JP2007115406A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路に係り、特にその製造に際してウェハ状態でのテストを容易化するために使用されるテスト容易化回路に関するもので、例えばビット線やビット線電位センスアンプの不良検知を要求される不揮発性メモリに使用されるものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a test facilitating circuit used for facilitating a test in a wafer state at the time of manufacturing, for example, detecting a defect in a bit line or a bit line potential sense amplifier. Used for non-volatile memory.
半導体記憶装置の一つとして、電気的書替えを可能としたEEPROMが知られている。なかでも、メモリセルを複数個直列接続してNANDセルを構成するNANDセル型EEPROMは、高集積化ができるものとして注目されている。また、同一のワード線や選択ゲート線を共有するNANDセル群を1個のセルブロックとして扱い、通常、読出し・書き込み等の動作は、複数のブロックのうち1個を選択し、この選択ブロックに対して行われる。また、NANDセル型EEPROMは、所定のブロックを単位として一括消去することが可能なフラッシュメモリ(NAND Flash)として構成される場合が多い。 As one of semiconductor memory devices, an EEPROM that can be electrically rewritten is known. In particular, a NAND cell type EEPROM in which a plurality of memory cells are connected in series to form a NAND cell is attracting attention as being capable of high integration. In addition, NAND cell groups that share the same word line and selection gate line are handled as one cell block. Usually, operations such as reading and writing are performed by selecting one of a plurality of blocks and selecting this block. Against. Further, the NAND cell type EEPROM is often configured as a flash memory (NAND Flash) that can be erased in batches in units of a predetermined block.
NAND型フラッシュメモリのウェハテストに際して、メモリテスタを使用したテスト項目の1つに、ビット線不良の有無を検知するビット線不良チェックがある。このテスト項目は、検知した不良ビット線をカラムリダンダンシと呼ばれる回路に置き換えるためテストでは省くことができない。 In a NAND flash memory wafer test, one of the test items using a memory tester is a bit line defect check for detecting the presence or absence of a bit line defect. This test item cannot be omitted in the test because the detected defective bit line is replaced with a circuit called column redundancy.
ビット線不良チェックの項目としては、オープンチェック(Open CHECK)、ショートチェック(Short CHECK) 、隣接センスアンプ(S/A) 間ショートチェックなどがある。 Bit line defect check items include open check (Open CHECK), short check (Short CHECK), and short check between adjacent sense amplifiers (S / A).
例えばオープンチェックを行う時、ビット線のオープン不良がなければ、センスラッチ回路は全て"L" データが保持されており、オープン不良があれば不良ビット線に対応するセンスラッチ回路には"H" データが保持される。 For example, when performing an open check, if there is no open failure of the bit line, all sense latch circuits hold "L" data, and if there is an open failure, the sense latch circuit corresponding to the defective bit line is set to "H". Data is retained.
不良ビット線を検知した場合にカラムリダンダンシに置き換える場合には、カラム毎のチェックが必要となる。この際、メモリセルアレイの全カラム(例えば2048カラム)に対して順にチェックを行わなければならない。 If a defective bit line is detected and replaced with column redundancy, a check for each column is required. At this time, all the columns (for example, 2048 columns) of the memory cell array must be checked in order.
従来、ビット線不良チェックに際しては、センスラッチ回路のデータをメモリテスタに読み出して判定する方法が採用されている。これに伴い、メモリテスタ側では、ウェハ上の複数チップに対して並列処理ができなくなってしまい、テスト時間の増加をまねいてしまう。さらに、ビット線またはセンスアンプの不良チェックに関して前述したように少なくとも3項目のチェックを行わなければならないので、テスト時間に大きな影響を及ぼしてしまう。 Conventionally, when checking a bit line defect, a method of reading data from a sense latch circuit to a memory tester and making a determination is employed. Along with this, on the memory tester side, parallel processing cannot be performed for a plurality of chips on the wafer, leading to an increase in test time. Furthermore, since at least three items must be checked as described above regarding the bit line or sense amplifier defect check, the test time is greatly affected.
