JP2007256876A - Application liquid for forming reflection film, reflection film, base material with reflection film and surface light source - Google Patents

Application liquid for forming reflection film, reflection film, base material with reflection film and surface light source Download PDF

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Yasutada Metsugi
康格 目次
Hiroshi Maruyama
大志 丸山
Kenji Takahashi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an application liquid for forming a reflection film easily forming the more uniform and minuter reflection film, to provide the reflection film, to provide a base material with the reflection film and to provide a surface light source. <P>SOLUTION: The application liquid for forming the reflection film contains metal oxide particles comprising secondary particles formed by aggregating a plurality of primary particles consisting of a metal oxide, a resin as a binder and a solvent. The primary particles of the metal oxide particles have 0.1 to 1 μm average particle diameter and secondary particles have 0.1 to 3.0 μm particle diameter of 50 wt.% cumulative percentage of cumulative particle distribution thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源に関し、更に詳しくは、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能な反射膜形成用塗布液、この反射膜形成用塗布液を塗布・乾燥することで得られる反射膜及び反射膜付き基材、この反射膜を面状の光源体の内部に備えることで光の利用効率を向上させることが可能な面光源に関するものである。   The present invention relates to a reflective film forming coating liquid, a reflective film, a substrate with a reflective film, and a surface light source, and more specifically, a reflective film forming coating capable of easily forming a more uniform and dense reflective film. Liquid, a reflective film obtained by applying and drying this reflective film forming coating liquid and a substrate with a reflective film, and improving the light utilization efficiency by providing this reflective film inside a planar light source body The present invention relates to a surface light source that can be used.

従来、液晶表示装置は、表示部を構成する液晶ディスプレイの部分が非発光性であるために、液晶ディスプレイに光を供給するためのバックライトを設けている。このバックライトに用いられる蛍光ランプとしては、細管形状を有する冷陰極蛍光ランプ(CCFL)が主に用いられている。
この冷陰極蛍光ランプ(CCFL)を用いる場合、冷陰極蛍光ランプ(CCFL)の取付位置によって次の2つの方式に分かれる。
(1)液晶ディスプレイの端縁部に蛍光ランプを取り付け、この蛍光ランプからの光を導光板により多重反射させることで、得られた光を液晶ディスプレイに対して特定方向に入射させる方式。
(2)液晶ディスプレイの背面側に、複数の蛍光ランプを拡散板と反射板とで挟持した面発光部を配置し、この面発光部からの光を液晶ディスプレイに対して特定方向に入射させる方式。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device is provided with a backlight for supplying light to a liquid crystal display because a portion of the liquid crystal display constituting the display unit is non-luminous. As a fluorescent lamp used for the backlight, a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) having a thin tube shape is mainly used.
When this cold cathode fluorescent lamp (CCFL) is used, it is divided into the following two systems depending on the mounting position of the cold cathode fluorescent lamp (CCFL).
(1) A method in which a fluorescent lamp is attached to the edge of the liquid crystal display, and the light obtained from the fluorescent lamp is incident on the liquid crystal display in a specific direction by multiple reflection by a light guide plate.
(2) A system in which a surface light-emitting unit having a plurality of fluorescent lamps sandwiched between a diffusing plate and a reflecting plate is disposed on the back side of the liquid crystal display, and light from the surface light-emitting unit is incident on the liquid crystal display in a specific direction .

しかしながら、これらの方式(1)及び(2)では、光路上に導光板や拡散板を設けているために、光効率の点から光損失が大きいという欠点があり、そこで、蛍光ランプの放電領域であるガラス管内に直接反射層を設け、特定方向に光を出射させる構造のものも提案されているが、この構造では、ガラス管内の反射層及び蛍光体層の状態で出射される光量が大きく異なり、光の利用効率を向上させることは難しい。
光の利用効率を向上させたバックライトとしては、ガラス管の内面に、反射材のグリーンシート状成形体及び蛍光体のグリーンシート状成形体を一体成形したものを配置し、これらを焼成することにより、ガラス管の内面に膜厚が均一な反射材層及び蛍光体層を順次形成した蛍光ランプ(特許文献1)、光源本体の内部に、二種以上の粒径を有する散乱粒子で構成される反射膜、蛍光膜を順次成膜した面光源装置(特許文献1)等が提案されている。
この反射膜の成膜方法としては、フローコート法、スプレーコート法、ディップコート法等により反射材を含む懸濁液をガラス板上、あるいはガラス管の内面に塗布する方法が広く用いられている。
特開2000−306550号公報 特開2005−268211号公報
However, in these methods (1) and (2), since a light guide plate and a diffusion plate are provided on the optical path, there is a disadvantage that light loss is large from the viewpoint of light efficiency. A structure in which a direct reflection layer is provided in a glass tube and light is emitted in a specific direction has been proposed. However, in this structure, the amount of light emitted in the state of the reflection layer and the phosphor layer in the glass tube is large. In contrast, it is difficult to improve the light utilization efficiency.
As a backlight with improved light utilization efficiency, a glass sheet molded body of a reflector and a green sheet molded body of a phosphor are integrally formed on the inner surface of a glass tube, and these are fired. Thus, a fluorescent lamp (Patent Document 1) in which a reflector layer and a phosphor layer having a uniform film thickness are sequentially formed on the inner surface of the glass tube, and the light source body is composed of scattering particles having two or more types of particle sizes. A surface light source device (Patent Document 1) or the like in which a reflective film and a fluorescent film are sequentially formed has been proposed.
As a method for forming this reflective film, a method of applying a suspension containing a reflective material on a glass plate or the inner surface of a glass tube by a flow coating method, a spray coating method, a dip coating method or the like is widely used. .
JP 2000-306550 A JP 2005-268111 A

