JP2007057876A - Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device - Google Patents

Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2007057876A
JP2007057876A JP2005243765A JP2005243765A JP2007057876A JP 2007057876 A JP2007057876 A JP 2007057876A JP 2005243765 A JP2005243765 A JP 2005243765A JP 2005243765 A JP2005243765 A JP 2005243765A JP 2007057876 A JP2007057876 A JP 2007057876A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
polarizing film
stretching
grid polarizing
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005243765A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsugi Uejima
貢 上島
Toshihide Murakami
俊秀 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP2005243765A priority Critical patent/JP2007057876A/en
Publication of JP2007057876A publication Critical patent/JP2007057876A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a grid polarizing film, which is superior in polarization-separating performance and has a high light transmittance, by using efficient, inexpensive and simple processes. <P>SOLUTION: According to the manufacturing method comprising a process of producing cracks on a B layer by stretching a stacked body that has an A layer made of resin, the B layer comprising a material Z having the absolute value of the difference between the real number part (n) and the imaginary number part (κ) of a complex refractive index (N=n-iκ) of 1.0 or larger and a D layer, which is disposed between the A layer and the B layer and has a micro domain structure comprising two kinds of X phase and Y phase, having different adhesiveness for the material Z, the grid polarization film in which a plurality of (b) layers extended slenderly and linearly comprising a material Z are arranged in parallel, while being separated from each other, can be obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光通信、光記録、センサー、画像表示装置等に使用されるグリッド偏光フィルムの製造方法に関し、詳細には、効率的で、且つ簡便な工程で、偏光分離性能に優れ、高光線透過率を有するグリッド偏光フィルムを製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a grid polarizing film used in optical communications, optical recording, sensors, image display devices, and the like, and in particular, it is excellent in polarization separation performance and high light efficiency in an efficient and simple process. The present invention relates to a method for producing a grid polarizing film having transmittance.

反射型偏光子の一種としてグリッド偏光子が知られている。これは、多数の線状金属を一定の周期で平行に配列したグリッド構造をもつ光部品である。このような金属グリッドを形成すると、グリッド周期が入射光の波長より短い場合に、金属グリッドを形成している線状金属に対して平行な偏光成分は反射し、垂直な偏光成分は透過するため、単一偏光を作りだす偏光子として機能する。このグリッド偏光子は、光通信ではアイソレーターの光部品として、液晶表示装置では光の利用率を高め輝度を向上させるための部品として、利用することが提案されている。   A grid polarizer is known as a kind of reflective polarizer. This is an optical component having a grid structure in which a large number of linear metals are arranged in parallel at a constant period. When such a metal grid is formed, when the grid period is shorter than the wavelength of the incident light, the polarization component parallel to the linear metal forming the metal grid is reflected and the perpendicular polarization component is transmitted. It functions as a polarizer that creates single polarized light. It has been proposed that this grid polarizer is used as an optical component of an isolator in optical communication, and as a component for increasing light utilization and improving luminance in a liquid crystal display device.

樹脂フィルム基材上にグリッド偏光子を形成した、グリッド偏光フィルムの製法が種々提案されている。例えば、特許文献1には、透明で柔軟な基板上に金属膜を形成し、金属膜の融点以下で基板と金属膜とを延伸することにより、延伸方向に直交する方向に金属膜の割れを発生させ、異方的な形状を有する金属部分と誘電体部分とからなる構造を形成するグリッド型偏光光学素子の製造方法が開示されている。   Various methods for producing a grid polarizing film in which a grid polarizer is formed on a resin film substrate have been proposed. For example, in Patent Document 1, a metal film is formed on a transparent and flexible substrate, and the substrate and the metal film are stretched below the melting point of the metal film, thereby cracking the metal film in a direction perpendicular to the stretching direction. A method of manufacturing a grid-type polarizing optical element that is generated and forms a structure composed of a metal part having a anisotropic shape and a dielectric part is disclosed.

また、特許文献2には、結晶部及び非晶部が交互に連なる高次構造を有するフィルム、又はガラス転移温度が異なる二種の相が延伸方向に交互に連なる高次構造を有するフィルム、の片面又は両面の全面に、導電性薄膜を形成して複合膜を得、その複合膜を延伸し、熱固定することによって、異方的な導電性部分と高分子誘電体部分からなる構造を形成する、偏光光学素子の製造方法が開示されている。   Patent Document 2 describes a film having a higher order structure in which crystal parts and amorphous parts are alternately connected, or a film having a higher order structure in which two phases having different glass transition temperatures are alternately connected in the stretching direction. Forming a composite film by forming a conductive thin film on one or both sides, stretching the composite film, and heat-fixing it to form a structure consisting of anisotropic conductive portions and polymer dielectric portions A method of manufacturing a polarizing optical element is disclosed.

特開2001−74935号公報JP 2001-74935 A 特開2005−148416号公報JP 2005-148416 A

本発明者の検討によると、特許文献1に開示されている製造方法で得られる、偏光光学素子は、金属薄膜のひび割れに規則性が無く、基板から金属薄膜が剥がれ落ちることがあった。そのため、偏光分離性能を十分に発揮する偏光光学素子を得ることが困難であった。また、特許文献2に開示されている製法で得られる偏光光学素子は、光線透過率が低く、液晶表示装置などのような高輝度の要求に十分に応えることが困難であった。
本発明の目的は、効率的で、且つ簡便な工程で、偏光分離性能に優れた、高光線透過率を有するグリッド偏光フィルムを製造する方法を提供することにある。
According to the study of the present inventor, the polarizing optical element obtained by the manufacturing method disclosed in Patent Document 1 has no regularity in the cracks of the metal thin film, and the metal thin film sometimes peels off from the substrate. For this reason, it has been difficult to obtain a polarizing optical element that sufficiently exhibits polarization separation performance. In addition, the polarizing optical element obtained by the manufacturing method disclosed in Patent Document 2 has low light transmittance, and it has been difficult to sufficiently meet the demand for high luminance such as liquid crystal display devices.
The objective of this invention is providing the method of manufacturing the grid polarizing film which has the high light transmittance which was excellent in polarization | polarized-light separation performance by an efficient and simple process.

本発明者は、結晶部及び非晶部が交互に連なる高次構造を有するフィルム又はガラス転移温度が異なる二種の相が延伸方向に交互に連なる高次構造を有するフィルムは、亀裂を比較的規則的に発生させるためには適しているが、光線透過率が低いことに気づいた。
そこで、本発明者は、樹脂からなるA層と、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zを含んでなるB層と、前記A層と前記B層との間に設けられ、前記材料Zに対する密着性が異なる二種のX相とY相とを有してなるミクロドメイン構造を有するD層と、を有する積層体を延伸することによって、前記B層に亀裂を生じさせることを含む、効率的で、且つ簡便な製法によって、B層を構成する細長く線状に延びたb層を離間して複数並べて有する、高光線透過率で、偏光分離性能に優れた、グリッド偏光フィルムが得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至ったものである。
The present inventor has found that a film having a higher order structure in which crystal parts and amorphous parts are alternately connected, or a film having a higher order structure in which two phases having different glass transition temperatures are alternately connected in the stretching direction have relatively few cracks. Although it is suitable for regular generation, it has been found that the light transmittance is low.
Therefore, the inventor of the present invention includes an A layer made of resin and a material Z including a material Z having an absolute value of a difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more. And a D layer having a microdomain structure provided between the A layer and the B layer and having two types of X phase and Y phase having different adhesion to the material Z. A plurality of elongated and linearly extending b layers constituting the B layer are arranged side by side by an efficient and simple manufacturing method including causing the B layer to crack by stretching the laminate. The inventors have found that a grid polarizing film having a high light transmittance and an excellent polarization separation performance can be obtained, and have completed the present invention based on this finding.

かくして本発明によれば、
(1) 樹脂からなるA層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zを含んでなるB層と、
前記A層と前記B層との間に設けられ、前記材料Zに対する密着性が異なる二種のX相とY相とを有してなるミクロドメイン構造を有するD層と、を有する積層体を延伸することによって、前記B層に亀裂を生じさせることを含む、
B層を構成する細長く線状に伸びたb層が互いに離間した状態で複数並んだグリッド偏光フィルムの製造方法が提供される。
Thus, according to the present invention,
(1) A layer made of resin;
A B layer comprising a material Z in which the absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is 1.0 or more;
A laminate having a microdomain structure provided between the A layer and the B layer and having two types of X phase and Y phase having different adhesion to the material Z; Including causing the B layer to crack by stretching,
There is provided a method for producing a grid polarizing film in which a plurality of elongated and linearly extending b layers constituting the B layer are arranged in a separated state.

また本発明によれば、
(2)積層体を延伸した後に、前記b層の上に、透明保護層を少なくとも1層形成することをさらに含む、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、
(3)積層体を延伸する前に、前記B層の上に、透明保護層を少なくとも1層形成することをさらに含む、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、
(4)材料Zが金属である、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、
(5)金属がアルミニウムである、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、
(6)前記延伸の工程において、第一の延伸方向の延伸倍率R1が1.25〜10倍であり、第一の延伸方向に直交する第二の延伸方向の延伸倍率R2が0.85〜2倍であり、且つ延伸倍率R1が延伸倍率R2よりも大きい、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、
(7)積層体が長尺のものであり、且つ延伸を連続的に行う、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、及び/又は
(8)第一の延伸方向が長尺積層体の幅方向と略平行である、前記グリッド偏光フィルムの製造方法、が提供される。
Also according to the invention,
(2) A method for producing the grid polarizing film, further comprising forming at least one transparent protective layer on the b layer after stretching the laminate.
(3) The method for producing the grid polarizing film, further comprising forming at least one transparent protective layer on the B layer before stretching the laminate.
(4) The manufacturing method of the said grid polarizing film whose material Z is a metal,
(5) The manufacturing method of the said grid polarizing film whose metal is aluminum,
(6) In the stretching step, the stretching ratio R1 in the first stretching direction is 1.25 to 10 times, and the stretching ratio R2 in the second stretching direction orthogonal to the first stretching direction is 0.85. The method for producing the grid polarizing film, which is 2 times and the draw ratio R1 is larger than the draw ratio R2,
(7) The manufacturing method of the grid polarizing film in which the laminated body is long and is continuously stretched, and / or (8) the first stretching direction is substantially the same as the width direction of the long laminated body. A method of manufacturing the grid polarizing film, which is parallel, is provided.

