JP2007141421A - Optical recording medium and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an excellent optical recording medium capable of reducing the center shifting of an inner hole when assembling an optical recording medium by eliminating a step of matching the center position of the inner hole when assembling the laminated body of the optical recording medium to work the inner hole after the formation of the laminated body, and performing good tracking servo without decentering during reproduction, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: This method includes: a laminated body forming step of stacking a recording layer for recording information by using holography and a filter layer between first and second substrates to form a disk-like laminated body; and a through-hole forming step of forming a through-hole so that the center axis in the rotation direction of a servo track disposed in the laminated body matches the center axis of the through-hole when the through-hole is formed in the laminated body. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録媒体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical recording medium on which information is recorded using holography and a method for manufacturing the same.

高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やCD−R等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。
しかし、従来から提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録することができるホログラム型光記録方法が注目されている。
前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出し(再生)は、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。
このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能であり、大容量化の要請にマッチしている。このような多重記録にデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、1スポットの信号対雑音比(SN比)は極めて高くなるので、重ね書きによりSN比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できるホログラム型の光記録媒体が得られる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる(特許文献1参照)。
An optical recording medium is one of recording media capable of writing a large amount of information such as high-density image data. As this optical recording medium, for example, a rewritable optical recording medium such as a magneto-optical disk and a phase change optical disk and a write-once optical recording medium such as a CD-R have already been put into practical use. The demand for larger capacity is increasing.
However, all conventionally proposed optical recording media are two-dimensional recording, and there is a limit to increasing the recording capacity. Therefore, recently, a hologram type optical recording method capable of recording information three-dimensionally has attracted attention.
In the hologram type optical recording method, in general, information light given a two-dimensional intensity distribution and reference light having a substantially constant intensity are superposed inside a photosensitive recording layer to form them. Information is recorded by generating a distribution of optical characteristics inside the recording layer using the interference image. On the other hand, in reading (reproducing) written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as in recording, and the reproducing light having an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer is used. This is done by emitting from the recording layer.
In this hologram type optical recording method, since the optical characteristic distribution is three-dimensionally formed in the recording layer, an area where information is written by one information light, an area where information is written by other information light, and Can be partially overlapped, that is, multiplex recording is possible, which matches the demand for larger capacity. When digital volume holography is used for such multiplex recording, the signal-to-noise ratio (S / N ratio) of one spot becomes extremely high, so that the original information is faithfully maintained even if the S / N ratio is somewhat lowered by overwriting. A reproducible hologram type optical recording medium is obtained. As a result, the number of times of multiple recording reaches several hundreds, and the recording capacity of the optical recording medium can be remarkably increased (see Patent Document 1).

このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図11に示すように、第二の基板1表面にサーボピットパターン3を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜2と、この反射膜上に記録層4と、この記録層上に第一の基板5とを有する光記録媒体20(特許文献2参照)や、図12に示すよう、第二の基板1表面にサーボピットパターン3を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜2と、第一ギャップ層8と、この第一ギャップ層8上にフィルタ層6と、このフィルタ層6上に第二ギャップ層7と、この第二ギャップ層7上に記録層4と、この記録層上に第一の基板5とを有する光記録媒体21が提案されている。図10は、図12に示す光記録媒体21の各層毎に分解した斜視図を表している。
前記ホログラム型の光記録媒体の製造方法としては、例えば、図10に示すように、中心部に内孔1aを有する、第二の基板1上に、第二ギャップ層8、フィルタ層6、第二ギャップ層7の順に形成し、第二ギャップ層7上に内周スペーサ28の開口部分と前記内孔1a及び外周スペーサ27の外周と前記第二の基板1の外周とを一致させて各々接着剤で接着し、次に、内外周スペーサ表面に接着剤を付与し、第一の基板5を貼り合わせて、内部に隙間(セル)を有する積層体を形成する。そして、得られた積層体の外周スペーサ27に設けられた注入口からセル内に記録層材料を注入し、硬化させて記録層4を形成して、光記録媒体が製造される。
しかしながら、このようにして製造された光記録媒体の場合、内周スペーサ28の開口部と第二の基板1の内孔1aとの中心がずれることがある。また、第一の基板5の内孔5aと、内周スペーサ28の開口部及び第一の基板5の内孔5aと第二の基板1の内孔1aとの中心がずれてしまうことがある。このような中心のずれにより生ずる光記録媒体の偏芯が大きいと、サーボ用光がトラックを追従できず、トラッキングサーボが機能しないことがある。このように、既に内孔が形成されている複数の基板どうしを積層する場合に、該各内孔の中心を高精度に一致させるには、高精度の冶具などを用いて中心合わせを行う工程が必要となるなど、生産効率の低下を招くおそれが生ずるという問題がある。また、前記各内孔の中心の一致が許容範囲内の積層体が生産される率が低く歩留まりが低下してしまうという問題がある。
そこで、光記録媒体の積層体の組立て時に内孔の中心位置を一致させる工程をなくし、該内孔を積層体の形成後に加工することにより、光記録媒体の組立て時の内孔の中心ずれの発生を低減し、再生の際に良好なトラッキングサーボをすることができる優れた光記録媒体及び該光記録媒体を高精度で効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法が望まれている。
As such a hologram type optical recording medium, for example, as shown in FIG. 11, a servo pit pattern 3 is provided on the surface of the second substrate 1, and a reflective film 2 made of aluminum or the like is provided on the surface of the servo pit pattern. An optical recording medium 20 having a recording layer 4 on the reflecting film and a first substrate 5 on the recording layer (see Patent Document 2), or servo pits on the surface of the second substrate 1 as shown in FIG. A pattern 3 is provided, and the surface of the servo pit pattern is made of a reflective film 2 made of aluminum or the like, a first gap layer 8, a filter layer 6 on the first gap layer 8, and a second gap layer on the filter layer 6. 7 and an optical recording medium 21 having a recording layer 4 on the second gap layer 7 and a first substrate 5 on the recording layer have been proposed. FIG. 10 shows an exploded perspective view of each layer of the optical recording medium 21 shown in FIG.
As a method for manufacturing the hologram type optical recording medium, for example, as shown in FIG. 10, a second gap layer 8, a filter layer 6, a first layer is formed on a second substrate 1 having an inner hole 1 a in the center. The two gap layers 7 are formed in this order, and the openings of the inner peripheral spacer 28, the outer peripheries of the inner holes 1a and outer peripheral spacers 27, and the outer periphery of the second substrate 1 are bonded to each other on the second gap layer 7. Next, an adhesive is applied to the inner and outer peripheral spacer surfaces, and the first substrate 5 is bonded to form a laminate having a gap (cell) inside. Then, the recording layer material is injected into the cell from the injection port provided in the outer peripheral spacer 27 of the obtained laminate and cured to form the recording layer 4, thereby manufacturing the optical recording medium.
However, in the case of the optical recording medium manufactured in this way, the center of the opening of the inner peripheral spacer 28 and the inner hole 1a of the second substrate 1 may be shifted. Further, the center of the inner hole 5 a of the first substrate 5, the opening of the inner peripheral spacer 28 and the inner hole 5 a of the first substrate 5 and the inner hole 1 a of the second substrate 1 may be shifted. . If the eccentricity of the optical recording medium caused by such a center deviation is large, the servo light cannot follow the track, and the tracking servo may not function. As described above, when stacking a plurality of substrates in which inner holes are already formed, in order to make the centers of the inner holes coincide with each other with high accuracy, a process of performing centering using a high-precision jig or the like Therefore, there is a problem that production efficiency may be lowered. In addition, there is a problem that the yield of the laminated body in which the coincidence of the centers of the respective inner holes is within the allowable range is low and the yield is lowered.
Therefore, the process of aligning the center positions of the inner holes at the time of assembling the laminated body of the optical recording medium is eliminated, and the inner holes are processed after the formation of the laminated body, so that the center shift of the inner holes at the time of assembling the optical recording medium There is a demand for an excellent optical recording medium that can reduce generation and perform good tracking servo during reproduction, and an optical recording medium manufacturing method that can efficiently manufacture the optical recording medium with high accuracy. .

特開2002−123949号公報JP 2002-123949 A 特開平11−311936号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-311936

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光記録媒体の積層体の組立て時に内孔の中心位置を一致させる工程をなくし、該内孔を積層体の形成後に加工することにより、光記録媒体の組立て時の内孔の中心ずれの発生を低減し、再生の際に芯ぶれがなく良好なトラッキングサーボをすることができる優れた光記録媒体及び該光記録媒体を高精度で効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention eliminates the step of aligning the center positions of the inner holes at the time of assembling the laminated body of the optical recording medium, and processes the inner holes after the formation of the laminated body, thereby forming the inner holes at the time of assembling the optical recording medium. An excellent optical recording medium that can reduce the occurrence of center misalignment and can perform good tracking servo without centering during reproduction, and an optical recording medium that can efficiently manufacture the optical recording medium with high accuracy It aims at providing the manufacturing method of.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 第一の基板と、第二の基板との間にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層とを積層して円盤状の積層体を形成する積層体形成工程と、該積層体に貫通孔を形成する際に、該積層体に設けられたサーボトラックの回転方向の中心軸と、該貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する貫通孔形成工程とを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
<2> 第一の基板及び第二の基板の少なくともいずれかの表面に形成され、かつ積層体に設けられたサーボトラックの回転方向の中心軸の位置を表す中心マークと、貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する前記<1>に記載の光記録媒体の製造方法である。
<3> 積層体に設けられた最外周のサーボトラックの少なくとも3箇所の点を測定し、該測定点に基づいて、前記サーボトラックの回転方向の中心軸を求め、該中心軸と貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する前記<1>に記載の光記録媒体の製造方法である。
<4> 第二の基板上に、コレステリック液晶層を積層した積層体からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記<1>から<3>のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
<5> フィルタ層からなる光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板と貼り合わせてフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記<1>から<4>のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A laminate forming step of forming a disk-like laminate by laminating a recording layer for recording information using holography between a first substrate and a second substrate, and a filter layer; When forming a through hole in the laminate, a through hole is formed so that the central axis in the rotation direction of the servo track provided in the laminate coincides with the central axis of the through hole. A method for manufacturing an optical recording medium.
<2> A center mark formed on the surface of at least one of the first substrate and the second substrate and representing the position of the center axis in the rotation direction of the servo track provided in the laminate, and the center axis of the through hole The method for producing an optical recording medium according to <1>, wherein the through-hole is formed so as to coincide with.
<3> At least three points on the outermost servo track provided in the laminate are measured, and based on the measurement points, a central axis in the rotation direction of the servo track is obtained, and the central axis and the through hole The method for producing an optical recording medium according to <1>, wherein the through hole is formed so as to coincide with the central axis.
<4> The production of an optical recording medium according to any one of <1> to <3>, including a filter layer forming step of forming a filter layer comprising a laminate in which a cholesteric liquid crystal layer is laminated on a second substrate. Is the method.
<5> including a filter layer forming step of processing a filter for an optical recording medium comprising a filter layer into an optical recording medium shape, and bonding the processed filter to the second substrate to form a filter layer. To <4>. The method for producing an optical recording medium according to any one of <1> to <4>.

<6> 前記<1>から<5>のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする光記録媒体である。
<7> 第一の基板と、第二の基板とを有し、該第一の基板と該第二の基板との間に、記録層と、フィルタ層とを有する前記<6>に記載の光記録媒体である。
<8> 前記<6>から<7>のいずれかに記載の光記録媒体に対する、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる光記録媒体である。
<9> フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層を有する前記<6>から<8>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<10> フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層と、該色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記<6>から<9>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<11> 色材が、赤色顔料である前記<9>から<10>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<12> 赤色顔料における532nmの光に対する透過率が、33%以下であり、かつ655nmの光に対する透過率が66%以上である前記<11>に記載の光記録媒体である。
<13> フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記<9>から<12>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<14> 色材含有層が、バインダー樹脂を含有し、該バインダー樹脂がポリビニルアルコール樹脂である前記<9>から<13>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<15> 色材含有層表面が、ラビング処理されている前記<9>から<14>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<16> フィルタ層が、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層した誘電体蒸着層を有する前記<6>から<15>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<17> 誘電体蒸着層が、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層した前記<16>に記載の光記録媒体である。
<18> 誘電体蒸着層が、誘電体薄膜を2〜20層積層した前記<16>から<17>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<19> フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有する前記<6>から<18>いずれかに記載の光記録媒体である。
<20> フィルタ層が、コレステリック液晶層を2層以上積層した積層体である前記<6>から<19>のいずれかに記載の光記録媒体である。
該<20>に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を2層以上積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、更に再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。したがって、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてCMOSセンサ又はCCD上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば、多重度が10以上になると、1つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
<21> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記<19>から<20>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<22> コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記<19>から<21>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<23> コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記<19>から<23>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<24> コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記<19>から<23>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<25> コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記<19>から<24>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<26> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が100nm以上である前記<19>から<25>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<27> フィルタ層が、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する前記<6>から<26>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<28> 第一の光の波長が、350〜600nmであり、かつ第二の光の波長が600〜900nmである前記<27>に記載の光記録媒体である。
<29> フィルタ層内の±40°以内の光における655nmでの光透過率が、50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上である前記<6>から<28>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<30> フィルタ層が、入射角度±40°における655nmでの光透過率が50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上である前記<6>から<29>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<31> フィルタ層のλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上である前記<6>から<30>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<32> フィルタ層のλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<6>から<31>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<33> フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記<6>から<32>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<34> フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも1種である前記<6>から<33>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<35> 光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記<34>に記載の光記録媒体である。
<36> 第二の基板が、サーボピットパターンを有する前記<6>から<35>のいずれに記載の光記録媒体である。
<37> サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記<36>に記載の光記録媒体である。
<38> 反射膜が、金属反射膜である前記<37>に記載の光記録媒体である。
<39> フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第一ギャップ層を有する前記<6>から<38>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<40> 記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記<6>から<39>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<6> An optical recording medium manufactured by the method for manufacturing an optical recording medium according to any one of <1> to <5>.
<7> The method according to <6>, including a first substrate and a second substrate, and having a recording layer and a filter layer between the first substrate and the second substrate. It is an optical recording medium.
<8> When the optical recording medium according to any one of <6> to <7> is irradiated with information light and reference light, the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. The optical recording medium used for the optical recording method performed as described above.
<9> The optical recording medium according to any one of <6> to <8>, wherein the filter layer has a color material-containing layer containing a color material of at least one of a pigment and a dye.
<10> Any one of <6> to <9>, wherein the filter layer has a color material-containing layer containing at least one colorant of a pigment and a dye, and a cholesteric liquid crystal layer on the color material-containing layer. The optical recording medium described in 1.
<11> The optical recording medium according to any one of <9> to <10>, wherein the color material is a red pigment.
<12> The optical recording medium according to <11>, wherein a red pigment has a transmittance of 532 nm light of 33% or less and a transmittance of 655 nm light of 66% or more.
<13> The optical recording medium according to any one of <9> to <12>, wherein the filter layer has a dielectric vapor deposition layer on the color material-containing layer.
<14> The optical recording medium according to any one of <9> to <13>, wherein the color material-containing layer contains a binder resin, and the binder resin is a polyvinyl alcohol resin.
<15> The optical recording medium according to any one of <9> to <14>, wherein the color material-containing layer surface is rubbed.
<16> The optical recording medium according to any one of <6> to <15>, wherein the filter layer includes a dielectric vapor deposition layer in which a plurality of dielectric thin films having different refractive indexes are stacked.
<17> The optical recording medium according to <16>, wherein the dielectric vapor deposition layer is formed by alternately laminating a plurality of high refractive index dielectric thin films and low refractive index dielectric thin films.
<18> The optical recording medium according to any one of <16> to <17>, wherein the dielectric vapor deposition layer is a laminate of 2 to 20 dielectric thin films.
<19> The optical recording medium according to any one of <6> to <18>, wherein the filter layer includes a single cholesteric liquid crystal layer.
<20> The optical recording medium according to any one of <6> to <19>, wherein the filter layer is a laminate in which two or more cholesteric liquid crystal layers are laminated.
In the optical recording medium described in <20>, two or more cholesteric liquid crystal layers are laminated, and information light used at the time of recording or reproduction does not cause a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes. In addition, since the reference light and the reproduction light do not reach the reflection film, it is possible to prevent the generation of diffused light due to irregular reflection on the reflection surface. Therefore, the noise generated by the diffused light is not superimposed on the reproduced image and detected on the CMOS sensor or CCD, but the reproduced image can be detected at least to the extent that error correction is possible. The noise component due to diffused light becomes a serious problem as the multiplicity of holograms increases. That is, as the multiplicity increases, for example, when the multiplicity is 10 or more, the diffraction efficiency from one hologram becomes extremely small, and if there is diffusion noise, the detection of the reproduced image becomes very difficult. According to this configuration, such difficulty can be eliminated, and high density image recording that has never been achieved can be realized.
<21> The optical recording medium according to any one of <19> to <20>, wherein the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is continuous.
<22> The optical recording medium according to any one of <19> to <21>, wherein the cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound.
<23> The optical recording medium according to any one of <19> to <23>, wherein the cholesteric liquid crystal layer has circularly polarized light separation characteristics.
<24> The optical recording medium according to any one of <19> to <23>, wherein the rotation directions of the spirals in the cholesteric liquid crystal layer are the same.
<25> The optical recording medium according to any one of <19> to <24>, wherein the selective reflection center wavelengths in the cholesteric liquid crystal layer are different from each other.
<26> The optical recording medium according to any one of <19> to <25>, wherein the selective reflection wavelength bandwidth in the cholesteric liquid crystal layer is 100 nm or more.
<27> The optical recording medium according to any one of <6> to <26>, wherein the filter layer transmits the first light and reflects a second light different from the first light.
<28> The optical recording medium according to <27>, wherein the wavelength of the first light is 350 to 600 nm and the wavelength of the second light is 600 to 900 nm.
<29> The light transmittance at 655 nm for light within ± 40 ° in the filter layer is 50% or more, and the light reflectance at 532 nm is 30% or more. <6> to <28> An optical recording medium according to any one of the above.
<30> Any one of <6> to <29>, wherein the filter layer has a light transmittance at 655 nm of 50% or more at an incident angle of ± 40 ° and a light reflectance at 532 nm of 30% or more. The optical recording medium described in 1.
<31> λ 0 ~λ 0 / cos20 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) according to any one the light reflectance is 40% or more from the <6> to <30> in It is an optical recording medium.
<32> λ 0 ~λ 0 / cos40 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) according to any one of <31> light reflectance at the, the items <6> is 40% or more This is an optical recording medium.
<33> The optical recording medium according to any one of <6> to <32>, wherein the filter layer is used as a selective reflection film of an optical recording medium that records information using holography.
<34> The filter layer has a photoreactive chiral compound, the photoreactive chiral compound has a chiral moiety and a photoreactive group, and the chiral moiety is composed of an isosorbide compound, an isomannide compound, and a binaphthol compound. The optical recording medium according to any one of <6> to <33>, which is at least one selected.
<35> The optical recording medium according to <34>, wherein the photoreactive group is a group that causes isomerization of a carbon-carbon double bond from trans to cis upon irradiation with light.
<36> The optical recording medium according to any one of <6> to <35>, wherein the second substrate has a servo pit pattern.
<37> The optical recording medium according to <36>, wherein the servo pit pattern has a reflective film on the surface.
<38> The optical recording medium according to <37>, wherein the reflective film is a metal reflective film.
<39> The optical recording medium according to any one of <6> to <38>, wherein a first gap layer for smoothing a second substrate surface is provided between the filter layer and the reflective film.
<40> The optical recording medium according to any one of <6> to <39>, wherein a second gap layer is provided between the recording layer and the filter layer.