ところで、従来のバックライトでは、反射膜を構成する散乱粒子の粒径が大きいと、膜の表面に凹凸が生じ、この凹凸により光が散乱されてしまうために、光の利用効率を向上させることが難しいという問題点があった。また、反射膜の膜厚が十分でない場合には、光が透過してしまい、反射膜自体の反射率が低下するという問題点があった。
また、反射材層内に空隙が生じると、この空隙の内部にて散乱光が閉じこめられてしまい、反射体層自体の反射率が低下するという問題点があった。また、反射材層の膜厚が十分でない場合には、光が透過してしまい、反射体層自体の反射率が低下するという問題点があった。
By the way, in the conventional backlight, when the particle size of the scattering particles constituting the reflective film is large, unevenness is generated on the surface of the film, and light is scattered by the unevenness, so that the light use efficiency is improved. There was a problem that was difficult. Further, when the thickness of the reflective film is not sufficient, light is transmitted, and there is a problem that the reflectance of the reflective film itself is lowered.
Further, when a gap is generated in the reflector layer, there is a problem that scattered light is confined in the gap and the reflectance of the reflector layer itself is lowered. Further, when the thickness of the reflector layer is not sufficient, light is transmitted, and there is a problem that the reflectance of the reflector layer itself is lowered.

一方、反射膜を構成する散乱粒子の粒径が小さい場合、膜の表面の凹凸は著しく低減することができるが、特に可視光線の波長より小さい粒径を有する粒子を用いた場合には、反射膜は光が透過し易くなる。そこで、反射膜として機能させるためには膜厚を厚くする必要があるが、膜厚を厚くした場合、成膜時にマイクロクラック等の不具合が生じ易くなるという問題点があった。
また、粒径の異なる粒子、例えば粒径1μm以上の粒子と粒径1μm以下の粒子とを混合した混合物を用いて反射膜を構成した場合、反射膜の表面の凹凸や内部の空隙は低減することができるが、光が透過し易くなる。したがって、反射率を向上させることが難しく、十分な効果が得られない可能性がある。
On the other hand, when the particle size of the scattering particles constituting the reflective film is small, the irregularities on the surface of the film can be remarkably reduced, but particularly when particles having a particle size smaller than the wavelength of visible light are used, The film is easy to transmit light. Therefore, in order to function as a reflective film, it is necessary to increase the film thickness. However, when the film thickness is increased, there is a problem that defects such as microcracks are likely to occur during film formation.
In addition, when the reflective film is formed using particles having different particle diameters, for example, a mixture of particles having a particle diameter of 1 μm or more and particles having a particle diameter of 1 μm or less, the irregularities on the surface of the reflective film and the internal voids are reduced. Although it is possible, light becomes easy to transmit. Therefore, it is difficult to improve the reflectance, and a sufficient effect may not be obtained.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能な反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and is capable of easily forming a more uniform and dense reflective film, a reflective film-forming coating solution, a reflective film, and a base with a reflective film. An object is to provide a material and a surface light source.

本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、反射膜の無機成分として金属酸化物粒子を選択し、この金属酸化物粒子を、金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子とし、この1次粒子の平均粒径を0.1μm以上かつ1μm以下とし、かつ、2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が50重量%の粒径値を0.1μm以上かつ3.0μm以下とすることにより、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have selected metal oxide particles as the inorganic component of the reflective film, and these metal oxide particles are used as primary particles made of a metal oxide. A secondary particle in which a plurality of particles are aggregated, the average particle size of the primary particles is 0.1 μm or more and 1 μm or less, and the cumulative particle size distribution of the secondary particles is 50% by weight. It has been found that by setting the thickness to 1 μm or more and 3.0 μm or less, a more uniform and dense reflective film can be easily formed, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子からなる金属酸化物粒子を含有してなることを特徴とする。
前記1次粒子の平均粒径は0.1μm以上かつ1μm以下であり、かつ、前記2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が50重量%の粒径値は0.1μm以上かつ3.0μm以下であることが好ましい。
That is, the coating liquid for forming a reflective film of the present invention is characterized in that it contains metal oxide particles composed of secondary particles obtained by collecting a plurality of primary particles composed of metal oxides.
The average particle size of the primary particles is 0.1 μm or more and 1 μm or less, and the particle size value when the cumulative percentage of the cumulative particle size distribution of the secondary particles is 50% by weight is 0.1 μm or more and 3.0 μm or less. It is preferable that

前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化イットリウムの群から選択される1種または2種以上であることが好ましい。   The metal oxide is preferably one or more selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, and yttrium oxide.

本発明の反射膜は、本発明の反射膜形成用塗布液を塗布し、乾燥または熱処理してなることを特徴とする。
本発明の反射膜付き基材は、基材上に本発明の反射膜を形成してなることを特徴とする。
本発明の面光源は、面状の光源体の少なくとも内部に、本発明の反射膜を備えてなることを特徴とする。
The reflective film of the present invention is characterized in that the reflective film-forming coating liquid of the present invention is applied and dried or heat-treated.
The base material with a reflective film of the present invention is formed by forming the reflective film of the present invention on a base material.
The surface light source of the present invention is characterized in that the reflective film of the present invention is provided at least inside a planar light source body.

