JP2007268753A - Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device - Google Patents

Optical film, antireflection film, polarizing plate and image display device Download PDF

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Daiki Wakizaka
大樹 脇阪
Tadahiro Matsunaga
直裕 松永
Hiroyuki Yoneyama
博之 米山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film excellent in scratch resistance while having optical properties necessary as a surface film of a display. <P>SOLUTION: The optical film has at least one layer of a hard coat layer comprising a translucent resin on a transparent support. The outermost layer of the film has a surface haze of ≤20% and a coefficient of dynamic friction μ<SB>k</SB>of ≤0.30. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, an antireflection film, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.

液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)等の表示装置において、ディスプレイの最表面に保護機能を有する光学フィルムや、あるいは外光の反射や映りこみによるコントラスト低下を防止するための防眩性フィルム、又は反射防止フィルムが用いられる。これらのフィルムはディスプレイの最表面に用いられるために、上記性能の他に日常の拭き掃除等における擦り傷がつきにくくなる耐擦傷性が重要な性能の一つとなる。この要求に応えるために、新規のアクリレートモノマーを用いて高硬度で耐擦傷性に優れる塗膜を得る方法などが行われてきたが、耐擦傷性を高めるためには十分ではなかった。
特開2002−235018号公報
In display devices such as liquid crystal display (LCD), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD) and cathode ray tube display (CRT), an optical film having a protective function on the outermost surface of the display, or reflection of external light In addition, an antiglare film or an antireflection film for preventing a decrease in contrast due to reflection is used. Since these films are used on the outermost surface of the display, in addition to the above performance, scratch resistance that makes it difficult to be scratched in daily wiping and cleaning becomes one of the important performances. In order to meet this demand, a method of obtaining a coating film having high hardness and excellent scratch resistance using a novel acrylate monomer has been carried out, but it has not been sufficient for improving the scratch resistance.
JP 2002-233501 A

本発明者らは、防眩性を付与するために膜表面に凹凸が多数存在すると凸部が引っ掻きや擦り傷に対して弱く、その結果、耐擦傷性が低下することがあることを知見した。
そこで、本発明では、表面ヘイズを小さくし、かつ膜表面の滑り性を向上させることにより抵抗を軽減し耐擦傷性を改良したものである。
すなわち、本発明では、特に表面に凹凸を有する防眩性のフィルムにおいて、十分な光学性能を有しながら耐擦傷性を向上させることを目的とする。
さらに、本発明では、特に表面に凹凸を有する防眩性のフィルムにおいて、十分な光学性能を有しながら耐擦傷性を向上させるとともに、カールを抑制することを目的とする。
また、本発明は、上記の光学フィルムを備えた偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。
The present inventors have found that if there are many irregularities on the film surface in order to impart antiglare properties, the convex portions are vulnerable to scratches and scratches, and as a result, the scratch resistance may be reduced.
Therefore, in the present invention, by reducing the surface haze and improving the slipperiness of the film surface, the resistance is reduced and the scratch resistance is improved.
That is, an object of the present invention is to improve the scratch resistance while having sufficient optical performance, particularly in an antiglare film having irregularities on the surface.
Furthermore, in the present invention, particularly in an antiglare film having irregularities on the surface, the object is to improve the scratch resistance while having sufficient optical performance and to suppress curling.
Moreover, an object of this invention is to provide the polarizing plate and image display apparatus provided with said optical film.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、以下のとおりである。
(1) 透明支持体上に透光性樹脂を含んでなるハードコート層を少なくとも1層有する光学フィルムであって、該フィルムの最表層が、表面ヘイズが20%以下、動摩擦係数μが0.30以下であることを特徴とする光学フィルム。
(2) 前記ハードコート層の膜厚が8〜30μmであることを特徴とする上記(1)に記載の光学フィルム。
(3) 前記ハードコート層が電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されうるものであって、該ハードコート層の硬化前の表面二重結合量Aと、硬化後の残存表面二重結合量Bとの比(B/A)が、0.05≦B/A≦0.5の範囲であることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の光学フィルム。
(4) 前記ハードコート層が同一分子内に2個以上のエチレン性不飽和基及び1個以上のイソシアヌレート環を有する化合物を含む硬化性組成物を硬化した層であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか一項に記載の光学フィルム。
(5) 前記ハードコート層が、添加剤として、少なくとも一種のフッ素化合物及び/又は少なくとも一種のシリコーン系化合物を含有することを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれか一項に記載の光学フィルム。
(6) 透明支持体上に透光性樹脂を含んでなるハードコート層を少なくとも1層有する光学フィルムであって、該フィルムの最表層が、表面ヘイズが10%以下、動摩擦係数μが0.30以下であることを特徴とする光学フィルム。
(7) 上記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の光学フィルムにおいて、前記最表層として、透明支持体よりも屈折率が小さい低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
(8) 前記低屈折率層が、添加剤として、少なくとも一種のフッ素化合物及び/又は少なくとも一種のシリコーン系化合物を含有することを特徴とする上記(7)に記載の反射防止フィルム。
(9) 2枚の保護フィルムの間に偏光子を有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一つが、上記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の光学フィルム又は上記(7)〜(8)のいずれか一項に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
(10) 上記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の光学フィルム、上記(7)〜(8)のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、又は上記(9)に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
(1) An optical film having at least one layer of the hard coat layer comprising a light-transmissive resin on a transparent substrate, the outermost layer of the film is, the surface haze of 20% or less, the dynamic friction coefficient mu k is 0 An optical film having a thickness of 30 or less.
(2) The optical film as described in (1) above, wherein the hard coat layer has a thickness of 8 to 30 μm.
(3) The hard coat layer can be formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound, and the amount of surface double bonds A before curing of the hard coat layer and the remaining surface after curing The optical film as described in (1) or (2) above, wherein the ratio (B / A) to the double bond amount B is in the range of 0.05 ≦ B / A ≦ 0.5.
(4) The hard coat layer is a layer obtained by curing a curable composition containing a compound having two or more ethylenically unsaturated groups and one or more isocyanurate rings in the same molecule ( The optical film as described in any one of 1) to (3).
(5) The hard coat layer contains at least one fluorine compound and / or at least one silicone compound as an additive, according to any one of the above (1) to (4), Optical film.
(6) An optical film having at least one layer of the hard coat layer comprising a light-transmissive resin on a transparent substrate, the outermost layer of the film is, the surface haze is 10% or less, the dynamic friction coefficient mu k is 0 An optical film having a thickness of 30 or less.
(7) The optical film according to any one of (1) to (6), wherein the outermost layer has a low refractive index layer having a refractive index smaller than that of the transparent support, and is antireflective. the film.
(8) The antireflective film as described in (7) above, wherein the low refractive index layer contains at least one fluorine compound and / or at least one silicone compound as an additive.
(9) A polarizing plate having a polarizer between two protective films, wherein at least one of the protective films is the optical film according to any one of (1) to (6) above or ( A polarizing plate, which is the antireflection film according to any one of 7) to (8).
(10) The optical film according to any one of (1) to (6), the antireflection film according to any one of (7) to (8), or the above (9). An image display device comprising a polarizing plate.

本発明の光学フィルムは、表面ヘイズを軽減し、かつ滑り性を向上させることにより、光学性能を損なうことなく高い耐擦傷性を示す。また、本発明の光学フィルムは、上記の性能に加えて、カールを抑制したものである。本発明の光学フィルム(特に反射防止フィルム)を用いた偏光板は上記の優れた性能を示す。さらには本発明の光学フィルム(特に反射防止フィルム)を備えた表示装置は外光の写り込みや背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高い。   The optical film of the present invention exhibits high scratch resistance without reducing optical performance by reducing surface haze and improving slipperiness. In addition to the above performance, the optical film of the present invention suppresses curling. A polarizing plate using the optical film of the present invention (particularly an antireflection film) exhibits the above-described excellent performance. Furthermore, a display device provided with the optical film of the present invention (particularly, an antireflection film) has very high visibility because there is little reflection of external light and reflection of the background.

以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like.

1.フィルムを構成する層
本発明の光学フィルムは、透明支持体上に透光性樹脂を含んでなるハードコート層を少なくとも一層有し、該フィルムの最表層の表面散乱に起因するヘイズ(以後、表面ヘイズと呼称する)が0%〜20%であり、更に動摩擦係数μが0.30以下であることを特徴とする。
表面へイズは、0%〜10%であることが好ましく、さらには0%〜5%であることが好ましく、0%〜2%であることが最も好ましい。表面ヘイズが20%を超えると表面の凹凸により膜表面の強度が弱くなり、耐擦傷性が悪化する。また、動摩擦係数μは、0.25以下が好ましく、0.20以下が特に好ましい。動摩擦系数が0.30を超えると表面の滑り性が低下し、耐擦傷性が悪化する。
上記表面ヘイズを軽減し、且つ滑り性を向上させることにより、優れた視認性を有しつつ、耐擦傷性が向上した光学フィルムが得られる。
1. Layers constituting film The optical film of the present invention has at least one hard coat layer containing a translucent resin on a transparent support, and haze (hereinafter referred to as surface) due to surface scattering of the outermost layer of the film. (Called haze) is 0% to 20%, and the dynamic friction coefficient μ k is 0.30 or less.
The surface haze is preferably 0% to 10%, more preferably 0% to 5%, and most preferably 0% to 2%. If the surface haze exceeds 20%, the strength of the film surface becomes weak due to surface irregularities, and the scratch resistance deteriorates. Further, the dynamic friction coefficient μ k is preferably 0.25 or less, particularly preferably 0.20 or less. When the number of dynamic friction systems exceeds 0.30, the surface slipperiness decreases and the scratch resistance deteriorates.
By reducing the surface haze and improving the slipperiness, an optical film having excellent visibility and improved scratch resistance can be obtained.

また、本発明の光学フィルムは、内部散乱に起因するヘイズ(以後、内部ヘイズと呼称する)が1%〜40%であることが好ましく、1%〜25%であることがより好ましく、1%〜15%であることが最も好ましい。内部ヘイズは低い程、コントラストの低下を起こしにくく、40%を超えると、コントラストの大幅な悪化が許容できない。
内部ヘイズと表面ヘイズの組み合わせとしては、表面ヘイズが0〜20%であり、かつ内部ヘイズが1〜35%であることが好ましく、表面ヘイズが0〜10%であり、かつ内部ヘイズが1〜25%であることがより好ましく、表面ヘイズが0〜5%であり、かつ内部ヘイズが1〜15%であることが最も好ましい。
In the optical film of the present invention, haze caused by internal scattering (hereinafter referred to as internal haze) is preferably 1% to 40%, more preferably 1% to 25%, and more preferably 1% Most preferred is -15%. The lower the internal haze, the less likely it is to cause a decrease in contrast. If it exceeds 40%, a significant deterioration in contrast cannot be tolerated.
As a combination of the internal haze and the surface haze, the surface haze is preferably 0 to 20%, and the internal haze is preferably 1 to 35%, the surface haze is 0 to 10%, and the internal haze is 1 to 1. More preferably, the surface haze is 0 to 5%, and the internal haze is most preferably 1 to 15%.

以下、本発明の光学フィルムを構成する層について記載する。本発明の光学フィルムは後述の各種化合物を混合、塗設することによって得られるものである。   Hereinafter, it describes about the layer which comprises the optical film of this invention. The optical film of the present invention is obtained by mixing and coating various compounds described below.

(光学フィルムの層構成)
本発明の光学フィルムは、透明支持体上に透光性樹脂を含んでなるハードコート層を少なくとも一層有し、該ハードコート層の他に、光学機能層を有しても良い。光学機能層としては、反射防止層や屈折率が制御された中間層が挙げられる。反射防止層とは、具体的には光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚が制御された層であり、透明支持体よりも屈折率が低い低屈折率層が挙げられる。本発明における光学機能層としては、低屈折率層であることが最も好ましい(以下、本明細書において、反射防止層を有する光学フィルムを、「反射防止フィルム」と記すこともある)。
(Layer structure of optical film)
The optical film of the present invention has at least one hard coat layer containing a translucent resin on a transparent support, and may have an optical functional layer in addition to the hard coat layer. Examples of the optical functional layer include an antireflection layer and an intermediate layer whose refractive index is controlled. Specifically, the antireflection layer is a layer in which the refractive index and the film thickness are controlled so that the reflectance is reduced by optical interference, and examples thereof include a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support. The optical functional layer in the present invention is most preferably a low refractive index layer (hereinafter, an optical film having an antireflection layer may be referred to as “antireflection film” in the present specification).

本発明の反射防止フィルムは、透明な基材(支持体)上に、後述のハードコート層を有し、その上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して反射防止層が積層されている。反射防止フィルムは、反射率を低下させるためには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材またはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。   The antireflection film of the present invention has a hard coat layer to be described later on a transparent substrate (support), and has a refractive index, a film thickness, and the number of layers so that the reflectance decreases due to optical interference. The antireflection layer is laminated in consideration of the layer order and the like. In order to reduce the reflectance of the antireflection film, the antireflection layer is formed by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the base material and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the base material. It is preferable. Examples of configurations include two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer from the base material side, and three layers having different refractive indices, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the base material or the hard coat layer). , A layer having a refractive index lower than that of a high refractive index layer) / a layer having a high refractive index / a layer having a low refractive index, and the like.

ハードコート層は表面に凹凸のある防眩性ハードコート層(以下、「防眩層」とも称する)であってもよい。
また、光学機能層は低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層のいずれであってもよい。さらに(防眩性)ハードコート層と光学機能層の間にどちらとも異なる層があってもよいが、(防眩性)ハードコート層と光学機能層が直接接することが、生産性の観点から好ましい。
The hard coat layer may be an anti-glare hard coat layer (hereinafter also referred to as “anti-glare layer”) having irregularities on the surface.
The optical functional layer may be any of a low refractive index layer, a medium refractive index layer, and a high refractive index layer. Furthermore, there may be a different layer between the (antiglare) hard coat layer and the optical functional layer, but the (antiglare) hard coat layer and the optical functional layer are in direct contact with each other from the viewpoint of productivity. preferable.

本発明の低屈折率層は、含フッ素化合物を主成分としてなる硬化性組成物、又は分子内に複数個の結合性基を有するモノマーと低屈折率の粒子を含有する硬化組成物を塗布硬化して、屈折率が1.20〜1.50の範囲に調節したものである。1.25〜1.45が好ましく。1.30〜1.40が更に好ましい。
好ましい硬化物組成の態様としては、(1)架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、(2)含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、(3)2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、これにより、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最外層として用いても耐擦傷性に優れた光学フイルムが得られる。
The low refractive index layer of the present invention is formed by applying and curing a curable composition containing a fluorine-containing compound as a main component or a monomer having a plurality of bonding groups in the molecule and low refractive index particles. Thus, the refractive index is adjusted in the range of 1.20 to 1.50. 1.25 to 1.45 are preferred. More preferably 1.30 to 1.40.
Preferred embodiments of the cured product composition include (1) a composition containing a fluorine-containing polymer having a crosslinkable or polymerizable functional group, and (2) a hydrolysis condensate of a fluorine-containing organosilane material as a main component. Composition, (3) a composition containing a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups and inorganic fine particles having a hollow structure, thereby comparing with a low refractive index layer using magnesium fluoride or calcium fluoride Even when used as the outermost layer, an optical film excellent in scratch resistance can be obtained.

本発明の反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。
以下の層構成において、光学機能層は低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層のいずれであってもよい。
基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
帯電防止層/基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/(防眩性)ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
帯電防止層/基材フィルム/(防眩性)ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
The example of the preferable layer structure of the antireflection film of this invention is shown below.
In the following layer configuration, the optical functional layer may be any of a low refractive index layer, a medium refractive index layer, and a high refractive index layer.
Base film / (anti-glare) hard coat layer / low refractive index layer Base film / hard coat layer / (anti-glare) hard coat layer / low refractive index layer Base film / (anti-glare) hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / (Anti-glare) Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Antistatic layer / (Anti-glare) Hard coat layer / low refractive index layer Antistatic layer / base film / (antiglare) hard coat layer / low refractive index layer base film / antistatic layer / (antiglare) hard coat layer / medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Antistatic layer / Base film / (Anti-glare) hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer

反射防止層は、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。ハードコート層は防眩機能を付与した防眩性ハードコート層でもよい。またハードコート層は防眩機能がなく光拡散機能のある光拡散性ハードコート層でも良い。さらに高屈折率層や中屈折率層には防眩機能やハードコート機能、光拡散機能を付与させてもよい。また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子(例えば、SnO2、ITO)を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等により設けることができる。 The antireflection layer is not particularly limited to these layer configurations as long as the reflectance can be reduced by optical interference. The hard coat layer may be an antiglare hard coat layer imparted with an antiglare function. The hard coat layer may be a light diffusive hard coat layer having no antiglare function and having a light diffusion function. Further, the high refractive index layer and the middle refractive index layer may be provided with an antiglare function, a hard coat function, and a light diffusion function. The antistatic layer is preferably a layer containing conductive polymer particles or metal oxide fine particles (for example, SnO 2 , ITO), and can be provided by coating or atmospheric pressure plasma treatment.

