JP2007042729A - Organic electroluminescent element, display device, and illumination device - Google Patents

Organic electroluminescent element, display device, and illumination device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element exhibiting excellent emission luminance, having less dark spot and having high aging stability at high temperature and high humidity, and to provide a display device and an illumination device employing the same. <P>SOLUTION: In the electroluminescent element having an electrode and at least one or more organic layers on a substrate, at least one layer of the organic layers is a light-emitting layer containing dopant, at least the one layer of the organic layers contains a hole transport layer containing a hole transport material and an acceptor compound, and the organic layer contains an organic solvent of 10<SP>-2</SP>to 10<SP>3</SP>ppm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び該有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表示装置、照明装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element, a display device using the organic electroluminescence element, and an illumination apparatus.

従来、発光型の電子ディスプレイデバイスとして、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)がある。ELDの構成要素としては、無機エレクトロルミネッセンス素子や有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ともいう)が挙げられる。   Conventionally, there is an electroluminescence display (ELD) as a light-emitting electronic display device. Examples of the constituent elements of ELD include inorganic electroluminescent elements and organic electroluminescent elements (hereinafter also referred to as organic EL elements).

有機EL素子は発光する化合物を含有する発光層を、陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子及び正孔を注入して、再結合させることにより励起子(エキシトン)を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・燐光)を利用して発光する素子であり、数V〜数十V程度の電圧で発光が可能であり、さらに自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース、携帯性等の観点から注目されている。   An organic EL device has a structure in which a light emitting layer containing a compound that emits light is sandwiched between a cathode and an anode, and injects electrons and holes into the light emitting layer and recombines them to generate excitons. This is an element that emits light by using light emission (fluorescence / phosphorescence) when the exciton is deactivated, and can emit light at a voltage of several volts to several tens of volts, and is self-luminous. In addition, it is attracting attention from the viewpoints of space saving, portability and the like because it is a thin film type complete solid element with a wide viewing angle and high visibility.

近年プリンストン大より、励起三重項からの燐光発光を用いる有機EL素子の報告(非特許文献1参照)がされ、室温で燐光を示す材料の研究が活発になってきている(非特許文献2及び特許文献1参照)。励起三重項を使用すると、内部量子効率の上限が100%となるため、励起一重項の場合に比べて原理的に発光効率が4倍となり、冷陰極管とほぼ同等の性能が得られ照明用にも応用可能であり注目されている。例えば、多くの化合物がイリジウム錯体系等重金属錯体を中心に合成検討がなされている(非特許文献3参照)。   In recent years, Princeton University has reported an organic EL device using phosphorescence emission from an excited triplet (see Non-Patent Document 1), and research on materials that exhibit phosphorescence at room temperature has become active (Non-Patent Document 2 and Patent Document 1). When excited triplets are used, the upper limit of internal quantum efficiency is 100%, so in principle the luminous efficiency is four times that of excited singlets, and the performance is almost the same as that of cold cathode tubes. It can be applied to and attracts attention. For example, many compounds have been studied for synthesis centering on heavy metal complexes such as iridium complexes (see Non-Patent Document 3).

現在、この燐光発光を用いた有機EL素子のさらなる発光の高効率化、長寿命化が検討されている。高い発光効率を得るために、発光層の最適化(特許文献2参照)、ホールブロック層の導入(特許文献3参照)が検討されている。さらに、正孔輸送層中にアクセプター性化合物をドープすることにより、正孔輸送層内のキャリア濃度を上げ、有機層の導電率を向上される方法が提案されている(特許文献4参照)。緑色発光については理論限界である20%近くの外部取り出し効率が達成されているものの、その他の色の発光についてはまだ十分な効率が得られておらず改良が必要であった。特に青色発光で高効率に発光する素子が求められていた。   Currently, further improvement in light emission efficiency and long life of organic EL devices using phosphorescence is being studied. In order to obtain high luminous efficiency, optimization of the light emitting layer (see Patent Document 2) and introduction of a hole blocking layer (see Patent Document 3) are being studied. Furthermore, a method has been proposed in which the carrier concentration in the hole transport layer is increased by doping the acceptor compound in the hole transport layer to improve the conductivity of the organic layer (see Patent Document 4). Although the external extraction efficiency of 20%, which is the theoretical limit, was achieved for green light emission, sufficient efficiency was not yet obtained for light emission of other colors, and improvement was necessary. In particular, there has been a demand for an element that emits blue light with high efficiency.

一方、有機発光素子において高輝度発光を実現しているものは有機物質を真空蒸着によって積層している素子であるが、製造工程の簡略化、加工性、大面積化等の観点から塗布方式による素子作製も開示されている(特許文献5参照)。
米国特許第6,097,147号明細書 特開2002−151267号公報 特開2002−100476号公報 特開2000−196140号公報 特開2002−299061号公報 M.A.Baldo et al.,nature、395巻、151−154ページ(1998年) M.A.Baldo et al.,nature、403巻、17号、750−753ページ(2000年) S.Lamansky et al.,J.Am.Chem.Soc.,123巻、4304ページ(2001年)
On the other hand, organic light-emitting elements that achieve high-intensity light emission are elements in which organic substances are stacked by vacuum vapor deposition, but depending on the application method from the viewpoint of simplification of the manufacturing process, processability, large area, etc. Device fabrication is also disclosed (see Patent Document 5).
US Pat. No. 6,097,147 JP 2002-151267 A JP 2002-1000047 A JP 2000-196140 A JP 2002-299061 A M.M. A. Baldo et al. , Nature, 395, 151-154 (1998) M.M. A. Baldo et al. , Nature, 403, 17, 750-753 (2000) S. Lamansky et al. , J .; Am. Chem. Soc. , 123, 4304 (2001)

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、良好な発光輝度を示し、定電流駆動したときの電圧上昇、ダークスポットが少なく、さらに高温、高湿下での経時安定性が高い有機EL素子、及びそれを用いた表示装置、照明装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to exhibit good light emission luminance, a small voltage increase and dark spot when driven at a constant current, and a high temperature and high humidity. An organic EL element having high temporal stability, and a display device and a lighting device using the same are provided.

本発明の上記課題は、以下の構成により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.

(請求項1)
基板の上に電極と少なくとも1層以上の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも1層はドーパントを含有する発光層であり、該有機層の少なくとも1層は正孔輸送材料及びアクセプター性化合物を含有する正孔輸送層であり、かつ、前記有機層は有機溶媒を10-2〜103ppm含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 1)
In an organic electroluminescence device having an electrode and at least one organic layer on a substrate, at least one of the organic layers is a light-emitting layer containing a dopant, and at least one of the organic layers is a hole transporting material And an acceptor compound, and the organic layer contains 10 −2 to 10 3 ppm of an organic solvent.

(請求項2)
前記ドーパントが燐光性化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 2)
The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the dopant is a phosphorescent compound.

(請求項3)
前記アクセプター性化合物がAu、Pt、W,Ir、POCl3、AsF6、Cl、Br、I、TCNQ、TCNQF4、TCNE、HCNB、DDQ、TNF、DNF、フルオラニル、クロラニルまたはブロマニルであることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 3)
The acceptor compound is Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, I, TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, DDQ, TNF, DNF, fluoranil, chloranil, or bromanyl. The organic electroluminescent element according to claim 1 or 2.

(請求項4)
前記正孔輸送材料の重量平均分子量が5000以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 4)
The weight average molecular weight of the said hole transport material is 5000 or more, The organic electroluminescent element of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.

(請求項5)
前記有機層は有機溶媒を10-1〜102ppm含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 5)
5. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the organic layer contains an organic solvent in an amount of 10 −1 to 10 2 ppm.

(請求項6)
前記基板がガスバリア層を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 6)
The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the substrate has a gas barrier layer.

(請求項7)
発光が赤色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 7)
The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is red.

(請求項8)
発光が緑色及び赤色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 8)
Light emission is green and red, The organic electroluminescent element of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned.

(請求項9)
発光が青色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 9)
The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is blue.

(請求項10)
発光が白色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Claim 10)
The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is white.

(請求項11)
請求項1〜10のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする表示装置。
(Claim 11)
A display device comprising the organic electroluminescence element according to claim 1.

(請求項12)
請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする照明装置。
(Claim 12)
An illuminating device comprising the organic electroluminescent element according to claim 9.

(請求項13)
請求項12に記載の照明装置と表示手段としての液晶素子を有することを特徴とする表示装置。
(Claim 13)
13. A display device comprising the illumination device according to claim 12 and a liquid crystal element as a display means.

本発明によれば、良好な発光輝度を示し、定電流駆動したときの電圧上昇、ダークスポットが少なく、さらに高温、高湿下での経時安定性が高い有機EL素子、及びそれを用いた表示装置、照明装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic EL element which shows favorable light-emission brightness, there are few voltage rises, a dark spot when driving at constant current, and also high stability with time at high temperature and high humidity, and a display using the same A device and a lighting device can be provided.

本発明者は鋭意検討の結果、基板の上に電極と少なくとも1層以上の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも1層はドーパントを含有する発光層であり、該有機層の少なくとも1層は正孔輸送材料及びアクセプター性化合物を含有する正孔輸送層であり、かつ、前記有機層に有機溶媒を10-2〜103ppm含有させることにより、良好な発光輝度を示し、かつ、定電流駆動したときの電圧上昇、ダークスポットが少なく、かつ、高温、高湿下での経時安定性が高い有機EL素子が得られることを見出した。 As a result of intensive studies, the inventor of the present invention, in an organic electroluminescence device having an electrode and at least one organic layer on a substrate, at least one of the organic layers is a light-emitting layer containing a dopant, and the organic layer At least one of the layers is a hole transporting layer containing a hole transporting material and an acceptor compound, and when the organic layer contains 10 −2 to 10 3 ppm of an organic solvent, good emission luminance is exhibited. Further, the present inventors have found that an organic EL device having little voltage increase and dark spots when driven at a constant current and high stability with time at high temperature and high humidity can be obtained.

以下、本発明の各構成要件について詳細に説明する。   Hereinafter, each component of the present invention will be described in detail.

(有機溶媒)
本発明に用いられる有機溶媒は、沸点が200℃以下の有機溶媒が好ましく、より好ましくは150℃以下である。本発明に係る有機溶媒の種類は、特に制限はないが、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール等)、カルボン酸エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル等)、ニトリル類(アセトニトリル等)、エーテル類(イソプロピルエーテル、THF等)、芳香族炭化水素類(シクロヘキシルベンゼン、トルエン、キシレン等)、ハロゲン化アルキル類(塩化メチレン等)、飽和炭化水素類等(ヘプタン等)が挙げられる。この中で好ましいものはカルボン酸エステル類、ニトリル類、エーテル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化アルキル類、飽和炭化水素類であり、さらに好ましくはカルボン酸エステル類、エーテル類、芳香族炭化水素類である。
(Organic solvent)
The organic solvent used in the present invention is preferably an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower. The type of the organic solvent according to the present invention is not particularly limited. For example, alcohols (methanol, ethanol, etc.), carboxylic acid esters (ethyl acetate, propyl acetate, etc.), nitriles (acetonitrile, etc.), ethers ( Isopropyl ether, THF, etc.), aromatic hydrocarbons (cyclohexylbenzene, toluene, xylene, etc.), alkyl halides (methylene chloride, etc.), saturated hydrocarbons (heptane, etc.). Of these, preferred are carboxylic acid esters, nitriles, ethers, aromatic hydrocarbons, alkyl halides, saturated hydrocarbons, and more preferred are carboxylic acid esters, ethers, aromatic hydrocarbons. It is kind.

