JP2007039528A - Polyimide film, its manufacturing method and flexible circuit board - Google Patents

Polyimide film, its manufacturing method and flexible circuit board Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film that is excellent in handleability and flexibility and exhibits a high peeling strength from a metal foil when glued to the metal foil via an adhesive, a method for easily manufacturing the film and a circuit board using the film. <P>SOLUTION: The polyimide film is obtained by thermal and/or chemical imidization of a polyamic acid synthesized from an aromatic diamine containing carboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane at a ratio of 0.1-100 mol% and an aromatic tetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof. The polyimide film has a controlled Young's modulus and has a high peeling strength when contact-bonded to the metal foil via the adhesive. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハンドリング性、フレキシビリティおよび寸法安定性に優れ、また接着剤を介して金属箔と接着した場合に、極めて大きな剥離強度を得ることのできるポリイミドフィルム、その製造方法およびそれを利用したフレキシブル回路基板に関するものである。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is a polyimide film that is excellent in handling property, flexibility, and dimensional stability, and that can obtain extremely high peel strength when bonded to a metal foil via an adhesive, its production method, and the same The present invention relates to a flexible circuit board.

ポリイミドフィルムは、その優れた絶縁性と耐熱性から、例えば銅箔などの金属箔と接着剤を介し積層したフレキシブル回路基板用のベースフィルムなどの用途に幅広く利用されている。   The polyimide film is widely used for applications such as a base film for a flexible circuit board laminated with a metal foil such as a copper foil and an adhesive, for example, because of its excellent insulation and heat resistance.

ポリイミドフィルムには、これに銅箔などの金属箔と接着剤を介し積層した金属箔との剥離強度も要求される。しかし、剥離強度が十分でないため、長期的に使用された際に剥離することがあり、長期信頼性に欠けるという問題があった。この欠点を改良するために、ポリイミドフィルムに対するさまざまな電気、物理あるいは化学的処理が試みられてきたが、これらの処理はその処理工程に多くの試薬、時間、労力などを要すという問題があった。   The polyimide film is also required to have peel strength between a metal foil such as a copper foil and a metal foil laminated with an adhesive. However, since the peel strength is not sufficient, there has been a problem in that it may peel off when used for a long period of time and lack long-term reliability. In order to remedy this drawback, various electrical, physical or chemical treatments have been attempted on polyimide films. However, these treatments have a problem that a lot of reagents, time and labor are required for the treatment process. It was.

すなわち、ポリイミドフィルムの接着力を改質する方法としては、例えば、フィルム表面をプラズマ処理する方法(例えば、特許文献1参照)が知られているが、この場合には、プラズマ処理を施すことによって工程数が増えるという問題があった。   That is, as a method for modifying the adhesive strength of a polyimide film, for example, a method of plasma-treating the film surface (see, for example, Patent Document 1) is known, but in this case, by performing plasma treatment There was a problem that the number of processes increased.

また、シラン系カップリング剤を塗布したポリイミドフィルムを使用したフレキシブル金属箔張り積層板(例えば、特許文献2参照)も知られているが、この場合には、シラン系カップリング剤を塗布する工程数が増えるばかりか、シラン系カップリング剤がポリアミック酸からポリイミドに閉環する際の熱処理によって分解するため、接着力が低下してしまうという問題があった。   A flexible metal foil-clad laminate using a polyimide film coated with a silane coupling agent (see, for example, Patent Document 2) is also known. In this case, a step of applying a silane coupling agent In addition to an increase in the number, the silane coupling agent is decomposed by heat treatment when the ring is closed from polyamic acid to polyimide, so that there is a problem that the adhesive force is reduced.

ポリイミドフィルムは、上記剥離強度と共にハンドリング性とフレキシビリティのバランスが要求され、このためヤング率が2.5Gpa以上7Gpa以下の範囲にあることが好ましい。しかし、4.4’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット酸無水物からなるポリイミドフィルムのヤング率は2.5Gpa未満である。ヤング率を向上するためにパラフェニレンジアミン等の剛直性の高いモノマーを共重合したポリイミドフィルム(例えば、特許文献3)について知られているが、この場合にはヤング率は向上するものの、十分な剥離強度を得ることができなかった。   The polyimide film is required to have a balance between handling properties and flexibility as well as the above-mentioned peel strength. For this reason, the Young's modulus is preferably in the range of 2.5 Gpa to 7 Gpa. However, the Young's modulus of a polyimide film composed of 4.4'-diaminodiphenyl ether and pyromellitic anhydride is less than 2.5 GPa. In order to improve the Young's modulus, a polyimide film (for example, Patent Document 3) obtained by copolymerizing a highly rigid monomer such as paraphenylenediamine is known. In this case, the Young's modulus is improved, but sufficient. The peel strength could not be obtained.

ポリイミドフィルムは、上記剥離強度およびハンドリング性とフレキシビリティのバランスの他に、電子部品の高機能化に伴う寸法安定性が要求され、このため吸水率が3.4重量%以下、線膨張係数が45ppm/℃以下であることが好ましい。4.4’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット酸無水物からなるポリイミドフィルムは、吸水率が3.4重量%以下、熱膨張係数が45ppm/℃以下であるが、この場合には十分な剥離強度を得ることができなかった。
特開平8−41227号公報 特開平6−336533号公報 特開昭61−181833号公報
In addition to the above-mentioned peel strength, balance of handleability and flexibility, the polyimide film is required to have dimensional stability associated with higher functionality of electronic components. For this reason, the water absorption is 3.4% by weight or less, and the linear expansion coefficient is It is preferable that it is 45 ppm / degrees C or less. The polyimide film composed of 4.4′-diaminodiphenyl ether and pyromellitic anhydride has a water absorption of 3.4% by weight or less and a thermal expansion coefficient of 45 ppm / ° C. or less. In this case, sufficient peel strength is obtained. Couldn't get.
JP-A-8-41227 JP-A-6-336533 JP 61-181833 A

本発明は、上述した従来技術における問題点の解決を課題として検討した結果、達成されたものである。   The present invention has been achieved as a result of examining the solution of the problems in the above-described prior art as an object.

