JP2007046632A - Vibration isolating base device and vibration isolating system using it - Google Patents
Vibration isolating base device and vibration isolating system using it Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007046632A JP2007046632A JP2005229136A JP2005229136A JP2007046632A JP 2007046632 A JP2007046632 A JP 2007046632A JP 2005229136 A JP2005229136 A JP 2005229136A JP 2005229136 A JP2005229136 A JP 2005229136A JP 2007046632 A JP2007046632 A JP 2007046632A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibration
- vibration isolation
- base
- horizontal
- bellows
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Fluid-Damping Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明は、除振対象物に直接または間接的に敷設され、除振対象物の除振および水平方向への過度の移動を規制するための除振台装置およびそれを用いた除振システムに関する。 The present invention relates to an anti-vibration table apparatus that is laid directly or indirectly on an object to be anti-vibrated and regulates the anti-vibration object and excessive movement in the horizontal direction, and an anti-vibration system using the same. .
特に、パターン認識やライン検査に使用される中・低精度流体バネ式除振台の対物台が流体バネの座屈等により生じる水平方向への移動を簡便に防止することができる除振台装置およびそれを用いた除振システムに関する。 In particular, an anti-vibration table apparatus that can easily prevent horizontal movement caused by buckling of a fluid spring, etc., by an objective base of a medium / low-precision fluid spring type vibration isolation table used for pattern recognition and line inspection And a vibration isolation system using the same.
従来から、例えば、半導体製造装置においてメモリ、ICを作る場合、ウエハ基板の上に回路を形成するに際し、写真技術を応用した焼き付け装置を備えるステッパーが用いられている。実際のステッパーの使用に際しては、生産効率を上げるためにウエハ基板や焼き付け装置を所定位置に俊敏かつ精度よく動かして位置決めする必要がある。 2. Description of the Related Art Conventionally, for example, when making a memory or IC in a semiconductor manufacturing apparatus, a stepper provided with a printing apparatus to which a photographic technique is applied is used when forming a circuit on a wafer substrate. In actual use of the stepper, it is necessary to move the wafer substrate and the baking apparatus to a predetermined position quickly and accurately in order to increase the production efficiency.
しかしながら、俊敏な移動および停止を行なおうとすればする程、ステッパーには振動の発生という問題が必然的に生じる。特に、ICの高い集積度が求められている今日の仕様では、たとえ微振動であっても、これを完全に除去しないと、回路の線が二重になったりショートしたりする(回路のダブリの発生)という問題が生じる。このような問題を解決するために従来よりステッパーの微振動を除去する除振台装置の提案が種々なされている。 However, the more agile moving and stopping is, the more inevitably the stepper has the problem of vibration. In particular, in today's specifications where high integration of ICs is required, even if micro-vibration is not completely removed, circuit lines may be doubled or shorted (circuit doubles). ) Occurs. In order to solve such problems, various proposals have been made for a vibration isolation table device that removes fine vibrations of a stepper.
例えば、精密機器における床からの微振動を除去し、一定位置を保つために、除振台装置には、除振機能を発揮させるために、従来から種々の流体バネユニット(主に流体バネ)の使用が提案されている。より具体的には、ダイヤフラム型、ローリングダイヤフラム型、ベローズ型の流体バネを使用した除振装置が用いられている(例えば、特開平10−205578号公報)。 For example, in order to remove a slight vibration from the floor in a precision instrument and maintain a fixed position, the vibration isolator apparatus has conventionally been provided with various fluid spring units (mainly fluid springs) in order to exert a vibration isolation function. The use of is proposed. More specifically, a vibration isolator using a diaphragm type, rolling diaphragm type, or bellows type fluid spring is used (for example, JP-A-10-205578).
しかしながらダイヤフラム型流体バネを鉛直方向のバネとして使用した場合、鉛直方向には軟らかいバネとなる反面、水平方向には硬いバネとなるという問題がある。 However, when a diaphragm type fluid spring is used as a vertical spring, there is a problem that a soft spring is formed in the vertical direction but a hard spring is formed in the horizontal direction.
この一方で、ベローズ型の流体バネは、水平方向および鉛直方向に比較的軟らかいバネ特性を有するものの、近年要求されているデリケートな特性(特に水平方向に柔らかいバネ特性)に対しては、このもののみでは十分に満足のいく対応をとることが困難となっている。すなわち、水平方向に格段と軟らかいバネとするために、膜剛性を低くしたり、膜部を大きくした場合には、安定性に欠け位置決めが出来なくなってしまうという不都合が生じている。つまり、ベローズ型の流体バネは、座屈しやすくなってしまいこのような機構を備える除振台の上に載置されている基台(対物台)は、水平方向に移動しやすくなり、最終的にある限度を超えると水平方向での制御範囲を逸脱してしまうおそれがある。 On the other hand, the bellows type fluid spring has relatively soft spring characteristics in the horizontal and vertical directions. However, this type of delicate spring characteristics (especially in the horizontal direction) are required. It is difficult to take a sufficiently satisfactory response. That is, in order to make the spring much softer in the horizontal direction, if the film rigidity is lowered or the film part is enlarged, there is a problem that positioning is not possible due to lack of stability. In other words, the bellows type fluid spring is easily buckled, and the base (objective stand) placed on the vibration isolation table having such a mechanism is easy to move in the horizontal direction. If the limit is exceeded, there is a risk of deviating from the control range in the horizontal direction.
このような問題点を解決するために、特開平8−4829号公報には、ステッパーや電子顕微鏡に使用される高精度除振台において、変位センサー、演算装置、減圧弁等を組み込んだ制御装置を用いてフィードバック制御を行なう新たな技術の提案がなされている。 In order to solve such problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-4829 discloses a control device incorporating a displacement sensor, a calculation device, a pressure reducing valve, etc. in a high-accuracy vibration isolation table used for a stepper or an electron microscope. Proposals have been made for new techniques for performing feedback control using the.
しかしながら、この公報で提案されている制御の方法は、極めて複雑であり、しかもコスト的にも極めて高価なものである。
このような実情のもとに本発明は創案されたものであって、その目的は、簡便な機構、かつ安価な装置であって、除振効果に優れ、水平方向への過度の移動を規制することができる除振台装置およびそれを用いた除振システムを提供することにある。 The present invention was devised under such circumstances, and its purpose is a simple mechanism and an inexpensive device, which has an excellent vibration isolation effect and restricts excessive movement in the horizontal direction. An object of the present invention is to provide an anti-vibration table apparatus and an anti-vibration system using the same.
