JP2007208786A - Generation of dither matrix - Google Patents

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Kazuyoshi Tanase
和義 棚瀬
Shigeaki Sumiya
繁明 角谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide optimization technology of a dither matrix with paying attention to robustness. <P>SOLUTION: In a method of generating the dither matrix for storing a plurality of thresholds for determining formation states of dots to each printing pixel of printed images which should be formed on printed media according to input image data in each element, the method determines the matrix evaluation values which are evaluation values, showing the correlation with a plurality of goal states that are supposed having difference of at least either the observation distance or the printing resolution for each candidate of the stored elements, based on the formation states of dots supposed by each candidate of the stored elements of target threshold for evaluation among the plurality of thresholds and determines the stored element of the target threshold from among the candidates, based on the matrix evaluation values determined in this way. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、印刷媒体上にドットを形成して画像を印刷する技術に関する。   The present invention relates to a technique for printing an image by forming dots on a print medium.

コンピュータで作成した画像や、デジタルカメラで撮影した画像などの出力装置として、印刷媒体上にドットを形成して画像を印刷する印刷装置が広く使用されている。かかる印刷装置は、入力階調値に対して形成可能なドットの階調値が少ないためハーフトーン処理によって階調表現が行われる。ハーフトーン処理の1つとして、ディザマトリックスを用いた組織的ディザ法が広く用いられている。組織的ディザ法は、ディザマトリックスの内容如何で画質に大きな影響を与えるため、たとえば特許文献1に開示されるように人間の視覚を考慮した評価関数を用いてシミュレーテッドアニーリングや遺伝的アルゴリズムといった解析手法によってディザマトリックスの最適化が提案されてきた。   2. Description of the Related Art Printing apparatuses that form dots on a printing medium and print images are widely used as output apparatuses for images created by computers and images taken by digital cameras. In such a printing apparatus, since the gradation value of dots that can be formed with respect to the input gradation value is small, gradation expression is performed by halftone processing. As one of the halftone processes, a systematic dither method using a dither matrix is widely used. Since the systematic dither method greatly affects the image quality depending on the contents of the dither matrix, for example, as disclosed in Patent Document 1, analysis such as simulated annealing or genetic algorithm using an evaluation function taking human vision into consideration Dither matrix optimization has been proposed by methods.

特開平7−177351号公報JP-A-7-177351 特開平7−81190号公報JP-A-7-81190 特開平10−329381号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-329381

しかし、従来は、ディザマトリックスの最適化は、予め想定されたある一点の観測環境や印刷解像度を想定して行われていたため、想定された観測環境や印刷解像度と異なる場合には、ディザマトリックスの最適性が著しく低下していた。   However, in the past, dither matrix optimization was performed assuming a certain observation environment and printing resolution assumed in advance, so if the observation environment and printing resolution differ from those assumed, the dither matrix Optimality was significantly reduced.

この発明は、従来の技術における上述した課題を解決するためになされたものであり、ロバスト性に着目したディザマトリックスの最適化技術を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems in the prior art, and an object thereof is to provide a dither matrix optimization technique that focuses on robustness.

上述した課題の少なくとも一部を解決するために、本発明は、入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスを生成するための方法を提供する。
本方法は、前記複数の閾値のうちの評価の対象となる着目閾値の格納要素の候補毎に想定されるドットの形成状態に基づいて、観測距離と印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数の目標状態との相関を表す評価値であるマトリックス評価値を、前記候補毎に決定する評価値決定工程と、
前記決定されたマトリックス評価値に基づいて、前記候補の中から前記着目閾値の格納要素を決定する格納要素決定工程と、
前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記着目閾値を変更しつつ前記評価値決定工程と前記格納要素決定工程の各工程を繰り返す繰り返し工程と、
を備えることを特徴とする。
In order to solve at least a part of the above-described problems, the present invention provides a plurality of methods for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium according to input image data. A method is provided for generating a dither matrix that stores a threshold value for each element.
The method assumes a difference between at least one of the observation distance and the print resolution based on the dot formation state assumed for each candidate storage element of the target threshold value to be evaluated among the plurality of threshold values. An evaluation value determination step of determining a matrix evaluation value, which is an evaluation value representing a correlation with the target state, for each candidate,
A storage element determination step for determining a storage element for the threshold value of interest from the candidates based on the determined matrix evaluation value;
For at least a part of the plurality of threshold values, repeating the evaluation value determining step and the storage element determining step while changing the target threshold value,
It is characterized by providing.

本発明のディザマトリックスの生成方法では、観測距離と印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数の目標状態との相関を表す評価値に基づいて閾値の格納要素が決定されるので、観測距離や印刷解像度の変動に対して高いロバスト性を有するディザマトリックスを生成することができる。ここで、「目標状態との相関」は、たとえば粒状性指数やRMS粒状度を用いた評価関数では、粒状性指数やRMS粒状度が小さいことを意味する。   In the dither matrix generation method of the present invention, the threshold storage element is determined based on the evaluation value representing the correlation with a plurality of target states assuming at least one difference between the observation distance and the print resolution. It is possible to generate a dither matrix having high robustness with respect to variations in print resolution. Here, “correlation with the target state” means that, for example, in an evaluation function using a granularity index or RMS granularity, the granularity index or RMS granularity is small.

なお、本発明のディザマトリックスは、たとえば特開2005−236768号公報や特開2005−269527号公報に開示されているようなドットの形成状態を特定するための中間データ(個数データ)を使用するような技術においては、ディザマトリックスを用いて生成された変換テーブル(あるいは対応関係テーブル)をも含む広い概念を有する。このような変換テーブルは、本発明の生成方法で生成されたディザマトリックスから直接生成されるだけでなく、調整や改良が行われる場合もあるが、このような場合も本発明の生成方法で生成されたディザマトリックスの使用に該当する。   The dither matrix of the present invention uses intermediate data (number data) for specifying the dot formation state as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2005-236768 and 2005-269527. Such a technique has a broad concept including a conversion table (or correspondence table) generated using a dither matrix. Such a conversion table is not only generated directly from the dither matrix generated by the generation method of the present invention, but may be adjusted or improved. In such a case, the conversion table is also generated by the generation method of the present invention. Corresponds to the use of a dither matrix.

また、繰り返し工程は、必ずしも複数の閾値の全てについて行うことが必須ではなく、たとえばハイライト領域の一部についてのみ行うようにすることも可能である。本願発明は、複数の閾値の少なくとも一部について行えば発明の目的を達成することができるからである。   Further, it is not always necessary to perform the repetition process for all of the plurality of threshold values, and for example, it may be performed only for a part of the highlight area. This is because the object of the present invention can be achieved by performing at least some of the plurality of threshold values.

上記ディザマトリックス生成方法において、前記マトリックス評価値は、フーリエ変換処理を含む計算処理によって算出される粒状性評価値であって、視覚の空間周波数特性に基づいて決定された視覚伝達関数と、前記フーリエ変換処理によって予め算出された定数との畳み込み積分によって算出されるようにしても良い。   In the dither matrix generation method, the matrix evaluation value is a granularity evaluation value calculated by a calculation process including a Fourier transform process, and includes a visual transfer function determined based on a visual spatial frequency characteristic, and the Fourier You may make it calculate by the convolution integral with the constant calculated beforehand by the conversion process.

上記ディザマトリックス生成方法において、さらに、
前記ディザマトリックスの各要素に格納されるべき複数の閾値の中から、格納されるべき要素が未決定の閾値であって、かつ、ドットの形成が最もオンとなりやすい閾値を着目閾値として決定する着目閾値決定工程を備え、
前記繰り返し工程は、前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記着目閾値決定工程と前記評価値決定工程と前記格納要素決定工程の各工程を繰り返す工程を含むようにしても良いし、
あるいは、
上記ディザマトリックス生成方法において、さらに、
入力諧調値に応じて画素毎のドットの形成の有無を決定するための複数の閾値を各要素に格納する初期状態としてのディザマトリックスを準備する準備工程と、
前記要素に格納された複数の閾値の一部を、他の要素に格納された閾値と入れ替える格納要素入替工程と、
を備え、
前記評価値決定工程は、前記閾値の入れ替えが決定されたと仮定したときに想定されるドット形成状態についてのマトリックス評価値を決定する工程を含み、
前記繰り返し工程は、前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記格納要素入替工程と前記評価値決定工程と前記格納要素決定工程の各工程を繰り返す工程を含むようにしても良い。なお、特許請求の範囲における「格納要素の候補毎」と「着目閾値」とは、本形態では、「入れ替えられた複数の格納要素の候補毎」と「入れ替えられた複数の閾値」と、にそれぞれ対応する。
In the dither matrix generation method,
Of the plurality of threshold values to be stored in each element of the dither matrix, the focus is determined as the focus threshold value, which is the threshold value for which the element to be stored is undetermined and in which dot formation is most likely to be turned on. A threshold determination step,
The repeating step may include a step of repeating each of the focus threshold value determining step, the evaluation value determining step, and the storage element determining step for at least a part of the plurality of threshold values,
Or
In the dither matrix generation method,
A preparatory step of preparing a dither matrix as an initial state for storing a plurality of threshold values for determining the presence or absence of dot formation for each pixel according to an input gradation value,
A storage element replacement step of replacing a part of a plurality of threshold values stored in the element with a threshold value stored in another element;
With
The evaluation value determination step includes a step of determining a matrix evaluation value for a dot formation state assumed when the replacement of the threshold value is determined.
The repeating step may include a step of repeating each of the storage element replacement step, the evaluation value determination step, and the storage element determination step for at least some of the plurality of threshold values. In addition, in the present embodiment, “for each storage element candidate” and “target threshold value” in the claims are “for each of a plurality of replaced storage element candidates” and “for a plurality of replaced threshold values”. Each corresponds.

