JP2007072128A - Manufacturing method of electrophoresis apparatus, and electronic device - Google Patents

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Atsushi Miyazaki
淳志 宮▲崎▼
Hazuki Kamibayashi
葉月 上林
Hideyuki Kawai
秀幸 川居
Masami Uchida
将巳 内田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing technology of an electrophoresis apparatus by which moisture resistance can be improved. <P>SOLUTION: A manufacturing method of the electrophoresis apparatus includes a step for providing an electrophoresis layer (20), on at least either one surface of a first substrate (10) and a second substrate (30); a step for sticking the first and the second substrates to each other via the electrophoresis layer; a step for sticking a first moisture preventing film (40) to the other surface of the first substrate so as to have a part brought into contact with the other surface of the first substrate and an excessive part disposed on the periphery thereof; a fourth step for sticking a second moisture-preventing film (42) to the other surface of the second substrate so as to have a part brought into contact with the other surface of the second substrate and an excessive part disposed on the periphery thereof; and a step for providing a sealing resin (44), between the respective excessive parts of the first and the second moisture-preventing films so as to enclose outer edges of the first and the second substrates. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、媒体中の荷電粒子が電圧の印加によって移動する電気泳動を画像形成などに利用する電気泳動装置及びこの電気泳動装置を備える電子機器に関する。   The present invention relates to an electrophoretic apparatus that uses electrophoresis in which charged particles in a medium move by applying a voltage for image formation and the like, and an electronic apparatus including the electrophoretic apparatus.

電気泳動現象を利用した表示装置、特にマイクロカプセル型電気泳動表示装置の優れた特長の一つにフレキシビリティがある。すなわち、電気泳動分散液を挟む2枚の基板として樹脂等のフィルムを使うことにより、可撓性を有する表示装置を容易に実現することが可能であり、電子ペーパー等の電気機器への応用が期待されている。一方、基板としてガラス等ではなくフィルムを使用した場合、水分の侵入による電気泳動表示装置の劣化が問題となる。つまり、ガラス基板であれば水分の侵入を抑制する効果が高いが、フィルム基板の場合には当該効果が低いため、フィルムを使用して構成された電気泳動表示装置を高温度、高湿度下に長期間晒したような場合には、水分の侵入により劣化が生じ、表示品質が著しく低下するという問題がある。このような問題に対する解決策として、特開2005−114820号公報(特許文献1)及び特開2005−114822号公報(特許文献2)には、表示面側の基板(第1基板)に透明樹脂保護膜を積層するとともに、表示面の周辺端面部においては、透明樹脂保護膜と非表示面側の基板(第2基板)との隙間に水蒸気遮断性樹脂層を設けることにより、水分の侵入を遮断する構造の電気泳動表示装置が開示されている。   One of the excellent features of a display device using an electrophoretic phenomenon, particularly a microcapsule type electrophoretic display device, is flexibility. That is, it is possible to easily realize a flexible display device by using a film of resin or the like as two substrates sandwiching the electrophoretic dispersion liquid, and it can be applied to electric equipment such as electronic paper. Expected. On the other hand, when a film is used instead of glass or the like as a substrate, deterioration of the electrophoretic display device due to intrusion of moisture becomes a problem. In other words, a glass substrate has a high effect of suppressing intrusion of moisture, but in the case of a film substrate, the effect is low, so an electrophoretic display device configured using a film is placed under high temperature and high humidity. When exposed for a long period of time, there is a problem that deterioration occurs due to intrusion of moisture and display quality is remarkably lowered. As a solution to such a problem, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2005-114820 (Patent Document 1) and Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2005-114822 (Patent Document 2) disclose a transparent resin on a display surface side substrate (first substrate). A protective film is laminated, and at the peripheral edge surface portion of the display surface, a water vapor blocking resin layer is provided in the gap between the transparent resin protective film and the non-display surface side substrate (second substrate), thereby preventing moisture from entering. An electrophoretic display device having a blocking structure is disclosed.

しかしながら、上記従来技術によっても依然として、高温(例えば、60℃程度程度)・高湿度(例えば、90%程度)の環境下において、周辺端面部や背面からの水分の侵入により、表示特性や保持特性の劣化や電気泳動材料の変質を招く可能性が懸念されている。このため、耐湿性をより向上させることのできる電気泳動装置が期待される。   However, even with the above-described conventional technology, display characteristics and retention characteristics due to intrusion of moisture from the peripheral end face and the back surface in an environment of high temperature (for example, about 60 ° C.) and high humidity (for example, about 90%). There is a concern that it may cause deterioration of the electrophoretic material and deterioration of the electrophoretic material. For this reason, an electrophoresis apparatus that can further improve the moisture resistance is expected.

特開2005−114820号公報JP 2005-114820 A 特開2005−114822号公報JP 2005-114822 A

そこで、本発明は、耐湿性をより向上させることが可能な電気泳動装置の製造技術を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide an electrophoretic device manufacturing technique capable of further improving moisture resistance.

第1の態様の本発明は、第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、上記第1基板の一方面側と上記第2基板の一方面側とが上記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、上記第1基板と上記第2基板とを貼り合わせる第2工程と、第1防湿フィルムを、上記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第1基板の他方面に貼り付ける第3工程と、第2防湿フィルムを、上記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第2基板の他方面に貼り付ける第4工程と、上記第1基板及び上記第2基板の外縁を囲むように、上記第1防湿フィルムと上記第2防湿フィルムのそれぞれの上記余剰部位の相互間に封止樹脂を設ける第5工程と、を含む電気泳動装置の製造方法である。   According to the first aspect of the present invention, there is provided a first step of providing an electrophoretic layer on at least one of the first substrate and the one surface of the second substrate, the one surface of the first substrate, and the first substrate. A second step of bonding the first substrate and the second substrate so that one surface side of the two substrates faces the electrophoretic layer, and the first moisture-proof film is attached to the first substrate. A second step of attaching the second moisture-proof film to the second substrate, and a third step of attaching the second substrate to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the substrate and an excess portion disposed around the portion are provided. A fourth step of attaching to the other surface of the second substrate so as to provide a portion in contact with the other surface of the substrate and a surplus portion disposed around the portion; and the first substrate and the second substrate The first moisture-proof film and the second moisture-proof film so as to surround the outer edge A fifth step of forming a sealing resin therebetween for each of the above surplus portion of a method of manufacturing an electrophoretic device comprising a.

第2の態様の本発明は、第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、第1防湿フィルムを、上記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第1基板の他方面に貼り付ける第2工程と、第2防湿フィルムを、上記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第2基板の他方面に貼り付ける第3工程と、上記第1基板の一方面側と上記第2基板の一方面側とが上記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、上記第1基板と上記第2基板とを貼り合わせる第4工程と、上記第1基板及び上記第2基板の外縁を囲むように、上記第1防湿フィルムと上記第2防湿フィルムのそれぞれの上記余剰部位の相互間に封止樹脂を設ける第5工程と、を含む電気泳動装置の製造方法である。   According to the second aspect of the present invention, there is provided a first step of providing an electrophoretic layer on at least one side of the first substrate and one side of the second substrate, and a first moisture-proof film formed on the first substrate. A second step of attaching the second substrate to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface and a surplus portion disposed around the portion are provided; A third step of attaching to the other surface of the second substrate so as to provide a portion in contact with the other surface and a surplus portion disposed around the portion; the one surface side of the first substrate; A fourth step of bonding the first substrate and the second substrate so that one surface side of the two substrates faces the electrophoretic layer, and the first substrate and the second substrate. The first moisture-proof film and the second moisture-proof film so as to surround the outer edge A fifth step of forming a sealing resin therebetween for each of the above surplus portion of a method of manufacturing an electrophoretic device comprising a.

上記第1又は第2の態様の本発明によれば、第1基板と第2基板との間に電気泳動層を介在させてなる電気泳動パネルに対して、その一方面側と他方面側がそれぞれ防湿フィルムに覆われ、かつ外縁が封止樹脂によって封止されてなる防湿性の高い電気泳動装置が得られる。   According to the first or second aspect of the present invention, the one side and the other side of the electrophoretic panel in which the electrophoretic layer is interposed between the first substrate and the second substrate are respectively provided. An electrophoretic device having high moisture resistance, which is covered with a moisture-proof film and whose outer edge is sealed with a sealing resin, is obtained.

上記第1又は第2の態様の本発明に関する更なる好適な態様について以下に説明する。   The further suitable aspect regarding this invention of the said 1st or 2nd aspect is demonstrated below.

好ましくは、上記第5工程の後に、上記第1防湿フィルム及び上記第2防湿フィルムのそれぞれの上記余剰部位の一部と上記封止樹脂の一部を、上記第1防湿フィルム及び上記第2防湿フィルムの端面と上記封止樹脂の端面とが面一になるように切断する第6工程を含む。   Preferably, after the fifth step, a part of the excess portion of each of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film and a part of the sealing resin are combined with the first moisture-proof film and the second moisture-proof film. A sixth step of cutting so that the end surface of the film and the end surface of the sealing resin are flush with each other is included.