このような課題を解決するために本発明は、除振対象物に直接または間接的に敷設され、除振対象物の除振および水平方向への移動を規制するための除振台装置であって、該除振台装置は、除振台本体と、この除振台本体の側面側に実質的に90度均等割りされた位置にそれぞれ配置された4つのレベリングバルブと、を備えており、前記除振台本体は、除振対象物に直接または間接的に接する天井板と、その天井板の周縁から垂下する垂下板と、これらの天井板と垂下板に被せられる基台部とを備え、前記天井板の内側面と基台部との間には、鉛直方向流体バネ体が介在されており、前記垂下板の内側面と基台部との間には、前記4つのレベリングバルブの配置位置に合わせて実質的に90度均等割り配置された4つの水平方向流体バネ体が介在されており、前記除振台本体の側面側に配置されたレベリングバルブによって除振台本体の水平方向の変位量を検知するとともに、この検知した変位量データに基づいて水平方向の変位量を修正すべく前記水平方向流体バネ体の内圧を変化させることによって水平方向への移動を制御してなるように構成される。 In order to solve such a problem, the present invention is an anti-vibration table apparatus that is directly or indirectly laid on a vibration isolation object and restricts the vibration isolation object from moving in the horizontal direction. The anti-vibration table apparatus includes an anti-vibration table main body and four leveling valves respectively arranged at positions substantially equally divided by 90 degrees on the side surface side of the anti-vibration table main body. The vibration isolation base body includes a ceiling plate that directly or indirectly contacts a vibration isolation object, a hanging plate that hangs down from a peripheral edge of the ceiling plate, and a base portion that covers the ceiling plate and the hanging plate. A vertical fluid spring body is interposed between the inner surface of the ceiling plate and the base portion, and between the inner surface of the hanging plate and the base portion, the four leveling valves are provided. Four horizontal fluid spring bodies substantially equally divided by 90 degrees according to the arrangement position The horizontal displacement amount of the vibration isolation base body is detected by a leveling valve disposed on the side surface side of the vibration isolation base body, and the horizontal displacement amount is determined based on the detected displacement amount data. The movement in the horizontal direction is controlled by changing the internal pressure of the horizontal fluid spring body to be corrected.
また、本発明の好ましい態様として、前記天井板の内側面と基台部との間に介在される鉛直方向流体バネ体は、主として鉛直方向の荷重を支えるように配置され、前記垂下板の内側面と基台部との間に介在される水平方向流体バネ体は、主として水平方向の荷重を支えるように配置されてなるように構成される。 Further, as a preferred aspect of the present invention, the vertical fluid spring body interposed between the inner surface of the ceiling plate and the base portion is arranged mainly to support a load in the vertical direction, The horizontal fluid spring body interposed between the side surface and the base portion is configured to be arranged so as to mainly support a load in the horizontal direction.
また、本発明の好ましい態様として、前記天井板と前記垂下板は一体化され浮遊部としての機能を有し、前記基台部は固定部としての機能を有してなるように構成される。 Moreover, as a preferable aspect of the present invention, the ceiling plate and the hanging plate are integrated to have a function as a floating portion, and the base portion has a function as a fixing portion.
また、本発明の好ましい態様として、前記天井板の周縁から垂下する垂下板によって、略四角柱体が形成されており、当該略四角柱体を構成する垂下板に対して略垂直方向にレベリングバルブの変位量を検出するための検出部位が当接してなるように構成される。 Further, as a preferred embodiment of the present invention, a substantially rectangular column body is formed by a hanging plate that hangs down from the peripheral edge of the ceiling plate, and a leveling valve in a substantially vertical direction with respect to the hanging plate constituting the substantially rectangular column body. It is comprised so that the detection site | part for detecting the displacement amount of may contact | abut.
また、本発明の好ましい態様として、前記水平方向流体バネ体の内部空間は、レベリングバルブに連動して所望の作動流体の出入りが可能なように外部圧力源と連通されるとともに、レベリングバルブによって検知された水平方向の変位量に応じて、所定の圧力に制御されてなるように構成される。 As a preferred aspect of the present invention, the internal space of the horizontal fluid spring body is communicated with an external pressure source so that a desired working fluid can enter and exit in conjunction with the leveling valve, and is detected by the leveling valve. It is configured to be controlled to a predetermined pressure according to the horizontal displacement amount.
また、本発明の好ましい態様として、前記鉛直方向流体バネ体は、ベローズ、ローリングダイヤフラム、またはダイヤフラムであり、前記水平方向流体バネ体は、ベローズ、ローリングダイヤフラム、またはダイヤフラムであるように構成される。 As a preferred aspect of the present invention, the vertical fluid spring body is a bellows, a rolling diaphragm, or a diaphragm, and the horizontal fluid spring body is a bellows, a rolling diaphragm, or a diaphragm.
また、本発明の好ましい態様として、前記鉛直方向流体バネ体は、ベローズまたはローリングダイヤフラムであり、前記水平方向流体バネ体は、ベローズであるように構成される。 As a preferred aspect of the present invention, the vertical fluid spring body is a bellows or a rolling diaphragm, and the horizontal fluid spring body is a bellows.
本発明の除振システムは、上記記載の除振台装置を複数個、平面上に配置し、この上に直接または間接的に基台を載置してなるように構成される。 The vibration isolation system of the present invention is configured such that a plurality of the vibration isolation table devices described above are arranged on a plane, and a base is directly or indirectly mounted thereon.
本発明の半導体製造装置は、上記記載の除振台装置を複数個、平面上に配置し、この上に直接または間接的に露光対象となる基板を設置するための基台を載置してなるように構成される。 A semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention includes a plurality of the above-described vibration isolation table devices arranged on a plane, and a base on which a substrate to be exposed is placed directly or indirectly. It is comprised so that it may become.
本発明の液晶露光装置は、上記記載の除振台装置を複数個、平面上に配置し、この上に直接または間接的に露光対象となる基板を設置するための基台を載置してなるように構成される。 The liquid crystal exposure apparatus of the present invention has a plurality of vibration isolation table devices described above arranged on a plane, and a base on which a substrate to be exposed is placed directly or indirectly. It is comprised so that it may become.
本発明の除振システムは、上記記載の除振台装置を3個、平面観察で三角形配置するとともに、各除振台装置の垂下板の面が平面観察でX軸−Y軸方向に沿って整列するように配置させ、この上に直接または間接的に基台を載置してなるように構成される。 In the vibration isolation system of the present invention, three of the vibration isolation table devices described above are arranged in a triangle by plane observation, and the surface of the hanging plate of each vibration isolation table device is along the X axis-Y axis direction by plane observation. It arrange | positions so that it may align, and it is comprised so that a base may be mounted directly or indirectly on this.
本発明の半導体製造装置は、上記記載の除振台装置を3個、平面観察で三角形配置するとともに、各除振台装置の垂下板の面が平面観察でX軸−Y軸方向に沿って整列するように配置させ、この上に直接または間接的に露光対象となる基板を設置するための基台を載置してなるように構成される。 In the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention, three of the vibration isolation table devices described above are arranged in a triangle by planar observation, and the surface of the hanging plate of each vibration isolation table device is along the X axis-Y axis direction by plane observation. Arranged so as to be aligned, a base for placing a substrate to be exposed directly or indirectly is placed thereon.
