JP2007160207A - Coating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布装置に関する。 The present invention relates to a coating apparatus.
基板(ワーク)上に液状材料(例えば、レジスト材料、絶縁材料等)を塗布する塗布装置として、液状材料をローラの外周面に供給し、そのローラにより基板に液状材料を塗布するロールコーター(ロールコート式の塗布装置)が知られている(例えば、特許文献1参照)。
このようなロールコーターのローラの外周面の洗浄は、薬液を用いたウェット(WET)方式が主流である。
As a coating device for applying a liquid material (for example, a resist material, an insulating material, etc.) on a substrate (work), a roll coater (roll) that supplies the liquid material to the outer peripheral surface of the roller and applies the liquid material to the substrate by the roller. A coating type coating apparatus is known (for example, see Patent Document 1).
For such cleaning of the outer peripheral surface of the roller of the roll coater, a wet (WET) method using a chemical solution is mainly used.
しかしながら、従来のロールコーターにおいて、ウェット方式でローラの外周面の洗浄を行う場合は、手作業が多く、例えば、下記(1)〜(6)の欠点がある。
(1)薬液の使用量が多く、洗浄後の廃液処理が必要である。
(2)洗浄不良が生じ易い。例えば、残渣が生じたり、また、洗浄の際に使用する洗浄用布やベンコットン等よりゴミ(例えば、ケバ等)が発生し、そのゴミがローラの外周面に付着することがある。ゴミがローラの外周面に付着した状態で液状材料を塗布すると、不要品が生じたり、また、製品に悪影響を及ぼす。
(3)ローラが装置に取り付けられた状態では洗浄を行うことができない。すなわち、洗浄の際は、まず、ローラを装置から取り外す必要があり、洗浄後、ローラを装置に取り付ける必要があり、手間と時間がかかる。
(4)洗浄後に、ローラを乾燥させる工程(乾燥工程)が必要であり、手間と時間がかかる。
(5)洗浄の際は、装置を完全に停止させる必要がある。
(6)装置には、液状材料を基板に塗布する塗布ローラの他に、塗布ローラに付着した液状材料を掻き落とす掻き落としローラ等が設けられている場合があるが、その掻き落としローラの外周面は、撥液性を有しているのが好ましく、例えば樹脂やゴム等で構成されており、このため、液状材料により、腐食、劣化、化学的反応等が生じ、その撥液性が低下してくる。
However, in the conventional roll coater, when the outer peripheral surface of the roller is cleaned by a wet method, there are many manual operations, and there are, for example, the following disadvantages (1) to (6).
(1) A large amount of chemical solution is used, and waste liquid treatment after washing is necessary.
(2) Insufficient cleaning is likely to occur. For example, a residue may be generated, or dust (for example, mark) may be generated from a cleaning cloth or Ben cotton used for cleaning, and the dust may adhere to the outer peripheral surface of the roller. If the liquid material is applied in a state where dust is attached to the outer peripheral surface of the roller, an unnecessary product is generated or the product is adversely affected.
(3) Cleaning cannot be performed with the roller attached to the apparatus. That is, at the time of cleaning, it is necessary to first remove the roller from the apparatus, and after cleaning, it is necessary to attach the roller to the apparatus, which takes time and effort.
(4) After washing, a step of drying the roller (drying step) is required, which takes time and effort.
(5) When cleaning, it is necessary to completely stop the apparatus.
(6) The apparatus may be provided with a scraping roller for scraping off the liquid material adhering to the coating roller in addition to the coating roller for coating the liquid material on the substrate. The surface preferably has liquid repellency, and is composed of, for example, resin or rubber. For this reason, the liquid material causes corrosion, deterioration, chemical reaction, etc., and the liquid repellency is reduced. Come on.
本発明の目的は、容易、迅速、かつ確実に、ローラの外周面を洗浄することができる塗布装置を提供することにある。 The objective of this invention is providing the coating device which can wash | clean the outer peripheral surface of a roller easily, rapidly, and reliably.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の塗布装置は、液状材料をワークに塗布するローラを含む少なくとも1つのローラを有し、液状材料を前記ローラの外周面に供給し、該ローラの外周面の液状材料をワークに接触させて塗布する塗布装置であって、
前記ローラの外周面を洗浄する洗浄手段を有し、
前記洗浄手段は、所定のガスを供給するガス供給手段と、放電を生じさせる放電手段とを有し、前記所定のガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、該プラズマにより前記ローラの外周面を洗浄するよう構成されていることを特徴とする。
これにより、容易、迅速、かつ確実に、ローラの外周面を洗浄(アッシング)することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The coating apparatus of the present invention has at least one roller including a roller for applying a liquid material to a workpiece, supplies the liquid material to the outer peripheral surface of the roller, and brings the liquid material on the outer peripheral surface of the roller into contact with the workpiece. A coating device for coating,
Having cleaning means for cleaning the outer peripheral surface of the roller;
The cleaning unit includes a gas supply unit that supplies a predetermined gas and a discharge unit that generates a discharge. The cleaning unit generates a plasma while generating the discharge while supplying the predetermined gas. It is comprised so that the outer peripheral surface of may be wash | cleaned.
Thereby, the outer peripheral surface of the roller can be cleaned (ashed) easily, quickly and reliably.
すなわち、洗浄手段は、プラズマを利用したドライ(DRA)方式であるので、ウェット方式のような薬液が不要であり、廃液処理やノズルの乾燥工程が不要である。
また、洗浄の際、ウェット方式のように洗浄用布やベンコットン等より発生するゴミ(例えば、ケバ等)がローラの外周面に付着することがなく、ローラの外周面を確実に洗浄することができる。
That is, since the cleaning means is a dry (DRA) method using plasma, a chemical solution as in the wet method is unnecessary, and a waste liquid treatment and a nozzle drying process are unnecessary.
Also, when cleaning, the outer peripheral surface of the roller must be cleaned reliably without dust (for example, scraps, etc.) generated from the cleaning cloth, ben cotton, etc. adhering to the outer peripheral surface of the roller as in the wet method. Can do.
また、塗布装置自体が洗浄手段を有しているので、ローラを取り外すことなく(ローラを取り付けた状態で)、ローラの外周面を洗浄することができ、また、別途、洗浄のための設備を設ける必要がない。
また、塗布装置を停止させずに(例えば、液状材料をワークに塗布している最中でも)、ローラの外周面を洗浄することもできる。
In addition, since the coating device itself has a cleaning means, the outer peripheral surface of the roller can be cleaned without removing the roller (with the roller attached), and a separate cleaning facility is provided. There is no need to provide it.
Further, the outer peripheral surface of the roller can be cleaned without stopping the coating apparatus (for example, while the liquid material is being applied to the workpiece).
本発明の塗布装置では、前記ガス供給手段は、前記ローラの外周面付近にガスを供給し、前記放電手段は、前記ローラの外周面付近に放電を生じさせるものであり、
前記洗浄手段は、前記ガス供給手段および前記放電手段により、前記ローラの外周面付近にプラズマを発生させるよう構成されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面付近においてプラズマが発生するので、洗浄処理レートが高く、洗浄時間(処理時間)を短くすることができる。
In the coating apparatus of the present invention, the gas supply means supplies gas near the outer peripheral surface of the roller, and the discharge means generates discharge near the outer peripheral surface of the roller,
The cleaning unit is preferably configured to generate plasma in the vicinity of the outer peripheral surface of the roller by the gas supply unit and the discharge unit.
As a result, plasma is generated in the vicinity of the outer peripheral surface of the roller, so that the cleaning processing rate is high and the cleaning time (processing time) can be shortened.
本発明の塗布装置では、前記放電手段は、互いに対向する1対の電極と、該1対の電極間に電圧を印加する電源部とを有し、
前記1対の電極のうちの一方の電極は、前記ローラの外周面または外周面の近傍の部位で構成されていることが好ましい。
これにより、より確実にローラの外周面を洗浄することができ、また、部品点数を削減することができる。
In the coating apparatus of the present invention, the discharge means includes a pair of electrodes facing each other, and a power supply unit that applies a voltage between the pair of electrodes.
One electrode of the pair of electrodes is preferably constituted by an outer peripheral surface of the roller or a portion in the vicinity of the outer peripheral surface.
As a result, the outer peripheral surface of the roller can be more reliably cleaned, and the number of parts can be reduced.
本発明の塗布装置では、前記1対の電極のうちの他方の電極の前記ローラに対向する面は、前記ローラの外周面に対向した湾曲形状をなしていることが好ましい。
これにより、電極間に均一に放電を生じさせることができ、良好なプラズマを発生させることができる。
本発明の塗布装置では、前記洗浄手段は、生成されたプラズマを放出する放出部を有し、該放出部は、前記ローラの外周面に対向した位置に配置されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面付近以外の部位でプラズマが発生するので、ローラの外周面の損傷(ダメージ)を防止することができ、また、ローラ(ローラの外周面)の材質等の選択の幅が広がる。
In the coating apparatus of the present invention, it is preferable that a surface of the other electrode of the pair of electrodes facing the roller has a curved shape facing the outer peripheral surface of the roller.
As a result, a uniform discharge can be generated between the electrodes, and a good plasma can be generated.
In the coating apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the cleaning unit includes a discharge portion that discharges the generated plasma, and the discharge portion is disposed at a position facing the outer peripheral surface of the roller.
As a result, plasma is generated in a portion other than the vicinity of the outer peripheral surface of the roller, so that damage (damage) of the outer peripheral surface of the roller can be prevented, and the selection range of the material of the roller (outer peripheral surface of the roller), etc. Spread.
