JP2007223846A - Molding mold - Google Patents

Molding mold Download PDF

Info

Publication number
JP2007223846A
JP2007223846A JP2006046850A JP2006046850A JP2007223846A JP 2007223846 A JP2007223846 A JP 2007223846A JP 2006046850 A JP2006046850 A JP 2006046850A JP 2006046850 A JP2006046850 A JP 2006046850A JP 2007223846 A JP2007223846 A JP 2007223846A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
mold
bond layer
diffusion
bond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006046850A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroki Itakura
弘樹 板倉
Ryo Minoshima
涼 簑島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Riko Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Riko Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Riko Co Ltd filed Critical Sumitomo Riko Co Ltd
Priority to JP2006046850A priority Critical patent/JP2007223846A/en
Publication of JP2007223846A publication Critical patent/JP2007223846A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding mold having more excellent durability than heretofore. <P>SOLUTION: The molding mold is formed by layering a diffusion preventing layer for preventing the diffusion of components of a mold base material part and those of a bond layer on the surface of the mold base material part while interposing the bond layer between them. The hardness of the diffusion preventing layer is made larger than that of the bond layer. It is better that the Vickers hardness of the bond layer is within 10-200 and that of the diffusion preventing layer is within a range of >200 and ≤1,500. A release layer for promoting the release of a molded article from the molding mold can further be layered on the surface of the diffusion preventing layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、成形型に関するものである。   The present invention relates to a mold.

各種産業分野において、材料に形状を付与するため、成形型による成形が行われている。成形型による成形は、研削加工などに比べ、同形状の物を比較的数多く作りやすいなどの利点を有している。   In various industrial fields, molding with a mold is performed in order to impart a shape to a material. Molding with a molding die has an advantage that a relatively large number of the same shape can be easily produced as compared with grinding.

従来、型基材部表面に各種機能層を有する成形型が知られている。例えば、特許文献1には、母材上に、拡散防止膜、離型膜がこの順に被覆された成形型が開示されている。   Conventionally, a mold having various functional layers on the surface of the mold base is known. For example, Patent Document 1 discloses a mold in which a base material is coated with a diffusion prevention film and a release film in this order.

上記成形型において、母材は、WCよりなっている。拡散防止膜は、スパッタ法により形成されたNb、Hf、Taなどよりなっている。離型膜は、スパッタ法により形成されたPt−Ir合金よりなっている。なお、上記拡散防止膜は、母材成分の拡散を防止する機能を有している。   In the molding die, the base material is made of WC. The diffusion prevention film is made of Nb, Hf, Ta or the like formed by sputtering. The release film is made of a Pt—Ir alloy formed by sputtering. In addition, the said diffusion prevention film has a function which prevents the spreading | diffusion of a base material component.

特開2002−60239号公報(実施例など)Japanese Patent Laid-Open No. 2002-60239 (Examples)

一般に、この種の成形型は、その利点を活かすため、耐久性が要求される。   Generally, this type of mold requires durability in order to make use of its advantages.

しかしながら、従来の成形型は、成形物の製造時に拡散防止膜が剥離するなど、耐久性が低いといった問題があった。そのため、型寿命が短く、実際の生産に用い難かった。   However, the conventional mold has a problem that the durability is low, for example, the diffusion preventing film peels off during the production of the molded product. Therefore, the mold life is short and difficult to use in actual production.

また、一旦、拡散防止膜が剥離すると、型基材部成分の拡散を防止できなくなる。そのため、型基材部成分により成形物が汚染されやすくなる。また、用いている成形材料の種類によっては、成形材料と成形型とが融着しやすくなり、成形が困難になる場合がある。   Moreover, once the diffusion preventing film is peeled off, it becomes impossible to prevent the diffusion of the mold base material component. Therefore, the molded product is easily contaminated by the mold base material component. Further, depending on the type of the molding material used, the molding material and the mold are likely to be fused, and molding may be difficult.

このように、従来の拡散防止膜を有する成形型は、その耐久性が低いことに起因して、種々の問題が発生しやすかった。   As described above, the conventional mold having the diffusion barrier film is liable to cause various problems due to its low durability.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、従来よりも耐久性に優れた成形型を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a mold having higher durability than conventional ones.

上記課題を解決するため、本発明に係る成形型は、型基材部表面に、ボンド層を介して、上記型基材部および前記ボンド層の成分の拡散を防止する拡散防止層が積層されており、上記拡散防止層の硬度は、上記ボンド層の硬度よりも大きいことを要旨とする。   In order to solve the above-described problems, the mold according to the present invention has a diffusion prevention layer that prevents diffusion of the components of the mold base part and the bond layer on the surface of the mold base part via the bond layer. It is summarized that the hardness of the diffusion preventing layer is larger than the hardness of the bond layer.

ここで、上記ボンド層のビッカース硬さは、10以上200以下の範囲内にあり、上記拡散防止層のビッカース硬さは、200よりも大きく1500以下の範囲内にあると良い。   Here, the Vickers hardness of the bond layer is preferably in the range of 10 or more and 200 or less, and the Vickers hardness of the diffusion preventing layer is preferably in the range of more than 200 and 1500 or less.

また、上記ボンド層は、Cr、Co、Ni、Cu、AgおよびAuから選択される少なくとも1種の金属および/または前記金属を1種以上含む合金を主に含有し、上記拡散防止層は、Nb、Mo、Ru、RhおよびTaから選択される少なくとも1種の金属および/または前記金属を1種以上含む合金を主に含有していると良い。   The bond layer mainly contains at least one metal selected from Cr, Co, Ni, Cu, Ag and Au and / or an alloy containing one or more of the metals, It is preferable to mainly contain at least one metal selected from Nb, Mo, Ru, Rh and Ta and / or an alloy containing one or more of the metals.

また、上記ボンド層および/または上記拡散防止層は、めっきにより形成されていると良い。   Further, the bond layer and / or the diffusion preventing layer may be formed by plating.

また、上記拡散防止層の表面に、成形物との離型を促す離型層がさらに積層されていると良い。   Moreover, it is preferable that a release layer that facilitates release from the molded product is further laminated on the surface of the diffusion preventing layer.

一方、本発明に係る成形物は、上記本発明に係る成形型を用いて成形されていることを要旨とする。   Meanwhile, the gist of the molded product according to the present invention is that the molded product according to the present invention is molded.