上記ディザマトリックス生成方法において、前記評価値決定工程は、
前記観測距離と前記印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数のローパスフィルタを用いたローパスフィルタ処理を含む計算処理を実行して複数のRMS粒状度を算出する工程と、
前記算出された複数のRMS粒状度に基づいて、前記マトリックス評価値を決定する工程と、
を含むようにしても良い。
In the dither matrix generation method, the evaluation value determination step includes:
Calculating a plurality of RMS granularities by executing a calculation process including a low-pass filter process using a plurality of low-pass filters assuming a difference between at least one of the observation distance and the print resolution;
Determining the matrix evaluation value based on the calculated plurality of RMS granularities;
May be included.

このように、人間の視覚特性を考慮した最適化は、視覚の空間周波数特性VTFを直接的に使用しなくてもローパスフィルタを用いて行うこともできる。加えて、ローパスフィルタを用いた処理は、周波数領域と空間領域との間の変換処理を必要としないので、計算処理の負担を軽減させることもできる。   As described above, optimization considering human visual characteristics can be performed using a low-pass filter without directly using visual spatial frequency characteristics VTF. In addition, since the process using the low-pass filter does not require a conversion process between the frequency domain and the spatial domain, the burden of the calculation process can be reduced.

上記ディザマトリックス生成方法において、前記複数のローパスフィルタは、前記観測距離と前記印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定して、周波数領域において定義された複数の特性を逆フーリエ変換する工程を含む方法によって構成されるようにしても良い。   In the dither matrix generation method, the plurality of low-pass filters includes a step of performing an inverse Fourier transform on a plurality of characteristics defined in a frequency domain assuming at least one difference between the observation distance and the print resolution. It may be configured.

こうすれば、人間の視覚の空間周波数特性VTFにより近い周波数特性をローパスフィルタで表現することができる。   In this way, a frequency characteristic closer to the human visual spatial frequency characteristic VTF can be expressed by a low-pass filter.

このようにして生成されたディザマトリックスは、たとえば外部から観察可能な以下のような客観的特徴が観察されれば、本願発明が確実に実装されて本願発明本来の効果を奏することができることが確認できる。すなわち、逆に他の生成方法によっても以下のような特性を有するように構成されたディザマトリックスは、本願発明本来の効果を奏することができる。すなわち、
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスであって、
100mm〜600mmの間における観測距離の変動に対して、前記印刷画像の粒状性の評価値を表す粒状性指数が複数のボトムを有するように構成されていることを特徴とするディザマトリックス、
あるいは、
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスであって、
300mm〜400mmの間における観測距離の変動に対して、前記印刷画像の粒状性の評価値を表す粒状性指数が平坦なボトムを有するように構成されていることを特徴とする、ディザマトリックスである。
It is confirmed that the dither matrix generated in this way can achieve the original effects of the present invention by reliably implementing the present invention if, for example, the following objective features that can be observed from the outside are observed. it can. That is, conversely, a dither matrix configured to have the following characteristics by other generation methods can exhibit the effects inherent in the present invention. That is,
A dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data,
A dither matrix characterized in that a granularity index representing an evaluation value of the granularity of the printed image has a plurality of bottoms with respect to a variation in observation distance between 100 mm and 600 mm;
Or
A dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data,
A dither matrix characterized in that a granularity index representing an evaluation value of the granularity of the printed image has a flat bottom with respect to a variation in observation distance between 300 mm and 400 mm. .

平坦なボトムとは、粒状性指数曲線M01(図6(a))に見られるように、観測距離や印刷解像度に対する最適化において、上述の所定の範囲において単一の観測距離や印刷解像度を評定としたのでは構成できない程度に平坦なボトムを意味する。一方、粒状性指数曲線M11(図6(b))に見られるような複数のボトムは、観測距離や印刷解像度に対する最適化において、単一の観測距離や印刷解像度を評定としたのでは出現することがあり得ないものである。なお、特許請求の範囲における「粒状性指数」は、図4に記載された計算式によって算出される値を意味する。   The flat bottom means that a single observation distance or print resolution is evaluated in the above-mentioned predetermined range in the optimization for the observation distance or print resolution as seen in the graininess index curve M01 (FIG. 6A). This means a bottom that is so flat that it cannot be constructed. On the other hand, a plurality of bottoms as seen in the graininess index curve M11 (FIG. 6B) appear when a single observation distance or print resolution is evaluated in the optimization for the observation distance or print resolution. It is impossible. The “granularity index” in the claims means a value calculated by the calculation formula shown in FIG.

なお、本発明は、ディザマトリックス、ディザマトリックス生成装置、ディザマトリックスを用いた印刷装置や印刷方法、印刷物の生成方法といった種々の形態、あるいは、これらの方法または装置の機能をコンピュータに実現させるためのコンピュータプログラム、そのコンピュータプログラムを記録した記録媒体、そのコンピュータプログラムを含み搬送波内に具現化されたデータ信号、等の種々の形態で実現することができる。   The present invention is directed to causing a computer to implement various forms such as a dither matrix, a dither matrix generation apparatus, a printing apparatus and a printing method using the dither matrix, and a printed material generation method, or the functions of these methods or apparatuses. The present invention can be realized in various forms such as a computer program, a recording medium that records the computer program, and a data signal that includes the computer program and is embodied in a carrier wave.

また印刷装置や印刷方法、印刷物の生成方法におけるディザマトリックスの使用は、ディザマトリックスに設定されている閾値と画像データの階調値とを画素毎に比較することによって、画素毎にドット形成の有無を判断しているが、たとえば閾値と階調値の和を固定値と比較してドット形成の有無を判断するようにしても良い。さらに、閾値を直接使用することなく閾値に基づいて予め生成されたデータと、階調値とに応じてドット形成の有無を判断するようにしても良い。本発明のディザ法は、一般に、各画素の階調値と、ディザマトリックスの対応する画素位置に設定された閾値とに応じてドットの形成の有無を直接的にあるいは間接的に判断(たとえば前述の特開2005−236768号公報等)するものであれば良い。   In addition, the use of a dither matrix in the printing device, printing method, and printed material generation method is based on whether or not dots are formed for each pixel by comparing the threshold value set in the dither matrix and the gradation value of the image data for each pixel. However, for example, the presence or absence of dot formation may be determined by comparing the sum of the threshold value and the gradation value with a fixed value. Furthermore, the presence / absence of dot formation may be determined according to the data generated in advance based on the threshold value and the gradation value without directly using the threshold value. In general, the dither method of the present invention directly or indirectly determines the presence / absence of dot formation according to the gradation value of each pixel and the threshold value set at the corresponding pixel position of the dither matrix (for example, as described above). (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-236768).

以下では、本発明の作用・効果をより明確に説明するために、本発明の実施の形態を、次のような順序に従って説明する。
A.本発明の実施例におけるディザマトリックスの最適化:
B.本発明の各実施例におけるディザマトリックスの生成方法:
B−1.本発明の第1実施例における最適化(粒状性指数):
B−2.本発明の第2実施例における最適化(RMS粒状度):
C.変形例:
Below, in order to demonstrate the effect | action and effect of this invention more clearly, embodiment of this invention is described in the following orders.
A. Dither matrix optimization in embodiments of the present invention:
B. A method of generating a dither matrix in each embodiment of the present invention:
B-1. Optimization (granularity index) in the first embodiment of the present invention:
B-2. Optimization (RMS granularity) in the second embodiment of the present invention:
C. Variation:

A.本発明の実施例におけるディザマトリックスの最適化:
図1は、ディザマトリックスの一部を概念的に例示した説明図である。図示したマトリックスには、横方向(主走査方向)に128要素、縦方向(副走査方向)に64要素、合計8192個の要素に、階調値1〜255の範囲から万遍なく選択された閾値が格納されている。なお、ディザマトリックスの大きさは、図1に例示したような大きさに限られるものではなく、縦と横の要素数が同じマトリックスも含めて種々の大きさとすることができる。
A. Dither matrix optimization in embodiments of the present invention:
FIG. 1 is an explanatory diagram conceptually illustrating a part of the dither matrix. In the illustrated matrix, 128 elements in the horizontal direction (main scanning direction), 64 elements in the vertical direction (sub-scanning direction), a total of 8192 elements, were selected uniformly from the range of gradation values 1 to 255. A threshold value is stored. Note that the size of the dither matrix is not limited to the size illustrated in FIG. 1 and can be various sizes including a matrix having the same number of vertical and horizontal elements.

図2は、ディザマトリックスを使用したドット形成の有無の考え方を示す説明図である。図示の都合上、一部の要素についてのみ示されている。ドット形成の有無の決定では、図2に示す通り、画像データの階調値と、ディザマトリックス中で対応する位置に記憶されている閾値とが比較される。画像データの階調値の方がディザテーブルに格納された閾値よりも大きい場合にはドットが形成され、画像データの階調値の方が小さい場合にはドットが形成されない。図2中でハッチングを付した画素が、ドットが形成される画素を意味している。このように、ディザマトリックスを用いれば、画像データの階調値とディザマトリックスに設定されている閾値とを比較するという単純な処理で、画素毎のドットの形成有無を判断することができるので、階調数変換処理を迅速に実施することが可能となる。さらに、画像データの階調値が決まると、各画素にドットが形成されるか否かは、もっぱらディザマトリックスに設定される閾値によって決まることからも明らかなように、組織的ディザ法では、ディザマトリックスに設定する閾値の格納位置によって、ドットの発生状況を積極的に制御することが可能である。   FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating the concept of dot formation using a dither matrix. For the sake of illustration, only some elements are shown. In determining the presence or absence of dot formation, as shown in FIG. 2, the gradation value of the image data is compared with the threshold value stored at the corresponding position in the dither matrix. If the gradation value of the image data is larger than the threshold value stored in the dither table, a dot is formed, and if the gradation value of the image data is smaller, no dot is formed. The hatched pixels in FIG. 2 mean pixels on which dots are formed. In this way, if the dither matrix is used, it is possible to determine the presence or absence of dot formation for each pixel by a simple process of comparing the gradation value of the image data and the threshold value set in the dither matrix. The gradation number conversion process can be performed quickly. Furthermore, when the gradation value of the image data is determined, whether or not dots are formed in each pixel is determined solely by the threshold value set in the dither matrix. It is possible to positively control the dot generation state by the threshold storage position set in the matrix.