本発明の塗布装置では、前記放電手段は、互いに対向する1対の電極と、該1対の電極間に電圧を印加する電源部とを有することが好ましい。
これにより、良好なプラズマを発生させることができる。
本発明の塗布装置では、前記各電極の互いに対向する面に、絶縁層が設けられていることが好ましい。
これにより、アーク放電の発生を防止することができ、良好(均一)なグロー放電(バリア放電)を生じさせることができるので、良好なプラズマを発生させることができる。
In the coating apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the discharge unit includes a pair of electrodes facing each other and a power supply unit that applies a voltage between the pair of electrodes.
Thereby, a favorable plasma can be generated.
In the coating apparatus of this invention, it is preferable that the insulating layer is provided in the mutually opposing surface of each said electrode.
Thereby, generation | occurrence | production of arc discharge can be prevented, and since favorable (uniform) glow discharge (barrier discharge) can be produced, favorable plasma can be generated.
本発明の塗布装置では、前記ローラの外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段を有することが好ましい。
これにより、洗浄に用いられたガスを確実に回収することができ、そのガスに含まれる有機物が再びローラの外周面に付着してしまうのを防止することができる。また、回収されたガスを所定の場所へ排出することもできる。
In the coating apparatus of this invention, it is preferable to have the collection | recovery means which collect | recovers the gas used for the washing | cleaning of the outer peripheral surface of the said roller.
Thereby, the gas used for cleaning can be reliably recovered, and organic substances contained in the gas can be prevented from adhering to the outer peripheral surface of the roller again. Further, the collected gas can be discharged to a predetermined place.
本発明の塗布装置では、前記回収手段は、前記ローラの外周面のうちの前記プラズマにより洗浄される部位を覆い、前記洗浄に用いられたガスを収集する収集部を有することが好ましい。
これにより、洗浄に用いられたガスをより確実に回収することができる。
本発明の塗布装置では、前記ローラの少なくとも外周面を加熱する加熱手段を有し、
前記ローラの外周面を洗浄する際は、前記加熱手段により、該ローラの外周面を加熱するよう構成されていることが好ましい。
これにより、洗浄処理レートが高くなり、洗浄時間(処理時間)を短くすることができる。
In the coating apparatus according to the aspect of the invention, it is preferable that the collection unit includes a collection unit that covers a portion of the outer peripheral surface of the roller that is cleaned by the plasma and collects the gas used for the cleaning.
Thereby, the gas used for washing | cleaning can be collect | recovered more reliably.
In the coating apparatus of the present invention, it has a heating means for heating at least the outer peripheral surface of the roller,
When cleaning the outer peripheral surface of the roller, the outer peripheral surface of the roller is preferably heated by the heating means.
Thereby, the cleaning processing rate is increased, and the cleaning time (processing time) can be shortened.
本発明の塗布装置では、前記洗浄手段は、前記ローラの外周面を洗浄する機能の他に、前記ローラの外周面の改質を行う機能を有することが好ましい。
これにより、容易かつ迅速に、ローラの外周面の改質を行うことができ、これによって、ローラの性能を向上させることができる。
本発明の塗布装置では、前記ローラの外周面の改質においては、前記供給するガスの選択により、前記ローラの外周面に対して親液処理または撥液処理が施されるよう構成されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面のぬれ性を高くしたり、または、低くすることができる。
In the coating apparatus of the present invention, it is preferable that the cleaning unit has a function of modifying the outer peripheral surface of the roller in addition to the function of cleaning the outer peripheral surface of the roller.
As a result, the outer peripheral surface of the roller can be modified easily and quickly, and thereby the performance of the roller can be improved.
In the coating device of the present invention, in modifying the outer peripheral surface of the roller, a lyophilic process or a liquid-repellent process is performed on the outer peripheral surface of the roller by selecting the gas to be supplied. It is preferable.
Thereby, the wettability of the outer peripheral surface of the roller can be increased or decreased.
例えば、ローラの外周面に対して親液処理を施すことにより、ローラの外周面のぬれ性が高まり、これにより、ワークに、均一かつ安定的に液状材料を塗布することができる。
また、例えば、掻き落としローラ等、その外周面が撥液性を有しているのが好ましいローラの外周面に対して、容易に撥液処理を施すことができ、そのローラの外周面のぬれ性を低下させることができる。
For example, by performing lyophilic treatment on the outer peripheral surface of the roller, the wettability of the outer peripheral surface of the roller is increased, and thereby, the liquid material can be uniformly and stably applied to the workpiece.
Further, for example, the outer peripheral surface of a roller whose outer peripheral surface preferably has liquid repellency, such as a scraping roller, can be easily subjected to liquid repellency treatment, and the outer peripheral surface of the roller can be wetted. Can be reduced.
本発明の塗布装置では、前記ローラとして、液状材料をワークに塗布する塗布ローラと、該塗布ローラの外周面に、液状材料を貯留する貯留部からその液状材料を供給する液状材料供給用ローラとを有し、
前記塗布ローラと、前記液状材料供給用ローラとの少なくとも一方に、その外周面を洗浄する前記洗浄手段が設けられていることが好ましい。
これにより、塗布ローラや液状材料供給用ローラの外周面を、容易、迅速、かつ確実に洗浄することができる。
In the coating apparatus of the present invention, as the roller, a coating roller that applies a liquid material to a workpiece, and a liquid material supply roller that supplies the liquid material to the outer peripheral surface of the coating roller from a reservoir that stores the liquid material; Have
It is preferable that at least one of the application roller and the liquid material supply roller is provided with the cleaning means for cleaning the outer peripheral surface thereof.
As a result, the outer peripheral surfaces of the application roller and the liquid material supply roller can be easily, quickly and reliably cleaned.
以下、本発明の塗布装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
<第1実施形態>
図1は、本発明の塗布装置の第1実施形態を模式的に示す断面図(一部ブロック図を含む)である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」、下側を「下」、左側を「左」、右側を「右」と言い、図1中の上下方向を「鉛直方向」、左右方向を「水平方向」と言う。
Hereinafter, the coating device of the present invention will be described in detail based on a preferred embodiment shown in the accompanying drawings.
<First Embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view (including a partial block diagram) schematically showing a first embodiment of a coating apparatus of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 1 is referred to as “upper”, the lower side is referred to as “lower”, the left side is referred to as “left”, the right side is referred to as “right”, and the vertical direction in FIG. The horizontal direction is called “horizontal direction”.
図1に示すように、塗布装置1は、例えばシリコンウエハのような半導体基板等の基板(ワーク)5に液状材料を塗布する塗布ローラ(ローラ)3と、塗布ローラ3の外周面(表面)に液状材料を供給する液状材料供給用ローラ(ローラ)4とを備えており、液状材料供給用ローラ4により液状材料を貯留する貯留部2からその液状材料を塗布ローラ3の外周面に供給し、塗布ローラ3の外周面の液状材料を基板5に接触させて、その基板5上(基板5の表面)に塗布する塗布装置である。 As shown in FIG. 1, a coating apparatus 1 includes a coating roller (roller) 3 for coating a liquid material on a substrate (work) 5 such as a semiconductor substrate such as a silicon wafer, and an outer peripheral surface (surface) of the coating roller 3. And a liquid material supply roller (roller) 4 for supplying the liquid material to the outer peripheral surface of the coating roller 3 from the storage portion 2 for storing the liquid material by the liquid material supply roller 4. In this coating apparatus, the liquid material on the outer peripheral surface of the application roller 3 is brought into contact with the substrate 5 and applied onto the substrate 5 (the surface of the substrate 5).
塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4は、それぞれ、正逆両方向に回転可能に設けられている。また、塗布ローラ3と、液状材料供給用ローラ4とは、互いの外周面同士が所定距離離間するように、水平方向に沿って並設されている。この塗布ローラ3の外周面と、液状材料供給用ローラ4の外周面との間の間隙により、液状材料供給用ローラ4から塗布ローラ3の外周面に供給される液状材料の厚みが規制され、これによって、塗布ローラ3により基板5に塗布される液状材料(塗膜)の厚み(膜厚)が規制される。なお、塗布ローラ3の外周面と、液状材料供給用ローラ4の外周面との間の間隙の長さ(距離)は、図示しない調整機構により調整し得るようになっている。 The application roller 3 and the liquid material supply roller 4 are provided so as to be rotatable in both forward and reverse directions. Further, the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 are juxtaposed along the horizontal direction so that their outer peripheral surfaces are separated from each other by a predetermined distance. The gap between the outer peripheral surface of the application roller 3 and the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 regulates the thickness of the liquid material supplied from the liquid material supply roller 4 to the outer peripheral surface of the application roller 3, As a result, the thickness (film thickness) of the liquid material (coating film) applied to the substrate 5 by the application roller 3 is regulated. The length (distance) of the gap between the outer peripheral surface of the application roller 3 and the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 can be adjusted by an adjusting mechanism (not shown).
本実施形態では、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の位置がそれぞれ固定され、基板5がこれら塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4に対して移動する形態(方式)を採用しており、塗布装置1は、基板5を水平方向に移動させる図示しない搬送装置と、塗布ローラ3を回転させる図示しない駆動装置と、液状材料供給用ローラ4を回転させる図示しない駆動装置とを備えている。 In the present embodiment, a form (system) in which the positions of the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 are fixed and the substrate 5 moves relative to the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 is adopted. The coating device 1 includes a transport device (not shown) that moves the substrate 5 in the horizontal direction, a drive device (not shown) that rotates the coating roller 3, and a drive device (not shown) that rotates the liquid material supply roller 4. .
