JP2007154026A - Method for producing optical resin material and optical element - Google Patents

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晃純 木村
Yasuo Taima
恭雄 當間
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秀明 若松
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical resin material satisfying both of the high transparency (light transmittance) and the high refractive index. <P>SOLUTION: An objective lens 7 according to the present invention is obtained by molding an optical resin material obtained by kneading a thermoplastic resin with inorganic fine particles having 1-100 nm volume average particle diameter. The method for producing the optical resin material comprises a dispersing step for dispersing the inorganic particles into a solution of a first silane coupling agent and a dispersing agent, a surface treatment step for surface-treating the inorganic fine particles with a second silane coupling agent after carrying out dispersing step and a kneading step for kneading the inorganic fine particles with the thermoplastic resin after carrying out surface treatment step. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、レンズ、フィルター、グレーティング、光ファイバー、平板光導波路などとして好適に用いられ、高屈折率で、温度による屈折率の変化率が小さく、かつ透明性に優れた熱可塑性の光学用樹脂材料の製造方法及びそれを用いた光学素子に関する。   The present invention is suitably used as a lens, a filter, a grating, an optical fiber, a flat optical waveguide, etc., and has a high refractive index, a small change in refractive index due to temperature, and a thermoplastic optical resin material having excellent transparency. And an optical element using the same.

特許文献1に示されているように、光学樹脂に微粒子を分散させることで、屈折率の温度変化、樹脂の熱膨張率を抑えた光学用樹脂材料を得る事が提案されている。実際に微粒子を樹脂中に含有する事で、上記の物性は改善する。しかし、光学樹脂の用途に微粒子を分散させた光学用樹脂材料をレンズ等に用いるためには高い透明性、かつ高い屈折率が必要となる。   As shown in Patent Document 1, it has been proposed to obtain an optical resin material in which fine particles are dispersed in an optical resin to suppress the temperature change of the refractive index and the thermal expansion coefficient of the resin. The above physical properties are improved by actually containing fine particles in the resin. However, in order to use an optical resin material in which fine particles are dispersed for use in an optical resin for a lens or the like, high transparency and a high refractive index are required.

透明性を保持した光学用樹脂材料として、次の提案がされている。特許文献2にはシリカの表面をシランカップリング剤等の表面処理剤を用いてある一定以上、疎水化して、アクリル系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリスチレン系高分子に混合することで、透明性、剛性にすぐれた熱可塑性樹脂を得られることが示されている。同様に特許文献3には透明な非結晶の高分子に可視光線波長以下の径を有する微細なシリカを配合する事が示されている。しかし、一般的な光学用途の樹脂の屈折率と比較してシリカの屈折率は低い。したがって、ある程度、透明な光学用樹脂材料を得られはしても、光学用樹脂材料の屈折率は低くなり、レンズなどの用途には不向きなものであった。   The following proposals have been made as optical resin materials having transparency. In Patent Document 2, the silica surface is made hydrophobic by using a surface treatment agent such as a silane coupling agent to a certain level or more, and mixed with an acrylic polymer, a polycarbonate polymer, or a polystyrene polymer so that the surface is transparent. It has been shown that a thermoplastic resin excellent in properties and rigidity can be obtained. Similarly, Patent Document 3 shows that fine silica having a diameter of not more than a visible light wavelength is blended with a transparent amorphous polymer. However, the refractive index of silica is lower than that of a resin for general optical use. Therefore, even if a transparent optical resin material can be obtained to some extent, the refractive index of the optical resin material is low, which is unsuitable for applications such as lenses.

一方、屈折率が高い粒子を樹脂中に含有し、高い屈折を持つ光学用樹脂材料としては、次のものが提案されている。   On the other hand, the following has been proposed as an optical resin material containing particles having a high refractive index in a resin and having a high refraction.

特許文献4には、高屈折、耐熱性を付与した光学樹脂として、酸化チタン、酸化亜鉛などを微細な状態で樹脂中に混入する事でこの様な材料を得る事が示されている。しかし、このように、シリカ以外の粒子を用いた場合、実際には光学用樹脂材料の透明度は悪化し、光学用途に用いる事は難しい。これは、疎水性の樹脂に無機粒子を混合するにはシランカップリング剤が非常に有効であるが、シリカ以外の粒子においてはその効果が低下してしまう事による。したがって、無機微粒子表面をシリカでコーティングし、さらに疎水化処理することを試みた。この処理によって粒子の疎水性は格段に上がる。しかし、高い透明性を示す光学用樹脂材料を作製するには、光の散乱を防ぐために100nm以下の微細な粒子を用いる必要があり、処理過程における粒子の凝集による光学用樹脂材料の透明度の低下が問題となっている。
特開2002−241592号公報 特開2003−201114号公報 特開平11−343349号公報 特開2003−73563号公報
Patent Document 4 shows that such a material can be obtained by mixing titanium oxide, zinc oxide, or the like in a fine state as an optical resin imparted with high refraction and heat resistance. However, when particles other than silica are used in this way, the transparency of the optical resin material actually deteriorates and is difficult to use for optical applications. This is because a silane coupling agent is very effective for mixing inorganic particles with a hydrophobic resin, but the effect of particles other than silica is reduced. Therefore, an attempt was made to coat the surface of the inorganic fine particles with silica and further hydrophobize it. This treatment significantly increases the hydrophobicity of the particles. However, in order to produce an optical resin material exhibiting high transparency, it is necessary to use fine particles of 100 nm or less in order to prevent light scattering, and the transparency of the optical resin material is reduced due to aggregation of particles during the process. Is a problem.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-241592 JP 2003-201114 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-343349 JP 2003-73563 A

無機微粒子の表面にシリカ層を形成した粒子にシランカップリング剤で疎水化処理を行う事により、高い疎水性をもった粒子を作製することができる。シリカ層を形成する処理は主として湿式で行う。しかし、この際、粒子径が100nm以下の超微粒子になると粒子の表面積の増加による凝集が激しくなる。この凝集が無機粒子と樹脂の複合樹脂を作製した際の光透過率の減少の原因となっている。
本発明の目的は、粒子径が100nm以下の無機微粒子を用いても、高い透明性(光透過率)と高屈折率とを両立しうる光学用樹脂材料を得る事である。
By carrying out the hydrophobization process with the silane coupling agent to the particle | grains which formed the silica layer on the surface of an inorganic fine particle, the particle | grains with high hydrophobicity can be produced. The treatment for forming the silica layer is mainly performed by a wet method. However, at this time, when the particle diameter becomes ultrafine particles of 100 nm or less, aggregation due to an increase in the surface area of the particles becomes severe. This aggregation causes a decrease in light transmittance when a composite resin of inorganic particles and resin is produced.
An object of the present invention is to obtain an optical resin material that can achieve both high transparency (light transmittance) and high refractive index even when inorganic fine particles having a particle diameter of 100 nm or less are used.

上記課題を解決するため第1の発明は、
熱可塑性樹脂に無機微粒子を混練してなる光学用樹脂材料の製造方法であって、
体積平均粒子径が1〜100nmの無機微粒子を第1のシランカップリング剤と分散剤との溶液中に分散させる分散工程と、
前記分散工程後に前記無機微粒子に対し第2のシランカップリング剤を用いて表面処理を施す表面処理工程と、
前記表面処理工程後に前記無機微粒子を前記熱可塑性樹脂に混練する混練工程と、
を備えることを特徴としている。
In order to solve the above problems, the first invention
A method for producing an optical resin material obtained by kneading inorganic fine particles in a thermoplastic resin,
A dispersion step of dispersing inorganic fine particles having a volume average particle diameter of 1 to 100 nm in a solution of a first silane coupling agent and a dispersant;
A surface treatment step of subjecting the inorganic fine particles to a surface treatment using a second silane coupling agent after the dispersion step;
A kneading step of kneading the inorganic fine particles into the thermoplastic resin after the surface treatment step;
It is characterized by having.

前記第1のシランカップリング剤は、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、ポリシラザンのいずれかから選ばれるのが好ましい。   The first silane coupling agent is preferably selected from tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, and polysilazane.

前記第2のシランカップリング剤は、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライドのいずれかから選ばれるのが好ましい。   The second silane coupling agent is preferably selected from hexamethyldisilazane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylsilyl chloride.

第1の発明においては、
前記表面処理工程後で前記混練工程前に、前記無機微粒子に対し第3のシランカップリング剤を用いて表面処理を施す第2の表面処理工程を備えてもよい。
In the first invention,
You may provide the 2nd surface treatment process which surface-treats using a 3rd silane coupling agent after the said surface treatment process and before the said kneading | mixing process.

前記第3のシランカップリング剤は、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライドのいずれかから選ばれるのが好ましい。   The third silane coupling agent is preferably selected from hexamethyldisilazane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylsilyl chloride.

第1の発明においては、
前記無機微粒子が酸化物又はリン酸塩であるのが好ましい。
In the first invention,
The inorganic fine particles are preferably oxides or phosphates.

第2の発明は、
第1の発明に係る光学用樹脂材料の製造方法により得られた光学用樹脂材料を成型した光学素子である。
The second invention is
An optical element obtained by molding an optical resin material obtained by the method for manufacturing an optical resin material according to the first invention.

本発明によれば、分散工程で、表面未処理の無機微粒子を分散剤を用いて分散した状態で第1のシランカップリング剤を用いて表面シリカ層を形成し、さらに、表面処理工程,第2の表面処理工程で、第2,第3のシランカップリング剤を用いて無機微粒子を疎水化処理することができ、無機微粒子の体積平均粒子径が100nm以下であっても、高い透明性(光透過率)と高屈折率とを両立しうる光学用樹脂材料を得る事ができる(下記実施例参照)。   According to the present invention, in the dispersion step, the surface silica layer is formed using the first silane coupling agent in a state where the inorganic fine particles having not been surface-treated are dispersed using the dispersant. In the surface treatment step 2, the inorganic fine particles can be hydrophobized using the second and third silane coupling agents, and even if the volume average particle diameter of the inorganic fine particles is 100 nm or less, high transparency ( It is possible to obtain an optical resin material capable of satisfying both (light transmittance) and a high refractive index (see Examples below).