本発明の液晶露光装置は、上記記載の除振台装置を3個、平面観察で三角形配置するとともに、各除振台装置の垂下板の面が平面観察でX軸−Y軸方向に沿って整列するように配置させ、この上に直接または間接的に露光対象となる基板を設置するための基台を載置してなるように構成される。 In the liquid crystal exposure apparatus of the present invention, three of the above-described vibration isolation table devices are arranged in a triangle by plane observation, and the surface of the hanging plate of each vibration isolation table device is along the X axis-Y axis direction by plane observation. Arranged so as to be aligned, a base for placing a substrate to be exposed directly or indirectly is placed thereon.
本発明の除振台装置は、除振台本体と、この除振台本体の側面側に実質的に90度均等割りされた位置にそれぞれ配置された4つのレベリングバルブと、を備え、除振台本体の側面側に配置されたレベリングバルブによって除振台本体の水平方向の変位量を検知するとともに、この検知した変位量データに基づいて水平方向の変位量を修正すべく水平方向流体バネ体の内圧を変化させることによって水平方向への移動を制御するように構成されているので、簡便な機構、かつ安価な装置であって、除振効果に優れ、水平方向への移動を規制することができ、たとえば水平方向への過度の移動による座屈等の不具合の発生を未然に防止することができる。 An anti-vibration table apparatus of the present invention includes an anti-vibration table main body and four leveling valves respectively disposed at positions substantially equally divided by 90 degrees on the side surface side of the anti-vibration table main body. A horizontal fluid spring body is used to detect the amount of horizontal displacement of the vibration isolation table body by a leveling valve disposed on the side surface of the table body and to correct the amount of horizontal displacement based on the detected displacement amount data. Because it is configured to control the movement in the horizontal direction by changing the internal pressure, it is a simple mechanism and an inexpensive device that has excellent vibration isolation effects and regulates the movement in the horizontal direction For example, occurrence of problems such as buckling due to excessive movement in the horizontal direction can be prevented in advance.
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図1〜図5を参照しつつ詳細に説明する。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
図1は、除振台本体と4つのレベリングバルブとを備える本発明の除振台装置の正面図であって、右側半片は除振台本体の断面の状態を示した図面であり、左側半片は除振台本体の要部が現われるように必要に応じて外周の部材を切り欠いた図面である。ただし、紙面の手前側および紙面の奥域側のレベリングバルブの記載は省略してある。 FIG. 1 is a front view of an anti-vibration table apparatus of the present invention having an anti-vibration table main body and four leveling valves, the right half piece showing a cross-sectional state of the anti-vibration table main body, and the left half piece. These are drawings in which members on the outer periphery are cut out as necessary so that the main part of the vibration isolation base body appears. However, the description of the leveling valves on the near side of the page and on the far side of the page is omitted.
図2は図1の除振台装置(除振台本体)を3個、三角形状(トラアングル状)に平面上に配置した状態を示す平面図(除振システム図)である。図3は、図2の正面図に相当する図面であり、配置された除振台装置の上には、基台が載置された状態が示されているとともに、除振台装置の下には載置台が記載されている(関連する他の図面には載置台の記載なし)。レベリングバルブの記載は省略されている。図4は、除振台本体と、この除振台本体の側面側に配置されたレベリングバルブがシステムとして組み合わされた状態を示す正面図である(ただし、紙面の手前側および紙面の奥域側のレベリングバルブの記載は省略してある)。図5はレベリングバルブを説明するための正面図である。 FIG. 2 is a plan view (a vibration isolation system diagram) showing a state in which three vibration isolation table devices (vibration isolation table main bodies) of FIG. FIG. 3 is a view corresponding to the front view of FIG. 2, in which a state where the base is placed is shown above the arranged vibration isolation table device and below the vibration isolation table device. Indicates a mounting table (the mounting table is not described in other related drawings). The description of the leveling valve is omitted. FIG. 4 is a front view showing a state in which the vibration isolation base body and the leveling valve disposed on the side surface side of the vibration isolation base body are combined as a system (however, the front side of the paper and the back side of the paper) The leveling valve is not shown in the table). FIG. 5 is a front view for explaining the leveling valve.
以下、まず最初に除振台装置1の構成について詳細に説明する。
Hereinafter, first, the configuration of the
(除振台装置1の説明)
本発明の除振台装置1は、除振対象物に直接または間接的に敷設され、(1)除振対象物へ対する除振作用および(2)水平方向への過度の移動を規制する作用といった、2つの作用を発現させる機能を備えている。
(Description of the vibration isolation device 1)
The
特に、除振台装置の除振機能を高めるように流体バネの固有振動数を小さくするような仕様設定とした場合には、水平方向に移動しやすくなるためにいわゆる座屈を起こしやすくなる。後者(2)の機能は、このような座屈を防止し、水平方向の制御範囲を逸脱しないように水平方向の移動を規制させる機能である。 In particular, when the specification setting is made to reduce the natural frequency of the fluid spring so as to enhance the vibration isolation function of the vibration isolation table device, so-called buckling is likely to occur because it is easy to move in the horizontal direction. The function of the latter (2) is a function that prevents such buckling and restricts horizontal movement so as not to deviate from the horizontal control range.
本発明における除振台装置1は、図1に示されるように除振台本体10と、この除振台本体10の側面側に実質的に90度均等割りされた位置にそれぞれ配置された4つのレベリングバルブ100とを備えている。ただし、前述したように紙面の手前側および紙面の奥域側のレベリングバルブの記載は省略してある。
As shown in FIG. 1, the vibration
このような除振台装置1は、例えば、図1や図3に示されるように除振対象物を載置する基台4の下に直接または間接的に敷設される。除振台装置1は、例えば、図2に示されるように、通常、載置の安定性を考慮して3つ以上用いられ、好適な位置に適宜、配置される。
Such an
4つのレベリングバルブ100は、後述する各バルブごとの制御方法の理解が容易となるように、図2における平面図の左方位置、前方位置、右方位置、後方位置に配置されたレベリングバルブに対して、それぞれL、F、R、およびBの添え字を便宜上付して区別している。また、同様に後述する各バルブごとの制御方法の理解が容易となるように、図2における左方下位置、右方下位置、後方中央位置に配置された除振台本体10を、それぞれCH1、CH2、およびCH3として区別している。
The four leveling
除振台本体10は、図1に示されるように除振対象物に直接または間接的に接する、例えば略正方形形状の天井板11と、その天井板11の4隅の周縁から垂下する、例えば略四角形状の垂下板20と、これらの天井板11と垂下板20に被せられる基台部30とを備えている。そして、図1に示されるように天井板11の内側面と基台部30との間には、鉛直方向流体バネ体の好適例である布入りのゴム製ベローズ70が介在されており、この布入りのゴム製ベローズ70は、鉛直方向の荷重を支えるように配置されている。
As shown in FIG. 1, the anti-vibration table
布入りのゴム製ベローズ70は、2〜5段の多段、特に2〜4段、さらには2〜3段のベローズ構造のものが好ましい(図面においては3段のベローズ構造が示されている)。ベローズ構造が2段未満となると横方向(図2のXY方向)のバネ定数が大きくなり、除振台装置の横方向の固有振動数が高くなるという不都合が生じる傾向がある。また、段数が5段を超えて多くなり過ぎると、極めて容易に座屈を生じやすくなるという不都合が生じる傾向がある。 The rubber bellows 70 with cloth preferably has a multi-stage structure of 2 to 5 stages, particularly 2 to 4 stages, and more preferably 2 to 3 stages (a 3-stage bellows structure is shown in the drawing). . When the bellows structure is less than two stages, the spring constant in the lateral direction (XY direction in FIG. 2) increases, and there is a tendency that the natural frequency in the lateral direction of the vibration isolation table device increases. Further, if the number of steps exceeds 5 and becomes too large, there is a tendency that inconvenience that buckling easily occurs very easily.
