JP2007022953A - MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES - Google Patents

MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES Download PDF

Info

Publication number
JP2007022953A
JP2007022953A JP2005206008A JP2005206008A JP2007022953A JP 2007022953 A JP2007022953 A JP 2007022953A JP 2005206008 A JP2005206008 A JP 2005206008A JP 2005206008 A JP2005206008 A JP 2005206008A JP 2007022953 A JP2007022953 A JP 2007022953A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
sulfone
ethyl
fluoro
sulfoxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005206008A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Nakano
貴志 中野
Masanori Sawaguchi
正紀 澤口
Yoshitomi Morisawa
義富 森澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2005206008A priority Critical patent/JP2007022953A/en
Publication of JP2007022953A publication Critical patent/JP2007022953A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a practical method for selectively manufacturing α-fluorocyclic sulfones exhibiting excellent stability. <P>SOLUTION: The cyclic sulfones having a fluorine atom selectively introduced into its α-position is manufactured by causing cyclic sulfoxides or cyclic sulfides having at least one hydrogen atom in the α-position to react with fluorine and water in a liquid phase. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、α‐フルオロ環状スルホン類の製造方法に関する。詳しくは、対応する環状スルホキシド類、環状スルフィド類をフッ素および水と反応させて、α位に選択的にフッ素原子を導入したα‐フルオロ環状スルホン類を製造する方法に関する。本発明により製造されたα‐フルオロ環状スルホン類は、各種溶剤、特に半導体製造における液浸露光用媒体などとして有用である。   The present invention relates to a method for producing α-fluoro cyclic sulfones. Specifically, the present invention relates to a method for producing an α-fluoro cyclic sulfone having a fluorine atom selectively introduced at the α-position by reacting a corresponding cyclic sulfoxide or cyclic sulfide with fluorine and water. The α-fluoro cyclic sulfones produced according to the present invention are useful as various solvents, particularly as a medium for immersion exposure in semiconductor production.

環状スルホン化合物は、沸点が高く、熱的安定性に優れ、高極性で高い誘電率を有する。更に光学的特性としては、高い屈折率を持つため、これらの特性を必要とする用途、例えば、反応溶媒として用いられる。今後は、半導体製造における液浸露光用媒体としても有望である。
しかし、環状スルホン化合物は、一般に融点および粘性が高く、媒体としての利用は制限されている。この問題を解決する方法に、環状スルホン化合物にフッ素原子を導入する方法がある。一般に溶媒分子にフッ素原子を導入することによって、融点、粘度の低下が期待できる。
The cyclic sulfone compound has a high boiling point, excellent thermal stability, high polarity, and high dielectric constant. Furthermore, since it has a high refractive index as optical characteristics, it is used as an application that requires these characteristics, for example, as a reaction solvent. In the future, it is also promising as a medium for immersion exposure in semiconductor manufacturing.
However, cyclic sulfone compounds generally have a high melting point and viscosity, and their use as a medium is limited. As a method of solving this problem, there is a method of introducing a fluorine atom into a cyclic sulfone compound. In general, by introducing a fluorine atom into a solvent molecule, a decrease in melting point and viscosity can be expected.

従来、α‐フルオロアルキルフェニルスルホン類の製造方法としては、対応するスルホキシド類にフッ素ガスを作用させる方法が知られている(非特許文献1〜3)。また、フルオロ環状スルホン類の製造方法としては、スルホレンとフッ素ガスとを反応させる3,4‐ジフルオロスルホランの合成法(非特許文献4)およびスルホラン類を直接フッ素ガスと接触させる方法(特許文献1)が知られているが、いずれも硫黄原子に対してβ位がフッ素化された化合物が主生成物として得られる。スルホン基の電子吸引性の高さから、β‐フルオロ環状スルホン類は、酸性度の高いα位の水素原子とβ位のフッ素原子がフッ化水素として脱離し易く、不安定である。α‐フルオロ環状スルホン類は安定性に優れるが、選択的に製造する方法は全く知られていなかった。   Conventionally, as a method for producing α-fluoroalkylphenyl sulfones, a method in which fluorine gas is allowed to act on a corresponding sulfoxide is known (Non-Patent Documents 1 to 3). In addition, as a method for producing fluorocyclic sulfones, a synthesis method of 3,4-difluorosulfolane in which sulfolene and fluorine gas are reacted (Non-patent Document 4) and a method in which sulfolane is directly contacted with fluorine gas (Patent Document 1). In any case, a compound in which the β-position is fluorinated with respect to the sulfur atom is obtained as the main product. Due to the high electron-withdrawing property of the sulfone group, β-fluoro cyclic sulfones are unstable because the α-position hydrogen atom and β-position fluorine atom, which have high acidity, are easily removed as hydrogen fluoride. Although α-fluoro cyclic sulfones are excellent in stability, no method for selectively producing them has been known.

特開2002‐47286号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-47286 Chem.Lett.,581(1995)Chem. Lett. , 581 (1995) Chem.Pharm.Bull.44,703,(1996)Chem. Pharm. Bull. 44,703, (1996) Tetrahedron Lett.,37,8507,(1996)Tetrahedron Lett. , 37, 8507, (1996) J.Fluorine Chem.,93,27(1999)。J. et al. Fluorine Chem. 93, 27 (1999).

本発明は、α‐フルオロ環状スルホン類を選択的に製造する方法を提供する。   The present invention provides a method for selectively producing α-fluoro cyclic sulfones.

本発明は、環状スルホキシド類、または、環状スルフィド類をフッ素および水と反応させることを特徴とする、以下に示すα‐フルオロ環状スルホン類の製造方法を提供する。   The present invention provides the following method for producing an α-fluoro cyclic sulfone characterized by reacting a cyclic sulfoxide or a cyclic sulfide with fluorine and water.

〔1〕α位に少なくとも1つの水素原子を有する環状スルホキシド類および/または環状スルフィド類を、フッ素および水と液相にて反応させることを特徴とするα‐フルオロ環状スルホン類の製造方法。
〔2〕環状スルホキシド類が下式(I)で表される化合物であり、環状スルフィド類が下式(II)で表される化合物であり、α‐フルオロ環状スルホン類が下式(III)で表される化合物である、上記〔1〕に記載の製造方法。
[1] A method for producing an α-fluoro cyclic sulfone, comprising reacting cyclic sulfoxides and / or cyclic sulfides having at least one hydrogen atom at the α-position with fluorine and water in a liquid phase.
[2] A cyclic sulfoxide is a compound represented by the following formula (I), a cyclic sulfide is a compound represented by the following formula (II), and an α-fluoro cyclic sulfone is represented by the following formula (III): The production method according to the above [1], which is a compound represented.

Figure 2007022953
Figure 2007022953

ただし、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、少なくとも一つは水素原子である。
1F〜R4Fは、炭素数1〜10のアルキル基であるR〜Rに対応するR1F〜R4Fは、R〜Rと同一の炭素数1〜10のアルキル基であり、水素原子であるR〜Rに対応するR1F〜R4Fはフッ素原子または水素原子であり、かつ、フッ素原子であるR1F〜R4Fの数は1または2である。
Qは式−(CH−で表される基、または該基の少なくとも一つの水素原子がアルキル基で置換された基を示す。ここでmは0〜4の整数である。ただし、mが0のとき、Qは単結合を表す。
〔3〕Qが、式−(CH−で表される基、または、該基の少なくとも一つの水素原子がアルキル基で置換された基である上記〔2〕に記載の製造方法。
〔4〕環状スルホキシド類および/または環状スルフィド類を溶媒に溶解させた溶液にフッ素ガスを通じることによってフッ素と反応させる上記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の製造方法。
〔5〕溶媒が孤立電子対を持ち、かつ、官能基を有する上記〔4〕に記載の製造方法。
〔6〕官能基がニトリル基、エーテル基、ヒドロキシル基、3級アミノ基、ハロゲン基、ニトロ基およびアミド基からなる群より選ばれる、上記〔4〕または〔5〕に記載の製造方法。
〔7〕溶媒がニトリル系溶媒である上記〔4〕〜〔6〕のいずれかに記載の製造方法。
〔8〕フッ素ガスを窒素またはヘリウムで希釈して用いる上記〔4〕〜〔7〕のいずれかに記載の製造方法。
〔9〕フッ素および水と反応させる際に、金属塩を存在させる上記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の製造方法。
〔10〕金属塩がアルカリ金属のフッ化物または遷移金属の強酸塩である上記〔9〕に記載の製造方法。
〔11〕金属塩がフッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、硝酸銅、硝酸ニッケル、および硝酸コバルトからなる群より選ばれる金属塩である上記〔9〕または〔10〕に記載の製造方法。
However, R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C10 alkyl group each independently, and at least one is a hydrogen atom.
R 1F to R 4F is R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is an R 1 to R 4 the same alkyl group having 1 to 10 carbon atoms , R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 is a hydrogen atom is a fluorine atom or a hydrogen atom, and the number of R 1F to R 4F is a fluorine atom is 1 or 2.
Q represents a group represented by the formula — (CH 2 ) m —, or a group in which at least one hydrogen atom of the group is substituted with an alkyl group. Here, m is an integer of 0-4. However, when m is 0, Q represents a single bond.
[3] The production method according to the above [2], wherein Q is a group represented by the formula — (CH 2 ) 2 — or a group in which at least one hydrogen atom of the group is substituted with an alkyl group.
[4] The production method according to any one of the above [1] to [3], wherein a fluorine gas is passed through a solution in which cyclic sulfoxides and / or cyclic sulfides are dissolved in a solvent to cause the reaction with fluorine.
[5] The production method according to the above [4], wherein the solvent has a lone electron pair and has a functional group.
[6] The production method according to the above [4] or [5], wherein the functional group is selected from the group consisting of a nitrile group, an ether group, a hydroxyl group, a tertiary amino group, a halogen group, a nitro group and an amide group.
[7] The production method according to any one of [4] to [6], wherein the solvent is a nitrile solvent.
[8] The production method according to any one of [4] to [7], wherein the fluorine gas is diluted with nitrogen or helium.
[9] The production method according to any one of [1] to [8], wherein a metal salt is present when reacting with fluorine and water.
[10] The production method of the above-mentioned [9], wherein the metal salt is an alkali metal fluoride or a transition acid strong acid salt.
[11] The method according to [9] or [10], wherein the metal salt is a metal salt selected from the group consisting of sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, copper nitrate, nickel nitrate, and cobalt nitrate. .

本発明のα‐フルオロ環状スルホン類の新規な製造方法は、α位がフッ素置換された環状スルホン類を選択的に製造する方法として有用である。α‐フルオロ環状スルホン類は、半導体製造における液浸露光用媒体などとして特に有用である。   The novel method for producing α-fluorocyclic sulfones of the present invention is useful as a method for selectively producing cyclic sulfones in which the α-position is fluorine-substituted. α-Fluorocyclic sulfones are particularly useful as an immersion exposure medium in semiconductor production.