上記したように従来のNAND型フラッシュメモリのウェハテストにおけるビット線不良チェックに際しては、センスラッチ回路のデータをメモリテスタに読み出して判定する方法が採用されており、メモリテスタ側ではウェハ上の複数チップに対して並列処理ができなくなってしまい、テスト時間の増加をまねいてしまうという問題があった。 As described above, when checking the bit line defect in the wafer test of the conventional NAND flash memory, the method of reading the data of the sense latch circuit to the memory tester and determining it is adopted, and the memory tester side uses a plurality of chips on the wafer. However, there is a problem that the parallel processing cannot be performed and the test time is increased.
本発明は上記の問題点を解決すべくなされたもので、半導体メモリのウェハテストに際してビット線またはセンスアンプの不良チェックを行う場合に、メモリセルからの読み出しデータを外部のメモリテスタに読み出すことなく不良を検知することができ、しかも、複数チップに対して並列に処理を行うことができ、テスト時間を大幅に縮めることが可能な半導体集積回路を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and when performing a defect check of a bit line or a sense amplifier during a wafer test of a semiconductor memory, data read from the memory cell is not read to an external memory tester. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit that can detect a defect, can perform processing on a plurality of chips in parallel, and can significantly reduce a test time.
本発明の半導体集積回路は、複数のカラムを有するメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの不良カラムに対応したアドレスを記憶させるためのリダンダンシアドレスレジスタと、前記メモリセルアレイ内のデータを読み出す読み出し回路と、前記読み出し回路により読み出されたデータをラッチするデータ保持回路と、1アドレス分の外部から入力された期待値データを保持する期待値レジスタと、前記データ保持回路の出力と前記期待値レジスタの出力を比較し、一致・不一致の結果を出力する比較回路と、前記比較回路における比較結果が一致していればアドレスをインクリメントして前記比較回路で次の1アドレス分のラッチデータと期待値データとの比較を行わせ、一致しなければそのカラムを不良と判定し、不良と判定されたカラムのアドレスをリダンダンシアドレスレジスタにセットする手段と、前記リダンダンシアドレスレジスタにセットされたアドレスの不良カラムをリダンダンシ回路に置き換える手段とを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit of the present invention includes a memory cell array having a plurality of columns, a redundancy address register for storing an address corresponding to a defective column of the memory cell array, a read circuit for reading data in the memory cell array, A data holding circuit for latching data read by the reading circuit, an expected value register for holding expected value data inputted from the outside for one address, an output of the data holding circuit, and an output of the expected value register Comparing and outputting a match / mismatch result, and if the comparison results in the comparison circuit match, the address is incremented and the comparison circuit compares the latch data and expected value data for the next one address. Make a comparison, and if they do not match, the column is determined to be defective and is determined to be defective. It means for setting the address of the column redundancy address register, and wherein the means for replacing a defective column address the set in redundancy address register to the redundancy circuit.
本発明の半導体集積回路によれば、ウェハテストにおいてビット線またはセンスアンプの不良チェックを行う場合に、データを外部(メモリテスタ)に読み出すことなく不良を検知することができるので、テスト時間を短縮でき、複数チップの並列処理によりテスト時間を大幅に縮めることができる。 According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, when performing a defect check of a bit line or a sense amplifier in a wafer test, it is possible to detect a defect without reading data to the outside (memory tester), thereby shortening the test time. The test time can be greatly shortened by parallel processing of a plurality of chips.
また、テストに応じて外部から期待値データを自由に入力することができるので、テストの自由度が非常に高くなるという利点も得られる。 Further, since expected value data can be freely input from the outside according to the test, there is an advantage that the degree of freedom of the test becomes very high.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態に係るNAND型フラッシュメモリの全体の概略的な構成を示すブロック図である。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a block diagram showing an overall schematic configuration of a NAND flash memory according to the first embodiment of the present invention.