本発明は、有機EL素子の有機層の有機溶媒含有量が10-2〜105ppmであることが特徴の一つである。有機溶媒含有量は、さらに10-1〜102ppmが好ましい。これにより定電流駆動したときの電圧上昇、ダークスポット、及び高温、高湿下での経時安定性のより一層の改良効果が発揮される。 The present invention is characterized in that the organic solvent content of the organic layer of the organic EL device is 10 −2 to 10 5 ppm. The organic solvent content is further preferably 10 -1 to 10 2 ppm. As a result, the effect of further improving the stability over time at increased voltage, dark spots, high temperature and high humidity when driven at a constant current is exhibited.

有機溶媒含有量をこの範囲するには、有機溶媒の選択、乾燥条件、塗布条件を調整する。   In order to make the organic solvent content within this range, the selection of the organic solvent, the drying conditions, and the coating conditions are adjusted.

本発明に係る有機層中に含有されている揮発性有機溶媒は、パージ&トラップサンプラーを取り付けた、ガスクロマトグラフィー質量分析法(PT−GC/MS)で測定することができる。具体的には10cm×10cm四方の有機EL素子を作製し、ガス回収用のチャンバーと有機ガス吸着管(TENAX GR)に残留溶媒を吸着させPT−GC/MS測定を行った。溶媒濃度は、濃度既知の基準試料を用いて作成した検量線より求めた。   The volatile organic solvent contained in the organic layer according to the present invention can be measured by gas chromatography mass spectrometry (PT-GC / MS) equipped with a purge and trap sampler. Specifically, a 10 cm × 10 cm square organic EL device was prepared, and the residual solvent was adsorbed in a gas recovery chamber and an organic gas adsorption tube (TENAX GR), and PT-GC / MS measurement was performed. The solvent concentration was determined from a calibration curve prepared using a reference sample with a known concentration.

有機層の塗布に際しては、スピンコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、フレキソ印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット法であり、好ましくはインクジェット法である。   In applying the organic layer, spin coating, dip coating, roll coating, bar coating, flexographic printing, screen printing, offset printing, and an inkjet method are preferable, and an inkjet method is preferable.

(正孔輸送材料)
次に、本発明で用いられる正孔輸送材料について説明する。
(Hole transport material)
Next, the hole transport material used in the present invention will be described.

本発明に係る正孔輸送層に用いられる正孔輸送材料としては、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有していれば特に制限はない。   The hole transport material used for the hole transport layer according to the present invention is not particularly limited as long as it has a function of transmitting holes injected from the anode to the light emitting layer.

その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。   As the material, any one of conventionally known compounds can be selected and used, and any of organic substances and inorganic substances may be used. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbenes Derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers, and the like can be given.

これらのうちで好ましいものは、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物であり、さらに芳香族第三級アミン化合物が好ましい。   Among these, a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound, and a styrylamine compound are preferable, and an aromatic tertiary amine compound is more preferable.

本発明で用いられる正孔輸送材料としては、低分子化合物、高分子化合物いずれも使用することが可能であるが、特に高分子化合物が好ましい。   As the hole transport material used in the present invention, any of a low molecular compound and a high molecular compound can be used, and a high molecular compound is particularly preferable.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

(式中、R1、R2は置換基を表す。n1及びn2は0〜3の整数を表す。A1及びA2はアリールアミノ基を表す。) (Wherein, .A 1 and A 2 R 1, R 2 is .n1 and n2 represents a substituent represents an integer of 0 to 3 represents an arylamino group.)

Figure 2007042729
Figure 2007042729

(式中、R11は置換基を表す。n11は0〜4の整数を表す。A11及びA12はアリールアミノ基を表す。) (In the formula, R 11 represents a substituent. N11 represents an integer of 0 to 4. A 11 and A 12 represent an arylamino group.)

Figure 2007042729
Figure 2007042729

(式中、R21及びR22は置換基を表す。n21及びn22は0〜3の整数を表す。A21及びA22はアリールアミノ基を表す。Lは2価の連結基を表す。)
前記一般式(1)におけるR1、R2、前記一般式(2)におけるR11、前記一般式(3)におけるR21、R22で表される置換基としては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えば、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル等)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えば、プロパルギル、3−ペンチニル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチル等)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えば、フェニルオキシ、2−ナフチルオキシ等)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えば、フェニルオキシカルボニル等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ等)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えば、フェニルチオ等)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メシル、トシル等)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル等)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、ジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミド等)、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(ヘテロ原子として、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、セレン原子等を含む、好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20の、例えば、イミダゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モルホリノ等)等が挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、可能な場合には連結して環を形成してもよい。
(In the formula, R 21 and R 22 represent a substituent. N 21 and n 22 represent an integer of 0 to 3. A 21 and A 22 represent an arylamino group. L represents a divalent linking group.)
Examples of the substituent represented by R 1 and R 2 in the general formula (1), R 11 in the general formula (2), and R 21 and R 22 in the general formula (3) include an alkyl group (preferably Has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms. For example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n -Hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-12 carbon atoms, particularly preferably 2-8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 2 -Butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, Propargyl, 3-pentynyl, etc.), an aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc. ), An amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.) An alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably having a carbon number) 6 to 20, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthyl Oxy, etc.), acyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), alkoxycarbonyl groups (Preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16 carbon atoms, particularly preferably 2-12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group (preferably 7-7 carbon atoms) 20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 10 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), acyloxy group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, Particularly preferred are those having 2 to 10 carbon atoms, such as acetoxy and benzoyloxy), acylamino groups (preferably Or having 2 to 16 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 10 carbon atoms. For example, acetylamino, benzoylamino and the like, an alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms). , More preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonylamino and the like, an aryloxycarbonylamino group (preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 7 carbon atoms). 16, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonylamino and the like, a sulfonylamino group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms). 12, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), sulfamoyl group (preferably A prime number of 0-20, more preferably a carbon number of 0-16, particularly preferably a carbon number of 0-12, such as sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), a carbamoyl group (preferably Has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. For example, carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), alkylthio group (preferably 1 carbon atom) -20, more preferably 1-16 carbon atoms, particularly preferably 1-12 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio, etc., arylthio groups (preferably 6-20 carbon atoms, more preferably 6-16 carbon atoms). , Particularly preferably having 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio), a sulfonyl group (Preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, tosyl, etc.), sulfinyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably Has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), ureido group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably Has 1 to 12 carbon atoms, for example, ureido, methylureido, phenylureido, etc., phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms). 12 such as diethyl phosphate amide, phenyl phosphate amide, etc., hydroxyl group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine Child, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, heterocyclic group (for example, nitrogen atom, An oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, etc., preferably 1-30 carbon atoms, more preferably 1-20 carbon atoms (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholino, etc.) and the like. These substituents may be further substituted. If possible, they may be linked to form a ring.

これらのうち好ましいものはアルキル基及びアリール基である。   Of these, preferred are an alkyl group and an aryl group.

2価の連結基としては、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アリーレン等の炭化水素基のほか、ヘテロ原子を含むものであってもよく、また、チオフェン−2,5−ジイル基や、ピラジン−2,3−ジイル基のような、芳香族複素環を有する化合物(ヘテロ芳香族化合物ともいう)に由来する2価の連結基であってもよいし、酸素や硫黄等のカルコゲン原子であってもよい。また、イミノ基、ジアルキルシランジイル基やジアリールゲルマンジイル基のような、ヘテロ原子を会して連結する基でもよい。   As the divalent linking group, in addition to hydrocarbon groups such as alkylene, alkenylene, alkynylene, and arylene, those containing a hetero atom may be used, and a thiophene-2,5-diyl group, pyrazine-2, It may be a divalent linking group derived from a compound having an aromatic heterocycle (also called a heteroaromatic compound) such as a 3-diyl group, or may be a chalcogen atom such as oxygen or sulfur. . Further, it may be a group such as an imino group, a dialkylsilanediyl group, or a diarylgermandiyl group that joins and connects heteroatoms.

一般式(1)におけるA1及びA2、一般式(3)におけるA11及びA12で表されるアリールアミノ基としては、例えばジフェニルアミノ基、フェニルー(1−ナフチル)アミノ基、フェニルー(3−メチル)アミノ基等が挙げられる。 Examples of the arylamino group represented by A 1 and A 2 in the general formula (1) and A 11 and A 12 in the general formula (3) include, for example, a diphenylamino group, a phenyl- (1-naphthyl) amino group, and a phenyl- (3 -Methyl) amino group and the like.

本発明で用いられる正孔輸送材料としては、低分子化合物、重合性化合物いずれも使用することが可能であるが、特に重合性化合物が好ましい。   As the hole transport material used in the present invention, any of a low molecular compound and a polymerizable compound can be used, and a polymerizable compound is particularly preferable.

重合性化合物とは重合性基を少なくとも一つ有する化合物であり、重合性基としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、オキセタン基、イソシアネート基、チオイソシアネート基等が挙げられる。これらのうちで好ましいものはビニル基である。本発明の一般式(1)〜一般式(3)で表される有機化合物はこれらの重合性基を分子内のいずれかの位置に有してもよい。   The polymerizable compound is a compound having at least one polymerizable group, and examples of the polymerizable group include a vinyl group, an epoxy group, an oxetane group, an isocyanate group, and a thioisocyanate group. Among these, a vinyl group is preferable. The organic compounds represented by the general formulas (1) to (3) of the present invention may have these polymerizable groups at any position in the molecule.

重合性化合物の重合反応について説明する。重合が形成される時期としては、あらかじめ重合した高分子を用いてもよいし、また有機EL素子作製前の溶液中でも、有機EL素子作製時に重合してもよい。また有機EL素子作製後に結合を形成してもよい。重合反応を起こす場合、外部からのエネルギー(熱・光・超音波等)供給を行ってもよいし、重合開始剤、酸触媒もしくは塩基触媒を添加し反応を起こしてもよい。あるいは本発明に係る化合物を発光素子に含有したときに重合反応を起こす場合、発光素子の駆動時に供給される電流や発生する光や熱によって反応が起こってもよい。また、2つ以上の重合性化合物を重合させ、共重合体を形成してもよい。   The polymerization reaction of the polymerizable compound will be described. As the time when the polymerization is formed, a polymer that has been polymerized in advance may be used, or in a solution before the preparation of the organic EL element, the polymerization may be performed during the preparation of the organic EL element. Moreover, you may form a bond after organic electroluminescent element preparation. When the polymerization reaction occurs, external energy (heat, light, ultrasonic waves, etc.) may be supplied, or the polymerization initiator, acid catalyst or base catalyst may be added to cause the reaction. Alternatively, when the polymerization reaction is caused when the compound according to the present invention is contained in the light emitting element, the reaction may be caused by a current supplied at the time of driving the light emitting element or generated light or heat. Two or more polymerizable compounds may be polymerized to form a copolymer.

重合した高分子の重量平均分子量は5000以上であることが好ましい。重量平均分子量は5000〜1000000がより好ましく、さらに好ましくは5000〜100000である。これにより発光輝度及びダークスポットのより一層の改良効果が発揮される。   The weight average molecular weight of the polymerized polymer is preferably 5000 or more. As for a weight average molecular weight, 5000-1 million are more preferable, More preferably, it is 5000-100000. Thereby, the further improvement effect of light-emitting luminance and a dark spot is exhibited.

ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2′−アゾビスブチロニトリル、2,2′−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、1,1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2′−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2′−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドキシム)、2,2′−アゾビス(2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)、2,2′−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル、過酸化ジ−t−ブチル、t−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド等の過酸化物系開始剤、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチルジクロロアセトフェノン、4−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン等の芳香族カルボニル系開始剤等が挙げられる。また、テトラエチルチイラムジスルフィド等のジスルフィド系開始剤、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等のニトロキシル開始剤、4,4′−ジ−t−ブチル−2,2′−ビピリジン銅錯体−トリクロロ酢酸メチル複合体等のリビングラジカル重合開始剤を用いることもできる。   Examples of the radical polymerization initiator include 2,2′-azobisbutyronitrile, 2,2′-azobiscyclohexanecarbonitrile, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2 ′. -Azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4 '-Azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidoxime), 2,2'-azobis (2- (2-imidazoline-2- Yl) propane), azo initiators such as 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane), benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, tert-butyl ester Peroxide initiators such as loperoxide, cumene hydroperoxide, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, benzyl-β-methoxyethyl acetal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenylketone, 4- Aromatic carbonyl initiators such as phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyldichloroacetophenone, 4-t-butyltrichloroacetophenone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, etc. Is mentioned. Further, disulfide initiators such as tetraethylthiilam disulfide, nitroxyl initiators such as 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4,4'-di-t-butyl-2,2'- Living radical polymerization initiators such as a bipyridine copper complex-methyl trichloroacetate complex can also be used.

酸触媒としては、活性白土、酸性白土等の白土類、硫酸、塩酸等の鉱酸類、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、塩化第二スズ、三塩化チタン、四塩化チタン、三フッ化硼素、フッ化水素、三臭化硼素、臭化アルミニウム、塩化ガリウム、臭化ガリウム等のルイス酸、さらに固体酸、例えば、ゼオライト、シリカ、アルミナ、シリカ・アルミナ、カチオン交換樹脂、ヘテロポリ酸(例えば、リンタングステン酸、リンモリブデン酸、ケイタングステン酸、ケイモリブデン酸)等各種のものが使用できる。   Examples of the acid catalyst include activated clays, clays such as acidic clays, mineral acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid, organic acids such as p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid, aluminum chloride, ferric chloride, stannic chloride, Lewis acids such as titanium trichloride, titanium tetrachloride, boron trifluoride, hydrogen fluoride, boron tribromide, aluminum bromide, gallium chloride, gallium bromide, and solid acids such as zeolite, silica, alumina, silica Various types such as alumina, cation exchange resin, heteropolyacid (for example, phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, silicotungstic acid, silicomolybdic acid) can be used.

本発明で用いられる塩基性触媒としては、Li2CO3、Na2CO3、K2CO3等のアルカリ金属炭酸塩、BaCO3、CaCO3等のアルカリ土類金属炭酸塩、Li2O、Na2O、K2O等のアルカリ金属酸化物、BaO、CaO等のアルカリ土類金属酸化物、Na、K等のアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、あるいはナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等のアルコキシド等を挙げることができる。 Examples of the basic catalyst used in the present invention include alkali metal carbonates such as Li 2 CO 3 , Na 2 CO 3 and K 2 CO 3 , alkaline earth metal carbonates such as BaCO 3 and CaCO 3 , Li 2 O, Alkali metal oxides such as Na 2 O and K 2 O, alkaline earth metal oxides such as BaO and CaO, alkali metals such as Na and K, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, or Examples thereof include alkoxides such as sodium, potassium, rubidium and cesium.

以下に本発明に用いられる正孔輸送材料の具体的な例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the hole transport material used in the present invention are given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007042729
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(アクセプター性化合物)
本発明に用いられるアクセプター化合物としては、Au、Pt、W,Ir、POCl3、AsF6、Cl、Br、I等の無機材料、TCNQ(7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン)、TCNQF4(テトラフルオロテトラシアノキノジメタン)等のキノジメタン誘導体、TCNE(テトラシアノエチレン)、HCNB(ヘキサシアノブタジエン)等のエチレン誘導体、DDQ(ジシクロジシアノベンゾキノン)等のシアノ基を有する化合物、TNF(トリニトロフルオレノン)、DNF(ジニトロフルオレノン)等のニトロ基を有する化合物、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等の有機材料が挙げられる。このうち、TCNQ、TCNQF4、TCNE、HCNB、DDQ等のシアノ基を有する化合物がより好ましい。
(Acceptor compound)
Examples of the acceptor compound used in the present invention include inorganic materials such as Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, and I, TCNQ (7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane). , Quinodimethane derivatives such as TCNQF 4 (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), ethylene derivatives such as TCNE (tetracyanoethylene) and HCNB (hexacyanobutadiene), compounds having a cyano group such as DDQ (dicyclodicyanobenzoquinone), TNF Examples thereof include compounds having a nitro group such as (trinitrofluorenone) and DNF (dinitrofluorenone), and organic materials such as fluoranyl, chloranil and bromanyl. Of these, compounds having a cyano group such as TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, and DDQ are more preferable.

なお、正孔輸送材料に対するアクセプターの添加割合は、1〜100質量%であることが好ましい。   In addition, it is preferable that the addition ratio of the acceptor with respect to a hole transport material is 1-100 mass%.

次に本発明に用いられるドーパントについて説明する。   Next, the dopant used in the present invention will be described.

本発明で用いられるドーパントは蛍光化合物もしくは燐光性化合物であり、特に燐光化合物が好ましい。   The dopant used in the present invention is a fluorescent compound or a phosphorescent compound, and a phosphorescent compound is particularly preferable.

(燐光性化合物)
次に本発明に用いられる燐光性化合物について述べる。
(Phosphorescent compound)
Next, the phosphorescent compound used in the present invention will be described.

本発明における燐光性化合物とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、燐光量子収率が25℃において0.001以上の化合物である。燐光量子収率は好ましくは0.01以上、さらに好ましくは0.1以上である。上記燐光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中での燐光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に用いられる燐光性化合物は、任意の溶媒の何れかにおいて上記燐光量子収率が達成されればよい。   The phosphorescent compound in the present invention is a compound in which light emission from an excited triplet is observed, and is a compound having a phosphorescence quantum yield of 0.001 or more at 25 ° C. The phosphorescence quantum yield is preferably 0.01 or more, more preferably 0.1 or more. The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of the Fourth Edition Experimental Chemistry Course 7. Although the phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, the phosphorescence quantum yield used in the present invention is only required to achieve the above phosphorescence quantum yield in any solvent.

本発明で用いられる燐光性化合物としては、好ましくは元素の周期律表でVIII属の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物(白金錯体系化合物)であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent compound used in the present invention is preferably a complex compound containing a group VIII metal in the periodic table of elements, more preferably an iridium compound, an osmium compound, or a platinum compound (platinum complex compound). Of these, iridium compounds are most preferred.

以下に、本発明で用いられる燐光性化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。これらの化合物は、例えば、Inorg.Chem.40巻,1704〜1711に記載の方法等により合成できる。なお含有する蛍光性化合物及び燐光性化合物は、重合性基または反応性基を有していてもいなくてもよい。   Specific examples of the phosphorescent compound used in the present invention are shown below, but are not limited thereto. These compounds are described, for example, in Inorg. Chem. 40, 1704-1711, and the like. In addition, the fluorescent compound and phosphorescent compound to be contained may or may not have a polymerizable group or a reactive group.

Figure 2007042729
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Figure 2007042729
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本発明で用いられる燐光性化合物は、他の燐光性化合物もしくは蛍光性化合物と併用してもよい。   The phosphorescent compound used in the present invention may be used in combination with other phosphorescent compounds or fluorescent compounds.

本発明で用いられる蛍光性化合物とは、蛍光化合物を含有することにより、含有しない場合と異なる極大発光波長の蛍光発光が得られる化合物であり、好ましいものは、溶液状態で蛍光量子収率が高いものである。ここで蛍光量子収率は10%以上、特に30%以上が好ましい。具体的な蛍光性化合物は例えばクマリン系色素、アントラセン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。ここでの蛍光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの362頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定することができる。   The fluorescent compound used in the present invention is a compound that, by containing a fluorescent compound, obtains fluorescence emission with a maximum emission wavelength different from the case where it is not contained, and preferably has a high fluorescence quantum yield in a solution state. Is. Here, the fluorescence quantum yield is preferably 10% or more, particularly preferably 30% or more. Specific fluorescent compounds include, for example, coumarin dyes, anthracene dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, Examples include perylene dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors. The fluorescence quantum yield here can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 362 (1992 edition, Maruzen) of 4th edition Experimental Chemistry Course 7.

以下に本発明に係わる蛍光化合物の具体例を示すが本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the fluorescent compound concerning this invention is shown below, this invention is not limited to these.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

《有機EL素子の層構成》
本発明の有機EL素子の層構成について説明する。
<< Layer structure of organic EL element >>
The layer structure of the organic EL element of the present invention will be described.

本発明の有機EL素子は、基板の上に電極(陰極と陽極)と少なくとも1層以上の有機層を有し、有機層の少なくとも1層はドーパントを含有する発光層である。   The organic EL device of the present invention has an electrode (cathode and anode) and at least one organic layer on a substrate, and at least one of the organic layers is a light emitting layer containing a dopant.

本発明に係る発光層は、広義の意味では陰極と陽極からなる電極に電流を流した際に発光する層のことであり、具体的には陰極と陽極からなる電極に電流を流した際に発光する化合物を含有する層のことを指す。   In a broad sense, the light emitting layer according to the present invention is a layer that emits light when a current is passed through an electrode composed of a cathode and an anode. Specifically, when a current is passed through an electrode composed of a cathode and an anode, It refers to a layer containing a compound that emits light.

有機層は、必要に応じ発光層の他に正孔輸送層、電子輸送層、陽極バッファー層及び陰極バッファー層等を有してもよく、陰極と陽極で挟持された構造をとる。具体的には以下に示される構造が挙げられる。   The organic layer may have a hole transport layer, an electron transport layer, an anode buffer layer, a cathode buffer layer, and the like in addition to the light emitting layer as necessary, and has a structure sandwiched between a cathode and an anode. Specific examples include the structures shown below.

(i)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
(ii)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
上記有機EL素子を構成する、電極(陽極及び陰極)間に挟持された複数層のうち、有機層は2層以上であることが好ましく、さらに好ましくは3層以上である。
(I) Anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode (ii) Anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode (iii) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (iv) Anode / Anode buffer layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode Of the plural layers sandwiched between electrodes (anode and cathode) constituting the organic EL element, two organic layers are provided. It is preferable that it is above, and more preferably it is three or more layers.

《発光層》
本発明の有機EL素子の発光層には、ホスト化合物とリン光性化合物(リン光発光性化合物ともいう)が含有されることが好ましい。これにより、より一層発光効率を高くすることができる。
<Light emitting layer>
The light emitting layer of the organic EL device of the present invention preferably contains a host compound and a phosphorescent compound (also referred to as a phosphorescent compound). Thereby, the luminous efficiency can be further increased.

本発明においてホスト化合物とは、発光層に含有される化合物のうちで室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.01未満の化合物と定義される。   In the present invention, the host compound is defined as a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission of less than 0.01 at room temperature (25 ° C.) among compounds contained in the light emitting layer.

さらに、ホスト化合物を複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。また、リン光性化合物を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。リン光性化合物の種類、ドープ量を調整することで白色発光が可能であり、照明、バックライトへの応用もできる。   Further, a plurality of host compounds may be used in combination. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the organic EL element can be made highly efficient. In addition, by using a plurality of phosphorescent compounds, it is possible to mix different light emission, thereby obtaining an arbitrary emission color. White light emission is possible by adjusting the kind of phosphorescent compound and the amount of doping, and can also be applied to illumination and backlight.

本発明のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、かつ、発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。ホスト化合物としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、例えばカルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、フェナントロリン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、有機金属化合物、アリールメタン誘導体等が挙げられる。   As the host compound of the present invention, a compound that has a hole transporting ability and an electron transporting ability, prevents an increase in emission wavelength, and has a high Tg (glass transition temperature) is preferable. The host compound has one of hole injection or transport and electron barrier properties. For example, a carbazole derivative, azacarbazole derivative, triazole derivative, oxadiazole derivative, imidazole derivative, polyarylalkane derivative, pyrazoline Derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, phenanthroline derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, organometallic compounds, arylmethane derivatives and the like.