本発明における環状スルホキシド類および環状スルフィド類とは、α位に少なくとも1つの水素原子を有する環状スルホキシド類および環状スルフィド類またはその置換体である。置換体とは、環状スルホキシドおよび環状スルフィドの環を形成する炭素原子に置換基が結合した化合物であり、置換基としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましい。環状スルホキシド類および環状スルフィド類のα位には1〜4個の水素原子が存在しうるが、本発明においてはα位に存在する水素原子数は限定されない。
環状スルホキシド構造または環状スルフィド構造は、一般的には、3〜7員環が好ましく、生成物を溶媒として用いる場合においては、3〜5員環が好ましい。環状スルホキシド類としては式(I)で表される化合物が、環状スルフィド類としては式(II)で表される化合物が好ましい。(以下、化合物(I)、(II)と称する。以下同様に、式(X)で表される化合物を化合物(X)と記す。)
The cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in the present invention are cyclic sulfoxides and cyclic sulfides having at least one hydrogen atom at the α-position or a substituted product thereof. The substituent is a compound in which a substituent is bonded to a carbon atom forming a ring of cyclic sulfoxide and cyclic sulfide, and the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Although 1 to 4 hydrogen atoms may exist at the α-position of the cyclic sulfoxides and cyclic sulfides, the number of hydrogen atoms present at the α-position is not limited in the present invention.
In general, the cyclic sulfoxide structure or the cyclic sulfide structure is preferably a 3- to 7-membered ring. When the product is used as a solvent, a 3- to 5-membered ring is preferable. As the cyclic sulfoxide, a compound represented by the formula (I) is preferable, and as the cyclic sulfide, a compound represented by the formula (II) is preferable. (Hereinafter referred to as compounds (I) and (II). Similarly, a compound represented by formula (X) will be referred to as compound (X).)

Figure 2007022953
Figure 2007022953

ただし、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、少なくとも一つは水素原子である。
化合物(I)および(II)において、R〜Rとしてのアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数は1〜10、好ましくは1〜4である。また、アルキル基が複数の場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、イソプロピル基、n‐ブチル基、sec‐ブチル基、tert‐ブチル基、等が挙げられる。
However, R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C10 alkyl group each independently, and at least one is a hydrogen atom.
In the compounds (I) and (II), the alkyl group as R 1 to R 4 may be linear or branched and has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. Moreover, when there are a plurality of alkyl groups, they may be the same or different. Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and the like.

Qは式−(CH−で表される基、または該基の少なくとも一つの水素原子がアルキル基で置換された基を示す。ここでmは0〜4の整数である。ただし、mが0のとき、Qは単結合を表す。Qが置換基として有しうるアルキル基の数は、好ましくは1〜2である。また、該アルキル基の具体例はメチル基、エチル基、n‐プロピル基、イソプロピル基、n‐ブチル基、sec‐ブチル基、tert‐ブチル基、等が挙げられる。 Q represents a group represented by the formula — (CH 2 ) m —, or a group in which at least one hydrogen atom of the group is substituted with an alkyl group. Here, m is an integer of 0-4. However, when m is 0, Q represents a single bond. The number of alkyl groups that Q may have as a substituent is preferably 1-2. Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and the like.

環状スルホキシド類の具体例としては、アルキル基が置換していない環状スルホキシド類、モノアルキル置換体、アルキル基が同じ炭素原子に置換したジアルキル置換体、アルキル基が異なる炭素原子に置換したジアルキル置換体等が挙げられる。
アルキル基が換していない環状スルホキシド類としては、例えばエチレンスルホキシド、トリメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、ペンタメチレンスルホキシド、ヘキサメチレンスルホキシド等が挙げられる。
Specific examples of cyclic sulfoxides include cyclic sulfoxides in which the alkyl group is not substituted, monoalkyl substituted products, dialkyl substituted products in which the alkyl group is substituted with the same carbon atom, dialkyl substituted products in which the alkyl group is substituted with a different carbon atom Etc.
Examples of the cyclic sulfoxides in which the alkyl group is not changed include ethylene sulfoxide, trimethylene sulfoxide, tetramethylene sulfoxide, pentamethylene sulfoxide, hexamethylene sulfoxide and the like.

モノアルキル置換環状スルホキシド類としては、つぎの例が挙げられる。2‐メチルエチレンスルホキシド、2‐エチルエチレンスルホキシド、2‐メチルトリメチレンスルホキシド、2‐エチルトリメチレンスルホキシド、3‐メチルトリメチレンスルホキシド、3‐エチルトリメチレンスルホキシド、2‐メチルテトラメチレンスルホキシド、2‐エチルテトラメチレンスルホキシド、3‐メチルテトラメチレンスルホキシド、3‐エチルテトラメチレンスルホキシド、2‐メチルペンタメチレンスルホキシド、2‐エチルペンタメチレンスルホキシド、3‐メチルペンタメチレンスルホキシド、3‐エチルペンタメチレンスルホキシド、4‐メチルペンタメチレンスルホキシド、4‐エチルペンタメチレンスルホキシド、2‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチルヘキサメチレンスルホキシド、3‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、3‐エチルヘキサメチレンスルホキシド、4‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、4‐エチルヘキサメチレンスルホキシド等。   Examples of monoalkyl-substituted cyclic sulfoxides include the following. 2-methylethylene sulfoxide, 2-ethylethylene sulfoxide, 2-methyltrimethylene sulfoxide, 2-ethyltrimethylene sulfoxide, 3-methyltrimethylene sulfoxide, 3-ethyltrimethylene sulfoxide, 2-methyltetramethylene sulfoxide, 2-ethyl Tetramethylene sulfoxide, 3-methyltetramethylene sulfoxide, 3-ethyltetramethylene sulfoxide, 2-methylpentamethylene sulfoxide, 2-ethylpentamethylene sulfoxide, 3-methylpentamethylene sulfoxide, 3-ethylpentamethylene sulfoxide, 4-methylpenta Methylene sulfoxide, 4-ethylpentamethylene sulfoxide, 2-methylhexamethylene sulfoxide, 2-ethylhexamethylene sulfoxide, 3 Hexamethylene sulfoxide, 3-ethyl-hexamethylene sulfoxide, 4-methyl hexamethylene sulfoxide, 4-ethyl-hexamethylene sulfoxide.

アルキル基が同じ炭素原子に置換したジアルキル置換環状スルホキシド類としては、つぎの例が挙げられる。2,2‐ジメチルエチレンスルホキシド、2,2‐ジエチルエチレンスルホキシド、2‐エチル−2‐メチルエチレンスルホキシド、2,2‐ジメチルトリメチレンスルホキシド、2,2‐ジエチルトリメチレンスルホキシド、2‐エチル−2‐メチルトリメチレンスルホキシド、3,3‐ジメチルトリメチレンスルホキシド、3,3‐ジエチルトリメチレンスルホキシド、3‐エチル−3‐メチルトリメチレンスルホキシド、2,2‐ジメチルテトラメチレンスルホキシド、2,2‐ジエチルテトラメチレンスルホキシド、2‐エチル−2‐メチルテトラメチレンスルホキシド、3,3‐ジメチルテトラメチレンスルホキシド、3,3‐ジエチルテトラメチレンスルホキシド、3‐エチル−3‐メチルテトラメチレンスルホキシド、2,2‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド、2,2‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、2‐エチル−2‐メチルペンタメチレンスルホキシド、3,3‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド、3,3‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、3‐エチル−3‐メチルペンタメチレンスルホキシド、4,4‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド、4,4‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、4‐エチル−4‐メチルペンタメチレンスルホキシド、2,2‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、2,2‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチル−2‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、3,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、3,3‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、3‐エチル−3‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、4,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、4,4‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、4‐エチル−4‐メチルヘキサメチレンスルホキシド等。   Examples of dialkyl-substituted cyclic sulfoxides in which an alkyl group is substituted on the same carbon atom include the following examples. 2,2-dimethylethylene sulfoxide, 2,2-diethylethylene sulfoxide, 2-ethyl-2-methylethylene sulfoxide, 2,2-dimethyltrimethylene sulfoxide, 2,2-diethyltrimethylene sulfoxide, 2-ethyl-2- Methyltrimethylene sulfoxide, 3,3-dimethyltrimethylene sulfoxide, 3,3-diethyltrimethylene sulfoxide, 3-ethyl-3-methyltrimethylene sulfoxide, 2,2-dimethyltetramethylene sulfoxide, 2,2-diethyltetramethylene Sulfoxide, 2-ethyl-2-methyltetramethylene sulfoxide, 3,3-dimethyltetramethylene sulfoxide, 3,3-diethyltetramethylene sulfoxide, 3-ethyl-3-methyltetramethylene sulfoxide, 2,2 Dimethylpentamethylene sulfoxide, 2,2-diethylpentamethylene sulfoxide, 2-ethyl-2-methylpentamethylene sulfoxide, 3,3-dimethylpentamethylene sulfoxide, 3,3-diethylpentamethylene sulfoxide, 3-ethyl-3-methyl Pentamethylene sulfoxide, 4,4-dimethylpentamethylene sulfoxide, 4,4-diethylpentamethylene sulfoxide, 4-ethyl-4-methylpentamethylene sulfoxide, 2,2-dimethylhexamethylene sulfoxide, 2,2-diethylhexamethylene sulfoxide 2-ethyl-2-methylhexamethylene sulfoxide, 3,3-dimethylhexamethylene sulfoxide, 3,3-diethylhexamethylene sulfoxide, 3-ethyl-3-methylhexamethyl Nsuruhokishido, 4,4-dimethyl hexamethylene sulfoxide, 4,4-diethyl hexamethylene sulfoxide, 4-ethyl-4-methyl hexamethylene sulfoxide.

アルキル基が異なる炭素原子に置換したジアルキル置換環状スルホキシド類としては、つぎの例が挙げられる。2,3‐ジメチルエチレンスルホキシド、2,3‐ジエチルエチレンスルホキシド、2‐エチル−3‐メチルエチレンスルホキシド、2,3‐ジメチルトリメチレンスルホキシド、2,3‐ジエチルトリメチレンスルホキシド、2‐エチル−3‐メチルトリメチレンスルホキシド、3‐エチル−2‐メチルトリメチレンスルホキシド、2,4‐ジメチルトリメチレンスルホキシド、2,4‐ジエチルトリメチレンスルホキシド、2‐エチル−4‐メチルトリメチレンスルホキシド、2,3‐ジメチルテトラメチレンスルホキシド、2,3‐ジエチルテトラメチレンスルホキシド、2‐エチル−3‐メチルテトラメチレンスルホキシド、3‐エチル−2‐メチルテトラメチレンスルホキシド、2,4‐ジメチルテトラメチレンスルホキシド、2,4‐ジエチルテトラメチレンスルホキシド、2‐エチル−4‐メチルテトラメチレンスルホキシド、2,5−ジメチルテトラメチレンスルホキシド、2,5−ジエチルテトラメチレンスルホキシド、2−エチル−5−メチルテトラメチレンスルホキシド、2,3‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド、2,3‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、2‐エチル−3‐メチルペンタメチレンスルホキシド、3‐エチル−2‐メチルペンタメチレンスルホキシド、2,4‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド。   Examples of the dialkyl-substituted cyclic sulfoxides in which the alkyl group is substituted with a different carbon atom include the following examples. 2,3-dimethylethylene sulfoxide, 2,3-diethylethylene sulfoxide, 2-ethyl-3-methylethylene sulfoxide, 2,3-dimethyltrimethylene sulfoxide, 2,3-diethyltrimethylene sulfoxide, 2-ethyl-3- Methyl trimethylene sulfoxide, 3-ethyl-2-methyl trimethylene sulfoxide, 2,4-dimethyl trimethylene sulfoxide, 2,4-diethyl trimethylene sulfoxide, 2-ethyl-4-methyl trimethylene sulfoxide, 2,3-dimethyl Tetramethylene sulfoxide, 2,3-diethyltetramethylene sulfoxide, 2-ethyl-3-methyltetramethylene sulfoxide, 3-ethyl-2-methyltetramethylene sulfoxide, 2,4-dimethyltetramethylene sulfoxide, 2 4-diethyltetramethylene sulfoxide, 2-ethyl-4-methyltetramethylene sulfoxide, 2,5-dimethyltetramethylene sulfoxide, 2,5-diethyltetramethylene sulfoxide, 2-ethyl-5-methyltetramethylene sulfoxide, 2,3 -Dimethylpentamethylene sulfoxide, 2,3-diethylpentamethylene sulfoxide, 2-ethyl-3-methylpentamethylene sulfoxide, 3-ethyl-2-methylpentamethylene sulfoxide, 2,4-dimethylpentamethylene sulfoxide.

