JP2007158020A - Optical element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method of reducing the FSR and utilizing the refractive index change of PLZT at maximum, and to provide an electrode with a little optical loss and a device with a little wave front deterioration, if PLZT cavity optical switches are arrayed. <P>SOLUTION: A plurality of rectangular parallelepiped cavities 12 are arranged with specified equal pitches in parallel to each other on the upside of a board 11. Electrodes 13, 14 are formed on both lengthwise sides impermeable to light, constituting an optical switch array 10. A plurality of cylindrical lenses 22 are arranged in parallel with the same arranging pitch on a transparent board 21, and the arrays are aligned and laminated together. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、プロジェクタやプリンタなどの光源として利用しうる小型固体レーザ光源に関する。   The present invention relates to a compact solid-state laser light source that can be used as a light source for projectors, printers, and the like.

固体レーザ光源では、素子同士を接合して小型化を図る方法が検討されている(例えば、特許文献1 参照。)。しかし、この小型固体レーザではLDでの変調しかできない。LDの変調ではレーザ結晶の発光寿命が長いことから、高速応答の変調が難しい。
そのため、外部に音響光学素子を有する装置を用いて、高速応答を行なう方法が一般的であるが、OFFの時には光を外に捨てる必要があり、エネルギ的に損失がある。また、外部変調として光学系が大きくなり小型化には向かない。それを解決するにはQスイッチ機能を有する光源が求められる。Qスイッチ機能とは、スイッチ部を固体レーザキャビティの中に入れて、必要な時には光を外部に出射し、不要な時には光をキャビティ内に蓄積することが可能な機能である。Qスイッチ機能として、電気光学素子を用いた光学系を検討している例がある(例えば、特許文献2 参照。)。この場合には、電気光学素子によって、光の偏光を制御して、必要な光のみを外部に出る偏光へ変換している。しかし、光学系が複雑になり光学素子が多く含まれることから、エネルギ損失が大きい装置となってしまう。
For solid-state laser light sources, a method for reducing the size by joining elements to each other has been studied (see, for example, Patent Document 1). However, this small solid-state laser can only modulate with the LD. In LD modulation, since the emission life of the laser crystal is long, it is difficult to modulate high-speed response.
For this reason, a method of performing high-speed response using a device having an acousto-optic element outside is generally used, but when it is OFF, it is necessary to throw light out and there is a loss of energy. In addition, the optical system becomes large as external modulation and is not suitable for miniaturization. In order to solve this, a light source having a Q switch function is required. The Q switch function is a function that allows a switch unit to be placed in a solid-state laser cavity, emits light to the outside when necessary, and accumulates light in the cavity when unnecessary. There is an example in which an optical system using an electro-optic element is studied as the Q switch function (see, for example, Patent Document 2). In this case, the polarization of light is controlled by the electro-optic element, and only necessary light is converted into polarized light that is emitted to the outside. However, since the optical system becomes complicated and many optical elements are included, the apparatus has a large energy loss.

一方、誘電体多層膜に電気光学材料を挟みこんだバンドパスフィルタが研究されている(例えば、特許文献3 参照。)。誘電体多層膜は屈折率の異なる誘電体を周期的に積層したもので、SiOとTiOなどの屈折率差が大きいペアが利用されている。この誘電体の厚みをコントロールすることで、任意の波長の光を反射する反射膜として機能させることができる。この誘電体多層膜の間に欠陥層として、周期性を乱す層を入れることで、キャビティを組むことができ、任意の波長だけを透過する光学フィルタとしての機能を持たせることができる。これはバンドパスフィルタなどとして通信分野で利用されている。このキャビティの内部材料として電気光学材料を用い、電圧印加による屈折率変化によって、光学的な厚みをコントロールすることが研究されている。キャビティ長の変化で、単一波長の光源に対しては、透過率を制御する光スイッチとしても機能する。また、導波路などの光学系が不要で自由空間平面型のスイッチであるため空間変調器などの発展性を持っている。また、電気光学材料は非常に速い応答速度が得られ、マッハツェンダ型の変調器では40GHzレベルの応答速度を得ている。 On the other hand, a bandpass filter in which an electro-optic material is sandwiched between dielectric multilayer films has been studied (for example, see Patent Document 3). The dielectric multilayer film is obtained by periodically laminating dielectrics having different refractive indexes, and a pair having a large refractive index difference such as SiO 2 and TiO 2 is used. By controlling the thickness of the dielectric, it can function as a reflective film that reflects light of an arbitrary wavelength. By inserting a layer that disturbs periodicity as a defect layer between the dielectric multilayer films, a cavity can be formed and a function as an optical filter that transmits only an arbitrary wavelength can be provided. This is used in the communication field as a bandpass filter or the like. Research has been conducted on using an electro-optic material as an internal material of the cavity and controlling the optical thickness by changing the refractive index by applying a voltage. By changing the cavity length, it also functions as an optical switch for controlling the transmittance for a single wavelength light source. In addition, since it is a free space planar switch that does not require an optical system such as a waveguide, it has the potential to develop a spatial modulator. The electro-optic material has a very fast response speed, and the Mach-Zehnder type modulator has a response speed of 40 GHz level.