塗布ローラ3は、略円柱状をなしており、その外周面(表面)は、互いに対向する1対の電極のうちの一方の電極(対向電極)を構成している。この場合、例えば、塗布ローラ3の外周部のみが、前記一方の電極を構成するようになっていてもよく、また、塗布ローラ3の略全体が、前記一方の電極を構成するようになっていてもよい。
塗布ローラ3の上方には、前記1対の電極のうちの他方の電極(印加電極)61と、電極61を支持する支持部63とが設置されている。
電極61は、塗布ローラ3の一端部(図1の紙面に対して垂直な方向の一方の端部)から他端部(図1の紙面に対して垂直な方向の他方の端部)まで延在している。
The application roller 3 has a substantially cylindrical shape, and its outer peripheral surface (surface) constitutes one electrode (counter electrode) of a pair of electrodes facing each other. In this case, for example, only the outer peripheral portion of the application roller 3 may constitute the one electrode, and substantially the entire application roller 3 constitutes the one electrode. May be.
Above the coating roller 3, the other electrode (application electrode) 61 of the pair of electrodes and a support portion 63 that supports the electrode 61 are installed.
The electrode 61 extends from one end portion (one end portion in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1) to the other end portion (the other end portion in a direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1) of the application roller 3. Exist.
また、電極61の塗布ローラ3に対向する面(内面)は、塗布ローラ3の外周面に対向した湾曲形状(湾曲面)をなしている。これにより、電極61と塗布ローラ3の外周面との間の距離(1対の電極間の距離)は、その略全体に渡って略均一(一定)となる。なお、前記電極61と、前記塗布ローラ3の外周面の電極61に対向(対応)する部位とは、一対の平行平板型電極を構成している。 Further, the surface (inner surface) of the electrode 61 facing the application roller 3 has a curved shape (curved surface) facing the outer peripheral surface of the application roller 3. Thereby, the distance (distance between a pair of electrodes) between the electrode 61 and the outer peripheral surface of the application roller 3 is substantially uniform (constant) over substantially the whole. The electrode 61 and the portion facing (corresponding to) the electrode 61 on the outer peripheral surface of the coating roller 3 constitute a pair of parallel plate electrodes.
前記電極61および塗布ローラ3側の電極の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
電極61の塗布ローラ3に対向する面(下面)には、絶縁層62が設けられている。
また、塗布ローラ3の外周部(外周面)には、絶縁層(図示せず)が設けられているのが好ましい。この場合は、その絶縁層の表面が塗布ローラ3の外周面となるので、前記一方の電極は、塗布ローラ3の外周面より内周側の部位(塗布ローラ3の外周面の近傍の部位)で構成される。
The constituent materials of the electrode 61 and the electrode on the application roller 3 side are not particularly limited. For example, a simple metal such as copper, aluminum, iron and silver, an alloy such as stainless steel and brass, an intermetallic compound, etc. Examples thereof include materials having good conductivity.
An insulating layer 62 is provided on the surface (lower surface) of the electrode 61 facing the application roller 3.
Moreover, it is preferable that an insulating layer (not shown) is provided on the outer peripheral portion (outer peripheral surface) of the application roller 3. In this case, since the surface of the insulating layer becomes the outer peripheral surface of the application roller 3, the one electrode is located on the inner peripheral side of the outer peripheral surface of the application roller 3 (site near the outer peripheral surface of the application roller 3). Consists of.
電極61と塗布ローラ3の外周面との間に所定のガスが供給され、電極61と塗布ローラ3の外周面との間(1対の電極間)に、所定の電圧、例えば、高周波電圧(電圧)が印加されると、電極61と塗布ローラ3の外周面の電極61に対向する部位との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電(バリア放電)が生じ、放電によってガスが活性化(電離、イオン化、励起等)され、プラズマが発生し、このプラズマにより、塗布ローラ3の外周面が洗浄(アッシング)される。 A predetermined gas is supplied between the electrode 61 and the outer peripheral surface of the application roller 3, and a predetermined voltage, for example, a high-frequency voltage (between a pair of electrodes) is provided between the electrode 61 and the outer peripheral surface of the application roller 3. When a voltage is applied, an electric field is generated between the electrode 61 and a portion of the outer peripheral surface of the coating roller 3 facing the electrode 61, and a discharge, that is, a glow discharge (barrier discharge) is generated. The gas is activated (ionization, ionization, excitation, etc.) to generate plasma, and the outer peripheral surface of the coating roller 3 is cleaned (ashed) by this plasma.
ここで、前記電極61に絶縁層62、塗布ローラ3に絶縁層を設けることにより、アーク放電の発生を防止することができ、良好(均一)なグロー放電を生じさせることができ、これによって良好なプラズマを発生させることができる。
絶縁層62および塗布ローラ3側の絶縁層の厚みは、それぞれ、厚すぎると、プラズマ(所望の放電)を発生させるために高電圧を要することがあり、また、薄すぎると、電圧印加時に絶縁破壊が起こり、アーク放電が発生することがあるため、0.01〜4mmであるのが好ましく、1〜2mmであるのがより好ましい。
Here, by providing an insulating layer 62 on the electrode 61 and an insulating layer on the coating roller 3, it is possible to prevent the occurrence of arc discharge and to generate a good (uniform) glow discharge. Plasma can be generated.
If the thickness of the insulating layer 62 and the insulating layer on the application roller 3 side is too thick, a high voltage may be required to generate plasma (desired discharge). Since destruction may occur and arc discharge may occur, the thickness is preferably 0.01 to 4 mm, more preferably 1 to 2 mm.
また、絶縁層62および塗布ローラ3側の絶縁層の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、石英ガラス等のガラス、Al2O3、SiO2、ZrO2、TiO2等の金属酸化物、BaTiO3(チタン酸バリウム)等の複酸化物等の絶縁体(誘電体)が挙げられる。
ここで、25℃における比誘電率が10以上のものである誘電体を用いれば、低電圧で高密度のプラズマを発生させることができ、処理効率が向上する。
In addition, the constituent material of the insulating layer 62 and the insulating layer on the application roller 3 side is not particularly limited, but for example, plastic such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, glass such as quartz glass, Al 2 O 3 , Examples thereof include insulators (dielectrics) such as metal oxides such as SiO 2, ZrO 2 , and TiO 2 , and double oxides such as BaTiO 3 (barium titanate).
Here, if a dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more at 25 ° C. is used, high-density plasma can be generated at a low voltage, and the processing efficiency is improved.
また、使用可能な誘電体の比誘電率の上限は特に限定されるものではないが、比誘電率が10〜100のものが好ましい。比誘電率が10以上である誘電体には、ZrO2、TiO2等の金属酸化物、BaTiO3等の複酸化物が該当する。
支持部63は、電極61に電圧を印加する際、その中継部として機能する。このため、支持部63の構成材料としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料を用いるのが好ましい。
Moreover, the upper limit of the dielectric constant of the usable dielectric material is not particularly limited, but those having a relative dielectric constant of 10 to 100 are preferable. The dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more corresponds to a metal oxide such as ZrO 2 or TiO 2 or a double oxide such as BaTiO 3 .
The support part 63 functions as a relay part when a voltage is applied to the electrode 61. For this reason, as a constituent material of the support part 63, it is preferable to use materials having good conductivity such as simple metals such as copper, aluminum, iron, and silver, alloys such as stainless steel and brass, and intermetallic compounds. .
電極61は、導線(ケーブル)111および支持部63を介して、塗布ローラ3側の電極は、導線111を介して、それぞれ、高周波電源(電源部)12に接続されており、これにより、回路11が構成されている。この回路11は、その一部、すなわち、塗布ローラ3の電極側の導線111がアース(接地)されている。なお、塗布ローラ3側の電極と導線111とは、例えば、ブラシ等を用いて接続することができる。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極61と塗布ローラ3側の電極との間に放電を生じさせるときは、高周波電源12が作動して、電極61と塗布ローラ3側の電極との間に高周波電圧(電圧)が印加される。
The electrode 61 is connected to the high-frequency power source (power supply unit) 12 via the conductive wire (cable) 111 and the support portion 63, and the electrode on the application roller 3 side is connected to the high-frequency power source (power supply unit) 12 via the
また、高周波電源12の周波数は、特に限定されないが、10〜50MHzであるのが好ましく、10〜40MHzであるのがより好ましい。
支持部63、電極61および絶縁層62には、その鉛直方向に沿って貫通孔64が形成されている。
また、塗布装置1は、支持部63の貫通孔64の基端(上端)に一端側が接続された供給管13と、供給管13の他端側に接続され、所定のガスを供給するガスボンベ(ガス供給源)14およびガスボンベ14から供給するガスの流量を調整するレギュレータ(流量調整手段)15とを有している。レギュレータ15は、ガスボンベ14より支持部63側に設けられている。また、供給管13のレギュレータ15より支持部63側には、供給管13内の流路を開閉するバルブ(流路開閉手段)16が設けられている。
Further, the frequency of the high-
A through
Further, the coating apparatus 1 includes a
また、塗布装置1は、塗布ローラ3の外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段7を有している。
回収手段7は、塗布ローラ3の外周面のうちのプラズマ(活性化されたガス)により洗浄される部位を覆い、その洗浄に用いられたガスを収集する収集部70を有している。
収集部70は、本実施形態では、支持部63に中央部が固定され、略四角形をなす上壁71と、上壁71の4つの縁部から下方に向って立設された4つの側壁72とで構成されており、その内側に、電極61および塗布ローラ3の外周面の電極61に対向する部位が位置している。収集部70の上壁71には、開口が形成されており、上壁71の外面(上面)には、その開口に連通する貫通孔74を有する取付部73が設けられている。
収集部70の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、Al2O3、石英ガラス等の絶縁体が挙げられる。収集部70を絶縁体で構成することにより、電極61および塗布ローラ3側の電極への電圧印加時に、その収集部70が通電(導通)経路となるのを防止することができる。
Further, the coating apparatus 1 has a collecting means 7 that collects the gas used for cleaning the outer peripheral surface of the coating roller 3.