これらのうち、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体を用いることが好ましい。   Of these, carbazole derivatives and azacarbazole derivatives are preferably used.

このようにして形成された発光層の膜厚については特に制限はなく、状況に応じて適宜選択することができるが、5nm〜5μmの範囲に膜厚調整することが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular about the film thickness of the light emitting layer formed in this way, Although it can select suitably according to a condition, It is preferable to adjust film thickness in the range of 5 nm-5 micrometers.

次に正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等、発光層と組み合わせて有機EL素子を構成するその他の層について説明する。   Next, other layers constituting the organic EL element in combination with the light emitting layer, such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer, will be described.

《正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層》
本発明に用いられる正孔注入層、正孔輸送層は、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有し、この正孔注入層、正孔輸送層を陽極と発光層の間に介在させることにより、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入され、その上発光層に陰極、電子注入層、または電子輸送層より注入された電子は、発光層と正孔注入層もしくは正孔輸送層の界面に存在する電子の障壁により、発光層内の界面に累積され発光効率が向上する等発光性能の優れた素子となる。
<< Hole injection layer, hole transport layer, electron injection layer, electron transport layer >>
The hole injection layer and hole transport layer used in the present invention have a function of transmitting holes injected from the anode to the light emitting layer. The hole injection layer and hole transport layer are formed of an anode and a light emitting layer. By interposing them, many holes are injected into the light emitting layer with a lower electric field, and electrons injected into the light emitting layer from the cathode, electron injection layer, or electron transport layer are injected into the light emitting layer and holes. Due to an electron barrier existing at the interface of the layer or the hole transport layer, an element having excellent light emitting performance such as accumulation at the interface in the light emitting layer and improvement in light emission efficiency is obtained.

《正孔注入材料、正孔輸送材料》
この正孔注入層材料(以下、正孔注入材料という)については、前記の陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有する性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光導伝性材料において、正孔の電荷注入輸送材料とし慣用されているものや、有機EL素子の正孔注入層、正孔輸送層に使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。
《Hole injection material, hole transport material》
The hole injection layer material (hereinafter referred to as a hole injection material) is not particularly limited as long as it has a property of transmitting the holes injected from the anode to the light emitting layer. In photoconductive materials, select any one of those commonly used as hole charge injecting and transporting materials and known materials used for hole injecting layers and hole transporting layers in organic EL devices. Can be used.

上記正孔注入材料は正孔の注入もしくは輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。この正孔注入材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、または導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。   The hole injection material has one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. Examples of the hole injection material include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene. Derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline-based copolymers, or conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.

正孔注入材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第三級アミン化合物を用いることが好ましい。   The above-mentioned materials can be used as the hole injection material, but it is preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.

上記芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、さらに米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(α−NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。   Representative examples of the aromatic tertiary amine compound and styrylamine compound include N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′-diaminophenyl; N, N′-diphenyl-N, N ′. -Bis (3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; Bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p- Tolylaminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N′-diphenyl-N, N -Di (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadri N; N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenyl Amino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4'-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, and two further described in US Pat. No. 5,061,569 Having a condensed aromatic ring of, for example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD), JP-A-4-3 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 08688 are linked in a starburst type ( MTDATA) etc. Further, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.

または、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。この正孔注入層、正孔輸送層は上記正孔注入材料、正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。   Alternatively, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material. The hole injection layer and the hole transport layer are formed by thinning the hole injection material and the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, or an LB method. Can be formed.

(正孔注入層の膜厚、正孔輸送層の膜厚)
正孔注入層、正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、5nm〜5μm程度での範囲に調整することが好ましい。この正孔注入層、正孔輸送層は上記材料の一種または二種以上からなる一層構造であってもよく、同一組成または異種組成の複数層からなる積層構造であってもよい。
(Hole injection layer thickness, hole transport layer thickness)
Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole injection layer and a positive hole transport layer, It is preferable to adjust to the range about 5 nm-5 micrometers. The hole injection layer and hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

《電子輸送層、電子輸送材料》
本発明に係る電子輸送層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
<< Electron transport layer, electron transport material >>
The electron transport layer according to the present invention is only required to have a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer, and as the material thereof, any one of conventionally known compounds can be selected and used. Can do.

この電子輸送層に用いられる材料(以下、電子輸送材料という)の例としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、有機金属錯体等が挙げられる。さらに上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。   Examples of materials used for this electron transport layer (hereinafter referred to as electron transport materials) include heterocyclic tetracarboxylic acid anhydrides such as nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, naphthalene perylene, carbodiimides, Examples include fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, and organometallic complexes. Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which an oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, or a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group can also be used as an electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.

または8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。   Or metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum, Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), etc., and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Cu , Ca, Sn, Ga, or Pb can also be used as an electron transport material.

その他、メタルフリーまたはメタルフタロシアニン、さらにはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。または発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にn型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。   In addition, metal-free or metal phthalocyanine, and those having the terminal substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the electron transport material. Alternatively, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and an inorganic semiconductor such as n-type-Si and n-type-SiC can be used as well as a hole injection layer and a hole transport layer. It can be used as an electron transport material.

(電子輸送層の膜厚)
電子輸送層の膜厚は特に制限はないが、5nm〜5μmの範囲に調整することが好ましい。この電子輸送層は、これらの電子輸送材料一種または二種以上からなる一層構造であってもよいし、あるいは同一組成または異種組成の複数層からなる積層構造であってもよい。
(Film thickness of electron transport layer)
Although the film thickness of an electron carrying layer does not have a restriction | limiting in particular, It is preferable to adjust to the range of 5 nm-5 micrometers. This electron transport layer may have a single layer structure composed of one or two or more of these electron transport materials, or may have a laminated structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.

さらに本発明においては、陽極と発光層または正孔注入層の間、及び陰極と発光層または電子注入層との間にはバッファー層(電極界面層)を存在させてもよい。   Furthermore, in the present invention, a buffer layer (electrode interface layer) may be present between the anode and the light emitting layer or hole injection layer and between the cathode and the light emitting layer or electron injection layer.

バッファー層とは、駆動電圧低下や発光効率向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、陽極バッファー層と陰極バッファー層とがある。   The buffer layer is a layer provided between the electrode and the organic layer in order to lower the driving voltage and improve the luminous efficiency. “The organic EL element and its forefront of industrialization (published by NTS Corporation on November 30, 1998) 2), Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123 to 166) in detail, and includes an anode buffer layer and a cathode buffer layer.

陽極バッファー層は特開平9−45479号、同9−260062号、同8−288069号の各公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。   The details of the anode buffer layer are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069 and the like. Specific examples include a phthalocyanine buffer layer represented by copper phthalocyanine, Examples thereof include an oxide buffer layer typified by vanadium oxide, an amorphous carbon buffer layer, and a polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene.

陰極バッファー層は特開平6−325871号、同9−17574号、同10−74586号の各公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウム、酸化リチウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。   The details of the cathode buffer layer are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, and JP-A-10-74586, and specifically, metal buffers represented by strontium, aluminum and the like. Examples thereof include an alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, an alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, an oxide buffer layer typified by aluminum oxide and lithium oxide, and the like.

上記バッファー層はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1〜100nmの範囲が好ましい。   The buffer layer is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 to 100 nm, although it depends on the material.

さらに上記基本構成層の他に必要に応じてその他の機能を有する層を積層してもよく、例えば、特開平11−204258号、同11−204359号の各公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層等のような機能層を有していてもよい。   Furthermore, in addition to the basic constituent layers, layers having other functions may be laminated as necessary. For example, JP-A-11-204258 and JP-A-11-204359, and “Organic EL element and its It may have a functional layer such as a hole blocking layer described on page 237 of “Industrialization Front Line (November 30, 1998, issued by NTT)”.

《電極》
次に有機EL素子の電極について説明する。有機EL素子の電極は陰極と陽極からなる。この有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。
"electrode"
Next, the electrode of the organic EL element will be described. The electrode of the organic EL element consists of a cathode and an anode. As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used. Specific examples of such electrode materials include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 and ZnO.

上記陽極は蒸着やスパッタリング等の方法により、これらの電極物質の薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合(100μm以上程度)は、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、または陽極としてのシート抵抗は数百Ω/角以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。   The anode may be formed by depositing a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method, or when pattern accuracy is not so high (about 100 μm or more) ) May form a pattern through a mask having a desired shape during vapor deposition or sputtering of the electrode material. In the case of taking out light emission from this anode, it is desirable that the transmittance is larger than 10%, or the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / square or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 nm to 1 μm, preferably 10 to 200 nm.

一方、陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、リチウム/アルミニウム混合物等が好適である。 On the other hand, as the cathode, those having an electrode substance of a metal having a low work function (4 eV or less) (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound and a mixture thereof are preferably used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like. Among these, from the viewpoint of electron injecting property and durability against oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, magnesium An aluminum / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, a lithium / aluminum mixture, and the like are preferable.

上記陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。または陰極としてのシート抵抗は数百Ω/角以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。なお発光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば、発光効率が向上するので好都合である。   The cathode can be produced by forming a thin film from these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. Alternatively, the sheet resistance as the cathode is preferably several hundred Ω / square or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 1 μm, preferably 50 to 200 nm. In addition, in order to transmit light emission, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, it is advantageous because the light emission efficiency is improved.

《基材》
本発明の有機EL素子は、基板(以下、基材、基体、支持体、フィルム等ともいう)上に形成されているのが好ましい。
"Base material"
The organic EL element of the present invention is preferably formed on a substrate (hereinafter also referred to as a base material, a substrate, a support, a film, etc.).

本発明の有機EL素子に用いることのできる基材としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また、透明のものであれば特に制限はないが、好ましく用いられる基材としては例えばガラス、石英、透明フィルムを挙げることができる。特に好ましい基材は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な透明フィルムである。   As a base material that can be used in the organic EL device of the present invention, there is no particular limitation on the type of glass, plastic and the like, and there is no particular limitation as long as it is transparent. For example, glass, quartz, and a transparent film can be mentioned. A particularly preferable substrate is a transparent film that can give flexibility to the organic EL element.

具体的にはエチレン、ポリプロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体、または共重合体等のポリオレフィン(PO)樹脂、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂(APO)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン2,6−ナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド系(PA)樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド(PI)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)樹脂、ポリサルホン(PS)樹脂、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリビニルブチラート(PVB)樹脂、ポリアリレート(PAR)樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体(ETFE)、三フッ化塩化エチレン(PFA)、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(FEP)、フッ化ビニリデン(PVDF)、フッ化ビニル(PVF)、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−パーフロロビニルエーテル−共重合体(EPA)等のフッ素系樹脂等を用いることができる。   Specifically, homopolymers or copolymers such as ethylene, polypropylene and butene, polyolefin (PO) resins such as copolymers, amorphous polyolefin resins (APO) such as cyclic polyolefins, polyethylene terephthalate (PET), Polyester resins such as polyethylene 2,6-naphthalate (PEN), polyamide (PA) resins such as nylon 6, nylon 12, copolymer nylon, polyvinyl alcohol (PVA) resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) Polyvinyl alcohol resins such as polyimide (PI) resin, polyetherimide (PEI) resin, polysulfone (PS) resin, polyethersulfone (PES) resin, polyetheretherketone (PEEK) resin, polycarbonate (PC) resin , Polyvini Butyrate (PVB) resin, polyarylate (PAR) resin, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene trifluoride chloride (PFA), ethylene tetrafluoride-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (FEP) Fluorine-based resins such as vinylidene fluoride (PVDF), vinyl fluoride (PVF), and perfluoroethylene-perfluoropropylene-perfluorovinyl ether-copolymer (EPA) can be used.