これにより、封止樹脂の幅が一定となり、封止性能の均質化を図ることができる。また、封止樹脂の幅(封止幅)が一定となることにより、封止樹脂の選択についての自由度が増す。また、必要最小限の封止幅を確保し、余分な領域を除去できるので、電気泳動装置の狭額縁化を図ることができる。   Thereby, the width | variety of sealing resin becomes fixed and the homogenization of sealing performance can be achieved. In addition, since the width (sealing width) of the sealing resin is constant, the degree of freedom in selecting the sealing resin is increased. In addition, since a necessary minimum sealing width can be ensured and an extra region can be removed, the electrophoretic device can be narrowed.

更に好ましくは、上記第6工程は、上記封止樹脂に凹部が生じているときに、当該凹部が解消されて上記第1防湿フィルム及び上記第2防湿フィルムの端面と上記封止樹脂の端面とが面一になるように切断を行う。   More preferably, in the sixth step, when the concave portion is formed in the sealing resin, the concave portion is eliminated, and the end surfaces of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film, and the end surface of the sealing resin, Cut so that becomes flush.

封止樹脂の材質等によっては、樹脂の表面張力の関係等により、第1防湿フィルム及び第2防湿フィルムの各端面から電気泳動層側に窪んだ凹部が顕著に生じる場合がある。この場合、凹部の底となる部位において封止樹脂の幅が小さくなるので、この底部においても十分な耐湿性を確保しようとすると、封止樹脂の全体幅が大きくなってしまい、電気泳動装置の狭額縁化が妨げられる。したがって、予め第1防湿フィルム、第2防湿フィルム及び封止樹脂を余分に形成しておき、その後、凹部の底となる部位を通るように切断するなど、凹部が解消されるような切断方法を採ることにより、防湿性確保と狭額縁化を両立させることが可能となる。   Depending on the material of the sealing resin and the like, a concave portion that is recessed from the respective end surfaces of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film to the electrophoretic layer side may be prominent due to the relationship of the surface tension of the resin. In this case, since the width of the sealing resin is reduced at the bottom portion of the recess, if the sufficient moisture resistance is ensured even at the bottom portion, the entire width of the sealing resin is increased, and the electrophoresis apparatus Narrowing the frame is hindered. Therefore, a cutting method in which the concave portion is eliminated, such as preliminarily forming the first moisture-proof film, the second moisture-proof film and the sealing resin in advance and then cutting through the portion serving as the bottom of the concave portion. By adopting it, it becomes possible to achieve both moisture resistance and narrow frame.

第3の態様の本発明は、第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、上記第1基板の一方面側と上記第2基板の一方面側とが上記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、上記第1基板と上記第2基板とを貼り合わせる第2工程と、第1防湿フィルムを、上記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第1基板の他方面に貼り付ける第3工程と、第2防湿フィルムを、上記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第2基板の他方面に貼り付ける第4工程と、上記第1防湿フィルムの上記余剰部位と上記第2防湿フィルムの上記余剰部位とを接合し、上記第1基板及び上記第2基板の外縁を覆う封止部を形成する第5工程と、上記封止部の周囲に、少なくとも上記第1防湿フィルム及び上記第2フィルムの端面を覆うようにして封止樹脂を設ける第6工程と、を含む電気泳動装置の製造方法である。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a first step of providing an electrophoretic layer on at least one of the first substrate and the one surface of the second substrate, the one surface of the first substrate, and the first substrate. A second step of bonding the first substrate and the second substrate so that one surface side of the two substrates faces the electrophoretic layer, and the first moisture-proof film is attached to the first substrate. A second step of attaching the second moisture-proof film to the second substrate, and a third step of attaching the second substrate to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the substrate and an excess portion disposed around the portion are provided. A fourth step of attaching to the other surface of the second substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the substrate and an excess portion disposed around the portion are provided; and the excess portion of the first moisture-proof film; Joining the surplus part of the second moisture-proof film, A fifth step of forming a sealing portion covering the outer edge of the substrate and the second substrate, and a sealing resin so as to cover at least the end surfaces of the first moisture-proof film and the second film around the sealing portion A sixth step of providing an electrophoretic device.

第4の態様の本発明は、第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、第1防湿フィルムを、上記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第1基板の他方面に貼り付ける第2工程と、第2防湿フィルムを、上記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、上記第2基板の他方面に貼り付ける第3工程と、上記第1基板の一方面側と上記第2基板の一方面側とが上記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、上記第1基板と上記第2基板とを貼り合わせる第4工程と、上記第1防湿フィルムの上記余剰部位と上記第2防湿フィルムの上記余剰部位とを接合し、上記第1基板及び上記第2基板の外縁を覆う封止部を形成する第5工程と、上記封止部の周囲に、少なくとも上記第1防湿フィルム及び上記第2フィルムの端面を覆うようにして封止樹脂を設ける第6工程と、を含む電気泳動装置の製造方法である。   According to the fourth aspect of the present invention, there is provided a first step of providing an electrophoretic layer on at least one side of the first substrate and one side of the second substrate, and a first moisture-proof film formed on the first substrate. A second step of attaching the second substrate to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface and a surplus portion disposed around the portion are provided; A third step of attaching to the other surface of the second substrate so as to provide a portion in contact with the other surface and a surplus portion disposed around the portion; the one surface side of the first substrate; A fourth step of bonding the first substrate and the second substrate so that one surface side of the two substrates faces the electrophoretic layer, and the surplus portion of the first moisture-proof film; Joining the surplus part of the second moisture-proof film, A fifth step of forming a sealing portion covering the outer edge of the substrate and the second substrate, and a sealing resin around the sealing portion so as to cover at least the end surfaces of the first moisture-proof film and the second film A sixth step of providing an electrophoretic device.

上記第1又は第2の態様の本発明によれば、第1基板と第2基板との間に電気泳動層を介在させてなる電気泳動パネルに対して、その一方面側と他方面側がそれぞれ防湿フィルムに覆われ、かつ外縁については防湿フィルム同士を接合して封止したうえに封止樹脂によって封止されてなる防湿性の高い電気泳動装置が得られる。   According to the first or second aspect of the present invention, the one side and the other side of the electrophoretic panel in which the electrophoretic layer is interposed between the first substrate and the second substrate are respectively provided. An electrophoretic device having high moisture resistance, which is covered with a moisture-proof film and is sealed with a sealing resin after the moisture-proof films are joined and sealed with respect to the outer edge.

上記第3又は第4の態様の本発明に関する更なる好適な態様について以下に説明する。   The further suitable aspect regarding this invention of the said 3rd or 4th aspect is demonstrated below.

好ましくは、上記第4工程と上記第5工程との間に、上記第1防湿フィルム及び上記第2防湿フィルムの端面を面一に切断する第7工程を更に含む。   Preferably, a seventh step of cutting the end surfaces of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film between the fourth step and the fifth step is further included.

これにより、必要最小限の封止幅を確保し、余分な領域を除去できるので、電気泳動装置の狭額縁化を図ることができる。   Thereby, a necessary minimum sealing width can be ensured and an extra region can be removed, so that the electrophoretic device can be narrowed.

好ましくは、上記第6工程は、上記封止樹脂をその断面が略コ字状となるように形成する。   Preferably, in the sixth step, the sealing resin is formed so that a cross section thereof is substantially U-shaped.

これにより、防湿性をより強固にすることが可能となる。   Thereby, it becomes possible to make moisture-proof property stronger.

第5の態様の本発明は、上述した電気泳動装置を表示部として備える電子機器である。ここで、「電子機器」は、電気泳動材料による表示を利用する表示部を備えるあらゆる機器を含むもので、ディスプレイ装置、テレビジョン装置、電子ペーパ、時計、電卓、携帯電話、携帯情報端末等を含む。また、「機器」という概念からはずれるもの、例えば可撓性のある紙状/フィルム状の物体、これら物体が貼り付けられた壁面等の不動産に属するもの、車両、飛行体、船舶等の移動体に属するものも含み得る。   The fifth aspect of the present invention is an electronic apparatus including the above-described electrophoresis apparatus as a display unit. Here, the “electronic device” includes all devices including a display unit that uses display by an electrophoretic material, and includes a display device, a television device, an electronic paper, a clock, a calculator, a mobile phone, a portable information terminal, and the like. Including. Also, things that deviate from the concept of “equipment”, for example, flexible paper / film-like objects, belonging to real estate such as wall surfaces to which these objects are attached, moving objects such as vehicles, flying objects, ships, etc. Can also be included.

かかる構成によれば、防湿性が高く耐久性に優れた表示部を備える電子機器が得られる。   According to this configuration, an electronic device including a display unit that has high moisture resistance and excellent durability can be obtained.

以下、本発明の実施の態様について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1の実施形態>
図1は、第1の実施形態の電気泳動装置の断面構造を示す図である。図1に示す電気泳動表示装置1は、第1基板10、薄膜半導体回路層12、電気泳動層20、第2基板30、透明電極層32、第1防湿フィルム40、第2防湿フィルム42、封止樹脂44、を含んで構成されている。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram illustrating a cross-sectional structure of the electrophoresis apparatus according to the first embodiment. 1 includes a first substrate 10, a thin film semiconductor circuit layer 12, an electrophoretic layer 20, a second substrate 30, a transparent electrode layer 32, a first moisture-proof film 40, a second moisture-proof film 42, a seal. A stop resin 44 is included.