本発明で用いる布入りのゴム製ベローズ70は、例えば、半加硫のゴム成形体にポリエステルなどで形成された布(好ましくは所定形状にプレフォーミングされた布)をゴム成形体表面に押圧・埋設し、その後、加硫することによって製造することができる。このような布入りのゴム製ベローズ70の厚さは、0.15〜1.8mm、好ましくは0.4〜1.5mmとされる。この値が1.8mmを超えると、膜の剛性が上りヒステリシスが大きくなる傾向が生じる。そして、繰り返し曲げにより発生する膜の内部応力が大きくなり、耐久性が低下するという不都合が生じる傾向にある。また、この値が0.15mm未満となると、使用する基布(布)が薄くなるため、(1)耐圧性がなくなる、(2)膜厚に占める基布厚の割合が増加するため膜としてのシール性が低下する、(3)突起物に接触した時破損し易くなり耐久性に乏しくなるという問題が生じる傾向がある。 The rubber bellows 70 with a cloth used in the present invention is formed by, for example, pressing a cloth (preferably a cloth pre-formed into a predetermined shape) formed of a polyester into a semi-vulcanized rubber molded body on the surface of the rubber molded body. It can be manufactured by embedding and then vulcanizing. The thickness of the rubber bellows 70 with such cloth is 0.15 to 1.8 mm, preferably 0.4 to 1.5 mm. If this value exceeds 1.8 mm, the rigidity of the film increases and the hysteresis tends to increase. And the internal stress of the film | membrane which generate | occur | produces by repeated bending becomes large, and there exists a tendency for the problem that durability falls. Moreover, when this value is less than 0.15 mm, the base fabric (cloth) to be used becomes thin, so that (1) pressure resistance is lost, (2) the proportion of the base fabric thickness in the film thickness increases, so (3) It tends to be broken when it comes into contact with the projection, resulting in a problem that the durability is poor.
このような布入りのゴム製ベローズ70を上記のごとく天井板11の内側面と基台部30との間に介在させることによって、鉛直方向の荷重をうけることができ、主として鉛直方向の除振効果を発現させることができる。このような布入りのゴム製ベローズ70を用いることによって、装置全体の小型化を図ることができる。
By interposing such a cloth-filled rubber bellows 70 between the inner surface of the
なお、略円盤形状の布入りのゴム製ベローズ70は、図1に示されるように、第1の固定部材75a,75bおよび第2の固定部材76a,76bを介して、天井板11の内側面と基台部30とにそれぞれ固定される。また、布入りのゴム製ベローズ70の内部の作動空間S1は、基台部30の内部に形成された流体室35と連通されている。このような流体室35を設けることによって、内容積を大きくすることができ、バネ定数および固有振動数を小さくすることができる。流体室35は装置内部の形成に限定されるものではない。別途、装置の外部に連通させた状態で設置することもできる。
As shown in FIG. 1, the rubber bellows 70 with a substantially disc-shaped cloth is provided on the inner surface of the
このような布入りのゴム製ベローズ70に代えて、いわゆるローリングダイヤフラムやダイヤフラムを用いても良い。ローリングダイヤフラムは、作動膜(ローリング作動膜)機能を備えたダイヤフラムであり、例えば、シリンダ部とピストン部との間の転動によりローリング移動できるようになっており、このものによって鉛直方向の実質的な荷重が支えられている。ローリング作動膜は、いわゆる『ダイヤフラム』と呼ばれる有底の略円筒形状のものであって、折り返し装着により、長いストロークと深い折り返し部(convolution)を持ち、作動中にその有効受圧面積が一定不変に保たれる略円筒形のダイアフラムである。すなわち、作動膜は折り返し部を備え、ローリング作動膜面に圧力が働くと膜面の大部分はシリンダ壁とピストン壁に押し付けられ、残りの折り返し底部が圧力による引張り応力により圧力バランスが保たれるようになっている。 A so-called rolling diaphragm or diaphragm may be used instead of the rubber bellows 70 with cloth. A rolling diaphragm is a diaphragm having a function of a working membrane (rolling working membrane). For example, a rolling diaphragm can be moved by rolling between a cylinder portion and a piston portion. Load is supported. The rolling operation membrane is a so-called `` diaphragm '' with a bottomed, generally cylindrical shape, which has a long stroke and deep convolution due to folding, and its effective pressure receiving area remains constant during operation. It is a substantially cylindrical diaphragm that is maintained. That is, the working membrane has a folded portion, and when pressure is applied to the rolling working membrane surface, most of the membrane surface is pressed against the cylinder wall and the piston wall, and the remaining folded bottom portion is maintained in a pressure balance by tensile stress due to pressure. It is like that.
図1に示されるごとく本発明における垂下板20の内側面と基台部30との間には、水平方向流体バネ体の好適例として布入りのゴム製ベローズ80が介在されている。この布入りのゴム製ベローズ80は前述した布入りのゴム製ベローズ70と同様な構造であり、水平方向の荷重を支えるように配置されている。
As shown in FIG. 1, a cloth-filled rubber bellows 80 is interposed between the inner side surface of the hanging
この布入りのゴム製ベローズ80によって、水平方向の荷重をうけることができ、主として水平方向の除振効果を発現させることができる。また、装置全体の小型化にも寄与できる。このような略円盤形状の布入りのゴム製ベローズ80は、図1に示されるように、第1の固定部材85a,85bおよび第2の固定部材86a,86bを介して、垂下板20の内側面と基台部30とにそれぞれ固定される。また、布入りのゴム製ベローズ80の内部の作動空間S2は、基台部30の内部に開けられた通気孔31を介して、流体室36と連通されている。このような流体室36を設けることによって、内容積を大きくすることができ、バネ定数および固有振動数を小さくすることができる。
This cloth-filled rubber bellows 80 can receive a load in the horizontal direction, and can mainly exhibit a horizontal vibration isolation effect. It can also contribute to the miniaturization of the entire apparatus. Such a substantially bell-shaped cloth-filled rubber bellows 80, as shown in FIG. 1, is provided on the inside of the hanging
また、本発明における布入りのゴム製ベローズ80の内部の作動空間S2は、図面では明示していないが、後述するようにレベリングバルブ100に連動して所望の作動流体の出入りが可能なように外部圧力源と連通されている。この構成は特に重要である。そして、レベリングバルブによって検知された水平方向の変位量に応じて、所定の圧力に制御されるようになっている。これについては、後に詳述する。
In addition, the working space S2 inside the cloth-filled rubber bellows 80 in the present invention is not clearly shown in the drawing. However, as will be described later, a desired working fluid can enter and exit in conjunction with the leveling
布入りのゴム製ベローズ80の厚さ、段数、製造方法は、上記布入りのゴム製ベローズ70のところで説明したのと同様にすればよい。また、布入りのゴム製ベローズ80に代えて、いわゆるローリングダイヤフラムやダイヤフラムを使用することができる。 The thickness, the number of steps, and the manufacturing method of the cloth-filled rubber bellows 80 may be the same as those described for the cloth-filled rubber bellows 70. Further, a so-called rolling diaphragm or diaphragm can be used in place of the rubber bellows 80 with cloth.
