JP2007202186A - Solid-state imaging apparatus and camera system - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid-state imaging apparatus in which noise can be reduced from a non-selective column, the generation of a vertical stripe can be suppressed in a bright scene, an increase in the driver size of a drain line can be prevented without necessity of charging including a floating node capacity via a resetting transistor, and a high speed operation can be secured; and to provide a camera system using the apparatus as the imaging device. <P>SOLUTION: The apparatus includes a V shift transistor 25 which is capable of supplying three or more kinds of potentials to a gate electrode of a resetting transistor 14 and in which a voltage of at least one kind of potential is a negative potential in at least the three or more kinds of potentials supplied to the gate electrode of the resetting transistor. In both precharge phase and data phase sample/hold timings, the gate potential of a resetting transistor is set to a ground potential and in other timings, the gate potential of the resetting transistor is set to a negative potential. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、固体撮像装置およびカメラシステムに関し、特にMOS型固体撮像装置に代表されるX-Yアドレス型固体撮像装置およびこれを撮像デバイスとして用いたカメラシステムに関するものである。   The present invention relates to a solid-state imaging device and a camera system, and more particularly to an XY address type solid-state imaging device represented by a MOS type solid-state imaging device and a camera system using the same as an imaging device.

X-Yアドレス型固体撮像装置、たとえばMOS型固体撮像装置として、単位画素が3トランジスタからなり、この単位画素が行列状に多数配列されてなる構成のものが知られている。
この場合の単位画素の構成を図8に示す。同図から明らかなように、単位画素100は、フォトダイオード(PD)101、転送トランジスタ102、増幅トランジスタ103およびリセットトランジスタ104を有する。
2. Description of the Related Art As an XY address type solid-state imaging device, for example, a MOS type solid-state imaging device, a configuration in which a unit pixel includes three transistors and a large number of unit pixels are arranged in a matrix is known.
The configuration of the unit pixel in this case is shown in FIG. As can be seen from the figure, the unit pixel 100 includes a photodiode (PD) 101, a transfer transistor 102, an amplification transistor 103, and a reset transistor 104.

上記の画素構成を採るMOS型固体撮像装置では、行が非選択の期間はドレイン線105からリセットトランジスタ104を通してフローティングノードN101の電位を低レベル(以下、Lレベルと記す)にしておき、行を選択するときはフローティングノードN101の電位を高レベル(以下、Hレベルと記す)にする動作が行われる。   In the MOS type solid-state imaging device employing the above pixel configuration, the potential of the floating node N101 is set to a low level (hereinafter referred to as L level) from the drain line 105 through the reset transistor 104 during a period when the row is not selected. When selecting, an operation of setting the potential of the floating node N101 to a high level (hereinafter referred to as H level) is performed.

このようなMOS型固体撮像装置では、リセットトランジスタ104はディプレッション型を用いている。これは、リセットトランジスタ104がオン時に、画素部の電源となるドレイン電圧とフローティングノード101の電位をバラツキなく一致させるためである。
したがって、リセットトランジスタ104がオン時のフローティングノード電位は、ドレイン線の電位レベルに一致する。ドレイン線の電位レベルとして、具体的にはたとえば特許文献1にあるように、Hレベルが電源電位VDDであり、Lレベルが0.4〜0.7Vになる(Lレベルが0Vであってもよい)。
In such a MOS type solid-state imaging device, the reset transistor 104 uses a depletion type. This is because when the reset transistor 104 is turned on, the drain voltage serving as the power source of the pixel portion and the potential of the floating node 101 are made to match without variation.
Therefore, the floating node potential when the reset transistor 104 is on matches the potential level of the drain line. Specifically, as disclosed in, for example, Patent Document 1, the H level is the power supply potential VDD and the L level is 0.4 to 0.7 V (even if the L level is 0 V, for example). Good).

ここで、フローティングノードの電位について、選択行と非選択行についてそれぞれ考える。   Here, regarding the potential of the floating node, the selected row and the non-selected row are considered.

まず、選択行の動作について考える。
ドレイン線がHレベルに設定した後、リセットトランジスタ、転送トランジスタを順次オフ→オン→オフとし、リセット相電位とデータ相電位を出力する。相関2重サンプリング(CDS)回路を介してこの信号の差分を光信号として出力する。
データ相電位の取得に際して、フォトダイオードの電荷をフローティングノードへ転送すると、フローティングノード電位が低下する。
First, consider the operation of the selected row.
After the drain line is set to the H level, the reset transistor and the transfer transistor are sequentially turned off → on → off, and the reset phase potential and the data phase potential are output. The difference between the signals is output as an optical signal through a correlated double sampling (CDS) circuit.
In acquiring the data phase potential, if the charge of the photodiode is transferred to the floating node, the floating node potential is lowered.

次に、非選択行について考える。
リセットトランジスタおよび転送トランジスタの両方がオフ状態のままであり、ドレイン線だけがHレベルとLレベルの値を繰りかえす。
特開2002−51263号公報
Next, consider unselected rows.
Both the reset transistor and the transfer transistor remain off, and only the drain line repeats the H level and L level values.
JP 2002-51263 A

ところが、従来のMOS型固体撮像装置では、リセットトランジスタがディプレッション構造を採用するために、リセットトランジスタがオフ状態(非選択行)においても、リーク電流によって、フローティングノード電位が上昇する(しきい値電圧Vthが−1Vのとき、フローティングノード電位は1V程度)。
一方、選択行においてデータ相のフローティングノード電位はリセット相のそれの電位に比べて低くなる。これが特に光量が大きい場合には電圧が大きく変化(低下)し、非選択行のフローティングノードとの電位差が小さくなる。
その結果、非選択行に対して高い電位に設定されるべき選択行からの電位信号を読み取るものが、この電位差が明確でなくなるために、非選択行からのノイズが大きくなり、結果として、明るいシーンにおける縦筋が発生するという問題があった。
However, in the conventional MOS type solid-state imaging device, since the reset transistor adopts a depletion structure, the floating node potential rises (threshold voltage) due to the leakage current even when the reset transistor is in the off state (non-selected row). When Vth is -1V, the floating node potential is about 1V).
On the other hand, in the selected row, the floating node potential of the data phase is lower than that of the reset phase. In particular, when the amount of light is large, the voltage is greatly changed (decreased), and the potential difference from the floating node of the non-selected row becomes small.
As a result, a device that reads a potential signal from a selected row that should be set to a high potential with respect to a non-selected row increases the noise from the non-selected row because this potential difference is not clear, resulting in brighter light. There was a problem that vertical stripes occurred in the scene.

また、同じくリセットトランジスタがディプレッション構造を採用することに起因して、ドレイン配線の駆動回路からは、リセットトランジスタを介してフローティングノードの容量成分の影響が見える。ドレイン配線が全画素共通に接続されている場合には、全画素のドレイン配線容量だけでなく、リセットトランジスタを介してフローティングノード容量を含めて充電をする必要が発生し、ドレイン線のドライバサイズの点からも、高速性の点からも問題となっていた。   Similarly, due to the fact that the reset transistor adopts a depletion structure, the drain wiring drive circuit can see the influence of the capacitance component of the floating node via the reset transistor. When the drain wiring is connected to all the pixels in common, it is necessary to charge not only the drain wiring capacity of all the pixels but also the floating node capacity through the reset transistor. From the point of view, there was a problem from the point of high speed.

