JP2007232404A - Method for measuring active matrix tft array - Google Patents

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将之 木暮
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-speed measuring method for performing charge characteristics tests on holding capacitors of TFT arrays and holding characteristics tests. <P>SOLUTION: Electric charge of a holding capacitor of a first pixel circuit is measured when a prescribed holding time has elapsed since charged, and a charge characteristics test is performed on a third pixel circuit which has not been yet charged in a TFT array provided with a plurality of pixel circuits each having a holding capacitor; a switching transistor for connecting a data line; and a gate line for controlling the operation of the transistor. Then a second pixel circuit is charged; its electric charge of a holding capacitor is measured when a prescribed holding time has elapsed, and a charge characteristics test is performed on a holding capacitor of a fourth pixel circuit which has not been yet charged. Then a third pixel circuit is charged; its electric charge of a holding capacitor is measured when a prescribed holding time has elapsed, and electric charge of a holding capacitor of the fourth pixel circuit is measured when a prescribed holding time has elapsed in this method. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、アクティブマトリックス表示パネルのTFT(薄膜トランジスタ)アレイのチャージ特性及び保持特性の測定方法に関する。   The present invention relates to a method for measuring charge characteristics and retention characteristics of a TFT (thin film transistor) array of an active matrix display panel.

液晶あるいはエレクトロルミネッセンス(以後ELと記す。例えば有機ELあるいは無機ELのEL素子が知られている)によるアクティブマトリクス表示パネルの試験においては、各画素回路がマトリクス状にパネル上に形成されたTFTアレイについて、アレイテストと呼ばれる各画素毎の回路試験をする。このアレイテストに使われるTFTアレイには、本明細書においては、液晶またはELなどの発光材料を形成する前の状態であってもよいし、それらの発光材料を形成された後の状態のものも含むものとする。一般的には、高価な画素形成前に不良品を除去することが、製造コスト低減のために望ましい。   In a test of an active matrix display panel using liquid crystal or electroluminescence (hereinafter referred to as EL, for example, an EL element of organic EL or inorganic EL), a TFT array in which each pixel circuit is formed on the panel in a matrix form. A circuit test for each pixel called an array test is performed. In this specification, the TFT array used for this array test may be in a state before forming a light emitting material such as liquid crystal or EL, or in a state after the light emitting material is formed. Shall also be included. In general, it is desirable to remove defective products before forming expensive pixels in order to reduce manufacturing costs.

これらの表示パネルのTFTアレイの各画素回路は、おおむね、画素を選択する画素選択トランジスタと、画素に供給する電圧を蓄積する保持容量、および、供給電圧に応じて画素を駆動する画素駆動部で構成される。   Each pixel circuit of the TFT array of these display panels is generally composed of a pixel selection transistor for selecting a pixel, a storage capacitor for storing a voltage to be supplied to the pixel, and a pixel driving unit for driving the pixel in accordance with the supply voltage. Composed.

アレイテストの試験の一つに、この保持容量の保持特性を調べる試験がある(以下、本明細書では「保持特性試験」または「保持特性測定」と呼ぶ)。これは、保持容量に所定の電荷を書き込み、所定の保持時間(一般的に、フレーム時間の16.7msであることが多い)経過後、残っている電荷を読み出して評価する試験である。特許文献1の図13、図14、段落49〜55には、アクティブマトリクス液晶表示パネルのTFTアレイについての保持特性試験における、測定時間短縮のアルゴリズムが示されている。   One of the array test tests is a test for examining the holding characteristics of the holding capacitor (hereinafter referred to as “holding characteristic test” or “holding characteristic measurement”). This is a test in which a predetermined charge is written in a storage capacitor, and the remaining charge is read and evaluated after a predetermined storage time (generally, 16.7 ms in many cases). 13 and 14 of Patent Document 1 and paragraphs 49 to 55 show an algorithm for shortening the measurement time in the holding characteristic test for the TFT array of the active matrix liquid crystal display panel.

他方、近年のアクティブマトリクス液晶表示パネルについては、非特許文献1に記載されているように、TFTアレイの水平あるいは垂直シフトレジスタに双方向のシフト方向に対応したシフトレジスタを設けたものがある。   On the other hand, as described in Non-Patent Document 1, some recent active matrix liquid crystal display panels include a shift register corresponding to a bidirectional shift direction in a horizontal or vertical shift register of a TFT array.

さらに、特許文献2に記載されるように、保持容量に電荷を書き込み、直ちに、あるいは、保持時間よりも短い時間だけ待って、保持容量の電荷を読み出す試験が知られている(本明細書ではこれを「チャージ特性試験」または「チャージ特性測定」と呼ぶ)。   Further, as described in Patent Document 2, a test is known in which a charge is written into a storage capacitor and the charge of the storage capacitor is read immediately or after waiting for a time shorter than the retention time (in this specification, the test is performed). This is called “charge characteristic test” or “charge characteristic measurement”).

特開平7−5408号公報、図13、図14、段落49〜55JP-A-7-5408, FIG. 13, FIG. 14, paragraphs 49-55 特開平5−5866号公報JP-A-5-5866 ソニー、LCX028BMT(4.6cm(1.8-inch)Black-and-White LCD Panel) Data SheetSony, LCX028BMT (4.6cm (1.8-inch) Black-and-White LCD Panel) Data Sheet

特許文献1の図13に開示されている試験方法を元に、画素選択用シフトレジスタへの制御線を備えたアクティブマトリクス表示パネルのTFTアレイに対して、本発明者が推測する保持容量の測定方法を考察すると、以下のようになる。
なお、ここでは、特許文献1と同様に、保持容量への書き込み時間Twと読み出し時間Trは共に等しくτであるとして考察する。
Based on the test method disclosed in FIG. 13 of Patent Document 1, the measurement of the storage capacitance estimated by the present inventor for a TFT array of an active matrix display panel having a control line to a pixel selection shift register The method is as follows.
Here, as in Patent Document 1, it is considered that both the write time Tw to the storage capacitor and the read time Tr are equal to τ.

図13に本発明者の推測する一般的な試験装置1300のブロック図として示すように、TFTアレイ1302にはデータ線を選択するHシフトレジスタ(水平方向シフトレジスタ)1340とゲート線を選択するVシフトレジスタ(垂直方向シフトレジスタ)1342が備えられ、これらにより、画素(代表的に1356、1358、1360として示す)が選択され、試験される。両シフトレジスタには、クロック端子(CLK_H 1328、CLK_V 1348)とパルス入力端子(Start_H 1330、Start_V 1346)が設けられていて、これらによりシフト操作を行う。Vシフトレジスタには、イネーブル端子(ENB_V)が接続されている。Hシフトレジスタには、電源端子1324に電荷計Q 1310と可変電圧源1322が直列に接続されている。   As shown in FIG. 13 as a block diagram of a general test apparatus 1300 estimated by the present inventor, the TFT array 1302 has an H shift register (horizontal shift register) 1340 for selecting a data line and a V for selecting a gate line. Shift registers (vertical shift registers) 1342 are provided to select and test pixels (typically shown as 1356, 1358, 1360). Both shift registers are provided with a clock terminal (CLK_H 1328, CLK_V 1348) and a pulse input terminal (Start_H 1330, Start_V 1346), which perform a shift operation. An enable terminal (ENB_V) is connected to the V shift register. In the H shift register, a charge meter Q 1310 and a variable voltage source 1322 are connected in series to a power supply terminal 1324.

ところで、当業者には容易に理解できるように、特許文献1の図13による測定方法では、まとめて書き込みと読み出しを行う画素に対する保持時間Thをどの画素に対しても等しくする必要があるため、TwとTrは等しくすることが必要である。しかしながら、保持容量への書き込み時間Twと読み出し時間Trに関して実際的に考察すると、これらは必ずしも等しい必要はなく、一般的にはTrがTwの2倍以上かかり、Tw<Trであることを考慮すると、このアルゴリズムは次に示すように非効率である。   By the way, as can be easily understood by those skilled in the art, in the measurement method according to FIG. 13 of Patent Document 1, it is necessary to make the holding time Th for the pixels to be written and read collectively equal for all the pixels. Tw and Tr need to be equal. However, when actually considering the write time Tw to the storage capacitor and the read time Tr, these are not necessarily equal. In general, Tr takes twice or more of Tw, and considering that Tw <Tr. This algorithm is inefficient as follows.

図13に示す試験装置から考えられる測定アルゴリズムを、図14のタイミングチャートを用いて説明する。なお、この試験方法では、全画素を複数の画素グループに分割し、各画素グループごとに試験をする手順となる。ここでは、j番目の画素グループに着目して説明する。1番目の画素Pj,1の保持容量に対して、時刻t0から書き込み時間W(すなわち特許文献1の図13のTw)をかけて書き込みすなわち充電した後、保持時間H(すなわち特許文献1の図13のTh)経過後の時刻t3から読み出し時間Rをかけて電荷を読み出しすなわち測定する。次の画素Pj,2の測定については、読み出しの開始をPj,1の読み出し終了直後の時刻t4になるようにしたとしても、各画素の保持時間Hを確保する為には、直前の画素Pj,1への書き込み終了時刻t1から、画素Pj,2への書き込み開始時刻t2の間にA1の待ち時間が生じてしまう。 A measurement algorithm conceivable from the test apparatus shown in FIG. 13 will be described using the timing chart of FIG. In this test method, all pixels are divided into a plurality of pixel groups, and the test is performed for each pixel group. Here, a description will be given focusing on the j-th pixel group. The storage capacitor of the first pixel P j, 1 is written or charged over time T 0 to writing time W (ie, Tw in FIG. 13 of Patent Document 1), and then held time H (ie, Patent Document 1). In FIG. 13, the charge is read out, that is, measured over the readout time R from time t 3 after the passage of Th). Regarding the measurement of the next pixel P j, 2 , even if the start of reading is time t 4 immediately after the end of reading of P j, 1 , in order to ensure the holding time H of each pixel, from the write end time t 1 to the pixel P j, 1, latency a 1 is generated between the write start time t 2 to the pixels P j, 2.

図14に示した方法では、各画素グループの画素の数Nは、保持時間Hと読み出し時間Rの関係から、最大N=H/R個となる。また画素グループの数は全部でM個とする。   In the method shown in FIG. 14, the number N of pixels in each pixel group is N = H / R at the maximum from the relationship between the holding time H and the reading time R. The number of pixel groups is M in total.

なお、今後、本明細書中ではj番目の画素グループのi番目の画素をPj,iと表すとする。画素グループとは、画素のうち、1グループとしてまとめて測定、あるいは、試験すなわち検査される画素を示す。 In the following description, the i-th pixel of the j-th pixel group is represented as P j, i in the present specification. The pixel group refers to pixels that are measured or tested, that is, inspected as a group of pixels.

なお図14においてA2とは、保持時間Hと読み出し時間Rとの関係で端数となった待ち時間である。 In FIG. 14, A 2 is a waiting time that is a fraction due to the relationship between the holding time H and the reading time R.

さて、この待ち時間A1の表示パネル全体における合計は、例えば非特許文献1の表示パネルの画素数1280×1024=1,310,720に対し、書き込み時間と読み出し時間の差すなわち待ち時間を例えば20μsと見積もったとしても、26秒にも達する。 The total of the waiting time A 1 in the entire display panel is, for example, the difference between the writing time and the reading time, that is, the waiting time, for example, for the number of pixels 1280 × 1024 = 1,310,720 of the display panel of Non-Patent Document 1. Even if it is estimated to be 20 μs, it reaches 26 seconds.

ところで、チャージ特性試験を行うと、図13に示されるTFTアレイ1302において、試験される画素の画素選択トランジスタ、その画素に接続されているデータ線、Hシフトレジスタ1340、その画素に接続されているゲート線、Vシフトレジスタ1342の動作が検証される。
従来は、保持特性試験は長い時間がかかる試験であったので、最初にチャージ特性試験を行って、TFTアレイの良否を見極めてから、保持特性試験を行うというように、別個の試験として行われていた。しかしながら、このように別個の試験として行うと、良品のTFTアレイの各画素については、結果的に、2回の試験をセットアップをしているために試験時間がさらにかかることになっていた。
By the way, when the charge characteristic test is performed, in the TFT array 1302 shown in FIG. 13, the pixel selection transistor of the pixel to be tested, the data line connected to the pixel, the H shift register 1340, and the pixel are connected. The operation of the gate line, V shift register 1342 is verified.
Conventionally, the holding characteristic test has been a long test. Therefore, the charge characteristic test is first performed to determine the quality of the TFT array, and then the holding characteristic test is performed. It was. However, when the test is performed as a separate test in this manner, each pixel of the non-defective TFT array results in additional test time because two tests are set up.