2.本発明の構成物
まず、本発明の光学フィルム(以下、単に「フィルム」と称することもある)に使用することのできる各種化合物について記載する。
2. First, the various compounds that can be used for the optical film of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “film”) will be described.

2−(1)モノマーバインダー
本発明のフィルムは、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることができる。すなわち、バインダーとして電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
2- (1) Monomer Binder The film of the present invention can be formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. That is, a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer as a binder is coated on a transparent support, and the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction. be able to.
The functional group of the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;
等を挙げることができる。
As a specific example of a photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group,
(Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane ;
Etc.

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールペンタアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリロイル」は、それぞれ「アクリレートまたはメタクリレート」、「アクリル酸またはメタクリル酸」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」を表す。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, (di) pentaerythritol triacrylate, (di) pentaerythritol pentaacrylate, (di) pentaerythritol tetra (meth) acrylate, (di) pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate , Tripentaerythritol hexatriacrylate and the like. In the present specification, “(meth) acrylate”, “(meth) acrylic acid”, and “(meth) acryloyl” represent “acrylate or methacrylate”, “acrylic acid or methacrylic acid”, and “acryloyl or methacryloyl”, respectively. .

モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開2005−76005号、同2005−36105号に記載されたデンドリマーや、例えば特開2005−60425号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
As the monomer binder, monomers having different refractive indexes can be used to control the refractive index of each layer. Examples of particularly high refractive index monomers include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like.
Further, for example, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can also be used.

多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
Polymerization of these monomers having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
It is preferable to use a photopolymerization initiator for the polymerization reaction of the photopolymerizable polyfunctional monomer. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable.

2−(2)ポリマ−バインダー
本発明にはバインダーとして、ポリマーあるいは架橋しているポリマーを用いることができる。架橋しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。
2- (2) Polymer Binder In the present invention, a polymer or a crosslinked polymer can be used as the binder. The crosslinked polymer preferably has an anionic group. The polymer having a crosslinked anionic group has a structure in which the main chain of the polymer having an anionic group is crosslinked.

ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン(飽和炭化水素)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
ポリオレフィン主鎖は飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合(-O-)によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合(-NH-CO-NH-)によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖はウレタン結合(-NH-CO-O-)によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基(N-メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合(-CO-O-)によって繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基(酸ハライド基を含む)と水酸基(N-メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖はイミノ結合(-NH-)によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合(-NH-CO-)によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基(酸ハライド基を含む)との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基(例、メラミン)とアルデヒド(例、ホルムアルデヒド)との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。
Examples of the polymer main chain include polyolefin (saturated hydrocarbon), polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. A polyolefin main chain, a polyether main chain and a polyurea main chain are preferable, a polyolefin main chain and a polyether main chain are more preferable, and a polyolefin main chain is most preferable.
The polyolefin main chain consists of saturated hydrocarbons. The polyolefin main chain is obtained, for example, by an addition polymerization reaction of an unsaturated polymerizable group. The polyether main chain has repeating units bonded by an ether bond (—O—). The polyether main chain is obtained, for example, by a ring-opening polymerization reaction of an epoxy group. In the polyurea main chain, repeating units are bonded by a urea bond (—NH—CO—NH—). The polyurea main chain is obtained, for example, by a condensation polymerization reaction between an isocyanate group and an amino group. The polyurethane main chain has repeating units bonded by urethane bonds (—NH—CO—O—). The polyurethane main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between an isocyanate group and a hydroxyl group (including an N-methylol group). The polyester main chain has repeating units bonded by an ester bond (—CO—O—). The polyester main chain is obtained, for example, by a condensation polymerization reaction between a carboxyl group (including an acid halide group) and a hydroxyl group (including an N-methylol group). The polyamine main chain has repeating units bonded by imino bonds (—NH—). The polyamine main chain is obtained, for example, by a ring-opening polymerization reaction of an ethyleneimine group. The polyamide main chain has repeating units bonded by an amide bond (—NH—CO—). The polyamide main chain is obtained, for example, by a reaction between an isocyanate group and a carboxyl group (including an acid halide group). The melamine resin main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between a triazine group (eg, melamine) and an aldehyde (eg, formaldehyde). In the melamine resin, the main chain itself has a crosslinked structure.

アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として主鎖に結合させることが好ましい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)およびリン酸基(ホスホノ)などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、-CO-、-O-、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組合せから選ばれる二価の基であることが好ましい。
The anionic group is bonded directly to the main chain of the polymer or bonded to the main chain via a linking group. The anionic group is preferably bonded to the main chain as a side chain via a linking group.
Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono), and a sulfonic acid group and a phosphoric acid group are preferable.
The anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated.
The linking group that connects the anionic group and the main chain of the polymer is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof.

架橋構造は二以上の主鎖を化学的に結合(好ましくは共有結合)するものであるが、三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、-CO-、-O-、-S-、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組合せから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。   The crosslinked structure is a structure in which two or more main chains are chemically bonded (preferably covalent bonds), but it is preferable to covalently bond three or more main chains. The crosslinked structure is preferably composed of a divalent or higher valent group selected from —CO—, —O—, —S—, a nitrogen atom, a phosphorus atom, an aliphatic residue, an aromatic residue, and combinations thereof.

架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることがさらに好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98質量%であることが好ましく、6〜96質量%であることがさらに好ましく、8〜94質量%であることが最も好ましい。   The crosslinked polymer having an anionic group is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. The proportion of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. The repeating unit may have two or more anionic groups. The proportion of the repeating unit having a crosslinked structure in the copolymer is preferably 4 to 98% by mass, more preferably 6 to 96% by mass, and most preferably 8 to 94% by mass.

架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位)が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に無機粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても同様の効果が得られる。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が1〜12のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、-CO-、-NH-、-O-、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組合せから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることがさらに好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。
The repeating unit of the polymer having a crosslinked anionic group may have both an anionic group and a crosslinked structure. Further, other repeating units (repeating units having neither an anionic group nor a crosslinked structure) may be contained.
Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or the quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic particles, like the anionic group. The same effect can be obtained even when the amino group, quaternary ammonium group and benzene ring are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.
In a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the amino group or quaternary ammonium group is directly bonded to the main chain of the polymer or bonded to the main chain through a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably bonded to the main chain as a side chain via a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, Is more preferably an alkyl group of 1 to 6. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the main chain of the polymer is a divalent group selected from -CO-, -NH-, -O-, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Preferably there is. When the polymer having a crosslinked anionic group contains a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, and 0.08 to 30% by mass. It is more preferable that it is 0.1 to 28% by mass.

2−(3)含フッ素ポリマ−バインダー
本発明にはポリマーのバインダーのうち、特に低屈折率層には含フッ素共重合体化合物を好ましく用いることが出来る。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やR−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%の場合であり、特に好ましくは30〜50質量%の場合である。
2- (3) Fluorine-containing polymer binder Among the polymer binders in the present invention, a fluorine-containing copolymer compound can be preferably used particularly for the low refractive index layer.
Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, biscoat 6FM (trade name) , Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and R-2020 (trade name, manufactured by Daikin Co., Ltd.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. Preferred are perfluoroolefins, refractive index, solubility, and transparency. From the viewpoint of availability, hexafluoropropylene is particularly preferable. Increasing the composition ratio of these fluorinated vinyl monomers can lower the refractive index but lowers the film strength. In the present invention, the fluorine-containing vinyl monomer is preferably introduced so that the fluorine content of the copolymer is 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and particularly preferably 30 to 50%. This is a case of mass%.

架橋反応性付与のための構成単位としては主として以下の(A)、(B)、(C)で示される単位が挙げられる。
(A):グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
(B):カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、
(C):分子内に上記(A)、(B)の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記(A)、(B)の構成単位と反応させて得られる構成単位、(例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位)が挙げられる。
Examples of the structural unit for imparting crosslinking reactivity include units represented by the following (A), (B), and (C).
(A): a structural unit obtained by polymerization of a monomer having a self-crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether,
(B): a monomer having a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, a sulfo group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether) , Maleic acid, crotonic acid, etc.)
(C): a group having a crosslinkable functional group separately from a group that reacts with the functional group of (A) or (B) in the molecule and a structural unit of (A) or (B) above. Examples of the structural unit to be obtained include (for example, a structural unit that can be synthesized by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxyl group).

上記(C)の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば(メタ)アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α-フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、o-キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、1,2,3-チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは1種のみでなく2種以上であってもよい。これらのうち、(メタ)アクリロイル基およびシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基である。   In the structural unit (C), the crosslinkable functional group is preferably a photopolymerizable group. Examples of the photopolymerizable group include (meth) acryloyl group, alkenyl group, cinnamoyl group, cinnamylideneacetyl group, benzalacetophenone group, styrylpyridine group, α-phenylmaleimide group, phenylazide group, sulfonylazide. Group, carbonyl azide group, diazo group, o-quinonediazide group, furylacryloyl group, coumarin group, pyrone group, anthracene group, benzophenone group, stilbene group, dithiocarbamate group, xanthate group, 1,2,3-thiadiazole group, cyclo A propene group, an azadioxabicyclo group, etc. can be mentioned, These may be not only 1 type but 2 or more types. Of these, a (meth) acryloyl group and a cinnamoyl group are preferable, and a (meth) acryloyl group is particularly preferable.

光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
a.水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
b.水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
c.エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
d.カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有(メタ)アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
尚、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。
Specific methods for preparing the photopolymerizable group-containing copolymer include, but are not limited to, the following methods.
a. A method of esterifying by reacting a (meth) acrylic acid chloride with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a hydroxyl group,
b. A method of urethanization by reacting an isocyanate group-containing (meth) acrylic ester with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a hydroxyl group,
c. A method of reacting (meth) acrylic acid with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing an epoxy group,
d. A method in which a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a carboxyl group is reacted with a containing (meth) acrylic acid ester containing an epoxy group for esterification.
The amount of the photopolymerizable group introduced can be arbitrarily adjusted. From the viewpoints of surface stability of the coating film, reduction of surface failure when coexisting with inorganic particles, and improvement of film strength, carboxyl groups, hydroxyl groups, etc. It is also preferable to leave a certain amount.

本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の0〜65モル%の範囲で導入されていることが好ましく、0〜40モル%の範囲であることがより好ましく、0〜30モル%の範囲であることが特に好ましい。   In the copolymer useful for the present invention, in addition to the repeating unit derived from the above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer and the repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, it contributes to adhesion to the substrate and Tg of the polymer (film hardness). And other vinyl monomers can be copolymerized as appropriate from various viewpoints such as solubility in a solvent, transparency, slipperiness, dust resistance and antifouling properties. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer in total, and in the range of 0 to 40 mol%. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0 to 30 mol%.

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2‐ヒドロキシエチル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和カルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等)、アクリルアミド類(N、N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N、N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル等を挙げることができる。   The vinyl monomer unit that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid) 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl acrylate), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethylstyrene, p -Methoxystyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate) Vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N -Cyclohexyl acrylamide, etc.), methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile and the like.

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基((メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等)を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%の場合である。好ましいポリマーについては、特開2002−243907号、特開2002−372601号、特開2003−26732号、特開2003−222702号、特開2003−294911号、特開2003−329804号、特開2004−4444、特開2004−45462号に記載のものを挙げることができる。   The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing a crosslinking reaction alone (a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group). These crosslinkable group-containing polymerized units preferably occupy 5 to 70 mol% of the total polymerized units of the polymer, particularly preferably 30 to 60 mol%. Regarding preferred polymers, JP-A-2002-243907, JP-A-2002-372601, JP-A-2003-26732, JP-A-2003-222702, JP-A-2003-294911, JP-A-2003-329804, JP-A-2004. -4444 and JP, 2004-45462, A can be mentioned.

また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平6−93100号、特開平11-189621号、同11-228631号、特開2000-313709号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平2-251555号、同2-308806号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平11−189621号の実施例1、2、及び3のポリマー、又は特開平2−251555号の共重合体A−2及びA−3を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の0.5〜10質量%であることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%である。   Moreover, it is preferable that the polysiloxane structure is introduce | transduced in the fluorine-containing polymer of this invention in order to provide antifouling property. There is no limitation on the method of introducing the polysiloxane structure, but for example, as described in JP-A-6-93100, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631, and JP-A-2000-313709, the initiation of silicone macroazo A method of introducing a polysiloxane block copolymer component using an agent, and a method of introducing a polysiloxane graft copolymer component using a silicone macromer as described in JP-A-2-251555 and JP-A-2-308806. preferable. Particularly preferred compounds include the polymers of Examples 1, 2, and 3 of JP-A-11-189621, and the copolymers A-2 and A-3 of JP-A-2-251555. These polysiloxane components are preferably 0.5 to 10% by mass in the polymer, and particularly preferably 1 to 5% by mass.

本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が5000以上、好ましくは10000〜500000、最も好ましくは15000〜200000である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。   The preferred molecular weight of the polymer that can be preferably used in the present invention is a mass average molecular weight of 5,000 or more, preferably 10,000 to 500,000, most preferably 15,000 to 200,000. By using polymers having different average molecular weights in combination, it is possible to improve the surface state of the coating film and the scratch resistance.

上記のポリマーに対しては特開平10-25388号公報および特開2000−17028号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開2002−145952号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記2−(1)のモノマーバインダーで述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-2000-17028, a curing agent having a polymerizable unsaturated group may be used in combination with the above polymer. Moreover, combined use with the compound which has a fluorine-containing polyfunctional polymerizable unsaturated group as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-145952 is also preferable. Examples of the compound having a polyfunctional polymerizable unsaturated group include the polyfunctional monomers described in the monomer binder 2- (1). These compounds are particularly preferred because they have a large combined effect for improving scratch resistance, particularly when a compound having a polymerizable unsaturated group is used in the polymer body.

2−(4)オルガノシラン化合物
本発明のフィルムを構成する層のうちの少なくとも1層は、その層を形成する塗布液中に、オルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物の少なくとも一種の成分、いわゆるゾル成分(以降このように称する場合もある)を含有することが耐擦傷性の点で好ましい。
特に反射防止フィルムにおいては反射防止能と耐擦傷性を両立させるために、低屈折率層とハードコート層の共にゾル成分を含有することが特に好ましい。このゾル成分は、塗布液を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し上記層のバインダーの一部となる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。
2- (4) Organosilane compound At least one of the layers constituting the film of the present invention contains at least one of hydrolyzate of organosilane compound and / or partial condensate thereof in the coating solution forming the layer. It is preferable from the viewpoint of scratch resistance that it contains a kind of component, a so-called sol component (hereinafter sometimes referred to as such).
In particular, in an antireflection film, it is particularly preferable that both the low refractive index layer and the hard coat layer contain a sol component in order to achieve both antireflection performance and scratch resistance. This sol component is condensed by a drying and heating process after coating the coating solution to form a cured product and becomes a part of the binder of the above layer. Moreover, when this hardened | cured material has a polymerizable unsaturated bond, the binder which has a three-dimensional structure is formed by irradiation of actinic light.

オルガノシラン化合物は、下記一般式1で表されるものが好ましい。
一般式1:(R−Si(X)4−m
上記一般式1において、R1は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びRCOO(Rは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。例えばCHCOO、CCOO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表し、好ましくは1〜2である。
The organosilane compound is preferably one represented by the following general formula 1.
General formula 1: (R < 1 >) m- Si (X) 4-m
In the general formula 1, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. As an alkyl group, a C1-C30 alkyl group is preferable, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is a C1-C6 thing. Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I or the like). ) And R 2 COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples include CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably An alkoxy group, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3, and preferably 1 or 2.

Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
1に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
10が複数ある場合は、少なくとも1つが置換アルキル基又は置換アリール基であることが好ましい。中でも該置換アルキル基又は置換アリール基がさらにビニル重合性基を有することが好ましく、この場合、一般式1で表される化合物は、下記一般式2で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物として表すことができる。
When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different.
The substituent contained in R 1 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted.
When there are a plurality of R 10 s , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group. Among these, the substituted alkyl group or substituted aryl group preferably further has a vinyl polymerizable group. In this case, the compound represented by the general formula 1 has a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula 2. It can be expressed as an organosilane compound.

