser, the light transmittance of the first information layer cannot be increased. The problem that occurs.

特開昭60−179952号公報JP-A-60-179952 特開昭60−179953号公報JP-A-60-179953 特開昭57−157790号公報JP 57-157790 A 特開平4−226784号公報JP-A-4-226784 特開平1−162247号公報JP-A-1-162247 特許第2948899号公報Japanese Patent No. 2948899 特開平11−34501号公報JP-A-11-34501 特開2003−200663号公報JP 2003-200633 A 特開2003−203383号公報JP 2003-203383 A 特開平8−50739号公報JP-A-8-50739 特開2000−222777号公報JP 2000-222777 A International Symposium on Optical Memory 2003(ISOM 2003)予稿集p.74International Symposium on Optical Memory 2003 (ISOM 2003) Proceedings p. 74

本発明は、上述したような従来の問題に鑑み、簡易で単純な層構成を有し、高密度記録において記録再生波長に対する大きな屈折率と小さい吸収係数を実現可能で、高反射率、高感度の追記型2層構成光記録媒体の提供を目的とする。   In view of the conventional problems as described above, the present invention has a simple and simple layer structure, and can realize a large refractive index and a small absorption coefficient with respect to a recording / reproducing wavelength in high-density recording, and has high reflectivity and high sensitivity. It is an object of the present invention to provide a write once type two-layer optical recording medium.

上記課題は、次の1)〜15)の発明(以下、本発明1〜15という)によって解決される。
1) レーザ光入射側から、少なくとも第一情報層、中間層、第二情報層をこの順に有し、第一情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Biを主成分として含有する薄膜(Re層)、誘電体層、反射層、熱拡散層が積層形成されており、第二情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Biを主成分として含有する薄膜(Re層)、誘電体層、反射層が積層形成されており、前記熱拡散層が、比抵抗1×10−1Ωcm以下の電気伝導性を有する酸化物を含有することを特徴とする追記型2層構成光記録媒体。
2) 電気伝導性を有する酸化物が、IZO(In−ZnO)又はITO(In−SnO)の何れかであることを特徴とする1)記載の追記型2層構成光記録媒体。
3) 第一情報層の反射層の膜厚T1と熱拡散層の膜厚T2が、T2/T1=2〜8の範囲にあることを特徴とする1)又は2)記載の追記型2層構成光記録媒体。
4) 熱拡散層の膜厚が30〜90nmであることを特徴とする1)〜3)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
5) 第一情報層の誘電体層の膜厚t1と第二情報層の誘電体層の膜厚t2が、t2/t1=0.7〜1.5の範囲にあることを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
6) 第一情報層の誘電体層の膜厚t1と第二情報層の誘電体層の膜厚t2が、t2/t1=4.5〜6.0の範囲にあることを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
7) 第一情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が10〜30nmであり、第二情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が10〜30nmであることを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
8) 第一情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が10〜30nmであり、第二情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が90〜120nmであることを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
9) 第一情報層のRe層よりも手前に、典型元素を含む化合物を主成分とする層(典型元素を含む化合物層)が積層形成されていることを特徴とする1)〜8)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
10) 典型元素を含む化合物層の膜厚が70nm以下であることを特徴とする9)記載の追記型2層構成光記録媒体。
11) Re層が、Bi酸化物を主成分とするものであることを特徴とする1)〜10)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
12) Re層が、Al、Cr、Mn、Sc、In、Ru、Rh、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Pb、Mo、V、B及びNbの中から選ばれる一種以上の元素Mを含有することを特徴とする1)〜11)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
13) 誘電体層がZnSとSiOを主成分として含むことを特徴とする1)〜12)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
14) ZnSとSiOの配合割合が、70:30〜90:10(モル%)の範囲にあることを特徴とする13)記載の追記型2層構成光記録媒体。
15) 典型元素を含む化合物層の典型元素がZn、In、Al及びSnの中から選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする1)〜14)の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。
The above problems are solved by the following inventions 1) to 15) (hereinafter referred to as the present inventions 1 to 15).
1) At least a first information layer, an intermediate layer, and a second information layer in this order from the laser light incident side. The first information layer is a thin film containing at least Bi as a main component in this order from the laser light irradiation side. (Re layer), a dielectric layer, a reflective layer, and a thermal diffusion layer are laminated, and the second information layer is a thin film (Re layer) containing at least Bi as a main component in order from the laser light irradiation side, Write-once two-layer light comprising a dielectric layer and a reflective layer, wherein the thermal diffusion layer contains an oxide having an electrical conductivity of 1 × 10 −1 Ωcm or less. recoding media.
2) The write-once two-layer structure according to 1), wherein the oxide having electrical conductivity is either IZO (In 2 O 3 —ZnO) or ITO (In 2 O 3 —SnO 2 ). Optical recording medium.
3) The thickness of the reflective layer of the first information layer T1 and the thickness of the thermal diffusion layer T2 are in the range of T2 / T1 = 2-8. Configuration optical recording medium.
4) The write-once two-layer optical recording medium according to any one of 1) to 3), wherein the thermal diffusion layer has a thickness of 30 to 90 nm.
5) The thickness t1 of the dielectric layer of the first information layer and the thickness t2 of the dielectric layer of the second information layer are in the range of t2 / t1 = 0.7 to 1.5. 4) The write-once two-layer structure optical recording medium according to any one of 4) to 4).
6) The thickness t1 of the dielectric layer of the first information layer and the thickness t2 of the dielectric layer of the second information layer are in the range of t2 / t1 = 4.5 to 6.0. 4) The write-once two-layer structure optical recording medium according to any one of 4) to 4).
7) The thickness of the Re layer of the first information layer is 5 to 25 nm, the thickness of the dielectric layer is 10 to 30 nm, the thickness of the Re layer of the second information layer is 5 to 25 nm, and the film of the dielectric layer The write-once two-layer optical recording medium according to any one of 1) to 4), wherein the thickness is 10 to 30 nm.
8) The thickness of the Re layer of the first information layer is 5 to 25 nm, the thickness of the dielectric layer is 10 to 30 nm, the thickness of the Re layer of the second information layer is 5 to 25 nm, and the film of the dielectric layer The write-once two-layer optical recording medium according to any one of 1) to 4), wherein the thickness is 90 to 120 nm.
9) Before the Re layer of the first information layer, a layer containing a compound containing a typical element as a main component (a compound layer containing a typical element) is formed in a layered manner. The write-once two-layer optical recording medium according to any one of the above.
10) The write-once two-layer optical recording medium according to 9), wherein the thickness of the compound layer containing a typical element is 70 nm or less.
11) The write-once two-layer structure optical recording medium according to any one of 1) to 10), wherein the Re layer is mainly composed of Bi oxide.
12) The Re layer is made of Al, Cr, Mn, Sc, In, Ru, Rh, Co, Fe, Cu, Ni, Zn, Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Pb, Mo, V, The write-once two-layer optical recording medium according to any one of 1) to 11), which contains one or more elements M selected from B and Nb.
13) The write-once two-layer optical recording medium according to any one of 1) to 12), wherein the dielectric layer contains ZnS and SiO 2 as main components.
14) The write-once two-layer optical recording medium according to 13), wherein the blending ratio of ZnS and SiO 2 is in the range of 70:30 to 90:10 (mol%).
15) The recordable die 2 according to any one of 1) to 14), wherein the typical element of the compound layer containing the typical element is one or more elements selected from Zn, In, Al, and Sn. Layered optical recording medium.

以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明の追記型2層構成光記録媒体は、基本的な層構成として、レーザ光照射側から、少なくとも、Biを主成分として含有する薄膜(Re層)、誘電体層、反射層が、順次積層形成されている。
ここで、Biを主成分として含有する薄膜(Re層)とは、Re層の組成においてBiが必須成分であると共に、酸素を除いた構成元素全体のうち、Biが30原子%以上を占めることを意味する。例えばRe層がBi、Fe、O(酸素)からなる場合、BiとFeの合計量のうち、Biが30原子%以上を占めることを意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The write-once two-layer structure optical recording medium of the present invention has, as a basic layer structure, a thin film (Re layer) containing at least Bi as a main component, a dielectric layer, and a reflective layer in this order from the laser light irradiation side. They are stacked.
Here, the thin film (Re layer) containing Bi as a main component means that Bi is an essential component in the composition of the Re layer and that Bi occupies 30 atomic% or more of the entire constituent elements excluding oxygen. Means. For example, when the Re layer is made of Bi, Fe, and O (oxygen), it means that Bi occupies 30 atomic% or more of the total amount of Bi and Fe.