また、上記に挙げた樹脂以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物によりなる樹脂組成物や、上記アクリルレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂及びこれらの混合物等を用いることも可能である。さらに、これらの樹脂の1または2種以上をラミネート、コーティング等の手段によって積層させたものを基材フィルムとして用いることも可能である。   In addition to the resins listed above, a resin composition comprising an acrylate compound having a radical-reactive unsaturated compound, a resin composition comprising a mercapto compound having an acrylate compound and a thiol group, epoxy acrylate, urethane acrylate It is also possible to use a photocurable resin such as a resin composition in which an oligomer such as polyester acrylate or polyether acrylate is dissolved in a polyfunctional acrylate monomer, and a mixture thereof. Furthermore, it is also possible to use what laminated | stacked 1 or 2 or more types of these resin by means, such as a lamination and a coating, as a base film.

これらの素材は単独であるいは適宜混合されて使用することもできる。中でもゼオネックスやゼオノア(日本ゼオン(株)製)、非晶質シクロポリオレフィン樹脂フィルムのARTON(ジェイエスアール(株)製)、ポリカーボネートフィルムのピュアエース(帝人(株)製)、セルローストリアセテートフィルムのコニカタックKC4UX、KC8UX(コニカミノルタオプト(株)製)等の市販品を好ましく使用することができる。   These materials can be used alone or in combination as appropriate. Above all, ZEONEX and ZEONOR (manufactured by ZEON CORPORATION), amorphous cyclopolyolefin resin film ARTON (manufactured by JSR Corporation), polycarbonate film Pure Ace (manufactured by Teijin Limited), Konicatac of cellulose triacetate film Commercially available products such as KC4UX and KC8UX (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) can be preferably used.

また、上記に挙げた樹脂等を用いた本発明に係る基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。   In addition, the base material according to the present invention using the above-described resins or the like may be an unstretched film or a stretched film.

本発明に係る基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法により、基材の流れ(縦軸)方向、または基材の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。   The base material according to the present invention can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched substrate that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. Further, the unstretched base material is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, etc. A stretched substrate can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the substrate (horizontal axis). The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin as the raw material of the base material, but is preferably 2 to 10 times in each of the vertical axis direction and the horizontal axis direction.

また、本発明に係る基材においては、蒸着膜を形成する前にコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の表面処理を行ってもよい。   In addition, in the base material according to the present invention, surface treatment such as corona treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, chemical treatment and the like may be performed before forming the deposited film.

さらに本発明に係る基材表面には、蒸着膜との密着性の向上を目的としてアンカーコート剤層を形成してもよい。このアンカーコート剤層に用いられるアンカーコート剤としては、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂、及びアルキルチタネート等を、1または2種以上併せて使用することができる。これらのアンカーコート剤には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記のアンカーコート剤はロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法により基材上にコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去することによりアンカーコーティングすることができる。上記のアンカーコート剤の塗布量としては、0.1〜5g/m2(乾燥状態)程度が好ましい。 Further, an anchor coating agent layer may be formed on the surface of the substrate according to the present invention for the purpose of improving the adhesion with the vapor deposition film. Examples of the anchor coating agent used in this anchor coating agent layer include polyester resin, isocyanate resin, urethane resin, acrylic resin, ethylene vinyl alcohol resin, vinyl modified resin, epoxy resin, modified styrene resin, modified silicon resin, and alkyl titanate. Can be used alone or in combination. Conventionally known additives can be added to these anchor coating agents. The above-mentioned anchor coating agent is coated on the substrate by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating, etc., and anchor coating is performed by drying and removing the solvent, diluent, etc. Can do. The application amount of the anchor coating agent is preferably about 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

基材はロール状に巻き上げられた長尺品が便利である。基材の厚さは得られるフィルムの用途によって異なるので一概には規定できないが、フィルムを包装用途とする場合には、特に制限を受けるものではなく、包装材料としての適性から、3〜400μm、中でも6〜30μmの範囲内とすることが好ましい。   The substrate is conveniently a long product wound up in a roll. Since the thickness of the base material varies depending on the use of the film to be obtained, it cannot be specified unconditionally. However, when the film is used for packaging, there is no particular limitation, and from the suitability as a packaging material, 3 to 400 μm, Especially, it is preferable to set it as the range of 6-30 micrometers.

また、本発明に用いられる基材は、フィルム形状のものの膜厚としては10〜200μmが好ましく、より好ましくは50〜100μmである。   Moreover, as for the base material used for this invention, 10-200 micrometers is preferable as a film thickness of a film-shaped thing, More preferably, it is 50-100 micrometers.

《表示装置》
本発明の有機EL素子は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。または異なる発光色を有する本発明の有機EL素子を2種以上使用することにより、フルカラー表示装置を作製することが可能である。
<Display device>
The organic EL device of the present invention may be used as a kind of lamp such as an illumination or exposure light source, a projection device that projects an image, or a display device that directly recognizes a still image or a moving image. (Display) may be used. The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method. Alternatively, a full-color display device can be manufactured by using two or more organic EL elements of the present invention having different emission colors.

《光取り出し技術》
本発明の有機EL素子は、発光層から放射された光の取り出し効率を向上させるため、基板の表面にプリズムやレンズ状の加工を施す、もしくは基板の表面にプリズムシートやレンズシートを貼りつけてもよい。
《Light extraction technology》
In the organic EL device of the present invention, in order to improve the extraction efficiency of light emitted from the light emitting layer, a prism or lens-like process is applied to the surface of the substrate, or a prism sheet or a lens sheet is attached to the surface of the substrate. Also good.

本発明の有機EL素子は、電極と基板の間に低屈折率層を有してもよい。低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。   The organic EL device of the present invention may have a low refractive index layer between the electrode and the substrate. Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer.

基板の屈折率は一般に1.5〜1.7程度であるので、低屈折率層は屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。またさらに1.35以下であることが好ましい。また、低屈折率媒質の厚みは媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。   Since the refractive index of the substrate is generally about 1.5 to 1.7, the low refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.5 or less. Furthermore, it is preferable that it is 1.35 or less. The thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer is diminished when the thickness of the low refractive index medium is about the wavelength of light and the electromagnetic wave that has exuded by evanescent enters the substrate.

本発明の有機EL素子はいずれかの層間、もしくは媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を有してもよい。導入する回折格子は二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な1次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。回折格子を導入する位置としては前述のとおり、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。このとき、回折格子の周期は媒質中の光の波長の約1/2〜3倍程度が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、2次元的に配列が繰り返されることが好ましい。   The organic EL element of the present invention may have a diffraction grating in any layer or in a medium (in a transparent substrate or a transparent electrode). It is desirable that the diffraction grating to be introduced has a two-dimensional periodic refractive index. This is because light emitted from the light-emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating having a periodic refractive index distribution only in a certain direction, only light traveling in a specific direction is diffracted. Therefore, the light extraction efficiency does not increase so much. However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, light traveling in all directions is diffracted, and light extraction efficiency is increased. As described above, the position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or the transparent electrode), but is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated. At this time, the period of the diffraction grating is preferably about 1/2 to 3 times the wavelength of light in the medium. The arrangement of the diffraction grating is preferably two-dimensionally repeated, such as a square lattice, a triangular lattice, or a honeycomb lattice.

《ガスバリア層》
本発明に係るガスバリア層とは、酸素及び水蒸気の透過を阻止する層であれば、その組成等は特に限定されるものではない。酸素の透過度が23℃、0%RHにおいて0.005ml/m2/day以下が好ましく、また、JIS K7129B法に従って測定した水蒸気透過度が0.1g/m2/day以下が好ましい。本発明に係るガスバリア層を構成する材料として、具体的には無機酸化物が好ましく、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化窒化珪素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等を挙げることができる。
《Gas barrier layer》
The composition of the gas barrier layer according to the present invention is not particularly limited as long as it is a layer that blocks permeation of oxygen and water vapor. The oxygen permeability is preferably 0.005 ml / m 2 / day or less at 23 ° C. and 0% RH, and the water vapor permeability measured according to the JIS K7129B method is preferably 0.1 g / m 2 / day or less. Specifically, an inorganic oxide is preferable as the material constituting the gas barrier layer according to the present invention, and examples include silicon oxide, aluminum oxide, silicon oxynitride, aluminum oxynitride, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, and tin oxide. be able to.

また、本発明におけるガスバリア層の厚さは、用いられる材料の種類、構成により最適条件が異なり、適宜選択されるが、5〜2000nmの範囲内であることが好ましい。ガスバリア層の厚さが上記の範囲より薄い場合には、均一な膜が得られず、ガスに対するバリア性を得ることが困難であるからである。またガスバリア層の厚さが上記の範囲より厚い場合には、ガスバリア性フィルムにフレキシビリティを保持させることが困難であり、成膜後に折り曲げ、引っ張り等の外的要因により、ガスバリア性フィルムに亀裂が生じる等のおそれがあるからである。   Further, the thickness of the gas barrier layer in the present invention is appropriately selected depending on the type and configuration of the material used, and is suitably selected, but is preferably in the range of 5 to 2000 nm. This is because when the thickness of the gas barrier layer is thinner than the above range, a uniform film cannot be obtained, and it is difficult to obtain a barrier property against gas. Further, when the thickness of the gas barrier layer is larger than the above range, it is difficult to maintain the flexibility of the gas barrier film, and the gas barrier film is cracked due to external factors such as bending and pulling after film formation. This is because it may occur.

本発明に係るガスバリア層は後述する原材料をスプレー法、スピンコート法、スパッタリング法、イオンアシスト法、プラズマCVD法、大気圧または大気圧近傍の圧力下でのプラズマCVD法等を適用して形成することができる。   The gas barrier layer according to the present invention is formed by applying the raw materials described later by spraying, spin coating, sputtering, ion assist, plasma CVD, plasma CVD under atmospheric pressure or near atmospheric pressure, and the like. be able to.

図1は、本発明に係るガスバリア層を有する基材の構成とその密度プロファイルの一例を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a substrate having a gas barrier layer according to the present invention and its density profile.

本発明に係るガスバリア層を有する基材の構成とその密度について説明する。   The structure and density of the substrate having the gas barrier layer according to the present invention will be described.

本発明に係るガスバリア層21は、基材22上に密度の異なる層を積層しており、密着膜23、セラミック膜24及び保護膜25を積層した構成をとる。図1においては3層を積層した例を示してある。各層内における密度分布は均一とし、セラミック膜の密度を、その上下に位置する密着膜及び保護膜のそれぞれの密度よりも高く設定している。なお図1においては、各層を1層として示したが、必要に応じてそれぞれ2層以上の構成をとってもよい。   The gas barrier layer 21 according to the present invention has a structure in which layers having different densities are laminated on a base material 22 and an adhesion film 23, a ceramic film 24, and a protective film 25 are laminated. FIG. 1 shows an example in which three layers are stacked. The density distribution in each layer is uniform, and the density of the ceramic film is set higher than the densities of the adhesion film and the protective film positioned above and below the ceramic film. In FIG. 1, each layer is shown as one layer, but may be configured with two or more layers as necessary.

基材上に密着膜、セラミック膜及び保護膜を形成する方法としては、スプレー法、スピンコート法、スパッタリング法、イオンアシスト法、プラズマCVD法、大気圧または大気圧近傍の圧力下でのプラズマCVD法等を適用して形成することができる。   As a method for forming an adhesion film, a ceramic film and a protective film on a substrate, a spray method, a spin coating method, a sputtering method, an ion assist method, a plasma CVD method, or a plasma CVD under a pressure at or near atmospheric pressure. It can be formed by applying a law or the like.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “mass%”.