The collecting means 7 has a collecting
In the present embodiment, the
The constituent material of the
本実施形態では、回収手段7は、塗布ローラ3の外周面の洗浄に用いられたガスを回収し、その回収されたガスを所定の場所へ排出する排気機構を構成している。回収手段7は、さらに、取付部73の貫通孔74の基端(上端)に一端側が接続された送気管17と、塗布ローラ3の外周面の洗浄に用いられたガスを送気する送気手段として、送気管17の他端側に接続され、ガスを吸引するポンプ(送気手段)18とを有している。また、送気管17のポンプ18より収集部側には、送気管17内の流路を開閉するバルブ(流路開閉手段)19が設けられている。ポンプ18としては、例えば、真空ポンプ等を用いることができる。なお、送気手段は、ポンプ18に限定されないことは言うまでもない。
In the present embodiment, the collecting means 7 constitutes an exhaust mechanism that collects the gas used for cleaning the outer peripheral surface of the coating roller 3 and discharges the collected gas to a predetermined place. The recovery means 7 further supplies an
また、塗布ローラ3には、その外周面を加熱するヒータ(加熱手段)31が設けられている。この場合、例えば、塗布ローラ3の外周部のみが、ヒータ31により加熱されるようになっていてもよく、また、塗布ローラ3の略全体が、ヒータ31により加熱されるようになっていてもよい。なお、ヒータ31への電力の供給は、例えば、ブラシ等を介して行うことができる。
塗布ローラ3の外周面を洗浄する際は、ヒータ31により、塗布ローラ3の外周面を加熱する。これにより、洗浄処理レートが高くなり、洗浄時間(処理時間)を短くすることができる。
The application roller 3 is provided with a heater (heating means) 31 for heating the outer peripheral surface thereof. In this case, for example, only the outer peripheral portion of the application roller 3 may be heated by the
When cleaning the outer peripheral surface of the application roller 3, the outer peripheral surface of the application roller 3 is heated by the
なお、前記ガスボンベ14、レギュレータ15、バルブ16、供給管13および貫通孔64により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、前記高周波電源12、導線111、電極61、絶縁層62、塗布ローラ3側の電極および塗布ローラ3側の絶縁層により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより塗布ローラ3の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
The
液状材料供給用ローラ4は、前記塗布ローラ3の右側に配置されている。そして、液状材料供給用ローラ4は、前記塗布ローラ3と同様に、略円柱状をなしており、その外周面(表面)は、互いに対向する1対の電極のうちの一方の電極(対向電極)を構成している。この場合、例えば、液状材料供給用ローラ4の外周部のみが、前記一方の電極を構成するようになっていてもよく、また、液状材料供給用ローラ4の略全体が、前記一方の電極を構成するようになっていてもよい。 The liquid material supply roller 4 is arranged on the right side of the application roller 3. The liquid material supply roller 4 has a substantially cylindrical shape, similar to the application roller 3, and the outer peripheral surface (surface) thereof is one of a pair of electrodes facing each other (the counter electrode). ). In this case, for example, only the outer peripheral portion of the liquid material supply roller 4 may constitute the one electrode, and substantially the entire liquid material supply roller 4 may have the one electrode. It may be configured.
液状材料供給用ローラ4の上方には、前記1対の電極のうちの他方の電極(印加電極)81と、電極81を支持する支持部83とが設置されている。
電極81は、液状材料供給用ローラ4の一端部(図1の紙面に対して垂直な方向の一方の端部)から他端部(図1の紙面に対して垂直な方向の他方の端部)まで延在している。
また、電極81の液状材料供給用ローラ4に対向する面(内面)は、液状材料供給用ローラ4の外周面に対向した湾曲形状(湾曲面)をなしている。これにより、電極81と液状材料供給用ローラ4の外周面との間の距離(1対の電極間の距離)は、その略全体に渡って略均一(一定)となる。なお、前記電極81と、前記液状材料供給用ローラ4の外周面の電極81に対向(対応)する部位とは、一対の平行平板型電極を構成している。
Above the liquid material supply roller 4, the other electrode (application electrode) 81 of the pair of electrodes and a
The
Further, the surface (inner surface) of the
前記電極81および液状材料供給用ローラ4側の電極の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
電極81の液状材料供給用ローラ4に対向する面(下面)には、絶縁層82が設けられている。
また、液状材料供給用ローラ4の外周部(外周面)には、絶縁層(図示せず)が設けられているのが好ましい。この場合は、その絶縁層の表面が液状材料供給用ローラ4の外周面となるので、前記一方の電極は、液状材料供給用ローラ4の外周面より内周側の部位(液状材料供給用ローラ4の外周面の近傍の部位)で構成される。
The constituent material of the
An insulating
In addition, an insulating layer (not shown) is preferably provided on the outer peripheral portion (outer peripheral surface) of the liquid material supply roller 4. In this case, since the surface of the insulating layer becomes the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4, the one electrode is located on the inner peripheral side of the liquid material supply roller 4 (liquid material supply roller). 4 near the outer peripheral surface).
電極81と液状材料供給用ローラ4の外周面との間に所定のガスが供給され、電極81と液状材料供給用ローラ4の外周面との間(1対の電極間)に、所定の電圧、例えば、高周波電圧(電圧)が印加されると、電極81と液状材料供給用ローラ4の外周面の電極81に対向する部位との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電(バリア放電)が生じ、放電によってガスが活性化(電離、イオン化、励起等)され、プラズマが発生し、このプラズマにより、液状材料供給用ローラ4の外周面が洗浄される。
ここで、前記電極81に絶縁層82、液状材料供給用ローラ4に絶縁層を設けることにより、アーク放電の発生を防止することができ、良好(均一)なグロー放電を生じさせることができ、これによって良好なプラズマを発生させることができる。
A predetermined gas is supplied between the
Here, by providing the
絶縁層82および液状材料供給用ローラ4側の絶縁層の厚みは、それぞれ、厚すぎると、プラズマ(所望の放電)を発生させるために高電圧を要することがあり、また、薄すぎると、電圧印加時に絶縁破壊が起こり、アーク放電が発生することがあるため、0.01〜4mmであるのが好ましく、1〜2mmであるのがより好ましい。
また、絶縁層82および液状材料供給用ローラ4側の絶縁層の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、石英ガラス等のガラス、Al2O3、SiO2、ZrO2、TiO2等の金属酸化物、BaTiO3(チタン酸バリウム)等の複酸化物等の絶縁体(誘電体)が挙げられる。
ここで、25℃における比誘電率が10以上のものである誘電体を用いれば、低電圧で高密度のプラズマを発生させることができ、処理効率が向上する。
If the thickness of the insulating
The constituent materials of the insulating
Here, if a dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more at 25 ° C. is used, high-density plasma can be generated at a low voltage, and the processing efficiency is improved.
また、使用可能な誘電体の比誘電率の上限は特に限定されるものではないが、比誘電率が10〜100のものが好ましい。比誘電率が10以上である誘電体には、ZrO2、TiO2等の金属酸化物、BaTiO3等の複酸化物が該当する。
支持部83は、電極81に電圧を印加する際、その中継部として機能する。このため、支持部83の構成材料としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料を用いるのが好ましい。
Moreover, the upper limit of the dielectric constant of the usable dielectric material is not particularly limited, but those having a relative dielectric constant of 10 to 100 are preferable. The dielectric having a relative dielectric constant of 10 or more corresponds to a metal oxide such as ZrO 2 or TiO 2 or a double oxide such as BaTiO 3 .
The
電極81は、導線(ケーブル)211および支持部83を介して、液状材料供給用ローラ4側の電極は、導線211を介して、それぞれ、高周波電源(電源部)22に接続されており、これにより、回路21が構成されている。この回路21は、その一部、すなわち、液状材料供給用ローラ4の電極側の導線211がアース(接地)されている。なお、液状材料供給用ローラ4側の電極と導線211とは、例えば、ブラシ等を用いて接続することができる。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極81と液状材料供給用ローラ4側の電極との間に放電を生じさせるときは、高周波電源22が作動して、電極81と液状材料供給用ローラ4側の電極との間に高周波電圧(電圧)が印加される。
The
また、高周波電源22の周波数は、特に限定されないが、10〜50MHzであるのが好ましく、10〜40MHzであるのがより好ましい。
支持部83、電極81および絶縁層82には、その鉛直方向に沿って貫通孔84が形成されている。
また、塗布装置1は、支持部83の貫通孔84の基端(上端)に一端側が接続された供給管23と、供給管23の他端側に接続され、所定のガスを供給するガスボンベ(ガス供給源)24およびガスボンベ24から供給するガスの流量を調整するレギュレータ(流量調整手段)25とを有している。レギュレータ25は、ガスボンベ24より支持部83側に設けられている。また、供給管23のレギュレータ25より支持部83側には、供給管23内の流路を開閉するバルブ(流路開閉手段)26が設けられている。
Moreover, the frequency of the high
A through
In addition, the coating apparatus 1 includes a
また、塗布装置1は、液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段9を有している。
回収手段9は、液状材料供給用ローラ4の外周面のうちのプラズマ(活性化されたガス)により洗浄される部位を覆い、その洗浄に用いられたガスを収集する収集部90を有している。
Further, the coating apparatus 1 has a recovery means 9 that recovers the gas used for cleaning the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4.