本発明の目的は、非選択行からのノイズを小さくでき、明るいシーンにおける縦筋の発生を抑止でき、また、リセットトランジスタを介してフローティングノード容量を含めて充電をする必要がなく、ドレイン線のドライバサイズの増大を防止でき、高速動作を確保できる固体撮像装置およびこれを撮像デバイスとして用いたカメラシステムを提供することにある。   The object of the present invention is to reduce noise from non-selected rows, to suppress the occurrence of vertical stripes in bright scenes, and to eliminate the need for charging including the floating node capacitance via a reset transistor. An object of the present invention is to provide a solid-state imaging device capable of preventing an increase in driver size and ensuring a high-speed operation, and a camera system using this solid-state imaging device.

上記目的を達成するため、本発明の第1の観点は、単位画素が、光電変換素子、この光電変換素子の信号をフローティングノードに転送する転送トランジスタ、前記フローティングノードの信号を信号線に出力する増幅トランジスタおよび前記フローティングノードをリセットするリセットトランジスタを有する固体撮像装置であって、前記リセットトランジスタのゲート電極に3種類以上の電位を供給可能で、前記リセットトランジスタのゲート電極に供給する少なくとも3種類以上の電位のうち少なくとも1種類の電位の電圧が負電位である手段を有し、プリチャージ相およびデータ相のサンプルホールドの両方のタイミングで、前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定され、他のタイミングでは当該リセットトランジスタのゲート電位は負電位に設定されている。   In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, a unit pixel outputs a photoelectric conversion element, a transfer transistor that transfers a signal of the photoelectric conversion element to a floating node, and outputs a signal of the floating node to a signal line. A solid-state imaging device having an amplifying transistor and a reset transistor for resetting the floating node, wherein at least three types of potentials can be supplied to the gate electrode of the reset transistor and supplied to the gate electrode of the reset transistor At least one of the potentials of the first and second potentials is negative, and the gate potential of the reset transistor is set to the ground potential at the timing of both the precharge phase and the data phase sample and hold. At the timing of The gate potential of the register is set to a negative potential.

好適には、選択画素の前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定されている期間、非選択の画素のリセットトランジスタのゲート電位は負電位である。   Preferably, while the gate potential of the reset transistor of the selected pixel is set to the ground potential, the gate potential of the reset transistor of the non-selected pixel is a negative potential.

好適には、前記リセットトランジスタをオン状態からオフ状態にする際のゲート電位を、正のハイレベル電源電位から、グランドレベル電源電位を経て、負電源電位に設定可能な手段を有する。   Preferably, there is provided means capable of setting a gate potential when the reset transistor is turned from an on state to an off state from a positive high level power supply potential to a negative power supply potential through a ground level power supply potential.

本発明の第2の観点のカメラシステムは、単位画素が、光電変換素子、この光電変換素子の信号をフローティングノードに転送する転送トランジスタ、前記フローティングノードの信号を信号線に出力する増幅トランジスタおよび前記フローティングノードをリセットするリセットトランジスタを有する固体撮像素子と、前記固体撮像装置の撮像部に入射光を導く光学系と、前記固体撮像装置の出力信号を処理する信号処理回路と、を有し、前記固体撮像素子は、前記リセットトランジスタのゲート電極に3種類以上の電位を供給可能で、前記リセットトランジスタのゲート電極に供給する少なくとも3種類以上の電位のうち少なくとも1種類の電位の電圧が負電位である手段を有し、プリチャージ相およびデータ相のサンプルホールドの両方のタイミングで、前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定され、他のタイミングでは当該リセットトランジスタのゲート電位は負電位に設定されている。   In the camera system according to the second aspect of the present invention, a unit pixel includes a photoelectric conversion element, a transfer transistor that transfers a signal of the photoelectric conversion element to a floating node, an amplification transistor that outputs a signal of the floating node to a signal line, and A solid-state imaging device having a reset transistor that resets a floating node, an optical system that guides incident light to an imaging unit of the solid-state imaging device, and a signal processing circuit that processes an output signal of the solid-state imaging device, The solid-state imaging device can supply three or more types of potentials to the gate electrode of the reset transistor, and at least one of the potentials supplied to the gate electrode of the reset transistor is a negative potential. Have some means, both precharge phase and data phase sample and hold In timing, the reset gate voltage of the transistor is set to the ground potential, the other timing gate potential of the reset transistor is set to a negative potential.

上記構成の固体撮像装置およびこれを用いたカメラシステムにおいて、非選択時のリセットトランジスタのゲート電極に負電位を印加する。
これにより、共通ドレイン電源の立ち上がり時間が、ディプレッション型のリセットトランジスタを介したフローティングノード容量の影響を受けることがなくなる。
したがって、ディプレッション型リセットトランジスタを用いた場合においても、そのリセットトランジスタを介した電気的な接続が小さく抑えられる。
このために、共通ドレイン電源の立ち上がり時間が短くなる。または、ドレイン電源のドライバのサイズが小さくなる。これにより、高速動作と低チップサイズ化を実現できる。
また、ディプレッション型のリセットトランジスタを介した電気的な結合を抑えられるために、非選択行のフローティングノード電位が共通ドレイン線の電位に伴って変動(上昇)しない。
したがって、データ相のサンプリングのタイミングにおいて選択行と非選択行のフローティングノード電位の差異を明確にすることができる。
その結果として、光量が大きいときにも飽和たて筋の発生を抑制させることができる。 また、本発明によれば、リセットトランジスタのゲート電圧を電源電位、グランド電位、負電源電位の3値により制御する。
たとえば、リセットトランジスタをオン→オフする際のゲート電極の電圧を、電源電位から負電源電位に直接的にゲート電位を変化させる代わりに、電源電位から一度グランド電位に保持し、グランド電位に充放電を一度行った後、負電源電位に電位を設定する。
In the solid-state imaging device having the above configuration and a camera system using the same, a negative potential is applied to the gate electrode of the reset transistor when not selected.
As a result, the rise time of the common drain power supply is not influenced by the floating node capacitance via the depletion type reset transistor.
Therefore, even when a depletion type reset transistor is used, electrical connection through the reset transistor can be suppressed to a small level.
This shortens the rise time of the common drain power supply. Alternatively, the size of the drain power supply driver is reduced. As a result, high speed operation and low chip size can be realized.
In addition, since the electrical coupling through the depletion type reset transistor can be suppressed, the floating node potential of the non-selected row does not fluctuate (rise) with the potential of the common drain line.
Therefore, the difference between the floating node potentials of the selected row and the non-selected row can be clarified at the data phase sampling timing.
As a result, even when the amount of light is large, it is possible to suppress the generation of straight lines. Further, according to the present invention, the gate voltage of the reset transistor is controlled by the three values of the power supply potential, the ground potential, and the negative power supply potential.
For example, instead of directly changing the gate potential from the power supply potential to the negative power supply potential, the gate electrode voltage when turning the reset transistor from on to off is held from the power supply potential to the ground potential once, and charged / discharged to the ground potential. Is performed once, and then the potential is set to the negative power supply potential.

本発明によれば、非選択行からのノイズを小さくでき、明るいシーンにおける縦筋の発生を抑止できる。
また、リセットトランジスタを介してフローティングノード容量を含めて充電をする必要がなく、ドレイン線のドライバサイズの増大を防止でき、高速動作を確保できる利点がある。
According to the present invention, it is possible to reduce noise from non-selected rows and to suppress the occurrence of vertical stripes in a bright scene.
In addition, there is no need to charge the floating node capacitance via the reset transistor, and it is possible to prevent an increase in the driver size of the drain line and to ensure high-speed operation.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施形態に係るたとえばMOS型固体撮像装置の構成例を示す回路図である。なお、MOS型固体撮像装置では、多数の単位画素が行列状に配列されることになるが、ここでは、図面の簡略化のために、2行×2列の画素配列として描いている。   FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration example of, for example, a MOS type solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention. In the MOS type solid-state imaging device, a large number of unit pixels are arranged in a matrix, but here, for simplification of the drawing, it is drawn as a pixel array of 2 rows × 2 columns.

