JP2007248695A - Electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

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JP2007248695A JP2006070661A JP2006070661A JP2007248695A JP 2007248695 A JP2007248695 A JP 2007248695A JP 2006070661 A JP2006070661 A JP 2006070661A JP 2006070661 A JP2006070661 A JP 2006070661A JP 2007248695 A JP2007248695 A JP 2007248695A
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Atsushi Kitagawa
篤史 北川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device in which the number of colors of color filters can be increased without decreasing the productivity, and to provide electronic equipment equipped with the liquid crystal device. <P>SOLUTION: The liquid crystal device has pixels 1f each composed of a plurality of subpixels 1e corresponding to respective colors, wherein the plurality of subpixels 1e include subpixels 1e(R), 1e(G), and 1e(B) of a first type for a plurality of colors which have corresponding colors predetermined by color filters 26(R), 26(G), and 26(B) where colored layers 260(R), 260(G), and 260(G) of the plurality of colors are each formed of a single layer, and subpixels 1e(BG) of a second type which have corresponding colors predetermined by a color filter 26(BG) where colored layers of two or more colors among the colored layers 260(R), 260(G), and 260(B) of the plurality of colors are layered. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、所定色のカラーフィルタを備えた複数のサブ画素により画素が構成された電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device in which pixels are configured by a plurality of sub-pixels including a color filter of a predetermined color, and an electronic apparatus including the electro-optical device.

各種の電気光学装置のうち、例えば、液晶ディスプレイ等に用いられる液晶装置は、一般に、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の着色層からなるカラーフィルタにより、画素を構成するサブ画素を各々、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応させている。また、色再現性などといった表示品位を向上することを目的に、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に青緑色(BG)を加えて、計4色分のカラーフィルタを構成し、画素を構成するサブ画素を各々、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、青緑色(BG)に対応させることも提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−306023号公報
Among various electro-optical devices, for example, a liquid crystal device used for a liquid crystal display or the like is generally a sub-pixel that includes a color filter including red (R), green (G), and blue (B) colored layers. Each pixel corresponds to red (R), green (G), and blue (B). In addition, for the purpose of improving display quality such as color reproducibility, a blue color (BG) is added to red (R), green (G), and blue (B) to form a total of four color filters. In addition, it has been proposed that the sub-pixels constituting the pixel correspond to red (R), green (G), blue (B), and blue-green (BG), respectively (for example, see Patent Document 1).
JP 2001-306003 A

しかしながら、基板上にカラーフィルタを形成するには、スピンコート法などにより液状の着色材を基板上に塗布した後、露光、現像して着色層を所定位置に形成する工程を繰り返す必要があるため、カラーフィルタの数を3種類から4種類に増やすと、その分、生産性が低下するという問題点がある。   However, in order to form a color filter on a substrate, it is necessary to repeat a process of forming a colored layer in a predetermined position by applying a liquid colorant on the substrate by spin coating or the like, and then exposing and developing. When the number of color filters is increased from three to four, there is a problem that the productivity is reduced accordingly.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことのできる電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an electro-optical device capable of increasing the number of colors of a color filter without reducing productivity, and an electronic apparatus including the electro-optical device. It is in.

上記課題を解決するために、本発明では、各色に対応する複数のサブ画素により画素が構成された電気光学装置において、前記複数のサブ画素には、複数色の着色層が各々、単層で形成されたカラーフィルタにより対応する色が規定された複数色分の第1のタイプのサブ画素と、前記複数色の着色層のうち、2色以上の着色層が積層されたカラーフィルタにより対応する色が規定された第2のタイプのサブ画素とが含まれていることを特徴とする。   In order to solve the above problem, according to the present invention, in the electro-optical device in which a pixel is configured by a plurality of sub-pixels corresponding to each color, the plurality of sub-pixels each include a plurality of colored layers in a single layer. The first type sub-pixels for a plurality of colors whose corresponding colors are defined by the formed color filter and the color filter in which two or more color layers are stacked among the plurality of color layers are supported. And a second type of sub-pixel having a defined color.

本発明の電気光学装置において、画素は複数色に対応するサブ画素によって構成されているが、第2のタイプのサブ画素のカラーフィルタは、第1のタイプのサブ画素に用いた着色層と同一材料の着色層を複数、積層した構造を有しているため、例えば、3種類の着色層で4種類以上のカラーフィルタを形成できる。また、第2のタイプのサブ画素のカラーフィルタは、第1のタイプのサブ画素のカラーフィルタの製造工程を利用して形成できる。それ故、本形態によれば、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことができ、色再現性に優れた電気光学装置を安価に提供することができる。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the pixel includes sub-pixels corresponding to a plurality of colors, but the color filter of the second type sub-pixel is the same as the colored layer used for the first type sub-pixel. Since it has a structure in which a plurality of colored layers of materials are laminated, for example, four or more types of color filters can be formed with three types of colored layers. The color filter of the second type sub-pixel can be formed by using the manufacturing process of the color filter of the first type sub-pixel. Therefore, according to this embodiment, the number of colors of the color filter can be increased without reducing productivity, and an electro-optical device excellent in color reproducibility can be provided at low cost.

本発明では、前記第2のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さは、当該着色層と同色に対応する前記第1のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さより薄いことが好ましい。このように構成すると、第2のタイプのサブ画素に形成したカラーフィルタは、十分な透過率を備えているので、色再現性を向上することができる。   In the present invention, the thickness of the colored layer formed in the second type sub-pixel is greater than the thickness of the colored layer formed in the first type sub-pixel corresponding to the same color as the colored layer. Thin is preferred. With this configuration, the color filter formed in the second type sub-pixel has sufficient transmittance, so that color reproducibility can be improved.

本発明において、前記第2のタイプのサブ画素には、当該第2のタイプのサブ画素に形
成された前記着色層に下層側で重なる透明樹脂層を備えたサブ画素が含まれている構成を採用することができる。このように構成すると、スピンコート法により、着色層を形成するための感光性樹脂を塗布した際、透明樹脂層の上層では感光性樹脂の膜厚が薄くなる。それ故、ハーフトーンマスクなどを用いなくても、膜厚の厚い着色層と薄い着色層とを同時に形成することができる。
In the present invention, the second type sub-pixel includes a sub-pixel including a transparent resin layer that overlaps the colored layer formed on the second type sub-pixel on the lower layer side. Can be adopted. If comprised in this way, when the photosensitive resin for forming a colored layer will be apply | coated by the spin coat method, the film thickness of the photosensitive resin will become thin in the upper layer of a transparent resin layer. Therefore, a thick colored layer and a thin colored layer can be formed simultaneously without using a halftone mask or the like.

本発明において、前記透明樹脂層の厚さは、前記第1のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さ以下であることが好ましい。   In the present invention, the thickness of the transparent resin layer is preferably equal to or less than the thickness of the colored layer formed in the first type sub-pixel.

本発明において、前記画素には、前記第1のタイプのサブ画素が3色分、形成されている構成を採用することができる。   In the present invention, the pixel may employ a configuration in which the first type sub-pixels are formed for three colors.

本発明は、一対の基板間に液晶層が保持された液晶装置(電気光学装置)に適用できる他、エレクトロルミネッセンス素子などの自発光素子から出射された白色光をカラーフィルタで着色するタイプの電気光学装置にも適用できる。また、液晶装置の場合には、透過型および反射型のいずれにも適用できる。さらに、本発明は、液晶装置が半透過反射型の場合でも適用でき、半透過反射型の場合、前記第1のタイプのサブ画素および前記第2のタイプのサブ画素は各々、透過光により画像を表示する透過表示領域と、反射光により画像を表示する反射表示領域とを備えている。このような半透過反射型の場合、前記カラーフィルタの厚さは、前記反射表示領域より前記透過表示領域で厚いことが好ましい。   The present invention can be applied to a liquid crystal device (electro-optical device) in which a liquid crystal layer is held between a pair of substrates, as well as an electric type of coloring white light emitted from a self-luminous element such as an electroluminescence element with a color filter. It can also be applied to optical devices. Further, in the case of a liquid crystal device, it can be applied to both a transmission type and a reflection type. Further, the present invention can be applied to a case where the liquid crystal device is a transflective type. In the case of the transflective type, the first type sub-pixel and the second type sub-pixel are each imaged by transmitted light. A transmissive display area for displaying the image, and a reflective display area for displaying an image with reflected light. In the case of such a transflective type, the color filter is preferably thicker in the transmissive display area than in the reflective display area.

また、透過型あるいは半透過反射型の液晶装置では、前記一対の基板の一方に対してバックライト光を出射するバックライト装置が配置され、本発明では、当該バックライト装置は、前記第2のタイプのサブ画素が対応する色付近に強度ピークを備えた光を出射することが好ましい。   In the transmissive or transflective liquid crystal device, a backlight device that emits backlight light is disposed on one of the pair of substrates. In the present invention, the backlight device includes the second device. It is preferable to emit light having an intensity peak near the color corresponding to the type of sub-pixel.

本発明に係る液晶装置は、モバイルコンピュータや携帯電話機などの電子機器において表示部として用いることができる。   The liquid crystal device according to the present invention can be used as a display unit in an electronic device such as a mobile computer or a mobile phone.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings used for the following description, the scales are different for each layer and each member in order to make each layer and each member large enough to be recognized on the drawing.

[実施の形態1]
(液晶装置の全体構成)
図1(a)、(b)はそれぞれ、液晶装置(電気光学装置)をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。図2は、図1に示す液晶装置の素子基板の電気的な構成を示す説明図である。
[Embodiment 1]
(Overall configuration of liquid crystal device)
FIGS. 1A and 1B are a plan view of a liquid crystal device (electro-optical device) as viewed from the side of the counter substrate together with each component formed thereon, and a cross-sectional view thereof taken along the line HH ′. . FIG. 2 is an explanatory diagram showing an electrical configuration of the element substrate of the liquid crystal device shown in FIG.