本発明の反射膜形成用塗布液によれば、金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子からなる金属酸化物粒子を含有したので、この金属酸化物粒子を塗布液中に均一分散させることにより、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することができる。   According to the coating liquid for forming a reflective film of the present invention, since the metal oxide particles composed of secondary particles obtained by collecting a plurality of primary particles composed of metal oxide are contained, the metal oxide particles are contained in the coating liquid. By uniformly dispersing, a more uniform and dense reflection film can be easily formed.

また、この金属酸化物粒子を、金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子としたので、同一径の1次粒子からなる金属酸化物粒子と比べて反射膜の機械的強度を高めることができ、マイクロクラック等が生じる虞が少なくなる。   In addition, since the metal oxide particles are secondary particles in which a plurality of primary particles made of metal oxide are aggregated, the mechanical strength of the reflective film is higher than that of metal oxide particles made of primary particles having the same diameter. And the risk of micro cracks and the like is reduced.

さらに、前記1次粒子の平均粒径を0.1μm以上かつ1μm以下とし、かつ、前記2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が50重量%の粒径値を0.1μm以上かつ3.0μm以下とすることにより、反射膜中における金属酸化物粒子の分散性を向上させることができ、反射膜中の金属酸化物粒子の分布の部分的な偏りを無くしてより均一化することができる。したがって、反射膜の厚みを増してもマイクロクラック等が生じる虞が少なくなる。また、金属酸化物粒子の分布を均一化するので、膜厚を薄くしても平坦性が失われることがなく、厚みの薄い平滑な反射膜を容易に得ることができる。よって、幅広い膜厚に対応した反射膜を容易に得ることができる。また、厚みを薄くすることにより、材料コストを削減することができる。   Furthermore, the average particle size of the primary particles is 0.1 μm or more and 1 μm or less, and the particle size value when the cumulative percentage of the cumulative particle size distribution of the secondary particles is 50% by weight is 0.1 μm or more and 3.0 μm. By making it below, the dispersibility of the metal oxide particles in the reflective film can be improved, and a partial bias in the distribution of the metal oxide particles in the reflective film can be eliminated and the metal oxide particles can be made more uniform. Therefore, even if the thickness of the reflective film is increased, there is less possibility that micro cracks will occur. Further, since the distribution of the metal oxide particles is made uniform, flatness is not lost even if the film thickness is reduced, and a smooth reflective film having a small thickness can be easily obtained. Therefore, a reflective film corresponding to a wide film thickness can be easily obtained. Further, the material cost can be reduced by reducing the thickness.

本発明の反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
The best mode for carrying out the reflective film-forming coating liquid, the reflective film, the substrate with the reflective film, and the surface light source of the present invention will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.

「反射膜形成用塗布液」
本実施形態の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる粒子と、バインダーとしての樹脂と、溶媒とを含有した塗布液である。
この金属酸化物粒子としては、金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子からなる粒子が好ましい。
"Coating liquid for reflective film formation"
The coating liquid for forming a reflective film according to this embodiment is a coating liquid containing particles made of a metal oxide, a resin as a binder, and a solvent.
The metal oxide particles are preferably particles composed of secondary particles obtained by collecting a plurality of primary particles composed of metal oxide.

この金属酸化物の1次粒子の平均粒径は0.1μm以上かつ1μm以下が好ましく、より好ましくは0.3μm以上かつ0.8μm以下である。
また、この1次粒子を複数個集合した2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が50重量%の粒径値(D50)は0.1μm以上かつ3.0μm以下が好ましく、より好ましくは0.3μm以上かつ1.5μm以下である。
さらに、この2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が90重量%の粒径値(D90)は0.3μm以上かつ10μm以下が好ましく、より好ましくは0.3μm以上かつ5μm以下である。
The average particle size of the primary particles of the metal oxide is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or more and 0.8 μm or less.
In addition, the particle size value (D50) when the cumulative percentage of the cumulative particle size distribution of the secondary particles obtained by collecting a plurality of primary particles is 50% by weight is preferably 0.1 μm or more and 3.0 μm or less, more preferably 0.00. 3 μm or more and 1.5 μm or less.
Further, the particle size value (D90) at which the cumulative percentage of the cumulative particle size distribution of the secondary particles is 90% by weight is preferably 0.3 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.3 μm or more and 5 μm or less.

ここで、1次粒子の平均粒径及びD50を上記のように限定した理由は、1次粒子の平均粒径及びD50が上記の範囲の値より大きい場合には、得られた反射膜の表面の凹凸が大きくなり、また、粒子同士の結合点も少なくなるので、2次粒子同士の結合力が小さくなり、したがって、膜の表面から粒子が脱落する虞があるからである。粒子が脱落した場合、この粒子は光源の内部に拡散し汚染する可能性が生じる。一方、1次粒子の平均粒径及びD50が上記の範囲の値より小さい場合には、より緻密な膜が得られ易いものの、塗膜の乾燥時の熱収縮過程においては内部応力の緩和が難しくなり、特に膜厚を厚くした場合、膜にクラックが生じる虞がある。   Here, the reason why the average particle diameter and D50 of the primary particles are limited as described above is that when the average particle diameter of the primary particles and D50 are larger than the values in the above range, the surface of the obtained reflective film This is because the concavity and convexity of the particles increases and the bonding points between the particles also decrease, so that the bonding force between the secondary particles decreases, and therefore the particles may fall off the surface of the film. If the particles fall off, they can diffuse into the interior of the light source and become contaminated. On the other hand, when the average particle diameter of primary particles and D50 are smaller than the above range, a denser film can be easily obtained, but it is difficult to relieve internal stress in the heat shrinkage process when the coating film is dried. In particular, when the film thickness is increased, cracks may occur in the film.

