JP2007039432A - Benzoylpyrazole-based compound, method for producing the same and herbicide containing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、除草剤の有効成分として有用な新規ベンゾイルピラゾール系化合物に関する。 The present invention relates to a novel benzoylpyrazole compound useful as an active ingredient of a herbicide.
特許文献１〜５には、各々ベンゾイルピラゾール系化合物が開示されている。しかしながら、それらは下記式（I）で表されるベンゾイルピラゾール系化合物とは化学構造が異なる。 Patent Documents 1 to 5 each disclose benzoylpyrazole compounds. However, they have a different chemical structure from the benzoylpyrazole compounds represented by the following formula (I).
本願発明者は、より優れた除草剤を見出すべくベンゾイルピラゾール系化合物につき、種々検討した結果、本発明を完成した。 The inventor of the present application has completed the present invention as a result of various studies on benzoylpyrazole compounds to find a more excellent herbicide.
即ち本発明は、式（I）； That is, the present invention provides a compound of formula (I);
（式中、Ｒ１はアルキルであり、Ｒ２は水素原子、アルキル、シクロアルキル、ハロゲン、ハロアルキル又はアルコキシであり、Ｒ３は水素原子、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいベンジルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルスルホニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルコキシ又はニトロで置換されてもよいフェニルアルキル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェナシル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェノキシカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルアミノカルボニル、ピリジル部分がハロゲンで置換されてもよいピリジルアルキル、アルキルアミノカルボニル、（アルキルチオ）カルボニル、アルコキシチオカルボニル、アルキルスルホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシカルボニルメチル、カルボキシメチル、アルキルカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、（フェニルチオ）カルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノスルホニル、1,3-チアゾール-4-イルアルキル、アルキルチオアルキル、シクロアルキルカルボニル、2-フリルカルボニル又はハロアルキルで置換されてもよいピリジルであり、Ｒ４はアルキル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、メチルスルホニル、アルコキシ又はビニルであり、Ｒ５は水素原子又はアルキルであり、Ｒ６は水素原子、アルキル、アルケニル又はアルキニルであり、前記Ｒ６のアルキルはハロゲン、シクロアルキル、アルコキシカルボニル又はアルコキシで置換されてもよく、同Ｒ６のアルケニルはハロゲンで置換されてよい）で表されるベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩、それらの製造方法、それらを有効成分として含有する除草剤、それらの除草有効量を望ましくない植物又はそれが生育する場所に施用して望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法に関する。 Wherein R 1 is alkyl, R 2 is a hydrogen atom, alkyl, cycloalkyl, halogen, haloalkyl or alkoxy, R 3 is a hydrogen atom, and the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen. Benzylcarbonyl, phenylsulfonyl, where the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy, or halogen, phenylalkyl, phenyl, where the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy, alkoxycarbonyl, cyano, halogen, haloalkyl, haloalkoxy or nitro The phenyl moiety optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, the phenyl moiety substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenacyl, the phenyl moiety substituted with alkyl, alkoxy or halogen Optionally substituted phenoxycarbonyl, phenylaminocarbonyl whose phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen, pyridylalkyl whose pyridyl moiety may be substituted with halogen, alkylaminocarbonyl, (alkylthio) carbonyl, alkoxythiocarbonyl, Alkylsulfonyl, alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxycarbonylmethyl, carboxymethyl, alkylcarbonyl, alkoxyalkylcarbonyl, (phenylthio) carbonyl, alkoxycarbonyl, alkylaminosulfonyl, 1,3-thiazol-4-ylalkyl, alkylthioalkyl, cyclo alkylcarbonyl, a 2-furyl carbonyl or pyridyl which may be substituted by haloalkyl, R 4 is alkyl, halogen, Haroaruki , Nitro, methyl sulfonyl, alkoxy or vinyl, R 5 is a hydrogen atom or alkyl, R 6 is a hydrogen atom, an alkyl, alkenyl or alkynyl, alkyl of said R 6 is halogen, cycloalkyl, alkoxycarbonyl or A benzoylpyrazole compound or a salt thereof, a process for producing them, a herbicide containing them as an active ingredient, a benzoylpyrazole compound or a salt thereof, which may be substituted with alkoxy, and alkenyl of R 6 may be substituted with halogen. The present invention relates to a method for controlling an undesirable plant or suppressing its growth by applying an effective amount of herbicidal to an undesirable plant or a place where it grows.
本発明により、除草剤の有効成分として有用な新規ベンゾイルピラゾール系化合物が得られる。 According to the present invention, a novel benzoylpyrazole compound useful as an active ingredient of a herbicide is obtained.
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６のアルキル又はアルキル部分は、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシルのようなＣ１−６のものが挙げられる。 The alkyl or alkyl part of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 or R 6 may be either linear or branched, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i C 1-6 such as -propyl, n-butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl.
Ｒ３又はＲ６のアルケニルは、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、ビニル、1-プロペニル、アリル、i-プロペニル、1-ブテニル、1,3-ブタジエニル、1-ヘキセニルのようなＣ２−６のものが挙げられる。 The alkenyl of R 3 or R 6 may be either linear or branched, and specific examples thereof include vinyl, 1-propenyl, allyl, i-propenyl, 1-butenyl, 1,3-butadienyl, 1- Examples include C 2-6 such as hexenyl.
Ｒ３又はＲ６のアルキニルとしては、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-メチル-2-プロピニル、1-メチル-2-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、1-メチル-2-ペンチニルのようなＣ２−６のものが挙げられる。 R 3 or R 6 alkynyl may be linear or branched, and specific examples thereof include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1 C 2-6 ones such as -methyl-2-propynyl, 1-methyl-2-butynyl, 1-pentynyl, 2-pentynyl, 1-hexynyl, 2-hexynyl, 1-methyl-2-pentynyl .
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４又はＲ６において、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、フェニルアルキル、アルキルアミノカルボニル、アルキルスルホニル、アルコキシチオカルボニル、（アルキルチオ）カルボニル（ここで、（アルキルチオ）カルボニルは「アルキルチオールカルボニル」ともいう）、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルメチル、アルキルカルボニル、ピリジルアルキル、アルコキシアルキルカルボニル、アルキルアミノスルホニル、1,3-チアゾール-4-イルアルキル又はアルキルチオアルキルに含まれるアルキル部分としては、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシルのようなＣ１−６のものが挙げられる。 In R 2 , R 3 , R 4 or R 6 , alkoxy, haloalkyl, haloalkoxy, phenylalkyl, alkylaminocarbonyl, alkylsulfonyl, alkoxythiocarbonyl, (alkylthio) carbonyl (where (alkylthio) carbonyl is “alkylthiol” As an alkyl moiety contained in alkoxycarbonyl, alkoxycarbonylmethyl, alkylcarbonyl, pyridylalkyl, alkoxyalkylcarbonyl, alkylaminosulfonyl, 1,3-thiazol-4-ylalkyl or alkylthioalkyl. Or may be branched, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, and n-hexyl. such as C 1- Include those of.
Ｒ２、Ｒ３又はＲ６のシクロアルキル又はシクロアルキル部分としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなＣ３−６のものが挙げられる。 Cycloalkyl or cycloalkyl moieties of R 2 , R 3 or R 6 include those of C 3-6 such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl.
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４又はＲ６のハロゲン又は置換基としてのハロゲン部分としては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素の各原子が挙げられる。 Examples of the halogen of R 2 , R 3 , R 4 or R 6 or the halogen moiety as a substituent include fluorine, chlorine, bromine or iodine atoms.
Ｒ２又はＲ４のハロアルキルに含まれるハロゲン部分による置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 The number of substitution by the halogen moiety contained in the haloalkyl of R 2 or R 4 may be 1 or 2 or more, and in the case of 2 or more, they may be the same or different. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
Ｒ３のフェニルアルキルにおけるアルキル部分に対するフェニルの置換数、フェニルアミノカルボニルにおけるアミノカルボニル部分に対するフェニルの置換数、ピリジルアルキルにおけるアルキル部分に対するピリジルの置換数、アルキルアミノカルボニルにおけるアミノカルボニル部分に対するアルキルの置換数、アルコキシカルボニルメチルにおけるメチル部分に対するアルコキシカルボニルの置換数、カルボキシメチルにおけるメチル部分に対するカルボキシの置換数、アルコキシアルキルカルボニルにおけるアルキルカルボニル部分に対するアルコキシの置換数、アルキルアミノスルホニルにおけるアミノスルホニル部分に対するアルキルの置換数、1,3-チアゾール-4-イルアルキルにおけるアルキル部分に対する1,3-チアゾールの置換数、アルキルチオアルキルにおけるアルキル部分に対するアルキルチオの置換数は、各々1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 Number of phenyl substitutions for the alkyl moiety in phenylalkyl of R 3 , Number of phenyl substitutions for the aminocarbonyl moiety in phenylaminocarbonyl, Number of substitutions of pyridyl for the alkyl moiety in pyridylalkyl, Number of substitutions of alkyl for the aminocarbonyl moiety in alkylaminocarbonyl , The number of alkoxycarbonyl substitutions for the methyl moiety in alkoxycarbonylmethyl, the number of carboxy substitutions for the methyl moiety in carboxymethyl, the number of alkoxy substitutions for the alkylcarbonyl moiety in alkoxyalkylcarbonyl, the number of alkyl substitutions for the aminosulfonyl moiety in alkylaminosulfonyl 1,3-thiazol-4-ylalkyl is substituted with 1,3-thiazole relative to the alkyl moiety. Number, number of replacements alkylthio for the alkyl moiety in alkylthioalkyl may be at each one or more, and if more, they may be the same or different. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
Ｒ３のベンジルカルボニル、フェニルスルホニル、フェニルアルキル、フェニルカルボニル、フェナシル、フェノキシカルボニル、フェニルアミノカルボニルのフェニル部分をアルキル、アルコキシ又はハロゲンが置換する場合、それらの置換基数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 When alkyl, alkoxy or halogen is substituted on the phenyl moiety of R 3 benzylcarbonyl, phenylsulfonyl, phenylalkyl, phenylcarbonyl, phenacyl, phenoxycarbonyl, phenylaminocarbonyl, the number of the substituents is 1 or 2 or more. In the case of two or more, they may be the same or different. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
Ｒ３のフェニルアルキルのフェニル部分をアルコキシカルボニル、シアノ、ハロアルキル、ハロアルコキシ又はニトロが置換する場合、それらの置換基数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 When alkoxycarbonyl, cyano, haloalkyl, haloalkoxy or nitro is substituted on the phenyl moiety of the phenylalkyl of R 3, the number of substituents may be 1 or 2 or more, and in the case of 2 or more, they may be the same or in phase May be different. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
Ｒ３のフェニルアルキルをハロアルキル又はハロアルコキシが置換する場合の当該ハロアルキル又はハロアルコキシに含まれるハロゲンの置換数は、各々1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 When phenylalkyl of R 3 is substituted by haloalkyl or haloalkoxy, the number of halogens contained in the haloalkyl or haloalkoxy may be 1 or 2 or more, respectively, and in the case of 2 or more, they are the same or different May be. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
Ｒ６のアルキルの置換基であるハロゲン、シクロアルキル、アルコキシカルボニル又はアルコキシの置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 The number of substitution of halogen, cycloalkyl, alkoxycarbonyl or alkoxy which is a substituent of the alkyl of R 6 may be 1 or 2 or more, and in the case of 2 or more, they may be the same or different. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
Ｒ６のアルケニルの置換基であるハロゲンの置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。 The number of substituents of the halogen which is the alkenyl substituent of R 6 may be 1 or 2 or more, and in the case of 2 or more, they may be the same or different. In addition, the substitution position of each substituent may be any position.
本願明細書の化学式において、結合 In the chemical formulas herein, the bond
は、Ｅ体、Ｚ体、syn形、anti形またはそれらの混合物であることを示す。
上記式（I）で表されるベンゾイルピラゾール系化合物の塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩；ジメチルアンモニウム塩、トリエチルアンモニウム塩のようなアンモニウム塩；塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩；酢酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩などが挙げられる。
Indicates E form, Z form, syn form, anti form or a mixture thereof.
The salt of the benzoylpyrazole compound represented by the above formula (I) includes any agriculturally acceptable salt, for example, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt; magnesium salt Alkaline earth metal salts such as calcium salts; ammonium salts such as dimethylammonium salts and triethylammonium salts; inorganic acid salts such as hydrochlorides, perchlorates, sulfates and nitrates; acetates and methanesulfonic acid Examples thereof include organic acid salts such as salts.
上記式（I）で表されるベンゾイルピラゾール系化合物には、幾何異性体、光学異性体、又は互変異性体が存在する場合がある。
又、異性体の種類によっては、前記式（I）とは異なる化学構造となる場合があるが、当業者であればそれらが異性体の関係にあることが十分認識できる為、本発明の範囲内であることは明らかである。
The benzoylpyrazole compound represented by the above formula (I) may have a geometric isomer, an optical isomer, or a tautomer.
In addition, depending on the type of isomer, the chemical structure may be different from that of the formula (I). However, since those skilled in the art can sufficiently recognize that they are related to isomers, the scope of the present invention. It is clear that it is within.
上記式（I）で表されるベンゾイルピラゾール系化合物には、オキシム部分の二重結合に起因するシン−アンチ幾何異性体が存在する。本発明においては、これら各異性体及びこれらの異性体の混合物を全て包含する。このことは、式（I）において、オキシム部分における窒素原子と酸素原子の間に示された波線によって表される。その他の式においても同様である。 The benzoylpyrazole compound represented by the above formula (I) has a syn-anti geometric isomer due to a double bond of the oxime moiety. In the present invention, each of these isomers and a mixture of these isomers are all included. This is represented by the wavy line shown between the nitrogen and oxygen atoms in the oxime moiety in formula (I). The same applies to other equations.
上記式（I）で表されるベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩（以下、本発明化合物と略す）は、以下の反応［Ａ］から［ＡＸ］及び通常の塩の製造方法に従って製造することができる。 The benzoylpyrazole compound represented by the above formula (I) or a salt thereof (hereinafter abbreviated as the compound of the present invention) can be produced according to the following reaction [A] to [AX] and ordinary salt production methods. .
上記式（Ｉ）で表される本発明化合物のうち、Ｒ３がフェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいベンジルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルスルホニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルコキシ又はニトロで置換されてもよいフェニルアルキル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェナシル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェノキシカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルアミノカルボニル、ピリジル部分がハロゲンで置換されてよいピリジルアルキル、アルキルアミノカルボニル、（アルキルチオ）カルボニル、アルコキシチオカルボニル、アルキルスルホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシカルボニルメチル、カルボキシメチル、アルキルカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、（フェニルチオ）カルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノスルホニル、1,3-チアゾール-4-イルアルキル、アルキルチオアルキル、シクロアルキルカルボニル、2-フリルカルボニル又はハロアルキルで置換されてよいピリジルである化合物（I-a）は、下記反応[Ａ]にて製造することができる。 Among the compounds of the present invention represented by the above formula (I), R 3 is benzylcarbonyl in which the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen, and phenyl in which the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen Sulfonyl, phenyl moiety phenylalkyl optionally substituted with alkyl, alkoxy, alkoxycarbonyl, cyano, halogen, haloalkyl, haloalkoxy or nitro, phenylcarbonyl phenyl moiety optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen Phenacyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety substituted with alkyl, alkoxy or halogen Phenylaminocarbonyl, pyridylalkyl in which the pyridyl moiety may be substituted with halogen, alkylaminocarbonyl, (alkylthio) carbonyl, alkoxythiocarbonyl, alkylsulfonyl, alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxycarbonylmethyl, carboxymethyl, alkyl Pyridyl optionally substituted by carbonyl, alkoxyalkylcarbonyl, (phenylthio) carbonyl, alkoxycarbonyl, alkylaminosulfonyl, 1,3-thiazol-4-ylalkyl, alkylthioalkyl, cycloalkylcarbonyl, 2-furylcarbonyl or haloalkyl Compound (Ia) can be produced by the following reaction [A].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りであり、Ｒ３−ａはフェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいベンジルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルスルホニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルコキシ又はニトロで置換されてもよいフェニルアルキル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェナシル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェノキシカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルアミノカルボニル、ピリジル部分がハロゲンで置換されてよいピリジルアルキル、アルキルアミノカルボニル、（アルキルチオ）カルボニル、アルコキシチオカルボニル、アルキルスルホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシカルボニルメチル、カルボキシメチル、アルキルカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、（フェニルチオ）カルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノスルホニル、1,3-チアゾール-4-イルアルキル、アルキルチオアルキル、シクロアルキルカルボニル、2-フリルカルボニル又はハロアルキルで置換されてよいピリジルであり、Ｚはハロゲンなどの脱離基である。）
即ち、上記式（I-a）で表される本発明化合物は、Ｒ３が水素原子である式（I-b）で表される本発明化合物と、上記式（II）で表される化合物とを反応させる方法にて製造することができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as described above, and R 3-a is a benzylcarbonyl group in which the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen, and a phenyl moiety. Phenylsulfonyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety phenylalkyl optionally substituted with alkyl, alkoxy, alkoxycarbonyl, cyano, halogen, haloalkyl, haloalkoxy or nitro, phenyl moiety alkyl, alkoxy or Phenylcarbonyl optionally substituted with halogen, phenyl moiety alkyl, alkoxy or phenacyl optionally substituted with halogen, phenyl moiety optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety alkyl, alkyl Phenylaminocarbonyl optionally substituted with xoxy or halogen, pyridylalkyl, alkylaminocarbonyl, (alkylthio) carbonyl, alkoxythiocarbonyl, alkylsulfonyl, alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxycarbonylmethyl where the pyridyl moiety may be substituted with halogen Substituted with carboxymethyl, alkylcarbonyl, alkoxyalkylcarbonyl, (phenylthio) carbonyl, alkoxycarbonyl, alkylaminosulfonyl, 1,3-thiazol-4-ylalkyl, alkylthioalkyl, cycloalkylcarbonyl, 2-furylcarbonyl or haloalkyl Which may be pyridyl, and Z is a leaving group such as halogen.)