そこで、本発明で解決しようとする課題は、TFTアレイの保持容量のチャージ特性試験と保持特性試験を共に行う場合において、高速な試験方法を提供することである。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a high-speed test method when both the charge characteristic test and the retention characteristic test of the retention capacity of the TFT array are performed.

さらに、本発明で解決しようとする別の課題は、保持容量のチャージ特性試験と保持特性試験を共に行う場合において、高速でありながら高精度の試験方法を提供することである。   Furthermore, another problem to be solved by the present invention is to provide a high-speed and high-accuracy test method when performing both the charge characteristic test and the retention characteristic test of the retention capacitor.

本発明の上記の目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。   The above object of the present invention can be achieved by a combination of features described in the independent claims. The dependent claims define further advantageous specific examples of the present invention.

本発明による保持容量を備えた複数の画素回路を含むアクティブマトリクスのTFTアレイの測定方法の第1の態様は、複数の画素回路の各々において、保持容量と、該保持容量にデータ線を接続するためのスイッチング用トランジスタと、スイッチング用トランジスタのスイッチング動作を制御するゲート線を備え、複数の画素回路には少なくとも第1と第2と第3と第4の画素回路を備え、該測定方法は、充電後所定の保持時間経過した第1の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第3の画素回路の保持容量にチャージ特性測定を行い、その後、充電し、次に、充電後所定の保持時間経過した第2の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第4の画素回路の保持容量にチャージ特性測定を行い、その後、充電し、次に、前記所定の保持時間経過後に前記第3の画素回路の保持容量の電荷を測定し、次に、前記所定の保持時間経過後に前記第4の画素回路の保持容量の電荷を測定するステップを含むことを主要な特徴とする。   According to the first aspect of the method of measuring an active matrix TFT array including a plurality of pixel circuits having a storage capacitor according to the present invention, a storage capacitor and a data line are connected to the storage capacitor in each of the plurality of pixel circuits. And a gate line for controlling a switching operation of the switching transistor, and the plurality of pixel circuits include at least first, second, third, and fourth pixel circuits, and the measurement method includes: After measuring the charge of the storage capacitor of the first pixel circuit after a predetermined hold time has elapsed after charging, the charge characteristic is measured for the storage capacitor of the third pixel circuit that has not yet been charged. In addition, after measuring the charge of the storage capacitor of the second pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed after charging, charge characteristics are measured on the storage capacitor of the fourth pixel circuit that is not yet charged. And then charging, and then measuring the charge of the storage capacitor of the third pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed, and then holding the fourth pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed The main feature is that it includes the step of measuring the charge of the capacitor.

上記の態様において、本発明は、所定の保持時間経過した前記第1の画素回路で測定するステップの前に、第1と第2の画素回路のそれぞれの保持容量にチャージ特性測定を行い、その後、充電し、次に、第1と第2の画素回路の保持容量を充電するステップの前に、第1と前記第2の画素回路を第1の画素グループに割り当て、第3と前記第4の画素回路を第2の画素グループに割り当てるステップをさらに含むことを特徴とする態様を含む。   In the above aspect, the present invention performs charge characteristic measurement on each holding capacitor of the first and second pixel circuits before the step of measuring with the first pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed, and thereafter Before the step of charging and then charging the storage capacitors of the first and second pixel circuits, the first and second pixel circuits are assigned to the first pixel group, and the third and fourth The method further includes the step of assigning the pixel circuit to the second pixel group.

上記第1の態様における画素回路を画素グループに割り当てるステップにおいて、本発明は、第1の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、第2の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線に隣接する第2のゲート線とに接続されるように割り当て、第3の画素回路は、第1のデータ線に隣接する第2のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、第4の画素回路は、第2のデータ線と、第2のデータ線とに接続されるように割り当てる
態様も含む。
In the step of assigning the pixel circuit in the first aspect to the pixel group, the present invention is such that the first pixel circuit is connected to the first data line and the first gate line, and the second pixel circuit is The third pixel circuit is assigned to be connected to the first data line and the second gate line adjacent to the first gate line, and the third pixel circuit is connected to the second data line adjacent to the first data line. And the fourth pixel circuit includes a mode in which the fourth pixel circuit is assigned to be connected to the second data line and the second data line.

また、本発明は、上記の画素回路を画素グループに割り当てるステップにおいて、第1の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、第2の画素回路は、第1のデータ線に隣接する第2のデータ線と、第1のゲート線に隣接する第2のゲート線とに接続されるように割り当て、第3の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線に隣接し第2のゲート線とは反対側にある第3のゲート線とに接続され、第4の画素回路は、第2のデータ線と、第1のゲート線とに接続されるように割り当てる態様も含む。   According to the present invention, in the step of assigning the pixel circuit to the pixel group, the first pixel circuit is connected to the first data line and the first gate line, and the second pixel circuit is The third pixel circuit includes a first data line, a second data line adjacent to the first data line, and a second gate line adjacent to the first gate line. The fourth pixel circuit is connected to the third data line and the first gate line, which is connected to the third gate line adjacent to the first gate line and opposite to the second gate line. An aspect of assigning to be connected is also included.

さらに、本発明は、上記画素回路を画素グループに割り当てるステップにおいて、第1の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、第2の画素回路は、第1のデータ線に隣接する第2のデータ線と、第1のゲート線に隣接する第2のゲート線とに接続されるように割り当て、第3の画素回路は、第1のデータ線に隣接し第2のデータ線とは反対側にある第3のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、第4の画素回路は、第1のデータ線と、第2のゲート線とに接続されるように割り当てる態様も含む。   Furthermore, according to the present invention, in the step of assigning the pixel circuit to the pixel group, the first pixel circuit is connected to the first data line and the first gate line, and the second pixel circuit is The third pixel circuit is adjacent to the first data line, and is assigned to be connected to the second data line adjacent to the first data line and the second gate line adjacent to the first gate line. The fourth pixel circuit is connected to the first data line and the second gate line, and is connected to the third data line and the first gate line on the opposite side of the second data line. A mode of assigning as described is also included.

さらに本発明は、上記の第1及び第2及び第3及び第4の画素回路のいずれかが充電されている時は、該充電されている画素回路の電荷が測定されるまでは、該充電されている画素回路につながるゲート線につながる他の画素回路は充電も測定もされていない態様も含む。   Furthermore, according to the present invention, when any one of the first, second, third, and fourth pixel circuits is charged, the charging is performed until the charge of the charged pixel circuit is measured. Another pixel circuit connected to the gate line connected to the pixel circuit that is connected also includes a mode in which neither charging nor measurement is performed.

さらに本発明は、上記の第1及び第2及び第3及び第4の画素回路のいずれかが測定されるときは、該測定される画素回路につながるデータ線につながる他の画素回路は充電されていない態様も含む。   Furthermore, according to the present invention, when any one of the first, second, third and fourth pixel circuits is measured, the other pixel circuits connected to the data line connected to the measured pixel circuit are charged. Also included is an embodiment that is not.

さらに本発明の別の態様では、保持容量を備えた複数の画素回路を含むアクティブマトリクスのTFTアレイの測定を行う方法であって、複数の画素回路の各々は、保持容量と、該保持容量にデータ線を接続するためのスイッチング用トランジスタと、スイッチング用トランジスタのスイッチング動作を制御するゲート線を備え、複数の画素回路には少なくとも第1と第2と第3と第4の画素回路を備え、測定方法は、複数の画素回路から、所定数の画素回路を第1及び第2の画素グループに割り当て、第1の画素グループの各画素回路を各々チャージ特性測定し、その後充電し、次に、第1の画素グループの画素回路の一つから電荷を測定し、前記第2の画素グループの画素回路の一つをチャージ特性測定し、その後充電することを、両画素グループの各画素回路について行い、次に、第2の画素グループの各画素回路から電荷を測定するステップを含み、この割り当てるステップにおいて、第1と第2の画素グループそれぞれにおいては、各画素回路は互いにゲート線が異なるように割り当て、電荷の測定が終了した画素回路につながるデータ線あるいはゲート線につながる画素回路であって、該ゲート線につながる別の画素回路であって、まだ充電されていない画素回路を、次に充電するように、前記第1と第2の画素グループの各画素回路を割り当てることを主要な特徴とする。   Furthermore, in another aspect of the present invention, there is provided a method for measuring an active matrix TFT array including a plurality of pixel circuits each having a storage capacitor. Each of the plurality of pixel circuits includes a storage capacitor and a storage capacitor. A switching transistor for connecting the data line; a gate line for controlling a switching operation of the switching transistor; and a plurality of pixel circuits including at least first, second, third, and fourth pixel circuits, The measurement method includes assigning a predetermined number of pixel circuits from the plurality of pixel circuits to the first and second pixel groups, measuring the charge characteristics of each of the pixel circuits of the first pixel group, and then charging, The charge is measured from one of the pixel circuits of the first pixel group, the charge characteristic of one of the pixel circuits of the second pixel group is measured, and then charged. Performing for each pixel circuit in the group, and then measuring the charge from each pixel circuit in the second pixel group, wherein in each of the assigning steps, each pixel circuit in each of the first and second pixel groups is A pixel circuit connected to a data line or a gate line connected to a pixel circuit that has been assigned a different gate line and has been subjected to charge measurement, and is another pixel circuit connected to the gate line that has not yet been charged The main feature is that each pixel circuit of the first and second pixel groups is assigned so that the pixel circuit is charged next.

また、上記の本発明では、この割り当てるステップにおける前記第1と第2の画素グループそれぞれにおける割り当ては、各画素回路は互いにゲート線だけでなくデータ線も異なるように割り当て、電荷の測定が終了した画素回路につながるデータ線あるいはゲート線につながる画素回路を充電する際には、該データ線あるいは該ゲート線につながる別の画素回路が充電されていない画素回路を選択して、次に充電するように、前記第1と第2の画素グループの各画素回路を割り当てる態様を含む。   In the present invention described above, the allocation in each of the first and second pixel groups in the allocation step is performed such that each pixel circuit is allocated not only to the gate line but also to the data line, and the charge measurement is completed. When charging a data circuit connected to a pixel circuit or a pixel circuit connected to a gate line, a pixel circuit that is not charged with another pixel circuit connected to the data line or the gate line is selected and then charged. Includes a mode in which the pixel circuits of the first and second pixel groups are allocated.

さらに、上記の本発明では、TFTアレイは双方向シフトレジスタを備えたことを特徴とする態様を含み、上記において、チャージ特性測定とは、保持容量に充電し、直ちに保持容量の電荷を測定することを特徴とする態様や、上記において、チャージ特性測定が、保持容量に充電し、所定の保持時間が経過する前に保持容量の電荷を測定することを特徴とする態様も含む。   Furthermore, in the above-described present invention, the TFT array includes a mode in which a bidirectional shift register is provided. In the above, the charge characteristic measurement means that the storage capacitor is charged and the storage capacitor is immediately measured. In addition, the charge characteristic measurement includes charging the storage capacitor and measuring the charge of the storage capacitor before a predetermined holding time elapses.

さらに、本発明による別の態様では、保持容量を備えた複数の画素回路を含むアクティブマトリクスのTFTアレイの測定を行う方法であって、複数の画素回路の各々において、保持容量と、該保持容量にデータ線を接続するためのスイッチング用トランジスタと、スイッチング用トランジスタのスイッチング動作を制御するゲート線を備え、複数の画素回路には少なくとも第1と第2と第3と第4の画素回路を備え、該測定方法は、充電後所定の保持時間経過した第1の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第3の画素回路の保持容量に充電し、該保持容量の電荷を測定し、その後、該保持容量に充電し、次に、充電後所定の保持時間経過した第2の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第4の画素回路の保持容量に充電し、該保持容量の電荷を測定し、その後、該保持容量に充電し、次に、前記所定の保持時間経過後に前記第3の画素回路の保持容量の電荷を測定し、次に、前記所定の保持時間経過後に前記第4の画素回路の保持容量の電荷を測定するステップを含むことを主要な特徴とする。   Further, according to another aspect of the present invention, there is provided a method for measuring an active matrix TFT array including a plurality of pixel circuits each having a storage capacitor, wherein each of the plurality of pixel circuits includes a storage capacitor and the storage capacitor. A switching transistor for connecting the data line to the gate, and a gate line for controlling the switching operation of the switching transistor. The plurality of pixel circuits include at least first, second, third and fourth pixel circuits. The measurement method measures the charge of the storage capacitor of the first pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed after charging, and then charges the storage capacitor of the third pixel circuit that has not yet been charged, And then charge the storage capacitor, and then measure the charge of the storage capacitor of the second pixel circuit after a predetermined retention time has elapsed after charging, and have not yet been charged. Charge the storage capacitor of the fourth pixel circuit, measure the charge of the storage capacitor, charge the storage capacitor, and then charge the storage capacitor of the third pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed. The main feature is the step of measuring the charge, and then measuring the charge of the storage capacitor of the fourth pixel circuit after the predetermined retention time has elapsed.