2,4‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、2‐エチル−4‐メチルペンタメチレンスルホキシド、4‐エチル−2‐メチルペンタメチレンスルホキシド、2,5‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド、2,5‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、2‐エチル−5‐メチルペンタメチレンスルホキシド、5‐エチル−2‐メチルペンタメチレンスルホキシド、2,6‐ジメチルペンタメチレンスルホキシド、2,6‐ジエチルペンタメチレンスルホキシド、2‐エチル−6‐メチルペンタメチレンスルホキシド、2,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、2,3‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチル−3‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、3‐エチル−2‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、2,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、2,4‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチル−4‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、4‐エチル−2‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、2,5‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、2,5‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチル−5‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、5‐エチル−2‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、2,6‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、2,6‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチル−6‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、6‐エチル−2‐メチルヘキサメチレンスルホキシド、2,7‐ジメチルヘキサメチレンスルホキシド、2,7‐ジエチルヘキサメチレンスルホキシド、2‐エチル−7‐メチルヘキサメチレンスルホキシド等。   2,4-diethylpentamethylene sulfoxide, 2-ethyl-4-methylpentamethylene sulfoxide, 4-ethyl-2-methylpentamethylene sulfoxide, 2,5-dimethylpentamethylene sulfoxide, 2,5-diethylpentamethylene sulfoxide, 2, -Ethyl-5-methylpentamethylene sulfoxide, 5-ethyl-2-methylpentamethylene sulfoxide, 2,6-dimethylpentamethylene sulfoxide, 2,6-diethylpentamethylene sulfoxide, 2-ethyl-6-methylpentamethylene sulfoxide, 2,3-dimethylhexamethylene sulfoxide, 2,3-diethylhexamethylene sulfoxide, 2-ethyl-3-methylhexamethylene sulfoxide, 3-ethyl-2-methylhexamethylene sulfoxide, 2,4- Methylhexamethylene sulfoxide, 2,4-diethylhexamethylene sulfoxide, 2-ethyl-4-methylhexamethylene sulfoxide, 4-ethyl-2-methylhexamethylene sulfoxide, 2,5-dimethylhexamethylene sulfoxide, 2,5-diethyl Hexamethylene sulfoxide, 2-ethyl-5-methylhexamethylene sulfoxide, 5-ethyl-2-methylhexamethylene sulfoxide, 2,6-dimethylhexamethylene sulfoxide, 2,6-diethylhexamethylene sulfoxide, 2-ethyl-6- Methylhexamethylene sulfoxide, 6-ethyl-2-methylhexamethylene sulfoxide, 2,7-dimethylhexamethylene sulfoxide, 2,7-diethylhexamethylene sulfoxide, 2-ethyl-7-methyl Hexamethylene sulfoxide.

スルフィド類の具体例としては、前記スルホキシド類の各例示化合物において>S=Oを−S−で置き換えたスルフィド類を挙げることができる。   Specific examples of sulfides include sulfides in which> S═O is replaced by —S— in each of the exemplified compounds of the sulfoxides.

本発明の環状スルホキシド類および/または環状スルフィド類(以下、これらを総称して基質ともいう。)は、フッ素および水と反応することによりα位の水素原子のフッ素化と硫黄原子のスルホン化とが起こり、α−フルオロ環状スルホン類に変換される。基質としては、環状スルホキシド類および環状スルフィド類を単独使用しても、併用してもよい。   The cyclic sulfoxides and / or cyclic sulfides of the present invention (hereinafter collectively referred to as a substrate) react with fluorine and water to fluorinate an α-position hydrogen atom and sulfonate a sulfur atom. Occurs and is converted to α-fluoro cyclic sulfones. As the substrate, cyclic sulfoxides and cyclic sulfides may be used alone or in combination.

本発明においては基質を、液相にて反応させる。すなわち、基質自体が反応条件において液体である場合にはそのままを用いてもよく、溶媒に基質を溶解させて液状としたものを用いてもよい。
溶媒を用いる場合の溶媒としては、基質に比してフッ素に対する反応性が低い溶媒であり、かつフッ素分子を分極する溶媒が好ましい。またフッ素と反応しうる溶媒であったとしても、溶媒とフッ素との反応により生成する化合物が、基質をフッ素化するフッ素化剤となりうる溶媒(たとえば、アルコール系溶媒)が好ましい。さらに溶媒としては、孤立電子対と官能基を有する溶媒が好ましく、該溶媒のうち誘電率が高い溶媒を選択するのが好ましい。官能基としては、ニトリル基、エーテル基、ヒドロキシル基、3級アミノ基、ハロゲン基、ニトロ基およびアミド基が挙げられる。
In the present invention, the substrate is reacted in the liquid phase. That is, when the substrate itself is a liquid under the reaction conditions, the substrate may be used as it is, or a substrate obtained by dissolving the substrate in a solvent may be used.
As the solvent in the case of using a solvent, a solvent having a low reactivity with respect to fluorine as compared with the substrate and a solvent that polarizes fluorine molecules is preferable. Moreover, even if it is a solvent that can react with fluorine, a solvent (for example, an alcohol solvent) in which the compound formed by the reaction of the solvent and fluorine can be a fluorinating agent that fluorinates the substrate is preferable. Further, as the solvent, a solvent having a lone electron pair and a functional group is preferable, and a solvent having a high dielectric constant is preferably selected from the solvents. Examples of functional groups include nitrile groups, ether groups, hydroxyl groups, tertiary amino groups, halogen groups, nitro groups, and amide groups.

孤立電子対と官能基を有する溶媒としては、ニトリル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、アミン系溶媒、塩素系溶媒、ニトロ系溶媒、およびアルキルホルムアミド系溶媒が挙げられ、ニトリル系溶媒が好ましい。溶媒は1種または2種以上を用いることができる。
溶媒の具体例としては、つぎの例が挙げられる。アセトニトリル、プロパンニトリル、tert‐ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、1‐プロパノール、2‐プロパノール、1‐ブタノール、2‐ブタノール、2‐メチル‐2‐プロパノール、2,2,2‐トリフルオロエタノール、ペルフルオロトリエチルアミン、ペルフルオロトリ‐n‐ブチルアミン、塩化メチレン、クロロホルム、ニトロメタン、ニトロエタンおよびジメチルホルムアミドなど。特にアセトニトリルおよびプロパンニトリルが好ましい。
使用する溶媒量は、基質の溶媒に対する溶解性によるが、基質に対して0.1倍重量以上が好ましく、1〜1000倍重量がより好ましい。
Examples of the solvent having a lone electron pair and a functional group include nitrile solvents, ether solvents, alcohol solvents, amine solvents, chlorine solvents, nitro solvents, and alkylformamide solvents, and nitrile solvents are preferred. . 1 type (s) or 2 or more types can be used for a solvent.
Specific examples of the solvent include the following examples. Acetonitrile, propanenitrile, tert-butyl methyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol, 2,2 , 2-trifluoroethanol, perfluorotriethylamine, perfluorotri-n-butylamine, methylene chloride, chloroform, nitromethane, nitroethane and dimethylformamide. In particular, acetonitrile and propanenitrile are preferable.
The amount of the solvent used depends on the solubility of the substrate in the solvent, but is preferably 0.1 times or more, more preferably 1 to 1000 times the weight of the substrate.

フッ素は、フッ素ガスをそのまま用いるか、不活性ガスで希釈されたフッ素ガスを用いるのが好ましい。不活性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガスが好ましく、経済的な理由から、窒素ガスが特に好ましい。窒素ガス中のフッ素ガスの割合は、特に限定されず、0.5〜50%が好ましく、2〜25%がより好ましい。フッ素は、液状の基質、または、基質を含む液状物に溶解した後に、基質と反応すると考えられる。   As fluorine, it is preferable to use fluorine gas as it is or fluorine gas diluted with an inert gas. As the inert gas, nitrogen gas and helium gas are preferable, and nitrogen gas is particularly preferable for economical reasons. The ratio of the fluorine gas in nitrogen gas is not specifically limited, 0.5 to 50% is preferable and 2 to 25% is more preferable. Fluorine is considered to react with a substrate after being dissolved in a liquid substrate or a liquid containing the substrate.

フッ素化反応の反応形式は、バッチ式であっても連続式であってもよい。例えば、反応器に基質と溶媒とを仕込み、撹拌しながらフッ素ガスを溶液中に連続的に供給しながら反応させる方法が挙げられる。また、本反応はマイクロリアクターのような装置を用いて、基質溶液とフッ素ガスを一定の割合で連続的に供給し反応させる方法で実施してもよい。   The reaction type of the fluorination reaction may be a batch type or a continuous type. For example, there is a method in which a substrate and a solvent are charged into a reactor, and the reaction is carried out while continuously supplying fluorine gas to the solution while stirring. Further, this reaction may be carried out by a method in which a substrate solution and fluorine gas are continuously supplied and reacted at a constant ratio using an apparatus such as a microreactor.

本反応で用いられるフッ素ガスの量は、基質に対して0.1倍モル〜20倍モルが好ましく、1倍モル〜10倍モルが特に好ましい。   The amount of fluorine gas used in this reaction is preferably from 0.1 to 20 times mol, particularly preferably from 1 to 10 times mol to the substrate.

本反応は、大きな発熱を伴うことから、充分除熱を行いながら実施する必要がある。従って反応温度の下限は、溶媒を用いる場合には溶媒の融点付近、溶媒を用いない場合には基質の融点付近が好ましい。通常の場合には、反応収率、選択率、および工業的実施のしやすさの点から、反応温度は−100℃〜+50℃が好ましく、−50〜+20℃が特に好ましい。   Since this reaction involves a large exotherm, it is necessary to carry out the reaction while sufficiently removing heat. Therefore, the lower limit of the reaction temperature is preferably around the melting point of the solvent when a solvent is used, and around the melting point of the substrate when no solvent is used. In the usual case, the reaction temperature is preferably −100 ° C. to + 50 ° C., particularly preferably −50 to + 20 ° C., from the viewpoint of reaction yield, selectivity, and ease of industrial implementation.

