JP2007172832A - Semiconductor memory device and method for relieving defect of semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device and method for relieving defect of semiconductor memory device Download PDF

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秀人 日高
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor memory device which can relieve defect without lowering yield even when spare memory cells have poor refresh characteristic. <P>SOLUTION: A row of normal cell array block BLK1 to BLK 16 is selected by 13-bit row address RA1 to RA13 corresponding to respective refresh cycles of 8K cycle, and refresh operation of the selected row is carried out sequentially. Spare memory array block is configured to be selected by the 12-bit row address of 4K cycle out of the 13-bit row address of 8K cycle excluding the most significant row address bit RA13. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は半導体記憶装置及び半導体記憶装置の欠陥救済方法に関し、特に半導体記憶装置における欠陥救済のための冗長構成およびそのテスト容易化のための構成に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor memory device and a defect relief method for the semiconductor memory device, and more particularly to a redundant configuration for defect relief in a semiconductor memory device and a configuration for facilitating the test.

図28はダイナミック型の複数のメモリセルを有する従来のダイナミック型半導体記憶装置(DRAM)の概略構成を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ10は複数(図28の例では8個)のノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK8に分割されている。ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜8)の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SRi及びSR(i+1)が設けられ、センスアンプ帯SRj(j=2〜8)はノーマルセルアレイブロックBLK(j−1),BLKj間で共有される。   FIG. 28 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a conventional dynamic semiconductor memory device (DRAM) having a plurality of dynamic memory cells. As shown in the figure, the memory cell array 10 is divided into a plurality (eight in the example of FIG. 28) of normal cell array blocks BLK1 to BLK8. Sense amplifier bands SRi and SR (i + 1) in which sense amplifiers (not shown) are formed are provided on both sides (vertical direction in the figure) of normal cell array block BLKi (i = 1 to 8), and sense amplifier bands SRj (j = 2 to 8) are shared between the normal cell array blocks BLK (j-1) and BLKj.

また、メモリセルアレイ10に対してコラムデコーダCDが設けられ、各ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK8にそれぞれロウデコーダRD1〜RD8が設けられる。また、各ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜8)中に、図28では図示しないが、マトリクス状にメモリセルが配置され、メモリセルの行選択のためにワード線、メモリセルのデータ読みだし・書き込みのためのビット線が配置される。   A column decoder CD is provided for the memory cell array 10, and row decoders RD1 to RD8 are provided for the normal cell array blocks BLK1 to BLK8, respectively. In each normal cell array block BLKi (i = 1 to 8), although not shown in FIG. 28, memory cells are arranged in a matrix, and word lines and memory cell data are read for selecting memory cell rows. A bit line for writing is arranged.

図29は、上記したダイナミック型半導体記憶装置についての、欠陥救済のための冗長構成を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ1は、ノーマルセルアレイブロックBLKiと同一あるいはそれに類似の予備セルアレイブロックSBLKと予備セルアレイブロック用のロウデコーダSRD1をさらに備えている。なお、説明の都合上、図28で示したセンスアンプ帯及びコラムデコーダは省略している。   FIG. 29 is an explanatory diagram showing a redundant configuration for defect relief in the dynamic semiconductor memory device described above. As shown in the figure, the memory cell array 1 further includes a spare cell array block SBLK identical to or similar to the normal cell array block BLKi and a row decoder SRD1 for the spare cell array block. For convenience of explanation, the sense amplifier band and the column decoder shown in FIG. 28 are omitted.

このような構成において、ブロックBLKp(p=1〜8のいずれか)のメモリセルが欠陥を含む場合に、レーザヒューズプログラム方式などにより、欠陥を含むノーマルセルアレイブロックBLKpを予備セルアレイブロックSBLKに電気的に置換して、欠陥救済を行うものである。   In such a configuration, when the memory cell of the block BLKp (any of p = 1 to 8) includes a defect, the normal cell array block BLKp including the defect is electrically connected to the spare cell array block SBLK by a laser fuse program method or the like. In this way, defect repair is performed.

図30は、ダイナミック型半導体記憶装置について、欠陥救済のための冗長構成の他の例を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ2は、通常使用するメモリセルを有するノーマルセルアレイ3,ノーマルセルアレイ3に欠陥救済用のメモリセルを有する予備ロウセルアレイ4及び予備コラムセルアレイ5からなる。   FIG. 30 is an explanatory diagram showing another example of a redundant configuration for defect relief in a dynamic semiconductor memory device. As shown in the figure, the memory cell array 2 comprises a normal cell array 3 having normally used memory cells 3 and a spare row cell array 4 and a spare column cell array 5 having memory cells for defect relief in the normal cell array 3.

予備ロウセルアレイ4は予備の行に設けられた予備メモリセルを有し、予備コラムセルアレイ5は予備の列に設けられた予備メモリセルを有し、予備ロウセルアレイ4の予備メモリセルはノーマルセルアレイ3のメモリセル列と同一列に形成され、予備コラムセルアレイ5の予備メモリセルはノーマルセルアレイ3のメモリセル行と同一行に形成される。   The spare row cell array 4 has spare memory cells provided in spare rows, the spare column cell array 5 has spare memory cells provided in spare columns, and the spare memory cells in the spare row cell array 4 are normal cell arrays 3. The spare memory cell of the spare column cell array 5 is formed in the same row as the memory cell row of the normal cell array 3.

このような構成において、ノーマルセルアレイ2内のメモリセルが欠陥を含む場合に、レーザヒューズプログラム方式などにより、欠陥を含むメモリセルを予備ロウセルアレイ4の予備行あるいは予備コラムセルアレイ5の予備列のメモリセルに電気的に置換して、欠陥救済を行うものである。   In such a configuration, when a memory cell in the normal cell array 2 includes a defect, the memory cell including the defect is stored in a spare row of the spare row cell array 4 or a spare column of the spare column cell array 5 by a laser fuse program method or the like. Defect relief is performed by electrically replacing the cell.

従来のダイナミック型半導体記憶装置は以上のように構成されており、通常のハードエラー欠陥救済方式では、予備セルアレイブロックSBLK、予備ロウセルアレイ4あるいは予備コラムセルアレイ5中のメモリセルのデータ保持特性(リフレッシュ特性)の悪いメモリセルを含む場合に、有効に欠陥救済ができないという問題点があった。   The conventional dynamic semiconductor memory device is configured as described above, and in the normal hard error defect remedy method, the data retention characteristic (refresh) of the memory cells in the spare cell array block SBLK, spare row cell array 4 or spare column cell array 5 is achieved. When memory cells having poor characteristics are included, there is a problem that defect repair cannot be performed effectively.

上記問題点を解決するために、予備ロウセルアレイ、予備コラムセルアレイあるいは予備セルアレイブロックのリフレッシュ特性を試験した後に救済を行う方法があるが、リフレッシュ特性の試験時間は長く、欠陥救済情報を蓄えるに必要なテスト回路のフェイルメモリの容量が大きくなる等の問題があり、実用的ではなかった。   In order to solve the above problems, there is a method of performing repair after testing the refresh characteristics of the spare row cell array, spare column cell array or spare cell array block, but the refresh characteristic test time is long, and it is necessary to store defect relief information. There is a problem that the capacity of the fail memory of the test circuit becomes large, and it is not practical.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされたものであり、予備のメモリセルのリフレッシュ特性が悪い場合にも、歩留りを低下させずに有効に欠陥救済ができる半導体記憶装置及び半導体記憶装置の欠陥救済方法を得ることを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and a semiconductor memory device and a semiconductor capable of effectively repairing a defect without reducing the yield even when the refresh characteristics of a spare memory cell are poor. It is an object of the present invention to obtain a defect relief method for a memory device.

この発明に係る請求項1記載の半導体記憶装置は、各々が複数のメモリセルを分割して構成される複数のセルアレイブロックを有するメモリセルアレイを備え、前記複数のセルアレイブロックは隣接するブロック間でセンスアンプを共有し、初期状態時に前記複数のセルアレイブロックの一部である初期未使用ブロック群以外をアクセス対象ブロック群としてアクセスし、かつ、その際前記アクセス対象ブロック群に不良のメモリセルを有する欠陥ブロックがあるときは該欠陥ブロックに置き換えて、置き換え後に共有するセンスアンプを競合使用する可能性のない前記初期未使用ブロック群内のブロックにアクセスするブロックアクセス手段をさらに備えている。   According to a first aspect of the present invention, a semiconductor memory device includes a memory cell array having a plurality of cell array blocks each formed by dividing a plurality of memory cells, and the plurality of cell array blocks are sensed between adjacent blocks. A defect that shares an amplifier and accesses other than the initial unused block group that is part of the plurality of cell array blocks as an access target block group in an initial state, and has a defective memory cell in the access target block group at that time When there is a block, it is further provided with a block access means for replacing the defective block and accessing a block in the initial unused block group which does not possibly use the sense amplifier shared after the replacement.

また、請求項2記載の半導体記憶装置において、前記複数のメモリセルは複数の正規メモリセルと複数の予備メモリセルとを含み、前記複数のセルアレイブロックは、前記複数の予備メモリセルを分割して構成される第1及び第2の予備セルアレイブロックと、各々が前記複数の正規メモリセルを分割して構成される複数の正規セルアレイブロックとを含み、前記アクセス対象ブロック群は前記複数の正規セルアレイブロックを含み、前記初期未使用ブロック群は前記第1及び第2の予備セルアレイブロックを含み、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックはそれぞれ前記複数の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一のブロックとの間でセンスアンプを共有し、前記ブロックアクセス手段は、前記複数の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、置き換え後に共有するセンスアンプを競合使用する可能性のないブロックにアクセスする。   3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the plurality of memory cells include a plurality of normal memory cells and a plurality of spare memory cells, and the plurality of cell array blocks divide the plurality of spare memory cells. And a plurality of normal cell array blocks each formed by dividing the plurality of normal memory cells, and the access target block group includes the plurality of normal cell array blocks. The initial unused block group includes the first and second spare cell array blocks, and each of the first and second spare cell array blocks is between at least one of the plurality of regular cell array blocks. And the block access means is configured to share the plurality of normal cell array blocks. Replacing the defective block with a Chi defective normal memory cell, one of the first and second spare cell array block, to access the block without potentially competing using sense amplifiers to be shared after replacement.

また、請求項3記載の半導体記憶装置において、前記メモリセルアレイは第1及び第2の部分メモリセルアレイを有し、前記複数の正規セルアレイブロックは複数の第1の正規セルアレイブロックと複数の第2の正規セルアレイブロックとを有し、前記第1部分メモリセルアレイは、前記第1の予備セルアレイブロック及び前記複数の第1の正規セルアレイブロックを有し、前記第1の予備セルアレイブロックは前記複数の第1の正規セルアレイブロックの少なくとも一つのブロックとの間でセンスアンプを共有し、前記第2の部分メモリセルアレイは、前記第2の予備セルアレイブロック及び前記複数の第2の正規セルアレイブロックを有し、前記第2の予備セルアレイブロックは前記複数の第2の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一つのブロックとの間でセンスアンプを共有し、前記ブロックアクセス手段は、前記複数の第1の正規セルアレイブロックと前記複数の第2の正規セルアレイブロックとを同時にアクセスしないように予め設定され、前記複数の第1の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて前記第2の予備セルアレイブロックにアクセスし、前記複数の第2の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて前記第1の予備セルアレイブロックにアクセスする。   4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the memory cell array includes first and second partial memory cell arrays, and the plurality of normal cell array blocks include a plurality of first normal cell array blocks and a plurality of second cell arrays. The first partial memory cell array includes the first spare cell array block and the plurality of first regular cell array blocks, and the first spare cell array block includes the plurality of first spare cell array blocks. A sense amplifier is shared with at least one of the regular cell array blocks, and the second partial memory cell array includes the second spare cell array block and the plurality of second regular cell array blocks, The second spare cell array block is at least one of the plurality of second regular cell array blocks. A sense amplifier is shared with one block, and the block access means is preset so as not to access the plurality of first regular cell array blocks and the plurality of second regular cell array blocks at the same time, A defective block having a defective normal memory cell is replaced with a defective block having a defective normal memory cell among the plurality of first normal cell array blocks, and the defective normal memory cell of the plurality of second normal cell array blocks is accessed. The first spare cell array block is accessed in place of the defective block.

また、請求項4記載の半導体記憶装置にいて、前記ブロックアクセス手段は、前記欠陥ブロックが存在する場合、前記欠陥ブロックを除いて前記初期未使用ブロック群の一部を含めたブロック群を新たなアクセス対象ブロック群として、前記新たなアクセス対象ブロック群全体でアクセス条件を再構成する。   5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein when the defective block exists, the block access means newly adds a block group including a part of the initial unused block group except the defective block. As the access target block group, the access conditions are reconfigured for the entire new access target block group.

この発明に係る請求項5記載の半導体記憶装置の欠陥救済方法は、請求項2の半導体記憶装置に対する欠陥救済方法であって、(a)前記複数の正規セルアレイブロックに前記欠陥ブロックが存在するか否かをテストするステップと、(b)前記ステップ(a)のテストで前記欠陥ブロックの存在が確認されると、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックの良否テストを行うステップと、(c)前記ステップ(b)の前記良否テストで良と判定されると、前記欠陥ブロックに置き換えて、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち一のブロックをアクセスするように変更して欠陥救済を行うステップとを備えている。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a defect relief method for a semiconductor memory device according to the second aspect, in which (a) the defect block exists in the plurality of normal cell array blocks. (B) performing a pass / fail test on the first and second spare cell array blocks when the presence of the defective block is confirmed in the test of step (a), and (c) ) If it is determined that the pass / fail test in step (b) is good, the defective block is replaced with one of the first and second spare cell array blocks to replace the defective block. And a step of performing.

また、請求項6記載の半導体記憶装置の欠陥救済方法において、前記半導体記憶装置は請求項3記載の半導体記憶装置であり、前記ステップ(b)の良否テストは、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、前記欠陥ブロックとセンスアンプを共有しない予備セルアレイブロックに対して、不良の予備メモリセルが存在しない場合に良と判定するテストを含み、前記ステップ(c)における変更は、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、前記ステップ(b)で前記良否テストが行われたブロックを前記欠陥ブロックに置きかえてアクセスする変更である。   The defect relieving method for a semiconductor memory device according to claim 6, wherein the semiconductor memory device is the semiconductor memory device according to claim 3, and the pass / fail test in the step (b) is performed by the first and second spares. Among the cell array blocks, the spare cell array block that does not share a sense amplifier with the defective block includes a test for determining that there is no defective spare memory cell, and the change in the step (c) Of the first and second spare cell array blocks, the block in which the pass / fail test is performed in step (b) is replaced with the defective block for access.

この発明における請求項7記載の半導体記憶装置は、複数のセルアレイブロックを有するメモリセルアレイを備え、前記複数のセルアレイブロックは隣接するブロック間で複数のセンスアンプの一つを共有し、アクセスブロック群を形成する複数のセルアレイブロックの第1の部分と初期未使用ブロック群を形成する複数のセルアレイブロックのうちの少なくとも2つのセルアレイブロックとにアクセスするブロックアクセス手段をさらに備え、前記ブロックアクセス手段は、前記アクセスブロック群のうち1つのセルアレイブロックに欠陥メモリセルを含む欠陥ブロックが認識されると、欠陥ブロックの置き換え処理として、前記初期未使用ブロック群内の前記少なくとも2つのセルアレイブロックのうちの一にのみアクセスし、前記欠陥ブロックの置き換え処理としてアクセスされた前記少なくとも2つのセルアレイブロックのセルは、前記複数のセンスアンプのうち前記欠陥ブロックに関連した共有センスアンプのいずれとも共有しない。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising a memory cell array having a plurality of cell array blocks, wherein the plurality of cell array blocks share one of a plurality of sense amplifiers between adjacent blocks, and an access block group is provided. Block access means for accessing a first portion of the plurality of cell array blocks to be formed and at least two cell array blocks of the plurality of cell array blocks forming the initial unused block group; When a defective block including a defective memory cell is recognized in one cell array block in the access block group, a defective block replacement process is performed for only one of the at least two cell array blocks in the initial unused block group. Access and said defect Cell of the accessed at least two cell array blocks as a lock for replacement process is not shared with any of the shared sense amplifier associated with said defective block among the plurality of sense amplifiers.

