JP2007043122A - Light emitting element, light emitting device and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting element and a light emitting device in which power consumption is reduced furthermore and driving voltage is lowered. <P>SOLUTION: The light emitting element comprises a first electrode, a first compound layer formed on the first electrode, a second compound layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a second electrode. The first and second compound layers contain a metal oxide and an organic compound wherein the concentration of metal oxide in the first compound layer is set higher than that in the second compound layer thus obtaining the light emitting element having a low driving voltage. The compound layers are not limited to two layers but a multilayer structure may be employed. But the concentration of metal oxide in the compound layers increases sequentially from the light emitting layer to the first electrode side. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は一対の電極の間に有機化合物を含む層を有する発光素子及び当該発光素子を用いた発光装置に関する。   The present invention relates to a light-emitting element having a layer containing an organic compound between a pair of electrodes, and a light-emitting device using the light-emitting element.

近年、自発光型の発光素子としてエレクトロルミネッセンス素子を有する発光装置の研究、開発が進められている。なかでも、有機化合物を含む層が電界を加えることで発光する、いわゆる有機エレクトロルミネッセンス素子を利用した発光装置は、動画表示に適した速い応答速度、低電圧駆動、低消費電力駆動などの特徴を有しているため、携帯電話や携帯情報端末(PDA)をはじめとする次世代のディスプレイとして注目されている。   In recent years, research and development of a light-emitting device having an electroluminescence element as a self-luminous light-emitting element has been advanced. In particular, a light-emitting device using a so-called organic electroluminescence element that emits light when an electric field is applied to a layer containing an organic compound has features such as a fast response speed suitable for moving image display, low-voltage driving, and low power consumption driving. Therefore, it is attracting attention as a next-generation display including a mobile phone and a personal digital assistant (PDA).

上述した発光素子は、一対の電極(陽極と陰極)間に発光物質を含む層を挟んでなり、その発光機構は、両電極間に電圧を印加した際に陽極から注入されるホール(正孔)と、陰極から注入される電子とが、発光物質を含む層中の発光中心で再結合して分子励起子を形成し、その分子励起子が基底状態に戻る際にエネルギーを放出して発光すると言われている。なお、励起状態には一重項励起と三重項励起が知られ、発光はどちらの励起状態を経ても可能であると考えられている。   The light-emitting element described above includes a layer containing a light-emitting substance between a pair of electrodes (anode and cathode). The light-emitting mechanism is a hole (hole) injected from the anode when a voltage is applied between the electrodes. ) And electrons injected from the cathode recombine at the luminescent center in the layer containing the luminescent material to form molecular excitons, and emit light when the molecular excitons return to the ground state. It is said that. Note that singlet excitation and triplet excitation are known as excited states, and light emission is considered to be possible through either excited state.

最近では、駆動電圧の改善にも著しい進歩が見られ、たとえば5酸化バナジウムや7酸化2レニウムなどの金属酸化物と有機化合物との複合層をホール注入層とすることで、陽極から有機化合物層へのホール注入時におけるエネルギー障壁を低下することが可能になっている(特許文献1参照)。
特開2005−123095号公報
Recently, remarkable progress has been made in improving driving voltage. For example, by using a composite layer of a metal oxide such as vanadium pentoxide or dirhenium pentoxide and an organic compound as a hole injection layer, the organic compound layer can be formed from the anode. It is possible to lower the energy barrier at the time of hole injection into (see Patent Document 1).
JP 2005-123095 A

ところで、有機物質を含む発光素子は潜在的に液晶を下回る消費電力で駆動することができる可能性を有しているが、未だ改良の余地を多く残しており、さらなる低消費電力化が望まれている。   By the way, a light-emitting element containing an organic substance has the potential to be driven with power consumption potentially lower than that of a liquid crystal. However, there is still much room for improvement, and further reduction in power consumption is desired. ing.

特許文献1に記載の発光素子は有機化合物のみからなるホール輸送層を有している。しかしながら、このようなホール輸送層に用いられる材料はある程度の導電性を有しているとはいえ、その抵抗は低いとは言い難い。   The light emitting element described in Patent Document 1 has a hole transport layer made of only an organic compound. However, although the material used for such a hole transport layer has a certain degree of conductivity, it is difficult to say that its resistance is low.

そこで、本発明では、より消費電力が低い発光素子及び発光装置を提供することを課題とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a light-emitting element and a light-emitting device with lower power consumption.

上記目的を達成するために本発明は以下の手段を講じる。   In order to achieve the above object, the present invention takes the following measures.

一対の電極と、前記一対の電極間に狭持された複数の層とを有する発光素子であって、前記複数の層は少なくとも発光層と、前記一対の電極の一方と前記発光層との間に金属酸化物及び有機化合物とを有する複合層を有することを特徴とする。   A light-emitting element having a pair of electrodes and a plurality of layers sandwiched between the pair of electrodes, wherein the plurality of layers are at least a light-emitting layer and between one of the pair of electrodes and the light-emitting layer. And a composite layer having a metal oxide and an organic compound.

前記複合層は、第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、前記第1の領域の金属酸化物濃度は、前記第2の領域の金属酸化物濃度以上であり、前記第1の領域中の最も高い金属酸化物濃度は、前記第2の領域中の最も低い金属酸化物濃度に比べ1倍以上8倍以下の金属酸化物濃度であることを特徴とする。   The composite layer has a configuration in which first regions and second regions are alternately stacked, and a metal oxide concentration in the first region is equal to or higher than a metal oxide concentration in the second region. The highest metal oxide concentration in the first region is 1 to 8 times the metal oxide concentration compared to the lowest metal oxide concentration in the second region.

前記複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、前記第1の領域と前記第2の領域の金属酸化物濃度は異なっており、前記複合層における当該金属酸化物濃度の繰り返し周期は、12nm以下であることを特徴とする。   The composite layer has a configuration in which the first regions and the second regions are alternately stacked, and the metal oxide concentrations of the first region and the second region are different, and the composite layer The repetition cycle of the metal oxide concentration in is 12 nm or less.

本発明の発光素子の一形態は、第1の電極と、前記第1の電極上に順に積層された第1の複合層と、第2の複合層と、発光層と、電子輸送層と、第2の電極とを有し、前記第1の複合層及び前記第2の複合層は、金属酸化物と有機化合物とを有し、前記第1の複合層の平均金属酸化物濃度は、前記第2の複合層の平均金属酸化物濃度より高いことを特徴とする。   One embodiment of a light-emitting element of the present invention includes a first electrode, a first composite layer stacked in order on the first electrode, a second composite layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, And the first composite layer and the second composite layer have a metal oxide and an organic compound, and the average metal oxide concentration of the first composite layer is It is characterized by being higher than the average metal oxide concentration of the second composite layer.

上記発明において、前記第1の複合層と前記第2の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、前記第1の領域の金属酸化物濃度は、前記第2の領域の金属酸化物濃度以上であり、前記第1の領域中の最も高い金属酸化物濃度は、前記第2の領域中の最も低い金属酸化物濃度に比べ1倍以上8倍以下の金属酸化物濃度であることを特徴とする。   In the above invention, the first composite layer and the second composite layer each have a configuration in which the first regions and the second regions are alternately stacked, and the metal oxide concentration in the first region Is greater than or equal to the metal oxide concentration in the second region, and the highest metal oxide concentration in the first region is greater than or equal to 1 times the lowest metal oxide concentration in the second region. The metal oxide concentration is twice or less.

上記発明において、前記第1の複合層と前記第2の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、前記第1の領域と前記第2の領域の金属酸化物濃度は異なっており、前記第1の複合層と前記第2の複合層における当該金属酸化物濃度の繰り返し周期は、12nm以下であることを特徴とする。   In the above invention, the first composite layer and the second composite layer have a configuration in which the first region and the second region are alternately stacked, and the first region and the second region are stacked. The metal oxide concentrations in the regions are different, and the repetition period of the metal oxide concentration in the first composite layer and the second composite layer is 12 nm or less.

本発明の発光素子の一形態は、第1の電極と、前記第1の電極上に順に積層された第1の複合層と、第2の複合層と、第3の複合層と、発光層と、電子輸送層と、第2の電極とを有し、前記第1の複合層、前記第2の複合層及び前記第3の複合層は、金属酸化物と有機化合物とを有し、前記第1の複合層の平均金属酸化物濃度は、前記第2の複合層の平均金属酸化物濃度より高く、前記第2の複合層の平均金属酸化物濃度は、前記第3の複合層の平均金属酸化物濃度より高いことを特徴とする。   One embodiment of a light-emitting element of the present invention includes a first electrode, a first composite layer stacked in order on the first electrode, a second composite layer, a third composite layer, and a light-emitting layer. And the electron transport layer and the second electrode, the first composite layer, the second composite layer and the third composite layer have a metal oxide and an organic compound, An average metal oxide concentration of the first composite layer is higher than an average metal oxide concentration of the second composite layer, and an average metal oxide concentration of the second composite layer is an average of the third composite layer. It is characterized by being higher than the metal oxide concentration.

上記発明において、前記第1の複合層と、前記第2の複合層と、前記第3の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、前記第1の領域の金属酸化物濃度は、前記第2の領域の金属酸化物濃度以上であり、前記第1の領域中の最も高い金属酸化物濃度は、前記第2の領域中の最も低い金属酸化物濃度に比べ1倍以上8倍以下の金属酸化物濃度であることを特徴とする。   In the above invention, the first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer are configured such that the first regions and the second regions are alternately stacked, The metal oxide concentration in the first region is greater than or equal to the metal oxide concentration in the second region, and the highest metal oxide concentration in the first region is the lowest metal in the second region. The metal oxide concentration is 1 to 8 times the oxide concentration.

上記発明において、前記第1の複合層と、前記第2の複合層と、前記第3の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、前記第1の領域と前記第2の領域の金属酸化物濃度は異なっており、前記第1の複合層と、前記第2の複合層と、前記第3の複合層における当該金属酸化物濃度の繰り返し周期は、12nm以下であることを特徴とする。   In the above invention, the first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer are configured such that the first regions and the second regions are alternately stacked, The metal oxide concentrations in the first region and the second region are different, and the repetition of the metal oxide concentration in the first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer is repeated. The period is 12 nm or less.

上記発明において、平均金属酸化物濃度とは複合層全体の金属酸化物濃度を指し、前記複合層は金属酸化物濃度の異なる2つ領域、即ち第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成となっている。   In the above invention, the average metal oxide concentration refers to the metal oxide concentration of the entire composite layer, and the composite layer has two regions having different metal oxide concentrations, that is, first regions and second regions alternately. It has a laminated structure.

本発明の発光素子の一形態は、第1の電極と、前記第1の電極上に順に積層された複合層と、発光層と、電子輸送層と、第2の電極とを有し、前記複合層は、金属酸化物と有機化合物とを有し、前記複合層の金属酸化物は、前記第1の電極から前記発光層側にかけて濃度勾配を有することを特徴とする。   One embodiment of a light-emitting element of the present invention includes a first electrode, a composite layer sequentially stacked on the first electrode, a light-emitting layer, an electron transport layer, and a second electrode, The composite layer includes a metal oxide and an organic compound, and the metal oxide of the composite layer has a concentration gradient from the first electrode to the light emitting layer side.

上記発明において、前記複合層の金属酸化物濃度は、前記発光層と接する面において最も低いことを特徴とする。   In the invention described above, the metal oxide concentration of the composite layer is lowest on a surface in contact with the light emitting layer.

上記発明において、前記複合層の金属酸化物濃度は、前記発光層と接する面において0wt%以上3wt%以下であることを特徴とする。   In the above invention, the metal oxide concentration of the composite layer is 0 wt% or more and 3 wt% or less on a surface in contact with the light emitting layer.

上記発明において、前記金属酸化物は、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化レニウムのいずれか一種または複数種であることを特徴とする。   In the above invention, the metal oxide may be one or more of titanium oxide, vanadium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, niobium oxide, molybdenum oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, and rhenium oxide. Features.

上記発明において、前記有機化合物は、ホール輸送性を有することを特徴とする。   In the above invention, the organic compound has a hole transport property.

上記発明において、前記有機化合物は、アリールアミン骨格またはカルバゾール骨格を有することを特徴とする。   In the above invention, the organic compound has an arylamine skeleton or a carbazole skeleton.

本発明によりホール輸送性が向上し、駆動電圧の低い発光素子を提供することができる。さらに、前記発光素子を用いて発光装置を作製することにより、低消費電力で長寿命な信頼性の高い発光装置及びそれを具備する電気機器を提供することができる。   According to the present invention, a light-emitting element with improved hole transportability and low driving voltage can be provided. Further, by manufacturing a light-emitting device using the light-emitting element, a highly reliable light-emitting device with low power consumption and a long lifetime and an electric appliance including the light-emitting device can be provided.

特に、複合層中の金属酸化物濃度の繰り返し周期を短くすることで電流特性に優れた素子を作製することができる。   In particular, an element having excellent current characteristics can be manufactured by shortening the repetition period of the metal oxide concentration in the composite layer.

本発明の実施の形態について、図面を用いて以下に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同じものを指す符号は異なる図面間で共通して用いる場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description, and it is easily understood by those skilled in the art that modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments below. Note that in the structures of the present invention described below, the same reference numerals may be used in common in different drawings.