図1(a)、(b)において、本形態の液晶装置1は、TN(Twisted Nematic)モード、ECB(Electrically Controlled Birefringence)モード、あるいはVAN(Vertical Aligned Nematic)モードの透過型のアクティブマトリクス型の液晶装置であり、シール材22を介して素子基板10(素子基板)と対向基板20(対向基板)とが貼り合わされ、その間に液晶1kが保持されている。素子基板10において、シール材22の外側に位置する端部領域には、データ線駆動用IC60、および走査線駆動用IC30が実装されているとともに、基板辺に沿って実装端子12が形成されている。シール材22は、素子基板10と対向基板20とをそれらの周辺で貼り合わせるための光硬化樹脂や熱硬化性樹脂などからなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー、あ
るいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。なお、シール材22には、その途切れ部分によって液晶注入口25が形成され、液晶1kを注入した後、封止材26により封止されている。
1A and 1B, a liquid crystal device 1 according to the present embodiment includes a TN (Twisted Nematic) mode, an ECB (Electrically Controlled Birefringence) mode, or a VAN (Vertical Aligned Nematic) mode transmissive active matrix type. In the liquid crystal device, the element substrate 10 (element substrate) and the counter substrate 20 (counter substrate) are bonded to each other through the sealing material 22, and the liquid crystal 1k is held therebetween. In the element substrate 10, the data line driving IC 60 and the scanning line driving IC 30 are mounted on the end region located outside the sealing material 22, and the mounting terminals 12 are formed along the substrate side. Yes. The sealing material 22 is an adhesive made of a photo-curing resin or a thermosetting resin for bonding the element substrate 10 and the counter substrate 20 around them, and is used for setting the distance between the substrates to a predetermined value. Gap materials such as glass fiber or glass beads are blended. Note that a liquid crystal injection port 25 is formed in the sealing material 22 by the discontinuous portion, and after the liquid crystal 1k is injected, the liquid crystal 1k is sealed with the sealing material 26.

詳しくは後述するが、素子基板10には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ1cや画素電極2aがマトリクス状に形成され、その表面に配向膜19が形成されている。これに対して、対向基板20には、シール材22の内側領域に遮光性材料からなる額縁24(図1(b)では図示を省略)が形成され、その内側が画像表示領域1aになっている。対向基板20には、図示を省略するが、各画素の縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜(図1(b)には図示せず)が形成され、その上層側には、対向電極28および配向膜29が形成されている。また、図1(b)では図示を省略するが、対向基板20において、素子基板10の各画素に対向する領域には、後述するカラーフィルタがその保護膜とともに形成され、それにより、液晶装置1をモバイルコンピュータ、携帯電話機、液晶テレビなどといった電子機器のカラー表示装置として用いることができる。   As will be described in detail later, on the element substrate 10, thin film transistors 1c and pixel electrodes 2a as switching elements are formed in a matrix, and an alignment film 19 is formed on the surface thereof. On the other hand, on the counter substrate 20, a frame 24 (not shown in FIG. 1B) made of a light-shielding material is formed in the inner region of the sealing material 22, and the inner side becomes the image display region 1a. Yes. Although not shown, a light-shielding film (not shown in FIG. 1B) called a black matrix or black stripe is formed on the counter substrate 20 in a region facing the vertical and horizontal boundary regions of each pixel. On the upper layer side, a counter electrode 28 and an alignment film 29 are formed. Although not shown in FIG. 1B, in the counter substrate 20, a color filter to be described later is formed together with the protective film in a region facing each pixel of the element substrate 10, whereby the liquid crystal device 1. Can be used as a color display device for electronic devices such as mobile computers, mobile phones, and liquid crystal televisions.

図2に示すように、液晶装置1では、画像表示領域1aに相当する領域に複数のソース線6a(データ線)およびゲート線3a(走査線)が互いに交差する方向に形成され、これらの配線の交差部分に対応する位置に、表示の最小単位となるサブ画素1eが構成されている。ゲート線3aは走査線駆動用IC30から延びており、ソース線6aはデータ線駆動用IC60から延びている。また、素子基板10には、液晶1kの駆動を制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ1cが各サブ画素1eに形成され、薄膜トランジスタ1cのソースにはソース線6aが電気的に接続され、薄膜トランジスタ1cのゲートにはゲート線3aが電気的に接続されている。素子基板10には、ゲート線3aと並行して容量線3bが形成されている。本形態では、薄膜トランジスタ1cに対して、対向基板20との間に構成された液晶容量1gが直列に接続されているとともに、液晶容量1gに対して並列に保持容量1hが接続されている。ここで、容量線3bは、走査線駆動用IC30に接続されているが、定電位に保持されている。このように構成した液晶装置1では、薄膜トランジスタ1cを一定期間だけそのオン状態とすることにより、ソース線6aから供給される画像信号を各サブ画素1eの液晶容量1gに所定のタイミングで書き込む。このようにして液晶容量1gに書き込まれた所定レベルの画像信号は、液晶容量1gで一定期間保持されるとともに、保持容量1hは、液晶容量1gに保持された画像信号がリークするのを防止している。   As shown in FIG. 2, in the liquid crystal device 1, a plurality of source lines 6a (data lines) and gate lines 3a (scanning lines) are formed in an area corresponding to the image display area 1a in a direction intersecting with each other. A sub-pixel 1e serving as a minimum unit of display is configured at a position corresponding to the crossing portion. The gate line 3a extends from the scanning line driving IC 30 and the source line 6a extends from the data line driving IC 60. In addition, on the element substrate 10, a pixel switching thin film transistor 1c for controlling driving of the liquid crystal 1k is formed in each sub-pixel 1e, and a source line 6a is electrically connected to a source of the thin film transistor 1c. A gate line 3a is electrically connected to the gate. In the element substrate 10, a capacitor line 3b is formed in parallel with the gate line 3a. In this embodiment, a liquid crystal capacitor 1g configured between the thin film transistor 1c and the counter substrate 20 is connected in series, and a holding capacitor 1h is connected in parallel to the liquid crystal capacitor 1g. Here, the capacitor line 3b is connected to the scanning line driving IC 30, but is held at a constant potential. In the liquid crystal device 1 configured as described above, the image signal supplied from the source line 6a is written to the liquid crystal capacitance 1g of each sub-pixel 1e at a predetermined timing by turning on the thin film transistor 1c for a certain period. The image signal of a predetermined level written in the liquid crystal capacitor 1g in this way is held in the liquid crystal capacitor 1g for a certain period, and the hold capacitor 1h prevents the image signal held in the liquid crystal capacitor 1g from leaking. ing.

このように構成した液晶装置1においてカラー画像を表示するために、表示の最小単位となるサブ画素1eは各々、所定の色(赤色(R)、緑色(G)、青色(B))に対応するサブ画素1e(R)、(G)、(B)として形成されており、これらの複数のサブ画素1eによって、1つの画素1fが構成されている。   In order to display a color image in the liquid crystal device 1 configured as described above, each of the sub-pixels 1e serving as a minimum display unit corresponds to a predetermined color (red (R), green (G), blue (B)). The sub-pixels 1e (R), (G), and (B) are formed, and a plurality of sub-pixels 1e constitute one pixel 1f.

さらに、本形態では、詳しくは後述するように、複数のサブ画素1eには青緑色(BG)に対応するサブ画素1e(BG)が含まれており、本形態では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、および青緑色(BG)に対応する計4色のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)によって1つの画素1fが構成されている。   Further, in this embodiment, as will be described in detail later, the plurality of sub-pixels 1e include sub-pixels 1e (BG) corresponding to blue-green (BG). In this embodiment, red (R), green A total of four sub-pixels 1e (R), (G), (B), and (BG) corresponding to (G), blue (B), and blue-green (BG) constitute one pixel 1f. .

(各画素の構成)
図3(a)、(b)は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置の画素1つ分の平面図、およびそのA1−A1′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。なお、図3(a)では、画素電極を太くて長い点線で示し、ゲート線およびそれを同時形成された薄膜を実線で示し、ソース線およびそれを同時形成された薄膜を一点鎖線で示し、半導体膜を細くて短い点線で示してある。
(Configuration of each pixel)
3A and 3B are a plan view of one pixel of the liquid crystal device according to Embodiment 1 of the present invention, and a cross section when the liquid crystal device is cut at a position corresponding to A1-A1 ′ thereof. FIG. In FIG. 3A, the pixel electrode is indicated by a thick and long dotted line, the gate line and a thin film formed simultaneously with it are indicated by a solid line, the source line and a thin film formed simultaneously with it are indicated by a one-dot chain line, The semiconductor film is shown with a thin and short dotted line.

図3(a)に示すように、素子基板10では、ゲート線3aとソース線6aで囲まれた領域がサブ画素1eとして構成され、サブ画素1eには、ボトムゲート型の薄膜トランジスタ1cの能動層を構成するアモルファスシリコン膜からなる半導体層7aが形成されている。また、ゲート線3aからの突出部分によってゲート電極が形成されている。薄膜トランジスタ1cの能動層を構成する半導体層7aのうち、ソース側の端部には、ソース線6aがソース電極として重なっており、ドレイン側の端部にはドレイン電極6bが重なっている。また、ゲート線3aと並列して容量線3bが形成されている。また、サブ画素1eには、容量線3bからの突出部分を下電極3cとし、ドレイン電極6bからの延設部分を上電極6cとする保持容量1hが形成されている。また、上電極6cに対しては、コンタクトホール81、91を介して、ITO膜からなる画素電極2aが電気的に接続されている。   As shown in FIG. 3A, in the element substrate 10, a region surrounded by the gate line 3a and the source line 6a is configured as a subpixel 1e, and the subpixel 1e includes an active layer of a bottom gate type thin film transistor 1c. A semiconductor layer 7a made of an amorphous silicon film is formed. A gate electrode is formed by a protruding portion from the gate line 3a. Of the semiconductor layer 7a constituting the active layer of the thin film transistor 1c, the source line 6a overlaps as a source electrode at the end on the source side, and the drain electrode 6b overlaps at the end on the drain side. A capacitor line 3b is formed in parallel with the gate line 3a. Further, the sub-pixel 1e is formed with a storage capacitor 1h in which the protruding portion from the capacitor line 3b is the lower electrode 3c and the extended portion from the drain electrode 6b is the upper electrode 6c. Further, the pixel electrode 2a made of an ITO film is electrically connected to the upper electrode 6c through contact holes 81 and 91.