<41> 前記<6>から<40>のいずれかに記載の光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われることを特徴とする光記録方法である。
<42> 光記録媒体が反射型ホログラムである前記<41>に記載の光記録方法である。
<41> Irradiation of the information light and the reference light to the optical recording medium according to any one of <6> to <40> is performed so that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. This is an optical recording method characterized by being performed.
<42> The optical recording method according to <41>, wherein the optical recording medium is a reflection hologram.

<43> 前記<6>から<40>のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
<44> 再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記<43>に記載の光再生方法である。
<43> The recording information corresponding to the interference image is reproduced by irradiating the interference image formed on the recording layer by the optical recording method according to any one of <6> to <40> with the same reproduction light as the reference light. It is the optical reproduction method characterized by doing.
<44> The light according to <43>, wherein the reproduction light is irradiated at the same angle as the reference light used for recording on the optical recording medium to irradiate the interference image on the interference image to reproduce the recorded information. It is a playback method.

本発明によると、従来における諸問題を解決でき、光記録媒体の積層体の組立て時に内孔の中心位置を一致させる工程をなくし、該内孔を積層体の形成後に加工することにより、光記録媒体の組立て時の内孔の中心ずれの発生を低減し、再生の際に芯ぶれがなく良好なトラッキングサーボをすることができる優れた光記録媒体及び該光記録媒体を高精度で効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, various problems in the prior art can be solved, the step of matching the center positions of the inner holes at the time of assembling the laminated body of the optical recording medium is eliminated, and the inner holes are processed after the laminated body is formed. An excellent optical recording medium that reduces the occurrence of center misalignment of the inner hole during the assembly of the medium and that can perform good tracking servo without centering during reproduction, and efficiently manufactures the optical recording medium with high accuracy It is possible to provide a method for manufacturing an optical recording medium that can be used.

(光記録媒体の製造方法)
本発明の光記録媒体の製造方法は、第一の基板と、第二の基板との間にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層とを積層して円盤状の積層体を形成する積層体形成工程と、該積層体に貫通孔を形成する際に、該積層体に設けられたサーボトラックの回転方向の中心軸と、該貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する貫通孔形成工程とを含むことを特徴とし、必要に応じて適宜選択した組成物調製工程、記録層積層工程と、フィルタ層形成工程と、ギャップ層積層工程などのその他の工程とを含むことを特徴とする。
(Method for producing optical recording medium)
The method for producing an optical recording medium of the present invention includes a disc-shaped laminate in which a recording layer for recording information using a holography and a filter layer are laminated between a first substrate and a second substrate. When the through hole is formed in the laminate, the central axis in the rotation direction of the servo track provided in the laminate coincides with the central axis of the through hole. And other steps such as a composition preparation step, a recording layer laminating step, a filter layer forming step, and a gap layer laminating step, which are appropriately selected as necessary. It is characterized by including.

<組成物調製工程>
前記組成物調製工程は、光記録用組成物を調製する工程であり、モノマー、光開始剤、増感剤、オリゴマー及びバインダーなどからなるフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分を含む光記録用組成物を、溶剤により、溶解、分散、混合などにより調製する。前記調製の条件としては、例えば、温度23℃、湿度10%、低温度乾燥の環境で行われる。
<Composition preparation process>
The composition preparation step is a step of preparing a composition for optical recording, and includes a photopolymer composed of a monomer, a photoinitiator, a sensitizer, an oligomer and a binder, and other components appropriately selected as necessary. An optical recording composition is prepared by dissolving, dispersing, mixing, etc. with a solvent. As the preparation conditions, for example, the temperature is 23 ° C., the humidity is 10%, and the drying is performed in a low temperature environment.

<記録層積層工程>
前記記録層積層工程は、前記フィルタ層上、又は該フィルタ層上に第二ギャップ層が積層されている場合は、該第二ギャップ層上に、ホログラフィにより情報を記録する記録層を積層する工程であり、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を塗工などにより積層する工程である。
前記記録層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、湿式成膜法や注入法による積層方法、フィルムなどからなる支持体に記録層を積層したシート体を作製し、該シート体を貼付する積層方法などが挙げられる。
前記湿式成膜法は、後述する記録層の材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液(記録層溶液)を用いる(塗布し乾燥する)ことにより形成する方法であり、該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
前記注入法は、第一基板と第二基板との隙間に、前記記録層溶液を注入する方法である。外周スペーサを予め第一基板と第二基板で挟み込みディスクセルを作り、前記外周スペーサの一部に切り欠きを設けてその口を注入口として、前記記録層溶液を注入する。
前記注入法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、外周注入法、内周注入法、ギャップ注入法などが挙げられる。
前記注入の条件としては、温度23℃、粘度330mPa・s、0.5MPaの圧力、湿度10%、硬化時間として温度80℃、40分間などが挙げられる。
前記注入装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリンジ、エア圧ディスペンサーなどが挙げられる。
<Recording layer lamination process>
The recording layer laminating step is a step of laminating a recording layer for recording information by holography on the second gap layer when the second gap layer is laminated on the filter layer or the filter layer. It is a step of laminating the optical recording composition prepared in the composition preparation step by coating or the like.
The method for laminating the recording layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, the recording layer is laminated on a support made of a wet film-forming method or an injection method, a film, or the like. A laminating method in which a sheet body is produced and the sheet body is attached is exemplified.
The wet film forming method is a method of forming (using and drying) a solution (recording layer solution) in which a recording layer material described later is dissolved or dispersed in a solvent. There is no particular limitation, and it can be appropriately selected from known ones according to the purpose. For example, an inkjet method, a spin coating method, a kneader coating method, a bar coating method, a blade coating method, a casting method, a dip method, a curtain Examples include a coating method.
The injection method is a method of injecting the recording layer solution into the gap between the first substrate and the second substrate. The outer peripheral spacer is previously sandwiched between the first substrate and the second substrate to form a disk cell, and a notch is provided in a part of the outer peripheral spacer, and the recording layer solution is injected using the opening as an inlet.
There is no restriction | limiting in particular as said injection | pouring method, According to the objective, it can select suitably, For example, the outer periphery injection method, the inner periphery injection method, a gap injection method etc. are mentioned.
Examples of the injection conditions include a temperature of 23 ° C., a viscosity of 330 mPa · s, a pressure of 0.5 MPa, a humidity of 10%, and a curing time of a temperature of 80 ° C. for 40 minutes.
There is no restriction | limiting in particular as said injection | pouring apparatus, According to the objective, it can select suitably, For example, a syringe, an air pressure dispenser, etc. are mentioned.

前記シート体を貼付する積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィルム状の支持体に前記光記録組成物を塗工し、積層体を形成し、該積層体を円盤状に打ち抜いてシート体を形成し、該シート体を貼付する方法などが挙げられる。この積層方法は、記録層を予め一定の厚みに形成してから所定の形状に加工し貼付する点から記録層の厚みを均一にできるという利点がある。   The laminating method for attaching the sheet body is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, the optical recording composition is applied to a film-like support to form a laminate. And a method of punching the laminate into a disk shape to form a sheet body and sticking the sheet body. This laminating method has an advantage that the thickness of the recording layer can be made uniform from the point that the recording layer is previously formed to a certain thickness and then processed and pasted into a predetermined shape.

前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜1,000μmが好ましく、100〜700μmがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、10〜300多重のシフト多重を行っても十分なS/N比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
前記厚みの測定方法及び測定装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、測定方法として、ノギス測定、マイクロメータ測定、レーザー膜厚測定法、測定装置として、ノギス、マイクロメータ、レーザー膜厚計、などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said recording layer, According to the objective, it can select suitably, 1-1000 micrometers is preferable and 100-700 micrometers is more preferable.
When the thickness of the recording layer is within the preferable numerical range, a sufficient S / N ratio can be obtained even when 10 to 300 multiple shift multiplexing is performed, and when the thickness is within the more preferable numerical range, this is remarkable. It is advantageous in some respects.
The thickness measurement method and the measurement device are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.For example, as a measurement method, a caliper measurement, a micrometer measurement, a laser film thickness measurement method, a measurement device, A caliper, a micrometer, a laser film thickness meter, etc. are mentioned.

−外周スペーサ−
前記外周スペーサの形状は、外周が光記録媒体の外周形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記外周スペーサの断面形状は、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。図8に示す外周スペーサ27は、その断面が四角形の一例である。
前記外周スペーサ27の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の厚みと略同一の厚みであることが好ましい。具体的には、前記記録層の厚みと同じ100〜1,000μmであることが好ましい。
前記外周スペーサの幅としては、少なくとも0.5mmあれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.5〜5mmが好ましく、0.5〜3mmがより好ましく、0.5〜2mmが特に好ましい。前記幅が、0.5mm未満であると、前記記録層の厚みを一定にするための保持機能が機械強度の面や支持面積の面で低下することがあり、5mmを超えるとホログラム記録領域が狭められ、記録容量が損なわれることがある。
-Outer spacer-
The shape of the outer peripheral spacer is not particularly limited as long as the outer periphery is substantially the same as the outer peripheral shape of the optical recording medium, and can be appropriately selected according to the purpose. Is mentioned. Among these, a circle is preferable.
Examples of the cross-sectional shape of the outer peripheral spacer include a quadrangle, a rectangle, a trapezoid, a circle, and an ellipse. Among these, a quadrangle, a trapezoid, a rectangle, and the like are preferable from the viewpoint of the effect of making the thickness constant. The outer peripheral spacer 27 shown in FIG. 8 is an example of a square cross section.
There is no restriction | limiting in particular as the thickness of the said outer periphery spacer 27, According to the objective, it can select suitably, For example, it is preferable that it is the thickness substantially the same as the thickness of the said recording layer. Specifically, the thickness is preferably 100 to 1,000 μm, which is the same as the thickness of the recording layer.
The width of the outer peripheral spacer is not particularly limited as long as it is at least 0.5 mm, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, 0.5 to 5 mm is preferable, and 0.5 to 3 mm is more preferable. 0.5-2 mm is particularly preferable. When the width is less than 0.5 mm, the holding function for keeping the recording layer thickness constant may be reduced in terms of mechanical strength and support area. As a result, the recording capacity may be reduced.

前記外周スペーサ27の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、成形性やコストの点から前記有機材料が好ましい。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石英、シリコンなどが挙げられる。
前記有機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said outer periphery spacer 27, Although both an inorganic material and an organic material can be used suitably, the said organic material is preferable from the point of a moldability and cost.
Examples of the inorganic material include glass, ceramic, quartz, and silicon.
The organic material is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. , Polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, acrylic resin, polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride Examples thereof include resins and polyacrylic resins. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, polycarbonate resins and acrylic resins are preferable from the viewpoints of moldability, peelability, and cost.

前記外周スペーサ27の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、射出成形、ブロー成形、圧縮成形、真空成形型押し出し加工、削り出し加工などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said outer periphery spacer 27, According to the objective, it can select suitably, For example, injection molding, blow molding, compression molding, a vacuum forming die extrusion process, a cutting process etc. are mentioned. .

−第一の基板−
前記第一の基板としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
-First substrate-
The shape, structure, size, etc. of the first substrate are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape include a disk shape, a card shape, a flat plate shape, The structure may be a single layer structure or a laminated structure, and the size may be appropriately selected according to the size of the optical recording medium. Can do.

前記第一の基板の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、光記録媒体の機械的強度を確保できるものであり、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する透過型の場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
The material for the first substrate is not particularly limited, and any of inorganic materials and organic materials can be suitably used. However, the mechanical strength of the optical recording medium can be ensured for recording and reproduction. In the case of a transmission type in which the light used is incident through the substrate, it is necessary that the light used is sufficiently transparent in the wavelength region of the light used.
Examples of the inorganic material include glass, quartz, and silicon.
Examples of the organic material include acetate resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and acrylic resins. Polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyacrylic resin, polylactic acid resin, plastic film laminated paper And synthetic paper. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, polycarbonate resins and acrylic resins are preferable from the viewpoints of moldability, optical characteristics, and cost.

前記第一の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第一の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、0.1〜5mmが好ましく、0.3〜2mmがより好ましい。前記基板の厚みが、0.1mm未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、5mmを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターなどにより回転して用いる場合には、過剰な負荷をかけることがある。
As said 1st board | substrate, what was synthesize | combined suitably may be used and a commercial item may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 1st board | substrate, According to the objective, it can select suitably, 0.1-5 mm is preferable and 0.3-2 mm is more preferable. If the thickness of the substrate is less than 0.1 mm, distortion of the shape during storage of the disk may not be suppressed. If the thickness exceeds 5 mm, the weight of the entire disk increases and is rotated by a drive motor or the like. In some cases, an excessive load may be applied.

−第二の基板−
前記第二の基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第二の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第二の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
-Second substrate-
The shape, structure, size and the like of the second substrate are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape include a disk shape and a card shape. It is necessary to select a material that can ensure the mechanical strength of the optical recording medium. In addition, when light used for recording and reproduction enters through the substrate, it is necessary to be sufficiently transparent in the wavelength region of the light used.
As the material for the second substrate, glass, ceramics, resin, or the like is usually used, but resin is particularly preferable from the viewpoint of moldability and cost.
Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Among these, polycarbonate resin and acrylic resin are particularly preferable from the viewpoints of moldability, optical characteristics, and cost.
As said 2nd board | substrate, what was synthesize | combined suitably may be used and a commercial item may be used.

前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット(サーボピット)等によって記録されている(プリフォーマット)。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。   In the second substrate, address-servo areas as a plurality of positioning areas extending linearly in the radial direction are provided at predetermined angular intervals, and a sector-shaped section between adjacent address-servo areas becomes a data area. ing. In the address-servo area, information for performing focus servo and tracking servo by the sampled servo method and address information are recorded in advance by embossed pits (servo pits) (preformat). Note that the focus servo can be performed using the reflective surface of the reflective film. As information for performing the tracking servo, for example, a wobble pit can be used. If the optical recording medium has a card shape, the servo pit pattern may be omitted.

前記第二の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、0.1〜5mmが好ましく、0.3〜2mmがより好ましい。前記基板の厚みが、0.1mm未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、5mmを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 2nd board | substrate, According to the objective, it can select suitably, 0.1-5 mm is preferable and 0.3-2 mm is more preferable. If the thickness of the substrate is less than 0.1 mm, distortion of the shape during storage of the disk may not be suppressed. If the thickness exceeds 5 mm, the weight of the entire disk increases and an excessive load is applied to the drive motor. Sometimes.