また、本発明の実施の形態では、垂下板20は、天井板11の周縁から4枚、垂下しており、各々の垂下板20の内側面と基台部30との間に布入りのゴム製ベローズ80がそれぞれ介在されている。1つの除振台装置につき、その側面に4つ配置されている布入りのゴム製ベローズ80は、後述する各バルブごとの制御方法の理解が容易となるように、図2における平面図の左方位置、前方位置、右方位置、後方位置に配置されたレベリングバルブに対して、それぞれL、F、R、およびBの添え字を便宜上付して区別している。
Further, in the embodiment of the present invention, four hanging
本発明における除振台装置1は、上述したように除振台本体10の側面側に実質的に90度均等割りされた位置に4つのレベリングバルブ100が配置されている(図2参照)。すなわち、本発明の実施形態において、天井板11の周縁から垂下する垂下板20は、例えば略四角形状に形成されており、これらの垂下する垂下板20によって、略四角柱体が形成されている。そして、この略四角柱体を構成する垂下板に対して略垂直方向にレベリングバルブの変位量を検出するための検出部位101が当接するように構成されている(図1参照)。本発明で「実質的に90度均等割りされた位置」と表現しているのは、厳密な意味での90度が要求されるのではなく、本発明の作用効果が発現し得る範囲での角度ずれが許容できるという趣旨である。また、垂下板20は、四角形状に限定されることなく、種々の形態を採択することが可能である。また、部分的に切り欠き部等を形成しても良い。
In the vibration
次いで、本発明で用いられるレベリングバルブ100の構造および作用について、図5を参照して簡単に説明しておく。
Next, the structure and operation of the leveling
本発明におけるレベリングバルブ100は、図5に示されるようにレベリング調整のための圧力制御を行なうとともに実質的な作用点(作用点部位191)となる主軸作動バー112を備えるバルブ本体110と、このバルブ本体110に取り付けられるとともに実質的に主軸作動バー112の軸方向への移動作用を行なわせるように支点部位180および力点部位195を有するアーム190とを有している。符号101は、前述したように垂下板20と当接する検出部位101である。
As shown in FIG. 5, the leveling
図1と図5との配置関係において、配置バルブ本体110は、図5に示される主軸αの方向が図1における実質的な水平方向(図面の横軸方向)となるように除振台本体10に対して配置されている。ここで実質的に水平と記載しているのは、本発明の作用・効果が発現できる範囲をすべて含む許容範囲のある水平という意味である。さらに、バルブ本体110の構造および作用について図6〜図8を参照しつつ詳述する。
In the arrangement relationship between FIG. 1 and FIG. 5, the
(バルブ本体110の構成の説明)
図6〜図8は、それぞれ、レベリングバルブ100のバルブ本体110の内部を示す断面図であるとともに、動作を説明するための図面である。
(Description of the configuration of the valve body 110)
6 to 8 are sectional views showing the inside of the valve
図6に示されるバルブ本体110は、図1に示される左側に位置するレベリングバルブ100を90度右旋回させた状態で描かれており、図6の縦方向が図1の水平方向に対応している。
The
図6に示されるようにバルブ本体110は、その主軸方向に沿って内装配置された主軸作動バー112、排気弁機構部、および主弁機構部を有している。
As shown in FIG. 6, the valve
主弁機構部は、弁棒130に形成された主弁部131(図示の例ではOリング)と、これに対向するように主弁部材140に形成された主弁シート部141(弁座)の離接動作によって、弁の開閉が行われるようになっている。すなわち、主弁機構部は、バルブ本体110に形成された一次側配管口121に連通される一次側流体F1と、バルブ本体110に形成された二次側配管口125に連通される二次側流体F2との流通のオンーオフ作用をなしている。なお、主弁部材140を内側から押圧して固定している固定リング145は、弁棒130の外面と僅かな隙間を形成した状態で挿通されている。二次側流体F2は、ベローズ80の内部空間と連通している(図6参照)。
The main valve mechanism section includes a main valve section 131 (O-ring in the illustrated example) formed on the
排気弁機構部は、弁棒130に形成された先端湾曲状の排気弁部135と、排気弁部材114に形成された排気弁シート部114a(弁座)の離接動作によって、弁の開閉が行われるようになっている。すなわち、排気弁機構部は、バルブ本体110に形成された二次側配管口125に連通される二次側流体F2と、バルブ本体に110形成された排気口129に通じる外部雰囲気F3との流通のオン−オフ作用をなしている。
The exhaust valve mechanism portion opens and closes by opening / closing the
また、バルブ本体110には、一次側配管口121と二次側配管口125を連通させるに際して介在される内部空間エリアPが形成されている。この内部空間エリアPは、二次側配管口125と排気口129を連通するに際して介在される内部空間エリアPでもある。
このような内部空間エリアPと一次側配管口121とを連通させる途中の主軸方向には、前述したように主弁部131および排気弁部135を有する弁棒130と、主弁シート部141を備える主弁部材140とが介在されている。
In addition, the
As described above, the
主弁部材140は弁座として機能を有するために、固定された状態にあり、この主弁部材140の内部に弁棒130の一部が挿通された形態が採られている。弁棒130は、その下部フランジ132に係合された主弁バネ133によってシールを可能とする主軸方向(図面の上方方向)に付勢されている。
Since the
また、内部空間エリアPには、主軸作動バー112の一端(図面の下側端)に固定された排気弁シート部114aを有する排気弁部材114が形成されている。このような排気弁部材114および主軸作動バー112は、図示のごとくその内部に中間内部空間Pと外部雰囲気F3(排気口129)を連通させることができる連通孔が形成されている。また、排気弁部材114と主弁部材140との間には、排気弁部材114を弁棒130から離すように、図面の上方方向に付勢する排気バネ116が介在されている。
In the internal space area P, an
主軸作動バー112は、主軸方向(図面の上下方向)に摺動可能になっており、この主軸作動バー112の他端部(上方部)の延長線は、実質的に作用点部位191と同じ位置となり、アーム190と当接している。
The main
バルブ本体110の一次側配管口121に連通される一次側流体F1は、例えば、図4に示されるように流体圧力源102、減圧弁103を介して供給された流体である(符号104は圧力計)。この一方で、二次側配管口125に連通される二次側流体F2は前述したようにゴム製ベローズ80の内部と連通しており、ゴム製ベローズ80の内圧が制御されるようになっている。除振システムの全体の構成については、後述する。
The primary side fluid F1 communicated with the primary
以下、このような構成を備えるバルブ本体110の動作の一例を図6〜図8を参照しつつ説明する。
Hereinafter, an example of the operation of the
(バルブ本体110の動作説明)
図6に示されるようにアーム190がニュートラル位置にある時には、主弁部131は主弁バネ133より上方に押されて閉じている。そのため、内部空間エリアPを介して一次側流体F1から二次側流体F2への流体の流れはない。
(Explanation of operation of valve body 110)
As shown in FIG. 6, when the
この時、排気弁シート部114a(排気弁部材114)は排気バネ116に押されて上方に移動しており、弁棒130の排気弁部135とは接触していない。そのため、二次側流体F2は、排気弁部135と排気弁シート部114aの間を通り、排気口129を経由して、大気である外部雰囲気F3に放出される。このような作用によって、二次側流体F2の圧力は減少する。