図1において、単位画素10は、光電変換素子である, たとえばフォトダイオード11以外に、転送トランジスタ12、増幅トランジスタ13およびリセットトランジスタ14の3つのN型MOSトランジスタを有する3トランジスタ構成となっている。   In FIG. 1, the unit pixel 10 is a photoelectric conversion element. For example, in addition to the photodiode 11, the unit pixel 10 has a three-transistor configuration having three N-type MOS transistors such as a transfer transistor 12, an amplification transistor 13, and a reset transistor 14.

この画素構成において、フォトダイオード11は、入射光をその光量に応じた電荷量の信号電荷(たとえば、電子)に光電変換して蓄積する。   In this pixel configuration, the photodiode 11 photoelectrically converts incident light into signal charges (for example, electrons) having a charge amount corresponding to the amount of light, and accumulates the signal light.

転送トランジスタ12は、フォトダイオード11のカソードとフローティングノードN11との間に接続され、ゲートが垂直選択線21に接続されており、導通(オン)することによってフォトダイオード11に蓄積されている信号電荷をフローティングノードN11に転送する機能を持っている。   The transfer transistor 12 is connected between the cathode of the photodiode 11 and the floating node N11, and has a gate connected to the vertical selection line 21. When the transfer transistor 12 is turned on, the signal charge accumulated in the photodiode 11 is stored. Is transferred to the floating node N11.

増幅トランジスタ13は、垂直信号線22と電源Vddとの間に接続され、ゲートがフローティングノードN11に接続されており、フローティングノードN11の電位を垂直信号線22に出力する機能を持っている。
リセットトランジスタ14は、ドレイン(一方の主電極)がドレイン線(配線)23に、ソース(他方の主電極)がフローティングノードN11に、ゲートがリセット線24にそれぞれ接続されており、フローティングノードN11の電位をリセットする機能を持っている。
The amplification transistor 13 is connected between the vertical signal line 22 and the power supply Vdd, and has a gate connected to the floating node N11, and has a function of outputting the potential of the floating node N11 to the vertical signal line 22.
The reset transistor 14 has a drain (one main electrode) connected to the drain line (wiring) 23, a source (the other main electrode) connected to the floating node N11, and a gate connected to the reset line 24. Has a function to reset the potential.

この単位画素10が行列状に配置されてなる画素領域(撮像領域)において、垂直選択線21、ドレイン線23およびリセット線24の3本の線は、画素配列の各行ごとに水平(H)方向(図の左右方向)に配線されており、垂直信号線22は各列ごとに垂直(V)方向(図の上下方向)に配線されている。
そして、垂直選択線21、ドレイン線23およびリセット線24は、垂直駆動回路(VDRV)を構成するVシフトレジスタ25によって駆動される。
In the pixel region (imaging region) in which the unit pixels 10 are arranged in a matrix, the three lines of the vertical selection line 21, the drain line 23, and the reset line 24 are in the horizontal (H) direction for each row of the pixel array. The vertical signal lines 22 are wired in the vertical (V) direction (vertical direction in the figure) for each column.
The vertical selection line 21, the drain line 23, and the reset line 24 are driven by a V shift register 25 that forms a vertical drive circuit (VDRV).

垂直選択線21およびリセット線24は、Vシフトレジスタ25の垂直選択パルスTおよびリセットパルスRを出力する各出力端に各行ごとに直接接続されている。ドレイン線23は、Vシフトレジスタ25のリセット電圧出力端に対して各行ごとにP型MOSトランジスタ26を介して接続されている。P型MOSトランジスタ26のゲートは接地されている。   The vertical selection line 21 and the reset line 24 are directly connected to each output terminal for outputting the vertical selection pulse T and the reset pulse R of the V shift register 25 for each row. The drain line 23 is connected to the reset voltage output terminal of the V shift register 25 via a P-type MOS transistor 26 for each row. The gate of the P-type MOS transistor 26 is grounded.

本実施形態においては、Vシフトレジスタ25は、ドレイン線23を通してリセットトランジスタ14を3値(4値以上であってもよい)で駆動することにより、選択行と非選択行のフローティングノードND11の電位に電位差を設け、2つの選択行と非選択行の動作を明確にする。
たとえば本実施形態においては、リセットトランジスタ14のゲート電極に供給する電位の1つが、少なくとも負電位である。
また、たとえば、Vシフトレジスタ25は、リセットトランジスタ14のゲート電極に供給する少なくとも3種類以上の電位のうち少なくとも1種類の電位の電圧が負電位として供給する。
また、Vシフトレジスタ25は、リセットトランジスタ14をオン状態からオフ状態にする際のゲート電位を、正のハイレベル電源電位から、グランドレベル電源電位を経て、負電源電位に設定することが可能である。
また、本実施形態においては、プリチャージ相およびデータ相のサンプルホールドの両方のタイミングで、リセットトランジスタ14のゲート電位がグランド電位に設定されている。
そして、Vシフトレジスタ25は、選択画素のリセットトランジスタ14のゲート電位がグランド電位に設定されている期間、非選択の画素のリセットトランジスタ14のゲート電位は負電位とする。
In the present embodiment, the V shift register 25 drives the reset transistor 14 with three values (may be four values or more) through the drain line 23, whereby the potential of the floating node ND11 of the selected row and the non-selected row is increased. Is provided with a potential difference to clarify the operation of the two selected rows and the non-selected rows.
For example, in the present embodiment, one of the potentials supplied to the gate electrode of the reset transistor 14 is at least a negative potential.
Further, for example, the V shift register 25 supplies at least one kind of potential among negative potentials among at least three kinds of potentials supplied to the gate electrode of the reset transistor 14.
Further, the V shift register 25 can set the gate potential when the reset transistor 14 is turned from the on state to the off state from the positive high-level power source potential to the negative power source potential via the ground level power source potential. is there.
In the present embodiment, the gate potential of the reset transistor 14 is set to the ground potential at both the precharge phase and the data phase sample and hold timing.
The V shift register 25 sets the gate potential of the reset transistor 14 of the non-selected pixel to a negative potential while the gate potential of the reset transistor 14 of the selected pixel is set to the ground potential.

このリセットトランジスタ14の駆動動作については後でさらに詳述する。   The driving operation of the reset transistor 14 will be described in detail later.

上記画素領域の垂直方向(図中の上下方向)に一方側において、各列ごとに、垂直信号線22の一端とグランドとの間にN型MOSトランジスタからなる負荷トランジスタ27が接続されている。この負荷トランジスタ27は、そのゲートがロード(Load)線28に接続されて定電流源の役目をする。   On one side in the vertical direction (vertical direction in the figure) of the pixel region, a load transistor 27 made of an N-type MOS transistor is connected between one end of the vertical signal line 22 and the ground for each column. The load transistor 27 has a gate connected to a load line 28 and serves as a constant current source.

画素領域の垂直方向の他方側において、垂直信号線22の他端には、N型MOSトランジスタからなるサンプルホールド(SH)スイッチ29の一端(一方の主電極)が接続されている。このサンプルホールドスイッチ29の制御端(ゲート)はSH線30に接続されている。   On the other side in the vertical direction of the pixel region, one end (one main electrode) of a sample hold (SH) switch 29 made of an N-type MOS transistor is connected to the other end of the vertical signal line 22. The control end (gate) of the sample hold switch 29 is connected to the SH line 30.