That is, the compound of the present invention represented by the above formula (Ia) is reacted with the compound of the present invention represented by the formula (Ib) in which R 3 is a hydrogen atom and the compound represented by the above formula (II). It can be manufactured by a method.
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；水などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。 The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; diethyl ether, dioxane, Ethers such as tetrahydrofuran; water and the like. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応は、必要に応じて、塩基の存在下で行なうことができる。塩基は無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；水酸化カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；ピリジンなどが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。 The above reaction can be performed in the presence of a base, if necessary. The base may be either an inorganic base or an organic base. Examples of the inorganic base include alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate. An alkali metal hydrogen carbonate such as sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; an alkaline earth metal hydroxide such as calcium hydroxide; an alkaline earth metal carbonate such as calcium carbonate; Examples of the organic base include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine; pyridine and the like. As the base, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応は、第4級アンモニウム塩などの相関移動触媒の存在下、水と上記溶媒中で水に不溶の溶媒との二相系で反応させることもできる。
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 200 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
The above reaction can also be carried out in a two-phase system of water and a solvent insoluble in water in the above solvent in the presence of a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt.
また、上記式（I-a）で表される本発明化合物は、下記反応［Ｂ］に従って製造することもできる。 In addition, the compound of the present invention represented by the above formula (I-a) can also be produced according to the following reaction [B].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３−ａ、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りである。）
即ち、上記式（I-a）で表される本発明化合物は、上記式（III）で表される化合物と上記式（IV）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3-a , R 4 , R 5 and R 6 are as described above.)
That is, the compound of the present invention represented by the above formula (Ia) can be produced by a method of reacting the compound represented by the above formula (III) with the compound represented by the above formula (IV).
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。 The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, alcohols such as methanol, ethanol and propanol; water; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and trichloroethane. Ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; acetonitrile, N, N-dimethylformamide And aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, sulfolane and dimethoxyethane; and aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and heptane. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応で用いる式（III）で表される化合物は、同化合物の塩酸塩であるH2N-O-R6・HClと酢酸ナトリウムなどの塩基とを反応させることによって得ることができる。この塩基としては、無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；4-ジメチルアミノピリジン、ピリジンのようなピリジン系化合物などが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
The compound represented by the formula (III) used in the above reaction can be obtained by reacting H 2 NOR 6 · HCl which is a hydrochloride of the compound with a base such as sodium acetate. This base may be either an inorganic base or an organic base. Examples of the inorganic base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate. Salts; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate. Examples of the organic base include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine; pyridine compounds such as 4-dimethylaminopyridine and pyridine. As the base, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（I-b）で表される本発明化合物は、次に示される下記反応[Ｃ]に従って製造することができる。 The compound of the present invention represented by the above formula (I-b) can be produced according to the following reaction [C] shown below.
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りであり、Ｌ１は保護基である。）
即ち、式（I-b）で表される化合物は、式（V）で表される化合物から保護基Ｌ１を脱離させる反応させる方法により製造することができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as described above, and L 1 is a protecting group.)
That is, the compound represented by the formula (Ib) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (V) by removing the protecting group L 1 .
上記反応において、保護基Ｌ１は、有機化学分野において、通常用いられるものが選択され、例えば、アルキル、ベンジル、アセチルなどが挙げられる。
上記反応は、通常有機合成化学において用いられる方法で行なうことができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて、塩基又は酸の存在下、行なうことができる。塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；アンモニア水などが挙げられる。酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸のような無機酸；酢酸、プロピオン酸のような有機酸などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
In the above reaction, the protecting group L 1 is selected from those commonly used in the field of organic chemistry, and examples thereof include alkyl, benzyl, acetyl and the like.
The above reaction can be carried out by a method usually used in organic synthetic chemistry.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol and propanol; water and the like. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The above reaction can be performed in the presence of a base or an acid, if necessary. Examples of the base include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; ammonia water. Examples of the acid include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid; organic acids such as acetic acid and propionic acid.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
また、上記式（I-b）で表される化合物は、下記反応[Ｄ]に従って製造することができる。 Moreover, the compound represented by the said formula (I-b) can be manufactured according to following reaction [D].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りである。）
即ち、上記式（I-b）で表される化合物は、上記式（III）で表される化合物と上記式（VII）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この反応は、先に述べた反応［Ｂ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (Ib) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (III) and the compound represented by the formula (VII). This reaction can be carried out in the same manner as the reaction [B] described above.
又、上記式（I-b）で表される化合物は、下記反応［Ｅ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (I-b) can be produced according to the following reaction [E].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りである。）
即ち、上記式（I-b）で表される本発明化合物は、式（VI）で表される化合物を転位反応（Fries転位）させる反応を用いた方法により製造することができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as described above.)
That is, the compound of the present invention represented by the above formula (Ib) can be produced by a method using a reaction in which the compound represented by the formula (VI) is rearranged (Fries rearranged).
上記反応は、必要に応じ、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。 The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, and trichloroethane; benzene, toluene, xylene, and the like. Aromatic hydrocarbons; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; diethyl Examples include ethers such as ether, dioxane and tetrahydrofuran; ketones such as acetone, diethyl ketone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応は、必要に応じ、塩基の存在下で行なうことができる。塩基は無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；4-ジメチルアミノピリジン、ピリジンのようなピリジン系化合物などが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じ、シアノ化合物の存在下で行なうことができる。シアノ化合物としては、例えば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素、シアン化カリウムを保持したポリマーなどが挙げられる。シアノ化合物としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、クラウンエーテルなどの触媒の存在下で行なうことができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜100 ℃、好ましくは10 ℃〜40 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間、好ましくは1時間〜24時間で行なうことができる。
The above reaction can be performed in the presence of a base, if necessary. The base may be either an inorganic base or an organic base. Examples of the inorganic base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate. Salts; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate. Examples of the organic base include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine; pyridine compounds such as 4-dimethylaminopyridine and pyridine. As the base, one or more of these can be appropriately selected.
The above reaction can be performed in the presence of a cyano compound, if necessary. Examples of the cyano compound include sodium cyanide, potassium cyanide, acetone cyanohydrin, hydrogen cyanide, a polymer holding potassium cyanide, and the like. As the cyano compound, one or more of these can be appropriately selected.
The above reaction can be carried out in the presence of a catalyst such as crown ether.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 100 ° C, preferably from 10 ° C to 40 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours, preferably from 1 hour to 24 hours.
上記式（IV）で表される化合物は、下記反応［Ｆ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (IV) can be produced according to the following reaction [F].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３−a、Ｒ４、Ｒ５及び脱離基Ｚは前述の通りである。）
即ち、上記式（IV）で表される化合物は、上記式（II）で表される化合物と、上記式（VII）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3-a , R 4 , R 5 and the leaving group Z are as described above.)
That is, the compound represented by the above formula (IV) can be produced by a method of reacting the compound represented by the above formula (II) with the compound represented by the above formula (VII).
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。 The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; diethyl ether, dioxane, And ethers such as tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応は、必要に応じて、塩基の存在下で行なうことができる。塩基は無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；ピリジンなどが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応は、第4級アンモニウム塩などの相関移動触媒の存在下、水と上記溶媒中で水に不溶の溶媒との二相系で反応させることもできる。
The above reaction can be performed in the presence of a base, if necessary. The base may be either an inorganic base or an organic base. Examples of the inorganic base include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate and the like. It is done. Examples of the organic base include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine; pyridine and the like. As the base, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
The above reaction can also be carried out in a two-phase system of water and a solvent insoluble in water in the above solvent in the presence of a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt.
又、上記式（IV）で表される化合物は、下記反応［Ｇ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (IV) can be produced according to the following reaction [G].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３−a、Ｒ４及びＲ５は前述の通りであり、Ａはアルキル基であるか又は２つのＡがお互いに結合しアルキレン鎖を形成してもよい。）
即ち、上記式（IV）で表される化合物は、式（VIII）で表される化合物を酸の存在下加水分解反応させる方法により製造することができる。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3-a , R 4 and R 5 are as described above, and A is an alkyl group or two A's are bonded to each other to form an alkylene chain. Good.)
That is, the compound represented by the above formula (IV) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (VIII) is hydrolyzed in the presence of an acid.
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、ジメチルケトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。これらのうち、ケトン類は、反応を促進する役割を果たすので、好ましい。
上記反応に用いる酸としては、塩酸、希硫酸、希硝酸などの無機酸、酢酸、プロピオン酸などの有機酸などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, and dimethyl ketone, alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; water; methylene chloride, Halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloroethane and trichloroethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; aliphatics such as pentane, hexane and heptane And hydrocarbons. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected. Of these, ketones are preferred because they play a role in promoting the reaction.
Examples of the acid used in the above reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, dilute sulfuric acid, and dilute nitric acid, and organic acids such as acetic acid and propionic acid.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（V）で表される化合物は、下記反応［Ｈ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (V) can be produced according to the following reaction [H].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及び保護基Ｌ１は前述の通りである。）
即ち、上記式（V）で表される化合物は、上記式（III）で表される化合物と上記式（IX）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｂ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 and the protecting group L 1 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (V) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (III) with the compound represented by the formula (IX). This method can be performed in the same manner as the reaction [B] described above.
上記式（VI）で表される化合物は、下記反応［Ｉ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (VI) can be produced according to the following reaction [I].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りである。）
即ち、上記式（VI）で表される化合物は、式（X）で表される化合物と式（XI）で表される化合物とを溶媒の存在下、脱水反応させることにより製造することができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (VI) can be produced by dehydrating the compound represented by the formula (X) and the compound represented by the formula (XI) in the presence of a solvent. .
上記反応で用いる溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、脱水縮合剤の存在下で行なうことができる。脱水縮合剤としては、例えば、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常- 10 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
The solvent used in the above reaction may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; benzene, toluene, xylene, and the like. Aromatic hydrocarbons; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; diethyl And ethers such as ether, dioxane and tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The above reaction can be carried out in the presence of a dehydrating condensing agent. Examples of the dehydrating condensing agent include 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, dicyclohexylcarbodiimide and the like.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -10 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（VII）で表される化合物は、下記反応［Ｊ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (VII) can be produced according to the following reaction [J].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＡは前述の通りである。）
即ち、上記式（VII）で表される化合物は、式（XII）で表される化合物と、酸の存在下、加水分解反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｇ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and A are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (VII) can be produced by a method of subjecting the compound represented by the formula (XII) to a hydrolysis reaction in the presence of an acid. This method can be performed in the same manner as the reaction [G] described above.
上記式（VIII）で表される化合物は、下記反応［Ｋ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (VIII) can be produced according to the following reaction [K].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３−a、Ｒ４、Ｒ５、Ａ及び脱離基Ｚは前述の通りである。）
即ち、上記式（VIII）で表される化合物は、上記式（II）で表される化合物と式（XII）で表される化合物とを反応させる方法にて製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ａ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3-a , R 4 , R 5 , A and the leaving group Z are as described above.)
That is, the compound represented by the above formula (VIII) can be produced by a method of reacting the compound represented by the above formula (II) with the compound represented by the formula (XII). This method can be performed in the same manner as the reaction [A] described above.
上記式（IX）で表される化合物は、下記反応［Ｌ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (IX) can be produced according to the following reaction [L].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、脱離基Ｚ及び保護基Ｌ１は前述の通りである。）
即ち、上記式（IX）で表される化合物は、上記式（XIV）で表される化合物と式（VII）で表される化合物とを反応させる方法にて製造することができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , the leaving group Z and the protecting group L 1 are as described above.)
That is, the compound represented by the above formula (IX) can be produced by a method of reacting the compound represented by the above formula (XIV) with the compound represented by the formula (VII).
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。 The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; diethyl ether, dioxane, And ethers such as tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応は、必要に応じて、酸又は塩基の存在下で行なうことができる。
酸としては、塩酸などの無機酸、p-トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。
塩基としては、無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；ピリジンなどが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応は、第4級アンモニウム塩などの相関移動触媒の存在下、水と上記溶媒中で水に不溶の溶媒との二相系で反応させることもできる。
The above reaction can be performed in the presence of an acid or a base, if necessary.
Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, and sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and methanesulfonic acid.
The base may be either an inorganic base or an organic base. Examples of the inorganic base include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate and the like. It is done. Examples of the organic base include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine; pyridine and the like. As the base, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
The above reaction can also be carried out in a two-phase system of water and a solvent insoluble in water in the above solvent in the presence of a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt.
上記式（IX）で表される化合物は、下記反応［Ｍ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (IX) can be produced according to the following reaction [M].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ａ及び保護基Ｌ１は前述の通りである。）
即ち、上記式（IX）で表される化合物は、式（XIII）で表される化合物を、酸の存在下、加水分解反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｇ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , A and the protecting group L 1 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (IX) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XIII) is subjected to a hydrolysis reaction in the presence of an acid. This method can be performed in the same manner as the reaction [G] described above.
上記式（XIII）で表される化合物は、下記反応［Ｎ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XIII) can be produced according to the following reaction [N].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ａ、保護基Ｌ１及び脱離基Ｚは前述の通りである。）
即ち、上記式（XIII）で表される化合物は、上記式（XIV）で表される化合物と上記式（XII）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｌ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , A, protecting group L 1 and leaving group Z are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XIII) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XIV) with the compound represented by the formula (XII). This method can be performed in the same manner as the reaction [L] described above.
上記式（XI）で表される化合物は、下記反応［Ｏ−１］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XI) can be produced according to the following reaction [O-1].
（式中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前述の通りであり、Ｌ２はメトキシメチル、メチルチオメチル、フェナシル、アルキル、フェニル、ベンジル、トリフェニルメチル、ジフェニルメチル、p-ニトロベンジル、p-メトキシベンジル、トリメチルシリル、t-ブチルジメチルシリルなどの保護基である。）
即ち、上記式（XI）で表される化合物は、上記式（XV）で表される化合物から保護基Ｌ２を脱離させる方法により、製造することができる。この方法は先に述べた反応［Ｃ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4 , R 5 and R 6 are as described above, and L 2 is methoxymethyl, methylthiomethyl, phenacyl, alkyl, phenyl, benzyl, triphenylmethyl, diphenylmethyl, p-nitrobenzyl, p- Protecting groups such as methoxybenzyl, trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, etc.)
That is, the compound represented by the above formula (XI) can be produced by a method of removing the protecting group L 2 from the compound represented by the above formula (XV). This method can be carried out in the same manner as the reaction [C] described above.
また、上記式（XV）で表される化合物のうち、Ｒ４がビニル基である化合物は、下記反応［Ｏ−２］に従って製造することができる。 Moreover, the compound whose R < 4 > is a vinyl group among the compounds represented by the said formula (XV) can be manufactured according to following reaction [O-2].
（式中、Ｒ４−ｅはビニル基であり、Ｒ５、Ｒ６及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（ＸＶ−ｆ）で表される化合物は、式（ＸＶ−e）である化合物とトリブチルビニルスズを溶媒及び触媒の存在下、不活性気体中で反応させることができる。
上記反応において使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリル、ヘキサメチルホスホルアミド(HMPA)、N-メチル-２-ピロリドン, N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類等が挙げられる。
上記反応において使用する触媒としては、ニ塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)のようなパラジウム触媒が挙げられる。
上記反応における反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃であり、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-e is a vinyl group, and R 5 , R 6 and the protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XV-f) can be reacted with the compound represented by the formula (XV-e) and tributylvinyltin in an inert gas in the presence of a solvent and a catalyst.
Solvents used in the above reaction include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; acetonitrile, hexamethylphosphoramide (HMPA), N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N , N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, aprotic polar solvents such as 1,2-dimethoxyethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran.
Examples of the catalyst used in the above reaction include a palladium catalyst such as bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride.
The reaction temperature in the above reaction is usually from 0 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XII）で表される化合物は、下記反応［Ｐ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XII) can be produced according to the following reaction [P].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＡは前述の通りである。）
即ち、上記式（XII）で表される化合物は、式（XVI）で表される化合物を転位反応（Fries転位）させる反応を用いた方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｅ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and A are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XII) can be produced by a method using a reaction in which the compound represented by the formula (XVI) undergoes a rearrangement reaction (Fries rearrangement). This method can be performed in the same manner as the reaction [E] described above.
上記式（XV）で表される化合物は、下記反応［Ｑ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XV) can be produced according to the following reaction [Q].
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、上記式（XV）で表される化合物は、上記式（III）で表される化合物と上記式（XIX）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｂ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4 , R 5 , R 6 and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XV) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (III) is reacted with the compound represented by the formula (XIX). This method can be performed in the same manner as the reaction [B] described above.
上記式（XIX）で表される化合物のうち、置換基Ｒ５がアルキルである式（XIX-a）で表される化合物は、次に示される下記反応[Ｒ−１]に従って製造することができる。 Of the compounds represented by the formula (XIX), the compound represented by the formula (XIX-a) in which the substituent R 5 is alkyl can be produced according to the following reaction [R-1] shown below. it can.
（式中、Ｒ４及び保護基Ｌ２は前述の通りであり、Ｒ５-ａ１はアルキルであり、Ｒ５-ａ２はＲ５-ａ１より炭素数が１つ少ないアルキルである。）
即ち、上記式（XIX-a）で表される化合物は、式（XX）で表される化合物と式（XXI）で表される化合物を反応させることにより製造することができる。
(In the formula, R 4 and the protecting group L 2 are as described above, R 5-a1 is alkyl, and R 5-a2 is alkyl having one fewer carbon atoms than R 5-a1 .)
That is, the compound represented by the formula (XIX-a) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XX) with the compound represented by the formula (XXI).
上記反応は、溶媒及び遷移金属触媒の存在下に行なわれる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応に使用する遷移金属触媒としては、例えば、二塩化トリフェニルホスフィンパラジウムPdCl2(P(Ph)3)2などを使用することができる。
上記反応は、必要に応じて窒素気流下において行なわれる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応［Ｒ−１］の反応に記載された式（XXI）で表される化合物のうちＲ４がアルキル又はハロゲンである化合物は、特開平11−236376号公報第17頁、又は特開平11-240872号公報第9頁などに記載された公知の化合物であり、当該公報に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。
The above reaction is carried out in the presence of a solvent and a transition metal catalyst. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; diethyl ether, dioxane, And ethers such as tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
As the transition metal catalyst used in the above reaction, for example, triphenylphosphine palladium dichloride PdCl 2 (P (Ph) 3 ) 2 or the like can be used.