光スイッチへの入射光はスペクトルの半値幅にして、約1nm程度である。光の透過率を0とするOFF時の状態を実現するためには、透過スペクトルのピークとピークの距離を示すFSR(フリースペクトルレンジ)が2nm以上である必要がある。FSRが2nm以下であると、スペクトルを移動しても、常に透過率の高いピークに入射光のスペクトルがかかってしまい、透過率を0とすることができない。
一般的に用いられる電気光学材料であるPLZTはセラミックスであり、多結晶体である。PLZTは一般的に電圧を印加した方向の屈折率変化が大きく、垂直方向の屈折率変化が小さい。屈折率変化量を最大限に利用できる方法を検討する必要がある。
The incident light to the optical switch has a half width of the spectrum and is about 1 nm. In order to realize the OFF state in which the light transmittance is 0, the FSR (free spectrum range) indicating the peak-to-peak distance of the transmission spectrum needs to be 2 nm or more. When the FSR is 2 nm or less, even if the spectrum is moved, the spectrum of the incident light is always applied to the peak having a high transmittance, and the transmittance cannot be reduced to zero.
PLZT, which is a commonly used electro-optic material, is a ceramic and a polycrystalline body. PLZT generally has a large change in refractive index in the direction in which a voltage is applied, and a small change in refractive index in the vertical direction. It is necessary to consider a method that can make maximum use of the refractive index variation.

電極部分は光スイッチとして機能していない。光スイッチで反射した光はキャビティ内で多重反射を行なうが、この際に金属電極部に光が照射することになる。このときに電極部が透明であったり、光吸収があったりするとそこで光が減衰し、キャビティ内に光をためることができないとともに、光を無駄にすることになる。光を無駄にしない方法が求められる。
PLZTの電気光学定数から、印加電圧として、電極間距離が1nmであると、1kV程度必要である。近年、大きな電圧に対応したトランジスタがあるが、数kVを高速で印加するには多大なるコストがかかる。それに対し、電極間距離を小さくすると、光の通る開口が小さくなってしまう。電極間距離を小さくし、かつ開口を大きく取る方法として、PLZTのキャビティ型光スイッチをアレイにする方法が考えられるが、アレイ化すると光の波面が劣化してしまう。
The electrode portion does not function as an optical switch. The light reflected by the optical switch is subjected to multiple reflection in the cavity, and at this time, the metal electrode portion is irradiated with light. At this time, if the electrode portion is transparent or light is absorbed, light is attenuated there, and light cannot be accumulated in the cavity, and light is wasted. There is a need for a method that does not waste light.
From the electro-optic constant of PLZT, if the distance between the electrodes is 1 nm as the applied voltage, about 1 kV is required. In recent years, there are transistors corresponding to a large voltage, but applying a few kV at a high speed is very expensive. On the other hand, if the distance between the electrodes is reduced, the aperture through which light passes is reduced. As a method of reducing the distance between the electrodes and increasing the opening, a method of using a PLZT cavity type optical switch as an array is conceivable. However, when the array is formed, the wavefront of light deteriorates.

特開2004−281932号公報JP 2004-281932 A 特開2002−208749号公報JP 2002-208749 A 特開2003−207753号公報JP 2003-207753 A

本発明は以上の各問題を解決しようとするものであり、FSRを小さくし、PLZTの屈折率変化を最大限に利用できる方法を求め、光損失の少ない電極を提供し、PLZTのキャビティ型光スイッチをアレイ化しても波面劣化の少ないデバイスを提供する。   The present invention seeks to solve the above-described problems, seeks a method that can reduce the FSR and maximize the change in the refractive index of the PLZT, provides an electrode with low optical loss, and provides a PLZT cavity-type light. Provide a device with little wavefront degradation even if switches are arrayed.

請求項1に記載の発明では、波長変換材料と、該波長変換材料の入射側、および出射側に光学フィルタとを一体化してなる光学素子において、前記出射側の光学フィルタは、任意に透過率を制御できるフィルタであることを特徴とする。
請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の光学素子において、前記出射側の光学フィルタは電気光学材料を用いたキャビティ型の光スイッチであることを特徴とする。
請求項3に記載の発明では、請求項2に記載の光学素子において、前記電気光学材料のキャビティは、前記波長変換材料から発振する光のスペクトル半値幅をλmとするとき、λmは以下の条件を満たすことを特徴とする。
λm<FSR
ただし、
FSR=λ/(2×n×d)
λ:波長変換材料から発振する光のスペクトル中心波長
n:電気光学材料の屈折率
d:電気光学材料の厚さ
According to the first aspect of the present invention, in the optical element in which the wavelength conversion material and the optical filter are integrated on the incident side and the emission side of the wavelength conversion material, the optical filter on the emission side may optionally have transmittance. It is a filter which can control.
According to a second aspect of the present invention, in the optical element of the first aspect, the optical filter on the emission side is a cavity type optical switch using an electro-optical material.
According to a third aspect of the present invention, in the optical element according to the second aspect, when the cavity of the electro-optic material has a spectral half-value width of light oscillated from the wavelength conversion material as λm, λm satisfies the following condition: It is characterized by satisfying.
λm <FSR
However,
FSR = λ 2 / (2 × n × d)
λ: spectral center wavelength of light oscillated from wavelength conversion material n: refractive index of electro-optic material d: thickness of electro-optic material