また、本発明によれば、
(9)前記の製造方法で得られたグリッド偏光フィルム、及び(10)前記の製造方法で得られ、且つ偏光透過軸が積層体の幅方向と略平行であるグリッド偏光フィルムが提供され、さらに(11)前記グリッド偏光フィルムを備える液晶表示装置が提供される。
Moreover, according to the present invention,
(9) Provided are a grid polarizing film obtained by the above manufacturing method, and (10) a grid polarizing film obtained by the above manufacturing method and having a polarization transmission axis substantially parallel to the width direction of the laminate. (11) A liquid crystal display device including the grid polarizing film is provided.

本発明のグリッド偏光フィルムの製造方法は、従来の樹脂成形法、延伸法と、金属膜等の製膜法を所定の条件で組み合わせたものであり、効率的で、簡便に行うことができる。そして、本発明の製造方法で得られるグリッド偏光フィルムは、光線透過率が高く、且つ自然光を、二種の直線偏光に分離し、一方を反射し、もう一方を透過させることができる。さらに、十分なフレキシビリティーと強度を有するので、グリッド偏光フィルムを液晶表示装置等に取り付ける際の取り扱いが楽である。また、本発明のグリッド偏光フィルムを液晶表示装置の液晶セルとバックライト装置との間に配置すると、バックライトからの出光を有効利用でき、表示画面の輝度を向上させることができる。   The manufacturing method of the grid polarizing film of this invention combines the conventional resin molding method, the extending | stretching method, and film forming methods, such as a metal film, on predetermined conditions, and can be performed efficiently and simply. And the grid polarizing film obtained with the manufacturing method of this invention has high light transmittance, can isolate | separate natural light into two types of linearly polarized light, can reflect one side, and can permeate | transmit another side. Furthermore, since it has sufficient flexibility and strength, it is easy to handle when attaching the grid polarizing film to a liquid crystal display device or the like. Further, when the grid polarizing film of the present invention is disposed between the liquid crystal cell of the liquid crystal display device and the backlight device, the light emitted from the backlight can be used effectively and the luminance of the display screen can be improved.

本発明の、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zを含んでなる細長く線状に延びたb層を離間して複数並べて有するグリッド偏光フィルムの製造方法は、
樹脂からなるA層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zを含んでなるB層と、
前記A層と前記B層との間に設けられ、前記材料Zに対する密着性が異なる二種のX相とY相とを有してなるミクロドメイン構造を有するD層と、を有する積層体を延伸することよって、前記B層に亀裂を生じさせることを含む、ものである。
In the present invention, an elongated linearly extending b layer containing a material Z having a difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more is separated. A method for producing a grid polarizing film having a plurality of
A layer made of resin;
A B layer comprising a material Z in which the absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is 1.0 or more;
A laminate having a microdomain structure provided between the A layer and the B layer and having two types of X phase and Y phase having different adhesion to the material Z; It includes generating cracks in the B layer by stretching.

本発明のグリッド偏光フィルムの製法に用いる積層体のA層は、透明な樹脂からなるものであれば特に制限されない。透明樹脂としては、加工性の観点から樹脂のガラス転移温度が60〜200℃であることが好ましく、100〜180℃であることがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。   The A layer of the laminate used in the method for producing the grid polarizing film of the present invention is not particularly limited as long as it is made of a transparent resin. As a transparent resin, it is preferable that the glass transition temperature of resin is 60-200 degreeC from a viewpoint of workability, and it is more preferable that it is 100-180 degreeC. The glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

透明樹脂の具体例としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、脂環式オレフィンポリマーなどが挙げられる。これらのうち、透明性、低吸湿性、寸法安定性、加工性の観点から脂環式オレフィンポリマーが好適である。脂環式オレフィンポリマーとしては、特開平05−310845号公報、米国特許第5179171号公報に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平05−97978号公報、米国特許第5202388号公報に記載されている水素添加重合体、特開平11−124429号公報、国際公開99/20676号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。   Specific examples of the transparent resin include polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyimide resin, polymethyl methacrylate resin, polysulfone resin, polyarylate resin, polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, cellulose diacetate, and cellulose triacetate. And alicyclic olefin polymers. Of these, alicyclic olefin polymers are preferred from the viewpoints of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, and processability. Examples of the alicyclic olefin polymer include cyclic olefin random multicomponent copolymers described in JP-A No. 05-310845, US Pat. No. 5,179,171, JP-A No. 05-97978, and US Pat. No. 5,202,388. Examples thereof include the hydrogenated polymers described, the thermoplastic dicyclopentadiene ring-opening polymers described in JP-A-11-124429, and WO99 / 20676, and hydrogenated products thereof.

本発明に用いる透明樹脂は、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、耐電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。
透明樹脂からなるA層は、前記透明樹脂を公知の方法で成形することによって得られる。成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。
The transparent resin used in the present invention contains coloring agents such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. An agent may be appropriately blended.
A layer which consists of transparent resin is obtained by shape | molding the said transparent resin by a well-known method. Examples of the molding method include a cast molding method, an extrusion molding method, and an inflation molding method.

A層は、通常、シート又はフィルム状を成しており、400〜700nmの可視領域の光の透過率が80%以上で、平滑な面を有するものが好ましい。またA層の平均厚みは、取り扱い性の観点から通常5μm〜1mm、好ましくは20〜200μmである。
また、A層は、その波長550nmで測定したレターデーションRe(Re=d×(n−n)で定義される値、n、nはA層の面内主屈折率;dはA層の平均厚みである)によって特に制限されない。面内の任意2点のレターデーションReの差(レターデーションむら)が好ましくは10nm以下であり、より好ましくは5nm以下である。レターデーションむらが大きいと、液晶表示装置に用いた場合に表示面の明るさにバラツキが生じやすくなる。
The A layer is usually in the form of a sheet or film, and preferably has a smooth surface with a light transmittance in the visible region of 400 to 700 nm of 80% or more. Moreover, the average thickness of A layer is 5 micrometers-1 mm normally from a viewpoint of handleability, Preferably it is 20-200 micrometers.
Further, the A layer is defined as a value in the retardation Re (Re = d × measured at that wavelength 550nm (n x -n y), n x, n y in-plane principal refractive index of the A layer; d is The average thickness of the A layer is not particularly limited. The difference in retardation Re (retardation unevenness) at any two points in the plane is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less. When the retardation unevenness is large, the brightness of the display surface tends to vary when used in a liquid crystal display device.

本発明のグリッド偏光フィルムの製法に用いる積層体のD層は、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zに対する密着性が異なる二種のX相とY相とを有してなるミクロドメイン構造を有するものである。
ミクロドメイン構造とは、非相溶な二種のX相とY相とが、微細に分布した構造であり、例えばブロック共重合体による相分離構造又は非相溶な重合体のブレンドによる相分離構造を用いることができる。構造の形から、海島構造、シリンダ構造、球状ドメイン構造、ラメラ構造、ジャイロイド構造などに分類されている。
D層を構成するX相及びY相は、後述するB層を構成する材料Zに対する密着性が異なるものである。B層を構成する材料Zに対する密着性の差は、特に制限されないが、例えば、100マスの碁盤目で行う剥離試験において、10マス以上の差があることが好ましく、30マス以上の差があることがより好ましい。
The D layer of the laminate used in the method for producing the grid polarizing film of the present invention is in close contact with a material Z in which the absolute value of the difference between the real part n and imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is 1.0 or more It has a microdomain structure having two types of X phase and Y phase having different properties.
The microdomain structure is a structure in which two types of incompatible X phase and Y phase are finely distributed. For example, a phase separation structure by a block copolymer or a phase separation by a blend of incompatible polymers. A structure can be used. The structure is classified into a sea-island structure, a cylinder structure, a spherical domain structure, a lamellar structure, and a gyroidal structure.
The X phase and the Y phase constituting the D layer are different in adhesion to the material Z constituting the B layer described later. The difference in adhesion to the material Z constituting the B layer is not particularly limited. For example, in a peel test performed with a grid of 100 squares, a difference of 10 squares or more is preferable, and a difference of 30 squares or more is present. It is more preferable.

D層を形成するための材料としては、相分離構造を形成するブロック共重合体が挙げられる。ブロック共重合体としては、線状ブロック共重合体、分岐グラフト共重合体、星型グラフト共重合体等が挙げられ、生産性の観点から、線状ブロック共重合体、分岐グラフト共重合体が好ましい。ブロック共重合体は、対応するモノマー成分を、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、リビングラジカル重合などの手法により各ブロックの順番に重合していくことによって得られる。また、ブロック共重合体は、高分子鎖の末端に重合開始基が付加したマクロ開始剤を用いて、他のモノマーを更に重合することによって、又は高分子鎖の末端に反応性基が付加したマクロマー同士を反応させ結合させることによっても得ることができる。さらに、前記の方法などによって合成したブロック共重合体を更に化学的に修飾した樹脂も本発明で用いることができる。   Examples of the material for forming the D layer include a block copolymer that forms a phase separation structure. Examples of the block copolymer include a linear block copolymer, a branched graft copolymer, and a star graft copolymer. From the viewpoint of productivity, a linear block copolymer and a branched graft copolymer are used. preferable. The block copolymer is obtained by polymerizing the corresponding monomer components in the order of each block by a technique such as radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization, and living radical polymerization. The block copolymer is prepared by further polymerizing another monomer using a macroinitiator having a polymerization initiator added to the end of the polymer chain, or by adding a reactive group to the end of the polymer chain. It can also be obtained by reacting and bonding macromers. Furthermore, a resin obtained by further chemically modifying a block copolymer synthesized by the above-described method can be used in the present invention.