実施例1
〈有機EL素子1−1の作製〉
基材として、厚さ100μmのポリエチレンナフタレートフィルム(帝人・デユポン社製フィルム、以下PENと略記する)上に、下記の大気圧プラズマ放電処理装置及び放電条件で、図1に記載のプロファイル構成でバリア層を有する基材1を作製した。
Example 1
<Preparation of Organic EL Element 1-1>
As a base material, on a polyethylene naphthalate film having a thickness of 100 μm (a film made by Teijin-Dyupon Co., Ltd., hereinafter abbreviated as PEN), with the following atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus and discharge conditions, the profile configuration shown in FIG. A substrate 1 having a barrier layer was produced.

(大気圧プラズマ放電処理装置)
図2の大気圧プラズマ放電処理装置を用い、誘電体で被覆したロール電極及び複数の角筒型電極のセットを以下のように作製した。
(Atmospheric pressure plasma discharge treatment equipment)
Using the atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus of FIG. 2, a set of a roll electrode covered with a dielectric and a plurality of rectangular tube electrodes was produced as follows.

第1電極となるロール電極は、冷却水による冷却手段を有するチタン合金T64製ジャケットロール金属質母材に対して、大気プラズマ法により高密度、高密着性のアルミナ溶射膜を被覆し、ロール径1000mmφとなるようにした。一方、第2電極の角筒型電極は、中空の角筒型のチタン合金T64に対し、上記同様の誘電体を同条件にて方肉で1mm被覆し、対向する角筒型固定電極群とした。   The roll electrode serving as the first electrode is coated with a high-density, high-adhesion alumina sprayed film by an atmospheric plasma method on a jacket roll metallic base material made of titanium alloy T64 having cooling means by cooling water, and roll diameter It was set to 1000 mmφ. On the other hand, the square electrode of the second electrode is a hollow rectangular tube-shaped titanium alloy T64 covered with 1 mm of the same dielectric material with the same thickness under the same conditions, and the opposing rectangular tube-shaped fixed electrode group and did.

この角筒型電極をロール回転電極の周りに、対向電極間隙を1mmとして10本配置した。角筒型固定電極群の放電総面積は、150cm(幅手方向の長さ)×4cm(搬送方向の長さ)×10本(電極の数)=6000cm2であった。なお、何れもフィルターは適切なものを設置した。 Ten square tube electrodes were arranged around the roll rotating electrode with a counter electrode gap of 1 mm. The total discharge area of the rectangular tube type fixed electrode group was 150 cm (length in the width direction) × 4 cm (length in the transport direction) × 10 (number of electrodes) = 6000 cm 2 . In all cases, an appropriate filter was installed.

プラズマ放電中、第1電極(ロール回転電極)は120℃及び第2電極(角筒型固定電極群)は80℃になるように調節保温し、ロール回転電極はドライブで回転させて薄膜形成を行った。上記10本の角筒型固定電極中、上流側より2本を下記第1層(密着層)の製膜用に、次の6本を下記第2層(セラミック層)の製膜用に、次の2本を第3層(保護層)の製膜用に使用し、各条件を設定して1パスで3層を積層した。   During plasma discharge, the first electrode (roll rotating electrode) is kept at a temperature of 120 ° C. and the second electrode (square tube fixed electrode group) is adjusted to 80 ° C., and the roll rotating electrode is rotated by a drive to form a thin film. went. Among the 10 rectangular tube-shaped fixed electrodes, two from the upstream side are used for forming the following first layer (adhesion layer), and the following six are used for forming the following second layer (ceramic layer). The following two were used for film formation of the third layer (protective layer), each condition was set, and three layers were laminated in one pass.

(第1層:密着層)
下記の条件で、プラズマ放電を行って、厚さ約50nmの密着層を形成した。
(First layer: adhesion layer)
Plasma discharge was performed under the following conditions to form an adhesion layer having a thickness of about 50 nm.

〈ガス条件〉
放電ガス:窒素ガス 94.5体積%
薄膜形成性ガス:ヘキサメチルジシロキサン(リンテック社製気化器にて窒素ガスに混合して気化) 0.5体積%
添加ガス:酸素ガス 5.0体積%
〈電源条件:第1電極側の電源のみを使用した〉
第1電極側 電源種類 応用電機社製高周波電源
周波数 80kHz
出力密度 10W/cm2
上記形成した第1層(密着層)の密度は、マックサイエンス社製MXP21を用いたX線反射率法で測定した結果1.90であった。
<Gas conditions>
Discharge gas: Nitrogen gas 94.5% by volume
Thin film forming gas: Hexamethyldisiloxane (vaporized by mixing with nitrogen gas in a vaporizer manufactured by Lintec) 0.5% by volume
Additive gas: Oxygen gas 5.0% by volume
<Power supply conditions: Only the power supply on the first electrode side was used>
1st electrode side Power supply type
Frequency 80kHz
Output density 10W / cm 2
The density of the formed first layer (adhesion layer) was 1.90 as a result of measurement by the X-ray reflectivity method using MXP21 manufactured by Mac Science.

(第2層:セラミック層)
下記の条件で、プラズマ放電を行って、厚さ約30nmのセラミック層を形成した。
(Second layer: Ceramic layer)
Plasma discharge was performed under the following conditions to form a ceramic layer having a thickness of about 30 nm.

〈ガス条件〉
放電ガス:窒素ガス 94.9体積%
薄膜形成性ガス:ヘキサメチルジシロキサン(リンテック社製気化器にて窒素ガスに混合して気化) 0.1体積%
添加ガス:酸素ガス 5.0体積%
〈電源条件〉
第1電極側 電源種類 応用電機社製高周波電源
周波数 80kHz
出力密度 10W/cm2
第2電極側 電源種類 パール工業社製高周波電源
周波数 13.56MHz
出力密度 10W/cm2
上記形成した第2層(セラミック層)の密度は、マックサイエンス社製MXP21を用いたX線反射率法で測定した結果2.20であった。
<Gas conditions>
Discharge gas: Nitrogen gas 94.9% by volume
Thin film forming gas: Hexamethyldisiloxane (vaporized by mixing with nitrogen gas with a vaporizer manufactured by Lintec) 0.1% by volume
Additive gas: Oxygen gas 5.0% by volume
<Power supply conditions>
1st electrode side Power supply type
Frequency 80kHz
Output density 10W / cm 2
Second electrode side Power supply type High frequency power supply manufactured by Pearl Industrial Co., Ltd.
Frequency 13.56MHz
Output density 10W / cm 2
The density of the formed second layer (ceramic layer) was 2.20 as a result of measurement by the X-ray reflectivity method using MXP21 manufactured by Mac Science.

(第3層:保護層)
下記の条件で、プラズマ放電を行って、厚さ約200nmの保護層を形成した。
(3rd layer: protective layer)
Plasma discharge was performed under the following conditions to form a protective layer having a thickness of about 200 nm.

〈ガス条件〉
放電ガス:窒素ガス 93.0体積%
薄膜形成性ガス:ヘキサメチルジシロキサン(リンテック社製気化器にて窒素ガスに混合して気化) 2.0体積%
添加ガス:酸素ガス 5.0体積%
〈電源条件:第1電極側の電源のみを使用した〉
第1電極側 電源種類 応用電機社製高周波電源
周波数 80kHz
出力密度 10W/cm2
上記形成した第3層(保護層)の密度は、マックサイエンス社製MXP21を用いたX線反射率法で測定した結果、1.95であった。
<Gas conditions>
Discharge gas: Nitrogen gas 93.0% by volume
Thin film forming gas: Hexamethyldisiloxane (vaporized by mixing with nitrogen gas with a vaporizer manufactured by Lintec Corporation) 2.0% by volume
Additive gas: Oxygen gas 5.0% by volume
<Power supply conditions: Only the power supply on the first electrode side was used>
1st electrode side Power supply type
Frequency 80kHz
Output density 10W / cm 2
The density of the formed third layer (protective layer) was 1.95 as a result of measurement by the X-ray reflectivity method using MXP21 manufactured by Mac Science.

JIS−K−7129Bに準拠した方法により水蒸気透過率を測定した結果、10-3g/m2/day以下であった。JIS−K−7126Bに準拠した方法により酸素透過率を測定した結果、10-3g/m2/day以下であった。 As a result of measuring the water vapor transmission rate by a method based on JIS-K-7129B, it was 10 −3 g / m 2 / day or less. As a result of measuring the oxygen transmission rate by a method based on JIS-K-7126B, it was 10 −3 g / m 2 / day or less.

次いで、ガスバリア層を有する基材1上にITO(インジウムチンオキシド)を120nm成膜した基板にパターニングを行った後、このITO透明電極を付けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、真空度4×10-4Paまで減圧し、ITO基板100を作製した。 Next, after patterning a substrate having a 120 nm ITO (Indium Tin Oxide) film formed on the base material 1 having a gas barrier layer, the substrate with the ITO transparent electrode was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol and dried nitrogen gas. And UV ozone cleaning was performed for 5 minutes. The ITO substrate 100 was manufactured by fixing to a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus and reducing the pressure to 4 × 10 −4 Pa.

次に図3に示すように、市販のインクジェット式ヘッド10(コニカミノルタ製KM512S非水系ヘッド)を用いて、正孔輸送材料として例示化合物A9、AsF6、2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル)(質量比100:5:1)及びTHFを含む流動体D1を、ITO基板100上に吐出させ、100℃、60分の条件にて、膜厚50nmの発光層111を形成した。 Next, as shown in FIG. 3, the commercially available inkjet head 10 (KM512S non-aqueous head manufactured by Konica Minolta) was used as a hole transport material, exemplified compound A9, AsF 6 , 2,2′-azobis (isobutyro). Nitrile) (mass ratio 100: 5: 1) and fluid D1 containing THF were discharged onto the ITO substrate 100 to form a light-emitting layer 111 having a thickness of 50 nm under conditions of 100 ° C. for 60 minutes.

次に、インクジェット式ヘッド10を用いて、ホスト化合物として例示化合物M1、燐光性化合物Ir−1、2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル)(モル比100:5:1)及びTHFを含む流動体D2を、発光層111上に吐出させ、100℃、60分の条件にて、膜厚50nmの電子輸送層112を形成した。次に、電子輸送層112の上に厚さ200nmのアルミニウム113(陰極)を蒸着形成した。さらにその上に、ガスバリア層を有する基材1を貼りつけて、有機EL素子1−1を作製した。   Next, using the inkjet head 10, the exemplified compound M1, phosphorescent compound Ir-1,2,2′-azobis (isobutyronitrile) (molar ratio 100: 5: 1) and THF are included as host compounds. The fluid D2 was discharged onto the light emitting layer 111, and an electron transport layer 112 having a thickness of 50 nm was formed at 100 ° C. for 60 minutes. Next, an aluminum layer 113 (cathode) having a thickness of 200 nm was formed on the electron transport layer 112 by vapor deposition. Furthermore, the base material 1 which has a gas barrier layer was affixed on it, and the organic EL element 1-1 was produced.

なお、表1に示した有機溶媒含有量となるように乾燥条件を調整した。   In addition, drying conditions were adjusted so that it might become the organic-solvent content shown in Table 1.