また、請求項8記載の半導体記憶装置において、前記複数のメモリセルは複数の正規メモリセルと複数の予備メモリセルとを含み、前記複数のセルアレイブロックは、前記初期未使用ブロック群を形成する前記少なくとも2つのセルアレイブロックに対応する前記第1及び第2の予備セルアレイブロックと、前記アクセスブロック群を形成する前記複数のセルアレイブロックの前記第1の部分に対応する複数の正規セルアレイブロックとを含み、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックはそれぞれ前記複数の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一のセルアレイブロックとの間で前記複数のセンスアンプの一つを共有し、前記ブロックアクセス手段は、前記欠陥ブロックの置き換え処理として、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックの一つにアクセスする。   9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein the plurality of memory cells include a plurality of normal memory cells and a plurality of spare memory cells, and the plurality of cell array blocks form the initial unused block group. The first and second spare cell array blocks corresponding to at least two cell array blocks, and a plurality of regular cell array blocks corresponding to the first portion of the plurality of cell array blocks forming the access block group, Each of the first and second spare cell array blocks shares one of the plurality of sense amplifiers with at least one cell array block of the plurality of regular cell array blocks, and the block access means includes the defective block As a replacement process, the first and second spare cell array blocks Access to one of the click.

また、請求項9記載の半導体記憶装置において、前記メモリセルアレイは第1及び第2の部分メモリセルアレイを有し、前記複数の正規セルアレイブロックは複数の第1の正規セルアレイブロックと複数の第2の正規セルアレイブロックとを有し、前記第1の部分メモリセルアレイは、前記第1の予備セルアレイブロック及び前記複数の第1の正規セルアレイブロックを含み、前記第1の予備セルアレイブロックは前記複数の第1の正規セルアレイブロックの少なくとも一つの正規セルアレイブロックとの間で前記複数のセンスアンプの一つを共有し、前記第2の部分メモリセルアレイは、前記第2の予備セルアレイブロック及び前記複数の第2の正規セルアレイブロックを含み、前記第2の予備セルアレイブロックは前記複数の第2の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一つの正規セルアレイブロックとの間で前記複数のセンスアンプの一つを共有し、前記ブロックアクセス手段は、前記複数の第1の正規セルアレイブロック内に欠陥メモリを有する場合、前記欠陥ブロックの置き換え処理として前記第2の予備セルアレイブロックにアクセスし、前記複数の第2の正規セルアレイブロック内に欠陥メモリを有する場合、前記欠陥ブロックの置き換え処理として前記第1の予備セルアレイブロックにアクセスする。   10. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein the memory cell array includes first and second partial memory cell arrays, and the plurality of normal cell array blocks include a plurality of first normal cell array blocks and a plurality of second cell arrays. The first partial memory cell array includes the first spare cell array block and the plurality of first regular cell array blocks, and the first spare cell array block includes the plurality of first spare cell array blocks. One of the plurality of sense amplifiers is shared with at least one regular cell array block of the regular cell array blocks, and the second partial memory cell array includes the second spare cell array block and the plurality of second cell arrays. A second spare cell array block including the plurality of second regular cell array blocks. When one of the plurality of sense amplifiers is shared with at least one regular cell array block among the array arrays, and the block access unit has a defective memory in the plurality of first regular cell array blocks, When the second spare cell array block is accessed as the defective block replacement process and a defective memory is included in the plurality of second regular cell array blocks, the first spare cell array block is replaced as the defective block replacement process. to access.

この発明における請求項1記載の半導体記憶装置のブロックアクセス手段は、欠陥ブロックに置き換えて、置き換え後に共有するセンスアンプを競合使用する可能性のない初期未使用ブロック群内のちブロックにアクセスするため、複数のセルアレイブロックが隣接するブロック間でセンスアンプを共有する構成を呈していてもブロック置き換え後の動作に何等支障がなく、センスアンプを共有して利用することにより集積度の向上を図ることができる。   According to the first aspect of the present invention, the block access means of the semiconductor memory device replaces a defective block and accesses a block in the initial unused block group that has no possibility of competingly using a shared sense amplifier after the replacement. Even if a plurality of cell array blocks have a configuration in which a sense amplifier is shared between adjacent blocks, there is no problem in the operation after the block replacement, and it is possible to improve the degree of integration by sharing the sense amplifier. it can.

請求項2記載の半導体記憶装置のブロックアクセス手段は、複数の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて、第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、置き換え後に共有するセンスアンプを競合して使用する可能性のないブロックにアクセスするため、複数の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一のブロックとの間でセンスアンプを共有しても何等支障がなく、センスアンプを効率的に利用して集積度の向上を図ることができる。   The block access means of the semiconductor memory device according to claim 2 is replaced with a defective block having a defective normal memory cell among a plurality of normal cell array blocks, and is shared after replacement among the first and second spare cell array blocks. Since there is no possibility to use the sense amplifier in competition, there is no problem even if the sense amplifier is shared with at least one of the plurality of regular cell array blocks, and the sense amplifier is efficient. Therefore, it is possible to improve the integration degree.

請求項3記載の半導体記憶装置のブロックアクセス手段は、複数の第1の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて第2の予備セルアレイブロックにアクセスし、複数の第2の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて第1の予備セルアレイブロックにアクセスするため、第1及び第2の予備セルアレイブロックはそれぞれ自身と異なる部分メモリセルアレイの正規セルアレイブロックと置換されることになり、置換後に第1あるいは第2の予備セルアレイブロックがセンスアンプを競合使用することはない。   The block access means of the semiconductor memory device according to claim 3, wherein a plurality of second normal cell array blocks are accessed by replacing defective block having defective normal memory cells among the plurality of first normal cell array blocks. In order to access the first spare cell array block by replacing it with a defective block having defective regular memory cells among the regular cell array blocks, the first and second spare cell array blocks are each a regular cell array block of a partial memory cell array different from itself. Thus, the first or second spare cell array block does not use the sense amplifier in competition after the replacement.

請求項4記載の半導体装置のブロックアクセス手段は、欠陥ブロックが存在する場合、欠陥ブロックを除いて初期未使用ブロック群の一部を含めたブロック群を新たなアクセス対象ブロック群として、新たなアクセス対象ブロック群全体でアクセス条件を再構成するため、複数のセルアレイブロックに特別の配置を行うことなく、センスアンプを共有利用して集積度の向上を図ることができる。   5. The block access means for a semiconductor device according to claim 4, wherein when a defective block exists, a block group including a part of the initial unused block group excluding the defective block is newly accessed as a new access target block group. Since the access conditions are reconfigured in the entire target block group, the sense amplifier can be shared and the degree of integration can be improved without special arrangement in a plurality of cell array blocks.

この発明における請求項5記載の半導体記憶装置の欠陥救済方法は、第1及び第2の予備セルアレイブロックの良と判定後に、欠陥ブロックの救済を行うことにより、請求項2記載の半導体記憶装置に対する欠陥救済を精度良く行うことができる。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a defect relieving method for a semiconductor memory device according to claim 2, wherein the defect block is relieved after the first and second spare cell array blocks are judged to be good. Defect relief can be performed with high accuracy.

請求項6記載の半導体記憶装置の欠陥救済方法は、第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、欠陥ブロックとセンスアンプを共有しない予備セルアレイブロックに対してのみステップ(b)の良否テストを行うため、良否テストを効率的に行うことができる。   7. The defect relieving method for a semiconductor memory device according to claim 6, wherein the pass / fail test of step (b) is performed only for the spare cell array block that does not share the sense amplifier with the defective block among the first and second spare cell array blocks. Therefore, the pass / fail test can be performed efficiently.

<<実施の形態1>>
<前提>
上記のように、ダイナミック型の複数のメモリセルを有するダイナミック型半導体記憶装置では、歩留り向上を目的として、不良ビットを救済するために冗長メモリセルを備えることが一般的になっているが、この冗長メモリセルが不良であるか否かを欠陥救済の前に知ることができれば、欠陥予備行あるいは列による欠陥救済により救済不能になることによる欠陥救済の失敗が起こることを防ぐことができ、欠陥救済成功率を上げることができる。しかしながら、これら予備メモリセルのリフレッシュ特性が悪く、基準値に達しない場合には、結局、救済失敗となり、歩留りが低下する。
<< Embodiment 1 >>
<Premise>
As described above, in a dynamic semiconductor memory device having a plurality of dynamic memory cells, it is common to provide redundant memory cells to relieve defective bits for the purpose of improving yield. If it is possible to know whether or not a redundant memory cell is defective before repairing a defect, it is possible to prevent a failure in repairing the defect due to failure of repair by defect repair using a defective spare row or column, and The rescue success rate can be increased. However, if the spare memory cells have poor refresh characteristics and do not reach the reference value, a repair failure will eventually occur and the yield will be reduced.

一般にダイナミック型半導体記憶装置では、チップ全体としてある一定の周期内に一定の回数のリフレッシュ動作によりチップ全体を一巡してリフレッシュを行う。例えば、標準的な256Mb−DRAMの場合には、8Kリフレッシュサイクル(=128ms)が標準であり、128msの間に8192(213)本のワード線を順次選択してこれにより選択されるメモリセルのリフレッシュ動作を行う必要がある。ここで、例えば、1サイクルで選択されるワード線数を2倍にして、4Kサイクル(=64ms)で全ワード線が一巡して選択されるようにすれば、各メモリセルに要求されるリフレッシュ特性(データ保持特性)の実力は64msでよく、リフレッシュ特性が64msしかないメモリセルを含んでいても8Kサイクルのワード線選択により各メモリセルデータは2回ずつリフレッシュされるので見かけ上128msのリフレッシュ実力を有するようになる。実際には、このような動作を全メモリセルアレイについて行うと、各サイクルで動作ブロックが2倍となり、消費電流が増大するという問題がある。 In general, in a dynamic semiconductor memory device, refreshing is performed by making a round of the entire chip by a predetermined number of refresh operations within a certain period as the entire chip. For example, in the case of a standard 256 Mb-DRAM, an 8K refresh cycle (= 128 ms) is standard, and 8192 (2 13 ) word lines are sequentially selected during 128 ms, thereby selecting a memory cell. It is necessary to perform the refresh operation. Here, for example, if the number of word lines selected in one cycle is doubled and all word lines are selected in one cycle in 4K cycles (= 64 ms), the refresh required for each memory cell is performed. The capability of the characteristics (data retention characteristics) may be 64 ms, and even if the memory characteristics include only 64 ms, the memory cell data is refreshed twice by the word line selection of 8K cycles, so that the apparent refresh of 128 ms It has ability. In practice, when such an operation is performed for all memory cell arrays, there is a problem that the number of operation blocks is doubled in each cycle, resulting in an increase in current consumption.

<構成及び動作>
図1はこの発明の実施の形態1であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ1はノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16に分割されている。ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜16)の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SRi及びSR(i+1)が設けられ、センスアンプ帯SRj(j=2〜16)はノーマルセルアレイブロックBLK(j−1),BLKj間で共有される。
<Configuration and operation>
1 is an explanatory diagram showing the concept of a dynamic semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. As shown in the figure, the memory cell array 1 is divided into normal cell array blocks BLK1 to BLK16. Sense amplifier bands SRi and SR (i + 1) in which sense amplifiers (not shown) are formed are provided on both sides (vertical direction in the figure) of normal cell array block BLKi (i = 1 to 16), and sense amplifier bands SRj (j = 2 to 16) are shared between the normal cell array blocks BLK (j-1) and BLKj.

さらに、メモリセルアレイ1は、ノーマルセルアレイブロックBLKiと同一あるいは類似の予備セルアレイブロックSBLKがさらに設けられ、予備セルアレイブロックSBLKは、センスアンプ帯SSR内に形成される図示しないセンスアンプを用いる。   Further, the memory cell array 1 further includes a spare cell array block SBLK that is the same as or similar to the normal cell array block BLKi, and the spare cell array block SBLK uses a sense amplifier (not shown) formed in the sense amplifier band SSR.

また、メモリセルアレイ1に対してコラムデコーダCDが設けられ、各ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16にそれぞれロウデコーダRD1〜RD16が設けられ、予備セルアレイブロックSBLKに対して予備ロウデコーダSRDが設けられる。また、各ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜16)及び予備セルアレイブロックSBLK中に、図1では図示しないが、マトリクス状にメモリセルが配置され、メモリセルの行選択のためのワード線、メモリセルのデータ読みだし・書き込みのためのビット線が配置される。   A column decoder CD is provided for the memory cell array 1, row decoders RD1 to RD16 are provided for the normal cell array blocks BLK1 to BLK16, respectively, and a spare row decoder SRD is provided for the spare cell array block SBLK. In each normal cell array block BLKi (i = 1 to 16) and spare cell array block SBLK, although not shown in FIG. 1, memory cells are arranged in a matrix, and word lines and memory for memory cell row selection are arranged. A bit line for reading / writing cell data is arranged.

このような構成において、ブロックBLKp(p=1〜16のいずれか)内のメモリセルが欠陥を含む場合に、レーザヒューズプログラム方式などの既存の方法により、欠陥を含むノーマルセルアレイブロックBLKpを予備セルアレイブロックSBLKに電気的に置換して欠陥救済を行う。欠陥救済後はノーマルセルアレイブロックBLKpが選択された場合は予備セルアレイブロックSBLKにアクセスされるように動作する。   In such a configuration, when a memory cell in the block BLKp (p = 1 to 16) includes a defect, the normal cell array block BLKp including the defect is replaced with a spare cell array by an existing method such as a laser fuse program method. Defect relief is performed by electrically replacing the block SBLK. After the defect relief, when the normal cell array block BLKp is selected, the spare cell array block SBLK is accessed.

欠陥救済後、正規のブロックであるノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16はそれぞれ、8Kサイクルでリフレッシュされるが、予備セルアレイブロックSBLKは4Kサイクルでリフレッシュされるようにしている。以下、その詳細を説明する。   After the defect repair, the normal cell array blocks BLK1 to BLK16, which are normal blocks, are refreshed in 8K cycles, while the spare cell array block SBLK is refreshed in 4K cycles. Details will be described below.

ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16はそれぞれ8Kサイクルのリフレッシュ周期に対応する13ビットのロウアドレスRA1〜RA13により行選択がなされ、選択された行のリフレッシュ動作が順次行われる。予備メモリアレイブロックは8KサイクルのロウアドレスRA1〜RA13に対応する13ビットのロウアドレスのうち最上位ロウアドレスRA13を除く4Kサイクル分の12ビットのロウアドレスによって選択されるように構成する。   In the normal cell array blocks BLK1 to BLK16, row selection is performed by 13-bit row addresses RA1 to RA13 corresponding to refresh cycles of 8K cycles, and refresh operations of the selected rows are sequentially performed. The spare memory array block is configured to be selected by a 12-bit row address for 4K cycles excluding the most significant row address RA13 among the 13-bit row addresses corresponding to the 8K-cycle row addresses RA1 to RA13.

図2は、実施の形態1のダイナミック型半導体記憶装置のロウアドレス制御方式の構成を示すブロック図である。同図に示すように、ブロックアドレスデコーダ12はロウアドレスRA10〜RA13に基づきブロック選択信号BS1〜BS16及びBSSを選択的に活性状態にする。   FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the row address control system of the dynamic semiconductor memory device of the first embodiment. As shown in the figure, the block address decoder 12 selectively activates the block selection signals BS1 to BS16 and BSS based on the row addresses RA10 to RA13.

図3はブロックアドレスデコーダ12の内部構成を示す説明図である。同図に示すように、ロウアドレス信号RA10〜RA13及び信号RA10〜RA13がそれぞれインバータI1〜I4で反転される反転ロウアドレス信号バーRA10〜RA13をブロック選択信号BS1〜BS16用に受ける。   FIG. 3 is an explanatory diagram showing the internal configuration of the block address decoder 12. As shown in the drawing, row address signals RA10-RA13 and signals RA10-RA13 are inverted by inverters I1-I4, respectively, and inverted row address signals RA10-RA13 are received for block selection signals BS1-BS16.