The above reaction is performed under a nitrogen stream as necessary.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 200 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
Of the compounds represented by the formula (XXI) described in the reaction [R-1] above, compounds wherein R 4 is alkyl or halogen are disclosed in JP-A-11-236376, page 17, or JP-A-11 -240872 is a known compound described in page 9 of the publication, and can be produced by the method described in the publication or a method similar thereto.
又、上記式（XIX）で表される化合物のうち、Ｒ５が水素原子である式（XVIII）で表される化合物は、下記反応［Ｒ−２］に従って製造することができる。 Of the compounds represented by the formula (XIX), the compound represented by the formula (XVIII) in which R 5 is a hydrogen atom can be produced according to the following reaction [R-2].
（式中、Ｒ４及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、上記式（XVIII）で表される化合物は、式（XXI）で表される化合物を、パラジウム触媒の存在下で一酸化炭素と水素供与体とを反応させる方法により製造することができる。
(Wherein R 4 and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XVIII) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XXI) with carbon monoxide and a hydrogen donor in the presence of a palladium catalyst.
上記反応は、溶媒の存在下に行なわれる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応において、水素供与体としては、水素化トリアルキルスズ、水素ガスなどが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜300 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
The above reaction is carried out in the presence of a solvent. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. And the like; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile and dimethoxyethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
In the above reaction, examples of the hydrogen donor include trialkyltin hydride and hydrogen gas.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 300 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XIX）で表される化合物は、下記反応［Ｓ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XIX) can be produced according to the following reaction [S].
（式中、Ａ、保護基Ｌ２、Ｒ４及びＲ５は前述の通りである。）
即ち、上記式（XIX）で表される化合物は、式（XXII）で表される化合物と、酸の存在下加水分解反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｇ］と同様に行なうことができる。
(Wherein A, protecting groups L 2 , R 4 and R 5 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XIX) can be produced by a method of subjecting the compound represented by the formula (XXII) to a hydrolysis reaction in the presence of an acid. This method can be performed in the same manner as the reaction [G] described above.
上記式（XXII）で表される化合物は、下記反応［Ｔ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXII) can be produced according to the following reaction [T].
（式中、Ａ、保護基Ｌ２、Ｒ４及びＲ５は前述の通りである。）
即ち、上記式（XXII）で表される化合物は、酸の存在下、式（XXIII）で表される化合物と、一価アルコール（Ａ-ＯＨ）或いは二価アルコール（ＨＯ-Ａ-ＯＨ）とを反応させる方法により製造することができる。
(Wherein A, protecting groups L 2 , R 4 and R 5 are as described above.)
That is, the compound represented by the above formula (XXII) includes a compound represented by the formula (XXIII), a monohydric alcohol (A-OH) or a dihydric alcohol (HO-A-OH) in the presence of an acid. It can manufacture by the method of reacting.
上記反応において、酸としては、塩酸や硫酸のような無機酸；酢酸、プロピオン酸のような有機酸などが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
In the above reaction, examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid; organic acids such as acetic acid and propionic acid.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, alcohols such as methanol, ethanol and propanol; water; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and trichloroethane. Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; aprotic molecules such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane and dimethoxyethane Polar solvents; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran are listed. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
また、上記式（XIX）で表される化合物は、下記反応［Ｕ］に従って製造することもできる。 Moreover, the compound represented by the said Formula (XIX) can also be manufactured according to following reaction [U].
（式中、Ｒ４、Ｒ５及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、上記式（XIX）で表される化合物は、式（XXIII）で表される化合物を、酸の存在下、加水分解反応させる方法により製造することができる。この方法は先に述べた反応［Ｇ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4 , R 5 and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the above formula (XIX) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXIII) is hydrolyzed in the presence of an acid. This method can be performed in the same manner as the reaction [G] described above.
上記式（XVI）で表される化合物は、下記反応［Ｖ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XVI) can be produced according to the following reaction [V].
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＡは前述の通りである。）
即ち、上記式（XVI）で表される化合物は、式（X）で表される化合物と式（XVII）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｉ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and A are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XVI) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (X) and the compound represented by the formula (XVII). This method can be performed in the same manner as the reaction [I] described above.
上記式（XVII）で表される化合物は、下記反応［Ｗ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XVII) can be produced according to the following reaction [W].
（式中、Ａ、Ｒ４、Ｒ５及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XVII）で表される化合物は、式（XXII）で表される化合物から保護基Ｌ２を脱離させる反応により、製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｃ］と同様に行なうことができる。
(In the formula, A, R 4 , R 5 and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XVII) can be produced by a reaction for removing the protecting group L 2 from the compound represented by the formula (XXII). This method can be performed in the same manner as the reaction [C] described above.
上記式（XXIII）で表される化合物は、下記反応［Ｘ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXIII) can be produced according to the following reaction [X].
（式中、Ｒ４、Ｒ５及び保護基Ｌ２は前述の通りであり、Phはフェニル基であり、Ｘはハロゲンである。）
即ち、上記式（XXIII）で表される化合物は、式（XXVII）で表されるアルキルリチウム、フェニルリチウム或いはリチウムジイソプロピルアミド（LDA）、式（XXVIII）で表される化合物及び式（XXVI）で表される化合物を窒素気流下において反応させる方法により製造することができる。
上記反応において、アルキルリチウムとしては、n-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウムなどが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類、アセトニトリルなどが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-80 ℃〜+50 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(Wherein R 4 , R 5 and protecting group L 2 are as described above, Ph is a phenyl group, and X is a halogen.)
That is, the compound represented by the formula (XXIII) is an alkyllithium, phenyllithium or lithium diisopropylamide (LDA) represented by the formula (XXVII), a compound represented by the formula (XXVIII), and the formula (XXVI). It can manufacture by the method of making the compound represented react under nitrogen stream.
In the above reaction, examples of the alkyl lithium include n-butyl lithium, s-butyl lithium, t-butyl lithium and the like.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; ethers such as diethyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran; and acetonitrile. Can be mentioned. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -80 ° C to + 50 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記反応［Ｘ］に記載された式（XXVI）で表される化合物のうちＲ４がアルキル又はハロゲンである化合物の式（XXI）で表される化合物からの合成方法は特開平11−236376号公報第17頁、又は特開平11-240872号公報第9頁などに記載されている。これらの化合物は当該公報にて公知の化合物である。又、それらは当該公報に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。
Of the compounds represented by the formula (XXVI) described in the above reaction [X], a method for synthesizing a compound represented by the formula (XXI) of a compound wherein R 4 is alkyl or halogen is disclosed in JP-A-11-236376. It is described in Japanese Patent Publication No. 17 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-240872, page 9. These compounds are known compounds in the publication. Further, they can be produced by a method described in the publication or a method similar thereto.
上記式（XXVI）で表される化合物のうち、置換基Ｒ４がアルコキシである、式（XXVI-ａ）は、下記反応［Ｙ］に従って製造することができる。 Among the compounds represented by the above formula (XXVI), the formula (XXVI-a) in which the substituent R 4 is alkoxy can be produced according to the following reaction [Y].
（式中、Ｒ４−ａはアルコキシであり、保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-a）で表される化合物は、式（XXIX）で表される化合物と式（XXX-a1）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。又、式(XXIX)で表される化合物に代えて、2-ニトロプロパンとナトリウムメトキシド（NaOCH3）を使用して反応を行なうことができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-a is alkoxy, and the protective group L 2 is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-a) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXIX) and the compound represented by the formula (XXX-a1). Further, it is possible instead of the compound represented by the formula (XXIX), the reaction is carried out using 2-nitropropane and sodium methoxide (NaOCH 3).
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. And the like; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile and dimethoxyethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
又、式（XXVI-ａ）は、下記反応［Ｚ］に従って製造することができる。 Formula (XXVI-a) can be produced according to the following reaction [Z].
（式中、Ｒ４−ａ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-a）で表される化合物は、式（XXIX）で表される化合物と式（XXX-a2）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。
この方法は、先に述べた反応［Ｙ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4-a and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-a) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXIX) and the compound represented by the formula (XXX-a2).
This method can be performed in the same manner as the reaction [Y] described above.
上記式（XXX-a1）で表される化合物は、下記反応［ＡＢ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXX-a1) can be produced according to the following reaction [AB].
（式中、Ｒ４−ａ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXX-a1）で表される化合物は、式（XXXI-a）で表される化合物、N-ブロモスクシンイミド（NBS）及びラジカル反応開始剤（過酸化ジベンゾイル（BPO）、アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）など）を反応させる方法により製造することができる。又、ラジカル反応開始剤に代えて光を照射して反応させることもできる。
(Wherein R 4-a and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXX-a1) includes a compound represented by the formula (XXXI-a), N-bromosuccinimide (NBS) and a radical reaction initiator (dibenzoyl peroxide (BPO), azobisiso). Butyronitrile (AIBN), etc.) can be produced by a reaction method. Moreover, it can also be made to react by irradiating light instead of a radical reaction initiator.
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, and trichloroethane. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXX-a2）で表される化合物は、下記反応［ＡＣ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXX-a2) can be produced according to the following reaction [AC].
（式中、Ｒ４−ａ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXX-a2）で表される化合物は、式（XXXI-a）で表される化合物、N-クロロスクシンイミド（NCS）及びラジカル反応開始剤（過酸化ジベンゾイル（BPO）、アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）など）を反応させる方法により製造することができる。又、ラジカル反応開始剤に代えて光を照射して反応させることもできる。
上記方法における反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(Wherein R 4-a and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXX-a2) includes a compound represented by the formula (XXXI-a), N-chlorosuccinimide (NCS) and a radical reaction initiator (dibenzoyl peroxide (BPO), azobisiso). Butyronitrile (AIBN), etc.) can be produced by a reaction method. Moreover, it can also be made to react by irradiating light instead of a radical reaction initiator.
Reaction in the said method can be performed in a solvent as needed. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, and trichloroethane. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXI-a）で表される化合物は、下記反応［ＡＤ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-a) can be produced according to the following reaction [AD].
（式中、Ｒ４−ａ、保護基Ｌ２及び脱離基Ｚは前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-a）で表される化合物は、式（XXXII）で表される化合物と式（XXXIII）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［Ａ］と同様の方法で製造することができる。
(Wherein R 4-a , protecting group L 2 and leaving group Z are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-a) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXII) and the compound represented by the formula (XXXIII). This method can be produced by the same method as the above-mentioned reaction [A].
反応［ＡＤ］の他、式（XXXI-a）で表される化合物は、下記反応［ＡＥ］に従って製造することもできる。 In addition to the reaction [AD], the compound represented by the formula (XXXI-a) can also be produced according to the following reaction [AE].
（式中、Ｒ４−ａ、保護基Ｌ２及び脱離基Ｚは前述の通りである。）
即ち式（XXXI-a）で表される化合物は、式（XXXII）で表される化合物と式（XXXIII）で表される化合物とを、塩酸や硫酸などの無機酸と共に反応させる方法により製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
また、上記反応は、式（XXXII）で表される化合物の代わりに、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類を用いて、塩酸や硫酸などの無機酸と共に反応させることもできる。この場合、反応に使用するアルコールを溶媒として使用することもできる。
(Wherein R 4-a , protecting group L 2 and leaving group Z are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-a) is produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXII) and the compound represented by the formula (XXXIII) are reacted with an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid. be able to.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. And the like; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile and dimethoxyethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
Moreover, the said reaction can also be made to react with inorganic acids, such as hydrochloric acid and a sulfuric acid, using alcohols, such as methanol, ethanol, and propanol, instead of the compound represented by Formula (XXXII). In this case, alcohol used for reaction can also be used as a solvent.
また、式（XXXI-a）で表される化合物は、下記反応［ＡＥ−２］に従って製造することができる。 In addition, the compound represented by the formula (XXXI-a) can be produced according to the following reaction [AE-2].
（式中、Ｒ４−ａ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-a）で表される化合物は、溶媒の存在下、式（XXXI-a-2）で表される化合物と酸化剤とを反応させる方法により製造することができる。
上記反応における酸化剤としては、過酸化水素（H2O2）、過酢酸（CH3C(=O)OOH）、m-クロロ過安息香酸、酸化オスミウム、酸化ルテニウム、硝酸、ペルオキソ硫酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、四酸化二窒素、過マンガン酸カリウムやメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応における溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；酢酸やプロピオン酸のような有機酸類；アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；などが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、触媒を用いて行なうことができる。触媒としてタングステン酸ナトリウム(Na2WO4.2H2O)などを使用できる。
(Wherein R 4-a and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-a) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXI-a-2) with an oxidizing agent in the presence of a solvent.
As the oxidizing agent in the above reaction, hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), peracetic acid (CH 3 C (= O) OOH), m-chloroperbenzoic acid, osmium oxide, ruthenium oxide, nitric acid, potassium peroxosulfate, Examples include sodium hypochlorite, dinitrogen tetroxide, potassium permanganate, and sodium metaperiodate.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
Examples of the solvent in the above reaction include halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate. Esters, alcohols such as methanol, ethanol and propanol; organic acids such as acetic acid and propionic acid; acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1, And aprotic polar solvents such as 2-dimethoxyethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran;
The said reaction can be performed using a catalyst as needed. And sodium tungstate (Na 2 WO 4 .2H 2 O ) can be used as a catalyst.
上記式（XXXI-a）で表される化合物は、下記反応［ＡＥ−３］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-a) can be produced according to the following reaction [AE-3].
（式中、Ｒ４−ａ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-a-2）で表される化合物は、溶媒の存在下、式（XXXI-a-4）で表される化合物とメチルメルカプタン塩とを反応させることにより製造することができ、又、式（XXXI-a-3）で表される化合物が得られた場合は、さらにＬ２−ＯＨ及び硫酸と反応させることにより、製造することができる。
上記反応に使用する溶媒としては、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、ジメチルケトンなどのケトン類；アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常-20 ℃〜+200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
なお、上記反応はヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロミドなどの相間移動触媒を用いて反応させることもできる。
上記反応で用いるメチルメルカプタン塩は、メチルメルカプタンと水素化ナトリウムや水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；水素化カルシウムのようなアルカリ土類金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類などの塩基を反応させ、対応するメチルメルカプタン塩を反応させることができる。
上記反応［ＡＥ−３］に記載された式（XXXI-a-4）で表される化合物の合成方法は、国際公開公報 WO 97/4116の24頁などに記載されている。これらの化合物は当該公報にて公知の化合物である。又、それらは当該公報に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。
(Wherein R 4-a and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-a-2) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XXXI-a-4) with a methyl mercaptan salt in the presence of a solvent. Moreover, when the compound represented by the formula (XXXI-a-3) is obtained, it can be produced by further reacting with L 2 —OH and sulfuric acid.
Examples of the solvent used in the above reaction include ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, and dimethyl ketone; acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2 Aprotic polar solvents such as dimethoxyethane; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; water; alcohols such as methanol and ethanol; pentane, hexane, Aliphatic hydrocarbons such as heptane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -20 ° C to + 200 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
In addition, the said reaction can also be made to react using phase transfer catalysts, such as hexadecyl tributyl phosphonium bromide.
The methyl mercaptan salt used in the above reaction is methyl mercaptan and an alkali metal hydride such as sodium hydride or potassium hydride; an alkaline earth metal hydride such as calcium hydride; such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Alkali metal hydroxides: bases such as tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine can be reacted and the corresponding methyl mercaptan salt can be reacted.
A method for synthesizing the compound represented by the formula (XXXI-a-4) described in the above reaction [AE-3] is described in International Publication No. WO 97/4116, page 24 and the like. These compounds are known compounds in the publication. Further, they can be produced by a method described in the publication or a method similar thereto.
上記式（XXXIII）で表される化合物は、下記反応［ＡＦ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXIII) can be produced according to the following reaction [AF].
（式中、Ｒ４−ａは前述の通りである。）
即ち、式（XXXIII）で表される化合物は、式（XXXIV）で表される化合物とアルキルリチウムと二酸化炭素とを反応させる方法により製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-80 ℃〜+50 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-a is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXIII) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXIV), alkyllithium and carbon dioxide.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include ethers such as diethyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -80 ° C to + 50 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記反応［ＡＦ］の反応に記載された式（XXXIV）で表される化合物は、Synthesis, 1982, (6), 475-8などに記載された公知の化合物であり、当該公報に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。 The compound represented by the formula (XXXIV) described in the reaction of the above reaction [AF] is a known compound described in Synthesis, 1982, (6), 475-8, etc., and described in the publication. It can be produced by a method or a method similar thereto.
又、上記式（XXVI）で表される化合物のうち、Ｒ４がハロアルキルである式（XXVI-b）で表される化合物は、下記反応［ＡＧ−１］に従って製造することができる。 Of the compounds represented by the formula (XXVI), the compound represented by the formula (XXVI-b) in which R 4 is haloalkyl can be produced according to the following reaction [AG-1].
（式中、置換基Ｒ４−ｂはハロアルキルであり、保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-b）で表される化合物は、式（XXIX）で表される化合物と式（XXX-b1）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｙ］と同様に行なうことができる。
(In the formula, the substituent R 4-b is haloalkyl, and the protecting group L 2 is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-b) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXIX) with the compound represented by the formula (XXX-b1). This method can be performed in the same manner as the reaction [Y] described above.
反応［ＡＧ−１］の他、式（XXVI-b）は、下記反応［ＡＧ−２］に従って製造することができる。 In addition to the reaction [AG-1], the formula (XXVI-b) can be produced according to the following reaction [AG-2].
（式中、置換基Ｒ４−ｂ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-b）で表される化合物は、式（XXIX）で表される化合物と式（XXX-b2）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｙ］と同様に行なうことができる。
(In the formula, substituent R 4-b and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-b) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXIX) and the compound represented by the formula (XXX-b2) are reacted. This method can be performed in the same manner as the reaction [Y] described above.
