JP2007073421A - Shadow mask and picture tube - Google Patents

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JP2007073421A JP2005261104A JP2005261104A JP2007073421A JP 2007073421 A JP2007073421 A JP 2007073421A JP 2005261104 A JP2005261104 A JP 2005261104A JP 2005261104 A JP2005261104 A JP 2005261104A JP 2007073421 A JP2007073421 A JP 2007073421A
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啓文 秀島
Toshihiro Hatori
敏洋 羽鳥
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a shadow mask that is resistant to deformations such as a depression even when an impact or vibrations are applied to a cathode-ray tube and/or a TV set, and a picture tube having the shadow mask. <P>SOLUTION: The shadow mask has a number of penetrating holes 11 arranged in a horizontal direction X and a perpendicular direction Y of a mask body 1a, the penetrating holes 11 being formed of a rear-side hole part 13 and a front-side hole part 12 that communicate with each other, wherein the rear-side hole part 13 is located on a side on which an electron beam is incident, while the front-side hole part 12 is located on a side from which the electron beam exits. The shadow mask forms a beam spot having a predetermined shape on a phosphor layer of the cathode-ray tube. A number of recesses 15 are formed in a center portion of a surface of the shadow mask located on the side on which the electron beam is incident. The recesses 15 are preferably half-etching holes of one or a plurality of types of selected from circular, rectangular, and polygonal shapes. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、シャドウマスク及び受像管に関し、特にフロントパネル表面を平面化したフラット型のカラーブラウン管に好ましく使用される衝撃強度に優れたシャドウマスク、及びそのシャドウマスクを装着した受像管に関するものである。   BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shadow mask and a picture tube, and more particularly to a shadow mask excellent in impact strength that is preferably used for a flat color CRT with a flat front panel surface, and a picture tube equipped with the shadow mask. .

図7は、カラーブラウン管(受像管ともいう。)の概略構造の一例を示す断面図である。ブラウン管101は、一般に、前面に配置された略矩形状のフロントパネルと、そのフロントパネルに連結したろうと状のファンネルとで構成された真空管からなるものである。こうしたブラウン管101において、ファンネルのネック部分には、電子銃103が設けられている。この電子銃103は、フロントパネル内面に塗布された3原色(R,G,B)の蛍光体102を発光させるための3種類の電子ビーム105を放出する。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a schematic structure of a color cathode ray tube (also referred to as a picture tube). The CRT 101 is generally a vacuum tube composed of a substantially rectangular front panel disposed on the front surface and a funnel-shaped funnel connected to the front panel. In such a cathode ray tube 101, an electron gun 103 is provided at the neck portion of the funnel. The electron gun 103 emits three types of electron beams 105 for causing the three primary color (R, G, B) phosphors 102 applied to the inner surface of the front panel to emit light.

フロントパネル内面には、蛍光体102とわずかな隙間を隔てて対向するシャドウマスク1が設けられている。このシャドウマスク1は、電子銃103からの電子ビーム105を通過させ、所定の蛍光体102に当たるように規則正しく配列されたドット型の円形孔又はスロット型の矩形孔を有している。こうした構成からなるカラーブラウン管101において、電子銃103から放出した3種類の電子ビーム105は、偏向ヨーク104により発生する磁界で水平及び垂直に走査され、シャドウマスク1を通過して蛍光体102の所定位置にランディングし、その蛍光体102を発光させて画像を形成させている。   On the inner surface of the front panel, there is provided a shadow mask 1 facing the phosphor 102 with a slight gap. The shadow mask 1 has dot-shaped circular holes or slot-shaped rectangular holes that are regularly arranged so as to pass the electron beam 105 from the electron gun 103 and hit a predetermined phosphor 102. In the color cathode ray tube 101 having such a configuration, the three types of electron beams 105 emitted from the electron gun 103 are scanned horizontally and vertically by a magnetic field generated by the deflection yoke 104, pass through the shadow mask 1, and have a predetermined content of the phosphor 102. Landing at the position, the phosphor 102 emits light to form an image.

図10は、カラーブラウン管が備えるシャドウマスクの一例を示す模式的な平面図である。なお、図10のシャドウマスクは、矩形孔を有するシャドウマスクの一例である。シャドウマスク1は、略矩形状のマスク本体1aを有しており、そのマスク本体1aには、厚さ方向に貫通する略矩形状の貫通孔を有するスロット2(2a,2b,2c,2dを含む)が平面視での水平方向X及び垂直方向Yに多数配列されている。なお、本願では、貫通孔とその貫通孔を形成する表側孔部及び裏側孔部とで構成されるスロット型の単位を「スロット」と呼ぶ。また、図10において、符号6はマスク本体1aの対向する隅部を連結する2つの対角軸5,5の交点で表される中心点(中心ともいう。)であり、符号3はその中心点6を通る水平軸であり、符号4はその中心点6を通る垂直軸である。スロット2aはマスク本体1aの中心点6でのスロットであり、スロット2bは垂直軸4上の外周部のスロットであり、スロット2cは水平軸3上の外周部のスロットであり、スロット2dは対角軸5上の外周部のスロットであり、符号1bはマスク本体1aの外側にあってプレス加工により折り曲げられるスカート部である。この図10は模式図であり、スロットを大きく誇張して表している。   FIG. 10 is a schematic plan view showing an example of a shadow mask provided in the color cathode ray tube. Note that the shadow mask of FIG. 10 is an example of a shadow mask having a rectangular hole. The shadow mask 1 has a substantially rectangular mask body 1a, and the mask body 1a has slots 2 (2a, 2b, 2c, 2d) having substantially rectangular through holes penetrating in the thickness direction. Are arranged in the horizontal direction X and the vertical direction Y in plan view. In the present application, a slot type unit composed of a through hole and a front side hole part and a back side hole part forming the through hole is referred to as a “slot”. In FIG. 10, reference numeral 6 denotes a center point (also referred to as a center) represented by the intersection of two diagonal axes 5 and 5 that connect opposite corners of the mask body 1a, and reference numeral 3 denotes the center. A horizontal axis that passes through the point 6, and a reference numeral 4 is a vertical axis that passes through the center point 6. The slot 2a is a slot at the center point 6 of the mask body 1a, the slot 2b is an outer peripheral slot on the vertical axis 4, the slot 2c is an outer peripheral slot on the horizontal axis 3, and the slot 2d is a pair. Reference numeral 1b denotes a skirt portion that is outside the mask main body 1a and is bent by press working. FIG. 10 is a schematic diagram, and the slot is greatly exaggerated.

図11は、マスク本体1aの各部に形成されるスロットの形状を示す模式的な平面図である。符号11はスロットが有する貫通孔であり、この貫通孔11は、エッチングにより形成される表側孔部12と裏側孔部13とが連通することにより形成される。裏側孔部13は電子ビーム7が入射する側に形成され、表側孔部12は電子ビーム7が出射する側に形成されている。これらの裏側孔部13と表側孔部12は略矩形状になるように形成されており、表側孔部12は電子ビーム7が貫通孔11を通過した後に邪魔とならないように大きな面積で形成されている。なお、下記特許文献1に挙げるシャドウマスクは、従来提案されているシャドウマスクの一例である。
特開平5−6741号公報
FIG. 11 is a schematic plan view showing the shape of the slot formed in each part of the mask main body 1a. Reference numeral 11 denotes a through hole included in the slot. The through hole 11 is formed by communicating the front side hole 12 and the back side hole 13 formed by etching. The back hole 13 is formed on the side on which the electron beam 7 is incident, and the front hole 12 is formed on the side on which the electron beam 7 is emitted. The back side hole 13 and the front side hole 12 are formed to have a substantially rectangular shape, and the front side hole 12 is formed with a large area so as not to get in the way after the electron beam 7 passes through the through hole 11. ing. The shadow mask listed in Patent Document 1 below is an example of a conventionally proposed shadow mask.
JP-A-5-6741

上述したようなシャドウマスクを備えたブラウン管は、製品の出荷時や輸送時、またTVセットに組み込まれた後の出荷時や輸送時において、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によるシャドウマスクの変形の問題がある。   A cathode ray tube equipped with a shadow mask as described above is deformed by a shock or vibration applied to the cathode ray tube or the TV set at the time of shipment or transportation of the product, or at the time of shipment or transportation after being incorporated into the TV set. There is a problem.

すなわち、近年、図7に示すような高い偏向角を有する薄型ブラウン管が開発されており、シャドウマスクに形成されたスロットへの入射角が特に外周部で顕著に大きくなってきている。そのため、近年のブラウン管においては、薄型化とフロントパネル表面のフラット化の要求が顕著であり、フロントパネル内面に装着されるシャドウマスクにおいても、フラット化と薄板化が進んでいると共に、電子ビームが貫通孔を通過した後に邪魔とならないように特に外周部での表側孔部が大きな面積で形成されている。   That is, in recent years, a thin cathode ray tube having a high deflection angle as shown in FIG. 7 has been developed, and the incident angle to the slot formed in the shadow mask has been remarkably increased particularly at the outer peripheral portion. Therefore, the demand for thinning and flattening of the front panel surface is remarkable in the recent cathode ray tube, and the flattening and thinning of the shadow mask mounted on the inner surface of the front panel are also progressing, and the electron beam is In order not to get in the way after passing through the through hole, the front side hole part in the outer peripheral part is formed with a large area.

