JP2007261248A - Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method - Google Patents

Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2007261248A
JP2007261248A JP2006254638A JP2006254638A JP2007261248A JP 2007261248 A JP2007261248 A JP 2007261248A JP 2006254638 A JP2006254638 A JP 2006254638A JP 2006254638 A JP2006254638 A JP 2006254638A JP 2007261248 A JP2007261248 A JP 2007261248A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
treatment
receiving layer
lithographic printing
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2006254638A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Maemoto
一夫 前本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2006254638A priority Critical patent/JP2007261248A/en
Publication of JP2007261248A publication Critical patent/JP2007261248A/en
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recording medium to be recorded for lithographic printing plate capable of preventing bleeding of ink, leaving no significant stains during printing and affording an image obtained by curing ink with good printing durability when ink droplets are injected on the recording medium to be recorded for lithographic printing plate and a lithographic printing plate excellent in printing durability, capable of forming a high-resolution image, using the recording medium to be recorded. <P>SOLUTION: The recording medium to be recorded for lithographic printing plate is provided with a hydrophilic layer and an ink receiving layer laminated in this order, wherein the ink receiving layer contains one or more compounds selected from the group consisting of compounds having a fluoroalkyl group and compounds having a dimethyl siloxane skeleton and receives ink injected by an ink jet recording system. The ink receiving layer preferably contains 0.2-50.0 mg/m<SP>2</SP>of one or more compounds selected from the group consisting of compounds having a fluoroalkyl group and compounds having a dimethyl siloxane skeleton, and 1-200 mg/m<SP>2</SP>of hydrophilic resin. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、インクジェット記録方式による画像形成において用いられる被記録媒体および該被記録媒体と放射線硬化型インクとの組合せにより得られる平版印刷版、さらには、インクジェット記録方式による平版印刷版の作製方法に関するものである。   The present invention relates to a recording medium used in image formation by an ink jet recording method, a lithographic printing plate obtained by a combination of the recording medium and a radiation curable ink, and a method for producing a lithographic printing plate by an ink jet recording method. Is.

画像データ信号に基づき、記録媒体に画像を形成する記録方式として、電子写真方式、熱転写方式、インクジェット方式などがある。電子写真方式は、感光体ドラム上に帯電及び露光により静電潜像を形成するプロセスを必要とし、システムが複雑となり高価な装置となる。熱転写方式は、装置は安価であるが、インクリボンを用いるため、転写に使用されなかったインクリボンが廃材となり、ランニングコストも高い。一方、インクジェット方式は、安価な装置で、必要とされる画像部のみにインクを吐出し記録媒体上へ直接画像形成するため、廃材が無く、ランニングコストも安いので、記録方式として優れている。   As a recording method for forming an image on a recording medium based on an image data signal, there are an electrophotographic method, a thermal transfer method, an ink jet method, and the like. The electrophotographic system requires a process of forming an electrostatic latent image on a photosensitive drum by charging and exposure, which complicates the system and becomes an expensive apparatus. The thermal transfer method is inexpensive, but uses an ink ribbon, so the ink ribbon that has not been used for transfer becomes a waste material, and the running cost is high. On the other hand, the inkjet method is an excellent recording method because it is an inexpensive device and ejects ink only to a required image portion to directly form an image on a recording medium, so there is no waste material and the running cost is low.

インクジェット記録方式に用いられる記録媒体は、紙、プラスチック、金属など多岐に渡り、使用目的に応じて選択される。例えば、上質紙や再生紙などの普通紙に記録すれば直接印刷物を得ることができる。しかし、インクジェット記録は、記録速度が低いため、多数枚の印刷物を得るためには、多くの時間を要することになる。そこで、インクジェット記録により印刷版を作成し、作成した印刷版により多数枚の印刷物を得る試みが成されている。例えば、インクジェット法を用いて画像を描画するための平版印刷版として、アルミニウム支持体を予め親水性有機高分子化合物により親水化処理したものが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、インクジェットにより打滴したインクが基板上で滲む問題があった。
これに対して、末端アルキル、シリコン系、フッ素系界面活性剤により表面処理した支持体に特定のインクを作用させ平版印刷版を作成する方法が開示されている(例えば、特許文献2〜7参照。)。また、打滴されたインクの支持体への接触角が20°以上であればインクが滲み難くなること記載されている(例えば、特許文献8参照。)。しかしながらこれらの方法では、打滴されたインクの滲みは抑制されるが、印刷時に汚れが発生しやすく、インクにより形成された画像部領域の強度や支持体との密着性が十分ではなく、耐刷性が劣るという問題がある。
特開2000−108537号公報 米国特許第6472045号明細書 米国特許第6455132号明細書 米国特許第6451413号明細書 米国特許第6555205号明細書 米国特許第6471359号明細書 米国特許第6742886号明細書 特開2000−43439号公報
The recording medium used for the ink jet recording system is selected according to the purpose of use, such as paper, plastic, and metal. For example, printed matter can be obtained directly by recording on plain paper such as high-quality paper or recycled paper. However, since the inkjet recording has a low recording speed, it takes a lot of time to obtain a large number of printed materials. Therefore, an attempt has been made to prepare a printing plate by ink jet recording and obtain a large number of printed materials using the prepared printing plate. For example, as a lithographic printing plate for drawing an image using an ink jet method, an aluminum support that has been previously hydrophilized with a hydrophilic organic polymer compound has been proposed (for example, see Patent Document 1). However, there is a problem that ink ejected by ink jet spreads on the substrate.
On the other hand, a method for preparing a lithographic printing plate by causing a specific ink to act on a support surface-treated with a terminal alkyl, silicon-based or fluorine-based surfactant is disclosed (for example, see Patent Documents 2 to 7). .) In addition, it is described that if the contact angle of the ejected ink to the support is 20 ° or more, the ink hardly spreads (for example, see Patent Document 8). However, with these methods, the smearing of the ejected ink is suppressed, but stains are likely to occur during printing, the strength of the image area formed by the ink and the adhesion to the support are not sufficient, and There is a problem that printability is inferior.
JP 2000-108537 A US Pat. No. 6,472,045 US Pat. No. 6,455,132 US Pat. No. 6,451,413 US Pat. No. 6,555,205 US Pat. No. 6,471,359 US Pat. No. 6,742,886 JP 2000-43439 A

本発明の目的は、インクを打滴した際に、インクの滲みを抑制し、かつ印刷時に汚れが問題なく、さらに良好な耐刷性を与える平版印刷版用の被記録媒体を提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、前記本発明の被記録媒体を用いた、画像部の解像度、耐刷性に優れ、得られた印刷物の非画像部の汚れが抑制された平版印刷版及び該平版印刷版の簡易な作製方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a recording medium for a lithographic printing plate that suppresses ink bleeding when ink is ejected, has no problem of contamination during printing, and provides better printing durability. is there.
A further object of the present invention is to provide a lithographic printing plate using the recording medium of the present invention, which has excellent resolution and printing durability of the image area, and prevents stains on the non-image area of the obtained printed matter, and The object is to provide a simple method for producing a lithographic printing plate.

本発明者らは鋭意検討の結果、打滴インクとの接触角が大きく、且つ、水との接触角を小さくすることで、インクの滲みと非画像部の汚れの双方が抑制されることを見出し、これに適合するインク受容層と親水性層とを備える被記録媒体を用いることで、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明の被記録媒体は、支持体上に、親水性層、及び、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含有し、インクジェット記録方式により打滴されるインクを受容するインク受容層、を順次積層してなることを特徴とする。
このインク受容層のインクジェット記録方法によりインクを打滴されない領域は、インク打滴、インク硬化工程後に、例えば、印刷途上において湿し水により、或いは、ガム引き工程においてガムにより、除去され、非画像部領域においては、親水性層が露出することが好ましい態様である。
As a result of intensive studies, the present inventors have confirmed that both the ink bleeding and the non-image area contamination can be suppressed by reducing the contact angle with the droplet ejection ink and the contact angle with water. The inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by using a recording medium having an ink-receiving layer and a hydrophilic layer suitable for the heading, and the present invention has been completed.
That is, the recording medium of the present invention contains, on a support, one or more compounds selected from the group consisting of a hydrophilic layer, a compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton, An ink receiving layer for receiving ink ejected by an ink jet recording method is sequentially laminated.
A region where ink is not ejected by the ink jet recording method of the ink receiving layer is removed after the ink ejection and ink curing processes, for example, by dampening water during printing or by gum in the gumming process. In the partial area, the hydrophilic layer is preferably exposed.

被記録媒体に用いられる支持体は、平均開口径0.5〜5μmの中波構造と平均開口径0.01〜0.2μmの小波構造とを重畳した構造の砂目構造を有するものが好ましく、平均波長5〜100μmの大波構造と平均開口径0.5〜5μmの中波構造と平均開口径0.01〜0.2μmの小波構造とを重畳した構造の砂目形状を表面に有するものがさらに好ましい。
このときの、小波構造の開口径に対する深さの比の平均は0.2以上であることが好ましい態様である。
The support used for the recording medium preferably has a grain structure in which a medium wave structure with an average opening diameter of 0.5 to 5 μm and a small wave structure with an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm are superimposed. , Having a grain shape on the surface with a large wave structure with an average wavelength of 5 to 100 μm, a medium wave structure with an average opening diameter of 0.5 to 5 μm, and a small wave structure with an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm Is more preferable.
In this case, the average of the ratio of the depth to the opening diameter of the small wave structure is preferably 0.2 or more.

本発明の請求項8に係る平版印刷版は、支持体上に、親水性層、及び、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含有し、インクジェット記録方式により打滴されるインクを受容するインク受容層を順次積層してなる被記録媒体表面に、インクを打滴し、硬化させて画像部領域を形成することにより得られる平版印刷版である。
ここで、前記親水性層上に形成されたインク受容層の水との接触角は10°より小さく、且つ、該インク受容層とインクジェットにより打滴されるインクとの接触角が30°より大きいことが、画質向上の観点から好ましく、さらには、該インク受容層と印刷時に使用する湿し水との接触角もまた、10°より小さいことが好ましい。
The lithographic printing plate according to claim 8 of the present invention comprises, on a support, at least one compound selected from the group consisting of a hydrophilic layer, a compound having a fluoroalkyl group, and a compound having a dimethylsiloxane skeleton. A lithographic plate obtained by depositing ink on a surface of a recording medium containing an ink receiving layer that contains ink and receiving ink ejected by an ink jet recording method, and curing the ink to form an image area. It is a print version.
Here, the contact angle between the ink receiving layer formed on the hydrophilic layer and water is smaller than 10 °, and the contact angle between the ink receiving layer and ink ejected by inkjet is larger than 30 °. In view of improving the image quality, the contact angle between the ink receiving layer and the fountain solution used during printing is also preferably smaller than 10 °.

本発明の請求項11に係る平版印刷版の作製方法は、前記した本発明の被記録媒体のインク受容層表面に、インクジェット記録方式によりインクを打滴する工程、インクを硬化させる工程、及び、その後実施される、インクが打滴された領域以外のインク受容層を除去する工程を有することを特徴とする。
前記インクが打滴された領域以外のインク受容層を除去する工程は、印刷途上に湿し水により行われてもよく、ガム処理工程においてガムにより行われてもよい。
The method for producing a lithographic printing plate according to claim 11 of the present invention includes a step of ejecting ink onto the surface of the ink receiving layer of the recording medium of the present invention described above by an ink jet recording method, a step of curing the ink, and And a step of removing the ink receiving layer other than the area where the ink is ejected, which is performed thereafter.
The step of removing the ink receiving layer other than the region where the ink has been ejected may be performed with dampening water during printing, or may be performed with gum in the gum treatment step.

本発明の被記録媒体は、親水性層、及び、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含有するインク受容層を有する。
インク受容層に、インクの表面エネルギーを低下させるようなフルオロアルキル基を有する化合物、ポリジメチルシリルオキシ基を有するような化合物を導入することで、インク受容層表面とインクとの接触角を30°より大きくなすことができ、インク滲みが抑制され、高解像度でインク受容層との密着性に優れた画像部領域が形成される。
一方で、印刷時に非画像部を汚れにくくするには、インク受容層を除き、親水層を露出させる必要がある。このためインク打滴、硬化後に、インクの存在しない非画像部領域におけるインク受容層が、湿し水やガムなどで容易に除去され、隣接する親水性層が露出する設計を施す必要がある。このようにインク受容層を容易に除去するためには、インク受容層と水との接触角を10°より小さくするとよい。すなわち、インク受容層に親水性樹脂を導入するかフルオロアルキル基を有する化合物、ポリジメチルシリルオキシ基を有するような化合物を水溶性にして導入することが好ましい。フルオロアルキル基を有する化合物、ポリジメチルシリルオキシ基を有するような化合物を水溶性にし、かつ、親水性樹脂とブレンドするとさらに好ましい。このように、インク受容層が除去されることにより現れた親水性層表面は、水および印刷時に使用する湿し水との濡れ性が高く、非画像の汚れの発生が効果的に抑制される。
通常、インク受容層が水に濡れやすく、さらに水に溶解する場合には耐刷性が低下するが、本発明における一態様においては、画像部の膜質を高めるために放射線重合型インクを使用しており、放射線硬化後のインク付着領域には耐水性の樹脂被膜が形成され、高い耐刷性が実現される。また、本発明の好ましい他の態様であるポリマー溶解型インクを用いることによっても、耐水性の樹脂被膜が形成され、同様に高い耐刷性が実現される。さらに、本発明の好ましい態様では、さらに、インクと支持体との密着性を高めるために支持体の表面形状を制御している。このようにすることでインク滲みが抑制でき、印刷時に汚れず、高耐刷性を示す直描型平版印刷版に好適な被記録媒体を得ることができた。
なお、発明における接触角は、空中液滴の接触角で、0.8μL滴下10秒後の値である。
The recording medium of the present invention has a hydrophilic layer and an ink receiving layer containing at least one compound selected from the group consisting of a compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton.
By introducing into the ink receiving layer a compound having a fluoroalkyl group that lowers the surface energy of the ink or a compound having a polydimethylsilyloxy group, the contact angle between the ink receiving layer surface and the ink is 30 °. The image area can be made larger, the ink bleeding is suppressed, the resolution is high, and the adhesiveness with the ink receiving layer is excellent.
On the other hand, it is necessary to expose the hydrophilic layer except for the ink receiving layer in order to make the non-image area difficult to be stained during printing. For this reason, it is necessary to design the ink receiving layer in the non-image area where no ink is present after ink ejection and curing to be easily removed with fountain solution or gum to expose the adjacent hydrophilic layer. In this way, in order to easily remove the ink receiving layer, the contact angle between the ink receiving layer and water should be smaller than 10 °. That is, it is preferable to introduce a hydrophilic resin into the ink receiving layer or introduce a compound having a fluoroalkyl group or a compound having a polydimethylsilyloxy group in a water-soluble state. More preferably, a compound having a fluoroalkyl group or a compound having a polydimethylsilyloxy group is made water-soluble and blended with a hydrophilic resin. Thus, the hydrophilic layer surface that appears when the ink receiving layer is removed has high wettability with water and dampening water used during printing, and the occurrence of non-image stains is effectively suppressed. .
Usually, the ink-receiving layer is easily wetted by water, and further, when it dissolves in water, the printing durability is lowered.In one embodiment of the present invention, a radiation polymerization type ink is used to improve the film quality of the image area. In addition, a water-resistant resin film is formed in the ink adhesion area after radiation curing, and high printing durability is realized. Also, by using a polymer-dissolving ink that is another preferred embodiment of the present invention, a water-resistant resin film is formed, and similarly high printing durability is realized. Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, the surface shape of the support is controlled in order to further improve the adhesion between the ink and the support. In this way, it was possible to obtain a recording medium suitable for a direct-drawing lithographic printing plate that was able to suppress ink bleeding, was not soiled during printing, and exhibited high printing durability.
In addition, the contact angle in the invention is the contact angle of the air droplet, and is a value 10 seconds after the 0.8 μL dropping.

