JP2007270097A - High refractive index resin composition - Google Patents

High refractive index resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP2007270097A
JP2007270097A JP2006101108A JP2006101108A JP2007270097A JP 2007270097 A JP2007270097 A JP 2007270097A JP 2006101108 A JP2006101108 A JP 2006101108A JP 2006101108 A JP2006101108 A JP 2006101108A JP 2007270097 A JP2007270097 A JP 2007270097A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
ultrafine particles
resin composition
refractive index
titanium oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006101108A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4749200B2 (en
Inventor
Tomonori Iijima
朋範 飯島
Toyoji Hayashi
豊治 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2006101108A priority Critical patent/JP4749200B2/en
Publication of JP2007270097A publication Critical patent/JP2007270097A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4749200B2 publication Critical patent/JP4749200B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating-type inorganic oxide ultrafine particle having a high refractive index, and excellent transparency, dispersibility, light resistance, weather resistance, or the like; sol with the ultrafine particle dispersed in water or an organic solvent; a high refractive index transparent resin composition and an optical material each with the ultrafine particle dispersed therein in high concentration; and to further provide a material for optical components including an optical lens (such as a spectacle lens, a Fresnel lens, a pickup lens for information recording equipment such as a CD and a DVD, and a lens for photographing equipment such as a digital camera), an optical prism, an optical waveguide, an optical fiber, a thin film molded product, an optical adhesive, an optical semiconductor sealing material, diffraction grating, a light guide plate, a liquid crystal substrate, a light reflection plate, and an antireflection material. <P>SOLUTION: The resin composition has a rutile-type titanium dioxide ultrafine particle having a refractive index of 1.5 to 2.8, as a nucleus, and contains a coating-type inorganic oxide ultrafine particle with a coating layer made of a silicon oxide formed thereon by using a specific technique. The optical components containing the resin composition are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、優れた透明性、高い屈折率を有し、光学部材として用いられる新規な樹脂組成物に関する。詳しくは、透明性、分散性、耐光性、耐候性等に優れた高屈折率の無機酸化物超微粒子、該超微粒子が水あるいは有機溶媒に分散してなるゾル液及び、該超微粒子を高濃度に透明樹脂等の有機物質へ分散させてなる高屈折率の透明樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a novel resin composition having excellent transparency and a high refractive index and used as an optical member. Specifically, high-refractive-index inorganic oxide ultrafine particles excellent in transparency, dispersibility, light resistance, weather resistance, etc., a sol solution in which the ultrafine particles are dispersed in water or an organic solvent, and the ultrafine particles are highly concentrated. The present invention relates to a transparent resin composition having a high refractive index which is dispersed in an organic substance such as a transparent resin at a concentration.

無機ガラスは、透明性に優れているなどの諸物性に優れており、光学部材として広い分野で用いられている。しかしながら、重くて破損しやすいこと、加工性、生産性が悪い等の短所があり、無機ガラスに代わる素材として透明光学用樹脂の開発が盛んに行われている。アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル系樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂に代表される非晶性熱可塑性樹脂、あるいはエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の硬化性樹脂は、可視領域波長における良好な透明性を有し、しかも無機ガラス材料に比べて成形性、量産性、あるいは可撓性、強靱性、耐衝撃性等の優れた特徴を有する汎用透明樹脂材料である。このような透明樹脂材料に高い屈折率を付与することによって、薄肉軽量な光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板、反射防止材等の高屈折光学部材の材料等への展開が期待されている。   Inorganic glass is excellent in various physical properties such as excellent transparency, and is used in a wide field as an optical member. However, it is disadvantageous in that it is heavy and easily damaged, and the workability and productivity are poor. Thus, transparent optical resins have been actively developed as a material to replace inorganic glass. Non-represented by acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, polyester resin, olefin resin, alicyclic acrylic resin, alicyclic olefin resin, polyurethane resin, polyether resin, polyamide resin, polyimide resin A curable resin such as a crystalline thermoplastic resin, or an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, or a silicone resin has good transparency in the visible region wavelength, and has a moldability, mass productivity, or It is a general-purpose transparent resin material having excellent characteristics such as flexibility, toughness and impact resistance. By providing such a transparent resin material with a high refractive index, a thin and light optical lens (glass lens, Fresnel lens, pickup lens in information recording equipment such as CD and DVD, lens for photographing equipment such as a digital camera, etc.) , Optical prisms, optical waveguides, optical fibers, thin film moldings, optical adhesives, optical semiconductor sealing materials, diffraction gratings, light guide plates, liquid crystal substrates, light reflectors, antireflective materials, etc. Expansion to is expected.

例えば、眼鏡レンズ分野においては、ファッション性豊かなニーズに対応するためには、レンズの中心厚、コバ厚、および曲率を下げ、全体的に肉薄であることが必要である。この点から、ますます高い屈折率 が求められている。近年、硫黄、ハロゲン元素等の原子番号の大きな元素を含有するモノマーを用いることによる高屈折率化が積極的に研究されている。例えばチオール化合物とイソシアネート化合物を熱重合しチオウレタン結合を形成して得られる樹脂(nd=1.60〜1.67程度)、エピスルフィド、エピチオスルフィド化合物を重合硬化してなる樹脂(nd=1.7程度)(特許文献1)などがある。同様に、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式アクリル樹脂、脂環式オレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂に代表される非晶性熱可塑性樹脂、あるいはエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の硬化性樹脂などの汎用透明樹脂の高屈折率化、特に屈折率1.7以上の高屈折率樹脂が強く求められている。しかし、有機樹脂の屈折率は使用される元素、分子構造により決まるため、このようなハロゲン元素あるいは硫黄元素の導入によっても高くなるが、通常1.4〜1.7程度の範囲が限度である。 For example, in the field of spectacle lenses, in order to meet the needs of fashionableness, it is necessary to reduce the center thickness, edge thickness, and curvature of the lens, and to be thin overall. From this point, higher refractive index is required. In recent years, research into increasing the refractive index by using a monomer containing an element having a large atomic number such as sulfur or a halogen element has been actively conducted. For example, a resin (n d = 1.60 to 1.67) obtained by thermal polymerization of a thiol compound and an isocyanate compound to form a thiourethane bond, a resin obtained by polymerizing and curing an episulfide or epithiosulfide compound (n d = About 1.7) (Patent Document 1). Similarly, non-represented by acrylic resins, styrene resins, polycarbonate resins, polyester resins, olefin resins, alicyclic acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyurethane resins, polyether resins, polyamide resins, and polyimide resins. There is a strong demand for higher refractive index of general-purpose transparent resin such as crystalline thermoplastic resin or curable resin such as epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, especially high refractive index resin having a refractive index of 1.7 or more. Yes. However, since the refractive index of the organic resin is determined by the element used and the molecular structure, it can be increased by the introduction of such a halogen element or sulfur element, but the range is usually about 1.4 to 1.7. .

また例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などアクリル系樹脂を利用したポリマー光ファイバーについては、コア部(光ファイバー断面における中心部)はクラッド部(同外周部)よりも高屈折率とすることで、この屈折率差が大きいほど光が伝播可能な最大角度に対応する開口数を大きくすることができる。   Also, for example, for a polymer optical fiber using an acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), the refractive index of the core part (center part in the optical fiber cross section) is higher than that of the cladding part (same outer peripheral part). As the rate difference is larger, the numerical aperture corresponding to the maximum angle at which light can propagate can be increased.

また例えば、発光ダイオードでは発光素子部をエポキシ樹脂などで封止している。一般に半導体素子部を構成している半導体の屈折率は非常に高く、接している物質の屈折率が低ければ臨界角も小さく全反射が起こりやすい。そのため、より屈折率の高い物質で発光素子をつつむことで全反射の起こる角度を大きくでき、その分外部での光束取り出し効率が向上する。   For example, in a light emitting diode, a light emitting element portion is sealed with an epoxy resin or the like. In general, the refractive index of a semiconductor constituting the semiconductor element portion is very high. If the refractive index of a substance in contact with the semiconductor element portion is low, the critical angle is small and total reflection tends to occur. Therefore, the angle at which the total reflection occurs can be increased by sandwiching the light emitting element with a material having a higher refractive index, and the light beam extraction efficiency is improved accordingly.

さらには、例えば光ファイバーや光導波路 、一部のレンズのように、異なる屈折率を有する複数の材料を併用したり、屈折率に分布を有する材料の開発も望まれている。これらの材料に対応するためには、屈折率を任意に調節できることが不可欠となる。   Furthermore, it is also desired to develop a material having a plurality of materials having different refractive indexes, such as an optical fiber, an optical waveguide, and some lenses, or having a distribution in the refractive index. In order to cope with these materials, it is indispensable to arbitrarily adjust the refractive index.

このように光学部材に用いられる樹脂、例えばアクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式アクリル樹脂、脂環式オレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等に代表される熱可塑性樹脂、あるいはエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の硬化性樹脂、さらには上記特許文献1記載ような硫黄、ハロゲン元素等の原子番号の大きな元素を含有するモノマーを重合してなる樹脂等の高屈折率化が強く望まれている。   Thus, resins used for optical members, such as acrylic resins, styrene resins, polycarbonate resins, polyester resins, olefin resins, alicyclic acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyurethane resins, polyether resins, polyamide resins In addition, a thermoplastic resin typified by a polyimide resin or the like, or a curable resin such as an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, or a silicone resin, or an element having a large atomic number such as sulfur or a halogen element as described in Patent Document 1 above. It is strongly desired to increase the refractive index of a resin obtained by polymerizing the contained monomer.

近年、樹脂の高屈折率化を目的として、Zr、Sn、Sb、Mo、In、Zn、Ti等の結晶構造を有する屈折率の高い透明性無機酸化物微粒子あるいはそれらの複合酸化物を、分散状態を保ったまま樹脂中に導入して、無色透明な高屈折率樹脂を形成する技術が提案されている。このような用途に用いるためには高分散性や透明性が要求されるため、無機酸化物は超微粒子であることが望ましい。   In recent years, for the purpose of increasing the refractive index of resins, transparent inorganic oxide fine particles having a high refractive index having a crystal structure such as Zr, Sn, Sb, Mo, In, Zn, Ti, or composite oxides thereof have been dispersed. A technique for forming a colorless and transparent high refractive index resin by introducing it into the resin while maintaining the state has been proposed. Since high dispersibility and transparency are required for use in such applications, the inorganic oxide is preferably ultrafine particles.

しかしながら、上記の技術では、強度などを保持できるマトリックス量を用いながら高い屈折率の樹脂を設計することは、未だ不十分であった。屈折率を上げようと微粒子の含有量が多すぎると樹脂が脆弱となってしまうからである。   However, in the above technique, it has not been sufficient to design a resin having a high refractive index while using a matrix amount that can maintain strength and the like. This is because if the content of fine particles is too large to increase the refractive index, the resin becomes brittle.

そこで酸化チタン微粒子を用いる方法が提案されている。酸化チタンは特に屈折率が高く、かつ透明性も高いため、他微粒子に比べて少ない量で樹脂の高屈折率化が可能である。酸化チタンには代表的な結晶型としてルチル型とアナターゼ型とがある。これまで高屈折率用の金属酸化物超微粒子ゾル液として、屈折率no=2.56、ne=2.49を有するアナターゼ型酸化チタン超微粒子を主成分とした材料が、主に用いられている。これに対し、ルチル型酸化チタンはその屈折率が屈折率no=2.61、ne=2.9(no:常光線に対する屈折率、ne:異常光線に対する屈折率)(実験科学講座 日本化学会編)であり、アナターゼ型に比べて高屈折率、紫外線吸収といった光学特性などに優れていることが知られており、このルチル型酸化チタン超微粒子、及びゾル液を合成する試みが積極的に行われていた。しかしながら、産業的に用い得るルチル型酸化チタン超微粒子、及びゾル液は未だ得られていないのが現状であった。例えばJpn. J. Appl. Phys., 37, 4603 (1998)に報告されているように、長繊維状のルチル型酸化チタンが寄せ集まった凝集粒子径200〜400nmの凝集体が生成するが、このままでは産業的には利用不可能であった。   Therefore, a method using titanium oxide fine particles has been proposed. Since titanium oxide has a particularly high refractive index and high transparency, the resin can have a high refractive index in a smaller amount than other fine particles. Titanium oxide includes a rutile type and an anatase type as typical crystal types. So far, materials mainly composed of anatase-type titanium oxide ultrafine particles having a refractive index no = 2.56 and ne = 2.49 have been mainly used as high refractive index metal oxide ultrafine particle sol solutions. Yes. On the other hand, the refractive index of rutile-type titanium oxide has a refractive index no = 2.61, ne = 2.9 (no: refractive index for ordinary light, ne: refractive index for extraordinary light) (Chemical Society of Japan, Experimental Science) It is known that the optical properties such as high refractive index and ultraviolet absorption are superior to those of anatase type, and attempts to synthesize the rutile titanium oxide ultrafine particles and sol liquid are positive. It was done. However, the rutile type titanium oxide ultrafine particles and sol liquid that can be used industrially have not been obtained yet. For example, as reported in Jpn. J. Appl. Phys., 37, 4603 (1998), an aggregate having an aggregate particle diameter of 200 to 400 nm in which long-fiber rutile titanium oxide is gathered is produced. In this situation, it was impossible to use industrially.

一方、有機マトリックスと酸化チタン微粒子からなる樹脂は、その耐光性が低下するという欠点があった。すなわち、酸化チタンの光触媒作用により、光吸収で発生した電子−ホールによる有機物分解を起こし、透明性、耐光性、耐候性、耐熱性、紫外線遮蔽性等が大きな問題となっている。   On the other hand, a resin composed of an organic matrix and titanium oxide fine particles has a drawback that its light resistance is lowered. That is, due to the photocatalytic action of titanium oxide, organic matter decomposition due to electron-holes generated by light absorption occurs, and transparency, light resistance, weather resistance, heat resistance, ultraviolet shielding properties, and the like are serious problems.

現在ではこのようなアナターゼ型酸化チタン超微粒子を含有する樹脂組成物の耐光性を改善させる目的で、例えば特許文献2記載のようなアナターゼ型酸化チタンと無機酸化物を複合した超微粒子、あるいはアナターゼ型酸化チタンを無機酸化物で被覆した超微粒子及びそのゾル液が適用されている。   At present, for the purpose of improving the light resistance of a resin composition containing such anatase-type titanium oxide ultrafine particles, for example, ultrafine particles combining anatase-type titanium oxide and an inorganic oxide as described in Patent Document 2, or anatase Ultrafine particles obtained by coating type titanium oxide with an inorganic oxide and sol liquids thereof are applied.

