JP2007106971A - Corrosion-resistant polyarylene sulfide composition - Google Patents

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Satoshi Kinouchi
智 木ノ内
Hiroichi Ono
博一 大野
Tsutomu Namatame
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyarylene sulfide composition which controls metal corrosion of a molding machine occurring in molding and processing of extrusion molding, injection molding, etc., controls metal corrosion in a molding combined with a metal material, controls deposits (tar) occurring in a mold, etc., during molding and processing and controls a smell. <P>SOLUTION: The polyarylene sulfide composition is obtained by mixing a polyarylene with at least one kind of a basic metal silicate obtained by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide or calcium hydroxide and magnesium hydroxide with amorphous silicate in water. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐金属腐食性と耐金型汚染性に優れるポリアリーレンスルフィド組成物に関する。さらに詳しくは、押出成形、射出成形等の成形加工時に発生する成形機の金属腐食の抑制、金属材料を組み合わせた成形品中の金属腐食の抑制、並びに成形加工時の金型等に発生する付着物(ヤニ)の抑制及び臭気の抑制に優れるポリアリーレンスルフィド組成物に関する。   The present invention relates to a polyarylene sulfide composition having excellent metal corrosion resistance and mold contamination resistance. More specifically, suppression of metal corrosion of molding machines that occurs during molding processes such as extrusion molding and injection molding, suppression of metal corrosion in molded products that combine metal materials, and attachments that occur in molds during molding processes, etc. The present invention relates to a polyarylene sulfide composition which is excellent in suppressing kimono (cracking) and odor.

ポリアリーレンスルフィドは、機械物性、耐熱性、耐薬品性、難燃性等に優れているため、電気・電子機器部品材料、自動車部品材料等の幅広い分野に利用されている。しかし、該樹脂は成形加工時、亜硫酸ガス等の腐食性ガスを生成するため、成形加工時の成形機のスクリュー、シリンダー、金型等の金属面の腐食、あるいはインサートされる金属部品の腐食、さらに成形加工時に該樹脂の分解物等が金型へ付着する等の問題があり、それらを解決するために、下記の技術が既に開示されている。   Since polyarylene sulfide is excellent in mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, flame retardancy, etc., it is used in a wide range of fields such as electrical / electronic equipment component materials and automobile component materials. However, since the resin generates corrosive gas such as sulfurous acid gas during molding, corrosion of metal surfaces such as screws, cylinders, molds, etc. of molding machines during molding, or corrosion of inserted metal parts, Furthermore, there is a problem that the decomposition product of the resin adheres to the mold during the molding process, and the following techniques have already been disclosed in order to solve them.

(1)ポリアリーレンチオエーテルに周期律表IIA族金属の水酸化物、周期律表IIA族金属の酸化物、周期律表IA族金属の芳香族カルボン酸塩及び周期律表IIA族金属の芳香族カルボン酸塩の少なくとも一種を添加する方法(特許文献1)により、成形機器の腐食を防止する技術。 (1) Periodic Table Group IIA metal hydroxide, Group IIA metal oxide, Periodic Table Group IA metal aromatic carboxylate and Periodic Table Group IIA metal aromatic on polyarylene thioether A technique for preventing corrosion of molding equipment by a method of adding at least one carboxylate (Patent Document 1).

(2)ポリアリーレンスルフィド樹脂に過塩素酸イオン型ハイドロタルサイトを添加する方法(特許文献2)により、熱安定性の改良、金属腐食性ガスの抑制及び金型汚染を防止する技術。 (2) A technique for improving thermal stability, suppressing metal corrosive gas, and preventing mold contamination by a method of adding perchlorate ion-type hydrotalcite to polyarylene sulfide resin (Patent Document 2).

(3)ポリアリーレンスルフィドに、周期律表第IIA族及び第IIB族の元素を含む化合物製品であって、JIS K0557において規定されたA4種の超純水と混合した時に10.0〜12.0のpHを示すものを添加する方法(特許文献3)により、腐食性ガス及びヤニ発生を低減する技術。当該技術には、周期律表第IIA族の金属を含む化合物としてケイ酸マグネシウム(2MgO・6SiO・XHO)の記載があるが、当該技術で使用されるケイ酸マグネシウムはSiO/MgOがモル比で3であり、後述する本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩とは異なる化合物である。 (3) A compound product containing elements of Group IIA and Group IIB of the periodic table in polyarylene sulfide, and mixed with A4 type ultrapure water defined in JIS K0557, 10.0-12. A technique for reducing the generation of corrosive gas and dust by a method of adding a material exhibiting a pH of 0 (Patent Document 3). In this technique, there is a description of magnesium silicate (2MgO.6SiO 2 .XH 2 O) as a compound containing a Group IIA metal of the periodic table, but the magnesium silicate used in this technique is SiO 2 / MgO. Is a compound different from the basic metal silicate used in the present invention to be described later.

(4)ポリアリーレンスルフィド樹脂に、繊維状充填材及び/又は無機充填材と1価、2価、3価の金属ケイ酸塩を添加する方法(特許文献4)により、金属腐食性を低減する技術。当該技術には、金属ケイ酸塩の金属としてCa及びMgの記載があるが、当該技術で使用されるこれらの金属ケイ酸塩は、MIIOとSiOのモル比が15〜85モル%:85〜15モル%であって、かつ、ケイ酸塩水溶液と金属塩水溶液との反応によって得られる金属ケイ酸塩であり、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩とは異なる化合物である。 (4) Metal corrosivity is reduced by a method of adding a fibrous filler and / or an inorganic filler and a monovalent, divalent, or trivalent metal silicate to a polyarylene sulfide resin (Patent Document 4). Technology. The art describes Ca and Mg as the metal of the metal silicate, but these metal silicates used in the art have a molar ratio of M II O to SiO 2 of 15 to 85 mol%. : It is a metal silicate which is 85-15 mol% and is obtained by reaction of silicate aqueous solution and metal salt aqueous solution, and is a compound different from the basic metal silicate used by this invention.

特開昭62−109850号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-109850 特開平4−218531号公報JP-A-4-218531 特開2000−265060号公報JP 2000-265060 A 特開平5−186689号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-186689

ポリアリーレンスルフィドに、上記特許文献1に記載されている周期律表IIA族金属の水酸化物、周期律表IIA族金属の酸化物、周期律表IA族金属の芳香族カルボン酸塩及び周期律表IIA族金属の芳香族カルボン酸塩を添加する技術や上記特許文献2に記載されている過塩素酸イオン型ハイドロタルサイトを添加する技術、上記特許文献3に記載されている周期律表第IIA族及び第IIB族の元素を含む化合物を添加する技術及び上記特許文献4に記載されている繊維状充填材及び/又は無機充填材と1価、2価、3価の金属ケイ酸塩を添加する技術では、成形機の金型等の金属面の腐食抑制あるいは成形品中の金属材料の腐食抑制効果、金型等に発生する付着物の抑制効果及び成形加工時の臭気抑制効果は十分ではなく、これら諸性能に優れるポリアリーレンスルフィド組成物の提供が待たれていた。   The polyarylene sulfide includes a Group IIA metal hydroxide, a Group IIA metal oxide, a Group IA aromatic carboxylate and a periodic table described in Patent Document 1 above. Table IIA Metal Aromatic Carboxylate Technology, Perchlorate Ion-Type Hydrotalcite Technology described in Patent Document 2, and Periodic Table of Patent Document 3 A technique of adding a compound containing an element of Group IIA and Group IIB and a fibrous filler and / or an inorganic filler described in Patent Document 4 and a monovalent, divalent, and trivalent metal silicate The technology to be added is sufficient to suppress the corrosion of metal surfaces such as molds of molding machines or to suppress the corrosion of metal materials in molded products, to suppress deposits generated on molds, etc., and to suppress odors during molding. But not these Providing polyarylene sulfide composition having excellent performance is awaited.

本発明者等は、かかる観点からポリアリーレンスルフィドを成形する際に、成形機の金型等の金属面の腐食抑制あるいは成形品中の金属材料の腐食抑制、成形加工時にポリアリーレンスルフィドの分解物等の金型への付着抑制並びに成形加工時の臭気抑制に優れる組成物について鋭意研究を重ねた結果、ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、特定の製造方法で製造された特定の構造を有する塩基性ケイ酸金属塩を、特定量添加することにより、上記課題を解決できるポリアリーレンスルフィド組成物が得られることを見出し、本発明を完成させた。   From the above viewpoints, the present inventors, when molding polyarylene sulfide, suppresses corrosion of metal surfaces such as molds of molding machines or corrosion of metal materials in molded products, and decomposes polyarylene sulfide during molding processing. As a result of intensive research on a composition excellent in suppressing adhesion to molds and the like and suppressing odor during molding, a base having a specific structure manufactured by a specific manufacturing method with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide The present inventors have found that a polyarylene sulfide composition capable of solving the above-described problems can be obtained by adding a specific amount of a functional metal silicate salt.