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。
本発明に係る光学用樹脂材料の製造方法において、当該光学用樹脂材料は熱可塑性樹脂に対し無機微粒子を混練してなるものである。また本発明に係る光学素子は当該光学用樹脂材料を成型したものである。
以下では、(1)熱可塑性樹脂及び(2)無機微粒子についてそれぞれ説明し、その後に(3)光学用樹脂材料の製造方法と(4)その製造方法により得られた光学素子の製造方法や適用例とについてそれぞれ説明する。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the scope of the invention is not limited to the illustrated examples.
In the method for producing an optical resin material according to the present invention, the optical resin material is obtained by kneading inorganic fine particles with a thermoplastic resin. The optical element according to the present invention is obtained by molding the optical resin material.
In the following, (1) thermoplastic resin and (2) inorganic fine particles will be described, respectively, and then (3) a method for producing an optical resin material and (4) a method for producing an optical element obtained by the method and its application. Each example will be described.

(1)熱可塑性樹脂
熱可塑性樹脂としては、光学材料として一般的に用いられる透明の熱可塑性樹脂材料であれば特に制限はないが、光学素子としての加工性を考慮すると、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、またはポリイミド樹脂であることが好ましく、特に好ましくは環状オレフィン樹脂であり、例えば、特開2003−73559号公報等に記載の化合物を挙げることができ、その好ましい化合物を表1に示す。
(1) Thermoplastic resin The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it is a transparent thermoplastic resin material generally used as an optical material. However, in consideration of processability as an optical element, an acrylic resin or a cyclic olefin is used. A resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polyether resin, a polyamide resin, or a polyimide resin is preferable, and a cyclic olefin resin is particularly preferable, and examples thereof include compounds described in JP-A-2003-73559. Table 1 shows preferable compounds.

Figure 2007154026
Figure 2007154026

光学用樹脂材料においては、熱可塑性樹脂はその吸水率が0.2質量%以下であることが好ましい。吸水率が0.2質量%以下の樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等)、フッ素樹脂(例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テフロン(登録商標)AF(デュポン社製)、サイトップ(旭硝子社製)等)、環状オレフィン樹脂(例えば、ZEONEX(日本ゼオン社製)、アートン(JSR社製)、アペル(三井化学社製)、TOPAS(ポリプラスチック社製)等)、インデン/スチレン系樹脂、ポリカーボネートなどが好適であるが、これらに限るものではない。   In the optical resin material, the thermoplastic resin preferably has a water absorption of 0.2% by mass or less. Examples of the resin having a water absorption of 0.2% by mass or less include polyolefin resin (for example, polyethylene, polypropylene, etc.), fluororesin (for example, polytetrafluoroethylene, Teflon (registered trademark) AF (manufactured by DuPont), Top (made by Asahi Glass Co., Ltd.), cyclic olefin resin (for example, ZEONEX (made by Nippon Zeon), Arton (made by JSR), Apel (made by Mitsui Chemicals), TOPAS (made by Polyplastics), etc.), inden / Styrenic resins, polycarbonates and the like are suitable, but not limited to these.

また、これらの樹脂と相溶性のある他の樹脂を併用することも好ましい。2種以上の樹脂を用いる場合、その吸水率は、個々の樹脂の吸水率の平均値にほぼ等しいと考えられ、その平均の吸水率が0.2%以下になればよい。   It is also preferable to use other resins compatible with these resins. When two or more kinds of resins are used, the water absorption rate is considered to be approximately equal to the average value of the water absorption rates of the individual resins, and the average water absorption rate only needs to be 0.2% or less.

(2)無機微粒子
無機微粒子としては特に限定はなく、得られる光学用樹脂材料の温度による屈折率の変化率(以後、|dn/dT|とする)が小さいという本発明の目的の達成を可能とする無機微粒子の中から任意に選択することができる。具体的には酸化物微粒子、金属塩微粒子、半導体微粒子などが好ましく用いられ、この中から、光学素子として使用する波長領域において吸収、発光、蛍光等が生じないものを適宜選択して使用することが好ましい。
(2) Inorganic fine particles The inorganic fine particles are not particularly limited, and it is possible to achieve the object of the present invention that the rate of change in refractive index with temperature of the obtained optical resin material (hereinafter referred to as | dn / dT |) is small. It can be arbitrarily selected from the inorganic fine particles. Specifically, oxide fine particles, metal salt fine particles, semiconductor fine particles, and the like are preferably used. Of these, those that do not generate absorption, light emission, fluorescence, etc. in the wavelength region used as an optical element are appropriately selected and used. Is preferred.

酸化物微粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Li、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Rb、Sr、Y、Nb、Zr、Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Ta、Hf、W、Ir、Tl、Pb、Bi及び希土類金属からなる群より選ばれる1種または2種以上の金属である金属酸化物を用いることができ、具体的には、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛、これら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物(MgAl)等が挙げられる。また、本発明において用いられる酸化物微粒子として希土類酸化物を用いることもでき、具体的には酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等も挙げられる。金属塩微粒子としては、炭酸塩、リン酸塩、硫酸塩などが挙げられ、具体的には炭酸カルシウム、リン酸アルミニウム等が挙げられる。なかでも、リン酸塩の表面はリン酸イオンによりシリカが緻密化することによりリン酸アルミニウムが望ましい。 As oxide fine particles, the metal constituting the metal oxide is Li, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Rb. 1 selected from the group consisting of Sr, Y, Nb, Zr, Mo, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Cs, Ba, La, Ta, Hf, W, Ir, Tl, Pb, Bi and rare earth metals A metal oxide that is a seed or two or more metals can be used. Specifically, for example, titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, magnesium oxide, oxidation Calcium, strontium oxide, barium oxide, indium oxide, tin oxide, lead oxide, double oxides composed of these oxides, lithium niobate, potassium niobate, tanta Lithium acid, magnesium aluminum oxide (MgAl 2 O 4), and the like. In addition, rare earth oxides can also be used as oxide fine particles used in the present invention, specifically, scandium oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, cerium oxide, praseodymium oxide, neodymium oxide, samarium oxide, europium oxide, gadolinium oxide. Terbium oxide, dysprosium oxide, holmium oxide, erbium oxide, thulium oxide, ytterbium oxide, lutetium oxide and the like. Examples of the metal salt fine particles include carbonates, phosphates, sulfates, and the like, specifically, calcium carbonate, aluminum phosphate, and the like. Among these, the surface of the phosphate is preferably aluminum phosphate because silica is densified by phosphate ions.

一般的に熱可塑性樹脂のdn/dTは負の値を持つ、即ち温度の上昇に伴い屈折率が小さくなる。従って、光学用樹脂材料の|dn/dT|を効率的に小さくする為には、dn/dTが大きい無機微粒子を分散させることが好ましい。熱可塑性樹脂のdn/dTと同符号の値を持つ無機微粒子を用いる場合には、無機微粒子のdn/dTの絶対値が、母材となる熱可塑性樹脂のdn/dTよりも小さいことが好ましい。更に、母材となる熱可塑性樹脂のdn/dTと逆符号のdn/dTを有する無機微粒子、即ち、正の値のdn/dTを有する無機微粒子が好ましく用いられる。このような無機微粒子を熱可塑性樹脂に分散させることで、少ない量で効果的に光学用樹脂材料の|dn/dT|を小さくすることができる。分散される無機微粒子のdn/dTは、母材となる熱可塑性樹脂のdn/dTの値により適宜選択することができるが、一般的に光学素子に好ましく用いられる熱可塑性樹脂に無機微粒子を分散させる場合は、無機微粒子のdn/dTが−20×10−6よりも大きいことが好ましく、−10×10−6よりも大きいことが更に好ましい。 Generally, dn / dT of a thermoplastic resin has a negative value, that is, the refractive index decreases as the temperature increases. Therefore, in order to efficiently reduce | dn / dT | of the optical resin material, it is preferable to disperse inorganic fine particles having a large dn / dT. When using inorganic fine particles having the same sign value as dn / dT of the thermoplastic resin, the absolute value of dn / dT of the inorganic fine particles is preferably smaller than dn / dT of the thermoplastic resin as the base material. . Furthermore, inorganic fine particles having a dn / dT opposite in sign to dn / dT of the thermoplastic resin as a base material, that is, inorganic fine particles having a positive value of dn / dT are preferably used. By dispersing such inorganic fine particles in the thermoplastic resin, | dn / dT | of the optical resin material can be effectively reduced with a small amount. The dn / dT of the inorganic fine particles to be dispersed can be appropriately selected depending on the value of dn / dT of the thermoplastic resin as a base material. In general, the inorganic fine particles are dispersed in a thermoplastic resin preferably used for an optical element. When the inorganic fine particles are used, the dn / dT of the inorganic fine particles is preferably larger than −20 × 10 −6, and more preferably larger than −10 × 10 −6 .

一方、熱可塑性樹脂に無機微粒子を分散させる際には、母材となる熱可塑性樹脂と無機微粒子の屈折率の差が小さいことが望ましい。発明者らの検討の結果、熱可塑性樹脂と分散される無機微粒子の屈折率の差が小さいと、光を透過させた場合に散乱を起こし難いということがわかった。熱可塑性樹脂に無機微粒子を分散させる際、粒子が大きい程、光を透過させた時の散乱を起こしやすくなるが、熱可塑性樹脂と分散される無機微粒子の屈折率の差が小さいと、比較的大きな無機微粒子を用いても光の散乱が発生する度合いが小さいことを発見した。熱可塑性樹脂と分散される無機微粒子の屈折率の差は、0〜0.3の範囲であることが好ましく、更に0〜0.15の範囲であることが好ましい。また、同時に分散される無機微粒子の表面を熱可塑性樹脂の屈折率と差が小さい無機物質で覆う事により光の散乱の程度を小さくできることも発見した。熱可塑性樹脂と分散される無機微粒子の表面の無機物質の屈折率の差は、0〜0.3の範囲であることが好ましく、更に0〜0.15の範囲であることが好ましい。   On the other hand, when the inorganic fine particles are dispersed in the thermoplastic resin, it is desirable that the difference in refractive index between the thermoplastic resin as the base material and the inorganic fine particles is small. As a result of the study by the inventors, it has been found that if the difference in refractive index between the thermoplastic resin and the dispersed inorganic fine particles is small, it is difficult to cause scattering when light is transmitted. When the inorganic fine particles are dispersed in the thermoplastic resin, the larger the particles, the easier it is to cause scattering when light is transmitted, but the difference in refractive index between the thermoplastic resin and the dispersed inorganic fine particles is relatively small. It was discovered that even when large inorganic fine particles were used, the degree of light scattering was small. The difference in refractive index between the thermoplastic resin and the dispersed inorganic fine particles is preferably in the range of 0 to 0.3, and more preferably in the range of 0 to 0.15. It was also discovered that the degree of light scattering can be reduced by covering the surface of the inorganic fine particles dispersed simultaneously with an inorganic substance having a small difference from the refractive index of the thermoplastic resin. The difference in refractive index between the thermoplastic resin and the inorganic substance on the surface of the dispersed inorganic fine particles is preferably in the range of 0 to 0.3, and more preferably in the range of 0 to 0.15.

光学用樹脂材料として好ましく用いられる熱可塑性樹脂の屈折率は、1.4〜1.6程度である場合が多く、これらの熱可塑性樹脂に分散させる無機微粒子としては、例えば炭酸カルシウム、リン酸アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物などが好ましく用いられる。   The refractive index of a thermoplastic resin preferably used as an optical resin material is often about 1.4 to 1.6. Examples of inorganic fine particles dispersed in these thermoplastic resins include calcium carbonate and aluminum phosphate. Aluminum oxide, magnesium oxide, aluminum / magnesium oxide and the like are preferably used.

また、発明者らの研究により、比較的屈折率の低い無機微粒子を分散させることで、光学用樹脂材料のdn/dTを効果的に小さくすることができることがわかった。屈折率が低い無機微粒子を分散した光学用樹脂材料の|dn/dT|が小さくなる理由について、詳細はわかっていないものの、光学用樹脂材料における無機微粒子の体積分率の温度変化が、無機微粒子の屈折率が低いほど、光学用樹脂材料の|dn/dT|を小さくする方向に働くのではないかと考えられる。比較的屈折率が低い無機微粒子としては、例えば、炭酸カルシウム、リン酸アルミニウムが好ましく用いられる。   Further, the inventors' research has revealed that the dn / dT of the optical resin material can be effectively reduced by dispersing inorganic fine particles having a relatively low refractive index. Although the details of the reason why | dn / dT | of the optical resin material in which inorganic fine particles having a low refractive index are dispersed are small, the change in the volume fraction of the inorganic fine particles in the optical resin material is caused by the temperature change of the inorganic fine particles. It is considered that the lower the refractive index, the smaller the | dn / dT | of the optical resin material. As inorganic fine particles having a relatively low refractive index, for example, calcium carbonate and aluminum phosphate are preferably used.

光学用樹脂材料のdn/dTの低減効果、光透過性、所望の屈折率等を全て同時に向上させることは困難であり、熱可塑性樹脂に分散させる無機微粒子は、光学用樹脂材料に求める特性に応じて、無機微粒子自体のdn/dTの大きさ、無機微粒子のdn/dTと母材となる熱可塑性樹脂のdn/dTとの差、及び無機微粒子の屈折率等を考慮して適宜選択することができる。更に、母材となる熱可塑性樹脂との相性、即ち、熱可塑性樹脂に対する分散性、散乱を引き起こし難い無機微粒子を適宜選択して用いることは、光透過性を維持する上で好ましい。   It is difficult to simultaneously improve the dn / dT reduction effect, optical transparency, desired refractive index, etc. of the optical resin material, and the inorganic fine particles dispersed in the thermoplastic resin have characteristics required for the optical resin material. Depending on the size of dn / dT of the inorganic fine particles themselves, the difference between the dn / dT of the inorganic fine particles and the dn / dT of the thermoplastic resin as the base material, the refractive index of the inorganic fine particles, etc. be able to. Furthermore, it is preferable to appropriately select and use inorganic fine particles that are compatible with the thermoplastic resin as a base material, that is, dispersibility with respect to the thermoplastic resin and hardly cause scattering.

上記の無機微粒子は、1種類の無機微粒子を用いてもよく、また複数種類の無機微粒子を併用してもよい。異なる性質を有する複数種類の無機微粒子を用いることで、必要とされる特性を更に効率よく向上させることもできる。   As the inorganic fine particles, one kind of inorganic fine particles may be used, or a plurality of kinds of inorganic fine particles may be used in combination. By using a plurality of types of inorganic fine particles having different properties, the required characteristics can be improved more efficiently.

無機微粒子の体積平均粒子径は1〜100nmであることが好ましく、1〜30nmであることがより好ましく、1〜10nmであることがさらに好ましい。体積平均粒子径が1nm未満の場合、無機微粒子の分散が困難になり所望の性能が得られないおそれがあり、体積平均粒子径が100nmを超える場合、得られる光学用樹脂材料が濁り透明性が低下するおそれがある。   The volume average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 30 nm, and further preferably 1 to 10 nm. When the volume average particle diameter is less than 1 nm, it may be difficult to disperse the inorganic fine particles and the desired performance may not be obtained. When the volume average particle diameter exceeds 100 nm, the obtained optical resin material becomes turbid and transparent. May decrease.

ここで、体積平均粒子径とは、エックス線小角散乱測定法により求められる平均粒子径である。無機微粒子同士が凝集して凝集粒子を形成している場合は、その凝集粒子を一粒子として換算した平均粒子径であるものとする。   Here, the volume average particle diameter is an average particle diameter obtained by the X-ray small angle scattering measurement method. When the inorganic fine particles are aggregated to form aggregated particles, the average particle diameter is calculated by converting the aggregated particles as one particle.

また、粒子径の分布に関しても特に制限されるものではないが、本発明の効果をより効率よく発現させるためには、広範な分布を有するものよりも、比較的狭い分布を持つものが好適に用いられる。具体的には、変動係数(測定値のばらつきの指標として標準偏差を平均で割った値、無次元数)±30以下が好ましく、±10以下がより好ましい。   Further, the particle size distribution is not particularly limited, but in order to achieve the effect of the present invention more efficiently, a particle having a relatively narrow distribution is preferably used rather than a particle having a wide distribution. Used. Specifically, the coefficient of variation (the value obtained by dividing the standard deviation by the average as an index of variation in the measured value, the dimensionless number) is preferably ± 30 or less, and more preferably ± 10 or less.

無機微粒子の屈折率としては、1.3〜2.3の範囲であることが好ましく、1.5〜1.8の範囲であることがより好ましい。また、無機微粒子の線膨張係数は小さいほうが好ましい。これは無機微粒子を分散させた後の光学用樹脂材料の線膨張係数に影響を与えるからである。   The refractive index of the inorganic fine particles is preferably in the range of 1.3 to 2.3, and more preferably in the range of 1.5 to 1.8. Further, it is preferable that the inorganic fine particles have a small linear expansion coefficient. This is because the linear expansion coefficient of the optical resin material after the inorganic fine particles are dispersed is affected.

(3)光学用樹脂材料の製造方法
本発明に係る光学用樹脂材料の製造方法は、熱可塑性樹脂に対し無機微粒子を混練する方法であって、具体的には、(3.1)無機微粒子を第1シランカップリング剤と分散剤との溶液中に分散させる分散工程と、(3.2)分散工程後に無機微粒子に対し第2シランカップリング剤を用いて表面処理を施す表面処理工程と、(3.3)表面処理工程後に前記無機微粒子を前記熱可塑性樹脂に混練する混練工程と、を備えている。
(3) Method for Producing Optical Resin Material The method for producing an optical resin material according to the present invention is a method of kneading inorganic fine particles with a thermoplastic resin, specifically, (3.1) inorganic fine particles. And (3.2) a surface treatment step of performing a surface treatment on the inorganic fine particles using the second silane coupling agent after the dispersion step; (3.3) A kneading step of kneading the inorganic fine particles into the thermoplastic resin after the surface treatment step.

(3.1)分散工程
分散工程は湿式処理における分散手法による。当該分散手法では湿式処理における分散装置を適用する。当該分散装置としては、超音波分散機、ビーズミルなどの媒体攪拌ミルが適用できる。中でもビーズミルが好ましい。ビーズミルとは、容器内に媒体としてビーズを充填させ、ビーズを攪拌させながら表面処理された無機微粒子と溶媒とを流し込み、これらを容器内でさらに攪拌させることにより無機微粒子の凝集粒子をビーズにより粉砕させて、溶媒中に分散させる装置である。ビーズミルとしては、具体的に、スターミルZRS(アシザワファインテック株式会社製)、ウルトラアペックスミル(寿工業株式会社製)などが挙げられる。
(3.1) Dispersion step The dispersion step is based on a dispersion method in wet processing. In this dispersion method, a dispersion apparatus in wet processing is applied. As the dispersing device, a medium stirring mill such as an ultrasonic disperser or a bead mill can be applied. Of these, a bead mill is preferred. The bead mill is filled with beads as a medium in a container, and the surface-treated inorganic fine particles and solvent are poured while stirring the beads, and these are further stirred in the container to pulverize the aggregated particles of the inorganic fine particles with the beads. And disperse in a solvent. Specific examples of the bead mill include Star Mill ZRS (manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd.), Ultra Apex Mill (manufactured by Kotobuki Industries Co., Ltd.), and the like.