これらはいずれも無機酸化物被覆によるアナターゼ型酸化チタン超微粒子の不活性化を目標としたものである。このように酸化チタン超微粒子を無機酸化物で被覆することで耐光性は改善される。しかし、周辺有機物劣化による変色や退色、硬度の低下等、長期間にわたる耐光安定性を満足し得るものではなかった。さらには用いる金属によっては着色が見られるといった問題があった。また、使用されている酸化チタンはアナターゼ型であるために、屈折率が約2.5であり、耐光性向上のために酸化物で被覆した場合には大幅に屈折率が低下してしまい、本来のアナターゼ型酸化チタンの屈折率よりは低くなり、樹脂組成物の屈折率を向上させる効果は低い。また、被覆する金属酸化物の量を減らし屈折率を上げたとしても耐光性が不十分となり、樹脂組成物の透明性、耐熱性、紫外線遮蔽性などが問題となっている。   All of these are aimed at inactivating the anatase-type titanium oxide ultrafine particles by coating with an inorganic oxide. Thus, light resistance is improved by coat | covering a titanium oxide ultrafine particle with an inorganic oxide. However, it has not been able to satisfy long-term light stability such as discoloration and fading due to deterioration of surrounding organic substances, and a decrease in hardness. Furthermore, there was a problem that coloring was observed depending on the metal used. In addition, since the titanium oxide used is anatase type, the refractive index is about 2.5, and when coated with an oxide to improve light resistance, the refractive index is greatly reduced, The refractive index is lower than the original anatase-type titanium oxide, and the effect of improving the refractive index of the resin composition is low. Further, even if the amount of the metal oxide to be coated is reduced and the refractive index is increased, the light resistance is insufficient, and the transparency, heat resistance, ultraviolet shielding property, etc. of the resin composition are problematic.

これに対して従来のアナターゼ型酸化チタンより屈折率の高いルチル型酸化チタンは、前記した通り、用い得る超微粒子、ゾル液が無いのが現状であった。   On the other hand, the rutile type titanium oxide having a higher refractive index than the conventional anatase type titanium oxide, as described above, has no ultrafine particles and sol liquid that can be used.

同様に透明性、分散性、耐光性、耐候性等に優れた高屈折率の超微粒子、ゾル液が薄肉軽量な光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板、反射防止材等の高屈折光学部材の材料等だけでなくプラスチック劣化防止添加剤、化粧品添加剤、自動車用窓ガラス、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ELディスプレイ、光学フィルター等の光学部材、金属材料、セラミックス材料、ガラス材料、プラスチック材料、光触媒などといった製品分野でも求められている。
特開平9−110956号 特開2001−123115号公報
Similarly, high-refractive-index ultrafine particles excellent in transparency, dispersibility, light resistance, weather resistance, etc., and thin and light optical lenses (glass lenses, Fresnel lenses, CDs, DVDs, and other pickup lenses in information recording equipment) , Lenses for photographic equipment such as digital cameras, etc.), optical prisms, optical waveguides, optical fibers, thin film moldings, optical adhesives, optical semiconductor sealing materials, diffraction gratings, light guide plates, liquid crystal substrates, light reflectors, reflections Not only high-refractive optical member materials such as prevention materials, but also plastic deterioration prevention additives, cosmetic additives, automotive window glass, plasma displays, liquid crystal displays, EL displays, optical filters and other optical members, metal materials, ceramic materials , Glass materials, plastic materials, photocatalysts, etc. are also required.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-110956 JP 2001-123115 A

本発明の目的は上記実状を鑑みて成し遂げられたものであり、高屈折率で透明性、分散性、耐光性、耐候性等に優れた被覆型無機酸化物超微粒子、該超微粒子が水あるいは有機溶媒に分散してなるゾル液、及び当該超微粒子を高濃度に分散させてなる高屈折率樹脂組成物及び光学部材を提供することにある。特に、薄肉軽量な光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板、反射防止材等の光学部材の材料を提供することにある。   The object of the present invention has been achieved in view of the above circumstances, and is a coated inorganic oxide ultrafine particle having a high refractive index and excellent transparency, dispersibility, light resistance, weather resistance, etc., and the ultrafine particle is water or The object is to provide a sol solution dispersed in an organic solvent, a high refractive index resin composition and an optical member obtained by dispersing the ultrafine particles in a high concentration. In particular, thin and light optical lenses (glass lenses, Fresnel lenses, pickup lenses in information recording equipment such as CDs and DVDs, lenses for photographing equipment such as digital cameras, etc.), optical prisms, optical waveguides, optical fibers, thin film moldings, optical It is to provide materials for optical members such as adhesives for optical semiconductors, sealing materials for optical semiconductors, diffraction gratings, light guide plates, liquid crystal substrates, light reflection plates, and antireflection materials.

本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討を行った結果、焼結剤として用いられるスズ化合物が長繊維化を防止すると共に凝集も防止し、スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子、透明性、分散性等に優れたゾル液が得られることを見出し、さらにこれを核超微粒子とし、特定の方法でケイ素酸化物を含む被覆層を設けることによって透明性、分散性、耐光性、耐候性等に優れた高屈折率の平均粒子径が1〜100nmの被覆型無機酸化物超微粒子、分散性に優れたゾル液が得られることを見出した。そして、当該超微粒子を樹脂中に高濃度に分散することにより、従来のアナターゼ型酸化チタンを用いた場合では得られなかった高屈折率、透明性、耐光性、耐候性、耐熱性、成形加工性等に優れた樹脂組成物、特に薄肉軽量な光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板、反射防止材等の光学部材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that tin compounds used as a sintering agent prevent long fiber formation and aggregation, and tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles. It was found that a sol solution excellent in transparency, dispersibility, etc. was obtained, and this was made into a core ultrafine particle, and by providing a coating layer containing silicon oxide by a specific method, transparency, dispersibility, light resistance The present inventors have found that coated inorganic oxide ultrafine particles having a high refractive index and an average particle diameter of 1 to 100 nm excellent in weather resistance and the like, and a sol liquid excellent in dispersibility can be obtained. And, by dispersing the ultrafine particles in a high concentration in the resin, high refractive index, transparency, light resistance, weather resistance, heat resistance, molding processing that could not be obtained when using conventional anatase type titanium oxide Resin compositions with excellent properties, especially thin and light optical lenses (glass lenses, Fresnel lenses, pickup lenses in information recording equipment such as CDs and DVDs, lenses for photographing equipment such as digital cameras), optical prisms, optical waveguides , Found that optical members such as optical fibers, thin film moldings, optical adhesives, sealing materials for optical semiconductors, diffraction gratings, light guide plates, liquid crystal substrates, light reflectors, and antireflection materials can be obtained and completed the present invention It came to do.

即ち、
[1] 屈折率が1.5〜2.8であるルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子を核(A)とし、ケイ素酸化物を含む被覆層(B)から構成される無機酸化物被覆層を有する被覆型無機酸化物超微粒子を含有してなる樹脂組成物。
[2] 前記核(A)のルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子中のルチル型酸化チタン超微粒子が、
チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られ、Sn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であり、
前記(B)のケイ素酸化物を含む被覆層が、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られる被覆層を有し、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆型無機酸化物超微粒子である[1]記載の樹脂組成物。
(1)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(A)と反応させる工程
(2)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程
[3] 前記の被覆型無機酸化物超微粒子の結晶径の短軸、長軸が2〜20nmである[1]又は[2]記載の樹脂組成物。
[4] 前記の被覆型無機酸化物超微粒子からなる凝集体の平均凝集粒子径が、10〜100nmである[1]〜[3]の何れかに記載の樹脂組成物。
[5] 前記の被覆型無機酸化物超微粒子が、水あるいは有機溶媒に分散してなるゾルを用いることを特徴とする[1]〜[4]の何れかに記載の樹脂組成物。
[6] 前記の被覆型無機酸化物超微粒子の表面が有機ケイ素化合物またはアミン類で処理されていることを特徴とする[1]〜[5]の何れかに記載の樹脂組成物。
[7] 屈折率が1.5〜2.8である[1]〜[6]の何れかに記載の樹脂組成物。
[8] [1]〜[7]の何れかに記載の樹脂組成物を含んでなる光学部材。
[9] 光学レンズ、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤又は光半導体用封止材料に用いることを特徴とする、[8]記載の光学部材。
に関するものである。
That is,
[1] An inorganic oxide ultrafine particle containing titanium oxide having a rutile crystal structure with a refractive index of 1.5 to 2.8 is used as a nucleus (A), and is composed of a coating layer (B) containing silicon oxide. A resin composition comprising coated inorganic oxide ultrafine particles having an inorganic oxide coating layer.
[2] Rutile-type titanium oxide ultrafine particles in inorganic oxide ultrafine particles containing titanium oxide having a rutile-type crystal structure of the nucleus (A),
In the presence of a tin compound having a molar ratio of tin to titanium (Sn / Ti) of 0.001 to 2, a titanium compound aqueous solution having a Ti concentration of 0.07 to 5 mol / l is reacted in a pH range of −1 to 3. Obtained tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles having a Sn / Ti composition molar ratio of 0.001 to 0.5,
The coating layer containing silicon oxide (B) is of a two-layer coating type, the inner layer has a coating layer obtained by the step (1), and the outer layer is obtained by the step (2), it is a coating-type inorganic oxide ultrafine particles, wherein the weight ratio of the oxide coating layer is 0.001 to 20 in terms of SiO 2 [1] resin composition.
(1) Step of reacting silicon oxide having a weight ratio with respect to the nucleus (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the nucleus (A) under the condition of pH <7 (2) with respect to the nucleus (A) The step of reacting the silicon oxide having a weight ratio of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the coated ultrafine particles obtained in (1) under the condition of pH ≧ 7 [3] The coated inorganic oxide The resin composition according to [1] or [2], wherein the ultrafine particles have a minor axis and a major axis of 2 to 20 nm.
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3], wherein an average aggregate particle diameter of the aggregate composed of the coated inorganic oxide ultrafine particles is 10 to 100 nm.
[5] The resin composition according to any one of [1] to [4], wherein a sol obtained by dispersing the coated inorganic oxide ultrafine particles in water or an organic solvent is used.
[6] The resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the surface of the coated inorganic oxide ultrafine particles is treated with an organosilicon compound or an amine.
[7] The resin composition according to any one of [1] to [6], which has a refractive index of 1.5 to 2.8.
[8] An optical member comprising the resin composition according to any one of [1] to [7].
[9] The optical member according to [8], which is used for an optical lens, an optical prism, an optical waveguide, an optical fiber, a thin film molding, an optical adhesive, or an optical semiconductor sealing material.
It is about.

本発明のスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子は、従来の製法では成し得なかったものであり、かつアナターゼ型では得られない高屈折率の超微粒子、ゾル液を提供することが出来る。このスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子を核超微粒子とし、特定の方法でケイ素酸化物を含む被覆層を設けることによって、従来の被覆法では得られなかった透明性、分散性、耐光性、耐候性等に優れた高屈折率の被覆型無機酸化物超微粒子を提供することが出来る。これらの得られた超微粒子、ゾル液を光学部材に適用した場合に、透明性、耐光性、耐候性、耐熱性、成形加工性等に優れた高屈折率樹脂組成物及びそれを用いた光学部材を提供することが可能になった。   The tin-modified rutile type titanium oxide ultrafine particles of the present invention can be provided as ultrafine particles and sol liquid having a high refractive index that cannot be obtained by the conventional production method and that cannot be obtained by the anatase type. Using this tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particle as a nuclear ultrafine particle, and providing a coating layer containing silicon oxide by a specific method, transparency, dispersibility, light resistance, weather resistance that could not be obtained by conventional coating methods It is possible to provide a coated inorganic oxide ultrafine particle having a high refractive index and excellent in properties and the like. High-refractive index resin composition excellent in transparency, light resistance, weather resistance, heat resistance, molding processability, etc. when these obtained ultrafine particles and sol solution are applied to an optical member, and optical using the same It became possible to provide components.

以下、本発明についてさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

本願発明における樹脂組成物は、(1)屈折率が1.5〜2.8である、ルチル型の結晶構造を有する酸化チタン超微粒子を核微粒子とし、当該核微粒子とケイ素酸化物を含む被覆層から構成される被覆型無機酸化物超微粒子またはそのゾル、当該超微粒子を含有してなる樹脂組成物、である。   The resin composition according to the present invention is a coating comprising (1) ultrafine titanium oxide particles having a rutile crystal structure having a refractive index of 1.5 to 2.8 as core particles, and the core particles and silicon oxide. Coated inorganic oxide ultrafine particles composed of layers or a sol thereof, and a resin composition containing the ultrafine particles.

即ち、
屈折率が1.5〜2.8であるルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子を核(A)とし、ケイ素酸化物を含む被覆層(B)から構成される無機酸化物被覆層を有する被覆型無機酸化物超微粒子を含有してなる樹脂組成物、であって、
前記核(A)のルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子中のルチル型酸化チタン超微粒子が、
チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られ、Sn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であり、
前記(B)のケイ素酸化物を含む被覆層が、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られる被覆層を有し、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆型無機酸化物超微粒子である、前記樹脂組成物、である。
(1)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(A)と反応させる工程
(2)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程
That is,
Inorganic oxidation composed of a coating layer (B) containing silicon oxide with an inorganic oxide ultrafine particle containing titanium oxide having a rutile crystal structure having a refractive index of 1.5 to 2.8 as a nucleus (A) A resin composition comprising coated inorganic oxide ultrafine particles having a material coating layer,
The rutile type titanium oxide ultrafine particles in the inorganic oxide ultrafine particles containing titanium oxide having the rutile type crystal structure of the nucleus (A),
In the presence of a tin compound having a molar ratio of tin to titanium (Sn / Ti) of 0.001 to 2, a titanium compound aqueous solution having a Ti concentration of 0.07 to 5 mol / l is reacted in a pH range of −1 to 3. Obtained tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles having a Sn / Ti composition molar ratio of 0.001 to 0.5,
The coating layer containing silicon oxide (B) is of a two-layer coating type, the inner layer has a coating layer obtained by the step (1), and the outer layer is obtained by the step (2), The resin composition, which is a coated inorganic oxide ultrafine particle, wherein the weight ratio of the oxide coating layer is 0.001 to 20 in terms of SiO 2 .
(1) Step of reacting silicon oxide having a weight ratio with respect to the nucleus (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the nucleus (A) under the condition of pH <7 (2) with respect to the nucleus (A) The step of reacting the silicon oxide having a weight ratio of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the coated ultrafine particles obtained in (1) under the condition of pH ≧ 7

前述の通り、ルチル型はアナターゼ型に比べてより高い屈折率を有するため、超微粒子化したルチル型酸化チタンを用いることで、より高屈折率化が可能となる。さらに、樹脂の透明性等を損なわないためには、ルチル型酸化チタンは超微粒子である必要がある。   As described above, since the rutile type has a higher refractive index than the anatase type, it is possible to achieve a higher refractive index by using ultrafine particles of rutile type titanium oxide. Furthermore, in order not to impair the transparency of the resin, the rutile titanium oxide needs to be ultrafine particles.