即ち、本発明は、下記のポリアリーレンスルフィド組成物を提供する。
[1]ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩、及び
水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩からなる群から選択される少なくとも一種を、0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
[2]前記一般式(1)におけるnが0.02〜0.15の範囲の値である上記[1]に記載のポリアリーレンスルフィド組成物。
[3]前記ポリアリーレンスルフィドが、ポリフェニレンスルフィドである上記[1]又は[2]に記載のポリアリーレンスルフィド組成物。
That is, the present invention provides the following polyarylene sulfide composition.
[1] For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyarylene sulfide composition obtained by adding 0.01 to 10 parts by mass of at least one selected from the group consisting of basic metal silicates represented by the formula:
[2] The polyarylene sulfide composition according to the above [1], wherein n in the general formula (1) is a value in the range of 0.02 to 0.15.
[3] The polyarylene sulfide composition according to the above [1] or [2], wherein the polyarylene sulfide is polyphenylene sulfide.

本発明のポリアリーレンスルフィド組成物は、従来の技術と比較し、成形機の金型等の金属面の腐食抑制、成形品中の金属材料の腐食抑制及びポリアリーレンスルフィドの分解物等の金型への付着抑制並びに成形加工時の臭気抑制に極めて優れている。   Compared with the prior art, the polyarylene sulfide composition of the present invention suppresses corrosion of metal surfaces such as molds of molding machines, inhibits corrosion of metal materials in molded products, and molds such as decomposition products of polyarylene sulfides. It is extremely excellent in suppressing adhesion to odor and suppressing odor during molding.

本発明のポリアリーレンスルフィド組成物は、ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、前記一般式(1)で示される塩基性ケイ酸金属塩、及び前記一般式(2)で示される塩基性ケイ酸金属塩からなる群から選択される少なくとも一種を、0.01〜10質量部添加してなることを特徴とする。以下、本発明で用いるポリアリーレンスルフィド及び前記一般式(1)又は(2)で示される塩基性ケイ酸金属塩について詳細に説明する。   The polyarylene sulfide composition of the present invention comprises a basic metal silicate represented by the general formula (1) and a basic metal silicate represented by the general formula (2) with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide. 0.01 to 10 parts by mass of at least one selected from the group consisting of salts is added. Hereinafter, the polyarylene sulfide used in the present invention and the basic metal silicate represented by the general formula (1) or (2) will be described in detail.

1.ポリアリーレンスルフィド
本発明で用いられるポリアリーレンスルフィドは、繰り返し単位が一般式(3)
−(Ar−S)− (3)
〔式(3)中、Arはアリーレン基、Sは硫黄を示す。〕で示されるポリマーである。繰り返し単位の(Ar−S)を1モル(基本モル)と定義すると、本発明で用いられるポリアリーレンスルフィドは、この繰り返し単位を通常50モル%以上、好ましくは70モル%以上、より好ましくは90モル%以上含有するポリマーである。
1. Polyarylene sulfide The polyarylene sulfide used in the present invention has a repeating unit represented by the general formula (3)
-(Ar-S)-(3)
[In the formula (3), Ar represents an arylene group, and S represents sulfur. ] It is a polymer shown by this. When the repeating unit (Ar-S) is defined as 1 mol (basic mol), the polyarylene sulfide used in the present invention has this repeating unit of usually 50 mol% or more, preferably 70 mol% or more, more preferably 90 mol%. A polymer containing at least mol%.

アリーレン基としては、p−フェニレン、m−フェニレン、o−フェニレン、アルキル置換フェニレン(好ましくは、炭素原子数1〜6のアルキル基)、フェニル置換フェニレン、ハロゲン置換フェニレン、アミノ置換フェニレン、アミド置換フェニレン、p,p’−ジフェニレンスルフォン、p,p’−ビフェニレン、p,p’−ビフェニレンエーテル、p,p’−ビフェニレンカルボニル及びナフタレン等の少なくとも一つのベンゼン環を含む二価の芳香族残基を挙げることができる。これらのアリーレン基からなるポリアリーレンスルフィドとしては、同一の繰り返し単位からなるホモポリマー、2種以上の異なるアリーレン基からなるコポリマー及びこれらの混合物を挙げることができる。   As the arylene group, p-phenylene, m-phenylene, o-phenylene, alkyl-substituted phenylene (preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), phenyl-substituted phenylene, halogen-substituted phenylene, amino-substituted phenylene, amide-substituted phenylene Divalent aromatic residues containing at least one benzene ring such as p, p'-diphenylenesulfone, p, p'-biphenylene, p, p'-biphenylene ether, p, p'-biphenylenecarbonyl and naphthalene Can be mentioned. Examples of the polyarylene sulfide composed of these arylene groups include a homopolymer composed of the same repeating unit, a copolymer composed of two or more different arylene groups, and a mixture thereof.

これらのポリアリーレンスルフィドの中でも、p−フェニレンスルフィドを繰り返し単位の主構成要素とするポリフェニレンスルフィドが、加工性に優れ、しかも工業的に入手が容易であることから特に好ましい。この他に、ポリアリーレンケトンスルフィド、ポリアリーレンケトンケトンスルフィド等を使用することができる。コポリマーの具体例としては、p−フェニレンスルフィドの繰り返し単位とm−フェニレンスルフィドの繰り返し単位を有するランダム又はブロックコポリマー、フェニレンスルフィドの繰り返し単位とアリーレンケトンスルフィドの繰り返し単位を有するランダム又はブロックコポリマー、フェニレンスルフィドの繰り返し単位とアリーレンケトンケトンスルフィドの繰り返し単位を有するランダム又はブロックコポリマー、フェニレンスルフィドの繰り返し単位とアリーレンスルホンスルフィドの繰り返し単位を有するランダム又はブロックコポリマー等を挙げることができる。これらのポリアリーレンスルフィドは、結晶性ポリマーであることが好ましい。   Among these polyarylene sulfides, polyphenylene sulfide having p-phenylene sulfide as the main constituent element of the repeating unit is particularly preferable because of its excellent processability and industrial availability. In addition, polyarylene ketone sulfide, polyarylene ketone ketone sulfide, and the like can be used. Specific examples of the copolymer include a random or block copolymer having a repeating unit of p-phenylene sulfide and a repeating unit of m-phenylene sulfide, a random or block copolymer having a repeating unit of phenylene sulfide and a repeating unit of arylene ketone sulfide, and phenylene sulfide. And a random or block copolymer having a repeating unit of arylene ketone ketone sulfide and a random or block copolymer having a repeating unit of phenylene sulfide and a repeating unit of arylene sulfone sulfide. These polyarylene sulfides are preferably crystalline polymers.

ポリアリーレンスルフィドは、極性溶媒中で、アルカリ金属硫化物とジハロゲン置換芳香族化合物とを重合反応させる公知の方法により得ることができる。アルカリ金属硫化物としては、例えば、硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、硫化ルビジウム、硫化セシウム等を挙げることができる。反応系中で水硫化ナトリウムと水酸化ナトリウムを反応させることにより生成させた硫化ナトリウムも使用することができる。ジハロゲン置換芳香族化合物としては、例えば、p−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、2,5−ジクロロトルエン、p−ジブロモベンゼン、2,6−ジクロロナフタリン、1−メトキシ−2,5−ジクロロベンゼン、4,4’−ジクロロビフェニル、3,5−ジクロロ安息香酸、p,p’−ジクロロジフェニルエーテル、4,4’−ジクロロフェニルスルホン、4,4’−ジクロロジフェニルスルホキシド及び4,4’−ジクロロジフェニルケトン等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。   Polyarylene sulfide can be obtained by a known method in which an alkali metal sulfide and a dihalogen-substituted aromatic compound are subjected to a polymerization reaction in a polar solvent. Examples of the alkali metal sulfide include lithium sulfide, sodium sulfide, potassium sulfide, rubidium sulfide, cesium sulfide and the like. Sodium sulfide produced by reacting sodium hydrosulfide and sodium hydroxide in the reaction system can also be used. Examples of the dihalogen-substituted aromatic compound include p-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, 2,5-dichlorotoluene, p-dibromobenzene, 2,6-dichloronaphthalene, 1-methoxy-2,5-dichlorobenzene, 4,4'-dichlorobiphenyl, 3,5-dichlorobenzoic acid, p, p'-dichlorodiphenyl ether, 4,4'-dichlorophenyl sulfone, 4,4'-dichlorodiphenyl sulfoxide, 4,4'-dichlorodiphenyl ketone, etc. Can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