Figure 2007268753
Figure 2007268753

上記一般式2において、Rは水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合もしくは*−COO−**、*−CONH−**または*−O−**を表し、単結合、*−COO−**および*−CONH−**が好ましく、単結合および*−COO−**が更に好ましく、*−COO−**が特に好ましい。*は=C(R)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。
In the above general formula 2, R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, and a chlorine atom are preferable, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom, and a chlorine atom are more preferable, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**, * -COO-** is more preferable, and * -COO-** is particularly preferable. * Represents a position bonded to ═C (R 2 ) —, and ** represents a position bonded to L.

Lは2価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。   L represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) therein, and a linking group ( For example, a substituted or unsubstituted arylene group having an ether, an ester, an amide, etc.) is preferable. A substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, and an alkylene group having a linking group therein are preferred. A substituted alkylene group, an unsubstituted arylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group therein are more preferred, and an unsubstituted alkylene group and an alkylene group having an ether or ester linking group inside are particularly preferred. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

l(lはl=100−mの数式を満たす数を表す)およびmはモル比率を表わし、、mは0〜50の数を表す。mは0〜40の数がより好ましく、0〜30の数が特に好ましい。
〜Rは、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、もしくは無置換のアルキル基が好ましい。R〜Rは塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基がより好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基もしくはメトキシ基が特に好ましい。
は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルキル基はメチル基、エチル基など、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
は前述の一般式1のRと同義であり、無置換のアルキル基、無置換のアリール基がより好ましく、炭素数1〜3のアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
l (l represents a number satisfying the formula of l = 100-m) and m represent a molar ratio, and m represents a number from 0 to 50. As for m, the number of 0-40 is more preferable, and the number of 0-30 is especially preferable.
R 3 to R 5 are preferably a halogen atom, a hydroxyl group, an unsubstituted alkoxy group, or an unsubstituted alkyl group. R 3 to R 5 are more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydroxyl group or a methoxy group.
R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, and an alkoxycarbonyl group as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, and a chlorine atom are preferable, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom, and a chlorine atom are more preferable, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
R 7 has the same meaning as R 1 in formula 1 above, more preferably an unsubstituted alkyl group and an unsubstituted aryl group, still more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group.

一般式1の化合物は2種類以上を併用しても良い。特に一般式2の化合物は一般式1の化合物の少なくとも1種類以上を出発原料として合成される。以下に一般式1の化合物および一般式2で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、限定されるものではない。   Two or more compounds of the general formula 1 may be used in combination. In particular, the compound of the general formula 2 is synthesized using at least one compound of the general formula 1 as a starting material. Specific examples of the starting materials of the compound represented by Formula 1 and the compound represented by Formula 2 are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2007268753
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Figure 2007268753
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M-48 メチルトリメトキシシラン     M-48 Methyltrimethoxysilane

これらのうち、重合性基を含有するオルガノシランとしては(M−1)、(M−2)、及び(M−25)が特に好ましい。
本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、30質量%〜100質量%が好ましく、50質量%〜100質量%がより好ましく、70質量%〜95質量%が更に好ましい。前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が30質量%より少ないと、固形分が生じたり、液が濁ったり、ポットライフが悪化したり、分子量の制御が困難(分子量の増大)であったり、重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能(例えば反射防止膜の耐傷性)の向上が得られにくいために好ましくない。一般式2で表される化合物を合成する場合は、前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランとして(M−1)、(M−2)、ビニル重合性基を有さないオルガノシランとして(M−19)〜(M−21)および(M−48)の中からそれぞれ1種をそれぞれ上記の量を組み合わせて用いると好ましい。
Of these, (M-1), (M-2), and (M-25) are particularly preferable as the organosilane containing a polymerizable group.
In order to obtain the effect of the present invention, the content of the organosilane containing the vinyl polymerizable group in the hydrolyzate of organosilane and / or its partial condensate is preferably 30% by mass to 100% by mass, The mass% is more preferably 100% by mass, and more preferably 70% by mass to 95% by mass. If the content of the organosilane containing the vinyl polymerizable group is less than 30% by mass, the solid content is generated, the liquid becomes cloudy, the pot life is deteriorated, or the molecular weight is difficult to control (increase in the molecular weight). Or because the content of the polymerizable group is small, it is difficult to improve the performance (for example, the scratch resistance of the antireflection film) when the polymerization treatment is performed. When synthesizing the compound represented by the general formula 2, (M-1) and (M-2) as the organosilane containing the vinyl polymerizable group, (MM) as the organosilane having no vinyl polymerizable group. It is preferable to use one of each of −19) to (M-21) and (M-48) in combination with the above amounts.

本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかは塗布品性能の安定化のためには揮発性を抑えることが好ましく、具体的には、105℃における1時間当たりの揮発量が5質量%以下であることが好ましく、3質量%以下であることがより好ましく、1質量%以下であることが特に好ましい。   It is preferable to suppress volatility of the hydrolyzate of organosilane of the present invention and / or its partial condensate in order to stabilize the performance of the coated product. Specifically, volatilization per hour at 105 ° C. The amount is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.

本発明に用いられるゾル成分は上記オルガノシランを加水分解および/または部分縮合することにより調製される。
加水分解縮合反応は加水分解性基(X)1モルに対して0.05〜2.0モル、好ましくは0.1〜1.0モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、25〜100℃で、撹拌することにより行われる。
The sol component used in the present invention is prepared by hydrolysis and / or partial condensation of the organosilane.
In the hydrolysis condensation reaction, 0.05 to 2.0 mol, preferably 0.1 to 1.0 mol of water is added to 1 mol of the hydrolyzable group (X), and the presence of the catalyst used in the present invention is present. Under stirring at 25-100 ° C.

本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかにおいて、ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物いずれかの重量平均分子量は、分子量が300未満の成分を除いた場合に、450〜20000が好ましく、500〜10000がより好ましく、550〜5000が更に好ましく、600〜3000が更に好ましい。
オルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物における分子量が300以上の成分のうち、分子量が20000より大きい成分は10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、3質量%以下であることが更に好ましい。10質量%より多く含有すると、そのようなオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜は、透明性や基板との密着性が劣る場合がある。
In at least one of the hydrolyzate of organosilane and the partial condensate thereof according to the present invention, the weight average molecular weight of either the hydrolyzate of organosilane containing a vinyl polymerizable group or the partial condensate thereof is less than 300. When this component is removed, 450 to 20000 is preferable, 500 to 10,000 is more preferable, 550 to 5000 is still more preferable, and 600 to 3000 is still more preferable.
Of the components having a molecular weight of 300 or more in the hydrolyzate of organosilane and / or its partial condensate, the component having a molecular weight of more than 20000 is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less. More preferably, it is 3 mass% or less. When it contains more than 10% by mass, a cured film obtained by curing such a curable composition containing a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof has transparency and adhesion to the substrate. May be inferior.

ここで、重量平均分子量及び分子量は、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が300以上の成分のピーク面積を100%とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積%である。
分散度(重量平均分子/数平均分子量)は3.0〜1.1が好ましく、2.5〜1.1がより好ましく、2.0〜1.1が更に好ましく、1.5〜1.1が特に好ましい。
Here, the weight average molecular weight and molecular weight were converted to polystyrene by GTH analyzer using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Corporation), and solvent THF and differential refractometer detection. The content is the area% of the peak in the molecular weight range when the peak area of the component having a molecular weight of 300 or more is defined as 100%.
The dispersity (weight average molecule / number average molecular weight) is preferably 3.0 to 1.1, more preferably 2.5 to 1.1, still more preferably 2.0 to 1.1, and 1.5 to 1. 1 is particularly preferred.

本発明のオルガノシランの加水分解物および部分縮合物の29Si−NMR分析により一般式1のXが−OSiの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Siの3つの結合が−OSiの形で縮合している場合(T3)、Siの2つの結合が−OSiの形で縮合している場合(T2)、Siの1つの結合が−OSiの形で縮合している場合(T1)、Siが全く縮合していない場合を(T0)とした場合に縮合率αは
数式(I):α=(T3×3+T2×2+T1×1)/3/(T3+T2+T1+T0)
で表され、縮合率は0.2〜0.95が好ましく、0.3〜0.93がより好ましく、0.4〜0.9がとくに好ましい。
0.1より小さいと加水分解や縮合が十分でなく、モノマー成分が増えるため硬化が十分でなく、0.95より大きいと加水分解や縮合が進みすぎ、加水分解可能な基が消費されてしまうため、バインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用が低下してしまい、これらを用いても効果が得られにくくなる。
The 29 Si-NMR analysis of the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane of the present invention can confirm the state in which X in the general formula 1 is condensed in the form of -OSi.
At this time, when three bonds of Si are condensed in the form of -OSi (T3), when two bonds of Si are condensed in the form of -OSi (T2), one bond of Si is- When the condensation is performed in the form of OSi (T1), and the case where Si is not condensed at all (T0), the condensation rate α is expressed by the formula (I): α = (T3 × 3 + T2 × 2 + T1 × 1) / 3 / (T3 + T2 + T1 + T0)
The condensation rate is preferably 0.2 to 0.95, more preferably 0.3 to 0.93, and particularly preferably 0.4 to 0.9.
If it is less than 0.1, hydrolysis and condensation are not sufficient, and monomer components increase, so that curing is not sufficient. If it is greater than 0.95, hydrolysis and condensation proceed too much and hydrolyzable groups are consumed. For this reason, the interaction between the binder polymer, the resin substrate, the inorganic fine particles and the like is lowered, and even if these are used, it is difficult to obtain the effect.

本発明で用いるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物について詳細を説明する。
オルガノシランの加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類;Zr、TiまたはAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等;KF、NHFなどの含フッ素化合物が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。
The hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound used in the present invention will be described in detail.
The hydrolysis reaction of organosilane and the subsequent condensation reaction are generally carried out in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, butyric acid, maleic acid, citric acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia Inorganic bases such as triethylamine, organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum, tetrabutoxyzirconium, tetrabutyltitanate, dibutyltin dilaurate; and metals such as Zr, Ti or Al as the central metal Metal chelate compounds and the like; Fluorine-containing compounds such as KF and NH 4 F are mentioned.
The said catalyst may be used independently or may use multiple types together.

オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
The organosilane hydrolysis / condensation reaction can be carried out in the absence of a solvent or in a solvent, but an organic solvent is preferably used in order to mix the components uniformly. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, Ketones and esters are preferred.
The solvent preferably dissolves the organosilane and the catalyst. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating liquid or a part of the coating liquid, and those that do not impair solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing polymer are preferable.

このうち、アルコール類としては、例えば1価アルコールまたは2価アルコールを挙げることができ、このうち1価アルコールとしては炭素数1〜8の飽和脂肪族アルコールが好ましい。
これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
Among these, examples of the alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols. Among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms.
Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常1%〜100%の範囲である。
Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane. Specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Specific examples of esters such as diisobutyl ketone and cyclohexanone include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate.
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the solid content in the reaction is not particularly limited, but is usually in the range of 1% to 100%.

オルガノシランの加水分解性基1モルに対して0.05〜2モル、好ましくは0.1〜1モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、25〜100℃で、撹拌することにより行われる。
本発明においては、一般式ROH(式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールと一般式RCOCHCOR (式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiまたはAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物の存在下で、25〜100℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
もしくは触媒に含フッ素化合物を使用する場合、含フッ素化合物が完全に加水分解・縮合を進行させる能力が有るため、添加する水量を選択することにより重合度が決定でき、任意の分子量の設定が可能となるので好ましい。すなわち、平均重合度Mのオルガノシラン加水分解物/部分縮合物を調整するためには、Mモルの加水分解性オルガノシランに対して(M−1)モルの水を使用すれば良い。
0.05 to 2 mol, preferably 0.1 to 1 mol, of water is added to 1 mol of hydrolyzable group of organosilane, in the presence or absence of the above solvent, and in the presence of a catalyst. It is carried out by stirring at 25 to 100 ° C.
In the present invention, (wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol of the general formula R 4 COCH 2 COR 5 (formula represented by, R 4 is carbon From Zr, Ti, or Al having a ligand represented by a compound represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms) It is preferable to perform hydrolysis by stirring at 25 to 100 ° C. in the presence of at least one metal chelate compound having a selected metal as a central metal.
Alternatively, when a fluorine-containing compound is used as a catalyst, the degree of polymerization can be determined by selecting the amount of water to be added and the molecular weight can be set arbitrarily because the fluorine-containing compound has the ability to completely proceed with hydrolysis and condensation. Therefore, it is preferable. That is, in order to adjust the organosilane hydrolyzate / partial condensate having an average degree of polymerization M, (M-1) mol of water may be used with respect to M mol of hydrolyzable organosilane.

金属キレート化合物は、一般式ROH(式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールとRCOCHCOR(式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Zr(ORp1(RCOCHCORp2、Ti(ORq1(RCOCHCORq2、およびAl(ORr1(RCOCHCORr2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のRおよびRは、同一または異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec −ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、Rは、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec −ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、 金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1、およびr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。
Metal chelate compounds (wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol and R 4 COCH 2 COR 5 (wherein represented by, R 4 is C 1 -C To 10 alkyl groups, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms), and is selected from Zr, Ti, and Al. Any metal having a metal as a central metal can be suitably used without particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has a general formula of Zr (OR 3 ) p1 (R 4 COCHCOR 5 ) p2 , Ti (OR 3 ) q1 (R 4 COCHCOR 5 ) q2 , and Al (OR 3 ) r1 (R 4 Those selected from the group of compounds represented by COCHCOR 5 ) r2 are preferred, and they serve to promote the condensation reaction of the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound.
R 3 and R 4 in the metal chelate compound may be the same or different and each is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec -Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, phenyl group and the like. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, sec-butoxy group, t-butoxy group and the like. Moreover, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be p1 + p2 = 4, q1 + q2 = 4, and r1 + r2 = 3, respectively.

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropyl Poxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonate) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethyl) An aluminum chelate compound such as acetoacetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonate) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは0.01〜50質量%、より好ましくは0.1〜50質量%、さらに好ましくは0.5〜10質量%の割合で用いられる。金属キレート化合物が上記範囲で用いられることによりオルガノシラン化合物の縮合反応が早く、塗膜の耐久性が良好であり、オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が良好である。   The metal chelate compound is preferably used in a proportion of 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 50% by mass, and still more preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the organosilane compound. When the metal chelate compound is used within the above range, the condensation reaction of the organosilane compound is fast, the durability of the coating film is good, and the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound and the metal chelate compound are contained. The storage stability of the composition is good.

本発明に用いられる塗布液には、上記ゾル成分および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
本発明で使用されるのは、一般式RCOCH2 CORで表されるβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかであり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウムおよびアルミニウム化合物の少なくともいずれかの化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物を構成するRおよびRは、前記金属キレート化合物を構成するRおよびRと同様である。
In addition to the composition containing the sol component and the metal chelate compound, at least one of a β-diketone compound and a β-ketoester compound is preferably added to the coating solution used in the present invention. This will be further described below.
In the present invention, at least one of a β-diketone compound and a β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 is used as a stability improver for the composition used in the present invention. It works. That is, by coordinating with a metal atom in the metal chelate compound (a compound of at least one of zirconium, titanium and aluminum compounds), condensation of hydrolyzate and partial condensate of organosilane compound by these metal chelate compounds It is considered that the action of accelerating the reaction is suppressed and the action of improving the storage stability of the resulting composition is achieved. R 4 and R 5 constituting the β- diketone compound and β- ketoester compound are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

このβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec-ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。2モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。   Specific examples of the β-diketone compound and β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate- sec-butyl, acetoacetate-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane-dione , 5-methyl-hexane-dione and the like. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and β-ketoester compounds can be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and the β-ketoester compound are preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. If it is less than 2 mol, the storage stability of the resulting composition may be inferior, which is not preferable.

上記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である反射防止層の場合は少なく、厚膜であるハードコート層や防眩層の場合は多いことが好ましい。含有量は効果の発現、屈折率、膜の形状・面状等を考慮すると、含有層(添加層)の全固形分の0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜30質量%がより好ましく、1〜15質量%が最も好ましい   The content of the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound is preferably small in the case of a relatively thin antireflection layer and large in the case of a thick hard coat layer or antiglare layer. The content is preferably 0.1 to 50% by mass, and preferably 0.5 to 30% by mass based on the total solid content of the containing layer (added layer), considering the effect, refractive index, film shape / surface shape, and the like. More preferably, 1 to 15% by mass is most preferable.