本発明における、ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子、とは、上記のように、超微粒子化したルチル型酸化チタンを含んでいればよく、ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンとの複合体であっても、ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを被覆するような形状であってもよく、特に制限はないが、通常、当該無機酸化物超微粒子中、ルチル型酸化チタンの割合は5〜100%(重量比)、好ましくは、50〜100%、さらに好ましくは70〜100%である。   In the present invention, the inorganic oxide ultrafine particles containing titanium oxide having a rutile-type crystal structure, as long as it contains rutile-type titanium oxide formed into ultrafine particles as described above, the rutile-type crystal structure Even if it is a complex with a titanium oxide having a rutile crystal structure, it may be a shape that covers a titanium oxide having a rutile type crystal structure, and is not particularly limited. The ratio of rutile type titanium oxide is 5 to 100% (weight ratio), preferably 50 to 100%, and more preferably 70 to 100%.

また、超微粒子化したルチル型酸化チタン以外の成分については、本発明の超微粒子の分散安定性を損なわないものであればよく、また本発明の樹脂の透明性を損なわないものであればよく、特に制限はないが、中でも無機酸化物が望ましい。具体的には、例えば、Al、Si、V、Fe、Zn、Zr、Nb、Mo、Sn、Sb、W等の酸化物が挙げられ、好ましくは、Al、Si、Zr、Sn、Sbの酸化物である。   In addition, components other than ultrafine particles of rutile-type titanium oxide may be used as long as they do not impair the dispersion stability of the ultrafine particles of the present invention, and may be those that do not impair the transparency of the resin of the present invention. Although there is no particular limitation, an inorganic oxide is preferable. Specific examples include oxides such as Al, Si, V, Fe, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Sb, and W, and preferably oxidation of Al, Si, Zr, Sn, and Sb. It is a thing.

本発明において、好適な、ルチル型酸化チタン超微粒子を核微粒子とし、当該核微粒子とケイ素酸化物を含む被覆層から構成される被覆型無機酸化物超微粒子としては、より具体的には、ルチル型酸化チタン超微粒子が、チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であって、該超微粒子のSn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であり、且つ結晶径の短軸、長軸が2〜20nm、超微粒子凝集体の結晶の平均凝集粒子径が、10〜100nmであることを特徴とするスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子を核微粒子とし、当該核微粒子とケイ素酸化物を含む被覆層から構成される被覆型無機酸化物超微粒子である。   In the present invention, a preferable rutile type titanium oxide ultrafine particle is a core fine particle, and the coated inorganic oxide ultrafine particle composed of a coating layer containing the core fine particle and silicon oxide is more specifically, rutile. Type titanium oxide ultrafine particles, in the presence of a tin compound having a molar ratio of tin to titanium (Sn / Ti) of 0.001 to 2, a titanium compound aqueous solution having a Ti concentration of 0.07 to 5 mol / l has a pH of −1 to 1. Tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles obtained by reacting in the range of 3, the Sn / Ti composition molar ratio of the ultrafine particles being 0.001 to 0.5, and the short axis and long of the crystal diameter Tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles characterized in that the axis is 2 to 20 nm and the average aggregate particle diameter of the ultrafine particle aggregate crystals is 10 to 100 nm are used as the core fine particles. Is a coating-type inorganic oxide ultrafine particles composed of uncoated layer.

なお、ここで言う結晶径とは、いわゆる一次粒子径のことであって、化学便覧改訂3版(基礎編 丸善株式会社)記載のようにa、c軸方向長さで表現される。本明細書ではそれぞれ短軸、長軸と呼ぶ。また、平均凝集粒子径とは、一次粒子が凝集してなる粒子径を表す。   The crystal diameter referred to here is a so-called primary particle diameter, and is expressed by the lengths in the a and c axis directions as described in Chemical Handbook Revision 3 (Basic Edition Maruzen Co., Ltd.). In this specification, they are called a short axis and a long axis, respectively. Moreover, the average aggregated particle diameter represents a particle diameter obtained by aggregating primary particles.

まず、スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子の製造法について説明する。   First, a method for producing tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles will be described.

本発明において用いられるスズ化合物としては、特に限定されるものではないが、具体的には例えば塩化スズ、硝酸スズ、硫酸スズ、スズ酸塩などのスズ塩化合物あるいは酸化物、水酸化物、金属スズ等から選ばれるスズ化合物等が好ましいものとして挙げられる。   The tin compound used in the present invention is not particularly limited, but specifically, for example, a tin salt compound such as tin chloride, tin nitrate, tin sulfate, stannate, or an oxide, hydroxide, metal Preferred examples include tin compounds selected from tin and the like.

本発明において用いられるチタン化合物としては、特に限定されるものではないが、具体的には例えば、塩化酸化チタン、硫酸チタン、硝酸チタン、チタンアルコキシド、水和酸化チタン(あらかじめチタン化合物をアルカリ条件で加水分解させたものも含む)などから選ばれるチタン化合物等が好ましいものとして挙げられる。   The titanium compound used in the present invention is not particularly limited. Specifically, for example, titanium chloride oxide, titanium sulfate, titanium nitrate, titanium alkoxide, hydrated titanium oxide (a titanium compound in advance under alkaline conditions). Preferred examples include titanium compounds selected from such as hydrolyzed ones).

まず、スズ化合物を水溶液に添加しておき、これにチタン化合物を加える。スズ化合物とチタン化合物は同時に加えてもよいし、どちらが先であってもよい。また、混合化合物の形態であってもよい。反応媒体は水が望ましいが、アルコール等の有機溶媒あるいは水と有機溶媒の混合媒体でもよい。   First, a tin compound is added to an aqueous solution, and a titanium compound is added thereto. The tin compound and the titanium compound may be added at the same time, or either one may be first. Moreover, the form of a mixed compound may be sufficient. The reaction medium is preferably water, but may be an organic solvent such as alcohol or a mixed medium of water and an organic solvent.

ルチル型酸化チタンの結晶成長制御のための修飾剤として反応に用いるスズ化合物の量は、チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2、好ましくは0.01〜1であることが望ましい。スズ量を上記範囲より少なくしていくとルチル型酸化チタン超微粒子は生成するが、結晶径、凝集粒子径が大きくなり、したがって分散性が悪くなる可能性がある。また、樹脂組成物の透明性が低下する可能性がある。また、上記範囲より多くしていっても、ルチル型を有する酸化チタン超微粒子の合成は可能であるが、反応に要する時間が長くなり、この場合はルチル型酸化チタン超微粒子に多量のスズ化合物が付着したものが得られる可能性がある。また、これより大きいと残存スズ化合物量が多くなり、粒子屈折率が低下する可能性がある。   The amount of tin compound used in the reaction as a modifier for controlling crystal growth of rutile titanium oxide is such that the molar ratio of tin to titanium (Sn / Ti) is 0.001 to 2, preferably 0.01 to 1. It is desirable. If the tin amount is less than the above range, rutile-type titanium oxide ultrafine particles are produced, but the crystal diameter and aggregated particle diameter are increased, and therefore the dispersibility may be deteriorated. Moreover, the transparency of the resin composition may be reduced. Further, even if the amount is larger than the above range, it is possible to synthesize the titanium oxide ultrafine particles having the rutile type, but the time required for the reaction becomes long. In this case, a large amount of tin compound is contained in the rutile type titanium oxide ultrafine particles. There is a possibility that a product with attached will be obtained. On the other hand, if it is larger than this, the amount of the residual tin compound increases, and the particle refractive index may decrease.

反応液中のTi濃度は0.07〜5mol/l、好ましくは0.1mol/lから1mol/lが望ましい。上記範囲より低いTi濃度では、Sn/Ti(モル比)として0.01〜0.03の範囲でスズ化合物を添加してもアナターゼ型とルチル型の混合酸化チタン超微粒子が生成する可能性がある。同様に上記範囲より低いTi濃度では、Sn/Ti(モル比)として0.03より大きい範囲でスズ化合物を添加すると、ルチル型酸化スズを有する酸化チタン酸化スズ混合超微粒子が生成する可能性がある。   The Ti concentration in the reaction solution is 0.07 to 5 mol / l, preferably 0.1 to 1 mol / l. When the Ti concentration is lower than the above range, there is a possibility that anatase-type and rutile-type mixed titanium oxide ultrafine particles may be produced even if a tin compound is added in the range of 0.01 to 0.03 as Sn / Ti (molar ratio). is there. Similarly, at a Ti concentration lower than the above range, if a tin compound is added in a range larger than 0.03 as Sn / Ti (molar ratio), there is a possibility that titanium oxide-tin oxide mixed ultrafine particles having rutile tin oxide are generated. is there.

反応液のpHは−1〜3が望ましい。必要に応じて塩酸や硝酸などで調節する。pHが3より大きい条件で反応させると、スズ化合物を加えない場合ではアナターゼ型酸化チタンになってしまい、これを避けるためにスズ化合物を添加してルチル構造を得ようとすると、酸化スズなどのルチル型酸化チタンではない異種物質が生成してしまう可能性がある。   The pH of the reaction solution is desirably −1 to 3. Adjust with hydrochloric acid or nitric acid as necessary. When the reaction is carried out under a condition where the pH is greater than 3, anatase-type titanium oxide is obtained in the case where no tin compound is added, and in order to avoid this, a tin compound is added to obtain a rutile structure. There is a possibility that foreign substances other than rutile-type titanium oxide are produced.

反応温度に関しては、Ti濃度とpHが上記の範囲であれば良く、特に制限は無いが、好ましくは−10〜100℃、さらに好ましくは20〜60℃が推奨される。反応温度に応じて反応完了時間が決定されるが、通常は0.5〜10時間で実施する。   Regarding the reaction temperature, the Ti concentration and pH may be in the above ranges, and there is no particular limitation, but preferably −10 to 100 ° C., more preferably 20 to 60 ° C. is recommended. Although the reaction completion time is determined depending on the reaction temperature, it is usually carried out in 0.5 to 10 hours.

上記の反応により生成したスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子中に含まれるスズ化合物量として、Sn/Tiモル比=0.001〜0.5であることが好ましい。スズ量を上記範囲より少なくしていくとルチル型酸化チタン超微粒子の粒子径が大きくなり、分散性が悪くなる可能性がある。また、上記範囲より多くしていくと、より効率よく結晶成長及び凝集を制御し、粒子径の小さな超微粒子が得られるが、ルチル型酸化チタン超微粒子に多量のスズ化合物が付着したものが得られ、結果として屈折率の低い超微粒子が得られる可能性がある。   The amount of tin compound contained in the tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles produced by the above reaction is preferably Sn / Ti molar ratio = 0.001 to 0.5. If the amount of tin is made smaller than the above range, the particle diameter of the rutile titanium oxide ultrafine particles becomes large and the dispersibility may be deteriorated. Also, if the amount is larger than the above range, crystal growth and aggregation can be controlled more efficiently, and ultrafine particles with a small particle diameter can be obtained, but a rutin-type titanium oxide ultrafine particle with a large amount of tin compound attached can be obtained. As a result, ultrafine particles having a low refractive index may be obtained.

この方法により得られたスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子の結晶径の短軸、長軸は2〜20nm、平均凝集粒子径は10〜100nmである。   The minor axis and major axis of the tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles obtained by this method have a minor axis and a major axis of 2 to 20 nm, and an average aggregated particle diameter of 10 to 100 nm.

本発明のスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子が得られる反応機構(反応メカニズム)は現在十分に明らかではないが、これは表面がスズ化合物で修飾されていることを特徴としている。原料に用いたスズ化合物、あるいは溶液中で解離したスズイオン、あるいは加水分解等により溶液中で生成したスズ化合物が、酸化チタン表面に配位、吸着、化学結合等により付着したものと推測される。また、元々アナターゼ型ではなくルチル型酸化チタン生成条件でスズ化合物を修飾剤として添加したもので、長軸方向への結晶成長が阻止された結果生じたものと推測される。このことは超微粒子の結晶径が2〜20nmであるスズ修飾酸化チタン超微粒子を得るために必要な修飾スズ化合物量が酸化チタンを隙間無く被覆する量には程遠い、チタンに対するモル比が0.001〜0.5という少量であることからも窺える。   Although the reaction mechanism (reaction mechanism) by which the tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles of the present invention are obtained is not sufficiently clear at present, this is characterized in that the surface is modified with a tin compound. It is presumed that the tin compound used as the raw material, the tin ion dissociated in the solution, or the tin compound generated in the solution by hydrolysis or the like adhered to the titanium oxide surface by coordination, adsorption, chemical bonding, or the like. In addition, it is presumed that the tin compound was originally added as a modifier under the conditions for producing rutile type titanium oxide instead of the anatase type, and this was caused as a result of the inhibition of crystal growth in the major axis direction. This indicates that the amount of the modified tin compound necessary for obtaining tin-modified titanium oxide ultrafine particles having a crystal diameter of 2 to 20 nm is far from the amount of titanium oxide coated without a gap, and the molar ratio to titanium is 0. It can be seen from the small amount of 001-0.5.

上記により得られた反応生成物は、そのままスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子、ゾル液として用いてもよいし、所望の後処理を施してもよい。すなわち、エバポレーターによる減圧濃縮、限外ろ過などの公知の方法で精製、適当な濃度に濃縮することも可能である。遠心分離して白色沈殿物を得、水、その他所望の有機溶媒に対して再分散させることも可能である。スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子を水に分散させたゾル液は、メタノールなどのアルコール類、2−メトキシエタノールなどのセロソルブ類といった有機溶媒に溶媒置換して、有機溶媒分散スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子ゾル液として用いることも可能である。   The reaction product obtained as described above may be used as tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles or sol liquid as it is, or may be subjected to a desired post-treatment. That is, it can be purified by a known method such as vacuum concentration using an evaporator or ultrafiltration, and concentrated to an appropriate concentration. Centrifugation can yield a white precipitate that can be redispersed in water or other desired organic solvents. The sol liquid in which tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles are dispersed in water is substituted with an organic solvent such as alcohols such as methanol and cellosolves such as 2-methoxyethanol, and organic solvent-dispersed tin-modified rutile-type titanium oxide It can also be used as an ultrafine particle sol solution.

次に、ケイ素酸化物を含む被覆層(B)の調製方法について述べる。   Next, a method for preparing the coating layer (B) containing silicon oxide will be described.

