JP2007165056A - Manufacturing method of anisotropic conductive film, and anisotropic conductive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、異方導電性フィルムの製造方法および異方導電性フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing an anisotropic conductive film and an anisotropic conductive film.
近年、液晶ディスプレイ(LCD)とテープキャリアパッケージ(TCP)との接続、TCPと印刷回路基板(PCB)との接続等の微細な回路接続の必要性が増大してきている。その接続方法には、絶縁性接着剤フィルムに導電性粒子を分散させた異方導電性フィルムを使用する方法が用いられている。
この方法は、接続したい端子間に異方導電性フィルムを挟み、加熱加圧することにより、面方向の隣接端子間では電気的絶縁性を保ちつつ、上下端子間では電気的に導通させるものである。
In recent years, the need for fine circuit connection such as connection between a liquid crystal display (LCD) and a tape carrier package (TCP) and connection between a TCP and a printed circuit board (PCB) has increased. As the connection method, a method using an anisotropic conductive film in which conductive particles are dispersed in an insulating adhesive film is used.
In this method, an anisotropic conductive film is sandwiched between terminals to be connected, and heated and pressed to maintain electrical insulation between adjacent terminals in the plane direction, and electrically conduct between upper and lower terminals. .
このような接続に使用される異方導電性フィルムは、以下のようにして製造される。
まず、電極基板等の上に導電性粒子を散布する。その後、粘着層を有するフィルムに、導電性粒子を転写する。
The anisotropic conductive film used for such connection is manufactured as follows.
First, conductive particles are dispersed on an electrode substrate or the like. Then, electroconductive particle is transcribe | transferred to the film which has an adhesion layer.
しかしながら、上記特許文献1の技術は以下の点で改善の余地を有している。
導電性粒子をフィルムの粘着層に転写させる際には、導電性粒子が配置された電極基板等に対し、粘着層を貼り付けるが、このとき、粘着層が過度に電極基板等にはりついてしまう。そのため、粘着層を電極基板等から引き剥がすことが困難となり、製造の歩留まりが低下することがある。
However, the technique of
When transferring the conductive particles to the adhesive layer of the film, the adhesive layer is affixed to the electrode substrate or the like on which the conductive particles are arranged. At this time, the adhesive layer excessively sticks to the electrode substrate or the like. . Therefore, it becomes difficult to peel off the adhesive layer from the electrode substrate or the like, and the manufacturing yield may be reduced.
本発明の目的は、絶縁性接着剤フィルムと、導電性粒子が配置された基材とが過度にはり付いてしまうことを防止でき、歩留まりを向上させることができる異方導電性フィルムの製造方法および、異方導電性フィルムを提供することである。 An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film manufacturing method that can prevent an insulating adhesive film and a substrate on which conductive particles are disposed from being excessively bonded, and can improve yield. And providing an anisotropic conductive film.
本発明によれば、絶縁性接着剤フィルムと、この絶縁性接着剤フィルムに固定された導電性粒子とを有する異方導電性フィルムの製造方法において、前記導電性粒子を、基材表面に配置する工程と、前記基材表面に、前記絶縁性接着剤フィルムの表面を当接させて、前記基材上の前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写する工程と、を備え、前記絶縁性接着剤フィルムは、5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上、0.3N/5mmφ以下であり、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上、1N/5mmφ以下であり、基材上の前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写する前記工程では、前記絶縁性接着剤フィルムの温度を5℃以下とすることを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法が提供される。 According to the present invention, in the method for producing an anisotropic conductive film having an insulating adhesive film and conductive particles fixed to the insulating adhesive film, the conductive particles are arranged on the surface of the substrate. And a step of bringing the surface of the insulating adhesive film into contact with the surface of the base material, and transferring the conductive particles on the base material to the insulating adhesive film. The insulating adhesive film has a tack force at 5 ° C. of 0.01 N / 5 mmφ or more and 0.3 N / 5 mmφ or less, and a tack force at 25 ° C. of 0.1 N / 5 mmφ or more and 1 N / 5 mmφ or less. In the step of transferring the conductive particles on the material to the insulating adhesive film, a temperature of the insulating adhesive film is set to 5 ° C. or less, and a method for producing an anisotropic conductive film is provided. Is .
このような本発明によれば、5℃におけるタック力が0.3N/5mmφ以下である絶縁性接着剤フィルムを使用しており、導電性粒子を絶縁性接着剤フィルムに転写する工程では、絶縁性接着剤フィルムの温度を5℃以下としているため、絶縁性接着剤フィルムが基材に過度にはりついてしまうことを防止することができる。これにより、導電性粒子を転写した後、絶縁性接着剤フィルムと、基材とをスムーズに分離することができ、異方導電性フィルムの製造の歩留まりを向上させることができる。
なお、絶縁性接着剤フィルムの5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ未満である場合には、導電性粒子が、絶縁性接着剤フィルムに固定されにくくなり、基材上の導電性粒子を、絶縁性接着剤フィルムに転写させることが困難となる可能性がある。
According to the present invention, the insulating adhesive film having a tack force at 5 ° C. of 0.3 N / 5 mmφ or less is used, and in the step of transferring the conductive particles to the insulating adhesive film, Since the temperature of the adhesive adhesive film is 5 ° C. or less, the insulating adhesive film can be prevented from excessively sticking to the base material. Thereby, after transferring electroconductive particle, an insulating adhesive film and a base material can be isolate | separated smoothly, and the yield of manufacture of an anisotropic conductive film can be improved.
In addition, when the tack force at 5 ° C. of the insulating adhesive film is less than 0.01 N / 5 mmφ, the conductive particles are hardly fixed to the insulating adhesive film, and the conductive particles on the substrate are It may be difficult to transfer to an insulating adhesive film.
また、本発明では、絶縁性接着剤フィルムの25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上であるため、製造された異方導電性フィルムをLCD等の被接着材に容易に仮固定することができる。
なお、絶縁性接着剤フィルムの25℃におけるタック力が1N/5mmφを超える場合には、タック力が高すぎて、異方導電性フィルムが取り扱いにくいものとなることがある。
例えば、絶縁性接着剤フィルムの裏面に離型フィルムを貼り付けた状態で、絶縁性接着剤フィルムをスリッターで所望の幅に切る場合、スリッターの刃に絶縁性接着剤フィルムが貼りつき、絶縁性接着剤フィルムの裏面に貼り付けられた離型フィルムから絶縁性接着剤フィルムが剥がれてしまうことがある。
また、例えば、異方導電性フィルムは、絶縁性接着剤フィルムの裏面に離型フィルムを貼り付けた状態で、ロール状に巻かれて保管されるが、このとき、絶縁性接着剤フィルム表面が離型フィルムにはりついてしまい、異方導電性フィルムを引き出すことができなくなることがある。
In the present invention, since the tack force at 25 ° C. of the insulating adhesive film is 0.1 N / 5 mmφ or more, the manufactured anisotropic conductive film can be easily temporarily fixed to an adherend such as an LCD. Can do.
In addition, when the tack force at 25 ° C. of the insulating adhesive film exceeds 1 N / 5 mmφ, the tack force is too high, and the anisotropic conductive film may be difficult to handle.
For example, when the insulating adhesive film is cut to a desired width with a slitter while the release film is pasted on the back side of the insulating adhesive film, the insulating adhesive film is stuck to the slitter blade and is insulated. The insulating adhesive film may be peeled off from the release film attached to the back surface of the adhesive film.
Also, for example, the anisotropic conductive film is stored in a roll shape with the release film attached to the back surface of the insulating adhesive film. At this time, the surface of the insulating adhesive film is The film may stick to the release film and the anisotropic conductive film cannot be pulled out.