このように、組織的ディザ法は、ディザマトリックスに設定する閾値の格納位置によって、ドットの発生状況を積極的に制御することが可能なので、閾値の格納位置の設定を調整することによってドットの分散性その他の画質を制御することができるという特徴を有している。このことは、ディザマトリクスの最適化処理によってハーフトーン処理を多様な目標状態に対して最適化することが可能であることを意味している。   As described above, since the systematic dither method can positively control the occurrence of dots according to the threshold storage position set in the dither matrix, the dot dispersion can be achieved by adjusting the threshold storage position setting. And other image quality can be controlled. This means that the halftone process can be optimized for various target states by the dither matrix optimization process.

図3は、ディザマトリクスの調整の簡単な例として、ブルーノイズ特性を有するブルーノイズディザマトリクスの各画素に設定されている閾値の空間周波数特性を概念的に例示した説明図である。ブルーノイズマトリックスの空間周波数特性は、1周期の長さが2画素以下の高い周波数領域に最も大きな周波数成分を有する特性となっている。このような空間周波数特性は、人間の視覚特性を考慮して設定されたものである。すなわち、ブルーノイズディザマトリクス、高周波領域において感度が低いという人間の視覚特性を考慮して、高周波領域に最も大きな周波数成分が発生するように閾値の格納位置が調整されたディザマトリックスである。   FIG. 3 is an explanatory diagram conceptually illustrating the spatial frequency characteristics of the threshold values set for each pixel of the blue noise dither matrix having blue noise characteristics as a simple example of adjustment of the dither matrix. The spatial frequency characteristic of the blue noise matrix is a characteristic having the largest frequency component in a high frequency region in which the length of one cycle is 2 pixels or less. Such spatial frequency characteristics are set in consideration of human visual characteristics. That is, the blue noise dither matrix is a dither matrix in which the threshold storage position is adjusted so that the largest frequency component is generated in the high frequency region in consideration of the human visual characteristic that the sensitivity is low in the high frequency region.

図4(a)は、観測距離を300mmとする観測状態を想定した場合における人間が有する視覚の空間周波数に対する感度特性である視覚の空間周波数特性VTF(Visual Transfer Function)を概念的に示した説明図である。視覚の空間周波数特性VTFを利用すれば、人間の視覚感度を視覚の空間周波数特性VTFという伝達関数としてモデル化することによって、ハーフトーン処理後のドットの人間の視覚に訴える粒状感を定量化することが可能となる。このようにして定量化された値は、粒状性指数と呼ばれる。なお、視覚の空間周波数特性VTFは、本明細書では、VTF関数とも呼ばれる。   FIG. 4A conceptually shows a visual spatial frequency characteristic VTF (Visual Transfer Function) which is a sensitivity characteristic with respect to a visual spatial frequency of a human when an observation state is assumed with an observation distance of 300 mm. FIG. By using the visual spatial frequency characteristic VTF, the human visual sensitivity is modeled as a transfer function called the visual spatial frequency characteristic VTF, thereby quantifying the graininess of the dots after the halftone process appealing to the human visual sense. It becomes possible. The value quantified in this way is called the graininess index. The visual spatial frequency characteristic VTF is also referred to as a VTF function in this specification.

図4(b)は、視覚の空間周波数特性VTFを表す代表的な実験式を示している。視覚の空間周波数特性VTFは、角度の空間周波数fの関数として定義される。一方、角度の空間周波数fは、観測距離Lと印刷画像面における空間周波数uの関数として表現可能である。   FIG. 4B shows a typical empirical formula representing the visual spatial frequency characteristic VTF. The visual spatial frequency characteristic VTF is defined as a function of the angular spatial frequency f. On the other hand, the spatial frequency f of the angle can be expressed as a function of the observation distance L and the spatial frequency u on the print image plane.

このような人間の視覚に訴える粒状感の定量化は、人間の視覚系に対するディザマトリクスのきめ細かな最適化を可能とするものである。具体的には、ディザマトリックスに各入力階調値を入力した際に想定されるドットパターンに対してフーリエ変換を行ってパワースペクトルFSを求めるとともに、視覚の空間周波数特性VTFを乗じるフィルタ処理を行った後に全入力階調値で積分(図4(c))することによって得ることができる粒状性指数をディザマトリクスの評価値として利用することができる。図4(c)中の係数Kは、得られた値を人間の感覚と合わせるための係数である。この例では、ディザマトリクスの評価値が小さくなるように閾値の格納位置を調整すれば最適化が図れることになる。   Such quantification of the granularity that appeals to human vision enables fine optimization of the dither matrix for the human visual system. Specifically, a Fourier transform is performed on a dot pattern assumed when each input gradation value is input to the dither matrix to obtain a power spectrum FS, and a filter process for multiplying the visual spatial frequency characteristic VTF is performed. After that, the graininess index that can be obtained by integration with all input tone values (FIG. 4C) can be used as the evaluation value of the dither matrix. The coefficient K in FIG. 4C is a coefficient for matching the obtained value with human senses. In this example, the optimization can be achieved by adjusting the threshold storage position so that the evaluation value of the dither matrix becomes small.

このように、従来は、画像の評価方法については、ディザマトリックスの最適化問題その他のハーフトーン処理の最適化問題においては、ある特定の観測状態を想定して評価が行われてきたため、観測状態の変動は考慮されていなかった。一方、観測状態は、観測主体であるユーザによって変動することが通例である。このため、予め想定された観測距離や印刷解像度と異なる環境においては、認識される画質が過度に劣化するという問題を生じさせていた。   Thus, conventionally, with respect to the image evaluation method, the dither matrix optimization problem and other halftone processing optimization problems have been evaluated assuming a specific observation state. Variations in were not considered. On the other hand, the observation state usually varies depending on the user who is the observation subject. For this reason, in an environment different from the observation distance and the printing resolution assumed in advance, there has been a problem that the recognized image quality is excessively deteriorated.

本発明の実施例では、観測距離や印刷解像度の変動に対するロバスト性を考慮した最適ディザマトリックスの生成方法を開示する。なお、観測距離の変動と印刷解像度の変動は、後述するように物理的には等価である。   In an embodiment of the present invention, a method for generating an optimal dither matrix in consideration of robustness against fluctuations in observation distance and print resolution is disclosed. Note that the change in observation distance and the change in print resolution are physically equivalent as will be described later.

B.本発明の各実施例における最適ディザマトリックスの生成方法:
本発明の実施例では、観測距離の変動に対して高いロバスト性を有する最適ディザマトリックスの生成方法が実現されている。ただし、ディザマトリックスの最適化は、ディザマトリックスの生成だけでなく後述の変形例に示されるようにディザマトリックスの閾値の格納位置の入替によるディザマトリックスの調整としての最適化も可能である。ディザマトリックス最適化は、一部の入力階調値に対する最適化(たとえばドット密度の小さい領域のみ)や一部の要素領域(たとえばディザマトリックスの中央部のみあるいは周辺部のみ)といった一部に対しても行うことができる。
B. Method for generating optimal dither matrix in each embodiment of the present invention:
In the embodiment of the present invention, an optimal dither matrix generation method having high robustness against fluctuations in observation distance is realized. However, the optimization of the dither matrix can be performed not only by generating the dither matrix but also by adjusting the dither matrix by exchanging the storage position of the threshold value of the dither matrix as shown in a modified example described later. Dither matrix optimization is applied to some parts such as optimization for some input tone values (for example, only areas with low dot density) and some element areas (for example, only the central part or the peripheral part of the dither matrix). Can also be done.

B−1.本発明の第1実施例における最適化(粒状性指数):
図5は、本発明の第1実施例におけるディザマトリックスの生成方法の処理ルーチンを示すフローチャートである。本発明の第1実施例では、上述の粒状性指数に基づいてディザマトリックスの最適化が図られる。
B-1. Optimization (granularity index) in the first embodiment of the present invention:
FIG. 5 is a flowchart showing the processing routine of the dither matrix generation method in the first embodiment of the present invention. In the first embodiment of the present invention, the dither matrix is optimized based on the above-described graininess index.

ステップS100では、2つの評価関数が決定される。本実施例では、2つの評価関数は、粒状性指数(図4(c))において、観測距離Lを300mmとする評価関数と、観測距離Lを450mmとする評価関数と、から構成されている。   In step S100, two evaluation functions are determined. In this embodiment, the two evaluation functions are composed of an evaluation function with an observation distance L of 300 mm and an evaluation function with an observation distance L of 450 mm in the granularity index (FIG. 4C). .