前記ブロック共重合体としては、ポリスチレンとポリメチルメタクリレートとの共重合体、ポリブタジエンとポリメチルメタクリレートとの共重合体、ポリ−2−ビニルピリジンとポリメチルメタクリレートとの共重合体、ポリプロピレンオキサイドとポリ−ε−カプロラクトンとの共重合体等の二元共重合体;ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン共重合体ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、SBS共重合体を水素添加して得られるポリスチレン−ポリ(エチレン−co−ブチレン)−ポリスチレンポリスチレン共重合体(SEBS共重合体)、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロック共重合体(SIS共重合体)等のABA型三元共重合体;ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリメチルメタクリレート共重合体、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリグリシジルメタクリレート共重合体等のABC型三元共重合体:ポリスチレン−ポリメチルメタクリレートグラフト共重合体、ポリスチレン−エチレンオキサイドグラフト共重合体等の分岐グラフト共重合体;ペンタエリスリトールをコア分子としたポリエチレンオキサイド−ポリ−ε−カプロラクトン星型グラフト共重合体、ジペンタエリスリトールをコア分子としたポリエチレンオキサイド−ポリラクチド星型グラフト共重合体等が挙げられる。
D層を形成する他の材料としては、材料Zに対する密着性が異なり、且つ非相溶な重合体xと重合体yとを混合したものが挙げられる。例えば、ポリスチレンにポリメチルメタクリレートなどの重合体を混合したもの、脂環式オレフィンポリマーにポリブタジエンなどの重合体を混合したものなどが挙げられる。
Examples of the block copolymer include a copolymer of polystyrene and polymethyl methacrylate, a copolymer of polybutadiene and polymethyl methacrylate, a copolymer of poly-2-vinylpyridine and polymethyl methacrylate, and polypropylene oxide and poly (methyl methacrylate). -Binary copolymers such as copolymers with ε-caprolactone; polystyrene-polymethyl methacrylate-polystyrene copolymer polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymer (SBS copolymer), hydrogenated SBS copolymer ABA type ternary copolymers such as polystyrene-poly (ethylene-co-butylene) -polystyrene polystyrene copolymer (SEBS copolymer), polystyrene-polyisoprene-polystyrene block copolymer (SIS copolymer) Polymer; Polystyrene ABC-type terpolymers such as polystyrene-polybutadiene-polymethyl methacrylate copolymer, polystyrene-polyisoprene-polyglycidyl methacrylate copolymer: polystyrene-polymethyl methacrylate graft copolymer, polystyrene-ethylene oxide graft copolymer Branched graft copolymers such as polyethylene oxide-poly-ε-caprolactone star graft copolymer with pentaerythritol as a core molecule, polyethylene oxide-polylactide star graft copolymer with dipentaerythritol as a core molecule, etc. Can be mentioned.
Examples of other materials forming the D layer include a mixture of a polymer x and a polymer y, which have different adhesion to the material Z and are incompatible. For example, what mixed polymers, such as polymethylmethacrylate, with polystyrene, what mixed polymers, such as polybutadiene, with an alicyclic olefin polymer, etc. are mentioned.

D層は、前記A層の主面に形成されている。D層を形成する方法は、特に限定されないが、例えば、D層を形成するための材料を溶媒に溶かし溶液を得、この溶液をA層表面に膜状に展開する方法が挙げられる。膜状に展開する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延製膜法、バーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。   The D layer is formed on the main surface of the A layer. The method for forming the D layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a material for forming the D layer is dissolved in a solvent to obtain a solution, and this solution is developed on the surface of the A layer in a film form. Examples of the method for developing the film include a spin coating method, a roll coating method, a flow coating method, a printing method, a dip coating method, a casting film forming method, a bar coating method, a die coating method, and a gravure printing method.

溶媒は、特に制限されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系;ヘプタン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状の脂肪族炭化水素系;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系;ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル系;シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン系;エチルアセテート、プロピオラクトン等のエステル系;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類系;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール等のアルコール系;その他ニトロベンゼン、スルホラン等を挙げることが出来る。これらは単独で用いるか又は混合物として使用できる。   The solvent is not particularly limited, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; linear or cyclic aliphatic hydrocarbons such as heptane and cyclohexane; chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, dichloromethane, and the like. Halogenated hydrocarbons; ethers such as dioxane and diethyl ether; ketones such as cyclohexanone and acetophenone; esters such as ethyl acetate and propiolactone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; methanol, ethanol, n- Examples include alcohols such as propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol; and other nitrobenzene and sulfolane. These can be used alone or as a mixture.

溶液を塗布し乾燥させて得られるD層を構成する膜は、しばしば無秩序で熱的に不安定な構造を示す。これは該溶液を塗布し乾燥させる工程で、各成分間の相分離過程を完了させ秩序だったミクロドメイン構造を形成させるのに必要な時間が不足するためによる。このため、D層を基板上に載置した後、必要に応じて前記膜を熱処理する。この熱処理工程により層分離構造をより成長させることができる。熱処理温度はD層を構成する各成分のガラス転移温度のうち、最も高いものと同程度あるいはそれ以上にすることが好ましい。熱処理温度が高いほど熱処理に要する時間が短くなるが、樹脂の熱劣化が生じないように該樹脂の熱分解温度より低く設定することが好ましい。例えば、ポリスチレンとポリメチルメタクリレートからなるブロック共重合体で形成された膜では、温度140℃以上で、更に好適には190〜270℃で、10分以上、熱処理する。また、加熱によるブロック共重合体膜の酸化劣化を防ぐため、不活性雰囲気または真空中において熱処理するのが好適である。   The film constituting the D layer obtained by applying and drying the solution often exhibits a disordered and thermally unstable structure. This is because in the process of applying and drying the solution, the time required to complete the phase separation process between the components and form an ordered microdomain structure is insufficient. For this reason, after mounting D layer on a board | substrate, the said film | membrane is heat-processed as needed. By this heat treatment step, the layer separation structure can be further grown. The heat treatment temperature is preferably about the same as or higher than the highest glass transition temperature of each component constituting the D layer. The higher the heat treatment temperature, the shorter the time required for the heat treatment, but it is preferable to set it lower than the thermal decomposition temperature of the resin so as not to cause thermal degradation of the resin. For example, a film formed of a block copolymer made of polystyrene and polymethyl methacrylate is heat-treated at a temperature of 140 ° C. or higher, more preferably 190 to 270 ° C. for 10 minutes or longer. In order to prevent oxidative deterioration of the block copolymer film due to heating, it is preferable to perform heat treatment in an inert atmosphere or in vacuum.

D層の平均厚みは、通常0.1〜500μm、好ましくは1〜50μmである。D層の平均厚みをこの範囲にすることによって、光線透過率の高いグリッド偏光フィルムが得られやすい。   The average thickness of D layer is 0.1-500 micrometers normally, Preferably it is 1-50 micrometers. By setting the average thickness of the D layer within this range, a grid polarizing film having a high light transmittance can be easily obtained.

本発明のグリッド偏光フィルムの製法に用いる積層体のB層は、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zを含むものである。B層は、前記D層の主面に形成されている。本発明の製法によれば、このB層に亀裂を生じさせることによって、互いに離間した状態で複数並んだ、材料Zを含んでなる細長く線状に延びたb層を形成できる。   The layer B of the laminate used in the method for producing a grid polarizing film of the present invention includes a material Z in which the absolute value of the difference between the real part n and imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is 1.0 or more. It is a waste. The B layer is formed on the main surface of the D layer. According to the manufacturing method of the present invention, by forming a crack in the B layer, it is possible to form a plurality of elongated and linearly extending b layers including the material Z, which are arranged apart from each other.

材料Zは、複素屈折率の実部と虚部のいずれかが大きく、その差の絶対値が1.0以上の材料の中から適宜選択することができる。材料Zの具体例としては、金属;シリコン、ゲルマニウム等の無機半導体;ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ−p−フェニレン等の導電性ポリマー、及びこれら導電性樹脂をヨウ素、三フッ化ホウ素、五フッ化ヒ素、過塩素酸等のドーパントを用いてドーピングした有機系導電性材料;絶縁性樹脂に金、銀などの導電性金属微粒子を分散した溶液を乾燥して得られる有機−無機複合系導電性材料、などが挙げられる。これらの中でも、グリッド偏光フィルムの生産性、耐久性の観点からは金属材料が好ましい。可視域の光を効率よく偏光分離するためには、温度25℃、波長550nmにおける複素屈折率の実部n及び虚部κのそれぞれは、好ましくはnが4.0以下で、κが3.0以上で且つその差の絶対値|n−κ|が1.0以上のものであり、より好ましくはnが2.0以下で、κが4.5以上で且つ|n−κ|が3.0以上のものである。前記好ましい範囲にあるものとしては、銀、アルミニウム、クロム、インジウム、イリジウム、マグネシウム、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、スズ等が挙げられ、前記より好ましい範囲にあるものとしては、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、ロジウム、スズ等が挙げられる。また上記以外に、nが3.0以上で且つκが2.0以下の範囲にある材料、好ましくはnが4.0以上で且つκが1.0以下の範囲にある材料も好適に用いることができる。このような材料としてはシリコンなどが挙げられる。複素屈折率Nは、電磁波の理論的関係式であり、実部の屈折率nと虚部の消衰係数κを用いて、N=n−iκで表現されるものである。   The material Z can be appropriately selected from materials in which either the real part or the imaginary part of the complex refractive index is large and the absolute value of the difference is 1.0 or more. Specific examples of the material Z include metals; inorganic semiconductors such as silicon and germanium; conductive polymers such as polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and poly-p-phenylene; and conductive resins such as iodine, boron trifluoride, and five fluorine. Organic conductive materials doped with dopants such as arsenic phosphide and perchloric acid; organic-inorganic composite conductive materials obtained by drying a solution in which conductive metal fine particles such as gold and silver are dispersed in an insulating resin Materials, etc. Among these, a metal material is preferable from the viewpoints of productivity and durability of the grid polarizing film. In order to efficiently separate polarized light in the visible range, each of the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 550 nm is preferably such that n is 4.0 or less and κ is 3. 0 or more and the absolute value of the difference | n−κ | is 1.0 or more, more preferably n is 2.0 or less, κ is 4.5 or more, and | n−κ | .0 or more. Examples of the preferable range include silver, aluminum, chromium, indium, iridium, magnesium, palladium, platinum, rhodium, ruthenium, antimony, and tin. Examples of the more preferable range include aluminum, indium. , Magnesium, rhodium, tin and the like. In addition to the above, a material in which n is 3.0 or more and κ is 2.0 or less, preferably a material in which n is 4.0 or more and κ is 1.0 or less is also preferably used. be able to. Examples of such a material include silicon. The complex refractive index N is a theoretical relational expression of electromagnetic waves, and is expressed by N = n−iκ using the refractive index n of the real part and the extinction coefficient κ of the imaginary part.