At this time, the exhaust
次いで、図7に示されるようにアーム190が外力により押されて、作用点部位が下方に移動すると主軸作動バー112とともに排気弁シート部114a(排気弁部材114)が下方に押されて移動する。
Next, as shown in FIG. 7, when the
排気弁シート部114aが排気弁部135と接触する位置まで移動すると、二次側流体F2の圧力室と排気口129との間の連通が遮断されるために、二次側流体F2は大気である外部雰囲気F3に放出されなくなる。つまり、二次側流体F2の圧力低下は止まる。この状態を示す図7の状態(アーム190の位置)は、バルブとしてバランス状態にあり、流体の二次側への流入、二次側流体F2の排気口129を介して大気である外部雰囲気F3の放出もない。
When the exhaust
次いで、図8に示されるようにアーム190がさらに下方に押されると、主軸作動バー112を介して排気弁シート部114a(排気弁部材114)と排気弁部135が一体となったまま、弁棒130を下方に移動させる。
Next, as shown in FIG. 8, when the
すると、いままで密着していた主弁シート部141と主弁部131が分離するために、一次側流体F1の圧力室と二次側流体F2の圧力室が弁棒130の外面と僅かな隙間および内部空間エリアPを介して連通し、一次側流体F1が二次側流体F2に流れ込み二次側の圧力が上昇する。この時、排気弁シート部114aと排気弁部135は一体のままであり排気弁は閉じた状態となっているので、一次側流体F1は排気口129から大気である外部雰囲気F3に放出されることはない。
Then, since the main
このように二次側に流体が供給され、二次側流体F2の圧力が上昇すると、二次側流体F2と連通するゴム製ベローズ80(図4参照)の内圧が高くなるように作用する。 When the fluid is thus supplied to the secondary side and the pressure of the secondary side fluid F2 increases, the internal pressure of the rubber bellows 80 (see FIG. 4) communicating with the secondary side fluid F2 acts to increase.
図2や図4に示されるように除振台本体10の4つの側面にそれぞれ配置されたレベリングバルブを介してレベリングバルブに対応する位置に配置された各々のゴム製ベローズ80の内圧を調整制御することによって、除振台本体が水平方向へ過度に移動して座屈を起こすことを防止することができる。
As shown in FIG. 2 and FIG. 4, the internal pressure of each rubber bellows 80 arranged at the position corresponding to the leveling valve is adjusted and controlled via the leveling valves respectively arranged on the four side surfaces of the vibration
レベリングバルブ100は、その検出部位が垂下板20と当接しつつ除振台本体10の水平方向への移動量をセンシングするとともにその移動量に応じて、適宜、ゴム製ベローズ80の内部へ作動圧力流体を供給したり、減じたりするように作用している。除振対象物としては、例えば、液晶露光装置や半導体製造装置などのベース板(基台)が好適例として例示される。液晶露光装置の概略全体図が図9に示される。図9において、水平配置を維持したい基台200(レベリング対象物と同じ)の上には、プレートステージ210、液晶基板211が配置され、この上部に投影レンズ系212、マスクステージ213、マスク214、および光源215が配置される。また、基台200の下部には、本発明の除振台装置が所定位置に複数個、配置される。
The leveling
(本発明の除振台装置を使用する除振システムの構成および動作説明)
本発明の除振台装置を使用する除振システムは、以下の要件が基本となる。
(Configuration and operation explanation of vibration isolation system using vibration isolation device of the present invention)
A vibration isolation system using the vibration isolation device of the present invention is based on the following requirements.
すなわち、(1)除振台装置は略四角柱形態をなし、その各側面(垂下板)に対して側面(垂下板)の水平方向の動きを検知することができるレベリングバルブを備えていること、(2)除振台装置の側面内部には、水平方向流体バネ体が配置されており、レベリングバルブを介して除振台本体の水平方向の変位量を検知するとともに、この検知した変位量データに基づいて水平方向の変位量を修正すべく水平方向流体バネ体の内圧を変化させることができるようになっていること、(3)除振台装置を複数個、平面上に配置し、各除振台装置の垂下板の面が平面観察(例えば、上方から下方を見る観察)で、X軸−Y軸方向に沿って整列するように配置させていること、より好ましくは、除振台装置を3個、平面観察で三角形配置するとともに、各除振台装置の垂下板の面が平面観察でX軸−Y軸方向に沿って整列するように配置させ、この上に直接または間接的に基台を載置させる構造とされる。 That is, (1) the vibration isolation table device has a substantially quadrangular prism shape and is provided with a leveling valve that can detect the horizontal movement of the side surface (the hanging plate) with respect to each side surface (the hanging plate). (2) A horizontal fluid spring body is disposed inside the side surface of the vibration isolation table device, and the horizontal displacement amount of the vibration isolation table main body is detected via the leveling valve. The internal pressure of the horizontal fluid spring body can be changed to correct the amount of horizontal displacement based on the data. (3) A plurality of vibration isolation table devices are arranged on a plane. The surface of the hanging plate of each vibration isolation table device is arranged so as to be aligned along the X-axis-Y-axis direction by plane observation (for example, observation looking downward from above), more preferably vibration isolation. When three base devices are arranged in a triangle by plane observation In addition, the surface of the hanging plate of each vibration isolation table device is arranged so as to be aligned along the X-axis-Y-axis direction in a planar observation, and the base is placed directly or indirectly thereon. .