こうしたシャドウマスクを備えたブラウン管やTVセットに衝撃を加えると、シャドウマスクの中央部分に略楕円形の凹み121が波のように発生し(図13(A)を参照)、その後、その凹み121が上下方向に延びる縦波122に変化し(図13(B)を参照)、その後、左右方向に縦波123が流れて消えていくという変形挙動が見られた(図13(C)を参照)。このとき、従来のシャドウマスク1においては、図12に示すように、その中央部分に凹みが残る割合が高いことが確認された。シャドウマスク1に凹みが残ると、所定の蛍光体102に電子ビームが正しく照射されず、その結果、カラーブラウン管101のカラー映像が忠実に再現されず、画質が著しく低下するという問題が生じる。   When an impact is applied to the cathode ray tube or TV set provided with such a shadow mask, a substantially elliptical recess 121 is generated like a wave in the central portion of the shadow mask (see FIG. 13A). Changed to a longitudinal wave 122 extending in the vertical direction (see FIG. 13B), and thereafter, a deformation behavior was observed in which the longitudinal wave 123 flows and disappears in the lateral direction (see FIG. 13C). ). At this time, in the conventional shadow mask 1, as shown in FIG. 12, it was confirmed that the ratio with which a dent remains in the center part is high. If the dent remains in the shadow mask 1, the predetermined phosphor 102 is not correctly irradiated with the electron beam. As a result, the color image of the color cathode ray tube 101 is not faithfully reproduced and the image quality is remarkably deteriorated.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、ブラウン管やTVセットに衝撃又は振動が加わっても凹み等の変形が残り難いシャドウマスク及びそのシャドウマスクを備えた受像管を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and has as its object the provision of a shadow mask and its shadow mask that are unlikely to retain deformation such as dents even when impact or vibration is applied to a CRT or TV set. It is to provide a picture tube.

本発明者は、上記課題解決のための研究を行っている過程で、シャドウマスクの自重を軽くすると共に、凹みが残る中央部分の厚さ方向の重心を工夫することによって、衝撃等によって一瞬凹みが発生したとしても、その凹みが永久的な凹みとして残り難いことを見出し、その知見に基づいて本発明を完成させた。   In the course of conducting research to solve the above problems, the inventor reduced the weight of the shadow mask and devised the center of gravity in the thickness direction of the central portion where the dent remained, thereby causing a dent for a moment due to impact or the like. Even if this occurred, it was found that the dent hardly remained as a permanent dent, and the present invention was completed based on the knowledge.

上記課題を解決するための本発明のシャドウマスクは、電子ビームが入射する側の裏側孔部と、電子ビームが出射する側の表側孔部とが連通した貫通孔をマスク本体の水平方向及び垂直方向に多数配列してなり、ブラウン管の蛍光体上に所定形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、前記電子ビームが入射する側のシャドウマスク表面の少なくとも中央部分に多数の凹部が形成されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the shadow mask of the present invention has a through-hole in which the back side hole on the side on which the electron beam is incident and the front side hole on the side on which the electron beam is emitted communicates with the mask body in the horizontal and vertical directions. In a shadow mask that is arranged in a large number in a direction and forms a beam spot of a predetermined shape on a phosphor of a cathode ray tube, a large number of recesses are formed at least in the central part of the shadow mask surface on which the electron beam is incident It is characterized by that.

この発明によれば、電子ビームが入射する側(以下、電子銃側ともいう。)のシャドウマスク表面の少なくとも中央部分に多数の凹部が形成されているので、特にシャドウマスクの中央部分を軽量化することができる。その結果、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によっても、シャドウマスクの自重に基づく大きな変形が生じ難いので、マスク全体の変形挙動が小さくなり、結果として永久的な凹みを防ぐことができる。   According to the present invention, since a large number of recesses are formed at least in the central portion of the shadow mask surface on the side on which the electron beam is incident (hereinafter also referred to as the electron gun side), particularly the central portion of the shadow mask is reduced in weight. can do. As a result, even when an impact or vibration is applied to the cathode ray tube or the TV set, a large deformation based on the weight of the shadow mask is unlikely to occur, so that the deformation behavior of the entire mask is reduced, and permanent dents can be prevented as a result.

また、従来のシャドウマスクは開口面積の大きな表側孔部がフロントパネル側に形成されているので、特に中央部分での厚さ方向の重心が電子銃側のシャドウマスク表面近傍に存在しているが、本発明のシャドウマスクは、多数の凹部が電子銃側のシャドウマスク表面の少なくとも中央部分に形成されているので、特に中央部分での厚さ方向の重心が厚さ方向の中心側にシフトする。こうした重心位置を有するシャドウマスクは、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によっても、永久的な凹みが残る割合が小さく、耐衝撃性に優れたシャドウマスクとなる。   In addition, since the conventional shadow mask has a front hole with a large opening area formed on the front panel side, the center of gravity in the thickness direction, especially in the center, exists near the shadow mask surface on the electron gun side. In the shadow mask of the present invention, since a large number of recesses are formed at least in the central part of the shadow mask surface on the electron gun side, the center of gravity in the thickness direction at the central part is shifted to the center side in the thickness direction. . The shadow mask having such a position of the center of gravity is a shadow mask having a small ratio of permanent dents remaining even by impact or vibration applied to a cathode ray tube or a TV set, and having excellent impact resistance.

本発明のシャドウマスクにおいて、前記凹部が、マスク本体の中央部分のみに形成されていることを特徴とする。   In the shadow mask of the present invention, the concave portion is formed only in the central portion of the mask body.

この発明によれば、電子銃側のシャドウマスク表面に形成される凹部がマスク本体の中央部分のみに形成されているので、特に中央部分の重量を相対的に軽量化できると共に、中央部分での厚さ方向の重心を厚さ方向の中心側にシフトすることができる。その結果、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によっても、永久的な凹みが残るのを防ぐことができる。   According to the present invention, since the concave portion formed on the surface of the shadow mask on the electron gun side is formed only in the central portion of the mask body, particularly the weight of the central portion can be relatively reduced, and at the central portion, The center of gravity in the thickness direction can be shifted to the center side in the thickness direction. As a result, it is possible to prevent permanent dents from remaining due to shock or vibration applied to the cathode ray tube or the TV set.

本発明のシャドウマスクにおいて、前記凹部が形成された領域での単位面積当たりの凹部の開口面積率が、マスク本体の中心から外周側に向かうにしたがって連続的又は段階的に減少していることを特徴とする。   In the shadow mask of the present invention, the opening area ratio of the concave portion per unit area in the region where the concave portion is formed decreases continuously or stepwise from the center of the mask body toward the outer peripheral side. Features.

この発明によれば、凹部が形成された領域での単位面積当たりに含まれる凹部の開口面積率が、マスク本体の中心から外周側に向かうにしたがって連続的又は段階的に減少しているので、そのシャドウマスクの部分的な重量を外周側から中心に向かって徐々に軽くすることができる。こうしたシャドウマスクは、強度バランスが極めて規則的になるので、ブラウン管に装着した後に衝撃等の応力が加わってもシャドウマスクの変形が起こり難く、永久的な凹みが残るのを防ぐことができる。   According to this invention, since the opening area ratio of the concave portion included per unit area in the region where the concave portion is formed decreases continuously or stepwise from the center of the mask body toward the outer peripheral side, The partial weight of the shadow mask can be gradually reduced from the outer peripheral side toward the center. Such a shadow mask has a very regular strength balance, so that it is difficult for the shadow mask to be deformed even when stress such as impact is applied after being mounted on the cathode ray tube, and it is possible to prevent permanent dents from remaining.

本発明のシャドウマスクにおいて、前記凹部が、円形、矩形及び多角形から選ばれる1種又は2種以上のハーフエッチング孔であることを特徴とする。   The shadow mask of the present invention is characterized in that the recess is one or more half-etched holes selected from a circle, a rectangle and a polygon.

この発明によれば、凹部が、円形、矩形及び多角形から選ばれる1種又は2種以上のハーフエッチング孔であるので、裏側孔部のエッチング時等に併せてエッチング加工できる。その結果、永久的な凹みが残り難いシャドウマスクを低コストで得ることができる。   According to this invention, since the recess is one or more half-etched holes selected from a circle, a rectangle, and a polygon, etching can be performed together with the etching of the back side hole. As a result, a shadow mask in which permanent dents are hardly left can be obtained at low cost.

本発明のシャドウマスクにおいて、マスク本体の中央部分に形成された表側孔部の水平方向の幅が、マスク本体の左右両側に形成された表側孔部の水平方向の幅よりも小さいことを特徴とする。   In the shadow mask of the present invention, the horizontal width of the front hole formed in the central portion of the mask body is smaller than the horizontal width of the front hole formed on the left and right sides of the mask main body. To do.

この発明によれば、中央部分に形成された表側孔部の水平方向の幅を相対的に小さくしたので、上記の凹部と相まって、シャドウマスクの厚さ方向の重心を厚さ方向の中心側にシフトすることができる。こうした構造形態からなるシャドウマスクは、その中央部分の軽量化を実現できると共に、衝撃等が加わっても大きな凹みが発生し難く、その結果、永久的な凹みが残る割合が小さく、耐衝撃性に優れたシャドウマスクとなる。   According to the present invention, since the horizontal width of the front hole formed in the central portion is relatively small, the center of gravity of the shadow mask in the thickness direction is coupled to the center of the thickness direction in combination with the recess. Can be shifted. A shadow mask with such a structural form can reduce the weight of its central part, and it is difficult for large dents to occur even when impact is applied. As a result, the percentage of permanent dents remains small, resulting in high impact resistance. It becomes an excellent shadow mask.

上記課題を解決するための本発明の受像管は、上記本発明のシャドウマスクを有することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a picture tube of the present invention has the shadow mask of the present invention.

この発明によれば、上記のようなシャドウマスクを備えるので、ブラウン管やTVセットに衝撃又は振動が加わった場合であっても、カラー映像を忠実に再現でき、画質の低下が起こらない。   According to the present invention, since the shadow mask as described above is provided, even when an impact or vibration is applied to the cathode ray tube or the TV set, a color image can be faithfully reproduced and image quality does not deteriorate.