本発明の請求項1ないし2を用いることにより、アクティブマトリクス表示パネルのTFTアレイの各画素回路に含まれる保持容量のチャージ特性及び保持特性を試験する際に、試験を高速に行うことができる。
本発明の請求項3ないし12を用いることにより、TFTアレイの各画素回路に含まれる保持容量のチャージ特性及び保持特性を、高速かつ高精度に行うことができる。
By using the first and second aspects of the present invention, the test can be performed at a high speed when the charge characteristic and the retention characteristic of the retention capacitor included in each pixel circuit of the TFT array of the active matrix display panel are tested.
By using the third to twelfth aspects of the present invention, the charge characteristic and the retention characteristic of the retention capacitor included in each pixel circuit of the TFT array can be performed at high speed and with high accuracy.

本発明を実施するための最良の形態を、以下に図1ないし図12を使って説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to FIGS.

図1に本発明によるTFTアレイの測定装置100のブロック図を示す。
なお、以下の説明では、TFTアレイの各画素回路を単に「画素」と呼ぶことにする。
FIG. 1 shows a block diagram of a TFT array measuring apparatus 100 according to the present invention.
In the following description, each pixel circuit of the TFT array is simply referred to as a “pixel”.

TFTアレイ102は、複数の画素(代表的に、その一部に156、158、160の参照番号を付してある)を備え、Vシフトレジスタ142によりゲート線152を、またHシフトレジスタ140によりデータ線154を選択することで、特定の画素にデータ線で規定される電圧を書き込む。Hシフトレジスタ140及びVシフトレジスタ142には、クロック信号端子としてCLK_H(128)、CLK_V(148)、パルス入力端子Start_H(130)、Start_V(146)、シフト方向端子Dir_H(126)、Dir_V(150)、イネーブル端子ENB_V(149)がそれぞれ備えられている。   The TFT array 102 includes a plurality of pixels (typically, a part of which is provided with reference numerals 156, 158, and 160), a gate line 152 by a V shift register 142, and an H shift register 140. By selecting the data line 154, a voltage defined by the data line is written to a specific pixel. The H shift register 140 and the V shift register 142 have CLK_H (128), CLK_V (148), pulse input terminals Start_H (130), Start_V (146), shift direction terminals Dir_H (126), Dir_V (150) as clock signal terminals. ) And enable terminals ENB_V (149).

各シフトレジスタは、パルス入力端子に与えられた信号を、シフト方向端子に与えられた信号で規定された方向に、クロック信号端子に与えられたクロック信号に従ってシフト動作をする。ここで、Hシフトレジスタ140およびVシフトレジスタ142の回路を模式的に図2、図3にそれぞれ一例を示し、その動作を説明する。   Each shift register shifts the signal applied to the pulse input terminal in the direction defined by the signal applied to the shift direction terminal according to the clock signal applied to the clock signal terminal. Here, the operation of the H shift register 140 and the V shift register 142 is schematically shown in FIGS. 2 and 3, respectively, and the operation thereof will be described.

図2を参照すると、Hシフトレジスタ140は、HSRm 1402を含むHSR1〜HSRUのU個のシフトレジスタを備えている。Hシフトレジスタ140は、パルス入力端子Start_H 130に与えられた論理ハイ信号を、クロック端子CLK_H(128)に与えられたクロック信号の数ほど、Dir_H端子126で指定された方向にシフト動作し、論理ハイ信号を蓄積するシフトレジスタ(この場合はHSRm 1402)につながれたリレー(この場合は1404)を閉成させ、その結果、Data端子124に与えられた信号はデータ線154(図の例ではDm)に出力される。このように、選択されなかったデータ線は開放状態となる。
なお、Hシフトレジスタには、イネーブル端子を備えたものもあり、その場合には、イネーブル端子が論理ハイになっているときだけ、指定されたリレー1404が閉成される。
また、Hシフトレジスタには、選択されなかったデータ線は接地電位に接続されるものもある。
Referring to FIG. 2, the H shift register 140 includes U shift registers HSR 1 to HSR U including HSR m 1402. The H shift register 140 shifts the logic high signal given to the pulse input terminal Start_H 130 in the direction specified by the Dir_H terminal 126 by the number of clock signals given to the clock terminal CLK_H (128). The relay (1404 in this case) connected to the shift register (in this case HSR m 1402) that stores the high signal is closed, and as a result, the signal applied to the Data terminal 124 is connected to the data line 154 (in the example of the figure). D m ). In this way, the data lines that are not selected are opened.
Some H shift registers include an enable terminal. In this case, the designated relay 1404 is closed only when the enable terminal is logic high.
In some H shift registers, unselected data lines are connected to the ground potential.

次に、図3を参照すると、Vシフトレジスタ142にはVSRn 1502を含むVSR1〜VSRVのV個のシフトレジスタが備えられる。Vシフトレジスタ142は、パルス入力端子Start_V146に与えられた論理ハイ信号を、クロック端子CLK_V(148)に与えられたクロック信号の数ほど、Dir_V端子150で指定された方向にシフト動作し、この例ではシフトレジスタVSRn1502から論理ハイ信号が出力され、さらにイネーブル端子ENB_V(149)に論理ハイ信号が与えられているときだけVSRn 1502の出力に接続されたアンド回路1504から論理ハイ信号が出力され、その信号がバッファ1506で緩衝増幅されてオン電圧Vonがゲート線Gn 152に出力される。
一方、選択されなかったシフトレジスタは論理ロー信号を出力し、それがバッファで緩衝増幅されて、結果として選択されなかったゲート線にはオフ電圧Voffが出力される。
なお、Vシフトレジスタには、イネーブル端子ENB_V(149)を備えないものもあり、その場合には、アンド回路1504は存在せず、シフトレジスタを選択するだけでゲート線にオン電圧Vonが出力される。
Next, referring to FIG. 3, the V shift register 142 includes V shift registers VSR 1 to VSR V including VSR n 1502. The V shift register 142 shifts the logic high signal given to the pulse input terminal Start_V146 by the number of clock signals given to the clock terminal CLK_V (148) in the direction specified by the Dir_V terminal 150. Then, a logic high signal is output from the shift register VSR n 1502, and a logic high signal is output from the AND circuit 1504 connected to the output of the VSR n 1502 only when the logic high signal is applied to the enable terminal ENB_V (149). The signal is buffered and amplified by the buffer 1506, and the ON voltage Von is output to the gate line G n 152.
On the other hand, the shift register that is not selected outputs a logic low signal, which is buffered and amplified by the buffer, and as a result, the off voltage Voff is output to the unselected gate line.
Note that some V shift registers do not include the enable terminal ENB_V (149). In that case, the AND circuit 1504 does not exist, and the ON voltage Von is output to the gate line only by selecting the shift register. The

図1に戻ると、Hシフトレジスタ140の電源端子124には、選択したデータ線に電圧を印加する為の可変電圧源122と、データ線を通して移動した電荷量を測定する電荷計110が直列に接続されている。   Returning to FIG. 1, a power source terminal 124 of the H shift register 140 is connected in series with a variable voltage source 122 for applying a voltage to a selected data line and a charge meter 110 for measuring the amount of charge moved through the data line. It is connected.

TFTアレイ102の各画素は、例えば画素158に示されているように、それぞれ所定のゲート線(画素158の場合Gn)と線162により接続され、同様に所定のデータ線(画素158の場合Dm)と線164により接続されている。 Each pixel of the TFT array 102, for example, as shown in the pixel 158, are connected by a line 162 (G n the case of the pixel 158) a predetermined gate line, as well as predetermined data line (the case of the pixel 158 D m ) and line 164.

なお、特に断らない限り、本明細書中では、画素あるいは保持容量への「書き込む」とは、その画素の保持容量に「充電する」ことを指し、画素あるいは保持容量から「読み出す」とは、その画素の保持容量から「電荷を放電させ、その電荷量を測定する」ことを指すものとする。   Note that unless otherwise specified, in this specification, “writing” to a pixel or a storage capacitor means “charging” the storage capacitor of the pixel, and “reading” from the pixel or the storage capacitor means The term “discharges charge and measures the amount of charge” from the storage capacitor of the pixel is used.

本発明による試験に用いられるTFTアレイ102は、液晶またはEL用の表示パネルであって、液晶やELの形成前の表示パネルについて適用することができる。また、液晶またはELが形成された後の表示パネルについても、本発明を適用することはできる。
各画素の構造は、液晶あるいはELのどちらの表示素子であっても図4(A)に示すように、ゲート線Gn(152)とデータ線Dm(154)に、それぞれゲートとソースが接続された画素選択トランジスタQ1(182)と、そのドレイン端子につながれて、コモン電源V1(188)との間でトランジスタQ1の出力電圧を保存する保持容量C1(184)と、同じくそのドレインにつながれた画素駆動回路186を備える。
The TFT array 102 used for the test according to the present invention is a display panel for liquid crystal or EL, and can be applied to a display panel before formation of liquid crystal or EL. The present invention can also be applied to a display panel after liquid crystal or EL is formed.
As shown in FIG. 4A, each pixel has a structure in which a gate and a source are connected to a gate line G n (152) and a data line D m (154), respectively. Connected to the connected pixel selection transistor Q1 (182) and the drain terminal thereof, the storage capacitor C1 (184) for storing the output voltage of the transistor Q1 between the common power supply V1 (188) and the drain thereof. The pixel driving circuit 186 is provided.

液晶の表示パネルの場合は、図4(B)に示すように、画素駆動回路には液晶を形成するためのITO電極用端子190が存在するだけである。   In the case of a liquid crystal display panel, as shown in FIG. 4B, the pixel drive circuit only has an ITO electrode terminal 190 for forming liquid crystal.

EL用の表示パネルの場合は、図4(C)に示すように、画素駆動回路186には、電流駆動用トランジスタQ2(192)と、ITO電極用端子194と、EL駆動用電源V2(196)を備える。ITO電極用端子194上にはELを形成して、その先に何らかの信号線に接続することができる。なお、ITO電極用端子194上にはELが形成されていても、いなくても、保持容量のチャージ特性及び保持特性の測定には支障はないことに注意されたい。   In the case of an EL display panel, as shown in FIG. 4C, the pixel driving circuit 186 includes a current driving transistor Q2 (192), an ITO electrode terminal 194, and an EL driving power source V2 (196). ). An EL can be formed on the ITO electrode terminal 194 and connected to any signal line. It should be noted that there is no hindrance in the measurement of the charge characteristics and retention characteristics of the storage capacitor, regardless of whether EL is formed on the ITO electrode terminal 194 or not.