本発明に係る成形型は、型基材部表面に、ボンド層を介して拡散防止層が積層されている。また、拡散防止層の硬度は、ボンド層の硬度よりも大きい。そのため、上記ボンド層の存在により、拡散防止層が剥離し難いので、従来の成形型に比較して耐久性に優れる。そのため、本発明に係る成形型によれば、型の長寿命化を図ることができる。   In the mold according to the present invention, a diffusion prevention layer is laminated on the surface of the mold base portion via a bond layer. Further, the hardness of the diffusion preventing layer is larger than the hardness of the bond layer. Therefore, since the diffusion preventing layer is hardly peeled off due to the presence of the bond layer, the durability is excellent as compared with a conventional mold. Therefore, according to the mold according to the present invention, the life of the mold can be extended.

また、拡散防止層が剥離し難いので、型基材部成分により成形物が汚染され難い。加えて、拡散防止層より下層の成分の拡散を長期に亘って防止できるので、成形材料と成形型とが融着し難く、生産性も向上する。   Further, since the diffusion preventing layer is difficult to peel off, the molded product is hardly contaminated by the mold base part component. In addition, since diffusion of components below the diffusion preventing layer can be prevented over a long period of time, the molding material and the molding die are hardly fused, and the productivity is improved.

ここで、ボンド層および拡散防止層のビッカース硬さが、上記特定の範囲内にある場合、また、ボンド層および拡散防止層が、上記特定の金属または合金を主成分とする場合には、上記作用効果を発揮しやすい。   Here, when the Vickers hardness of the bond layer and the diffusion prevention layer is within the specific range, and when the bond layer and the diffusion prevention layer are mainly composed of the specific metal or alloy, the above It is easy to exert the effect.

また、ボンド層および/または拡散防止層がめっきにより形成されている場合には、めっき条件を適宜選択することにより型表面を平坦化しやすい。そのため、表面に凹凸の少ない成形物を得やすくなる。   Moreover, when the bond layer and / or the diffusion preventing layer are formed by plating, the mold surface can be easily flattened by appropriately selecting the plating conditions. Therefore, it becomes easy to obtain a molded product with less unevenness on the surface.

また、拡散防止層の表面に離型層がさらに積層されている場合には、成形物が離型されやすい。   In addition, when a release layer is further laminated on the surface of the diffusion preventing layer, the molded product is easily released.

一方、本発明に係る成形物は、上記成形型を用いて成形されているので、量産性などに優れる。   On the other hand, since the molded product according to the present invention is molded using the above mold, it is excellent in mass productivity.

以下、本実施形態に係る成形型について詳細に説明する(以下、本実施形態に係る成形型を「本成形型」ということがある。)。   Hereinafter, the molding die according to this embodiment will be described in detail (hereinafter, the molding die according to this embodiment may be referred to as “main molding die”).

初めに、本成形型の構成について説明する。図1に例示するように、本成形型10は、型基材部12と、ボンド層14と、拡散防止層16とを基本構成として有している。   First, the configuration of the main mold will be described. As illustrated in FIG. 1, the present mold 10 includes a mold base portion 12, a bond layer 14, and a diffusion prevention layer 16 as a basic configuration.

型基材部12は、型本体をなす。型基材部12の表面には、通常、成形材料に所望形状を転写する転写面(図示されない)が形成されている。ボンド層14は、型基材部12と拡散防止層16との間に介在し、両者を結合する機能を主に有している。拡散防止層16は、ボンド層14の表面に形成され、型基材部成分およびボンド層成分の拡散を防止する機能を主に有している。   The mold base part 12 forms a mold body. A transfer surface (not shown) for transferring a desired shape to the molding material is usually formed on the surface of the mold base 12. The bond layer 14 is interposed between the mold base portion 12 and the diffusion prevention layer 16 and mainly has a function of bonding both. The diffusion preventing layer 16 is formed on the surface of the bond layer 14 and mainly has a function of preventing the diffusion of the mold base material component and the bond layer component.

本成形型において、ボンド層は、1層より形成されていても良いし、2層以上の分割層より形成されていても良い。また、ボンド層が分割形成されている場合、各分割層は、同じ組成からなっていても良いし、異なる組成からなっていても良い。これらについては、拡散防止層についても同様である。   In the present mold, the bond layer may be formed of one layer or may be formed of two or more divided layers. Moreover, when the bond layer is dividedly formed, each divided layer may have the same composition or may have a different composition. The same applies to the diffusion prevention layer.

本成形型において、拡散防止層は、基本的には、型基材部成分およびボンド層成分のうち、成形性に悪影響を与えたり、成形物に付着・混入するとその成形物の商品価値を低下させたりする少なくとも1つ以上の成分の拡散を防止可能であれば良い。   In this mold, the diffusion prevention layer basically affects the moldability of the mold base part component and the bond layer component, or lowers the commercial value of the molded product if it adheres to or mixes with the molded product. It is sufficient that at least one or more components to be diffused can be prevented from diffusing.

このような成分としては、具体的には、例えば、型基材部に含まれることがあるTi、Cr、Fe、Co、Ni、Ta、Wなどや、ボンド層に含まれることがあるTi、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Ta、W、Auなどの成分などを例示することができる。   Specifically, as such a component, for example, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Ta, W, etc., which may be contained in the mold base portion, Ti which may be contained in the bond layer, Examples of the components include Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Ta, W, and Au.

ここで、本成形型では、拡散防止層の硬度は、ボンド層の硬度よりも大きい。ボンド層の硬度が、拡散防止層の硬度よりも大きいと、両者間で十分な結合力が得られない。もっとも、ボンド層がない場合には、拡散防止層の密着性が悪く、十分な耐久性が得られない。   Here, in this mold, the hardness of the diffusion preventing layer is greater than the hardness of the bond layer. If the hardness of the bond layer is greater than the hardness of the diffusion preventing layer, sufficient bonding strength cannot be obtained between them. However, when there is no bond layer, the adhesion of the diffusion preventing layer is poor and sufficient durability cannot be obtained.

上記硬度とは、JIS Z 2244に準拠して測定されるビッカース硬さを指す。具体的には、ボンド層のビッカース硬さをHVB、拡散防止層のビッカース硬さをHVDRとすると、10≦HVB≦200、200<HVDR≦1500の範囲内にあると良い。両者のビッカース硬さがこれら範囲内にあれば、型基材部と拡散防止層との結合力に優れ、耐久性に優れるからである。 The hardness refers to Vickers hardness measured according to JIS Z 2244. Specifically, Vickers hardness of H VB of the bond layer, the Vickers hardness of the diffusion preventing layer and H VDR, may be within the range of 10 ≦ H VB ≦ 200,200 <H VDR ≦ 1500. This is because if both Vickers hardnesses are within these ranges, the bonding strength between the mold base portion and the diffusion preventing layer is excellent and the durability is excellent.