該被覆層(B)、即ちケイ素酸化物を含む被覆層とは、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られ、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆層である。
(1)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(A)と反応させる工程
(2)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程
The coating layer (B), that is, the coating layer containing silicon oxide, is a two-layer coating type, in which the inner layer is obtained by the step (1) and the outer layer is obtained by the step (2). The weight ratio of the material coating layer is 0.001 to 20 in terms of SiO 2 .
(1) Step of reacting silicon oxide having a weight ratio with respect to the nucleus (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the nucleus (A) under the condition of pH <7 (2) with respect to the nucleus (A) The step of reacting the silicon oxide having a weight ratio of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the coated ultrafine particles obtained in (1) under the condition of pH ≧ 7

本発明において、上記で合成したスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子あるいはそのゾル液を樹脂組成物、該樹脂組成物を含む光学部材に用いる場合、酸化チタンの光触媒性による周辺有機物の劣化を防止するため、耐光性を付与することが必要になる。この目的のためにケイ素酸化物を含む被覆層をルチル型酸化チタン超微粒子に設ける。なお、被覆とは超微粒子表面を完全に覆った形態、あるいは隙間が空いた形態両方を意味する。   In the present invention, when the tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles synthesized above or a sol solution thereof is used for a resin composition or an optical member containing the resin composition, deterioration of surrounding organic substances due to the photocatalytic property of titanium oxide is prevented. Therefore, it is necessary to provide light resistance. For this purpose, a rutile titanium oxide ultrafine particle is provided with a coating layer containing silicon oxide. In addition, a coating means both the form which covered the ultrafine particle surface completely, or the form with which the clearance gap was vacant.

上記被覆に用いられるケイ素酸化物としては、コロイダルシリカ、ケイ酸ゾル、ケイ酸ナトリウム、あるいはケイ酸カリウムなどのケイ酸塩を挙げることが出来る。ここでいうケイ素酸化物とは無定形の酸化物、結晶性の酸化物、あるいは水和した状態であってもよい。また、ケイ酸、ケイ酸オリゴマーあるいはそれらの塩であってもよく、それらが核微粒子表面に吸着、結合した状態であってもよい。   Examples of the silicon oxide used for the coating include silicates such as colloidal silica, silicate sol, sodium silicate, or potassium silicate. The silicon oxide here may be an amorphous oxide, a crystalline oxide, or a hydrated state. Further, it may be silicic acid, silicic acid oligomer, or a salt thereof, and may be in a state in which they are adsorbed and bound to the surface of the nuclear fine particles.

被覆層の形成方法としては、まず、スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子のゾル液を調製する。上記で調製したゾル液を希釈あるいは濃縮し、固形分として0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜5重量%の範囲にすることが望ましい。分散液の固形分濃度が0.01重量%未満の場合は生産性が低く工業的に有効でなく、分散液の固形分濃度が20重量%を越えると得られる超微粒子が凝集体となる可能性がある。   As a method for forming the coating layer, first, a sol solution of tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles is prepared. It is desirable to dilute or concentrate the sol solution prepared above so that the solid content is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight. When the solid content concentration of the dispersion is less than 0.01% by weight, the productivity is low and not industrially effective, and when the solid content concentration of the dispersion exceeds 20% by weight, the resulting ultrafine particles may become aggregates. There is sex.

核微粒子(この場合、核(A)であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子、をさす)を含む反応液にケイ素酸化物を水および/または有機溶媒に溶解した溶液を連続的あるいは断続的に添加して核微粒子表面において反応させる。0.1〜100時間かけて(核微粒子ゾル液がゲル化しない程度に)滴下することが望ましい。反応液中でのケイ素酸化物の滴下終了後の濃度は酸化ケイ素換算で0.01〜5wt%が好ましい。これより小さいと生産性が低く工業的に有効でなく、これより大きいと(ケイ素酸化物のみで)重合が進行しすぎてケイ素酸化物の不溶物が生成する可能性がある。   A solution in which silicon oxide is dissolved in water and / or an organic solvent is continuously or intermittently added to a reaction liquid containing nuclear fine particles (in this case, tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles which are nuclei (A)). Add to react on the surface of the core particle. It is desirable to drop over 0.1 to 100 hours (to the extent that the core fine particle sol solution does not gel). The concentration after the completion of dropping of the silicon oxide in the reaction solution is preferably 0.01 to 5 wt% in terms of silicon oxide. If it is smaller than this, the productivity is low and it is not industrially effective, and if it is larger than this, polymerization may proceed too much and an insoluble substance of silicon oxide may be formed.

[ 工程(1):核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(A)と反応させる工程 ]
まず、核微粒子即ち核(A)と、核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物を、pH<7の条件下で反応させる。
[Step (1): A step of reacting a silicon oxide having a weight ratio with respect to the nucleus (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the nucleus (A) under the condition of pH <7.
First, the core fine particles, that is, the core (A) and the silicon oxide having a weight ratio with respect to the core (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 are reacted under the condition of pH <7.

ここで用いられるケイ素酸化物としては特に制限はないが、コロイダルシリカ、ケイ酸ゾルが好ましい。用いる量としては、核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10が好ましく、0.01〜0.5であることが好ましい。この範囲、即ち10より大きいと十分な屈折率が得られなくなる可能性がある。この範囲、即ち0.001より小さいと分散安定性が低くなる可能性がある。 Although there is no restriction | limiting in particular as a silicon oxide used here, Colloidal silica and silicate sol are preferable. The amount to be used, the weight ratio of the nucleus (A) is 0.001 to 10 is preferable in terms of SiO 2 is preferably 0.01 to 0.5. If it is in this range, that is, greater than 10, a sufficient refractive index may not be obtained. If it is less than this range, that is, 0.001, dispersion stability may be lowered.

反応液のpHは7より小さいことが好ましく、さらには2〜4が好ましい。pHが7以上だと核微粒子であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子が凝集、ゲル化を引き起こす可能性がある。さらにpHが1よりも小さすぎると、核微粒子のもつ電気二重層が過剰のプラスイオンによって遮蔽され、凝集を引き起こす可能性がある。pHは必要に応じて酸性化合物あるいは塩基性化合物を加えて調整してもよい。例えば酸性化合物としては塩酸、硫酸、硝酸などが、塩基性化合物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。   The pH of the reaction solution is preferably less than 7, and more preferably 2-4. When the pH is 7 or more, tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles, which are core fine particles, may cause aggregation and gelation. Further, if the pH is too lower than 1, the electric double layer of the nuclear fine particles is shielded by excess positive ions, which may cause aggregation. You may adjust pH by adding an acidic compound or a basic compound as needed. Examples of acidic compounds include hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, and basic compounds include sodium hydroxide and potassium hydroxide.

本工程では、核微粒子を含む反応液にケイ素酸化物を水および/または有機溶媒に溶解した溶液を連続的あるいは断続的に添加して核微粒子表面において反応させる。0.1〜100時間かけて核微粒子ゾル液がゲル化しない程度に滴下することが望ましい。これより長いと経済的に効率的でない。これより短いと反応が不十分となる可能性がある。   In this step, a solution in which silicon oxide is dissolved in water and / or an organic solvent is continuously or intermittently added to the reaction liquid containing the nuclear fine particles to react on the surface of the fine nuclear particles. It is desirable to drop the sol solution so that the core fine particle sol solution does not gel over 0.1 to 100 hours. Longer than this is not economically efficient. If it is shorter than this, the reaction may be insufficient.

反応温度は特に制限はないが、0〜200℃が好ましく、30〜100℃がより好ましい。この範囲、即ち200℃より大きいと超微粒子が凝集する可能性がある。この範囲、即ち0℃より小さいと反応が十分に進行しない可能性がある。   Although reaction temperature does not have a restriction | limiting in particular, 0-200 degreeC is preferable and 30-100 degreeC is more preferable. If it is in this range, that is, higher than 200 ° C., ultrafine particles may be aggregated. If it is less than this range, that is, 0 ° C., the reaction may not proceed sufficiently.

[ 工程(2):核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程 ]
工程(1)で得られた被覆超微粒子あるいはゾル液を必要に応じて解こうした後、続いて、(1)で得られた被覆超微粒子と、核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物を、pH≧7の条件下で反応させる。
[Step (2): The silicon oxide having a weight ratio with respect to the nucleus (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 is reacted with the coated ultrafine particles obtained in (1) under the condition of pH ≧ 7. Process]
The coated ultrafine particles or sol solution obtained in the step (1) is dissolved as necessary. Subsequently, the weight ratio of the coated ultrafine particles obtained in (1) to the nucleus (A) is calculated in terms of SiO 2 . The silicon oxide which becomes 0.001 to 10 is reacted under the condition of pH ≧ 7.

ここで用いられるケイ素酸化物としては特に制限はないが、コロイダルシリカ、ケイ酸ゾルが好ましい。用いる量としては、核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10が好ましく、0.1〜1であることが好ましい。この範囲、即ち10より大きいと十分な屈折率が得られなくなる可能性がある。この範囲、即ち0.001より小さいと十分な耐光性が得られなくなる可能性がある。 Although there is no restriction | limiting in particular as a silicon oxide used here, Colloidal silica and silicate sol are preferable. The amount to be used, the weight ratio of the nucleus (A) is 0.001 to 10 is preferable in terms of SiO 2 is preferably 0.1 to 1. If it is in this range, that is, greater than 10, a sufficient refractive index may not be obtained. If this range is smaller than 0.001, sufficient light resistance may not be obtained.

反応液のpHは7以上であることが好ましく、さらには8〜11が好ましい。適宜この範囲にpHを調節すればよい。pHが7より小さいと緻密な被覆層が形成できない可能性がある。pHは塩基性化合物を加えて適宜調整すればよい。該塩基性化合物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。   The pH of the reaction solution is preferably 7 or more, more preferably 8-11. What is necessary is just to adjust pH to this range suitably. If the pH is less than 7, a dense coating layer may not be formed. The pH may be adjusted appropriately by adding a basic compound. Examples of the basic compound include sodium hydroxide and potassium hydroxide.

本工程では、核微粒子を含む反応液にケイ素酸化物を水および/または有機溶媒に溶解した溶液を連続的あるいは断続的に添加して核微粒子表面において反応させる。0.1〜100時間かけて添加することが望ましい。これより長いと経済的に効率的でない。これより短いと反応が不十分となる可能性がある。   In this step, a solution in which silicon oxide is dissolved in water and / or an organic solvent is continuously or intermittently added to the reaction liquid containing the nuclear fine particles to react on the surface of the fine nuclear particles. It is desirable to add over 0.1 to 100 hours. Longer than this is not economically efficient. If it is shorter than this, the reaction may be insufficient.

反応温度は特に制限はないが、0〜200℃が好ましく、80〜200℃がより好ましい。この範囲、即ち200℃より大きいと微粒子が凝集する可能性がある。この範囲、即ち0℃より小さいと反応が十分に進行しない可能性がある。   Although reaction temperature does not have a restriction | limiting in particular, 0-200 degreeC is preferable and 80-200 degreeC is more preferable. If it is in this range, that is, higher than 200 ° C., fine particles may aggregate. If it is less than this range, that is, 0 ° C., the reaction may not proceed sufficiently.

なお、該被覆層(B)、即ちケイ素酸化物を含む被覆層に含まれるその他の無機酸化物としては得られる微粒子の耐光性、分散性、保存安定性を損なうものでなければ特に制限はないが、具体的には、例えば、Al、Si、V、Fe、Zn、Zr、Nb、Mo、Sn、Sb、W等の酸化物が挙げられ、好ましくは、Al、Si、Zr、Sn、Sbの酸化物が挙げられる。   Other inorganic oxides contained in the coating layer (B), that is, the coating layer containing silicon oxide, are not particularly limited as long as they do not impair the light resistance, dispersibility, and storage stability of the resulting fine particles. However, specific examples include oxides such as Al, Si, V, Fe, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Sb, and W, and preferably Al, Si, Zr, Sn, and Sb. The oxide of this is mentioned.

また、被覆層としては上記記載の二層のケイ素酸化物からなる被覆層のみが望ましいが、他の無機酸化物の被覆層を設けても良い。この場合、上記記載の二層のケイ素酸化物からなる被覆層の内側に設けることが望ましい。   Moreover, as the coating layer, only the coating layer made of the two-layered silicon oxide described above is desirable, but another inorganic oxide coating layer may be provided. In this case, it is desirable to provide inside the coating layer made of the two-layered silicon oxide described above.

本発明により得られた被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子の結晶径の短軸、長軸は2〜20nm、平均凝集粒子径は10〜100nmであることが好ましい。結晶径が2nmより小さいと、本来得られる屈折率が得られなくなる可能性がある。20nmより大きいと、光の散乱が生じる可能性がある。平均凝集粒子径が100nmより大きいと、ゾル液や、得られる樹脂組成物が白濁し、不透明となる可能性がある。   The coated inorganic oxide ultrafine particles obtained by the present invention, that is, the minor axis of the crystal diameter of the double-layered silicon oxide-coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles, the major axis is 2 to 20 nm, and the average aggregated particle diameter is 10 to 10. 100 nm is preferable. If the crystal diameter is smaller than 2 nm, the originally obtained refractive index may not be obtained. If it is larger than 20 nm, light scattering may occur. If the average aggregate particle size is larger than 100 nm, the sol solution or the resin composition obtained may become cloudy and opaque.

上記手法によって得られる核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比はSiO2換算で0.001〜20である。被覆層の量により、超微粒子自体の屈折率と耐光性を調節することが出来る。これにより所望する耐光性を付与出来、かつ屈折率が1.5〜2.8で調節可能である。   The weight ratio of the silicon oxide coating layer to the core fine particles obtained by the above method is 0.001 to 20 in terms of SiO2. The refractive index and light resistance of the ultrafine particles themselves can be adjusted by the amount of the coating layer. Thereby, the desired light resistance can be imparted and the refractive index can be adjusted to 1.5 to 2.8.

上記により得られた反応生成物は、そのまま二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子ゾル液として用いてもよいし、所望の後処理を施してもよい。すなわち、エバポレーターによる減圧濃縮、限外ろ過などの公知の方法で精製、適当な濃度に濃縮することも可能である。遠心分離して白色沈殿物を得、水、その他所望の有機溶媒に対して再分散させることも可能である。特に限外ろ過を行うことによって、微粒子周りの電気二重層を遮蔽して微粒子の凝集を引き起こす原因となるイオン分を取り除くことが出来るため、分散安定性が向上する。二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子を分散させた水ゾル液は、メタノールなどのアルコール類、2−メトキシエタノールなどのセロソルブ類といった有機溶媒に溶媒置換して、有機溶媒に分散したゾル液として用いることも可能である。   The reaction product obtained as described above may be used as it is as a two-layer silicon oxide-coated tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particle sol solution, or may be subjected to a desired post-treatment. That is, it can be purified by a known method such as vacuum concentration using an evaporator or ultrafiltration, and concentrated to an appropriate concentration. Centrifugation can yield a white precipitate that can be redispersed in water or other desired organic solvents. In particular, by performing ultrafiltration, it is possible to remove the ion component that causes the aggregation of the fine particles by shielding the electric double layer around the fine particles, so that the dispersion stability is improved. The aqueous sol solution in which the two-layer silicon oxide coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles are dispersed is replaced with an organic solvent such as alcohols such as methanol and cellosolves such as 2-methoxyethanol, and dispersed in the organic solvent. It is also possible to use it as a sol solution.