サンプルホールドスイッチ29の他端(他方の主電極)には、サンプルホールド(SH)/CDS(Correlated Double Sampling)回路31の入力端が接続されている。
サンプルホールド/CDS回路31は、垂直信号線22の電位Vsigをサンプルホールドし、相関二重サンプリング(CDS)を行う回路である。
ここで、相関二重サンプリングとは、時系列で入力される2つの電圧信号をサンプリングしてその差分を出力する処理を言う。
The other end (the other main electrode) of the sample hold switch 29 is connected to the input end of a sample hold (SH) / CDS (Correlated Double Sampling) circuit 31.
The sample hold / CDS circuit 31 is a circuit that samples and holds the potential Vsig of the vertical signal line 22 and performs correlated double sampling (CDS).
Here, correlated double sampling refers to a process of sampling two voltage signals input in time series and outputting the difference between them.

サンプルホールド/CDS回路31の出力端と水平信号線32との間には、N型MOSトランジスタからなる水平選択スイッチ33が接続されている。
この水平選択スイッチ33の制御端(ゲート)には、水平駆動回路(HDRV)を構成するHシフトレジスタ34から水平走査時に順次出力される水平走査パルスH(H1,H2,…)が与えられる。
A horizontal selection switch 33 composed of an N-type MOS transistor is connected between the output terminal of the sample hold / CDS circuit 31 and the horizontal signal line 32.
A horizontal scanning pulse H (H1, H2,...) Sequentially output at the time of horizontal scanning is applied to the control terminal (gate) of the horizontal selection switch 33 from the H shift register 34 constituting the horizontal drive circuit (HDRV).

水平走査パルスHが与えられ、水平選択スイッチ33がオンすることで、サンプルホールド/CDS回路31で相関二重サンプリング(CDS)された信号が水平選択スイッチ33を通して水平信号線32に読み出される。
この読み出された信号Hsigは、水平信号線32の一端に接続された出力アンプ35を通して出力端子36から出力信号Voutとして導出される。
When a horizontal scanning pulse H is given and the horizontal selection switch 33 is turned on, a signal subjected to correlated double sampling (CDS) in the sample hold / CDS circuit 31 is read out to the horizontal signal line 32 through the horizontal selection switch 33.
The read signal Hsig is derived as an output signal Vout from the output terminal 36 through the output amplifier 35 connected to one end of the horizontal signal line 32.

以下に、本実施形態における、リセットトランジスタ14の駆動電位(ゲート電位)の幾つかの設定方法、並びにそれらの効果について、従来回路との比較を含めて説明する。   Hereinafter, several methods for setting the drive potential (gate potential) of the reset transistor 14 and their effects in this embodiment will be described, including a comparison with a conventional circuit.

(設定方法1)
この方法では、非選択時のリセットトランジスタ14のゲート電極に負電位を印加できるようにすることで、従来の課題を解決することができる。
図2(A)〜(G)および図3(A)〜(G)は、リセットトランジスタのゲート電圧をVRST+(プラス側)とVRST−(マイナス側)の2値で動作させた場合の,選択行および非選択行におけるリセットトランジスタのゲート電位(RST線)V24、転送トランジスタ12のゲート電位(TR線)V21、共通ドレイン電源電位V23、フローティングノード電位VN11を示す図である。
図2(A)〜(G)がリセットトランジスタのゲート電圧をVRST+(プラス側)で動作させた場合、図3(A)〜(G)が本実施形態に係るリセットトランジスタのゲート電圧をVRST−(マイナス側)で動作させた場合を示す。
また、図において、比較のために、従来どおり(リセット・トランジスタのゲート電圧をVRST+(プラス側)とVRST0(ゼロ電位))の2値動作におけるフローティングノード電位もあわせて示す。
(Setting method 1)
In this method, the conventional problem can be solved by applying a negative potential to the gate electrode of the reset transistor 14 when not selected.
2 (A) to (G) and FIGS. 3 (A) to (G) are selected when the gate voltage of the reset transistor is operated with two values of VRST + (plus side) and VRST− (minus side). FIG. 5 is a diagram showing a reset transistor gate potential (RST line) V24, a transfer transistor 12 gate potential (TR line) V21, a common drain power supply potential V23, and a floating node potential VN11 in a row and a non-selected row.
2A to 2G, when the gate voltage of the reset transistor is operated at VRST + (plus side), FIGS. 3A to 3G show the gate voltage of the reset transistor according to the present embodiment as VRST−. It shows the case of operating on (minus side).
For comparison, the floating node potential in the binary operation of the reset transistor (the gate voltage of the reset transistor is VRST + (plus side) and VRST0 (zero potential)) is also shown in FIG.

従来回路では、図2(A)〜(G)に示すように、共通ドレイン電源の立ち上がり時間が、ディプレッション型のリセットトランジスタ14を介したフローティングノード容量の影響を受け、長いものとなっていた。
ところが、本実施形態に係る方法によれば、図3(A)〜(G)に示すように、ディプレッション型リセットトランジスタ14を用いた場合においても、そのリセットトランジスタ14を介した電気的な接続が小さく抑えられる。
このために、共通ドレイン電源の立ち上がり時間が短くなる。または、ドレイン電源のドライバのサイズが小さくなる。これにより、高速動作と低チップサイズ化を実現できる。
In the conventional circuit, as shown in FIGS. 2A to 2G, the rise time of the common drain power supply is long due to the influence of the floating node capacitance via the depletion type reset transistor 14.
However, according to the method of the present embodiment, as shown in FIGS. 3A to 3G, even when the depletion type reset transistor 14 is used, the electrical connection through the reset transistor 14 is not caused. Can be kept small.
This shortens the rise time of the common drain power supply. Alternatively, the size of the drain power supply driver is reduced. As a result, high speed operation and low chip size can be realized.

また、従来回路では、図2(A)〜(G)に示すように、非選択行のフローティングノード電位は、ディプレッション型のリセットトランジスタを介したリークの影響により、共通ドレイン電源の影響を受けてデータ相のサンプリング時間において上昇し、選択行と非選択行の電位差が小さくなる方向へ作用していた。
ところが、本実施形態に係る方法によれば、図3(A)〜(G)に示すように、ディプレッション型のリセットトランジスタ14を介した電気的な結合を抑えられるために、非選択行のフローティングノード電位が共通ドレイン線の電位に伴って変動(上昇)しない。
したがって、データ相のサンプリングのタイミングにおいて選択行と非選択行のフローティングノード電位の差異を明確にすることができる。
その結果として、光量が大きいときにも飽和たて筋の発生を抑制させることができる。
In the conventional circuit, as shown in FIGS. 2A to 2G, the floating node potential of the non-selected row is affected by the common drain power supply due to the influence of leakage through the depletion type reset transistor. It increases in the sampling time of the data phase, and acts in a direction that the potential difference between the selected row and the non-selected row becomes smaller.
However, according to the method according to the present embodiment, as shown in FIGS. 3A to 3G, the electrical coupling through the depletion type reset transistor 14 can be suppressed, so that the floating of the non-selected row is performed. The node potential does not change (rise) with the potential of the common drain line.
Therefore, the difference between the floating node potentials of the selected row and the non-selected row can be clarified at the data phase sampling timing.
As a result, even when the amount of light is large, it is possible to suppress the generation of straight lines.