(実施の形態1)
本発明の発光素子の一形態について図1を用いて説明する。本形態において、発光素子は、第1の電極102と、第1の電極102の上に順に積層された第1の複合層103a、第2の複合層103b、発光層104、電子輸送層105、電子注入層106と、さらにその上に設けられた第2の電極107とから構成されている。なお、本実施の形態では発光素子は基板101上に設けられ、第1の電極102は陽極として、第2の電極107は陰極として機能するものとして説明する。
(Embodiment 1)
One mode of a light-emitting element of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment mode, the light-emitting element includes a first electrode 102, a first composite layer 103a, a second composite layer 103b, a light-emitting layer 104, an electron transport layer 105, and the first electrode 102, which are sequentially stacked over the first electrode 102. An electron injection layer 106 and a second electrode 107 provided thereon are further formed. Note that in this embodiment mode, the light-emitting element is provided over the substrate 101, and the first electrode 102 functions as an anode and the second electrode 107 functions as a cathode.

基板101に用いる材料として、例えば石英、ガラス、プラスチック、可撓性基板などを用いることができる。発光素子の作製工程において支持体として機能するものであれば、これら以外のものでもよい。   As a material used for the substrate 101, for example, quartz, glass, plastic, a flexible substrate, or the like can be used. Any other material may be used as long as it functions as a support in the manufacturing process of the light-emitting element.

第1の電極102を形成する陽極材料は特に限定はされないが、仕事関数の大きい(仕事関数4.0eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物、及びこれらの混合物などを用いることが好ましい。このような陽極材料の具体例としては、ITO(indium tin oxide)、酸化珪素を含有するITO、酸化インジウムに2〜20[wt%]の酸化亜鉛(ZnO)を混合したターゲットを用いて形成されるIZO(indium zinc oxide)の他、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、または金属材料の窒化物(例えば、TiN)等を挙げることができる。   The anode material for forming the first electrode 102 is not particularly limited, but it is preferable to use a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like having a high work function (work function of 4.0 eV or more). Specific examples of such an anode material include an ITO (indium tin oxide), an ITO containing silicon oxide, and a target in which 2 to 20 [wt%] zinc oxide (ZnO) is mixed with indium oxide. In addition to IZO (indium zinc oxide), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), Examples thereof include copper (Cu), palladium (Pd), and a nitride of a metal material (for example, TiN).

第1の複合層103aは、金属酸化物と有機化合物とを有する層である。第1の複合層103aに使用する金属酸化物は、遷移金属酸化物が好ましく、具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムなどが挙げられる。特に、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ましい。中でも、酸化モリブデンは大気中においても安定であり扱いやすいため、特に好ましい。   The first composite layer 103a is a layer having a metal oxide and an organic compound. The metal oxide used for the first composite layer 103a is preferably a transition metal oxide. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, chromium oxide, molybdenum oxide, Examples include tungsten oxide, manganese oxide, and rhenium oxide. In particular, vanadium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, and rhenium oxide are preferable because of their high electron-accepting properties. Among these, molybdenum oxide is particularly preferable because it is stable in the air and easy to handle.

また、第1の複合層103aに使用する有機化合物は、ホール輸送性に優れた材料であることが好ましい。特にアリールアミン骨格を有する有機材料であることが好ましく、例えば4,4’−ビス(N−{4−[N,N’−ビス(3−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−N−フェニルアミノ)ビフェニル(略称:DNTPD)、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:α−NPD)、4,4’−ビス[N−(9,9−ジメチルフルオレン−2−イル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DFLDPBi)、4,4’−ビス[N−(4−ビフェニリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BBPB)、1,5−ビス(ジフェニルアミノ)ナフタレン(略称:DPAN)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)などの芳香族アミン系(即ち、ベンゼン環−窒素の結合を有する)の化合物を用いることができる。また、カルバゾール骨格を有する有機材料を用いることも好ましく、例えば、N−(2−ナフチル)カルバゾール(略称:NCz)、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、9,10−ビス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]アントラセン(略称:BCPA)、3,5−ビス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ビフェニル(略称:BCPBi)、1,3,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)などの化合物が挙げられる。また、アントラセンや9,10−ジフェニルアントラセン(DPA)などの芳香族炭化水素や4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(略称:DPVBi)のようにビニル骨格を少なくとも一つ含む芳香族炭化水素であっても良い。なお、電子よりもホールの輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。   The organic compound used for the first composite layer 103a is preferably a material having excellent hole transportability. In particular, an organic material having an arylamine skeleton is preferable. For example, 4,4′-bis (N- {4- [N, N′-bis (3-methylphenyl) amino] phenyl} -N-phenylamino) Biphenyl (abbreviation: DNTPD), 4,4′-bis [N- (4-diphenylaminophenyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: DPAB), N, N′-bis (3-methylphenyl) -N , N′-diphenyl- [1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (abbreviation: TPD), 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation) : Α-NPD), 4,4′-bis [N- (9,9-dimethylfluoren-2-yl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: DFLDPBi), 4,4′-bis [N- ( 4-bifu Niyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: BBPB), 1,5-bis (diphenylamino) naphthalene (abbreviation: DPAN), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenylamino) tri Aromatic amine systems such as phenylamine (abbreviation: TDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA) (ie, A compound having a benzene ring-nitrogen bond). An organic material having a carbazole skeleton is also preferably used. For example, N- (2-naphthyl) carbazole (abbreviation: NCz), 4,4′-di (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation: CBP), 9, 10-bis [4- (N-carbazolyl) phenyl] anthracene (abbreviation: BCPA), 3,5-bis [4- (N-carbazolyl) phenyl] biphenyl (abbreviation: BCPPi), 1,3,5-tris [ And a compound such as 4- (N-carbazolyl) phenyl] benzene (abbreviation: TCPB). In addition, aromatic hydrocarbons such as anthracene and 9,10-diphenylanthracene (DPA), and at least one vinyl skeleton such as 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl (abbreviation: DPVBi) are included. It may be an aromatic hydrocarbon. Note that other than these substances, any substance that has a property of transporting more holes than electrons may be used.

第2の複合層103bも、第1の複合層103aと同様、金属酸化物と有機化合物とを有する層であり、第2の複合層103bに使用する金属酸化物及び有機化合物も、上述した第1の複合層103aと同様の材料を使用することができる。なお、第2の複合層103bの金属酸化物の濃度は、第1の複合層103aの金属酸化物の濃度より低いものとする。ただし、第2の複合層103bに含有される金属酸化物の濃度は、発光層104と金属酸化物との近接によって発光した光を、消光しないもしくは消光をごく一部にとどめるような濃度を選択する必要がある。なお、発光層と接する面における最も好ましい複合層中の金属酸化物の濃度は、0wt%より大きく3wt%以下であるが、上記条件を満たせば特に限定されない。なお、重量パーセント[wt%]表示による濃度は、数式1により求めることができる。
Similarly to the first composite layer 103a, the second composite layer 103b is a layer having a metal oxide and an organic compound, and the metal oxide and the organic compound used for the second composite layer 103b are also the same as those described above. A material similar to that of the single composite layer 103a can be used. Note that the concentration of the metal oxide in the second composite layer 103b is lower than the concentration of the metal oxide in the first composite layer 103a. However, the concentration of the metal oxide contained in the second composite layer 103b is selected so that light emitted by the proximity of the light-emitting layer 104 and the metal oxide is not quenched or only a part of the quenching is suppressed. There is a need to. Note that the most preferable concentration of the metal oxide in the composite layer on the surface in contact with the light emitting layer is greater than 0 wt% and 3 wt% or less, but is not particularly limited as long as the above condition is satisfied. The concentration expressed by weight percent [wt%] can be obtained from Equation 1.

また、発光層と接する面における複合層中の金属酸化物濃度を小さくするために、第2の複合層103bに含有される金属酸化物の濃度は、膜厚方向に濃度勾配を有していても良い。なお、第1の複合層103aと第2の複合層103bに有機化合物として使用する材料は、同じであっても異なっていても良い。   In order to reduce the concentration of the metal oxide in the composite layer on the surface in contact with the light emitting layer, the concentration of the metal oxide contained in the second composite layer 103b has a concentration gradient in the film thickness direction. Also good. Note that the materials used as the organic compound for the first composite layer 103a and the second composite layer 103b may be the same or different.

第1の複合層103a及び第2の複合層103bは、上記材料を用いて抵抗加熱を用いた共蒸着や、抵抗加熱蒸着と電子銃蒸着(EB蒸着)を用いた共蒸着、スパッタリングと抵抗加熱による同時成膜などにより成膜すればよい。また、ゾルーゲル法などによる湿式法を用いて成膜しても良い。   The first composite layer 103a and the second composite layer 103b are formed by co-evaporation using resistance heating using the above materials, co-evaporation using resistance heating deposition and electron gun deposition (EB deposition), sputtering, and resistance heating. The film may be formed by simultaneous film formation by the method. Alternatively, a film may be formed using a wet method such as a sol-gel method.

発光層104は、発光性の高い物質を含む発光層である。発光層について特に限定は無いが、発光層として機能する層には大きく分けて2つの態様がある。一つは発光中心となる物質(発光物質またはゲスト材料)のエネルギーギャップよりも大きいエネルギーギャップを有する材料(ホスト材料)に発光物質を分散させた構成のホストーゲスト型の層と、もう一つは発光材料のみで発光層を構成する層である。前者の方が濃度消光が起こりにくいため、好ましい。発光物質としては、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)−4H−ピラン(略称:DCJT)、4−ジシアノメチレン−2−t−ブチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)−4H−ピラン、ペリフランテン、2,5−ジシアノ−1,4−ビス(10−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)ベンゼン、N,N’−ジメチルキナクリドン(略称:DMQd)、クマリン6、クマリン545T、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、9,9’−ビアントリル、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPA)や9,10−ビス(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、2,5,8,11−テトラ−t−ブチルペリレン(略称:TBP)等が挙げられる。また、ホスト材料としては、9,10−ジ(2−ナフチル)−2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuDNA)等のアントラセン誘導体、4,4’−ビス(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)等のカルバゾール誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ピリジナト]亜鉛(略称:Znpp)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:ZnBOX)などの金属錯体等を用いることができる。また、発光物質のみで発光層を構成することのできる材料としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、9,10−ビス(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)などがある。 The light-emitting layer 104 is a light-emitting layer containing a substance having a high light-emitting property. There is no particular limitation on the light emitting layer, but the layer functioning as the light emitting layer is roughly divided into two modes. One is a host-guest type layer in which the luminescent material is dispersed in a material (host material) having an energy gap larger than the energy gap of the material (luminescent material or guest material) that is the emission center, and the other is luminescent. It is a layer which comprises a light emitting layer only with material. The former is preferable because concentration quenching hardly occurs. As the luminescent substance, 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl) -4H-pyran (abbreviation: DCJT), 4-dicyanomethylene- 2-t-butyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl) -4H-pyran, periflanthene, 2,5-dicyano-1,4-bis (10-methoxy-) 1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl) benzene, N, N′-dimethylquinacridone (abbreviation: DMQd), coumarin 6, coumarin 545T, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq) 3 ), 9,9′-bianthryl, 9,10-diphenylanthracene (abbreviation: DPA), 9,10-bis (2-naphthyl) anthracene (abbreviation: DNA), 2,5, 8,11-tetra-t-butylperylene (abbreviation: TBP) and the like can be given. As host materials, anthracene derivatives such as 9,10-di (2-naphthyl) -2-tert-butylanthracene (abbreviation: t-BuDNA), 4,4′-bis (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation) : Carbazole derivatives such as CBP), tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h]- Quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq), bis [2- (2-hydroxyphenyl) pyridinato] zinc (abbreviation: Znpp 2), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzoxazolato] zinc (abbreviation : ZnBOX) it is possible to use metal complexes such. In addition, as a material that can form a light-emitting layer using only a light-emitting substance, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), 9,10-bis (2-naphthyl) anthracene (abbreviation: DNA), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq).

電子輸送層105は、陰極として機能する電極側から発光物質を含む層に注入された電子を発光層の方へ輸送できる材料を用いて形成することが好ましい。このような材料の具体例としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(8−キノリノラト)ガリウム(略称Gaq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ〔h〕−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)などのキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体や、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)が挙げられる。このほか、ビス〔2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト〕亜鉛(略称:Zn(BOX))、ビス〔2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト〕亜鉛(略称:Zn(BTZ))などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体等も電子輸送層105を形成する材料として用いることができる。また、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、1,3−ビス〔5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル〕ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)の他、チタン酸化物等の無機物を用いてもよい。 The electron transport layer 105 is preferably formed using a material capable of transporting electrons injected from the electrode functioning as a cathode into the layer containing a light-emitting substance to the light-emitting layer. Specific examples of such a material include tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (8-quinolinolato) gallium (abbreviation Gaq 3 ), and tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation). : Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ) and other metal complexes having a quinoline skeleton or a benzoquinoline skeleton, and bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4 -Phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq). In addition, bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn (BTZ) 2 ) and other metal complexes having an oxazole-based or thiazole-based ligand can also be used as a material for forming the electron-transporting layer 105. In addition, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (abbreviation: PBD) and 1,3-bis [5- (p-tert- Butylphenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5- (4-biphenylyl)- 1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation) : P-EtTAZ), bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), bathocuproin (abbreviation: BCP), and inorganic substances such as titanium oxide may be used.

電子注入層106は、陰極として機能する電極から電子輸送層105への電子の注入を補助する機能を有する層である。電子注入層106について特に限定はなく、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF2)等のようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物を用いて形成されたものを用いることができる。また、この他、上述した電子輸送性材料のいずれかと、当該電子輸送材料のいずれかに対して電子供与性を示す物質とを混合した層を用いて形成しても良い。電子供与性を示す物質として、例えば仕事関数の小さい金属が挙げられる。具体的にはアルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、特にLi、Mg、Csが好ましい。また、リチウムアセチルアセトネート(略称:Li(acac))や8−キノリノラト−リチウム(略称:Liq)などのアルカリ金属錯体も有効である。   The electron injection layer 106 is a layer having a function of assisting injection of electrons from the electrode functioning as a cathode into the electron transport layer 105. The electron injection layer 106 is not particularly limited, and is formed using an alkali metal or alkaline earth metal compound such as lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF2), or the like. Can be used. In addition, a layer obtained by mixing any of the above-described electron transporting materials and a substance that exhibits electron donating property with respect to any of the electron transporting materials may be used. As a substance exhibiting an electron donating property, for example, a metal having a small work function can be given. Specifically, alkali metals and alkaline earth metals are preferable, and Li, Mg, and Cs are particularly preferable. Alkali metal complexes such as lithium acetylacetonate (abbreviation: Li (acac)) and 8-quinolinolato-lithium (abbreviation: Liq) are also effective.