酸化チタン超微粒子は通常中性域に等電位点を持ち、従来の製法では酸性領域で安定なゾル液である。そのため従来の手法で製造した酸化チタン超微粒子ゾル液は中性〜塩基性では凝集、ゲル化を引き起こし、使用範囲が限定されるという問題があった。また有機溶媒に置換しようとすると凝集、ゲル化を引き起こし、安定性を損なうという問題があった。さらには分散媒が水の場合でも10重量%以上に濃縮しようとするとゲル化を引き起こし、高濃度に分散したゾル液を得るのは困難であり、生産性が低いといった問題があった。本発明に係るケイ素酸化物をpH<7の範囲で反応させることによって、広範囲pH、特に14>pH>3の条件において、凝集、ゲル化を生じず、分散性、保存安定性に優れた薄層のケイ素酸化物で被覆された酸化チタン超微粒子ゾル液が得られ、かつpH≧7の範囲で反応させることによって緻密で厚いケイ素酸化物被覆層を設けることができる。   Titanium oxide ultrafine particles usually have an equipotential point in the neutral region, and in the conventional production method, they are sol solutions that are stable in the acidic region. For this reason, the titanium oxide ultrafine particle sol solution produced by the conventional method has a problem that the neutral to basic flocculation causes aggregation and gelation, and the range of use is limited. Moreover, when it tried to substitute with an organic solvent, there existed a problem of causing aggregation and gelatinization and impairing stability. Furthermore, even when the dispersion medium is water, if it is concentrated to 10% by weight or more, gelation is caused, and it is difficult to obtain a sol solution dispersed at a high concentration, resulting in low productivity. By reacting the silicon oxide according to the present invention in the range of pH <7, there is no aggregation or gelation in a wide range of pH, particularly 14> pH> 3, and it is a thin film excellent in dispersibility and storage stability. A titanium oxide ultrafine particle sol solution coated with a silicon oxide layer can be obtained, and a dense and thick silicon oxide coating layer can be provided by reacting in a range of pH ≧ 7.

通常酸性領域において安定な酸化チタン超微粒子ゾル液はその表面がプラスに帯電している。そこに上記条件において反応させることによって反対符号の電荷を持ち、かつ核微粒子よりもサイズの小さな超微粒子を選択することによって核微粒子表面でヘテロ凝集を引き起こし、より効果的に一様に薄層のケイ素酸化物被膜が形成され、これにより、核微粒子表面にSiO2の特性が付与され、本発明に係る酸化チタン超微粒子ゾルはpH=3〜14という広範囲のpH領域において安定となると考えられる。pH≧7の塩基性条件下で緻密で厚いケイ素酸化物層に成長させることによって高分散性を保ちながら耐光性、耐候性を有する超微粒子が得られる。すなわち、pH<7で形成される被覆内層及びpH≧7で形成される被覆外層の二層構造を持つ透明性、分散性、保存安定性、耐光性、耐候性等に優れた酸化チタン超微粒子、ゾル液である。   In general, the surface of a titanium oxide ultrafine particle sol that is stable in an acidic region is positively charged. By reacting there under the above conditions, by selecting ultrafine particles having the opposite sign charge and smaller in size than the nuclear fine particles, heteroaggregation is caused on the surface of the nuclear fine particles, and the thin layer is more effectively and uniformly formed. It is considered that a silicon oxide film is formed, thereby imparting SiO2 characteristics to the surface of the core fine particle, and the titanium oxide ultrafine particle sol according to the present invention is stable in a wide pH range of pH = 3-14. By growing a dense and thick silicon oxide layer under basic conditions of pH ≧ 7, ultrafine particles having light resistance and weather resistance can be obtained while maintaining high dispersibility. That is, ultrafine titanium oxide particles having a two-layer structure of a coating inner layer formed at pH <7 and a coating outer layer formed at pH ≧ 7 and excellent in transparency, dispersibility, storage stability, light resistance, weather resistance, etc. A sol solution.

前記ケイ素酸化物被覆によりゾル液の濃度は固形分換算で20重量%以上、さらには35重量%以上の高濃度にした場合でも広範囲のpHで安定に存在し、有機溶媒に置換した際でも高濃度に安定に存在する。   With the silicon oxide coating, the concentration of the sol solution is stable over a wide range of pH even when the concentration is as high as 20% by weight or more, further 35% by weight or more in terms of solid content, and even when replaced with an organic solvent. Stable in concentration.

本発明により得られた被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子の表面はアミン類、有機ケイ素酸化物で処理されていることが望ましい。これによって有機溶媒、樹脂あるいはそのモノマー等の有機分散媒中での超微粒子の長期にわたる分散安定性、相溶性が大きく向上する。特にメタノールよりも比誘電率が小さい分散媒を用いる場合には微粒子同士の電気反発による分散安定性は期待できないため、表面処理により親和性を向上させることが好ましい。これによって樹脂組成物の透明性等が向上する。なおここでの表面処理とは表面に、化学結合したもの、化学吸着、物理吸着などの何れであってもよい。   The surface of the coated inorganic oxide ultrafine particles obtained by the present invention, that is, the double-layered silicon oxide-coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles is preferably treated with amines and organosilicon oxides. This greatly improves the long-term dispersion stability and compatibility of the ultrafine particles in an organic dispersion medium such as an organic solvent, resin or monomer thereof. In particular, when a dispersion medium having a relative dielectric constant smaller than that of methanol is used, it is not possible to expect dispersion stability due to electric repulsion between fine particles, and therefore it is preferable to improve the affinity by surface treatment. This improves the transparency of the resin composition. Here, the surface treatment may be any of those chemically bonded to the surface, chemical adsorption, physical adsorption and the like.

有機ケイ素化合物で表面処理する際には、シランカップリング剤として知られている化合物が好適である。具体的には、以下の一般式(1)、(2)で表される有機ケイ素化合物が好ましいものとして挙げられる。   When surface-treating with an organosilicon compound, a compound known as a silane coupling agent is suitable. Specifically, organosilicon compounds represented by the following general formulas (1) and (2) are preferable.

(Ra(RbSi(OR(3-a-b) (1)
Si(OR4 (2)
(式中、R、Rはアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ビニル基、アリル基、アシル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基、アミノ基またはエポキシ基等を有する有機基であり、Si−C結合によりケイ素と結合するものである。Rは炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基またはアシル基等の有機基である。)
(R 1 ) a (R 2 ) b Si (OR 3 ) (3-ab) (1)
Si (OR 3 ) 4 (2)
(Wherein R 1 and R 2 are organic groups having an alkyl group, a halogenated alkyl group, a vinyl group, an allyl group, an acyl group, an acryloxy group, a methacryloxy group, a mercapto group, an amino group, an epoxy group, etc. (It is bonded to silicon by a —C bond. R 3 is an organic group such as an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an acyl group.)

一般式(1)、(2)におけるR、R及びRとしては、具体的には例えば、アルキル基を有する有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が、ハロゲン化アルキル基を有する有機基としては、クロロメチル基、3−クロロプロピル基等が、アシル基を有する有機基としては、アセトキシプロピル基等が、アクリロキシ基を有する有機基としては、3−アクリロキシプロピル基等が、メタクリロキシ基を有する有機基としては、メタクリロキシプロピル基等が、メルカプト基を有する有機基としては、メルカプトメチル基等が、アミノ基を有する有機基としては、3−アミノプロピル基等が、エポキシ基を含有する有機基としては、3−グリシドキシプロピル基等が、アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基等が挙げられる。 Specific examples of R 1 , R 2 and R 3 in the general formulas (1) and (2) include, for example, an organic group having an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, The organic group having a group is a chloromethyl group, a 3-chloropropyl group, etc., the organic group having an acyl group is an acetoxypropyl group, etc., and the organic group having an acryloxy group is a 3-acryloxypropyl group As the organic group having a methacryloxy group, a methacryloxypropyl group or the like is used. As the organic group having a mercapto group, a mercaptomethyl group is used. As the organic group having an amino group, a 3-aminopropyl group is used. The organic group containing an epoxy group is a 3-glycidoxypropyl group or the like, and the alkoxyalkyl group is a methoxyethyl group or the like. Can be mentioned.

一般式(1)で表される化合物としては、具体的には例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アセトキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)ジメチルエトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン、トリメチルメトキシシランなどが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include methyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, allyldimethoxysilane, allyltriethoxysilane, acetoxypropyltrimethoxysilane, 3 -Acryloxypropyldimethylmethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl Trimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) dimethylethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane Emissions, such as trimethyl methoxy silane.

一般式(2)で表される化合物としては、具体的には例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-tert-. Examples include butoxysilane and tetra-sec-butoxysilane.

一般式で表される有機ケイ素化合物の加水分解は塩酸などを添加することにより行われる。これによりアルコキシ基の一部または全てが加水分解される。メタノールなどのアルコール類、メチルセロソルブなどのセロソルブ類、酢酸エチルなどのエステル類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、アセトンなどのケトン類、クロロホルムなどのハロゲン炭化水素類、トルエン、ヘプタンなどの炭化水素類などで希釈して行ってもよい。   Hydrolysis of the organosilicon compound represented by the general formula is carried out by adding hydrochloric acid or the like. Thereby, a part or all of the alkoxy group is hydrolyzed. Alcohols such as methanol, cellosolves such as methyl cellosolve, esters such as ethyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran, ketones such as acetone, halogen hydrocarbons such as chloroform, hydrocarbons such as toluene and heptane, etc. Dilution may be performed.

これらは、加水分解せずに反応を行っても、加水分解した後、その加水分解物、部分加水分解物、部分縮合物を超微粒子と反応させてもよい。分散媒中に残存する水、超微粒子に吸着した水によって加水分解される。さらにはこれらが縮合した形である加水分解性基、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンのようなシリコーン樹脂で反応させてもよい。また、これらを単独で又は混合物として使用する事も可能である。   These may be reacted without hydrolysis, or after hydrolysis, the hydrolyzate, partial hydrolyzate, or partial condensate may be reacted with ultrafine particles. It is hydrolyzed by water remaining in the dispersion medium and water adsorbed on the ultrafine particles. Furthermore, it may be reacted with a silicone resin such as polysiloxane having a hydrolyzable group or a hydroxyl group in a condensed form thereof. These may be used alone or as a mixture.

(OR)基が加水分解した後、超微粒子表面の−OH基と脱水反応を起こしSi−O−Mの結合を生じる事が好ましいが、一部が残存していてもかまわない。 After the (OR 3 ) group is hydrolyzed, it is preferable to cause a dehydration reaction with the —OH group on the surface of the ultrafine particles to form a Si—O—M bond, but a part thereof may remain.

処理方法としては有機ケイ素酸化物を含む溶媒にゾル液を混合し、必要に応じて触媒を加えた後、一定時間加熱して得る。必要に応じて限外ろ過、遠心分離などの方法で混合液中の未反応分を除去する等の方法で行われる。   As a treatment method, a sol solution is mixed with a solvent containing an organosilicon oxide, and a catalyst is added if necessary, followed by heating for a certain time. If necessary, it is performed by a method such as removing unreacted components in the mixed solution by a method such as ultrafiltration or centrifugation.

また、表面処理に用いられるアミン(類)としては、プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、トリエチルアミン、ドデシルアミンなどが好適に用いられる。これらで表面処理を行うには、例えばこれらの水あるいはアルコールなどの溶液に超微粒子あるいはゾル液を混合し、必要に応じて触媒を加えた後、所定時間常温で放置するか、加熱処理を行うとよい。   As the amine (s) used for the surface treatment, propylamine, diisopropylamine, butylamine, triethylamine, dodecylamine, and the like are preferably used. In order to perform surface treatment with these, for example, ultrafine particles or a sol solution is mixed in a solution such as water or alcohol, and after adding a catalyst as necessary, it is left at room temperature for a predetermined time or is subjected to heat treatment. Good.

また上記官能基を有するポリマーなども効果的である。例えばポリスチレンをアミノ化した、さらにはそれらの誘導体であるスチロール系樹脂、ポリメチルメタクリレート側鎖に加水分解性ケイ素基を持つポリマー、加水分解性基あるいはヒドロキシル基を持つシリコーン樹脂等が挙げられる。表面処理方法は上記記載の方法で行えばよい。   A polymer having the above functional group is also effective. For example, styrene resin which is amination of polystyrene, and derivatives thereof, a polymer having a hydrolyzable silicon group in the side chain of polymethyl methacrylate, a silicone resin having a hydrolyzable group or a hydroxyl group, and the like can be mentioned. The surface treatment method may be performed by the method described above.

用いられる表面処理剤の量は、用いる有機溶媒、樹脂などのバインダー等への分散性を考慮して適宜設定される。   The amount of the surface treatment agent to be used is appropriately set in consideration of dispersibility in a binder such as an organic solvent and a resin to be used.

また、酸化チタン超微粒子表面はカルボン酸と反応しやすいため、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、メタクリル酸、酒石酸、グリコール酸、ポリアクリル酸などを用いることも可能である。ケイ素酸化物被覆層を考慮して適宜設定される。   Further, since the surface of the titanium oxide ultrafine particles easily reacts with carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, acrylic acid, methacrylic acid, tartaric acid, glycolic acid, polyacrylic acid, and the like can be used. It is appropriately set in consideration of the silicon oxide coating layer.

この方法により結晶径の短軸、長軸は2〜20nm、平均凝集粒子径は10〜100nmの被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子が得られる。 結晶径が2nmより小さいと、これらを含む分散媒、樹脂組成物に用いた場合に本来得られる屈折率が得られなくなる可能性がある。20nmより大きいと、光の散乱が生じる可能性がある。平均凝集粒子径が100nmより大きいと、得られる樹脂組成物が白濁し、不透明となる可能性がある。   By this method, coated inorganic oxide ultrafine particles having a minor axis of crystal diameter, a major axis of 2 to 20 nm, and an average aggregated particle diameter of 10 to 100 nm, that is, bilayer silicon oxide-coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles are obtained. It is done. If the crystal diameter is smaller than 2 nm, the refractive index originally obtained when used in a dispersion medium or resin composition containing these may not be obtained. If it is larger than 20 nm, light scattering may occur. If the average aggregate particle size is larger than 100 nm, the resulting resin composition may become cloudy and opaque.