第1基板10は、電気回路を形成する絶縁性下地基板としての可撓性の基板からなる。この第1基板10の厚さは、例えば、薄膜回路形成の際の基板の物理的強度の点から25μm以上あることが望ましく、基板の可撓性(フレキシビリティ)確保の点からは200μm以下であることが望ましい。この第1基板10としては、例えば板厚200μm程度のポリカーボネート基板を用いることができる。この第1基板10上に、例えばUV(紫外線)硬化型接着剤からなる接着層を介して半導体回路層12が貼りつけられている。このような第1基板10上に薄膜半導体回路層12を形成する場合には、例えば、特開平10−125931号公報、特開平11−26733号公報、特開2004−327836号公報等で紹介されている薄膜素子転写技術を使用することができる。これらの文献では、耐熱基板(ガラス基板)上で薄膜半導体回路を形成し、その後この耐熱基板から薄膜半導体回路を含む薄膜半導体回路層を剥離して樹脂基板上に全体的にあるいは部分的に転写する薄膜回路の転写技術が開示されている。   The first substrate 10 is made of a flexible substrate as an insulating base substrate that forms an electric circuit. The thickness of the first substrate 10 is preferably 25 μm or more from the viewpoint of the physical strength of the substrate when forming a thin film circuit, and is 200 μm or less from the viewpoint of ensuring the flexibility of the substrate. It is desirable to be. As the first substrate 10, for example, a polycarbonate substrate having a thickness of about 200 μm can be used. A semiconductor circuit layer 12 is bonded onto the first substrate 10 via an adhesive layer made of, for example, a UV (ultraviolet) curable adhesive. In the case where the thin film semiconductor circuit layer 12 is formed on the first substrate 10 as described above, it is introduced in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 10-125931, 11-26733, and 2004-327836. Thin film element transfer technology can be used. In these documents, a thin film semiconductor circuit is formed on a heat resistant substrate (glass substrate), and then the thin film semiconductor circuit layer including the thin film semiconductor circuit is peeled off from the heat resistant substrate and transferred entirely or partially onto the resin substrate. A thin film circuit transfer technique is disclosed.

ここで、第1基板10を構成する可撓性基板としては、軽量性、可撓性、弾性などに優れた樹脂材料を用いることができる。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の何れでもよく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ-(4-メチルペンテン-1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル-スチレン共重合体、ブタジエンースチレン共重合体、ポリオ共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロへキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不蝕和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば2層以上の積層体として)用いることができる。   Here, as the flexible substrate constituting the first substrate 10, a resin material excellent in lightness, flexibility, elasticity and the like can be used. For example, any of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be used. For example, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, Vinylidene chloride, polystyrene, polyamide, polyimide, polyamideimide, polycarbonate, poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, polymethylmethacrylate, acrylic-styrene copolymer, butadiene-styrene copolymer, polyol Polyester such as copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT), polyether, polyether ketone (PEEK), poly -Terimide, polyacetal, polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polyarylate, aromatic polyester (liquid crystal polymer), polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluorine resins, styrene, polyolefin, polyvinyl chloride, polyurethane, Various thermoplastic elastomers such as fluoro rubber and chlorinated polyethylene, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, non-corrosive polyester, silicone resin, polyurethane, etc., or copolymers and blends mainly composed of these , Polymer alloys, and the like, and one or more of these can be used in combination (for example, as a laminate of two or more layers).

薄膜半導体回路層12は、行方向及び列方向にそれぞれ複数配列された配線群、画素電極群、画素駆動回路、接続端子、駆動画素を選択する行デコーダ及び列デコーダ等を含んで構成されている。画素駆動回路は、薄膜トランジスタ(TFT)等の回路素子を含んで構成されている。第1基板10と薄膜半導体回路層12との間の接着層として用いられる材料は、例えば、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤等の光硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤等の各種硬化型接着剤を用いることができる。特に、工程のタクトタイム低減の観点からは光硬化性接着剤を用いることが好ましい。上記の光硬化性材料としては、例えば、エポキシ系、アクリレート系、シリコーン系の光硬化性材料を用いることができる。また、接着層の厚さは、1μm〜1mm程度、さらに好ましくは10〜100μm程度である。   The thin film semiconductor circuit layer 12 includes a plurality of wiring groups, pixel electrode groups, pixel driving circuits, connection terminals, row decoders and column decoders for selecting driving pixels, and the like arranged in a row direction and a column direction. . The pixel drive circuit includes a circuit element such as a thin film transistor (TFT). The material used as the adhesive layer between the first substrate 10 and the thin film semiconductor circuit layer 12 is, for example, a photocurable adhesive such as a reactive curable adhesive, a thermosetting adhesive, an ultraviolet curable adhesive, or anaerobic. Various curable adhesives such as a curable adhesive can be used. In particular, it is preferable to use a photocurable adhesive from the viewpoint of reducing the cycle time of the process. As said photocurable material, an epoxy type, an acrylate type, and a silicone type photocurable material can be used, for example. The thickness of the adhesive layer is about 1 μm to 1 mm, more preferably about 10 to 100 μm.

電気泳動層20は、第1基板10の一方面と第2基板30の一方面との間に介在するように設けられている。この電気泳動層20は、バインダによって固定された多数のマイクロカプセルを含んで構成されている。マイクロカプセル内には電気泳動分散媒、電気泳動粒子が含まれている。電気泳動粒子は印加電圧に応じて電気泳動分散媒中を移動する性質を有し、一種類(一色)以上の電気泳動粒子が使用される。電気泳動層20の厚さは、例えば50μm〜75μm程度である。電気泳動層20は、上述のマイクロカプセルをバインダ中に所望の誘電率調節剤とともに混合し、得られた樹脂組成物(エマルジョンあるいは有機溶媒溶液)を基材上にロールコーターを用いる方法や、スクリーン印刷による方法、スプレー法等の公知のコーティング法を用いて形成することができる。   The electrophoretic layer 20 is provided so as to be interposed between one surface of the first substrate 10 and one surface of the second substrate 30. The electrophoretic layer 20 includes a large number of microcapsules fixed by a binder. The microcapsule contains an electrophoretic dispersion medium and electrophoretic particles. The electrophoretic particles have a property of moving in the electrophoretic dispersion medium according to an applied voltage, and one type (one color) or more of electrophoretic particles are used. The thickness of the electrophoretic layer 20 is, for example, about 50 μm to 75 μm. The electrophoretic layer 20 is obtained by mixing the above-described microcapsules with a desired dielectric constant adjusting agent in a binder, and using a roll coater on the substrate with the obtained resin composition (emulsion or organic solvent solution) It can be formed using a known coating method such as a printing method or a spray method.

ここで、電気泳動分散媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール、メチルセルソルブ等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等の各種エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、カルボン酸塩又はその他の種々の油類等の単独又はこれらの混合物に界面活性剤等を配合したものを用いることができる。   Here, as the electrophoretic dispersion medium, for example, alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, octanol, and methyl cellosolve, various esters such as ethyl acetate and butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl Ketones such as ketones, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and octane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and hexylbenzene, methylene chloride, chloroform, A compound obtained by blending a surfactant or the like with a halogenated hydrocarbon such as carbon tetrachloride or 1,2-dichloroethane, a carboxylate or other various oils alone or a mixture thereof can be used.

電気泳動粒子は、前述したように、電気泳動分散媒中で電位差による電気泳動を行って所望の電極側に移動する性質を有する粒子(高分子あるいはコロイド)である。例えば、アニリンブラックやカーボンブラック等の黒色顔料、二酸化チタンや亜鉛華、三酸化アンチモン、酸化アルミニウム等の白色顔料、モノアゾやジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系顔料、イソインドリノンや黄鉛、黄色酸化鉄、カドミウムイエロー、チタンイエロー、アンチモン等の黄色顔料、キナクリドンレッドやクロムバーミリオン等の赤色顔料、フタロシアニンブルーやインダスレンブルー、アントラキノン系染料、紺青、群青、コバルトブルー等の青色顔料、フタロシアニングリーン等の緑色顔料等である。此等の粒子は単独で使用しても良いし、或いは二種類以上を共に用いても良い。さらにこれらの顔料には必要に応じて電解質や界面活性剤、金属石鹸、樹脂、ゴム、油、ワニス、コンパウンド等の粒子からなる荷電制御剤、或いはチタンカップリング剤等の分散剤、潤滑剤、安定化剤等を添加することができる。   As described above, the electrophoretic particles are particles (polymer or colloid) having a property of moving to a desired electrode side by performing electrophoresis based on a potential difference in an electrophoretic dispersion medium. For example, black pigments such as aniline black and carbon black, white pigments such as titanium dioxide, zinc white, antimony trioxide, aluminum oxide, azo pigments such as monoazo, disazo, polyazo, isoindolinone, yellow lead, yellow iron oxide , Yellow pigments such as cadmium yellow, titanium yellow and antimony, red pigments such as quinacridone red and chrome vermillion, phthalocyanine blue and indanthrene blue, anthraquinone dyes, blue pigments such as bitumen, ultramarine blue and cobalt blue, phthalocyanine green, etc. Green pigments and the like. These particles may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, these pigments include electrolytes, surfactants, metal soaps, resins, rubbers, oils, varnishes, charge control agents composed of particles such as compounds, or dispersing agents such as titanium coupling agents, lubricants, as necessary. Stabilizers and the like can be added.