このように構成した素子基板10のA1−A1′断面は、図3(b)に示すように表される。まず、ガラス基板や石英基板からなる絶縁基板11上には、ゲート線3a(ゲート電極)および容量線3bが形成されているとともに、ゲート電極(ゲート線3a)から側方にずれた位置には保持容量1hの下電極3cが形成されている。ゲート線3aの上層側にはゲート線3aを覆うようにゲート絶縁層4が形成されている。ここで、ゲート絶縁層4のうち、下電極3cと重なる部分は保持容量1hの誘電体膜4cとして用いられている。ゲート絶縁層4の表面のうち、ゲート線3aの上層には、薄膜トランジスタ1cの能動層を構成する半導体層7a(アモルファスシリコン膜)が形成されている。半導体層7aのうち、ソース領域の上層には、ドープトシリコン膜からなるオーミックコンタクト層7b、およびアルミニウム膜やクロム膜からなるソース線6aが形成され、ドレイン領域の上層にはオーミックコンタクト層7c、およびアルミニウム膜やクロム膜からなるドレイン電極6bが形成され、薄膜トランジスタ1cが構成されている。また、ドレイン電極6bの延設部分によってアルミニウム膜やクロム膜からなる保持容量1hの上電極6cが形成されている。さらに、ソース線6a、ドレイン電極6b、および上電極6cの上層側には、シリコン窒化膜などからなるパッシベーション膜8、および感光性樹脂層からなる平坦化膜9が各々、層間絶縁膜として形成されており、平坦化膜9の表面に形成された画素電極2aは、平坦化膜9に形成されたコンタクトホール91、およびパッシベーション膜8に形成されたコンタクトホール81を介して上電極6cに電気的に接続し、この上電極6cおよびドレイン電極6bを介して薄膜トランジスタ1cのドレイン領域に電気的に接続している。なお、画素電極2aの表面には配向膜19が形成されている。   The A1-A1 ′ cross section of the element substrate 10 configured as described above is expressed as shown in FIG. First, a gate line 3a (gate electrode) and a capacitor line 3b are formed on an insulating substrate 11 made of a glass substrate or a quartz substrate, and at a position shifted laterally from the gate electrode (gate line 3a). A lower electrode 3c of the storage capacitor 1h is formed. A gate insulating layer 4 is formed on the upper layer side of the gate line 3a so as to cover the gate line 3a. Here, a portion of the gate insulating layer 4 that overlaps the lower electrode 3c is used as the dielectric film 4c of the storage capacitor 1h. Of the surface of the gate insulating layer 4, a semiconductor layer 7a (amorphous silicon film) constituting an active layer of the thin film transistor 1c is formed above the gate line 3a. Of the semiconductor layer 7a, an ohmic contact layer 7b made of a doped silicon film and a source line 6a made of an aluminum film or a chromium film are formed in the upper layer of the source region, and the ohmic contact layer 7c, A drain electrode 6b made of an aluminum film or a chromium film is formed to form a thin film transistor 1c. Further, the upper electrode 6c of the storage capacitor 1h made of an aluminum film or a chromium film is formed by the extended portion of the drain electrode 6b. Further, on the upper layer side of the source line 6a, drain electrode 6b, and upper electrode 6c, a passivation film 8 made of a silicon nitride film or the like and a planarizing film 9 made of a photosensitive resin layer are respectively formed as interlayer insulating films. The pixel electrode 2 a formed on the surface of the planarizing film 9 is electrically connected to the upper electrode 6 c via the contact hole 91 formed in the planarizing film 9 and the contact hole 81 formed in the passivation film 8. And is electrically connected to the drain region of the thin film transistor 1c through the upper electrode 6c and the drain electrode 6b. An alignment film 19 is formed on the surface of the pixel electrode 2a.

このように構成された素子基板10に対向するように対向基板20が配置され、素子基板10と対向基板20との間には液晶1kが保持されている。対向基板20には、各色のカラーフィルタ26、対向電極28および配向膜29が形成されており、画素電極2aと対向電極28との間に液晶容量1g(図2参照)が構成される。なお、対向基板20には隣接する画素1eの境界領域に沿ってブラックマトリクスと称せられる遮光膜23が金属膜などにより構成されている。なお、カラーフィルタ26の上層には保護膜が形成される場合もある。   The counter substrate 20 is disposed so as to face the element substrate 10 configured as described above, and the liquid crystal 1k is held between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The counter substrate 20 is provided with a color filter 26 for each color, a counter electrode 28, and an alignment film 29, and a liquid crystal capacitor 1g (see FIG. 2) is formed between the pixel electrode 2a and the counter electrode 28. In the counter substrate 20, a light shielding film 23 called a black matrix is formed of a metal film or the like along a boundary region between adjacent pixels 1e. A protective film may be formed on the color filter 26.

なお、図3(a)、(b)には、全透過型の液晶装置1の例を示してあるが、反射層をサブ画素1eの全面に形成すれば液晶装置1を全反射型として構成でき、この反射層に光透過用の開口部を形成すれば液晶装置1を半透過反射型として構成できる。なお、全透過型の液晶装置1の場合には、素子基板10および対向基板20のうちの一方の基板に対向するようにバックライト装置(図示せず)が配置され、この場合、他方の基板から表示光が出射される。全反射型の液晶装置1の場合には、素子基板10および対向基板20のうちの一方の基板に反射層が形成され、この場合、他方の基板から表示光が出射される。半透過反射型の液晶装置1の場合には、素子基板10および対向基板20のうちの一方の基
板に、開口部を備えた反射層が形成される。この場合、当該一方の基板に対向するようにバックライト装置(図示せず)が配置され、他方の基板から表示光が出射される。
3A and 3B show an example of the total transmission type liquid crystal device 1. However, if the reflective layer is formed on the entire surface of the sub-pixel 1e, the liquid crystal device 1 is configured as a total reflection type. The liquid crystal device 1 can be configured as a transflective type by forming a light transmitting opening in the reflective layer. In the case of the total transmission type liquid crystal device 1, a backlight device (not shown) is disposed so as to face one of the element substrate 10 and the counter substrate 20, and in this case, the other substrate Display light is emitted from. In the case of the total reflection type liquid crystal device 1, a reflective layer is formed on one of the element substrate 10 and the counter substrate 20, and in this case, display light is emitted from the other substrate. In the case of the transflective liquid crystal device 1, a reflective layer having an opening is formed on one of the element substrate 10 and the counter substrate 20. In this case, a backlight device (not shown) is disposed so as to face the one substrate, and display light is emitted from the other substrate.

(カラーフィルタの構成)
図4(a)、(b)は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのB1−B1′線断面図である。図5は、本発明を適用した液晶装置に用いた着色層の波長−透過率特性を示すグラフである。なお、図4(a)には、サブ画素の範囲を理解しやすいようにゲート線およびソース線を点線および一点鎖線で示してあるが、遮光膜の図示は省略してある。
(Color filter configuration)
4A and 4B are an explanatory diagram showing a planar arrangement of the color filters in the liquid crystal device according to Embodiment 1 of the present invention, and a cross-sectional view taken along line B1-B1 ′. FIG. 5 is a graph showing the wavelength-transmittance characteristics of the colored layer used in the liquid crystal device to which the present invention is applied. In FIG. 4A, the gate line and the source line are indicated by a dotted line and an alternate long and short dash line for easy understanding of the subpixel range, but the light shielding film is not shown.

図4(a)、(b)に示すように、本形態の液晶装置1は、1つの画素1fが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、および青緑色(BG)に対応する計4色のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)を備えており、かかる構成は、以下に説明する4種のカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)によって実現されている。   As shown in FIGS. 4A and 4B, in the liquid crystal device 1 of this embodiment, one pixel 1f corresponds to red (R), green (G), blue (B), and blue-green (BG). 4 sub-pixels 1e (R), (G), (B), (BG) in total, and this configuration includes four types of color filters 26 (R), (G), This is realized by (B) and (BG).

まず、赤色(R)に対応するサブ画素1e(R)は、対向基板20に対して赤色の着色層260(R)が単層で形成されたカラーフィルタ26(R)により、対応する色が赤色(R)に規定された第1のタイプのサブ画素である。   First, the sub-pixel 1e (R) corresponding to red (R) has a corresponding color due to the color filter 26 (R) in which the red coloring layer 260 (R) is formed on the counter substrate 20 as a single layer. This is a first type of sub-pixel defined in red (R).

次に、緑色(G)に対応するサブ画素1e(G)は、対向基板20に対して緑色の着色層260(G)が単層で形成されたカラーフィルタ26(G)により、対応する色が緑色(G)に規定された第1のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ26(G)は、カラーフィルタ26(R)よりも厚く形成されている。   Next, the sub-pixel 1e (G) corresponding to green (G) has a corresponding color by the color filter 26 (G) in which the green coloring layer 260 (G) is formed on the counter substrate 20 as a single layer. Are the first type sub-pixels defined in green (G). In this embodiment, the color filter 26 (G) is formed thicker than the color filter 26 (R).

次に、青色(B)に対応するサブ画素1e(B)は、対向基板20に対して青色の着色層260(B)が単層で形成されたカラーフィルタ26(B)により、対応する色が青色(B)に規定された第1のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ26(B)は、カラーフィルタ26(G)よりも薄く、カラーフィルタ26(R)と略等しい厚さに形成されている。   Next, the subpixel 1e (B) corresponding to blue (B) has a corresponding color by the color filter 26 (B) in which the blue coloring layer 260 (B) is formed as a single layer on the counter substrate 20. Are sub-pixels of the first type defined in blue (B). In this embodiment, the color filter 26 (B) is thinner than the color filter 26 (G) and is formed to have a thickness substantially equal to that of the color filter 26 (R).

これに対して、青緑色(BG)に対応するサブ画素1e(BG)は、対向基板20に対して、サブ画素1e(G)に用いた緑色の着色層260(G)と、サブ画素1e(B)に用いた青色の着色層260(B)とをこの順に積層されたカラーフィルタ26(BG)により、対応する色が青緑色(BG)に規定された第2のタイプのサブ画素である。   On the other hand, the sub-pixel 1e (BG) corresponding to blue-green (BG) has the green colored layer 260 (G) used for the sub-pixel 1e (G) and the sub-pixel 1e with respect to the counter substrate 20. The color filter 26 (BG) in which the blue colored layer 260 (B) used in (B) is laminated in this order is a second type sub-pixel in which the corresponding color is defined as blue-green (BG). is there.