本発明のシャドウマスクによれば、特に中央部分を軽量化することができると共に、特に中央部分での厚さ方向の重心が厚さ方向の中心側にシフトするので、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によっても、シャドウマスクの自重に基づく大きな変形が生じ難い。その結果、シャドウマスクに永久的な凹みが残るのを防ぐことができる。また、本発明の受像管によれば、ブラウン管やTVセットに衝撃又は振動が加わった場合であっても、カラー映像を忠実に再現でき、画質の低下が起こらない。   According to the shadow mask of the present invention, the center portion can be particularly reduced in weight, and the center of gravity in the thickness direction at the center portion is shifted to the center side in the thickness direction. Alternatively, large deformation based on the weight of the shadow mask hardly occurs due to vibration. As a result, it is possible to prevent permanent dents from remaining in the shadow mask. Further, according to the picture tube of the present invention, even when an impact or vibration is applied to the cathode ray tube or the TV set, a color image can be faithfully reproduced, and image quality does not deteriorate.

なお、本発明のシャドウマスクにおいて、電子銃側に多数の凹部が形成されているので、そうした凹部により表面積が大きくなる。その結果、電子ビームが照射された際の熱によるドーミング現象(doming pattern。電子ビームにより発生する熱でシャドウマスクが変形し色ムラが生じる現象のこと。)を低減する効果も併せ持っている。その結果、特にドーミング現象により影響を受け易い高偏向角を有する薄型ブラウン管用のシャドウマスクとして好ましい。   In the shadow mask of the present invention, since many concave portions are formed on the electron gun side, the surface area is increased by the concave portions. As a result, it also has an effect of reducing the doming phenomenon (doming pattern, which is a phenomenon in which the shadow mask is deformed by heat generated by the electron beam and color unevenness occurs) when the electron beam is irradiated. As a result, it is preferable as a shadow mask for a thin cathode ray tube having a high deflection angle that is easily affected by a doming phenomenon.

以下、本発明のシャドウマスク及び受像管について図面を参照しつつ説明する。本発明は以下で説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を含む各種の形態を包含する。   The shadow mask and picture tube of the present invention will be described below with reference to the drawings. The present invention is not limited to the embodiments described below, but includes various forms including the technical idea of the present invention.

本発明のシャドウマスクは、金属薄板をエッチング加工することにより、所定の形状の貫通孔を所定のパターンで形成したものである。そのパターンは、通常、貫通孔を略最密充填構造又はそれに近似する構造で配列してなるものである。こうした形状のシャドウマスクは、ブラウン管に装着されて、蛍光体に所定形状のビームスポットを形成するために使用される。ビームスポットの形状は、円形、又は略矩形形状からなるスロット形の何れでもよく、何れの場合にも本発明を適用できる。図1〜図3においては、蛍光体にスロット形のビームスポットを形成する、矩形形状の貫通孔を有するスロットタイプのシャドウマスクについて説明し、図6においては、蛍光体に円形のビームスポットを形成する、円形状の貫通孔を有するドットタイプのシャドウマスクについて説明する。なお、各部に形成される貫通孔の位置関係は、図10及び図11示したように、スロットタイプのシャドウマスクについて説明した通りである。   The shadow mask of the present invention is obtained by etching through a thin metal plate to form through holes having a predetermined shape in a predetermined pattern. The pattern is usually formed by arranging the through holes in a substantially close-packed structure or a structure similar thereto. The shadow mask having such a shape is attached to a cathode ray tube and used to form a beam spot having a predetermined shape on the phosphor. The shape of the beam spot may be either a circular shape or a slot shape having a substantially rectangular shape, and the present invention can be applied to any case. 1 to 3, a slot-type shadow mask having a rectangular through-hole that forms a slot-shaped beam spot in the phosphor will be described. In FIG. 6, a circular beam spot is formed in the phosphor. A dot-type shadow mask having circular through holes will be described. The positional relationship of the through holes formed in each part is the same as that described for the slot type shadow mask as shown in FIGS.

図1は、本発明のシャドウマスクの一例を示す部分平面図及び部分断面図である。図1(A)はシャドウマスクの中心に形成されたスロットの平面形状と断面形状を示し、図1(B)はシャドウマスクの水平軸上の右方向外周に形成されたスロットの平面形状と断面形状を示している。   FIG. 1 is a partial plan view and a partial sectional view showing an example of the shadow mask of the present invention. 1A shows the planar shape and cross-sectional shape of the slot formed at the center of the shadow mask, and FIG. 1B shows the planar shape and cross-sectional shape of the slot formed on the outer periphery in the right direction on the horizontal axis of the shadow mask. The shape is shown.

図1に示すシャドウマスクは、電子ビームが入射する側(以下、電子銃側という)の裏側孔部13と、電子ビームが出射する側(以下、蛍光体側という)の表側孔部12とが連通した略矩形形状の貫通孔11を有するスロット(2a,2c)をマスク本体1aの水平方向X及び垂直方向Yに多数配列してなり、ブラウン管の蛍光体上に矩形形状のビームスポットを形成するシャドウマスクである。本発明のシャドウマスク1は、電子銃側のシャドウマスク表面の少なくとも中央部分に多数の凹部15が形成されている。   In the shadow mask shown in FIG. 1, the back side hole 13 on the side where the electron beam enters (hereinafter referred to as the electron gun side) and the front side hole 12 on the side where the electron beam exits (hereinafter referred to as phosphor side) communicate with each other. A plurality of slots (2a, 2c) having substantially rectangular through-holes 11 arranged in the horizontal direction X and the vertical direction Y of the mask body 1a to form a rectangular beam spot on the cathode ray tube phosphor. It is a mask. In the shadow mask 1 of the present invention, a large number of recesses 15 are formed at least at the center of the shadow mask surface on the electron gun side.

スロットを構成する貫通孔11は、図1に示すように、電子銃側の裏側孔部13と、蛍光体側の表側孔部12とから形成されるスロット型の矩形孔である。表側孔部12は、裏側孔部13よりも大きな開口面積で形成される。こうした貫通孔11は、裏側孔部13の端部や側壁で遮光されない電子ビームのみを通過させ、スロット型のビームスポットをブラウン管の蛍光体上の所定の位置に所定の大きさで形成させる。   As shown in FIG. 1, the through-hole 11 constituting the slot is a slot-type rectangular hole formed by a back-side hole 13 on the electron gun side and a front-side hole 12 on the phosphor side. The front side hole 12 is formed with a larger opening area than the back side hole 13. Such a through hole 11 allows only an electron beam that is not shielded by the end or side wall of the back side hole 13 to pass therethrough, and forms a slot type beam spot at a predetermined size on a phosphor of the cathode ray tube with a predetermined size.

スロットを構成する表側孔部12と裏側孔部13との位置関係は、図10及び図11に示したように、シャドウマスク1の中央部に形成されるスロット2aと、外周部に形成されるスロット2b,2c,2dとで異なっている。さらに、外周部に形成されるスロット2b,2c,2dであっても、図11に示すように、表側孔部12と裏側孔部13との位置関係は、垂直方向Yに形成されたスロット2bと、水平方向Xに形成されたスロット2cと、対角方向に形成されたスロット2dとで異なっている。外周部でのこうした相違は、電子ビームが表側孔部12の外周側側壁で遮光されることを防いだものである。こうした位置関係にすることによって、スロット型のビームスポットをブラウン管の蛍光体上の所定の位置に所定の大きさで形成することができる。   As shown in FIGS. 10 and 11, the positional relationship between the front hole 12 and the back hole 13 constituting the slot is formed in the slot 2a formed in the center of the shadow mask 1 and in the outer periphery. The slot 2b, 2c and 2d are different. Further, even in the slots 2b, 2c, and 2d formed in the outer peripheral portion, the positional relationship between the front side hole portion 12 and the back side hole portion 13 is the slot 2b formed in the vertical direction Y as shown in FIG. And the slot 2c formed in the horizontal direction X is different from the slot 2d formed in the diagonal direction. Such a difference at the outer peripheral portion prevents the electron beam from being blocked by the outer peripheral side wall of the front hole portion 12. With this positional relationship, a slot-type beam spot can be formed at a predetermined size and at a predetermined position on the phosphor of the cathode ray tube.

具体的には、シャドウマスク1の中央部においては、シャドウマスク1に向かって電子ビームがほぼ真っ直ぐに照射されるので、図1(A)及び図11(a)に示すように、裏側孔部13の中心と表側孔部12の中心とがほぼ同じ位置となるように形成されていればよい。一方、シャドウマスク1の外周部においては、シャドウマスク1に向かって電子ビームが斜めに照射されるので、裏側孔部13の中心と表側孔部12の中心とは、図1(B)及び図11(c)に示すように、スロットが形成される位置によって変化させる必要がある。つまり、表面孔部12は、スロットを形成する位置が外周部側に行くにしたがって、裏側孔部13に比べて外側にシフトするように形成される。   Specifically, since the electron beam is irradiated almost straight toward the shadow mask 1 at the center of the shadow mask 1, as shown in FIGS. 1 (A) and 11 (a), the back side hole is formed. The center of 13 and the center of the front side hole part 12 should just be formed so that it may become a substantially the same position. On the other hand, since the electron beam is irradiated obliquely toward the shadow mask 1 at the outer periphery of the shadow mask 1, the center of the back side hole 13 and the center of the front side hole 12 are shown in FIG. 11 (c), it is necessary to change the position depending on the position where the slot is formed. That is, the surface hole portion 12 is formed so as to shift outward as compared with the back side hole portion 13 as the position where the slot is formed goes to the outer peripheral portion side.

次に、凹部について説明する。   Next, the recess will be described.