本発明の反応は、基質をフッ素と水と反応させる。水の量は基質が環状スルホキシドである場合には、基質に対して1〜1000倍モルが好ましく、基質が環状スルフィドである場合には基質に対して2〜1000倍モルが好ましい。水は、反応当初から反応系中に存在させてもよく、フッ素との反応が終了した後に反応系中に添加してもよく、反応当初とフッ素との反応の後の2段階に分けて反応系中に添加してもよい。
基質が環状スルホキシド類である場合には、フッ素との反応が終了した後に反応系中に水を添加するのが好ましい。基質が環状スルフィドである場合には、反応当初から反応系中に存在するのが好ましい。反応当初に添加する場合の水の量は、少量であるのが好ましく、基質に対して0.5〜1.5倍モルが好ましい。また、後述する金属塩が水和物である場合には、水和物としての水も反応に関与する水になる。また水は反応溶媒としても作用しうる。
In the reaction of the present invention, a substrate is reacted with fluorine and water. When the substrate is a cyclic sulfoxide, the amount of water is preferably 1 to 1000-fold mol with respect to the substrate, and when the substrate is a cyclic sulfide, it is preferably 2 to 1000-fold mol with respect to the substrate. Water may be present in the reaction system from the beginning of the reaction, or may be added to the reaction system after the reaction with fluorine is completed, and the reaction is divided into two stages after the reaction and after the reaction with fluorine. It may be added to the system.
When the substrate is a cyclic sulfoxide, it is preferable to add water to the reaction system after the reaction with fluorine is completed. When the substrate is a cyclic sulfide, it is preferably present in the reaction system from the beginning of the reaction. The amount of water in the case of adding at the beginning of the reaction is preferably a small amount, and preferably 0.5 to 1.5 moles relative to the substrate. Moreover, when the metal salt mentioned later is a hydrate, the water as a hydrate also becomes water involved in the reaction. Water can also act as a reaction solvent.

本発明の反応は、反応系中に金属塩を共存させると、収率低下の原因となるタール状物質の副生を抑制することができるため好ましい。金属塩としては、アルカリ金属のフッ化物、または、遷移金属の強酸塩が挙げられる。アルカリ金属のフッ化物としては、フッ化ナトリウム、フッ化カリウムおよびフッ化セシウムが好ましく、経済的な観点から、フッ化ナトリウムおよびフッ化カリウムが特に好ましい。遷移金属の強酸塩としては、銅、ニッケル、コバルトの硝酸塩、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、硫酸塩、テトラフルオロほう酸塩、過塩素酸塩が好ましい。具体的には硝酸銅(II)、過塩素酸銅(II)、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、硫酸銅(II)、テトラフルオロほう酸銅(II)、硝酸ニッケル(II)、硫酸ニッケル(II)、硝酸コバルト(II)、過塩素酸コバルト(II)、硫酸コバルト(II)、テトラフルオロほう酸コバルト(II)等が好ましく、硝酸銅(II)、硝酸ニッケル(II)、硝酸コバルト(II)が特に好ましい。また、上記遷移金属の強酸塩は水和物の形態で用いてもよい。使用する金属塩の量は、アルカリ金属のフッ化物の場合、基質に対して1〜30倍モルが好ましく、5〜20倍モルが特に好ましい。遷移金属の強酸塩の場合には、触媒量でよく、基質に対して0.01〜0.5倍モルが好ましく、特に好ましくは、0.02〜0.2倍モルである。   In the reaction of the present invention, when a metal salt is allowed to coexist in the reaction system, it is preferable because by-product of a tar-like substance that causes a decrease in yield can be suppressed. Examples of the metal salt include alkali metal fluorides or strong transition metal salts. As the alkali metal fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride and cesium fluoride are preferable, and sodium fluoride and potassium fluoride are particularly preferable from an economical viewpoint. As the strong acid salt of the transition metal, copper, nickel, cobalt nitrate, perchlorate, trifluoromethanesulfonate, sulfate, tetrafluoroborate, and perchlorate are preferable. Specifically, copper (II) nitrate, copper (II) perchlorate, copper (II) trifluoromethanesulfonate, copper (II) sulfate, copper (II) tetrafluoroborate, nickel (II) nitrate, nickel sulfate ( II), cobalt nitrate (II), cobalt perchlorate (II), cobalt sulfate (II), cobalt tetrafluoroborate (II) and the like are preferable, copper nitrate (II), nickel nitrate (II), cobalt nitrate (II) Is particularly preferred. Further, the strong acid salt of the transition metal may be used in the form of a hydrate. In the case of an alkali metal fluoride, the amount of the metal salt to be used is preferably 1 to 30-fold mol, particularly preferably 5 to 20-fold mol based on the substrate. In the case of a strong transition metal salt, a catalytic amount may be used, and it is preferably 0.01 to 0.5-fold mol, particularly preferably 0.02 to 0.2-fold mol based on the substrate.

本発明の反応により生成するα‐フルオロ環状スルホン類とは、α位に少なくとも1つのフッ素原子を有するスルホン酸またはその置換体である。置換体とは、スルホン酸の環を形成する炭素原子に置換基が結合した化合物であり、置換基としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましい。α位には最大4つのフッ素原子が存在しうるが、本発明においてはα位に存在するフッ素原子数は1または2個が好ましい。さらにフッ素原子を2個有するα‐フルオロ環状スルホン類としては、α,α’−ジフルオロ環状スルホン類が好ましい。
本発明の反応を、前記の化合物(I)および/または化合物(II)において実施した場合には、α‐フルオロ環状スルホン類として下記化合物(III)が生成する。
The α-fluorocyclic sulfones generated by the reaction of the present invention are sulfonic acids having at least one fluorine atom at the α-position or a substituted product thereof. The substituent is a compound in which a substituent is bonded to a carbon atom forming a ring of sulfonic acid, and the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Although a maximum of 4 fluorine atoms can exist at the α-position, the number of fluorine atoms present at the α-position is preferably 1 or 2 in the present invention. Furthermore, α, α′-difluorocyclic sulfones are preferable as the α-fluoro cyclic sulfones having two fluorine atoms.
When the reaction of the present invention is carried out in the aforementioned compound (I) and / or compound (II), the following compound (III) is produced as α-fluoro cyclic sulfones.

Figure 2007022953
Figure 2007022953

式中、Qの意味は化合物(I)、(II)と同様である。R1F〜R4Fは、炭素数1〜10のアルキル基であるR〜Rに対応するR1F〜R4Fは、R〜Rと同一の炭素数1〜10のアルキル基であり、水素原子であるR〜Rに対応するR1F〜R4Fはフッ素原子または水素原子であり、かつ、フッ素原子であるR1F〜R4Fの数は1または2である。R〜Rが水素原子の場合のみフッ素原子による置換が起こる。アルキル基は反応前後で変化しない。すなわち炭素数1〜10のアルキル基であるR〜Rに対応するR1F〜R4FはR〜Rと同一のアルキル基を示す。 In the formula, the meaning of Q is the same as in the compounds (I) and (II). R 1F to R 4F is R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is an R 1 to R 4 the same alkyl group having 1 to 10 carbon atoms , R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 is a hydrogen atom is a fluorine atom or a hydrogen atom, and the number of R 1F to R 4F is a fluorine atom is 1 or 2. Only when R 1 to R 4 are hydrogen atoms, substitution with fluorine atoms occurs. The alkyl group does not change before and after the reaction. That is, R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 , which is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, represents the same alkyl group as R 1 to R 4 .

ここで、上記環状スルホキシド類あるいは環状スルフィド類におけるα位の水素原子数は最大4個であるため、得られるα‐フルオロ環状スルホン類にはモノフルオロ体、ジフルオロ体からテトラフルオロ体まで種々の置換体が考えられる。本願方法では主にモノフルオロ体および/またはジフルオロ体が得られる。よって、R〜Rの1〜4個が水素原子である場合には、該水素原子の1または2個がフッ素化される。フッ素置換は、炭素数1〜10のアルキル基が置換する炭素原子に結合する水素原子に起こりやすい傾向がある。 Here, the number of hydrogen atoms at the α-position in the above cyclic sulfoxides or cyclic sulfides is a maximum of 4, so that the obtained α-fluoro cyclic sulfones have various substitutions from monofluoro, difluoro to tetrafluoro forms. The body is considered. In the method of the present application, a monofluoro form and / or a difluoro form are mainly obtained. Therefore, when 1 to 4 of R 1 to R 4 are hydrogen atoms, 1 or 2 of the hydrogen atoms are fluorinated. Fluorine substitution tends to occur easily on a hydrogen atom bonded to a carbon atom substituted by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

ジフルオロ体にはα,α−ジフルオロ体と従来製造法が全く知られていなかったα,α’−ジフルオロ体の二種類がある。本願方法によれば反応条件を調節することにより、α,α’‐ジフルオロ環状スルホン類を高選択率で得ることができる。具体的には、基質にα,α,α’,α’−テトラヒドロ体(−CH−S(O)−CH−)を用いるとα,α’−ジフルオロ体(−CHF−S(O)−CHF−)が主生成物となる。基質にα,α,α’−トリヒドロ−α’−モノアルキル体(−CH−S(O)−CHR−)を用いると、α,α’−ジフルオロ体(−CHF−S(O)−CFR−)が主生成物となる。α,α’−ジフルオロ体が生成するのは、フッ素原子が一つ置換すると残余の水素原子が抜け難くなるためと考えられる。
また、本発明の反応は立体選択性は有さないが位置選択性を有する。したがって生成物にシス/トランス、鏡像異性体が存在する場合には、それらの全てを含む。
There are two types of difluoro compounds: α, α-difluoro compounds and α, α′-difluoro compounds for which no conventional production method has been known. According to the method of the present application, α, α′-difluorocyclic sulfones can be obtained with high selectivity by adjusting the reaction conditions. Specifically, when α, α, α ′, α′-tetrahydro form (—CH 2 —S (O) —CH 2 —) is used as a substrate, α, α′-difluoro form (—CHF—S (O ) 2- CHF-) is the main product. When α, α, α′-trihydro-α′-monoalkyl (—CH 2 —S (O) —CHR—) is used as a substrate, α, α′-difluoro (—CHF—S (O) 2 -CFR-) is the main product. The α, α′-difluoro product is thought to be formed because it is difficult for the remaining hydrogen atoms to escape when one fluorine atom is substituted.
In addition, the reaction of the present invention does not have stereoselectivity but has regioselectivity. Thus, if the product contains cis / trans, enantiomers, all of them are included.

本発明の反応で生成するα‐フルオロ環状スルホン類の具体例を以下に示す。
アルキル基が置換しない環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα−モノフルオロ環状スルホン類の例としては、つぎの化合物が挙げられる。
2‐フルオロエチレンスルホン、2‐フルオロトリメチレンスルホン、2‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐フルオロヘキサメチレンスルホン等。
Specific examples of the α-fluoro cyclic sulfones produced by the reaction of the present invention are shown below.
Examples of α-monofluorocyclic sulfones obtained from cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in which the alkyl group is not substituted include the following compounds.
2-fluoroethylene sulfone, 2-fluorotrimethylene sulfone, 2-fluorotetramethylene sulfone, 2-fluoropentamethylene sulfone, 2-fluorohexamethylene sulfone and the like.