Re層は本発明の光記録媒体において、主たる光吸収機能を担う層である。
Re層は、正常分散を示す材料よりなるものであり、有機材料のようにある波長範囲内に大きな吸収帯を有する材料でないため、複素屈折率の波長依存性が小さい。このため、レーザ光の個体差や、環境温度の変化等による記録再生波長の変動に対し、記録感度、変調度、ジッタ、エラー率といったような記録特性や、反射率等が大きく変化するという従来の問題を大幅に解消することができる。
従来公知の追記型光記録媒体においては、有機材料薄膜が記録層と光吸収層の機能を兼用しているため、記録再生波長に対して、大きな屈折率nと比較的小さな吸収係数kを有することが有機材料の必須条件とされ、そのため有機材料を分解させる温度まで到達させるには、比較的、膜厚を厚く形成する必要があった。また、相変化型の光記録媒体については、基板の溝深さを非常に深くする必要があった。
The Re layer is a layer responsible for the main light absorption function in the optical recording medium of the present invention.
The Re layer is made of a material exhibiting normal dispersion, and is not a material having a large absorption band in a certain wavelength range like an organic material, so that the wavelength dependency of the complex refractive index is small. For this reason, recording characteristics such as recording sensitivity, modulation degree, jitter, error rate, reflectance, etc. greatly change with respect to fluctuations in recording / reproducing wavelength due to individual differences in laser light or changes in environmental temperature. This problem can be solved significantly.
In a known write-once type optical recording medium, the organic material thin film has both a recording layer and a light absorption layer, and therefore has a large refractive index n and a relatively small absorption coefficient k with respect to the recording / reproducing wavelength. Therefore, in order to reach the temperature at which the organic material is decomposed, it has been necessary to form a relatively thick film. Further, for the phase change type optical recording medium, it is necessary to make the groove depth of the substrate very deep.

そして、本発明者らが鋭意検討した結果、本発明1のような層構成とし、熱拡散層に特定の化合物を用いることにより、ジッタ、PRSNRが向上することを見出した。
なお、PRSNRとは、「Partial Response Signal to Noise Ratio」の略であり、再生信号のS/N及び実際の再生波形と理論的なPR波形線形成を同時に表現できる指標で、ディスクのビット誤り率の推定を行うために必要な指標の一つである。再生波形から得られる振幅情報を特殊処理して目標とする信号を作り出し、実際の再生信号との差をPRSNRとして規格化している。このPRSNRという値は、大きいほど良好な信号特性を示しており、一般にエラー率を実用的な範囲に留めるためには15以上の値を必要とするとされる。
As a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that jitter and PRSNR are improved by employing a layer structure as in the present invention 1 and using a specific compound for the thermal diffusion layer.
PRSNR is an abbreviation of “Partial Response Signal to Noise Ratio”, and is an index that can simultaneously represent the S / N of the reproduction signal and the actual reproduction waveform and theoretical PR waveform line formation, and is a bit error rate of the disk. It is one of the necessary indicators for estimating A target signal is created by specially processing the amplitude information obtained from the reproduced waveform, and the difference from the actual reproduced signal is normalized as PRSNR. The larger the value of PRSNR, the better the signal characteristics. In general, a value of 15 or more is required to keep the error rate within a practical range.

本発明では、Re層を用いた媒体を記録層片面2層型にするため、第一情報層の反射層の膜厚を、十分に光が透過するまで薄くしなければならない。一方、前述したようにBiは結晶化速度が速いため、マークを横方向に広げないためにも速やかに隣接する反射層などに熱を逃がしてやる必要がある。即ち、急冷構造を取ることが必要な材料であり、反射層の薄い構造では微小なマーク形成が困難になるという問題がある。
そこで、本発明1のように、比抵抗が1×10−1Ωcm以下の電気伝導性を有する酸化物を含有する材料を用いた熱拡散層を設けることにより、反射層の薄い構造においても急冷構造を確保でき、微小なマークを形成させることが出来るようになり、PRSNRの大幅な改善が可能となる。
また、第二情報層が記録再生できるように、用いるレーザ光波長での吸収率が小さいことも望まれる。情報の記録再生に用いるレーザ光の波長において、消衰係数は0.5以下が望ましく、0.3以下がより好ましい。消衰係数が0.5よりも大きいと第一情報層での吸収率が増大し、第二情報層の記録再生が困難になる。
これらの特性を満足する材料で、かつ電気伝導性を示す酸化物としては、In、SnO、ZnO、CdO、TiO、CdIn、CdSnO、ZnSnOなどが挙げられるが、中でもITO(In−SnO)、IZO(In−ZnO)が高熱伝導性であり、熱拡散層材料として好ましい(本発明2)。
これらの酸化物は、単体で用いても良いし、混合して用いることも出来る。
In the present invention, since the medium using the Re layer is a recording layer single-sided two-layer type, the thickness of the reflective layer of the first information layer must be thin enough to transmit light. On the other hand, as described above, since Bi has a high crystallization speed, it is necessary to quickly release heat to an adjacent reflection layer or the like so as not to spread the mark in the lateral direction. That is, it is a material that needs to have a rapid cooling structure, and there is a problem that it is difficult to form a minute mark with a thin reflective layer structure.
Therefore, as in the first aspect of the present invention, by providing a thermal diffusion layer using a material containing an oxide having an electrical conductivity with a specific resistance of 1 × 10 −1 Ωcm or less, rapid cooling is achieved even in a thin reflective layer structure. The structure can be secured, and a minute mark can be formed, so that the PRSNR can be greatly improved.
It is also desirable that the absorptivity at the wavelength of the laser beam used is small so that the second information layer can be recorded and reproduced. In the wavelength of the laser beam used for recording / reproducing information, the extinction coefficient is preferably 0.5 or less, and more preferably 0.3 or less. If the extinction coefficient is larger than 0.5, the absorption rate in the first information layer increases, and recording / reproduction of the second information layer becomes difficult.
Examples of oxides that satisfy these characteristics and exhibit electrical conductivity include In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, CdO, TiO, CdIn 2 O 4 , Cd 2 SnO 2 , and Zn 2 SnO. However, among them, ITO (In 2 O 3 —SnO 2 ) and IZO (In 2 O 3 —ZnO) have high thermal conductivity and are preferable as the thermal diffusion layer material (Invention 2).
These oxides may be used alone or in combination.

追記型2層構成光記録媒体においては、第一情報層に記録できる特性を保持しながら、第二情報層に記録再生できるだけの光を適量透過させる能力を有する必要があるので、反射層の膜厚と熱拡散層の膜厚とのバランスが非常に重要であり、本発明者らは第一情報層の反射層の膜厚T1と熱拡散層の膜厚T2の比を、T2/T1=2〜8の範囲とすることにより、第一情報層と第二情報層の記録再生特性のバランスを取り、両情報層において良好な信号特性と感度を実現できることを見出した(本発明3)。T2/T1の値が2よりも小さいと、第一情報層の反射率が上昇しすぎて第二情報層へ到達する光が少なくなり、第二情報層の感度、PRSNR値の悪化を招く。また、T2/T1が8よりも大きいと、第一情報層の透過率が高くなりすぎて第一情報層の感度、PRSNRの悪化を招く。   The write-once two-layer optical recording medium needs to have an ability to transmit an appropriate amount of light that can be recorded and reproduced in the second information layer while maintaining the characteristics that can be recorded in the first information layer. The balance between the thickness and the thickness of the thermal diffusion layer is very important, and the inventors of the present invention set the ratio of the thickness T1 of the reflective layer of the first information layer and the thickness T2 of the thermal diffusion layer to T2 / T1 = It was found that the recording / reproduction characteristics of the first information layer and the second information layer were balanced by setting the ratio in the range of 2 to 8, and good signal characteristics and sensitivity could be realized in both information layers (Invention 3). When the value of T2 / T1 is smaller than 2, the reflectivity of the first information layer is increased too much, so that the amount of light reaching the second information layer is reduced, and the sensitivity of the second information layer and the PRSNR value are deteriorated. On the other hand, if T2 / T1 is greater than 8, the transmittance of the first information layer becomes too high, and the sensitivity and PRSNR of the first information layer are deteriorated.