2−(5)開始剤
各種のエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
本発明のフィルムを作成するに当り、光重合開始剤(光開始剤)あるいは熱重合開始剤(熱開始剤)を併用することができる。
2- (5) Initiator Polymerization of monomers having various ethylenically unsaturated groups can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoradical initiator or a thermal radical initiator.
In producing the film of the present invention, a photopolymerization initiator (photoinitiator) or a thermal polymerization initiator (thermal initiator) can be used in combination.

<光開始剤>
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号等)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ−ジメチル−p−イソプロピルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
<Photoinitiator>
Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (JP-A No. 2001-139663, etc.), 2, 3 -Dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins and the like.
Examples of acetophenones include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t- Butyl-dichloroacetophenone is included.

ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、3,3’、4、4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。
Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether It is.
Examples of benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like are included.

ボレート塩としては、例えば、特許第2764769号、特開2002−116539号等の各公報、および、Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19〜22頁,1998年,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開2002−116539号明細書の段落番号[0022]〜[0027]記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。   Examples of the borate salt are described in Japanese Patent Nos. 2764769 and 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. And the organic borate compounds described. For example, the compounds described in JP-A-2002-116539, paragraph numbers [0022] to [0027] can be mentioned. Examples of other organic boron compounds include JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527, and JP-A-7-292014. Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes and the like, and specific examples include ion complexes with cationic dyes.

ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には1、2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には特開2000−80068記載の実施例記載化合物1〜21が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Examples of active esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], sulfonic acid esters, cyclic active ester compounds, and the like.
Specifically, Examples 1 to 21 described in JP-A 2000-80068 are particularly preferable.
Examples of the onium salts include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.

活性ハロゲン類としては、具体的には、若林 等の“Bull Chem.Soc Japan“42巻、2924頁(1969年)、米国特許第3,905,815号明細書、特開平5−27830号、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1巻(3号),(1970年)等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:s−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジまたはトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体が挙げられる。具体的な例にはS−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(3−Br−4−ジ(エチル酢酸エステル)アミノ)フェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−トリハロメチル−5−(p−メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭58−15503のp14〜p30、特開昭55−77742のp6〜p10、特公昭60−27673のp287記載のNo.1〜No.8、特開昭60−239736のp443〜p444のNo.1〜No.17、US−4701399のNo.1〜19などの化合物が特に好ましい。
無機錯体の例にはビス(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には3−ケトクマリンが挙げられる。
Specific examples of the active halogens include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, JP-A-5-27830, M.M. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry”, Vol. 1 (No. 3), (1970), and in particular, oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group: s-triazine compounds. More preferred are s-triazine derivatives in which at least one mono-, di- or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring. Specific examples include S-triazine and oxathiazole compounds, such as 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl). -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3-Br-4-di (ethyl) Acetate) amino) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-trihalomethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole. Specifically, p.14 to p30 in JP-A-58-15503, p6-p10 in JP-A-55-77742, and p287 in JP-B-60-27673. 1-No. 8, No. pp. 443 to p444 of JP-A-60-239736. 1-No. 17, No. 4,701,399. Compounds such as 1-19 are particularly preferred.
Examples of inorganic complexes include bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
Examples of coumarins include 3-ketocoumarin.

これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
These initiators may be used alone or in combination.
“Latest UV Curing Technology”, Technical Information Association, 1991, p. 159, and “UV curing system” written by Kayo Kiyomi, 1989, General Technology Center, p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX−S,BP−100,BDMK,CTX,BMS,2−EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,500,819,907,369,1173,1870,2959,4265,4263など)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等およびそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。   Commercially available radical photopolymerization initiators include KAYACURE (DETX-S, BP-100, BDKM, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. MCA, etc.), Irgacure (651, 184, 500, 819, 907, 369, 1173, 1870, 2959, 4265, 4263, etc.) manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Ltd., Esacure (KIP100F, KB1, manufactured by Sartomer) EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) and the like and combinations thereof are preferred examples.

光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。   It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.

<光増感剤>
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
<Photosensitizer>
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Further, one or more auxiliary agents such as an azide compound, a thiourea compound, and a mercapto compound may be used in combination.
Examples of commercially available photosensitizers include KAYACURE (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

<熱開始剤>
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2‘−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2‘−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1‘−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
<Thermal initiator>
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as ammonium sulfate, potassium persulfate and the like, 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), etc. And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.

2−(6)架橋性化合物
本発明を構成するモノマーあるいはポリマーバインダ−が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。
例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
2- (6) Crosslinkable compound When the monomer or polymer binder constituting the present invention alone does not have sufficient curability, the necessary curability can be imparted by blending the crosslinkable compound. it can.
For example, when the polymer body contains a hydroxyl group, various amino compounds are preferably used as the curing agent. The amino compound used as the crosslinkable compound is, for example, a compound containing a total of two or more of any one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group. Specifically, for example, a melamine compound, Examples include urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like.

メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的には、メラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、1分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座[8]ユリア・メラミン樹脂」(日刊工業新聞社)に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。   Melamine compounds are generally known as compounds having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples include melamine, alkylated melamine, methylol melamine, alkoxylated methyl melamine, and the like. However, it is preferable to have one or both of a methylol group and an alkoxylated methyl group in one molecule in total. Specifically, methylolated melamine, alkoxylated methylmelamine, or a derivative thereof obtained by reacting melamine and formaldehyde under basic conditions is preferable, and good storage stability is obtained particularly for the curable resin composition. Alkoxylated methyl melamine is preferable in that it can be obtained and good reactivity can be obtained. There are no particular restrictions on the methylolated melamine and the alkoxylated methylmelamine used as the crosslinkable compound. For example, the methylolated melamine and the alkoxylated methylmelamine can be obtained by the method described in the document “Plastic Materials Course [8] Urea Melamine Resin” (Nikkan Kogyo Shimbun). Various resinous materials can be used.

また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。   In addition to urea, examples of the urea compound include polymethylolated urea, alkoxylated methylurea which is a derivative thereof, methylolated uron having a uron ring, and alkoxylated methyluron. And also about compounds, such as a urea derivative, the use of the various resinous materials described in said literature is possible.

2−(7)硬化触媒
本発明のフィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線または熱の照射により発生したラジカルや酸を使用することができる。
2- (7) Curing Catalyst In the film of the present invention, radicals and acids generated by irradiation with ionizing radiation or heat can be used as a curing catalyst for promoting curing.

<熱酸発生剤>
熱酸発生剤の具体例としては、例えば、各種脂肪族スルホン酸とその塩、クエン酸、酢酸、マレイン酸等の各種脂肪族カルボン酸とその塩、安息香酸、フタル酸等の各種芳香族カルボン酸とその塩、アルキルベンゼンスルホン酸とそのアンモニウム塩、アミン塩、各種金属塩、リン酸や有機酸のリン酸エステル等を挙げることができる。
市販されている材料としては、キャタリスト4040、キャタリスト4050、キャタリスト600、キャタリスト602、キャタリスト500、キャタリスト296−9、以上日本サイテックインダストリーズ(株)製、やNACUREシリーズ155、1051、5076、4054JやそのブロックタイプのNACUREシリーズ2500、5225、X49−110、3525、4167以上キング社製などが挙げられる。
この熱酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。添加量がこの範囲であると、硬化性樹脂組成物の保存安定性が良好で塗膜の耐擦傷性も良好なものとなる。
<Heat acid generator>
Specific examples of the thermal acid generator include various aliphatic sulfonic acids and salts thereof, various aliphatic carboxylic acids and salts thereof such as citric acid, acetic acid and maleic acid, and various aromatic carboxylic acids such as benzoic acid and phthalic acid. Examples thereof include acids and salts thereof, alkylbenzenesulfonic acids and ammonium salts thereof, amine salts, various metal salts, phosphoric acid and phosphoric acid esters of organic acids, and the like.
Examples of commercially available materials include catalyst 4040, catalyst 4050, catalyst 600, catalyst 602, catalyst 500, catalyst 296-9, and more made by Nippon Cytec Industries, Inc., and NACURE series 155, 1051, 5076, 4054J and its block type NACURE series 2500, 5225, X49-110, 3525, 4167 or more manufactured by King Corporation, and the like.
The use ratio of the thermal acid generator is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition. When the addition amount is within this range, the storage stability of the curable resin composition is good and the scratch resistance of the coating film is also good.

<感光性酸発生剤、光酸発生剤>
更に光重合開始剤として用いることができる光酸発生剤について詳述する。
酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、またはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物およびそれらの混合物等が挙げられる。また、酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物等が挙げられ、これらのうち有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
感光性酸発生剤としては、例えば、(1)ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩;(2)β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物;(3)アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類;(4)スルホンイミド化合物類;(5)ジアゾメタン化合物類;を挙げることができる。
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられる。中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。例えば特開2002−29162号明細書の段落番号[0058]〜[0059]に記載の化合物等が挙げられる。
<Photosensitive acid generator, photoacid generator>
Furthermore, the photo-acid generator which can be used as a photoinitiator is explained in full detail.
Examples of the acid generator include a photoinitiator for photocationic polymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, a known acid generator used in a microresist, and the like, a known compound, and a mixture thereof. Is mentioned. Examples of the acid generator include organic halogenated compounds, disulfone compounds, onium compounds, etc. Among these, specific examples of organic halogen compounds and disulfone compounds are the same as those described for the compound that generates radicals. Things.
Examples of the photosensitive acid generator include (1) various onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, ammonium salts, pyridinium salts; (2) β-ketoesters, β-sulfonylsulfones and these. sulfone compounds such as α-diazo compounds; (3) sulfonic acid esters such as alkyl sulfonic acid esters, haloalkyl sulfonic acid esters, aryl sulfonic acid esters, and imino sulfonates; (4) sulfonimide compounds; and (5) diazomethane compounds. Can be mentioned.
Examples of the onium compounds include diazonium salts, ammonium salts, iminium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, arsonium salts, and selenonium salts. Of these, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and iminium salts are preferable from the viewpoint of photosensitivity at the start of photopolymerization, material stability of the compound, and the like. Examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0058] to [0059] of JP-A-2002-29162.

感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開2005―43876号記載の内容などを用いることができる。
The use ratio of the photosensitive acid generator is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition.
In addition, as specific compounds and methods of use, for example, the contents described in JP-A-2005-43876 can be used.

2−(8)透光性粒子
本発明のフィルム、特に防眩層やハードコート層には、防眩性(表面散乱性)や内部散乱性を付与するため、各種の透光性粒子を用いることが出来る。
2- (8) Translucent Particles Various translucent particles are used for imparting antiglare properties (surface scattering properties) and internal scattering properties to the film of the present invention, particularly the antiglare layer and the hard coat layer. I can do it.

透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)等が用いられる。
無機粒子としては、シリカ粒子(屈折率1.44)、アルミナ粒子(屈折率1.63)、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。
The translucent particles may be organic particles or inorganic particles. As the particle size is not varied, the scattering characteristics are less varied, and the design of the haze value is facilitated. As the translucent particles, plastic beads are preferable, and those having particularly high transparency and a difference in refractive index with the binder are preferable.
As organic particles, polymethyl methacrylate particles (refractive index 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index 1.54), melamine resin particles (refractive index 1.57), polycarbonate particles ( Refractive index 1.57), polystyrene particles (refractive index 1.60), crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (refractive index 1. 68) etc. are used.
Examples of the inorganic particles include silica particles (refractive index: 1.44), alumina particles (refractive index: 1.63), zirconia particles, titania particles, and inorganic particles having hollows and pores.

なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
さらに、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダー(硬化後の屈折率が1.50〜1.53)とアクリル含率50〜100重量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましく、特にバインダーと架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体からなる透光性粒子(屈折率が1.48〜1.54)との組合せが好ましい。
Of these, cross-linked polystyrene particles, cross-linked poly ((meth) acrylate) particles, and cross-linked poly (acryl-styrene) particles are preferably used, and a binder is selected according to the refractive index of each light-transmitting particle selected from these particles. By adjusting the refractive index, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness of the present invention can be achieved.
Furthermore, a binder (having a refractive index of 1.50 to 1.53 after curing) containing a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer as a main component and a crosslinked poly (meth) acrylate weight having an acrylic content of 50 to 100 weight percent. It is preferable to use a combination of translucent particles composed of a combination, and in particular, a combination of a binder and translucent particles composed of a crosslinked poly (styrene-acrylic) copolymer (with a refractive index of 1.48 to 1.54). preferable.

本発明におけるバインダーと透光性粒子との屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.65である。屈折率を前記範囲とするには、バインダー及び透光性粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、バインダーと透光性粒子との屈折率の差(透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030であり、より好ましくは0.001〜0.020、更に好ましくは0.001〜0.015である。この差が0.030を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。
In the present invention, the refractive index of the binder and the translucent particles is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65. In order to set the refractive index within the above range, the type and amount ratio of the binder and the light-transmitting particles may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
In the present invention, the difference in refractive index between the binder and the translucent particles (the refractive index of the translucent particles−the refractive index of the binder) is preferably 0.001 to 0.030 as an absolute value, More preferably, it is 0.001-0.020, More preferably, it is 0.001-0.015. If this difference exceeds 0.030, problems such as film character blur, a decrease in dark room contrast, and surface turbidity occur.

ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。   Here, the refractive index of the binder can be quantitatively evaluated by directly measuring it with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the translucent particles is measured by measuring the turbidity by dispersing an equal amount of the translucent particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two types of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.

上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径0.5μm以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、0.1質量%未満程度含有させるとよい。   In the case of the above translucent particles, the translucent particles easily settle in the binder, and therefore an inorganic filler such as silica may be added to prevent sedimentation. As the amount of the inorganic filler added increases, it is more effective in preventing the translucent particles from settling, but adversely affects the transparency of the coating film. Therefore, preferably, an inorganic filler having a particle size of 0.5 μm or less is contained in an amount of less than 0.1% by mass so as not to impair the transparency of the coating film with respect to the binder.

透光性粒子の平均粒径は0.5〜10μmが好ましく、より好ましくは2.0〜6.0μmである。平均粒径が0.5μm未満であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がるため、ディスプレイの文字ボケを引き起こしたりするため、好ましくない。一方、10μmを超えると、添加する層の膜厚を厚くする必要が生じ、カールやコスト上昇といった問題が生じる。   The average particle size of the translucent particles is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm. If the average particle size is less than 0.5 μm, the light scattering angle distribution spreads to a wide angle, which may cause blurring of characters on the display. On the other hand, if it exceeds 10 μm, it is necessary to increase the thickness of the layer to be added, which causes problems such as curling and cost increase.

また、粒子径の異なる2種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。   Moreover, you may use together and use 2 or more types of translucent particle | grains from which a particle diameter differs. It is possible to impart an antiglare property with a light-transmitting particle having a larger particle diameter, and to reduce the surface roughness with a light-transmitting particle having a smaller particle diameter.

前記透光性粒子は、添加層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合される。より好ましくは5〜20質量%である。3質量%未満であると、添加効果が不足し、30質量%を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。   The said translucent particle | grain is mix | blended so that 3-30 mass% may be contained in the addition layer total solid. More preferably, it is 5-20 mass%. If it is less than 3% by mass, the effect of addition is insufficient, and if it exceeds 30% by mass, problems such as image blur, surface turbidity and glare occur.

また、透光性粒子の密度は、好ましくは10〜1000mg/m、より好ましくは100〜700mg/mである。 Moreover, the density of the translucent particles is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .

<透光性粒子調製、分級法> <Translucent particle preparation, classification method>

本発明に係る透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」(大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社)130頁及び146頁から147頁の記載、「合成高分子」1巻、p.246〜290、同3巻、p.1〜108等に記載の方法、及び特許第2543503号明細書、同第3508304号明細書、同第2746275号明細書、同第3521560号明細書、同第3580320号明細書、特開平10−1561号公報、特開平7−2908号公報、特開平5−297506号公報、特開2002−145919号公報等に記載の方法を参考にすることができる。   Examples of the method for producing translucent particles according to the present invention include suspension polymerization, emulsion polymerization, soap-free emulsion polymerization, dispersion polymerization, seed polymerization, and the like. Good. These production methods are described in, for example, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu and Masaaki Kinoshita, Chemical Dojinsha), pages 130 and 146 to 147, “Synthetic Polymers”, Vol. 246-290, 3rd volume, p. 1 to 108, etc., and Japanese Patent Nos. 2543503, 3508304, 2746275, 3521560, 3580320, and Japanese Patent Laid-Open No. 10-1561. Reference can be made to methods described in JP-A No. 7-2908, JP-A No. 5-297506, JP-A No. 2002-145919, and the like.