さらに、ロウアドレス信号RA10〜RA13及び信号RA10〜RA13がそれぞれインバータI11〜I14で反転される反転ロウアドレス信号バーRA10〜RA13を予備ブロック選択信号BSS用に独立して受ける。ただし、ロウアドレス信号RA13及び反転ロウアドレス信号バーRA13は、一方入力に“H”の制御信号CSを受けるORゲートG51及びG52により共に“H”固定される。   Further, the row address signals RA10 to RA13 and the signals RA10 to RA13 are independently received for the spare block selection signal BSS by inverting row address signals RA10 to RA13 which are inverted by the inverters I11 to I14, respectively. However, the row address signal RA13 and the inverted row address signal bar RA13 are both fixed to "H" by OR gates G51 and G52 that receive a control signal CS of "H" at one input.

ANDゲートG1〜G16はそれぞれアドレス指定された4つの信号RA10(バーRA10)〜RA13(バーRA13)が“H”となったときに活性状態のブロック選択信号BS1〜BS16をそれぞれ出力する。   AND gates G1 to G16 respectively output block selection signals BS1 to BS16 in an active state when four addressed signals RA10 (bar RA10) to RA13 (bar RA13) are set to “H”.

ANDゲートGSは、欠陥ブロックBLKpに代わってアドレス指定された4つの信号RA10(バーRA10)〜RA13(バーRA13)が“H”となったときに活性状態のブロック選択信号BSSを出力する。ただし、信号RA13及びバーRA13は共に“H”固定されるため、実際には、3つの信号RA10(バーRA10)〜RA12(バーRA12)が“H”となったときに活性状態のブロック選択信号BSSを出力する。   The AND gate GS outputs an active block selection signal BSS when the four signals RA10 (bar RA10) to RA13 (bar RA13) addressed in place of the defective block BLKp become "H". However, since both the signal RA13 and the bar RA13 are fixed to “H”, actually, the block selection signal in the active state when the three signals RA10 (bar RA10) to RA12 (bar RA12) become “H”. Output BSS.

図2に戻って、プリデコーダ11はロウアドレス信号RA1〜RA9をデコードして選択信号X1〜X18を選択的に活性状態にしてアドレスセレクタASi(i=1〜16)及び予備アドレスセレクタSASに出力する。   Returning to FIG. 2, the predecoder 11 decodes the row address signals RA1 to RA9 and selectively activates the selection signals X1 to X18 and outputs them to the address selector ASi (i = 1 to 16) and the spare address selector SAS. To do.

ブロックアドレスデコーダ12は前述したように、ロウアドレス信号RA10〜RA13をデコードして、ブロック選択信号BS1〜BS16及びBSSを選択的に活性状態にして、アドレスセレクタASi(SAS)及びセンスアンプ制御系SACi(予備センスアンプ制御系SSAC)に出力する。   As described above, the block address decoder 12 decodes the row address signals RA10 to RA13, selectively activates the block selection signals BS1 to BS16 and BSS, and sets the address selector ASi (SAS) and the sense amplifier control system SACi. (Preliminary sense amplifier control system SSAC)

アドレスセレクタASi(SAS)は活性状態のブロック選択信号BSi(BSS)を受けると活性化し、選択信号X1〜X18に基づきワード線選択回路WCi(予備ワード線選択回路SWC)にワード線選択信号を出力する。   The address selector ASi (SAS) is activated when it receives an active block selection signal BSi (BSS), and outputs a word line selection signal to the word line selection circuit WCi (spare word line selection circuit SWC) based on the selection signals X1 to X18. To do.

ワード線選択回路WCi(SWC)は、対応のアドレスセレクタASi(SAS)から受けるワード線選択信号に基づき、該当ブロックのワード線WLを選択的に活性状態にしてメモリセルアレイの行選択を行う。なお、図1のロウデコーダRDはワード線選択回路WCiに対応する。   The word line selection circuit WCi (SWC) performs row selection of the memory cell array by selectively activating the word line WL of the corresponding block based on the word line selection signal received from the corresponding address selector ASi (SAS). The row decoder RD in FIG. 1 corresponds to the word line selection circuit WCi.

このような構成の実施の形態1のダイナミック型半導体記憶装置は、8Kサイクルのリフレッシュ期間中に、ロウアドレスRA10〜RA12による固有のアドレス指定がなされた予備セルアレイブロックSBLKに対して、RA13=“1”とRA13=“0”のときに2回アクセスされることになり、4Kサイクルのリフレッシュ期間でリフレッシュすることができる。   In the dynamic semiconductor memory device of the first embodiment having such a configuration, RA13 = "1" with respect to the spare cell array block SBLK to which the unique address designation is made by the row addresses RA10 to RA12 during the refresh period of 8K cycles. "And RA13 =" 0 ", it is accessed twice, and can be refreshed in a refresh period of 4K cycles.

ただし、通常メモリアクセス動作としてのメモリセル選択アドレスはロウアドレスRA13を含む8K分のロウアドレスに従うようにする。すなわち、外部より印加されたロウアドレスに従って、図示しないデータ入出力系の制御下でメモリセルデータへのアクセスは正確に行われるが、セルアレイブロックBLK1〜BLK16のいずれかと予備セルアレイブロックSBLKとが同時に選択されて内部で余分にワード線選択・リフレッシュが行われる場合があるということである。   However, the memory cell selection address as the normal memory access operation is made to follow the 8K row address including the row address RA13. That is, according to a row address applied from the outside, access to the memory cell data is accurately performed under the control of a data input / output system (not shown), but one of the cell array blocks BLK1 to BLK16 and the spare cell array block SBLK are simultaneously selected. Therefore, there are cases where extra word line selection / refreshing is performed internally.

<効果>
このように、実施の形態1のダイナミック型半導体記憶装置は、リフレッシュ特性が悪い予備セルアレイブロックSBLKに置換された場合でも、予備セルアレイブロックSBLKを短いリフレッシュ間隔でリフレッシュ可能にすることにより、十分に正常なリフレッシュ動作が可能となる。その結果、欠陥救済の成功率が高まり歩留りが向上する。
<Effect>
As described above, the dynamic semiconductor memory device according to the first embodiment is sufficiently normal by enabling the spare cell array block SBLK to be refreshed at a short refresh interval even when the spare cell array block SBLK having poor refresh characteristics is replaced. Refresh operation is possible. As a result, the success rate of defect relief increases and the yield improves.

さらに、予備セルアレイブロックSBLKに要求されるリフレッシュ特性が比較的低いため、予備セルアレイブロックSBLKに対するリフレッシュテストを不要にできるため、リフレッシュテスト時間の短縮を図ることができる。また、テスト系(テスト回路)がテスト結果情報を蓄えるフェイルメモリ容量も小さくすることができる。   Further, since the refresh characteristics required for the spare cell array block SBLK are relatively low, a refresh test for the spare cell array block SBLK can be made unnecessary, so that the refresh test time can be shortened. In addition, the fail memory capacity in which the test system (test circuit) stores test result information can be reduced.

<<実施の形態2>>
<構成及び動作>
図4はこの発明の実施の形態2であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。なお、図1と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
<< Embodiment 2 >>
<Configuration and operation>
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the concept of the dynamic semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG.

図4に示すように、実施の形態2のダイナミック型半導体記憶装置はノーマルモードとリフレッシュモードとで異なるアクセスを行うようにする。なお、リフレッシュモードとはCBR(CAS before RAS)リフレッシュ及びセルフリフレッシュ等を含むモードであり、内部アドレスカウンタにより発生されたリフレッシュアドレスに従って、該当するロウアドレスのワード線選択・リフレッシュ動作が行われるモードである。   As shown in FIG. 4, the dynamic semiconductor memory device of the second embodiment performs different accesses in the normal mode and the refresh mode. The refresh mode is a mode including CBR (CAS before RAS) refresh, self-refresh, etc., and is a mode in which the word line selection / refresh operation of the corresponding row address is performed according to the refresh address generated by the internal address counter. is there.

実施の形態2の構成は、予備セルアレイブロックSBLKへの欠陥救済後に以下のように動作する。   The configuration of the second embodiment operates as follows after defect repair to the spare cell array block SBLK.

ノーマルモード時において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16はそれぞれ13ビットのロウアドレスRA1〜RA13により行選択がなされ、選択された行の通常動作(読み出し、書き込み動作等)が行われるとともに、予備セルアレイブロックSBLKは13ビットのロウアドレスRA1〜RA13により行選択がなされ、選択された行の通常動作が行われる。   In the normal mode, the normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are selected by the 13-bit row addresses RA1 to RA13, and the normal operation (reading, writing, etc.) of the selected row is performed, and the spare cell array block SBLK is performed. The row is selected by 13-bit row addresses RA1 to RA13, and the normal operation of the selected row is performed.

一方、リフレッシュモード時において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16はそれぞれ、8Kサイクルの13ビットのリフレッシュロウアドレスQA1〜QA13でリフレッシュされるが、予備セルアレイブロックSBLKは4Kサイクルの12ビットのリフレッシュロウアドレスQA1〜QA12でリフレッシュされる。   On the other hand, in the refresh mode, normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are refreshed by 8K cycles of 13-bit refresh row addresses QA1 to QA13, respectively, but spare cell array blocks SBLK are 4K cycles of 12-bit refresh row addresses QA1 to QA1. Refreshed by QA12.

図5は、実施の形態2のダイナミック型半導体記憶装置のロウアドレス制御系の構成を示すブロック図である。なお、図2と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。   FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a row address control system of the dynamic semiconductor memory device of the second embodiment. The same parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

図5に示すように、実施の形態2のブロックアドレスデコーダ12BはロウアドレスRA10〜RA13(QA10〜QA13)に基づきブロック選択信号BS1〜BS16及びBSSを選択的に活性状態にする。このとき、ノーマルモードかリフレッシュモードかを指示するモード信号を受け、モード信号SMがノーマルモードを指示するとき、予備ブロック選択信号BSS用の最大ビットアドレス(RA13)を有効にし、リフレッシュモードを指示するとき最大ビットアドレス(QA13)を無効にする。   As shown in FIG. 5, the block address decoder 12B of the second embodiment selectively activates the block selection signals BS1 to BS16 and BSS based on the row addresses RA10 to RA13 (QA10 to QA13). At this time, when the mode signal indicating the normal mode or the refresh mode is received and the mode signal SM indicates the normal mode, the maximum bit address (RA13) for the spare block selection signal BSS is validated and the refresh mode is specified. When the maximum bit address (QA13) is invalidated.

具体的には、図3で示した構成において、ブロックアドレスデコーダ12Bは、ノーマルモード時は制御信号CSを“L”に、リフレッシュモード時は制御信号CSを“H”にするように内部制御するようにすればよい。なお、図3でロウアドレスRA10〜RA13で示した箇所はリフレッシュモード時にはリフレッシュアドレスQA10〜QA13に置き代わるものとする。   Specifically, in the configuration shown in FIG. 3, the block address decoder 12B internally controls the control signal CS to be “L” in the normal mode and the control signal CS to “H” in the refresh mode. What should I do? Note that the locations indicated by the row addresses RA10 to RA13 in FIG. 3 are replaced with the refresh addresses QA10 to QA13 in the refresh mode.

このような構成の実施の形態2のダイナミック型半導体記憶装置は、リフレッシュモード時における8Kサイクルのリフレッシュ期間中に、リフレッシュロウアドレスQA10〜QA13による固有のアドレス指定がなされた予備セルアレイブロックSBLKに対して、リフレッシュロウアドレスQA13の値を無視してQA13=“1”とQA13=“0”のときに2回アクセスされることになり、4Kサイクルのリフレッシュ期間でリフレッシュすることができる。   The dynamic semiconductor memory device according to the second embodiment having such a configuration is used for the spare cell array block SBLK that is uniquely addressed by the refresh row addresses QA10 to QA13 during the refresh period of 8K cycles in the refresh mode. When the value of the refresh row address QA13 is ignored and QA13 = “1” and QA13 = “0”, it is accessed twice, and refresh can be performed in a refresh period of 4K cycles.

一方、ノーマルモード時は、予備セルアレイブロックSBLKに対して、他のノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16と同様にロウアドレスRA1〜RA13の値によってアクセスされる。   On the other hand, in the normal mode, the spare cell array block SBLK is accessed by the values of the row addresses RA1 to RA13 as in the other normal cell array blocks BLK1 to BLK16.

<効果>
実施の形態1の効果に加え、下記の効果を奏する。
予備セルアレイブロックSBLKでの余分なワード線選択時の消費電力増大をリフレッシュモード時のみにできるため、ノーマルモード時に消費電流増大による電源系の不安定によるアクセスタイムの増大などの問題を回避できる。
<Effect>
In addition to the effects of the first embodiment, the following effects can be obtained.
Since an increase in power consumption when selecting an extra word line in the spare cell array block SBLK can be performed only in the refresh mode, problems such as an increase in access time due to power supply instability due to an increase in current consumption can be avoided in the normal mode.

<<実施の形態3>>
<前提>
実施の形態1、2による予備セルアレイブロックSBLKに対するリフレッシュサイクルは4Kサイクルであったが、このサイクルに限るわけではなく、より短い周期である、2K、1Kサイクルでリフレッシュを行うようにしてもよい。これらは、予備セルアレイブロックSBLKのリフレッシュ特性能力実力により使い分けるようにするのが望ましい。
<< Embodiment 3 >>
<Premise>
Although the refresh cycle for the spare cell array block SBLK according to the first and second embodiments is 4K cycles, the refresh cycle is not limited to this cycle, and the refresh may be performed in shorter cycles of 2K and 1K. It is desirable to use these properly depending on the refresh characteristic capability of the spare cell array block SBLK.

<構成及び動作>
図6はこの発明の実施の形態3であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。なお、図1あるいは図2と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
<Configuration and operation>
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the concept of a dynamic semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 1 or FIG.

実施の形態3の構成は、予備セルアレイブロックSBLKへの欠陥救済後に以下のように動作する。   The configuration of the third embodiment operates as follows after defect repair to the spare cell array block SBLK.

ノーマルモード時において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16はそれぞれ13ビットのロウアドレスRA1〜RA13により行選択がなされ、選択された行の通常動作(読み出し、書き込み動作等)が行われるとともに、予備セルアレイブロックSBLKは13ビットのロウアドレスRA1〜RA13により行選択がなされ、選択された行の通常動作が行われる。   In the normal mode, the normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are selected by the 13-bit row addresses RA1 to RA13, and the normal operation (reading, writing, etc.) of the selected row is performed, and the spare cell array block SBLK is performed. The row is selected by 13-bit row addresses RA1 to RA13, and the normal operation of the selected row is performed.

一方、リフレッシュモード時において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16はそれぞれ、8Kサイクルの13ビットのリフレッシュロウアドレスQA1〜QA13でリフレッシュされるが、予備セルアレイブロックSBLKは4Kサイクルの12ビットのリフレッシュロウアドレスQA1〜QA12、2Kサイクルの11ビットのリフレッシュロウアドレスQA1〜QA11あるいは1Kサイクルの10ビットのリフレッシュロウアドレスQA1〜QA10でリフレッシュされる。   On the other hand, in the refresh mode, normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are refreshed by 8K cycles of 13-bit refresh row addresses QA1 to QA13, respectively, but spare cell array blocks SBLK are 4K cycles of 12-bit refresh row addresses QA1 to QA1. Refresh is performed with QA12, 2K cycle 11-bit refresh row addresses QA1 to QA11, or 1K cycle 10-bit refresh row addresses QA1 to QA10.

図7は、実施の形態3のダイナミック型半導体記憶装置のロウアドレス制御系の構成を示すブロック図である。なお、図2と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。   FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of the row address control system of the dynamic semiconductor memory device of the third embodiment. The same parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

図7に示すように、実施の形態3のダイナミック型半導体記憶装置のブロックアドレスデコーダ12Cは、リフレッシュサイクルプログラム信号PRSをさらに受け、この信号PRSに基づき予備セルアレイブロックSBLKに対するリフレッシュサイクルを決定する。   As shown in FIG. 7, the block address decoder 12C of the dynamic semiconductor memory device of the third embodiment further receives a refresh cycle program signal PRS and determines a refresh cycle for the spare cell array block SBLK based on this signal PRS.