ポリアリーレンスルフィドに多少の分岐構造又は架橋構造を導入するために、1分子当たり3〜6個のハロゲン置換基を有するポリハロゲン置換芳香族化合物を併用することができる。ポリハロゲン置換芳香族化合物としては、例えば、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,3−トリブロモベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリブロモベンゼン、1,3,5−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリブロモベンゼン、1,3−ジクロロ−5−ブロモベンゼン等のトリハロゲン置換芳香族化合物、及びこれらのアルキル置換体を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、経済性、反応性、物性等の観点から、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリクロロベンゼン及び1,2,3−トリクロロベンゼンが好ましい。   In order to introduce some branched structure or crosslinked structure into the polyarylene sulfide, a polyhalogen-substituted aromatic compound having 3 to 6 halogen substituents per molecule can be used in combination. Examples of the polyhalogen-substituted aromatic compound include 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,3-tribromobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, 1,2,4-tribromobenzene, 1 , 3,5-trichlorobenzene, 1,3,5-tribromobenzene, 1,3-dichloro-5-bromobenzene and the like, and alkyl substituted products thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, 1,2,4-trichlorobenzene, 1,3,5-trichlorobenzene, and 1,2,3-trichlorobenzene are preferable from the viewpoints of economy, reactivity, physical properties, and the like.

極性溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン等のN−アルキルピロリドン、1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノン、テトラアルキル尿素、ヘキサアルキル燐酸トリアミド等に代表される芳香族有機アミド溶媒が、反応系の安定性が高く、高分子量のポリマーが得やすいので好ましい。本発明では、実質的に直鎖状のポリアリーレンスルフィドが好ましく、また重合後に各種洗浄操作や熱処理を施したポリアリーレンスルフィドも使用することができる。   Examples of the polar solvent include aromatic organic amide solvents such as N-alkylpyrrolidone such as N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone, tetraalkylurea, hexaalkylphosphoric triamide and the like. The reaction system is highly stable, and a high molecular weight polymer is easily obtained. In the present invention, substantially linear polyarylene sulfide is preferable, and polyarylene sulfide subjected to various washing operations and heat treatment after polymerization can also be used.

2.塩基性ケイ酸金属塩
本発明で用いられる、下記一般式(1)で示される塩基性ケイ酸金属塩(以下、塩基性ケイ酸金属塩(1)ということがある)は、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される。
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
一般式(1)で示される塩基性ケイ酸金属塩は、塩基性ケイ酸カルシウム又は塩基性ケイ酸マグネシウムである。
2. Basic Silicic Acid Metal Salt The basic silicic acid metal salt represented by the following general formula (1) used in the present invention (hereinafter sometimes referred to as basic silicic acid metal salt (1)) is calcium hydroxide or Manufactured by heating magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water.
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
The basic metal silicate represented by the general formula (1) is basic calcium silicate or basic magnesium silicate.

本発明で用いられる、下記一般式(2)で示される塩基性ケイ酸金属塩(以下、塩基性ケイ酸金属塩(2)ということがある)は、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される。
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
一般式(2)で示される塩基性ケイ酸金属塩は、塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウムである。
The basic silicate metal salt represented by the following general formula (2) used in the present invention (hereinafter sometimes referred to as the basic silicate metal salt (2)) is amorphous with calcium hydroxide and magnesium hydroxide. It is manufactured by heating quality silicic acid in water.
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
The basic metal silicate represented by the general formula (2) is basic calcium magnesium silicate.

これらの一般式(1)及び一般式(2)で示される塩基性ケイ酸金属塩はそれぞれ2種以上を混合して使用することができる。塩基性ケイ酸カルシウムや塩基性ケイ酸マグネシウムの単独使用に比べて、塩基性ケイ酸金属塩がカルシウムとマグネシウムの両方の金属を含む方が好ましい。このような例としては、上記一般式(1)で示される塩基性ケイ酸カルシウムと塩基性ケイ酸マグネシウムの併用、上記一般式(2)で示される塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウムの使用が挙げられ、さらには、上記一般式(2)で示される塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウムと上記一般式(1)で示される塩基性ケイ酸カルシウム又は塩基性ケイ酸マグネシウムとを併用することもできる。   These basic metal silicates represented by the general formula (1) and the general formula (2) can be used in combination of two or more. Compared to the basic use of basic calcium silicate or basic magnesium silicate, it is preferable that the basic metal salt of silicate contains both calcium and magnesium metals. Examples of such include the combined use of basic calcium silicate and basic magnesium silicate represented by the above general formula (1), and the use of basic calcium magnesium silicate represented by the above general formula (2). Furthermore, the basic calcium magnesium silicate represented by the general formula (2) and the basic calcium silicate or basic magnesium silicate represented by the general formula (1) can be used in combination.

一般式(2)で示される塩基性ケイ酸金属塩の場合は、カルシウム/マグネシウムのモル比、即ちs/tは、好ましくは5/95〜95/5の範囲である。一般式(2)で示される塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウムは、水酸化カルシウムと水酸化マグネシウムをカルシウム/マグネシウムのモル比が5/95〜95/5の範囲で、かつ水酸化カルシウムと水酸化マグネシウムの合計1モルに対して非晶質ケイ酸が0.02〜0.30モルの範囲で反応させて得られることが好ましい。   In the case of the basic metal silicate represented by the general formula (2), the molar ratio of calcium / magnesium, that is, s / t is preferably in the range of 5/95 to 95/5. The basic calcium magnesium silicate represented by the general formula (2) has a calcium / magnesium hydroxide molar ratio of 5/95 to 95/5, and calcium hydroxide and magnesium hydroxide. It is preferable that amorphous silicic acid is obtained by reacting in the range of 0.02 to 0.30 mol with respect to 1 mol in total.

一般式(1)及び一般式(2)中、n及びmはそれぞれ、SiO/MO及びSiO/(MO+MO)のモル比を示し、0.02〜0.30の範囲の値である。特に、n及びmが0.02〜0.15の場合には、金型等の金属面の腐食抑制及び金型等に発生する付着物の抑制並びに成形加工時の臭気抑制効果が極めて優れている。n及びmが0.30を超えると、金型等の金属面の腐食抑制及び金型等に発生する付着物の抑制並びに成形加工時の臭気抑制効果が低減し、n及びmが0.02未満の場合には、金型等の金属面の腐食抑制及び金型等に発生する付着物の抑制並びに成形加工時の臭気抑制効果は得られない。 In general formula (1) and general formula (2), n and m show the molar ratios of SiO 2 / MO and SiO 2 / (M 1 O + M 2 O), respectively, and range from 0.02 to 0.30. Value. In particular, when n and m are 0.02 to 0.15, the effect of suppressing corrosion of metal surfaces such as molds, suppressing deposits generated on the molds and the like and suppressing odor during molding processing is extremely excellent. Yes. When n and m exceed 0.30, corrosion of metal surfaces such as molds and the like, and the effects of suppressing deposits generated on the molds and odors during molding are reduced, and n and m are 0.02 In the case of less than the above, it is not possible to obtain the effect of suppressing corrosion of a metal surface such as a mold, suppressing deposits generated on the mold or the like, and suppressing odor during molding.

本発明で使用される塩基性ケイ酸金属塩(1)は、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を、塩基性ケイ酸金属塩(2)は、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を、水中で加熱して得られる。   The basic metal silicate (1) used in the present invention is calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid, and the basic metal silicate (2) is calcium hydroxide and magnesium hydroxide. And obtained by heating amorphous silicic acid in water.

具体的には、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩(1)及び(2)は、水酸化カルシウム若しくは水酸化マグネシウム1モル当たり、又は水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムの合計1モル当り0.02〜0.30モル、好ましくは0.02〜0.15モルの非晶質ケイ酸を水中で混合し、この混合物を50〜100℃、好ましくは80〜98℃の温度で反応させ、得られたスラリーを蒸発乾固する製法により得られる。   Specifically, the basic silicate metal salts (1) and (2) used in the present invention are added in an amount of 0.001 per 1 mol of calcium hydroxide or magnesium hydroxide, or 1 mol of the total of calcium hydroxide and magnesium hydroxide. 02 to 0.30 mol, preferably 0.02 to 0.15 mol of amorphous silicic acid is mixed in water and the mixture is reacted at a temperature of 50 to 100 ° C., preferably 80 to 98 ° C. The resulting slurry is obtained by evaporating to dryness.