本発明において超微粒子を分散するのに用いられる有機溶媒(分散媒)としては、特に制限はなく、具体的には例えばメタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、クロロホルムなどのハロゲン炭化水素類、トルエン、ヘプタンなどの炭化水素類などの有機溶媒が挙げられ、2種以上混合して用いてもよい   The organic solvent (dispersion medium) used to disperse the ultrafine particles in the present invention is not particularly limited. Specifically, for example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl Glycol ethers such as ether, esters such as ethyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, halogen hydrocarbons such as chloroform, hydrocarbons such as toluene and heptane, etc. An organic solvent is mentioned, and 2 or more types may be mixed and used.

さらには、上記のような分散媒以外にも樹脂モノマーなどの有機物質を分散媒として、超微粒子を分散させることも可能である。これにより有機溶媒分散ゾル液を直接硬化させることが可能となり、製造法の簡略化が可能となる。エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等のモノマーなどが挙げられる。微粒子表面処理は用いる樹脂モノマーの極性に応じて適宜設定される。いずれもエバポレーター等によって分散媒を置換する方法がとられる。   Furthermore, in addition to the dispersion medium as described above, it is also possible to disperse the ultrafine particles using an organic substance such as a resin monomer as a dispersion medium. As a result, the organic solvent-dispersed sol liquid can be directly cured, and the manufacturing method can be simplified. Examples thereof include monomers such as epoxy resins, acrylic resins, and silicone resins. The fine particle surface treatment is appropriately set according to the polarity of the resin monomer used. In either case, a method of replacing the dispersion medium with an evaporator or the like is employed.

上記方法によって得られた被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子の屈折率は、1.5〜2.8、特に2.0〜2.8のものが得られ、各用途に合わせて適宜設定される。   The refractive index of the coated inorganic oxide ultrafine particles obtained by the above method, that is, the bilayer silicon oxide-coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles is 1.5 to 2.8, particularly 2.0 to 2.8. Can be obtained and can be set as appropriate for each application.

次に本発明に用いられる樹脂について述べる。光学材料用樹脂には無色透明で複屈折率が小さいこと、吸湿性が小さく吸湿変形しないこと、製造工程や使用環境での耐熱性が高いこと、成形性が優れていることなどの特性が要求され、これらを満たすものであれば特に限定されず、従来の光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板等に用いられているものでかまわない。例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式アクリル樹脂、脂環式オレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂に代表される非晶性熱可塑性樹脂、あるいはエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の硬化性樹脂などが好適である。   Next, the resin used in the present invention will be described. Optical resin is required to have characteristics such as colorless and transparent, low birefringence, low hygroscopicity, no hygroscopic deformation, high heat resistance in the manufacturing process and usage environment, and excellent moldability. However, as long as these are satisfied, there is no particular limitation, and conventional optical lenses (glass lenses, Fresnel lenses, pickup lenses in information recording devices such as CDs and DVDs, lenses for photographing devices such as digital cameras), optical prisms, etc. , Optical waveguides, optical fibers, thin film moldings, optical adhesives, optical semiconductor sealing materials, diffraction gratings, light guide plates, liquid crystal substrates, light reflectors, and the like may be used. For example, amorphous resin represented by acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, polyester resin, olefin resin, alicyclic acrylic resin, alicyclic olefin resin, polyurethane resin, polyether resin, polyamide resin, polyimide resin A curable thermoplastic resin or a curable resin such as an epoxy resin or an unsaturated polyester resin is preferable.

具体的には、アクリル系樹脂としてはメタクリル酸メチル(PMMA)等、スチレン系樹脂としてはポリスチレン(PS)、スチレンとアクリロニトリル共重合体(SAN)、スチレンとメタクリル酸メチル共重合体等、ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等、オレフィン系樹脂としてはポリメチルペンテン(TPX)等が挙げられる。   Specifically, acrylic resin such as methyl methacrylate (PMMA), styrene resin as polystyrene (PS), styrene and acrylonitrile copolymer (SAN), styrene and methyl methacrylate copolymer, polyester resin, etc. Examples thereof include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and examples of the olefin resin include polymethylpentene (TPX).

ポリカーボネート樹脂はビスフェノール類と、ホスゲン等の炭酸エステル類との反応により製造される重合体である。脂環式アクリル樹脂としては、トリシクロデカンなどの脂肪族環状炭化水素をエステル置換基に導入したアクリル系樹脂であり、ポリメタクリル酸トリシクロデカン、ポリメタクリル酸ノルボルナンなどが挙げられる。優れた低複屈折率性、低吸湿性、耐熱性を有し、ピックアップレンズ、結像用レンズなどに用いられている。脂環式オレフィン樹脂は、立体的に剛直な脂環基をオレフィン系ポリマーの主鎖に導入したものであり、優れた耐熱性と低吸湿性を有し、車載用CDプレーヤーなどのレンズに用いられている。   Polycarbonate resin is a polymer produced by the reaction of bisphenols and carbonates such as phosgene. The alicyclic acrylic resin is an acrylic resin in which an aliphatic cyclic hydrocarbon such as tricyclodecane is introduced into an ester substituent, and examples thereof include polycyclomethacrylate tricyclodecane and polymethacrylate norbornane. It has excellent low birefringence, low hygroscopicity, and heat resistance, and is used for pickup lenses, imaging lenses, and the like. An alicyclic olefin resin is a product in which a sterically rigid alicyclic group is introduced into the main chain of an olefin polymer, has excellent heat resistance and low hygroscopicity, and is used for lenses such as in-vehicle CD players. It has been.

ベンゼン環、脂肪族環等がエーテル結合を介して結ばれた重合体であるポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂なども挙げることが出来る。   A polyether resin, a polyamide resin, a polyimide resin, or the like, which is a polymer in which a benzene ring, an aliphatic ring, or the like is connected through an ether bond, can also be used.

またこれらに硫黄、ハロゲン元素等の原子番号の大きな元素を含有するモノマーを重合してなる樹脂、例えばメガネレンズ用途に用いられているチオール化合物とイソシアネート化合物を熱重合しチオウレタン結合を形成して得られる樹脂、エピスルフィド、エピチオスルフィド化合物を重合硬化してなる樹脂などを用いることも可能である。   In addition, a resin obtained by polymerizing a monomer containing an element having a large atomic number such as sulfur or a halogen element, for example, a thiourethane bond formed by thermal polymerization of a thiol compound and an isocyanate compound that are used in spectacle lens applications is formed. It is also possible to use a resin obtained by polymerizing and curing the obtained resin, episulfide, or epithiosulfide compound.

また、半導体封止剤用途には熱硬化型のエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等が好適に用いられる。   For semiconductor encapsulant use, thermosetting epoxy resins, silicone resins, and the like are preferably used.

本発明における樹脂組成物の製造方法は特に限定されるものではなく、微粒子と樹脂を均一に混合するのに用いられる方法であれば良く、通常用いられる従来公知の方法で何ら構わない。   The method for producing the resin composition in the present invention is not particularly limited, and any method known in the art may be used as long as it is a method used to uniformly mix the fine particles and the resin.

すなわち、具体的には例えば、樹脂と超微粒子ゾル液あるいは超微粒子粉末をそれぞれ独立して作成し、その後に両者を混合させる、あるいは混練する方法、予め作成した超微粒子が存在する条件で樹脂を重合する方法、予め作成した樹脂が存在する条件で超微粒子を作成する方法など、いずれの方法も採用できる。   Specifically, for example, a resin and an ultrafine particle sol solution or an ultrafine particle powder are prepared independently, and then both are mixed or kneaded. Any method such as a polymerization method or a method of preparing ultrafine particles under conditions in which a resin prepared in advance is present can be employed.

超微粒子の分散安定性の観点からは、超微粒子ゾル液と樹脂が溶解した溶液を均一に混合し、溶媒を除去することで樹脂組成物を得る方法、あるいは樹脂モノマー中に超微粒子を分散させておき重合、硬化させて直接樹脂組成物を作成する方法などが好ましく挙げられる。   From the viewpoint of dispersion stability of ultrafine particles, a method of obtaining a resin composition by uniformly mixing an ultrafine particle sol solution and a resin-dissolved solution and removing the solvent, or dispersing ultrafine particles in a resin monomer Preferred examples include a method of preparing a resin composition directly by polymerization and curing.

本発明の樹脂組成物は、押し出し成形、射出成形、真空成形、ブロー成形、圧縮成形等の従来公知の成型加工が可能であり、ディスク、フィルム等種々の成形体を得ることが出来る。   The resin composition of the present invention can be subjected to conventionally known molding processes such as extrusion molding, injection molding, vacuum molding, blow molding, and compression molding, and various molded articles such as disks and films can be obtained.

本発明において用いられる上記樹脂マトリックス成分の量は、特に制限はなく、用途に応じて適宜設定されるが、樹脂組成物中に含まれる超微粒子含有量は0.1〜90重量%であることが好ましい。さらに好ましくは10〜70重量%である。これより小さいと高屈折率化など微粒子の特性が付与されない可能性がある。これより大きいとが可撓性、強靱性等が不足する可能性がある。   There is no restriction | limiting in particular in the quantity of the said resin matrix component used in this invention, Although it sets suitably according to a use, Ultrafine particle content contained in a resin composition is 0.1 to 90 weight% Is preferred. More preferably, it is 10 to 70% by weight. If it is smaller than this, there is a possibility that the characteristics of the fine particles such as an increase in the refractive index may not be imparted. When larger than this, flexibility, toughness, etc. may be insufficient.

本発明において用いられる超微粒子、ゾル液は被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子のみが望ましいが、本発明の効果を阻害しない範囲で、屈折率向上などの効果が劣るものの他の無機酸化物超微粒子と併用することも可能である。例えばコロイダルシリカ、酸化アンチモンコロイドなどを挙げることが出来る。   The ultrafine particles and sol solution used in the present invention are preferably coated inorganic oxide ultrafine particles, that is, only double-layered silicon oxide-coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles, It can also be used in combination with other inorganic oxide ultrafine particles that are inferior in the effect of improving the rate. Examples thereof include colloidal silica and antimony oxide colloid.

また、本発明の樹脂組成物に、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、離型剤、可塑剤、分散染料、顔料、色素、染色向上剤等、必要に応じて任意の添加物を添加することも可能である。   In addition, the resin composition of the present invention requires an ultraviolet absorber, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, a release agent, a plasticizer, a disperse dye, a pigment, a dye, a dye improver, and the like. Depending on the case, it is also possible to add any additive.

従って、本発明に係る被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子は高屈折率であり、透明性、分散性、耐光性、耐光性等に優れているため、該超微粒子を用いて形成した樹脂組成物は高屈折率、透明性、耐光性、耐候性、耐熱性、成形加工性等を併せ持ち、任意に屈折率を調節できるものであり、光学部材に好適に用いられる。   Therefore, the coated inorganic oxide ultrafine particles according to the present invention, that is, the bilayer silicon oxide-coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles have a high refractive index and are excellent in transparency, dispersibility, light resistance, light resistance and the like. Therefore, the resin composition formed using the ultrafine particles has a high refractive index, transparency, light resistance, weather resistance, heat resistance, molding processability, etc., and can arbitrarily adjust the refractive index. It is suitably used for optical members.

本発明の樹脂組成物を含んで構成される光学部材には特に制限はなく、例えば部材の全部あるいは一部に使用することが出来る。より具体的には光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板、反射防止材等の高屈折率光学部材の材料等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular in the optical member comprised including the resin composition of this invention, For example, it can use for all or one part of a member. More specifically, optical lenses (glass lenses, Fresnel lenses, pickup lenses in information recording devices such as CDs and DVDs, lenses for photographing devices such as digital cameras), optical prisms, optical waveguides, optical fibers, thin film moldings, optical Adhesives for optical semiconductors, sealing materials for optical semiconductors, diffraction gratings, light guide plates, liquid crystal substrates, light reflecting plates, materials for high refractive index optical members such as antireflection materials, and the like.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

(二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子ゾル液の調製)
[製造例1]
四塩化スズ五水和物0.27gを100mlナス型フラスコに仕込み、イオン交換水50mlに溶解し、酸化塩化チタンの塩酸水溶液(Ti 15重量%含有)5mlを加えた。溶液のpHは−0.1であった。(仕込みTi濃度=0.45、Sn/Ti=0.03)マグネチックスターラーで攪拌し、50℃で1時間加熱したところ、白色の沈殿を得た。遠心分離を行い、白色沈殿を回収、イオン交換水に再分散させた。限外ろ過を行い、固形分2重量%のゾル液を得た。この固形分の粉末X線回折測定、電子顕微鏡観察を行った。120℃で2時間熱風乾燥を行った後に粉末X線回折測定を行ったところ、酸化チタンルチル型であった。結晶径は回折ピークの半値幅からDebye−Sherrerの式を用いて計算した。その結果、結晶径が平均それぞれ短軸5nm、長軸8nmであった。電子顕微鏡観察は透過型電子顕微鏡を用い、メッシュに希薄ゾル液を滴下したものを倍率20万倍、200万倍で観察した。その結果、平均凝集粒子径が23nmのルチル型酸化チタンであった。誘導結合プラズマ法分析によるSn/Tiの元素モル比は0.02であった。
(Preparation of bilayer silicon oxide-coated tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particle sol solution)
[Production Example 1]
Tin tetrachloride pentahydrate 0.27 g was charged into a 100 ml eggplant type flask, dissolved in 50 ml of ion-exchanged water, and 5 ml of a hydrochloric acid aqueous solution of titanium oxide chloride (containing 15 wt% Ti) was added. The pH of the solution was -0.1. (Ti concentration of Ti = 0.45, Sn / Ti = 0.03) The mixture was stirred with a magnetic stirrer and heated at 50 ° C. for 1 hour to obtain a white precipitate. Centrifugation was performed, and the white precipitate was collected and redispersed in ion-exchanged water. Ultrafiltration was performed to obtain a sol solution having a solid content of 2% by weight. This solid was subjected to powder X-ray diffraction measurement and electron microscope observation. When powder X-ray diffraction measurement was performed after hot-air drying at 120 ° C. for 2 hours, it was a titanium oxide rutile type. The crystal diameter was calculated from the half-value width of the diffraction peak using the Debye-Scherrer equation. As a result, the average crystal diameter was 5 nm for the minor axis and 8 nm for the major axis, respectively. The observation with an electron microscope was performed using a transmission electron microscope, and a solution obtained by dropping a diluted sol solution onto a mesh was observed at a magnification of 200,000 times and 2 million times. As a result, it was a rutile type titanium oxide having an average aggregated particle size of 23 nm. The elemental molar ratio of Sn / Ti by inductively coupled plasma analysis was 0.02.

このスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子ゾル液2500gをpH=3に調整した後、80℃に加熱した。2重量%のケイ素酸化物水溶液125gを1時間かけて滴下し、さらに30分加熱した。室温にまで冷却した後、1mol/l水酸化ナトリウム水溶液を加えてゾル液にした。80℃に昇温し、pH=9に維持しながら、2重量%ケイ素酸化物水溶液625gを2時間かけて滴下しさらに4時間加熱した。限外ろ過を行い精製し、2重量%ゾル液を得た。誘導結合プラズマ法分析による被覆層/微粒子の重量比は=0.13/1であった。ロータリーエバポレーターによりメタノールを加えて濃縮する操作を繰り返した後、20重量%メタノール分散ゾル液とした。   After 2500 g of this tin-modified rutile type titanium oxide ultrafine particle sol solution was adjusted to pH = 3, it was heated to 80 ° C. 125 g of a 2% by weight aqueous silicon oxide solution was added dropwise over 1 hour, and the mixture was further heated for 30 minutes. After cooling to room temperature, a 1 mol / l sodium hydroxide aqueous solution was added to form a sol solution. While the temperature was raised to 80 ° C. and maintained at pH = 9, 625 g of a 2 wt% aqueous silicon oxide solution was added dropwise over 2 hours and further heated for 4 hours. The mixture was purified by ultrafiltration to obtain a 2 wt% sol solution. The weight ratio of coating layer / fine particles by inductively coupled plasma analysis was = 0.13 / 1. After repeating the operation of adding methanol and concentrating with a rotary evaporator, a 20 wt% methanol-dispersed sol solution was obtained.

[製造例2]
次に製造例1で調整した20重量%メタノール分散ゾル液100gに硫酸を加えてpHを5にした後、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを1g加えて50℃で加熱した。エバポレーターによりプロピレングリコールモノメチルエーテル加えて濃縮する操作を繰り返し、20重量%プロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾルとした。
[Production Example 2]
Next, sulfuric acid was added to 100 g of the 20 wt% methanol-dispersed sol solution prepared in Production Example 1 to adjust the pH to 5, 1 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added, and the mixture was heated at 50 ° C. The operation of adding propylene glycol monomethyl ether and concentrating with an evaporator was repeated to obtain a 20 wt% propylene glycol monomethyl ether dispersed sol.

[製造例3]
次に製造例2で調整した20重量%プロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾルをエバポレーターによりメチルイソブチルケトンを加えて濃縮する操作を繰り返した後、ドデシルアミン0.2gを加えて50℃で加熱し、20重量%メチルイソブチルケトン分散ゾルとした。
[Production Example 3]
Next, after repeating the operation of concentrating the 20 wt% propylene glycol monomethyl ether dispersion sol prepared in Production Example 2 by adding methyl isobutyl ketone with an evaporator, 0.2 g of dodecylamine was added and heated at 50 ° C. to obtain 20 wt. % Methyl isobutyl ketone dispersion sol.

[製造例4]
製造例1で四塩化スズ五水和物を0.9g用いた以外は製造例1と同様に実施した。(仕込みTi濃度=0.45、Sn/Ti=0.1)得られたゾル液の固形分を製造例1と同様に分析したところSn/Tiの元素モル比は0.06であった。結晶径が平均それぞれ短軸5nm、長軸8nmで、平均凝集粒子径が20nmのルチル型酸化チタンであった。被覆層/微粒子の重量比は=0.13/1であった。ロータリーエバポレーターによりメタノールを加えて濃縮する操作を繰り返した後、20重量%メタノール分散ゾル液とした。
[Production Example 4]
The same operation as in Production Example 1 was carried out except that 0.9 g of tin tetrachloride pentahydrate was used in Production Example 1. (Feed Ti concentration = 0.45, Sn / Ti = 0.1) When the solid content of the obtained sol solution was analyzed in the same manner as in Production Example 1, the element molar ratio of Sn / Ti was 0.06. It was a rutile type titanium oxide having an average crystal diameter of 5 nm for the minor axis and 8 nm for the major axis and an average aggregated particle diameter of 20 nm. The weight ratio of coating layer / fine particles was = 0.13 / 1. After repeating the operation of adding methanol and concentrating with a rotary evaporator, a 20 wt% methanol-dispersed sol solution was obtained.

[製造例5]
製造例4で調整した20重量%メタノール分散ゾル液を用いた以外は製造例2と同様にして20重量%プロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾルを得た。
[Production Example 5]
A 20 wt% propylene glycol monomethyl ether dispersed sol was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that the 20 wt% methanol dispersed sol liquid prepared in Production Example 4 was used.

[製造例6]
製造例5で調整した20重量%プロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾル液を用いた以外は製造例3と同様にして20重量%メチルイソブチルケトン分散ゾルを得た。
[Production Example 6]
A 20 wt% methyl isobutyl ketone dispersed sol was obtained in the same manner as in Production Example 3 except that the 20 wt% propylene glycol monomethyl ether dispersed sol liquid prepared in Production Example 5 was used.

(ルチル型酸化チタンの合成)
[比較製造例1]
四塩化スズ五水和物を添加しない以外は製造例1と同様に実施した。得られた白色沈殿は再分散しなかった。同様に分析したところ、凝集粒子径200nm以上のルチル型酸化チタンであった。ロータリーエバポレーターによりメタノールを加えて濃縮する操作を行ったが、途中でゲル化、沈殿を生成した。
(Synthesis of rutile titanium oxide)
[Comparative Production Example 1]
It carried out like manufacture example 1 except not adding a tin tetrachloride pentahydrate. The white precipitate obtained did not redisperse. When analyzed in the same manner, it was a rutile type titanium oxide having an aggregate particle diameter of 200 nm or more. Although the operation of adding methanol and concentrating with a rotary evaporator was performed, gelation and precipitation were generated on the way.

(アナターゼ型酸化チタン超微粒子ゾル液の調製)
[比較製造例2]
イオン交換水2Lに酸化塩化チタンの塩酸水溶液(Ti含有率15重量%)20mlを加え、60℃で6時間加熱した。室温まで冷却した後、限外ろ過により濃縮、脱イオン処理を行い、固形分2重量%ゾル液とした。得られたゾル液の固形分を製造例1と同様に分析したところ、結晶径が短軸、長軸共に平均5nmのアナターゼ型酸化チタンであった。ロータリーエバポレーターによりメタノールを加えて濃縮する操作を繰り返した後、20重量%メタノール分散ゾル液とした。
(Preparation of anatase-type titanium oxide ultrafine particle sol solution)
[Comparative Production Example 2]
To 2 L of ion-exchanged water, 20 ml of a hydrochloric acid aqueous solution of titanium oxide chloride (Ti content: 15% by weight) was added and heated at 60 ° C. for 6 hours. After cooling to room temperature, it was concentrated and deionized by ultrafiltration to obtain a sol solution having a solid content of 2% by weight. When the solid content of the obtained sol solution was analyzed in the same manner as in Production Example 1, it was anatase-type titanium oxide having an average of 5 nm on both the minor axis and the major axis. After repeating the operation of adding methanol and concentrating with a rotary evaporator, a 20 wt% methanol-dispersed sol solution was obtained.

(ジルコニウム酸化物被覆アナターゼ型酸化チタン超微粒子ゾル液の調製)
[比較製造例3]
イオン交換水2Lに酸化塩化チタンの塩酸水溶液(Ti含有率15重量%) 20mlを加え、60℃で6時間加熱した。酸化塩化ジルコニウム八水和物32gを溶解した水溶液50gを滴下し、90℃に昇温し、1時間加熱した。室温まで冷却した後、限外ろ過を行った。室温まで冷却した後、限外ろ過により濃縮、脱イオン処理を行い、2重量%ゾル液とした。得られたゾル液の固形分を実施例1と同様に分析したところ、結晶径が短軸、長軸共に平均5nmのアナターゼ型酸化チタンであった。ジルコニウム酸化物被覆アナターゼ型酸化チタン超微粒子の組成は酸化物換算で酸化ジルコニウム/酸化チタン重量比=0.85/1であった。ロータリーエバポレーターによりメタノールを加えて濃縮する操作を繰り返した後、20重量%メタノール分散ゾル液とした。
(Preparation of zirconium oxide-coated anatase-type titanium oxide ultrafine particle sol solution)
[Comparative Production Example 3]
20 ml of a hydrochloric acid aqueous solution of titanium oxide chloride (Ti content 15% by weight) was added to 2 L of ion-exchanged water and heated at 60 ° C. for 6 hours. 50 g of an aqueous solution in which 32 g of zirconium oxide chloride octahydrate was dissolved was dropped, heated to 90 ° C., and heated for 1 hour. After cooling to room temperature, ultrafiltration was performed. After cooling to room temperature, it was concentrated and deionized by ultrafiltration to give a 2 wt% sol solution. When the solid content of the obtained sol solution was analyzed in the same manner as in Example 1, it was anatase-type titanium oxide having an average of 5 nm on both the minor axis and the major axis. The composition of the zirconium oxide-coated anatase-type titanium oxide ultrafine particles was zirconium oxide / titanium oxide weight ratio = 0.85 / 1 in terms of oxide. After repeating the operation of adding methanol and concentrating with a rotary evaporator, a 20 wt% methanol-dispersed sol solution was obtained.

[比較製造例4]
市販の五酸化アンチモン超微粒子ゾル液を20重量%メタノール分散ゾル液とした。
[Comparative Production Example 4]
A commercially available antimony pentoxide ultrafine particle sol solution was used as a 20 wt% methanol-dispersed sol solution.

(樹脂組成物の調製) (Preparation of resin composition)

製造例2で得られた20重量%分散ゾル液を10.5g(固形分2.1g)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物1.2g(DPHA、日本化薬(株)製)を混合後、エチルセロソルブ3.0gを加えた。さらに光開始剤として2,4,6−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド(TMDPO)を0.17g、Si系界面活性剤(日本ユニカー(株)製 商品名FZ−2110)を添加し、充分攪拌した。溶剤を除去後、メタルハライドランプ(強度120W/cm)を60秒間照射し、2mm厚のフィルム(1−2)を作成した。また、同様にして製造例3、5、6で得られたゾル液を用いてフィルム(1−3)、(1−5)、(1−6)を調製した。いずれも無色透明であった。   10.5 g (solid content 2.1 g) of the 20 wt% dispersion sol obtained in Production Example 2 and 1.2 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Made) and then 3.0 g of ethyl cellosolve was added. Furthermore, 0.17 g of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TMDPO) as a photoinitiator and a Si-based surfactant (trade name FZ-2110 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) were added, Stir well. After removing the solvent, a metal halide lamp (strength 120 W / cm) was irradiated for 60 seconds to produce a 2 mm thick film (1-2). Similarly, films (1-3), (1-5), and (1-6) were prepared using the sol liquids obtained in Production Examples 3, 5, and 6. All were colorless and transparent.

(樹脂組成物の調製) (Preparation of resin composition)

精製済みのビスフェノールAとエピクロロヒドリンの共重合ポリマー(シグマ アルドリッチ ジャパン(株)製)のペレット1.2gをブタノール:トルエン(1:1)混合溶媒10gに溶解し、製造例3で得られた20重量%メチルイソブチルケトン分散ゾル液6.5gを加えて攪拌した。キャスト120℃で乾燥させ、2mm厚みのフィルム(2−3)を作成した。フィルムは無色透明であった。また、熱プレス機を用いて180℃で成形し、1cm角の樹脂組成物とした。同様にして製造例6で得られたゾル液を用いてフィルム(2−6)、1cm角樹脂組成物を調製した。いずれも無色透明であった。   It is obtained in Production Example 3 by dissolving 1.2 g of a pellet of purified copolymer of bisphenol A and epichlorohydrin (Sigma Aldrich Japan Co., Ltd.) in 10 g of butanol: toluene (1: 1) mixed solvent. Then, 6.5 g of 20% by weight methyl isobutyl ketone-dispersed sol solution was added and stirred. The cast was dried at 120 ° C. to prepare a 2 mm thick film (2-3). The film was colorless and transparent. Moreover, it shape | molded at 180 degreeC using the hot press machine, and was set as the 1 cm square resin composition. Similarly, a film (2-6) and a 1 cm square resin composition were prepared using the sol solution obtained in Production Example 6. All were colorless and transparent.

〔比較例1〕
比較製造例1、2,3,4で得られたゾル液を用いた以外は実施例1と同様にして行い、フィルム(1−1’)、(1−2’)、(1−3’)、(1−4’)を調製した。
[Comparative Example 1]
Except that the sol solution obtained in Comparative Production Examples 1, 2, 3, and 4 was used, the same procedure as in Example 1 was performed, and the films (1-1 ′), (1-2 ′), and (1-3 ′) ), (1-4 ′).

上記方法により調製した樹脂組成物について、以下に示すように屈折率、耐光性、透明性を評価した。その結果を表1に示す。   About the resin composition prepared by the said method, refractive index, light resistance, and transparency were evaluated as shown below. The results are shown in Table 1.

(a)耐光性:得られた樹脂組成物をソーラーシュミレーター(Type:sss−252161−ER ウシオ電機(株)製)による500時間照射後のクラックの発生、および黄変、褐色化の程度をまったく無いものを○として、程度がひどくなる順に△、×で判定した。 (A) Light resistance: The occurrence of cracks after irradiation of the obtained resin composition for 500 hours by a solar simulator (Type: sss-252161-ER manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.), and the degree of yellowing and browning at all. Judgment was made by △ and × in order of increasing degree, with no being.

(b)屈折率の測定:
・樹脂組成物:溶解した樹脂組成物溶液を石英基板上にスピンコート法により膜厚約700Åに塗布し、熱風乾燥した塗布膜を自動波長走査型エリプソメーターM−150(日本分光(株)製)を用いて550nmでの屈折率を測定した。
(B) Refractive index measurement:
Resin composition: The dissolved resin composition solution was applied on a quartz substrate by spin coating to a film thickness of about 700 mm, and the coating film dried with hot air was an automatic wavelength scanning ellipsometer M-150 (manufactured by JASCO Corporation). ) Was used to measure the refractive index at 550 nm.

(c)透明性:目視で判定した。 (C) Transparency: Judged visually.

Figure 2007270097
*フィルム1−1’は白濁膜となり測定不可であった。
Figure 2007270097
* The film 1-1 ′ was a cloudy film and could not be measured.

表1に示すように、スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子に本願発明者らが見出した二層ケイ素酸化物被覆法を適用することによって、高い屈折率かつ、従来の金属酸化物被覆より効率的に酸化チタンの光触媒作用を抑制していることが分かる。これにより、高屈折率かつ耐光性に優れた透明樹脂組成物が得られていることが分かる。   As shown in Table 1, by applying the two-layer silicon oxide coating method found by the present inventors to tin-modified rutile-type titanium oxide ultrafine particles, a high refractive index and more efficient than the conventional metal oxide coating It can be seen that the photocatalytic action of titanium oxide is suppressed. Thereby, it turns out that the transparent resin composition excellent in the high refractive index and light resistance is obtained.