したがって、本発明の第1の目的は、ハンドリング性、フレキシビリティおよび寸法安定性に優れ、さらには接着剤を介して金属箔と接着した場合の金属箔との剥離強度が高いポリイミドフィルムを得ることにある。   Therefore, the first object of the present invention is to obtain a polyimide film that is excellent in handling properties, flexibility and dimensional stability, and has a high peel strength from the metal foil when bonded to the metal foil via an adhesive. It is in.

また、本発明の第2の目的は、ポリイミドフィルムのヤング率、吸水率および線膨張係数を制御し、金属箔との剥離強度を向上させるための処理に、多くの試薬、時間、労力などを必要とせず、大量生産に適し、低コストでかつ高品質の高剥離強度ポリイミドフィルムを製造する方法を確立することにある。   In addition, the second object of the present invention is to control the Young's modulus, water absorption, and linear expansion coefficient of the polyimide film, and to add a lot of reagents, time, and labor to the treatment for improving the peel strength from the metal foil. It is not necessary to establish a method for producing a high-quality, high peel strength polyimide film that is suitable for mass production, low cost, and high quality.

上記の課題を達成するために、本発明のポリイミドフィルムは、下記一般式(I)で表されるカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを0.1〜100モル%の割合で含有する芳香族ジアミンと、芳香族テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とから合成されたポリアミック酸を熱的および/または化学的にイミド化することにより得られたポリイミドフィルムであって、下記方法で測定したヤング率が2.5Gpa以上7Gpa以下であり、かつ吸水率が3.4重量%以下であることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the polyimide film of the present invention contains an aromatic containing 0.1 to 100 mol% of carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane represented by the following general formula (I). A polyimide film obtained by thermally and / or chemically imidizing a polyamic acid synthesized from a diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride or derivative thereof, and measured by the following method The rate is 2.5 Gpa or more and 7 Gpa or less, and the water absorption is 3.4 wt% or less.

Figure 2007039528
Figure 2007039528

(ただし、式中のm、nは0または4以下の整数であり、(m+n)は1以上の整数である)
(ヤング率:JISK7113に準じ、室温でORIENREC社製のテンシロン型引張試験器により、引張速度300mm/分にて得られる張力−歪み曲線において初期立ち上がり部の勾配から求める、
吸水率:ポリイミドフィルムを蒸留水に48時間浸析後、表面の水分をふき取り、加熱重量減分析により室温から200℃まで10℃/分の昇温速度で加熱された際に、50〜200℃までの重量減少を吸水率とする)
(However, m and n in the formula are 0 or an integer of 4 or less, and (m + n) is an integer of 1 or more.)
(Young's modulus: according to JISK7113, obtained from the slope of the initial rising portion in a tension-strain curve obtained at a tensile speed of 300 mm / min with a Tensilon type tensile tester manufactured by ORIENREC at room temperature.
Water absorption: After immersing the polyimide film in distilled water for 48 hours, the surface moisture is wiped off, and when heated at a rate of temperature increase of 10 ° C./min from room temperature to 200 ° C. by heating weight loss analysis, 50 to 200 ° C. The weight loss up to is the water absorption rate)

また、下記方法で測定した線膨張係数が45ppm/℃以下であることは好ましい。
(熱膨張係数:熱膨張係数は島津社製TMA−50により、温度範囲50℃から200℃、昇温速度10℃/minの条件で測定する)
Moreover, it is preferable that the linear expansion coefficient measured with the following method is 45 ppm / degrees C or less.
(Thermal expansion coefficient: The thermal expansion coefficient is measured under the conditions of a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. and a temperature increase rate of 10 ° C./min by Shimadzu TMA-50)

さらに、前記カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンが下記一般式(II)で表される3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンであることも好ましい。   Furthermore, the carboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane is preferably 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane represented by the following general formula (II).

Figure 2007039528
Figure 2007039528

また、下記一般式(III)および(IV)で示される構造単位を有すポリイミドフィルムであることも好ましい、   Further, a polyimide film having a structural unit represented by the following general formulas (III) and (IV) is also preferable.

Figure 2007039528
Figure 2007039528

Figure 2007039528
Figure 2007039528

(ただし、m、nは0または4以下の整数であり、(m+n)は1以上の整数であり、Rは、下記一般式で示される基のいずれかであり、 (However, m and n are 0 or an integer of 4 or less, (m + n) is an integer of 1 or more, R 1 is one of the groups represented by the following general formula,

Figure 2007039528
Figure 2007039528

式中のRは下記一般式で示される基のいずれかであり、 R 2 in the formula is any of the groups represented by the following general formula,

Figure 2007039528
また、式中のX:Yのモル比は0.1:99.9〜100:0である)
Figure 2007039528
In addition, the molar ratio of X: Y in the formula is 0.1: 99.9 to 100: 0)

さらに、接着剤を介して銅箔と熱圧着した際に、下記の方法により測定した剥離強度が15N/cm以上である上記に記載のポリイミドフィルムも好ましい。   Furthermore, the polyimide film as described above having a peel strength of 15 N / cm or more measured by the following method when thermocompression bonded with a copper foil via an adhesive is also preferable.

さらに、本発明のポリイミドの製造方法は、カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させ、次ぎにカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン以外の芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応することから得られるポリアミック酸を製膜した後、これを熱的および/または化学的にイミド化する上記に記載のポリイミドフィルムの製造方法である。   Furthermore, in the method for producing the polyimide of the present invention, carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and aromatic tetracarboxylic dianhydride are reacted, and then an aromatic diamine other than carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and The method for producing a polyimide film as described above, wherein a polyamic acid obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride is formed into a film, and then thermally and / or chemically imidized.

また、本発明のフレキシブル回路基板は、上記に記載のポリイミドフィルムに接着剤を介して金属箔を圧着してなるものである。   Moreover, the flexible circuit board of the present invention is formed by pressure-bonding a metal foil to the polyimide film described above via an adhesive.

本発明によれば、ヤング率が2.5Gpa以上7Gpa以下の範囲にあってハンドリング性およびフレキシビリティに優れ、かつ吸水率が3.4重量%以下、線膨張係数が45ppm以下にあり寸法安定性に優れ、さらに接着剤を介して金属箔と接着した場合に、15N/cm以上の剥離強度を発現するポリイミドフィルムを得ることができ、このポリイミドフィルムは、長期信頼性に優れたフレキシブル回路基板用のベースフィルムとして利用することが可能である。   According to the present invention, the Young's modulus is in the range of 2.5 Gpa to 7 Gpa, the handling property and flexibility are excellent, the water absorption is 3.4 wt% or less, the linear expansion coefficient is 45 ppm or less, and the dimensional stability. In addition, a polyimide film that exhibits a peel strength of 15 N / cm or more when bonded to a metal foil via an adhesive can be obtained. This polyimide film is used for flexible circuit boards with excellent long-term reliability. It can be used as a base film.