この際、前記絶縁性接着剤フィルムの裏面には、離型フィルムが貼り付けられており、当該離型フィルムの前記絶縁性接着剤フィルムの裏面との当接面の接着テープ剥離力が100N/25mm以上、1500N/25mm以下であることが好ましい。 At this time, a release film is attached to the back surface of the insulating adhesive film, and the adhesive tape peeling force of the contact surface of the release film with the back surface of the insulating adhesive film is 100 N / It is preferable that it is 25 mm or more and 1500 N / 25 mm or less.
このような構成によれば、絶縁性接着剤フィルムの裏面には、離型フィルムが貼り付けられているが、前述したように、絶縁性接着剤フィルムが過度に基材にはりついてしまうことがないので、導電性粒子を転写した後、絶縁性接着剤フィルムと基材とを分離する際に、絶縁性接着剤フィルムが離型フィルムからはがれてしまうことを防止できる。
これに加え、離型フィルムの絶縁性接着剤フィルムの裏面との当接面の接着テープ剥離力を、100N/25mm以上としているので、絶縁性接着剤フィルムが離型フィルムからはがれてしまうことを確実に防止できる。
なお、製造された異方導電性フィルムを使用して、端子同士を接続する際には、離型フィルムを絶縁性接着剤フィルムからはがすこととなるが、離型フィルムの絶縁性接着剤フィルムの裏面との当接面の接着テープ剥離力を、1500N/25mm以下としているので、離型フィルムが絶縁性接着剤フィルムからはがれにくくなることを防止できる。
According to such a configuration, the release film is affixed to the back surface of the insulating adhesive film. However, as described above, the insulating adhesive film may stick to the substrate excessively. Therefore, after the conductive particles are transferred, the insulating adhesive film can be prevented from being peeled off from the release film when the insulating adhesive film and the substrate are separated.
In addition, since the adhesive tape peeling force of the contact surface with the back surface of the insulating adhesive film of the release film is set to 100 N / 25 mm or more, the insulating adhesive film is peeled off from the release film. It can be surely prevented.
In addition, when using the manufactured anisotropic conductive film and connecting the terminals, the release film is peeled off from the insulating adhesive film. Since the adhesive tape peeling force of the contact surface with the back surface is set to 1500 N / 25 mm or less, it is possible to prevent the release film from being easily peeled off from the insulating adhesive film.
この際、動的粘弾性装置を用いて測定した5℃、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における前記絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が、5000Pa以上、100000Pa以下であることが好ましい。 Under the present circumstances, the storage elastic modulus of the said insulating adhesive film in 5 degreeC measured using the dynamic viscoelasticity apparatus, the frequency of 0.1 Hz, and the temperature increase rate of 10 degree-C / min shall be 5000 Pa or more and 100000 Pa or less. preferable.
絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が、5000Pa以上であるため、基材上の導電性粒子を絶縁性接着剤フィルムに転写する際に、導電性粒子が絶縁性接着剤フィルム内部に完全に埋まってしまうことを防止できる。導電性粒子の表面が、絶縁性接着剤フィルムから露出する場合には、導電性粒子の捕捉率(端子同士の接続後に、端子間に存在する導電性粒子数/端子接続前に端子間に存在する導電性粒子数)を向上させることができる。すなわち、異方導電性フィルムを挟んで上下に配置された端子同士を接続する際に、絶縁性接着剤フィルムから露出した導電性粒子を端子により押さえつけることができるので、導電性粒子が、上下の端子間に留まり、外方(面方向に隣接する端子間)に流れてしまうことを防止できる。
また、絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率を、100000Pa以下としているので、導電性粒子を、絶縁性接着剤フィルムにより、包埋することができ、絶縁性接着剤フィルムに導電性粒子を確実に固定することができる。
Since the storage elastic modulus of the insulating adhesive film is 5000 Pa or more, the conductive particles are completely embedded in the insulating adhesive film when transferring the conductive particles on the base material to the insulating adhesive film. Can be prevented. When the surface of the conductive particles is exposed from the insulating adhesive film, the capture rate of the conductive particles (the number of conductive particles existing between the terminals after connecting the terminals / present between the terminals before connecting the terminals) The number of conductive particles to be improved). That is, when connecting the terminals arranged up and down across the anisotropic conductive film, the conductive particles exposed from the insulating adhesive film can be pressed by the terminals, so that the conductive particles are It can be prevented that it stays between the terminals and flows outward (between adjacent terminals in the surface direction).
Moreover, since the storage elastic modulus of the insulating adhesive film is set to 100000 Pa or less, the conductive particles can be embedded with the insulating adhesive film, and the conductive particles can be reliably embedded in the insulating adhesive film. Can be fixed.
さらに、本発明では、前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写する前記工程では、前記基材表面に、前記絶縁性接着剤フィルムの表面を当接させるとともに、前記基材および前記絶縁性接着剤フィルムを挟圧して、前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写することが好ましい。
このように、基材および絶縁性接着剤フィルムを挟圧することで、導電性粒子を絶縁性接着剤フィルムに確実に転写することができる。
Further, in the present invention, in the step of transferring the conductive particles to the insulating adhesive film, the surface of the insulating adhesive film is brought into contact with the surface of the base material, and the base material and the insulating material are brought into contact with each other. It is preferable to transfer the conductive particles to the insulating adhesive film by sandwiching a conductive adhesive film.
Thus, by sandwiching the base material and the insulating adhesive film, the conductive particles can be reliably transferred to the insulating adhesive film.
さらに、本発明では、前記導電性粒子を、基材上に配置する前記工程では、前記基材として、磁性媒体を用い、前記磁性媒体の特定領域に磁気記録を行い、前記磁気媒体の前記特定領域上に導電性粒子を配置することが好ましい。 Further, in the present invention, in the step of disposing the conductive particles on a base material, a magnetic medium is used as the base material, magnetic recording is performed on a specific area of the magnetic medium, and the specification of the magnetic medium is performed. It is preferable to dispose conductive particles on the region.
本発明によれば、絶縁性接着剤フィルムと、この絶縁性接着剤フィルムに固定された導電性粒子とを有し、5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上、0.3N/5mmφ以下であり、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上、1N/5mmφ以下であることを特徴とする異方導電性フィルムも提供される。
このような異方導電性フィルムは、例えば、上述したような製造方法により得ることができる。
According to the present invention, it has an insulating adhesive film and conductive particles fixed to the insulating adhesive film, and has a tack force at 5 ° C. of 0.01 N / 5 mmφ or more and 0.3 N / 5 mmφ or less. An anisotropic conductive film characterized by having a tack force at 25 ° C. of 0.1 N / 5 mmφ or more and 1 N / 5 mmφ or less is also provided.
Such an anisotropic conductive film can be obtained, for example, by the manufacturing method as described above.
この際、動的粘弾性装置を用いて測定した5℃、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が、5000Pa以上、100000Pa以下であることが好ましい。 Under the present circumstances, it is preferable that the storage elastic modulus of the insulating adhesive film in 5 degreeC measured using the dynamic viscoelasticity apparatus, the frequency of 0.1 Hz, and the temperature increase rate of 10 degree-C / min is 5000 Pa or more and 100000 Pa or less. .