凹部15は、電子銃側のシャドウマスク表面の少なくとも中央部分であって、裏側孔部13以外の部分に、多数形成されている。特に、凹部15はマスク本体1aの中央部分のみに形成されていることが好ましい。中央部分のみに凹部15を形成することにより、中央部分を相対的に軽量化できると共に、この中央部分でのシャドウマスクの厚さ方向の重心を厚さ方向の中心側にシフトすることができる。その結果、こうしたシャドウマスクを装着したブラウン管やTVセットは、そのブラウン管やTVセットに衝撃又は振動が加わった場合であっても、凹みが発生し易い中央部分での凹みの発生をより一層抑制できると共に、永久的な凹みが残るのを効果的に防ぐことができる。   A large number of the recesses 15 are formed in at least the central portion of the shadow mask surface on the electron gun side and in portions other than the back side hole portion 13. In particular, the recess 15 is preferably formed only in the central portion of the mask body 1a. By forming the concave portion 15 only in the central portion, the central portion can be relatively reduced in weight, and the center of gravity of the shadow mask in the thickness direction at the central portion can be shifted to the center side in the thickness direction. As a result, the cathode ray tube or TV set equipped with such a shadow mask can further suppress the occurrence of a dent in the central portion where the dent is likely to occur even when an impact or vibration is applied to the cathode ray tube or the TV set. At the same time, it is possible to effectively prevent permanent dents from remaining.

なお、凹部15を形成した中央部分を外周部よりも相対的に軽くすれば、中央部分は相対的に重くなった外周部で支えられることになる。その結果、ブラウン管に装着された後に落下衝撃等の応力が加わっても、シャドウマスク1に凹み等の変形が起こり難くなる。   In addition, if the center part which formed the recessed part 15 is made comparatively lighter than an outer peripheral part, a center part will be supported by the outer peripheral part which became relatively heavy. As a result, even if a stress such as a drop impact is applied after being mounted on the cathode ray tube, the shadow mask 1 is hardly deformed such as a dent.

本願において、「中央部分」とは、有孔部分であるマスク本体1aの中心6(図10を参照)からマスク本体1aの周縁まで放射状に仮想線を描いたとき、その仮想線の長さのうち中心6から1/2ないし1/3までの領域をいう。この領域はシャドウマスクの使用サイズにより若干変化するが、少なくとも中心6から1/2ないし1/3までの領域に凹部15を形成することが、本願の目的を達成するためには好ましい。また、「少なくとも中央部分」の「少なくとも」とは、中央部分以外に凹部15を形成すると外周部の強度が却って低下して変形が生じ易くなることから、外周部には凹部15は設ける必要がなく、仮に設ける場合には、強度の低下を生じない程度であれば構わないという程の意味である。   In the present application, the “center portion” means the length of the imaginary line when a phantom line is drawn radially from the center 6 (see FIG. 10) of the mask body 1a which is a perforated portion to the periphery of the mask body 1a. Of these, the region from the center 6 to 1/2 to 1/3 is said. Although this region varies slightly depending on the size of use of the shadow mask, it is preferable to form the recess 15 in at least the region from the center 6 to 1/2 to 1/3 in order to achieve the object of the present application. Further, “at least” of “at least the central portion” means that if the concave portion 15 is formed in a portion other than the central portion, the strength of the outer peripheral portion is lowered and the deformation tends to occur. Therefore, it is necessary to provide the concave portion 15 in the outer peripheral portion. However, if it is provided temporarily, it means that it does not matter as long as it does not cause a decrease in strength.

凹部15は、円形、矩形及び多角形から選ばれる1種又は2種以上のハーフエッチング孔であることが好ましい。円形からなる凹部は、真円、楕円又はそれらに類似する円形状であればよく、その大きさは特に限定されないが、例えば真円又は略真円からなる凹部の直径Lとしては50μm以上150μm以下の範囲をその一例として挙げることができる。また、矩形からなる凹部は、正方形でも長方形でもよく、各辺の長さも特に限定されないが、一辺の長さLとしては50μm以上150μm以下の範囲をその一例として挙げることができる。また、多角形からなる凹部は、三角形でも五角形でも六角形でも八角形でもよく、その大きさも特に限定されないが、上記円形又は矩形の凹部と同程度の大きさで形成されていることが好ましい。   The recess 15 is preferably one or more half-etched holes selected from a circle, a rectangle, and a polygon. The concave portion made of a circle may be a perfect circle, an ellipse, or a similar circular shape, and the size thereof is not particularly limited. For example, the diameter L of the concave portion made of a perfect circle or a substantially perfect circle is 50 μm or more and 150 μm or less. The range can be given as an example. In addition, the rectangular concave portion may be square or rectangular, and the length of each side is not particularly limited, but the length L of one side may be in the range of 50 μm or more and 150 μm or less. Further, the polygonal concave portion may be triangular, pentagonal, hexagonal or octagonal, and the size thereof is not particularly limited, but is preferably formed to have the same size as the circular or rectangular concave portion.

こうした凹部15はハーフエッチング孔として形成される。通常は、裏側孔部13を湿式エッチングする際に使用するエッチングマスクに凹部15を形成するためのパターンを併せて形成し、こうしたエッチングマスクを用いて形成される。したがって、凹部15の形状、大きさ、深さ等は、エッチングマスクに形成した凹部形成用パターンによって制御することができる。なお、凹部はハーフエッチング孔として形成されるので、矩形又は多角形からなる凹部では、そのエッジが丸まり、実際には略矩形又は略多角形になっている。   Such a recess 15 is formed as a half-etched hole. Usually, a pattern for forming the recess 15 is formed together with an etching mask used when the backside hole 13 is wet-etched, and the etching mask is used to form the backside hole 13. Therefore, the shape, size, depth, etc. of the recess 15 can be controlled by the recess forming pattern formed on the etching mask. In addition, since a recessed part is formed as a half-etching hole, in the recessed part which consists of a rectangle or a polygon, the edge is rounded and actually becomes a substantially rectangle or a substantially polygon.

凹部15の深さdとしては、板厚の1/3〜2/3の範囲をその一例として挙げることができる。なお、凹部15はエッチング孔として形成されるので、凹部15の深さdは凹部15の開口部の大きさが大きいほど深くなり、開口部の大きさが小さいほど浅くなる。したがって、凹部15の深さdを調整する場合は、凹部15の大きさを考慮して設定する必要がある。   An example of the depth d of the concave portion 15 is a range of 1/3 to 2/3 of the plate thickness. Since the recess 15 is formed as an etching hole, the depth d of the recess 15 increases as the size of the opening of the recess 15 increases, and decreases as the size of the opening decreases. Therefore, when adjusting the depth d of the recess 15, it is necessary to set it in consideration of the size of the recess 15.

次に、凹部15の具体的な形成例について説明する。図2は、本発明のシャドウマスクの中央部分を蛍光体側(電子ビームが出射する側)からみたときの一例を示す平面図であり、図3は、本発明のシャドウマスクの中央部分を電子銃側(電子ビームが入射する側)からみたときの一例を示す平面図である。本発明においては、蛍光体側には凹部を形成せず、電子銃側のみに凹部15を形成する。凹部15の形成パターンは、図3(A)(B)に例示するように、円形の凹部15a又は矩形の凹部15bを、略最密充填構造又はそれに近似する構造で配列することができる。図3においては、上下に並ぶ凹部15を左右に三列並べるように配置しているが、図示の例に限定されるものではなく、上下方向に並ぶ裏側孔部13間に形成しても構わない。   Next, a specific example of forming the recess 15 will be described. FIG. 2 is a plan view showing an example when the central portion of the shadow mask of the present invention is viewed from the phosphor side (side from which the electron beam is emitted). FIG. 3 is a plan view showing the central portion of the shadow mask of the present invention. It is a top view which shows an example when it sees from the side (side where an electron beam injects). In the present invention, the concave portion is not formed on the phosphor side, and the concave portion 15 is formed only on the electron gun side. In the formation pattern of the recesses 15, as illustrated in FIGS. 3A and 3B, the circular recesses 15 a or the rectangular recesses 15 b can be arranged in a substantially close-packed structure or a structure similar thereto. In FIG. 3, the upper and lower concave portions 15 are arranged so as to be arranged in three rows on the left and right, but is not limited to the illustrated example, and may be formed between the back side hole portions 13 arranged in the vertical direction. Absent.

本発明のシャドウマスク1は、上記のようにシャドウマスクの電子銃側の面に多数の凹部15を形成することにより、シャドウマスクの厚さ方向の重心が厚さ方向の中心側にシフトするという構造的な特徴を備えている。従来のシャドウマスクは開口面積の大きな表側孔部12が蛍光体側に形成されているので、シャドウマスクの厚さ方向の重心が電子銃側のシャドウマスク表面近傍に存在しているが、厚さ方向の中心側に重心位置を有する本発明のシャドウマスクは、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によっても、従来のシャドウマスクに比べて、その中央部分に永久的な凹みが残る割合が小さく、耐衝撃性に優れたシャドウマスクとなることが確認された。   In the shadow mask 1 of the present invention, the center of gravity in the thickness direction of the shadow mask is shifted to the center side in the thickness direction by forming a large number of recesses 15 on the surface of the shadow mask on the electron gun side as described above. It has structural features. In the conventional shadow mask, since the front side hole 12 having a large opening area is formed on the phosphor side, the center of gravity of the shadow mask in the thickness direction exists in the vicinity of the surface of the shadow mask on the electron gun side. The shadow mask of the present invention having a center of gravity position on the center side of the LED has a smaller ratio of permanent dents remaining in the central portion thereof than the conventional shadow mask even by impact or vibration applied to a CRT or TV set. It was confirmed that the shadow mask had excellent impact properties.