請求項4に記載の発明では、請求項2または3に記載の光学素子において、前記電気光学材料はPLZTであり、その厚みを10μm以下にすることを特徴とする。
請求項5に記載の発明では、請求項2ないし4のいずれか1つに記載の光学素子において、前記波長変換材料に入射する入射光は直線偏光で、その偏光方向と、前記電気光学材料に印加する電圧の印加方向とが平行であることを特徴とする。
請求項6に記載の発明では、請求項3ないし5のいずれか1つに記載の光学素子において、前記キャビティ型の光スイッチの電極が反射面となることを特徴とする。
請求項7に記載の発明では、請求項2ないし5のいずれか1つに記載の光学素子において、前記キャビティ型の光スイッチをアレイ化し、該アレイに合わせた形にマイクロレンズを配置したことを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical element according to the second or third aspect, the electro-optical material is PLZT and has a thickness of 10 μm or less.
According to a fifth aspect of the present invention, in the optical element according to any one of the second to fourth aspects, incident light incident on the wavelength converting material is linearly polarized light, the polarization direction thereof, and the electro-optical material. The application direction of the voltage to be applied is parallel.
According to a sixth aspect of the present invention, in the optical element according to any one of the third to fifth aspects, the electrode of the cavity type optical switch serves as a reflecting surface.
According to a seventh aspect of the present invention, in the optical element according to any one of the second to fifth aspects, the cavity-type optical switch is arrayed, and a microlens is arranged in a shape corresponding to the array. Features.

本発明によれば、
波長変換材料の光の出射側に任意に透過率を制御できるフィルタを設けたので、OFFの時にも、光を捨てる必要がなく、その分、光を有効活用でき、光スイッチとしての光利用効率が向上する。
出射側の光学フィルタは電気光学材料を用いたキャビティ型の光スイッチとしたので、透過率制御ができ、透過しない光は反射光となり、反射光は正反射を起こし、入射してきた方向に戻る。また、電気光学材料であるので高速応答であり、任意のタイミングでスイッチングが図れる。
波長変換材料から発振する光のスペクトル半値幅λmをFSRより小さくなるように設定したので、透過スペクトルが入射光のスペクトルにかかることがなくなり、OFFのときの透過率を小さくすることが可能となる。
その他の効果は詳細な説明中において述べる。
According to the present invention,
Since a filter that can arbitrarily control the transmittance is provided on the light output side of the wavelength conversion material, it is not necessary to throw away the light even when it is OFF, so that the light can be used effectively, and the light usage efficiency as an optical switch Will improve.
Since the optical filter on the emission side is a cavity type optical switch using an electro-optic material, the transmittance can be controlled, and the light that does not pass becomes reflected light, and the reflected light undergoes regular reflection and returns to the incident direction. Moreover, since it is an electro-optic material, it has a high-speed response and can be switched at an arbitrary timing.
Since the spectral half-value width λm of the light oscillated from the wavelength conversion material is set to be smaller than the FSR, the transmission spectrum is not affected by the spectrum of the incident light, and the transmittance when OFF can be reduced. .
Other effects will be described in the detailed description.

図1は本発明の構成の概要を示す図である。
同図において符号1はレーザ結晶、2は入射側光学フィルタ、3は非線型材料、4は出射側光学フィルタ、5はPLZT、6は電極、7、8は誘電体多層膜をそれぞれ示す。
光スイッチへの入射光としては、波長変換材料を用いてその出力を利用するのが有利である。ここで、波長可変材料とは、入射光の波長が変換され、異なる波長の出射光を出す材料と定義する。たとえば、レーザ結晶のようにある波長を吸収し、別な波長を発光するような材料を指す。このような材料としては、一般的な直接遷移型の半導体などもそれにあたり、高いエネルギの光を吸収し、低いエネルギレベルのバンドギャップや蛍光体などの不純物準位による発光が得られる。また、第2高調波を出すような材料を用いて、低いエネルギレベルの光を高いエネルギレベルに変換する材料でも構わない。
このような材料であれば、入射光の光学フィルタと出射側の光学フィルタを波長制御することで、入射光を透過し、出射光波長に対してのみキャビティを組むことができる。ここで、キャビティとは2面のミラー面ではさまれ、多重反射を繰り返すことで、内部に光を閉じ込める構造を指す。内部に閉じ込められた光の強度は、入射光の強度に比べ高い状態を維持することができる。
このキャビティに光を閉じ込めた状態で、出射側の光学フィルタの透過率を制御できれば、任意に時間だけ、出射光を取り出すことができる。この透過率制御がつまりはON−OFF制御となる。OFFの時には、光をキャビティの内部に戻しているので、光を捨てる必要がない。その分、光を有効活用でき、光スイッチとしての光利用効率が向上する。以下理解を容易にするため、数値例を挙げて構成および作用を説明する。
FIG. 1 is a diagram showing an outline of the configuration of the present invention.
In the figure, reference numeral 1 denotes a laser crystal, 2 denotes an incident side optical filter, 3 denotes a nonlinear material, 4 denotes an emission side optical filter, 5 denotes PLZT, 6 denotes an electrode, and 7 and 8 denote dielectric multilayer films.
As the incident light to the optical switch, it is advantageous to use the output of a wavelength conversion material. Here, the wavelength variable material is defined as a material that converts the wavelength of incident light and emits outgoing light having a different wavelength. For example, it refers to a material that absorbs one wavelength and emits another wavelength, such as a laser crystal. Examples of such a material include a general direct transition type semiconductor, which absorbs high energy light, and emits light with a band gap of a low energy level or an impurity level such as a phosphor. Further, a material that emits the second harmonic and uses a material that converts light of a low energy level into a high energy level may be used.
With such a material, by controlling the wavelength of the optical filter for incident light and the optical filter on the emission side, the incident light can be transmitted and a cavity can be formed only for the wavelength of the emission light. Here, the cavity is a structure sandwiched between two mirror surfaces and confining light inside by repeating multiple reflections. The intensity of the light confined inside can be kept higher than the intensity of the incident light.
If the transmittance of the optical filter on the emission side can be controlled in a state where light is confined in this cavity, the emitted light can be extracted arbitrarily for a certain amount of time. This transmittance control is in other words ON / OFF control. At the time of OFF, since the light is returned to the inside of the cavity, it is not necessary to throw away the light. As a result, light can be used effectively, and the light utilization efficiency as an optical switch is improved. In order to facilitate understanding, the configuration and operation will be described with examples of numerical values.