図8は実施の形態3のブロックアドレスデコーダ12Cの構成を示す説明図である。なお。図3と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。また、同図におけるロウアドレス信号RA10〜RA13はリフレッシュロウアドレス信号QA10〜QA13を含む。   FIG. 8 is an explanatory diagram showing the configuration of the block address decoder 12C of the third embodiment. Note that. Components similar to those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. In addition, row address signals RA10 to RA13 in the figure include refresh row address signals QA10 to QA13.

図8に示すように、ロウアドレス信号RA13及び反転ロウアドレス信号バーRA13は、“制御信号CS1を受けるORゲートG51及びG52により共に“H”固定されたり、スルーしたりする。ロウアドレス信号RA12及び反転ロウアドレス信号バーRA12は、制御信号CS2を受けるORゲートG53及びG54により共に“H”固定されたり、スルーしたりする。ロウアドレス信号RA11及び反転ロウアドレス信号バーRA11は、制御信号CS3を受けるORゲートG55及びG56により共に“H”固定されたり、スルーしたりする。   As shown in FIG. 8, the row address signal RA13 and the inverted row address signal bar RA13 are both “H” fixed or passed through by the OR gates G51 and G52 that receive the control signal CS1. The inverted row address signal bar RA12 is fixed to “H” or passed through by OR gates G53 and G54 that receive the control signal CS2, and the row address signal RA11 and the inverted row address signal bar RA11 receive the control signal CS3. Both are fixed to “H” by the OR gates G55 and G56 or passed through.

具体的には、ノーマルモード時は制御信号CS1〜CS3を共に“L”にし、リフレッシュモード時の4Kサイクル時は制御信号CS1〜CS3を“H”、“L”及び“L”にし、2Kサイクル時は制御信号CS1〜CS3を“H”、“H”及び“L”にし、1Kサイクル時は制御信号CS1〜CS3を共に“H”にするように内部制御する。なお、制御信号CS1〜CS3の内容はモード信号SM及びリフレッシュサイクルプログラム信号PRSによって決定される。   Specifically, in the normal mode, the control signals CS1 to CS3 are both set to “L”, and in the 4K cycle in the refresh mode, the control signals CS1 to CS3 are set to “H”, “L”, and “L”. The control signals CS1 to CS3 are set to “H”, “H” and “L” at the time, and the control signals CS1 to CS3 are both set to “H” at the 1K cycle. The contents of the control signals CS1 to CS3 are determined by the mode signal SM and the refresh cycle program signal PRS.

このような構成の実施の形態3のダイナミック型半導体記憶装置は、リフレッシュモード時における8Kサイクルのリフレッシュ期間中に、リフレッシュロウアドレスQA10〜QA13による固有のアドレス指定がなされた予備セルアレイブロックSBLKに対して、リフレッシュサイクルプログラム信号に基づき4K,2Kあるいは1Kサイクルのリフレッシュ期間でリフレッシュすることができる。   The dynamic semiconductor memory device according to the third embodiment having such a configuration is used for the spare cell array block SBLK that is uniquely addressed by the refresh row addresses QA10 to QA13 during the refresh period of 8K cycles in the refresh mode. Based on the refresh cycle program signal, refresh can be performed in a refresh period of 4K, 2K or 1K cycles.

<効果>
実施の形態1及び実施の形態2の効果に加え、下記の効果を奏する。
予備セルアレイブロックSBLKのリフレッシュ特性の実力に最も適合したリフレッシュサイクルに設定することにより、さらに歩留りを向上させることができる。
<Effect>
In addition to the effects of the first and second embodiments, the following effects are achieved.
The yield can be further improved by setting the refresh cycle most suitable for the refresh capability of the spare cell array block SBLK.

<<実施の形態4>>
<前提>
実施の形態1〜3は、メモリアレイの欠陥救済のための予備ブロックを備え、ブロック単位で置換する場合を示したが、これらはブロック単位の置換のため、救済効率が悪いという問題点がある。
<< Embodiment 4 >>
<Premise>
The first to third embodiments have shown the case where a spare block for repairing a defect in a memory array is provided and replaced in units of blocks. However, these have a problem that the repair efficiency is poor because of replacement in units of blocks. .

<構成及び動作>
図9はこの発明の実施の形態4であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。なお、図1と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
<Configuration and operation>
FIG. 9 is an explanatory diagram showing the concept of the dynamic semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

実施の形態4は、ブロックBLKp(p=1〜16のいずれか)のメモリセルが欠陥を含む場合に、レーザヒューズプログラム方式などの既存の方法により、欠陥を含むノーマルセルアレイブロックBLKpのワード線(図示せず)を予備セルアレイブロックSRBKLの予備ワード線SWL1〜SWLnのいずれかに電気的に置換して欠陥救済を行う。欠陥救済後はノーマルセルアレイブロックBLKpの当該行が選択された場合は予備セルアレイブロックSRBLK内の置換された行にアクセスされるように動作する。なお、SRRDは予備セルアレイブロックSRBLKに設けられたロウデコーダ、SRSRは予備セルアレイブロックSRBLK用のセンスアンプ帯である。   In the fourth embodiment, when a memory cell in a block BLKp (any one of p = 1 to 16) includes a defect, the word line (in the normal cell array block BLKp including the defect is detected by an existing method such as a laser fuse program method). Defect relief is performed by electrically replacing (not shown) one of the spare word lines SWL1 to SWLn of the spare cell array block SRBKL. After the defect relief, when the corresponding row of the normal cell array block BLKp is selected, the replacement row in the spare cell array block SRBLK is accessed. SRRD is a row decoder provided in the spare cell array block SRBLK, and SRSR is a sense amplifier band for the spare cell array block SRBLK.

図10は、実施の形態4のダイナミック型半導体記憶装置のロウアドレス制御系の構成を示すブロック図である。なお、図2と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。   FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of a row address control system of the dynamic semiconductor memory device according to the fourth embodiment. The same parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

図10に示すように、アドレスデコーダ13はロウアドレスRA1〜RA13に基づきブロック選択信号BS1〜BS16及びBSSを選択的に活性状態にするとともに、選択信号X1〜X18を選択的に活性状態にする。   As shown in FIG. 10, the address decoder 13 selectively activates the block selection signals BS1 to BS16 and BSS based on the row addresses RA1 to RA13 and selectively activates the selection signals X1 to X18.

アドレスデコーダ13は基本的に実施の形態1のプリデコーダ11及びブロックアドレスデコーダ12の機能を有しており、さらに、予備ブロック選択信号BSSの活性/非活性の判断及び置換された行を有するノーマルセルアレイブロックBLKiの活性/非活性の判断をロウアドレスRA1〜RA13に基づき行う機能を有している。   The address decoder 13 basically has the functions of the predecoder 11 and the block address decoder 12 of the first embodiment, and further determines whether the spare block selection signal BSS is active / inactive and has a replaced row. The cell array block BLKi has a function of determining whether the cell array block BLKi is active or inactive based on the row addresses RA1 to RA13.

このような構成の実施の形態4のダイナミック型半導体記憶装置は、リフレッシュモード時における8Kサイクルのリフレッシュ期間中に、リフレッシュロウアドレスQA10〜QA13による固有のアドレス指定がなされた予備セルアレイブロックSRBLKに対して、リフレッシュロウアドレスQA13の値を無視してQA13=“1”とQA13=“0”のときに2回アクセスされることになり、4Kサイクルのリフレッシュ期間でリフレッシュすることができる。   The dynamic semiconductor memory device according to the fourth embodiment having such a configuration is used for the spare cell array block SRBLK to which the unique addressing is performed by the refresh row addresses QA10 to QA13 during the refresh period of 8K cycles in the refresh mode. When the value of the refresh row address QA13 is ignored and QA13 = “1” and QA13 = “0”, it is accessed twice, and refresh can be performed in a refresh period of 4K cycles.

なお、実施の形態4の構成は実施の形態1に対応する構成だが、実施の形態2に対応させて図11に示すようにノーマルモードとリフレッシュモードとで予備セルアレイブロックSRBLKに対して異なるアクセスを行うようにしてもよく、実施の形態3に対応させて予備セルアレイブロックSRBLKに対するリフレッシュサイクルを可変設定するようにしてもよい。   Although the configuration of the fourth embodiment corresponds to that of the first embodiment, different accesses are made to the spare cell array block SRBLK in the normal mode and the refresh mode as shown in FIG. 11 corresponding to the second embodiment. Alternatively, the refresh cycle for the spare cell array block SRBLK may be variably set corresponding to the third embodiment.

<効果>
実施の形態1及び実施の形態2の効果に加え、下記の効果を奏する。
予備セルアレイブロックSRBLKの構成より小さな単位の置換構成においても、同様の救済効果を得ることができ、救済効率を上げることができる。
<Effect>
In addition to the effects of the first and second embodiments, the following effects are achieved.
A similar repair effect can be obtained and a repair efficiency can be increased even in a replacement configuration of a unit smaller than the configuration of the spare cell array block SRBLK.

<<実施の形態5>>
<前提>
一般に、ダイナミック型半導体記憶装置では、セルフリフレッシュモードにおいては、内部アドレスカウンタおよび内部リフレッシュタイマによりリフレッシュ動作がなされる。この時、メモリアレイ全体のリフレッシュ特性の実力に応じて、リフレッシュタイマの周期をプログラムしてチューニングし、最適化することが行われている。しかしながら、この手法は、温度依存性、電源電圧依存性を一様に保ちながら広範囲にチューニングするような回路構成を実現することが困難である。
<< Embodiment 5 >>
<Premise>
In general, in a dynamic semiconductor memory device, a refresh operation is performed by an internal address counter and an internal refresh timer in the self-refresh mode. At this time, the refresh timer period is programmed, tuned and optimized in accordance with the refresh characteristics of the entire memory array. However, with this method, it is difficult to realize a circuit configuration that can be tuned over a wide range while keeping temperature dependency and power supply voltage dependency uniform.

このような問題点を解決するために、リフレッシュタイマの周期は一定あるいは狭い範囲のプログラムとし、セルフリフレッシュモード時における全てのメモリセルに対するリフレッシュサイクルをプログラム可能にして、リフレッシュ間隔のチューニングを行うのがよい。   To solve these problems, the refresh timer cycle should be a fixed or narrow range program, the refresh cycle for all memory cells in the self-refresh mode can be programmed, and the refresh interval can be tuned. Good.

<構成及び動作>
図12は実施の形態5のダイナミック型半導体記憶装置が用いるリフレッシュアドレスカウンタの構成例を示すブロック図である。同図に示すように、所定のクロックに同期して動作する、13個の1ビットカウンタCA1〜CA13をループ接続することにより構成される。そして、カウンタCA1〜CA13の出力がリフレッシュアドレスQA1〜QA13となる。
<Configuration and operation>
FIG. 12 is a block diagram showing a configuration example of a refresh address counter used by the dynamic semiconductor memory device of the fifth embodiment. As shown in the figure, it is configured by loop-connecting 13 1-bit counters CA1 to CA13 that operate in synchronization with a predetermined clock. The outputs of the counters CA1 to CA13 become the refresh addresses QA1 to QA13.

図13、実施の形態5のダイナミック型半導体記憶装置が用いるブロックアドレスデコーダの内部構成を示す回路図である。なお、ブロックデコーダの周辺構成は図1で示した実施の形態1の構成と同様である。   FIG. 13 is a circuit diagram showing an internal configuration of a block address decoder used by the dynamic semiconductor memory device of the fifth embodiment. The peripheral configuration of the block decoder is the same as that of the first embodiment shown in FIG.

図13に示すように、実施の形態5のブロックアドレスデコーダ12Dは、リフレッシュアドレスQA10〜QA13(通常動作時は、ロウアドレスRA10〜RA13)及びリフレッシュアドレス信号RA10〜RA13がそれぞれインバータI21〜I24で反転される反転リフレッシュアドレス信号バーQA10〜QA13をブロック選択信号BS1〜BS16及びBSS用に受ける。ただし、リフレッシュロウアドレス信号QA13及び反転ロウアドレス信号バーQA13は、外部からの制御信号C1を受けるORゲートG61及びG62により共に“H”固定されたり、スルーしたりする。リフレッシュロウアドレス信号QA12及び反転ロウアドレス信号バーQA12は、外部からの制御信号C2を受けるORゲートG63及びG64により共に“H”固定されたり、スルーしたりする。リフレッシュロウアドレス信号QA11及び反転ロウアドレス信号バーQA11は、外部からの制御信号C3を受けるORゲートG65及びG66により共に“H”固定されたり、スルーしたりする。   As shown in FIG. 13, in the block address decoder 12D of the fifth embodiment, refresh addresses QA10 to QA13 (row addresses RA10 to RA13 in normal operation) and refresh address signals RA10 to RA13 are inverted by inverters I21 to I24, respectively. Inverted refresh address signals QA10 to QA13 are received for block selection signals BS1 to BS16 and BSS. However, the refresh row address signal QA13 and the inverted row address signal bar QA13 are both fixed to “H” or passed through by OR gates G61 and G62 that receive an external control signal C1. The refresh row address signal QA12 and the inverted row address signal bar QA12 are both fixed to "H" or passed through by OR gates G63 and G64 that receive an external control signal C2. The refresh row address signal QA11 and the inverted row address signal bar QA11 are both fixed to “H” or passed through by OR gates G65 and G66 that receive an external control signal C3.

具体的には、8Kサイクル時は制御信号C1〜C3を共に“L”にし、4Kサイクル時は制御信号C1〜C3を“H”、“L”及び“L”にし、2Kサイクル時は制御信号C1〜C3を“H”、“H”及び“L”にし、1Kサイクル時は制御信号C1〜C3を共に“H”に設定する。   Specifically, the control signals C1 to C3 are both set to “L” during the 8K cycle, and the control signals C1 to C3 are set to “H”, “L”, and “L” during the 4K cycle. C1 to C3 are set to “H”, “H” and “L”, and the control signals C1 to C3 are both set to “H” during the 1K cycle.

<効果>
通常のセルフリフレッシュ動作の内部リフレッシュ間隔をプログラムすることにより、リフレッシュ特性の実力に応じて最適化したセルフリフレッシュ動作を実現でき、歩留りを向上できる。
<Effect>
By programming the internal refresh interval of the normal self-refresh operation, the self-refresh operation optimized according to the refresh capability can be realized, and the yield can be improved.

<<実施の形態6>>
<前提>
一般に、セルフリフレッシュ動作では、内部カウンタおよび内部タイマによりリフレッシュ動作が行われるので、外部からその動作状態をテストすることができないのでチェック方法が必要である。
<< Embodiment 6 >>
<Premise>
In general, in the self-refresh operation, the refresh operation is performed by an internal counter and an internal timer, so that the operation state cannot be externally tested, so a check method is necessary.

<処理内容1>
実施の形態6は内部リフレッシュ動作のリフレッシュサイクルのチェック方法である。なお、図14及び図15は実施の形態6の第1のチェック方法説明用のタイミング図である。これらの図において、バーRAS(E)は外部ロウアドレスストローブ信号、バーCAS(E)は外部コラムアドレスストローブ信号、Add(E)は外部アドレス信号、バーWEは書き込み制御信号、バーRAS(I)は内部ロウアドレスストローブ信号、RAi(I)は内部ロウアドレス信号、CAi(I)は内部コラムアドレス信号、Dinはデータ入力、Doutはデータ出力を示す。
<Processing content 1>
The sixth embodiment is a method for checking the refresh cycle of the internal refresh operation. 14 and 15 are timing diagrams for explaining the first check method according to the sixth embodiment. In these figures, bar RAS (E) is an external row address strobe signal, bar CAS (E) is an external column address strobe signal, Add (E) is an external address signal, bar WE is a write control signal, and bar RAS (I) Indicates an internal row address strobe signal, RAi (I) indicates an internal row address signal, CAi (I) indicates an internal column address signal, Din indicates a data input, and Dout indicates a data output.

セルフリフレッシュチェックモードに入ると、内部タイマにより定まるリフレッシュ周期で内部リフレッシュ動作が行われるが、この時、コラムアドレスをたとえば0番地に固定してコラムアドレス系(既存の回路構成)を動作させる。これに従って、データ入出力系(既存の回路構成)を動作させ、外部よりデータ入出力を行う。このような機能を設けることにより、以下(1)〜(4)のように内部リフレッシュ動作のチェックが可能になる。   When the self-refresh check mode is entered, an internal refresh operation is performed with a refresh cycle determined by an internal timer. At this time, the column address system (existing circuit configuration) is operated with the column address fixed at, for example, address 0. In accordance with this, the data input / output system (existing circuit configuration) is operated to input / output data from the outside. By providing such a function, the internal refresh operation can be checked as in the following (1) to (4).

(1)通常の書き込み動作によってコラムアドレスが0番地の全アドレスに“0”を書き込む。
(2)図14に示すように、セルフリフレッシュチェックモード(時刻t1のタイミング)で、内部ロウアドレス信号CAiをインクリメントさせながら、ある一定時間Tの間、外部のデータ入力Dinで“1”書き込みを行う。
(3)通常の読み出し動作によってコラムアドレス0番地の全データを読み出す。
・読み出したデータがすべて“1”であれば、期間T以内の時間で一巡のリフレッシュ動作が行われていたと判定。
・読み出したデータの一部に“0”があれば、リフレッシュ動作の一巡に期間T以上の時間を要していることになり、期間Tより大きい期間T’の時間で(2)を再度行う。
(4)以上を繰り返すことにより、内部リフレッシュ動作の周期を外部より知ることができ、有効なテストができる。
(1) Write “0” to all addresses whose column address is 0 by a normal write operation.
(2) As shown in FIG. 14, in the self-refresh check mode (timing at time t1), while the internal row address signal CAi is incremented, “1” is written by the external data input Din for a certain time T. Do.
(3) All data at column address 0 is read by a normal read operation.
If all the read data is “1”, it is determined that one round of refresh operation was performed within the time period T.
If “0” is present in a part of the read data, it means that a period of time T or more is required for one cycle of the refresh operation, and (2) is performed again during a period T ′ larger than the period T. .
(4) By repeating the above, the cycle of the internal refresh operation can be known from the outside, and an effective test can be performed.

また、以下の方法でテストを行うことも可能である。   It is also possible to perform a test by the following method.

(1)通常の書き込み動作によってコラムアドレスが0番地でロウアドレスRAiを順次インクリメントさせながら“0”,“1”を交互に書き込む。
(2)図15に示すように、セルフリフレッシュチェックモード(時刻t1のタイミング)で書き込み制御信号バーWEを立ち上げて(時刻t2)読み出しモードにした後、内部ロウアドレス信号RAiをインクリメントさせながら、出力データDoutを読み出す。
(3)出力データDoutの発振周波数から内部リフレッシュ動作の周期を外部より知ることができる。
(1) “0” and “1” are alternately written while the column address is 0 and the row address RAi is sequentially incremented by a normal write operation.
(2) As shown in FIG. 15, after the write control signal bar WE is raised in the self-refresh check mode (timing at time t1) (time t2) and is set in the reading mode, the internal row address signal RAi is incremented. Read the output data Dout.
(3) The cycle of the internal refresh operation can be known from the outside from the oscillation frequency of the output data Dout.

<処理内容2>
上記の方法では、内部リフレッシュ動作の周期を知ることができるが、実施の形態1〜5のダイナミック型半導体記憶装置ように予備ブロックあるいは予備行・列ブロックのように特定のブロックあるいは行(列)のメモリセルに対してのみリフレッシュサイクルが異なる場合のリフレッシュサイクルを独立にテストする必要が生ずる。
<Processing content 2>
In the above method, the cycle of the internal refresh operation can be known, but a specific block or row (column) such as a spare block or spare row / column block as in the dynamic semiconductor memory devices of the first to fifth embodiments. When the refresh cycle is different only for each memory cell, it is necessary to test the refresh cycle independently.

図16は実施の形態6の第2のチェック方法説明用のタイミング図である。同図において、BAが外部出力ブロック選択用のロウアドレスである。他の信号は図14及び図15と同じである。   FIG. 16 is a timing chart for explaining the second check method according to the sixth embodiment. In the figure, BA is a row address for external output block selection. Other signals are the same as those in FIGS.

(1)図16に示すように、セルフリフレッシュチェックモード(時刻t1のタイミング)で書き込み制御信号バーWEを立ち上げて(時刻t2)読み出しモードにした後、ブロック選択用ロウアドレスBA(=BAS)を設定して、特定のブロック(予備セルアレイブロックSBLK等)のみ、出力データDoutが出力可能なようにする。
(2)そして、内部ロウアドレス信号RAiをインクリメントさせながら、出力データDoutを読み出す。このとき、有効な出力データDoutが何回に1回の割合で出力されるかを判定する。
例えば、実施の形態1の構成の場合、予備セルアレイブロックSBLKについては8回に1回の割合で有効な出力データDoutを読み出され、他のブロックについては16回に1回の割合で有効な出力データDoutを読み出される。
(1) As shown in FIG. 16, after the write control signal bar WE is raised in the self-refresh check mode (timing at time t1) (time t2) to be in the reading mode, the block selection row address BA (= BAS) Is set so that the output data Dout can be output only from a specific block (eg, spare cell array block SBLK).
(2) The output data Dout is read while incrementing the internal row address signal RAi. At this time, it is determined how many times the valid output data Dout is output once.
For example, in the case of the configuration of the first embodiment, the effective output data Dout is read at a rate of once every 8 times for the spare cell array block SBLK, and effective at a rate of once every 16 times for the other blocks. The output data Dout is read.

<効果>
内部でリフレッシュサイクルをプログラムあるいはメモリアレイブロックにより異なるリフレッシュサイクルを持つ場合に、これら動作を外部より的確にテストすることができる。
<Effect>
When the refresh cycle differs internally depending on the program or the memory array block, these operations can be accurately tested from the outside.

<<実施の形態7>>
<前提>
実施の形態1,2と同様の効果を得られる構成として、一般に、(N+1)個のメモリアレイブロックを備え、このうちの任意のN個を選択して活性化させるような構成を実現し、活性化して使用するブロックのうち一番リフレッシュ特性が悪いブロックでリフレッシュサイクルを小さくする構成が考えられる。
<< Embodiment 7 >>
<Premise>
As a configuration capable of obtaining the same effects as those of the first and second embodiments, generally, a configuration is provided that includes (N + 1) memory array blocks, and any N of them are selected and activated, A configuration is conceivable in which the refresh cycle is reduced in the block having the worst refresh characteristics among the activated and used blocks.

<構成及び動作>
図17はこの発明の実施の形態7であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ6はノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17に分割されている。ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜17)の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SRi及びSR(i+1)が設けられ、センスアンプ帯SRj(j=2〜17)はノーマルセルアレイブロックBLK(j−1),BLKj間で共有される。
<Configuration and operation>
FIG. 17 is an explanatory diagram showing the concept of the dynamic semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention. As shown in the figure, the memory cell array 6 is divided into normal cell array blocks BLK1 to BLK17. Sense amplifier bands SRi and SR (i + 1) in which sense amplifiers (not shown) are formed are provided on both sides (vertical direction in the figure) of normal cell array block BLKi (i = 1 to 17), and sense amplifier bands SRj (j = 2 to 17) are shared between the normal cell array blocks BLK (j-1) and BLKj.

また、メモリセルアレイ6に対してコラムデコーダCDが設けられ、各ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17にそれぞれロウデコーダRD1〜RD17が設けられる。また、各ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜17)にはマトリクス状にメモリセルが配置され、メモリセルの行選択のためにワード線、メモリセルのデータ読みだし・書き込みのためのビット線が配置される。   A column decoder CD is provided for the memory cell array 6, and row decoders RD1 to RD17 are provided for the normal cell array blocks BLK1 to BLK17, respectively. In each normal cell array block BLKi (i = 1 to 17), memory cells are arranged in a matrix, and word lines for memory cell row selection and bit lines for reading / writing data of the memory cells are provided. Be placed.

このような構成において、まず、初期状態としてノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16を使用するものとし、このうち、一番リフレッシュ特性の悪いブロックがノーマルセルアレイブロックBLK4であると仮定する。   In such a configuration, first, it is assumed that normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are used as an initial state, and among these, the block having the worst refresh characteristics is the normal cell array block BLK4.

この場合、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK3、BLK5〜BLK16はそれぞれ8Kサイクルでリフレッシュされるが、ノーマルセルアレイブロックBLK4は4Kサイクルでリフレッシュされるようにしている。   In this case, the normal cell array blocks BLK1 to BLK3 and BLK5 to BLK16 are refreshed in 8K cycles, but the normal cell array block BLK4 is refreshed in 4K cycles.

なお、実施の形態7の構成は図5で示した実施の形態2と同様であるが、ブロックアドレスデコーダ12Bの内部構成は異なる。実施の形態7のブロックアドレスデコーダの内部構成は、図3で示した実施の形態1のブロックアドレスデコーダ12における予備ブロック選択信号BBS用の回路構成(ANDゲートGS、ORゲートG51,G52、制御信号CS等)が、全てのノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17についてなされた構成となる。   The configuration of the seventh embodiment is the same as that of the second embodiment shown in FIG. 5, but the internal configuration of the block address decoder 12B is different. The internal configuration of the block address decoder of the seventh embodiment is the circuit configuration (AND gate GS, OR gates G51 and G52, control signal for the spare block selection signal BBS in the block address decoder 12 of the first embodiment shown in FIG. CS, etc.) is configured for all normal cell array blocks BLK1 to BLK17.

なお、実施の形態7の構成は、実施の形態2に対応させた構成であるが、実施の形態1,3〜5に対応させて、任意の活性化ブロック(の行)でリフレッシュサイクルを小さくするよう構成してもよい。   Although the configuration of the seventh embodiment is a configuration corresponding to the second embodiment, the refresh cycle is reduced in any activation block (row) corresponding to the first, third, and fifth embodiments. You may comprise.

<効果>
このように、実施の形態7のダイナミック型半導体記憶装置は、複数のノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17の中で活性化されたブロックのうち、リフレッシュ特性が最も悪いアレイブロックBLKp(p=1〜17のいずれか)を短いリフレッシュ間隔でリフレッシュ可能にすることにより、十分に正常動作が可能となる。その結果、欠陥救済の成功率が高まり歩留りが向上する。
<Effect>
As described above, the dynamic semiconductor memory device of the seventh embodiment has an array block BLKp (p = 1 to 17 having the worst refresh characteristics among the activated blocks among the plurality of normal cell array blocks BLK1 to BLK17. Any one) can be refreshed at a short refresh interval, so that normal operation can be sufficiently performed. As a result, the success rate of defect relief increases and the yield improves.

<<実施の形態8>>
<前提>
実施の形態1のような発明の主旨を発展させて、N個のメモリアレイブロックを備え、これらN個のブロック全てを使用するが、このうちのリフレッシュ特性が一番悪いブロックでリフレッシュサイクルを小さくする構成も可能である。欠陥が存在する場合は各ブロック単位で既存の方法で予備行・列単位の欠陥救済を行い、その後に、一番リフレッシュ特性が悪いブロックについてリフレッシュサイクルを小さくする。
<< Embodiment 8 >>
<Premise>
The gist of the invention as in the first embodiment is developed, and N memory array blocks are provided and all these N blocks are used. Of these, the refresh cycle is reduced with the block having the worst refresh characteristics. It is also possible to configure. If there is a defect, defect repair is performed for each block in a spare row / column unit using an existing method, and then the refresh cycle is reduced for the block having the worst refresh characteristics.

<構成及び動作>
図18はこの発明の実施の形態8であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ6はノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16に分割されている。なお、図17と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
<Configuration and operation>
FIG. 18 is an explanatory diagram showing the concept of the dynamic semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention. As shown in the figure, the memory cell array 6 is divided into normal cell array blocks BLK1 to BLK16. Note that portions similar to those in FIG. 17 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.

このような構成において、まず、初期状態として全てのノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16を使用するものとし、このうち、一番リフレッシュ特性の悪いブロックがノーマルセルアレイブロックBLK4であると仮定する。   In such a configuration, first, it is assumed that all normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are used as an initial state, and among these, the block having the worst refresh characteristics is the normal cell array block BLK4.

この場合、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK3、BLK5〜BLK16はそれぞれ8Kサイクルでリフレッシュされるが、ノーマルセルアレイブロックBLK4は4Kサイクルでリフレッシュされるようにしている。   In this case, the normal cell array blocks BLK1 to BLK3 and BLK5 to BLK16 are refreshed in 8K cycles, but the normal cell array block BLK4 is refreshed in 4K cycles.

なお、実施の形態8の構成は図5で示した実施の形態2と同様であるが、ブロックアドレスデコーダ12Bの内部構成は異なる。実施の形態8のブロックアドレスデコーダの内部構成は、図3で示した実施の形態1のブロックアドレスデコーダ12における予備ブロック選択信号BBS用の回路構成(ANDゲートGS、ORゲートG51,G52、制御信号CS等)が、全てのノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16についてなされた構成となる。   The configuration of the eighth embodiment is the same as that of the second embodiment shown in FIG. 5, but the internal configuration of the block address decoder 12B is different. The internal configuration of the block address decoder of the eighth embodiment is the circuit configuration (AND gate GS, OR gates G51 and G52, control signals) for the spare block selection signal BBS in the block address decoder 12 of the first embodiment shown in FIG. CS, etc.) is configured for all normal cell array blocks BLK1 to BLK16.

なお、実施の形態8の構成は、実施の形態2に対応させた構成であるが、実施の形態1,3〜5に対応させて、任意の活性化ブロック(の行)でリフレッシュサイクルを小さくするよう構成してもよい。   Although the configuration of the eighth embodiment is a configuration corresponding to the second embodiment, the refresh cycle is reduced in any activation block (row) corresponding to the first, third, and fifth embodiments. You may comprise.

<効果>
このように、実施の形態8のダイナミック型半導体記憶装置は、複数のノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16の中で活性化されたブロックのうち、リフレッシュ特性が最も悪いアレイブロックBLKp(p=1〜16のいずれか)を短いリフレッシュ間隔でリフレッシュ可能にすることにより、十分に正常動作が可能となる。その結果、欠陥救済の成功率が高まり歩留りが向上する。
<Effect>
As described above, the dynamic semiconductor memory device according to the eighth embodiment has an array block BLKp (p = 1 to 16) having the worst refresh characteristics among the activated blocks among the plurality of normal cell array blocks BLK1 to BLK16. Any one) can be refreshed at a short refresh interval, so that normal operation can be sufficiently performed. As a result, the success rate of defect relief increases and the yield improves.

また、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16を全て用いる構成であるため、効率性が実施の形態7より優る。   Further, since all the normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are used, the efficiency is superior to that of the seventh embodiment.

<<実施の形態9>>
実施の形態9は、実施の形態1〜5に示したような構成について、有効にメモリセルアレイ内の欠陥救済・テストおよびその確認アルゴリズムを行う方法である。図19は実施の形態9の半導体記憶装置の欠陥救済方法を示すフローチャートである。
<< Ninth Embodiment >>
The ninth embodiment is a method of effectively performing defect repair / test in the memory cell array and its confirmation algorithm for the configurations as shown in the first to fifth embodiments. FIG. 19 is a flowchart showing a defect relieving method of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment.

以下、図19を参照してその処理の流れを説明する。ただし、説明の都合上、図1〜図3で示した実施の形態1のダイナミック型半導体記憶装置を対象として説明する。   Hereinafter, the flow of the process will be described with reference to FIG. However, for the sake of explanation, the description will be made on the dynamic semiconductor memory device of the first embodiment shown in FIGS.

ステップS1において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16に対して、各ブロック内のメモリセルに欠陥がないかをテストする。そして、ステップS2で欠陥がないと判定した場合はステップS3に移行し、欠陥があると判定した場合はステップS4に移行する。   In step S1, normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are tested for defects in the memory cells in each block. And when it determines with there being no defect by step S2, it transfers to step S3, and when it determines with there being a defect, it transfers to step S4.

