JP2007072164A - Optical recording medium, and method for producing the same - Google Patents

Optical recording medium, and method for producing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium of high quality in which the thickness of a recording layer is fixed without narrowing the recording region of a hologram as possible, and to provide a method for efficiently producing the optical recording medium. <P>SOLUTION: The optical recording medium at least contains: a recording layer of recording information utilizing holography; a first substrate; a second substrate; a first gap layer; a second gap layer; a filter layer; and a spacer of holding the thickness of the recording layer. The width of the spacer in the layer face direction of the recording layer is at least 0.5 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の再生方法に関する。   The present invention relates to an optical recording medium on which information is recorded using holography, a manufacturing method thereof, a recording method of the optical recording medium, and a reproducing method of the optical recording medium.

高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やCD−R等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。
しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録することができるホログラム型光記録方法が注目されている。
前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出し(再生)は、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。
このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能であり、大容量化の要請にマッチしている。このような多重記録にデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、1スポットの信号対雑音比(SN比)は極めて高くなるので、重ね書きによりSN比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できるホログラム型の光記録媒体が得られる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる(特許文献1参照)。
An optical recording medium is one of recording media capable of writing a large amount of information such as high-density image data. As this optical recording medium, for example, a rewritable optical recording medium such as a magneto-optical disk and a phase change optical disk and a write-once optical recording medium such as a CD-R have already been put into practical use. The demand for larger capacity is increasing.
However, all conventionally proposed optical recording media are two-dimensional recording, and there is a limit to increasing the recording capacity. Therefore, recently, a hologram type optical recording method capable of recording information three-dimensionally has attracted attention.
In the hologram type optical recording method, in general, information light given a two-dimensional intensity distribution and reference light having a substantially constant intensity are superposed inside a photosensitive recording layer to form them. Information is recorded by generating a distribution of optical characteristics inside the recording layer using the interference image. On the other hand, in reading (reproducing) written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as in recording, and the reproducing light having an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer is used. This is done by emitting from the recording layer.
In this hologram type optical recording method, since the optical characteristic distribution is three-dimensionally formed in the recording layer, an area where information is written by one information light, an area where information is written by other information light, and Can be partially overlapped, that is, multiplex recording is possible, which matches the demand for larger capacity. When digital volume holography is used for such multiplex recording, the signal-to-noise ratio (S / N ratio) of one spot becomes extremely high, so that the original information is faithfully maintained even if the S / N ratio is somewhat lowered by overwriting. A reproducible hologram type optical recording medium is obtained. As a result, the number of times of multiple recording reaches several hundreds, and the recording capacity of the optical recording medium can be remarkably increased (see Patent Document 1).

このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図1に示すように、第二の基板1表面にサーボピットパターン3を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜2と、この反射膜上に記録層4と、この記録層上に第一の基板5とを有する光記録媒体20が提案されている(特許文献2参照)。
更に、図2に示す光記録媒体20aのように、第二の基板1と記録層4との間に、第二の基板1の表面を平滑化し、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整する第一ギャップ層8、前記情報光及び参照光の波長のみを選択して反射するフィルタ層6及び1/4波長板9を形成し、前記情報光及び参照光による効率のよい記録を得る改善がなされている(特許文献3参照)。このような光記録媒体は、異なる記録再生装置に用いられるため、厚みは一定かつ高精度であることが必要となる。
しかしながら、このような光記録媒体の場合、第一の基板5と第二の基板1との間に、第一ギャップ層8、フィルタ層6、1/4波長板9及び記録層4が積層されるというように、多層構造となっているため、該光記録媒体の厚みを一定にするためには、各層の厚みを一定にするか、製造工程において、光記録媒体の全積層体の厚みを調整することが必要となるなどの生産性の問題がある。特に、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層の場合、体積記録のため、厚みが100〜1,000μmと、他の層に比べ極めて大きく、前記記録層の厚みを一定にすることが求められる。前記厚みを一定にする手段として、前記記録層には、ホログラム記録がなされるため、できるだけ記録領域を狭めないよう工夫することが望ましい。
As such a hologram type optical recording medium, for example, as shown in FIG. 1, a servo pit pattern 3 is provided on the surface of the second substrate 1, and a reflective film 2 made of aluminum or the like is provided on the surface of the servo pit pattern. An optical recording medium 20 having a recording layer 4 on the reflective film and a first substrate 5 on the recording layer has been proposed (see Patent Document 2).
Further, as in the optical recording medium 20a shown in FIG. 2, the surface of the second substrate 1 is smoothed between the second substrate 1 and the recording layer 4, and the size of the hologram generated in the recording layer is increased. The first gap layer 8 for adjusting the wavelength, the filter layer 6 for selecting and reflecting only the wavelengths of the information light and the reference light, and the quarter-wave plate 9 are formed, and efficient recording by the information light and the reference light is performed. Improvements have been made (see Patent Document 3). Since such an optical recording medium is used in different recording / reproducing apparatuses, the thickness needs to be constant and highly accurate.
However, in the case of such an optical recording medium, the first gap layer 8, the filter layer 6, the quarter wavelength plate 9 and the recording layer 4 are laminated between the first substrate 5 and the second substrate 1. Therefore, in order to make the thickness of the optical recording medium constant, the thickness of each layer is made constant, or in the manufacturing process, the thickness of the entire laminate of the optical recording medium is set. There are productivity issues such as the need to adjust. In particular, in the case of a recording layer for recording information using holography, the thickness is 100 to 1,000 μm, which is extremely large compared to other layers, for volume recording, and the recording layer is required to have a constant thickness. It is done. As a means for keeping the thickness constant, since the hologram recording is performed on the recording layer, it is desirable to devise not to narrow the recording area as much as possible.

特開2002−123949号公報JP 2002-123949 A 特開平11−311936号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-311936 特開2004−265472号公報JP 2004-265472 A

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、ホログラムの記録領域を可能な限り狭めることなく、記録層の厚みが一定であり、高品質である光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention relates to an optical recording medium having a high recording quality with a constant thickness of the recording layer and an optical recording medium capable of efficiently producing the optical recording medium without narrowing the recording area of the hologram as much as possible. It aims at providing the manufacturing method of.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、前記記録層の厚みを保持するスペーサとを少なくとも有し、前記スペーサの前記記録層の層面方向の幅が、少なくとも0.5mmであることを特徴とする光記録媒体である。
<2> スペーサの記録層の層面方向の幅が、0.5〜5mmである前記<1>に記載の光記録媒体である。
<3> 光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる前記<1>から<2>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<4> フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層を有する前記<1>から<3>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<5> フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層と、該色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記<1>から<4>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<6> 色材が、赤色顔料である前記<4>から<5>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<7> 赤色顔料における532nmの光に対する透過率が、33%以下であり、かつ655nmの光に対する透過率が、66%以上である前記<6>に記載の光記録媒体である。
<8> フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記<4>から<7>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<9> 色材含有層が、バインダー樹脂を含有し、該バインダー樹脂がポリビニルアルコール樹脂である前記<4>から<8>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<10> 色材含有層表面が、ラビング処理されている前記<4>から<9>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<11> フィルタ層が、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層した誘電体蒸着層を有する前記<1>から<10>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<12> 該誘電体蒸着層が、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層した前記<11>に記載の光記録媒体である。
<13> 誘電体蒸着層が、誘電体薄膜を2〜20層積層した前記<11>から<12>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<14> フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有する前記<1>から<13いずれかに記載の光記録媒体である。
<15> フィルタ層が、コレステリック液晶層を2層以上積層した積層体である前記<1>から<14>のいずれかに記載の光記録媒体である。
該<15>に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を2層以上積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、更に再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。従って、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてCMOSセンサ又はCCD上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が10以上になると、1つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
<16> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記<14>から<15>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<17> フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記<1>から<16>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<18> コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記<14>から<17>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<19> コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記<14>から<18>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<20> コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記<14>から<19>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<21> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が100nm以上である前記<14>から<20>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<22> フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する前記<1>から<21>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<23> 第一の波長の光が、350〜600nmであり、かつ第二の波長の光が600〜900nmである前記<22>に記載の光記録媒体である。
<24> フィルタ層内の±40°以内の光における655nmでの光透過率が、50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上である前記<1>から<23>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<25> フィルタ層が、入射角度±40°における655nmでの光透過率が50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上である前記<1>から<24>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<26> フィルタ層のλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上である前記<1>から<25>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<27> フィルタ層のλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<1>から<26>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<28> フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記<1>から<27>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<29> フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも1種である前記<1>から<28>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<30> 光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記<29>に記載の光記録媒体である。
<31> 基板が、サーボピットパターンを有する前記<1>から<30>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<32> サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記<31>に記載の光記録媒体である。
<33> 反射膜が、金属反射膜である前記<32>に記載の光記録媒体である。
<34> フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第一ギャップ層を有する前記<1>から<33>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<35> 記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記<1>から<34>のいずれかに記載の光記録媒体である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> Recording layer for recording information using holography, first substrate, second substrate, first gap layer, second gap layer, filter layer, and thickness of the recording layer The optical recording medium is characterized in that it has at least a holding spacer, and the width of the recording layer in the layer surface direction of the spacer is at least 0.5 mm.
<2> The optical recording medium according to <1>, wherein the width of the recording layer of the spacer in the layer surface direction is 0.5 to 5 mm.
<3> From the above <1> used in an optical recording method in which irradiation of information light and reference light to an optical recording medium is performed such that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. <2> The optical recording medium according to any one of <2>.
<4> The optical recording medium according to any one of <1> to <3>, wherein the filter layer has a color material-containing layer containing a color material of at least one of a pigment and a dye.
<5> Any one of the items <1> to <4>, wherein the filter layer includes a color material-containing layer containing at least one colorant of a pigment and a dye, and a cholesteric liquid crystal layer on the color material-containing layer. The optical recording medium described in 1.
<6> The optical recording medium according to any one of <4> to <5>, wherein the color material is a red pigment.
<7> The optical recording medium according to <6>, wherein the red pigment has a transmittance with respect to 532 nm light of 33% or less and a transmittance with respect to 655 nm light of 66% or more.
<8> The optical recording medium according to any one of <4> to <7>, wherein the filter layer has a dielectric vapor deposition layer on the color material-containing layer.
<9> The optical recording medium according to any one of <4> to <8>, wherein the color material-containing layer contains a binder resin, and the binder resin is a polyvinyl alcohol resin.
<10> The optical recording medium according to any one of <4> to <9>, wherein the color material-containing layer surface is rubbed.
<11> The optical recording medium according to any one of <1> to <10>, wherein the filter layer includes a dielectric vapor deposition layer in which a plurality of dielectric thin films having different refractive indexes are stacked.
<12> The optical recording medium according to <11>, wherein the dielectric vapor deposition layer is formed by alternately laminating a plurality of high refractive index dielectric thin films and low refractive index dielectric thin films.
<13> The optical recording medium according to any one of <11> to <12>, wherein the dielectric vapor deposition layer is formed by laminating 2 to 20 dielectric thin films.
<14> The optical recording medium according to any one of <1> to <13, wherein the filter layer includes a single cholesteric liquid crystal layer.
<15> The optical recording medium according to any one of <1> to <14>, wherein the filter layer is a laminate in which two or more cholesteric liquid crystal layers are laminated.
In the optical recording medium described in <15>, two or more cholesteric liquid crystal layers are laminated, and information light used at the time of recording or reproducing does not cause a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes. In addition, since the reference light and the reproduction light do not reach the reflection film, it is possible to prevent the generation of diffused light due to irregular reflection on the reflection surface. Therefore, the noise generated by the diffused light is not superimposed on the reproduced image and detected on the CMOS sensor or CCD, but the reproduced image can be detected at least to the extent that error correction is possible. The noise component due to diffused light becomes a serious problem as the multiplicity of holograms increases. That is, as the multiplicity increases, for example, when the multiplicity is 10 or more, the diffraction efficiency from one hologram becomes extremely small, and detection of a reproduced image becomes very difficult if there is diffusion noise. According to this configuration, such difficulty can be eliminated, and high density image recording that has never been achieved can be realized.
<16> The optical recording medium according to any one of <14> to <15>, wherein the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is continuous.
<17> The filter layer according to any one of <1> to <16>, wherein the filter layer has a single cholesteric liquid crystal layer, and the cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound. This is an optical recording medium.
<18> The optical recording medium according to any one of <14> to <17>, wherein the cholesteric liquid crystal layer has circularly polarized light separation characteristics.
<19> The optical recording medium according to any one of <14> to <18>, wherein the rotation directions of the spirals in the cholesteric liquid crystal layer are the same.
<20> The optical recording medium according to any one of <14> to <19>, wherein the selective reflection center wavelengths in the cholesteric liquid crystal layer are different from each other.
<21> The optical recording medium according to any one of <14> to <20>, wherein the selective reflection wavelength bandwidth in the cholesteric liquid crystal layer is 100 nm or more.
<22> The light according to any one of <1> to <21>, wherein the filter layer transmits light having a first wavelength and reflects light having a second wavelength different from the light having the first wavelength. It is a recording medium.
<23> The optical recording medium according to <22>, wherein light having a first wavelength is 350 to 600 nm and light having a second wavelength is 600 to 900 nm.
<24> The light transmittance at 655 nm of light within ± 40 ° in the filter layer is 50% or more, and the light reflectance at 532 nm is 30% or more. An optical recording medium according to any one of the above.
<25> Any one of the items <1> to <24>, wherein the filter layer has a light transmittance at 655 nm at an incident angle of ± 40 ° of 50% or more and a light reflectance at 532 nm of 30% or more. The optical recording medium described in 1.
<26> λ 0 ~λ 0 / cos20 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) the light reflectance is 40% or more in the <1> according to any one of <25> It is an optical recording medium.
<27> λ 0 ~λ 0 / cos40 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) light reflectance at the, wherein the 40% or more to any one of <1> to <26> This is an optical recording medium.
<28> The optical recording medium according to any one of <1> to <27>, wherein the filter layer is used as a selective reflection film of an optical recording medium that records information using holography.
<29> The filter layer has a photoreactive chiral compound, the photoreactive chiral compound has a chiral site and a photoreactive group, and the chiral site is formed from an isosorbide compound, an isomannide compound, and a binaphthol compound. The optical recording medium according to any one of <1> to <28>, which is at least one selected.
<30> The optical recording medium according to <29>, wherein the photoreactive group is a group that causes isomerization from trans to cis of a carbon-carbon double bond by light irradiation.
<31> The optical recording medium according to any one of <1> to <30>, wherein the substrate has a servo pit pattern.
<32> The optical recording medium according to <31>, wherein the servo pit pattern has a reflective film on the surface.
<33> The optical recording medium according to <32>, wherein the reflective film is a metal reflective film.
<34> The optical recording medium according to any one of <1> to <33>, further including a first gap layer for smoothing a second substrate surface between the filter layer and the reflective film.
<35> The optical recording medium according to any one of <1> to <34>, wherein a second gap layer is provided between the recording layer and the filter layer.

<36> 前記<1>から<35>のいずれかに記載の光記録媒体に対する、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われることを特徴とする光記録方法である。
<37> 光記録媒体が反射型ホログラムである前記<36>に記載の光記録方法である。
<36> The optical recording medium according to any one of <1> to <35> is irradiated with information light and reference light so that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. The optical recording method is performed as follows.
<37> The optical recording method according to <36>, wherein the optical recording medium is a reflection hologram.