−記録層−
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波(γ線、X線、紫外線、可視光線、赤外線、電波など)を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
-Recording layer-
The recording layer can record information using holography, and when irradiated with electromagnetic waves of a predetermined wavelength (γ rays, X-rays, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, radio waves, etc.), depending on the intensity thereof A material whose optical characteristics such as an extinction coefficient and a refractive index change is used.

前記記録層の材料はフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分が含まれる。   The recording layer material includes a photopolymer and other components appropriately selected as necessary.

−フォトポリマー−
前記フォトポリマーとしては、光照射で重合反応が起こり高分子化するものや光照射で分解するものなどが挙げられ、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感色素、オリゴマー、バインダー等のその他の成分を含有してなる。
-Photopolymer-
Examples of the photopolymer include those that undergo a polymerization reaction upon irradiation with light and are polymerized, and those that decompose upon irradiation with light, and are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. And a photoinitiator and, if necessary, other components such as a sensitizing dye, an oligomer and a binder.

前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」(工業調査会、1989年)、「フォトポリマーテクノロジー」(日刊工業新聞社、1989年)、SPIE予稿集 Vol.3010 p354−372(1997)、及びSPIE予稿集
Vol.3291 p89−103(1998)に記載されているものなどが挙げられる。また、米国特許第5,759,721号明細書、同第4,942,112号明細書、同第4,959,284号明細書、同第6,221,536号明細書、米国特許第6,743,552号明細書、国際公開第97/44714号パンフレット、同第97/13183号パンフレット、同第99/26112号パンフレット、同第97/13183号パンフレット、特許第2880342号公報、同第2873126号公報、同第2849021号公報、同第3057082号公報、同第3161230号公報、特開2001−316416号公報、特開2000−275859号公報などに記載されているフォトポリマーなどが挙げられる。
Examples of the photopolymer include “Photopolymer Handbook” (Industry Research Society, 1989), “Photopolymer Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), SPIE Proceedings Vol. 3010 p354-372 (1997), and SPIE Proceedings Vol. 3291 p89-103 (1998). Also, U.S. Pat. Nos. 5,759,721, 4,942,112, 4,959,284, 6,221,536, U.S. Pat. No. 6,743,552, WO 97/44714 pamphlet, 97/13183 pamphlet, 99/26112 pamphlet, 97/13183 pamphlet, Japanese Patent No. 2880342, pamphlet Examples include photopolymers described in Japanese Patent Nos. 2873126, 2849021, 3057082, 3161230, 2001-316416, 2000-275859, and the like.

−モノマー−
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
-Monomer-
The monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, a radical polymerization type monomer having an unsaturated bond such as an acryl group or a methacryl group, an epoxy ring or an oxetane ring. Examples thereof include a cationic polymerization type monomer having an ether structure. These monomers may be monofunctional or polyfunctional. Moreover, what utilized the photocrosslinking reaction may be used.

前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、EO変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、2−ナフト−1−オキシエチルアクリレート、2−カルバゾイル−9−イルエチルアクリレート、(トリメチルシリルオキシ)ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−1−ナフトエート、N−ビニルカルバゾール、2,4,6−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。   Examples of the radical polymerization type monomer include acryloylmorpholine, phenoxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neo Pentyl glycol PO modified diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, EO modified bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol hexa Acrylate, EO-modified glycerol triacrylate, trimethylol group Pantriacrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, 2-naphth-1-oxyethyl acrylate, 2-carbazoyl-9-ylethyl acrylate, (trimethylsilyloxy) dimethylsilylpropyl acrylate, vinyl-1-naphthoate, N-vinyl Examples thereof include carbazole, 2,4,6-tribromophenyl acrylate, pentabromo acrylate, phenylthioethyl acrylate, and tetrahydrofurfuryl acrylate.

前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールAエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、4−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式(M1)〜(M6)で表される化合物などが挙げられる。これらのモノマーは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the cationic polymerization type monomer include bisphenol A epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, glycerol triglycidyl ether, 1,6-hexane glycidyl ether, vinyltrimethoxysilane, 4-vinylphenyltrimethoxysilane, and γ-methacrylic acid. Examples include loxypropyltriethoxysilane and compounds represented by the following structural formulas (M1) to (M6). These monomers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

Figure 2007141421
Figure 2007141421

−光開始剤−
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダゾール、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシフェニルビニル)−1,3,5−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ジ−t−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−2−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、ビス(η−5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)、ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニルチタニウム〕、ジフェニル−4−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
-Photoinitiator-
The photoinitiator is not particularly limited as long as it has sensitivity to recording light, and examples thereof include materials that cause radical polymerization, cationic polymerization, crosslinking reaction, and the like by light irradiation.
Examples of the photoinitiator include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,1′-biimidazole, 2,4,6-tris ( Trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxyphenylvinyl) -1,3,5-triazine, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluoro Phosphate, 4,4'-di-t-butyldiphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-diethylaminophenylbenzenediazonium hexafluorophosphate, benzoin, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-2-one, benzophenone, thioxanthone 2,4,6-trimethylbenzoyldipheny Acylphosphine oxide, triphenylbutylborate tetraethylammonium, bis (η-5-2,4-cyclopentadien-1-yl), bis [2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyltitanium ], Diphenyl-4-phenylthiophenylsulfonium hexafluorophosphate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use a sensitizing dye together according to the wavelength of the light to irradiate.

−増感色素−
前記増感色素としては、「Research Disclosure,Vol.200,1980年12月、Item 20036」や「増感剤」(p.160〜p.163、講談社;徳丸克己、大河原信/編、1987年)等に記載された公知の化合物を使用することができる。
-Sensitizing dye-
Examples of the sensitizing dye include “Research Disclosure, Vol. 200, December 1980, Item 20036” and “sensitizer” (p. 160 to p. 163, Kodansha; Katsumi Tokumaru, Nobu Okawara, edited by 1987. ) And the like can be used.

前記増感色素として、分光増感色素などが挙げられる。該分光増感色素として、例えば、特開昭58−15603号公報に記載の3−ケトクマリン化合物、特開昭58−40302号公報に記載のチオピリリウム塩、特公昭59−28328号公報、同60−53300号公報に記載のナフトチアゾールメロシアニン化合物、特公昭61−9621号公報、同62−3842号公報、特開昭59−89303号公報、同60−60104号公報に記載のメロシアニン化合物などが挙げられる。
また、「機能性色素の化学」(1981年、CMC出版社、p.393〜p.416)や「色材」(60〔4〕212−224(1987))等に記載された色素も挙げることができ、具体的には、カチオン性メチン色素、カチオン性カルボニウム色素、カチオン性キノンイミン色素、カチオン性インドリン色素、カチオン性スチリル色素が挙げられる。
さらに、クマリン(ケトクマリンまたはスルホノクマリンも含まれる。)色素、メロスチリル色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等のケト色素;非ケトポリメチン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アントラセン色素、ローダミン色素、アクリジン色素、アニリン色素、アゾ色素等の非ケト色素;アゾメチン色素、シアニン色素、カルボシアニン色素、ジカルボシアニン色素、トリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素等の非ケトポリメチン色素;アジン色素、オキサジン色素、チアジン色素、キノリン色素、チアゾール色素等のキノンイミン色素等も分光増感色素に含まれる。
前記分光増感色素は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the sensitizing dye include spectral sensitizing dyes. Examples of the spectral sensitizing dye include 3-ketocoumarin compounds described in JP-A No. 58-15603, thiopyrylium salts described in JP-A No. 58-40302, JP-B Nos. 59-28328 and 60- Naphthothiazole merocyanine compounds described in JP-A-53300, merocyanine compounds described in JP-B-61-9621, JP-A-62-3842, JP-A-59-89303, and JP-A-60-60104. .
In addition, the dyes described in “Chemicals of Functional Dyes” (1981, CMC Publishing Co., p.393-p.416) and “Coloring Materials” (60 [4] 212-224 (1987)) are also included. Specific examples include cationic methine dyes, cationic carbonium dyes, cationic quinoneimine dyes, cationic indoline dyes, and cationic styryl dyes.
In addition, coumarin (including ketocoumarin or sulfonocoumarin) dyes, melostyryl dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and other keto dyes; non-ketopolymethine dyes, triarylmethane dyes, xanthene dyes, anthracene dyes, rhodamine dyes, acridine dyes Non-keto dyes such as dyes, aniline dyes, azo dyes; non-ketopolymethine dyes such as azomethine dyes, cyanine dyes, carbocyanine dyes, dicarbocyanine dyes, tricarbocyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes; azine dyes, oxazine dyes, Quinoneimine dyes such as thiazine dyes, quinoline dyes and thiazole dyes are also included in the spectral sensitizing dyes.
The spectral sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more.

−バインダー樹脂−
前記バインダー樹脂は、塗膜性、膜強度、及びホログラム記録特性向上の効果を高める目的で使用されるものであり、ホログラム材料および光熱変換物質との相溶性を考慮して適宜選択される。前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ポリビニルアルコール樹脂、ゼラチン、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体;塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体;塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体;塩化ビニル/アクリロニロリル共重合体;エチレン/酢酸ビニル共重合体;ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体;ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ノボラック樹脂、可溶性ナイロン、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、フォルマリン樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基(エポキシ基、COH、OH、NH、SOM、OSOM、PO、OPO(ただし、Mは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のMがあるときは互いに異なっていてもよい)を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂1グラム当り10−6〜10−4当量が好ましい。以上列挙したバインダー樹脂は、ヘミアセタール系やイソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理しても良い。
-Binder resin-
The binder resin is used for the purpose of enhancing the effect of improving the coating properties, film strength, and hologram recording characteristics, and is appropriately selected in consideration of compatibility with the hologram material and the photothermal conversion substance. There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, According to the objective, it can select suitably from well-known things. For example, polyvinyl alcohol resin, gelatin, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer; vinyl chloride, copolymer of vinyl acetate and at least one of vinyl alcohol, maleic acid and acrylic acid; vinyl chloride / vinylidene chloride copolymer; Vinyl / acrylonitrile copolymer; ethylene / vinyl acetate copolymer; cellulose derivatives such as nitrocellulose resin; polyacrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, phenoxy resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, novolac resin, Examples include soluble nylon, polystyrene resin, melamine resin, and formalin resin. These may be used alone or in combination of two or more. In order to enhance the dispersibility and durability Moreover, in the binder resin molecules listed above, the polar group (epoxy group, CO 2 H, OH, NH 2, SO 3 M, OSO 3 M, PO 3 M 2, Those having introduced OPO 3 M 2 (wherein M is a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium and may be different from each other when a plurality of M are present in one group) are preferred. The content of is preferably 10 −6 to 10 −4 equivalents per gram of binder resin, and the binder resins listed above may be cured by adding a known cross-linking agent such as a hemiacetal or isocyanate. .

前記記録層の固形分中のバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、10〜95質量%であることが好ましく、35〜90質量%であれることがより好ましい。前記含有量が、10質量%未満であると、安定な干渉像が得られないことがあり、95質量%を超えると、回折効率の点で望ましい性能が得られないことがある。
前記バインダーの感光層中における含有量は、全感光層固形分中、10〜95質量%が好ましく、35〜90質量%がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as content of the binder in solid content of the said recording layer, According to the objective, it can select suitably, For example, it is preferable that it is 10-95 mass%, and it is 35-90 mass%. More preferably. If the content is less than 10% by mass, a stable interference image may not be obtained, and if it exceeds 95% by mass, desirable performance may not be obtained in terms of diffraction efficiency.
The content of the binder in the photosensitive layer is preferably 10 to 95% by mass and more preferably 35 to 90% by mass in the total solid content of the photosensitive layer.

−重合禁止剤及び酸化防止剤−
前記記録層の貯蔵安定性を改良する目的でフォトポリマーの重合禁止剤や酸化防止剤を加えてもよい。重合禁止剤、酸化防止剤としては例えば、ハイドロキノン、p−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジターシヤリ−ブチル−p−クレゾール、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−ターシヤリ−ブチルフェノール)、トリフェルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト,フェノチアジン、N−イソプロピル−N′−フェニル−p−フェニレンジアミンなどが挙げられる。使用量としては組成物に使用するモノマーの全量に対して3質量%以内であり、3質量%を越えると重合が遅くなるか、著しい場合は重合しなくなる。
-Polymerization inhibitor and antioxidant-
In order to improve the storage stability of the recording layer, a photopolymer polymerization inhibitor or an antioxidant may be added. Examples of polymerization inhibitors and antioxidants include hydroquinone, p-benzoquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-ditertiary-butyl-p-cresol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tertiary-butylphenol). , Trifel phosphite, trisnonylphenyl phosphite, phenothiazine, N-isopropyl-N′-phenyl-p-phenylenediamine and the like. The amount used is within 3% by mass with respect to the total amount of monomers used in the composition.

−記録層に含まれるその他の成分−
前記記録層の感度を向上させる目的で光熱変換材料を含有させることもできる。光熱変換材料としては、特願2005−84780号明細書の記載を参考にすることができる。
また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、あるいは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。
-Other components contained in the recording layer-
A photothermal conversion material can also be included for the purpose of improving the sensitivity of the recording layer. As the photothermal conversion material, the description in Japanese Patent Application No. 2005-84780 can be referred to.
Moreover, in order to relieve the volume change at the time of polymerization, a component that diffuses in a direction opposite to the polymerization component may be added, or a compound having an acid cleavage structure may be added separately in addition to the polymer.

−−記録層の硬化−−
前記記録層の硬化方法としては、加熱処理によるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、記録層の積層後に、該積層体に対して40〜100℃で、30〜360分間加熱し、該記録層を硬化させる。前記加熱温度が40℃未満であると、記録層のフォトポリマーの架橋が進まない、又は架橋速度が遅くなり架橋が完了しないことがあり、100℃を超えると記録層のモノマーが重合を起こして、ホログラム記録感度が低下することがある。
加熱処理により硬化させ、紫外線による硬化方法を用いなかったのは、前記記録層を紫外線で硬化させると、記録層のモノマーが光重合を起こすというメカニズムにより、ホログラム記録感度が低下するという弊害があるからである。
--Curing of recording layer--
The method for curing the recording layer is not particularly limited as long as it is a heat treatment, and can be appropriately selected according to the purpose. Heat at 30 ° C. for 30 to 360 minutes to cure the recording layer. When the heating temperature is less than 40 ° C., the photopolymer of the recording layer may not be cross-linked, or the cross-linking speed may be slow and the cross-linking may not be completed. The hologram recording sensitivity may decrease.
The reason why the recording layer was cured by heat treatment and the curing method using ultraviolet rays was not used was that when the recording layer was cured with ultraviolet rays, the hologram recording sensitivity was lowered due to the mechanism that the monomer of the recording layer caused photopolymerization. Because.

<フィルタ層形成工程>
前記フィルタ層形成工程は、光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。ここで、前記光記録媒体用フィルタについては、後述する通りである。なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成する工程でもよく、例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられ、前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、UV硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。また、粘着剤の場合、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましい。
<Filter layer forming step>
The filter layer forming step is a step of forming a filter layer by processing an optical recording medium filter into an optical recording medium shape and bonding the processed filter to the second substrate. Here, the optical recording medium filter is as described later. In some cases, the step of forming the filter layer directly on the substrate may be employed. For example, the color material-containing layer is applied on the substrate to form the color material-containing layer, and the color material-containing layer is formed on the color material-containing layer. Examples thereof include a method of forming a dielectric deposited film by a sputtering method.
Examples of the optical recording medium shape include a disk shape and a card shape, and the processing is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a cutting process using a press cutter, a punching cutter Punching by, etc. are mentioned. In the bonding, for example, an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like is used to attach a filter to the substrate so that bubbles do not enter.
The adhesive is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include various adhesives such as a UV curable type, an emulsion type, a one-component curable type, and a two-component curable type, Known adhesives can be used in any combination.
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive, According to the objective, it can select suitably, For example, a rubber adhesive, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a vinyl alkyl ether adhesive , Polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, polyacrylamide pressure sensitive adhesive, cellulose pressure sensitive adhesive, and the like.
The application thickness of the adhesive or the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of optical properties and thinning, 0.1 to 10 μm is preferable in the case of an adhesive, 0.1-5 micrometers is more preferable. Moreover, in the case of an adhesive, 1-50 micrometers is preferable and 2-30 micrometers is more preferable.