メモリセルアレイ10に対して、データ読出し・データ書込み・再書き込み・書き込みベリファイ読出しおよび消去ベリファイ読出しを行うためにビット線制御回路11が設けられている。
A bit
ビット線制御回路11は、主にCMOSフリップフロップから成り、ビット線の電位をセンス増幅するためのセンスアンプと、書き込みためのデータをラッチするためのデータラッチ回路の役割を持つラッチ回路を含む。そして、書き込み後のベリファイ読出しのためのセンス動作、再書き込みデータのラッチ、データ入出力制御回路12との間で書き込みデータ・読出しデータなどのデータの転送を行う。
The bit
データ入出力制御回路12は、外部からの入力もしくは内部からの出力(書き込みデータ・読出しデータなど)の入出力を制御するものであり、データ入出力バッファ(I /O バッファ)16および前記ビット線制御回路11に接続されている。
The data input /
上記データ入出力制御回路12は、アドレス入力を受けるアドレスバッファ(アドレスラッチ)14からアドレス信号を受けるカラムデコーダ13の出力により接続が制御される。
The connection of the data input /
また、メモリセルアレイ10に対して制御ゲートおよび選択ゲートを制御するためにロウデコーダ15が設けられ、メモリセルアレイ10が形成されるp 型ウェル(または、p 型基板)の電位を制御するためのウェル電位制御回路17が設けられている。また、セルアレイ内ソース線電圧Cell-Source を制御するためにソース線制御回路18が設けられている。
A
また、選択ブロック内のワード線(制御ゲート線)の電位を制御するためのワード線制御回路19と、ロウデコーダ電源の電位を制御するためのロウデコーダ電源制御回路30が設けられている。
A word
また、書き込み用高電圧・中間電圧や消去用高電圧、読出し用高電圧などを発生し、消去動作中の前記p 型ウェル(または、p 型基板)や、書き込み動作中のワード線・ビット線・ロウデコーダ電源などに供給する高電圧・中間電圧発生回路31が設けられている。
Also, the high voltage for programming, intermediate voltage, high voltage for erasing, high voltage for reading, etc. are generated, and the p-type well (or p-type substrate) during the erasing operation or the word line / bit line during the writing operation A high voltage / intermediate
さらに、外部からのコマンド入力をラッチするコマンドラッチ32と、このコマンドラッチ32でラッチされたコマンドにしたがってメモリの読み出し、書き込み、消去などの動作を制御するための制御信号を出力する制御回路(コマンドデコーダ)33が設けられている。
Further, a
図2は、図1中のメモリセルアレイ10の一つのNANDセルの等価回路図を示している。
FIG. 2 shows an equivalent circuit diagram of one NAND cell of the
NANDセル20は、複数のメモリセル(本例では、8個のメモリセルM1〜M8)が隣接するもの同士でソース・ドレインを共用する形で直列接続され、さらに、ドレイン側、ソース側にはそれぞれ選択ゲートトランジスタS1,S2 が設けられている。各メモリセルM1〜M8は、半導体基板上にゲート絶縁膜を介して浮遊ゲートが形成され、この上に層間絶縁膜を介して制御ゲートが積層されたMOSFET構造を有し、選択ゲートトランジスタS1,S2 もMOSFET構造を有する。このように素子が形成された基板上にCVD 酸化膜を介してビット線が配設されており、このビット線は前記選択ゲートトランジスタS1の一端にコンタクトしている。
The
図1中のメモリセルアレイ10には、上記したようなNANDセル20がマトリックス配列されている。この場合、NANDセルのドレイン側の選択ゲートトランジスタS1はビット線に共通接続され、ソース側の選択ゲートトランジスタS2は共通ソース線(ソース線電圧Cell-Source )に接続されている。
In the
メモリセルM1〜M8の制御ゲートは制御ゲート線(ワード線)CG1, CG2, ..., CG8としてメモリセルアレイの行方向に配設され、選択ゲートトランジスタS1,S2のゲート電極は選択ゲート線SG1, SG2としてメモリセルアレイの行方向に配設される。 The control gates of the memory cells M1 to M8 are arranged in the row direction of the memory cell array as control gate lines (word lines) CG1, CG2,... CG8, and the gate electrodes of the selection gate transistors S1, S2 are the selection gate line SG1. , SG2 are arranged in the row direction of the memory cell array.
図3は、図1中のメモリセルアレイの等価回路の一部を示している。 FIG. 3 shows a part of an equivalent circuit of the memory cell array in FIG.
同一のワード線や選択ゲート線を共有するNANDセル群をセルブロックと呼び、例えば図4中の破線で囲まれた領域を1個のセルブロックとする。通常、読出し・書き込み等の動作は、複数のブロックのうち1個を選択し、この選択ブロックに対して行われる。 A NAND cell group sharing the same word line or select gate line is called a cell block. For example, a region surrounded by a broken line in FIG. 4 is defined as one cell block. Normally, operations such as reading and writing are performed on this selected block by selecting one of the plurality of blocks.
図4は、図1のNAND型フラッシュメモリにおける既存の回路の一部と新規に追加されたテスト容易化回路との接続関係を概略的に示すブロック図である。 FIG. 4 is a block diagram schematically showing a connection relationship between a part of the existing circuit and the newly added test facilitating circuit in the NAND flash memory of FIG.
図4において、センスアンプ群40、アドレスラッチ回路14、リダンダンシアドレスレジスタ45は既存のものであり、外部からテストに応じて入力される期待値データを保持する期待値レジスタ42およびデータ比較回路43は、新規に追加されたものである。
In FIG. 4, the sense amplifier group 40, the
センスアンプ群40は、各カラムに対応してそれぞれ例えば8ビット分のセンスアンプ兼ラッチ回路41a 、41b 、…、41n を有しており、外部から入力されるアドレス毎にデータ(読み出しデータあるいは書き込みデータ)を保持することが可能である。 The sense amplifier group 40 includes, for example, 8-bit sense amplifier / latch circuits 41a, 41b,..., 41n corresponding to each column, and data (read data or write data) is input for each externally input address. Data) can be retained.
ここで、センスアンプ群40は、全てのブロック(消去単位)で共通に使用されており、例えば2048カラムに対してビット線不良チェックを行う場合を想定した構成を示している。ビット線不良チェックの項目としては、オープンチェック(Open CHECK)、ショートチェック(Short CHECK) 、隣接センスアンプ(S/A) 間ショートチェックなどがある。 Here, the sense amplifier group 40 is commonly used in all the blocks (erase units), and shows a configuration assuming a case where a bit line failure check is performed on, for example, 2048 columns. Bit line defect check items include open check (Open CHECK), short check (Short CHECK), and short check between adjacent sense amplifiers (S / A).
期待値レジスタ42は、1カラム分の8個のレジスタREG からなる。本例のNAND型フラッシュメモリにおいて、センスアンプ群40、期待値レジスタ42は、それぞれ同時に複数ビットを取り扱うことが可能である。
The expected
図5は、図1中のNAND型フラッシュメモリ中の1個のセルブロックにおける一部のNANDセル20とセンスアンプ21との接続関係を模式的に示した。
FIG. 5 schematically shows the connection relationship between some
27は奇数列および偶数列の隣り合う2本のビット線であり、それぞれNANDセル20が接続されており、この2つのNANDセル20で共有するように書き込みデータもしくは読み出されたデータを保持するセンスアンプ兼ラッチ回路21が接続されている。
nMOSトランジスタ22は、センスアンプ21の入力ノードと所定の電源ノードVDDとの間に接続され、所定のタイミングでスイッチ制御されることによりビット線27をプリチャージするものである。
The
nMOSトランジスタ23、25は、所定のタイミングでスイッチ制御されることにより前記奇数列のビット線27をセンスアンプ21に選択的に接続するものである。
The
nMOSトランジスタ24、26は、偶数列のビット線27をセンスアンプ21に選択的に接続するように制御される。
The
上記したような接続関係を有するセンスアンプ21とNANDセル20が数多く形成されており、本例のNAND型フラッシュメモリでは、センスアンプ21とNANDセル20の例えば8組を一つとして読み出し、書き込みデータロードの単位とする、つまり、1カラムが8ビットの構成を有する。
A large number of
図6は、図5中のビット線27とnMOSトランジスタ(22,23,24,25,26)群とセンスアンプ(S/A)21 を取り出して、例えばビット線27のオープンチェックを行う時の様子を模式的に示している。
FIG. 6 shows a case where the
nMOSトランジスタ22およびオープンチェックを行いたいビット線側のnMOSトランジスタ23もしくは24をオンさせ、ビット線27を充電させる。その後、充電パスをオフさせ、nMOSトランジスタ25もしくは26をオンさせ、ビット線の電荷を放電させる。その後、S/A21 のラッチ回路にビット線の電位の状態を取り込む。
The
この時、ビット線27のオープン不良がなければ、S/A21 のラッチ回路は全て"L" データが保持されており、オープン不良があるビット線に対応するS/A21 のラッチ回路には"H" データが保持される。
At this time, if there is no open failure of the
この時、図4中の期待値レジスタ42の全てのレジスタREG に"L" のデータを予め保持させておけば、比較回路43での比較によりオープンチェックの結果が出力される。
At this time, if “L” data is held in advance in all the registers REG of the expected value register 42 in FIG. 4, the result of the open check is output by the comparison in the
図7は、図6を参照して前述したようなビット線のオープンチェックを行う時のテストフローを示している。不良ビット線を検知した場合にカラムリダンダンシに置き換える場合には、カラム毎のオープンチェックが必要となる。 FIG. 7 shows a test flow when performing the open check of the bit line as described above with reference to FIG. If a defective bit line is detected and replaced with column redundancy, an open check for each column is required.
まず、テスト結果の期待値を期待値レジスタ42に入力し、オープンチェックリードを行う。ここで、オープンチェックリードは、ビット線を充電した後、放電した結果をセンスアンプのラッチ回路に取り込むことを表わす。
First, the expected value of the test result is input to the expected
オープンチェックは全カラムに関して行わなければならないので、まず、カラムアドレスをテスト開始番地(通常、0 番地)にセットする。 Since the open check must be performed for all columns, first set the column address to the test start address (usually address 0).
その後、1カラム毎にセンスアンプのラッチ回路のデータを期待値レジスタ42の保持データと比較し、一致していればアドレスをインクリメントして次のカラムに移り、一致しなければ、そのカラムはフェイル(FAIL)と判定され、リダンダンシ回路に置き換えられる。ここでは、不良カラムのアドレスをリダンダンシアドレスレジスタ45へセットする。この時、全てのリダンダンシ回路を不良救済に使っていれば、このメモリチップをFAILと判定して終了する。また、カラムアドレスが最終番地まで進んでいってもリダンダンシ回路で置き換えられなかったカラムがなければ、パス(PASS)となる。
After that, the data in the latch circuit of the sense amplifier is compared with the data held in the expected value register 42 for each column. If they match, the address is incremented to move to the next column. (FAIL) is determined and replaced with a redundancy circuit. Here, the address of the defective column is set in the
上記したように本例のNAND型フラッシュメモリにおいては、ウェハテストにおいてビット線またはセンスアンプの不良チェックを行う場合、読み出されたデータを保持しているセンスアンプのラッチ回路の出力と外部から入力された期待値データを保持している期待値レジスタ42の出力を比較することにより、データを外部(メモリテスタ)に読み出すことなく不良を検知することができる。 As described above, in the NAND flash memory of this example, when checking a bit line or sense amplifier for defects in a wafer test, the output of the latch circuit of the sense amplifier holding the read data and the external input By comparing the output of the expected value register 42 holding the expected value data, a defect can be detected without reading the data to the outside (memory tester).