本発明によれば、インクを打滴した際に、インクの滲みを抑制し、かつ印刷時に汚れが問題なく、さらに良好な耐刷性を与える平版印刷版用の被記録媒体を提供することができる。
さらに、本発明によれば、前記本発明の被記録媒体を用いた、画像部の解像度、耐刷性に優れ、得られた印刷物の非画像部の汚れが抑制された平版印刷版及び該平版印刷版の簡易な作製方法を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a recording medium for a lithographic printing plate that suppresses ink bleeding when the ink is ejected, has no problem of contamination during printing, and provides better printing durability. it can.
Furthermore, according to the present invention, a lithographic printing plate using the recording medium of the present invention, which has excellent resolution and printing durability of the image area and in which stains on the non-image area of the obtained printed matter are suppressed, and the lithographic plate A simple method for producing a printing plate can be provided.

以下、本発明について詳細に記載する。
まず、本発明の被記録媒体についてのべる。本発明の被記録媒体は、支持体上に、親水性層、及び、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含有し、インクジェット記録方式により打滴される放射線重合型インクを受容するインク受容層、を順次積層してなる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, the recording medium of the present invention will be described. The recording medium of the present invention contains, on a support, one or more compounds selected from the group consisting of a hydrophilic layer, a compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton, and inkjet recording. An ink receiving layer for receiving radiation-polymerized ink ejected by the method is sequentially laminated.

〔支持体〕
本発明の被記録媒体に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
[Support]
The support used in the recording medium of the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate having necessary strength and durability. For example, paper, plastic (for example, polyethylene) Paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, nitric acid) Cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), metal laminated or vapor-deposited paper, or plastic film.

中でも、本発明においては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明においては表面処理されたアルミニウム支持体が好ましい。以下これらについて記載する。   Among them, in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. In the present invention, a surface-treated aluminum support is preferred. These are described below.

<アルミ支持体>
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3mmである。
<Aluminum support>
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.15 mm to 0.3 mm.

このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行なってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
Such an aluminum plate may be subjected to surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment, if necessary. Hereinafter, such a surface treatment will be briefly described.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

<アルミ砂目形状を作製するための表面処理の詳細>
本発明に係る支持体は、後述するアルミニウム板に表面処理を施すことによって、上述した表面の砂目形状をアルミニウム板の表面に形成させたものである。本発明に係る支持体は、アルミニウム板に粗面化処理および陽極酸化処理を施して得られるが、この支持体の製造工程は、特に限定されず、粗面化処理および陽極酸化処理以外の各種の工程を含んでいてもよい。上述した表面の砂目形状を形成させるための代表的方法として、アルミニウム板に機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板に機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法、アルミニウム板にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
これらの方法において、前記電気化学的粗面化処理の後、更に、アルカリエッチング処理および酸によるデスマット処理を施してもよい。これらの方法により得られた本発明の平版印刷版用支持体は、上述したように、2種以上の異なる周期の凹凸を重畳した構造が表面に形成されており、平版印刷版としたときの耐汚れ性および耐刷性のいずれにも優れる。以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
<Details of surface treatment for producing aluminum grain shape>
The support according to the present invention is such that the above-described surface grain shape is formed on the surface of the aluminum plate by subjecting the aluminum plate to be described later to surface treatment. The support according to the present invention is obtained by subjecting an aluminum plate to a surface roughening treatment and an anodizing treatment, but the production process of this support is not particularly limited, and various types other than the surface roughening treatment and the anodizing treatment are performed. These steps may be included. As a typical method for forming the above-mentioned surface grain shape, an aluminum plate is successively subjected to a mechanical surface roughening treatment, an alkali etching treatment, an acid desmutting treatment, and an electrochemical surface roughening treatment using an electrolytic solution. Method, mechanical roughening treatment on aluminum plate, alkali etching treatment, desmutting treatment with acid and electrochemical roughening treatment using different electrolytes multiple times, alkali etching treatment on aluminum plate with acid A method of sequentially performing desmutting treatment and electrochemical surface roughening treatment using an electrolytic solution, a method of subjecting an aluminum plate to alkali etching treatment, desmutting treatment with acid, and electrochemical surface roughening treatment using different electrolytic solutions multiple times However, the present invention is not limited to these.
In these methods, after the electrochemical roughening treatment, an alkali etching treatment and an acid desmutting treatment may be further performed. As described above, the support for a lithographic printing plate of the present invention obtained by these methods has a structure in which irregularities of two or more different periods are superimposed on the surface, and is a planographic printing plate. Excellent stain resistance and printing durability. Hereinafter, each step of the surface treatment will be described in detail.

<機械的粗面化処理>
機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理と比較してより安価に、平均波長5〜100μmの凹凸のある表面を形成することができるため、粗面化処理の手段として有効である。機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平6−135175号公報および特公昭50−40047号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。また、凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法を用いることもできる。即ち、特開昭55−74898号、特開昭60−36195号、特開昭60−203496号の各公報に記載されている方法のほか、転写を数回行うことを特徴とする特開平6−55871号公報、表面が弾性であることを特徴とした特願平4−204235号明細書(特開平6−024168号公報)に記載されている方法も適用可能である。
<Mechanical roughening>
The mechanical roughening treatment is effective as a roughening treatment means because it can form an uneven surface with an average wavelength of 5 to 100 μm at a lower cost than the electrochemical roughening treatment. is there. Examples of the mechanical surface-roughening treatment method include, for example, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is grained with a polishing ball and an abrasive, JP-A-6-135175, and Japanese Patent Publication A brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive described in Japanese Patent No. 50-40047 can be used. A transfer method in which the uneven surface is pressed against the aluminum plate can also be used. That is, in addition to the methods described in JP-A-55-74898, JP-A-60-36195, and JP-A-60-20396, transfer is performed several times. The method described in Japanese Patent Application No. -55871 and Japanese Patent Application No. 4-204235 (Japanese Patent Laid-Open No. 6-024168) characterized in that the surface is elastic is also applicable.

また、放電加工、ショットブラスト、レーザー、プラズマエッチング等を用いて、微細な凹凸を食刻した転写ロールを用いて繰り返し転写を行う方法や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、その上より複数回繰り返し圧力を加え、アルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り返し転写させる方法を用いることもできる。転写ロールへ微細な凹凸を付与する方法としては、特開平3−8635号、特開平3−66404号、特開昭63−65017号の各公報等に記載されている公知の方法を用いることができる。また、ロール表面にダイス、バイト、レーザー等を使って2方向から微細な溝を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面には、公知のエッチング処理等を行って、形成させた角形の凹凸が丸みを帯びるような処理を行ってもよい。また、表面の硬度を上げるために、焼き入れ、ハードクロムメッキ等を行ってもよい。そのほかにも、機械的粗面化処理としては、特開昭61−162351号公報、特開昭63−104889号公報等に記載されている方法を用いることもできる。本発明においては、生産性等を考慮して上述したそれぞれの方法を併用することもできる。これらの機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理の前に行うのが好ましい。   In addition, by using electric discharge machining, shot blasting, laser, plasma etching, etc., a method of repeatedly transferring using a transfer roll etched with fine irregularities, and an uneven surface coated with fine particles on an aluminum plate It is also possible to use a method in which an uneven pattern corresponding to the average diameter of the fine particles is repeatedly transferred to the aluminum plate a plurality of times by contacting the surface and applying a pressure a plurality of times from above. As a method for imparting fine irregularities to the transfer roll, known methods described in JP-A-3-8635, JP-A-3-66404, JP-A-63-65017, etc. may be used. it can. Further, a fine groove may be cut in two directions using a die, a cutting tool, a laser, or the like on the roll surface, and a square unevenness may be formed on the surface. The roll surface may be subjected to a known etching process or the like so that the formed square irregularities are rounded. Further, in order to increase the surface hardness, quenching, hard chrome plating, or the like may be performed. In addition, as the mechanical surface roughening treatment, methods described in JP-A Nos. 61-162351 and 63-104889 can be used. In the present invention, the above-described methods can be used in combination in consideration of productivity and the like. These mechanical surface roughening treatments are preferably performed before the electrochemical surface roughening treatment.

以下、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について説明する。ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン(商標名)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム板の表面の一方または両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは10,000〜40,000kg/cm、より好ましくは15,000〜35,000kg/cmであり、かつ、毛腰の強さが好ましくは500g以下、より好ましくは400g以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、0.2〜0.9mmである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、10〜100mmである。 Hereinafter, the brush grain method used suitably as a mechanical roughening process is demonstrated. The brush grain method generally uses a roller-shaped brush in which a large number of brush hairs such as synthetic resin hair made of synthetic resin such as nylon (trade name), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. This is carried out by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum plate while spraying a slurry liquid containing an abrasive on a rotating roller brush. Instead of the roller brush and the slurry liquid, a polishing roller which is a roller having a polishing layer on the surface can be used. When a roller brush is used, the flexural modulus is preferably 10,000 to 40,000 kg / cm 2 , more preferably 15,000 to 35,000 kg / cm 2 , and the bristle strength is preferably Brush hair that is 500 g or less, more preferably 400 g or less is used. The diameter of the brush bristles is generally 0.2 to 0.9 mm. The length of the brush bristles can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller brush and the diameter of the body, but is generally 10 to 100 mm.

研磨剤は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤;これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。
特に、ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる点で好ましい。研磨剤の平均粒径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、3〜50μmであるのが好ましく、6〜45μmであるのがより好ましい。研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は0.5〜2であるのが好ましい。
A well-known thing can be used for an abrasive | polishing agent. For example, abrasives such as pumicestone, silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, silicon carbide, silicon nitride, volcanic ash, carborundum, and gold sand; a mixture thereof can be used. Of these, pumiston and silica sand are preferable.
In particular, silica sand is preferable in terms of excellent roughening efficiency because it is harder and less likely to break than Pamiston. The average particle diameter of the abrasive is preferably 3 to 50 μm, and more preferably 6 to 45 μm in terms of excellent surface roughening efficiency and a narrow graining pitch. For example, the abrasive is suspended in water and used as a slurry. In addition to the abrasive, the slurry liquid may contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), a preservative, and the like. The specific gravity of the slurry liquid is preferably 0.5-2.

機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭50−40047号公報に記載された装置を挙げることができる。   As an apparatus suitable for the mechanical surface roughening treatment, for example, an apparatus described in JP-B-50-40047 can be exemplified.

<電気化学的粗面化処理>
電気化学的粗面化処理には、通常の交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。中でも、塩酸または硝酸を主体とする電解液を用いることで特徴的な凹凸構造を表面に形成させることができる。本発明における電解粗面化処理としては、陰極電解処理の前後に酸性溶液中での交番波形電流による第1および第2の電解処理を行うことが好ましい。陰極電解処理により、アルミニウム板の表面で水素ガスが発生してスマットが生成することにより表面状態が均一化され、その後の交番波形電流による電解処理の際に均一な電解粗面化が可能となる。この電解粗面化処理は、例えば、特公昭48−28123号公報および英国特許第896,563号明細書に記載されている電気化学的グレイン法(電解グレイン法)に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平3−79799号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭55−158298号、特開昭56−28898号、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭54−85802号、特開昭60−190392号、特開昭58−120531号、特開昭63−176187号、特開平1−5889号、特開平1−280590号、特開平1−118489号、特開平1−148592号、特開平1−178496号、特開平1−188315号、特開平1−154797号、特開平2−235794号、特開平3−260100号、特開平3−253600号、特開平4−72079号、特開平4−72098号、特開平3−267400号、特開平1−141094の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第4,276,129号明細書および同第4,676,879号明細書に記載されている。
<Electrochemical roughening treatment>
In the electrochemical surface roughening treatment, an electrolytic solution used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal alternating current can be used. Among these, a characteristic uneven structure can be formed on the surface by using an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid or nitric acid. As the electrolytic surface roughening treatment in the present invention, it is preferable to perform the first and second electrolytic treatments with an alternating waveform current in an acidic solution before and after the cathodic electrolytic treatment. By cathodic electrolysis, hydrogen gas is generated on the surface of the aluminum plate and smut is generated, so that the surface state is made uniform, and uniform electrolytic surface roughening is possible during subsequent electrolysis with alternating waveform current. . This electrolytic surface roughening treatment can be performed according to, for example, an electrochemical grain method (electrolytic grain method) described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and British Patent No. 896,563. This electrolytic grain method uses a sinusoidal alternating current, but it may be performed using a special waveform as described in JP-A-52-58602. Further, the waveform described in JP-A-3-79799 can also be used. JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, and JP-A-1-17896. JP-A-1-188315, JP-A-1-1549797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, The methods described in JP-A-3-267400 and JP-A-1-141094 can also be applied. In addition to the above, it is also possible to perform electrolysis using an alternating current having a special frequency that has been proposed as a method of manufacturing an electrolytic capacitor. For example, it is described in US Pat. Nos. 4,276,129 and 4,676,879.

電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第4203637号明細書、特開昭56−123400号、特開昭57−59770号、特開昭53−12738号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32823号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特開昭62−127500号、特開平1−52100号、特開平1−52098号、特開昭60−67700号、特開平1−230800号、特開平3−257199号の各公報等に記載されているものを用いることができる。また、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭53−12738号、特開昭53−12739号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32833号、特開昭53−32824号、特開昭53−32825号、特開昭54−85802号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特公昭48−28123号、特公昭51−7081号、特開昭52−133838号、特開昭52−133840号号、特開昭52−133844号、特開昭52−133845号、特開昭53−149135号、特開昭54−146234号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。   Various electrolyzers and power sources have been proposed. U.S. Pat. No. 4,023,637, JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, JP-A-53-12738, JP-A-53. -32821, JP-A 53-32822, JP-A 53-32823, JP-A 55-122896, JP-A 55-13284, JP-A 62-127500, JP-A-1-52100 JP-A-1-52098, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199 and the like can be used. Also, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP 53-32833, JP 53-32824, JP 53-32825, JP 54-85802, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-13338, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53- Nos. 149135 and 54-146234 can be used.

電解液である酸性溶液としては、硝酸、塩酸のほかに、米国特許第4,671,859号、同第4,661,219号、同第4,618,405号、同第4,600,482号、同第4,566,960号、同第4,566,958号、同第4,566,959号、同第4,416,972号、同第4,374,710号、同第4,336,113号、同第4,184,932号の各明細書等に記載されている電解液を用いることもできる。   As an acidic solution which is an electrolytic solution, in addition to nitric acid and hydrochloric acid, U.S. Pat. Nos. 4,671,859, 4,661,219, 4,618,405, 4,600, 482, 4,566,960, 4,566,958, 4,566,959, 4,416,972, 4,374,710, The electrolyte solution described in each specification of 4,336,113 and 4,184,932 can also be used.

酸性溶液の濃度は0.5〜2.5質量%であるのが好ましいが、上記のスマット除去処理での使用を考慮すると、0.7〜2.0質量%であるのが特に好ましい。また、液温は20〜80℃であるのが好ましく、30〜60℃であるのがより好ましい。   The concentration of the acidic solution is preferably 0.5 to 2.5% by mass, but it is particularly preferably 0.7 to 2.0% by mass in consideration of use in the smut removal treatment. Moreover, it is preferable that liquid temperature is 20-80 degreeC, and it is more preferable that it is 30-60 degreeC.

塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、濃度1〜100g/Lの塩酸または硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物または塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸化合物の少なくとも一つを1g/Lから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、塩酸または硝酸を主体とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸または硝酸の濃度0.5〜2質量%の水溶液にアルミニウムイオンが3〜50g/Lとなるように、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好ましい。   An aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid or nitric acid is an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid having a concentration of 1 to 100 g / L, such as nitric acid compounds having nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate, or aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride, etc. At least one of the hydrochloric acid compounds having hydrochloric acid ions can be used by adding in a range from 1 g / L to saturation. Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution which has hydrochloric acid or nitric acid as a main component. Preferably, a solution obtained by adding aluminum chloride, aluminum nitrate or the like to an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid having a concentration of 0.5 to 2% by mass so that aluminum ions are 3 to 50 g / L is preferably used.