凹部15を形成することによりシフトした厚さ方向の重心位置は、シャドウマスクの厚さTを100としたとき、電子銃側の表面から1/3以上2/3以下の範囲であることが好ましい。なお、重心位置の決定は、シャドウマスクの断面写真を撮影し、その断面の厚さ方向の面積分布から求めることができる。   The center of gravity in the thickness direction shifted by forming the recess 15 is preferably in the range of 1/3 to 2/3 from the surface on the electron gun side when the thickness T of the shadow mask is 100. . The position of the center of gravity can be determined from an area distribution in the thickness direction of the cross section obtained by taking a cross-sectional photograph of the shadow mask.

また、本発明においては、図1に示すように、マスク本体1aの中央部分に形成された表側孔部12の水平方向の幅W1を、マスク本体1aの左右両側に形成された表側孔部12の水平方向の幅W2よりも小さくすることができる。   Further, in the present invention, as shown in FIG. 1, the width W1 in the horizontal direction of the front hole 12 formed in the central portion of the mask main body 1a is set to the front hole 12 formed on the left and right sides of the mask main body 1a. Can be made smaller than the horizontal width W2.

マスク本体1aの左右両側においては、電子ビームが斜めに貫通孔11に入射するので、表側孔部12は、貫通孔11を通過した電子ビームを遮蔽しないように貫通孔に対して外周側にシフトすると共に、大きな幅W2で形成される。しかしながら、マスク本体1aの中央部分においては、電子ビームは真っ直ぐに貫通孔11に入射するので、表側孔部12は、貫通孔11に対して外周側にシフトする必要はなく、外周部の表側孔部12と同じ大きさで形成される必要もない。さらに、本発明のシャドウマスクは、特に中央部分において、凹部15を電子銃側の表面に形成して厚さ方向の重心位置を厚さ方向の中心方向にシフトして上記効果を奏する観点から、凹部15を電子銃側の表面に形成すると共に、中央部分に形成された表側孔部12の水平方向の幅W1を、マスク本体1aの左右両側に形成された表側孔部12の水平方向の幅W2よりも小さくした構造とすることができる。中央部分に形成された表側孔部12の水平方向の幅W1をW1<W2とすることによって、従来のようなW1=W2の場合と比べて、厚さ方向の重心位置を厚さ方向の中心方向に容易にシフトすることができるという利点がある。   Since the electron beam is obliquely incident on the through hole 11 on both the left and right sides of the mask body 1a, the front side hole portion 12 is shifted to the outer peripheral side with respect to the through hole so as not to shield the electron beam that has passed through the through hole 11. In addition, it is formed with a large width W2. However, since the electron beam is directly incident on the through hole 11 in the central portion of the mask body 1a, the front side hole portion 12 does not need to be shifted to the outer peripheral side with respect to the through hole 11, and the front side hole in the outer peripheral portion It is not necessary to be formed in the same size as the portion 12. Furthermore, the shadow mask of the present invention has a concave portion 15 formed on the surface on the electron gun side, particularly in the central portion, and shifts the center of gravity in the thickness direction toward the center in the thickness direction from the viewpoint of achieving the above effect. The concave portion 15 is formed on the surface on the electron gun side, and the horizontal width W1 of the front side hole portion 12 formed in the central portion is set as the horizontal width of the front side hole portion 12 formed on the left and right sides of the mask body 1a. It can be set as the structure made smaller than W2. By setting the horizontal width W1 of the front side hole portion 12 formed in the central portion to W1 <W2, the center of gravity position in the thickness direction is the center in the thickness direction as compared with the conventional case of W1 = W2. There is an advantage that it can be easily shifted in the direction.

マスク本体1aの中央部分に形成された表側孔部12の水平方向の幅W1を、マスク本体1aの左右両側に形成された表側孔部12の水平方向の幅W2よりも小さくし、且つ、貫通孔11をいずれも同じ寸法とするには、中央部分のスロットを形成するためのエッチングパターンを工夫する。具体的には、中央部分の表側孔部12のエッチングパターンを、外周部の表側孔部12のエッチングパターンよりも小さくし、中央部分の裏側孔部13のエッチングパターンを、外周部の裏側孔部13のエッチングパターンよりも大きくしてエッチングすれば、中央部分の貫通孔11と外周部の貫通孔11とを同じ大きさにすることができると共に、同時に、表側孔部12と裏側孔部13とが重なる稜線部14を厚さ方向の中心側にシフトすることができる。稜線部14の厚さ方向の中心側へのシフトは、厚さ方向の重心位置を厚さ方向の中心方向にシフトするのに有効である。   The horizontal width W1 of the front side hole portion 12 formed in the central portion of the mask main body 1a is made smaller than the horizontal width W2 of the front side hole portion 12 formed on both the left and right sides of the mask main body 1a and penetrates. In order to make the holes 11 have the same dimensions, an etching pattern for forming a slot in the central portion is devised. Specifically, the etching pattern of the front side hole portion 12 in the central portion is made smaller than the etching pattern of the front side hole portion 12 in the outer peripheral portion, and the etching pattern of the back side hole portion 13 in the central portion is changed to the back side hole portion in the outer peripheral portion. If the etching pattern is made larger than the etching pattern 13, the central portion of the through hole 11 and the outer peripheral portion of the through hole 11 can have the same size, and at the same time, the front side hole portion 12 and the back side hole portion 13 Can be shifted to the center side in the thickness direction. Shifting the ridge line portion 14 toward the center in the thickness direction is effective for shifting the center of gravity in the thickness direction toward the center in the thickness direction.

図4は、シャドウマスクの凹部の開口面積率を連続的又は段階的に変化させた態様の一例を説明する模式的な正面図であり、図5は、他の一例を説明する模式的な正面図である。本発明のシャドウマスクは、凹部15が形成された領域(中央部分)での単位面積当たりに含まれる凹部15の開口面積率が、マスク本体1aの中心6(図10を参照)から外周側に向かうにしたがって連続的又は段階的に減少していることが好ましい。図4及び図5においては、凹部15を中央部分のみに連続的又は段階的に形成している。   FIG. 4 is a schematic front view for explaining an example of a mode in which the opening area ratio of the concave portion of the shadow mask is changed continuously or stepwise, and FIG. 5 is a schematic front view for explaining another example. FIG. In the shadow mask of the present invention, the opening area ratio of the recess 15 included per unit area in the region where the recess 15 is formed (center portion) is from the center 6 (see FIG. 10) of the mask body 1a to the outer peripheral side. It is preferable that it decreases continuously or stepwise as it goes. 4 and 5, the recess 15 is formed continuously or stepwise only in the central portion.

なお、本願において、「凹部15が形成された領域での単位面積当たりの凹部15の開口面積率」とは、凹部15が形成されるマスク本体1aの中央部分において、所定の単位面積を規定したとき、その単位面積Pと、その単位面積P内に含まれる複数の凹部15の開口面積Qとの比(Q/P)で表されるものと定義する。したがって、凹部15の開口面積率が同じ場合であっても、開口面積が大きい凹部を小数形成した場合と、開口面積が小さい凹部を多数形成した場合とで同じ開口面積率になることがある。   In the present application, “the opening area ratio of the recess 15 per unit area in the region where the recess 15 is formed” is defined as a predetermined unit area in the central portion of the mask body 1a where the recess 15 is formed. The unit area P is defined as a ratio (Q / P) between the unit area P and the opening areas Q of the plurality of recesses 15 included in the unit area P. Therefore, even when the opening area ratio of the recess 15 is the same, the opening area ratio may be the same when a small number of recesses with a large opening area are formed and when many recesses with a small opening area are formed.

第一の態様は、図4に示すように、中央部分のみに形成された単位面積当たりの凹部15の開口面積率が、マスク本体1aの中心6からの距離に応じて所定の変化率で連続的又は段階的に変化する態様である。この態様において、中心6からの距離を同じくする同心円上又はその同心円近傍の凹部15の開口面積率は、その値が同じになる。中心6からの距離に応じて変化する開口面積率の変化率は、一次的(一次式)であっても二次的(二次式)であってもよく特に限定されない。こうした態様のシャドウマスク1は、同心円状にほぼ同じ構造形態をとるので、強度的にも同心円状にほぼ同じ分布となる。そのため、シャドウマスク1の強度バランスは極めて規則的になり、シャドウマスク1の強度を中心から外周に向かって徐々に強くすることができる。   In the first mode, as shown in FIG. 4, the opening area ratio of the recess 15 per unit area formed only in the central portion is continuously changed at a predetermined rate according to the distance from the center 6 of the mask body 1a. This is a mode that changes in a stepwise or stepwise manner. In this aspect, the opening area ratio of the recess 15 on or near the concentric circles having the same distance from the center 6 has the same value. The rate of change of the opening area ratio that changes according to the distance from the center 6 may be primary (primary expression) or secondary (secondary expression), and is not particularly limited. Since the shadow mask 1 having such a configuration has substantially the same structure in a concentric manner, the distribution is almost the same in a concentric manner in terms of strength. Therefore, the intensity balance of the shadow mask 1 becomes very regular, and the intensity of the shadow mask 1 can be gradually increased from the center toward the outer periphery.