本発明によれば、絶縁性接着剤フィルムと、導電性粒子が配置された基材とが過度にはり付いてしまうことを防止でき、製造の歩留まりを向上させることができる異方導電性フィルムの製造方法および、異方導電性フィルムが提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can prevent that an insulating adhesive film and the base material by which electroconductive particle is arrange | positioned excessively stick, and the anisotropic conductive film which can improve the yield of manufacture. A manufacturing method and an anisotropic conductive film are provided.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1には、異方導電性フィルム1の断面図が示されている。
まず、異方導電性フィルム1の概要について説明する。
異方導電性フィルム1は、絶縁性接着剤フィルム11と、絶縁性接着剤フィルム11に固定された導電性粒子12とを有し、絶縁性接着剤フィルム11は、5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上、0.3N/5mmφ以下であり、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上、1N/5mmφ以下である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a cross-sectional view of the anisotropic
First, an outline of the anisotropic
The anisotropic
以下に、異方導電性フィルム1を詳細に説明する。
異方導電性フィルム1の絶縁性接着剤フィルム11は、長尺状に延びたものである。絶縁性接着剤フィルム11の厚みは、例えば、LCDパネルとTCPとの接続においては、10μm〜20μm程度のであることが好ましい。
絶縁性接着剤フィルム11は、前述したように、5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上である。なかでも、0.04N/5mmφ以上であることが好ましい。
また、絶縁性接着剤フィルム11は、前述したように、5℃におけるタック力が0.3N/5mmφ以下である。なかでも、0.1N/5mmφ以下であることが好ましい。
さらに、絶縁性接着剤フィルム11は、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上である。なかでも、0.4N/5mmφ以上であることが好ましい。
また、絶縁性接着剤フィルム11は、25℃におけるタック力は、1N/5mmφ以下である。なかでも、0.7N/5mmφ以下であることが好ましい。
絶縁性接着剤フィルム11の25℃におけるタック力は、5℃におけるタック力よりも大きくなっている。
Below, the anisotropic
The insulating
As described above, the insulating
Moreover, the insulating
Furthermore, the insulating
Moreover, the insulating
The tack force at 25 ° C. of the insulating
ここで、タック力の測定方法について説明する。
試料として、まず、約10cm角の絶縁性接着剤フィルム11(厚み15mm)を用意する。絶縁性接着剤フィルム11の裏面には、PETの離型フィルム13が貼り付けられている。
次に、プローブタック測定装置(商品名:TACII RHESCA レスカ社製)のステージ(25℃、或いは5℃)に、絶縁性接着剤フィルム11の表面が上になるように絶縁性接着剤フィルム11を設置する。
1分後、ローブを2Nの力で押しつけ引き剥がす力を検出する。プローブタック試験で検出されるピーク値を測定値とする。
なお、25℃におけるタック力を測定する場合には、プローブタック測定装置のステージを25℃とし、絶縁性接着剤フィルム11をステージに設置した後、1分後測定を行なっているため、絶縁性接着剤フィルム11の表面は25℃であると考えられる。
また、5℃におけるタック力を測定する場合には、プローブタック測定装置のステージを5℃とし、絶縁性接着剤フィルム11をステージに設置した後、1分後測定を行なっているため、絶縁性接着剤フィルム11の表面は5℃であると考えられる。
Here, a method for measuring the tack force will be described.
As a sample, first, an approximately 10 cm square insulating adhesive film 11 (thickness 15 mm) is prepared. A
Next, the insulating
After 1 minute, the force that pushes and tears off the lobe with 2N force is detected. The peak value detected in the probe tack test is taken as the measurement value.
When measuring the tack force at 25 ° C., the stage of the probe tack measuring device is set to 25 ° C., and the insulating
When measuring the tack force at 5 ° C., the stage of the probe tack measuring device is set to 5 ° C., and the insulating
また、絶縁性接着剤フィルム11は、動的粘弾性装置を用いて測定した5℃、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が、5000Pa以上、100000Pa以下である。
なかでも、絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率は、10000Pa以上であることが好ましい。さらに、絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率は、70000Pa以下であることが好ましい。
The insulating
Especially, it is preferable that the storage elastic modulus of the insulating
ここで、貯蔵弾性率の測定方法について説明する。
100μm厚の絶縁性接着剤フィルム11を準備し、動的粘弾性装置であるレオメータ(ハーケ社製、レオストレス、RS150)で周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分、測定温度範囲‐30℃〜250℃、歪み一定/応力検知の測定条件とする。このような測定条件に基づいて、5℃の絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が算出される。
Here, a method for measuring the storage elastic modulus will be described.
An insulating
以上のようなタック力、貯蔵弾性率を有する絶縁性接着剤フィルム11の組成としては、種々のものが考えられるが、例えば、
(i)反応性エラストマー、エポキシ樹脂、カップリング剤、潜在性硬化剤を含有するもの、或いは、
(ii)反応性エラストマー、(メタ)アクリレート樹脂、カップリング剤、有機過酸化物を含有するもの
が好ましい。
As the composition of the insulating
(I) Reactive elastomer, epoxy resin, coupling agent, one containing a latent curing agent, or
(Ii) Those containing reactive elastomers, (meth) acrylate resins, coupling agents, and organic peroxides are preferred.
(i)の組成、(ii)の組成における反応性エラストマーは、特に限定するものではないが、フィルム形成性があるようなもの、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブタジエン、ポリプロピレン、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−メタクリル酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル樹脂、ナイロン、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体などを用いることができ、単独、あるいは2種以上混合しても良い。
また、エラストマーとして、ニトリル基とエポキシ基を有する樹脂を用いることができる。このような樹脂として、たとえばアクリルゴムを用いることができる。
アクリルゴムとしては、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたはアクリロニトリルのうち少なくともひとつをモノマー成分とした重合体または共重合体があげられ、中でもグリシジルエーテル基を含有するグリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートを含む共重合体系アクリルゴムが好適に用いられる。
The reactive elastomer in the composition of (i) and (ii) is not particularly limited, but has a film-forming property, such as phenoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, polyimide resin, polybutadiene, Polypropylene, styrene-butadiene-styrene copolymer, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, butyl rubber, chloroprene rubber, polyamide resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene-methacrylic acid copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer A polymer, a polyvinyl acetate resin, nylon, a styrene-isoprene copolymer, a styrene-butylene-styrene block copolymer, and the like can be used, or a single type or a mixture of two or more types may be used.
As the elastomer, a resin having a nitrile group and an epoxy group can be used. As such a resin, for example, acrylic rubber can be used.
Examples of the acrylic rubber include a polymer or copolymer having at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester or acrylonitrile as a monomer component, including glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate containing a glycidyl ether group. A copolymer acrylic rubber is preferably used.
アクリルゴムは、具体的には、たとえば、下記一般式(1)で示される化合物とすることができる。 Specifically, the acrylic rubber can be, for example, a compound represented by the following general formula (1).
ただし、上記一般式(1)において、R1、R2は、それぞれ独立に、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のいずれかを示す。また、R1とR2とが同じ基であっても異なる基であってもよい。
さらに、R3は、水素、メチル基のいずれかを示す。
また、上記一般式(1)において、Xは40mol%以上98.5mol%以下、Yは1mol%以上50mol%以下、Zは0.5mol%以上10mol%以下である。また、上記一般式(1)に示したアクリルゴムの分子量は、たとえば、10000以上1500000以下である。上記一般式(1)に示したアクリルゴムを用いることにより、密着性および接続信頼性をさらに向上させることができる。
However, in the said General formula (1), R < 1 >, R < 2 > shows either hydrogen, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group each independently. R 1 and R 2 may be the same group or different groups.
R 3 represents either hydrogen or a methyl group.
Moreover, in the said General formula (1), X is 40 mol% or more and 98.5 mol% or less, Y is 1 mol% or more and 50 mol% or less, Z is 0.5 mol% or more and 10 mol% or less. The molecular weight of the acrylic rubber represented by the general formula (1) is, for example, 10,000 or more and 1500,000 or less. By using the acrylic rubber represented by the general formula (1), the adhesion and connection reliability can be further improved.