詳細は不明であるが|n−κ|の値は次のような意義を持つ。まず、n<κの場合においては、κがより大きく、nがより小さいものほど好ましいということ示している。κが大きいものほど導電性が大きく、b層の長手方向に振動できる自由電子が多くなるため、偏光(b層の長手方向に(電場が)平行な方向の偏光)の入射により発生する電界が強くなり、前記偏光に対する反射率が高まる。b層の幅が小さいので、b層の長手方向と直交する方向には電子は動けず、b層の長手方向と直交する方向の偏光に対しては上記の効果は生じず、前記偏光は透過する。またnが小さい方が入射した光の媒質中での波長が大きくなるため、相対的に微細凹凸構造のサイズ(線幅、ピッチ等)が小さくなり、散乱、回折等の影響を受け難くなり、光の透過率(b層に直交する方向の偏光)、反射率(b層に平行な方向の偏光)が高まる。
一方n>κの場合においては、nがより大きく、κがより小さいものほど好ましいということを示している。nが大きいものほど、b層とそれに隣接する部分(図3では空気)との屈折率nの差が大きくなり、構造複屈折が発現しやすくなる。一方κが大きいと光の吸収が大きくなるため、光の損失を防ぐ意味でκは小さいほど好ましい。
Although the details are unknown, the value of | n−κ | has the following significance. First, in the case of n <κ, it is shown that κ is larger and n is smaller. The larger κ is, the higher the conductivity and the more free electrons that can vibrate in the longitudinal direction of the b layer. Therefore, the electric field generated by the incidence of polarized light (polarized light in a direction parallel to the longitudinal direction of the b layer) is generated. It becomes stronger and the reflectance for the polarized light is increased. Since the width of the b layer is small, electrons do not move in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the b layer, and the above effect does not occur for polarized light in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the b layer. To do. In addition, since the wavelength in the medium of incident light is smaller when n is smaller, the size (line width, pitch, etc.) of the fine concavo-convex structure is relatively small, and is less susceptible to the effects of scattering, diffraction, Light transmittance (polarized light in a direction perpendicular to the b layer) and reflectance (polarized light in a direction parallel to the b layer) are increased.
On the other hand, in the case of n> κ, it is shown that n is larger and κ is smaller. As n increases, the difference in refractive index n between the b layer and the adjacent portion (air in FIG. 3) increases, and structural birefringence is more likely to occur. On the other hand, if κ is large, light absorption increases, so it is preferable that κ is small in order to prevent light loss.

このB層を形成させる方法は特に制限されない。用いる材料に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリーンコート法、ディップコート法、無電解めっき、電解めっき等のウェットプロセスによる各種コーティング法を用いることができる。これらのうち、真空蒸着法、スパッタリング法が好ましい。   The method for forming this B layer is not particularly limited. Depending on the materials used, various coatings by vacuum deposition processes such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, and wet processes such as microgravure, screen coating, dip coating, electroless plating, and electrolytic plating Can be used. Of these, vacuum deposition and sputtering are preferred.

図2は、本発明の製造方法に用いる積層体の一例を示す図である。図1に示す積層体は、透明樹脂フィルムからなるA層10の上に、ミクロドメイン構造を有するD層18が形成され、さらにそのD層の上に前記材料Zを含んでなるB層11が形成されている。該B層は、蒸着などの方法で製膜することで容易に得ることができる。延伸前の積層体は縦XB及び横YBの長さを有している。この積層体を第一の延伸方向15に延伸する。   FIG. 2 is a view showing an example of a laminate used in the production method of the present invention. In the laminate shown in FIG. 1, a D layer 18 having a microdomain structure is formed on an A layer 10 made of a transparent resin film, and a B layer 11 containing the material Z is further formed on the D layer. Is formed. The B layer can be easily obtained by forming a film by a method such as vapor deposition. The laminate before stretching has lengths XB and YB. This laminate is stretched in the first stretching direction 15.

本発明の製造方法では、このA層、D層、及びB層を有する積層体を延伸する。この延伸によって、B層に亀裂が生じ、材料Zを含んでなる細長く線状に伸びたb層が形成される。この形成機構の詳細は不明だが、本発明者は次のように推測している。A層、D層、及びB層を有する積層体を延伸したときに、B層は、A層やD層に比べ、引張応力が強い。B層との密着力の弱いY層は、B層との密着力の強いX相に比べて、B層の引張応力の影響を受け難い。そのためにB層との密着力の弱いY相(図1中の白色部)は、B層との密着力の強いX相(図1中の黒色部)に比べて、ひずみが大きくなる。その結果、図1(b)に示すように、図1(a)においてY相の真上にあったB層に亀裂が生じ、X相の真上に優先的にb層が形成されると考えられる。   In the production method of the present invention, the laminate having the A layer, the D layer, and the B layer is stretched. By this stretching, a crack is generated in the B layer, and an elongated b layer including the material Z is formed. Although details of this formation mechanism are unknown, the present inventor presumes as follows. When a laminate having an A layer, a D layer, and a B layer is stretched, the B layer has a higher tensile stress than the A layer and the D layer. The Y layer having a weak adhesion with the B layer is less susceptible to the tensile stress of the B layer than the X phase having a strong adhesion with the B layer. For this reason, the Y phase (white portion in FIG. 1) with weak adhesion to the B layer is more distorted than the X phase (black portion in FIG. 1) with strong adhesion to the B layer. As a result, as shown in FIG. 1B, when a crack occurs in the B layer immediately above the Y phase in FIG. 1A, and the b layer is formed preferentially immediately above the X phase. Conceivable.

本発明において、延伸方法は特に限定されないが、第一の延伸方向の延伸倍率R1(=延伸後の長さXA/延伸前の長さXB)が、好ましくは1.25〜10倍、特に好ましくは1.5〜3.0倍であり、第一の延伸方向に直交する第二の延伸方向の延伸倍率R2(=延伸後の長さYA/延伸前の長さYB)が、好ましくは0.85〜2倍、特に好ましくは1.0〜1.2倍であり、延伸倍率R1が延伸倍率R2よりも大きくなるように延伸することが好ましい(図1及び図3参照)。
このような延伸を行う方法としては、例えば、(i)延伸方向に直交する方向の長さの収縮率を15%以下、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下に抑えて一軸延伸する方法と、(ii)二軸延伸する方法とがある。延伸では、長尺の積層体を用いて連続的に行うことが、効率的で好ましい。
In the present invention, the stretching method is not particularly limited, but the stretching ratio R1 in the first stretching direction (= length after stretching XA / length before stretching XB) is preferably 1.25 to 10 times, particularly preferably. Is 1.5 to 3.0 times, and the draw ratio R2 in the second draw direction perpendicular to the first draw direction (= length YA after drawing / length YB before drawing) is preferably 0. It is preferable that the film is stretched so that the stretching ratio R1 is larger than the stretching ratio R2 (see FIGS. 1 and 3).
As a method for performing such stretching, for example, (i) the uniaxial stretching is performed while the shrinkage rate in the direction perpendicular to the stretching direction is suppressed to 15% or less, preferably 10% or less, more preferably 5% or less. And (ii) biaxial stretching. It is efficient and preferable to perform the stretching continuously using a long laminate.

前記(i)の延伸方法では、延伸方向に直角な方向に縮もうとする力に抗して、延伸方向に直角な方向の長さの収縮を15%以下に抑えて、一軸延伸するので、皺を生じさせずにb層を形成できる。より具体的には、一軸延伸方向(第一の延伸方向)の延伸後の長さXAが延伸前の長さXBの1.25〜10倍、好ましくは1.5〜3.0倍であり、一軸延伸方向に直交する方向(第二の延伸方向)の延伸後の長さYAが延伸前の長さYBの0.85〜1.05倍、好ましくは0.9〜1.05倍、より好ましくは0.95〜1.05倍である。
このような倍率で延伸できる方法の代表例として横一軸延伸法が挙げられる。横一軸延伸法は長尺の積層体を、その幅方向に延伸する方法である。横一軸延伸法を行う装置としてはテンター延伸機が挙げられる。横一軸延伸を行うと、B層の流れ方向(MD方向)に亀裂が入り、流れ方向に細長く延びたb層が形成できる。
In the stretching method (i), uniaxial stretching is performed by suppressing the contraction of the length in the direction perpendicular to the stretching direction to 15% or less against the force to shrink in the direction perpendicular to the stretching direction. The b layer can be formed without causing wrinkles. More specifically, the length XA after stretching in the uniaxial stretching direction (first stretching direction) is 1.25 to 10 times, preferably 1.5 to 3.0 times the length XB before stretching. The length YA after stretching in the direction orthogonal to the uniaxial stretching direction (second stretching direction) is 0.85 to 1.05 times, preferably 0.9 to 1.05 times the length YB before stretching, More preferably, it is 0.95 to 1.05 times.
A transverse uniaxial stretching method is a typical example of a method capable of stretching at such a magnification. The horizontal uniaxial stretching method is a method of stretching a long laminate in the width direction. A tenter stretching machine can be used as an apparatus for performing the horizontal uniaxial stretching method. When horizontal uniaxial stretching is performed, a crack is formed in the flow direction (MD direction) of the B layer, and a b layer elongated in the flow direction can be formed.