本発明によれば、優れた透明性、高い屈折率を有し、光学部材として用いられる新規な樹脂組成物が提供できる。詳しくは、透明性、分散性、耐光性、耐候性等に優れた高屈折率の被覆型無機酸化物超微粒子、即ち二層ケイ素酸化物被覆スズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子を高濃度に透明樹脂等の有機物質へ分散させた透明樹脂組成物が提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it has the outstanding transparency and high refractive index, and can provide the novel resin composition used as an optical member. Specifically, high refractive index coated inorganic oxide ultrafine particles with excellent transparency, dispersibility, light resistance, weather resistance, etc., that is, bilayer silicon oxide coated tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles are transparent at high concentration A transparent resin composition dispersed in an organic substance such as a resin can be provided.

本発明の樹脂組成物はルチル型酸化チタン超微粒子の存在により、高い屈折率、高い光線透過率等の特徴を有し、二層ケイ素酸化物被覆層により高い耐光性を有しているため、光学レンズ(メガネレンズ、フレネルレンズ、CD、DVDなどの情報記録機器におけるピックアップレンズ、デジタルカメラなどの撮影機器用レンズ等)、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤、光半導体用封止材料、回折格子、導光板、液晶基板、光反射板、反射防止材等の高屈折率光学部材の材料等として利用できる。   The resin composition of the present invention has characteristics such as a high refractive index and a high light transmittance due to the presence of rutile-type titanium oxide ultrafine particles, and has a high light resistance due to the two-layer silicon oxide coating layer. Optical lenses (glass lenses, Fresnel lenses, pickup lenses in information recording devices such as CDs and DVDs, lenses for photographing devices such as digital cameras), optical prisms, optical waveguides, optical fibers, thin film moldings, optical adhesives, light It can be used as a material for a high refractive index optical member such as a sealing material for a semiconductor, a diffraction grating, a light guide plate, a liquid crystal substrate, a light reflection plate, and an antireflection material.

Claims (9)

屈折率が1.5〜2.8であるルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子を核(A)とし、ケイ素酸化物を含む被覆層(B)から構成される無機酸化物被覆層を有する被覆型無機酸化物超微粒子を含有してなる樹脂組成物。   Inorganic oxidation composed of a coating layer (B) containing silicon oxide with an inorganic oxide ultrafine particle containing titanium oxide having a rutile crystal structure having a refractive index of 1.5 to 2.8 as a nucleus (A) A resin composition comprising coated inorganic oxide ultrafine particles having a material coating layer. 前記核(A)のルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子中のルチル型酸化チタン超微粒子が、
チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られ、Sn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であり、
前記(B)のケイ素酸化物を含む被覆層が、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られる被覆層を有し、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆型無機酸化物超微粒子である請求項1記載の樹脂組成物。
(1)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(A)と反応させる工程
(2)核(A)に対する重量比がSiO換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程
The rutile type titanium oxide ultrafine particles in the inorganic oxide ultrafine particles containing titanium oxide having the rutile type crystal structure of the nucleus (A),
In the presence of a tin compound having a molar ratio of tin to titanium (Sn / Ti) of 0.001 to 2, a titanium compound aqueous solution having a Ti concentration of 0.07 to 5 mol / l is reacted in a pH range of −1 to 3. Obtained tin-modified rutile titanium oxide ultrafine particles having a Sn / Ti composition molar ratio of 0.001 to 0.5,
The coating layer containing silicon oxide (B) is of a two-layer coating type, the inner layer has a coating layer obtained by the step (1), and the outer layer is obtained by the step (2), 2. The resin composition according to claim 1, wherein the oxide coating layer is a coated inorganic oxide ultrafine particle, wherein the weight ratio of the oxide coating layer is 0.001 to 20 in terms of SiO2.
(1) Step of reacting silicon oxide having a weight ratio with respect to the nucleus (A) of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the nucleus (A) under the condition of pH <7 (2) with respect to the nucleus (A) The step of reacting the silicon oxide having a weight ratio of 0.001 to 10 in terms of SiO 2 with the coated ultrafine particles obtained in (1) under the condition of pH ≧ 7
前記の被覆型無機酸化物超微粒子の結晶径の短軸、長軸が2〜20nmである請求項1又は2記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1 or 2, wherein a minor axis and a major axis of the crystal diameter of the coated inorganic oxide ultrafine particles are 2 to 20 nm. 前記の被覆型無機酸化物超微粒子からなる凝集体の平均凝集粒子径が、10〜100nmである請求項1〜3の何れかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein an average aggregate particle diameter of the aggregate composed of the coated inorganic oxide ultrafine particles is 10 to 100 nm. 前記の被覆型無機酸化物超微粒子が、水あるいは有機溶媒に分散してなるゾルを用いることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein a sol obtained by dispersing the coated inorganic oxide ultrafine particles in water or an organic solvent is used. 前記の被覆型無機酸化物超微粒子の表面が有機ケイ素化合物またはアミン類で処理されていることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の樹脂組成物。   6. The resin composition according to claim 1, wherein the surface of the coated inorganic oxide ultrafine particles is treated with an organosilicon compound or an amine. 屈折率が1.5〜2.8である請求項1〜6の何れかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 6, which has a refractive index of 1.5 to 2.8. 請求項1〜7の何れかに記載の樹脂組成物を含んでなる光学部材。   An optical member comprising the resin composition according to claim 1. 光学レンズ、光学プリズム、光導波路、光ファイバー、薄膜成形物、光学用接着剤又は光半導体用封止材料に用いることを特徴とする、請求項8記載の光学部材。   The optical member according to claim 8, wherein the optical member is used for an optical lens, an optical prism, an optical waveguide, an optical fiber, a thin film molding, an optical adhesive, or an optical semiconductor sealing material.
JP2006101108A 2006-03-31 2006-03-31 High refractive index resin composition Expired - Fee Related JP4749200B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006101108A JP4749200B2 (en) 2006-03-31 2006-03-31 High refractive index resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006101108A JP4749200B2 (en) 2006-03-31 2006-03-31 High refractive index resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007270097A true JP2007270097A (en) 2007-10-18
JP4749200B2 JP4749200B2 (en) 2011-08-17

Family

ID=38673212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006101108A Expired - Fee Related JP4749200B2 (en) 2006-03-31 2006-03-31 High refractive index resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4749200B2 (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007270099A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Mitsui Chemicals Inc Composition for semiconductor light-emitting device sealing use
WO2009078129A1 (en) 2007-12-17 2009-06-25 Mitsui Chemicals, Inc. Resin composition, transparent member obtained from the resin composition, and use of the same
JP2009221350A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Konica Minolta Opto Inc Resin composition, its production method, and optical element using the same
JP2009227500A (en) * 2008-03-21 2009-10-08 Tayca Corp Transparent titanium oxide organosol, coating composition with the same blended, optical base material
JP2009275115A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Transparent particulate dispersion and transparent resin composition containing particulate and transparent resin containing particulate and optical member
JP2010519393A (en) * 2007-02-28 2010-06-03 エボニック デグサ ゲーエムベーハー polymer
WO2010098366A1 (en) * 2009-02-25 2010-09-02 Fujifilm Corporation Metal oxide fine particles, dispersion liquid of metal oxide fine particles, and molded product
JP2011132484A (en) * 2009-11-30 2011-07-07 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd Method for preparing aqueous dispersion sol containing metal oxide fine particle having high refractive index, aqueous dispersion sol obtained by the method, organic solvent dispersion sol and coating composition containing the fine particle
JP2012001377A (en) * 2010-06-14 2012-01-05 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Titanium oxide sol, method for producing the same, and titanium oxide-containing polymer
WO2012124693A1 (en) 2011-03-14 2012-09-20 旭化成ケミカルズ株式会社 Organic/inorganic composite, manufacturing method therefor, organic/inorganic composite film, manufacturing method therefor, photonic crystal, coating material, thermoplastic composition, microstructure, optical material, antireflection member, and optical lens
KR20150119802A (en) * 2014-04-16 2015-10-26 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Organic solvent dispersion of titanium oxide solid solution, method for making the same, and coating composition
JP2016108189A (en) * 2014-12-08 2016-06-20 多木化学株式会社 Coated titanium oxide sol
JPWO2014132624A1 (en) * 2013-02-27 2017-02-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 Optical material, optical element and composite optical element
CN113939550A (en) * 2019-06-19 2022-01-14 住友电气工业株式会社 Resin composition, secondary coating material for optical fiber, and method for producing optical fiber

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108884317B (en) 2016-04-05 2021-08-20 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin composition, method for producing same, and polyimide film

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005132706A (en) * 2003-10-31 2005-05-26 Mitsui Chemicals Inc Manufacturing method of rutile type titanium oxide superfine particle
JP2005220008A (en) * 2003-12-16 2005-08-18 E I Du Pont De Nemours & Co Passivated nano-titanium dioxide particle and method for making the same
US20060032402A1 (en) * 2004-07-31 2006-02-16 Kronos International Inc. Weather resistant titanium dioxide pigment and a process for its production
JP2007270099A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Mitsui Chemicals Inc Composition for semiconductor light-emitting device sealing use

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005132706A (en) * 2003-10-31 2005-05-26 Mitsui Chemicals Inc Manufacturing method of rutile type titanium oxide superfine particle
JP2005220008A (en) * 2003-12-16 2005-08-18 E I Du Pont De Nemours & Co Passivated nano-titanium dioxide particle and method for making the same
US20060032402A1 (en) * 2004-07-31 2006-02-16 Kronos International Inc. Weather resistant titanium dioxide pigment and a process for its production
JP2007270099A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Mitsui Chemicals Inc Composition for semiconductor light-emitting device sealing use

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007270099A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Mitsui Chemicals Inc Composition for semiconductor light-emitting device sealing use
JP2010519393A (en) * 2007-02-28 2010-06-03 エボニック デグサ ゲーエムベーハー polymer
WO2009078129A1 (en) 2007-12-17 2009-06-25 Mitsui Chemicals, Inc. Resin composition, transparent member obtained from the resin composition, and use of the same
JP5422393B2 (en) * 2007-12-17 2014-02-19 三井化学株式会社 Polymerizable composition, transparent member obtained from the polymerizable composition and use thereof
CN101883825A (en) * 2007-12-17 2010-11-10 三井化学株式会社 Resin composition, transparent member obtained from the resin composition, and use of the same
US8648130B2 (en) 2007-12-17 2014-02-11 Mitsui Chemicals, Inc. Resin composition, transparent member obtained from the resin composition, and use of the same
KR101190958B1 (en) * 2007-12-17 2012-10-15 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 Resin composition, transparent member obtained from the resin composition, and use of the same
JP2009221350A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Konica Minolta Opto Inc Resin composition, its production method, and optical element using the same
JP2009227500A (en) * 2008-03-21 2009-10-08 Tayca Corp Transparent titanium oxide organosol, coating composition with the same blended, optical base material
JP2009275115A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Transparent particulate dispersion and transparent resin composition containing particulate and transparent resin containing particulate and optical member
WO2010098366A1 (en) * 2009-02-25 2010-09-02 Fujifilm Corporation Metal oxide fine particles, dispersion liquid of metal oxide fine particles, and molded product
JP2011132484A (en) * 2009-11-30 2011-07-07 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd Method for preparing aqueous dispersion sol containing metal oxide fine particle having high refractive index, aqueous dispersion sol obtained by the method, organic solvent dispersion sol and coating composition containing the fine particle
JP2012001377A (en) * 2010-06-14 2012-01-05 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Titanium oxide sol, method for producing the same, and titanium oxide-containing polymer
WO2012124693A1 (en) 2011-03-14 2012-09-20 旭化成ケミカルズ株式会社 Organic/inorganic composite, manufacturing method therefor, organic/inorganic composite film, manufacturing method therefor, photonic crystal, coating material, thermoplastic composition, microstructure, optical material, antireflection member, and optical lens
JPWO2014132624A1 (en) * 2013-02-27 2017-02-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 Optical material, optical element and composite optical element
KR20150119802A (en) * 2014-04-16 2015-10-26 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Organic solvent dispersion of titanium oxide solid solution, method for making the same, and coating composition
JP2016014132A (en) * 2014-04-16 2016-01-28 信越化学工業株式会社 Organic solvent dispersion of titanium oxide solid solution, method for producing the same, and coating agent
KR102279923B1 (en) 2014-04-16 2021-07-22 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Organic solvent dispersion of titanium oxide solid solution, method for making the same, and coating composition
JP2016108189A (en) * 2014-12-08 2016-06-20 多木化学株式会社 Coated titanium oxide sol
CN113939550A (en) * 2019-06-19 2022-01-14 住友电气工业株式会社 Resin composition, secondary coating material for optical fiber, and method for producing optical fiber
CN113939550B (en) * 2019-06-19 2024-05-03 住友电气工业株式会社 Resin composition, secondary coating material for optical fiber, and method for producing optical fiber

Also Published As

Publication number Publication date
JP4749200B2 (en) 2011-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4749200B2 (en) High refractive index resin composition
JP4749201B2 (en) Composition for sealing a semiconductor light emitting device
KR100809758B1 (en) Fine particles of tin-modified rutile-type titanium dioxide
JP4792320B2 (en) High refractive index cured film
TWI428282B (en) Metal oxide complex sol, coating composition and optical member
JP5896178B2 (en) Silicon dioxide-stannic oxide composite oxide-coated titanium oxide-containing metal oxide particles
TWI433816B (en) Modified metal oxide complex sol, coating composition and optical member
JP2007270098A (en) High-refractive index coating composition
JP5070180B2 (en) Organosiloxane oligomer modified inorganic oxide ultrafine particles
JP2008266043A (en) Transparent titanium oxide sol and method for preparing the same
JP2006342311A (en) High refractive index thin film
JP4673664B2 (en) High refractive index resin composition for coating
JP4906361B2 (en) Inorganic oxide ultrafine particles and production method thereof
JPWO2007052580A1 (en) Resin composition containing ultrafine oxide particles
JP2009217119A (en) Metal oxide fine particle dispersion and molding
JP6253484B2 (en) Coating composition, hard coat layer, optical substrate with hard coat layer, and production method thereof
JP2007093893A (en) Optical component
JP7415230B2 (en) Reactive silicone composition and cured product thereof
JP4641212B2 (en) Composite oxide ultrafine particles and process for producing the same
JP2008019364A (en) Manufacturing method of coating composition
JP2005015756A (en) Coating composition and optical material

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080708

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080911

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110202

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110329

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110510

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110517

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140527

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees