JP2007083166A - Keeping device of photocatalytic ink, keeping method of photocatalytic ink, coating device and coating method - Google Patents

Keeping device of photocatalytic ink, keeping method of photocatalytic ink, coating device and coating method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress an increase in manufacturing cost caused by using photocatalytic ink. <P>SOLUTION: The keeping device of the photocatalytic ink X irradiated with light having a predetermined wavelength to be activated is equipped with a container 1 for storing the photocatalytic ink the photocatalytic ink X and a light source device 2 for irradiating the photocatalytic ink X stored in the container 1 with the light having the predetermined wavelength. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光触媒インク保管装置及び方法、塗布装置及び方法に関するものである。   The present invention relates to a photocatalyst ink storage device and method, and a coating device and method.

近年、光触媒の光触媒機能が注目されており、セルフクリーング可能な建材塗工用途の塗布材料や親液性を有する塗布材料として、光触媒が使用されている。
このような光触媒は、触媒の光吸収によっておこる触媒反応である光触媒反応を発揮するものであり、所定の波長の光が照射されることによって、活性化され、光触媒反応を発現する。
例えば、特許文献1には、カラーフィルタを製造する際に、予め基板上に光触媒を含む層(親水性透明物質層)を形成しておき、この光触媒を含む層に紫外線を照射することによって親水性を発現させ、さらにこの上に着色材料を塗布する技術が開示されている。このような技術によれば、親液性の面上に着色材料が塗布されるため、着色剤が均一に濡れ拡がり、均一な厚さの着色層が形成可能となる。
特開2000−171628号公報 特開2000−187206号公報
In recent years, the photocatalytic function of a photocatalyst has attracted attention, and a photocatalyst is used as a coating material for building material coating that can be self-cleaned or a coating material having lyophilic properties.
Such a photocatalyst exhibits a photocatalytic reaction, which is a catalytic reaction caused by light absorption of the catalyst, and is activated by irradiating with light of a predetermined wavelength to exhibit a photocatalytic reaction.
For example, in Patent Document 1, when a color filter is manufactured, a layer containing a photocatalyst (hydrophilic transparent material layer) is formed in advance on a substrate, and the layer containing the photocatalyst is irradiated with ultraviolet rays to make it hydrophilic. A technique for expressing the properties and further applying a coloring material thereon is disclosed. According to such a technique, since the coloring material is applied onto the lyophilic surface, the colorant uniformly wets and spreads, and a colored layer having a uniform thickness can be formed.
JP 2000-171628 A JP 2000-187206 A

ところで、光触媒を含む液体材料(以下、光触媒インクと称する)は、屋外で使用される建材塗工用途の塗布材料として用いられる場合には、太陽光によって露光されることによって活性化され、光触媒機能を発現する。
しかしながら、屋内で使用される建材塗工用途の塗布材料としてや、特許文献1等のようにデバイスの製造工程で用いる場合には、太陽光の照射が望めないあるいは不可能であるため、別途露光処理を行うことによって、光触媒インクを活性化させ、光触媒機能を発現させる必要がある。このため、作業の工程数が増大し、製造時間が増大する。また、光触媒インクが塗布された全領域に対して光を照射する必要があるため、大型の露光装置を用意する必要が生じる。また、光触媒インクを活性化させるために使用される所定の波長の光によっては、露光装置そのものを大型化することが困難な場合もある。このような理由により、光触媒インクを使用した場合には、製造コストが増加してしまう。
By the way, a liquid material containing a photocatalyst (hereinafter referred to as photocatalyst ink) is activated by being exposed to sunlight when used as a coating material for a building material coating application used outdoors, and has a photocatalytic function. Is expressed.
However, when used as a building material coating material used indoors, or when used in a device manufacturing process as in Patent Document 1 or the like, exposure to sunlight is not possible or impossible. By performing the treatment, it is necessary to activate the photocatalyst ink and develop a photocatalytic function. For this reason, the number of work steps increases and the manufacturing time increases. Moreover, since it is necessary to irradiate light to the whole area | region to which the photocatalyst ink was apply | coated, it becomes necessary to prepare a large sized exposure apparatus. Further, depending on the light of a predetermined wavelength used for activating the photocatalytic ink, it may be difficult to increase the size of the exposure apparatus itself. For this reason, when photocatalyst ink is used, the manufacturing cost increases.

本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to suppress an increase in manufacturing cost caused by using a photocatalyst ink.

上記目的を達成するために、本発明の光触媒インク保管装置は、所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクの保管装置であって、上記光触媒インクを貯留する容器と、上記容器内に貯留された上記光触媒インクに対して上記所定の波長の光を照射する光源装置とを備えることを特徴とする。   To achieve the above object, a photocatalyst ink storage device of the present invention is a photocatalyst ink storage device that is activated by irradiation with light of a predetermined wavelength, and a container for storing the photocatalyst ink; And a light source device that irradiates the photocatalyst ink stored in the container with light of the predetermined wavelength.

このような特徴を有する本発明の光触媒インク保管装置によれば、光触媒インクを貯留する容器内の光触媒インクに対して、光源装置から射出される所定の波長の光が照射される。このため、光触媒インクが保管されている状態において活性化された状態となる。よって、本発明の保管装置によって保管されている光触媒インクを塗布する場合には、塗布後に別途露光処理を行う必要がなくなる。
したがって、本発明の光触媒インク保管装置によれば、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。
According to the photocatalyst ink storage device of the present invention having such characteristics, light having a predetermined wavelength emitted from the light source device is irradiated to the photocatalyst ink in the container storing the photocatalyst ink. For this reason, it will be in the activated state in the state where the photocatalyst ink is stored. Therefore, when the photocatalyst ink stored by the storage device of the present invention is applied, it is not necessary to perform a separate exposure process after the application.
Therefore, according to the photocatalyst ink storage device of the present invention, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalyst ink.

また、本発明の光触媒インク保管装置においては、上記容器内に貯留された上記光触媒インクを攪拌する攪拌手段を備えるという構成を採用することができる。
このような構成を採用することによって、容器内に貯留された光触媒インクが攪拌手段によって攪拌されるため、光触媒インクに均一に光が照射され、光触媒インクを均一に活性化することができる。
Moreover, in the photocatalyst ink storage device of the present invention, it is possible to employ a configuration in which stirring means for stirring the photocatalyst ink stored in the container is provided.
By adopting such a configuration, since the photocatalyst ink stored in the container is stirred by the stirring means, the photocatalyst ink is uniformly irradiated with light, and the photocatalyst ink can be uniformly activated.

また、本発明の光触媒インク保管装置においては、上記容器が上記所定の波長の光に対して透光性を有しており、さらに上記容器が、上記光源装置を収納可能でかつ上記容器内に貯留される上記光触媒インクの液面より下方に位置する凹部を備えるという構成を採用することができる。
このような構成を採用することによって、光源装置から四方に射出される光を光触媒インクが全て受光することができるため、より効率的に光触媒インクを活性化することができる。
In the photocatalyst ink storage device of the present invention, the container has translucency with respect to the light having the predetermined wavelength, and the container can store the light source device and is contained in the container. It is possible to employ a configuration in which a concave portion located below the liquid level of the stored photocatalyst ink is provided.
By adopting such a configuration, the photocatalyst ink can receive all the light emitted from the light source device in all directions, so that the photocatalyst ink can be activated more efficiently.

なお、本発明の光触媒インク保管装置においては、具体的には、上記光触媒インクが、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビヒマス、及び酸化鉄から選択される少なくとも1種類からなる微粒子を含有するという構成を採用することができる。   In the photocatalyst ink storage device of the present invention, specifically, the photocatalyst ink is at least one selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, strontium titanate, tungsten oxide, behium oxide, and iron oxide. A configuration in which fine particles of various types are contained can be employed.

次に、本発明の光触媒インク保管方法は、所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクの保管方法であって、上記光触媒インクに対して上記所定の波長の光を照射可能な状態で上記光触媒インクを保管することを特徴とする。   Next, the photocatalyst ink storage method of the present invention is a photocatalyst ink storage method that is activated by being irradiated with light of a predetermined wavelength, and irradiates the photocatalyst ink with light of the predetermined wavelength. The photocatalyst ink is stored in a possible state.

このような特徴を有する本発明の光触媒インク保管方法によれば、光触媒インクに対して所定の波長の光が照射可能な状態で光触媒インクが保管される。このため、光触媒インクが保管されている状態において活性化された状態となる。よって、本発明の保管方法によって保管されている光触媒インクを塗布する場合には、塗布後に別途露光処理を行う必要がなくなる。
したがって、本発明の光触媒インク保管方法によれば、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。
According to the photocatalyst ink storage method of the present invention having such characteristics, the photocatalyst ink is stored in a state in which the photocatalyst ink can be irradiated with light of a predetermined wavelength. For this reason, it will be in the activated state in the state where the photocatalyst ink is stored. Therefore, when the photocatalyst ink stored by the storage method of the present invention is applied, it is not necessary to perform a separate exposure process after the application.
Therefore, according to the photocatalyst ink storage method of the present invention, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalyst ink.

次に、本発明の塗布装置は、所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクを所定領域に塗布する塗布装置であって、塗布前に上記光触媒インクに対して上記所定の波長の光を照射する光源装置を備えることを特徴とする。   Next, the coating apparatus of the present invention is a coating apparatus that coats a predetermined area with a photocatalyst ink that is activated by being irradiated with light of a predetermined wavelength, and applies the predetermined catalyst to the photocatalyst ink before coating. And a light source device for irradiating light of a certain wavelength.

このような特徴を有する本発明の塗布装置によれば、光源装置によって、塗布前の光触媒インクに対して所定の波長の光が照射される。このため、本発明の塗布装置によって塗布された光触媒インクは、既に活性化された状態となっており、塗布後に別途露光処理を行う必要がなくなる。
したがって、本発明の塗布装置によれば、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。
According to the coating apparatus of the present invention having such characteristics, the light source device irradiates the photocatalyst ink before coating with light having a predetermined wavelength. For this reason, the photocatalyst ink applied by the coating apparatus of the present invention is already activated, and there is no need to perform a separate exposure process after the application.
Therefore, according to the coating apparatus of the present invention, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalyst ink.

また、本発明の塗布装置においては、上記光源装置が、容器内に貯留される上記光触媒インクに対して上記所定の波長の光を照射可能な位置に配置されているという構成を採用することができる。
このような構成を採用することによって、光触媒インクが容器内において活性化される。
なお、このような場合には、上記容器内に貯留された上記光触媒インクを攪拌する攪拌手段を備えるという構成を採用することができる。このような構成を採用することによって、容器内に貯留された光触媒インクが攪拌手段によって攪拌されるため、光触媒インクに均一に光が照射され、光触媒インクを均一に活性化することができる。
また、上記容器が上記所定の波長の光に対して透光性を有しており、さらに上記容器が、上記光源装置を収納可能でかつ上記容器内に貯留される上記光触媒インクの液面より下方に位置する凹部を備という構成を採用することもできる。このような構成を採用することによって、光源装置から四方に射出される光を光触媒インクが全て受光することができるため、より効率的に光触媒インクを活性化することができる。
In the coating apparatus of the present invention, it is possible to employ a configuration in which the light source device is disposed at a position where the photocatalyst ink stored in the container can irradiate light of the predetermined wavelength. it can.
By adopting such a configuration, the photocatalytic ink is activated in the container.
In such a case, it is possible to employ a configuration in which stirring means for stirring the photocatalyst ink stored in the container is provided. By adopting such a configuration, since the photocatalyst ink stored in the container is stirred by the stirring means, the photocatalyst ink is uniformly irradiated with light, and the photocatalyst ink can be uniformly activated.
Further, the container has translucency with respect to the light of the predetermined wavelength, and the container is capable of storing the light source device and from a liquid surface of the photocatalyst ink stored in the container. It is also possible to employ a configuration in which a concave portion located below is provided. By adopting such a configuration, the photocatalyst ink can receive all the light emitted from the light source device in all directions, so that the photocatalyst ink can be activated more efficiently.

なお、本発明の塗布装置においては、上記光源装置は、流路を流れる上記光触媒インクに対して上記所定の波長の光を照射可能な位置に配置されているという構成を採用することもできる。
このような構成を採用する場合には、光触媒インクが流路内において活性化される。
In the coating apparatus of the present invention, the light source device may be arranged at a position where the photocatalyst ink flowing through the flow path can be irradiated with light of the predetermined wavelength.
When such a configuration is employed, the photocatalytic ink is activated in the flow path.

次に、本発明の塗布方法は、所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクを所定領域に塗布する塗布方法であって、塗布前に上記光触媒インクに対して上記所定の波長の光を照射することを特徴とする。   Next, the coating method of the present invention is a coating method in which a photocatalyst ink that is activated by irradiation with light of a predetermined wavelength is applied to a predetermined region, and is applied to the photocatalyst ink before application. It is characterized by irradiating light with a wavelength of.

このような特徴を有する本発明の塗布方法によれば、塗布前の光触媒インクに対して所定の波長の光が照射される。このため、本発明の塗布方法によって塗布された光触媒インクは、既に活性化された状態となっており、塗布後に別途露光処理を行う必要がなくなる。
したがって、本発明の塗布方法によれば、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。
According to the coating method of the present invention having such characteristics, light having a predetermined wavelength is irradiated onto the photocatalyst ink before coating. For this reason, the photocatalyst ink applied by the application method of the present invention is already activated, and it is not necessary to separately perform an exposure process after the application.
Therefore, according to the coating method of the present invention, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalyst ink.

以下、図面を参照して、本発明に係る光触媒インク保管装置及び方法、塗布装置及び方法の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。   Hereinafter, an embodiment of a photocatalyst ink storage device and method, a coating device and a method according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each member is appropriately changed in order to make each member a recognizable size.

(光触媒インク保管装置及び方法)
図1は、本実施形態の光触媒インク保管装置S1の概略構成を示した模式図である。
この図に示すように、本実施形態の光触媒インク保管装置S1は、容器1と紫外線ランプ2(光源装置)と、攪拌装置3(攪拌手段)とを備えて構成されている。
(Photocatalyst ink storage device and method)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the photocatalyst ink storage device S1 of the present embodiment.
As shown in this figure, the photocatalyst ink storage device S1 of this embodiment includes a container 1, an ultraviolet lamp 2 (light source device), and a stirring device 3 (stirring means).