また、ポリイミドフィルムのヤング率、吸水率および線膨張係数を制御し、金属箔との剥離強度を向上させるための処理に、多くの試薬、時間、労力などを必要とせず、大量生産に適し、低コストでかつ高品質の高剥離強度ポリイミドフィルムを製造することができる。   In addition, the Young's modulus, water absorption, and linear expansion coefficient of the polyimide film are controlled, and the treatment for improving the peel strength with the metal foil does not require much reagent, time, labor, etc., and is suitable for mass production. A low-cost and high-quality high peel strength polyimide film can be produced.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

まず、本発明における物性の定義について説明する。   First, the definition of the physical property in this invention is demonstrated.

すなわち、本発明でいうヤング率は、JISK7113に準じて、室温でORIENREC社製のテンシロン型引張試験器により、引張速度100mm/分にて得られる張力−歪み曲線において、初期立ち上がり部の勾配から求めた値である。   That is, the Young's modulus referred to in the present invention is determined from the slope of the initial rising portion in a tension-strain curve obtained at a tensile speed of 100 mm / min with a Tensilon type tensile tester manufactured by ORIENREC at room temperature according to JISK7113 Value.

ヤング率は、2.5Gpa以上7Gpa以下であることが必須用件であり、2.5Gpa未満の場合はハンドリング性を、7Gpaより大きい場合はフレキシビリティを、それぞれ損なうので好ましくない。   It is an essential requirement that the Young's modulus is 2.5 Gpa or more and 7 Gpa or less. If it is less than 2.5 Gpa, handling properties are impaired, and if it is greater than 7 Gpa, flexibility is impaired.

本発明でいう吸水率は、ポリイミドフィルムを蒸留水に48時間浸析後、表面の水分をふき取り、加熱重量減分析により室温から200℃まで10℃/分の昇温速度で加熱された際に、50〜200℃までの重量減少から求めた値である。   The water absorption rate as used in the present invention is determined by immersing the polyimide film in distilled water for 48 hours, wiping the surface moisture, and heating from room temperature to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min by heating weight loss analysis. , A value obtained from weight loss up to 50 to 200 ° C.

吸水率は3.4重量%以下であることが必須用件であり、3.4重量%より大きい場合には吸水により寸法安定性を損なうので好ましくない。   It is an essential requirement that the water absorption is 3.4% by weight or less, and if it is more than 3.4% by weight, the dimensional stability is impaired by water absorption, which is not preferable.

本発明でいう線膨張係数は島津社製TMA−50により、温度範囲50℃から200℃、昇温速度10℃/minの条件で測定した値である。   The linear expansion coefficient referred to in the present invention is a value measured by TMA-50 manufactured by Shimadzu Corporation under the conditions of a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. and a temperature increase rate of 10 ° C./min.

線膨張係数は45ppm以下であることが好ましく、一方、45ppmより大きい場合には寸法安定性を損なうので好ましくない。   The linear expansion coefficient is preferably 45 ppm or less. On the other hand, if it exceeds 45 ppm, the dimensional stability is impaired, which is not preferable.

線膨張係数は、ポリアミック酸もしくはポリイミドフィルムに対し必要に応じて延伸を行うことによって、さらに低下させることが可能である。しかしながら、本発明では、延伸処理を施さない状態で、上記方法により測定した値を線膨張係数と定義する。この値はポリイミドフィルムが本質的に有する線膨張係数を的確に再現する。   The linear expansion coefficient can be further reduced by stretching the polyamic acid or polyimide film as necessary. However, in this invention, the value measured by the said method in the state which does not perform an extending | stretching process is defined as a linear expansion coefficient. This value accurately reproduces the linear expansion coefficient inherently possessed by the polyimide film.

本発明でいう剥離強度とは、接着剤フィルムであるパイララックスR(デュポン社の登録商標)LF−0100を用いて、ポリイミドフィルムと銅箔(厚み35μm、ジャパンエナジー社製BAC−13−T)とを、180℃、450kg/cm2で60分間加熱圧着することにより得られた積層体を、JIS C5016−1994に記載の方法で引き剥がした強さである。   The peel strength as used in the present invention refers to a polyimide film and a copper foil (thickness 35 μm, BAC-13-T manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) using Pyralax R (registered trademark of DuPont) LF-0100 which is an adhesive film. Is a strength obtained by peeling the laminate obtained by thermocompression bonding at 180 ° C. and 450 kg / cm 2 for 60 minutes by the method described in JIS C5016-1994.

剥離強度は、ポリイミドフィルムに対し必要に応じてプラズマ処理、コロナ処理などの電気処理や、物理、化学処理を行うことによって、さらに向上させることが可能である。しかしながら、本発明では、上記の処理を全く処理を施さない状態で、上記方法により測定した値を剥離強度と定義する。この値はポリイミドフィルムが本質的に有する剥離強度を的確に再現する。   The peel strength can be further improved by subjecting the polyimide film to electrical treatment such as plasma treatment and corona treatment, physical treatment, and chemical treatment as necessary. However, in this invention, the value measured by the said method in the state which does not perform said process at all is defined as peeling strength. This value accurately reproduces the peel strength inherent to the polyimide film.

本発明のポリイミドフィルムの剥離強度は、好ましくは15N/cm以上である。一方、剥離強度が15N/cm未満の場合は、フレキシブル回路基板としての使用時に金属箔層の剥がれなどを生ずることがあるため好ましくない。   The peel strength of the polyimide film of the present invention is preferably 15 N / cm or more. On the other hand, a peel strength of less than 15 N / cm is not preferable because the metal foil layer may be peeled off when used as a flexible circuit board.