次に図5を用いて、本発明の測定アルゴリズムの説明をする。なお、本明細書では、j番目の画素グループのi番目の画素をPj,iと表現し、その画素のゲート線をGj,i、データ線をDj,iと表記する。なお、本図における横軸の長さは、おおよその時間幅の大小関係を表し、正確な比を反映するものではないことに注意されたい。
まず、本発明におけるj番目の画素グループの1番目の画素Pj,1の保持容量について着目し、時刻t6にチャージ特性試験の書き込みを開始する。次に、書き込み時間WC経過後の時刻t7に同画素からのチャージ特性試験における読み出しを開始する。さらに、読み出し時間RC経過後の時刻t8に同画素に保持特性試験における書き込みを開始する。次に書き込み時間WH経過後の時刻t9にj−1番目の画素グループの2番目の画素Pj-1,2について保持特性試験における読み出しを開始する。なお、この画素Pj-1,2には、事前にチャージ特性試験が行われ、さらに保持特性試験の書き込みが行われており、保持時間Hが経過していたものである。次に、Pj-1,2の読み出しが読み出し時間RH経過後の時刻t10で終了したら、j番目の画素グループの2番目の画素Pj,2に対してチャージ特性試験における書き込み及び読み出し、及び、保持特性試験における書き込みを開始する。
ここで、チャージ特性試験における書き込み時間WCと保持特性試験における書き込み時間WHの関係は、どちらも通常の画素への書き込み動作と同じなので、一般的に等しい。チャージ特性試験における読み出し時間RCと、保持特性試験における読み出し時間RHとの関係は、チャージ特性試験では保持特性試験よりも粗い分解能の測定でもかまわないことが多いので、RC<RHの関係にあることが多い。
なお、図5に示されているように、j−1番目の画素グループの1番目の画素Pj-1,1についての読み出しは、画素Pj,1のチャージ特性試験の書き込みに先立つ時刻t5に開始されている。
Next, the measurement algorithm of the present invention will be described with reference to FIG. In this specification, the i-th pixel of the j-th pixel group is expressed as P j, i , the gate line of the pixel is expressed as G j, i , and the data line is expressed as D j, i . It should be noted that the length of the horizontal axis in this figure represents the approximate time width relationship and does not reflect the exact ratio.
First, paying attention to the storage capacitor of the first pixel P j, 1 of the j-th pixel group in the present invention, writing of the charge characteristic test is started at time t 6 . Next, reading at the charge characteristic test from the same pixel is started at time t 7 after the writing time WC has elapsed. Further, writing in the retention characteristic test is started on the same pixel at time t 8 after the read time RC has elapsed. Next, reading at the holding characteristic test is started for the second pixel P j−1,2 of the j− 1th pixel group at time t 9 after the writing time WH has elapsed. It should be noted that the pixel P j−1,2 has been subjected to a charge characteristic test in advance and a holding characteristic test has been written therein, and the holding time H has elapsed. Next, when the reading of P j−1,2 ends at time t 10 after the reading time RH has elapsed , writing and reading in the charge characteristic test for the second pixel P j, 2 of the jth pixel group are performed. Then, writing in the holding characteristic test is started.
Here, the relationship between the writing time WC in the charge characteristic test and the writing time WH in the holding characteristic test is generally equal because both are the same as the writing operation to the normal pixel. The relationship between the readout time RC in the charge characteristic test and the readout time RH in the holding characteristic test is such that a coarser resolution may be measured in the charge characteristic test than in the holding characteristic test. There are many.
As shown in FIG. 5, the reading for the first pixel P j−1,1 of the j− 1th pixel group is time t prior to the writing of the charge characteristic test for the pixel P j, 1. Began to 5

このようにすれば、直前の画素グループで保持特性試験の書き込みが行われた画素の読み出しと、今回始めてチャージ特性試験の書き込み及び読み出し、さらに保持特性試験の書き込みを行う画素グループの書き込みを交互に行うことができるので、図14に示されるような待ち時間A1は生じない。
以降、2つのグループの全ての画素について保持特性試験の読み出しとチャージ測定試験の書き込み及び読み出し、及び保持特性試験の書き込みを行う。保持時間との関係で生じる端数の待ち時間A3経過後の時刻t11からは、既に書き込み済みで保持時間Hが経過したj番目の画素グループの1番目の画素Pj,1の保持特性試験の読み出しを行う。保持特性試験の読み出し時間RH経過後の時刻t12には、次のj+1番目の画素グループの1番目の画素Pj+1,1のチャージ特性試験の書き込みを開始する。
ここで、一つの画素グループの画素の数Sは、S=H/(WC+RC+WH+RH)個で表され、全画素グループの数はTで表されるとする。
In this way, the reading of the pixel in which the holding characteristic test was written in the immediately previous pixel group, the writing and reading of the charge characteristic test for the first time, and the writing of the pixel group in which the holding characteristic test is written are alternately performed. Since this can be done, the waiting time A 1 as shown in FIG. 14 does not occur.
Thereafter, reading of the holding characteristic test, writing and reading of the charge measurement test, and writing of the holding characteristic test are performed for all the pixels in the two groups. From the waiting time A 3 after elapse of time t 11 fractional occurring in relation to the retention time, already the first pixel P j, 1 of the retention characteristic tests of the j-th pixel group holding time H has elapsed already written Is read out. At time t 12 of the later reading time RH course of holding characteristic test, it starts writing charge characteristic test of the first pixel of the next (j + 1) th pixel group P j + 1,1.
Here, the number S of pixels in one pixel group is represented by S = H / (WC + RC + WH + RH), and the number of all pixel groups is represented by T.

なお、各画素間のゲート線及びデータ線の選択にはシフトレジスタを使うため、実際はある画素に書き込みを終了したら、次の画素の位置への最適な移動方向を Dir_H 126, Dir_V 150で選択し、それぞれ、目的とする画素への移動に必要なクロック分シフト動作をするよう、試験装置が制御(図1には図示されてない)する。従って、このシフト動作の時間マージンを考慮した測定タイミング設計が必要となる。しかし、シフトレジスタの動作クロックは前述のチャージ特性試験及び保持特性試験における、書き込み時間あるいは読み出し時間に比べて十分に短いので、表示パネル全体で画素の選択制御にかかる時間も、十分に短くてすみ、試験時間全体への影響は少ない。
また、チャージ特性試験の書き込み及び読み出しと、保持特性試験の書き込みを行う画素は同じなので、これらの動作の間にはシフト動作は必要なく、従って、これら2種類の試験を交互に行う上で、余計な時間がかかるのを回避している。
Since the shift register is used to select the gate line and the data line between each pixel, when writing to a certain pixel is actually finished, the optimum moving direction to the position of the next pixel is selected by Dir_H 126 and Dir_V 150. The test apparatus controls (not shown in FIG. 1) so as to perform a shift operation by the clock necessary for moving to the target pixel. Therefore, it is necessary to design a measurement timing in consideration of the time margin of this shift operation. However, since the operation clock of the shift register is sufficiently shorter than the writing time or reading time in the above-described charge characteristic test and holding characteristic test, the time required for pixel selection control in the entire display panel can be sufficiently short. The effect on the entire test time is small.
In addition, since the pixels for writing and reading in the charge characteristic test and writing in the holding characteristic test are the same, a shift operation is not necessary between these operations. Therefore, in performing these two types of tests alternately, It avoids taking extra time.

次に図6を用いて、より具体的に図5で紹介したアルゴリズムを説明する。図6は、試験開始(ノードS)から試験終了(ノードE)までの、チャージ特性試験及び保持特性試験のそれぞれの書き込み時間/読み出し時間と待ち時間の関係を模式的に示したものであり、横軸は時間の経過の大まかな大小関係を示す。なお、以下の表記では、例えば、WC1,2は、画素P1,2へのチャージ特性試験の書き込みにかかる時間を示し、このように、経過時間の種類と画素の位置を組み合わせて表記する。
ノードSからノード1までの間は、第1の画素グループに対して書き込みを行う期間を示す。この場合は組合せて保持特性試験の読み出しを行う画素はないので、この読み出し時間に相当する待ち時間Ar(402、410、418)が各書き込みの間に挿入されている。すなわち、期間Ar(402)待ち、第1の画素グループの1番目の画素へのチャージ特性試験の書き込みWC1,1(404)を行い、チャージ特性試験の読み出しRC1,1(406)を行い、保持特性試験の書き込みWH1,1(408)を行い、期間Ar(410)待ち、第1の画素グループの2番目の画素へチャージ特試験の書き込みWC1,2(412)を行う、ということを繰り返して、第1の画素グループの最後の画素への保持特性試験の書き込みWH1,S(424)を行い、さらに、端数の待ち時間A3(426)待つ。
Next, the algorithm introduced in FIG. 5 will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 6 schematically shows the relationship between the writing time / reading time and the waiting time of the charge characteristic test and the holding characteristic test from the test start (node S) to the test end (node E). The horizontal axis shows a rough magnitude relationship over time. In the following notation, for example, WC 1,2 indicates the time required for writing the charge characteristic test to the pixel P 1,2, and thus, the type of elapsed time and the position of the pixel are combined. .
A period from node S to node 1 indicates a period during which writing is performed on the first pixel group. In this case, since there is no pixel for reading the holding characteristic test in combination, a waiting time A r (402, 410, 418) corresponding to this reading time is inserted between each writing. That is, after waiting for the period Ar (402), the charge characteristic test write WC 1,1 (404) is performed on the first pixel of the first pixel group, and the charge characteristic test read RC 1,1 (406) is performed. And hold characteristic test write WH 1,1 (408), wait for period A r (410), and perform charge special test write WC 1,2 (412) to the second pixel of the first pixel group. The holding characteristic test write WH 1, S (424) to the last pixel of the first pixel group is repeated, and the fractional waiting time A 3 (426) is awaited.

次に、ノード1からノード2の間は、事前に保持時間Hが経過した画素グループの各画素の保持特性試験の読み出し動作と、新たな画素グループの各画素へのチャージ特性試験の書き込み及び読み出し及び保持特性試験の書き込みの一連の動作を交互に行う期間である。すなわち、事前に書き込みが行われ、保持時間経過した、j−1番目の画素グループの1番目の画素の保持特性試験の読み出しRHj-1,1(428)を行い、j番目の画素グループの1番目の画素へのチャージ特性試験の書き込みWCj,1(430)を行い、チャージ特性試験の読み出しRCj,1(432)を行い、保持特性試験の書き込みWHj,1(434)を行い、j−1番目の画素グループの2番目の画素への保持特性試験の読み出しRHj-1,2(436)を行い、j番目の画素グループの2番目の画素へのチャージ特性試験の書き込みWCj,2(438)を行う、ということを繰り返して、両グループの最後の画素について、保持特性試験の読み出しRHj-1,S(444)と保持特性試験の書き込みWHj,S(450)を行い、端数の期間A3(452)待ち、ノード2に達する。 Next, between the node 1 and the node 2, the read operation of the holding characteristic test of each pixel of the pixel group in which the holding time H has passed in advance, and the writing and reading of the charge characteristic test to each pixel of the new pixel group And a period in which a series of operations of writing in the holding characteristic test are alternately performed. That is, after the writing has been performed in advance and the holding time has elapsed, the holding characteristic test reading RH j−1,1 (428) of the first pixel of the j−1th pixel group is performed, and the jth pixel group Write WC j, 1 (430) of charge characteristic test to the first pixel, read RC j, 1 (432) of charge characteristic test, and write WH j, 1 (434) of holding characteristic test , Read out the holding characteristic test RH j-1,2 (436) to the second pixel of the j−1th pixel group, and write the charge characteristic test WC to the second pixel of the jth pixel group WC j, 2 (438) is repeated, and the holding characteristic test read RH j-1, S (444) and the holding characteristic test write WH j, S (450) are performed for the last pixel of both groups. A fractional period A 3 Wait for (452) and reach node 2.

最後のノード2からノードEの間は、新たにチャージ特性試験及び保持特性試験の書き込みをする画素はないので、代わりにそれに相当する待ち時間Aw(456、460)が挿入される。すなわち、最後の画素グループである第T番目の画素グループの第1番目の画素への保持特性試験の読み出しRHT,1(454)を行い、Aw待ち(456)、第T番目の画素グループの第2番目の画素への保持特性試験の読み出しRHT,2(458)を行い、Aw待ち(460)、ということを繰り返して、最後の画素に対して保持特性試験の読み出しRHT,S(464)を行い、ノードEに達し、試験を終了する。なお、最後の画素グループの画素数は、表示パネルの画素数との関係でS個に満たない場合も考えられ、その場合には、適宜上記のアルゴリズムを修正して対応することができる。
また、図6のアルゴリズムを元に、ノード2に達する前であっても、画素数がS個未満の画素グループを設け、S個画素が存在しない画素グループの書き込みあるいは読み出しサイクルには、待ち時間を設けるように変更するなど、適宜修正を加えることもできよう。
Between the last node 2 and node E, there is no pixel for newly writing the charge characteristic test and the holding characteristic test, so a waiting time A w (456, 460) corresponding thereto is inserted instead. That is, the holding characteristic test is read out to the first pixel of the T-th pixel group, which is the last pixel group, RH T, 1 (454), Aw wait (456), and the T-th pixel group the second read RH retention characteristic tests of the pixel T, 2 performed (458), a w waiting (460), by repeating that, RH reading retention characteristic tests for the last pixel T of, S (464) is performed, node E is reached, and the test is terminated. Note that the number of pixels of the last pixel group may be less than S in relation to the number of pixels of the display panel, and in this case, the above algorithm can be appropriately corrected to cope with it.
Further, based on the algorithm shown in FIG. 6, even before the node 2 is reached, a pixel group having less than S pixels is provided, and a waiting time is required for a write or read cycle of a pixel group in which no S pixels exist. It may be possible to make corrections as appropriate, such as changing to provide.