透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
The particle size distribution of the translucent particles is preferably monodisperse particles in terms of haze value and control of diffusibility, and uniformity of the coated surface. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of the coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1% or less. Yes, more preferably 0.01% or less. Particles having such a particle size distribution are also effective means of classification after preparation or synthesis reaction, and particles having a desired distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification. .
It is preferable to use a method such as an air classification method, a centrifugal classification method, a sedimentation classification method, a filtration classification method, or an electrostatic classification method for classification.

2−(9)無機粒子
本発明には硬度などの物理特性、反射率、散乱性などの光学特性などの向上のため、各種無機粒子を用いることができる。
無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ金属の酸化物、具体例としては、ZrO、TiO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITO等が挙げられる。その他BaSO、CaCO、タルクおよびカオリンなどが含まれる。
2- (9) Inorganic particles Various inorganic particles can be used in the present invention in order to improve physical properties such as hardness, optical properties such as reflectance, and scattering properties.
As the inorganic particles, an oxide of at least one metal selected from silicon, zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony, specific examples include ZrO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and the like can be mentioned. In addition, BaSO 4 , CaCO 3 , talc and kaolin are included.

本発明に使用する無機粒子の粒径は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、重量平均径は1〜200nmである。好ましくは5〜150nmであり、さらに好ましくは10〜100nm、特に好ましくは10〜80nmである。無機粒子を100nm以下に微細化することで透明性を損なわないフィルムを形成できる。無機粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。   The particle diameter of the inorganic particles used in the present invention is preferably as fine as possible in the dispersion medium, and the weight average diameter is 1 to 200 nm. Preferably it is 5-150 nm, More preferably, it is 10-100 nm, Most preferably, it is 10-80 nm. A film that does not impair the transparency can be formed by refining the inorganic particles to 100 nm or less. The particle diameter of the inorganic particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph.

無機粒子の比表面積は、10〜400m/gであることが好ましく、20〜200m/gであることがさらに好ましく、30〜150m/gであることが最も好ましい。 The specific surface area of the inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

本発明に使用する無機粒子は分散媒体中に分散物として使用する層の塗布液に添加することが好ましい。
無機粒子の分散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n-メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1-メトキシ-2-プロパノール)が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特に好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
The inorganic particles used in the present invention are preferably added to a coating solution for a layer used as a dispersion in a dispersion medium.
As the dispersion medium for the inorganic particles, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Examples of dispersion media include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate, Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoate) Shi-2-propanol) are included. Toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferred.
Particularly preferred dispersion media are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

無機粒子は、分散機を用いて分散する。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。   The inorganic particles are dispersed using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pinned bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

<高屈折率粒子>
本発明を構成する層を高屈折率化する目的に対しては、屈折率の高い無機粒子をモノマーと開始剤、有機置換されたケイ素化合物中に分散した組成物の硬化物が好ましく用いられる。
この場合の無機粒子としては、屈折率の観点から、特にZrO、TiO好ましく用いられる。ハードコート層の高屈折率化に対してはZrOが、高屈折率層、中屈折率層用の粒子としてはTiOの微粒子が最も好ましい。
<High refractive index particles>
For the purpose of increasing the refractive index of the layer constituting the present invention, a cured product of a composition in which inorganic particles having a high refractive index are dispersed in a monomer, an initiator, and an organically substituted silicon compound is preferably used.
As the inorganic particles in this case, ZrO 2 and TiO 2 are particularly preferably used from the viewpoint of refractive index. ZrO 2 is most preferable for increasing the refractive index of the hard coat layer, and TiO 2 fine particles are most preferable as the particles for the high refractive index layer and the medium refractive index layer.

上記TiOの粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有するTiOを主成分とする無機粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。
本発明におけるTiOを主成分とする粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.10〜2.80であることがさらに好ましく、2.20〜2.80であることが最も好ましい。
TiOを主成分とする粒子の一次粒子の重量平均径は1〜200nmであることが好ましく、より好ましくは1〜150nm、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。
As the TiO 2 particles, inorganic particles mainly containing TiO 2 containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium are particularly preferable. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.
The particles mainly composed of TiO 2 in the present invention preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and 2.20 to 2.80. Most preferably.
The weight average diameter of the primary particles of particles mainly composed of TiO 2 is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 150 nm, still more preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 80 nm.

TiOを主成分とする粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。 The crystal structure of the particles containing TiO 2 as the main component is preferably a rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, or amorphous structure, and particularly preferably a rutile structure. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.

TiOを主成分とする粒子に、Co(コバルト)、Al(アルミニウム)及びZr(ジルコニウム)から選ばれる少なくとも1つの元素を含有することで、TiOが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明のフィルムの耐候性を改良することができる。
特に、好ましい元素はCo(コバルト)である。また、2種類以上を併用することも好ましい。
本発明のTiOを主成分とする無機粒子は、表面処理により特開2001−166104号公報記載のごとく、コア/シェル構造を有していても良い。
By containing at least one element selected from Co (cobalt), Al (aluminum), and Zr (zirconium) in particles containing TiO 2 as a main component, the photocatalytic activity of TiO 2 can be suppressed. The weather resistance of the inventive film can be improved.
A particularly preferable element is Co (cobalt). It is also preferable to use two or more types in combination.
The inorganic particles mainly composed of TiO 2 of the present invention may have a core / shell structure by surface treatment as described in JP-A No. 2001-166104.

層中のモノマーや無機粒子の添加量は、バインダーの全質量の10〜90質量%であることが好ましく、20〜80質量%であると更に好ましい。無機粒子は層内で二種類以上用いても良い。   The addition amount of the monomer and inorganic particles in the layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the binder. Two or more kinds of inorganic particles may be used in the layer.

<低屈折率粒子>
低屈折率層に含有させる無機粒子は、低屈折率であることが望ましく、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
ここで、無機粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
<Low refractive index particles>
The inorganic particles contained in the low refractive index layer desirably have a low refractive index, and examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
Here, the average particle diameter of the inorganic particles is measured by a Coulter counter.

シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。   If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “small size particle size silica particles”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”.
Since the fine silica particles having a small particle size can exist in the gaps between the fine silica particles having a large particle size, they can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large particle size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

低屈折率粒子の塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。 The coating amount of the low refractive index particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated.

<中空シリカ粒子>
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。
<Hollow silica particles>
For the purpose of further reducing the refractive index, it is preferable to use hollow silica fine particles.

中空のシリカ微粒子は屈折率が1.15〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最も好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(II)で表される空隙率xは
(数式II)
x=(4πa/3)/(4πb/3)×100
好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.15未満の低屈折率の粒子は好ましくない。
The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x represented by the following formula (II) is (Formula II)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
Preferably it is 10-60%, More preferably, it is 20-60%, Most preferably, it is 30-60%. If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the low refractive index is less than 1.15. Rate particles are not preferred.

中空シリカの製造方法は、例えば特開2001−233611や特開2002−79616に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開2002−79616に記載の方法で算出することができる。   A method for producing hollow silica is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616. In particular, particles having cavities inside the shell and having fine pores in the shell are particularly preferred. The refractive index of these hollow silica particles can be calculated by the method described in JP-A-2002-79616.

中空シリカの塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカの粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上100nm以下、更に好ましくは、40nm以上65nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
本発明において中空シリカの比表面積は、20〜300m/gが好ましく、更に好ましくは30〜120m/g、最も好ましくは40〜90m/gである。表面積は窒素を用いBET法で求めることが出来る。
The coating amount of the hollow silica is preferably from 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of lowering the refractive index and the effect of improving the scratch resistance will be reduced.
The average particle diameter of the hollow silica is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and still more preferably 40 nm to 65 nm.
If the particle size of the silica particles is too small, the proportion of cavities will decrease and a decrease in refractive index cannot be expected. Getting worse. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Further, two or more kinds of hollow silica having different particle average particle sizes can be used in combination. Here, the average particle diameter of the hollow silica can be determined from an electron micrograph.
The specific surface area of the hollow silica in the present invention is preferably from 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30~120m 2 / g, most preferably 40~90m 2 / g. The surface area can be obtained by the BET method using nitrogen.

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、30nm以上150nm以下、更に好ましくは35nm以上100nm以下、最も好ましくは40nm以上80nm以下である。   In the present invention, silica particles having no voids can be used in combination with hollow silica. The preferred particle size of silica without voids is 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and most preferably 40 nm to 80 nm.

2−(10)導電性粒子
本発明のフィルムには導電性を付与するために、各種の導電性粒子を用いることができる。
導電性粒子は、金属の酸化物または窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物または窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが含まれる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。導電性無機粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、Vおよびハロゲン原子が含まれる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、Sb、P、B、Nb、In、Vおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Sbを含有する酸化錫(ATO)およびSnを含有する酸化インジウム(ITO)が特に好ましい。ATO中のSbの割合は、3〜20質量%であることが好ましい。ITO中のSnの割合は、5〜20質量%であることが好ましい。
2- (10) Conductive Particles Various conductive particles can be used for imparting conductivity to the film of the present invention.
The conductive particles are preferably formed from a metal oxide or nitride. Examples of metal oxides or nitrides include tin oxide, indium oxide, zinc oxide and titanium nitride. Tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The conductive inorganic particles are mainly composed of oxides or nitrides of these metals, and can further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, S, B, Nb, In, V and halogen atoms are included. In order to increase the conductivity of tin oxide and indium oxide, it is preferable to add Sb, P, B, Nb, In, V and a halogen atom. Particularly preferred are tin oxide containing Sb (ATO) and indium oxide containing Sn (ITO). The ratio of Sb in ATO is preferably 3 to 20% by mass. The ratio of Sn in ITO is preferably 5 to 20% by mass.

帯電防止層に用いる導電性無機粒子の一次粒子の平均粒子径は、1〜150nmであることが好ましく、5〜100nmであることがさらに好ましく、5〜70nmであることが最も好ましい。形成される帯電防止層中の導電性無機粒子の平均粒子径は、1〜200nmであり、5〜150nmであることが好ましく、10〜100nmであることがさらに好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。導電性無機粒子の平均粒子径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
導電性無機粒子の比表面積は、10〜400m/gであることが好ましく、20〜200m/gであることがさらに好ましく、30〜150m/gであることが最も好ましい。
The average particle diameter of the primary particles of the conductive inorganic particles used for the antistatic layer is preferably 1 to 150 nm, more preferably 5 to 100 nm, and most preferably 5 to 70 nm. The average particle diameter of the conductive inorganic particles in the antistatic layer to be formed is 1 to 200 nm, preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the conductive inorganic particles is an average diameter weighted by the mass of the particles and can be measured by a light scattering method or an electron micrograph.
The specific surface area of the conductive inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

導電性無機粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナおよびシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
導電性無機粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
The conductive inorganic particles may be surface treated. The surface treatment is performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina and silica. Silica treatment is particularly preferred. Examples of organic compounds used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Silane coupling agents are most preferred. Two or more kinds of surface treatments may be performed in combination.
The shape of the conductive inorganic particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape.

二種類以上の導電性粒子を特定の層内あるいはフィルムとして併用してもよい。
帯電防止層中の導電性無機粒子の割合は、20〜90質量%であることが好ましく、25〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがさらに好ましい。
Two or more kinds of conductive particles may be used in a specific layer or as a film.
The proportion of the conductive inorganic particles in the antistatic layer is preferably 20 to 90% by mass, preferably 25 to 85% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass.

導電性無機粒子は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することができる。   The conductive inorganic particles can be used for forming an antistatic layer in the form of a dispersion.

2−(11)表面処理剤
本発明で使用する無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。
2- (11) Surface Treatment Agent The inorganic particles used in the present invention are plasma in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to increase the affinity and binding properties with the binder component. A physical surface treatment such as a discharge treatment or a corona discharge treatment, or a chemical surface treatment with a surfactant or a coupling agent may be performed.

表面処理は、無機化合物または有機化合物の表面処理剤を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、コバルトを含有する無機化合物(CoO,Co,Coなど)、アルミニウムを含有する無機化合物(Al,Al(OH)など)、ジルコニウムを含有する無機化合物(ZrO,Zr(OH)など)、ケイ素を含有する無機化合物(SiOなど)、鉄を含有する無機化合物(Feなど)などが含まれる。
コバルトを含有する無機化合物、アルミニウムを含有する無機化合物、ジルコニウムを含有する無機化合物が特に好ましく、コバルトを含有する無機化合物、Al(OH)、Zr(OH)が最も好ましい。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。特にシランカップリング剤(オルガノシラン化合物)、その部分加水分解物、およびその縮合物の少なくとも一種で表面処理されていることが好ましい。
The surface treatment can be performed using a surface treatment agent of an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include inorganic compounds containing cobalt (CoO 2 , Co 2 O 3 , Co 3 O 4, etc.) and inorganic compounds containing aluminum (Al 2 O 3 , Al (OH) 3 Etc.), inorganic compounds containing zirconium (ZrO 2 , Zr (OH) 4 etc.), inorganic compounds containing silicon (SiO 2 etc.), inorganic compounds containing iron (Fe 2 O 3 etc.), etc. .
An inorganic compound containing cobalt, an inorganic compound containing aluminum, and an inorganic compound containing zirconium are particularly preferable, and an inorganic compound containing cobalt, Al (OH) 3 , and Zr (OH) 4 are most preferable.
Examples of organic compounds used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Silane coupling agents are most preferred. In particular, the surface treatment is preferably performed with at least one of a silane coupling agent (organosilane compound), a partial hydrolyzate thereof, and a condensate thereof.

チタネートカップリング剤としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、のどのテトライソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド、プレンアクト(KR−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41Bなど;味の素(株)製)などが挙げられる。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、その他アニオン性基を有する有機化合物などが好ましく、特に好ましいのは、カルボキシル基、スルホン酸基、又は、リン酸基を有する有機化合物である。ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸などが好ましく用いることができる。
表面処理に用いる有機化合物は、さらに、架橋又は重合性官能基を有することが好ましい。架橋、又は、重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する基である。
Examples of titanate coupling agents include metal alkoxides such as tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, and throat tetraisopropoxy titanium, and preneact (KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B, etc .; Ajinomoto Co., Inc. ))).
Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, and other organic compounds having an anionic group, and particularly preferable are organic compounds having a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. is there. Stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and the like can be preferably used.
The organic compound used for the surface treatment preferably further has a crosslinked or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acrylic groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, cationic polymerizable groups (Epoxy groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like can be mentioned, and groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.

これらの表面処理は、2種類以上を併用することもでき、アルミニウムを含有する無機化合物とジルコニウムを含有する無機化合物を併用することが、特に好ましい。   Two or more kinds of these surface treatments can be used in combination, and it is particularly preferable to use an inorganic compound containing aluminum and an inorganic compound containing zirconium.

無機粒子がシリカである場合、カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
上記カップリング剤は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
本発明に好ましく用いることのできる表面処理剤および表面処理用の触媒の具体的化合物は、例えば、WO2004/017105号に記載のオルガノシラン化合物および触媒を挙げることができる。
When the inorganic particles are silica, the use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective.
The above coupling agent is used as a surface treatment agent for the inorganic filler of the low refractive index layer in advance for surface treatment prior to the preparation of the layer coating solution, and is added as an additive during the preparation of the layer coating solution. It is preferable to make it contain in a layer.
The silica fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.
Specific examples of the surface treatment agent and the surface treatment catalyst that can be preferably used in the present invention include organosilane compounds and catalysts described in WO 2004/017105.

2−(12)分散剤
本発明に使用する粒子の分散には各種の分散剤を使用することができる。
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
2- (12) Dispersant Various dispersants can be used for dispersing the particles used in the present invention.
The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acryloyl groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, and cationic polymerizable groups (epoxies). Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.

無機粒子の分散、特にTiOを主成分とする無機粒子の分散にはアニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましく、アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有することがより好ましく、該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤であることが特に好ましい。 It is preferable to use a dispersant having an anionic group for the dispersion of inorganic particles, particularly the dispersion of inorganic particles mainly composed of TiO 2 , more preferably an anionic group and a cross-linkable or polymerizable functional group, It is particularly preferable that the dispersant has the cross-linked or polymerizable functional group in the side chain.

アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ)、リン酸基(ホスホノ)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、またはその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基またはその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。1分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、1分子中に複数種類が含有されていてもよいが、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。   As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo), a phosphoric acid group (phosphono), a sulfonamide group, or a salt thereof is effective, and in particular, a carboxyl group, a sulfonic acid group, A phosphoric acid group or a salt thereof is preferable, and a carboxyl group and a phosphoric acid group are particularly preferable. The number of anionic groups contained in the dispersing agent per molecule may be plural, but is preferably 2 or more on average, more preferably 5 or more, Particularly preferred is 10 or more. Moreover, the anionic group contained in a dispersing agent may contain multiple types in 1 molecule.