(i)の組成、(ii)の組成におけるカップリング剤としては特に限定するものではないが、シランカップリング剤を好適に使用することができ、たとえば、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、1種あるいは2種以上混合してもよい。 Although it does not specifically limit as a coupling agent in the composition of (i) and the composition of (ii), A silane coupling agent can be used conveniently, for example, (gamma) -glycidoxy propyl triethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxy Although silane etc. are mentioned, you may mix 1 type, or 2 or more types.
(i)の組成におけるエポキシ樹脂は、1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有するものであれば、特に限定されるものではない。たとえば、グリシジルエステル型エポキシ樹脂グリシジルアミン型エポキシ樹脂またはナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂とすることができる。こうすることにより、短時間硬化を確実に得ることができる。また、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等を用いてもよい。エポキシ樹脂は、これらに限定されるものではなく、単独でも混合して用いても差し支えない。耐湿信頼性の点から、エポキシ樹脂中のイオン性不純物であるNaイオンやClイオンが極力少ない方が好ましく、硬化性の点からエポキシ当量を、たとえば100g/eq以上500g/eq以下とすることができる。 The epoxy resin in the composition (i) is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in one molecule. For example, a glycidyl ester type epoxy resin or a epoxy resin having a naphthalene skeleton can be used. By carrying out like this, hardening for a short time can be obtained reliably. Further, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, or the like may be used. The epoxy resin is not limited to these, and may be used alone or in combination. From the viewpoint of moisture resistance reliability, it is preferable that Na ions and Cl ions, which are ionic impurities in the epoxy resin, be as small as possible. it can.
(i)の組成における潜在性硬化剤とは、エポキシ樹脂との混合物において、一定温度条件下で特性が変わることなく、長時間貯蔵可能で、例えば、所定の温度に加熱した場合に、速やかに硬化させる機能をもつ硬化剤のことである。
潜在性硬化剤としては、硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化することによって得られる。この場合には可使時間が延長されるために好ましい。
前記硬化剤の具体例としては、イミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミンの塩、ジシアンジアミド等が挙げられる。これらは、単独または混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。
なかでも、潜在性硬化剤としては、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を使用することが好ましい。
The latent curing agent in the composition of (i) is a mixture with an epoxy resin and can be stored for a long time without changing its characteristics under a constant temperature condition. For example, when heated to a predetermined temperature, It is a curing agent that has a function of curing.
The latent curing agent can be obtained by coating the curing agent with a polyurethane-based or polyester-based polymer substance and encapsulating it. This is preferable because the pot life is extended.
Specific examples of the curing agent include imidazole, hydrazide, boron trifluoride-amine complex, sulfonium salt, amine imide, polyamine salt, dicyandiamide and the like. These can be used alone or in combination, and may be used by mixing a decomposition accelerator, an inhibitor and the like.
Among these, it is preferable to use a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound as the latent curing agent.
マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物は、イミダゾール誘導体とエポキシ化合物との反応生成物をマイクロカプセル化し微粉末化したものであれば特に限定するものではない。マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とイソシアネート化合物とを反応させ、耐薬品性および貯蔵安定性を高めたものもさらに好適である。 The microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is not particularly limited as long as the reaction product of the imidazole derivative and the epoxy compound is microencapsulated into a fine powder. A compound in which a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and an isocyanate compound are reacted to improve chemical resistance and storage stability is further preferable.
マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物に用いるエポキシ化合物としては、たとえば、ビスフェノールA、ビスフェノールFおよびブロム化ビスフェノールA等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ダイマー酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル等が挙げられる。 Examples of the epoxy compound used for the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound include glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A, bisphenol F, and brominated bisphenol A, dimer acid diglycidyl ester, and phthalic acid diglycidyl ester.
また、ここで用いられるイミダゾール誘導体としては、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチル−5−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシジメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。 Examples of imidazole derivatives used herein include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-ethylimidazole, 1-benzyl-2-ethyl-5-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxydimethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxy And methyl imidazole.
(ii)の組成の(メタ)アクリレート樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート 、ポリエステルアクリレート 、エポキシアクリレート等があげられる。
また、(ii)の組成の有機過酸化物としては、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等が挙げられる。これらの過酸化物は単独で用いてもよい。また、硬化性をコントロールするために二種類以上の有機過酸化物を混合して用いることも可能である。
なお、以上のような絶縁性接着剤フィルム11には、樹脂の相溶性、安定性、作業性等の各種特性向上のため、各種添加剤、例えば、非反応性希釈剤、反応性希釈剤、揺変性付与剤、増粘剤、無機充填剤等を適宜添加しても良い。
Examples of the (meth) acrylate resin having the composition (ii) include urethane acrylate, polyester acrylate, and epoxy acrylate.
Examples of the organic peroxide having the composition (ii) include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate, t-butylperoxy-2-ethylhexanate, and t-hexyl. Peroxy-2-ethylhexanate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane And bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate. These peroxides may be used alone. Moreover, in order to control curability, it is also possible to mix and use two or more types of organic peroxides.
The insulating
図1に示すように、このような絶縁性接着剤フィルム11の一方の面(表面)には、導電性粒子12が配置され、他方の面(裏面)には、離型フィルム13が固着されている。
絶縁性接着剤フィルム11に固着された導電性粒子12の一部は、一次粒子となっており、残りは、凝集した二次凝集粒子である。
As shown in FIG. 1,
Some of the
また、導電性粒子12は、絶縁性接着剤フィルム11の一方の表面側に固着しており、図1に示すように、複数の導電性粒子12のうち、一部の導電性粒子12は絶縁性接着剤フィルム11の表面から突出して配置されている。他の一部の導電性粒子12は、絶縁性接着剤フィルム11内部に埋没している。
なお、ここでは、一部の導電性粒子12は、絶縁性接着剤フィルム11内部に埋没しているとしたが、全ての導電性粒子12が絶縁性接着剤フィルム11から露出するように配置されていてもよい。
In addition, the
Here, although some of the
ここで、導電性粒子12は、特にその組成は限定されるものではない。例えば、導電性粒子12を金属粒子としてもよく、このような金属粒子としては、金、銀、亜鉛、錫、半田、インジウム、パラジウム等の単体もしくは2種以上を組み合わせても良い。
また、導電性粒子12を、高分子核材に金属被覆をした粒子としてもよい。高分子核材に、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体などのポリマーの中から1種あるいは2種以上組み合わせたもの、金属薄膜皮膜に、金、ニッケル、銀、銅、亜鉛、錫、インジウム、パラジウム、アルミニウムなどの中から1種あるいは2種以上組み合わせて良い。
Here, the composition of the
Alternatively, the
金属薄膜皮膜の厚さに特に制限はないが、たとえば0.01μm以上、1μm以下とすることができる。金属薄膜皮膜の厚さが薄すぎると異方導電性フィルムとした場合接続が不安定になり、厚すぎると凝集が生じるため、絶縁不良を起こす可能性がある。また、金属薄膜皮膜は、高分子核材の表面に均一に被覆されていることが好ましい。均一に被覆することにより、皮膜のむらや欠けをなくし、電気的接続性を向上させることができる。 Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a metal thin film membrane | film | coat, For example, they can be 0.01 micrometer or more and 1 micrometer or less. If the thickness of the metal thin film is too thin, the connection becomes unstable when an anisotropic conductive film is used, and if it is too thick, aggregation occurs, which may cause insulation failure. The metal thin film is preferably uniformly coated on the surface of the polymer core material. By coating uniformly, unevenness and chipping of the film can be eliminated and electrical connectivity can be improved.