<38> 少なくとも前記<1>から<35>のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、記録層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
<39> 前記<1>から<35>のいずれかに記載の光記録媒体におけるフィルタ層からなる光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板と貼り合わせてフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記<38>に記載の光記録媒体の製造方法である。
<40> 第二の基板上に、コレステリック液晶層を2層以上積層した積層体からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記<38>から<39>のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
<38> The method for producing an optical recording medium according to any one of <1> to <35>, comprising a recording layer forming step.
<39> An optical recording medium filter comprising the filter layer in the optical recording medium according to any one of <1> to <35> is processed into an optical recording medium shape, and the processed filter is used as the second substrate. The method for producing an optical recording medium according to <38>, including a filter layer forming step of forming a filter layer by bonding.
<40> The optical recording according to any one of <38> to <39>, including a filter layer forming step of forming a filter layer comprising a laminate in which two or more cholesteric liquid crystal layers are stacked on the second substrate. It is a manufacturing method of a medium.

<41> 前記<36>から<37>のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法である。
<42> 再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるように、該再生光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記<41>に記載の光記録再生方法である。
<41> The recording information corresponding to the interference image is reproduced by irradiating the interference image formed on the recording layer by the optical recording method according to any one of <36> to <37> with the same reproduction light as the reference light This is an optical recording / reproducing method.
<42> The optical recording according to <41>, wherein the reproduction information is reproduced by irradiating the interference image with the reproduction light so that the reproduction light has the same angle as the reference light used for recording on the optical recording medium. It is a playback method.

本発明によると、従来における諸問題を解決でき、ホログラムの記録領域を可能な限り狭めることなく、記録層の厚みが一定であり、高品質である光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, conventional problems can be solved, and the recording layer thickness is constant and the optical recording medium having high quality can be efficiently manufactured without reducing the recording area of the hologram as much as possible. It is possible to provide a method for manufacturing an optical recording medium that can be used.

(光記録媒体)
本発明の光記録媒体は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、前記記録層の厚みを保持するスペーサとを少なくとも有し、前記スペーサの前記記録層の層面方向の幅が、少なくとも0.5mmであることが特徴である。また、本発明の光記録媒体は、前記情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法(コリニア方式)に用いられる。
(Optical recording medium)
The optical recording medium of the present invention includes a recording layer for recording information using holography, a first substrate, a second substrate, a first gap layer, a second gap layer, a filter layer, And a spacer for maintaining the thickness of the recording layer, and the width of the spacer in the layer surface direction of the recording layer is at least 0.5 mm. The optical recording medium of the present invention is an optical recording method (collinear method) in which the irradiation of the information light and the reference light is performed such that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. Used for.

<スペーサ>
前記スペーサは、前記記録層の厚みを一定にし、高精度の厚みを有する光記録媒体を得ることができとともに、該スペーサを用いることにより、光記録媒体の端面からの水分やその他有害ガスの侵入や記録層の乾燥を防止することができる機能がある。
前記スペーサは、前記光記録媒体の外形と略同一の外形を有し、前記記録層の外周部分の厚みを一定にする作用のある外周スペーサと、前記光記録媒体の中心部に設けられている開口と略同一の開口を有し、前記外周スペーサとともに、前記記録層の内周部分の厚みをいっていにする作用のある内周スペーサとがある。
本発明のスペーサは、前記外周スペーサ及び前記内周スペーサの少なくともいずれかを意味する。前記外周スペーサと、前記内周スペーサとにより、前記記録層の厚みを高精度に作製することができる。
<Spacer>
The spacer makes it possible to obtain an optical recording medium having a high precision thickness with a constant thickness of the recording layer, and by using the spacer, intrusion of moisture and other harmful gases from the end face of the optical recording medium. And the function of preventing the recording layer from drying.
The spacer has an outer shape that is substantially the same as the outer shape of the optical recording medium, and is provided at an outer peripheral spacer that acts to make the thickness of the outer peripheral portion of the recording layer constant, and at the center of the optical recording medium. There is an inner peripheral spacer that has an opening substantially the same as the opening and has an effect of changing the thickness of the inner peripheral portion of the recording layer together with the outer peripheral spacer.
The spacer of the present invention means at least one of the outer peripheral spacer and the inner peripheral spacer. With the outer peripheral spacer and the inner peripheral spacer, the thickness of the recording layer can be manufactured with high accuracy.

−外周スペーサ−
前記外周スペーサの形状は、外周が光記録媒体の外周形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記外周スペーサの断面形状は、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。図4及び図5に示すスペーサは、その断面が四角形の一例である。
前記外周スペーサの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の厚みと略同一の厚みであることが好ましい。具体的には、前記記録層の厚みと同じ100〜1,000μmであることが好ましい。
前記外周スペーサの幅としては、少なくとも0.5mmあれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.5〜5mmが好ましく、0.5〜3mmがより好ましく、0.5〜2mmが特に好ましい。前記幅が、0.5mm未満であると、前記記録層の厚みを一定にするための保持機能が機械強度の面や支持面積の面で低下することがあり、5mmを超えるとホログラム記録領域が狭められ、記録容量が損なわれることがある。
-Outer spacer-
The shape of the outer peripheral spacer is not particularly limited as long as the outer periphery is substantially the same as the outer peripheral shape of the optical recording medium, and can be appropriately selected according to the purpose. Is mentioned. Among these, a circle is preferable.
Examples of the cross-sectional shape of the outer peripheral spacer include a quadrangle, a rectangle, a trapezoid, a circle, and an ellipse. Among these, a quadrangle, a trapezoid, a rectangle, and the like are preferable from the viewpoint of the effect of making the thickness constant. The spacer shown in FIGS. 4 and 5 is an example of a square cross section.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said outer periphery spacer, According to the objective, it can select suitably, For example, it is preferable that it is substantially the same thickness as the thickness of the said recording layer. Specifically, the thickness is preferably 100 to 1,000 μm, which is the same as the thickness of the recording layer.
The width of the outer peripheral spacer is not particularly limited as long as it is at least 0.5 mm, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, 0.5 to 5 mm is preferable, and 0.5 to 3 mm is more preferable. 0.5-2 mm is particularly preferable. When the width is less than 0.5 mm, the holding function for keeping the recording layer thickness constant may be reduced in terms of mechanical strength and support area. As a result, the recording capacity may be reduced.

前記外周スペーサの材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、成形性やコストの点から前記有機材料が好ましい。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said outer periphery spacer, Although both an inorganic material and an organic material can be used suitably, the said organic material is preferable from the point of a moldability and cost.
Examples of the inorganic material include glass, ceramic, quartz, silicon, and the like.
The organic material is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. , Polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, acrylic resin, polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride Examples thereof include resins and polyacrylic resins. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, polycarbonate resins and acrylic resins are preferable from the viewpoints of moldability, peelability, and cost.

前記スペーサの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、射出成形、ブロー成形、圧縮成形、真空成形型押し出し加工、削り出し加工などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said spacer, According to the objective, it can select suitably, For example, injection molding, blow molding, compression molding, a vacuum forming die extrusion process, a cutting process etc. are mentioned.

−内周スペーサ−
前記内周スペーサの形状は、内周が光記録媒体に設けられている開口部の形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記内周スペーサの断面形状は、前記外周スペーサと同じ形状が好ましく、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。
前記内周スペーサの厚みは、前記記録層の厚みの均一性の観点から前記外周スペーサと同一であることが求められる。
前記内周スペーサの幅は、前記記録層の厚みの均一性保持機能の観点、及び記録層の記録領域の確保の観点から前記外周スペーサと同一であってもよく、異なっていてもよい。 前記内周スペーサの材料及び製造方法は外周スペーサと異なっていてもよく、同一であってもよい。
-Inner circumference spacer-
The shape of the inner peripheral spacer is not particularly limited as long as the inner periphery is substantially the same as the shape of the opening provided in the optical recording medium, and can be appropriately selected according to the purpose. A circle, an ellipse, a polygon, etc. are mentioned. Among these, a circle is preferable.
The cross-sectional shape of the inner peripheral spacer is preferably the same shape as the outer peripheral spacer, and examples thereof include a quadrangle, a rectangle, a trapezoid, a circle, and an ellipse. Among these, a quadrangle, a trapezoid, a rectangle, and the like are preferable from the viewpoint of the effect of making the thickness constant.
The thickness of the inner circumferential spacer is required to be the same as that of the outer circumferential spacer from the viewpoint of the uniformity of the thickness of the recording layer.
The width of the inner circumferential spacer may be the same as or different from that of the outer circumferential spacer from the viewpoint of maintaining the uniformity of the recording layer thickness and securing the recording area of the recording layer. The material and manufacturing method of the inner peripheral spacer may be different from or different from those of the outer peripheral spacer.

<第一の基板>
前記第一の基板は、図3及び図4に示すように、記録層4の表面に積層され、記録層4の表面を保護するとともに、光記録媒体21の機械的強度メンバーとして作用する支持体でもある。
<First substrate>
As shown in FIGS. 3 and 4, the first substrate is laminated on the surface of the recording layer 4 to protect the surface of the recording layer 4 and to act as a mechanical strength member of the optical recording medium 21. But there is.

前記第一の基板としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。   The shape, structure, size, etc. of the first substrate are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape include a disk shape, a card shape, a flat plate shape, Examples of the structure include a single-layer structure and a laminated structure, and the size is appropriately selected according to the size of the optical recording medium. be able to.

前記第一の基板の材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
The material of the first substrate can be appropriately selected according to the purpose. For example, any of an inorganic material and an organic material can be suitably used.
Examples of the inorganic material include glass, quartz, silicon, and the like.
Examples of the organic material include acetate resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and acrylic resins. Polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyacrylic resin, polylactic acid resin, plastic film laminated paper And synthetic paper. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, polycarbonate resins and acrylic resins are preferable from the viewpoints of moldability, peelability, and cost.

前記第一の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第一の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、5〜1,200μmが好ましく、100〜700μmがより好ましい。前記支持体の厚みが、5μm未満であると、記録層を保護する役割が低下することがあり、100μmを超えると、ディスク表面から記録層、ピット層までの距離が遠くなり、記録再生の光の焦点距離が長すぎることがある。
As said 1st board | substrate, what was synthesize | combined suitably may be used and a commercial item may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 1st board | substrate, According to the objective, it can select suitably, 5-1,200 micrometers is preferable and 100-700 micrometers is more preferable. If the thickness of the support is less than 5 μm, the role of protecting the recording layer may be reduced. If the thickness exceeds 100 μm, the distance from the disk surface to the recording layer and the pit layer increases, and the recording / reproducing light The focal length may be too long.

<第二の基板>
前記第二の基板は、前記第一の基板と対向配置され、最外層に位置し、光記録媒体へ記録するための前記情報光及び参照光の照射位置に関する情報が形成されるとともに、前記光記録媒体の機械的強度メンバーとして作用する支持体としての機能を有する。
<Second substrate>
The second substrate is disposed opposite to the first substrate and is positioned on the outermost layer, and information on the irradiation position of the information light and the reference light for recording on the optical recording medium is formed, and the light It has a function as a support that acts as a mechanical strength member of the recording medium.

前記第二の基板は、その形状、構造、大きさ等については、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる形状のものを選定する必要があるが、前記第一の基板と外形状が同形状であることが好ましい。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第二の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第二の基板としては、前記第一の基板と同様に、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
The shape, structure, size, and the like of the second substrate can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape include a disk shape and a card shape. Although it is necessary to select the shape which can ensure mechanical strength, it is preferable that an outer shape is the same shape as said 1st board | substrate. In addition, when light used for recording and reproduction enters through the substrate, it is necessary to be sufficiently transparent in the wavelength region of the light used.
As the material for the second substrate, glass, ceramics, resin, or the like is usually used, but resin is particularly preferable from the viewpoint of moldability and cost.
Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Among these, polycarbonate resin and acrylic resin are particularly preferable from the viewpoints of moldability, optical characteristics, and cost.
As said 2nd board | substrate, what was synthesize | combined suitably similarly to said 1st board | substrate may be used, and a commercial item may be used.

前記第二の基板における光照射位置に関する情報としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トラッキング情報、フォーカス情報、アドレス情報、ディスク条件情報などが挙げられる。
前記トラッキング情報は、例えば、ウォブルピット、ウォブルグルーブ、トラッキングピットなどが挙げられる。
前記フォーカス情報は、例えば、該第二の基板表面に形成した反射膜、フォーカス用ミラー部分、フォーカス用ピットなどが挙げられる。
アドレス情報は、例えば、前記ウォブルピット上に形成した凹凸、エンコードしたピット列、ウォブル変調信号などが挙げられる。
前記各情報を複合的に形成してもよい。例えば、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアを所定の角度間隔で設け、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間をデータエリアとしてもよい。該アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット(サーボピット)等によってサーボピットパターンを記録することにより形成してもよい(プリフォーマット)。
なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
There is no restriction | limiting in particular as information regarding the light irradiation position in said 2nd board | substrate, According to the objective, it can select suitably, For example, tracking information, focus information, address information, disk condition information etc. are mentioned.
Examples of the tracking information include wobble pits, wobble grooves, and tracking pits.
Examples of the focus information include a reflective film formed on the surface of the second substrate, a focus mirror portion, and a focus pit.
Examples of the address information include irregularities formed on the wobble pits, encoded pit strings, and wobble modulation signals.
The information may be formed in a composite manner. For example, address-servo areas as a plurality of positioning areas extending linearly in the radial direction may be provided at predetermined angular intervals, and a sector-shaped section between adjacent address-servo areas may be used as the data area. In the address-servo area, information for performing focus servo and tracking servo by the sampled servo method and address information may be formed by previously recording a servo pit pattern by embossed pits (servo pits) or the like. Good (preformat).
If the optical recording medium has a card shape, the servo pit pattern may be omitted.

前記第二の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、0.1〜5mmが好ましく、0.3〜2mmがより好ましい。前記第二の基板の厚みが、0.1mm未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、5mmを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 2nd board | substrate, According to the objective, it can select suitably, 0.1-5 mm is preferable and 0.3-2 mm is more preferable. If the thickness of the second substrate is less than 0.1 mm, the distortion of the shape during storage of the disk may not be suppressed. If the thickness exceeds 5 mm, the weight of the entire disk increases, which is excessive for the drive motor. There may be a load.

前記第二の基板における前記サーボピットパターンの表面に前記反射膜を形成してもよい。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が400〜780nmである場合には、例えば、Al、Al合金、Ag、Ag合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が650nm以上である場合には、Al、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金、TiN、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、DVD(ディジタル ビデオ ディスク)などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
The reflective film may be formed on the surface of the servo pit pattern on the second substrate.
As the material of the reflective film, a material having a high reflectance with respect to recording light or reference light is preferably used. When the wavelength of light to be used is 400 to 780 nm, for example, Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, etc. are preferably used. When the wavelength of light to be used is 650 nm or more, it is preferable to use Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, Au, Cu alloy, TiN, or the like.
As the reflective film, an optical recording medium that reflects light and can be written or erased, such as a DVD (digital video disk), is used. It is also possible to add and rewrite directory information such as information on which part has an error and how replacement processing is performed without affecting the hologram.

前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、50nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said reflecting film, According to the objective, it can select suitably, Various vapor phase growth methods, for example, a vacuum evaporation method, sputtering method, plasma CVD method, photo-CVD method, ion plate method. A ting method, an electron beam evaporation method, or the like is used. Among these, the sputtering method is excellent in terms of mass productivity and film quality.
The thickness of the reflective film is preferably 50 nm or more, and more preferably 100 nm or more so that sufficient reflectance can be realized.