更に、Cuと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりCuを多く含有するアルミニウム板に対しても均一な砂目立てが可能になる。Cuと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア;メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)等のアンモニアの水素原子を炭化水素基(脂肪族、芳香族等)等で置換して得られるアミン類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃がより好ましい。   Further, by adding and using a compound capable of forming a complex with Cu, uniform graining is possible even for an aluminum plate containing a large amount of Cu. Examples of the compound capable of forming a complex with Cu include ammonia; hydrogen atom of ammonia such as methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, cyclohexylamine, triethanolamine, triisopropanolamine, EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid). And amines obtained by substituting with a hydrocarbon group (aliphatic, aromatic, etc.); metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like. In addition, ammonium salts such as ammonium nitrate, ammonium chloride, ammonium sulfate, ammonium phosphate, and ammonium carbonate are also included. The temperature is preferably 10-60 ° C, more preferably 20-50 ° C.

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波とは、図2に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間(TP)は1〜3msecであるのが好ましい。1msec未満であると、アルミニウム板の進行方向と垂直に発生するチャタマークという処理ムラが発生しやすい。TPが3msecを超えると、特に硝酸電解液を用いる場合、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。その結果、平版印刷版としたときの耐汚れ性が低下する傾向にある。   The AC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited, and a sine wave, a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave or the like is used, but a rectangular wave or a trapezoidal wave is preferable, and a trapezoidal wave is particularly preferable. A trapezoidal wave means what was shown in FIG. In this trapezoidal wave, the time (TP) until the current reaches a peak from zero is preferably 1 to 3 msec. If it is less than 1 msec, processing irregularities such as chatter marks that occur perpendicular to the traveling direction of the aluminum plate are likely to occur. When TP exceeds 3 msec, especially when a nitric acid electrolyte is used, it is easily affected by trace components in the electrolyte typified by ammonium ions and the like that spontaneously increase by electrolytic treatment, and uniform graining is performed. It becomes hard to be broken. As a result, the stain resistance tends to decrease when a lithographic printing plate is obtained.

台形波交流のduty比は1:2〜2:1のものが使用可能であるが、特開平5−195300公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはduty比が1:1のものが好ましい。台形波交流の周波数は0.1〜120Hzのものを用いることが可能であるが、50〜70Hzが設備上好ましい。50Hzよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、70Hzよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。   A duty ratio of trapezoidal wave alternating current of 1: 2 to 2: 1 can be used. However, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-195300, in an indirect power feeding method in which no conductor roll is used for aluminum, a duty is used. A ratio of 1: 1 is preferred. A trapezoidal AC frequency of 0.1 to 120 Hz can be used, but 50 to 70 Hz is preferable in terms of equipment. When the frequency is lower than 50 Hz, the carbon electrode of the main electrode is easily dissolved, and when the frequency is higher than 70 Hz, it is easily affected by an inductance component on the power supply circuit, and the power supply cost is increased.

電解槽には1個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図3に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図3において、11はアルミニウム板であり、12はラジアルドラムローラであり、13aおよび13bは主極であり、14は電解処理液であり、15は電解液供給口であり、16はスリットであり、17は電解液通路であり、18は補助陽極であり、19aおよび19bはサイリスタであり、20は交流電源であり、40は主電解槽であり、50は補助陽極槽である。整流素子またはスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム板上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム板上で、陽極反応と陰極反応とにあずかる電気量の比(陰極時電気量/陽極時電気量)は、0.3〜0.95であるのが好ましい。   One or more AC power supplies can be connected to the electrolytic cell. As shown in FIG. 3, the current ratio between the AC anode and cathode applied to the aluminum plate facing the main electrode is controlled to achieve uniform graining and to dissolve the carbon of the main electrode. In addition, it is preferable to install an auxiliary anode and divert part of the alternating current. In FIG. 3, 11 is an aluminum plate, 12 is a radial drum roller, 13a and 13b are main poles, 14 is an electrolytic treatment liquid, 15 is an electrolytic solution supply port, and 16 is a slit. , 17 is an electrolyte passage, 18 is an auxiliary anode, 19a and 19b are thyristors, 20 is an AC power source, 40 is a main electrolytic cell, and 50 is an auxiliary anode cell. An anodic reaction that acts on the aluminum plate facing the main electrode by diverting a part of the current value as a direct current to an auxiliary anode provided in a tank separate from the two main electrodes via a rectifier or switching element It is possible to control the ratio between the current value for the current and the current value for the cathode reaction. On the aluminum plate facing the main electrode, the ratio of the amount of electricity involved in the anodic reaction and the cathodic reaction (the amount of electricity at the time of cathode / the amount of electricity at the time of anode) is preferably 0.3 to 0.95.

電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。   As the electrolytic cell, electrolytic cells used for known surface treatments such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used, but a radial type electrolytic cell as described in JP-A-5-195300 is particularly preferable. . The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel to the traveling direction of the aluminum web or may be a counter.

(硝酸電解)
硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理により、平均開口径0.5〜5μmのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、5μmを超えるハニカムピットも生成する。このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、1〜1000C/dmであるのが好ましく、50〜300C/dmであるのがより好ましい。この際の電流密度は20〜100A/dmであるのが好ましい。また、高濃度または高温の硝酸電解液を用いると、平均開口径0.2μm以下の小波構造を形成させることもできる。
(Nitric acid electrolysis)
Pits having an average opening diameter of 0.5 to 5 μm can be formed by electrochemical surface roughening using an electrolytic solution mainly composed of nitric acid. However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction is concentrated, and honeycomb pits exceeding 5 μm are also generated. To obtain such a grain, the total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed is preferably from 1~1000C / dm 2, 50~300C / dm 2 It is more preferable that The current density at this time is preferably 20 to 100 A / dm 2 . Further, when a high concentration or high temperature nitric acid electrolytic solution is used, a small wave structure having an average opening diameter of 0.2 μm or less can be formed.

(塩酸電解)
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が0.01〜0.2μmであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、1〜100C/dmであるのが好ましく、20〜70C/dmであるのがより好ましい。この際の電流密度は20〜50A/dmであるのが好ましい。
(Hydrochloric acid electrolysis)
Since hydrochloric acid itself has a strong ability to dissolve aluminum, it is possible to form fine irregularities on the surface with only slight electrolysis. These fine irregularities have an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm and are uniformly generated on the entire surface of the aluminum plate. Such grained total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed in order to obtain the, is preferably from 1~100C / dm 2, in 20~70C / dm 2 More preferably. The current density at this time is preferably 20 to 50 A / dm 2 .

このような塩酸を主体とする電解液での電気化学的粗面化処理では、アノード反応にあずかる電気量の総和を400〜1000C/dmと大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能であるが、この場合は平均開口径10〜30μmのクレーター状のうねりに重畳して平均開口径0.01〜0.4μmの微細な凹凸が全面に生成する。 In such an electrochemical surface roughening treatment using an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid, a large crater-like swell is simultaneously formed by increasing the total amount of electricity involved in the anode reaction to 400 to 1000 C / dm 2. In this case, fine irregularities having an average opening diameter of 0.01 to 0.4 μm are formed on the entire surface by being superimposed on a crater-like wave having an average opening diameter of 10 to 30 μm.

上記の硝酸、塩酸等の電解液中で行われる第1および第2の電解粗面化処理の間に、アルミニウム板は陰極電解処理を行うことが好ましい。この陰極電解処理により、アルミニウム板表面にスマットが生成するとともに、水素ガスが発生してより均一な電解粗面化処理が可能となる。この陰極電解処理は、酸性溶液中で陰極電気量が好ましくは3〜80C/dm、より好ましくは5〜30C/dmで行われる。陰極電気量が3C/dm未満であると、スマット付着量が不足する場合があり、また、80C/dmを超えると、スマット付着量が過剰となる場合があり、いずれも好ましくない。また、電解液は上記第1および第2の電解粗面化処理で使用する溶液と同一であっても異なっていてもよい。 The aluminum plate is preferably subjected to cathodic electrolysis treatment during the first and second electrolytic surface-roughening treatments performed in the electrolytic solution such as nitric acid and hydrochloric acid. By this cathodic electrolysis treatment, smut is generated on the surface of the aluminum plate, and hydrogen gas is generated to enable more uniform electrolytic surface roughening treatment. This cathodic electrolysis treatment is carried out in an acidic solution at a cathode electric quantity of preferably 3 to 80 C / dm 2 , more preferably 5 to 30 C / dm 2 . If the amount of cathodic electricity is less than 3 C / dm 2 , the amount of smut adhesion may be insufficient, and if it exceeds 80 C / dm 2 , the amount of smut adhesion may be excessive. Further, the electrolytic solution may be the same as or different from the solution used in the first and second electrolytic surface roughening processes.

<アルカリエッチング処理>
アルカリエッチング処理は、上記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
<Alkaline etching treatment>
The alkali etching treatment is a treatment for dissolving the surface layer by bringing the aluminum plate into contact with an alkali solution.

電解粗面化処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、前記アルミニウム板(圧延アルミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として、また、既に機械的粗面化処理を行っている場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、急峻な凹凸を滑らかなうねりを持つ表面に変えることを目的として行われる。   Alkaline etching performed before the electrolytic surface roughening treatment removes rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. on the surface of the aluminum plate (rolled aluminum) if mechanical surface roughening treatment is not performed. If the surface of the unevenness generated by the mechanical surface roughening treatment is dissolved, the surface with sharp undulations is smoothed. It is done for the purpose of changing.

アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行わない場合、エッチング量は、0.1〜10g/mであるのが好ましく、1〜5g/mであるのがより好ましい。エッチング量が0.1g/m未満であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等が残存する場合があるため、後段の電解粗面化処理において均一なピット生成ができずムラが発生してしまう場合がある。一方、エッチング量が1〜10g/mであると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。上記範囲を超えるエッチング量とするのは、経済的に不利となる。 If you do not mechanical surface-roughening treatment before the alkali etching treatment, the etching amount is preferably from 0.1 to 10 g / m 2, and more preferably 1 to 5 g / m 2. If the etching amount is less than 0.1 g / m 2 , rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. may remain on the surface, so that uniform pits cannot be generated in the subsequent electrolytic surface roughening treatment, resulting in unevenness. May occur. On the other hand, when the etching amount is 1 to 10 g / m 2 , the surface rolling oil, dirt, natural oxide film, and the like are sufficiently removed. An etching amount exceeding the above range is economically disadvantageous.

アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行う場合、エッチング量は、3〜20g/mであるのが好ましく、5〜15g/mであるのがより好ましい。エッチング量が3g/m未満であると、機械的粗面化処理等によって形成された凹凸を平滑化できない場合があり、後段の電解処理において均一なピット形成ができない場合がある。また、印刷時に汚れが劣化する場合がある。一方、エッチング量が20g/mを超えると、凹凸構造が消滅してしまう場合がある。 When performing mechanical surface-roughening treatment before the alkali etching treatment, the etching amount is preferably from 3 to 20 g / m 2, and more preferably 5 to 15 g / m 2. If the etching amount is less than 3 g / m 2 , unevenness formed by mechanical surface roughening may not be smoothed, and uniform pit formation may not be possible in subsequent electrolytic treatment. In addition, the stain may deteriorate during printing. On the other hand, when the etching amount exceeds 20 g / m 2 , the concavo-convex structure may disappear.

電解粗面化処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。電解粗面化処理で形成されるピットは電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、電解粗面化処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、0.1〜5g/mであるのが好ましい。硝酸電解液を用いた場合、塩酸電解液を用いた場合よりもエッチング量は多めに設定する必要がある。電解粗面化処理が複数回行われる場合には、それぞれの処理後に、必要に応じてアルカリエッチング処理を行うことができる。 The alkali etching treatment performed immediately after the electrolytic surface roughening treatment is performed for the purpose of dissolving the smut generated in the acidic electrolytic solution and dissolving the edge portion of the pit formed by the electrolytic surface roughening treatment. . Since the pits formed by the electrolytic surface roughening treatment are different depending on the type of the electrolytic solution, the optimum etching amount is also different, but the etching amount of the alkali etching treatment performed after the electrolytic surface roughening treatment is 0.1 to 5 g / m. 2 is preferred. When a nitric acid electrolyte is used, the etching amount needs to be set larger than when a hydrochloric acid electrolyte is used. When the electrolytic surface roughening treatment is performed a plurality of times, an alkali etching treatment can be performed as necessary after each treatment.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, examples of caustic alkali include caustic soda and caustic potash. Examples of alkali metal salts include alkali metal silicates such as sodium silicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate and alumina. Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldones such as sodium gluconate and potassium gluconate; dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic sodium phosphate, tertiary potassium phosphate, etc. An alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among these, a caustic alkali solution and a solution containing both a caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular, an aqueous solution of caustic soda is preferable.

アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、1〜50質量%であるのが好ましく、10〜35質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、0.01〜10質量%であるのが好ましく、3〜8質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。処理時間は1〜120秒であるのが好ましい。   Although the density | concentration of an alkaline solution can be determined according to the etching amount, it is preferable that it is 1-50 mass%, and it is more preferable that it is 10-35 mass%. When aluminum ions are dissolved in the alkaline solution, the concentration of aluminum ions is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. The temperature of the alkaline solution is preferably 20 to 90 ° C. The treatment time is preferably 1 to 120 seconds.

アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。   Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the alkaline solution include, for example, a method in which the aluminum plate is passed through a tank containing the alkaline solution, a method in which the aluminum plate is immersed in a tank containing the alkaline solution, The method of spraying on the surface of a board is mentioned.

<デスマット処理>
電解粗面化処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(デスマット処理)が行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム板を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液(アルミニウムイオン0.01〜5質量%を含有する。)に接触させることにより行う。アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、または、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いることができる。デスマット処理の液温は、25〜90℃であるのが好ましい。また、処理時間は、1〜180秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
<Desmut treatment>
After the electrolytic surface roughening treatment or the alkali etching treatment, pickling (desmut treatment) is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid. The desmut treatment is performed, for example, by bringing the aluminum plate into contact with an acidic solution having a concentration of 0.5 to 30% by mass (containing 0.01 to 5% by mass of aluminum ions) such as hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid. . Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the acidic solution include, for example, a method of passing the aluminum plate through a bath containing the acidic solution, a method of immersing the aluminum plate in a bath containing the acidic solution, and an acidic solution containing aluminum. The method of spraying on the surface of a board is mentioned. In the desmutting treatment, the acidic solution is mainly composed of an aqueous solution mainly composed of nitric acid or an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid discharged in the above-described electrolytic surface-roughening treatment, or sulfuric acid discharged in an anodic oxidation process described later. It is possible to use a waste solution of an aqueous solution. The liquid temperature in the desmut treatment is preferably 25 to 90 ° C. The processing time is preferably 1 to 180 seconds. Aluminum and aluminum alloy components may be dissolved in the acidic solution used for the desmut treatment.
The aluminum plate roughened as described above is subjected to an alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodizing treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は2.0g/mより少ないと平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodic oxide film is less than 2.0 g / m 2 , the non-image portion of the planographic printing plate is likely to be scratched, and so-called “scratch stain” in which ink adheres to the scratch portion during printing tends to occur.

前記した支持体表面には、親水性層が形成され、本発明に係る支持体は表面親水性を有する層を含むものとなる。
〔親水性層〕
支持体上の親水性層は、支持体表面の陽極酸化被膜に親水化処理を施してなるものでもよく、支持体表面に別途、親水性層を塗布法又は浸漬法などにより形成したものであってもよい。
以下、支持体表面の親水化について説明する。
<親水性表面および親水化処理>
親水性表面としては、陽極酸化皮膜でもよいが、さらにその上から親水化処理を施すことが好ましい。ここでいう親水性表面とは、水との接触角が10°より小さいものを言い、5°より小さくなるものが特に好ましい。また親水化処理した際、親水化化合物は陽極酸化皮膜に吸着していることが好ましい。
親水化処理としては、例えば、米国特許第2,946,638号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書および英国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号公報および特開昭58−18291号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、タモールなど多価スルホン酸化合物への浸漬処理が挙げられる。
A hydrophilic layer is formed on the surface of the support described above, and the support according to the present invention includes a layer having surface hydrophilicity.
[Hydrophilic layer]
The hydrophilic layer on the support may be formed by subjecting the anodized film on the support surface to a hydrophilic treatment, and is formed by separately applying a hydrophilic layer on the support surface by a coating method or a dipping method. May be.
Hereinafter, the hydrophilization of the support surface will be described.
<Hydrophilic surface and hydrophilization>
As the hydrophilic surface, an anodic oxide film may be used, but it is preferable to further perform a hydrophilic treatment thereon. The hydrophilic surface as used herein means a surface having a contact angle with water of less than 10 °, and a surface of less than 5 ° is particularly preferable. Moreover, it is preferable that the hydrophilic compound is adsorbed on the anodized film when the hydrophilic treatment is performed.
Examples of the hydrophilization treatment include treatment with potassium fluorozirconate described in US Pat. No. 2,946,638 and phosphomolybdate described in US Pat. No. 3,201,247. Treatment, alkyl titanate treatment described in British Patent 1,108,559, polyacrylic acid treatment described in German Patent 1,091,433, German Patent 1,134, No. 093 and British Patent No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, US Pat. No. 3,307,951 Phytic acid treatment described in the specification of JP, No. 58-16893 and JP-A No. 58-18291 Treatment with a salt of the molecular compound and a divalent metal include immersion treatment in such polyvalent sulfonic acid compound Tamol.