図6は、本発明の第1実施例におけるディザマトリックス最適化の様子を示す説明図である。図6(a)は、観測距離の変動に対するロバスト性の高いディザマトリックス最適化の様子を示している。図6(a)は、観測距離の変動に対する粒状性指数の変動を表す3つの粒状性指数曲線MB01、MB02、M01を表している。粒状性指数曲線MB01は、300mmの観測距離に最適化されたディザマトリックスの粒状性指数を表している。粒状性指数曲線MB02は、450mmの観測距離に最適化されたディザマトリックスの粒状性指数を表している。粒状性指数曲線M01は、300mmと450mmの双方の観測距離に最適化されたディザマトリックスの粒状性指数を表している。ただし、印刷解像度は、720dpiに固定されているものとする。   FIG. 6 is an explanatory diagram showing how the dither matrix is optimized in the first embodiment of the present invention. FIG. 6A shows the state of dither matrix optimization that is highly robust against changes in observation distance. FIG. 6A shows three granularity index curves MB01, MB02, and M01 representing the variation of the granularity index with respect to the variation of the observation distance. The graininess index curve MB01 represents the graininess index of the dither matrix optimized for an observation distance of 300 mm. The graininess index curve MB02 represents the graininess index of the dither matrix optimized for an observation distance of 450 mm. The graininess index curve M01 represents the graininess index of the dither matrix optimized for both 300 mm and 450 mm observation distances. However, the print resolution is assumed to be fixed at 720 dpi.

粒状性指数曲線MB01から分かるように、300mmの観測距離に最適化されたディザマトリックスは、観測距離が300mmのときには低い粒状性指数を有しているが、観測距離が300mmから離れると、急激に粒状性指数が上昇することが分かる。粒状性指数曲線MB02から分かるように、450mmの観測距離に最適化されたディザマトリックスについても同様である。これに対して、300mmと450mmの観測距離に最適化されたディザマトリックスは、粒状性指数曲線M01から分かるように、300mmと450mmの間を中心として広い範囲で粒状性指数が抑制されていることが分かる。このような観測距離の変動に対する高いロバスト性を有するディザマトリックスの生成が、本実施例では、上述の2つの評価関数の利用で実現されることになる。   As can be seen from the graininess index curve MB01, the dither matrix optimized for an observation distance of 300 mm has a low graininess index when the observation distance is 300 mm. It can be seen that the graininess index increases. As can be seen from the graininess index curve MB02, the same applies to the dither matrix optimized for an observation distance of 450 mm. On the other hand, the dither matrix optimized for the observation distances of 300 mm and 450 mm has a suppressed granularity index in a wide range centered between 300 mm and 450 mm, as can be seen from the granularity index curve M01. I understand. In this embodiment, the generation of the dither matrix having high robustness against the variation in the observation distance is realized by using the above-described two evaluation functions.

一方、本実施例は、印刷解像度の変動に対する高いロバスト性も実現可能である。 図6(b)は、印刷解像度の変動に対するロバスト性の高いディザマトリックス最適化の様子を示している。粒状性指数曲線MB11は、720dpiの印刷解像度に最適化されたディザマトリックスの粒状性指数を表している。粒状性指数曲線MB12は、1440dpiの印刷解像度に最適化されたディザマトリックスの粒状性指数を表している。粒状性指数曲線M01は、720dpiと1440dpiの双方の印刷解像度に最適化されたディザマトリックスの粒状性指数を表している。ただし、観測距離は、300mmに固定されているものとする。印刷解像度の変動に対する高いロバスト性を有するディザマトリックスは、たとえば複数の印刷解像度で高画質を実現するディザマトリックスとして利用可能である。   On the other hand, the present embodiment can also realize high robustness against fluctuations in printing resolution. FIG. 6B shows how the dither matrix is optimized with high robustness against variations in print resolution. The graininess index curve MB11 represents the graininess index of the dither matrix optimized for a printing resolution of 720 dpi. The graininess index curve MB12 represents the graininess index of the dither matrix optimized for a printing resolution of 1440 dpi. The graininess index curve M01 represents the graininess index of the dither matrix optimized for both 720 dpi and 1440 dpi printing resolution. However, the observation distance is assumed to be fixed at 300 mm. A dither matrix having high robustness against fluctuations in print resolution can be used as a dither matrix that realizes high image quality at a plurality of print resolutions, for example.

このような最適化は、粒状性指数(図4(c))において、空間周波数uを720dpiに相当する空間周波数とする評価関数と、空間周波数uを1440dpiに相当する空間周波数とする評価関数と、に上述の複数の評価関数を決定することによって実現可能である。なお、図4(b)の式から分かるように、観測距離の変動と印刷解像度の変動は物理的に等価である。   Such optimization includes an evaluation function that sets the spatial frequency u to a spatial frequency corresponding to 720 dpi, and an evaluation function that sets the spatial frequency u to a spatial frequency corresponding to 1440 dpi in the granularity index (FIG. 4C). This can be realized by determining the plurality of evaluation functions described above. As can be seen from the equation in FIG. 4B, the variation in observation distance and the variation in print resolution are physically equivalent.

このようにして、最適化の目標状態(観測距離や印刷解像度の変動に対する高いロバスト性)と、この目標状態を達成させるための複数の評価関数が設定されると、処理がステップS200(図5)に進められる。   In this way, when the optimization target state (high robustness to fluctuations in observation distance and print resolution) and a plurality of evaluation functions for achieving this target state are set, the process proceeds to step S200 (FIG. 5). ).

ステップS200では、着目閾値決定処理が行われる。着目閾値決定処理とは、格納要素の決定対象となる閾値を決定する処理である。本実施例では、比較的に小さな値の閾値、すなわちドットの形成されやすい値の閾値から順に選択することによって閾値が決定される。このように、ドットが形成されやすい閾値から順に選択すれば、ドットの粒状性が目立つハイライト領域におけるドット配置をコントロールする閾値から順に格納される要素を固定していくことになるので、ドットの粒状性が目立つハイライト領域に対して大きな設計自由度を与えることができるからである。   In step S200, a target threshold value determination process is performed. The target threshold value determination process is a process for determining a threshold value to be a storage element determination target. In this embodiment, the threshold value is determined by selecting in order from a threshold value having a relatively small value, that is, a threshold value having a value at which dots are easily formed. Thus, if the dots are selected in order from the threshold at which dots are likely to be formed, the elements stored in order from the threshold for controlling the dot arrangement in the highlight area where the graininess of the dots is conspicuous are fixed. This is because a large degree of design freedom can be given to a highlight region where graininess is conspicuous.

ステップS300では、ディザマトリックス評価処理が行われる。ディザマトリックス評価処理とは、前述のように設定された複数の評価関数に基づいてディザマトリックスの最適性を数値化する処理である。   In step S300, a dither matrix evaluation process is performed. The dither matrix evaluation process is a process for quantifying the optimality of the dither matrix based on the plurality of evaluation functions set as described above.

図7は、本発明の第1実施例におけるディザマトリックス評価処理の処理ルーチンを示すフローチャートである。本実施例におけるディザマトリックスの生成方法では、先ず、格納される閾値が決定済みの要素である決定済み要素に対応する画素にドットが形成されたとみなすとともに、格納される閾値が未決定の要素である空白要素のいずれかにドットが形成されたと仮定して空白要素毎に評価値として粒状性指数を算出する。粒状性指数の算出は、2つの評価関数毎に行われる。次に、算出された2つの評価関数を用いて格納要素が決定される。具体的には、以下の処理が行われる。   FIG. 7 is a flowchart showing the processing routine of the dither matrix evaluation process in the first embodiment of the present invention. In the dither matrix generation method according to the present embodiment, first, it is assumed that a dot is formed in a pixel corresponding to a determined element whose threshold value to be stored is an already determined element, and the threshold value to be stored is an undecided element A granularity index is calculated as an evaluation value for each blank element on the assumption that dots are formed in any one blank element. The calculation of the graininess index is performed for every two evaluation functions. Next, the storage element is determined using the two calculated evaluation functions. Specifically, the following processing is performed.

ステップS310では、視覚の空間周波数特性VTF(図4(b))のパラメータの調整が行われる。本実施例では、図4(b)の式において観測距離Lを300mmとするパラメータ調整と、図4(b)の式において観測距離Lを450mmとするパラメータ調整と、が行われる。本実施例では、2つの観測距離Lが想定されているが、3つ以上の観測距離Lを想定するように構成されていても良い。   In step S310, the parameters of the visual spatial frequency characteristic VTF (FIG. 4B) are adjusted. In this embodiment, parameter adjustment for setting the observation distance L to 300 mm in the equation of FIG. 4B and parameter adjustment for setting the observation distance L to 450 mm in the equation of FIG. 4B are performed. In this embodiment, two observation distances L are assumed, but three or more observation distances L may be assumed.

ステップS320では、決定済み閾値の対応ドットをオンとする。決定済み閾値とは、格納要素が決定された閾値を意味する。本実施例では、前述のようにドットの形成されやすい値の閾値から順に選択されるので、着目閾値にドットが形成される際には、決定済み閾値が格納された要素に対応する画素には必ずドットが形成されることになる。逆に、着目閾値にドットが形成される最も小さな入力階調値においては、決定済み閾値が格納された要素以外の要素に対応する画素にはドットは形成されないことになる。   In step S320, the corresponding threshold value corresponding dot is turned on. The determined threshold means a threshold at which the storage element is determined. In this embodiment, since the threshold value is selected in order from the value at which dots are likely to be formed as described above, when a dot is formed as the threshold value of interest, the pixel corresponding to the element storing the determined threshold value is not used. Dots are always formed. Conversely, at the smallest input tone value at which dots are formed at the threshold value of interest, no dots are formed at pixels corresponding to elements other than the element storing the determined threshold value.

図8は、ディザマトリックスMにおいて、1〜8番目にドットが形成されやすい閾値が格納された要素に対応する8個の画素の各々にドットが形成された様子を示す説明図である。このドットパターンは、9番目のドットをどの画素に形成すべきかを決定するために使用される。すなわち、9番目にドットが形成されやすい着目閾値の格納要素の決定に使用される。   FIG. 8 is an explanatory diagram showing a state in which dots are formed in each of the eight pixels corresponding to the elements storing the thresholds at which dots are likely to be formed first to eighth in the dither matrix M. This dot pattern is used to determine in which pixel the ninth dot is to be formed. That is, it is used to determine the storage element of the target threshold value at which the ninth dot is most likely to be formed.