第2の電極107を形成する物質としては、仕事関数の小さい(仕事関数3.8eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物、及びこれらの混合物などを用いることができる。このような陰極材料の具体例としては、周期表の1族または2族に属する元素、すなわちリチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属またはマグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等のアルカリ土類金属、及びこれらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li)が挙げられる。さらに、電子注入層106に、特に電子を注入する機能に優れた材料を用いることにより、仕事関数の大小に関わらず、Al、Ag、ITOや酸化珪素を含有するITO等の第1の電極102の材料として挙げた材料も含めた様々な導電性材料を第2の電極107として用いることができる。また、電子注入層106に限らず、第2の電極107の発光層104側に、電子を注入する機能に優れた層を当該第2の電極107と積層して設けることで同様の効果を得ることができる。   As a material for forming the second electrode 107, a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like having a low work function (a work function of 3.8 eV or less) can be used. Specific examples of such a cathode material include elements belonging to Group 1 or Group 2 of the periodic table, that is, alkali metals such as lithium (Li) and cesium (Cs), magnesium (Mg), calcium (Ca), strontium ( Alkaline earth metals such as Sr) and alloys containing them (Mg: Ag, Al: Li). Further, by using a material having an excellent electron injection function for the electron injection layer 106, the first electrode 102 such as ITO containing Al, Ag, ITO, or silicon oxide regardless of the work function. Various conductive materials including the materials mentioned as the material can be used for the second electrode 107. In addition to the electron injection layer 106, the same effect can be obtained by providing a layer having an excellent function of injecting electrons on the side of the light emitting layer 104 of the second electrode 107 and the second electrode 107. be able to.

なお、第1の電極102及び第2の電極107は、それぞれ上述した陽極材料もしくは陰極材料を蒸着法、スパッタリング法等により成膜し形成する。また、導電物を含む液滴を用いてインクジェット法等により形成してもよい。発光層104、電子輸送層105、電子注入層106の形成方法は、蒸着法の他、インクジェット法やスピンコート法等を用いて成膜することができる。なお、各電極、各層ごとに異なる成膜方法を用いて形成しても良い。   Note that the first electrode 102 and the second electrode 107 are formed by depositing the above-described anode material or cathode material by an evaporation method, a sputtering method, or the like, respectively. Alternatively, a droplet including a conductive material may be used by an inkjet method or the like. The light-emitting layer 104, the electron transport layer 105, and the electron injection layer 106 can be formed by an inkjet method, a spin coat method, or the like in addition to a vapor deposition method. In addition, you may form using the different film-forming method for each electrode and each layer.

以上のような構成を有する本発明の発光素子に、第2の電極107の電位よりも第1の電極102の電位の方が高くなるように電圧を印加することで、発光素子を発光させることができる。   By applying voltage to the light-emitting element of the present invention having the above structure so that the potential of the first electrode 102 is higher than the potential of the second electrode 107, the light-emitting element emits light. Can do.

発光は、第1の電極102または第2の電極107のいずれか一方または両方を通って外部に取り出される。従って、第1の電極102もしくは第2の電極107のいずれか一方または両方を、透光性を有する物質で作製する。第1の電極102のみが透光性を有する物質からなるものである場合、図1(A)に示すように、発光は第1の電極102を通って基板側から取り出される。また、第2の電極107のみが透光性を有する物質からなるものである場合、図1(B)に示すように、発光は第2の電極107を通って基板と逆側から取り出される。第1の電極102および第2の電極107がいずれも透光性を有する物質からなるものである場合、図1(C)に示すように、発光は第1の電極102および第2の電極107を通って、基板側および基板と逆側の両方から取り出される。   Light emission is extracted outside through one or both of the first electrode 102 and the second electrode 107. Therefore, one or both of the first electrode 102 and the second electrode 107 are formed using a light-transmitting substance. In the case where only the first electrode 102 is formed using a light-transmitting substance, light emission is extracted from the substrate side through the first electrode 102 as illustrated in FIG. In the case where only the second electrode 107 is formed using a light-transmitting substance, light emission is extracted from the side opposite to the substrate through the second electrode 107 as illustrated in FIG. In the case where both the first electrode 102 and the second electrode 107 are made of a light-transmitting substance, light is emitted from the first electrode 102 and the second electrode 107 as shown in FIG. And is taken out from both the substrate side and the opposite side of the substrate.

金属酸化物と有機化合物とを有する第1の複合層103a及び第2の複合層103bは、厚膜化しても駆動電圧の上昇を伴わないため、第1の複合層103a及び第2の複合層103bの膜厚を調整することでマイクロキャビティ効果や光の干渉効果を利用した光学設計を行うことができる。そのため、色純度に優れ、視野角に依存する色変化などが小さい高品質な発光素子を作製することができる。また、第1の電極102の表面に成膜時に発生する凹凸や電極表面に残った微少な残渣の影響で第1の電極102と第2の電極107がショートすることを防ぐ膜厚を選ぶことができる。   Since the first composite layer 103a and the second composite layer 103b including the metal oxide and the organic compound do not increase in driving voltage even when the thickness is increased, the first composite layer 103a and the second composite layer By adjusting the film thickness of 103b, optical design utilizing the microcavity effect or the light interference effect can be performed. Therefore, a high-quality light-emitting element with excellent color purity and a small color change depending on the viewing angle can be manufactured. In addition, a film thickness that prevents the first electrode 102 and the second electrode 107 from being short-circuited due to the unevenness generated during the film formation on the surface of the first electrode 102 or the minute residue remaining on the electrode surface is selected. Can do.

また、第1の電極102と接する第1の複合層103a及び第2の複合層103bはキャリア密度が高いため、ホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、第1の電極と当該複合層はオーム接触に限りなく近いものとすることができる。よって、電極材料の選択肢が広がる。   In addition, since the first composite layer 103a and the second composite layer 103b in contact with the first electrode 102 have high carrier density, the hole transportability is excellent. Therefore, the drive voltage can be reduced. Further, the first electrode and the composite layer can be as close as possible to ohmic contact. Therefore, the choice of electrode material is expanded.

また、本発明に用いる第1の複合層103a及び第2の複合層103bは、真空蒸着で形成することができる。そのため、その他の層を真空蒸着により形成する場合、いずれの層も同一の真空装置内で成膜することができる。よって、完全に発光素子を封止するまで大気に曝さずに作製することが可能であるためプロセスが容易になり、歩留まりを向上させることができる。   Further, the first composite layer 103a and the second composite layer 103b used in the present invention can be formed by vacuum deposition. Therefore, when other layers are formed by vacuum deposition, any layer can be formed in the same vacuum apparatus. Therefore, since the light-emitting element can be manufactured without being exposed to the atmosphere until the light-emitting element is completely sealed, the process becomes easy and the yield can be improved.

また、第1の複合層103a及び第2の複合層103bは、有機材料と無機材料とを含むため、電極と発光層との間に生じる応力を緩和させることが可能である。   In addition, since the first composite layer 103a and the second composite layer 103b include an organic material and an inorganic material, stress generated between the electrode and the light-emitting layer can be reduced.

複合層に含有される金属酸化物の濃度が高いほどゆるやかにではあるが、屈折率も高くなる傾向があることがわかった。本発明の発光素子は、上述したように第1の複合層103aに含有される金属酸化物の濃度は、第2の複合層103bより大きい。そのため、金属酸化物の濃度を適宜選択することで、第1の複合層103aの屈折率は、第2の複合層103bの屈折率より大きくすることができる。さらに、一般に、発光素子に用いる有機物化合物に比べ第1の電極102の屈折率は大きいものであるが、金属酸化物の濃度が異なる複合層を積層することで、第2の複合層103b、第1の複合層103a、第1の電極102の順に屈折率を大きくすることが可能となる。   It was found that the higher the concentration of the metal oxide contained in the composite layer, the lower the refractive index. In the light-emitting element of the present invention, as described above, the concentration of the metal oxide contained in the first composite layer 103a is higher than that of the second composite layer 103b. Therefore, the refractive index of the first composite layer 103a can be made larger than the refractive index of the second composite layer 103b by appropriately selecting the concentration of the metal oxide. Further, although the refractive index of the first electrode 102 is generally higher than that of the organic compound used for the light-emitting element, the second composite layer 103b and the second composite layer 103b are formed by stacking composite layers having different metal oxide concentrations. The refractive index can be increased in the order of one composite layer 103 a and the first electrode 102.

このような屈折率の関係により、発光層104において生じた光を第1の電極102側から取り出す場合、即ち第1の電極102が透明電極である場合、各界面(例えば、第2の複合層103bと第1の複合層103aとの界面及び第1の複合層103aと第1の電極102との界面)における屈折率の差を小さくすることができる。より等しい屈折率を持つ物質同士の界面では光の反射率は低下することから、発光層104で生じた光を効率良く発光素子より取り出すことができる。以上のことから、光の取り出し効率が向上するため、低消費電力、長寿命な発光素子を得ることができる。   Due to such a refractive index relationship, when light generated in the light emitting layer 104 is extracted from the first electrode 102 side, that is, when the first electrode 102 is a transparent electrode, each interface (for example, the second composite layer) 103b and the first composite layer 103a and the interface between the first composite layer 103a and the first electrode 102) can be reduced. Since the reflectance of light decreases at the interface between substances having a more equal refractive index, light generated in the light emitting layer 104 can be efficiently extracted from the light emitting element. As described above, light extraction efficiency is improved, so that a light-emitting element with low power consumption and long life can be obtained.

また、第1の複合層103aと第2の複合層103bに異なる有機化合物を用いることで、第1の複合層103a中の金属酸化物濃度が第2の複合層103bより大きいことを満たしつつ、上記の屈折率の関係が得られるような第1の複合層103aと第2の複合層103bを、より少ない量の金属酸化物で作製することも可能である。   In addition, by using different organic compounds for the first composite layer 103a and the second composite layer 103b, while satisfying that the metal oxide concentration in the first composite layer 103a is larger than the second composite layer 103b, The first composite layer 103a and the second composite layer 103b that can obtain the above refractive index relationship can be formed using a smaller amount of metal oxide.

また、光を発光素子からより効率よく取り出すために、第1の電極102の表面に凹凸加工を施しても良い。この場合、第1の複合層103aは、上に積層される膜を考慮し、スピンコート法などによる湿式法を用いて形成し、平坦性の高い膜とすることが好ましい。   In addition, in order to extract light from the light-emitting element more efficiently, unevenness processing may be performed on the surface of the first electrode 102. In this case, the first composite layer 103a is preferably formed using a wet method such as a spin coat method in consideration of a film stacked thereover to have a high flatness.

なお、第1の複合層103a、第2の複合層103b及び発光層104を有するものであれば、上記以外の構成でもよい。また、本実施の形態では、基板101上に順に、第1の電極102、第1の複合層103a、第2の複合層103b、発光層104、電子輸送層105、電子注入層106、第2の電極107とが積層して設けられた構成となっているが、基板101上に上記構成とは逆に積層した構成としてもよい。   Note that a structure other than the above may be used as long as it includes the first composite layer 103a, the second composite layer 103b, and the light-emitting layer 104. In this embodiment mode, the first electrode 102, the first composite layer 103a, the second composite layer 103b, the light-emitting layer 104, the electron transport layer 105, the electron injection layer 106, and the second electrode are sequentially formed over the substrate 101. The electrode 107 is stacked and provided. However, the electrode 107 may be stacked on the substrate 101 opposite to the above structure.

このように、層の積層構造については特に限定されず、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質、ホール注入性の高い物質、バイポーラ性(電子及びホールの輸送性の高い物質)の物質等から成る層を、発光層と、第1の複合層及び第2の複合層からなる積層に自由に組み合わせて構成すればよい。   Thus, the layered structure of the layers is not particularly limited, and is a material having a high electron transport property, a material having a high electron injection property, a material having a high hole injection property, or a bipolar property (a material having a high electron and hole transport property). What is necessary is just to comprise the layer which consists of a substance etc. freely combining in the lamination | stacking which consists of a light emitting layer and a 1st composite layer and a 2nd composite layer.

また、複合層は第1の複合層103a及び第2の複合層103bの2層に限定されず、図2に示すように第1の複合層203a、第2の複合層203b及び第3の複合層203cの3層としても良い。ただし、第1の電極102から第1の複合層203a、第2の複合層203b、第3の複合層203cと順に複合層中に含有される金属酸化物濃度は小さくなるものとする。   Further, the composite layer is not limited to the two layers of the first composite layer 103a and the second composite layer 103b. As shown in FIG. 2, the first composite layer 203a, the second composite layer 203b, and the third composite layer are used. Three layers of the layer 203c may be used. However, the concentration of the metal oxide contained in the composite layer in order from the first electrode 102 to the first composite layer 203a, the second composite layer 203b, and the third composite layer 203c is assumed to be small.