また、熱拡散層の膜厚を30〜90nmとすることにより、反射層の薄い構造においても急冷構造を確保することができ、微小なマークを形成させることが出来るようになり、PRSNRの大幅な改善が可能となる(本発明4)。
前述のようなBiの性質から急冷構造が重要であるが、熱拡散層の膜厚が30nmよりも薄いと、反射層の薄い構造では微小なマーク形成が困難となり、信号特性が急激に悪化する。また、90nmよりも厚いと、熱の拡散が多すぎる現象が生じて第一情報層の感度が悪化する。
In addition, by setting the film thickness of the thermal diffusion layer to 30 to 90 nm, it is possible to secure a rapid cooling structure even in a thin structure of the reflective layer, and it is possible to form a minute mark, resulting in a large PRSNR. Improvement is possible (Invention 4).
The rapid cooling structure is important due to the properties of Bi as described above. However, if the thickness of the thermal diffusion layer is thinner than 30 nm, it is difficult to form a minute mark with the thin structure of the reflective layer, and the signal characteristics deteriorate rapidly. . On the other hand, if the thickness is larger than 90 nm, a phenomenon in which heat is diffused excessively occurs and the sensitivity of the first information layer is deteriorated.

また、本発明5のように、第一情報層の誘電体層の膜厚t1と第二情報層の誘電体層の膜厚t2が、t2/t1=0.7〜1.5の範囲にあるようにするか、或いは、本発明6のように、t2/t1=4.5〜6.0の範囲にあるようにすれば、第一情報層の透過率と第二情報層の反射率とのバランスが最適となり、両情報層において良好な記録特性(PRSNR、反射率、感度)が得られる。
0.7未満では、第一情報層の反射率が高くなり透過率が低くなるなどのため、第二情報層の感度が非常に悪くなる。1.5よりも大きく4.5未満の範囲では、第二情報層の反射率が大幅に上昇し、やはり第二情報層の感度を著しく悪化させ、PRSNRも悪化する。6.0を超えると、第二情報層の誘電体層が厚くなりすぎて膜成形時に熱により基板や溝の変形が起こる他、第二情報層の反射率を上昇させ感度を著しく悪化させる原因ともなる。
即ち、本発明5〜6によれば、第一情報層と第二情報層の誘電体層の膜厚比を最適化することにより、両情報層において、高いPRSNR、高反射率、高感度の特性を比較的簡素な層構成で実現できる。
Further, as in the present invention 5, the thickness t1 of the dielectric layer of the first information layer and the thickness t2 of the dielectric layer of the second information layer are in the range of t2 / t1 = 0.7 to 1.5. If it is made to exist or it is made to exist in the range of t2 / t1 = 4.5-6.0 like this invention 6, the transmittance | permeability of a 1st information layer and the reflectance of a 2nd information layer Is optimal, and good recording characteristics (PRSNR, reflectance, sensitivity) can be obtained in both information layers.
If it is less than 0.7, the sensitivity of the second information layer is very poor because the reflectance of the first information layer is high and the transmittance is low. In the range of more than 1.5 and less than 4.5, the reflectivity of the second information layer is significantly increased, the sensitivity of the second information layer is significantly deteriorated, and the PRSNR is also deteriorated. If the value exceeds 6.0, the dielectric layer of the second information layer becomes too thick, causing deformation of the substrate or groove due to heat during film formation, and also causing the sensitivity of the second information layer to increase and the sensitivity to deteriorate significantly. It also becomes.
That is, according to the present invention 5 to 6, by optimizing the film thickness ratio of the dielectric layer of the first information layer and the second information layer, in both information layers, high PRSNR, high reflectance, and high sensitivity. Characteristics can be realized with a relatively simple layer structure.

また、本発明7又は本発明8のように各層の膜厚を選択すれば、第一情報層の透過率と第二情報層の反射率とのバランスが最適となり、両情報層において良好な記録特性(PRSNR、反射率、感度)が得られる。
第一情報層の各膜厚が限定範囲を外れると、第一情報層の透過率が低下し、第二情報層の感度が著しく悪化し、PRSNRも悪化する。第二情報層の各膜厚が限定範囲を外れると、第二情報層の反射率が著しく上昇し、第二情報層の感度とPRSNRが悪化する。
即ち、本発明7〜8によれば、第一情報層及び第二情報層の各層の膜厚を最適化することにより、両情報層において、高いPRSNR、高反射率、高感度の特性を比較的簡素な層構成で実現できる。
Further, if the thickness of each layer is selected as in the present invention 7 or the present invention 8, the balance between the transmittance of the first information layer and the reflectance of the second information layer is optimal, and good recording is achieved in both information layers. Characteristics (PRSNR, reflectance, sensitivity) are obtained.
When each film thickness of the first information layer is out of the limited range, the transmittance of the first information layer is lowered, the sensitivity of the second information layer is remarkably deteriorated, and the PRSNR is also deteriorated. When each film thickness of the second information layer is out of the limited range, the reflectance of the second information layer is significantly increased, and the sensitivity and PRSNR of the second information layer are deteriorated.
That is, according to the present invention 7-8, by optimizing the thickness of each layer of the first information layer and the second information layer, the characteristics of high PRSNR, high reflectance, and high sensitivity are compared in both information layers. Can be realized with a simple layer structure.

また、本発明9のように、第一情報層の(レーザ光入射側からみて)Re層よりも手前に、典型元素を含む化合物を主成分とする層(典型元素を含む化合物層)を積層形成することが好ましい。通常、基板は水分や酸素を含み、また透過しやすいので、記録層などが接している場合、これを酸化して特性を悪化させるが、典型元素を含む化合物層を設けると、透過する酸素や水分を遮断し保存特性を向上させる効果が得られる。但し、典型元素を含む化合物層が無くても記録特性は殆ど変わらず、通常の仕様において、光記録媒体の信頼性に問題は無い。
典型元素を含む化合物層に用いられる化合物の例としては、アルミ酸化物(Al等)、ZnSSiO、インジウムスズ酸化物(ITO)などが挙げられる。
また、主成分とは、材料全体の30モル%以上を占めることを意味するが、通常は上記化合物のみを用いる。
典型元素を含む化合物層の膜厚は、本発明10のように70nm以下とすることが好ましい。膜厚が70nmを超えると、製膜に時間がかかりタクトが長くなったり、製膜の熱によって基板や溝が変形するなどの弊害をもたらす上に、記録特性が著しく劣化する。また、膜厚が薄すぎると酸素や水分の透過を完全に防ぐことができなくなるため、20nm程度以上であることが望ましい。
Further, as in the present invention 9, a layer containing a compound containing a typical element as a main component (a compound layer containing a typical element) is laminated in front of the Re layer (as viewed from the laser light incident side) of the first information layer. It is preferable to form. Usually, since the substrate contains moisture and oxygen and easily permeates, when the recording layer is in contact with the substrate, it is oxidized to deteriorate the characteristics. However, if a compound layer containing a typical element is provided, the permeating oxygen and The effect of blocking moisture and improving storage characteristics is obtained. However, even if there is no compound layer containing a typical element, the recording characteristics hardly change, and there is no problem in the reliability of the optical recording medium in the normal specification.
Examples of the compound used for the compound layer containing a typical element include aluminum oxide (Al 2 O 3 or the like), ZnSSiO 2 , indium tin oxide (ITO), or the like.
The main component means that it accounts for 30 mol% or more of the entire material, but usually only the above compounds are used.
The film thickness of the compound layer containing a typical element is preferably 70 nm or less as in the present invention 10. If the film thickness exceeds 70 nm, the film formation takes time and the tact time is increased, and the substrate and the groove are deformed by the heat of film formation, and the recording characteristics are remarkably deteriorated. In addition, if the film thickness is too thin, it is impossible to completely prevent the transmission of oxygen and moisture.