(設定方法2)
この方法では、リセットトランジスタ14のゲート電圧を電源電位(たとえば、3V)、グランド電位(0V)、負電源電位(たとえば、−1V)の3値を制御する機能を搭載することで、従来の課題を解決することができる。
(Setting method 2)
In this method, the function of controlling the three values of the power supply potential (for example, 3 V), the ground potential (0 V), and the negative power supply potential (for example, −1 V) as the gate voltage of the reset transistor 14 is mounted. Can be solved.

前述したように、MOS型固体撮像装置ではリセットトランジスタとしてはディプレッション型を用いている。これにより、リセットトランジスタがオン時にそのリセットバラツキを低減できるメリットがある。
一方、このとき、第1に非選択行と選択行のフローティングノード電位の差異が明確でなくなること、第2に共通ドレイン電源の立場からは、高速性およびチップサイズの問題があった。
そこで、本実施形態においては、非選択行のリセットトランジスタのLレベル電位を負電位に設定する。
As described above, in the MOS type solid-state imaging device, the depletion type is used as the reset transistor. Thereby, there is an advantage that the reset variation can be reduced when the reset transistor is turned on.
On the other hand, at this time, firstly, the difference between the floating node potentials of the unselected row and the selected row is not clear, and secondly, from the standpoint of the common drain power supply, there are problems of high speed and chip size.
Therefore, in the present embodiment, the L level potential of the reset transistor in the non-selected row is set to a negative potential.

MOS型固体撮像装置に負電位を供給するためには、外部電源から供給する方法と、内部回路で負電位を発生させる方法の2種類が考えられる。
従来のリセットトランジスタのゲートの振幅(電源電位とグランド電位の振幅)に比べて、上記方法による負電位を用いる場合にはその振幅が大きくなるために、回路の充放電の電荷量が大きく、各電位発生回路(または電源)に負担がかかるおそれがある。
また、そのために負電位を内部生成する回路では、振幅分だけの電荷供給能力を大きくする必要があり、そのためにチップサイズが増大する。
特に、内部回路で発生させる負電源の場合には、発生電位に回路ノイズが重畳する。負電源電位の供給先であるリセットトランジスタ14のゲートは、フローティングノードN11と容量結合しているために、負電源電位の変動がそのままセンサ・ノイズとなって現れる。
In order to supply a negative potential to the MOS type solid-state imaging device, there are two methods: a method of supplying from an external power source and a method of generating a negative potential in an internal circuit.
Compared to the amplitude of the gate of the conventional reset transistor (the amplitude of the power supply potential and the ground potential), when using the negative potential according to the above method, the amplitude is increased, so that the charge amount of charge / discharge of the circuit is large. There is a risk that the potential generation circuit (or power supply) may be burdened.
For this reason, in a circuit that internally generates a negative potential, it is necessary to increase the charge supply capability by the amplitude, which increases the chip size.
In particular, in the case of a negative power source generated by an internal circuit, circuit noise is superimposed on the generated potential. Since the gate of the reset transistor 14 to which the negative power supply potential is supplied is capacitively coupled to the floating node N11, fluctuations in the negative power supply potential appear as sensor noise as they are.

これらの問題を解決するために、本実施形態においては、リセットトランジスタ14のゲート電圧を電源電位(たとえば3V)、グランド電位(0V)、負電源電位(たとえば、−1V)の3値に制御する機能を搭載する。   In order to solve these problems, in the present embodiment, the gate voltage of the reset transistor 14 is controlled to three values of a power supply potential (for example, 3 V), a ground potential (0 V), and a negative power supply potential (for example, −1 V). Equipped with functions.

たとえば、図4(A)〜(G)に示すように、電荷供給能力の問題については、リセットトランジスタ14のゲート電位を3値駆動することにより負電源発生回路の負担を低減できる。
これまでは、リセットトランジスタをオン→オフする際のゲート電極の電圧は、電源電位から負電源電位に直接的にゲート電位を変化させていた。
本実施形態に係る3値駆動機能を可能にすることにより、電源電位から一度グランド電位に保持し、グランド電位に充放電を一度行った後、負電源電位に電位を設定する機能を搭載することで、先の問題を解決することができる。
簡単には、電源電位が3V、グランド電位を0V、負電源電位を−1Vとすると、以下の効果を得ることができる。
従来の電源電位から負電源電位にダイレクトに電圧変化する場合には、回路容量をC[F]とすると、その充放電電荷量はQ=C(V1―V2)=4Cとなり、負電源発生回路には4Cの負担が発生する。
一方、グランド電位を一度経由する場合には、負電源発生回路が引き抜くのに必要な電位差は1Vだから充放電電荷量は1Cになり、従来の方法の4分の1の負担に低減される。
For example, as shown in FIGS. 4A to 4G, regarding the problem of the charge supply capability, the load on the negative power supply generation circuit can be reduced by driving the gate potential of the reset transistor 14 in three values.
Until now, the voltage of the gate electrode when turning on and off the reset transistor directly changes the gate potential from the power supply potential to the negative power supply potential.
By enabling the ternary driving function according to the present embodiment, a function of holding the power supply potential once to the ground potential, charging / discharging the ground potential once, and then setting the potential to the negative power supply potential is mounted. This can solve the previous problem.
In brief, when the power supply potential is 3 V, the ground potential is 0 V, and the negative power supply potential is −1 V, the following effects can be obtained.
When the voltage changes directly from the conventional power supply potential to the negative power supply potential, if the circuit capacity is C [F], the charge / discharge charge amount is Q = C (V1−V2) = 4C, and the negative power supply generation circuit Will incur a 4C burden.
On the other hand, when passing through the ground potential once, since the potential difference necessary for the negative power generation circuit to pull out is 1V, the charge / discharge charge amount is 1C, which is reduced to a quarter of the burden of the conventional method.

また、内部回路で発生させる負電源の場合には、発生電位に回路ノイズが重畳する。負電源電位の供給先であるリセットトランジスタ14のゲートはフローティングノードN11と容量結合しているために、負電源電位の変動がそのままセンサ・ノイズとなって現れる。
ところで、内部回路にて生成する負電源電位の変動に対して、グランド電位の電位変動は小さい。
これを利用して、たとえば図5(A)〜(G)に示すように、選択行において、プリチャージ相およびデータ相のサンプル・ホールドのタイミング期間にグランド電位にリセット・トランジスタのゲート電極電位を固定する(非選択行のリセット・トランジスタのゲート電位は常に負電位に固定される)。
これにより、負電位への変化回数が少なくなるため、負電荷の供給負担が低減されるだけでなく、負電源発生回路の電位変動によるフローティングノード電位の容量結合性の変動によるノイズ影響が抑えられる。
さらに、リセットゲートを選択行は0V、非選択行は負電位とすることで、選択行と非選択行のフローティングノード電位に必ず有為な差がつくので、明るいシーンにおいても、縦筋を防止することができる。
In addition, in the case of a negative power source generated by an internal circuit, circuit noise is superimposed on the generated potential. Since the gate of the reset transistor 14 to which the negative power supply potential is supplied is capacitively coupled to the floating node N11, variations in the negative power supply potential appear as sensor noise as they are.
By the way, the potential fluctuation of the ground potential is small with respect to the fluctuation of the negative power supply potential generated in the internal circuit.
Using this, for example, as shown in FIGS. 5A to 5G, in the selected row, the gate electrode potential of the reset transistor is set to the ground potential during the precharge phase and the data phase sample and hold timing period. Fixed (the gate potential of the reset transistor in the non-selected row is always fixed to a negative potential).
As a result, the number of changes to the negative potential is reduced, so that not only the negative charge supply burden is reduced, but also the influence of noise due to the fluctuation of the capacitive coupling of the floating node potential due to the potential fluctuation of the negative power generation circuit can be suppressed. .
In addition, the reset gate is set to 0V for the selected row and negative potential for the non-selected row, so that there is always a significant difference in the floating node potential between the selected row and the non-selected row, preventing vertical stripes even in bright scenes. can do.