また、特開昭62−019494号公報に記載されているリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097892号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭63−056498号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭63−130391号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭63−145092号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭63−165183号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平3−261592号公報に記載されている1個のアミノ基とリンの酸素酸基1個を持つ化合物、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平5−246171号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平1−307745号公報に記載されているチオサリチル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282637号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。更に、特開昭60−64352号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。   Further, phosphates described in JP-A No. 62-019494, water-soluble epoxy compounds described in JP-A No. 62-033692, and JP-A No. 62-097892 Phosphate-modified starch, diamine compounds described in JP-A-63-056498, amino acid inorganic or organic acids described in JP-A-63-130391, JP-A-63-145092 Organic phosphonic acids containing carboxy group or hydroxy group, compounds having amino group and phosphonic acid group described in JP-A-63-165183, and JP-A-2-316290 Specific carboxylic acid derivatives, phosphate esters described in JP-A-3-215095, JP-A-3-261592 Compounds having one amino group and one oxygen acid group of phosphorus described in the publication, phosphoric esters described in JP-A-3-215095, and JP-A-5-246171 Aliphatic or aromatic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, compounds containing S atoms such as thiosalicylic acid described in JP-A-1-307745, and phosphorus described in JP-A-4-282737 Examples of the treatment include undercoating using a compound having a group of oxygen acids. Further, coloring with an acid dye described in JP-A-60-64352 can also be performed.

また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。
ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVA族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩が挙げられる。4族(第IVA族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および4族(第IVA族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
Moreover, it is preferable to perform the hydrophilic treatment by a method of immersing in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate.
Hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be performed according to methods and procedures. Examples of the alkali metal silicate include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide or the like. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVA) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Examples of the Group 4 (Group IVA) metal salt include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride. And zirconium tetrachloride. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVA) metal salts are used alone or in combination of two or more.

Si付着量としては1.0〜20.0mg/m付着させることが望ましい。2.0から17.0mg/mがより望ましい。1.0mg/m以上であると汚れにくさが良好になり、20.0mg/m以下であると耐刷性、バーニング耐刷性が良好となる。 As the Si adhesion amount, 1.0 to 20.0 mg / m 2 is desirably adhered. 2.0 to 17.0 mg / m 2 is more desirable. When it is 1.0 mg / m 2 or more, the stain resistance is good, and when it is 20.0 mg / m 2 or less, printing durability and burning printing durability are good.

なお、塗布量は、例えば、蛍光X線分析装置を用いて検量線法により特定原子の量(m/m)を求め算出した。蛍光X線分析装置として理学電機工業(株)製RIX3000を用い、ピーク高さより原子の量を測定した。 The coating amount was calculated by determining the amount of specific atoms (m / m 2 ) by a calibration curve method using a fluorescent X-ray analyzer, for example. Using an RIX3000 manufactured by Rigaku Corporation as a fluorescent X-ray analyzer, the amount of atoms was measured from the peak height.

<水洗処理>
上述した各処理の工程終了後には水洗を行うのが好ましい。水洗には、純水、井水、水道水等を用いることができる。処理液の次工程への持ち込みを防ぐためにニップ装置を用いてもよい。
<Washing treatment>
It is preferable to perform water washing after the completion of the above-described processes. For washing, pure water, well water, tap water, or the like can be used. A nip device may be used to prevent the processing liquid from being brought into the next process.

〔インク受容層〕
本発明の平版印刷版用被記録媒体は、親水性層を有する支持体の、該親水性層表面にインク受容層を有する。インク受容層としては、インク滲みを抑制するために、フルオロアルキル基を有する有機フッ素化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物(以下、適宜、特定撥水性化合物と称する)を含有した層である。特定撥水性化合物を含有するインク受容層を設ける際に、親水性樹脂と併用することがインク受容層に湿し水などによる除去性を与え、結果として非画像部の汚れ発生を効果的に抑制できるため好ましい。
(Ink receiving layer)
The recording medium for a lithographic printing plate of the present invention has an ink receiving layer on the surface of the hydrophilic layer of a support having a hydrophilic layer. As the ink receiving layer, in order to suppress ink bleeding, one or more compounds selected from the group consisting of an organic fluorine compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton (hereinafter referred to as a specific water-repellent compound as appropriate) It is a layer containing. When an ink receiving layer containing a specific water-repellent compound is provided, using it together with a hydrophilic resin gives the ink receiving layer removability with dampening water, etc., and as a result effectively suppresses the occurrence of stains in non-image areas. This is preferable because it is possible.

以下、特定撥水性化合物について説明する。
<フルオロアルキル基を有する有機フッ素化合物>
本発明に用いうる好ましいフッ素系化合物は、一般式 R−Rpol で表される化合物である。
前記一般式中、Rは炭素原子3個以上の直鎖または分枝鎖のフルオロアルキル基を表し、Rpolはカルボン酸あるいはその塩、スルホン酸あるいはその塩、燐酸あるいはその塩、ホスホン酸あるいはその塩、アミノ基あるいはその塩、4級アンモニウム塩、ポリエチレンオキシ骨格、ポリプロピレンオキシ骨格、スルホンアミド基、エーテル基、ベタイン構造などの極性基を表す。これらの中でスルホキシル基あるいはその塩の構造を有するものがシリケートと相互作用しにくく、除去性がよく、好ましい。
またRはC2n+12mCOO−骨格を有するものがインク滲みを抑制する観点より特に好ましく、1分子中に2つ以上のC2n+12mCOO−骨格を有するものがさらに好ましい。ここでnは2以上の整数、mは1以上の整数である。
以下に、本発明に好ましく用いられるフッ素系化合物の具体例〔(F−1)〜(F−19)〕を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Hereinafter, the specific water repellent compound will be described.
<Organic fluorine compound having fluoroalkyl group>
A preferred fluorine-based compound that can be used in the present invention is a compound represented by the general formula R F -Rpol.
In the above general formula, R F represents a linear or branched fluoroalkyl group having 3 or more carbon atoms, and Rpol represents carboxylic acid or a salt thereof, sulfonic acid or a salt thereof, phosphoric acid or a salt thereof, phosphonic acid or a salt thereof. A polar group such as a salt, an amino group or a salt thereof, a quaternary ammonium salt, a polyethyleneoxy skeleton, a polypropyleneoxy skeleton, a sulfonamide group, an ether group, or a betaine structure is represented. Among these, those having a sulfoxyl group or a salt structure thereof are preferable because they are less likely to interact with silicate and have good removability.
In addition, it is particularly preferable that R F has a C n F 2n + 1 C m H 2m COO— skeleton from the viewpoint of suppressing ink bleeding, and has two or more C n F 2n + 1 C m H 2m COO— skeletons in one molecule. More preferred. Here, n is an integer of 2 or more, and m is an integer of 1 or more.
Specific examples [(F-1) to (F-19)] of fluorine-based compounds preferably used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

Figure 2007261248
Figure 2007261248

また、本発明に係るフッ素系化合物として、高分子フッ素系化合物を使用してもよい。特に界面活性剤作用を有するもので水溶性であるものが好ましい。
高分子フッ素系界面活性剤の具体例としては、フルオロ脂肪族基を有するアクリレートまたはフルオロ脂肪族基を有するメタクリレートと、ポリ(オキシアルキレン)アクリレートまたはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとの共重合体が挙げられる。該共重合体において、フルオロ脂肪族基を有するアクリレートまたはメタクリレートのモノマー単位が共重合体の質量に基づいて7〜60質量%であることが好ましく、また、該共重合体の分子量は3000〜100000が適当である。
Moreover, you may use a high molecular fluorine-type compound as a fluorine-type compound which concerns on this invention. In particular, those having a surfactant action and water-soluble are preferred.
Specific examples of the polymeric fluorosurfactant include a copolymer of an acrylate having a fluoroaliphatic group or a methacrylate having a fluoroaliphatic group and a poly (oxyalkylene) acrylate or poly (oxyalkylene) methacrylate. It is done. In the copolymer, the monomer unit of acrylate or methacrylate having a fluoroaliphatic group is preferably 7 to 60% by mass based on the mass of the copolymer, and the molecular weight of the copolymer is 3000 to 100,000. Is appropriate.

該フルオロ脂肪族基は、直鎖状でも分岐していてもよく、かつ40質量%以上のフッ素を含有することが好ましい。上記フルオロ脂肪族基を有するアクリレートまたはメタクリレートの具体例としては、N−ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレート、N−プロピルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレート、メチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレートなどがある。ポリ(オキシアルキレン)アクリレートまたはメタクリレートにおける該ポリオキシアルキレン基の分子量は200〜3000であることが好ましい。オキシアルキレン基としては、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン基が挙げられ、好ましくはオキシエチレン、オキシプロピレン基である。例えばオキシエチレン基が8〜15モル付加したアクリレートまたはメタクリレートが使用される。また、必要に応じて該ポリオキシアルキレン基の末端にジメチルシロキサン基などを付加することにより発泡性を抑制することができる。   The fluoroaliphatic group may be linear or branched and preferably contains 40% by mass or more of fluorine. Specific examples of the acrylate or methacrylate having the fluoroaliphatic group include N-butylperfluorooctanesulfonamidoethyl acrylate, N-propylperfluorooctanesulfonamidoethyl acrylate, and methylperfluorooctanesulfonamidoethyl acrylate. The molecular weight of the polyoxyalkylene group in the poly (oxyalkylene) acrylate or methacrylate is preferably 200 to 3000. Examples of the oxyalkylene group include oxyethylene, oxypropylene, and oxybutylene groups, preferably oxyethylene and oxypropylene groups. For example, acrylate or methacrylate having 8 to 15 moles of oxyethylene group added is used. Moreover, foamability can be suppressed by adding a dimethylsiloxane group etc. to the terminal of this polyoxyalkylene group as needed.

上述のようなフッ素系界面活性剤は、市場で一般に入手することができ、本発明では市販品も使用することができる。フッ素系界面活性剤を2種以上併用することもできる。
販売されている製品としては、旭硝子(株)製、サーフロンS−111、S−112、S−113、S−121、S―131、S−141、S−145、S−381、S−382、大日本インキ化学工業(株)製メガファックF−110、F120、F−142D、F−150、F−171、F177、F781、住友3M(株)製フロラードFC−93、FC−95、FC−98、FC−129、FC135、FX−161、FC170C、FC−171、FC176、バイエルジャパン(株)製FT−248、FT−448、FT−548、FT−624、FT−718、FT−738等(以上、商品名)が挙げられる。
The fluorosurfactants as described above can be generally obtained on the market, and commercially available products can also be used in the present invention. Two or more fluorosurfactants can be used in combination.
As products sold, Asahi Glass Co., Ltd., Surflon S-111, S-112, S-113, S-121, S-131, S-141, S-145, S-381, S-382 , Dainippon Ink & Chemicals, Inc. MegaFuck F-110, F120, F-142D, F-150, F-171, F177, F781, Sumitomo 3M Fluorad FC-93, FC-95, FC -98, FC-129, FC135, FX-161, FC170C, FC-171, FC176, Bayer Japan K.K. FT-248, FT-448, FT-548, FT-624, FT-718, FT-738 Etc. (above, trade name).

本発明に用いることができる他の特定撥水性化合物としては、ジメチルシロキサン骨格を有する化合物が挙げられ、具体的には下記のような化合物を挙げることができる。
<ポリジメチルシロキサン化合物>
ポリジメチルシロキサン化合物としてシリコン系界面活性剤を挙げることができる。特に水溶性のものが、除去性の観点から好ましい。ジメチルシロキサンメチル(ポリオキシエチレン)共重合体、ジメチルシロキサンメチル(ポリオキシプロピレン)共重合体、ジメチルシロキサンメチル(オリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン)共重合体などを挙げることができる。
Other specific water-repellent compounds that can be used in the present invention include compounds having a dimethylsiloxane skeleton, and specifically include the following compounds.
<Polydimethylsiloxane compound>
Examples of the polydimethylsiloxane compound include silicon surfactants. Water-soluble ones are particularly preferable from the viewpoint of removability. Examples thereof include dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) copolymer, dimethylsiloxane methyl (polyoxypropylene) copolymer, and dimethylsiloxane methyl (orioxyethylene / polyoxypropylene) copolymer.

−親水性樹脂との併用−
これらの有機フッ素化合物やジメチルシロキサン骨格を有する化合物から選択される1種以上の化合物と、親水性樹脂とをブレンドしインク受容層とすることができる。
インク受容層の形成において、これらの特定撥水性化合物と親水性樹脂とを併用することにより、汚れにくさとインク滲み抑制をさらに改良することができる。
インク受容層を構成する場合の特定撥水性化合物の塗布量としては50mg/m以下が好ましく、さらに好ましくは、0.5〜10mg/mの範囲である。ジメチルシロキサン骨格を有する化合物の塗布量としては50mg/m以下が好ましく、さらに好ましくは、0.5〜10mg/mの範囲である。
また、親水性樹脂の塗布量は200mg/m以下が好ましく、1〜170mg/mの範囲がより好ましく、特に好ましくは、50〜150mg/mの範囲である。インク受容層に撥水性化合物とともに親水性樹脂を併用することにより、画像部を形成するインク打滴領域以外の、非画像部における撥インク性が向上し、汚れ防止効果にさらに有効となる。
-Combination with hydrophilic resin-
One or more compounds selected from these organic fluorine compounds and compounds having a dimethylsiloxane skeleton and a hydrophilic resin can be blended to form an ink receiving layer.
In the formation of the ink-receiving layer, the use of these specific water-repellent compounds and a hydrophilic resin can further improve the stain resistance and the ink bleeding suppression.
Preferably 50 mg / m 2 or less as a coating amount of the specific water-repellent compound in the case constituting the ink-receiving layer, more preferably in the range of 0.5 to 10 mg / m 2. Preferably 50 mg / m 2 or less as a coating amount of the compound having a dimethylsiloxane skeleton, more preferably in the range of 0.5 to 10 mg / m 2.
The coating amount of the hydrophilic resin is preferably 200 mg / m 2 or less, more preferably in the range of 1~170mg / m 2, particularly preferably in the range of 50 to 150 mg / m 2. By using a hydrophilic resin together with the water repellent compound in the ink receiving layer, the ink repellency in the non-image area other than the ink droplet deposition area forming the image area is improved, and it becomes more effective for the stain prevention effect.

ここで用いうる親水性樹脂としては、水溶性樹脂であれば問題ないが、特にカルボン酸あるいはその塩を有する水溶性セルロース(例えば、カルボキシメチルセルロース)、アクリルあるいはメタクリルポリマーあるいはその共重合体、スルホン酸基あるいはその塩を有するアクリル、メタクリル、ビニル、スチレン系親水性樹脂、ポリアクリルアミドあるいはポリビニルピロリドンなどアミド基を有する親水性樹脂、アミノ基を有する親水性樹脂、リン酸あるいはその塩を有する親水性樹脂、例えば、特開昭62−097892号公報に記載されているリン酸変性デンプンも挙げられる。   The hydrophilic resin that can be used here is not particularly limited as long as it is a water-soluble resin, but in particular, a water-soluble cellulose (for example, carboxymethyl cellulose) having a carboxylic acid or a salt thereof, an acrylic or methacrylic polymer or a copolymer thereof, a sulfonic acid. Acrylic, methacrylic, vinyl, styrenic hydrophilic resin having a group or a salt thereof, a hydrophilic resin having an amide group such as polyacrylamide or polyvinylpyrrolidone, a hydrophilic resin having an amino group, a hydrophilic resin having phosphoric acid or a salt thereof Examples thereof also include phosphate-modified starch described in JP-A No. 62-097892.