モノアルキル置換した環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα−モノフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
2‐フルオロ‐2‐メチルエチレンスルホン、2‐フルオロ‐3‐メチルエチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロエチレンスルホン、2‐エチル‐3‐フルオロエチレンスルホン、2‐フルオロ‐2‐メチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4‐メチルトリメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロトリメチレンスルホン、2‐エチル‐4‐フルオロトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3‐エチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐5‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐5‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4‐メチルテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐6‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン。
Examples of α-monofluorocyclic sulfones obtained from monoalkyl-substituted cyclic sulfoxides and cyclic sulfides include the following.
2-Fluoro-2-methylethylenesulfone, 2-fluoro-3-methylethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoroethylenesulfone, 2-ethyl-3-fluoroethylenesulfone, 2-fluoro-2-methyltrimethylenesulfone 2-fluoro-4-methyltrimethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluorotrimethylenesulfone, 2-ethyl-4-fluorotrimethylenesulfone, 2-fluoro-3-methyltrimethylenesulfone, 2-fluoro-3 -Ethyltrimethylenesulfone, 2-fluoro-2-methyltetramethylenesulfone, 2-fluoro-5-methyltetramethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluorotetramethylenesulfone, 2-ethyl-5-fluorotetramethylenesulfone, 2-Fluoro-3-methyltetra Tylene sulfone, 2-fluoro-4-methyltetramethylene sulfone, 3-ethyl-2-fluorotetramethylene sulfone, 4-ethyl-2-fluorotetramethylene sulfone, 2-fluoro-2-methylpentamethylene sulfone, 2-fluoro -6-methylpentamethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoropentamethylenesulfone.

2‐エチル‐6‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐5‐メチルペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4‐メチルペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐7‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐7‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐6‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、6‐エチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐5‐メチルヘキサメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン等。   2-ethyl-6-fluoropentamethylenesulfone, 2-fluoro-3-methylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-5-methylpentamethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoropentamethylenesulfone, 5-ethyl-2- Fluoropentamethylenesulfone, 2-fluoro-4-methylpentamethylenesulfone, 4-ethyl-2-fluoropentamethylenesulfone, 2-fluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-7-methylhexamethylenesulfone, 2 -Ethyl-2-fluorohexamethylenesulfone, 2-ethyl-7-fluorohexamethylenesulfone, 2-fluoro-3-methylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-6-methylhexamethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoro Hexamethylenesulfur 6-ethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 2-fluoro-4-methylhexamethylene sulfone, 2-fluoro-5-methylhexamethylene sulfone, 4-ethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 5-ethyl- 2-fluorohexamethylene sulfone and the like.

2つのアルキル基が同一炭素原子にジアルキル置換した環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα−モノフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
3‐フルオロ‐2,2‐ジメチルエチレンスルホン、2,2‐ジエチル‐3‐フルオロエチレンスルホン、2‐エチル‐3‐フルオロ‐2‐メチルエチレンスルホン、4‐フルオロ‐2,2‐ジメチルトリメチレンスルホン、2,2‐ジエチル‐4‐フルオロトリメチレンスルホン、2‐エチル‐4‐フルオロ‐2‐メチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,3‐ジメチルトリメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2‐フルオロトリメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、5‐フルオロ‐2,2‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,2‐ジエチル‐5‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐5‐フルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,3‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4,4‐ジメチルテトラメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、4,4‐ジエチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルテトラメチレンスルホン。
Examples of α-monofluorocyclic sulfones obtained from cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in which two alkyl groups are dialkyl-substituted at the same carbon atom include the following.
3-fluoro-2,2-dimethylethylenesulfone, 2,2-diethyl-3-fluoroethylenesulfone, 2-ethyl-3-fluoro-2-methylethylenesulfone, 4-fluoro-2,2-dimethyltrimethylenesulfone 2,2-diethyl-4-fluorotrimethylenesulfone, 2-ethyl-4-fluoro-2-methyltrimethylenesulfone, 2-fluoro-3,3-dimethyltrimethylenesulfone, 3,3-diethyl-2- Fluorotrimethylene sulfone, 3-ethyl-2-fluoro-3-methyltrimethylene sulfone, 5-fluoro-2,2-dimethyltetramethylene sulfone, 2,2-diethyl-5-fluorotetramethylene sulfone, 2-ethyl- 5-Fluoro-2-methyltetramethylene sulfone, 2-fluoro-3,3-di Tyltetramethylenesulfone, 2-fluoro-4,4-dimethyltetramethylenesulfone, 3,3-diethyl-2-fluorotetramethylenesulfone, 4,4-diethyl-2-fluorotetramethylenesulfone, 3-ethyl-2- Fluoro-3-methyltetramethylene sulfone, 4-ethyl-2-fluoro-4-methyltetramethylene sulfone.

6‐フルオロ‐2,2‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,2‐ジエチル‐6‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐6‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,3‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐5,5‐ジメチルペンタメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐6‐フルオロペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐6‐フルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4,4‐ジメチルペンタメチレンスルホン、4,4‐ジエチル‐2‐フルオロ‐ペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルペンタメチレンスルホン、7‐フルオロ‐2,2‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,2‐ジエチル‐7‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐7‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、7‐フルオロ‐3,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐7‐フルオロヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐7‐フルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐5,5‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、4,4‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、5,5‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロ‐5‐メチルヘキサメチレンスルホン。   6-fluoro-2,2-dimethylpentamethylenesulfone, 2,2-diethyl-6-fluoropentamethylenesulfone, 2-ethyl-6-fluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-3,3-dimethyl Pentamethylene sulfone, 2-fluoro-5,5-dimethylpentamethylene sulfone, 3,3-diethyl-2-fluoropentamethylene sulfone, 3,3-diethyl-6-fluoropentamethylene sulfone, 3-ethyl-2-fluoro -3-methylpentamethylene sulfone, 3-ethyl-6-fluoro-3-methylpentamethylene sulfone, 2-fluoro-4,4-dimethylpentamethylene sulfone, 4,4-diethyl-2-fluoro-pentamethylene sulfone, 4-ethyl-2-fluoro-4-methylpentamethylenes Hong, 7-fluoro-2,2-dimethylhexamethylenesulfone, 2,2-diethyl-7-fluorohexamethylenesulfone, 2-ethyl-7-fluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-3,3 -Dimethylhexamethylene sulfone, 7-fluoro-3,3-dimethylhexamethylene sulfone, 3,3-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 3,3-diethyl-7-fluorohexamethylene sulfone, 3-ethyl-2 -Fluoro-3-methylhexamethylenesulfone, 3-ethyl-7-fluoro-3-methylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-4,4-dimethylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-5,5-dimethylhexamethylenesulfone 4,4-Diethyl-2-fluorohexamethylenes Hong, 5,5-diethyl-2-fluoro-hexamethylene sulfone, 4-ethyl-2-fluoro-4-methyl-hexamethylene sulfone, 5-ethyl-2-fluoro-5-methyl-hexamethylene sulfone.

2つのアルキル基が異なる炭素原子にジアルキル置換した環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα−モノフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
2‐フルオロ‐2,3‐ジメチルエチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2‐フルオロエチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルエチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルエチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,3‐ジメチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,4‐ジメチルトリメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2‐フルオロトリメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐4‐フルオロトリメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、2‐エチル‐4‐フルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルトリメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,4‐ジメチルトリメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2‐フルオロトリメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルトリメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルトリメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,3‐ジメチルテトラメチレンスルホン。
Examples of α-monofluorocyclic sulfones obtained from cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in which two alkyl groups are dialkyl-substituted on different carbon atoms include the following.
2-fluoro-2,3-dimethylethylenesulfone, 2,3-diethyl-2-fluoroethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro-3-methylethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoro-2-methylethylene Sulfone, 2-fluoro-2,3-dimethyltrimethylenesulfone, 2-fluoro-3,4-dimethyltrimethylenesulfone, 2,3-diethyl-2-fluorotrimethylenesulfone, 2,3-diethyl-4-fluoro Trimethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro-3-methyltrimethylenesulfone, 2-ethyl-4-fluoro-3-methyltrimethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoro-2-methyltrimethylenesulfone, 3 -Ethyl-2-fluoro-4-methyltrimethylene sulfone, 2-fluoro-2,4- Methyltrimethylenesulfone, 2,4-diethyl-2-fluorotrimethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro-4-methyltrimethylenesulfone, 4-ethyl-2-fluoro-2-methyltrimethylenesulfone, 2- Fluoro-2,3-dimethyltetramethylene sulfone.

5‐フルオロ‐2,3‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐5‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐5‐フルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐5‐フルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,4‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,5‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、3,5‐ジエチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルテトラメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,5‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,5‐ジエチル‐2‐フルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐5‐メチルテトラメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,3‐ジメチルペンタメチレンスルホン、6‐フルオロ‐2,3‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐6‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐6‐フルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン。   5-fluoro-2,3-dimethyltetramethylenesulfone, 2,3-diethyl-2-fluorotetramethylenesulfone, 2,3-diethyl-5-fluorotetramethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro-3-methyl Tetramethylenesulfone, 2-ethyl-5-fluoro-3-methyltetramethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoro-2-methyltetramethylenesulfone, 3-ethyl-5-fluoro-2-methyltetramethylenesulfone, 2 -Fluoro-2,4-dimethyltetramethylenesulfone, 2-fluoro-3,5-dimethyltetramethylenesulfone, 2,4-diethyl-2-fluorotetramethylenesulfone, 3,5-diethyl-2-fluorotetramethylenesulfone 2-Ethyl-2-fluoro-4-methyltetramethyle Sulfone, 5-ethyl-2-fluoro-3-methyltetramethylenesulfone, 2-fluoro-2,5-dimethyltetramethylenesulfone, 2,5-diethyl-2-fluorotetramethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro -5-methyltetramethylenesulfone, 5-ethyl-2-fluoro-2-methyltetramethylenesulfone, 2-fluoro-2,3-dimethylpentamethylenesulfone, 6-fluoro-2,3-dimethylpentamethylenesulfone, 2 , 3-Diethyl-2-fluoropentamethylene sulfone, 2,3-diethyl-6-fluoropentamethylene sulfone, 2-ethyl-2-fluoro-3-methylpentamethylene sulfone, 2-ethyl-6-fluoro-3- Methyl pentamethylene sulfone.

3‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐6‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,4‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4,6‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐6‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐6‐フルオロ‐4‐メチルペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐6‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,5‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,6‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,5‐ジエチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、3,6‐ジエチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐5‐メチルペンタメチレンスルホン、6‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐6‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,6‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,6‐ジエチル‐2‐フルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐6‐メチルペンタメチレンスルホン、6‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、7‐フルオロ‐2,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐7‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐7‐フルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐7‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、7‐フルオロ‐2,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐7‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐7‐フルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン。   3-ethyl-2-fluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 3-ethyl-6-fluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-2,4-dimethylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-4,6 -Dimethylpentamethylenesulfone, 2,4-diethyl-2-fluoropentamethylenesulfone, 2,4-diethyl-6-fluoropentamethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro-4-methylpentamethylenesulfone, 2-ethyl -6-fluoro-4-methylpentamethylenesulfone, 4-ethyl-2-fluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 4-ethyl-2-fluoro-6-methylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-2,5- Dimethylpentamethylene sulfone, 2-fluoro-3,6-dimethylpenta Tylene sulfone, 2,5-diethyl-2-fluoropentamethylene sulfone, 3,6-diethyl-2-fluoropentamethylene sulfone, 2-ethyl-2-fluoro-5-methylpentamethylene sulfone, 6-ethyl-2- Fluoro-3-methylpentamethylenesulfone, 5-ethyl-2-fluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoro-6-methylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-2,6-dimethylpentamethylene Sulfone, 2,6-diethyl-2-fluoropentamethylenesulfone, 2-ethyl-2-fluoro-6-methylpentamethylenesulfone, 6-ethyl-2-fluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 2-fluoro-2 , 3-Dimethylhexamethylene sulfone, 7-fluoro-2 -Dimethylhexamethylene sulfone, 2,3-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 2,3-diethyl-7-fluorohexamethylene sulfone, 2-ethyl-2-fluoro-3-methylhexamethylene sulfone, 2-ethyl -7-Fluoro-3-methylhexamethylene sulfone, 3-ethyl-2-fluoro-2-methylhexamethylene sulfone, 3-ethyl-7-fluoro-2-methylhexamethylene sulfone, 2-fluoro-2,4- Dimethylhexamethylenesulfone, 7-fluoro-2,4-dimethylhexamethylenesulfone, 2,4-diethyl-2-fluorohexamethylenesulfone, 2,4-diethyl-7-fluorohexamethylenesulfone, 2-ethyl-2- Fluoro-4-methylhexamethylene sulfone, 2-ethy Lu-7-fluoro-4-methylhexamethylene sulfone.

4‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、4‐エチル‐7‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,5‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐4,7‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,5‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、4,7‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐5‐メチルヘキサメチレンスルホン、7‐エチル‐2‐フルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン、5‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、4‐エチル‐2‐フルオロ‐7‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,6‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐3,7‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,6‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、3,7‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐6‐メチルヘキサメチレンスルホン、7‐エチル‐2‐フルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、6‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2‐フルオロ‐7‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐フルオロ‐2,7‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジエチル‐2‐フルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2‐フルオロ‐7‐メチルヘキサメチレンスルホン、7‐エチル‐2‐フルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン等。   4-ethyl-2-fluoro-2-methylhexamethylene sulfone, 4-ethyl-7-fluoro-2-methylhexamethylene sulfone, 2-fluoro-2,5-dimethylhexamethylene sulfone, 2-fluoro-4,7 -Dimethylhexamethylene sulfone, 2,5-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 4,7-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 2-ethyl-2-fluoro-5-methylhexamethylene sulfone, 7-ethyl -2-Fluoro-4-methylhexamethylenesulfone, 5-ethyl-2-fluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 4-ethyl-2-fluoro-7-methylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-2,6- Dimethylhexamethylene sulfone, 2-fluoro-3,7-dimethylhexa Tylene sulfone, 2,6-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 3,7-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 2-ethyl-2-fluoro-6-methylhexamethylene sulfone, 7-ethyl-2- Fluoro-3-methylhexamethylenesulfone, 6-ethyl-2-fluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 3-ethyl-2-fluoro-7-methylhexamethylenesulfone, 2-fluoro-2,7-dimethylhexamethylene Sulfone, 2,7-diethyl-2-fluorohexamethylene sulfone, 2-ethyl-2-fluoro-7-methylhexamethylene sulfone, 7-ethyl-2-fluoro-2-methylhexamethylene sulfone and the like.

アルキル基が置換しない環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα,α’−ジフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
2,3‐ジフルオロエチレンスルホン、2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロテトラメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン等。
Examples of α, α′-difluorocyclic sulfones obtained from cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in which the alkyl group is not substituted include the following examples.
2,3-difluoroethylene sulfone, 2,4-difluorotrimethylene sulfone, 2,5-difluorotetramethylene sulfone, 2,6-difluoropentamethylene sulfone, 2,7-difluorohexamethylene sulfone and the like.

モノアルキル置換した環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα、α’−ジフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
2,3‐ジフルオロ‐2‐メチルエチレンスルホン、2‐エチル‐2,3‐ジフルオロエチレンスルホン、2,4‐ジフルオロ‐2‐メチルトリメチレンスルホン、2‐エチル‐2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホン、2,4‐ジフルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、2,4‐ジフルオロ‐3‐エチルトリメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2,5‐ジフルオロテトラメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐テトラメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐4‐メチルペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、2、7‐ジフルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2、7‐ジフルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2、7‐ジフルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン、4‐エチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン等。
Examples of α, α′-difluorocyclic sulfones obtained from monoalkyl-substituted cyclic sulfoxides and cyclic sulfides include the following examples.
2,3-difluoro-2-methylethylene sulfone, 2-ethyl-2,3-difluoroethylene sulfone, 2,4-difluoro-2-methyltrimethylene sulfone, 2-ethyl-2,4-difluorotrimethylene sulfone, 2,4-difluoro-3-methyltrimethylenesulfone, 2,4-difluoro-3-ethyltrimethylenesulfone, 2,5-difluoro-2-methyltetramethylenesulfone, 2-ethyl-2,5-difluorotetramethylene Sulfone, 2,5-difluoro-3-methyltetramethylene sulfone, 3-ethyl-2,5-difluoro-tetramethylene sulfone, 2,6-difluoro-2-methylpentamethylene sulfone, 2-ethyl-2,6- Difluoropentamethylene sulfone, 2,6-difluoro-3-methylpenta Tylene sulfone, 3-ethyl-2,6-difluoropentamethylene sulfone, 2,6-difluoro-4-methylpentamethylene sulfone, 4-ethyl-2,6-difluoropentamethylene sulfone, 2,7-difluoro-2- Methylhexamethylenesulfone, 2-ethyl-2,7-difluorohexamethylenesulfone, 2,7-difluoro-3-methylhexamethylenesulfone, 3-ethyl-2,7-difluorohexamethylenesulfone, 2,7-difluoro- 4-methylhexamethylene sulfone, 4-ethyl-2,7-difluorohexamethylene sulfone and the like.

2つのアルキル基が同じ炭素原子にジアルキル置換した環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα,α’−ジフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
2,4‐ジフルオロ‐3,3‐ジメチルトリメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホン、3‐エチル‐2,4‐ジフルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロ‐3,3‐ジメチルテトラメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2,5‐ジフルオロテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐3,3‐ジメチルペンタメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐4,4‐ジメチルペンタメチレンスルホン、4,4‐ジエチル‐2,6‐ジフルオロ‐ペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐4‐メチルペンタメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐3,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、3,3‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐4,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、4,4‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、4‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン等。
Examples of α, α′-difluorocyclic sulfones obtained from cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in which two alkyl groups are dialkyl-substituted at the same carbon atom include the following examples.
2,4-difluoro-3,3-dimethyltrimethylene sulfone, 3,3-diethyl-2,4-difluorotrimethylene sulfone, 3-ethyl-2,4-difluoro-3-methyltrimethylene sulfone, 2,5 -Difluoro-3,3-dimethyltetramethylene sulfone, 3,3-diethyl-2,5-difluorotetramethylene sulfone, 3-ethyl-2,5-difluoro-3-methyltetramethylene sulfone, 2,6-difluoro- 3,3-dimethylpentamethylene sulfone, 3,3-diethyl-2,6-difluoropentamethylene sulfone, 3-ethyl-2,6-difluoro-3-methylpentamethylene sulfone, 2,6-difluoro-4,4 -Dimethylpentamethylene sulfone, 4,4-diethyl-2,6-difluoro-pentamethylenes Hong, 4-ethyl-2,6-difluoro-4-methylpentamethylenesulfone, 2,7-difluoro-3,3-dimethylhexamethylenesulfone, 3,3-diethyl-2,7-difluorohexamethylenesulfone, 3, -Ethyl-2,7-difluoro-3-methylhexamethylene sulfone, 2,7-difluoro-4,4-dimethylhexamethylene sulfone, 4,4-diethyl-2,7-difluorohexamethylene sulfone, 4-ethyl- 2,7-difluoro-4-methylhexamethylene sulfone and the like.

2つのアルキル基が異なる炭素原子にジアルキル置換した環状スルホキシド類および環状スルフィド類から得られるα,α’−ジフルオロ環状スルホン類としては、つぎの例が挙げられる。
2,3‐ジフルオロ‐2,3‐ジメチルエチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2,3‐ジフルオロエチレンスルホン、2‐エチル‐2,3‐ジフルオロ‐3‐メチルエチレンスルホン、2,4‐ジフルオロ‐2,3‐ジメチルトリメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホン、2‐エチル‐2,4‐ジフルオロ‐3‐メチルトリメチレンスルホン、3‐エチル‐2,4‐ジフルオロ‐2‐メチルトリメチレンスルホン、2,4‐ジフルオロ‐2,4‐ジメチルトリメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホン、2‐エチル‐2,4‐ジフルオロ‐4‐メチルトリメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロ‐2,3‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2,5‐ジフルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐3‐メチルテトラメチレンスルホン、3‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロ‐2,4‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,4‐ジエチル2,5‐ジフルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐4‐メチルテトラメチレンスルホン、4‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐2‐メチルテトラメチレンスルホン、2,5‐ジフルオロ‐2,5‐ジメチルテトラメチレンスルホン、2,5‐ジエチル‐2,5‐ジフルオロテトラメチレンスルホン、2‐エチル‐2,5‐ジフルオロ‐5‐メチルテトラメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐2,3‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン。
Examples of α, α′-difluorocyclic sulfones obtained from cyclic sulfoxides and cyclic sulfides in which two alkyl groups are dialkyl-substituted on different carbon atoms include the following examples.
2,3-difluoro-2,3-dimethylethylenesulfone, 2,3-diethyl-2,3-difluoroethylenesulfone, 2-ethyl-2,3-difluoro-3-methylethylenesulfone, 2,4-difluoro- 2,3-dimethyltrimethylene sulfone, 2,3-diethyl-2,4-difluorotrimethylene sulfone, 2-ethyl-2,4-difluoro-3-methyltrimethylene sulfone, 3-ethyl-2,4-difluoro -2-Methyltrimethylenesulfone, 2,4-difluoro-2,4-dimethyltrimethylenesulfone, 2,4-diethyl-2,4-difluorotrimethylenesulfone, 2-ethyl-2,4-difluoro-4- Methyltrimethylenesulfone, 2,5-difluoro-2,3-dimethyltetramethylenesulfone, 2,3-diethi -2,5-difluorotetramethylene sulfone, 2-ethyl-2,5-difluoro-3-methyltetramethylene sulfone, 3-ethyl-2,5-difluoro-2-methyltetramethylene sulfone, 2,5-difluoro- 2,4-dimethyltetramethylene sulfone, 2,4-diethyl 2,5-difluorotetramethylene sulfone, 2-ethyl-2,5-difluoro-4-methyltetramethylene sulfone, 4-ethyl-2,5-difluoro- 2-methyltetramethylenesulfone, 2,5-difluoro-2,5-dimethyltetramethylenesulfone, 2,5-diethyl-2,5-difluorotetramethylenesulfone, 2-ethyl-2,5-difluoro-5-methyl Tetramethylene sulfone, 2,6-difluoro-2,3-dimethylpentamethylenes Hong, 2,3-diethyl-2,6-difluoro-pentamethylene sulfone.

2‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐3‐メチルペンタメチレンスルホン、3‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐2,4‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、4‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐2,5‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,5‐ジエチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐5‐メチルペンタメチレンスルホン、5‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐2‐メチルペンタメチレンスルホン、2,6‐ジフルオロ‐2,6‐ジメチルペンタメチレンスルホン、2,6‐ジエチル‐2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホン、2‐エチル‐2,6‐ジフルオロ‐6‐メチルペンタメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐2,3‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,3‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐3‐メチルヘキサメチレンスルホン、3‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐2,4‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,4‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐4‐メチルヘキサメチレンスルホン。
4‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐2,5‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,5‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐5‐メチルヘキサメチレンスルホン、5‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐2,6‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,6‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐6‐メチルヘキサメチレンスルホン、6‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐2‐メチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジフルオロ‐2,7‐ジメチルヘキサメチレンスルホン、2,7‐ジエチル‐2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホン、2‐エチル‐2,7‐ジフルオロ‐7‐メチルヘキサメチレンスルホン等。
2-ethyl-2,6-difluoro-3-methylpentamethylenesulfone, 3-ethyl-2,6-difluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 2,6-difluoro-2,4-dimethylpentamethylenesulfone, 2, , 4-diethyl-2,6-difluoropentamethylene sulfone, 4-ethyl-2,6-difluoro-2-methylpentamethylene sulfone, 2,6-difluoro-2,5-dimethylpentamethylene sulfone, 2,5- Diethyl-2,6-difluoropentamethylenesulfone, 2-ethyl-2,6-difluoro-5-methylpentamethylenesulfone, 5-ethyl-2,6-difluoro-2-methylpentamethylenesulfone, 2,6-difluoro -2,6-dimethylpentamethylene sulfone, 2,6-diethyl-2,6-difluoro Ntamethylene sulfone, 2-ethyl-2,6-difluoro-6-methylpentamethylene sulfone, 2,7-difluoro-2,3-dimethylhexamethylene sulfone, 2,3-diethyl-2,7-difluorohexamethylene sulfone 2-ethyl-2,7-difluoro-3-methylhexamethylene sulfone, 3-ethyl-2,7-difluoro-2-methylhexamethylene sulfone, 2,7-difluoro-2,4-dimethylhexamethylene sulfone, 2,4-Diethyl-2,7-difluorohexamethylene sulfone, 2-ethyl-2,7-difluoro-4-methylhexamethylene sulfone.
4-ethyl-2,7-difluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 2,7-difluoro-2,5-dimethylhexamethylenesulfone, 2,5-diethyl-2,7-difluorohexamethylenesulfone, 2-ethyl -2,7-difluoro-5-methylhexamethylenesulfone, 5-ethyl-2,7-difluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 2,7-difluoro-2,6-dimethylhexamethylenesulfone, 2,6- Diethyl-2,7-difluorohexamethylenesulfone, 2-ethyl-2,7-difluoro-6-methylhexamethylenesulfone, 6-ethyl-2,7-difluoro-2-methylhexamethylenesulfone, 2,7-difluoro -2,7-dimethylhexamethylene sulfone, 2,7-diethyl-2,7-difluoro Hexamethylene sulfone, 2-ethyl-2,7-difluoro-7-methyl-hexamethylene sulfone.

本発明の反応の生成物は、通常の場合、フッ素の置換率が異なる複数の生成物を含む。生成物は必要に応じて分離および精製を行うのが好ましい。分離および精製は、蒸留またはカラムクロマトグラフィーによるのが好ましい。   The product of the reaction of the present invention usually includes a plurality of products having different substitution rates of fluorine. The product is preferably separated and purified as necessary. Separation and purification are preferably by distillation or column chromatography.

以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、以下において、ガスクロマトグラフィーをGCと記し、ガスクロマトグラフィー質量分析をGC‐MSと記す。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. In the following, gas chromatography is referred to as GC, and gas chromatography mass spectrometry is referred to as GC-MS.

[実施例1]テトラメチレンスルホキシドを基質とするα‐フルオロスルホラン類の合成
液相へのガス導入口およびガス排出口を設けた1000mlのニッケル製反応容器に、アセトニトリル(750ml)に溶解したテトラメチレンスルホキシド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(3.35g)を仕込んだ。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で5.5時間吹き込んだ。反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出した。溶媒を留去して得られた生成物(22.6g)をGC分析、GC‐MS分析および19F‐NMR分析したところ、2,5‐ジフルオロスルホランが収率21.2%、2‐フルオロスルホランが収率13.5%で生成していた。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、2,5‐ジフルオロスルホラン(4.1g)、2‐フルオロスルホラン(2.2g)を単離した。
[Example 1] Synthesis of α-fluorosulfolanes using tetramethylene sulfoxide as a substrate Tetramethylene dissolved in acetonitrile (750 ml) in a 1000 ml nickel reaction vessel provided with a gas inlet and a gas outlet into the liquid phase Sulfoxide (15.0 g) and copper nitrate · 2.5 hydrate (3.35 g) were charged. The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the reactor at a rate of 52.3 mmol / h for 5.5 hours. The reaction solution was added to water (750 g), neutralized with sodium hydrogen carbonate, and extracted with chloroform. The product (22.6 g) obtained by distilling off the solvent was subjected to GC analysis, GC-MS analysis and 19 F-NMR analysis. As a result, 2,5-difluorosulfolane was found to have a yield of 21.2% and 2-fluoro Sulfolane was produced at a yield of 13.5%. It was subjected to silica gel column chromatography to isolate 2,5-difluorosulfolane (4.1 g) and 2-fluorosulfolane (2.2 g).

2,5‐ジフルオロスルホランのスペクトルデータ;
H‐NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS)δ(ppm):2.39―2.59(m,4H,CH)、5.30(dm,2H,J=53Hz,CHF)。
19F‐NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl)δ(ppm):−174.0(dt,2F,J=53,24Hz)。
Mass(EI法)
m/z:156,92,91,77,64(CSとしての計算値:156.01)
Spectral data of 2,5-difluorosulfolane;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 2.39-2.59 (m, 4H, CH 2 ), 5.30 (dm, 2H, J = 53 Hz) , CHF).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm):-174.0 (dt, 2F, J = 53, 24 Hz).
Mass (EI method)
m / z: 156, 92, 91, 77, 64 (calculated value as C 4 H 6 F 2 O 2 S: 156.01)

2‐フルオロスルホランのスペクトルデータ;
H‐NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:TMS)δ(ppm):2.17―2.59(m,4H)、2.99―3.20(m,2H,CHSO)、5.30(dm,1H,J=52Hz,CHF)。
19F‐NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl)δ(ppm):−174.0(m,1F)。
Mass(EI法)
m/z:138,74,73,59,46(CFOSとしての計算値:138.02)
Spectral data of 2-fluorosulfolane;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 2.17-2.59 (m, 4H), 2.99-3.20 (m, 2H, CH 2 SO 2), 5.30 (dm, 1H, J = 52Hz, CHF).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm):-174.0 (m, 1F).
Mass (EI method)
m / z: 138, 74, 73, 59, 46 (calculated value as C 4 H 7 FO 2 S: 138.02)

[実施例2]テトラメチレンスルホキシドを基質とするα‐フルオロスルホラン類の合成
液相へのガス導入口およびガス排出口を設けた500mlのニッケル製反応容器に、アセトニトリル(300ml)に溶解したテトラメチレンスルホキシド(6.0g)およびフッ化ナトリウム(24.2g)を仕込んだ。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で2.1時間吹き込んだ。反応液を水(300g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出した。溶媒を留去して、得られた生成物(8.22g)をGC分析、GC‐MS分析および19F‐NMR分析したところ、2,5‐ジフルオロスルホランが収率14.4%、2‐フルオロスルホランが収率0.8%で生成していた。
[Example 2] Synthesis of α-fluorosulfolanes using tetramethylene sulfoxide as substrate Tetramethylene dissolved in acetonitrile (300 ml) in a 500 ml nickel reaction vessel provided with a gas inlet and a gas outlet into the liquid phase Sulfoxide (6.0 g) and sodium fluoride (24.2 g) were charged. The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the vessel at a rate of 52.3 mmol / h for 2.1 hours. The reaction solution was added to water (300 g), neutralized with sodium hydrogen carbonate, and extracted with chloroform. The solvent was distilled off, and the obtained product (8.22 g) was analyzed by GC, GC-MS and 19 F-NMR. As a result, it was found that the yield of 2,5-difluorosulfolane was 14.4%, Fluorosulfolane was produced with a yield of 0.8%.

[実施例3]テトラヒドロチオフェンを基質とするα‐フルオロスルホラン類の合成
液相へのガス導入口およびガス排出口を設けた200mlのニッケル製反応容器に、アセトニトリル(100ml)に溶解したテトラヒドロチオフェン(1.00g)、硝酸銅・2.5水和物(0.265g)、水(0.155g)を仕込んだ。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを26.1mmol/hの速度で1.3時間吹き込んだ。反応液を水(100g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出した。溶媒を留去して、得られた生成物(1.11g)をGC分析、GC‐MS分析および19F‐NMR分析したところ、2,5‐ジフルオロスルホランが収率8.1%、2‐フルオロスルホランが収率13.4%で生成していた。
[Example 3] Synthesis of α-fluorosulfolanes using tetrahydrothiophene as a substrate Tetrahydrothiophene dissolved in acetonitrile (100 ml) in a 200 ml nickel reaction vessel provided with a gas inlet and a gas outlet into the liquid phase 1.00 g), copper nitrate · 2.5 hydrate (0.265 g), and water (0.155 g) were charged. The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the reactor at a rate of 26.1 mmol / h for 1.3 hours. The reaction solution was added to water (100 g), neutralized with sodium hydrogen carbonate, and extracted with chloroform. The solvent was distilled off, and the obtained product (1.11 g) was analyzed by GC, GC-MS and 19 F-NMR. As a result, the yield of 2,5-difluorosulfolane was 8.1%, Fluorosulfolane was produced in a yield of 13.4%.

[実施例4]エチレンスルホキシドを基質とするα‐フルオロエチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したエチレンスルホキシド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(4.58g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で7.5時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,3‐ジフルオロエチレンスルホンおよび、2‐フルオロエチレンスルホンを得る。
[Example 4] Synthesis of α-fluoroethylene sulfones using ethylene sulfoxide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, ethylene sulfoxide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), copper nitrate · 2 Charge pentahydrate (4.58 g). The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into it at a rate of 52.3 mmol / h for 7.5 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to obtain 2,3-difluoroethylenesulfone and 2-fluoroethylenesulfone.

[実施例5]エチレンスルフィドを基質とするα‐フルオロエチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したエチレンスルフィド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(5.80g)、水(3.37g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で14.3時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,3‐ジフルオロエチレンスルホンおよび、2‐フルオロエチレンスルホンを得る。
[Example 5] Synthesis of α-fluoroethylenesulfones using ethylene sulfide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, ethylene sulfide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), copper nitrate-2 Charge pentahydrate (5.80 g), water (3.37 g). The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into it at a rate of 52.3 mmol / h for 14.3 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to obtain 2,3-difluoroethylenesulfone and 2-fluoroethylenesulfone.

[実施例6]トリメチレンスルホキシドを基質とするα‐フルオロトリメチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したトリメチレンスルホキシド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(3.87g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で6.4時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホンおよび、2‐フルオロトリメチレンスルホンを得る。
[Example 6] Synthesis of α-fluorotrimethylene sulfones using trimethylene sulfoxide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, trimethylene sulfoxide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), nitric acid Charge copper.2.5 hydrate (3.87 g). The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the vessel at a rate of 52.3 mmol / h for 6.4 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to give 2,4-difluorotrimethylene sulfone and 2-fluorotrimethylene sulfone.