この金属酸化物粒子の屈折率(n)は大きい程好ましく、特に(n=)1.5以上であることが好ましい。
この様な高屈折率とすることにより、膜に入射した光を一定方向に効率よく反射させることができる。
The refractive index (n) of the metal oxide particles is preferably as large as possible, and particularly preferably (n =) 1.5 or more.
With such a high refractive index, light incident on the film can be efficiently reflected in a certain direction.

上記の金属酸化物としては、酸化ケイ素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化イットリウム(Y)の群から選択される1種または2種以上が好ましく、特に、(N=)1.5以上の高屈折率材料である点で、酸化アルミニウム(Al)、酸化チタン(TiO)が好ましい。 Examples of the metal oxide include silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), magnesium oxide (MgO), One or more selected from the group of yttrium oxide (Y 2 O 3 ) is preferable, and in particular, aluminum oxide (Al 2 O 3 ) in that it is a high refractive index material of (N =) 1.5 or higher. ) And titanium oxide (TiO 2 ) are preferable.

この金属酸化物に不純物として含まれるアルカリ金属は、少ないほうが好ましい。特に、ナトリウム(Na)は、蛍光ランプ中の水銀粒子と反応してアマルガムを形成することで水銀粒子が減少し、その結果、蛍光ランプの輝度が劣化する虞があるからである。
この金属酸化物粒子は、組成が互いに異なる複数種の金属酸化物粒子により構成してもよい。
It is preferable that the amount of alkali metal contained as an impurity in the metal oxide is small. In particular, sodium (Na) reacts with the mercury particles in the fluorescent lamp to form amalgam to reduce the mercury particles, with the result that the luminance of the fluorescent lamp may be deteriorated.
The metal oxide particles may be composed of a plurality of types of metal oxide particles having different compositions.

樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリシクロヘキシルメタクリレート等のアクリレート、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン(PS)、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリル酸エステル、ポリアミド、フェノール−ホルムアルデヒド(フェノール樹脂)、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)、メチルメタクレート・スチレン共重合体(MS樹脂)、ポリ−4−メチルペンテン、ノルボルネン系ポリマー、ポリウレタン、エポキシ、シリコーン等が挙げられる。   Examples of the resin include acrylates such as polymethyl methacrylate (PMMA) and polycyclohexyl methacrylate, polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyether, polyester, polyarylate, polyacrylic ester, polyamide, phenol-formaldehyde (phenol) Resin), diethylene glycol bisallyl carbonate, acrylonitrile / styrene copolymer (AS resin), methyl methacrylate / styrene copolymer (MS resin), poly-4-methylpentene, norbornene polymer, polyurethane, epoxy, silicone, etc. Can be mentioned.

溶媒は、基本的には、水および/または有機溶媒であるが、その他、高分子モノマーやオリゴマーの単体、もしくはこれらの混合物も好適に用いられる。
上記の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、オクタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、アセト酢酸エステル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類が好適に用いられ、これらの溶媒のうち1種または2種以上を用いることができる。
The solvent is basically water and / or an organic solvent, but other polymer monomers and oligomers alone, or mixtures thereof are also preferably used.
Examples of the organic solvent include methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, octanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, and other alcohols, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and acetic acid. Esters such as methyl ester, ethyl acetate, acetoacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, γ-butyrolactone, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether ( Ethyl cellosolve), ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), diethylene glycol monomethyl ether, di Ethers such as tylene glycol monoethyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, dimethylformamide, N, N-dimethylacetoacetamide Amides such as N-methylpyrrolidone are preferably used, and one or more of these solvents can be used.

この反射膜形成用塗布液は、上記以外に、その特性を損なわない範囲において、他の無機酸化物粒子、分散剤、分散助剤、カップリング剤、樹脂モノマー等を含有していてもよい。   In addition to the above, the reflective film-forming coating solution may contain other inorganic oxide particles, a dispersant, a dispersion aid, a coupling agent, a resin monomer, and the like as long as the characteristics are not impaired.

この反射膜形成用塗布液における金属酸化物粒子の含有率は、1重量%以上かつ90重量%以下が好ましく、より好ましくは1重量%以上かつ60重量%以下である。
ここで、金属酸化物粒子の含有率を1重量%以上かつ90重量%以下と限定した理由は、塗布液中の金属酸化物粒子の含有率が90重量%を越えると、塗料化が困難となり、塗料の安定性、塗膜時の膜均一性、塗工性を損なう虞があるからであり、一方、塗布液中の金属酸化物粒子の含有率が1重量%未満であると、所定の膜厚(1μm以上)の膜を形成する場合、重ね塗りが必要となり、非効率となるからである。
The content of the metal oxide particles in the coating solution for forming a reflective film is preferably 1% by weight or more and 90% by weight or less, more preferably 1% by weight or more and 60% by weight or less.
Here, the reason why the content of the metal oxide particles is limited to 1% by weight or more and 90% by weight or less is that when the content of the metal oxide particles in the coating solution exceeds 90% by weight, it becomes difficult to form a coating. This is because the stability of the paint, the film uniformity during coating, and the coating property may be impaired. On the other hand, if the content of the metal oxide particles in the coating solution is less than 1% by weight, This is because when a film having a film thickness (1 μm or more) is formed, overcoating is required, which is inefficient.