<インク受容層の形成>
この有機インク受容層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。
前者の方法(塗布法)では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法(浸漬法)では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
インク受容層の形成方法としては、塗布法を用いることが、基板への吸着を抑制し、印刷時における汚れ防止効果が向上するという観点から好ましい。
<Formation of ink receiving layer>
This organic ink receiving layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution obtained by dissolving the organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the compound, and then washed with water and dried to provide an organic undercoat layer. .
In the former method (coating method), a solution of the organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by mass can be applied by various methods. In the latter method (immersion method), the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C. The immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
As a method for forming the ink receiving layer, it is preferable to use a coating method from the viewpoint of suppressing the adsorption to the substrate and improving the anti-staining effect during printing.

このようにして、支持体上に親水性層とインク受容層とを積層、形成することで本発明の平版印刷版用の被記録媒体を得ることができる。このインク受容層は、インクジェット記録方式により打滴されるインクの受容に好適に用いられる。
次に、この被記録媒体を用いた本発明の平版印刷版について説明する。
〔平版印刷版〕
本発明の平版印刷版は、前記本発明の被記録媒体表面に、インクを画像様に打滴し、そのインクを硬化させることで画像部領域を形成することにより得られる。ここで言う硬化とは、打滴されたインク溶液を固化させることを意味しており、インク中の溶剤を揮発させる方法、放射線重合型のインクを重合硬化させる方法などがある。インクが硬化して形成される平版印刷版の画像部領域の強度の観点からは、インクとして、放射線により重合硬化するインクを画像様に打滴し、放射線(主として紫外線)を照射し、インクを硬化させる態様をとることが好ましい。
本発明の平版印刷版の形成に好適に用いられる放射線硬化型インク組成物について説明する。
Thus, the recording medium for the lithographic printing plate of the present invention can be obtained by laminating and forming the hydrophilic layer and the ink receiving layer on the support. This ink receiving layer is suitably used for receiving ink that is ejected by the ink jet recording method.
Next, a planographic printing plate of the present invention using this recording medium will be described.
[Lithographic printing plate]
The lithographic printing plate of the present invention can be obtained by forming an image area on the surface of the recording medium of the present invention by ejecting ink in an image-like manner and curing the ink. Curing as used herein means solidifying the ejected ink solution, and includes a method of volatilizing the solvent in the ink and a method of polymerizing and curing the radiation polymerization type ink. From the viewpoint of the strength of the image area of the lithographic printing plate formed by curing the ink, as the ink, ink that is polymerized and cured by radiation is ejected in an image-like manner, irradiated with radiation (mainly ultraviolet rays), It is preferable to take the form of hardening.
The radiation curable ink composition that is suitably used for forming the lithographic printing plate of the present invention will be described.

<放射線重合型インク>
本発明において好適に用いられる放射線硬化型インクは、例えば、技術情報協会(株)発行 「最新UV硬化 実用便覧」(2005年2月25日刊行)に記載されている公知の方法により作製でき、主成分として、重合開始剤、重合性モノマーまたはオリゴマーなどの重合性化合物を含有する。
重合の形態として、ラジカル重合型と、カチオン重合などのイオン重合型があり、いずれも本発明において好適に使用できる。本発明においては、支持体は水接触角を10°より小さくする必要があるため、非水系のインク組成物を用いることが、打滴インクが滲まないようにするという観点から好ましい。
<Radiation polymerization ink>
The radiation curable ink suitably used in the present invention can be prepared by, for example, a known method described in “Latest UV Curing Practical Handbook” (published on February 25, 2005) issued by the Technical Information Association, Inc. As a main component, a polymerizable compound such as a polymerization initiator, a polymerizable monomer or an oligomer is contained.
There are two types of polymerization, radical polymerization type and ion polymerization type such as cationic polymerization, both of which can be suitably used in the present invention. In the present invention, since the support needs to have a water contact angle of less than 10 °, it is preferable to use a non-aqueous ink composition from the viewpoint of preventing ink droplets from bleeding.

(重合開始剤)
本発明において、好適に用いられる重合開始剤としては、例えば、放射線硬化型のインク組成物に用いられる公知のラジカル重合、若しくは、カチオン重合の光重合開始剤が挙げられる。本発明に併用可能な他の光重合開始剤は、光の作用、又は、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくともいずれか1種を生成する化合物である。
具体的な、光重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用できる。好ましい光重合開始剤としては、芳香族ケトン類、ベンゾインやベンゾインエーテルなどのベンゾイン誘導体、スルホニウム塩やヨードニウム塩などのオニウム塩類、有機過酸化物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル類、ボレート塩類、アジニウム化合物、メタロセン化合物、炭素−ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。これらの化合物は、主に紫外線に対して重合開始能を有するが、適切な増感剤との組み合わせにより、可視光線や赤外線にも分光増感させることができる。
インク組成物中の重合開始剤の好ましい含有量は、0.01〜30質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜20質量%である。
(Polymerization initiator)
In the present invention, examples of the polymerization initiator that can be suitably used include known radical polymerization or cationic polymerization photopolymerization initiators used in radiation-curable ink compositions. The other photopolymerization initiator that can be used in combination with the present invention causes a chemical change through the action of light or interaction with the electronically excited state of the sensitizing dye, and is at least one of a radical, an acid, and a base. A compound that produces one species.
As the specific photopolymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation. Preferred photopolymerization initiators include aromatic ketones, benzoin derivatives such as benzoin and benzoin ether, onium salts such as sulfonium salts and iodonium salts, organic peroxides, hexaarylbiimidazole compounds, ketoxime esters, and borate salts. , Azinium compounds, metallocene compounds, compounds having a carbon-halogen bond, and the like. These compounds mainly have an ability of initiating polymerization with respect to ultraviolet rays, but they can also be spectrally sensitized to visible light and infrared rays in combination with an appropriate sensitizer.
The preferable content of the polymerization initiator in the ink composition is in the range of 0.01 to 30% by mass, preferably 0.1 to 20% by mass.

(重合性化合物)
本発明において、好適に用いられる重合性モノマーまたはオリゴマーとしては、公知のラジカル重合性若しくはカチオン重合性のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。用いられるモノマーまたはオリゴマーとしては、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、(メタ)アクリル酸、マレイン酸及びその誘導体、スチレン類、オレフィン類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、エポキシ化合物、オキセタン化合物、環状エステル類などが挙げられる。形成された画像の力学特性を制御するため、本発明においてこれらの化合物は、分子内に重合性官能基を1つ有する単官能化合物と、2つ以上有する多官能化合物を併用することができる。
インク組成物中の重合性化合物の好ましい含有量は、10〜99質量%の範囲であり、好ましくは30〜95質量%である。
(Polymerizable compound)
In the present invention, examples of the polymerizable monomer or oligomer suitably used include known radical polymerizable or cationic polymerizable monomers or oligomers. Monomers or oligomers used include (meth) acrylates, (meth) acrylamides, (meth) acrylic acid, maleic acid and derivatives thereof, styrenes, olefins, vinyl ethers, vinyl esters, epoxy compounds, oxetane compounds And cyclic esters. In order to control the mechanical properties of the formed image, in the present invention, these compounds can be used in combination with a monofunctional compound having one polymerizable functional group in the molecule and a polyfunctional compound having two or more.
The preferable content of the polymerizable compound in the ink composition is in the range of 10 to 99% by mass, preferably 30 to 95% by mass.

(その他の添加剤)
放射線硬化型インク組成物には、前記重合開始剤や重合性化合物に加え、目的に応じて種々の公知の添加剤を併用することができる。
画像の視認性のため、インクは着色されることが好ましい。着色には、公知の染料や顔料を用いることができる。
また、吐出性の改善のための界面活性剤や、インク保存時の安定性のための重合禁止剤などを添加することができる。さらに、形成された画像の力学特性改善のために、各種のポリマーを添加することができる。具体的には、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレングリコール、シェラック樹脂、ビニル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。
(Other additives)
In addition to the polymerization initiator and polymerizable compound, various known additives can be used in combination with the radiation curable ink composition depending on the purpose.
The ink is preferably colored for the visibility of the image. A known dye or pigment can be used for coloring.
In addition, a surfactant for improving ejection properties, a polymerization inhibitor for stability during storage of ink, and the like can be added. Furthermore, various polymers can be added to improve the mechanical properties of the formed image. Specifically, (meth) acrylic polymer, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol, polyethylene oxide, polypropylene glycol, Shellac resins, vinyl resins, rubber resins, waxes, and other natural resins can be used.

本発明において、インク滲み抑制効果を向上させる観点から、インク受容層に含まれるようなフルオロアルキル基を有するフッ素系化合物およびポリジメチルシロキサン骨格を有するシリコン系化合物を含有させることが好ましい。
この際、支持体のインク受容層はインク滲みを抑制させるような成分を導入する必要はなく、含有していてもしていなくてもよい。フルオロアルキル基を有するフッ素系化合物はインク組成物中に0.05%〜5重量%以下であればよく、特に好ましくは0.2〜3重量%である。
In the present invention, from the viewpoint of improving the ink bleeding suppression effect, it is preferable to contain a fluorine compound having a fluoroalkyl group and a silicon compound having a polydimethylsiloxane skeleton as contained in the ink receiving layer.
At this time, the ink receiving layer of the support does not need to contain a component that suppresses ink bleeding and may or may not contain the component. The fluorine-based compound having a fluoroalkyl group may be 0.05% to 5% by weight or less, particularly preferably 0.2 to 3% by weight in the ink composition.

本発明においては、上述のように溶剤を含まないインクを使用しても良いが、水または有機溶剤を混合したインクを使用することもできる。混合する有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールnブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、3−メトキシ1−ブタノール、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、アイソパーG(エクソン社製)などの炭化水素系溶剤などが挙げられる。   In the present invention, an ink containing no solvent may be used as described above, but an ink mixed with water or an organic solvent can also be used. Examples of organic solvents to be mixed include ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol, and tripropylene. Alcohol solvents such as glycol monomethyl ether, aromatic solvents such as toluene, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, tetrahydrofuran, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tripropylene Glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monoethyl Ether solvents such as ether, propylene glycol n-butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, 3-methoxy 1-butanol, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol dimethyl ether, and hydrocarbon solvents such as Isopar G (manufactured by Exxon). It is done.

<ポリマーを有機溶剤に溶解したインク>
本発明においては、平版印刷版の画像部を形成するインクとして、前記放射線重合型インクの他、ポリマーを有機溶剤に溶解したインク(以下、適宜、ポリマー溶解型インクと称する)を用いることもできる。ポリマー溶解型インク組成物に好適に用いられるポリマーとして、酸性基を有するポリマーあるいはコポリマーが好ましい。酸性基としてはカルボン酸基、スルホン酸基、燐酸基などを挙げることができるが、カルボン酸基が特に好ましい。
ポリマーあるいはコポリマーとしては不飽和二重結合の重合により得られるものが好ましく、アクリルあるいはメタクリルポリマーが好ましい。酸性基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、フマル酸、フマル酸無水物、2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸が好ましい。
<Ink with polymer dissolved in organic solvent>
In the present invention, as the ink for forming the image portion of the lithographic printing plate, in addition to the radiation polymerization type ink, an ink in which a polymer is dissolved in an organic solvent (hereinafter, appropriately referred to as a polymer dissolution type ink) can be used. . As the polymer suitably used for the polymer-soluble ink composition, a polymer or copolymer having an acidic group is preferable. Examples of acidic groups include carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, and phosphoric acid groups, with carboxylic acid groups being particularly preferred.
As the polymer or copolymer, those obtained by polymerization of unsaturated double bonds are preferred, and acrylic or methacrylic polymers are preferred. As the monomer having an acidic group, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, fumaric anhydride, 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid, and styrenesulfonic acid are preferable.

酸基を有するモノマーには、他のモノマーを共重合させてもよく、共重合しうるモノマーとしては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系モノマー、ビニルモノマー、アクリロニトリルなどを挙げることができる。
これらのポリマー重量平均分子量は3000〜200000のものが好ましい。インク成分中これらのポリマーは、2〜50質量%の添加量で加えることができる。
このタイプのインク組成物に用いられる溶剤としては、ヒドロキシル基、エーテル基、エステル基を1分子中に少なくともひとつ有している化合物が好ましい。具体的には、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールnブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、3−メトキシ1−ブタノール、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エタノール、プロパノール、エチレグリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等が挙げられる。
インク組成物のその他の成分として、目的に応じて、顔料、染料などの着色剤、界面活性剤などの表面張力調整剤を添加することができる。
このポリマー溶解型インクは、打滴後、溶剤が蒸発し、除去されることでポリマーが硬化して画像部が形成される。
本発明の直描型平版印刷版においては、これらいずれのインクを用いて画像部領域を形成してもよい。
The monomer having an acid group may be copolymerized with another monomer, and examples of the copolymerizable monomer include acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene monomer, vinyl monomer, acrylonitrile and the like.
These polymers preferably have a weight average molecular weight of 3000 to 200000. These polymers in the ink component can be added in an addition amount of 2 to 50% by mass.
As a solvent used in this type of ink composition, a compound having at least one hydroxyl group, ether group or ester group in one molecule is preferable. Specifically, diethylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol nbutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, 3-methoxy 1-butanol, propylene glycol methyl ether acetate, ethanol , Propanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol and the like.
As other components of the ink composition, colorants such as pigments and dyes and surface tension modifiers such as surfactants can be added depending on the purpose.
In the polymer-dissolved ink, after droplet ejection, the solvent is evaporated and removed, whereby the polymer is cured and an image portion is formed.
In the direct drawing lithographic printing plate of the present invention, the image area may be formed using any of these inks.

<平版印刷版の画像部の形成>
(1.インクジェットによる描画)
ここでは、前記放射線硬化型インク組成物を、インクジェット記録方式にて前記本発明の被記録媒体表面に打滴する。
ここで用いうるインクジェット記録方式には、インク滴を連続吐出させた後、電界などにより記録用と非記録用のインク滴を分け、媒体に記録するコンティニュアス方式と、記録に必要なインク滴のみをノズルから吐出するオンデマンド方式がある。
オンデマンド方式には、インクを急激に加熱し発生した気泡圧によりインク滴を吐出させるサーマル方式(バブル方式)や、ピエゾ素子(圧電素子)を用いるピエゾ方式がある。ピエゾ方式は、印加電圧に対する歪みの発生方向の違いにより、ダイレクトモード型とシェアモード型に分類される。また、オンデマンド方式には、インクまたはインク中に含まれる粒子に電荷を付与し、静電的にインクの吐出を制御する静電方式や、固体インクを加熱溶融して吐出させるソリッドインクジェット方式などもある。インクジェット記録方式の詳細は、 シーエムシー(株)発行「インクジェットプリンター技術と材料」(1998年7月31日刊行)、及び、技術情報協会(株)発行 「最新インクジェット技術ノウハウ集」(2005年6月24日刊行)に記載されているが、本発明においては、いずれの方式も制限無く好適に使用できる。
<Formation of image portion of planographic printing plate>
(1. Inkjet drawing)
Here, the radiation curable ink composition is ejected onto the surface of the recording medium of the present invention by an ink jet recording method.
The ink jet recording method that can be used here includes a continuous method in which ink droplets for recording and non-recording are separated by an electric field or the like after ink droplets are continuously ejected, and ink droplets necessary for recording. There is an on-demand system in which only the nozzle is discharged.
The on-demand method includes a thermal method (bubble method) in which ink droplets are ejected by a bubble pressure generated by rapidly heating ink, and a piezo method using a piezo element (piezoelectric element). The piezo method is classified into a direct mode type and a share mode type depending on a difference in the direction of occurrence of distortion with respect to an applied voltage. In addition, the on-demand method includes an electrostatic method in which electric charges are applied to ink or particles contained in the ink and electrostatic discharge control is performed, and a solid inkjet method in which solid ink is heated and melted and discharged. There is also. For details of the ink jet recording method, see “Inkjet Printer Technology and Materials” published by CMC Co., Ltd. (published July 31, 1998), and “Recent inkjet technology know-how” published by Technical Information Association Co., Ltd. (June 2005). However, in the present invention, any method can be suitably used without limitation.