本発明11では、Re層としてBi酸化物を主成分とする層を用いる。ここで、主成分とは、Re層中のBiの量が前述した条件を満足するように用いることを意味する。
Bi酸化物をRe層の材料として用いることにより、極めて良好なPRSNRを得ることができ、かつ反射率の向上を図ることができる。
このような層は、Re層を製膜する際のターゲットをBi酸化物又はBi合金酸化物とするか、Bi又はBi合金をアルゴンと酸素の混合雰囲気中でスパッタする等の手段を用いることにより製膜できる。
In the eleventh aspect of the present invention, a layer mainly composed of Bi oxide is used as the Re layer. Here, the main component means that the amount of Bi in the Re layer is used so as to satisfy the above-described conditions.
By using Bi oxide as the material for the Re layer, an extremely good PRSNR can be obtained and the reflectance can be improved.
Such a layer can be formed by using a Bi oxide or Bi alloy oxide as a target for forming the Re layer, or by sputtering Bi or Bi alloy in a mixed atmosphere of argon and oxygen. Film can be formed.

本発明12では、Re層が、Al、Cr、Mn、Sc、In、Ru、Rh、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Pb、Mo、V、B、及びNbの中から選ばれる一種以上の元素Mを含有する。元素Mの添加量は、30〜40重量%程度の範囲で、最も特性がよい量を選択する。
元素Mを含有させることにより青色波長の光に対して良好な記録を行うことができる。未記録状態の結晶構造と記録マークの結晶構造が異なるようにすることにより変調度を得ることは、従来から相変化記録などで行われていたが、本発明では、2種類以上の酸化物の結晶が混在する状態で記録マークを形成することにより、記録マークと未記録部の屈折率差などがより大きくなり、大きな変調度が得られる。更に、それぞれの酸化物の結晶だけでなく単体元素の結晶を存在させることで、より大きな効果が得られる。また、異なる元素又は結晶構造の結晶が混在することで、結晶の成長を抑えることができる。即ち、二つ以上の異なる元素及び/又は結晶構造の結晶からなる記録マークは、大きく成長して広がってしまうことが抑制され、小さい記録マークを形成することができる。
In the present invention 12, the Re layer is made of Al, Cr, Mn, Sc, In, Ru, Rh, Co, Fe, Cu, Ni, Zn, Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Pb, Mo. 1 or more elements M selected from V, B, and Nb. The addition amount of the element M is selected in the range of about 30 to 40% by weight with the best characteristics.
By including the element M, good recording can be performed with respect to light having a blue wavelength. Obtaining the degree of modulation by making the crystal structure of the unrecorded state different from the crystal structure of the recording mark has been conventionally performed in phase change recording or the like. In the present invention, two or more kinds of oxides are obtained. By forming the recording mark in a state where crystals are mixed, the difference in refractive index between the recorded mark and the unrecorded portion becomes larger, and a large modulation degree can be obtained. Furthermore, the presence of not only each oxide crystal but also a single element crystal can provide a greater effect. In addition, the growth of crystals can be suppressed by mixing crystals of different elements or crystal structures. That is, a recording mark made of two or more different elements and / or crystals having a crystal structure can be prevented from growing and spreading, and a small recording mark can be formed.

誘電体層の材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。一般的には、透明性が高く高融点である金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物やCa、Mg、Li等のフッ化物を用いることができる。
好ましい材料としては、ZnS、ZnO、TaS及び希土類硫化物から選択される少なくとも1種を50〜90モル%含み、かつ、融点又は分解点が1000℃以上の耐熱性化合物とを含む複合誘電体が挙げられる。
融点又は分解点が1000℃以上の耐熱化合物としては、例えば、Mg、Ca、Sr、Y、La、Ce、Ho、Er、Yb、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Zn、Al、Si、Ge、Pb等の酸化物、窒化物、又は炭化物、Ca、Mg、Li等のフッ化物を用いることができる。中でも、ZnSとSiOを主成分として含む材料が好ましい(本発明13)。ここで主成分とは材料全体の50モル%以上を占めることを意味するが、通常はZnSとSiOのみを用いる。更に、ZnSとSiOの配合割合は、70:30〜90:10(モル%)の範囲が好ましい(本発明14)。この範囲であれば、更に良好なPRSNRを得ることができ、かつ反射率の向上を図ることができる。上記範囲を外れると、その光学特性n、k値に関し、光記録媒体の構成層の各膜厚とその組み合わせにずれが生じ、両情報層において良好な特性を得にくくなる。
なお、上記酸化物、硫化物、窒化物、炭化物、フッ化物は必ずしも化学量論的組成をとる必要はなく、屈折率等の制御のために組成を制御したり、混合して用いることも可能である。
The material of the dielectric layer is determined in consideration of the refractive index, thermal conductivity, chemical stability, mechanical strength, adhesion, and the like. In general, oxides, sulfides, nitrides, carbides, and fluorides such as Ca, Mg, and Li that are highly transparent and have a high melting point can be used.
As a preferred material, a composite dielectric containing 50 to 90 mol% of at least one selected from ZnS, ZnO, TaS 2 and rare earth sulfides and a heat-resistant compound having a melting point or decomposition point of 1000 ° C. or higher. Is mentioned.
Examples of the heat-resistant compound having a melting point or decomposition point of 1000 ° C. or higher include Mg, Ca, Sr, Y, La, Ce, Ho, Er, Yb, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Zn, Al, Oxides such as Si, Ge, and Pb, nitrides, or carbides, and fluorides such as Ca, Mg, and Li can be used. Among these, a material containing ZnS and SiO 2 as main components is preferable (Invention 13). Here, the main component means that it accounts for 50 mol% or more of the entire material, but usually only ZnS and SiO 2 are used. Furthermore, the blending ratio of ZnS and SiO 2 is preferably in the range of 70:30 to 90:10 (mol%) (Invention 14). Within this range, a better PRSNR can be obtained and the reflectance can be improved. If it is out of the above range, the optical characteristics n and k values are shifted in the thicknesses and combinations of the constituent layers of the optical recording medium, making it difficult to obtain good characteristics in both information layers.
Note that the oxides, sulfides, nitrides, carbides, and fluorides do not necessarily have a stoichiometric composition, and the compositions can be controlled or mixed for controlling the refractive index and the like. It is.

また、本発明15のように、典型元素を含む化合物層の典型元素としては、Zn、In、Al及びSnの中から選ばれる一種以上の元素が好ましい。これらの典型元素を含む化合物層をRe層と基板との間に設けることにより、耐環境試験特性における安定性が大きく向上する。しかも、本典型元素を含む化合物層を用いても、反射率を低下させるなどの悪影響を及ぼさないことも特徴の一つである。
上記典型元素を含む化合物としては、ZnS、ZnSSiO、InO、SnO、Al、AlNなどが挙げられる。
Further, as in the present invention 15, the typical element of the compound layer containing a typical element is preferably one or more elements selected from Zn, In, Al, and Sn. By providing the compound layer containing these typical elements between the Re layer and the substrate, the stability in the environmental resistance test characteristics is greatly improved. Moreover, even if a compound layer containing this typical element is used, it is one of the features that it does not have an adverse effect such as a decrease in reflectance.
Examples of the compound containing the typical element include ZnS, ZnSSiO 2 , InO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , and AlN.

中間層は記録再生のために照射する光の波長における光吸収が小さいことが好ましく、材料としては、樹脂が成形性、コストの点で好適であり、紫外線硬化樹脂、遅効性樹脂、熱可逆性樹脂などを用いることができる。また、光ディスク貼り合わせ用の両面テープ(例えば日東電工製の粘着シートDA−8321)なども用いることができる。
中間層は、記録再生を行う際に、ピックアップが第一情報層と第二情報層とを識別して光学的に分離可能とするものであり、その厚さは10〜70μmが好ましい。
本発明の光記録媒体は、請求項で限定した層以外に従来公知の種々の層を組み合わせて形成してもよい。
The intermediate layer preferably has low light absorption at the wavelength of light irradiated for recording / reproduction. As a material, a resin is suitable in terms of moldability and cost, and an ultraviolet curable resin, a slow-acting resin, and a thermoreversible resin. Resins can be used. In addition, a double-sided tape for bonding optical disks (for example, Nitto Denko's adhesive sheet DA-8321) can be used.
The intermediate layer is one in which the pickup can discriminate between the first information layer and the second information layer and can be optically separated during recording and reproduction, and the thickness is preferably 10 to 70 μm.
The optical recording medium of the present invention may be formed by combining various conventionally known layers in addition to the layers defined in the claims.