さらにまた、たとえば図6(A)〜(G)に示すように、図4(A)〜(G)に関連つ付けた方法と図5(A)〜(G)に関連付けた方法、すなわち、リセットトランジスタ14をオフにする際に、グランドレベル(0)を経由して負電位とする方法と、サンプルホールドのタイミングをグランドレベルとする方法を複合した駆動によれば、さらに2つの効果が同時に得られる。   Furthermore, as shown, for example, in FIGS. 6 (A)-(G), the method associated with FIGS. 4 (A)-(G) and the method associated with FIGS. 5 (A)-(G), When the reset transistor 14 is turned off, the combined drive of the method of setting a negative potential via the ground level (0) and the method of setting the sample and hold timing to the ground level has two more effects at the same time. can get.

次に、上記構成の本実施形態に係るMOS型固体撮像装置の動作例について、説明する。ここでは、図1の左下の画素に着目して説明するものとし、一例としてリセットトランジスタ14のゲート電圧を電源電位(たとえば、3V)、グランド電位(0V)、負電源電位(たとえば、−1V)の3値を制御する方法を採用する場合を例として説明する。   Next, an operation example of the MOS type solid-state imaging device according to this embodiment having the above-described configuration will be described. Here, description will be made by paying attention to the lower left pixel in FIG. 1. As an example, the gate voltage of the reset transistor 14 is set to a power supply potential (for example, 3V), a ground potential (0V), and a negative power supply potential (for example, −1V). A case where a method of controlling the three values is adopted will be described as an example.

先ず、非選択時は、フローティングノードN11の電位は0.5Vとなっている。このとき、Vシフトレジスタ25からリセット電圧B1として電源電圧dd、たとえば3.0Vが出力されておりドレイン線23の電位も電源電圧Vddになっている。   First, when not selected, the potential of the floating node N11 is 0.5V. At this time, the power supply voltage dd, for example, 3.0 V is output from the V shift register 25 as the reset voltage B1, and the potential of the drain line 23 is also the power supply voltage Vdd.

ロード線28に与えるロード(Load)信号をたとえば1.0Vとし、次にVシフトレジスタ25からHレベルのリセット信号R1を出力する。すると、リセットトランジスタ14が導通するため、フローティングノードN11はリセットトランジスタ14を通してドレイン線23とつながり、その電位がリセットトランジスタ14のチャネル電圧で決まるHレベル、たとえば2.5Vにリセットされる。これにより、増幅トランジスタ13のゲート電位も2.5Vとなる。   A load signal to be applied to the load line 28 is set to 1.0 V, for example, and then an H level reset signal R1 is output from the V shift register 25. Then, since the reset transistor 14 becomes conductive, the floating node N11 is connected to the drain line 23 through the reset transistor 14, and the potential thereof is reset to an H level determined by the channel voltage of the reset transistor 14, for example, 2.5V. As a result, the gate potential of the amplification transistor 13 is also 2.5V.

垂直信号線22の電位Vsig1は、垂直信号線22につながる複数の画素の増幅トランジスタのうち最もゲート電圧の高いものによって決まり、その結果、フローティングノードN11の電位によって垂直信号線22の電位Vsig1が決まる。具体的には、増幅トランジスタ13が負荷トランジスタ27とソースフォロアを形成し、その出力電圧が画素電位Vsig1として垂直信号線22上に現れる。このときの電位Vsig1がリセットレベルの電圧となる。このリセットレベルの電圧は、サンプルホールドスイッチ29を通してサンプルホールド/CDS回路31に入力される。   The potential Vsig1 of the vertical signal line 22 is determined by the highest gate voltage among the amplification transistors of the plurality of pixels connected to the vertical signal line 22, and as a result, the potential Vsig1 of the vertical signal line 22 is determined by the potential of the floating node N11. . Specifically, the amplification transistor 13 forms a source follower with the load transistor 27, and the output voltage appears on the vertical signal line 22 as the pixel potential Vsig1. The potential Vsig1 at this time becomes a reset level voltage. This reset level voltage is input to the sample hold / CDS circuit 31 through the sample hold switch 29.

次に、Vシフトレジスタ25から出力される垂直選択パルスT1をHレベルにする。すると、転送トランジスタ12が導通し、フォトダイオード11で光電変換され、蓄積された信号電荷(本例では、電子)をフローティングノードN11に転送する(読み出す)。これにより、増幅トランジスタ13のゲート電位が、フォトダイオード11からフローティングノードN11に読み出された信号電荷の信号量に応じて負の方向に変化し、それに応じて垂直信号線22の電位Vsig1も変化する。   Next, the vertical selection pulse T1 output from the V shift register 25 is set to H level. Then, the transfer transistor 12 becomes conductive, photoelectrically converted by the photodiode 11, and the accumulated signal charge (electrons in this example) is transferred (read) to the floating node N11. As a result, the gate potential of the amplification transistor 13 changes in the negative direction according to the signal amount of the signal charge read from the photodiode 11 to the floating node N11, and the potential Vsig1 of the vertical signal line 22 also changes accordingly. To do.

このときの電位Vsig1が本来の信号レベルの電圧となる。この信号レベルの電圧は、サンプルホールドスイッチ29を通してサンプルホールド/CDS回路31に入力される。そして、サンプルホールド/CDS回路31では、先のリセットレベルの電圧と今回の信号レベルの電圧との差分をとり、この差分電圧を保持する処理が行われる。   The potential Vsig1 at this time becomes the voltage of the original signal level. This signal level voltage is input to the sample hold / CDS circuit 31 through the sample hold switch 29. Then, the sample hold / CDS circuit 31 takes a difference between the voltage at the previous reset level and the voltage at the current signal level, and performs processing for holding this differential voltage.

次に、Vシフトレジスタ25から出力されるリセット電圧B1を0Vにする。このとき、ドレイン線23を通して画素10に与えられるリセット電圧B1’は0Vではなく、P型MOSトランジスタのチャネル電圧で決まり、たとえば0.5Vになる。
その状態において、Vシフトレジスタ25からHレベルのリセット信号R1を出力すると、リセットトランジスタ14が導通するため、フローティングノードN11はリセットトランジスタ14を通してドレイン線23とつながり、その電位がドレイン線23の電位、即ち0.5Vになり、画素10が非選択の状態に復帰する。
このとき、リセットトランジスタ14のゲートには、リセット線24を通してリセットトランジスタ14をオン→オフする際に、電源電位3Vから負電源電位に直接的にゲート電位を変化させるのではなく、電源電位から一度グランド電位0Vに保持し、グランド電位に充放電を一度行った後、負電源電位に電位−1Vに設定する。これにより、負電源発生回路が引き抜くのに必要な電位差は1Vとなり、充放電電荷量が少なくなり回路の負担が低減される。
Next, the reset voltage B1 output from the V shift register 25 is set to 0V. At this time, the reset voltage B1 ′ applied to the pixel 10 through the drain line 23 is determined not by 0V but by the channel voltage of the P-type MOS transistor, and is, for example, 0.5V.
In this state, when the H level reset signal R1 is output from the V shift register 25, the reset transistor 14 is turned on, so that the floating node N11 is connected to the drain line 23 through the reset transistor 14, and the potential is the potential of the drain line 23, That is, it becomes 0.5 V, and the pixel 10 returns to the non-selected state.
At this time, when the reset transistor 14 is turned on and off through the reset line 24, the gate potential of the reset transistor 14 is not changed directly from the power supply potential 3V to the negative power supply potential, but once from the power supply potential. After maintaining the ground potential at 0V and charging / discharging the ground potential once, the negative power supply potential is set to the potential −1V. As a result, the potential difference required for the negative power supply generation circuit to be pulled out becomes 1 V, the charge / discharge charge amount is reduced, and the burden on the circuit is reduced.

