JP2007063531A - Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device - Google Patents

Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2007063531A
JP2007063531A JP2006171935A JP2006171935A JP2007063531A JP 2007063531 A JP2007063531 A JP 2007063531A JP 2006171935 A JP2006171935 A JP 2006171935A JP 2006171935 A JP2006171935 A JP 2006171935A JP 2007063531 A JP2007063531 A JP 2007063531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
meth
acrylate
resin composition
curable resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006171935A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Suezaki
穣 末崎
Yoshio Nishimura
善雄 西村
Toru Takahashi
徹 高橋
Tatsuya Matsukubo
竜也 松窪
Sayaka Kobayashi
さやか 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2006171935A priority Critical patent/JP2007063531A/en
Publication of JP2007063531A publication Critical patent/JP2007063531A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition for a column spacer having excellent developability and solubility which enables to form a column spacer of a clear pattern without leaving a developer residue during the formation of the pattern of a column spacer used for production of a liquid crystal display device which can effectively suppress the occurrence of color unevenness by the failure owing to gravity, and also to provide a column spacer and a liquid crystal display device using the curable resin composition. <P>SOLUTION: The curable resin composition comprises a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in its molecule, an alkali-soluble polymer compound and a photoreaction initiator. The compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in its molecule has, in its molecule, one or more carboxy groups and two or more polymerizable unsaturated bonds. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、優れた現像性及び溶解性を有し、液晶表示素子の製造に使用するカラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時に現像残滓を生じることがなく、鮮明なパターンのカラムスペーサを形成することができるとともに、低温発泡を生ずることなく、重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制できる液晶表示素子を得ることができる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子に関する。 The present invention has excellent developability and solubility, and when used for a column spacer used in the production of a liquid crystal display element, does not produce a development residue during pattern formation, and forms a column spacer with a clear pattern. And a curable resin composition capable of obtaining a liquid crystal display element capable of effectively suppressing the occurrence of color unevenness due to poor gravity without causing low-temperature foaming, and the curable resin composition. The present invention relates to a column spacer and a liquid crystal display element.

一般に、液晶表示素子は、2枚のガラス基板の間隙を一定に維持するためのスペーサを具備し、これらの他に透明電極や偏光板及び液晶物質を配向させる配向層等から構成されている。現在スペーサとしては、主に粒子径が数μm程度の微粒子スペーサが用いられている。しかし、従来の液晶表示素子の製造方法では、ガラス基板上に微粒子スペーサをランダムに散布していたことから、画素部内に微粒子スペーサが配置されてしまうことがあった。画素部内に微粒子スペーサがあると、スペーサ周辺の液晶配向の乱れから光が漏れて画像のコントラストが低下したりする等、画像品質を低下させることがあるという問題がある。これに対して、微粒子スペーサが画素部に配置されないような微粒子スペーサの配置方法が種々検討されているが、いずれも操作が煩雑であり実用性に乏しいものであった。 In general, a liquid crystal display element includes a spacer for maintaining a constant gap between two glass substrates, and includes a transparent electrode, a polarizing plate, an alignment layer for aligning a liquid crystal substance, and the like. At present, fine particle spacers having a particle diameter of about several μm are mainly used as spacers. However, in the conventional method for manufacturing a liquid crystal display element, since the fine particle spacers are randomly distributed on the glass substrate, the fine particle spacers may be disposed in the pixel portion. If there is a fine particle spacer in the pixel portion, there is a problem that image quality may be deteriorated, for example, light leaks from disturbance of liquid crystal alignment around the spacer and image contrast is lowered. On the other hand, various arrangement methods of the fine particle spacer in which the fine particle spacer is not arranged in the pixel portion have been studied. However, all of them are complicated and impractical.

また、近年、液晶表示素子の生産性を上げるために、ワンドロップフィル法(One Drop Fill Technology:ODF法)が提案されている。この方法は、ガラス基板の液晶封入面上に、所定量の液晶を滴下し、もう一方の液晶パネル用基板を真空下で所定のセルギャップを維持できる状態で対峙させ、貼り合わせることにより液晶表示素子を製造する方法である。この方法によれば、従来の方法に比べて液晶表示素子が大面積化し、セルギャップが狭小化しても、液晶の封入が容易であることから、今後はODF法が液晶表示素子の製造方法の主流になると考えられる。
しかし、ODF法において微粒子スペーサを用いると、液晶の滴下時、又は、対向基板の貼り合わせ時に散布した微粒子スペーサが液晶の流動とともに流されて、基板上における微粒子スペーサの分布が不均一となる問題が生じる。微粒子スペーサの分布が不均一になると、液晶セルのセルギャップにバラツキが生じ、液晶表示に色ムラが発生してしまうという問題があった。
In recent years, one drop fill technology (ODF method) has been proposed in order to increase the productivity of liquid crystal display elements. In this method, a predetermined amount of liquid crystal is dropped on the liquid crystal sealing surface of a glass substrate, and the other liquid crystal panel substrate is held in a state where a predetermined cell gap can be maintained under vacuum, and bonded together to display a liquid crystal display. This is a method of manufacturing an element. According to this method, even when the liquid crystal display element has a larger area than the conventional method and the cell gap is narrowed, it is easy to enclose the liquid crystal. It will be mainstream.
However, when fine particle spacers are used in the ODF method, the fine particle spacers scattered when the liquid crystal is dropped or bonded to the counter substrate are flowed along with the flow of the liquid crystal, resulting in a non-uniform distribution of the fine particle spacers on the substrate. Occurs. If the distribution of the fine particle spacers is non-uniform, there is a problem that the cell gap of the liquid crystal cell varies and color unevenness occurs in the liquid crystal display.

これに対して、従来の微粒子スペーサに代って、液晶基板上にフォトリソグラフの手法によってセルギャップを均一保持するための凸型パターンを形成したカラムスペーサが提案され、実用化されるようになってきている(例えば、特許文献1、特許文献2等)。
このようなカラムスペーサを用いれば、画素部内にスペーサが配置されてしまう問題や、ODF法においてスペーサムラが生じてしまう問題を解決することができる。
On the other hand, instead of the conventional fine particle spacer, a column spacer in which a convex pattern for holding the cell gap uniformly on a liquid crystal substrate by a photolithographic technique is proposed and put into practical use. (For example, Patent Document 1, Patent Document 2, etc.).
By using such a column spacer, the problem that the spacer is arranged in the pixel portion and the problem that the spacer unevenness occurs in the ODF method can be solved.

また、従来のカラムスペーサ用樹脂組成物からなるカラムスペーサを用いてODF法により製造した大型液晶表示素子においては、表示装置の使用中に液晶セル内の液晶が下方へ流動することにより、表示パネルの上半面と下半面において色ムラが生じる「重力不良」と呼ばれる欠陥が発生することがあり、大きな問題となっていた。この「重力不良」の現象は、バックライトより発生する熱によって液晶セル内の液晶が膨張してセルギャップを押し広げ、その際にカラムスペーサから基板が浮き上がってしまい、このスペーサによって保持されなくなった体積分の液晶が重力によって下方への流動することにより生じると考えられる。
このような「重力不良」を解消するためには、バックライトより発生する熱によって液晶セル内の液晶が膨張してセルギャップを押し広げる際に、いったん圧縮されていたカラムスペーサを圧縮変形からの弾性回復によりセルギャップの変化に追随できるようにし、基板とカラムスペーサとの間に隙間が生じないようにすれば解決可能であると考えられる。
Further, in a large liquid crystal display element manufactured by an ODF method using a column spacer made of a conventional resin composition for column spacers, the liquid crystal in the liquid crystal cell flows downward during use of the display device. A defect called “gravity failure” in which color unevenness occurs on the upper half surface and the lower half surface has been a big problem. The phenomenon of “gravity failure” is that the liquid crystal in the liquid crystal cell expands due to the heat generated from the backlight and widens the cell gap. At that time, the substrate rises from the column spacer and is not held by this spacer. It is thought that a volume of liquid crystal is generated by flowing downward due to gravity.
In order to eliminate such “gravity failure”, when the liquid crystal in the liquid crystal cell expands due to the heat generated from the backlight and expands the cell gap, the column spacer once compressed is removed from the compression deformation. It is considered that the problem can be solved by making it possible to follow the change of the cell gap by elastic recovery so that no gap is generated between the substrate and the column spacer.

しかし、従来の方法では、カラムスペーサに高い変形回復力を持たせるためには、カラムスペーサを形成する樹脂を高度に架橋し圧縮時に塑性変形を起こりにくくする必要があるところ、このような高度な架橋構造を有する樹脂は一般的に圧縮弾性率が高く、硬くなってしまう傾向にある。このような硬い樹脂によりカラムスペーサを形成した場合には、カラムスペーサを圧縮変形させる課程において、大きな圧力が必要であり、得られた液晶表示素子においては、圧縮されたカラムスペーサによる液晶セルを押し広げようとする大きな力を内包することになる。このようなカラムスペーサが液晶セルを押し広げようとする力が大きい場合、低温時に液晶セル内の液晶の体積収縮が起こると液晶セル内の内圧が急激に低下して気泡が発生する「低温発泡」という現象を生じてしまうという問題があった。
特開2001−91954号公報 特開2002−251007号公報
However, in the conventional method, in order to give the column spacer a high deformation recovery force, it is necessary to highly crosslink the resin forming the column spacer to make it difficult to cause plastic deformation during compression. Resins having a crosslinked structure generally have a high compression modulus and tend to be hard. When the column spacer is formed of such a hard resin, a large pressure is required in the process of compressing and deforming the column spacer. In the obtained liquid crystal display element, the liquid crystal cell by the compressed column spacer is pushed. It contains a great force to spread. When the column spacer has a large force to push the liquid crystal cell, if the volume shrinkage of the liquid crystal in the liquid crystal cell occurs at a low temperature, the internal pressure in the liquid crystal cell rapidly decreases and bubbles are generated. ”Has occurred.
JP 2001-91954 A JP 2002-251007 A

本発明は、上記現状に鑑み、優れた現像性及び溶解性を有し、液晶表示素子の製造に使用するカラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時に現像残滓を生じることがなく、鮮明なパターンのカラムスペーサを形成することができるとともに、低温発泡を生ずることなく、重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制できる液晶表示素子を得ることができる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供することを目的とする。 In view of the above-mentioned present situation, the present invention has excellent developability and solubility, and when used for a column spacer used in the production of a liquid crystal display element, does not produce a development residue at the time of pattern formation and has a clear pattern. Curable resin composition capable of forming a liquid crystal display element capable of effectively preventing color unevenness due to poor gravity without causing low-temperature foaming, and the curable resin composition An object of the present invention is to provide a column spacer and a liquid crystal display element using the object.

本発明は、分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物と、アルカリ可溶性高分子化合物と、光反応開始剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、前記分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、分子内に1以上のカルボキシル基と2以上の重合性不飽和結合とを有する硬化性樹脂組成物である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention is a curable resin composition containing a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, an alkali-soluble polymer compound, and a photoreaction initiator, wherein the molecule has two or more in the molecule. The compound having a polymerizable unsaturated bond is a curable resin composition having one or more carboxyl groups and two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討した結果、硬化性樹脂組成物として、特定の構造の分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物とアルカリ可溶性高分子化合物とを併用することにより、カラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時の解像性に優れ、鮮明なパターンのカラムスペーサを形成することができるとともに、優れた柔軟性と高い圧縮回復特性とを有するカラムスペーサを得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
このような本発明の硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサによれば、加熱時の液晶膨張による「重力不良」と、低温時の液晶の収縮による「低温発泡」とを同時に抑制可能であり、また、フォトリソグラフの手法によりカラムスペーサとなるパターン形成する際に、現像残滓を生ずることなく、シャープな解像性を得ることができる。
なお、本発明の硬化性樹脂組成物の用途としては特に限定されず、種々の用途に用いることができるが、なかでも、液晶表示素子のカラムスペーサ用途に特に好適に用いることができる。
As a result of intensive studies, the present inventors have determined that, as a curable resin composition, a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in a molecule having a specific structure and an alkali-soluble polymer compound are used in combination. When used for spacer applications, it is possible to form column spacers with excellent resolution at the time of pattern formation and a clear pattern, and to obtain column spacers having excellent flexibility and high compression recovery characteristics. As a result, the present invention has been completed.
According to such a column spacer using the curable resin composition of the present invention, it is possible to simultaneously suppress “gravity failure” due to liquid crystal expansion during heating and “low temperature foaming” due to liquid crystal shrinkage at low temperatures. In addition, when a pattern to be a column spacer is formed by a photolithographic technique, a sharp resolution can be obtained without generating a development residue.
In addition, it does not specifically limit as a use of the curable resin composition of this invention, Although it can use for various uses, It can use especially suitably for the column spacer use of a liquid crystal display element especially.

本発明の硬化性樹脂組成物は、分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物と、アルカリ可溶性高分子化合物と、光反応開始剤とを含有する。
本発明の硬化性樹脂組成物において、上記分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、分子内に1以上のカルボキシル基と2以上の重合性不飽和結合を有する(以下、本発明に係る重合性化合物ともいう)。
上記本発明に係る重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、3官能以上の(メタ)アクリレート化合物の(メタ)アクリル基の一部に、カルボキシル基を有する化合物を付加反応させることによりカルボン酸を導入した(メタ)アクリレート化合物(以下、カルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物ともいう)であることが好ましい。このようなカルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物を含有することで、本発明の硬化性樹脂組成物は、フォトリソグラフの手法によるパターン形成時の露光感度を得るために必要な速やかな重合反応性と、現像時の解像性を得るために必要なアルカリ現像液との親和性に優れたものとなる。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
The curable resin composition of the present invention contains a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, an alkali-soluble polymer compound, and a photoreaction initiator.
In the curable resin composition of the present invention, the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule has one or more carboxyl groups and two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule (hereinafter referred to as the present invention). Also referred to as a polymerizable compound according to the invention).
Although it does not specifically limit as a polymeric compound which concerns on the said invention, For example, carboxylic acid is obtained by carrying out addition reaction of the compound which has a carboxyl group to a part of (meth) acryl group of the (meth) acrylate compound more than trifunctional. A (meth) acrylate compound into which is introduced (hereinafter also referred to as a polyfunctional (meth) acrylate compound having a carboxyl group) is preferable. By containing such a polyfunctional (meth) acrylate compound having a carboxyl group, the curable resin composition of the present invention can be rapidly polymerized to obtain exposure sensitivity during pattern formation by a photolithographic technique. The reactivity and the affinity with an alkaline developer necessary for obtaining the resolution at the time of development are excellent. In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.

分子内に1以上のカルボキシル基と2以上の重合性不飽和結合を有する化合物へのカルボキシル基変性量としては、アルカリ現像液に速やかに溶解するものであれば特に限定されないが、酸価の好ましい下限は5mgKOH/g、好ましい上限は80mgKOH/gであり、より好ましい下限は10mgKOH/g、より好ましい上限は50mgKOH/gである。 The amount of carboxyl group modification to the compound having one or more carboxyl groups and two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule is not particularly limited as long as it can be quickly dissolved in an alkali developer, but the acid value is preferable. The lower limit is 5 mgKOH / g, the preferred upper limit is 80 mgKOH / g, the more preferred lower limit is 10 mgKOH / g, and the more preferred upper limit is 50 mgKOH / g.

上記3官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては特に限定されず、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。なかでも、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、或いは、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが好適に用いられる。
また、3官能以上のウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートも好適である。このようなウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートとしては、例えば、UA−306H、UA−306T、UA−306I(以上、共栄社化学社製)、EB9260、EB8210、EB1290、EB1290K、EB5129、EB810、EB450、EB830、EB870、EB1870(以上ダイセル・サイテック社製)、M−1960、M−7100、M−8030、M−8060、M−8100、M−8530、M−8560、M−9050(以上、東亞合成社製)等が挙げられる。
これらの3官能以上の(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
The trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound is not particularly limited. For example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) ) Acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipenta Examples include erythritol hexa (meth) acrylate. Among them, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, or dipentaerythritol penta (meth) acrylate is preferable. Used for.
Trifunctional or higher functional urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are also suitable. Examples of such urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate include UA-306H, UA-306T, UA-306I (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EB9260, EB8210, EB1290, EB1290K, EB5129, and EB810. , EB450, EB830, EB870, EB1870 (manufactured by Daicel Cytec), M-1960, M-7100, M-8030, M-8060, M-8100, M-8530, M-8560, M-9050 (and above) , Manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
These trifunctional or higher functional (meth) acrylate compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物において、上記本発明に係る重合性化合物が上記カルボキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物である場合、重合反応の進行が速く、露光感度を向上させやすいことから、分子内の(メタ)アクリル基の数の好ましい下限は3である。また、上記カルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物は、分子内のカルボキシル基の好ましい上限は2である。3以上であると、現像液への溶解性・膨潤性が高くなり、例えば、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた際に現像パターンの剥離や、膨潤性による解像度の低下が起こりやすくなる。 In the curable resin composition of the present invention, when the polymerizable compound according to the present invention is a (meth) acrylate compound having a carboxyl group, the polymerization reaction proceeds quickly and the exposure sensitivity is easily improved. The preferred lower limit of the number of (meth) acrylic groups is 3. In the polyfunctional (meth) acrylate compound having a carboxyl group, the preferable upper limit of the carboxyl group in the molecule is 2. When it is 3 or more, the solubility / swellability in the developer is increased. For example, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the development pattern is peeled off or the resolution is lowered due to the swelling property. Is likely to occur.