また、複合層は2層もしくは3層に限定されず、複合層の積層数をnとしたとき、n>1であれば良い。ただし、第1の電極から発光層側にかけて複合層中に含有される金属酸化物の濃度は小さくなるものとする。なお、発光層に接する複合層に含有される金属酸化物の濃度は、発光層と金属酸化物との近接によって発光した光を消光しない、もしくは消光をごく一部にとどめるような濃度を選択する必要がある。また、発光層に接する複合層は、第1の電極から発光層側にかけて濃度勾配を有していても良い。実施の形態2においては、複合層の積層数nが無数即ち複合層中の金属酸化物が濃度勾配を有する場合について示す。   In addition, the composite layer is not limited to two or three layers, and it is sufficient that n> 1 when the number of stacked composite layers is n. However, the concentration of the metal oxide contained in the composite layer decreases from the first electrode to the light emitting layer side. Note that the concentration of the metal oxide contained in the composite layer in contact with the light emitting layer is selected so as not to quench the light emitted by the proximity of the light emitting layer and the metal oxide, or to suppress the quenching to a small part. There is a need. The composite layer in contact with the light emitting layer may have a concentration gradient from the first electrode to the light emitting layer side. In the second embodiment, the case where the number n of composite layers is innumerable, that is, the metal oxide in the composite layer has a concentration gradient will be described.

(実施の形態2)
本発明の発光素子の一形態について図3を用いて説明する。実施の形態1と同様のものに関しては、共通の符号を用いて示し、詳細な説明は省略する。
(Embodiment 2)
One mode of a light-emitting element of the present invention will be described with reference to FIGS. Components similar to those in Embodiment 1 are denoted by common reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

発光素子は、第1の電極102と、第1の電極102の上に順に積層された複合層303、発光層104、電子輸送層105、電子注入層106と、さらにその上に設けられた第2の電極107とから構成されている。なお、本実施の形態では第1の電極102は陽極として、第2の電極107は陰極として機能するものとして説明する。   The light-emitting element includes a first electrode 102, a composite layer 303 stacked over the first electrode 102, a light-emitting layer 104, an electron transport layer 105, an electron injection layer 106, and a first layer provided thereon. 2 electrodes 107. Note that in this embodiment, the first electrode 102 functions as an anode and the second electrode 107 functions as a cathode.

基板101上に第1の電極102を形成する。さらに、第1の電極102の上に複合層303を形成する。複合層303は、金属酸化物と有機化合物とを有する層である。複合層303に使用する金属酸化物は、遷移金属酸化物が好ましく、具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムなどが挙げられる。特に、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化レニウムの酸化物は電子受容性が高いため好ましい。中でも、酸化モリブデンは大気中においても安定であり扱いやすいため、特に好ましい。   A first electrode 102 is formed over the substrate 101. Further, a composite layer 303 is formed over the first electrode 102. The composite layer 303 is a layer including a metal oxide and an organic compound. The metal oxide used for the composite layer 303 is preferably a transition metal oxide. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, chromium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, Examples include manganese oxide and rhenium oxide. In particular, oxides of vanadium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, and rhenium oxide are preferable because of their high electron-accepting properties. Among these, molybdenum oxide is particularly preferable because it is stable in the air and easy to handle.

また、複合層303に使用する有機化合物は、ホール輸送性に優れた材料であることが好ましい。特にアリールアミン骨格を有する有機材料であることが好ましく、例えば4,4’−ビス(N−{4−[N,N’−ビス(3−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−N−フェニルアミノ)ビフェニル(略称:DNTPD)、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:α−NPD)、4,4’−ビス[N−(9,9−ジメチルフルオレン−2−イル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DFLDPBi)、4,4’−ビス[N−(4−ビフェニリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BBPB)、1,5−ビス(ジフェニルアミノ)ナフタレン(略称:DPAN)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)などの芳香族アミン系(即ち、ベンゼン環−窒素の結合を有する)の化合物を用いることができる。または、カルバゾール骨格を有する有機材料を用いることが好ましく、例えば、N−(2−ナフチル)カルバゾール(略称:NCz)、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、9,10−ビス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]アントラセン(略称:BCPA)、3,5−ビス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ビフェニル(略称:BCPBi)、1,3,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)などの化合物を用いることができる。なお、電子よりもホールの輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。   The organic compound used for the composite layer 303 is preferably a material having excellent hole transport properties. In particular, an organic material having an arylamine skeleton is preferable. For example, 4,4′-bis (N- {4- [N, N′-bis (3-methylphenyl) amino] phenyl} -N-phenylamino) Biphenyl (abbreviation: DNTPD), 4,4′-bis [N- (4-diphenylaminophenyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: DPAB), N, N′-bis (3-methylphenyl) -N , N′-diphenyl- [1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (abbreviation: TPD), 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation) : Α-NPD), 4,4′-bis [N- (9,9-dimethylfluoren-2-yl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: DFLDPBi), 4,4′-bis [N- ( 4-bifu Niyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: BBPB), 1,5-bis (diphenylamino) naphthalene (abbreviation: DPAN), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenylamino) tri Aromatic amine systems such as phenylamine (abbreviation: TDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA) (ie, A compound having a benzene ring-nitrogen bond). Alternatively, an organic material having a carbazole skeleton is preferably used. For example, N- (2-naphthyl) carbazole (abbreviation: NCz), 4,4′-di (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation: CBP), 10-bis [4- (N-carbazolyl) phenyl] anthracene (abbreviation: BCPA), 3,5-bis [4- (N-carbazolyl) phenyl] biphenyl (abbreviation: BCPPi), 1,3,5-tris [ A compound such as 4- (N-carbazolyl) phenyl] benzene (abbreviation: TCPB) can be used. Note that other than these substances, any substance that has a property of transporting more holes than electrons may be used.

上述した材料で形成される複合層303は、第1の電極102から発光層104側にかけて複合層に含有される金属酸化物の濃度は徐々に減少した構成であり、膜厚方向に対し濃度勾配を有する層とする。なお、発光層104と接する面における複合層303中の金属酸化物濃度は、0wt%以上3wt%以下であることが好ましい。   The composite layer 303 formed using the above-described material has a structure in which the concentration of the metal oxide contained in the composite layer gradually decreases from the first electrode 102 to the light emitting layer 104 side, and the concentration gradient with respect to the film thickness direction. A layer having Note that the concentration of the metal oxide in the composite layer 303 on the surface in contact with the light-emitting layer 104 is preferably 0 wt% or more and 3 wt% or less.

なお、複合層303は上記材料を用いて抵抗加熱を用いた共蒸着、抵抗加熱蒸着と電子銃蒸着(EB蒸着)を用いた共蒸着や、スパッタリングと抵抗加熱による同時成膜などにより成膜すればよい。ただし、金属酸化物の蒸発量は時間と共に減少させる必要がある。   Note that the composite layer 303 is formed by co-evaporation using resistance heating using the above materials, co-evaporation using resistance heating evaporation and electron gun evaporation (EB evaporation), or simultaneous film formation using sputtering and resistance heating. That's fine. However, the evaporation amount of the metal oxide needs to be reduced with time.

次に、複合層303の上に発光層104、電子輸送層105、電子注入層106及び第2の電極107を形成する。電極、各層の材料及び作製方法は、実施の形態1と同様である。   Next, the light-emitting layer 104, the electron transport layer 105, the electron injection layer 106, and the second electrode 107 are formed over the composite layer 303. The electrode, the material of each layer, and the manufacturing method are the same as those in the first embodiment.

以上のような構成を有する本発明の発光素子に第2の電極107の電位よりも第1の電極102の電位の方が高くなるように電圧を印加することで、発光素子を発光させることができる。   By applying a voltage so that the potential of the first electrode 102 is higher than the potential of the second electrode 107 to the light-emitting element of the present invention having the above structure, the light-emitting element can emit light. it can.

発光は、第1の電極102または第2の電極107のいずれか一方または両方を通って外部に取り出される。従って、第1の電極102もしくは第2の電極107のいずれか一方または両方を、透光性を有する物質で作製する。第1の電極102のみが透光性を有する物質からなるものである場合、図3(A)に示すように、発光は第1の電極102を通って基板側から取り出される。また、第2の電極107のみが透光性を有する物質からなるものである場合、図3(B)に示すように、発光は第2の電極107を通って基板と逆側から取り出される。第1の電極102および第2の電極107がいずれも透光性を有する物質からなるものである場合、図3(C)に示すように、発光は第1の電極102および第2の電極107を通って、基板側および基板と逆側の両方から取り出される。   Light emission is extracted outside through one or both of the first electrode 102 and the second electrode 107. Therefore, one or both of the first electrode 102 and the second electrode 107 are formed using a light-transmitting substance. In the case where only the first electrode 102 is formed using a light-transmitting substance, light emission is extracted from the substrate side through the first electrode 102 as illustrated in FIG. In the case where only the second electrode 107 is formed using a light-transmitting substance, light emission is extracted from the side opposite to the substrate through the second electrode 107 as illustrated in FIG. In the case where both the first electrode 102 and the second electrode 107 are made of a light-transmitting substance, light is emitted from the first electrode 102 and the second electrode 107 as shown in FIG. 3C. And is taken out from both the substrate side and the opposite side of the substrate.

金属酸化物と有機化合物とを有する複合層303は、厚膜化しても駆動電圧の上昇を伴わないため、複合層303の膜厚を調整することでマイクロキャビティ効果や光の干渉効果を利用した光学設計を行うことができる。そのため、色純度に優れ、視野角に依存する色変化などが小さい高品質な発光素子を作製することができる。また、第1の電極102の表面に発生する凹凸や電極表面に残った微少な残渣の影響で第1の電極102と第2の電極107がショートすることを防ぐ膜厚を選ぶことができる。   The composite layer 303 including a metal oxide and an organic compound does not increase the driving voltage even when the film thickness is increased. Therefore, the microcavity effect and the light interference effect are utilized by adjusting the film thickness of the composite layer 303. Optical design can be performed. Therefore, a high-quality light-emitting element with excellent color purity and a small color change depending on the viewing angle can be manufactured. In addition, a film thickness that prevents the first electrode 102 and the second electrode 107 from being short-circuited by the unevenness generated on the surface of the first electrode 102 or the minute residue remaining on the electrode surface can be selected.

また、複合層303はキャリア密度が高いため、ホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、当該電極と当該複合層はオーム接触に限りなく近いものとすることができる。よって、電極材料の選択肢が広がる。   In addition, since the composite layer 303 has a high carrier density, the hole transportability is excellent. Therefore, the drive voltage can be reduced. In addition, the electrode and the composite layer can be as close as possible to ohmic contact. Therefore, the choice of electrode material is expanded.

また、本発明に用いる複合層303は、真空蒸着で形成することができる。そのため、その他の層を真空蒸着により形成する場合、いずれの層も同一の真空装置内で成膜することができる。よって、完全に発光素子を封止するまで大気に曝さずに作製することが可能であるためプロセスが容易になり、歩留まりを向上させることができる。   The composite layer 303 used in the present invention can be formed by vacuum deposition. Therefore, when other layers are formed by vacuum deposition, any layer can be formed in the same vacuum apparatus. Therefore, since the light-emitting element can be manufactured without being exposed to the atmosphere until the light-emitting element is completely sealed, the process becomes easy and the yield can be improved.

また、複合層303は、有機材料と無機材料とを含むため、電極と発光層との間に生じる応力を緩和させることが可能である。   In addition, since the composite layer 303 includes an organic material and an inorganic material, stress generated between the electrode and the light-emitting layer can be reduced.

本実施の形態では複合層303中の金属酸化物は濃度勾配を有し、その濃度は第1の電極102から発光層104側にかけて低下していく。そのため、複合層303の屈折率は、発光層から第1の電極側にかけて連続的に変化させることができる。さらに、第1の電極102と接する面における複合層303中の金属酸化物濃度を、第1の電極の屈折率に近くなるよう適宜選択することによって、複合層と第1の電極との界面においても屈折率の差を小さくすることが可能である。よって、発光層104において生じた光を第1の電極102側から取り出す場合、複合層303内及び複合層303と第1の電極102との界面における屈折率の差を小さくすることができる。より等しい屈折率を持つ物質同士の界面では光の反射率が低下することから、発光層104で生じた光を効率良く発光素子より取り出すことができる。以上のことから、光の取り出し効率が向上するため、低消費電力、長寿命な発光素子を得ることができる。   In this embodiment, the metal oxide in the composite layer 303 has a concentration gradient, and the concentration decreases from the first electrode 102 to the light-emitting layer 104 side. Therefore, the refractive index of the composite layer 303 can be continuously changed from the light emitting layer to the first electrode side. Further, by appropriately selecting the metal oxide concentration in the composite layer 303 on the surface in contact with the first electrode 102 so as to be close to the refractive index of the first electrode, at the interface between the composite layer and the first electrode. However, the difference in refractive index can be reduced. Therefore, when light generated in the light-emitting layer 104 is extracted from the first electrode 102 side, a difference in refractive index in the composite layer 303 and at the interface between the composite layer 303 and the first electrode 102 can be reduced. Since the reflectance of light decreases at the interface between substances having a more equal refractive index, light generated in the light emitting layer 104 can be efficiently extracted from the light emitting element. As described above, light extraction efficiency is improved, so that a light-emitting element with low power consumption and long life can be obtained.

また、発光素子から光をより効率よく取り出すために、第1の電極102の表面に凹凸加工を施しても良い。この場合、複合層303は、上に積層される膜を考慮し、平坦性の高い膜とすることが好ましい。   In addition, in order to extract light from the light-emitting element more efficiently, unevenness processing may be performed on the surface of the first electrode 102. In this case, the composite layer 303 is preferably a film having high flatness in consideration of a film stacked thereover.