具体的な制御方法の一例を図2に示される除振台装置の配置について説明すると、下記表1のような制御方法となる。なお、図2の平面図においては、表1中の記載の簡便性からいわゆるX−Y軸表示と、東-西-南-北表示の2通りの表示方法を示している。Y軸(+)が北、Y軸(−)が南、X軸(+)が東、X軸(−)が西、にそれぞれ相当する。 An example of a specific control method will be described with respect to the arrangement of the vibration isolation device shown in FIG. In the plan view of FIG. 2, so-called XY axis display and two display methods of east-west-south-north display are shown for the convenience described in Table 1. The Y axis (+) corresponds to the north, the Y axis (−) corresponds to the south, the X axis (+) corresponds to the east, and the X axis (−) corresponds to the west.
表1に示されるように、
(1)+Y方向へ移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、前方位置Fのベローズの内圧を高めて(+)、後方位置Bのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。
As shown in Table 1,
(1) As a correction method when moving too much in the + Y direction, increase the internal pressure of the bellows at the front position F (+) for all the vibration isolation base bodies of CH1 to CH3, respectively. Control the internal pressure to be low (-).
(2)−Y方向へ移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、後方位置Bのベローズの内圧を高めて(+)、前方位置Fのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (2) As a correction method in the case of moving too much in the -Y direction, the internal pressure of the bellows at the rear position B is increased (+) for all the vibration isolation base bodies CH1 to CH3, respectively, and the bellows at the front position F The internal pressure is controlled to be low (−).
(3)+X方向へ移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、左方位置Lのベローズの内圧を高めて(+)、右方位置Rのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (3) As a correction method when moving too much in the + X direction, the internal pressure of the bellows at the left position L is increased (+) for all the vibration isolation base bodies of CH1 to CH3, respectively. Control the internal pressure of the bellows to be low (-).
(4)−X方向へ移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、右方位置Rのベローズの内圧を高めて(+)、左方位置Lのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (4) As a correction method when moving too much in the −X direction, the internal pressure of the bellows at the right position R is increased (+) and the left position L for all the vibration isolation base bodies CH1 to CH3. The internal pressure of the bellows is controlled to be low (−).
(5)北東方向に移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、左方位置Lおよび前方位置Fのベローズの内圧を高めて(+)、右方位置Rおよび後方位置Bのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (5) As a correction method when moving too far in the northeast direction, increase the internal pressure of the bellows at the left position L and the front position F for all the vibration isolation base bodies of CH1 to CH3 (+), right The internal pressure of the bellows at the side position R and the rear position B is controlled to be lowered (-).
(6)北西方向に移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、右方位置Rおよび前方位置Fのベローズの内圧を高めて(+)、左方位置Lおよび後方位置Bのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (6) As a correction method when moving too much in the northwest direction, the internal pressures of the bellows at the right position R and the front position F are increased (+) and left for all the vibration isolation base bodies of CH1 to CH3, respectively. The internal pressure of the bellows at the side position L and the rear position B is controlled to be lowered (−).
(7)南東方向に移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、左方位置Lおよび後方位置Bのベローズの内圧を高めて(+)、右方位置Rおよび前方位置Fのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (7) As a correction method when moving too far in the southeast direction, increase the internal pressure of the bellows at the left position L and the rear position B for all the vibration isolation main bodies of CH1 to CH3 (+), right The internal pressure of the bellows at the forward position R and the forward position F is controlled to be low (−).
(8)南西方向に移動し過ぎた場合の修正方法として、CH1〜CH3の全ての除振台本体について、それぞれ、右方位置Rおよび後方位置Bのベローズの内圧を高めて(+)、左方位置Lおよび前方位置Fのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (8) As a correction method when moving too far in the southwest direction, increase the internal pressure of the bellows at the right position R and the rear position B for all the vibration isolation base bodies of CH1 to CH3 (+), left The internal pressure of the bellows at the forward position L and the forward position F is controlled to be low (−).
(9)時計回り方向へ回転し過ぎた場合の修正方法として、CH1の除振台本体についは、前方位置Fのベローズの内圧を高めて(+)、後方位置Bのベローズの内圧を低くし(−)、CH2の除振台本体についは、後方位置Bのベローズの内圧を高めて(+)、前方位置Fのベローズの内圧を低くし(−)、CH3の除振台本体についは、左方位置Lのベローズの内圧を高めて(+)、右方位置Rのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (9) As a correction method when rotating in the clockwise direction too much, the internal pressure of the bellows at the front position F is increased (+) and the internal pressure of the bellows at the rear position B is lowered for the main body of the vibration isolator of CH1. (-) For the CH2 anti-vibration table main body, increase the internal pressure of the bellows at the rear position B (+) and lower the internal pressure of the bellows at the front position F (-). Control is performed such that the internal pressure of the bellows at the left position L is increased (+) and the internal pressure of the bellows at the right position R is decreased (−).
(10)反時計回り方向へ回転し過ぎた場合の修正方法として、CH1の除振台本体についは、後方位置Bのベローズの内圧を高めて(+)、前方位置Fのベローズの内圧を低くし(−)、CH2の除振台本体についは、前方位置Fのベローズの内圧を高めて(+)、後方位置Bのベローズの内圧を低くし(−)、CH3の除振台本体についは、右方位置Rのベローズの内圧を高めて(+)、左方位置Lのベローズの内圧を低くする(−)ように制御する。 (10) As a correction method in the case of excessive rotation in the counterclockwise direction, the internal pressure of the bellows at the rear position B is increased (+) and the internal pressure of the bellows at the front position F is lowered for the main body of the vibration isolator of CH1. (-) For the main body of the vibration isolation table at CH2, increase the internal pressure of the bellows at the front position F (+), and decrease the internal pressure of the bellows at the rear position B (-). The internal pressure of the bellows at the right position R is increased (+), and the internal pressure of the bellows at the left position L is decreased (−).
以上、詳述したように、本発明の除振台装置は、除振台本体と、この除振台本体の側面側に実質的に90度均等割りされた位置にそれぞれ配置された4つのレベリングバルブと、を備え、除振台本体の側面側に配置されたレベリングバルブによって除振台本体の水平方向の変位量を検知するとともに、この検知した変位量データに基づいて水平方向の変位量を修正すべく水平方向流体バネ体の内圧を変化させることによって水平方向への移動を制御するように構成されているので、簡便な機構、かつ安価な装置であって、除振効果に優れ、水平方向への移動を規制することができ、たとえば水平方向への過度の移動による座屈等の不具合の発生を未然に防止することができる。 As described above in detail, the vibration isolation table apparatus of the present invention includes the vibration isolation table main body and the four leveling units arranged at positions substantially equally divided by 90 degrees on the side surface side of the vibration isolation table main body. And a horizontal displacement amount of the vibration isolation table body is detected by a leveling valve disposed on the side surface side of the vibration isolation table body, and the horizontal displacement amount is determined based on the detected displacement amount data. Since it is configured to control the movement in the horizontal direction by changing the internal pressure of the horizontal fluid spring body to be corrected, it is a simple mechanism and an inexpensive device with excellent vibration isolation effect, The movement in the direction can be restricted, and for example, occurrence of problems such as buckling due to excessive movement in the horizontal direction can be prevented.