この際、型基材部の硬度は、ボンド層の硬度よりも大きいことが好ましい。具体的には、型基材部のビッカース硬さをHVMとすると、200<HVM≦2100の範囲内にあると良い。 At this time, the hardness of the mold base part is preferably larger than the hardness of the bond layer. Specifically, when the Vickers hardness of the mold base portion and H VM, may be within the range of 200 <H VM ≦ 2100.

ボンド層の材質としては、具体的には、例えば、Cr、Co、Ni、Cu、AgおよびAuから選択される少なくとも1種の金属および/またはこれら金属を1種以上含む合金などを例示することができる。   Specific examples of the material of the bond layer include, for example, at least one metal selected from Cr, Co, Ni, Cu, Ag, and Au and / or an alloy containing one or more of these metals. Can do.

拡散防止層の材質としては、具体的には、例えば、Nb、Mo、Ru、RhおよびTaから選択される少なくとも1種の金属および/またはこれら金属を1種以上含む合金などを例示することができる。   Specific examples of the material for the diffusion prevention layer include at least one metal selected from Nb, Mo, Ru, Rh and Ta and / or an alloy containing one or more of these metals. it can.

型基材部の材質としては、具体的には、例えば、WC系の超硬合金、ステンレス鋼、Siおよびその複合体からなるセラミックスなどを例示することができる。   Specific examples of the material of the mold base part include WC-based cemented carbide, stainless steel, Si and ceramics made of a composite thereof.

また、ボンド層の結晶粒径は、特定の範囲にあると良い。ボンド層の結晶粒径が過度に大きくなると、機械強度が低下する傾向などが見られ、ボンド層の結晶粒径が過度に小さくなると、結晶粒の数が多くなり過ぎ、層中の空隙部分が多くなって脆くなる傾向などが見られるからである。   The crystal grain size of the bond layer is preferably in a specific range. When the crystal grain size of the bond layer becomes excessively large, there is a tendency for the mechanical strength to decrease, and when the crystal grain size of the bond layer becomes excessively small, the number of crystal grains becomes too large, and void portions in the layer are formed. This is because there is a tendency to increase and become brittle.

ボンド層の結晶粒径としては、その好ましい上限値として、具体的には、例えば、1000nm、500nm、100nmなどを例示することができる。一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、1nm、5nm、10nm、50nmなどを例示することができる。   Specific examples of the preferred upper limit of the crystal grain size of the bond layer include 1000 nm, 500 nm, 100 nm, and the like. On the other hand, specific examples of preferable lower limit values that can be combined with these preferable upper limit values include 1 nm, 5 nm, 10 nm, and 50 nm.

また、拡散防止層の結晶粒径についても、特定の範囲内にあると良い。拡散防止層の結晶粒径が過度に大きくなると、機械強度が低下する傾向などが見られ、拡散防止層の結晶粒径が過度に小さくなると、結晶粒の数が多くなり過ぎ、層中の空隙部分が多くなって脆くなる傾向などが見られるからである。   Also, the crystal grain size of the diffusion preventing layer is preferably within a specific range. When the crystal grain size of the diffusion prevention layer is excessively large, there is a tendency for the mechanical strength to decrease, and when the crystal grain size of the diffusion prevention layer is excessively small, the number of crystal grains is excessively increased, resulting in voids in the layer. This is because a tendency to become brittle due to an increase in the portion is observed.

拡散防止層の結晶粒径としては、その好ましい上限値として、具体的には、例えば、500nm、120nm、110nm、100nm、90nmなどを例示することができる。一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、1nm、5nm、7.5nm、10nm、12.5nm、15nmなどを例示することができる。   Specific examples of the preferable upper limit of the crystal grain size of the diffusion preventing layer include 500 nm, 120 nm, 110 nm, 100 nm, and 90 nm. On the other hand, specific examples of preferable lower limit values that can be combined with these preferable upper limit values include 1 nm, 5 nm, 7.5 nm, 10 nm, 12.5 nm, and 15 nm.

また、ボンド層の純度としては、機械的強度に優れるなどの観点から、2N(99%)以上であることが好ましく、より好ましくは3N(99.9%)以上であると良い。   Further, the purity of the bond layer is preferably 2N (99%) or more, more preferably 3N (99.9%) or more, from the viewpoint of excellent mechanical strength.

また、拡散防止層の純度としては、拡散防止効果に優れるなどの観点から、2N(99%)以上であることが好ましく、より好ましくは3N(99.9%)以上であると良い。   Further, the purity of the diffusion preventing layer is preferably 2N (99%) or more, more preferably 3N (99.9%) or more from the viewpoint of excellent diffusion preventing effect.

本成形型において、ボンド層の厚みは、特定の範囲内にあると良い。ボンド層の厚みが過度に厚くなると、機械強度が低下する傾向などが見られ、ボンド層の厚みが過度に小さくなると、十分な結合力が得られなくなる傾向などが見られるからである。   In the present mold, the thickness of the bond layer is preferably within a specific range. This is because when the bond layer is excessively thick, the mechanical strength tends to decrease, and when the bond layer is excessively small, a sufficient bonding force cannot be obtained.

ボンド層の厚みとしては、その好ましい上限値として、具体的には、例えば、0.1μm、0.05μm、0.03μmなどを例示することができる。一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、0.01μmなどを例示することができる。   Specific examples of the preferable upper limit of the thickness of the bond layer include 0.1 μm, 0.05 μm, and 0.03 μm. On the other hand, specific examples of preferable lower limit values that can be combined with these preferable upper limit values include 0.01 μm.

また、拡散防止層の厚みについても、特定の範囲内にあると良い。拡散防止層の厚みが過度に厚くなると、型表面の凹凸が大きくなり、良好な表面を有する成形物を得難くなる場合があり、拡散防止層の厚みが過度に薄くなると、拡散防止効果が低下するなどの傾向が見られるからである。   The thickness of the diffusion preventing layer is also preferably within a specific range. If the thickness of the diffusion prevention layer is excessively thick, the unevenness of the mold surface becomes large, and it may be difficult to obtain a molded product having a good surface. If the thickness of the diffusion prevention layer is excessively thin, the diffusion prevention effect is reduced. This is because there is a tendency to do.

拡散防止層の厚みとしては、その好ましい上限値として、具体的には、例えば、1μm、0.5μmなどを例示することができる。一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、0.2μm、0.3μmなどを例示することができる。   Specific examples of the preferable upper limit of the thickness of the diffusion preventing layer include 1 μm and 0.5 μm. On the other hand, specific examples of preferable lower limit values that can be combined with these preferable upper limit values include 0.2 μm and 0.3 μm.