本発明のポリアミック酸に使用される芳香族ジアミンは、カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを含有することが必須の条件である。この芳香族ジアミンを含有しない場合は、得られたポリイミドフィルムが、目的とするヤング率および剥離強度を示さないからである。   It is an essential condition that the aromatic diamine used in the polyamic acid of the present invention contains carboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane. This is because when the aromatic diamine is not contained, the obtained polyimide film does not exhibit the desired Young's modulus and peel strength.

本発明のポリアミック酸に使用されるカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンの添加量は、0.1〜100モル%、好ましくは1〜10モル%の範囲とすることが重要である。   It is important that the amount of carboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane used in the polyamic acid of the present invention is 0.1 to 100 mol%, preferably 1 to 10 mol%.

すなわち、添加量が上記の範囲未満の場合は、目的とするヤング率および剥離強度が得られず、上記上限を越える場合には、ポリイミドフィルムの線膨張係数および吸水率が増加するため好ましくないからである。   That is, if the addition amount is less than the above range, the desired Young's modulus and peel strength cannot be obtained, and if it exceeds the upper limit, the linear expansion coefficient and water absorption of the polyimide film increase, which is not preferable. It is.

次に、本発明のポリイミドフィルムの構成成分について説明する。   Next, the components of the polyimide film of the present invention will be described.

本発明のポリイミドフィルムにおけるポリイミドは、芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とからなるポリアミック酸を前駆体としてなり、上記式(III)および(IV)に示される繰り返し単位で構成されものである。   The polyimide in the polyimide film of the present invention comprises a polyamic acid composed of aromatic tetracarboxylic acids and aromatic diamines as a precursor, and is composed of repeating units represented by the above formulas (III) and (IV). .

ポリイミドフィルムの前駆体としてのポリアミック酸を形成する芳香族テトラカルボン酸類の具体例としては、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸およびこれらのアミド形成性誘導体が挙げられる。ポリアミック酸の製造にあたっては、これらの芳香族テトラカルボン酸類の酸無水物が好ましく使用される。   Specific examples of aromatic tetracarboxylic acids that form polyamic acid as a precursor of polyimide film include pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3 ′, 3,4 '-Biphenyltetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, Examples include pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid and amide-forming derivatives thereof. In the production of polyamic acid, acid anhydrides of these aromatic tetracarboxylic acids are preferably used.

同じく前駆体としてのポリアミック酸を形成するカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン以外の芳香族ジアミン類の具体例としては、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンチジン、パラキシリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメトキシベンチジン、1,4−ビス(3メチル−5アミノフェニル)ベンゼンおよびこれらのアミド形成性誘導体が挙げられる。   Specific examples of aromatic diamines other than carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane that also form polyamic acid as a precursor include paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, benzidine, paraxylylenediamine, 4,4 ′. -Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene 3,3′-dimethoxybenzidine, 1,4-bis (3methyl-5aminophenyl) benzene and amide-forming derivatives thereof.

なお、上記カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンのカルボキシル基の置換基数は多置換であってもかまわない。さらに、カルボキシル基の置換位置は任意の位置であり、その具体例としては2,6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンおよび2,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンが挙げられる。しかし、合成面での簡便さの観点から3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンであることは好ましい条件である。   In addition, the number of substituents of the carboxyl group of the carboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane may be polysubstituted. Further, the substitution position of the carboxyl group is an arbitrary position, and specific examples thereof include 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane. And 2,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane. However, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane is a preferable condition from the viewpoint of simplicity in terms of synthesis.

また、本発明において、ポリイミドフィルムの前駆体であるポリアミック酸溶液の形成に使用される有機溶媒の具体例としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−,m−,またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどの非プロトン性極性溶媒を挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、さらにはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。   In the present invention, specific examples of the organic solvent used for forming the polyamic acid solution that is a precursor of the polyimide film include, for example, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, Formamide solvents such as N, N-diethylformamide, acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, pyrrolidone systems such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone Examples include solvents, phenolic solvents such as phenol, o-, m-, or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol, or aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoramide and γ-butyrolactone. These alone Although it is desirable to use as a mixture, further xylene, the use of aromatic hydrocarbons such as toluene are also possible.

本発明で用いるポリアミック酸の有機溶媒溶液(ポリアミック酸溶液)は、固形分として5〜40重量%を含有するのが好ましく、10〜30重量%を含有するのがより好ましい。またその粘度は、安定した送液のため、ブルックフィールド粘度計による測定値で10〜2000Pa・sの範囲が好ましく、100〜1000Pa・sの範囲がより好ましい。また、有機溶媒溶液中のポリアミック酸は部分的にイミド化されていてもよい。   The organic solvent solution (polyamic acid solution) of the polyamic acid used in the present invention preferably contains 5 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight as the solid content. In addition, the viscosity is preferably in the range of 10 to 2000 Pa · s, more preferably in the range of 100 to 1000 Pa · s as measured by a Brookfield viscometer, for stable liquid feeding. Moreover, the polyamic acid in the organic solvent solution may be partially imidized.

本発明においてポリアミック酸を構成する芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とは、それぞれのモル数が大略等しくなる割合で重合されるが、その一方が10モル%の範囲内で他方に対して過剰に配合されることが好ましく、5モル%の範囲内で他方に対して過剰に配合されることもより好ましい。   In the present invention, the aromatic tetracarboxylic acids and aromatic diamines constituting the polyamic acid are polymerized at a ratio in which the respective mole numbers are approximately equal, but one of them is within a range of 10 mol% relative to the other. It is preferably blended in excess, and more preferably blended excessively with respect to the other within the range of 5 mol%.

重合反応は、有機溶媒中で撹拌そして/または混合しながら、0〜80℃の温度の範囲で、10分〜30時間連続して進められるのが好ましく、必要により重合反応を分割したり、温度を上下させてもかまわない。両反応体の添加順序には特に制限はないが、芳香族ジアミン類の溶液中に芳香族テトラカルボン酸類を添加することが好ましい。重合反応中に真空脱泡することは、良質なポリアミック酸の有機溶媒溶液を製造するのにとって有効な方法である。   The polymerization reaction is preferably allowed to proceed continuously for 10 minutes to 30 hours in the temperature range of 0 to 80 ° C. while stirring and / or mixing in an organic solvent. You can move up and down. Although there is no restriction | limiting in particular in the addition order of both reactants, It is preferable to add aromatic tetracarboxylic acid in the solution of aromatic diamines. Vacuum degassing during the polymerization reaction is an effective method for producing a high-quality organic solvent solution of polyamic acid.