ステップS3において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16に対するリフレッシュ特性テストを行い、異常がなければ(OK)、欠陥救済を必要とするブロックは存在しないため終了し、異常があれば(NG)ステップS4に移行する。   In step S3, a refresh characteristic test is performed on the normal cell array blocks BLK1 to BLK16. If there is no abnormality (OK), the process is terminated because there is no block that requires defect relief. If there is an abnormality (NG), the process proceeds to step S4. To do.

ステップS4において、予備セルアレイブロックSBLKに対して、ブロック内のメモリセルの欠陥がないかをテストする。そして、ステップS5で欠陥がないと判定した場合はステップS6に移行し、欠陥があると判定した場合は救済不能なため終了する。   In step S4, the spare cell array block SBLK is tested for defects in the memory cells in the block. If it is determined in step S5 that there is no defect, the process proceeds to step S6. If it is determined that there is a defect, the process cannot be remedied and is terminated.

ステップS6において、予備セルアレイブロックSBLKに対するリフレッシュ特性テストを行い、ステップS7で予備セルアレイブロックSBLKのリフレッシュ特性(通常より低くて良い)の良否を判定し、良(OK)であればステップS8に移行し、不良(NG)であれば救済不可能なため終了する。なお、予備セルアレイブロックSBLKに要求されるリフレッシュ特性は4Kサイクル等の比較的緩やかなリフレッシュサイクルでリフレッシュ可能なレベルである。   In step S6, a refresh characteristic test is performed on the spare cell array block SBLK. In step S7, the refresh characteristic of the spare cell array block SBLK (which may be lower than normal) is determined. If good (OK), the process proceeds to step S8. If it is defective (NG), it cannot be remedied and the process ends. The refresh characteristic required for the spare cell array block SBLK is a level at which refreshing is possible in a relatively gradual refresh cycle such as a 4K cycle.

そして、ステップS8において、欠陥と判定したブロックを予備セルアレイブロックSBLKに置き換え、予備セルアレイブロックSBLKのリフレッシュサイクルを短いサイクルに設定し終了する。   In step S8, the block determined to be defective is replaced with the spare cell array block SBLK, the refresh cycle of the spare cell array block SBLK is set to a short cycle, and the process ends.

<効果>
実施の形態1〜5のダイナミック型半導体記憶装置を用いた欠陥救済方法を実現する。この際、リフレッシュ特性をも評価して高精度な欠陥救済を行うことができる。
<Effect>
A defect relief method using the dynamic semiconductor memory device of the first to fifth embodiments is realized. At this time, the refresh characteristic can also be evaluated to perform highly accurate defect relief.

<<実施の形態10>>
<前提>
一般に、64Mbレベル以降の高集積DRAMメモリセルアレイでは、センスアンプのレイアウトピッチを拡大するために、交互配置のセンスアンプレイアウトを有し、また、チップサイズを低減するために、隣接するブロック間でセンスアンプを共有するシェアドセンスアンプ構成を有する。
<< Embodiment 10 >>
<Premise>
In general, a highly-integrated DRAM memory cell array of 64 Mb level or later has an alternate sense amplifier layout in order to increase the layout pitch of the sense amplifiers, and senses between adjacent blocks in order to reduce the chip size. It has a shared sense amplifier configuration that shares the amplifier.

このような構成の場合は、基本的に隣接するブロックが同時に活性化することは不可能である。したがって、欠陥救済のための予備ブロックを持つ構成の場合、従来の構成では、予備ブロックはすべての正規ブロックを救済する可能性があるため、予備ブロックについては正規ブロックとの間でセンスアンプを共有するシェアドセンスアンプ構成は不可能であり、予備ブロックは独立してセンスアンプを有する必要があり、チップ面積が増大するという問題点があった。   In the case of such a configuration, it is basically impossible for adjacent blocks to be simultaneously activated. Therefore, in the case of a configuration having a spare block for defect relief, in the conventional configuration, the spare block may rescue all regular blocks, so the sense amplifier is shared with the regular block for the spare block. Thus, there is a problem that the shared sense amplifier configuration is impossible, and the spare block needs to have a sense amplifier independently, which increases the chip area.

<構成及び動作>
<第1の態様>
図20はこの発明の実施の形態10であるダイナミック型半導体記憶装置の第1の態様の概念を示す説明図である。同図に示すように、実施の形態10は2つの部分メモリセルアレイ21と部分メモリセルアレイ22とから構成される。部分メモリセルアレイ21は予備セルアレイブロックSBLK1とノーマルセルアレイブロックBLK1,BLK3,…,BLK13,BLK15とで構成され、部分メモリセルアレイ22は予備セルアレイブロックSBLK2,ノーマルセルアレイブロックBLK2,BLK4,…,BLK14,BLK16とで構成される。
<Configuration and operation>
<First aspect>
FIG. 20 is an explanatory diagram showing the concept of the first mode of the dynamic semiconductor memory device according to the tenth embodiment of the present invention. As shown in the figure, the tenth embodiment is composed of two partial memory cell arrays 21 and 22. The partial memory cell array 21 includes spare cell array blocks SBLK1 and normal cell array blocks BLK1, BLK3,..., BLK13, BLK15, and the partial memory cell array 22 includes spare cell array blocks SBLK2, normal cell array blocks BLK2, BLK4,. Consists of.

また、部分メモリセルアレイ21に対してコラムデコーダCD1が設けられ、各ノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15にそれぞれロウデコーダRD1,3…15が設けられ、予備セルアレイブロックSBLK1に対して予備ロウデコーダSRD1が設けられる。   Further, a column decoder CD1 is provided for the partial memory cell array 21, row decoders RD1, 3,... 15 are provided for the normal cell array blocks BLK1, 3,... 15 respectively, and a spare row decoder SRD1 is provided for the spare cell array block SBLK1. Provided.

一方、部分メモリセルアレイ22に対してコラムデコーダCD2が設けられ、各ノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16にそれぞれロウデコーダRD2,4…16が設けられ、予備セルアレイブロックSBLK2に対して予備ロウデコーダSRD2が設けられる。   On the other hand, a column decoder CD2 is provided for the partial memory cell array 22, row decoders RD2, 4,... 16 are provided for the normal cell array blocks BLK2, 4,... 16 respectively, and a spare row decoder SRD2 is provided for the spare cell array block SBLK2. Provided.

部分メモリセルアレイ21において、ノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SR12〜SR20がそれぞれ設けられ、隣接するノーマルセルアレイブロックBLKr(r=1〜15の奇数)とBLK(r+2)において、その間のセンスアンプ帯SRを共有する。また、予備セルアレイブロックSBLK1はノーマルセルアレイブロックBLK1との間のセンスアンプ帯SR11を共有する。   In the partial memory cell array 21, sense amplifier bands SR12 to SR20 in which sense amplifiers (not shown) are formed are respectively provided on both sides (vertical direction in the figure) of the normal cell array blocks BLK1, 3,... 15 and adjacent normal cell array blocks BLKr. The sense amplifier band SR between them is shared between (an odd number of r = 1 to 15) and BLK (r + 2). The spare cell array block SBLK1 shares the sense amplifier band SR11 with the normal cell array block BLK1.

部分メモリセルアレイ22において、ノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SR22〜SR30がそれぞれ設けられ、隣接するノーマルセルアレイブロックBLKs(s=2〜16の偶数)とBLK(s+2)において、その間のセンスアンプ帯SRを共有する。また、予備セルアレイブロックSBLK2はノーマルセルアレイブロックBLK2との間のセンスアンプ帯SR21を共有する。   In the partial memory cell array 22, sense amplifier bands SR22 to SR30 in which sense amplifiers (not shown) are formed are respectively provided on both sides (vertical direction in the figure) of the normal cell array blocks BLK2, 4,... 16 and adjacent normal cell array blocks BLKs. The sense amplifier band SR is shared between (s = 2 to 16) and BLK (s + 2). The spare cell array block SBLK2 shares the sense amplifier band SR21 with the normal cell array block BLK2.

例えば、ノーマルセルアレイブロックBLK6とBLK8とは、その間のセンスアンプ帯SR25を共有し、ノーマルセルアレイブロックBLK8とBLK10とは、その間のセンスアンプ帯SR26を共有する。そして、ノーマルセルアレイブロックBLK8が選択された場合、図21に示すように、センスアンプ帯SR26のセンスアンプSA1〜SA3をビット線対BL1,バーBL1、BL3,バーBL3、BL5,バーBL5用に用い、センスアンプ帯SR25のセンスアンプSA1,SA2をビット線対BL2,バーBL2、BL4,バーBL4用に用いる。   For example, normal cell array blocks BLK6 and BLK8 share a sense amplifier band SR25 therebetween, and normal cell array blocks BLK8 and BLK10 share a sense amplifier band SR26 therebetween. When normal cell array block BLK8 is selected, sense amplifiers SA1 to SA3 of sense amplifier band SR26 are used for bit line pair BL1, bar BL1, BL3, bar BL3, BL5, bar BL5 as shown in FIG. , Sense amplifiers SA1 and SA2 of sense amplifier band SR25 are used for bit line pair BL2, bar BL2, BL4 and bar BL4.

部分メモリセルアレイ21のノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15はロウアドレス信号RA10=“0”でアドレス指定されたブロック、部分メモリセルアレイ22のノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16はロウアドレス信号RA10=“1”でアドレス指定されたブロックとして予めアドレス指定されている。   The normal cell array blocks BLK1, 3,... 15 of the partial memory cell array 21 are the blocks addressed by the row address signal RA10 = “0”, and the normal cell array blocks BLK2, 4 ... 16 of the partial memory cell array 22 are the row address signal RA10 = “1”. "Is pre-addressed as a block addressed with".

なお、実施の形態10の第1の態様のアドレス制御系の構成は図2で示した実施の形態1と同様であるが、ブロックアドレスデコーダ12の内部構成は異なる。実施の形態10のブロックアドレスデコーダの内部構成は、図3で示した実施の形態1のブロックアドレスデコーダ12における予備ブロック選択信号BBS用の回路構成(ANDゲートGS、ORゲートG51,G52、制御信号CS等)が、2つの予備セルアレイブロックSBLK1及びSBLK2についてそれぞれなされた構成となる。   The configuration of the address control system of the first mode of the tenth embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 2, but the internal configuration of the block address decoder 12 is different. The internal configuration of the block address decoder of the tenth embodiment is the circuit configuration (AND gate GS, OR gates G51 and G52, control signals) for the spare block selection signal BBS in the block address decoder 12 of the first embodiment shown in FIG. CS) and the like are configured for the two spare cell array blocks SBLK1 and SBLK2.

このような構成において、部分メモリセルアレイ21のノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合、当該欠陥ブロックを部分メモリセルアレイ22の予備セルアレイブロックSBLK2で置換する。一方、部分メモリセルアレイ22のノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合、当該欠陥ブロックを部分メモリセルアレイ21の予備セルアレイブロックSBLK1で置換する。   In such a configuration, if any of the normal cell array blocks BLK1, 3... 15 of the partial memory cell array 21 is defective, the defective block is replaced with the spare cell array block SBLK2 of the partial memory cell array 22. On the other hand, if any of the normal cell array blocks BLK 2, 4... 16 of the partial memory cell array 22 is defective, the defective block is replaced with the spare cell array block SBLK 1 of the partial memory cell array 21.

したがって、予備セルアレイブロックSBLK1は必ずRA10=“1”でアドレス指定された部分メモリセルアレイ22のノーマルセルアレイブロックBLKに置き代わるため、予備セルアレイブロックSBLK1が選択されたとき、RA10=“0”でアドレス指定されたノーマルセルアレイブロックBLK1は必ず非選択となり、予備セルアレイブロックSBLK1とノーマルセルアレイブロックBLK1との間でセンスアンプ帯SR11の競合使用は生じない。   Therefore, since the spare cell array block SBLK1 always replaces the normal cell array block BLK of the partial memory cell array 22 addressed with RA10 = "1", when the spare cell array block SBLK1 is selected, the address is designated with RA10 = "0". The normal cell array block BLK1 thus made is always unselected, and the sense amplifier band SR11 is not used competingly between the spare cell array block SBLK1 and the normal cell array block BLK1.

同様に、予備セルアレイブロックSBLK2は必ずRA10=“0”でアドレス指定された部分メモリセルアレイ21のノーマルセルアレイブロックBLKに置き代わるため、予備セルアレイブロックSBLK2が選択されたとき、RA10=“1”でアドレス指定されたノーマルセルアレイブロックBLK2は必ず非選択となり、予備セルアレイブロックSBLK2とノーマルセルアレイブロックBLK2との間でセンスアンプ帯SR21の競合使用は生じない。   Similarly, the spare cell array block SBLK2 always replaces the normal cell array block BLK of the partial memory cell array 21 addressed with RA10 = "0". Therefore, when the spare cell array block SBLK2 is selected, the address with RA10 = "1" is selected. The designated normal cell array block BLK2 is always unselected, and there is no competition use of the sense amplifier band SR21 between the spare cell array block SBLK2 and the normal cell array block BLK2.

<第2の態様>
図22はこの発明の実施の形態10であるダイナミック型半導体記憶装置の第2の態様の概念を示す説明図である。同図に示すように、実施の形態10のメモリセルアレイ23は、は予備セルアレイブロックSBLK1及びSBLK2とノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16とで構成される。
<Second aspect>
FIG. 22 is an explanatory diagram showing the concept of the second mode of the dynamic semiconductor memory device according to the tenth embodiment of the present invention. As shown in the figure, the memory cell array 23 according to the tenth embodiment includes spare cell array blocks SBLK1 and SBLK2 and normal cell array blocks BLK1 to BLK16.

また、メモリセルアレイ23に対してコラムデコーダCDが設けられ、各ノーマルセルアレイブロックBLK1〜16にそれぞれロウデコーダRD1〜RD16が設けられ、予備セルアレイブロックSBLK1及びSBLK2に対して予備ロウデコーダSRD1及びSRD2がそれぞれ設けられる。   A column decoder CD is provided for the memory cell array 23, row decoders RD1 to RD16 are provided for the normal cell array blocks BLK1 to BLK16, respectively, and spare row decoders SRD1 and SRD2 are provided for the spare cell array blocks SBLK1 and SBLK2, respectively. Provided.

ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜16)の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SRi及びSR(i+1)が設けられ、センスアンプ帯SRj(j=2〜16)はノーマルセルアレイブロックBLK(j−1),BLKj間で共有される。   Sense amplifier bands SRi and SR (i + 1) in which sense amplifiers (not shown) are formed are provided on both sides (vertical direction in the figure) of normal cell array block BLKi (i = 1 to 16), and sense amplifier bands SRj (j = 2 to 16) are shared between the normal cell array blocks BLK (j-1) and BLKj.

予備セルアレイブロックSBLK1の両側にもセンスアンプ帯SR0及びSR1が設けられ、予備セルアレイブロックSBLK2の両側にもセンスアンプ帯SR17及びSR18が設けられる。そして、予備セルアレイブロックSBLK1はノーマルセルアレイブロックBLK1とセンスアンプ帯SR1を共有し、予備セルアレイブロックSBLK2はノーマルセルアレイブロックBLK16とセンスアンプ帯SR17を共有する。   Sense amplifier bands SR0 and SR1 are provided on both sides of the spare cell array block SBLK1, and sense amplifier bands SR17 and SR18 are also provided on both sides of the spare cell array block SBLK2. The spare cell array block SBLK1 shares the sense amplifier band SR1 with the normal cell array block BLK1, and the spare cell array block SBLK2 shares the sense amplifier band SR17 with the normal cell array block BLK16.

例えば、ノーマルセルアレイブロックBLK3とBLK4とは、その間のセンスアンプ帯SR4を共有し、ノーマルセルアレイブロックBLK4とBLK5とは、その間のセンスアンプ帯SR5を共有する。そして、ノーマルセルアレイブロックBLK4が選択された場合、図23に示すように、センスアンプ帯SR5のセンスアンプSA1〜SA3をビット線対BL1,バーBL1、BL3,バーBL3、BL5,バーBL5用に用い、センスアンプ帯SR4のセンスアンプSA1,SA2をビット線対BL2,バーBL2、BL4,バーBL4用に用いる。   For example, normal cell array blocks BLK3 and BLK4 share a sense amplifier band SR4 therebetween, and normal cell array blocks BLK4 and BLK5 share a sense amplifier band SR5 therebetween. When normal cell array block BLK4 is selected, sense amplifiers SA1-SA3 of sense amplifier band SR5 are used for bit line pairs BL1, bar BL1, BL3, bar BL3, BL5, bar BL5 as shown in FIG. , Sense amplifiers SA1 and SA2 of sense amplifier band SR4 are used for bit line pair BL2, bar BL2, BL4 and bar BL4.