前記(ii)の延伸方法では、二軸延伸を行う。二軸延伸法では、縦及び横全ての方向に伸ばされるので、積層体が収縮せず、皺のないb層を形成できる。より具体的には、第一の延伸方向の延伸後の長さXAが延伸前の長さXBの1.25〜10倍、好ましくは1.5〜3.0倍であり、第一の延伸方向に直交する第二の延伸方向の延伸後の長さYAが延伸前の長さYBの1〜2倍、好ましくは1.05〜1.2倍であり、延伸前の長さXBに対する長さXAの倍率が延伸前の長さYBに対する長さYAの倍率よりも大きくなるように、積層体を延伸する。
二軸延伸には、逐次二軸延伸法と、同時二軸延伸法とがあるが、いずれも適用可能である。逐次二軸延伸法では、先に縦一軸延伸を行い、次に横一軸延伸を行ってもよいし、先に横一軸延伸して、次に縦一軸延伸を行ってもよい。
同時二軸延伸法では、テンター同時二軸延伸機が好適に用いられる。
In the stretching method (ii), biaxial stretching is performed. In the biaxial stretching method, since the film is stretched in all the longitudinal and lateral directions, the laminate does not shrink and a b-layer without wrinkles can be formed. More specifically, the length XA after stretching in the first stretching direction is 1.25 to 10 times, preferably 1.5 to 3.0 times the length XB before stretching. The length YA after stretching in the second stretching direction orthogonal to the direction is 1 to 2 times, preferably 1.05 to 1.2 times the length YB before stretching, and is a length relative to the length XB before stretching. The laminate is stretched so that the length XA is larger than the length YA with respect to the length YB before stretching.
Biaxial stretching includes a sequential biaxial stretching method and a simultaneous biaxial stretching method, both of which are applicable. In the sequential biaxial stretching method, the longitudinal uniaxial stretching may be performed first, followed by the lateral uniaxial stretching, or the lateral uniaxial stretching may be performed first, and then the longitudinal uniaxial stretching may be performed.
In the simultaneous biaxial stretching method, a tenter simultaneous biaxial stretching machine is preferably used.

例えば、図4に示す延伸機は、積層体1の端部を把持する複数の把持手段2を具備している。把持手段2は折尺状に形成された複数個の等長リンク装置より構成された無端リンク装置(図中リンクの一部並びに片側の無端リンクは省略)3に取付けられている。該無端リンク装置3は入口側スプロケット4と出口側スプロケット9によって駆動する。無端リンク装置3は、図4の左から右へ進行し、末広がり状に配置されたガイドレール5、6、7および8に案内される。図4中、上下のガイドレールの間隔が広がることによって上記把持手段2の幅方向の間隔が徐々に拡大する。また上側及び下側それぞれのガイドレール6と8の間隔が狭くなることによって、等長リンク装置の角度が広がり把持手段2の流れ方向の間隔が徐々に拡大する。積層体1は延伸機の入口で把持手段2によってその両端が把持され、把持手段の間隔の拡大によって、縦横二方向に同時に延伸され、延伸機の出口で前記把持手段2から外される。   For example, the stretching machine shown in FIG. 4 includes a plurality of gripping means 2 that grip the end of the laminate 1. The gripping means 2 is attached to an endless link device 3 (not shown in the figure, a part of the link and one endless link are omitted) composed of a plurality of equal length link devices formed in a fold shape. The endless link device 3 is driven by an inlet side sprocket 4 and an outlet side sprocket 9. The endless link device 3 travels from left to right in FIG. 4 and is guided by guide rails 5, 6, 7 and 8 arranged in a divergent shape. In FIG. 4, the interval in the width direction of the gripping means 2 gradually increases as the interval between the upper and lower guide rails increases. Further, since the distance between the upper and lower guide rails 6 and 8 is narrowed, the angle of the isometric link device is widened and the distance in the flow direction of the gripping means 2 is gradually increased. Both ends of the laminate 1 are gripped by the gripping means 2 at the entrance of the stretching machine, and are stretched simultaneously in two directions in the vertical and horizontal directions by increasing the spacing of the gripping means, and removed from the gripping means 2 at the exit of the stretching machine.

長尺の積層体の二軸延伸において、第一の延伸方向は長さ方向及び幅方向のいずれでも良いが、製造上の安定性を考慮すると第一の延伸方向を幅方向にするのが好ましい。第一の延伸方向を幅方向(TD方向)に略平行にすることで、B層の流れ方向(MD方向)に亀裂が入り、流れ方向に細長く延びたb層が形成できる。   In the biaxial stretching of the long laminate, the first stretching direction may be either the length direction or the width direction, but considering the stability in production, the first stretching direction is preferably the width direction. . By making the first stretching direction substantially parallel to the width direction (TD direction), a crack is formed in the flow direction (MD direction) of the B layer, and a b layer elongated in the flow direction can be formed.

B層の亀裂によって形成されたb層は、細長く線状に延びており、且つ離間して複数並んで設けられている。例えば、図3に示すように、b層311が、複数並んで積層された構造を成している。b層のピッチは使用する光の波長の1/2以下になっている。b層の幅及び高さは小さいほど透過方向の偏光成分の吸収が小さくなり、特性上好ましい。可視光線に用いるグリッド偏光フィルムでは、b層のピッチが通常50〜1000nmであり、b層の幅が通常25〜600nm、b層の高さは10〜800nmである。b層は、通常光の波長より長く延びていればよく。b層の長さは好ましくは800nm以上である。b層の高さはB層の厚みによって調整できる。b層の長さ、ピッチ及び幅は延伸速度、延伸温度などによって調整することができる。
なお、b層は必ずしも図3に示したように同一の形状、サイズである必要は無く、各々が光の波長よりも長い辺と短い辺を有する、アスペクト比の大きな形状であれば良い。また、隣り合う細長く線状に延びたb層は、完全に離間している必要は無く、一部離間しているものであればよい。例えば、細長く線状に延びたb層が途中で分断して二本に分かれていてもよいし、二本の細長く線状に延びたb層が途中で結合して一本になっていてもよい。
The b layer formed by the crack of the B layer is elongated and linearly formed, and a plurality of the b layers are provided so as to be spaced apart from each other. For example, as shown in FIG. 3, a plurality of b layers 311 are stacked side by side. The pitch of the b layer is ½ or less of the wavelength of light used. The smaller the width and height of the b layer, the smaller the absorption of the polarization component in the transmission direction, which is preferable in terms of characteristics. In the grid polarizing film used for visible light, the pitch of the b layer is usually 50 to 1000 nm, the width of the b layer is usually 25 to 600 nm, and the height of the b layer is 10 to 800 nm. The b layer only needs to extend longer than the wavelength of normal light. The length of the b layer is preferably 800 nm or more. The height of the b layer can be adjusted by the thickness of the B layer. The length, pitch and width of the b layer can be adjusted by the stretching speed, the stretching temperature and the like.
Note that the b layer does not necessarily have the same shape and size as shown in FIG. 3, and may be any shape that has a longer side and a shorter side than the wavelength of light and a large aspect ratio. Also, the adjacent elongated and linearly extending b layers do not have to be completely separated from each other, and any layer may be used as long as they are partially separated. For example, an elongated and linearly extending b layer may be divided into two parts in the middle, or two elongated and linearly extending b layers may be combined in the middle and become one. Good.

本発明の製造方法では、積層体を延伸する前に、前記B層の上に、透明保護層を少なくとも1層形成することが好ましい。また、本発明の製造方法では、積層体を延伸した後に、前記b層の上に、透明保護層を少なくとも1層形成することが好ましい。   In the production method of the present invention, it is preferable to form at least one transparent protective layer on the B layer before stretching the laminate. Moreover, in the manufacturing method of this invention, after extending | stretching a laminated body, it is preferable to form at least 1 layer of transparent protective layers on the said b layer.

透明保護層は、透明樹脂からなる層であってもよいし、無機化合物からなる層であってもよい。透明樹脂からなる層を構成する樹脂は、前記A層を構成する樹脂として挙げたものと同じものを挙げることができる。無機化合物からなる層を構成する無機化合物は、無機酸化物、無機窒化物、フッ化物などが挙げられる。
透明保護層は、その形成方法によって、特に制限されない。例えば、樹脂からなるフィルムを貼りあわせる、樹脂溶液を塗布し乾燥する、光硬化性溶液を塗布し光硬化させる、無機化合物を蒸着するなどの方法が挙げられる。
The transparent protective layer may be a layer made of a transparent resin or a layer made of an inorganic compound. Examples of the resin constituting the layer made of the transparent resin may include the same resins as those exemplified as the resin constituting the A layer. As for the inorganic compound which comprises the layer which consists of an inorganic compound, an inorganic oxide, inorganic nitride, fluoride, etc. are mentioned.
The transparent protective layer is not particularly limited depending on the formation method. For example, methods such as laminating a film made of a resin, applying a resin solution and drying, applying a photocurable solution and photocuring, and depositing an inorganic compound are included.