この場合、全てチップ内部で処理することができるので、従来のようにデータをメモリテスタに読み出す時間を短縮できるだけでなく、複数チップの並列処理によりテスト時間を大幅に縮めることが可能となる。また、期待値レジスタ42は、テストに応じて自由にデータをセットできるので、テストの自由度が広がる。 In this case, since all processing can be performed inside the chip, it is possible not only to shorten the time for reading data to the memory tester as in the prior art, but also to greatly reduce the test time by parallel processing of a plurality of chips. Further, since the expected value register 42 can set data freely according to the test, the degree of freedom of the test is expanded.
<第2の実施形態>
図8は、本発明の第2の実施形態に係るNAND型フラッシュメモリにおける既存の回路の一部と新規に追加されたテスト容易化回路との接続関係を概略的に示すブロック図である。
<Second Embodiment>
FIG. 8 is a block diagram schematically showing a connection relationship between a part of existing circuits and a newly added test facilitating circuit in the NAND flash memory according to the second embodiment of the present invention.
第2の実施形態のNAND型フラッシュメモリは、前述した第1の実施形態のNAND型フラッシュメモリと比べて、制御回路70をさらに具備する点が異なり、その他は同じであるので、図8中、図4中と同一部分には同一符号を示している。
The NAND flash memory according to the second embodiment is different from the NAND flash memory according to the first embodiment described above in that it further includes a
この制御回路70は、期待値レジスタ42と比較回路43との間に接続され、インバータ回路71および相補的なクロック信号A,/Aにより駆動制御される第1のクロックト・インバータ回路72がカスケード接続された正相回路と、この正相回路に並列接続され、相補的なクロック信号A,/Aにより前記第1のクロックト・インバータ回路72とは相補的に駆動制御される第2のクロックト・インバータ回路73からなる反転回路を有する。
The
この制御回路70によれば、必要に応じて正相回路または反転回路を駆動制御することにより、期待値レジスタ42の出力の一部もしくは全てを反転させることが可能になっている。
According to this
図9は、図8のNAND型フラッシュメモリにおけるセンスアンプ(対応するカラムのI/O 番号を示している)の配置の一例を示す図である。 FIG. 9 is a diagram showing an example of the arrangement of sense amplifiers (indicating the I / O numbers of the corresponding columns) in the NAND flash memory of FIG.
前述したように2048カラムのうちの偶数カラムに対応するセンスアンプ群と奇数カラムに対応するセンスアンプ群が図示のように隣接して配置されている場合、隣接センスアンプ間のショートチェックを行うためには、図示のように各センスアンプの"1" または"0" の保持データが隣接センスアンプで異なる市松模様になるように書き込みデータを設定(ロード)する必要がある。 As described above, when the sense amplifier group corresponding to the even-numbered column of the 2048 columns and the sense amplifier group corresponding to the odd-numbered column are arranged adjacent to each other as shown in FIG. As shown in the figure, it is necessary to set (load) the write data so that the held data of “1” or “0” of each sense amplifier has a different checkerboard pattern in the adjacent sense amplifiers.
隣接センスアンプ間のショートチェックを行う際、カラムアドレスが奇数の場合は、相補的なクロック信号A,/Aを"L"/"H" として制御回路70の反転回路を駆動させることにより、期待値レジスタ42の出力を反転させて比較回路43に供給する。
When performing a short check between adjacent sense amplifiers, if the column address is an odd number, the complementary clock signals A and / A are set to "L" / "H" to drive the inversion circuit of the
これに対して、カラムアドレスが偶数の場合は、相補的なクロック信号A,/Aを"H"/"L" として制御回路70の正相回路を駆動させることにより、期待値レジスタ42の出力を正相のまま比較回路43に供給する。
On the other hand, when the column address is an even number, the output of the expected value register 42 is obtained by driving the positive phase circuit of the
したがって、図9に示したようにセンスアンプにロードされた市松模様の保持データと期待値データを比較することにより、隣接センスアンプ間の隣接センスアンプ間のショートチェックを行うことができる。 Therefore, as shown in FIG. 9, the check data between the adjacent sense amplifiers can be checked between the adjacent sense amplifiers by comparing the check data stored in the checkered pattern loaded in the sense amplifier and the expected value data.