上記の製法で得られる塩基性ケイ酸金属塩は、金型等の金属面の腐食抑制及び金型等に発生する付着物の抑制並びに成形加工時の臭気抑制に極めて優れている。   The basic metal silicate obtained by the above-mentioned production method is extremely excellent in suppressing corrosion of metal surfaces such as molds, suppressing deposits generated on the molds, and odors during molding.

原料となる水酸化カルシウムは、工業石灰(JIS R 9001)の特号、1号及び2号の何れのものでも使用できる。これに限定されず、他の用途のもの、例えば左官用消石灰も用いることができる。又、水酸化マグネシウムとしては、天然、合成の水酸化マグネシウムを使用することができる。   As the calcium hydroxide used as a raw material, any of the special Nos. 1, 2 and 2 of industrial lime (JIS R 9001) can be used. It is not limited to this, The thing for other uses, for example, slaked lime for plasterers, can also be used. As the magnesium hydroxide, natural or synthetic magnesium hydroxide can be used.

非晶質ケイ酸としては、ホワイトカーボン、その他の湿式法非晶質シリカ(沈降法シリカやゲル法シリカ)や、スメクタイト族粘度鉱物を酸処理して得られた非晶質シリカを使用することができる。この非晶質シリカは、一般に150〜400m/gのBET比表面積を有し、その2次粒子径が1〜10μmの範囲にあるものがよい。 As amorphous silicic acid, use white carbon, other wet method amorphous silica (precipitation method silica or gel method silica), and amorphous silica obtained by acid treatment of smectite group viscosity mineral. Can do. The amorphous silica generally has a BET specific surface area of 150 to 400 m 2 / g and a secondary particle size in the range of 1 to 10 μm.

本発明で用いられる塩基性ケイ酸金属塩(1)及び(2)には、水又は水和水(水酸基として存在する水)を含んでいてもよい。水和水を含む場合には、一般式(1)中のMO(MはCa若しくはMg)又は一般式(2)中のMO(MはCa)若しくはMO(MはMg)は、部分的に水酸化物として存在する。このように水又は水和水を含む場合でも、本発明で用いられる塩基性ケイ酸金属塩は、実質的に一般式(1)又は一般式(2)の組成を持つ。 The basic metal silicates (1) and (2) used in the present invention may contain water or hydrated water (water existing as a hydroxyl group). When hydration water is included, MO (M is Ca or Mg) in the general formula ( 1 ) or M 1 O (M 1 is Ca) or M 2 O (M 2 is Mg in the general formula (2)) ) Exists partially as hydroxide. Thus, even when water or hydration water is contained, the basic metal silicate used in the present invention has a composition of the general formula (1) or the general formula (2).

各塩基性ケイ酸金属塩の具体的な製法としては、下記のものが挙げられる。
1.塩基性ケイ酸カルシウムを得るには、水酸化カルシウムとホワイトカーボンを用い、水酸化カルシウム1モルに対して非晶質ケイ酸0.02〜0.30の範囲、好ましくは0.02〜0.15の範囲で、反応温度50〜100℃、好ましくは80〜98℃で、水中で反応する。
2.塩基性ケイ酸マグネシウムを得るには、水酸化マグネシウムとホワイトカーボンを用い、水酸化マグネシウム1モルに対して非晶質ケイ酸0.02〜0.30の範囲、好ましくは0.02〜0.15の範囲で、反応温度50〜100℃、好ましくは80〜98℃で、水中で反応する。
3.塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウムを得るには、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムとホワイトカーボンを用い、水酸化カルシウムと水酸化マグネシウム合計で1モルに対して非晶質ケイ酸0.02〜0.30、好ましくは0.02〜0.15で、反応温度50〜100℃、好ましくは80〜98℃で、水中で反応する。
The following are mentioned as a specific manufacturing method of each basic silicate metal salt.
1. In order to obtain basic calcium silicate, calcium hydroxide and white carbon are used, and amorphous silicic acid is in the range of 0.02 to 0.30, preferably 0.02 to 0.000, per mol of calcium hydroxide. In the range of 15, the reaction is carried out in water at a reaction temperature of 50-100 ° C, preferably 80-98 ° C.
2. In order to obtain basic magnesium silicate, magnesium hydroxide and white carbon are used, and amorphous silicic acid is in the range of 0.02 to 0.30, preferably 0.02 to 0.000 per mol of magnesium hydroxide. In the range of 15, the reaction is carried out in water at a reaction temperature of 50-100 ° C, preferably 80-98 ° C.
3. To obtain basic calcium magnesium silicate, calcium hydroxide and magnesium hydroxide and white carbon are used. Amorphous silicic acid 0.02 to 0.30 is added to 1 mol of calcium hydroxide and magnesium hydroxide in total. The reaction is carried out in water at a reaction temperature of 50 to 100 ° C., preferably 80 to 98 ° C., preferably 0.02 to 0.15.

この製法で得られる塩基性ケイ酸金属塩は、成形機の金型等の金属面の腐食抑制、成形品中の金属材料の腐食抑制及びポリアリーレンスルフィドの分解物等の金型への付着抑制並びに成形加工時の臭気抑制に極めて優れている。   The basic metal silicate obtained by this method is used to suppress the corrosion of metal surfaces such as molds of molding machines, the corrosion of metal materials in molded products, and the adhesion of polyarylene sulfide decomposition products to molds. In addition, it is extremely excellent in suppressing odor during molding.

この製法以外の製法、例えば、前記特許文献4に記載されているような水溶性ケイ酸塩と水溶性金属塩等を水の存在下に反応させる方法で得られる金属ケイ酸塩では、一般式(1)中のSiO/MO又は一般式(2)中のSiO/(MO+MO)がモル比で0.30を超える金属ケイ酸塩であっても、本発明で規定するように0.02〜0.30の範囲にある塩基性ケイ酸塩であっても、成形機の金型等の金属面の腐食抑制効果、成形品中の金属材料の腐食抑制効果及びポリアリーレンスルフィドの分解物等の金型への付着抑制効果並びに成形加工時の臭気抑制効果は得られない。 In a manufacturing method other than this manufacturing method, for example, a metal silicate obtained by a method of reacting a water-soluble silicate and a water-soluble metal salt in the presence of water as described in Patent Document 4, the general formula Even if the SiO 2 / MO in (1) or the SiO 2 / (M 1 O + M 2 O) in the general formula (2) is a metal silicate having a molar ratio exceeding 0.30, it is defined in the present invention. Thus, even with a basic silicate in the range of 0.02 to 0.30, the effect of inhibiting corrosion of metal surfaces such as molds of molding machines, the effect of inhibiting corrosion of metal materials in molded products, and polyarylene The effect of suppressing the adhesion of sulfide decomposition products to the mold and the effect of suppressing odor during the molding process cannot be obtained.

また、単に水酸化カルシウム若しくは酸化カルシウムとケイ酸を、又は水酸化マグネシウム若しくは酸化マグネシウムとケイ酸を、前記一般式(1)又は一般式(2)の組成になるように単に混合したものを添加しても、本発明のポリアリーレンスルフィド組成物によって得られるような金属材料の腐食抑制等の効果は全く得られない。さらに、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩以外の金属ケイ酸塩を、水酸化カルシウム若しくは酸化カルシウム、又は水酸化マグネシウム若しくは酸化マグネシウムと前記一般式(1)又は一般式(2)の組成になるように単に混合しても、本発明のポリアリーレンスルフィド組成物で得られるような金属材料の腐食抑制等の効果は全く得られない。   Also, a simple mixture of calcium hydroxide or calcium oxide and silicic acid, or magnesium hydroxide or magnesium oxide and silicic acid so as to have the composition of the above general formula (1) or general formula (2) is added. Even so, the effect of inhibiting the corrosion of the metal material as obtained by the polyarylene sulfide composition of the present invention is not obtained at all. Furthermore, a metal silicate other than the basic metal silicate used in the present invention is converted into calcium hydroxide or calcium oxide, or magnesium hydroxide or magnesium oxide and the composition of the general formula (1) or general formula (2). Even if they are simply mixed, effects such as corrosion inhibition of the metal material as obtained with the polyarylene sulfide composition of the present invention cannot be obtained.