基板の材料としては、熱的、機械的に優れた特性を有し、基板側から(基板を通して)記録再生が行われる場合には光透過特性にも優れたものであれば、特に限定されるものではない。
材料の例としては、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、非晶質ポリオレフィン、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられるが、ポリカーボネートや非晶質ポリオレフィンが好適である。
基板の膜厚は、用途により適宜設定することができ、特に限定されない。
The material of the substrate is not particularly limited as long as it has excellent thermal and mechanical properties and also has excellent light transmission properties when recording / reproducing is performed from the substrate side (through the substrate). It is not a thing.
Examples of the material include polycarbonate, polymethyl methacrylate, amorphous polyolefin, cellulose acetate, polyethylene terephthalate, and the like, and polycarbonate and amorphous polyolefin are preferable.
The film thickness of a board | substrate can be suitably set with a use, and is not specifically limited.

反射層の材料は、再生光の波長で反射率の充分高いものが好ましい。
例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd等の金属を単独で、又は合金として用いることができる。特にAu、Al、Agは反射率が高く、反射層の材料として好適である。
また、上記金属を主成分として他の元素を含んでいても良く、他の元素としては、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属及び半金属を挙げることができる。中でもAgを主成分とするものは、コストが安く高反射率が得やすいので特に好適である。
また、金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
反射層の膜厚は、第一情報層では10〜25nm、第二情報層では50〜200nmが好適である。
The material of the reflective layer is preferably a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light.
For example, metals such as Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, and Pd can be used alone or as an alloy. In particular, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as a material for the reflective layer.
Further, the above metal may be the main component and other elements may be included. Examples of other elements include Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Mention may be made of metals and metalloids such as Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi. Among them, those containing Ag as a main component are particularly suitable because they are inexpensive and easy to obtain a high reflectance.
Further, it is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and use it as a reflective layer.
Examples of the method for forming the reflective layer include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition.
The thickness of the reflective layer is preferably 10 to 25 nm for the first information layer and 50 to 200 nm for the second information layer.

反射層にAg等を用いた場合、ZnSSiO層を隣接させて積層するとZnSSiO中のSがAgと徐々に混合し、特性の悪化や反射率の現象などを招く可能性が有る。よって、適宜反射層とZnSSiO層との間に硫化防止層と呼ばれる層を更に設置することもある。その材質としては、例えばSiO、ZnO、SnO、Al、TiO、Inなどの酸化物、Si、AlN、TiNなどの窒化物、SiCなどの炭化物が挙げられる。一般によく用いられている材料はSiCであり、好適な材料なので、必要に応じて本発明に用いることができる。 When Ag or the like is used for the reflective layer, if the ZnSSiO 2 layers are stacked adjacent to each other, S in the ZnSSiO 2 is gradually mixed with Ag, which may cause deterioration in characteristics, a phenomenon of reflectance, and the like. Therefore, a layer called an anti-sulfurization layer may be further provided between the reflective layer and the ZnSSiO 2 layer as appropriate. Examples of the material include oxides such as SiO, ZnO, SnO 3 , Al 2 O 3 , TiO 3 and In 2 O 3 , nitrides such as Si 3 N 4 , AlN and TiN, and carbides such as SiC. . A commonly used material is SiC, which is a suitable material and can be used in the present invention as needed.

また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系又は有機系の上引層、下引層あるいは接着層を設けてもよい。
反射層上や、その他の構成層間に適宜保護層を設けてもよい。保護層の材料としては、外力から保護する機能を有するものであれば、従来公知の材料を何れも適用できる。
有機材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。また、無機材料としては、SiO、Si、MgF、SnO等が挙げられる。
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法、スパッタ法、化学蒸着法等が用いられるが、特にスピンコート法が好ましい。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂からなる保護層は、樹脂を適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布し乾燥することによって形成することができる。
紫外線硬化性樹脂からなる保護層は、樹脂をそのまま又は適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布し、紫外線光を照射して硬化させることによって形成できる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を適用できる。
これらの材料は単独で用いても混合して用いても良いし、1層だけでなく多層膜にして用いても良い。
保護層の膜厚は、一般に0.1〜100μmの範囲とするが、特に3〜30μmが好ましい。
In addition, a known inorganic or organic overcoat layer, undercoat layer or adhesive layer is provided on the substrate or under the reflective layer in order to improve reflectivity, improve recording characteristics, or improve adhesion. May be.
A protective layer may be appropriately provided on the reflective layer or between other constituent layers. As the material of the protective layer, any conventionally known material can be applied as long as it has a function of protecting from an external force.
Examples of the organic material include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Examples of the inorganic materials, SiO 2, Si 3 N 4 , MgF 2, SnO 2 and the like.
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the recording layer, and a spin coating method is particularly preferable.
The protective layer made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be formed by applying and drying a coating solution in which the resin is dissolved in an appropriate solvent.
The protective layer made of an ultraviolet curable resin can be formed by applying a coating solution in which the resin is dissolved as it is or in an appropriate solvent, and irradiating it with ultraviolet light to cure. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be applied.
These materials may be used alone or in combination, and may be used as a multilayer film as well as a single layer.
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm, but 3 to 30 μm is particularly preferable.

また、本発明の光記録媒体は、基板側から光を照射して記録再生する構成に限定されるものではなく、構成層上にカバー層を設け、このカバー層側から光を照射して記録再生するようにしてもよい。
カバー層は、高密度化を図るため高NAのレンズを用いる場合に必要となる。例えば高NA化すると、再生光が透過する部分の厚さを薄くする必要がある。これは、高NA化に伴い、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度(いわゆるチルト角、光源の波長の逆数と対物レンズの開口数の積の2乗に比例する)により発生する収差の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け易いためである。従って、基板の厚さを薄くしてチルト角に対する収差の影響をなるべく小さくするようにしている。
Further, the optical recording medium of the present invention is not limited to the configuration in which recording and reproduction are performed by irradiating light from the substrate side, and a recording layer is provided by irradiating light from the cover layer side provided with a cover layer. You may make it reproduce | regenerate.
The cover layer is necessary when using a lens with a high NA in order to increase the density. For example, when the NA is increased, it is necessary to reduce the thickness of the portion through which the reproduction light is transmitted. This is due to the angle at which the disk surface deviates from the optical axis of the optical pickup as the NA increases (so-called tilt angle, proportional to the square of the product of the reciprocal of the wavelength of the light source and the numerical aperture of the objective lens). This is because the allowable amount of generated aberration is reduced, and this tilt angle is easily affected by the aberration due to the thickness of the substrate. Therefore, the thickness of the substrate is reduced to minimize the influence of aberration on the tilt angle.