−記録層−
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
-Recording layer-
The recording layer can record information using holography, and a material whose optical characteristics such as an extinction coefficient and a refractive index change according to the intensity of the recording layer when irradiated with an electromagnetic wave having a predetermined wavelength is used.

前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(1)光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、(2)フォトリフラクティブ効果(光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する)を示すフォトリフラクティブ材料、(3)光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、(4)ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、(5)カルコゲン材料、などが挙げられる。これらの中でも、前記(1)のフォトポリマーが特に好ましい。   The material of the recording layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, (1) a photopolymer that undergoes polymerization reaction upon irradiation with light and becomes a polymer, (2) a photorefractive effect ( (3) Photochromic material in which molecular isomerization occurs due to light irradiation and the refractive index is modulated, (4) Lithium niobate, titanic acid Examples thereof include inorganic materials such as barium, and (5) chalcogen materials. Among these, the photopolymer (1) is particularly preferable.

前記(1)のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。   The photopolymer (1) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the photopolymer contains a monomer and a photoinitiator, and further a sensitizer or oligomer as necessary. It contains other components such as.

前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」(工業調査会、1989年)、「フォトポリマーテクノロジー」(日刊工業新聞社、1989年)、SPIE予稿集 Vol.3010 p354−372(1997)、及びSPIE予稿集 Vol.3291 p89−103(1998)に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第5,759,721号明細書、同第4,942,112号明細書、同第4,959,284号明細書、同第6,221,536号明細書、国際公開第97/44714号パンフレット、同第97/13183号パンフレット、同第99/26112号パンフレット、同第97/13183号パンフレット、特許第2880342号公報、同第2873126号公報、同第2849021号公報、同第3057082号公報、同第3161230号公報、特開2001−316416号公報、特開2000−275859号公報、などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。   Examples of the photopolymer include “Photopolymer Handbook” (Industry Research Society, 1989), “Photopolymer Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), SPIE Proceedings Vol. 3010 p354-372 (1997), and SPIE Proceedings Vol. 3291 p89-103 (1998) can be used. Also, US Pat. Nos. 5,759,721, 4,942,112, 4,959,284, 6,221,536, International Publication No. No. 97/44714, No. 97/13183, No. 99/26112, No. 97/13183, No. 2880342, No. 2873126, No. 2849021, No. Photopolymers described in Japanese Patent Nos. 3070882, 3161230, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-316416, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-275859, and the like can be used.

前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。   Examples of a method for changing the optical characteristics by irradiating the photopolymer with recording light include a method using diffusion of a low molecular component. Moreover, in order to relieve the volume change at the time of superposition | polymerization, the component which diffuses in the reverse direction to a superposition | polymerization component may be added, or the compound which has an acid cleavage structure may be added separately besides a polymer. In the case where the recording layer is formed using the photopolymer containing the low molecular component, a structure capable of holding the liquid in the recording layer may be required. Moreover, when adding the compound which has the said acid cleavage structure, you may suppress a volume change by compensating the expansion | swelling which arises by the cleavage, and the shrinkage which arises by superposition | polymerization of a monomer.

前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であっても構わない。また、光架橋反応を利用したものであっても構わない。   The monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, a radical polymerization type monomer having an unsaturated bond such as an acryl group or a methacryl group, an epoxy ring or an oxetane ring. Examples thereof include a cationic polymerization type monomer having an ether structure. These monomers may be monofunctional or polyfunctional. Moreover, you may utilize a photocrosslinking reaction.

前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、EO変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、2−ナフト−1−オキシエチルアクリレート、2−カルバゾイル−9−イルエチルアクリレート、(トリメチルシリルオキシ)ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−1−ナフトエート、N−ビニルカルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールAエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、4−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式(A)〜(E)で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。

Figure 2007072164
Examples of the radical polymerization type monomer include acryloylmorpholine, phenoxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neo Pentyl glycol PO-modified diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol hexa Acrylate, EO-modified glycerol triacrylate, trimethylol pro Triacrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, 2-naphth-1-oxyethyl acrylate, 2-carbazoyl-9-ylethyl acrylate, (trimethylsilyloxy) dimethylsilylpropyl acrylate, vinyl-1-naphthoate, N-vinylcarbazole , Etc.
Examples of the cationic polymerization type monomer include bisphenol A epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, glycerol triglycidyl ether, 1,6-hexane glycidyl ether, vinyltrimethoxysilane, 4-vinylphenyltrimethoxysilane, and γ-methacrylic acid. Examples include loxypropyltriethoxysilane and compounds represented by the following structural formulas (A) to (E).
These monomers may be used alone or in combination of two or more.
Figure 2007072164

前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダゾール、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシフェニルビニル)−1,3,5−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ジ−t−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−2−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用しても構わない。

Figure 2007072164
The photoinitiator is not particularly limited as long as it has sensitivity to recording light, and examples thereof include materials that cause radical polymerization, cationic polymerization, crosslinking reaction, and the like by light irradiation.
Examples of the photoinitiator include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,1′-biimidazole, 2,4,6-tris ( Trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxyphenylvinyl) -1,3,5-triazine, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluoro Phosphate, 4,4'-di-t-butyldiphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-diethylaminophenylbenzenediazonium hexafluorophosphate, benzoin, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-2-one, benzophenone, thioxanthone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyla Examples thereof include silphosphine oxide, triphenylbutyl borate tetraethylammonium, and a titanocene compound represented by the following structural formula. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Moreover, you may use a sensitizing dye together according to the wavelength of the light to irradiate.
Figure 2007072164

前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。   The photopolymer can be obtained by stirring and mixing the monomer, the photoinitiator, and, if necessary, other components and reacting them.

前記(2)のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。   The photorefractive material (2) is not particularly limited as long as it exhibits a photorefractive effect, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, it contains a charge generation material and a charge transport material. And further contains other components as necessary.

前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素/顔料;ナフタロシアニン色素/顔料;モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素/顔料;ペリレン系染料/顔料;インジゴ系染料/顔料;キナクリドン系染料/顔料;アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料/顔料;シアニン系染料/顔料;TTF−TCNQで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体;アズレニウム塩;C60及びC70で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The charge generation material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include phthalocyanine dyes / pigments such as metal phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, or derivatives thereof; naphthalocyanine dye / pigment; monoazo Azo dyes / pigments such as diazo and trisazo; perylene dyes / pigments; indigo dyes / pigments; quinacridone dyes / pigments; polycyclic quinone dyes / pigments such as anthraquinone and anthanthrone; cyanine dyes / pigments; Examples include a charge transfer complex composed of an electron accepting substance and an electron donating substance represented by TTF-TCNQ; an azurenium salt; a fullerene represented by C 60 and C 70 and a methanofullerene which is a derivative thereof. . These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体;ヒドラゾン化合物;トリフェニルアミン類;トリフェニルメタン類;ブタジエン類;スチルベン類;アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体;C60及びC70等のフラーレン並びにその誘導体;ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー;ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー;アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The charge transport material is a material that transports holes or electrons, and may be a low molecular compound or a high molecular compound.
The charge transport material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, indole, carbazole, oxazole, inoxazole, thiazole, imidazole, pyrazole, oxadiazole, pyrazoline, thiathiazole, triazole Nitrogen-containing cyclic compounds such as, or derivatives thereof; hydrazone compounds; triphenylamines; triphenylmethanes; butadienes; stilbenes; quinone compounds such as anthraquinone diphenoquinone, or derivatives thereof; And π-conjugated polymers or oligomers such as polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyaniline; σ-conjugated polymers or oligomers such as polysilane and polygerman; anthracene, pyrene, phenanthrene, co And polycyclic aromatic compounds such as Ronene. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記(3)のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。   The photochromic material (3) is not particularly limited as long as it is a material that causes a photochromic reaction, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, an azobenzene compound, a stilbene compound, an indigo compound, a thioindigo compound, a spiropyran compound, Examples include spirooxazine compounds, fluoride compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, and cinnamic acid compounds. Among these, azobenzene derivatives and stilbene derivatives that cause a structural change by cis-trans isomerization by light irradiation, spiropyran derivatives and spirooxazine derivatives that cause a ring-opening and ring-closing structural change by light irradiation are particularly preferable.

前記(5)のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、S、Te又はSeのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ge−S系ガラス、As−S系ガラス、As−Se系ガラス、As−Se−Ce系ガラス等が挙げられ、これらの中ではGe−S系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてGe−S系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するGe及びSの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主として、GeSで表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Al、Au、Cu、Cr、Ni、Pt、Sn、In、Pd、Ti、Fe、Ta、W、Zn、Agなどが挙げられる。これらの中では、Ag、Au又はCuが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Agは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で0.1〜2体積%が好ましく、0.1〜1.0体積%がより好ましい。前記金属粒子の含有量が0.1体積%未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、2体積%を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
Examples of the chalcogen material of (5) include, for example, a material containing a chalcogenide glass containing a chalcogen element and metal particles made of a metal that is dispersed in the chalcogenide glass and can be diffused in the chalcogenide glass by light irradiation, Etc.
The chalcogenide glass is composed of a non-oxide type amorphous material containing a chalcogen element of S, Te, or Se, and is not particularly limited as long as it can dope metal particles.
Examples of the amorphous material containing the chalcogen element include Ge—S glass, As—S glass, As—Se glass, As—Se—Ce glass, and the like. S-based glass is preferred. When Ge-S glass is used as the chalcogenide glass, the composition ratio of Ge and S constituting the glass can be arbitrarily changed according to the wavelength of light to be irradiated, but is mainly represented by GeS 2. A chalcogenide glass having a chemical composition is preferred.
The metal particles are not particularly limited as long as they have the property of being light-doped into chalcogenide glass by light irradiation, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, Al, Au, Cu, Cr, Ni, Pt, Sn, In, Pd, Ti, Fe, Ta, W, Zn, Ag, etc. are mentioned. Among these, Ag, Au, or Cu has a characteristic that it is more likely to cause light doping, and Ag is particularly preferable because it significantly causes light doping.
The content of the metal particles dispersed in the chalcogenide glass is preferably 0.1 to 2% by volume, more preferably 0.1 to 1.0% by volume based on the total volume of the recording layer. If the content of the metal particles is less than 0.1% by volume, the change in transmittance due to light doping may be insufficient, and the recording accuracy may decrease. The transmittance may be lowered, and it may be difficult to sufficiently generate light dope.

前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができ、例えば、注入法、蒸着法、湿式成膜法、MBE(分子線エピタキシー)法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、LB法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、注入法、湿式成膜法が好ましい。なお、注入法については、後述する本発明の光記録媒体の製造方法で説明する。   The recording layer can be formed according to a known method depending on the material. For example, an injection method, a vapor deposition method, a wet film formation method, an MBE (molecular beam epitaxy) method, a cluster ion beam method, a molecular lamination method, LB It can be suitably formed by a method, a printing method, a transfer method, or the like. Among these, an injection method and a wet film formation method are preferable. The injection method will be described in the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention described later.

前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液(塗布液)を用いる(塗布し乾燥する)ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。   Formation of the recording layer by the wet film formation method can be suitably performed by using (coating and drying) a solution (coating liquid) in which the recording layer material is dissolved or dispersed in a solvent. The wet film forming method is not particularly limited and can be appropriately selected from known ones according to the purpose. For example, an ink jet method, a spin coating method, a kneader coating method, a bar coating method, a blade coating method, Examples thereof include a casting method, a dip method, and a curtain coating method.

前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜1,000μmが好ましく、100〜700μmがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、10〜300多重のシフト多重を行っても十分なS/N比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said recording layer, According to the objective, it can select suitably, 1-1000 micrometers is preferable and 100-700 micrometers is more preferable.
When the thickness of the recording layer is within the preferable numerical range, a sufficient S / N ratio can be obtained even when 10 to 300 multiple shift multiplexing is performed, and when the thickness is within the more preferable numerical range, this is remarkable. It is advantageous in some respects.

<第一ギャップ層>
前記第一ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、前記第二の基板の表面を平滑化する目的で形成され、サーボ信号光の焦点とホログラム信号光の焦点をずらすことによって、ホログラム信号光のS/N比を上げるというメカニズムにより、前記記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
<First gap layer>
The first gap layer is provided between the filter layer and the reflective film as necessary, and is formed for the purpose of smoothing the surface of the second substrate. It is also effective to adjust the size of the hologram generated in the recording layer by the mechanism of increasing the S / N ratio of the hologram signal light by shifting the focus of the hologram signal light. That is, since it is necessary for the recording layer to form an interference region for recording reference light and information light to a certain size, it is effective to provide a gap between the recording layer and the servo pit pattern.
The first gap layer can be formed, for example, by applying a material such as an ultraviolet curable resin on the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it. Moreover, when using what apply | coated and formed on the transparent base material as a filter layer, this transparent base material will work | function also as a 1st gap layer.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 1st gap layer, According to the objective, it can select suitably, 1-200 micrometers is preferable.

<第二ギャップ層>
前記第二ギャップ層は、記録層とフィルタ層との間に設けられる。前記第二ギャップ層は、光記録媒体の多重記録能力の低下を防止する機能がある。即ち、前記情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが前記記録層内に存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると、過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こってしまい、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層を設けることにより、無反応領域が形成され前記過剰消費を抑制することができ、高多重記録能を維持することができる。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリスチレン(PS)、ポリスルホン(PSF)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリメタクリル酸メチル=ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のような透明樹脂フィルム、又は、JSR社製商品名ARTONフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、TAC、PC、商品名ARTON、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
<Second gap layer>
The second gap layer is provided between the recording layer and the filter layer. The second gap layer has a function of preventing a decrease in the multiplex recording capability of the optical recording medium. That is, a point where the information light and the reproduction light are focused exists in the recording layer. However, if this focusing area is filled with a photopolymer, excessive consumption of the monomer due to overexposure occurs, and multiple recording capability is achieved. It will go down. Therefore, by providing a non-reactive and transparent second gap layer, a non-reactive region is formed, the excessive consumption can be suppressed, and high multiplex recording capability can be maintained.
There is no restriction | limiting in particular as a material of said 2nd gap layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a triacetyl cellulose (TAC), a polycarbonate (PC), a polyethylene terephthalate (PET), polystyrene (PS) ), Transparent resin films such as polysulfone (PSF), polyvinyl alcohol (PVA), polymethyl methacrylate = polymethyl methacrylate (PMMA), etc., or JSR brand name ARTON film or Nippon Zeon brand name ZEONOR And norbornene-based resin films. Among these, those having high isotropic properties are preferred, and TAC, PC, trade name ARTON, and trade name ZEONOR are particularly preferred.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 2nd gap layer, According to the objective, it can select suitably, 1-200 micrometers is preferable.

<フィルタ層>
前記フィルタ層は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記光記録媒体用フィルタの機能は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の波長の光が350〜600nmであり、かつ第二の波長の光が600〜900nmであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
また、前記フィルタ層は、入射角度±40°における、655nmでの光透過率が50%以上であり、80%以上が好ましく、かつ532nmでの光反射率が30%以上であり、40%以上が好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は2層以上のコレステリック層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していてもよい。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、支持体上に積層してもよい。
<Filter layer>
The filter layer has a function of preventing the occurrence of noise by preventing irregular reflection from the reflection film of the optical recording medium by information light and reference light without causing a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes. . By laminating the filter layer on the optical recording medium, optical recording with high resolution and excellent diffraction efficiency can be obtained.
The function of the optical recording medium filter is preferably to transmit light having a first wavelength and reflect light having a second wavelength different from the light having the first wavelength. It is preferable that it is 350-600 nm and the light of the 2nd wavelength is 600-900 nm. For that purpose, it is preferable that the optical recording medium has a structure in which a recording layer, a filter layer, and a servo bit pattern are laminated in this order as viewed from the optical system side.
The filter layer has a light transmittance at 655 nm of 50% or more, preferably 80% or more, and a light reflectance at 532 nm of 30% or more and 40% or more at an incident angle of ± 40 °. Is preferred.
There is no restriction | limiting in particular as said filter layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a laminated body of a dielectric vapor deposition layer, a single layer or two or more cholesteric layers, and also other layers as needed It is formed by. Moreover, you may have a color material content layer.
The filter layer may be laminated together with a direct recording layer or the like on the support by coating or the like, and is laminated on a substrate such as a film to produce an optical recording medium filter, and the optical recording medium filter May be laminated on a support.