上記では、本成形型が、最表層として拡散防止層を有する場合について説明した。これ以外にも、本成形型は、図2に示すように、拡散防止層16の表面に、さらに離型層18を有していても良い。   In the above description, the case where the present mold has the diffusion preventing layer as the outermost layer has been described. In addition to this, the mold may further include a release layer 18 on the surface of the diffusion preventing layer 16 as shown in FIG.

離型層は、成形物との離型を促す機能を主として有している。離型層を積層するか否かは、例えば、成形材料の種類、成形温度などの成形条件などを考慮し、必要に応じて、適宜決定することができる。   The release layer mainly has a function of promoting release from the molded product. Whether or not the release layer is laminated can be appropriately determined as necessary in consideration of molding conditions such as the type of molding material and molding temperature.

つまり、成形条件などによっては、拡散防止層までの積層であっても離型に支障がない場合がある。このような場合には、離型層をあえて積層する必要はない。一方、例えば、ガラスなどの成形材料を高温で成形する場合などには、成形物が離型し難いことがある。このような場合には、離型層をさらに積層すると良い。   That is, depending on the molding conditions and the like, there is a case where there is no hindrance to mold release even if the lamination is up to the diffusion preventing layer. In such a case, it is not necessary to layer a release layer. On the other hand, for example, when a molding material such as glass is molded at a high temperature, the molded product may be difficult to release. In such a case, a release layer may be further laminated.

上記離型層は、1層よりなっていても良いし、2層以上よりなっていても良い。また、離型層が2層以上よりなる場合、各層は、同じ組成からなっていても良いし、異なる組成からなっていても良い。   The release layer may be composed of one layer or may be composed of two or more layers. Moreover, when a mold release layer consists of two or more layers, each layer may consist of the same composition and may consist of a different composition.

離型層の材質としては、具体的には、例えば、Ir、Ir合金、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、Pt、Pt合金、Pd、Pd合金、TiC、TiN、TiCN、(TiAl)N、(TiCr)N、Cr/CrN、Cr/TiNなどを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   Specific examples of the material of the release layer include Ir, Ir alloy, diamond-like carbon (DLC), Pt, Pt alloy, Pd, Pd alloy, TiC, TiN, TiCN, (TiAl) N, and (TiCr). ) N, Cr / CrN, Cr / TiN, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more.

また、離型層の厚みは、特に限定されるものではなく、離型性などを考慮して適宜選択すれば良い。   Further, the thickness of the release layer is not particularly limited, and may be appropriately selected in consideration of release properties.

離型層の厚みとしては、その好ましい上限値として、具体的には、例えば、1μm、0.5μmなどを例示することができる。一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、0.1μm、0.2μmなどを例示することができる。   Specific examples of the preferable upper limit of the thickness of the release layer include 1 μm and 0.5 μm. On the other hand, specific examples of preferable lower limit values that can be combined with these preferable upper limit values include 0.1 μm and 0.2 μm.

本成形型は、無機材料、有機材料の何れの成形材料に対しても使用することができる。無機材料としては、具体的には、例えば、ガラス、セラミックス、金属などを例示することができる。また、有機材料としては、各種樹脂、ゴムなどを例示することができる。これら成形材料は1種または2種以上混合されていても良い。   This mold can be used for any molding material of inorganic materials and organic materials. Specifically as an inorganic material, glass, ceramics, a metal etc. can be illustrated, for example. Examples of the organic material include various resins and rubber. These molding materials may be used alone or in combination.

本成形型により成形される成形物としては、具体的には、例えば、ガラスレンズなどの光学部材、光通信分野などで用いられる基板など、各種の用途のものを例示することができる。   Specific examples of the molded article molded by the present mold include various uses such as an optical member such as a glass lens and a substrate used in the optical communication field.

また、上記成形物は、本成形型を用いて、上記成形材料を、例えば、プレス成形、モールド成形、射出成形などの各種成形法により成形する工程を経れば、得ることができる。   Moreover, the said molded object can be obtained if it passes through the process of shape | molding the said molding material by various shaping | molding methods, such as press molding, mold shaping | molding, injection molding, using this shaping | molding die.

次に、本成形型の製造方法(以下、「本製造方法」ということがある。)の一例について説明する。   Next, an example of a manufacturing method of the main mold (hereinafter, also referred to as “main manufacturing method”) will be described.

本製造方法は、少なくとも、型基材部表面にボンド層を積層する工程と、ボンド層の表面に拡散防止層を積層する工程とを有している。そして、これら工程では、少なくとも、拡散防止層の硬度が、ボンド層の硬度よりも大きくなるように、拡散防止層およびボンド層の材質が選択される。   This manufacturing method includes at least a step of laminating a bond layer on the surface of the mold base portion and a step of laminating a diffusion prevention layer on the surface of the bond layer. In these steps, the materials of the diffusion prevention layer and the bond layer are selected so that at least the hardness of the diffusion prevention layer is larger than the hardness of the bond layer.

なお、型基材部表面にボンド層を積層する前に、脱脂処理、不働態被膜の除去、洗浄などの前処理を、必要に応じて行っても良い。   In addition, before laminating | bonding a bond layer on the type | mold base material part surface, you may perform pre-processings, such as a degreasing process, the removal of a passive film, and washing | cleaning as needed.

ここで、ボンド層、拡散防止層は、型基材部表面に種々の手法を用いて積層することができる。   Here, the bond layer and the diffusion preventing layer can be laminated on the surface of the mold base portion using various methods.

ボンド層、拡散防止層の形成手法としては、具体的には、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーションなどの物理的気相成長法(PVD)、熱CVD、プラズマCVDなどの化学的気相成長法(CVD)などといった気相法や、電解めっき、無電解めっきなどのめっき法、陽極酸化法、塗布法、ゾル−ゲル法などといった液相法などを例示することができる。なお、ボンド層、拡散防止層は、それぞれ同じ手法を用いて形成されていても良いし、それぞれ異なる手法を用いて形成されていても良い。   Specific examples of methods for forming the bond layer and the diffusion prevention layer include physical vapor deposition methods (PVD) such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, MBE, and laser ablation, and thermal CVD. Vapor phase methods such as chemical vapor deposition (CVD) such as plasma CVD, plating methods such as electrolytic plating and electroless plating, liquid phase methods such as anodic oxidation method, coating method, sol-gel method, etc. It can be illustrated. Note that the bond layer and the diffusion prevention layer may be formed using the same method, or may be formed using different methods.