容器1は、光触媒インクXを貯留するものであり、本実施形態においては、図1に示すように、円筒缶形状を有している。また、容器1は、本実施形態において石英によって形成されており、紫外線に対して透光性を有している。   The container 1 stores the photocatalytic ink X, and in this embodiment, has a cylindrical can shape as shown in FIG. In addition, the container 1 is made of quartz in the present embodiment, and has translucency with respect to ultraviolet rays.

紫外線ランプ2は、容器1内に貯留される光触媒インクXに対して紫外線を照射するものであり、容器1の側方に配置されている。なお、より詳細には、紫外線ランプ2は、紫外線を射出するのみであり、この紫外線ランプ2が容器1の側方に配置されていることによって、容器1内の光触媒インクXに紫外線が照射される構成とされている。   The ultraviolet lamp 2 irradiates the photocatalyst ink X stored in the container 1 with ultraviolet light, and is disposed on the side of the container 1. In more detail, the ultraviolet lamp 2 only emits ultraviolet rays, and the ultraviolet lamp 2 is arranged on the side of the container 1, so that the photocatalyst ink X in the container 1 is irradiated with ultraviolet rays. It is set as the structure.

攪拌装置3は、容器1内に貯留される光触媒インクXを攪拌するものであり、図1に示す回転部31と不図示の駆動装置とによって構成されている。なお、回転部31は、容器1内に配置され、光触媒インクXを直接攪拌するものである。そして、駆動装置は、回転部31を例えば磁力等によって駆動するものである。   The agitator 3 agitates the photocatalyst ink X stored in the container 1 and includes a rotating unit 31 shown in FIG. 1 and a driving device (not shown). The rotating unit 31 is disposed in the container 1 and directly agitates the photocatalyst ink X. And a drive device drives the rotation part 31 by magnetic force etc., for example.

なお、本実施形態においては、光触媒インクXとして、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビヒマス、及び酸化鉄から選択される少なくとも1種類からなる微粒子を含有するインクを使用している。   In the present embodiment, the photocatalyst ink X is an ink containing fine particles made of at least one selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, strontium titanate, tungsten oxide, behavim oxide, and iron oxide. I use it.

次に、このように構成された本実施形態の保管装置における光触媒インクXの保管方法について説明する。   Next, a storage method of the photocatalyst ink X in the storage device of the present embodiment configured as described above will be described.

容器1に光触媒インクXが貯留された状態で紫外線ランプ2から紫外線が射出されると、この射出された紫外線は、石英によって形成された容器1を透過して光触媒インクXに照射される。
この結果、光触媒インクXが活性化され、光触媒インクXは、活性化された状態で容器1内に貯留されることとなる。
When ultraviolet light is emitted from the ultraviolet lamp 2 in a state where the photocatalyst ink X is stored in the container 1, the emitted ultraviolet light passes through the container 1 made of quartz and is irradiated onto the photocatalyst ink X.
As a result, the photocatalyst ink X is activated, and the photocatalyst ink X is stored in the container 1 in an activated state.

つまり、本実施形態の光触媒インク保管装置及び方法においては、光触媒インクXが活性化された状態で保管される。このため、光触媒インクを塗布する場合には、塗布後に別途露光処理を行うことによって、光触媒インクXを活性化させる必要がなくなる。したがって、本実施形態の光触媒インク保管装置及び方法によれば、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。   That is, in the photocatalyst ink storage device and method of the present embodiment, the photocatalyst ink X is stored in an activated state. For this reason, when applying the photocatalyst ink, it is not necessary to activate the photocatalyst ink X by separately performing an exposure process after the application. Therefore, according to the photocatalyst ink storage device and method of the present embodiment, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalyst ink.

また、本実施形態の光触媒インク保管装置S1においては、攪拌装置3によって、容器1内の光触媒インクXが攪拌されている。このため、光触媒インクX全体に均一に紫外線が照射され、光触媒インクXを均一に活性化することができる。   Further, in the photocatalyst ink storage device S1 of the present embodiment, the photocatalyst ink X in the container 1 is stirred by the stirring device 3. For this reason, the entire photocatalyst ink X is uniformly irradiated with ultraviolet rays, and the photocatalyst ink X can be uniformly activated.

なお、図2に示すように、容器1が、紫外線ランプ2を収納可能でかつ容器内に貯留される光触媒インクXの液面より下方に位置する凹部11を備える構成を採用し、この凹部11の内部に紫外線ランプ2を配置しても良い。
このような構成を採用することによって、紫外線ランプ2から射出された紫外線を光触媒インクXが全て受光することができる、より効率的に光職場インを活性化することができる。
As shown in FIG. 2, the container 1 employs a configuration including a recess 11 that can store the ultraviolet lamp 2 and is positioned below the liquid surface of the photocatalyst ink X stored in the container. The ultraviolet lamp 2 may be arranged inside the lamp.
By adopting such a configuration, the photocatalyst ink X can receive all the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp 2, and the light workplace IN can be activated more efficiently.