側鎖にアニオン性基を有する分散剤において、アニオン性基含有繰返し単位の組成は、全繰返し単位のうちの10−4〜100mol%の範囲であり、好ましくは1〜50mol%、特に好ましくは5〜20mol%である。 In the dispersant having an anionic group in the side chain, the composition of the anionic group-containing repeating unit is in the range of 10 −4 to 100 mol%, preferably 1 to 50 mol%, particularly preferably 5 in the total repeating units. ˜20 mol%.

分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。   The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acryloyl groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, and cationic polymerizable groups (epoxies). Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.

1分子当たりの分散剤に含有される架橋又は重合性官能基の数は、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有される架橋又は重合性官能基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよ
い。
The average number of cross-linkable or polymerizable functional groups contained in the dispersant per molecule is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more. Moreover, the crosslinking or polymerizable functional group contained in the dispersant may contain a plurality of types in one molecule.

本発明に用いる好ましい分散剤において、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰返し単位の例としては、ポリ−1,2−ブタジエンおよびポリ−1,2−イソプレン構造あるいは、(メタ)アクリル酸のエステルまたはアミドの繰返し単位であって、それに特定の残基(−COORまたは−CONHRのR基)が結合しているものが利用できる。上記特定の残基(R基)の例としては、−(CH)n−CR21=CR2223 、−(CHO)n−CHCR21=CR2223 、−(CHCHO)n−CHCR21=CR2223、−(CH)n−NH−CO−O−CHCR21=CR2223、−(CH)n−O−CO− CR21=CR2223および−(CHCHO)−X(R21〜R23はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、R21とR22またはR23は互いに結合して環を形成してもよく、nは1〜10の整数であり、そしてXはジシクロペンタジエニル残基である)を挙げることができる。エステル残基のRの具体例には、−CHCH=CH(特開昭64−17047号公報記載のアリル(メタ)アクリレートのポリマーに相当)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHCHOCOCH=CH、−CHCHOCOC(CH)=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCH−NHCOO−CHCH=CHおよび−CHCHO−X(Xはジシクロペンタジエニル残基)が含まれる。アミド残基のRの具体例には、−CHCH=CH、−CHCH−Y (Yは1−シクロヘキセニル残基)および−CHCH−OCO−CH=CH、−CHCH−OCO−C(CH)=CHが含まれる。 In the preferred dispersant for use in the present invention, examples of the repeating unit having an ethylenically unsaturated group in the side chain include poly-1,2-butadiene and poly-1,2-isoprene structures or (meth) acrylic acid. An ester or amide repeating unit to which a specific residue (the R group of —COOR or —CONHR) is bonded can be used. Examples of the specific residue (R group), - (CH 2) n -CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2 O) n-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2 CH 2 O) n-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2) n-NH-CO-O-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23, - (CH 2) n-O-CO - CR 21 = CR 22 R 23 and - (CH 2 CH 2 O), respectively 2 -X (R 21 ~R 23, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy R 21 and R 22 or R 23 may be bonded to each other to form a ring, n is an integer of 1 to 10, and X is a dicyclopentadienyl residue. There are). Specific examples of R of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (corresponding to an allyl (meth) acrylate polymer described in JP-A No. 64-17047), —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH. = CH 2, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2, -CH 2 CH 2 OCOC (CH 3) = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5 , —CH 2 CH 2 OCOCH═CH—C 6 H 5 , —CH 2 CH 2 —NHCOO—CH 2 CH═CH 2 and —CH 2 CH 2 O—X (X is a dicyclopentadienyl residue) Is included. Specific examples of R of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (Y is a 1-cyclohexenyl residue) and —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2 , -CH 2 CH 2 -OCO-C ( CH 3) = CH 2 are included.

上記のエチレン性不飽和基を有する分散剤においては、その不飽和結合基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、分子間で直接、または重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、分子間に架橋が形成されて硬化する。あるいは、分子中の原子(例えば不飽和結合基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the dispersant having an ethylenically unsaturated group, a free radical (a polymerization initiation radical or a growth radical of a polymerization process of a polymerizable compound) is added to the unsaturated bond group, and the polymer compound is directly or between molecules. Addition polymerization is carried out through the polymerization chain, and a crosslink is formed between the molecules to cure. Alternatively, atoms in the molecule (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the unsaturated bond group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together to form a bridge between the molecules. Harden.

アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有し、かつ該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが1000以上であることが好ましい。分散剤のより好ましい重量平均分子量(Mw)は2000〜1000000であり、さらに好ましくは5000〜200000、特に好ましくは10000〜100000である。   The weight average molecular weight (Mw) of the dispersant having an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group and having the crosslinkable or polymerizable functional group in the side chain is not particularly limited, but is preferably 1000 or more. . The more preferred weight average molecular weight (Mw) of the dispersant is 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 200,000, and particularly preferably 10,000 to 100,000.

架橋又は重合性官能基の含有単位は、アニオン性基含有繰返し単位以外の全ての繰返し単位を構成していてもよいが、好ましくは全架橋又は繰返し単位のうちの5〜50mol%であり、特に好ましくは5〜30mol%である。   The cross-linkable or polymerizable functional group-containing unit may constitute all repeating units other than the anionic group-containing repeating unit, preferably 5 to 50 mol% of the total cross-linking or repeating unit, particularly Preferably it is 5-30 mol%.

分散剤は、架橋又は重合性官能基、アニオン性基を有するモノマー以外の適当なモノマーとの共重合体であっても良い。共重合成分に関しては特に限定はされないが、分散安定性、他のモノマー成分との相溶性、形成皮膜の強度等種々の観点から選択される。好ましい例としては、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t‐ブチル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、スチレン等が挙げられる。   The dispersant may be a copolymer with an appropriate monomer other than a monomer having a crosslinking or polymerizable functional group or an anionic group. Although it does not specifically limit regarding a copolymerization component, It selects from various viewpoints, such as dispersion stability, compatibility with another monomer component, and the intensity | strength of a formed film. Preferable examples include methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene and the like.

分散剤の形態は特に制限はないが、ブロック共重合体またはランダム共重合体であることが好ましくコストおよび合成的な容易さからランダム共重合体であることが特に好ましい。   The form of the dispersant is not particularly limited, but is preferably a block copolymer or a random copolymer, and particularly preferably a random copolymer from the viewpoint of cost and ease of synthesis.

分散剤の無機粒子に対する使用量は、1〜50質量%の範囲であることが好ましく、5〜30質量%の範囲であることがより好ましく、5〜20質量%であることが最も好ましい。また、分散剤は2種類以上を併用してもよい。   The amount of the dispersant used relative to the inorganic particles is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably in the range of 5 to 30% by mass, and most preferably 5 to 20% by mass. Two or more dispersants may be used in combination.

以下に本発明に好ましく用いられる分散剤の具体例を示すが、本発明用の分散剤はこれらに限定されるものではない。なお特に記載の無い場合はランダム共重合体を表す。   Specific examples of the dispersant preferably used in the present invention are shown below, but the dispersant for the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, it represents a random copolymer.

Figure 2007268753
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2−(12)防汚剤
本発明のフィルム、特にフィルムの最上層およびハードコート層には滑り性、防汚性、耐水性、耐薬品性等の特性を付与する目的で、皮膜成分とは別に、添加剤として、公知のシリコーン系化合物および/またはフッ素系化合物からなる滑り剤、防汚剤等を適宜添加することが好ましい。
これらの添加剤を添加する場合には層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。
2- (12) Antifouling agent For the purpose of imparting characteristics such as slipperiness, antifouling property, water resistance and chemical resistance to the film of the present invention, particularly the uppermost layer and the hard coat layer of the film, Separately, it is preferable to appropriately add, as additives, slip agents, antifouling agents, and the like made of known silicone compounds and / or fluorine compounds.
When these additives are added, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Yes, particularly preferably 0.1 to 5% by mass.

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および/または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることがより好ましく、3000〜30000であることが特に好ましく、10000〜20000であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Preferable examples of the silicone compound include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done. Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is more preferable that it is 50,000 or less, It is especially preferable that it is 3000-30000, It is most preferable that it is 10,000-20000. Although there is no restriction | limiting in particular in silicone atom content of a silicone type compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37.0. Most preferably, it is mass%. Examples of preferred silicone compounds are X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -22-1821 (named above), manufactured by Chisso Corporation, FM-0725, FM-7725, FM-4421, FM-5521, FM6621, FM-1121, Gelest DMS-U22, RMS-033, RMS- 083, UMS-182, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141, FMS221 (named above) but not limited thereto.

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖(例えば−CFCF,−CH(CFH,−CH(CFCF,−CHCH(CFH等)であっても、分岐構造(例えばCH(CF,CHCF(CF,CH(CH)CFCF,CH(CH)(CFCFH等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、エーテル結合を有していても良い(例えばCHOCHCFCF,CHCHOCHH,CHCHOCHCH17,CHCHOCFCFOCFCFH等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。 As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.), even branched structures (eg, CH (CF 3 ) 2 , CH 2 CF (CF 3 ) 2 , CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H, etc.), alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluorocyclohexyl group, perfluorocyclopentyl, etc. Group or an alkyl group substituted with these, and may have an ether bond (for example, CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 C 8 F 17 , CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H , etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.

フッ素系化合物は、さらに層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサMCF−300 (以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   The fluorine-based compound preferably further has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the layer coating. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine-based compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited. Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-type compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%. Examples of preferred fluorine-based compounds include Daikin Chemical Industries, Ltd., R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 (named above), Dainippon Ink Co., Ltd., Megafac F-171. , F-172, F-179A, defender MCF-300 (trade name) and the like, but are not limited thereto.

防汚剤に用いる化合物はその分子中にバインダーとの反応性を有する基を少なくとも一つ含有することが好ましい。好ましい反応性基の例としては熱硬化性の活性の水素原子、水酸基、メラミン、活性エネルギー線硬化性の(メタ)アクリロイル基、エポキシ基が挙げられ、メラミンまたは(メタ)アクリロイル基であることが特に好ましい。   The compound used for the antifouling agent preferably contains at least one group having reactivity with the binder in the molecule. Examples of preferable reactive groups include thermosetting active hydrogen atoms, hydroxyl groups, melamine, active energy ray-curable (meth) acryloyl groups, and epoxy groups, and are melamine or (meth) acryloyl groups. Particularly preferred.

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。   For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic properties, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like can be appropriately added. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound. When these are added as additives, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass. Examples of preferred compounds include, but are not limited to, Dainippon Ink Co., Ltd., MegaFace F-150 (trade name), Toray Dow Corning Co., Ltd., SH-3748 (trade name), and the like. Do not mean.

3−(1)−1 ハードコート層
本発明のフィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、透明支持体の一方の面にハードコート層が設けられる。
好ましくは、その上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
3- (1) -1 Hard Coat Layer The film of the present invention is provided with a hard coat layer on one surface of the transparent support in order to impart the physical strength of the film.
Preferably, a low refractive index layer is provided thereon, and more preferably, an intermediate refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to constitute an antireflection film.
The hard coat layer may be composed of two or more layers.

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜2.00の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.52〜1.90であり、更に好ましくは1.55〜1.80である。   The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 2.00, more preferably 1.52 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .90, more preferably 1.55 to 1.80.

ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、4H以上であることが好ましく、5H以上であることがさらに好ましく、6H以上であることが最も好ましい。
さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
また、上記ハードコート層を含む光学フィルムの膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性、耐擦傷性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは8μm〜30μm、さらに好ましくは15μm〜30μm、最も好ましくは20μm〜30μmである。
The strength of the hard coat layer is preferably 4H or more, more preferably 5H or more, and most preferably 6H or more in the pencil hardness test.
Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.
In addition, the thickness of the optical film including the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm from the viewpoint of imparting sufficient durability, impact resistance, and scratch resistance to the film. , Preferably 8 μm to 30 μm, more preferably 15 μm to 30 μm, and most preferably 20 μm to 30 μm.

ハードコート層は、透光性樹脂を含んでなる。該透光性樹脂は前記2−(1)で述べたモノマーバインダーから形成されてもよく、あるいは前記2−(2)で述べたポリマーバインダーで形成されていてもよい。本発明のハードコート層は、特に、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
The hard coat layer contains a translucent resin. The translucent resin may be formed from the monomer binder described in 2- (1) above, or may be formed from the polymer binder described in 2- (2) above. The hard coat layer of the present invention is particularly preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it may be formed by coating a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and subjecting the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction. it can.
The functional group of the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が0.5〜10.0μm、好ましくは2.0〜6.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子を含有してもよい。   The hard coat layer contains matte particles having an average particle diameter of 0.5 to 10.0 μm, preferably 2.0 to 6.0 μm, such as inorganic compound particles or resin particles, for the purpose of imparting internal scattering properties. May be.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマーおよび/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。   For the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer, a high refractive index monomer, inorganic particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the hard coat layer is formed, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder.

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は60%以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは70%以上であり、更に好ましくは80%以上である。   In order to maintain the sharpness of the image, it is preferable to adjust the clarity of the transmitted image in addition to adjusting the uneven shape of the surface. The clearness of the transmitted image of the clear antireflection film is preferably 60% or more. The transmitted image clarity is generally an index indicating the degree of blurring of an image reflected through a film, and the larger this value, the clearer and better the image viewed through the film. The transmitted image definition is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.

また、本発明においてはハードコード層として、カール発生を抑制するために、同一分子内に2個以上のエチレン性不飽和基及び1 個以上のイソシアヌレート環を有する化合物を含む硬化性組成物を用いても良い。前記化合物において、好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、より好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。例えば、特開2004−141732号に記載された化学式(2)や、特開2005−103973号に記載の化学式(1)で表される化合物を用いることができる。   Further, in the present invention, a curable composition comprising a compound having two or more ethylenically unsaturated groups and one or more isocyanurate rings in the same molecule as a hard code layer in order to suppress curling. It may be used. In the said compound, the kind of preferable ethylenically unsaturated group is an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, a vinyl ether group, More preferably, it is a methacryloyl group or an acryloyl group, Most preferably, it is an acryloyl group. For example, the compound represented by the chemical formula (2) described in JP-A No. 2004-141732 and the chemical formula (1) described in JP-A No. 2005-103973 can be used.

本発明にあっては、ハードコート層は上記イソシアヌレート環を有する化合物にさらに他の基本材料、例えば2−(1)に記載の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを添加してもよい。   In the present invention, the hard coat layer is obtained by adding another basic material such as the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer described in 2- (1) to the compound having the isocyanurate ring. Also good.

3−(1)−2 防眩層
ハードコート層は、表面散乱による防眩性を付与することにより、防眩層とすることができる。
3- (1) -2 Antiglare layer The hard coat layer can be made an antiglare layer by imparting antiglare properties by surface scattering.

防眩性を形成する方法としては、特開平6−16851号記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開2000−206317号記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開2000−338310号記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の重量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開2000−275404号記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる防眩層は好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
As a method of forming the antiglare property, a method of laminating and forming a mat-shaped shaping film having fine irregularities on the surface as described in JP-A-6-16851, as described in JP-A-2000-206317 A method of forming by curing shrinkage of an ionizing radiation curable resin due to a difference in the amount of ionizing radiation, and as described in JP-A No. 2000-338310, when the weight ratio of a good solvent to a translucent resin decreases by drying. A method of solidifying the light-sensitive fine particles and the translucent resin while gelling to form unevenness on the coating film surface, a method of imparting surface unevenness by external pressure as described in JP-A-2000-275404, etc. These known methods can be used.
The antiglare layer that can be used in the present invention preferably contains a binder capable of imparting hard coat properties, translucent particles for imparting antiglare properties, and a solvent as essential components. It is preferable that irregularities on the surface be formed by the protrusions of the protrusions themselves or protrusions formed by an aggregate of a plurality of particles.
The antiglare layer formed by dispersing the matte particles is composed of a binder and translucent particles dispersed in the binder. The antiglare layer having antiglare properties preferably has both antiglare properties and hard coat properties.

上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。
As specific examples of the mat particles, particles of inorganic compounds such as silica particles and TiO 2 particles; resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles are preferable. Can be mentioned. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles are preferred.
The shape of the mat particles can be either spherical or irregular.