このような装置は、溶媒中に無機微粒子を十分分散させてから、ビーズのみを遠心分離させることによりスラリーを得ることができるようになっている。遠心分離によってビーズのみを分離させるので、より細かいビーズの使用が可能であり、無機微粒子をより一次粒子に近い体積平均粒子径まで粉砕させるようになっている。ここで、ビーズとしては、ガラス、アルミナ、スチール、ダイヤモンド、フリント石などを用いることができ、ジルコニア粉末(例えば、TZシリーズ(東ソー株式会社製)など)が好ましい。また、ビーズの粒子径としては0.03〜0.3mm程度のものが好ましい。   Such an apparatus can obtain a slurry by sufficiently dispersing inorganic fine particles in a solvent and then centrifuging only the beads. Since only the beads are separated by centrifugation, finer beads can be used, and the inorganic fine particles are pulverized to a volume average particle diameter closer to the primary particles. Here, as the beads, glass, alumina, steel, diamond, flint stone and the like can be used, and zirconia powder (for example, TZ series (manufactured by Tosoh Corporation)) is preferable. The particle diameter of the beads is preferably about 0.03 to 0.3 mm.

分散工程に適用可能な第1のシランカップリング剤としては、シリカ膜を形成することができる試薬であれば好ましく用いる事ができ、ポリシラザン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランのいずれかを好ましく用いる事ができる。ポリシラザンには硬化促進のための触媒を含有する溶液タイプの試薬である、NL110,NP110(AZエレクトロマテリアルズ社製)も市販されており、好ましく使うことができる。なかでも、緻密なシリカ膜を形成する事ができるという観点から、テトラエトキシシランカップリング剤を好ましく用いる事ができる。本発明において、処理は液中で行われる。一般的には、粒子が分散したスラリーにアンモニアを用いて塩基性調整し、第1のカップリング剤を添加することが望ましい。スラリー中の無機微粒子はよく分散していることが望ましく。任意に超音波やビーズミルを用いて分散を行うことが望ましい。   As the first silane coupling agent applicable to the dispersion step, any reagent that can form a silica film can be preferably used, and any of polysilazane, tetramethoxysilane, and tetraethoxysilane is preferably used. Can do. As polysilazane, NL110 and NP110 (manufactured by AZ Electromaterials), which are solution-type reagents containing a catalyst for accelerating curing, are also commercially available and can be preferably used. Among these, from the viewpoint that a dense silica film can be formed, a tetraethoxysilane coupling agent can be preferably used. In the present invention, the treatment is performed in a liquid. In general, it is desirable to adjust the basicity of the slurry in which the particles are dispersed using ammonia and to add the first coupling agent. It is desirable that the inorganic fine particles in the slurry are well dispersed. It is desirable to perform dispersion using an ultrasonic wave or a bead mill.

分散工程に適用可能な分散剤としては、脂肪酸アミド系など市販のものを使うことができる。なかでも、粒子を溶媒中でより小さな粒子径で安定に分散させる事を考えれば、高分子分散剤が望ましい。高分子分散剤としては、混ぜ込みたい樹脂の酸変性物、また、同組成のより分子量が小さい樹脂の酸変性物、樹脂と類似構造を持つ樹脂の酸変性物、もしくは塩基性変性物が好ましく、より好ましくは、混ぜ込みたい樹脂に相溶する酸変性樹脂、もしくは塩基性変性物が望ましい。本発明における相溶性があるとは、変性物と熱可塑性樹脂を混合した際、透明でにごりがないことを言う。マレイン酸変性、アクリル酸変性など、各種の酸変性物が好ましく使える。くわえて、アミド変性も使うことができる。市販されているものとしては、各種あり、用途によって選択し用いることが可能である。ポリエチレン系変性樹脂としては、サンワックスシリーズ(三洋化成工業製)、ポリプロピレン系樹脂変性物としてはビスコールシリーズ(三洋化成工業製)などがある。光学樹脂を例としてあげると、光学樹脂グレードのTOPAS5017(TiCoNa社製)に対しての酸変性物としては、TOPAS TMG MAH 2050(マレイン酸変性)などが市販されている。この酸変性物は、たとえば、APEL(三井化学)と混ぜてもにごりがなく透明である。高分子分散剤の量は、粒子表面に存在する、酸性基、また、塩基性基もしくは、その両方に対して当量を最大値として、それ以下の任意の量であることが望ましい。分散剤の添加量は粒子に対して20wt%以下が好ましく、より好ましくは10wt%以下が望ましい。20wt%以上の分散剤を用いるとシリカ膜を緻密に形成することが難しい。   Commercially available products such as fatty acid amides can be used as the dispersant applicable to the dispersion step. Among these, a polymer dispersant is desirable in view of stably dispersing particles in a solvent with a smaller particle size. The polymer dispersant is preferably an acid-modified product of a resin to be mixed, an acid-modified product of a resin having the same composition with a lower molecular weight, an acid-modified product of a resin having a similar structure to the resin, or a basic modified product. More preferably, an acid-modified resin or a basic modified product compatible with the resin to be mixed is desirable. The term “compatible” in the present invention means that when the modified product and the thermoplastic resin are mixed, it is transparent and free from dust. Various acid-modified products such as maleic acid-modified and acrylic acid-modified are preferably used. In addition, amide modification can also be used. There are various types of commercially available ones, which can be selected and used depending on the application. Examples of polyethylene-based modified resins include the sun wax series (manufactured by Sanyo Chemical Industries), and examples of polypropylene-based resin modified products include the biscol series (manufactured by Sanyo Chemical Industries). Taking an optical resin as an example, TOPAS TMG MAH 2050 (maleic acid modified) is commercially available as an acid modified product for optical resin grade TOPAS5017 (manufactured by TiCoNa). For example, this acid-modified product is transparent even when mixed with APEL (Mitsui Chemicals). The amount of the polymer dispersant is desirably an arbitrary amount less than or equal to the maximum value equivalent to the acidic group and / or basic group present on the particle surface. The addition amount of the dispersant is preferably 20 wt% or less, more preferably 10 wt% or less with respect to the particles. When a dispersant of 20 wt% or more is used, it is difficult to form a silica film densely.

(3.2)表面処理工程
表面処理工程における第2のシランカップリング剤としては、表面の疎水化を行う事ができるシランカップリン剤が適用可能である。市販の試薬であるシランカップリング剤としては、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライド、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N-2(アミノエチル)3アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、東レ・ダウシリコーン製のSZ6187などが好ましく使えるが、これに限定されるものではない。
(3.2) Surface treatment process As the 2nd silane coupling agent in a surface treatment process, the silane coupling agent which can hydrophobize the surface is applicable. Commercially available silane coupling agents include hexamethyldisilazane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylsilyl chloride, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, decyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxy. Silane, vinyltriethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, SZ6187 made by Toray Dow Silicone, etc. can be preferably used, but are not limited thereto. .

なかでも、分散液中での処理の場合の粒子の凝集が小さいことから、一官能のシランカップリング剤が好ましい。さらに、粒子が小粒径化するにしたがって、重量に対する表面積が増加し、分子量の大きな表面処理剤を用いて表面処理を行うと多量の表面処理剤が必要となる。表面処理を多量に含有した粒子を用いて作製した光学用樹脂材料の物性は劣化する。したがって、分子量が小さく、高い疎水性を示すシランカップリング剤が望ましく、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライドがより好ましく用いる事ができる。   Among these, a monofunctional silane coupling agent is preferable because the aggregation of particles in the case of treatment in a dispersion is small. Furthermore, as the particle size is reduced, the surface area relative to the weight increases, and when a surface treatment is performed using a surface treatment agent having a large molecular weight, a large amount of the surface treatment agent is required. The physical properties of an optical resin material produced using particles containing a large amount of surface treatment deteriorate. Therefore, a silane coupling agent having a small molecular weight and high hydrophobicity is desirable, and hexamethyldisilazane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylsilyl chloride can be more preferably used.

第2のシランカップリング剤の添加量としては、全無機微粒子に対し、5〜20重量%が望ましく、より望ましくは10〜15重量%である。20重量%以上の添加を行うと第2のカップリング剤の凝集体が生成し、光学用樹脂材料の透過率の低下の原因となり、5重量%以下では粒子に十分な疎水性を与える事は難しい。   The addition amount of the second silane coupling agent is desirably 5 to 20% by weight, more desirably 10 to 15% by weight, based on the total inorganic fine particles. If added in an amount of 20% by weight or more, an aggregate of the second coupling agent is formed, which causes a decrease in the transmittance of the optical resin material, and if it is less than 5% by weight, sufficient hydrophobicity is imparted to the particles. difficult.