なお透明保護層を形成するときに、b層の間にある溝部312は、透明保護層を形成する物質で埋まってしまっても良いし、埋まらずに空間を確保していてもよい。溝部312はB層の亀裂によってできた裂け目である。
溝部を埋めずに、空間を確保する場合は、その空間に空気または不活性ガスなどが含まれていることが好ましい。空気又は不活性ガスを、空間に含ませると、グリッド偏光フィルムの偏光率が高くなる。不活性ガスとしては、窒素、アルゴンなどが挙げられる。
溝部を埋める場合は、透明保護層として、低屈折率の物質を用いることが好ましい。例えば、フッ化マグネシウムなどの無機化合物や、多孔質物質等が挙げられる。本発明においては多孔質物質が好ましい。
When the transparent protective layer is formed, the groove 312 between the b layers may be filled with a material forming the transparent protective layer, or a space may be secured without being filled. The groove 312 is a tear formed by a crack in the B layer.
When a space is secured without filling the groove, it is preferable that the space contains air or an inert gas. When air or an inert gas is included in the space, the polarization rate of the grid polarizing film increases. Examples of the inert gas include nitrogen and argon.
When filling the groove, it is preferable to use a low refractive index substance as the transparent protective layer. For example, inorganic compounds, such as magnesium fluoride, a porous substance, etc. are mentioned. In the present invention, a porous material is preferred.

多孔質物質は、微小な空孔を多数有する材料であり、例えば、エアロゲルが挙げられる。エアロゲルは、マトリックス中に微小な空孔が分散した透明性多孔質体である。空孔の大きさは大部分が200nm以下であり、空孔の含有量は、通常10〜60体積%、好ましくは20〜40体積%である。エアロゲルには、シリカエアロゲルと、中空粒子をマトリックス中に分散させた多孔質体とがある。空孔には通常、空気や不活性ガスが封入されている。   The porous material is a material having a large number of minute pores, and examples thereof include airgel. The airgel is a transparent porous body in which minute pores are dispersed in a matrix. The size of the pores is mostly 200 nm or less, and the content of the pores is usually 10 to 60% by volume, preferably 20 to 40% by volume. Aerogels include silica aerogels and porous bodies in which hollow particles are dispersed in a matrix. The air holes are usually sealed with air or inert gas.

シリカエアロゲルは、米国特許第4,402,927号公報、米国特許第4,432,956号公報および米国特許第4,610,863号公報などに開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなるゲル状化合物を、アルコールあるいは二酸化炭素などの溶媒(分散媒)で湿潤状態にし、そしてこの溶媒を超臨界乾燥で除去することによって製造することができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第5,137,279号公報、米国特許5,124,364号公報などに開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造することができる。
中空微粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開2001−233611号公報、国際公開第2002/021259号公報および特開2003−149642号公報に開示されているような多孔質体が挙げられる。
Silica aerogel is produced by hydrolysis of alkoxysilane as disclosed in U.S. Pat. No. 4,402,927, U.S. Pat. No. 4,432,956 and U.S. Pat. No. 4,610,863. The gel compound composed of the silica skeleton obtained by the polymerization reaction can be produced by wetting with a solvent (dispersion medium) such as alcohol or carbon dioxide and removing the solvent by supercritical drying. Silica airgel is manufactured in the same manner as described above using sodium silicate as a raw material as disclosed in US Pat. No. 5,137,279, US Pat. No. 5,124,364, and the like. Can do.
Examples of the porous body in which hollow fine particles are dispersed in a matrix include porous bodies as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611, 2002/021259, and 2003-149642. Can be mentioned.

本発明の偏光素子は、前記グリッド偏光フィルムと、他の偏光光学フィルムとを重ね合わせてなるものである。他の偏光光学フィルムとしては、吸収型偏光フィルム、位相差素子、偏光回折素子などが挙げられる。特に、本発明の偏光素子を液晶表示装置の輝度向上素子として用いる場合には、他の偏光光学フィルムが吸収型偏光フィルムであることが好ましい。   The polarizing element of the present invention is formed by superimposing the grid polarizing film and another polarizing optical film. Examples of other polarizing optical films include an absorbing polarizing film, a retardation element, and a polarizing diffraction element. In particular, when the polarizing element of the present invention is used as a brightness enhancement element of a liquid crystal display device, the other polarizing optical film is preferably an absorptive polarizing film.

本発明に用いられる吸収型偏光フィルムは、直角に交わる二つの直線偏光の一方を透過し、他方を吸収するものである。例えば、ポリビニルアルコールフィルムやエチレン酢酸ビニル部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムにヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたもの、前記親水性高分子フィルムを一軸延伸して二色性物質を吸着させたもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルムなどが挙げられる。吸収型偏光フィルムの厚さは、通常5〜80μmである。   The absorptive polarizing film used in the present invention transmits one of two linearly polarized light intersecting at right angles and absorbs the other. For example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol film or an ethylene vinyl acetate partially saponified film adsorbed a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye and uniaxially stretched, the hydrophilic polymer film Examples include uniaxially stretched and dichroic substances adsorbed, and polyene oriented films such as polyvinyl alcohol dehydrated products and polyvinyl chloride dehydrochlorinated products. The thickness of the absorptive polarizing film is usually 5 to 80 μm.

グリッド偏光フィルムと吸収型偏光フィルムは、グリッド偏光フィルムの透過軸と吸収型偏光フィルムの透過軸とが略平行になるように重ね合わせることが好ましい。このような配置にすることによって、自然光を効率的に直線偏光に変換することができる。   The grid polarizing film and the absorption polarizing film are preferably overlapped so that the transmission axis of the grid polarizing film and the transmission axis of the absorption polarizing film are substantially parallel. With such an arrangement, natural light can be efficiently converted into linearly polarized light.

本発明の偏光素子はその製法によって、特に限定されない。例えば、ロール状に巻かれた前記の長尺のグリッド偏光フィルム及びロール状に巻かれた他の長尺の偏光光学フィルムを同時にロールから巻き出しながら、該グリッド偏光フィルムと該他の偏光光学フィルムとを密着させることを含む方法が挙げられる。グリッド偏光フィルムと他の偏光光学フィルムとの密着面には接着剤を介在させることができる。グリッド偏光フィルムと他の偏光光学フィルムとを密着させる方法としては、二本の平行に並べられたロールのニップにグリッド偏光フィルムと他の偏光光学フィルムを一緒に通し圧し挟む方法が挙げられる。   The polarizing element of this invention is not specifically limited by the manufacturing method. For example, the grid polarizing film and the other polarizing optical film while simultaneously unwinding the long grid polarizing film wound in a roll shape and another long polarizing optical film wound in a roll shape from the roll. And a method including adhering to each other. An adhesive can be interposed on the adhesion surface between the grid polarizing film and the other polarizing optical film. As a method for bringing the grid polarizing film and the other polarizing optical film into close contact with each other, there is a method in which the grid polarizing film and the other polarizing optical film are pressed together and sandwiched between nips of two parallelly arranged rolls.

本発明の液晶表示装置は、前記のグリッド偏光フィルム又は偏光素子を備えるものである。液晶表示装置は、偏光透過軸を電圧の調整で変化させることができる液晶セルと、それを挟むように配置される二枚の吸収型偏光フィルムとで構成される。そして、この液晶セルに光を送りこむために、表示面の裏側に、透過型液晶表示装置ではバックライト装置が、反射型液晶表示装置では反射板が備えられる。   The liquid crystal display device of the present invention includes the grid polarizing film or the polarizing element. The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell whose polarization transmission axis can be changed by adjusting a voltage, and two absorptive polarizing films arranged so as to sandwich the liquid crystal cell. In order to send light to the liquid crystal cell, a backlight device is provided for the transmissive liquid crystal display device and a reflector is provided for the reflective liquid crystal display device on the back side of the display surface.

本発明のグリッド偏光フィルムは、直交する直線偏光のうちの一方を透過し、他方を反射する性質を持っている。また本発明の偏光素子は、グリッド偏光フィルム側から光を照射させた場合に、直交する直線偏光のうちの一方を透過し、他方を反射する性質を持っている。本発明の透過型液晶表示装置において、本発明のグリッド偏光フィルム及び偏光素子(偏光素子のグリッド偏光フィルムがバックライト側になるように配置する)を、バックライト装置と液晶セルとの間に配置すると、バックライト装置で発光した光がグリッド偏光フィルムによって、二つの直線偏光に分離され、一方の直線偏光は液晶セルの方向へ、他方の直線偏光はバックライト装置の方向へ戻る。バックライト装置には反射板が通常備わっており、バックライト装置の方向へ戻った直線偏光は、その反射板により反射され、再びグリッド偏光フィルムに戻ってくる。戻ってきた光はグリッド偏光フィルムで再度二つの偏光に分離される。これを繰り返すことでバックライト装置で発光した光が有効に利用されることになる。その結果、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。また反射型液晶表示装置において、同様の原理で画面を明るくすることができる。   The grid polarizing film of the present invention has a property of transmitting one of linearly polarized light orthogonal to each other and reflecting the other. Further, the polarizing element of the present invention has a property of transmitting one of orthogonal linearly polarized light and reflecting the other when irradiated with light from the grid polarizing film side. In the transmissive liquid crystal display device of the present invention, the grid polarizing film and the polarizing element of the present invention (arranged so that the grid polarizing film of the polarizing element is on the backlight side) are disposed between the backlight device and the liquid crystal cell. Then, the light emitted from the backlight device is separated into two linearly polarized light by the grid polarizing film, and one linearly polarized light returns to the liquid crystal cell and the other linearly polarized light returns to the backlight device. The backlight device is usually provided with a reflecting plate, and the linearly polarized light returning to the direction of the backlight device is reflected by the reflecting plate and returns to the grid polarizing film again. The returned light is again separated into two polarized light by the grid polarizing film. By repeating this, the light emitted from the backlight device is effectively used. As a result, light such as a backlight can be efficiently used for displaying an image on the liquid crystal display device, and the screen can be brightened. In the reflective liquid crystal display device, the screen can be brightened by the same principle.

つぎに本発明を実施例を示しながらさらに詳細に説明する。なお、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。部及び%は特に断りが無い限り質量基準である。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to these examples. Parts and% are based on mass unless otherwise specified.