第二の態様は、図5に示すように、中央部分のみに形成された単位面積当たりの凹部15の開口面積率が、マスク本体1aの中心6からのマスク本体1aの周縁まで放射状に仮想線を描いたとき、その仮想線の長さの同じ割合の部分を繋いだライン上で同一の値となるように形成されている。そして、中心部分の最外殻と中心6との間に位置する領域での単位面積当たりの凹部15の開口面積率が、所定の変化率で連続的又は段階的に変化する。この態様において、中心6から最外殻に向かって変化する開口面積率の変化率は、一次的(一次式)であっても二次的(二次式)であってもよく特に限定されない。こうした態様のシャドウマスク1は、その強度バランスが極めて規則的になり、シャドウマスク1の強度を、シャドウマスク1の中心から外周に向かって徐々に強くすることができる。   In the second mode, as shown in FIG. 5, the opening area ratio of the recess 15 per unit area formed only in the central portion is imaginary lines radially from the center 6 of the mask body 1a to the periphery of the mask body 1a. Are drawn to have the same value on a line connecting portions of the same proportion of the length of the virtual line. And the opening area ratio of the recessed part 15 per unit area in the area | region located between the outermost shell of the center part and the center 6 changes continuously or in steps with a predetermined change rate. In this aspect, the rate of change of the opening area ratio that changes from the center 6 toward the outermost shell may be either primary (primary expression) or secondary (secondary expression), and is not particularly limited. The shadow mask 1 having such an aspect has a very regular intensity balance, and the intensity of the shadow mask 1 can be gradually increased from the center of the shadow mask 1 toward the outer periphery.

上記第一の態様及び第二の態様における凹部15の開口面積率の連続的又は段階的な変化としては、例えば、(1)個々の凹部の開口面積を一律に同じにし、より中心側においては、凹部の形成密度を大きくして凹部の開口面積率を大きくし、中心から離れるにしたがって、凹部の形成密度を小さくして凹部の開口面積率を小さくしてもよいし、(2)凹部の形成密度を同じにし、より中心側においては、凹部の開口面積を大きくして凹部の開口面積率を大きくし、中心から離れるにしたがって、凹部の開口面積を小さくして凹部の開口面積率を小さくしてもよい。また、これら以外の方法であってもよく、特に限定されない。   As a continuous or stepwise change in the opening area ratio of the recess 15 in the first aspect and the second aspect, for example, (1) make the opening area of each recess uniformly the same, and on the more central side The recess formation density may be increased to increase the opening area ratio of the recesses, and the recess formation density may be decreased to decrease the opening area ratio of the recesses as the distance from the center increases. (2) The formation density is the same, and on the more central side, the opening area of the recess is increased to increase the opening area ratio of the recess, and the opening area ratio of the recess is decreased and the opening area ratio of the recess is decreased as the distance from the center increases. May be. Moreover, methods other than these may be used and are not particularly limited.

上記第一の態様及び第二の態様によって、シャドウマスクの部分的な重量を中心部に向かって徐々に軽くすることができるので、シャドウマスクの強度バランスが極めて規則的になる。その結果、シャドウマスクをブラウン管に装着した後に衝撃等の応力が加わってもシャドウマスクの変形が起こり難く、永久的な凹みが残るのをより効果的に防ぐことができる。   According to the first aspect and the second aspect, the partial weight of the shadow mask can be gradually reduced toward the central portion, so that the intensity balance of the shadow mask becomes extremely regular. As a result, even if stress such as impact is applied after the shadow mask is mounted on the cathode ray tube, the shadow mask is hardly deformed, and it is possible to more effectively prevent permanent dents from remaining.

次に、蛍光体に円形のビームスポットを形成する、円形状の貫通孔を有するドットタイプのシャドウマスクについて説明する。図6は、本発明のシャドウマスクの他の一例を示す部分平面図及び部分断面図である。図6(A)はシャドウマスクの中心に形成されたスロットの平面形状と断面形状を示し、図6(B)はシャドウマスクの水平軸上の右方向外周に形成されたスロットの平面形状と断面形状を示している。   Next, a dot type shadow mask having a circular through hole for forming a circular beam spot on the phosphor will be described. FIG. 6 is a partial plan view and a partial cross-sectional view showing another example of the shadow mask of the present invention. 6A shows the planar shape and cross-sectional shape of the slot formed at the center of the shadow mask, and FIG. 6B shows the planar shape and cross-sectional shape of the slot formed on the outer periphery in the right direction on the horizontal axis of the shadow mask. The shape is shown.

図6に示すシャドウマスク20は、電子銃側の裏側孔部23と、蛍光体側の表側孔部22とが連通した略円形状の貫通孔21を有するドット(20a,20c)をマスク本体1aの水平方向X及び垂直方向Yに多数配列してなり、ブラウン管の蛍光体上にドット形状のビームスポットを形成するシャドウマスクである。本発明のシャドウマスク20は、上記と同様に、電子銃側のシャドウマスク表面の中央部分に多数の凹部25が形成されている。この形態のドットタイプのシャドウマスク20は、上記スロットタイプのシャドウマスクと同じ技術的特徴を有するので、説明を省略するが、各構成については上述した通りである。なお、図6(B)に示したように、表側孔部22の形状は、必要以上の電子ビームを遮光しないように、中央から外周部に行くに従って円形の開孔形状から徐々に偏平し、楕円形又は楕円形に近似する開孔形状へと遷移するように形成されている。   The shadow mask 20 shown in FIG. 6 has dots (20a, 20c) having a substantially circular through-hole 21 in which a back-side hole 23 on the electron gun side and a front-side hole 22 on the phosphor side communicate with each other. It is a shadow mask that is arranged in large numbers in the horizontal direction X and the vertical direction Y, and forms dot-shaped beam spots on the phosphor of the cathode ray tube. In the shadow mask 20 of the present invention, a large number of recesses 25 are formed in the central portion of the shadow mask surface on the electron gun side, as described above. Since the dot-type shadow mask 20 of this embodiment has the same technical features as the slot-type shadow mask, the description thereof is omitted, but each configuration is as described above. As shown in FIG. 6 (B), the shape of the front hole portion 22 is gradually flattened from a circular opening shape from the center to the outer peripheral portion so as not to block an unnecessary electron beam, It is formed so as to transition to an elliptical shape or an open-hole shape that approximates an elliptical shape.

以上のように、本発明のシャドウマスクによれば、中央部分を軽量化することができると共に、中央部分での厚さ方向の重心が厚さ方向の中心側にシフトするので、ブラウン管やTVセットに加わる衝撃又は振動によっても、シャドウマスクの自重に基づく大きな変形が生じ難いので、その中央部分に永久的な凹みが残るのを防ぐことができる。   As described above, according to the shadow mask of the present invention, the center portion can be reduced in weight, and the center of gravity in the thickness direction at the center portion is shifted to the center side in the thickness direction. Since a large deformation based on the weight of the shadow mask hardly occurs due to an impact or vibration applied to the mask, it is possible to prevent a permanent dent from remaining in the central portion.

なお、本発明のシャドウマスクにおいて、電子銃側に多数の凹部が形成されているので、そうした凹部によって表面積が大きくなる。その結果、電子ビームが照射された際の熱によるドーミング現象(doming pattern。電子ビームにより発生する熱でシャドウマスクが変形し色ムラが生じる現象のこと。)を低減する効果も併せ持っている。   In the shadow mask of the present invention, since many concave portions are formed on the electron gun side, the surface area is increased by the concave portions. As a result, it also has an effect of reducing the doming phenomenon (doming pattern, which is a phenomenon in which the shadow mask is deformed by heat generated by the electron beam and color unevenness occurs) when the electron beam is irradiated.

なお、本発明のシャドウマスクは、上記特許文献1に記載のように、略矩形状の貫通孔11を形成する2つの長辺のうちマスク本体1aの中央から遠い側の長辺について、その長辺の上下両端の少なくとも一端又は両端を垂直軸4から遠ざかる方向に膨出させた構造のシャドウマスクに対しても適用できる。   Note that, as described in Patent Document 1, the shadow mask of the present invention has the long side far from the center of the mask main body 1a out of the two long sides forming the substantially rectangular through-hole 11. The present invention can also be applied to a shadow mask having a structure in which at least one end or both ends of the upper and lower ends of the side are bulged away from the vertical axis 4.

(シャドウマスクの製造方法)
次に、上述したシャドウマスクの製造方法の一例について説明する。なお、言うまでもなく、本発明のシャドウマスクは、下記の製造方法に限定されない。
(Manufacturing method of shadow mask)
Next, an example of a method for manufacturing the shadow mask described above will be described. Needless to say, the shadow mask of the present invention is not limited to the following manufacturing method.

シャドウマスクは、従来公知の方法で形成することができる。通常、フォトエッチングの各工程で行われ、連続したインライン装置で製造される。例えば、金属薄板の両面に水溶性コロイド系フォトレジスト等を塗布し、乾燥する。その後、その表面には、上述したような表側孔部の形状パターンを形成したフォトマスクを密着させ、裏面には、裏側孔部及び凹部の形状パターンを形成したフォトマスクを密着させ、高圧水銀等の紫外線によって露光し、水で現像する。なお、表側孔部のパターンを形成したフォトマスクと、裏側孔部及び凹部のパターンを形成したフォトマスクの位置関係及びその形状は、得られるシャドウマスクに形成された表側孔部と裏側孔部及び凹部との位置関係、及びそれらの大きさに考慮して設計され、配置される。レジスト膜画像で周囲がカバーされた金属の露出部分は、各部のエッチング進行速度の相違に基づいて、上述したような各々の形状で形成される。なお、エッチング加工は、熱処理等された後、両面側から塩化第二鉄溶液をスプレー等して行われる。その後、水洗い、剥離等の後工程を連続的に行うことによって、本発明に係るシャドウマスクが製造される。   The shadow mask can be formed by a conventionally known method. Usually, it is performed in each step of photo-etching and is manufactured by a continuous in-line apparatus. For example, a water-soluble colloidal photoresist or the like is applied to both surfaces of a metal thin plate and dried. After that, the photomask on which the shape pattern of the front side hole as described above is closely attached to the front surface, and the photomask on which the shape pattern of the back side hole and the concave portion is closely attached to the back surface, such as high pressure mercury Expose with UV light and develop with water. In addition, the positional relationship and the shape of the photomask in which the pattern of the front side hole part and the photomask in which the pattern of the back side hole part and the concave part are formed and the shape thereof are the front side hole part and the back side hole part formed in the obtained shadow mask, and It is designed and arranged in consideration of the positional relationship with the recesses and their sizes. The exposed portion of the metal, the periphery of which is covered with the resist film image, is formed in each shape as described above based on the difference in the etching progress speed of each portion. Etching is performed by spraying a ferric chloride solution from both sides after heat treatment or the like. Thereafter, the shadow mask according to the present invention is manufactured by continuously performing post-processes such as washing with water and peeling.