上記カルボキシル基を有する化合物としては特に限定されず、例えば、チオサリチル酸、メルカプト酢酸、メルカプトコハク酸、3−メルカプトプロピオン酸等のカルボキシル基とチオール基とを有する化合物が挙げられる。 The compound having a carboxyl group is not particularly limited, and examples thereof include compounds having a carboxyl group and a thiol group, such as thiosalicylic acid, mercaptoacetic acid, mercaptosuccinic acid, and 3-mercaptopropionic acid.

上記カルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物を得る方法としては特に限定されず、例えば、上述した3官能以上の(メタ)アクリレート化合物の(メタ)アクリル基に、チオサリチル酸等のチオール基とカルボキシル基とを有する化合物を、エン−チオール反応により付加する方法等が挙げられる。 It does not specifically limit as a method to obtain the polyfunctional (meth) acrylate compound which has the said carboxyl group, For example, thiol groups, such as thiosalicylic acid, are added to the (meth) acryl group of the (meth) acrylate compound more than trifunctional mentioned above. Examples thereof include a method of adding a compound having a carboxyl group by an ene-thiol reaction.

また、本発明の硬化性樹脂組成物において、上述の本発明に係る重合性化合物は、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性されたカルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物の柔軟性が優れたものとなり、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、優れた柔軟性と高い圧縮回復特性とを有するカラムスペーサを好適に得ることができるからである。
なお、本明細書において、ラクトン変性とは、上記(メタ)アクリレート化合物のアルコール由来部位と(メタ)アクリロイル基との間に、ラクトンの開環体又は開環重合体が導入されることを意味する。また、オキサイド変性とは、上記(メタ)アクリレート化合物のアルコール由来部位と(メタ)アクリロイル基との間に、オキサイドの開環体構造及び/又は開環重合体構造が導入されることを意味する。
In the curable resin composition of the present invention, the polymerizable compound according to the present invention is preferably a polyfunctional (meth) acrylate compound having a lactone-modified and / or oxide-modified carboxyl group. The cured product obtained by curing the curable resin composition of the present invention has excellent flexibility, and when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, it has excellent flexibility and high compression recovery characteristics. This is because a column spacer having the above can be suitably obtained.
In the present specification, lactone modification means that a lactone ring-opening polymer or a ring-opening polymer is introduced between the alcohol-derived portion of the (meth) acrylate compound and the (meth) acryloyl group. To do. The oxide modification means that an oxide ring-opened structure and / or a ring-opened polymer structure is introduced between the alcohol-derived portion of the (meth) acrylate compound and the (meth) acryloyl group. .

本発明の硬化性樹脂組成物において、上述の本発明に係る重合性化合物が、ラクトン変性されたカルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物である場合、該多官能(メタ)アクリレート化合物としては特に限定されず、例えば、上述した3官能以上の(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。なかでも、カプロラクトン変性したペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、或いは、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートに、カルボキシル基を有する化合物を付加させた化合物が好適に用いられる。 In the curable resin composition of the present invention, when the polymerizable compound according to the present invention is a polyfunctional (meth) acrylate compound having a lactone-modified carboxyl group, as the polyfunctional (meth) acrylate compound, It does not specifically limit, For example, the trifunctional or more than (meth) acrylate compound mentioned above etc. are mentioned. Among them, caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, or dipentaerythritol penta (meth) A compound obtained by adding a compound having a carboxyl group to acrylate is preferably used.

上記ラクトン変性された多官能(メタ)アクリレートのラクトン変性の変性度としては、ベースとなる多官能(メタ)アクリレート化合物の官能基数をnとした場合、分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物1モルに対して好ましい下限は0.5nモル、好ましい上限は5nモルである。0.5nモル未満であると、製造するカラムスペーサの柔軟性が不充分となることがあり、5nモルを超えると、カラムスペーサを製造する際の露光時の反応性が低下し、製造するカラムスペーサのパターニングが困難となることがある。より好ましい下限は1nモル、より好ましい上限は3nモルである。 The degree of lactone modification of the lactone-modified polyfunctional (meth) acrylate is 2 or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, where n is the number of functional groups of the base polyfunctional (meth) acrylate compound. The preferable lower limit is 0.5 nmol and the preferable upper limit is 5 nmol with respect to 1 mol of the compound having azobenzene. If it is less than 0.5 nmol, the flexibility of the column spacer to be produced may be insufficient, and if it exceeds 5 nmol, the reactivity during exposure when producing the column spacer is reduced, and the column to be produced is produced. Spacer patterning may be difficult. A more preferable lower limit is 1 nmol, and a more preferable upper limit is 3 nmol.

上記多官能(メタ)アクリレート化合物をラクトン変性する具体的な方法としては特に限定されず、例えば、多価アルコールとラクトンを反応させ、ラクトン変性アルコールを合成した後、(メタ)アクリル酸とをエステル化反応させる方法;(メタ)アクリル酸とラクトンとを反応させ、ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成した後、アルコールとエステル化反応させる方法;(メタ)アクリル酸、ラクトン及び多価アルコールを一括反応させる方法等が挙げられる。 The specific method for modifying the polyfunctional (meth) acrylate compound with lactone is not particularly limited. For example, after reacting polyhydric alcohol with lactone to synthesize lactone-modified alcohol, ester with (meth) acrylic acid. A method of reacting (meth) acrylic acid and lactone to synthesize lactone-modified (meth) acrylic acid and then esterifying with alcohol; (meth) acrylic acid, lactone and polyhydric alcohol are collectively The method of making it react is mentioned.

また、上記本発明に係る重合性化合物が、オキサイド変性されたカルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物である場合、該多官能(メタ)アクリレート化合物としては特に限定されず、例えば、上述した3官能以上の(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。なかでも、オキサイド変性したペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、或いは、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートに、カルボキシル基を有する化合物を付加させた化合物が好適に用いられる。 Further, when the polymerizable compound according to the present invention is a polyfunctional (meth) acrylate compound having an oxide-modified carboxyl group, the polyfunctional (meth) acrylate compound is not particularly limited. Trifunctional or higher functional (meth) acrylate compounds and the like can be mentioned. Among them, oxide-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, or dipentaerythritol penta (meth) A compound obtained by adding a compound having a carboxyl group to acrylate is preferably used.

上記多官能(メタ)アクリレートのオキサイド変性の変性度としては、ベースとなる多官能(メタ)アクリレート化合物の官能基数をnとした場合、多官能(メタ)アクリレート化合物1モルに対して好ましい下限は0.5nモル、好ましい上限は15nモルである。0.5nモル未満であると、製造するカラムスペーサの柔軟性が不充分となることがあり、15nモルを超えると、アルカリ現像液への親和性が高くなり、膨潤による解像性の低下が起こりやすくなる。より好ましい下限は3nモル、より好ましい上限は10nモルである。 As the modification degree of the oxide modification of the polyfunctional (meth) acrylate, when the number of functional groups of the polyfunctional (meth) acrylate compound as a base is n, a preferable lower limit is 1 mol per mol of the polyfunctional (meth) acrylate compound. 0.5 nmol, the preferred upper limit is 15 nmol. If it is less than 0.5 nmol, the flexibility of the column spacer to be produced may be insufficient. If it exceeds 15 nmol, the affinity for an alkaline developer will be high, and the resolution will be lowered due to swelling. It tends to happen. A more preferable lower limit is 3 nmol, and a more preferable upper limit is 10 nmol.

上記多官能(メタ)アクリレート化合物をオキサイド変性する具体的な方法としては特に限定されず、例えば、多価アルコールとオキサイドとを反応させ、オキサイド変性アルコールを合成した後、このオキサイド変性アルコールと(メタ)アクリル酸とをエステル化反応させる方法;(メタ)アクリル酸とオキサイドとを反応させ、オキサイド変性(メタ)アクリル酸を合成した後、アルコールとエステル化反応させる方法;(メタ)アクリル酸、オキサイド及び多価アルコールを一括反応させる方法等が挙げられる。 The specific method for oxide-modifying the polyfunctional (meth) acrylate compound is not particularly limited. For example, after reacting a polyhydric alcohol and oxide to synthesize the oxide-modified alcohol, the oxide-modified alcohol and (meta ) Method of esterification reaction with acrylic acid; Method of reacting (meth) acrylic acid and oxide to synthesize oxide-modified (meth) acrylic acid and then esterification reaction with alcohol; (meth) acrylic acid, oxide And a method of reacting polyhydric alcohols at once.

本発明の硬化性樹脂組成物において、上述の本発明に係る重合性化合物は、更に分子内に1以上の水酸基を有してもよい。このような本発明に係る重合性化合物を含有する本発明の硬化性樹脂組成物は、カラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時の現像性及び溶解性をより向上させることができ、現像残滓の発生をより抑制でき、シャープな解像性を得ることができる。 In the curable resin composition of the present invention, the above-described polymerizable compound according to the present invention may further have one or more hydroxyl groups in the molecule. When the curable resin composition of the present invention containing the polymerizable compound according to the present invention is used for a column spacer, the developability and solubility during pattern formation can be further improved, and the development residue Generation can be further suppressed, and sharp resolution can be obtained.

このような分子内に水酸基を有する本発明に係る重合性化合物は、例えば、上記(メタ)アクリレート化合物を製造する際に、多価アルコールと反応させる(メタ)アクリル酸の配合比率及び/又は反応比率を調整することにより得ることができる。 The polymerizable compound according to the present invention having a hydroxyl group in the molecule is, for example, a (meth) acrylic acid compounding ratio and / or reaction that is reacted with a polyhydric alcohol when the (meth) acrylate compound is produced. It can be obtained by adjusting the ratio.

また、上記分子内に水酸基を有する本発明に係る重合性化合物は、分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物に、カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物及び/又は酸無水物が付加反応されてなるものであってもよい。
上記分子内2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物としては特に限定されず、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、並びに、これらのラクトン変性及び/又はオキサイド変性体等が挙げられる。
The polymerizable compound according to the present invention having a hydroxyl group in the molecule is a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups in a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, and / or An acid anhydride may be subjected to an addition reaction.
The compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule and a hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol tri (meth). Examples include acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and lactone-modified and / or oxide-modified products thereof.

このような分子内2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物を得る方法としては特に限定されず、例えば、(メタ)アクリレート化合物(又は(メタ)アクリレート化合物をオキサイド変性した化合物)と多価アルコールとを反応させる方法;分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物、又は、これらのラクトン変性及び/若しくはオキサイド変性体に、水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物を反応させる方法;オキサイド変性した多価アルコールと(メタ)アクリレート化合物とを反応させる方法が挙げられる。 A method for obtaining such a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule and a hydroxyl group is not particularly limited. For example, a (meth) acrylate compound (or a compound obtained by oxide-modifying a (meth) acrylate compound) and A method of reacting with a polyhydric alcohol; a compound having three or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, or a lactone-modified and / or oxide-modified product having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group A method of reacting a compound; a method of reacting an oxide-modified polyhydric alcohol and a (meth) acrylate compound.

上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物としては特に限定されず、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The compound having 3 or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule is not particularly limited, and examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

上記水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物としては特に限定されず、例えば、モノエタノールアミン、n−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン等が挙げられる。 The compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group is not particularly limited, and examples thereof include monoethanolamine, n-propanolamine, isopropanolamine, diethanolamine, and diisopropanolamine.

上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物等に、水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物を反応させる場合、いわゆるマイケル付加反応により、上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物の不飽和2重結合部分に、上記水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物のアミノ基が付加する。 When a compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group is reacted with a compound having three or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, three or more polymerizations are carried out in the molecule by a so-called Michael addition reaction. The amino group of the compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group is added to the unsaturated double bond portion of the compound having a polymerizable unsaturated bond.

上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物等と、水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物とのマイケル付加反応においては、無溶媒若しくは溶媒で希釈した水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物を、上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物中に攪拌しながらゆっくり滴下する方法が好適に用いられる。 In the Michael addition reaction between a compound having three or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule and a compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group, the hydroxyl group diluted with a solvent or a solvent and the primary Alternatively, a method of slowly dropping a compound having a secondary amino group while stirring into a compound having 3 or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule is suitably used.

上記水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物を希釈する溶媒としては特に限定されず、例えば、該水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物とは反応せず、かつ、上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物等、及び、水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物と相溶性があるものが適宜選択される。好ましくは、沸点が64〜200℃の水溶性の溶媒である。
また、上記上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物等中に滴下する際の溶媒における上記水酸基と1級又は2級アミノ基とを有する化合物の濃度としては特に限定されないが、好ましい下限が5重量%、好ましい上限が30重量%であり、より好ましい下限は10重量%、より好ましい上限は20重量%である。
The solvent for diluting the compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group is not particularly limited. For example, the solvent does not react with the compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group, and A compound having compatibility with a compound having three or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule and a compound having a hydroxyl group and a primary or secondary amino group is appropriately selected. Preferably, it is a water-soluble solvent having a boiling point of 64 to 200 ° C.
In addition, the concentration of the compound having the hydroxyl group and the primary or secondary amino group in the solvent when dropped into the compound having 3 or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule is not particularly limited. A preferred lower limit is 5% by weight, a preferred upper limit is 30% by weight, a more preferred lower limit is 10% by weight, and a more preferred upper limit is 20% by weight.

上記マイケル付加反応は、常温、無触媒の条件下でも速やかに進行するが、必要に応じて触媒を用いて行ってもよく、常温から80℃程度の温度範囲で加熱して行ってもよい。
上記触媒としては特に限定されず、例えば、アルカリ金属のアルコラート、スズやチタン等の有機金属化合物、金属水酸化物、三級アミン等が挙げられる。
The Michael addition reaction proceeds promptly even under normal temperature and no catalyst conditions, but may be performed using a catalyst if necessary, or may be performed by heating in a temperature range from normal temperature to about 80 ° C.
The catalyst is not particularly limited, and examples thereof include alkali metal alcoholates, organometallic compounds such as tin and titanium, metal hydroxides, and tertiary amines.

また、上記マイケル付加反応の反応時間としては特に限定されないが、好ましい下限は1時間、好ましい上限は10時間程度であり、より好ましい下限は3時間、より好ましい上限は7時間程度である。 The reaction time for the Michael addition reaction is not particularly limited, but the preferred lower limit is 1 hour, the preferred upper limit is about 10 hours, the more preferred lower limit is 3 hours, and the more preferred upper limit is about 7 hours.

上記マイケル付加反応に用いる反応溶媒としては特に限定されないが、上記分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物等、並びに、水酸基と1級又は2級アミノ基と反応せず、これら原料を均一に溶解できる水溶性の溶媒であることが好ましい。
具体的は、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、tert−ブチルアルコール、N−メチルピロリドン、ε−カプロラクタム、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−イソペンチルオキシエタノール、2−ブトキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、グリセリンエーテル類、グリセリンモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロピラン、トリオキサン、ジオキサン、1,2,6−ヘキサントリオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,3−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオール、プロパギルアルコール、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、N−エチルモルホリン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a reaction solvent used for the said Michael addition reaction, The compound etc. which have a 3 or more polymerizable unsaturated bond in the said molecule | numerator, and these raw materials do not react with a hydroxyl group and a primary or secondary amino group It is preferable that it is a water-soluble solvent which can melt | dissolve uniformly.
Specifically, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, tert-butyl alcohol, N-methylpyrrolidone, ε-caprolactam, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoacetate , Ethylene glycol monomethyl ether acetate, 2- (methoxymethoxy) ethanol, 2-isopropoxyethanol, 2-isopentyloxyethanol, 2-butoxyethanol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, tetrahydrofuran, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol mono Ethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Reethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, glycerin ethers, glycerin monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydropyran , Trioxane, dioxane, 1,2,6-hexanetriol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2-butene-1,4-diol, 2,3-butanediol, 1,3-butanediol, 1 , 3-propanediol, 1,2-propanediol, propargyl alcohol, N, N-dimethylethanolamine, N, N-die Examples include tilethanolamine, N-ethylmorpholine, methyl lactate, and ethyl lactate.

また、上記マイケル付加反応においては、重合禁止剤を用いることが好ましい。
上記重合禁止剤としては特に限定されず、例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、p−ベンゾキノン等のキノン誘導体、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール等のフェノール誘導体等、従来公知のものが挙げられる。
In the Michael addition reaction, it is preferable to use a polymerization inhibitor.
The polymerization inhibitor is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known ones such as quinone derivatives such as hydroquinone, methylhydroquinone and p-benzoquinone, and phenol derivatives such as 2,6-di-tert-butyl-p-cresol. Can be mentioned.

カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物としては、例えば、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸、酒石酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エチルヘキサヒドロフタル酸、クロレンド酸等のジカルボン酸化合物、トリメリット酸等のトリカルボン酸化合物が挙げられる。好ましくは、ジカルボン酸化合物やトリカルボン酸化合物が用いられる。 Examples of the carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups include oxalic acid, maleic acid, succinic acid, tartaric acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, ethyltetrahydrophthalic acid, and hexahydrophthalic acid. And dicarboxylic acid compounds such as methylhexahydrophthalic acid, ethylhexahydrophthalic acid and chlorendic acid, and tricarboxylic acid compounds such as trimellitic acid. Preferably, a dicarboxylic acid compound or a tricarboxylic acid compound is used.

上記酸無水物としては特に限定されず、例えば、無水シュウ酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水酒石酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物等の無水カルボン酸化合物が挙げられる。 The acid anhydride is not particularly limited. For example, oxalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, tartaric acid, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, ethyltetrahydroanhydride. Phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, ethylhexahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, biphenyltetracarboxylic anhydride, etc. Of the carboxylic anhydride compound.

これらのカルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物及び/又は酸無水物は、上述した分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物の水酸基に付加反応され、分子内にカルボキシル基を有する本発明に係る重合性化合物が得られる。 Carboxylic acid compounds and / or acid anhydrides having two or more of these carboxyl groups are subjected to an addition reaction with the hydroxyl group of the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and hydroxyl groups in the above-described molecule, and carboxyls in the molecule. The polymerizable compound according to the present invention having a group is obtained.