−光記録媒体用フィルタ−
前記光記録媒体用フィルタは、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体内に前記光記録媒体用フィルタを用いてフィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記光記録媒体内に積層された前記フィルタ層の機能は、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が350〜600nmであり、かつ第二の光の波長が600〜900nmであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
また、前記フィルタ層は、入射角度±40°における、655nmでの光透過率が50%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、かつ532nmでの光反射率が30%以上が好ましく、40%以上がより好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は2層以上のコレステリック液晶層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していてもよい。
-Filter for optical recording media-
The filter for an optical recording medium prevents irregular reflection from the reflection film of the optical recording medium by information light and reference light without causing a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes, and prevents the generation of noise. There is a function. By laminating a filter layer in the optical recording medium using the optical recording medium filter, optical recording with high resolution and excellent diffraction efficiency can be obtained.
The function of the filter layer laminated in the optical recording medium is preferably to transmit the first light and reflect the second light different from the first light, and the wavelength of the first light is It is preferable that it is 350-600 nm and the wavelength of 2nd light is 600-900 nm. For that purpose, it is preferable that the optical recording medium has a structure in which a recording layer, a filter layer, and a servo bit pattern are laminated in this order as viewed from the optical system side.
Further, the filter layer preferably has a light transmittance at 655 nm of 50% or more, more preferably 80% or more, and a light reflectance at 532 nm of 30% or more, preferably 40%, at an incident angle of ± 40 °. The above is more preferable.
There is no restriction | limiting in particular as said filter layer, According to the objective, it can select suitably, For example, lamination | stacking of a dielectric vapor deposition layer, a single layer or two or more cholesteric liquid crystal layers, and also other layers as needed Formed by the body. Moreover, you may have a color material content layer.

−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、2種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数は、2〜20層が好ましく、2〜12層がより好ましく、4〜10層が更に好ましく、6〜8層が特に好ましい。前記積層数が、20層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
-Dielectric deposition layer-
The dielectric vapor deposition layer is formed by laminating a plurality of dielectric thin films having different refractive indexes. In order to obtain a wavelength selective reflection film, a dielectric thin film having a high refractive index and a dielectric thin film having a low refractive index are used. Although it is preferable to laminate a plurality of layers alternately, it is not limited to two or more types, and may be more types. Moreover, when providing a color material content layer, it forms under a dielectric material vapor deposition layer.
The number of stacked layers is preferably 2 to 20 layers, more preferably 2 to 12 layers, still more preferably 4 to 10 layers, and particularly preferably 6 to 8 layers. If the number of stacked layers exceeds 20, the production efficiency may decrease due to multi-layer deposition, and the objects and effects of the present invention may not be achieved.

前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては1.8が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。   The order of lamination of the dielectric thin films is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, when the refractive index of an adjacent film is high, a film having a lower refractive index is first laminated. To do. Conversely, when the refractive index of the adjacent layer is low, a film having a higher refractive index is first laminated. The threshold value for determining whether the refractive index is high or low is preferably 1.8. Note that whether the refractive index is high or low is not absolute. Among high-refractive-index materials, there may be a material with a relatively high refractive index and a material with a relatively low refractive index, which are used alternately. May be.

前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Sb、Sb、Bi、CeO、CeF、HfO、La、Nd、Pr11、Sc、SiO、Ta、TiO、TlCl、Y、ZnSe、ZnS、ZrOなどが挙げられる。これらの中でも、Bi、CeO、CeF、HfO、SiO、Ta、TiO、Y、ZnSe、ZnS、ZrOが好ましく、これらの中でも、SiO、Ta、TiO、Y、ZnSe、ZnS、ZrOがより好ましい。 The material for the high refractive index dielectric thin film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, Sb 2 O 3 , Sb 2 S 3 , Bi 2 O 3 , CeO 2 , CeF 3, HfO 2, La 2 O 3, Nd 2 O 3, Pr 6 O 11, Sc 2 O 3, SiO, Ta 2 O 5, TiO 2, TlCl, Y 2 O 3, ZnSe, ZnS, ZrO 2 , etc. Can be mentioned. Among these, Bi 2 O 3 , CeO 2 , CeF 3 , HfO 2 , SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, ZrO 2 are preferable, and among these, SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, and ZrO 2 are more preferable.

前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Al、BiF、CaF、LaF、PbCl、PbF、LiF、MgF、MgO、NdF、SiO、Si、NaF、ThO、ThFなどが挙げられる。これらの中でも、Al、BiF、CaF、MgF、MgO、SiO、Siが好ましく、これらの中でも、Al、CaF、MgF、MgO、SiO、Siがより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
The material for the low refractive index dielectric thin film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, Al 2 O 3 , BiF 3 , CaF 2 , LaF 3 , PbCl 2 , PbF 2 , LiF, MgF 2 , MgO, NdF 3 , SiO 2 , Si 2 O 3 , NaF, ThO 2 , ThF 4 and the like. Among these, Al 2 O 3 , BiF 3 , CaF 2 , MgF 2 , MgO, SiO 2 , Si 2 O 3 are preferable, and among these, Al 2 O 3 , CaF 2 , MgF 2 , MgO, SiO 2 , Si 2 O 3 is more preferable.
In the dielectric thin film material, the atomic ratio is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. The atomic ratio can be adjusted by changing the atmospheric gas concentration during film formation. .

前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法(PVD法)、化学的気相成長法(CVD法)などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いDCスパッタリング法が好ましい。なお、DCスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、(1)1つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する1チャンバ法、(2)複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ/16〜λが好ましく、λ/8〜3λ/4がより好ましく、λ/6〜3λ/8が特に好ましい。
The method for forming the dielectric thin film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, a physical vapor deposition method such as ion plating, vacuum deposition using an ion beam, sputtering, or the like. (PVD method), chemical vapor deposition method (CVD method) and the like. Among these, vacuum deposition and sputtering are preferable, and sputtering is more preferable.
As the sputtering, a DC sputtering method having a high film formation rate is preferable. In the DC sputtering method, it is preferable to use a material having high conductivity.
In addition, as a method for forming a multilayer film by sputtering, for example, (1) a one-chamber method in which a plurality of targets are alternately or sequentially formed in one chamber, and (2) continuous film formation in a plurality of chambers. There is a multi-chamber method. Among these, the multi-chamber method is particularly preferable from the viewpoint of preventing productivity and material contamination.
The thickness of the dielectric thin film is preferably λ / 16 to λ, more preferably λ / 8 to 3λ / 4, and particularly preferably λ / 6 to 3λ / 8 in the optical wavelength order.

−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び2層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
-Cholesteric liquid crystal layer-
The cholesteric liquid crystal layer contains at least a cholesterol derivative, or a nematic liquid crystal compound and a chiral compound, and further contains a polymerizable monomer and, if necessary, other components.
The cholesteric liquid crystal layer may be either a single-layer cholesteric liquid crystal layer or two or more cholesteric liquid crystal layers.

前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向(右回り又は左回り)と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。該コレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。   The cholesteric liquid crystal layer preferably has a circularly polarized light separation function. The cholesteric liquid crystal layer having the function of separating circularly polarized light has only a circularly polarized light component in which the rotation direction (clockwise or counterclockwise) of the liquid crystal is coincident with the circular polarization direction and the wavelength is the helical pitch of the liquid crystal. Has a selective reflection characteristic of reflecting the light. Using the selective reflection characteristics of the cholesteric liquid crystal layer, only circularly polarized light having a specific wavelength is transmitted and separated from natural light in a certain wavelength band, and the rest is reflected.

前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を0°とし±20°の範囲であるλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが好ましく、垂直入射を0°とし±40°の範囲であるλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが特に好ましい。前記λ〜λ/cos20°、特にλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式1で表されることから、(ne−no)の大きな液晶を用いることが好ましい。
<数式1>
Δλ=2λ(ne−no)/(ne+no)
ただし、前記数式1中、noは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。neは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願2004−352081号明細書記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やUV照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
In the filter for optical recording medium, the normal incidence 0 ° and to ± 20 ° range at which λ 0 0 / cos20 ° (but, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) in the light reflectance of 40% or more preferably there, lambda 0 to [lambda] a perpendicular incidence in the range of ± 40 ° and 0 ° 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) that light reflectance at not less than 40% Particularly preferred. Wherein λ 0 0 / cos20 °, especially λ 0 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) If the light reflectance is 40% or more at the angular dependence of the irradiation light reflected The lens optical system used for a normal optical recording medium can be employed. For this purpose, it is preferable that the selective reflection wavelength width of the cholesteric liquid crystal layer is large.
Specifically, in the case of a single-layer cholesteric liquid crystal layer, the selective reflection wavelength region width Δλ of the cholesteric liquid crystal layer is expressed by the following formula 1, and therefore it is preferable to use a liquid crystal having a large (ne-no). .
<Formula 1>
Δλ = 2λ (ne−no) / (ne + no)
In Equation 1, no represents the refractive index of nematic liquid crystal molecules contained in the cholesteric liquid crystal layer with respect to normal light. ne represents the refractive index of the nematic liquid crystal molecules with respect to extraordinary light. λ represents the center wavelength of selective reflection.
In addition, as described in Japanese Patent Application No. 2004-352081, a photoreactive chiral compound having photosensitivity as a chiral compound and capable of greatly changing the helical pitch of liquid crystal by light is used. It is preferable to use a filter for an optical recording medium in which the helical pitch is continuously changed in the thickness direction of the liquid crystal layer by adjusting the compound content and the UV irradiation time.

また、複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
In the case of a plurality of cholesteric liquid crystal layers, it is preferable to stack cholesteric liquid crystal layers having different selective reflection center wavelengths and having the same rotational direction of the spirals of the cholesteric liquid crystal layers.
The cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited as long as it satisfies the above characteristics, and can be appropriately selected according to the purpose.As described above, the cholesteric liquid crystal layer contains a nematic liquid crystal compound and a chiral compound. Further, it contains other components as required.

−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δnが、0.10〜0.40の液晶化合物、高分子液晶化合物及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
-Nematic liquid crystal compounds-
The nematic liquid crystal compound is characterized in that the liquid crystal phase is fixed below the liquid crystal transition temperature, and the refractive index anisotropy Δn is 0.10 to 0.40, a liquid crystal compound, a polymer liquid crystal compound, and a polymerizability It can be appropriately selected from liquid crystal compounds according to the purpose. While it is in the liquid crystal state at the time of melting, it can be used as a solid phase by, for example, aligning by using an alignment substrate subjected to alignment treatment such as rubbing, and then cooling and fixing as it is.

前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線(UV)重合性液晶が好適である。該UV重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC242;Merck社製の商品名E7;Wacker−Chem社製の商品名LC−Sllicon−CC3767;高砂香料株式会社製の商品名L35、L42、L55、L59、L63、L79、L83などが挙げられる。   The nematic liquid crystal compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. From the viewpoint of ensuring sufficient curability, a nematic liquid crystal compound having a polymerizable group in the molecule is preferable, and among these, Ultraviolet (UV) polymerizable liquid crystals are preferred. Commercially available products can be used as the UV polymerizable liquid crystal, for example, trade name PALIOCOLOR LC242 manufactured by BASF; trade name E7 manufactured by Merck; trade name LC-Slicon-CC3767 manufactured by Wacker-Chem; Takasago Examples include trade names L35, L42, L55, L59, L63, L79, and L83 manufactured by Perfume Co., Ltd.

前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し30〜99質量%が好ましく、50〜99質量%がより好ましい。前記含有量が30質量%未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。   As content of the said nematic liquid crystal compound, 30-99 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 50-99 mass% is more preferable. When the content is less than 30% by mass, the alignment of the nematic liquid crystal compound may be insufficient.

−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Merck社製の商品名S101、R811、CB15;BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC756などが挙げられる。
-Chiral compounds-
The chiral compound is not particularly limited in the case of a multi-layer cholesteric liquid crystal layer, and can be appropriately selected from known ones according to the purpose. From the viewpoint of improving the hue and color purity of the liquid crystal compound, , Isomannide compounds, catechin compounds, isosorbide compounds, fencon compounds, carboxylic compounds, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, a commercial item can be used as said chiral compound, As this commercial item, the brand name S101, R811, CB15 by Merck, and the brand name PALIOCOLOR LC756 by BASF are mentioned, for example.

前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0〜30質量%が好ましく、0〜20質量%がより好ましい。前記含有量が30質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。   The chiral compound content in each liquid crystal layer of the multi-layer cholesteric liquid crystal layer is preferably 0 to 30% by mass and more preferably 0 to 20% by mass with respect to the total solid mass of each cholesteric liquid crystal layer. When the content exceeds 30% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.

−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化(パターンニング)させた後(例えば、選択反射波長の分布を形成した後)、その螺旋構造(選択反射性)を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0〜50質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記添加量が50質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
-Polymerizable monomer-
In the cholesteric liquid crystal layer, for example, a polymerizable monomer can be used in combination for the purpose of improving the degree of curing such as film strength. When the polymerizable monomer is used in combination, after changing the twisting force of the liquid crystal by light irradiation (patterning) (for example, after forming a selective reflection wavelength distribution), the helical structure (selective reflectivity) is fixed, The strength of the cholesteric liquid crystal layer after fixation can be further improved. However, when the liquid crystal compound has a polymerizable group in the same molecule, it is not necessarily added.
The polymerizable monomer is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones according to the purpose. Examples thereof include monomers having an ethylenically unsaturated bond, and specifically, pentaerythritol. And polyfunctional monomers such as tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate. These may be used alone or in combination of two or more.
As addition amount of the said polymerizable monomer, 0-50 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of the said cholesteric liquid crystal layer, and 1-20 mass% is more preferable. When the addition amount exceeds 50% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be inhibited.

−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
-Other ingredients-
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, photopolymerization initiator, sensitizer, binder resin, polymerization inhibitor, solvent, surfactant, thickener , Dyes, pigments, ultraviolet absorbers, gelling agents and the like.

前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、p−メトキシフェニル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル1,3,4−オキサジアゾール、9−フェニルアクリジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン/アミンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア784、イルガキュア814;BASF社製の商品名ルシリンTPOなどが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said photoinitiator, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl 1,3,4-oxadiazole, 9-phenylacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyl Examples include dimethyl ketal, acylphosphine derivatives, and thioxanthone / amine. These may be used alone or in combination of two or more.
As the photopolymerization initiator, commercially available products can be used. Examples of the commercially available products include trade names of Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 784, and Irgacure 814 manufactured by Ciba Specialty Chemicals; Examples include lucillin TPO.

前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。前記添加量が0.1質量%未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、20質量%を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。   The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass with respect to the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer. When the addition amount is less than 0.1% by mass, it may take a long time because the curing efficiency at the time of light irradiation is low, and when it exceeds 20% by mass, the light transmittance from the ultraviolet region to the visible light region is increased. May be inferior.

前記増感剤は、必要に応じて用いることができ、コレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.001〜1.0質量%が好ましい。
The sensitizer can be used as necessary and is added to increase the degree of cure of the cholesteric liquid crystal layer.
There is no restriction | limiting in particular as said sensitizer, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, diethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, etc. are mentioned.
The addition amount of the sensitizer is preferably 0.001 to 1.0 mass% with respect to the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer.

前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール;ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物;メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂;側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体;ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂;メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体;アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー;その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタアクリル酸のホモポリマー)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, Polyvinyl alcohol; Polystyrene compounds, such as a polystyrene and poly-alpha-methylstyrene; Methylcellulose, ethylcellulose, acetyl Cellulose resins such as cellulose; acidic cellulose derivatives having a carboxyl group in the side chain; acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer Examples thereof include a polymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer; a homopolymer of acrylic acid alkyl ester or a homopolymer of alkyl methacrylic acid; other polymer having a hydroxyl group. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the alkyl group in the homopolymer of acrylic acid alkyl ester or homopolymer of methacrylic acid alkyl ester include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, and n-hexyl group. , A cyclohexyl group, a 2-ethylhexyl group, and the like.
Examples of the other polymer having a hydroxyl group include benzyl (meth) acrylate / (homopolymer of methacrylic acid) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / multiple monomers of other monomers. A polymer etc. are mentioned.

前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し0〜80質量%が好ましく、0〜50質量%がより好ましい。前記添加量が80質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。   As addition amount of the said binder resin, 0-80 mass% is preferable with respect to the total solid mass of the said cholesteric liquid crystal layer, and 0-50 mass% is more preferable. When the addition amount exceeds 80% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.

前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し0〜10質量%が好ましく、100ppm〜1質量%がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said polymerization inhibitor, According to the objective, it can select suitably, For example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, benzoquinone, or these derivatives etc. are mentioned.
As addition amount of the said polymerization inhibitor, 0-10 mass% is preferable with respect to solid content of the said polymerizable monomer, and 100 ppm-1 mass% is more preferable.

前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、3−エトキシプロピオン酸メチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類;2−メトキシプロピルアセテート、2−エトキシプロピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected from known solvents according to the purpose. For example, 3-methoxypropionic acid methyl ester, 3-methoxypropionic acid ethyl ester, 3-methoxypropionic acid propyl Esters, alkoxypropionic acid esters such as 3-ethoxypropionic acid methyl ester, 3-ethoxypropionic acid ethyl ester, 3-ethoxypropionic acid propyl ester; 2-methoxypropyl acetate, 2-ethoxypropyl acetate, 3-methoxybutyl acetate Esters of alkoxy alcohols such as: Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone; γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, di Sulfoxide, chloroform, tetrahydrofuran, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液(複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液)を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
As a method for forming the cholesteric liquid crystal layer, for example, a coating solution for a cholesteric liquid crystal layer prepared using the solvent (in the case of a plurality of layers, a coating solution for each cholesteric liquid crystal layer) is applied onto the substrate and dried. For example, a cholesteric liquid crystal layer can be formed by irradiating with ultraviolet rays.
The most suitable method for mass production is to prepare the base material in a roll form, and apply a coating solution for the cholesteric liquid crystal layer on the base material such as bar coat, die coat, blade coat, curtain coat, etc. A type in which coating is performed with a long continuous coater is preferable.