本形態において、カラーフィルタ26(BG)の全体としての厚さは、他のカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)よりも厚く形成されているが、カラーフィルタ26(BG)の下層を構成する緑色の着色層260(G)は、緑色(G)のサブ画素1e(G)においてカラーフィルタ26(G)を単層で構成している緑色の着色層260(G)より膜厚が薄く、カラーフィルタ26(BG)の上層を構成する青色の着色層260(B)は、青色(B)のサブ画素1e(B)においてカラーフィルタ26(B)を単層で構成している青色の着色層260(B)より膜厚が薄い。従って、サブ画素1e(BG)では、緑色の着色層260(G)と青色の着色層260(B)との減法混色が起こるが、十分な透過率を備えている。   In this embodiment, the overall thickness of the color filter 26 (BG) is thicker than the other color filters 26 (R), (G), and (B), but the color filter 26 (BG) The green colored layer 260 (G) constituting the lower layer is a film than the green colored layer 260 (G) constituting the color filter 26 (G) as a single layer in the green (G) sub-pixel 1 e (G). The blue colored layer 260 (B), which is thin and forms the upper layer of the color filter 26 (BG), is configured by forming the color filter 26 (B) as a single layer in the blue (B) sub-pixel 1 e (B). The film thickness is thinner than the blue colored layer 260 (B). Therefore, in the sub-pixel 1e (BG), subtractive color mixing of the green colored layer 260 (G) and the blue colored layer 260 (B) occurs, but has sufficient transmittance.

すなわち、サブ画素1e(R)、(G)、(B)に形成されたカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)の波長−透過率特性は各々、図5に実線R、実線G、実線Bで示すように表わされる一方、サブ画素1e(BG)に形成されたカラーフィルタ26(BG)の下層を構成する緑色の着色層260(G)は、厚さが薄いので、波長−透過率特性を図5に点線G′で示すように表わされ、透過率が高い。また、サブ画素1e(BG)に形成さ
れたカラーフィルタ26(BG)の上層を構成する青色の着色層260(B)も、厚さが薄いので、波長−透過率特性を図5に点線B′で示すように表わされ、透過率が高い。従って、サブ画素1e(BG)では、緑色の着色層260(G)と青色の着色層260(B)とを積層してカラーフィルタ26(BG)を構成したが、カラーフィルタ26(BG)は、波長−透過率特性を図5に実線B′×G′で示すように、波長約470nm付近に比較的高い透過率のピークを有している。
That is, the wavelength-transmittance characteristics of the color filters 26 (R), (G), and (B) formed in the sub-pixels 1e (R), (G), and (B) are shown by a solid line R and a solid line in FIG. G, which is represented by a solid line B, has a small thickness because the green colored layer 260 (G) constituting the lower layer of the color filter 26 (BG) formed in the sub-pixel 1e (BG) has a small thickness. -The transmittance characteristic is represented by a dotted line G 'in FIG. 5, and the transmittance is high. Further, since the blue colored layer 260 (B) constituting the upper layer of the color filter 26 (BG) formed in the sub-pixel 1 e (BG) is also thin, the wavelength-transmittance characteristic is shown by a dotted line B in FIG. The transmittance is high as indicated by ′. Therefore, in the sub-pixel 1e (BG), the green color layer 260 (G) and the blue color layer 260 (B) are stacked to form the color filter 26 (BG). However, the color filter 26 (BG) As shown by the solid line B ′ × G ′ in FIG. 5, the wavelength-transmittance characteristic has a relatively high transmittance peak in the vicinity of the wavelength of about 470 nm.

(液晶装置1の製造方法)
本形態の液晶装置1の製造工程のうち、素子基板10などの製造工程については周知の方法を採用できるので、以下、対向基板20にカラーフィルタを製造する工程のみを説明する。
(Manufacturing method of the liquid crystal device 1)
Of the manufacturing processes of the liquid crystal device 1 of the present embodiment, a known method can be adopted for the manufacturing process of the element substrate 10 and the like, and only the process of manufacturing the color filter on the counter substrate 20 will be described below.

本形態では、まず、3色分の着色層260(R)、(G)、(B)のうち、膜厚が最も厚い着色層260(G)を形成する。この着色層260(G)の形成工程では、緑色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布した後、ハーフトーンマスクを用いて露光、現像し、サブ画素1e(G)に膜厚が厚い着色層260(G)からなるカラーフィルタ26(G)を形成するとともに、サブ画素1e(BG)には膜厚が薄い着色層260(G)を形成する。   In this embodiment, first, among the colored layers 260 (R), (G), and (B) for three colors, the colored layer 260 (G) having the largest film thickness is formed. In the formation process of the colored layer 260 (G), a photosensitive resin layer containing a green pigment is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by a spin coating method, and then exposed and developed using a halftone mask, thereby subpixels. A color filter 26 (G) composed of a thick colored layer 260 (G) is formed on 1 e (G), and a thin colored layer 260 (G) is formed on the sub-pixel 1 e (BG).

次に、着色層260(B)の形成工程では、青色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布する。その結果、サブ画素1e(BG)には、既に着色層260(G)が形成されているので、感光性樹脂層は、サブ画素1e(BG)では膜厚が薄く形成され、サブ画素1e(B)では、膜厚が厚く形成される。従って、通常のマスクを用いて露光した後、現像するだけで、サブ画素1e(B)に膜厚が厚い着色層260(B)が形成される一方、サブ画素1e(BG)には、膜厚が薄い着色層260(B)が形成される。その結果、サブ画素1e(BG)に、着色層260(B)、(G)が積層されたカラーフィルタ26(BG)が形成され、サブ画素1e(B)には、サブ画素1e(BG)より膜厚が厚い着色層260(B)からなるカラーフィルタ26(B)が形成される。   Next, in the formation process of the colored layer 260 (B), a photosensitive resin layer containing a blue pigment is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by spin coating. As a result, since the colored layer 260 (G) is already formed in the sub-pixel 1 e (BG), the photosensitive resin layer is formed thin in the sub-pixel 1 e (BG), and the sub-pixel 1 e (BG) is formed. In B), the film is formed thick. Therefore, a thick colored layer 260 (B) is formed on the sub-pixel 1 e (B) only by developing after exposure using a normal mask, while the sub-pixel 1 e (BG) has a film. A colored layer 260 (B) having a small thickness is formed. As a result, the color filter 26 (BG) in which the colored layers 260 (B) and (G) are stacked is formed on the sub-pixel 1 e (BG), and the sub-pixel 1 e (BG) includes the sub-pixel 1 e (BG). A color filter 26 (B) composed of a thicker colored layer 260 (B) is formed.

次に、着色層260(R)の形成工程では、赤色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布した後、通常のマスクを用いて露光、現像し、サブ画素1e(R)に着色層260(R)からなるカラーフィルタ26(R)を形成する。   Next, in the formation process of the colored layer 260 (R), a photosensitive resin layer containing a red pigment is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by spin coating, and then exposed and developed using a normal mask. A color filter 26 (R) including a colored layer 260 (R) is formed on the sub-pixel 1 e (R).

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の液晶装置1において、画素1fは、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、および青緑色(BG)に対応する計4色のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)によって構成されているが、サブ画素1e(BG)のカラーフィルタ26(BG)は、サブ画素1e(G)に用いた着色層260(G)と同一材料の着色層260(G)と、サブ画素1e(B)に用いた着色層260(B)と同一材料の着色層260(B)とを積層した構造を有している。従って、3種類の着色層260(R)、(G)、(B)で4種類のカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)を形成できる。また、サブ画素1e(BG)のカラーフィルタ26(BG)は、サブ画素1e(B)、(G)のカラーフィルタ26(B)、(G)の製造工程を利用して形成できる。それ故、本形態によれば、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことができる。それ故、本形態によれば、色再現性に優れた液晶装置1を安価に提供することができる。
(Main effects of this form)
As described above, in the liquid crystal device 1 according to the present embodiment, the pixel 1f has a total of four sub-pixels 1e (corresponding to red (R), green (G), blue (B), and blue-green (BG). R), (G), (B), and (BG), but the color filter 26 (BG) of the sub-pixel 1 e (BG) is the colored layer 260 (G) used for the sub-pixel 1 e (G). ), A colored layer 260 (G) made of the same material, a colored layer 260 (B) used for the sub-pixel 1 e (B), and a colored layer 260 (B) made of the same material. Accordingly, four types of color filters 26 (R), (G), (B), and (BG) can be formed with the three types of colored layers 260 (R), (G), and (B). In addition, the color filter 26 (BG) of the sub-pixel 1 e (BG) can be formed by using the manufacturing process of the color filters 26 (B) and (G) of the sub-pixels 1 e (B) and (G). Therefore, according to this embodiment, the number of colors of the color filter can be increased without reducing productivity. Therefore, according to this embodiment, the liquid crystal device 1 having excellent color reproducibility can be provided at a low cost.

しかも、カラーフィルタ26(BG)の下層を構成する緑色の着色層260(G)は、
緑色(G)のサブ画素1e(G)に形成した着色層260(G)より膜厚が薄く、カラーフィルタ26(BG)の上層を構成する青色の着色層260(B)は、サブ画素1e(B)に形成した着色層260(B)より膜厚が薄いので、カラーフィルタ26(BG)は、十分な透過率を備えている。それ故、本形態によれば、色再現性に極めて優れた液晶装置1を安価に提供することができる。
Moreover, the green colored layer 260 (G) constituting the lower layer of the color filter 26 (BG)
The blue colored layer 260 (B), which is thinner than the colored layer 260 (G) formed on the green (G) sub-pixel 1 e (G) and forms the upper layer of the color filter 26 (BG), is sub-pixel 1 e. Since the film thickness is thinner than the colored layer 260 (B) formed in (B), the color filter 26 (BG) has sufficient transmittance. Therefore, according to this embodiment, it is possible to provide the liquid crystal device 1 that is extremely excellent in color reproducibility at low cost.