参考例
厚さ300μmの樹脂フィルム表面にアルミニウムを膜厚200nmになるように蒸着した。アルミニウム膜に1mmピッチの碁盤目状の切れ込みを入れて1mm×1mmのマス100個を作成した。粘着テープ(ニチバン社製、CT24)をマスの上に貼り合わせ、指の腹で押して密着させた。次に粘着テープを主面に対して角度90度の方向に引いて粘着テープを剥がした。アルミニウム膜が剥がれていないマス目数を数えた。
ポリスチレンフィルムでは100マス中5マスであった。一方、ポリメチルメタクリレートフィルムでは100マス中74マスであった。ポリスチレンとポリメチルメタクリレートとではアルミニウムに対する密着力が異なることが確認された。
Reference Example Aluminum was vapor-deposited on the surface of a 300 μm thick resin film so as to have a film thickness of 200 nm. 100 squares of 1 mm × 1 mm were created by making 1 mm pitch grid cuts in the aluminum film. An adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., CT24) was bonded onto the mass and pressed with the abdomen of the finger to bring it into close contact. Next, the adhesive tape was pulled in the direction of an angle of 90 degrees with respect to the main surface, and the adhesive tape was peeled off. The number of grids where the aluminum film was not peeled was counted.
In the polystyrene film, it was 5 squares out of 100 squares. On the other hand, in the polymethyl methacrylate film, it was 74 squares out of 100 squares. It was confirmed that polystyrene and polymethyl methacrylate have different adhesion to aluminum.

実施例1
ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート二元ブロック共重合体(ポリスチレンブロックの数平均分子量:52,000、ポリメチルメタクリレートブロックの数平均分子量:52,000、重量平均分子量/数平均分子量=1.1、Polymer Source Inc.製)5部をトルエン95部に混合し、完全に溶解させて塗布液を得た。
ギャップが100μmであるアプリケーターを用いて、前記塗布液を厚さ100μmの樹脂フィルム(商品名:ゼオノアフィルム ZF−14、日本ゼオン社製)に塗布し、次いで110℃で5分間乾燥し、さらに130℃で1時間熱処理して樹脂基材を得た。得られた樹脂基板の塗膜部分を日立ハイテクノロジー製LEICAウルトラミクロトーム(ULTRACUT−UCT)を用いて超薄切片に切り出し、オスミウム酸で染色した。染色された切片を日立ハイテクノロジー製透過型電子顕微鏡(H−7500)を用いて構造観察したところ、塗膜部は幅約30nm程度のラメラ構造を形成していることが確認された(図5参照)。さらに、樹脂基材の塗布膜面にアルミニウムを膜厚100nmになるように蒸着した。
次いで、135℃の環境下で、延伸前の縦及び横の長さに対して延伸後の長さが縦1.2倍、横0.9倍となるように延伸した。この延伸によって、アルミニウム膜に亀裂が生じ、線状のアルミニウム格子が形成された。
次いで、トリアセチルセルロースからなる保護フィルムをウレタン系接着剤で、アルミニウム格子側に接着して、グリッド偏光フィルムを得た。
Example 1
Polystyrene-polymethyl methacrylate binary block copolymer (polystyrene block number average molecular weight: 52,000, polymethyl methacrylate block number average molecular weight: 52,000, weight average molecular weight / number average molecular weight = 1.1, Polymer Source Inc.) 5 parts was mixed with 95 parts of toluene and completely dissolved to obtain a coating solution.
Using an applicator with a gap of 100 μm, the coating solution was applied to a resin film having a thickness of 100 μm (trade name: ZEONOR film ZF-14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), then dried at 110 ° C. for 5 minutes, and further 130 A resin substrate was obtained by heat treatment at 1 ° C. for 1 hour. The coating portion of the obtained resin substrate was cut into ultrathin sections using a LEICA ultramicrotome (ULTRACUT-UCT) manufactured by Hitachi High-Technology and stained with osmic acid. When the structure of the stained section was observed using a transmission electron microscope (H-7500) manufactured by Hitachi High-Technology, it was confirmed that the coating film had a lamellar structure with a width of about 30 nm (FIG. 5). reference). Furthermore, aluminum was vapor-deposited so that it might become a film thickness of 100 nm on the coating film surface of a resin base material.
Next, in an environment of 135 ° C., the film was stretched so that the length after stretching was 1.2 times in length and 0.9 times in width relative to the length and width before stretching. By this stretching, a crack was generated in the aluminum film, and a linear aluminum lattice was formed.
Subsequently, the protective film which consists of triacetylcellulose was adhere | attached on the aluminum lattice side with the urethane type adhesive agent, and the grid polarizing film was obtained.

入射端面側に冷陰極管が配置され、かつ裏面側に光反射シートが設けられた導光板の出射面側に、光拡散シート及び所定の大きさに切り抜いた上記グリッド偏光フィルム(アルミニウム格子が光拡散シート側になるように配置)を順次重ね合わせて偏光光源装置を作製した。さらに、該偏光光源装置の上に、吸収型偏光板(グリッド偏光フィルムの偏光透過軸と平行になるように配置)、透過型のTN液晶表示素子、及び吸収型偏光板(グリッド偏光フィルムの偏光透過軸と直交になるように配置)を順次重ね合わせて液晶表示装置を作製した。得られた液晶表示装置の正面輝度を輝度計(商品名:BM−7、トプコン(株))を用いて測定したところ、正面輝度は195cd/mであった。 A light diffusing sheet and the grid polarizing film cut out to a predetermined size (aluminum grid is light-emitting) are provided on the light exiting side of the light guide plate in which a cold cathode tube is disposed on the incident end face side and a light reflecting sheet is provided on the back side. A polarized light source device was manufactured by sequentially superposing the arrangement so as to be on the diffusion sheet side. Further, on the polarized light source device, an absorption type polarizing plate (arranged in parallel with the polarization transmission axis of the grid polarizing film), a transmission type TN liquid crystal display element, and an absorption type polarizing plate (polarization of the grid polarizing film). A liquid crystal display device was manufactured by sequentially superimposing the layers so as to be orthogonal to the transmission axis. When the front luminance of the obtained liquid crystal display device was measured using a luminance meter (trade name: BM-7, Topcon Corporation), the front luminance was 195 cd / m 2 .

実施例2
ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート3元ブロック共重合体(ポリメチルメタクリレートブロックの数平均分子量:137,000、ポリスチレンブロックの数平均分子量:13,000、重量平均分子量/数平均分子量=1.40、Polymer Source Inc.製)5重量部をテトラヒドロフラン95重量部に混合し、完全に溶解させて、塗布液を得た。
厚さ100μmの長尺の樹脂フィルム(商品名:ゼオノアフィルム ZF−14、日本ゼオン社製)上に、前記塗布液を塗布し、100℃で3分間乾燥し、さらに130℃で10分間熱処理して、樹脂基材を得た。樹脂基板上に形成された塗膜を実施例1と同様に構造観察したところ、塗膜部は幅約45nm程度のラメラ構造を形成していることが確認された。
次いで、得られた樹脂基材の表面に、アルミニウムを膜厚100nmになるように蒸着した。アルミニウム膜表面にトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、加圧ローラーで圧着して貼り合せた。
次に、135℃で、1.2倍に、横一軸延伸することにより長尺状のグリッド偏光フィルムを得た。このグリッド偏光フィルムの偏光透過軸はフィルムの幅方向にほぼ平行であった。
Example 2
Polymethyl methacrylate-polystyrene-polymethyl methacrylate ternary block copolymer (number average molecular weight of polymethyl methacrylate block: 137,000, number average molecular weight of polystyrene block: 13,000, weight average molecular weight / number average molecular weight = 1. 40, manufactured by Polymer Source Inc.) was mixed with 95 parts by weight of tetrahydrofuran and completely dissolved to obtain a coating solution.
The coating solution is applied onto a long resin film (trade name: ZEONOR film ZF-14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm, dried at 100 ° C. for 3 minutes, and further heat-treated at 130 ° C. for 10 minutes. Thus, a resin base material was obtained. When the structure of the coating film formed on the resin substrate was observed in the same manner as in Example 1, it was confirmed that the coating film portion formed a lamella structure having a width of about 45 nm.
Subsequently, aluminum was vapor-deposited on the surface of the obtained resin base material so as to have a film thickness of 100 nm. A triacetyl cellulose film was overlaid on the surface of the aluminum film, and was bonded by pressing with a pressure roller.
Next, the long grid polarizing film was obtained by carrying out horizontal uniaxial stretching at 135 degreeC by 1.2 time. The polarization transmission axis of this grid polarizing film was almost parallel to the width direction of the film.

次いで、ロール巻きされた前記グリッド偏光フィルムと、ロール巻きされた吸収型偏光フィルムと、トリアセチルセルロースからなる長尺の保護フィルムとを、それぞれロールから巻き出して、ウレタン系接着剤で接着し、さらに加圧ローラーで圧着して、グリッド偏光フィルム/吸収型偏光フィルム/トリアセチルセルロースフィルムがこの順に積層されたフィルムを得た。入射端面側に冷陰極管が配置され、かつ裏面側に光反射シートが設けられた導光板の出射面側に、光拡散シート及び所定の大きさに切り抜いた上記積層フィルム(アルミニウム格子が光拡散シート側になるように配置)を順次重ね合わせて偏光光源装置を作製した。さらに、該偏光光源装置の上に、吸収型偏光板(グリッド偏光フィルムの偏光透過軸と平行になるように配置)、透過型のTN液晶表示素子、及び吸収型偏光板(グリッド偏光フィルムの偏光透過軸と直交になるように配置)を順次重ね合わせて液晶表示装置を作製した。得られた液晶表示装置の正面輝度を輝度計(商品名:BM−7、トプコン(株))を用いて測定したところ、正面輝度は200cd/mであった。 Next, the rolled grid polarizing film, the rolled absorption polarizing film, and the long protective film made of triacetyl cellulose are each unwound from the roll and bonded with a urethane adhesive, Furthermore, the film was pressure-bonded with a pressure roller to obtain a film in which a grid polarizing film / absorptive polarizing film / triacetyl cellulose film was laminated in this order. A light diffusion sheet and the above-mentioned laminated film cut out to a predetermined size (the aluminum grating is used for light diffusion) on the light exit surface side of the light guide plate in which the cold cathode tube is disposed on the incident end surface side and the light reflecting sheet is provided on the back surface side. A polarized light source device was manufactured by sequentially superposing the arrangement so as to be on the sheet side. Further, on the polarized light source device, an absorption type polarizing plate (arranged in parallel with the polarization transmission axis of the grid polarizing film), a transmission type TN liquid crystal display element, and an absorption type polarizing plate (polarization of the grid polarizing film). A liquid crystal display device was manufactured by sequentially superimposing the layers so as to be orthogonal to the transmission axis. When the front luminance of the obtained liquid crystal display device was measured using a luminance meter (trade name: BM-7, Topcon Corporation), the front luminance was 200 cd / m 2 .