また、粒子径の異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。   Two or more kinds of mat particles having different particle diameters may be used in combination. It is possible to impart anti-glare properties with mat particles having a larger particle size and to impart other optical characteristics with mat particles having a smaller particle size. For example, when an anti-glare antireflection film is attached to a high-definition display of 133 ppi or higher, a problem in display image quality called “glare” may occur. “Glitter” is derived from the fact that pixels are enlarged or reduced due to unevenness present on the surface of the antiglare and antireflection antireflection film, resulting in loss of luminance uniformity, but particles smaller than mat particles that impart antiglare properties. It can be greatly improved by using mat particles having a diameter different from that of the binder.

本発明のハードコート層または防眩層において、硬化前の表面二重結合量Aと硬化後の残存表面二重結合量Bとの比(B/A)は、0.05≦B/A≦0.5の範囲にあることが好ましい。B/Aはハードコート層または防眩層表面の二重結合残存率を意味し、B/Aが0に近づくほど完全な硬化状態に近いことを表す。本発明者らは、ハードコート層または防眩層の結合性基を特定の範囲で反応させることにより、膜硬度を向上させうることを知見したものである。
残存率B/Aは、0.05≦B/A≦0.4であることがより好ましく、0.05≦B/A≦0.3であることが最も好ましい。
In the hard coat layer or the antiglare layer of the present invention, the ratio (B / A) of the surface double bond amount A before curing and the residual surface double bond amount B after curing is 0.05 ≦ B / A ≦. It is preferable to be in the range of 0.5. B / A means the double bond residual ratio on the surface of the hard coat layer or the antiglare layer, and indicates that the closer the B / A is to 0, the closer to the complete cured state. The present inventors have found that the film hardness can be improved by reacting the binding group of the hard coat layer or the antiglare layer within a specific range.
The residual ratio B / A is more preferably 0.05 ≦ B / A ≦ 0.4, and most preferably 0.05 ≦ B / A ≦ 0.3.

残存二重結合量は、硬化時の酸素濃度や、照射量で制御することができる。残存率が上述の範囲内となるような酸素濃度としては、好ましくは2体積%以下、より好ましくは1体積%以下、更に好ましくは0.5体積%以下、最も好ましくは0.1体積%以下である。
酸素濃度の制御は、窒素の流量や、窒素と空気との混合比を変えることで行うことができる。
The amount of residual double bonds can be controlled by the oxygen concentration at the time of curing and the irradiation amount. The oxygen concentration so that the residual ratio is within the above range is preferably 2% by volume or less, more preferably 1% by volume or less, still more preferably 0.5% by volume or less, and most preferably 0.1% by volume or less. It is.
The oxygen concentration can be controlled by changing the flow rate of nitrogen or the mixing ratio of nitrogen and air.

3−(2)支持体
本発明の光学フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD80U,TD80UFなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートも本発明に好ましく用いることができる。
3- (2) Support As the transparent support of the optical film of the present invention, it is preferable to use a plastic film. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, typically TAC-TD80U, TD80UF, etc. manufactured by Fuji Photo Film), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene). Naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by Nippon Zeon), and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable. In addition, the cellulose acylate film substantially free of halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and the process for producing the same are disclosed in the JIII Journal of Technical Disclosure (Publication No. 2001-1745, published on March 15, 2001; The cellulose acylate described herein can also be preferably used in the present invention.

3−(3)偏光板
本発明の偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムで主に構成される。偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚は本発明の光学フィルム、反射防止フィルムである。本発明の光学フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
3- (3) Polarizing Plate The polarizing plate of the present invention is mainly composed of two protective films sandwiching the polarizing film from both sides. At least one of the two protective films sandwiching the polarizing film from both sides is the optical film or antireflection film of the present invention. The manufacturing cost of a polarizing plate can be reduced because the optical film of the present invention also serves as a protective film. In addition, by using the optical film of the present invention, particularly the antireflection film, as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance and antifouling properties can be obtained.

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film moving direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.
The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.

本発明の光学フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。   When the optical film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizing film, it is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically. It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device in a mode such as a compensated bend cell (OCB).

特にTNモードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2001−100043号公報等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表2枚の保護フィルムの内の本発明の光学フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。   In particular, for TN mode and IPS mode liquid crystal display devices, as described in JP-A-2001-100043, an optical compensation film having an effect of widening a viewing angle is used as a protective film having two polarizing films on both sides. Among them, by using it on the surface opposite to the optical film of the present invention, a polarizing plate having an antireflection effect and a viewing angle expansion effect can be obtained with the thickness of one polarizing plate, which is particularly preferable.

本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム、及び偏光板の少なくとも一つを有する画像表示装置である。画像表示装置の構成は、特に限定されず、種々の公知の画像表示装置が適用できる。画像表示装置は、少なくとも画像表示部と画像制御部とを有する。本発明のフィルムは、特に限定されないが、画像表示部に使用することが好ましい。   The image display device of the present invention is an image display device having at least one of the optical film, the antireflection film, and the polarizing plate of the present invention. The configuration of the image display device is not particularly limited, and various known image display devices can be applied. The image display device includes at least an image display unit and an image control unit. Although the film of this invention is not specifically limited, It is preferable to use it for an image display part.

4.各種特性値
以下に本発明に関する各種測定法と、好ましい特性値を示す。
4). Various characteristic values Various measurement methods related to the present invention and preferable characteristic values are shown below.

4−(1)動摩擦係数測定
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を25℃、相対湿度60%で2時間調湿した後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/minにて測定した値を用いた。
4- (1) Dynamic friction coefficient measurement The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of surface slipperiness. As the dynamic friction coefficient, a sample was conditioned at 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, and then a value measured with a HEIDON-14 dynamic friction measuring machine at a 5 mmφ stainless steel ball, a load of 100 g, and a speed of 60 cm / min was used.

4−(2)耐擦傷性
<スチールウール耐傷性評価>
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000) 試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm
先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察したり、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。
4- (2) Scratch resistance <Steel wool scratch resistance evaluation>
By using a rubbing tester and carrying out a rubbing test under the following conditions, it can be used as an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: Steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., Gelade No. 0000) Wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester that comes into contact with the sample, and fixed with a band.
Travel distance (one way): 13cm
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 500 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink is applied to the back side of the sample that has been rubbed, and scratches on the rubbed portion are visually observed with reflected light, or evaluation is made based on the difference from the amount of reflected light other than the rubbed portion.

4−(3)ヘイズ
本発明の表面ヘイズ、内部ヘイズについて、詳述する。
[1]JIS−K7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値(H)を測定する。
[2]光学フィルムの表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)を2枚用いて裏表より挟んで、完全に2枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ(Hi)として算出した。
[3]上記[1]で測定した全ヘイズ(H)から上記[2]で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出した。
4- (3) Haze The surface haze and internal haze of the present invention will be described in detail.
[1] The total haze value (H) of the film obtained according to JIS-K7136 is measured.
[2] Add a few drops of silicone oil to the front and back surfaces of the optical film, and use two 1 mm thick glass plates (micro slide glass product number S9111, manufactured by MATSANAMI) between the front and back to completely A value obtained by subtracting the haze measured by optically adhering the glass plate and the obtained film and measuring the haze with the surface haze removed, and sandwiching only silicone oil between two separately measured glass plates. Was calculated as the internal haze (Hi) of the film.
[3] A value obtained by subtracting the internal haze (Hi) calculated in [2] from the total haze (H) measured in [1] was calculated as the surface haze (Hs) of the film.

4−(4)硬化前の表面二重結合量Aと硬化後の残存表面二重結合量Bとの比
本発明において、表面の二重結合量方法は、表面における二重結合の量が測定できれば、測定方法は特に限定されることはない。例えば、不飽和結合を臭素で修飾しておき、ESCAでピーク強度を測定することにより定量化することができる。具体的には、二重結合残存比(B/A)は、試料(例えば、ハードコート層)の表面に存在する材料の二重結合をBr(臭素原子)で修飾して、X線光電子分光法(ESCA)で定量できる。この方法は、たとえば日本表面科学会編の表面分析技術選書「X線光電子分光法」(丸善)の63頁に記載の方法が適用できる。表面の二重結合量の測定方法は、例えば、以下に記載の、表面の二重結合量の測定方法Aにより測定できる。
4- (4) Ratio of surface double bond amount A before curing and residual surface double bond amount B after curing In the present invention, the surface double bond amount method measures the amount of double bonds on the surface. If possible, the measuring method is not particularly limited. For example, the unsaturated bond can be modified with bromine and quantified by measuring the peak intensity with ESCA. Specifically, the double bond residual ratio (B / A) is obtained by modifying a double bond of a material existing on the surface of a sample (for example, hard coat layer) with Br (bromine atom), and performing X-ray photoelectron spectroscopy. It can be quantified by the method (ESCA). As this method, for example, the method described on page 63 of “X-ray Photoelectron Spectroscopy” (Maruzen), a surface analysis technology selection edited by the Surface Science Society of Japan can be applied. The method for measuring the amount of double bonds on the surface can be measured, for example, by the method A for measuring the amount of double bonds on the surface described below.

(表面の二重結合量の測定方法)
2質量%の臭素水を入れた密閉容器中の気相に試料を1時間放置し、二重結合部にBrを付加させる。この試料表面のESCA Br2pとC1sのシグナル面積強度を測定し、両者の比Br/Cを求め表面二重結合量の指標とする。硬化前のBr/Cに対する、硬化後のBr/Cの値を表面二重結合の残存比(B/A)として求めることができる。
(Method for measuring the amount of double bonds on the surface)
The sample is allowed to stand for 1 hour in a gas phase in a sealed container containing 2% by mass of bromine water, and Br is added to the double bond portion. The signal area intensity of ESCA Br2p and C1s on the sample surface is measured, and the ratio Br / C between them is obtained and used as an index of the surface double bond amount. The value of Br / C after curing with respect to Br / C before curing can be determined as the residual ratio of surface double bonds (B / A).

4−(5)カールの評価
ハードコートフィルム試料を3 5 m m × 1 2 5 m m に切断し、温度2 5 ℃ 、相対湿度6 0% の条件でハードコート層側を上にして水平面に2 時間放置した後、水平面からの4 角の浮いた高さの平均値を測定することでカールを評価した。この値は小さい程好ましく、15mm以上では実用性が低いレベルである。
4- (5) Evaluation of curl A hard coat film sample was cut into 35 mm × 1 25 mm and the hard coat layer side was placed on a horizontal surface at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. After standing for 2 hours, curl was evaluated by measuring the average value of the heights of the four corners from the horizontal plane. This value is preferably as small as possible, and is less practical than 15 mm.

以下、本発明の実施例を示すがこれに示す限りではない。尚、以下の実施例において、「部」とは「質量部」を意味するものである。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. In the following examples, “part” means “part by mass”.

[実施例1]
(ゾル液a−1の調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液a−1を得た。
質量平均分子量は1800であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。29Si−NMR測定から算出される前述の数式(I)による縮合率αは0.88であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
[Example 1]
(Preparation of sol liquid a-1)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. After that, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol liquid a-1.
The mass average molecular weight was 1800, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. The condensation rate α calculated from the 29 Si-NMR measurement according to the aforementioned mathematical formula (I) was 0.88. Further, from the gas chromatography analysis, no acryloxypropyltrimethoxysilane as a raw material remained.

(ゾル液a−2の調製)
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン187g(0.80mol)、メチルトリメトキシシラン27.2g(0.20mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液a―2を120g得た。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は1500であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は30%であった。
また1H−NMRの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構造であった。
(Preparation of sol liquid a-2)
In a 1,000 ml reaction vessel equipped with a thermometer, a nitrogen inlet tube and a dropping funnel, 187 g (0.80 mol) of acryloxyoxypropyltrimethoxysilane, 27.2 g (0.20 mol) of methyltrimethoxysilane, 320 g of methanol ( 10 mol) and 0.06 g (0.001 mol) of KF were added, and 15.1 g (0.86 mol) of water was slowly added dropwise at room temperature with stirring. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours, and then heated and stirred for 2 hours under methanol reflux. Thereafter, the low boiling point component was distilled off under reduced pressure and further filtered to obtain 120 g of sol liquid a-2. As a result of GPC measurement of the substance thus obtained, the mass average molecular weight was 1500, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 30%.
Moreover, from the measurement result of 1H-NMR, the structure of the obtained substance was a structure represented by the following general formula.

Figure 2007268753
Figure 2007268753

更に、29Si−NMR測定による縮合率αは0.56であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは5%以下の残存率であった。
Furthermore, the condensation rate α as determined by 29 Si-NMR was 0.56. From this analysis result, it was found that the silane coupling agent sol was mostly composed of a linear structure.
From the gas chromatography analysis, the raw material acryloxypropyltrimethoxysilane had a residual rate of 5% or less.

(1)塗布液の調製
────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−1−1の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 0.3重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 2.6重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
(1) Preparation of coating solution ─────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-1-1 for anti-glare hard coat layer────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 0.3 parts by weight Crosslinked acrylic-styrene particles (30%) 2.6 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38. 5 parts by weight─────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−1−2の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 0.3重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 2.6重量部
X−22−164C 0.3重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-1-2 for anti-glare hard coat layer ────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 0.3 parts by weight Crosslinked acrylic-styrene particles (30%) 2.6 parts by weight X-22-164C 0.3 parts by weight Sol solution a -2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−1−3の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 0.3重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 2.6重量部
X−22−164C 0.6重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-1-3 for anti-glare hard coat layer────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 0.3 parts by weight crosslinked acrylic-styrene particles (30%) 2.6 parts by weight X-22-164C 0.6 parts by weight Sol solution a -2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−2−1の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 1.2重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 10重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-2-1 for anti-glare hard coat layer────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 1.2 parts by weight Crosslinked acrylic-styrene particles (30%) 10 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−2−2の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 1.2重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 10重量部
X−22−164C 0.3重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-2-2 for anti-glare hard coat layer────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 1.2 parts by weight Crosslinked acrylic-styrene particles (30%) 10 parts by weight X-22-164C 0.3 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ─────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−2−3の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 1.2重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 10重量部
X−22−164C 0.6重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-2-3 for antiglare hard coat layer ────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 1.2 parts by weight Cross-linked acrylic-styrene particles (30%) 10 parts by weight X-22-164C 0.6 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ─────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−3−1の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 2.5重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 22重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-3-1 for anti-glare hard coat layer ────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 2.5 parts by weight Cross-linked acrylic-styrene particles (30%) 22 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−3−2の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 2.5重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 22重量部
X−22−164C 0.3重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-3-2 for antiglare hard coat layer────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 2.5 parts by weight cross-linked acrylic-styrene particles (30%) 22 parts by weight X-22-164C 0.3 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ─────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
防眩性ハードコート層用塗布液A−3−2の組成
────────────────────────────────────
PET−30 50重量部
イルガキュア184 2重量部
SX−350(30%) 2.5重量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 22重量部
X−22−164C 0.6重量部
ゾル液a−2 9.5重量部
トルエン 38.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating solution A-3-2 for antiglare hard coat layer────────────────────────────────── ──
PET-30 50 parts by weight Irgacure 184 2 parts by weight SX-350 (30%) 2.5 parts by weight crosslinked acrylic-styrene particles (30%) 22 parts by weight X-22-164C 0.6 parts by weight Sol solution a-2 9.5 parts by weight Toluene 38.5 parts by weight ─────────────────────────────────────

上記塗布液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液を調製した。   The coating solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 μm to prepare a coating solution for a light diffusion layer.