前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、160〜380nmが好ましく、250〜380nmがより好ましい。照射時間としては、例えば、0.1〜600秒が好ましく、0.3〜300秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
Examples of the coating method include spin coating, casting, roll coating, flow coating, printing, dip coating, casting film formation, bar coating, and gravure printing.
There is no restriction | limiting in particular as conditions for the said ultraviolet irradiation, According to the objective, it can select suitably, For example, 160-380 nm is preferable and, as for irradiation ultraviolet rays, 250-380 nm is more preferable. For example, the irradiation time is preferably 0.1 to 600 seconds, and more preferably 0.3 to 300 seconds. By adjusting the conditions of ultraviolet irradiation, the helical pitch in the optical cholesteric liquid crystal layer using the reactive chiral agent can be continuously changed along the thickness direction of the liquid crystal layer.

前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭47−10537号公報、同58−111942号公報、同58−212844号公報、同59−19945号公報、同59−46646号公報、同59−109055号公報、同63−53544号公報、特公昭36−10466号公報、同42−26187号公報、同48−30492号公報、同48−31255号公報、同48−41572号公報、同48−54965号公報、同50−10726号公報、米国特許第2,719,086号明細書、同第3,707,375号明細書、同第3,754,919号明細書、同第4,220,711号明細書などに記載されている。   In order to adjust the conditions of the ultraviolet irradiation, an ultraviolet absorber may be added to the cholesteric liquid crystal layer. There is no restriction | limiting in particular as this ultraviolet absorber, According to the objective, it can select suitably, For example, a benzophenone type ultraviolet absorber, a benzotriazole type ultraviolet absorber, a salicylic acid type ultraviolet absorber, a cyanoacrylate type ultraviolet absorber Preferable examples include oxalic acid anilide-based ultraviolet absorbers. Specific examples of these ultraviolet absorbers include JP-A Nos. 47-10537, 58-111942, 58-212844, 59-19945, 59-46646, 59. No. -109055, No. 63-53544, No. 36-10466, No. 42-26187, No. 48-30492, No. 48-31255, No. 48-41572, No. 48. -54965, 50-10726, U.S. Pat. Nos. 2,719,086, 3,707,375, 3,754,919, 4, No. 220,711 and the like.

前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、1〜10μmが好ましく、2〜7μmがより好ましい。前記厚みが1μm未満であると、選択反射率が十分でなくなり、10μmを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み(単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み)は、例えば、1〜30μmが好ましく、3〜10μmがより好ましい。
In the case of the plural layers, the thickness of each cholesteric liquid crystal layer is preferably, for example, 1 to 10 μm, and more preferably 2 to 7 μm. When the thickness is less than 1 μm, the selective reflectance is not sufficient, and when it exceeds 10 μm, the uniform alignment of the liquid crystal layer may be disturbed.
Further, the total thickness of each cholesteric liquid crystal layer (in the case of a single layer, the thickness of the cholesteric liquid crystal layer) is, for example, preferably 1 to 30 μm, and more preferably 3 to 10 μm.

<コレステリック液晶層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法>
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工(例えば、打ち抜き加工)されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合は、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
<Method for producing filter for optical recording medium having cholesteric liquid crystal layer>
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said filter for optical recording media, According to the objective, it can select suitably.
The optical recording medium filter is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, the entire base material is processed into a disk shape (for example, punching processing), and is applied to the second substrate of the optical recording medium. Is preferably arranged. Moreover, when using for the filter layer of an optical recording medium, it can also provide directly on a 2nd board | substrate not via a base material.

<基材>
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10〜500μmが好ましく、50〜300μmがより好ましい。前記基材の厚みが、10μm未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、500μmを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ、公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。また、粘着剤の場合、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましい。
<Base material>
There is no restriction | limiting in particular as said base material, According to the objective, it can select suitably, For example, what was synthesize | combined suitably may be used and a commercial item may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said base material, According to the objective, it can select suitably, 10-500 micrometers is preferable and 50-300 micrometers is more preferable. When the thickness of the base material is less than 10 μm, the adhesion may be lowered due to the bending of the substrate. On the other hand, if it exceeds 500 μm, the focal positions of the information light and the reference light must be greatly shifted, and the optical system size becomes large. For laminating the wavelength selective films, known adhesives can be used in any combination.
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive, According to the objective, it can select suitably, For example, a rubber adhesive, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a vinyl alkyl ether adhesive , Polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, polyacrylamide pressure sensitive adhesive, and cellulose pressure sensitive adhesive.
The application thickness of the adhesive or the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of optical properties and thinning, 0.1 to 10 μm is preferable in the case of an adhesive, 0.1-5 micrometers is more preferable. Moreover, in the case of an adhesive, 1-50 micrometers is preferable and 2-30 micrometers is more preferable.

<ギャップ層積層工程>
前記ギャップ層積層工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第二の基板とフィルタ層の間に、第一ギャップ層を形成する第一ギャップ層系工程、フィルタ層と記録層の間に第二ギャップ層を形成する第二ギャップ層形工程などが挙げられる。
<Gap layer lamination process>
There is no restriction | limiting in particular as said gap layer lamination process, According to the objective, it can select suitably, For example, the 1st gap layer type | system | group process of forming a 1st gap layer between a 2nd board | substrate and a filter layer. And a second gap layer forming step of forming a second gap layer between the filter layer and the recording layer.

−第一ギャップ層形成工程−
前記第一ギャップ層形成工程は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に第一ギャップ層を形成する工程であり、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
-First gap layer formation process-
The first gap layer forming step is a step of forming a first gap layer between the filter layer and the reflective film as necessary, and is formed for the purpose of smoothing the surface of the second substrate. It is also effective for adjusting the size of the hologram generated in the recording layer. That is, since it is necessary for the recording layer to form an interference region for recording reference light and information light to a certain size, it is effective to provide a gap between the recording layer and the servo pit pattern.
The first gap layer can be formed, for example, by applying a material such as an ultraviolet curable resin on the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it. Moreover, when using what apply | coated and formed on the transparent base material as a filter layer, this transparent base material will work | function also as a 1st gap layer.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 1st gap layer, According to the objective, it can select suitably, 1-200 micrometers is preferable.

−第二ギャップ層形成工程−
前記第二ギャップ層形成工程は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に第二ギャップ層を形成する工程である。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリスチレン(PS)、ポリスルホン(PSF)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリメタクリル酸メチル=ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のような透明樹脂フィルム、又は、JSR社製商品名ARTONフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、TAC、PC、商品名ARTON、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
-Second gap layer forming step-
The second gap layer forming step is a step of forming a second gap layer between the recording layer and the filter layer as necessary.
There is no restriction | limiting in particular as a material of said 2nd gap layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a triacetyl cellulose (TAC), a polycarbonate (PC), a polyethylene terephthalate (PET), polystyrene (PS) ), Transparent resin films such as polysulfone (PSF), polyvinyl alcohol (PVA), polymethyl methacrylate = polymethyl methacrylate (PMMA), etc., or JSR brand name ARTON film or Nippon Zeon brand name ZEONOR And norbornene-based resin films. Among these, those having high isotropic properties are preferred, and TAC, PC, trade name ARTON, and trade name ZEONOR are particularly preferred.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 2nd gap layer, According to the objective, it can select suitably, 1-200 micrometers is preferable.

<積層体形成工程>
前記積層体形成工程は、前記記録層積層工程、前記フィルタ層形成工程、前記第一ギャップ層形成工程及び前記第二ギャップ層形成工程により、前記記録層、前記フィルタ層、第一ギャップ層及び第二ギャップ層が形成された第二の基板と、前記第一の基板とを貼り合わせて積層体を形成し、必要に応じて適宜選択したその他の工程を含む工程である。
前記貼り合わせ方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の基板と前記第二の基板と必要に応じて適宜選択したその他の層とを、接着剤で接着する方法、接着剤を用いず圧着する方法、真空中で貼り合わせる方法などが挙げられる。
前記接着剤で接着する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、外周を合致させ、各層間に接着剤を塗布し、外側から0.01〜0.5MPaの圧力をかけて、23〜100℃で接着する。
該接着の際に、気泡が無く均一に密着させるためには、真空中で貼り合わせることが好ましい。
<Laminated body formation process>
The laminated body forming step includes the recording layer, the filter layer, the first gap layer, and the second layer forming step, the filter layer forming step, the first gap layer forming step, and the second gap layer forming step. This is a process including a second substrate on which a two-gap layer is formed and the first substrate to form a laminate, and including other processes appropriately selected as necessary.
The bonding method is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.For example, the first substrate, the second substrate, and other layers appropriately selected as necessary, Examples thereof include a method of bonding with an adhesive, a method of pressure bonding without using an adhesive, and a method of bonding in a vacuum.
The method for bonding with the adhesive is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the first substrate, the second substrate, and other appropriately selected as necessary These layers are bonded to each other at 23 to 100 ° C. by matching the outer circumference, applying an adhesive between the layers, and applying a pressure of 0.01 to 0.5 MPa from the outside.
In the bonding, it is preferable that the bonding is performed in a vacuum so that there is no bubble and the film is uniformly adhered.

−接着剤−
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。
これらの中でも、透明性に優れていることから、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤がより好ましい。
-Adhesive-
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive agent, According to the objective, it can select suitably, For example, an acrylic adhesive, an epoxy-type adhesive agent, a rubber-type adhesive agent etc. are mentioned.
Among these, acrylic adhesives and epoxy adhesives are more preferable because of excellent transparency.

前記接着剤を用いず圧着する方法は、各層の有する接着性を利用して密着させて積層体を形成することも可能である。前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、各外周を合致させ、外側から0.01〜0.5MPaの圧力をかけて、23〜100℃で接着する。該密着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。   The method of performing pressure bonding without using the adhesive can also be used to form a laminated body by using the adhesiveness of each layer for adhesion. The first substrate, the second substrate, and other layers appropriately selected as needed are matched with each outer periphery, and a pressure of 0.01 to 0.5 MPa is applied from the outside to Adhere at 100 ° C. In order to adhere without any bubbles during the adhesion, it is preferable to bond them in a vacuum.

<貫通孔形成工程>
前記貫通孔形成工程は、本発明の光記録媒体の前記積層体形成工程により得られた積層体の中心部に、内孔を加工する工程である。
前記内孔は、その中心軸が、前記第二の基板に形成されているサーボトラックの回転方向の中心軸と一致するように加工される。内孔の中心軸とサーボトラックの中心軸がずれていると、光記録媒体を光記録再生装置などに装着して、回転させた際に、該光記録媒体の半径方向にぶれが生じ、サーボ用光などによりトラックを追従することができずトラック検出エラーの原因となることがある。
前記中心軸どおしを一致させる方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図1に示すように、円盤状の積層体19に形成されたサーボトラックの最外周の少なくとも3箇所のポイント32a、32b及び32cの位置を測定し、該測定ポイントに基づいて、該積層体19の円の加工中心32を求める。前記加工中心32の求め方としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図2に示すように、外周ポイントをP、Q、Rを結ぶ三角形を形成し、PQの中心と垂直に交わる直線を引と、QRの中心と垂直に交わる直線との交点をOとすると、該O点を積層体19の中心として求めることができる。また、図9に示すように、第二の基板1に形成されたサーボトラックの回転方向の中心部に中心マーク38を形成しておけば、前記加工中心32を別個に求める必要がなく効率的に加工することができる。
前記中心マーク38としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、直径0.1〜3.0mmの凹み、+字線マーク、所定の内孔の直径よりも充分に小さいガイド用の貫通孔などが挙げられる。この中心マーク32は、穴あけ加工のガイドとなるため、積層体の外側表面に形成することが好ましい。
<Through hole formation process>
The through-hole forming step is a step of processing an inner hole at the center of the laminated body obtained by the laminated body forming step of the optical recording medium of the present invention.
The inner hole is processed so that the central axis thereof coincides with the central axis in the rotation direction of the servo track formed on the second substrate. If the center axis of the inner hole is deviated from the center axis of the servo track, the optical recording medium is shaken in the radial direction when the optical recording medium is mounted on an optical recording / reproducing apparatus and rotated. The track cannot be tracked due to light or the like, which may cause a track detection error.
The method for matching the central axes is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, as shown in FIG. 1, a servo track formed on a disk-shaped laminate 19 is used. The positions of at least three points 32a, 32b, and 32c on the outermost circumference of the laminate 19 are measured, and the processing center 32 of the circle of the laminate 19 is obtained based on the measurement points. The method of obtaining the processing center 32 is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, as shown in FIG. 2, a triangle connecting P, Q, and R with outer peripheral points is formed, If a straight line perpendicular to the center of PQ is drawn and an intersection of a straight line perpendicular to the center of QR is O, the point O can be obtained as the center of the laminate 19. Further, as shown in FIG. 9, if the center mark 38 is formed at the center portion in the rotation direction of the servo track formed on the second substrate 1, it is not necessary to separately obtain the processing center 32 and it is efficient. Can be processed.
The center mark 38 is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the center mark 38 is sufficiently larger than the diameter of a recess having a diameter of 0.1 to 3.0 mm, a + -line mark, and a predetermined inner hole. And a small through hole for a guide. Since the center mark 32 serves as a guide for drilling, it is preferably formed on the outer surface of the laminate.

穴あけ加工方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パンチプレス加工、ドリル加工、レーザ加工、超音波加工などが挙げられる。
具体的には、図3に示すように、積層体19の中心に、矢印方向に、内孔25とほぼ同じ直径のパンチを用いてプレスにより打ち抜いてするパンチプレス加工や、矢印方向にレーザや超音波を照射し、所定の直径の内孔を加工するレーザ加工、超音波加工などが挙げられる。また、図4に示すように、積層体19又は穴あけドリル35のいずれかを回転させて、穴あけ加工することができる。前記穴あけ加工方法として、図5に示すように、積層体19の中心部に形成されているガイド用の小さな貫通孔を用い、先端部分が比較的細いガイド用貫通孔に対応する直径のドリルと所定の直径のドリルの二種類の直径を有する段つきドリル36を用いた穴あけ加工などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as a drilling method, According to the objective, it can select suitably, For example, punch press processing, drill processing, laser processing, ultrasonic processing etc. are mentioned.
Specifically, as shown in FIG. 3, punch press processing in which a punch having a diameter substantially the same as that of the inner hole 25 is punched by a press at the center of the laminate 19 in the direction of the arrow, or laser or Laser processing, ultrasonic processing, etc. that irradiate ultrasonic waves and process an inner hole of a predetermined diameter can be mentioned. Moreover, as shown in FIG. 4, it can drill by rotating either the laminated body 19 or the drilling drill 35. As shown in FIG. As the drilling method, as shown in FIG. 5, a drill having a diameter corresponding to the guide through-hole formed using a small guide through-hole formed at the center of the laminate 19 and having a relatively thin tip portion. For example, drilling using a stepped drill 36 having two types of diameters of a drill having a predetermined diameter may be used.

前記光記録媒体の内孔の直径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、10〜20mmが好ましく、15.00〜15.15mmがより好ましい。前記直径が、10mm未満であると、前記記録媒体の回転保持能力が低下することがあり、20mmを超えると前記記録媒体の記録領域が狭くなり記憶容量が減少することがある。   There is no restriction | limiting in particular as a diameter of the inner hole of the said optical recording medium, According to the objective, it can select suitably, For example, 10-20 mm is preferable and 15.00-15.15 mm is more preferable. If the diameter is less than 10 mm, the rotational holding ability of the recording medium may be reduced, and if it exceeds 20 mm, the recording area of the recording medium may be narrowed and the storage capacity may be reduced.

前記光記録媒体の内孔の中心軸と、前記積層体に形成されているサーボトラックの回転方向の中心軸とが一致していることが好ましいが、少なくとも前記中心軸どうしずれ量、即ち、偏芯量は、0〜70μmであることが好ましい。前記偏芯量が70μmを超えると、サーボ用光によるトラッキングサーボの際に、トラックを検出することができないことがある。   It is preferable that the central axis of the inner hole of the optical recording medium and the central axis in the rotation direction of the servo track formed in the laminated body coincide with each other, but at least the amount of deviation between the central axes, that is, the deviation. The core amount is preferably 0 to 70 μm. If the amount of eccentricity exceeds 70 μm, the track may not be detected during tracking servo with servo light.