そこで、例えば基板上に凹凸を形成して記録層とし、その上に反射層を設け、更にその上に光を透過する薄膜である光透過性のカバー層を設けるようにし、カバー層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体や、基板上に反射層を設け、その上に記録層を設け、更にこの上に光透過性を有するカバー層を設けるようにし、カバー層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体が提案されている。この場合、層構成の順序はレーザ光の入射するカバー層からとなるので注意が必要である。
このようにすれば、カバー層を薄型化していくことで対物レンズの高NA化に対応可能である。つまり、薄いカバー層を設け、このカバー層側から記録再生することで、更なる高記録密度化を図ることができる。
なお、このようなカバー層は、ポリカーボネートシートや、紫外線硬化型樹脂により形成されるのが一般的である。また、本発明で言うカバー層には、カバー層を接着するための層を含めてもよい。
本発明の光記録媒体に使用されるレーザ光は、高密度記録のため波長が短いほど好ましいが、特に350〜530nmのレーザ光が好ましく、その代表例としては、中心波長405nmのレーザ光が挙げられる。
Therefore, for example, a recording layer is formed by forming irregularities on a substrate, a reflective layer is provided on the recording layer, and a light-transmitting cover layer, which is a thin film that transmits light, is provided on the recording layer. An optical recording medium that reproduces information on the recording layer by irradiating light, or a reflective layer provided on the substrate, a recording layer provided thereon, and a cover layer having optical transparency thereon. An optical recording medium that reproduces information on a recording layer by irradiating the reproducing light from the cover layer side has been proposed. In this case, care must be taken because the order of the layer configuration is from the cover layer on which the laser beam is incident.
In this way, the NA of the objective lens can be increased by reducing the thickness of the cover layer. That is, it is possible to further increase the recording density by providing a thin cover layer and recording / reproducing from the cover layer side.
Such a cover layer is generally formed of a polycarbonate sheet or an ultraviolet curable resin. Further, the cover layer referred to in the present invention may include a layer for adhering the cover layer.
The laser beam used in the optical recording medium of the present invention is preferably as the wavelength is short for high-density recording, but a laser beam with a wavelength of 350 to 530 nm is particularly preferable, and a representative example thereof is a laser beam with a center wavelength of 405 nm. It is done.

本発明によれば、Re層を記録層とする追記型2層構成光記録媒体において、本発明の熱拡散層を用いることにより第一情報層の記録特性を改善できる。その結果、簡易で単純な層構成を有し、高密度記録において記録再生波長に対する大きな屈折率と小さい吸収係数を実現可能で、高反射率、高感度な追記型2層構成光記録媒体を提供できる。   According to the present invention, the recording characteristics of the first information layer can be improved by using the thermal diffusion layer of the present invention in a write-once two-layer optical recording medium having a Re layer as a recording layer. As a result, a high-reflectivity, high-sensitivity write-once two-layer optical recording medium is provided that has a simple and simple layer structure, can realize a large refractive index and a small absorption coefficient with respect to the recording / reproducing wavelength in high-density recording. it can.

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited by these Examples.

(実施例1)
<追記型2層構成光記録媒体の作製>
表面にトラックピッチ0.43μm、溝深さ21nmの案内溝を有する半径120mm、厚さ0.58mmのポリカーボネート樹脂製の第一基板と第二基板を用意した。
次に、Balzers社製の枚葉スパッタ装置を用いて、第一基板上に、Alからなる膜厚20nmの典型元素を含む化合物層、Biからなる膜厚20nmのRe層、ZnS・SiO(80:20モル%)からなる膜厚20nmの誘電体層、Agからなる膜厚15nmの反射層、IZOからなる膜厚50nmの熱拡散層を順次製膜することにより、第一情報層を作製した。
同様にして、第二基板上に、Agからなる膜厚100nmの反射層、ZnS・SiO(80:20モル%)からなる膜厚20nmの誘電体層、Biからなる膜厚20nmのRe層を順次製膜することにより、第二情報層を作製した。
次に、第一情報層の膜面上に紫外線硬化樹脂(日本化薬株式会社 DVD003)を含む塗布液をスピンコートにより塗布し、同様にして第二基板上に紫外線硬化樹脂を塗布した後、減圧雰囲気下で貼り合わせた。その後、第一基板側から紫外線光を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させて厚さ30μmの中間層を形成した。
以上のようにして、第一基板、第一情報層、中間層、第二情報層、第二基板がこの順に積層された追記型2層構成光記録媒体を作製した。(図6参照)
本実施例では更に、IZOにSiOを混合させて電気伝導度を変化させ、その比抵抗を測定した。そして、これらの材料を熱拡散層に用いた上記層構成の追記型2層構成光記録媒体を作製し、これらのPRSNRを測定して、熱拡散層の比抵抗とPRSNRとの関係を求めた。PRSNRは、パルステック社製ODU−1000を評価機として用い、レーザ波長405nm、NA0.6、クロック周波数64.8MHzで、6.61m/sの線速度で基板を回転させ、ランダムパターンを書き込んで評価した。
結果を図1に示すが、この図から分かるように比抵抗が1×10−1Ωcmを超えると、即ち、電気伝導性が悪くなると、急激に第一情報層の信号特性が悪化した。これは前述のように薄い反射層を用いていることが原因となり、熱が充分に拡散せず微小なピットが形成しにくくなっているためと推測される。なお、これらの評価ではPRSNR15未満を規格外の値とした(HD DVD−R規格は15以上)。
また、IZOに代えてITOを用いても、本実施例と同様の結果が得られた。
Example 1
<Production of write-once type two-layer optical recording medium>
A first substrate and a second substrate made of polycarbonate resin having a radius of 120 mm and a thickness of 0.58 mm having a guide groove with a track pitch of 0.43 μm and a groove depth of 21 nm on the surface were prepared.
Next, using a single wafer sputtering apparatus manufactured by Balzers, a compound layer containing a typical element having a thickness of 20 nm made of Al 2 O 3 and a Re layer having a thickness of 20 nm made of Bi 2 O 3 are formed on the first substrate. By sequentially forming a 20 nm thick dielectric layer made of ZnS.SiO 2 (80:20 mol%), a 15 nm thick reflective layer made of Ag, and a 50 nm thick thermal diffusion layer made of IZO, A first information layer was produced.
Similarly, on the second substrate, a 100 nm thick reflective layer made of Ag, a 20 nm thick dielectric layer made of ZnS.SiO 2 (80:20 mol%), and a 20 nm thick film made of Bi 2 O 3. The second information layer was fabricated by sequentially forming the Re layer.
Next, a coating solution containing an ultraviolet curable resin (Nippon Kayaku Co., Ltd. DVD003) is applied by spin coating on the film surface of the first information layer, and after the ultraviolet curable resin is applied on the second substrate in the same manner, Bonding was performed under a reduced pressure atmosphere. Thereafter, ultraviolet light was irradiated from the first substrate side to cure the ultraviolet curable resin to form an intermediate layer having a thickness of 30 μm.
As described above, a write-once two-layer optical recording medium in which the first substrate, the first information layer, the intermediate layer, the second information layer, and the second substrate were laminated in this order was produced. (See Figure 6)
In this example, SiO 2 was mixed with IZO to change the electrical conductivity, and the specific resistance was measured. Then, a write-once two-layer optical recording medium having the above-described layer configuration using these materials as a thermal diffusion layer was prepared, and the PRSNR was measured to obtain the relationship between the specific resistance of the thermal diffusion layer and the PRSNR. . PRSNR uses ODU-1000 manufactured by Pulstech as an evaluation machine, writes a random pattern by rotating the substrate at a laser wavelength of 405 nm, NA of 0.6, clock frequency of 64.8 MHz and a linear velocity of 6.61 m / s. evaluated.
The results are shown in FIG. 1. As can be seen from this figure, when the specific resistance exceeds 1 × 10 −1 Ωcm, that is, when the electrical conductivity is deteriorated, the signal characteristics of the first information layer are rapidly deteriorated. This is presumably because the thin reflective layer is used as described above, and heat is not sufficiently diffused to make it difficult to form minute pits. In these evaluations, a value less than PRSNR15 was set as a nonstandard value (15 or more for the HD DVD-R standard).
Further, even when ITO was used instead of IZO, the same result as in this example was obtained.

(実施例2)
第一情報層のAg反射層の膜厚T1と熱拡散層IZOの膜厚T2を振ってT2/T1の割合を様々に変化させた点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製し、PRSNRを測定した。具体的には、第一情報層のAg反射層の膜厚を10nm、15nm、20nmと変化させ、それぞれについてT2を振ってT2/T1を求めた。
結果を図2に示すが、この図から分るように、T2/T1が2よりも小さいと第二情報層のPRSNRが急激に悪化し、T2/T1が8よりも大きいと第一情報層のPRSNRが急激に悪化した。
(Example 2)
Write-once two layers in the same manner as in Example 1 except that the ratio T2 / T1 was varied by changing the thickness T1 of the Ag reflective layer of the first information layer and the thickness T2 of the thermal diffusion layer IZO. A constituent optical recording medium was prepared and PRSNR was measured. Specifically, the thickness of the Ag reflective layer of the first information layer was changed to 10 nm, 15 nm, and 20 nm, and T2 / T1 was obtained by shaking T2 for each.
The results are shown in FIG. 2. As can be seen from FIG. 2, when T2 / T1 is smaller than 2, the PRSNR of the second information layer deteriorates rapidly, and when T2 / T1 is larger than 8, the first information layer PRSNR deteriorated rapidly.