上記カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物を上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物の水酸基に付加反応させる反応は、例えば、常法の脱水エステル化反応が挙げられる。
具体的には、攪拌機、温度計及び水分離器を備えた反応器に上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物、カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物と溶媒を仕込み、酸性触媒の存在下、加熱する。反応の進行に伴い生成する水は系外に留去する。反応終了後、反応液を水洗し、水層を分離後、減圧下で溶媒を留去する方法が挙げられる。
Examples of the reaction in which the carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups is added to the hydroxyl group of the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule include a conventional dehydration esterification reaction. It is done.
Specifically, in a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a water separator, a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups, and a solvent And heated in the presence of an acidic catalyst. The water generated as the reaction proceeds distills out of the system. After completion of the reaction, the reaction solution is washed with water, the aqueous layer is separated, and then the solvent is distilled off under reduced pressure.

上記カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物を上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物の水酸基に付加するエステル化反応における溶媒としては、水の留出を容易にし、カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物、及び、分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物、及び、酸性触媒と反応しないものであれば特に限定されないが、生成する水と共沸混合物を形成するn−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素が好適である。 As a solvent in an esterification reaction in which a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups is added to a hydroxyl group of a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, water can be easily distilled. A carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups, a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, and any compound that does not react with an acidic catalyst are not particularly limited, but are produced. Preference is given to aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane that form an azeotrope with water, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane.

また、上記カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物と分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物とのエステル化反応における酸性触媒としては、無機酸又は有機酸のいずれでもよく、上記無機酸の具体例としては、例えば、塩酸、硫酸及び燐酸等が挙げられる。また、上記有機酸の具体例としては、例えば、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びメタンスルホン酸等が挙げられる。なかでも、p−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸は、腐食性が低いため特に好ましい。上記酸性触媒の添加量としては、反応液の全量に対して好ましい下限が0.5重量%、好ましい上限が5重量%である。 The acidic catalyst in the esterification reaction between the carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups and the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule is either an inorganic acid or an organic acid. Well, specific examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid. Specific examples of the organic acid include p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, methanesulfonic acid, and the like. Of these, organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid are particularly preferable because of their low corrosivity. As the addition amount of the acidic catalyst, a preferable lower limit is 0.5% by weight and a preferable upper limit is 5% by weight with respect to the total amount of the reaction solution.

また、上記カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物と分子内2以上の重合性不飽和結合と、分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物とのエステル化反応の反応温度としては、好ましい下限は70℃、好ましい上限は150℃である。この範囲内の温度で加熱することにより、容易に脱水エステル化反応を行うことができる。より好ましい下限は80℃、より好ましい上限は120℃である。 Reaction of esterification reaction between a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups, two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, and a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule As a temperature, a preferable lower limit is 70 ° C., and a preferable upper limit is 150 ° C. By heating at a temperature within this range, the dehydration esterification reaction can be easily performed. A more preferable lower limit is 80 ° C., and a more preferable upper limit is 120 ° C.

更に、上記カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物と分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物とのエステル化反応では、重合禁止剤を添加して反応を行うことが好ましい。上記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、p−ベンゾキノン、2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゾキノン、4−t−ブチルカテコール、銅塩等が挙げられる。その使用量としては、通常、反応液の全量に対して好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は1重量%である。 Furthermore, in the esterification reaction between the carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups and a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, the reaction may be performed by adding a polymerization inhibitor. preferable. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, p-benzoquinone, 2,5-dihydroxy-p-benzoquinone, 4-t-butylcatechol, copper salt and the like. As the use amount thereof, the preferable lower limit is usually 0.01% by weight and the preferable upper limit is 1% by weight with respect to the total amount of the reaction solution.

上記酸無水物を分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物の水酸基に付加反応させる反応は一般的なエステル化反応であり、反応温度の好ましい下限は60℃、好ましい上限は150℃であり、反応時間の好ましい下限は1時間、好ましい上限は12時間である。
また、上記酸無水物を分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物の水酸基に付加反応させる際には、触媒としてトリエチルアミン等の三級アミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩、2−エチルー4−メチルイミダゾール化合物、トリフェニルホスフィン等のリン化合物等を使用してもよい。
また、重合禁止剤として、例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、p−ベンゾキノン等のキノン誘導体、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール等のフェノール誘導体等、従来公知のものを添加してもよい。
The reaction for adding the acid anhydride to the hydroxyl group of a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule is a general esterification reaction, and the preferred lower limit of the reaction temperature is 60 ° C., the preferred upper limit. Is 150 ° C., and the preferred lower limit of the reaction time is 1 hour, and the preferred upper limit is 12 hours.
In addition, when the above acid anhydride is subjected to addition reaction with a hydroxyl group of a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, a tertiary amine such as triethylamine, 4 such as triethylbenzylammonium chloride as a catalyst. A phosphorus compound such as a quaternary ammonium salt, a 2-ethyl-4-methylimidazole compound, or triphenylphosphine may be used.
Further, as a polymerization inhibitor, for example, conventionally known ones such as quinone derivatives such as hydroquinone, methylhydroquinone and p-benzoquinone, and phenol derivatives such as 2,6-di-tert-butyl-p-cresol may be added. Good.

更に、上記酸無水物を分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物の水酸基に付加反応させる反応は、無溶媒で行ってもよいが、必要に応じて溶媒中で行ってもよい。反応に使用できる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定されず、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等が挙げられる。 Furthermore, the reaction for adding the acid anhydride to the hydroxyl group of a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule may be performed without a solvent, but may be performed in a solvent if necessary. May be. The solvent that can be used for the reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; cellosolve and methylcellosolve Cellosolves such as butyl cellosolve; Carbitols such as carbitol, methyl carbitol and butyl carbitol; Glycol ethers such as diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate , Acetic acid such as butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate Ester ethers; octane, aliphatic hydrocarbons decane; petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, petroleum solvents such as solvent naphtha.

本発明に係る重合性化合物は、分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有し、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された化合物に、カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物及び/又は酸無水物が付加反応されてなるものであることが好ましい。
上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有し、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された化合物としては特に限定されず、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等のラクトン変性及び/又はオキサイド変性体等が挙げられる。
The polymerizable compound according to the present invention includes a carboxylic acid compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule, a lactone-modified and / or oxide-modified compound having two or more carboxyl groups, and It is preferable that the acid anhydride is an addition reaction.
The lactone-modified and / or oxide-modified compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule is not particularly limited. For example, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri Examples include lactone-modified and / or oxide-modified products such as (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.

上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有し、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された化合物を合成する方法としては、例えば、多価アルコールとラクトンとを反応させ、ラクトン変性多価アルコールを合成した後、このラクトン変性多価アルコールと(メタ)アクリル酸とをエステル化反応させる方法(1);(メタ)アクリル酸とラクトンとを反応させ、ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成した後、このラクトン変性(メタ)アクリル酸とアルコールとをエステル化反応させる方法(2);(メタ)アクリル酸、ラクトン及び多価アルコールを一括反応させる方法(3)等が挙げられる。 As a method of synthesizing a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule and modified with lactone and / or oxide, for example, a reaction between a polyhydric alcohol and a lactone is performed to modify the lactone. After synthesizing polyhydric alcohol, this lactone-modified polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are esterified (1); (meth) acrylic acid and lactone are reacted to produce lactone-modified (meth) acrylic acid And a method (2) of esterifying the lactone-modified (meth) acrylic acid with an alcohol; a method (3) of reacting (meth) acrylic acid, a lactone and a polyhydric alcohol at once.

上記方法(1)において、多価アルコールとラクトンとを反応させ、ラクトン変性多価アルコールを合成する方法としては、例えば、攪拌機、温度計及び冷却器を備えた反応器に多価アルコールと上記ラクトンを仕込み、酸性触媒の存在下、加熱、反応させる方法が挙げられる。
上記ラクトン変性多価アルコールを合成する際に用いる酸性触媒としては、例えば、塩化第一スズ、オクチル酸第一スズ、ジブチルスズジラウレート等が好適に用いられる。また、その使用量としては、反応液の全量に対し、好ましい下限が0.005重量%、好ましい上限が0.5重量%である。
上記ラクトン変性多価アルコールを合成する際の反応条件としては、反応温度の好ましい下限は80℃、好ましい上限は200℃であり、反応時間の好ましい下限は1時間、好ましい上限は20時間である。
In the above method (1), as a method of synthesizing a lactone-modified polyhydric alcohol by reacting a polyhydric alcohol and a lactone, for example, a polyhydric alcohol and the above lactone in a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a cooler. And heating and reacting in the presence of an acidic catalyst.
As the acidic catalyst used when synthesizing the lactone-modified polyhydric alcohol, for example, stannous chloride, stannous octylate, dibutyltin dilaurate and the like are preferably used. Moreover, as the usage-amount, a preferable minimum is 0.005 weight% and a preferable upper limit is 0.5 weight% with respect to the whole quantity of a reaction liquid.
As the reaction conditions for the synthesis of the lactone-modified polyhydric alcohol, the preferable lower limit of the reaction temperature is 80 ° C., the preferable upper limit is 200 ° C., the preferable lower limit of the reaction time is 1 hour, and the preferable upper limit is 20 hours.

上記多価アルコールとしては特に限定されないが、例えば、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、テトラペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、及び、ジトリメチロールプロパンからなる群より選択される少なくとも1種の3価以上の多価アルコール化合物が好適に用いられる。 The polyhydric alcohol is not particularly limited, for example, selected from the group consisting of pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, tetrapentaerythritol, trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, and ditrimethylolpropane. At least one trihydric or higher polyhydric alcohol compound is preferably used.

上記ラクトンとしては特に限定されず、例えば、ε−カプロラクトン、δ−カプロラクトン、γ−カプロラクトン等が挙げられ、なかでも、ε−カプロラクトンが好適である。 The lactone is not particularly limited, and examples thereof include ε-caprolactone, δ-caprolactone, γ-caprolactone, and among them, ε-caprolactone is preferable.

上記ラクトン変性多価アルコールと(メタ)アクリル酸とをエステル化反応させる方法としては、例えば、常法の脱水エステル化反応が挙げられる。
具体的には、攪拌機、温度計及び水分離器を備えた反応器にラクトン変性多価アルコール、(メタ)アクリル酸及び溶媒を仕込み、酸性触媒の存在下、加熱する。反応の進行に伴い生成する水は系外に留去する。反応終了後、反応液を水洗し、水層を分離後、減圧下で溶媒を留去する方法が挙げられる。
Examples of the method of esterifying the lactone-modified polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid include a conventional dehydration esterification reaction.
Specifically, a lactone-modified polyhydric alcohol, (meth) acrylic acid and a solvent are charged into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a water separator, and heated in the presence of an acidic catalyst. The water generated as the reaction proceeds distills out of the system. After completion of the reaction, the reaction solution is washed with water, the aqueous layer is separated, and then the solvent is distilled off under reduced pressure.

上記エステル化反応における溶媒としては、水の流出を容易にし、ラクトン変性多価アルコール、(メタ)アクリル酸及び酸性触媒と反応しないものであれば特に限定されないが、生成する水と共沸混合物を形成するn−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素が好適である。 The solvent in the esterification reaction is not particularly limited as long as it facilitates the outflow of water and does not react with the lactone-modified polyhydric alcohol, (meth) acrylic acid, and acidic catalyst. Preferred are aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane.

また、上記酸性触媒としては、無機酸又は有機酸のいずれでもよく、上記無機酸の具体例としては、例えば、塩酸、硫酸及び燐酸等が挙げられる。また、上記有機酸の具体例としては、例えば、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びメタンスルホン酸等が挙げられる。なかでも、p−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸は、腐食性が低いため特に好ましい。上記酸性触媒の添加量としては、反応液の全量に対して好ましい下限が0.5重量%、好ましい上限が5重量%である。 The acidic catalyst may be either an inorganic acid or an organic acid, and specific examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and the like. Specific examples of the organic acid include p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, methanesulfonic acid, and the like. Of these, organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid are particularly preferable because of their low corrosivity. As the addition amount of the acidic catalyst, a preferable lower limit is 0.5% by weight and a preferable upper limit is 5% by weight with respect to the total amount of the reaction solution.

また、上記エステル化反応の反応温度としては、好ましい下限は70℃、好ましい上限は150℃である。この範囲内の温度で加熱することにより、容易に脱水エステル化反応を行うことができる。より好ましい下限は80℃、より好ましい上限は120℃である。 Moreover, as a reaction temperature of the said esterification reaction, a preferable minimum is 70 degreeC and a preferable upper limit is 150 degreeC. By heating at a temperature within this range, the dehydration esterification reaction can be easily performed. A more preferable lower limit is 80 ° C., and a more preferable upper limit is 120 ° C.

更に、上記(メタ)アクリル酸には既に重合禁止剤が添加されているのが普通であるが、上記エステル化反応においては、改めて重合禁止剤を添加して反応を行うことが好ましい。上記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、p−ベンゾキノン、2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゾキノン、4−t−ブチルカテコール、銅塩等が挙げられる。その使用量としては、通常、反応液の全量に対して好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は1重量%である。 Furthermore, it is normal that a polymerization inhibitor has already been added to the (meth) acrylic acid, but in the esterification reaction, it is preferable to carry out the reaction by adding a polymerization inhibitor again. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, p-benzoquinone, 2,5-dihydroxy-p-benzoquinone, 4-t-butylcatechol, copper salt and the like. As the use amount thereof, the preferable lower limit is usually 0.01% by weight and the preferable upper limit is 1% by weight with respect to the total amount of the reaction solution.

上記方法(2)において、(メタ)アクリル酸とラクトンとを反応させ、ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成する方法としては、具体的には、例えば、攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に(メタ)アクリル酸、ラクトンを仕込み、酸性触媒の存在下、加熱する。反応終了後、反応液を中和、吸着等の処理により、触媒を除去し、また、必要に応じて、水洗、蒸留等の操作を行う方法が挙げられる。 In the above method (2), as a method of synthesizing lactone-modified (meth) acrylic acid by reacting (meth) acrylic acid and lactone, specifically, for example, a stirrer, a thermometer and a reflux condenser are provided. The reactor is charged with (meth) acrylic acid and lactone and heated in the presence of an acidic catalyst. After completion of the reaction, there may be mentioned a method in which the reaction solution is neutralized, adsorbed or the like to remove the catalyst, and if necessary, operations such as washing with water and distillation are performed.

上記ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成する際に使用する酸性触媒としては、無機酸又は有機酸のいずれでもよく、具体的には、上述した方法(1)のエステル化反応における酸性触媒と同様のものが挙げられ、その添加量としては、反応液の全量に対して好ましい下限が0.5重量%、好ましい上限が5重量%であり、より好ましい下限は0.8重量%、より好ましい上限は3重量%である。 The acidic catalyst used when synthesizing the lactone-modified (meth) acrylic acid may be either an inorganic acid or an organic acid, and specifically, the same as the acidic catalyst in the esterification reaction of the method (1) described above. As for the addition amount thereof, the preferred lower limit is 0.5% by weight, the preferred upper limit is 5% by weight, the more preferred lower limit is 0.8% by weight, and the more preferred upper limit with respect to the total amount of the reaction solution. Is 3% by weight.

また、上記ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成する際の反応温度としては、反応時間の短縮と重合防止の点から、好ましい下限が60℃、好ましい上限が120℃であり、より好ましい下限は70℃、より好ましい上限は100℃である。 The reaction temperature for synthesizing the lactone-modified (meth) acrylic acid is preferably a lower limit of 60 ° C. and a preferable upper limit of 120 ° C., more preferably a lower limit of 70 ° C. from the viewpoint of shortening the reaction time and preventing polymerization. The upper limit is more preferably 100 ° C.

上記ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成する際には、反応中の温度コントロールを容易にするため溶媒を使用することが好ましい。使用しうる溶媒としては、例えば、(メタ)アクリル酸、ラクトン及び酸性触媒と反応しないものであれば特に限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が好ましい。 When synthesizing the lactone-modified (meth) acrylic acid, it is preferable to use a solvent in order to facilitate temperature control during the reaction. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not react with (meth) acrylic acid, lactone, and an acidic catalyst, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene are preferable.

また、上記(メタ)アクリル酸には既に重合禁止剤が添加されているのが普通であるが、上記ラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成する際には、改めて重合禁止剤を添加して反応を行うことが好ましい。上記重合禁止剤としては、例えば、上述した方法(1)のエステル化反応における重合禁止剤と同様のものが挙げられ、その添加量としては、通常、反応液の全量に対して好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は1重量%である。 In addition, a polymerization inhibitor is usually added to the (meth) acrylic acid, but when synthesizing the lactone-modified (meth) acrylic acid, a polymerization inhibitor is added again to react. It is preferable to carry out. As said polymerization inhibitor, the thing similar to the polymerization inhibitor in the esterification reaction of the method (1) mentioned above is mentioned, for example, As the addition amount, the preferable minimum with respect to the whole quantity of a reaction liquid is 0 normally. 0.01% by weight, and a preferred upper limit is 1% by weight.