−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、2種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数は、2〜20層が好ましく、2〜12層がより好ましく、4〜10層が更に好ましく、6〜8層が特に好ましい。前記積層数が、20層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
-Dielectric deposition layer-
The dielectric vapor deposition layer is formed by laminating a plurality of dielectric thin films having different refractive indexes. In order to obtain a wavelength selective reflection film, a dielectric thin film having a high refractive index and a dielectric thin film having a low refractive index are used. Although it is preferable to laminate a plurality of layers alternately, it is not limited to two or more types, and may be more types. Moreover, when providing a color material content layer, it forms under a dielectric material vapor deposition layer.
The number of stacked layers is preferably 2 to 20 layers, more preferably 2 to 12 layers, still more preferably 4 to 10 layers, and particularly preferably 6 to 8 layers. If the number of stacked layers exceeds 20, the production efficiency may decrease due to multi-layer deposition, and the objects and effects of the present invention may not be achieved.

前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては1.8が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。   The order of lamination of the dielectric thin films is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, when the refractive index of an adjacent film is high, a film having a lower refractive index is first laminated. To do. Conversely, when the refractive index of the adjacent layer is low, a film having a higher refractive index is first laminated. The threshold value for determining whether the refractive index is high or low is preferably 1.8. Note that whether the refractive index is high or low is not absolute. Among high-refractive-index materials, there may be a material with a relatively high refractive index and a material with a relatively low refractive index, which are used alternately. May be.

前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Sb、Sb、Bi、CeO、CeF、HfO、La、Nd、Pr11、Sc、SiO、Ta、TiO、TlCl、Y、ZnSe、ZnS、ZrOなどが挙げられる。これらの中でも、Bi、CeO、CeF、HfO、SiO、Ta、TiO、Y、ZnSe、ZnS、ZrOが好ましく、これらの中でも、SiO、Ta、TiO、Y、ZnSe、ZnS、ZrOがより好ましい。 The dielectric thin film of the high refractive index is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, for example, Sb 2 O 3, Sb 2 S 3, Bi 2 O 3, CeO 2, CeF 3, HfO 2, La 2 O 3, Nd 2 O 3, Pr 6 O 11, Sc 2 O 3, SiO, Ta 2 O 5, TiO 2, TlCl, Y 2 O 3, ZnSe, ZnS, ZrO 2 , etc. Can be mentioned. Among these, Bi 2 O 3 , CeO 2 , CeF 3 , HfO 2 , SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, ZrO 2 are preferable, and among these, SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, and ZrO 2 are more preferable.

前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Al、BiF、CaF、LaF、PbCl、PbF、LiF、MgF、MgO、NdF、SiO、Si、NaF、ThO、ThFなどが挙げられる。これらの中でも、Al、BiF、CaF、MgF、MgO、SiO、Siが好ましく、これらの中でも、Al、CaF、MgF、MgO、SiO、Siがより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
The material for the low refractive index dielectric thin film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, Al 2 O 3 , BiF 3 , CaF 2 , LaF 3 , PbCl 2 , PbF 2 , LiF, MgF 2 , MgO, NdF 3 , SiO 2 , Si 2 O 3 , NaF, ThO 2 , ThF 4 and the like. Among these, Al 2 O 3 , BiF 3 , CaF 2 , MgF 2 , MgO, SiO 2 , Si 2 O 3 are preferable, and among these, Al 2 O 3 , CaF 2 , MgF 2 , MgO, SiO 2 , Si 2 O 3 is more preferable.
In the dielectric thin film material, the atomic ratio is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. The atomic ratio can be adjusted by changing the atmospheric gas concentration during film formation. .

前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法(PVD法)、化学的気相成長法(CVD法)などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いDCスパッタリング法が好ましい。なお、DCスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、(1)1つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する1チャンバ法、(2)複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ/16〜λの膜厚が好ましく、λ/8〜3λ/4がより好ましく、λ/6〜3λ/8が特に好ましい。
The method for forming the dielectric thin film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, a physical vapor deposition method such as ion plating, vacuum deposition using an ion beam, sputtering, or the like. (PVD method), chemical vapor deposition method (CVD method) and the like. Among these, vacuum deposition and sputtering are preferable, and sputtering is more preferable.
As the sputtering, a DC sputtering method having a high film formation rate is preferable. In the DC sputtering method, it is preferable to use a material having high conductivity.
In addition, as a method for forming a multilayer film by sputtering, for example, (1) a one-chamber method in which a plurality of targets are alternately or sequentially formed in one chamber, and (2) continuous film formation in a plurality of chambers. There is a multi-chamber method. Among these, the multi-chamber method is particularly preferable from the viewpoint of preventing productivity and material contamination.
The film thickness of the dielectric thin film is preferably λ / 16 to λ, more preferably λ / 8 to 3λ / 4, and particularly preferably λ / 6 to 3λ / 8 in the optical wavelength order.

−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び2層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
-Cholesteric liquid crystal layer-
The cholesteric liquid crystal layer contains at least a cholesterol derivative, or a nematic liquid crystal compound and a chiral compound, and further contains a polymerizable monomer and, if necessary, other components.
The cholesteric liquid crystal layer may be either a single-layer cholesteric liquid crystal layer or two or more cholesteric liquid crystal layers.

前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向(右回り又は左回り)と円偏光方向とが一致し、波長が、液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。   The cholesteric liquid crystal layer preferably has a circularly polarized light separation function. The cholesteric liquid crystal layer having the function of separating circularly polarized light is a light having a circularly polarized component in which the direction of rotation of the spiral of the liquid crystal (clockwise or counterclockwise) coincides with the direction of circular polarization and the wavelength is the spiral pitch of the liquid crystal. It has a selective reflection characteristic that reflects only the light. Using the selective reflection characteristics of the cholesteric liquid crystal layer, only circularly polarized light having a specific wavelength is transmitted and separated from natural light in a certain wavelength band, and the rest is reflected.

前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を0°とし±20°の範囲であるλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが好ましく、垂直入射を0°とし±40°の範囲であるλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが特に好ましい。前記λ〜λ/cos20°、特にλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、(1)単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式1で表されことから、(ne−no)の大きな液晶を用いることが好ましい。
<数式1>
Δλ=2λ(ne−no)/(ne+no)
ただし、前記数式1中、noは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。neは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願2004−352081号明細書記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やUV照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
In the filter for optical recording medium, the normal incidence 0 ° and to ± 20 ° range at which λ 0 0 / cos20 ° (but, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) in the light reflectance of 40% or more preferably there, lambda 0 to [lambda] a perpendicular incidence in the range of ± 40 ° and 0 ° 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) that light reflectance at not less than 40% Particularly preferred. Wherein λ 0 0 / cos20 °, especially λ 0 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) If the light reflectance is 40% or more at the angular dependence of the irradiation light reflected The lens optical system used for a normal optical recording medium can be employed. For this purpose, it is preferable that the selective reflection wavelength width of the cholesteric liquid crystal layer is large.
Specifically, (1) In the case of a single-layer cholesteric liquid crystal layer, the selective reflection wavelength region width Δλ of the cholesteric liquid crystal layer is expressed by the following formula 1, and therefore, a liquid crystal having a large (ne-no) is used. Is preferred.
<Formula 1>
Δλ = 2λ (ne−no) / (ne + no)
In Equation 1, no represents the refractive index of nematic liquid crystal molecules contained in the cholesteric liquid crystal layer with respect to normal light. ne represents the refractive index of the nematic liquid crystal molecules with respect to extraordinary light. λ represents the center wavelength of selective reflection.
In addition, as described in Japanese Patent Application No. 2004-352081, a photoreactive chiral compound having photosensitivity as a chiral compound and capable of greatly changing the helical pitch of liquid crystal by light is used. It is preferable to use a filter for an optical recording medium in which the helical pitch is continuously changed in the thickness direction of the liquid crystal layer by adjusting the compound content and the UV irradiation time.

また、(2)複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
In the case of (2) a plurality of cholesteric liquid crystal layers, it is preferable to stack cholesteric liquid crystal layers having different selective reflection center wavelengths and having the same rotational direction of the spirals of the cholesteric liquid crystal layers.
The cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited as long as it satisfies the above characteristics, and can be appropriately selected according to the purpose.As described above, the cholesteric liquid crystal layer contains a nematic liquid crystal compound and a chiral compound. Further, it contains other components as required.

−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δnが、0.10〜0.40の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いるなどにより配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
-Nematic liquid crystal compounds-
The nematic liquid crystal compound is characterized in that the liquid crystal phase is fixed below the liquid crystal transition temperature, the liquid crystal compound having a refractive index anisotropy Δn of 0.10 to 0.40, a polymer liquid crystal compound, and polymerization The liquid crystal compound can be appropriately selected according to the purpose. While it is in a liquid crystal state at the time of melting, it can be used as a solid phase by, for example, aligning by using an alignment substrate that has been subjected to an alignment treatment such as a rubbing treatment, and cooling and fixing as it is.

前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線(UV)重合性液晶が好適である。該UV重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC242;Merck社製の商品名E7;Wacker−Chem社製の商品名LC−Sllicon−CC3767;高砂香料株式会社製の商品名L35、L42、L55、L59、L63、L79、L83などが挙げられる。   The nematic liquid crystal compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. From the viewpoint of ensuring sufficient curability, a nematic liquid crystal compound having a polymerizable group in the molecule is preferable, and among these, Ultraviolet (UV) polymerizable liquid crystals are preferred. Commercially available products can be used as the UV polymerizable liquid crystal, for example, trade name PALIOCOLOR LC242 manufactured by BASF; trade name E7 manufactured by Merck; trade name LC-Slicon-CC3767 manufactured by Wacker-Chem; Takasago Examples include trade names L35, L42, L55, L59, L63, L79, and L83 manufactured by Perfume Co., Ltd.

前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し30〜99質量%が好ましく、50〜99質量%がより好ましい。前記含有量が30質量%未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。   As content of the said nematic liquid crystal compound, 30-99 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 50-99 mass% is more preferable. When the content is less than 30% by mass, the alignment of the nematic liquid crystal compound may be insufficient.

−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、(1)複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Merck社製の商品名S101、R811、CB15;BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC756などが挙げられる。
-Chiral compounds-
The chiral compound is not particularly limited in the case of (1) a multi-layer cholesteric liquid crystal layer, and can be appropriately selected from known compounds according to the purpose. From the viewpoint of improving the hue and color purity of the liquid crystal compound. From, for example, an isomannide compound, a catechin compound, an isosorbide compound, a fencon compound, a carboxylic compound, and the like can be given. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Moreover, a commercial item can be used as said chiral compound, As this commercial item, the brand name S101, R811, CB15 by Merck, and the brand name PALIOCOLOR LC756 by BASF are mentioned, for example.

前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0〜30質量%が好ましく、0〜20質量%がより好ましい。前記含有量が30質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。   The chiral compound content in each liquid crystal layer of the multi-layer cholesteric liquid crystal layer is preferably 0 to 30% by mass and more preferably 0 to 20% by mass with respect to the total solid mass of each cholesteric liquid crystal layer. When the content exceeds 30% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.

−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化(パターンニング)させた後(例えば、選択反射波長の分布を形成した後)、その螺旋構造(選択反射性)を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0〜50質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記添加量が50質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
-Polymerizable monomer-
In the cholesteric liquid crystal layer, for example, a polymerizable monomer can be used in combination for the purpose of improving the degree of curing such as film strength. When the polymerizable monomer is used in combination, after changing the twisting force of the liquid crystal by light irradiation (patterning) (for example, after forming a selective reflection wavelength distribution), the helical structure (selective reflectivity) is fixed, The strength of the cholesteric liquid crystal layer after fixation can be further improved. However, when the liquid crystal compound has a polymerizable group in the same molecule, it is not necessarily added.
The polymerizable monomer is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones according to the purpose. Examples thereof include monomers having an ethylenically unsaturated bond, and specifically, pentaerythritol. And polyfunctional monomers such as tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
As addition amount of the said polymerizable monomer, 0-50 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of the said cholesteric liquid crystal layer, and 1-20 mass% is more preferable. When the addition amount exceeds 50% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be inhibited.

−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
-Other ingredients-
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, photopolymerization initiator, sensitizer, binder resin, polymerization inhibitor, solvent, surfactant, thickener , Dyes, pigments, ultraviolet absorbers, gelling agents and the like.

前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、p−メトキシフェニル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル1,3,4−オキサジアゾール、9−フェニルアクリジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン/アミンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア784、イルガキュア814;BASF社製の商品名ルシリンTPOなどが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said photoinitiator, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl 1,3,4-oxadiazole, 9-phenylacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyl Examples include dimethyl ketal, acylphosphine derivatives, and thioxanthone / amine. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
As the photopolymerization initiator, commercially available products can be used. Examples of the commercially available products include trade names of Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 784, and Irgacure 814 manufactured by Ciba Specialty Chemicals; Examples include lucillin TPO.

前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。前記添加量が0.1質量%未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、20質量%を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。   The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass with respect to the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer. When the addition amount is less than 0.1% by mass, it may take a long time because the curing efficiency at the time of light irradiation is low, and when it exceeds 20% by mass, the light transmittance from the ultraviolet region to the visible light region is increased. May be inferior.

前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度などを上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.001〜1.0質量%が好ましい。
The sensitizer is added as necessary to increase the degree of cure of the cholesteric liquid crystal layer.
There is no restriction | limiting in particular as said sensitizer, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, diethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, etc. are mentioned.
The addition amount of the sensitizer is preferably 0.001 to 1.0 mass% with respect to the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer.

前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール;ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物;メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂;側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体;ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂;メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体;アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー;その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタアクリル酸のホモポリマー)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, Polyvinyl alcohol; Polystyrene compounds, such as a polystyrene and poly-alpha-methylstyrene; Methylcellulose, ethylcellulose, acetyl Cellulose resins such as cellulose; acidic cellulose derivatives having a carboxyl group in the side chain; acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer Examples thereof include a polymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer; a homopolymer of acrylic acid alkyl ester or a homopolymer of alkyl methacrylic acid; other polymer having a hydroxyl group. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Examples of the alkyl group in the homopolymer of acrylic acid alkyl ester or homopolymer of methacrylic acid alkyl ester include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, and n-hexyl group. , A cyclohexyl group, a 2-ethylhexyl group, and the like.
Examples of the other polymer having a hydroxyl group include benzyl (meth) acrylate / (homopolymer of methacrylic acid) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / multiple monomers of other monomers. A polymer etc. are mentioned.

前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し0〜80質量%が好ましく、0〜50質量%がより好ましい。前記添加量が80質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。   As addition amount of the said binder resin, 0-80 mass% is preferable with respect to the total solid mass of the said cholesteric liquid crystal layer, and 0-50 mass% is more preferable. When the addition amount exceeds 80% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.