[実施の形態2]
図6(a)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのB2−B2′線断面図である。なお、図6(a)には、サブ画素の範囲を理解しやすいようにゲート線およびソース線を点線および一点鎖線で示してある。また、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
[Embodiment 2]
6A and 6B are an explanatory diagram showing a planar arrangement of color filters in the liquid crystal device according to the second embodiment of the present invention, and a cross-sectional view taken along line B2-B2 '. In FIG. 6A, the gate line and the source line are indicated by a dotted line and an alternate long and short dash line so that the range of the sub-pixel can be easily understood. In addition, since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図6(a)、(b)に示すように、本形態の液晶装置1は、実施の形態1と同様、1つの画素1fが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、および青緑色(BG)に対応する計4色のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)を備えており、かかる構成は、以下に説明する4種のカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)によって実現されている。   As shown in FIGS. 6A and 6B, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, one pixel if is red (R), green (G), blue (B), and A total of four sub-pixels 1e (R), (G), (B), and (BG) corresponding to blue-green (BG) are provided, and this configuration has four types of color filters 26 (described below). R), (G), (B), (BG).

まず、赤色(R)に対応するサブ画素1e(R)は、対向基板20に対して赤色の着色層260(R)が単層で形成されたカラーフィルタ26(R)により、対応する色が赤色(R)に規定された第1のタイプのサブ画素である。   First, the sub-pixel 1e (R) corresponding to red (R) has a corresponding color due to the color filter 26 (R) in which the red coloring layer 260 (R) is formed on the counter substrate 20 as a single layer. This is a first type of sub-pixel defined in red (R).

次に、緑色(G)に対応するサブ画素1e(G)は、対向基板20に対して緑色の着色層260(G)が単層で形成されたカラーフィルタ26(G)により、対応する色が緑色(G)に規定された第1のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ26(G)は、カラーフィルタ26(R)と略等しい厚さに形成されている。   Next, the sub-pixel 1e (G) corresponding to green (G) has a corresponding color by the color filter 26 (G) in which the green coloring layer 260 (G) is formed on the counter substrate 20 as a single layer. Are the first type sub-pixels defined in green (G). In this embodiment, the color filter 26 (G) is formed to have a thickness substantially equal to that of the color filter 26 (R).

次に、青色(B)に対応するサブ画素1e(B)は、対向基板20に対して青色の着色層260(B)が単層で形成されたカラーフィルタ26(B)により、対応する色が青色(B)に規定された第1のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ26(G)、(R)と略等しい厚さに形成されている。   Next, the subpixel 1e (B) corresponding to blue (B) has a corresponding color by the color filter 26 (B) in which the blue coloring layer 260 (B) is formed as a single layer on the counter substrate 20. Are sub-pixels of the first type defined in blue (B). In this embodiment, it is formed to have a thickness substantially equal to that of the color filters 26 (G) and (R).

これに対して、青緑色(BG)に対応するサブ画素1e(BG)は、対向基板20に対して、サブ画素1e(G)に用いた緑色の着色層260(G)と、サブ画素1e(B)に用いた青色の着色層260(B)とをこの順に積層されカラーフィルタ26(BG)により、対応する色が青緑色(BG)に規定された第2のタイプのサブ画素である。   On the other hand, the sub-pixel 1e (BG) corresponding to blue-green (BG) has the green colored layer 260 (G) used for the sub-pixel 1e (G) and the sub-pixel 1e with respect to the counter substrate 20. The blue colored layer 260 (B) used in (B) is laminated in this order, and the color filter 26 (BG) is a second type of sub-pixel whose corresponding color is defined as blue-green (BG). .

ここで、サブ画素1e(BG)では、このサブ画素1e(BG)に形成された着色層260(R)、(G)に下層側に透明樹脂層25が形成されている。かかる透明樹脂層25の膜厚は、カラーフィルタ26(R)、(G)、(B)の厚さ寸法以下であるが、十分な厚さに形成されている。   Here, in the sub pixel 1e (BG), the transparent resin layer 25 is formed on the lower layer side of the colored layers 260 (R) and (G) formed in the sub pixel 1e (BG). The film thickness of the transparent resin layer 25 is not more than the thickness dimension of the color filters 26 (R), (G), and (B), but is formed to a sufficient thickness.

また、カラーフィルタ26(BG)の下層を構成する着色層260(G)は、サブ画素1e(G)においてカラーフィルタ26(G)を単層で構成している着色層260(G)より膜厚が薄く、カラーフィルタ26(BG)の上層を構成する着色層260(B)は、サブ画素1e(B)においてカラーフィルタ26(B)を単層で構成している着色層260(B)より膜厚が薄い。従って、サブ画素1e(BG)では、着色層260(G)と着色層260(B)との減法混色が起こるが、十分な透過率を備えている。   In addition, the colored layer 260 (G) constituting the lower layer of the color filter 26 (BG) is a film that is more than the colored layer 260 (G) constituting the color filter 26 (G) as a single layer in the sub-pixel 1 e (G). The colored layer 260 (B) which is thin and forms the upper layer of the color filter 26 (BG) is a colored layer 260 (B) in which the color filter 26 (B) is formed as a single layer in the sub-pixel 1 e (B). The film thickness is thinner. Accordingly, in the sub-pixel 1e (BG), although the subtractive color mixture between the colored layer 260 (G) and the colored layer 260 (B) occurs, it has sufficient transmittance.

本形態の液晶装置1の製造工程においても、素子基板10などの製造工程については周知の方法を採用できるので、以下、対向基板20にカラーフィルタを製造する工程のみを説明する。   Also in the manufacturing process of the liquid crystal device 1 of the present embodiment, since a known method can be adopted for the manufacturing process of the element substrate 10 and the like, only the process of manufacturing the color filter on the counter substrate 20 will be described below.

本形態では、まず、透明樹脂層25の形成工程を行う。それには、まず、無色透明な感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布した後、通常のマスクを用いて露光、現像し、サブ画素1e(BG)に膜厚が厚い透明樹脂層25を形成する。   In this embodiment, first, the formation process of the transparent resin layer 25 is performed. For this purpose, first, a colorless and transparent photosensitive resin layer is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by spin coating, and then exposed and developed using a normal mask, so that the sub-pixel 1e (BG) has a thick transparent film. A resin layer 25 is formed.

次に、着色層260(G)の形成工程では、緑色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布する。その結果、サブ画素1e(BG)には、既に膜厚が厚い透明樹脂層25が形成されているので、感光性樹脂層は、サブ画素1e(BG)では膜厚が薄く形成され、サブ画素1e(G)では、膜厚が厚く形成される。従って、通常のマスクを用いて露光した後、現像するだけで、サブ画素1e(G)に膜厚が厚い着色層260(G)からなるカラーフィルタ26(G)が形成される一方、サブ画素1e(BG)には、サブ画素1e(G)より膜厚が厚い着色層260(G)が形成される。   Next, in the formation process of the colored layer 260 (G), a photosensitive resin layer containing a green pigment is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by spin coating. As a result, since the transparent resin layer 25 having a large film thickness is already formed on the sub-pixel 1e (BG), the photosensitive resin layer is formed thin on the sub-pixel 1e (BG). In 1e (G), the film thickness is increased. Therefore, the color filter 26 (G) composed of the thick colored layer 260 (G) is formed on the sub-pixel 1 e (G) only by developing after exposure using a normal mask, while the sub-pixel In 1e (BG), a colored layer 260 (G) thicker than the sub-pixel 1e (G) is formed.

次に、着色層260(B)の形成工程では、青色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布する。その結果、サブ画素1e(BG)には、既に透明樹脂層25および着色層260(G)が形成されているので、感光性樹脂層は、サブ画素1e(BG)では膜厚が薄く形成され、サブ画素1e(B)では、膜厚が厚く形成される。従って、通常のマスクを用いて露光した後、現像するだけで、サブ画素1e(B)に膜厚が厚い着色層260(B)が形成される一方、サブ画素1e(BG)には、膜厚が薄い着色層260(B)が形成される。その結果、サブ画素1e(BG)に、着色層260(B)、(G)が積層されたカラーフィルタ26(BG)が形成され、サブ画素1e(B)には、サブ画素1e(BG)より膜厚が厚い着色層260(B)からなるカラーフィルタ26(B)が形成される。   Next, in the formation process of the colored layer 260 (B), a photosensitive resin layer containing a blue pigment is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by spin coating. As a result, since the transparent resin layer 25 and the colored layer 260 (G) are already formed in the sub-pixel 1e (BG), the photosensitive resin layer is formed thin in the sub-pixel 1e (BG). The sub-pixel 1e (B) is formed with a large film thickness. Therefore, a thick colored layer 260 (B) is formed on the sub-pixel 1 e (B) only by developing after exposure using a normal mask, while the sub-pixel 1 e (BG) has a film. A colored layer 260 (B) having a small thickness is formed. As a result, the color filter 26 (BG) in which the colored layers 260 (B) and (G) are stacked is formed on the sub-pixel 1 e (BG), and the sub-pixel 1 e (BG) includes the sub-pixel 1 e (BG). A color filter 26 (B) composed of a thicker colored layer 260 (B) is formed.

次に、着色層260(R)の形成工程では、赤色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布した後、通常のマスクを用いて露光、現像し、サブ画素1e(R)に着色層260(R)からなるカラーフィルタ26(R)を形成する。   Next, in the formation process of the colored layer 260 (R), a photosensitive resin layer containing a red pigment is applied to the entire surface of the counter substrate 20 by spin coating, and then exposed and developed using a normal mask. A color filter 26 (R) including a colored layer 260 (R) is formed on the sub-pixel 1 e (R).

以上説明したように、本形態の液晶装置1においても、実施の形態1と同様、3種類の着色層260(R)、(G)、(B)で4種類のカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)を形成でき、かつ、サブ画素1e(BG)のカラーフィルタ26(BG)は、サブ画素1e(B)、(G)のカラーフィルタ26(B)、(G)の製造工程を利用して形成できる。それ故、本形態によれば、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことができる。それ故、本形態によれば、色再現性に優れた液晶装置1を安価に提供することができる。   As described above, also in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, four types of color filters 26 (R), three types of colored layers 260 (R), (G), and (B), as in the first embodiment. (G), (B), (BG) can be formed, and the color filter 26 (BG) of the sub-pixel 1 e (BG) is the color filter 26 (B) of the sub-pixel 1 e (B), (G). It can form using the manufacturing process of (G). Therefore, according to this embodiment, the number of colors of the color filter can be increased without reducing productivity. Therefore, according to this embodiment, the liquid crystal device 1 having excellent color reproducibility can be provided at a low cost.