(実施例3)
熱拡散層の膜厚を振った点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製し、PRSNRを測定した。
結果を図3に示すが、この図から分かるように、熱拡散層の膜厚が30nmよりも薄くなると第一情報層のPRSNRが急激に悪化し、90nmよりも厚くなると第二情報層のPRSNRが悪化した。
(Example 3)
A write-once two-layer optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the thermal diffusion layer was changed, and PRSNR was measured.
The results are shown in FIG. 3. As can be seen from this figure, the PRSNR of the first information layer rapidly deteriorates when the thickness of the thermal diffusion layer becomes thinner than 30 nm, and the PRSNR of the second information layer becomes thicker than 90 nm. Worsened.

(実施例4)
第一情報層の誘電体層の膜厚t1と第二情報層の誘電体層の膜厚t2をそれぞれ振った点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製し、PRSNR及び感度を測定した。結果を図4、図5に示す。感度は、パルステック社製ODU−1000を評価機として用い、消去パワーを3mWに固定し、記録パワーをそれぞれ振って、最も良好なPRSNR値を示す記録パワーを最適パワーとして図5の縦軸に示した。なお、これらの評価ではPRSNRが15未満、感度Pw(mW)が13mWを超える場合を規格外とした。
図4、図5から分かるように、t2/t1=0.7〜1.5又は4.5〜6.0の範囲において、第一情報層と第二情報層の両層で良好なPRSNRと感度を示した。しかし、これらの範囲を外れると、特に第二情報層の感度が悪くなり、PRSNR値も悪化した。これは主にZnSSiOのn、kと、その膜厚との関係から、反射率が高くなり過ぎて記録できる最適値から逸脱することに起因する。
Example 4
A write-once two-layer optical recording medium is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness t1 of the first information layer and the thickness t2 of the second information layer are varied. PRSNR and sensitivity were measured. The results are shown in FIGS. Sensitivity is measured using the ODU-1000 manufactured by Pulstec as an evaluation machine, the erasing power is fixed at 3 mW, the recording power is varied, and the recording power showing the best PRSNR value is shown as the optimum power on the vertical axis in FIG. Indicated. In these evaluations, the case where the PRSNR was less than 15 and the sensitivity Pw (mW) exceeded 13 mW was regarded as out of specification.
As can be seen from FIGS. 4 and 5, in the range of t2 / t1 = 0.7 to 1.5 or 4.5 to 6.0, good PRSNR is obtained in both the first information layer and the second information layer. Sensitivity was shown. However, outside these ranges, the sensitivity of the second information layer in particular deteriorated and the PRSNR value also deteriorated. This is mainly due to the fact that the reflectivity becomes too high and deviates from the optimum value that can be recorded from the relationship between n and k of ZnSSiO 2 and its film thickness.

(実施例5)
第一情報層の典型元素を含む化合物層の膜厚を0〜70nm、Re層の膜厚を5〜25nm、誘電体層の膜厚を10〜30nmとし、第二情報層の前記Re層の膜厚を5〜25nm、誘電体層の膜厚を10〜30nm又は90〜120nmとした点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製した。
これらの媒体は、HD DVD−R規格15以上を満たすPRSNR20〜30という値を示し、反射率についてもHD DVD−R規格4.5%以上を満たす5〜7%という良好な値を示した。また、感度も9〜11mWでの書き込みができるなど、良好な特性を示した。
なお、反射率が上昇すれば感度が悪化し、記録の際にはより大きなパワーを導入する必要があるが、大きなパワーで記録を行うと隣接マーク又は隣接トラックへ大きな影響を及ぼすことになる。これに起因してPRSNRが劣化するものと考えられる。
(Example 5)
The thickness of the compound layer containing the typical element of the first information layer is 0 to 70 nm, the thickness of the Re layer is 5 to 25 nm, the thickness of the dielectric layer is 10 to 30 nm, and the Re layer of the second information layer A write-once two-layer optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the film thickness was 5 to 25 nm and the film thickness of the dielectric layer was 10 to 30 nm or 90 to 120 nm.
These media showed a value of PRSNR 20-30 satisfying the HD DVD-R standard 15 or higher, and the reflectivity also showed a good value of 5-7% satisfying the HD DVD-R standard 4.5% or higher. In addition, good characteristics were exhibited such that the sensitivity could be written at 9 to 11 mW.
If the reflectance increases, the sensitivity deteriorates, and it is necessary to introduce a larger power during recording. However, if recording is performed with a large power, the adjacent mark or the adjacent track is greatly affected. It is considered that PRSNR deteriorates due to this.

(実施例6)
Re層のBiに、Al、Cr、Mn、Sc、In、Ru、Rh、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Pb、Mo、V、B及びNbの中から選ばれる一種以上の元素Mを含有させた点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製し、実施例1と同様にして評価した。
その結果、これらの元素を添加することにより更にPRSNR及び感度を改善できることが分った。
(Example 6)
Bi 2 O 3 of the Re layer includes Al, Cr, Mn, Sc, In, Ru, Rh, Co, Fe, Cu, Ni, Zn, Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Pb, and Mo. A write-once two-layered optical recording medium is prepared in the same manner as in Example 1 except that one or more elements M selected from V, B, and Nb are contained. evaluated.
As a result, it was found that PRSNR and sensitivity could be further improved by adding these elements.

(実施例7)
第一情報層及び第二情報層のZnSSiO層におけるZnSとSiOの割合を、70:30〜90:10の範囲で変えた点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製した。
これらの組成範囲では、HD DVD−R規格15以上を満たす良好なPRSNRを得ることができ、かつ第一情報層及び第二情報層が両層ともHD DVD−R規格4.5%以上を満たす適正な反射率を示し、良好な感度を示した。
上記組成比の範囲を外れると、その光学特性n、k値に関し、光記録媒体の構成層の各膜厚とその組み合わせにずれが生じてしまい、両情報層において良好な特性が得られなくなってしまうことが確かめられた。
(Example 7)
Write-once two-layer configuration in the same manner as in Example 1 except that the ratio of ZnS and SiO 2 in the ZnSSiO 2 layers of the first information layer and the second information layer was changed in the range of 70:30 to 90:10. An optical recording medium was produced.
In these composition ranges, a good PRSNR satisfying the HD DVD-R standard 15 or higher can be obtained, and both the first information layer and the second information layer satisfy the HD DVD-R standard 4.5% or higher. Appropriate reflectance was shown and good sensitivity was shown.
If the composition ratio is out of the range, the optical characteristics n and k values are shifted in the thicknesses and combinations of the constituent layers of the optical recording medium, and good characteristics cannot be obtained in both information layers. It was confirmed that.

(実施例8〜10)
第一情報層の典型元素を含む化合物層の材料を、実施例8;ZnS・SiO(80:20モル%)、実施例9;InO、実施例10;SnOに変え、膜厚を60nmとした点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製した。
これらの追記型2層構成光記録媒体について、実施例1と同様にしてPRSNRを測定したところ、実施例8〜10の何れについても、HD DVD−R規格15以上を満たす良好なPRSNRを得ることができた。また、第一情報層及び第二情報層が両層ともHD DVD−R規格4.5%以上を満たす適正な反射率を示し、良好な感度を示した。
但し、上記典型元素を含む化合物層を用いても、膜厚が70nmを超えると、その光学特性n、k値に関し、光記録媒体の構成層の各膜厚とその組み合わせにずれが生じてしまい、両情報層において良好な特性が得られなくなってしまうことが確かめられた。
(Examples 8 to 10)
The material of the compound layer containing the typical element of the first information layer was changed to Example 8; ZnS.SiO 2 (80:20 mol%), Example 9; InO 2 , Example 10; SnO 2 , and the film thickness was changed. A write-once two-layer optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 60 nm.
With respect to these write-once type two-layer optical recording media, the PRSNR was measured in the same manner as in Example 1. As a result, good PRSNR satisfying the HD DVD-R standard 15 or higher was obtained in any of Examples 8-10. I was able to. Further, both the first information layer and the second information layer showed an appropriate reflectance satisfying the HD DVD-R standard of 4.5% or more, and showed a good sensitivity.
However, even if a compound layer containing the above-described typical element is used, if the film thickness exceeds 70 nm, the optical characteristics n and k values are shifted in the respective film thicknesses of the constituent layers of the optical recording medium and the combinations thereof. It was confirmed that good characteristics could not be obtained in both information layers.