前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し0〜10質量%が好ましく、100ppm〜1質量%がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said polymerization inhibitor, According to the objective, it can select suitably, For example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, benzoquinone, or these derivatives etc. are mentioned.
As addition amount of the said polymerization inhibitor, 0-10 mass% is preferable with respect to solid content of the said polymerizable monomer, and 100 ppm-1 mass% is more preferable.

前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、3−エトキシプロピオン酸メチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類;2−メトキシプロピルアセテート、2−エトキシプロピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected from known solvents according to the purpose. For example, 3-methoxypropionic acid methyl ester, 3-methoxypropionic acid ethyl ester, 3-methoxypropionic acid propyl Esters, alkoxypropionic acid esters such as 3-ethoxypropionic acid methyl ester, 3-ethoxypropionic acid ethyl ester, 3-ethoxypropionic acid propyl ester; 2-methoxypropyl acetate, 2-ethoxypropyl acetate, 3-methoxybutyl acetate Esters of alkoxy alcohols such as: Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone; γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, di Sulfoxide, chloroform, tetrahydrofuran, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液(複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液)を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
As a method for forming the cholesteric liquid crystal layer, for example, a coating solution for a cholesteric liquid crystal layer prepared using the solvent (in the case of a plurality of layers, a coating solution for each cholesteric liquid crystal layer) is applied onto the substrate and dried. For example, a cholesteric liquid crystal layer can be formed by irradiating with ultraviolet rays.
The most suitable method for mass production is to prepare the base material in a roll form, and apply a coating solution for the cholesteric liquid crystal layer on the base material such as bar coat, die coat, blade coat, curtain coat, etc. A type in which coating is performed with a long continuous coater is preferable.

前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、160〜380nmが好ましく、250〜380nmがより好ましい。照射時間としては、例えば、0.1〜600秒が好ましく、0.3〜300秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
Examples of the coating method include spin coating, casting, roll coating, flow coating, printing, dip coating, casting film formation, bar coating, and gravure printing.
There is no restriction | limiting in particular as conditions for the said ultraviolet irradiation, According to the objective, it can select suitably, For example, 160-380 nm is preferable and, as for irradiation ultraviolet rays, 250-380 nm is more preferable. For example, the irradiation time is preferably 0.1 to 600 seconds, and more preferably 0.3 to 300 seconds. By adjusting the conditions of ultraviolet irradiation, the helical pitch in the optical cholesteric liquid crystal layer using the reactive chiral agent can be continuously changed along the thickness direction of the liquid crystal layer.

前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭47−10537号公報、同58−111942号公報、同58−212844号公報、同59−19945号公報、同59−46646号公報、同59−109055号公報、同63−53544号公報、特公昭36−10466号公報、同42−26187号公報、同48−30492号公報、同48−31255号公報、同48−41572号公報、同48−54965号公報、同50−10726号公報、米国特許第2,719,086号明細書、同第3,707,375号明細書、同第3,754,919号明細書、同第4,220,711号明細書などに記載されている。   In order to adjust the conditions of the ultraviolet irradiation, an ultraviolet absorber may be added to the cholesteric liquid crystal layer. There is no restriction | limiting in particular as this ultraviolet absorber, According to the objective, it can select suitably, For example, a benzophenone type ultraviolet absorber, a benzotriazole type ultraviolet absorber, a salicylic acid type ultraviolet absorber, a cyanoacrylate type ultraviolet absorber Preferable examples include oxalic acid anilide-based ultraviolet absorbers. Specific examples of these ultraviolet absorbers include JP-A Nos. 47-10537, 58-111942, 58-212844, 59-19945, 59-46646, 59. No. -109055, No. 63-53544, No. 36-10466, No. 42-26187, No. 48-30492, No. 48-31255, No. 48-41572, No. 48. -54965, 50-10726, U.S. Pat. Nos. 2,719,086, 3,707,375, 3,754,919, 4, No. 220,711 and the like.

前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、1〜10μmが好ましく、2〜7μmがより好ましい。前記厚みが1μm未満であると、選択反射率が十分でなくなり、10μmを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み(単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み)は、例えば、1〜30μmが好ましく、3〜10μmがより好ましい。
In the case of the plural layers, the thickness of each cholesteric liquid crystal layer is preferably, for example, 1 to 10 μm, and more preferably 2 to 7 μm. When the thickness is less than 1 μm, the selective reflectance is not sufficient, and when it exceeds 10 μm, the uniform alignment of the liquid crystal layer may be disturbed.
Further, the total thickness of each cholesteric liquid crystal layer (in the case of a single layer, the thickness of the cholesteric liquid crystal layer) is, for example, preferably 1 to 30 μm, and more preferably 3 to 10 μm.

<コレステリック層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法>
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工(例えば、打ち抜き加工)されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
<Method for Producing Filter for Optical Recording Medium Having Cholesteric Layer>
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said filter for optical recording media, According to the objective, it can select suitably.
The optical recording medium filter is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, the entire base material is processed into a disk shape (for example, punching processing), and is applied to the second substrate of the optical recording medium. Is preferably arranged. Moreover, when using for the filter layer of an optical recording medium, it can also provide directly on a 2nd board | substrate not via a base material.

−基材−
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の形態に用いられた支持体と同じ材料を用いることができる。
-Base material-
There is no restriction | limiting in particular as said base material, According to the objective, it can select suitably, For example, the same material as the support body used for said 1st form can be used.

前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10〜500μmが好ましく、50〜300μmがより好ましい。前記基材の厚みが、10μm未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、500μmを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。また、粘着剤の場合、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましい。
As said base material, what was synthesize | combined suitably may be used and a commercial item may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said base material, According to the objective, it can select suitably, 10-500 micrometers is preferable and 50-300 micrometers is more preferable. When the thickness of the substrate is less than 10 μm, the adhesion may be lowered due to the bending of the substrate. On the other hand, if it exceeds 500 μm, the focal positions of the information light and the reference light must be greatly shifted, and the optical system size becomes large. For laminating the wavelength selective films, known adhesives can be used in any combination.
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive, According to the objective, it can select suitably, For example, a rubber adhesive, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a vinyl alkyl ether adhesive , Polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, polyacrylamide pressure sensitive adhesive, and cellulose pressure sensitive adhesive.
The application thickness of the adhesive or the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of optical properties and thinning, 0.1 to 10 μm is preferable in the case of an adhesive, 0.1-5 micrometers is more preferable. Moreover, in the case of an adhesive, 1-50 micrometers is preferable and 2-30 micrometers is more preferable.

なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。   In some cases, the filter layer can be formed directly on the substrate.

(光記録媒体の製造方法)
本発明の光記録媒体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、組成物調製工程と、記録層積層工程と、フィルタ層形成工程と、第一ギャップ層形成工程と、積層体形成工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
(Method for producing optical recording medium)
The method for producing the optical recording medium of the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the composition preparing step, the recording layer laminating step, the filter layer forming step, the first It includes a gap layer forming step and a laminate forming step, and further includes other steps as necessary.

<組成物調製工程>
前記組成物調製工程は、光記録用組成物を調製する工程であり、モノマー、光開始剤、増感剤、オリゴマー及びバインダーなどからなるフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分を含む光記録用組成物を、溶剤により、溶解、分散、混合などにより調製する。前記調製の条件としては、例えば、温度23℃、湿度10%、低湿度乾燥の環境で行われる。
<Composition preparation process>
The composition preparation step is a step of preparing a composition for optical recording, and includes a photopolymer composed of a monomer, a photoinitiator, a sensitizer, an oligomer and a binder, and other components appropriately selected as necessary. An optical recording composition is prepared by dissolving, dispersing, mixing, etc. with a solvent. As the conditions for the preparation, for example, the temperature is 23 ° C., the humidity is 10%, and the drying is performed in a low humidity environment.

<記録層積層工程>
前記記録層積層工程は、前記フィルタ層上、又は該フィルタ層上に第二ギャップ層が積層されている場合は、該第二ギャップ層上に、ホログラフィにより情報を記録する記録層を積層する工程であり、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を注入法や湿式成膜法などにより積層する工程である。
<Recording layer lamination process>
The recording layer laminating step is a step of laminating a recording layer for recording information by holography on the second gap layer when the second gap layer is laminated on the filter layer or the filter layer. In this step, the optical recording composition prepared in the composition preparation step is laminated by an injection method or a wet film formation method.

−注入法−
前記注入法とは、第一基板と第二基板との隙間に、記録層溶液を注入する方法である。前記外周スペーサ及び前記内周スペーサを予め第一基板と第二基板で挟み込みディスクセルを作り、前記外周スペーサの一部に切り欠きを設けてその口を注入口として、記録層溶液を注入する。
前記注入法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、外周注入法、内周注入法、ギャップ注入法などが挙げられる。
前記注入の条件としては、温度23℃、粘度330mPa・s、0.5MPaの圧力、湿度10%、硬化時間として温度80℃、40分間、などが挙げられる。
前記注入装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリンジ、エア圧ディスペンサーなどが挙げられる。
-Injection method-
The injection method is a method of injecting the recording layer solution into the gap between the first substrate and the second substrate. The outer peripheral spacer and the inner peripheral spacer are previously sandwiched between a first substrate and a second substrate to form a disk cell, and a recording layer solution is injected using a notch in a part of the outer peripheral spacer and using the opening as an inlet.
There is no restriction | limiting in particular as said injection | pouring method, According to the objective, it can select suitably, For example, the outer periphery injection method, the inner periphery injection method, a gap injection method etc. are mentioned.
The injection conditions include a temperature of 23 ° C., a viscosity of 330 mPa · s, a pressure of 0.5 MPa, a humidity of 10%, a curing time of 80 ° C. for 40 minutes, and the like.
There is no restriction | limiting in particular as said injection | pouring apparatus, According to the objective, it can select suitably, For example, a syringe, an air pressure dispenser, etc. are mentioned.

−湿式成膜法−
前記湿式成膜法は、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液(塗布液)を用いる(塗布し乾燥する)ことにより形成する方法であり、該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
-Wet deposition method-
The wet film forming method is a method of forming (using and drying) a solution (coating liquid) in which the recording layer material is dissolved or dispersed in a solvent, and the wet film forming method is particularly limited. Can be appropriately selected from known ones according to the purpose, for example, inkjet method, spin coating method, kneader coating method, bar coating method, blade coating method, casting method, dip method, curtain coating method, etc. Is mentioned.

前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜1,000μmが好ましく、100〜700μmがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、10〜300多重のシフト多重を行っても十分なS/N比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said recording layer, According to the objective, it can select suitably, 1-1000 micrometers is preferable and 100-700 micrometers is more preferable.
When the thickness of the recording layer is within the preferable numerical range, a sufficient S / N ratio can be obtained even when 10 to 300 multiple shift multiplexing is performed, and when the thickness is within the more preferable numerical range, this is remarkable. It is advantageous in some respects.

以上の方法により、本発明の光記録媒体の厚みは一定し、ホログラム記録しうる領域を狭めることなく、高品質の光記録媒体が得られる。   By the above method, the optical recording medium of the present invention has a constant thickness, and a high-quality optical recording medium can be obtained without narrowing the area where hologram recording can be performed.

<フィルタ層形成工程>
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。ここで、前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられ、前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、UV硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。また、粘着剤の場合、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましい。
<Filter layer forming step>
The filter layer forming step is a step of processing the optical recording medium filter of the present invention into an optical recording medium shape, and bonding the processed filter to the second substrate to form a filter layer. Here, the method for manufacturing the filter for optical recording media is as described above. In some cases, the filter layer can be formed directly on the substrate. For example, a method of forming a color material-containing layer by applying a coating material for a color material-containing layer on a substrate and forming a dielectric vapor deposition film on the color material-containing layer by a sputtering method may be mentioned.
Examples of the optical recording medium shape include a disk shape and a card shape, and the processing is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a cutting process using a press cutter, a punching cutter Punching by, etc. are mentioned. In the bonding, for example, an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like is used to attach a filter to the substrate so that bubbles do not enter.
The adhesive is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include various adhesives such as a UV curable type, an emulsion type, a one-component curable type, and a two-component curable type, Known adhesives can be used in any combination.
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive, According to the objective, it can select suitably, For example, rubber adhesive, acrylic adhesive, silicone adhesive, urethane adhesive, vinyl alkyl ether adhesive , Polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, polyacrylamide pressure sensitive adhesive, cellulose pressure sensitive adhesive, and the like.
The application thickness of the adhesive or the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of optical properties and thinning, 0.1 to 10 μm is preferable in the case of an adhesive, 0.1-5 micrometers is more preferable. Moreover, in the case of an adhesive, 1-50 micrometers is preferable and 2-30 micrometers is more preferable.

<第一ギャップ層形成工程>
前記第一ギャップ層形成工程は、前記第二の基板と前記フィルタ層との間に、第一ギャップ層を形成する工程である。該第一ギャップ層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第二の基板上に対して、前記スピン塗布による方法、前記非熱軟化性シートを貼付する方法、前記蒸着及び前記スパッタリングなどが挙げられる。
<First gap layer forming step>
The first gap layer forming step is a step of forming a first gap layer between the second substrate and the filter layer. The method for forming the first gap layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. The method of sticking, the said vapor deposition, the said sputtering, etc. are mentioned.

<積層体形成工程>
前記積層体形成工程は、前記記録層積層工程、前記フィルタ層形成工程及び前記第一ギャップ層形成工程により、前記記録層、前記フィルタ層及び第一ギャップ層が形成された第二の基板と、前記第一の基板とを貼り合わせて積層体を形成し、必要に応じて適宜選択したその他の工程を含む工程である。
前記貼り合わせ方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の基板と前記第二の基板と必要に応じて適宜選択したその他の層とを、接着剤で接着する方法、接着剤を用いず圧着する方法、真空中で貼り合わせる方法などが挙げられる。
前記接着剤で接着する方法は、前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、外周を合致させ、各層間に接着剤を塗布し、外側から0.001〜0.5MPaの圧力をかけて、23〜100℃で接着する。
該接着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中において貼りあわせることが好ましい。
<Laminated body formation process>
The laminated body forming step includes a second substrate on which the recording layer, the filter layer, and the first gap layer are formed by the recording layer lamination step, the filter layer forming step, and the first gap layer forming step; It is a process including the other process suitably selected as needed, bonding a said 1st board | substrate and forming a laminated body.
The bonding method is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.For example, the first substrate, the second substrate, and other layers appropriately selected as necessary, Examples thereof include a method of bonding with an adhesive, a method of pressure bonding without using an adhesive, and a method of bonding in a vacuum.
The method of adhering with the adhesive is to match the outer periphery of the first substrate, the second substrate, and other layers appropriately selected as necessary, and apply an adhesive between each layer, It adheres at 23-100 degreeC, applying the pressure of 0.001-0.5 Mpa from the outside.
In order to make it adhere | attach and there is no bubble in the case of this adhesion | attachment, it is preferable to bond together in a vacuum.

−接着剤−
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。
これらの中でも、透明性が良好であることから、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤がより好ましい。
-Adhesive-
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive agent, According to the objective, it can select suitably, For example, an acrylic adhesive, an epoxy-type adhesive agent, a rubber-type adhesive agent etc. are mentioned.
Of these, acrylic adhesives and epoxy adhesives are more preferable because of their good transparency.

前記接着剤を用いず圧着する方法は、各層の有する接着性を利用して密着させて積層体を形成することも可能である。前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、各外周を合致させ、外側から0.001〜0.5MPaの圧力をかけて、23〜100℃で接着する。該密着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。   The method of performing pressure bonding without using the adhesive can also be used to form a laminated body by using the adhesiveness of each layer for adhesion. The first substrate, the second substrate, and other layers appropriately selected as necessary are matched to each outer periphery, and a pressure of 0.001 to 0.5 MPa is applied from the outside to Adhere at 100 ° C. In order to adhere without any bubbles during the adhesion, it is preferable to bond them in a vacuum.