また、サブ画素1e(BG)に予め透明樹脂層25を形成しておくので、それ以降、スピンコート法で、着色層260(B)、(G)を形成するための感光性樹脂を塗布するだけで、かかる感光性樹脂は、サブ画素1e(BG)で薄く形成される。従って、ハーフトーンマスクを用いなくても、通常のマスクを用いた露光により、サブ画素1e(BG)に膜厚の薄い着色層260(B)、(G)を形成することができる。   Further, since the transparent resin layer 25 is formed in advance on the sub-pixel 1e (BG), a photosensitive resin for forming the colored layers 260 (B) and (G) is applied thereafter by spin coating. Only such a photosensitive resin is thinly formed in the sub-pixel 1e (BG). Therefore, the colored layers 260 (B) and (G) having a small thickness can be formed on the sub-pixel 1 e (BG) by exposure using a normal mask without using a halftone mask.

[実施の形態3]
(液晶装置の全体構成)
図7(a)、(b)はそれぞれ、本発明の実施の形態3に係る液晶装置の画素1つ分の
平面図、およびそのA2−A2′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。図8(a)、(b)は、本発明の実施の形態3に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのB3−B3′線断面図である。なお、図6(a)には、サブ画素の範囲を理解しやすいようにゲート線およびソース線を点線および一点鎖線で示してある。また、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
[Embodiment 3]
(Overall configuration of liquid crystal device)
FIGS. 7A and 7B are a plan view of one pixel of the liquid crystal device according to the third embodiment of the present invention, and when the liquid crystal device is cut at a position corresponding to A2-A2 ′, respectively. It is sectional drawing. 8A and 8B are an explanatory diagram showing a planar arrangement of color filters in the liquid crystal device according to Embodiment 3 of the present invention, and a cross-sectional view taken along line B3-B3 ′. In FIG. 6A, the gate line and the source line are indicated by a dotted line and an alternate long and short dash line so that the range of the sub-pixel can be easily understood. In addition, since the basic configuration of this embodiment is the same as that of the first embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図7(a)、(b)に示すように、本形態の液晶装置1では、薄膜トランジスタ1cの上層側に感光性樹脂層からなる平坦化膜9が形成され、この平坦化膜9の上層側にITO膜からなる画素電極2aが形成されている。   As shown in FIGS. 7A and 7B, in the liquid crystal device 1 of this embodiment, a planarizing film 9 made of a photosensitive resin layer is formed on the upper layer side of the thin film transistor 1c, and the upper layer side of the planarizing film 9 is formed. A pixel electrode 2a made of an ITO film is formed on the substrate.

但し、本形態の液晶装置1は、実施の形態1と違って、半透過反射型の液晶装置であり、素子基板10では、平坦化膜9と画素電極2aとの層間にアルミニウム膜などからなる反射層11が形成されている。従って、矢印L1で示すように、対向基板20の側から入射してきた外光を反射層11で反射して再び、対向基板20から出射する間に光変調を行い、反射モードで画像を表示することができる。それ故、反射層11が形成されている領域は、反射表示領域1e′とみなすことができる。   However, unlike the first embodiment, the liquid crystal device 1 of this embodiment is a transflective liquid crystal device, and the element substrate 10 is made of an aluminum film or the like between the planarizing film 9 and the pixel electrode 2a. A reflective layer 11 is formed. Therefore, as indicated by the arrow L1, external light incident from the counter substrate 20 side is reflected by the reflective layer 11 and light is modulated again while being emitted from the counter substrate 20, and an image is displayed in the reflection mode. be able to. Therefore, the region where the reflective layer 11 is formed can be regarded as the reflective display region 1e ′.

ここで、画素電極2aはサブ画素1e内の全面に形成されている一方、反射層11には開口部110が形成されている。このため、矢印L2で示すように、素子基板10の側から入射してきたバックライト光が対向基板20の側から出射する間に光変調を行い、透過モードで画像を表示することができる。従って、反射層11の開口部110に相当する領域は、透過表示領域1e″とみなすことができる。   Here, the pixel electrode 2 a is formed on the entire surface of the sub-pixel 1 e, while an opening 110 is formed in the reflective layer 11. For this reason, as indicated by the arrow L2, it is possible to perform light modulation while the backlight light incident from the element substrate 10 side is emitted from the counter substrate 20 side, and display an image in the transmission mode. Accordingly, the region corresponding to the opening 110 of the reflective layer 11 can be regarded as the transmissive display region 1e ″.

なお、本形態では、平坦化膜9の表面に凹凸が形成されており、かかる凹凸は、反射層11の表面に光散乱用の凹凸として反映されている。また、平坦化膜9において、透過表示領域1e″に相当する領域には凹部90が形成されている。このため、透過表示領域1e″における液晶1kの層厚は、反射表示領域1e′における液晶1kの層厚の約2倍になっている。従って、反射モードでは表示光が液晶1kの層中を2回通過するのに対して、透過モードでは表示光が液晶1kの層中を1回しか通過しないとしても、するリターデション(Δn・d)と、透過モードにおける表示光に対するリターデション(Δn・d)とを略一致させることができる。なお、本形態では、凹部90の底部に平坦化膜9が薄く残っているが、凹部90の底部に平坦化膜9が残っていない構成を採用してもよい。   In this embodiment, unevenness is formed on the surface of the planarizing film 9, and the unevenness is reflected as unevenness for light scattering on the surface of the reflective layer 11. Further, in the planarizing film 9, a recess 90 is formed in a region corresponding to the transmissive display region 1e ″. For this reason, the layer thickness of the liquid crystal 1k in the transmissive display region 1e ″ is equal to the liquid crystal in the reflective display region 1e ′. It is about twice the layer thickness of 1k. Accordingly, in the reflection mode, the display light passes through the layer of the liquid crystal 1k twice, whereas in the transmission mode, the retardation (Δn · d) is obtained even if the display light passes through the layer of the liquid crystal 1k only once. ) And the retardation (Δn · d) with respect to the display light in the transmission mode can be substantially matched. In this embodiment, the planarization film 9 remains thin at the bottom of the recess 90, but a configuration in which the planarization film 9 does not remain at the bottom of the recess 90 may be adopted.

また、本形態の液晶装置1でも、実施の形態1と同様、1つの画素1fが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、および青緑色(BG)に対応する計4色のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)を備えており、かかる構成は、以下に説明する4種のカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)によって実現されている。   Also in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, as in the first embodiment, one pixel 1f has a total of four colors corresponding to red (R), green (G), blue (B), and blue-green (BG). The sub-pixels 1e (R), (G), (B), and (BG) are provided, and this configuration includes four types of color filters 26 (R), (G), (B), ( BG).

まず、赤色(R)に対応するサブ画素1e(R)は、対向基板20に対して赤色の着色層260(R)が単層で形成されたカラーフィルタ26(R)により、対応する色が赤色(R)に規定された第1のタイプのサブ画素である。   First, the sub-pixel 1e (R) corresponding to red (R) has a corresponding color due to the color filter 26 (R) in which the red coloring layer 260 (R) is formed on the counter substrate 20 as a single layer. This is a first type of sub-pixel defined in red (R).

次に、緑色(G)に対応するサブ画素1e(G)は、対向基板20に対して緑色の着色層260(G)が単層で形成されたカラーフィルタ26(G)により、対応する色が緑色(G)に規定された第1のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ26(G)は、カラーフィルタ26(R)よりも厚く形成されている。   Next, the sub-pixel 1e (G) corresponding to green (G) has a corresponding color by the color filter 26 (G) in which the green coloring layer 260 (G) is formed on the counter substrate 20 as a single layer. Are the first type sub-pixels defined in green (G). In this embodiment, the color filter 26 (G) is formed thicker than the color filter 26 (R).

次に、青色(B)に対応するサブ画素1e(B)は、対向基板20に対して青色の着色層260(B)が単層で形成されたカラーフィルタ26(B)により、対応する色が青色
(B)に規定された第1のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ26(B)は、カラーフィルタ26(G)よりも薄く、カラーフィルタ26(R)と略等しい厚さに形成されている。
Next, the subpixel 1e (B) corresponding to blue (B) has a corresponding color by the color filter 26 (B) in which the blue coloring layer 260 (B) is formed as a single layer on the counter substrate 20. Are sub-pixels of the first type defined in blue (B). In this embodiment, the color filter 26 (B) is thinner than the color filter 26 (G) and is formed to have a thickness substantially equal to that of the color filter 26 (R).

これに対して、青緑色(BG)に対応するサブ画素1e(BG)は、対向基板20に対して、サブ画素1e(G)に用いた緑色の着色層260(G)と、サブ画素1e(B)に用いた青色の着色層260(B)とをこの順に積層されカラーフィルタ26(BG)により対応する色が青緑色(BG)に規定された第2のタイプのサブ画素である。   On the other hand, the sub-pixel 1e (BG) corresponding to blue-green (BG) has the green colored layer 260 (G) used for the sub-pixel 1e (G) and the sub-pixel 1e with respect to the counter substrate 20. The blue colored layer 260 (B) used in (B) is laminated in this order, and the corresponding color is defined as blue-green (BG) by the color filter 26 (BG).

本形態において、カラーフィルタ26(BG)は、他のカラーフィルタ26(R)、(B)よりも厚く形成されているが、カラーフィルタ26(BG)の下層を構成する緑色の着色層260(G)は、緑色(G)のサブ画素1e(G)においてカラーフィルタ26(G)を単層で構成している緑色の着色層260(G)より膜厚が薄く、カラーフィルタ26(BG)の上層を構成する青色の着色層260(B)は、青色(B)のサブ画素1e(B)においてカラーフィルタ26(B)を単層で構成している青色の着色層260(B)より膜厚が薄い。従って、青緑色(BG)に対応するサブ画素1e(BG)では、緑色の着色層260(G)と青色の着色層260(B)との減法混色が起こるが、十分な透過率を備えている。   In this embodiment, the color filter 26 (BG) is formed thicker than the other color filters 26 (R) and (B), but the green colored layer 260 (underlying the color filter 26 (BG)) ( G) is thinner than the green colored layer 260 (G) in which the color filter 26 (G) is formed as a single layer in the green (G) sub-pixel 1 e (G), and the color filter 26 (BG). The blue colored layer 260 (B) constituting the upper layer of the blue colored layer 260 (B) in which the color filter 26 (B) is constituted by a single layer in the blue (B) sub-pixel 1 e (B). Thin film thickness. Therefore, in the sub-pixel 1e (BG) corresponding to blue-green (BG), subtractive color mixing of the green colored layer 260 (G) and the blue colored layer 260 (B) occurs, but it has sufficient transmittance. Yes.