マイクロカプセルを構成する材料としては、アラビアゴム・ゼラチン系の化合物やウレタン系の化合物等の柔軟性を有するものを用いるのが好ましい。マイクロカプセルは界面重合法や不溶化反応法、相分離法或いは界面沈殿法等の公知のマイクロカプセル化手法を用いて形成できる。またマイクロカプセルは、大きさがほぼ均一であることが優れた表示機能を発揮させる上で好ましい。大きさがほぼ均一なマイクロカプセルは、例えば、濾過又は比重差分級等を用いて得ることができる。マイクロカプセルの大きさは通常30〜60μm程度である。   As a material constituting the microcapsule, it is preferable to use a flexible material such as a gum arabic / gelatin compound or a urethane compound. The microcapsules can be formed using a known microencapsulation method such as an interfacial polymerization method, an insolubilization reaction method, a phase separation method, or an interfacial precipitation method. In addition, it is preferable that the microcapsules have a substantially uniform size in order to exhibit an excellent display function. Microcapsules having a substantially uniform size can be obtained using, for example, filtration or specific gravity differential class. The size of the microcapsules is usually about 30 to 60 μm.

バインダとしては、マイクロカプセルと親和性が良好で電極との密着性に優れ、かつ絶縁性を有するものであれば特に制限はない。かかるバインダとして、上述した絶縁性合成樹脂基材と同様、下記に例示するものを用いることができる。例えば、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、ポリプロピレン、ABS樹脂、メタクリル酸メチル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール−塩化ビニル共重合体、プロピレン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、セルロース系樹脂等の熱可塑性樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキサイド、ポリスルホン、ポリアミドイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアリレート、グラフト化ポリフィニレンエーテル、ポリエーテルエテルケトン、ポリエーテルイミド等の高分子。ポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化エチレンプロピレン、四フッ化エチレン−パーフロロアルコキシエチレン共重合体、エチレン−四フッ化エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリ三フッ化塩化エチレン、フッ素ゴム等のフッ素系樹脂、シリコーン樹脂、シリコンゴム等の珪素樹脂。その他のバインダ材として、メタクリル酸−スチレン共重合体、ポリブチレン、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体等を用いることができる。また、バインダ材は、例えば特開平10−149118号公報に記載されているように、電気泳動表示液の誘電率と分散剤の誘電率を略同じとするのが好ましい。   The binder is not particularly limited as long as it has good affinity with the microcapsules, has excellent adhesion to the electrode, and has insulating properties. As the binder, those exemplified below can be used as in the case of the insulating synthetic resin base material described above. For example, polyethylene, chlorinated polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, polypropylene, ABS resin, methyl methacrylate resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride -Vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride acrylate copolymer, vinyl chloride-methacrylic acid copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol-vinyl chloride copolymer, propylene-vinyl chloride copolymer Polymer, thermoplastic resin such as vinylidene chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, and cellulose resin, polyamide resin, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenyl Emissions oxide, polysulfone, polyamideimide, polyaminobismaleimide, polyether sulfone, polyphenylene sulfone, polyarylate, graft poly Fini ether, polyether Ether ketone, polymers such as polyetherimide. Fluorine such as polytetrafluoroethylene, polyfluoroethylenepropylene, tetrafluoroethylene-perfluoroalkoxyethylene copolymer, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, polyvinylidene fluoride, polytrifluoroethylene chloride, fluororubber Silicone resin such as resin, silicone resin and silicone rubber. As other binder materials, methacrylic acid-styrene copolymer, polybutylene, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, and the like can be used. The binder material preferably has substantially the same dielectric constant of the electrophoretic display liquid and that of the dispersant as described in, for example, JP-A-10-149118.

第2基板30は、一方面側に透明電極層32が形成された薄膜フィルム(透明な絶縁性合成樹脂基材)からなり、電気泳動層20上を覆うように形成されている。第2基板30の厚さは、10〜200μmが望ましく、より好ましくは25〜75μmである。この第2基板30を構成する薄膜フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが用いられる。薄膜フィルムとしては絶縁性の透明材であれば、上述した第1基板10と同様に種々の材料を用いることができる。薄膜フィルムの厚みは第1基板10の厚みよりも薄い方がよい。より好ましくは第1基板10の厚みの半分以下程度である。   The second substrate 30 is made of a thin film (transparent insulating synthetic resin base material) having a transparent electrode layer 32 formed on one side, and is formed so as to cover the electrophoretic layer 20. As for the thickness of the 2nd board | substrate 30, 10-200 micrometers is desirable, More preferably, it is 25-75 micrometers. For example, a polyethylene terephthalate (PET) film is used as the thin film constituting the second substrate 30. As the thin film, various materials can be used as in the case of the first substrate 10 as long as it is an insulating transparent material. The thickness of the thin film is preferably thinner than the thickness of the first substrate 10. More preferably, it is about half or less of the thickness of the first substrate 10.

透明電極層32は、例えば、錫がドープされた酸化インジウム膜(ITO膜)などの透明導電膜を用いて構成されている。透明電極層32は、第2基板30の一方面のほぼ全体に渡って形成されている。第1基板10の回路配線と第2基板30の透明電極層32とは、電気泳動層20の形成領域の外側において電気的に接続されている。具体的には、透明電極層32と薄膜半導体回路層12の接続電極(端子)とが導電性接続体を介して接続される。透明電極層32を構成する透明導電膜としては、例えば、上述したITO膜の他に、フッ素がドープされた酸化スズ膜(FTO膜)、アンチモンがドープされた酸化亜鉛膜、インジウムがドープされた酸化亜鉛膜、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛膜等を例示することができる。薄膜フィルム上に透明電極を形成する方法には特に制限はないが、例えば、スパッタ法、電子ビーム法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又は化学的気相成長法(CVD法)等を採用することができる。   The transparent electrode layer 32 is configured using a transparent conductive film such as an indium oxide film (ITO film) doped with tin, for example. The transparent electrode layer 32 is formed over substantially the entire one surface of the second substrate 30. The circuit wiring of the first substrate 10 and the transparent electrode layer 32 of the second substrate 30 are electrically connected outside the region where the electrophoretic layer 20 is formed. Specifically, the transparent electrode layer 32 and the connection electrode (terminal) of the thin film semiconductor circuit layer 12 are connected via a conductive connector. As the transparent conductive film constituting the transparent electrode layer 32, for example, in addition to the ITO film described above, a tin oxide film doped with fluorine (FTO film), a zinc oxide film doped with antimony, and indium were doped. Examples thereof include a zinc oxide film and a zinc oxide film doped with aluminum. The method for forming the transparent electrode on the thin film is not particularly limited. For example, a sputtering method, an electron beam method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a chemical vapor deposition method (CVD method), or the like is employed. be able to.

第1防湿フィルム40は、第1基板10の他方面側に貼り付けられており、電気泳動層20の封止及び保護の役割を担う。この第1防湿フィルム40は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどの透光性を有するものを用いて構成される。ここで、第1防湿フィルム40の形状について説明する。図2は、第1基板10と第1防湿フィルム40の各々の形状について説明するための図であり、第1基板10と第1防湿フィルム40との接合体を第1防湿フィルム40側から見た模式的な平面図を示している。図2に示すように、第1防湿フィルム40(図中、梨地で表現)は、第1基板10の他方面と接する部位のほかに、当該部位の周囲に配される額縁状の余剰部位を有する。この余剰部位は、後述するように封止剤(封止樹脂)44を設ける空間を形成する等のために利用される。   The first moisture-proof film 40 is attached to the other surface side of the first substrate 10 and plays a role of sealing and protecting the electrophoretic layer 20. This 1st moisture-proof film 40 is comprised using what has translucency, such as a polyethylene terephthalate (PET) film, for example. Here, the shape of the first moisture-proof film 40 will be described. FIG. 2 is a view for explaining the shapes of the first substrate 10 and the first moisture-proof film 40, and the joined body of the first substrate 10 and the first moisture-proof film 40 is viewed from the first moisture-proof film 40 side. A schematic plan view is shown. As shown in FIG. 2, the first moisture-proof film 40 (expressed as satin in the drawing) has a frame-like surplus portion disposed around the portion in addition to the portion in contact with the other surface of the first substrate 10. Have. The surplus portion is used for forming a space for providing a sealing agent (sealing resin) 44, as will be described later.

第2防湿フィルム42は、第2基板30の他方面側に貼り付けられており、電気泳動層20の封止及び保護の役割を担う。この第2防湿フィルム42は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどを用いて構成される。この第2防湿フィルム42は、上述した第1防湿フィルム40と同様に(図2参照)、第2基板30の他方面と接する部位のほかに、当該部位の周囲に配される額縁状の余剰部位を有する。この余剰部位は、後述するように封止剤(封止樹脂)44を設ける空間を形成する等のために利用される。   The second moisture-proof film 42 is attached to the other surface side of the second substrate 30 and plays a role of sealing and protecting the electrophoretic layer 20. This 2nd moisture-proof film 42 is comprised using a polyethylene terephthalate (PET) film etc., for example. Similar to the first moisture-proof film 40 described above (see FIG. 2), the second moisture-proof film 42 has a frame-like surplus disposed around the part other than the part in contact with the other surface of the second substrate 30. Has a site. The surplus portion is used for forming a space for providing a sealing agent (sealing resin) 44, as will be described later.