(3.3)混練工程
分散工程の処理を終えたら、表面処理後の無機微粒子と熱可塑性樹脂とを混練する。具体的な混練機としては、KRCニーダー(栗本鉄工所社製);ポリラボシステム(HAAKE社製);ナノコンミキサー(東洋精機製作所社製);ナウターミキサーブス・コ・ニーダー(Buss社製);TEM型押し出し機(東芝機械社製);TEX二軸混練機(日本製鋼所社製);PCM混練機(池貝鉄工所社製);三本ロールミル、ミキシングロールミル、ニーダー(井上製作所社製);ニーデックス(三井鉱山社製);MS式加圧ニーダー、ニダールーダー(森山製作所社製);バンバリーミキサー(神戸製鋼所社製)が挙げられる。
以上の分散工程から表面処理工程を経て混練工程の各処理をおこなうことで、光学用樹脂材料を製造することができる。
(3.3) Kneading Step After the dispersion step, the inorganic fine particles after surface treatment and the thermoplastic resin are kneaded. Specific kneaders include KRC kneader (manufactured by Kurimoto Iron Works); polylab system (manufactured by HAAKE); nanocon mixer (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho); Nauter mixer bus co-kneader (manufactured by Buss) ); TEM type extruder (manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.); TEX twin-screw kneader (manufactured by Nippon Steel Works); PCM kneader (manufactured by Ikegai Iron Works Co., Ltd.); ); Needex (manufactured by Mitsui Mining); MS pressure kneader, nider ruder (manufactured by Moriyama Seisakusho); Banbury mixer (manufactured by Kobe Steel).
The resin material for optics can be manufactured by performing each process of a kneading | mixing process through the surface treatment process from the above dispersion | distribution process.

(3.4)第2の表面処理工程
なお、本実施形態では、上記表面処理工程後で上記混練工程前に、無機微粒子に対し第3のシランカップリング剤を用いて表面処理を施してもよい(第2の表面処理工程)。第2の表面処理工程における第3のシランカップリング剤としては上記第2のシランカップリング剤と同様のものを使用することができ、その添加量も、全無機微粒子に対し、5〜20重量%が望ましく、より望ましくは10〜15重量%である。20重量%以上の添加を行うと第3のカップリング剤の凝集体が生成し、光学用樹脂材料の透過率の低下の原因となり、5重量%以下では粒子に十分な疎水性を与える事は難しい。
(3.4) Second surface treatment step In the present embodiment, the inorganic fine particles may be subjected to a surface treatment using a third silane coupling agent after the surface treatment step and before the kneading step. Good (second surface treatment step). As a 3rd silane coupling agent in a 2nd surface treatment process, the thing similar to the said 2nd silane coupling agent can be used, The addition amount is 5-20 weight with respect to all the inorganic fine particles. % Is desirable, more desirably 10 to 15% by weight. If added in an amount of 20% by weight or more, aggregates of the third coupling agent are formed, which causes a decrease in the transmittance of the optical resin material. If the amount is 5% by weight or less, sufficient hydrophobicity is imparted to the particles. difficult.

(4)光学素子の製造方法や適用例
(4.1)光学素子の製造方法
次いで、本発明に係る光学素子(例えば光学用樹脂レンズ)の作製方法について説明する。
当該光学素子の作製では、上記の通り得られる光学用樹脂材料を成型する。成型方法としては、格別制限されるものはないが、低複屈折性、機械強度、寸法精度等の特性に優れた成型物を得る為には溶融成型が好ましい。溶融成型法としては、例えば、市販のプレス成型、市販の押し出し成型、市販の射出成型等が挙げられるが、射出成型が成型性、生産性の観点から好ましい。
(4) Optical Element Manufacturing Method and Application Examples (4.1) Optical Element Manufacturing Method Next, a method for manufacturing an optical element (for example, an optical resin lens) according to the present invention will be described.
In the production of the optical element, the optical resin material obtained as described above is molded. The molding method is not particularly limited, but melt molding is preferable in order to obtain a molded product excellent in characteristics such as low birefringence, mechanical strength, and dimensional accuracy. Examples of the melt molding method include commercially available press molding, commercially available extrusion molding, and commercially available injection molding, and injection molding is preferred from the viewpoints of moldability and productivity.

成型条件は使用目的、または成型方法により適宜選択されるが、例えば、射出成型における光学用樹脂材料の温度は、成型時に適度な流動性を樹脂に付与して成型品のヒケやひずみを防止し、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、更に、成型物の黄変を効果的に防止する観点から150℃〜400℃の範囲が好ましく、更に好ましくは200℃〜350℃の範囲であり、特に好ましくは200℃〜330℃の範囲である。   The molding conditions are appropriately selected depending on the purpose of use or molding method. For example, the temperature of the optical resin material in injection molding prevents the sink and distortion of the molded product by imparting appropriate fluidity to the resin during molding. From the viewpoint of preventing the occurrence of silver streak due to thermal decomposition of the resin, and effectively preventing yellowing of the molded product, a range of 150 ° C to 400 ° C is preferable, and a range of 200 ° C to 350 ° C is more preferable. Yes, particularly preferably in the range of 200 ° C to 330 ° C.

当該成型物は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状など種々の形態で使用することができ、また、低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性に優れるため、本発明の光学素子の一つである光学用樹脂レンズとして好適に用いられるが、その他の光学部品として用いてもよい。   The molded product can be used in various forms such as a spherical shape, a rod shape, a plate shape, a cylindrical shape, a tubular shape, a tubular shape, a fibrous shape, a film or a sheet shape, and has a low birefringence, transparency, mechanical Since it is excellent in strength, heat resistance and low water absorption, it is suitably used as an optical resin lens that is one of the optical elements of the present invention, but may be used as other optical components.

(4.2)光学素子の適用例
本発明に係る光学素子は、上記の作製方法により得られるが、光学部品への具体的な適用例としては、以下のようである。
例えば、光学レンズや光学プリズムとしては、カメラの撮像系レンズ;顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズ;眼鏡レンズなどの全光線透過型レンズ;CD、CD−ROM、WORM(追記型光ディスク)、MO(書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、MD(ミニディスク)、DVD(デジタルビデオディスク)などの光ディスクのピックアップレンズ;レーザビームプリンターのfθレンズ、センサー用レンズなどのレーザ走査系レンズ;カメラのファインダー系のプリズムレンズなどが挙げられる。
(4.2) Application Example of Optical Element The optical element according to the present invention can be obtained by the manufacturing method described above, and a specific application example to an optical component is as follows.
For example, as an optical lens or an optical prism, an imaging lens of a camera; a lens such as a microscope, an endoscope or a telescope lens; an all-light transmission lens such as a spectacle lens; a CD, a CD-ROM, or a WORM (recordable optical disk) , MO (rewritable optical disc; magneto-optical disc), MD (mini disc), optical disc pick-up lens such as DVD (digital video disc); laser scanning system lens such as laser beam printer fθ lens, sensor lens; Examples include prism lenses for camera viewfinder systems.

光ディスク用途としては、CD、CD−ROM、WORM(追記型光ディスク)、MO(書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、MD(ミニディスク)、DVD(デジタルビデオディスク)などが挙げられる。その他の光学用途としては、液晶ディスプレイなどの導光板;偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムなどの光学フィルム;光拡散板;光カード;液晶表示素子基板などが挙げられる。   Examples of optical disc applications include CD, CD-ROM, WORM (recordable optical disc), MO (rewritable optical disc; magneto-optical disc), MD (mini disc), DVD (digital video disc), and the like. Other optical applications include light guide plates such as liquid crystal displays; optical films such as polarizing films, retardation films and light diffusion films; light diffusion plates; optical cards; liquid crystal display element substrates.

本発明に係る光学素子は、これらの中でも、低複屈折性が要求されるピックアップレンズやレーザ走査系レンズとして好適に用いられ、ピックアップレンズに最も好適に用いられる。   Among these, the optical element according to the present invention is suitably used as a pickup lens or a laser scanning lens that requires low birefringence, and is most preferably used as a pickup lens.

以下、図1を参照しながら、光学用樹脂材料によって成形された光学素子が用いられた光ピックアップ装置1について説明する。
図1は、光ピックアップ装置1の内部構造を示す模式図である。
Hereinafter, an optical pickup device 1 using an optical element molded from an optical resin material will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a schematic diagram showing the internal structure of the optical pickup device 1.

なお、本実施形態では、使用波長が405nmのいわゆる青紫色レーザ光源を用いた「高密度な光ディスク」をターゲットとしており、この光ディスクの有する保護基板厚は、0.1mmであり、記憶容量は約30GBである。   In this embodiment, the target is a “high-density optical disk” using a so-called blue-violet laser light source having a used wavelength of 405 nm, the protective substrate thickness of this optical disk is 0.1 mm, and the storage capacity is about 30 GB.

本実施形態における光ピックアップ装置1には、図1に示すように、光源である半導体レーザ発振器2が具備されている。この半導体レーザ発振器2から出射される青色光の光軸上には、半導体レーザ発振器2から離間する方向に向かって、コリメータ3、ビームスプリッタ4、1/4波長板5、絞り6、対物レンズ7が順次配設されている。
また、ビームスプリッタ4と近接した位置であって、上述した青色光の光軸と直交する方向には、2組のレンズからなるセンサーレンズ群8、センサー9が順次配設されている。
As shown in FIG. 1, the optical pickup device 1 in this embodiment includes a semiconductor laser oscillator 2 that is a light source. On the optical axis of the blue light emitted from the semiconductor laser oscillator 2, a collimator 3, a beam splitter 4, a quarter wavelength plate 5, a diaphragm 6, and an objective lens 7 are arranged in a direction away from the semiconductor laser oscillator 2. Are sequentially arranged.
In addition, a sensor lens group 8 and a sensor 9 including two sets of lenses are sequentially disposed in a direction close to the beam splitter 4 and in a direction perpendicular to the optical axis of the blue light described above.

光学素子である対物レンズ7は、光ディスクDに対向した位置に配置されるものであって、半導体レーザ発振器2から出射された青色光を、光ディスクDの一面上に集光するようになっている。このような対物レンズ7には、2次元アクチュエータ10が具備されており、この2次元アクチュエータ10の動作により、対物レンズ7は、光軸上を移動自在となっている。   The objective lens 7 that is an optical element is disposed at a position facing the optical disc D, and condenses the blue light emitted from the semiconductor laser oscillator 2 on one surface of the optical disc D. . Such an objective lens 7 is provided with a two-dimensional actuator 10, and the objective lens 7 is movable on the optical axis by the operation of the two-dimensional actuator 10.