────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液B−1の組成
────────────────────────────────────
含フッ素ポリマーA(6%) 13重量部
MEK−ST−L(30%) 1重量部
ゾル液a−1 0.5重量部
MEK 5重量部
シクロヘキサノン 0.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating liquid B-1 for low refractive index layer ────────────────────────────────────
Fluoropolymer A (6%) 13 parts by weight MEK-ST-L (30%) 1 part by weight Sol solution a-1 0.5 part by weight MEK 5 parts by weight Cyclohexanone 0.5 part by weight ─────── ─────────────────────────────

────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液B−2の組成
────────────────────────────────────
含フッ素ポリマーA(6%) 13重量部
MEK−ST−L(30%) 1重量部
ゾル液a−1 0.5重量部
X−22−164C 0.5重量部
MEK 5重量部
シクロヘキサノン 0.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating liquid B-2 for low refractive index layer ────────────────────────────────────
Fluoropolymer A (6%) 13 parts by weight MEK-ST-L (30%) 1 part by weight Sol solution a-1 0.5 part by weight X-22-164C 0.5 part by weight MEK 5 parts by weight cyclohexanone 5 parts by weight─────────────────────────────────────

────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液B−3の組成
────────────────────────────────────
含フッ素ポリマーA(6%) 13重量部
MEK−ST−L(30%) 1重量部
ゾル液a−1 0.5重量部
X−22−164C 1重量部
MEK 5重量部
シクロヘキサノン 0.5重量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Composition of coating liquid B-3 for low refractive index layer ─────────────────────────────────────
Fluoropolymer A (6%) 13 parts by weight MEK-ST-L (30%) 1 part by weight Sol solution a-1 0.5 part by weight X-22-164C 1 part by weight MEK 5 parts by weight cyclohexanone 0.5 part by weight ────────────────────────────────────

上記溶液を攪拌後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。   The solution was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
・イルガキュア184:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・SX−350:平均粒径3.5μm架橋ポリスチレン粒子[屈折率1.60、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用]
・架橋アクリル−スチレン粒子:平均粒径3.5μm[屈折率1.55、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用]
・X−22−164C:シリコーン系化合物[信越化学工業(株)製]
The compounds used are shown below.
PET-30: A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.]
・ Irgacure 184: Polymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.]
SX-350: average particle size 3.5 μm cross-linked polystyrene particles [refractive index 1.60, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 30% toluene dispersion, used after dispersion for 20 minutes at 10,000 rpm in a polytron disperser]
Crosslinked acrylic-styrene particles: average particle size 3.5 μm [refractive index 1.55, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 30% toluene dispersion, used after dispersion for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser]
X-22-164C: Silicone compound [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.]

・含フッ素ポリマーA:特開平11−189621、実施例1に記載の含フッ素ポリマー80g、硬化剤として「サイメル303」15g(日本サイテックインダストリーズ(株)、硬化触媒として「キャタリスト4050」2.0g(日本サイテックインダストリーズ(株)をMEKに溶解して6%にしたもの[屈折率1.42、固形分濃度6%、] Fluorine-containing polymer A: 80 g of the fluorine-containing polymer described in JP-A-11-189621, Example 1, 15 g of “Cymel 303” as a curing agent (Nippon Cytec Industries, Ltd., 2.0 g of “Catalyst 4050” as a curing catalyst) (Nihon Cytec Industries Co., Ltd. dissolved in MEK to 6% [refractive index 1.42, solid content concentration 6%]

・MEK−ST−L:コロイダルシリカ分散物[MEK−STの粒子サイズ違い、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製] MEK-ST-L: Colloidal silica dispersion [MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.]

(2)ハードコート層の塗設
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して直接、ハードコート層塗布液を線数135本/インチ、深度60μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度10m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量250mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。ハードコート層の膜厚は約5μmとなった。
(2) Coating of hard coat layer A triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is unrolled directly in a roll form, and 135 hard coat layer coating solutions are directly applied. / Inch, using a microgravure roll with a diameter of 50 mm having a gravure pattern with a depth of 60 μm and a doctor blade, the coating speed was 10 m / min, the coating was dried at 60 ° C. for 150 seconds, and further under a nitrogen purge, 160 W / Using an air-cooled metal halide lamp (produced by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer was cured by being irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 250 mJ / cm 2 , and wound up. The film thickness of the hard coat layer was about 5 μm.

(3)低屈折率層の塗設
ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を線数200本/インチ、深度30μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度20m/分の条件で塗布し、120℃で75秒乾燥の後、更に10分乾燥させてから窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量240mJ/cmの紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
(3) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with a hard coat layer is unwound again, and the coating liquid for the low refractive index layer has a gravure pattern of 200 lines / inch and a depth of 30 μm. Using a micro gravure roll with a diameter of 50 mm and a doctor blade, it was applied at a transfer speed of 20 m / min, dried at 120 ° C. for 75 seconds, further dried for 10 minutes, and then air-cooled metal halide at 240 W / cm under a nitrogen purge. Using a lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), an ultraviolet ray having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 240 mJ / cm 2 was irradiated to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm and wound up.

(4)反射防止フィルムの鹸化処理
製膜後、前記試料について、以下の処理を行った。1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01mol/Lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。
作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。
最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。
(4) Saponification treatment of antireflection film After film formation, the sample was subjected to the following treatment. A 1.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.01 mol / L dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C.
The prepared antireflection film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the above-mentioned dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution.
Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C. In this way, a saponified antireflection film was produced.

(光学フィルムおよび反射防止フィルムの評価)
・耐擦傷性
<スチールウール耐傷性評価>
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性を評価した。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm
先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、以下の基準で評価した。
◎ :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○ :非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△:弱い傷が見える。
△ :中程度の傷が見える。
× :一目見ただけで分かる傷がある。
(Evaluation of optical film and antireflection film)
・ Abrasion resistance <Steel wool scratch resistance evaluation>
A rubbing test was performed using a rubbing tester under the following conditions to evaluate the scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: Steel wool (Nippon Steel Wool Co., Ltd., gelled No. 0000)
Wrap around the tip (1cm x 1cm) of the scraper of the tester that comes into contact with the sample and fix the band.
Travel distance (one way): 13cm
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 500 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample, and scratches on the rubbed portion were visually observed with reflected light, and evaluated according to the following criteria.
A: Even if looked very carefully, no scratches were visible.
○: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully.
○ △: Weak scratches are visible.
Δ: Medium scratches are visible.
X: There is a scratch that can be seen at first glance.

<ヘイズ>
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ(H)、内部ヘイズ(Hi)、表面ヘイズ(Hs)を測定した。
[1]JIS−K7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値(H)を測定した。
[2]得られた光学フィルムの表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)を2枚用いて裏表より挟んで、完全に2枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ(Hi)として算出した。
[3]上記[1]で測定した全ヘイズ(H)から上記[2]で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出した。
<Haze>
The total haze (H), internal haze (Hi), and surface haze (Hs) of the obtained film were measured by the following measurements.
[1] The total haze value (H) of the film obtained according to JIS-K7136 was measured.
[2] A few drops of silicone oil are added to the front and back surfaces of the obtained optical film, and two glass plates (micro slide glass product number S9111, manufactured by MATSUNAMI) with a thickness of 1 mm are sandwiched from the front and back to completely Two glass plates and the obtained film were optically adhered, and the haze was measured with the surface haze removed, and the haze measured by sandwiching only silicone oil between two separately measured glass plates. The subtracted value was calculated as the internal haze (Hi) of the film.
[3] A value obtained by subtracting the internal haze (Hi) calculated in [2] from the total haze (H) measured in [1] was calculated as the surface haze (Hs) of the film.

<動摩擦係数>
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を25℃、相対湿度60%で2時間調湿した後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/minにて測定した値を用いた。
<Dynamic friction coefficient>
The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of surface slipperiness. As the dynamic friction coefficient, a sample was conditioned at 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, and then a value measured with a HEIDON-14 dynamic friction measuring machine at a 5 mmφ stainless steel ball, a load of 100 g, and a speed of 60 cm / min was used.

Figure 2007268753
Figure 2007268753

表1の結果より動摩擦係数を0.3以下にすることで耐擦傷性が改良されていることがわかる。また、HC1〜3とHC7〜9を比較すると表面ヘイズを20%以下にすることで耐擦傷性が改良されていることがわかる。本発明のHC-2, 3, 5, 6および低屈折率層を設けたLn-2, 3, 5, 6は耐擦傷性に優れ、かつこれらを用いた表示装置では白化が少なく、視認性のよい表示画像が得られた。   From the results of Table 1, it can be seen that the scratch resistance is improved by setting the dynamic friction coefficient to 0.3 or less. Further, comparing HC1 to HC3 and HC7 to 9, it can be seen that the scratch resistance is improved by making the surface haze 20% or less. HC-2, 3, 5, 6 of the present invention and Ln-2, 3, 5, 6 provided with a low refractive index layer are excellent in scratch resistance, and a display device using these has less whitening and visibility. A good display image was obtained.

[実施例2]
実施例1の塗布液(A-1-2)を用いて硬化時の窒素流量、ランプ照射量を変えた以外は同じ条件で塗布を行い、ハードコート中の二重結合残存比(B/A)を変更したサンプルを作製した。
[Example 2]
Using the coating liquid (A-1-2) of Example 1, coating was performed under the same conditions except that the nitrogen flow rate during curing and the lamp irradiation amount were changed, and the double bond residual ratio (B / A) in the hard coat was applied. ) Was prepared.

(光学フィルムの評価)
実施例1と同様にしてヘイズ、耐擦傷性評価を行った。また、ハードコート層表面の二重結合残存比(B/A)は、本文4−(4)に記載した表面の二重結合量の測定方法により求めた。
(Evaluation of optical film)
Haze and scratch resistance were evaluated in the same manner as in Example 1. Further, the double bond residual ratio (B / A) on the surface of the hard coat layer was determined by the method for measuring the amount of double bonds on the surface described in the text 4- (4).

Figure 2007268753
Figure 2007268753

本発明においてハードコート層の二重結合残存比を最適化することで耐擦傷性をさらに良好にすることができた。HC−10〜HC13を比較すると二重結合残存比を0.5以下にすることで、耐擦傷性が改良されていることがわかる。しかし、二重結合残存比が小さくなると硬化収縮が進んだことによりカールが悪くなる方向にあった。   In the present invention, it was possible to further improve the scratch resistance by optimizing the double bond residual ratio of the hard coat layer. A comparison of HC-10 to HC13 shows that the scratch resistance is improved by setting the residual ratio of double bonds to 0.5 or less. However, when the double bond residual ratio is small, curling tends to deteriorate due to the progress of curing shrinkage.

[実施例3]
(ハードコート層用塗布液(A−4)の調製)
MEK90質量部に対して、シクロヘキサノン10質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製)85質量部、KBM−5103(シランカップリング剤:信越化学工業(株)製)10質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)5質量部、X−22−164C 0.5重量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液(A−4)を調製した。
ここで得られた塗布液(A−4)を用いて、塗布液量を調整した以外は実施例1と同じ条件で塗布を行い、膜厚を変更したサンプルを作製した。
(光学フィルムの評価)
実施例2と同様にしてヘイズ、耐擦傷性評価、ハードコート層表面の二重結合残存比(B/A)測定を行った。
[Example 3]
(Preparation of coating liquid for hard coat layer (A-4))
90 parts by mass of MEK, 10 parts by mass of cyclohexanone, 85 parts by mass of partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), KBM-5103 (silane coupling agent: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass), 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 0.5 parts by weight of X-22-164C were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution (A-4) for a hard coat layer.
Using the coating liquid (A-4) obtained here, coating was performed under the same conditions as in Example 1 except that the amount of the coating liquid was adjusted, and a sample with a changed film thickness was produced.
(Evaluation of optical film)
In the same manner as in Example 2, the haze, scratch resistance evaluation, and double bond residual ratio (B / A) measurement on the hard coat layer surface were performed.

Figure 2007268753
Figure 2007268753

本発明においてハードコート層の膜厚を厚くすることにより耐擦傷性が改善されていることがわかる。しかし、膜厚が30μmを超えたサンプルHC−17ではカールが大きく、実用上の下限レベルであった。   In the present invention, it can be seen that the scratch resistance is improved by increasing the thickness of the hard coat layer. However, Sample HC-17 having a film thickness exceeding 30 μm had a large curl, which was a practically lower limit level.

[実施例4]
トルエン75重量部に対して、PET−30(日本化薬(株)製)25重量部、M−215(イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート 東亜合成(株)製)25重量部、X−22−164C[信越化学工業(株)製]0.5重量部、ゾル液a-2を9.5重量部、イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)2重量部を添加して撹拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液(A−5)を調製した。
ここで得られた塗布液(A−5)を用いて、硬化時の窒素流量、ランプ照射量、および塗布液量を調整した以外は実施例1と同じ条件で塗布を行い、ハードコートの膜厚、二重結合残存比(B/A)を変更したサンプルを作製した。
(光学フィルムの評価)
実施例2と同様にしてヘイズ、耐擦傷性評価、ハードコート層表面の二重結合残存比(B/A)測定を行った。また、本文4−(5)に記載の方法でカールを評価した。
[Example 4]
75 parts by weight of toluene, 25 parts by weight of PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 25 parts by weight of M-215 (manufactured by isocyanuric acid EO-modified diacrylate Toagosei Co., Ltd.), X-22-164C [Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] 0.5 parts by weight, 9.5 parts by weight of sol liquid a-2, and 2 parts by weight of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added and stirred. It filtered with the polypropylene filter with the hole diameter of 0.4 micrometer, and prepared the coating liquid (A-5) for hard-coat layers.
Using the coating solution (A-5) obtained here, coating was carried out under the same conditions as in Example 1 except that the nitrogen flow rate during curing, the lamp irradiation amount, and the coating solution amount were adjusted. Samples with different thickness and double bond residual ratio (B / A) were prepared.
(Evaluation of optical film)
In the same manner as in Example 2, the haze, scratch resistance evaluation, and double bond residual ratio (B / A) measurement on the hard coat layer surface were performed. Further, curl was evaluated by the method described in the text 4- (5).

Figure 2007268753
Figure 2007268753

表4に示した結果より、HC−19〜HC−21では、光学フィルムの膜厚を厚くしたり、二重結合の残存比を小さくしたりすることで耐擦傷性が改良されていると共にカールの悪化も改良されていることがわかる。   From the results shown in Table 4, in HC-19 to HC-21, the scratch resistance is improved and the curl is improved by increasing the film thickness of the optical film or decreasing the residual ratio of the double bond. It can be seen that the deterioration of the is improved.

Claims (10)

透明支持体上に透光性樹脂を含んでなるハードコート層を少なくとも1層有する光学フィルムであって、該フィルムの最表層が、表面ヘイズが20%以下、動摩擦係数μが0.30以下であることを特徴とする光学フィルム。 An optical film having at least one layer of the hard coat layer comprising a light-transmissive resin on a transparent substrate, the outermost layer of the film is less surface haze is 20%, the dynamic friction coefficient mu k is 0.30 or less An optical film characterized in that 前記ハードコート層の膜厚が8〜30μmであることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the hard coat layer has a thickness of 8 to 30 μm. 前記ハードコート層が電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されうるものであって、該ハードコート層の硬化前の表面二重結合量Aと硬化後の残存表面二重結合量Bとの比(B/A)が、0.05≦B/A≦0.5の範囲であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルム。   The hard coat layer can be formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound, and the hard coat layer has a surface double bond amount A before curing and a residual surface double bond amount after curing. 3. The optical film according to claim 1, wherein a ratio (B / A) to B is in a range of 0.05 ≦ B / A ≦ 0.5. 前記ハードコート層が同一分子内に2個以上のエチレン性不飽和基及び1個以上のイソシアヌレート環を有する化合物を含む硬化性組成物を硬化した層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The hard coat layer is a layer obtained by curing a curable composition containing a compound having two or more ethylenically unsaturated groups and one or more isocyanurate rings in the same molecule. 4. The optical film according to any one of 3. 前記ハードコート層が、添加剤として、少なくとも一種のフッ素化合物及び/又は少なくとも一種のシリコーン系化合物を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains at least one fluorine compound and / or at least one silicone compound as an additive. 透明支持体上に透光性樹脂を含んでなるハードコート層を少なくとも1層有する光学フィルムであって、該フィルムの最表層が、表面ヘイズが10%以下、動摩擦係数μが0.30以下であることを特徴とする光学フィルム。 Transparent support hard coat layer comprising a light-transmissive resin on the body an optical film having at least one layer, the outermost layer of the film is, the surface haze is 10% or less, the dynamic friction coefficient mu k is 0.30 or less An optical film characterized in that 請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルムにおいて、前記最表層として、透明支持体よりも屈折率が小さい低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。   The optical film as described in any one of Claims 1-6 WHEREIN: It has a low-refractive-index layer whose refractive index is smaller than a transparent support body as said outermost layer, The antireflection film characterized by the above-mentioned. 前記低屈折率層が、添加剤として、少なくとも一種のフッ素化合物及び/又は少なくとも一種のシリコーン系化合物を含有することを特徴とする請求項7に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 7, wherein the low refractive index layer contains at least one fluorine compound and / or at least one silicone compound as an additive. 2枚の保護フィルムの間に偏光子を有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一つが、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルム又は請求項7〜8のいずれか一項に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。   It is a polarizing plate which has a polarizer between two protective films, Comprising: At least one of this protective film is an optical film as described in any one of Claims 1-6, or any one of Claims 7-8. A polarizing plate, which is the antireflection film according to one item. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルム、請求項7〜8のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、又は請求項9に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。   An image comprising the optical film according to any one of claims 1 to 6, the antireflection film according to any one of claims 7 to 8, or the polarizing plate according to claim 9. Display device.
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