上記式（XXX-b1）で表される化合物は、下記反応［ＡＨ−１］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXX-b1) can be produced according to the following reaction [AH-1].
（式中、Ｒ４−ｂ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXX-b1）で表される化合物は、式（XXXI-b）で表される化合物、N-ブロモスクシンイミド（NBS）及びラジカル反応開始剤（過酸化ジベンゾイル（BPO）、アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）など）を反応させる方法により製造することができる。又、ラジカル反応開始剤に代えて光を照射して反応させることもできる。
この方法は、前述の反応［ＡＢ］と同様の方法で製造することができる。
(Wherein R 4-b and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXX-b1) includes a compound represented by the formula (XXXI-b), N-bromosuccinimide (NBS) and a radical reaction initiator (dibenzoyl peroxide (BPO), azobisiso). Butyronitrile (AIBN), etc.) can be produced by a reaction method. Moreover, it can also be made to react by irradiating light instead of a radical reaction initiator.
This method can be produced by the same method as the above-mentioned reaction [AB].
上記式（XXX-b2）で表される化合物は、下記反応［ＡＨ−２］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXX-b2) can be produced according to the following reaction [AH-2].
（式中、Ｒ４−ｂ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXX-b2）で表される化合物は、式（XXXI-b）で表される化合物、N-クロロスクシンイミド（NCS）及びラジカル反応開始剤（過酸化ジベンゾイル（BPO）、アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）など）を反応させる方法により製造することができる。又、ラジカル反応開始剤に代えて光を照射して反応させることもできる。
この方法は、前述の反応［ＡＣ］と同様の方法で製造することができる。
(Wherein R 4-b and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXX-b2) includes a compound represented by the formula (XXXI-b), N-chlorosuccinimide (NCS) and a radical reaction initiator (dibenzoyl peroxide (BPO), azobisiso). Butyronitrile (AIBN), etc.) can be produced by a reaction method. Moreover, it can also be made to react by irradiating light instead of a radical reaction initiator.
This method can be produced by the same method as the above-mentioned reaction [AC].
上記式（XXXI-b）で表される化合物は、下記反応［ＡＩ−１］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-b) can be produced according to the following reaction [AI-1].
（式中、Ｒ４−ｂ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-b）で表される化合物は、式（XXXV）で表される化合物と、酸化剤とを反応させる方法により製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；水；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；酢酸などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
(Wherein R 4-b and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-b) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXV) with an oxidizing agent.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, alcohols such as methanol and ethanol; water; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and trichloroethane; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; acetic acid and the like. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
上記反応における酸化剤としては、過酸化水素（H2O2）、過酢酸（CH3C(=O)OOH）、m-クロロ過安息香酸などが挙げられる。又、過マンガン酸カリウムやメタ過ヨウ素酸ナトリウムを使用することもできる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
Examples of the oxidizing agent in the above reaction include hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), peracetic acid (CH 3 C (═O) OOH), m-chloroperbenzoic acid, and the like. Moreover, potassium permanganate and sodium metaperiodate can also be used.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
また、式（XXXI-b）で表される化合物は、下記反応［ＡＩ−２］に従って製造することができる。 In addition, the compound represented by the formula (XXXI-b) can be produced according to the following reaction [AI-2].
（式中、Ｒ４−ｂ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-b）で表される化合物は、触媒の存在下、式（XXXI-b-2）で表される化合物、アルコール（Ｌ２−ＯＨ）及び一酸化炭素を反応させることにより製造することができる。
(Wherein R 4-b and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-b) is reacted with the compound represented by the formula (XXXI-b-2), alcohol (L 2 -OH) and carbon monoxide in the presence of a catalyst. Can be manufactured.
触媒としては、ニ塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム、1,1'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン（DPPF）のようなものが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒を用いることができる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；アセトン、エチルメチルケトン、ジメチルケトンなどのケトン類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；水などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常50〜250℃であり、反応時間は通常１〜48時間で行なうことができる。
また、上記反応は、塩基の存在下に行なうことができる。塩基としては、酢酸ナトリウムやトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩などが挙げられる。
Catalysts such as bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium acetate, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene (DPPF) Is mentioned.
In the above reaction, a solvent can be used as necessary. Solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane, etc. Examples include aprotic polar solvents; ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, and dimethyl ketone; ethers such as diethyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran; and water.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 50 to 250 ° C., and the reaction time can usually be from 1 to 48 hours.
The above reaction can be carried out in the presence of a base. Bases include tertiary amines such as sodium acetate, triethylamine and diisopropylethylamine; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate; sodium bicarbonate and carbonate Examples thereof include alkali metal hydrogen carbonates such as potassium hydrogen.
上記式（XXXI-b-2）で表される化合物は、下記反応［ＡＩ−３］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-b-2) can be produced according to the following reaction [AI-3].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-b-2）で表される化合物は、溶媒の存在下、式（XXXI-b-3）で表される化合物と酸化剤とを溶媒の存在化に反応させる方法により製造することができる。
上記反応における酸化剤としては、過酸化水素（H2O2）、過酢酸（CH3C(=O)OOH）、m-クロロ過安息香酸、酸化オスミウム、酸化ルテニウム、硝酸、ペルオキソ硫酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、四酸化二窒素、過マンガン酸カリウムやメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどが挙げられる。
上記反応で使用する溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；水；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；酢酸やプロピオン酸のような有機酸類；アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、触媒としてタングステン酸ナトリウム(Na2WO4.2H2O)などを使用できる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-b-2) is produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXI-b-3) and the oxidizing agent are reacted in the presence of the solvent in the presence of the solvent. can do.
As the oxidizing agent in the above reaction, hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), peracetic acid (CH 3 C (= O) OOH), m-chloroperbenzoic acid, osmium oxide, ruthenium oxide, nitric acid, potassium peroxosulfate, Examples include sodium hypochlorite, dinitrogen tetroxide, potassium permanganate, and sodium metaperiodate.
Examples of the solvent used in the above reaction include halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; water; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; methyl acetate, ethyl acetate, Esters such as propyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol and propanol; organic acids such as acetic acid and propionic acid; acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, And aprotic polar solvents such as sulfolane and 1,2-dimethoxyethane.
The reaction is optionally, sodium tungstate (Na 2 WO 4 .2H 2 O ) can be used as a catalyst.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXI-b-3）で表される化合物は、下記反応［ＡＩ−４］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-b-3) can be produced according to the following reaction [AI-4].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-b-3）で表される化合物は、式（XXXI-b-4）で表される化合物と亜硝酸アルキル、ジメチルジスルフィドとを、触媒の存在下、反応させる方法により製造することができる。
上記反応において、亜硝酸アルキルとしては、例えば、亜硝酸t-ブチル（t-BuONO）等などが挙げられる。
上記反応において、触媒としては銅などが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；アセトン、エチルメチルケトン、ジメチルケトンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ジメチルジスルフィドなどが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-b-3) is produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXI-b-4) is reacted with alkyl nitrite and dimethyl disulfide in the presence of a catalyst. can do.
In the above reaction, examples of the alkyl nitrite include t-butyl nitrite (t-BuONO).
In the above reaction, examples of the catalyst include copper.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Ketones such as acetone, ethyl methyl ketone and dimethyl ketone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; dimethyl disulfide and the like. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
また上記反応は、酸性条件下、式（XXXI-b-4）で表される化合物を亜硝酸ナトリウムと反応させてジアゾニウム塩にし、ナトリウムメチルメルカプチドと反応させた後、式（XXXI-b-4）で表される化合物と反応させることができる。その場合、溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、水；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類等が挙げられる。その反応温度は、通常-20 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。 In the above reaction, the compound represented by the formula (XXXI-b-4) is reacted with sodium nitrite to form a diazonium salt under acidic conditions, and then reacted with sodium methyl mercaptide, and then the formula (XXXI-b- It can be reacted with the compound represented by 4). In this case, the solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction, and includes water; alcohols such as methanol, ethanol, and propanol. The reaction temperature is usually -20 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXI-b-4）で表される化合物は、下記反応［ＡＩ−５］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-b-4) can be produced according to the following reaction [AI-5].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-b-4）で表される化合物は、極性溶媒の存在下、式（XXXI-b-5）で表される化合物と、N-ブロモスクシイミド（NBS）或いは臭素とを反応させることにより製造することができる。
上記反応における溶媒としては、アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒を使用することができる。
上記反応においては、必要に応じて、塩基を使用することができる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類を使用することができる。
上記反応における反応温度は、通常0〜100℃であり、反応時間は通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応［ＡＩ−５］の反応に記載された式（XXXI-b-5）で表される化合物は、一般に試薬として入手可能であり、例えば、CASNo.[54396-44-0]などとして知られている化合物である。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-b-4) is composed of a compound represented by the formula (XXXI-b-5), N-bromosuccinimide (NBS) or bromine in the presence of a polar solvent. Can be made to react.
As the solvent in the above reaction, an aprotic polar solvent such as acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane can be used. .
In the above reaction, a base can be used as necessary. Bases include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate Alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like. As the organic base, for example, tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine can be used.
The reaction temperature in the above reaction is usually from 0 to 100 ° C., and the reaction time can usually be from 1 minute to 48 hours.
The compound represented by the formula (XXXI-b-5) described in the reaction of the above reaction [AI-5] is generally available as a reagent, for example, known as CAS No. [54396-44-0]. It is a compound that has been.
上記式（XXXV）で表される化合物は、下記反応［ＡＪ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXV) can be produced according to the following reaction [AJ].
（式中、Ｒ４−ｂ、脱離基Ｚ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXV）で表される化合物は、式（XXXII）で表される化合物と式（XXXVI）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［Ａ］若しくは［ＡＥ−１］と同様の方法で製造することができる。
(Wherein R 4-b , leaving group Z and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXV) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXII) and the compound represented by the formula (XXXVI) are reacted. This method can be produced by the same method as the above-mentioned reaction [A] or [AE-1].
上記式（XXXVI）で表される化合物は、下記反応［ＡＫ−１］又は［ＡＫ−２］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXVI) can be produced according to the following reaction [AK-1] or [AK-2].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXVI）で表される化合物は、式（XXXVII）で表される化合物とアルキルリチウムと二酸化炭素（CO2）とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［ＡＦ］と同様の方法で行なうことができる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXVI) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXVII), alkyllithium, and carbon dioxide (CO 2 ) are reacted. This method can be carried out in the same manner as the above-mentioned reaction [AF].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
式（XXXVI）で表される化合物は、式（XXXVII）で表される化合物と触媒及び一酸化炭素とをアルカリ水溶液中で反応させる方法により製造することができる。
上記反応におけるアルカリ水溶液としては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミンなどの水溶液が挙げられる。
上記反応における反応温度は、通常、0〜200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
触媒としては、ニ塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム、1,1'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン（DPPF）のようなものが挙げられる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
The compound represented by the formula (XXXVI) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXVII) is reacted with a catalyst and carbon monoxide in an alkaline aqueous solution.
Examples of the alkaline aqueous solution in the above reaction include aqueous solutions of sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium acetate, triethylamine and the like.
The reaction temperature in the above reaction is usually from 0 to 200 ° C., and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
Catalysts such as bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium acetate, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene (DPPF) Is mentioned.
上記式（XXXVII）で表される化合物は、下記反応［ＡＬ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXVII) can be produced according to the following reaction [AL].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXVII）で表される化合物は、極性溶媒の存在下、式（XXXVIII）で表される化合物とN-ブロモスクシンイミド（NBS）或いは臭素（Br2）とを反応させる方法により製造することができる。
この方法は、前述の反応［ＡＩ−５］と同様の方法で行なうことができる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXVII) is produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXVIII) with N-bromosuccinimide (NBS) or bromine (Br 2 ) in the presence of a polar solvent. be able to.
This method can be carried out in the same manner as in the above-mentioned reaction [AI-5].
上記式（XXXVIII）で表される化合物は、下記反応［ＡＭ−１］又は［ＡＭ−２］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXVIII) can be produced according to the following reaction [AM-1] or [AM-2].
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXVIII）で表される化合物は、式（XXXIX）で表される化合物とナトリウム メチルメルカプチド（NaSCH3）とを反応させる方法により製造することができる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXVIII) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXIX) with sodium methyl mercaptide (NaSCH 3 ).
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；水；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, alcohols such as methanol and ethanol; water; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and trichloroethane; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane and dimethoxyethane An ether such as diethyl ether, dioxane or tetrahydrofuran; As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
（式中、Ｒ４−ｂは前述の通りである。）
即ち、式（XXXVIII）で表される化合物は、式（XXXIX）で表される化合物、水硫化ナトリウム（NaSH）及びヨウ化メチル（CH3I）を反応させる方法により製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；水；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N'-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-b is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXVIII) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXIX), sodium hydrosulfide (NaSH) and methyl iodide (CH 3 I).
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, alcohols such as methanol and ethanol; water; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane and trichloroethane; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; aprotic polarities such as acetonitrile, N, N′-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane and dimethoxyethane Solvents; ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and the like. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記反応［ＡＭ−１］及び［ＡＭ−２］の反応に記載された式（XXXIX）で表される化合物は、特開昭59-172426公報第7頁などに記載された公知の化合物であり、当該公報に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。 The compound represented by the formula (XXXIX) described in the reactions [AM-1] and [AM-2] is a known compound described in JP-A-59-172426, page 7, etc. , And a method similar to that described in the publication.
又、上記式（XXVI）で表される化合物のうち、Ｒ４がニトロである、式（XXVI-c）で表される化合物は、下記反応［ＡＮ−１］に従って製造することができる。 In addition, among the compounds represented by the formula (XXVI), the compound represented by the formula (XXVI-c) in which R 4 is nitro can be produced according to the following reaction [AN-1].
（式中、Ｒ４−ｃはニトロであり、保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-c）で表される化合物は、式（XXIX）で表される化合物と式（XXX-c1）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｙ］と同様に行なうことができる。
(Wherein, R 4-c is nitro, protecting group L 2 are as defined above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-c) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXIX) and the compound represented by the formula (XXX-c1). This method can be performed in the same manner as the reaction [Y] described above.
反応［ＡＮ−１］の他、上記式（XXVI-c）は、下記反応［ＡＮ−２］に従って製造することができる。 In addition to the reaction [AN-1], the above formula (XXVI-c) can be produced according to the following reaction [AN-2].
（式中、Ｒ４−ｃ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-c）で表される化合物は、式（XXIX）で表される化合物と式（XXX-c2）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、先に述べた反応［Ｙ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4-c and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-c) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXIX) and the compound represented by the formula (XXX-c2) are reacted. This method can be performed in the same manner as the reaction [Y] described above.
上記式（XXX-c1）で表される化合物は、下記反応［ＡＯ−１］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXX-c1) can be produced according to the following reaction [AO-1].
（式中、Ｒ４−ｃ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXX-c1）で表される化合物は、式（XXXI-c）で表される化合物、N-ブロモスクシンイミド（NBS）及びラジカル反応開始剤（過酸化ジベンゾイル（BPO）、アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）など）を反応させる方法により製造することができる。又、ラジカル反応開始剤に代えて光を照射して反応させることもできる。
この方法は、先に述べた反応［ＡＢ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4-c and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXX-c1) includes a compound represented by the formula (XXXI-c), N-bromosuccinimide (NBS) and a radical reaction initiator (dibenzoyl peroxide (BPO), azobisiso). Butyronitrile (AIBN), etc.) can be produced by a reaction method. Moreover, it can also be made to react by irradiating light instead of a radical reaction initiator.
This method can be performed in the same manner as the reaction [AB] described above.
上記式（XXX-c2）で表される化合物は、下記反応［ＡＯ−２］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXX-c2) can be produced according to the following reaction [AO-2].
（式中、Ｒ４−ｃ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXX-c2）で表される化合物は、式（XXXI-c）で表される化合物、N-クロロスクシンイミド（NCS）及びラジカル反応開始剤（過酸化ジベンゾイル（BPO）、アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）など）を反応させる方法により製造することができる。又、ラジカル反応開始剤に代えて光を照射して反応させることもできる。この方法は、前述の反応［ＡＣ］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4-c and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXX-c2) includes a compound represented by the formula (XXXI-c), N-chlorosuccinimide (NCS) and a radical reaction initiator (dibenzoyl peroxide (BPO), azobisiso). Butyronitrile (AIBN), etc.) can be produced by a reaction method. Moreover, it can also be made to react by irradiating light instead of a radical reaction initiator. This method can be performed in the same manner as the above-mentioned reaction [AC].
上記式（XXXI-c）で表される化合物は、下記反応［ＡＰ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXI-c) can be produced according to the following reaction [AP].
（式中、Ｒ４−ｃ及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXI-c）で表される化合物は、式（XXXII）で表される化合物と式（XXXIII-c）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［Ａ］若しくは［ＡＥ−１］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4-c and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXI-c) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXII) with the compound represented by the formula (XXXIII-c). This method can be performed in the same manner as the above-mentioned reaction [A] or [AE-1].
上記式（XXXIII-c）で表される化合物は、下記反応［ＡＱ−１］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXIII-c) can be produced according to the following reaction [AQ-1].
（式中、Ｒ４−ｃは前述の通りである。）
即ち、式（XXXIII-c）で表される化合物は、酸又は塩基の存在下、式（XXXIII-c-2）で表される化合物を加水分解することにより製造することができる。
酸の存在下で反応させる場合には、希塩酸、希硫酸などと加熱することにより行なうことができる。また、ギ酸、酢酸等を反応溶媒として使用することもできる。
上記反応の反応温度は、通常50 ℃〜200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-c is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXIII-c) can be produced by hydrolyzing the compound represented by the formula (XXXIII-c-2) in the presence of an acid or a base.