本発明で用いられる塩基性ケイ酸金属塩(1)及び(2)は、高級脂肪酸、高級脂肪酸アンモニウム塩、ステアリン酸やオレイン酸等のアルカリ金属塩のような高級脂肪酸アルカリ金属塩、有機スルホン酸及びドデシルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属塩のような有機スルホン酸アルカリ金属塩等で表面処理されていてもよい。本発明で用いられる表面処理された塩基性ケイ酸金属塩(1)及び(2)は、表面処理をしていない該化合物と比較して該化合物の分散性が向上するので機械的強度の高い成形品が得られる。   The basic silicic acid metal salts (1) and (2) used in the present invention are higher fatty acid, higher fatty acid ammonium salt, higher fatty acid alkali metal salt such as alkali metal salt such as stearic acid and oleic acid, organic sulfonic acid And may be surface-treated with an organic sulfonic acid alkali metal salt such as an alkali metal salt such as dodecylbenzenesulfonic acid. The surface-treated basic metal silicates (1) and (2) used in the present invention have high mechanical strength because the dispersibility of the compound is improved compared to the compound not subjected to surface treatment. A molded product is obtained.

本発明において、ポリアリーレンスルフィドに対する塩基性ケイ酸金属塩(1)又は(2)の添加量は、該樹脂100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲であり、好ましくは0.1〜5質量部である。尚、塩基性ケイ酸金属塩(1)及び(2)を併用する場合には、合計量がポリアリーレンスルフィド100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲であり、好ましくは0.1〜5質量部である。
添加量が0.01質量部未満の場合には、金属腐食の抑制、金型付着の抑制及び成形加工時の臭気抑制が不十分であり、10質量部を超える場合には予期した金属腐食の抑制及び成形加工時の臭気抑制の向上が見られない。
In the present invention, the amount of the basic metal silicate (1) or (2) added to the polyarylene sulfide is in the range of 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.00. 1 to 5 parts by mass. When the basic metal silicates (1) and (2) are used in combination, the total amount is in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide, preferably 0.8. 1 to 5 parts by mass.
When the amount added is less than 0.01 parts by mass, the suppression of metal corrosion, the suppression of mold adhesion, and the suppression of odor at the time of molding processing are insufficient. There is no improvement in suppression and odor suppression during molding.

3.任意添加成分
本発明のポリアリーレンスルフィド組成物には、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに他の樹脂をブレンドして用いてもよい。ブレンド可能な樹脂については特に制限はないが、その具体例としては、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン11、ナイロン12及び芳香族系ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシルジメチレンテレフタレート及びポリナフタレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、環状オレフィンコポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、酸無水物基又はエポキシ基等の官能基を有するオレフィン系コポリマー、ポリオレフィン系エラストマー、ポリエーテルエステルエラストマー、ポリエーテルアミドエラストマー、ポリアミドイミド、ポリアセタール及びポリイミド等が挙げられる。
3. Optional Addition Components In the polyarylene sulfide composition of the present invention, other resins may be blended and used as long as the effects of the present invention are not impaired. The resin that can be blended is not particularly limited, and specific examples thereof include nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 11, nylon 12, and polyamides such as aromatic nylon, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polycyclohexyl. Polyester resins such as dimethylene terephthalate and polynaphthalene terephthalate, polysulfone, polyphenylene oxide, polycarbonate, polyethersulfone, polyetherimide, cyclic olefin copolymer, polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, carboxyl group, carboxylic acid ester group, acid anhydride Olefin-based copolymers, polyolefin-based elastomers, polyether ester elastomers having functional groups such as physical groups or epoxy groups Chromatography, polyetheramide elastomers, polyamide-imide, polyacetal, and polyimide.

本発明のポリアリーレンスルフィド組成物には、より優れた強度、寸法安定性を発現させることを目的として、充填剤を配合して用いることもできる。充填剤の具体例としては、ガラス繊維、炭素繊維、チタン酸カリウィスカ、酸化亜鉛ウィスカ、硼酸アルミウィスカ、アラミド繊維、アルミナ繊維、炭化珪素繊維、セラミック繊維、アスベスト繊維、石コウ繊維、金属繊維等の繊維状充填剤、ガラスフレーク及びマイカ等の板状充填剤、ワラステナイト、ゼオライト、セリサイト、タルク、カオリン、クレー、パイロフィライト、ベントナイト、アスベスト及びアルミナシリケート等の珪酸塩、酸化珪素、酸化マグネシウム、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン及び酸化鉄等の金属化合物、炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等の炭酸塩、硫酸カルシウム及び硫酸バリウム等の硫酸塩、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム及び水酸化アルミニウム等の水酸化物、ガラスビーズ、セラミックビーズ、窒化ホウ素、炭化珪素、グラファイト、カーボンブラック及びシリカ等の非繊維状充填剤が挙げられ、これらは中空であってもよく、さらに、これら充填剤を2種類以上併用することも可能である。又、これら充填剤をイソシアネート系化合物、有機シラン系化合物、有機チタネート系化合物、有機ボラン系化合物及びエポキシ化合物等のカップリング剤で予備処理して使用することは、より優れた機械的強度を得る意味において好ましい。なかでもガラス繊維並びに炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等の炭酸塩が特に好ましい。   In the polyarylene sulfide composition of the present invention, a filler can be blended and used for the purpose of expressing more excellent strength and dimensional stability. Specific examples of the filler include glass fiber, carbon fiber, potassium titanate whisker, zinc oxide whisker, aluminum borate whisker, aramid fiber, alumina fiber, silicon carbide fiber, ceramic fiber, asbestos fiber, stone-kow fiber, metal fiber, etc. Fibrous fillers, plate fillers such as glass flakes and mica, wollastonite, zeolite, sericite, talc, kaolin, clay, pyrophyllite, bentonite, asbestos and alumina silicates such as alumina silicate, silicon oxide, magnesium oxide , Metal compounds such as alumina, zirconium oxide, titanium oxide and iron oxide, carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate, sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate, water such as calcium hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum hydroxide Oxide, glass beads, Non-fibrous fillers such as ceramic beads, boron nitride, silicon carbide, graphite, carbon black and silica may be mentioned. These may be hollow, and two or more of these fillers can be used in combination. is there. In addition, using these fillers by pretreatment with a coupling agent such as an isocyanate compound, an organic silane compound, an organic titanate compound, an organic borane compound, and an epoxy compound can provide better mechanical strength. Preferred in meaning. Of these, glass fibers and carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate are particularly preferable.

充填剤の配合量は、優れた機械的強度、寸法安定性と、溶融流動性のバランスから、ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、5〜300質量部であり、好ましくは10〜200質量部である。   The blending amount of the filler is 5 to 300 parts by mass, preferably 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide, from the balance of excellent mechanical strength, dimensional stability and melt fluidity. is there.

さらに本発明においては、塩基性ケイ酸金属塩(1)及び(2)の他に各種の添加剤、例えば、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤及び着色剤等を併用添加することができる。   Further, in the present invention, in addition to the basic silicate metal salts (1) and (2), various additives such as a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a release agent, a colorant, and the like. Can be added in combination.