(受像管)
次に、本発明の受像管について説明する。図7は、本発明の受像管の一例を示す概略断面図である。本発明の受像管101は、上述した本発明のシャドウマスク1を備えるものであり、前面に配置された略矩形状のフロントパネルと、そのフロントパネルに連結したろうと状のファンネルとで構成された真空管からなるものである。こうした受像管101において、ファンネルのネック部分に設けられた電子銃103は、フロントパネル内面に塗布された3原色(R,G,B)の蛍光体102を発光させるための3種類の電子ビーム105を放出する。
(Picture tube)
Next, the picture tube of the present invention will be described. FIG. 7 is a schematic sectional view showing an example of the picture tube of the present invention. A picture tube 101 according to the present invention includes the above-described shadow mask 1 according to the present invention, and includes a substantially rectangular front panel disposed on the front surface and a funnel-shaped funnel connected to the front panel. It consists of a vacuum tube. In such a picture tube 101, an electron gun 103 provided at the neck portion of the funnel has three types of electron beams 105 for causing the phosphors 102 of the three primary colors (R, G, B) applied on the inner surface of the front panel to emit light. Release.

フロントパネル内面には、蛍光体102とわずかな隙間を隔てて対向する本発明のシャドウマスク1が設けられている。このシャドウマスク1は、電子銃103からの電子ビーム105を通過させ、所定の蛍光体102に当たるように規則正しく配列されたドット孔又はスロット孔を有している。電子銃103から放出した3種類の電子ビーム105は、偏向ヨーク104により発生する磁界で水平及び垂直に走査され、シャドウマスク1を通過して蛍光体102の所定位置にランディングし、その蛍光体102を発光させて画像を形成する。   The shadow mask 1 of the present invention is provided on the inner surface of the front panel so as to face the phosphor 102 with a slight gap. The shadow mask 1 has dot holes or slot holes regularly arranged so as to pass the electron beam 105 from the electron gun 103 and hit a predetermined phosphor 102. The three types of electron beams 105 emitted from the electron gun 103 are scanned horizontally and vertically by the magnetic field generated by the deflection yoke 104, pass through the shadow mask 1, and land at a predetermined position of the phosphor 102. Is emitted to form an image.

本発明のシャドウマスク1は、21インチ以上の視野角の大きな受像管に適用することが好ましいが、視野角があまり大きくない従来型の受像管に用いてもよく、落下衝撃等によっても永久的な凹みが残り難いという利点がある。   The shadow mask 1 of the present invention is preferably applied to a picture tube having a large viewing angle of 21 inches or more. However, the shadow mask 1 may be used for a conventional picture tube whose viewing angle is not so large, and is permanent even by a drop impact or the like. There is an advantage that a dent hardly remains.

以下、実施例と比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.

(実施例1)
厚さ0.22mmのFe−Ni合金からなる32インチブラウン管用のシャドウマスク1を、上述した一般的なシャドウマスクの製造方法によって製造した。このシャドウマスクは、ブラウン管の蛍光面に矩形状のビームスポットを形成するスロットタイプのシャドウマスクであり、貫通孔11の水平方向Xの幅を185μm、垂直方向Yの幅を470μmとし、貫通孔11の水平方向Xのピッチを0.70mmとして形成した。また、中央部分の表側孔部12の水平方向Xの幅W1を400μm、垂直方向Yの幅を540μmとし、外周部の表側孔部12の水平方向Xの幅W2を580μm、垂直方向Yの幅を520μmとした。
Example 1
A shadow mask 1 for a 32-inch cathode ray tube made of an Fe—Ni alloy having a thickness of 0.22 mm was manufactured by the general shadow mask manufacturing method described above. This shadow mask is a slot-type shadow mask that forms a rectangular beam spot on the phosphor screen of a cathode ray tube. The through hole 11 has a horizontal width X of 185 μm and a vertical direction Y of 470 μm. The pitch in the horizontal direction X was 0.70 mm. Further, the width W1 in the horizontal direction X of the front side hole 12 at the center portion is 400 μm, the width in the vertical direction Y is 540 μm, the width W2 in the horizontal direction X of the front side hole 12 at the outer peripheral portion is 580 μm, and the width in the vertical direction Y Was 520 μm.

このシャドウマスクの電子銃側となる表面には、ハーフエッチングにより円形の凹部15を形成した。この凹部15は、図4に示す放射状にその直径Lと深さdを変化させた。凹部15のピッチは0.15mmとし、図3(A)の形態でスロット間に3列の凹部を形成した。凹部15の直径Lと深さdは、中心6では直径130μm・深さ75μmとし、中心6から半径150mmでは直径40μm・深さ20μmとし、その間の凹部の直径と深さは、2次的に変化させた。なお、凹部15は中心から半径150mmの範囲内以外には形成しなかった。図8は、得られたシャドウマスクの中央部分を、電子ビームが入射する側からみたときの拡大写真である。   A circular recess 15 was formed on the surface of the shadow mask on the electron gun side by half etching. The concave portion 15 has its diameter L and depth d changed radially as shown in FIG. The pitch of the recesses 15 was 0.15 mm, and three rows of recesses were formed between the slots in the form of FIG. The diameter L and depth d of the recess 15 are 130 μm in diameter and 75 μm in depth at the center 6, and are 40 μm in diameter and 20 μm in depth from the center 6 to a radius of 150 mm. Changed. In addition, the recessed part 15 was not formed except within the range of radius 150mm from the center. FIG. 8 is an enlarged photograph of the central portion of the obtained shadow mask as viewed from the side on which the electron beam is incident.

得られたシャドウマスクについて、中心6部分の断面写真と、水平軸上の外周縁から30mm中心側に入った部分の断面写真とを比較し、断面積を比較して重量の軽量化について評価した。その結果、外周部での換算重量よりも中心部での換算重量を12〜15%の範囲内で軽量化することができた。また、中心部での厚さ方向の重心位置は、シャドウマスクの厚さTを100としたとき、電子銃側の表面から60〜65の位置にあることが換算された。このシャドウマスクを32インチのフラット形ブラウン管に装着し、その後、下記の落下衝撃試験によりブラウン管に10G,11G,12Gの衝撃荷重を順に加えたところ、いずれの場合においても、ブラウン管内に装着したシャドウマスクに永久的な凹みは見られなかった。   About the obtained shadow mask, the cross-sectional photograph of the center 6 portion was compared with the cross-sectional photograph of the portion entering the center side 30 mm from the outer peripheral edge on the horizontal axis, and the weight reduction was evaluated by comparing the cross-sectional areas. . As a result, it was possible to reduce the converted weight at the central portion within the range of 12 to 15% rather than the converted weight at the outer peripheral portion. Further, the center of gravity in the thickness direction at the center was converted to the position of 60 to 65 from the surface on the electron gun side when the thickness T of the shadow mask was 100. When this shadow mask was attached to a 32-inch flat cathode ray tube, and then impact loads of 10G, 11G, and 12G were sequentially applied to the cathode ray tube by the following drop impact test, in either case, the shadow attached in the cathode ray tube was applied. There was no permanent dent in the mask.

(実施例2)
実施例1において、凹部の形状を円形から、一辺100μmの略正方形に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例2のシャドウマスクを作製した。具体的には、略正方形の凹部15を、図4に示す放射状に一辺の長さLと深さdを変化させた。凹部15のピッチは0.15mmとし、図3(B)の形態でスロット間に3列の凹部を形成した。凹部15の大きさLと一辺の長さdは、中心6では100μm・深さ75μmとし、中心6から半径70mmでの一辺の長さは30μm・深さ20μmとし、その間の凹部一辺の長さと深さは、2次的に変化させた。なお、実施例1と同様、凹部15は中心から半径70mmの範囲内以外には形成しなかった。
(Example 2)
A shadow mask of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the shape of the concave portion was changed from a circular shape to a substantially square shape with a side of 100 μm in Example 1. Specifically, the length L and the depth d of one side of the substantially square recess 15 are changed radially as shown in FIG. The pitch of the recesses 15 was 0.15 mm, and three rows of recesses were formed between the slots in the form of FIG. The size L and the side length d of the recess 15 are 100 μm and a depth of 75 μm at the center 6, and the length of one side at a radius of 70 mm from the center 6 is 30 μm and the depth of 20 μm. The depth was changed secondarily. Note that, as in Example 1, the recess 15 was not formed except within a radius of 70 mm from the center.

こうして得られたシャドウマスクについて、中心6部分の断面写真と、水平軸上の外周縁から30mm中心側に入った部分の断面写真とを比較し、断面積を比較して重量の軽量化について評価した。その結果、外周部での換算重量よりも中心部での換算重量を5〜15%の範囲内で軽量化することができた。また、中心部での厚さ方向の重心位置は、シャドウマスクの厚さTを100としたとき、電子銃側の表面から60〜65の位置にあることが換算された。このシャドウマスクを32インチのフラット形ブラウン管に装着し、その後、下記の落下衝撃試験によりブラウン管に10G,11G,12Gの衝撃荷重を順に加えたところ、いずれの場合においても、ブラウン管内に装着したシャドウマスクに永久的な凹みは見られなかった。   About the shadow mask obtained in this way, the cross-sectional photograph of the center 6 part is compared with the cross-sectional photograph of the part entering the center side 30 mm from the outer periphery on the horizontal axis, and the weight reduction is evaluated by comparing the cross-sectional areas. did. As a result, it was possible to reduce the converted weight at the center portion within the range of 5 to 15% rather than the converted weight at the outer peripheral portion. Further, the center of gravity in the thickness direction at the center was converted to the position of 60 to 65 from the surface on the electron gun side when the thickness T of the shadow mask was 100. When this shadow mask was attached to a 32-inch flat cathode ray tube, and then impact loads of 10G, 11G, and 12G were sequentially applied to the cathode ray tube by the following drop impact test, in either case, the shadow attached in the cathode ray tube was applied. There was no permanent dent in the mask.