また、重合反応の前に芳香族ジアミン類に少量の末端封止剤を添加することによって、重合反応の制御を行ってもよい。   Further, the polymerization reaction may be controlled by adding a small amount of an end-capping agent to the aromatic diamine before the polymerization reaction.

次に、本発明のポリイミドフィルムの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the polyimide film of this invention is demonstrated.

本発明においては、回転粘度計で測定した25℃における粘度が10Pa・s以上500Pa・s以下程度のポリアミック酸溶液を調製する。本発明においてポリアミック酸溶液を得るための反応手順としては、有機極性溶媒中に芳香族ジアミンを添加し溶解したのち、芳香族テトラカルボン酸二無水物を添加する方法、または有機極性溶媒中に芳香族テトラカルボン酸二無水物を添加したのち、芳香族ジアミンを添加する方法などいずれの方法でも可能である。このとき芳香族テトラカルボン酸に無水物と芳香族ジアミンの添加量は、実質的に等モルとすることができる。   In the present invention, a polyamic acid solution having a viscosity at 25 ° C. of about 10 Pa · s to 500 Pa · s measured with a rotational viscometer is prepared. As a reaction procedure for obtaining a polyamic acid solution in the present invention, an aromatic diamine is added and dissolved in an organic polar solvent, and then an aromatic tetracarboxylic dianhydride is added. Any method such as a method of adding an aromatic diamine after adding an aromatic tetracarboxylic dianhydride is possible. At this time, the addition amount of the anhydride and the aromatic diamine to the aromatic tetracarboxylic acid can be substantially equimolar.

また、カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンとそれ以外の芳香族ジアミンを添加の順序は、これらを混合しテトラカルボン酸二無水物を反応させる方法、カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン以外の芳香族ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を反応させ、次ぎにカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させる方法およびカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させ、次ぎにカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン以外の芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応する方法が挙げられる。しかし、吸水率を3.4重量%以下、線膨張係数を45ppm以下にするためカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させ、次ぎにカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン以外の芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応する方法が好ましい。   Moreover, the order of adding carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and other aromatic diamines is a method of mixing these and reacting tetracarboxylic dianhydride, other than carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane. A method of reacting aromatic diamine with tetracarboxylic dianhydride and then reacting carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane with aromatic tetracarboxylic dianhydride, and carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane with aromatic And a method of reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride with an aromatic diamine other than carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane. However, carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and aromatic tetracarboxylic dianhydride are reacted in order to reduce the water absorption to 3.4 wt% or less and the linear expansion coefficient to 45 ppm or less, and then carboxy-4,4. A method of reacting an aromatic diamine other than '-diaminodiphenylmethane with an aromatic tetracarboxylic dianhydride is preferred.

前記ポリアミック酸溶液を支持体上にキャストして自己支持性のポリアミック酸フィルムを得る。次いで、得られたポリアミック酸フィルムの端部を固定し、200℃以上400℃以下の温度で熱処理を行うことによりポリイミドフィルムを得るのが好ましい。   The polyamic acid solution is cast on a support to obtain a self-supporting polyamic acid film. Next, it is preferable to obtain a polyimide film by fixing the end of the obtained polyamic acid film and performing a heat treatment at a temperature of 200 ° C. or higher and 400 ° C. or lower.

なお、ここでいう支持体とは、ガラス、金属、高分子フィルムなど平面を有し、ポリアミック酸をこの上にキャストした場合に、キャストされたポリアミック酸を支持することができるものを意味する。   In addition, a support body here means what has a plane, such as glass, a metal, and a polymer film, and can support the cast polyamic acid, when a polyamic acid is cast on this.

また、キャストとは、ポリアミック酸を支持体上に展開することを意味する。キャストの一例としては、バーコート、スピンコート、あるいは任意の空洞形状を有するパイプ状物質からポリアミック酸を押し出し、支持体上に展開する方法が挙げられる。   The cast means that the polyamic acid is developed on the support. As an example of the cast, there is a method of extruding a polyamic acid from a bar coat, a spin coat, or a pipe-shaped substance having an arbitrary cavity shape and spreading it on a support.

得られたポリアミック酸をイミド化閉環環化させて芳香族ポリイミドフィルムにする際には、脱水剤と触媒を用いて脱水する化学閉環法、熱的に脱水する熱閉環法、あるいはその両者を併用した閉環法のいずれで行ってもよい。   When the resulting polyamic acid is imidized and cyclized into an aromatic polyimide film, a chemical ring closure method using a dehydrating agent and a catalyst, a thermal ring closure method using thermal dehydration, or a combination of both Any of the ring closure methods described above may be used.

化学閉環法で使用する脱水剤としては、無水酢酸などの脂肪族酸無水物、フタル酸無水物などの酸無水物などが挙げられ、これらを単独あるいは混合して使用するのが好ましい。   Examples of the dehydrating agent used in the chemical ring closure method include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and acid anhydrides such as phthalic anhydride, and these are preferably used alone or in combination.

また、触媒としては、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの複素環式第3級アミン類、トリエチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、N,N−ジメチルアニリンなどの第3級アミン類などが挙げられ、これらを単独あるいは混合して使用するのが好ましい。   Examples of the catalyst include heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline and quinoline, aliphatic tertiary amines such as triethylamine, and tertiary amines such as N, N-dimethylaniline. These are preferably used alone or in combination.

本発明のポリイミドフィルムの厚みは3〜250μmであることが望ましい。すなわち、厚みが3μm未満では形状を保持することが困難となり、また250μmを越えると屈曲性に欠けるため、フレキシブル回路基板用途には不向きである。   The thickness of the polyimide film of the present invention is preferably 3 to 250 μm. That is, when the thickness is less than 3 μm, it is difficult to maintain the shape, and when the thickness exceeds 250 μm, the flexibility is insufficient, so that it is not suitable for a flexible circuit board.

ポリイミドフィルムは、延伸および未延伸のものをいずれも使用することができる。また、加工性改善などを目的として10重量%以下の無機質または有機質の添加物を含有することも可能である。   As the polyimide film, both stretched and unstretched films can be used. Further, it is possible to contain 10% by weight or less of an inorganic or organic additive for the purpose of improving processability.