この非選択状態では、フローティングノードN11の電位が0Vではなく0.5Vなので、転送トランジスタ12を通して電子がフォトダイオード11にリークすることが防止される。ここで、フローティングノードN11の電位が0.5Vとなるのは、Vシフトレジスタ25のリセット電圧出力端とドレイン線23との間に接続されたP型MOSトランジスタ26の作用による。   In this non-selected state, the potential of the floating node N11 is 0.5V instead of 0V, so that electrons are prevented from leaking to the photodiode 11 through the transfer transistor 12. Here, the potential of the floating node N 11 becomes 0.5 V due to the action of the P-type MOS transistor 26 connected between the reset voltage output terminal of the V shift register 25 and the drain line 23.

上述した一連の動作で1行目の画素が全て同時に駆動され、1行分の信号がサンプルホールド/CDS回路31に同時に保持(記憶)される。その後、フォトダイオード11での光電変換(露光)および光電子の蓄積期間に入る。
そして、この光電子蓄積期間にHシフトレジスタ34が水平走査の動作を開始し、水平走査パルスH1,H2,…を順次出力する。これにより、水平選択スイッチ33が順次導通し、サンプルホールド/CDS回路31に保持されていた信号を順に水平信号線32に導出する。
Through the series of operations described above, all pixels in the first row are driven simultaneously, and signals for one row are simultaneously held (stored) in the sample hold / CDS circuit 31. Thereafter, a photoelectric conversion (exposure) and photoelectron accumulation period starts in the photodiode 11.
During this photoelectron accumulation period, the H shift register 34 starts horizontal scanning operation, and sequentially outputs horizontal scanning pulses H1, H2,. Accordingly, the horizontal selection switch 33 is sequentially turned on, and the signals held in the sample hold / CDS circuit 31 are sequentially led to the horizontal signal line 32.

同様の動作を次には2行目の画素について行えば、2行目の画素の画素信号が読み出される。以降、Vシフトレジスタ25で順次垂直走査することによって全ての行の画素信号を読み出すことができ、また各行ごとにHシフトレジスタ34で順次水平走査することによって全画素の信号を読み出すことができる。   Next, if the same operation is performed on the pixels in the second row, the pixel signals of the pixels in the second row are read out. Thereafter, the pixel signals of all rows can be read out by sequentially performing vertical scanning with the V shift register 25, and the signals of all pixels can be read out by sequentially performing horizontal scanning with the H shift register 34 for each row.

上述したように、単位画素10が転送トランジスタ12、増幅トランジスタ13およびリセットトランジスタ14を有する3トランジスタ構成のMOS型固体撮像装置において、リセットトランジスタ14のゲート電圧を電源電位(たとえば3V)、グランド電位(0V)、負電源電位(たとえば、−1V)の3値により制御するようにしたので、非選択行からのノイズを小さくでき、明るいシーンにおける縦筋の発生を抑止できる。
また、リセットトランジスタを介してフローティングノード容量を含めて充電をする必要がなく、ドレイン線のドライバサイズの増大を防止でき、高速動作を確保できる利点がある。
As described above, in the three-transistor MOS solid-state imaging device in which the unit pixel 10 includes the transfer transistor 12, the amplification transistor 13, and the reset transistor 14, the gate voltage of the reset transistor 14 is set to the power supply potential (for example, 3V) and the ground potential (for example). 0V) and the negative power supply potential (for example, -1V), the noise is controlled from non-selected rows and the occurrence of vertical stripes in a bright scene can be suppressed.
In addition, there is no need to charge the floating node capacitance via the reset transistor, and it is possible to prevent an increase in the driver size of the drain line and to ensure high-speed operation.

図7は、本発明に係るカメラシステムの構成の概略を示すブロック図である。
本カメラシステム40は、撮像デバイス41と、この撮像デバイス41の画素領域に入射光を導く光学系、たとえば入射光(像光)を撮像面上に結像させるレンズ42と、撮像デバイス41を駆動する駆動回路43と、撮像デバイス41の出力信号を処理する信号処理回路44などを有する構成となっている。
FIG. 7 is a block diagram showing an outline of the configuration of the camera system according to the present invention.
The camera system 40 drives the imaging device 41, an optical system that guides incident light to the pixel region of the imaging device 41, for example, a lens 42 that forms incident light (image light) on the imaging surface, and the imaging device 41. And a signal processing circuit 44 that processes an output signal of the imaging device 41, and the like.

このカメラシステムにおいて、撮像デバイス41として、上記実施形態に係る固体撮像装置、即ち単位画素10がフォトダイオード11の外に、転送トランジスタ12、増幅トランジスタ13およびリセットトランジスタ14を有する3トランジスタ構成で、かつリセットトランジスタのゲート電極に供給する電位の1つが、少なくとも負電位であり、あるいはリセットトランジスタのゲート電極に3種類以上の電位を供給可能な構成を有するMOS型固体撮像装置が用いられる。   In this camera system, as the imaging device 41, the solid-state imaging device according to the above-described embodiment, that is, the unit pixel 10 has a transfer transistor 12, an amplification transistor 13, and a reset transistor 14 in addition to the photodiode 11, and One of the potentials supplied to the gate electrode of the reset transistor is at least a negative potential, or a MOS type solid-state imaging device having a configuration capable of supplying three or more types of potentials to the gate electrode of the reset transistor is used.

駆動回路43は、図1におけるVシフトレジスタ25やHシフトレジスタ34を駆動するスタートパルスやクロックパルスを含む各種のタイミング信号を発生するタイミングジェネレータ(図示せず)を有し、先述した動作例で説明した駆動を実現すべく、撮像デバイス(MOS型固体撮像装置)41を駆動する。信号処理回路44は、MOS型固体撮像装置41の出力信号Voutに対して種々の信号処理を施して映像信号として出力する。   The drive circuit 43 has a timing generator (not shown) for generating various timing signals including a start pulse and a clock pulse for driving the V shift register 25 and the H shift register 34 in FIG. In order to realize the described driving, the imaging device (MOS type solid-state imaging device) 41 is driven. The signal processing circuit 44 performs various signal processing on the output signal Vout of the MOS type solid-state imaging device 41 and outputs it as a video signal.

このように、本カメラシステムによれば、先述した実施形態に係るMOS型固体撮像装置を撮像デバイス41として用いることにより、当該MOS型固体撮像装置が非選択行からのノイズを小さくでき、明るいシーンにおける縦筋の発生を抑止でき、また、リセットトランジスタを介してフローティングノード容量を含めて充電をする必要がなく、ドレイン線のドライバサイズの増大を防止でき、高速動作を確保できることから、小回路規模・低消費電力にて雑音の少ない、高画質の撮像画像を得ることができる。   Thus, according to the present camera system, by using the MOS solid-state imaging device according to the above-described embodiment as the imaging device 41, the MOS solid-state imaging device can reduce noise from a non-selected row, and a bright scene In addition, it is possible to suppress the occurrence of vertical streaks in the circuit, and since there is no need to charge the floating node capacity via the reset transistor, the increase in the drain line driver size can be prevented, and high-speed operation can be ensured.・ High-quality captured images with low power consumption and low noise can be obtained.