図9は、図8において8個の画素の各々にドットが形成された状態を数値化したマトリックス、すなわちドット密度を定量的に表したドット密度マトリックスを示す説明図である。数字0は、ドットが形成されていないことを意味し、数字1は、ドットが形成されていることを意味する。粒状性指数の算出は、このマトリックスに基づいて行われる。   FIG. 9 is an explanatory diagram showing a matrix obtained by quantifying the state in which dots are formed in each of the eight pixels in FIG. 8, that is, a dot density matrix that quantitatively represents the dot density. The number 0 means that no dot is formed, and the number 1 means that a dot is formed. The graininess index is calculated based on this matrix.

ステップS330では、着目要素の対応ドットをオンとする。ステップS340では、パラメータの調整が行われた2つの評価関数の一方で粒状性指数が算出される。このような処理は、全ての着目要素について実行される(ステップS350)。さらに、2つの評価関数の他方について、同様の処理が行われる(ステップS360)。   In step S330, the corresponding dot of the element of interest is turned on. In step S340, the graininess index is calculated from one of the two evaluation functions for which the parameters have been adjusted. Such processing is executed for all elements of interest (step S350). Further, similar processing is performed on the other of the two evaluation functions (step S360).

ステップS370では、全ての着目要素について総合評価値が決定される。総合評価値は、本実施例では、2つの評価関数の各々で算出された2つの粒状性指数の和として算出される。なお、総合評価値は、上記方法だけでなく、たとえば2つの粒状性指数の各々に必要に応じて所定の重み付けを行った後に和を求めて算出するようにしても良い。このようにして、全ての着目要素について総合評価値が決定されると、処理がステップS400(図5)に進められる。   In step S370, comprehensive evaluation values are determined for all elements of interest. In this embodiment, the comprehensive evaluation value is calculated as the sum of two graininess indexes calculated by each of the two evaluation functions. The comprehensive evaluation value is not limited to the above method, and may be calculated by, for example, obtaining a sum after performing predetermined weighting on each of the two granularity indexes as necessary. Thus, when the comprehensive evaluation value is determined for all the elements of interest, the process proceeds to step S400 (FIG. 5).

ステップS400では、格納要素決定処理が行われる。格納要素決定処理は、着目閾値(この例では9番目にドットが形成されやすい閾値)の格納要素を決定する処理である。格納要素は、本実施例では総合評価値が最も小さな要素の中から決定される。   In step S400, a storage element determination process is performed. The storage element determination process is a process for determining a storage element of the target threshold value (threshold in which 9th dot is most likely to be formed in this example). In the present embodiment, the storage element is determined from elements having the smallest overall evaluation value.

このような処理を、最もドットが形成されやすい閾値から最もドットが形成され難い閾値までの全閾値について行うと、ディザマトリックスの生成処理が完了する(ステップS500)。   When such processing is performed for all threshold values from the threshold at which dots are most easily formed to the threshold at which dots are hardly formed, the dither matrix generation processing is completed (step S500).

なお、このような処理は、必ずしも複数の閾値の全てについて行うことが必須ではなく、たとえばハイライト領域の一部についてのみ行うようにすることも可能である。具体的には、たとえばドット数がゼロから所定の数までのハイライト領域は、熟練技術者が経験等に基づいて決定し、ドット数が所定の数となる閾値から粒状性が特に問題となる閾値まで上述の方法で決定するようにしても良い。   Note that such processing is not necessarily performed for all of the plurality of threshold values, and can be performed only for a part of the highlight area, for example. Specifically, for example, a highlight region where the number of dots is from zero to a predetermined number is determined by an experienced engineer based on experience and the granularity is particularly problematic from the threshold value at which the number of dots becomes a predetermined number The threshold may be determined by the above-described method.

ステップS600では、最適性の確認が行われる。最適性の確認は、このようにして生成されたディザマトリックスを用いてハーフトーン処理を行うとともに、ハーフトーン処理がなされた印刷画像を解析することによって行われる。印刷画像の解析は、観測距離を300mmと450mmの間を中心として変動させて広い範囲で粒状性指数が抑制されていることを確認することによって行われる。これにより、本実施例では、本願発明が適用されて発明本来の効果を奏していることを確認することができる。   In step S600, the optimality is confirmed. The confirmation of the optimality is performed by performing halftone processing using the dither matrix generated in this way and analyzing the printed image subjected to the halftone processing. The analysis of the printed image is performed by confirming that the graininess index is suppressed in a wide range by changing the observation distance between 300 mm and 450 mm. Thereby, in the present embodiment, it can be confirmed that the present invention is applied and the effects inherent in the invention are exerted.

具体的には、たとえば以下のような判断基準によって本願発明が実装されていることが確認可能である。
(1)粒状性指数曲線M01(図6(a))のように、観測距離や印刷解像度の変動に対して印刷画像の粒状性指数が平坦なボトムを有している。平坦なボトムとは、観測距離や印刷解像度に対する最適化において、単一の観測距離や印刷解像度を評定としたのでは構成できない程度に平坦なボトムを意味する。
(2)粒状性指数曲線M11(図6(b))のように、観測距離や印刷解像度の変動に対して印刷画像の粒状性指数が複数のボトムを有している。複数のボトムは、観測距離や印刷解像度に対する最適化において、単一の観測距離や印刷解像度を評定としたのでは出現することがあり得ないものである。
Specifically, for example, it can be confirmed that the present invention is implemented according to the following criteria.
(1) As shown in the graininess index curve M01 (FIG. 6A), the graininess index of the printed image has a flat bottom with respect to fluctuations in observation distance and print resolution. The flat bottom means a bottom that is so flat that it cannot be configured by using a single observation distance or print resolution as an evaluation in optimization for the observation distance or print resolution.
(2) As shown in the graininess index curve M11 (FIG. 6B), the graininess index of the printed image has a plurality of bottoms with respect to fluctuations in observation distance and printing resolution. A plurality of bottoms cannot appear when a single observation distance or print resolution is evaluated in the optimization for the observation distance or print resolution.

このように、本発明の第1実施例は、観測距離や印刷解像度の変動に対して高いロバスト性を有するディザマトリックスを生成することができるとともに、本願発明の実装とその効果の確認を行うことができる。   As described above, the first embodiment of the present invention can generate a dither matrix having high robustness against fluctuations in observation distance and printing resolution, and can implement the present invention and confirm the effect thereof. Can do.

B−2.本発明の第2実施例における最適化(RMS粒状度):
図10は、本発明の第2実施例におけるディザマトリックスの生成方法の処理ルーチンを示すフローチャートである。本発明の第2実施例では、本願発明者によって新たに見いだされた特定のRMS粒状度に基づいてディザマトリックスの最適化が図られる。このような最適化は、ステップS300のディザマトリックス評価処理をステップS300aのディザマトリックス評価処理に変更することによって実現される。
B-2. Optimization (RMS granularity) in the second embodiment of the present invention:
FIG. 10 is a flowchart showing the processing routine of the dither matrix generation method in the second embodiment of the present invention. In the second embodiment of the present invention, the dither matrix is optimized based on a specific RMS granularity newly found by the present inventors. Such optimization is realized by changing the dither matrix evaluation process in step S300 to the dither matrix evaluation process in step S300a.

図11は、本発明の第2実施例におけるディザマトリックス評価処理の処理ルーチンを示すフローチャートである。この評価処理は、3つのステップS310、S340、S360を、それぞれステップS310a、S340a、S360aに変更することによって実現される。   FIG. 11 is a flowchart showing the processing routine of the dither matrix evaluation process in the second embodiment of the present invention. This evaluation process is realized by changing the three steps S310, S340, and S360 to steps S310a, S340a, and S360a, respectively.

ステップS310aでは、ローパスフィルタ選択処理が行われる。ローパスフィルタ選択処理は、ステップS310のパラメータ調整に相当する役割を有している。すなわち、本実施例では、観測距離Lを300mmとする評価関数に対応するローパスフィルタと、観測距離Lを450mmとする評価関数に対応するローパスフィルタの2つのローパスフィルタから選択されるように構成されている。なお、対応関係の意味については後述する。   In step S310a, a low-pass filter selection process is performed. The low-pass filter selection process has a role corresponding to the parameter adjustment in step S310. In other words, this embodiment is configured to be selected from two low-pass filters corresponding to an evaluation function with an observation distance L of 300 mm and a low-pass filter corresponding to an evaluation function with an observation distance L of 450 mm. ing. The meaning of the correspondence relationship will be described later.

図12および図13は、本実施例において選択対象となる2つのローパスフィルタF300、F450を示す説明図である。これらのローパスフィルタF300、F450は、一定面積のアパーチャーを通すことによって実現される光学的なローパスフィルタ処理をデジタル処理に単純に置き換えたものである。このような光学的なローパスフィルタ処理は、従来からRMS粒状度が一般的な評価尺度として用いられてきた写真フィルムの分野において行われてきたものである。   12 and 13 are explanatory diagrams showing two low-pass filters F300 and F450 to be selected in this embodiment. These low-pass filters F300 and F450 are obtained by simply replacing optical low-pass filter processing realized by passing an aperture having a constant area with digital processing. Such optical low-pass filter processing has been performed in the field of photographic film where RMS granularity has been used as a general evaluation measure.