−光記録媒体の内孔の偏芯の測定方法−
光記録媒体の内孔の偏芯の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図6に示すように、光記録媒体21の内孔43を回転スピンドル46に装着し、光記録媒体21を回転させると、該光記録媒体の内孔の中心軸42を中心として該光記録媒体は回転する。他方サーボ用光44を光記録媒体21に照射し、サーボトラック47の表面に集光するように該サーボ用光44を対物レンズ12を透過させ、オートフォーカスを作動させる。該サーボ用光44のトラッキングサーボは作動させずに一定の光記録媒体の半径位置で固定する。かかる状態で、光記録媒体21を回転すると、偏芯している量のサーボトラックが、サーボ用光44のレーザービームを横断することになるので、1トラックを横断する都度にトラッキングエラー信号が出力され、該光記録媒体21が1回転(360度)すると、偏芯したトラックの分、光が横断して再び同じ場所に戻ってくる。その間のトラッキングエラー信号の山の数に、トラックピッチ(光記録媒体の半径方向のトラックの間隔)を乗じた値の2分の1が偏芯量となる。
-Measuring method of eccentricity of inner hole of optical recording medium-
The method for measuring the eccentricity of the inner hole of the optical recording medium is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, as shown in FIG. 6, the inner hole 43 of the optical recording medium 21 is rotated. When the optical recording medium 21 is rotated by being mounted on the spindle 46, the optical recording medium rotates around the central axis 42 of the inner hole of the optical recording medium. On the other hand, the servo light 44 is applied to the optical recording medium 21, and the servo light 44 is transmitted through the objective lens 12 so as to be condensed on the surface of the servo track 47, thereby operating the autofocus. The tracking servo of the servo light 44 is not operated and is fixed at a certain radial position of the optical recording medium. When the optical recording medium 21 is rotated in such a state, the eccentric servo track traverses the laser beam of the servo light 44, so that a tracking error signal is output every time one track is traversed. When the optical recording medium 21 makes one rotation (360 degrees), the light traverses the eccentric track and returns to the same place again. One half of the value obtained by multiplying the number of peaks of the tracking error signal during that time by the track pitch (the distance between tracks in the radial direction of the optical recording medium) is the eccentricity.

<その他の工程>
前記その他の工程としてとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、反射膜形成工程などが挙げられる。
<Other processes>
There is no restriction | limiting in particular as said other process, According to the objective, it can select suitably, For example, a reflective film formation process etc. are mentioned.

−反射膜形成工程−
前記反射膜形成工程は、前記第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を形成する工程である。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が400〜780nmである場合には、例えば、Al、Al合金、Ag、Ag合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が650nm以上である場合には、Al、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金、TiN、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、DVD(ディジタル ビデオ ディスク)などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
-Reflective film formation process-
The reflective film forming step is a step of forming a reflective film on the servo pit pattern surface of the second substrate.
As the material of the reflective film, a material having a high reflectance with respect to recording light or reference light is preferably used. When the wavelength of light to be used is 400 to 780 nm, for example, Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, etc. are preferably used. When the wavelength of light to be used is 650 nm or more, it is preferable to use Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, Au, Cu alloy, TiN, or the like.
As the reflective film, an optical recording medium that reflects light and can be written or erased, such as a DVD (digital video disk), is used. It is also possible to add and rewrite directory information such as information on which part has an error and how replacement processing is performed without affecting the hologram.

前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、50nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said reflecting film, According to the objective, it can select suitably, Various vapor phase growth methods, for example, a vacuum evaporation method, sputtering method, plasma CVD method, photo-CVD method, ion plate method. A ting method, an electron beam evaporation method, or the like is used. Among these, the sputtering method is excellent in terms of mass productivity and film quality.
The thickness of the reflective film is preferably 50 nm or more, and more preferably 100 nm or more so that sufficient reflectance can be realized.

<光記録媒体>
本発明の光記録媒体は、2次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラム、などでもよい。
本発明の光記録媒体は、少なくとも一の支持体上に記録層を積層し、情報光と参照光とが異なる方向から照射される一般的なホログラムの記録に用いられる2光束干渉法によるものや、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有し、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われるコリニア方式に用いられるものなどが挙げられる。以下コリニア方式に用いられる光記録媒体について説明するが、この方式に限定されるものではなく、2光束干渉法によるものでもよい。
<Optical recording medium>
The optical recording medium of the present invention may be a relatively thin planar hologram for recording information such as two dimensions, or a volume hologram for recording a large amount of information such as a three-dimensional image, and is either a transmission type or a reflection type. Also good. The hologram recording method may be any, for example, an amplitude hologram, a phase hologram, a blazed hologram, a complex amplitude hologram, or the like.
The optical recording medium of the present invention includes a recording layer formed on at least one support, and a two-beam interference method used for recording a general hologram in which information light and reference light are irradiated from different directions. A first substrate, a second substrate, a recording layer on the second substrate, and a filter layer between the second substrate and the recording layer. Examples thereof include those used in a collinear method in which irradiation is performed such that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. An optical recording medium used in the collinear method will be described below, but the present invention is not limited to this method, and a two-beam interference method may be used.

<光記録方法及び再生方法>
前記光記録方法としては、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法などが挙げられる。
前記再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
<Optical recording method and reproducing method>
As the optical recording method, the optical recording medium is irradiated with information light and reference light as a coaxial light beam, and information is recorded on a recording layer by an interference pattern due to interference between the information light and the reference light. The method etc. are mentioned.
The reproduction method is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, the interference image formed on the recording layer by the optical recording method is irradiated with the same light as the reference light. Recording information corresponding to can be reproduced.

前記光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す(再生する)際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、前記光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。
In the optical recording method and the reproducing method, the information light provided with a two-dimensional intensity distribution and the information light and the reference light having a substantially constant intensity are superposed inside the photosensitive recording layer to form them. Information is recorded by generating an optical characteristic distribution inside the recording layer using the interference pattern. On the other hand, when reading (reproducing) written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as during recording, and the reproduction has an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer. Light is emitted from the recording layer as light.
Here, the optical recording method and the reproducing method are performed using an optical recording / reproducing apparatus described below.

前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図16を参照して説明する。
図16は、前記光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置100は、光記録媒体21が取り付けられるスピンドル81と、このスピンドル81を回転させるスピンドルモータ82と、光記録媒体21の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ82を制御するスピンドルサーボ回路83とを備えている。
また、光記録再生装置100は、光記録媒体21に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体21に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体21に記録されている情報を再生するためのピックアップ31と、このピックアップ31を光記録媒体21の半径方向に移動可能とする駆動装置84とを備えている。
An optical recording / reproducing apparatus used in the optical recording method and reproducing method will be described with reference to FIG.
FIG. 16 is an overall configuration diagram of the optical recording / reproducing apparatus. The optical recording / reproducing apparatus includes an optical recording apparatus and a reproducing apparatus.
The optical recording / reproducing apparatus 100 controls a spindle 81 to which the optical recording medium 21 is attached, a spindle motor 82 for rotating the spindle 81, and the spindle motor 82 so as to keep the rotational speed of the optical recording medium 21 at a predetermined value. A spindle servo circuit 83.
The optical recording / reproducing apparatus 100 records information by irradiating the optical recording medium 21 with information light and recording reference light, and irradiates the optical recording medium 21 with reproduction reference light for reproduction. A pickup 31 for detecting light and reproducing information recorded on the optical recording medium 21, and a drive device 84 that can move the pickup 31 in the radial direction of the optical recording medium 21 are provided.

光記録再生装置100は、ピックアップ31の出力信号よりフォーカスエラー信号FE、トラッキングエラー信号TE、及び再生信号RFを検出するための検出回路85と、この検出回路85によって検出されるフォーカスエラー信号FEに基づいて、ピックアップ31内のアクチュエータを駆動して対物レンズ(不図示)を光記録媒体21の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路86と、検出回路85によって検出されるトラッキングエラー信号TEに基づいてピックアップ31内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体21の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路87と、トラッキングエラー信号TE及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置84を制御してピックアップ31を光記録媒体21の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路88とを備えている。   The optical recording / reproducing apparatus 100 uses a detection circuit 85 for detecting a focus error signal FE, a tracking error signal TE, and a reproduction signal RF from an output signal of the pickup 31, and a focus error signal FE detected by the detection circuit 85. Based on this, the actuator in the pickup 31 is driven to move the objective lens (not shown) in the thickness direction of the optical recording medium 21 to perform focus servo, and the tracking error signal detected by the detection circuit 85. Based on TE, a tracking servo circuit 87 that drives an actuator in the pickup 31 to move the objective lens in the radial direction of the optical recording medium 21 to perform tracking servo, a tracking error signal TE, and a command from a controller to be described later. Drive 84 controlled by a and a slide servo circuit 88 for performing a slide servo for moving the pickup 31 in the radial direction of the optical recording medium 21.

光記録再生装置100は、更に、ピックアップ31内の後述するCMOS又はCCDアレイの出力データをデコードして、光記録媒体21のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路85からの再生信号RFより基本クロックを再生したり、アドレスを判別したりする信号処理回路89と、光記録再生装置100の全体を制御するコントローラ90と、このコントローラ90に対して種々の指示を与える操作部91とを備えている。
コントローラ90は、信号処理回路89より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ31、スピンドルサーボ回路83、及びスライドサーボ回路88等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路83は、信号処理回路89より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ90は、CPU(中央処理装置)、ROM(リード オンリ メモリ)、及びRAM(ランダム アクセス メモリ)を有し、CPUが、RAMを作業領域として、ROMに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ90の機能を実現するようになっている。
The optical recording / reproducing apparatus 100 further decodes output data of a later-described CMOS or CCD array in the pickup 31 to reproduce data recorded in the data area of the optical recording medium 21 or reproduce from the detection circuit 85. A signal processing circuit 89 that reproduces a basic clock from the signal RF and discriminates an address, a controller 90 that controls the entire optical recording / reproducing apparatus 100, and an operation unit 91 that gives various instructions to the controller 90. And has.
The controller 90 inputs the basic clock and address information output from the signal processing circuit 89, and controls the pickup 31, spindle servo circuit 83, slide servo circuit 88, and the like. The spindle servo circuit 83 receives the basic clock output from the signal processing circuit 89. The controller 90 includes a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and the CPU executes a program stored in the ROM using the RAM as a work area. The function of the controller 90 is realized.

ここで、本発明の前記反射膜、前記第一及び前記第二ギャップ層を有する光記録媒体の具体例1及び2について、図面を参照して更に詳しく説明する。なお、前記第一及び前記第二ギャップ層のいずれか又は双方を積層せずに光記録媒体を作製してもよい。   Specific examples 1 and 2 of the optical recording medium having the reflective film, the first and second gap layers of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. Note that an optical recording medium may be manufactured without laminating one or both of the first and second gap layers.

<光記録媒体の具体例1>
図12は、本発明の具体例1における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例1に係る光記録媒体21では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板1にサーボピットパターン3が形成され、該サーボピットパターン3上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜2が設けられている。なお、図12では第二の基板1全面にサーボピットパターン3が形成されているが、図11に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン3の高さは、通常1,750Å(175nm)であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
<Specific example 1 of optical recording medium>
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in Example 1 of the present invention. In the optical recording medium 21 according to the specific example 1, the servo pit pattern 3 is formed on the second substrate 1 made of polycarbonate resin or glass, and the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum, etc. 2 is provided. In FIG. 12, the servo pit pattern 3 is formed on the entire surface of the second substrate 1, but it may be formed periodically as shown in FIG. The height of the servo pit pattern 3 is normally 1,750 mm (175 nm), which is sufficiently smaller than the thicknesses of the substrate and other layers.

第一ギャップ層8は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板1の反射膜2上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層8は、反射膜2を保護すると共に、記録層4内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層4において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層4とサーボピットパターン3との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層8上にはフィルタ層6が設けられ、また、フィルタ層6と記録層4との間に第二ギャップ層7が設けられ、該フィルタ層6と第一の基板5(ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板)によって第2のギャップ層及び記録層4を挟むことによって光記録媒体21が構成される。なお、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層7を設けることが有効となる。
The first gap layer 8 is formed by applying a material such as an ultraviolet curable resin on the reflective film 2 of the second substrate 1 by spin coating or the like. The first gap layer 8 is effective for protecting the reflective film 2 and adjusting the size of the hologram generated in the recording layer 4. That is, since it is necessary to form an interference area between the recording reference light and the information light in a certain size in the recording layer 4, it is effective to provide a gap between the recording layer 4 and the servo pit pattern 3.
A filter layer 6 is provided on the first gap layer 8, and a second gap layer 7 is provided between the filter layer 6 and the recording layer 4, and the filter layer 6 and the first substrate 5 (polycarbonate resin). The optical recording medium 21 is configured by sandwiching the second gap layer and the recording layer 4 by a substrate or a glass substrate. Note that there is a point where the information light and the reproduction light are focused. However, if the focusing area is filled with a photopolymer, excessive consumption of the monomer due to overexposure occurs, resulting in a decrease in multiplex recording capability. Therefore, it is effective to provide the second gap layer 7 that is non-reactive and transparent.

図12において、フィルタ層6は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。したがって、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層6を透過せず、反射膜2まで達することなく、戻り光となり、入出射面Aから出射することになる。
このフィルタ層6は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した3層のコレステリック液晶層6a、6b、6cからなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層6は、第一ギャップ層8上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した3層のコレステリック液晶層によって、λ〜λ/cos20°、特にλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
In FIG. 12, the filter layer 6 transmits only red light and does not transmit light of other colors. Therefore, since the information light, the recording and reproduction reference light are green or blue light, the light does not pass through the filter layer 6 and does not reach the reflection film 2 but becomes return light and is emitted from the incident / exit surface A. Become.
The filter layer 6 is composed of three cholesteric liquid crystal layers 6a, 6b, and 6c whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer. The filter layer 6 made of this cholesteric liquid crystal layer may be directly formed on the first gap layer 8 by coating, or a film in which a cholesteric liquid crystal layer is formed on a substrate is punched into an optical recording medium shape and arranged. Also good. Λ 0 to λ 0 / cos 20 °, especially λ 0 to λ 0 / cos 40 ° (in particular, λ 0 is the wavelength of the irradiation light) by the three cholesteric liquid crystal layers whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer. In this case, the light reflectance is 40% or more, and the selective reflection wavelength does not shift even if the incident angle changes.

具体例1における光記録媒体21は、図7に示すようなディスク形状でもよいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体21では、第二の基板1は0.6mm、第一ギャップ層8は100μm、フィルタ層6は2〜3μm、第二ギャップ層7は70μm、記録層4は0.6mm、第一の基板5は0.6mmの厚みであって、合計厚みは約1.9mmとなっている。   The optical recording medium 21 in the specific example 1 may have a disk shape as shown in FIG. 7 or a card shape. In the case of a card shape, there is no need for the servo pit pattern. In this optical recording medium 21, the second substrate 1 is 0.6 mm, the first gap layer 8 is 100 μm, the filter layer 6 is 2 to 3 μm, the second gap layer 7 is 70 μm, and the recording layer 4 is 0.6 mm. The first substrate 5 has a thickness of 0.6 mm, and the total thickness is about 1.9 mm.

次に、図15を参照して、光記録媒体21周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光(赤色光)は、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、対物レンズ12を通過する。対物レンズ12によってサーボ用光は反射膜2上で焦点を結ぶように光記録媒体21に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー13は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ100%反射させるようになっている。光記録媒体21の光の入出射面Aから入射したサーボ用光は、第一の基板5、記録層4、第二ギャップ層7、フィルタ層6、及び第一ギャップ層8を通過し、反射膜2で反射され、再度、第一ギャップ層8、フィルタ層6、第二ギャップ層7、記録層4、及び第一の基板5を透過して入出射面Aから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ12を通過し、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、サーボ情報検出器(不図示)でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層4を通過したり、サーボ用光が反射膜2で乱反射したとしても、記録層4には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜2による戻り光は、ダイクロイックミラー13によってほぼ100%反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのCMOSセンサ又はCCD14で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図14に示したλ〜1.3λの反射域は、λ=532nmのとき1.3λ=692nmとなり、サーボ光が655nmの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ〜1.3λの範囲はフィルタ層における±40°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±20°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±20°以内で全て設計することも容易であり、その場合はλ〜1.1λのコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
Next, an optical operation around the optical recording medium 21 will be described with reference to FIG. First, light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12. Servo light is applied to the optical recording medium 21 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2. That is, the dichroic mirror 13 transmits light having a wavelength of green or blue, and reflects light having a wavelength of red by almost 100%. The servo light incident from the light incident / exit surface A of the optical recording medium 21 passes through the first substrate 5, the recording layer 4, the second gap layer 7, the filter layer 6, and the first gap layer 8, and is reflected. The light is reflected by the film 2, passes through the first gap layer 8, the filter layer 6, the second gap layer 7, the recording layer 4, and the first substrate 5 and is emitted from the incident / exit surface A again. The returned return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown). The detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and the like. Since the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is irregularly reflected by the reflective film 2, the recording layer 4 is not affected. In addition, since the return light of the servo light reflected by the reflective film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, the servo light is detected by the CMOS sensor or the CCD 14 for detecting the reproduced image. In addition, there is no noise with respect to the reproduction light.
Note that the reflection range of λ 0 to 1.3λ 0 shown in FIG. 14 is 1.3λ 0 = 692 nm when λ 0 = 532 nm, and the servo light is reflected when the servo light is 655 nm. The range of λ 0 to 1.3λ 0 shown here is suitability for ± 40 ° incident light in the filter layer, but when actually using such a large oblique light, servo light with an incident angle within ± 20 ° is used. Servo control can be performed without hindrance if masked. If the spiral pitch of the cholesteric liquid crystal layer in the filter layer to be used is sufficiently large, it is easy to design all the incident angles within ± 20 ° in the filter layer, in which case λ 0 to 1.1λ. Since a zero cholesteric liquid crystal layer is sufficient, there is no hindrance to servo light transmission.