図示しないLD発光源からの808nmの光を入射光として、入射側光学フィルタ2を透過してレーザ結晶(Nd:YAG)1を照射する。入射側光学フィルタ2は808nmを透過し、532nm、1064nmを反射させるように設計してある。レーザ結晶からは1064nmの発光があり、この光が非線型材料(KTP)3に入射し、532nmの第2高調波を出す。非線型材料3の出射側にも出射側光学フィルタ4が形成されており、入射側はパッシブな光学フィルタであるが、出射側はアクティブな光学フィルタである。出射側光学フィルタ4はキャビティ型の光スイッチである。キャビティ型の光スイッチは微細加工されたPLZT5、電極6、誘電体多層膜7、8から構成されている。PLZTの両面にはそれぞれ誘電体多層膜7、8が形成されており、ここにキャビティが組まれている。このキャビティの光学長が電圧印加によって、共鳴波長を変えて、スイッチングが起きる。キャビティ型の光スイッチの原理については公知なのでここでは説明を割愛する。キャビティ型の光スイッチは任意に透過率を制御でき、これにより、波長変換材料から532nmの光が出射される。
このように、キャビティ型の光スイッチは屈折率変化を制御できる材料を入射側出射側ともにミラー面によって挟み込んだ構成をしている。ミラー面で多重反射を起こす波長を任意に選択することで、透過率の制御ができる。キャビティ型の光スイッチは透過率制御ができ、透過しない光は反射光となる。反射光は正反射を起こし、入射してきた方向に戻る。また、電気光学材料であるので高速応答であり、任意のタイミングでスイッチングが図れる。
The laser crystal (Nd: YAG) 1 is irradiated through the incident side optical filter 2 using 808 nm light from an LD light source (not shown) as incident light. The incident side optical filter 2 is designed to transmit 808 nm and reflect 532 nm and 1064 nm. The laser crystal emits light of 1064 nm, and this light enters the nonlinear material (KTP) 3 and emits a second harmonic of 532 nm. An exit side optical filter 4 is also formed on the exit side of the non-linear material 3, and the entrance side is a passive optical filter, but the exit side is an active optical filter. The emission side optical filter 4 is a cavity type optical switch. The cavity type optical switch is composed of a microfabricated PLZT 5, an electrode 6, and dielectric multilayer films 7 and 8. Dielectric multilayer films 7 and 8 are formed on both surfaces of the PLZT, respectively, and cavities are assembled there. Switching occurs by changing the resonance wavelength of the optical length of the cavity by applying a voltage. Since the principle of the cavity type optical switch is well known, the explanation is omitted here. The cavity-type optical switch can arbitrarily control the transmittance, whereby light of 532 nm is emitted from the wavelength conversion material.
As described above, the cavity type optical switch has a configuration in which a material capable of controlling a change in refractive index is sandwiched between the incident side and the output side by the mirror surface. The transmittance can be controlled by arbitrarily selecting the wavelength that causes multiple reflection on the mirror surface. The cavity type optical switch can control the transmittance, and light that does not pass through becomes reflected light. The reflected light undergoes regular reflection and returns to the incident direction. Moreover, since it is an electro-optic material, it has a high-speed response and can be switched at an arbitrary timing.

OFF時の透過率を小さくするためには、入射光のスペクトルと透過率のピーク位置とがスペクトル上において、重ならないようにする必要がある。そのためには、透過スペクトルのFSR(フリースペクトルレンジ)を入射光のスペクトルに比べて広くする必要がある。
これを定式化すると、以下のようになる。
FSR=λ/(2×n×d)
λ:波長変換材料から発振する光のスペクトル中心波長
n:電気光学材料の屈折率
d:電気光学材料の厚さ
ここで、波長変換材料から発振する光のスペクトル半値幅をλmとしたとき、
λm<FSR
となるようにFSRの値を設定する。
この条件を満たせば、透過スペクトルが入射光のスペクトルにかかることがなくなり、OFF時の透過率を小さくすることが可能となる。
In order to reduce the transmittance at OFF, it is necessary that the spectrum of the incident light and the peak position of the transmittance do not overlap on the spectrum. For that purpose, it is necessary to make the transmission spectrum FSR (free spectrum range) wider than the spectrum of incident light.
This is formulated as follows.
FSR = λ 2 / (2 × n × d)
λ: spectral center wavelength of the light oscillated from the wavelength converting material n: refractive index of the electro-optic material d: thickness of the electro-optic material Here, when the spectral half width of the light oscillated from the wavelength converting material is λm,
λm <FSR
The value of FSR is set so that
If this condition is satisfied, the transmission spectrum will not be applied to the spectrum of the incident light, and the transmittance at OFF can be reduced.