図14および図15は、本実施例において選択対象となる2つのローパスフィルタF300、F450の特性を示す説明図である。ローパスフィルタF300は、図14から分かるように、観測距離Lを300mmとするVTF関数とカットオフ周波数が一致するようにマトリックスサイズが構成されたものである。一方、ローパスフィルタF450は、図15から分かるように、観測距離Lを450mmとするVTF関数とカットオフ周波数が一致するようにマトリックスサイズが構成されたものである。   14 and 15 are explanatory diagrams showing the characteristics of the two low-pass filters F300 and F450 to be selected in this embodiment. As can be seen from FIG. 14, the low-pass filter F300 has a matrix size configured such that the VTF function with the observation distance L of 300 mm matches the cutoff frequency. On the other hand, as can be seen from FIG. 15, the low-pass filter F450 has a matrix size configured such that the cutoff frequency coincides with the VTF function with an observation distance L of 450 mm.

ステップS340aでは、RMS粒状度算出処理が行われる。RMS粒状度算出処理とは、ドット密度マトリックス(図9)をローパスフィルタ処理した後、標準偏差を算出する処理である。標準偏差の算出は、計算式(図16)を用いて行うことができる。このような処理は、第1実施例と同様に全ての着目画素について行われる(ステップS350)。さらに、第1実施例と同様に2つのローパスフィルタF300、F450の双方について、同様の処理が行われる(ステップS360a)。   In step S340a, RMS granularity calculation processing is performed. The RMS granularity calculation process is a process of calculating a standard deviation after low-pass filtering the dot density matrix (FIG. 9). The standard deviation can be calculated using a calculation formula (FIG. 16). Such processing is performed for all the target pixels as in the first embodiment (step S350). Further, similar processing is performed for both of the two low-pass filters F300 and F450 as in the first embodiment (step S360a).

このように、本発明は、RMS粒状度を評価関数に用いても実現することが可能である。さらに、RMS粒状度を評価関数とする場合においても、ローパスフィルタの設定によって視覚の空間周波数特性VTFと同様に人間の視覚特性を考慮した最適化が実現可能である。加えて、ローパスフィルタを用いた評価処理は、周波数領域と空間領域との間の変換処理を必要としないので、計算処理の負担を軽減させることもできる。   As described above, the present invention can also be realized by using the RMS granularity as an evaluation function. Further, even when RMS granularity is used as an evaluation function, optimization considering human visual characteristics can be realized by setting a low-pass filter in the same manner as visual spatial frequency characteristics VTF. In addition, since the evaluation process using the low-pass filter does not require a conversion process between the frequency domain and the spatial domain, the burden of the calculation process can be reduced.

C.変形例:
以上、本発明のいくつかの実施の形態について説明したが、本発明はこのような実施の形態になんら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内において種々なる態様での実施が可能である。例えば、本発明は、以下のような変形例についてのハーフトーン処理の最適化が可能である。
C. Variation:
As mentioned above, although several embodiment of this invention was described, this invention is not limited to such embodiment at all, and implementation in various aspects is possible within the range which does not deviate from the summary. It is. For example, the present invention can optimize halftone processing for the following modifications.

C−1.上述の第2実施例では、光学的なローパスフィルタ処理をデジタル処理に置き換えるとともに、カットオフ周波数をVTF関数に近づけるようにマトリックスサイズを調整するように構成されたローパスフィルタF300、F450が使用されているが、たとえばVTF関数に基づいてローパスフィルタを構成するようにしても良い。 C-1. In the second embodiment described above, the optical low-pass filter processing is replaced with digital processing, and the low-pass filters F300 and F450 configured to adjust the matrix size so that the cutoff frequency approaches the VTF function are used. However, for example, a low-pass filter may be configured based on the VTF function.

図17は、変形例におけるローパスフィルタ生成処理の処理ルーチンを示す説明図である。ステップS710では、画像中心の1画素だけドットがオンとなっている画像が用意される。ステップS720では、この画像が2次元フーリエ変換される。ステップS730では、2次元フーリエ変換された画像に対して、パラメータ調整が行われた複数のVTF関数が乗じられる。複数のVTF関数は、たとえば印刷解像度を720dpiに固定し、観測距離Lを300mmや450mmとしたものである。ステップS740では、逆フーリエ変換によって周波数領域から空間領域に変換される。ステップS750では、空間領域に変換されたマトリックスデータからローパスフィルタを切り取って成形される。具体的には、ある要素値以下の要素を切り捨ててフィルタサイズを小さくするとともに、最適化処理における処理負担を小さくするために要素を整数化する。なお、正規化は行わない。最適化処理に不要だからである。   FIG. 17 is an explanatory diagram illustrating a processing routine of low-pass filter generation processing according to a modification. In step S710, an image is prepared in which dots are turned on for only one pixel at the center of the image. In step S720, this image is subjected to two-dimensional Fourier transform. In step S730, the two-dimensional Fourier transformed image is multiplied by a plurality of VTF functions for which parameter adjustment has been performed. In the plurality of VTF functions, for example, the printing resolution is fixed to 720 dpi, and the observation distance L is set to 300 mm or 450 mm. In step S740, the frequency domain is transformed to the spatial domain by inverse Fourier transform. In step S750, the low-pass filter is cut out from the matrix data converted into the spatial domain and shaped. More specifically, elements smaller than a certain element value are rounded down to reduce the filter size, and the elements are converted to integers in order to reduce the processing load in the optimization process. Note that normalization is not performed. This is because it is unnecessary for the optimization process.

C−2.上述の実施例では、1個の閾値の格納要素が変動することを想定されているが、たとえば複数個の閾値の格納要素を同時に決定あるいは変更するような場合にも本発明は、適用することができる。具体的には、たとえば上述の実施例において6番目までの閾値の格納要素が決定されていて、7番目と8番目の閾値の格納要素を決定するような場合にも7番目の閾値の格納要素にドットが追加された場合の評価値と、7番目と8番目の閾値の格納要素にそれぞれドットが追加された場合の評価値とに基づいて格納要素を決定するようにしても良いし、あるいは7番目の閾値の格納要素のみを決定するようにしても良い。なお、複数の閾値の各々の格納要素を一度に決定するような場合には、特許請求の範囲における「着目閾値の格納要素の候補毎」は、「複数の閾値の各々を格納する複数の格納要素の組毎」に相当する。 C-2. In the above-described embodiment, it is assumed that one threshold value storage element fluctuates. However, for example, the present invention can be applied to a case where a plurality of threshold value storage elements are simultaneously determined or changed. Can do. Specifically, for example, in the above-described embodiment, when the storage elements for the sixth threshold are determined and the storage elements for the seventh and eighth thresholds are determined, the seventh threshold storage element is also determined. The storage element may be determined based on the evaluation value when the dot is added to the storage element and the evaluation value when the dot is added to each of the storage elements of the seventh and eighth threshold values, or Only the storage element of the seventh threshold value may be determined. When each storage element of a plurality of thresholds is determined at a time, “for each candidate storage element of threshold value of interest” in the claims is “a plurality of storages storing each of a plurality of threshold values”. Corresponds to each element set.

C−3.上述の実施例では、閾値の格納要素を順に決定するように構成されているが、たとえば予め準備された初期状態としてのディザマトリックスを調整することによってディザマトリックスを生成するように構成しても良い。たとえば、入力諧調値に応じて画素毎のドットの形成の有無を決定するための複数の閾値を各要素に格納する初期状態としてのディザマトリックスを準備するとともに、各要素に格納された複数の閾値の一部を、ランダムにあるいは組織的に決定された方法で他の要素に格納された閾値と入れ替え、その入替の前後の評価値に基づいて入れ替えるか否かを決定してディザマトリックスを調整して生成するようにしても良い。なお、特許請求の範囲における「格納要素の候補毎」は、本変形例では、「入れ替えられた複数の格納要素の候補の組毎」に相当する。 C-3. In the above-described embodiment, the threshold storage elements are determined in order. However, for example, the dither matrix may be generated by adjusting the dither matrix as an initial state prepared in advance. . For example, a dither matrix is prepared as an initial state for storing in each element a plurality of threshold values for determining the presence or absence of dot formation for each pixel according to the input gradation value, and a plurality of threshold values stored in each element A part of this is replaced with a threshold value stored in another element in a randomly or systematically determined manner, and the dither matrix is adjusted by determining whether or not to replace based on the evaluation values before and after the replacement. May be generated. It should be noted that “for each storage element candidate” in the claims corresponds to “for each set of candidates for a plurality of replaced storage elements” in the present modification.

C−4.上述の実施例では、粒状性指数やRMS粒状度に基づいてディザマトリックスの最適性を評価しているが、たとえばドットパターンに対してフーリエ変換を行うとともにVTF関数を用いてディザマトリックスの最適性を評価するように構成しても良い。具体的には、ゼロックスのDooleyらが用いた評価尺度(Grainess scale:GS値)をドットパターンに適用して、GS値によってディザマトリックスの最適性を評価するように構成しても良い。ここで、GS値とは、ドットパターンに対して2次元フーリエ変換を含む所定の処理を行って数値化するとともに、視覚の空間周波数特性VTFを乗じるフィルタ処理を行った後に積分することによって得ることができる粒状性評価値である。 C-4. In the above-described embodiment, the optimality of the dither matrix is evaluated based on the granularity index and the RMS granularity. For example, Fourier transform is performed on the dot pattern, and the optimality of the dither matrix is determined using the VTF function. You may comprise so that it may evaluate. Specifically, the evaluation scale (Grainess scale: GS value) used by Dooley et al. Of Xerox may be applied to the dot pattern, and the optimality of the dither matrix may be evaluated based on the GS value. Here, the GS value is obtained by performing a predetermined process including a two-dimensional Fourier transform on the dot pattern to digitize the dot pattern, and performing integration after performing a filter process that multiplies the visual spatial frequency characteristic VTF. It is a graininess evaluation value that can be

C−5.本発明は、最適化過程における評価計算の処理量を少なくすることができるので、最適化方法を問わず適用することができる。たとえばシミュレーテッドアニーリングや遺伝的アルゴリズムといった最適化手法に広く適用することができる。 C-5. The present invention can be applied regardless of the optimization method because the amount of evaluation calculation in the optimization process can be reduced. For example, it can be widely applied to optimization methods such as simulated annealing and genetic algorithms.