なお、本実施形態の光触媒インク保管装置S1は、所定の環境(例えば、大気雰囲気や不活性雰囲気)に保たれたチャンバを備え、このチャンバの内部に容器1及び紫外線ランプ2が配置された構成を採用することが好ましい。
このような構成を採用することによって、所定の環境で光触媒インクXを保管することができる。
The photocatalyst ink storage device S1 according to the present embodiment includes a chamber maintained in a predetermined environment (for example, an air atmosphere or an inert atmosphere), and the container 1 and the ultraviolet lamp 2 are disposed inside the chamber. Is preferably adopted.
By adopting such a configuration, the photocatalyst ink X can be stored in a predetermined environment.

(塗布装置及び方法)
図3は、本実施形態の塗布装置S10の概略構成を示す模式図である。
この図に示すように、本実施形態の塗布装置S10は、容器10と、紫外線ランプ20と、攪拌装置30と、流路40と、吐出部50とを備えて構成されている。
なお、容器10、紫外線ランプ20及び攪拌装置30は、上述した光触媒インク保管装置S1の容器1、紫外線ランプ2及び攪拌装置3と同様であるため、その説明を省略する。
(Coating apparatus and method)
FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the coating apparatus S10 of the present embodiment.
As shown in this figure, the coating apparatus S10 of the present embodiment includes a container 10, an ultraviolet lamp 20, a stirring device 30, a flow path 40, and a discharge unit 50.
In addition, since the container 10, the ultraviolet lamp 20, and the stirring device 30 are the same as the container 1, the ultraviolet lamp 2, and the stirring device 3 of the photocatalyst ink storage device S1 described above, description thereof is omitted.

流路40は、容器10から吐出部50に光触媒インクXを移動させるための流路であり、容器10と吐出部50とに接続状態で配置されている。
吐出部50は、流路40を介して供給される光触媒インクXを外部に吐出することによって所定領域に塗布するものである。
The flow path 40 is a flow path for moving the photocatalyst ink X from the container 10 to the discharge section 50, and is arranged in a connected state between the container 10 and the discharge section 50.
The discharge part 50 is applied to a predetermined region by discharging the photocatalyst ink X supplied through the flow path 40 to the outside.

このような構成を有する本実施形態の塗布装置S10における塗布方法よれば、光触媒インクXが、紫外線ランプ20から射出される紫外線によって活性化された状態で容器1内に貯留されている。このため、塗布した際には、既に活性化された状態となっており、塗布後に別途露光処理を行う必要がなくなる。
したがって、本実施形態の本発明の塗布装置及び方法によれば、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。
According to the coating method in the coating apparatus S10 of this embodiment having such a configuration, the photocatalyst ink X is stored in the container 1 in a state where it is activated by the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp 20. For this reason, when it is applied, it is already activated, and there is no need to perform a separate exposure process after application.
Therefore, according to the coating apparatus and method of the present invention of the present embodiment, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalytic ink.

また、本実施形態の塗布装置S10は、上述の光触媒インク保管装置S1と同様に、容器10内の光触媒インクXを攪拌するための攪拌装置30を備えている。このため、光触媒インクに均一に紫外線が照射され、光触媒インクXを均一に活性化することができる。
また、上述の光触媒インク保管装置S1と同様に、容器10が、紫外線ランプ20を収納可能でかつ容器内に貯留される光触媒インクXの液面より下方に位置する凹部を備える構成を採用し、この凹部の内部に紫外線ランプ20を配置しても良い。
Further, the coating device S10 of the present embodiment includes a stirring device 30 for stirring the photocatalyst ink X in the container 10 as in the above-described photocatalyst ink storage device S1. For this reason, the photocatalyst ink is uniformly irradiated with ultraviolet rays, and the photocatalyst ink X can be uniformly activated.
Further, similarly to the photocatalyst ink storage device S1 described above, the container 10 is configured to include a concave portion that can store the ultraviolet lamp 20 and is positioned below the liquid level of the photocatalyst ink X stored in the container, An ultraviolet lamp 20 may be disposed inside the recess.

なお、本実施形態の塗布装置S10においては、紫外線ランプ20を容器10の側方に配置し、容器10内に貯留されている光触媒インクXに紫外線を照射することによって、光触媒インクXを活性化させた。しかしながら、本発明は、これに限定されるものではなく、図4に示すように、流路40の途中部位に紫外線ランプ20を配置し、流路40を流れる光触媒インクXに対して紫外線を照射しても良い。これによっても、光触媒インクXを活性化させることが可能となる。
例えば、光触媒インクXが長時間の露光が好ましいものである場合には紫外線ランプ20を容器10の側方に配置し、光触媒インクXが短時間の露光が好ましいものである場合には紫外線ランプ20を流路40の途中部位に配置しても良い。
In the coating apparatus S10 of the present embodiment, the ultraviolet lamp 20 is disposed on the side of the container 10 and the photocatalyst ink X is activated by irradiating the photocatalyst ink X stored in the container 10 with ultraviolet rays. I let you. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 4, an ultraviolet lamp 20 is disposed in the middle of the flow path 40 and the photocatalyst ink X flowing through the flow path 40 is irradiated with ultraviolet light. You may do it. This also makes it possible to activate the photocatalyst ink X.
For example, when the photocatalyst ink X is preferably exposed for a long time, the ultraviolet lamp 20 is disposed on the side of the container 10, and when the photocatalyst ink X is preferably exposed for a short time, the ultraviolet lamp 20. May be arranged in the middle of the flow path 40.