[実施例7]トリメチレンスルフィドを基質とするα‐フルオロトリメチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したトリメチレンスルフィド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(4.71g)、水(2.73g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で11.6時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,4‐ジフルオロトリメチレンスルホンおよび、2‐フルオロトリメチレンスルホンを得る。
[Example 7] Synthesis of α-fluorotrimethylene sulfones using trimethylene sulfide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, trimethylene sulfide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), nitric acid Copper 2.5 hydrate (4.71 g) and water (2.73 g) are charged. The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into it at a rate of 52.3 mmol / h for 11.6 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to give 2,4-difluorotrimethylene sulfone and 2-fluorotrimethylene sulfone.

[実施例8]ペンタメチレンスルホキシドを基質とするα‐フルオロペンタメチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したペンタメチレンスルホキシド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(2.95g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で4.9時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホンおよび、2‐フルオロペンタメチレンスルホンを得る。
[Example 8] Synthesis of α-fluoropentamethylene sulfones using pentamethylene sulfoxide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, pentamethylene sulfoxide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), nitric acid Charge copper 2.5 hydrate (2.95 g). The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the vessel at a rate of 52.3 mmol / h for 4.9 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to obtain 2,6-difluoropentamethylene sulfone and 2-fluoropentamethylene sulfone.

[実施例9]ペンタメチレンスルフィドを基質とするα‐フルオロペンタメチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したペンタメチレンスルフィド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(3.41g)、水(1.98g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で8.4時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,6‐ジフルオロペンタメチレンスルホンおよび、2‐フルオロペンタメチレンスルホンを得る。
[Example 9] Synthesis of α-fluoropentamethylene sulfones using pentamethylene sulfide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, pentamethylene sulfide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), nitric acid Copper 2.5 hydrate (3.41 g) and water (1.98 g) are charged. The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the reaction vessel at a rate of 52.3 mmol / h for 8.4 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to obtain 2,6-difluoropentamethylene sulfone and 2-fluoropentamethylene sulfone.

[実施例10]ヘキサメチレンスルホキシドを基質とするα‐フルオロヘキサメチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したヘキサメチレンスルホキシド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(2.67g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で4.3時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホンおよび、2‐フルオロヘキサメチレンスルホンを得る。
[Example 10] Synthesis of α-fluorohexamethylene sulfones using hexamethylene sulfoxide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, hexamethylene sulfoxide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), nitric acid Charge copper 2.5 hydrate (2.67 g). The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into it at a rate of 52.3 mmol / h for 4.3 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to give 2,7-difluorohexamethylene sulfone and 2-fluorohexamethylene sulfone.

[実施例11]ヘキサメチレンスルフィドを基質とするα‐フルオロヘキサメチレンスルホン類の合成
実施例1と同様の反応容器を用いて、アセトニトリル(750ml)に溶解したヘキサメチレンスルフィド(15.0g)、硝酸銅・2.5水和物(3.00g)、水(1.74g)を仕込む。反応容器を−40℃に冷却し、この中に窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガスを52.3mmol/hの速度で7.4時間吹き込み、反応液を水(750g)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去して、2,7‐ジフルオロヘキサメチレンスルホンおよび、2‐フルオロヘキサメチレンスルホンを得る。
[Example 11] Synthesis of α-fluorohexamethylene sulfones using hexamethylene sulfide as a substrate Using the same reaction vessel as in Example 1, hexamethylene sulfide (15.0 g) dissolved in acetonitrile (750 ml), nitric acid Copper.2.5 hydrate (3.00 g) and water (1.74 g) are charged. The reaction vessel was cooled to −40 ° C., and fluorine gas diluted to 20% with nitrogen gas was blown into the reaction vessel at a rate of 52.3 mmol / h for 7.4 hours. The reaction solution was added to water (750 g), and hydrogen carbonate. After neutralizing with sodium, extract with chloroform. The solvent is distilled off to give 2,7-difluorohexamethylene sulfone and 2-fluorohexamethylene sulfone.

本発明は、α‐フルオロ環状スルホン類の選択的な製造方法を提供する。α‐フルオロ環状スルホン類は、各種溶剤、特に半導体製造における液浸露光用媒体などとして有用である。   The present invention provides a selective method for producing α-fluoro cyclic sulfones. α-Fluorocyclic sulfones are useful as various solvents, particularly as a medium for immersion exposure in semiconductor production.

Claims (11)

α位に少なくとも1つの水素原子を有する環状スルホキシド類および/または環状スルフィド類を、フッ素および水と液相にて反応させることを特徴とするα‐フルオロ環状スルホン類の製造方法。   A method for producing an α-fluoro cyclic sulfone, comprising reacting cyclic sulfoxides and / or cyclic sulfides having at least one hydrogen atom at α-position with fluorine and water in a liquid phase. 環状スルホキシド類が下式(I)で表される化合物であり、環状スルフィド類が下式(II)で表される化合物であり、α‐フルオロ環状スルホン類が下式(III)で表される化合物である、請求項1に記載の製造方法。
Figure 2007022953
ただし、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、少なくとも一つは水素原子である。
1F〜R4Fは、炭素数1〜10のアルキル基であるR〜Rに対応するR1F〜R4Fは、R〜Rと同一の炭素数1〜10のアルキル基であり、水素原子であるR〜Rに対応するR1F〜R4Fはフッ素原子または水素原子であり、かつ、フッ素原子であるR1F〜R4Fの数は1または2である。
Qは式−(CH−で表される基、または該基の少なくとも一つの水素原子がアルキル基で置換された基を示す。ここでmは0〜4の整数である。ただし、mが0のとき、Qは単結合を表す。
The cyclic sulfoxides are compounds represented by the following formula (I), the cyclic sulfides are compounds represented by the following formula (II), and the α-fluoro cyclic sulfones are represented by the following formula (III) The manufacturing method of Claim 1 which is a compound.
Figure 2007022953
However, R < 1 > -R < 4 > shows a hydrogen atom or a C1-C10 alkyl group each independently, and at least one is a hydrogen atom.
R 1F to R 4F is R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is an R 1 to R 4 the same alkyl group having 1 to 10 carbon atoms , R 1F to R 4F corresponding to R 1 to R 4 is a hydrogen atom is a fluorine atom or a hydrogen atom, and the number of R 1F to R 4F is a fluorine atom is 1 or 2.
Q represents a group represented by the formula — (CH 2 ) m —, or a group in which at least one hydrogen atom of the group is substituted with an alkyl group. Here, m is an integer of 0-4. However, when m is 0, Q represents a single bond.
Qが、式−(CH−で表される基、または、該基の少なくとも一つの水素原子がアルキル基で置換された基である請求項2に記載の製造方法。 The production method according to claim 2, wherein Q is a group represented by the formula — (CH 2 ) 2 — or a group in which at least one hydrogen atom of the group is substituted with an alkyl group. 環状スルホキシド類および/または環状スルフィド類を溶媒に溶解させた溶液にフッ素ガスを通じることによってフッ素と反応させる請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the reaction is conducted with fluorine by passing fluorine gas through a solution in which cyclic sulfoxides and / or cyclic sulfides are dissolved in a solvent. 溶媒が孤立電子対を持ち、かつ、官能基を有する請求項4に記載の製造方法。   The production method according to claim 4, wherein the solvent has a lone electron pair and has a functional group. 官能基がニトリル基、エーテル基、ヒドロキシル基、3級アミノ基、ハロゲン基、ニトロ基およびアミド基からなる群より選ばれる、請求項4または5に記載の製造方法。   The production method according to claim 4 or 5, wherein the functional group is selected from the group consisting of a nitrile group, an ether group, a hydroxyl group, a tertiary amino group, a halogen group, a nitro group, and an amide group. 溶媒がニトリル系溶媒である請求項4〜6のいずれかに記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 4 to 6, wherein the solvent is a nitrile solvent. フッ素ガスを窒素またはヘリウムで希釈して用いる請求項4〜7のいずれかに記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 4 to 7, wherein the fluorine gas is diluted with nitrogen or helium. フッ素および水と反応させる際に、金属塩を存在させる請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 1 to 8, wherein a metal salt is present when reacting with fluorine and water. 金属塩がアルカリ金属のフッ化物または遷移金属の強酸塩である請求項9に記載の製造方法。   The production method according to claim 9, wherein the metal salt is an alkali metal fluoride or a strong acid salt of a transition metal. 金属塩がフッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、硝酸銅、硝酸ニッケル、および硝酸コバルトからなる群より選ばれる金属塩である請求項9または10に記載の製造方法。   The method according to claim 9 or 10, wherein the metal salt is a metal salt selected from the group consisting of sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, copper nitrate, nickel nitrate, and cobalt nitrate.
JP2005206008A 2005-07-14 2005-07-14 MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES Pending JP2007022953A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005206008A JP2007022953A (en) 2005-07-14 2005-07-14 MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005206008A JP2007022953A (en) 2005-07-14 2005-07-14 MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007022953A true JP2007022953A (en) 2007-02-01

Family

ID=37784195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005206008A Pending JP2007022953A (en) 2005-07-14 2005-07-14 MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007022953A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Yagupolskii et al. A new method for the synthesis of trifluoromethylating agents—Diaryltrifluoromethylsulfonium salts
JP2006022105A (en) Improved method for producing fluorine-containing aromatic ring
Chang et al. Direct nucleophilic fluorination of carbonyl groups of benzophenones and benzils with Deoxofluor
Rozen et al. Conversion of the carbonyl group to CF2 using iodine monofluoride (IF)
CN107540598B (en) Method for preparing N-difluoromethylthio phthalimide compound
US8937204B1 (en) Processes for isolating fluorinated products
Fuglseth et al. Electrophilic and nucleophilic side chain fluorination of para-substituted acetophenones
JP2008137993A (en) Reaction reagent for trifluoromethylation
JP2008137992A (en) Method for producing benzene compound having perfluoroalkyl group
Fifolt et al. Fluorination of aromatic derivatives with fluoroxytrifluoromethane and bis (fluoroxy) difluoromethane
HU217027B (en) Reagent and process for geting a substituated diflouromethyl group into a compound cointaining one or more electrophyl group and the use of the reagent
Konishi et al. Synthesis and disproportionation of ABAC-type oxacalix [4] arenes
EP0197869B1 (en) Process for the preparation of pentafluoroethoxy- and pentafluoroethyl thiobenzene derivatives
FR2994430A1 (en) PROCESS FOR PRODUCING DIFLUOROMETHANE
JP2007022953A (en) MANUFACTURING METHOD OF alpha-FLUOROCYCLIC SULFONES
JP2019081748A (en) Method for producing halogen compound
KR101435703B1 (en) 4-(trichloromethylthio)aniline, method for producing the same, and method for producing 4-(trifluoromethylthio)aniline
US4051168A (en) Fluorination process
US6818800B2 (en) Methods for providing low-molecular radicals, radical-carrying molecules, a polymerization catalyst containing them and processes for polymerization and polymers produced thereby
TW534907B (en) Process for preparing glycidyl ether
JPH1149742A (en) Production of 2-(trifluoromethylthio)biphenyl, and synthetic, its production and intermediate therefor
JP3641836B2 (en) (Perfluoroalkoxy) biphenyldiazonium compound, production intermediate thereof, and perfluoroalkylation method
JP4258695B2 (en) O- (perfluoroalkyl) dibenzofuranium salt derivative, production intermediate thereof, production method of the production intermediate, perfluoroalkylating agent, and perfluoroalkylation method
JP2002529460A (en) Method for producing monohalogenated 2-oxo-1,3-dioxolane
Alric et al. Electrophilic aromatic fluorination with fluorine: meta-Directed fluorination of anilines

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071129