<その他の工程>
前記その他の工程としてとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層と前記フィルタ層の間に第二ギャップ層を形成する第二ギャップ層形成工程などが挙げられる。
<Other processes>
There is no restriction | limiting in particular as said other process, According to the objective, it can select suitably, For example, the 2nd gap layer formation process etc. which form a 2nd gap layer between the said recording layer and the said filter layer, etc. Is mentioned.

(光記録方法及び光再生方法)
前記光記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法である。
前記再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
(Optical recording method and optical reproduction method)
The optical recording method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the optical recording medium is irradiated with information light and reference light as a coaxial light beam, This is an optical recording method based on a so-called collinear method in which information is recorded on a recording layer by an interference pattern due to interference.
The reproduction method is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, the interference image formed on the recording layer by the optical recording method is irradiated with the same light as the reference light. Recording information corresponding to can be reproduced.

前記光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す(再生する)際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、前記光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。
In the optical recording method and the reproducing method, the information light provided with a two-dimensional intensity distribution and the information light and the reference light having a substantially constant intensity are superposed inside the photosensitive recording layer to form them. Information is recorded by generating an optical characteristic distribution inside the recording layer using the interference pattern. On the other hand, when reading (reproducing) written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as during recording, and the reproduction has an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer. Light is emitted from the recording layer as light.
Here, the optical recording method and the reproducing method are performed using an optical recording / reproducing apparatus described below.

前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図10を参照して説明する。
図10は、前記光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。この光記録再生装置100は、光記録媒体21が取り付けられるスピンドル81と、このスピンドル81を回転させるスピンドルモータ82と、光記録媒体21の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ82を制御するスピンドルサーボ回路83とを備えている。
また、光記録再生装置100は、光記録媒体21に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体21に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体21に記録されている情報を再生するためのピックアップ31と、このピックアップ31を光記録媒体21の半径方向に移動可能とする駆動装置84とを備えている。
An optical recording / reproducing apparatus used in the optical recording method and reproducing method will be described with reference to FIG.
FIG. 10 is an overall configuration diagram of the optical recording / reproducing apparatus. The optical recording / reproducing apparatus includes an optical recording apparatus and a reproducing apparatus. The optical recording / reproducing apparatus 100 controls a spindle 81 to which the optical recording medium 21 is attached, a spindle motor 82 for rotating the spindle 81, and the spindle motor 82 so as to keep the rotational speed of the optical recording medium 21 at a predetermined value. A spindle servo circuit 83.
The optical recording / reproducing apparatus 100 records information by irradiating the optical recording medium 21 with information light and recording reference light, and irradiates the optical recording medium 21 with reproduction reference light for reproduction. A pickup 31 for detecting light and reproducing information recorded on the optical recording medium 21, and a drive device 84 that can move the pickup 31 in the radial direction of the optical recording medium 21 are provided.

光記録再生装置100は、ピックアップ31の出力信号よりフォーカスエラー信号FE、トラッキングエラー信号TE、及び再生信号RFを検出するための検出回路85と、この検出回路85によって検出されるフォーカスエラー信号FEに基づいて、ピックアップ31内のアクチュエータを駆動して対物レンズ(不図示)を光記録媒体20の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路86と、検出回路85によって検出されるトラッキングエラー信号TEに基づいてピックアップ31内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体21の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路87と、トラッキングエラー信号TE及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置84を制御してピックアップ31を光記録媒体21の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路88とを備えている。   The optical recording / reproducing apparatus 100 uses a detection circuit 85 for detecting a focus error signal FE, a tracking error signal TE, and a reproduction signal RF from an output signal of the pickup 31, and a focus error signal FE detected by the detection circuit 85. Based on this, the actuator in the pickup 31 is driven to move the objective lens (not shown) in the thickness direction of the optical recording medium 20 to perform focus servo, and the tracking error signal detected by the detection circuit 85. Based on TE, a tracking servo circuit 87 that drives an actuator in the pickup 31 to move the objective lens in the radial direction of the optical recording medium 21 to perform tracking servo, a tracking error signal TE, and a command from a controller to be described later. Drive 84 controlled by a and a slide servo circuit 88 for performing a slide servo for moving the pickup 31 in the radial direction of the optical recording medium 21.

光記録再生装置100は、更に、ピックアップ31内の後述するCMOS又はCCDアレイの出力データをデコードして、光記録媒体21のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路85からの再生信号RFより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路89と、光記録再生装置100の全体を制御するコントローラ90と、このコントローラ90に対して、種々の指示を与える操作部91とを備えている。
コントローラ90は、信号処理回路89より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ31、スピンドルサーボ回路83、及びスライドサーボ回路88等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路83は、信号処理回路89より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ90は、CPU(中央処理装置)、ROM(リード オンリ メモリ)、及びRAM(ランダム アクセス メモリ)を有し、CPUが、RAMを作業領域として、ROMに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ90の機能を実現するようになっている。
The optical recording / reproducing apparatus 100 further decodes output data of a later-described CMOS or CCD array in the pickup 31 to reproduce data recorded in the data area of the optical recording medium 21 or reproduce from the detection circuit 85. A signal processing circuit 89 that reproduces a basic clock and discriminates an address from the signal RF, a controller 90 that controls the entire optical recording / reproducing apparatus 100, and an operation unit 91 that gives various instructions to the controller 90. And has.
The controller 90 inputs the basic clock and address information output from the signal processing circuit 89, and controls the pickup 31, spindle servo circuit 83, slide servo circuit 88, and the like. The spindle servo circuit 83 receives the basic clock output from the signal processing circuit 89. The controller 90 includes a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and the CPU executes a program stored in the ROM using the RAM as a work area. The function of the controller 90 is realized.

前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用い、情報光及び参照光による干渉縞の記録と同時に増感光により光熱変換がなされて増感させるので、高解像度であり回折効率の高い光記録媒体が得られる。   The optical recording / reproducing apparatus used in the optical recording method and reproducing method uses the optical recording medium of the present invention, and sensitizes the photothermal conversion by sensitization simultaneously with the recording of interference fringes by information light and reference light. Therefore, an optical recording medium with high resolution and high diffraction efficiency can be obtained.

ここで、本発明の光記録媒体の具体例1及び2について、図面を参照して更に詳しく説明する。なお、前記第二ギャップ層を積層せずに光記録媒体を作製してもよい。   Specific examples 1 and 2 of the optical recording medium of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. Note that an optical recording medium may be manufactured without stacking the second gap layer.

<光記録媒体の具体例1>
図6は、本発明の具体例1における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例1に係る光記録媒体21では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板1にサーボピットパターン3が形成され、該サーボピットパターン3上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜2が設けられている。なお、図6では第二の基板1全面にサーボピットパターン3が形成されているが、図1に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン3の高さは、通常1,750Å(175nm)であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
<Specific example 1 of optical recording medium>
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in Example 1 of the present invention. In the optical recording medium 21 according to the specific example 1, the servo pit pattern 3 is formed on the second substrate 1 made of polycarbonate resin or glass, and the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum, etc. 2 is provided. In FIG. 6, the servo pit pattern 3 is formed on the entire surface of the second substrate 1, but it may be formed periodically as shown in FIG. The height of the servo pit pattern 3 is normally 1,750 mm (175 nm), which is sufficiently smaller than the thicknesses of the substrate and other layers.

第一ギャップ層8は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板1の反射膜2上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層8は、反射膜2を保護すると共に、記録層4内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層4において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層4とサーボピットパターン3との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層8上にはフィルタ層6が設けられ、また、フィルタ層6と記録層4との間に第二ギャップ層7が設けられ、該フィルタ層6と第一の基板5(ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板)によって第2のギャップ層及び記録層4を挟むことによって光記録媒体21が構成される。なお、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層7を設けることが有効となる。
The first gap layer 8 is formed by applying a material such as an ultraviolet curable resin on the reflective film 2 of the second substrate 1 by spin coating or the like. The first gap layer 8 is effective for protecting the reflective film 2 and adjusting the size of the hologram generated in the recording layer 4. That is, since it is necessary to form an interference area between the recording reference light and the information light in a certain size in the recording layer 4, it is effective to provide a gap between the recording layer 4 and the servo pit pattern 3.
A filter layer 6 is provided on the first gap layer 8, and a second gap layer 7 is provided between the filter layer 6 and the recording layer 4, and the filter layer 6 and the first substrate 5 (polycarbonate resin). The optical recording medium 21 is configured by sandwiching the second gap layer and the recording layer 4 by a substrate or a glass substrate. Although there is a point where the information light and the reproduction light are focused, if the focusing area is filled with a photopolymer, the monomer is excessively consumed due to overexposure, and the multiple recording ability is lowered. Therefore, it is effective to provide the second gap layer 7 that is non-reactive and transparent.

図6において、フィルタ層6は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層6を透過せず、反射膜2まで達することなく、戻り光となり、入出射面Aから出射することになる。
このフィルタ層6は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した3層のコレステリック液晶層6a、6b、6cからなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層6は、第一ギャップ層8上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した3層のコレステリック液晶層によって、λ〜λ/cos20°、特にλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
In FIG. 6, the filter layer 6 transmits only red light and does not transmit light of other colors. Therefore, since the information light, the recording and reproduction reference light are green or blue light, the light does not pass through the filter layer 6 and does not reach the reflection film 2 but becomes return light and is emitted from the incident / exit surface A. Become.
The filter layer 6 is composed of three cholesteric liquid crystal layers 6a, 6b, and 6c whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer. The filter layer 6 made of this cholesteric liquid crystal layer may be directly formed on the first gap layer 8 by coating, or a film in which a cholesteric liquid crystal layer is formed on a substrate is punched into an optical recording medium shape and arranged. Also good. Λ 0 to λ 0 / cos 20 °, especially λ 0 to λ 0 / cos 40 ° (in particular, λ 0 is the wavelength of the irradiation light) by the three cholesteric liquid crystal layers whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer. In this case, the light reflectance is 40% or more, and the selective reflection wavelength does not shift even if the incident angle changes.

具体例1における光記録媒体21は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体21では、第二の基板1は0.6mm、第一ギャップ層8は100μm、フィルタ層6は2〜3μm、第二ギャップ層7は70μm、記録層4は0.6mm、第一の基板5は0.6mmの厚みであって、合計厚みは約1.9mmとなっている。   The optical recording medium 21 in the first specific example may be disk-shaped or card-shaped. In the case of a card shape, there is no need for the servo pit pattern. In this optical recording medium 21, the second substrate 1 is 0.6 mm, the first gap layer 8 is 100 μm, the filter layer 6 is 2 to 3 μm, the second gap layer 7 is 70 μm, and the recording layer 4 is 0.6 mm. The first substrate 5 has a thickness of 0.6 mm, and the total thickness is about 1.9 mm.

次に、図9を参照して、光記録媒体21周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光(赤色光)は、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、対物レンズ12を通過する。対物レンズ12によってサーボ用光は反射膜2上で焦点を結ぶように光記録媒体21に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー13は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ100%反射させるようになっている。光記録媒体21の光の入出射面Aから入射したサーボ用光は、第一の基板5、記録層4、第二ギャップ層7、フィルタ層6、及び第一ギャップ層8を通過し、反射膜2で反射され、再度、第一ギャップ層8、フィルタ層6、第二ギャップ層7、記録層4、及び第一の基板5を透過して入出射面Aから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ12を通過し、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、サーボ情報検出器(不図示)でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層4を通過したり、サーボ用光が反射膜2で乱反射したとしても、記録層4には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜2による戻り光は、ダイクロイックミラー13によってほぼ100%反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのCMOSセンサ又はCCD14で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図8に示したλ〜1.3λの反射域は、λ=532nmのとき1.3λ=692nmとなり、サーボ光が655nmの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ〜1.3λの範囲はフィルタ層における±40°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±20°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±20°以内で全て設計することも容易であり、その場合はλ〜1.1λのコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
Next, the optical operation around the optical recording medium 21 will be described with reference to FIG. First, light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12. Servo light is applied to the optical recording medium 21 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2. That is, the dichroic mirror 13 transmits light having a wavelength of green or blue, and reflects light having a wavelength of red by almost 100%. The servo light incident from the light incident / exit surface A of the optical recording medium 21 passes through the first substrate 5, the recording layer 4, the second gap layer 7, the filter layer 6, and the first gap layer 8, and is reflected. The light is reflected by the film 2, passes through the first gap layer 8, the filter layer 6, the second gap layer 7, the recording layer 4, and the first substrate 5 and is emitted from the incident / exit surface A again. The returned return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown). The detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and the like. Since the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is irregularly reflected by the reflective film 2, the recording layer 4 is not affected. In addition, since the return light of the servo light reflected by the reflective film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, the servo light is detected by the CMOS sensor or the CCD 14 for detecting the reproduced image. In addition, there is no noise with respect to the reproduction light.
Note that the reflection range of λ 0 to 1.3λ 0 shown in FIG. 8 is 1.3λ 0 = 692 nm when λ 0 = 532 nm, and the servo light is reflected when the servo light is 655 nm. The range of λ 0 to 1.3λ 0 shown here is suitability for ± 40 ° incident light in the filter layer, but when actually using such a large oblique light, servo light with an incident angle within ± 20 ° is used. Servo control can be performed without hindrance if masked. If the spiral pitch of the cholesteric liquid crystal layer in the filter layer to be used is sufficiently large, it is easy to design all the incident angles within ± 20 ° in the filter layer, in which case λ 0 to 1.1λ. Since a zero cholesteric liquid crystal layer is sufficient, there is no hindrance to servo light transmission.

また、記録用/再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板16を通過して線偏光となりハーフミラー17を通過して1/4波長板15を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー13を透過し、対物レンズ12によって情報光と記録用参照光が記録層4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体21に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Aから入射し、記録層4で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層4を通過し、フィルタ層6に入射するが、該フィルタ層6の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜2までは到達しない。フィルタ層6は螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した3層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の20%以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は20%×20%=4%以下となり、実質的に問題とはならない。   In addition, the information light and the recording reference light generated from the recording / reproducing laser pass through the polarizing plate 16 to become linearly polarized light, pass through the half mirror 17 and pass through the quarter-wave plate 15 at a time. Become polarized. The optical recording medium 21 is irradiated with information light and recording reference light through the dichroic mirror 13 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4 by the objective lens 12. The information light and the recording reference light are incident from the incident / exit surface A and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there. Thereafter, the information light and the recording reference light pass through the recording layer 4 and enter the filter layer 6, but are reflected between the bottom of the filter layer 6 and become return light. That is, the information light and the recording reference light do not reach the reflective film 2. This is because the filter layer 6 is formed of three cholesteric liquid crystal layers whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer, and has a property of transmitting only red light. Alternatively, if light leaking through the filter layer is suppressed to 20% or less of the incident light intensity, even if the leaked light reaches the bottom surface and becomes return light, it is reflected again by the filter layer and reproduced. The light intensity mixed into the light is 20% × 20% = 4% or less, which is not substantially a problem.

<光記録媒体の具体例2>
図7は、前記具体例2における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例2に係る光記録媒体22では、フィルタ層6以外は具体例1と同様に構成される。
<Specific example 2 of optical recording medium>
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the second specific example. The optical recording medium 22 according to Example 2 is configured in the same manner as Example 1 except for the filter layer 6.