次に図7及び図8のフローチャートを用いて、図6に示したアルゴリズムをさらに詳細に説明する。図7において、ステップ910でプログラムを開始すると、ステップ914で画素グループ内の画素番号を示す変数iを1に初期化する。次にステップ916で画素の読み出し時間に相当する待ち時間Arを待ち、ステップ917で第1の画素グループのi番目の画素にチャージ特性試験の書き込みと読み出しを行い、ステップ918で第1の画素グループのi番目の画素に保持特性試験の書き込みをし、ステップ920で第1の画素グループ内全てのS個の画素について行われたか判断し、そうでない場合にはステップ922で変数iをインクリメントし、ステップ916からを繰り返す。また、S個行われていた場合には、ステップ924で待ち時間A3待つ。以上で図6のノードSからノード1に達した。 Next, the algorithm shown in FIG. 6 will be described in more detail using the flowcharts of FIGS. In FIG. 7, when the program is started in step 910, a variable i indicating a pixel number in the pixel group is initialized to 1 in step 914. Then wait for the waiting time A r corresponding to the read time of the pixel in step 916, performs the charge characteristics test writing and reading the i-th pixel of the first pixel group at step 917, the first pixel in step 918 Write the retention characteristic test to the i-th pixel of the group, and in step 920, determine whether it has been done for all S pixels in the first pixel group. If not, increment the variable i in step 922. Step 916 and subsequent steps are repeated. On the other hand, if S has been performed, a waiting time A 3 is waited at step 924. As described above, node 1 is reached from node S in FIG.

次にステップ926で、書き込みをする画素グループ番号を示す変数jを2に初期化し、書き込みにj番目の画素グループを、読み出しにj−1番目の画素グループを選ぶ。ステップ930で変数iを1に初期化し、ステップ932で、j−1番目の画素グループのi番目の画素に保持特性試験の読み出しを行い、j番目の画素グループのi番目の画素について、チャージ特性試験の書き込みおよび読み出しを行い、さらに保持特性試験の書き込みを行う。ステップ934で、両グループともS個分終了したか判定し、結果がNoならステップ938で変数iをインクリメントし、ステップ932から繰り返す。結果がYesなら、ステップ936で待ち時間A3待ち、ステップ940で、変数jがT−1であるか、すなわちT−1番目のグループの全画素の読み出しが終了したか判定する。結果がNoなら、ステップ942で変数jをインクリメントし、ステップ930から繰り返す。以上で図6のノード1からノード2に達した。 In step 926, a variable j indicating the pixel group number to be written is initialized to 2, and the jth pixel group is selected for writing and the j-1th pixel group is selected for reading. In step 930, the variable i is initialized to 1, and in step 932, the holding characteristic test is read for the i-th pixel of the j−1-th pixel group, and the charge characteristic of the i-th pixel of the j-th pixel group is read. The test is written and read, and the holding characteristic test is written. In step 934, it is determined whether or not S groups have been completed for both groups. If the result is No, the variable i is incremented in step 938 and the processing is repeated from step 932. If the result is Yes, the waiting time A 3 waiting at step 936, at step 940, if the variable j is T-1, i.e. determines whether reading of all the pixels of the T-1 th group is completed. If the result is No, the variable j is incremented at step 942 and the process is repeated from step 930. As described above, the node 1 is reached from the node 1 in FIG.

ステップ940の結果がYesなら、ステップ944で変数jをTにセットし、変数iを1に初期化し、ステップ946で第T番目の画素グループのi番目の画素について保持特性試験の読み出しをし、ステップ948で書き込み相当時間Aw待つ。ステップ950で第T番目の画素グループの全画素について測定が完了したか判定し、Noならステップ952で変数iをインクリメントし、ステップ946から繰り返す。Yesなら、ステップ954で終了する。 If the result of step 940 is Yes, the variable j is set to T in step 944, the variable i is initialized to 1, and the holding characteristic test is read for the i-th pixel of the T-th pixel group in step 946. wait for writing equivalent time A w in step 948. In step 950, it is determined whether the measurement has been completed for all the pixels in the T-th pixel group. If NO, the variable i is incremented in step 952, and the processing is repeated from step 946. If yes, the process ends at step 954.

次に図8を用いて、ステップ932をより詳細なフローチャートとして説明する。なお、ステップ917および918とステップ946の詳細は、図8の一部を待ち時間で置き換えたりして、容易に理解されるものなので省略する。   Next, step 932 will be described as a more detailed flowchart with reference to FIG. Details of steps 917 and 918 and step 946 are omitted because they can be easily understood by replacing a part of FIG. 8 with a waiting time.

まず最初に、可変電圧源122の出力電圧は書き込み電圧Vwと読み出し電圧Vrを出力することができ、最初はVrにセットされていることに注意されたい。また、一例として、書き込み電圧Vwは5V、読み出し電圧Vrは0Vである。図8において、ステップ1010でこのルーチンが開始されると、ステップ1012で、まずHシフトレジスタ140で画素Pj-1,iに接続されているデータ線Dj-1,iを選択し、Vシフトレジスタ142で画素Pj-1,iに接続されているゲート線Gj-1,iを選択する。これにより、画素Pj-1,iにHシフトレジスタ140を介して電荷計110と可変電圧源122が接続される。 First, it should be noted that the output voltage of the variable voltage source 122 can output the write voltage Vw and the read voltage Vr, and is initially set to Vr. As an example, the write voltage Vw is 5V and the read voltage Vr is 0V. 8, when this routine starts in step 1010, in step 1012, selects the first data lines are connected by H shift register 140 to the pixel P j-1, i D j -1, i, V selecting a gate line G j-1, i of the shift register 142 is connected to the pixel P j-1, i. As a result, the charge meter 110 and the variable voltage source 122 are connected to the pixel P j−1, i via the H shift register 140.

次に、ステップ1018で、イネーブル端子ENB_Vを所定期間論理ハイにし、ゲート線Gj-1,iを所定期間オフ電圧Voffからオン電圧Vonにセットし、その後オフ電圧Voffにもどす。これにより、画素Pj-1,iの画素選択トランジスタQ1(図4の182)は、保持容量の放電時間として所定期間オン状態となり、データ線Dj-1,iの電位差とのバランスにより、保持容量C1(図4の184)と電荷計(図1の110)との間でトランジスタQ1(182)を介して電荷の移動が起こる。 Next, in step 1018, the enable terminal ENB_V is set to logic high for a predetermined period, and the gate line Gj -1, i is set from the off voltage Voff to the on voltage Von for a predetermined period, and then returned to the off voltage Voff. As a result, the pixel selection transistor Q1 (182 in FIG. 4) of the pixel P j-1, i is turned on for a predetermined period as the discharge time of the storage capacitor, and due to the balance with the potential difference of the data line D j-1, i , Charge transfer occurs between the storage capacitor C1 (184 in FIG. 4) and the charge meter (110 in FIG. 1) via the transistor Q1 (182).

次にステップ1020により、電荷計110でデータ線Dj-1,iを介して移動した電荷量を測定する。以上で、画素Pj-1,iに対する保持特性試験の読み出しが終了した。 Next, in step 1020, the amount of charge moved through the data line D j-1, i is measured by the charge meter 110. This completes the reading of the holding characteristic test for the pixel P j−1, i .

次にステップ1030で、Hシフトレジスタ140で画素Pj,iに接続されているデータ線Dj,iを選択し、Vシフトレジスタ142で画素Pj,iに接続されているゲート線Gj,iを選択する。次にステップ1032で、可変電圧源122の出力電圧を書き込み電圧Vwにセットし、画素Pj,iに接続されたデータ線Dj,iの出力を書き込み電圧Vwとする。次にステップ1034で、イネーブル端子ENB_Vを論理ハイにし、ゲート線Gj,iをVoffからVonにセットする。次にステップ1035で保持容量への充電時間として所定期間待つ。次にステップ1036でゲート線Gj,iの出力をオン電圧Vonからオフ電圧Voffにし、ステップ1037で、可変電圧源122の出力電圧を読み出し電圧Vrにセットし、データ線Dj,iの出力を読み出し電圧Vrとする。以上で画素Pj,iに対するチャージ特性試験の書き込みが終了した。
次にステップ1038で、イネーブル端子ENB_Vを所定期間論理ハイにし、ゲート線Gj,iを所定期間オフ電圧Voffからオン電圧Vonにセットし、その後オフ電圧Voffにもどす。これにより、画素Pj,iの画素選択トランジスタQ1は、保持容量の放電時間として所定期間オン状態となり、データ線Dj,iの電位差とのバランスにより、保持容量C1と電荷計との間でトランジスタQ1を介して電荷の移動が起こる。
次にステップ1039により、電荷計110でデータ線Dj,iを介して移動した電荷量を測定する。以上で、画素Pj,iに対するチャージ特性試験の読み出しが終了した。
次にステップ1040で、可変電圧源122の出力電圧を書き込み電圧Vwにセットし、画素Pj,iに接続されたデータ線Dj,iの出力を書き込み電圧Vwとする。次にステップ1042で、イネーブル端子ENB_Vを論理ハイにし、ゲート線Gj,iをVoffからVonにセットする。次にステップ1044で保持容量への充電時間として所定期間待つ。次にステップ1046でゲート線Gj,iの出力をオン電圧Vonからオフ電圧Voffにし、ステップ1048で、可変電圧源122の出力電圧を読み出し電圧Vrにセットし、データ線Dj,iの出力を読み出し電圧Vrとする。以上で画素Pj,iに対する保持特性試験の書き込みが終了した。最後に、ステップ1050でこのルーチンの動作を終了する。
Next, in step 1030, the data line D j, i connected to the pixel P j, i is selected by the H shift register 140 and the gate line G j connected to the pixel P j, i by the V shift register 142. , i is selected. In step 1032, the output voltage of the variable voltage source 122 is set to the write voltage Vw, and the output of the data line D j, i connected to the pixel P j, i is set as the write voltage Vw. Next, at step 1034, the enable terminal ENB_V is set to logic high, and the gate line G j, i is set from Voff to Von. Next, in step 1035, the process waits for a predetermined period as the charging time for the storage capacitor. Then to the off-voltage Voff gate line G j, i outputted from the ON voltage Von at step 1036, in step 1037, and sets the voltage Vr read the output voltage of the variable voltage source 122, the data line D j, i output of Is a read voltage Vr. This completes the writing of the charge characteristic test for the pixel P j, i .
Next, in step 1038, the enable terminal ENB_V is set to logic high for a predetermined period, the gate line Gj , i is set from the off voltage Voff to the on voltage Von for a predetermined period, and then returned to the off voltage Voff. As a result, the pixel selection transistor Q1 of the pixel P j, i is turned on for a predetermined period as the discharge time of the storage capacitor, and between the storage capacitor C1 and the charge meter due to the balance with the potential difference of the data line D j, i. Charge transfer occurs through transistor Q1.
Next, at step 1039, the charge meter 110 measures the amount of charge moved via the data line D j, i . This completes the readout of the charge characteristic test for the pixel P j, i .
Next, in step 1040, the output voltage of the variable voltage source 122 is set to the write voltage Vw, and the output of the data line D j, i connected to the pixel P j, i is set to the write voltage Vw. Next, at step 1042, the enable terminal ENB_V is set to logic high, and the gate line G j, i is set from Voff to Von. Next, in step 1044, a predetermined period is waited as a charging time for the storage capacitor. Next, in step 1046, the output of the gate line G j, i is changed from the on voltage Von to the off voltage Voff. In step 1048, the output voltage of the variable voltage source 122 is set to the read voltage Vr, and the output of the data line D j, i is output. Is a read voltage Vr. This completes the writing of the holding characteristic test for the pixel P j, i . Finally, at step 1050, the operation of this routine is terminated.

次に本発明における測定アルゴリズムに適用される、保持特性試験における読み出し・書き込みを行う画素の選び方、すなわち、画素グループ(画素配列)の定め方について、図9ないし図12を用いて説明する。   Next, a method of selecting pixels to be read / written in the holding characteristic test, that is, a method of determining a pixel group (pixel array), which is applied to the measurement algorithm of the present invention, will be described with reference to FIGS.