また、上記ラクトン変性(メタ)アクリル酸とアルコールとをエステル化反応させる方法としては、例えば、常法の脱水エステル化反応が挙げられる。
具体的には、攪拌機、温度計及び水分離器を備えた反応器にラクトン変性(メタ)アクリル酸、多価アルコール及び溶媒を仕込み、酸性触媒の存在下、加熱する。反応の進行に伴い生成する水は系外に留去する。反応終了後、反応液を水洗し、水層を分離後、減圧下で溶媒を留去する方法が挙げられる。
上記方法(2)のエステル化反応における(メタ)アクリレート分子内の水酸基は、多価アルコールに対するラクトン変性(メタ)アクリル酸の仕込みモル比及び反応率を調整することにより得ることができる。
Examples of the method for esterifying the lactone-modified (meth) acrylic acid and alcohol include a conventional dehydration esterification reaction.
Specifically, a lactone-modified (meth) acrylic acid, a polyhydric alcohol, and a solvent are charged into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a water separator, and heated in the presence of an acidic catalyst. The water generated as the reaction proceeds distills out of the system. After completion of the reaction, the reaction solution is washed with water, the aqueous layer is separated, and then the solvent is distilled off under reduced pressure.
The hydroxyl group in the (meth) acrylate molecule in the esterification reaction of the above method (2) can be obtained by adjusting the charged molar ratio of lactone-modified (meth) acrylic acid to the polyhydric alcohol and the reaction rate.

上記方法(2)のエステル化反応において、上記多価アルコールに対するラクトン変性(メタ)アクリル酸のモル比としては、好ましい下限は0.6、好ましい上限は1.2であり、より好ましい下限は0.7、より好ましい上限は1.0である。 In the esterification reaction of the above method (2), as the molar ratio of the lactone-modified (meth) acrylic acid to the polyhydric alcohol, the preferred lower limit is 0.6, the preferred upper limit is 1.2, and the more preferred lower limit is 0. .7, and a more preferable upper limit is 1.0.

上記方法(2)のエステル化反応における溶媒としては、水の留出を容易にし、ラクトン変性(メタ)アクリル酸、多価アルコール及び酸性触媒と反応しないものであれば特に限定されないが、生成する水と共沸混合物を形成するベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が好ましい。 The solvent in the esterification reaction of the above method (2) is not particularly limited as long as it makes it easy to distill water and does not react with lactone-modified (meth) acrylic acid, polyhydric alcohol and acidic catalyst. Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene that form an azeotrope with water are preferred.

上記方法(2)のエステル化反応における酸性触媒としては、p−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸好適である。上記酸性触媒の添加量としては、反応後の全量に対して好ましい下限は0.5重量%、好ましい上限は5重量%である。 As the acidic catalyst in the esterification reaction of the above method (2), an organic sulfonic acid such as p-toluenesulfonic acid is suitable. As the addition amount of the acidic catalyst, a preferable lower limit is 0.5% by weight and a preferable upper limit is 5% by weight with respect to the total amount after the reaction.

更に、上記方法(2)のエステル化反応の反応温度としては、好ましい下限は70℃、好ましい上限は150℃である。この範囲内の温度で加熱することにより、容易に脱水エステル化反応を行うことができる。より好ましい下限は80℃、より好ましい上限は120℃である。 Furthermore, as a reaction temperature of the esterification reaction of the method (2), a preferable lower limit is 70 ° C., and a preferable upper limit is 150 ° C. By heating at a temperature within this range, the dehydration esterification reaction can be easily performed. A more preferable lower limit is 80 ° C., and a more preferable upper limit is 120 ° C.

上記方法(2)のエステル化反応では、重合禁止剤を添加することが好ましく、該重合禁止剤としては、例えば、上述した方法(1)のエステル化反応における重合禁止剤と同様のものが挙げられ、その使用量としては、通常、反応液の全量に対して好ましい下限は0.01重量%であり、好ましい上限は1重量%である。 In the esterification reaction of the above method (2), it is preferable to add a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor include the same polymerization inhibitors as those in the esterification reaction of the above-described method (1). As for the amount used, the preferred lower limit is usually 0.01% by weight and the preferred upper limit is 1% by weight with respect to the total amount of the reaction solution.

上記方法(3)において、(メタ)アクリル酸、ラクトン及び多価アルコールを一括反応させる方法としては、例えば、常法の脱水エステル化反応が挙げられる。
具体的には、攪拌機、温度計及び水分離機を備えた反応器に(メタ)アクリル酸、ラクトン、多価アルコール及び溶媒を仕込み、酸性触媒の存在下、加熱する。反応の進行に伴い生成する水は系外に留去する。反応の終点は、副生する水の量で決定する。反応終了後、反応液を水洗し、水層を分離後、減圧下で溶媒を留去する方法が挙げられる。
In the above method (3), examples of the method of collectively reacting (meth) acrylic acid, lactone and polyhydric alcohol include a conventional dehydration esterification reaction.
Specifically, (meth) acrylic acid, lactone, polyhydric alcohol and solvent are charged into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a water separator, and heated in the presence of an acidic catalyst. The water generated as the reaction proceeds distills out of the system. The end point of the reaction is determined by the amount of by-product water. After completion of the reaction, the reaction solution is washed with water, the aqueous layer is separated, and then the solvent is distilled off under reduced pressure.

上記方法(3)における酸性触媒としては、無機酸又は有機酸のいずれでもよく、具体的には、上述した方法(1)のエステル化反応における酸性触媒と同様のものが挙げられ、その酸性触媒の添加量としては、反応液の全量に対して好ましい下限は0.5重量%、好ましい上限は5重量%である。 The acid catalyst in the method (3) may be either an inorganic acid or an organic acid, and specifically, the same acid catalyst as that in the esterification reaction of the method (1) described above may be mentioned. As for the addition amount, the preferable lower limit is 0.5% by weight and the preferable upper limit is 5% by weight with respect to the total amount of the reaction solution.

上記方法(3)の反応温度としては、反応時間の短縮と重合防止の点から、好ましい下限は70℃、好ましい上限は150℃であり、より好ましい下限は100℃、より好ましい上限は120℃である。 As the reaction temperature of the above method (3), from the viewpoint of shortening the reaction time and preventing polymerization, the preferred lower limit is 70 ° C., the preferred upper limit is 150 ° C., the more preferred lower limit is 100 ° C., and the more preferred upper limit is 120 ° C. is there.

また、上記方法(3)では、反応中の温度コントロールを容易にするため溶媒を使用するのが好ましい。使用しうる溶媒としては、(メタ)アクリル酸、ラクトン、多価アルコール及び酸性触媒と反応しないものであれば特に限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が好ましい。 In the method (3), it is preferable to use a solvent in order to facilitate temperature control during the reaction. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not react with (meth) acrylic acid, lactone, polyhydric alcohol, and acidic catalyst, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene are preferable.

更に、上記(メタ)アクリル酸には既に重合禁止剤が添加されているのが普通であるが、上記方法(3)においては、改めて重合禁止剤を添加して反応を行うことが好ましい。上記重合禁止剤としては、例えば、上述した方法(1)のエステル化反応における重合禁止剤と同様のものが挙げられ、その使用量としては、通常、反応液の全量に対して好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は1重量%である。 Furthermore, it is normal that a polymerization inhibitor has already been added to the (meth) acrylic acid. However, in the method (3), it is preferable to carry out the reaction by adding a polymerization inhibitor again. As said polymerization inhibitor, the thing similar to the polymerization inhibitor in the esterification reaction of the method (1) mentioned above is mentioned, for example, As the usage-amount, normally a preferable minimum with respect to the whole quantity of a reaction liquid is 0. 0.01% by weight, and a preferred upper limit is 1% by weight.

上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有し、オキサイド変性された化合物を合成する方法としては特に限定されず、例えば、多価アルコールとオキサイドとを反応させ、オキサイド変性多価アルコールを合成した後、このオキサイド変性多価アルコールと(メタ)アクリル酸とをエステル化反応させる方法(4)等が挙げられる。 The method for synthesizing an oxide-modified compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule is not particularly limited. For example, a polyhydric alcohol and an oxide are reacted to generate an oxide-modified polyoxygen. Examples thereof include a method (4) of esterifying this oxide-modified polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid after synthesizing the monohydric alcohol.

上記方法(4)において、上記多価アルコールとオキサイドとを反応させ、オキサイド変性多価アルコールを合成する方法としては、例えば、攪拌機付きオートクレーブに上記多価アルコール、塩基性触媒を仕込み、窒素にて加圧した後、オートクレーブを加熱し、オキサイドを逐次導入しながら反応させる。反応終了後、反応液を中和、ろ過した後、減圧下で溶媒を留去する方法が挙げられる。 In the method (4), the polyhydric alcohol and oxide are reacted to synthesize an oxide-modified polyhydric alcohol. For example, the polyhydric alcohol and the basic catalyst are charged into an autoclave equipped with a stirrer, and nitrogen is used. After pressurization, the autoclave is heated and reacted while introducing oxides sequentially. After completion of the reaction, the reaction solution is neutralized and filtered, and then the solvent is distilled off under reduced pressure.

上記オキサイド変性多価アルコールを合成する際における上記塩基性触媒としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物等が好適であり、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。 As the basic catalyst in the synthesis of the oxide-modified polyhydric alcohol, alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, and the like are suitable. Specifically, for example, sodium hydroxide, hydroxide Potassium etc. are mentioned.

また、上記オキサイド変性多価アルコールを合成する際における溶媒としては、反応物質に不活性であれば特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、シクロペンタン等の脂環式炭化水素等が挙げられる。 Further, the solvent for synthesizing the oxide-modified polyhydric alcohol is not particularly limited as long as it is inert to the reactants. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, n-hexane, n- Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as heptane, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclopentane.

なお、上記多価アルコールとしては特に限定されず、例えば、上述したものと同様の3価以上の多価アルコール化合物が挙げられる。 In addition, it does not specifically limit as said polyhydric alcohol, For example, the polyhydric alcohol compound more than trivalence similar to what was mentioned above is mentioned.

上記オキサイド変性多価アルコールと(メタ)アクリル酸とをエステル化反応させる方法としては、例えば、常法の脱水エステル化反応が挙げられる。
具体的には、攪拌機、温度計及び水分離器を備えた反応器に上記オキサイド変性多価アルコール、(メタ)アクリル酸及び溶媒を仕込み、酸性触媒の存在下、加熱する。反応の進行に伴い生成する水は系外に留去する。反応終了後、反応液を水洗し、水層を分離後、減圧下で溶媒を留去する方法が挙げられる。
Examples of the method of esterifying the oxide-modified polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid include a conventional dehydration esterification reaction.
Specifically, the above oxide-modified polyhydric alcohol, (meth) acrylic acid and solvent are charged into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a water separator, and heated in the presence of an acidic catalyst. The water generated as the reaction proceeds distills out of the system. After completion of the reaction, the reaction solution is washed with water, the aqueous layer is separated, and then the solvent is distilled off under reduced pressure.

上記方法(4)のエステル化反応における溶媒としては、水の留出を容易にし、(メタ)アクリル酸、オキサイド変性多価アルコール及び酸性触媒と反応しないものであれば特に限定されないが、上述した方法(1)のエポキシ化反応における溶媒と同様のものが好適に用いられる。 The solvent in the esterification reaction of the above method (4) is not particularly limited as long as it facilitates the distillation of water and does not react with (meth) acrylic acid, oxide-modified polyhydric alcohol and acidic catalyst. The same solvent as that used in the epoxidation reaction of method (1) is preferably used.

また、上記方法(4)のエステル化反応における酸性触媒としては、上述した方法(1)エポキシ化反応における酸性触媒と同様のものが挙げられ、その添加量としては、反応液の全量に対して好ましい下限は0.5重量%、好ましい上限は5重量%である。 Moreover, as an acidic catalyst in the esterification reaction of the said method (4), the thing similar to the acidic catalyst in the method (1) epoxidation reaction mentioned above is mentioned, As the addition amount, with respect to the whole quantity of a reaction liquid A preferred lower limit is 0.5% by weight and a preferred upper limit is 5% by weight.

また、上記方法(4)のエポキシ化反応の反応温度としては、好ましい下限は70℃、好ましい上限は150℃である。この範囲内の温度で加熱することにより、容易に脱水エステル化反応を行うことができる。より好ましい下限は80℃、より好ましい上限は120℃である。 Moreover, as a reaction temperature of the epoxidation reaction of the said method (4), a preferable minimum is 70 degreeC and a preferable upper limit is 150 degreeC. By heating at a temperature within this range, the dehydration esterification reaction can be easily performed. A more preferable lower limit is 80 ° C., and a more preferable upper limit is 120 ° C.

更に、上記方法(4)におけるエステル化反応では、重合禁止剤を添加して反応を行うことが好ましい。上記重合禁止剤としては、上述した方法(1)のエステル化反応における重合禁止剤と同様のものか挙げられ、その使用量としては、通常、反応液の全量に対して好ましい下限は0.01重量部、好ましい上限は1重量%である。
また、オキサイド変性多価アルコールを(メタ)アクリル酸クロライドのような酸ハライド類と反応させることによっても目的とする(メタ)アクリレートを得ることができる。
Furthermore, in the esterification reaction in the above method (4), it is preferable to carry out the reaction by adding a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor include those similar to the polymerization inhibitor in the esterification reaction of the above-described method (1). The amount of the polymerization inhibitor is usually preferably 0.01 to the total amount of the reaction solution. Part by weight, the preferred upper limit is 1% by weight.
The target (meth) acrylate can also be obtained by reacting the oxide-modified polyhydric alcohol with an acid halide such as (meth) acrylic acid chloride.

上記カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物、及び、酸無水物、並びに、上記分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有し、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された化合物に、カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物及び/又は酸無水物を付加反応させる方法としては、上述した分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物に、カルボキシル基を2つ以上有するカルボン酸化合物及び/又は酸無水物が付加反応させる際に説明したものと同様のもの、及び、方法が挙げられる。 To the carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups, an acid anhydride, and a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule and modified with lactone and / or oxide As a method for addition reaction of a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups and / or an acid anhydride, a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the above-described molecule is added with 2 carboxyl groups. Examples thereof include the same methods and methods as those described in the addition reaction of two or more carboxylic acid compounds and / or acid anhydrides.

本発明の硬化性樹脂組成物において、上述した本発明に係る重合性化合物の含有量としては特に限定されないが、本発明の硬化性樹脂組成物の固形分に対し、好ましい下限は20重量%、好ましい上限は90重量%である。20重量%未満であると、本発明の硬化性樹脂組成物が充分に光硬化せず、カラムスペーサ用途に用いた場合、フォトリソグラフの手法によりカラムスペーサのパターンを形成することができないことがある。90重量%を超えると、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、カラムスペーサを製造する際に使用するアルカリ現像液への溶解性が不足し、製造するカラムスペーサのパターンの現像性が不充分となることがある。より好ましい下限は40重量%、より好ましい上限は80重量%である。 In the curable resin composition of the present invention, the content of the polymerizable compound according to the present invention is not particularly limited, but the preferred lower limit is 20% by weight with respect to the solid content of the curable resin composition of the present invention. A preferred upper limit is 90% by weight. When it is less than 20% by weight, the curable resin composition of the present invention is not sufficiently photocured, and when used for a column spacer, a column spacer pattern may not be formed by a photolithographic technique. . When the content exceeds 90% by weight, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the solubility of the column spacer in an alkaline developer used for manufacturing the column spacer is insufficient, and the pattern of the column spacer to be manufactured The developability of the ink may be insufficient. A more preferred lower limit is 40% by weight, and a more preferred upper limit is 80% by weight.

また、本発明の硬化性樹脂組成物は、上述した本発明に係る重合性化合物に加えて、反応性、現像性等を調整するために、分子内にカルボキシル基を有さない重合性不飽和結合を有する化合物(以下、単に重合性不飽和結合含有化合物ともいう)を、例えば、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた際に、製造するカラムスペーサの柔軟性や現像性を損なわない範囲で併用してもよい。 In addition to the above-described polymerizable compound according to the present invention, the curable resin composition of the present invention is a polymerizable unsaturated compound having no carboxyl group in the molecule in order to adjust reactivity, developability, and the like. A compound having a bond (hereinafter, also simply referred to as a polymerizable unsaturated bond-containing compound), for example, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the flexibility and developability of the column spacer to be produced. You may use together in the range which does not impair.

上記重合性不飽和結合含有化合物としては特に限定されず、例えば、2官能のものとしては、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコール(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコール(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The polymerizable unsaturated bond-containing compound is not particularly limited, and examples thereof include neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, and 2 -Butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester diacrylate, diethylene glycol (meta ) Acrylate, triethylene glycol (meth) acrylate, tetraethylene glycol (meth) acrylate, hexaethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate such as nonaethylene glycol (meth) acrylate Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, hexaethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylate etc. are mentioned.

また、3官能以上のものとしては、例えば、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。 Examples of the tri- or higher functional group include trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra. Examples thereof include polyfunctional (meth) acrylate compounds such as (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

本発明の硬化性樹脂組成物が上記重合性不飽和結合含有化合物を含有する場合、その配合量としては特に限定されないが、上記本発明に係る重合性化合物との合計量の40重量%未満であることが好ましい。40重量%を超えると、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、得られるカラムスペーサの柔軟性が損なわれ、重力不良及び低温発泡の抑制効果が低下することがある。より好ましい上限は30重量%である。 When the curable resin composition of the present invention contains the polymerizable unsaturated bond-containing compound, the blending amount is not particularly limited, but is less than 40% by weight of the total amount with the polymerizable compound according to the present invention. Preferably there is. If it exceeds 40% by weight, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the flexibility of the obtained column spacer may be impaired, and the effect of suppressing poor gravity and low-temperature foaming may be reduced. A more preferred upper limit is 30% by weight.