〈有機EL素子1−2の作製〉
反応容器に例示化合物A26 2.0g(2.5mmol)、2,2′−アゾビス(イソブチロニトリル)0.010g(0.061mmol)、酢酸ブチル30mlを入れて窒素置換を行った後、80℃で10時間反応させた。反応後、アセトンに投入して再沈殿を行い、濾過によりポリマーを回収した。回収したポリマーのクロロホルム溶液をメタノール中に投入して再沈殿させることをさらに2回行うことにより精製し、回収後真空乾燥して、目的とする例示化合物A26の重合体1.8gを粉末として得た。この共重合体の重量平均分子量はポリスチレン換算で10000(HFIP(ヘキサフルオロイソプロパノール)を溶離液に用いたGPC測定による)であった。
<Preparation of organic EL element 1-2>
A reaction vessel was charged with 2.0 g (2.5 mmol) of Exemplified Compound A26, 0.010 g (0.061 mmol) of 2,2′-azobis (isobutyronitrile), and 30 ml of butyl acetate, and then purged with nitrogen. The reaction was carried out at 0 ° C. for 10 hours. After the reaction, it was poured into acetone for reprecipitation, and the polymer was recovered by filtration. The recovered polymer chloroform solution is purified by adding it to methanol and reprecipitating twice, and after recovery, vacuum drying is performed to obtain 1.8 g of the target Exemplified Compound A26 as a powder. It was. The copolymer had a weight average molecular weight of 10,000 in terms of polystyrene (according to GPC measurement using HFIP (hexafluoroisopropanol) as an eluent).

同様の方法で例示化合物M2の重合体を合成した。重合体の重量平均分子量は16000であった。   A polymer of exemplary compound M2 was synthesized in the same manner. The weight average molecular weight of the polymer was 16000.

有機EL素子1−1の作製において、流動体D1に代えて、上述の例示化合物A26の重合体、DDQ(質量比100:30)及びTHFを含む流動体D3を用い、流動体D2に代えて、上述の例示化合物M2の重合体、燐光性化合物Ir−1(質量比100:5)及びTHFを含む流動体D4を用い、表1に示した有機溶媒含有量となるように乾燥条件を変更した以外は、有機EL素子1−1の作製と同様にして有機EL素子1−2を作製した。   In the production of the organic EL element 1-1, instead of the fluid D1, the fluid of the above-described exemplary compound A26, DDQ (mass ratio 100: 30) and fluid D3 containing THF are used, and instead of the fluid D2. Using the fluid D4 containing the polymer of the exemplified compound M2 described above, the phosphorescent compound Ir-1 (mass ratio 100: 5) and THF, the drying conditions were changed so as to achieve the organic solvent content shown in Table 1. An organic EL element 1-2 was produced in the same manner as in the production of the organic EL element 1-1 except that.

〈有機EL素子1−3〜1−5の作製〉
有機EL素子1−2の作製において、各層の材料を下記表1に示す材料に代え、さらに表1に示した有機溶媒含有量となるように乾燥条件を変更した以外は、有機EL素子1−2の作製と同様にして有機EL素子1−3〜1−5を作製した。
<Preparation of organic EL elements 1-3 to 1-5>
In the production of the organic EL element 1-2, the material of each layer was replaced with the material shown in Table 1 below, and the drying conditions were changed so that the organic solvent content shown in Table 1 was obtained. Organic EL elements 1-3 to 1-5 were produced in the same manner as in 2.

〈有機EL素子1−6の作製〉
有機EL素子1−2の作製において、各層の材料を下記表1に示す材料に代え、かつインジウムチンオキシド透明電極(ITO電極)を有するガラス基板に代えた以外は、有機EL素子1−2の作製と同様にして有機EL素子1−6を作製した。
<Preparation of organic EL element 1-6>
In the production of the organic EL element 1-2, the material of each layer was changed to the material shown in Table 1 below, and the organic EL element 1-2 was replaced with a glass substrate having an indium tin oxide transparent electrode (ITO electrode). Organic EL element 1-6 was produced in the same manner as in the production.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

Figure 2007042729
Figure 2007042729

〈有機EL素子の評価〉
以下のようにして得られた有機EL素子の評価を行い、その結果を表2に示す。
<Evaluation of organic EL element>
The organic EL device obtained as described below was evaluated, and the results are shown in Table 2.

(発光輝度)
有機EL素子の温度23℃、10V直流電圧を印加した時の発光輝度(cd/m2)を測定した。発光輝度は有機EL素子1−4を100とする相対値で表した。発光輝度については、CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)を用いて測定した。
(Luminance brightness)
The emission luminance (cd / m 2 ) of the organic EL device at a temperature of 23 ° C. and a 10 V DC voltage was measured. The light emission luminance is expressed as a relative value where the organic EL element 1-4 is 100. The light emission luminance was measured using CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing).

(ダークスポット)
また10mA/cm2の一定電流で30時間駆動させた後に、2mm×2mm四方の範囲での目視で確認できる非発光点(ダークスポット)の数を測定した。
(Dark spot)
Further, after driving for 30 hours at a constant current of 10 mA / cm 2 , the number of non-luminous spots (dark spots) that can be visually confirmed in a range of 2 mm × 2 mm square was measured.

(電圧上昇率)
10mA/cm2の一定電流で駆動したときに、初期電圧と100時間後の電圧を測定した。初期電圧に対する100時間後の電圧の相対値を電圧上昇率とした。
(Voltage increase rate)
When driven at a constant current of 10 mA / cm 2 , the initial voltage and the voltage after 100 hours were measured. The relative value of the voltage after 100 hours with respect to the initial voltage was defined as the voltage increase rate.

(経時安定性)
有機EL素子を50℃、60%RHの条件で一ヶ月保存後、発光輝度(cd/m2)を測定した。経時安定性は保存前の発光輝度測定値に対する相対値で表した。
(Stability over time)
The organic EL device was stored at 50 ° C. and 60% RH for one month, and then the light emission luminance (cd / m 2 ) was measured. The stability over time was expressed as a relative value with respect to the measured luminance value before storage.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

表2から明らかなように、本発明の有機EL素子ではダークスポット、電圧上昇率が大幅に減少し、経時安定性が向上し、さらに発光輝度の向上及び駆動電圧低下も認められた。   As is apparent from Table 2, in the organic EL device of the present invention, the dark spot and the voltage increase rate were significantly reduced, the stability with time was improved, and the emission luminance was improved and the drive voltage was also reduced.

実施例2
実施例1の有機EL素子1−3の作製において、各層の材料を下記表3に示す材料に代え、さらに表3に示した有機溶媒含有量となるように乾燥条件を変更した以外は、有機EL素子1−3の作製と同様にして、有機EL素子2−1〜2−4を作製した。さらに、実施例1の有機EL素子1−1の作製において、各層の材料を下記表3に示す材料に代え、さらに表3に示した有機溶媒含有量となるように乾燥条件を変更した以外は、有機EL素子1−1の作製と同様にして、有機EL素子2−5〜2−6を作製した。
Example 2
In the production of the organic EL element 1-3 of Example 1, the materials of the respective layers were replaced with the materials shown in Table 3 below, and the organic solvents were changed except that the drying conditions were changed to the organic solvent content shown in Table 3. Organic EL elements 2-1 to 2-4 were manufactured in the same manner as the EL element 1-3. Furthermore, in preparation of the organic EL element 1-1 of Example 1, the material of each layer was replaced with the material shown in Table 3 below, and the drying conditions were changed so that the organic solvent content shown in Table 3 was obtained. Organic EL elements 2-5 to 2-6 were prepared in the same manner as the organic EL element 1-1.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

Figure 2007042729
Figure 2007042729

有機EL素子2−1〜2−6について、実施例1と同様にして評価を行い、その結果を表4に示す。なお、発光輝度及び駆動電圧は有機EL素子2−1を100とする相対値で表した。   The organic EL elements 2-1 to 2-6 were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 4. The light emission luminance and the driving voltage are expressed as relative values with the organic EL element 2-1 being 100.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

表4の結果から明らかなように、本発明の有機EL素子は発光輝度、駆動電圧特性が良好であり、定電流駆動したときの電圧上昇、ダークスポットが少なく、さらに高温、高湿下での経時安定性が高いことが分かった。   As is apparent from the results in Table 4, the organic EL device of the present invention has good emission luminance and driving voltage characteristics, little voltage rise and dark spots when driven at constant current, and further under high temperature and high humidity. It was found that the stability over time was high.

実施例3
〈有機EL素子3−1の作製〉
インジウムチンオキシド透明電極(ITO電極)を有するガラス基板上に正孔輸送層としてA1を50nmの膜厚で定法に従い蒸着成膜した後に、発光層としてCBP、燐光性化合物Ir−12(質量比100:5)を50nm膜厚で、電子輸送層としてAlq3を50nm膜厚で蒸着成膜し、次いで、Alを110nm膜厚で蒸着して陰極を形成した。これを、窒素雰囲気下でTHFの蒸気を含有する試料瓶に封入し表5のように有機溶媒含有量を調整し、ガスバリア層を有する基材1を貼り合わせて、有機EL素子3−1を作製した。
Example 3
<Preparation of organic EL element 3-1>
After vapor-depositing A1 with a film thickness of 50 nm as a hole transport layer on a glass substrate having an indium tin oxide transparent electrode (ITO electrode) according to a conventional method, CBP and phosphorescent compound Ir-12 (mass ratio of 100 as a light emitting layer) : 5) was deposited to a thickness of 50 nm and Alq 3 was deposited as an electron transport layer to a thickness of 50 nm, and then Al was deposited to a thickness of 110 nm to form a cathode. This was sealed in a sample bottle containing THF vapor under a nitrogen atmosphere, the organic solvent content was adjusted as shown in Table 5, the base material 1 having a gas barrier layer was bonded, and the organic EL element 3-1 was assembled. Produced.

〈有機EL素子3−2、3−3の作製〉
有機EL素子3−1の正孔輸送層の材料を表5に示したように変更し、さらに表5に示した有機溶媒含有量となるように乾燥条件を調整した以外は有機EL素子3−1と同様にして有機EL素子3−2、3−3を作製した。
<Preparation of organic EL elements 3-2 and 3-3>
The material of the hole transport layer of the organic EL element 3-1 was changed as shown in Table 5, and the organic EL element 3- was prepared except that the drying conditions were adjusted so that the organic solvent content shown in Table 5 was obtained. In the same manner as in Example 1, organic EL elements 3-2 and 3-3 were produced.

〈有機EL素子3−4の作製〉
正孔輸送材料として例示化合物A21、DDQ(質量比100:30)を用い、るつぼ温度210℃、照射電子電流5mA、照射電子エネルギー50eVの条件にて、インジウムチンオキシド透明電極(ITO電極)を有するガラス基板上に成膜を行ない、高分子薄膜を形成した。膜成長速度は毎分6nmであり、形成した高分子の膜厚は50nm、平均分子量は約11000であった。
<Preparation of organic EL element 3-4>
Using Exemplified Compound A21 and DDQ (mass ratio 100: 30) as the hole transporting material, and having an indium tin oxide transparent electrode (ITO electrode) under conditions of a crucible temperature of 210 ° C., an irradiation electron current of 5 mA, and an irradiation electron energy of 50 eV Film formation was performed on a glass substrate to form a polymer thin film. The film growth rate was 6 nm per minute, the film thickness of the polymer formed was 50 nm, and the average molecular weight was about 11000.

次いで、発光層のホスト化合物として例示化合物M2、燐光性化合物Ir−12(質量比100:5)を用い、るつぼ温度210℃、照射電子電流5mA、照射電子エネルギー50eVの条件にて、高分子薄膜を形成した。形成した高分子の膜厚は50nm、重量平均分子量は約11000であった。   Subsequently, the exemplary compound M2 and the phosphorescent compound Ir-12 (mass ratio 100: 5) are used as the host compound of the light emitting layer, and the polymer thin film is used under the conditions of a crucible temperature of 210 ° C., an irradiation electron current of 5 mA, and an irradiation electron energy of 50 eV. Formed. The formed polymer had a film thickness of 50 nm and a weight average molecular weight of about 11,000.