なお、説明のために、各画素の位置を、表示パネルの左上隅を1とするX,Y座標を使って表す。例えば、図9で画素(3,1)は「3a」と書かれた、すなわちラベル付けされた、画素として表されている。さらに、画素にかかれているラベルについては、1桁目の数字が画素グループの番号示し、2桁目のアルファベットがその画素グループ内での画素の順番を示す。例えば、図9の画素(3,1)には「3a」とラベル付けされており、これは3番目の画素グループの1番目の画素を表している。図9では3番目の画素グループの各画素は,3aの画素(3,1)から3Sの画素(3,S)まで順に割り当てられている。また、表示パネルの大きさは、データ線の数がU、ゲート線の数がVの、U×Vとして説明する。   For the sake of explanation, the position of each pixel is expressed using X and Y coordinates where the upper left corner of the display panel is 1. For example, in FIG. 9, pixel (3, 1) is represented as a pixel labeled “3a”, ie, labeled. Further, for the labels on the pixels, the first digit represents the pixel group number, and the second digit represents the pixel order within the pixel group. For example, pixel (3, 1) in FIG. 9 is labeled “3a”, which represents the first pixel in the third pixel group. In FIG. 9, each pixel of the third pixel group is assigned in order from the pixel 3a (3, 1) to the pixel 3S (3S). The size of the display panel will be described as U × V where the number of data lines is U and the number of gate lines is V.

図9は、保持特性試験における書き込みと読み出しの画素選択動作を単純かつ高速にする割り当て方法による実施例の一つである。第1の画素グループは、画素(1,1)を起点として、上から下にS個を選び、次の画素グループはひとつ右隣の列で、画素(2,1)を起点として、上から下にS個選ぶ、というような順で表示パネルの全画素について画素グループを割り当てる。この方法だと、図7のステップ932で説明すると、j−1番目の画素グループのi番目の画素で読み出しを行い、次にj番目の画素グループのi番目の画素で書き込みをする際に、ゲート線は同じゲート線ですむので、データ線だけ一つ隣を選択するだけでよい。そのため、アルゴリズムとしても簡単だし、対象画素の移動にかかる時間も短い。   FIG. 9 shows an example of an allocation method that makes the pixel selection operation for writing and reading in the holding characteristic test simple and fast. The first pixel group starts from the pixel (1, 1) and selects S pixels from the top to the bottom. The next pixel group is the next column to the right and the pixel (2, 1) is the starting point. Pixel groups are assigned to all the pixels of the display panel in the order of selecting S pixels below. In this method, as described in step 932 of FIG. 7, when reading is performed with the i-th pixel of the j-1th pixel group and then writing is performed with the i-th pixel of the j-th pixel group, Since the gate lines need only be the same gate line, it is only necessary to select one adjacent data line. Therefore, the algorithm is simple and the time required for moving the target pixel is short.

この方法の別のバリエーションとして、上記の割り当て方法において、次の画素グループを現在の画素グループの左隣を選ぶこともできる。また、表示パネルの上下及び左右の端部はサイクリックにつながっているとみなして、画素グループを割り当てることもできる。   As another variation of this method, in the above allocation method, the next pixel group can be selected to the left of the current pixel group. Also, pixel groups can be assigned by assuming that the upper and lower and left and right ends of the display panel are connected cyclically.

この方法のさらに別のバリエーションとして、各画素グループでの画素の選択方向を上から下ではなく、下から上とし、次の順番の画素グループの位置を、先の画素グループでの画素の選び方に応じて、それが下から上の場合は次の画素グループは前の画素グループの右隣又は左隣に選ぶことができる。   As yet another variation of this method, the pixel selection direction in each pixel group is not from top to bottom, but from bottom to top, and the position of the pixel group in the next order is the way to select pixels in the previous pixel group. Accordingly, if it is from bottom to top, the next pixel group can be selected to the right or left of the previous pixel group.

図10と図11には、高精度測定を実現する割り当て方法による実施例を示す。
図10(A)には、画素グループ内の画素選びの移動量としてX,Y方向に(+1,+1)のシフトを行い、画素グループ間では移動量(0,−1)のシフトを行う方式について画素グループ毎の画素配列の選び方が模式的に示されている。第1の画素グループの画素として、ここでは全S個のうち例示的に最初の4画素分しか示していないが、画素(1,1)を開始点として1a〜1dのように右下方向に選択する。第2の画素グループとしては、画素(1,V)を開始点として2a〜2dで示されるように選択する。ここで、表示パネルの座標の上下および左右は、それぞれサイクリックにつながるものとして選択されることに注意されたい。
FIG. 10 and FIG. 11 show an embodiment according to an allocation method for realizing high-precision measurement.
FIG. 10A shows a method of shifting (+1, +1) in the X and Y directions as a movement amount for selecting a pixel in the pixel group, and shifting the movement amount (0, -1) between the pixel groups. A method of selecting a pixel array for each pixel group is schematically shown. As the pixels of the first pixel group, only the first four pixels of the S pixels are illustrated here, but the pixel (1, 1) is used as a starting point in the lower right direction as 1a to 1d. select. The second pixel group is selected as indicated by 2a to 2d starting from the pixel (1, V). Here, it should be noted that the upper and lower and left and right coordinates of the display panel are respectively selected as being connected to the cyclic.

同様にして、本発明における別の実施例として図10(B)には、画素グループ内の移動量が(+1,−1)の右上方向であり、画素グループ間の移動量は(0,+1)で、開始画素が1画素ずつ下方向に移動する選択方式が示されている。   Similarly, in FIG. 10B, as another embodiment of the present invention, the movement amount within the pixel group is the upper right direction of (+1, −1), and the movement amount between the pixel groups is (0, +1). ) Shows a selection method in which the start pixel moves downward by one pixel.

また、本発明におけるさらに別の実施例として図10(C)には、画素グループ内の移動量が(−1,+1)の左下方向であり、画素グループ間の移動量は(0,−1)で、開始画素が1画素ずつ上方向に移動する選択方式が示されている。   As still another embodiment of the present invention, FIG. 10C shows the movement amount in the pixel group in the lower left direction of (−1, +1), and the movement amount between the pixel groups is (0, −1). ) Shows a selection method in which the start pixel moves upward by one pixel at a time.

また、本発明におけるさらに別の実施例として図10(D)には、画素グループ内の移動量が(−1,−1)の左上方向であり、画素グループ間の移動量は(0,+1)で、開始画素が1画素ずつ下方向に移動する選択方式が示されている。   FIG. 10D shows still another embodiment of the present invention. In FIG. 10D, the movement amount in the pixel group is the upper left direction of (−1, −1), and the movement amount between the pixel groups is (0, +1). ) Shows a selection method in which the start pixel moves downward by one pixel.

図10の4方式によって画素を選択する際のHシフトレジスタ及びVシフトレジスタの移動量を、下記に表1として示す。ここでは、データ線の信号線の番号をDで、ゲート線の番号をGで示している。ここで示した移動量から、それぞれのシフトレジスタのシフト方向をシフト方向入力端子(Dir_H、Dir_V)で選択し、必要とされるクロックCLK_H,CLK_Vを入力し、さらにサイクリックな動作をさせる場合にはパルス入力端子Start_H,Start_Vにも入力してシフトレジスタを動作させることで、画素が選択される。この表から、図10で示される4方式は、画素間の移動量が最小で済み、試験時間の短縮化に寄与する方式であることが理解されよう。   The movement amounts of the H shift register and the V shift register when selecting a pixel by the four methods shown in FIG. Here, the signal line number of the data line is indicated by D, and the gate line number is indicated by G. When the shift direction of each shift register is selected by the shift direction input terminals (Dir_H, Dir_V) from the shift amounts shown here, the required clocks CLK_H, CLK_V are input, and a cyclic operation is performed. Is also input to the pulse input terminals Start_H and Start_V to operate the shift register, thereby selecting a pixel. From this table, it can be understood that the four methods shown in FIG. 10 require a minimum amount of movement between pixels and contribute to shortening the test time.

Figure 2007232404
Figure 2007232404

図11には、図10の4方法とは別の画素グループの選び方が示されている。
図11(A)には、画素グループ内の画素選びの移動量が(+1,+1)で図10(A)と同じで右下方向だが、画素グループ間では移動量が(−1,0)で、開始画素が1画素ずつ左方向に移動する選択方式が示されている。ここでも、表示パネルの座標の上下および左右は、それぞれサイクリックにつながるものとして選択されることに注意されたい。
FIG. 11 shows how to select a pixel group different from the four methods shown in FIG.
In FIG. 11A, the movement amount for selecting a pixel in the pixel group is (+1, +1), which is the same as in FIG. 10A, and is in the lower right direction. However, the movement amount between the pixel groups is (−1, 0). The selection method in which the start pixel moves leftward one pixel at a time is shown. Again, note that the top and bottom and left and right coordinates of the display panel are each selected as being cyclic.

同様にして、本発明における別の実施例として図11(B)には、画素グループ内の移動量が(+1,−1)の右上方向であり、画素グループ間の移動量は(−1,0)で、開始画素が1画素ずつ左方向に移動する選択方式が示されている。   Similarly, in FIG. 11B, as another embodiment of the present invention, the movement amount within the pixel group is the upper right direction of (+1, −1), and the movement amount between the pixel groups is (−1, −1). 0) shows a selection method in which the start pixel moves leftward by one pixel at a time.

また、本発明におけるさらに別の実施例として図11(C)には、画素グループ内の移動量が(−1,+1)の左下方向であり、画素グループ間の移動量は(+1,0)で、開始画素が1画素ずつ右方向に移動する選択方式が示されている。   As still another embodiment of the present invention, FIG. 11C shows the movement amount within the pixel group in the lower left direction of (−1, +1), and the movement amount between the pixel groups is (+1, 0). The selection method in which the start pixel moves rightward by one pixel is shown.

また、本発明におけるさらに別の実施例として図11(D)には、画素グループ内の移動量が(−1,−1)の左上方向であり、画素グループ間の移動量は(+1,0)で、開始画素が1画素ずつ下方向に移動する選択方式が示されている。   As still another embodiment of the present invention, FIG. 11D shows the movement amount in the pixel group is the upper left direction of (−1, −1), and the movement amount between the pixel groups is (+1, 0). ) Shows a selection method in which the start pixel moves downward by one pixel.

図11の4方式でも、上記の表1と同様なHシフトレジスタの移動量及びVシフトレジスタの移動量を考察することができ、これから試験時間の短縮化に寄与するよう、画素間の移動量が最小となっていることが理解されよう。   In the four systems of FIG. 11 as well, it is possible to consider the movement amount of the H shift register and the movement amount of the V shift register similar to those in Table 1 above, and the movement amount between pixels so as to contribute to shortening the test time from now on. Will be understood to be minimal.

次に図10及び図11による方法により高精度測定を実現することができる理由を説明する。図12には、ゲート線は異なるがデータ線が共通の画素回路を示している。ここで、ゲート線Gn1154とデータ線Dm1150で選択される下側の画素の保持容量C1dに充電された電荷を測定する場合を考える。データ線Dmには読み出し電圧Vrが印加され、ゲート線Gn1154にはオン電圧Vonが印加され、結果として、保持容量C1dに蓄積された電荷が、データ線Dmの電圧VrによりトランジスタQ1dを介して放電する。 Next, the reason why high-accuracy measurement can be realized by the method according to FIGS. 10 and 11 will be described. FIG. 12 shows a pixel circuit having different data lines but different gate lines. Here, consider a case where the charge charged in the storage capacitor C1d of the lower pixel selected by the gate line G n 1154 and the data line D m 1150 is measured. The read voltage Vr is applied to the data line D m, the ON voltage Von is applied to the gate line G n 1154, as a result, stored in the storage capacitor C1d charges, transistor Q1d by the voltage Vr of the data line D m Discharge through.

ここで、データ線が共通でゲート線が異なる画素の画素選択トランジスタQ1cについて考えると、画素選択トランジスタQ1cはゲート線Gn-1(1152)がVoffであるのでオフ状態ではあるが、そのオフ抵抗によりリーク電流が流れる。特に保持容量C1cが充電済みで保持時間経過するのを待っている状態であれば、画素選択トランジスタQ1cのソース・ドレイン間電位差はVw−Vrとなり非常に大きい。従ってリーク電流も大きくなる。もし画素選択トランジスタQ1cが測定済みであれば、そのソース・ドレイン間電位差は0であるのでリーク電流は非常に小さい。すなわち、データ線が共通でゲート線が異なり、かつ充電済みで保持時間経過するのを待っている画素が多いほどデータ線Dmに流れるリーク電流の合計が大きくなる。従って画素グループ内の測定順序に依存して電荷移動量の測定値が変化してしまう。これらは、隣り合った画素に限らず、データ線を共通とする複数の画素全てについて当てはまることを注意されたい。 Here, considering the pixel selection transistor Q1c of a pixel having a common data line and different gate lines, the pixel selection transistor Q1c is in an off state because the gate line G n-1 (1152) is Voff, but its off resistance Leak current. In particular, if the storage capacitor C1c is charged and waiting for the storage time to elapse, the potential difference between the source and drain of the pixel selection transistor Q1c is Vw−Vr, which is very large. Accordingly, the leakage current also increases. If the pixel selection transistor Q1c has been measured, the leakage current is very small because the potential difference between the source and drain is zero. That is, unlike the gate line data line in common, and the sum of the leakage current flowing as the data line D m is large pixels that are waiting for the holding time to pass already charging increases. Therefore, the measurement value of the charge transfer amount changes depending on the measurement order within the pixel group. It should be noted that these are not limited to adjacent pixels but apply to all of a plurality of pixels having a common data line.