かくして得られる本発明のポリイミドフィルムは、ヤング率を3.5Gpa以上7Gpa以下、の範囲にあってハンドリング性およびフレキシビリティに優れ、かつ吸水率が3.4重量%以下、線膨張係数が45ppm以下であり寸法安定性に優れ、さらに接着剤を介して金属箔に圧着された際の剥離強度が15N/cm以上と高く、フレキシブル回路基板用ベースフィルムとして極めて有用である。   The polyimide film of the present invention thus obtained has a Young's modulus in the range of 3.5 Gpa to 7 Gpa, excellent handling and flexibility, a water absorption of 3.4% by weight or less, and a linear expansion coefficient of 45 ppm or less. It is excellent in dimensional stability and has a peel strength as high as 15 N / cm or more when pressed onto a metal foil via an adhesive, and is extremely useful as a base film for a flexible circuit board.

すなわち、本発明のフレキシブル回路基板は、上記のポリイミドフィルムをベースフィルムとし、これに接着剤を介して金属箔を圧着することによって得られるが、ここで用いられる接着剤としては、アクリル系、ポリイミド系およびエポキシ系接着剤などが挙げられ、特に限定するものではない。   That is, the flexible circuit board of the present invention can be obtained by using the above polyimide film as a base film and crimping a metal foil to this through an adhesive, and the adhesive used here is an acrylic or polyimide Examples thereof include epoxy adhesives and epoxy adhesives, and are not particularly limited.

また、接着剤を介して本発明のポリイミドフィルムと熱圧着される金属箔は銅箔であることが好ましいが、他の金属箔でもかまわない。   The metal foil that is thermocompression bonded to the polyimide film of the present invention via an adhesive is preferably a copper foil, but other metal foils may be used.

かくして得られる本発明のフレキシブル回路基板は、長期的に高い剥離強度を維持し、長期信頼性に優れるという性能を発揮する。   The flexible circuit board of the present invention thus obtained exhibits the performance of maintaining high peel strength over a long period of time and excellent long-term reliability.

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例中のヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度は、以下の方法により測定した値である。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. In addition, the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength in the examples are values measured by the following methods.

[ヤング率]
ヤング率は、JISK7113に準じて、室温でORIENREC社製のテンシロン型引張試験器により、引張速度100mm/分にて得られる張力−歪み曲線において、初期立ち上がり部の勾配から求めた。
[Young's modulus]
The Young's modulus was determined from the slope of the initial rising portion in a tension-strain curve obtained at a tensile speed of 100 mm / min with a Tensilon type tensile tester manufactured by ORIENREC at room temperature according to JISK7113.

[吸水率]
吸水率は、ポリイミドフィルムを蒸留水に48時間浸析後、表面の水分をふき取り、加熱重量減分析により室温から200℃まで10℃/分の昇温速度で加熱された際に、50〜200℃までの重量減少から求めた値である。
[Water absorption rate]
The water absorption is 50 to 200 when the polyimide film is immersed in distilled water for 48 hours, the surface moisture is wiped off, and the sample is heated from room temperature to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min by heat weight loss analysis. It is a value obtained from weight loss up to ° C.

[線膨張係数]
線膨張係数は、島津社製TMA−50により、温度範囲50℃から200℃、昇温速度10℃/minの条件で測定した値である。
[Linear expansion coefficient]
The linear expansion coefficient is a value measured by TMA-50 manufactured by Shimadzu Corporation under the conditions of a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. and a temperature increase rate of 10 ° C./min.

[剥離強度]
接着剤フィルムであるパイララックスR(デュポン社の登録商標)LF−0100を用いて、ポリイミドフィルムと銅箔(厚み35μm、ジャパンエナジー社製BAC−13−T)とを、180℃、4.4×107 Paで、60分間加熱圧着することにより得られた積層体を、JIS C5016−1994に記載の方法で引き剥がした強さを剥離強度とする。
[Peel strength]
By using Piralux R (registered trademark of DuPont) LF-0100 which is an adhesive film, a polyimide film and a copper foil (thickness 35 μm, BAC-13-T manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) are heated at 180 ° C., 4.4. The strength at which the laminate obtained by thermocompression bonding at × 107 Pa for 60 minutes is peeled off by the method described in JIS C5016-1994 is defined as the peel strength.

[実施例1]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン3.28g(11.45mmol)とN,N’−ジメチルアセトアミド223.48gとを入れ、ピロメリット酸二無水物2.50g(11.45mmol)を数回に分けて投入し窒素雰囲気下、室温で5時間撹拌した。次ぎに、これに4,4’−ジアミノジフェニルエーテル26.38g(131.7mmol)を入れ、さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物27.80g(127.5mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)12.56gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 1]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 3.28 g (11.45 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and 223.48 g of N, N′-dimethylacetamide were placed. 2.50 g (11.45 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions and stirred at room temperature for 5 hours in a nitrogen atmosphere. Next, 26.38 g (131.7 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether was added thereto, and 27.80 g (127.5 mmol) of pyromellitic dianhydride was divided into several portions over 30 minutes to 1 hour. I put it in. After stirring for 1 hour, 12.56 g of N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) of pyromellitic dianhydride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸100.00gを、株式会社キーエンス社製ハイブリットミキサーを用いて5分脱泡した。このポリアミック酸混合物の一部をポリエステルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な膜を形成した。これを100℃で30分加熱し、自己保持性のポリアミック酸フィルムを得た。得られたフィルムを、200℃30分、300℃30分、400℃5分で熱処理を行い、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   100.00 g of the obtained polyamic acid was degassed for 5 minutes using a hybrid mixer manufactured by Keyence Corporation. A part of this polyamic acid mixture was taken on a polyester film, and a uniform film was formed using a spin coater. This was heated at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a self-holding polyamic acid film. The obtained film was heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes, 300 ° C. for 30 minutes, and 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