なお、複合層303及び発光層104を有するものであれば、上記以外の構成でもよい。また、本実施の形態では、基板101上に順に、第1の電極102、複合層303、発光層104、電子輸送層105、電子注入層106、第2の電極107とが積層して設けられた構成となっているが、基板101上に上記構成とは逆に積層した構成としてもよい。   Note that a structure other than the above may be used as long as it includes the composite layer 303 and the light-emitting layer 104. In this embodiment, the first electrode 102, the composite layer 303, the light-emitting layer 104, the electron transport layer 105, the electron injection layer 106, and the second electrode 107 are sequentially stacked over the substrate 101. However, a configuration in which the substrate 101 is stacked opposite to the above configuration may be employed.

つまり、層の積層構造については特に限定されず、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質、ホール注入性の高い物質、バイポーラ性(電子及びホールの輸送性の高い物質)の物質等から成る層を、発光層と第1の複合層及び第2の複合層からなる積層に自由に組み合わせて構成すればよい。   In other words, the layered structure of the layers is not particularly limited, and a substance having a high electron transport property, a substance having a high electron injection property, a substance having a high hole injection property, a substance having a bipolar property (a material having a high electron and hole transport property), and the like May be configured by freely combining with a laminate composed of the light emitting layer, the first composite layer, and the second composite layer.

本実施の形態は、実施の形態1の構成と自由に組み合わせることができる。   This embodiment mode can be freely combined with the structure in Embodiment Mode 1.

(実施の形態3)
本発明の実施に用いる蒸着装置及び、その蒸着装置を用いて複合層を共蒸着により成膜する方法について図4〜8を用いて説明する。
(Embodiment 3)
A vapor deposition apparatus used for carrying out the present invention and a method for forming a composite layer by co-vapor deposition using the vapor deposition apparatus will be described with reference to FIGS.

本発明の実施に用いる蒸着装置には、図4に示すように被処理物に対し蒸着する処理を行う処理室401の他、搬送室402が設けられている。被処理物は搬送室402を経て処理室401へ搬送される。なお、搬送室402には、被処理物を搬送するためのアーム403が備え付けられている。   In the vapor deposition apparatus used for carrying out the present invention, as shown in FIG. 4, a transfer chamber 402 is provided in addition to a treatment chamber 401 for performing a vapor deposition process on a workpiece. The object to be processed is transferred to the processing chamber 401 through the transfer chamber 402. Note that the transfer chamber 402 is provided with an arm 403 for transferring an object to be processed.

処理室401内には、図5に示すように、被処理物を保持するための保持部と、金属酸化物が保持された蒸着源501aと、有機化合物が保持された蒸着源501bが設けられている。図5において、被処理物を保持するための保持部は、軸503を中心として回転する第1の回転板502と、第1の回転板502上に設けられた複数の第2の回転板504a〜504dとで構成されている。第2の回転板504a〜504dは、軸503とは別に、第2の回転板504a〜504dのそれぞれに対して設けられた軸を中心として、それぞれ独立に回転しても良い。なお、被処理物505a〜505dは、第2の回転板504a〜504dのそれぞれの上に保持される。   In the processing chamber 401, as shown in FIG. 5, a holding unit for holding an object to be processed, a vapor deposition source 501a holding a metal oxide, and a vapor deposition source 501b holding an organic compound are provided. ing. In FIG. 5, the holding unit for holding the object to be processed includes a first rotating plate 502 that rotates about a shaft 503 and a plurality of second rotating plates 504 a provided on the first rotating plate 502. ˜504d. The second rotating plates 504a to 504d may rotate independently of each other about the shaft provided for each of the second rotating plates 504a to 504d, separately from the shaft 503. The objects to be processed 505a to 505d are held on the second rotating plates 504a to 504d, respectively.

図5において、第2の回転板504aには被処理物505aが保持され、第2の回転板504bには被処理物505bが保持され、第2の回転板504cには被処理物505cが保持され、第2の回転板504dには被処理物505dが保持されている。なお、ここでは図示しないが、各蒸着源の上部にはスライド式のシャッターが設けられている。   In FIG. 5, the workpiece 505a is held on the second rotating plate 504a, the workpiece 505b is held on the second rotating plate 504b, and the workpiece 505c is held on the second rotating plate 504c. The workpiece 505d is held on the second rotating plate 504d. Although not shown here, a slide type shutter is provided above each vapor deposition source.

複合層は、蒸着源501a、501bに保持された各々の材料を加熱し蒸発させ成膜する。   The composite layer is formed by heating and evaporating each material held in the vapor deposition sources 501a and 501b.

蒸着源501a及び501bの上端と被処理物505a〜505dまでの距離を270mm、有機化合物の蒸着速度を0.4nm/s、第1の回転板502の回転数を2rpmとし、酸化モリブデンとDNTPDとからなる複合層を成膜した。得られた被処理物505a即ち複合層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)を用いて観察した。得られたTEM像を図11に示す。なお、複合層における酸化モリブデンとDNTPDとの重量比は0.67:1とした。   The distance between the upper ends of the vapor deposition sources 501a and 501b and the workpieces 505a to 505d is 270 mm, the vapor deposition rate of the organic compound is 0.4 nm / s, the rotational speed of the first rotating plate 502 is 2 rpm, molybdenum oxide and DNTPD A composite layer consisting of The cross section of the object to be processed 505a, that is, the composite layer, was observed using a transmission electron microscope (TEM). The obtained TEM image is shown in FIG. Note that the weight ratio of molybdenum oxide to DNTPD in the composite layer was 0.67: 1.

図11より、色の濃い第1の領域(図中(a))と色の薄い第2の領域(図中(b))とが交互に存在することがわかった。色の濃い第1の領域は、平均原子量が大きい領域であり、色の薄い第2の領域は平均原子量の小さい領域である。本発明の複合材料を含む層に含まれる金属酸化物は有機化合物よりも平均原子量が大きいため、TEM像における色の濃い第1の領域は金属酸化物が多く含まれる領域であり、色の薄い第2の領域は金属酸化物が少ない領域である。よって、図11における色の濃い第1の領域は酸化モリブデンの濃度が高い領域であり、色の薄い第2の領域は酸化モリブデンの濃度が低い領域である。   From FIG. 11, it was found that the first dark region ((a) in the drawing) and the second light region ((b) in the drawing) exist alternately. The dark first region is a region having a large average atomic weight, and the light second region is a region having a small average atomic weight. Since the metal oxide contained in the layer containing the composite material of the present invention has a larger average atomic weight than the organic compound, the dark first region in the TEM image is a region containing a large amount of metal oxide and is light in color. The second region is a region with less metal oxide. Accordingly, the dark first region in FIG. 11 is a region having a high molybdenum oxide concentration, and the light second region is a region having a low molybdenum oxide concentration.

金属酸化物濃度が高い第1の領域は、被処理物505aと金属酸化物が保持された蒸着源501aとの距離が、被処理物505aと有機化合物が保持された蒸着源501bとの距離よりも近いときに形成される。これに対し、金属酸化物濃度が低い第2の領域は、被処理物505aと蒸着源501bとの距離が、被処理物505aと蒸着源501aとの距離よりも近いときに形成される。よって、蒸着位置によって、複合層中の金属酸化物濃度が異なることがわかった。   In the first region where the metal oxide concentration is high, the distance between the object to be processed 505a and the evaporation source 501a in which the metal oxide is held is larger than the distance between the object to be processed 505a and the evaporation source 501b in which the organic compound is held. Also formed when close. In contrast, the second region having a low metal oxide concentration is formed when the distance between the object to be processed 505a and the vapor deposition source 501b is shorter than the distance between the object to be processed 505a and the vapor deposition source 501a. Therefore, it was found that the metal oxide concentration in the composite layer differs depending on the deposition position.

そこで、蒸着位置に起因する金属酸化物の濃度差を調べるために、蒸着源501aとの距離が最も近い位置A及び蒸着源501bに最も近い位置Bにおける複合層中の金属酸化物濃度について検討した。なお、上記検討を行った際の蒸着装置の模式図を図14に示す。   Therefore, in order to investigate the difference in metal oxide concentration caused by the deposition position, the metal oxide concentration in the composite layer at the position A closest to the deposition source 501a and the position B closest to the deposition source 501b was examined. . In addition, the schematic diagram of the vapor deposition apparatus at the time of the said examination is shown in FIG.

蒸着源501aには金属酸化物である酸化モリブデンを形成するための三酸化モリブデンが、蒸着源501bには有機化合物であるDNTPDが保持されている。金属酸化物もしくは有機化合物を同じ条件にて各々蒸着し、それぞれの膜厚から位置A及び位置Bにおいて成膜されるであろう複合層中の金属酸化物濃度を見積もった。結果を表1に示す。   The evaporation source 501a holds molybdenum trioxide for forming molybdenum oxide that is a metal oxide, and the evaporation source 501b holds DNTPD that is an organic compound. A metal oxide or an organic compound was vapor-deposited under the same conditions, and the concentration of the metal oxide in the composite layer that would be formed at positions A and B was estimated from the respective film thicknesses. The results are shown in Table 1.

表1に示すように、位置Aにおいて、蒸着源501aのみを蒸着させた場合、65nmの酸化モリブデンが被処理物に成膜された。これに対し、同一条件下で蒸着源501bのみを蒸着させた場合、60nmのDNTPDが成膜された。したがって、蒸着源501a及び501bを同時に蒸着、即ち共蒸着を行った場合、位置Aにおいて成膜される複合層中の酸化モリブデン濃度は52.0[vol%]であると算出された。体積パーセント[vol%]表示による濃度は、数式2により求めることができる。
As shown in Table 1, when only the vapor deposition source 501a was vapor-deposited at the position A, 65 nm of molybdenum oxide was formed on the object to be processed. On the other hand, when only the vapor deposition source 501b was vapor-deposited under the same conditions, a 60 nm DNTPD film was formed. Therefore, when the vapor deposition sources 501a and 501b were vapor-deposited simultaneously, that is, co-vapor deposition was performed, the molybdenum oxide concentration in the composite layer formed at the position A was calculated to be 52.0 [vol%]. The concentration based on the volume percent [vol%] display can be obtained by Equation 2.

一方、位置Bにおいては、蒸着源501aのみを蒸着させた場合、15nmの酸化モリブデンが被処理物に成膜された。これに対し、同一条件下で蒸着源501bのみを蒸着させた場合、220nmのDNTPDが成膜された。したがって、蒸着源501a及び501bを同時に蒸着、即ち共蒸着を行った場合、位置Bにおいて成膜される複合層中の酸化モリブデン濃度は6.38[vol%]であると算出された。   On the other hand, at position B, when only the vapor deposition source 501a was deposited, 15 nm of molybdenum oxide was formed on the object to be processed. On the other hand, when only the vapor deposition source 501b was vapor-deposited under the same conditions, a 220 nm DNTPD was formed. Therefore, when the vapor deposition sources 501a and 501b were vapor-deposited simultaneously, that is, co-vapor-deposited, the molybdenum oxide concentration in the composite layer formed at the position B was calculated to be 6.38 [vol%].

よって、酸化モリブデンの高濃度領域は、低濃度領域に比べ8.15倍もの酸化モリブデンを有することがわかった。   Therefore, it was found that the high concentration region of molybdenum oxide has 8.15 times as much molybdenum oxide as the low concentration region.

上記の例は極端な場合についてであるが、このような現象は、第1の回転板502の回転速度が小さい場合や蒸着速度が非常に高い場合に起こりうる。発光素子に用いる複合層は、均一であることが好ましいが、少なくとも金属酸化物の高濃度領域は低濃度領域に比べ1倍以上8倍以下の金属酸化物濃度であることが望ましい。このような条件を満たすように、回転速度、蒸着速度、被処理物と蒸着源との距離、蒸着源と蒸着源との距離、被処理物と回転軸との距離等を適宜設計し蒸着を行う。なお、複合層中の金属酸化物の高濃度領域とは第1の領域中の最も金属酸化物濃度が高い領域であり、低濃度領域とは第2の領域中の最も金属酸化物濃度が低い領域のことである。   Although the above example is an extreme case, such a phenomenon can occur when the rotation speed of the first rotating plate 502 is low or the vapor deposition speed is very high. The composite layer used for the light-emitting element is preferably uniform, but it is desirable that at least the high concentration region of the metal oxide has a metal oxide concentration of 1 to 8 times that of the low concentration region. In order to satisfy such conditions, the rotation speed, vapor deposition speed, distance between the object to be processed and the vapor deposition source, distance between the vapor deposition source and the vapor deposition source, distance between the object to be processed and the rotation axis, etc. are appropriately designed for vapor deposition. Do. The high concentration region of the metal oxide in the composite layer is a region having the highest metal oxide concentration in the first region, and the low concentration region is the lowest concentration of metal oxide in the second region. It is an area.

また、第1の領域と第2の領域の膜厚が複合層に与える影響について検討した。図11に示した複合層の作製時より第1の回転板502の回転数を8rpmと上げ、その他の条件は上記と同様、有機化合物の蒸着速度を0.4nm/sとし、酸化モリブデンとDNTPDとの重量比が0.67:1である複合層を成膜した。得られた被処理物505a即ち複合層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)を用いて観察した。また、得られたTEM像を図12に示す。   Moreover, the influence which the film thickness of a 1st area | region and a 2nd area | region has on a composite layer was examined. From the production of the composite layer shown in FIG. 11, the rotational speed of the first rotating plate 502 is increased to 8 rpm, and the other conditions are the same as above, the vapor deposition rate of the organic compound is 0.4 nm / s, and molybdenum oxide and DNTPD A composite layer having a weight ratio of 0.67: 1 was formed. The cross section of the object to be processed 505a, that is, the composite layer, was observed using a transmission electron microscope (TEM). The obtained TEM image is shown in FIG.