次に、光ピックアップ装置1の作用について説明する。
本実施形態における光ピックアップ装置1は、光ディスクDへの情報の記録動作時や、光ディスクDに記録された情報の再生動作時に、半導体レーザ発振器2から青色光を出射する。出射された青色光は、図1に示すように、光線Lとなって、コリメータ3を透過して無限平行光にコリメートされた後、ビームスプリッタ4を透過して、1/4波長板5を透過する。さらに、絞り6及び対物レンズ7を順次透過した後、光ディスクDの保護基板Dを介して情報記録面Dに集光スポットを形成する。
Next, the operation of the optical pickup device 1 will be described.
The optical pickup device 1 in the present embodiment emits blue light from the semiconductor laser oscillator 2 at the time of recording information on the optical disc D or at the time of reproducing information recorded on the optical disc D. As shown in FIG. 1, the emitted blue light becomes a light beam L 1 , is collimated to infinite parallel light through the collimator 3, and then is transmitted through the beam splitter 4 to be a quarter wavelength plate 5. Transparent. Furthermore, after sequentially passing through the aperture 6 and the objective lens 7 to form a converged spot on the information recording surface D 2 through the protective substrate D 1 of the optical disc D.

集光スポットを形成した光は、光ディスクDの情報記録面Dで情報ピットによって変調され、情報記録面Dによって反射される。そして、この反射光は、光線Lとなって、対物レンズ7及び絞り6を順次透過した後、1/4波長板5によって偏光方向が変更され、ビームスプリッタ4で反射する。その後、センサーレンズ群8を透過して非点収差が与えられ、センサー9で受光されて、最終的には、センサー9によって光電変換されることによって電気的な信号となる。
以後、このような動作が繰り返し行われ、光ディスクDに対する情報の記録動作や、光ディスクDに記録された情報の再生動作が完了する。
Light that formed the concentrated light spot is modulated by the information recording surface D 2 of the optical disk D by the information pit is reflected by the information recording surface D 2. Then, the reflected light becomes a light beam L 2 , is sequentially transmitted through the objective lens 7 and the diaphragm 6, is changed in polarization direction by the quarter wavelength plate 5, and is reflected by the beam splitter 4. After that, astigmatism is given through the sensor lens group 8, received by the sensor 9, and finally converted into an electric signal by being photoelectrically converted by the sensor 9.
Thereafter, such an operation is repeatedly performed, and the operation of recording information on the optical disc D and the operation of reproducing information recorded on the optical disc D are completed.

なお、光ディスクDにおける保護基板Dの厚さ寸法及び情報ピットの大きさにより、対物レンズ7に要求される開口数NAも異なる。本実施形態においては、高密度な光ディスクDであり、その開口数は0.85に設定されている。 Incidentally, the magnitude of the thickness and the information pits of the protective substrate D 1 of the optical disc D, also the numerical aperture NA required for the objective lens 7 different. In the present embodiment, the optical disc D is a high density, and its numerical aperture is set to 0.85.

以下に、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、勿論本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(1)試料の作製
(1.1)無機微粒子の作製
まず、リン酸アルミニウムのナノ粒子を、ダブルジェット方式を用いた反応晶析により作製した。以下、その作製方法について説明する。
0.027モルのリン酸三アンモニウムを含有する水溶液3リットルに3.53モルの硫酸アルミニウム水溶液(第1の溶液)と、10.59モルのリン酸三アンモニウム水溶液(第2の溶液)のそれぞれ2リットルをダブルジェット法で10分間かけて添加した。無機微粒子形成中のpHは硫酸を用いて6.5に、温度は25℃に制御した。添加終了後、限外ろ過法により可溶性塩類を脱塩除去し、10質量%のリン酸アルミニウム分散液を得た。
(1) Preparation of sample (1.1) Preparation of inorganic fine particles First, nanoparticles of aluminum phosphate were prepared by reaction crystallization using a double jet method. Hereinafter, a manufacturing method thereof will be described.
3 liters of an aqueous solution containing 0.027 moles of triammonium phosphate each of 3.53 moles of aluminum sulfate aqueous solution (first solution) and 10.59 moles of aqueous solution of triammonium phosphate (second solution) 2 liters was added over 10 minutes by the double jet method. During the formation of inorganic fine particles, the pH was controlled to 6.5 with sulfuric acid, and the temperature was controlled to 25 ° C. After the addition, soluble salts were desalted and removed by ultrafiltration to obtain a 10% by mass aluminum phosphate dispersion.

この溶液をスプレードライで噴霧乾燥することによって体積平均粒子径が20nmのリン酸アルミニウムの粉体を得た。
つぎに、上記第1の溶液,第2の溶液の濃度を2倍に増加させることで、同様の製法で体積平均粒子径が65nmのリン酸アルミニウムの粉体を得た。
また、上記第1の溶液,第2の溶液の濃度を3倍に増加させることで、体積平均粒子径が110nmのリン酸アルミニウムの粉体を得た。
This solution was spray-dried by spray drying to obtain an aluminum phosphate powder having a volume average particle size of 20 nm.
Next, by increasing the concentration of the first solution and the second solution by a factor of 2, an aluminum phosphate powder having a volume average particle diameter of 65 nm was obtained by the same production method.
Further, by increasing the concentration of the first solution and the second solution by a factor of 3, an aluminum phosphate powder having a volume average particle size of 110 nm was obtained.

なお、ここでいう「リン酸アルミニウムの粉体の体積平均粒子径」とは、エックス線小角散乱測定法により求めた平均粒子径であり、リン酸アルミニウムの粉体同士が凝集して凝集粒子を形成している場合は、その凝集粒子を一粒子として換算した平均粒子径であるものとしている。   The “volume average particle diameter of the aluminum phosphate powder” herein is an average particle diameter determined by the X-ray small angle scattering measurement method, and the aluminum phosphate powder aggregates to form aggregated particles. If it is, the average particle diameter is calculated by converting the aggregated particles as one particle.

(1.1.1)無機微粒子1の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が65nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)製A-6114,分子量1万)0.35gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを7.5g加えた。次にウルトラアペックスミル(壽工業株式会社)を用いて、リン酸アルミニウムの分散を行った。
(1.1.1) Preparation of inorganic fine particles 1 The study was performed using aluminum phosphate having a volume average particle diameter of 65 nm prepared by chemical crystallization. As solution 1, a mixed solution of pure water 40 cc, ethanol 140 cc, ammonia water 7.5 cc, polycarboxylic acid ammonium salt (A-6114 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., molecular weight 10,000) 0.35 g is prepared, and the mixed solution 7.5 g of aluminum phosphate was added. Next, the aluminum phosphate was dispersed using an ultra apex mill (Sakai Industry Co., Ltd.).

次に、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)20cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。ポンプを用いて、室温で、溶液1に溶液2を8時間かけて滴下した。さらに1時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Next, a solution of 20 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared as Solution 2. Solution 2 was added dropwise to solution 1 over 8 hours at room temperature using a pump. When stirring was further continued for 1 hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。つぎに、エタノール140cc、純水40cc、アンモニア水7.5ccにリン酸アルミニウムを超音波再分散させた。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学製LS-875)1gを添加し、さらに15時間の攪拌を行った(表面処理工程)。攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。この操作によって、疎水化度42%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウム粉体を「無機微粒子1」とした。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Next, the aluminum phosphate was ultrasonically redispersed in 140 cc of ethanol, 40 cc of pure water, and 7.5 cc of aqueous ammonia. To this, 1 g of trimethylethoxysilane (LS-875 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and further stirred for 15 hours (surface treatment step). After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobicity of 42% could be obtained. The aluminum phosphate powder was designated as “inorganic fine particle 1”.

(1.1.2)無機微粒子2の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が65nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)A-6114,分子量1万)0.35gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを7.5g加えた。次にウルトラアペックスミル(壽工業株式会社)を用いて、リン酸アルミニウムの分散を行った。
(1.1.2) Preparation of inorganic fine particles 2 The study was performed using aluminum phosphate having a volume average particle diameter of 65 nm prepared by chemical crystallization. As a solution 1, a mixed solution of pure water 40 cc, ethanol 140 cc, ammonia water 7.5 cc, polycarboxylic acid ammonium salt (Toa Gosei Co., Ltd. A-6114, molecular weight 10,000) 0.35 g is prepared. 7.5 g of aluminum phosphate was added. Next, the aluminum phosphate was dispersed using an ultra apex mill (Sakai Industry Co., Ltd.).

次に、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)20cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。室温で、溶液1にポンプを用いて溶液2を8時間かけて滴下した。さらに1時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Next, a solution of 20 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared as Solution 2. At room temperature, solution 2 was added dropwise to solution 1 using a pump over 8 hours. When stirring was further continued for 1 hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(表面処理工程)。この操作によって、疎水化度56%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウム粉体を「無機微粒子2」とした。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (surface treatment step). By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobicity of 56% could be obtained. The aluminum phosphate powder was designated as “inorganic fine particles 2”.

(1.1.3)無機微粒子3の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が65nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)A-6114,分子量1万)0.35gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを7.5g加えた。次にウルトラアペックスミル(壽工業株式会社)を用いて、リン酸アルミニウムの分散を行った。
(1.1.3) Preparation of Inorganic Fine Particle 3 A study was performed using aluminum phosphate having a volume average particle diameter of 65 nm prepared by chemical crystallization. As a solution 1, a mixed solution of pure water 40 cc, ethanol 140 cc, ammonia water 7.5 cc, polycarboxylic acid ammonium salt (Toa Gosei Co., Ltd. A-6114, molecular weight 10,000) 0.35 g is prepared. 7.5 g of aluminum phosphate was added. Next, the aluminum phosphate was dispersed using an ultra apex mill (Sakai Industry Co., Ltd.).