The recovery means 9 has a collecting
収集部90は、本実施形態では、支持部83に中央部が固定され、略四角形をなす上壁91と、上壁91の4つの縁部から下方に向って立設された4つの側壁92とで構成されており、その内側に、電極81および液状材料供給用ローラ4の外周面の電極81に対向する部位が位置している。収集部90の上壁91には、開口が形成されており、上壁91の外面(上面)には、その開口に連通する貫通孔94を有する取付部93が設けられている。
収集部90の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、Al2O3、石英ガラス等の絶縁体が挙げられる。収集部90を絶縁体で構成することにより、電極81および液状材料供給用ローラ4側の電極への電圧印加時に、その収集部90が通電(導通)経路となるのを防止することができる。
In the present embodiment, the
The constituent material of the collecting
本実施形態では、回収手段9は、液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄に用いられたガスを回収し、その回収されたガスを所定の場所へ排出する排気機構を構成している。回収手段9は、さらに、取付部93の貫通孔94の基端(上端)に一端側が接続された送気管27と、液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄に用いられたガスを送気する送気手段として、送気管27の他端側に接続され、ガスを吸引するポンプ(送気手段)28とを有している。また、送気管27のポンプ28より収集部側には、送気管27内の流路を開閉するバルブ(流路開閉手段)29が設けられている。ポンプ28としては、例えば、真空ポンプ等を用いることができる。なお、送気手段は、ポンプ28に限定されないことは言うまでもない。
In the present embodiment, the recovery means 9 constitutes an exhaust mechanism that recovers the gas used for cleaning the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 and discharges the recovered gas to a predetermined place. The recovery means 9 further supplies gas used for cleaning the
また、液状材料供給用ローラ4には、その外周面を加熱するヒータ(加熱手段)32が設けられている。この場合、例えば、液状材料供給用ローラ4の外周部のみが、ヒータ32により加熱されるようになっていてもよく、また、液状材料供給用ローラ4の略全体が、ヒータ32により加熱されるようになっていてもよい。なお、ヒータ32への電力の供給は、例えば、ブラシ等を介して行うことができる。
The liquid material supply roller 4 is provided with a heater (heating means) 32 for heating the outer peripheral surface thereof. In this case, for example, only the outer peripheral portion of the liquid material supply roller 4 may be heated by the
液状材料供給用ローラ4の外周面を洗浄する際は、ヒータ32により、液状材料供給用ローラ4の外周面を加熱する。これにより、洗浄処理レートが高くなり、洗浄時間(処理時間)を短くすることができる。
なお、前記ガスボンベ24、レギュレータ25、バルブ26、供給管23および貫通孔84により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、前記高周波電源22、導線211、電極81、絶縁層82、液状材料供給用ローラ4側の電極および液状材料供給用ローラ4側の絶縁層により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより液状材料供給用ローラ4の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
When the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 is cleaned, the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 is heated by the
The
ここで、前記塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面(以下、単に「外周面」とも言う)の洗浄(例えば、液状材料やその乾燥物等の有機物の除去)に用いるガスとしては、それぞれ、放電によってプラズマが発生し、このプラズマによりそ外周面を洗浄し得るものであれば、特に限定されないが、例えば、下記(1)および(2)が挙げられる。
(1)O2ガス等の酸素系ガス、He、Ne、Ar、Xe等の希ガス、N2ガス等
(2)処理ガスとキャリアガスとからなる混合ガス
処理ガスとしては、例えば、O2ガス等の酸素系ガス等が用いられる。また、キャリアガスとしては、例えば、He、Ne、Ar、Xe等の希ガス、N2ガス等が用いられる。前記「キャリアガス」とは、放電開始と放電維持のために導入するガスのことを言う。
Here, as a gas used for cleaning (for example, removing organic materials such as a liquid material and a dried product thereof) of the outer peripheral surfaces (hereinafter also simply referred to as “peripheral surfaces”) of the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4, As long as plasma is generated by discharge and the outer peripheral surface can be cleaned by this plasma, there is no particular limitation, and examples thereof include (1) and (2) below.
(1) Oxygen gas such as O 2 gas, rare gas such as He, Ne, Ar, and Xe, N 2 gas, etc. (2) Mixed gas composed of processing gas and carrier gas Examples of processing gas include O 2 An oxygen-based gas such as a gas is used. As the carrier gas, for example, a rare gas such as He, Ne, Ar, Xe, N 2 gas, or the like is used. The “carrier gas” refers to a gas introduced for starting discharge and maintaining discharge.
なお、混合ガスにおける処理ガスの占める割合は、特に限定されないが、処理ガスの割合が大きすぎると、放電が生じ難くなったり、洗浄処理レートが低下したりすることがあるため、例えば、その割合が1〜10%であるのが好ましい。
また、塗布装置1の洗浄手段は、外周面を洗浄する機能の他に、外周面の改質を行う機能を有している。これにより、容易かつ迅速に、外周面の改質を行うことができ、これによって、塗布ローラ3や液状材料供給用ローラ4の性能を向上させることができる。なお、外周面の洗浄(洗浄処理)と、外周面の改質(改質処理)とは、別々に行うこともでき、また、同時に行うこともできる。
Note that the ratio of the processing gas in the mixed gas is not particularly limited, but if the ratio of the processing gas is too large, discharge may be difficult to occur or the cleaning processing rate may be reduced. Is preferably 1 to 10%.
The cleaning means of the coating apparatus 1 has a function of modifying the outer peripheral surface in addition to the function of cleaning the outer peripheral surface. As a result, the outer peripheral surface can be modified easily and quickly, whereby the performance of the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 can be improved. The cleaning of the outer peripheral surface (cleaning process) and the reforming of the outer peripheral surface (reforming process) can be performed separately or simultaneously.
外周面の改質においては、例えば、用いる(供給する)ガスの選択により、外周面に対し、その外周面を親水化(親液化)する親水処理(親液処理)または撥水化(撥液化)する撥水処理(撥液処理)を施すことができる。なお、通常は、前記外周面の洗浄と、その外周面の親水処理とは、同時に行われる。
外周面に対して撥水処理を施すことにより、外周面のぬれ性が低下する。
In the modification of the outer peripheral surface, for example, by selecting a gas to be used (supplied), the outer peripheral surface is hydrophilized (lyophilic) or water repellent (liquid repellent). Water repellent treatment (liquid repellent treatment). Normally, the cleaning of the outer peripheral surface and the hydrophilic treatment of the outer peripheral surface are performed simultaneously.
By performing the water repellent treatment on the outer peripheral surface, the wettability of the outer peripheral surface is lowered.
この撥水処理では、処理ガスとキャリアガスとからなる混合ガスを用いるのが好ましい。処理ガスとしては、例えば、CF4、C2F6、C3F6、CC1F3、SF6等のフッ素原子含有化合物ガス等が用いられる。また、キャリアガスとしては、例えば、He、Ne、Ar、Xe等の希ガス、N2ガス等が用いられる。
また、外周面に対して親水処理を施すことにより、外周面のぬれ性が高まり、これにより、基板5に、均一かつ安定的に液状材料を塗布することができる。
In this water repellent treatment, it is preferable to use a mixed gas composed of a treatment gas and a carrier gas. As the processing gas, for example, a fluorine atom-containing compound gas such as CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 6 , CC1F 3 , SF 6 or the like is used. As the carrier gas, for example, a rare gas such as He, Ne, Ar, Xe, N 2 gas, or the like is used.
In addition, by applying a hydrophilic treatment to the outer peripheral surface, the wettability of the outer peripheral surface is increased, whereby the liquid material can be uniformly and stably applied to the substrate 5.
この親水処理では、処理ガスとキャリアガスとからなる混合ガスを用いるのが好ましい。処理ガスとしては、例えば、O2、O3、H2O、空気等の酸素原子含有化合物、N2、NH3等の窒素原子含有化合物、SO2、SO3等の硫黄原子含有化合物等が用いられる。これにより、外周面にカルボニル基、水酸基、アミノ基等の親水性官能基を形成させて表面エネルギーを高くし、親水性表面(親液成表面)を得ることができる。また、アクリル酸、メタクリル酸等の親水基を有する重合性モノマーを用いて親水性重合膜を堆積(形成)することもできる。また、キャリアガスとしては、例えば、He、Ne、Ar、Xe等の希ガス、N2ガス等が用いられる。 In this hydrophilic treatment, it is preferable to use a mixed gas composed of a treatment gas and a carrier gas. Examples of the processing gas include oxygen atom-containing compounds such as O 2 , O 3 , H 2 O, and air, nitrogen atom-containing compounds such as N 2 and NH 3 , and sulfur atom-containing compounds such as SO 2 and SO 3. Used. Thereby, hydrophilic functional groups, such as a carbonyl group, a hydroxyl group, and an amino group, can be formed on the outer peripheral surface to increase the surface energy and obtain a hydrophilic surface (lyophilic surface). Alternatively, a hydrophilic polymer film can be deposited (formed) using a polymerizable monomer having a hydrophilic group such as acrylic acid or methacrylic acid. As the carrier gas, for example, a rare gas such as He, Ne, Ar, Xe, N 2 gas, or the like is used.
次に、図1に基づいて、塗布装置1の作用(動作)を説明する。この場合、1例として、基板5の表面に、液状材料を塗布して塗膜(被膜)を形成し、その後、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面をそれぞれ洗浄する場合について説明する。
基板5の表面に液状材料を塗布して塗膜を形成する際は、バルブ16、19、26および29を閉じた状態で、図示しない搬送装置の作動により、基板5を左側に移動しつつ、図示しない駆動装置により、塗布ローラ3を図1中時計回りに回転させ、図示しない駆動装置により、液状材料供給用ローラ4を図1中時計回りに回転させる。
Next, the operation (operation) of the coating apparatus 1 will be described with reference to FIG. In this case, as an example, a case where a liquid material is applied to the surface of the substrate 5 to form a coating film (coating film) and then the outer peripheral surfaces of the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 are respectively cleaned will be described. To do.