本発明の硬化性樹脂組成物は、アルカリ可溶性高分子化合物を含有する。
上記アルカリ可溶性高分子化合物としては特に限定されないが、カルボキシル基を含有するアルカリ可溶性カルボキシル基含有高分子化合物であることが好ましい。上記アルカリ可溶性カルボキシル基含有高分子化合物としては、例えば、カルボキシル基含有単官能不飽和化合物と不飽和二重結合やエポキシ基のような反応性の官能基を有する単官能化合物とを共重合した共重合体(以下、単に共重合体ともいう)等が挙げられる。また、例えば、ダイセル化学社製「サイクロマーP」等の市販のものを用いてもよい。
The curable resin composition of the present invention contains an alkali-soluble polymer compound.
The alkali-soluble polymer compound is not particularly limited, but is preferably an alkali-soluble carboxyl group-containing polymer compound containing a carboxyl group. Examples of the alkali-soluble carboxyl group-containing polymer compound include a copolymer obtained by copolymerizing a carboxyl group-containing monofunctional unsaturated compound and a monofunctional compound having a reactive functional group such as an unsaturated double bond or an epoxy group. Examples thereof include polymers (hereinafter also simply referred to as copolymers). Further, for example, a commercially available product such as “Cyclomer P” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. may be used.

上記カルボキシル基含有単官能不飽和化合物としては特に限定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。
また、上記不飽和二重結合を有する単官能化合物としては特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系単量体が挙げられる。
The carboxyl group-containing monofunctional unsaturated compound is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid and methacrylic acid.
The monofunctional compound having an unsaturated double bond is not particularly limited. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, Examples include (meth) acrylic acid ester monomers such as (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl and (meth) acrylic acid hydroxyethyl.

上記エポキシ基を有する単官能化合物としては特に限定されず、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、下記一般式(1)で表される化合物等が挙げられる。なかでも、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル及びp−ビニルベンジルグリシジルエーテルは、共重合反応性及び得られるカラムスペーサの強度を高める点から好ましく用いられる。これらは単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The monofunctional compound having an epoxy group is not particularly limited. For example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-n-propyl acrylate, glycidyl α-n-butyl acrylate, Acrylic acid-3,4-epoxybutyl, methacrylic acid-3,4-epoxybutyl, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6,7- Examples thereof include epoxy heptyl, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, and a compound represented by the following general formula (1). Among them, glycidyl methacrylate, methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether are copolymerization reactivity and strength of the obtained column spacer. It is preferably used from the standpoint of increasing. These may be used independently and 2 or more types may be used together.

Figure 2007063531
式(1)中、Rは、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、nは、0〜10の整数である。
Figure 2007063531
In formula (1), R represents a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group, and n is an integer of 0-10.

また、上記共重合体としては特に限定されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル;メチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸環状アルキルエステル;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸環状アルキルエステル;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アタクリル酸アリールエステル;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アリールエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキルエステル;スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等が挙げられる。なかでも、スチレン、t−ブチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、p−メトキシスチレン、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,3−ブタジエン等が共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好適である。これらは単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Moreover, it does not specifically limit as said copolymer, For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t -(Meth) acrylic acid alkyl esters such as butyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth) acrylate and isopropyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) (Meth) acrylic acid cyclic alkyl esters such as acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, isoboronyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methyl (Meth) acrylic acid cyclic alkyl esters such as lucyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentaoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate; phenyl (meth) acrylate, benzyl ( (Meth) acrylate acrylic esters such as (meth) acrylate; phenyl (meth) acrylate, (meth) acrylic aryl esters such as benzyl (meth) acrylate; dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, diethyl itaconate Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene , Vinyl toluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, etc. Is mentioned. Among them, styrene, t-butyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, p-methoxystyrene, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, 1,3-butadiene and the like are copolymerized and alkaline aqueous solution. From the viewpoint of solubility in These may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記共重合体において、カルボキシル基含有単官能不飽和化合物に起因する成分の比の好ましい下限は10重量%、好ましい上限は40重量%である。10重量%未満であると、アルカリ可溶性を付与することが困難であり、40重量%を超えると、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、カラムスペーサを製造する際の現像時の膨潤が著しく、カラムスペーサパターンの形成が困難となることがある。より好ましい下限は15重量%、より好ましい上限は30重量%である。 In the above copolymer, the preferred lower limit of the ratio of the components attributable to the carboxyl group-containing monofunctional unsaturated compound is 10% by weight, and the preferred upper limit is 40% by weight. When it is less than 10% by weight, it is difficult to impart alkali solubility, and when it exceeds 40% by weight, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the column spacer is produced. The swelling at the time of development is remarkable, and it may be difficult to form a column spacer pattern. A more preferred lower limit is 15% by weight, and a more preferred upper limit is 30% by weight.

上記共重合体の重量平均分子量としては特に限定されないが、好ましい下限は3000、好ましい上限は10万である。3000未満であると、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、カラムスペーサを製造する際の現像性が低下することがあり、10万を超えると、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、カラムスペーサを製造する際の解像度が低下することがある。より好ましい下限は5000、より好ましい上限は5万である。 Although it does not specifically limit as a weight average molecular weight of the said copolymer, A preferable minimum is 3000 and a preferable upper limit is 100,000. When it is less than 3000, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the developability at the time of producing the column spacer may be lowered, and when it exceeds 100,000, the curability of the present invention. When the resin composition is used for a column spacer application, the resolution at the time of manufacturing the column spacer may be lowered. A more preferred lower limit is 5000, and a more preferred upper limit is 50,000.

上記カルボキシル基含有単官能不飽和化合物と不飽和二重結合やエポキシ基のような反応性の官能基を有する単官能化合物とを共重合する方法としては特に限定されず、例えば、ラジカル重合開始剤及び必要に応じて分子量調節剤を用いて、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、分散重合、乳化重合等の従来公知の方法により重合する方法が挙げられる。なかでも、溶液重合が好適である。 The method for copolymerizing the carboxyl group-containing monofunctional unsaturated compound and the monofunctional compound having a reactive functional group such as an unsaturated double bond or an epoxy group is not particularly limited. For example, a radical polymerization initiator And the method of superposing | polymerizing by conventionally well-known methods, such as block polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, dispersion polymerization, and emulsion polymerization, using a molecular weight regulator as needed. Of these, solution polymerization is preferred.

溶液重合法により上記共重合体を製造する場合の溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、グリコール等の脂肪族アルコール類;セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類;酢酸セロソルブ、酢酸カルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;テトラヒドロフラン等の環状エーテル、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の極性を有する有機溶剤等を用いることができる。 Examples of the solvent for producing the copolymer by the solution polymerization method include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and glycol; cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve; and carbitols such as carbitol and butylcarbitol. Tolls; esters such as cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; cyclic ethers such as tetrahydrofuran, ketones such as cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; dimethyl sulfoxide, dimethylformamide An organic solvent having a polarity such as can be used.

また、懸濁重合、分散重合、乳化重合等の非水系の分散重合により上記共重合体を製造する場合の媒体としては、例えば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等の液状の炭化水素や、その他の非極性の有機溶剤等を用いることができる。 Examples of the medium for producing the copolymer by non-aqueous dispersion polymerization such as suspension polymerization, dispersion polymerization, and emulsion polymerization include, for example, liquid hydrocarbons such as benzene, toluene, hexane, and cyclohexane, and others. These nonpolar organic solvents can be used.

上記共重合体を製造する場合に用いるラジカル重合開始剤としては特に限定されず、例えば、過酸化物、アゾ開始剤等の従来公知のラジカル重合開始剤を用いることができる。
上記ラジカル重合開始剤の使用量としては特に限定されないが、例えば、上記共重合体の全単量体成分100重量部に対して好ましい下限は0.001重量部、好ましい上限は5.0重量部であり、より好ましい下限は0.5重量部、より好ましい上限は3.0重量部である。
It does not specifically limit as a radical polymerization initiator used when manufacturing the said copolymer, For example, conventionally well-known radical polymerization initiators, such as a peroxide and an azo initiator, can be used.
The amount of the radical polymerization initiator used is not particularly limited. For example, the preferable lower limit is 0.001 part by weight and the preferable upper limit is 5.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total monomer components of the copolymer. A more preferred lower limit is 0.5 parts by weight, and a more preferred upper limit is 3.0 parts by weight.

上記分子量調節剤としては、例えば、α−メチルスチレンダイマー、メルカプタン系の連鎖移動剤等を用いることができる。なかでも、炭素数8以上の長鎖アルキルメルカプタンが、臭気や着色の少なさの点で好ましい。 Examples of the molecular weight modifier include α-methylstyrene dimer, mercaptan chain transfer agent, and the like. Of these, a long-chain alkyl mercaptan having 8 or more carbon atoms is preferable in terms of odor and little coloring.

本発明の硬化性樹脂組成物において、上記アルカリ可溶性高分子化合物の含有量としては特に限定されないが、好ましい下限は10重量%、好ましい上限は80重量%である。10重量%未満であると、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、カラムスペーサを製造する際に使用するアルカリ現像液への溶解性が不足し、製造するカラムスペーサのパターンの現像性が不充分となることがあり、80重量%を超えると、本発明の硬化性樹脂組成物が充分に光硬化せず、カラムスペーサ用途に用いた場合、フォトリソグラフィーによりカラムスペーサのパターンを形成することができないことがある。より好ましい下限は20重量%、より好ましい上限は60重量%である。 In the curable resin composition of the present invention, the content of the alkali-soluble polymer compound is not particularly limited, but a preferred lower limit is 10% by weight and a preferred upper limit is 80% by weight. When it is less than 10% by weight, when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the solubility in an alkaline developer used for producing the column spacer is insufficient, and the column spacer to be produced The developability of the pattern may be insufficient, and if it exceeds 80% by weight, the curable resin composition of the present invention is not sufficiently photocured, and when used for a column spacer application, the column spacer is formed by photolithography. A pattern may not be formed. A more preferred lower limit is 20% by weight, and a more preferred upper limit is 60% by weight.

本発明の硬化性樹脂組成物は、光反応開始剤を含有する。
上記光反応開始剤としては特に限定されず、例えば、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンジル、チオキサントン及びこれらの誘導体等、従来公知の光反応開始剤が挙げられる。具体的には、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ミヒラーケトン、(4−(メチルフェニルチオ)フェニル)フェイルメタノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1(4−メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等が挙げられる。
また、例えば、2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、2−(4−エチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、2−(4−i−プロピルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン等も好適に用いられ、これらの市販品としては、例えば、「イルガキュア369」、「イルガキュア379」(チバスペシャルティケミカルズ社製)等が挙げられる。
更に、例えば、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]、1−[4−(4−ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル]−2−メチル−2−(4−メチルフェニルスルフィニル)プロパン−1−オン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジフェニル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルファイド、メチルベンゾイフォルメート、4−フェニルベンゾフェノン、エチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−プロパノン、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、メチル−2−ベンゾイルベンゾエート、4−メチルベンゾフェノン、2,2’−ビス−(2−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−2’H−<1,2’>ビイミダゾイル、(4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,2’−ビス(o−700フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等、1−[9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル]−オクタン−1−オンオキシム−O−アセテート、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、1−[9−エチル−6−(1,3,5−トリメチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−[9−n−ブチル−6−(2−エチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート等が挙げられる。なかでも、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート等のオキシムエステル化合物が好適に用いられ、このようなオキシムエステル化合物の市販品としては、例えば、「イルガキュアーOXE02」(チバスペシャルティケミカルズ社製)等が挙げられる。
これらの光反応開始剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
The curable resin composition of the present invention contains a photoreaction initiator.
The photoreaction initiator is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known photoreaction initiators such as benzoin, benzophenone, benzyl, thioxanthone, and derivatives thereof. Specifically, for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, Michler ketone, (4- (methylphenylthio) phenyl) failmethanone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1- ON, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- (4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl) -2-hydroxy-2 -Methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1 (4-methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino Phenyl) -butanone-1, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphospho Oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chloro Examples include thioxanthone.
Also, for example, 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (4-ethylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (4-i-propylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, etc. Examples of such commercially available products include “Irgacure 369”, “Irgacure 379” (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and the like.
Further, for example, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone], 1- [4- (4-benzoylphenylsulfanyl) phenyl] -2-methyl-2 -(4-methylphenylsulfinyl) propan-1-one, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, diphenyl- (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfate Fido, methylbenzoiformate, 4-phenylbenzophenone, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, hydroxycyclohexylphenylketone, 2- Methyl-1- [4- (me Tylthio) -phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, methyl-2-benzoylbenzoate, 4-methylbenzophenone, 2,2′-bis- (2-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′- Tetraphenyl-2'H- <1,2 '> biimidazoloyl, (4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (o-700 phenyl) -4,4', 5,5'- 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9.H.-carbazol-3-yl] -octane-1-oneoxime-O-acetate, such as tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 1- [9- Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9 .H -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (1,3,5-trimethylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]- Ethan-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-n-butyl-6- (2-ethylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, etc. Among them, oxime ester compounds such as 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate Examples of commercially available products of such oxime ester compounds that can be suitably used include “Irgacure OXE02” (manufactured by Ciba Specialty Chemicals). It is.
These photoinitiators may be used independently and 2 or more types may be used together.

本発明の硬化性樹脂組成物において、上記光反応開始剤の含有量としては特に限定されないが、好ましい下限は1重量%、好ましい上限は20重量%である。1重量%未満であると、本発明の硬化性樹脂組成物が光硬化しないことがあり、20重量%を超えると、カラムスペーサ用途に用いた場合、フォトリソグラフィーにおいてアルカリ現像できないことがある。より好ましい下限は5重量%、より好ましい上限は15重量%である。 In the curable resin composition of the present invention, the content of the photoinitiator is not particularly limited, but a preferred lower limit is 1% by weight and a preferred upper limit is 20% by weight. If it is less than 1% by weight, the curable resin composition of the present invention may not be photocured, and if it exceeds 20% by weight, it may not be able to be alkali-developed in photolithography when used for a column spacer. A more preferred lower limit is 5% by weight, and a more preferred upper limit is 15% by weight.

本発明の硬化性樹脂組成物は、酸素による反応障害を軽減するために反応助剤を含有してもよい。このような反応助剤と水素引き抜き型の光反応開始剤とを併用することにより光照射したときの硬化速度を向上させることができる。 The curable resin composition of the present invention may contain a reaction aid in order to reduce reaction disturbance due to oxygen. By using such a reaction aid and a hydrogen abstraction type photoreaction initiator in combination, the curing rate when irradiated with light can be improved.

上記反応助剤としては、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリエチレンテトラミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン系;トリ−n−ブチルホスフィン等のホスフィン系;s−ベンジルイソチウロニウム−p−トルエンスルフィネート等のスルホン酸のもの等を用いることができる。これらの反応助剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the reaction aid include amines such as n-butylamine, di-n-butylamine, triethylamine, triethylenetetramine, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate; tri-n-butylphosphine, etc. Phosphinic compounds such as sulphonic acid such as s-benzylisothiouronium-p-toluenesulfinate can be used. These reaction aids may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物は、更に、2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物を含有することが好ましい。上記2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物は、熱架橋剤として働き、このような2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物を含有することで、本発明の硬化性樹脂組成物に熱硬化性を付与することができる。 The curable resin composition of the present invention preferably further contains a compound having two or more blocked isocyanate groups. The compound having two or more blocked isocyanate groups acts as a thermal crosslinking agent, and imparts thermosetting to the curable resin composition of the present invention by containing such a compound having two or more blocked isocyanate groups. can do.

上記2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物としては特に限定されず、例えば、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、及び、これらのオリゴマーからなる多官能イソシアネートを、活性メチレン系、オキシム系、ラクタム系、アルコ−ル系等のブロック剤化合物によりブロック化することにより得られるもの等が挙げられる。これらの2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The compound having two or more blocked isocyanate groups is not particularly limited. For example, tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), trimethyl Examples thereof include those obtained by blocking hexamethylene diisocyanate and polyfunctional isocyanates composed of these oligomers with blocking agents such as active methylene, oxime, lactam, and alcohol. These compounds having two or more blocked isocyanate groups may be used alone or in combination of two or more.

また、このような2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デュラネート17B−60PX、デュラネートE−402−B80T(以上、旭化成ケミカルズ社製)等が挙げられる。 Moreover, as what is marketed among the compounds which have such a 2 or more block isocyanate group, Duranate 17B-60PX, Duranate E-402-B80T (above, Asahi Kasei Chemicals make) etc. are mentioned, for example.

本発明の硬化性樹脂組成物に上記2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物が含有されている場合、その配合量としては、上記アルカリ可溶性高分子化合物100重量部に対して好ましい下限が0.01重量部、好ましい上限が50重量部である。0.01重量部未満であると、本発明の硬化性樹脂組成物が充分に熱硬化しないことがあり、50重量部を超えると、得られる硬化物の架橋度が高くなりすぎて後述する弾性特性を満たさないことがある。より好ましい下限は0.05重量部、より好ましい上限は20重量部である。 When the curable resin composition of the present invention contains the compound having two or more blocked isocyanate groups, the blending amount thereof is preferably 0.01 to 100 parts by weight of the alkali-soluble polymer compound. Part by weight, the preferred upper limit is 50 parts by weight. If it is less than 0.01 part by weight, the curable resin composition of the present invention may not be sufficiently cured by heat, and if it exceeds 50 parts by weight, the degree of cross-linking of the resulting cured product becomes too high and will be described later. May not meet the characteristics. A more preferred lower limit is 0.05 parts by weight, and a more preferred upper limit is 20 parts by weight.