図12においても図11と同様、色の濃い第1の領域と色の薄い第2の領域とが交互に存在することがわかった。なお、上述したように色の濃い第1の領域は酸化モリブデンの濃度が高い領域であり、色の薄い第2の領域はDNTPDの濃度が高い領域である。   In FIG. 12, as in FIG. 11, it was found that the first dark regions and the second light regions were alternately present. As described above, the dark first region is a region having a high molybdenum oxide concentration, and the light second region is a region having a high DNTPD concentration.

しかしながら、複合層中の第1の領域と第2の領域との繰り返し周期、即ち酸化モリブデン濃度の繰り返し周期が図11においては約12nmであったのに対し、第1の回転板502の回転数を上げ作製した複合層では図12より約3nmであることがわかった。   However, while the repetition period of the first region and the second region in the composite layer, that is, the repetition period of the molybdenum oxide concentration is about 12 nm in FIG. 11, the rotational speed of the first rotating plate 502 is It was found from the FIG. 12 that the composite layer produced by increasing the thickness was about 3 nm.

図11及び図12に示した複合層の特性について以下の素子を用いて検討した。素子は、基板上に酸化珪素を含有するITOを形成した後、その上に120nmの厚さで図11もしくは図12に示した複合層を成膜し、さらに300nmの厚さでアルミニウムを形成したものを用いた。   The characteristics of the composite layer shown in FIGS. 11 and 12 were examined using the following elements. In the device, ITO containing silicon oxide was formed on a substrate, and then the composite layer shown in FIG. 11 or 12 was formed thereon with a thickness of 120 nm, and aluminum was further formed with a thickness of 300 nm. A thing was used.

なお、第1の回転板502の回転数を2rpmとした際に得られた複合層(図11)を有する素子を素子1とし、第1の回転板502の回転数を8rpmとした際に得られた複合層(図12)を有する素子を素子2とした。   The element having the composite layer (FIG. 11) obtained when the rotational speed of the first rotating plate 502 is 2 rpm is referred to as the element 1, and is obtained when the rotational speed of the first rotating plate 502 is 8 rpm. An element having the obtained composite layer (FIG. 12) was designated as element 2.

素子1及び素子2の電流密度−電圧特性を図13に示す。図13より、素子2は素子1よりも電流特性に優れていることがわかった。よって、複合層中の酸化モリブデンの濃度すなわち金属酸化物濃度の繰り返し周期はより短い方が良いと言える。以上のことから、金属酸化物濃度の繰り返し周期は12nm以下、好ましくは3nm以下が良い。より好ましくは繰り返し周期が0nmに近い金属酸化物濃度が均一な複合層であることが好ましい。このような条件を満たすように、回転速度、蒸着速度、被処理物と蒸着源との距離、蒸着源と蒸着源との距離、基板と回転軸との距離等を適宜設計し成膜する。   FIG. 13 shows current density-voltage characteristics of the element 1 and the element 2. From FIG. 13, it was found that the element 2 has better current characteristics than the element 1. Therefore, it can be said that the repetition period of the molybdenum oxide concentration in the composite layer, that is, the metal oxide concentration, is preferably shorter. From the above, the repetition period of the metal oxide concentration is 12 nm or less, preferably 3 nm or less. More preferably, the composite layer has a uniform metal oxide concentration with a repetition period close to 0 nm. In order to satisfy such a condition, the film is formed by appropriately designing the rotation speed, the deposition speed, the distance between the object to be processed and the deposition source, the distance between the deposition source and the deposition source, the distance between the substrate and the rotation axis, and the like.

また、図6のように金属酸化物の蒸着源601aを複数個としても良い。図6には蒸着源が5個の例について示してあるが、2個、3個、4個あるいは6個以上の蒸着源を備えていても良い。このような蒸着装置を用いた場合、蒸着源の上部に設けられたシャッターの開閉により、蒸着量を容易に制御することが可能である。そのため、蒸着源の温度を下げることなく、金属酸化物濃度の異なる複合層の積層及び濃度勾配を有する複合層の作製が容易となる。   Further, a plurality of metal oxide vapor deposition sources 601a may be provided as shown in FIG. Although FIG. 6 shows an example of five vapor deposition sources, two, three, four, or six or more vapor deposition sources may be provided. When such a vapor deposition apparatus is used, the vapor deposition amount can be easily controlled by opening and closing a shutter provided above the vapor deposition source. Therefore, it becomes easy to produce a composite layer having a stack of composite layers having different metal oxide concentrations and a concentration gradient without lowering the temperature of the vapor deposition source.

金属酸化物及び有機化合物の蒸着速度は、各材料によって同じであっても異なっていても良く、成膜する金属酸化物の濃度により適宜選択する。また、第1の回転板502及び第2の回転板504a〜504dの形状について特に限定はなく、図5及び6に示されるような円形の他、四角形等の多角形であってもよい。なお、第2の回転板504a〜504dを設けることによって、被処理物に形成される層の厚さ等の面内バラツキを低減することができる。なお、第2の回転板504a〜504dを必ずしも設ける必要はない。   The vapor deposition rates of the metal oxide and the organic compound may be the same or different depending on each material, and are appropriately selected depending on the concentration of the metal oxide to be formed. Further, the shapes of the first rotating plate 502 and the second rotating plates 504a to 504d are not particularly limited, and may be a polygon such as a quadrangle other than a circle as shown in FIGS. Note that by providing the second rotating plates 504a to 504d, in-plane variations such as the thickness of a layer formed on the object to be processed can be reduced. Note that the second rotating plates 504a to 504d are not necessarily provided.

処理室401内の構成は図5及び図6に表されるものに限定されず、例えば、図7に表されるような蒸着源の位置が変わるような構成であってもよい。   The configuration in the processing chamber 401 is not limited to that shown in FIGS. 5 and 6, and for example, a configuration in which the position of the vapor deposition source as shown in FIG. 7 is changed may be used.

図7において、蒸着源701a、701bが固定され、軸707を中心に回転する回転板706と、被処理物705a〜705dを保持するための保持部702とが、対向して設けられている。蒸着源701aには金属酸化物が、蒸着源701bには有機化合物が、保持されている。そして、蒸着源701bよりも蒸着源701aの方が被処理物705aに近くなるように蒸着源が位置しているとき、被処理物705a上には、有機化合物の濃度よりも金属酸化物の濃度の方が高くなるように共蒸着される。また、回転板706が回転し、蒸着源701aよりも蒸着源701bの方が被処理物705aに近くなるように位置するようなれば、被処理物705a上には、金属酸化物の濃度よりも有機化合物の濃度の方が高くなるように共蒸着される。このように、蒸着装置は、蒸着源の位置が変わることによって、被処理物に対する蒸着源の位置が変わるような構成を有するものであってもよい。つまり、蒸着源と被処理物とは、それぞれの位置が相対的に変化するように設けられていればよい。   In FIG. 7, vapor deposition sources 701 a and 701 b are fixed, and a rotating plate 706 that rotates about a shaft 707 and a holding portion 702 for holding workpieces 705 a to 705 d are provided to face each other. The evaporation source 701a holds a metal oxide, and the evaporation source 701b holds an organic compound. When the vapor deposition source is positioned so that the vapor deposition source 701a is closer to the workpiece 705a than the vapor deposition source 701b, the concentration of the metal oxide on the workpiece 705a is higher than the concentration of the organic compound. Co-evaporation is performed so as to be higher. Further, if the rotating plate 706 rotates and the vapor deposition source 701b is positioned closer to the workpiece 705a than the vapor deposition source 701a, the concentration of the metal oxide on the workpiece 705a is larger than that of the metal oxide. Co-evaporation is performed so that the concentration of the organic compound is higher. As described above, the vapor deposition apparatus may have a configuration in which the position of the vapor deposition source with respect to the object to be processed is changed by changing the position of the vapor deposition source. That is, the vapor deposition source and the object to be processed need only be provided so that their positions change relatively.

蒸着源は、直接加熱である抵抗加熱方式と間接加熱である輻射熱方式があるが、どちらの方式を用いても複合層の作製は可能である。蒸着容器もあらゆるものを用いることが可能である。例えば、図8(A)に示す坩堝800は、量産する際によく用いられる蒸着容器である。複合層の金属酸化物として用いられる酸化モリブデンの蒸着温度は、坩堝の形状、大きさにも依存するが、真空中で約450〜550℃であり、有機物と比較すると高い蒸着温度であるといえる。そのため、蒸着容器の材質を工夫する必要がある。蒸着容器には、窒化アルミニウム、窒化ボロン、炭化ケイ素、リン化ホウ素などの非金属材料が好ましい。また、これらの材料の複合材料を使用しても良い。その他、タンタル、タングステン、アルミナなど任意の材料から、使用温度、反応性などを考慮し、適宜選択すれば良い。坩堝の厚みは蒸着材料の想定内容量や形状、あるいは材料の熱伝導率などを考慮して決めれば良い。   There are a resistance heating method that is direct heating and a radiant heat method that is indirect heating as a vapor deposition source, but it is possible to produce a composite layer by using either method. Any vapor deposition container can be used. For example, a crucible 800 shown in FIG. 8A is a vapor deposition container often used for mass production. The vapor deposition temperature of molybdenum oxide used as the metal oxide of the composite layer depends on the shape and size of the crucible, but is about 450 to 550 ° C. in vacuum, which is higher than that of organic substances. . Therefore, it is necessary to devise the material of the vapor deposition container. For the vapor deposition container, a non-metallic material such as aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, boron phosphide is preferable. Further, a composite material of these materials may be used. In addition, any material such as tantalum, tungsten, or alumina may be selected as appropriate in consideration of the use temperature, reactivity, and the like. The thickness of the crucible may be determined in consideration of the assumed internal volume and shape of the vapor deposition material or the thermal conductivity of the material.

また、図8(B)に示すように開口部を有する蓋801付きの坩堝を用いても良い。蓋801の材料も、坩堝800と同様、窒化アルミニウム、窒化ボロン、炭化ケイ素、リン化ホウ素、タンタル、タングステン、アルミナなどその他の任意の材料から一または複数を、使用温度、反応性など考慮し、適宜選択すれば良い。   Alternatively, as shown in FIG. 8B, a crucible with a lid 801 having an opening may be used. Similarly to the crucible 800, the lid 801 is made of one or a plurality of other materials such as aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, boron phosphide, tantalum, tungsten, and alumina in consideration of operating temperature, reactivity, etc. What is necessary is just to select suitably.

また、金属酸化物の蒸着を行う際の注意点として、開口部で材料が詰まりやすいことが挙げられる。これは、蒸着容器下部の温度に比べて、蒸着容器上部にある開口部の温度が低いことに起因するものである。特に、金属酸化物の蒸着速度が高いときには起こりやすい傾向がある。   In addition, a point to be noted when performing metal oxide deposition is that the material is likely to be clogged at the opening. This is because the temperature of the opening at the upper part of the vapor deposition container is lower than the temperature at the lower part of the vapor deposition container. In particular, it tends to occur when the deposition rate of the metal oxide is high.

坩堝内を均熱化するために、坩堝上部にあるヒーターの巻き数を下部よりも多くしたり、坩堝上部の側面を銀、金、銅、アルミニウムなどの熱伝導率の高い物質でコーティングしたり、図8(C)に示すように坩堝800の中に蒸着材料である金属酸化物802と共に窒化ボロン(熱伝導率:60W・m−1・K−1)、炭化珪素(熱伝導率:270W・m−1・K−1)、窒化アルミニウム(熱伝導率:70W・m−1・K−1以上320W・m−1・K−1以下)、リン化ホウ素等の熱伝導性の良い粒子803を入れるなどの工夫を施すことが好ましい。また、これらの工夫を適宜組み合わせることも可能であり、均熱化に対しさらに効果的である。また、粒子803を蒸着材料に混入させることにより、蒸着材料の突沸を防ぐ効果もある。なお、粒子803の粒径は0.1mm以上5mm以下が好ましい。形状については、球状であるものを図示したが、卵形、碁石状楕円球体、ラグビーボール状楕円球体、円盤状、円柱状、多角柱状など特に限定されない。 To equalize the inside of the crucible, the number of turns of the heater at the top of the crucible is increased from the bottom, and the side of the top of the crucible is coated with a material with high thermal conductivity such as silver, gold, copper, and aluminum. 8 (C), boron nitride (thermal conductivity: 60 W · m −1 · K −1 ), silicon carbide (thermal conductivity: 270 W) together with metal oxide 802 as a vapor deposition material in a crucible 800. · m -1 · K -1), aluminum nitride (thermal conductivity: 70W · m -1 · K -1 or more 320W · m -1 · K -1 or less), good thermal conductivity boron phosphide like particles It is preferable to devise such as adding 803. Moreover, it is also possible to combine these ideas suitably, and it is further effective with respect to soaking | uniform-heating. In addition, by mixing the particles 803 in the vapor deposition material, there is an effect of preventing bumping of the vapor deposition material. Note that the particle size of the particles 803 is preferably 0.1 mm or more and 5 mm or less. As for the shape, a spherical shape is illustrated, but there is no particular limitation such as an oval shape, a meteorite-like ellipsoidal sphere, a rugby ball-like ellipsoidal sphere, a disc shape, a columnar shape, or a polygonal columnar shape.

金属酸化物を充填した坩堝について記載したが、有機化合物を充填した坩堝に対しても上述した同様のことが言える。   Although the crucible filled with the metal oxide has been described, the same can be said for the crucible filled with the organic compound.

なお、本実施の形態は、実施の形態1または2と適宜組み合わせることが可能である。   Note that this embodiment mode can be combined with Embodiment Mode 1 or 2 as appropriate.