封止剤(封止樹脂)44は、第1基板10及び第2基板30の外縁を囲むようにして、第1防湿フィルム40と第2防湿フィルム42のそれぞれの余剰部位の相互間に設けられる。本実施形態の電気泳動装置1では、図示のように第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面と封止剤44の端面とが面一に形成されている。ここで、封止剤44としては、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂などが好適に用いられる。更に、これらの樹脂中にシリカ、アルミナ等の無機微粒子を分散させたものも好適に用いられる。   The sealing agent (sealing resin) 44 is provided between the excess portions of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 so as to surround the outer edges of the first substrate 10 and the second substrate 30. In the electrophoresis device 1 of the present embodiment, the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 and the end surface of the sealant 44 are formed flush with each other as shown in the drawing. Here, as the sealing agent 44, an epoxy resin, a silicon resin, an acrylic resin, or the like is preferably used. Further, those obtained by dispersing inorganic fine particles such as silica and alumina in these resins are also preferably used.

次に、第1の実施形態にかかる電気泳動装置1を製造する方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the electrophoresis apparatus 1 according to the first embodiment will be described.

図3は、第1の実施形態の電気泳動装置の製造方法を説明する工程断面図である。   FIG. 3 is a process cross-sectional view illustrating the manufacturing method of the electrophoretic device according to the first embodiment.

まず、第1基板10の一方面上と第2基板30の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層20を設ける(図3(A))。図示の例では、第2基板30の一方面上に電気泳動層20が設けられている。なお、第1基板10の一方面上に電気泳動層20が設けられてもよいし、第1基板10と第2基板30の双方に電気泳動層20が設けられてもよい。   First, the electrophoretic layer 20 is provided on at least one of the one surface of the first substrate 10 and the one surface of the second substrate 30 (FIG. 3A). In the illustrated example, the electrophoretic layer 20 is provided on one surface of the second substrate 30. The electrophoretic layer 20 may be provided on one surface of the first substrate 10, or the electrophoretic layer 20 may be provided on both the first substrate 10 and the second substrate 30.

次に、第1基板10の一方面側と第2基板30の一方面側とが電気泳動層20を介在させながら対向するようにして、第1基板10と第2基板30とを貼り合わせる(図3(B))。   Next, the first substrate 10 and the second substrate 30 are bonded together so that the one surface side of the first substrate 10 and the one surface side of the second substrate 30 face each other with the electrophoretic layer 20 interposed therebetween ( FIG. 3 (B)).

次に、第1防湿フィルム40を、第1基板10の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして(図2参照)、第1基板10の他方面に貼り付ける(図3(C))。第1防湿フィルム40の貼り付けは、第1防湿フィルム40と第1基板10との間に光硬化性接着剤や熱硬化型接着剤などを介在させ、あるいは両面粘着材を介在させることにより行われる。真空ラミネーターを用いて第1防湿フィルム40をラミネートすることが好ましい。   Next, the first moisture-proof film 40 is provided with a portion in contact with the other surface of the first substrate 10 and a surplus portion disposed around the portion (see FIG. 2). Affixed in the direction (FIG. 3C). The first moisture-proof film 40 is attached by interposing a photocurable adhesive or a thermosetting adhesive between the first moisture-proof film 40 and the first substrate 10 or by interposing a double-sided adhesive material. Is called. It is preferable to laminate the first moisture-proof film 40 using a vacuum laminator.

また、上記工程と並んで、第2防湿フィルム42を、第2基板30の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位(図2参照)とが設けられるようにして、第2基板30の他方面に貼り付ける(図3(C))。第2防湿フィルム42の貼り付けについても、第2防湿フィルム42と第2基板30との間に光硬化性接着剤や熱硬化型接着剤などを介在させ、あるいは両面粘着材を介在させることにより行われる。真空ラミネーターを用いて第2防湿フィルム42をラミネートすることが好ましい。   In addition to the above steps, the second moisture-proof film 42 is provided with a portion in contact with the other surface of the second substrate 30 and a surplus portion (see FIG. 2) disposed around the portion. Affixed to the other surface of the two substrates 30 (FIG. 3C). As for the attachment of the second moisture-proof film 42, a photo-curing adhesive or a thermosetting adhesive is interposed between the second moisture-proof film 42 and the second substrate 30, or a double-sided pressure-sensitive adhesive is interposed. Done. It is preferable to laminate the second moisture-proof film 42 using a vacuum laminator.

次に、第1基板10及び第2基板30の外縁を囲むように、第1防湿フィルム40と第2防湿フィルム42のそれぞれの余剰部位の相互間に封止樹脂44を設ける(図3(D))。封止樹脂44としては、光硬化型、熱硬化型、或いは2液混合硬化型のいずれも採用することができる。この封止樹脂44は、充填時に気泡を巻き込まない程度に低粘度であり、かつ流出しない程度に高粘度(具体的には、0.1〜10cP程度)であることが好ましい。充填方法としては、例えばマイクロディスペンサにより適量を吐出しながら、第1防湿フィルム40と第2防湿フィルム42との間に充填する方法を採用し得る。気泡の混入を極力回避するために、真空状態(低圧状態)で作業を行うのも好ましい。   Next, a sealing resin 44 is provided between the surplus portions of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 so as to surround the outer edges of the first substrate 10 and the second substrate 30 (FIG. 3D )). As the sealing resin 44, any of photo-curing type, thermosetting type, or two-component mixed curing type can be adopted. The sealing resin 44 is preferably low in viscosity so as not to entrain bubbles during filling and high in viscosity so as not to flow out (specifically, about 0.1 to 10 cP). As a filling method, for example, a method of filling between the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 while discharging an appropriate amount by a micro dispenser can be adopted. In order to avoid the mixing of bubbles as much as possible, it is also preferable to work in a vacuum state (low pressure state).

次に、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42のそれぞれの余剰部位の一部と封止樹脂44の一部を、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面と封止樹脂44の端面とが面一になるように切断する(図3(E))。この切断工程では、所望の封止幅(例えば、0.5mm〜1.5mm程度)の封止樹脂44が確保されるようにして、この封止幅よりも外側に存在する第1防湿フィルム40、第2防湿フィルム42及び封止樹脂44が除去される。本工程には、トムソン刃、金型刃、レーザーカット等の様々な切断方法を採用可能である。ここで、本工程の更なる好適態様について以下に説明する。   Next, a part of each excess part of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 and a part of the sealing resin 44 are used, and an end face of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 and the sealing resin 44 are used. Cut so that the end surface of the substrate is flush with the other end surface (FIG. 3E). In this cutting step, the first moisture-proof film 40 existing outside the sealing width is secured so that the sealing resin 44 having a desired sealing width (for example, about 0.5 mm to 1.5 mm) is secured. Then, the second moisture-proof film 42 and the sealing resin 44 are removed. Various cutting methods such as a Thomson blade, a mold blade, and a laser cut can be employed in this step. Here, the further suitable aspect of this process is demonstrated below.

図4は、切断工程について更に詳細に説明するための図であり、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面付近が拡大して示されている。硬化後の封止樹脂44を厳密に観察すると、封止樹脂44として用いた樹脂材料の性質等の条件によっては、図4(A)に示すように、樹脂の表面張力の関係等により凹部46が生じる場合がある。このような場合、凹部46の底となる部位において最も樹脂の幅が小さくなるので、この部位における封止幅が防湿性の確保に必要十分となるように封止樹脂44を設ける必要がある。このように凹部46の底部においても必要十分な耐湿性を確保すると、樹脂の封止幅が大きくなってしまい狭額縁化の妨げとなる。したがって、封止樹脂44に凹部46が生じている場合には、図4(B)に示すように、凹部46が解消されて第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面と封止樹脂44の端面とが面一になるようにして、本工程における切断がなされることが望ましい。具体的には、図示のように封止樹脂44の凹部46の底となる部位を通るようにして切断が行われる。これにより、防湿性確保と狭額縁化を両立させることが可能となる。   FIG. 4 is a diagram for explaining the cutting process in more detail, and the vicinity of the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 is shown enlarged. When the cured sealing resin 44 is strictly observed, depending on conditions such as the properties of the resin material used as the sealing resin 44, as shown in FIG. May occur. In such a case, since the width of the resin becomes the smallest at the bottom portion of the recess 46, it is necessary to provide the sealing resin 44 so that the sealing width at this portion is necessary and sufficient to ensure moisture resistance. Thus, if necessary and sufficient moisture resistance is ensured also in the bottom part of the recessed part 46, the sealing width | variety of resin will become large and will prevent the narrowing of a frame. Therefore, when the recessed part 46 has arisen in the sealing resin 44, as shown to FIG. 4 (B), the recessed part 46 is eliminated and the end surface of the 1st moisture-proof film 40 and the 2nd moisture-proof film 42, and sealing resin It is desirable that cutting in this step is performed so that the end face of 44 is flush. Specifically, as shown in the figure, the cutting is performed so as to pass through the portion that becomes the bottom of the recess 46 of the sealing resin 44. This makes it possible to achieve both moisture-proofing and narrowing of the frame.