なお、第2の態様も、第1の態様同様、メモリセルアレイ23のノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15はロウアドレス信号RA10=“0”でアドレス指定されたブロックであり、ノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16はロウアドレス信号RA10=“1”でアドレス指定されたブロックである。   In the second mode, as in the first mode, the normal cell array blocks BLK1, 3,... 15 of the memory cell array 23 are blocks addressed by the row address signal RA10 = “0”, and the normal cell array blocks BLK2, 4 ... 16 is a block addressed by the row address signal RA10 = "1".

なお、実施の形態10の第2の態様のアドレス制御系の構成は第1の態様と同様である。   The configuration of the address control system of the second mode of the tenth embodiment is the same as that of the first mode.

このような構成において、ノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合、当該欠陥ブロックを予備セルアレイブロックSBLK2で置換する。一方、ノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合、当該欠陥ブロックを予備セルアレイブロックSBLK1で置換する。   In such a configuration, if any of the normal cell array blocks BLK1, 3,... 15 is defective, the defective block is replaced with the spare cell array block SBLK2. On the other hand, if any of the normal cell array blocks BLK2, 4... 16 is defective, the defective block is replaced with the spare cell array block SBLK1.

したがって、予備セルアレイブロックSBLK1は必ずRA10=“1”でアドレス指定されたノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16のいずれかに置き代わるため、予備セルアレイブロックSBLK1が選択されたとき、RA10=“0”でアドレス指定されたノーマルセルアレイブロックBLK1は必ず非選択となり、予備セルアレイブロックSBLK1とノーマルセルアレイブロックBLK1との間でセンスアンプ帯SR1の競合使用は生じない。   Therefore, the spare cell array block SBLK1 is always replaced with one of the normal cell array blocks BLK2, 4... 16 addressed with RA10 = "1". Therefore, when the spare cell array block SBLK1 is selected, RA10 = "0". The addressed normal cell array block BLK1 is always unselected, and there is no competition use of the sense amplifier band SR1 between the spare cell array block SBLK1 and the normal cell array block BLK1.

同様に、予備セルアレイブロックSBLK2は必ずRA10=“0”でアドレス指定されたノーマルセルアレイブロックBLK1,3,…15に置き代わるため、予備セルアレイブロックSBLK2が選択されたとき、RA10=“1”でアドレス指定されたノーマルセルアレイブロックBLK2は必ず非選択となり、予備セルアレイブロックSBLK2とノーマルセルアレイブロックBLK16との間でセンスアンプ帯SR17の競合使用は生じない。   Similarly, the spare cell array block SBLK2 always replaces the normal cell array blocks BLK1, 3,... 15 addressed with RA10 = "0", so when the spare cell array block SBLK2 is selected, the address with RA10 = "1" is selected. The designated normal cell array block BLK2 is always unselected, and there is no competition use of the sense amplifier band SR17 between the spare cell array block SBLK2 and the normal cell array block BLK16.

<効果>
実施の形態10のダイナミック型半導体記憶装置は、予備セルアレイブロックとノーマルセルアレイブロックとの間でセンスアンプを共有するシェアドセンスアンプ構成を形成しても、予備セルアレイブロックの選択時に、隣接するノーマルセルブロックとの間でセンスアンプの競合は生じないため、予備セルアレイブロックを含めてシェアドセンスアンプ構成を採ることにより集積度の向上を図ることができる。
<Effect>
In the dynamic semiconductor memory device of the tenth embodiment, even if a shared sense amplifier configuration is used in which a sense amplifier is shared between the spare cell array block and the normal cell array block, the adjacent normal cell block is selected when the spare cell array block is selected. Therefore, the degree of integration can be improved by adopting a shared sense amplifier configuration including a spare cell array block.

また、第2の態様の構成の方が、一のコラムデコーダで用いるため、第1の態様のように、2つのコラムデコーダCD1及びCD2を設ける必要がない分集積度の向上が図れる。加えて、第1の態様の場合、欠陥ブロックが選択された場合に異なるコラムデコーダを新たに活性化する必要が生じるが、第2の態様ではその必要がない分、制御の容易化を図ることができる。   Further, since the configuration of the second mode is used in one column decoder, the degree of integration can be improved by the fact that it is not necessary to provide two column decoders CD1 and CD2 as in the first mode. In addition, in the case of the first mode, when a defective block is selected, it becomes necessary to newly activate a different column decoder, but in the second mode, control is facilitated because it is not necessary. Can do.

<<実施の形態11>>
図24はこの発明の実施の形態11である半導体記憶装置の欠陥救済方法を示すフローチャートである。この方法は実施の形態10で示した構成のダイナミック型半導体記憶装置を対象とした方法である。
<< Embodiment 11 >>
FIG. 24 is a flowchart showing a defect relieving method for a semiconductor memory device according to the eleventh embodiment of the present invention. This method is intended for the dynamic semiconductor memory device having the structure shown in the tenth embodiment.

同図を参照して、ステップS11において、ノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16に対して、各ブロック内のメモリセルに欠陥がないかをテストする。そして、ステップS12で欠陥がないと判定した場合は欠陥救済を必要とするブロックは存在しないため終了し、欠陥があると判定した場合はステップS13に移行する。   Referring to FIG. 8, in step S11, normal cell array blocks BLK1 to BLK16 are tested for defects in the memory cells in each block. If it is determined in step S12 that there is no defect, the process ends because there is no block that requires defect relief. If it is determined that there is a defect, the process proceeds to step S13.

ステップS13において、予備セルアレイブロックSBLK1あるいはSBLK2に対して、ブロック内のメモリセルの欠陥がないかをテストする。この際、ノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15(RA10=“0”)のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合は予備セルアレイブロックSBLK2のテストを行い、ノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16(RA10=“1”)のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合は予備セルアレイブロックSBLK1のテストを行う。   In step S13, the spare cell array block SBLK1 or SBLK2 is tested for defects in the memory cells in the block. At this time, if any of the normal cell array blocks BLK1, 3... 15 (RA10 = “0”) is defective, the spare cell array block SBLK2 is tested, and the normal cell array blocks BLK2, 4. If any block of “1”) is defective, the spare cell array block SBLK1 is tested.

そして、ステップS14で予備セルアレイブロックSBLK(SBLK1あるいはSBLK2)に欠陥がないと判定した場合はステップS15に移行し、欠陥があると判定した場合は救済不能なため終了する。   If it is determined in step S14 that the spare cell array block SBLK (SBLK1 or SBLK2) is not defective, the process proceeds to step S15. If it is determined that the spare cell array block SBLK is defective, the process is terminated because it cannot be repaired.

ステップS15において、欠陥と判定したブロックを予備セルアレイブロックSBLKに置き換えて終了する。この際、ノーマルセルアレイブロックBLK1,3…15のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合、当該欠陥ブロックを予備セルアレイブロックSBLK2で置換し、ノーマルセルアレイブロックBLK2,4…16のうちいずれかのブロックに欠陥がある場合、当該欠陥ブロックを予備セルアレイブロックSBLK1で置換する。   In step S15, the block determined to be defective is replaced with the spare cell array block SBLK, and the process ends. At this time, if any of the normal cell array blocks BLK1, 3... 15 is defective, the defective block is replaced with the spare cell array block SBLK2, and the normal cell array blocks BLK2, 4. If there is a defect, the defective block is replaced with the spare cell array block SBLK1.

<効果>
実施の形態10のダイナミック型半導体記憶装置を用いた欠陥救済方法を実現する。この際、予備セルアレイブロックSBLK1及びSBLK2のうち一のブロックのみテストを行うため、効率的なテストを行うことができる。
<Effect>
A defect relief method using the dynamic semiconductor memory device of the tenth embodiment is realized. At this time, since only one of the spare cell array blocks SBLK1 and SBLK2 is tested, an efficient test can be performed.

<<実施の形態12>>
<前提>
実施の形態7の考え方発展させ、シェアドセンスアンプ構成の(N+1)個のメモリアレイブロックを備え、このうち正常なメモリセルを有するN個のブロックを選択して活性化させるような構成が考えられる。
<< Embodiment 12 >>
<Premise>
The concept of the seventh embodiment is developed, and a configuration in which (N + 1) memory array blocks having a shared sense amplifier configuration are provided and N blocks having normal memory cells are selected and activated can be considered. .

<構成及び動作>
図25及び図26はこの発明の実施の形態12であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。同図に示すように、メモリセルアレイ6はノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17に分割されている。ノーマルセルアレイブロックBLKi(i=1〜17)の両側(図中上下方向)には、図示しないセンスアンプが形成されるセンスアンプ帯SRi及びSR(i+1)が設けられ、センスアンプ帯SRj(j=2〜17)はノーマルセルアレイブロックBLK(j−1),BLKj間で共有される。なお、図17と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
<Configuration and operation>
25 and 26 are explanatory views showing the concept of the dynamic semiconductor memory device according to the twelfth embodiment of the present invention. As shown in the figure, the memory cell array 6 is divided into normal cell array blocks BLK1 to BLK17. Sense amplifier bands SRi and SR (i + 1) in which sense amplifiers (not shown) are formed are provided on both sides (vertical direction in the figure) of normal cell array block BLKi (i = 1 to 17), and sense amplifier bands SRj (j = 2 to 17) are shared between the normal cell array blocks BLK (j-1) and BLKj. Note that portions similar to those in FIG. 17 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.

このような構成において、まず、図26に示すように、初期状態時のアクセス対象ブロック群であるノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16を使用するものとし、ノーマルセルアレイブロックBLK17は初期未使用ブロックとする。すなわち、ブロックアドレスBA1〜BA16それぞれのアドレス指定によってブロック選択信号BS1〜BS16が活性状態とされる。   In such a configuration, first, as shown in FIG. 26, normal cell array blocks BLK1 to BLK16, which are access target block groups in the initial state, are used, and normal cell array block BLK17 is an initial unused block. That is, the block selection signals BS1 to BS16 are activated by the address designation of the block addresses BA1 to BA16.

そして、欠陥を有するブロックがノーマルセルアレイブロックBLK4の場合、図26に示すように、ノーマルセルアレイブロックBLK4を省いてノーマルセルアレイブロックBLK17を採用する。すなわち、ブロックアドレスBA1〜BA3それぞれのアドレス指定によってブロック選択信号BS1〜BS3が活性状態とされ、ブロックアドレスBA4〜BA16それぞれのアドレス指定によってブロック選択信号BS5〜BS17が活性状態とされる。   When the defective block is the normal cell array block BLK4, as shown in FIG. 26, the normal cell array block BLK4 is omitted and the normal cell array block BLK17 is adopted. That is, block selection signals BS1 to BS3 are activated by address designation of block addresses BA1 to BA3, and block selection signals BS5 to BS17 are activated by address designation of block addresses BA4 to BA16.

なお、実施の形態12のロウアドレス制御系の構成は図2で示した実施の形態1と同様であるが、ブロックアドレスデコーダ12の内部構成は異なる。実施の形態12のブロックアドレスデコーダの内部構成は、図3で示した実施の形態1のブロックアドレスデコーダ12における予備ブロック選択信号BBS用の回路構成(ANDゲートGS、ORゲートG51,G52、制御信号CS等)が、全てのノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17についてなされた構成となる。   The configuration of the row address control system of the twelfth embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 2, but the internal configuration of the block address decoder 12 is different. The internal configuration of the block address decoder of the twelfth embodiment is the circuit configuration for the spare block selection signal BBS (AND gate GS, OR gates G51 and G52, control signals) in the block address decoder 12 of the first embodiment shown in FIG. CS, etc.) is configured for all normal cell array blocks BLK1 to BLK17.

<効果>
このように、実施の形態12のダイナミック型半導体記憶装置はシェアドセンスアンプ構成で形成し、欠陥を有するアレイブロックBLKp(p=1〜17のいずれか)を取り除くように、ブロックアドレスデコーダがブロック選択信号BS1〜BS17を出力するように構成することにより、隣接するノーマルセルブロック間でセンスアンプの競合は生じないため、集積度の向上を図ることができる。
<Effect>
As described above, the dynamic semiconductor memory device according to the twelfth embodiment is formed in a shared sense amplifier configuration, and the block address decoder performs block selection so as to remove the defective array block BLKp (any one of p = 1 to 17). By configuring so as to output the signals BS1 to BS17, there is no competition between sense amplifiers between adjacent normal cell blocks, so that the degree of integration can be improved.

<<実施の形態13>>
図27はこの発明の実施の形態13である半導体記憶装置の欠陥救済方法を示すフローチャートである。この方法は実施の形態12で示した構成のダイナミック型半導体記憶装置を対象とした方法である。
<< Thirteenth Embodiment >>
FIG. 27 is a flow chart showing a defect relief method for a semiconductor memory device according to the thirteenth embodiment of the present invention. This method is intended for the dynamic semiconductor memory device having the structure shown in the twelfth embodiment.

同図を参照して、ステップS21において、全てのノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK17に対して、各ブロック内のメモリセルに欠陥がないかをテストする。そして、ステップS22で初期状態に使用するノーマルセルアレイブロックBLK1〜BLK16に欠陥がないと判定した場合は欠陥救済を必要としないため終了し、欠陥があると判定した場合はステップS23に移行する。   Referring to the figure, in step S21, all normal cell array blocks BLK1 to BLK17 are tested for defects in the memory cells in each block. If it is determined in step S22 that the normal cell array blocks BLK1 to BLK16 used in the initial state are not defective, the defect relief is not required and the process is terminated. If it is determined that there is a defect, the process proceeds to step S23.

ステップS23において、ノーマルセルアレイブロックBLK17を含めて欠陥があるブロックが2つ以上ないかを判断し、2ブロック以上ある場合は救済不能なため終了し、1ブロック以内でおさまる場合はステップS24に移行する。   In step S23, it is determined whether there are two or more defective blocks including the normal cell array block BLK17. If there are two or more blocks, the repair is impossible and the process ends. If the number of blocks is within one block, the process proceeds to step S24. .

そして、ステップS24において、欠陥と判定したブロックを省いてアドレス指定の切り替えを行い終了する。例えば、ノーマルセルアレイブロックBLK4に欠陥があった場合、ブロックBLK4を初期状態で使用しないノーマルセルアレイブロックBLK17に置換し、図26で示したようなアドレス指定変更を行う。   In step S24, the block determined to be defective is omitted, and the address designation is switched, and the process ends. For example, when the normal cell array block BLK4 is defective, the block BLK4 is replaced with a normal cell array block BLK17 that is not used in the initial state, and the addressing change as shown in FIG. 26 is performed.

<効果>
実施の形態12のダイナミック型半導体記憶装置を用いた欠陥救済方法を実現する。
<Effect>
A defect relieving method using the dynamic semiconductor memory device of the twelfth embodiment is realized.