入射光の波長を約500nmとした場合に電気光学材料を屈折率n=2.5のPLZTとして、その厚みを10μm以下にすることで、上の式に当てはめると、FSRは約5nm程度となる。入射光のスペクトル半値幅は1nm程度であることから、OFF時の透過率を十分に小さくすることができる。また、波長が500nm近辺は緑色の波長となる。現在半導体レーザには緑色の波長の光源がないため、固体レーザが利用されている。本発明では、可視光波長の固体レーザ用に小型高速変調器を提供するものである。   When the wavelength of the incident light is about 500 nm, the electro-optic material is PLZT having a refractive index n = 2.5, and the thickness is made 10 μm or less, so that the FSR is about 5 nm when applied to the above formula. . Since the half width of the spectrum of the incident light is about 1 nm, the transmittance at OFF can be sufficiently reduced. Further, when the wavelength is around 500 nm, the wavelength is green. Currently, solid-state lasers are used because semiconductor lasers do not have a light source with a green wavelength. In the present invention, a small high-speed modulator is provided for a solid-state laser having a visible light wavelength.

図2はアレイ化されたキャビティ型光スイッチとマイクロレンズアレイを示す図である。同図(a)はマイクロレンズアレイ、同図(b)は光スイッチ、同図(c)は一部拡大断面をそれぞれ示す図である。
同図において符号10は光スイッチアレイ、11は基板、12はキャビティ、13,14は電極、20はマイクロレンズアレイ、21は基板、22はマイクロレンズをそれぞれ示す。
同図(a)において、透明な基板21上に複数のシリンドリカルレンズ22が、所定の等間隔ピッチで互いに母線を平行にして並んで、マイクロレンズアレイ20を形成している。
FIG. 2 is a diagram showing an arrayed cavity optical switch and a microlens array. 2A is a microlens array, FIG. 2B is an optical switch, and FIG. 2C is a partially enlarged cross-sectional view.
In the figure, reference numeral 10 is an optical switch array, 11 is a substrate, 12 is a cavity, 13 and 14 are electrodes, 20 is a microlens array, 21 is a substrate, and 22 is a microlens.
In FIG. 2A, a plurality of cylindrical lenses 22 are arranged on a transparent substrate 21 with the generatrix parallel to each other at a predetermined equal interval pitch to form a microlens array 20.

同図(b)において、光の透過方向は基板11の厚さ方向、同図の下から上に向く方向である。基板11の上面には、直方体状の複数のキャビティ12が、上記シリンドリカルレンズ22の配列ピッチと同じ配列ピッチで平行に並んでおり、長手方向で光の透過しない両側面には電極13、14が形成されている。電極13、14は基板11の互いに対向する同図における奥行き方向の両端部から櫛歯状に延びてキャビティ12の隙間に交互に入り込んで、光スイッチアレイ10を構成している。なお、上下面の多層膜は表示を省略した。
同図(c)は各キャビティと電極の関係を説明するための図である。上下面に多層膜が形成された2つの直方体状のキャビティの隙間に入った電極(例えば電極13)は、両側のキャビティの側面に立ち上がって、キャビティに対する一方の電極を構成する。それぞれのキャビティの他方の側面は他方の電極(この例では電極14)が同様に隣り合う2つのキャビティの側面に立ち上がって、他方の電極を構成する。
波長変換デバイスを構成するためには、光スイッチアレイ10の上面に、マイクロレンズアレイ20を密着させ、各マイクロレンズの中心線が直方体状のキャビティの中心線に一致するように位置合わせをして固定する。
本デバイスでは、PLZTの電極方向にあわせてシリンドリカルのマイクロレンズを配置した。これによって、PLZT電極間から放出された球面波に近い形の光はレンズによってほぼ平行光へ変換できる。アレイ状に複数の光が混ざり合っても、それぞれが平行光であれば、干渉を起こさない。これにより、アレイ状のピンホールがある場合に起きる回折などの現象を回避することができる。
In FIG. 4B, the light transmission direction is the thickness direction of the substrate 11 and the direction from the bottom to the top of the figure. On the upper surface of the substrate 11, a plurality of rectangular parallelepiped cavities 12 are arranged in parallel at the same arrangement pitch as the cylindrical lens 22, and electrodes 13 and 14 are disposed on both side surfaces that do not transmit light in the longitudinal direction. Is formed. The electrodes 13 and 14 extend in a comb shape from both end portions of the substrate 11 facing each other in the depth direction in the figure and alternately enter the gaps of the cavities 12 to constitute the optical switch array 10. The upper and lower multilayer films are not shown.
FIG. 4C is a diagram for explaining the relationship between each cavity and the electrode. An electrode (for example, the electrode 13) that enters a gap between two rectangular parallelepiped cavities having multilayer films formed on the upper and lower surfaces rises to the side surfaces of the cavities on both sides to constitute one electrode for the cavity. On the other side surface of each cavity, the other electrode (in this example, electrode 14) rises similarly to the side surfaces of two adjacent cavities to form the other electrode.
In order to configure the wavelength conversion device, the microlens array 20 is brought into close contact with the upper surface of the optical switch array 10 and aligned so that the centerline of each microlens coincides with the centerline of the rectangular parallelepiped cavity. Fix it.
In this device, cylindrical microlenses were arranged in accordance with the PLZT electrode direction. As a result, light having a shape close to a spherical wave emitted from between the PLZT electrodes can be converted into substantially parallel light by the lens. Even if a plurality of lights are mixed in an array, interference does not occur if each is a parallel light. Thereby, it is possible to avoid a phenomenon such as diffraction that occurs when there is an array of pinholes.