C−6.本発明のディザマトリックスは、たとえば特開2005−236768号公報や特開2005−269527号公報に開示されているようなドットの形成状態を特定するための中間データ(個数データ)を使用するような技術にも適用可能である。特許請求の範囲における「ディザマトリックス」は、ディザマトリックスを用いて生成された変換テーブル(あるいは対応関係テーブル)をも含む広い概念を有する。このような変換テーブルは、本発明の生成方法で生成されたディザマトリックスから直接生成されるだけでなく、調整や改良が行われる場合もあるが、このような場合も本発明の生成方法で生成されたディザマトリックスの使用に該当する。 C-6. The dither matrix of the present invention uses intermediate data (number data) for specifying the dot formation state disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-236768 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-269527. Applicable to technology. The “dither matrix” in the claims has a broad concept including a conversion table (or correspondence table) generated using the dither matrix. Such a conversion table is not only generated directly from the dither matrix generated by the generation method of the present invention, but may be adjusted or improved. In such a case, the conversion table is also generated by the generation method of the present invention. Corresponds to the use of a dither matrix.

ディザマトリックスの一部を概念的に例示した説明図。Explanatory drawing which illustrated a part of dither matrix conceptually. ディザマトリックスを使用したドット形成の有無の考え方を示す説明図。Explanatory drawing which shows the idea of the presence or absence of the dot formation using a dither matrix. ブルーノイズ特性を有するブルーノイズディザマトリクスの各画素に設定されている閾値の空間周波数特性を概念的に例示した説明図。Explanatory drawing which illustrated notionally the spatial frequency characteristic of the threshold value set to each pixel of the blue noise dither matrix which has a blue noise characteristic. 人間が有する視覚の空間周波数に対する感度特性である視覚の空間周波数特性VTF(Visual Transfer Function)を概念的に示した説明図。Explanatory drawing which showed notionally the visual spatial frequency characteristic VTF (Visual Transfer Function) which is a sensitivity characteristic with respect to the visual spatial frequency which a human has. 本発明の第1実施例におけるディザマトリックスの生成方法の処理ルーチンを示すフローチャート。The flowchart which shows the processing routine of the production | generation method of the dither matrix in 1st Example of this invention. 本発明の第1実施例におけるディザマトリックス最適化の様子を示す説明図。Explanatory drawing which shows the mode of the dither matrix optimization in 1st Example of this invention. 本発明の第1実施例におけるディザマトリックス評価処理の処理ルーチンを示すフローチャート。The flowchart which shows the process routine of the dither matrix evaluation process in 1st Example of this invention. ディザマトリックスMにおいて1〜8番目にドットが形成されやすい閾値が格納された要素に対応する8個の画素の各々にドットが形成された様子を示す説明図。Explanatory drawing which shows a mode that the dot was formed in each of the 8 pixels corresponding to the element in which the threshold in which the 1st-8th dot is easy to be formed was stored in the dither matrix M. 8個の画素の各々にドットが形成された状態のドット密度マトリックスを示す説明図。Explanatory drawing which shows the dot density matrix in the state in which the dot was formed in each of eight pixels. 本発明の第2実施例におけるディザマトリックスの生成方法の処理ルーチンを示すフローチャート。The flowchart which shows the processing routine of the production | generation method of the dither matrix in 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例におけるディザマトリックス評価処理の処理ルーチンを示すフローチャート。The flowchart which shows the process routine of the dither matrix evaluation process in 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例で使用されるRMS粒状度を定義する式を表す説明図。Explanatory drawing showing the formula which defines the RMS granularity used in 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例において選択対象となる2つのローパスフィルタF300、F450を示す説明図。Explanatory drawing which shows two low-pass filters F300 and F450 used as selection object in 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例において選択対象となるローパスフィルタF300の特性を示す説明図。Explanatory drawing which shows the characteristic of the low-pass filter F300 used as selection object in 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例において選択対象となる2つのローパスフィルタF450の特性を示す説明図。Explanatory drawing which shows the characteristic of the two low-pass filters F450 used as selection object in 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例におけるRMS粒状度算出処理で使用される計算式を示す説明図。Explanatory drawing which shows the calculation formula used by the RMS granularity calculation process in 2nd Example of this invention. 第1変形例におけるローパスフィルタ生成処理の処理ルーチンを示す説明図。Explanatory drawing which shows the process routine of the low-pass filter production | generation process in a 1st modification.

符号の説明Explanation of symbols

F300…ローパスフィルタ
F450…ローパスフィルタ
F300 ... Low-pass filter F450 ... Low-pass filter

Claims (13)