同様に、電子輸送材料として例示化合物M1を用い、るつぼ温度210℃、照射電子電流5mA、照射電子エネルギー50eVの条件にて、高分子薄膜を形成した。形成した高分子薄膜の膜厚は50nm、重量平均分子量は約10000であった。   Similarly, the exemplary compound M1 was used as an electron transport material, and a polymer thin film was formed under the conditions of a crucible temperature of 210 ° C., an irradiation electron current of 5 mA, and an irradiation electron energy of 50 eV. The formed polymer thin film had a thickness of 50 nm and a weight average molecular weight of about 10,000.

次いで、厚さ110nmのアルミニウムを蒸着した。これを、窒素雰囲気下でTHFの蒸気を含有する試料瓶に封入し表5のように有機層の有機溶媒含有量を調整し、ガスバリア層を有する基材1を貼り合わせて、有機EL素子3−4を作製した。   Next, aluminum having a thickness of 110 nm was deposited. This was sealed in a sample bottle containing a vapor of THF under a nitrogen atmosphere, the organic solvent content of the organic layer was adjusted as shown in Table 5, the base material 1 having a gas barrier layer was bonded, and the organic EL element 3 -4 was produced.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

作製した有機EL素子3−1〜3−4について、実施例2と同様に性能評価を行い、結果を表6に示す。なお、発光輝度、駆動電圧は有機EL素子3−1を100とする相対値で表した。   About the produced organic EL element 3-1 to 3-4, performance evaluation was performed similarly to Example 2, and a result is shown in Table 6. The light emission luminance and the driving voltage are expressed as relative values with the organic EL element 3-1 as 100.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

表6の結果から明らかなように、本発明の有機EL素子は発光輝度、駆動電圧特性が良好であり、定電流駆動したときの電圧上昇、ダークスポットが少なく、さらに高温、高湿下での経時安定性が高い素子であることが分かった。   As is apparent from the results in Table 6, the organic EL device of the present invention has good emission luminance and driving voltage characteristics, little voltage increase and dark spot when driven at constant current, and further under high temperature and high humidity. It was found that the device was highly stable over time.

実施例4
実施例2で作製した本発明の有機EL素子2−3と、実施例2で作製した本発明の有機EL素子2−3の燐光性化合物をIr−1に代えた以外は同様にして作製した緑色発光有機EL素子と、本発明の有機EL素子2−3の燐光性化合物をIr−9に置き換えた以外は同様にして作製した赤色発光有機EL素子を同一基板上に並置し、図4に示すアクティブマトリックス方式フルカラー表示装置を作製した。図5には作製したフルカラー表示装置の表示部Aの模式図のみを示した。即ち同一基板上に、複数の走査線5及びデータ線6を含む配線部と、並置した複数の画素3(発光の色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素等)とを有し、配線部の走査線5及び複数のデータ線6はそれぞれ導電材料からなり、走査線5とデータ線6は格子状に直交して、直交する位置で画素3に接続している(詳細は図示せず)。前記複数の画素3は、それぞれの発光色に対応した有機EL素子、アクティブ素子であるスイッチングトランジスタと駆動トランジスタそれぞれが設けられたアクティブマトリックス方式で駆動されており、走査線5から走査信号が印加されると、データ線6から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光する。このように各赤、緑、青の画素を適宜、並置することによって、フルカラー表示が可能となる。
Example 4
The organic EL device 2-3 of the present invention produced in Example 2 and the organic EL device 2-3 of the present invention produced in Example 2 were produced in the same manner except that the phosphorescent compound was replaced with Ir-1. A green light-emitting organic EL element and a red light-emitting organic EL element produced in the same manner except that the phosphorescent compound of the organic EL element 2-3 of the present invention was replaced with Ir-9 were juxtaposed on the same substrate. The active matrix type full-color display device shown was fabricated. FIG. 5 shows only a schematic diagram of the display portion A of the produced full-color display device. That is, a wiring portion including a plurality of scanning lines 5 and data lines 6 and a plurality of juxtaposed pixels 3 (light emission color is a red region pixel, a green region pixel, a blue region pixel, etc.) on the same substrate. Each of the scanning lines 5 and the plurality of data lines 6 in the wiring portion is made of a conductive material, and the scanning lines 5 and the data lines 6 are orthogonal to each other in a lattice shape and are connected to the pixels 3 at the orthogonal positions (details). Is not shown). The plurality of pixels 3 are driven by an active matrix system provided with an organic EL element corresponding to each emission color, a switching transistor as an active element, and a driving transistor, and a scanning signal is applied from a scanning line 5. Then, an image data signal is received from the data line 6 and light is emitted according to the received image data. In this way, full-color display is possible by appropriately juxtaposing the red, green, and blue pixels.

フルカラー表示装置を駆動することにより、鮮明なフルカラー動画表示が得られた。   By driving the full-color display device, a clear full-color moving image display was obtained.

実施例5
《照明装置の作製》
実施例4で作製した青色発光、緑色発光及び赤色発光の有機EL素子各々の非発光面をガラスケースで覆い、照明装置とした。照明装置は発光効率が高く、発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することができた。図6は照明装置の概略図で、図7は照明装置の断面図である。有機EL素子101をガラスカバー102で覆った。105は陰極で106は有機EL層、107は透明電極付きガラス基板である。なおガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
Example 5
<Production of lighting device>
A non-light emitting surface of each of the blue, green, and red light emitting organic EL elements produced in Example 4 was covered with a glass case to obtain a lighting device. The lighting device has high luminous efficiency and can be used as a thin lighting device that emits white light with a long emission life. FIG. 6 is a schematic view of the lighting device, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the lighting device. The organic EL element 101 was covered with a glass cover 102. Reference numeral 105 denotes a cathode, 106 denotes an organic EL layer, and 107 denotes a glass substrate with a transparent electrode. The glass cover 102 is filled with nitrogen gas 108 and a water catching agent 109 is provided.

実施例6
〈有機EL素子6−1の作製〉
実施例1の有機EL素子1−3を作製した条件と同じ条件で、下記表7に示す材料及び膜厚構成の有機EL素子6−1を作製した。
Example 6
<Preparation of organic EL element 6-1>
An organic EL element 6-1 having a material and a film thickness configuration shown in Table 7 below was manufactured under the same conditions as those for manufacturing the organic EL element 1-3 of Example 1.

Figure 2007042729
Figure 2007042729

Figure 2007042729
Figure 2007042729

また、有機層の有機溶媒含有量は15ppmとなるよう乾燥条件を調整した。次いで、その上に厚さ200nmのアルミニウムを蒸着した。封止にあたっては、実施例1の有機EL素子1−1と同様にガスバリア層を有する基材1を貼りつけた。   Moreover, the drying conditions were adjusted so that the organic solvent content of the organic layer was 15 ppm. Next, aluminum having a thickness of 200 nm was deposited thereon. In sealing, the base material 1 which has a gas barrier layer similarly to the organic EL element 1-1 of Example 1 was affixed.

得られた有機EL素子6−1を実施例5と同様に図6に示すような照明装置とした。照明装置は発光効率が高く、発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することができた。   The obtained organic EL element 6-1 was made into the illuminating device as shown in FIG. The lighting device has high luminous efficiency and can be used as a thin lighting device that emits white light with a long emission life.

次いで、ディスプレイ用として市販されているカラーフィルターを組み合わせた際の色再現域を評価した。有機EL素子6−1とカラーフィルターの組み合わせにおいて、色再現域が広く、色再現性において優れた性能を有することが確認された。   Subsequently, the color gamut when the color filter marketed for displays was combined was evaluated. It was confirmed that the combination of the organic EL element 6-1 and the color filter has a wide color gamut and excellent performance in color reproducibility.

本発明に係る透明ガスバリアフィルムの層構成とその密度プロファイルの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the layer structure of the transparent gas barrier film which concerns on this invention, and its density profile. 本発明に有用な対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the atmospheric pressure plasma discharge processing apparatus of the system which processes a base material between counter electrodes useful for this invention. 有機EL素子1−1の吐出及び成膜工程を示す図である。It is a figure which shows the discharge and film-forming process of the organic EL element 1-1. アクティブマトリックス方式フルカラー表示装置を示す図である。It is a figure which shows an active matrix system full color display apparatus. フルカラー表示装置の表示部Aの模式図である。It is a schematic diagram of the display part A of a full-color display device. 照明装置の概略図である。It is the schematic of an illuminating device. 照明装置の断面図である。It is sectional drawing of an illuminating device.

符号の説明Explanation of symbols

1 ディスプレイ
3 画素
5 走査線
6 データ線
10 インクジェット式ヘッド
21 ガスバリア層
22 基材
23 密着膜
24 セラミック膜
25 保護膜
30 プラズマ放電処理室
35 ロール電極
36 電極
41、42 電源
51 ガス供給装置
55 電極冷却ユニット
100 ITO基板
101 有機EL素子
102 ガラスカバー
105 陰極
106 有機EL層
107 透明電極付きガラス基板
108 窒素ガス108
109 捕水剤109
111 正孔輸送層
112 電子輸送層
113 陰極
114 ガスバリア膜
A 表示部
B 制御部
D 液滴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display 3 Pixel 5 Scan line 6 Data line 10 Inkjet head 21 Gas barrier layer 22 Base material 23 Adhesion film 24 Ceramic film 25 Protection film 30 Plasma discharge treatment chamber 35 Roll electrode 36 Electrode 41, 42 Power supply 51 Gas supply device 55 Electrode cooling Unit 100 ITO substrate 101 Organic EL element 102 Glass cover 105 Cathode 106 Organic EL layer 107 Glass substrate with transparent electrode 108 Nitrogen gas 108
109 Water catching agent 109
111 Hole Transport Layer 112 Electron Transport Layer 113 Cathode 114 Gas Barrier Film A Display Unit B Control Unit D Droplet

Claims (13)

基板の上に電極と少なくとも1層以上の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも1層はドーパントを含有する発光層であり、該有機層の少なくとも1層は正孔輸送材料及びアクセプター性化合物を含有する正孔輸送層であり、かつ、前記有機層は有機溶媒を10-2〜103ppm含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 In an organic electroluminescence device having an electrode and at least one organic layer on a substrate, at least one of the organic layers is a light-emitting layer containing a dopant, and at least one of the organic layers is a hole transporting material And an acceptor compound, and the organic layer contains 10 −2 to 10 3 ppm of an organic solvent. 前記ドーパントが燐光性化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the dopant is a phosphorescent compound. 前記アクセプター性化合物がAu、Pt、W,Ir、POCl3、AsF6、Cl、Br、I、TCNQ、TCNQF4、TCNE、HCNB、DDQ、TNF、DNF、フルオラニル、クロラニルまたはブロマニルであることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The acceptor compound is Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, I, TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, DDQ, TNF, DNF, fluoranil, chloranil, or bromanyl. The organic electroluminescent element according to claim 1 or 2. 前記正孔輸送材料の重量平均分子量が5000以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The weight average molecular weight of the said hole transport material is 5000 or more, The organic electroluminescent element of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記有機層は有機溶媒を10-1〜102ppm含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 5. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the organic layer contains an organic solvent in an amount of 10 −1 to 10 2 ppm. 前記基板がガスバリア層を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the substrate has a gas barrier layer. 発光が赤色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is red. 発光が緑色及び赤色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is green and red. 発光が青色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is blue. 発光が白色であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the light emission is white. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the organic electroluminescence element according to claim 1. 請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする照明装置。 An illuminating device comprising the organic electroluminescent element according to claim 9. 請求項12に記載の照明装置と表示手段としての液晶素子を有することを特徴とする表示装置。 13. A display device comprising the illumination device according to claim 12 and a liquid crystal element as a display means.
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