次に、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)20cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。室温で、溶液1にポンプを用いて溶液2を8時間かけて滴下した。さらに1時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Next, a solution of 20 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared as Solution 2. At room temperature, solution 2 was added dropwise to solution 1 using a pump over 8 hours. When stirring was further continued for 1 hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。つぎに、エタノール140cc、純水40cc、アンモニア水7.5ccにリン酸アルミニウムを超音波再分散させた。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学LS-875)1.5gを添加した。さらに、15時間、攪拌を行った(表面処理工程)。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Next, the aluminum phosphate was ultrasonically redispersed in 140 cc of ethanol, 40 cc of pure water, and 7.5 cc of aqueous ammonia. To this, 1.5 g of trimethylethoxysilane (Shin-Etsu Chemical LS-875) was added. Furthermore, stirring was performed for 15 hours (surface treatment process).

攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(第2の表面処理工程)。この操作によって、疎水化度57%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウム粉体を「無機微粒子3」とした。   After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (second surface treatment step). By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobicity of 57% could be obtained. The aluminum phosphate powder was designated as “inorganic fine particles 3”.

(1.1.4)無機微粒子4の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が20nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水(25%)7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)A-6114,分子量1万)0.1gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを2.5g加えた。次にウルトラアペックスミル(壽工業株式会社)を用いて、リン酸アルミニウムの分散を行った。
(1.1.4) Preparation of inorganic fine particles 4 A study was performed using aluminum phosphate having a volume average particle diameter of 20 nm prepared by chemical crystallization. As a solution 1, a mixed solution of pure water 40 cc, ethanol 140 cc, ammonia water (25%) 7.5 cc, polycarboxylic acid ammonium salt (Toa Gosei Co., Ltd. A-6114, molecular weight 10,000) 0.1 g was prepared, 2.5 g of aluminum phosphate was added to the mixed solution. Next, the aluminum phosphate was dispersed using an ultra apex mill (Sakai Industry Co., Ltd.).

次に、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)20cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。室温で、溶液1にポンプを用いて溶液2を8時間かけて滴下した。さらに1時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Next, a solution of 20 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared as Solution 2. At room temperature, solution 2 was added dropwise to solution 1 using a pump over 8 hours. When stirring was further continued for 1 hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。つぎに、エタノール140cc、純水40cc、アンモニア水(25%)7.5ccにリン酸アルミニウムを超音波再分散させた。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学製LS-875)0.5gを添加し、さらに15時間の攪拌を行った(表面処理工程)。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Next, the aluminum phosphate was ultrasonically redispersed in 140 cc of ethanol, 40 cc of pure water, and 7.5 cc of aqueous ammonia (25%). Here, 0.5 g of trimethylethoxysilane (LS-875 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and stirring was further performed for 15 hours (surface treatment step).

攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(第2の表面処理工程)。この操作によって、疎水化度58%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウム粉体を「無機微粒子4」とした。   After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (second surface treatment step). By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobization degree of 58% could be obtained. The aluminum phosphate powder was designated as “inorganic fine particles 4”.

(1.1.5)無機微粒子5の作製
アルミナ(体積平均粒子径7nm大明化学製TM-300)を用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水(25%)7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)A-6114,分子量1万)0.4gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にアルミナ(体積平均粒子径7nm大明化学製TM-300)8gを加えた。
(1.1.5) Preparation of Inorganic Fine Particles 5 Investigation was made using alumina (TM-300 manufactured by Daimei Chemical, volume average particle diameter: 7 nm). As a solution 1, a mixed solution of pure water 40 cc, ethanol 140 cc, ammonia water (25%) 7.5 cc, polycarboxylic acid ammonium salt (Toa Gosei Co., Ltd. A-6114, molecular weight 10,000) 0.4 g was prepared, To the mixed solution, 8 g of alumina (TM-300 manufactured by Daimei Chemical, volume average particle diameter: 7 nm) was added.

次に、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)40cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。室温で、溶液1にポンプを用いて溶液2を8時間かけて滴下した。さらに一時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Next, as a solution 2, a solution of 40 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared. At room temperature, solution 2 was added dropwise to solution 1 using a pump over 8 hours. When stirring was continued for another hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。つぎに、エタノール140cc、純水40cc、アンモニア水(25%)7.5ccにアルミナ(体積平均粒子径7nm大明化学製TM-300)を超音波再分散させた。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学製LS-875)1.5gを添加し、さらに15時間の攪拌を行った(表面処理工程)。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Next, alumina (volume average particle diameter 7 nm, TM-300 manufactured by Daimei Chemical Co., Ltd.) was ultrasonically redispersed in ethanol 140 cc, pure water 40 cc, and ammonia water (25%) 7.5 cc. To this, 1.5 g of trimethylethoxysilane (LS-875 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and stirring was further performed for 15 hours (surface treatment step).

攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(第2の表面処理工程)。この操作によって、疎水化度51%の表面処理済みのアルミナを得る事ができた。当該アルミナを「無機微粒子5」とした。   After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (second surface treatment step). By this operation, it was possible to obtain surface-treated alumina having a hydrophobization degree of 51%. The alumina was designated as “inorganic fine particle 5”.

(1.1.6)無機微粒子6の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が20nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水7.5ccの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを2.5g加えた。次にウルトラアペックスミル(壽工業株式会社)を用いて、リン酸アルミニウムの分散を行った。
(1.1.6) Preparation of inorganic fine particles 6 The study was performed using aluminum phosphate having a volume average particle diameter of 20 nm prepared by chemical crystallization. As a solution 1, a mixed solution of 40 cc of pure water, 140 cc of ethanol, and 7.5 cc of aqueous ammonia was prepared, and 2.5 g of aluminum phosphate was added to the mixed solution. Next, the aluminum phosphate was dispersed using an ultra apex mill (Sakai Industry Co., Ltd.).

さらに、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)20cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。室温で、溶液1にポンプを用いて溶液2を8時間かけて滴下した。さらに一時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Furthermore, a solution of 20 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared as Solution 2. At room temperature, solution 2 was added dropwise to solution 1 using a pump over 8 hours. When stirring was continued for another hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。つぎに、エタノール140cc、純水40cc、アンモニア水7.5ccにリン酸アルミニウムを超音波再分散させた。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学製LS-875)0.5gを添加し、さらに15時間の攪拌を行った(表面処理工程)。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Next, the aluminum phosphate was ultrasonically redispersed in 140 cc of ethanol, 40 cc of pure water, and 7.5 cc of aqueous ammonia. Here, 0.5 g of trimethylethoxysilane (LS-875 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and stirring was further performed for 15 hours (surface treatment step).

攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(第2の表面処理工程)。この操作によって、疎水化度57%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウムを「無機微粒子6」とした。   After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (second surface treatment step). By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobicity of 57% could be obtained. The aluminum phosphate was designated as “inorganic fine particles 6”.

(1.1.7)無機微粒子7の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が20nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)A-6114,分子量1万)0.1gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを2.5g加え、スラリーを作製した。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学製LS-875)0.5gを添加した。さらに、15時間、攪拌を行った(表面処理工程)。
(1.1.7) Preparation of inorganic fine particle 7 It investigated using the aluminum phosphate with the volume average particle diameter produced by the chemical crystallization of 20 nm. Prepare a mixed solution of 40 g of pure water, 140 cc of ethanol, 7.5 cc of ammonia water, 0.1 g of polycarboxylic acid ammonium salt (Toa Gosei Co., Ltd. A-6114, molecular weight 10,000), and add aluminum phosphate to the mixed solution. 2.5 g was added to prepare a slurry. To this, 0.5 g of trimethylethoxysilane (LS-875 manufactured by Shin-Etsu Chemical) was added. Furthermore, stirring was performed for 15 hours (surface treatment process).

攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(第2の表面処理工程)。この操作によって、疎水化度20%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウム粉体を「無機微粒子7」とした。   After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (second surface treatment step). By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobization degree of 20% could be obtained. The aluminum phosphate powder was designated as “inorganic fine particles 7”.

(1.1.8)無機微粒子8の作製
化学晶析で作製した体積平均粒子径が110nmのリン酸アルミニウムを用いて検討を行った。溶液1として、純水40cc、エタノール140cc、アンモニア水7.5cc、ポリカルボン酸アンモニウム塩(東亜合成(株)A-6114,分子量1万)0.5gの混合溶液を準備し、当該混合溶液にリン酸アルミニウムを10g加えた。次にウルトラアペックスミル(コトブキ技研)を用いて、リン酸アルミニウムの分散を行った。
(1.1.8) Preparation of inorganic fine particles 8 The study was performed using aluminum phosphate having a volume average particle diameter of 110 nm prepared by chemical crystallization. As a solution 1, a mixed solution of pure water 40 cc, ethanol 140 cc, ammonia water 7.5 cc, polycarboxylic acid ammonium salt (Toa Gosei Co., Ltd. A-6114, molecular weight 10,000) 0.5 g is prepared. 10 g of aluminum phosphate was added. Next, aluminum phosphate was dispersed using an Ultra Apex mill (Kotobuki Giken).

次に、溶液2として、テトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)20cc、水4cc、エタノール14ccの溶液を作製した。室温で、溶液1にポンプを用いて溶液2を8時間かけて滴下した。さらに1時間攪拌を続けたところで、アンモニア水を用いて溶液のpHを10.4まで上げた。さらに室温で15時間攪拌を行った(分散工程)。   Next, a solution of 20 cc of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 4 cc of water, and 14 cc of ethanol was prepared as Solution 2. At room temperature, solution 2 was added dropwise to solution 1 using a pump over 8 hours. When stirring was further continued for 1 hour, the pH of the solution was raised to 10.4 using aqueous ammonia. Further, the mixture was stirred at room temperature for 15 hours (dispersing step).