上記ボンド層および/または拡散防止層は、とりわけ、型表面を平坦化しやすい、気相法に比較して低コストであるなどの観点から、めっき法で形成すると良い。   The bond layer and / or the diffusion preventing layer is preferably formed by a plating method from the viewpoints of easily flattening the mold surface and lowering the cost compared with the vapor phase method.

図3は、例えば、気相法とめっき法とによりボンド層を形成した場合における、表面の凹凸状態の差異を模式的に例示した図である。(a)は、ボンド層が未だ形成されていない場合、(b)は、気相法によりボンド層を形成した場合、(c)は、めっき法によりボンド層を形成した場合を示している。   FIG. 3 is a diagram schematically illustrating, for example, the difference in surface irregularity when a bond layer is formed by a vapor phase method and a plating method. (A) shows the case where the bond layer is not formed yet, (b) shows the case where the bond layer is formed by the vapor phase method, and (c) shows the case where the bond layer is formed by the plating method.

(a)に示すように、ボンド層14を形成する前の型基材部12は、通常、相対的に大きな凹凸部22と、相対的に小さな凹凸部24とを表面に有していることが多い。相対的に大きな凹凸部22としては、例えば、成形型加工時に形成される加工マークなどを例示することができる。これに対し、相対的に小さな凹凸部24としては、例えば、成形型加工時に脱落した粒子や、型基材部表面に存在する空孔(ポア)などを例示することができる。 As shown to (a), the mold base part 12 before forming the bond layer 14 usually has a relatively large uneven part 22 and a relatively small uneven part 24 on the surface. There are many. Examples of the relatively large concavo-convex portion 22 include a processing mark formed during molding processing. On the other hand, as the relatively small uneven portion 24, for example, particles dropped off during molding processing, pores existing on the surface of the mold base portion, and the like can be exemplified.

型基材部12の表面が(a)の状態にある場合に、気相法によりボンド層14を形成すると、(b)に示すように、相対的に小さな凹凸部24は平坦化されるが、相対的に大きな凹凸部22は平坦化され難い。   When the bond layer 14 is formed by the vapor phase method when the surface of the mold base portion 12 is in the state (a), the relatively small uneven portion 24 is flattened as shown in (b). The relatively large uneven portion 22 is difficult to be flattened.

これに対して、めっき法によりボンド層14を形成すると、(c)に示すように、相対的に小さな凹凸部24と、相対的に大きな凹凸部22との両方が平坦化されやすい。そのため、表面に凹凸の少ない成形物を得やすくなる利点がある。この点は、ボンド層の表面に拡散防止層を形成する場合についても同様のことが言える。   In contrast, when the bond layer 14 is formed by plating, both the relatively small uneven portion 24 and the relatively large uneven portion 22 are easily flattened as shown in FIG. Therefore, there exists an advantage which becomes easy to obtain the molding with few unevenness | corrugations on the surface. The same applies to the case where a diffusion preventing layer is formed on the surface of the bond layer.

めっき法を用いる場合、めっき液の種類、めっき電流密度、めっき時間、めっき浴温度、めっき浴中に添加する平坦性を付与する添加剤の種類や添加量などのめっき条件は適宜調節して行うことができる。   When using a plating method, the plating conditions such as the type of plating solution, the plating current density, the plating time, the plating bath temperature, the type and amount of additives that impart flatness added to the plating bath, and the like are adjusted appropriately. be able to.

例えば、めっき電流密度、めっき時間は、めっき液の種類にもよるが、析出しためっき粒子の粗大化により機械強度が低下しないように、比較的高電流密度で短時間となるように選択すると良い。   For example, the plating current density and the plating time may be selected so that the mechanical strength does not decrease due to the coarsening of the deposited plating particles so as to be a relatively high current density and a short time, although it depends on the type of plating solution. .

ボンド層については、めっき電流密度の好ましい上限値として、具体的には、例えば、6、5A/dmなどを例示することができ、一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、0.1、0.2A/dmなどを例示することができる。 For the bond layer, as a preferable upper limit value of the plating current density, specifically, for example, 6, 5 A / dm 2 and the like can be exemplified. On the other hand, as a preferable lower limit value that can be combined with these preferable upper limit values, Specifically, for example, 0.1, 0.2 A / dm 2 and the like can be exemplified.

また、めっき時間は、めっき電流密度に合わせて適宜調整すれば良く、好ましくは、60秒以内、より好ましくは、30秒以内、さらに好ましくは、10秒以内で調整すると良い。   The plating time may be appropriately adjusted according to the plating current density, preferably within 60 seconds, more preferably within 30 seconds, and even more preferably within 10 seconds.

一方、拡散防止層については、めっき電流密度の好ましい上限値として、具体的には、例えば、6、5A/dmなどを例示することができ、一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、0.1、0.2A/dmなどを例示することができる。 On the other hand, for the diffusion preventing layer, specific examples of the preferable upper limit value of the plating current density include, for example, 6, 5 A / dm 2 and the like. On the other hand, a preferable lower limit value that can be combined with these preferable upper limit values. Specific examples of the value include 0.1 and 0.2 A / dm 2 .

また、めっき時間は、めっき電流密度に合わせて適宜調整すれば良く、好ましくは、3分以内、より好ましくは、2分以内、さらに好ましくは、1分以内で調整すると良い。   The plating time may be appropriately adjusted according to the plating current density, preferably within 3 minutes, more preferably within 2 minutes, and even more preferably within 1 minute.

ボンド層および/または拡散防止層の形成にめっき法を用いる場合、形成されためっき層に対して、アニール処理などを施しても良い。アニール処理を施した場合には、ピンホールなどに起因する成分拡散を効果的に防止することができる。   When a plating method is used for forming the bond layer and / or the diffusion preventing layer, the formed plating layer may be subjected to an annealing treatment or the like. When annealing is performed, component diffusion due to pinholes or the like can be effectively prevented.

なお、本製造方法は、必要に応じて、さらに、拡散防止層の表面に離型層を積層する工程を有していても良い。この場合、積層する離型層の材質などを考慮して、上記ボンド層、拡散防止層と同様の種々の手法を用いて積層することができる。好ましくは、めっき法によると良い。   In addition, this manufacturing method may have the process of laminating | stacking a mold release layer further on the surface of a diffusion prevention layer as needed. In this case, in consideration of the material of the release layer to be laminated, it can be laminated by using various methods similar to the above bond layer and diffusion preventing layer. Preferably, a plating method is used.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
1.型基材部の準備およびその表面への前処理
型基材部として、Coを12重量%含有するタングステンカーバイト粉末が焼結されてなる焼結型を準備した。なお、型基材部には、1000ppm以下のFe、Ni、Crが不純物成分として含有されていた。
Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.
1. Preparation of mold base part and pre-treatment on its surface As a mold base part, a sintered mold was prepared by sintering tungsten carbide powder containing 12% by weight of Co. The mold base part contained 1000 ppm or less of Fe, Ni, and Cr as impurity components.