図5は、第1の実施形態の電気泳動装置の製造方法についての他の態様を説明する工程断面図である。なお、上述した図3に示した製造方法と以下に説明する製造方法とは、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42を貼り付けるまでの工程が相違している。以下、主に両者の相違点について説明し、両者に共通する事項については説明を適宜省略し、   FIG. 5 is a process cross-sectional view illustrating another aspect of the method for manufacturing the electrophoretic device of the first embodiment. Note that the manufacturing method shown in FIG. 3 described above and the manufacturing method described below are different in steps until the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 are attached. In the following, the differences between the two will be mainly described, explanations of items common to both will be omitted as appropriate,

まず、第1基板10の一方面上と第2基板30の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層20を設ける(図5(A))。図示の例では、第2基板30の一方面上に電気泳動層20が設けられている。なお、第1基板10の一方面上に電気泳動層20が設けられてもよいし、第1基板10と第2基板30の双方に電気泳動層20が設けられてもよい。   First, the electrophoretic layer 20 is provided on at least one of the one surface of the first substrate 10 and the one surface of the second substrate 30 (FIG. 5A). In the illustrated example, the electrophoretic layer 20 is provided on one surface of the second substrate 30. The electrophoretic layer 20 may be provided on one surface of the first substrate 10, or the electrophoretic layer 20 may be provided on both the first substrate 10 and the second substrate 30.

次に、第1防湿フィルム40を、第1基板10の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして(図2参照)、第1基板10の他方面に貼り付ける(図5(B))。第1防湿フィルム40の貼り付けは、第1防湿フィルム40と第1基板10との間に光硬化性接着剤や熱硬化型接着剤などを介在させ、あるいは両面粘着材を介在させることにより行われる。真空ラミネーターを用いて第1防湿フィルム40をラミネートすることが好ましい。   Next, the first moisture-proof film 40 is provided with a portion in contact with the other surface of the first substrate 10 and a surplus portion disposed around the portion (see FIG. 2). Affixed in the direction (FIG. 5B). The first moisture-proof film 40 is attached by interposing a photocurable adhesive or a thermosetting adhesive between the first moisture-proof film 40 and the first substrate 10 or by interposing a double-sided adhesive material. Is called. It is preferable to laminate the first moisture-proof film 40 using a vacuum laminator.

また、上記工程と並んで、第2防湿フィルム42を、第2基板30の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位(図2参照)とが設けられるようにして、第2基板30の他方面に貼り付ける(図5(A))。第2防湿フィルム42の貼り付けについても、第2防湿フィルム42と第2基板30との間に光硬化性接着剤や熱硬化型接着剤などを介在させ、あるいは両面粘着材を介在させることにより行われる。真空ラミネーターを用いて第2防湿フィルム42をラミネートすることが好ましい。   In addition to the above steps, the second moisture-proof film 42 is provided with a portion in contact with the other surface of the second substrate 30 and a surplus portion (see FIG. 2) disposed around the portion. The two substrates 30 are attached to the other surface (FIG. 5A). As for the attachment of the second moisture-proof film 42, a photo-curing adhesive or a thermosetting adhesive is interposed between the second moisture-proof film 42 and the second substrate 30, or a double-sided pressure-sensitive adhesive is interposed. Done. It is preferable to laminate the second moisture-proof film 42 using a vacuum laminator.

なお、第1防湿フィルム40や第2防湿フィルム42の貼り付けを行った後に、電気泳動層20を形成してもよい。   The electrophoretic layer 20 may be formed after the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 are attached.

次に、第1基板10の一方面側と第2基板30の一方面側とが電気泳動層20を介在させながら対向するようにして、第1基板10と第2基板30とを貼り合わせる(図5(C))。   Next, the first substrate 10 and the second substrate 30 are bonded together so that the one surface side of the first substrate 10 and the one surface side of the second substrate 30 face each other with the electrophoretic layer 20 interposed therebetween ( FIG. 5C).

次に、第1基板10及び第2基板30の外縁を囲むように、第1防湿フィルム40と第2防湿フィルム42のそれぞれの余剰部位の相互間に封止樹脂44を設ける(図5(D))。本工程の好適条件については上記と同様である。   Next, a sealing resin 44 is provided between the surplus portions of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 so as to surround the outer edges of the first substrate 10 and the second substrate 30 (FIG. 5D )). Suitable conditions for this step are the same as described above.

次に、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42のそれぞれの余剰部位の一部と封止樹脂44の一部を、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面と封止樹脂44の端面とが面一になるように切断する(図5(E))。本工程の好適条件については上記と同様である。より好適な切断条件についても同様である(図4参照)。   Next, a part of each excess part of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 and a part of the sealing resin 44 are used, and an end face of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 and the sealing resin 44 are used. Cut so that the end surface of the surface is flush with the other end surface (FIG. 5E). Suitable conditions for this step are the same as described above. The same applies to more preferable cutting conditions (see FIG. 4).

以上のように第1の実施形態によれば、第1基板と第2基板との間に電気泳動層を介在させてなる電気泳動パネルに対して、その一方面側と他方面側がそれぞれ防湿フィルムに覆われ、かつ外縁が封止樹脂によって封止されてなる防湿性の高い電気泳動装置が得られる。   As described above, according to the first embodiment, with respect to the electrophoretic panel in which the electrophoretic layer is interposed between the first substrate and the second substrate, the one surface side and the other surface side are respectively moisture-proof films. Thus, an electrophoretic device having a high moisture resistance, which is covered with an outer edge and sealed with a sealing resin, is obtained.

<第2の実施形態>
図6は、第2の実施形態の電気泳動装置の断面構造を示す図である。図6に示す電気泳動表示装置1aは、第1基板10、薄膜半導体回路層12、電気泳動層20、第2基板30、透明電極層32、第1防湿フィルム40、第2防湿フィルム42、封止樹脂44a、を含んで構成されている。本実施形態の電気泳動装置1aは、基本的に上述した第1の実施形態の電気泳動装置1と同様の構成を備えており、第1防湿フィルム40、第2防湿フィルム42及び封止樹脂44aからなる封止構造が相違している。以下、相違点に着目して説明し、両者の共通構成については図6において図1と同符号を付したうえで詳細な説明を省略する。
<Second Embodiment>
FIG. 6 is a diagram illustrating a cross-sectional structure of the electrophoresis apparatus according to the second embodiment. The electrophoretic display device 1a shown in FIG. 6 includes a first substrate 10, a thin film semiconductor circuit layer 12, an electrophoretic layer 20, a second substrate 30, a transparent electrode layer 32, a first moisture-proof film 40, a second moisture-proof film 42, a seal A stop resin 44a is included. The electrophoresis device 1a of the present embodiment basically has the same configuration as the electrophoresis device 1 of the first embodiment described above, and includes a first moisture-proof film 40, a second moisture-proof film 42, and a sealing resin 44a. The sealing structure consisting of is different. The following description will be made by paying attention to the different points, and the common configurations of the two will be denoted by the same reference numerals as those in FIG.

図6に示すように、第2の実施形態の電気泳動装置1aは、第1防湿フィルム40の余剰部位と第2防湿フィルム42の余剰部位とを接合して構成され、第1基板10及び第2基板30の外縁を覆う封止部48を備えている。そして、この封止部48の周囲には、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面を覆うようにして封止樹脂44aが設けられている。本実施形態の封止樹脂44aは、図示のように略コ字状の断面となるように形成されている。この封止樹脂44aは、少なくとも第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面を覆うように設けられていればよいが、図示のように略コ字状の断面となるようにすることで防湿性がより高まる。封止樹脂44aとして用いる材料等の好適条件は上述した封止樹脂44の場合と同様である。また、図示のように、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42は、これらの端面が面一に形成されている。これにより、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の外縁部の幅を必要最小限に狭め、電気泳動装置1aの狭額縁化を達成できる。また、封止樹脂44aの使用量も低減することができる。   As shown in FIG. 6, the electrophoresis apparatus 1 a of the second embodiment is configured by joining the surplus portion of the first moisture-proof film 40 and the surplus portion of the second moisture-proof film 42, and includes the first substrate 10 and the first substrate 10. The sealing part 48 which covers the outer edge of the 2 board | substrate 30 is provided. A sealing resin 44 a is provided around the sealing portion 48 so as to cover the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42. The sealing resin 44a of this embodiment is formed so as to have a substantially U-shaped cross section as shown in the figure. The sealing resin 44a only needs to be provided so as to cover at least the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42, but by having a substantially U-shaped cross section as shown in the figure. More moisture resistance. Suitable conditions such as a material used as the sealing resin 44a are the same as those of the sealing resin 44 described above. Moreover, as shown in the figure, the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 are formed flush with each other. Thereby, the width | variety of the outer edge part of the 1st moisture-proof film 40 and the 2nd moisture-proof film 42 can be narrowed to required minimum, and the narrow frame of the electrophoresis apparatus 1a can be achieved. Moreover, the usage-amount of sealing resin 44a can also be reduced.

次に、第2の実施形態にかかる電気泳動装置1aを製造する方法の好適な一例について説明する。なお、上述した第1の実施形態の場合と共通する事項については適宜省略する。   Next, a preferred example of a method for manufacturing the electrophoresis apparatus 1a according to the second embodiment will be described. Note that items common to those in the first embodiment described above are omitted as appropriate.

図7は、第2の実施形態の電気泳動装置の製造方法を説明する工程断面図である。   FIG. 7 is a process cross-sectional view illustrating the manufacturing method of the electrophoresis device of the second embodiment.