When applying a liquid material to the surface of the substrate 5 to form a coating film, with the
これにより、液状材料供給用ローラ4の表面に、貯留部2に貯留されている液状材料が付着し、液状材料供給用ローラ4の外周面から塗布ローラ3の外周面に、液状材料が供給される。この際、塗布ローラ3の外周面と、液状材料供給用ローラ4の外周面との間の間隙により、塗布ローラ3の外周面に供給される液状材料の厚み(塗布ローラ3により基板5に塗布される液状材料の厚み)が規制される。
そして、塗布ローラ3の回転に伴って、その外周面の液状材料が基板5の表面に塗布される。これにより、基板5の表面に、液状材料の塗膜が形成される。また、基板5は、次の工程(処理)のために、別の装置へ搬送される。
As a result, the liquid material stored in the storage unit 2 adheres to the surface of the liquid material supply roller 4, and the liquid material is supplied from the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 to the outer peripheral surface of the application roller 3. The At this time, the thickness of the liquid material supplied to the outer peripheral surface of the application roller 3 (applied to the substrate 5 by the application roller 3) by the gap between the outer peripheral surface of the application roller 3 and the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4. The thickness of the liquid material to be controlled).
Then, as the application roller 3 rotates, the liquid material on the outer peripheral surface is applied to the surface of the substrate 5. Thereby, a coating film of the liquid material is formed on the surface of the substrate 5. The substrate 5 is transported to another apparatus for the next step (processing).
次に、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄をそれぞれ行う。
塗布ローラ3の外周面の洗浄を行う際は、ヒータ31より、塗布ローラ3の外周面を加熱するとともに、図示しない駆動装置により、塗布ローラ3を回転させる。そして、バルブ16を開き、レギュレータ15によりガスの流量を調整し、ガスボンベ14からガスを送出するとともに、高周波電源12を作動させ、さらに、バルブ19を開き、ポンプ18を作動させてガスを吸引する。
Next, the outer peripheral surfaces of the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 are respectively cleaned.
When cleaning the outer peripheral surface of the application roller 3, the outer peripheral surface of the application roller 3 is heated by the
なお、塗布ローラ3の外周面の温度は、特に限定されないが、50℃以上であるのが好ましい。
また、供給するガスの流量は、特に限定されないが、30SCCM〜3SLMであるのが好ましい。
これにより、ガスボンベ14から送出されたガスは、供給管13内を流れ、支持部63の貫通孔64内に導入され、その貫通孔64を流れ、電極61と塗布ローラ3側の電極との間(塗布ローラ3の外周面およびその近傍)に導入(供給)される。
The temperature of the outer peripheral surface of the application roller 3 is not particularly limited, but is preferably 50 ° C. or higher.
The flow rate of the gas to be supplied is not particularly limited, but is preferably 30 SCCM to 3 SLM.
Thereby, the gas sent out from the
そして、高周波電源12の作動により、電極61と塗布ローラ3側の電極との間に、高周波電圧が印加され、その電極61と塗布ローラ3側の電極との間に、電界が発生して放電が生じ、その放電によってガスが活性化され、プラズマが発生し、このプラズマ(活性化されたガス)により塗布ローラ3の外周面が洗浄される。
この場合、塗布ローラ3の外周面に付着している液状材料やその乾燥物等の有機物は、前記活性化されたガスと反応して、除去される。また、前記有機物は、ガス化し、洗浄に用いられたガスとともに、収集部70によって収集される。
Then, by the operation of the high-
In this case, the liquid material adhering to the outer peripheral surface of the application roller 3 and the organic matter such as a dried product thereof are removed by reacting with the activated gas. The organic matter is gasified and collected by the collecting
収集部70内のガスは、ポンプ18により吸引され、貫通孔74から流出し、送気管17内を流れ、所定の場所へ排出される。これにより、ガスを容易かつ確実に、回収し、排出することができ、そのガスに含まれる有機物が再び塗布ローラ3の外周面に付着してしまうのを防止することができる。
また、液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄を行う際は、貯留部2内の液状材料を排出した後、ヒータ32より、液状材料供給用ローラ4の外周面を加熱するとともに、図示しない駆動装置により、液状材料供給用ローラ4を回転させる。そして、バルブ26を開き、レギュレータ25によりガスの流量を調整し、ガスボンベ24からガスを送出するとともに、高周波電源22を作動させ、さらに、バルブ29を開き、ポンプ28を作動させてガスを吸引する。
The gas in the
When cleaning the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4, the liquid material in the reservoir 2 is discharged, and then the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 is heated by the
なお、液状材料供給用ローラ4の外周面の温度は、特に限定されないが、50℃以上であるのが好ましい。
また、供給するガスの流量は、特に限定されないが、30SCCM〜10SLMであるのが好ましい。
これにより、ガスボンベ24から送出されたガスは、供給管23内を流れ、支持部83の貫通孔84内に導入され、その貫通孔84を流れ、電極81と液状材料供給用ローラ4側の電極との間(液状材料供給用ローラ4の外周面およびその近傍)に導入(供給)される。
The temperature of the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 is not particularly limited, but is preferably 50 ° C. or higher.
The flow rate of the gas to be supplied is not particularly limited, but is preferably 30 SCCM to 10 SLM.
As a result, the gas delivered from the
そして、高周波電源22の作動により、電極81と液状材料供給用ローラ4側の電極との間に、高周波電圧が印加され、その電極81と液状材料供給用ローラ4側の電極との間に、電界が発生して放電が生じ、その放電によってガスが活性化され、プラズマが発生し、このプラズマ(活性化されたガス)により液状材料供給用ローラ4の外周面が洗浄される。
Then, by the operation of the high
この場合、液状材料供給用ローラ4の外周面に付着している液状材料やその乾燥物等の有機物は、前記活性化されたガスと反応して、除去される。また、前記有機物は、ガス化し、洗浄に用いられたガスとともに、収集部90によって収集される。
収集部90内のガスは、ポンプ28により吸引され、貫通孔94から流出し、送気管27内を流れ、所定の場所へ排出される。これにより、ガスを容易かつ確実に、回収し、排出することができ、そのガスに含まれる有機物が再び液状材料供給用ローラ4の外周面に付着してしまうのを防止することができる。
In this case, the liquid material adhering to the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 and the organic matter such as a dried product thereof are removed by reacting with the activated gas. The organic matter is gasified and collected by the collecting
The gas in the
以上説明したように、この塗布装置1によれば、容易、迅速、かつ確実に、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面を洗浄することができる。
すなわち、塗布装置1の洗浄手段は、プラズマを利用したドライ(DRA)方式であるので、ウェット方式のような薬液が不要であり、廃液処理や塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の乾燥工程が不要である。
As described above, according to this coating apparatus 1, the outer peripheral surfaces of the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 can be cleaned easily, quickly, and reliably.
That is, since the cleaning means of the coating apparatus 1 is a dry (DRA) system using plasma, no chemical solution as in the wet system is required, and the outer peripheral surfaces of the waste liquid treatment and the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 are eliminated. This drying step is unnecessary.
また、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄の際、ウェット方式のように洗浄用布やベンコットン等より発生するゴミ(例えば、ケバ等)がその外周面に付着することがなく、外周面を確実に洗浄することができる。
また、塗布装置1自体が洗浄手段を有しているので、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4を取り外すことなく(塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4を取り付けた状態で)、その外周面を洗浄することができ、また、別途、洗浄のための設備を設ける必要がない。
また、塗布ローラ3の外周面およびその近傍、液状材料供給用ローラ4の外周面およびその近傍においてプラズマが発生するので、洗浄処理レートが高く、洗浄時間(処理時間)を短くすることができる。
Further, when the outer peripheral surfaces of the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 are cleaned, dust (for example, scraps, etc.) generated from a cleaning cloth or Bencotton adheres to the outer peripheral surfaces as in the wet method. The outer peripheral surface can be reliably cleaned.
Further, since the coating device 1 itself has a cleaning means, the outer periphery of the coating device 1 without removing the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 (with the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 attached). The surface can be cleaned, and there is no need to provide a separate cleaning facility.
Further, since plasma is generated on and around the outer peripheral surface of the coating roller 3 and on the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4, the cleaning processing rate is high and the cleaning time (processing time) can be shortened.
また、この塗布装置1では、基板5の表面に液状材料を塗布して塗膜を形成している最中でも、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の洗浄をそれぞれ行うことができる。この場合は、塗布ローラ3の外周面から基板5の表面に液状材料が塗布された後、塗布ローラ3の外周面の液状材料が付着していた部位は、塗布ローラ3が回転することにより、電極61の下方(対向部)に移動し、発生したプラズマによって洗浄される。同様に、液状材料供給用ローラ4の外周面から塗布ローラ3の外周面に液状材料が供給された後、液状材料供給用ローラ4の外周面の液状材料が付着していた部位は、液状材料供給用ローラ4が回転することにより、電極81の下方(対向部)に移動し、発生したプラズマによって洗浄される。
また、この塗布装置1では、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の改質をそれぞれ行うことができ、また、基板5の表面に液状材料を塗布して塗膜を形成している最中でも、その外周面の洗浄とともに、外周面の改質(例えば、親水処理)を行うことができる。
In the coating apparatus 1, the outer peripheral surfaces of the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 can be cleaned while the liquid material is applied to the surface of the substrate 5 to form a coating film. . In this case, after the liquid material is applied to the surface of the substrate 5 from the outer peripheral surface of the application roller 3, the portion of the outer peripheral surface of the application roller 3 to which the liquid material has adhered is rotated by the rotation of the application roller 3. It moves below the electrode 61 (opposite part) and is cleaned by the generated plasma. Similarly, after the liquid material is supplied from the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 to the outer peripheral surface of the application roller 3, the portion of the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4 to which the liquid material has adhered is the liquid material. When the supply roller 4 rotates, it moves below the electrode 81 (opposite part) and is cleaned by the generated plasma.