なお、本実施形態の塗布装置S10の具体的な適用例としては、インクジェット装置、スピンコート装置、ロールコート装置、ダイコート装置、ディップコート装置、バーコート装置、スリットコート装置等が挙げられる。
そして、例えば、本実施形態の塗布装置S10をインクジェット装置に適用する場合には、光触媒インクXを塗布する所定領域を有する基板を移動するためのステージ装置が、本実施形態の塗布装置S10に付加される。また、例えば、本実施形態の塗布装置S10をスピンコート装置に適用する場合には、光触媒インクXを塗布する所定領域を有する基板を回転するためのステージ装置が、本実施形態の塗布装置S10に付加される。
このように、本実施形態の塗布装置S10を具体的な装置に適用する場合には、その適用される装置に応じて必要な構成が付加されることとなる。
Note that specific application examples of the coating apparatus S10 of the present embodiment include an inkjet apparatus, a spin coat apparatus, a roll coat apparatus, a die coat apparatus, a dip coat apparatus, a bar coat apparatus, a slit coat apparatus, and the like.
For example, when the coating apparatus S10 of this embodiment is applied to an ink jet apparatus, a stage apparatus for moving a substrate having a predetermined region to which the photocatalyst ink X is applied is added to the coating apparatus S10 of this embodiment. Is done. Further, for example, when the coating apparatus S10 of the present embodiment is applied to a spin coating apparatus, a stage apparatus for rotating a substrate having a predetermined region to which the photocatalytic ink X is applied is applied to the coating apparatus S10 of the present embodiment. Added.
Thus, when applying the coating apparatus S10 of this embodiment to a specific apparatus, a required structure will be added according to the apparatus applied.

次に、このような塗布装置S10を使用するデバイスの製造工程について説明する。なお、上記実施形態の塗布装置S10は、種々のデバイスの製造工程に用いることができるが、ここではその具体例として、カラーフィルタの製造方法について説明する。   Next, a manufacturing process of a device using such a coating apparatus S10 will be described. The coating apparatus S10 of the above embodiment can be used in various device manufacturing processes. Here, a color filter manufacturing method will be described as a specific example.

まず、図5に示すように、透明の基板742の一方の面に対し、撥液性を有する隔壁706を形成する。この隔壁706を形成する際には、光透過性のない樹脂(好ましくは黒色樹脂)を、所定の方法で所定の厚さ(例えば2μm程度)に塗布し、フォトリソグラフィー技術を用いてパターニングする。あるいは、インクジェットプロセスを用いることもできる。
なお、リソグラフィ法を使用する場合は、所定の方法で隔壁の高さに合わせて有機材料を塗布し、その上にレジスト層を塗布する。そして、隔壁形状に合わせてマスクを施しレジストを露光・現像することにより隔壁形状に合わせたレジストを残す。最後にエッチングしてマスク以外の部分の隔壁材料を除去する。また、下層が無機物で上層が有機物で構成された2層以上で隔壁を形成してもよい。
First, as shown in FIG. 5, a partition wall 706 having liquid repellency is formed on one surface of a transparent substrate 742. When the partition 706 is formed, a non-light-transmitting resin (preferably a black resin) is applied to a predetermined thickness (for example, about 2 μm) by a predetermined method, and is patterned using a photolithography technique. Alternatively, an inkjet process can be used.
In the case of using the lithography method, an organic material is applied in accordance with the height of the partition wall by a predetermined method, and a resist layer is applied thereon. Then, a mask is applied according to the shape of the partition wall, and the resist is exposed and developed to leave the resist according to the partition wall shape. Finally, the partition wall material other than the mask is removed by etching. Further, the partition walls may be formed of two or more layers in which the lower layer is made of an inorganic material and the upper layer is made of an organic material.

続いて、図6に示すように、基板742上に親液層710を形成する。ここでは、親液性の酸化チタン微粒子をアルコールに分散させた酸化チタン分散液(光触媒インクX)を上記実施形態の塗布装置により全面的に一括塗布する。
酸化チタン微粒子としては、平均粒径が1〜500nmであることが好ましく、特に5〜100nmが望ましい。また、分散媒としては水やアルコール類、例えばメタノール、エタノール、i−プロパノール、n−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、t−ブタノール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、エチレングリコール等を例示でき、これら2種以上を組み合わせて使用することも可能である。
Subsequently, as shown in FIG. 6, a lyophilic layer 710 is formed on the substrate 742. Here, a titanium oxide dispersion (photocatalyst ink X) in which lyophilic titanium oxide fine particles are dispersed in alcohol is applied all over the surface by the coating apparatus of the above embodiment.
The titanium oxide fine particles preferably have an average particle diameter of 1 to 500 nm, particularly 5 to 100 nm. Examples of the dispersion medium include water and alcohols such as methanol, ethanol, i-propanol, n-propanol, n-butanol, i-butanol, t-butanol, methoxyethanol, ethoxyethanol, and ethylene glycol. Two or more kinds can be used in combination.