When the reaction is carried out in the presence of an acid, it can be carried out by heating with dilute hydrochloric acid, dilute sulfuric acid or the like. Further, formic acid, acetic acid and the like can also be used as a reaction solvent.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 50 ° C to 200 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
塩基の存在下で反応させる場合には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウムなどを使用することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水；エチレングリコール、およびそのエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール類等が挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常50 ℃〜200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
When making it react in presence of a base, sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide, etc. can be used.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol and propanol; water; glycols such as ethylene glycol and ethers thereof, and ethylene glycol monomethyl ether.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 50 ° C to 200 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
また、上記式（XXXIII-c）で表される化合物は、下記反応［ＡＱ−２］に従って製造することができる。 Moreover, the compound represented by the said Formula (XXXIII-c) can be manufactured according to following reaction [AQ-2].
（式中、Ｒ４−ｃは前述の通りである。）
即ち、式（XXXIII-c）で表される化合物は、式（XXXIII-c-3）で表される化合物に酸化剤を反応させることにより製造することができる。
上記反応に用いる酸化剤としては、酸化クロム、過マンガン酸カリウム、酸素、酸化銀、有機過酸化物などが挙げられる。
上記反応では、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、酢酸やプロピオン酸のような有機酸類；アセトン、エチルメチルケトン、ジメチルケトンなどのケトン類；水；HMPAのような極性溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類等が挙げられる。
上記反応では、必要に応じて、塩基を使用することもできる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-c is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXIII-c) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XXXIII-c-3) with an oxidizing agent.
Examples of the oxidizing agent used in the above reaction include chromium oxide, potassium permanganate, oxygen, silver oxide, and organic peroxide.
The above reaction can be performed in a solvent, if necessary. The solvent may be any solvent as long as it is inert to the reaction. For example, organic acids such as acetic acid and propionic acid; ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, and dimethyl ketone; water; Polar solvent; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, etc. may be mentioned.
In the above reaction, a base can be used as necessary. Bases include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate An alkaline earth metal carbonate such as calcium carbonate; an alkali metal hydrogen carbonate such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXIII-c-3）で表される化合物は、下記反応［ＡＱ−３］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXIII-c-3) can be produced according to the following reaction [AQ-3].
（式中、Ｒ４−ｃは前述の通りである。）
即ち、式（XXXIII-c-3）で表される化合物は、式（XXXIII-c-2）で表される化合物を、亜リン酸水素二ナトリウム（Na2HPO3）の存在下、酢酸水溶液またはギ酸水溶液中、ラネーニッケルで還元することにより製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-c is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXIII-c-3) is obtained by converting the compound represented by the formula (XXXIII-c-2) into an acetic acid aqueous solution in the presence of disodium hydrogen phosphite (Na 2 HPO 3 ). Alternatively, it can be produced by reducing with Raney nickel in a formic acid aqueous solution.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
また、式（XXXIII-c-2）で表される化合物のエーテル溶液に、塩酸を飽和した塩化スズ（II）のエーテル溶液を加え反応させて得たイミドクロリドを加水分解して、式（XXXIII-c-3）で表される化合物を得ることにより製造することもできる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類を使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜100 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
In addition, an imide chloride obtained by reacting an ether solution of tin (II) chloride saturated with hydrochloric acid with an ether solution of a compound represented by the formula (XXXIII-c-2) is hydrolyzed to obtain a compound of the formula (XXXIII It can also be produced by obtaining a compound represented by -c-3).
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. As the solvent, for example, ethers such as diethyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran can be used.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXIII-c-2）の化合物は、下記反応［ＡＱ−４］に従って製造することができる。 The compound of the above formula (XXXIII-c-2) can be produced according to the following reaction [AQ-4].
（式中、Ｒ４−ｃは前述の通りである。）
即ち、式（XXXIII-c-2）で表される化合物は、式（XXXX）で表される化合物と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。
上記反応における酸化剤としては、過酸化水素（H2O2）、過酢酸（CH3C(=O)OOH）、m-クロロ過安息香酸、酸化オスミウム、酸化ルテニウム、硝酸、ペルオキソ硫酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、四酸化二窒素、過マンガン酸カリウムやメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどが挙げられる。
上記反応では、触媒を使用することができる。触媒としては、タングステン酸ナトリウム(Na2WO4・2H2O)などを使用できる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；水；酢酸やプロピオン酸のような有機酸類；アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜+150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-c is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXIII-c-2) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XXXX) with an oxidizing agent.
As the oxidizing agent in the above reaction, hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), peracetic acid (CH 3 C (= O) OOH), m-chloroperbenzoic acid, osmium oxide, ruthenium oxide, nitric acid, potassium peroxosulfate, Examples include sodium hypochlorite, dinitrogen tetroxide, potassium permanganate, and sodium metaperiodate.
In the above reaction, a catalyst can be used. As the catalyst, sodium tungstate (Na 2 WO 4 .2H 2 O) or the like can be used.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and propyl acetate. Alcohols such as methanol, ethanol and propanol; water; organic acids such as acetic acid and propionic acid; acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane Aprotic polar solvents such as: ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to + 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXX）で表される化合物は、下記反応［ＡＲ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXX) can be produced according to the following reaction [AR].
（式中、Ｒ４−ｃは前述の通りである。）
即ち、式（XXXX）で表される化合物は、式（XXXXI）で表される化合物とシアン化化合物とを反応させることにより製造することができる。
上記反応で使用するシアン化化合物としては、例えばシアン化銅、シアン化カリウム、シアン化ナトリウムなどが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、例えば、N-メチル-２-ピロリドン、アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；エチレングリコール、およびそのエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール類;ピリジンやキノリンなどの芳香族アミン;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類などが挙げられる。
上記反応における反応温度は、通常50 ℃〜300 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応では、触媒を使用することができる。触媒としては、例えば、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロマイドのような相間移動触媒や18-クラウン-6のようなクラウンエーテル、ヨウ化銅（CuI）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)Pd（0）、KIやNaIのようなアルカリ金属のヨウ化物などが挙げられる。
(In the formula, R 4-c is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXX) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XXXXI) with a cyanide compound.
Examples of the cyanide compound used in the above reaction include copper cyanide, potassium cyanide, sodium cyanide and the like.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Examples of the solvent include aprotic polar solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,2-dimethoxyethane; benzene, toluene, xylene Aromatic hydrocarbons such as: ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; ethylene glycol and glycols such as ether and ethylene glycol monomethyl ether; aromatic amines such as pyridine and quinoline; benzene, toluene, And aromatic hydrocarbons such as xylene.
The reaction temperature in the above reaction is usually from 50 ° C to 300 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
In the above reaction, a catalyst can be used. Examples of the catalyst include phase transfer catalysts such as hexadecyltributylphosphonium bromide, crown ethers such as 18-crown-6, copper iodide (CuI), tetrakis (triphenylphosphine) Pd (0), KI and NaI. And alkali metal iodides.
上記式（XXXXI）で表される化合物は、下記反応［ＡＳ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXXI) can be produced according to the following reaction [AS].
（式中、Ｒ４−ｃは前述の通りである。）
即ち、式（XXXXI）で表される化合物は、触媒の存在下、式（XXXXII）で表される化合物と亜硝酸t-ブチル（t-BuONO）とジメチルジスルフィド（（CH3S-）2）とを反応させる方法により製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；ジメチルジスルフィドなどが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応において、触媒としては銅などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常-50 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-c is as described above.)
That is, the formula compounds represented by (XXXXI) in the presence of a catalyst, wherein the compound represented by (XXXXII) and nitrite t- butyl (t-BuONO) and dimethyl disulfide ((CH 3 S-) 2) It can manufacture by the method of reacting.
The above reaction can be carried out in a solvent, if necessary. Any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and trichloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; dimethyl disulfide and the like. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
In the above reaction, examples of the catalyst include copper.
The reaction temperature for the above reaction is usually from -50 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記反応［ＡＳ］の反応に記載された式（XXXXII）で表される化合物は、国際公開公報WO 2002/032876の第16頁などに記載された公知の化合物であり、当該公報に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。 The compound represented by the formula (XXXXII) described in the reaction of the above reaction [AS] is a known compound described in page 16 of International Publication WO 2002/032876 and the like. It can be produced by a method or a method similar thereto.
又、上記（XXVI）で表される化合物のうち、Ｒ４がメチルスルホニルである、式（XXVI-d）で表される化合物は、下記反応［ＡＴ］に従って製造することができる。 Also, among the compounds represented by the above (XXVI), R 4 is methylsulfonyl, the compounds of formula (XXVI-d), can be produced in accordance with the following reaction [AT].
（式中、Ｒ４−dはメチルスルホニルであり、保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXVI-d）で表される化合物は、溶媒及びラネーニッケル触媒の存在下、式（XXXXIII）で表される化合物を、ギ酸又はホスフィン酸ナトリウムと反応させる方法により製造することができる。
上記反応に使用する溶媒としては、ギ酸、酢酸、ピリジン等の他、メタノール、エタノールなどのアルコール類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜200 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
(In the formula, R 4-d is methylsulfonyl, and the protecting group L 2 is as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXVI-d) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXXIII) is reacted with formic acid or sodium phosphinate in the presence of a solvent and a Raney nickel catalyst.
Examples of the solvent used in the above reaction include formic acid, acetic acid, pyridine and the like, and alcohols such as methanol and ethanol. As the solvent, one or more of these can be appropriately selected.
The reaction temperature for the above reaction is usually from 0 ° C to 200 ° C, and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
上記式（XXXXIII）で表される化合物は、下記反応［ＡＵ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXXIII) can be produced according to the following reaction [AU].
（式中、Ｒ４−d及び保護基Ｌ２は前述の通りである。）
即ち、式（XXXXIII）で表される化合物は、式（XXXXIV）で表される化合物と酸化剤とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［ＡＩ−１］と同様に行なうことができる。
(Wherein R 4-d and protecting group L 2 are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXXIII) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXXIV) with an oxidizing agent. This method can be performed in the same manner as in the above-mentioned reaction [AI-1].
上記式（XXXXIV）で表される化合物は、下記反応［ＡＶ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXXIV) can be produced according to the following reaction [AV].
（式中、保護基Ｌ２及び脱離基Ｚは前述の通りである。）
即ち、式（XXXXIV）で表される化合物は、式（XXXXV）で表される化合物と式（XXXII）で表される化合物とを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［Ａ］若しくは［ＡＥ−１］と同様に行なうことができる。
(Wherein the protecting group L 2 and the leaving group Z are as described above.)
That is, the compound represented by the formula (XXXXIV) can be produced by a method of reacting the compound represented by the formula (XXXXV) with the compound represented by the formula (XXXII). This method can be performed in the same manner as the above-mentioned reaction [A] or [AE-1].
式（XXXXV）で表される化合物は、下記反応［ＡＷ］に従って製造することができる。 The compound represented by the formula (XXXXV) can be produced according to the following reaction [AW].
即ち、式（XXXXV）で表される化合物は、式（XXXXVI）で表される化合物と一酸化炭素とパラジウムとを反応させる方法により製造することができる。この方法は、前述の反応［ＡＫ−２］と同様の方法で製造することができる。 That is, the compound represented by the formula (XXXXV) can be produced by a method in which the compound represented by the formula (XXXXVI), carbon monoxide, and palladium are reacted. This method can be produced by the same method as the above-mentioned reaction [AK-2].
上記式（XXXXVI）で表される化合物は、下記反応［ＡＸ］に従って製造することができる。 The compound represented by the above formula (XXXXVI) can be produced according to the following reaction [AX].
即ち、式（XXXXVI）で表される化合物は、式（XXXXVII）で表される化合物とN-ブロモスクシイミド（NBS）或いは臭素を、極性溶媒の存在下に反応させることにより製造することができる。
上記反応において使用される溶媒としては、アセトニトリル、HMPA、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,2-ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。
上記反応における反応温度は、通常0〜100℃、反応時間は通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に反応させることにより行なうことができる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類などが挙げられる。
That is, the compound represented by the formula (XXXXVI) can be produced by reacting the compound represented by the formula (XXXXVII) with N-bromosuccinimide (NBS) or bromine in the presence of a polar solvent. it can.
Examples of the solvent used in the above reaction include aprotic polar solvents such as acetonitrile, HMPA, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, and 1,2-dimethoxyethane. It is done.
The reaction temperature in the above reaction is usually from 0 to 100 ° C., and the reaction time is usually from 1 minute to 48 hours.
The above reaction can be carried out by reacting in the presence of a base as necessary. Bases include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate Alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like. Examples of the organic base include tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine.
上記反応［ＡＸ］の反応に記載された式（XXXXVII）で表される化合物は、J. Org. Chem.(1974), 39(13), 1839-41などに記載された公知の化合物であり、当該文献に記載された方法、又はそれに類似する方法で製造することができる。 The compound represented by the formula (XXXXVII) described in the reaction of the above reaction [AX] is a known compound described in J. Org. Chem. (1974), 39 (13), 1839-41, etc. , And a method similar to that described in the literature.
本発明化合物は、除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理等を適宜選択できる。 The compound of the present invention exhibits an excellent herbicidal effect when used as an active ingredient of a herbicide. The range of application ranges widely from agricultural fields such as paddy fields, upland fields, orchards, mulberry fields, and non-agricultural land such as forests, farm roads, grounds, and factory sites. You can choose.
本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、アキノエノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ビロードキビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼガヤ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウなどのイネ科雑草、コゴメガヤツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツリ、タマガヤツリ、マツバイ、クログワイなどのカヤツリグサ科雑草、ウリカワ、オモダカ、ヘラオモダカなどのオモダカ科雑草、コナギ、ミズアオイなどのミズアオイ科雑草、アゼナ、アブノメなどのゴマノハグサ科雑草、キカシグサ、ヒメミソハギなどのミソハギ科雑草の他、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒユ、アオビユ、アオゲイトウ、エビスグサ、イヌホウズキ、サナエタデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナ、ホトケノザ、ブタクサ、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、シロバナチョウセンアサガオ、エゾノキツネアザミ、エノキグサなどの広葉雑草など、有害雑草を防除することができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソルガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合或は非選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。特に本発明化合物は、トウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培、その中でもトウモロコシやコムギなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。 The compounds of the present invention include, for example, Inobie, Agaricus, Enokorogusa, Akinoenokorogusa, Oshiba, Otsunomugi, Seiban sorghum, Shibamugi, Velvet millet, Paragrass, Azegaya, Izaegaya, Suzumenokatabira, Suzumenotepuga Cyperaceae weeds such as Tamagayatsuri, Matsubai, Kurogwai, etc. , Ichibi, Maruba morning glory, Shiroza, American stag beetle, Siberian leopard, Aubiyu, Aogateto, Ebisugusa, Inabaduki, Sanaetade, Ha Because it can control harmful weeds such as broadleaf weeds such as maize, soybean, cotton, cotton, red fir tree, red-crowned beetle, photokenoza, ragweed, yamgra, convolvulaceae, white-winged duckweed, broadleaf weed Selectively control harmful weeds or non-selectively control harmful weeds in the cultivation of wheat, rice, barley, oat, sorghum, rape, sunflower, sugar beet, sugar cane, turf, peanut, flax, tobacco, coffee, etc. It is used effectively when In particular, the compound of the present invention is selectively harmful in the cultivation of corn, soybean, cotton, wheat, rice, rape, sunflower, sugar beet, sugar cane, turf, peanut, flax, tobacco, coffee, etc. It is used effectively when weeds are controlled.
本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤などの形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担体；水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アルコールなどの溶剤；脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤；ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤；オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選んで用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各種補助剤も使用することができる。本発明化合物と各種補助剤との配合割合は重量比で0.1：99.9〜95：5、望ましくは0.2：99.8〜85：15である。 The compounds of the present invention are usually mixed with various agricultural adjuvants such as powders, granules, granule wettable powders, wettable powders, aqueous suspensions, oily suspensions, aqueous solvents, emulsions, tablets, capsules, etc. Although it is formulated into a form and used as a herbicide, it can be in any conventional form used in the art as long as it meets the purpose of the present invention. Adjuvants used in the formulation include solid carriers such as diatomaceous earth, slaked lime, calcium carbonate, talc, white carbon, kaolin, bentonite, kaolinite and sericite, clay, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium sulfate, zeolite, starch, etc. Solvents such as water, toluene, xylene, solvent naphtha, dioxane, acetone, isophorone, methyl isobutyl ketone, chlorobenzene, cyclohexane, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, alcohol; fatty acid salts, benzoates, Alkylsulfosuccinate, dialkylsulfosuccinate, polycarboxylate, alkyl sulfate, alkyl sulfate, alkyl aryl sulfate, alkyl diglycol ether sulfate, alcohol sulfate, al Sulfonate, alkylaryl sulfonate, aryl sulfonate, lignin sulfonate, alkyl diphenyl ether disulfonate, polystyrene sulfonate, alkyl phosphate ester salt, alkyl aryl phosphate, styryl aryl phosphate, poly Oxyethylene alkyl ether sulfate, polyoxyethylene alkyl aryl ether sulfate, polyoxyethylene alkyl aryl ether sulfate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyethylene alkyl aryl phosphate, naphthalene sulfonic acid formalin Anionic surfactants and spreading agents such as salts of condensates; sorbitan fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, fatty acid polyglycerides, fatty acid alcohol polyols Glycol ether, acetylene glycol, acetylene alcohol, oxyalkylene block polymer, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene styryl aryl ether, polyoxyethylene glycol alkyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene Nonionic surfactants and spreading agents such as sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene hydrogenated castor oil, polyoxypropylene fatty acid ester; olive oil, kapok oil, castor oil, palm oil, straw oil, Vegetable oil such as coconut oil, sesame oil, corn oil, rice bran oil, peanut oil, cottonseed oil, soybean oil, rapeseed oil, linseed oil, cutting oil, liquid paraffin And mineral oil. These adjuvants can be selected from those known in the art without departing from the object of the present invention. In addition, various commonly used adjuvants such as a bulking agent, thickener, anti-settling agent, antifreezing agent, dispersion stabilizer, safener, and antifungal agent can also be used. The compounding ratio of the compound of the present invention and various adjuvants is 0.1: 99.9 to 95: 5, preferably 0.2: 99.8 to 85:15 by weight ratio.