入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスを生成するための方法であって、
前記複数の閾値のうちの評価の対象となる着目閾値の格納要素の候補毎に想定されるドットの形成状態に基づいて、観測距離と印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数の目標状態との相関を表す評価値であるマトリックス評価値を、前記候補毎に決定する評価値決定工程と、
前記決定されたマトリックス評価値に基づいて、前記候補の中から前記着目閾値の格納要素を決定する格納要素決定工程と、
前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記着目閾値を変更しつつ前記評価値決定工程と前記格納要素決定工程の各工程を繰り返す繰り返し工程と、
を備えることを特徴とする、ディザマトリックス生成方法。
A method for generating a dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data There,
Based on the dot formation state assumed for each storage element candidate of the target threshold value to be evaluated among the plurality of threshold values, a plurality of target states that assume at least one difference between the observation distance and the print resolution; An evaluation value determining step for determining a matrix evaluation value, which is an evaluation value representing the correlation, for each candidate;
A storage element determination step for determining a storage element for the threshold value of interest from the candidates based on the determined matrix evaluation value;
For at least a part of the plurality of threshold values, repeating the evaluation value determining step and the storage element determining step while changing the target threshold value,
A dither matrix generation method comprising:
請求項1記載のディザマトリックス生成方法であって、
前記マトリックス評価値は、フーリエ変換処理を含む計算処理によって算出される粒状性評価値であって、視覚の空間周波数特性に基づいて決定されたVTF関数と、前記フーリエ変換処理によって予め算出された定数との畳み込み積分によって算出される、ディザマトリックス生成方法。
The dither matrix generation method according to claim 1,
The matrix evaluation value is a granularity evaluation value calculated by a calculation process including a Fourier transform process, and is a VTF function determined based on visual spatial frequency characteristics and a constant calculated in advance by the Fourier transform process. Dither matrix generation method calculated by convolution integration with.
請求項1または2に記載のディザマトリックス生成方法であって、さらに、
前記ディザマトリックスの各要素に格納されるべき複数の閾値の中から、格納されるべき要素が未決定の閾値であって、かつ、ドットの形成が最もオンとなりやすい閾値を着目閾値として決定する着目閾値決定工程を備え、
前記繰り返し工程は、前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記着目閾値決定工程と前記評価値決定工程と前記格納要素決定工程の各工程を繰り返す工程を含む、ディザマトリックス生成方法。
The dither matrix generation method according to claim 1, further comprising:
Of the plurality of threshold values to be stored in each element of the dither matrix, the focus is determined as the focus threshold value, which is the threshold value for which the element to be stored is undetermined and in which dot formation is most likely to be turned on. A threshold determination step,
The dither matrix generation method includes the step of repeating the steps of the focus threshold value determination step, the evaluation value determination step, and the storage element determination step for at least a part of the plurality of threshold values.
請求項1または2に記載のディザマトリックス生成方法であって、さらに、
入力諧調値に応じて画素毎のドットの形成の有無を決定するための複数の閾値を各要素に格納する初期状態としてのディザマトリックスを準備する準備工程と、
前記要素に格納された複数の閾値の一部を、他の要素に格納された閾値と入れ替える格納要素入替工程と、
を備え、
前記評価値決定工程は、前記閾値の入れ替えが決定されたと仮定したときに想定されるドット形成状態についての前記マトリックス評価値を決定する工程を含み、
前記繰り返し工程は、前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記格納要素入替工程と前記評価値決定工程と前記格納要素決定工程の各工程を繰り返す工程を含む、ディザマトリックス生成方法。
The dither matrix generation method according to claim 1, further comprising:
A preparatory step of preparing a dither matrix as an initial state for storing a plurality of threshold values for determining the presence or absence of dot formation for each pixel according to an input gradation value,
A storage element replacement step of replacing a part of a plurality of threshold values stored in the element with a threshold value stored in another element;
With
The evaluation value determining step includes a step of determining the matrix evaluation value for a dot formation state assumed when the replacement of the threshold value is determined.
The dither matrix generation method includes a step of repeating the storage element replacement step, the evaluation value determination step, and the storage element determination step for at least a part of the plurality of threshold values.
請求項1、3、4のいずれかに記載のディザマトリックス生成方法であって、
前記評価値決定工程は、
前記観測距離と前記印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数のローパスフィルタを用いたローパスフィルタ処理を含む計算処理を実行して複数のRMS粒状度を算出する工程と、
前記算出された複数のRMS粒状度に基づいて、前記マトリックス評価値を決定する工程と、
を含む、ディザマトリックス生成方法。
A dither matrix generation method according to any one of claims 1, 3, and 4,
The evaluation value determining step includes
Calculating a plurality of RMS granularities by executing a calculation process including a low-pass filter process using a plurality of low-pass filters assuming a difference between at least one of the observation distance and the print resolution;
Determining the matrix evaluation value based on the calculated plurality of RMS granularities;
A dither matrix generation method including:
請求項5記載のディザマトリックス生成方法であって、
前記複数のローパスフィルタは、前記観測距離と前記印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定して、周波数領域において定義された複数の特性を逆フーリエ変換する工程を含む方法によって構成されている、ディザマトリックス生成方法。
A dither matrix generation method according to claim 5, comprising:
The plurality of low-pass filters are configured by a method including a step of performing an inverse Fourier transform on a plurality of characteristics defined in a frequency domain, assuming a difference between at least one of the observation distance and the print resolution. Generation method.
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスであって、
前記ディザマトリックスは、100mm〜600mmの間における観測距離の変動に対して、前記印刷画像の粒状性の評価値を表す粒状性指数が複数のボトムを有するように構成されていることを特徴とする、ディザマトリックス。
A dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data,
The dither matrix is configured such that a granularity index representing an evaluation value of the granularity of the printed image has a plurality of bottoms with respect to a variation in observation distance between 100 mm and 600 mm. , Dither matrix.
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスであって、
前記ディザマトリックスは、300mm〜400mmの間における観測距離の変動に対して、前記印刷画像の粒状性の評価値を表す粒状性指数が平坦なボトムを有するように構成されていることを特徴とする、ディザマトリックス。
A dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data,
The dither matrix is configured such that a granularity index representing an evaluation value of the granularity of the printed image has a flat bottom with respect to a variation in observation distance between 300 mm and 400 mm. , Dither matrix.
印刷媒体上に印刷を行う印刷装置であって、
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するとともに、前記決定されたドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成部と、
前記ドットデータに応じて、前記各印刷画素にドットを形成して印刷画像を生成する印刷画像生成部と、
を備え、
前記ドットデータ生成部は、請求項1ないし6のいずれかに記載の方法で生成されたディザマトリックスと、請求項7または8に記載のディザマトリックスと、のうちのいずれか1つを使用して前記各印刷画素へのドットの形成状態を決定するように構成されていることを特徴とする、印刷装置。
A printing device for printing on a print medium,
Dot data generation that determines the dot formation state for each print pixel of the print image to be formed on the print medium according to the input image data and generates dot data representing the determined dot formation state And
According to the dot data, a print image generation unit that generates a print image by forming dots in the print pixels;
With
The dot data generation unit uses any one of the dither matrix generated by the method according to any one of claims 1 to 6 and the dither matrix according to claim 7 or 8. A printing apparatus configured to determine a dot formation state on each of the printing pixels.
印刷媒体上に印刷を行う印刷方法であって、
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するとともに、前記決定されたドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成工程と、
前記ドットデータに応じて、前記各印刷画素にドットを形成して印刷画像を生成する印刷画像生成工程と、
を備え、
前記ドットデータ生成工程は、請求項1ないし6のいずれかに記載の方法で生成されたディザマトリックスと、請求項7または8に記載のディザマトリックスと、のうちのいずれか1つを使用して前記各印刷画素へのドットの形成状態を決定する工程を含むことを特徴とする、印刷方法。
A printing method for printing on a print medium,
Dot data generation that determines the dot formation state for each print pixel of the print image to be formed on the print medium according to the input image data and generates dot data representing the determined dot formation state Process,
In accordance with the dot data, a print image generation step for generating a print image by forming dots in the respective print pixels;
With
The dot data generation step uses any one of the dither matrix generated by the method according to any one of claims 1 to 6 and the dither matrix according to claim 7 or 8. A printing method comprising a step of determining a dot formation state on each of the printing pixels.
印刷媒体上に印刷画像を形成する印刷物の生成方法であって、
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するとともに、前記決定されたドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成工程と、
前記ドットデータに応じて、前記各印刷画素にドットを形成して印刷物を生成する印刷物生成工程と、
を備え、
前記ドットデータ生成工程は、請求項1ないし6のいずれかに記載の方法で生成されたディザマトリックスと、請求項7または8に記載のディザマトリックスと、のうちのいずれか1つを使用して前記各印刷画素へのドットの形成状態を決定する工程を含むことを特徴とする、印刷物の生成方法。
A method for generating a printed material for forming a print image on a print medium,
Dot data generation that determines the dot formation state for each print pixel of the print image to be formed on the print medium according to the input image data and generates dot data representing the determined dot formation state Process,
According to the dot data, a printed matter generating step for generating a printed matter by forming dots at the respective printing pixels;
With
The dot data generation step uses any one of the dither matrix generated by the method according to any one of claims 1 to 6 and the dither matrix according to claim 7 or 8. A method for generating printed matter, comprising a step of determining a dot formation state on each of the printing pixels.
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスを生成するための装置であって、
前記複数の閾値のうちの評価の対象となる着目閾値の格納要素の候補毎に想定されるドットの形成状態に基づいて、観測距離と印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数の目標状態との相関を表す評価値であるマトリックス評価値を、前記候補毎に決定する評価値決定部と、
前記決定されたマトリックス評価値に基づいて、前記候補の中から前記着目閾値の格納要素を決定する格納要素決定部と、
を備えることを特徴とする、ディザマトリックス生成装置。
An apparatus for generating a dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data There,
Based on the dot formation state assumed for each storage element candidate of the target threshold value to be evaluated among the plurality of threshold values, a plurality of target states that assume at least one difference between the observation distance and the print resolution; An evaluation value determination unit that determines a matrix evaluation value that is an evaluation value that represents the correlation of each candidate,
Based on the determined matrix evaluation value, a storage element determination unit that determines a storage element of the threshold value of interest from the candidates;
A dither matrix generating device comprising:
入力画像データに応じて、印刷媒体上に形成されるべき印刷画像の各印刷画素へのドットの形成状態を決定するための複数の閾値を各要素に格納するディザマトリックスを生成するためのコンピュータプログラムであって、
前記複数の閾値のうちの評価の対象となる着目閾値の格納要素の候補毎に想定されるドットの形成状態に基づいて、観測距離と印刷解像度の少なくとも一方の相違を想定した複数の目標状態との相関を表す評価値であるマトリックス評価値を、前記候補毎に決定する評価値決定機能と、
前記決定されたマトリックス評価値に基づいて、前記候補の中から前記着目閾値の格納要素を決定する格納要素決定機能と、
前記複数の閾値の少なくとも一部について、前記着目閾値を変更しつつ前記評価値決定処理と前記格納要素決定処理の各処理を繰り返す繰り返し機能と、
を前記コンピュータに実現させるプログラムを備えることを特徴とする、コンピュータプログラム。
A computer program for generating a dither matrix that stores, in each element, a plurality of threshold values for determining a dot formation state on each print pixel of a print image to be formed on a print medium in accordance with input image data Because
Based on the dot formation state assumed for each storage element candidate of the target threshold value to be evaluated among the plurality of threshold values, a plurality of target states that assume at least one difference between the observation distance and the print resolution; An evaluation value determination function for determining a matrix evaluation value, which is an evaluation value representing the correlation, for each candidate;
Based on the determined matrix evaluation value, a storage element determination function for determining a storage element of the target threshold value from the candidates;
For at least some of the plurality of thresholds, a repetition function that repeats each of the evaluation value determination process and the storage element determination process while changing the target threshold value;
A computer program comprising a program for causing the computer to realize the above.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8376495B2 (en) 2008-12-04 2013-02-19 Seiko Epson Corporation Printing apparatus and dither mask
JP2014127985A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Fujifilm Corp Threshold matrix generating device, method, program, and image forming apparatus
JP2016526312A (en) * 2013-04-29 2016-09-01 ドルビー ラボラトリーズ ライセンシング コーポレイション Dithering for chroma subsampled image formats
JP2017046242A (en) * 2015-08-27 2017-03-02 キヤノン株式会社 Image processing system, image processing method and program
WO2017094613A1 (en) * 2015-12-01 2017-06-08 富士フイルム株式会社 Method for producing halftone mask, and system for producing halftone mask
JP2019126035A (en) * 2018-01-15 2019-07-25 キヤノン株式会社 Image processing system, image processing method and program

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002337401A (en) * 2001-05-18 2002-11-27 Ricoh Co Ltd Method of forming mask for halftone processing, method for error diffusion processing, image output apparatus and recording medium

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002337401A (en) * 2001-05-18 2002-11-27 Ricoh Co Ltd Method of forming mask for halftone processing, method for error diffusion processing, image output apparatus and recording medium

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8376495B2 (en) 2008-12-04 2013-02-19 Seiko Epson Corporation Printing apparatus and dither mask
JP2014127985A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Fujifilm Corp Threshold matrix generating device, method, program, and image forming apparatus
JP2016526312A (en) * 2013-04-29 2016-09-01 ドルビー ラボラトリーズ ライセンシング コーポレイション Dithering for chroma subsampled image formats
US9762876B2 (en) 2013-04-29 2017-09-12 Dolby Laboratories Licensing Corporation Dithering for chromatically subsampled image formats
JP2017046242A (en) * 2015-08-27 2017-03-02 キヤノン株式会社 Image processing system, image processing method and program
WO2017094613A1 (en) * 2015-12-01 2017-06-08 富士フイルム株式会社 Method for producing halftone mask, and system for producing halftone mask
JP2017103599A (en) * 2015-12-01 2017-06-08 富士フイルム株式会社 Halftone mask manufacturing method, halftone mask manufacturing system, and halftone mask manufacturing program
US10298812B2 (en) 2015-12-01 2019-05-21 Fujifilm Corporation Halftone mask manufacturing method and halftone mask manufacturing system
JP2019126035A (en) * 2018-01-15 2019-07-25 キヤノン株式会社 Image processing system, image processing method and program
JP7199973B2 (en) 2018-01-15 2023-01-06 キヤノン株式会社 Image processing device, image processing method and program

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