また、記録用/再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板16を通過して線偏光となりハーフミラー17を通過して1/4波長板15を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー13を透過し、対物レンズ12によって情報光と記録用参照光が記録層4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体21に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Aから入射し、記録層4で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層4を通過し、フィルタ層6に入射するが、該フィルタ層6の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜2までは到達しない。フィルタ層6は螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した3層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の20%以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は20%×20%=4%以下となり、実質的に問題とはならない。   In addition, the information light and the recording reference light generated from the recording / reproducing laser pass through the polarizing plate 16 to become linearly polarized light, pass through the half mirror 17 and pass through the quarter-wave plate 15 at a time. Become polarized. The optical recording medium 21 is irradiated with information light and recording reference light through the dichroic mirror 13 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4 by the objective lens 12. The information light and the recording reference light are incident from the incident / exit surface A and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there. Thereafter, the information light and the recording reference light pass through the recording layer 4 and enter the filter layer 6, but are reflected between the bottom of the filter layer 6 and become return light. That is, the information light and the recording reference light do not reach the reflective film 2. This is because the filter layer 6 is formed of three cholesteric liquid crystal layers whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer, and has a property of transmitting only red light. Alternatively, if light leaking through the filter layer is suppressed to 20% or less of the incident light intensity, even if the leaked light reaches the bottom surface and becomes return light, it is reflected again by the filter layer and reproduced. The light intensity mixed into the light is 20% × 20% = 4% or less, which is not substantially a problem.

<光記録媒体の具体例2>
図13は、前記具体例2における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例2に係る光記録媒体22では、フィルタ層6以外は具体例1と同様に構成される。
<Specific example 2 of optical recording medium>
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the second specific example. The optical recording medium 22 according to Example 2 is configured in the same manner as Example 1 except for the filter layer 6.

図13において、フィルタ層6は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。したがって、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層6を透過せず、反射膜2まで達することなく、戻り光となり、入出射面Aから出射することになる。
このフィルタ層6は、色材含有層上に、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜が7層積層された誘電体蒸着層を形成した積層体である。この色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせであるフィルタ層6は、第一ギャップ層8上に塗布及び蒸着により直接形成してもよいし、基材上に色材含有層及び誘電体蒸着膜を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。フィルタ層として色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせを用いることによって、入射角度±40°における、655nmでの光透過率が50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
In FIG. 13, the filter layer 6 transmits only red light and does not transmit light of other colors. Therefore, since the information light, the recording and reproduction reference light are green or blue light, the light does not pass through the filter layer 6 and does not reach the reflection film 2 but becomes return light and is emitted from the incident / exit surface A. Become.
The filter layer 6 is a laminate in which a dielectric vapor deposition layer is formed by laminating seven dielectric thin films having different refractive indexes on a color material-containing layer. The filter layer 6 that is a combination of the color material-containing layer and the dielectric vapor-deposited film may be directly formed on the first gap layer 8 by coating and vapor deposition, or may be formed on the base material. The film on which the deposited film is formed may be punched into an optical recording medium shape and disposed. By using a combination of a colorant-containing layer and a dielectric deposited film as a filter layer, the light transmittance at 655 nm is 50% or more and the light reflectance at 532 nm is 30% at an incident angle of ± 40 °. Thus, even if the incident angle changes, the selective reflection wavelength does not shift.

前記具体例2における光記録媒体22の形状は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよく、具体例1と同様に形成される。   The shape of the optical recording medium 22 in the specific example 2 may be a disk shape or a card shape, and is formed in the same manner as the specific example 1.

次に、図15を参照して、光記録媒体21と同様に構成された光記録媒体22周辺での光学的動作を説明する。光記録媒体22では、光記録媒体21と同様、まず、サーボ用レーザから出射した光(赤色光)は、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、対物レンズ12を通過する。対物レンズ12によってサーボ用光は反射膜2上で焦点を結ぶように光記録媒体22に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー13は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ100%反射させるようになっている。光記録媒体22の光の入出射面Aから入射したサーボ用光は、第一の基板5、記録層4、第二ギャップ層7、フィルタ層6、及び第一ギャップ層8を通過し、反射膜2で反射され、再度、第一ギャップ層8、フィルタ層6、第二ギャップ層7、記録層4、及び第一の基板5を透過して入出射面Aから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ12を通過し、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、サーボ情報検出器(不図示)でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。具体例1と同様に、記録層4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層4を通過したり、サーボ用光が反射膜2で乱反射したとしても、記録層4には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜2による戻り光は、ダイクロイックミラー13によってほぼ100%反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのCMOSセンサ又はCCD14で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。   Next, an optical operation around the optical recording medium 22 configured in the same manner as the optical recording medium 21 will be described with reference to FIG. In the optical recording medium 22, as in the optical recording medium 21, first, light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12. Servo light is applied to the optical recording medium 22 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2. That is, the dichroic mirror 13 transmits light having a wavelength of green or blue, and reflects light having a wavelength of red almost 100%. The servo light incident from the light incident / exit surface A of the optical recording medium 22 passes through the first substrate 5, the recording layer 4, the second gap layer 7, the filter layer 6, and the first gap layer 8 and is reflected. The light is reflected by the film 2, passes through the first gap layer 8, the filter layer 6, the second gap layer 7, the recording layer 4, and the first substrate 5 and is emitted from the incident / exit surface A again. The returned return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown). The detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and the like. As in the first specific example, the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, so that the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is reflected by the reflective film 2. Even if it is irregularly reflected, the recording layer 4 is not affected. In addition, since the return light of the servo light reflected by the reflective film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, the servo light is detected by the CMOS sensor or the CCD 14 for detecting the reproduced image. In addition, there is no noise with respect to the reproduction light.

また、記録用/再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板16を通過して線偏光となりハーフミラー17を通過して1/4波長板15を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー13を透過し、対物レンズ12によって情報光と記録用参照光が記録層4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体22に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Aから入射し、記録層4で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層4を通過し、フィルタ層6に入射するが、該フィルタ層6の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜2までは到達しない。フィルタ層6は色材含有層と誘電体蒸着膜とを組み合わせており、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の20%以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は20%×20%=4%以下となり、実質的に問題とはならない。   In addition, the information light and the recording reference light generated from the recording / reproducing laser pass through the polarizing plate 16 to become linearly polarized light, pass through the half mirror 17 and pass through the quarter-wave plate 15 at a time. Become polarized. The optical recording medium 22 is irradiated with information light and recording reference light through the dichroic mirror 13 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4 by the objective lens 12. The information light and the recording reference light are incident from the incident / exit surface A and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there. Thereafter, the information light and the recording reference light pass through the recording layer 4 and enter the filter layer 6, but are reflected between the bottom of the filter layer 6 and become return light. That is, the information light and the recording reference light do not reach the reflective film 2. This is because the filter layer 6 is a combination of a color material-containing layer and a dielectric deposited film, and has a property of transmitting only red light. Alternatively, if light leaking through the filter layer is suppressed to 20% or less of the incident light intensity, even if the leaked light reaches the bottom surface and becomes return light, it is reflected again by the filter layer and reproduced. The light intensity mixed into the light is 20% × 20% = 4% or less, which is not substantially a problem.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
<光記録媒体の作製>
実施例1の光記録媒体は、第一の基板と、記録層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、第一ギャップ層と、第二の基板とをこの順に積層することにより、以下のように作製した。前記フィルタ層は、フィルム状のフィルタを作製して、積層することにより以下のように形成した。
Example 1
<Preparation of optical recording medium>
The optical recording medium of Example 1 is formed by laminating a first substrate, a recording layer, a second gap layer, a filter layer, a first gap layer, and a second substrate in this order. It produced as follows. The filter layer was formed as follows by preparing and laminating a film-like filter.

−記録層用の感光性組成物溶液の組成−
下記組成からなる感光性組成物を窒素気流下で混合し、感光性組成物溶液を調製した。
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・ビスシクロヘキシルメタンジイソシアネート・・・・・・・・31.5質量%
・ポリプロピレンオキサイドトリオール(分子量1,000)・61.2質量%
・テトラメチレングリコール・・・・・・・・・・・・・・・・・2.5質量%
・2,4,6−トリブロモフェニルアクリレート・・・・・・・・3.1質量%
・光重合開始剤
(チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア784)・・0.69質量%
・ジブチルジラウレートスズ・・・・・・・・・・・・・・・・1.01質量%
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
-Composition of photosensitive composition solution for recording layer-
The photosensitive composition which consists of the following composition was mixed under nitrogen stream, and the photosensitive composition solution was prepared.
-----------------------------------
・ Biscyclohexylmethane diisocyanate ・ ・ ・ 31.5 mass%
-Polypropylene oxide triol (molecular weight 1,000)-61.2% by mass
・ Tetramethylene glycol ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 2.5% by mass
-2,4,6-tribromophenyl acrylate ... 3.1% by mass
Photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 784) 0.69% by mass
・ Dibutyl dilaurate tin ・ ・ ・ 1.01% by mass
-----------------------------------

−フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム(三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン)厚み100μm上に、ポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、商品名MP203)を厚み1μmとなるように塗布したベースフィルムを用意する。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与することができる。
-Fabrication of filter-
First, a base film is prepared by applying polyvinyl alcohol (trade name MP203, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) to a thickness of 1 μm on a polycarbonate film (trade name: Iupil, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) having a thickness of 100 μm. This base film can be passed through a rubbing apparatus to rub the surface of the polyvinyl alcohol film and impart liquid crystal alignment ability.

次に、下記表1に示す組成のコレステリック液晶層用塗布液A、B及びCを常法により調製することができる。   Next, cholesteric liquid crystal layer coating liquids A, B, and C having the compositions shown in Table 1 below can be prepared by a conventional method.

Figure 2007141421
*UV重合性液晶:BASF社製、商品名PALIOCOLOR LC242
*カイラル剤:BASF社製、商品名PALIOCOLOR LC756
*光重合開始剤:チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名イルガキュア369
*増感剤:ジエチルチオキサントン
*溶剤:メチルエチルケトン(MEK)
Figure 2007141421
* UV polymerizable liquid crystal: manufactured by BASF, trade name PALIOCOLOR LC242
* Chiral agent: BASF Corporation, trade name PALIOCOLOR LC756
* Photopolymerization initiator: Product name Irgacure 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
* Sensitizer: Diethylthioxanthone * Solvent: Methyl ethyl ketone (MEK)

次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Aをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成した。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cmで露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Aを形成した。
次に、コレステリック液晶層A上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Bをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成した。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cmで露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Bを形成した。
次に、コレステリック液晶層B上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Cをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成した。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cmで露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Cを形成した。
以上により、円偏光分離特性を有し、各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なり、かつ各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに右回り方向で同じである3層構造の実施例1の光記録媒体用フィルタを作製した。
Next, the cholesteric liquid crystal layer coating solution A was applied onto the base film with a bar coater, dried, and then subjected to orientation aging at 110 ° C. for 20 seconds. Thereafter, the film was exposed to an irradiation energy of 500 mJ / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp at 110 ° C. to form a cured cholesteric liquid crystal layer A having a thickness of 2 μm.
Next, the cholesteric liquid crystal layer coating solution B was applied onto the cholesteric liquid crystal layer A with a bar coater, dried, and then subjected to alignment aging at 110 ° C. for 20 seconds. Then, it exposed by irradiation energy 500mJ / cm < 2 > with the ultrahigh pressure mercury lamp under 110 degreeC, and the cholesteric liquid crystal layer cured film B with a thickness of 2 micrometers was formed.
Next, the cholesteric liquid crystal layer coating liquid C was applied onto the cholesteric liquid crystal layer B with a bar coater, dried, and then subjected to alignment aging at 110 ° C. for 20 seconds. Thereafter, exposure was performed at an irradiation energy of 500 mJ / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp at 110 ° C. to form a cured cholesteric liquid crystal layer C having a thickness of 2 μm.
As described above, Embodiment 1 of a three-layer structure having circularly polarized light separation characteristics, different selective reflection center wavelengths in each cholesteric liquid crystal layer, and the same rotational direction of the spiral in each cholesteric liquid crystal layer in the clockwise direction. An optical recording medium filter was prepared.

次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜いた。   Next, the produced optical recording medium filter was punched into a predetermined disk size so that it could be placed on the substrate.

−第一の基板−
前記第一の基板は、直径120mm、板厚0.5mmのポリカーボネート樹脂板を使用した。この基板の表面は滑らかであり、サーボピットパターンなどの凹凸のないものを用いた。
-First substrate-
As the first substrate, a polycarbonate resin plate having a diameter of 120 mm and a plate thickness of 0.5 mm was used. The surface of this substrate is smooth and has no irregularities such as a servo pit pattern.

−第二の基板−
前記第二の基板としては、直径120mm、板厚0.6mmのDVD+RW用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは0.74μmであり、溝深さは175nm、溝幅は300nmである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に、波長が532nmの光に対して垂直な入射光による反射率が90%となるように反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム(Al)を用いた。成膜はDCマグネトロンスパッタリング法により厚み200nmのAl反射膜を成膜した。
-Second substrate-
As the second substrate, a general polycarbonate resin substrate used for DVD + RW having a diameter of 120 mm and a plate thickness of 0.6 mm was used. A servo pit pattern is formed on the entire surface of the substrate, the track pitch is 0.74 μm, the groove depth is 175 nm, and the groove width is 300 nm.
First, a reflection film was formed on the surface of the servo pit pattern of the second substrate so that the reflectance by incident light perpendicular to the light having a wavelength of 532 nm was 90%. Aluminum (Al) was used as the reflective film material. A 200 nm thick Al reflective film was formed by DC magnetron sputtering.

−外周スペーサ−
前記外周スペーサは、第一の基板及び第二の基板の外形と同一の直径120mmの円形で、面方向の幅は、0.5mm±100μm、厚みは記録層4の厚みと同じ500μm、したがって、断面形状は0.5mm×500μmの四角形となる。
前記外周スペーサの材料は、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型(住友重工株式会社製)により作製した。
-Outer spacer-
The outer peripheral spacer has a circular shape with a diameter of 120 mm, which is the same as the outer shape of the first substrate and the second substrate, the width in the surface direction is 0.5 mm ± 100 μm, and the thickness is 500 μm, which is the same as the thickness of the recording layer 4. The cross-sectional shape is a square of 0.5 mm × 500 μm.
The material of the outer periphery spacer was produced by injection molding (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) using polycarbonate having excellent moldability and mechanical strength.

−積層体の形成−
図8に示すように、第一ギャップ層8がスピン塗布された第二の基板1上に、前記フィルタを、隙間に気泡が入らないように、UV接着剤(型名SD−640、大日本インキ社製)を塗布した後、積層してフィルタ層6を形成した。
前記フィルタ層6の面上に、ラミネーター装置(型名HAL110aa、三共株式会社製)により、圧着ロール温度23℃、圧着ロール圧力0.1MPa、圧着速度1.0m/分の条件の下、厚み500μmの透明ポリエチレンテレフタレートシートからなる第二ギャップ層7を貼り付けた。
更に、該第二ギャップ層7の表面に、得られた外周スペーサ27を、第二の基板1の外形と外周スペーサ27の外形が合致するように接着した。前記接着剤は、UV接着剤(型名SD−640、大日本インキ化学工業株式会社製)を用いて、UV光を照射して接着した。
外周スペーサ27により形成された、深さ500μmの溝部に、前記注入法により、得られた光記録層用組成物塗布液を、シリンジにより注入した。
前記注入の条件としては、温度23℃、液粘度300mPas、湿度50%とした。
注入後に、温度80℃、40分間の条件の下、光記録層用組成物を硬化させ記録層4を形成した。該記録層4の厚みは500μmであった。
該記録層4上に、接着剤(型名GM−9002、ブレニー技研社製)を塗布し、前記第一の基板の外側及び前記第二の基板の外側を、0.08MPaの圧力で、80℃で、40分間、加圧し、積層体を形成し、最後に、端部を湿分硬化型の接着剤で封止し、45℃で24時間放置することにより、積層体を作製した。
-Formation of laminate-
As shown in FIG. 8, on the second substrate 1 on which the first gap layer 8 has been spin-coated, the filter is placed on a UV adhesive (model name SD-640, Dainippon, Japan) so that air bubbles do not enter the gap. After applying the ink), the filter layer 6 was formed by laminating.
On the surface of the filter layer 6, a thickness of 500 μm under the conditions of a pressure roll temperature of 23 ° C., a pressure roll pressure of 0.1 MPa, and a pressure speed of 1.0 m / min by a laminator device (model name HAL110aa, manufactured by Sankyo Co., Ltd.) A second gap layer 7 made of a transparent polyethylene terephthalate sheet was attached.
Further, the obtained outer peripheral spacer 27 was adhered to the surface of the second gap layer 7 so that the outer shape of the second substrate 1 and the outer shape of the outer peripheral spacer 27 matched. The adhesive was bonded by irradiating UV light using a UV adhesive (model name SD-640, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.).
The composition coating solution for an optical recording layer obtained by the injection method was injected into a groove portion formed by the outer peripheral spacer 27 with a depth of 500 μm by a syringe.
The injection conditions were a temperature of 23 ° C., a liquid viscosity of 300 mPas, and a humidity of 50%.
After the injection, the optical recording layer composition was cured under the conditions of a temperature of 80 ° C. for 40 minutes to form a recording layer 4. The recording layer 4 had a thickness of 500 μm.
On the recording layer 4, an adhesive (type name GM-9002, manufactured by Brennie Giken) was applied, and the outside of the first substrate and the outside of the second substrate were applied at a pressure of 0.08 MPa, and 80 The laminate was formed by pressurizing at 40 ° C. for 40 minutes, and finally the end was sealed with a moisture-curing adhesive and left at 45 ° C. for 24 hours.