本発明化合物を含有する除草剤の施用量は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に１ヘクタール当り本発明化合物が0.5〜5,000ｇ、望ましくは1〜1,000ｇ、更に望ましくは10〜500ｇとなるように施用する。本発明には、このような除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。 The application rate of the herbicide containing the compound of the present invention cannot be defined unconditionally due to differences in weather conditions, soil conditions, formulation forms, types of target weeds, application time, etc., but generally the compound of the present invention is 0.5 to 5,000 per hectare. g, preferably 1 to 1,000 g, more preferably 10 to 500 g. The present invention includes a method for controlling harmful weeds by application of such a herbicide.
また、本発明化合物を含有する除草剤は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物の１種又は２種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物は各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、前記した混合除草性組成物も含まれる。 In addition, the herbicide containing the compound of the present invention can be mixed or used in combination with other agricultural chemicals, fertilizers, safeners and the like, and in this case, more excellent effects and functions may be exhibited. Other pesticides include herbicides, fungicides, antibiotics, plant hormones, insecticides and the like. In particular, a mixed herbicidal composition in which the compound of the present invention and one or more active ingredient compounds of other herbicides are mixed or used in combination has a range of applicable herb species, timing of chemical treatment, herbicidal activity, etc. It is possible to improve in the preferred direction. In addition, the compound of the present invention and other herbicidal active ingredient compounds may be prepared separately and mixed at the time of spraying, or both may be used together. The above-described mixed herbicidal composition is also included in the present invention.
本発明化合物と他の除草剤の有効成分との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定できないが、本発明化合物１重量部に対し、他の除草剤は有効成分を１種あたり0.001〜10,000重量部、望ましくは0.01〜1,000重量部配合する。また、施用適量は１ヘクタール当りの総有効成分化合物量として0.1〜10,000ｇ、望ましくは0.2〜5,000ｇ、更に望ましくは10〜3,000ｇである。本発明には、このような混合除草組成物の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。 The mixing ratio of the compound of the present invention and the active ingredients of other herbicides cannot be defined unconditionally due to differences in weather conditions, soil conditions, drug formulation, application time, application method, etc. On the other hand, other herbicides contain 0.001 to 10,000 parts by weight, preferably 0.01 to 1,000 parts by weight of the active ingredient per one kind. In addition, the appropriate amount to be applied is 0.1 to 10,000 g, preferably 0.2 to 5,000 g, more preferably 10 to 3,000 g as the total amount of active ingredient compounds per hectare. The present invention also includes a method for controlling harmful weeds by application of such a mixed herbicidal composition.
他の除草剤の有効成分としては、下記するもの（一般名；一部ＩＳＯ申請中を含む）が例示できるが、特に記載がない場合であってもこれら化合物に塩、アルキルエステル等が存在する場合は、当然それらも含まれる。 Examples of the active ingredients of other herbicides include those listed below (generic names; including those for which some ISO applications have been filed), but salts, alkyl esters, etc. exist in these compounds even if not specifically described. Of course, they are also included.
（１）２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、２，４-ＤＰ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＰ、ナプロアニリド（naproanilide）のようなフェノキシ系、２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（dicamba）、ジクロベニル（dichlobenil）、ピクロラム（picloram）、トリクロピル（triclopyr）、クロピラリド（clopyralid）、アミノピラリド（aminopyralid）のような芳香族カルボン酸系、その他ナプタラム（naptalam）、ベナゾリン（benazolin）、キンクロラック（quinclorac）、キンメラック（quinmerac）、ダイフルフェンゾピル（diflufenzopyr）などのように植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているもの。 (1) 2,4-D, 2,4-DB, 2,4-DP, MCPA, MCPB, MCPP, phenoxy such as naproanilide, 2,3,6-TBA, dicamba, Aromatic carboxylic acids such as dichlobenil, picloram, triclopyr, clopyralid, aminopyralid, other naptalam, benazolin, quinclorac, It is said to show herbicidal effect by disturbing the hormonal action of plants such as quinmerac and diflufenzopyr.
（２）クロロトルロン(chlorotoluron)、ジウロン（diuron）、フルオメツロン(fluometuron)、リニュロン（linuron）、イソプロチュロン（isoproturon）、メトベンズロン（metobenzuron）、テブチウロン(tebuthiuron)のような尿素系、シマジン（simazine）、アトラジン（atrazine）、アトラトン（atratone）、シメトリン（simetryn）、プロメトリン（prometryn）、ジメタメトリン（dimethametryn）、ヘキサジノン(hexazinone)、メトリブジン（metribuzin）、テルブチラジン（terbuthylazine）、シアナジン（cyanazine）、アメトリン（ametryn）、シブトリン（cybutryne）、トリアジフラム（triaziflam）、プロパジン（propazine）のようなトリアジン系、ブロマシル（bromacil）、レナシル（lenacil）、ターバシル(terbacil)のようなウラシル系、プロパニル（propanil）、シプロミッド（cypromid）のようなアニリド系、スエップ（swep）、デスメディファム(desmedipham)、フェンメディファム（phenmedipham）のようなカーバメート系、ブロモキシニル（bromoxynil）、ブロモキシニル・オクタノエート（bromoxynil-octanoate）、アイオキシニル（ioxynil）のようなヒドロキシベンゾニトリル系、その他、ピリデート（pyridate）、ベンタゾン（bentazon）、アミカルバゾン（amicarbazone）、メタゾール（methazole）などのように植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。 (2) urea systems such as chlorotoluron, diuron, fluometuron, linuron, isoproturon, metobenzuron, tebuthiuron, simazine, Atrazine, atratone, simetrin, promethrin, dimethametryn, hexazinone, metribuzin, terbuthylazine, cyanazine, ametrine, ametrine Triazines such as cybutryne, triaziflam, propazine, uracils such as bromacil, lenacil, terbacil, propanil, cypromid Ani like Carbamates such as swep, desmedipham, phenmedipham, bromoxynil, bromoxynil-octanoate, hydroxybenzo such as ioxynil Nitriles, other pyridates, bentazon, amicarbazone, methazole, etc. that are said to show herbicidal activity by inhibiting plant photosynthesis.
（３）それ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているパラコート（paraquat）、ジクワット（diquat）のような４級アンモニウム塩系。 (3) Quaternary ammonium salt systems such as paraquat and diquat, which are said to themselves become free radicals in the plant body and generate active oxygen to show rapid herbicidal efficacy.
（４）ニトロフェン（nitrofen）、クロメトキシフェン（chlomethoxyfen）、ビフェノックス（bifenox）、アシフルオルフェンナトリウム塩（acifluorfen-sodium）、ホメサフェン（fomesafen）、オキシフルオルフェン（oxyfluorfen）、ラクトフェン（lactofen）、エトキシフェンエチル（ethoxyfen-ethyl）のようなジフェニルエーテル系、クロルフタリム（chlorphthalim）、フルミオキサジン（flumioxazin）、フルミクロラックペンチル（flumiclorac-pentyl）、フルチアセットメチル（fluthiacet-methyl）のような環状イミド系、その他オキサジアルギル（oxadiargyl）、オキサジアゾン（oxadiazon）、スルフェントラゾン（sulfentrazone）、カルフェントラゾンエチル（carfentrazone-ethyl）、チジアジミン（thidiazimin）、ペントキサゾン（pentoxazone）、アザフェニジン（azafenidin）、イソプロパゾール（isopropazole）、ピラフルフェンエチル（pyraflufen-ethyl）、ベンズフェンジゾン（benzfendizone）、ブタフェナシル（butafenacil）、メトベンズロン（metobenzuron）、シニドンエチル（cinidon-ethyl）、フルポキサム（flupoxam）、フルアゾレート（fluazolate）、プロフルアゾール（profluazol）、ピラクロニル（pyrachlonil）、フルフェンピルエチル（flufenpyr-ethyl）、ベンカルバゾン（bencarbazone）などのように植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされているもの。 (4) Nitrofen, Chlomethoxyfen, bifenox, acifluorfen-sodium, fomesafen, oxyfluorfen, lactofen, ethoxyphenethyl Diphenyl ethers such as (ethoxyfen-ethyl), chlorphthalim, flumioxazin, flumiclorac-pentyl, cyclic imides such as fluthiacet-methyl, and other oxadiargyl ( oxadiargyl), oxadiazon, sulfentrazone, carfentrazone-ethyl, thidiazimin, pentoxazone, azafenidin, isopropazol Isopropazole, pyraflufen-ethyl, benzfendizone, butafenacil, metobenzuron, cinidon-ethyl, flupoxam, fluazolate, Inhibits plant chlorophyll biosynthesis, such as profluazol, pyrachlonil, flufenpyr-ethyl, and bencarbazone, and causes photosensitized peroxides in the plant It is said to show herbicidal efficacy by accumulating abnormally.
（５）ノルフルラゾン（norflurazon）、クロリダゾン（chloridazon）、メトフルラゾン（metflurazon）のようなピリダジノン系、ピラゾレート（pyrazolate）、ピラゾキシフェン（pyrazoxyfen）、ベンゾフェナップ（benzofenap）、トプラメゾン（topramezone、BAS-670H）、ピラスルフォト−ル（pyrasulfotole）のようなピラゾール系、その他アミトロール(amitrol)、フルリドン（fluridone）、フルルタモン（flurtamone）、ジフルフェニカン（diflufenican）、メトキシフェノン（methoxyphenone）、クロマゾン（clomazone）、スルコトリオン（sulcotrione）、メソトリオン（mesotrione）、ＡＶＨ−３０１、イソキサフルトール（isoxaflutole）、ジフェンゾコート（difenzoquat）、イソキサクロロトール（isoxachlortole）、ベンゾビシクロン（benzobicyclon）、ピコリナフェン（picolinafen）、ビフルブタミド（beflubutamid）、テンボトリオン（tembotrione）などのようにカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。
(5) Pyridazinones such as norflurazon, chloridazon, metflurazon, pyrazolate, pyrazoloxyphene, benzofenap, topramezone, BAS-670H, pyrasul photo -Pyrazoles such as pyrasulfotole, other amitrol, fluridone, flurtamone, diflufenican, methoxyphenone, clomazone, sulcotrione, mesotrione (Mesotrione), AVH-301, isoxaflutole, difenzoquat, isoxachlortole, benzobicyclon, picolinafen, bifurbutami Inhibits pigment biosynthesis in plants such as carotenoids such as beflubutamid and tembotrione, and has herbicidal properties characterized by whitening.
（６）ジクロホップメチル（diclofop-methyl）、フラムプロップエムメチル(flamprop-M-methyl)、ピリフェノップナトリウム塩（pyriphenop-sodium）、フルアジホップブチル（fluazifop-butyl）、ハロキシホップメチル（haloxyfop-methyl）、キザロホップエチル（quizalofop-ethyl）、シハロホップブチル（cyhalofop-butyl）、フェノキサプロップエチル（fenoxaprop-ethyl）、メタミホッププロピル（metamifop-propyl）のようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩（alloxydim-sodium）、クレソジム（clethodim）、セトキシジム（sethoxydim）、トラルコキシジム（tralkoxydim）、ブトロキシジム（butroxydim）、テプラロキシジム（tepraloxydim）、カロキシジム（caloxydim）、クレフォキシジム（clefoxydim）、プロホキシジム（profoxydim）のようなシクロヘキサンジオン系などのようにイネ科植物に特異的に除草効力が強く認められるもの。 (6) Diclohopop-methyl, flamprop-M-methyl, pyriphenop-sodium, fluazifop-butyl, haloxyhop-methyl ( Aryloxyphenoxy such as haloxyfop-methyl, quizalofop-ethyl, cyhalofop-butyl, fenoxaprop-ethyl, metamifop-propyl Propionic acid, alloxydim-sodium, clethodim, sethoxydim, tralkoxydim, butroxydim, tepraloxydim, caloxydim, clefoxydim , Cyclohexanedione such as profoxydim What is specifically herbicidal activity to grasses are found strongly, such as.
（７）クロリムロンエチル（chlorimuron-ethyl）、スルホメツロンメチル（sulfometuron-methyl）、プリミスルフロンメチル（primisulfuron-methyl）、ベンスルフロンメチル（bensulfuron-methyl）、クロルスルフロン（chlorsulfuron）、メトスルフロンメチル（metsulfuron-methyl）、シノスルフロン（cinosulfuron）、ピラゾスルフロンエチル（pyrazosulfuron-ethyl）、アジムスルフロン（azimsulfuron）、フラザスルフロン（flazasulfuron）、リムスルフロン（rimsulfuron）、ニコスルフロン（nicosulfuron）、イマゾスルフロン（imazosulfuron）、シクロスルファムロン（cyclosulfamuron）、プロスルフロン（prosulfuron）、フルピルスルフロン（flupyrsulfuron）、トリスルフロンメチル（trisulfuron-methyl）、ハロスルフロンメチル（halosulfuron-methyl）、チフェンスルフロンメチル（thifensulfuron-methyl）、エトキシスルフロン（ethoxysulfuron）、オキサスルフロン（oxasulfuron）、エタメトスルフロン（ethametsulfuron）、フルピルスルフロン（flupyrsulfuron）、イオドスルフロン（iodosulfuron）、スルフォスルフロン（sulfosulfuron）、トリアスルフロン（triasulfuron）、トリベヌロンメチル（tribenuron-methyl）、トリトスルフロン（tritosulfuron）、フォーラムスルフロン（foramsulfuron）、トリフルオキシスルフロン（trifloxysulfuron）、イソスルフロンメチル（isosulfuron-methyl）、フルセトスルフロン（flucetosulfuron）、メソスルフロンメチル（mesosulfuron-methyl）、オルソスルファムロン（orthosulfamuron）のようなスルホニルウレア系、フルメツラム（flumetsulam）、メトスラム（metosulam）、ジクロスラム（diclosulam）、クロランスラムメチル（cloransulam-methyl）、フロラスラム（florasulam）、メトスルファム（metosulfam）、ペノクススラム(penoxsulam)のようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド系、イマザピル（imazapyr）、イマゼタピル（imazethapyr）、イマザキン（imazaquin）、イマザモックス（imazamox）、イマザメス（imazameth）、イマザメタベンズ（imazamethabenz）、イマザピック（imazapic）のようなイミダゾリノン系、ピリチオバックナトリウム塩（pyrithiobac-sodium）、ビスピリバックナトリウム塩（bispyribac-sodium）、ピリミノバックメチル（pyriminobac-methyl）、ピリベンゾキシム（pyribenzoxim）、ピリフタリド（pyriftalid）、ピリミスルファン（pyrimisulfan、KUH-021）のようなピリミジニルサリチル酸系、フルカーバゾン（flucarbazone）、プロカーバゾンソディウム（procarbazone-sodium）、チエンカーバゾン（thiencarbozone）のようなスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系、その他、グリホサート（glyphosate）、グリホサートアンモニウム塩（glyphosate-ammonium）、グリホサートイソプロピルアミン塩（glyphosate-isopropylamine）、スルホサート（sulfosate）、グルホシネート（glufosinate）、グルホシネートアンモニウム塩（glufosinate-ammonium）、ビラナホス（bilanafos）などのように植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。 (7) Chlorimuron-ethyl, sulfometuron-methyl, primisulfuron-methyl, bensulfuron-methyl, chlorsulfuron, methos Methylsulfuron-methyl, Cinosulfuron, pyrazosulfuron-ethyl, azimsulfuron, flazasulfuron, rimsulfuron, nicosulfuron, imazosulfuron imazosulfuron, cyclosulfamuron, prosulfuron, flupirsulfuron, trisulfuron-methyl, halosulfuron-methyl, thifensulfuron-methyl ), Et Cysulfuron, oxasulfuron, ethametsulfuron, flupirsulfuron, iodosulfuron, sulfosulfuron, triasulfuron, tribenuron Methyl (tribenuron-methyl), tritosulfuron (tritosulfuron), forum sulphuron (foramsulfuron), trifloxysulfuron (trifloxysulfuron), isosulfuron-methyl (isosulfuron-methyl), flucetosulfuron (flucetosulfuron), mesosulfuron methyl ( sulfonylureas such as mesosulfuron-methyl, orthosulfamuron, flumetsulam, metosulam, diclosulam, cloransulam-methyl, florasulam, Triazolopyrimidinesulfonamides such as tosulfam, penoxsulam, imazapyr, imazethapyr, imazaquin, imazamox, imazamox, imazameth, imazamethaben, imazamethaben (Imazapic) imidazolinones, pyrithiobac-sodium, bispyribac-sodium, pyriminobac-methyl, pyribenzoxim, pyriftalid ), Pyrimidinyl salicylic acid systems such as pyrimisulfan (KUH-021), sulfonylaminocarps such as flucarbazone, procarbazone-sodium, and thiencarbozone Nyltriazolinone, others, glyphosate, glyphosate-ammonium, glyphosate-isopropylamine, sulfosate, glufosinate, glufosinate-ammonium , Such as bilanafos, which is said to show herbicidal efficacy by inhibiting the amino acid biosynthesis of plants.
（８）トリフルラリン（trifluralin）、オリザリン（oryzalin）、ニトラリン（nitralin）、ペンディメタリン（pendimethalin）、エタルフルラリン（ethalfluralin）、ベンフルラリン（benfluralin）、プロジアミン（prodiamine）のようなジニトロアニリン系、ベンスリド（bensulide）、ナプロナミド（napronamide）、プロナミド（pronamide）のようなアミド系、アミプロホスメチル（amiprofos-methyl）、ブタミホス（butamifos）、アニロホス（anilofos）、ピペロホス（piperophos）のような有機リン系、プロファム（propham）、クロルプロファム（chlorpropham）、バーバン（barban）のようなフェニルカーバメート系、ダイムロン（daimuron）、クミルロン（cumyluron）、ブロモブチド（bromobutide）のようなクミルアミン系、その他アシュラム（asulam）、ジチオピル（dithiopyr）、チアゾピル（thiazopyr）などのように植物の細胞有糸分裂を阻害することで除草効力を示すとされているもの。 (8) Dinitroaniline series such as trifluralin, oryzalin, oryzalin, nitraline, pendimethalin, ethalfluralin, benfluralin, prodiamine, benzulide (Bensulide), amides such as napronamide, pronamide, amiprofos-methyl, butamifos, anilofos, organic phosphorus such as piperophos, Propham, chlorpropham, phenyl carbamates such as barban, daimuron, cumyluron, cumylamines such as bromobutide, other aslam, dithiopyr (Dithiopyr), thiazopyr (Thiazopyr), etc. that are said to show herbicidal efficacy by inhibiting cell mitosis of plants.