この酸化チタン分散液を0.2wt%の濃度で、基板742に500rpmでスピンコート塗布を行った。
ここで、基板742の全面に塗布された酸化チタン分散液は、隔壁706が撥液性を有しているため、隔壁706からはじかれて画素部であるフィルタエレメント形成領域707に導入される。また、この分散液はアルコールが分散媒であるため、フィルタエレメント形成領域707に導入された後に直ちに蒸発・乾燥して透明層として製膜される。
This titanium oxide dispersion was spin-coated on the substrate 742 at a concentration of 0.2 wt% at 500 rpm.
Here, the titanium oxide dispersion applied to the entire surface of the substrate 742 is repelled from the partition 706 and introduced into the filter element formation region 707 which is a pixel portion because the partition 706 has liquid repellency. Further, since this dispersion liquid is alcohol as a dispersion medium, it is evaporated and dried immediately after being introduced into the filter element forming region 707 to form a transparent layer.

次に、図7に示すように、Rの液滴790R(液状体)を吐出し、これを基板742上の親液層710に着弾させる。ここで、フィルタエレメント形成領域707に親液層が製膜されておらず、基板742に液滴790Rを着弾させる場合、基板742における接触角は30°程度なので、液滴790Rは十分に濡れ拡がらないが、本実施の形態のように親液層710上に液滴790Rを着弾させる場合、親液層710における接触角は5°以下なので、所定量以上の液滴を吐出することで、フィルタエレメント形成領域707をほぼ全面に亘って濡れ拡がることになる。   Next, as shown in FIG. 7, R droplets 790 </ b> R (liquid material) are discharged and landed on the lyophilic layer 710 on the substrate 742. Here, when the lyophilic layer is not formed on the filter element forming region 707 and the droplet 790R is landed on the substrate 742, the contact angle on the substrate 742 is about 30 °, so the droplet 790R is sufficiently wet and spread. However, when the droplet 790R is landed on the lyophilic layer 710 as in the present embodiment, the contact angle in the lyophilic layer 710 is 5 ° or less, so by discharging a predetermined amount or more of droplets, The filter element formation region 707 spreads over almost the entire surface.

なお、フィルタエレメント形成領域707に吐出する液滴790Rの量については、加熱工程における液状体の体積減少を考慮した十分な量とする。次いで、液状体の仮焼成を行い、図8に示すようなR着色層703Rとする。以上の工程を、R、G、Bの各色について繰り返し、図9に示すように、着色層703G,703Bを順次形成する。着色層703R,703G,703Bを全て形成した後、着色層703R,703G,703Bを一括して焼成する。   Note that the amount of the droplets 790R discharged to the filter element formation region 707 is a sufficient amount considering the volume reduction of the liquid material in the heating process. Next, the liquid is temporarily fired to form an R colored layer 703R as shown in FIG. The above steps are repeated for each color of R, G, and B, and colored layers 703G and 703B are sequentially formed as shown in FIG. After all the colored layers 703R, 703G, and 703B are formed, the colored layers 703R, 703G, and 703B are baked together.

次に、基板742を平坦化し、かつ着色層703R,703G,703Bを保護するため、図10に示すように各着色層703R,703G,703Bや隔壁706を覆うオーバーコート膜(保護膜)704を形成する。
そして、以上の工程によってカラーフィルタが製造される。
Next, in order to planarize the substrate 742 and protect the colored layers 703R, 703G, and 703B, as shown in FIG. Form.
And a color filter is manufactured by the above process.

このような上記実施形態の塗布装置及び方法を用いたデバイスの製造方法によれば、塗布装置から、既に活性化された光触媒インクXが基板742に塗布される。このため、光触媒インクXの塗布後に別途露光処理を行うことなく親液層710を形成することができる。したがって、光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止することが可能となる。   According to the device manufacturing method using the coating apparatus and method of the above embodiment, the already activated photocatalyst ink X is applied to the substrate 742 from the coating apparatus. Therefore, the lyophilic layer 710 can be formed without performing a separate exposure process after the photocatalyst ink X is applied. Therefore, it is possible to suppress an increase in manufacturing cost caused by using the photocatalyst ink.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る光触媒インク保管装置及び方法、塗布装置及び方法の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the photocatalyst ink storage device and method, the coating device and the method according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings. However, it goes without saying that the present invention is not limited to the above embodiment. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described embodiments are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