絶縁性接着剤フィルム11の裏面に貼り付けられた離型フィルム13は、例えば、ポリエチレンテレフタレートである。
この離型フィルム13の少なくとも、絶縁性接着剤フィルム11との当接面には、シリコン離型処理が施されている。
この離型フィルム13の絶縁性接着剤フィルム11の裏面との当接面の接着テープ剥離力は、100N/25mm以上、1500N/25mm以下である。
なかでも、接着テープ剥離力は、200N/25mm以上であることが好ましい。
また、接着テープ剥離力は、1000N/25mm以下であることがより好ましい。
The
At least a contact surface of the
The adhesive tape peeling force of the contact surface of the
Especially, it is preferable that adhesive tape peeling force is 200 N / 25mm or more.
Further, the adhesive tape peeling force is more preferably 1000 N / 25 mm or less.
ここで、接着テープ剥離力の測定方法について説明する。
離型フィルム13を10cm×20cmに切り出し、試料を用意する。この試料の測定面(絶縁性接着剤フィルム11の裏面との当接面)に幅25mmの接着テープ(日東電工製の接着テープ31B)を貼り、圧着ロール(2kg、45mm幅)で1往復荷重をかける。
次に、試料を25mm×150mmに切り出し、接着テープ側をアルミ板(50mm幅、長さ125mm)に貼り付けて固定する。
JIS B7721に準拠する引っ張り試験機にて300mm/minの速度で180°剥離力を測定する。測定は3回行い、その平均値を、接着テープ剥離力とする。
Here, the measuring method of adhesive tape peeling force is demonstrated.
The
Next, the sample is cut out to 25 mm × 150 mm, and the adhesive tape side is attached and fixed to an aluminum plate (width 50 mm, length 125 mm).
The 180 ° peeling force is measured at a speed of 300 mm / min with a tensile tester based on JIS B7721. The measurement is performed three times, and the average value is defined as the adhesive tape peeling force.
異方導電性フィルム1の使用方法の一例を図2に示す。
図2(A)に示すように、LCDパネル5の端子(電極)51が設けられた面と、異方導電性フィルム1の導電性粒子12が固着された表面とを対向配置させる。
その後、異方導電性フィルム1の導電性粒子12が固着された表面を、LCDパネル5の端子(電極)51が設けられた面に当接させて、異方導電性フィルム1を仮固定する。
次に、異方導電性フィルム1側からLCDパネル5側に向けて圧力をかけるとともに、加熱し、異方導電性フィルム1と、LCDパネル5とを仮圧着する。
次に、異方導電性フィルム1の離型フィルム13を剥離する。
An example of a method of using the anisotropic
As shown in FIG. 2A, the surface of the
Thereafter, the surface of the anisotropic
Next, pressure is applied from the anisotropic
Next, the
その後、図2(B)に示すように、異方導電性フィルム1の裏面側にTCP4を乗せ、加圧して仮止めを行う。
さらに、図2(C)に示すように、TCP4側からLCDパネル5に向かって圧力をかけるとともに、加熱し、TCP4と、LCDパネル5との本圧着を行う。
Thereafter, as shown in FIG. 2 (B), the
Further, as shown in FIG. 2C, pressure is applied from the
次に、図3を参照して、以上のような異方導電性フィルム1の製造装置2について説明する。
製造装置2は、導電性粒子12が固定された磁性媒体(基材)3から、絶縁性接着剤フィルム11に導電性粒子12を転写するための転写部21と、この転写部21に絶縁性接着剤フィルム11を供給する絶縁性接着剤フィルム供給部23と、転写部21に導電性粒子12が固定された磁性媒体3を供給する磁性媒体供給部22と、異方導電性フィルム1を巻き取る巻取り部24と、磁性媒体3を巻き取る巻取り部25とを備える。
Next, the
The
転写部21は、一対の対向配置された回転ロール211を有する。
この一対の回転ロール211間に絶縁性接着剤フィルム11および、導電性粒子12が磁着された磁性媒体3を供給し、回転ロール211で絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3を挟圧する。
このとき、絶縁性接着剤フィルム11の表面(離型フィルム13が貼り付けられていない面)が、導電性粒子12が固定された磁性媒体3表面に当接するように、回転ロール211間に絶縁性接着剤フィルム11が供給される。
The
The insulating
At this time, the surface of the insulating adhesive film 11 (the surface on which the
絶縁性接着剤フィルム供給部23は、絶縁性接着剤フィルム11が外周面にまきつけられた供給ロール231を有し、絶縁性接着剤フィルム11を転写部21の一対の回転ロール211間に供給する。
なお、図3では図示していないが、供給ロール231に巻きつけられた絶縁性接着剤フィルム11の裏面には、離型フィルム13が貼り付けられている。
The insulating adhesive
Although not shown in FIG. 3, a
磁性媒体供給部22は、磁性媒体3が外周面にまきつけられた供給ロール221と、磁性媒体3の磁気記録領域に導電性粒子12を固定するための導電性粒子分散槽222とを有する。
供給ロール221に巻きつけられた磁性媒体3には、予め特定領域(磁気記録領域)に磁気記録が施されている。
ここで用いる磁性媒体3は、磁気記録した領域に導電性粒子12を捕捉できるものであれば特に制限は無く、1種類の磁性体単独、2種類以上の磁性体を複合化したもの、非磁性体の基材に磁性体を複合化したもの、いずれも利用できる。
The magnetic
The
The
導電性粒子分散槽222は、導電性粒子12を分散させた分散液が充填された槽であり、磁性媒体3が浸漬される。これにより、磁性媒体3の磁気記録領域に導電性粒子12が固定される。このようにして、導電性粒子12が固定された磁性媒体3は、転写部21に供給される。
The conductive
転写部21の一対の回転ロール211よりも、絶縁性接着剤フィルム11の供給方向先端側には、一対の巻き取り補助ロール26が配置され、さらに、この一対の巻き取り補助ロール26よりも絶縁性接着剤フィルム11の供給方向先端側に、異方導電性フィルム1を巻き取る巻取り部24、磁性媒体3を巻き取る巻取り部25が配置されている。
A pair of winding
ここで、製造装置2は、冷却室(図示略)内に設置されており、導電性粒子12の転写を行なう際に、絶縁性接着剤フィルム11の表面の温度は、5℃以下に冷却される。
Here, the
次に、このような製造装置2を使用した、異方導電性フィルム1の製造方法について説明する。
まず、本実施形態における異方導電性フィルム1の製造方法の概要について説明する。
本実施形態における異方導電性フィルム1の製造方法は、導電性粒子12を、基材(磁気媒体3)表面に配置する工程と、磁気媒体3表面に、絶縁性接着剤フィルム11の表面を当接させて、磁気媒体3上の導電性粒子12を絶縁性接着剤フィルム11に転写する工程と、を備え、磁気媒体3上の導電性粒子12を絶縁性接着剤フィルム11に転写する工程では、絶縁性接着剤フィルム11の表面の温度を5℃以下とするものである。
Next, the manufacturing method of the anisotropic
First, the outline | summary of the manufacturing method of the anisotropic
The manufacturing method of the anisotropic
次に、異方導電性フィルム1の製造方法について詳細に説明する。
まず、冷却室内の温度を調整し、供給ロール231から、供給される絶縁性接着剤フィルム11の温度を5℃以下に保持する。
次に、供給ロール231から、転写部21の一対の回転ロール211間に、絶縁性接着剤フィルム11を供給する。
また、予め、特定領域に磁気記録が施された磁性媒体3を用意し、供給ロール221から、磁性媒体3を、導電性粒子分散槽222に供給する。導電性粒子分散槽222では、磁性媒体3が、導電性粒子12を分散させた分散液に浸漬され、磁性媒体3の磁気記録領域上に、導電性粒子12が磁着される。
その後、導電性粒子12が磁着された磁性媒体3を転写部21の一対の回転ロール211間に供給する。
Next, the manufacturing method of the anisotropic
First, the temperature in the cooling chamber is adjusted, and the temperature of the insulating
Next, the insulating
In addition, the
Thereafter, the
一対の回転ロール211間に供給された絶縁性接着剤フィルム11、磁性媒体3は回転ロール211に挟圧され、絶縁性接着剤フィルム11の表面が、磁性媒体3の表面(導電性粒子12が固定された面)に当接する。
ここで、一対の回転ロール211間の線圧は、0.25N/mm〜2N/mm程度である。
次に、絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3は、当接した状態で、一対の巻き取り補助ロール26間に供給される。