比較例1
ポリプロピレンフィルムを4倍に一軸延伸した。該延伸フィルム上にアルミニウムを膜厚100nmになるように蒸着した。次いで、得られたフィルムを、先の一軸延伸と同じ延伸方向に更に2倍に一軸延伸した。この延伸によって、アルミニウム膜に亀裂が生じ、線状のアルミニウム格子が形成された。
次いで、トリアセチルセルロースからなる保護フィルムをウレタン系接着剤で、アルミニウム格子側に接着して、グリッド偏光フィルムを得た。このグリッド偏光フィルムを実施例1と同様にして輝度を測定したところ、正面輝度は165cd/mであった。
Comparative Example 1
The polypropylene film was uniaxially stretched 4 times. Aluminum was deposited on the stretched film to a thickness of 100 nm. Next, the obtained film was further uniaxially stretched twice in the same stretching direction as the previous uniaxial stretching. By this stretching, a crack was generated in the aluminum film, and a linear aluminum lattice was formed.
Subsequently, the protective film which consists of triacetylcellulose was adhere | attached on the aluminum lattice side with the urethane type adhesive agent, and the grid polarizing film was obtained. When the luminance of this grid polarizing film was measured in the same manner as in Example 1, the front luminance was 165 cd / m 2 .

本発明の製造方法におけるb層の形成原理を示す図である。It is a figure which shows the formation principle of b layer in the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法に用いる積層体の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the laminated body used for the manufacturing method of this invention. 図2の積層体を本発明の製造方法に従って延伸して得られたグリッド偏光フィルムの一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the grid polarizing film obtained by extending | stretching the laminated body of FIG. 2 according to the manufacturing method of this invention. 本発明に用いるテンター延伸機の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the tenter drawing machine used for this invention. D層のミクロドメイン構造(ラメラ構造)の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the micro domain structure (lamella structure) of D layer.

符号の説明Explanation of symbols

1:積層体
2:把持手段
3:無端リンク装置
4:入口側スプロケット
9:出口側スプロケット
5、6、7、8:ガイドレール
10:A層
11:B層
15:第一の延伸方向
18:D層
308:延伸後のD層
310:延伸後のA層
311:b層
312:溝部
1: Laminated body 2: Gripping means 3: Endless link device 4: Inlet side sprocket 9: Outlet side sprocket 5, 6, 7, 8: Guide rail 10: A layer 11: B layer 15: First extending direction 18: D layer 308: D layer 310 after stretching: A layer 311 after stretching: b layer 312: groove

Claims (11)

樹脂からなるA層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料Zを含んでなるB層と、
前記A層と前記B層との間に設けられ、前記材料Zに対する密着性が異なる二種のX相とY相とを有してなるミクロドメイン構造を有するD層と、を有する積層体を延伸することによって、前記B層に亀裂を生じさせることを含む、
B層を構成する細長く線状に伸びたb層が互いに離間した状態で複数並んだグリッド偏光フィルムの製造方法。
A layer made of resin;
A B layer comprising a material Z in which the absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is 1.0 or more;
A laminate having a microdomain structure provided between the A layer and the B layer and having two types of X phase and Y phase having different adhesion to the material Z; Including causing the B layer to crack by stretching,
A method for producing a grid polarizing film in which a plurality of thin and linearly extending b layers constituting the B layer are arranged in a separated state.
積層体を延伸した後に、前記b層の上に、透明保護層を少なくとも1層形成することをさらに含む請求項1記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the grid polarizing film of Claim 1 which further includes forming at least 1 layer of transparent protective layers on the said b layer after extending | stretching a laminated body. 積層体を延伸する前に、前記B層の上に、透明保護層を少なくとも1層形成することをさらに含む請求項1記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the grid polarizing film of Claim 1 which further includes forming at least 1 layer of transparent protective layers on the said B layer before extending | stretching a laminated body. 材料Zが金属である、請求項1〜3のいずれかに記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the grid polarizing film in any one of Claims 1-3 whose material Z is a metal. 金属がアルミニウムである、請求項4に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the grid polarizing film of Claim 4 whose metal is aluminum. 前記延伸の工程において、第一の延伸方向の延伸倍率R1が1.25〜10倍であり、第一の延伸方向に直交する第二の延伸方向の延伸倍率R2が0.85〜2倍であり、且つ延伸倍率R1が延伸倍率R2よりも大きい、請求項1〜5のいずれかに記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。   In the stretching step, the stretching ratio R1 in the first stretching direction is 1.25 to 10 times, and the stretching ratio R2 in the second stretching direction orthogonal to the first stretching direction is 0.85 to 2 times. The manufacturing method of the grid polarizing film in any one of Claims 1-5 which there exists and draw ratio R1 is larger than draw ratio R2. 積層体が長尺であり、且つ延伸を連続的に行う、請求項1〜6のいずれかに記載のグリッド偏光フィルムの製造方法   The manufacturing method of the grid polarizing film according to any one of claims 1 to 6, wherein the laminate is long and is continuously stretched. 第一の延伸方向が長尺積層体の幅方向と略平行である、請求項7記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the grid polarizing film of Claim 7 whose 1st extending | stretching direction is substantially parallel to the width direction of a elongate laminated body. 請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法で得られたグリッド偏光フィルム。   The grid polarizing film obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-8. 請求項7又は8に記載の製造方法で得られ、且つ偏光透過軸が積層体の幅方向と略平行であるグリッド偏光フィルム。   A grid polarizing film obtained by the production method according to claim 7 or 8, and having a polarization transmission axis substantially parallel to the width direction of the laminate. 請求項9または10に記載のグリッド偏光フィルムを備える液晶表示装置。
A liquid crystal display device provided with the grid polarizing film of Claim 9 or 10.
JP2005243765A 2005-08-25 2005-08-25 Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device Pending JP2007057876A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005243765A JP2007057876A (en) 2005-08-25 2005-08-25 Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005243765A JP2007057876A (en) 2005-08-25 2005-08-25 Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007057876A true JP2007057876A (en) 2007-03-08

Family

ID=37921437

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005243765A Pending JP2007057876A (en) 2005-08-25 2005-08-25 Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007057876A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007128086A (en) * 2005-10-31 2007-05-24 Toshiba Corp Short-wavelength polarizing element and method of manufacturing polarizing element
JP2007128087A (en) * 2005-10-31 2007-05-24 Toshiba Corp Short-wavelength polarizing element and method of manufacturing polarizing element
JP2008268940A (en) * 2007-03-27 2008-11-06 Toray Ind Inc Reflection type polarizing plate and liquid crystal display device using same
JP2016161897A (en) * 2015-03-05 2016-09-05 住友化学株式会社 Oriented film, polarizing film and polarizing plate including the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007128086A (en) * 2005-10-31 2007-05-24 Toshiba Corp Short-wavelength polarizing element and method of manufacturing polarizing element
JP2007128087A (en) * 2005-10-31 2007-05-24 Toshiba Corp Short-wavelength polarizing element and method of manufacturing polarizing element
US8687274B2 (en) 2005-10-31 2014-04-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Short-wavelength polarizing elements and the manufacture and use thereof
JP2008268940A (en) * 2007-03-27 2008-11-06 Toray Ind Inc Reflection type polarizing plate and liquid crystal display device using same
JP2016161897A (en) * 2015-03-05 2016-09-05 住友化学株式会社 Oriented film, polarizing film and polarizing plate including the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101285829B1 (en) Polarizing film, optical film laminate including polarizing film, and method for manufacturing the same
JP2000506993A (en) Optical fiber with light extractor
JP6729550B2 (en) Retardation plate and method for manufacturing retardation plate
JP7355583B2 (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
TW200612151A (en) Method for manufacturing multilayer cholesteric liquid crystal optical bodies
JPH04268505A (en) Double refractive interference polarizer
TW200408871A (en) Polarizing plate and liquid crystal display using the same
CN109983377B (en) Polarizing plate and method for producing polarizing plate
WO2004088370A1 (en) Protective film for polarizing plate, method for preparation thereof, polarizing plate with antireflection function, and optical article
JP2004020701A (en) Optical laminate
WO2019123948A1 (en) Phase difference plate, polarizing plate having optical compensation layer, image display device, and image display device having touch panel
JP2007057876A (en) Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device
JP7355582B2 (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
TW201140157A (en) Method of manufacturing a reflective polarizer
JP2007057877A (en) Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device
JP7370177B2 (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
WO2019123947A1 (en) Phase difference film, polarizer with optical compensation layer, image display device, and image display device with touch panel
JP2007148046A (en) Method of manufacturing grid polarizing film, grid polarizing film and liquid crystal display device
JP6787126B2 (en) Multi-layer laminated film
JP2010266723A (en) Method of manufacturing retardation film, retardation film, circularly polarized film, circularly polarized plate, and liquid crystal display device
JP2007057874A (en) Method of manufacturing grid polarization film, grid polarization film, polarizing element and liquid crystal display device
JP7355584B2 (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
JP7348799B2 (en) Manufacturing method of polarizing plate with retardation layer
JP2007057875A (en) Method of manufacturing grid polarization film, grid polarization film and liquid crystal display device
JP6485348B2 (en) Optical laminate, polarizing plate composite, liquid crystal display device, and manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20070608

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424