本発明の硬化性樹脂組成物は、粘度を調整するために希釈剤により希釈されてもよい。
上記希釈剤としては、本発明の硬化性樹脂組との相溶性、塗工方法、乾燥時の膜均一性、乾燥効率等を考慮して選択すればよく特に限定されないが、本発明の硬化性樹脂組をスピンコーター、スリットコーターを用いて塗工する場合には、例えば、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エチルセルソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、イソプロピルアルコール等の有機溶媒が好適である。これらの希釈剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The curable resin composition of the present invention may be diluted with a diluent in order to adjust the viscosity.
The diluent is not particularly limited as long as it is selected in consideration of compatibility with the curable resin group of the present invention, coating method, film uniformity during drying, drying efficiency, and the like. When the resin group is applied using a spin coater or a slit coater, for example, an organic solvent such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, isopropyl alcohol is used. Is preferred. These diluents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、基板との密着性を向上するためのシランカップリング剤等、従来公知の添加剤が含有されていてもよい。 The curable resin composition of this invention may contain conventionally well-known additives, such as a silane coupling agent for improving adhesiveness with a board | substrate as needed.

本発明の硬化性樹脂組成物を用いれば、光硬化(及び熱硬化)させることにより圧縮変形からの高い回復性と、柔軟で低弾性率であることとを両立したカラムスペーサを製造することができ、また、パターン形成時に現像残滓を生じることがなくシャープな解像性を得ることができる。また、このようなカラムスペーサを用いれば、低温発泡を生ずることなく、重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制した液晶表示素子を得ることができる。 By using the curable resin composition of the present invention, it is possible to produce a column spacer that achieves both high recovery from compression deformation and flexibility and low elastic modulus by photocuring (and thermosetting). In addition, it is possible to obtain a sharp resolution without generating a development residue during pattern formation. Further, if such a column spacer is used, a liquid crystal display element can be obtained in which the occurrence of color unevenness due to poor gravity is effectively suppressed without causing low-temperature foaming.

このような本発明の硬化性樹脂組成物は、光照射(及び加熱)により硬化させたときの硬化物の25℃における15%圧縮時の弾性係数の好ましい下限が0.2GPa、好ましい上限が1.0GPaである。0.2GPa未満であると、軟らかすぎて、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、セルギャップの保持が困難となることがあり、1.0GPaを超えると、硬すぎて、本発明の硬化性樹脂組成物をカラムスペーサ用途に用いた場合、基板貼り合わせ時にカラーフィルター層に突入してしまったり、回復に必要な充分な弾性変形が得られなかったりすることがある。より好ましい下限は0.3GPa、より好ましい上限は0.9GPaであり、更に好ましい下限は0.5GPa、更に好ましい上限は0.7GPaである。 In such a curable resin composition of the present invention, the preferable lower limit of the elastic modulus at 15% compression at 25 ° C. of the cured product when cured by light irradiation (and heating) is 0.2 GPa, and the preferable upper limit is 1. 0.0 GPa. When it is less than 0.2 GPa, it is too soft, and when the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, it may be difficult to maintain a cell gap. When it exceeds 1.0 GPa, it is too hard. When the curable resin composition of the present invention is used for a column spacer, the color filter layer may be plunged when the substrates are bonded together, or sufficient elastic deformation necessary for recovery may not be obtained. . A more preferred lower limit is 0.3 GPa, a more preferred upper limit is 0.9 GPa, a still more preferred lower limit is 0.5 GPa, and a still more preferred upper limit is 0.7 GPa.

なお、本明細書において硬化物とは、光照射(及び加熱)により本発明の硬化性樹脂組成物をほぼ完全に硬化させたときの硬化物を意味する。ほぼ完全に硬化させる条件は、少なくとも、50mJ/cmの紫外線を照射し、更に、加熱する場合は、200〜250℃の温度で20分程度熱処理を加えることによりほぼ完全に硬化させることができる。
また、本明細書において15%圧縮とは、カラムスペーサの高さの変形率が15%となるように圧縮することを意味する。更に、弾性係数及び回復率は、以下の方法により測定したものである。
即ち、まず、基板上に形成したカラムスペーサを10mN/sの荷重印加速度で圧縮し、初期高さHの85%に相当する高さになるまで圧縮する。ここで1mNの荷重を印加した際のカラムスペーサ高さをH、Hの85%に相当するカラムスペーサ高さをH、Hに達した時点での荷重をFとする。次いで、この荷重Fを5秒間保持し、定荷重での変形を与えた後、10mN/秒の荷重印加速度で負荷を取り除き弾性回復によるカラムスペーサ高さの回復変形を測定する。この間の圧縮変形が最大となった時点のカラムスペーサ高さをHとし、カラムスペーサの変形を回復する過程における1mNの荷重印可時のカラムスペーサ高さをHとする。弾性計数及び回復率は、下記式(1)及び下記式(2)により算出することができる。
In the present specification, the cured product means a cured product when the curable resin composition of the present invention is almost completely cured by light irradiation (and heating). The conditions for almost complete curing are that at least 50 mJ / cm 2 of ultraviolet light is irradiated, and when heating, the film can be cured almost completely by applying a heat treatment at a temperature of 200 to 250 ° C. for about 20 minutes. .
Further, in this specification, 15% compression means compression so that the deformation rate of the height of the column spacer is 15%. Further, the elastic modulus and the recovery rate are measured by the following methods.
That is, first, the column spacer formed on the substrate is compressed at a load application speed of 10 mN / s, and is compressed to a height corresponding to 85% of the initial height H 0 . Here, the column spacer height when a load of 1 mN is applied is H 1 , the column spacer height corresponding to 85% of H 0 is H 2 , and the load when F 2 reaches H 2 is F. Next, the load F is held for 5 seconds, and after deformation at a constant load, the load is removed at a load application speed of 10 mN / sec, and the recovery deformation of the column spacer height due to elastic recovery is measured. The height of the column spacer at the time when the compression deformation during this time becomes maximum is H 3, and the height of the column spacer when a load of 1 mN is applied in the process of recovering the deformation of the column spacer is H 4 . The elastic count and the recovery rate can be calculated by the following formula (1) and the following formula (2).

弾性係数E=F/(D×S) (1)
回復率R=(H−H)/(H−H)×100 (2)
Elastic modulus E = F / (D × S) (1)
Recovery rate R = (H 4 −H 3 ) / (H 1 −H 3 ) × 100 (2)

式(1)中、Fは荷重(N)を表し、Dはカラムスペーサの高さの変形率を表し、Sはカラムスペーサの断面積(m)を表す。 In formula (1), F represents the load (N), D represents the deformation rate of the column spacer height, and S represents the cross-sectional area (m 2 ) of the column spacer.

本発明の硬化性樹脂組成物を製造する方法としては特に限定されず、例えば、上述した分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物、アルカリ可溶性高分子化合物、光反応性開始剤、及び、必要に応じて添加される重合性不飽和結合含有化合物、2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物、希釈剤等を従来公知の方法により混合する方法が挙げられる。 The method for producing the curable resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, an alkali-soluble polymer compound, a photoreactive initiator, And the method of mixing the polymerizable unsaturated bond containing compound added as needed, the compound which has a 2 or more block isocyanate group, a diluent, etc. by a conventionally well-known method is mentioned.

次に、本発明の硬化性樹脂組成物を用いてカラムスペーサを製造する方法を説明する。
本発明の硬化性樹脂組成物を用いてカラムスペーサを製造する場合には、まず、本発明の硬化性樹脂組成物を所定の厚さになるように基板上に塗工して被膜を形成する。
上記塗工の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート、スリットコート、スプレーコート、ディップコート、バーコート等の従来公知の塗工法を用いることができる。
Next, a method for producing a column spacer using the curable resin composition of the present invention will be described.
When manufacturing a column spacer using the curable resin composition of the present invention, first, the curable resin composition of the present invention is coated on a substrate to form a film to form a film. .
The coating method is not particularly limited, and conventionally known coating methods such as spin coating, slit coating, spray coating, dip coating, and bar coating can be used.

次いで、形成した被膜上に、所定のパターンが形成されたマスクを介して、紫外線等の活性光線を照射する。これにより、光照射部においては、本発明の硬化性樹脂組成物中に含まれる分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物と光反応開始剤とが反応して光硬化する。
上記活性光線の照射量としては特に限定されないが、紫外線の場合で100mJ/cm以上であることが好ましい。100mJ/cm未満であると、光硬化が不充分で続くアルカリ処理を行ったときに露光部まで溶解しパターンが形成されないことがある。
Next, actinic rays such as ultraviolet rays are irradiated on the formed film through a mask on which a predetermined pattern is formed. Thereby, in a light irradiation part, the compound and photoreaction initiator which have a 2 or more polymerizable unsaturated bond in the molecule | numerator contained in the curable resin composition of this invention react, and it photocures.
The irradiation amount of the active light is not particularly limited, but is preferably 100 mJ / cm 2 or more in the case of ultraviolet rays. If it is less than 100 mJ / cm 2 , the photocuring is insufficient and the subsequent alkali treatment may dissolve the exposed area and a pattern may not be formed.

次いで、光硬化後の光硬化物をアルカリ現像して基板上に本発明の硬化性樹脂組成物の光硬化物からなる所定のパターンのカラムスペーサを形成する。
本発明の硬化性樹脂組成物は、上述した特定の構造を有する分子内に2以上の重合性不飽和基を有する化合物を含有するため、本工程で所定のパターンを形成した際に殆ど残滓が生じることがなく、解像性に優れるシャープなパターンのカラムスペーサを形成することができる。また、上述した本発明に係る重合性化合物がラクトン変性及び/又はオキサイド変性されている場合、本発明の硬化性樹脂組成物を用いて形成したカラムスペーサは、更に圧縮変形からの高い回復性と、柔軟で低弾性率とを有するものとなる。
Next, the photocured product after photocuring is alkali-developed to form a column spacer having a predetermined pattern made of the photocured product of the curable resin composition of the present invention on the substrate.
Since the curable resin composition of the present invention contains a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule having the specific structure described above, almost no residue remains when a predetermined pattern is formed in this step. It is possible to form a column spacer with a sharp pattern that does not occur and has excellent resolution. Further, when the above-described polymerizable compound according to the present invention is lactone-modified and / or oxide-modified, the column spacer formed using the curable resin composition of the present invention further has high recoverability from compression deformation. It is flexible and has a low elastic modulus.

本発明の硬化性樹脂組成物が2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物を含有する場合には、更に、現像処理後のパターン化された光硬化物を加熱することにより、含有されるアルカリ可溶性高分子化合物と2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物とが反応する。
上記加熱の条件としては、上記パターンの大きさや厚さ等を考慮して適宜決定すればよいが、少なくとも、200℃、20分間以上であることが好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサもまた、本発明の1つである。
When the curable resin composition of the present invention contains a compound having two or more blocked isocyanate groups, the alkali-soluble composition is further contained by heating the patterned photocured product after the development treatment. A molecular compound reacts with a compound having two or more blocked isocyanate groups.
The heating condition may be appropriately determined in consideration of the size and thickness of the pattern, but is preferably at least 200 ° C. for 20 minutes or more.
A column spacer using the curable resin composition of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明のカラムスペーサは、25℃における15%圧縮時の弾性係数の好ましい下限が0.2GPa、好ましい上限が1.0GPaである。0.2GPa未満であると、軟らかすぎてセルギャップの保持が困難となることがあり、1.0GPaを超えると、硬すぎて基板貼り合わせ時にカラーフィルター層に突入してしまったり、回復に必要な充分な弾性変形が得られなかったりすることがある。より好ましい下限は0.3GPa、より好ましい上限は0.9GPaであり、更に好ましい下限は0.5GPa、更に好ましい上限は0.7GPaである。 In the column spacer of the present invention, the preferable lower limit of the elastic modulus at 15% compression at 25 ° C. is 0.2 GPa, and the preferable upper limit is 1.0 GPa. If it is less than 0.2 GPa, it may be too soft and it may be difficult to maintain the cell gap. If it exceeds 1.0 GPa, it may be too hard to enter the color filter layer when bonding the substrates, or necessary for recovery. Sufficient elastic deformation may not be obtained. A more preferred lower limit is 0.3 GPa, a more preferred upper limit is 0.9 GPa, a still more preferred lower limit is 0.5 GPa, and a still more preferred upper limit is 0.7 GPa.

本発明のカラムスペーサは、その高さをセルギャップより若干高くなるように設計して、ODF法等の従来公知の方法により製造することにより、低温発泡を生ずることなく重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制することができる液晶表示素子を得ることができる。
本発明の硬化性樹脂組成物、又は、本発明のカラムスペーサを用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の1つである。
The column spacer of the present invention is designed so that its height is slightly higher than the cell gap, and is manufactured by a conventionally known method such as the ODF method, thereby generating color unevenness due to poor gravity without causing low-temperature foaming. It is possible to obtain a liquid crystal display element that can effectively suppress the above.
The curable resin composition of the present invention or a liquid crystal display device using the column spacer of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明の硬化性樹脂組成物は、分子内に1以上のカルボキシル基と2以上の重合性不飽和結合とを有する化合物を含有するため、現像液との親和性が向上するとともに、重合反応が速やかに進行し、カラムスペーサ用途に用いた場合、フォトリソグラフの手法によるパターン形成時の露光感度が優れたものとなる。また、本発明の硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサは、優れた柔軟性と高い圧縮回復特性とを有するものとなり、このようなカラムスペーサによれば、加熱時の液晶膨張による「重力不良」と、低温時の液晶の収縮による「低温発泡」とを同時に抑制可能な液晶表示素子を提供できる。 Since the curable resin composition of the present invention contains a compound having one or more carboxyl groups and two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, the affinity with the developer is improved and the polymerization reaction is improved. Proceeding promptly, when used for a column spacer, the exposure sensitivity during pattern formation by a photolithographic technique is excellent. In addition, the column spacer using the curable resin composition of the present invention has excellent flexibility and high compression recovery characteristics. According to such a column spacer, “gravity due to liquid crystal expansion during heating is achieved. It is possible to provide a liquid crystal display element capable of simultaneously suppressing “bad” and “low temperature foaming” due to shrinkage of liquid crystal at low temperatures.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
(1)重合性不飽和結合を有する化合物の合成
1Lのナス型フラスコに、溶媒としてメタノール100重量部、多官能(メタ)アクリレート化合物としてカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPCA−120、日本化薬社製)40重量部、チオサリチル酸(和光純薬社製)4重量部、触媒としてベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキサイド40%水溶液(和光純薬社製)0.05重量部、重合禁止剤としてヒドロキノン0.4重量部を仕込み、攪拌しながら室温で1時間反応を行った。
その後、エバポレーターにてメタノールを除去し、カルボキシル基を有するカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを得た。
Example 1
(1) Synthesis of a compound having a polymerizable unsaturated bond In a 1 L eggplant-shaped flask, 100 parts by weight of methanol as a solvent and caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate (DPCA-120, Nippon Kayaku) as a polyfunctional (meth) acrylate compound 40 parts by weight, thiosalicylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 4 parts by weight, benzyltrimethylammonium hydroxide 40% aqueous solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.05 parts by weight as a catalyst, and hydroquinone 0.4% by weight as a polymerization inhibitor. 4 parts by weight were charged and reacted at room temperature for 1 hour with stirring.
Thereafter, methanol was removed by an evaporator to obtain a caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate having a carboxyl group.

(2)アルカリ可溶性高分子化合物の合成
3L容のセパラブルフラスコに、溶媒としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部仕込み、窒素雰囲気下にて90℃に昇温した後、メタクリル酸メチル10重量部、メタクリル酸8重量部、メタクリル酸n−ブチル12重量部、アクリル酸2−エチルヘキシル10重量部、アゾビスバレロニトリル0.4重量部、及び、n−ドデシルメルカプタン0.8重量部を3時間かけて連続的に滴下した。
その後、90℃にて30分間保持した後、温度を105℃に昇温し、3時間重合を継続し、アルカリ可溶性高分子化合物溶液を得た。
得られたアルカリ可溶性高分子化合物をサンプリングし、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定したところ、重量平均分子量(Mw)は約2万であった。
(2) Synthesis of alkali-soluble polymer compound A 3 L separable flask was charged with 60 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent, heated to 90 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then 10 parts by weight of methyl methacrylate and 8 parts of methacrylic acid. Parts by weight, 12 parts by weight of n-butyl methacrylate, 10 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 0.4 parts by weight of azobisvaleronitrile, and 0.8 parts by weight of n-dodecyl mercaptan continuously over 3 hours It was dripped.
Then, after hold | maintaining for 30 minutes at 90 degreeC, temperature was heated up to 105 degreeC and superposition | polymerization was continued for 3 hours and the alkali-soluble high molecular compound solution was obtained.
The obtained alkali-soluble polymer compound was sampled and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC). As a result, the weight average molecular weight (Mw) was about 20,000.

(3)硬化性樹脂組成物の調製
得られたアルカリ可溶性高分子化合物溶液100重量部(固形分率40wt%)、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート60重量部、光反応開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリティケミカルズ社製)10重量部及びDETX−S(日本化薬製)10重量部、並びに、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル70重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(3) Preparation of curable resin composition 100 parts by weight of the obtained alkali-soluble polymer compound solution (solid content: 40 wt%), 60 parts by weight of carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, Irga as a photoreaction initiator A curable resin composition was prepared by mixing 10 parts by weight of Cure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 10 parts by weight of DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku) and 70 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent.