その後、巻き取り補助ロール26間から、絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3が排出される際に、絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3が分離される。絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3の分離を行なう際に、導電性粒子12は磁性媒体3から、絶縁性接着剤フィルム11に移ることとなる。これにより、導電性粒子12が、磁性媒体3から、絶縁性接着剤フィルム11に転写されることとなる。
その後、異方導電性フィルム1は、巻取り部24により巻き取られ、磁性媒体3は、巻取り部25により巻き取られることとなる。
The insulating
Here, the linear pressure between the pair of
Next, the insulating
Thereafter, when the insulating
Thereafter, the anisotropic
次に、本実施形態の効果について説明する。
本実施形態では、5℃におけるタック力が0.3N/5mmφ以下である絶縁性接着剤フィルム11を使用しており、導電性粒子12を絶縁性接着剤フィルム11に転写する工程では、絶縁性接着剤フィルム11の温度を5℃以下としているため、絶縁性接着剤フィルム11が磁性媒体3に過度にはりついてしまうことを防止することができる。
これにより、導電性粒子12を転写した後、絶縁性接着剤フィルム11と、磁性媒体3とをスムーズに分離することができ、異方導電性フィルム1の製造の歩留まりを向上させることができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
In this embodiment, the insulating
Thereby, after transferring the
また、絶縁性接着剤フィルム11の裏面には、離型フィルム13が貼り付けられているが、前述したように、絶縁性接着剤フィルム11が過度に磁性媒体3にはりついてしまうことがないので、導電性粒子12を磁性媒体3から、絶縁性接着剤フィルム11へ転写した後、磁性媒体3と、絶縁性接着剤フィルム11とを分離する際に、絶縁性接着剤フィルム11が離型フィルム13からはがれてしまうことを防止できる。
これに加え、離型フィルム13の絶縁性接着剤フィルム11の裏面との当接面の接着テープ剥離力を、100N/25mm以上としているので、絶縁性接着剤フィルム11が離型フィルム13からはがれてしまうことを確実に防止できる。
さらには、接着テープ剥離力を、200N/25mm以上とすれば、絶縁性接着剤フィルム11が離型フィルム13からはがれてしまうことを確実に防止できる。導電性粒子12を転写する際のみならず、例えば、絶縁性接着剤フィルム11および離型フィルム13を供給ロール231から引き出す際においても、絶縁性接着剤フィルム11が離型フィルム13からはがれてしまうことを確実に防止できる。
なお、離型フィルム13の絶縁性接着剤フィルム11の裏面との当接面の接着テープ剥離力を、1500N/25mm以下としているので、異方導電性フィルム1と、LCDパネル5とを仮圧着した後、離型フィルム13をはがす際に、離型フィルム13が絶縁性接着剤フィルム11からはがれにくくなることを防止できる。
なかでも、接着テープ剥離力を1000N/25mm以下とすれば、離型フィルム13が絶縁性接着剤フィルム11からはがれにくくなることをより確実に防止できる。
Moreover, although the
In addition, since the adhesive tape peeling force at the contact surface of the
Furthermore, if the adhesive tape peeling force is 200 N / 25 mm or more, it is possible to reliably prevent the insulating
In addition, since the adhesive tape peeling force of the contact surface with the back surface of the insulating
In particular, if the adhesive tape peeling force is 1000 N / 25 mm or less, it is possible to more reliably prevent the
また、本実施形態では、5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上の絶縁性接着剤フィルム11を使用しているため、導電性粒子12を絶縁性接着剤フィルム11上に確実に固定することができる。
In this embodiment, since the insulating
さらに、本実施形態では、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上の絶縁性接着剤フィルム11を使用しているため、異方導電性フィルム1をLCD5等に容易に仮固定することができる。
なお、絶縁性接着剤フィルムの25℃におけるタック力が1N/5mmφを超える場合には、タック力が高すぎて、絶縁性接着剤フィルム11が取り扱いにくいものとなる可能性があるが、本実施形態の絶縁性接着剤フィルム11の25℃におけるタック力は、1N/5mmφ以下であるため、このような課題が生じない。
Furthermore, in this embodiment, since the insulating
In addition, when the tack force at 25 ° C. of the insulating adhesive film exceeds 1 N / 5 mmφ, the tack force is too high and the insulating
絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率が、5000Pa以上であるため、磁性媒体3上の導電性粒子12を絶縁性接着剤フィルム11に転写する際に、導電性粒子12が絶縁性接着剤フィルム11内部に完全に埋まってしまうことを防止できる。導電性粒子12の表面が、絶縁性接着剤フィルム11から露出する場合には、導電性粒子12の捕捉率(端子41,51同士の接続後に、端子41,51間に存在する導電性粒子12の数/端子41,51接続前に端子41,51間に存在する導電性粒子12の数)を向上させることができる。
すなわち、異方導電性フィルム1を挟んで上下に配置された端子41,51同士を接続する際に、絶縁性接着剤フィルム11から露出した導電性粒子12を端子41により押さえつけることができるので、導電性粒子12が、上下の端子41,51間に留まり、外方に流れてしまうことを防止できる。
さらには、絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率を10000Pa以上とすることで、絶縁性接着剤フィルム11がやわらかくなりすぎず、導電性粒子12が絶縁性接着剤フィルム11内部に完全に埋まってしまうことをより確実に防止することができ、捕捉率の向上を図ることができる。
また、絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率を、100000Pa以下としているので、絶縁性接着剤フィルム11が硬くなりすぎず、導電性粒子12を、絶縁性接着剤フィルム11により、包埋することができ、絶縁性接着剤フィルム11に導電性粒子12を確実に固定することができる。
さらには、絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率を70000Pa以下とすることで、絶縁性接着剤フィルム11に導電性粒子12をより確実に固定することができる。
なお、絶縁性接着剤フィルム11の貯蔵弾性率を、100000Paを超えるものとした場合には、絶縁性接着剤フィルム11が硬くなりすぎ、導電性粒子12が転写されない箇所が生じるおそれがある。
Since the storage elastic modulus of the insulating
That is, since the
Furthermore, by setting the storage elastic modulus of the insulating
Moreover, since the storage elastic modulus of the insulating
Furthermore, by setting the storage elastic modulus of the insulating
In addition, when the storage elastic modulus of the insulating
さらに、本実施形態では、一対の回転ロール211により、絶縁性接着剤フィルム11および、導電性粒子12が磁着された磁性媒体3を挟圧しているため、導電性粒子12を磁性媒体3から、絶縁性接着剤フィルム11に確実に転写することができる。
Furthermore, in this embodiment, since the insulating
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、磁気記録領域に導電性粒子を配置した磁気媒体(基材)を使用して、異方導電性フィルムの製造を行なったが、基材としては、磁性媒体に限られるものではない。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the above embodiment, the anisotropic conductive film is manufactured using the magnetic medium (base material) in which the conductive particles are arranged in the magnetic recording region. However, the base material is limited to the magnetic medium. It is not a thing.