−積層体の穴あけ加工−
前記積層体の穴あけ加工は、まず、図1に示すように、積層体19に設けられたサーボトラックの最外周の測定ポイント3点を測定した。そして、図2に示すように、外周ポイントをP、Q、Rを結ぶ三角形を形成し、PQの中心と垂直に交わる直線を引と、QRの中心と垂直に交わる直線との交点をOとすると、該O点を積層体19の中心とした。具体的には、積層体19の図2における下部に接する横線をX軸、図2に向かって左側に接する縦線をY軸として、座標(X,Y)として表すと、32aの座標は、(57.832,71.460)、32bの座標は、(137.345,−4.401)、32cの座標は、(166.836,71.460)となり、中心Oの座標は、(112.334,51.623)となった。
求めた中心Oの位置を+形状にマークし、該積層体19をレーザー精密切断加工装置(型名:LAY−753A、芝浦メカトロニクス社製)に装着し、中心Oの位置を、+形状マークの中心に合わせて、直径15.1mmの貫通孔を加工し、光記録媒体の内孔を得た。
-Drilling of laminates-
In the drilling of the laminate, first, as shown in FIG. 1, three measurement points on the outermost periphery of the servo track provided in the laminate 19 were measured. Then, as shown in FIG. 2, a triangle connecting P, Q, and R with the outer peripheral points is formed, a straight line that intersects perpendicularly with the center of PQ is drawn, and an intersection of a straight line that intersects perpendicularly with the center of QR is defined as O Then, the O point was set as the center of the laminate 19. Specifically, when the horizontal line in contact with the lower part in FIG. 2 of the laminate 19 is represented as the X axis, the vertical line in contact with the left side in FIG. 2 as the Y axis, and expressed as coordinates (X, Y), the coordinates of 32a are: The coordinates of (57.832, 71.460), 32b are (137.345, -4.401), the coordinates of 32c are (166.8336, 71.460), and the coordinates of the center O are (112 334, 51.623).
The position of the obtained center O is marked in a + shape, and the laminate 19 is mounted on a laser precision cutting device (model name: LAY-753A, manufactured by Shibaura Mechatronics), and the position of the center O is A through hole having a diameter of 15.1 mm was processed in accordance with the center to obtain an inner hole of the optical recording medium.

−光記録媒体の内孔の偏芯の測定−
前記光記録媒体の内孔の偏芯の測定は、高精度測定顕微鏡装置(型名:HyperMF−U、ミツトヨ社製)を用い、該光記録媒体に形成されているサーボトラックの中心軸と前記内孔の中心軸の偏芯量を測定した。結果、偏芯量は約9μmとなり、従来の製造方法で生ずる偏芯量の約100μmに対して10μm以下に抑えることができ、極めて偏芯の少ない光記録媒体が得られた。
更に、従来の穴あき基板同士を積層して光記録媒体を製造する方法では、内孔の内壁面にフォトポリマーなどの光記録組成物がはみ出して、その内孔の内壁面の均一性を損なうことがあったが、本発明の光記録媒体の製造方法では、全くそのような問題がなく生産性及び光記録媒体の品質が極めて向上した。
-Measurement of eccentricity of inner hole of optical recording medium-
The measurement of the eccentricity of the inner hole of the optical recording medium is performed using a high-precision measurement microscope apparatus (model name: HyperMF-U, manufactured by Mitutoyo Corporation) and the central axis of the servo track formed on the optical recording medium The amount of eccentricity of the central axis of the inner hole was measured. As a result, the amount of eccentricity was about 9 μm, which could be suppressed to 10 μm or less with respect to the amount of eccentricity of about 100 μm generated by the conventional manufacturing method, and an optical recording medium with very little eccentricity was obtained.
Furthermore, in the conventional method for producing an optical recording medium by laminating perforated substrates, an optical recording composition such as a photopolymer protrudes from the inner wall surface of the inner hole, thereby impairing the uniformity of the inner wall surface of the inner hole. However, the method for producing an optical recording medium of the present invention has no such problem at all, and the productivity and the quality of the optical recording medium are greatly improved.

−光記録媒体の記録及び評価−
得られた光記録媒体を、パルステック工業株式会社製、コリニアホログラム記録再生試験機SHOT−1000を用いて、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさが直径200μmで一連の多重ホログラムを書き込み、感度(記録エネルギー)、多重数について測定、評価を行った。
-Recording and evaluation of optical recording media-
Using the collinear hologram recording / reproduction tester SHOT-1000, manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., the obtained optical recording medium is used to write a series of multiple holograms with a recording spot size of 200 μm in diameter at the focal position of the recording hologram. The sensitivity (recording energy) and multiplex number were measured and evaluated.

−感度の測定−
記録時の照射光パワー(mJ/cm)を変化させ、再生信号のエラー確率(BER:Bit Error Rate)の変化を測定した。通常、記録光パワーの増加に伴い再生信号の輝度が増加することにともない、再生信号のBERが徐々に低下する傾向にある。ここでは、ほぼ良好な再生像(BER<10−3)が得られる最低の記録光パワーを記録材料の記録感度とした。その結果、記録感度記録光パワー150mJ/cmにてBER<10−3が得られた。(記録感度 75mJ/cm
-Measurement of sensitivity-
The irradiation light power (mJ / cm 2 ) at the time of recording was changed, and the change in the error probability (BER: Bit Error Rate) of the reproduction signal was measured. Normally, the BER of a reproduction signal tends to gradually decrease as the reproduction signal luminance increases with an increase in recording light power. Here, the recording power of the recording material is defined as the lowest recording light power at which a substantially good reproduced image (BER <10 −3 ) can be obtained. As a result, BER <10 −3 was obtained at a recording sensitivity recording light power of 150 mJ / cm 2 . (Recording sensitivity 75 mJ / cm 2 )

−多重数の評価−
光記録媒体の多重評価手法として、ISOM’04、Th−J−06、pp.184−185、Oct.2004に記載されている記録スポットをスパイラル状にシフトさせて評価する手法により行った。ここで、記録ホログラム数13×13=169ホログラム、記録ピッチは28.5μmとした。最終169個目のホログラム記録時の多重度は49多重となる。記録ホログラム数の増加に従い多重度が増加するため、記録材料の多重特性が不十分であると記録数の増加に従いBERが増加する。ここではBER>10−3となる記録ホログラム数を材料の多重特性Mとした。この手法により多重特性Mとして169多重相当の特性が得られることを確認した。
-Evaluation of multiple numbers-
As a multiple evaluation method for optical recording media, ISOM'04, Th-J-06, pp. 184-185, Oct. The recording spot described in 2004 was shifted by a spiral and evaluated. Here, the number of recorded holograms was 13 × 13 = 169 holograms, and the recording pitch was 28.5 μm. The multiplicity when recording the last 169th hologram is 49. Since the multiplicity increases as the number of recording holograms increases, if the recording material has insufficient multiplexing characteristics, the BER increases as the number of recordings increases. Here, the number of recording holograms that gives BER> 10 −3 is defined as the multi-characteristic M of the material. It was confirmed that a characteristic equivalent to 169 multiplexing was obtained as the multiplexing characteristic M by this method.

−生産性の評価−
前記生産性は、生産現場における人、物、設備の有効活用を図ることができ、より少ない設備投資で仕掛りの少なく(生産リードタイムが短い)、作業効率100%を目指した生産ラインに効果的であるか否か、歩留まりの程度、品質の均一性などを総合評価し、下記の基準により段階評価した結果、本発明の生産性は従来の製造方法に対して、効果的であることがわかった。
-Productivity evaluation-
The above-mentioned productivity enables effective use of people, goods and equipment at the production site, and is effective for production lines aiming at 100% work efficiency with less equipment investment and less work in progress (short production lead time). The results of a comprehensive evaluation of whether or not it is appropriate, the degree of yield, the uniformity of quality, etc., and the stage evaluation based on the following criteria, the productivity of the present invention may be effective over conventional manufacturing methods all right.

本発明の光記録媒体の製造方法により、光記録媒体の積層体の組立て時に内孔の中心位置を一致させる工程や、内孔の内壁面への光記録組成物のはみ出しがなくなり、該内孔を積層体の形成後に加工がなされるので、光記録媒体の組立て時の内孔の中心ずれの発生が低減され、再生の際に芯ぶれがなく良好なトラッキングサーボをすることができる光記録媒体が得られる。2次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型ホログラムなどの製造方法に幅広く用いられる。   According to the method for producing an optical recording medium of the present invention, the step of matching the center position of the inner hole at the time of assembling the laminate of the optical recording medium, and the optical recording composition does not protrude from the inner wall surface of the inner hole. Is processed after the laminated body is formed, so that the occurrence of center misalignment of the inner hole at the time of assembling the optical recording medium is reduced, and there is no center shift during reproduction, and good tracking servo can be performed. Is obtained. It is widely used in manufacturing methods for relatively thin planar holograms for recording information such as two dimensions, volume holograms for recording large amounts of information such as stereoscopic images, and reflection holograms.

図1は、本発明の光記録媒体の積層体の外周における任意のポイント測定を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing an arbitrary point measurement on the outer periphery of the laminate of the optical recording medium of the present invention. 図2は、本発明の光記録媒体の積層体の外周のポイントから中心を求める一例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an example in which the center is obtained from the points on the outer periphery of the laminate of the optical recording medium of the present invention. 図3は、本発明の光記録媒体のレーザーカット方法による穴あけ加工を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing drilling by the laser cutting method of the optical recording medium of the present invention. 図4は、本発明の光記録媒体の積層体に対する穴あけドリルによる内穴の加工を示す概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram showing the processing of the inner hole by the drilling drill for the laminated body of the optical recording medium of the present invention. 図5は、本発明の光記録媒体の積層体に対する段付穴あけドリルによる内穴の加工を示す概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram showing processing of an inner hole by a stepped drilling drill for the optical recording medium laminate of the present invention. 図6は、本発明の光記録媒体のトラックの芯ぶれを測定する方法の一例を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of a method for measuring the track runout of the optical recording medium of the present invention. 図7は、本発明の光記録媒体の一例の部分断面図である。FIG. 7 is a partial cross-sectional view of an example of the optical recording medium of the present invention. 図8は、本発明の光記録媒体の積層体の分解斜視図である。FIG. 8 is an exploded perspective view of the laminated body of the optical recording medium of the present invention. 図9は、本発明の光記録媒体のサーボトラックを有する基板の中心マークの一例示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing an example of a center mark of a substrate having servo tracks of the optical recording medium of the present invention. 図10は、従来の光記録媒体の積層体の分解斜視図である。FIG. 10 is an exploded perspective view of a conventional laminated body of optical recording media. 図11は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。FIG. 11 is a schematic sectional view showing the structure of a conventional optical recording medium. 図12は、本発明による具体例1に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical recording medium according to Example 1 according to the present invention. 図13は、本発明による具体例2に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical recording medium according to Example 2 according to the present invention. 図14は、コレステリック液晶層を3層積層したフィルタの正面(0°)からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。FIG. 14 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from the front (0 °) of a filter in which three cholesteric liquid crystal layers are laminated. 図15は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram showing an example of an optical system around the optical recording medium according to the present invention. 図16は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。FIG. 16 is a block diagram showing an example of the overall configuration of the optical recording / reproducing apparatus of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 第二の基板
1a 内孔
2 反射膜
3 サーボピットパターン
4 記録層
5 第一の基板
5a 内孔
6 フィルタ層
6a、6b、6c コレステリック液晶層
7 第二ギャップ層
8 第一ギャップ層
12 対物レンズ
13 ダイクロイックミラー
14 検出器
15 1/4波長板
16 偏光板
17 ハーフミラー
19 積層体
19a 加工屑
20、21、22 光記録媒体
25 内穴
26 中心小穴
27 外周スペーサ
31 ピックアップ
32 加工中心
32a、32b、32c 外周ポイント
35 穴あけドリル
36 段付き穴あけドリル
38 中心マーク
39 サーボトラック
42 内孔の中心軸
43 内孔
44 サーボ用光
45 サーボトラックの中心軸
46 回転スピンドル
47 サーボトラック
81 スピンドル
82 スピンドルモータ
83 スピンドルサーボ回路
84 駆動装置
85 検出回路
86 フォーカスサーボ回路
87 トラッキングサーボ回路
88 スライドサーボ回路
89 信号処理回路
90 コントローラ
91 操作部
100 光記録再生装置
A 入出射面
FE フォーカスエラー信号
TE トラッキングエラー信号
RF 再生信号

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 2nd board | substrate 1a Inner hole 2 Reflective film 3 Servo pit pattern 4 Recording layer 5 1st board | substrate 5a Inner hole 6 Filter layer 6a, 6b, 6c Cholesteric liquid crystal layer 7 Second gap layer 8 First gap layer 12 Objective lens DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Dichroic mirror 14 Detector 15 1/4 wavelength plate 16 Polarizing plate 17 Half mirror 19 Laminated body 19a Processing waste 20, 21, 22 Optical recording medium 25 Inner hole 26 Center small hole 27 Outer periphery spacer 31 Pickup 32 Processing center 32a, 32b, 32c Peripheral point 35 Drilling hole 36 Stepped drilling hole 38 Center mark 39 Servo track 42 Inner hole center axis 43 Inner hole 44 Servo light 45 Servo track center axis 46 Rotating spindle 47 Servo track 81 Spindle 82 Spindle motor 83 Spindle Bo circuit 84 drive device 85 detection circuit 86 a focus servo circuit 87 a tracking servo circuit 88 Slide servo circuit 89 signal processing circuit 90 Controller 91 Operation unit 100 optical recording and reproducing apparatus A entry and exit surface FE Focus error signal TE Tracking error signal RF reproduced signal

Claims (6)

第一の基板と、第二の基板との間にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層とを積層して円盤状の積層体を形成する積層体形成工程と、
該積層体に貫通孔を形成する際に、該積層体に設けられたサーボトラックの回転方向の中心軸と、該貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する貫通孔形成工程と
を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
A laminate forming step of forming a disk-like laminate by laminating a recording layer for recording information using holography between the first substrate and the second substrate, and a filter layer;
A through hole forming step of forming a through hole so that a central axis in a rotation direction of a servo track provided in the laminated body coincides with a central axis of the through hole when the through hole is formed in the laminated body. A method for producing an optical recording medium.
第一の基板及び第二の基板の少なくともいずれかの表面に形成され、かつ積層体に設けられたサーボトラックの回転方向の中心軸の位置を表す中心マークと、貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する請求項1に記載の光記録媒体の製造方法。   The center mark that is formed on the surface of at least one of the first substrate and the second substrate and that indicates the position of the central axis in the rotation direction of the servo track provided in the laminate coincides with the central axis of the through hole. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein the through-hole is formed as described above. 積層体に設けられた最外周のサーボトラックの少なくとも3箇所の点を測定し、該測定点に基づいて、前記サーボトラックの回転方向の中心軸を求め、該中心軸と貫通孔の中心軸とが一致するように貫通孔を形成する請求項1に記載の光記録媒体の製造方法。   Measure at least three points on the outermost servo track provided in the laminate, determine a central axis in the rotation direction of the servo track based on the measurement points, and determine the central axis and the central axis of the through hole The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein the through holes are formed so that the two coincide with each other. 請求項1から3のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする光記録媒体。   An optical recording medium manufactured by the method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1. 第一の基板と、第二の基板とを有し、該第一の基板と該第二の基板との間に、記録層と、フィルタ層とを有する請求項4に記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 4, further comprising: a first substrate; a second substrate; and a recording layer and a filter layer between the first substrate and the second substrate. 請求項4から5のいずれかに記載の光記録媒体に対する、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる光記録媒体。
6. An optical recording in which irradiation of information light and reference light onto the optical recording medium according to claim 4 is performed such that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. An optical recording medium used in the method.
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