まず、第1基板10の一方面上と第2基板30の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層20を設ける(図7(A))。次に、第1基板10の一方面側と第2基板30の一方面側とが電気泳動層20を介在させながら対向するようにして、第1基板10と第2基板30とを貼り合わせる(図7(B))。次に、第1防湿フィルム40を、第1基板10の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして(図2参照)、第1基板10の他方面に貼り付ける(図7(C))。また、この工程と並んで、第2防湿フィルム42を、第2基板30の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位(図2参照)とが設けられるようにして、第2基板30の他方面に貼り付ける(図7(C))。ここまでの工程についての好適条件は上述した第1の実施形態と同様である。   First, the electrophoretic layer 20 is provided on at least one of the first substrate 10 and the second substrate 30 (FIG. 7A). Next, the first substrate 10 and the second substrate 30 are bonded together so that the one surface side of the first substrate 10 and the one surface side of the second substrate 30 face each other with the electrophoretic layer 20 interposed therebetween ( FIG. 7 (B)). Next, the first moisture-proof film 40 is provided with a portion in contact with the other surface of the first substrate 10 and a surplus portion disposed around the portion (see FIG. 2). Affixed in the direction (FIG. 7C). In addition to this step, the second moisture-proof film 42 is provided with a portion in contact with the other surface of the second substrate 30 and a surplus portion (see FIG. 2) disposed around the portion. Affixed to the other surface of the two substrates 30 (FIG. 7C). The preferred conditions for the steps so far are the same as those in the first embodiment described above.

なお、図5に示した例のように、第1基板10の一方面上と第2基板30の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層20を設けた後に、第1防湿フィルム40を第1基板10の他方面に貼り付け、かつ第2防湿フィルム42を第2基板30の他方面に貼り付け、その後、第1基板10と第2基板30とを貼り合わせる、という工程順にしてもよい。   In addition, after providing the electrophoretic layer 20 on at least one of the one surface of the first substrate 10 and the one surface of the second substrate 30 as in the example illustrated in FIG. The first substrate 10 may be attached to the other surface, the second moisture-proof film 42 may be attached to the other surface of the second substrate 30, and then the first substrate 10 and the second substrate 30 may be attached together in the order of steps. Good.

次に、第1防湿フィルム40の余剰部位と第2防湿フィルム42の余剰部位とを接合し、第1基板10及び第2基板30の外縁を覆う封止部48を形成する(図7(D))。本工程は、例えば真空ラミネーターを用いて行われる。このとき、第1防湿フィルム40と第2防湿フィルム42との貼り合わせ幅に余裕を持たせておき、両者を接合した後に、第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面を面一に切断する工程を更に追加してもよい。これにより、端面の寸法精度が向上する。また、封止部48の幅を必要最小限に狭め、電気泳動装置1aの狭額縁化を図ることができる。   Next, the surplus part of the 1st moisture-proof film 40 and the surplus part of the 2nd moisture-proof film 42 are joined, and the sealing part 48 which covers the outer edge of the 1st board | substrate 10 and the 2nd board | substrate 30 is formed (FIG.7 (D )). This step is performed using, for example, a vacuum laminator. At this time, a margin is provided for the bonding width of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42, and after both are joined, the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 are flush with each other. A step of cutting may be further added. Thereby, the dimensional accuracy of an end surface improves. In addition, the width of the sealing portion 48 can be reduced to a necessary minimum, and the frame of the electrophoretic device 1a can be reduced.

次に、封止部48の周囲に、少なくとも第1防湿フィルム40及び第2防湿フィルム42の端面を覆うようにして封止樹脂44aを設ける(図7(E))。上述したように本実施形態では、封止樹脂44aはその断面が略コ字状となるように形成される。封止樹脂44aの供給は、例えばマイクロディスペンサを用いて行うことができる。気泡の混入を極力回避するために、本工程の作業を真空状態(低圧状態)で行うのも好ましい。   Next, a sealing resin 44a is provided around the sealing portion 48 so as to cover at least the end surfaces of the first moisture-proof film 40 and the second moisture-proof film 42 (FIG. 7E). As described above, in the present embodiment, the sealing resin 44a is formed so that its cross section is substantially U-shaped. The supply of the sealing resin 44a can be performed using, for example, a microdispenser. In order to avoid the mixing of bubbles as much as possible, it is also preferable to perform the operation in this step in a vacuum state (low pressure state).

以上のように第2の実施形態によれば、第1基板と第2基板との間に電気泳動層を介在させてなる電気泳動パネルに対して、その一方面側と他方面側がそれぞれ防湿フィルムに覆われ、かつ外縁については防湿フィルム同士を接合して封止したうえに封止樹脂によって封止されてなる防湿性の高い電気泳動装置が得られる。   As described above, according to the second embodiment, with respect to the electrophoretic panel in which the electrophoretic layer is interposed between the first substrate and the second substrate, the one surface side and the other surface side are respectively moisture-proof films. An electrophoretic device with high moisture resistance is obtained, which is covered with and sealed with moisture-proof films bonded to each other and sealed with a sealing resin.

(第3の実施形態)
次に、上述した各実施形態にかかる電気泳動装置を備える電子機器の具体例について説明する。
(Third embodiment)
Next, specific examples of the electronic apparatus including the electrophoresis device according to each of the above-described embodiments will be described.

図8は、電気泳動装置を適用した電子機器の具体例を説明する斜視図である。図8(A)は、電子機器の一例である電子ブックを示す斜視図である。この電子ブック1000は、ブック形状のフレーム1001と、このフレーム1001に対して回動自在に設けられた(開閉可能な)カバー1002と、操作部1003と、上述した電気泳動装置1又は1aによって構成された表示部1004と、を備えている。図8(B)は、電子機器の一例である腕時計を示す斜視図である。この腕時計1100は、電気泳動装置1又は1aによって構成された表示部1101を備えている。図8(C)は、電子機器の一例である電子ペーパーを示す斜視図である。この電子ペーパー1200は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシートで構成される本体部1201と、電気泳動装置1又は1aによって構成された表示部1202と、を備えている。なお、電気泳動装置1又は1aを適用可能な電子機器の範囲はこれに限定されず、帯電粒子の移動に伴う視覚上の色調の変化を利用した装置を広く含むものである。例えば、上記のような装置の他、電気泳動フィルムが貼り合わせられた壁面等の不動産に属するもの、車両、飛行体、船舶等の移動体に属するものも該当し得る。   FIG. 8 is a perspective view illustrating a specific example of an electronic apparatus to which the electrophoresis apparatus is applied. FIG. 8A is a perspective view illustrating an electronic book which is an example of the electronic apparatus. The electronic book 1000 includes a book-shaped frame 1001, a cover 1002 that can be rotated (openable and closable) with respect to the frame 1001, an operation unit 1003, and the electrophoretic device 1 or 1a described above. The display unit 1004 is provided. FIG. 8B is a perspective view illustrating a wrist watch that is an example of an electronic apparatus. The wristwatch 1100 includes a display unit 1101 configured by the electrophoresis device 1 or 1a. FIG. 8C is a perspective view illustrating electronic paper which is an example of an electronic apparatus. The electronic paper 1200 includes a main body 1201 formed of a rewritable sheet having the same texture and flexibility as paper, and a display unit 1202 formed of the electrophoresis apparatus 1 or 1a. The range of electronic devices to which the electrophoretic device 1 or 1a can be applied is not limited to this, and includes a wide range of devices that use changes in visual color tone accompanying the movement of charged particles. For example, in addition to the apparatus as described above, a device belonging to a real estate such as a wall surface to which an electrophoretic film is bonded, or a device belonging to a moving body such as a vehicle, a flying body, or a ship may also be applicable.

(他の実施態様の例示)
なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の変形実施が可能である。
(Examples of other embodiments)
In addition, this invention is not limited to the content of embodiment mentioned above, A various deformation | transformation implementation is possible within the range of the summary of this invention.

例えば、上述した実施形態では電気泳動層の具体例としてマイクロカプセルを利用するタイプを説明していたが、例えば隔壁を用いて構成した複数のセル(小空間)のそれぞれに電気泳動分散液を封入するタイプ等、他のタイプの電気泳動層を用いることも可能である。   For example, in the embodiment described above, a type using microcapsules has been described as a specific example of the electrophoretic layer. For example, an electrophoretic dispersion liquid is sealed in each of a plurality of cells (small spaces) configured using partition walls. It is also possible to use other types of electrophoretic layers, such as the type to be used.

また、上述した第1基板10は、大型あるいはロール状のシートに対して第1防湿フィルム40の貼り付けに必要な接着層を設けたものを切断し、複数に分割することによって形成してもよい。同様に、上述した第2基板30は、大型あるいはロール状のシートに対して第2防湿フィルム42の貼り付けに必要な接着層を設けたものを切断し、複数に分割することによって形成してもよい。これらの場合においては、後工程の便宜上、接着層の表面には剥離シートを設けておくことが望ましい。   Further, the first substrate 10 described above may be formed by cutting a large or roll sheet provided with an adhesive layer necessary for attaching the first moisture-proof film 40 and dividing it into a plurality of sheets. Good. Similarly, the above-described second substrate 30 is formed by cutting a large or roll sheet provided with an adhesive layer necessary for attaching the second moisture-proof film 42 and dividing it into a plurality of sheets. Also good. In these cases, it is desirable to provide a release sheet on the surface of the adhesive layer for the convenience of subsequent processes.