また、異方導電性フィルム1の製造装置は、図3に示すような構造の製造装置2に限られるものではない。例えば、前記実施形態では、一対の回転ロール211間に、絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3を供給し、磁性媒体3上の導電性粒子12の転写を行なったが、これに限らず、例えば、一対のプレス板間や、エンドレスベルト間に絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3を供給し、絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3を挟圧してもよい。
なお、絶縁性接着剤フィルム11および磁性媒体3を挟圧する際の面圧は、0.01N/mm2〜0.25N/mm2程度であることが好ましい。
Moreover, the manufacturing apparatus of the anisotropic
Incidentally, the surface pressure at the time of nipping the insulating
また、前記実施形態では、貯蔵弾性率が、5000Pa以上、100000Pa以下である絶縁性接着剤フィルム11を使用したが、貯蔵弾性率が、5000Pa未満あるいは、100000Paを超える絶縁性接着剤フィルムを使用してもよい。
Moreover, in the said embodiment, although the storage
さらには、前記実施形態では、製造装置2は冷却室(図示略)内に配置されているとしたが、これに限らず、例えば、絶縁性接着剤フィルム供給部23のみを冷却室内に配置して、基材上の導電性粒子12を絶縁性接着剤フィルム11に転写する際の絶縁性接着剤フィルム11の表面の温度を5℃以下としてもよい。
Furthermore, in the said embodiment, although the
さらには、図4に示すように、絶縁性接着剤フィルム供給部23を、供給ロール231と、この供給ロール231の絶縁性接着剤フィルム供給方向先端側に配置された冷却ロール232と、を有するものとし、絶縁性接着剤フィルム11を冷却してもよい。冷却ロール232は、内部に冷媒が供給された金属性のロールである。
Furthermore, as shown in FIG. 4, the insulating adhesive
また、前記実施形態では、絶縁性接着剤フィルム11の表面の温度を5℃以下とした後、絶縁性接着剤フィルム11と、磁性媒体3とを当接させたが、これに限らず、例えば、絶縁性接着剤フィルム11と、磁性媒体3とを当接させた後、絶縁性接着剤フィルム11の温度を5℃以下に冷却してもよい。
Moreover, in the said embodiment, after making the surface temperature of the insulating
次に、本発明の実施例について説明する。 Next, examples of the present invention will be described.
(実施例)
表1及び表2に示す組成を有する絶縁性接着剤フィルムを製造した。
絶縁性接着剤フィルムは、絶縁性接着剤ワニスを製造し、この絶縁性接着剤ワニスを離型フィルムとしての両面シリコン離型処理したPET(ポリエチレンテレフタレート)上に塗布し、乾燥させることで得られる。
なお、離型フィルムの絶縁性接着剤フィルムの裏面との当接面の接着テープ剥離力が100N/25mm以上、1500N/25mm以下であった。
(Example)
Insulating adhesive films having the compositions shown in Tables 1 and 2 were produced.
The insulating adhesive film is obtained by producing an insulating adhesive varnish, applying the insulating adhesive varnish on PET (polyethylene terephthalate) subjected to double-sided silicon release treatment as a release film, and drying. .
In addition, the adhesive tape peeling force of the contact surface with the back surface of the insulating adhesive film of a release film was 100 N / 25mm or more and 1500 N / 25mm or less.
次に、各絶縁性接着剤フィルムの25℃におけるタック力、5℃におけるタック力を測定したところ、表3に示すようになった。
また、動的粘弾性装置を用いて測定した5℃、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率は、表3のようになった。
なお、タック力、貯蔵弾性率の測定方法は、前記実施形態と同様である。
Next, when the tack force at 25 ° C. of each insulating adhesive film was measured, it was as shown in Table 3.
Table 3 shows the storage elastic modulus of the insulating adhesive film measured using a dynamic viscoelastic device at 5 ° C., a frequency of 0.1 Hz, and a heating rate of 10 ° C./min.
In addition, the measuring method of tack force and storage elastic modulus is the same as that of the said embodiment.
次に、このような各絶縁性接着剤フィルムを使用し、前記実施形態と同様の製造装置
を用いて、前記実施形態と同様の方法で、異方導電性フィルムの製造を行なった。
導電性粒子としては、高分子核材に金属被覆(Ni/Auめっき)をした粒子を使用した。
Next, using each of these insulating adhesive films, an anisotropic conductive film was manufactured by the same method as in the above embodiment using the same manufacturing apparatus as in the above embodiment.
As the conductive particles, particles obtained by metal coating (Ni / Au plating) on the polymer core material were used.
実施例においては、絶縁性接着剤フィルムが磁性媒体に過度にはりついてしまうことがなく、導電性粒子を転写した後、絶縁性接着剤フィルムと、磁性媒体とをスムーズに分離することができた。
また、導電性粒子は、絶縁性接着剤フィルムに固定され、磁性媒体上の導電性粒子を、絶縁性接着剤フィルムに確実に転写させることができた。
また、絶縁性接着剤フィルムに導電性粒子を転写させた後、磁性媒体と絶縁性接着剤フィルムとを分離する際に、絶縁性接着剤フィルムが離型フィルムからはがれてしまうことはなかった。
In the examples, the insulating adhesive film was not excessively adhered to the magnetic medium, and after the conductive particles were transferred, the insulating adhesive film and the magnetic medium could be smoothly separated. .
Further, the conductive particles were fixed to the insulating adhesive film, and the conductive particles on the magnetic medium could be reliably transferred to the insulating adhesive film.
Further, after the conductive particles were transferred to the insulating adhesive film, the insulating adhesive film was not peeled off from the release film when the magnetic medium and the insulating adhesive film were separated.
さらに、このようにして製造された異方導電性フィルムを用いて、LCD、TCPの接
着を行なったところ、異方導電性フィルムをLCD等に容易に仮固定することができた。
Further, when the anisotropic conductive film produced in this way was used to bond LCD and TCP, the anisotropic conductive film could be easily temporarily fixed to the LCD or the like.
(比較例)
表4、表5に示す組成を有する絶縁性接着剤フィルムを製造した。製造方法は実施例と同様である。
(Comparative example)
Insulating adhesive films having the compositions shown in Tables 4 and 5 were produced. The manufacturing method is the same as in the example.
次に、各絶縁性接着剤フィルムの25℃におけるタック力、5℃におけるタック力を測定したところ、表6のようになった。また、動的粘弾性装置を用いて測定した5℃、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率は、表6のようである。 Next, when the tack force at 25 ° C. of each insulating adhesive film was measured, it was as shown in Table 6. Table 6 shows the storage elastic modulus of the insulating adhesive film measured at 5 ° C. using a dynamic viscoelastic device at a frequency of 0.1 Hz and a heating rate of 10 ° C./min.
比較例において、5℃におけるタック力が、0.3N/5mmφを超える絶縁性接着剤フィルム(製造例H,J)においては、磁性媒体上の導電性粒子を絶縁性接着剤フィルムに転写させる際に、磁性媒体に過度にはりついてしまい、導電性粒子を転写した後、絶縁性接着剤フィルムと、磁性媒体とを分離することができなかった。
これに加え、5℃におけるタック力が、0.3N/5mmφを超える絶縁性接着剤フィルム(製造例H,J)では、磁性媒体上の導電性粒子を絶縁性接着剤フィルムに転写させた後、磁性媒体と絶縁性接着剤フィルムとを分離させる際に、絶縁性接着剤フィルムが、離型フィルムからはがれてしまった。
In the comparative example, in the case of the insulating adhesive film (Production Examples H and J) having a tack force at 5 ° C. exceeding 0.3 N / 5 mmφ, the conductive particles on the magnetic medium are transferred to the insulating adhesive film. In addition, after the conductive particles were transferred onto the magnetic medium, the insulating adhesive film and the magnetic medium could not be separated.