(比較例1)
実施例1において、凹部を形成しなかった他は、実施例1と同様にして、比較例1のシャドウマスクを作製した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a shadow mask of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that no recess was formed.

こうして得られたシャドウマスクについて、中心6部分の断面写真と、水平軸上の外周縁から30mm中心側に入った部分の断面写真とを比較し、断面積を比較して重量の軽量化について評価した。その結果、外周部の換算重量と中心部の換算重量はほぼ同じであった。また、中心部での厚さ方向の重心位置は、シャドウマスクの厚さTを100としたとき、電子銃側の表面から65〜70の位置にあることが換算された。このシャドウマスクを32インチのフラット形ブラウン管に装着し、その後、下記の落下衝撃試験によりブラウン管に10G,11Gの衝撃荷重を順に加えたところ、ブラウン管内に装着したシャドウマスクは、11Gで永久的な凹みが見られた。   About the shadow mask obtained in this way, the cross-sectional photograph of the center 6 part is compared with the cross-sectional photograph of the part entering the center side 30 mm from the outer periphery on the horizontal axis, and the weight reduction is evaluated by comparing the cross-sectional areas. did. As a result, the converted weight of the outer peripheral portion and the converted weight of the central portion were almost the same. Further, the center of gravity in the thickness direction at the center was converted to a position of 65 to 70 from the surface on the electron gun side when the thickness T of the shadow mask was 100. When this shadow mask was mounted on a 32-inch flat cathode ray tube, and then impact loads of 10G and 11G were sequentially applied to the cathode ray tube by the following drop impact test, the shadow mask mounted in the cathode ray tube was permanent at 11G. A dent was seen.

(落下衝撃試験)
図9は、落下衝撃試験方法の概略図である。落下衝撃試験は、図9に示すように、シャドウマスクを装着したカラーブラウン管101を、電子銃側を下にして金属製の枠体110に取り付け、所定の高さから落下台111に自然落下させて行う。なお、高さは、落下台111に設置した加速度試験器により、上記のように、所定の加速度となるように設定する。落下衝撃試験後においては、試験に供したブラウン管を発光させ、ブラウン管前面から色の均一性を観察して、シャドウマスクに永久的な凹みが生じているかを確認する。
(Drop impact test)
FIG. 9 is a schematic diagram of a drop impact test method. In the drop impact test, as shown in FIG. 9, a color cathode ray tube 101 equipped with a shadow mask is attached to a metal frame 110 with the electron gun side down, and is naturally dropped onto a drop table 111 from a predetermined height. Do it. The height is set by the acceleration tester installed on the drop table 111 so as to have a predetermined acceleration as described above. After the drop impact test, the cathode ray tube subjected to the test is made to emit light, and the color uniformity is observed from the front surface of the cathode ray tube to confirm whether or not the shadow mask has a permanent dent.

本発明のシャドウマスクの一例を示す部分平面図及び部分断面図である。It is the fragmentary top view and fragmentary sectional view which show an example of the shadow mask of this invention. 本発明のシャドウマスクの中央部分を電子ビームが出射する側からみたときの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example when the center part of the shadow mask of this invention is seen from the side from which an electron beam radiate | emits. 本発明のシャドウマスクの中央部分を電子ビームが入射する側からみたときの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example when the center part of the shadow mask of this invention is seen from the side into which an electron beam injects. シャドウマスクの凹部の開口面積率を連続的又は段階的に変化させた態様の一例を説明する模式的な正面図である。It is a typical front view explaining an example of the aspect which changed the opening area ratio of the recessed part of the shadow mask continuously or in steps. シャドウマスクの凹部の開口面積率を連続的又は段階的に変化させた態様の他の一例を説明する模式的な正面図である。It is a typical front view explaining another example of the aspect which changed the opening area ratio of the recessed part of the shadow mask continuously or in steps. 本発明のシャドウマスクの他の一例を示す部分平面図及び部分断面図である。It is the fragmentary top view and fragmentary sectional view which show another example of the shadow mask of this invention. 薄型カラーブラウン管の概略構造の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of schematic structure of a thin color cathode-ray tube. 実施例1で得られたシャドウマスクの中央部分を電子ビームが入射する側からみたときの拡大写真である。It is an enlarged photograph when the central part of the shadow mask obtained in Example 1 is seen from the side on which the electron beam is incident. 落下衝撃試験方法の概略図である。It is the schematic of a drop impact test method. 薄型カラーブラウン管が備えるシャドウマスクの一例を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows an example of the shadow mask with which a thin color cathode ray tube is provided. マスク本体の各部に形成されるスロットの形状を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows the shape of the slot formed in each part of a mask main body. 薄型カラーブラウン管に装着されたシャドウマスクの中央部分に凹みが残った形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the form with which the dent remained in the center part of the shadow mask with which the thin color cathode-ray tube was mounted | worn. シャドウマスクを備えたブラウン管やTVセットに衝撃を加えたときの現象の説明図である。It is explanatory drawing of the phenomenon when an impact is applied to the cathode ray tube or TV set provided with the shadow mask.

符号の説明Explanation of symbols

1 シャドウマスク
1a マスク本体
1b スカート部
2,2a,2b,2c,2d スロット
3 水平軸
4 垂直軸
5 対角軸
6 中心部(中心)
7 電子ビーム
11,21 貫通孔
12,22 表側孔部
13,23 裏側孔部
14,24 貫通孔の稜線部
15,15a,15b,25 凹部
101 ブラウン管(受像管)
102 蛍光体
103 電子銃
104 偏向ヨーク
105 電子ビーム
110 落下試験用の枠体
111 落下試験用の落下台
121 略楕円形の凹み
122 上下方向に延びる縦波
123 左右方向に流れる縦波
X 水平方向
Y 垂直方向
W1 中央部分における表側孔部の水平方向の幅
W2 左右両側における表側孔部の水平方向の幅
d 凹部の深さ
L 凹部の幅又は径
T シャドウマスクの厚さ
θ 電子ビームの入射角
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Shadow mask 1a Mask main body 1b Skirt part 2,2a, 2b, 2c, 2d Slot 3 Horizontal axis 4 Vertical axis 5 Diagonal axis 6 Center part (center)
7 Electron beam 11, 21 Through hole 12, 22 Front side hole 13, 23 Back side hole 14, 24 Ridge line part 15, 15 a, 15 b, 25 Recessed part 101 Braun tube (picture tube)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 102 Fluorescent substance 103 Electron gun 104 Deflection yoke 105 Electron beam 110 Drop test frame 111 Drop test drop base 121 Substantially elliptical dent 122 Vertical wave extending in the vertical direction 123 Vertical wave flowing in the horizontal direction X Horizontal direction Y Vertical direction W1 Horizontal width of the front hole in the center portion W2 Horizontal width of the front hole in the left and right sides d Depth depth L Depth width or diameter T Shadow mask thickness θ Incident angle of electron beam

Claims (6)

電子ビームが入射する側の裏側孔部と、電子ビームが出射する側の表側孔部とが連通した貫通孔をマスク本体の水平方向及び垂直方向に多数配列してなり、ブラウン管の蛍光体上に所定形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、前記電子ビームが入射する側のシャドウマスク表面の少なくとも中央部分に多数の凹部が形成されていることを特徴とするシャドウマスク。   A large number of through holes in which the back side hole part on the electron beam incident side and the front side hole part on the electron beam emission side communicate with each other are arranged in the horizontal direction and the vertical direction of the mask body, on the phosphor of the cathode ray tube. A shadow mask for forming a beam spot having a predetermined shape, wherein a plurality of recesses are formed at least in a central portion of the shadow mask surface on which the electron beam is incident. 前記凹部が、マスク本体の中央部分のみに形成されていることを特徴とする請求項1に記載のシャドウマスク。   The shadow mask according to claim 1, wherein the concave portion is formed only in a central portion of the mask main body. 前記凹部が形成された領域での単位面積当たりの凹部の開口面積率が、マスク本体の中心から外周側に向かうにしたがって連続的又は段階的に減少していることを特徴とする請求項1又は2に記載のシャドウマスク。   The opening area ratio of the concave portion per unit area in the region where the concave portion is formed decreases continuously or stepwise from the center of the mask body toward the outer peripheral side. 2. The shadow mask according to 2. 前記凹部が、円形、矩形及び多角形から選ばれる1種又は2種以上のハーフエッチング孔であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のシャドウマスク。   The shadow mask according to claim 1, wherein the recess is one or more half-etched holes selected from a circle, a rectangle, and a polygon. マスク本体の中央部分に形成された表側孔部の水平方向の幅が、マスク本体の左右両側に形成された表側孔部の水平方向の幅よりも小さいことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のシャドウマスク。   The horizontal width of the front side hole formed in the central portion of the mask body is smaller than the horizontal width of the front side hole formed on the left and right sides of the mask main body. The shadow mask according to any one of the above. 請求項1〜5のいずれかに記載のシャドウマスクを有することを特徴とする受像管。
6. A picture tube comprising the shadow mask according to claim 1.
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