(実施例11)
Bi膜に、Al、Cr、Mn、Sc、In、Ru、Rh、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Pb、Mo、V、B、及びNbの中から選ばれる一種以上の元素Mを含有させた点以外は、実施例1と同様にして追記型2層構成光記録媒体を作製し、実施例1と同様にして評価した。
結果を表1に示すが、上記の種々の元素を添加することにより更にPRSNR及び感度を改善できることが分かる。
(Example 11)
Bi 2 O 3 film, Al, Cr, Mn, Sc, In, Ru, Rh, Co, Fe, Cu, Ni, Zn, Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Pb, Mo, V A write-once two-layer structure optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that one or more elements M selected from B, N, and Nb were contained, and evaluated in the same manner as in Example 1. did.
The results are shown in Table 1, and it can be seen that PRSNR and sensitivity can be further improved by adding the various elements described above.

熱拡散層の比抵抗とPRSNRの関係を示す図。The figure which shows the relationship between the specific resistance of a thermal-diffusion layer, and PRSNR. T2/T1とPRSNRの関係を示す図。The figure which shows the relationship between T2 / T1 and PRSNR. 熱拡散層の膜厚とPRSNRの関係を示す図。The figure which shows the relationship between the film thickness of a thermal-diffusion layer, and PRSNR. t2/t1とPRSNRの関係を示す図。The figure which shows the relationship between t2 / t1 and PRSNR. t2/t1と感度の関係を示す図。The figure which shows the relationship between t2 / t1 and a sensitivity. 本発明の追記型2層構成光記録媒体の一例を示す概略断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.

Claims (15)

レーザ光入射側から、少なくとも、第一情報層、中間層、第二情報層をこの順に有し、第一情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Biを主成分として含有する薄膜(Re層)、誘電体層、反射層、熱拡散層が積層形成され、第二情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Biを主成分として含有する薄膜(Re層)、誘電体層、反射層が積層形成されており、前記熱拡散層が、比抵抗1×10−1Ωcm以下の電気伝導性を有する酸化物を含有することを特徴とする追記型2層構成光記録媒体。 At least a first information layer, an intermediate layer, and a second information layer are provided in this order from the laser light incident side, and the first information layer is a thin film containing at least Bi as a main component in this order from the laser light irradiation side ( Re layer), a dielectric layer, a reflective layer, and a heat diffusion layer are laminated, and the second information layer is a thin film (Re layer) containing at least Bi as a main component in order from the laser light irradiation side, a dielectric layer A write-once two-layer optical recording medium, wherein a reflective layer is laminated, and the thermal diffusion layer contains an oxide having an electric conductivity of a specific resistance of 1 × 10 −1 Ωcm or less. 電気伝導性を有する酸化物が、IZO(In−ZnO)又はITO(In−SnO)の何れかであることを特徴とする請求項1記載の追記型2層構成光記録媒体。 The write-once two-layer structure light according to claim 1, wherein the electrically conductive oxide is either IZO (In 2 O 3 -ZnO) or ITO (In 2 O 3 -SnO 2 ). recoding media. 第一情報層の反射層の膜厚T1と熱拡散層の膜厚T2が、T2/T1=2〜8の範囲にあることを特徴とする請求項1又は2記載の追記型2層構成光記録媒体。   The write-once two-layer structure light according to claim 1 or 2, wherein the thickness T1 of the reflective layer of the first information layer and the thickness T2 of the thermal diffusion layer are in the range of T2 / T1 = 2-8. recoding media. 熱拡散層の膜厚が30〜90nmであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   The write-once two-layer optical recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermal diffusion layer has a thickness of 30 to 90 nm. 第一情報層の誘電体層の膜厚t1と第二情報層の誘電体層の膜厚t2が、t2/t1=0.7〜1.5の範囲にあることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   The thickness t1 of the dielectric layer of the first information layer and the thickness t2 of the dielectric layer of the second information layer are in the range of t2 / t1 = 0.7 to 1.5. The write-once two-layer structure optical recording medium according to any one of? 第一情報層の誘電体層の膜厚t1と第二情報層の誘電体層の膜厚t2が、t2/t1=4.5〜6.0の範囲にあることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   2. The thickness t1 of the dielectric layer of the first information layer and the thickness t2 of the dielectric layer of the second information layer are in the range of t2 / t1 = 4.5 to 6.0. The write-once two-layer structure optical recording medium according to any one of? 第一情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が10〜30nmであり、第二情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が10〜30nmであることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   The thickness of the Re layer of the first information layer is 5 to 25 nm, the thickness of the dielectric layer is 10 to 30 nm, the thickness of the Re layer of the second information layer is 5 to 25 nm, and the thickness of the dielectric layer is The write-once two-layer optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical recording medium has a thickness of 10 to 30 nm. 第一情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が10〜30nmであり、第二情報層のRe層の膜厚が5〜25nm、誘電体層の膜厚が90〜120nmであることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   The thickness of the Re layer of the first information layer is 5 to 25 nm, the thickness of the dielectric layer is 10 to 30 nm, the thickness of the Re layer of the second information layer is 5 to 25 nm, and the thickness of the dielectric layer is The write-once two-layer optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical recording medium has a thickness of 90 to 120 nm. 第一情報層のRe層よりも手前に、典型元素を含む化合物を主成分とする層(典型元素を含む化合物層)が積層形成されていることを特徴とする請求項1〜8の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   9. The layer according to claim 1, wherein a layer containing a compound containing a typical element as a main component (a compound layer containing a typical element) is formed before the Re layer of the first information layer. The write-once two-layer optical recording medium described in 1. 典型元素を含む化合物層の膜厚が70nm以下であることを特徴とする請求項9記載の追記型2層構成光記録媒体。   The write-once two-layer optical recording medium according to claim 9, wherein the thickness of the compound layer containing a typical element is 70 nm or less. Re層が、Bi酸化物を主成分とするものであることを特徴とする請求項1〜10の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   The write-once two-layer optical recording medium according to claim 1, wherein the Re layer is mainly composed of Bi oxide. Re層が、Al、Cr、Mn、Sc、In、Ru、Rh、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Pb、Mo、V、B及びNbの中から選ばれる一種以上の元素Mを含有することを特徴とする請求項1〜11の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   Re layer is Al, Cr, Mn, Sc, In, Ru, Rh, Co, Fe, Cu, Ni, Zn, Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Pb, Mo, V, B and The write-once two-layer structure optical recording medium according to any one of claims 1 to 11, comprising at least one element M selected from Nb. 誘電体層がZnSとSiOを主成分として含むことを特徴とする請求項1〜12の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。 The write-once two-layer optical recording medium according to claim 1, wherein the dielectric layer contains ZnS and SiO 2 as main components. ZnSとSiOの配合割合が、70:30〜90:10(モル%)の範囲にあることを特徴とする請求項13記載の追記型2層構成光記録媒体。 The mixing ratio of ZnS and SiO 2 is 70: 30 to 90: 10 (mol%) write-once two-layer optical recording medium according to claim 13, wherein a is in the range of. 典型元素を含む化合物層の典型元素がZn、In、Al及びSnの中から選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする請求項1〜14の何れかに記載の追記型2層構成光記録媒体。   The write-once two-layer structure according to any one of claims 1 to 14, wherein the typical element of the compound layer containing the typical element is one or more elements selected from Zn, In, Al, and Sn. Optical recording medium.
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