図3はアレイ型波長変換デバイスの作用模式図である。
入射光束Liが同図の下から入射し、レーザ結晶1と非線形材料3によって、波長変換された出射光束はPLZTからなるキャビティ型の光スイッチに入射し、ここでスイッチングされONまたはOFFによって出射光束Loが制御される。
PLZTのキャビティ型の光スイッチはアレイ化されており、各キャビティに対応した形でマイクロレンズが配置されている。このマイクロレンズアレイ20によって、PLZTの狭い開口部から出された光が回折することなく平行光へ変換されている。
FIG. 3 is a schematic view of the operation of the array type wavelength conversion device.
An incident light beam Li enters from the bottom of the figure, and an outgoing light beam whose wavelength has been converted by the laser crystal 1 and the nonlinear material 3 enters a cavity-type optical switch made of PLZT. Lo is controlled.
PLZT cavity-type optical switches are arrayed, and microlenses are arranged corresponding to the cavities. The microlens array 20 converts light emitted from the narrow opening of the PLZT into parallel light without being diffracted.

図4は本発明の実施形態の一部を示す図である。
同図において符号X、Y、Zは座標軸、Pxは入出射光束の偏光方向をそれぞれ示す。
本実施の形態では、レーザ結晶1としてNd:YAGを用い、非線形光学素子3としてリンチタン酸カリウム(KTiOPO4:以下KTP)を用いるが、他の材質によってキャビティを構成しても構わない。Nd:YAGおよびKTPは厚さ200μm程度に研磨し、その2枚を直接接合している。入射面にあたる面には入射側光学フィルタ2が形成されている。入射側光学フィルタ2は、808nmを透過し、1064nmおよび532nmを完全に反射するように設計されている。構成はTiOやSiOなどの透明な材料を用いており、その層構成は光学シミュレータによって最適な構成に設計されている。
入射光束はあらかじめ同図の座標x方向に向いた直線偏光Pxに揃えておく
FIG. 4 is a diagram showing a part of the embodiment of the present invention.
In the figure, reference numerals X, Y, and Z denote coordinate axes, and Px denotes the polarization direction of incoming and outgoing light beams.
In the present embodiment, Nd: YAG is used as the laser crystal 1 and potassium phosphotitanate (KTiOPO4: hereinafter referred to as KTP) is used as the nonlinear optical element 3, but the cavity may be formed of other materials. Nd: YAG and KTP are polished to a thickness of about 200 μm, and the two are directly joined. An incident side optical filter 2 is formed on a surface corresponding to the incident surface. The incident side optical filter 2 is designed to transmit 808 nm and completely reflect 1064 nm and 532 nm. The structure uses a transparent material such as TiO 2 or SiO 2 , and the layer structure is designed to be an optimum structure by an optical simulator.
The incident light beam is aligned in advance with the linearly polarized light Px oriented in the coordinate x direction in FIG.

入射側光学フィルタ2の対向面に出射側光学フィルタ4として、キャビティ型の光スイッチ10が配置されている。下方からのLDによる連続光(CW光)Liが、本光スイッチによって変調された光Loとして上方に出る。変調は電圧によって行われ、その電極9が左右に出されている。電気信号が電極9に入ることによって、光スイッチ10が電気信号を光信号へ変換する。光スイッチ10はミラー面で挟んだ電気光学材料および側面電極6、6からなっている。ミラー面として今回は誘電体多層膜7、8を利用した。PLZT上に誘電体多層膜として、SiOとTiOとを交互に積層した(図示せず)。誘電体多層膜はSiO、TiOを6ペアとした。このペア数を変更することで、透過スペクトルの半値幅を変えることが可能である。より狭い半値幅にしたいときには、よりペア数を増やすことで可能である。6ペアとすることで、透過スペクトルの半値幅は約1nm程度となる。
電気光学材料は電気光学定数が大きいPLZTを利用した。電気光学材料の膜厚は光路長が入射波長の1/4の偶数倍2Nになるようにする。これにより、入射光の波長と透過率スペクトルのピーク位置とが一致することになる。膜厚は10μm程度とした。電極間距離は200μm程度になるようにPLZTに微細加工を施し、その側面にはAlを成膜する。
この構成によれば、電圧の印加方向と光の偏光方向とが一致している(平行である)ので、PLZTの屈折率変化量を最大限に利用することができる。
A cavity-type optical switch 10 is disposed on the opposite surface of the incident side optical filter 2 as the output side optical filter 4. Continuous light (CW light) Li from the LD from below is emitted upward as light Lo modulated by this optical switch. The modulation is performed by voltage, and the electrodes 9 are left and right. When the electric signal enters the electrode 9, the optical switch 10 converts the electric signal into an optical signal. The optical switch 10 includes an electro-optic material and side electrodes 6 and 6 sandwiched between mirror surfaces. This time, dielectric multilayer films 7 and 8 were used as mirror surfaces. SiO 2 and TiO 2 were alternately laminated on the PLZT as a dielectric multilayer film (not shown). The dielectric multilayer film was composed of 6 pairs of SiO 2 and TiO 2 . By changing the number of pairs, it is possible to change the half width of the transmission spectrum. If you want a narrower half-value width, you can increase the number of pairs. By using 6 pairs, the half width of the transmission spectrum is about 1 nm.
As the electro-optic material, PLZT having a large electro-optic constant was used. The film thickness of the electro-optic material is set so that the optical path length is an even multiple 2N of 1/4 of the incident wavelength. As a result, the wavelength of the incident light matches the peak position of the transmittance spectrum. The film thickness was about 10 μm. PLZT is finely processed so that the distance between the electrodes is about 200 μm, and Al is deposited on the side surface.
According to this configuration, since the voltage application direction and the polarization direction of light coincide (be parallel), the amount of change in the refractive index of PLZT can be utilized to the maximum.