<第3の実施形態>
図10は、本発明の第3の実施形態に係るNAND型フラッシュメモリの全体の概略的な構成を示すブロック図である。
<Third Embodiment>
FIG. 10 is a block diagram showing an overall schematic configuration of a NAND flash memory according to the third embodiment of the present invention.
図10のNAND型フラッシュメモリは、前述した第1の実施形態のNAND型フラッシュメモリと比べて、センスアンプからデータを読み出す動作を制御する外部クロック(clock) に応じて期待値レジスタ42に入力する値を変化させる点が異なり、その他は同じであるので、図4中と同一部分には同一符号を示している。 Compared with the NAND flash memory of the first embodiment described above, the NAND flash memory of FIG. 10 inputs the expected value register 42 in accordance with an external clock (clock) that controls the operation of reading data from the sense amplifier. Since the values are different and the others are the same, the same parts as those in FIG.
図11は、図10中の期待値レジスタ42のうちの1個のレジスタ90を取り出して一例を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing an example of one
このレジスタ90は、Dフリップフロップで構成されており、外部クロックに同期して外部入力データを取り込むように動作するものである。
The
NAND型フラッシュメモリに対するウェハテストでのビット線不良チェックのためのテストパターンは、期待値が全て"L" の場合や全て"H" の場合だけでなく、アドレスに応じて特定なテストパターンを入力する必要がある場合も存在する。この場合には、図10に示すように、期待値レジスタ42に入力する値を外部クロックに応じて変化させ、センスアンプ41a,41b,…,41nから順に読み出すデータを外部クロックに同期させるようにすれば、全カラムに対して任意の期待値データと比較することができる。 Test pattern for bit line defect check in wafer test for NAND flash memory is not only when the expected value is all "L" or all "H" but also a specific test pattern is input according to the address There are also cases where it is necessary to do so. In this case, as shown in FIG. 10, the value input to the expected value register 42 is changed according to the external clock, and the data read sequentially from the sense amplifiers 41a, 41b,..., 41n are synchronized with the external clock. Then, it can be compared with arbitrary expected value data for all columns.
これにより、任意のデータを書き込んだ場合でも、同じデータを再度入力することにより比較を行うことができるので、ビット線およびセンスアンプに対する不良チェックの全ての場合に対応することが可能になる。 As a result, even when arbitrary data is written, comparison can be performed by inputting the same data again, so that it is possible to cope with all cases of defect checks on the bit lines and sense amplifiers.
<第3の実施形態の変形例>
前述した第3の実施形態において、期待値レジスタ42を省略し、比較回路43に対する期待値データ入力を外部クロックに応じて変化させ、センスアンプ41a,41b,…,41nから順に読み出すデータを外部クロックに同期させるようにすれば、全カラムに対して任意の期待値データと比較することができる。
<Modification of Third Embodiment>
In the third embodiment described above, the expected value register 42 is omitted, the expected value data input to the
このような変形例によれば、期待値レジスタ42を省略できるので、第3の実施形態に比べて回路構成を簡略化することができる。 According to such a modification, the expected value register 42 can be omitted, so that the circuit configuration can be simplified as compared with the third embodiment.
なお、本発明は、上記したNANDセル型メモリに限らず、NOR セル型メモリ、DINOR セル型メモリ、AND セル型メモリ等を搭載した半導体集積回路に適用することが可能である。 The present invention is not limited to the NAND cell type memory described above, but can be applied to a semiconductor integrated circuit equipped with a NOR cell type memory, a DINOR cell type memory, an AND cell type memory, or the like.
40…センスアンプ群、42…期待値レジスタ、43…データ比較回路、45…リダンダンシアドレスレジスタ。 40 ... sense amplifier group, 42 ... expected value register, 43 ... data comparison circuit, 45 ... redundancy address register.