本発明の実施に当たっては、以下のような実施態様を挙げることができる。
(1)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
In carrying out the present invention, the following embodiments can be cited.
(1) A basic silicate metal salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide, and having the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
A polyarylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(2)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(2) Basic silicate metal salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, and having the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(3)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(3) A basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide, and having the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
A polyarylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(4)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(4) A basic silicate metal salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, and having the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(5)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(6)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(5) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyarylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:
(6) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(7)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1かつs/tが5/95〜95/5の範囲であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(7) A basic silicate metal salt produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, wherein the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1 and s / t is in the range of 5/95 to 95/5, and m is in the range of 0.02 to 0.30. Is the value of ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(8)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(8) A basic silicate metal salt produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1, and m is a value in the range of 0.02 to 0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(9)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1かつs/tが5/95〜95/5の範囲であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(9) A basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, which is represented by the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1 and s / t is in the range of 5/95 to 95/5, and m is in the range of 0.02 to 0.15. Is the value of ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(10)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(10) A basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide, and having the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyarylene sulfide composition obtained by adding a total of 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(11)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(11) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyphenylene sulfide composition obtained by adding a total of 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(12)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(12) A basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyarylene sulfide, and having the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1, and m is a value in the range of 0.02 to 0.15. ] The polyarylene sulfide composition formed by adding at least 0.01 to 10 parts by mass of at least one of the basic metal silicates represented by

(13)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(13) A basic silicate metal salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water with respect to 100 parts by mass of polyphenylene sulfide, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1, and m is a value in the range of 0.02 to 0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition obtained by adding a total of 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula:

(14)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
を添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(14) For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
A polyarylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(15)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(15) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(16)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(16) For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(17)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(17) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by the formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(18)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(19)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(18) For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
(A) A basic metal salt of silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyarylene sulfide composition obtained by adding 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and (B) 5 to 300 parts by mass of a filler.
(19) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal salt of silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(20)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1かつs/tが5/95〜95/5の範囲であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(20) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal salt of silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1 and s / t is in the range of 5/95 to 95/5, and m is in the range of 0.02 to 0.30. Is the value of ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(21)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(21) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal salt of silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1, and m is a value in the range of 0.02 to 0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(22)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1かつs/tが5/95〜95/5の範囲であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種を0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(22) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal salt of silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, and having the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1 and s / t is in the range of 5/95 to 95/5, and m is in the range of 0.02 to 0.15. Is the value of ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(23)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(23) For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyarylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass in total of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

(24)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(24) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyphenylene sulfide composition comprising 0.01 to 10 parts by mass in total of at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and (B) 5 to 300 parts by mass of a filler.

(25)ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
(25) For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1, and m is a value in the range of 0.02 to 0.15. ]
A polyarylene sulfide composition obtained by adding 0.01 to 10 parts by mass in total with at least one basic silicate metal salt represented by formula (B) and 5 to 300 parts by mass of (B) a filler.

(26)ポリフェニレンスルフィド100質量部に対し、
(A)水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種と、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.15の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩の少なくとも一種とを、合計で0.01〜10質量部、及び
(B)充填剤を5〜300質量部
添加してなるポリフェニレンスルフィド組成物。
(26) For 100 parts by mass of polyphenylene sulfide,
(A) A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.15. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water. )
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
[In the formula (2), M 1 represents Ca, M 2 represents Mg, s + t = 1, and m is a value in the range of 0.02 to 0.15. ]
A polyphenylene sulfide composition obtained by adding 0.01 to 10 parts by mass in total with at least one basic silicate metal salt represented by formula (5) and 5 to 300 parts by mass of a filler (B).

本発明の好ましい実施の形態としては、前記の実施態様(2)〜(9)、(11)〜(13)、(15)〜(22)及び(24)〜(26)が挙げられ、さらに好ましい実施の形態としては、実施態様(6)、(7)、(8)、(9)、(19)、(20)、(21)及び(22)が挙げられ、最も好ましい実施の形態としては、実施態様(8)、(9)、(21)及び(22)が挙げられる。   Preferred embodiments of the present invention include the above embodiments (2) to (9), (11) to (13), (15) to (22) and (24) to (26). Preferred embodiments include embodiments (6), (7), (8), (9), (19), (20), (21) and (22), and the most preferred embodiments Includes embodiments (8), (9), (21) and (22).

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、当該発明はこれらによって限定されるものではない。これらの実施例において、部とは質量部を意味する。
(合成例1)
水酸化カルシウム[菱光石灰工業(株)製特号微粉、含量;CaO換算74質量%]75.8g(1モル)と非晶質ケイ酸[シオノギ製薬(株)製カープレックス#80、含量;SiO換算95質量%]1.27g(0.02モル)をイオン交換水400mlに懸濁し、95℃にて4時間反応した。スラリーをステンレス製バットに移し替え、110℃にて乾燥後、サンプルミルにて粉砕し、塩基性ケイ酸カルシウム(CaO・0.02SiO)を得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, the said invention is not limited by these. In these examples, “part” means “part by mass”.
(Synthesis Example 1)
Calcium hydroxide [Ryoko Lime Kogyo Co., Ltd. special name fine powder, content: CaO conversion 74% by mass] 75.8 g (1 mol) and amorphous silicic acid [Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd. Carplex # 80, content ; 95 mass% in terms of SiO 2 ] 1.27 g (0.02 mol) was suspended in 400 ml of ion-exchanged water and reacted at 95 ° C. for 4 hours. The slurry was transferred to a stainless steel vat, dried at 110 ° C. and pulverized by a sample mill to obtain basic calcium silicate (CaO · 0.02SiO 2 ).

(合成例2〜10)
下記の原料を使用して、合成例1と同様の条件で水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム及び非晶質ケイ酸のモル比を変えて塩基性ケイ酸金属塩を合成した。
使用した原料
・水酸化カルシウム[菱光石灰工業(株)製特号微粉、含量;CaO換算74質量%]
・水酸化マグネシウム[神島化学(株)製#200、含量;MgO換算66質量%]
・非晶質ケイ酸[シオノギ製薬(株)製カープレックス#80、含量;SiO換算95質量%]
結果を表1に示す。
(Synthesis Examples 2 to 10)
Using the following raw materials, a basic metal silicate was synthesized under the same conditions as in Synthesis Example 1 while changing the molar ratio of calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid.
Raw material used: Calcium hydroxide [Ryoko Lime Industry Co., Ltd., special name fine powder, content: CaO conversion 74% by mass]
Magnesium hydroxide [Kamishima Chemical Co., Ltd. # 200, content: 66% by mass in terms of MgO]
-Amorphous silicic acid [Carplex # 80, manufactured by Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., content: 95% by mass in terms of SiO 2 ]
The results are shown in Table 1.

Figure 2007106971
Figure 2007106971

(合成例11)
水酸化カルシウム[菱光石灰工業(株)製特号微粉、含量;CaO換算74質量%]9.1g(0.12モル)、水酸化マグネシウム[神島化学(株)製#200、含量;MgO換算66質量%]53.7g(0.88モル)及び非晶質ケイ酸[シオノギ製薬(株)製カープレックス#80、含量;SiO換算95質量%]1.27g(0.02モル)をイオン交換水400mlに懸濁し、95℃にて4時間反応した。スラリーをステンレス製バットに移し替え、110℃にて乾燥後、サンプルミルにて粉砕し、塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウム(0.12CaO・0.88MgO・0.02SiO)を得た。
(Synthesis Example 11)
Calcium hydroxide [Special powder of Ryoko Lime Industry Co., Ltd., content; CaO conversion 74% by mass] 9.1 g (0.12 mol), Magnesium hydroxide [Kamijima Chemical Co., Ltd. # 200, content; MgO 66 mass% in terms of conversion] 53.7 g (0.88 mol) and amorphous silicic acid [Carplex # 80, manufactured by Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd .; content: 95 mass% in terms of SiO 2 ] 1.27 g (0.02 mol) Was suspended in 400 ml of ion-exchanged water and reacted at 95 ° C. for 4 hours. The slurry was transferred to a stainless steel vat, dried at 110 ° C. and pulverized with a sample mill to obtain basic calcium magnesium silicate (0.12CaO · 0.88MgO · 0.02SiO 2 ).

(合成例12〜20)
下記の原料を使用して、合成例11と同様の条件で水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム及び非晶質ケイ酸のモル比を変えて塩基性ケイ酸金属塩を合成した。使用した原料
・水酸化カルシウム[菱光石灰工業(株)製特号微粉、含量;CaO換算74質量%]
・水酸化マグネシウム[神島化学(株)製#200、含量;MgO換算66質量%]
・非晶質ケイ酸[シオノギ製薬(株)製カープレックス#80、含量;SiO換算95質量%]
結果を表2に示す。
(Synthesis Examples 12 to 20)
Using the following raw materials, a basic metal silicate was synthesized under the same conditions as in Synthesis Example 11 while changing the molar ratio of calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid. Raw material used: Calcium hydroxide [Ryoko Lime Industry Co., Ltd., special name fine powder, content: CaO conversion 74% by mass]
Magnesium hydroxide [Kamishima Chemical Co., Ltd. # 200, content: 66% by mass in terms of MgO]
-Amorphous silicic acid [Carplex # 80, manufactured by Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., content: 95% by mass in terms of SiO 2 ]
The results are shown in Table 2.