また、本形態では、4色分のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)のいずれにおいても、透過表示領域1e″における着色層260(R)、(G)、(B)の膜厚は、反射表示領域1e′における着色層260(R)、(G)、(B)の膜厚の約2倍になっている。このため、反射モードでは表示光がカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)を2回通過するのに対して、透過モードでは表示光がカラーフィルタ26(R)、(G)、(B)、(BG)を1回しか通過しないとしても、反射モードと透過モードとの間で表示光の色度を略一定にすることができる。   In this embodiment, in any of the subpixels 1e (R), (G), (B), and (BG) for four colors, the colored layers 260 (R), (G), The film thickness of (B) is about twice the film thickness of the colored layers 260 (R), (G), and (B) in the reflective display region 1 e ′. The display light passes through the filters 26 (R), (G), (B), and (BG) twice, whereas in the transmission mode, the display light passes through the color filters 26 (R), (G), (B), and (BG). ), The chromaticity of the display light can be made substantially constant between the reflection mode and the transmission mode.

このような液晶装置1のカラーフィルタを製造するにあたっては、各着色層260(R)、(G)、(B)を形成する際、顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板20の全面に塗布した後、ハーフトーンマスクを用いて露光、現像し、その厚さを制御すればよい。   In manufacturing such a color filter of the liquid crystal device 1, when forming each colored layer 260 (R), (G), (B), the photosensitive resin layer containing the pigment is formed on the counter substrate by spin coating. After coating on the entire surface of 20, exposure and development are performed using a halftone mask, and the thickness thereof may be controlled.

[色の種類]
上記実施の形態1〜3では、1つの画素1fが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、および青緑色(BG)に対応する計4色のサブ画素1e(R)、(G)、(B)、(BG)を備えている例であったが、例えば、以下の(1)〜(5)に示す組み合わせ
(1)赤色、青色、緑色、黄色
(2)赤色、青色、深緑色、黄色
(3)赤色、青色、エメラルド色、黄色
(4)赤色、青色、深緑色、黄緑色
(5)赤色、青緑色、深緑色、黄緑色
を採用してもよい。すなわち、4色については、波長に応じて色相が変化する可視光(波長380〜780nm)のうち、青色系の色相の着色領域、赤色系の色相の着色領域、青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域である。ここで、「系」という用語を用いているが、例えば、青色系の色相であれば、純粋の青色に限定されるものではなく、青紫色や青緑色を含むものである。赤色系の色相であれば、赤色に限定されるものではなく、橙色も含むものである。また、これらの着色領域は、色相で述べているが、当該色相は、彩度、明度を適宜変更し、色を設定し得るものである。
[Color type]
In the first to third embodiments, one pixel if is subpixels 1e (R) of a total of four colors corresponding to red (R), green (G), blue (B), and blue-green (BG) ( G), (B), and (BG) are examples. For example, combinations shown in the following (1) to (5) (1) Red, blue, green, yellow (2) Red, blue , Dark green, yellow (3) red, blue, emerald, yellow (4) red, blue, dark green, yellow green (5) red, blue green, dark green, yellow green may be adopted. That is, for the four colors, among the visible light (wavelength 380 to 780 nm) whose hue changes according to the wavelength, among the blue hue coloring area, the red hue coloring area, and the hue from blue to yellow. It is a coloring area | region of two types of hues selected by. Here, although the term “system” is used, for example, a blue hue is not limited to pure blue, and includes blue-violet and blue-green. As long as the hue is red, it is not limited to red and includes orange. In addition, although these colored regions are described as hues, the hues can be set by appropriately changing the saturation and lightness.

具体的な色相の範囲は、青色系の色相の着色領域は青紫色から青緑色であり、より好ま
しくは藍色から青色である。赤色系の色相の着色領域は橙色から赤色である。青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域のうち、一方の色相の着色領域は、青色から緑色であり、より好ましくは青緑色から緑色である。青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域のうち、他方の色相の着色領域は、緑色から橙色であり、より好ましくは緑色から黄色、若しくは緑色から黄緑色である。ここで、各着色領域は、同じ色相を用いる必要はない。例えば、青色から黄色までの色相で選択される2つの着色領域で緑色を用いる場合、他方は一方の緑色に対して青色系若しくは黄緑色系を用いる。これにより、赤色、緑色、青色を3色を用いた場合よりも広範囲の色再現性を実現することができる。
The specific hue range is that the colored region of a blue hue is blue-purple to blue-green, and more preferably indigo to blue. The colored region of the red hue is orange to red. Of the two colored hue regions selected from the blue to yellow hues, the colored region of one hue is blue to green, more preferably blue green to green. Of the two colored hue areas selected from the hues from blue to yellow, the colored area of the other hue is green to orange, more preferably green to yellow, or green to yellow-green. . Here, it is not necessary to use the same hue for each colored region. For example, when green is used in two colored regions selected in hues from blue to yellow, the other uses blue or yellow-green for one green. Thereby, a wider range of color reproducibility can be realized than when three colors of red, green and blue are used.

このような条件を波長で表現すれば以下の通りとなる。まず、青色系の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが415〜500nmにある着色領域、好ましくは、435〜485nmにある着色領域である。赤色系の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが600nm以上にある着色領域、好ましくは、605nm以上にある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域のうち、一方の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが485〜535nmにある着色領域、好ましくは、495〜520nmにある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域のうち、他方の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが500〜590nmにある着色領域、好ましくは、510〜585nmにある着色領域、若しくは530〜565nmにある着色領域である。ここに示す波長は、透過表示の場合は、バックライト装置からのバックライト光がカラーフィルタを通して得られた数値である。反射表示の場合、外光を反射して得られた数値である。   If such a condition is expressed in terms of wavelength, it is as follows. First, a colored region having a blue hue is a colored region having a wavelength peak of light of 415 to 500 nm, preferably 435 to 485 nm, which is transmitted through the colored region. The colored region having a red hue is a colored region having a wavelength peak of light transmitted through the colored region of 600 nm or more, and preferably a colored region of 605 nm or more. Among the colored regions of two hues selected from the hues from blue to yellow, the colored region of one hue is a colored region having a wavelength peak of light of 485 to 535 nm transmitted through the colored region, Preferably, it is a colored region at 495 to 520 nm. Among the colored regions of two hues selected from the hues from blue to yellow, the colored region of the other hue is a colored region having a wavelength peak of light transmitted through the colored region of 500 to 590 nm, Preferably, it is a colored region at 510 to 585 nm, or a colored region at 530 to 565 nm. The wavelength shown here is a numerical value obtained when the backlight light from the backlight device is obtained through the color filter in the case of transmissive display. In the case of reflective display, it is a numerical value obtained by reflecting external light.

また、上記の条件をCIE標準表色系のx、y色度図で表現すると、まず、青色系の色相の着色領域は、x≦0.151、y≦0.200にある着色領域、好ましくは、0.134≦x≦0.151、0.034≦y≦0.200にある着色領域である。赤色系の色相の着色領域は、0.520≦x、y≦0.360にある着色領域、好ましくは、0.550≦x≦0.690、0.210≦y≦0.360にある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域のうち、一方の色相の着色領域は、x≦0.200、0.210≦yにある着色領域、好ましくは、0.080≦x≦0.200、0.210≦y≦0.759にある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された2種の色相の着色領域のうち、他方の色相の着色領域は、0.257≦x、0.450≦yにある着色領域、好ましくは、0.257≦x≦0.520、0.450≦y≦0.720にある着色領域である。ここに示すx、y色度図は、透過表示の場合は、バックライト装置からのバックライト光がカラーフィルタを通して得られた数値である。反射表示の場合、外光を反射して得られた数値である。   In addition, when the above condition is expressed by an x, y chromaticity diagram of the CIE standard color system, first, a colored region of a blue hue is a colored region in which x ≦ 0.151 and y ≦ 0.200, preferably Is a colored region where 0.134 ≦ x ≦ 0.151 and 0.034 ≦ y ≦ 0.200. The colored region of the red hue is a colored region in which 0.520 ≦ x and y ≦ 0.360, preferably 0.550 ≦ x ≦ 0.690 and 0.210 ≦ y ≦ 0.360. It is an area. Of the two colored hue regions selected from the hues from blue to yellow, the colored region of one hue is a colored region where x ≦ 0.200 and 0.210 ≦ y, preferably 0 0.080 ≦ x ≦ 0.200 and 0.210 ≦ y ≦ 0.759. Of the two colored hue regions selected from the hues from blue to yellow, the colored region of the other hue is a colored region having 0.257 ≦ x and 0.450 ≦ y, preferably 0. .257 ≦ x ≦ 0.520 and 0.450 ≦ y ≦ 0.720. The x and y chromaticity diagrams shown here are numerical values obtained when the backlight light from the backlight device is obtained through the color filter in the case of transmissive display. In the case of reflective display, it is a numerical value obtained by reflecting external light.

[バックライトの構成]
本発明を適用した液晶装置1を全透過型あるいは半透過反射型として用いる場合、素子基板10あるいは対向基板20に対向するようにバックライト装置が配置される。この場合のRGB光源としては、LED、蛍光管、有機エレクトロルミネッセンス型発光装置を用いることができる。また、白色光源を用いてもよく、白色光源は、青色の発光体とYGA蛍光体により生成される白色光源を用いてもよい。
[Backlight configuration]
When the liquid crystal device 1 to which the present invention is applied is used as a total transmission type or a transflective type, a backlight device is disposed so as to face the element substrate 10 or the counter substrate 20. As the RGB light source in this case, an LED, a fluorescent tube, or an organic electroluminescence light emitting device can be used. Further, a white light source may be used, and a white light source generated by a blue light emitter and a YGA phosphor may be used as the white light source.