本発明の一実施形態である保管装置の概略構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed schematic structure of the storage apparatus which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である保管装置の変形例である。It is a modification of the storage apparatus which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置の概略構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed schematic structure of the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置の変形例である。It is a modification of the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置を用いたデバイスの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the device using the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置を用いたデバイスの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the device using the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置を用いたデバイスの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the device using the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置を用いたデバイスの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the device using the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置を用いたデバイスの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the device using the coating device which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態である塗布装置を用いたデバイスの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the device using the coating device which is one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

S1……保管装置、S10……塗布装置、X……光触媒インク、1,30……容器、2,30……紫外線ランプ(光源装置)、3,30……攪拌装置、40……流路、50……吐出部   S1 ... Storage device, S10 ... Coating device, X ... Photocatalyst ink, 1,30 ... Container, 2,30 ... UV lamp (light source device), 3,30 ... Agitator, 40 ... Flow path , 50 …… Discharge section

Claims (11)

所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクの保管装置であって、
前記光触媒インクを貯留する容器と、
前記容器内に貯留された前記光触媒インクに対して前記所定の波長の光を照射する光源装置と
を備えることを特徴とする光触媒インク保管装置。
A photocatalyst ink storage device activated by irradiation with light of a predetermined wavelength,
A container for storing the photocatalytic ink;
A photocatalyst ink storage device, comprising: a light source device that irradiates the photocatalyst ink stored in the container with light of the predetermined wavelength.
前記容器内に貯留された前記光触媒インクを攪拌する攪拌手段を備えることを特徴とする請求項1記載の光触媒インク保管装置。 The photocatalyst ink storage device according to claim 1, further comprising a stirring unit that stirs the photocatalyst ink stored in the container. 前記容器が前記所定の波長の光に対して透光性を有しており、さらに前記容器が、前記光源装置を収納可能でかつ前記容器内に貯留される前記光触媒インクの液面より下方に位置する凹部を備えることを特徴とする請求項1または2記載の光触媒インク保管装置。 The container is translucent to the light of the predetermined wavelength, and the container is capable of storing the light source device and is below the liquid surface of the photocatalyst ink stored in the container. The photocatalyst ink storage device according to claim 1, further comprising a recessed portion positioned. 前記光触媒インクは、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビヒマス、及び酸化鉄から選択される少なくとも1種類からなる微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の光触媒インク保管装置。 4. The photocatalyst ink contains fine particles made of at least one selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, strontium titanate, tungsten oxide, bihumic oxide, and iron oxide. The photocatalyst ink storage device according to any one of the above. 所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクの保管方法であって、
前記光触媒インクに対して前記所定の波長の光を照射可能な状態で前記光触媒インクを保管することを特徴とする光触媒インク保管方法。
A method of storing a photocatalytic ink that is activated by irradiation with light of a predetermined wavelength,
A photocatalyst ink storage method, wherein the photocatalyst ink is stored in a state where the photocatalyst ink can be irradiated with light of the predetermined wavelength.
所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクを所定領域に塗布する塗布装置であって、
塗布前に前記光触媒インクに対して前記所定の波長の光を照射する光源装置を備えることを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus that coats a predetermined area with a photocatalyst ink that is activated by irradiation with light of a predetermined wavelength,
A coating apparatus comprising a light source device that irradiates the photocatalyst ink with light having the predetermined wavelength before coating.
前記光源装置は、容器内に貯留される前記光触媒インクに対して前記所定の波長の光を照射可能な位置に配置されていることを特徴とする請求項6記載の塗布装置。 The coating apparatus according to claim 6, wherein the light source device is disposed at a position where the photocatalyst ink stored in the container can be irradiated with light having the predetermined wavelength. 前記容器内に貯留された前記光触媒インクを攪拌する攪拌手段を備えることを特徴とする請求項7記載の塗布装置。 The coating apparatus according to claim 7, further comprising a stirring unit that stirs the photocatalyst ink stored in the container. 前記容器が前記所定の波長の光に対して透光性を有しており、さらに前記容器が、前記光源装置を収納可能でかつ前記容器内に貯留される前記光触媒インクの液面より下方に位置する凹部を備えることを特徴とする請求項7または8記載の塗布装置。 The container is translucent to the light of the predetermined wavelength, and the container is capable of storing the light source device and is below the liquid surface of the photocatalyst ink stored in the container. The coating apparatus according to claim 7, further comprising a recessed portion that is positioned. 前記光源装置は、流路を流れる前記光触媒インクに対して前記所定の波長の光を照射可能な位置に配置されていることを特徴とする請求項6記載の塗布装置。 The coating apparatus according to claim 6, wherein the light source device is disposed at a position where the photocatalyst ink flowing in the flow path can be irradiated with light of the predetermined wavelength. 所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクを所定領域に塗布する塗布方法であって、
塗布前に前記光触媒インクに対して前記所定の波長の光を照射することを特徴とする塗布方法。
A coating method for coating a predetermined area with a photocatalyst ink that is activated by irradiation with light of a predetermined wavelength,
A coating method comprising irradiating the photocatalyst ink with light having a predetermined wavelength before coating.
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