本発明の除振台装置は、精密機器等において床からの微振動や装置本体から起こる自励振動を抑制するための除振台装置であり、各種の精密機器駆動装置を使用しつつ除振が必要となる産業に広く利用することができる。 The vibration isolator apparatus of the present invention is a vibration isolator apparatus for suppressing fine vibrations from the floor and self-excited vibrations generated from the apparatus main body in precision instruments and the like, and is used for vibration isolation while using various precision instrument drive devices. Can be widely used in industries that require
1…除振台装置
10…除振台本体
11…天井板
20…垂下板
30…基台部
70…鉛直方向流体バネ
80…水平方向流体バネ
100…レベリングバルブ
112…主軸作動バー
114…排気弁部材
114a…排気弁シート部
116…排気バネ
121…一次側配管口
125…二次側配管口
129…排気口
130…弁棒
131…主弁部
133…主弁バネ
135…排気弁部
140…主弁部材
141…主弁シート部
180…支点部位(支点)
190…アーム
191…作用点部位(作用点)
195…力点部位(力点)
DESCRIPTION OF
190 ...
195 ... Power point part (power point)
Claims (13)
該除振台装置は、除振台本体と、この除振台本体の側面側に実質的に90度均等割りされた位置にそれぞれ配置された4つのレベリングバルブと、を備えており、
前記除振台本体は、除振対象物に直接または間接的に接する天井板と、その天井板の周縁から垂下する垂下板と、これらの天井板と垂下板に被せられる基台部とを備え、
前記天井板の内側面と基台部との間には、鉛直方向流体バネ体が介在されており、
前記垂下板の内側面と基台部との間には、前記4つのレベリングバルブの配置位置に合わせて実質的に90度均等割り配置された4つの水平方向流体バネ体が介在されており、
前記除振台本体の側面側に配置されたレベリングバルブによって除振台本体の水平方向の変位量を検知するとともに、この検知した変位量データに基づいて水平方向の変位量を修正すべく前記水平方向流体バネ体の内圧を変化させることによって水平方向への移動を制御してなることを特徴とする除振台装置。 An anti-vibration table device that is laid directly or indirectly on an object to be anti-vibrated, and that regulates the anti-vibration object and the movement in the horizontal direction,
The anti-vibration table device includes an anti-vibration table main body and four leveling valves respectively disposed at positions substantially equally divided by 90 degrees on the side surface side of the anti-vibration table main body,
The vibration isolation base body includes a ceiling plate that directly or indirectly contacts a vibration isolation object, a hanging plate that hangs down from a peripheral edge of the ceiling plate, and a base portion that covers the ceiling plate and the hanging plate. ,
Between the inner surface of the ceiling plate and the base portion, a vertical fluid spring body is interposed,
Between the inner surface of the drooping plate and the base portion, four horizontal fluid spring bodies are disposed that are substantially equally divided by 90 degrees according to the arrangement position of the four leveling valves,
The horizontal displacement amount of the vibration isolation base body is detected by a leveling valve disposed on the side surface side of the vibration isolation base body, and the horizontal displacement amount is corrected based on the detected displacement amount data. An anti-vibration table apparatus characterized by controlling movement in a horizontal direction by changing an internal pressure of a directional fluid spring body.
前記垂下板の内側面と基台部との間に介在される水平方向流体バネ体は、主として水平方向の荷重を支えるように配置されてなる請求項1記載の除振台装置。 The vertical fluid spring body interposed between the inner surface of the ceiling board and the base is mainly arranged to support a load in the vertical direction,
2. The vibration isolation table device according to claim 1, wherein the horizontal fluid spring body interposed between the inner surface of the hanging plate and the base portion is disposed so as to mainly support a horizontal load.
前記水平方向流体バネ体は、ベローズ、ローリングダイヤフラム、またはダイヤフラムである請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の除振台装置。 The vertical fluid spring body is a bellows, a rolling diaphragm, or a diaphragm,
The vibration isolator apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the horizontal fluid spring body is a bellows, a rolling diaphragm, or a diaphragm.
前記水平方向流体バネ体は、ベローズである請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の除振台装置。 The vertical fluid spring body is a bellows or a rolling diaphragm,
The vibration isolator apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the horizontal fluid spring body is a bellows.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005229136A JP2007046632A (en) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | Vibration isolating base device and vibration isolating system using it |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005229136A JP2007046632A (en) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | Vibration isolating base device and vibration isolating system using it |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007046632A true JP2007046632A (en) | 2007-02-22 |
Family
ID=37849623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005229136A Withdrawn JP2007046632A (en) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | Vibration isolating base device and vibration isolating system using it |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007046632A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011074930A (en) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Kurashiki Kako Co Ltd | Control valve driving mechanism |
JP2012026547A (en) * | 2010-07-27 | 2012-02-09 | Kurashiki Kako Co Ltd | Driving mechanism of control valve |
-
2005
- 2005-08-08 JP JP2005229136A patent/JP2007046632A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011074930A (en) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Kurashiki Kako Co Ltd | Control valve driving mechanism |
JP2012026547A (en) * | 2010-07-27 | 2012-02-09 | Kurashiki Kako Co Ltd | Driving mechanism of control valve |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6264479B2 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
KR102411747B1 (en) | Substrate-holding apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2004063653A (en) | Vibration isolator, stage apparatus, and aligner | |
ATE399281T1 (en) | FLOW CONTROL VALVE AND FLOW CONTROL DEVICE | |
WO2006009254A1 (en) | Support device, stage device, exposure device, and device manufacturing method | |
JPWO2006009064A1 (en) | Support method and support structure for optical member, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP5001343B2 (en) | Fluid extraction system, immersion lithographic apparatus, and method for reducing pressure fluctuations of an immersion liquid used in an immersion lithographic apparatus | |
TWI815329B (en) | A method of clamping a substrate to a clamping system, a substrate holder and a substrate support | |
TWI815073B (en) | Suction clamp, object handler, stage apparatus and lithographic apparatus | |
JP2007046632A (en) | Vibration isolating base device and vibration isolating system using it | |
US20070246871A1 (en) | Vibration Isolation Table Device | |
JP2022544905A (en) | Substrate holder, lithographic apparatus and method | |
JP3963805B2 (en) | Fine movement device | |
JP2006220442A (en) | Leveling valve device | |
US11092170B2 (en) | Dual valve fluid actuator assembly | |
JP4080854B2 (en) | Vibration isolation device | |
JP4486521B2 (en) | Leveling adjustment device | |
CN115066656A (en) | Substrate table and method of handling a substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081104 |