第1の実施形態の電気泳動装置の断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the electrophoresis apparatus of 1st Embodiment. 第1基板と第1防湿フィルムの形状を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the shape of a 1st board | substrate and a 1st moisture-proof film. 第1の実施形態の電気泳動装置の製造方法(その1)を説明する工程断面図である。It is process sectional drawing explaining the manufacturing method (the 1) of the electrophoresis apparatus of 1st Embodiment. 切断工程について詳細に説明するための図である。It is a figure for demonstrating in detail about a cutting process. 第1の実施形態の電気泳動装置の製造方法(その2)を説明する工程断面図である。It is process sectional drawing explaining the manufacturing method (the 2) of the electrophoresis apparatus of 1st Embodiment. 第2の実施形態の電気泳動装置の断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the electrophoresis apparatus of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の電気泳動装置の製造方法を説明する工程断面図である。It is process sectional drawing explaining the manufacturing method of the electrophoresis apparatus of 2nd Embodiment. 電気泳動装置を適用した電子機器の具体例を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the specific example of the electronic device to which the electrophoresis apparatus is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1、1a…電気泳動装置、10…第1基板、20…電気泳動層、30…第2基板、40…第1防湿フィルム、42…第2防湿フィルム、44、44a…封止樹脂、46…凹部、48…封止部

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a ... Electrophoresis apparatus, 10 ... 1st board | substrate, 20 ... Electrophoresis layer, 30 ... 2nd board | substrate, 40 ... 1st moisture-proof film, 42 ... 2nd moisture-proof film, 44, 44a ... Sealing resin, 46 ... Recess, 48 ... sealing part

Claims (9)

第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、
前記第1基板の一方面側と前記第2基板の一方面側とが前記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる第2工程と、
第1防湿フィルムを、前記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第1基板の他方面に貼り付ける第3工程と、
第2防湿フィルムを、前記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第2基板の他方面に貼り付ける第4工程と、
前記第1基板及び前記第2基板の外縁を囲むように、前記第1防湿フィルムと前記第2防湿フィルムのそれぞれの前記余剰部位の相互間に封止樹脂を設ける第5工程と、
を含む電気泳動装置の製造方法。
A first step of providing an electrophoretic layer on at least one of one side of the first substrate and one side of the second substrate;
A second step of bonding the first substrate and the second substrate so that the one surface side of the first substrate and the one surface side of the second substrate face each other with the electrophoretic layer interposed therebetween; ,
A third step of attaching the first moisture-proof film to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the first substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A fourth step of attaching the second moisture-proof film to the other surface of the second substrate such that a portion in contact with the other surface of the second substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A fifth step of providing a sealing resin between each of the excess portions of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film so as to surround the outer edges of the first substrate and the second substrate;
A method for producing an electrophoretic device comprising:
第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、
第1防湿フィルムを、前記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第1基板の他方面に貼り付ける第2工程と、
第2防湿フィルムを、前記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第2基板の他方面に貼り付ける第3工程と、
前記第1基板の一方面側と前記第2基板の一方面側とが前記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる第4工程と、
前記第1基板及び前記第2基板の外縁を囲むように、前記第1防湿フィルムと前記第2防湿フィルムのそれぞれの前記余剰部位の相互間に封止樹脂を設ける第5工程と、
を含む、電気泳動装置の製造方法。
A first step of providing an electrophoretic layer on at least one of one side of the first substrate and one side of the second substrate;
A second step of attaching the first moisture-proof film to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the first substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A third step of attaching the second moisture-proof film to the other surface of the second substrate such that a portion in contact with the other surface of the second substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A fourth step of bonding the first substrate and the second substrate so that the one surface side of the first substrate and the one surface side of the second substrate face each other with the electrophoretic layer interposed therebetween; ,
A fifth step of providing a sealing resin between each of the excess portions of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film so as to surround the outer edges of the first substrate and the second substrate;
A method for producing an electrophoretic device, comprising:
前記第5工程の後に、前記第1防湿フィルム及び前記第2防湿フィルムのそれぞれの前記余剰部位の一部と前記封止樹脂の一部を、前記第1防湿フィルム及び前記第2防湿フィルムの端面と前記封止樹脂の端面とが面一になるように切断する第6工程を含む、請求項1又は2に記載の電気泳動装置の製造方法。   After the fifth step, a part of the excess portion of each of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film and a part of the sealing resin are attached to the end surfaces of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film. The manufacturing method of the electrophoresis apparatus of Claim 1 or 2 including the 6th process cut | disconnected so that the end surface of the said sealing resin may become flush | level. 前記第6工程は、前記封止樹脂に凹部が生じているときに、当該凹部が解消されて前記第1防湿フィルム及び前記第2防湿フィルムの端面と前記封止樹脂の端面とが面一になるように切断を行う、請求項3に記載の電気泳動装置の製造方法。   In the sixth step, when the concave portion is formed in the sealing resin, the concave portion is eliminated, and the end surfaces of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film and the end surface of the sealing resin are flush with each other. The method for producing an electrophoretic device according to claim 3, wherein cutting is performed so that 第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、
前記第1基板の一方面側と前記第2基板の一方面側とが前記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる第2工程と、
第1防湿フィルムを、前記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第1基板の他方面に貼り付ける第3工程と、
第2防湿フィルムを、前記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第2基板の他方面に貼り付ける第4工程と、
前記第1防湿フィルムの前記余剰部位と前記第2防湿フィルムの前記余剰部位とを接合し、前記第1基板及び前記第2基板の外縁を覆う封止部を形成する第5工程と、
前記封止部の周囲に、少なくとも前記第1防湿フィルム及び前記第2フィルムの端面を覆うようにして封止樹脂を設ける第6工程と、
を含む電気泳動装置の製造方法。
A first step of providing an electrophoretic layer on at least one of one side of the first substrate and one side of the second substrate;
A second step of bonding the first substrate and the second substrate so that the one surface side of the first substrate and the one surface side of the second substrate face each other with the electrophoretic layer interposed therebetween; ,
A third step of attaching the first moisture-proof film to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the first substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A fourth step of attaching the second moisture-proof film to the other surface of the second substrate such that a portion in contact with the other surface of the second substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A fifth step of joining the surplus portion of the first moisture-proof film and the surplus portion of the second moisture-proof film to form a sealing portion that covers the outer edges of the first substrate and the second substrate;
A sixth step of providing a sealing resin around the sealing portion so as to cover at least end surfaces of the first moisture-proof film and the second film;
A method for producing an electrophoretic device comprising:
第1基板の一方面上と第2基板の一方面上の少なくともいずれかに電気泳動層を設ける第1工程と、
第1防湿フィルムを、前記第1基板の他方面と接する部位と当該部位の周囲に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第1基板の他方面に貼り付ける第2工程と、
第2防湿フィルムを、前記第2基板の他方面と接する部位と当該部位の周辺に配される余剰部位とが設けられるようにして、前記第2基板の他方面に貼り付ける第3工程と、
前記第1基板の一方面側と前記第2基板の一方面側とが前記電気泳動層を介在させながら対向するようにして、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる第4工程と、
前記第1防湿フィルムの前記余剰部位と前記第2防湿フィルムの前記余剰部位とを接合し、前記第1基板及び前記第2基板の外縁を覆う封止部を形成する第5工程と、
前記封止部の周囲に、少なくとも前記第1防湿フィルム及び前記第2フィルムの端面を覆うようにして封止樹脂を設ける第6工程と、
を含む電気泳動装置の製造方法。
A first step of providing an electrophoretic layer on at least one of one side of the first substrate and one side of the second substrate;
A second step of attaching the first moisture-proof film to the other surface of the first substrate in such a manner that a portion in contact with the other surface of the first substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A third step of attaching the second moisture-proof film to the other surface of the second substrate such that a portion in contact with the other surface of the second substrate and a surplus portion disposed around the portion are provided;
A fourth step of bonding the first substrate and the second substrate so that the one surface side of the first substrate and the one surface side of the second substrate face each other with the electrophoretic layer interposed therebetween; ,
A fifth step of joining the surplus portion of the first moisture-proof film and the surplus portion of the second moisture-proof film to form a sealing portion that covers the outer edges of the first substrate and the second substrate;
A sixth step of providing a sealing resin around the sealing portion so as to cover at least end surfaces of the first moisture-proof film and the second film;
A method for producing an electrophoretic device comprising:
前記第4工程と前記第5工程との間に、前記第1防湿フィルム及び前記第2防湿フィルムの端面を面一に切断する第7工程を更に含む、請求項5又は6に記載の電気泳動装置の製造方法。   The electrophoresis according to claim 5 or 6, further comprising a seventh step of cutting end surfaces of the first moisture-proof film and the second moisture-proof film flush with each other between the fourth step and the fifth step. Device manufacturing method. 前記第6工程は、前記封止樹脂をその断面が略コ字状となるように形成する、請求項5又は6に記載の電気泳動装置の製造方法。   The method for manufacturing an electrophoretic device according to claim 5, wherein in the sixth step, the sealing resin is formed so that a cross section thereof is substantially U-shaped. 請求項1乃至8のいずれかに記載の製造方法により製造された電気泳動装置を表示部として備える電子機器。

An electronic apparatus comprising the electrophoretic device manufactured by the manufacturing method according to claim 1 as a display unit.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20140240652A1 (en) * 2011-03-29 2014-08-28 Sharp Kabushiki Kaisha See-through display device, and electrical device and furniture piece each of which is provided with see-through display device
KR101444037B1 (en) * 2013-02-20 2014-09-23 주식회사 엘지화학 Packaging film for display apparatus and display apparatus comprising the same

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