(2.インクの硬化)
本発明の平版印刷版の形成に用いられるインク組成物の好ましい1つの態様である放射線硬化型のインク組成物を用いた場合には、インク打滴後、放射線を照射してインクを硬化させる。
被記録媒体上に着弾したインクを硬化させるための手段として、一般的に用いられる水銀灯、メタルハライドランプ等を用いてもよいし、発光ダイオード、半導体レーザ、蛍光灯等の光源を用いてもよい。また熱陰極管、冷陰極管、電子線、X線等、インクの重合反応が進行する光源、電磁波等を用いることが出来る。
メタルハライドランプを用いる場合、ランプは10〜1000W/cmのものを使用し、記録媒体面で1mW/cm〜100W/cmの照度であることが好ましい。
また露光エネルギーは、0.1mJ/cm〜100J/cmであることが好ましい。また、高圧放電を用いる水銀灯、メタルハライドランプ等では放電にともない、オゾンが発生するため、排気手段を有することが好ましい。排気手段は、インク吐出時に発生するインクミストの回収を兼ねるべく配置してあることが好適である。
(2. Curing of ink)
When the radiation curable ink composition which is a preferred embodiment of the ink composition used for forming the lithographic printing plate of the present invention is used, the ink is cured by irradiating with radiation after ink droplet ejection.
As a means for curing the ink that has landed on the recording medium, a commonly used mercury lamp, metal halide lamp, or the like may be used, or a light source such as a light emitting diode, a semiconductor laser, or a fluorescent lamp may be used. Further, a hot cathode tube, a cold cathode tube, an electron beam, an X-ray, or the like, a light source in which an ink polymerization reaction proceeds, an electromagnetic wave, or the like can be used.
When using a metal halide lamp, it is preferable to use a lamp with a brightness of 10 to 1000 W / cm and an illuminance of 1 mW / cm 2 to 100 W / cm 2 on the surface of the recording medium.
The exposure energy is preferably 0.1 mJ / cm 2 to 100 J / cm 2 . In addition, in a mercury lamp, a metal halide lamp, or the like that uses high-pressure discharge, ozone is generated with discharge, and thus it is preferable to have an exhaust means. The exhaust means is preferably arranged so as to also collect ink mist generated during ink ejection.

ラジカル重合により硬化させる場合、酸素により重合が阻害されるため、酸素濃度の低い状態、すなわち窒素等のガス雰囲気下で露光させることにより低エネルギーで硬化させることができる。これら、硬化させるための光等のエネルギーがインク吐出ノズルに照射されると、ノズル面表面に付着したインクミスト等が固化し、インク吐出の妨げとなる可能性があるため、ノズルへの照射を最小限にとどめるため、遮光等の措置を施すことが好ましい。具体的には、ノズルプレートへの照射を防止する隔壁を設ける、あるいは迷光を低減するべくメディアへの入射角を限定するための手段を設ける等が好適である。
また、他の好ましい態様である溶剤溶解型インクを用いた場合には、乾燥により溶剤が除去されることでインクが硬化する。所望により、インク吐出後にインクの硬化を促進させるため、加熱などの公知の方法を適用することができる。
具体的な硬化方法としては、送風により溶剤を揮発させる方法と、熱により溶剤を揮発させる方法と、それらの組合せが挙げられる。送風による方法としては、15℃以上の風を送風することによる方法が特に好ましい。送風により硬化させる方法では、特に25℃以上の風を送風することが好ましく、さらに好ましくは35℃以上である。熱により溶剤を揮発させる方法としては、オーブンで加熱する方法が挙げられ、この乾燥方法においては、50℃〜100℃のオーブンで加熱乾燥することが好ましい。もちろんこの際に風を送り溶剤の揮発を助けてもよい。
In the case of curing by radical polymerization, since the polymerization is inhibited by oxygen, it can be cured with low energy by exposure in a low oxygen concentration state, that is, in a gas atmosphere such as nitrogen. When energy such as light for curing is applied to the ink discharge nozzle, the ink mist adhering to the surface of the nozzle may solidify, which may hinder ink discharge. In order to keep it to a minimum, it is preferable to take measures such as shading. Specifically, it is preferable to provide a partition that prevents the nozzle plate from being irradiated, or to provide a means for limiting the incident angle to the medium so as to reduce stray light.
In addition, when a solvent-soluble ink that is another preferred embodiment is used, the ink is cured by removing the solvent by drying. If desired, a known method such as heating can be applied to promote ink curing after ink ejection.
Specific examples of the curing method include a method of volatilizing the solvent by blowing air, a method of volatilizing the solvent by heat, and a combination thereof. As a method using air blowing, a method using air of 15 ° C. or higher is particularly preferable. In the method of curing by blowing air, it is particularly preferable to blow air of 25 ° C. or higher, and more preferably 35 ° C. or higher. Examples of the method for volatilizing the solvent by heat include a method of heating in an oven. In this drying method, it is preferable to heat and dry in an oven at 50 ° C to 100 ° C. Of course, air may be sent at this time to help volatilize the solvent.

(3.定着およびガム処理)
以上、描画されたものは、放射線重合型インクに記載されているように、放射線により硬化定着させることができる。さらに定着と印刷の間にアラビアガムや澱粉誘導体、界面活性剤等を主成分とするガム処理することも可能である。ガムとしては、特公昭62−16834号、同62−25118号、同63−52600号、特開昭62−7595号、同62−11693号、同62−83194号の各公報に記載されているものが好ましい。なお、ガム処理の際に、インク受容層がガム液により溶解除去されることが好ましい。このようにして得られた版は平版印刷機により通常の印刷を行うことができる。
インク受容層のうち、親水性樹脂を含有したもの、水溶性の有機フッ素系化合物を含有するものは、インク非打滴領域(非画像部領域)においてこのガム処理に用いられるガムにより除去することができる。
(3. Fixing and gumming)
As described above, the drawn image can be cured and fixed by radiation as described in the radiation polymerization type ink. Further, gum treatment mainly containing gum arabic, starch derivatives, surfactants and the like can be performed between fixing and printing. The gum is described in JP-B-62-16834, JP-A-62-225118, JP-A-63-52600, JP-A-62-7595, JP-A-62-11693, and JP-A-62-83194. Those are preferred. In the gumming process, the ink receiving layer is preferably dissolved and removed with a gum solution. The plate thus obtained can be subjected to normal printing by a lithographic printing machine.
Of the ink-receiving layer, those containing a hydrophilic resin and those containing a water-soluble organic fluorine-based compound should be removed with the gum used in this gum treatment in the ink non-droplet area (non-image area). Can do.

このようにして、画像様に適用された放射線重合型インクが硬化することで画像部領域が形成された平版印刷版は、インクと湿し水とを供給することで印刷工程に付される。
本発明の平版印刷版により印刷する際に供給する湿し水及びインクは汎用のものを用いることができ、また、平版印刷機も一般に使用されるものを用いて印刷することができる。
In this way, the lithographic printing plate on which the image area is formed by curing the radiation-polymerized ink applied in an image-like manner is subjected to a printing process by supplying ink and fountain solution.
General-purpose fountain solution and ink used for printing with the lithographic printing plate of the present invention can be used, and lithographic printing machines can also be used for printing.

<湿し水>
湿し水としては、一般に、イソプロピルアルコールを約20〜25%加えた水溶液を湿し水として用いるダールグレン方式が提案され、広く普及している。その他にも、イソプロピルアルコールは特有の不快臭があることと共に、毒性の面でも問題があり、有機溶剤中毒予防規則(有機則)第2種有機溶剤であって規制を受けるため、イソプロピルアルコールを代替する技術を導入したもの、さらにイソプロピルアルコール代替化合物として不揮発性もしくは高沸点化合物を使用する技術も開発されている。また、例えば、特定のアルキレンオキサイド系非イオン系界面活性剤を湿し水組成物に含めたもの、及び、アルキレンジアミンのエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド付加物を湿し水組成物に含めたものなども提案されており、これらのいずれも、本発明の平版印刷版を用いた印刷に使用することができる。
<Dampening water>
As the fountain solution, a Dahlglen system using an aqueous solution containing about 20 to 25% isopropyl alcohol as the fountain solution has been proposed and widely used. In addition, isopropyl alcohol has a peculiar unpleasant odor and has problems in toxicity, and is an organic solvent poisoning prevention rule (organic law) type 2 organic solvent, which is subject to regulation, so it replaces isopropyl alcohol In addition, a technology using a non-volatile or high boiling point compound as an alternative to isopropyl alcohol has been developed. In addition, for example, those containing a specific alkylene oxide nonionic surfactant in a dampening water composition, those containing an alkylenediamine ethylene oxide and propylene oxide adduct in a dampening water composition, etc. Any of these has been proposed and can be used for printing using the planographic printing plate of the present invention.

前記したイソプロピルアルコールを代替する技術を導入した湿し水については、例えば、特開平5−92677号公報、特開平5−318958号公報、特開2001−287476号公報、特開平2−269094号公報、特開平3−63187号公報、特開平3−90389号公報、特開平3−90390号公報、特開平4−363297号公報、特開平5−112085号公報、特開平11−78281号公報、特開平11−105449号公報、特開2001−130164号公報、特開2001−138659号公報、特開2001−180146号公報、特開2001−18553号公報、特開2001−71658号公報、特開2002−187375号公報、特開2002−187376号公報、及び、特開2002−192853号公報に詳細に記載されており、特定のアルキレンオキサイド系非イオン系界面活性剤を湿し水組成物に含めたものについては、例えば、特開昭51−72507号公報に、アルキレンジアミンのエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド付加物を湿し水組成物に含めたものについては、例えば、特開2002−254852号公報に詳細に記載され、これらの湿し水もまた、本発明の平版印刷版の印刷に適用しうる。   As for the fountain solution in which the above-described technology for replacing isopropyl alcohol is introduced, for example, JP-A-5-92677, JP-A-5-318958, JP-A-2001-287476, and JP-A-2-269909. JP-A-3-63187, JP-A-3-90389, JP-A-3-90390, JP-A-4-363297, JP-A-5-112085, JP-A-11-78281, Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 11-105449, 2001-130164, 2001-138659, 2001-180146, 2001-18553, 2001-71658, 2002 JP-A-187375, JP-A-2002-187376, and JP-A-2002-19 For example, JP-A-51-72507 discloses an alkylenediamine which is described in detail in JP-A-853 and includes a specific alkylene oxide nonionic surfactant in a fountain solution composition. What includes ethylene oxide and propylene oxide adducts in the fountain solution composition is described in detail, for example, in JP-A-2002-254852, and these fountain solutions are also used in the lithographic printing plate of the present invention. Applicable to printing.

本発明の被記録媒体においてインク受容層に親水性樹脂を含有したもの、水溶性の有機フッ素系化合物を用いたものなどは、インク非打滴領域(非画像部領域)におけるインク受容層が、印刷途上においてこれらの湿し水により容易に除去され、親水性の表面が露出することで、非画像部の汚れを効果的に抑制することができる。   In the recording medium of the present invention, the ink receiving layer containing a hydrophilic resin, the one using a water-soluble organic fluorine-based compound, and the like, the ink receiving layer in the ink non-droplet area (non-image area) is By being easily removed by these fountain solutions during printing and exposing the hydrophilic surface, it is possible to effectively suppress stains on the non-image area.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1〜104、比較例1〜5]
〔支持体の作製〕
<アルミニウム板>
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.005質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to these.
[Examples 1 to 104, Comparative Examples 1 to 5]
(Production of support)
<Aluminum plate>
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.005 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: Containing 0.03% by mass, the balance is prepared using Al and an inevitable impurity aluminum alloy, and after performing the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Created. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, after performing heat processing using a continuous annealing machine at 500 degreeC, it finished by cold rolling to 0.24 mm in thickness, and obtained the aluminum plate of JIS1050 material. After making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below.

<表面処理>
(表面処理1)
表面処理は、以下の(b)〜(j)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
(Surface treatment 1)
In the surface treatment, the following various treatments (b) to (j) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above is subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. / M 2 was dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は図2に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図3に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dmであった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 2, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was the one shown in FIG. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.25g/m溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment The aluminum plate was sodium hydroxide concentration of 26 wt%, performed at 32 ° C. to etching treatment by spraying with an aluminum ion concentration of 6.5 wt% aqueous solution, the aluminum plate 0.25 g / m 2 was dissolved, Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening treatment was performed using alternating current in the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硫酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment by spraying was performed with a 15% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は図2に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図3に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dm、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 2, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was the one shown in FIG. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali etching treatment An aluminum plate was sprayed using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C., and the aluminum plate was dissolved at 0.10 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
図4に示す構造の陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行い、実施例1の平版印刷版用支持体を得た。第一および第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度38℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/mであった。
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus having the structure shown in FIG. 4 to obtain a lithographic printing plate support of Example 1. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 38 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

(表面処理2および3)
上記(h)において、アルミニウム板の溶解量をそれぞれ0.2g/mおよび0.5g/mとした以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理2および3の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 2 and 3)
Above in (h), except that dissolved amount of the aluminum plate to respectively 0.2 g / m 2 and 0.5 g / m 2 are in the same manner as surface treatment 1, surface treatment 2 and 3 of the lithographic printing plate A support was obtained.

(表面処理4)
上記(g)において、交流電圧の周波数を30Hzとし、かつ、上記(h)を行わなかった以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理4の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 4)
A support for a lithographic printing plate having a surface treatment 4 was obtained in the same manner as in the surface treatment 1 except that the frequency of the AC voltage was 30 Hz in the above (g) and the above (h) was not performed.

(表面処理5および6)
上記(g)において、交流電圧の周波数をそれぞれ300Hzおよび500Hzとした以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理5および6の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 5 and 6)
In the above (g), lithographic printing plate supports of surface treatments 5 and 6 were obtained in the same manner as in the surface treatment 1 except that the frequency of the AC voltage was 300 Hz and 500 Hz, respectively.

(表面処理7)
上記(d)において、電流密度を電流のピーク値で15A/dmとした以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理7の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 7)
A lithographic printing plate support of surface treatment 7 was obtained in the same manner as in surface treatment 1 except that the current density was 15 A / dm 2 in terms of the current peak value in (d) above.

(表面処理8)
上記(d)において、電解液の液温を70℃とした以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理8の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 8)
In the above (d), a lithographic printing plate support of surface treatment 8 was obtained in the same manner as in surface treatment 1 except that the temperature of the electrolytic solution was 70 ° C.

(表面処理9)
上記(b)の前に、下記(a)を行った以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理9の平版印刷版用支持体を得た。
(a)機械的粗面化処理
図1に示したような装置を使って、比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。図1において、1はアルミニウム板、2および4はローラ状ブラシ、3は研磨スラリー液、5、6、7および8は支持ローラである。研磨剤の平均粒径は40μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(Surface treatment 9)
A lithographic printing plate support with surface treatment 9 was obtained in the same manner as in surface treatment 1 except that the following (a) was performed before (b).
(A) Mechanical surface roughening treatment Using an apparatus as shown in FIG. 1, a suspension of a polishing agent (pumice) having a specific gravity of 1.12 and water is supplied as a polishing slurry to the surface of the aluminum plate. However, a mechanical surface roughening treatment was performed with a rotating roller-like nylon brush. In FIG. 1, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller brushes, 3 is a polishing slurry, and 5, 6, 7 and 8 are support rollers. The average particle size of the abrasive was 40 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(表面処理10:比較例用表面処理1)
上記(g)において、交流電圧の周波数を10Hzとした以外は、表面処理3と同様の方法により、表面処理10の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface Treatment 10: Surface Treatment 1 for Comparative Example)
In the above (g), a lithographic printing plate support of the surface treatment 10 was obtained by the same method as the surface treatment 3 except that the frequency of the alternating voltage was 10 Hz.

(表面処理11:比較例用表面処理2)
上記(g)において、交流電圧の周波数を10Hzとし、かつ、上記(h)において、アルミニウム板の溶解量を1.0g/mとした以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理11の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 11: Surface treatment 2 for comparative example)
In the above (g), the surface treatment was carried out in the same manner as in the surface treatment 1 except that the frequency of the alternating voltage was 10 Hz and the amount of dissolution of the aluminum plate was 1.0 g / m 2 in the above (h). 11 lithographic printing plate supports were obtained.