図7において、フィルタ層6は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層6を透過せず、反射膜2まで達することなく、戻り光となり、入出射面Aから出射することになる。
このフィルタ層6は、色材含有層上に、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜が7層積層された誘電体蒸着層を形成した積層体である。この色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせであるフィルタ層6は、第一ギャップ層8上に塗布及び蒸着により直接形成してもよいし、基材上に色材含有層及び誘電体蒸着膜を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。フィルタ層として色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせを用いることによって、入射角度±40°における、655nmでの光透過率が50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
In FIG. 7, the filter layer 6 transmits only red light and does not transmit light of other colors. Therefore, since the information light, the recording and reproduction reference light are green or blue light, the light does not pass through the filter layer 6 and does not reach the reflection film 2 but becomes return light and is emitted from the incident / exit surface A. Become.
The filter layer 6 is a laminate in which a dielectric vapor deposition layer is formed by laminating seven dielectric thin films having different refractive indexes on a color material-containing layer. The filter layer 6 that is a combination of the color material-containing layer and the dielectric vapor-deposited film may be directly formed on the first gap layer 8 by coating and vapor deposition, or may be formed on the base material. The film on which the deposited film is formed may be punched into an optical recording medium shape and disposed. By using a combination of a colorant-containing layer and a dielectric deposited film as a filter layer, the light transmittance at 655 nm is 50% or more and the light reflectance at 532 nm is 30% at an incident angle of ± 40 °. Thus, even if the incident angle changes, the selective reflection wavelength does not shift.

前記具体例2における光記録媒体22の形状は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよく、具体例1と同様に形成される。   The shape of the optical recording medium 22 in the specific example 2 may be a disk shape or a card shape, and is formed in the same manner as the specific example 1.

次に、図9を参照して、光記録媒体21と同様に構成された光記録媒体22周辺での光学的動作を説明する。光記録媒体22では、光記録媒体21と同様、まず、サーボ用レーザから出射した光(赤色光)は、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、対物レンズ12を通過する。対物レンズ12によってサーボ用光は反射膜2上で焦点を結ぶように光記録媒体22に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー13は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ100%反射させるようになっている。光記録媒体22の光の入出射面Aから入射したサーボ用光は、第一の基板5、記録層4、第二ギャップ層7、フィルタ層6、及び第一ギャップ層8を通過し、反射膜2で反射され、再度、第一ギャップ層8、フィルタ層6、第二ギャップ層7、記録層4、及び第一の基板5を透過して入出射面Aから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ12を通過し、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、サーボ情報検出器(不図示)でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。具体例1と同様に、記録層4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層4を通過したり、サーボ用光が反射膜2で乱反射したとしても、記録層4には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜2による戻り光は、ダイクロイックミラー13によってほぼ100%反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのCMOSセンサ又はCCD14で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。   Next, an optical operation around the optical recording medium 22 configured in the same manner as the optical recording medium 21 will be described with reference to FIG. In the optical recording medium 22, as in the optical recording medium 21, first, light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12. Servo light is applied to the optical recording medium 22 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2. That is, the dichroic mirror 13 transmits light having a wavelength of green or blue, and reflects light having a wavelength of red almost 100%. The servo light incident from the light incident / exit surface A of the optical recording medium 22 passes through the first substrate 5, the recording layer 4, the second gap layer 7, the filter layer 6, and the first gap layer 8 and is reflected. The light is reflected by the film 2, passes through the first gap layer 8, the filter layer 6, the second gap layer 7, the recording layer 4, and the first substrate 5 and is emitted from the incident / exit surface A again. The returned return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown). The detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and the like. As in the first specific example, the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, so that the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is reflected by the reflective film 2. Even if it is irregularly reflected, the recording layer 4 is not affected. In addition, since the return light of the servo light reflected by the reflective film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, the servo light is detected by the CMOS sensor or the CCD 14 for detecting the reproduced image. In addition, there is no noise with respect to the reproduction light.

また、記録用/再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板16を通過して線偏光となりハーフミラー17を通過して1/4波長板15を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー13を透過し、対物レンズ12によって情報光と記録用参照光が記録層4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体22に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Aから入射し、記録層4で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層4を通過し、フィルタ層6に入射するが、該フィルタ層6の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜2までは到達しない。フィルタ層6は色材含有層と誘電体蒸着膜とを組み合わせており、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の20%以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は20%×20%=4%以下となり、実質的に問題とはならない。   In addition, the information light and the recording reference light generated from the recording / reproducing laser pass through the polarizing plate 16 to become linearly polarized light, pass through the half mirror 17 and pass through the quarter-wave plate 15 at a time. Become polarized. The optical recording medium 22 is irradiated with information light and recording reference light through the dichroic mirror 13 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4 by the objective lens 12. The information light and the recording reference light are incident from the incident / exit surface A and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there. Thereafter, the information light and the recording reference light pass through the recording layer 4 and enter the filter layer 6, but are reflected between the bottom of the filter layer 6 and become return light. That is, the information light and the recording reference light do not reach the reflective film 2. This is because the filter layer 6 is a combination of a color material-containing layer and a dielectric deposited film, and has a property of transmitting only red light. Alternatively, if light leaking through the filter layer is suppressed to 20% or less of the incident light intensity, even if the leaked light reaches the bottom surface and becomes return light, it is reflected again by the filter layer and reproduced. The light intensity mixed into the light is 20% × 20% = 4% or less, which is not substantially a problem.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
<光記録媒体の作製>
実施例1の光記録媒体は、第一の基板と、記録層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、第一ギャップ層と、第二の基板とをこの順に積層することにより、以下のように作製した。前記フィルタ層は、フィルム状のフィルタを作製して、積層することにより以下のように形成した。前記記録層は外周スペーサ及び内周スペーサによりその厚みを保持する構造とした。
Example 1
<Preparation of optical recording medium>
The optical recording medium of Example 1 is formed by laminating a first substrate, a recording layer, a second gap layer, a filter layer, a first gap layer, and a second substrate in this order. It produced as follows. The filter layer was formed as follows by preparing and laminating a film-like filter. The recording layer has a structure in which the thickness is held by an outer peripheral spacer and an inner peripheral spacer.

−光記録層用組成物溶液の組成−
下記の組成からなる光記録層用組成物溶液を調製した。
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・ジ(ウレタンアクリレート)オリゴマー
(Echo Resins社製、ALU−351)・・・・・・・・59質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・30質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10質量部
・重合開始剤
(チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア784)・・・・1質量部
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-Composition of composition solution for optical recording layer-
An optical recording layer composition solution having the following composition was prepared.
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・ Di (urethane acrylate) oligomer (manufactured by Echo Resins, ALU-351) ・ ・ ・ ・ ・ ・ 59 parts by mass ・ Isobornyl acrylate ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・30 parts by mass-Vinyl benzoate-10 parts by mass-Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 784)-1 part by mass -----------------------------------

−フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム(三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン)厚み100μm上に、ポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、商品名MP203)を厚み1μmとなるように塗布したベースフィルムを用意する。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与することができる。
-Fabrication of filter-
First, a base film is prepared by applying polyvinyl alcohol (trade name MP203, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) to a thickness of 1 μm on a polycarbonate film (trade name: Iupil, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) having a thickness of 100 μm. This base film can be passed through a rubbing apparatus to rub the surface of the polyvinyl alcohol film and impart liquid crystal alignment ability.

次に、下記表1に示す組成のコレステリック液晶層用塗布液A、B及びCを常法により調製することができる。   Next, cholesteric liquid crystal layer coating liquids A, B, and C having the compositions shown in Table 1 below can be prepared by a conventional method.

Figure 2007072164
*UV重合性液晶:BASF社製、商品名PALIOCOLOR LC242
*カイラル剤:BASF社製、商品名PALIOCOLOR LC756
*光重合開始剤:チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名イルガキュア369
*増感剤:ジエチルチオキサントン
*溶剤:メチルエチルケトン(MEK)
Figure 2007072164
* UV polymerizable liquid crystal: manufactured by BASF, trade name PALIOCOLOR LC242
* Chiral agent: BASF Corporation, trade name PALIOCOLOR LC756
* Photopolymerization initiator: Product name Irgacure 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
* Sensitizer: Diethylthioxanthone * Solvent: Methyl ethyl ketone (MEK)

次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Aをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成した。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cmで露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Aを形成した。
次に、コレステリック液晶層A上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Bをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成した。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cmで露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Bを形成した。
次に、コレステリック液晶層B上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Bをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成した。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cmで露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Cを形成した。
以上により、円偏光分離特性を有し、各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なり、かつ各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに右回り方向で同じである3層構造の実施例1の光記録媒体用フィルタを作製した。
Next, the cholesteric liquid crystal layer coating solution A was applied onto the base film with a bar coater, dried, and then subjected to orientation aging at 110 ° C. for 20 seconds. Thereafter, the film was exposed to an irradiation energy of 500 mJ / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp at 110 ° C. to form a cured cholesteric liquid crystal layer A having a thickness of 2 μm.
Next, the cholesteric liquid crystal layer coating solution B was applied onto the cholesteric liquid crystal layer A with a bar coater, dried, and then subjected to alignment aging at 110 ° C. for 20 seconds. Then, it exposed by irradiation energy 500mJ / cm < 2 > with the ultrahigh pressure mercury lamp under 110 degreeC, and the cholesteric liquid crystal layer cured film B with a thickness of 2 micrometers was formed.
Next, the cholesteric liquid crystal layer coating solution B was applied onto the cholesteric liquid crystal layer B with a bar coater, dried, and then subjected to alignment aging at 110 ° C. for 20 seconds. Thereafter, exposure was performed at an irradiation energy of 500 mJ / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp at 110 ° C. to form a cured cholesteric liquid crystal layer C having a thickness of 2 μm.
As described above, Embodiment 1 of a three-layer structure having circularly polarized light separation characteristics, different selective reflection center wavelengths in each cholesteric liquid crystal layer, and the same rotational direction of the spiral in each cholesteric liquid crystal layer in the clockwise direction. An optical recording medium filter was prepared.

次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜いた。   Next, the produced optical recording medium filter was punched into a predetermined disk size so that it could be placed on the substrate.

−第一の基板−
前記第一の基板は、直径120mm、板厚0.6mmのDVD+RW用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面は滑らかであり、サーボピットパターンなどの凹凸のないものを用いた。
-First substrate-
As the first substrate, a general polycarbonate resin substrate used for DVD + RW having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was used. The substrate surface was smooth and had no irregularities such as servo pit patterns.

−第二の基板−
前記第二の基板としては、直径120mm、板厚0.6mmのDVD+RW用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは0.74μmであり、溝深さは175nm、溝幅は300nmである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム(Al)を用いた。成膜はDCマグネトロンスパッタリング法により厚み200nmのAl反射膜を成膜した。
-Second substrate-
As the second substrate, a general polycarbonate resin substrate used for DVD + RW having a diameter of 120 mm and a plate thickness of 0.6 mm was used. A servo pit pattern is formed on the entire surface of the substrate, the track pitch is 0.74 μm, the groove depth is 175 nm, and the groove width is 300 nm.
First, a reflective film was formed on the servo pit pattern surface of the second substrate. Aluminum (Al) was used as the reflective film material. A 200 nm thick Al reflective film was formed by DC magnetron sputtering.

−第一ギャップ層−
−−第一ギャップ層用塗布液の調製−−
SD−640(大日本インキ製)を前記第一ギャップ層用の塗布液として調製した。
-First gap layer-
--Preparation of coating solution for first gap layer--
SD-640 (manufactured by Dainippon Ink) was prepared as a coating solution for the first gap layer.

得られた第一ギャップ層用塗布液を、Al反射膜を成膜した前記第二の基板における反射膜表面に、スピンコーター(型名1H−B7、ミカサ社製)により、1,500rpm、15秒間条件の下、スピン塗布し、温度23℃、1,500mJ/cmのUV照射硬化した。硬化厚みは25μmであった。これらを3回繰り返して総膜厚は75μmであった。 The obtained first gap layer coating solution was applied to the surface of the reflective film on the second substrate on which the Al reflective film was formed by a spin coater (model name 1H-B7, manufactured by Mikasa) at 1,500 rpm, 15 The film was spin-coated under the conditions for 2 seconds, and cured by UV irradiation at a temperature of 23 ° C. and 1,500 mJ / cm 2 . The cured thickness was 25 μm. These were repeated three times, and the total film thickness was 75 μm.

−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層として、厚み100μmのポリカーボネートフィルムを用いた。
-Second gap layer-
As the second gap layer, a polycarbonate film having a thickness of 100 μm was used.

−外周スペーサ−
前記外周スペーサは、第一の基板及び第二の基板の外形と同一の直径120mmの円形で、面方向の幅は、0.5mm±100μm、厚みは記録層4の厚みと同じ500μm、したがって、断面形状は0.5mm×500μmの四角形となる。
前記外周スペーサの材料は、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型(住友重工株式会社製)により作製した。
-Outer spacer-
The outer peripheral spacer has a circular shape with a diameter of 120 mm, which is the same as the outer shape of the first substrate and the second substrate, the width in the surface direction is 0.5 mm ± 100 μm, and the thickness is 500 μm, which is the same as the thickness of the recording layer 4. The cross-sectional shape is a square of 0.5 mm × 500 μm.
The material of the outer periphery spacer was produced by injection molding (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) using polycarbonate having excellent moldability and mechanical strength.

−内周スペーサ−
前記内周スペーサは、図4に示すように、第一の基板5及び第二の基板1の開口部5a及び1aの開口径と同じ外形である15mmの円形で、面方向の幅は、0.5mm±100μm、厚みは記録層4の厚みと同じ500μm、したがって、断面形状は外周スペーサと同一の0.5mm×500μmの四角形となる。
前記内周スペーサの材料は、外周スペーサと同一の、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型(住友重工株式会社社製)により作製した。
-Inner circumference spacer-
As shown in FIG. 4, the inner circumferential spacer is a 15 mm circle having the same outer diameter as the opening diameters of the openings 5a and 1a of the first substrate 5 and the second substrate 1, and the width in the surface direction is 0. 0.5 mm ± 100 μm, and the thickness is 500 μm, which is the same as the thickness of the recording layer 4. Therefore, the cross-sectional shape is a square of 0.5 mm × 500 μm which is the same as the outer peripheral spacer.
The material of the inner peripheral spacer was produced by injection molding (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) using the same polycarbonate as the outer peripheral spacer, which was excellent in moldability and mechanical strength.