次に溶液中にエタノールを100ml加え、遠心分離を行い、未反応のテトラエトキシシラン(信越化学製LS-2430)を取り除いた。つぎに、エタノール140cc、純水40cc、アンモニア水7.5ccにリン酸アルミニウムを超音波再分散させた。ここに、トリメチルエトキシシラン(信越化学LS-875)0.5gを添加し、さらに15時間の攪拌を行った(表面処理工程)。   Next, 100 ml of ethanol was added to the solution and centrifuged to remove unreacted tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Next, the aluminum phosphate was ultrasonically redispersed in 140 cc of ethanol, 40 cc of pure water, and 7.5 cc of aqueous ammonia. To this, 0.5 g of trimethylethoxysilane (Shin-Etsu Chemical LS-875) was added and further stirred for 15 hours (surface treatment step).

攪拌終了後、遠心分離を行った。100℃、10時間の乾燥を行い、白色粉体を得た。つぎに、窒素下で250℃まで昇温し乾燥を行った。さらに、粉体に対して10重量%のヘキサメチルジシラザンを加え90℃で攪拌した(第2の表面処理工程)。この操作によって、疎水化度57%の表面処理済みのリン酸アルミニウム粉体を得る事ができた。当該リン酸アルミニウム粉体を「無機微粒子8」とした。   After completion of stirring, centrifugation was performed. Drying was performed at 100 ° C. for 10 hours to obtain a white powder. Next, it heated up to 250 degreeC under nitrogen and dried. Furthermore, 10% by weight of hexamethyldisilazane was added to the powder and stirred at 90 ° C. (second surface treatment step). By this operation, a surface-treated aluminum phosphate powder having a hydrophobicity of 57% could be obtained. The aluminum phosphate powder was designated as “inorganic fine particles 8”.

なお、上記無機微粒子1〜8の疎水化度は以下のようにして求めた。
各無機微粒子1〜80.2gを50mlの水に添加して、メタノールをビューレットから、各無機微粒子1〜8全量が懸濁するまで加える。ここで、加えたメタノールの容量をVmlとして、次式から各無機微粒子1〜8の疎水化度を求めた。
疎水化度=V/(50+V)×100
The degree of hydrophobicity of the inorganic fine particles 1 to 8 was determined as follows.
1-80.2 g of each inorganic fine particle is added to 50 ml of water, and methanol is added from the burette until the total amount of each inorganic fine particle 1-8 is suspended. Here, the volume of added methanol was set to Vml, and the degree of hydrophobicity of each inorganic fine particle 1 to 8 was determined from the following formula.
Hydrophobicity = V / (50 + V) × 100

(1.2)試料1〜8の作製
ポリラボシステム(HAAKE社製)を用いて、熱可塑性樹脂(日本ゼオン株式会社製ZEONEX330R)に対して20体積%の上記無機微粒子1〜8を添加してこれを溶融混練する事によって、無機微粒子1〜8を20体積%含有した「試料1〜8(光学用樹脂材料に相当するもの)」を得る事ができた(混練工程)。各試料1〜8は無機微粒子1〜8の種類に応じるもので、試料の番号(数字部分)と無機微粒子の番号(数字部分)とが互いに対応している。
(1.2) Preparation of samples 1 to 8 Using a polylab system (manufactured by HAAKE), 20% by volume of the inorganic fine particles 1 to 8 are added to a thermoplastic resin (ZEONEX330R manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.). By melting and kneading this, "Samples 1 to 8 (corresponding to optical resin material)" containing 20% by volume of inorganic fine particles 1 to 8 could be obtained (kneading step). Each sample 1-8 respond | corresponds to the kind of inorganic fine particle 1-8, and the number (numerical part) of a sample and the number (numeric part) of an inorganic fine particle mutually respond | correspond.

なお、この結果得られた、試料1〜8は250℃下で2時間保存した所、質量の減量分は2重量%以下であり、溶媒、未反応のシランカップリング剤残留による物性の劣化はないものと考えられる。   Samples 1 to 8 obtained as a result were stored at 250 ° C. for 2 hours, the weight loss was 2% by weight or less, and deterioration of physical properties due to residual solvent and unreacted silane coupling agent was It is thought that there is nothing.

(2)試料の物性測定
(2.1)透過率の測定
各試料1〜8を射出成形することにより測定用の成形体(厚さ3mm)を作製し、当該各成形体の波長587.5nmにおける透過率を測定した。測定には島津製作所製分光光度計UV-3150を用いた。その測定結果を下記表2に示す
(2) Measurement of physical properties of sample (2.1) Measurement of transmittance Each sample 1 to 8 is injection-molded to produce a molded body for measurement (thickness 3 mm), and the wavelength of each molded body is 587.5 nm. The transmittance was measured. For the measurement, a spectrophotometer UV-3150 manufactured by Shimadzu Corporation was used. The measurement results are shown in Table 2 below.

(2.2)屈折率の測定
各試料1〜18を溶融し、加熱成型することにより厚さ3mmの試験用プレートをそれぞれ作製した。その後、各試料1〜18について、カルニュー光学工業(株)製の自動屈折計KPR-200を用いて波長587.5nmの屈折率を測定した。その測定結果を下記表2に示す。
(2.2) Measurement of refractive index Each sample 1-18 was melted and heat-molded to prepare a test plate having a thickness of 3 mm. Then, about each sample 1-18, the refractive index of wavelength 587.5nm was measured using the automatic refractometer KPR-200 by a Calnew optical industry company. The measurement results are shown in Table 2 below.

Figure 2007154026
Figure 2007154026

(3)まとめ
表2に示す通り、試料1〜5と試料6〜8とを比較すると、試料1〜5は透過率及び屈折率の各物性が比較の試料6〜8のそれより優れている。そのため、無機微粒子として体積平均粒子径が100nm以下のものを用いても、分散工程,表面処理工程,第2の表面処理工程の各処理を施すことで、高い透明性と高屈折率とを実現することができることがわかる。
(3) Summary As shown in Table 2, when Samples 1-5 are compared with Samples 6-8, Samples 1-5 are superior to those of Comparative Samples 6-8 in the properties of transmittance and refractive index. . Therefore, even if inorganic fine particles with a volume average particle size of 100 nm or less are used, high transparency and a high refractive index are realized by performing each of the dispersion process, the surface treatment process, and the second surface treatment process. You can see that you can.

光ピックアップ装置の内部構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the internal structure of an optical pick-up apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 光ピックアップ装置
2 半導体レーザ発振器
3 コリメータ
4 ビームスプリッタ
5 1/4波長板
6 絞り
7 対物レンズ(光学素子)
8 センサーレンズ群
9 センサー
10 2次元アクチュエータ
D 光ディスク
保護基板
情報記録面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical pick-up apparatus 2 Semiconductor laser oscillator 3 Collimator 4 Beam splitter 5 1/4 wavelength plate 6 Aperture 7 Objective lens (optical element)
8 Sensor lens group 9 Sensor 10 Two-dimensional actuator D Optical disk D 1 Protection substrate D 2 Information recording surface

Claims (7)

熱可塑性樹脂に無機微粒子を混練してなる光学用樹脂材料の製造方法であって、
体積平均粒子径が1〜100nmの無機微粒子を第1のシランカップリング剤と分散剤との溶液中に分散させる分散工程と、
前記分散工程後に前記無機微粒子に対し第2のシランカップリング剤を用いて表面処理を施す表面処理工程と、
前記表面処理工程後に前記無機微粒子を前記熱可塑性樹脂に混練する混練工程と、
を備えることを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
A method for producing an optical resin material obtained by kneading inorganic fine particles in a thermoplastic resin,
A dispersion step of dispersing inorganic fine particles having a volume average particle diameter of 1 to 100 nm in a solution of a first silane coupling agent and a dispersant;
A surface treatment step of subjecting the inorganic fine particles to a surface treatment using a second silane coupling agent after the dispersion step;
A kneading step of kneading the inorganic fine particles into the thermoplastic resin after the surface treatment step;
A method for producing an optical resin material, comprising:
請求項1に記載の光学用樹脂材料の製造方法において、
前記第1のシランカップリング剤がテトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、ポリシラザンのいずれかから選ばれたことを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
In the manufacturing method of the optical resin material of Claim 1,
The method for producing an optical resin material, wherein the first silane coupling agent is selected from tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, and polysilazane.
請求項1又は2に記載の光学用樹脂材料の製造方法において、
前記第2のシランカップリング剤がヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライドのいずれかから選ばれたことを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
In the manufacturing method of the optical resin material of Claim 1 or 2,
The method for producing an optical resin material, wherein the second silane coupling agent is selected from hexamethyldisilazane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylsilyl chloride.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料の製造方法において、
前記表面処理工程後で前記混練工程前に、前記無機微粒子に対し第3のシランカップリング剤を用いて表面処理を施す第2の表面処理工程を備えることを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
In the manufacturing method of the optical resin material as described in any one of Claims 1-3,
A second surface treatment step of performing a surface treatment on the inorganic fine particles using a third silane coupling agent after the surface treatment step and before the kneading step is provided. Method.
請求項4に記載の光学用樹脂材料の製造方法において、
前記第3のシランカップリング剤がヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライドのいずれかから選ばれたことを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
In the manufacturing method of the optical resin material of Claim 4,
The method for producing an optical resin material, wherein the third silane coupling agent is selected from hexamethyldisilazane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylsilyl chloride.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料の製造方法において、
前記無機微粒子が酸化物又はリン酸塩であることを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
In the manufacturing method of the optical resin material as described in any one of Claims 1-5,
The method for producing an optical resin material, wherein the inorganic fine particles are an oxide or a phosphate.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料の製造方法により得られた光学用樹脂材料を成型したものであることを特徴とする光学素子。   An optical element obtained by molding an optical resin material obtained by the method for producing an optical resin material according to any one of claims 1 to 6.
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