Further, in this coating apparatus 1, the outer peripheral surfaces of the coating roller 3 and the liquid material supply roller 4 can be modified, respectively, and the coating material is formed by coating the liquid material on the surface of the substrate 5. While the outer peripheral surface is being cleaned, the outer peripheral surface can be modified (for example, hydrophilic treatment).
<第2実施形態>
図2は、本発明の塗布装置の第2実施形態を模式的に示す断面図(一部ブロック図を含む)、図3は、図2中のプラズマ発生部のA−A線での断面図、図4は、図2中のプラズマ発生部のB−B線での断面図である。なお、以下の説明では、図2中の上側を「上」、下側を「下」、左側を「左」、右側を「右」と言い、図2中の上下方向を「鉛直方向」、左右方向を「水平方向」と言う。また、図3および図4中の左側を「左」、右側を「右」と言い、図3および図4中の、左右方向を「水平方向」と言う。
Second Embodiment
FIG. 2 is a cross-sectional view (including a partial block diagram) schematically showing a second embodiment of the coating apparatus of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of the plasma generator in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB of the plasma generation unit in FIG. In the following description, the upper side in FIG. 2 is referred to as “upper”, the lower side is referred to as “lower”, the left side is referred to as “left”, the right side is referred to as “right”, and the vertical direction in FIG. The horizontal direction is called “horizontal direction”. Also, the left side in FIGS. 3 and 4 is referred to as “left”, the right side is referred to as “right”, and the left-right direction in FIGS. 3 and 4 is referred to as “horizontal direction”.
以下、第2実施形態の塗布装置について、前述した第1実施形態との違いを中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
これらの図に示すように、第2実施形態の塗布装置1では、塗布ローラ3の上方に、プラズマを発生するプラズマ発生部40が設けられており、同様に、液状材料供給用ローラ4の上方に、プラズマを発生するプラズマ発生部50が設けられている。
Hereinafter, the coating apparatus according to the second embodiment will be described with a focus on differences from the first embodiment described above, and description of similar matters will be omitted.
As shown in these drawings, in the coating apparatus 1 of the second embodiment, a
プラズマ発生部40は、互いに対向する1対の電極(印加電極)41および電極(対向電極)42と、電極41および42の互いに対向する面(内面)に設けられた絶縁層43および44と、電極41および42の両側部に固着され、互いに対向する1対の側壁45および46とで構成されている。
電極41および42は、それぞれ、四角形の板状をなし、塗布ローラ3の一端部(図2の紙面に対して垂直な方向の一方の端部)またはその近傍から他端部(図2の紙面に対して垂直な方向の他方の端部)またはその近傍まで延在している。そして、電極41および42は、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面(内面)同士が略平行になるように配置されている。なお、前記電極41および42は、一対の平行平板型電極を構成している。
The
Each of the
また、側壁45および46は、それぞれ、四角形の板状をなしており、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面(内面)同士が略平行になるように配置されている。また、側壁45および46は、それぞれ、絶縁性を有し(絶縁体で構成され)、側壁45、46を介して電極41と電極42とが導通しない(絶縁される)ようになっている。
電極41および42の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
なお、絶縁層43および44については、前述した第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
このプラズマ発生部40は、その貫通孔48の先端(下端)の放出口(放出部)47が、塗布ローラ3の外周面に対向した位置に位置するように配置されている。
Each of the
The constituent materials of the
The insulating layers 43 and 44 are the same as those in the first embodiment described above, and thus the description thereof is omitted.
The
また、電極41および42は、それぞれ、導線(ケーブル)111を介して、高周波電源(電源部)12に接続されており、これにより、回路11が構成されている。この回路11は、その一部、すなわち、電極42側の導線111がアース(接地)されている。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極41と電極42との間に放電を生じさせるときは、高周波電源12が作動して、電極41と電極42との間に高周波電圧(電圧)が印加される。
The
プラズマ発生部40の貫通孔48内に所定のガスが供給され、電極41と電極42との間に、所定の電圧、例えば、高周波電圧(電圧)が印加されると、電極41と電極42との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電(バリア放電)が生じ、放電によってガスが活性化(電離、イオン化、励起等)され、プラズマが発生する。発生したプラズマは、プラズマ発生部40の放出口47から放出され、このプラズマにより塗布ローラ3の外周面が洗浄される。
When a predetermined gas is supplied into the through
また、回収手段7の収集部70は、その上壁71の中央部において、プラズマ発生部40の先端部(下部)に固定されており、プラズマ発生部40の放出口47は、収集部70の内側に位置している。
また、供給管13の一端側は、プラズマ発生部40の貫通孔48の基端(上端)に接続されている。
Further, the
Further, one end side of the
なお、ガスボンベ14、レギュレータ15、バルブ16および供給管13により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、高周波電源12、導線111およびプラズマ発生部40(電極41、42、絶縁層43および44)により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより塗布ローラ3の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
The
プラズマ発生部50は、前記プラズマ発生部と同様に、互いに対向する1対の電極(印加電極)51および電極(対向電極)52と、電極51および52の互いに対向する面(内面)に設けられた絶縁層53および54と、電極51および52の両側部に固着され、互いに対向する1対の側壁55および56とで構成されている。
電極51および52は、それぞれ、四角形の板状をなし、液状材料供給用ローラ4の一端部(図2の紙面に対して垂直な方向の一方の端部)またはその近傍から他端部(図2の紙面に対して垂直な方向の他方の端部)またはその近傍まで延在している。そして、電極51および52は、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面(内面)同士が略平行になるように配置されている。なお、前記電極51および52は、一対の平行平板型電極を構成している。
Similarly to the plasma generation unit, the
Each of the
また、側壁55および56は、それぞれ、四角形の板状をなしており、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面(内面)同士が略平行になるように配置されている。また、側壁55および56は、それぞれ、絶縁性を有し(絶縁体で構成され)、側壁55、56を介して電極51と電極52とが導通しない(絶縁される)ようになっている。
電極51および52の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
なお、絶縁層53および54については、前述した第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
このプラズマ発生部50は、その貫通孔58の先端(下端)の放出口(放出部)57が、液状材料供給用ローラ4の外周面に対向した位置に位置するように配置されている。
Further, the
The constituent materials of the
Note that the insulating
The
また、電極51および52は、それぞれ、導線(ケーブル)211を介して、高周波電源(電源部)22に接続されており、これにより、回路21が構成されている。この回路21は、その一部、すなわち、電極52側の導線211がアース(接地)されている。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極51と電極52との間に放電を生じさせるときは、高周波電源22が作動して、電極51と電極52との間に高周波電圧(電圧)が印加される。
The
プラズマ発生部50の貫通孔58内に所定のガスが供給され、電極51と電極52との間に、所定の電圧、例えば、高周波電圧(電圧)が印加されると、電極51と電極52との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電(バリア放電)が生じ、放電によってガスが活性化(電離、イオン化、励起等)され、プラズマが発生する。発生したプラズマは、プラズマ発生部50の放出口57から放出され、このプラズマにより液状材料供給用ローラ4の外周面が洗浄される。
When a predetermined gas is supplied into the through
また、回収手段9の収集部90は、その上壁91の中央部において、プラズマ発生部50の先端部(下部)に固定されており、プラズマ発生部50の放出口57は、収集部90の内側に位置している。
また、供給管23の一端側は、プラズマ発生部50の貫通孔58の基端(上端)に接続されている。
The
Further, one end side of the
なお、ガスボンベ24、レギュレータ25、バルブ26および供給管23により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、高周波電源22、導線211およびプラズマ発生部50(電極51、52、絶縁層53および54)により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより液状材料供給用ローラ4の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
この塗布装置1によれば、前述した第1実施形態の塗布装置1と同様の効果が得られる。
The
According to this coating apparatus 1, the same effect as the coating apparatus 1 of 1st Embodiment mentioned above is acquired.
そして、この塗布装置1では、塗布ローラ3の外周面付近以外の部位および液状材料供給用ローラ4の外周面付近以外の部位でプラズマが発生するので、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の損傷(ダメージ)を防止することができ、また、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の材質(特に、塗布ローラ3および液状材料供給用ローラ4の外周面の材質)等の選択の幅が広がる。 In this coating apparatus 1, since plasma is generated in a portion other than the vicinity of the outer peripheral surface of the application roller 3 and a portion other than the vicinity of the outer peripheral surface of the liquid material supply roller 4, the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 The outer peripheral surface can be prevented from being damaged (damage), and the material of the application roller 3 and the liquid material supply roller 4 (particularly, the material of the outer peripheral surface of the application roller 3 and the liquid material supply roller 4) can be selected. The width of.