次に、所定形状に焼結された型基材部の表面を、NaOH水溶液により陽極電解脱脂し、表面に存在する有機不純物を溶解した。次いで、EDTA(70g/L)と過酸化水素水(35重量%)とを含む60ml/Lの溶液中に、型基材部を浸漬し、型基材部表面に存在する不働態被膜を除去した。更に、型基材部の表面を塩酸で洗浄し、その後、水洗した。   Next, the surface of the mold base portion sintered in a predetermined shape was anodic electrolytic degreased with an aqueous NaOH solution to dissolve organic impurities present on the surface. Next, the mold base is immersed in a 60 ml / L solution containing EDTA (70 g / L) and hydrogen peroxide (35% by weight) to remove the passive film present on the surface of the mold base. did. Furthermore, the surface of the mold base part was washed with hydrochloric acid, and then washed with water.

2.ボンド層の形成
2.1 形成手法1
金ストライクめっき浴(日本エレクトロプレイティング・エンジニヤース(株)製、「ニュートロネクス ストライク」)を使用し、めっき電流密度3A/dm、めっき浴温度50℃の条件で、上記前処理を施した型基材部の表面に、AuストライクめっきよりなるAu層(ボンド層)を形成した。
2. Formation of Bond Layer 2.1 Formation Method 1
Using the gold strike plating bath (manufactured by Nippon Electroplating Engineers Co., Ltd., “Nutronex Strike”), the above pretreatment was performed under the conditions of a plating current density of 3 A / dm 2 and a plating bath temperature of 50 ° C. An Au layer (bond layer) made of Au strike plating was formed on the surface of the mold base part.

この際、後述する表1に示すように、実施例1、2、3、4については、めっき時間をそれぞれ10秒、実施例7についてはめっき時間を50秒とした。   At this time, as shown in Table 1 described later, for Examples 1, 2, 3, and 4, the plating time was 10 seconds, and for Example 7, the plating time was 50 seconds.

2.2 形成手法2
上記型基材部の表面に、スパッタリング法により、Au層(ボンド層)を形成した。
2.3 形成手法3
上記型基材部の表面に、スパッタリング法により、Nb層(ボンド層)を形成した。
2.2 Formation method 2
An Au layer (bond layer) was formed on the surface of the mold base portion by sputtering.
2.3 Formation method 3
An Nb layer (bond layer) was formed on the surface of the mold base portion by sputtering.

3.拡散防止層の形成
3.1 形成手法1
Rh(SOを80g/L、硫酸を180g/L含有するめっき液を使用し、めっき電流密度1.3A/dm、めっき時間2.5分間、めっき浴温度45℃の条件で、上記Au層(ボンド層)表面に、RhめっきよりなるRh層(拡散防止層)を形成した。
3. Formation of diffusion prevention layer 3.1 Formation method 1
Using a plating solution containing 80 g / L of Rh 2 (SO 4 ) 3 and 180 g / L of sulfuric acid, with a plating current density of 1.3 A / dm 2 , a plating time of 2.5 minutes, and a plating bath temperature of 45 ° C. A Rh layer (diffusion prevention layer) made of Rh plating was formed on the surface of the Au layer (bond layer).

3.2 形成手法2
上記Au層(ボンド層)表面に、スパッタリング法により、Nb層(拡散防止層)を形成した。
3.2 Formation method 2
An Nb layer (diffusion prevention layer) was formed on the surface of the Au layer (bond layer) by sputtering.

4.離型層の形成
4.1 形成手法1
(NHIrClを8g/L、硫酸を0.8g/L含有するめっき液を使用し、めっき電流密度1.0A/dm、めっき時間5分間、めっき浴温度50℃の条件で、上記Rh層(拡散防止層)、Nb層(拡散防止層)またはAu層(ボンド層)表面に、IrめっきよりなるをIr層(離型層)を形成した。
4). Release layer formation 4.1 Formation method 1
Using a plating solution containing 8 g / L of (NH 4 ) 2 IrCl 6 and 0.8 g / L of sulfuric acid, with a plating current density of 1.0 A / dm 2 , a plating time of 5 minutes, and a plating bath temperature of 50 ° C. An Ir layer (release layer) made of Ir plating was formed on the surface of the Rh layer (diffusion prevention layer), Nb layer (diffusion prevention layer) or Au layer (bond layer).

4.2 形成手法2
上記Rh層(拡散防止層)表面に、スパッタリング法により、Ir/Re合金よりなるIr/Re層(離型層)を形成した。
4.2 Formation method 2
An Ir / Re layer (release layer) made of an Ir / Re alloy was formed on the surface of the Rh layer (diffusion prevention layer) by sputtering.

5.ボンド層および拡散防止層の硬度測定
銅板上に形成した約1μmのボンド層および拡散防止層のビッカース硬さを測定(JIS Z 2244に準拠)することにより、各層の硬度を測定した。この際、硬度測定装置には、ナノテック(株)製の「ナノハードネステスターNHT」を用いた。なお、型基材部のビッカース硬さについても測定(JIS Z 2244に準拠)したところ、2040(Hv)であった。
5). Measurement of Hardness of Bond Layer and Diffusion Prevention Layer The hardness of each layer was measured by measuring the Vickers hardness of the bond layer and diffusion prevention layer of about 1 μm formed on the copper plate (in accordance with JIS Z 2244). At this time, “Nano Hard Nestester NHT” manufactured by Nanotech Co., Ltd. was used as the hardness measuring apparatus. In addition, it was 2040 (Hv) when the Vickers hardness of the mold base part was also measured (based on JIS Z 2244).

6.ボンド層、拡散防止層および離型層の厚み測定
集束イオンビーム(FIB)装置(FEI社製、「FIB200」)を用いてエッチングを行った後、SIM(走査イオン顕微鏡)観察を行うことにより、各層の厚みを測定した。なお、表1中の厚みは、試料中心部で任意の箇所5点について測定した厚みの平均値である。
6). Bond layer, diffusion prevention layer, and release layer thickness measurement After performing etching using a focused ion beam (FIB) apparatus ("FIB200" manufactured by FEI), by performing SIM (scanning ion microscope) observation, The thickness of each layer was measured. In addition, the thickness in Table 1 is an average value of thicknesses measured at five arbitrary points in the center of the sample.