Figure 2007106971
Figure 2007106971

(合成例21)
水酸化カルシウム[菱光石灰工業(株)製特号微粉、含量;CaO換算74質量%]37.8g(0.5モル)、水酸化マグネシウム[神島化学(株)製#200、含量;MgO換算66質量%]30.4g(0.5モル)及び非晶質ケイ酸[シオノギ製薬(株)製カープレックス#80、含量;SiO換算95質量%]7.6g(0.12モル)をイオン交換水400mlに懸濁し、95℃にて4時間反応した。その後、ステアリン酸アンモニウム1.5gを加え、さらに同温度で30分反応を続け、表面処理を完了した。スラリーをステンレス製バットに移し替え、110℃にて乾燥後、サンプルミルにて粉砕し、ステアリン酸アンモニウムで表面処理された塩基性ケイ酸カルシウムマグネシウム(0.50CaO・0.50MgO・0.12SiO)を得た。
(Synthesis Example 21)
Calcium hydroxide [Special powder of Ryokko Lime Industry Co., Ltd., content: 74% by mass in terms of CaO] 37.8 g (0.5 mol), Magnesium hydroxide [Kamijima Chemical Co., Ltd. # 200, content; MgO Convert 66 wt%] 30.4 g (0.5 mol) and the amorphous silicic acid [Shionogi & Co., Ltd. Carplex # 80, content; SiO 2 in terms of 95 mass%] 7.6 g (0.12 mol) Was suspended in 400 ml of ion-exchanged water and reacted at 95 ° C. for 4 hours. Thereafter, 1.5 g of ammonium stearate was added, and the reaction was further continued at the same temperature for 30 minutes to complete the surface treatment. The slurry was transferred to a stainless steel vat, dried at 110 ° C., ground in a sample mill, and surface-treated with ammonium stearate (0.50CaO · 0.50MgO · 0.12SiO 2). )

(合成例22)
イオン交換水100mlに塩化カルシウム2水和物147.0g(1モル)を溶解してA液を調製した。イオン交換水100mlに1号ケイ酸ナトリウム[含量;SiO換算36.4質量%、Na2O換算17.2質量%]19.8g(SiO2;0.12モル、NaO;0.055モル)及び水酸化ナトリウム75.6g(1.89モル)を溶解してB液を調製した。A、B両液を混合し、混合スラリーを40℃にて2時間反応後、スラリーを濾別、水洗した。110℃で乾燥後、サンプルミルにて粉砕し、塩基性ケイ酸カルシウム(CaO・0.12SiO)を得た。
(Synthesis Example 22)
Solution A was prepared by dissolving 147.0 g (1 mol) of calcium chloride dihydrate in 100 ml of ion-exchanged water. No. 1 sodium silicate [contents: 36.4 mass% in terms of SiO 2 , 17.2 mass% in terms of Na 2 O] 19.8 g (SiO 2 ; 0.12 mol, Na 2 O; 0.055 mol) in 100 ml of ion-exchanged water In addition, 75.6 g (1.89 mol) of sodium hydroxide was dissolved to prepare solution B. Both A and B liquids were mixed, and after reacting the mixed slurry at 40 ° C. for 2 hours, the slurry was filtered and washed with water. After drying at 110 ° C., the mixture was pulverized with a sample mill to obtain basic calcium silicate (CaO · 0.12SiO 2 ).

(合成例23〜25)
下記の原料を使用して、合成例22と同様の条件で塩化カルシウム、塩化マグネシウム、ケイ酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムのモル比を変えて塩基性ケイ酸金属塩を合成した。使用した原料
・塩化カルシウム2水和物
・塩化マグネシウム6水和物
・1号ケイ酸ナトリウム[含量;SiO換算36.4質量%、NaO換算17.2質量%]
結果を表3に示す。
(Synthesis Examples 23-25)
Using the following raw materials, basic metal silicates were synthesized under the same conditions as in Synthesis Example 22 while changing the molar ratio of calcium chloride, magnesium chloride, sodium silicate and sodium hydroxide. Raw materials used: calcium chloride dihydrate, magnesium chloride hexahydrate, No. 1 sodium silicate [content: 36.4% by weight in terms of SiO 2, 17.2% by weight in terms of Na 2 O]
The results are shown in Table 3.

Figure 2007106971
Figure 2007106971

(合成例26)
イオン交換水125.4mlに3号ケイ酸ナトリウム100.0g(SiO=0.488モル)を溶解させたA液を調製した。イオン交換水31.35mlに硫酸銅5水和物37.92g(0.152モル)及び水酸化ナトリウム0.8g(0.02モル)を溶解させたB液を調製した。オーバーフロータイプの反応層に、A液2.67ml/分、B液0.67ml/分の速度でそれぞれの水溶液を供給し、攪拌下で反応させた。該反応液スラリーの温度は40℃に保った。pHは7.2であった。反応が完了したスラリー状生成物は濾過し、洗浄液中に硫酸イオンが検出されなくなるまで水洗し、得られた洗浄ケーキを100℃で乾燥して、ケイ酸銅を得た。
(Synthesis Example 26)
A solution A in which 100.0 g of No. 3 sodium silicate (SiO 2 = 0.488 mol) was dissolved in 125.4 ml of ion-exchanged water was prepared. Liquid B was prepared by dissolving 37.92 g (0.152 mol) of copper sulfate pentahydrate and 0.8 g (0.02 mol) of sodium hydroxide in 31.35 ml of ion-exchanged water. The respective aqueous solutions were supplied to the overflow type reaction layer at a rate of 2.67 ml / minute for liquid A and 0.67 ml / minute for liquid B, and reacted with stirring. The temperature of the reaction solution slurry was kept at 40 ° C. The pH was 7.2. The slurry product after the reaction was filtered, washed with water until no sulfate ions were detected in the washing solution, and the obtained washing cake was dried at 100 ° C. to obtain copper silicate.

次に、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩(以下、A群という)を表4に、それ以外のケイ酸金属塩化合物等(以下、B群という)を、表5にそれぞれまとめて示す。   Next, the basic silicate metal salts (hereinafter referred to as Group A) used in the present invention are summarized in Table 4, and the other silicate metal salt compounds (hereinafter referred to as Group B) are summarized in Table 5, respectively. .

Figure 2007106971
Figure 2007106971

Figure 2007106971
Figure 2007106971

(合成例27)
ポリフェニレンスルフィドの合成
15Lのオートクレーブに、N−メチル−2−ピロリドン5Lを仕込み、120℃に昇温した後、NaS・2.8HO 1866gを仕込み、攪拌しながら徐々に205℃まで昇温して、水407gを留出させた。この系を140℃まで冷却した後、p−ジクロロベンゼン2080gを添加した。225℃に昇温し、2時間重合させた後、250℃に昇温し、さらに250℃にて2時間重合を行った。重合終了後、室温まで冷却したスラリーを大量の水中に投入して重合体を析出させ、濾別し、純水による洗浄を繰り返し行った後、一晩加熱真空乾燥を行うことにより重合体を単離した。得られたポリフェニレンスルフィドの溶融粘度は20PaSであった。この様にして得られたポリフェニレンスルフィドをさらに空気雰囲気下235℃で加熱硬化処理し、溶融粘度を60PaSとした。
(Synthesis Example 27)
Synthesis of polyphenylene sulfide A 15 L autoclave was charged with 5 L of N-methyl-2-pyrrolidone, heated to 120 ° C., then charged with 1866 g of Na 2 S · 2.8H 2 O, and gradually raised to 205 ° C. with stirring. Warm and distill off 407 g of water. After cooling the system to 140 ° C., 2080 g of p-dichlorobenzene was added. The temperature was raised to 225 ° C. and polymerized for 2 hours, then the temperature was raised to 250 ° C., and polymerization was further performed at 250 ° C. for 2 hours. After completion of the polymerization, the slurry cooled to room temperature is poured into a large amount of water to precipitate the polymer, filtered, repeatedly washed with pure water, and then heated and vacuum dried overnight to obtain a single polymer. Released. The melt viscosity of the obtained polyphenylene sulfide was 20 PaS. The polyphenylene sulfide thus obtained was further heat-cured at 235 ° C. in an air atmosphere to obtain a melt viscosity of 60 PaS.

[実施例1〜34及び比較例1〜30]
合成例27で製造したポリフェニレンスルフィド100部に対し、表6に示すケイ酸金属塩化合物を表6に示す割合で添加し、十分に混合した配合物を、押出機を用いて熔融混練し、ペレットを得た。
得られたペレットの耐金属腐食性、耐金型汚染性及び臭気について評価した。結果を表6に示す。
[Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 30]
To 100 parts of the polyphenylene sulfide produced in Synthesis Example 27, the silicate metal salt compound shown in Table 6 was added in the proportion shown in Table 6, and the blended mixture was melt-kneaded using an extruder and pelletized. Got.
The obtained pellets were evaluated for metal corrosion resistance, mold contamination resistance and odor. The results are shown in Table 6.