本発明の一実施形態に係るたとえばMOS型固体撮像装置の構成例を示す回路図である。1 is a circuit diagram illustrating a configuration example of, for example, a MOS solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention. リセットトランジスタのゲート電圧をVRST+(プラス側)で動作させた場合の、選択行および非選択行におけるリセットトランジスタのゲート電位、転送トランジスタのゲート電位、共通ドレイン電源電位、フローティングノード電位を示す図である。It is a figure which shows the gate potential of the reset transistor in the selected row and the non-selected row, the gate potential of the transfer transistor, the common drain power supply potential, and the floating node potential when the gate voltage of the reset transistor is operated at VRST + (plus side). . リセットトランジスタのゲート電圧をVRST+(プラス側)とVRST−(マイナス側)の2値で動作させた場合の、選択行および非選択行におけるリセットトランジスタのゲート電位、転送トランジスタのゲート電位、共通ドレイン電源電位、フローティングノード電位を示す図である。Reset transistor gate potential, transfer transistor gate potential, common drain power supply in selected row and non-selected row when the gate voltage of the reset transistor is operated with two values of VRST + (plus side) and VRST− (minus side) It is a figure which shows an electric potential and a floating node electric potential. リセットトランジスタのゲート電圧を3値駆動する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of carrying out the ternary drive of the gate voltage of a reset transistor. リセットトランジスタのゲート電圧を3値駆動する方法を説明するための図であって、負電位を利用しつつプリチャージ相とデータ相のサンプルホールドがグランド電位に設定する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of ternary driving the gate voltage of a reset transistor, Comprising: It is a figure for demonstrating the method of setting the sample hold of a precharge phase and a data phase to a ground potential, utilizing a negative potential. is there. リセットトランジスタをオフにする際に、グランドレベルを経由して負電位とする方法と、サンプルホールドのタイミングをグランドレベルとする方法を複合した方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method which combined the method of setting a negative electric potential via a ground level when turning off a reset transistor, and the method of setting a sample hold timing to a ground level. 本発明に係るカメラシステムの構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the camera system which concerns on this invention. 従来技術の課題を説明するための単位画素の構成図である。It is a block diagram of the unit pixel for demonstrating the subject of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

10…単位画素、11…フォトダイオード、12…転送トランジスタ、13…増幅トランジスタ、14…リセットトランジスタ、22…垂直信号線、23…ドレイン線、24…リセット線、25…Vシフトレジスタ、26…P型MOSトランジスタ、31…サンプルホールド/CDS回路、32…水平信号線、34…Hシフトレジスタ。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Unit pixel, 11 ... Photodiode, 12 ... Transfer transistor, 13 ... Amplification transistor, 14 ... Reset transistor, 22 ... Vertical signal line, 23 ... Drain line, 24 ... Reset line, 25 ... V shift register, 26 ... P MOS transistor 31... Sample hold / CDS circuit 32. Horizontal signal line 34 H shift register

Claims (6)

単位画素が、光電変換素子、この光電変換素子の信号をフローティングノードに転送する転送トランジスタ、前記フローティングノードの信号を信号線に出力する増幅トランジスタおよび前記フローティングノードをリセットするリセットトランジスタを有する固体撮像装置であって、
前記リセットトランジスタのゲート電極に3種類以上の電位を供給可能で、前記リセットトランジスタのゲート電極に供給する少なくとも3種類以上の電位のうち少なくとも1種類の電位の電圧が負電位である手段を有し、
プリチャージ相およびデータ相のサンプルホールドの両方のタイミングで、前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定され、他のタイミングでは当該リセットトランジスタのゲート電位は負電位に設定されている
固体撮像装置。
A solid-state imaging device in which a unit pixel includes a photoelectric conversion element, a transfer transistor that transfers a signal of the photoelectric conversion element to a floating node, an amplification transistor that outputs the signal of the floating node to a signal line, and a reset transistor that resets the floating node Because
Means for supplying three or more potentials to the gate electrode of the reset transistor, wherein at least one of the potentials supplied to the gate electrode of the reset transistor is a negative potential. ,
A solid-state imaging device in which the gate potential of the reset transistor is set to a ground potential at both the precharge phase and the data phase sample and hold timing, and the gate potential of the reset transistor is set to a negative potential at other timings.
選択画素の前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定されている期間、非選択の画素のリセットトランジスタのゲート電位は負電位である
請求項1記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the gate potential of the reset transistor of the non-selected pixel is a negative potential during a period in which the gate potential of the reset transistor of the selected pixel is set to the ground potential.
前記リセットトランジスタをオン状態からオフ状態にする際のゲート電位を、正のハイレベル電源電位から、グランドレベル電源電位を経て、負電源電位に設定可能な手段を有する
請求項1または2記載の固体撮像装置。
The solid according to claim 1, further comprising means capable of setting a gate potential when the reset transistor is turned from an on state to an off state from a positive high-level power supply potential to a negative power supply potential via a ground level power supply potential. Imaging device.
単位画素が、光電変換素子、この光電変換素子の信号をフローティングノードに転送する転送トランジスタ、前記フローティングノードの信号を信号線に出力する増幅トランジスタおよび前記フローティングノードをリセットするリセットトランジスタを有する固体撮像素子と、
前記固体撮像装置の撮像部に入射光を導く光学系と、
前記固体撮像装置の出力信号を処理する信号処理回路と、を有し、
前記固体撮像素子は、
前記リセットトランジスタのゲート電極に3種類以上の電位を供給可能で、前記リセットトランジスタのゲート電極に供給する少なくとも3種類以上の電位のうち少なくとも1種類の電位の電圧が負電位である手段を有し、
プリチャージ相およびデータ相のサンプルホールドの両方のタイミングで、前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定され、他のタイミングでは当該リセットトランジスタのゲート電位は負電位に設定されている
カメラシステム。
A solid-state imaging device in which a unit pixel includes a photoelectric conversion element, a transfer transistor that transfers a signal of the photoelectric conversion element to a floating node, an amplification transistor that outputs a signal of the floating node to a signal line, and a reset transistor that resets the floating node When,
An optical system for guiding incident light to the imaging unit of the solid-state imaging device;
A signal processing circuit for processing an output signal of the solid-state imaging device,
The solid-state imaging device is
Means for supplying three or more potentials to the gate electrode of the reset transistor, wherein at least one of the potentials supplied to the gate electrode of the reset transistor is a negative potential. ,
The camera system in which the gate potential of the reset transistor is set to a ground potential at both the precharge phase and the data phase sample and hold timing, and the gate potential of the reset transistor is set to a negative potential at other timings.
選択画素の前記リセットトランジスタのゲート電位がグランド電位に設定されている期間、非選択の画素のリセットトランジスタのゲート電位は負電位である
請求項4記載のカメラシステム。
The camera system according to claim 4, wherein the gate potential of the reset transistor of the non-selected pixel is a negative potential during a period in which the gate potential of the reset transistor of the selected pixel is set to the ground potential.
前記リセットトランジスタをオン状態からオフ状態にする際のゲート電位を、正のハイレベル電源電位から、グランドレベル電源電位を経て、負電源電位に設定可能な手段を有する
請求項4または5記載のカメラシステム。
6. The camera according to claim 4, further comprising means capable of setting a gate potential when changing the reset transistor from an on state to an off state from a positive high level power source potential to a negative power source potential through a ground level power source potential. system.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012217058A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Honda Motor Co Ltd Solid state image pickup device
JP2014064240A (en) * 2012-09-24 2014-04-10 Canon Inc Imaging device, method for driving the same, and imaging system

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