ここで、本発明では、塗布装置が、塗布ローラ3等の所定のローラの外周面に付着した液状材料を掻き落とす掻き落としローラを備えている場合、その掻き落としローラの外周面をプラズマにより洗浄する洗浄手段を設けてもよい。掻き落としローラの外周面は、例えば、樹脂やゴム等の有機物で構成されている場合が多いので、洗浄手段としては、前記第2実施形態と同様の構成のものを用いるのが好ましく、これにより、洗浄の際、掻き落としローラの外周面へ与えるダメージを低減することができる。なお、その洗浄手段により、掻き落としローラの外周面の改質も行うことができる。この場合、掻き落としローラの外周面に対して撥水処理を施し、掻き落としローラの外周面のぬれ性を低下させるのが好ましい。 Here, in the present invention, when the coating apparatus includes a scraping roller that scrapes off the liquid material adhering to the outer peripheral surface of a predetermined roller such as the coating roller 3, the outer peripheral surface of the scraping roller is cleaned with plasma. A cleaning means may be provided. Since the outer peripheral surface of the scraping roller is often made of, for example, an organic material such as resin or rubber, it is preferable to use a cleaning unit having the same configuration as that of the second embodiment. In the cleaning, damage to the outer peripheral surface of the scraping roller can be reduced. The cleaning means can also modify the outer peripheral surface of the scraping roller. In this case, it is preferable to perform water-repellent treatment on the outer peripheral surface of the scraping roller to reduce the wettability of the outer peripheral surface of the scraping roller.
また、本発明では、塗布装置が、スキージを備えている場合、そのスキージの表面をプラズマにより洗浄する洗浄手段を設けてもよい。スキージの主な用途は、塗布ローラ3等の所定のローラの外周面に付着した液状材料を掻き落とすことである。このスキージは、例えば、樹脂やゴム等の有機物で構成されている場合が多いので、洗浄手段としては、前記第2実施形態と同様の構成のものを用いるのが好ましく、これにより、洗浄の際、スキージの表面へ与えるダメージを低減することができる。なお、その洗浄手段により、スキージの表面の改質も行うことができる。この場合、スキージの表面に対して撥水処理を施し、スキージの表面のぬれ性を低下させるのが好ましい。 In the present invention, when the coating apparatus includes a squeegee, a cleaning unit that cleans the surface of the squeegee with plasma may be provided. The main use of the squeegee is to scrape off the liquid material adhering to the outer peripheral surface of a predetermined roller such as the application roller 3. Since this squeegee is often made of an organic material such as a resin or rubber, for example, it is preferable to use the same cleaning device as that of the second embodiment. Damage to the surface of the squeegee can be reduced. The surface of the squeegee can be modified by the cleaning means. In this case, it is preferable to perform water-repellent treatment on the surface of the squeegee to reduce the wettability of the surface of the squeegee.
以上、本発明の塗布装置を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。
また、本発明は、前記各実施形態のうちの、任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。
As mentioned above, although the coating device of this invention was demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to this, The structure of each part is substituted by the thing of the arbitrary structures which have the same function. be able to. In addition, any other component may be added to the present invention.
Further, the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above embodiments.
また、前記実施形態では、大気圧下において、プラズマを発生させることを想定しているが、本発明では、減圧または真空状態においてプラズマを発生させるように構成してもよい。
また、前記実施形態では、ローラの位置が固定され、基板(ワーク)が移動するようになっているが、本発明では、これに限らず、例えば、基板の位置が固定され、ローラが移動する(転がる)ようになっていてもよく、また、基板およびローラがそれぞれ移動するようになっていてもよい。
In the above embodiment, it is assumed that plasma is generated under atmospheric pressure. However, in the present invention, plasma may be generated in a reduced pressure or vacuum state.
Moreover, in the said embodiment, although the position of a roller is fixed and a board | substrate (workpiece | work) moves, it is not restricted to this in this invention, For example, the position of a board | substrate is fixed and a roller moves. (Rolling) may be configured, and the substrate and the roller may be moved.
また、基板(ワーク)としては、シリコンウエハ等の半導体基板に限られず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、液晶ポリマー、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等のプラスチック、ガラス、セラミック、金属液晶ディスプレイ用ガラス等からなる基板が挙げられる。また、基板の形状としては、板状に限定されず、例えば、フィルム状等のものが挙げられる。 Further, the substrate (work) is not limited to a semiconductor substrate such as a silicon wafer, and for example, plastic such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polytetrafluoroethylene, polyimide, liquid crystal polymer, epoxy resin, acrylic resin, etc. And a substrate made of glass, ceramic, glass for metal liquid crystal display, or the like. The shape of the substrate is not limited to a plate shape, and examples thereof include a film shape.
また、電極に印加される電圧は、高周波によるものに限られず、例えば、パルス波やマイクロ波によるものであってもよく、また、直流であってもよい。
また、本発明は、液状材料をワークに塗布する塗布ローラ(ローラ)を備える塗布装置であれば、各種の形態(方式)の塗布装置に適用することができる。前記実施形態の他、本発明を適用し得る装置としては、例えば、フレキソ印刷、グラビア印刷等を行う装置が挙げられる。
また、塗布装置が備えるローラの数は、1つ(単数)でもよく、また、2以上(複数)でもよい。
また、塗布装置が複数のローラを備える場合は、その複数のローラのうちの少なくとも1つに、その外周面をプラズマにより洗浄する洗浄手段が設けられていればよい。
Further, the voltage applied to the electrode is not limited to a high frequency, and may be a pulse wave or a microwave, or may be a direct current.
In addition, the present invention can be applied to coating devices of various forms (systems) as long as the coating device includes a coating roller (roller) that applies a liquid material to a workpiece. In addition to the above embodiments, examples of apparatuses to which the present invention can be applied include apparatuses that perform flexographic printing, gravure printing, and the like.
Further, the number of rollers provided in the coating device may be one (single) or two or more (plural).
Further, when the coating apparatus includes a plurality of rollers, it is only necessary that at least one of the plurality of rollers be provided with a cleaning unit that cleans the outer peripheral surface with plasma.
1……塗布装置 2……貯留部 3……塗布ローラ 4……液状材料供給用ローラ 5……基板 61……電極 62……絶縁層 63……支持部 64……貫通孔 7……回収手段 70……収集部 71……上壁 72……側壁 73……取付部 74……貫通孔 81……電極 82……絶縁層 83……支持部 84……貫通孔 9……回収手段 90……収集部 91……上壁 92……側壁 93……取付部 94……貫通孔 11……回路 111……導線 12……高周波電源 13……供給管 14……ガスボンベ 15……レギュレータ 16……バルブ 17……送気管 18……ポンプ 19……バルブ 21……回路 211……導線 22……高周波電源 23……供給管 24……ガスボンベ 25……レギュレータ 26……バルブ 27……送気管 28……ポンプ 29……バルブ 31、32……ヒータ 40……プラズマ発生部 41、42……電極 43、44……絶縁層 45、46……側壁 47……放出口 48……貫通孔 50……プラズマ発生部 51、52……電極 53、54……絶縁層 55、56……側壁 57……放出口 58……貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coating apparatus 2 ... Storage part 3 ... Coating roller 4 ... Liquid material supply roller 5 ... Substrate 61 ... Electrode 62 ... Insulating layer 63 ... Supporting
Claims (13)
前記ローラの外周面を洗浄する洗浄手段を有し、
前記洗浄手段は、所定のガスを供給するガス供給手段と、放電を生じさせる放電手段とを有し、前記所定のガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、該プラズマにより前記ローラの外周面を洗浄するよう構成されていることを特徴とする塗布装置。 An applicator that has at least one roller including a roller for applying a liquid material to a workpiece, supplies the liquid material to the outer peripheral surface of the roller, and applies the liquid material on the outer peripheral surface of the roller in contact with the workpiece. And
Having cleaning means for cleaning the outer peripheral surface of the roller;
The cleaning unit includes a gas supply unit that supplies a predetermined gas and a discharge unit that generates a discharge. The cleaning unit generates a plasma while generating the discharge while supplying the predetermined gas. A coating apparatus characterized in that the outer peripheral surface of the coating device is cleaned.
前記洗浄手段は、前記ガス供給手段および前記放電手段により、前記ローラの外周面付近にプラズマを発生させるよう構成されている請求項1に記載の塗布装置。 The gas supply means supplies gas near the outer peripheral surface of the roller, and the discharge means generates discharge near the outer peripheral surface of the roller,
The coating apparatus according to claim 1, wherein the cleaning unit is configured to generate plasma in the vicinity of an outer peripheral surface of the roller by the gas supply unit and the discharge unit.
前記1対の電極のうちの一方の電極は、前記ローラの外周面または外周面の近傍の部位で構成されている請求項2に記載の塗布装置。 The discharge means includes a pair of electrodes facing each other, and a power supply unit that applies a voltage between the pair of electrodes,
The coating apparatus according to claim 2, wherein one electrode of the pair of electrodes is configured by an outer peripheral surface of the roller or a portion in the vicinity of the outer peripheral surface.
前記ローラの外周面を洗浄する際は、前記加熱手段により、該ローラの外周面を加熱するよう構成されている請求項1ないし9のいずれかに記載の塗布装置。 Heating means for heating at least the outer peripheral surface of the roller;
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein when the outer peripheral surface of the roller is cleaned, the outer peripheral surface of the roller is heated by the heating means.
前記塗布ローラと、前記液状材料供給用ローラとの少なくとも一方に、その外周面を洗浄する前記洗浄手段が設けられている請求項1ないし12のいずれかに記載の塗布装置。
As the roller, an application roller that applies a liquid material to a workpiece, and a liquid material supply roller that supplies the liquid material to a peripheral portion of the application roller from a storage portion that stores the liquid material,
The coating device according to any one of claims 1 to 12, wherein at least one of the coating roller and the liquid material supply roller is provided with the cleaning means for cleaning an outer peripheral surface thereof.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005359484A Pending JP2007160207A (en) | 2005-12-13 | 2005-12-13 | Coating apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007160207A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009216931A (en) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Tdk Corp | Method of manufacturing magnet roll, and cleaning device of shaft |
-
2005
- 2005-12-13 JP JP2005359484A patent/JP2007160207A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009216931A (en) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Tdk Corp | Method of manufacturing magnet roll, and cleaning device of shaft |
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