（９）アラクロール（alachlor）、ブタクロール（butachlor）、プレチラクロール（pretilachlor）、メトラクロール（metolachlor）、Ｓ−メトラクロール（S-metolachlor）、テニルクロール（thenylchlor）、ペトキサマイド(pethoxamid)、アセトクロール（acetochlor）、プロパクロール（propachlor）、プロピソクロール（propisochlor）のようなクロロアセトアミド系、その他エトベンザニド（etobenzanid）、メフェナセット（mefenacet）、フルフェナセット（flufenacet）、トリディファン（tridiphane）、カフェンストロール（cafenstrole）、フェントラザミド（fentrazamide）、オキサジクロメフォン（oxaziclomefone）、インダノファン（indanofan）、ジメテナミド（dimethenamid）などのように植物のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。 (9) alachlor, butachlor, pretilachlor, metolachlor, S-metolachlor, tenylchlor, petoxamide, acetochlor , Chloroacetamides such as propachlor, propisochlor, etobenzanid, mefenacet, flufenacet, tridiphane, caffenstrole, Fentrazamide, oxaziclomefone, indanofan, dimethenamid, etc. that are said to show herbicidal activity by inhibiting plant protein biosynthesis or lipid biosynthesis
（１０）ＥＰＴＣ、ブチレート（butylate）、ベルノレート（vernolate）、モリネート（molinate）、ペブレート（pebulate）、シクロエート（cycloate）、ジメピペレート（dimepiperate）、プロスルホカルブ（prosulfocarb）、エスプロカルブ（esprocarb）、チオベンカルブ（thiobencarb）、ピリブチカルブ（pyributicarb）、ジアレート（diallate）、トリアレート（triallate）のようなチオカーバメート系、その他ＭＳＭＡ、ＤＳＭＡ、エンドタール（endothall）、エトフメセート（ethofumesate）、ソディウムクロレート（sodium chlorate）、ペラルゴン酸（pelargonic acid）、ホスアミン（fosamine）、ピノキサデン（pinoxaden）、ＨＯＫ−２０１など。 (10) EPTC, butyrate, vernolate, molinate, pebulate, cycloate, dimepiperate, prosulfocarb, esprocarb, thiobencarb ( Thiocarbamates such as thiobencarb, pyributicarb, diallate, triallate, other MSMA, DSMA, endothall, etofumesate, sodium chlorate, pelargonic acid (Pelargonic acid), phosamine, pinoxaden, HOK-201 and the like.
（１１）Xanthomonas campestris、Epicoccosurus nematosurus、Exserohilum monoseras、Drechsrela monocerasなどのように植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの。 (11) What is said to show herbicidal efficacy by infesting plants such as Xanthomonas campestris , Epicoccosurus nematosurus , Exserohilum monoseras , Drechsrela monoceras .
次に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、本発明化合物の合成例を記載する。 Next, examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. Hereafter, the synthesis example of this invention compound is described.
合成例１
5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（後記化合物No.1）及び5-ベンジルオキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（後記化合物No.5）の合成
Synthesis example 1
5-hydroxy-1-methylpyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylphenyl ketone (compound No. 1 described later) and 5-benzyloxy-1-methyl Synthesis of pyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylphenyl ketone (compound No. 5 below)
（１）3-(ブロモメチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（292 mg、0.910 mmol）及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)Pd（0）（56 mg）を乾燥テトラヒドロフラン（30 mL）に溶かし、一酸化炭素雰囲気下、50-60 ℃で15分間加熱した。その溶液に、乾燥テトラヒドロフラン（10 mL）に溶かした水素化トリブチルスズ(IV)（337 mg、1.16 mmol）を１時間の間にゆっくり滴下すると、溶液は赤くなった。反応混合物を冷却後、冷水を加え、酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）で精製すると、白色結晶である2-メチル-4-メチルスルホニル-3-(2-オキソエチル)安息香酸 メチルエステル（37 mg、融点92〜95 ℃）を得た（収率15 %）。 (1) 3- (Bromomethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (292 mg, 0.910 mmol) and tetrakis (triphenylphosphine) Pd (0) (56 mg) were dried in tetrahydrofuran (30 mL). And dissolved in a carbon monoxide atmosphere at 50-60 ° C. for 15 minutes. To the solution, tributyltin hydride (IV) (337 mg, 1.16 mmol) dissolved in dry tetrahydrofuran (10 mL) was slowly added dropwise over 1 hour, and the solution turned red. The reaction mixture was cooled, cold water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried over anhydrous sodium sulfate. After distilling off the solvent under reduced pressure, purification by silica gel column chromatography (developing solvent; ethyl acetate: hexane = 1: 1) gave 2-methyl-4-methylsulfonyl-3- (2-oxoethyl) benzoic acid as white crystals. The methyl ester (37 mg, mp 92-95 ° C.) was obtained (yield 15%).
（２）窒素気流下、（メトキシメチル）トリフェニルホスホニウム クロライド（642 mg、1.87 mmol）を乾燥テトラヒドロフラン（10 mL）に懸濁させ、−70 ℃に冷却した。フェニルリチウム（0.98 mol/L、シクロヘキサン・ジエチルエーテル混合溶液）（2 mL、1.96 mmol）を−60 ℃以下で滴下した。ゆっくりと＋4 ℃まで上げ、この温度で１時間攪拌後再び−70 ℃に冷却した。そこへ、乾燥テトラヒドロフランに溶かした3-ホルミル-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（200 mg、0.781 mmol）を−60 ℃以下で滴下した。さらに−70 ℃で2時間反応させた後、室温で一晩攪拌した。その後、反応混合物へ氷を投入し、その混合物を酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去すると、茶色液体を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）で精製すると、白色結晶の3-(2-メトキシビニル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（130 mg）を得た（収率58 %）。 (2) Under a nitrogen stream, (methoxymethyl) triphenylphosphonium chloride (642 mg, 1.87 mmol) was suspended in dry tetrahydrofuran (10 mL) and cooled to -70 ° C. Phenyl lithium (0.98 mol / L, cyclohexane / diethyl ether mixed solution) (2 mL, 1.96 mmol) was added dropwise at −60 ° C. or lower. The mixture was slowly raised to + 4 ° C, stirred at this temperature for 1 hour, and then cooled to -70 ° C again. There, 3-formyl-2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (200 mg, 0.781 mmol) dissolved in dry tetrahydrofuran was added dropwise at −60 ° C. or lower. The mixture was further reacted at −70 ° C. for 2 hours and then stirred overnight at room temperature. Thereafter, ice was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate and the solvent was distilled off to obtain a brown liquid. This was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; ethyl acetate: hexane = 3: 7) to give 3- (2-methoxyvinyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (130 mg) as white crystals. (Yield 58%).
（３）含水メタノール（水1 mLとメタノール10 mL）に3-(2-メトキシビニル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（130 mg、0.417 mmol）を溶かした。そこへ濃塩酸（729 mg）を加えて３時間還流下反応させた。反応混合物を冷却後、水を加え、その混合物を酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を食塩水にて洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去すると、白色結晶である3-(2,2-ジメトキシエチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（135 mg）を得た（収率94%）。 (3) 3- (2-Methoxyvinyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (130 mg, 0.417 mmol) was dissolved in hydrous methanol (water 1 mL and methanol 10 mL). Concentrated hydrochloric acid (729 mg) was added thereto and reacted under reflux for 3 hours. After cooling the reaction mixture, water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried over anhydrous sodium sulfate. When the solvent was distilled off, 3- (2,2-dimethoxyethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (135 mg) was obtained as white crystals (yield 94%).
（４）3-(2,2-ジメトキシエチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（135 mg、0.411 mmol）をアセトン（15 mL）に溶かし、希塩酸2 mL（濃塩酸1 mL/水4 mL）を加えた。その混合物を室温で一晩攪拌後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。その混合物を酢酸エチルで抽出し、その抽出液を食塩水で洗浄した。さらにその抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去すると、定量的に茶色液体として2-メチル-4-メチルスルホニル-3-(2-オキソエチル)安息香酸 メチルエステルを得た。 (4) 3- (2,2-dimethoxyethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (135 mg, 0.411 mmol) was dissolved in acetone (15 mL), and diluted hydrochloric acid 2 mL (concentrated hydrochloric acid 1 mL) / Water 4 mL) was added. The mixture was stirred at room temperature overnight, and aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added. The mixture was extracted with ethyl acetate and the extract was washed with brine. The extract was further dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain 2-methyl-4-methylsulfonyl-3- (2-oxoethyl) benzoic acid methyl ester quantitatively as a brown liquid.
（５）2-メチル-4-メチルスルホニル-3-(2-オキソエチル)安息香酸 メチルエステル（37 mg、0.137 mmol）、O-メチルヒドロキシルアミン塩酸塩（28 mg、0.328 mmol）及び酢酸ナトリウム（31 mg、0.378 mmol）をメタノール（10 mL）に溶かし、還流下２時間加熱した。反応混合物を冷却後、そこへ水を加え、酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）で精製すると、白色結晶である3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（28 mg）を得た（収率68%）。 (5) 2-methyl-4-methylsulfonyl-3- (2-oxoethyl) benzoic acid methyl ester (37 mg, 0.137 mmol), O-methylhydroxylamine hydrochloride (28 mg, 0.328 mmol) and sodium acetate (31 mg, 0.378 mmol) was dissolved in methanol (10 mL) and heated under reflux for 2 hours. The reaction mixture was cooled, water was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried over anhydrous sodium sulfate. After the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; ethyl acetate: hexane = 1: 1) to give 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-white crystals. Methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (28 mg) was obtained (yield 68%).
（６）3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（28 mg、0.0936 mmol）をメタノール（8 mL）に溶かした。水酸化ナトリウム（21mg、0.525 mmol）の水溶液（2 mL）を加え、室温にて一晩攪拌した。そこへ水を加え、さらにその混合物を塩酸で酸性にした後、酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去すると、白色結晶の3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸（25.5 mg）を得た（収率95 %）。 (6) 3- (2- (Methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (28 mg, 0.0936 mmol) was dissolved in methanol (8 mL). An aqueous solution (2 mL) of sodium hydroxide (21 mg, 0.525 mmol) was added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. Water was added thereto, and the mixture was further acidified with hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid (25.5 mg) as white crystals (yield 95%).
（７）3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸（25.5 mg、0.0895 mmol）、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩（29 mg、0.151mmol）、5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール（16 mg、0.163 mmol）及び4-ジメチルアミノピリジン（11 mg）を、メタノールを留去した乾燥塩化メチレン（40 mL）に溶かし、室温にて一晩攪拌した。反応混合物を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去すると褐色の液体を得た。これを乾燥アセトニトリル（15 mL）に溶解後、トリエチルアミン（38 mg、0.376 mmol）とアセトンシアノヒドリン（23 mg）を加え、一晩室温にて攪拌した。溶液を減圧濃縮後、塩化メチレンに溶かし、炭酸カリウム水溶液（炭酸カリウム1 g/水40 mL）で抽出した。得られた水層を塩化メチレンで洗浄後、塩酸で酸性にした。その水層を塩化メチレンで抽出し、抽出液を水洗した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去すると、褐色液体の5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（16 mg、後記化合物No.1）を得た（収率53 %）。 (7) 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid (25.5 mg, 0.0895 mmol), 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride ( 29 mg, 0.151 mmol), 5-hydroxy-1-methylpyrazole (16 mg, 0.163 mmol) and 4-dimethylaminopyridine (11 mg) were dissolved in dry methylene chloride (40 mL) from which methanol had been distilled off. Stir overnight. The reaction mixture was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a brown liquid. This was dissolved in dry acetonitrile (15 mL), triethylamine (38 mg, 0.376 mmol) and acetone cyanohydrin (23 mg) were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. The solution was concentrated under reduced pressure, dissolved in methylene chloride, and extracted with an aqueous potassium carbonate solution (1 g of potassium carbonate / 40 mL of water). The obtained aqueous layer was washed with methylene chloride and acidified with hydrochloric acid. The aqueous layer was extracted with methylene chloride, and the extract was washed with water. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate and the solvent was distilled off to give 5-hydroxy-1-methylpyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methyl as a brown liquid. Sulfonyl phenyl ketone (16 mg, compound No. 1 described later) was obtained (yield 53%).
（８）5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（102 mg、0.279 mmol、後記化合物No.1）、ベンジルブロマイド（267mg、1.56 mmol）及び炭酸カリウム（326 mg、2.36 mmol）を乾燥テトラヒドロフラン（20 mL）に溶かし、還流下10時間反応させた。その後、反応混合物を冷却し、不溶物をろ過で取り除き、そのろ液を濃縮すると、褐色液体を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝７：３）精製すると、透明な液体である5-ベンジルオキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)エチル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（56 mg、後記化合物No.5）を得た（収率44%）。 (8) 5-hydroxy-1-methylpyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylphenyl ketone (102 mg, 0.279 mmol, compound No. 1 described later) , Benzyl bromide (267 mg, 1.56 mmol) and potassium carbonate (326 mg, 2.36 mmol) were dissolved in dry tetrahydrofuran (20 mL) and reacted under reflux for 10 hours. Thereafter, the reaction mixture was cooled, insolubles were removed by filtration, and the filtrate was concentrated to give a brown liquid. When this was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; ethyl acetate: hexane = 7: 3), 5-benzyloxy-1-methylpyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) which was a transparent liquid ) Ethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylphenyl ketone (56 mg, compound No. 5 described later) was obtained (yield 44%).
合成例２
5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)プロピル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（後記化合物No.3）の合成
Synthesis example 2
Synthesis of 5-hydroxy-1-methylpyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) propyl) -2-methyl-4-methylsulfonylphenyl ketone (compound No. 3 below)
（１）3-(ブロモメチル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（245 mg、0.763 mmol）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)（44 mg、0.0627 mmol）、トリブチル（1-エトキシビニル）スズ（IV）（302 mg、0.839 mmol）及び乾燥トルエン（20 mL）を窒素気流下２時間還流した。さらにトリブチル(1-エトキシビニル)スズ(IV)（302mg、0.839 mmol）を加え、４時間加熱還流した。反応混合物を冷却後、セライトろ過し、そのろ液に5 %塩酸水溶液（35 mL）を加え、室温にて激しく攪拌した。その後、撹拌した混合物を酢酸エチルで抽出し、その抽出液を食塩水で洗浄した。さらにその抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去すると、黄色液体として2-メチル-4-メチルスルホニル-3-(2-オキソプロピル)安息香酸 メチルエステル（81 mg）を得た（収率37%）。 (1) 3- (Bromomethyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (245 mg, 0.763 mmol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II) (44 mg, 0.0627 mmol), tributyl (1 -Ethoxyvinyl) tin (IV) (302 mg, 0.839 mmol) and dry toluene (20 mL) were refluxed for 2 hours under a nitrogen stream. Furthermore, tributyl (1-ethoxyvinyl) tin (IV) (302 mg, 0.839 mmol) was added and heated under reflux for 4 hours. The reaction mixture was cooled and filtered through celite, 5% aqueous hydrochloric acid solution (35 mL) was added to the filtrate, and the mixture was vigorously stirred at room temperature. Thereafter, the stirred mixture was extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with brine. The extract was further dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain 2-methyl-4-methylsulfonyl-3- (2-oxopropyl) benzoic acid methyl ester (81 mg) as a yellow liquid ( Yield 37%).
（２）2-メチル-4-メチルスルホニル-3-(2-オキソプロピル)安息香酸 メチルエステル（81mg、0.285 mmol）、O-メチルヒドロキシアミン塩酸塩（160mg、1.87mmol）、酢酸ナトリウム（161 mg、1.96 mmol）及び酢酸（148 mg、2.47 mmol）をメタノール（10 mL）に溶かし、還流下７時間加熱した。反応混合物を冷却後、水を加えて、その混合物を酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去すると透明な液体を得た。得られたものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）で精製すると、白色結晶である3-(2-(メトキシイミノ)プロピル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（54 mg）を得た（収率60 %）。 (2) 2-methyl-4-methylsulfonyl-3- (2-oxopropyl) benzoic acid methyl ester (81 mg, 0.285 mmol), O-methylhydroxyamine hydrochloride (160 mg, 1.87 mmol), sodium acetate (161 mg , 1.96 mmol) and acetic acid (148 mg, 2.47 mmol) were dissolved in methanol (10 mL) and heated under reflux for 7 hours. After cooling the reaction mixture, water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate and the solvent was distilled off to obtain a transparent liquid. The obtained product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; ethyl acetate: hexane = 3: 7) to give 3- (2- (methoxyimino) propyl) -2-methyl-4-methylsulfonyl as white crystals. Methyl benzoate (54 mg) was obtained (yield 60%).
（３）3-(2-(メトキシイミノ)プロピル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸 メチルエステル（54 mg、0.173 mmol）をメタノール（10 mL）に溶かした。そこへ、水酸化ナトリウム（38.2 mg、0.935 mmol）を水（3 mL）に溶かした水溶液を加え、室温にて7時間攪拌した。その後、その反応混合物に水を加え塩酸で酸性にした後、その混合物を酢酸エチルで抽出した。その抽出液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去すると、定量的に、透明な油状の3-(2-(メトキシイミノ)プロピル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸（51 mg）を得た。 (3) 3- (2- (Methoxyimino) propyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid methyl ester (54 mg, 0.173 mmol) was dissolved in methanol (10 mL). The aqueous solution which melt | dissolved sodium hydroxide (38.2 mg, 0.935 mmol) in water (3 mL) was added there, and it stirred at room temperature for 7 hours. Then, water was added to the reaction mixture, acidified with hydrochloric acid, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to quantitatively obtain 3- (2- (methoxyimino) propyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid (51 mg) as a transparent oil.