(耐金属腐食性)
得られたペレットの4gと釘を試験管に投入し、340℃に設定したヒーティング・ブロックに入れ、18時間加熱後、試験管から釘を取り出した。この釘の付着物を取り除き、湿度80%のデシケーター中に3日間放置後の釘の錆の発生状態を目視で判定した。尚、釘の錆の発生状態は、以下の基準で判定した。
1 :釘には錆が全く発生していない。
2 :釘には錆が一部わずかに発生している。
3 :釘には錆が約30%未満発生している。
4 :釘には錆が約50%未満発生している。
5 :釘には錆が約50%以上発生している。
6 :釘には錆が全面に発生している。
(Metal corrosion resistance)
4 g of the obtained pellets and a nail were put into a test tube, put in a heating block set at 340 ° C., heated for 18 hours, and then taken out from the test tube. The nail deposits were removed, and the state of occurrence of rust on the nail after standing in a desiccator with a humidity of 80% for 3 days was visually determined. The state of occurrence of rust on the nail was determined according to the following criteria.
1: No rust is generated on the nail.
2: Some rust is slightly generated on the nail.
3: Less than 30% of rust is generated on the nail.
4: Rust is generated on the nail less than about 50%.
5: About 50% or more of rust is generated on the nail.
6: Rust is generated on the entire surface of the nail.

(耐金型汚染性)
得られたペレットの4gと釘を試験管に投入し、340℃に設定したヒーティング・ブロックに入れ、18時間加熱後、釘に発生する付着物の量を目視で判定した。尚、釘に発生する付着物の量は、以下の基準で判定した。
a :釘には付着物が全く発生していない。
b :釘には付着物がわずかに発生している。
c :釘には付着物が多く発生している。
d :釘には付着物が非常に多く発生している。
(Metal mold resistance)
4 g of the obtained pellet and the nail were put into a test tube, put in a heating block set at 340 ° C., heated for 18 hours, and the amount of deposits generated on the nail was visually determined. The amount of deposits generated on the nail was determined according to the following criteria.
a: No deposits are generated on the nail.
b: Slight deposits are generated on the nail.
c: Many deposits are generated on the nail.
d: Very many deposits are generated on the nail.

(臭気)
得られたペレットの4gを試験管に投入し、340℃に設定したヒーティング・ブロックに入れ、10分間加熱後、試験管内の臭気を5人のパネラーの官能試験により以下の基準で判定した。
○ :わずかな臭気しか感じられない。
△ :臭気がありやや不快である。× :臭気が強く不快である。
(Odor)
4 g of the obtained pellet was put into a test tube, put into a heating block set at 340 ° C., heated for 10 minutes, and then the odor in the test tube was judged by the following criteria by a sensory test of five panelists.
○: Only a slight odor can be felt.
Δ: Odor is somewhat uncomfortable. ×: Strong odor and unpleasant.

Figure 2007106971
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Figure 2007106971
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表6の実施例と比較例の結果を比較すれば明らかな如く、本発明のポリフェニレンスルフィド組成物は、耐金属腐食性、耐金型汚染性及び臭気の抑制に優れることがわかる。尚、実施例33及び34の如く、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩にそれ以外のケイ酸金属塩化合物を併用添加しても、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩が、本発明で規定する範囲の添加量で添加されていれば、耐金属腐食性、耐金型汚染性及び臭気の抑制に優れることがわかる。しかし、比較例1〜3の如く、本発明で規定する塩基性ケイ酸金属塩化合物を添加してもその添加量が本発明で規定する範囲の添加量より少ない場合、又は、比較例4〜6の如く、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩を添加してもその添加量が本発明で規定する範囲の添加量より多い場合には、効果が低下することがわかる。   As is apparent from the comparison of the results of Examples and Comparative Examples in Table 6, it can be seen that the polyphenylene sulfide composition of the present invention is excellent in metal corrosion resistance, mold contamination resistance and odor control. As in Examples 33 and 34, the basic metal silicate used in the present invention is not added to the basic metal silicate used in the present invention in combination with the other metal silicate compound. It can be seen that if the addition amount is within the range specified in, the metal corrosion resistance, mold contamination resistance and odor control are excellent. However, as in Comparative Examples 1 to 3, when the basic silicate metal salt compound defined in the present invention is added, the amount added is less than the range defined in the present invention, or Comparative Examples 4 to As can be seen from FIG. 6, even when the basic metal silicate salt used in the present invention is added, if the amount added is larger than the amount added in the range specified in the present invention, the effect is lowered.

又、比較例7〜9の如く、塩基性ケイ酸金属塩の組成が本発明で規定する範囲外の場合、比較例10〜13の如く、組成が本発明で規定する範囲内でも、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩の製法以外の製法で製造された塩基性ケイ酸金属塩の場合、比較例14〜29の如く、本発明で用いる塩基性ケイ酸金属塩以外のケイ酸金属塩化合物を添加した場合、及び比較例30の如く、ケイ酸金属塩を添加しない場合は、十分な耐金属腐食性、耐金型汚染性及び臭気の抑制効果が得られない。   Further, when the composition of the basic metal silicate is outside the range specified by the present invention as in Comparative Examples 7 to 9, the present invention is applied even if the composition is within the range specified by the present invention as in Comparative Examples 10 to 13. In the case of a basic silicate metal salt produced by a production method other than the production method of the basic silicate metal salt used in Example 1, as in Comparative Examples 14 to 29, a silicate metal salt other than the basic silicate metal salt used in the present invention. When the compound is added and when the metal silicate salt is not added as in Comparative Example 30, sufficient metal corrosion resistance, mold contamination resistance and odor control effects cannot be obtained.

本発明のポリアリーレンスルフィド組成物は、従来の技術と比較し、成形機の金型等の金属面の腐食抑制、成形品中の金属材料の腐食抑制及びポリアリーレンスルフィドの分解物等の金型への付着抑制並びに成形加工時の臭気抑制に極めて優れており、ポリアリーレンスルフィド成形品分野における材料として非常に有用である。   Compared with the prior art, the polyarylene sulfide composition of the present invention suppresses corrosion of metal surfaces such as molds of molding machines, inhibits corrosion of metal materials in molded products, and molds such as decomposition products of polyarylene sulfides. It is extremely excellent in suppressing adhesion to water and suppressing odor during molding, and is very useful as a material in the field of polyarylene sulfide molded products.

Claims (3)

ポリアリーレンスルフィド100質量部に対し、
水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(1)
MO・nSiO (1)
〔式(1)中、MはCa又はMgを示し、nは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩、及び
水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムと非晶質ケイ酸を水中で加熱して製造される塩基性ケイ酸金属塩であって、一般式(2)
sMO・tMO・mSiO (2)
〔式(2)中、MはCa、MはMgを示し、s+t=1であり、mは0.02〜0.30の範囲の値である。〕
で示される塩基性ケイ酸金属塩からなる群から選択される少なくとも一種を、0.01〜10質量部添加してなるポリアリーレンスルフィド組成物。
For 100 parts by mass of polyarylene sulfide,
A basic metal silicate salt produced by heating calcium hydroxide or magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (1)
MO.nSiO 2 (1)
[In Formula (1), M shows Ca or Mg, and n is a value of the range of 0.02-0.30. ]
And a basic metal silicate produced by heating calcium hydroxide, magnesium hydroxide and amorphous silicic acid in water, wherein the general formula (2)
sM 1 O · tM 2 O · mSiO 2 (2)
Wherein (2), M 1 is Ca, M 2 represents a Mg, a s + t = 1, m has a value ranging from 0.02 to 0.30. ]
A polyarylene sulfide composition obtained by adding 0.01 to 10 parts by mass of at least one selected from the group consisting of basic metal silicates represented by the formula:
前記一般式(1)におけるnが0.02〜0.15の範囲の値である請求項1に記載のポリアリーレンスルフィド組成物。   The polyarylene sulfide composition according to claim 1, wherein n in the general formula (1) is a value in the range of 0.02 to 0.15. 前記ポリアリーレンスルフィドが、ポリフェニレンスルフィドである請求項1又は2に記載のポリアリーレンスルフィド組成物。   The polyarylene sulfide composition according to claim 1 or 2, wherein the polyarylene sulfide is polyphenylene sulfide.
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