In addition, in the case of an insulating adhesive film (Production Examples H and J) whose tack force at 5 ° C. exceeds 0.3 N / 5 mmφ, after the conductive particles on the magnetic medium are transferred to the insulating adhesive film When the magnetic medium and the insulating adhesive film were separated, the insulating adhesive film was peeled off from the release film.
また、5℃におけるタック力が、0.01N/5mmφ未満の絶縁性接着剤フィルム(製造例G,I)では、磁性媒体上の導電性粒子が絶縁性接着剤フィルムに転写せず、絶縁性接着剤フィルムに導電性粒子が固着しなかった。 In addition, in the case of an insulating adhesive film (Production Examples G and I) having a tack force at 5 ° C. of less than 0.01 N / 5 mmφ, the conductive particles on the magnetic medium are not transferred to the insulating adhesive film, and thus the insulating property The conductive particles did not adhere to the adhesive film.
さらに、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ未満の絶縁性接着剤フィルム(製造例G,I)を用いて製造された異方導電性フィルムにより、LCDパネルと、TCPとを接続しようとしたところ、異方導電性フィルムを、LCDパネルに仮固定する際に、異方導電性フィルムがLCDパネルに貼り付きにくく、仮固定に手間を要した。
また、25℃におけるタック力が1.0N/5mmφを超える絶縁性接着剤フィルム(製造例J)を用いて製造された異方導電性フィルムは、べたつきがはげしく、取り扱いが困難であった。
Furthermore, an attempt is made to connect the LCD panel and the TCP with an anisotropic conductive film manufactured using an insulating adhesive film (Production Examples G and I) having a tack force of less than 0.1 N / 5 mmφ at 25 ° C. As a result, when the anisotropic conductive film was temporarily fixed to the LCD panel, the anisotropic conductive film was difficult to stick to the LCD panel, and time and effort were required for temporary fixing.
Moreover, the anisotropic conductive film manufactured using the insulating adhesive film (Production Example J) having a tack force at 25 ° C. exceeding 1.0 N / 5 mmφ was very sticky and difficult to handle.
1 異方導電性フィルム
2 製造装置
3 磁性媒体(基材)
5 LCDパネル
11 絶縁性接着剤フィルム
12 導電性粒子
13 離型フィルム
21 転写部
22 磁性媒体供給部
23 絶縁性接着剤フィルム供給部
24 巻取り部
25 巻取り部
26 巻取り補助ロール
31B 接着テープ
41,51 端子
211 回転ロール
221 供給ロール
221 供給ロール
222 導電性粒子分散槽
231 供給ロール
232 冷却ロール
DESCRIPTION OF
5
Claims (7)
前記導電性粒子を、基材表面に配置する工程と、
前記基材表面に、前記絶縁性接着剤フィルムの表面を当接させて、前記基材上の前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写する工程と、
を備え、
前記絶縁性接着剤フィルムは、5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上、0.3N/5mmφ以下であり、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上、1N/5mmφ以下であり、
基材上の前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写する前記工程では、前記絶縁性接着剤フィルムの温度を5℃以下とすることを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 In the method for producing an anisotropic conductive film having an insulating adhesive film and conductive particles fixed to the insulating adhesive film,
Arranging the conductive particles on the surface of the substrate;
A step of bringing the surface of the insulating adhesive film into contact with the surface of the base material, and transferring the conductive particles on the base material to the insulating adhesive film;
With
The insulating adhesive film has a tack force at 5 ° C. of 0.01 N / 5 mmφ or more and 0.3 N / 5 mmφ or less, and a tack force at 25 ° C. of 0.1 N / 5 mmφ or more and 1 N / 5 mmφ or less,
In the step of transferring the conductive particles on the base material to the insulating adhesive film, the temperature of the insulating adhesive film is set to 5 ° C. or less.
前記絶縁性接着剤フィルムの裏面には、離型フィルムが貼り付けられており、当該離型フィルムの前記絶縁性接着剤フィルムの裏面との当接面の接着テープ剥離力は、100N/25mm以上、1500N/25mm以下であることを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 In the manufacturing method of the anisotropically conductive film of Claim 1,
A release film is affixed to the back surface of the insulating adhesive film, and the adhesive tape peeling force of the contact surface of the release film with the back surface of the insulating adhesive film is 100 N / 25 mm or more. The manufacturing method of an anisotropic conductive film characterized by being 1500 N / 25mm or less.
動的粘弾性測定装置を用いて測定した5℃、サンプル厚み100μm、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における前記絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が5000Pa以上、100000Pa以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルムの製造方法。 In the manufacturing method of the anisotropically conductive film of Claim 1 or 2,
The storage elastic modulus of the insulating adhesive film measured at 5 ° C., sample thickness 100 μm, frequency 0.1 Hz, and heating rate 10 ° C./min measured using a dynamic viscoelasticity measuring device is 5000 Pa or more and 100000 Pa or less. A method for producing an anisotropic conductive adhesive film characterized by the following.
基材上の前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写する前記工程では、前記基材表面に、前記絶縁性接着剤フィルムの表面を当接させるとともに、前記基材および前記絶縁性接着剤フィルムを挟圧して、前記導電性粒子を前記絶縁性接着剤フィルムに転写することを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 In the manufacturing method in any one of Claims 1 thru | or 3,
In the step of transferring the conductive particles on the base material to the insulating adhesive film, the surface of the insulating adhesive film is brought into contact with the base material surface, and the base material and the insulating adhesive are brought into contact with each other. A method for producing an anisotropic conductive film, wherein a conductive film is sandwiched between the conductive particles to transfer the conductive particles to the insulating adhesive film.
前記導電性粒子を、基材上に配置する前記工程では、前記基材として、磁性媒体を用い、前記磁性媒体の特定領域に磁気記録を行い、前記磁気媒体の前記特定領域上に導電性粒子を配置することを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 In the manufacturing method in any one of Claims 1 thru | or 4,
In the step of disposing the conductive particles on a substrate, a magnetic medium is used as the substrate, magnetic recording is performed on a specific area of the magnetic medium, and the conductive particles are formed on the specific area of the magnetic medium. A method for producing an anisotropic conductive film, characterized by comprising:
この絶縁性接着剤フィルムに固定された導電性粒子とを有し、
前記絶縁性接着剤フィルムの5℃におけるタック力が0.01N/5mmφ以上、0.3N/5mmφ以下であり、25℃におけるタック力が0.1N/5mmφ以上、1N/5mmφ以下であることを特徴とする異方導電性フィルム。 An insulating adhesive film;
Conductive particles fixed to this insulating adhesive film,
The tack force at 5 ° C. of the insulating adhesive film is 0.01 N / 5 mmφ or more and 0.3 N / 5 mmφ or less, and the tack force at 25 ° C. is 0.1 N / 5 mmφ or more and 1 N / 5 mmφ or less. An anisotropic conductive film.
動的粘弾性装置を用いて測定した5℃、周波数0.1Hz、昇温速度10℃/分における絶縁性接着剤フィルムの貯蔵弾性率が、5000Pa以上、100000Pa以下であることを特徴とする異方導電性フィルム。
In the anisotropic conductive film according to claim 6,
The storage elastic modulus of the insulating adhesive film measured at 5 ° C., using a dynamic viscoelastic device at a frequency of 0.1 Hz, and a heating rate of 10 ° C./min is 5000 Pa or more and 100,000 Pa or less. Conductive film.
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