(実施例2)
(1)重合性不飽和結合を有する化合物の合成
1Lのナス型フラスコに、溶媒としてメタノール100重量部、多官能(メタ)アクリレート化合物としてカプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート(アクリル酸1モルにカプロラクトン2モル反応させてなる化合物4モルを、ペンタエリスリトール1モルとエステル化により反応させた化合物)40重量部、メルカプトプロピオン酸(和光純薬社製)4重量部、触媒としてベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキサイド40%水溶液(和光純薬社製)0.05重量部、重合禁止剤としてヒドロキノン0.4重量部を仕込み、攪拌しながら室温で1時間反応を行った。
その後、エバポレーターにてメタノールを除去し、カルボキシル基を有するカプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートを得た。
(Example 2)
(1) Synthesis of compound having polymerizable unsaturated bond In a 1 L eggplant-shaped flask, 100 parts by weight of methanol as a solvent, caprolactone-modified pentaerythritol tetraacrylate as a polyfunctional (meth) acrylate compound (1 mol of acrylic acid and 2 mol of caprolactone) 40 parts by weight of a compound obtained by reacting 4 moles of the resulting compound with 1 mole of pentaerythritol by esterification), 4 parts by weight of mercaptopropionic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 40% aqueous solution of benzyltrimethylammonium hydroxide as a catalyst 0.05 part by weight (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.4 part by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added and reacted at room temperature for 1 hour with stirring.
Thereafter, methanol was removed by an evaporator to obtain caprolactone-modified pentaerythritol tetraacrylate having a carboxyl group.

(2)硬化性樹脂組成物の調製
アルカリ可溶性高分子化合物として、サイクロマーP、ACA−230AA(ダイセル化学社製)100重量部(固形分率40wt%)、重合性不飽和結合含有化合物として、(1)で得られたカルボキシル基を有するカプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート60重量部、光反応開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリティケミカルズ社製)10重量部及びDETX−S(日本化薬製)10重量部、並びに、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル70重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(2) Preparation of curable resin composition As alkali-soluble polymer compound, cyclomer P, ACA-230AA (manufactured by Daicel Chemical Industries) 100 parts by weight (solid content 40 wt%), polymerizable unsaturated bond-containing compound, 60 parts by weight of caprolactone-modified pentaerythritol tetraacrylate having a carboxyl group obtained in (1), 10 parts by weight of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku) as a photoinitiator 10 A curable resin composition was prepared by mixing parts by weight and 70 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent.

(実施例3)
実施例1で得られたアルカリ可溶性高分子化合物溶液100重量部、実施例2で得られたカルボキシル基含有カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリアクリレート120重量部、光反応開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー369)15重量部、熱架橋剤(旭化成ケミカルズ社製、デュラネートE−402−B80T)8重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(Example 3)
100 parts by weight of the alkali-soluble polymer compound solution obtained in Example 1, 120 parts by weight of the carboxyl group-containing caprolactone-modified pentaerythritol triacrylate obtained in Example 2, a photoreaction initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure) 369) 15 parts by weight, 8 parts by weight of a thermal crosslinking agent (Duranate E-402-B80T, manufactured by Asahi Kasei Chemicals) and 60 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent were mixed to prepare a curable resin composition.

(実施例4)
(1)重合性不飽和結合を有する化合物の合成
1Lのナス型フラスコに、溶媒としてメタノール100重量部、多官能(メタ)アクリレート化合物として、エチレンオキサイド/カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(アクリル酸1モルにカプロラクトン2モルを反応させてなる化合物6モルと、ジペンタエリスリトール1モルにエチレンオキサイド12モルを反応させてなる化合物1モルをエステル化により反応させた化合物)40重量部、メルカプトコハク酸(和光純薬社製)4重量部、触媒としてベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキサイド40%水溶液(和光純薬社製)0.05重量部、重合禁止剤としてヒドロキノン0.4重量部を仕込み、攪拌しながら50℃で1時間反応を行った。
その後、エバポレーターにてメタノールを除去し、カルボキシル基を有するエチレンオキサイド/カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレートを得た。
Example 4
(1) Synthesis of a compound having a polymerizable unsaturated bond In a 1 L eggplant-shaped flask, 100 parts by weight of methanol as a solvent and ethylene oxide / caprolactone-modified dipentaerythritol tetraacrylate (acrylic acid 1) as a polyfunctional (meth) acrylate compound 40 parts by weight of a compound obtained by reacting 6 mol of a compound obtained by reacting 2 mol of caprolactone with 1 mol of a compound obtained by reacting 12 mol of ethylene oxide with 1 mol of dipentaerythritol, and mercaptosuccinic acid ( Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 4 parts by weight, benzyltrimethylammonium hydroxide 40% aqueous solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.05 parts by weight as a catalyst, and hydroquinone 0.4 parts by weight as a polymerization inhibitor were charged with stirring. The reaction was carried out at 1 ° C. for 1 hour.
Thereafter, methanol was removed by an evaporator to obtain ethylene oxide / caprolactone-modified dipentaerythritol tetraacrylate having a carboxyl group.

(2)硬化性樹脂組成物の調製
実施例1で得られたアルカリ可溶性高分子化合物溶液100重量部、重合性不飽和結合含有化合物として、(1)で得られたカルボキシル基を有するエチレンオキサイド/カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート60重量部、光反応開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリティケミカルズ社製)10重量部及びDETX−S(日本化薬製)10重量部、並びに、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル70重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(2) Preparation of curable resin composition 100 parts by weight of the alkali-soluble polymer compound solution obtained in Example 1 and the polymerizable unsaturated bond-containing compound as a compound having an ethylene oxide / carboxyl group obtained in (1) 60 parts by weight of caprolactone-modified dipentaerythritol tetraacrylate, 10 parts by weight of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photoinitiator, 10 parts by weight of DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku), and diethylene glycol dimethyl ether 70 as a solvent A curable resin composition was prepared by mixing parts by weight.

(実施例5)
原料モノマー(1)として下記化学式(2)に示す構造のカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートにジエタノールアミンを付加させた化合物20重量部(9.8mmol)、酸無水物としてテトラヒドロ無水フタル酸1.48重量部(9.8mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。
(Example 5)
20 parts by weight (9.8 mmol) of a compound obtained by adding diethanolamine to caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate having the structure represented by the following chemical formula (2) as a raw material monomer (1), and 1.48 weight of tetrahydrophthalic anhydride as an acid anhydride Part (9.8 mmol), 0.01 part by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and 20 parts by weight of propylene glycol methyl ether (PGMEA) as a solvent were charged in a flask and heated while flowing nitrogen.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、テトラヒドロ無水フタル酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(3)に示す構造の化合物(A)を得た。なお、得られた化合物(A)のNMR測定を行った結果を図1に示す。また、テトラヒドロ無水フタル酸のNMR測定も行い、その結果を図5に示す。 Next, when tetrahydrophthalic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, followed by reaction in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, and then allowed to cool to room temperature. A compound (A) having a structure represented by the chemical formula (3) was obtained. In addition, the result of having performed NMR measurement of the obtained compound (A) is shown in FIG. Further, NMR measurement of tetrahydrophthalic anhydride was also performed, and the result is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(A)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (A) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例6)
原料モノマー(1)として下記化学式(4−1)に示す構造のカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1molにジエタノールアミン2molを付加させた化合物20重量部(9.4mmol)、酸無水物としてテトラヒドロ無水フタル酸2.86重量部(18.8mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。
(Example 6)
20 parts by weight (9.4 mmol) of a compound obtained by adding 2 mol of diethanolamine to 1 mol of caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate having a structure represented by the following chemical formula (4-1) as a raw material monomer (1), tetrahydrophthalic anhydride as an acid anhydride 2.86 parts by weight (18.8 mmol), 0.01 part by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and 20 parts by weight of propylene glycol methyl ether (PGMEA) as a solvent were placed in a flask and heated while flowing nitrogen. .

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、テトラヒドロ無水フタル酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(4−2)に示す構造の化合物(B)を得た。なお、得られた化合物(B)のNMR測定を行った結果を図2に示す。 Next, when tetrahydrophthalic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, followed by reaction in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, and then allowed to cool to room temperature. A compound (B) having a structure represented by the chemical formula (4-2) was obtained. In addition, the result of having performed NMR measurement of the obtained compound (B) is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(B)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (B) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例7)
原料モノマー(1)として下記化学式(5−1)に示す構造のカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1molにジエタノールアミン3molを付加させた化合物20重量部(9.0mmol)、酸無水物としてテトラヒドロ無水フタル酸4.01重量部(27.0mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。
(Example 7)
20 parts by weight (9.0 mmol) of a compound obtained by adding 3 mol of diethanolamine to 1 mol of caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate having the structure represented by the following chemical formula (5-1) as a raw material monomer (1), tetrahydrophthalic anhydride as an acid anhydride A flask was charged with 4.01 parts by weight (27.0 mmol), 0.01 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and 20 parts by weight of propylene glycol methyl ether (PGMEA) as a solvent, and heated while flowing nitrogen. .

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、テトラヒドロ無水フタル酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(5−2)に示す構造の化合物(C)を得た。なお、得られた化合物(C)のNMR測定を行った結果を図3に示す。 Next, when tetrahydrophthalic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, followed by reaction in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, and then allowed to cool to room temperature. A compound (C) having a structure represented by the chemical formula (5-2) was obtained. In addition, the result of having performed NMR measurement of the obtained compound (C) is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(C)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (C) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例8)
原料モノマー(2)として、下記化学式(6)に示す構造のカプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリアクリレートにジエタノールアミンを付加させた化合物20重量部(15.2mmol)、酸無水物としてテトラヒドロ無水フタル酸2.31重量部(15.2mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。
(Example 8)
As raw material monomer (2), 20 parts by weight (15.2 mmol) of a compound obtained by adding diethanolamine to caprolactone-modified pentaerythritol triacrylate having a structure represented by the following chemical formula (6), and 2.31 weight by weight of tetrahydrophthalic anhydride as an acid anhydride Part (15.2 mmol), hydroquinone 0.01 part by weight as a polymerization inhibitor, and propylene glycol methyl ether (PGMEA) 20 part by weight as a solvent were charged in a flask and heated while flowing nitrogen.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、テトラヒドロ無水フタル酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(7)に示す構造の化合物(D)を得た。なお、得られた化合物(D)のNMR測定を行った結果を図4に示す。 Next, when tetrahydrophthalic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, followed by reaction in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, and then allowed to cool to room temperature. A compound (D) having a structure represented by the chemical formula (7) was obtained. In addition, the result of having performed NMR measurement of the obtained compound (D) is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(D)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (D) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例9)
原料モノマー(3)として、下記化学式(8)に示す構造のカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(ジペンタエリスリトール1モルに、アクリル酸1モルにカプロラクトン2モルを反応させてなる化合物5モルをエステル化により反応させた化合物)20重量部(12.0mmol)、酸無水物として無水コハク酸1.20重量部(12.0mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。
Example 9
As a raw material monomer (3), caprolactone-modified dipentaerythritol pentaacrylate having a structure represented by the following chemical formula (8) (5 mol of a compound obtained by reacting 1 mol of dipentaerythritol with 2 mol of caprolactone with 1 mol of acrylic acid) is esterified. 20 parts by weight (12.0 mmol), 1.20 parts by weight (12.0 mmol) of succinic anhydride as an acid anhydride, 0.01 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and propylene acetate as a solvent 20 parts by weight of glycol methyl ether (PGMEA) was charged into a flask and heated while flowing nitrogen.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、無水コハク酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(9)に示す構造の化合物(E)を得た。 Next, when the succinic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, and then the reaction was performed in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, followed by cooling to room temperature. The compound (E) having the structure shown in (9) was obtained.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(E)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (E) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例10)
原料モノマー(4)として、下記化学式(10)に示す構造のカプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリアクリレート(ペンタエリスリトール1モルに、アクリル酸1モルにカプロラクトン2モルを反応させてなる化合物3モルをエステル化により反応させた化合物)20重量部(16.5mmol)、酸無水物として無水コハク酸16.5重量部(16.5mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。

Figure 2007063531
次に、無水コハク酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(11)に示す構造の化合物(F)を得た。 (Example 10)
As a raw material monomer (4), caprolactone-modified pentaerythritol triacrylate having a structure represented by the following chemical formula (10) (reacted by esterification of 3 mol of a compound obtained by reacting 1 mol of pentaerythritol with 2 mol of caprolactone with 1 mol of acrylic acid) Compound) 20 parts by weight (16.5 mmol), 16.5 parts by weight (16.5 mmol) of succinic anhydride as an acid anhydride, 0.01 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and propylene glycol methyl acetate as a solvent 20 parts by weight of ether (PGMEA) was charged into a flask and heated while flowing nitrogen.
Figure 2007063531
Next, when the succinic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, and then the reaction was performed in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, followed by cooling to room temperature. The compound (F) having the structure shown in (11) was obtained.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(F)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (F) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(比較例1)
硬化性樹脂組成物の調製
実施例1で得られたアルカリ可溶性高分子化合物溶液100重量部、重合性不飽和結合含有化合物として、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPCA−120、日本化薬社製)60重量部、光反応開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリティケミカルズ社製)10重量部及びDETX−S(日本化薬製)10重量部、並びに、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル70重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(Comparative Example 1)
Preparation of Curable Resin Composition 100 parts by weight of the alkali-soluble polymer compound solution obtained in Example 1, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate (DPCA-120, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a polymerizable unsaturated bond-containing compound ) 60 parts by weight, 10 parts by weight of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 10 parts by weight of DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku) as a photoinitiator, and 70 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent A curable resin composition was prepared.

(評価)
実施例1〜10、比較例1〜2で得られた硬化性樹脂組成物について以下の方法により評価を行った。それぞれの結果を表1に示した。
(Evaluation)
The curable resin compositions obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.

(1)カラムスペーサの作製
透明導電膜が形成されたガラス基板上に、各実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物をスピンコートにより塗布し、100℃、2分間乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、20μm角のドットパターンマスクを介して100mJ/cmの紫外線を照射した後、0.04%KOH溶液により40秒間現像し、純水にて30秒間洗浄してカラムスペーサのパターンを形成した。
その後、220℃、30分のベーキング処理を行った後、カラムスペーサの断面積は20μm×20μm(400μm)、高さは3.0μmであった。
(1) Preparation of column spacer On the glass substrate on which the transparent conductive film was formed, the curable resin composition obtained in each example and comparative example was applied by spin coating, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to apply. A membrane was obtained. The resulting coating film was irradiated with 100 mJ / cm 2 ultraviolet rays through a 20 μm square dot pattern mask, developed with 0.04% KOH solution for 40 seconds, washed with pure water for 30 seconds, and column spacers. Pattern was formed.
Thereafter, after baking at 220 ° C. for 30 minutes, the cross-sectional area of the column spacer was 20 μm × 20 μm (400 μm 2 ) and the height was 3.0 μm.

(カラムスペーサの評価)
(解像性)
光学顕微鏡により、カラムスペーサパターンのエッジのシャープさ(解像性)、及び、パターン表面の荒れ(パターン形成状態)を観察し、以下の基準により評価した。
解像性の評価
○:エッジがシャープな状態
×:エッジが不均一、あるいは残滓が見られる状態
パターン形成状態
○:パターン表面が平滑な状態
×:パターン表面が荒れた状態
(Evaluation of column spacer)
(Resolution)
The sharpness (resolution) of the edge of the column spacer pattern and the roughness of the pattern surface (pattern formation state) were observed with an optical microscope and evaluated according to the following criteria.
Evaluation of resolution ○: Edge is sharp ×: Edge is uneven or residue is observed Pattern formation state ○: Pattern surface is smooth ×: Pattern surface is rough

(アルカリ可溶性)
重合性化合物(固形分)1重量部を、0.04wt%KOH水溶液200重量部に溶解し、目視にて溶解状態を評価することにより、アルカリ可溶性を以下の基準により評価した。
(Alkali soluble)
By dissolving 1 part by weight of a polymerizable compound (solid content) in 200 parts by weight of a 0.04 wt% KOH aqueous solution and visually evaluating the dissolved state, alkali solubility was evaluated according to the following criteria.

◎:溶液の濁り及び沈殿物なく完全に溶解した
○:溶液の濁りはあるが沈殿物はない
△:溶液の濁りおよび沈殿物あり
×:溶解せずに沈殿
A: Completely dissolved without turbidity and precipitate of solution. ○: Although turbidity of solution was not present. △: With turbidity of solution and precipitate. X: Precipitation without dissolution.

(圧縮特性)
温度25℃に調整した室内において、カラムスペーサを10mN/sの荷重印加速度で圧縮し、初期高さHの85%に相当する高さになるまで圧縮した。ここで1mNの荷重を印加した際のカラムスペーサ高さをH、Hの85%に相当するカラムスペーサ高さをH、Hに達した時点での荷重をFとした。
次いで、この荷重Fを5秒間保持し、定荷重での変形を与えた後、10mN/秒の荷重印加速度で負荷を取り除き弾性回復によるカラムスペーサ高さの回復変形を測定した。この間の圧縮変形が最大となった時点のカラムスペーサ高さをHとし、カラムスペーサの変形を回復する過程における1mNの荷重印可時のカラムスペーサ高さをHとした。得られた各値を用いて、下記式(1)及び下記式(2)により15%圧縮時の圧縮弾性係数E及び15%圧縮変形したときの回復率Rを算出した。なお、式(1)中、Eは圧縮弾性係数(Pa)を表し、Fは、荷重(N)を表し、Dは、カラムスペーサの高さ変形率=(H−H)/Hを表し、Sは、カラムスペーサの断面積(m)を表す。
(Compression characteristics)
In a room adjusted to a temperature of 25 ° C., the column spacer was compressed at a load application speed of 10 mN / s until it reached a height corresponding to 85% of the initial height H 0 . Here, the column spacer height when a load of 1 mN was applied was H 1 , the column spacer height corresponding to 85% of H 0 was H 2 , and the load when F reached H 2 was F.
Next, the load F was held for 5 seconds and subjected to deformation at a constant load. Then, the load was removed at a load application speed of 10 mN / sec, and the recovery deformation of the column spacer height due to elastic recovery was measured. The height of the column spacer at the time when the compression deformation during this period reached the maximum was H 3, and the height of the column spacer when a load of 1 mN was applied in the process of recovering the deformation of the column spacer was H 4 . Using the obtained values, the compression elastic modulus E at 15% compression and the recovery rate R when 15% compression deformed were calculated by the following formula (1) and the following formula (2). In the formula (1), E represents the compression elastic modulus (Pa), F represents the load (N), and D represents the column spacer height deformation rate = (H 0 −H 2 ) / H 0. S represents the cross-sectional area (m 2 ) of the column spacer.