「反射膜及び反射膜付き基材」
本実施形態の反射膜は、本実施形態の反射膜形成用塗布液を塗布して塗膜を形成し、次いで、この塗膜を大気中にて乾燥または熱処理することにより、得ることができる。
本実施形態の反射膜付き基材は、基材上に本実施形態の反射膜形成用塗布液を塗布し、次いで、この塗膜付き基材を大気中にて乾燥または熱処理することにより、得ることができる。
"Reflective film and substrate with reflective film"
The reflective film of this embodiment can be obtained by applying the reflective film-forming coating solution of this embodiment to form a coating film, and then drying or heat-treating this coating film in the atmosphere.
The substrate with a reflective film of the present embodiment is obtained by applying the coating liquid for forming a reflective film of the present embodiment on a substrate, and then drying or heat-treating the substrate with a coated film in the air. be able to.

基材としては、乾燥または熱処理の際の温度に耐え得る基材であればよく、ガラス基板、透光性のセラミックス基板等が好適に用いられる。
なお、熱処理温度が200℃〜250℃程度の場合、熱変形等が生じないのであれば、耐熱性プラスチック基板も用いることができる。
As a base material, what is necessary is just a base material which can endure the temperature in the case of drying or heat processing, and a glass substrate, a translucent ceramic substrate, etc. are used suitably.
In the case where the heat treatment temperature is about 200 ° C. to 250 ° C., a heat resistant plastic substrate can also be used as long as thermal deformation does not occur.

塗布方法としては、スプレーコート法、バーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、ロールコート法、メニスカスコート法、グラビア印刷法、インクジェット法等、塗布液を基材の表面に塗布する通常のウエットコート法を用いることができる。これらの内、スプレーコート法、バーコート法、スピンコート法は、短時間で薄膜を形成することができるので、特に好ましい塗布法である。   Coating methods include spray coating, bar coating, spin coating, dip coating, screen printing, roll coating, meniscus coating, gravure printing, and ink jet coating, etc. The usual wet coating method can be used. Among these, the spray coating method, the bar coating method, and the spin coating method are particularly preferable coating methods because a thin film can be formed in a short time.

基材上に形成された塗膜を、熱風乾燥機等を用いて乾燥し、その後、塗膜中に含まれる樹脂を散逸させるために、高温焼成炉等の熱処理装置を用いて熱処理を施し、反射膜付き基材を得る。
熱処理の雰囲気は、樹脂を分解し散逸させる必要があることから、大気中が好ましい。
熱処理温度は、樹脂を分解し散逸させるに充分な温度であることが好ましく、例えば、500℃以上が好ましい。
The coating film formed on the substrate is dried using a hot air dryer or the like, and then subjected to heat treatment using a heat treatment apparatus such as a high-temperature baking furnace in order to dissipate the resin contained in the coating film. A substrate with a reflective film is obtained.
The atmosphere of the heat treatment is preferably in the air because it is necessary to decompose and dissipate the resin.
The heat treatment temperature is preferably a temperature sufficient to decompose and dissipate the resin, for example, 500 ° C. or higher.

「面光源」
本発明の面光源は、面状の光源体の少なくとも内部に、本発明の反射膜を備えたものである。
図1は、本発明の一実施形態の面光源装置を示す断面図であり、液晶ディスプレイ(LCD)の背面側に設けられる面光源装置の周縁部近傍を示したものである。
図において、1、2は所定の間隔をおいて対向配置されたガラス基板、3はガラス基板1、2の周縁部を封止する封止部材、4、5はガラス基板1、2間の空間部に蛇行した状態の放電領域を形成する隔壁、6は隔壁4、5によりガラス基板1、2間に形成された蛇行した状態の放電領域、7は反射膜、8は蛍光体層、9はガラス基板1の両側に設けられた電極である。
電極9はガラス基板1の上面の両側に設けられたもので、図1では、一方のみ図示している。
"Surface light source"
The surface light source of the present invention includes the reflective film of the present invention at least inside a planar light source body.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a surface light source device according to an embodiment of the present invention, and shows the vicinity of a peripheral portion of a surface light source device provided on the back side of a liquid crystal display (LCD).
In the figure, reference numerals 1 and 2 denote glass substrates arranged to face each other at a predetermined interval, 3 denotes a sealing member for sealing a peripheral portion of the glass substrates 1 and 2, and 4 and 5 denote spaces between the glass substrates 1 and 2. A partition wall forming a meandering discharge region, 6 is a meandering discharge region formed between the glass substrates 1 and 2 by the partition walls 4, 5, 7 is a reflective film, 8 is a phosphor layer, and 9 is a phosphor layer. These are electrodes provided on both sides of the glass substrate 1.
The electrodes 9 are provided on both sides of the upper surface of the glass substrate 1, and only one of them is shown in FIG.