7.ボンド層および拡散防止層の平均粒径測定
上記集束イオンビーム(FIB)装置を用いてエッチングを行い、SIM観察を行うことにより、ボンド層および拡散防止層の平均粒径を測定した。なお、表1中の平均粒径は、試料中心部で任意の粒子10個について測定した粒径の平均値である。
7). Measurement of average particle diameter of bond layer and diffusion preventing layer Etching was performed using the above-described focused ion beam (FIB) apparatus, and SIM observation was carried out to measure the average particle diameter of the bond layer and diffusion preventing layer. In addition, the average particle diameter in Table 1 is an average value of the particle diameters measured for any 10 particles in the center of the sample.

8.耐久性評価
後述する表1に示した実施例および比較例に係る成形型につき、耐久性の評価を行った。すなわち、Ar雰囲気中800℃にて各成形型を1時間保持し、その後100℃まで放冷するサイクルを、20回実施した。
8). Durability Evaluation Durability was evaluated for the molds according to Examples and Comparative Examples shown in Table 1 described later. That is, a cycle in which each mold was held at 800 ° C. for 1 hour in an Ar atmosphere and then allowed to cool to 100 ° C. was performed 20 times.

次いで、JIS D0202−1988に規定される碁盤目テープ試験に準拠し、各成形型の最表面にセロハンテープ(ニチバン(株)製、「CT24」)を密着させた後、当該テープを剥離した。   Next, in accordance with the cross cut tape test defined in JIS D0202-1988, cellophane tape (“CT24” manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was adhered to the outermost surface of each mold, and then the tape was peeled off.

この際、100マス中に占める剥離していないマス目の数が、比較例1よりも少ない場合を合格とした。なお、表2中、「X/100」(但し、Xは0〜100の整数)は、100マス中、Xマスにおいて、機能層が剥離したことを示している。   At this time, the case where the number of non-peeled squares in 100 squares was smaller than that in Comparative Example 1 was regarded as acceptable. In Table 2, “X / 100” (where X is an integer of 0 to 100) indicates that the functional layer was peeled in the X cell in 100 cells.

9.拡散防止効果の評価
後述する表1に示した実施例および比較例に係る成形型につき、拡散防止効果の評価を行った。すなわち、Ar雰囲気中800℃にて各成形型を100時間保持し、その後室温まで放冷した。
9. Evaluation of Diffusion Prevention Effect The diffusion prevention effect was evaluated for the molds according to Examples and Comparative Examples shown in Table 1 described later. That is, each mold was held for 100 hours at 800 ° C. in an Ar atmosphere, and then allowed to cool to room temperature.

次いで、オージェ分光法により、下層から拡散する可能性のある成分である、W、Co、Fe、Ni、Cr、Au、Nbが、表層(拡散防止層または離型層)の表面に確認されるか否かを調査した。なお、成分検出装置には、アルバック・ファイ(株)製の「走査型オージェ電子分光分析装置PH1700」を用いた。   Next, by Auger spectroscopy, W, Co, Fe, Ni, Cr, Au, and Nb, which are components that may diffuse from the lower layer, are confirmed on the surface of the surface layer (diffusion prevention layer or release layer). We investigated whether or not. As the component detection device, “Scanning Auger Electron Spectrometer PH1700” manufactured by ULVAC-PHI Co., Ltd. was used.

この際、表層の構成成分以外のものが確認されなかった場合、または、表層の構成成分以外のものが15atom%以下であった場合を、下層成分の拡散を防止できているとして合格とした。一方、表層の構成成分以外のものが15atom%を越えており、下層成分が拡散していると認められたものを不合格とした。   At this time, the case where no component other than the surface layer component was confirmed or the case where the component other than the surface layer component was 15 atom% or less was regarded as acceptable as the diffusion of the lower layer component could be prevented. On the other hand, those other than the constituent components of the surface layer exceeded 15 atom%, and those in which the lower layer components were recognized to be diffused were rejected.

表1に、実施例および比較例に係る成形型につき、型基材部表面上に形成した各機能層の層構成、ビッカース硬さ、厚み、平均粒径などをまとめたものを示す。また、表2に、実施例および比較例に係る成形型の評価結果をまとめたものを示す。なお、表2では、上記耐久性および拡散防止効果の両評価がともに合格のものを、総合評価で合格としている。   Table 1 shows a summary of the layer configuration, Vickers hardness, thickness, average particle diameter, and the like of each functional layer formed on the surface of the mold base part for the molds according to Examples and Comparative Examples. Table 2 summarizes the evaluation results of the molds according to Examples and Comparative Examples. In Table 2, a case where both the durability and the anti-diffusion effect are both passed is evaluated as a comprehensive evaluation.

Figure 2007223846
Figure 2007223846

Figure 2007223846
Figure 2007223846

表1および表2によれば、以下のことが分かる。すなわち、型基材部表面に、ボンド層を介在させずに拡散防止層を積層した比較例1、ボンド層と拡散防止層との硬さ関係が本願の範囲を満たさない比較例2に係る成形型は、機能層の剥離が認められ、耐久性が極めて低かった。   According to Tables 1 and 2, the following can be understood. That is, the molding according to Comparative Example 1 in which the diffusion preventing layer is laminated without interposing the bond layer on the surface of the mold base part, and the molding according to Comparative Example 2 in which the hardness relationship between the bonding layer and the diffusion preventing layer does not satisfy the scope of the present application. The mold was found to be extremely low in durability with peeling of the functional layer.

また、拡散防止層の無い比較例3に係る成形型は、下層の成分拡散を十分に抑制できていなかった。   Further, the molding die according to Comparative Example 3 having no diffusion prevention layer was not able to sufficiently suppress the component diffusion in the lower layer.

これらに対し、実施例に係る成形型は、型基材表面にボンド層を介して拡散防止層が積層されている。また、拡散防止層の硬度は、ボンド層の硬度よりも大きい。そのため、上記ボンド層の存在により、拡散防止層が剥離し難いので、耐久性に優れていることが確認できた。   On the other hand, in the mold according to the example, a diffusion prevention layer is laminated on the surface of the mold base via a bond layer. Further, the hardness of the diffusion preventing layer is larger than the hardness of the bond layer. Therefore, it was confirmed that the diffusion preventing layer was difficult to peel off due to the presence of the bond layer, and thus the durability was excellent.

また、実施例に係る成形型は、拡散防止層により下層成分の拡散を効果的に防止できていることが確認できた。   Moreover, it has confirmed that the shaping | molding die which concerns on an Example has prevented the spreading | diffusion of a lower layer component effectively by the diffusion prevention layer.