KTP基板とNd:YAG基板とをそれぞれ200μm程度に研磨し、接合する。Nd:YAG面側に入射側の光学フィルタとして、誘電体多層膜を形成する。
PLZTはその組成を9:35:65として、厚さ500μmとして燒結作製される。このPLZT基板の両面に光学研磨を施す。基板は研磨冶具に設置して、まず、片面を研磨し、平坦性を高める。この平坦性を高くしておかないと、裏面を研磨し薄くしたときに、PLZT基板がそる原因となる。次の研磨を終えた面に誘電体多層膜を蒸着する。この面を裏返して、冶具に張りつけ、裏面の研磨を行なう。このとき、研磨して残されたPLZT基板が約10μmになるように測定を行ないながら、徐々に研磨を進める。
The KTP substrate and the Nd: YAG substrate are each polished to about 200 μm and bonded. A dielectric multilayer film is formed as an incident side optical filter on the Nd: YAG surface side.
PLZT is produced by sintering with a composition of 9:35:65 and a thickness of 500 μm. Optical polishing is performed on both sides of the PLZT substrate. The substrate is placed on a polishing jig, and first, one surface is polished to improve flatness. If this flatness is not increased, the PLZT substrate will be warped when the back surface is polished and thinned. A dielectric multilayer film is deposited on the surface after the next polishing. This surface is turned over and attached to a jig, and the back surface is polished. At this time, the polishing is gradually advanced while the measurement is performed so that the PLZT substrate left after polishing becomes about 10 μm.

この研磨し10μm厚になったPLZT基板をKTP基板へ貼り付ける。このときにはKTP基板とほぼ同程度の屈折率のUV硬化樹脂を利用し、樹脂の厚さが均一になるようにする。次にこの状態からレジストを塗布する。レジストはスピンコートで約2μm程度の厚さにし、80℃1時間程度のベークを行なう。このレジストを塗布した上からダイシングによって溝を切りこむ。ダイシングはレジンのブレードを利用し、ブレード幅は100μm程度、深さは20μm程度とした。これによって、ダイシング加工した部分のみレジストが剥がされ、他の部分にはレジストが残されている。この状態で電極となる金属薄膜を成膜する。成膜装置にはDCスパッタを利用し、電圧をできるだけ小さい値として、側面への成膜が進むように工夫する。成膜する金属は一般的に利用されるAl、Ag等でも構わない。PLZTからの酸化を気にする時には、PtやAuなども利用できる。今回はAlを利用して、膜厚は500nm程度とした。この条件であれば、ダイシングした溝側面にもAlの成膜していることを光学顕微鏡などで確認できる。
電極として反射率の高い材料を用いれば、KTPの上面からの光の漏洩を防ぐことができる。すなわち、KPT内部から上面の電極部に至った光は、そこで反射されて再度キャビティ方向へ戻ることにより、電極部での光の損失がない。これによって、高い光利用効率の光スイッチとなり、光学素子としての光利用効率が上昇する。
The polished PLZT substrate having a thickness of 10 μm is attached to the KTP substrate. At this time, a UV curable resin having a refractive index substantially equal to that of the KTP substrate is used so that the thickness of the resin becomes uniform. Next, a resist is applied from this state. The resist is spin-coated to a thickness of about 2 μm and baked at 80 ° C. for about 1 hour. After applying this resist, a groove is cut by dicing. For dicing, a resin blade was used, and the blade width was about 100 μm and the depth was about 20 μm. As a result, the resist is peeled off only at the diced portion, and the resist is left at the other portions. In this state, a metal thin film to be an electrode is formed. The film forming apparatus is devised so that film formation on the side surface proceeds by using DC sputtering and setting the voltage as small as possible. The metal to be deposited may be Al, Ag, etc. that are generally used. When worrying about oxidation from PLZT, Pt, Au, or the like can also be used. This time, Al was used and the film thickness was about 500 nm. Under these conditions, it can be confirmed with an optical microscope or the like that Al is also formed on the side surfaces of the diced grooves.
If a highly reflective material is used for the electrode, light leakage from the upper surface of the KTP can be prevented. That is, light reaching the electrode portion on the upper surface from the inside of the KPT is reflected there and returns to the cavity direction again, so that there is no loss of light at the electrode portion. As a result, an optical switch with high light utilization efficiency is obtained, and the light utilization efficiency as an optical element is increased.