この面光源装置は、ガラス基板1、2の一端部側から隔壁4を、他端部側から隔壁5を、それぞれ延伸させることでガラス基板1、2間に1つの長い蛇行状態の放電領域6を形成している。
この面光源装置では、ガラス基板1の両側に設けられた一対の電極9間に所定の電圧を印加することにより、放電領域6にプラズマ放電を発生させ、このプラズマ放電により発生した紫外線により蛍光体層8を励起させ、所定の波長の光を放出するようになっている。
This surface light source device has a long meandering discharge region 6 between the glass substrates 1 and 2 by extending the partition 4 from one end side of the glass substrates 1 and 2 and the partition 5 from the other end side, respectively. Is forming.
In this surface light source device, a predetermined voltage is applied between a pair of electrodes 9 provided on both sides of the glass substrate 1 to generate a plasma discharge in the discharge region 6, and phosphors are generated by ultraviolet rays generated by the plasma discharge. The layer 8 is excited to emit light of a predetermined wavelength.

この面光源装置では、ガラス基板1上に本発明の反射膜6を形成したので、この反射膜6の表面が平滑な面となり、外部からの入射光を散乱させることなく反射させることができ、光の利用効率を向上させることができる。
また、反射膜6自体が緻密な膜であるから、反射率が低下するおそれも無い。
また、反射膜6の膜厚が薄い場合であっても、反射膜6を光が透過する虞が無く、高反射率を保持し続けることができる。
In this surface light source device, since the reflection film 6 of the present invention is formed on the glass substrate 1, the surface of the reflection film 6 becomes a smooth surface and can reflect incident light from outside without being scattered, Light utilization efficiency can be improved.
Further, since the reflective film 6 itself is a dense film, there is no possibility that the reflectance will be lowered.
Further, even when the thickness of the reflective film 6 is thin, there is no risk of light passing through the reflective film 6 and high reflectance can be maintained.

図2は、本実施形態の面光源装置の変形例を示す断面図であり、この面光源装置が図1に示す面光源装置と異なる点は、ガラス基板1の上面全面に反射膜7を形成し、この反射膜7上に、封止部材3、隔壁4、5及び蛍光体層8を形成した点である。
この面光源装置においても、図1に示す面光源装置と全く同様の効果を奏することができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a modification of the surface light source device of this embodiment. The surface light source device is different from the surface light source device shown in FIG. 1 in that a reflective film 7 is formed on the entire upper surface of the glass substrate 1. In addition, the sealing member 3, the partition walls 4, 5 and the phosphor layer 8 are formed on the reflective film 7.
Also in this surface light source device, the same effect as the surface light source device shown in FIG. 1 can be produced.

以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
実施例及び比較例共通のビヒクルとして、ニトロセルロース溶液を作製した。
ニトロセルロース10重量部と、酢酸ブチル90重量部とを混合タンクに投入し、次いで、この混合液を攪拌機を用いて24時間以上撹拌し、ニトロセルロース溶液とした。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention concretely, this invention is not limited by these Examples.
A nitrocellulose solution was prepared as a vehicle common to the examples and comparative examples.
10 parts by weight of nitrocellulose and 90 parts by weight of butyl acetate were put into a mixing tank, and then this mixed solution was stirred for 24 hours or more using a stirrer to obtain a nitrocellulose solution.

「実施例1」
1次粒子の平均粒径0.4μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値1.1μm、同D90値2.5μmであるアルミナ粒子30重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、実施例1の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板A1を得た。
"Example 1"
Average particle size of primary particles 0.4 μm, secondary particle cumulative particle size distribution D50 value 1.1 μm, D90 value 2.5 μm of alumina particles 30 parts by weight, nitrocellulose solution 9 parts by weight, and butyl acetate 61 The parts by weight were mixed and then mixed and dispersed for 24 hours using a ball mill to obtain the coating solution of Example 1.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a heat dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate A1 with a reflective film.

「実施例2」
1次粒子の平均粒径0.4μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値1.1μm、同D90値2.5μmであるアルミナ粒子21重量部、1次粒子の平均粒径0.18μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.45μm、同D90値1.25μmであるアルミナ粒子9重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、実施例2の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板A2を得た。
"Example 2"
Average particle diameter of primary particles 0.4 μm, D50 value of secondary particle cumulative particle size distribution 1.1 μm, 21 parts by weight of alumina particles having D90 value 2.5 μm, average particle diameter of primary particles 0.18 μm, 9 parts by weight of alumina particles having a D50 value of 0.45 μm and a D90 value of 1.25 μm, 9 parts by weight of a nitrocellulose solution, and 61 parts by weight of butyl acetate are mixed, and then a ball mill is used. The coating liquid of Example 2 was obtained by mixing and dispersing for 24 hours.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Subsequently, this coating film was dried in air at 100 ° C. for 3 minutes using a heat dryer, and then baked in air at 500 ° C. for 30 minutes to obtain a substrate A2 with a reflective film.

「実施例3」
1次粒子の平均粒径0.23μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.35μm、同D90値0.9μmであるチタニア粒子30重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、実施例3の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板T1を得た。
"Example 3"
Average particle diameter of primary particles 0.23 μm, cumulative particle size distribution of secondary particles D50 value 0.35 μm, D90 value of 0.9 μm, titania particles 30 parts by weight, nitrocellulose solution 9 parts by weight, and butyl acetate 61 The parts by weight were mixed and then mixed and dispersed for 24 hours using a ball mill to obtain a coating solution of Example 3.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a heat dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate T1 with a reflective film.