この発明の実施の形態1であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an explanatory diagram showing a concept of a dynamic semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. 実施の形態1のロウアドレス制御系を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram illustrating a row address control system according to the first embodiment. 図2のブロックアドレスデコーダの内部構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing an internal configuration of a block address decoder of FIG. 2. この発明の実施の形態2であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 2 of this invention. 実施の形態2のロウアドレス制御系を示すブロック図である。6 is a block diagram showing a row address control system of a second embodiment. FIG. この発明の実施の形態3であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 3 of this invention. 実施の形態3のロウアドレス制御系を示すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram illustrating a row address control system according to a third embodiment. 図5のブロックアドレスデコーダの内部構成を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing an internal configuration of the block address decoder of FIG. 5. この発明の実施の形態4であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 4 of this invention. 実施の形態4のロウアドレス制御系を示すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram showing a row address control system of a fourth embodiment. 実施の形態4の他の構成の概念を示す説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram showing a concept of another configuration of the fourth embodiment. 実施の形態5のダイナミック型半導体記憶装置で用いるリフレッシュアドレスカウンタの構成例を示すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram showing a configuration example of a refresh address counter used in the dynamic semiconductor memory device of the fifth embodiment. 実施の形態5のブロックアドレスデコーダの内部構成を示す回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram showing an internal configuration of a block address decoder according to a fifth embodiment. 実施の形態6による内部リフレッシュサイクルのチェック方法説明用のタイミング図である。FIG. 23 is a timing diagram for explaining a check method of an internal refresh cycle according to the sixth embodiment. 実施の形態6による内部リフレッシュサイクルのチェック方法説明用のタイミング図である。FIG. 23 is a timing diagram for explaining a check method of an internal refresh cycle according to the sixth embodiment. 実施の形態6による特定のブロックの内部リフレッシュサイクルのチェック方法説明用のタイミング図である。FIG. 23 is a timing diagram for explaining a check method of an internal refresh cycle of a specific block according to the sixth embodiment. この発明の実施の形態7であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 7 of this invention. この発明の実施の形態8であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 8 of this invention. この発明の実施の形態9である半導体記憶装置の欠陥救済方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the defect relief method of the semiconductor memory device which is Embodiment 9 of this invention. この発明の実施の形態10であるダイナミック型半導体記憶装置の第1の態様の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the 1st aspect of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 10 of this invention. 実施の形態10の第1の態様の動作説明用の回路図である。FIG. 38 is a circuit diagram for explaining an operation of the first mode of the tenth embodiment. この発明の実施の形態10であるダイナミック型半導体記憶装置の第2の態様の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the 2nd aspect of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 10 of this invention. 実施の形態10の第2の態様の動作説明用の回路図である。FIG. 38 is a circuit diagram for explaining an operation of the second mode of the tenth embodiment. この発明の実施の形態11である半導体記憶装置の欠陥救済方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the defect relief method of the semiconductor memory device which is Embodiment 11 of this invention. この発明の実施の形態12であるダイナミック型半導体記憶装置の概念を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the concept of the dynamic type semiconductor memory device which is Embodiment 12 of this invention. 実施の形態12のブロックデコーダの制御動作を示す説明図である。FIG. 38 is an explanatory diagram illustrating a control operation of the block decoder according to the twelfth embodiment. この発明の実施の形態13である半導体記憶装置の欠陥救済方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the defect relief method of the semiconductor memory device which is Embodiment 13 of this invention. 従来のメモリセルアレイ構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the conventional memory cell array structure. 従来の予備セルアレイブロック付きメモリセルアレイ構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the memory cell array structure with the conventional spare cell array block. 従来の予備行・列付きメモリセルアレイ構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the memory cell array structure with the conventional spare row and column.

符号の説明Explanation of symbols

12,12B,12C,12D ブロックアドレスデコーダ、13 アドレスデコーダ、21,22 部分メモリセルアレイ、BLK1〜BLK17 ノーマルセルアレイブロック、SBLK,SBLK1,SBLK2,SRBLK 予備セルアレイブロック。   12, 12B, 12C, 12D Block address decoder, 13 address decoder, 21, 22 Partial memory cell array, BLK1 to BLK17 normal cell array block, SBLK, SBLK1, SBLK2, SRBLK spare cell array block.

Claims (9)

各々が複数のメモリセルを分割して構成される複数のセルアレイブロックを有するメモリセルアレイを備え、前記複数のセルアレイブロックは隣接するブロック間でセンスアンプを共有し、
初期状態時に前記複数のセルアレイブロックの一部である初期未使用ブロック群以外をアクセス対象ブロック群としてアクセスし、かつ、その際前記アクセス対象ブロック群に不良のメモリセルを有する欠陥ブロックがあるときは該欠陥ブロックに置き換えて、置き換え後に共有するセンスアンプを競合使用する可能性のない前記初期未使用ブロック群内のブロックにアクセスするブロックアクセス手段をさらに備える、
半導体記憶装置。
Each comprising a memory cell array having a plurality of cell array blocks configured by dividing a plurality of memory cells, the plurality of cell array blocks sharing a sense amplifier between adjacent blocks;
When a block other than the initial unused block group that is part of the plurality of cell array blocks is accessed as an access target block group in the initial state, and there is a defective block having a defective memory cell in the access target block group It further comprises block access means for accessing a block in the initial unused block group that has no possibility of competingly using a sense amplifier that is shared after the replacement with the defective block.
Semiconductor memory device.
前記複数のメモリセルは複数の正規メモリセルと複数の予備メモリセルとを含み、
前記複数のセルアレイブロックは、前記複数の予備メモリセルを分割して構成される第1及び第2の予備セルアレイブロックと、各々が前記複数の正規メモリセルを分割して構成される複数の正規セルアレイブロックとを含み、前記アクセス対象ブロック群は前記複数の正規セルアレイブロックを含み、前記初期未使用ブロック群は前記第1及び第2の予備セルアレイブロックを含み、
前記第1及び第2の予備セルアレイブロックはそれぞれ前記複数の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一のブロックとの間でセンスアンプを共有し、
前記ブロックアクセス手段は、前記複数の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、置き換え後に共有するセンスアンプを競合使用する可能性のないブロックにアクセスする、
請求項1記載の半導体記憶装置。
The plurality of memory cells include a plurality of normal memory cells and a plurality of spare memory cells;
The plurality of cell array blocks include first and second spare cell array blocks configured by dividing the plurality of spare memory cells, and a plurality of regular cell arrays each configured by dividing the plurality of regular memory cells. The access target block group includes the plurality of regular cell array blocks, the initial unused block group includes the first and second spare cell array blocks,
The first and second spare cell array blocks share a sense amplifier with at least one of the plurality of regular cell array blocks,
The block access means replaces a defective block having a defective normal memory cell among the plurality of normal cell array blocks, and competitively uses a sense amplifier shared after the replacement among the first and second spare cell array blocks. Accessing blocks that are not possible,
The semiconductor memory device according to claim 1.
前記メモリセルアレイは第1及び第2の部分メモリセルアレイを有し、前記複数の正規セルアレイブロックは複数の第1の正規セルアレイブロックと複数の第2の正規セルアレイブロックとを有し、
前記第1部分メモリセルアレイは、前記第1の予備セルアレイブロック及び前記複数の第1の正規セルアレイブロックを有し、前記第1の予備セルアレイブロックは前記複数の第1の正規セルアレイブロックの少なくとも一つのブロックとの間でセンスアンプを共有し、
前記第2の部分メモリセルアレイは、前記第2の予備セルアレイブロック及び前記複数の第2の正規セルアレイブロックを有し、前記第2の予備セルアレイブロックは前記複数の第2の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一つのブロックとの間でセンスアンプを共有し、
前記ブロックアクセス手段は、前記複数の第1の正規セルアレイブロックと前記複数の第2の正規セルアレイブロックとを同時にアクセスしないように予め設定され、
前記複数の第1の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて前記第2の予備セルアレイブロックにアクセスし、前記複数の第2の正規セルアレイブロックのうち不良の正規メモリセルを有する欠陥ブロックに置き換えて前記第1の予備セルアレイブロックにアクセスする、
請求項2記載の半導体記憶装置。
The memory cell array includes first and second partial memory cell arrays, and the plurality of regular cell array blocks includes a plurality of first regular cell array blocks and a plurality of second regular cell array blocks;
The first partial memory cell array includes the first spare cell array block and the plurality of first regular cell array blocks, and the first spare cell array block is at least one of the plurality of first regular cell array blocks. Share the sense amplifier with the block,
The second partial memory cell array includes the second spare cell array block and the plurality of second regular cell array blocks, and the second spare cell array block is at least one of the plurality of second regular cell array blocks. Share the sense amplifier with one block,
The block access means is preset so as not to access the plurality of first regular cell array blocks and the plurality of second regular cell array blocks simultaneously,
Of the plurality of first normal cell array blocks, a defective block having defective normal memory cells is replaced to access the second spare cell array block, and defective normal memory cells of the plurality of second normal cell array blocks are accessed. Accessing the first spare cell array block in place of a defective block having
The semiconductor memory device according to claim 2.
前記ブロックアクセス手段は、前記欠陥ブロックが存在する場合、前記欠陥ブロックを除いて前記初期未使用ブロック群の一部を含めたブロック群を新たなアクセス対象ブロック群として、前記新たなアクセス対象ブロック群全体でアクセス条件を再構成する、
請求項1記載の半導体記憶装置。
When the defective block exists, the block access means uses the block group including a part of the initial unused block group except the defective block as a new access target block group, and the new access target block group Reconfigure access conditions globally,
The semiconductor memory device according to claim 1.
請求項2の半導体記憶装置に対する欠陥救済方法であって、
(a)前記複数の正規セルアレイブロックに前記欠陥ブロックが存在するか否かをテストするステップと、
(b)前記ステップ(a)のテストで前記欠陥ブロックの存在が確認されると、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックの良否テストを行うステップと、
(c)前記ステップ(b)の前記良否テストで良と判定されると、前記欠陥ブロックに置き換えて、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち一のブロックをアクセスするように変更して欠陥救済を行うステップとを備える、
半導体記憶装置の欠陥救済方法。
A defect relief method for a semiconductor memory device according to claim 2, comprising:
(a) testing whether the defective block exists in the plurality of regular cell array blocks;
(b) when the presence of the defective block is confirmed in the test of the step (a), performing a pass / fail test of the first and second spare cell array blocks;
(c) If it is determined that the pass / fail test in step (b) is good, the defective block is replaced with one of the first and second spare cell array blocks. Providing a defect remedy,
A defect relief method for a semiconductor memory device.
前記半導体記憶装置は請求項3記載の半導体記憶装置であり、
前記ステップ(b)の良否テストは、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、前記欠陥ブロックとセンスアンプを共有しない予備セルアレイブロックに対して、不良の予備メモリセルが存在しない場合に良と判定するテストを含み、
前記ステップ(c)における変更は、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックのうち、前記ステップ(b)で前記良否テストが行われたブロックを前記欠陥ブロックに置きかえてアクセスする変更である、
請求項5記載の半導体記憶装置の欠陥救済方法。
The semiconductor memory device is a semiconductor memory device according to claim 3,
The pass / fail test in the step (b) is good when there is no defective spare memory cell in the spare cell array block that does not share the sense amplifier with the defective block among the first and second spare cell array blocks. Including a test to determine
The change in the step (c) is a change in which the defective block is accessed by replacing the block subjected to the pass / fail test in the step (b) among the first and second spare cell array blocks.
6. A defect relief method for a semiconductor memory device according to claim 5.
複数のセルアレイブロックを有するメモリセルアレイを備え、前記複数のセルアレイブロックは隣接するブロック間で複数のセンスアンプの一つを共有し、
アクセスブロック群を形成する複数のセルアレイブロックの第1の部分と初期未使用ブロック群を形成する複数のセルアレイブロックのうちの少なくとも2つのセルアレイブロックとにアクセスするブロックアクセス手段をさらに備え、前記ブロックアクセス手段は、前記アクセスブロック群のうち1つのセルアレイブロックに欠陥メモリセルを含む欠陥ブロックが認識されると、欠陥ブロックの置き換え処理として、前記初期未使用ブロック群内の前記少なくとも2つのセルアレイブロックのうちの一にのみアクセスし、前記欠陥ブロックの置き換え処理としてアクセスされた前記少なくとも2つのセルアレイブロックのセルは、前記複数のセンスアンプのうち前記欠陥ブロックに関連した共有センスアンプのいずれとも共有しない、
半導体記憶装置。
A memory cell array having a plurality of cell array blocks, wherein the plurality of cell array blocks share one of a plurality of sense amplifiers between adjacent blocks;
Block access means for accessing a first portion of the plurality of cell array blocks forming the access block group and at least two cell array blocks of the plurality of cell array blocks forming the initial unused block group; When a defective block including a defective memory cell is recognized in one cell array block of the access block group, the means performs a defective block replacement process as a replacement process of the at least two cell array blocks in the initial unused block group. The at least two cell array block cells accessed as a replacement process for the defective block are not shared with any of the plurality of sense amplifiers among the shared sense amplifiers related to the defective block.
Semiconductor memory device.
前記複数のメモリセルは複数の正規メモリセルと複数の予備メモリセルとを含み、
前記複数のセルアレイブロックは、前記初期未使用ブロック群を形成する前記少なくとも2つのセルアレイブロックに対応する前記第1及び第2の予備セルアレイブロックと、前記アクセスブロック群を形成する前記複数のセルアレイブロックの前記第1の部分に対応する複数の正規セルアレイブロックを含み、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックはそれぞれ前記複数の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一のセルアレイブロックとの間で前記複数のセンスアンプの一つを共有し、
前記ブロックアクセス手段は、前記欠陥ブロックの置き換え処理として、前記第1及び第2の予備セルアレイブロックの一つにアクセスする、
請求項7記載の半導体記憶装置。
The plurality of memory cells include a plurality of normal memory cells and a plurality of spare memory cells;
The plurality of cell array blocks include: the first and second spare cell array blocks corresponding to the at least two cell array blocks forming the initial unused block group; and the plurality of cell array blocks forming the access block group. A plurality of normal cell array blocks corresponding to the first portion, wherein the first and second spare cell array blocks are each of the plurality of sense amplifiers between at least one cell array block of the plurality of normal cell array blocks; Share one of the
The block access means accesses one of the first and second spare cell array blocks as the defective block replacement process.
The semiconductor memory device according to claim 7.
前記メモリセルアレイは第1及び第2の部分メモリセルアレイを有し、前記複数の正規セルアレイブロックは複数の第1の正規セルアレイブロックと複数の第2の正規セルアレイブロックとを有し、
前記第1の部分メモリセルアレイは、前記第1の予備セルアレイブロック及び前記複数の第1の正規セルアレイブロックを含み、前記第1の予備セルアレイブロックは前記複数の第1の正規セルアレイブロックの少なくとも一つの正規セルアレイブロックとの間で前記複数のセンスアンプの一つを共有し、
前記第2の部分メモリセルアレイは、前記第2の予備セルアレイブロック及び前記複数の第2の正規セルアレイブロックとを含み、前記第2の予備セルアレイブロックは前記複数の第2の正規セルアレイブロックのうち少なくとも一つの正規セルアレイブロックとの間で前記複数のセンスアンプの一つを共有し、
前記ブロックアクセス手段は、前記複数の第1の正規セルアレイブロック内に欠陥メモリを有する場合、前記欠陥ブロックの置き換え処理として前記第2の予備セルアレイブロックにアクセスし、前記複数の第2の正規セルアレイブロック内に欠陥メモリを有する場合、前記欠陥ブロックの置き換え処理として前記第1の予備セルアレイブロックにアクセスする、
請求項8記載の半導体記憶装置。
The memory cell array includes first and second partial memory cell arrays, and the plurality of regular cell array blocks includes a plurality of first regular cell array blocks and a plurality of second regular cell array blocks;
The first partial memory cell array includes the first spare cell array block and the plurality of first regular cell array blocks, and the first spare cell array block is at least one of the plurality of first regular cell array blocks. Share one of the plurality of sense amplifiers with a regular cell array block,
The second partial memory cell array includes the second spare cell array block and the plurality of second regular cell array blocks, and the second spare cell array block is at least one of the plurality of second regular cell array blocks. One of the plurality of sense amplifiers is shared with one regular cell array block,
The block access means, when having a defective memory in the plurality of first normal cell array blocks, accesses the second spare cell array block as a replacement process of the defective block, and the plurality of second normal cell array blocks When having a defective memory inside, the first spare cell array block is accessed as a replacement process of the defective block.
The semiconductor memory device according to claim 8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6430100A (en) * 1987-07-24 1989-01-31 I O Data Kiki Kk Semiconductor memory device
JPH05282894A (en) * 1992-02-07 1993-10-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory
JPH0973774A (en) * 1995-07-03 1997-03-18 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6430100A (en) * 1987-07-24 1989-01-31 I O Data Kiki Kk Semiconductor memory device
JPH05282894A (en) * 1992-02-07 1993-10-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory
JPH0973774A (en) * 1995-07-03 1997-03-18 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9355703B2 (en) 2013-02-25 2016-05-31 Samsung Electronics Co., Ltd. Devices, systems and methods with improved refresh address generation

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