(実施の形態4)
本実施の形態では、図9を用いて本発明の発光素子を有する発光装置について説明する。なお、図9(A)は、発光装置を示す上面図、図9(B)は図9(A)中A−A’線断面図(A−A’で切断した断面図)である。900は基板、点線で示された901は駆動回路部(ソース側駆動回路)、902は画素部、903は駆動回路部(ゲート側駆動回路)である。また、904は封止基板、905はシール材であり、シール材905で囲まれた内側は、空間906になっている。
(Embodiment 4)
In this embodiment mode, a light-emitting device having the light-emitting element of the present invention will be described with reference to FIGS. 9A is a top view illustrating the light-emitting device, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 9A (a cross-sectional view cut along AA ′). Reference numeral 900 denotes a substrate, reference numeral 901 indicated by a dotted line denotes a driver circuit portion (source side driver circuit), reference numeral 902 denotes a pixel portion, and reference numeral 903 denotes a driver circuit portion (gate side driver circuit). Reference numeral 904 denotes a sealing substrate, reference numeral 905 denotes a sealing material, and the inside surrounded by the sealing material 905 is a space 906.

なお、907は、ソース側駆動回路901およびゲート側駆動回路903に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)908からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではFPCしか図示していないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り付けられていてもよい。本発明の発光装置には、発光装置本体だけの場合はもちろん、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。   Reference numeral 907 denotes a wiring for transmitting signals input to the source side driver circuit 901 and the gate side driver circuit 903, and a video signal, a clock signal, and a start signal from an FPC (flexible printed circuit) 908 serving as an external input terminal. Receive signals, reset signals, etc. Although only the FPC is shown here, a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC. The light emitting device of the present invention includes not only the light emitting device main body but also a state in which an FPC or PWB is attached thereto.

次に、断面構造について図9(B)を用いて説明する。基板900上には駆動回路部および画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース側駆動回路901と、画素部902が示されている。   Next, a cross-sectional structure is described with reference to FIG. A driver circuit portion and a pixel portion are formed over the substrate 900. Here, a source side driver circuit 901 which is a driver circuit portion and a pixel portion 902 are shown.

なお、ソース側駆動回路901はnチャネル型TFT923とpチャネル型TFT924とを組み合わせたCMOS回路が形成される。また、駆動回路を形成するTFTは、公知のCMOS回路、PMOS回路もしくはNMOS回路で形成してもよい。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示しているが、必ずしもその必要はなく、基板上ではなく外部に形成することもできる。   Note that the source side driver circuit 901 is a CMOS circuit in which an n-channel TFT 923 and a p-channel TFT 924 are combined. The TFT forming the driving circuit may be formed by a known CMOS circuit, PMOS circuit, or NMOS circuit. In this embodiment mode, a driver integrated type in which a drive circuit is formed over a substrate is shown; however, this is not always necessary, and the driver circuit can be formed outside the substrate.

また、画素部902はスイッチング用TFT911と、電流制御用TFT912と、そのドレインに電気的に接続された第1の電極913とを含む複数の画素により形成される。なお、第1の電極913の端部を覆って絶縁物914が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。   The pixel portion 902 is formed by a plurality of pixels including a switching TFT 911, a current control TFT 912, and a first electrode 913 electrically connected to the drain thereof. Note that an insulator 914 is formed so as to cover an end portion of the first electrode 913. Here, a positive photosensitive acrylic resin film is used.

また、後に形成される発光物質を含む層916の成膜を良好なものとするため、絶縁物914の上端部または下端部が曲率を有する曲面となるように形成することが好ましい。例えば、絶縁物914の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物914の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物914として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、あるいは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。さらには、絶縁物914の材料として有機物に限らず無機物が用いることができ、例えば酸化珪素、酸窒化珪素等を用いることができる。   In order to improve the formation of the layer 916 containing a light-emitting substance to be formed later, the upper end portion or the lower end portion of the insulator 914 is preferably formed to have a curved surface having a curvature. For example, in the case where positive photosensitive acrylic is used as a material for the insulator 914, it is preferable that only the upper end portion of the insulator 914 has a curved surface with a radius of curvature (0.2 μm to 3 μm). As the insulator 914, either a negative type that becomes insoluble in an etchant by photosensitive light or a positive type that becomes soluble in an etchant by light can be used. Furthermore, the material of the insulator 914 is not limited to an organic material, and an inorganic material can be used. For example, silicon oxide, silicon oxynitride, or the like can be used.

また、第1の電極913上には、発光物質を含む層916および第2の電極917がそれぞれ上記実施の形態で示された方法により形成される。発光物質を含む層916には、少なくとも発光層と、発光層と一方の電極との間に複合層とが設けられていれば、その他の層については特には限定されず、適宜選択することができる。   A layer 916 containing a light-emitting substance and a second electrode 917 are formed over the first electrode 913 by the method described in the above embodiment mode. In the layer 916 containing a light-emitting substance, at least a light-emitting layer and a composite layer are provided between the light-emitting layer and one electrode, the other layers are not particularly limited and can be selected as appropriate. it can.

さらに、シール材905で封止基板904を基板900と貼り合わせることにより、基板900、封止基板904、およびシール材905で囲まれた空間906に第1の電極913と発光物質を含む層916と第2の電極917とを有する発光素子918が備えられた構造になっている。なお、空間906には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材905で充填される構成も含むものとする。   Further, the sealing substrate 904 is attached to the substrate 900 with the sealant 905, whereby the first electrode 913 and the layer 916 containing a light-emitting substance in the space 906 surrounded by the substrate 900, the sealing substrate 904, and the sealant 905. And a second light emitting element 918 having a second electrode 917. Note that the space 906 includes a structure filled with a sealant 905 in addition to a case where the space 906 is filled with an inert gas (nitrogen, argon, or the like).

なお、シール材905にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板904に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。   Note that an epoxy-based resin is preferably used for the sealant 905. Moreover, it is desirable that these materials are materials that do not transmit moisture and oxygen as much as possible. In addition to a glass substrate or a quartz substrate, a plastic substrate made of FRP (Fiberglass-Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), Mylar, polyester, acrylic, or the like can be used as a material used for the sealing substrate 904.

以上のようにして、本発明を用いて作製された発光装置を得ることができる。発光装置は、複合層を有するためホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、屈折率を考慮し複合層中の金属酸化物濃度を選択することで、発光層から複合層、電極にかけての膜界面における光の反射を低減し、光の取り出し効率を向上することができる。よって、低消費電力の発光装置を得ることができる。   As described above, a light-emitting device manufactured using the present invention can be obtained. Since the light-emitting device has a composite layer, it has excellent hole transportability. Therefore, the drive voltage can be reduced. In addition, by selecting the metal oxide concentration in the composite layer in consideration of the refractive index, light reflection at the film interface from the light emitting layer to the composite layer and the electrode can be reduced, and the light extraction efficiency can be improved. . Therefore, a light-emitting device with low power consumption can be obtained.

本実施の形態は実施の形態1乃至3のいずれかの構成と適宜組み合わせることが可能である。   This embodiment mode can be combined with any structure of Embodiment Modes 1 to 3 as appropriate.

また、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。   Further, the present invention is not limited to the above embodiment.

(実施の形態5)
本実施例では、本発明の発光素子を有する発光装置を用いて完成させた様々な電気器具について説明する。なお、本発明を適用することにより、駆動電圧の低い発光素子を提供できるものであることから、本発明の発光素子を搭載した電子機器においては、低消費電力化を図ることができる。
(Embodiment 5)
In this example, various electric appliances completed using a light-emitting device having the light-emitting element of the present invention will be described. Note that by applying the present invention, a light-emitting element with a low driving voltage can be provided. Therefore, in an electronic device including the light-emitting element of the present invention, low power consumption can be achieved.

本発明を用いて形成される発光装置を用いて作製された電気器具として、テレビジョン、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話器、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置〔具体的にはデジタルビデオディスク(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうる表示装置を備えた装置〕などが挙げられる。電気器具のいくつかの具体例を図10を用いて説明する。本発明の発光装置を用いた電気器具はこれら例示の具体例に限定されない。   As an electric appliance manufactured using a light-emitting device formed using the present invention, a television, a video camera, a digital camera, a goggle-type display (head-mounted display), a navigation system, a sound reproduction device (car audio, audio component) Etc.), a notebook personal computer, a game machine, a portable information terminal (mobile computer, cellular phone, portable game machine, electronic book, etc.), and an image playback device equipped with a recording medium [specifically, a digital video disc (DVD And the like] and the like] and the like]. Some specific examples of the electric appliance will be described with reference to FIG. The electric appliance using the light emitting device of the present invention is not limited to these specific examples.

図10(A)は表示装置であり、筐体1000、支持台1001、表示部1002、スピーカー部1003、ビデオ入力端子1004等を含む。本発明を用いて形成される発光装置をその表示部1002に用いることにより作製される。なお、表示装置は、パーソナルコンピューター用、TV放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用装置が含まれる。   FIG. 10A illustrates a display device, which includes a housing 1000, a support base 1001, a display portion 1002, a speaker portion 1003, a video input terminal 1004, and the like. The display device 1002 is manufactured using a light-emitting device formed using the present invention. The display device includes all information display devices such as a personal computer, a TV broadcast reception, and an advertisement display.

表示部1002には本発明の発光素子が設けられている。本発明の発光素子は、第1の電極と発光層との間に金属酸化物と有機化合物とを有する複合層を有するため、ホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、屈折率を考慮し複合層中の金属酸化物濃度を選択することで、発光層から第1の電極にかけての膜界面における光の反射を低減し、光の取り出し効率を向上することができる。よって、消費電力が低い表示装置を得ることが可能となる。   The display portion 1002 is provided with the light-emitting element of the present invention. Since the light-emitting element of the present invention includes a composite layer including a metal oxide and an organic compound between the first electrode and the light-emitting layer, the light-emitting element has excellent hole transportability. Therefore, the drive voltage can be reduced. Further, by selecting the metal oxide concentration in the composite layer in consideration of the refractive index, light reflection at the film interface from the light emitting layer to the first electrode can be reduced, and the light extraction efficiency can be improved. . Therefore, a display device with low power consumption can be obtained.

図10(B)はノート型パーソナルコンピュータであり、本体1010、筐体1011、表示部1012、キーボード1013、外部接続ポート1014、ポインティングマウス1015等を含む。   FIG. 10B illustrates a laptop personal computer, which includes a main body 1010, a housing 1011, a display portion 1012, a keyboard 1013, an external connection port 1014, a pointing mouse 1015, and the like.

表示部1012には本発明の発光素子が設けられている。本発明の発光素子は、第1の電極と発光層との間に金属酸化物と有機化合物とを有する複合層を有するため、ホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、屈折率を考慮し複合層中の金属酸化物濃度を選択することで、発光層から第1の電極にかけての膜界面における光の反射を低減し、光の取り出し効率を向上することができる。よって、消費電力が低いパーソナルコンピューターを得ることができる。   The display portion 1012 is provided with the light-emitting element of the present invention. Since the light-emitting element of the present invention includes a composite layer including a metal oxide and an organic compound between the first electrode and the light-emitting layer, the light-emitting element has excellent hole transportability. Therefore, the drive voltage can be reduced. Further, by selecting the metal oxide concentration in the composite layer in consideration of the refractive index, light reflection at the film interface from the light emitting layer to the first electrode can be reduced, and the light extraction efficiency can be improved. . Therefore, a personal computer with low power consumption can be obtained.

図10(C)はビデオカメラであり、本体1020、表示部1021、筐体1022、外部接続ポート1023、リモコン受信部1024、受像部1025、バッテリー1026、音声入力部1027、操作キー1028、接眼部1029等を含む。   FIG. 10C illustrates a video camera, which includes a main body 1020, a display portion 1021, a housing 1022, an external connection port 1023, a remote control receiving portion 1024, an image receiving portion 1025, a battery 1026, an audio input portion 1027, operation keys 1028, an eyepiece. Part 1029 and the like.

表示部1021には本発明の発光素子が設けられている。本発明の発光素子は、第1の電極と発光層との間に金属酸化物と有機化合物とを有する複合層を有するため、ホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、屈折率を考慮し複合層中の金属酸化物濃度を選択することで、発光層から第1の電極にかけての膜界面における光の反射を低減し、光の取り出し効率を向上することができる。よって、消費電力が低いビデオカメラを得ることができる。   The display portion 1021 is provided with the light-emitting element of the present invention. Since the light-emitting element of the present invention includes a composite layer including a metal oxide and an organic compound between the first electrode and the light-emitting layer, the light-emitting element has excellent hole transportability. Therefore, the drive voltage can be reduced. Further, by selecting the metal oxide concentration in the composite layer in consideration of the refractive index, light reflection at the film interface from the light emitting layer to the first electrode can be reduced, and the light extraction efficiency can be improved. . Thus, a video camera with low power consumption can be obtained.

また、図10(D)は携帯電話機であり、本体1030、筐体1031、表示部1032、音声入力部1033、音声出力部1034、操作キー1035、外部接続ポート1036、アンテナ1037等を含む。   FIG. 10D illustrates a mobile phone, which includes a main body 1030, a housing 1031, a display portion 1032, a sound input portion 1033, a sound output portion 1034, operation keys 1035, an external connection port 1036, an antenna 1037, and the like.