[実施例2]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン5.27g(18.43mmol)とN,N’−ジメチルアセトアミド223.64gとを入れ、ピロメリット酸二無水物4.02g(18.43mmol)を数回に分けて投入し窒素雰囲気下、室温で5時間撹拌した。次ぎに、これに4,4’−ジアミノジフェニルエーテル24.70g(123.3mmol)を入れ、さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物25.98g(119.1mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)13.45gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 2]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer was placed 5.27 g (18.43 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and 223.64 g of N, N′-dimethylacetamide, Pyromellitic dianhydride 4.02 g (18.43 mmol) was added in several portions and stirred at room temperature for 5 hours in a nitrogen atmosphere. Next, 24.70 g (123.3 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether was added thereto, and 25.98 g (119.1 mmol) of pyromellitic dianhydride was divided into several portions over 30 minutes to 1 hour. I put it in. After stirring for 1 hour, 13.45 g of an N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) of pyromellitic dianhydride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

[実施例3]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン8.00g(27.96mmol)とN,N’−ジメチルアセトアミド223.85gとを入れ、ピロメリット酸二無水物6.99g(27.96mmol)を数回に分けて投入し窒素雰囲気下、室温で5時間撹拌した。次ぎに、これに4,4’−ジアミノジフェニルエーテル22.40g(111.8mmol)を入れ、さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物23.48g(107.7mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)13.82gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 3]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 8.00 g (27.96 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and 223.85 g of N, N′-dimethylacetamide were placed. Pyromellitic dianhydride (6.99 g, 27.96 mmol) was added in several portions and stirred at room temperature for 5 hours in a nitrogen atmosphere. Next, 22.40 g (111.8 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether was added thereto, and another 23.48 g (107.7 mmol) of pyromellitic dianhydride was divided into several portions over 30 minutes to 1 hour. I put it in. After stirring for 1 hour, 13.82 g of an N, N′-dimethylacetamide solution of pyromellitic dianhydride (6 wt%) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

[比較例1]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル38.48g(190mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド320.00gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物40.27g(185mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)22.01gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Comparative Example 1]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 38.48 g (190 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 320.00 g of N, N′-dimethylacetamide were placed and stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. Further, after 30 minutes to 1 hour, 40.27 g (185 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions. After stirring for 1 hour, 22.01 g of a pyromellitic dianhydride N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) was added dropwise over 30 minutes, followed by further stirring for 1 hour.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

[比較例2]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、パラフェニレンジアミン10.72g(99.1mmol)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル13.23g(66.1mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド223.01gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物34.96g(160.3mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)6.31gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Comparative Example 2]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 10.72 g (99.1 mmol) of paraphenylenediamine, 13.23 g (66.1 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 223.01 g of N, N′-dimethylacetamide And stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. Further, 34.96 g (160.3 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions over 30 minutes to 1 hour. After stirring for 1 hour, 6.31 g of a pyromellitic dianhydride N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

[比較例3]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル24.70g(123.3mmol)とN,N’−ジメチルアセトアミド223.64gとを入れ、ピロメリット酸二無水物25.98g(119.1mmol)を数回に分けて投入し窒素雰囲気下、室温で1時間撹拌した。次ぎに、これに3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン5.27g(18.43mmol)を入れ、さらに30分から1時間後にかけてをピロメリット酸二無水物4.02g(18.43mmol)数回に分けて投入した。5時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)4.67gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Comparative Example 3]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 24.70 g (123.3 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 223.64 g of N, N′-dimethylacetamide were placed, and pyromellitic dianhydride 25. 98 g (119.1 mmol) was added in several portions and stirred at room temperature for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Next, 5.27 g (18.43 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane was added thereto, and after 30 minutes to 1 hour, 4.02 g of pyromellitic dianhydride (18 .43 mmol) was charged in several times. After stirring for 5 hours, 4.67 g of N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) of pyromellitic dianhydride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

[比較例4]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン8.00g(27.96mmol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル22.40g(111.8mmol)を入れ、さらにN,N’−ジメチルアセトアミド223.85gとを入れた。これに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物30.47g(135.66mmol)を数回に分けて投入し窒素雰囲気下、室温で撹拌した。2時間後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)3.37gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Comparative Example 4]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 8.00 g (27.96 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and 22.40 g (111.8 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether ), And 223.85 g of N, N′-dimethylacetamide was added. 30 minutes to 1 hour later, 30.47 g (135.66 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions and stirred at room temperature in a nitrogen atmosphere. After 2 hours, 3.37 g of an N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) of pyromellitic dianhydride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

得られたポリアミック酸から、実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムについて、ヤング率、吸水率、線膨張係数および剥離強度を測定した結果を表1に示した。   A polyimide film was obtained from the obtained polyamic acid using the same method as in Example 1. Table 1 shows the results of measuring the Young's modulus, water absorption, linear expansion coefficient, and peel strength of the obtained polyimide film.

Figure 2007039528
Figure 2007039528

表1の結果から明らかなように、本発明の3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを先に添加するブロック共重合から得られるポリイミドフィルム(実施例1〜3)は、比較例1および2の、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを共重合していないポリイミドフィルムに比べて、ヤング率が2.5Gpa以上7Gpa以下の範囲に制御され、かつ接着力が15N/cm以上と著しく改質されたものである。   As is clear from the results in Table 1, polyimide films (Examples 1 to 3) obtained from block copolymerization in which 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane of the present invention is added first, Compared to the polyimide film in which 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane is not copolymerized in Comparative Examples 1 and 2, the Young's modulus is controlled in the range of 2.5 Gpa to 7 Gpa, and The adhesive force is remarkably modified to 15 N / cm or more.

また、表1の結果から明らかなように本発明の3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを先に添加するブロック共重合から得られるポリイミドフィルム(実施例1〜3)は、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを後に添加するブロック共重合から得られる比較例3のポリイミドフィルムおよび3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンをランダム共重合して得られる比較例4のポリイミドフィルムに比べて、吸水率が3.4重量%以下、線膨張係数が45ppm以下に改質されたものである。   Moreover, as is clear from the results in Table 1, polyimide films (Examples 1 to 3) obtained from block copolymerization in which 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane of the present invention is added first are as follows. The polyimide film of Comparative Example 3 obtained from block copolymerization to which 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane is added later and 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane randomly Compared to the polyimide film of Comparative Example 4 obtained by copolymerization, the film was modified to have a water absorption of 3.4% by weight or less and a linear expansion coefficient of 45 ppm or less.