Claims (6)
前記メモリセルアレイの不良カラムに対応したアドレスを記憶させるためのリダンダンシアドレスレジスタと、
前記メモリセルアレイ内のデータを読み出す読み出し回路と、
前記読み出し回路により読み出されたデータをラッチするデータ保持回路と、
1アドレス分の外部から入力された期待値データを保持する期待値レジスタと、
前記データ保持回路の出力と前記期待値レジスタの出力を比較し、一致・不一致の結果を出力する比較回路と、
前記比較回路における比較結果が一致していればアドレスをインクリメントして前記比較回路で次の1アドレス分のラッチデータと期待値データとの比較を行わせ、一致しなければそのカラムを不良と判定し、不良と判定されたカラムのアドレスをリダンダンシアドレスレジスタにセットする手段と、
前記リダンダンシアドレスレジスタにセットされたアドレスの不良カラムをリダンダンシ回路に置き換える手段
とを特徴とする半導体集積回路。 A memory cell array having a plurality of columns;
A redundancy address register for storing an address corresponding to a defective column of the memory cell array;
A read circuit for reading data in the memory cell array;
A data holding circuit for latching data read by the read circuit;
An expected value register holding expected value data input from the outside for one address;
A comparison circuit that compares the output of the data holding circuit with the output of the expected value register and outputs a match / mismatch result;
If the comparison results in the comparison circuit match, the address is incremented and the comparison circuit compares the latch data for the next one address with the expected value data. If they do not match, the column is determined to be defective. And means for setting the address of the column determined to be defective in the redundancy address register,
Means for replacing a defective column of an address set in the redundancy address register with a redundancy circuit.
前記メモリセルアレイの不良カラムに対応したアドレスを記憶させるためのリダンダンシアドレスレジスタと、
アドレスに応じて前記メモリセルアレイ内のデータを1カラム毎に読み出す読み出し回路と、
前記読み出し回路により読み出された1カラム分のデータをラッチするデータ保持回路と、
外部から入力された1カラム分の期待値データを保持する期待値レジスタと、
前記データ保持回路の出力と前記期待値レジスタの出力を比較し、一致・不一致の結果を出力する比較回路と、
前記比較回路における比較結果が一致していればアドレスをインクリメントして前記メモリセルアレイ内の次の1カラム分のデータを前記読み出し回路に読み出しかつ前記比較回路で次の1カラム分のラッチデータと期待値データとの比較を行わせ、一致しなければそのカラムを不良と判定し、不良と判定されたカラムのアドレスをリダンダンシアドレスレジスタにセットする手段と、
前記リダンダンシアドレスレジスタにセットされたアドレスの不良カラムをリダンダンシ回路に置き換える手段
とを特徴とする半導体集積回路。 A memory cell array having a plurality of columns;
A redundancy address register for storing an address corresponding to a defective column of the memory cell array;
A read circuit for reading out data in the memory cell array for each column according to an address;
A data holding circuit for latching data for one column read by the read circuit;
An expected value register holding expected value data for one column input from the outside;
A comparison circuit that compares the output of the data holding circuit with the output of the expected value register and outputs a match / mismatch result;
If the comparison results in the comparison circuit match, the address is incremented to read the next one column of data in the memory cell array into the read circuit, and the comparison circuit expects the next one column of latch data. Means for performing comparison with the value data, if the data does not match, the column is determined to be defective, and the address of the column determined to be defective is set in the redundancy address register;
Means for replacing a defective column of an address set in the redundancy address register with a redundancy circuit.
前記データ保持回路は、保持しているデータを前記外部クロックに同期して順次出力することが可能である
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 The expected value register can capture expected value data input from outside at any time by an external clock,
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the data holding circuit is capable of sequentially outputting the held data in synchronization with the external clock. 6.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007024389A JP2007115406A (en) | 2007-02-02 | 2007-02-02 | Semiconductor integrated circuit |
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JP2001377406A Division JP3967583B2 (en) | 2001-12-11 | 2001-12-11 | Semiconductor integrated circuit |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007115406A true JP2007115406A (en) | 2007-05-10 |
Family
ID=38097425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007024389A Pending JP2007115406A (en) | 2007-02-02 | 2007-02-02 | Semiconductor integrated circuit |
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---|---|---|---|---|
JP2010225239A (en) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit and method for verifying function of memory |
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