表示部1032には本発明の発光素子が設けられている。本発明の発光素子は、第1の電極と発光層との間に金属酸化物と有機化合物とを有する複合層を有するため、ホール輸送性に優れている。そのため、駆動電圧を低減することができる。また、屈折率を考慮し複合層中の金属酸化物濃度を選択することで、発光層から第1の電極にかけての膜界面における光の反射を低減し、光の取り出し効率を向上することができる。よって、消費電力が低い携帯電話を得ることができる。   The display portion 1032 is provided with the light-emitting element of the present invention. Since the light-emitting element of the present invention includes a composite layer including a metal oxide and an organic compound between the first electrode and the light-emitting layer, the light-emitting element has excellent hole transportability. Therefore, the drive voltage can be reduced. Further, by selecting the metal oxide concentration in the composite layer in consideration of the refractive index, light reflection at the film interface from the light emitting layer to the first electrode can be reduced, and the light extraction efficiency can be improved. . Thus, a mobile phone with low power consumption can be obtained.

以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の表示装置に用いることが可能である。また、本実施例の電子機器は実施の形態1乃至4のいずれかの構成と適宜組み合わせることが可能である。   As described above, the applicable range of the present invention is extremely wide and can be used for display devices in various fields. In addition, the electronic device of this example can be combined with any of the structures in Embodiments 1 to 4 as appropriate.

本発明の発光素子を説明する図。4A and 4B illustrate a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子を説明する図。4A and 4B illustrate a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子を説明する図。4A and 4B illustrate a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子の作製方法を説明する図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子の作製方法を説明する図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子の作製方法を説明する図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子の作製方法を説明する図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子の作製方法を説明する図。4A and 4B illustrate a method for manufacturing a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光装置を説明する図。4A and 4B illustrate a light-emitting device of the present invention. 本発明の発光素子を用いた電気機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electrical appliance using a light-emitting element of the present invention. 複合層の透過型電子顕微鏡の観察結果を示す図。The figure which shows the observation result of the transmission electron microscope of a composite layer. 複合層の透過型電子顕微鏡の観察結果を示す図。The figure which shows the observation result of the transmission electron microscope of a composite layer. 複合層の電流密度−電圧特性を示す図。The figure which shows the current density-voltage characteristic of a composite layer. 複合層中の金属酸化物濃度について検討した際の蒸着装置の模式図。The schematic diagram of the vapor deposition apparatus at the time of examining about the metal oxide density | concentration in a composite layer.

符号の説明Explanation of symbols

101 基板
102 第1の電極
103a 第1の複合層
103b 第2の複合層
104 発光層
105 電子輸送層
106 電子注入層
107 第2の電極
203a 第1の複合層
203b 第2の複合層
203c 第3の複合層
303 複合層
401 処理室
402 搬送室
403 アーム
501a 蒸着源
501b 蒸着源
502 第1の回転板
503 軸
504a 第2の回転板
504b 第2の回転板
504c 第2の回転板
504d 第2の回転板
505a 被処理物
505b 被処理物
505c 被処理物
505d 被処理物
601a 蒸着源
701a 蒸着源
701b 蒸着源
702 保持部
705a 被処理物
705b 被処理物
705c 被処理物
705d 被処理物
706 回転板
707 軸
800 坩堝
801 蓋
802 金属酸化物
803 粒子
900 基板
901 駆動回路部
902 画素部
903 駆動回路部
904 封止基板
905 シール材
906 空間
907 配線
908 FPC
911 スイッチング用TFT
912 電流制御用TFT
913 第1の電極
914 絶縁物
916 発光物質を含む層
917 第2の電極
918 発光素子
923 nチャネル型TFT
924 pチャネル型TFT
1000 筐体
1001 支持台
1002 表示部
1003 スピーカー部
1004 ビデオ入力端子
1010 本体
1011 筐体
1012 表示部
1013 キーボード
1014 外部接続ポート
1015 ポインティングマウス
1020 本体
1021 表示部
1022 筐体
1023 外部接続ポート
1024 リモコン受信部
1025 受像部
1026 バッテリー
1027 音声入力部
1028 操作キー
1029 接眼部
1030 本体
1031 筐体
1032 表示部
1033 音声入力部
1034 音声出力部
1035 操作キー
1036 外部接続ポート
1037 アンテナ
101 substrate 102 first electrode 103a first composite layer 103b second composite layer 104 light emitting layer 105 electron transport layer 106 electron injection layer 107 second electrode 203a first composite layer 203b second composite layer 203c third Composite layer 303 composite layer 401 processing chamber 402 transfer chamber 403 arm 501a deposition source 501b deposition source 502 first rotating plate 503 shaft 504a second rotating plate 504b second rotating plate 504c second rotating plate 504d second Rotating plate 505a Object 505b Object 505c Object 505d Object 601a Deposition source 701a Deposition source 701b Deposition source 702 Holding part 705a Object 705b Object 705c Object 705d Object 706 Rotating plate 707 Shaft 800 Crucible 801 Lid 802 Metal oxide 803 Particle 900 Substrate 901 Drive circuit Portion 902 pixel portion 903 drive circuit portion 904 sealing substrate 905 sealing material 906 space 907 wiring 908 FPC
911 TFT for switching
912 Current control TFT
913 First electrode 914 Insulator 916 Layer containing light emitting substance 917 Second electrode 918 Light emitting element 923 n-channel TFT
924 p-channel TFT
1000 Case 1001 Support stand 1002 Display unit 1003 Speaker unit 1004 Video input terminal 1010 Main body 1011 Case 1012 Display unit 1013 Keyboard 1014 External connection port 1015 Pointing mouse 1020 Main body 1021 Display unit 1022 Case 1023 External connection port 1024 Remote control reception unit 1025 Image receiving unit 1026 Battery 1027 Audio input unit 1028 Operation key 1029 Eyepiece unit 1030 Main body 1031 Case 1032 Display unit 1033 Audio input unit 1034 Audio output unit 1035 Operation key 1036 External connection port 1037 Antenna

Claims (14)

第1の電極と、前記第1の電極上に順に積層された第1の複合層と、第2の複合層と、発光層と、電子輸送層と、第2の電極とを有し、
前記第1の複合層及び前記第2の複合層は、金属酸化物と有機化合物とを有し、
前記第1の複合層の平均金属酸化物濃度は、前記第2の複合層の平均金属酸化物濃度より高いことを特徴とする発光素子。
A first electrode, a first composite layer sequentially stacked on the first electrode, a second composite layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a second electrode;
The first composite layer and the second composite layer have a metal oxide and an organic compound,
An average metal oxide concentration of the first composite layer is higher than an average metal oxide concentration of the second composite layer.
請求項1において、
前記第1の複合層と前記第2の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、
前記第1の領域の金属酸化物濃度は、前記第2の領域の金属酸化物濃度以上であり、
前記第1の領域中の最も高い金属酸化物濃度は、前記第2の領域中の最も低い金属酸化物濃度に比べ1倍以上8倍以下の金属酸化物濃度であることを特徴とする発光素子。
In claim 1,
The first composite layer and the second composite layer have a configuration in which the first regions and the second regions are alternately stacked,
The metal oxide concentration in the first region is greater than or equal to the metal oxide concentration in the second region;
The highest metal oxide concentration in the first region is 1 to 8 times the metal oxide concentration compared to the lowest metal oxide concentration in the second region. .
請求項1において、
前記第1の複合層と前記第2の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、
前記第1の領域と前記第2の領域の金属酸化物濃度は異なっており、
前記第1の複合層と前記第2の複合層における当該金属酸化物濃度の繰り返し周期は、12nm以下であることを特徴とする発光素子。
In claim 1,
The first composite layer and the second composite layer have a configuration in which the first regions and the second regions are alternately stacked,
The metal oxide concentrations of the first region and the second region are different,
The light emitting element, wherein a repetition period of the metal oxide concentration in the first composite layer and the second composite layer is 12 nm or less.
第1の電極と、前記第1の電極上に順に積層された第1の複合層と、第2の複合層と、第3の複合層と、発光層と、電子輸送層と、第2の電極とを有し、
前記第1の複合層、前記第2の複合層及び前記第3の複合層は、金属酸化物と有機化合物とを有し、
前記第1の複合層の平均金属酸化物濃度は、前記第2の複合層の平均金属酸化物濃度より高く、
前記第2の複合層の平均金属酸化物濃度は、前記第3の複合層の平均金属酸化物濃度より高いことを特徴とする発光素子。
A first composite layer, a second composite layer, a third composite layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a second composite layer sequentially stacked on the first electrode; An electrode,
The first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer have a metal oxide and an organic compound,
The average metal oxide concentration of the first composite layer is higher than the average metal oxide concentration of the second composite layer,
The average metal oxide concentration of the second composite layer is higher than the average metal oxide concentration of the third composite layer.
請求項4において、
前記第1の複合層と、前記第2の複合層と、前記第3の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、
前記第1の領域の金属酸化物濃度は、前記第2の領域の金属酸化物濃度以上であり、
前記第1の領域中の最も高い金属酸化物濃度は、前記第2の領域中の最も低い金属酸化物濃度に比べ1倍以上8倍以下の金属酸化物濃度であることを特徴とする発光素子。
In claim 4,
The first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer each have a configuration in which first regions and second regions are alternately stacked,
The metal oxide concentration in the first region is greater than or equal to the metal oxide concentration in the second region;
The highest metal oxide concentration in the first region is 1 to 8 times the metal oxide concentration compared to the lowest metal oxide concentration in the second region. .
請求項4において、
前記第1の複合層と、前記第2の複合層と、前記第3の複合層は、おのおの第1の領域と第2の領域とが交互に積層された構成であり、
前記第1の領域と前記第2の領域の金属酸化物濃度は異なっており、
前記第1の複合層と、前記第2の複合層と、前記第3の複合層における当該金属酸化物濃度の繰り返し周期は、12nm以下であることを特徴とする発光素子。
In claim 4,
The first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer each have a configuration in which first regions and second regions are alternately stacked,
The metal oxide concentrations of the first region and the second region are different,
The light emitting element, wherein a repetition period of the metal oxide concentration in the first composite layer, the second composite layer, and the third composite layer is 12 nm or less.
第1の電極と、前記第1の電極上に順に積層された複合層と、発光層と、電子輸送層と、第2の電極とを有し、
前記複合層は、金属酸化物と有機化合物とを有し、
前記複合層の金属酸化物は、前記第1の電極から前記発光層側にかけて濃度勾配を有する特徴とする発光素子。
A first electrode, a composite layer sequentially laminated on the first electrode, a light emitting layer, an electron transport layer, and a second electrode;
The composite layer has a metal oxide and an organic compound,
The light-emitting element in which the metal oxide of the composite layer has a concentration gradient from the first electrode to the light-emitting layer side.
請求項7において、
前記複合層の金属酸化物濃度は、前記発光層と接する面において最も低いことを特徴とする発光素子。
In claim 7,
The light emitting element characterized by the metal oxide density | concentration of the said composite layer being the lowest in the surface which contact | connects the said light emitting layer.
請求項7において、
前記複合層の金属酸化物濃度は、前記発光層と接する面において0wt%以上3wt%以下であることを特徴とする発光素子。
In claim 7,
The light emitting element characterized in that the metal oxide concentration of the composite layer is 0 wt% or more and 3 wt% or less on the surface in contact with the light emitting layer.
請求項1乃至9のいずれか一項において、
前記金属酸化物は、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化レニウムのいずれか一種または複数種であることを特徴とする発光素子。
In any one of Claims 1 thru | or 9,
The metal oxide is one or more of titanium oxide, vanadium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, niobium oxide, molybdenum oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, and rhenium oxide. element.
請求項1乃至10のいずれか一項において、
前記有機化合物は、正孔輸送性を有することを特徴とする発光素子。
In any one of Claims 1 thru | or 10,
The light-emitting element, wherein the organic compound has a hole transporting property.
請求項1乃至11のいずれか一項において、
前記有機化合物は、アリールアミン骨格またはカルバゾール骨格を有することを特徴とする発光素子。
In any one of Claims 1 thru | or 11,
The organic compound has an arylamine skeleton or a carbazole skeleton.
請求項1乃至請求項12のいずれか一項に記載の発光素子を有することを特徴とする発光装置。   A light-emitting device comprising the light-emitting element according to claim 1. 請求項13に記載の発光装置を有することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the light emitting device according to claim 13.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011501404A (en) * 2007-10-12 2011-01-06 サン−ゴバン グラス フランス Method for manufacturing an electrode made of molybdenum oxide
WO2020138306A1 (en) 2018-12-28 2020-07-02 パイオニア株式会社 Light emission device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59123768A (en) * 1982-12-28 1984-07-17 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Method and device for simultaneous multi-element sputtering
JP2002313583A (en) * 2000-12-28 2002-10-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting device
JP2003286563A (en) * 2002-03-28 2003-10-10 Sony Corp Film-forming apparatus and film-forming method
JP2005123095A (en) * 2003-10-17 2005-05-12 Junji Kido Organic electroluminescent element

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59123768A (en) * 1982-12-28 1984-07-17 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Method and device for simultaneous multi-element sputtering
JP2002313583A (en) * 2000-12-28 2002-10-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting device
JP2003286563A (en) * 2002-03-28 2003-10-10 Sony Corp Film-forming apparatus and film-forming method
JP2005123095A (en) * 2003-10-17 2005-05-12 Junji Kido Organic electroluminescent element

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011501404A (en) * 2007-10-12 2011-01-06 サン−ゴバン グラス フランス Method for manufacturing an electrode made of molybdenum oxide
KR101625236B1 (en) * 2007-10-12 2016-05-27 쌩-고벵 글래스 프랑스 Method for producing an electrode made with molybdenum oxide
WO2020138306A1 (en) 2018-12-28 2020-07-02 パイオニア株式会社 Light emission device
JPWO2020138306A1 (en) * 2018-12-28 2021-11-04 パイオニア株式会社 Light emitting device
JP7240419B2 (en) 2018-12-28 2023-03-15 パイオニア株式会社 Method for manufacturing light emitting device
US11943948B2 (en) 2018-12-28 2024-03-26 Pioneer Corporation Light emitting device

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