図10と図11に示す実施例では、以上のような問題を解決する為に、以下のように画素を画素グループごとの配列として選択する。まず、画素の選択については、以下の2点が守られなければならない。
A1)充電された画素のゲート線については、保持時間が経過するまでは選択してはならない。
A2)測定される画素のデータ線につながる他の画素は、充電されていてはならない。
In the embodiment shown in FIG. 10 and FIG. 11, in order to solve the above problems, pixels are selected as an array for each pixel group as follows. First, regarding the selection of pixels, the following two points must be observed.
A1) The gate line of the charged pixel must not be selected until the holding time has elapsed.
A2) Other pixels connected to the data line of the pixel to be measured must not be charged.

言い換えると、次のような選択ルールとなる。
B1)画素グループ中のどの画素についても、互いのゲート線とデータ線が異なるように、各画素を選択する。
B2)ある画素が測定された後なら、その画素とデータ線もしくはゲート線が共通の画素を充電しても良い。ただし、充電される画素は、充電された電荷を保持中の他のいずれの画素に対しても、データ線あるいはゲート線が共通であってはならない。
In other words, the selection rule is as follows.
B1) For each pixel in the pixel group, each pixel is selected so that the gate line and the data line are different from each other.
B2) After a certain pixel is measured, a pixel having a common data line or gate line may be charged. However, the pixel to be charged must not have a common data line or gate line for any other pixel that holds the charged charge.

翻って図10及び図11の実施例を考察すれば,この両図に記載されているいずれの実施例も,上記B1とB2のルールを満足しており、図12のような不都合をもたらさないことが理解されよう。   Considering the embodiment of FIG. 10 and FIG. 11 in turn, any of the embodiments described in these figures satisfy the rules of B1 and B2, and do not bring about the inconvenience as shown in FIG. It will be understood.

次に、本発明における測定アルゴリズムに適用される、保持特性試験での画素グループ(画素配列)の定め方についての別の実施態様を、図15を使って説明する。   Next, another embodiment of a method for determining a pixel group (pixel arrangement) in a holding characteristic test, which is applied to the measurement algorithm of the present invention, will be described with reference to FIG.

ここでは、前述の図12の検討において、データ線が共通の複数の画素の保持容量にある期間重複して保持するように充電されたとしても、図9のような画素の選び方と違って、共通のデータ線に接続されて電荷を保持している画素が複数個あったとしても、図9の画素の選び方と比べて十分数が少なければ、上述の画素グループほど高精度ではなくても、実用上支障ない程度に精度良く測定できることに着目した。   Here, in the above-described examination of FIG. 12, even if the data lines are charged so as to be held redundantly for a certain period in the holding capacity of a plurality of common pixels, unlike the method of selecting the pixels as shown in FIG. Even if there are a plurality of pixels connected to a common data line and holding a charge, if the number is not sufficiently small compared to the selection of the pixels in FIG. We focused on the fact that it can be measured with high accuracy to the extent that there is no practical problem.

すなわち、図15に示されるように、1つの画素グループで使用される隣り合うデータ線の数を所定数に制限し、その所定数のデータ線につながる画素について、以下の2点のルールに従って画素を選択する。
C1)充電された画素のゲート線については、保持時間が経過するまでは選択してはならない。
C2)それぞれのデータ線につながっている充電された電荷を保持中の画素の数ができるだけ少なくなるように、画素を選択する。
That is, as shown in FIG. 15, the number of adjacent data lines used in one pixel group is limited to a predetermined number, and pixels connected to the predetermined number of data lines are pixels according to the following two rules. Select.
C1) The gate line of the charged pixel must not be selected until the holding time has elapsed.
C2) Select pixels so that the number of pixels holding charged charges connected to each data line is as small as possible.

すなわち、上記C1とC2のルールを満足する画素グループの選択方法として、図15をもとに、使用されるデータ線の数Rを4本としたときの選択方法の1例を示すと、第1の画素グループは、画素(1、1)を起点として、基本的に画素選びの移動量としてX,Y方向に(+1,+1)のシフトを行い、使用されるデータ線R本に割り当て終わったら、起点に対して(0,+(i×R))(ただし、iは1以上の整数)のシフトを行い、次に(+1,+1)のシフトを行う、というものを繰り返すものである。   That is, as a method for selecting a pixel group that satisfies the above rules C1 and C2, an example of a selection method when the number R of data lines to be used is four based on FIG. One pixel group starts with pixel (1, 1) as a starting point, basically shifts (+1, +1) in the X and Y directions as the amount of movement for pixel selection, and finishes assigning to the R data lines to be used Then, (0, + (i × R)) (where i is an integer equal to or greater than 1) is shifted with respect to the starting point, and then (+ 1, + 1) is repeated. .

このようにすれば、1画素グループ中の画素数Sに対し、データ線が共通で保持期間が重なる画素数はS/R個(この例ではS/4個)となり、図9の場合よりは、データ線が共通であることによるリーク電流の量が減少するので、比較的高精度な測定をすることができる。   In this way, the number of pixels having the same data line and overlapping the holding period is S / R (S / 4 in this example) with respect to the number S of pixels in one pixel group. Since the amount of leakage current due to the common data line is reduced, it is possible to measure with relatively high accuracy.

図15の実施態様は、図10の(B)ないし(D)、及び、図11の(A)ないし(D)についても応用することができる。   The embodiment of FIG. 15 can be applied to (B) to (D) of FIG. 10 and (A) to (D) of FIG.

この実施態様は、多少測定精度は悪くなるが、次のような場合に適用できる。すなわち、表示パネルのデータ線の総数Uが1画素グループの画素数Sに比べて小さい、すなわちU<Sの関係にある表示パネルに適用できる。また、図1において表示パネルのデータ線を選択するHシフトレジスタ140が、複数のマルチプレクサを用いて構成しているなどして、所定数Rまでのデータ線を選択するのには遅延が気にならないが、所定数R以上のデータ線の選択をする場合には遅延時間が無視できないほど大きくなる場合などに適している。   This embodiment is applicable to the following cases, although the measurement accuracy is somewhat worse. That is, the present invention can be applied to a display panel in which the total number U of data lines of the display panel is smaller than the number S of pixels in one pixel group, that is, U <S. Further, in FIG. 1, the H shift register 140 for selecting the data lines of the display panel is configured by using a plurality of multiplexers, etc., so that there is a delay in selecting data lines up to a predetermined number R. However, when selecting a data line of a predetermined number R or more, it is suitable for a case where the delay time becomes too large to be ignored.

以上のように、本発明によるアクティブアレイマトリクスの保持容量のチャージ特性試験及び保持特性試験の方法を、実施例を交えて説明してきたが、これらは本発明を例示目的で開示されたものであり、本発明を制限するものではないことに注意されたい。当業者には容易に理解できるように、様々な改変を施すことができよう。例えば、チャージ特性試験では書込み操作及び読み出し操作の間に待ち時間を設けない例で説明をしたが、保持時間よりも少ない待ち時間を設けても良い。また、画素グループ内の画素の移動量として1より多い移動量の方式を考えることもできるし、開始画素を表示パネルの端部以外の場所に設定することもできる。さらに、試験に適用される素子としては、図2(C)以外の方式のエレクトロルミネッセンス表示パネルの保持容量の特性測定にも応用することができる。   As described above, the charge characteristic test and the retention characteristic test method of the storage capacitor of the active array matrix according to the present invention have been described with examples, but these are disclosed for the purpose of illustration. It should be noted that the present invention is not limited. Various modifications may be made, as will be readily understood by those skilled in the art. For example, although an example in which no waiting time is provided between the writing operation and the reading operation has been described in the charge characteristic test, a waiting time smaller than the holding time may be provided. Further, a method of moving more than 1 can be considered as the moving amount of the pixels in the pixel group, and the start pixel can be set at a place other than the end of the display panel. Furthermore, as an element applied to the test, it can also be applied to the measurement of the storage capacitor characteristics of an electroluminescence display panel of a method other than that shown in FIG.

なお、本発明では、Hシフトレジスタ及び/またはVシフトレジスタが、双方向にシフト可能な表示パネルについて説明してきたが、十分に画素選択時間のマージンを考慮することで、Hシフトレジスタ及び/またはVシフトレジスタが、単一方向にだけシフトするシフトレジスタの表示パネルについても、本発明を実施することができる。   Note that in the present invention, a display panel in which the H shift register and / or the V shift register can be shifted in both directions has been described. However, the H shift register and / or the shift panel can be selected by sufficiently considering a margin for pixel selection time. The present invention can also be implemented for a display panel of a shift register in which the V shift register shifts only in a single direction.

また、本発明は、図1に示されたTFTアレイに含まれる形のHシフトレジスタ及びVシフトレジスタに限らず、これらシフトレジスタをTFTアレイの外あるいは内外にまたがった形で配置した形態にも適用することができる。   In addition, the present invention is not limited to the H shift register and V shift register included in the TFT array shown in FIG. 1, and the shift register may be arranged outside or inside the TFT array. Can be applied.

さらに、本発明による保持容量の特性の良否をTFTアレイ製造プロセスの前段階にフィードバックして、プロセスの品質改善に使用することもできよう。   Furthermore, the quality of the storage capacitor according to the present invention can be fed back to the previous stage of the TFT array manufacturing process and used to improve the quality of the process.

本発明による試験回路のブロック図である。1 is a block diagram of a test circuit according to the present invention. 図1のHシフトレジスタ140の回路を示したブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a circuit of an H shift register 140 in FIG. 1. 図1のVシフトレジスタ142の回路を示したブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a circuit of a V shift register 142 in FIG. 1. 本発明で試験対象となる画素回路を説明するブロック図である。It is a block diagram explaining the pixel circuit used as a test object by this invention. 本発明による試験を説明するタイミングチャートである。It is a timing chart explaining the test by this invention. 図5に示す試験のシーケンスを説明する為の模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the sequence of the test shown in FIG. 本発明の実施例の一つを説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining one of the Examples of this invention. 図7のフローチャートの一部を詳しく説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining in detail a part of the flowchart of FIG. 本発明の実施例の一つの説明として、画素グループの選び方を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing how to select a pixel group as an explanation of an embodiment of the present invention. 本発明の実施例の別の一つの説明として、画素グループの別の選び方を示す模式図である。As another explanation of the embodiment of the present invention, it is a schematic diagram showing another way of selecting a pixel group. 本発明の実施例の別の一つの説明として、画素グループのさらに別の選び方を示す模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram showing still another way of selecting a pixel group as another description of the embodiment of the present invention. 図10及び図11の方法による効果を説明するための回路図である。It is a circuit diagram for demonstrating the effect by the method of FIG.10 and FIG.11. 従来技術の試験方法による試験装置のブロック図である。It is a block diagram of the testing apparatus by the test method of a prior art. 従来技術に基づく試験方法を説明するタイミングチャートである。It is a timing chart explaining the test method based on a prior art. 本発明の別の実施例として、画素グループのさらに別の選び方を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows another way of selecting a pixel group as another Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100 TFTアレイ測定装置
102 TFTアレイ
110 電荷計
122 可変電圧源
124 Data端子
126、150 シフト方向端子
128、148 クロック信号端子
130、146 パルス入力端子
140 Hシフトレジスタ
142 Vシフトレジスタ
149 イネーブル端子
152 ゲート線
154 データ線
156、158、160 画素回路
162、164 接続線

100 TFT array measuring device 102 TFT array 110 Charge meter 122 Variable voltage source 124 Data terminal 126, 150 Shift direction terminal 128, 148 Clock signal terminal 130, 146 Pulse input terminal 140 H shift register 142 V shift register 149 Enable terminal 152 Gate line 154 Data line 156, 158, 160 Pixel circuit 162, 164 Connection line

Claims (13)