これらの光源のうち、RGB光源としては、「B」は光の波長のピークが435〜485nmのもの、「G」は光の波長のピークが520〜545nmのもの、「B」は光の波長のピークが610〜650nmのものが好ましい。そして、RGB光源の波長によって、カラーフィルタを適宜選定すれば、広範囲の色再現性を得ることができる。また、波長が例えば、450nmと、565nmにピークがくるような光源を用いてもよい。   Among these light sources, as RGB light sources, “B” has a light wavelength peak of 435 to 485 nm, “G” has a light wavelength peak of 520 to 545 nm, and “B” has a light wavelength. Preferably have a peak of 610 to 650 nm. If a color filter is appropriately selected depending on the wavelength of the RGB light source, a wide range of color reproducibility can be obtained. Moreover, you may use the light source which a wavelength has a peak, for example at 450 nm and 565 nm.

さらに本発明では、第1のタイプのサブ画素で用いた複数の着色層を第2のタイプのサブ画素で積層して、第2のタイプのサブ画素のカラーフィルタを構成するため、第2のタイプのサブ画素のカラーフィルタについては制約が大きいので、このカラーフィルタに対応する色付近に強度ピークを備えた光を出射するバックライト装置を用いれば、かかる制約に起因する問題を解消することができる。   Furthermore, in the present invention, since the plurality of colored layers used in the first type sub-pixel are stacked in the second type sub-pixel to form the color filter of the second type sub-pixel, Since the type of sub-pixel color filter is very limited, the use of a backlight device that emits light having an intensity peak near the color corresponding to this color filter can solve the problem caused by the limitation. it can.

[その他の実施の形態]
また、上記実施の形態では、4色分のサブ画素1eを構成したが、5色以上のサブ画素1eを構成してもよい。また、上記形態では、カラーフィルタ26の配置にストライプ配列を採用したが、これに限らず、モザイク配列などを採用した場合でも本発明を適用することができる。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the sub-pixels 1e for four colors are configured, but sub-pixels 1e for five or more colors may be configured. In the above embodiment, the stripe arrangement is adopted for the arrangement of the color filters 26. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied even when a mosaic arrangement or the like is adopted.

さらに、上記実施の形態では、TNモード、ECBモード、VANモードのアクティブマトリクス型の液晶装置を例に説明したが、IPS(In−Plane Switching)モードの液晶装置に本発明を適用してもよい。   Further, in the above embodiment, the active matrix liquid crystal device in the TN mode, the ECB mode, and the VAN mode has been described as an example. However, the present invention may be applied to an IPS (In-Plane Switching) mode liquid crystal device. .

さらにまた、本発明は、液晶装置の他、エレクトロルミネッセンス素子などの自発光素子から出射された白色光をカラーフィルタで着色するタイプの電気光学装置にも適用できる。   Furthermore, the present invention can be applied not only to a liquid crystal device but also to an electro-optical device of a type that colors white light emitted from a self-luminous element such as an electroluminescence element with a color filter.

[電子機器の実施形態]
図9は、本発明に係る液晶装置を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、パーソナルコンピュータや携帯電話機などであり、表示情報出力源170、表示情報処理回路171、電源回路172、タイミングジェネレータ173、そして液晶装置1を有する。また、液晶装置1は、パネル175および駆動回路176を有しており、前述した液晶装置1を用いることができる。表示情報出力源170は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ173によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路171に供給する。表示情報処理回路171は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路176へ供給する。電源回路172は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
[Embodiment of Electronic Device]
FIG. 9 shows an embodiment in which the liquid crystal device according to the present invention is used as a display device of various electronic devices. The electronic device shown here is a personal computer, a cellular phone, or the like, and includes a display information output source 170, a display information processing circuit 171, a power supply circuit 172, a timing generator 173, and the liquid crystal device 1. Further, the liquid crystal device 1 includes a panel 175 and a drive circuit 176, and the above-described liquid crystal device 1 can be used. The display information output source 170 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and the like, and is generated by a timing generator 173. Display information such as an image signal in a predetermined format is supplied to the display information processing circuit 171 based on the various clock signals. The display information processing circuit 171 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like, executes processing of input display information, and outputs the image. The signal is supplied to the drive circuit 176 together with the clock signal CLK. The power supply circuit 172 supplies a predetermined voltage to each component.

(a)、(b)はそれぞれ、本発明が適用される液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。(A), (b) is the top view which looked at the liquid crystal device to which this invention is applied from the opposite substrate side with each component formed on it, and its HH 'sectional drawing, respectively. 図1に示す液晶装置の素子基板の電気的な構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the electrical structure of the element substrate of the liquid crystal device shown in FIG. (a)、(b)は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置の画素1つ分の平面図、およびそのA1−A1′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。(A), (b) is the top view for one pixel of the liquid crystal device which concerns on Embodiment 1 of this invention, and sectional drawing when a liquid crystal device is cut | disconnected in the position corresponded to A1-A1 '. is there. (a)、(b)は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのB1−B1′線断面図である。(A), (b) is explanatory drawing which shows the planar arrangement | positioning of the color filter in the liquid crystal device which concerns on Embodiment 1 of this invention, and its B1-B1 'line sectional drawing. 本発明を適用した液晶装置に用いた着色層の波長−透過率特性を示すグラフである。It is a graph which shows the wavelength-transmittance characteristic of the colored layer used for the liquid crystal device to which this invention is applied. (a)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのB2−B2′線断面図である。(A), (b) is explanatory drawing which shows the planar arrangement | positioning of the color filter in the liquid crystal device which concerns on Embodiment 2 of this invention, and its B2-B2 'sectional view taken on the line. (a)、(b)はそれぞれ、本発明の実施の形態3に係る液晶装置の画素1つ分の平面図、およびそのA2−A2′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。(A), (b) is the top view for one pixel of the liquid crystal device which concerns on Embodiment 3 of this invention, respectively, and sectional drawing when a liquid crystal device is cut | disconnected in the position corresponded to A2-A2 ' It is. (a)、(b)は、本発明の実施の形態3に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのB3−B3′線断面図である。(A), (b) is explanatory drawing which shows the planar arrangement | positioning of the color filter in the liquid crystal device which concerns on Embodiment 3 of this invention, and its B3-B3 'sectional view taken on the line. 本発明に係る液晶装置を各種の電子機器の表示装置として用いた場合の説明図である。It is explanatory drawing at the time of using the liquid crystal device which concerns on this invention as a display apparatus of various electronic devices.

符号の説明Explanation of symbols

1・・液晶装置、1c・・薄膜トランジスタ、1e・・サブ画素、1f・・画素、1g・・液晶容量、1h・・保持容量、1k・・液晶、2a・・画素電極、3a・・ゲート線(ゲート電極/走査線)、6a・・ソース線(データ線)、6b・・ドレイン電極、26・・カラーフィルタ、260・・着色層 1. Liquid crystal device, 1c, Thin film transistor, 1e, Sub pixel, 1f, Pixel, 1g, Liquid crystal capacitance, 1h, Retention capacitance, 1k, Liquid crystal, 2a, Pixel electrode, 3a, Gate line (Gate electrode / scanning line), 6a ... Source line (data line), 6b ... Drain electrode, 26 ... Color filter, 260 ... Color layer

Claims (8)

各色に対応する複数のサブ画素により画素が構成された電気光学装置において、
前記複数のサブ画素には、複数色の着色層が各々、単層で形成されたカラーフィルタにより、対応する色が規定された複数色分の第1のタイプのサブ画素と、前記複数色の着色層のうち、2色以上の着色層が積層されたカラーフィルタにより、対応する色が規定された第2のタイプのサブ画素とが含まれていることを特徴とする電気光学装置。
In an electro-optical device in which a pixel is configured by a plurality of sub-pixels corresponding to each color,
In the plurality of sub-pixels, a plurality of color layers are each formed of a single layer, and a plurality of colors of the first type sub-pixels corresponding to the plurality of colors defined by the color filter, 2. An electro-optical device comprising: a second type sub-pixel in which a corresponding color is defined by a color filter in which two or more colored layers are stacked among the colored layers.
前記第2のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さは、当該着色層と同色に対応する前記第1のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さより薄いことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The thickness of the colored layer formed on the second type sub-pixel is smaller than the thickness of the colored layer formed on the first type sub-pixel corresponding to the same color as the colored layer. The electro-optical device according to claim 1. 前記第2のタイプのサブ画素には、当該第2のタイプのサブ画素に形成された前記着色層に下層側で重なる透明樹脂層を備えたサブ画素が含まれていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。   The second type sub-pixel includes a sub-pixel including a transparent resin layer that overlaps the colored layer formed in the second type sub-pixel on a lower layer side. Item 5. The electro-optical device according to Item 2. 前記透明樹脂層の厚さは、前記第1のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さ以下であることを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。   4. The electro-optical device according to claim 3, wherein a thickness of the transparent resin layer is equal to or less than a thickness of the colored layer formed in the first type sub-pixel. 前記画素には、前記第1のタイプのサブ画素が3色分、形成されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の電気光学装置。   5. The electro-optical device according to claim 1, wherein the first type sub-pixels are formed for three colors in the pixel. 6. 一対の基板の間に液晶が保持され、
前記第1のタイプのサブ画素および前記第2のタイプのサブ画素は各々、透過光により画像を表示する透過表示領域と、反射光により画像を表示する反射表示領域とを備え、
前記カラーフィルタの厚さは、前記反射表示領域より前記透過表示領域で厚いことを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の電気光学装置。
Liquid crystal is held between a pair of substrates,
Each of the first type sub-pixel and the second type sub-pixel includes a transmissive display area that displays an image with transmitted light, and a reflective display area that displays an image with reflected light,
The electro-optical device according to claim 1, wherein a thickness of the color filter is larger in the transmissive display region than in the reflective display region.
一対の基板の間に液晶が保持されているとともに、当該一対の基板の一方の基板に対してバックライト光を出射するバックライト装置が配置され、
当該バックライト装置は、前記第2のタイプのサブ画素が対応する色付近に強度ピークを備えた光を出射することを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の液晶装置。
A liquid crystal is held between the pair of substrates, and a backlight device that emits backlight light to one of the pair of substrates is disposed,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the backlight device emits light having an intensity peak in the vicinity of a color corresponding to the second type sub-pixel.
請求項1乃至7の何れか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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