以上、本実施形態、実施例に係る成形型について説明したが、本発明は上記実施形態、実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。   As mentioned above, although the shaping | molding die concerning this embodiment and an Example was demonstrated, this invention is not limited to the said embodiment and Example at all, and various modification | change is possible within the range which does not deviate from the meaning of this invention. It is.

本実施形態に係る成形型の基本構成の一例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed an example of the basic composition of the shaping | molding die concerning this embodiment. 図1の成形型において、さらに、離型層を積層した場合の構成を示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration when a release layer is further laminated in the mold of FIG. 1. 気相法とめっき法とによりボンド層を形成した場合における、表面の凹凸状態の差異を模式的に例示した図である。It is the figure which illustrated typically the difference in the unevenness | corrugation state of the surface at the time of forming a bond layer with a gaseous-phase method and a plating method.

符号の説明Explanation of symbols

10 成形型
12 型基材部
14 ボンド層
16 拡散防止層
18 離型層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Mold 12 Mold base part 14 Bond layer 16 Diffusion prevention layer 18 Release layer

Claims (6)

型基材部表面に、ボンド層を介して、前記型基材部および前記ボンド層の成分の拡散を防止する拡散防止層が積層されており、
前記拡散防止層の硬度は、前記ボンド層の硬度よりも大きいことを特徴とする成形型。
A diffusion preventing layer for preventing diffusion of the components of the mold substrate part and the bond layer is laminated on the surface of the mold substrate part via a bond layer,
The mold according to claim 1, wherein the diffusion preventing layer has a hardness greater than that of the bond layer.
前記ボンド層のビッカース硬さは、10以上200以下の範囲内にあり、前記拡散防止層のビッカース硬さは、200よりも大きく1500以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の成形型。   2. The Vickers hardness of the bond layer is in the range of 10 to 200, and the Vickers hardness of the diffusion prevention layer is in a range of greater than 200 and 1500 or less. Mold. 前記ボンド層は、Cr、Co、Ni、Cu、AgおよびAuから選択される少なくとも1種の金属および/または前記金属を1種以上含む合金を主に含有し、
前記拡散防止層は、Nb、Mo、Ru、RhおよびTaから選択される少なくとも1種の金属および/または前記金属を1種以上含む合金を主に含有することを特徴とする請求項1または2に記載の成形型。
The bond layer mainly contains at least one metal selected from Cr, Co, Ni, Cu, Ag and Au and / or an alloy containing one or more of the metals,
3. The diffusion preventing layer mainly contains at least one metal selected from Nb, Mo, Ru, Rh and Ta and / or an alloy containing one or more of the metals. The mold described in 1.
前記ボンド層および/または前記拡散防止層は、めっきにより形成されていることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載の成形型。   The mold according to claim 1, wherein the bond layer and / or the diffusion preventing layer is formed by plating. 前記拡散防止層の表面に、成形物との離型を促す離型層がさらに積層されていることを特徴とする請求項1から4の何れかに記載の成形型。   The mold according to any one of claims 1 to 4, wherein a release layer that facilitates release from the molded product is further laminated on the surface of the diffusion preventing layer. 請求項1から5の何れかに記載の成形型を用いて成形された成形物。   A molded article molded using the mold according to any one of claims 1 to 5.
JP2006046850A 2006-02-23 2006-02-23 Molding mold Pending JP2007223846A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006046850A JP2007223846A (en) 2006-02-23 2006-02-23 Molding mold

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006046850A JP2007223846A (en) 2006-02-23 2006-02-23 Molding mold

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007223846A true JP2007223846A (en) 2007-09-06

Family

ID=38545998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006046850A Pending JP2007223846A (en) 2006-02-23 2006-02-23 Molding mold

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007223846A (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS623031A (en) * 1985-06-27 1987-01-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for forming optical glass element
JPH07133123A (en) * 1993-11-09 1995-05-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical element forming die and its production
JPH08188424A (en) * 1995-01-11 1996-07-23 Asahi Glass Co Ltd Glass-forming mold and its production
JP2002060239A (en) * 2000-06-05 2002-02-26 Toshiba Mach Co Ltd Molding die for glass
JP2003026427A (en) * 2001-07-12 2003-01-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Metallic mold for molding substrate and method for manufacturing the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS623031A (en) * 1985-06-27 1987-01-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for forming optical glass element
JPH07133123A (en) * 1993-11-09 1995-05-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical element forming die and its production
JPH08188424A (en) * 1995-01-11 1996-07-23 Asahi Glass Co Ltd Glass-forming mold and its production
JP2002060239A (en) * 2000-06-05 2002-02-26 Toshiba Mach Co Ltd Molding die for glass
JP2003026427A (en) * 2001-07-12 2003-01-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Metallic mold for molding substrate and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI448559B (en) Application of metallic glass coating on improving fatigue resistance of aluminum alloys
JP2008538591A (en) Ruthenium-based materials and ruthenium alloys
JP2007070667A (en) Formed article with hard multilayer film of diamond-like carbon, and production method therefor
US8101273B2 (en) Coating comprising layered structures of diamond like nanocomposite layers and diamond like carbon layers
JP6172799B2 (en) DLC film molded body
TW201035350A (en) Sputtering target and process for producing same
JP5403816B2 (en) DLC film coated member and method for manufacturing the same
WO2011105392A1 (en) Multilayer film laminate using aluminum or aluminum alloy as substrate, and lamination method therefor
JP2015024625A (en) Molding die for production method thereof
WO2013111744A1 (en) Coated member and method for producing same
JP2014233953A (en) Heat insulating mold and method for manufacturing the same
JP5226826B2 (en) Method for producing diamond-like carbon hard multilayer film molded body
JP4959306B2 (en) Glass mold
JP2013188832A (en) Cutting tool insert formed of wc-based cemented carbide
JP2007223846A (en) Molding mold
JP2016128599A (en) Diamond-like carbon layer laminate and method for manufacturing the same
JP6335812B2 (en) Mold for molding and manufacturing method thereof
JP4922855B2 (en) Glass mold
KR100947331B1 (en) Thin film layer structure having reinforcing layer for lens mold core and method of forming the same
JP2002219705A (en) Method for manufacturing cap for molding honeycomb, and cap
JP2006523774A (en) Use of articles as molding tools
JP4720731B2 (en) Mold
JP5205606B2 (en) DLC film coated member and method for manufacturing the same
JP4962964B2 (en) Glass lens mold and manufacturing method thereof
TWI337126B (en) Mold and porcess for producing the mold

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080820

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100723

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100727

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101130