(表面処理12:比較例用表面処理3)
上記(d)において、交流電圧の周波数を15Hzとした以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理12の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 12: Surface treatment 3 for comparative example)
In the above (d), a lithographic printing plate support of surface treatment 12 was obtained by the same method as surface treatment 1 except that the frequency of the AC voltage was 15 Hz.

(表面処理13:比較例用表面処理4)
上記(d)において、電解液の液温を80℃とし、かつ、TPを0msecとした以外は、実施例1と同様の方法により、表面処理13の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface Treatment 13: Surface Treatment 4 for Comparative Example)
A lithographic printing plate support with surface treatment 13 was obtained in the same manner as in Example 1 except that in (d) above, the temperature of the electrolytic solution was 80 ° C. and TP was 0 msec.

(表面処理14:比較例用表面処理5)
上記(g)において、交流電圧の周波数を10Hzとし、かつ、上記(h)において、アルミニウム板の溶解量を1.0g/mとした以外は、表面処理8と同様の方法により、表面処理14の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface treatment 14: Surface treatment 5 for comparative example)
In the above (g), the surface treatment was carried out in the same manner as in the surface treatment 8 except that the frequency of the AC voltage was 10 Hz and the amount of dissolution of the aluminum plate was 1.0 g / m 2 in the above (h). 14 lithographic printing plate supports were obtained.

(表面処理15:比較例用表面処理6)
上記(g)、(h)および(i)を行わなかった以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理15の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface Treatment 15: Comparative Surface Treatment 6)
A lithographic printing plate support having a surface treatment 15 was obtained in the same manner as in the surface treatment 1 except that (g), (h) and (i) were not performed.

(表面処理16:比較例用表面処理7)
上記(d)、(e)および(f)を行わなかった以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理16の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface Treatment 16: Surface Treatment 7 for Comparative Example)
A lithographic printing plate support having a surface treatment 16 was obtained in the same manner as in the surface treatment 1 except that (d), (e), and (f) were not performed.

(表面処理17:比較例用表面処理8)
上記(g)において、電解液として塩酸と酢酸との混合液(塩酸濃度7.5g/L、酢酸濃度15g/L)を用いた以外は、表面処理1と同様の方法により、表面処理17の平版印刷版用支持体を得た。
(Surface Treatment 17: Surface Treatment 8 for Comparative Example)
In the above (g), the surface treatment 17 was treated in the same manner as in the surface treatment 1 except that a mixed solution of hydrochloric acid and acetic acid (hydrochloric acid concentration 7.5 g / L, acetic acid concentration 15 g / L) was used as the electrolytic solution. A support for a lithographic printing plate was obtained.

2.平版印刷版用支持体の表面形状の測定
上記で得られた平版印刷版用支持体の表面の凹部について、下記(1)〜(4)の測定を行った。結果を表1に示す。なお、表1中、「−」は、該当する波長の凹部がなかったことを示す。
2. Measurement of surface shape of lithographic printing plate support The following measurements (1) to (4) were performed on the concave portions on the surface of the lithographic printing plate support obtained above. The results are shown in Table 1. In Table 1, “-” indicates that there was no concave portion of the corresponding wavelength.

(1)中波構造の平均開口径
SEMを用いて支持体の表面を真上から倍率2000倍で撮影し、得られたSEM写真においてピットの周囲が環状に連なっている中波構造のピット(中波ピット)を50個抽出し、その直径を読み取って開口径とし、平均開口径を算出した。
(1) Average opening diameter of medium wave structure The surface of the support was photographed at a magnification of 2000 times from directly above using an SEM. 50 medium pits) were extracted, and the diameter was read to obtain the opening diameter, and the average opening diameter was calculated.

(2)小波構造の平均開口径
高分解能SEMを用いて支持体の表面を真上から倍率50000倍で撮影し、得られたSEM写真において小波構造のピット(小波ピット)を50個抽出し、その直径を読み取って開口径とし、平均開口径を算出した。
(2) Average aperture diameter of the small wave structure The surface of the support was photographed at a magnification of 50000 times from directly above using a high resolution SEM, and 50 small wave structure pits (small wave pits) were extracted from the obtained SEM photograph. The diameter was read and used as the opening diameter, and the average opening diameter was calculated.

(3)小波構造の開口径に対する深さの比の平均
小波構造の開口径に対する深さの比の平均は、高分解能SEMを用いて支持体の破断面を倍率50000倍で撮影し、得られたSEM写真において開口径0.3μm以下の小波ピットを20個抽出し、開口径と深さとを読み取って比を求めて平均値を算出した。
(3) Average ratio of depth to aperture diameter of wavelet structure The average ratio of depth to aperture diameter of wavelet structure is obtained by photographing the fracture surface of the support at a magnification of 50000 times using a high-resolution SEM. In the SEM photograph, 20 small wave pits having an opening diameter of 0.3 μm or less were extracted, the opening diameter and the depth were read, the ratio was obtained, and the average value was calculated.

(4)大波構造の平均波長
触針式粗さ計(sufcom575、東京精密社製)で2次元粗さ測定を行い、ISO4287に規定されている平均山間隔Sm を5回測定し、その平均値を平均波長とした。2次元粗さ測定は、以下の条件で行った。cut off0.8、傾斜補正FLAT−ML、測定長3mm、縦倍率10000倍、走査速度0.3mm/sec、触針先端径2μm
(4) Average wavelength of large-wave structure Two-dimensional roughness measurement is performed with a stylus type roughness meter (SUFCOM 575, manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.), and the average peak interval Sm defined in ISO 4287 is measured five times. Was defined as the average wavelength. Two-dimensional roughness measurement was performed under the following conditions. cut off 0.8, tilt correction FLAT-ML, measurement length 3 mm, longitudinal magnification 10000 times, scanning speed 0.3 mm / sec, stylus tip diameter 2 μm

Figure 2007261248
Figure 2007261248

<親水性層の形成>
上記で得られた各平版印刷版用支持体に、親水化処理を行った。
(ポリビニルホスホン酸化合物による親水化処理:親水性層1〜3)
前記支持体を、表2記載の濃度のポリビニルホスホン酸水溶液に浸漬した後、水洗乾燥した。
(シリケートによる親水化処理:親水性層4〜6)
前記支持体を、表2記載の濃度の3号珪酸ソーダ水溶液に浸漬した後、水洗乾燥した。
(フッ化ジルコン酸カリウムによる親水化処理:親水性層7〜9)
前記支持体を、表2記載の濃度のフッ化ジルコン酸水溶液に浸漬した後、水洗乾燥した。
(タモールによる親水化処理:親水性層10〜12)
前記支持体を表記載の濃度のタモール水溶液に浸漬した後、水洗乾燥した。
<Formation of hydrophilic layer>
Each of the lithographic printing plate supports obtained above was subjected to a hydrophilic treatment.
(Hydrophilic treatment with polyvinylphosphonic acid compound: hydrophilic layers 1 to 3)
The support was immersed in an aqueous polyvinylphosphonic acid solution having a concentration shown in Table 2, and then washed with water and dried.
(Hydrophilic treatment with silicate: hydrophilic layers 4 to 6)
The support was immersed in a No. 3 sodium silicate aqueous solution having a concentration shown in Table 2, and then washed and dried with water.
(Hydrophilic treatment with potassium fluoride zirconate: hydrophilic layers 7 to 9)
The support was immersed in a fluorinated zirconic acid aqueous solution having a concentration shown in Table 2, and then washed and dried.
(Hydrophilic treatment with tamol: hydrophilic layers 10 to 12)
The support was immersed in an aqueous solution of tamol having the concentration shown in the table, and then washed and dried.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

<インク受容層の形成>
下記表3に記載の組成のインク受容層塗布液をワイヤーバーにて塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量はワイヤーバーのウエット量を調整することで実施した。
<Formation of ink receiving layer>
The ink receiving layer coating solution having the composition described in Table 3 below was applied with a wire bar and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount after drying was carried out by adjusting the wet amount of the wire bar.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

各塗布液組成に用いたフッ素化合物、親水性樹脂は下記表4乃至表5に示すとおりである。   The fluorine compounds and hydrophilic resins used in each coating solution composition are as shown in Tables 4 to 5 below.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

Figure 2007261248
Figure 2007261248

前記表4及び表5において使用した化合物の詳細は以下の通りである。
Si−1(水溶性シリコン系界面活性剤);サンシリコンM−84(水溶性シリコン系界面活性剤、ジメチルシロキサンエチレンオキサイド共重合体、三洋化成工業製品)
親水性樹脂:
(A)ポリ(2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸)
(B)カルボキシメチルセルロースカリウム塩
(C)下記構造式
Details of the compounds used in Tables 4 and 5 are as follows.
Si-1 (water-soluble silicon surfactant); Sun Silicon M-84 (water-soluble silicon surfactant, dimethylsiloxane ethylene oxide copolymer, Sanyo Chemical Industries product)
Hydrophilic resin:
(A) Poly (2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid)
(B) Carboxymethylcellulose potassium salt (C) The following structural formula

Figure 2007261248
Figure 2007261248

以上の支持体、表面処理、親水化処理、インク受容層を組合せて被記録媒体を作製し、その表面にインクを打滴し、硬化させることで平版印刷版を作製した。
<フッ素系界面活性剤を添加したインク>
ミマキ社製ラジカル重合UVインクをインク1とする。
上記ミマキ社製ラジカル重合UVインクにメガファックF780(大日本インキ(株)製)を0.5%添加してインクを調製し、インク2とした。
<高分子を有機溶剤に溶解させたインク>
メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体(共重合比;メタクリル酸メチル60モル%/メタクリル酸40モル% 重量平均分子量6000)10gをジエチレングリコールジエチルエーテル90gに溶解したインクを調製し、インク3とした。
<UVインクを有機溶剤で希釈したインク>
前記ミマキ社製ラジカル重合UVインク20gをジエチレングリコールジエチルエーテル80gに溶解してインクを調製し、インク4とした。
A recording medium was prepared by combining the above support, surface treatment, hydrophilization treatment, and ink receiving layer, and a lithographic printing plate was produced by ejecting ink onto the surface and curing.
<Ink added with fluorosurfactant>
The radical polymerization UV ink manufactured by Mimaki Co., Ltd. is referred to as Ink 1.
Ink 2 was prepared by adding 0.5% of Megafac F780 (Dainippon Ink Co., Ltd.) to the above-mentioned radical polymerization UV ink manufactured by Mimaki.
<Ink with polymer dissolved in organic solvent>
Ink 3 was prepared by dissolving 10 g of methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio; methyl methacrylate 60 mol% / methacrylic acid 40 mol%, weight average molecular weight 6000) in 90 g of diethylene glycol diethyl ether.
<Ink in which UV ink is diluted with organic solvent>
Ink 4 was prepared by dissolving 20 g of the above-mentioned radical polymerization UV ink manufactured by Mimaki Co., Ltd. in 80 g of diethylene glycol diethyl ether.

<インクジェット記録方式によるインクの打滴>
前記紫外線重合硬化型のインク1を、ピエゾ方式のヘッドと紫外線照射装置を搭載するミマキエンジニアリング(株)製UJF−605Cを用いて、平版印刷版用原版1〜94に打滴し、紫外線照射により硬化させた。
<Ink droplet ejection by inkjet recording method>
The ultraviolet polymerization curable ink 1 was ejected onto the lithographic printing plate precursors 1 to 94 using UJF-605C manufactured by MIMAKI ENGINEERING CO., LTD. Equipped with a piezo-type head and an ultraviolet irradiation device. Cured.

<平版印刷版の性能評価>
(1.耐刷性評価)
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、湿し水をIF102(富士写真フィルム(株)製)大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。
(2.汚れにくさ評価)
三菱ダイヤ型F2印刷機(三菱重工社製)で、湿し水をエコリティ−2の3%水溶液(富士写真フィルム(株)製)、DIC−GEOS(s)紅のインキを用いて印刷した。水つけローラを10回転版に接触させた後、インクをつけると同時に印刷を開始し、きれいな印刷物ができるまでに必要な紙の枚数を読んだ。
<Performance evaluation of planographic printing plates>
(1. Printing durability evaluation)
The obtained lithographic printing plate was fountained with IF102 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) Dainippon Ink & Chemicals, Inc. DIC-GEOS (N) black ink using a Lislon printing machine manufactured by Komori Corporation. The printing durability was evaluated based on the number of printed sheets when it was visually recognized that the density of the solid image started to decrease.
(2. Evaluation of resistance to dirt)
The dampening solution was printed with a 3% aqueous solution of Ecology-2 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and DIC-GEOS (s) red ink on a Mitsubishi Diamond F2 printer (manufactured by Mitsubishi Heavy Industries). After the watering roller was brought into contact with the 10-turn plate, printing was started at the same time as ink was applied, and the number of sheets required until a beautiful printed material was obtained was read.

まず、表面処理9の支持体上に親水化処理5で親水化したものを用い、その表面に表6及び表7に示すインク受容層を形成して実施例1〜34、比較例1〜5の平版印刷版を作製し、前記の方法で評価した。比較例4以外はインク非打滴領域のインク受容層が湿し水により除去することができ、親水性の表面が露出した。   First, using the surface-treated 9 support hydrophilized by hydrophilization treatment 5, the ink receiving layers shown in Table 6 and Table 7 were formed on the surface, and Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 5 were formed. A lithographic printing plate was prepared and evaluated by the method described above. Except for Comparative Example 4, the ink receiving layer in the non-ink-dropped region could be removed with dampening water, and the hydrophilic surface was exposed.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

Figure 2007261248
Figure 2007261248

表6及び表7の結果より、インク接触角が30°より大きく、水接触角が10°より小さいものはドット径が小さく、現像枚数も20枚以下で良好であり、さらに問題のない耐刷性を有していることがわかる。一方、インク接触角が30°より小さい場合、ドット径は100μmを超え、水接触角が15°を超える場合は現像枚数が多くなることがわかる。   From the results shown in Tables 6 and 7, when the ink contact angle is larger than 30 ° and the water contact angle is smaller than 10 °, the dot diameter is small and the number of developed images is 20 or less. It turns out that it has sex. On the other hand, when the ink contact angle is smaller than 30 °, the dot diameter exceeds 100 μm, and when the water contact angle exceeds 15 °, the number of developed images increases.

次に、表面処理1を施した支持体表面に、下記表8及び表9に記載の親水性層を形成し、その表面にインク受容層15を形成してなる被記録媒体を用いて、実施例35〜47
の平版印刷版を作製し、同様に評価を行った。結果を表8に示す。また、インク受容層31形成してなる被記録媒体を用いて、実施例48〜60の平版印刷版を作製し、同様に評価を行った。結果を表9に示す。
Next, using a recording medium in which the hydrophilic layer described in Table 8 and Table 9 below is formed on the surface of the support that has been subjected to the surface treatment 1, and the ink receiving layer 15 is formed on the surface. Examples 35-47
A lithographic printing plate was prepared and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 8. Moreover, using the recording medium formed with the ink receiving layer 31, lithographic printing plates of Examples 48 to 60 were produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 9.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

Figure 2007261248
Figure 2007261248

表8及び表9の結果より、陽極酸化皮膜に親水化処理を施すことにより水接触角が低くなり現像枚数が低下することがわかる。   From the results of Tables 8 and 9, it can be seen that when the anodized film is subjected to a hydrophilic treatment, the water contact angle is lowered and the number of developed images is lowered.