「実施例4」
1次粒子の平均粒径0.4μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値1.1μm、同D90値2.5μmであるアルミナ粒子15重量部、1次粒子の平均粒径0.23μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.45μm、同D90値0.9μmであるチタニア粒子15重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、実施例4の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板AT1を得た。
Example 4
Average particle size of primary particles 0.4 μm, D50 value 1.1 μm of secondary particle cumulative particle size distribution, 15 parts by weight of alumina particles having D90 value 2.5 μm, primary particle average particle size 0.23 μm, 15 parts by weight of titania particles having a D50 value of 0.45 μm and a D90 value of 0.9 μm, 9 parts by weight of a nitrocellulose solution, and 61 parts by weight of butyl acetate are mixed, and then a ball mill is used. The coating liquid of Example 4 was obtained by mixing and dispersing for 24 hours.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a thermal dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate AT1 with a reflective film.

「比較例1」
1次粒子の平均粒径2.0μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値2.5μm、同D90値4.0μmであるアルミナ粒子30重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、比較例1の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板A3を得た。
“Comparative Example 1”
Average particle diameter of primary particles 2.0 μm, cumulative particle size distribution of secondary particles D50 value 2.5 μm, D90 value 4.0 μm 30 parts by weight of alumina particles, nitrocellulose solution 9 parts by weight, and butyl acetate 61 The parts by weight were mixed and then mixed and dispersed for 24 hours using a ball mill to obtain a coating solution of Comparative Example 1.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a heat dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate A3 with a reflective film.

「比較例2」
1次粒子の平均粒径0.02μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.4μm、同D90値0.7μmであるアルミナ粒子30重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、比較例2の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板A4を得た。
"Comparative Example 2"
Average particle size of primary particles: 0.02 μm, D50 value of secondary particle size distribution: 0.4 μm, D90 value: 30 parts by weight of alumina particles, 9 parts by weight of nitrocellulose solution, and butyl acetate 61 The parts by weight were mixed and then mixed and dispersed for 24 hours using a ball mill to obtain a coating solution of Comparative Example 2.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a heat dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate A4 with a reflective film.

「比較例3」
1次粒子の平均粒径0.03μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.45μm、同D90値0.8μmであるチタニア粒子30重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、比較例3の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板T2を得た。
“Comparative Example 3”
Average particle size of primary particles: 0.03 μm, D50 value of secondary particle cumulative particle size distribution: 0.45 μm, titania particles having D90 value of 0.8 μm, 30 parts by weight of nitrocellulose solution, and butyl acetate 61 The parts by weight were mixed and then mixed and dispersed for 24 hours using a ball mill to obtain a coating solution of Comparative Example 3.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a thermal dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate T2 with a reflective film.

「比較例4」
1次粒子の平均粒径0.02μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.4μm、同D90値0.7μmであるアルミナ粒子15重量部、1次粒子の平均粒径0.03μm、2次粒子の累積粒度分布のD50値0.35μm、同D90値0.8μmであるチタニア粒子15重量部、ニトロセルロース溶液9重量部、及び酢酸ブチル61重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて24時間、混合・分散させ、比較例4の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、100℃にて3分間乾燥させ、その後、大気中、500℃にて30分間焼成を行い、反射膜付き基板AT2を得た。
“Comparative Example 4”
Average particle size of primary particles: 0.02 μm, D50 value of secondary particle cumulative particle size distribution: 0.4 μm, 15 parts by weight of alumina particles having a D90 value of 0.7 μm, average particle size of primary particles: 0.03 μm, 15 parts by weight of titania particles having a D50 value of 0.35 μm and a D90 value of 0.8 μm of the secondary particle distribution, 9 parts by weight of a nitrocellulose solution, and 61 parts by weight of butyl acetate were mixed, and then a ball mill was used. The coating liquid of Comparative Example 4 was obtained by mixing and dispersing for 24 hours.
Next, this coating solution was applied onto a glass substrate by a spray coating method to obtain a coating film.
Next, this coating film was dried at 100 ° C. for 3 minutes in the air using a thermal dryer, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a substrate AT2 with a reflective film.

「反射膜付き基板の評価」
実施例1〜4及び比較例1〜4それぞれの反射膜付き基板の膜厚、反射率、全光線透過率、密着度の各項目について、下記の装置または方法により評価を行った。また、膜の外観を目視にて観察した。
(1)膜厚
表面粗さ計 Tencor P10(KLC社製)を用いて測定した。
(2)反射率
分光光度計V−570(日本分光社製)を用いて、550nmの波長の光を照射したときの全反射率(拡散反射率)を測定した。
"Evaluation of substrate with reflective film"
The following apparatus or method evaluated each item of the film thickness of a board | substrate with a reflecting film of each of Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4, a reflectance, a total light transmittance, and a close_contact | adherence degree. Further, the appearance of the film was visually observed.
(1) Film thickness It measured using surface roughness meter Tencor P10 (made by KLC).
(2) Reflectance Using a spectrophotometer V-570 (manufactured by JASCO Corporation), the total reflectance (diffuse reflectance) when irradiated with light having a wavelength of 550 nm was measured.

(3)全光線透過率
ヘイズメータ NDH−2000(日本電色社製)を用いて測定した。
(4)密着度
粘着テープ Scotch811(住友スリーエム社製)を塗膜の表面に貼り付け、塗膜の剥離性を目視にて観察した。評価としては、剥離が全く認められなかったものを「○」、一部剥離が認められたものを「△」、完全に剥離したものを「×」とした。
(3) Total light transmittance It measured using the haze meter NDH-2000 (made by Nippon Denshoku).
(4) Adhesion level Adhesive tape Scotch 811 (manufactured by Sumitomo 3M) was applied to the surface of the coating film, and the peelability of the coating film was visually observed. In the evaluation, “◯” indicates that no peeling was observed, “Δ” indicates that partial peeling was observed, and “×” indicates that the peeling was completely removed.