（４）3-(2-(メトキシイミノ)プロピル)-2-メチル-4-メチルスルホニル安息香酸（54 mg、0.181 mmol）、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩（56 mg、0.292 mmol）、5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール（27 mg、0.276 mmol）及び4-ジメチルアミノピリジン（16 mg）を、メタノールを留去した乾燥塩化メチレン（30 mL）に溶かし、室温にて一晩攪拌した。その後、反応混合物を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去すると褐色の液体を得た。これを乾燥アセトニトリル（15 mL）に溶解後、トリエチルアミン（51 mg、0.505 mmol）とアセトンシアノヒドリン（22 mg）を加え、一晩室温にて攪拌した。その溶液を減圧濃縮後、塩化メチレンに溶かし、さらにその溶液を炭酸カリウム水溶液（炭酸カリウム1 g/水40 mL）で抽出した。得られた水層を塩化メチレンで洗浄後、塩酸で酸性にした。水層を塩化メチレンで抽出し、その抽出液を水洗した。その抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去すると、うす茶色の液体として5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-(メトキシイミノ)プロピル)-2-メチル-4-メチルスルホニルフェニル ケトン（32 mg、後記化合物No.3）を得た（収率49 %）。 (4) 3- (2- (methoxyimino) propyl) -2-methyl-4-methylsulfonylbenzoic acid (54 mg, 0.181 mmol), 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride ( 56 mg, 0.292 mmol), 5-hydroxy-1-methylpyrazole (27 mg, 0.276 mmol) and 4-dimethylaminopyridine (16 mg) were dissolved in dry methylene chloride (30 mL) from which methanol had been distilled off. Stir overnight. Thereafter, the reaction mixture was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. When the solvent was distilled off, a brown liquid was obtained. This was dissolved in dry acetonitrile (15 mL), triethylamine (51 mg, 0.505 mmol) and acetone cyanohydrin (22 mg) were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. The solution was concentrated under reduced pressure, dissolved in methylene chloride, and the solution was extracted with an aqueous potassium carbonate solution (1 g of potassium carbonate / 40 mL of water). The obtained aqueous layer was washed with methylene chloride and acidified with hydrochloric acid. The aqueous layer was extracted with methylene chloride, and the extract was washed with water. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate and the solvent was distilled off to give 5-hydroxy-1-methylpyrazol-4-yl 3- (2- (methoxyimino) propyl) -2-methyl- 4-methylsulfonylphenyl ketone (32 mg, compound No. 3 described later) was obtained (yield 49%).
次に、前記式（I）で表される本発明化合物の代表例を第１表に挙げ、それらのＮＭＲスペクトルデータを第２表に挙げる。これらの化合物は、前記合成例或いは前記した本発明化合物の種々の製造方法に基づいて合成することができる。尚、第１表及び第２表中、No.は化合物No.を示す。又、第１表中、Meはメチル基を、Etはエチル基を、ｎ-Prはn-プロピル基を、ｉ-Prはイソプロピル基を、c-Prはシクロプロピル基を、c-Hexはシクロヘキシル基を、ｎ-Buはn-ブチル基を、ｉ-Buはイソブチル基を、s-Buはsec-ブチル基を、ｔ-Buはtert-ブチル基を、Phはフェニル基、PhOはフェノキシ基を各々示す。また、第１表中、3-Cl-4,5-(Me)2-Phとあるのは、3位に塩素原子が置換し、4位と5位双方にメチル基が置換しているフェニル基を示し、CO(4-MePhO)とあるのは、4位がメチル基で置換されたフェノキシ基により置換されたカルボニル基を表し、他の同様の記載もこれに準じる。 Next, typical examples of the compounds of the present invention represented by the formula (I) are listed in Table 1, and their NMR spectrum data are listed in Table 2. These compounds can be synthesized based on the above synthesis examples or various production methods of the above-described compounds of the present invention. In Tables 1 and 2, No. indicates compound No. In Table 1, Me is a methyl group, Et is an ethyl group, n-Pr is an n-propyl group, i-Pr is an isopropyl group, c-Pr is a cyclopropyl group, and c-Hex is Cyclohexyl group, n-Bu is n-butyl group, i-Bu is isobutyl group, s-Bu is sec-butyl group, t-Bu is tert-butyl group, Ph is phenyl group, PhO is phenoxy Each group is shown. In Table 1, 3-Cl-4,5- (Me) 2 -Ph means phenyl substituted with a chlorine atom at the 3-position and a methyl group at both the 4-position and the 5-position. CO (4-MePhO) represents a carbonyl group substituted with a phenoxy group substituted with a methyl group at the 4-position, and other similar descriptions are also based on this.
次に試験例を記載する。
試験例1
1／170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の葉令（（１）ノビエ；1.5〜3葉期、（２）メヒシバ；1〜3葉期、（３）エノコログサ；1〜3葉期、（４）アオゲイトウ；0.1〜2.1葉期、（５）アメリカキンゴジカ；子葉〜1.3葉期、（６）イチビ；0.3〜1.6葉期、（７）イネ；1.3〜3葉期、（８）コムギ；2〜3.4葉期、（９）トウモロコシ；2.4〜3.5葉期、（１０）ダイズ；子葉〜0.5葉期）に達したとき、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当り500リットルの水に希釈した。更にその希釈液に対して農業用展着剤を0.1容量％加え、小型スプレーで茎葉処理した。
薬剤処理後19〜25日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0（無処理区と同等）〜100（完全枯殺）の抑草率（％）で除草効果を評価し、第３表の結果を得た。
Next, test examples are described.
Test example 1
A field crop soil was filled in a 1 / 170,000 hectare pot and seeds of various plants were sown. After that, the plant had a certain leaf age ((1) Nobier; 1.5-3 leaf stage, (2) Barnyard grass; 1-3 leaf stage, (3) Enocologosa; 1-3 leaf stage, (4) Aogateto; 0.1-2.1 Leaf stage, (5) American stag beetle; cotyledon to 1.3 leaf stage, (6) green leaf; 0.3 to 1.6 leaf stage, (7) rice; 1.3 to 3 leaf stage, (8) wheat; 2 to 3.4 leaf stage, ( 9) corn; 2.4 to 3.5 leaf stage, (10) soybean; cotyledon to 0.5 leaf stage), and a wettable powder or emulsion prepared according to a conventional formulation method is used as a predetermined active ingredient amount. Was weighed and diluted in 500 liters of water per hectare. Further, 0.1% by volume of an agricultural spreading agent was added to the diluted solution, and the leaves were treated with a small spray.
On the 19th to 25th day after the chemical treatment, the growth state of various plants was observed with the naked eye, and the herbicidal effect was evaluated at a herbicidal rate (%) of 0 (equivalent to the untreated group) to 100 (completely killed). The result was obtained.
試験例2
1 / 1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽く覆土した。その後湛水深0.5〜1ｃｍの状態で温室内に静置し、翌日又は2日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。その後湛水深を3〜4ｃｍに保ち、ノビエ及びホタルイが0.5葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤の水希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一に滴下処理した。また、1 / 1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を3〜4ｃｍとし、翌日に2葉期のイネ（品種：日本晴）を移植深3ｃｍに移植した。移植後4日目に本発明化合物を前述と同様に処理した。
薬剤処理後14日目にノビエ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後21日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、0（無処理区と同等）〜100（完全枯殺）の抑草率（％）で評価し、第4表の結果を得た。
Test example 2
Paddy soil was stuffed in 1 / 1,000,000 hectare pots, seeds of nobier and firefly were sown, and lightly covered with soil. Thereafter, the tube was allowed to stand in a greenhouse at a water depth of 0.5 to 1 cm, and Urikawa tubers were planted the next day or two days later. Thereafter, the water depth was maintained at 3 to 4 cm, and when the nobier and firefly reached the 0.5 leaf stage and the urikawa reached the primary leaf stage, the compound of the present invention was diluted with water in a wettable powder or emulsion prepared according to the usual formulation method. The liquid was dropped evenly with a pipette so as to obtain a predetermined active ingredient amount. In addition, paddy soil was stuffed into 1 / 1,000,000 hectare pots, paddling was carried out, the inundation depth was 3-4 cm, and the next leaf rice (variety: Nipponbare) was transplanted to a transplantation depth of 3 cm on the next day. On the 4th day after transplantation, the compound of the present invention was treated as described above.
On the 14th day after the drug treatment, the growth state of Nobies, firefly and urikawa was visually observed, and on the 21st day after the drug treatment, the growth state of rice was observed with the naked eye, and 0 (equivalent to the untreated area) to 100 (completely killed). Evaluation was based on the herbicide rate (%), and the results in Table 4 were obtained.
次に、本発明の製剤例を記載する。 Next, formulation examples of the present invention will be described.
製剤例１
（１）本発明化合物 ７５ 重量部
（２）ゲロポンＴ−７７（商品名；ローヌ・プーラン社製） １４．５ 重量部
（３）ＮａＣｌ １０ 重量部
（４）デキストリン ０．５ 重量部
以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ２０％の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。
Formulation Example 1
(1) Compound of the present invention 75 parts by weight (2) Geropone T-77 (trade name; manufactured by Rhone-Poulenc) 14.5 parts by weight (3) NaCl 10 parts by weight (4) dextrin 0.5 parts by weight or more The ingredients are put into a high-speed mixing fine granulator, 20% water is further added thereto, and granulated and dried to obtain a granulated wettable powder.
製剤例２
（１）カオリン ７８ 重量部
（２）ラベリンＦＡＮ（商品名；第一工業製薬（株）製） ２ 重量部
（３）ソルポール５０３９（商品名；東邦化学工業（株）製） ５ 重量部
（４）カープレックス（商品名；塩野義製薬（株）製） １５ 重量部
以上、（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物とを９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。
Formulation Example 2
(1) Kaolin 78 parts by weight (2) Labelin FAN (trade name; manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 2 parts by weight (3) Solpol 5039 (trade name; manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) 5 parts by weight (4 ) Carplex (trade name; manufactured by Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd.) 15 parts by weight or more, a mixture of the components (1) to (4) and the compound of the present invention are mixed at a weight ratio of 9: 1 to obtain a wettable powder. Is obtained.
製剤例３
（１）ハイフィラーＮｏ．１０（商品名；松村産業（株）製） ３３ 重量部
（２）ソルポール５０５０（商品名；東邦化学工業（株）製） ３ 重量部
（３）ソルポール５０７３（商品名；東邦化学工業（株）製） ４ 重量部
（４）本発明化合物 ６０ 重量部
以上の（１）〜（４）の各成分を混合して水和剤が得られる。
Formulation Example 3
(1) High filler No. 10 (trade name; manufactured by Matsumura Sangyo Co., Ltd.) 33 parts by weight (2) Solpol 5050 (trade name; manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) 3 parts by weight (3) Solpol 5073 (trade name; Toho Chemical Industries, Ltd.) Product) 4 parts by weight (4) Compound of the present invention 60 parts by weight or more of (1) to (4) are mixed to obtain a wettable powder.
製剤例４
（１）本発明化合物 ４ 重量部
（２）ベントナイト ３０ 重量部
（３）炭酸カルシウム ６１．５重量部
（４）トキサノンＧＲ−３１Ａ（商品名；三洋化成工業（株）製） ３ 重量部
（５）リグニンスルホン酸カルシウム塩 １．５ 重量部
予め粉砕した（１）と、（２）及び（３）とを混合し、そこへ（４）、（５）及び水を加
えて混合し、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。
Formulation Example 4
(1) Compound of the present invention 4 parts by weight (2) bentonite 30 parts by weight (3) calcium carbonate 61.5 parts by weight (4) Toxanone GR-31A (trade name; manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 3 parts by weight (5 ) Calcium lignin sulfonate 1.5 parts by weight Premixed (1), (2) and (3), mixed with (4), (5) and water, and extruded Grain. Thereafter, the granules are obtained by drying and sizing.
製剤例５
（１）本発明化合物 ３０ 重量部
（２）ジークライト（商品名；ジークライト（株）製） ６０ 重量部
（３）ニューカルゲン ＷＧ−１（商品名；竹本油脂（株）製） ５ 重量部
（４）ニューカルゲン ＦＳ−７（商品名；竹本油脂（株）製） ５ 重量部
（１）、（２）及び（３）を混合し、粉砕機を通した後、（４）を加えて混練後、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。
Formulation Example 5
(1) Compound of the present invention 30 parts by weight (2) Siegrite (trade name; manufactured by Siegrite Co., Ltd.) 60 parts by weight (3) New Calgen WG-1 (trade name; manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 5 parts by weight (4) New Calgen FS-7 (trade name; manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 5 parts by weight (1), (2) and (3) are mixed, passed through a pulverizer, and (4) is added. After kneading, extrusion granulation is performed. Thereafter, it is dried and sized to obtain a granulated wettable powder.
製剤例６
（１）本発明化合物 ２８ 重量部
（２）ソプロポールＦＬ（商品名；ローヌ・プーラン社製） ２ 重量部
（３）ソルポール３５５ （商品名；東邦化学工業（株）製） １ 重量部
（４）ＩＰソルベント１６２０（商品名；出光石油化学（株）製） ３２ 重量部
（５）エチレングリコール ６ 重量部
（６）水 ３１ 重量部
以上の（１）〜（６）の成分を混合し、湿式粉砕機（ダイノ−ミル）を用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。
Formulation Example 6
(1) Compound of the present invention 28 parts by weight (2) Sopropol FL (trade name; manufactured by Rhone-Poulein) 2 parts by weight (3) Solpol 355 (trade name; manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) 1 part by weight (4) IP solvent 1620 (trade name; manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) 32 parts by weight (5) ethylene glycol 6 parts by weight (6) water 31 parts by weight or more of components (1) to (6) are mixed and wet pulverized An aqueous suspension is obtained by pulverization using a machine (Dyno-Mill).
Claims (8)
R 1 is alkyl, R 2 is a hydrogen atom, alkyl, cycloalkyl, halogen, haloalkyl or alkoxy, R 3 is a hydrogen atom, benzylcarbonyl, phenyl whose phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen Phenylsulfonyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenylalkyl phenyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenylcarbonyl phenyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, Phenacyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety, phenoxycarbonyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety alkyl, alkoxy or halogen In optionally substituted phenylaminocarbonyl, alkylaminocarbonyl, alkylthiol carbonyl, alkynyl, alkoxycarbonyl methyl, carboxymethyl or alkylcarbonyl, R 4 is alkyl, halogen, haloalkyl, nitro, methylsulfonyl or alkoxy, R 5 is a hydrogen atom or alkyl, R 6 is a hydrogen atom, alkyl, alkenyl or alkynyl, and the alkyl of R 6 may be substituted with halogen, cycloalkyl, alkoxycarbonyl or alkoxy. A benzoylpyrazole compound or a salt thereof.
（１）式（I-b）；
で表される化合物と、式（II）；Ｚ−Ｒ３−ａ
（Ｚは脱離基であり、Ｒ３−ａは、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいベンジルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルスルホニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、ハロアルキル、ハロアルコキシ又はニトロで置換されてもよいフェニルアルキル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェナシル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェノキシカルボニル、フェニル部分がアルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されてもよいフェニルアミノカルボニル、ピリジル部分がハロゲンで置換されてもよいピリジルアルキル、アルキルアミノカルボニル、（アルキルチオ）カルボニル、アルコキシチオカルボニル、アルキルスルホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシカルボニルメチル、カルボキシメチル、アルキルカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、（フェニルチオ）カルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノスルホニル、1,3-チアゾール-4-イルアルキル、アルキルチオアルキル、シクロアルキルカルボニル、2-フリルカルボニル又はハロアルキルで置換されてもよいピリジルである。）
で表される化合物とを反応させるか、或いは、
（２）式（III）；Ｈ２Ｎ−Ｏ−Ｒ６
（式中、Ｒ６は前述の通りである）
で表される化合物と、式（IV）；
で表される化合物とを反応させるか、或いは、
（３）式（V）；
で表される化合物から保護基Ｌ１を脱離させるか、或いは、
（４）式（III）；式（III）；Ｈ２Ｎ−Ｏ−Ｒ６
（式中、Ｒ６は前述の通りである。）
と、式（VII）；
で表される化合物とを反応させるか、或いは、
（５）式（VI）；
で表される化合物を転位反応させることを特徴とする方法。 Formula (I);
(1) Formula (Ib);
A compound represented by in the formula (II); Z-R 3 -a
(Z is a leaving group, R 3-a is benzylcarbonyl in which the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenylsulfonyl or phenyl in which the phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen, Phenylalkyl optionally substituted with alkyl, alkoxy, alkoxycarbonyl, cyano, halogen, haloalkyl, haloalkoxy or nitro, phenylcarbonyl optionally substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenyl moiety alkyl Phenacyl which may be substituted with alkoxy or halogen, phenoxycarbonyl whose phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen, phenycarbonyl whose phenyl moiety may be substituted with alkyl, alkoxy or halogen Ruaminocarbonyl, pyridylalkyl whose pyridyl moiety may be substituted with halogen, alkylaminocarbonyl, (alkylthio) carbonyl, alkoxythiocarbonyl, alkylsulfonyl, alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxycarbonylmethyl, carboxymethyl, alkylcarbonyl, alkoxy (It is pyridyl optionally substituted with alkylcarbonyl, (phenylthio) carbonyl, alkoxycarbonyl, alkylaminosulfonyl, 1,3-thiazol-4-ylalkyl, alkylthioalkyl, cycloalkylcarbonyl, 2-furylcarbonyl or haloalkyl.)
Or a compound represented by
(2) Formula (III); H 2 N—O—R 6
(Wherein R 6 is as described above)
A compound of formula (IV);
Or a compound represented by
(3) Formula (V);
Removing the protecting group L 1 from the compound represented by:
(4) Formula (III); Formula (III); H 2 N—O—R 6
(Wherein R 6 is as described above.)
And formula (VII);
Or a compound represented by
(5) Formula (VI);
A method comprising rearranging a compound represented by the formula:
A method for controlling an undesirable plant or inhibiting its growth by applying a herbicidally effective amount of the benzoylpyrazole compound or its salt of claim 1 to an undesirable plant or a place where it grows.
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