−積層体の形成−
図4に示すように、第一ギャップ層8がスピン塗布された第二の基板1上に、前記フィルタを、隙間に気泡が入らないように、UV接着剤(型名SD−640、大日本インキ社製)を塗布した後、積層してフィルタ層6を形成し、該フィルタ層6上に、ラミネーター装置(型名HAL110aa、三共株式会社製)により、圧着ロール温度23℃、圧着ロール圧力0.1MPa、圧着速度1.0m/分の条件の下、第二ギャップ層7を貼り付けた。
更に、該第二ギャップ層7の表面に、得られた外周スペーサ37を、第二の基板1の外形と外周スペーサ37の外形が合致するように接着し、更に、内周スペーサ38を、該内周スペーサの中心と、第二の基板1の中心が合致するように接着した。前記接着剤は、UV接着剤(型名SD−640、大日本インキ株式会社製)を用い、UV光を照射して接着した。
外周スペーサ37及び内周スペーサ38により形成された、深さ500μmの溝部に、前記注入法により、得られた光記録層用組成物塗布液を、シリンジにより注入した。
前記注入の条件としては、温度23℃、液粘度300mPas、湿度50%とした。
注入後に、温度80℃、40分間の条件の下、光記録層用組成物を硬化させ記録層4を形成した。該記録層4の厚みは500μmであった。
本発明の外周スペーサ37及び内周スペーサ38により形成された溝部分に注入法により、記録層を形成するので、該記録層4の厚みは高精度で一定の厚みに保持される。
該記録層4上に、接着剤(型名GM−9002、ブレニー技研社製)を塗布し、この順に積層し、前記第一の基板の外側及び前記第二の基板の外側を、0.08MPaの圧力で、80℃で、40分間、加圧し、積層体を形成し、乾燥硬化させることにより、図3に示す光記録媒体21を作製した。
-Formation of laminate-
As shown in FIG. 4, on the second substrate 1 on which the first gap layer 8 has been spin-coated, the filter is placed on a UV adhesive (model name SD-640, Dainippon, Japan) so that air bubbles do not enter the gap. Ink Co., Ltd. is applied and then laminated to form a filter layer 6. On the filter layer 6, a laminator device (model name HAL110aa, manufactured by Sankyo Co., Ltd.) is used. The second gap layer 7 was attached under the conditions of 1 MPa and a pressure bonding speed of 1.0 m / min.
Further, the outer peripheral spacer 37 thus obtained was bonded to the surface of the second gap layer 7 so that the outer shape of the second substrate 1 and the outer shape of the outer peripheral spacer 37 were matched, and the inner peripheral spacer 38 was Adhesion was performed so that the center of the inner peripheral spacer and the center of the second substrate 1 coincided. As the adhesive, a UV adhesive (model name SD-640, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) was used and adhered by irradiating UV light.
The composition coating solution for an optical recording layer obtained by the injection method was injected into a groove having a depth of 500 μm formed by the outer peripheral spacer 37 and the inner peripheral spacer 38 with a syringe.
The injection conditions were a temperature of 23 ° C., a liquid viscosity of 300 mPas, and a humidity of 50%.
After the injection, the optical recording layer composition was cured under the conditions of a temperature of 80 ° C. for 40 minutes to form a recording layer 4. The recording layer 4 had a thickness of 500 μm.
Since the recording layer is formed by the injection method in the groove portion formed by the outer peripheral spacer 37 and the inner peripheral spacer 38 of the present invention, the thickness of the recording layer 4 is maintained at a constant thickness with high accuracy.
On the recording layer 4, an adhesive (model name GM-9002, manufactured by Brennie Giken Co., Ltd.) is applied and laminated in this order, and the outside of the first substrate and the outside of the second substrate are set to 0.08 MPa. The optical recording medium 21 shown in FIG. 3 was produced by pressurizing at 80 ° C. for 40 minutes to form a laminate and drying and curing.

−光記録媒体の記録及び評価−
得られた光記録媒体を、パルステック工業株式会社製、コリニアホログラム記録再生試験機SHOT−1000を用いて、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさ直径200μmで一連の多重ホログラムを書き込み、感度(記録エネルギー)、多重数について測定、評価を行った。結果を表2に示す。
-Recording and evaluation of optical recording media-
Using the collinear hologram recording / reproduction tester SHOT-1000, manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., the obtained optical recording medium was written with a series of multiple holograms with a recording spot size of 200 μm in diameter at the focal position of the recording hologram. (Recording energy) and multiplex number were measured and evaluated. The results are shown in Table 2.

−感度の測定−
記録時の照射光パワー(mJ/cm)を変化させ、再生信号のエラー確率(BER:Bit Error Rate)の変化を測定した。通常、記録光パワーの増加に伴い再生信号の輝度が増加することにともない、再生信号のBERが徐々に低下する傾向にある。ここでは、ほぼ良好な再生像(BER<10−3)が得られる最低の記録光パワーを記録材料の記録感度とした。その結果、記録感度記録光パワー150mJ/cmにてBER<10−3が得られた。(記録感度 75mJ/cm)結果を表2に示す。
-Measurement of sensitivity-
The irradiation light power (mJ / cm 2 ) at the time of recording was changed, and the change in the error probability (BER: Bit Error Rate) of the reproduction signal was measured. Normally, the BER of a reproduction signal tends to gradually decrease as the reproduction signal luminance increases with an increase in recording light power. Here, the recording power of the recording material is defined as the lowest recording light power at which a substantially good reproduced image (BER <10 −3 ) can be obtained. As a result, BER <10 −3 was obtained at a recording sensitivity recording light power of 150 mJ / cm 2 . (Recording sensitivity 75 mJ / cm 2 ) The results are shown in Table 2.

−多重数の評価−
光記録媒体の多重評価手法として、ISOM’04、Th−J−06、pp.184−185、Oct.2004に記載されている記録スポットをスパイラル状にシフトさせて評価する手法により行った。ここで、記録ホログラム数11×11=121ホログラム、記録ピッチは28.5μmとした。最終121個目のホログラム記録時の多重度は49多重となる。記録ホログラム数の増加に従い多重度が増加するため、記録材料の多重特性が不十分であると記録数の増加に従いBERが増加する。ここではBER>10−3となる記録ホログラム数を材料の多重特性Mとした。この手法により多重特性Mとして121多重相当の特性が得られることを確認した。
-Evaluation of multiple numbers-
As a multiple evaluation method for optical recording media, ISOM'04, Th-J-06, pp. 184-185, Oct. The recording spot described in 2004 was shifted by a spiral and evaluated. Here, the number of recorded holograms is 11 × 11 = 121 holograms, and the recording pitch is 28.5 μm. The multiplicity at the time of recording the final 121st hologram is 49. Since the multiplicity increases as the number of recording holograms increases, if the recording material has insufficient multiplexing characteristics, the BER increases as the number of recordings increases. Here, the number of recording holograms that gives BER> 10 −3 is defined as the multi-characteristic M of the material. It was confirmed that a characteristic equivalent to 121 multiplexing was obtained as the multiplexing characteristic M by this method.

−スペーサを用いたことによる記録容量の減少の評価−
外周スペーサ及び内周スペーサの各幅を0.5としたことにより、前記両スペーサを用いなかった記録層に対して、記録容量の減少を、記録層の体積比により試算し評価した。
実際の光記録媒体では、その外周から0.5mmは記録に用いられないため、その減少量は、2%程度であり、支障はないことがわかった。
-Evaluation of reduction in recording capacity by using spacers-
By setting each width of the outer peripheral spacer and the inner peripheral spacer to 0.5, a decrease in the recording capacity was estimated and evaluated based on the volume ratio of the recording layer with respect to the recording layer not using the both spacers.
In an actual optical recording medium, since 0.5 mm from the outer periphery is not used for recording, the reduction amount is about 2%, and it has been found that there is no problem.

(実施例2)
実施例1における光記録媒体において、外周スペーサ37の幅0.5mmを1.0mmに代え、内周スペーサ38の幅0.5mmを1.0mmに代えた以外は、実施例1と同様に実施例2の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の減少について評価した。結果を表2に示す。
(Example 2)
In the optical recording medium in Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the width of the outer peripheral spacer 37 was changed to 1.0 mm and the width of the inner peripheral spacer 38 was changed to 1.0 mm. The optical recording medium of Example 2 was fabricated and evaluated for recording sensitivity, multiple characteristics, and reduction in recording capacity. The results are shown in Table 2.

(実施例3)
実施例1における光記録媒体において、外周スペーサ37の幅0.5mmを3.0mmに代え、内周スペーサ38の幅0.5mmを3.0mmに代えた以外は、実施例1と同様に実施例3の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の減少について評価した。結果を表2に示す。
(Example 3)
In the optical recording medium in Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the width of the outer peripheral spacer 37 was changed to 3.0 mm and the width of the inner peripheral spacer 38 was changed to 3.0 mm. The optical recording medium of Example 3 was fabricated and evaluated for recording sensitivity, multiple characteristics, and reduction in recording capacity. The results are shown in Table 2.

(実施例4)
実施例1における光記録媒体において、外周スペーサ37の幅0.5mmを5.0mmに代え、内周スペーサ38の幅0.5mmを5.0mmに代えた以外は、実施例1と同様に実施例4の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の減少について評価した。結果を表2に示す。
Example 4
In the optical recording medium in Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the width of the outer peripheral spacer 37 was changed to 5.0 mm and the width of the inner peripheral spacer 38 was changed to 5.0 mm. The optical recording medium of Example 4 was produced and evaluated for reduction in recording sensitivity, multiple characteristics, and recording capacity. The results are shown in Table 2.

(実施例5)
実施例1における光記録媒体において、外周スペーサ37の幅0.5mmを10.0mmに代え、内周スペーサ38の幅0.5mmを10.0mmに代えた以外は、実施例1と同様に実施例5の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の減少について評価した。結果を表2に示す。
(Example 5)
In the optical recording medium in Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the width of the outer peripheral spacer 37 was changed to 10.0 mm and the width of the inner peripheral spacer 38 was changed to 10.0 mm. The optical recording medium of Example 5 was fabricated and evaluated for recording sensitivity, multiple characteristics, and reduction in recording capacity. The results are shown in Table 2.

(比較例1)
実施例1における光記録媒体において、外周スペーサ37の幅0.5mmを0.3mmに代え、内周スペーサ38の幅0.5mmを0.3mmに代えた以外は、実施例1と同様に比較例1の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の減少について評価した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 1)
In the optical recording medium in Example 1, the comparison was made in the same manner as in Example 1 except that the width of the outer peripheral spacer 37 was changed to 0.3 mm and the width of the inner peripheral spacer 38 was changed to 0.3 mm. The optical recording medium of Example 1 was fabricated and evaluated for recording sensitivity, multiple characteristics, and reduction in recording capacity. The results are shown in Table 2.

(比較例2)
実施例1における光記録媒体において、外周スペーサ37及び内周スペーサ38を用いず、基板平行保持ギャップ方法により、実施例1と同様の厚み500μmの記録層を積層した以外は、実施例1と同様に比較例2の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の減少について評価した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 2)
In the optical recording medium of Example 1, the outer peripheral spacer 37 and the inner peripheral spacer 38 are not used, and the recording layer having a thickness of 500 μm similar to that of Example 1 is laminated by the substrate parallel holding gap method. Then, an optical recording medium of Comparative Example 2 was prepared and evaluated for reduction in recording sensitivity, multiple characteristics, and recording capacity. The results are shown in Table 2.

Figure 2007072164

表2の結果から、本発明の光記録媒体により、実施例1〜5は、比較例1に対して、記憶容量の減少は大きいが、記録層の厚みのばらつきは小さい。比較例1では、記憶容量の減少については優れているが、記録層の厚みのばらつきが非常に大きく、多重特性も低いことがわかる。
Figure 2007072164

From the results of Table 2, according to the optical recording medium of the present invention, Examples 1 to 5 have a large decrease in storage capacity but small variations in the thickness of the recording layer compared to Comparative Example 1. Comparative Example 1 is excellent in reducing the storage capacity, but it can be seen that the variation in the thickness of the recording layer is very large and the multiplex characteristics are low.

本発明の光記録媒体は、ホログラムの記録領域を可能な限り狭めることなく、記録層の厚みが一定であり、高品質であり、2次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型のホログラムなどに幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体の製造方法は、ホログラムの記録領域を可能な限り狭めることなく、記録層の厚みが一定であり、高品質である光記録媒体を効率よく製造することができ、2次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型のホログラムなどに幅広く用いられる。
The optical recording medium of the present invention has a recording layer with a constant thickness and high quality without narrowing the hologram recording area as much as possible. It is widely used for volume holograms that record a large amount of information such as images, and reflection holograms.
The method for producing an optical recording medium of the present invention can efficiently produce a high-quality optical recording medium having a uniform recording layer thickness without narrowing the hologram recording region as much as possible. It is widely used for relatively thin planar holograms for recording information such as volume holograms for recording large amounts of information such as stereoscopic images, and reflection holograms.

図1は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of a conventional optical recording medium. 図2は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of a conventional optical recording medium. 図3は、本発明の光記録媒体の一例の部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of an example of the optical recording medium of the present invention. 図4は、本発明の光記録媒体の層構成の一例示す部分断面図である。FIG. 4 is a partial sectional view showing an example of the layer structure of the optical recording medium of the present invention. 図5は、本発明の光記録媒体外周スペーサ及び内周スペーサを用いた記録層積層を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a recording layer stack using the outer peripheral spacer and the inner peripheral spacer of the optical recording medium of the present invention. 図6は、本発明による具体例1に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical recording medium according to Example 1 according to the present invention. 図7は、本発明による具体例2に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical recording medium according to Example 2 according to the present invention. 図8は、コレステリック液晶層を3層積層したフィルタの正面(0°)からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from the front (0 °) of a filter in which three cholesteric liquid crystal layers are laminated. 図9は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example of an optical system around the optical recording medium according to the present invention. 図10は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram showing an example of the overall configuration of the optical recording / reproducing apparatus of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 第二の基板
1a 開口部
2 反射膜
3 サーボビットパターン
4 記録層
5 第一の基板
5a 開口部
6 フィルタ層
6a、6b、6c コレステリック液晶層
7 第二ギャップ層
8 第一ギャップ層
9 1/4波長板
12 対物レンズ
13 ダイクロイックミラー
14 検出器
15 1/4波長板
16 偏光板
17 ハーフミラー
20、20a、21、22 光記録媒体
31 ピックアップ
37 外周スペーサ
38 内周スペーサ
81 スピンドル
82 スピンドルモータ
83 スピンドルサーボ回路
84 駆動装置
85 検出回路
86 フォーカスサーボ回路
87 トラッキングサーボ回路
88 スライドサーボ回路
89 信号処理回路
90 コントローラ
91 操作部
100 光記録再生装置
A 入出射面
FE フォーカスエラー信号
TE トラッキングエラー信号
RF 再生信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 2nd board | substrate 1a Opening part 2 Reflecting film 3 Servo bit pattern 4 Recording layer 5 1st board | substrate 5a Opening part 6 Filter layer 6a, 6b, 6c Cholesteric liquid crystal layer 7 2nd gap layer 8 1st gap layer 9 1 / 4 wavelength plate 12 Objective lens 13 Dichroic mirror 14 Detector 15 1/4 wavelength plate 16 Polarizing plate 17 Half mirror 20, 20a, 21, 22 Optical recording medium 31 Pickup 37 Outer spacer 38 Inner spacer 81 Spindle 82 Spindle motor 83 Spindle Servo circuit 84 Drive device 85 Detection circuit 86 Focus servo circuit 87 Tracking servo circuit 88 Slide servo circuit 89 Signal processing circuit 90 Controller 91 Operation unit 100 Optical recording / reproducing device A Input / output surface FE Focus error signal TE Tracking error -Signal RF playback signal

Claims (4)

ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、前記記録層の厚みを保持するスペーサとを少なくとも有し、前記スペーサの前記記録層の層面方向の幅が、少なくとも0.5mmであることを特徴とする光記録媒体。   A recording layer for recording information using holography, a first substrate, a second substrate, a first gap layer, a second gap layer, a filter layer, and a spacer for maintaining the thickness of the recording layer And the spacer has a width in the layer surface direction of the recording layer of at least 0.5 mm. スペーサの記録層の層面方向の幅が、0.5〜5mmである請求項1に記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein a width of the recording layer in the layer surface direction of the spacer is 0.5 to 5 mm. 光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる請求項1から2のいずれかに記載の光記録媒体。   3. The optical recording method according to claim 1, wherein the optical recording medium is irradiated with the information light and the reference light so that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. An optical recording medium according to 1. 少なくとも請求項1から3のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、記録層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
4. A method for producing an optical recording medium according to claim 1, comprising a recording layer forming step.
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