以上説明したように、本発明によれば、ヤング率が2.5Gpa以上7Gpa以下の範囲にあって、ハンドリング性およびフレキシビリティに優れ、また吸水率が3.4重量%以下、線膨張係数が45ppm以下であり寸法安定性に優れ、かつ接着剤を介して金属箔と接着した場合に、15N/cm以上の剥離強度を発現するポリイミドフィルムを得ることができ、このポリイミドフィルムは、長期信頼性に優れたフレキシブル回路基板用のベースフィルムとして利用することが可能である。   As described above, according to the present invention, the Young's modulus is in the range of 2.5 Gpa to 7 Gpa, the handling property and flexibility are excellent, the water absorption is 3.4 wt% or less, and the linear expansion coefficient is When it is 45 ppm or less and excellent in dimensional stability and bonded to a metal foil through an adhesive, a polyimide film that exhibits a peel strength of 15 N / cm or more can be obtained. This polyimide film has long-term reliability. It can be used as a base film for a flexible circuit board having excellent resistance.

また、本発明によれば、ポリイミドフィルムのヤング率、吸水率および線膨張係数を制御し、金属箔との剥離強度を向上させるための処理に、多くの試薬、時間、労力などを必要とせず、大量生産に適し、低コストでかつ高品質の高剥離強度ポリイミドフィルムを製造することができるため、この分野へ与える貢献度が高い。   In addition, according to the present invention, it is possible to control the Young's modulus, water absorption rate, and linear expansion coefficient of the polyimide film, and the treatment for improving the peel strength from the metal foil does not require much reagent, time, labor, etc. It is suitable for mass production, and can be manufactured at a low cost and with a high quality, high peel strength polyimide film.

Claims (7)

下記一般式(I)で表されるカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンを0.1〜100モル%の割合で含有する芳香族ジアミンと、芳香族テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とから合成されたポリアミック酸を熱的および/または化学的にイミド化することにより得られたポリイミドフィルムであって、下記方法で測定したヤング率が2.5Gpa以上7Gpa以下であり、かつ吸水率が3.4重量%以下であることを特徴とするポリイミドフィルム。
Figure 2007039528
(ただし、式中のm、nは0または4以下の整数であり、(m+n)は1以上の整数である)
(ヤング率:JISK7113に準じ、室温でORIENREC社製のテンシロン型引張試験器により、引張速度300mm/分にて得られる張力−歪み曲線において初期立ち上がり部の勾配から求める、
吸水率:ポリイミドフィルムを蒸留水に48時間浸析後、表面の水分をふき取り、加熱重量減分析により室温から200℃まで10℃/分の昇温速度で加熱された際に、50〜200℃までの重量減少を吸水率とする)
From an aromatic diamine containing carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane represented by the following general formula (I) in a proportion of 0.1 to 100 mol%, and an aromatic tetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof A polyimide film obtained by thermally and / or chemically imidizing a synthesized polyamic acid, having a Young's modulus measured by the following method of 2.5 Gpa to 7 Gpa, and a water absorption of 3 Polyimide film characterized by being 4% by weight or less.
Figure 2007039528
(However, m and n in the formula are 0 or an integer of 4 or less, and (m + n) is an integer of 1 or more.)
(Young's modulus: according to JISK7113, obtained from the slope of the initial rising portion in a tension-strain curve obtained at a tensile speed of 300 mm / min with a Tensilon type tensile tester manufactured by ORIENREC at room temperature.
Water absorption: After immersing the polyimide film in distilled water for 48 hours, the surface moisture is wiped off, and when heated at a rate of temperature increase of 10 ° C./min from room temperature to 200 ° C. by heating weight loss analysis, 50 to 200 ° C. The weight loss up to is the water absorption rate)
下記方法で測定した線膨張係数が45ppm/℃以下であることを特徴とする請求項1記載のポリイミドフィルム。
(熱膨張係数:熱膨張係数は島津社製TMA−50により、温度範囲50℃から200℃、昇温速度10℃/minの条件で測定する)
2. The polyimide film according to claim 1, wherein the linear expansion coefficient measured by the following method is 45 ppm / ° C. or less.
(Thermal expansion coefficient: The thermal expansion coefficient is measured under the conditions of a temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. and a temperature increase rate of 10 ° C./min by Shimadzu TMA-50)
前記カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンが下記一般式(II)で表される3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンであることを特徴とする請求項1または2記載のポリイミドフィルム。
Figure 2007039528
3. The carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane is 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane represented by the following general formula (II): Polyimide film.
Figure 2007039528
下記一般式(III)および(IV)で示される構造単位を有することを特徴とする請求項1〜3いずれか1項に記載のポリイミドフィルム。
Figure 2007039528
Figure 2007039528
(ただし、m、nは0または4以下の整数であり、(m+n)は1以上の整数であり、Rは、下記一般式で示される基のいずれかであり、
Figure 2007039528
式中のRは下記一般式で示される基のいずれかであり、
Figure 2007039528
また、式中のX:Yのモル比は0.1:99.9〜100:0である)
It has a structural unit shown by the following general formula (III) and (IV), The polyimide film of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
Figure 2007039528
Figure 2007039528
(However, m and n are 0 or an integer of 4 or less, (m + n) is an integer of 1 or more, R 1 is one of the groups represented by the following general formula,
Figure 2007039528
R 2 in the formula is any of the groups represented by the following general formula,
Figure 2007039528
In addition, the molar ratio of X: Y in the formula is 0.1: 99.9 to 100: 0)
接着剤を介して銅箔と熱圧着した際に、下記の方法により測定した剥離強度が15N/cm以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film according to any one of claims 1 to 4, wherein a peel strength measured by the following method is 15 N / cm or more when thermocompression-bonded with a copper foil through an adhesive. カルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させ、次ぎにカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン以外の芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応することから得られるポリアミック酸を製膜した後、これを熱的および/または化学的にイミド化することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムの製造方法。   Carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and aromatic tetracarboxylic dianhydride are reacted, and then an aromatic diamine other than carboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane and aromatic tetracarboxylic dianhydride are reacted. The method for producing a polyimide film according to any one of claims 1 to 5, wherein the polyamic acid obtained from the above is formed into a film, and then thermally and / or chemically imidized. 請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムに接着剤を介して金属箔を圧着してなることを特徴とするフレキシブル回路基板。   A flexible circuit board obtained by pressure-bonding a metal foil to the polyimide film according to claim 1 via an adhesive.
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