このレジストの上にAlを成膜した状態でリフトオフを行なう。リフトオフはアセトンなどの有機溶剤にサンプルを浸し、超音波をかけることでレジストが溶け出すことを促す。レジストが溶けた部分はその上に成膜されたAlが剥離する。レジストがないダイシング溝部分のみAl配線が残る事になる。断面図に見られるようにPLZTの上面にはリフトオフによってAl電極が剥がされ開口となる。誘電多層膜を開口部に成膜する。この開口部は左右の電極から隔離された絶縁領域となるため、両側の電極に電圧を印加することで、開口部に横方向の電界が印加できる。ダイシング溝に接続できるように、パッドを形成し、そのパッドにワイヤーボンディングで配線を行なう。このそれぞれの電極にグランドと信号とを結線させることで、任意に電界をPLZTにかけることができる。下方から直線偏光にした連続光を入射させる。偏光方向は電界と垂直とすることで、電気光学効果を受けることになる。   Lift-off is performed in a state where Al is deposited on the resist. In lift-off, the sample is immersed in an organic solvent such as acetone, and the resist is dissolved by applying ultrasonic waves. In the portion where the resist is melted, Al deposited thereon is peeled off. Al wiring remains only in the dicing groove portion where there is no resist. As can be seen in the cross-sectional view, the Al electrode is peeled off by lift-off on the upper surface of PLZT to form an opening. A dielectric multilayer film is formed in the opening. Since the opening becomes an insulating region isolated from the left and right electrodes, a lateral electric field can be applied to the opening by applying a voltage to the electrodes on both sides. Pads are formed so that they can be connected to the dicing grooves, and wiring is performed on the pads by wire bonding. By connecting a ground and a signal to each of these electrodes, an electric field can be arbitrarily applied to PLZT. Continuous light that is linearly polarized is incident from below. When the polarization direction is perpendicular to the electric field, the electro-optic effect is received.

本発明の構成の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of a structure of this invention. アレイ化されたキャビティ型光スイッチとマイクロレンズアレイを示す図である。It is a figure which shows the cavity type | mold optical switch and micro lens array which were arrayed. アレイ型波長変換デバイスの作用模式図である。It is an effect | action schematic diagram of an array type wavelength conversion device. 本発明の実施形態の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 レーザ結晶
2 入射側光学フィルタ
3 非線型材料
4 出射側光学フィルタ
5 PLZT
6 電極
7、8 誘電体多層膜
10 光スイッチアレイ
20 マイクロレンズアレイ
Li 入射光束
Lo 出射光束
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser crystal 2 Incident side optical filter 3 Non-linear material 4 Outgoing side optical filter 5 PLZT
6 Electrode 7, 8 Dielectric multilayer 10 Optical switch array 20 Micro lens array Li Incident light beam Lo Outgoing light beam

Claims (7)

波長変換材料と、該波長変換材料の入射側、および出射側に光学フィルタとを一体化してなる光学素子において、前記出射側の光学フィルタは、任意に透過率を制御できるフィルタであることを特徴とする光学素子。   In an optical element in which a wavelength conversion material and an optical filter are integrated on the incident side and the emission side of the wavelength conversion material, the optical filter on the emission side is a filter that can arbitrarily control the transmittance. An optical element. 請求項1に記載の光学素子において、前記出射側の光学フィルタは電気光学材料を用いたキャビティ型の光スイッチであることを特徴とする光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the optical filter on the emission side is a cavity type optical switch using an electro-optic material. 請求項2に記載の光学素子において、前記電気光学材料のキャビティは、前記波長変換材料から発振する光のスペクトル半値幅をλmとするとき、λmは以下の条件を満たすことを特徴とする光学素子。
λm<FSR
ただし、
FSR=λ/(2×n×d)
λ:波長変換材料から発振する光のスペクトル中心波長
n:電気光学材料の屈折率
d:電気光学材料の厚さ
3. The optical element according to claim 2, wherein the cavity of the electro-optic material satisfies the following condition when λm is a spectral half width of light oscillated from the wavelength conversion material. .
λm <FSR
However,
FSR = λ 2 / (2 × n × d)
λ: spectral center wavelength of light oscillated from wavelength conversion material n: refractive index of electro-optic material d: thickness of electro-optic material
請求項2または3に記載の光学素子において、前記電気光学材料はPLZTであり、その厚みを10μm以下にすることを特徴とする光学素子。   4. The optical element according to claim 2, wherein the electro-optic material is PLZT and has a thickness of 10 [mu] m or less. 請求項2ないし4のいずれか1つに記載の光学素子において、前記波長変換材料に入射する入射光は直線偏光で、その偏光方向と、前記電気光学材料に印加する電圧の印加方向とが平行であることを特徴とする光学素子。   5. The optical element according to claim 2, wherein incident light incident on the wavelength conversion material is linearly polarized light, and a polarization direction of the incident light is parallel to an application direction of a voltage applied to the electro-optical material. An optical element characterized by the above. 請求項3ないし5のいずれか1つに記載の光学素子において、前記キャビティ型の光スイッチの電極が反射面となることを特徴とする光学素子。   6. The optical element according to claim 3, wherein an electrode of the cavity type optical switch serves as a reflecting surface. 請求項2ないし5のいずれか1つに記載の光学素子において、前記キャビティ型の光スイッチをアレイ化し、該アレイに合わせた形にマイクロレンズを配置したことを特徴とする光学素子。
6. The optical element according to claim 2, wherein the cavity-type optical switch is arrayed, and a microlens is arranged in accordance with the array.
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