(5)膜の外観
膜の表面を目視にて観察し、凹凸やクラックが全く認められなかったものを「○」、凹凸やクラックが僅かに認められたものを「△」、凹凸やクラックが明らかに認められたものを「×」とした。
以上の評価結果を表1に示す。
(5) Appearance of film When the surface of the film is visually observed, “○” indicates that no irregularities or cracks are observed, “△” indicates that irregularities or cracks are slightly observed, and irregularities or cracks are observed. Those clearly recognized were marked with “x”.
The above evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2007256876
Figure 2007256876

これらの評価結果によれば、実施例1〜4では、膜厚が58μm以下と薄く、反射率、全光線透過率、密着度ともに良好であることが分かった。また、膜の表面には凹凸やクラックが全く認められず、平滑性に優れていることが分かった。
一方、比較例1では、膜厚が180μmと極めて厚く、また、反射率及び全光線透過率は実施例1〜4と同等であるものの、密着度が低下していた。また、膜の表面は凹凸が大きく、平滑性に劣ったものであった。
また、比較例2〜4では、膜厚が100μmであり、反射率、全光線透過率ともに低下していることが分かった。また、膜の表面には凹凸が認められ、平滑性に劣っていることが分かった。
According to these evaluation results, it was found that in Examples 1 to 4, the film thickness was as thin as 58 μm or less, and the reflectance, total light transmittance, and adhesion were good. Further, it was found that the surface of the film had no irregularities or cracks and was excellent in smoothness.
On the other hand, in Comparative Example 1, the film thickness was as extremely thick as 180 μm, and the reflectivity and total light transmittance were the same as those in Examples 1 to 4, but the degree of adhesion was low. Further, the film surface had large irregularities and was inferior in smoothness.
Moreover, in Comparative Examples 2-4, the film thickness was 100 micrometers, and it turned out that both a reflectance and a total light transmittance are falling. Further, irregularities were observed on the film surface, and it was found that the film was inferior in smoothness.

本発明の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子からなる金属酸化物粒子と、バインダーとしての樹脂と、溶媒とを含有し、この金属酸化物粒子の1次粒子の平均粒径を0.1μm以上かつ1μm以下、かつ、2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が50重量%の粒径値を0.1μm以上かつ3.0μm以下とすることにより、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することができるものであるから、液晶ディスプレイ(LCD)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)はもちろんのこと、これ以外の様々な工業分野においても、その効果は大である。   The reflective film-forming coating solution of the present invention contains metal oxide particles composed of secondary particles obtained by assembling a plurality of primary particles composed of metal oxides, a resin as a binder, and a solvent. The average particle size of the primary particles of the product particles is 0.1 μm or more and 1 μm or less, and the particle size value where the cumulative percentage of the cumulative particle size distribution of the secondary particles is 50% by weight is 0.1 μm or more and 3.0 μm or less. As a result, it is possible to easily form a more uniform and dense reflective film. Therefore, not only a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD) but also various other industrial fields. However, the effect is great.

本発明の一実施形態の面光源装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface light source device of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の面光源装置の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the surface light source device of one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、2 ガラス基板
3 封止部材
4、5 隔壁
6 放電領域
7 反射膜
8 蛍光体層
9 電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Glass substrate 3 Sealing member 4, 5 Bulkhead 6 Discharge area 7 Reflective film 8 Phosphor layer 9 Electrode

Claims (6)

金属酸化物からなる1次粒子を複数個集合した2次粒子からなる金属酸化物粒子を含有してなることを特徴とする反射膜形成用塗布液。   A coating solution for forming a reflective film, comprising metal oxide particles composed of secondary particles obtained by aggregating a plurality of primary particles composed of metal oxides. 前記1次粒子の平均粒径は0.1μm以上かつ1μm以下であり、かつ、前記2次粒子の累積粒度分布の累積百分率が50重量%の粒径値は0.1μm以上かつ3.0μm以下であることを特徴とする請求項1記載の反射膜形成用塗布液。   The average particle size of the primary particles is 0.1 μm or more and 1 μm or less, and the particle size value when the cumulative percentage of the cumulative particle size distribution of the secondary particles is 50% by weight is 0.1 μm or more and 3.0 μm or less. The coating liquid for reflecting film formation according to claim 1, wherein: 前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化イットリウムの群から選択される1種または2種以上であることを特徴とする請求項1または2記載の反射膜形成用塗布液。   The metal oxide is one or more selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, and yttrium oxide. The coating liquid for reflecting film formation as described. 請求項1、2または3記載の反射膜形成用塗布液を塗布し、乾燥または熱処理してなることを特徴とする反射膜。   A reflective film obtained by applying the coating liquid for forming a reflective film according to claim 1, 2 or 3, and drying or heat-treating it. 基材上に請求項4記載の反射膜を形成してなることを特徴とする反射膜付き基材。   A substrate with a reflective film, wherein the reflective film according to claim 4 is formed on a substrate. 面状の光源体の少なくとも内部に、請求項4記載の反射膜を備えてなることを特徴とする面光源。   A surface light source comprising the reflective film according to claim 4 at least inside a planar light source body.
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