保持容量を備えた複数の画素回路を含むアクティブマトリクスのTFTアレイの測定方法であって、前記複数の画素回路の各々は、前記保持容量と、該保持容量にデータ線を接続するためのスイッチング用トランジスタと、前記スイッチング用トランジスタのスイッチング動作を制御するゲート線を備え、前記複数の画素回路には少なくとも第1と第2と第3と第4の画素回路を備え、前記測定方法は、
充電後所定の保持時間経過した第1の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第3の画素回路の保持容量にチャージ特性測定を行い、その後、充電し、
充電後所定の保持時間経過した第2の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第4の画素回路の保持容量にチャージ特性測定を行い、その後、充電し、
前記所定の保持時間経過後に前記第3の画素回路の保持容量の電荷を測定し、
前記所定の保持時間経過後に前記第4の画素回路の保持容量の電荷を測定する
ステップを含むことを特徴とする測定方法。
A method of measuring an active matrix TFT array including a plurality of pixel circuits having a storage capacitor, wherein each of the plurality of pixel circuits is for switching to connect the storage capacitor and a data line to the storage capacitor. A transistor, and a gate line that controls a switching operation of the switching transistor, wherein the plurality of pixel circuits include at least first, second, third, and fourth pixel circuits, and the measurement method includes:
A charge characteristic measurement is performed on the storage capacitor of the third pixel circuit that has not yet been charged after measuring the charge of the storage capacitor of the first pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed after charging.
After measuring the charge of the holding capacitor of the second pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed after charging, charge characteristics are measured on the holding capacitor of the fourth pixel circuit that has not been charged, and then charged.
Measuring the charge of the holding capacitor of the third pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed;
A measuring method comprising: measuring a charge of a storage capacitor of the fourth pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed.
前記所定の保持時間経過した前記第1の画素回路で測定するステップの前に、前記第1と第2の画素回路のそれぞれの保持容量にチャージ特性測定を行い、その後、充電し、
前記第1と第2の画素回路の保持容量を充電するステップの前に、前記第1と前記第2の画素回路を第1の画素グループに割り当て、前記第3と前記第4の画素回路を第2の画素グループに割り当てるステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の測定方法。
Before the step of measuring with the first pixel circuit after the predetermined holding time has passed, charge characteristics are measured on the holding capacitors of the first and second pixel circuits, and then charged.
Prior to the step of charging the storage capacitors of the first and second pixel circuits, the first and second pixel circuits are assigned to a first pixel group, and the third and fourth pixel circuits are assigned to the first and second pixel circuits. The measurement method according to claim 1, further comprising a step of assigning to the second pixel group.
前記画素回路を画素グループに割り当てるステップにおいて、
前記第1の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、前記第2の画素回路は、前記第1のデータ線と、前記第1のゲート線に隣接する第2のゲート線とに接続されるように割り当て、
前記第3の画素回路は、前記第1のデータ線に隣接する第2のデータ線と、前記第1のゲート線とに接続され、前記第4の画素回路は、前記第2のデータ線と、前記第2のデータ線とに接続されるように割り当てる
ことを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
Assigning the pixel circuit to a pixel group;
The first pixel circuit is connected to a first data line and a first gate line, and the second pixel circuit is adjacent to the first data line and the first gate line. Assigned to be connected to the second gate line,
The third pixel circuit is connected to a second data line adjacent to the first data line and the first gate line, and the fourth pixel circuit is connected to the second data line. The measurement method according to claim 2, wherein allocation is performed so as to be connected to the second data line.
前記画素回路を画素グループに割り当てるステップにおいて、
前記第1の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、前記第2の画素回路は、前記第1のデータ線に隣接する第2のデータ線と、前記第1のゲート線に隣接する第2のゲート線とに接続されるように割り当て、
前記第3の画素回路は、前記第1のデータ線と、前記第1のゲート線に隣接し前記第2のゲート線とは反対側にある第3のゲート線とに接続され、前記第4の画素回路は、前記第2のデータ線と、前記第1のゲート線とに接続されるように割り当てる
ことを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
Assigning the pixel circuit to a pixel group;
The first pixel circuit is connected to a first data line and a first gate line, and the second pixel circuit includes a second data line adjacent to the first data line; Assigned to be connected to a second gate line adjacent to the first gate line;
The third pixel circuit is connected to the first data line and a third gate line adjacent to the first gate line and opposite to the second gate line, and The measurement method according to claim 2, wherein the pixel circuit is assigned so as to be connected to the second data line and the first gate line.
前記画素回路を画素グループに割り当てるステップにおいて、
前記第1の画素回路は、第1のデータ線と、第1のゲート線とに接続され、前記第2の画素回路は、前記第1のデータ線に隣接する第2のデータ線と、前記第1のゲート線に隣接する第2のゲート線とに接続されるように割り当て、
前記第3の画素回路は、前記第1のデータ線に隣接し前記第2のデータ線とは反対側にある第3のデータ線と、前記第1のゲート線とに接続され、前記第4の画素回路は、前記第1のデータ線と、前記第2のゲート線とに接続されるように割り当てる
ことを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
Assigning the pixel circuit to a pixel group;
The first pixel circuit is connected to a first data line and a first gate line, and the second pixel circuit includes a second data line adjacent to the first data line; Assigned to be connected to a second gate line adjacent to the first gate line;
The third pixel circuit is connected to the third data line adjacent to the first data line and on the opposite side of the second data line, and the first gate line, and 3. The measurement method according to claim 2, wherein the pixel circuit is assigned so as to be connected to the first data line and the second gate line. 4.
前記第1及び第2及び第3及び第4の画素回路のいずれかが充電されている時は、該充電されている画素回路の電荷が測定されるまでは、該充電されている画素回路につながるゲート線につながる他の画素回路は充電も測定もされていない
ことを特徴とする請求項1又は2又は4又は5に記載の測定方法。
When any one of the first, second, third and fourth pixel circuits is charged, the charged pixel circuit is not charged until the charge of the charged pixel circuit is measured. 6. The measuring method according to claim 1, wherein the other pixel circuit connected to the connected gate line is neither charged nor measured.
前記第1及び第2及び第3及び第4の画素回路のいずれかが測定されるときは、該測定される画素回路につながるデータ線につながる他の画素回路は充電されていない
ことを特徴とする請求項6に記載の測定方法。
When any one of the first, second, third, and fourth pixel circuits is measured, another pixel circuit connected to the data line connected to the measured pixel circuit is not charged. The measuring method according to claim 6.
保持容量を備えた複数の画素回路を含むアクティブマトリクスのTFTアレイの測定を行う方法であって、前記複数の画素回路の各々は、前記保持容量と、該保持容量にデータ線を接続するためのスイッチング用トランジスタと、前記スイッチング用トランジスタのスイッチング動作を制御するゲート線を備え、前記複数の画素回路には少なくとも第1と第2と第3と第4の画素回路を備え、前記測定方法は、
前記複数の画素回路から、所定数の画素回路を第1及び第2の画素グループに割り当て、
前記第1の画素グループの各画素回路を各々チャージ特性測定し、その後充電し、
前記第1の画素グループの画素回路の一つから電荷を測定し、前記第2の画素グループの画素回路の一つをチャージ特性測定し、その後充電することを、両画素グループの各画素回路について行い、
前記第2の画素グループの各画素回路から電荷を測定する
ステップを含み、
前記割り当てるステップにおいて、前記第1と第2の画素グループそれぞれにおいては、各画素回路は互いにゲート線が異なるように割り当て、
電荷の測定が終了した画素回路につながるデータ線あるいはゲート線につながる画素回路であって、該ゲート線につながる別の画素回路であって、まだ充電されていない画素回路を、次に充電するように、前記第1と第2の画素グループの各画素回路を割り当てる
ことを特徴とする測定方法。
A method of measuring an active matrix TFT array including a plurality of pixel circuits having a storage capacitor, wherein each of the plurality of pixel circuits is configured to connect the storage capacitor and a data line to the storage capacitor. A switching transistor; and a gate line that controls a switching operation of the switching transistor. The plurality of pixel circuits include at least first, second, third, and fourth pixel circuits.
A predetermined number of pixel circuits are assigned to the first and second pixel groups from the plurality of pixel circuits,
Charge characteristics of each pixel circuit of the first pixel group are measured, and then charged.
For each pixel circuit of both pixel groups, the charge is measured from one of the pixel circuits of the first pixel group, the charge characteristic of one of the pixel circuits of the second pixel group is measured, and then charged. Done
Measuring charge from each pixel circuit of the second pixel group;
In the assigning step, in each of the first and second pixel groups, the pixel circuits are assigned such that the gate lines are different from each other,
A pixel circuit connected to a data line or a gate line connected to a pixel circuit for which charge measurement has been completed, and another pixel circuit connected to the gate line, which has not yet been charged, is charged next. And measuring each pixel circuit of the first and second pixel groups.
前記割り当てるステップにおける前記第1と第2の画素グループそれぞれにおける割り当ては、各画素回路は互いにゲート線だけでなくデータ線も異なるように割り当て、
電荷の測定が終了した画素回路につながるデータ線あるいはゲート線につながる画素回路を充電する際には、該データ線あるいは該ゲート線につながる別の画素回路が充電されていない画素回路を選択して、次に充電するように、前記第1と第2の画素グループの各画素回路を割り当てる
ことを特徴とする請求項8に記載の測定方法。
The assignment in each of the first and second pixel groups in the assigning step is such that each pixel circuit assigns not only a gate line but also a data line to each other,
When charging a pixel circuit connected to a data line or a gate line connected to a pixel circuit for which charge measurement has been completed, select a pixel circuit that is not charged with another pixel circuit connected to the data line or the gate line. 9. The measuring method according to claim 8, wherein the pixel circuits of the first and second pixel groups are assigned so as to be charged next.
前記TFTアレイは双方向シフトレジスタを備えたことを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の測定方法。   The measurement method according to claim 1, wherein the TFT array includes a bidirectional shift register. 請求項1ないし10に記載の測定方法において、チャージ特性測定とは、前記保持容量に充電し、直ちに前記保持容量の電荷を測定することを特徴とする測定方法。   11. The measurement method according to claim 1, wherein charge characteristic measurement is performed by charging the storage capacitor and immediately measuring the charge of the storage capacitor. 請求項1ないし10に記載の測定方法において、チャージ特性測定とは、前記保持容量に充電し、前記所定の保持時間が経過する前に前記保持容量の電荷を測定することを特徴とする測定方法。   11. The measurement method according to claim 1, wherein the charge characteristic measurement includes charging the storage capacitor and measuring the charge of the storage capacitor before the predetermined holding time elapses. . 保持容量を備えた複数の画素回路を含むアクティブマトリクスのTFTアレイの測定方法であって、前記複数の画素回路の各々は、前記保持容量と、該保持容量にデータ線を接続するためのスイッチング用トランジスタと、前記スイッチング用トランジスタのスイッチング動作を制御するゲート線を備え、前記複数の画素回路には少なくとも第1と第2と第3と第4の画素回路を備え、前記測定方法は、
充電後所定の保持時間経過した第1の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第3の画素回路の保持容量に充電し、前記保持容量の電荷を測定し、その後、前記保持容量に充電し、
充電後所定の保持時間経過した第2の画素回路の保持容量の電荷を測定してから、まだ充電されてない第4の画素回路の保持容量に充電し、前記保持容量の電荷を測定し、その後、前記保持容量に充電し、
前記所定の保持時間経過後に前記第3の画素回路の保持容量の電荷を測定し、
前記所定の保持時間経過後に前記第4の画素回路の保持容量の電荷を測定する
ステップを含むことを特徴とする測定方法。

A method of measuring an active matrix TFT array including a plurality of pixel circuits having a storage capacitor, wherein each of the plurality of pixel circuits is for switching to connect the storage capacitor and a data line to the storage capacitor. A transistor, and a gate line that controls a switching operation of the switching transistor, wherein the plurality of pixel circuits include at least first, second, third, and fourth pixel circuits, and the measurement method includes:
Measuring the charge of the holding capacitor of the first pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed after charging, charging the holding capacitor of the third pixel circuit not yet charged, and measuring the charge of the holding capacitor; Then charge the holding capacity,
Measuring the charge of the holding capacitor of the second pixel circuit after a predetermined holding time has elapsed after charging, charging the holding capacitor of the fourth pixel circuit that has not been charged, and measuring the charge of the holding capacitor; Then charge the holding capacity,
Measuring the charge of the holding capacitor of the third pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed;
A measuring method comprising: measuring a charge of a storage capacitor of the fourth pixel circuit after the predetermined holding time has elapsed.

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009265014A (en) * 2008-04-28 2009-11-12 Shimadzu Corp Inspection device of tft array
WO2014141378A1 (en) * 2013-03-12 2014-09-18 Necディスプレイソリューションズ株式会社 Image display device and drive method for same

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