次に、表10、表11に記載の表面処理を行ったアルミニウム支持体表面に、親水化処理3を施し、インク受容層15を形成した被記録媒体を用いて、実施例61〜77の平版印刷版を作製し、同様に評価した。結果を表10に示す。また、同様の親水化処理を施した後、インク受容層31を形成した被記録媒体を用いて、実施例78〜94の平版印刷版を作製し、同様に評価した。結果を表11に示す。   Next, the lithographic plates of Examples 61 to 77 using the recording medium on which the surface of the aluminum support subjected to the surface treatment described in Tables 10 and 11 was subjected to the hydrophilic treatment 3 and the ink receiving layer 15 was formed. A printing plate was prepared and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 10. Further, after performing the same hydrophilic treatment, lithographic printing plates of Examples 78 to 94 were prepared using the recording medium on which the ink receiving layer 31 was formed, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 11.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

Figure 2007261248
Figure 2007261248

次に、表面処理9の支持体上に親水化処理5で親水化したものを用い、その表面に表12に示すインク受容層を形成し、UV硬化型のインク1、2に変えて溶剤溶解型インクであるインク3、インク4を、ピエゾ方式のヘッドとピエゾ方式のヘッドとミマキエンジニアリング(株)製UJF−605Cを用いて打滴した。なお、打適する際には、紫外線照射は行わず、打滴後にドライヤーで35℃の風を20秒間送風し、インクを乾燥、硬化させて実施例95〜104の平版印刷版を作製し、同様に評価した。結果を下記表12に示す。なお、同様の条件でUV硬化型インクを用いた実施例25〜29の結果を参考として併記した。   Next, the surface of the support 9 that has been hydrophilized by hydrophilization 5 is used, and the ink receiving layer shown in Table 12 is formed on the surface. Ink 3 and ink 4, which are type inks, were ejected using a piezo-type head, a piezo-type head, and UJF-605C manufactured by Mimaki Engineering Co., Ltd. In addition, when hitting, ultraviolet irradiation is not performed, and after jetting, air of 35 ° C. is blown for 20 seconds with a dryer, and the ink is dried and cured to produce lithographic printing plates of Examples 95 to 104. Evaluated. The results are shown in Table 12 below. The results of Examples 25 to 29 using UV curable ink under the same conditions are also shown for reference.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

表12の結果より、溶剤溶解型インクを用いた場合も、高精細且つ高耐刷の画像部を有する平版印刷版を得られることがわかる。また、実施例25〜29との対比において溶剤溶解型インクを用いた場合、UV硬化型インクよりもさらに耐刷性に向上が見られることがわかる。
平均開口径0.5〜5μmの中波構造と平均開口径0.01〜0.2μmの小波構造以外のもの(表面処理10〜17)は耐刷性と汚れにくさの一方が、実用上問題ないレベルではあるが、最適のものに比較してやや劣ることがわかる。
平均波長5〜100μmの大波構造と平均開口径0.5〜5μmの中波構造と平均開口径0.01〜0.2μmの小波構造とを重畳した構造の砂目形状(表面処理1〜9)は耐刷性と汚れにくさのバランスがよい。
From the results in Table 12, it can be seen that a lithographic printing plate having a high-definition and high-pressing image portion can be obtained even when a solvent-soluble ink is used. In contrast to Examples 25 to 29, it is understood that when the solvent-soluble ink is used, the printing durability is further improved as compared with the UV curable ink.
Other than the medium wave structure with an average opening diameter of 0.5 to 5 μm and a small wave structure with an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm (surface treatment 10 to 17), one of printing durability and resistance to dirt is practically used. Although it is at a satisfactory level, it can be seen that it is slightly inferior to the optimum one.
Grain shape (surface treatment 1-9) in which a large wave structure with an average wavelength of 5 to 100 μm, a medium wave structure with an average opening diameter of 0.5 to 5 μm, and a small wave structure with an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm are superimposed. ) Has a good balance between printing durability and resistance to dirt.

次に、表面処理9と親水化処理5とを施した支持体表面に表13に記載のインク受容層を形成し、さらに、前記インク2を打滴して実施例105の平版印刷版を作製し、同様に評価した。また、対照例として、インクのみが異なる実施例14、比較例1の結果を併記した。   Next, the ink receiving layer described in Table 13 was formed on the surface of the support subjected to the surface treatment 9 and the hydrophilization treatment 5, and the ink 2 was further ejected to produce a lithographic printing plate of Example 105. And evaluated in the same manner. Further, as a control example, the results of Example 14 and Comparative Example 1 which are different only in ink are also shown.

Figure 2007261248
Figure 2007261248

インク1にF−780を添加したインク2を用いることにより、インク接触角が5°から70°となり、このため、本発明の範囲外のインク受容層24に打滴した場合、インク1によるドット径が130μmであったものが、インク2を用いることで30μmになった。このことから、インクに撥水性化合物を添加することで、より滲みのない高解像度の画像を形成しうることがわかる。   By using the ink 2 in which F-780 is added to the ink 1, the ink contact angle is changed from 5 ° to 70 °. Therefore, when ink is deposited on the ink receiving layer 24 outside the range of the present invention, the dot formed by the ink 1 is used. The diameter of 130 μm was 30 μm when ink 2 was used. From this, it can be seen that by adding a water-repellent compound to the ink, it is possible to form a high-resolution image without blurring.

[実施例106]
実施例1記載のプレートを実施例1と同様に描画、露光した後、ガムコーターG−800H(富士写真フィルム製)にGU−7を倍に水で希釈したガム液を仕込み、ガムを塗布して実施例106の平版印刷版を得た。同様に、インク3を用いて得られた実施例97、インク4を用いて得られた実施例102も、実施例106と同様にガム塗布し、それぞれ実施例107、108とした。これらを同様に評価したところ、耐刷性、汚れ性はともに、それぞれ実施例1、97,102と同等であり、ガム処理によって、非画像部領域のインク受容層が除去されていることがわかった。
[Example 106]
After drawing and exposing the plate described in Example 1 in the same manner as in Example 1, the gum coater G-800H (manufactured by Fuji Photo Film) was charged with a gum solution obtained by diluting GU-7 with water, and the gum was applied. A lithographic printing plate of Example 106 was obtained. Similarly, Example 97 obtained using Ink 3 and Example 102 obtained using Ink 4 were also applied with gum in the same manner as Example 106 to give Examples 107 and 108, respectively. When these were evaluated in the same manner, both the printing durability and the stain resistance were the same as those of Examples 1, 97, and 102, respectively, and it was found that the ink receiving layer in the non-image area was removed by the gum treatment. It was.

本発明の平版印刷版用支持体の作成における機械粗面化処理に用いられるブラシレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush lining used for the mechanical roughening process in preparation of the support body for lithographic printing plates of this invention. 本発明の平版印刷版用支持体の作成における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in preparation of the support body for lithographic printing plates of this invention. 本発明の平版印刷版用支持体の作成における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process using alternating current in preparation of the support body for lithographic printing plates of this invention. 本発明の平版印刷版用支持体の作成における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is the schematic of the anodizing apparatus used for the anodizing process in preparation of the support body for lithographic printing plates of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 アルミニウム板
2、4 ローラ状ブラシ
3 研磨スラリー液
5、6、7、8 支持ローラ
11 アルミニウム板
12 ラジアルドラムローラ
13a、13b 主極
14 電解処理液
15 電解液供給口
16 スリット
17 電解液通路
18 補助陽極
19a、19b サイリスタ
20 交流電源
40 主電解槽
50 補助陽極槽
410 陽極酸化処理装置
412 給電槽
414 電解処理槽
416 アルミニウム板
418、426 電解液
420 給電電極
422、428 ローラ
424 ニップローラ
430 電解電極
432 槽壁
434 直流電源
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum plate 2, 4 Roller-like brush 3 Polishing slurry liquid 5, 6, 7, 8 Support roller 11 Aluminum plate 12 Radial drum roller 13a, 13b Main electrode 14 Electrolytic process liquid 15 Electrolyte supply port 16 Slit 17 Electrolyte path 18 Auxiliary anodes 19a and 19b Thyristor 20 AC power supply 40 Main electrolytic cell 50 Auxiliary anode tank 410 Anodizing apparatus 412 Power supply tank 414 Electrolytic treatment tank 416 Aluminum plate 418, 426 Electrolytic solution 420 Power supply electrode 422, 428 Roller 424 Nip roller 430 Electrolytic electrode 432 Tank wall 434 DC power supply

Claims (13)

支持体上に、親水性層、及び、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含有し、インクジェット記録方式により打滴されるインクを受容するインク受容層、を順次積層してなる被記録媒体。   An ink that contains one or more compounds selected from the group consisting of a hydrophilic layer and a compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton on a support, and ejected by an ink jet recording method. A recording medium formed by sequentially laminating ink receiving layers. 前記インク受容層のインクジェット記録方法によりインクを打滴されない領域が、インク打滴、インク硬化工程後に実施される印刷途上において湿し水により除去されることを特徴とする請求項1に記載の被記録媒体。   The area where ink is not ejected by the ink jet recording method of the ink receiving layer is removed by dampening water during printing performed after the ink ejection and ink curing steps. recoding media. 前記インク受容層のインクジェット記録方法によりインクを打滴されない領域が、インク打滴、インク硬化工程後に実施されるガム引き工程においてガムにより除去されることを特徴とする請求項1に記載の被記録媒体。   2. The recording target according to claim 1, wherein a region where ink is not ejected by the ink jet recording method of the ink receiving layer is removed by gum in a gumming step performed after the ink ejection and ink curing steps. Medium. 前記支持体が、平均開口径0.5〜5μmの中波構造と平均開口径0.01〜0.2μmの小波構造とを重畳した構造の砂目構造を有することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の被記録媒体。   The said support body has the grain structure of the structure which superimposed the medium wave structure of 0.5-5 micrometers of average aperture diameter, and the small wave structure of average aperture diameter of 0.01-0.2 micrometers. The recording medium according to claim 1. 前記支持体が、平均波長5〜100μmの大波構造と平均開口径0.5〜5μmの中波構造と平均開口径0.01〜0.2μmの小波構造とを重畳した構造の砂目形状を表面に有することを特徴とする請求項4記載の被記録媒体。   The support has a grain shape in which a large wave structure having an average wavelength of 5 to 100 μm, a medium wave structure having an average opening diameter of 0.5 to 5 μm, and a small wave structure having an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm are superimposed. The recording medium according to claim 4, wherein the recording medium has a surface. 前記支持体が小波構造の開口径に対する深さの比の平均が0.2以上であることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の被記録媒体。   6. The recording medium according to claim 4, wherein an average of a depth ratio of the support to the opening diameter of the small wave structure is 0.2 or more. 前記インク受容層に、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を0.2〜50.0mg/m含有し、且つ、前記親水性樹脂を1〜200mg/m含有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の被記録媒体。 The ink receiving layer contains 0.2 to 50.0 mg / m 2 of one or more compounds selected from the group consisting of a compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton, and the hydrophilicity the recording medium according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the resin contains 1 to 200 mg / m 2. 支持体上に、親水性層、及び、フルオロアルキル基を有する化合物およびジメチルシロキサン骨格を有する化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を含有し、インクジェット記録方式により打滴されるインクを受容するインク受容層を順次積層してなる被記録媒体表面に、インクを打滴し、硬化させて画像部領域を形成することにより得られる平版印刷版。   An ink that contains one or more compounds selected from the group consisting of a hydrophilic layer and a compound having a fluoroalkyl group and a compound having a dimethylsiloxane skeleton on a support, and ejected by an ink jet recording method. A lithographic printing plate obtained by depositing ink on a surface of a recording medium formed by sequentially laminating ink receiving layers to be received and curing to form an image area. 前記親水性層上に形成されたインク受容層の水との接触角が10°より小さく、且つ、該インク受容層とインクジェットにより打滴されるインクとの接触角が30°より大きいことを特徴とする請求項8記載の平版印刷版。   The contact angle between the ink receiving layer formed on the hydrophilic layer and water is smaller than 10 °, and the contact angle between the ink receiving layer and ink ejected by inkjet is larger than 30 °. The lithographic printing plate according to claim 8. 前記支持体上に形成された親水性層と印刷時に使用する湿し水との接触角が10°より小さいことを特徴とする、請求項8又は請求項9記載の平版印刷版。   The lithographic printing plate according to claim 8 or 9, wherein a contact angle between the hydrophilic layer formed on the support and the fountain solution used during printing is smaller than 10 °. 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の被記録媒体のインク受容層表面に、インクジェット記録方式によりインクを打滴して、硬化させ、その後、インクが打滴された領域以外のインク受容層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。   The ink receiving layer surface of the recording medium according to any one of claims 1 to 7 is ejected with ink by an ink jet recording method and cured, and then the region other than the region where the ink is ejected. A method for preparing a lithographic printing plate, wherein the ink receiving layer is removed. 前記インク受容層の除去が、印刷途上に湿し水により行われることを特徴とする請求項11記載の平版印刷版の作製方法。   12. The method for preparing a lithographic printing plate according to claim 11, wherein the removal of the ink receiving layer is performed with dampening water during printing. 前記インク受容層の除去が、ガム処理工程においてガムにより行われることを特徴とする請求項11記載の平版印刷版の作製方法。   12. The method for preparing a lithographic printing plate according to claim 11, wherein the ink receiving layer is removed by gum in the gum treatment step.
JP2006254638A 2006-03-03 2006-09-20 Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method Abandoned JP2007261248A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006254638A JP2007261248A (en) 2006-03-03 2006-09-20 Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006058671 2006-03-03
JP2006254638A JP2007261248A (en) 2006-03-03 2006-09-20 Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007261248A true JP2007261248A (en) 2007-10-11

Family

ID=38634699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006254638A Abandoned JP2007261248A (en) 2006-03-03 2006-09-20 Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007261248A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008032511A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-20 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Image forming method, platen manufacturing method, engraving device, printing system, and platen material

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000243849A (en) * 1999-02-24 2000-09-08 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor device and its manufacture
JP2002536462A (en) * 1999-02-04 2002-10-29 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド Printing plates and their manufacturing methods
JP2003502177A (en) * 1999-06-11 2003-01-21 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド Printing plate base material, lithographic printing plate pretreated with surfactant and method for producing the same
JP2003112484A (en) * 2001-10-05 2003-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd Support of lithographic printing plate and original lithographic printing plate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002536462A (en) * 1999-02-04 2002-10-29 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド Printing plates and their manufacturing methods
JP2000243849A (en) * 1999-02-24 2000-09-08 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor device and its manufacture
JP2003502177A (en) * 1999-06-11 2003-01-21 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド Printing plate base material, lithographic printing plate pretreated with surfactant and method for producing the same
JP2003112484A (en) * 2001-10-05 2003-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd Support of lithographic printing plate and original lithographic printing plate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008032511A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-20 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Image forming method, platen manufacturing method, engraving device, printing system, and platen material

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008111142A (en) Aluminum alloy sheet for planographic printing plate and support for planographic printing plate
JP4516761B2 (en) Aluminum plate embossing roll
JP2006272745A (en) Substrate and original plate for planographic printing plate
US20070207412A1 (en) Method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
JP2008075017A (en) Ink composition and method for making planographic printing block
JP2007260987A (en) Manufacturing method of lithographic printing plate
JP2005089846A (en) Aluminum alloy plate stock for planographic printing plate, and support for the planographic printing plate
JP2008068525A (en) Original lithographic printing plate, lithographic printing plate and its manufacturing method
JP2008069231A (en) Ink composition and method for producing planographic printing plate
JP2007261248A (en) Medium to be recorded, lithographic printing plate using it, and its manufacturing method
JP2007237403A (en) Lithographic printing plate and its manufacturing method
JP2008238573A (en) Lithographic printing form original plate and its printing method
JP4362053B2 (en) Lithographic printing plate support and lithographic printing plate precursor using the same
JP3995046B2 (en) Lithographic printing plate support and lithographic printing plate precursor
JP4638259B2 (en) Planographic printing plate making method
JP2008081651A (en) Ink composition and method for production of planographic printing plate
JP2008201038A (en) Method for roughening support for lithographic printing plate and method for manufacturing support for lithographic printing plate
JP2007245499A (en) Lithographic printing plate and manufacturing method thereof
JP2007276442A (en) Original printing plate for direct drawing type lithographic printing plate and direct drawing type lithographic printing plate
JP2008132748A (en) Lithographic printing plate recording medium and lithographic printing plate
JP2006076104A (en) Method for manufacturing support for lithographic printing plate
JP2008068473A (en) Manufacturing method of lithographic printing form
JP2007245505A (en) Lithographic printing form original plate, lithographic printing form and its preparing method
JP3995048B2 (en) Lithographic printing plate support and lithographic printing plate precursor
JP2007055231A (en) Method of manufacturing support for lithographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120403

A762 Written abandonment of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762

Effective date: 20120410