E=F/(D×S) (1)
R=(H−H)/(H−H)×100 (2)
E = F / (D × S) (1)
R = (H 4 −H 3 ) / (H 1 −H 3 ) × 100 (2)

(2)液晶表示素子の製造
得られたカラムスペーサが形成されたガラス基板上に、シール剤(積水化学工業社製)を長方形の枠を描く様にディスペンサーで塗布した。
続いて、液晶(チッソ社製、JC−5004LA)の微小滴をガラス基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方のガラス基板を重ねあわせてシール部に高圧水銀ランプを用い紫外線を50mW/cmで60秒照射した。
その後、液晶アニールを120℃にて1時間行い熱硬化させ、液晶表示素子を作製した。
(2) Manufacture of liquid crystal display element The sealing agent (made by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was apply | coated with the dispenser so that the rectangular frame might be drawn on the glass substrate in which the column spacer obtained was formed.
Subsequently, fine droplets of liquid crystal (manufactured by Chisso Co., Ltd., JC-5004LA) are dropped on the entire surface of the glass substrate, and the other glass substrate is immediately overlaid, and a high-pressure mercury lamp is used as a seal portion to apply ultraviolet light at 50 mW / Irradiated with cm 2 for 60 seconds.
Thereafter, liquid crystal annealing was performed at 120 ° C. for 1 hour for thermosetting to produce a liquid crystal display element.

(液晶表示素子の評価)
液晶表示素子を点灯表示し、セルギャップの均一性を表示画面を目視にて観察して、以下の基準により評価した。
また、液晶表示素子を垂直に立てた状態で、60℃の条件下にて60時間放置した。放置後、クロスニコル間に液晶表示装置を設置し、目視により表示画像を観察し、重力不良の発生について以下の基準により評価した。
更に、液晶表示素子を−20℃の条件下にて24時間放置した。放置後、クロスニコル間に液晶表示装置を設置し、目視により観察し、低温発泡の発生について以下の基準により評価した。
セルギャップの評価
〇:均一
×:色ムラあり
重力不良の評価
〇:均一
×:色ムラあり
低温発泡の評価
〇:発泡なし
×:発泡あり
(Evaluation of liquid crystal display elements)
The liquid crystal display element was turned on and the uniformity of the cell gap was visually observed on the display screen and evaluated according to the following criteria.
Further, the liquid crystal display element was left standing under a condition of 60 ° C. for 60 hours in a vertically standing state. After being allowed to stand, a liquid crystal display device was installed between the crossed Nicols, and the display image was visually observed, and the occurrence of poor gravity was evaluated according to the following criteria.
Further, the liquid crystal display element was left under the condition of −20 ° C. for 24 hours. After being allowed to stand, a liquid crystal display device was installed between the crossed Nicols and observed visually, and the occurrence of low temperature foaming was evaluated according to the following criteria.
Evaluation of cell gap ○: Uniform ×: Color unevenness Evaluation of poor gravity ○: Uniform ×: Color unevenness Evaluation of low-temperature foaming ○: No foaming ×: With foaming

(実施例11)
原料モノマーとして、下記化学式(12)に示す構造のカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(ジペンタエリスリトール1モルに、ε−カプロラクトン12モルを反応させ、更にアクリル酸5モルをエステル化により反応させた化合物)20重量部(10.8mmol)、酸無水物として無水コハク酸1.28重量部(10.8mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。なお、原料モノマーとして用いた化学式(12)に示す構造のカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのNMR測定を行った結果を図6に示す。
(Example 11)
As a raw material monomer, a caprolactone-modified dipentaerythritol pentaacrylate having a structure represented by the following chemical formula (12) (compound obtained by reacting 1 mol of dipentaerythritol with 12 mol of ε-caprolactone and further reacting with 5 mol of acrylic acid by esterification) ) 20 parts by weight (10.8 mmol), 1.28 parts by weight (10.8 mmol) of succinic anhydride as the acid anhydride, 0.01 parts by weight of hydroquinone as the polymerization inhibitor, and propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA) as the solvent ) 20 parts by weight were charged into a flask and heated while flowing nitrogen. In addition, the result of having performed the NMR measurement of the caprolactone modified dipentaerythritol pentaacrylate of the structure shown by Chemical formula (12) used as a raw material monomer is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、無水コハク酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(13)に示す構造の化合物(G)を得た。なお、得られた化合物(G)のNMR測定を行った結果を図7に示す。 Next, when the succinic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, and then the reaction was performed in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, followed by cooling to room temperature. The compound (G) having the structure shown in (13) was obtained. In addition, the result of having performed NMR measurement of the obtained compound (G) is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(K)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (K) was used instead of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例12)
原料モノマーとして、下記化学式(14)に示す構造のカプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリアクリレート(ペンタエリスリトール1モルにε−カプロラクトン8モルを反応させ、さらにアクリル酸3モルをエステル化により反応させた化合物)20重量部(16.8mmol)、酸無水物として無水コハク酸1.98重量部(16.8mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローとながら加熱を行った。なお、原料として用いた化学式(14)に示す構造のカプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリアクリレートのNMR測定を行った結果を図8に示す。
(Example 12)
As a raw material monomer, caprolactone-modified pentaerythritol triacrylate having a structure represented by the following chemical formula (14) (a compound obtained by reacting 1 mol of pentaerythritol with 8 mol of ε-caprolactone and further reacting with 3 mol of acrylic acid by esterification) 20 weight Parts (16.8 mmol), 1.98 parts by weight (16.8 mmol) of succinic anhydride as an acid anhydride, 0.01 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and 20 parts by weight of propylene glycol methyl ether (PGMEA) as a solvent The portion was placed in a flask and heated with a nitrogen flow. In addition, the result of having performed the NMR measurement of the caprolactone modified pentaerythritol triacrylate of the structure shown to Chemical formula (14) used as a raw material is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、無水コハク酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(15)に示す構造の化合物(H)を得た。なお、得られた化合物(H)のNMR測定を行った結果を図9に示す。 Next, when the succinic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, and then the reaction was performed in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, followed by cooling to room temperature. The compound (H) having the structure shown in (15) was obtained. In addition, the result of having performed NMR measurement of the obtained compound (H) is shown in FIG.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(H)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (H) was used instead of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(実施例13)
原料モノマーとして、下記化学式(16)に示す構造のエチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート(ペンタエリスリトール1モルに、エチレンオキサイド20モルを反応させ、さらにアクリル酸3モルをエステル化により反応させた化合物)20重量部(18.3mmol)、酸無水物として無水コハク酸2.16重量部(18.3mmol)、重合禁止剤としてヒドロキノン0.01重量部、及び、溶媒として酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(PGMEA)20重量部をフラスコに仕込み、窒素フローしながら加熱を行った。
(Example 13)
As a raw material monomer, ethylene oxide-modified pentaerythritol triacrylate having a structure represented by the following chemical formula (16) (compound obtained by reacting 20 mol of ethylene oxide with 1 mol of pentaerythritol and further reacting 3 mol of acrylic acid by esterification) 20 Parts by weight (18.3 mmol), 2.16 parts by weight (18.3 mmol) of succinic anhydride as an acid anhydride, 0.01 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor, and propylene glycol methyl ether (PGMEA) 20 as a solvent A part by weight was charged in a flask and heated while flowing nitrogen.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

次に、無水コハク酸が完全に溶けたところで、触媒としてトリエチルアミン0.02重量部を添加した後、窒素雰囲気下、120℃油浴で6時間反応させた後、室温まで放冷し、下記化学式(17)に示す構造の化合物(I)を得た。 Next, when the succinic anhydride was completely dissolved, 0.02 part by weight of triethylamine was added as a catalyst, and then the reaction was performed in a 120 ° C. oil bath for 6 hours in a nitrogen atmosphere, followed by cooling to room temperature. Compound (I) having the structure shown in (17) was obtained.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

その後、カルボキシル基含有カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、得られた化合物(I)を用いた以外は、実施例1と同様にしてカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を調製した。 Thereafter, a curable resin composition for a column spacer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained compound (I) was used in place of the carboxyl group-containing caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate.

(評価)
実施例11〜13で得られた硬化性樹脂組成物について実施例1と同様の方法により評価を行った。それぞれの結果を表1に示した。
(Evaluation)
The curable resin compositions obtained in Examples 11 to 13 were evaluated by the same method as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2007063531
Figure 2007063531

本発明によれば、優れた現像性及び溶解性を有し、液晶表示素子の製造に使用するカラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時に現像残滓を生じることがなく、鮮明なパターンのカラムスペーサを形成することができるとともに、低温発泡を生ずることなく、重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制できる液晶表示素子を得ることができる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供することができる。 According to the present invention, a column spacer having a clear pattern has excellent developability and solubility, and does not generate a development residue when forming a pattern when used for a column spacer used for manufacturing a liquid crystal display element. A curable resin composition capable of forming a liquid crystal display element capable of effectively suppressing the occurrence of color unevenness due to poor gravity without causing low-temperature foaming, and using the curable resin composition Column spacers and liquid crystal display elements can be provided.

実施例5で得られた化合物(A)のNMR測定結果を示すグラフである。6 is a graph showing the NMR measurement result of the compound (A) obtained in Example 5. 実施例6で得られた化合物(B)のNMR測定結果を示すグラフである。4 is a graph showing the NMR measurement result of the compound (B) obtained in Example 6. 実施例7で得られた化合物(C)のNMR測定結果を示すグラフである。4 is a graph showing the NMR measurement result of the compound (C) obtained in Example 7. 実施例8で得られた化合物(D)のNMR測定結果を示すグラフである。6 is a graph showing the NMR measurement result of the compound (D) obtained in Example 8. 実施例で用いたテトラヒドロ無水フタル酸のNMR測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the NMR measurement result of the tetrahydro phthalic anhydride used in the Example. 実施例11で用いた原料モノマーのNMRの測定結果を示すグラフである。4 is a graph showing NMR measurement results of raw material monomers used in Example 11. 実施例11で得られた化合物(G)のNMRの測定結果を示すグラフである。4 is a graph showing the NMR measurement results of the compound (G) obtained in Example 11. 実施例12で用いた原料モノマーのNMRの測定結果を示すグラフである。6 is a graph showing NMR measurement results of raw material monomers used in Example 12. 実施例12で得られた化合物(H)のNMRの測定結果を示すグラフである。4 is a graph showing NMR measurement results of the compound (H) obtained in Example 12.

Claims (11)

分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物と、アルカリ可溶性高分子化合物と、光反応開始剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、
前記分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、分子内に1以上のカルボキシル基と2以上の重合性不飽和結合とを有する
ことを特徴とする硬化性樹脂組成物。
A curable resin composition comprising a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, an alkali-soluble polymer compound, and a photoinitiator,
The curable resin composition, wherein the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule has one or more carboxyl groups and two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule.
分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された分子内に1以上のカルボキシル基と2以上の重合性不飽和結合とを有する化合物であることを特徴とする請求項1記載の硬化性樹脂組成物。 The compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule is a compound having one or more carboxyl groups and two or more polymerizable unsaturated bonds in the lactone-modified and / or oxide-modified molecule. The curable resin composition according to claim 1. ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された分子内に1以上のカルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載の硬化性樹脂組成物。 A compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in a lactone-modified and / or oxide-modified molecule is a polyfunctional (meth) acrylate having one or more carboxyl groups in the lactone-modified and / or oxide-modified molecule. The curable resin composition according to claim 1, wherein the curable resin composition is a compound. ラクトン変性及び/又はオキサイド変性された分子内に1以上のカルボキシル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物は、ラクトン変性及び/又はオキサイド変性したトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、或いは、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートに、カルボキシル基を有する化合物を付加させた化合物であることを特徴とする請求項3記載の硬化性樹脂組成物。 The polyfunctional (meth) acrylate compound having one or more carboxyl groups in the lactone-modified and / or oxide-modified molecule is a lactone-modified and / or oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri ( (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, carboxyl 3. The curable resin composition, wherein the a compound compound was added with. 分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、更に分子内に1以上の水酸基を有することを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の硬化性樹脂組成物。 5. The curable resin composition according to claim 1, wherein the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule further has one or more hydroxyl groups in the molecule. 分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、分子内に3以上の重合性不飽和結合を有する化合物に、カルボキシル基とチオール基とを有する化合物を付加反応せしめることにより得られることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の硬化性樹脂組成物。 A compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule can be obtained by subjecting a compound having three or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule to an addition reaction of a compound having a carboxyl group and a thiol group. The curable resin composition according to claim 1, 2, 3, 4 or 5. 分子内に2以上の重合性不飽和結合を有する化合物は、分子内に2以上の重合性不飽和結合と水酸基とを有する化合物に、酸無水物が付加反応されてなることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の硬化性樹脂組成物。 The compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule is obtained by adding an acid anhydride to a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds and a hydroxyl group in the molecule. Item 6. The curable resin composition according to item 1, 2, 3, 4 or 5. 更に、2以上のブロックイソシアネート基を有する化合物を含有することを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7記載の硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the compound which has a 2 or more block isocyanate group is contained, The curable resin composition of Claim 1, 2, 3, 4, 5, 6 or 7 characterized by the above-mentioned. 請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の硬化性樹脂組成物を用いてなることを特徴とするカラムスペーサ。 A column spacer comprising the curable resin composition according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8. 25℃における15%圧縮時の弾性係数が0.2〜1.0GPaであることを特徴とする請求項9記載のカラムスペーサ。 10. The column spacer according to claim 9, wherein the elastic modulus at the time of 15% compression at 25 ° C. is 0.2 to 1.0 GPa. 請求項1、2、3、5、6、7若しくは8記載の硬化性樹脂組成物、又は、請求項9若しくは10記載のカラムスペーサを用いてなることを特徴とする液晶表示素子。 A curable resin composition according to claim 1, 2, 3, 5, 6, 7, or 8, or a column spacer according to claim 9 or 10.
JP2006171935A 2005-06-23 2006-06-21 Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device Withdrawn JP2007063531A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006171935A JP2007063531A (en) 2005-06-23 2006-06-21 Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005183217 2005-06-23
JP2005228629 2005-08-05
JP2006171935A JP2007063531A (en) 2005-06-23 2006-06-21 Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007063531A true JP2007063531A (en) 2007-03-15

Family

ID=37926080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006171935A Withdrawn JP2007063531A (en) 2005-06-23 2006-06-21 Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007063531A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009185182A (en) * 2008-02-06 2009-08-20 Taiyo Ink Mfg Ltd Photocurable or heat-curable resin composition and cured product thereof
JP2013064098A (en) * 2011-09-01 2013-04-11 Riken Technos Corp Active energy ray-curable resin composition
WO2015068703A1 (en) * 2013-11-05 2015-05-14 太陽インキ製造株式会社 Curable composition, cured coating film using same, and printed wiring board
CN111399339A (en) * 2019-01-02 2020-07-10 达兴材料股份有限公司 Oligomer, photosensitive resin composition containing oligomer, photosensitive spacer and coating

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009185182A (en) * 2008-02-06 2009-08-20 Taiyo Ink Mfg Ltd Photocurable or heat-curable resin composition and cured product thereof
JP2013064098A (en) * 2011-09-01 2013-04-11 Riken Technos Corp Active energy ray-curable resin composition
WO2015068703A1 (en) * 2013-11-05 2015-05-14 太陽インキ製造株式会社 Curable composition, cured coating film using same, and printed wiring board
US10113066B2 (en) 2013-11-05 2018-10-30 Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. Curable composition, cured coating film using same, and printed wiring board
CN111399339A (en) * 2019-01-02 2020-07-10 达兴材料股份有限公司 Oligomer, photosensitive resin composition containing oligomer, photosensitive spacer and coating
CN111399339B (en) * 2019-01-02 2023-12-05 达兴材料股份有限公司 Oligomer, photosensitive resin composition containing same, photosensitive spacer and coating

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20090128767A1 (en) Curable resin composition for column spacer,column spacer, and liquid crystal display panel
JP4313840B2 (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
US20060280878A1 (en) Column spacer, liquid crystal display element and curable resin composition for column spacer
JP2008065077A (en) Method of manufacturing liquid crystal display element
JP2007231205A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal-displaying element
JP2007063531A (en) Curable resin composition, column spacer and liquid crystal display device
JP2007277512A (en) Light- and heat-curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display element
JP2009008755A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display element
JP4286856B2 (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
JP2005258422A (en) Column spacer, liquid crystal display element and curable resin composition for column spacer
JP2009223216A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
JP2009193005A (en) Curable resin composition, column spacer, and liquid crystal display element
JP2009102484A (en) Photocurable resin composition, column spacer and liquid crystal display device
JP2007155749A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
JP2007009164A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display device
JP2009198589A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
JP2006267966A (en) Curable resin composition for columnar spacer, columnar spacer and liquid crystal display element
JP2006328322A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display element
JP2006227426A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display element
JP2009222799A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
JP2006189584A (en) Curable resin composition for columnar spacer, the columnar spacer and liquid crystal display element
JP2009003230A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display element
JP3898728B2 (en) Curable resin composition for column spacer
JP2006232893A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer, and liquid crystal display element
JP2006335824A (en) Curable resin composition for column spacer, column spacer and liquid crystal display element

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090313

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100113